JPH01134425A - Recording display element and method for using said element - Google Patents

Recording display element and method for using said element

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JPH01134425A
JPH01134425A JP62294658A JP29465887A JPH01134425A JP H01134425 A JPH01134425 A JP H01134425A JP 62294658 A JP62294658 A JP 62294658A JP 29465887 A JP29465887 A JP 29465887A JP H01134425 A JPH01134425 A JP H01134425A
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JP
Japan
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liquid crystal
film
recording
polymer
erasing
Prior art date
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Pending
Application number
JP62294658A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Hoshino
星野 博史
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Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enable erasing in a short period of time by crosslinking a film formable liquid crystal and heating a recording display element to the transparent point of the film formable liquid crystal or above then rapidly cooling the same to execute recording by forming a light scattering state, and by executing erasing at need. CONSTITUTION:The film formable liquid crystal is crosslinked and a high-polymer liquid crystal and/or nonliquid crystalline high-polymer compd. is crosslinked. The temp. at which the film formable liquid crystal is transformed from a liquid crystal phase to an isotropic liquid, i.e., the transparent point is usually >=0 deg.C and is more preferably >=50 deg.C. Recording with the recording display element is executed by heating the element to the transparent point or above, then rapidly cooling the same to form the light scattering state. Erasing is executed by maintaining the element for the specified period of time or above at the temp. between the glass transition point and transparent point of the film formable liquid crystal. The liquid crystal structure is formed in the crosslinked high polymer and the film formable liquid crystal is crosslinked in such a manner; therefore, the rapid erasing is attained when the element is maintained for the specified period of time or above at the temp. between the transparent point and the glass transition point.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、記録表示素子および使用法に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to recording and display elements and methods of use.

[従来の技術] 近年、ポリアクリレート系などの高分子液晶の記録表示
素子への用途開発が活発化し、レーザで書込み・消去が
行えるようになってきた(例えば応用物理学会1987
年春29O〜ト8)、光散乱性の状態の高分子液晶にレ
ーザ照射し、透明点以上から急冷することによって透明
な非晶ガラス状態に書込みされる、消去は透明点より少
し低い温度で一定時間以上保持(アニール)すると液晶
相が再生して書込み前の状態に戻る。
[Prior Art] In recent years, the development of applications for recording and display devices using polymer liquid crystals such as polyacrylate-based liquid crystals has become active, and it has become possible to write and erase data using lasers (for example, the Japan Society of Applied Physics 1987
Spring 2015 29O-8) Writing is written into a transparent amorphous glass state by irradiating a light-scattering polymer liquid crystal with a laser and rapidly cooling it from above the clearing point. Erasing is constant at a temperature slightly lower than the clearing point. When held (annealed) for a period of time or longer, the liquid crystal phase is regenerated and returns to the state before writing.

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、消去に時間がかかりすぎるという問題点
がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, there is a problem that erasing takes too much time.

[問題を解決するための手段] 本発明者らは、消去を短時間に行える素子および使用法
について鋭意検討した結果、本発明に到達した。
[Means for Solving the Problems] The present inventors have arrived at the present invention as a result of extensive studies on elements that can perform erasing in a short time and methods of use.

すなわち本発明は、液晶化合物および必要により非液晶
性高分子化合物を含む造膜性液晶から成る記録表示素子
において、造膜性液晶が架橋されていることを特徴とす
る記録表示素子(第一発明)および液晶化合物および必
要により非液晶性高分子化合物を含み架橋されている造
膜性液晶から成る記録表示素子を造膜性液晶の透明点以
上に加熱後急冷し、光散乱状態を形成して記録を行い、
必要により消去を行うことを特徴とする記録表示素子の
使用法(第二発明)である。
That is, the present invention provides a recording/display element comprising a film-forming liquid crystal containing a liquid crystal compound and optionally a non-liquid crystal polymer compound, wherein the film-forming liquid crystal is crosslinked (the first invention). ) and a liquid crystal compound and, if necessary, a non-liquid crystal polymer compound, and a crosslinked film-forming liquid crystal that is heated to a temperature above the clearing point of the film-forming liquid crystal and then rapidly cooled to form a light scattering state. record,
This is a method of using a recording/displaying element (second invention) characterized in that erasing is performed if necessary.

本発明において、液晶化合物には高分子液晶化合物(高
分子液晶と略記)および低分子液晶化合物(低分子液晶
と略記)が含まれる。
In the present invention, liquid crystal compounds include high molecular liquid crystal compounds (abbreviated as polymer liquid crystal) and low molecular liquid crystal compounds (abbreviated as low molecular liquid crystal).

造膜性液晶としては、(1)高分子液晶、(2)高分子
液晶および低分子液晶の混合物、(3)高分子液晶およ
び非液晶性高分子化合物の混合物、(4)低分子液晶お
よび非液晶性高分子化合物の混合物ならびに(5)高分
子液晶、低分子液晶および非液晶性高分子化合物の混合
物があげられる。
Film-forming liquid crystals include (1) polymeric liquid crystals, (2) mixtures of polymeric liquid crystals and low-molecular liquid crystals, (3) mixtures of polymeric liquid crystals and non-liquid crystalline polymer compounds, (4) low-molecular liquid crystals, and Examples include mixtures of non-liquid crystal polymer compounds and (5) mixtures of polymer liquid crystals, low molecular liquid crystals, and non-liquid crystal polymer compounds.

本発明において造膜性液晶は架橋されており、高分子液
晶および/または非液晶性高分子化合物が架橋されてい
る。
In the present invention, the film-forming liquid crystal is crosslinked, and the polymer liquid crystal and/or the non-liquid crystal polymer compound is crosslinked.

高分子液晶は、主鎖型高分子液晶、側鎖型高分子液晶、
主鎖−側鎖複合型高分子液晶(主鎖と側鎖にメソーゲン
を含有する高分子液晶)のいずれを用いることも可能で
ある。
Polymer liquid crystals include main chain type polymer liquid crystal, side chain type polymer liquid crystal,
It is also possible to use any of the main chain-side chain composite polymer liquid crystals (polymer liquid crystals containing mesogens in the main chain and side chains).

主鎖型高分子液晶はメソーゲンが主鎖中に含まれる高分
子化合物で、必要に応じて可撓性のある基(以下「スペ
ーサ」と言う)を含んでいてもよい。
The main chain polymer liquid crystal is a polymer compound in which a mesogen is contained in the main chain, and may contain a flexible group (hereinafter referred to as a "spacer") if necessary.

メソーゲンとしては、0−X−〇として表わされるもの
があげられる。ここで、XとしてはCH=CH,C−C
,CH=CH−Co、Co−0、Co−NH,CH=N
、N=N、N=N、0、↓ −0−などがあげられる。
Examples of mesogens include those represented as 0-X-〇. Here, as X, CH=CH, C-C
, CH=CH-Co, Co-0, Co-NH, CH=N
, N=N, N=N, 0, ↓ -0-, etc.

スペーサとしては、C1〜C12のメチレン鎖、オキシ
エチレン鎖、オキシプロピレン鎖、ジメチルシロキサン
鎖などがあげられる。
Examples of the spacer include C1 to C12 methylene chains, oxyethylene chains, oxypropylene chains, dimethylsiloxane chains, and the like.

主鎖型高分子液晶の例としては、マクロモレキュラーレ
・ヘミ−184巻、253頁(1983年)記載の下記
構造のものをあげることができる。
Examples of main chain type polymeric liquid crystals include those having the following structure described in Macromolecule Hemi, Vol. 184, p. 253 (1983).

[n CH2+T10−O−CO−0−0−CO−0−
0−0+  (1)その他の主鎖型高分子液晶としてポ
リ(γ−ベンジルーグルタメート)などのポリペプチド
、ヒドロキシプロピルセルロースなどのセルロース誘導
体を使用することもできる。
[n CH2+T10-O-CO-0-0-CO-0-
0-0+ (1) Polypeptides such as poly(γ-benzyl glutamate) and cellulose derivatives such as hydroxypropyl cellulose can also be used as other main chain polymer liquid crystals.

側鎖型高分子液晶とは、メソーゲンが側鎖に含まれるも
ので、スペーサが主鎖とメソーゲンとの間に介在してい
てもよい。メソーゲンとしては上記に述べた以外に、コ
レステリル基またはカイラルネマチック基を含むものが
あげられる。側鎖型高分子液晶に用いられる主鎖として
はC−C結合、5i−0結合などがあげられる。前者の
例としては、マクロモノキュラーレ・ヘミ−179巻、
2541頁(1978年)記載の下記化学構造で表わさ
れるものがあげられる。
A side chain type polymer liquid crystal is one in which a mesogen is included in the side chain, and a spacer may be interposed between the main chain and the mesogen. In addition to those mentioned above, mesogens include those containing a cholesteryl group or a chiral nematic group. Examples of the main chain used in side-chain polymer liquid crystals include C--C bonds and 5i-0 bonds. Examples of the former include Macromonoculare Hemi-Volume 179;
Examples include those represented by the following chemical structure described on page 2541 (1978).

→CH2−CH−)− C0o−fCH2+gO−00−OCH3(2)後者の
例としては、特開昭56−79173号公報記載の下記
化学構造で表わされるものがあげられる。
→CH2-CH-)-C0o-fCH2+gO-00-OCH3 (2) Examples of the latter include those represented by the following chemical structure described in JP-A-56-79173.

’0−COO−0−OCH3’0−CO0−CholC
hol =コレステリル基 主鎖−側鎖複合型高分子液晶の例としては、マクロモノ
キュラーレ・ヘミ−;ラピッド・コミュニケーション、
第7巻、389頁(1986年)に記載のものをあげる
ことができる。具体的には、式で示される単位を有する
高分子化合物があげられる。
'0-COO-0-OCH3'0-CO0-CholC
hol = Cholesteryl group Examples of main chain-side chain composite polymer liquid crystals include Macromonoculare Hemi; Rapid Communication;
Examples include those described in Vol. 7, p. 389 (1986). Specifically, a polymer compound having a unit represented by the formula can be mentioned.

強誘電性高分子液晶、具体的にはカイラルスメクティッ
クC相をとる下記式(5)で示される構造単位をもつ化
合物もあげることができる。
Examples include ferroelectric polymer liquid crystals, specifically compounds having a structural unit represented by the following formula (5) that takes a chiral smectic C phase.

本発明において高分子液晶は、架橋されている場合、架
橋可能な基としては、光照射が引き金となる反応、すな
わち光架橋反応を起こす基とそれ以外の基(光架橋以外
の反応により架橋する基)とに大別できる。
In the present invention, when the polymer liquid crystal is crosslinked, the crosslinkable groups include groups that cause a reaction triggered by light irradiation, that is, groups that cause a photocrosslinking reaction, and other groups (that cause crosslinking by reactions other than photocrosslinking). It can be broadly divided into

光架橋反応を起こす基としては、ラジカル重合基、光二
量化する基、アジド基およびカチオン重合基をあげるこ
とができる。
Examples of the group that causes a photocrosslinking reaction include a radical polymerizable group, a photodimerizable group, an azide group, and a cationic polymerizable group.

ラジカル重合基としては、アクリレート基、α−クロル
アクリレート基、メタクリレート基、スチリル基、ビニ
ル基、ビニルエステル基、ビニルケトン基およびアクリ
ルアミド基をあげることができる。
Examples of the radically polymerizable group include an acrylate group, an α-chloroacrylate group, a methacrylate group, a styryl group, a vinyl group, a vinyl ester group, a vinyl ketone group, and an acrylamide group.

このようなラジカル重合基を含む高分子液晶の例として
は、モレキュラー・クリスタルズ・アンド・リキッド・
クリスタルズ 1984年第102巻(レターズ)25
5頁記載のヒドロキシプロピルセルロースのアクリル酸
エステルおよび下記一般式(6)で示される構造単位を
有するものがあげられる。
Examples of polymer liquid crystals containing such radically polymerizable groups include Molecular Crystals and Liquids.
Crystals 1984 Volume 102 (Letters) 25
Examples include the acrylic acid ester of hydroxypropylcellulose described on page 5 and those having a structural unit represented by the following general formula (6).

R (式中、m、nは2〜20の整数、p、qは0.1.2
のいずれか、RはHまたはCH3、Xとしては、CH=
、CH,C−C,CH=CH−Co、C0−01CO−
NH,CH=N、N=N、N=Nなど、 ↓ Yは、CN、OCH3、QC4H9、Cl!、F、CH
3、C4H9、CF3などである。)光二量化する基と
しては、シンナメート基、シンナモイル基、シンナミリ
デンアセテート基、シンナミリデンアセチル基、α−シ
アノシン゛ナミリデンアセテート基、α−シアノシンナ
ミリデンアセチル基、p−フェニレンジアクリレート基
および2−フリルアクリレート基をあげることができる
R (where m and n are integers of 2 to 20, p and q are 0.1.2
, R is H or CH3, and X is CH=
, CH, C-C, CH=CH-Co, C0-01CO-
NH, CH=N, N=N, N=N, etc. ↓ Y is CN, OCH3, QC4H9, Cl! ,F,CH
3, C4H9, CF3, etc. ) Photodimerizable groups include cinnamate group, cinnamoyl group, cinnamylidene acetate group, cinnamylidene acetyl group, α-cyanocinnamylidene acetate group, α-cyanocinnamylidene acetyl group, p-phenylene diacrylate group. and 2-furyl acrylate group.

このような基を含む高分子液晶の例としては、下記一般
式(7)で示される構造単位を有するものがあげられる
Examples of polymeric liquid crystals containing such groups include those having a structural unit represented by the following general formula (7).

[式中、m、n、p、q、R,X、Yは一般式(6)に
おけると同じである。] アジド基を含む高分子液晶の例としては、下記一般式(
8)で示される構造単位を有するものがあげられる。
[In the formula, m, n, p, q, R, X, and Y are the same as in general formula (6). ] As an example of a polymer liquid crystal containing an azide group, the following general formula (
Examples include those having the structural unit shown in 8).

[式中、m、n、p、q、X、Yは一般式(6)におけ
ると同じである。] カチオン重合基としては、エポキシ基、ビニルエーテル
基、 N−ビニルカルバゾール基、クマロン基およびイ
ンデン基があげられる。
[In the formula, m, n, p, q, X, and Y are the same as in general formula (6). ] Examples of the cationically polymerizable group include an epoxy group, a vinyl ether group, an N-vinylcarbazole group, a coumaron group, and an indene group.

光架橋以外の反応により架橋する基としては、イソシア
ナート基(ポリアミン化合物による架橋)、エポキシ基
(ポリアミン化合物、多官能性酸無水物による架橋)、
アミノ基(ポリイソシアナート化合物、ポリエポキシ化
合物、多官能性酸ハライド化合物、多官能性酸無水物に
よる架橋)、水酸基(ポリイソシアナート化合物による
架橋)、トリアルコキシシリル基(水による架橋)、カ
ルボキシル基(金属イオンによる架橋)をあげることが
できる。
Groups that are crosslinked by reactions other than photocrosslinking include isocyanate groups (crosslinking with polyamine compounds), epoxy groups (crosslinking with polyamine compounds and polyfunctional acid anhydrides),
Amino group (crosslinked by polyisocyanate compound, polyepoxy compound, polyfunctional acid halide compound, polyfunctional acid anhydride), hydroxyl group (crosslinked by polyisocyanate compound), trialkoxysilyl group (crosslinked by water), carboxyl group (crosslinking with metal ions).

架橋可能な基のうちで、好ましいものは光架橋する基で
ある。特に好ましいのは、式(7)、(8)で示される
光二量化する基を含む高分子液晶およびアジド基を含む
高分子液晶である。
Among the crosslinkable groups, preferred are photocrosslinkable groups. Particularly preferred are polymeric liquid crystals containing photodimerizable groups represented by formulas (7) and (8) and polymeric liquid crystals containing azide groups.

低分子液晶としては、ビフェニル系およびそのエステル
類、フェニルシクロヘキサン系およびそエステル類、フ
ェニルシクロヘキサン系およびそのエステル類、シクロ
へキシルシクロヘキサン系およびそのエステル類、フエ
ニルジオキサン系およびそのエステル類、フェニルピリ
ミジン系およびそのエステル類などをあげることができ
、またその他にカイラルアルキル基を含む低分子液晶、
具体的には安息香酸フェニルエステル類、ベンジリデン
アニリン類、ビフェニルカルボン酸エステル類のような
岡野光治・小林酸分共編「液晶・基礎編」第7章(培風
館、昭和60年刊行)に記載のものを用いることができ
る。またカイラルアルキル基を含むトラン類(たとえば
特願昭61−43696号明細書に記載のもの)も使用
可能である。
Examples of low-molecular liquid crystals include biphenyl and its esters, phenylcyclohexane and its esters, phenylcyclohexane and its esters, cyclohexylcyclohexane and its esters, phenyldioxane and its esters, and phenylpyrimidine. In addition, low-molecular liquid crystals containing chiral alkyl groups,
Specifically, those described in Chapter 7 of "Liquid Crystal Basics" co-edited by Mitsuharu Okano and Ashibu Kobayashi (Baifukan, published in 1985), such as benzoic acid phenyl esters, benzylideneanilines, and biphenylcarboxylic acid esters. can be used. Tolans containing a chiral alkyl group (for example, those described in Japanese Patent Application No. 43696/1982) can also be used.

非液晶性高分子化合物としては、オレフィン系樹脂、ア
クリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリエチレン系樹脂
、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカー
ボネート系樹脂、スチレン−ブタジェン共重合体、塩化
ビニリデン−アクリロニトリル共重合体などがあげられ
る。
Examples of non-liquid crystalline polymer compounds include olefin resins, acrylic resins, methacrylic resins, polyethylene resins, polyester resins, polyurethane resins, polycarbonate resins, styrene-butadiene copolymers, and vinylidene chloride-acrylonitrile copolymers. Examples include merging.

非液晶性高分子化合物は、架橋可能な基を含んでいる場
合架橋可能な基としては、高分子液晶で記載したのと同
様の基があげられ、好ましいものも同様である。
When the non-liquid crystal polymer compound contains a crosslinkable group, examples of the crosslinkable group include the same groups as those described for the polymer liquid crystal, and preferred ones are also the same.

架橋可能な基は、非液晶性高分子化合物の主鎖、側鎖の
いずれに含まれていてもよい。
The crosslinkable group may be included in either the main chain or the side chain of the non-liquid crystalline polymer compound.

このような架橋性基を含む非液晶性高分子化合物として
は、光硬化樹脂として実用に供されている種々の高分子
化合物を用いることができる。具体的な例としては、グ
リセリンにプロピレンオキシドを多数モル付加重合した
トリオールのトリアクリレートなどをあげることができ
る。
As the non-liquid crystal polymer compound containing such a crosslinkable group, various polymer compounds that are practically used as photocurable resins can be used. A specific example is triacrylate of a triol obtained by addition polymerizing many moles of propylene oxide to glycerin.

非液晶性高分子化合物は通常、造膜性の非液晶性高分子
化合物を用いるが、非造膜性のものを用いてもよい。
A film-forming non-liquid crystal polymer compound is usually used as the non-liquid crystal polymer compound, but a non-liquid crystal polymer compound that is non-film forming may also be used.

本発明において、造膜性液晶がとる中間相としては、ス
メクティック相(スメクティックA、カイラルスメクテ
ィックC相など)、ネマチック相、コレステリック相な
どがあげられ、短い応答時間が必要な場合は、カイラル
スメクティックC相が好ましい。
In the present invention, examples of the intermediate phase taken by the film-forming liquid crystal include smectic phase (smectic A, chiral smectic C phase, etc.), nematic phase, cholesteric phase, etc. If a short response time is required, chiral smectic C phase is preferred.

本発明において造膜性液晶が液晶相から等方性液体に転
移する温度すなわち透明点は、通常0℃以上であるが、
好ましくは50℃以上である。
In the present invention, the temperature at which the film-forming liquid crystal transitions from a liquid crystal phase to an isotropic liquid, that is, the clearing point, is usually 0°C or higher, but
Preferably it is 50°C or higher.

造膜性液晶の一架橋点当たりの平均分子量(MCと略記
)は通常200〜100,0OO1好ましくは300〜
30.000である。
The average molecular weight (abbreviated as MC) per crosslinking point of the film-forming liquid crystal is usually 200 to 100.0OO1, preferably 300 to
It is 30.000.

造膜性液晶には、必要に応じて種々の助剤を予め加える
ことができる。
Various auxiliary agents can be added to the film-forming liquid crystal in advance, if necessary.

光架橋を起こす助剤として光開始剤を造膜性液晶に加え
ておくことができる。
A photoinitiator can be added to the film-forming liquid crystal as an auxiliary agent for causing photocrosslinking.

ラジカル重合基、光二量化する基およびアジド基を含む
ものの光架橋を起こす光開始剤としては、「光・放射線
硬化技術」 (大成社、昭和60年)12頁に記載の化
合物、たとえばアセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒ
ラースケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエー
テル、ベンジルジメチルケタール、チオキサントンおよ
びそれらの誘導体をあげることができる。
Examples of photoinitiators that cause photocrosslinking of substances containing radical polymerizable groups, photodimerizable groups, and azide groups include compounds described in "Light/Radiation Curing Technology" (Taiseisha, 1985), p. 12, such as acetophenone and benzophenone. , Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin ether, benzyl dimethyl ketal, thioxanthone and derivatives thereof.

光カチオン重合を利用する場合の光開始剤としては、特
開昭60−71628号公報および特開昭56−163
121号公報記載のもの、たとえばジフェニルヨードニ
ウムへキサフロオロヒ素、ジフェニルヨードニウムへキ
サフルオロリン、トリフェニルスルホニウムへキサフル
オロリンおよびトリフェニルスルホニウムへキサフルオ
ロリンをあげることができる。
As a photoinitiator when using photocationic polymerization, JP-A-60-71628 and JP-A-56-163 are used.
121, such as diphenyliodonium hexafluoroarsenide, diphenyliodonium hexafluoroline, triphenylsulfonium hexafluoroline, and triphenylsulfonium hexafluoroline.

造膜性液晶には、架橋可能なラジカル重合基を含む高分
子液晶を合成し、加工しあるいは保存する間に架橋する
のを防止するために重合禁止剤を含有させることができ
る。このような重合禁止剤としては特公昭57−284
98号公報記載のもの、たとえば2,6−シーtert
−ブチルヒドロキシトルエンなどのフェノール類;カテ
コール、p−tert−ブチルカテコールなどのカテコ
ール類;ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエ
ーテルなどのハイドロキノン類;ベンゾキノン、2.5
−ジフェニル−p−ベンゾキノンなどのキノン類;ジ−
p−フルオロフェニルアミン、フェノチアジンなどのア
ミン類;銅粉などの公知の重合禁止剤があげられる。
The film-forming liquid crystal can contain a polymerization inhibitor in order to prevent crosslinking during processing, processing, or storage of a polymeric liquid crystal containing a crosslinkable radical polymerizable group. As such a polymerization inhibitor, Japanese Patent Publication No. 57-284
98, for example, 2,6-sheet tert
- Phenols such as butylhydroxytoluene; Catechols such as catechol and p-tert-butylcatechol; Hydroquinones such as hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether; Benzoquinone, 2.5
- Quinones such as diphenyl-p-benzoquinone; di-
Examples include amines such as p-fluorophenylamine and phenothiazine; known polymerization inhibitors such as copper powder.

造膜性液晶には、必要に応じ、延伸時の粘度をコントロ
ールしたり、最終的に得られる硬化物の性能、たとえば
ガラス転移点を変化させなり、硬化速度を変化させるた
めに反応性希釈剤を含有させることができる。反応性希
釈剤としては、特公昭57−28498号公報記載のも
の、たとえばアクリレート類[エチレングリコールジ(
メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、これらのオリゴエステル(メタ)アクリレートな
どの多官能性(メタ)アクリレート:メチル(メタ)ア
クリレート、エチル(メタ)アクリレートなどのアルキ
ルアクリレートなど]、アリル銹導体[フタル酸ジアリ
ルなど]、不飽和ニトリル[(メタ)アクリロニトリル
など]、ビニル芳香族炭化水素(スチレン、ジビニルベ
ンゼンなど]、ビニルエステル(酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニルなど)などがあげられる。
For film-forming liquid crystals, if necessary, reactive diluents are used to control the viscosity during stretching, change the performance of the final cured product, such as the glass transition point, and change the curing speed. can be contained. Examples of reactive diluents include those described in Japanese Patent Publication No. 57-28498, such as acrylates [ethylene glycol di(
meth)acrylate, propylene glycol di(meth)
Polyfunctional (meth)acrylates such as acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and oligoester (meth)acrylates thereof: Methyl(meth)acrylate , alkyl acrylates such as ethyl (meth)acrylate], allyl conductors [diallyl phthalate, etc.], unsaturated nitriles [(meth)acrylonitrile, etc.], vinyl aromatic hydrocarbons (styrene, divinylbenzene, etc.), vinyl esters ( vinyl acetate, vinyl propionate, etc.).

造膜性液晶には液晶の記録を表示あるいは読出す必要上
、二色性色素を造膜性液晶に含有させることも可能であ
る。二色性色素としては、メロシアニン系色素類、アン
トラキノン系色素類、アゾ系色素類、スチリル系色素類
、アゾメチン系色素類、テトラジン系色素類、メチン系
色素類およびスクワリリウム系色素類をあげることがで
きる。
Since it is necessary to display or read out a record of the liquid crystal, the film-forming liquid crystal may contain a dichroic dye. Examples of dichroic pigments include merocyanine pigments, anthraquinone pigments, azo pigments, styryl pigments, azomethine pigments, tetrazine pigments, methine pigments, and squalirium pigments. can.

造膜性液晶には光吸収色素を含有させることができ、記
録光の波長に吸収ある色素としては、半導体レーザを用
いる場合は近赤外線吸収色素を用いるのが好ましく、H
e−Neレーザ、Arレーザ、タングステンランプ、ハ
ロゲンランプなどを用いる場合は可視光吸収色素を用い
るのが好ましい。
The film-forming liquid crystal can contain a light-absorbing dye, and as a dye that absorbs at the wavelength of the recording light, it is preferable to use a near-infrared absorbing dye when using a semiconductor laser.
When using an e-Ne laser, an Ar laser, a tungsten lamp, a halogen lamp, etc., it is preferable to use a visible light absorbing dye.

近赤外線吸収色素は近年種々のものが開発されており、
有機合成化学第43巻、第4号、36〜45頁(198
5)に記載のもの、たとえばフタロシアニン色素、テト
ラデヒドロコリン、ベンゼンジチオールニッケル錯体、
ナフトキノン染料などがあげられる。市販品としては、
IR−750(743) 、IRQ−002(980)
 、IRQ−003(980) (以上日本化薬製)二
NKシリーズたとえばNに−78(800)、123(
817)、125(740)、12B(761)、20
14(780) 、2421(740)、2772(7
70)  (以上日本怒光色素研究所製)、IRアブソ
ーバPAシリーズたとえばP^−1001(1110)
、1003(885) 、1005(850) 、10
06(870)  (三井東圧化学製)がある(上記に
おいて括弧内の数字はλmaxを示す)。
Various near-infrared absorbing dyes have been developed in recent years.
Organic Synthetic Chemistry Vol. 43, No. 4, pp. 36-45 (198
5), such as phthalocyanine dyes, tetradehydrocholine, benzenedithiol nickel complexes,
Examples include naphthoquinone dyes. As a commercially available product,
IR-750 (743), IRQ-002 (980)
, IRQ-003 (980) (manufactured by Nippon Kayaku) Two NK series For example, N-78 (800), 123 (
817), 125 (740), 12B (761), 20
14 (780), 2421 (740), 2772 (7
70) IR absorber PA series (manufactured by Japan Angko Dyes Research Institute), such as P^-1001 (1110)
, 1003 (885) , 1005 (850) , 10
06 (870) (manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.) (in the above, the number in parentheses indicates λmax).

可視光吸収色素としては、ソルベントイエロー98、ソ
ルベントオレンジ72、ソルベントイエロー2、ローダ
ミンBなどがあげられる。
Examples of visible light absorbing dyes include Solvent Yellow 98, Solvent Orange 72, Solvent Yellow 2, and Rhodamine B.

また造膜性液晶には、応答時間短縮または駆動しきい電
圧低下のため非液晶性液体やカイラル物質を含有させる
ことができる。この非液晶性液体としては、2−オキサ
ゾリジノン類、プロピレンカーボネート、ジアルキルビ
スフェノール類、アルキルシクロフェニルシクロヘキサ
ン類などがあげられる。カイラル物質としては安息香酸
−2−メチルブチルエステルなどがあげられる。
Further, the film-forming liquid crystal can contain a non-liquid crystal liquid or a chiral substance in order to shorten the response time or lower the driving threshold voltage. Examples of the non-liquid crystal liquid include 2-oxazolidinones, propylene carbonate, dialkylbisphenols, and alkylcyclophenylcyclohexanes. Examples of chiral substances include benzoic acid-2-methylbutyl ester.

本発明において造膜性液晶の処方例は次のとおりである
0%は重量%である。
In the present invention, an example of the formulation of the film-forming liquid crystal is as follows. 0% is % by weight.

液晶化合物        30〜100% 50〜9
5%(高分子液晶       30〜100 50〜
95)    □(低分子液晶       O〜70
  0〜40 )非液晶性高分子化合物   O〜70
  0〜70(高分子液晶を用いる場合 O〜50 0
〜30 )(低分子液晶を用いる場合 O〜70  4
0〜70 )光開始剤         O〜io  
 o〜5重合禁止剤        O〜50〜0.1
反応性希釈剤       O〜30  0〜10二色
性色素        O〜10 0〜5光吸収色素 
       O〜20  1〜10非液晶性液体  
     O〜20  0〜10カイラル物質    
   O〜20  0〜10液晶化合物のうち、高分子
液晶の量は、゛高分子液晶と低分子液晶の合計重量に基
づいて通常0〜100%、好ましくは50〜100%で
ある。
Liquid crystal compound 30-100% 50-9
5% (polymer liquid crystal 30~100 50~
95) □(Low molecular liquid crystal 0~70
0-40) Non-liquid crystalline polymer compound O-70
0 to 70 (when using polymer liquid crystal O to 50 0
~30) (When using low molecular liquid crystal O~70 4
0-70) Photoinitiator O-io
o~5 Polymerization inhibitor O~50~0.1
Reactive diluent O-30 0-10 Dichroic dye O-10 0-5 Light absorption dye
O~20 1~10 Non-liquid crystal liquid
O~20 0~10 chiral substance
Among the O~200~10 liquid crystal compounds, the amount of polymeric liquid crystal is usually 0~100%, preferably 50~100% based on the total weight of polymeric liquid crystal and low molecular weight liquid crystal.

本発明において造膜性液晶は非品性固体の状態で延伸、
配向することにより加工される。非品性固体の状態は造
膜性液晶を透明点以上から急冷することにより得られる
。具体的には、液晶を透明点以上に通常の方法で加熱し
て等方性液体にしたものを、冷媒に浸漬するなどしてガ
ラス転移点以下に急冷することにより行うことができる
In the present invention, the film-forming liquid crystal is stretched in a non-quality solid state,
It is processed by orientation. The non-quality solid state can be obtained by rapidly cooling the film-forming liquid crystal from above its clearing point. Specifically, this can be done by heating liquid crystal to a temperature above its clearing point using a conventional method to make it an isotropic liquid, and then rapidly cooling it to below its glass transition point by immersing it in a refrigerant or the like.

このような冷媒としては通常、水、液体窒素、ドライア
イス−メタノールなどが用いられる。また冷媒を用いる
代わりに低温の金属板に密着させる、具体的には、たと
えば低温のロールに通すことなどして急冷させることも
可能である。
As such a refrigerant, water, liquid nitrogen, dry ice-methanol, etc. are usually used. Further, instead of using a refrigerant, it is also possible to rapidly cool the material by bringing it into close contact with a low-temperature metal plate, for example, by passing it through a low-temperature roll.

冷却速度は通常10℃/秒以上である。または、透明点
以上の温度からガラス転移点までの時間は通常10秒以
内である。
The cooling rate is usually 10° C./second or more. Alternatively, the time from the temperature above the clearing point to the glass transition point is usually within 10 seconds.

非品性であるかどうかの判定は、通常偏光顕微鏡で複屈
折性を調べることによって可能である。
It is possible to determine whether the product is defective or not by examining the birefringence using a polarizing microscope.

本発明の加工法では、延伸は通常、該造膜性液晶の透明
点以下の温度で行われる。透明点より高い温度では延伸
しても配向が困難である。
In the processing method of the present invention, stretching is usually performed at a temperature below the clearing point of the film-forming liquid crystal. At temperatures higher than the clearing point, it is difficult to orient the film even if it is stretched.

本発明において造膜性液晶の透明点は通常50’C以上
である。
In the present invention, the clearing point of the film-forming liquid crystal is usually 50'C or higher.

延伸法としては、通常の高分子化合物で行われる一軸延
伸法、二軸延伸法、インフレーション法などが可能であ
る。
As the stretching method, a uniaxial stretching method, a biaxial stretching method, an inflation method, etc., which are performed with ordinary polymer compounds, are possible.

延伸するときに、溶媒(たとえばトルエン、クロルベン
ゼン)を加えたり、溶媒の蒸気を含む雰囲気で延伸する
ことが可能である。
When stretching, it is possible to add a solvent (for example, toluene, chlorobenzene) or to stretch in an atmosphere containing solvent vapor.

延伸倍率は、通常50〜i ooo%、好ましくは10
0〜800%である。
The stretching ratio is usually 50 to iooo%, preferably 10
It is 0-800%.

延伸速度は、通常10〜1000%/minである。The stretching speed is usually 10 to 1000%/min.

延伸後の膜厚は、通常0.1〜100μm、好ましくは
0.5〜20μmである。
The film thickness after stretching is usually 0.1 to 100 μm, preferably 0.5 to 20 μm.

膜厚が1μm未満と薄くなると自己支持性が失われ、取
扱いが困難になるが、このような場合でも積層延伸はく
難渋を適用して行うことができる。
When the film thickness is less than 1 μm, self-supporting properties are lost and handling becomes difficult, but even in such a case, lamination and stretching can be applied.

これは延伸前の厚い膜をゴム性の支持板または支持枠に
のせ、延伸した後、別の基体に移す方法であり、応用物
理、49巻、159頁(1980年)に記載されている
。この方法であれば0.05μmまでの薄い延伸膜を作
製できる。
This is a method in which a thick film before stretching is placed on a rubber support plate or support frame, stretched, and then transferred to another substrate, and is described in Applied Physics, Vol. 49, p. 159 (1980). With this method, stretched films as thin as 0.05 μm can be produced.

このような延伸を行った膜は一定方向に配向され、複屈
折は通常0.01〜0.1の範囲である。
A film subjected to such stretching is oriented in a certain direction, and its birefringence is usually in the range of 0.01 to 0.1.

延伸、配向を行った膜は、光架橋性基を含んでいるもの
の場合は、光架橋して固定される。光架橋、固定は、配
向膜を基体に移して行う。
If the stretched and oriented film contains a photocrosslinkable group, it will be photocrosslinked and fixed. Photo-crosslinking and fixing are performed by transferring the alignment film to the substrate.

基体は熱伝導性、平面精度、機械的強度、吸湿性、ソリ
、軽量性、加工性、コストなどを考慮して選択するのが
好ましい。基体としては、ガラス、セラミックス、プラ
スチックス(アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂なと)
、金属などの一般に使用されている記録材料の基体があ
げられる。
The substrate is preferably selected in consideration of thermal conductivity, flatness accuracy, mechanical strength, hygroscopicity, warpage, lightness, workability, cost, etc. Substrates include glass, ceramics, and plastics (acrylic resin, methacrylic resin, polyester resin, polycarbonate resin, epoxy resin, etc.)
, metal, and other commonly used recording material substrates.

これらのうち、平面精度などの点からはガラスが好まし
い。また軽量性、加工性、コストなどの点からはプラス
チックスが好ましい。
Among these, glass is preferable from the viewpoint of flatness accuracy. Furthermore, plastics are preferable from the viewpoint of lightness, workability, cost, etc.

基体の形状は用途に応じ種々変えることができ、たとえ
ば板状、ディスク(円盤)状、ドラム(円筒)状などが
あげられる。
The shape of the base body can be varied depending on the purpose, and examples thereof include a plate shape, a disk shape, a drum shape, and the like.

基体に移して行う場合に造膜性液晶と基体との密着性を
よくするために、粘着剤、接着剤などを用いてもよい。
In order to improve the adhesion between the film-forming liquid crystal and the substrate when it is transferred to the substrate, an adhesive, an adhesive, or the like may be used.

このようなものとしては、ラミネートフィルムに用いら
れているような粘着剤および接着剤を用いることが可能
である。
As such, it is possible to use pressure-sensitive adhesives and adhesives such as those used in laminated films.

本発明において光架橋、固化は光照射によって行われる
。この光としては紫外線があげられる。
In the present invention, photocrosslinking and solidification are performed by light irradiation. This light includes ultraviolet light.

紫外線源としては、たとえば低圧、中圧、高圧または超
高圧水銀灯、紫外螢光ランプなどがあげられる0本発明
における造膜性液晶の光架橋に用いる光の波長は通常2
00〜500nmの任意の波長であり、この波長で充分
硬化する。
Examples of the ultraviolet source include low-pressure, medium-pressure, high-pressure or ultra-high-pressure mercury lamps, ultraviolet fluorescent lamps, etc. The wavelength of the light used for photocrosslinking of the film-forming liquid crystal in the present invention is usually 2.
It is an arbitrary wavelength of 00 to 500 nm, and is sufficiently cured at this wavelength.

また、本発明において光照射を行わなくても、電子線や
α線などの放射線を照射させ、架橋させることができる
Furthermore, in the present invention, crosslinking can be achieved by irradiating radiation such as electron beams or α-rays without performing light irradiation.

光照射、放射線照射等によって造膜性液晶が透明点以上
に温度上昇すると配向性が失われてしまうので、照射は
透明点以下で行われる。そのためには造膜性液晶を冷却
しながら照射してもよい。
If the temperature of the film-forming liquid crystal rises above the clearing point due to light irradiation, radiation irradiation, etc., the orientation will be lost, so the irradiation is performed below the clearing point. For this purpose, the film-forming liquid crystal may be irradiated while being cooled.

また、熱線を遮るフィルター等を用いてもよい。Additionally, a filter or the like that blocks heat rays may be used.

このようにして基体上に形成された液晶膜から成る記録
表示層に加えて、記録表示の目的で種々の機能膜の層を
設けることができる。このようなものとしては光吸収層
、反射層、反射防止層、保護層などをあげることができ
る。
In addition to the recording/display layer consisting of the liquid crystal film thus formed on the substrate, layers of various functional films can be provided for the purpose of recording/displaying. Examples of such a layer include a light absorption layer, a reflection layer, an antireflection layer, and a protective layer.

光吸収層は前述の光吸収色素類を塗布等によって用いる
こともできるが、カーボン、金属(ビスマス、テルル等
)を真空蒸着によって成膜してもよい。
The light-absorbing layer may be formed by coating the above-mentioned light-absorbing dyes, or may be formed by vacuum deposition of carbon or metal (bismuth, tellurium, etc.).

反射層は通常、アルミニウム、銀などを真空蒸着して設
ける。
The reflective layer is usually provided by vacuum-depositing aluminum, silver, or the like.

反射防止層は薄膜ハンドブック820頁(昭和58年、
オーム社)に記載の透明無機化合物、たとえばフッ化マ
グネシウムを蒸着などの手段を行い設゛ 置することが
できる。
The anti-reflection layer is described in the Thin Film Handbook, page 820 (1982,
A transparent inorganic compound, such as magnesium fluoride, described by Ohm Co., Ltd., can be installed by means such as vapor deposition.

保護層は透明な無機化合物、たとえば酸化ケイ素および
窒化アルミニウムならびに透明なプラスチック類を用い
ることができる。
The protective layer can use transparent inorganic compounds such as silicon oxide and aluminum nitride as well as transparent plastics.

記録層、光吸収層、反射層および保護層の厚さは各々通
常0.05〜10μm、0.05〜1μmおよび0.1
〜100μmである。反射防止層の場合は通常0、01
〜1μmであるが、式 (式中、λは記録、読出しおよび消去に用いる光の波長
、nは屈折率、mは0および自然数である。)の膜厚を
選んだときに最も大きな効果が得られる。
The thickness of the recording layer, light absorption layer, reflection layer and protective layer is usually 0.05 to 10 μm, 0.05 to 1 μm and 0.1 μm, respectively.
~100 μm. For anti-reflection layer, usually 0,01
~1 μm, but the greatest effect is obtained when the film thickness is chosen according to the formula (where λ is the wavelength of light used for recording, reading, and erasing, n is the refractive index, and m is 0 or a natural number). can get.

本発明の記録表示素子は、透明点以上に加熱後急冷して
光散乱状態を形成することにより記録する。
The recording/display element of the present invention records by heating above the clearing point and then rapidly cooling to form a light scattering state.

この素子は光を用いて記録することができ、記録光とし
ては、半導体レーザ、アルゴンレーザ、ヘリウム・ネオ
ンレーザのレーザ光が用いられる。
This element can record using light, and laser light such as a semiconductor laser, an argon laser, or a helium-neon laser is used as the recording light.

レーザ光の照射方法としては、−ffiに0.7〜2μ
mφに絞ったビームをパルス幅0.1〜10μsecで
、エネルギー5〜20111Wで照射する方法があげら
れる。
As for the laser beam irradiation method, -ffi is 0.7 to 2μ.
An example is a method of irradiating a beam focused to mφ with a pulse width of 0.1 to 10 μsec and an energy of 5 to 20111 W.

この素子の記録光としては、また、通常の光源、たとえ
ばタングステンランプ、キセノンランプ、高圧水銀灯お
よび発光ダイオードからの他の記録光を用いることもで
きる。
As recording light for this element it is also possible to use other recording light from conventional light sources, such as tungsten lamps, xenon lamps, high-pressure mercury lamps and light-emitting diodes.

他の記録光を用いる場合、光源と光学素子との間にパタ
ーンを配置して書込むことができる。また、液晶プリン
タ、発光ダイオードプリンタなどのアレイ化された装置
を用いることもできる。
When using other recording lights, a pattern can be placed and written between the light source and the optical element. Furthermore, an arrayed device such as a liquid crystal printer or a light emitting diode printer can also be used.

また記録に光でなく熱源、たとえばサーマルプリンタヘ
ッドなどを用いることもできる。
Furthermore, instead of light, a heat source such as a thermal printer head can be used for recording.

高密度光記録において読出しは、一般に光学ヘッドを用
いて行われる。
In high-density optical recording, reading is generally performed using an optical head.

消去は、造膜性液晶のガラス転移点(Tg)と透明点と
の間の温度に一定時間以上保持して行う。
Erasing is performed by maintaining the temperature between the glass transition point (Tg) and the clearing point of the film-forming liquid crystal for a certain period of time or more.

消去は熱または光によって行うことができる。Erasing can be done by heat or light.

熱によって消去する方法としては、赤外線ランプ、ニク
ロム線ヒータなどで通常100〜150℃の温度で数十
秒間加熱する方法があげられる。
As a method of erasing by heat, there is a method of heating with an infrared lamp, a nichrome wire heater, etc., usually at a temperature of 100 to 150° C. for several tens of seconds.

光によって消去する方法において、光としては前述の記
録に使用することができる半導体レーザな゛どのレーザ
光があげられる。記録と消去に別のレーザ(たとえば半
導体レーザとアルゴンレーザ)を用いることもできる。
In the method of erasing with light, the light includes laser light such as a semiconductor laser that can be used for the above-mentioned recording. Separate lasers (eg, a semiconductor laser and an argon laser) can also be used for recording and erasing.

レーザ光によって消去する方法としてはフォーカス(焦
点)を通常2〜10μmに絞り、1〜50μsec程度
の時間でレーザを照射する方法があげられる。
An example of a method for erasing with a laser beam is to narrow down the focus to usually 2 to 10 μm and irradiate the laser for a time of about 1 to 50 μsec.

記録・消去は繰り返しくた。とえば10回ないし100
回以上)行うことができる。
Recording and erasing is a pain in the ass. For example 10 times or 100
more than once).

[実施例] 以下、実施例により、本発明をさらに説明するが、本発
明はこれに限定されるものではない。
[Examples] The present invention will be further described below with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 4−アリロキシ安息香酸−4°−シアノフェニルエステ
ル[化合物(1)]を次のように合成した。まず、4−
オキシ安息香酸138gおよび水酸化カリウム132g
を水270m1に溶解し、これにテトラブチルアンモニ
ウムプロミド6gを加えた後、塩化アリルioo、のト
ルエン希釈液を40℃で撹拌しながら滴下した。反応終
了後、水層を4N−塩酸でpHを3にし、水洗後の固形
物をエタノールで再結晶し、アリロキシ安息香酸89.
Ogを得た(収率49%)。
Example 1 4-aryloxybenzoic acid-4°-cyanophenyl ester [compound (1)] was synthesized as follows. First, 4-
138g oxybenzoic acid and 132g potassium hydroxide
was dissolved in 270 ml of water, 6 g of tetrabutylammonium bromide was added thereto, and then a toluene diluted solution of allyl chloride ioo was added dropwise with stirring at 40°C. After completion of the reaction, the pH of the aqueous layer was adjusted to 3 with 4N hydrochloric acid, and the solid after washing with water was recrystallized with ethanol to give allyloxybenzoic acid (89%).
Og was obtained (yield 49%).

次に、アリロキシ安息香酸36.4.に塩化チオニル3
5m1を加えて撹拌し、反応混合物が透明になってから
過剰の塩化チオニルを除去し、4−シアノフェノール2
3.8.、トルエン50m1、ジメチルホルムアミド1
mlを加えて、水洗後、トルエンを除去し、エタノール
から再結晶して34.6.の化合物(1)を得た(収率
62%)、化合物(1)は液晶相をもたず、融点は10
4℃であった。
Next, allyloxybenzoic acid 36.4. thionyl chloride 3
Add 5 ml of 4-cyanophenol and stir until the reaction mixture becomes clear, remove excess thionyl chloride, and add 4-cyanophenol 2
3.8. , toluene 50ml, dimethylformamide 1
ml was added, washed with water, toluene was removed, and recrystallized from ethanol to obtain 34.6. Compound (1) was obtained (yield 62%). Compound (1) did not have a liquid crystal phase and had a melting point of 10
The temperature was 4°C.

次に化合物(1)8.37gおよびポリメチルハイドロ
シロキサン(重合度は240、信越化学■製r X−6
499J )  1.566gをテトラヒドロフラン2
5m1に溶解し、塩化白金銀3■を加えて45℃で5時
間撹拌した。この生成物をメタノールにて3回再沈し乾
燥させて8.2gの固形物を得た。この生成物を偏光顕
微鏡観察したところ、120℃以下で液晶性を示す高分
子液晶であることが確認された。示差熱走査熱量測定(
DSC>によるとガラス転移点は18℃であった[この
ものを高分子液晶(1)とする]。
Next, 8.37 g of compound (1) and polymethylhydrosiloxane (polymerization degree 240, R X-6 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
499J) 1.566g of tetrahydrofuran 2
The solution was dissolved in 5ml, 3cm of platinum silver chloride was added, and the mixture was stirred at 45°C for 5 hours. This product was reprecipitated three times with methanol and dried to obtain 8.2 g of solid. When this product was observed under a polarizing microscope, it was confirmed that it was a polymeric liquid crystal exhibiting liquid crystallinity at temperatures below 120°C. Differential thermal scanning calorimetry (
According to DSC>, the glass transition point was 18° C. [This material will be referred to as polymer liquid crystal (1)].

次に、サンニツクスポリオールGP−300[グリセリ
ンにプロピレンオキシドを平均3.6モル付加させたも
の。三洋化成工業■製]  300g、イソホロンジイ
ソシアネート625g、シクロへキサノン300 gお
よびジブチル錫ジラウレート50■をコルベンに投入し
、75〜85℃で4時間反応させた後、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート348gおよびハイドロキノンモノ
メチルエーテル0.1gを仕込んで、さらに200時間
反応せてアクリロイル基を1分子中3個有するオリゴマ
ー溶液(1)を得た。
Next, SANNIX Polyol GP-300 [an average of 3.6 moles of propylene oxide added to glycerin. Sanyo Chemical Industries, Ltd.] 300 g, isophorone diisocyanate 625 g, cyclohexanone 300 g and dibutyltin dilaurate 50 g were charged into a colben and reacted at 75 to 85°C for 4 hours, followed by 348 g of 2-hydroxyethyl acrylate and hydroquinone monomethyl. 0.1 g of ether was charged, and the reaction was further carried out for 200 hours to obtain an oligomer solution (1) having three acryloyl groups in one molecule.

高分子液晶(1) 7.0g、オリゴマー溶液(1)3
.7g、IRQ−003(日本化薬■製)0.3.およ
びベンゾインメチルエーテル0.5gを均一混合した後
、溶媒を除去して得た固形物は、透明点が86℃の造膜
性液晶であった。これを95℃に加熱し一70℃のメタ
ノール中に投入して非晶質固体を得た。これを20℃で
150%延伸して得たフィルムをガラス板にのせ紫外線
照射して架橋した。
Polymer liquid crystal (1) 7.0g, oligomer solution (1) 3
.. 7g, IRQ-003 (manufactured by Nippon Kayaku ■) 0.3. After homogeneously mixing 0.5 g of benzoin methyl ether and removing the solvent, the solid obtained was a film-forming liquid crystal with a clearing point of 86°C. This was heated to 95°C and poured into methanol at -70°C to obtain an amorphous solid. A film obtained by stretching this by 150% at 20° C. was placed on a glass plate and crosslinked by irradiation with ultraviolet rays.

次に半導体レーザ(830nm)を15mWの出力で約
2μmφのビームに絞り照射、透明点以上に加熱、急冷
するとその部分が不透明な状態に変化し、記録が行われ
た。また、同じ部分を15mWの出力、約4μmφのビ
ーム径で5μsec照射するとガラス転移点と透明点と
の間に一定時間保持され、消去が行われた。同じ記録・
消去の操作を10回繰り返しできることが認められた。
Next, a semiconductor laser (830 nm) was irradiated with a focused beam of about 2 μmφ at an output of 15 mW, heated to above the clearing point, and rapidly cooled, the area changed to an opaque state and recording was performed. Further, when the same part was irradiated for 5 μsec with an output of 15 mW and a beam diameter of approximately 4 μmφ, the beam was maintained between the glass transition point and the clearing point for a certain period of time, and erasing was performed. Same record/
It was confirmed that the erasing operation could be repeated 10 times.

実施例2 実施例1で合成した化合物(1)8.37gおよびポリ
メチルハイドロシロキサンrX−6499J  1.9
14.をテトラヒドロフラン25m1に溶解し、塩化白
金酸3■を加えて45℃で5時間撹拌した。次にメタク
リル酸アリルエステル(アルドリッチ製)0.5gおよ
びハイドロキノンモノメチルエーテル10■を加えてさ
らに5時間撹拌した。この生成物をメタノールで3回再
沈し乾燥させて8.9gの固形物を得た。
Example 2 8.37 g of compound (1) synthesized in Example 1 and 1.9 g of polymethylhydrosiloxane rX-6499J
14. was dissolved in 25 ml of tetrahydrofuran, 3 ml of chloroplatinic acid was added, and the mixture was stirred at 45°C for 5 hours. Next, 0.5 g of allyl methacrylate (manufactured by Aldrich) and 10 μm of hydroquinone monomethyl ether were added, and the mixture was further stirred for 5 hours. This product was reprecipitated three times with methanol and dried to obtain 8.9 g of solid.

この生成物を偏光顕微鏡観察したところ、105℃以下
で液晶性を示す高分子液晶であることが確認された。D
SCによるとガラス転移点は7℃であった(このものを
高分子液晶(2)とする)。
When this product was observed under a polarizing microscope, it was confirmed that it was a polymeric liquid crystal exhibiting liquid crystallinity at temperatures below 105°C. D
According to SC, the glass transition point was 7° C. (this material is referred to as polymer liquid crystal (2)).

高分子液晶(2)10gにベンゾインメチルエーテルo
、s、、 IRQ−0030,3,を均一混合し、11
0℃に加熱、−70℃のメタノールに投入すると、非晶
質固体が得られた。これを20℃で200%延伸して得
   ′たフィルムを実施例1と同様に架橋した。
Add benzoin methyl ether to 10 g of polymer liquid crystal (2)
,s,, IRQ-0030,3, are mixed uniformly, 11
Heating to 0°C and pouring into -70°C methanol gave an amorphous solid. This was stretched 200% at 20°C, and the resulting film was crosslinked in the same manner as in Example 1.

記録・消去は実施例1と同様に行って記録・消去が10
回行えることを確認した。
Recording/erasing was performed in the same manner as in Example 1, and recording/erasing was 10
I confirmed that it can be done twice.

[発明の効果] 本発明の記録表示素子は液晶構造が架橋高分子中に形成
されており、以下のような効果を奏する。
[Effects of the Invention] The recording/display element of the present invention has a liquid crystal structure formed in a crosslinked polymer, and has the following effects.

1、消去にかかる時間が短縮できる。造膜性液晶が架橋
されているので、透明点とガラス転移点とのおいての温
度に一定時間以上保持すると速やかに消去される。
1. The time required for erasing can be shortened. Since the film-forming liquid crystal is cross-linked, it is quickly erased when kept at a temperature between the clearing point and the glass transition point for a certain period of time or more.

2、本発明の素子は、耐久性に優れている。現在使用さ
れている書換え型光記録媒体は金属であるため、本質的
に酸化されやすい。長期の耐久性に問題がある。
2. The device of the present invention has excellent durability. Since the rewritable optical recording media currently in use are made of metal, they are inherently susceptible to oxidation. There are problems with long-term durability.

3、架橋までの製造工程は、通常のプラスチック′フィ
ルムと同様の加工法が使用でき、加工性がよいので大面
積化に適している。
3. The manufacturing process up to crosslinking can be carried out using the same processing methods as for ordinary plastic films, and because of its good processability, it is suitable for large-area applications.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の記録表示素子の一例を示す模式的断面
図である。 1、反射防止層 2、透明基板 3、液晶層 4、光吸収層 図  面 箪1図
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the recording/display element of the present invention. 1. Anti-reflection layer 2, transparent substrate 3, liquid crystal layer 4, light absorption layer diagram Mentan 1 diagram

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、液晶化合物および必要により非液晶性高分子化合物
を含む造膜性液晶から成る記録表示素子において造膜性
液晶が架橋されていることを特徴とする記録表示素子。 2、液晶化合物および必要により非液晶性高分子化合物
を含み架橋されている造膜性液晶から成る記録表示素子
を造膜性液晶の透明点以上に加熱後急冷し、光散乱状態
を形成して記録を行い、必要により消去を行うことを特
徴とする記録表示素子の使用法。 3、消去を造膜性液晶のガラス転移点と透明点との間の
温度に一定時間以上保持して行う特許請求範囲第2項記
載の使用法。 4、造膜性液晶が高分子液晶化合物またはこれと非液晶
性高分子化合物から成る特許請求範囲第2項または第3
項記載の使用法。 5、造膜性液晶が低分子液晶と高分子液晶化合物および
/または非液晶性高分子化合物から成る特許請求範囲第
2項〜第4項のいずれか一項に記載の使用法。 6、造膜性液晶が300〜30,000の一架橋点当た
り平均分子量を有する特許請求範囲第2項〜第5項のい
ずれか一項に記載の使用法。 7、造膜性液晶が50℃以上の透明点を有する特許請求
範囲第2項〜第6項のいずれか一項に記載の使用法。
[Scope of Claims] 1. A recording/display element comprising a film-forming liquid crystal containing a liquid crystal compound and, if necessary, a non-liquid crystal polymer compound, wherein the film-forming liquid crystal is crosslinked. 2. A recording display element made of a crosslinked film-forming liquid crystal containing a liquid crystal compound and, if necessary, a non-liquid crystal polymer compound, is heated to a temperature above the clearing point of the film-forming liquid crystal and then rapidly cooled to form a light scattering state. A method of using a recording/display element characterized by recording and, if necessary, erasing. 3. The method according to claim 2, wherein erasing is carried out by holding the film-forming liquid crystal at a temperature between the glass transition point and the clearing point for a certain period of time or more. 4. Claims 2 or 3 in which the film-forming liquid crystal is composed of a polymer liquid crystal compound or this and a non-liquid crystal polymer compound
Usage as described in section. 5. The method according to any one of claims 2 to 4, wherein the film-forming liquid crystal comprises a low-molecular liquid crystal, a polymer liquid crystal compound, and/or a non-liquid crystal polymer compound. 6. The method according to any one of claims 2 to 5, wherein the film-forming liquid crystal has an average molecular weight per crosslinking point of 300 to 30,000. 7. The method of use according to any one of claims 2 to 6, wherein the film-forming liquid crystal has a clearing point of 50°C or higher.
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