JPH01161340A - Image forming method - Google Patents

Image forming method

Info

Publication number
JPH01161340A
JPH01161340A JP32070187A JP32070187A JPH01161340A JP H01161340 A JPH01161340 A JP H01161340A JP 32070187 A JP32070187 A JP 32070187A JP 32070187 A JP32070187 A JP 32070187A JP H01161340 A JPH01161340 A JP H01161340A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
groups
general formula
substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32070187A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuaki Inoue
井上 伸昭
Kunio Ishigaki
邦雄 石垣
Morio Yagihara
八木原 盛夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP32070187A priority Critical patent/JPH01161340A/en
Priority to US07/238,796 priority patent/US4956263A/en
Priority to EP88114267A priority patent/EP0306833B1/en
Priority to DE3887042T priority patent/DE3887042T2/en
Publication of JPH01161340A publication Critical patent/JPH01161340A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/825Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antireflection means or visible-light filtering means, e.g. antihalation
    • G03C1/83Organic dyestuffs therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/06Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
    • G03C1/061Hydrazine compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a silver halide photographic sensitive material which has less residual colors after development processing by incorporating a specific compd. into an emulsion layer or hydrophilic colloid layer and specifying a developing soln. CONSTITUTION:The compd. expressed by the formula I is incorporated into the emulsion layer or hydrophilic colloid layer. In the formula I, PWR denotes a group which releases (Time)t-LA when reduced; Time denotes a group which releases LA via the ensuing reaction after release as (Time)t-LA from PWR; (t) denotes 0 or 1 integer. LA has the absorption max. of light at >=310nm. The developing soln. is prepd. by using substantially only the dihydroxybenzene as a developing agent. The concn. of the free sulfite therein is >=0.8mol./l and the pH thereof is >=11.0; in addition, the developing soln. contains the compd. expressed by the formula II at >=20mg/l. In the formula II, X1 denote a nitro group, etc., X2, X3 denote an alkyl group of 1-4C, etc. The remaining colors after the development processing are thereby decreased.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はハロゲン化鏝写真感光材料用いた超硬調ネガ画
1−形成方法に関するものであり、特に写真製版工程に
用いられるハロゲン化銀写真感光材料より詳しくは明室
用感光材料に適した超硬調ネガ型写真/!8光材料によ
る画像形成法に関するものである。
Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a method for forming an ultra-high contrast negative image 1 using a halogenated trowel photographic light-sensitive material, and in particular to a silver halide photographic light-sensitive image used in a photolithography process. For more information on materials, see ultra-high contrast negative type photography suitable for photosensitive materials for bright rooms/! This invention relates to an image forming method using 8-light materials.

(従来技術) グラフィック・アープの分野においては網点画像による
連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好なら
しめるために、超硬調(特にガンマがio以上)の写真
特性を示す画像形成システムが必要である。
(Prior art) In the field of graphic arps, image formation exhibiting photographic characteristics of ultra-high contrast (especially gamma of io or higher) is used to improve the reproduction of continuous tone images or line images using halftone images. A system is needed.

高コントラストの写真特性を安定な現像液を用・ いて
得る方法としては米国特許第V2.22μ、弘0/号、
同第≠、itr、り77号、同gμ、166.7μλ号
、同第≠、3//、7ざ1号、同第ダ、コアJ 、60
6号、同第≠、i、2i、rs7号、同第弘、コ6り、
り2り号、同第μ、ltO、74(A等に記載されてい
るヒドラジン誘導体金層いる方法が知られている。この
方法によれば、超硬調で感度の高い写真特性が得られ、
更に現像液中に高濃度の亜硫酸塩を加える仁とが許容さ
れるので、現像液の空気酸化に対する安定性はリス現像
液に比べて飛隋的に向上する。
As a method for obtaining high contrast photographic properties using a stable developer, US Pat.
Same No. ≠, itr, ri No. 77, same g μ, 166.7 μλ No., same No. ≠, 3//, 7za No. 1, same No. Da, core J, 60
No. 6, No.≠, i, 2i, rs7, No. 6, Ko6ri,
A method using a hydrazine derivative gold layer is known, which is described in No. 2, No. μ, ltO, 74 (A, etc.). According to this method, ultra-high contrast and high sensitivity photographic characteristics can be obtained.
Furthermore, since it is permissible to add a high concentration of sulfite to the developer, the stability of the developer against air oxidation is greatly improved compared to a lithium developer.

しかしながら、上記画像システムは著しく旨感度の硬調
化システムにFi通してはいるが、製版工程中の返し工
程で広く用いられている低感度の明室用M&党材料″5
r得ることは困難であった。ヒドラジンを含む低感度の
明室用感光材料を得る方法としては秀開昭60−7≠0
31号、特開昭to−/ 622弘6号、同6/−23
10≠り号、待願昭62−1sJ//A号に開示されて
いる。
However, although the above-mentioned image system is highly sensitive to high-contrast systems, it is a low-sensitivity light-room M&D material widely used in the turning process during the plate-making process.
r was difficult to obtain. As a method for obtaining a low-sensitivity photosensitive material for bright room use containing hydrazine, Shukai Showa 60-7≠0
No. 31, JP-A-Sho to-/622-Hiro 6, 6/-23
It is disclosed in No. 10≠R, long-awaited No. 62-1sJ//A.

一般にハロゲン化銀写真感光材料においては、Il&l
調度、セーフライト安全性の同上、元の色温度調節、ハ
レーション防止、あるいは多層カラー感光材料での感度
バランスの調節などの目的で、特定の波長の光を吸収さ
せるべく、ハロゲン化銀乳剤層又はその他の親水性コロ
イド層に光吸収化合物を含ませることは従来から行われ
てきている。
Generally, in silver halide photographic light-sensitive materials, Il&l
Silver halide emulsion layers or Incorporation of light-absorbing compounds into other hydrophilic colloid layers has been practiced in the past.

特に、写真製版工程に用いらnるハロゲン化銀写真M&
光材料、より詳しくは明室用感光材料は、セーフライト
党に対する安全性を高めるため、UV光や可視光を吸収
する染料t−感光層もしくは、光源と感光層との間の層
に添加される。
In particular, silver halide photographs M&
Optical materials, more specifically photosensitive materials for bright room use, have UV and visible light absorbing dyes added to the photosensitive layer or to the layer between the light source and the photosensitive layer in order to increase safety against safelights. Ru.

また、ハレーション防止のために感光性ハロゲン化銀乳
剤層と支持体との間の親水性コロイド層に添加される。
It is also added to the hydrophilic colloid layer between the photosensitive silver halide emulsion layer and the support to prevent halation.

このような目的で用いられる染料は、写真現像処理中に
脱色されハロゲン化銀写真感光材料中から容易に溶出し
て現像処理後に染料による実質的な残色汚染を防止する
ものであること、写真乳剤に対してかぶ、す、減感等の
悪影91を及ぼさないこと、着色された層から他の層へ
拡散しないこと、その使用目的に応じた良好な吸収スペ
クトル特性を有していること、さらに溶液中あるいはハ
ロゲン化銀写真感光材料中での経時安定性に優れ、変質
しないことなどの諸条件を満足しなければならない。
The dye used for this purpose must be decolorized during photographic processing and easily eluted from the silver halide photographic light-sensitive material to prevent substantial residual color staining caused by the dye after photographic processing. The emulsion should not have any negative effects such as fogging, smearing, or desensitization91 on the emulsion, should not be diffused from the colored layer to other layers, and should have good absorption spectrum characteristics according to its purpose of use. Furthermore, it must satisfy various conditions such as excellent stability over time in a solution or a silver halide photographic light-sensitive material, and no deterioration.

これらの粂件をみたす染料を見出すために多くの努力が
なされてきた。例えば英1特許第306゜3ざ3号に記
載されたピラゾロンオキソノール染料、米国特許第3.
λ177 、/、27号に記載されたバルビッール酸オ
キンノール染料、米国特許第2.370.707号に記
載されたアゾ染料、米国特許第2,233,077号に
記載されたスチリル染料、英国特許第jざ≠、60り号
に記載されたヘミオキソノール染料、米国特許第2.弘
りj 、7弘7号に記載されたメロシアニン染料、米国
特許第2.ざ443.μg6号に記載されたシアニン染
料、米国特許第≠、&Jθ、333号に記載されたメチ
レン型ベンジリデン染料などがあげられる。%願昭61
−2弘りざ7/にはλmaxが3りQnm未満の染料を
含有する四室用ハロゲン化銀写真感光材料について開示
されている。
Many efforts have been made to find dyes that meet these requirements. For example, the pyrazolone oxonol dye described in British Patent No. 306°3za3, US Patent No. 3.
λ177,/27, azo dyes described in U.S. Pat. No. 2,370,707, styryl dyes described in U.S. Pat. No. 2,233,077, British Patent No. The hemioxonol dye described in U.S. Patent No. 60, U.S. Pat. The merocyanine dye described in Hiroshi J., 7 Hiroshi No. 7, US Patent No. 2. Za443. Examples include cyanine dyes described in U.S. Pat. % Gansho 61
-2 Hiroza 7/ discloses a four-chamber silver halide photographic light-sensitive material containing a dye having a λmax of less than 3 Q nm.

上記の染料を含有する層がフィルター層、ハレーション
防止層として機能する場合には、その層が選択的に着色
されそれ以外の層に着色が実質的に及ばないようにする
ことが必要である。
When the layer containing the above-mentioned dye functions as a filter layer or an antihalation layer, it is necessary to selectively color the layer so that the coloring does not substantially spread to other layers.

しかしながら、上記染料を乳剤層以外の層に添加しても
乳剤層中に拡散して露光光の乳剤層中でのイラジェーシ
ョンが防止され、返し工程での文字の線巾め調節性や網
点画像のトーン調節性(A体的には原画の文字線巾より
若干太くしたり、原画の網点よりも若干面積を広げるこ
とができる性能をいう。返し工程では原画と全く同じ線
巾あるいは網点面積を再現できる性能の他に、芸術的な
表現を加える際に、このような原画に対する修正ができ
る性能が必要とされる)が失なわれてしまう。という問
題がある。
However, even if the above-mentioned dye is added to a layer other than the emulsion layer, it will diffuse into the emulsion layer and prevent irradiation of the exposure light in the emulsion layer. Tone controllability of dot images (In terms of A-body, it refers to the ability to make the line width slightly thicker than the original image, or to make the area slightly wider than the halftone dots of the original image. In the reversal process, the line width is exactly the same as the original image, or the line width is slightly wider than the halftone dots of the original image. In addition to the ability to reproduce halftone dot areas, when adding artistic expression, the ability to make corrections to the original image is required. There is a problem.

この問題を解決する方法として従来よりスルホ基やカル
ボキシル基倉有するいわゆる酸性染料を媒染剤音用いて
特定の1−に局在化させる方法が知られている。
As a method for solving this problem, a method has been known in the past in which a so-called acid dye having a sulfo group or a carboxyl group is localized to a specific dye using a mordant.

このような媒染剤としては、英国特許第6Jj。Such mordants include those described in British Patent No. 6Jj.

≠7j号に記載されたジアルキルアミノアルキルエステ
ル残基倉荷するエチレン不飽和化合物ポリマー、同第♂
3θ、2♂/号記載のポリビニルアルキルケトンとアミ
ノグアニジンとの反応生成物、米国特許第2.3≠ざ、
3Aμ号、同2.弘gμ。
≠ Ethylenically unsaturated compound polymer containing dialkylaminoalkyl ester residues described in No. 7j, No. ♂
3θ, reaction product of polyvinyl alkyl ketone and aminoguanidine described in No. 2♂/, U.S. Patent No. 2.3≠za,
3Aμ No. 2. Hirogμ.

’430号、同3./グ1.01p/号、同3,7j6
.1/≠号明細書に記載のビニルピリジンポリマー及び
ビニルピリジニワムヵチオンボリマーなどが知られてお
り、先に述べた酸性染料を有効に媒染できるように、ポ
リマー中に二級および三級アミノ基、含窒素複素環基お
よびこれらの四級カチオン基金含むカチオン系媒染剤が
用いられる。
'430, 3. /g1.01p/issue, same 3,7j6
.. Vinylpyridine polymers and vinylpyridinium cationic polymers described in the specification of No. 1/≠ are known, and in order to effectively mordant the acid dyes mentioned above, secondary and tertiary polymers are included in the polymer. Cationic mordants containing amino groups, nitrogen-containing heterocyclic groups, and quaternary cationic groups thereof are used.

しかしながら、これらのカチオン系媒染剤は親水性コロ
イドとしてよく用いられるゼラチン及び通常塗布助剤と
して用いるアルコラード基、カルボキシラード基、スル
ホナート基、スルフアート基を有する界面活性剤と静電
的相互作用を起こし、塗布性を悪化する場合があった。
However, these cationic mordants cause electrostatic interactions with gelatin, which is often used as a hydrophilic colloid, and surfactants containing alcoholade groups, carboxylade groups, sulfonate groups, and sulfate groups, which are usually used as coating aids. In some cases, it may worsen the sex.

またこのような媒染剤では前に述べた酸性染料が他層へ
拡散することがしはしは諺められ拡散をなくすために媒
染剤を多量に用いることも考えられたが、拡散を完全に
なくすことができないばかりか、含有させるべき層の膜
厚が大きくなり現像処理後も染料が感光材料中に残ると
いう問題が生じた。
In addition, it was said that with such a mordant, the acidic dye mentioned earlier would diffuse into other layers, and it was considered to use a large amount of mordant to eliminate the diffusion, but it was not possible to completely eliminate the diffusion. Not only is this impossible, but the thickness of the layer to be contained becomes large, resulting in the problem that the dye remains in the photosensitive material even after development.

これらの欠点を解決するために特願昭12−II370
≠号、同1s2−2.2/、lざ3号に、他層への拡散
が、゛抑えられ脱着のよい染料が、開示されている。前
記染料は、その耐拡散性および脱色性において顕著な性
能を示すがγが、低下し抜文字画質の低下をひきおこす
開明が判明した。
In order to solve these drawbacks, patent application No. 12-II370
No. ≠, No. 1s2-2.2/, No. 3 discloses dyes that are prevented from diffusing into other layers and are easily desorbed. It has been discovered that, although the above-mentioned dye exhibits outstanding performance in terms of diffusion resistance and decolorization, γ is lowered, causing a deterioration in the quality of printed characters.

実質的にジヒドロキシベンゼンのみを現像主薬として、
多量の亜硫酸塩を含む現像液で処理する画像形成方法と
しては米国特許第μダ321ざ2号、特開昭3ダ一37
732号、同60−タフ3≠ざ、向61−≠793/号
に開示されている。
Substantially only dihydroxybenzene is used as a developing agent,
Image forming methods using a developing solution containing a large amount of sulfite are disclosed in U.S. Pat.
No. 732, No. 60-Tough 3≠za, No. 61-≠793/.

(発明の目的) 不発明の第1の目的は、安定な現像液を用いてγが10
を越える極めて硬調なハロケン化鋏写真感光材料を提供
することである。
(Object of the invention) The first object of the invention is to develop γ of 10 using a stable developer.
An object of the present invention is to provide a halogenated scissors photographic material with extremely high contrast exceeding the above.

本発明の第2の目的は、ヒドラジン化合物による硬調化
を利用した明室用写真感光材料を提供することである。
A second object of the present invention is to provide a photographic material for bright room use that utilizes high contrast by a hydrazine compound.

本発明の第3の目的は、画質(抜き文字、調子可変性)
を劣化させないでセーフライト性が改良された明室用写
真感光材料を提供することである。
The third object of the present invention is image quality (cutting characters, tone changeability)
To provide a photographic material for bright room use, which has improved safelight properties without deteriorating the photosensitive material.

本発明の第≠の目的は、現像処理後の残色が、少ないハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
A primary object of the present invention is to provide a silver halide photographic material with less residual color after development.

(問題点を解決するための手段) 本発明の上記目的は、支持体上に少なくとも7層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層又はその他の親水性コ
ロイド層にヒドラジン誘導体を含有するハロゲン化像耳
真感光材゛科を画像露光した後、現像液を用いて現像処
理する画像形成方法に於て、咳乳剤層又は親水性コロイ
ド層に下記一般式〔I〕で表わされる化合物を含有し、
かつ該現gI!液が下記条件■、■、■及び@を満すこ
とを特徴とする画像形成方法によって達成された。
(Means for Solving the Problems) The above object of the present invention is to have at least seven silver halide emulsion layers on a support, and contain a hydrazine derivative in the emulsion layer or other hydrophilic colloid layer. In an image forming method in which a halogenated photosensitive material is imagewise exposed and then developed using a developer, a compound represented by the following general formula [I] is added to the emulsion layer or the hydrophilic colloid layer. Contains
And the current gI! This was achieved by an image forming method characterized in that the liquid satisfies the following conditions (1), (2), (2) and @.

一般式(]) %式%) 式中PWR1j:還元されることによって(T i m
 e+1−LAt−放出する基ヲ表わす。
General formula (])% formula%) In the formula, PWR1j: By being reduced (T i m
e+1-LAt- represents a releasing group.

T imeはPWRから(T i m e +−L A
として放出されたのちに後続する反応を介してLAを放
出する基を表わす。
Time is from PWR (Time + - LA
represents a group that releases LA through a subsequent reaction after being released as LA.

tはOまたはlの整数1に表わす。t is expressed as an integer 1 of O or l.

LAは光の吸収極大を3/Qnm以上に有する条件: ■ 実質的にジヒドロキシベンゼンのみを現像主薬とす
ること。
Conditions for LA to have a light absorption maximum of 3/Q nm or more: (1) Substantially only dihydroxybenzene must be used as a developing agent.

■ 遊離の亜硫酸塩濃度が、少なくとも0.7gモル7
2以上であること。
■ The free sulfite concentration is at least 0.7 gmol7
Must be 2 or more.

■ phが//、0以上であること。■ ph should be //, 0 or more.

■ 一般式(II)で表わされる化合物を、少なくとも
i0xg/ft以上含んでいること。
(2) It contains at least i0xg/ft of the compound represented by general formula (II).

一般式(It) 式中X1は水素原子またはニトロ基を表わす。General formula (It) In the formula, X1 represents a hydrogen atom or a nitro group.

X2、X3は各々水素原子または炭素数/〜≠のアルキ
ル基を表わす。
X2 and X3 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having a carbon number of /≠.

本発明に用いられる一般式〔I〕の化合物について説明
する。
The compound of general formula [I] used in the present invention will be explained.

最初にPWHについて詳しく説明する。First, PWH will be explained in detail.

PWRは米国特許≠、/3り、3ざり号あるいは米国特
許弘、/3り、377号、特開昭jター/I!;333
号に開示されたように還元された後に分子内の求核置換
反応によって写真用試薬を放出する化合物における電子
受容性中心と分子内求核置換反応中心を含む部分に相当
するものであっても良いし、米国特許≠、23.2.1
07号、特開昭5y−ioi6≠り号めるいは%開昭6
7−11.237号に開示されたごとく、還元された後
に分子内の電子移動反応による写真用試薬を脱離させる
化合物における電子受容性のキノノイド中心及びそれと
写真用試薬を結びつけている炭素原子を含む部分に相当
するものであっても良い。また、特開昭jls−1≠、
2330号、米国特許グ。
PWR is U.S. Patent No. ≠, /3, No. 3 or U.S. Patent Ko, /3, No. 377, JP-A-Shojter/I! ;333
Even if it corresponds to a moiety containing an electron-accepting center and an intramolecular nucleophilic substitution reaction center in a compound that releases a photographic reagent by an intramolecular nucleophilic substitution reaction after being reduced as disclosed in No. Good, US Patent≠, 23.2.1
No. 07, JP-A-5Y-IOI6 ≠ No. 07, % Kai-Sho 6
As disclosed in No. 7-11.237, the electron-accepting quinonoid center and the carbon atom linking it to the photographic reagent in a compound that eliminates the photographic reagent by an intramolecular electron transfer reaction after being reduced. It may correspond to the part that contains the part. Also, Unexamined Showa JLS-1≠,
No. 2330, U.S. Pat.

゛3弘3.ざ5i’j号、米国特許弘、6/り、gg弘
係号示されたような、還元後に一重結合が開裂し写真用
試薬を放出する化合物中の電子吸引性基で置換されたア
リール基及びそれと写真用試薬を連結する原子(イオウ
原子または炭素原子または窒素原子)を含む部分に相当
するものであっても艮い。また米国特許≠、≠30.2
23号に開示されているような電子受容後に写真用試薬
を放出するニトロ化合物中のニトロ基及びそれと写真用
試薬を連結する炭素原子を含む部分に相当するものであ
っても良いし、米国特許ダ、60り、670号に記載さ
れた電子受容後に写真用試薬をβ脱離°するジニトロ化
合物中のジェミナルジニトロ部分及びそれを写真用試薬
と連結する炭素原子を含む部分に相当するものであって
も艮い。しかし本発明の目的をより充分に達成するため
には一般式〔I〕の化合物は一般式(IV)で表わされ
るものが好ましい。
゛3 Hiroshi 3. Aryl groups substituted with electron-withdrawing groups in compounds whose single bond is cleaved after reduction to release a photographic reagent, as shown in US Pat. It also does not apply even if it corresponds to a moiety containing an atom (sulfur atom, carbon atom, or nitrogen atom) that connects it to a photographic reagent. Also, US patent≠,≠30.2
It may correspond to a moiety containing a nitro group in a nitro compound that releases a photographic reagent after electron acceptance and a carbon atom that connects the photographic reagent with the nitro group as disclosed in U.S. Pat. It corresponds to the geminal dinitro moiety in the dinitro compound that β-eliminating the photographic reagent after accepting electrons and the carbon atom-containing moiety that connects it to the photographic reagent described in No. 60, No. 670. It doesn't matter if there is. However, in order to more fully achieve the object of the present invention, the compound of general formula [I] is preferably one represented by general formula (IV).

一般式〔Iv〕 1 /′ EAG’ 一般式(V)においては ■ EAG     相当する ( T i m e−)−LAは几 、RあるいはEA
Gの少なくとも一つと結合する。
General formula [IV] 1 /'EAG' In the general formula (V), ■ EAG corresponds to (T im e-) - LA is 几, R or EA
Combines with at least one of G.

Xは酸素原子(−(J−)、イオウ原子(−8−)、区 窒素原子を含む基(−ヘー)を表わす。X is an oxygen atom (-(J-), a sulfur atom (-8-), Represents a group containing a nitrogen atom (-he).

BAGは、還元性物質から電子を受は取る基を餞わし、
窒素原子に結合する。BAGとしては次の一般式(A)
又はCB)で表わされる基が好ましい。
BAG has a group that accepts or accepts electrons from a reducing substance,
Bonds to nitrogen atoms. As a BAG, the following general formula (A)
or CB) is preferred.

一般式(A)      一般式CB)一般式(A)に
おいて、 Sub Vn’はZl、z2とともに3〜g員の環を形成する原
子団を表わしn′は3〜gの整数を表わすが V3 ニーZ3−1V4  ニーZ3−Z4−%v5:
  Zs  ”4−Zs−1■6;−23−24−25
26−1V7 *  Zs −Z4  Zs −Z62
フ −、V8 : −Zs−Z4−Zs −z6−z7
−28−である。
General formula (A) General formula CB) In the general formula (A), Sub Vn' represents an atomic group forming a 3- to g-membered ring together with Zl and z2, and n' represents an integer from 3 to g, but V3 Z3-1V4 knee Z3-Z4-%v5:
Zs ”4-Zs-1■6;-23-24-25
26-1V7 * Zs -Z4 Zs -Z62
Fu -, V8: -Zs-Z4-Zs -z6-z7
-28-.

−5−1あるいは−802−を表わし、8ubは単なる
結合(7G結合)、水素原子あるいは以下に記  ”し
た置換基を表わす。8ubはそれぞれが同じであっても
、またそれぞれが異っていても良く、またそれぞれ互い
に結合して3〜g員の飽和あるいは不飽和の炭素環ある
いは複素環を形成しても良い。一般式(A)では、置換
基のハメット置換基定数σpの総和が+0.0り以上、
さらに好ましくは+0.3以上、最も好ましくは十〇、
≠j以上になるように8upf選択する。
-5-1 or -802-, and 8ub represents a simple bond (7G bond), a hydrogen atom, or a substituent described below. 8ub may be the same or different. or may be bonded to each other to form a 3- to g-membered saturated or unsaturated carbocycle or heterocycle.In general formula (A), the sum of the Hammett substituent constants σp of the substituents is +0 .0 or more,
More preferably +0.3 or more, most preferably 10,
Select 8upf so that ≠j or more.

Subが置換基の時の例を列挙する。(炭素数はそれぞ
れQ−≠θ個が好ましい) 置換あるいは無置換のアルキル基(?!Iえはメチル基
、エチル基、5eC−ブチル基、t−オクチル基、ベン
ジ/I’基、シフOへ牛シル基、クロルメチル基、ジメ
チルアミノメチル基、n−へキサデシル基、トリフルオ
ロメチル基、3,3,3−トリクロロプロピル基、メト
キシカルボニルメチル基など)、置換あるいは無置換の
アルケニル基(例えばビニル基、λ−りaロビニル基、
l−メチルビニル基など)、置換あるいは無置換のアル
キニル基(例えばエチニル基、/−ブΩビニル基など)
、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素)、置換あるいは無置換のへ子口環残i<
2−ピリジル基、l−イミダゾリル基、ベンゾチアゾー
ル−2−イル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾール−
2−イル基など)、スルホ基、カルボキシル基、置換あ
るいは無fit換のアリールオキシカルボニルまたはア
ルコキシカルボニル基(例工ば、メトキシカルボニル基
、エトキシカルボニル基、テトラデシルオキシカルボニ
ル基、2−メトキシエチ、ルカルポニル基、フェノキシ
カルボニル基、ターシアノフェニルカルボニル基、λ−
クロロフェノキシカルボニル基なE)、11WAあるい
はat換のカルバモイル基(例えばカルバモイル基、メ
チルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、メチル
ヘキサデシルカルバモイル基、メチルオクタデシルカル
バモイル基、フェニルカルバモイル基、−21” 、6
  ’ リクロロフェニル力ルバモイル基、N−エチル
−へ−フェニルカルバモイル基、3−ヘキサデシルスル
ファモイルフェニルカルバモイル基など)、ヒドロキシ
ル基、置換あるいは無置換のアゾ基(例えばフェニルア
ゾ基、p−メトキシフェニルアゾ基、l−シア/−U−
メタンスルホニルフェニル7:/iなど)、置換あるい
は無置換のアリールオキシま喪はアルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジル
オキシ基、フェノキシ基、ぴ−メトキシフェノキシ基、
3−アセチルアミノフェノキシ基、3−メトキシ力ルポ
ニルブaピルオキシ?fs、2−トリメチルアンモニオ
エトキシ基など)、スルフィノ基、スル7エ7基、メル
カプト基、置換あるいは無置換のアシル基(例えばアセ
チル基、トリフルオロアセチル基、n−ブチロイル基、
t−ブチロイル基、ベンゾイル基、2−カルポキシベン
ゾイル基、3−ニトロベンゾイル基、ホルミル基など)
、置換あるいは無置換のアリールまたはアルキルチオ基
(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、t−オクチルチ
オ基、ヘキサデシルチオ基、フェニルチオ基、λ、!、
j−トリクaロチオ基、ノーメトキシ−3−t−オクチ
ルフェニルチオ基、λ−アセチルアミノフェニルチオ基
など)、置換あるいは無置換のアリール基(例、e−ハ
フェニル基、ナフチル基、3−スルホフェニル基゛、≠
−メトキシフェニル基、3−ラワロイルアミノフェニル
基など)、置換あるいは無置換のスルホニル基(例えば
メチルスルホニル基、クロルメチルスルホニ/’!、n
−オクチルスルホニル基、n−ヘキサデシルスルホニル
i、5eC−オクチルスルホニル基、p−トルエンスル
ホニル基、≠−クロロフェニルスルホニル基、≠−ドデ
シルフェニルスルホニル基、弘−ドデシルオキシフェニ
ルスルホニル基、≠−ニトロフェニルスルホニル基など
)、置換あるいは無置換のスルフィニル基(例えはメチ
ルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニル
スルフィニル基、≠−ニドaフェニルスルフィニル基な
ど)、置換あるいは無置換のアミノ基(例えば、メチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、メチルオクタデシルアミ
ノ基、フェニルアミノ基、エチルフェニルアミノ基、3
−テトラデシルスルファモイルフェニルアミノ基、アセ
チルアミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基、N−ヘ
キサデシルアセチルアミノ基、N−メチルベンシイルア
ミノ基、メトキシカルボニルアミ/基、フェノキシカル
ボニルメチル基、ヘーメトキシアセチルアミノ基、アミ
ジノアミノ基、フェニルアミ7カルポニルアミノ基、≠
−シアノフェニルアミノカルボニルアミノ基、ヘーエチ
ルエトキシ力ルポニルアミノ基、ヘーメチルドデシルス
ルホニルアミ7基、N−(2−シアノエチル)−p −
1−ルエンスルホニルアミ7基、−、キサデシルスルホ
ニルアミノ基、トリメチルアンモニオ基などへ置換ある
いは無lIt換のスルファモイル基(例えばジメチルス
ルファモイル基、ヘキサデシルスルファモイル基、スル
ファモイル基、メチルオクタデシルスルファそイル基、
メチルヘキサデシルスルファモイル基、2−シア/エチ
ルヘキサデシルスルファモイル基、フェニルスルファモ
イル基、N−(3,≠−ジメチルフェニル) −N −
オクチルスルファモイル基、ジブチルスルファモイル基
、ジオクタデシルスルファモイル基、ビス(,2−メト
キシカルボニルエチル)スルファモイル基など)、gi
換あるいは無置換のアシルオキシ基(例えにアセトキシ
基、ベンゾイルオキシ基、デシ0イルオキシ基、クロロ
アセトキシ基など)、置換あるいは無置換のスルホニル
オキシ基(例えばメチルスルホニルオキシ基、p−)ル
エンスルホニルオキシ基、p−クロロフェニルスルホニ
ルオキシ基など)、が挙げられる。
Examples when Sub is a substituent are listed below. (The number of carbon atoms is preferably Q-≠θ in each case.) Substituted or unsubstituted alkyl group (?!I, methyl group, ethyl group, 5eC-butyl group, t-octyl group, benzy/I' group, Schiff O Hexadecyl group, chloromethyl group, dimethylaminomethyl group, n-hexadecyl group, trifluoromethyl group, 3,3,3-trichloropropyl group, methoxycarbonylmethyl group, etc.), substituted or unsubstituted alkenyl groups (e.g. Vinyl group, λ-ria Robinyl group,
l-methylvinyl group, etc.), substituted or unsubstituted alkynyl groups (e.g. ethynyl group, /-buΩvinyl group, etc.)
, cyano group, nitro group, halogen atom (fluorine, chlorine,
bromine, iodine), substituted or unsubstituted hexagonal residue i<
2-pyridyl group, l-imidazolyl group, benzothiazol-2-yl group, morpholino group, benzoxazole-
2-yl group, etc.), sulfo group, carboxyl group, substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl or alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tetradecyloxycarbonyl group, 2-methoxyethyl group, carbonyl group) group, phenoxycarbonyl group, tercyanophenylcarbonyl group, λ-
chlorophenoxycarbonyl group E), 11WA or at-substituted carbamoyl group (e.g. carbamoyl group, methylcarbamoyl group, diethylcarbamoyl group, methylhexadecylcarbamoyl group, methyloctadecylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, -21", 6
' Lichlorophenyl group (rubamoyl group, N-ethyl-phenylcarbamoyl group, 3-hexadecylsulfamoylphenylcarbamoyl group, etc.), hydroxyl group, substituted or unsubstituted azo group (e.g. phenylazo group, p-methoxyphenylazo group) group, l-thia/-U-
methanesulfonylphenyl 7:/i, etc.), substituted or unsubstituted aryloxy or alkoxy groups (e.g. methoxy, ethoxy, dodecyloxy, benzyloxy, phenoxy, p-methoxyphenoxy,
3-acetylaminophenoxy group, 3-methoxy group, pyroxy? fs, 2-trimethylammonioethoxy group, etc.), sulfino group, sul7e7 group, mercapto group, substituted or unsubstituted acyl group (e.g. acetyl group, trifluoroacetyl group, n-butyroyl group,
t-butyroyl group, benzoyl group, 2-carpoxybenzoyl group, 3-nitrobenzoyl group, formyl group, etc.)
, substituted or unsubstituted aryl or alkylthio groups (e.g. methylthio group, ethylthio group, t-octylthio group, hexadecylthio group, phenylthio group, λ, !,
j-trica lotio group, nomethoxy-3-t-octylphenylthio group, λ-acetylaminophenylthio group, etc.), substituted or unsubstituted aryl groups (e.g., e-haphenyl group, naphthyl group, 3-sulfonate group), Phenyl group゛,≠
-methoxyphenyl group, 3-lawoylaminophenyl group), substituted or unsubstituted sulfonyl group (e.g. methylsulfonyl group, chloromethylsulfony/'!, n
-Octylsulfonyl group, n-hexadecylsulfonyl i, 5eC-octylsulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, ≠-chlorophenylsulfonyl group, ≠-dodecylphenylsulfonyl group, Hiro-dodecyloxyphenylsulfonyl group, ≠-nitrophenylsulfonyl group groups), substituted or unsubstituted sulfinyl groups (e.g., methylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, ≠-nido a phenylsulfinyl group, etc.), substituted or unsubstituted amino groups (e.g., methylamino group, Diethylamino group, methyloctadecylamino group, phenylamino group, ethylphenylamino group, 3
-Tetradecylsulfamoylphenylamino group, acetylamino group, trifluoroacetylamino group, N-hexadecylacetylamino group, N-methylbensylamino group, methoxycarbonylami/group, phenoxycarbonylmethyl group, hemethoxyacetyl group Amino group, amidinoamino group, phenylami7carponylamino group, ≠
-cyanophenylaminocarbonylamino group, heethyl ethoxyluponylamino group, hemethyldodecylsulfonylamino group, N-(2-cyanoethyl)-p-
1-luenesulfonylamine 7 groups, -, xadecylsulfonylamino groups, trimethylammonio groups, etc. or unsubstituted sulfamoyl groups (e.g. dimethylsulfamoyl group, hexadecylsulfamoyl group, sulfamoyl group, methyloctadecyl group) sulfasoyl group,
Methylhexadecylsulfamoyl group, 2-thia/ethylhexadecylsulfamoyl group, phenylsulfamoyl group, N-(3,≠-dimethylphenyl) -N -
octylsulfamoyl group, dibutylsulfamoyl group, dioctadecylsulfamoyl group, bis(,2-methoxycarbonylethyl)sulfamoyl group, etc.), gi
Substituted or unsubstituted acyloxy groups (e.g., acetoxy, benzoyloxy, decyloxy, chloroacetoxy, etc.), substituted or unsubstituted sulfonyloxy groups (e.g., methylsulfonyloxy, p-)luenesulfonyloxy groups , p-chlorophenylsulfonyloxy group, etc.).

一般式(13)において n′は/〜乙の整数を表わし ul;’1% U2 ; −Yl−Y2Nu3ニーyl
−Y2−Y3、[,14ニーY1−Y2−Y3−Y4%
 U5ニーY1−Y2−’3  ”4  ’5−1C1
6:−Y、−Y2−Y3−Y4−Y5−Y6である。
In the general formula (13), n' represents an integer from / to ul; '1% U2 ; -Yl-Y2Nu3nyyl
-Y2-Y3, [,14nee Y1-Y2-Y3-Y4%
U5 knee Y1-Y2-'3 ”4 '5-1C1
6: -Y, -Y2-Y3-Y4-Y5-Y6.

Sub’ Y  −Y6はそれぞれが一〇−8ub’あるいは自 Sub’は単なる結合(σ結合、π結合)あるいは−数
式(A)で述べた8ubの置換基を表わす。
Sub'Y-Y6 each represents 10-8ub', or Sub' itself represents a simple bond (σ bond, π bond) or a substituent of 8ub described in formula (A).

−数式CB)では置換基のハメット置換基定数σpの総
和が+〇、Oり以上であり、さらに好ましくは十0.3
以上、最も好ましくは十〇、≠3以上になるように8u
b’を選択する。
-For formula CB), the sum of the Hammett substituent constants σp of the substituents is +0,0 or more, more preferably 100.3
or more, most preferably 10, ≠ 8u so that it is 3 or more
Select b'.

EAGのより具体的な例をあげると、少なくとも一つの
電子吸引性基で置換されたアリール基(9’lJエバ<
z−ニドOフェニル基、λ−ニトロー≠−N−メチル−
へ−オクタデシルスル7アモイルフェニル基、2−N、
N−ジメチルスルファモイル−グー二トロフェニル基、
λ−シアノーグーオクタデシルスルホニルフェニル基、
z、≠−ジニト0フェニル基1,2.弘、6−ドリシア
ノフエニル基、2−ニトロ−μmヘーメチルーヘーオク
タデシル力ルバモイルフェニル基、λ−ニトローj−オ
クチルチオフェニル基1,2.4!−ジメタンスルホニ
ルフェニル基、3.3−ジニトロフェニルM、1−1o
a−μmニトロ−j−メチルフェニル基、λ−ニドO−
3.J−ジメチルーμmテトラデシルスルホニルフェニ
ル基1.2.4t−ジニトa f 7 fル基、2−エ
チルカルバモイル−≠−二トロフェニル基、2.μmビ
ス−ドテシルスルホニル−3−)リフルオロメチルフェ
ニル基、2゜3、≠、j、A−ペンタフルオロフェニル
基、λ−アセチルーt−ニトロフェニル基、−z 、≠
−ジアセチルフェニル基、λ−ニトロー17− トIJ
フルオロメチルフェニル基ナト)、 置換あるいは無置換の複累環(例えば、λ−ピリジル基
、λ−ピラジル基、j−二トロー2−ビリジ/I/基、
!−〜−ヘキサデシル力ルバモイルーーービリジル晶、
≠−ピリジル基、3.j−ジシアノ−一−ピ、リジル基
、j−ドデシルスルホニル−2−ピリジルM、3−シア
ノ−2−ビラジル基、弘−ニトロチオフェン−211イ
ル基、j−ニトロ−/、−−ジメチルイミダゾール−弘
−イル基、J、J−ジアセチルーコーキリジル基、/−
ドデシル−j−力ルバモイルピリジニウムーコーイル基
など)、置換あるいは無置換のキノン類(例えば/、!
A−ベンゾキノンー2−イル基、3.3゜6−ドリメチ
ルー7、l−ベンゾキノン−λ−イル基、3−メチル−
7,≠−ナフトキノンーλ−イル基、3,6−シメチル
ーj−ヘキサデシルチオ−7,4!−ベンゾキノン−2
−イル基、j−ペンタデシル−7,λ−ベンゾキノンー
弘−イル基など)あるいは、以上挙げたもののビニロー
ブの他ニニトロアルキル基(例えば!−ニドo−2−プ
ロピル基)、ニトロアルケニル基(例えば−一二ト口エ
テニル:l&)、α−ジケト化合物の一価の基(例えば
λ−オキソプロパノイル基など)があげられる。
To give a more specific example of EAG, an aryl group substituted with at least one electron-withdrawing group (9'lJeva<
z-nido-O phenyl group, λ-nitro≠-N-methyl-
he-octadecylsul 7 amoylphenyl group, 2-N,
N-dimethylsulfamoyl-goonitrophenyl group,
λ-cyanogu octadecylsulfonylphenyl group,
z,≠-dinito0 phenyl group 1,2. Hiroshi, 6-dolycyanophenyl group, 2-nitro-μm-hemethyl-he-octadecyl-rubamoylphenyl group, λ-nitro-j-octylthiophenyl group 1,2.4! -dimethanesulfonylphenyl group, 3,3-dinitrophenyl M, 1-1o
a-μm nitro-j-methylphenyl group, λ-nido O-
3. J-dimethyl-μm tetradecylsulfonylphenyl group 1.2.4t-dinito af7f group, 2-ethylcarbamoyl-≠-nitrophenyl group, 2. μm bis-dotecylsulfonyl-3-)lifluoromethylphenyl group, 2゜3, ≠, j, A-pentafluorophenyl group, λ-acetyl-t-nitrophenyl group, -z, ≠
-diacetylphenyl group, λ-nitro 17-IJ
fluoromethylphenyl group), substituted or unsubstituted bicyclic rings (e.g., λ-pyridyl group, λ-pyrazyl group, j-nitro-2-pyridi/I/ group,
! −〜−Hexadecyl Rubamoyl-Viridyl crystal,
≠-pyridyl group, 3. j-dicyano-1-pi, lysyl group, j-dodecylsulfonyl-2-pyridyl M, 3-cyano-2-biladyl group, Hiro-nitrothiophen-211yl group, j-nitro-/, --dimethylimidazole- Hiro-yl group, J, J-diacetyl-cokyridyl group, /-
dodecyl-j-rubamoylpyridinium-coyl group), substituted or unsubstituted quinones (e.g. /,!
A-benzoquinone-2-yl group, 3.3゜6-drimethyl-7, l-benzoquinone-λ-yl group, 3-methyl-
7,≠-naphthoquinone-λ-yl group, 3,6-dimethyl-j-hexadecylthio-7,4! -Benzoquinone-2
-yl group, j-pentadecyl-7, λ-benzoquinone-hiro-yl group, etc.), or in addition to the vinyllobes listed above, nitroalkyl groups (e.g. !-nido-o-2-propyl group), nitroalkenyl groups (e.g. Examples thereof include -1 ditoethenyl (l&), and a monovalent group of an α-diketo compound (for example, a λ-oxopropanoyl group).

LL  、几 およびRは水素原子以外の基または単な
る結合を表わす。
LL, 几 and R represent a group other than a hydrogen atom or a simple bond.

H11およびRFi置換あるいは無置換のアルキル基、
アリール基、ヘテロ環残基、アシル基、スルホニル基な
どが好ましい。
H11 and RFi substituted or unsubstituted alkyl group,
Preferred are aryl groups, heterocyclic residues, acyl groups, sulfonyl groups, and the like.

R12は置換あるいはS置換のアシル基、スルホニル基
が好ましい。几 、几 およびRは互いに結合してj−
4負の環を形成しても良い。
R12 is preferably a substituted or S-substituted acyl group or sulfonyl group.几 , 几 and R combine with each other to j-
A 4-negative ring may be formed.

さらに本発明の目的を達成するためには一般式(IV)
で表わされる化合物のうち一般式〔V〕で表わされるも
のがより好ましい。
Furthermore, in order to achieve the object of the present invention, general formula (IV)
Among the compounds represented by formula [V], those represented by formula [V] are more preferred.

一般式(V) 一般式〔■〕において EAG (T i m e −)E−L Aは几 、EAGの少
なくとも一方に結合する。−数式(V)のPW凡に相半
する部分についてYは二価の連結基であり好ましくは−
C−あるいは一5O2−である。xFi前記の几3 如(−(’) −1−8−1又は−N−を衣わすが、好
ましくはeR素原子を表わす。
General Formula (V) In the general formula [■], EAG (Time-)E-LA is bonded to at least one of EAG. - Y is a divalent linking group in the moiety that is half of PW in formula (V), and is preferably -
C- or -5O2-. xFi represents the above-mentioned 几3 用(-(') -1-8-1 or -N-, but preferably represents an eR elementary atom.

H,14はX、Yと結合し、窒素原子を含めて五〜へ員
の単Ijilあるいは縮環のへテロ環を形成する原子群
を表わす。
H and 14 represent an atomic group that is bonded to X and Y to form a 5- to 5-membered single Ijil or condensed heterocycle including a nitrogen atom.

+ T t m e i L Aの結合位置も含めて好
ましい例について記す。
+ Preferable examples including the bonding position of T t me i LA will be described.

C)i=C)i2 0  らり2 ゝN′ ’11’ i m eはN−X間の開裂を引きかねに後
続する反応を介してLAを放出する基を表わす。
C)i=C)i20Lari2'N''11'ime represents a group that releases LA through a subsequent reaction without causing cleavage between N-X.

tは0または/の整数を表わし1=0のときT i m
 eは単なる結合を表わす。
t represents an integer of 0 or /, and when 1=0, T i m
e represents a simple bond.

’l’ i m eO例としては特開昭6/−,231
,!;14りにTimeとして記載されているものを挙
げることが出来る。
'l' i m eO example is JP-A-6/-, 231
,! ;14, those described as Time can be mentioned.

本発明においてTimeとして好ましい例を以下に具体
的に記すが本発明の化合物において(*2はPWR側に
(*)(*lはLA側に結合することを意味する。
Preferred examples of Time in the present invention are specifically described below, and in the compounds of the present invention (*2 means bonding to the PWR side (*) (*l means bonding to the LA side).

+6)                  (9)C
H2−(*I*1 αa              シDへ02 (至) 0        C)la (*) (ハ)        \ (331(3η C2h5 LAは310nm以上に吸収極大を有する基を表わし、
ハロゲン化鉄写真感光材料に用いられる染料であり、 例えばアリーIJデン系染料、スチリル系染料、ブタジ
ェン系染料、オキソノール系染料、シアニン系染料、メ
ロシアニン系染料、ヘミシアニン系染料、ジアリールメ
タン系染料、トリアリールメタン系染料、アゾメチン系
染料、アゾ染料、金属キレート染料、アントラキノン系
染料、スチルベン系染料、カルコン系染料、インドフェ
ノール系染料である。
+6) (9)C
H2-(*I*1 αa to D02 (to) 0 C)la (*) (c) \(331(3η C2h5 LA represents a group having an absorption maximum at 310 nm or more,
Dyes used in iron halide photographic materials, such as ary IJ dyes, styryl dyes, butadiene dyes, oxonol dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, hemicyanine dyes, diarylmethane dyes, These are lylmethane dyes, azomethine dyes, azo dyes, metal chelate dyes, anthraquinone dyes, stilbene dyes, chalcone dyes, and indophenol dyes.

以下に本発明により用いられる一般式〔I〕で表わされ
る化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらのみに
限定されるものでない。
Specific examples of the compound represented by the general formula [I] used in the present invention are shown below. However, the present invention is not limited to these.

1−≠ 1−≠ −j C)i3 NO□ 1 −ざ 1−タ COOC2H5 1− / / 1−/、2 1−/3 1−/! −j −/ 3 C) 1−/ざ 1−/り 自 1 −.12 1−λ弘  −2j ]−j/               0本発明の化
合物は放出する色素を米国特許≠。
1-≠ 1-≠ -j C)i3 NO□ 1-za1-taCOOC2H5 1- / / 1-/, 2 1-/3 1-/! -j -/ 3 C) 1-/za1-/riji1-. 12 1-λhiro -2j ]-j/0 The compounds of the present invention emit dyes as described in the US patent≠.

13り、3gり号、同グ、/3り、37り号、特開昭j
ター/g3333号に開示された化合物の合成法、米国
特許≠、232,107号、特開昭Jター10/6μり
号、同6ノーgg、237号に開示された化合物の合成
法、米国%iIf≠、3≠3゜g73号、回り、6/り
、ざざ係号に開示された化合物の合成法、さらには、米
国特許≠、≠30゜2.23号、同μ、10り、610
号、%願昭60−2μ弘ざ73号、同6/−gざ623
号に開示された化合物の合成法を参考にしてPWR部分
に結合することにより容易に合成することが出来る。
13ri, 3gri, sameg, /3ri, 37ri, Tokukai Shoj
Method for synthesizing compounds disclosed in U.S. Pat. No. 232,107, U.S. Pat. %iIf≠, 3≠3゜g No. 73, rotation, 6/ri, method for synthesizing compounds disclosed in Zaza-Ki No., and furthermore, U.S. Patent≠, ≠30゜No. 2.23, μ, 10ri, 610
No., % Gansho 60-2μ Hiroza No. 73, same 6/-gza 623
It can be easily synthesized by binding to the PWR moiety with reference to the compound synthesis method disclosed in No.

上記化合物の合成方法は特願昭62− /A 370≠
号に開示されている。
The method for synthesizing the above compound is disclosed in Japanese Patent Application No. 1986/A 370≠
Disclosed in the issue.

本発明に用いられる前記−数式〔I〕の化合物は、目的
によって、必要量を1−中に添加することができるが、
元手濃度が0.03ないし3.0の範囲で使用するのが
好ましい。具体的な染料の量は、染料によって異なるが
一般に/θ−311/rr?〜3 、01p/ m、特
に/ 0−” j’/ m”〜/ 、 0タ/rr?の
範囲に好ましい量を見出すことができる。
The compound of formula [I] used in the present invention can be added in a necessary amount depending on the purpose, but
It is preferable to use the starting concentration in the range of 0.03 to 3.0. The specific amount of dye varies depending on the dye, but is generally /θ-311/rr? ~3, 01p/m, especially /0-"j'/m"~/, 0ta/rr? Preferred amounts can be found in the range of .

本発明による前記−数式〔I〕の化合物は、親水性コロ
イドIn中に棟々の知られた方法で含ませることができ
る。
The compound of formula [I] according to the invention can be incorporated into the hydrophilic colloid In by any known method.

例えば、これらの化合物を適当な溶媒〔例えばアルコー
ル(メタ/−ル、エタノール、プロパノール)、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルセルソルブ、ジメチル
ホルムアミド、シクロヘキサノン、酢酸エチル〕に溶解
して、ゼラチン中に溶解又は分散するか、もしくは、さ
らに高沸点のオイルに溶かし、微細な油滴状の乳化分散
物にして箔加することができる。オイルとしてはトリフ
レ:ジルホスフェート、ジエチルフタレート、ジブチル
フタレート、トリフェニルホスフェートなどの公知のオ
イルが使用できる。
For example, these compounds can be dissolved or dispersed in gelatin by dissolving them in a suitable solvent [e.g., alcohol (meth/ol, ethanol, propanol), acetone, methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, dimethyl formamide, cyclohexanone, ethyl acetate]. Alternatively, it can be dissolved in oil with a higher boiling point to form an emulsified dispersion in the form of fine oil droplets and added to foil. As the oil, known oils such as trifle:dyl phosphate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, and triphenyl phosphate can be used.

本発明による前記−数式〔I〕の化合物は中間層、感光
層、保@層、オーバーコート層などに含ませることがで
きるが、好ましくは、支持体から最も遠い位置にある感
光層よりも外側にある非感性親水性コロイド層(たとえ
ば表面保護層)、又は支持体と支持体に最も近い位置に
ある感光層との間の非感光性親水性コロイド層に含ませ
るのが好ましい。
The compound of the formula [I] according to the present invention can be contained in an intermediate layer, a photosensitive layer, a protective layer, an overcoat layer, etc., but is preferably outside the photosensitive layer located farthest from the support. It is preferably contained in a non-photosensitive hydrophilic colloid layer (for example, a surface protective layer) located in the support, or in a non-photosensitive hydrophilic colloid layer between the support and the photosensitive layer located closest to the support.

次に本発明の一般式(II)で衣わされる化合物につい
て説明する。
Next, the compound represented by the general formula (II) of the present invention will be explained.

本発明−数式(ff)で表わされる化合物のうち、特に
好ましいものは、Xlが、水素原子またはニトロ基、X
2、X3が、それぞれ水素原子、メチル基、エチル基等
を表わす化合物である、たとえば、インタソール、j−
ニトロインダゾール、6ニトロインダゾール、3−メチ
ル−j−二トロインダゾール、3−メチル−6−ニトロ
インダゾール、3−メチルインダゾール、3−エチル−
j−二トロインダゾールなどをあげることができるが、
本発明に用いることが、できる化合物は、これらに限定
されるものではない。
The present invention - Among the compounds represented by the formula (ff), particularly preferred are compounds in which Xl is a hydrogen atom or a nitro group,
2 and X3 each represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, etc., such as Intersol, j-
Nitroindazole, 6-nitroindazole, 3-methyl-j-nitroindazole, 3-methyl-6-nitroindazole, 3-methylindazole, 3-ethyl-
Examples include j-nitroindazole,
Compounds that can be used in the present invention are not limited to these.

一般式(It)で表わされる化合物を現像液中に含有さ
せるには、水または水と混和しうる低沸点の有機溶媒に
、−数式(II)で表わされる化合物を、適当な濃度で
溶解し、溶液として現像液に添加するか、もしくは固体
のまま現像液に添加する。
In order to incorporate the compound represented by the general formula (It) into the developer solution, the compound represented by the formula (II) is dissolved in water or a water-miscible low boiling point organic solvent at an appropriate concentration. , added to the developer as a solution, or added as a solid to the developer.

好ましい含有量は/岬/ A −/ OF/ A % 
より好ましくは70■72〜3P/2である。
The preferred content is /Misaki/A-/OF/A%
More preferably, it is 70×72 to 3P/2.

本発明に用いられるヒドラジy誘導体としては下記−数
式(1)の化合物が好ましい。
As the hydrazi derivative used in the present invention, a compound represented by the following formula (1) is preferable.

−数式(II) 式中、A1は脂肪族基、または芳香族基を表わし、Bは
ホルミル基、アシル基、アルキルもしくはアリールスル
ホニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、
カルバモイル基、アルコキシもしくはアリールオキシカ
ルボニル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホニ
ル基、チオアシル基、チオカルバモイル基、スルファモ
イル基、カルバモイルカルボニル基、オキシカルボニル
カルボニル基又は−・テロ環基を表わし、Ro、R1は
ともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置換も
しくは無置換のアルキルスルホニル基、又は#換もしく
は無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無
置換のアシル基を表わす。
- Formula (II) where A1 represents an aliphatic group or an aromatic group, B represents a formyl group, an acyl group, an alkyl or arylsulfonyl group, an alkyl or arylsulfinyl group,
Represents a carbamoyl group, alkoxy or aryloxycarbonyl group, sulfinamoyl group, alkoxysulfonyl group, thioacyl group, thiocarbamoyl group, sulfamoyl group, carbamoylcarbonyl group, oxycarbonylcarbonyl group or -terocyclic group, and Ro and R1 are both hydrogen. One of the atoms is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, a #-substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group.

ただし、B1R1およびそれらが結合する窒素原子がヒ
ドラゾンの部分構造−N=C,を形成してもよい。
However, B1R1 and the nitrogen atoms to which they are bonded may form a hydrazone partial structure -N=C.

次に一般式(1)について詳しく説明する。Next, general formula (1) will be explained in detail.

−数式(1)において、A1で表わされる脂肪族基は好
ましくは炭素数l〜30のものであって、特に炭素数/
−20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。こ
こで分岐アルキル基はその中に一つまたはそれ以上のへ
テロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化
されていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基
、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カ
ルボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
- In formula (1), the aliphatic group represented by A1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, especially carbon number /
-20 linear, branched or cyclic alkyl group. Here, the branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. Further, this alkyl group may have a substituent such as an aryl group, an alkoxy group, a sulfoxy group, a sulfonamide group, or a carbonamide group.

例えばt−ブチル基、n−オクチル基、t−オクチル基
、シクロヘキシル基、ピロリジル基、イミダゾリル基、
テトラヒドロフリル基、セルフすりノ基などをその例と
して挙げることができる。
For example, t-butyl group, n-octyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, pyrrolidyl group, imidazolyl group,
Examples include a tetrahydrofuryl group and a self-surino group.

−数式゛(■〕において人で表わされる芳香族基は単環
または2環のアリール基または不飽和ヘテa環基である
。ここで不飽和−・テロ環基は単環または、2環のアリ
ール基と縮合して−・テロアリール基を形成してもよい
- In the formula ゛(■), the aromatic group represented by a human is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated -terocyclic group is a monocyclic or bicyclic aryl group. It may be condensed with an aryl group to form a -teroaryl group.

例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等がるるなかでもベンゼン環を含
むものが好ましい。
For example, benzene ring, naphthalene ring, pyridine ring, pyrimidine ring, imidazole ring, pyrazole ring, quinoline ring,
Among the isoquinoline ring, benzimidazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, etc., those containing a benzene ring are preferred.

Alとして時に好ましいものはアリール基である。Sometimes preferred as Al is an aryl group.

A1のアリール基または不飽和へテロ環基は置換基を持
っていてもよい。代表的な置換基としては、直鎖、分岐
または環状のアルキル基、(好ましくは炭素数/〜2Q
のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭
素数が/〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数7〜,2(7のもの)、置換アミ7
基(好ましくは炭素数/〜20のアルキル基で置換され
たアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜
30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素
数)〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素
数7〜30を持つもの)などがある。
The aryl group or unsaturated heterocyclic group of A1 may have a substituent. Typical substituents include linear, branched or cyclic alkyl groups (preferably carbon number/~2Q
), aralkyl group (preferably a monocyclic or bicyclic alkyl group with 7 to 3 carbon atoms), alkoxy group (preferably 7 to 2 carbon atoms), substituted amide 7
group (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms), an acylamino group (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms),
Examples include those having 30 carbon atoms), sulfonamide groups (preferably those having carbon numbers of 7 to 30), and ureido groups (preferably those having 7 to 30 carbon atoms).

一般式(1)のA1はその中にカプラー等の不動性写真
用箔加削において常用されているバラスト基が組み込ま
れているものでもよい。バラスト基はざ以上の炭素ff
′fr有する写真性に対して比較的不活性な基であり、
例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキ
ルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基な
どの中から選ぶことができる。
A1 in the general formula (1) may have a ballast group such as a coupler incorporated therein which is commonly used in processing immobile photographic foils. More carbon than ballast group ff
'fr is a relatively inert group with respect to photography,
For example, it can be selected from alkyl groups, alkoxy groups, phenyl groups, alkylphenyl groups, phenoxy groups, alkylphenoxy groups, and the like.

一般式(1)のA1はその中にハロゲン化銀粒子表面に
対する吸Nを強める基が組み込まれているものでもよい
。かかる吸層基としては、チオ尿素基、複素環チオアミ
ド基、メルカプト複索環基、トリアゾール基などの米国
特許第弘、3ざ3.lOX号、同≠、vjり、3≠7号
、特開昭jター173.233号、同jター200.2
3/号、同jター20/、0μj号、四39−20/、
0≠6号、同jター20/、0≠7号、同!ター!oi
、ottg号、同5y−ioi 、o4cり号、特開昭
A/−/70,733、同6/−270,7≠弘号、同
6.2−タダg号、特願昭12−A7゜30g号、同6
2−1.7.307号、向6.2−67.37θ号等に
記載されfc&が挙げられる。
A1 in general formula (1) may have a group incorporated therein that enhances N absorption to the silver halide grain surface. Such absorbing groups include thiourea groups, heterocyclic thioamide groups, mercapto polycyclic groups, triazole groups, etc. as described in US Patent No. 3, 3. 1OX, same≠, vjri, 3≠7, JP-A-Shojter No. 173.233, same Jterr 200.2
3/ issue, same jter 20/, 0 μj issue, 439-20/,
0≠6, same jter 20/, 0≠7, same! Tha! oi
, ottg issue, 5y-ioi, o4c issue, JP A/-/70,733, JP 6/-270, 7≠Hiroshi, 6.2-Tada g, JP 12-A7゜30g issue, same 6
It is described in No. 2-1.7.307, No. 6.2-67.37θ, etc., and examples include fc&.

Bは、具体的にはホルミル基、アシル基(例工ば、アセ
チル基、ブOピオニル基、トリフルオロアセチル基、ク
ロロアセチル基、ベンゾイル基、q−クロロベンゾイル
基、ピルボイル基、メトキサリル基、メチルオキサモイ
ル基等)、アルキルスルホニル’M(例えハ、メタンス
ルホニル基、2−クロロエタンスルホニル基等)、アリ
ールスルホニル基(例えハ、ベンゼンスルホニル基等)
、アルキルスルフィニル基(例えば、メタンスルフィニ
ル基等)、アリールスルフィニル基(例えば、ベンゼン
スルフィニル基等)、カルバモイル基1’lJ、tハ、
メチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等)、
スルファモ・イル基(例えば、ジメチルスルファモイル
基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカ
ルボニル基、メトキシエトキシカルボニル基等)、アリ
ールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニ
ル基等)、スルフィナモイル基(例えば、メチルスルフ
ィナモイル基等)、アルコキシスルホニルIIJ、tば
、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基等)、
チオアシル基(例えは、メチルチオカルボニル基等)、
チオカルバモイル基(例えば、メチルチオカルバモイル
基等)、スルファモイル基(例えば無*換スルファモイ
ル基、メチルスルファモイル基等)、カルバモイルカル
ボニル基(例えば、無を換カルバモイルカルボニル基等
)、オキシカルボニルカルボニル基(例えば、メトキシ
カルボニルカルボニル基、フェノキシカルボニルカルボ
ニル基等)、又はへテロ環基(例えば、ピリジン環等)
を表わす。
B is specifically a formyl group, an acyl group (for example, an acetyl group, a bopionyl group, a trifluoroacetyl group, a chloroacetyl group, a benzoyl group, a q-chlorobenzoyl group, a pyruvoyl group, a methoxalyl group, a methyl oxamoyl group, etc.), alkylsulfonyl'M (e.g., methanesulfonyl group, 2-chloroethanesulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (e.g., benzenesulfonyl group, etc.)
, an alkylsulfinyl group (e.g., methanesulfinyl group, etc.), an arylsulfinyl group (e.g., benzenesulfinyl group, etc.), a carbamoyl group 1'lJ, t,
methylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, etc.),
Sulfamoyl group (e.g., dimethylsulfamoyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (e.g., methoxycarbonyl group, methoxyethoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (e.g., phenoxycarbonyl group, etc.), sulfinamoyl group (e.g., methylsulfinamoyl group, etc.), alkoxysulfonyl IIJ, methoxysulfonyl group, ethoxysulfonyl group, etc.),
thioacyl group (for example, methylthiocarbonyl group, etc.),
Thiocarbamoyl group (e.g., methylthiocarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (e.g., non-substituted sulfamoyl group, methylsulfamoyl group, etc.), carbamoylcarbonyl group (e.g., non-substituted carbamoylcarbonyl group, etc.), oxycarbonylcarbonyl group ( For example, methoxycarbonylcarbonyl group, phenoxycarbonylcarbonyl group, etc.), or heterocyclic group (for example, pyridine ring, etc.)
represents.

Bとしてはホルミル基又はアシル基が特に好ましい。Particularly preferable B is a formyl group or an acyl group.

一般式(厘)のBはRo及びこれらが結合している窒素
原子とともにヒドラゾンの部分構造上記においてR12
はアルキル基、アリール基又は−・テロ環基を表わす。
B in the general formula (Rin) is the partial structure of hydrazone together with Ro and the nitrogen atom to which they are bonded. In the above, R12
represents an alkyl group, an aryl group or a --terocyclic group.

R13は水素原子、アルキル基、アリール基または−・
テロ環基を表わす。
R13 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or -.
Represents a telocyclic group.

RO% 几Iは水素原子、炭素数20以下のフルキルス
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が一
〇、j以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数、20以下のアシル基(好ましくはベンゾ
イル基、又はハメットの置換基定数の和が−0,3以上
となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又
は分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(f
換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホ
ンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基
、スルホン酸基が挙げられる。)”0XR1としては水
素原子が最も好ましい。
RO% I is a hydrogen atom, a furkylsulfonyl group having up to 20 carbon atoms, and an arylsulfonyl group (preferably a phenylsulfonyl group or a phenylsulfonyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is 10.j or more) group), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted such that the sum of Hammett's substituent constants is -0.3 or more, or a linear, branched, or cyclic Unsubstituted and substituted aliphatic acyl groups (f
Examples of the substituent include a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group, and a sulfonic acid group. )"0XR1 is most preferably a hydrogen atom.

本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESE鉦C)I DI8CLO8URE
Item  233/lsc/9g3年//月号、P、
j!&)およびそこに引用された文献の他、米国特許p
1oざ0.207号、同≠、26り。
In addition to the above-mentioned hydrazine derivatives used in the present invention, examples of hydrazine derivatives include RESE (C)I DI8CLO8URE
Item 233/lsc/9g3//month issue, P.
j! &) and the literature cited therein, as well as U.S. Patent p.
1 oza 0.207 issue, same≠, 26ri.

り2り号、同≠、276.344を号、同≠、−7f、
7≠g号、同グ、3g! 、/ 01号、同グ。
No. 2, same≠, 276.344, same≠, -7f,
7≠g issue, same g, 3g! , / No. 01, same gu.

弘jり、3≠7号、四≠、JA0.63g号、同≠、≠
7g、22g号、英国特許2,0//、3り/B、特開
昭60−/7273≠号、同6/−/70.733号、
同1./−270,7弘弘号、同6.2−タ≠g号、E
ll/7,310号、特願昭1x/−/7J、、23≠
号、同6i−rsi、μgλ号、向6/−λAff 、
 、24tり号、同6/−λ76、.213号、同1s
、22−1p7JO号、同6!−A7.30り号、同1
2−67.310号、同62−jざ、373号、同6コ
ー/ 30 、I/り号、同A、2−/≠3.≠6り号
、同42−/A乙。
Hirojri, 3≠7, 4≠, JA0.63g, same≠,≠
7g, 22g, British Patent No. 2,0//, 3ri/B, JP-A No. 60-/7273≠, No. 6/-/70.733,
Same 1. /-270,7 Hirohiro issue, 6.2-ta≠g issue, E
ll/7,310, patent application Sho 1x/-/7J, 23≠
No. 6i-rsi, μgλ No. 6/-λAff,
, 24t No. 6/-λ76, . No. 213, 1s.
, 22-1p7JO issue, same 6! -A7.30 No. 1
No. 2-67.310, No. 62-j, No. 373, No. 6/30, No. I/R, No. A, 2-/≠3. ≠No. 6, 42-/A Otsu.

117号に記載されたものを用いることができる。Those described in No. 117 can be used.

−数式(1〕で表わされるもののうち、好ましいものは
一般式(Vl)で表わすことができる。
- Among those represented by formula (1), a preferable one can be represented by general formula (Vl).

−数式(Vl ) R3−iM 02N1−1−A2−f’J −f’l 
−1j 1−H2)。
-Formula (Vl) R3-iM 02N1-1-A2-f'J -f'l
-1j 1-H2).

式中、G1はカルボニル基、スルホニル基)スルホキシ
基、ホスホリル基、又はイミノメチレン基を表わし、R
2は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオ
キシカルボニル基ヲ表わし、A2はフェニレン基ま九は
す7チレン基を表わし、1t3は脂肪族基、芳香族基ま
たはへテロ環基を表わし、几ff1R1は一般式(1)
と同義であり、nは/又は2を表わす。ここで、R2、
R3およびA2のうち少なくともいずれかにバラスト基
あるいはハロゲン化体への吸着促進基を有する。
In the formula, G1 represents a carbonyl group, sulfonyl group) sulfoxy group, phosphoryl group, or iminomethylene group, and R
2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a carbamoyl group, or an oxycarbonyl group, A2 represents a phenylene group or a tyrene group, 1t3 represents an aliphatic group, Represents an aromatic group or a heterocyclic group, and 几ff1R1 is represented by the general formula (1)
and n represents/or 2. Here, R2,
At least one of R3 and A2 has a ballast group or a group that promotes adsorption to the halogenated product.

式中、R3で表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環
状のアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基であ
る。
In the formula, the aliphatic group represented by R3 is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group.

R3で表わされる芳香族基としては、単環又は2環のア
リール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基があげ
られる。
The aromatic group represented by R3 is a monocyclic or bicyclic aryl group, such as a phenyl group or a naphthyl group.

■t3のへテロ環としては、へ、0、又はS原子のうち
少なくともひとつを含む3〜ノθ員の飽和もしくは不飽
和のへテロ環であり、これらは単環であってもよいし、
さらに他の芳香環もしくはヘテロ環と縮合環を形成して
もよい。ヘテロ環として好ましくは、jないし6員の芳
香族へテロ環基であり、例えば、ピリジン基、イミダゾ
リル基、キノリニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミ
ジル基、ピラゾリル基、インキノリニル基、チアゾリル
基、ベンズチアゾリル基などが好ましい。
■ The heterocycle of t3 is a 3- to θ-membered saturated or unsaturated heterocycle containing at least one of He, 0, or S atoms, and these may be monocyclic;
Furthermore, a condensed ring may be formed with another aromatic ring or heterocycle. The heterocycle is preferably a j- to 6-membered aromatic heterocyclic group, such as a pyridine group, an imidazolyl group, a quinolinyl group, a benzimidazolyl group, a pyrimidyl group, a pyrazolyl group, an inquinolinyl group, a thiazolyl group, a benzthiazolyl group, etc. is preferred.

R3は置換基でtlを換されていてもよい。置換基とし
ては、例えば以下のものがあげられる。これらの基は更
にf換されていてもよい。
R3 may have tl replaced with a substituent. Examples of the substituent include the following. These groups may be further substituted with f.

例えばアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、置換アミ7基、アシルアミ/基、スルホニルア
ミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、
スルファモイル基、カルバモイル基、アリール基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基やカルボキシル基、ヒトOキシイミノ基などである
For example, alkyl groups, aralkyl groups, alkoxy groups, aryl groups, substituted amino groups, acylamino groups, sulfonylamino groups, ureido groups, urethane groups, aryloxy groups,
Examples include sulfamoyl group, carbamoyl group, aryl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, and human O-oximino group.

これらの基は可能なときは互いに連結してIMを形成し
てもよい。
These groups may be linked together to form IM when possible.

几2で表わされる基のうち好ましいものは、G1がカル
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロ
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基など)、
アラルキル基(例えば、0−ヒドロキシベンジル基など
)、アリール基(例、l’、フェニル基、j 、 j−
ジクロロフェニル基、0−メタンスルホンアミドフェニ
ル基、≠−メタンスルホニルフェニル基など)などであ
り、特に水素原子が好ましい。
Among the groups represented by 几2, when G1 is a carbonyl group, preferred are a hydrogen atom, an alkyl group (e.g.
methyl group, trifluoromethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-methanesulfonamidopropyl group, etc.),
Aralkyl group (e.g., 0-hydroxybenzyl group, etc.), aryl group (e.g., l', phenyl group, j, j-
(dichlorophenyl group, 0-methanesulfonamidophenyl group, ≠-methanesulfonylphenyl group, etc.), and a hydrogen atom is particularly preferred.

ま7tcG1がスルホニル基の場合には、R2はアルキ
ル基(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例工ば
、0−ヒドロキシフェニルメチル基など)、了り−i基
(例えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例え
ば、ジメチルアミノ基など)々とが好ましい。
When 7tcG1 is a sulfonyl group, R2 is an alkyl group (e.g., methyl group, etc.), an aralkyl group (e.g., 0-hydroxyphenylmethyl group, etc.), or an i-i group (e.g., phenyl group, etc.) or a substituted amino group (eg, dimethylamino group).

G1がスルホキシ基の場合、好ましい几2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などであり、Glがホス
ホリル基の場合には、”2としてはメトキシ基、エトキ
シ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が好まし
く、特に、フェノキシ基が好適である。
When G1 is a sulfoxy group, preferable 2 is a cyanobenzyl group, methylthiobenzyl group, etc., and when G1 is a phosphoryl group, 2 is a methoxy group, ethoxy group, butoxy group, phenoxy group, or phenyl group. Preferred is a phenoxy group, particularly a phenoxy group.

Glがへ一憎換または無1舷換イミノメチレン基の場合
、好ましいR2はメチル基、エチル基、置換ま友は焦w
t、換のフェニル基である。
When Gl is an iminomethylene group with or without substitution, R2 is preferably a methyl group or an ethyl group, and the substituted group is
t, is a substituted phenyl group.

R2の置換基としては、kLlに関して列挙した置換基
が適用できる他、例えばアシル基、アシルオキシ基、ア
ルキルもしくはアリールオキシカルボニル基、アルケニ
ル基、アルキニル基やニトロ基なども適用できる。
As the substituent for R2, in addition to the substituents listed for kLl, for example, an acyl group, an acyloxy group, an alkyl or aryloxycarbonyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a nitro group, etc. can be applied.

これらの[9!18基は史にこれらの置換基で置換され
ていてもよい。また可能な場合は、これらの基が互いに
連結した環を形成してもよい。
These [9!18 groups may be substituted with these substituents. Further, if possible, these groups may form a ring connected to each other.

)R2、R3もしくはA2に置換できるバラスト基とし
ては一般式(1)で説明したものが挙げられるが、R2
、凡3およびA2の炭素数の総和′が73以上のものが
好ましく、より好ましくは2ノ以上である。
) Ballast groups that can be substituted for R2, R3 or A2 include those explained in general formula (1), but R2
, 3 and A2 is preferably 73 or more, more preferably 2 or more.

次に、R2、几3もしくはA2に置換できるハロゲン化
銀への吸着促進基はX1+Ll→−で表わすことかでき
る。
Next, the adsorption-promoting group to silver halide that can be substituted for R2, 3 or A2 can be represented by X1+L1→-.

ここでXlはハロゲン化知への吸着促進基であり、Ll
は二価の連結基である。mはOまたは/である。
Here, Xl is an adsorption promoting group for halogenated molecules, and Ll
is a divalent linking group. m is O or /.

Xlで表わされるハロゲン化銀への吸着促進基の好まし
い例としては、チオアミド基、メルカプト基、ジスルフ
ィド結合を有する基またはjないしる員の含窒素へテロ
環基があげられる。
Preferred examples of the adsorption-promoting group to silver halide represented by Xl include a thioamide group, a mercapto group, a group having a disulfide bond, or a nitrogen-containing heterocyclic group having j or more members.

Xlであられされるチオアミド吸着促進基は、−C−ア
ミノーで表わされる二価の基であり、環構造の一部であ
ってもよいし、また非環式チオアミド基であってもよい
。有用なチオアミド吸着促進基は、例えば米国特許μ、
030.り25号、四≠、03/、/27号、同4t、
Oざ0..207号、同グ、2グJ、037号、同弘、
233.J//号、同ψ、、21st、0/3号、及び
同グ、27A 、36≠号、ならびに「リサーチ・ディ
スクロージャーJ  (Research  Disc
losure )誌第13/巻、46/!;/12c/
り76年17月)、及び同第776巻4/7AJA(/
77g年/、年月。に開示されているものから選ぶこと
ができる。
The thioamide adsorption promoting group represented by Xl is a divalent group represented by -C-amino, and may be a part of a ring structure, or may be an acyclic thioamide group. Useful thioamide adsorption promoting groups are described, for example, in U.S. Pat.
030. ri No. 25, 4≠, 03/, /27, 4t,
Oza0. .. No. 207, Dogu, 2gu J, No. 037, Douhiro,
233. J// issue, ψ, 21st, 0/3 issue, 27A, 36≠ issue, and “Research Disc
Losure ) Magazine Volume 13/46/! ;/12c/
(July 17, 1976), and Vol. 776, 4/7 AJA (/
77g year/, year month. You can choose from those disclosed in

非環式チオアミド基の具体例としては、例えばチオワレ
イド基、チオウレタン基、ジチオカルバミン酸エステル
基など、また環状のチオアミド基の具体例としては、例
えばグーチアゾリン−2−チオン、弘−イミダゾリン−
コーチオン、l−チオヒダントイン、ローダニン、チオ
バルビッール酸、テトラゾリン−j−チオンN  / 
s −2−tI−トリアゾリン−3−チオン、/、3.
IA−チアジアゾリン−2−チオン、l、J、II−才
キサジアゾリン−2−チオン、ベンズイミダシリン−2
−チオン、ベンズオキサゾリン−λ−チオン及びベンゾ
チアゾリン−λ−チオンなどが挙げられ、これらは更に
置換されていてもよい。
Specific examples of the acyclic thioamide group include a thioaleido group, thiourethane group, and dithiocarbamate group, and specific examples of the cyclic thioamide group include, for example, goutiazoline-2-thione, Hiro-imidazoline-
Corchion, l-thiohydantoin, rhodanine, thiobarbic acid, tetrazoline-j-thione N/
s -2-tI-triazoline-3-thione, /, 3.
IA-Thiadiazoline-2-thione, l, J, II-Thiadiazoline-2-thione, benzimidacillin-2
-thione, benzoxazoline-λ-thione, and benzothiazoline-λ-thione, which may be further substituted.

Xlのメルカプト基は脂肪族メルカプト基ζ芳香族メル
カプト基やペテa環メルカプト基(−5t−i基が結合
、した炭素原子の隣りが窒素原子の場合は、これと互変
異性体の関係にある塊状チオアミド基と同義であり、こ
の基の具体例は上に列挙したものと同じである)が挙げ
られる。
The mercapto group of is synonymous with a certain bulk thioamide group, and specific examples of this group are the same as those listed above).

Xlで表わされるj員ないし6負の含窒素−・テロ環基
としては、窒素、酸素、硫黄及び炭紫の組合せからなる
j負ないし6員の含窒素へテロ環があげられる。これら
のうち、好ましいものとしては、ベンゾトリアゾール、
トリアゾール、テトラゾール、インダノール、ベンズイ
ミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾ
ール、ベンゾオキサゾール、オキサゾール、チアジアゾ
ール、オキサジアゾール、トリアジンなどがあげられる
。これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい
The j- to 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group represented by Xl includes a j- to 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group consisting of a combination of nitrogen, oxygen, sulfur, and charcoal. Among these, preferred are benzotriazole,
Examples include triazole, tetrazole, indanol, benzimidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, benzoxazole, oxazole, thiadiazole, oxadiazole, and triazine. These may be further substituted with a suitable substituent.

置換基としては、几3の置換基として述べたものがあげ
られる。
Examples of the substituent include those described as the substituent for 几3.

Xoで表わされるもののうち、好ましいものは環状のチ
オアミド基(すなわちメルカプト置換含窒素へテロ環で
、例えば、2−メルカプトチアジアゾール基、3−メル
カプト−i、i、tt−トリアゾール基、j−メルカプ
トテトラゾール基、2−メルカプト−7,3,≠−オキ
サジアゾール基、コーメルカブトベンズオキサゾール基
など)、又は含窒素へテロ環基(例えば、ベンゾトリア
ゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など
)の場合である。
Among those represented by group, 2-mercapto-7,3,≠-oxadiazole group, commercabutobenzoxazole group, etc.), or nitrogen-containing heterocyclic group (e.g., benzotriazole group, benzimidazole group, indazole group, etc.) It is.

又、X1+L1+基は2個以上置換されていてもよく、
同じでも異っていてもよい。
Moreover, the X1+L1+ group may be substituted with two or more,
They can be the same or different.

Llで表わされる二価の連結基としては、具体的にはア
ルキレン基、アリーレン基、アルキニレン基、アリーレ
ン基を表わし、これらの基は一個以上が組合わされても
、あるいは−(J+、−s。
The divalent linking group represented by Ll specifically represents an alkylene group, an arylene group, an alkynylene group, an arylene group, and one or more of these groups may be combined, or -(J+, -s.

−N)i−1−へ=、−C0−1−8O2−(これらの
基は置換基をもっていてもよい)等の単独またはこれら
の組合せからなるものを介して連給されてもよい。具体
的には、例えば などが挙げられる。
-N) to i-1-, -C0-1-8O2- (these groups may have a substituent), etc. may be added singly or in combination. Specifically, for example, etc. may be mentioned.

これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。These may be further substituted with a suitable substituent.

[置換基としては几1の6を換基として述べたものが挙
けられる。
[As the substituent, those described for 6 in 几1 can be mentioned.

凡0、R1は一般式(薯)と同義であり、nはl又は−
を表わし、R’0%”1としては水素原子が最も好まし
く、Glとしてはカルボニル基が最も好ましい。
Approximately 0, R1 has the same meaning as the general formula (薯), and n is l or -
, R'0%''1 is most preferably a hydrogen atom, and Gl is most preferably a carbonyl group.

一般式(■)で表わしたもののうち、特に好ましいもの
は一般式(Vn )で表わされるものである。
Among those represented by the general formula (■), particularly preferred are those represented by the general formula (Vn).

−数式(■) 式中)几0嘱Rl % R2・G1.Xl、Llは一般
式(1)及び(Vl)で説明したものと同義であり、Y
lは一般式(Vl)のR3の置換基として挙げたものと
同義であり、nは/又はλ、mは0又は/、Aは0. 
/又はコを表わし、Lが2のときはYlは同じでも異っ
てもよい。
- Formula (■) In the formula) 几0嘱Rl % R2・G1. Xl and Ll are synonymous with those explained in general formulas (1) and (Vl), and Y
l has the same meaning as the substituent for R3 in general formula (Vl), n is/or λ, m is 0 or/, A is 0.
When L is 2, Yl may be the same or different.

さらにJ好ましくはX1÷Ll儒802N)i基はヒド
ラジノ基に対し0位又はp位に1道換したものであり、
p位が最も好ましい。
Furthermore, preferably,
The p position is most preferred.

一般式(1)で示される化合物の具体例を以下に記す。Specific examples of the compound represented by general formula (1) are described below.

但し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない
However, the present invention is not limited to the following compounds.

厘−7 C)i2C)i2C)i2SH 一g ■−タ 璽−lぴ ■−76 璽−77 tに5fll1 1−/ ♂ 1−/り 1−.20 1−λ3 ■−,2≠ ■−2j 1−J♂ tC5)ill 本発明において、−数式(1)で表される化合物を写真
感光材料中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層
に含有させるのが好ましいがそれ以外の非感光性の親水
性コロイド層(例えば保護層、中間層、フィルター層、
ハレーション防止層など)K含有させてもよい。具体的
には使用する化合物が水溶性の場合には水溶液として、
また難水溶性の場合にはアルコール類、エステル鶏、々
トン類などの水と混和しうる有機溶媒の溶液として、親
水性コロイド溶液に癌加すれはよい。ハロゲン化銀乳剤
層に添加する場合は化学熟成の開始から塗布前までの任
意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布前の
間に添加するのが好ましい。特に塗布のために用意され
た塗布液中に添刀■するのがよい。
厘-7 C)i2C)i2C)i2SH 1g ■-Tase-lpi■-76 Seal-77 5fl1 for t 1-/♂ 1-/ri1-. 20 1-λ3 ■-,2≠ ■-2j 1-J♂ tC5)ill In the present invention, when the compound represented by formula (1) is contained in a photographic light-sensitive material, it is contained in the silver halide emulsion layer. However, it is preferable to include other non-photosensitive hydrophilic colloid layers (e.g., protective layers, intermediate layers, filter layers, etc.).
(antihalation layer, etc.) may contain K. Specifically, if the compound used is water-soluble, it can be prepared as an aqueous solution.
If the colloid is poorly water-soluble, it may be added to the hydrophilic colloid solution as a solution of a water-miscible organic solvent such as alcohols, esters, or esters. When added to the silver halide emulsion layer, it may be added at any time from the start of chemical ripening to before coating, but it is preferably added between after the end of chemical ripening and before coating. In particular, it is best to add it to the coating liquid prepared for application.

本発明の一般式(1)で表される化合物の含有量はハロ
ゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方法
と程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤層
の関係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の量
を選択することが望ましく、その選択のための試験の方
法は半業者のよく知るところである。通常は好ましくは
ハロゲン化銀1モル当り10−6モルないし/ X /
 0”−”モル、特にlo−5ないし≠×10−2モル
の範囲で用いられる。
The content of the compound represented by the general formula (1) of the present invention is determined by the grain size of the silver halide emulsion, the halogen composition, the method and degree of chemical sensitization, and the relationship between the layer containing the compound and the silver halide emulsion layer. It is desirable to select the optimum amount depending on the type of antifogging compound, etc., and testing methods for selection are well known to those skilled in the art. Usually and preferably from 10-6 mol per mol of silver halide to /X/
It is used in the range of 0"-" mol, especially lo-5 to ≠×10-2 mol.

本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤はりOモルチ以上
が塩化鉄からなるハロゲン化銀であり、臭化像を0−j
モルチ含む塩臭化銀もしくは塩沃臭化銀が好ましい。臭
化銀あるいは沃化銀の比率が増加すると明室下でのセー
フライト安全性の悪化、あるいは軟調になり好ましくな
い。  ′本発明の乳剤はロジウム原子を含有するのが
好ましく、ロジウム原子を含有せしめるには、単塩、錯
塩など任意の形の金属塩にして粒子潤製時に添加するこ
とができる。
The silver halide emulsion used in the present invention is a silver halide consisting of iron chloride or more, and the bromide image is 0-j
Silver chlorobromide or silver chloroiodobromide containing malt is preferred. If the ratio of silver bromide or silver iodide increases, the safelight safety in a bright room will deteriorate or the brightness will become weak, which is undesirable. 'The emulsion of the present invention preferably contains rhodium atoms, which can be added in the form of a metal salt in any form such as a single salt or a complex salt when preparing the grains.

ロジウム塩としては、−塩化ロジウム、二塩化ロジウム
、三塩化ロジウム、ヘキサクロ00ジウム酸アンモニワ
ム等が挙げられるが、好ましくは水溶性の三価のロジウ
ムのハロゲノ錯化合物、例えはへキサクロロロジウム(
I’ll酸もしくはその塩(アンモニウム塩、ナトリウ
ム塩、カリウム塩などである。
Examples of rhodium salts include -rhodium chloride, rhodium dichloride, rhodium trichloride, ammonium hexachloride acid, etc., but preferably water-soluble trivalent rhodium halide complex compounds, such as hexachlororhodium (
I'll acid or its salts (ammonium salt, sodium salt, potassium salt, etc.).

本発明におけるロジウム塩の使用皺は銀1モル当シ1x
lO−8モルエり多(!×/ 0−’モルニジ少ない。
The rhodium salt used in the present invention is 1x per mole of silver.
1O-8 molar mass (! x/ 0-' molar mass is low.

好ましくはto−5モルニジ多く、Jx/ 0   モ
ルニジ少ない。ニジ好ましくはjXlo  ’モルエり
多く!xtO’モルニジ少抜けが悪化する。特にヒドラ
ジン含有感材に用いると後述の如く感度低下が大きすぎ
る欠点がある。
Preferably, to-5 molar positions are higher and Jx/0 molar positions are lower. Niji preferably jXlo 'Morue lot! xtO'Molnigi small omission becomes worse. In particular, when used in hydrazine-containing photosensitive materials, there is a drawback that the sensitivity decreases too much, as will be described later.

逆に10  未満であると明室感材に適した低感化がで
きなくなる。
On the other hand, if it is less than 10, it will not be possible to achieve a low sensitivity suitable for bright room photosensitive materials.

本発明に用いられるハロゲン化銀は云わゆるコア/シェ
ル型ハロゲン化銀が好ましく、特にコアに比べてシェル
のロジワム含有率の高いコア/シェル型ハロゲン化銀が
好ましい。
The silver halide used in the present invention is preferably a so-called core/shell type silver halide, particularly a core/shell type silver halide in which the shell has a higher rhodium content than the core.

上記水溶性ロジウム塩を用いてハロゲン化銀粒子中に存
在させるには水溶性銀塩と水溶性ハライド溶液を同時混
合するとき、水溶性銀塩中にまたはハライド溶液中に冷
加しておく方法が好ましい。
In order to make the above-mentioned water-soluble rhodium salt exist in silver halide grains, when simultaneously mixing the water-soluble silver salt and the water-soluble halide solution, it is cooled in the water-soluble silver salt or in the halide solution. is preferred.

あるいは銀塩とハライド溶液が同時に混合されるとき第
3の溶液として、3液内時混合の方法でハロゲン化銀粒
子を調製してもよい。
Alternatively, when silver salt and halide solutions are mixed simultaneously, silver halide grains may be prepared by a method of simultaneous mixing of the three solutions as a third solution.

本発明のハロゲン化銀乳剤の粒子サイズはQ。The grain size of the silver halide emulsion of the present invention is Q.

/jμ以下が好ましく、より好ましくはO,OS〜0.
10μ以下の微粒子乳剤である。
/jμ or less is preferable, more preferably O, OS to 0.
It is a fine grain emulsion of 10μ or less.

本発明においてハロケン化銀微粒子を調製するには混合
条件として反応温度は30℃以下、好ましくはり0℃以
下、より好ましくは30℃以下で、均一混合するように
充分攪拌速度の高い条件下で像電位100mV以上、−
好ましくはljOm■〜ta o o m−V、p)l
は3〜g、好ましくはj〜7で調製すると良好な結果を
得ることができる。塩化銀微粒子の場合、その高い溶解
性のため水洗工程、分散工程でも粒子成長が起こるケー
スがあり、温度は33 ℃以下、あるいは粒子成長を抑
制する核酸、メルカプト化合物、テトラザインデン化@
物等を共存させることができる。
In order to prepare silver halide fine particles in the present invention, the mixing conditions are such that the reaction temperature is 30°C or lower, preferably 0°C or lower, more preferably 30°C or lower, and the stirring rate is sufficiently high to ensure uniform mixing. Potential 100mV or more, -
Preferably ljOm■~ta o o m-V, p)l
Good results can be obtained when the amount is 3 to 7 g, preferably j to 7. In the case of silver chloride fine particles, due to their high solubility, particle growth may occur during the water washing and dispersion processes, and the temperature is below 33 °C, or when using nucleic acids, mercapto compounds, or tetrazaindenization to suppress particle growth.
Things can coexist.

粒子サイズ分布は基本的には制限ないが単分散である方
が好ましい。ここでいう単分散とは重量もしくは粒子数
で少なくともそのり′3%が平均粒子サイズの±≠θ%
以内の大きさを持つ粒子群から構成され、より好ましく
は士、20チ以内である。
The particle size distribution is basically not limited, but it is preferable that it be monodisperse. Monodisperse here means that at least 3% of the weight or number of particles is ±≠θ% of the average particle size.
It is composed of a group of particles having a size within 20 cm, and more preferably within 20 cm.

本発明のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のような規
則的な結晶体を有するものが好ましく、特に立方体が好
ましい。
The silver halide grains of the present invention preferably have regular crystal bodies such as cubes and octahedrons, and cubic shapes are particularly preferred.

ロジウム塩の他に、さらにカドミウム塩、鉛塩、タリウ
ム塩、イリジウム塩を共存させることもできる。
In addition to rhodium salts, cadmium salts, lead salts, thallium salts, and iridium salts can also be coexisting.

本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
The silver halide emulsion used in the method of the present invention does not need to be chemically sensitized, but may be chemically sensitized. Sulfur sensitization, reduction sensitization, and noble metal sensitization methods are known as methods for chemical sensitization of silver halide emulsions, and any of these methods can be used alone or in combination for chemical sensitization. Good too.

貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、生として金錯堪を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない。その具体例は米国特許!、≠μg、06
0号、英国特許67g、obi号などに記載されている
Among the noble metal sensitization methods, the gold sensitization method is a typical method, and uses a gold compound or gold compound as raw material. There is no problem in containing complex salts of noble metals other than pure metals, such as platinum, palladium, and iridium. A specific example is a US patent! ,≠μg,06
No. 0, British Patent No. 67g, obi No.

硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
As the sulfur sensitizer, in addition to the sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines, etc. can be used.

還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
As the reduction sensitizer, stannous salts, amines, formamidine sulfinic acid, silane compounds, etc. can be used.

本発明のハロゲン化鏝写真感光材料は、有機減感剤を含
んでもよい。有機減感剤としては、好ましくは少なくと
も1つの水溶性基又はアノ・カリ解離基を有するものが
よい。
The halogenated photographic material of the present invention may contain an organic desensitizer. The organic desensitizer preferably has at least one water-soluble group or an ano-potash dissociating group.

本発明に用いられる有機減感剤は、そのポーラログラフ
半波電位、即ちホーラミグラフィーで決定される酸化還
元電位により規定され、ポーラロ陽極電位と陰極電位の
和が正になるものである。
The organic desensitizer used in the present invention is defined by its polarographic half-wave potential, that is, the redox potential determined by holemigraphy, and the sum of the polarographic anodic potential and cathodic potential is positive.

ポーラログラフの酸化還元電位の測定法については例え
ば米国特許3.30/ 、307号に記載されている。
A polarographic method for measuring redox potential is described, for example, in US Pat. No. 3.30/307.

有機減感剤に少なくとも7つ存在する水溶性基としては
具体的にはスルホン酸基、カルボン酸基、ホスホン酸基
などが挙げられ、これらの基は有機塩基(例えば、アン
モニア、ピリジン、トリエチルアミン、ピペリジン、モ
ルホリンなど)tfcはアルカリ金属(例えばナトリウ
ム、カリウムなど)などと塩を形成していてもよい。
Specific examples of the at least seven water-soluble groups present in the organic desensitizer include sulfonic acid groups, carboxylic acid groups, and phosphonic acid groups. piperidine, morpholine, etc.) TFC may form a salt with an alkali metal (eg, sodium, potassium, etc.).

アルカリ解離性基とは現像処理液のpH(通常phり〜
p )i / 3の範囲であるが、これ以外のp)lt
−示す処理液もあり得る。)またはそれ以下のpHで脱
プロトン反応を起こし、アニオン性となる置換基をいう
。具体的には置換・未置換のスルファモイル基、置換・
未を換のカルバモイル基、スルホンアミド基、アシルア
ミノ基、置換・未喧換のワレイド基などの1を換基で窒
素原子に結合した水素原子が少なくとも7個存在する置
換基およびヒaキシ基を指す。
The alkali-dissociable group refers to the pH of the developing solution (usually pH ~
p) in the range of i/3, but other than this p)lt
- There may also be processing solutions that show. ) or below, a substituent that undergoes a deprotonation reaction and becomes anionic. Specifically, substituted/unsubstituted sulfamoyl groups, substituted/unsubstituted sulfamoyl groups,
Substituents in which there are at least 7 hydrogen atoms bonded to a nitrogen atom by substituting 1, such as an unsubstituted carbamoyl group, a sulfonamide group, an acylamino group, a substituted or unsubstituted waleido group, and a hydroxy group. Point.

また含窒素へテロ環のへテロ環を構成する窒素原子上に
水素原子を勺゛するー、テロ環基もアルカリ解離性基に
含まれる。
Also included in the alkali-dissociable group is a heterocyclic group in which a hydrogen atom is removed on the nitrogen atom constituting the heterocycle of a nitrogen-containing heterocycle.

これらの水浴性基およびアルカリ解離性基は有機減感剤
のどの部分に接続していてもよく、また2a以上を同時
に有していてもよい。
These water bathing groups and alkali dissociable groups may be connected to any part of the organic desensitizer, and may have 2a or more at the same time.

本発明に用いられる有機減感剤の好ましい具体例は、%
願昭1./−20り/6り号に記載されているが、・そ
の中からいくつか例を次にあける。
Preferred specific examples of the organic desensitizer used in the present invention include %
Gansho 1. It is described in /-20ri/6ri issue, but some examples are given below.

(J2N 何機減感剤はハロゲン化嫁乳剤層中に/−0X10−8
〜/、0x10  ’  モル/rr?、特にl。
(J2N How many desensitizers are used in the halogenated emulsion layer/-0X10-8
~/, 0x10 'mol/rr? , especially l.

O×l0−7〜/、0x10−5 モル/lr?存在せ
しめることが好ましい。
O×l0-7~/, 0x10-5 mol/lr? It is preferable to make it exist.

本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、フ
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、檀々の目的で、−数式(1)の化合物と同時に水
溶性染料を含有してもよい。
The emulsion layer or other hydrophilic colloid layer of the present invention may contain a water-soluble dye at the same time as the compound of formula (1) as a filter dye or for irradiation prevention and other purposes. .

フィルター染料としては、写真感度をさらに低めるため
の染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光
吸収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として
取り扱われる際のセーフライトzに対する安全性を高め
るための、主として3JOnrn−1p00nmの領域
に実質的な光吸収をもつ染料が用いられるっ 染料のモル吸光係数により異なるが、通常/ 0”−2
ノ/rrl〜/P/n?の範囲で添加される。好ましく
は10キ〜1oortq7−である。
Filter dyes include dyes for further lowering photographic sensitivity, preferably ultraviolet absorbers having a spectral absorption maximum in the intrinsic sensitivity range of silver halide, and safety against safelight z when handled as bright room photosensitive materials. In order to increase
ノ/rrl~/P/n? It is added within the range of Preferably it is 10 to 10 ortq7.

染料の具体例は%願昭6/−209/6り号に詳しく記
載されているが、いくつかを次にあける。
Specific examples of dyes are described in detail in %Gan No. 6/1980-209/6, and some are listed below.

803K       803に 803へa 上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えば
メタノール、エタノール、プロパツールなど)、アセト
ン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して不発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される。
803K 803 to 803a The above dye can be dissolved in a suitable solvent [e.g., water, alcohol (e.g. methanol, ethanol, propatool, etc.), acetone, methyl cellosolve, etc., or a mixed solvent thereof] to form a non-inventive, non-photosensitive dye. It is added to the coating solution for the hydrophilic colloid layer.

写真乳剤の結合剤または保餓コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのがM利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。次とえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質:ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーゾ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−へ−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多棹の合成親水
性商分子物質を用いることができる。
Gelatin is most commonly used as the binder or stabilizing colloid for photographic emulsions, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein: hydroxyethyl cellulose,
Cellulose derivatives such as carboxymethylcellulose and cellulose sulfate esters, sugar derivatives such as sozoalginate and starch derivatives, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol partial acetal, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl Synthetic hydrophilic commercial molecular materials such as single or copolymers of imidazole, polyvinylpyrazole, etc. can be used.

ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
As the gelatin, in addition to lime-treated gelatin, acid-treated gelatin may be used, and gelatin hydrolysates and gelatin enzymatically decomposed products can also be used.

本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層には、公知の分
光増感色素を添加してもよいが、しない方が好ましい。
Although a known spectral sensitizing dye may be added to the silver halide emulsion layer used in the present invention, it is preferable not to add it.

本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類九とえはベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニドOベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン拳;メルカプトトリアジン類;りとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオ々ト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特にグーヒドロキシ置換(i + 3+ 3a 
+ 7 )テトラザインデン類)、ペンタアザインデン
類など;ベンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィ
ン酸、ベンゼンスルフオン酸アミド等のようなカブリ防
止剤、ハイドロキノンatたは安定剤として知られた多
くの化合物を加えることができる。これらのものの中で
、好ましいのはベンゾトリアゾール類(例えば、j−メ
チル−ベンゾトリアゾール)ハイドロキノン類及びニト
ロインダゾール類(例えば3−二トロインダゾール)で
ある。また、特開昭62−302≠3に記載の処理時に
現像抑制剤を放出可能な化合物を含むことができる。
The light-sensitive material of the present invention may contain various compounds for the purpose of preventing fogging or stabilizing photographic performance during the manufacturing process, storage, or photographic processing of the light-sensitive material. Namely, the nine azoles are benzothiazolium salts, nitroindazoles, chlorobenzimidazoles, bromobenzimidazoles, mercaptothiazoles, mercaptobenzothiazoles, mercaptothiadiazoles, aminotriazoles, benzothiazoles, and nido-O. benzotriazoles, etc.; mercaptopyrimidines; mercaptotriazines; thiol compounds such as oxazolinthione; azaindenes, such as triazaindenes, tetraazaindenes (especially those with hydroxyl substitution (i + 3+ 3a
+7) Tetrazaindenes), pentaazaindene, etc.; many compounds known as antifoggants, hydroquinone at or stabilizers such as benzenethiosulfonic acid, benzenesulfinic acid, benzenesulfonic acid amide, etc. can be added. Among these, preferred are benzotriazoles (eg j-methyl-benzotriazole), hydroquinones and nitroindazoles (eg 3-nitroindazole). Further, a compound capable of releasing a development inhibitor during processing as described in JP-A-62-302≠3 can be included.

本発明の写真乳剤及び非感光性の親水性コロイドには無
機または有機の硬膜剤を含有してよい。
The photographic emulsions and non-photosensitive hydrophilic colloids of the present invention may contain inorganic or organic hardeners.

例えば活性ビニル化合物(/、3.3−1−リアクリロ
イルー−・キサヒドロ−5−)リアジン、ビス(ビニル
スルホニル)メチルエーテル、N、N’−メチレンビス
−〔β−(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕など
)、活性ハロゲン化@吻(,21μmジクロル−6−ヒ
ドロキシ−s−トリアジンなど)、ムコハロゲン[M(
ムコクロル酸など)、ヘー力ルバモイルピリジニワム塩
頌((/−モルポリ)カルボニル−3−ピリジニオ)メ
タンスルホナートなど)、ハロアミジニウム塩類(/−
(/−りOロー/−ピリジノメチレン)ピロリジニウム
、−一ナフタレンスルホナートなど)を単独または組合
せて用いることができる。
For example, active vinyl compounds (/, 3.3-1-lyacryloyl-xahydro-5-) riazine, bis(vinylsulfonyl)methyl ether, N,N'-methylenebis-[β-(vinylsulfonyl)propionamide], etc.) , active halogenated @proboscis (,21μm dichloro-6-hydroxy-s-triazine etc.), mucohalogen [M(
mucochloric acid, etc.), haloamidinium salts ((/-molpoly)carbonyl-3-pyridinio) methanesulfonate, etc.), haloamidinium salts (/-
(/-diO-low/-pyridinomethylene)pyrrolidinium, -naphthalenesulfonate, etc.) can be used alone or in combination.

なかでも、特開昭33−’712.20.同!r3−!
;7237、同jター/12お弓、向to−g。
Among them, JP-A-33-'712.20. same! r3-!
;7237, same jter/12 bow, mukai tog.

+r≠6に記載の活性ビニル化合物および米l@特許3
 、3,23.2g7号に記載の活性ハロゲン化物が好
ましい。
+Activated vinyl compound according to r≠6 and rice l@Patent 3
, 3, 23.2g No. 7 is preferred.

本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等檀々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
The photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layer of the light-sensitive material prepared using the present invention may contain coating aids, antistatic properties, smoothness improvement, emulsification dispersion, adhesion prevention, and photographic property improvement (e.g.
Various surfactants may be included for various purposes such as development acceleration, contrast enhancement, and sensitization.

例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えはポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステルaA、ホ)アルキレングリコールアルキ
ルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキ
サイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケ
ニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリ
グリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖
のアルキルエステル類などの非イ′オン性界面活性剤;
アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アル
キルベンゼンスルフォン[1、アルキルナフタレンスル
フォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸
エステル類、ヘーアシルーヘーアルキルタ9リン類、ス
ルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンアルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ
基、スルホ基、ホスホ基、WCfllエステル基、リン
酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤ニア
ミノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミ/アルキ
IL/硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン類
、アミンオキシド類などの両性界面活性剤:アルキルア
ミン塩類、脂肪族あるいは芳香原画を級アンモニウム塩
頌、ピリジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第弘級
アンモニウム塩類、及び脂肪族又は複素環ヲ含むホスホ
ニウム又はスルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤
を用いることができる。
For example, saponins (steroids), alkylene oxide derivatives (e.g. polyethylene glycol, polyethylene glycol/polypropylene glycol condensates, polyethylene glycol alkyl ethers or polyethylene glycol alkyl aryl ethers, polyethylene glycol esters, polyethylene glycol sorbitan esters aA, E) (alkylene glycol alkylamines or amides, polyethylene oxide adducts of silicone), glycidol derivatives (e.g. alkenylsuccinic acid polyglycerides, alkylphenol polyglycerides), fatty acid esters of polyhydric alcohols, alkyl esters of sugars, etc. Ionic surfactant;
Alkyl carboxylates, alkyl sulfonates, alkylbenzene sulfones [1, alkylnaphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl phosphates, heacyl-alkylta-9 phosphorus, sulfosuccinates, sulfoalkyl poly Anionic surfactants containing acidic groups such as carboxy groups, sulfo groups, phospho groups, WCfl ester groups, phosphate ester groups, etc., such as oxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene alkyl phosphate esters, diamino acids, Ampholytic surfactants such as aminoalkyl sulfonic acids, amyl/alky IL/sulfuric acid or phosphoric acid esters, alkyl betaines, amine oxides: alkylamine salts, aliphatic or aromatic ammonium salts, pyridinium, imidazolium Cationic surfactants such as phosphonium or sulfonium salts containing aliphatic or heterocycles can be used.

特に本発明においては、画質1に更に高める等の目的で
分子6100以上のポリアルキレンオキサイド化合物を
用いることができる。
In particular, in the present invention, a polyalkylene oxide compound having a molecular weight of 6,100 or more can be used for the purpose of further increasing the image quality to 1.

本発明に用いるポリアルキレンオキサイド化合物は、炭
素数λ〜tのアルキレンオキサイド、たとえばエチレン
オキサイド、プロピレン−/、2−オキサイド、ブチレ
ン−71,2−オキサイドなど、好ましくはエチレンオ
キサイドの少くと410単位から底るポリアルキレンオ
キサイドと、水、脂肪族アルコール、芳香族アルコール
、脂肪酸、有機アミン、ヘキシトール誘導体などの活性
水素原子を少くとも/個有する化合物との縮合物あるい
は二種以上のポリアルキレンオキサイドのブロックコポ
リマーなどを包含する。すなわち、ポリアルキレンオキ
サイド化合物として、具体的にはポリアルキレングリコ
ール類 ポリアルキレングリコールアルキルエーテル類ポリアル
キレングリコールアリールエーテル類〃〃(アルキルア
リール) エーテル類 ポリアルキレングリコールエステル類 ポリアルキレングリコール脂肪酸アミド類d? リアル
キレングリコールアミン類ポリアルキレングリコール・
プロツク共重合体ポリアルキレングリコールグラフト重
合物などを用いることができる。分子量は600以上で
ろることが必要である。
The polyalkylene oxide compound used in the present invention is an alkylene oxide having a carbon number of λ to t, such as ethylene oxide, propylene-/, 2-oxide, butylene-71,2-oxide, etc., preferably at least 410 units of ethylene oxide. A condensate of a base polyalkylene oxide and a compound having at least/an active hydrogen atom such as water, an aliphatic alcohol, an aromatic alcohol, a fatty acid, an organic amine, a hexitol derivative, or a block of two or more polyalkylene oxides. Including copolymers and the like. That is, as polyalkylene oxide compounds, specifically, polyalkylene glycols, polyalkylene glycol alkyl ethers, polyalkylene glycol aryl ethers (alkylaryl), ethers, polyalkylene glycol esters, polyalkylene glycol fatty acid amides d? Realkylene glycol amines polyalkylene glycols
Block copolymers, polyalkylene glycol graft polymers, and the like can be used. It is necessary that the molecular weight is 600 or more.

ポリアルキレンオキサイド類は分子中に一つとは限らす
、二つ以上含まれてもよい。その場合個個のポリアルキ
レンオキサイド類がIOより少いアルキレンオキサイド
単位から取ってもよいが、分子中のアルキレンオキサイ
ド単位の合計は少くともioでなければならない。分子
中に二つ以上のポリアルキレンオキサイド類を有する場
合、それ6らの各々は異るアルキレンオキサイド単位、
たとえばエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドか
ら成っていてもよい。本発明で用いるポリアルキレンオ
キサイド化合物は、好ましくは/q以上100までのア
ルキレンオキサイド単位を含むものである。
The polyalkylene oxide is not limited to one, but may be contained two or more in the molecule. In that case, the individual polyalkylene oxides may be composed of fewer than IO alkylene oxide units, but the total number of alkylene oxide units in the molecule must be at least IO. When the molecule has two or more polyalkylene oxides, each of them has a different alkylene oxide unit,
For example, it may consist of ethylene oxide and propylene oxide. The polyalkylene oxide compound used in the present invention preferably contains at least /q and up to 100 alkylene oxide units.

本発明で用いるポリアルキレンオキサイド化合物の具体
例をあげると次の如くである。
Specific examples of the polyalkylene oxide compounds used in the present invention are as follows.

ポリアルキレンオキサイド化合物例 /   ki() (CH2CH20) 9o )f、
2  C4Hg0(CH2C)120)15h301□
H2i)(CH2CH20) 15)1≠  C,8)
1370 (C)12C)120)ts )IJ   
C18113,(J(C)12C)f2(J)4o)1
6   CBH1□C)1=C)1c8)i160(C
)12C)120)、5)110  011)123c
00(C)*2C)izO)80)111  Cユ□8
2.、C00(C)i2cH20)240CC111i
□3/3         C1□H23C(−)NH
(CH2CM20)151−1/ j    c14H
!9へ(C)12)CCH2C)izO)z4H17、
e)i2−0−CM−C)120C11)i23H(O
Ch2C)i2)140−Ch−Oh−C)i−(CH
20H20)14H(QCI糧2 CH20)1aH /7  )1(C)12cHzr))1(eHcH20
)b(C)12C)120)c)1C)i3 a+b+c=t。
Examples of polyalkylene oxide compounds/ki() (CH2CH20) 9o) f,
2 C4Hg0(CH2C)120)15h301□
H2i) (CH2CH20) 15) 1≠ C, 8)
1370 (C)12C)120)ts)IJ
C18113, (J(C)12C)f2(J)4o)1
6 CBH1□C)1=C)1c8)i160(C
) 12C) 120), 5) 110 011) 123c
00(C)*2C)izO)80)111 Cyu□8
2. ,C00(C)i2cH20)240CC111i
□3/3 C1□H23C(-)NH
(CH2CM20) 151-1/j c14H
! to 9 (C) 12)CCH2C)izO)z4H17,
e) i2-0-CM-C) 120C11) i23H(O
Ch2C)i2)140-Ch-Oh-C)i-(CH
20H20) 14H (QCI food 2 CH20) 1aH /7) 1(C) 12cHzr)) 1(eHcH20
)b(C)12C)120)c)1C)i3 a+b+c=t.

b:a+c=10:り 、20 MO(CH2CH20)a(CH2CH2C)izO)
t20)b(C:M2C)t20)。)ta+c==j
(lit 、 b=i xib=ざ 、a+c=30 2コ .2≠  )io+CH2C)i20増りなど特開昭3
0−/36≠、23号、特開昭32−101/30号お
よび特開昭33−32/7号に記載されたポリアルキレ
ンオキサイド化合物を用いることができる。これらのポ
リアルキレンオキサイド化合物は一種類のみを用いても
、二種類以上組合せて用いてもよい。
b:a+c=10:ri,20 MO(CH2CH20)a(CH2CH2C)izO)
t20)b(C:M2C)t20). ) ta+c==j
(lit, b=i xib=za, a+c=30 2co.2≠)io+CH2C) i20 increase etc.
0-/36≠, polyalkylene oxide compounds described in No. 23, JP-A-32-101/30 and JP-A-33-32/7 can be used. These polyalkylene oxide compounds may be used alone or in combination of two or more.

これらのポリアルキレンオキサイド化合物をハロゲン化
嫁乳剤に冷加する場合には、適当な濃度の水溶液としで
あるいは水と混和しうる低沸点の有機溶媒に溶着して、
塗布前の適当な時期、好ましくは、化学熟成の後に乳剤
に重加することができる。乳剤に加えずに非感光性の親
水性コロイド層、たとえば中間層、保護層、フィルター
層などに絵加してもよい。また、これらの化合物を処理
液中に含有させてもよいう 本発明の感光材料には寸度安定性の為にポリアルキルア
クリレートの如きポリマーラテックス全含有せしめるこ
とができる。
When these polyalkylene oxide compounds are cooled into a halogenated bride emulsion, they are dissolved in an aqueous solution of an appropriate concentration or dissolved in a low boiling point organic solvent that is miscible with water.
It can be added to the emulsion at any suitable time before coating, preferably after chemical ripening. It may be added to non-photosensitive hydrophilic colloid layers, such as intermediate layers, protective layers, filter layers, etc., without being added to the emulsion. Further, the light-sensitive material of the present invention, which may contain these compounds in the processing solution, can be entirely made to contain a polymer latex such as polyalkyl acrylate for dimensional stability.

本発明の感光材料の支持体としてはセルローストリアセ
テート、セルミースジアセテート、ニトロセルロース、
ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、バライタ
紙、ポリエチレン被覆紙などを用いうろことができる。
Supports for the photosensitive material of the present invention include cellulose triacetate, cellumise diacetate, nitrocellulose,
Polystyrene, polyethylene terephthalate, baryta paper, polyethylene-coated paper, etc. can be used.

本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭j3−77616号、同
j4(−3773λ号、同!3−/37/33号、同6
0−lダ03ψO号、同60−/11−93り号などに
開示されている化合物の他、へ又はS原子を含む各槙の
化合物が有効である。
Suitable development accelerators or nucleating and contagious development accelerators for use in the present invention include JP-A Nos. 3-77616, 4 (-3773λ), 3-/37/33, 6
In addition to the compounds disclosed in No. 0-lda 03ψO, No. 60-/11-93, etc., compounds of various types containing an atom or an S atom are effective.

次に具体例を列挙する。Next, specific examples are listed.

ki H (C2Hs)2へC)12C)l−C)120)1n−
C4)1.N (C2)14C)i)2これらの促進剤
は、化合物の種類によって最適二加量が異なるが/、0
’pC10−3〜0.Jf/1、好ましくはj 、O×
l0−3〜0./l/rr?−範囲で用いるのが望まし
い。これらの促進剤は一当な溶媒()120 、メタノ
ールやエタ/−ルなのアルコール類、アセトン、ジメチ
ルホルムアト、メチルセルソルブなど)に溶解して塗布
液添加される。
ki H (C2Hs)2 to C) 12C) l-C) 120) 1n-
C4)1. N (C2)14C)i)2 The optimum addition amount of these accelerators differs depending on the type of compound, but /, 0
'pC10-3~0. Jf/1, preferably j, O×
l0-3~0. /l/rr? - It is preferable to use the range. These promoters are added to the coating solution after being dissolved in a suitable solvent (120), an alcohol such as methanol or ethanol, acetone, dimethylformate, methylcellosolve, etc.

これらの添加剤を複数の種類を併用してもよい。A plurality of types of these additives may be used in combination.

本発明のハロゲン化鎌感光材料を用いて超硬肖の写真特
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第一、≠/
り、273号にWe載されたpa73に近い高アルカリ
現像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用いること
ができる。
In order to obtain the photographic characteristics of a super hard portrait using the halogenated sickle photosensitive material of the present invention, it is necessary to use a conventional infectious developer or the U.S. Pat.
Therefore, it is not necessary to use a highly alkaline developer similar to PA73 published in No. 273, and a stable developer can be used.

すなわち、本発明のハロゲン化fa感光材料は、保恒剤
としての亜硫酸イオンt−0、/gモル/℃以上含み、
p)il/、O−7,2,3、特にp)i//、3〜/
、2.0の現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得
ることができる。
That is, the halogenated fa photosensitive material of the present invention contains sulfite ions t-0, /g mol/°C or more as a preservative,
p) il/, O-7,2,3, especially p) i//, 3~/
, 2.0, a sufficiently high contrast negative image can be obtained.

本発明で用いられる現像液は補助現像主薬(例エバノー
フェニル−3−ピラゾリドン類又はp−アミノフェノー
ル@)を全く含まないか又は0゜031/L以下に抑え
、主現像主薬としてジヒドロキシベンゼン類を0.OJ
 NO,3モル/12(特に0.7〜Q、μモル/A)
含有する現像液であって、遊離の亜硫酸イオンa度がo
、irモル/i以上あり、−数式(1)の化合物(好ま
しくはj−又は6−ニトロインダゾール)を20キ/L
以上含有し、かつpHを//、’0以上(特にl/、3
以゛上/−03以下)にするに十分な量のアルカIJ 
’?金含有る現像液である。この中でも補助現像主系を
含まないジヒドロキシベンゼン類(特にハイドロキノン
)単独の使用が好ましい。
The developer used in the present invention does not contain any auxiliary developing agent (e.g. evanophenyl-3-pyrazolidones or p-aminophenol@) or contains only 0°031/L or less, and contains dihydroxybenzene as the main developing agent. 0. O.J.
NO, 3 mol/12 (especially 0.7-Q, μmol/A)
A developing solution containing free sulfite ions with a degree of o
, ir mol/i or more, - 20 k/L of the compound of formula (1) (preferably j- or 6-nitroindazole)
or more, and the pH is //, '0 or more (particularly l/, 3
Sufficient amount of Alka IJ to
'? This is a developer containing gold. Among these, it is preferable to use dihydroxybenzenes (especially hydroquinone) alone, which do not contain an auxiliary developing main system.

この現像液は本発明の感光材料を使って極めて硬調な写
真特性全迅運に侍ることを可能にし、かつ亜硫酸イオン
を多量に現像しうるので極めて安定である。
This developing solution enables the use of the light-sensitive material of the present invention to meet all the photographic properties of extremely high contrast, and is extremely stable because it can develop with a large amount of sulfite ions.

上記において、ジヒドロキシベンゼン系現謙王薬として
は、汐りえはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、
70モハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、
トルヒドロハイドロキノン、メチルハイドロキノン1.
2.3−ジクロロハイドロキノン、λ、j−ジメチルハ
イドロキノンなどが6す、l−フェニル−3−ピラゾリ
ドン系現1家玉薬としては/−フェニル−3−ピラゾリ
ドン、q、t−ジメチル−7−フェニル−3−ピラゾリ
ドン、t−ヒドロキシメチル−≠−メチルー/ −フェ
ニル−3−ピラゾリドン、t、≠−ジヒドロキシメチル
−7−フェニル−3−ピラゾリドンなどがあり、p−ア
ミノフェノール系現像主薬としてはp−アミノフェノー
ル、ヘーメチルーp−アミノフェノールなどが用いられ
る。
In the above, as dihydroxybenzene-based drugs, Shio Rie uses hydroquinone, chlorohydroquinone,
70 mohydroquinone, isopropylhydroquinone,
Toluhydrohydroquinone, methylhydroquinone 1.
2.3-dichlorohydroquinone, λ,j-dimethylhydroquinone, etc., l-phenyl-3-pyrazolidone-based drugs include /-phenyl-3-pyrazolidone, q,t-dimethyl-7-phenyl -3-pyrazolidone, t-hydroxymethyl-≠-methyl-/-phenyl-3-pyrazolidone, t,≠-dihydroxymethyl-7-phenyl-3-pyrazolidone, and p-aminophenol-based developing agents include p- Aminophenol, hemethyl-p-aminophenol, etc. are used.

現像液には保恒剤として遊離の亜硫酸イオンを与える化
合物、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、メタ
重亜硫酸カリウム、重亜硫酸ナトリウム等が添加される
。伝染現像液の場合は現像液中でほとんど遊離の亜硫酸
イオンを与えないホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム
を用いても艮い。
A compound that provides free sulfite ions, such as sodium sulfite, potassium sulfite, potassium metabisulfite, and sodium bisulfite, is added to the developer as a preservative. In the case of an infectious developer, formaldehyde sodium bisulfite, which provides almost no free sulfite ions in the developer, may be used.

本発明に用いる現像液のアルカリ剤としては水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、酢酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、ジェタノー
ルアミン、トリエタノールアミンなどが用いられる。
As the alkaline agent for the developer used in the present invention, potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, sodium acetate, tribasic potassium phosphate, jetanolamine, triethanolamine, etc. are used.

本発明に使用し得る現像液には前述したと同種のポリア
ルキレンオキサイドを現像抑制剤として含有させるのが
好ましい。例えば分子’tlioo。
It is preferable that the developer that can be used in the present invention contains the same type of polyalkylene oxide as described above as a development inhibitor. For example, the molecule 'tlioo.

〜/ 0000のポリエチレンオキサイドなどをO17
〜10f/1.の範囲で含有させることができる。
~/0000 polyethylene oxide etc. O17
~10f/1. It can be contained within the range of.

又、米国特許≠、26り、り2りに記載のアミン化合物
を現像促進剤として添加することができる。
Furthermore, the amine compounds described in US Pat.

本発明に使用し得る現像液には硬水軟化剤としてニトリ
ロトリ酢酸、エチレンジアミンテトラアセティツクアシ
ド、トリエチレンテトラアミンヘキサアセティツクアシ
ド、ジエチレンテトラアミンペンタアセテツクアシド等
を添加することが好ましい。
It is preferable to add nitrilotriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, triethylenetetraamine hexaacetic acid, diethylenetetraamine pentaacetic acid, etc. as a water softener to the developer that can be used in the present invention.

定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。
As the fixer, one having a commonly used composition can be used.

定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアンtR塩のほか、
定着剤としての効呆が知られている有機硫黄化合物を用
いることができる。
As a fixing agent, in addition to thiosulfate and thiocyanate tR salt,
Organic sulfur compounds known for their effectiveness as fixing agents can be used.

定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩を含んで
もよい。
The fixing solution may contain a water-soluble aluminum salt as a hardening agent.

定着液には酸化剤としてエチレンジアミン四酢酸と三価
の鉄イオンとの錯体を含むこともできる。
The fixer may also contain a complex of ethylenediaminetetraacetic acid and trivalent iron ions as an oxidizing agent.

処理源!gや処理時間は適宜設足されるが普通/g℃〜
30℃の処理温度が適当であり、一方いわゆる自動現像
機を用いfclj〜7.20秒の迅速処理を行うのが好
ましい。
Processing source! g and processing time will be set as appropriate, but it is normal / g℃~
A processing temperature of 30 DEG C. is suitable, while rapid processing of fclj to 7.20 seconds is preferably carried out using a so-called automatic processor.

以下に実施例により本発明を更に詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below using Examples.

(実施例1) 4tθ℃に保ったゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液とi
 X / 0−5モルO(Nl−14)3 Rh C1
6f含tr塩化ナトリワム水溶液を同時にio仕分間添
加し、その間の゛電位を+somVにコントロールする
ことにより単分散で平均粒子サイズ0.2μの塩化銀立
方体粒子をA装した。常法により町醪性塩を除去したの
ちゼラチンを加えた。
(Example 1) Silver nitrate aqueous solution and i
X/0-5 mol O(Nl-14)3 Rh C1
A 6F-containing sodium chloride aqueous solution was simultaneously added during the io sorting, and the potential during that time was controlled to +somV, so that monodisperse cubic silver chloride particles with an average particle size of 0.2 μm were placed in A-pack. After removing the town salt by a conventional method, gelatin was added.

この乳剤に衣/のように一般式(1)のヒドラジン化合
物を添加したのち、次の造核促進剤■を30キ/−1減
感剤■を4を岬/rr?、■の化合物を、20■/ r
r?加え ■ さらにポリエチルアクリレートラテックスを、固形分で
対ゼラチンJ Owt%添加し、硬膜剤としてJ−ビス
(ビニルスルホニルアセトアミド)エタンを加えポリエ
チレンテレフタレート支N体上にJ 、 6P/dの鉄
量になるように塗布した。ゼラチンは/、7P/lri
であった。
After adding the hydrazine compound of general formula (1) to this emulsion as shown in coating/, the following nucleation accelerator ■ is added at 30 kg/-1 desensitizer ■ is added to Misaki/rr? , ■ compound, 20■/r
r? In addition, polyethyl acrylate latex was added in a solid content of J Owt% based on gelatin, J-bis(vinylsulfonylacetamido)ethane was added as a hardening agent, and an iron amount of J and 6P/d was added to the polyethylene terephthalate support N body. It was applied so that Gelatin is /, 7P/lri
Met.

この上に、保燕層としてゼラチンi、sp/i粒径2.
0βのポリメチルメタクリレートjO′Iv/−、テオ
クトfR& ”j’/m’、ハイドロキノン30M9/
べ塗布剤としてドデシルベンゼンスル*7efトリウム
および本発明の一般式(1)の紫外光を吸収する化合物
1−/りと黄色の化合物J−jりを表7のように加えた
層を同時に塗布し表7のような試料■〜■を作製した。
On top of this, gelatin I, sp/i particle size 2.
0β polymethyl methacrylate jO'Iv/-, Teocto fR &"j'/m', hydroquinone 30M9/
At the same time, a layer containing dodecylbenzene sulfate *7ef thorium and the ultraviolet light absorbing compound 1-/yellow compound J-j of the general formula (1) of the present invention as shown in Table 7 was added as a coating agent. Samples ① to ① as shown in Table 7 were prepared.

このようにして得られた試料を元楔を通して大日本スク
リーン社裂明室プリンターP−607で露光し、辰コに
示した現像液で3g℃λO秒間現像処理し、定着、水洗
、乾燥した。(自動現i#!磯FG−AAOF) またこれらの試料について抜文字画質、セーフライト照
射後のカブリについて同様に現像処理し比較した。結果
を第1表に示す。第1表より明らかなように、本発明の
構成(テスト7I6u、/l)は画質、セーフライト性
が良好である。
The sample thus obtained was exposed through a source wedge using Dainippon Screen Co., Ltd.'s Shimei-shitsu Printer P-607, developed with the developer shown in Tatsuko for 3g C.lambda.O seconds, fixed, washed with water, and dried. (Automatic development i#! Iso FG-AAOF) Furthermore, these samples were developed in the same manner and compared with respect to the image quality of extracted characters and fog after safelight irradiation. The results are shown in Table 1. As is clear from Table 1, the configuration of the present invention (Test 7I6u, /l) has good image quality and safelight property.

/)相対感度;濃度i、sを与える露光量の逆数、試料
/をiooとする。
/) Relative sensitivity: Let ioo be the reciprocal of the exposure amount that gives the density i, s, sample/.

2)γ: C3,0−0,3)/−(log(濃度0.
3を与える露光量)−1og(11度3゜0★与える露
光量)1 3)抜文字画質; 特開昭jざ一/90り4cJ号に記載されている通り貼
りこみベース/網画像ジ像が形成されたフィルム←線画
原稿)/貼りこみベース/網点画像が形成されたフィル
ム(網点現稿)t−この順に重畳したものを各フィルム
試料の保論層と前記網点原稿が面対面で重なるように密
着させ、30%の網点面積がフィルム試料上に30%の
網点[ffi積となる様な適性露光を与え、前述のよう
に処理したときに、線画原稿の30μm巾の文字が再現
できたものをjとし、ljOμm巾以上の文字しか再現
できないものを/とし、!と/の間に官能評価で≠、3
..2のランクを設けたものである。2がぎりぎり実用
可能な限界である。
2) γ: C3,0-0,3)/-(log(concentration 0.
3) - 1 og (exposure amount to give 11 degrees 3 degrees 0★) 1 3) Extracted character image quality; Paste base/mesh image di Film with image formed ← line drawing original) / pasting base / film with halftone image formed (halftone original) When placed in close contact so that they overlap face-to-face, and given appropriate exposure such that 30% halftone dot area becomes 30% halftone [ffi product] on the film sample, and when processed as described above, 30 μm of line drawing original Let j be the character that can reproduce the width, and / be the character that can only reproduce the width of ljOμm or more, and! Sensory evaluation between and / ≠, 3
.. .. 2 ranks are provided. 2 is the barely practical limit.

≠)セーフライト照射後のカプリ; 東芝製白色蛍光灯(El≠OSW ) J 0ftux
≠) Capri after safelight irradiation; Toshiba white fluorescent lamp (El≠OSW) J 0ftux
.

下で30分間照射後、現像処理を行なったときの(実施
例λ) 33℃に保ったゼラチン水溶液中に硫#鉄水浴液と/X
/θ−4モルの(へ)14)3B、hα6を含む塩化ナ
トリワム水溶液を同時に10分間で添加し、その間の電
位に200mVにコントロールすることにより単分散で
平均粒子サイズ0.02μの塩化銀立方体粒子を調製し
た。常法により可溶性塩類を除去したのち、ゼラチンを
加えた。(未後熟乳剤) この乳剤に、41に示したように一般式CIII)のヒ
ドラジンおよびJ×10  ’モル1モルAgのl−1
で表わされるヒドラジン化合物を添加し次のち次の造核
促進剤■を30キ/W?、染料■30m9/n?、/−
フェニル−j−メルカプト子トラゾールを10〜/rr
l ■ ポリエチルアクリレートラテックスを固形分で対ゼラチ
ン3Qwt%箔加し、硬膜剤として/、3−ジビニル−
スルホニル−2−プロパノールヲ加え、ポリエステル支
持体上に3497−の@量になるように塗布した。ゼラ
チンは/、gl!/dであった。
(Example λ) After 30 minutes of irradiation under
/θ-4 moles of (to) 14) A sodium chloride aqueous solution containing 3B and hα6 was simultaneously added for 10 minutes, and the potential during that time was controlled at 200 mV to form monodisperse silver chloride cubes with an average particle size of 0.02μ. Particles were prepared. After removing soluble salts by a conventional method, gelatin was added. (Unripened emulsion) This emulsion contains hydrazine of the general formula CIII) and J x 10' mol of 1 mol of Ag as shown in 41.
A hydrazine compound represented by is added, and then the following nucleation accelerator ■ is added at 30 kg/W? , Dye■30m9/n? ,/-
Phenyl-j-mercaptotrazole 10~/rr
l ■ Polyethyl acrylate latex was added to gelatin in a solid content of 3Qwt% as a hardener, and 3-divinyl-
Sulfonyl-2-propanol was added and coated onto a polyester support in an amount of 3497. Gelatin is /, GL! /d.

この上に保睦層として、ゼラチン/、3jl/rr?、
粒径3.θμのポリメチルメタクリレートj OJlj
l/ゴ、チオクトl[■/rr?、塗布剤としてドデシ
ルベンスルホン酸ナトリウムおよび本発明の一般式(1
)で表わされる化合物を表3のように加えた層を同時に
塗布し試料6〜9全作製した。
On top of this is gelatin/, 3jl/rr? as a retention layer. ,
Particle size 3. θμ polymethyl methacrylate j OJlj
l/go, tiocto l[■/rr? , sodium dodecylbensulfonate as a coating agent and the general formula (1
) All samples 6 to 9 were prepared by simultaneously applying a layer in which the compound represented by the formula was added as shown in Table 3.

このようにして得られた試料を実施例/と同様の方法で
g元、現像を行なった。結果を第表3に示す。
The sample thus obtained was developed in the same manner as in Example. The results are shown in Table 3.

第3表より明らかなように本発明の構成(テスト/16
≠、7)は抜き文字画質、セーフライト性が良好である
As is clear from Table 3, the configuration of the present invention (Test/16
≠, 7) has good cutout character image quality and safelight property.

(実施例3) 実施例コで用いた乳剤および同様の重加剤さらに本発明
の化合物(1)−/金箔加しく3×l0−3モル1モル
kg )フィルム上に銀量3 、 A P/rr?にな
る如く塗布した。
(Example 3) The emulsion used in Example C and a similar weighting agent, as well as the compound (1) of the present invention/gold foil, preferably 3 x 10-3 mol 1 mol kg) Amount of silver 3, AP /rr? I applied it as desired.

この乳剤層の上にゼラチン、界面活性剤A、 Bおよび
媒染剤Cおよび染料化合物りを水に添加し、保鏝層とし
て第≠表に示す染料の童になるように塗布し試料10〜
/イを作製した。このときゼラチン塗布量と媒染剤塗布
tは各々/、(N!/lri″であった。この媒染剤を
用いた試料と実施例λで作成した試料7、ざを実施例−
と同様にして露光後、現像液Bで現像処理した結果を第
弘表に示す。第4!表より明らかなように比較試料は本
発明の試料に較べ抜き文字画が、不充分であり07元透
過性が劣る。
On top of this emulsion layer, gelatin, surfactants A and B, mordant C, and a dye compound were added to water and applied as a protective layer so that the dyes shown in Table 1 were coated.
/I was created. At this time, the amount of gelatin applied and the mordant applied t were respectively /, (N!/lri'').The sample using this mordant and sample 7 prepared in Example λ were compared to Example -
After exposure in the same manner as above, the film was developed with developer B, and the results are shown in Table 1. Fourth! As is clear from the table, compared to the samples of the present invention, the comparative samples have insufficient character strokes and inferior 07 transparency.

界面活性剤A 界面活性剤B 媒染剤C 比較染料D 手続補正書Surfactant A Surfactant B Mordant C Comparative dye D Procedural amendment

Claims (1)

【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有し
、該乳剤層又はその他の親水性コロイド層にヒドラジン
誘導体を含有するハロゲン化銀写真感光材料を画像露光
した後、現像液を用いて現像処理する画像形成方法に於
て、該乳剤層又は親水性コロイド層に下記一般式〔 I
〕で表わされる化合物を含有し、かつ該現像液が下記条
件(a)、(b)(c)及び(d)を満すことを特徴と
する画像形成方法。 一般式〔 I 〕 PWR■Time■_tLA 式中PWRは還元されることによつて (Time■_tLAを放出する基を表わす。 TimeはPWRから(Time■_tLAとして放出
されたのちに後続する反応を介してLAを放出する基を
表わす。 tは0または1の整数を表わす。 LAは光の吸収極大を310nm以上に有する条件: (a)実質的にジヒドロキシベンゼンのみを現像主薬と
すること。 (b)遊離の亜硫酸塩濃度が、少なくとも0.18モル
/l以上であること。 (c)pHが11.0以上であること。 (d)一般式(II)で表わされる化合物を少なくとも2
0mg/l以上含んでいること。 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中X_1は水素原子またはニトロ基を表わす。 X_2、X_3は、各々水素原子または炭素数1〜4の
アルキル基を表わす。
[Scope of Claims] After imagewise exposure of a silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support and containing a hydrazine derivative in the emulsion layer or other hydrophilic colloid layer In an image forming method using a developing solution, the emulsion layer or hydrophilic colloid layer is formed by the following general formula [I
1. An image forming method comprising a compound represented by the following formula, and wherein the developing solution satisfies the following conditions (a), (b), (c) and (d). General formula [I] PWR■Time■_tLA In the formula, PWR represents a group that releases (Time■_tLA) upon reduction. Time represents a group that releases (Time■_tLA) from PWR and then initiates the subsequent reaction. t represents an integer of 0 or 1. Conditions in which LA has a light absorption maximum at 310 nm or more: (a) Substantially only dihydroxybenzene is used as a developing agent. ( b) The free sulfite concentration is at least 0.18 mol/l. (c) The pH is 11.0 or more. (d) The compound represented by formula (II) is at least 2 mol/l.
Contains 0mg/l or more. General formula (II) ▲There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ In the formula, X_1 represents a hydrogen atom or a nitro group. X_2 and X_3 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
JP32070187A 1987-09-01 1987-12-18 Image forming method Pending JPH01161340A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32070187A JPH01161340A (en) 1987-12-18 1987-12-18 Image forming method
US07/238,796 US4956263A (en) 1987-09-01 1988-08-31 Silver halide photographic material containing a compound capable of releasing a dye
EP88114267A EP0306833B1 (en) 1987-09-01 1988-09-01 Silver halide photographic material
DE3887042T DE3887042T2 (en) 1987-09-01 1988-09-01 Silver halide photographic material.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32070187A JPH01161340A (en) 1987-12-18 1987-12-18 Image forming method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01161340A true JPH01161340A (en) 1989-06-26

Family

ID=18124372

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32070187A Pending JPH01161340A (en) 1987-09-01 1987-12-18 Image forming method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01161340A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6364039A (en) Extra high contrast negative type silver halide photographic sensitive material
JPS61170733A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH0224643A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH01283549A (en) Silver halide photographic sensitive material
JP2709647B2 (en) Image forming method
JPS62160438A (en) Silver halide photographic sensitive material
US4956263A (en) Silver halide photographic material containing a compound capable of releasing a dye
JPH01161340A (en) Image forming method
JP2627195B2 (en) Silver halide photographic material
JPH06102608A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH02839A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH0311335A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH01155344A (en) Image forming method
JP2764352B2 (en) Silver halide photographic material
JPH01179940A (en) Method for forming ultrahigh contrast negative image
JP2890274B2 (en) High-contrast silver halide photosensitive material for bright rooms
JP2794227B2 (en) High contrast silver halide photosensitive material
JPH01183649A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH0337642A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH01187542A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPS6268867A (en) Hardening of gelatin
JPH09160176A (en) Silver halide photographic sensitive material and its processing method
JPH07117704B2 (en) Silver halide photographic light-sensitive material
JPH01262533A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPS63158538A (en) Negative silver halide photographic sensitive material