JPH01192100A - Non-volatile semiconductor memory - Google Patents

Non-volatile semiconductor memory

Info

Publication number
JPH01192100A
JPH01192100A JP63017789A JP1778988A JPH01192100A JP H01192100 A JPH01192100 A JP H01192100A JP 63017789 A JP63017789 A JP 63017789A JP 1778988 A JP1778988 A JP 1778988A JP H01192100 A JPH01192100 A JP H01192100A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
sense amplifier
bit line
node
turned
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63017789A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Kobayashi
和男 小林
Yasushi Terada
寺田 康
Takeshi Nakayama
武志 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP63017789A priority Critical patent/JPH01192100A/en
Publication of JPH01192100A publication Critical patent/JPH01192100A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Volatile Memory (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To perform an electric field acceleration test by setting an ON state and supplying a source voltage to a bit line in a test mode by providing a switching means between the bit line and the source voltage. CONSTITUTION:A T13 is provided between a node ND between a FETT4 and a node NB in a sense amplifier 1 consisting of an E<2>PROM and the source voltage Vcc, and a test signal TE is added on the gate of the T13. In the test mode, the signal TE and a sense amplifier activation signal, the inverse of SE are set at 'H's, and a T12 and the T13 are turned ON, and a T3 is turned OFF, and a T5 and a T7 keep OFF states, and the sense amplifier 1 is inactivated. When the T13 is turned ON and the potential of the NB goes to the Vcc and a selection signal Y and a word line are set at the Vcc, a bit line BL and the drain of a memory device Mq go to the Vcc. Therefore, it is easy to extract negative charge accumulated in the floating gate of the MQ, and it is possible to detect a defective product by performing the cleaning of the E<2>PROM which performs non-volatile storage in a short period.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、フローティングゲートを有し不揮発な記憶
を行うメモリトランジスタを備えた不揮発性半導体記憶
装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device that includes a memory transistor that has a floating gate and performs nonvolatile storage.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第2図は従来のE2PROMのセンスアンプ周辺を示す
回路図である。同図に示すように、メモリトランジスタ
MQのドレインが選択トランジスタT1を介してビット
線BLに、ソース及びコントロールゲートが接地されて
いる。ビット線BLはトランジスタT2を介してセンス
アンプ1に接続される。また、トランジスタT2のゲー
トには図示しないコラムデコーダよりコラム選択信号Y
が印加されている。
FIG. 2 is a circuit diagram showing the area around the sense amplifier of a conventional E2PROM. As shown in the figure, the drain of the memory transistor MQ is connected to the bit line BL via the selection transistor T1, and the source and control gate are grounded. Bit line BL is connected to sense amplifier 1 via transistor T2. Further, a column selection signal Y is supplied to the gate of the transistor T2 from a column decoder (not shown).
is applied.

センスアンプ1は、2つのpチャネルトランジスタT3
.T6.4つのnチャネルトランジスタT4.T5.T
7.T12より構成される電流センス型であり、ノード
N、よりトランジスタT2を介してビット線8mと接続
されており、メモリトランジスタMQの導通・非導通に
よるビット線の電流変化に基づき、トランジスタ76.
77間のノードNAに電位変化を生じさせることにより
読出しのセンスを行っている。
Sense amplifier 1 includes two p-channel transistors T3
.. T6. Four n-channel transistors T4. T5. T
7. It is a current sensing type configured by transistors T12, and is connected from node N to bit line 8m via transistor T2. Based on the current change of the bit line due to conduction/non-conduction of memory transistor MQ, transistors 76.
Reading is sensed by causing a potential change in the node NA between the nodes 77 and 77.

センスアンプ1はノードNAを介してバッファ2に接続
される。バッファ2はpチャネルトランジスタT8.T
10、nチャネルトランジスタT9、T11より22の
CMo5インバータ[トランジスタT8.T9]と[ト
ランジスタT10゜T111を直列に設け、ノードN、
の電位を“H”、L Nレベルに増幅した読出しデータ
RDを出力している。
Sense amplifier 1 is connected to buffer 2 via node NA. Buffer 2 is a p-channel transistor T8. T
10, n-channel transistors T9, T11 to 22 CMo5 inverters [transistors T8. T9] and [transistors T10° and T111 are provided in series, and the node N,
The read data RD is output by amplifying the potential of 1 to "H" and LN level.

E2FROMのメモリトランジスタMQは通常閾値電圧
の正負によって’1”(正)、“0″(負)の不揮発な
記憶を行っている。従って読出し時は同図に示すように
メモリトランジスタMQのゲートを接地レベルにするこ
とで、1”を記憶している場合は非導通となり、0”を
記憶している場合は導通するため、これをセンスアンプ
1により検知し、バッファ2で“I Hl” ul”レ
ベルに増幅することにより行える。
The memory transistor MQ of the E2FROM normally stores '1' (positive) or '0' (negative) in a nonvolatile manner depending on the positive or negative threshold voltage.Therefore, when reading, the gate of the memory transistor MQ is closed as shown in the figure. By setting it to the ground level, it becomes non-conductive if it stores 1, and becomes conductive if it stores 0. This is detected by sense amplifier 1, and buffer 2 outputs "I Hl" ul. ``This can be done by amplifying the level.

以下、センスアンプ1による読出し動作の説明を行う。The read operation by the sense amplifier 1 will be explained below.

読出し時はセンスアンプ活性化信号SEを“L 11に
設定し、トランジスタT3をオン、トランジスタTI2
をオフさせることでセンスアンプ1を活性化する。メモ
リトランジスタMQが“1″を記憶している場合、ビッ
ト線Bしはフローティング状態であり、電源投入時等で
ノードNBの電位は充電されていない場合は、トランジ
スタT4はオフしており、ノードN。を充電し始める。
At the time of reading, the sense amplifier activation signal SE is set to "L11", the transistor T3 is turned on, and the transistor TI2 is turned on.
By turning off the sense amplifier 1, the sense amplifier 1 is activated. When the memory transistor MQ stores "1", the bit line B is in a floating state, and when the potential of the node NB is not charged, such as when the power is turned on, the transistor T4 is off and the node N. Start charging.

そして、ノードN。の電位がトランジスタT5.T7の
閾値電圧V15.■1□程度にまで上昇するとトランジ
スタT5.T7がオンし、ノードN が充電される。そ
の後、ノードN、の電位がトランジスタT4の閾値電圧
V14まで上背すると、トランジスタT4がオンし、ノ
ードN。の電位は下り、トランジスタT5.T7はオフ
する。この時、メモリトランジスタMQはオフしている
ので、ノードN はv14レベルの電位を維持する。な
お、基板へのリークなどによりノードN、の電位がv1
4以下になると、トランジスタT4がオフし、再びトラ
ンジスタT5.T7がオンし、ノードN の電位をV1
4レベルまで上昇させ、オフする。
And node N. The potential of transistor T5. Threshold voltage of T7 V15. ■When it rises to about 1□, transistor T5. T7 turns on and node N is charged. Thereafter, when the potential of the node N rises to the threshold voltage V14 of the transistor T4, the transistor T4 is turned on, and the potential of the node N rises to the threshold voltage V14 of the transistor T4. The potential of transistor T5. T7 is turned off. At this time, since memory transistor MQ is off, node N maintains the potential at the v14 level. Note that due to leakage to the substrate, the potential of the node N becomes v1.
4 or less, transistor T4 is turned off and transistor T5.4 is turned off again. T7 turns on and the potential of node N becomes V1
Raise it to level 4 and turn it off.

その結果、ノードNAの電位はトランジスタT7がオフ
しているため、はぼ5V(電源電圧)程度となり、バッ
ファ2を介した読出しデータRDは確実に“H”レベル
に増幅される。
As a result, since the transistor T7 is off, the potential of the node NA is approximately 5V (power supply voltage), and the read data RD via the buffer 2 is reliably amplified to the "H" level.

一方、メモリトランジスタMQがO″を記憶している場
合、メモリトランジスタMQが導通し、ビット線BLに
1tFEが流れるためノードN、の電位は■T4レベル
以下となるため、トランジスタT6、T7.T2.T1
.MQ全てがオンする。その結果、トランジスタT6の
オン抵抗が他のトランジスタに比べて高<設定している
ためノードN の電位はノードN、の電位程度となる。
On the other hand, when the memory transistor MQ stores O'', the memory transistor MQ becomes conductive and 1tFE flows to the bit line BL, so the potential of the node N becomes below the T4 level, so the transistors T6, T7, T2 .T1
.. All MQs turn on. As a result, since the on-resistance of the transistor T6 is set to be higher than that of other transistors, the potential of the node N becomes approximately the potential of the node N.

この時、ノードN、の電位はトランジスタT5.T2゜
T1.MQのオン抵抗の比により決定する。そこでトラ
ンジスタT5のサイズを適当に設定することでノードN
 の電位を■T4近傍にすることができる。そして、バ
ッファ2より読出しデータRDは確実に“L”レベルに
増幅される。このように、メモリトランジスタMQの記
憶データ値にかかわらずノードN、の電位の変化を最小
にすることで、読出しの繰り返しによるデータの揮発を
防ぐことができる。
At this time, the potential of node N is the same as transistor T5. T2°T1. It is determined by the on-resistance ratio of MQ. Therefore, by appropriately setting the size of transistor T5, node N
The potential of can be made near T4. Then, the read data RD is reliably amplified to "L" level by the buffer 2. In this way, by minimizing the change in the potential of the node N, regardless of the data value stored in the memory transistor MQ, data volatilization due to repeated reading can be prevented.

(発明が解決しようとする課題) 従来のE2PROMのセンスアンプ周辺は以上のように
構成されており、読出し時においてビットIQBLの電
位は電源電圧V。Cより低い電圧値に設定されていた。
(Problems to be Solved by the Invention) The area around the sense amplifier of the conventional E2PROM is configured as described above, and the potential of bit IQBL is the power supply voltage V during reading. The voltage value was set lower than C.

ところで、メモリトランジスタの70−ティング中に蓄
積された電荷は長時間の経過あるいは頻−繁に読出し動
作を繰り返すことで、リークやイオン汚染などで失われ
てしまう性質がある。この性質が強いE2PRoMは、
使用の初期において不良が生じる可能性が大きいため、
不良なメモリトランジスタを除去する必要がある。従っ
て予め初期的不良を起こすメモリトランジスタを検出す
る試験が、ダイナミックRAM、スタティックRAM等
の動作寿命試験の他にE2PROMには必要となる。
Incidentally, the charge accumulated during the 70-day period of the memory transistor tends to be lost due to leakage, ion contamination, etc. over a long period of time or when read operations are frequently repeated. E2PRoM, which has this strong property,
Since there is a high possibility of defects occurring in the initial stage of use,
It is necessary to remove defective memory transistors. Therefore, in addition to operating life tests for dynamic RAM, static RAM, etc., E2PROM requires a test to detect memory transistors that cause initial failure.

そこでメモリトランジスタに高温を与える(4喰加速)
、メモリトランジスタのドレイン、つまりビット線に電
源電圧■。Cレベルの電圧を与える(電界加速)等で7
0−ティングゲートの電荷が比較的失われやすい状況を
設定することで、初期的不良を発生させる加速試験が行
われる。
Therefore, high temperature is applied to the memory transistor (4-bit acceleration)
, the power supply voltage ■ to the drain of the memory transistor, that is, the bit line. 7 by applying C level voltage (electric field acceleration) etc.
By setting a situation in which the charge on the zeroing gate is relatively likely to be lost, an accelerated test is performed to generate an initial failure.

しかしながら、従来のセンスアンプ構造では電課電圧V
。0を高くしても、ビット線の電位はV□4(IV程度
)にしかならず、メモリトランジスタのドレインに電源
電圧V。0を与えることができず、電界加速性は小さい
というWR題点がありた。
However, in the conventional sense amplifier structure, the applied voltage V
. Even if 0 is made high, the potential of the bit line is only V□4 (about IV), and the drain of the memory transistor is connected to the power supply voltage V. There was a WR problem in that it was not possible to give 0 and the electric field acceleration was small.

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、テストモード時にはビット線の電位を電源電
圧程度に設定することで電界加速試験を効果的に行うこ
とができる不揮発性半導体記憶装置を得ることを目的と
する。
This invention was made to solve the above-mentioned problems, and it provides a non-volatile semiconductor memory that can effectively perform electric field acceleration tests by setting the potential of the bit line to about the power supply voltage during test mode. The purpose is to obtain equipment.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この発明にかかる不揮発性半導体記憶装置は、フローテ
ィングゲートを有し不揮発な記憶を行うメモリトランジ
スタを備え、前記メモリトランジスタの一方電極が接続
されたビット線と電源電圧間に設けられ、テストモード
時にオン状態となり、ビット線に電源電圧レベルの電位
を与えるスイッチング手段を設けている。
A nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention includes a memory transistor that has a floating gate and performs nonvolatile storage, and is provided between a bit line to which one electrode of the memory transistor is connected and a power supply voltage, and is turned on in a test mode. switching means is provided for applying a potential at the power supply voltage level to the bit line.

〔作用〕[Effect]

この発明におけるスイッチング手段は、ビット線、電源
電圧間に設けられ、テストモード時にオン状態となるた
め、テストモード時に電源電圧レベルの電位をビット線
に与えることができる。
The switching means in this invention is provided between the bit line and the power supply voltage and is turned on during the test mode, so that a potential at the power supply voltage level can be applied to the bit line during the test mode.

〔実施例〕〔Example〕

第11i!Iはこの発明の一実施例である62280M
のセンスアンプ周辺を示す回路図である。同図に示すよ
うに、セ・シスアンプ1中のトランジスタT4とノード
N8間のノードN、と、゛電源電圧Vco間にトランジ
スタT13を設けた点が従来と異なっている。トランジ
スタT13はゲートにテスト信@TEが印加され、テス
ト信号TEが“H”レベルの時オンし、その時のインピ
ーダンスは小さい。
11th i! I is an embodiment of this invention 62280M
FIG. 3 is a circuit diagram showing the area around the sense amplifier. As shown in the figure, the present invention differs from the conventional one in that a transistor T13 is provided between the node N between the transistor T4 in the system amplifier 1 and the node N8, and the power supply voltage Vco. The transistor T13 is turned on when the test signal @TE is applied to the gate and the test signal TE is at "H" level, and the impedance at that time is small.

このような構成において、テストモード時にはテスト信
号TE及びセンスアンプ活性化信号SEを°H”レベル
に設定することで行われる。この信号設定により、トラ
ンジスタTI2.T13がオンし、トランジスタT3が
オフする。その結果、ノードNCが“L”レベルとなり
、トランジスタT5.T7はオフし続けるのでセンスア
ンプ1は非活性となる。
In such a configuration, the test mode is performed by setting the test signal TE and the sense amplifier activation signal SE to the °H" level. With this signal setting, the transistors TI2 and T13 are turned on and the transistor T3 is turned off. As a result, the node NC becomes "L" level, and the transistors T5 and T7 continue to be turned off, so that the sense amplifier 1 becomes inactive.

一方、トランジスタT13はオンし、インピーダンスも
小さいのでノードN、の電位は電源電圧Vo。程度とな
る。従ってコラム選択信号Y、ワード線をV。。レベル
に設定することで、ビット線BLの電位及びメモリトラ
ンジスタMQのドレインにV。。レベルの電圧を与える
ことができる。
On the other hand, the transistor T13 is turned on and its impedance is small, so the potential of the node N is the power supply voltage Vo. It will be about. Therefore, the column selection signal Y and the word line are set to V. . By setting the level to V, the potential of the bit line BL and the drain of the memory transistor MQ is set to V. . level voltage can be applied.

従って、テストモード時にはテスト信号TE及びセンス
アンプ活性化信号SEを“H”に設定するこ°とで、メ
モリトランジスタMQのドレインに電源電圧vco程度
の電圧を与え、フローティングゲートに蓄積されていた
負の電荷が引き抜かれ易い状態を設定できる。その結果
、電界加速性が従来より高まり、初期的不良メモリトラ
ンジスタのある12880Mを短時間のスクリーニング
時間で発見できる。
Therefore, in the test mode, by setting the test signal TE and the sense amplifier activation signal SE to "H", a voltage approximately equal to the power supply voltage vco is applied to the drain of the memory transistor MQ, and the negative voltage accumulated in the floating gate is removed. It is possible to set a state in which the charge is easily extracted. As a result, electric field acceleration is higher than before, and 12880M with initially defective memory transistors can be found in a short screening time.

なお、この実施例では、センスアンプ活性化信号SEを
“H″にして、センスアンプを非活性としたが、活性化
状態にしておいてもよい。しかしながら、無駄な電力消
費を防ぐためには、センス7ンプ1を非活性にするほう
が望ましい。
In this embodiment, the sense amplifier activation signal SE is set to "H" to deactivate the sense amplifier, but the sense amplifier may be kept activated. However, in order to prevent wasteful power consumption, it is preferable to deactivate the sense amplifier 1.

また、スイッチング手段としてトランジスタT13をセ
ンスアンプ1内に設けたが、テストモード時に電源電圧
レベルをビット線に供給できる構成であれば、トランジ
スタに限定されず、センスアンプ1内に設ける必要もな
い。
Further, although the transistor T13 is provided in the sense amplifier 1 as a switching means, it is not limited to a transistor and does not need to be provided in the sense amplifier 1 as long as it has a configuration that can supply a power supply voltage level to the bit line during the test mode.

また、この発明は12880Mのみならず、EPROM
等の他の不揮発性半導体記憶装置にも適用可能である。
Moreover, this invention is applicable not only to 12880M but also to EPROM
It is also applicable to other nonvolatile semiconductor memory devices such as.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、この発明によれば、ビット線、電
源電圧間に設けられたスイッチング手段により、テスト
モード時にオン状態となるため、テストモード時に電源
電圧レベルの電位をビット線に与えることができ、電界
加速試験を従来より短い時間で行うことができる効果が
ある。
As explained above, according to the present invention, since the switching means provided between the bit line and the power supply voltage turns on during the test mode, it is not possible to apply a potential at the power supply voltage level to the bit line during the test mode. This has the effect of allowing electric field acceleration tests to be performed in a shorter time than conventional methods.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実m’!Aである12880Mの
センスアンプ周辺i示す回路図、第2図は従来のE  
PROMのセンスアンプ周辺を示す回路図である。 図において、T13はトランジスタ、MQはメモリトラ
ンジスタ、BLはビット線、TEはテスト信号である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Figure 1 is the fruit of this invention m'! The circuit diagram showing the surroundings of the sense amplifier of 12880M, which is A. Figure 2 is the circuit diagram of the conventional E
FIG. 2 is a circuit diagram showing the periphery of a sense amplifier of a PROM. In the figure, T13 is a transistor, MQ is a memory transistor, BL is a bit line, and TE is a test signal. Note that the same reference numerals in each figure indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)フローティングゲートを有し不揮発な記憶を行う
メモリトランジスタを備えた不揮発性半導体記憶装置に
おいて、 前記メモリトランジスタの一方電極が接続されたビット
線と電源電圧間に設けられ、テストモード時にオン状態
となり、ビット線に電源電圧レベルの電位を与えるスイ
ッチング手段を設けたことを特徴とする不揮発性半導体
記憶装置。
(1) In a nonvolatile semiconductor memory device equipped with a memory transistor that has a floating gate and performs nonvolatile storage, the memory transistor is provided between a bit line connected to one electrode of the memory transistor and a power supply voltage, and is turned on in a test mode. What is claimed is: 1. A nonvolatile semiconductor memory device characterized in that a switching means is provided for applying a potential at a power supply voltage level to a bit line.
JP63017789A 1988-01-27 1988-01-27 Non-volatile semiconductor memory Pending JPH01192100A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63017789A JPH01192100A (en) 1988-01-27 1988-01-27 Non-volatile semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63017789A JPH01192100A (en) 1988-01-27 1988-01-27 Non-volatile semiconductor memory

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01192100A true JPH01192100A (en) 1989-08-02

Family

ID=11953483

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63017789A Pending JPH01192100A (en) 1988-01-27 1988-01-27 Non-volatile semiconductor memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01192100A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5375083A (en) * 1993-02-04 1994-12-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit including a substrate having a memory cell array surrounded by a well structure
US5535160A (en) * 1993-07-05 1996-07-09 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit
KR100295925B1 (en) * 1997-05-28 2001-08-07 다니구찌 이찌로오, 기타오카 다카시 Memory device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5375083A (en) * 1993-02-04 1994-12-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit including a substrate having a memory cell array surrounded by a well structure
US5535160A (en) * 1993-07-05 1996-07-09 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit
KR100295925B1 (en) * 1997-05-28 2001-08-07 다니구찌 이찌로오, 기타오카 다카시 Memory device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100205555B1 (en) Semiconductor memory device
JPS6246489A (en) Dynamic type differential amplifier
JPH08321190A (en) Sense amplifier circuit
KR950001776A (en) Ferroelectric memory
JPH06125056A (en) Driving method for ferroelectric memory
JP2007525781A (en) Memory circuit and evaluation method for evaluating memory data of CBRAM resistance memory cell
JPS6069898A (en) Semiconductor storage device
US20100061171A1 (en) Semiconductor Memory Device and Method of Operating the Same
JPH07111085A (en) Non-volatile semiconductor memory
JPS6044751B2 (en) dynamic semiconductor memory
KR910001750A (en) Semiconductor memory
US3959782A (en) MOS circuit recovery time
EP1349173B1 (en) Semiconductor memory device and drive method therefor
KR100476483B1 (en) Nonvolatile Register, Data Recording Method and Data Reading Method
KR19980034731A (en) Stress test apparatus and method for semiconductor memory device
US5909402A (en) Circuit for driving/controlling sensing amplifier
US4030081A (en) Dynamic transistor-storage element
US20040012996A1 (en) Memory system
JPH01192100A (en) Non-volatile semiconductor memory
JP2004110878A (en) Semiconductor storage device and driving method therefor
JPH11273362A (en) Non-volatile semiconductor memory device
CA1114952A (en) Non-destructive interrogation control circuit for a variable threshold fet memory
KR0164808B1 (en) Sense amplifying circuit for semiconductor memory device
US5956283A (en) Method of reading a flash memory cell and a read voltage generating circuit
JP3588376B2 (en) Ferroelectric memory