JPH01154797A - Electrolytic graining treatment of aluminum base for planography - Google Patents

Electrolytic graining treatment of aluminum base for planography

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JPH01154797A
JPH01154797A JP31340587A JP31340587A JPH01154797A JP H01154797 A JPH01154797 A JP H01154797A JP 31340587 A JP31340587 A JP 31340587A JP 31340587 A JP31340587 A JP 31340587A JP H01154797 A JPH01154797 A JP H01154797A
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JP
Japan
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time
anode
waveform
current
cathode
Prior art date
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Pending
Application number
JP31340587A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Haruo Nakanishi
治雄 中西
Hirokazu Sakaki
榊 博和
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To efficiently provide an aluminum alloy plate, for use as a base, with a uniform and dense pit shape, by using an alternating waveform current the polarity of which is alternately changed so that the waveform current value at the time of an anode instantaneously increases from zero to a peak current and then gradually decreases. CONSTITUTION:A cleaned aluminum plate is subjected to an electrolytic graining treatment. The waveform of an electrolyzing current used in the treatment must be an alternating waveform current the polarity of which is alternately changed and in which the waveform current value at the time of an anode instantaneously increases from zero to a peak value and then gradually decreases, whereas the waveform on the cathode side may have any shape. For obtaining a uniform pit diameter and a uniform pit distribution, it is necessary that the quantity of electricity at the time of the cathode be equal to or smaller than the quantity of electricity at the time of the anode. The gradual decrease means a decrease over a period of time longer than the rise time, the period being at least 1.5-100 times the rise time. The ratio of anode time to cathode time may vary in the range of 0.4-2.5.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は平版印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化
処理方法に関し、特に、一定の交番波形電流を用いて電
解粗面化処理して、均一かつ緻密にピットが存在する砂
目を有する平版印刷版用アルミニウム支持体を得る電解
粗面化処理方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for electrolytically roughening an aluminum support for a lithographic printing plate, and in particular, to a method for electrolytically roughening an aluminum support for a lithographic printing plate, and in particular to a method for electrolytically roughening an aluminum support for a lithographic printing plate. , relates to an electrolytic surface roughening treatment method for obtaining an aluminum support for a lithographic printing plate having a grain in which pits are uniformly and densely present.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、平版印刷版用支持体としてアルミニウム板が広く
使用されており、この支持体と感光層との密着性を良好
にし、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表
面を粗面化処理する、所謂、砂目立て処理がなされてい
る。
Conventionally, aluminum plates have been widely used as supports for lithographic printing plates.In order to improve the adhesion between the support and the photosensitive layer and to provide water retention to non-image areas, the surface of the support has been roughened. The so-called graining process is carried out.

この砂目立ての具体的手段としては、サンドブラスト、
ボールダレイン、ワイヤーグレイン、ナイロンブラシと
研暦材/水スラリーによるブラシグレイン、研暦材/水
スラリーを表面に高圧で吹きつける方法などによる機械
的砂目立て方法があり、またアルカリまたは酸あるいは
それらの混合物からなるエツチング剤で表面を粗面化処
理する化学的砂目立て方法がある。また、特開昭54−
146234号公報及び特公昭48−28123号公報
に記載されている電気化学的砂目立て方法、例えば特開
昭53−123204号公報に記載されている機械的砂
目立て方法と電気化学的砂目立て方法とを組合せた方法
、特開昭5’6−55291号公報に記載されている機
械的砂目立て方法と鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液
による化学的砂目立て方法とを組合せた方法も知られて
いる。
Specific methods for this graining include sandblasting,
Mechanical graining methods include boulder grain, wire grain, brush grain using a nylon brush and sanding material/water slurry, and mechanical graining methods such as spraying sanding material/water slurry onto the surface under high pressure. There is a chemical graining method in which the surface is roughened using an etching agent consisting of a mixture of. Also, Unexamined Japanese Patent Publication No. 54-
The electrochemical graining method described in JP-A No. 146234 and Japanese Patent Publication No. 48-28123, for example, the mechanical graining method and the electrochemical graining method described in JP-A-53-123204. Also known is a method that combines the mechanical graining method described in JP-A-5-6-55291 and the chemical graining method using a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid. .

以上のような種々の粗面化処理方法の内、形状をコント
ロールしやすい方法として、交流を用いた電解粗面化処
理が挙げられる。また、交流の電源波形についても関連
する先行技術があり、例えば特公昭55−19191号
公報、特公昭56−19280号公報に記載されている
陽極特電圧が陰極特電圧より大なる交流を用いる方法、
特公昭57−22036号公報に記載されている正弦波
交流をサイリスターで位相制御した波形を用いる方法、
特開昭58−157997号公報に記載されている3相
交流を用いる方法、特開昭58−207374号公報に
記載されている周波数の異なる交流を重ね合わせた交流
を用いる方法、特開昭58−207400号公報に記載
されている0、3〜15Hzの範囲の周波数の交流を用
いる方法、などが知られている。
Among the various surface roughening treatment methods described above, electrolytic surface roughening treatment using alternating current can be cited as a method that allows easy control of the shape. Furthermore, there is related prior art regarding AC power supply waveforms; for example, methods using AC in which the anode special voltage is larger than the cathode special voltage are described in Japanese Patent Publications No. 55-19191 and Japanese Patent Publication No. 56-19280. ,
A method using a waveform in which the phase of a sinusoidal alternating current is controlled by a thyristor, which is described in Japanese Patent Publication No. 57-22036,
A method using three-phase alternating current described in JP-A No. 58-157997, a method using an alternating current obtained by superimposing alternating currents with different frequencies as described in JP-A-58-207374, and JP-A-58-1989. A method using alternating current with a frequency in the range of 0, 3 to 15 Hz, which is described in Japanese Patent No. 207400, is known.

特に7、印刷版の分野ではないが、特公昭62−210
79号公報に記載されている電流が急速にゼロから最大
まで上昇し、次いで最大の1/3〜1/2である中間値
まで急速に低下し、その後緩徐にゼロまで低下する交流
を用いる方法、米国特許第3193485号明細書に記
載されている正動作より著しく小さい振幅を有する短い
負動作部により分離された正動作部を有する波形を用い
る方法、米国特許第3616343号、米国特許第36
16346号、米国特許第3654116号明細書に記
載されている急勾配波パルスと、この間隔の際反対極性
のパルスをかける方法、米国特許第3294666号明
細書に記載されている交番間にゼロ部を持った波形を用
いる方法などが知られている。
Particularly 7, although it is not in the field of printing plates,
A method using alternating current described in Publication No. 79 in which the current rapidly increases from zero to the maximum, then rapidly decreases to an intermediate value that is 1/3 to 1/2 of the maximum, and then slowly decreases to zero. , U.S. Pat. No. 3,193,485, U.S. Pat. No. 3,616,343, U.S. Pat.
No. 16346, a method of applying pulses of opposite polarity during this interval as described in U.S. Pat. A method using a waveform having .

本発明者らは、平版印刷版に適した、均一かつ緻密なピ
ットを有する表面を得るための電源波形を種々検討した
が、比較的低い純度のアルミニウム合金では従来の技術
を用いても均一なピット形状を得ることができなかった
The present inventors have investigated various power waveforms to obtain a surface with uniform and dense pits suitable for lithographic printing plates. It was not possible to obtain a pit shape.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

従って、本発明の目的は支持体用のアルミニウム合金板
に均一かつ緻密なピット形状を効率よく形成させること
にある。
Therefore, an object of the present invention is to efficiently form a uniform and dense pit shape on an aluminum alloy plate for a support.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明者等は、上記目的を達成するために種々検討を重
ねた結果、アルミニウム板の表面を電解液中で粗面化す
るに際して、陽極時の波形電流値がゼロから瞬時にピー
ク電流に達し、しかる後電流値が漸減するような、交互
に極性の変化する交番波形電流を用いることにより上記
目的が達成されることを見出し、本発明に到ったもので
ある。
As a result of various studies to achieve the above object, the present inventors found that when roughening the surface of an aluminum plate in an electrolyte, the waveform current value at the anode instantaneously reaches a peak current from zero from zero. The inventors have discovered that the above object can be achieved by using an alternating waveform current whose polarity changes alternately such that the current value gradually decreases after a certain period of time, and has arrived at the present invention.

即ち、本発明は、アルミニウム板を交互に極性の変化す
る交番波形電流を用いて電解液中で電解粗面化する平版
印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化処理方法にお
いて、陽極時の前記交番波形電流値がゼロから瞬時にピ
ーク電流値に達し、しかる後電流値が漸減する交番波形
電流を用いるように構成したものである。
That is, the present invention provides a method for electrolytically roughening an aluminum support for a lithographic printing plate, in which an aluminum plate is electrolytically roughened in an electrolytic solution using an alternating waveform current whose polarity changes alternately. It is configured to use an alternating waveform current in which the alternating waveform current value instantaneously reaches a peak current value from zero, and then the current value gradually decreases.

以下、本発明について詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below.

本発明において平版印刷版用アルミニウム支持体に使用
されるアルミニウム板には、アルミニウム板及びアルミ
ニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種
々のものが使用でき、例えばFe5SiSCu、 Mn
、 Mg、 Cr5ZnSTi、PbSNiなどの金属
とアルミニウムとの合金が挙げられる。例えば、市販の
アルミニウム板としては、1050材、1100材、3
003材等々のアルミニウム板が用いられる。特に好ま
しいアルミニウム合金は、3003.1100材のよう
な低純度AI及びA1合金である。
The aluminum plate used as the aluminum support for a lithographic printing plate in the present invention includes an aluminum plate and an aluminum alloy plate. Various aluminum alloys can be used, such as Fe5SiSCu, Mn
, Mg, Cr5ZnSTi, PbSNi, and other metal alloys with aluminum. For example, commercially available aluminum plates include 1050 material, 1100 material, 3
An aluminum plate such as 003 material is used. Particularly preferred aluminum alloys are low purity AI and A1 alloys such as 3003.1100 material.

本発明の電解粗面化処理に当っては、その処理前にアル
ミニウム板の表面に付着している油脂、さび、ごみなど
を除去することを目的として清浄化処理することが好ま
しい。この清浄化処理としては、例えばトリクレンなど
による溶剤脱脂、或いは苛性ソーダなどによるアルカリ
エツチング脱脂等が含まれる。苛性ソーダのようなアル
カリエツチング脱脂をした場合にはスマットが発生する
ので、これを除去するためのデスマット処理(例えば1
0〜30%の硝酸に浸漬する処理)が更に施されるのが
通例である。
In the electrolytic surface roughening treatment of the present invention, it is preferable to perform a cleaning treatment for the purpose of removing fats and oils, rust, dust, etc. adhering to the surface of the aluminum plate before the treatment. This cleaning treatment includes, for example, solvent degreasing using trichlene or the like, or alkaline etching degreasing using caustic soda or the like. When degreasing with alkaline etching such as caustic soda, smut is generated, so desmut treatment (for example, 1
It is customary to further perform a treatment of immersion in 0 to 30% nitric acid.

そして、このように清浄化処理されたアルミニウム板に
は電解粗面化処理が施される。この電解粗面化処理に用
いる電解電圧波形は陽極特電圧がl m5ec以下の時
間でピーク電圧に到達し、その後直ちに時間とともに電
圧が減少することが不可欠であり、その限りで電圧波形
はいかなる形でも良い。但し、電圧ゼロとなる時間は事
実上必要ない。
The aluminum plate thus cleaned is then subjected to electrolytic surface roughening treatment. It is essential that the electrolytic voltage waveform used in this electrolytic surface roughening treatment reaches its peak voltage in a time when the anode special voltage is less than 1 m5ec, and then the voltage immediately decreases with time. But it's okay. However, the time for the voltage to become zero is virtually unnecessary.

本発明で用いる電解電流波形は、交互に極性の変化する
交番波形電流であって、陽極時の波形電流値がゼロから
瞬時にピーク電流に達し、その後電流値が漸減するよう
な波形であることが不可欠であり、この限りで陰極側の
波形はいかなる形でも良い。いかしながら、アルミニウ
ム板に印加される電気量については陽極時電気量よりも
陰極時電気量が大となると、電解処理中に表面に生じる
反応残渣(スマット)が多くなり、均一なピットの生成
の障害となり、ピット径の不揃いな不均一ピットとなり
易くなる。また、陰極時電気量がゼロではピットが均一
に分布しにくくなり、印刷版に適するような微細な粗面
が得られない。従って、ピット径が揃って、均一に分布
するには陰極時電気量は陽極時電気量と同じか又はそれ
より小さいことが必要である。
The electrolytic current waveform used in the present invention is an alternating waveform current whose polarity changes alternately, and the waveform current value at the anode instantaneously reaches a peak current from zero, and then the current value gradually decreases. is essential, and as long as this is the case, the waveform on the cathode side can be of any shape. However, if the amount of electricity applied to the aluminum plate is larger at the cathode than at the anode, more reaction residues (smut) will be generated on the surface during electrolytic treatment, making it difficult to form uniform pits. This becomes a hindrance, and tends to result in uneven pits with irregular pit diameters. Further, if the amount of electricity at the cathode is zero, it becomes difficult to uniformly distribute the pits, and a fine rough surface suitable for a printing plate cannot be obtained. Therefore, in order to have uniform pit diameters and uniform distribution, the amount of electricity at the cathode needs to be the same as or smaller than the amount of electricity at the anode.

陽極特電流が瞬時にピーク電流に達しない第1図ら)に
示したような波形や、ピーク電流に達したのち漸減しな
い第1図(C) (d)のような波形では純度の低いア
ルミニウム板の場合直径10μ以上の荒いピットを生じ
るとともに未エッチの部分が増加し易くなり、不均一表
面となり易くなる。電流が電圧波形は瞬時にピーク電圧
まで上げることが可能であるが、電流波形は、電解槽等
の負荷により、波形の歪が発生する。従って、電流波形
のピーク電流までの立上り時間は、0秒が最も好ましい
が、いくらかの歪を有していても構わない。好ましい立
上り時間はl m5ec以下である。
The waveforms shown in Figure 1, etc., where the anode special current does not reach the peak current instantaneously, or the waveforms shown in Figures 1 (C) and (d), where the current does not gradually decrease after reaching the peak current, indicate that the aluminum plate is of low purity. In this case, rough pits with a diameter of 10 μm or more are generated, and the unetched portion tends to increase, resulting in an uneven surface. Although the current and voltage waveform can be instantly raised to the peak voltage, the current waveform is distorted by the load of the electrolytic cell and the like. Therefore, the rise time of the current waveform to the peak current is most preferably 0 seconds, but it may have some distortion. The preferred rise time is 1 m5ec or less.

ここでいう漸減とは、立上り時間よりも長い時間かけて
減少することをいい、少くとも立上り時間の1.5倍〜
100倍の時間をかけて減少することをいう。減少速度
は、一定であることが好ましいが、段階的に減少しても
よい。
Gradual decrease here refers to a decrease over a period of time longer than the rise time, at least 1.5 times the rise time.
This means that it takes 100 times more time to decrease. The rate of decrease is preferably constant, but may be decreased stepwise.

また、陽極時間と陰極時間の比は、0.4〜2.5まで
変化してもかまわない。
Further, the ratio of anode time to cathode time may vary from 0.4 to 2.5.

また上記交番波形は電流密度が10〜200A/dm”
の範囲が好ましく、10 A/dm2より低い場合には
ピット生成が著しく生じ難くなり、200A/dm’以
上では均一なピット生成のコントロールが困難になって
くる。周波数は5〜250Hzの範囲が好ましく5七よ
り低い場合には、緻密なピット形成が起り難くなり、2
50Hzより高い場合には直径10μ以上の荒いピット
が生じ易くなる。好ましくは5〜200Hzより好まし
くは10〜120七である。
In addition, the above alternating waveform has a current density of 10 to 200 A/dm"
A range of 10 A/dm' or more is preferable; if it is lower than 10 A/dm2, pit formation is extremely difficult to occur, and if it is 200 A/dm' or more, it becomes difficult to control uniform pit formation. The frequency is preferably in the range of 5 to 250 Hz, and if it is lower than 57, dense pit formation becomes difficult to occur.
If the frequency is higher than 50 Hz, rough pits with a diameter of 10 μm or more are likely to occur. Preferably it is 5 to 200 Hz, more preferably 10 to 120 Hz.

本発明で使用する電解液としては、通常の交流電解エツ
チングに用いられるものがいずれも使用できるが、特に
好ましいものは硝酸を2〜40g/l含有する水溶液又
は塩酸を2〜40g/I!含有する溶液、あるいは両者
を合わせて2〜40gZIlずつ含有する水溶液である
。2g/j!より濃度が低くなるにつれて電解エツチン
グによるアルミニウム板の表面の粗面化の効率が低下す
るようになり、他方、40g/lより高濃度となるにつ
れて、酸による純化学的な蝕刻が発生するようになって
粗面化の表面の不均一化が生じるようになる。温度は常
温〜70℃の範囲であり、好ましくは常温〜50℃の範
囲で実施される。また、カルボン酸、アミン、アルデヒ
ドなどの腐蝕抑制剤を電解液に含有させてもよい。
As the electrolytic solution used in the present invention, any one used in ordinary AC electrolytic etching can be used, but particularly preferred are an aqueous solution containing 2 to 40 g/l of nitric acid or an aqueous solution containing 2 to 40 g/l of hydrochloric acid! or an aqueous solution containing 2 to 40 g of ZIl in total. 2g/j! As the concentration becomes lower, the efficiency of roughening the surface of the aluminum plate by electrolytic etching decreases, and on the other hand, as the concentration becomes higher than 40 g/l, purely chemical etching by the acid occurs. As a result, the roughened surface becomes uneven. The temperature ranges from room temperature to 70°C, preferably from room temperature to 50°C. Further, a corrosion inhibitor such as a carboxylic acid, an amine, or an aldehyde may be included in the electrolyte.

本発明法による交流電解粗面化処理は、バッチ処理、連
続処理いずれでも実施することができる。
The alternating current electrolytic surface roughening treatment according to the method of the present invention can be carried out by either batch treatment or continuous treatment.

例えば、連続処理ではアルミニウム板を電解槽中に連続
的に通過させ、電解槽中に配置した対極との間で電解を
行なうことにより実施する。
For example, continuous processing is carried out by continuously passing an aluminum plate through an electrolytic cell and performing electrolysis between it and a counter electrode placed in the electrolytic cell.

以上のように電解粗面化処理されたアルミニウム板は次
いで化学的に清浄化処理を行なうことが好ましい。これ
は表面残存物である所謂、スマットを表面から除去する
作用を有するものである。
It is preferable that the aluminum plate subjected to the electrolytic surface roughening treatment as described above is then subjected to a chemical cleaning treatment. This has the effect of removing so-called smut, which is a surface residue, from the surface.

かかる化学的処理の詳細は、米国特許第3.834.9
98号明細書及び特開昭53−12739号公報に記載
されている。
Details of such chemical treatments are provided in U.S. Patent No. 3.834.9.
It is described in the specification of No. 98 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 12739/1983.

このように処理されたアルミニウム板は平版印刷版用支
持体に供するに当り、保水性、感光層との密着性、非画
像部表面の機械的強度を向上させるために陽極酸化処理
して、アルミニウム板の表面に酸化皮膜を形成させても
よい。陽極酸化処理は従来より周知の方法に従って行な
うことができる。例えば、硫酸、燐酸、蓚酸、アミドス
ルホン酸、スルホンサリチル酸又はこれらの混合物、あ
るいはこれらに/l’+イオンを含有する水溶液などを
電解液とし、直流が主に使用され陽極酸化処理されるが
、交流又はこれらの電流の組合せを使用することもでき
る。電解質濃度は1〜80%、温度は5〜70℃、電流
密度0.5〜60 A/dm2、酸化皮膜重量は0.3
〜5 g / m’が好ましい。
When the aluminum plate thus treated is used as a support for a lithographic printing plate, it is anodized to improve water retention, adhesion with the photosensitive layer, and mechanical strength of the surface of the non-image area. An oxide film may be formed on the surface of the plate. The anodic oxidation treatment can be performed according to conventionally known methods. For example, the electrolyte is sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, amidosulfonic acid, sulfonesalicylic acid, or a mixture thereof, or an aqueous solution containing /l'+ ions, and direct current is mainly used for anodizing. It is also possible to use alternating current or a combination of these currents. Electrolyte concentration is 1-80%, temperature is 5-70℃, current density is 0.5-60 A/dm2, oxide film weight is 0.3
~5 g/m' is preferred.

以上のように陽極酸化されたアルミニウム板は、更に米
国特許第2.714.066号及び米国特許第3、18
1.461号の各明細書に記載されているようにアルカ
リ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウムの水溶液に浸
漬するなどの方法により処理したり、米国特許第3.8
60.426号明細書に記載されているように、水溶性
金属塩(例えば、酢酸亜鉛など)を含む親水性セルロー
ス(例えば、カルボキシメチルセルロースなど)の下塗
り層を設けたり、米国特許第4.153.461号明細
書に記載されているようにポリビニルホスホン酸で処理
してもよい。
The aluminum plate anodized as described above is further used in U.S. Pat. No. 2.714.066 and U.S. Pat.
No. 1.461, by immersion in an aqueous solution of an alkali metal silicate, such as sodium silicate, or as described in U.S. Pat.
As described in US Pat. It may also be treated with polyvinylphosphonic acid as described in .461.

このようにして得られた平版印刷版用支持体の上には、
28版(Pre−Sensitized Plateの
略称)の感光層として、従来より知られている感光層を
設けて、感光性平版印刷版を得ることができ、これを製
版処理して得た平版印刷版は、優れた性能を有している
On the lithographic printing plate support obtained in this way,
A photosensitive lithographic printing plate can be obtained by providing a conventionally known photosensitive layer as the photosensitive layer of the 28th plate (abbreviation of Pre-Sensitized Plate), and the lithographic printing plate obtained by plate-making processing is , has excellent performance.

上記の感光層の組成物としては次のようなものが含まれ
る。
The composition of the above-mentioned photosensitive layer includes the following.

■ジアゾ樹脂とバインダーとからなる感光層:ネガ作用
型感光性ジアゾ化合物としては米国特許第2.063.
631号及び同第2.667、415号の各明細書に開
示されているジアゾニウム塩とアルドールやアセクール
のような反応性カルボニル基を含有する有機縮合剤との
反応生成物であるジフェニルアミン−p−ジアゾニウム
塩とフォルムアルデヒドとの縮合生成物(所謂、感光性
ジアゾ樹脂)が好適に用いられる。この他の有用な縮合
ジアゾ化合物は特公昭49−48001号、同49−4
5322号、同49−45323号の各公報等に開示さ
れている。これらの型の感光性ジアゾ化合物は通常水溶
性無機塩の形で得られ、従って水溶液から塗布すること
ができる。
■Photosensitive layer consisting of diazo resin and binder: As a negative-working photosensitive diazo compound, US Pat. No. 2.063.
Diphenylamine-p-, which is a reaction product of a diazonium salt disclosed in No. 631, No. 2.667, and No. 415 and an organic condensing agent containing a reactive carbonyl group such as aldol or acequyl; A condensation product of a diazonium salt and formaldehyde (so-called photosensitive diazo resin) is preferably used. Other useful condensed diazo compounds are Japanese Patent Publication Nos. 49-48001 and 49-4.
It is disclosed in each publication such as No. 5322 and No. 49-45323. These types of photosensitive diazo compounds are usually obtained in the form of water-soluble inorganic salts and can therefore be coated from aqueous solution.

又、これらの水溶性ジアゾ化合物を特公昭47−116
7号公報に開示された方法により1個又はそれ以上のフ
ェノール性水酸基、スルホン酸基又はその両者を有する
芳香族又は脂肪族化合物と反応させ、その反応生成物で
ある実質的に水不溶性の感光性ジアゾ樹脂を使用するこ
ともできる。
In addition, these water-soluble diazo compounds were
A substantially water-insoluble photosensitive product obtained by reacting with an aromatic or aliphatic compound having one or more phenolic hydroxyl groups, sulfonic acid groups, or both by the method disclosed in Publication No. 7 Polymeric diazo resins can also be used.

また、特開昭56−121031号公報に記載されてい
るようにヘキサフルオロ燐酸塩または、テトラフルオロ
硼酸塩との反応生成物として使用することもできる。
It can also be used as a reaction product with hexafluorophosphate or tetrafluoroborate as described in JP-A-56-121031.

フェノール性水酸基を有する反応物の例としては、ヒド
ロキシベンゾフェノン、4.4−ビス(4’−ヒドロキ
シフェニル)ペンタン酸、レゾルシノール、又はジレゾ
ルシノールのようなジフェノール酸であって、これらは
更に置換基を有していてもよい。ヒドロキシベンゾフェ
ノンには2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2.2′−ジ
ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン又は
2.2’、4.4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン
が含まれる。好ましいスルホン酸としては、例えばベン
ゼン、トルエン、キシレン、ナフタリン、フェノール、
ナフトールおよびベンゾフェノン等のスルホン酸のよう
な芳香族スルホン酸、又はそれ等の可溶性塩類、例えば
、アンモニウム及びアルカリ金属塩が例示できる。スル
ホン酸基含有化合物は、一般に低級アルキル、ニトロ基
、ハロ基、及び/又はもう一つのスルホン酸基で置換さ
れていてもよい。このような化合物の好ましいものとし
ては、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフ
タリンスルホン酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ナフタリン−2−
スルホン酸、1−ナフトール−2(又は4)−スルホン
酸、2.4−ジニトロ−1−ナフトール−7−スルホン
酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5
−スルホン酸、m  (p ’−アニリノフェニルアゾ
)ベンゼンスルホン酸ナトリウム、アリザリンスルホン
酸、o−トルイジン−m−スルホン酸及びエタンスルホ
ン酸等があケラレル。アルコールのスルホン酸エステル
とその塩類も又有用である。このような化合物は通常ア
ニオン性界面活性剤として容易に入手できる。その例と
してはラウリルサルフェート、アルキルアリールサルフ
ェート、p−ノニルフェニルサルフェート、2−フェニ
ルエチルサルフェート、イソオクチルフェノキシジェト
キシエチルサルフェート等のアンモニウム又はアルカリ
金属があげられる。
Examples of reactants with phenolic hydroxyl groups include diphenolic acids such as hydroxybenzophenone, 4,4-bis(4'-hydroxyphenyl)pentanoic acid, resorcinol, or diresorcinol, which may further contain substituents. It may have. Hydroxybenzophenone includes 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone or 2,2',4,4'-tetrahydroxybenzophenone. It will be done. Preferred sulfonic acids include benzene, toluene, xylene, naphthalene, phenol,
Examples include aromatic sulfonic acids such as sulfonic acids such as naphthol and benzophenone, or soluble salts thereof, such as ammonium and alkali metal salts. Sulfonic acid group-containing compounds may generally be substituted with lower alkyl, nitro groups, halo groups, and/or another sulfonic acid group. Preferred examples of such compounds include benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, sodium benzenesulfonate, naphthalene-2-
Sulfonic acid, 1-naphthol-2 (or 4)-sulfonic acid, 2,4-dinitro-1-naphthol-7-sulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5
-sulfonic acid, sodium m (p'-anilinophenylazo)benzenesulfonate, alizarin sulfonic acid, o-toluidine-m-sulfonic acid and ethanesulfonic acid. Sulfonic esters of alcohols and their salts are also useful. Such compounds are usually readily available as anionic surfactants. Examples include ammonium or alkali metals such as lauryl sulfate, alkylaryl sulfate, p-nonylphenyl sulfate, 2-phenylethyl sulfate, isooctylphenoxyjethoxyethyl sulfate.

こ、れ等の実質的に水不溶性の感光性ジアゾ樹脂は水溶
性の感光性ジアゾ樹脂と前記の芳香族又は脂肪族化合物
の水溶液を好ましくはほぼ等量となる量で混合すること
によって沈澱として単離される。
These substantially water-insoluble photosensitive diazo resins can be precipitated by mixing a water-soluble photosensitive diazo resin and an aqueous solution of the aromatic or aliphatic compound, preferably in approximately equal amounts. isolated.

また、英国特許第1.312.925号明細書に記載さ
れているジアゾ樹脂も好ましい。
Also preferred are the diazo resins described in GB 1.312.925.

最も好適なジアゾ樹脂はp−ジアゾジフェニルアミンと
ホルムアルデヒドとの縮合物の2−メトキシ−4−ヒド
ロオキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩である
The most preferred diazo resin is 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzene sulfonate, a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde.

ジアゾ樹脂の含有量は、感光層中に5〜50重量%含ま
れているのが適当である。ジアゾ樹脂の量が少なくなれ
ば感光性は当然大になるが、経時安定性が低下する。最
適のジアゾ樹脂の量は約8〜20重量%である。
The appropriate content of the diazo resin in the photosensitive layer is 5 to 50% by weight. As the amount of diazo resin decreases, photosensitivity naturally increases, but stability over time decreases. The optimum amount of diazo resin is about 8-20% by weight.

、  一方、バインダーとルでは11種々の高分子化合
物が使用され得るが、本発明においては、ヒドロキシ、
アミノ、カルボン酸、アミド、スルホンアミド、活性メ
チレン、チオアルコール、エポキシ等の基を含むものが
望ましい。このような好ましいバインダーには、英国特
許第1、350.521号明細書に記されているシェラ
ツク、英国特許第1.460.978号および米国特許
第4、123.276号の各明細書に記されているよう
なヒドロキシエチルアクリレート単位またはヒドロキシ
エチルメタクリレート単位を主なる繰り返し単位として
含むポリマー、米国特許第3、751.257号明細書
に記されているポリアミド樹脂、英国特許第1.074
.392号明細書に記されているフェノール樹脂および
例えばポリビニルフォルマール樹脂、ポリビニルブチラ
ール樹脂のようなポリビニルアセクール樹脂、米国特許
第3.660.097号明細書に記されている線状ポリ
ウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタμ−−)化
1tt脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから
縮合されたエポキシ樹脂、ポリアミノスチレンやポリア
ルミルアミノ(メタ)アクリレートのようなアミノ基を
含むポリマー、酢酸セルロース、セルロースアルキルエ
ーテル、セルロースアセテートフタレート等のセル0−
ス誘導体等が包含される。
On the other hand, 11 different polymer compounds can be used as binders, but in the present invention, hydroxy,
Those containing groups such as amino, carboxylic acid, amide, sulfonamide, active methylene, thioalcohol, and epoxy are desirable. Such preferred binders include shellac as described in British Patent No. 1,350.521; Polymers containing hydroxyethyl acrylate or hydroxyethyl methacrylate units as predominant repeating units as described, polyamide resins as described in U.S. Pat. No. 3,751.257, British Patent No. 1.074
.. 392 and polyvinyl acecool resins such as polyvinyl formal resins, polyvinyl butyral resins, linear polyurethane resins as described in U.S. Pat. No. 3,660,097, 1tt resin containing polyvinyl alcohol, epoxy resin condensed from bisphenol A and epichlorohydrin, polymers containing amino groups such as polyaminostyrene and polyalmylamino (meth)acrylate, cellulose acetate, cellulose alkyl ether, Cell 0- such as cellulose acetate phthalate
This includes gas derivatives and the like.

ジアゾ樹脂とバインダーからなる組成物には、更に、英
国特許第1.041.463号明細書に記されているよ
うなpH指示薬、米国特許第3.236.646号明細
書に記載されている燐酸、染料などの添加剤を加えるこ
とができる。
The composition of diazo resin and binder may further include a pH indicator as described in British Patent No. 1.041.463, a pH indicator as described in U.S. Pat. No. 3.236.646. Additives such as phosphoric acid and dyes can be added.

■0−キノンジアジド化合物からなる感光層:特に好ま
しい0−キノンジアジド化合物はO−ナフトキノンジア
ジド化合物であり、例えば米国特許第2.766、11
8号、同第2.767、092号、同第2.772.9
72号、同第2.859.112号、同第2、907.
665号、同第3.046.110号、同第3.046
.111号、同第3.046.115号、同第3.04
6.118号、同第3、046.119号、同第3.−
046.120号、同第3.046.121号、同第3
.046.122号、同第3.046.123号、同第
3、061.430号、同第3.102.809号、同
第3.106.465号、同第3.635.709号、
同第3.647.443号の各明細書をはじめ、多数の
刊行物に記されており、これらは好適に使用することが
できる。これらの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物
の0〜ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルまたは
0−ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル、および
芳香族アミノ化合物の0−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸アミドまたは0−ナフトキノンジアジドカルボン酸
アミドが好ましく、特に米国特許第3.635.709
号明細書に記されているピロガロールとア七トンとの縮
合物に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステル
反応させたもの、米国特許第4.021111号明細書
に記されている末端にヒドロキシ基を有するポリエステ
ルに0−ナフトキノンジアジドスルホン酸、または0−
ナフトキノンジアジドカルボン酸をエステル反応させた
もの、英国特許第1、494.043 号明細書に記さ
れているようなp−ヒドロキシスチレンのホモポリマー
またはこれと他の共重合し得るモノマーとの共重合体に
〇−ナフトキノンジアジドスルホン酸または〇−ナフト
キノンジアジドカルボン酸をエステル反応させたもの、
米国特許第3.759.711号明細書に記されている
ようなp−アミノスチレンと他の共重合しうるモノマー
との共重合体に。−ナフトキノンジアジドスルホン酸ま
たは0−ナフトキノンジアジドカルボン酸をアミド反応
させたものは非常にすぐれている。
(2) Photosensitive layer consisting of an 0-quinonediazide compound: A particularly preferred 0-quinonediazide compound is an O-naphthoquinonediazide compound, for example, U.S. Patent No. 2.766, 11
No. 8, No. 2.767, No. 092, No. 2.772.9
No. 72, No. 2.859.112, No. 2, 907.
No. 665, No. 3.046.110, No. 3.046
.. No. 111, No. 3.046.115, No. 3.04
No. 6.118, No. 3, No. 046.119, No. 3. −
No. 046.120, No. 3.046.121, No. 3
.. 046.122, 3.046.123, 3.061.430, 3.102.809, 3.106.465, 3.635.709,
It is described in many publications including the specifications of the same No. 3.647.443, and these can be suitably used. Among these, 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid ester or 0-naphthoquinonediazidecarboxylic acid ester of an aromatic hydroxy compound, and 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid amide or 0-naphthoquinonediazidecarboxylic acid amide of an aromatic amino compound are particularly preferred. , especially U.S. Patent No. 3.635.709
The condensation product of pyrogallol and a7tone described in the specification of No. 4 is ester-reacted with 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid, and the product with a hydroxy group at the terminal described in the specification of U.S. Pat. No. 4.021111. 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid, or 0-
Ester-reacted naphthoquinonediazidecarboxylic acids, homopolymers of p-hydroxystyrene as described in British Patent No. 1,494.043, or copolymers thereof with other copolymerizable monomers. ester reaction of 〇-naphthoquinonediazide sulfonic acid or 〇-naphthoquinonediazidecarboxylic acid,
To copolymers of p-aminostyrene and other copolymerizable monomers as described in U.S. Pat. No. 3,759,711. -Naphthoquinonediazide sulfonic acid or 0-naphthoquinonediazidecarboxylic acid subjected to amide reaction is very good.

これらのO−キノンジアジド化合物は、単独で使用する
ことができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合して用いた
方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂には、ノボラ
ック型フェノール樹脂が含まれ、具体的には、フェノー
ルポルムアルデヒド樹脂、0−クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが
含まれる。更に米国特許第4.123.279号明細書
に記されている様に上記のようなフェノール樹脂と共に
、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような
炭素数3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまた
はクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用す
ると、より一層好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、感光
層を構成する組成物の全重量を基準として中に約50〜
約85重量、より好ましくは60〜80重量%、含有さ
せられる。
Although these O-quinonediazide compounds can be used alone, it is preferable to use them in combination with an alkali-soluble resin. Suitable alkali-soluble resins include novolak-type phenolic resins, and specifically include phenol formaldehyde resins, 0-cresol formaldehyde resins, m-cresol formaldehyde resins, and the like. Further, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, in addition to the above-mentioned phenolic resins, phenol or cresol substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as t-butylphenol formaldehyde resin can be used. It is even more preferable to use a condensate of formaldehyde and formaldehyde together. The alkali-soluble resin contains about 50 to 50% of the total weight of the composition constituting the photosensitive layer.
About 85% by weight, more preferably 60-80% by weight.

0−キノンジアジド化合物からなる感光性組成物には、
必要に応じて更に染料、可塑剤、例えば英国特許第1.
041.463号、同第1.039.475号、米国特
許第3.969.118号の各明細書に記されているよ
うなプリントアウト性能を与える成分などの添加剤を加
えることができる。
A photosensitive composition comprising an 0-quinonediazide compound includes
If necessary, dyes and plasticizers may also be added, such as those described in British Patent No. 1.
Additives can be added, such as components that provide printout performance as described in U.S. Pat. No. 041.463, U.S. Pat.

■アジド化合物とバインダー(高分子化合物からなる感
光層 例えば英国特許第1.235.281号、同第1.49
5.861号の各明細書および特開昭51−32331
号、同51−36128号公報などに記されているアジ
ド化合物と水溶性またはアルカリ可溶性高分子化合物か
らな°る組成物の他、特開昭50−5102号、同50
−84302号、同5〇−84303号、同53−12
984号の各公報などに記されているアジド基を含むポ
リマーとバインダーとしての高分子化合物からなる組成
物が含まれる。
■A photosensitive layer consisting of an azide compound and a binder (for example, British Patent No. 1.235.281, British Patent No. 1.49)
Specifications of No. 5.861 and JP-A-51-32331
In addition to the compositions comprising an azide compound and a water-soluble or alkali-soluble polymer compound described in JP-A No. 51-36128, JP-A No. 50-5102 and JP-A-50-50
-84302, 50-84303, 53-12
Included are compositions consisting of a polymer containing an azide group and a polymer compound as a binder, which are described in various publications such as No. 984.

■その7他の感光性樹脂層 例えば、特開昭52−96696号に開示されているポ
リエステル化合物、英国特許第1、112.277号、
同第1.313.390号、同第1.341.004号
、同第1.377、747号等の各明細書に記載のポリ
ビニルシンナメート系樹脂、米国特許第4、072.5
28号および同第4.072.527号の各明細書など
に記されている光重合型フォトポリマー組成物が含まれ
る。
■7 Other photosensitive resin layers For example, polyester compounds disclosed in JP-A-52-96696, British Patent No. 1,112.277,
Polyvinyl cinnamate resins described in US Pat. No. 1.313.390, US Pat. No. 1.341.004, US Pat. No. 1.377, US Pat.
The photopolymerizable photopolymer compositions described in the specifications of No. 28 and No. 4.072.527 are included.

支持体上に設けられる感光層の量は、約0.1〜約7g
/m’、好ましくは0.5〜4 g / m’の範囲で
ある。
The amount of photosensitive layer provided on the support is about 0.1 to about 7 g.
/m', preferably in the range of 0.5 to 4 g/m'.

PS版は、画像露光されたのち、常法により現像を含む
処理によって樹脂画像が形成される。
After the PS plate is imagewise exposed, a resin image is formed by processing including development using conventional methods.

例えば、ジアゾ樹脂とバインダーとからなる前記感光層
■を有するPS版の場合には、画像露光後、例えば米国
特許第4.186.006号明細書に記載されているよ
うな現像液で未露光部分の感光層が現像により除去され
て平版印刷版が得られる。また感光層■を有するPS版
の場合には、画像露光後、米国特許第4.259.43
4号明細書に記載されているようなアルカリ水溶液で現
像することにより露光部分が除去されて、平版印刷版が
得られる。
For example, in the case of a PS plate having the photosensitive layer (1) consisting of a diazo resin and a binder, after image exposure, unexposed with a developer such as that described in U.S. Pat. No. 4,186,006. Portions of the photosensitive layer are removed by development to obtain a lithographic printing plate. In addition, in the case of a PS plate having a photosensitive layer (■), after image exposure, U.S. Patent No. 4.259.43
The exposed areas are removed by developing with an alkaline aqueous solution as described in No. 4, and a lithographic printing plate is obtained.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。なお
、「%」は、特に指示しない限り「重量%」を示す。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. Note that "%" indicates "% by weight" unless otherwise specified.

実施例1 厚さ0.24 mmのアルミニウム板(材質3003)
を10%水酸ナトリウム水溶液中に50℃で20秒間浸
漬して、脱脂/クリーニング処理を行なった後、水洗し
、次いで10%硝酸水溶液で中和洗浄した。水洗後、濃
度9g/lの硝酸水溶液を電解液として、本発明法によ
る電源波形の1つの例である第1図(a)に示した対称
波形の交流(立上り時間1m5ec)を用い、電流密度
50 A/dm”、周波数60Hzで10秒間電電解面
化処理し、生成したスマットを60℃、20%硫酸水溶
液で溶解除去した。電子顕微鏡により表面の状態を観察
したところ1、直径5μ以下の均一なピットが緻密に存
在していた。このアルミニウム板を15%硫酸水溶液中
で酸化皮膜量が2g/m″になるように温度30℃、電
流密度3 A/dm’で陽極酸化処理したのち、水洗後
、3%珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理して、水洗、乾
燥した。
Example 1 Aluminum plate with a thickness of 0.24 mm (material 3003)
was immersed in a 10% aqueous sodium hydroxide solution at 50° C. for 20 seconds for degreasing/cleaning, then washed with water, and then neutralized and washed with a 10% aqueous nitric acid solution. After washing with water, a nitric acid aqueous solution with a concentration of 9 g/l was used as the electrolyte, and the current density was 50 A/dm'' and a frequency of 60 Hz for 10 seconds, and the generated smut was dissolved and removed with a 20% sulfuric acid aqueous solution at 60°C.The surface condition was observed using an electron microscope. Uniform pits were densely present. This aluminum plate was anodized in a 15% sulfuric acid aqueous solution at a temperature of 30°C and a current density of 3 A/dm' so that the amount of oxide film was 2 g/m'. After washing with water, it was immersed in a 3% aqueous sodium silicate solution, washed with water, and dried.

このようにして得られた支持体に下記の感光液を塗布し
て感光層を設けた。感光層の乾燥塗布量は2.0 g 
/ばであった。
The support thus obtained was coated with the following photosensitive liquid to provide a photosensitive layer. The dry coating amount of the photosensitive layer is 2.0 g.
It was /ba.

得られた感光性平版印刷版をメタルハライドランプを光
源としてネガ画像フィルムを通して露光後、富士写真フ
ィルム■製ネガ型PS版現像DN−3Cの標準液にて現
像処理してさらにガム引きして平版印刷版とした。常法
により印刷し、100.000枚の良好な印刷物が得ら
れ、非画像部の保水性も良好で、汚れを生じなかった。
The obtained photosensitive lithographic printing plate was exposed through a negative image film using a metal halide lamp as a light source, developed with a standard solution of negative PS plate development DN-3C manufactured by Fuji Photo Film ■, and further gummed and lithographically printed. It was made into a version. Printing was carried out by a conventional method, and 100,000 sheets of good printed matter were obtained, with good water retention in non-image areas and no staining.

感光液 比較例1 電解粗面化処理の電流波形として、第1図(ハ)の陽極
時電流波形(立上り時間3 m5ec)のものを用いる
こと以外は実施例1を繰り返した。
Comparative Example 1 of Photosensitive Solution Example 1 was repeated except that the current waveform of the anode current waveform (rise time 3 m5ec) shown in FIG. 1(c) was used as the current waveform of the electrolytic surface roughening treatment.

このアルミニウム板の表面形状を観察したところ、10
μ以上の荒いピットを生じ、しかもピットを生じなかっ
た部分も多く残った。このアルミニウム板を使用して作
成した印刷版により、実施例1と同様に印刷を行なった
ところ、印刷可能な枚数は30.000枚であり、印刷
物は汚れを生じ易かった。
When the surface shape of this aluminum plate was observed, it was found that 10
Rough pits larger than μ were formed, and many areas remained where no pits were formed. When printing was carried out in the same manner as in Example 1 using a printing plate made using this aluminum plate, the number of printable sheets was 30,000 sheets, and the printed matter was easily stained.

比較例、2 電解粗面化処理の電流波形として、第1図(C)の陽極
時波形(ピーク電流が陽極時時間全部に維持されるよう
な波形)を用いること以外は、実施例1を繰り返した。
Comparative Example 2 Example 1 was followed except that the anode waveform (waveform in which the peak current is maintained throughout the anode time) shown in FIG. 1(C) was used as the current waveform for electrolytic surface roughening treatment. repeated.

このアルミニウム板の表面ヲ観察したところ、比較例1
と同様であった。
When the surface of this aluminum plate was observed, Comparative Example 1
It was the same.

実施例2 電解粗面化処理の電解液として、塩酸を5g/l含む水
溶液を使用したことを除いて、実施例1を繰り返した。
Example 2 Example 1 was repeated except that an aqueous solution containing 5 g/l of hydrochloric acid was used as the electrolytic solution for the electrolytic surface roughening treatment.

表面状態を観察すると、直径がlOμより小さい均一ピ
ットが生成しており、印刷性能は実施例1と同様であっ
た。
Observation of the surface condition revealed that uniform pits with a diameter smaller than 1Oμ were formed, and the printing performance was the same as in Example 1.

実施例3 陽極特電気量と陰極時電気量の比が1:0.9になるよ
うに陰極時電流を制御したことを除いて、実施例1を繰
り返した。アルミニウム板の表面には、直径5μ以下の
均一ピットが緻密に生成していた。また、印刷を実施例
1と同様に行なったところ、印刷枚数100,000枚
でも、印刷物の汚れを生じなかった。
Example 3 Example 1 was repeated except that the cathode current was controlled so that the ratio of the anode specific electricity amount to the cathode electricity amount was 1:0.9. Uniform pits with a diameter of 5 μm or less were densely formed on the surface of the aluminum plate. Furthermore, when printing was carried out in the same manner as in Example 1, no staining of the printed matter occurred even after printing 100,000 sheets.

比較例3 陽極特電気量と陰極時電気量の比が1:1.3になるよ
うに陰極時電流を制御したことを除いて、実施例1を繰
り返した。アルミニウム板の表面には、直径5μ以下の
ピットの中に10μ以上の荒いピットがところどころに
存在する不均一なものであった。印刷可能な枚数は60
.000枚であり、印刷物は汚れを生じ易く、実施例1
のものより劣っていた。
Comparative Example 3 Example 1 was repeated except that the cathode current was controlled so that the ratio of the anode specific electricity amount to the cathode electricity amount was 1:1.3. The surface of the aluminum plate was non-uniform with rough pits of 10 μm or more in diameter among pits of 5 μm or less in diameter. The number of pages that can be printed is 60.
.. 000 sheets, and the printed matter is easy to get dirty,
It was inferior to that of

比較例4 電解粗面化処理に第1図(6)の交流波形を用いたこと
を除いて、実施例1を繰り返した。アルミニウム板の表
面を観察したところビット径10μ以上のあらいピット
が生成しており、また、印刷可能な枚数は50000枚
であり、印刷物は汚れを生じ易く、実施例1より劣って
いた。
Comparative Example 4 Example 1 was repeated except that the AC waveform shown in FIG. 1 (6) was used for the electrolytic surface roughening treatment. When the surface of the aluminum plate was observed, rough pits with a bit diameter of 10 μm or more were formed, and the number of printable sheets was 50,000 sheets, and the printed matter was easily stained and was inferior to Example 1.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明により、アルミニウム板の電解粗面化処理を行な
うと、比較的純度の低いアルミニウム合金板の場合でも
印刷版に適した均一で、かつ緻密な微細ピットを有する
アルミニウム板が得られた。
According to the present invention, when an aluminum plate is electrolytically roughened, an aluminum plate having uniform and dense fine pits suitable for a printing plate can be obtained even in the case of an aluminum alloy plate of relatively low purity.

また、ポジ型感光層を用いた場合にも同様の効果が得ら
れた。
Similar effects were also obtained when a positive photosensitive layer was used.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)は本発明で使用する電流波形の1例を示し
、第1図(ハ)は陽極特電流の立上りの時間が3m s
ecの電流波形を示し、(C)は陽極時のピーク電流が
時間とともに減少しない電流波形を示し、そして(d)
陽極時及び陰極時ともにピーク電流が時間とともに減少
しない所謂矩形電流波形を示す。
FIG. 1(a) shows an example of the current waveform used in the present invention, and FIG. 1(c) shows the rise time of the anode special current of 3 m s.
ec current waveform, (C) shows the current waveform where the peak current at the anode does not decrease with time, and (d)
Both the anode and the cathode show a so-called rectangular current waveform in which the peak current does not decrease with time.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)アルミニウム板を交互に極性の変化する交番波形
電流を用いて電解液中で電解粗面化する平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の電解粗面化処理方法において、陽極
時の前記交番波形電流値がゼロから瞬時にピーク電流値
に達し、しかる後電流値が漸減する交番波形電流を用い
ることを特徴とする電解粗面化処理方法。
(1) In a method for electrolytically roughening an aluminum support for a lithographic printing plate in which an aluminum plate is electrolytically roughened in an electrolytic solution using an alternating waveform current whose polarity changes alternately, the alternating waveform current at the time of the anode An electrolytic surface roughening treatment method characterized by using an alternating waveform current whose value instantly reaches a peak current value from zero and then gradually decreases.
(2)陰極時電気量が陽極時電気量以下である特許請求
の範囲第1項記載の電解粗面化処理方法。
(2) The electrolytic surface roughening treatment method according to claim 1, wherein the amount of electricity at the cathode is less than the amount of electricity at the anode.
(3)前記電解液が硝酸及び/又は塩酸を2〜40g/
l含有する水溶液である特許請求の範囲第1項記載の電
解粗面化処理方法。
(3) The electrolyte contains 2 to 40 g of nitric acid and/or hydrochloric acid
The electrolytic surface roughening treatment method according to claim 1, which is an aqueous solution containing l.
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