JPH01142588A - Volume phase type hologram element and production thereof - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明はホログラム素子とその製造方法に係り、特にホ
ログラム素子を膨潤させ記録時の波長と異なる波長の再
生光源で再生可能な体積位相型ホログラム素子と、その
製造方法に関する。[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Field of Application) The present invention relates to a hologram element and a method for manufacturing the same, and particularly relates to a hologram element that swells and can be reproduced by a reproduction light source having a wavelength different from the recording wavelength. The present invention relates to a volume phase type hologram element and a manufacturing method thereof.
（従来の技術）
最近では光源に半導体レーザを用いたバーコードリーダ
やレーザプリンタの開発が進んでいる。(Prior Art) Recently, barcode readers and laser printers that use semiconductor lasers as light sources have been developed.
従来のホログラム素子の光学式作製方法では、可視域レ
ーザ光（主にＨｅ−Ｎｅレーザを使用）を光源としてホ
ログラム素子に記録を行っていた。In a conventional optical method for manufacturing a hologram element, recording is performed on a hologram element using a visible laser beam (mainly a He-Ne laser) as a light source.
この方法では、記録時のレーザ光の波長と異なる半導体
レーザを用いて再生しようとすると、記録光と再生光の
波長が異なるため、収差が生じてしまい、確実な再生が
できず、実用的ではなかった。そこで、この収差を補正
するために位相合成を何回も繰返してホログラムを作製
するなどの種々の方法が用いられていた。In this method, if an attempt is made to reproduce data using a semiconductor laser with a wavelength different from that of the laser beam used during recording, the wavelengths of the recording light and reproduction light will be different, resulting in aberrations, making reliable reproduction impossible and impractical. There wasn't. Therefore, various methods have been used to correct this aberration, such as repeating phase synthesis many times to create a hologram.
しかし、これまでの補正方法を体積位相型ホログラム素
子に応用する場合は、体積位相型ホログラムに関しては
使用可能な再生光源の波長幅が狭く、露光光以外の光の
波長では再生はほぼ不可能に近い状態であった。However, when applying conventional correction methods to volume phase hologram elements, the wavelength range of usable reproduction light sources is narrow for volume phase holograms, and reproduction is almost impossible with light wavelengths other than exposure light. It was close.
そこで半導体レーザを用いて直接ホログラム素子を記録
するか、Ｎ−ｖｉｎｙｌ ２−ｐｙｒｏｌｌｄｏｎｅ
（Ｎ。Therefore, either a semiconductor laser is used to directly record the hologram element, or N-vinyl 2-pyrolldone is used.
(N.
ｖ、ｐ）等の膨潤剤を用いて記録後にホログラム素子を
膨潤させ、回折波長を変える方法等が従来技術に換わる
方法として考えられている。A method in which the hologram element is swollen after recording using a swelling agent such as V, P) to change the diffraction wavelength is considered as an alternative to the conventional technique.
（発明が解決しようとする問題点）
上述の従来技術の方法では位相合成の工程が非常に多く
、生産性を悪くしている。また、このように位相合成を
繰返して製造されたホログラム素子は信頼性が非常に悪
く、高い信頼性を必要とする装置への使用には不適であ
った。(Problems to be Solved by the Invention) The above-mentioned prior art method requires a very large number of phase synthesis steps, which impairs productivity. In addition, the hologram element manufactured by repeating phase synthesis in this manner has very poor reliability and is unsuitable for use in a device that requires high reliability.
次に、半導体レーザを用いて記録したホログラム素子と
その製造方法について述べる。Next, a hologram element recorded using a semiconductor laser and a method for manufacturing the same will be described.
このホログラム素子とその製造方法では、ホログラム用
の乾板の感度が半導体レーザの波長に対して、感度がほ
とんど無いような状態である。そこでまずホログラム用
の乾板を半導体レーザの波長に対して記録可能なように
増感処理を施す必要がある。しかし、この増感処理に使
用する色素によってホログラム素子のＳ／Ｎ比が低下し
てしまい、光分解によるホログラム素子の劣化を引起こ
していた。また、半導体レーザは干渉性が悪いため記録
時に半導体レーザの発振波長の安定化、撮影装置全体の
安定化、大気の対流制御など特別な装置が必要となって
しまっていた。In this hologram element and its manufacturing method, the hologram dry plate has almost no sensitivity to the wavelength of the semiconductor laser. Therefore, it is first necessary to sensitize the hologram dry plate so that it can record at the wavelength of the semiconductor laser. However, the dye used in this sensitization process lowers the S/N ratio of the hologram element, causing deterioration of the hologram element due to photodecomposition. Furthermore, since semiconductor lasers have poor coherence, special equipment is required to stabilize the oscillation wavelength of the semiconductor laser, stabilize the entire imaging device, and control atmospheric convection during recording.
また、ホログラム素子を可視域レーザ光で露光し、その
後にホログラム素子を膨潤させた場合、ホログラム素子
自体の変形により、内部の屈折率分布の変化が生じてい
た。そのためホログラム素子に収差が発生し、実用化に
際して大きな問題となっていた。また、ホログラム素子
を膨潤させた場合には、紫外線照射を行う工程が必要に
なり、その際にホログラム素子内のハロゲン化銀が光分
解を起こし、黒化してしまうという不具合を生じた。Further, when a hologram element is exposed to visible laser light and then swollen, the internal refractive index distribution changes due to deformation of the hologram element itself. As a result, aberrations occur in the hologram element, which poses a major problem when put into practical use. Furthermore, when the hologram element is swollen, a step of irradiating it with ultraviolet rays is required, and at that time, the silver halide within the hologram element undergoes photodecomposition, resulting in blackening.
このような理由から実質的には、半導体レーザを再生光
源として使用するホログラム素子は、再生光源と同じ波
長の光を用いて露光するものが、波長差によって生じる
収差を補正する特別な工程を用いて露光するものが主流
となっている。そのため、ホログラム素子を膨潤させる
ものはほとんど用いられていない状態である。For this reason, in practice, hologram elements that use a semiconductor laser as a reproduction light source are exposed using light of the same wavelength as the reproduction light source, but a special process is used to correct aberrations caused by the wavelength difference. The mainstream is to expose to light. Therefore, materials that swell the hologram element are hardly used.
［発明の構成］
（問題点を解決するための手段）
まず、ホログラム記録材料に製造しようとするホログラ
ム素子の干渉縞に所定の波面収差を与えた干渉縞を露光
を行う。この露光後のホログラム記録材料を現像液に浸
し、現像する。この現像液に浸したホログラム記録材料
を洗浄、漂白、洗浄、乾燥させる。（こうして露光・現
像・洗浄・漂白・洗浄・乾燥を終えたホログラム記録材
料をホログラム素子と呼ぶ。）このホログラム素子に、
ハロゲンを吸着させ、Ｎ−ｖｌｎｙｌ ２−ｐｙｒｏｌ
ｉｄｏｎｅ等の膨ＡＭ剤を用いて予め定められた再生光
の波長に合せて膨潤させるか、またはこの吸着及び膨潤
の順番を入替え、Ｎ−ｖｉｎｙｌ ２−ｐｙｒｏｌｉｄ
ｏｎｅ等の膨潤剤を用いて予め定められた再生光に合せ
て膨潤させ、ハロゲンを吸着させる。続いて、このホロ
グラム素子を洗浄する。洗浄後にホログラム素子に紫外
線を照射する。これらの工程からなる体積位相型ホログ
ラム素子と、その製造方法を提供する。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) First, a hologram recording material is exposed to interference fringes obtained by imparting a predetermined wavefront aberration to the interference fringes of a hologram element to be manufactured. The exposed hologram recording material is immersed in a developer and developed. The hologram recording material immersed in this developer is washed, bleached, washed, and dried. (The hologram recording material that has been exposed, developed, washed, bleached, washed, and dried in this way is called a hologram element.) In this hologram element,
Adsorb halogen, N-vlnyl 2-pyrol
N-vinyl 2-pyrolid is swollen in accordance with a predetermined wavelength of reproduction light using a swelling AM agent such as idone, or by changing the order of adsorption and swelling.
The material is swollen using a swelling agent such as ONE, etc. in accordance with a predetermined reproduction light, and the halogen is adsorbed. Subsequently, this hologram element is cleaned. After cleaning, the hologram element is irradiated with ultraviolet light. A volume phase type hologram element comprising these steps and a method for manufacturing the same are provided.
（作用）
上述のような製造方法で作られた体積型ホログラム素子
は可視域レーザ光（主にＨｅ−Ｎｅレーザ光）を用いて
干渉縞を露光を行う。これは従来の露光工程をそのまま
利用することが可能である。(Function) The volume hologram element manufactured by the manufacturing method described above exposes interference fringes using visible range laser light (mainly He-Ne laser light). This allows the conventional exposure process to be used as is.
この露光工程に際して、次の膨潤工程で予め定められた
再生光の波長に合せてホログラム素子を膨潤させたとき
の収差を予め求めておく。そして、ホログラム膨潤後に
生じるこの収差を補正されるように設計された波面収差
を有する波間で干渉縞を露光する。During this exposure process, the aberration that will occur when the hologram element is swollen in accordance with the predetermined wavelength of reproduction light in the next swelling process is determined in advance. Then, interference fringes are exposed between waves having a wavefront aberration designed to correct this aberration that occurs after the hologram swells.
また、予め定められた再生光の波長に合せてホログラム
素子を膨潤させたときの収差を求める方法は、テスト用
のホログラムの収差を実際に計測したデータを基にコン
ビエータを用いてシミュレーションを行う。In addition, the method of determining the aberration when the hologram element is swollen in accordance with the predetermined wavelength of the reproduction light is performed by performing a simulation using a combinator based on data obtained by actually measuring the aberration of the test hologram.
上述のように露光が行われたホログラム素子を現像する
が、これは現像液中にホログラム記録材料を浸し、洗浄
し、漂白を行い、再度洗浄し、乾燥させることによって
行、う。この現像工程において行う漂白によってハロゲ
ン化銀が生じる。このハロゲン化銀が膨潤工程での紫外
線照射によつて光分解を起こし黒化を起こす要因となっ
ている。The hologram element exposed as described above is developed by immersing the hologram recording material in a developer, washing it, bleaching it, washing it again, and drying it. The bleaching performed in this development step produces silver halide. This silver halide is photodecomposed by ultraviolet irradiation during the swelling process, causing blackening.
上述のように現像が行われたホログラム素子にハロゲン
を吸着させる。このハロゲンを吸着させたホログラム素
子を膨潤剤を含んだ水溶液中に浸して膨潤させる。この
ときの膨潤剤の濃度及び膨潤剤に浸す時間、温度等によ
って膨潤量が変化する。これらの条件をシミュレーショ
ンのデータを収集した時と同じに保ち、このホログラム
素子をホログラム素子内の回折格子が予め定められた再
生光の波長に合うまで膨潤させる。Halogen is adsorbed onto the hologram element that has been developed as described above. The halogen-adsorbed hologram element is immersed in an aqueous solution containing a swelling agent to swell it. At this time, the amount of swelling changes depending on the concentration of the swelling agent, the time of immersion in the swelling agent, the temperature, etc. These conditions are kept the same as when the simulation data were collected, and the hologram element is swollen until the diffraction grating within the hologram element matches the predetermined wavelength of the reproduction light.
また、上述のようにハロゲンを吸着させてから、膨潤を
行うのではなく、順番を入替えて膨潤後に吸着させても
よい。Further, instead of adsorbing the halogen and then performing the swelling as described above, the order may be changed and the adsorption may be performed after the swelling.
また、このときの膨潤剤はＮ−ｖｉｎｙｌ ２−ｐｙ
ｒｏｌＩｄｏｎｅ （以下、Ｎ、Ｖ、Ｐと略）、トリ
エタノールアミン、Ｄ−ソルビトール等が用いられるが
、光に対する安定性及び膨７１１量から考えて、Ｎ、Ｖ
。In addition, the swelling agent at this time is N-vinyl 2-py
rolIdone (hereinafter abbreviated as N, V, P), triethanolamine, D-sorbitol, etc.
.
Ｐの使用が最も好ましいものと考えられる。The use of P is considered the most preferred.
このホログラム素子をアセトン等により洗浄する。さら
に紫外線照射を行う。従来技術の問題点であったホログ
ラム素子が黒化は、ホログラム素子中のハロゲン化銀が
光分解を起こしてしまうためである。このようなハロゲ
ン化銀の光分解を防止するため、膨潤工程内の紫外線照
射以前にホログラム素子にハロゲン元素を吸着させ、ハ
ロゲンサイクルを生じさせるようにした。This hologram element is cleaned with acetone or the like. Furthermore, ultraviolet irradiation is performed. The blackening of the hologram element, which was a problem in the prior art, is due to the fact that the silver halide in the hologram element undergoes photodecomposition. In order to prevent such photodecomposition of silver halide, a halogen element was adsorbed onto the hologram element prior to irradiation with ultraviolet rays during the swelling process to generate a halogen cycle.
このようにしてホログラム素子を製造することにより、
従来の製造方法では製造が困難であった波長の長いレー
ザ光に対応できるようになった。By manufacturing the hologram element in this way,
It is now possible to handle long wavelength laser light, which was difficult to manufacture using conventional manufacturing methods.
（実施例） 以下に本発明の一実施例を示す。(Example) An example of the present invention is shown below.
第１図（ａ）のフローチャートに示した本発明の方法を
用いてスキャナ用のホログラム素子を作製した。A hologram element for a scanner was manufactured using the method of the present invention shown in the flowchart of FIG. 1(a).
ホログラム記録材料を第２図のような露光光学系により
露光する。このとき、ホログラム記録材料に露光する干
渉縞は、本来ホログラム素子が有するべき干渉縞に、露
光後の膨潤量に合せた波面収差を与えたものを露光する
。このときの露光光源としてＨｅ−Ｎｅレーザ（波長：
６３３ｎｉ）を使用した。The hologram recording material is exposed to light using an exposure optical system as shown in FIG. At this time, the interference fringes that are exposed to the hologram recording material are the interference fringes that the hologram element should originally have, but are given a wavefront aberration that matches the amount of swelling after exposure. The exposure light source at this time is a He-Ne laser (wavelength:
633ni) was used.
次に、露光を終えたホログラム記録材料を現像する。こ
れはホログラム記録材料を現像液中に浸し現像する。こ
れを洗浄し、続いてホログラム記録材料を漂白し、洗浄
・乾燥させホログラム記録材料に干渉縞を形成させ、ホ
ログラム素子を作る。Next, the exposed hologram recording material is developed. This involves immersing the hologram recording material in a developer and developing it. This is washed, and then the hologram recording material is bleached, washed and dried to form interference fringes on the hologram recording material, thereby producing a hologram element.
続いて、干渉縞形成を終えたホログラム記録材料を第３
図のような装置を用いて臭素ガスの中に３０分置き、ハ
ロゲン吸着を行った。この後、ホログラム素子をＮ、Ｖ
、Ｐ水溶液中に３０分間浸した。Next, the hologram recording material that has undergone interference fringe formation is transferred to a third
Using the apparatus shown in the figure, the sample was placed in bromine gas for 30 minutes to perform halogen adsorption. After this, the hologram element is
, immersed in P aqueous solution for 30 minutes.
本実施例では、このときのＮ、Ｖ、Ｐのｆｉ度ヲ４０％
とした。なお、このＮ、Ｖ、Ｐの濃度は本発明では特に
限定しないが、Ｎ、Ｖ、Ｐ水溶液はＮ。In this example, the fi degree of N, V, and P at this time is 40%.
And so. Note that the concentrations of N, V, and P are not particularly limited in the present invention, but the N, V, and P aqueous solution is N.
ｖ、Ｐの濃度を濃くしても、ある程度で飽和を起こして
しまうため、本実施例では濃度を４０％としたにすぎな
い。Even if the concentration of v and P is increased, saturation will occur to a certain extent, so in this example, the concentration is only set to 40%.
このようにして膨潤させたホログラム記録材料を、アセ
トンで５分間洗浄を施した。さらに、洗浄を終えたホロ
グラム記録材料に紫外線照射を１時間行い、ホログラム
素子を製造した。The hologram recording material thus swollen was washed with acetone for 5 minutes. Further, the washed hologram recording material was irradiated with ultraviolet rays for 1 hour to produce a hologram element.
このときの回折波長λは、６３３ｎ會から７１０ｎ會程
度までシフトした。このホログラム素子の回折効率の変
化を以下の表に示す。The diffraction wavelength λ at this time shifted from about 633n to about 710n. Changes in the diffraction efficiency of this hologram element are shown in the table below.
以下余白
表に示すように本実施例は膨潤させることにより回折効
率のピークを８１Ｏｎ＋＊より ７１Ｏｎ腸にシフトさ
せることができた。なお、本発明の方法は、本実施例に
限らず水溶液に浸す時間、濃度等の条件の変更により、
ホログラム素子の持つ回折波長を幅広く製作することが
できる。As shown in the margin table below, in this example, the peak of diffraction efficiency could be shifted from 81On+* to 71On intestine by swelling. Note that the method of the present invention is not limited to this example, but can be modified by changing conditions such as immersion time and concentration in the aqueous solution.
Hologram elements can be manufactured with a wide range of diffraction wavelengths.
このようにして製造されたホログラム素子を第４図に示
すようなホログラムスキャナー装置の光学系に使用した
。このときの光源に半導体レーザを用いたが、従来の半
導体レーザによって露光されたホログラム素子を使用し
た場合に比べ、きわめて良好なホログラムスキャナー装
置の光学系を構成することができた。The hologram element thus manufactured was used in the optical system of a hologram scanner device as shown in FIG. Although a semiconductor laser was used as the light source at this time, it was possible to construct a much better optical system for a hologram scanner device than when using a conventional hologram element exposed by a semiconductor laser.
なお、本実施例ではハロゲンを吸着させた後に膨潤させ
たが、この順番は第１図（ｂ）に示したように変えても
本発明の効果を何等変えるものではない。つまり、上述
と同じ工程でホログラム素子を膨潤させた後にハロゲン
を吸着させてもよいものである。In this example, the halogen was adsorbed and then swelled, but even if this order is changed as shown in FIG. 1(b), the effect of the present invention will not change in any way. That is, the halogen may be adsorbed after the hologram element is swollen in the same process as described above.
〔発明の効果］
上述の製造方法によって製造されたホログラム素子は、
露光時の使用するレーザ波長に限定されることがなく、
従来のＩＩ ｅ −Ｎ ｅレーザ等の露光が容易な露光
光源を用いて露光を行なえる。従って、従来の銀塩乾板
をＨｅ−Ｎｏレーザを用いた露光設備で、半導体レーザ
の波長に合せた回折格子を持つホログラム素子を製造す
ることが可能である。また、半導体レーザを使用して露
光を行う場合と比べ、その露光時間は大幅に少なくてす
む。[Effect of the invention] The hologram element manufactured by the above manufacturing method is
Not limited by the laser wavelength used during exposure,
Exposure can be performed using an exposure light source that is easy to expose, such as a conventional II e-N e laser. Therefore, it is possible to manufacture a hologram element having a diffraction grating matched to the wavelength of a semiconductor laser using a conventional silver salt dry plate with exposure equipment using a He-No laser. Furthermore, the exposure time can be significantly shorter than when exposure is performed using a semiconductor laser.
さらに、膨潤させる際に、紫外線照射前にホログラム素
子にハロゲンを吸着させることによって、従来の製造方
法では黒化し使用できなくなるという欠点を解消した。Furthermore, by adsorbing halogen to the hologram element before irradiating it with ultraviolet rays during swelling, the drawback of conventional manufacturing methods, such as blackening and rendering the element unusable, has been overcome.
第１図は本発明の方法を示したフローチャート、第２図
はホログラム試料を撮影した光学系の構成を示す構成図
、第３図はホログラム試料にハロゲンを吸着するのに用
いた装置の構成図、第４図は本発明のホログラム素子を
ホログラムスキャナー装置の光学系に用いた実施例を示
した構成図である。Figure 1 is a flowchart showing the method of the present invention, Figure 2 is a block diagram showing the configuration of the optical system that photographed the hologram sample, and Figure 3 is a block diagram of the device used to adsorb halogen to the hologram sample. , FIG. 4 is a configuration diagram showing an embodiment in which the hologram element of the present invention is used in an optical system of a hologram scanner device.
Claims (5)
光の波長が露光光源に用いた光の波長と異なりかつ膨潤
剤を用いて予め定められた再生光の波長に合うまで膨潤
させたことを特徴とする体積位相型ホログラム素子。(1) A volume phase hologram element characterized in that the wavelength of the light from the reproduction light source is different from the wavelength of the light used as the exposure light source, and it is swollen using a swelling agent until it matches the predetermined wavelength of the reproduction light. Volume phase type hologram element.
材料に所定の波面収差を与えた干渉縞を露光する露光工
程と、この露光工程で得たホログラム記録材料を現像し
漂白する干渉縞形成工程と、この干渉縞形成工程で得た
ホログラム素子を膨潤剤を用いてホログラム素子が予め
定められた再生光の波長に合うまで膨潤させる膨潤工程
とからなる体積位相型ホログラム素子の製造方法。(2) In the production of hologram elements, there is an exposure step of exposing the hologram recording material to interference fringes with a predetermined wavefront aberration, an interference fringe forming step of developing and bleaching the hologram recording material obtained in this exposure step, and A method for manufacturing a volume phase type hologram element, comprising a swelling step of swelling the hologram element obtained in the interference fringe forming step using a swelling agent until the hologram element matches a predetermined wavelength of reproduction light.
中にホログラム素子を予め定められた時間浸透させ膨潤
させる第１の工程と、第１の工程で得たホログラム素子
を洗浄する第２の工程と、この第２の工程で得たホログ
ラム素子にハロゲンを吸着させる第３の工程と、第３の
工程で得たホログラム素子に紫外線を照射する第４の工
程とからなることを特徴とする特許請求の範囲第２項記
載の体積位相型ホログラム素子の製造方法。(3) The swelling process consists of a first step in which the hologram element is immersed in an aqueous solution of a predetermined concentration containing a swelling agent for a predetermined time to swell it, and a second step in which the hologram element obtained in the first step is washed. 2, a third step of adsorbing halogen to the hologram element obtained in the second step, and a fourth step of irradiating the hologram element obtained in the third step with ultraviolet rays. A method for manufacturing a volume phase type hologram element according to claim 2.
せる第１の工程と、第１の工程で得たホログラム素子を
膨潤剤を含んだ所定の濃度の水溶液中にホログラム素子
を予め定められた時間浸透させ膨潤させる第２の工程と
、第２の工程で得たホログラム素子を洗浄する第３の工
程と、第３の工程で得たホログラム素子に紫外線を照射
する第４の工程とからなることを特徴とする特許請求の
範囲第２項記載の体積位相型ホログラム素子の製造方法
。(4) The swelling process consists of a first step in which halogen is adsorbed onto the hologram element, and a hologram element obtained in the first step is placed in an aqueous solution of a predetermined concentration containing a swelling agent for a predetermined period of time. Consists of a second step of infiltrating and swelling, a third step of cleaning the hologram element obtained in the second step, and a fourth step of irradiating the hologram element obtained in the third step with ultraviolet rays. A method for manufacturing a volume phase hologram element according to claim 2, characterized in that:
ｎｅ、トリエタノールアミン、Ｄ−ソルビトールである
特許請求の範囲第２項記載の体積位相型ホログラム素子
の製造方法。(5) Swelling agent is N-vinyl 2-pyrolido
2. The method for manufacturing a volume phase type hologram element according to claim 2, wherein ne, triethanolamine, and D-sorbitol are used.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29991887A JPH01142588A (en) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | Volume phase type hologram element and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29991887A JPH01142588A (en) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | Volume phase type hologram element and production thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01142588A true JPH01142588A (en) | 1989-06-05 |
Family
ID=17878500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29991887A Pending JPH01142588A (en) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | Volume phase type hologram element and production thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01142588A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0346687A (en) * | 1989-07-14 | 1991-02-27 | E I Du Pont De Nemours & Co | Dry film process for changing wavelength response of hologram |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP29991887A patent/JPH01142588A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0346687A (en) * | 1989-07-14 | 1991-02-27 | E I Du Pont De Nemours & Co | Dry film process for changing wavelength response of hologram |
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