JPH01141889A - セラミックスの加工方法 - Google Patents
セラミックスの加工方法Info
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- JPH01141889A JPH01141889A JP29967187A JP29967187A JPH01141889A JP H01141889 A JPH01141889 A JP H01141889A JP 29967187 A JP29967187 A JP 29967187A JP 29967187 A JP29967187 A JP 29967187A JP H01141889 A JPH01141889 A JP H01141889A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/51—Metallising, e.g. infiltration of sintered ceramic preforms with molten metal
-
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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-
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- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
この発明は、セラミックスの加工方法に係り、特に酸化
物系または炭化物系セラミックスにレーザ光を照射して
、その照射部に金属化物を形成するセラミックスの加工
方法に関する。
物系または炭化物系セラミックスにレーザ光を照射して
、その照射部に金属化物を形成するセラミックスの加工
方法に関する。
（従来の技術）
ＡｇＮ−＋Ｓｉ、Ｎ、などの窒化物系セラミックスは、
たとえばこれにレーザ光を照射して熱分解させることに
より、その照射部分にＡＱやＳＬなどの金属を析出させ
ることができ、その析出金属を核としてメタライズする
ことが可能である。したがって、この技術を応用して、
たとえばその析出金属を核として無電界めっきを施すこ
とにより、印刷配線板の導通スルーホールや配線パター
ンを形成し得る。
たとえばこれにレーザ光を照射して熱分解させることに
より、その照射部分にＡＱやＳＬなどの金属を析出させ
ることができ、その析出金属を核としてメタライズする
ことが可能である。したがって、この技術を応用して、
たとえばその析出金属を核として無電界めっきを施すこ
とにより、印刷配線板の導通スルーホールや配線パター
ンを形成し得る。
しかし、第２図（Ａ）図に示すように、たとえばＡｇ、
０３やＳｉｏ２・ＭｇＯなどの酸化物系セラミックスは
、その表面に酸化物層のを有し、同（Ｂ）図に示すよう
に、これにレーザ光■を照射しても。
０３やＳｉｏ２・ＭｇＯなどの酸化物系セラミックスは
、その表面に酸化物層のを有し、同（Ｂ）図に示すよう
に、これにレーザ光■を照射しても。
その照射部分は、酸化物層ωが除去されて、かわりにガ
ラス層■ができるのみで、金属は析出せず、そのために
、直接的に無電界めっきなどにより。
ラス層■ができるのみで、金属は析出せず、そのために
、直接的に無電界めっきなどにより。
その表面に導体を形成することはできない。
（発明が解決しようとする問題点）
上記のように酸化物系セラミックスについては、熱分解
によって金属を析出させることができず、ガラス層がで
きるのみであるため、この酸化物系セラミックスに直接
的に導体層を形成することはできない。一方、窒化物系
セラミックスについては、熱分解により金属を析出させ
ることができ、したがって、その析出金属を核としてそ
の表面に容易に導体層を形成できる。しかし、この窒化
物系セラミックスは、酸化物系セラミックスなどにくら
べて高価であるため、付加価値の高い特殊な用途にしか
利用できないという問題点がある。
によって金属を析出させることができず、ガラス層がで
きるのみであるため、この酸化物系セラミックスに直接
的に導体層を形成することはできない。一方、窒化物系
セラミックスについては、熱分解により金属を析出させ
ることができ、したがって、その析出金属を核としてそ
の表面に容易に導体層を形成できる。しかし、この窒化
物系セラミックスは、酸化物系セラミックスなどにくら
べて高価であるため、付加価値の高い特殊な用途にしか
利用できないという問題点がある。
この発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、
酸化物系セラミックスまたは同様に直接的に導体層を形
成することが困難な炭化物系セラミックスに対して、熱
分解により容易に金属化物を生成させることができるセ
ラミックスの加工方法を得ることを目的とする。
酸化物系セラミックスまたは同様に直接的に導体層を形
成することが困難な炭化物系セラミックスに対して、熱
分解により容易に金属化物を生成させることができるセ
ラミックスの加工方法を得ることを目的とする。
（Ｊ’Ｌ”照点を解決するための手段）酸化物系セラミ
ックスまたは炭化物系セラミックスに金属化物を生成さ
せるセラミックスの加工方法において、その酸化物系セ
ラミックスまたは炭化物系セラミックスに窒化物系セラ
ミックスまたは金属を混入して形成し、このセラミック
スに不活性ガス雰囲気下でレーザ光を照射して、熱分解
により金属化物を形成するようにした。
ックスまたは炭化物系セラミックスに金属化物を生成さ
せるセラミックスの加工方法において、その酸化物系セ
ラミックスまたは炭化物系セラミックスに窒化物系セラ
ミックスまたは金属を混入して形成し、このセラミック
スに不活性ガス雰囲気下でレーザ光を照射して、熱分解
により金属化物を形成するようにした。
（作 用）
上記のように窒化物系セラミックスまたは金属を混入し
て、酸化物系セラミックスまたは炭化物系セラミックス
を形成し、これにレーザ光を照射すると、ガラス層のほ
かに金属化物を生成させることができる。
て、酸化物系セラミックスまたは炭化物系セラミックス
を形成し、これにレーザ光を照射すると、ガラス層のほ
かに金属化物を生成させることができる。
（実施例）
以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。
する。
酸化物系セラミックス粉末を主成分としてこれに少量の
窒化物系セラミックス粉末または鉄（Ｆａ）などの金属
粉末を添加して均一に混合し、既知のセラミックス製造
工程により酸化物系セラミックスを形成する。形成され
たセラミックスは、第１図（Ａ）図に示すように、酸化
物系セラミックス（４０）中に窒化物系セラミックス（
１１）が均一に分散した内部構造を有し、その表面は酸
化膜（１２）で覆われている。
窒化物系セラミックス粉末または鉄（Ｆａ）などの金属
粉末を添加して均一に混合し、既知のセラミックス製造
工程により酸化物系セラミックスを形成する。形成され
たセラミックスは、第１図（Ａ）図に示すように、酸化
物系セラミックス（４０）中に窒化物系セラミックス（
１１）が均一に分散した内部構造を有し、その表面は酸
化膜（１２）で覆われている。
つぎに、同（Ｂ）図に示すように、上記セラミックスを
不活性ガス雰囲気下に置いて、これにレーザ光（Ｌ）を
照射する。このレーザ光（Ｌ）の照射により上記セラミ
ックスの表面の酸化膜（１２）は除去されて１通常の酸
化物系セラミックスと同様にその照射部分にガラス層■
ができる。同時にその照射部分に存在した窒化物系セラ
ミックス（１１）または金属が熱分解されてその部分に
金属化物（１３）が生成する。
不活性ガス雰囲気下に置いて、これにレーザ光（Ｌ）を
照射する。このレーザ光（Ｌ）の照射により上記セラミ
ックスの表面の酸化膜（１２）は除去されて１通常の酸
化物系セラミックスと同様にその照射部分にガラス層■
ができる。同時にその照射部分に存在した窒化物系セラ
ミックス（１１）または金属が熱分解されてその部分に
金属化物（１３）が生成する。
この金属化物（１３）は導電性であるため、つぎに。
たとえばこのセラミックスに無電界めっきを施すと、同
（Ｃ）図に示すように、上記金属化物（１３）を核とし
てセラミックスの表面にめっき層（１４）を形成するこ
とができる。
（Ｃ）図に示すように、上記金属化物（１３）を核とし
てセラミックスの表面にめっき層（１４）を形成するこ
とができる。
すなわち、上記方法により酸化物系セラミックスを加工
すると、従来金属化物を析出させることができなかった
酸化物系セラミックスに容易に金 ４属化物（１３）を
生成させることができ、その金属化物（１３）を核とし
て酸化物系セラミックスの所要部分に導体層を形成する
ことができる。したがって。
すると、従来金属化物を析出させることができなかった
酸化物系セラミックスに容易に金 ４属化物（１３）を
生成させることができ、その金属化物（１３）を核とし
て酸化物系セラミックスの所要部分に導体層を形成する
ことができる。したがって。
これをたとえば印刷配線板に応用すれば、材料の低価格
化が実現でき、特殊な用途への利用だけでなく、−船釣
な用途への利用も可能となる。
化が実現でき、特殊な用途への利用だけでなく、−船釣
な用途への利用も可能となる。
なお、上記実施例は、酸化物系セラミックスについて述
べたが、この発明は、同様の特性をもつ炭化物系セラミ
ックスについても同様に実施スることができる。
べたが、この発明は、同様の特性をもつ炭化物系セラミ
ックスについても同様に実施スることができる。
窒化物系セラミックスまたは金属を混入して、酸化物系
セラミックスまたは炭化物系セラミックスを主成分とす
るセラミックスを形成し、このセラミックスに不活性ガ
ス雰囲気下でレーザ光を照射して熱分解させると、その
照射部分にガラス層のほかに金属化物を生成させること
ができ、その金属化物を核としてセラミックスの所要部
分に導体層を形成することができる。
セラミックスまたは炭化物系セラミックスを主成分とす
るセラミックスを形成し、このセラミックスに不活性ガ
ス雰囲気下でレーザ光を照射して熱分解させると、その
照射部分にガラス層のほかに金属化物を生成させること
ができ、その金属化物を核としてセラミックスの所要部
分に導体層を形成することができる。
第１図（Ａ）ないしくＣ）図はそれぞれこの発明の一実
施例である酸化物系セラミックスの加工方法の説明図、
第１図（Ａ）および（Ｂ）図はそれぞれ従来の酸化物系
セラミックスの加工における問題点を説明するための図
である。
施例である酸化物系セラミックスの加工方法の説明図、
第１図（Ａ）および（Ｂ）図はそれぞれ従来の酸化物系
セラミックスの加工における問題点を説明するための図
である。
Claims (1)
- 窒化物系セラミックスまたは金属を混入してなる酸化物
系セラミックスまたは窒化物系セラミックスまたは金属
を混入してなる炭化物系セラミックスに不活性ガス雰囲
気下でレーザ光を照射して熱分解により金属化物を形成
させることを特徴とするセラミックスの加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29967187A JPH01141889A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | セラミックスの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29967187A JPH01141889A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | セラミックスの加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01141889A true JPH01141889A (ja) | 1989-06-02 |
Family
ID=17875563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29967187A Pending JPH01141889A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | セラミックスの加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01141889A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6379755B2 (en) | 1992-02-25 | 2002-04-30 | Denso Corporation | Cylindrical coil and production process thereof |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP29967187A patent/JPH01141889A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6379755B2 (en) | 1992-02-25 | 2002-04-30 | Denso Corporation | Cylindrical coil and production process thereof |
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