JPH01161792A - Semiconductor laser device and its manufacture - Google Patents

Semiconductor laser device and its manufacture

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JPH01161792A
JPH01161792A JP31966787A JP31966787A JPH01161792A JP H01161792 A JPH01161792 A JP H01161792A JP 31966787 A JP31966787 A JP 31966787A JP 31966787 A JP31966787 A JP 31966787A JP H01161792 A JPH01161792 A JP H01161792A
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semiconductor laser
face
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Abstract

PURPOSE:To prevent the interference caused by the reflection on a beam emitting end face without a risk of trouble in laser beam emission, by making the beam reflectance of the beam emitting end face except the optical beam emission point lower than that of said optical beam emission point. CONSTITUTION:The beam reflectance of the beam emitting end face 2 of a semiconductor laser device 1 except the optical beam emission point 5 is lower than that of said optical beam emission point 5. For example, when beam absorptive positive type photoresist film 4a is applied on the surface of the beam emitting end face 2 of the semiconductor laser device 1 and cured, and a beam is emitted from the semiconductor laser device 1 through the optical beam emission point 5 to expose the sensitive resist 4a, the spot just on the optical beam emission point 5 of the sensitive resist 4a is exposed. And then the exposed portion 4b of the sensitive resist 4a is eliminated by etching to bare the optical beam emission point 5. This decreases the beam reflectance of the beam emitting end face 2 except the optical beam emission point 5.

Description

【発明の詳細な説明】 以下の順序に従って本発明を説明する。[Detailed description of the invention] The present invention will be described in the following order.

A、産業上の利用分野2 B1発明の概要 C6従来技術 O9発明が解決しようとする問題点[第4図]E1問題
点を解決するための手段 F0作用 G、実施例[第1図乃至第3図] H1発明の効果 (A、産業上の利用分野) 本発明は半導体レーザ装置とその製造方法、特に光学式
ヘッドに光源として用いる半導体レーザ装置とその製造
方法に関する。
A. Industrial application field 2 B1 Summary of the invention C6 Prior art O9 Problems to be solved by the invention [Fig. 4] E1 Means for solving the problems F0 Effects G. Examples [Figs. Figure 3] H1 Effects of the Invention (A, Industrial Application Field) The present invention relates to a semiconductor laser device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a semiconductor laser device used as a light source in an optical head and a manufacturing method thereof.

(B、発明の概要) 本発明は、半導体レーザ装置から出射したレーザ光が記
録媒体及び光出射端面で反射されて干渉が生じることを
防止するため、 光出射端面の光ビーム出射領域の光反射率より他の部分
の光反射率を低くすることとし、光出射端面のうち光ビ
ーム出射領域と他の部分とで光反射率を異ならせるため
に光出射端面に感光性レジストを塗布し、半導体レーザ
装置の出射したレーザ光で感光性レジストを露光すると
いうセルフアラ−rトメント方法を用いるものである。
(B. Summary of the Invention) In order to prevent the laser beam emitted from the semiconductor laser device from being reflected by the recording medium and the light emitting end face and causing interference, the present invention provides light reflection in the light beam emitting area of the light emitting end face. In order to make the light reflectance of other parts of the light output end face different from that of the light beam exit area, a photosensitive resist is applied to the light exit end face of the semiconductor. A self-alert method is used in which a photosensitive resist is exposed to laser light emitted by a laser device.

(C,従来技術) コンパクトディスクやビデオディスク等光ディスクの再
生にはt導体レーザ装置を光源とした光学式ヘッドが用
いられている。光学式ヘッドは一般に半導体レーザ装置
から出射したレーザ光を光ディスクの表面に収束して照
射し、光デイスク表面で反射されたレーザ光をフォトデ
テクタで検知してデータの読み取り、トラッキングエラ
ー、フォーカスエラーの検出を行うものである。
(C, Prior Art) An optical head using a t-conductor laser device as a light source is used to reproduce optical discs such as compact discs and video discs. Optical heads generally emit laser light emitted from a semiconductor laser device and irradiate it onto the surface of an optical disk, and a photodetector detects the laser light reflected from the surface of the optical disk to read data and prevent tracking errors and focus errors. It performs detection.

そして、トラッキングエラーの検出には3ビ一ム方式が
用いられる場合が多い。3ビ一ム方式は半導体レーザ装
置から出射された1つのレーザビームを回折格子に通し
て3本のビームを得るようにし、そのうちの2本のビー
ム(副ビーム)をトラッキングエラーの検出に用いるも
のである。
A three-beam method is often used to detect tracking errors. In the 3-beam method, one laser beam emitted from a semiconductor laser device is passed through a diffraction grating to obtain three beams, and two of these beams (sub beams) are used to detect tracking errors. It is.

ところで、近年は光を使って光磁気ディスクに磁気記録
する光磁気ディスク記録の技術も開発され、実用化の段
階に入っているが、その光磁気ディスクの再生あるいは
記録にも光学式ヘッドが用いられる。そして、光ディス
クの再生には光デイスク専用の光学式ヘッドを、光磁気
ディスクの記録、再生には光磁気ディスク専用の光学式
ヘッドを用いるようにするのが普通である。しかし、一
つのヘッドを光磁気ディスクと光ディスクの両方に使用
できるようにするという要望が生まれることが予測され
ること、そして、光デイスク用の光学式ヘッドも光磁気
ディスク用の光学式ヘッドも原理がほとんど同じである
ことから、1つの光学式ヘッドで光磁気ディスクの記録
、再生及び光ディスクの再生ができるようにする試みが
本願出願人会社において為されている。
Incidentally, in recent years, magneto-optical disk recording technology, which uses light to magnetically record information on magneto-optical disks, has been developed and is now in the stage of practical application. It will be done. It is common to use an optical head dedicated to optical discs for reproducing optical discs, and to use an optical head dedicated to magneto-optical discs for recording and reproducing data on magneto-optical discs. However, it is predicted that there will be a desire to be able to use one head for both magneto-optical disks and optical disks, and that the optical head for optical disks and the optical head for magneto-optical disks are based on the same principle. Since these are almost the same, the applicant company has attempted to enable recording and reproduction of magneto-optical disks and reproduction of optical disks using one optical head.

(D、発明が解決しようとする問題点)[第4図] ところが、光磁気ディスクと光ディスクの双方に使用で
きるようにしようとした光学式ヘッドには光ディスクの
再生に用いるときにトラッキングエラー検出に関してオ
フセットが生じるという問題が生じた。この点について
具体的に説明すると次のとおりである。
(D. Problems to be Solved by the Invention) [Figure 4] However, the optical head that was intended to be usable for both magneto-optical disks and optical disks has problems with tracking error detection when used to play back optical disks. A problem arose in that an offset occurred. A concrete explanation of this point is as follows.

即ち、光磁気ディスク専用の光学式ヘッドで光磁気ディ
スクに対して再生あるいは記録を行う場合には半導体レ
ーザ装置から出射されたレーザ光の約30%しか半導体
レーザ装置に戻らないので光磁気ディスクと半導体レー
ザ装置との間を往き来するレーザ光の干渉は無視できる
程度のものであり、また、光デイスク専用の光学式ヘッ
ドで光ディスクを再生する場合の半導体レーザ装置から
出射されたレーザ光の半導体レーザ装置へ戻る割合は約
25%に過ぎず、干渉はやはりほとんど問題とならない
。しかるに、光磁気ディスク・光デイスク両用の光学式
ヘッドで光ディスクを再生する場合には光デイスク表面
がアルミニウムからなるので半導体レーザ装置から出射
されたレーザ光の90%が光ディスクの反射によって半
導体レーザ装置に戻ってくる。その結果、半導体レーザ
装置と光ディスクで反射されてその間を往き来するレー
ザ光の量が多くなる。これは、光学式ヘッドに回折格子
を用いた3ビ一ムトラツキング方式(3スポツト、DP
P)を採用した場合、半導体レーザ装置とディスクとの
間がアイソレートされていないためである。そして、そ
の干渉がトラッキングエラー検出信号に大きなりCオフ
セットをもたらす。第4図はこの現象を説明するための
・ものであり、この図に従ってもっと詳しくこの干渉と
いう現象を説明する。
In other words, when reading or recording on a magneto-optical disk using an optical head specifically designed for magneto-optical disks, only about 30% of the laser light emitted from the semiconductor laser device returns to the semiconductor laser device. The interference of the laser light going back and forth between the semiconductor laser device and the semiconductor laser device is negligible. Only about 25% of the light returns to the laser device, so interference is still hardly a problem. However, when an optical disk is played back using an optical head for both magneto-optical disks and optical disks, the surface of the optical disk is made of aluminum, so 90% of the laser light emitted from the semiconductor laser device is reflected by the optical disk and reaches the semiconductor laser device. come back. As a result, the amount of laser light reflected by the semiconductor laser device and the optical disk and traveling back and forth between them increases. This is a 3-beam tracking method (3-spot, DP) that uses a diffraction grating in the optical head.
This is because when P) is adopted, the semiconductor laser device and the disk are not isolated. This interference causes a large C offset in the tracking error detection signal. FIG. 4 is for explaining this phenomenon, and the phenomenon of interference will be explained in more detail with reference to this figure.

同図において、aは半導体レーザ装置で、ヘッダーb上
にマウントされている。Cは半導体レーザ装置aの活性
層、dは半導体レーザ装置aの光出射端面であり、活性
層Cの光出射端面dに露出した点■が発光点となる。e
は1つのレーザビームから3つのビームを発生させる回
折格子、fは光ディスクである。
In the figure, a denotes a semiconductor laser device, which is mounted on a header b. C is an active layer of the semiconductor laser device a, d is a light emitting end face of the semiconductor laser device a, and a point 2 exposed on the light emitting end face d of the active layer C becomes a light emitting point. e
is a diffraction grating that generates three beams from one laser beam, and f is an optical disk.

そして、発光点■から出た光は回折格子eを出ると基本
的には3つの光路をつくって光ディスクf上の3つの点
■、■、■に達するが、そのほかにもたくさんの光路が
生じる。例えば、光ディスクf上の点■に達したレーザ
光がそこで反射されて回折格子eを通り発光点■に達し
、そこでまた反射されて回折格子eを通って点■に至る
光路、あるいは光ディスクf上の点■に達したレーザ光
がそこで反射されて回折格子eを通り半導体レーザ装置
aの光出射端面dの発光点■より上の点Oに達し、そこ
で反射されて回折格子eを通って点■に至る光路、更に
は光ディスクf上の点■に達したレーザ光がそこで反射
されて回折格子eを通り点■に達し、そこで反射されて
回折格子eを通って点■に至る光路等がそれである。こ
のように多くの光路が存在し、■、■、■の各点にて干
渉が起き、そして、光ディスクfが実線で示す状態から
破線で示す状態あるいは2点鎖線で示す状態に傾くとそ
れに伴って各点■、■、■における光強度が変動する。
When the light emitted from the light emitting point ■ exits the diffraction grating e, it basically creates three optical paths and reaches the three points ■, ■, ■ on the optical disk f, but many other optical paths also occur. . For example, a laser beam that reaches point ■ on optical disk f is reflected there, passes through diffraction grating e, reaches light emitting point ■, is reflected again, passes through diffraction grating e, and reaches point ■, or on the optical disk f. The laser beam that has reached the point ■ is reflected there, passes through the diffraction grating e, reaches a point O above the light emitting point ■ on the light emitting end surface d of the semiconductor laser device a, and is reflected there, passes through the diffraction grating e, and reaches the point O. The optical path leading to ■, and furthermore, the laser beam that reaches point ■ on the optical disk f is reflected there, passes through the diffraction grating e, reaches point ■, is reflected there, passes through the diffraction grating e, and reaches point ■, etc. That's it. As described above, there are many optical paths, and interference occurs at points ■, ■, and ■, and when the optical disk f tilts from the state shown by the solid line to the state shown by the broken line or the state shown by the two-dot chain line, the interference occurs. The light intensity at each point ■, ■, ■ changes.

そして、これがトラッキングサーボにDCオフセットを
与え、トラッキングを不安定にする要因となり、場合に
よってはトラッキングを不能にする虞れもある。
This gives a DC offset to the tracking servo, which causes tracking to become unstable, and in some cases may even make tracking impossible.

この問題点は光メモリシンポジウム”86論文集P12
7〜132 1986.12(応用物理学会・電子情報
通信学会共催)においても指摘されている。
This problem is discussed in the Optical Memory Symposium “86 Proceedings P12.
7-132 December 1986 (co-sponsored by the Japan Society of Applied Physics and the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers).

この問題点に対してはいくつかの解決方法が考えられる
。その一つとして回折格子とディスクの間に偏光ビーム
スプリッタ等からなる光アイソレータを設け、回折格子
からディスクへ向うレーザ光に対しては通過を許容する
がディスクで反射されて回折格子へ向うレーザ光に対し
ては光アイソレータによって反射し干渉を生じさせない
ようにすることが考えれるが、これは光アイソレータと
いう光学部品を余計に必要とし、光学式ヘッドの多部品
化、高価格化を招き好ましくない。また、上記論文集の
2127〜132に記載されたようにトラッキングサー
ボ方式として新しい差動プッシュプル方式の採用も一つ
の解決方法になるかもしれないが技術として完全に確立
されている訳ではなく、未知の点もある。
There are several possible solutions to this problem. As one of them, an optical isolator consisting of a polarizing beam splitter or the like is installed between the diffraction grating and the disk, allowing the laser beam from the diffraction grating to pass through, but the laser beam is reflected by the disk and heads toward the diffraction grating. It is conceivable to use an optical isolator to reflect the light and prevent it from causing interference, but this requires an additional optical component called an optical isolator, which is undesirable as it increases the number of components in the optical head and increases the price. . Also, as described in 2127-132 of the above collection of papers, adopting a new differential push-pull method as a tracking servo method may be a solution, but it is not completely established as a technology. There are some unknowns.

結局、干渉の問題が生じるのは半導体レーザ装置側でレ
ーザ光が反射されるためであり、半導体レーザ装置側で
反射されなければあるいは反射されても反射されるレー
ザ光の光量が少なければ干渉が生じないので、光アイソ
レータを使用するとか、トラッキングサーボ方式として
技術が確立していた3スポツト法等の採用をやめて未確
立の新しい方式の採用をするということは必ずしも必要
ではない。
In the end, the problem of interference occurs because the laser light is reflected on the semiconductor laser device side, and if the laser light is not reflected on the semiconductor laser device side, or even if it is reflected, the amount of reflected laser light is small, interference will occur. Since this does not occur, it is not necessarily necessary to use an optical isolator or to abandon the established three-spot tracking servo method and adopt a new, unestablished tracking servo method.

そこで、考えられるのが、第4図においてヘッダーbの
ディスク側の面を2点鎖線で示すようにえぐり、発光点
■より下の点■に戻った光がえぐった部分で下側に反射
され、回折格子側には戻らないようにすることである。
Therefore, one possibility is that the disk side surface of the header b is hollowed out as shown by the two-dot chain line in Figure 4, and the light that returns to the point ■ below the light emitting point ■ is reflected downward at the hollowed out part. , so as not to return to the diffraction grating side.

確かにこれは点■に戻った光に対しては効果がある。し
かし、点■に戻った光に対しては全く効果がない。
This is certainly effective against the light that returns to the point ■. However, it has no effect on the light that returns to point ■.

ところで、ここで一般の半導体レーザ装置の光出射端面
について述べると、表側、即ち信号読取に使用する本来
のレーザ光を出射する側の光出射端面よりも裏側の端面
(モニタ用レーザ光が出射される)の光反射率を低くし
て本来のレーザ光の出射効率を高めるために裏側の端面
にコーティングする場合がある。そこで、そのコーティ
ングを表側の端面である光出射端面に施してその光出射
端面の光反射率を低くすることも考えられる。しかし、
光出射端面を全体的に光反射率を低くすると、レーザ発
光に必要な活性層内における発振が生じなくなる虞れが
あり、光出射端面に全面的にコーディングしてその光反
射率を低くすることも採用し難いのである。
By the way, here we talk about the light emitting end face of a general semiconductor laser device. In some cases, the back end face is coated to lower the light reflectance of the laser beam and increase the original laser beam output efficiency. Therefore, it is conceivable to apply the coating to the light-emitting end face, which is the front end face, to lower the light reflectance of the light-emitting end face. but,
If the overall light reflectance of the light emitting end face is lowered, there is a risk that oscillation within the active layer necessary for laser emission will not occur, so it is recommended to reduce the light reflectance by coating the entire light emitting end face. It is also difficult to hire.

そこで、本発明はレーザ発光に支障を来す虞れをもたら
すことなく光出射端面での反射による干渉の生じない新
規な半導体レーザ装置とその製造方法を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a novel semiconductor laser device and a method for manufacturing the same, in which interference due to reflection at a light emitting end face does not occur without causing a risk of interfering with laser emission.

(E、問題点を解決するための手段) 本発明半導体レーザ装置は上記問題点を解決するため、
光出射端面において光ビーム出射領域の光反射率より他
の部分のそれを低くしたことを特徴とする。
(E. Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the semiconductor laser device of the present invention has the following steps:
It is characterized in that the light reflectance of other parts of the light emitting end face is lower than that of the light beam emitting area.

本発明半導体レーザ装置の製造方法は、光出射端面の光
ビーム出射領域と他の部分とで光反射率を異ならせるた
め、光出射端面に感光性レジストを塗布し、半導体レー
ザ装置の出射したレーザ光で感光性レジストを露光する
というセルフアライメントを行うことを特徴とする。
In the method for manufacturing a semiconductor laser device of the present invention, in order to make the light reflectance different between the light beam emitting region and other parts of the light emitting end surface, a photosensitive resist is applied to the light emitting end surface, and the laser beam emitted from the semiconductor laser device is coated with a photosensitive resist. It is characterized by self-alignment in which the photosensitive resist is exposed to light.

(F、作用) 本発明半導体レーザ装置によれば、光出射端面は光ビー
ム出射領域を除き光反射率が低くされているので戻った
光の光出射端面での反射量を少なくすることができ、干
渉を無視できる程度に小さくすることは容易に為し得る
。そして、光出射端面の光ビーム出射領域は光反射率が
低くされていないのでレーザ発振が妨げられる虞れもな
い。
(F. Effect) According to the semiconductor laser device of the present invention, since the light emitting end face has a low light reflectance except for the light beam emitting region, the amount of reflected light at the light emitting end face can be reduced. , it is easy to reduce the interference to a negligible level. Furthermore, since the light beam emitting region of the light emitting end face does not have a low light reflectance, there is no possibility that laser oscillation will be hindered.

しかして、レーザ発光に支障を来たすことなく光出射端
面での反射量を少くして干渉が生じないようにすること
ができる。
Therefore, it is possible to reduce the amount of reflection at the light emitting end face and prevent interference from occurring without interfering with laser emission.

また、本発明半導体レーザ装置の製造方法によれば、光
出射端面に塗布した感光性レジストを半導体レーザ装置
に発生させたレーザ光によって露光することによって感
光性レジストの光ビーム出射領域上の部分のみを1選択
的に感光させることができる。従って、光ビーム出射領
域とそれ以外の部分との光反射率を異ならせることがで
き、延いては光ビーム出射領域より他の部分の光反射率
を低くした半導体レーザ装置を容易に製造することがで
きる。
According to the method for manufacturing a semiconductor laser device of the present invention, the photosensitive resist coated on the light emitting end face is exposed to laser light generated by the semiconductor laser device, so that only the portion of the photosensitive resist on the light beam emitting region is exposed. can be selectively exposed to light. Therefore, it is possible to make the light reflectance of the light beam emitting region different from that of other parts, and it is possible to easily manufacture a semiconductor laser device in which the light reflectance of the other parts is lower than that of the light beam emitting region. Can be done.

(G、実施例)[第1図乃至第3図] 以下、本発明半導体レーザ装置とその製造方法を図示実
施例に従って詳細に説明する。
(G. Embodiment) [FIGS. 1 to 3] Hereinafter, the semiconductor laser device of the present invention and its manufacturing method will be described in detail according to the illustrated embodiment.

第1図は(A)、(B)は本発明半導体レーザ装置の一
つの実施例を示すもので、同図(A)は斜視図、同図(
B)は断面図である。
FIGS. 1(A) and 1(B) show one embodiment of the semiconductor laser device of the present invention; FIG. 1(A) is a perspective view, and FIG.
B) is a cross-sectional view.

図面において、1は半導体レーザ装置、2は光出射端面
、即ち信号の再生あるいは書込に使用する本来のレーザ
光を出射する端面、3は活性層である。
In the drawings, 1 is a semiconductor laser device, 2 is a light emitting end face, that is, an end face that emits the original laser light used for signal reproduction or writing, and 3 is an active layer.

4は光吸収膜で、例えば感光性レジストからなる。該光
吸収膜4は活性層3が光出射端面2に露出した部分、即
ち光ビーム出射領域5を覆わないように開口6が形成さ
れている。
4 is a light-absorbing film made of, for example, a photosensitive resist. The light absorbing film 4 has an opening 6 formed so as not to cover the portion of the active layer 3 exposed to the light emitting end face 2, that is, the light beam emitting region 5.

このような半導体レーザ装置によれば、光出射端面2の
活性層3が露出した部分が、即ち光ビーム出射領域5以
外の部分が光吸収膜4で覆われているので、その光ビー
ム出射領域5以外の部分の光反射率が著しく低くなる。
According to such a semiconductor laser device, the exposed portion of the active layer 3 of the light emitting end face 2, that is, the portion other than the light beam emitting region 5, is covered with the light absorption film 4, so that the light beam emitting region is covered with the light absorbing film 4. The light reflectance of parts other than 5 becomes significantly low.

従って、光出射端面2においての光反射量を少なくする
ことができ、延いては干渉によるトラッキングサーボの
DCオフセットを少なくすることができる。そして、光
ビーム出射領域5は光吸収膜4で覆われていないのでレ
ーザ発振に支障を来たす虞れはない。
Therefore, the amount of light reflected at the light emitting end face 2 can be reduced, and in turn, the DC offset of the tracking servo due to interference can be reduced. Furthermore, since the light beam emission region 5 is not covered with the light absorption film 4, there is no risk of interfering with laser oscillation.

尚、開口6に無反射コーティングを施しても良い。Incidentally, the opening 6 may be coated with an anti-reflection coating.

第2図(A)乃至(C)は第1図に示した半導体レーザ
装置の製造方法の一つの例を工程順に示す断面図である
FIGS. 2A to 2C are cross-sectional views showing one example of a method for manufacturing the semiconductor laser device shown in FIG. 1 in the order of steps.

先ず、同図(A)に示すように半導体レーザ装置1の光
出射端面2表面に光吸収性を有したポジ型のフォトレジ
スト膜4aを塗布し、キュアした後、同図(B)に示す
ように半導体レーザ装置1を発光させ半導体レーザ装置
1の光ビーム出射領域5から出射されたレーザ光によっ
て感光性レジスト4aを露光する。すると、感光性レジ
スト4aの光ビーム出射領域5と対応する部分が感光す
る。4bは感光性レジスト4aの感光部分である。その
後、エツチングすることにより同図(C)に示すように
感光性レジスト4aの感光部分4bを除去して光ビーム
出射領域5を露出させる。尚、このエツチングにより形
成された開「16に無反射コーティングを施するように
しても良い。
First, as shown in the figure (A), a positive photoresist film 4a having light absorption properties is coated on the surface of the light emitting end face 2 of the semiconductor laser device 1, and after curing, as shown in the figure (B). In this manner, the semiconductor laser device 1 is caused to emit light, and the photosensitive resist 4a is exposed to the laser light emitted from the light beam emitting region 5 of the semiconductor laser device 1. Then, a portion of the photosensitive resist 4a corresponding to the light beam emission area 5 is exposed to light. 4b is a photosensitive portion of the photosensitive resist 4a. Thereafter, by etching, the photosensitive portion 4b of the photosensitive resist 4a is removed to expose the light beam emitting region 5, as shown in FIG. 4(C). Incidentally, the opening 16 formed by this etching may be coated with an anti-reflection coating.

このように、半導体レーザ装置1に発光させることによ
りレーザ光を用いてセルフアライメントによって光出射
端面の光ビーム出射領域以外の部分の光反射率を低くす
ることができる。
In this way, by causing the semiconductor laser device 1 to emit light, it is possible to lower the light reflectance of the portion of the light emitting end face other than the light beam emitting area by self-alignment using laser light.

第3図(A)乃至(E)は第1図に示した半導体レーザ
装置の製造方法の別の例を工程順に示す断面図である。
FIGS. 3A to 3E are cross-sectional views showing another example of the method for manufacturing the semiconductor laser device shown in FIG. 1 in the order of steps.

先ず、同一(A)に示すように、光出射端面2にネガ型
のフォトレジスト膜4Cを塗布し、次に、同図(B)に
示すように半導体レーザ装置1を発光させて光ビーム出
射領域から出射されたレーザ光によりフォトレジスト膜
4Cを露光し、次に、同図(C)に示すようにエツチン
グによりフォトレジスト膜4Cの感光部4dのみを残存
させ、次に同図(D)に示すように光吸収膜4eをデポ
ジットし、その後同図(E)に示すようにフォトレジス
ト膜感光部4dを除去する。尚、その後、開口6に無反
射コーティングを施しても良い。
First, as shown in the same figure (A), a negative photoresist film 4C is applied to the light emitting end face 2, and then, as shown in the same figure (B), the semiconductor laser device 1 is caused to emit light to emit a light beam. The photoresist film 4C is exposed to laser light emitted from the region, and then etched to leave only the exposed portion 4d of the photoresist film 4C as shown in FIG. As shown in (E), a light absorbing film 4e is deposited, and then, as shown in (E) of the same figure, the photoresist film exposed portion 4d is removed. Incidentally, after that, an anti-reflection coating may be applied to the opening 6.

このような方法によりても第1図に示すような半導体レ
ーザ装置を製造することができる。
A semiconductor laser device as shown in FIG. 1 can also be manufactured by such a method.

尚、光吸収体の代りに無反射性を有する感光性レジスト
を塗布し、感光性レジストを半導体レーザ装置のレーザ
光により露光し、感光性レジストの感光部をマスクとし
て光出射端面をエツチングして粗面化を図ることにより
光出射端面の光ビーム出射領域以外の部分の光反射率を
低下させるようにしても良いし、また、光出射端面に塗
布したフォトレジスHIQを半導体レーザ装置のレーザ
光により感光させ、その後適宜な膜を光出射端面上にデ
ポジットし、そのデポジット膜にフォトレジスト膜の感
光部をマスクとしてイオン打込みして光吸収性をもたら
せるようにする等、本発明には種々の実施例が考えられ
る。
Note that a non-reflective photosensitive resist is applied instead of the light absorber, the photosensitive resist is exposed to laser light from a semiconductor laser device, and the light-emitting end face is etched using the photosensitive portion of the photosensitive resist as a mask. By roughening the surface, the light reflectance of the portion of the light emitting end surface other than the light beam emitting area may be reduced, or the photoresist HIQ coated on the light emitting end surface may be used to prevent laser light from a semiconductor laser device. In the present invention, a suitable film is deposited on the light emitting end face, and ions are implanted into the deposited film using the exposed part of the photoresist film as a mask to impart light absorption properties. Various embodiments are possible.

(H,発明の効果) 以上に述べたように、本発明半導体レーザ装置は、光出
射端面において光ビーム出射領域の光反射率より他部の
光反射率が低くされてなることを特徴とするものである
(H, Effect of the Invention) As described above, the semiconductor laser device of the present invention is characterized in that the light reflectance of other parts of the light emitting end face is lower than the light reflectance of the light beam emitting region. It is something.

従って、本発明半導体レーザ装置によれば、レーザ発光
に支障を来たすことなく光出射端面での反射をなくし干
渉の生じる虞れをなくすことができる。
Therefore, according to the semiconductor laser device of the present invention, reflection at the light emitting end face can be eliminated and the possibility of interference can be eliminated without interfering with laser emission.

また、本発明半導体レーザ装置の製造方法は、光出射端
面の光ビーム出射領域の光反射率より他部の光反射率が
低くされた半導体レーザ装置の製造方法において、上記
光出射端面に感光性レジストを塗布した後上記半導体レ
ーザ装置の光出力によって上記感光性レジストを露光す
る工程を有することを特徴とするものである。
Further, in the method for manufacturing a semiconductor laser device of the present invention, in the method for manufacturing a semiconductor laser device in which the light reflectance of other parts of the light emitting end facet is lower than the light reflectance of the light beam emitting region, the light emitting end facet has a photosensitive material. The method is characterized by comprising a step of exposing the photosensitive resist to light output from the semiconductor laser device after applying the resist.

従って、セルフアライメントにより光出射端面の光ビー
ム出射領域と、他の部分との光反射率を異ならせること
ができ、上記半導体レーザ装置を簡単に製造することが
できる。
Therefore, by self-alignment, the light reflectance of the light beam emitting region of the light emitting end face can be made different from that of other parts, and the above semiconductor laser device can be manufactured easily.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(A)、(B)は本発明半導体レーザ装置の一つ
の実施例を示すもので、同図(A)は斜視図、同図(B
)は断面図、第2図(A)乃至(C)は本発明半導体レ
ーザ装置の製造方法の一つの実施例を工程順に示す断面
図、第3図(A)乃至(E)は本発明半導体レーザ装置
の製造方法の他の実施例を工程順に示す断面図、第4図
は本発明が解決しようとする問題点である干渉の説明図
である。 符号の説明 1・・・半導体レーザ装置、 2・・・光出射端面、 4a、4c・・・感光性レジスト、 5・・・光ビーム出射領域。 ゛  1 ・・ 手璽体レーサ゛装置 5・ 光と1−ム出釘9B域 CA’)         CB)<C)CA)   
  CB)CC)CD)    CE)製@775ff
in@n4rIIJ を工程順に示す断面図 第3図 干渉の説明図(問題点説明)
1(A) and 1(B) show one embodiment of the semiconductor laser device of the present invention, in which FIG. 1(A) is a perspective view and FIG. 1(B) is a perspective view.
) is a cross-sectional view, FIGS. 2(A) to (C) are cross-sectional views showing one embodiment of the method for manufacturing the semiconductor laser device of the present invention in the order of steps, and FIGS. 3(A) to (E) are cross-sectional views of the semiconductor laser device of the present invention. FIG. 4 is a sectional view showing another embodiment of the method for manufacturing a laser device in the order of steps, and is an explanatory diagram of interference, which is a problem to be solved by the present invention. Explanation of symbols 1...Semiconductor laser device, 2...Light emission end face, 4a, 4c...Photosensitive resist, 5...Light beam emission region.゛ 1... Hand-held laser device 5. Light and 1-me nail 9B area CA') CB) < C) CA)
CB) CC) CD) CE) @775ff
Cross-sectional diagram showing in@n4rIIJ in process order Figure 3: Interference diagram (problem explanation)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)光出射端面においてその光ビーム出射領域の光反
射率よりも他部の光反射率が低くされてなることを特徴
とする半導体レーザ装置
(1) A semiconductor laser device characterized in that the light reflectance of other parts of the light emitting end face is lower than the light reflectance of the light beam emitting region.
(2)光出射端面の光ビーム出射領域の光反射率より他
部の光反射率が低くされた半導体レーザ装置の製造方法
において、上記光出射端面に感光性レジストを塗布した
後上記半導体レーザ装置の光出力によって上記感光性レ
ジストを露光する工程を有することを特徴とする半導体
レーザ装置の製造方法
(2) In a method for manufacturing a semiconductor laser device in which the light reflectance of other parts of the light emitting end face is lower than the light reflectance of the light beam emitting region, the semiconductor laser device is coated with a photosensitive resist on the light emitting end face. A method for manufacturing a semiconductor laser device, comprising the step of exposing the photosensitive resist with a light output of
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6249685A (en) * 1985-08-29 1987-03-04 Sharp Corp Semiconductor laser element
JPS63261775A (en) * 1987-04-20 1988-10-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor laser and manufacture thereof
JPS63265483A (en) * 1987-04-23 1988-11-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor laser device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6249685A (en) * 1985-08-29 1987-03-04 Sharp Corp Semiconductor laser element
JPS63261775A (en) * 1987-04-20 1988-10-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor laser and manufacture thereof
JPS63265483A (en) * 1987-04-23 1988-11-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor laser device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11686999B2 (en) * 2017-12-05 2023-06-27 Osram Oled Gmbh Method for producing a radiation-emitting component, and radiation-emitting component

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