JPH01132185A - Pulse power-supply device - Google Patents
Pulse power-supply deviceInfo
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- JPH01132185A JPH01132185A JP29088387A JP29088387A JPH01132185A JP H01132185 A JPH01132185 A JP H01132185A JP 29088387 A JP29088387 A JP 29088387A JP 29088387 A JP29088387 A JP 29088387A JP H01132185 A JPH01132185 A JP H01132185A
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- H—ELECTRICITY
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気スイッチを内包するパルス電源装置に係り
、特にエキシマレーザ、フッ素分子レーザ、炭酸ガスレ
ーザ、ハロゲン化水銀レーザ、金属蒸気レーザ等の高速
繰り返し励起に利用される電源装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a pulse power supply device incorporating a magnetic switch, and particularly relates to a high-speed power supply device such as an excimer laser, a fluorine molecular laser, a carbon dioxide laser, a mercury halide laser, a metal vapor laser, etc. The present invention relates to a power supply device used for repeated excitation.
従来、容量移行型レーザ励起電源の1次側回路としては
サイラトロンまたはスパークギャップをスイッチとした
ものがある。この種のものとしては実開昭60−961
82号公報に記載されているものが知られており、第4
図に示すような構成となっている。Conventionally, the primary side circuit of a capacitive transfer type laser excitation power source has a thyratron or a spark gap as a switch. As for this kind of thing, it is Utsukai 60-961
The one described in Publication No. 82 is known, and the one described in No. 4
The configuration is as shown in the figure.
これは最終段の可飽和インダクタS■の後段に、この可
飽和インダクタSIの磁気コアを飽和させるための磁化
電流を流すため、最終段のパルス幅圧縮回路における可
飽和インダクタの後段にコンデンサCAとバイパスイン
ダクタLBとを並列に接続してこの両端を出力端とした
ものである。This is because a magnetizing current for saturating the magnetic core of the saturable inductor SI flows after the saturable inductor S in the final stage, so a capacitor CA is installed after the saturable inductor in the pulse width compression circuit in the final stage. A bypass inductor LB is connected in parallel, and both ends thereof are used as output ends.
そしてこの出力端にレーザ負荷LDを並列に挿入したも
のである。PSは電源、SCRはスイッチング素子であ
る。A laser load LD is inserted in parallel to this output end. PS is a power supply, and SCR is a switching element.
しかし、前記した従来の方式では、可飽和インダクタS
lを飽和させるためにバイパスインダクタLBをレーザ
負荷LDに並列に挿入するものであるため、バイパスイ
ンダクタLBの磁性材料としては、高周波領域において
未飽和時の透磁率が大であり、かつ、優れた角型のヒス
テリシス特性を備えたものが要求される。However, in the conventional method described above, the saturable inductor S
Since the bypass inductor LB is inserted in parallel to the laser load LD in order to saturate A square type with hysteresis characteristics is required.
なぜなら未飽和時の透磁率が小の磁性材料を用いたとす
ると磁化電流を増大せざるを得ないが、この電流がバイ
パスインダクタLBを介してアースへ流入してしまうた
めレーザ負荷LDに供給されるべき電流が減少すること
となるからである。This is because if a magnetic material with low magnetic permeability when unsaturated is used, the magnetizing current must be increased, but this current flows into the ground via the bypass inductor LB and is therefore not supplied to the laser load LD. This is because the power current will decrease.
しかし、仮に可飽和インダクタSIとして優れた特性を
有するものを用いたとしても、このバイパスインダクタ
LBによってパルス電源の繰り返し周波数が低く押さえ
られ、あわせて能率も低下してしまうという問題がある
。However, even if a saturable inductor SI having excellent characteristics is used, there is a problem in that the repetition frequency of the pulsed power source is kept low by the bypass inductor LB, and the efficiency is also reduced.
また、信頼性、寿命、及び出力の点でも充分な性能を得
られず、さらに部品点数も増加することから装置自体も
大形になるという欠点がある。In addition, sufficient performance cannot be obtained in terms of reliability, lifespan, and output, and the number of parts increases, making the device itself large.
本発明は前記事項に鑑みてなされたもので、能率が高く
、信頼性、寿命、及び出力の点で充分な特性が得られ、
あわせて装置の小形化をも図ることができるようにした
パルス電源装置を提供することを技術的課題とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned matters, and has high efficiency and sufficient characteristics in terms of reliability, life, and output.
A technical object of the present invention is to provide a pulse power supply device that can also be miniaturized.
本発明は前記技術的課題を解決するために、充電電源P
Sに対して直列に接続された可飽和インダクタSIと、
充電電源PSに対して並列に接続されたコンデンサとか
らなるパルス幅圧縮回路と、このパルス幅圧縮回路に前
記充電電源を断続的に接続するスイッチ手段を備え、前
記パルス幅圧縮回路の出力端に接続されたレーザ負荷L
Dを繰り返し励起するためのパルス電源装置において以
下のような構成とした。In order to solve the above technical problem, the present invention provides a charging power source P
a saturable inductor SI connected in series with S;
A pulse width compression circuit including a capacitor connected in parallel to the charging power source PS, and a switch means for intermittently connecting the charging power source to this pulse width compression circuit, and an output terminal of the pulse width compression circuit. Connected laser load L
A pulse power supply device for repeatedly exciting D had the following configuration.
即ち、パルス幅圧縮回路における可飽和インダクタSI
の後段にコンデンサCのみを並列に接続し、このコンデ
ンサCの両端を出力端2とした。That is, the saturable inductor SI in the pulse width compression circuit
Only a capacitor C was connected in parallel at the latter stage, and both ends of this capacitor C were used as output terminals 2.
前記可飽和インダクタSIとしてはコアにアモルファス
金属を使用したものとすることができる。The saturable inductor SI may have a core made of amorphous metal.
前記レーザ負荷LDとしては例えばパルス放電エキシマ
レーザを用いることができる。For example, a pulse discharge excimer laser can be used as the laser load LD.
電源の出力端にバイパスインダクタが接続されないため
、この部分での電力損失がなく、能率が向上するととも
に、信頼性、寿命、及び出力の点で優れた特性が得られ
る。Since no bypass inductor is connected to the output end of the power supply, there is no power loss in this part, improving efficiency and providing excellent characteristics in terms of reliability, lifespan, and output.
本発明の実施例を第1図ないし第3図に基づいて説明す
る。Embodiments of the present invention will be described based on FIGS. 1 to 3.
高圧充電電源PSの出力端にスイッチ手段としてのサイ
リスタSCRが並列に接続されているとともに、高圧充
電電源PSの出力端はエネルギー蓄積コンデンサCoを
介して昇圧用のパルストランスTの1次側に接続されて
いる。A thyristor SCR as a switching means is connected in parallel to the output end of the high voltage charging power supply PS, and the output end of the high voltage charging power supply PS is connected to the primary side of a step-up pulse transformer T via an energy storage capacitor Co. has been done.
パルストランスTの2次側にはコンデンサCIと可飽和
インダクタSIIとが並直列接続されており、以下同様
に、コンデンサC2及び可飽和インダクタS12、コン
デンサC3及び可飽和インダクタSI3が夫々並直列接
続されている。On the secondary side of the pulse transformer T, a capacitor CI and a saturable inductor SII are connected in parallel and series, and similarly, a capacitor C2 and a saturable inductor S12, a capacitor C3 and a saturable inductor SI3 are connected in parallel and series, respectively. ing.
前記各可飽和インダクタは、磁性材料としてアモルファ
ス金属が用いられており、これら可飽和インダクタ及び
コンデンサはパルス幅圧縮回路を構成している。Each saturable inductor uses an amorphous metal as a magnetic material, and these saturable inductors and capacitors constitute a pulse width compression circuit.
そして可飽和インダクタSI3の後段にコンデンサCの
みを並列に接続し、このコンデンサCの両端を出力端2
としである。Then, only a capacitor C is connected in parallel after the saturable inductor SI3, and both ends of this capacitor C are connected to the output terminal 2.
It's Toshide.
以上のように構成されたパルス放電エキシマレーザ励起
電源1の出力端2にレーザ負荷LDが並列に接続されて
いる。レーザ負荷LDにはレーザ負荷の構造的なインダ
クタンス(浮遊インダクタンス)があり、第1図におい
てコンデンサCとレーザ負荷LDとの間に仮想的に接続
されたインダクタンスLHとして示されている。なお前
記可飽和インダクタのコアはアモルファス金属で形成す
ることかでき、この場合は可飽和インダクタの特性を向
上させることができる。A laser load LD is connected in parallel to the output end 2 of the pulse discharge excimer laser excitation power source 1 configured as described above. The laser load LD has a structural inductance (stray inductance) of the laser load, which is shown in FIG. 1 as an inductance LH virtually connected between the capacitor C and the laser load LD. Note that the core of the saturable inductor may be formed of an amorphous metal, and in this case, the characteristics of the saturable inductor can be improved.
以下、動作例を説明する。まず、高圧の充電電源PSに
よりエネルギー蓄積コンデンサCOを3KVに充電して
おき、前記サイリスクSCRのゲートGにトリガを入力
するとサイリスタ5Cr(は導通し、エネルギー蓄積コ
ンデンサCOの電荷はパルストランスTの1次側に流入
する。するとパルストランスTの2次側には30KVな
いし40KVのパルス電圧を生じ、コンデンサCtがそ
の電圧に充電される。このときの電流パルス幅(II)
は9μsとなった。An example of operation will be explained below. First, the energy storage capacitor CO is charged to 3KV by the high-voltage charging power supply PS, and when a trigger is input to the gate G of the thyristor SCR, the thyristor 5Cr becomes conductive, and the charge of the energy storage capacitor CO is 1 KV of the pulse transformer T. Then, a pulse voltage of 30KV to 40KV is generated on the secondary side of the pulse transformer T, and the capacitor Ct is charged to that voltage.At this time, the current pulse width (II)
was 9 μs.
この状態では可飽和インダクタSllは未飽和状態にあ
り、インダクタンスが大きいため電流(I2)は殆ど流
れず、コンデンサCIのみが充電状態となる。In this state, the saturable inductor Sll is in an unsaturated state, and since the inductance is large, almost no current (I2) flows, and only the capacitor CI is in a charged state.
所定時間後、可飽和インダクタSIIは飽和状態となり
、インダクタンスが急減するためコンデンサCtの電荷
がコンデンサC2に流入しコンデンサC2が充電状態と
なる。After a predetermined period of time, the saturable inductor SII becomes saturated, and the inductance rapidly decreases, so that the charge of the capacitor Ct flows into the capacitor C2, and the capacitor C2 enters a charged state.
ここで可飽和インダクタSllの飽和点はコンデンサC
Iの電圧最大点となるように設定してあり、かつ可飽和
インダクタSIIの飽和時のインダクタンスがパルスト
ランスTの2次側のインダクタンスよりも小さくなるよ
うに設定しである。Here, the saturation point of the saturable inductor Sll is the capacitor C
It is set so that the voltage of I is at the maximum point, and the inductance of the saturable inductor SII at the time of saturation is smaller than the inductance on the secondary side of the pulse transformer T.
このように設定することによって9μsであった電流パ
ルス幅(If)を1.6μsの電流パルス幅(I2)に
圧縮することができた。By setting in this manner, the current pulse width (If) of 9 μs could be compressed to the current pulse width (I2) of 1.6 μs.
続いて、コンデンサC2、可飽和インダクタS■2、及
びコンデンサC3による磁気パルス圧縮回路では0.4
μsの電流パルス幅(I3)となり、コンデンサC3、
可飽和インダクタ5t(3)及びコンデンサCによる磁
気パルス圧縮回路では0.1μsの電流パルス幅(I4
)となる。Next, in the magnetic pulse compression circuit consisting of capacitor C2, saturable inductor S2, and capacitor C3, 0.4
The current pulse width (I3) is μs, and the capacitor C3,
The magnetic pulse compression circuit using the saturable inductor 5t(3) and the capacitor C has a current pulse width of 0.1 μs (I4
).
各コンデンサC1,C2,C3の値は夫々13゜6nF
に設定されており、さらに各可飽和インダクタSI l
、SI2.SI3の値はSll>SI2〉SI3となる
よう設定されている。The value of each capacitor C1, C2, C3 is 13°6nF.
Furthermore, each saturable inductor SI l
, SI2. The value of SI3 is set so that Sll>SI2>SI3.
ここで、コンデンサCを設けない場合の動作につき考察
すると、放電ループは、コンデンサC3−可飽和インダ
クタ5I3−インダクタンスLH−レーザ負荷LDと形
成され、可飽和インダクタSI2を通じてコンデンサC
3に充電されたエネルギがレーザ負荷LDを駆動するこ
ととなる。この場合、飽和時の可飽和インダクタSI3
の値はインダクタンスLHの値に比較して大きいため放
電時の電流パルス幅は非常に長くなってしまい大電流パ
ルスが得られない。Here, considering the operation when capacitor C is not provided, a discharge loop is formed of capacitor C3 - saturable inductor 5I3 - inductance LH - laser load LD, and passes through saturable inductor SI2 to capacitor C
The energy charged in No. 3 will drive the laser load LD. In this case, the saturable inductor SI3 at saturation
Since the value of is large compared to the value of inductance LH, the current pulse width during discharging becomes very long, making it impossible to obtain a large current pulse.
これに対し第1図に示すようにコンデンサCのみを挿入
した場合にはコンデンサC3に蓄積した電気エネルギを
一度コンデンサCに移送した後、コンデンサC→インダ
クタンスLH→レーザ負荷LDと形成されるループで放
電させることができる。On the other hand, when only capacitor C is inserted as shown in Fig. 1, the electrical energy accumulated in capacitor C3 is transferred to capacitor C, and then transferred to the loop formed by capacitor C → inductance LH → laser load LD. It can be discharged.
このため、可飽和インダクタSI3を介さない放電回路
を形成することができ、パルス幅を大幅に短縮すること
ができ大電流のパルスが得られる。Therefore, it is possible to form a discharge circuit that does not involve the saturable inductor SI3, the pulse width can be significantly shortened, and a large current pulse can be obtained.
コンデンサCの値としては、C3≧Cとなるよう設定す
るのが望ましいが、最適値はレーザ負荷LDの諸特性及
びレーザ媒質の種類に応じて決定するのがよい。The value of the capacitor C is preferably set so that C3≧C, but the optimum value is preferably determined depending on the characteristics of the laser load LD and the type of laser medium.
なお、前記スイッチング素子としてはサイリスタSCR
に限定されるものではなく、S、[、FET、MOS−
PET、GTO等に置換しても同様に動作することは勿
論である。Note that the switching element is a thyristor SCR.
S, [, FET, MOS-
It goes without saying that even if it is replaced with PET, GTO, etc., it will operate in the same way.
以下、具体的な実験例につき説明する。Hereinafter, specific experimental examples will be explained.
第1図の回路はパルス幅圧縮回路を3段としたものであ
り、この回路において、P2/Kr/Heの1.8気圧
のKrFレーザ用混合ガスをレーザ放電管に封入したレ
ーザ負荷LDを使用して実験した。The circuit shown in Figure 1 is a three-stage pulse width compression circuit, and in this circuit, a laser load LD whose laser discharge tube is filled with a 1.8 atmosphere KrF laser mixed gas of P2/Kr/He is used. I experimented using it.
まず、従来の回路に使用されていたバイパスインダクタ
LBをレーザ負荷LDに並列に挿入した状態で実験した
ものから説明する。First, a description will be given of an experiment in which a bypass inductor LB used in a conventional circuit was inserted in parallel with a laser load LD.
コンデンサCの値On F、バイパスインダクタLBの
値lμHのとき、90MWの尖頭電力がレーザ放電に注
入された。このとき放電電流は10KA1電流パルス幅
60nsSKrFエキシマレーザ出力は4mJであった
。When the value of the capacitor C is On F and the value of the bypass inductor LB is lμH, a peak power of 90 MW is injected into the laser discharge. At this time, the discharge current was 10 KA, the current pulse width was 60 ns, and the SKrF excimer laser output was 4 mJ.
また、コンデンサCの値9n F、バイパスインダクタ
LBの値lμHのとき240MWの尖頭電力が注入され
た。このとき放電電流は23KA、電流パルス幅25n
s、KrFエキシマレーザ出力は20mJであった。Further, when the value of the capacitor C was 9nF and the value of the bypass inductor LB was 1μH, a peak power of 240MW was injected. At this time, the discharge current was 23KA, and the current pulse width was 25n.
The KrF excimer laser output was 20 mJ.
バイパスインダクタLBとコンデンサCともに未接続の
状態で実験したところレーザ出力は得られなかった。When an experiment was conducted with both bypass inductor LB and capacitor C not connected, no laser output was obtained.
続いて、第1図に示すようにバイパスインダクタLBを
除去し、コンデンサCの値を9nFに設定したところ、
放電電流は26KA、電流パルス幅25ns、尖頭電力
300 MW、 Kr Pエキシマレーザ出力は32m
Jとなった。Next, as shown in Figure 1, the bypass inductor LB was removed and the value of the capacitor C was set to 9nF.
Discharge current is 26KA, current pulse width is 25ns, peak power is 300MW, KrP excimer laser output is 32m
It became J.
以上の実験から第1図に示す回路によれば、従来の回路
に比較して1.5倍以上の出力が得られることが明らか
である。From the above experiments, it is clear that according to the circuit shown in FIG. 1, an output 1.5 times or more can be obtained compared to the conventional circuit.
ここで、従来の回路における損失分は以下のように表す
ことができる。Here, the loss in the conventional circuit can be expressed as follows.
即ち、第3図に示すように、バイパスインダクタLBを
流れる電流、放電電流、レーザ強度を時間軸上に表すと
、バイパスインダクタLBを流れる磁化電流はレーザ放
電の開始時刻TIまでかなり流れ続けている。このため
バイパスインダクタLBを流れる電流のTOからTIま
での積分値が損失(無効電流)となり、これはレーザ放
電の開始時刻T2まで続く。しかし、本発明のようにバ
イパスインダクタLBに代えてコンデンサCを挿入する
ことにより前記損失分がなくなり効率を大幅に改善でき
た。That is, as shown in FIG. 3, when the current flowing through the bypass inductor LB, the discharge current, and the laser intensity are expressed on the time axis, the magnetizing current flowing through the bypass inductor LB continues to flow considerably until the laser discharge start time TI. . Therefore, the integral value of the current flowing through the bypass inductor LB from TO to TI becomes a loss (reactive current), and this continues until the laser discharge start time T2. However, by inserting a capacitor C in place of the bypass inductor LB as in the present invention, the loss is eliminated and the efficiency can be significantly improved.
第2図は他の実施例を示し、パルス幅圧縮回路を1段と
するとともに、スイッチ手段としてサイラトロンTSを
用いたしのである。動作原理は第1図において説明した
ものと同様であるため省略する。FIG. 2 shows another embodiment in which the pulse width compression circuit is provided in one stage and a thyratron TS is used as the switching means. The principle of operation is the same as that explained in FIG. 1, so a description thereof will be omitted.
なお、第1図及び第2図に示す電源装置はエキシマレー
ザの励起主放電としては勿論、これとは異なった予備電
離放電及びスパイ力放電の電源としても使用できる。The power supply device shown in FIGS. 1 and 2 can be used not only as an excitation main discharge of an excimer laser, but also as a power supply for pre-ionization discharge and espionage discharge, which are different from this.
また、可飽和インダクタに用いる磁性材料をアモルファ
ス金属とは異なった磁性材料とすることもできる。さら
に前記パルスレーザがエキシマレーザとは異なったパル
スガスレーザ、或は、金属蒸気レーザであってもよいこ
とは勿論である。Further, the magnetic material used for the saturable inductor may be a magnetic material different from amorphous metal. Furthermore, it goes without saying that the pulsed laser may be a pulsed gas laser different from an excimer laser, or a metal vapor laser.
本発明によれば、バイパスインダクタが不要となるため
レーザ負荷に供給すべき電流の損失がなく、能率及びレ
ーザ出力を大幅に改善できる。According to the present invention, since a bypass inductor is not required, there is no loss of current to be supplied to the laser load, and efficiency and laser output can be significantly improved.
また部品点数が少なくなるため、信頼性を向上させるこ
とができるととらに、長寿命となり、あわせて装置の小
杉化をも図ることができる。Furthermore, since the number of parts is reduced, reliability can be improved, the lifespan can be extended, and the equipment can be made smaller.
第1図ないし第3図は本発明の実施例を示し、第1図は
基本的な回路図、第2図は他の実施例を示す回路図、第
3図は実験結果を示すグラフ図、第4図は従来のパルス
電源装置を示す回路図である。
1・・・パルス放電エキシマレーザ励起電源、2・・・
出力端、
LD・・・レーザ負荷、
S[1,SI2.SI3・・・可飽和インダクタ、Co
、C,CI、C2,C3−コンデンサ、SCR・・・
スイッチ手段としてのサイリスタ。
実用新案登録出願人 三井石油化学工業株式会社第2図
第4図
第3図
0B−’jl’a’t7(l嘔20ns)手続補正書(
自発)
18事件の表示 昭和62年特許願第2908
83号2、発明の名称 パルス電源装置3、補
正をする各
事件との関係 特許出願人
住 所 東京都千代田区霞が関三丁目2番
5号名 称 (588)王井石油化学工業株式会
社4、代理人
〒lot東京都千代田区神田神保町3丁目IO番地花卉
ビル31Il!
5、補正の対象 図面
6、lli正の内容
(1) 図面の第4図を別紙のように訂正する。
(rscrtJの文字を「スイッチ」に変更した。また
、第4図1 to 3 show embodiments of the present invention, FIG. 1 is a basic circuit diagram, FIG. 2 is a circuit diagram showing another embodiment, and FIG. 3 is a graph diagram showing experimental results. FIG. 4 is a circuit diagram showing a conventional pulse power supply device. 1...Pulse discharge excimer laser excitation power supply, 2...
Output end, LD...Laser load, S[1, SI2. SI3...Saturable inductor, Co
, C, CI, C2, C3-capacitor, SCR...
Thyristor as a switching means. Utility Model Registration Applicant Mitsui Petrochemical Industries Co., Ltd.
Spontaneous) Indication of 18 cases 1988 Patent Application No. 2908
83 No. 2, Title of the invention: Pulse power supply device 3, Relationship to each case to be amended Patent applicant address: 3-2-5 Kasumigaseki, Chiyoda-ku, Tokyo Name (588) Oui Petrochemical Industry Co., Ltd. 4; Agent: Lot 31Il, Floriculture Building, IO 3-chome, Kanda Jimbocho, Chiyoda-ku, Tokyo! 5. Subject of correction Drawing 6, lli Correct contents (1) Figure 4 of the drawing is corrected as shown in the attached sheet. (The letters rscrtJ have been changed to "switch." Also, see Figure 4.
Claims (3)
クタと、前記充電電源に対して並列に接続されたコンデ
ンサとからなるパルス幅圧縮回路と、このパルス幅圧縮
回路に前記充電電源を断続的に接続するスイッチ手段と
を備え、前記パルス幅圧縮回路の出力端に接続されたレ
ーザ負荷を繰り返し放電励起するためのパルス電源装置
において、パルス幅圧縮回路における可飽和インダクタ
の後段にコンデンサのみを並列に接続し、このコンデン
サの両端を前記出力端としたことを特徴とするパルス電
源装置。(1) A pulse width compression circuit consisting of a saturable inductor connected in series to the charging power source and a capacitor connected in parallel to the charging power source, and the charging power source being connected to the pulse width compression circuit intermittently. In the pulse power supply device for repeatedly discharging and exciting a laser load connected to the output end of the pulse width compression circuit, the pulse width compression circuit is provided with only a capacitor after the saturable inductor. A pulse power supply device characterized in that the capacitors are connected in parallel and both ends of the capacitors are used as the output terminals.
で形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のパルス電源装置。(2) Claim 1, characterized in that the core of the saturable inductor is formed of an amorphous metal.
Pulse power supply device as described in section.
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のパルス
電源装置。(3) The pulse power supply device according to claim 1, wherein the laser load is a pulse discharge excimer laser.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29088387A JPH01132185A (en) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | Pulse power-supply device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29088387A JPH01132185A (en) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | Pulse power-supply device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01132185A true JPH01132185A (en) | 1989-05-24 |
Family
ID=17761744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29088387A Pending JPH01132185A (en) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | Pulse power-supply device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01132185A (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61216373A (en) * | 1985-03-22 | 1986-09-26 | Hitachi Ltd | Pulse laser apparatus |
JPS62108588A (en) * | 1985-11-06 | 1987-05-19 | Toshiba Corp | Charge and discharge device |
JPS63501183A (en) * | 1985-10-18 | 1988-04-28 | アモコ・コ−ポレ−ション | Electrical excitation circuit for gas laser |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP29088387A patent/JPH01132185A/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61216373A (en) * | 1985-03-22 | 1986-09-26 | Hitachi Ltd | Pulse laser apparatus |
JPS63501183A (en) * | 1985-10-18 | 1988-04-28 | アモコ・コ−ポレ−ション | Electrical excitation circuit for gas laser |
JPS62108588A (en) * | 1985-11-06 | 1987-05-19 | Toshiba Corp | Charge and discharge device |
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