JPH01130390A - Wiring switch circuit - Google Patents

Wiring switch circuit

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JPH01130390A
JPH01130390A JP62290320A JP29032087A JPH01130390A JP H01130390 A JPH01130390 A JP H01130390A JP 62290320 A JP62290320 A JP 62290320A JP 29032087 A JP29032087 A JP 29032087A JP H01130390 A JPH01130390 A JP H01130390A
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JP
Japan
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wiring
circuit
transistor
dynamic ram
diffusion layer
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JP62290320A
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Japanese (ja)
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Terumi Sawase
沢瀬 照美
Hideo Nakamura
英夫 中村
Makoto Hayashi
誠 林
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To prevent the increase of the mounting area and the cost by providing a dynamic RAM and a PROM on the same semiconductor substrate. CONSTITUTION:A wiring connected to a first diffusion layer electrode of a MOS transistor TR, a wiring connected to a second diffusion layer electrode of the MOS TR, a means (dynamic RAM) which is connected to the gate electrode of the MOS TR and stores wiring information, a means (PROM 44) which is connected to this wiring information storage means and stores information supplied to the dynamic RAM, and a means (refresh control circuit 43) which selects the dynamic RAM are provided on the same semiconductor substrate. It is necessary to periodically refresh the dynamic RAM, and it is periodically refreshed based on PROM data provided on the same integrated circuit. Thus, memory parts where cutoff and connection structures of wirings are realized in a small area, and the area and the cost of mounting for system constitution are reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体集積回路内の配線を可変にする配線ス
イッチ回路に関し、特に、実装面積、および実装コスト
を低減することが可能な配線スイッチ回路に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a wiring switch circuit that makes wiring within a semiconductor integrated circuit variable, and in particular to a wiring switch that can reduce the mounting area and packaging cost. Regarding circuits.

〔従来技術〕[Prior art]

従来の配線スイッチ回路では、例えば、“日経エレクト
ロニクス、1986年9月8日号、第245頁〜265
頁”に記載されているように、配線スイッチ情報を配線
の近辺に配置したスタティックRAMに記憶することに
より、情報の保持を行っている。また、その情報源には
、半導体集積回路外部に設けたFROM等の記憶素子を
用い、電源投入毎にFROM等から回路内部のRAMに
配線データをロードしていた。
In conventional wiring switch circuits, for example, "Nikkei Electronics, September 8, 1986 issue, pp. 245-265
As described in page 1, information is retained by storing wiring switch information in a static RAM placed near the wiring.In addition, the information source includes a memory provided outside the semiconductor integrated circuit. A memory element such as a FROM is used, and wiring data is loaded from the FROM or the like to the RAM inside the circuit each time the power is turned on.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記従来技術では、スタティック形RAMを用いている
ため、1ビツトの構成を記憶するには、5トランジスタ
から構成された回路が必要であり、配線情報記憶部の面
積が大きくなるという問題があった。
In the above-mentioned conventional technology, since a static type RAM is used, a circuit composed of five transistors is required to store the configuration of 1 bit, and there is a problem that the area of the wiring information storage section becomes large. .

また、回路外部には、その情報源としてFROM等の不
揮発性記憶素子が必要であるため、実装面積、およびコ
ストが増加するという問題があった。
Furthermore, since a nonvolatile memory element such as FROM is required as an information source outside the circuit, there is a problem in that the mounting area and cost increase.

本発明の目的は、このような問題点を改善し、大容量の
配線情報が必要な場合でも、小面積、かつ、外部記憶素
子が不要な配線スイッチ回路を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve these problems and provide a wiring switch circuit that has a small area and does not require an external storage element even when a large amount of wiring information is required.

〔問題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するため、本発明の配線スイッチ回路は
、同一の半導体基板上に、MOSトランジスタの第1拡
散層電極に接続された配線と、そのMOSトランジスタ
の第2拡散層電極に接続された配線と、そのMo8)−
ランジスタのゲート電極に接続され、配線情報を記憶す
る手段(ダイナミックRAM)と、その配線情報記憶手
段に接続され、そのダイナミックRAMへ供給する情報
を記憶する手段(FROM)と、そのダイナミックRA
Mを選択する手段(リフレッシュ制御回路)とを備えた
ことに特徴がある。
In order to achieve the above object, the wiring switch circuit of the present invention includes a wiring connected to a first diffusion layer electrode of a MOS transistor and a wiring connected to a second diffusion layer electrode of the MOS transistor on the same semiconductor substrate. Wiring and its Mo8)-
A means (dynamic RAM) connected to the gate electrode of the transistor to store wiring information; a means (FROM) connected to the wiring information storage means to store information supplied to the dynamic RAM;
A feature of the present invention is that it includes a means (refresh control circuit) for selecting M.

また、上記ダイナミックRAMは、MOSトランジスタ
から構成され、そのMOSトランジスタの一方の拡散層
電極が上記MOSトランジスタのゲート電極に接続され
、他方の拡散層電極が上記PROMの読み出し回路に接
続され、そのゲート電極は上記リフレッシュ・コントロ
ール回路に接続されたことに特徴がある。
Further, the dynamic RAM is composed of a MOS transistor, one diffusion layer electrode of the MOS transistor is connected to the gate electrode of the MOS transistor, the other diffusion layer electrode is connected to the readout circuit of the PROM, and the gate The electrode is characterized in that it is connected to the refresh control circuit.

〔作用〕[Effect]

本発明においては、同一半導体基板上にダイナミックR
AMとFROMを設けることにより、直接FROMで配
線スイッチトランジスダを駆動するのと同様の効果を得
る。
In the present invention, dynamic R
By providing AM and FROM, the same effect as directly driving a wiring switch transistor with FROM can be obtained.

つまり、ダイナミックRAMは定期的にリフレッシュす
る必要があるが、同一集積回路に設けたFROMデータ
を基にして定期的なリフレッシュを行う。
In other words, the dynamic RAM needs to be refreshed periodically, and the periodic refresh is performed based on FROM data provided in the same integrated circuit.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を図面により説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第4図は、本発明の一実施例における半導体集積回路の
構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a semiconductor integrated circuit in one embodiment of the present invention.

本実施例の半導体集積回路は、回路モジュール2〜5、
および配線スイッチ回路6を半導体基板1上に備え、各
回路モジュール2〜5は配線スイッチ回路6に対して配
線7〜10で結合される。
The semiconductor integrated circuit of this embodiment includes circuit modules 2 to 5,
and a wiring switch circuit 6 are provided on the semiconductor substrate 1, and each circuit module 2-5 is coupled to the wiring switch circuit 6 by wirings 7-10.

また、回路モジュール2〜5は半導一体基板1外との通
信のための入出力線11〜14に結線される。
Further, the circuit modules 2 to 5 are connected to input/output lines 11 to 14 for communication with the outside of the semiconductor integrated substrate 1.

なお、回路モジュール2〜5はCPU、メモリ、プログ
ラマブル・ロジック・アレイ(P L A)、プログラ
マブル・ロジック・デバイス(P L D)等であり、
各モジュールの機能については特に限定されない。
Note that the circuit modules 2 to 5 are a CPU, memory, programmable logic array (PLA), programmable logic device (PLD), etc.
The functions of each module are not particularly limited.

第2図は、本発明の一実施例の配線スイッチ回路におけ
るトランジスタスイッチ・マトリクスの構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a transistor switch matrix in a wiring switch circuit according to an embodiment of the present invention.

本実施例における配線スイッチ回路6は、トランジスタ
スイッチ・マトリクス20から構成され、各回路モジュ
ール2〜5に対して、それぞれ3本の配線71〜73.
81〜83.91〜93,101〜103が接続される
The wiring switch circuit 6 in this embodiment is composed of a transistor switch matrix 20, and has three wirings 71-73. for each circuit module 2-5.
81-83, 91-93, 101-103 are connected.

また、トランジスタスイッチ・マトリクス20は配線遮
断用トランジスタT、〜T、、T、。〜T23゜T、。
Further, the transistor switch matrix 20 includes wiring cutoff transistors T, ~T,,T,. ~T23°T,.

〜T4m、T、。〜Ts3.T7.〜T、、、T、。〜
T、、。
~T4m, T,. ~Ts3. T7. ~T,,,T,. ~
T...

T、。〜To、配線接続用トランジスタT、。〜T1.
T. ~To, wiring connection transistor T,. ~T1.
.

T、、〜T@2.および、各スイッチ用トランジスタの
ゲート電極に対して情報を与えるための記憶回路R,〜
R口、R2゜〜R,3,R3゜〜R3□、R4,〜R4
2゜Rs、#R,,,R,,〜R,,、R,、〜R,,
,R,,〜R1,。
T,,~T@2. and a memory circuit R for providing information to the gate electrode of each switching transistor.
R mouth, R2゜~R,3, R3゜~R3□, R4,~R4
2゜Rs, #R,,,R,,~R,,,R,,~R,,
,R,,~R1,.

R9゜〜Roを備える。It has R9° to Ro.

この配線遮断用トランジスタにより、ゲート電極にOv
が印加されると配線は遮断される。また、ゲート電極に
5vが印加されると、配線接続用トランジスタにより、
交差している配線が接続される。
This wiring cutoff transistor allows Ov to be applied to the gate electrode.
When is applied, the wiring is cut off. Also, when 5V is applied to the gate electrode, the wiring connection transistor causes
Intersecting wires are connected.

第3図は、本発明の一実施例の配線スイッチ回路におけ
る記憶回路の構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of a memory circuit in a wiring switch circuit according to an embodiment of the present invention.

本実施例における記憶回路は、公知のダイナミックRA
Mから構成され、配線接続用トランジスタ、および配線
遮断用トランジスタに与える配線情報を記憶する。
The memory circuit in this embodiment is a known dynamic RA
M, and stores wiring information given to wiring connection transistors and wiring disconnection transistors.

つまり、トランジスタ30の一方の拡散層電極に形成さ
れるか、あるいは寄生的に形成されたコンデンサCに電
荷を蓄えることにより、情報を記憶する。
That is, information is stored by storing charge in a capacitor C formed on one diffusion layer electrode of the transistor 30 or parasitically formed.

また、記憶回路のコンデンサCが結合されている端子3
1は各スイッチトランジスタ(配線遮断用トランジスタ
、配線接続用トランジスタ)のゲート電極に接続される
Also, the terminal 3 to which the capacitor C of the memory circuit is coupled
1 is connected to the gate electrode of each switch transistor (wire cutoff transistor, wire connection transistor).

この記憶回路に情報を記憶する場合、トランジスタ30
のゲート電極Sに5vを与え、また、−方の電極りには
データを与えて、データが与えられている間にゲート電
極SをOvにすると、トランジスタ30がカットオフさ
れて情報がコンデンサCに記憶される。
When storing information in this storage circuit, the transistor 30
If 5V is applied to the gate electrode S of the terminal, and data is applied to the - side electrode, and the gate electrode S is set to Ov while the data is being applied, the transistor 30 is cut off and the information is transferred to the capacitor C. is memorized.

この場合、トランジスタ30の電極はpn接合に逆電圧
が印加される使用条件で使用されているため、p−nリ
ーク電流が流れ、次第にコンデンサCに蓄えられた電荷
が放電して情報が消える。
In this case, since the electrode of the transistor 30 is used under the condition that a reverse voltage is applied to the pn junction, a pn leak current flows, and the charge stored in the capacitor C is gradually discharged and information disappears.

この情報が消えるまでの時間は一般に10m秒程度であ
る。
The time it takes for this information to disappear is generally about 10 msec.

このため、その時間の数分の1の時間(2m秒程度)で
、再び同じデータを書込むこと(リフレッシュ)により
、配線遮断トランジスタ、あるいは接続トランジスタの
ゲート電極の電圧を一定電圧範囲に保持する。
Therefore, by writing the same data again (refreshing) in a fraction of that time (approximately 2 ms), the voltage of the gate electrode of the wiring cutoff transistor or connection transistor is maintained within a constant voltage range. .

第1図は、本発明の一実施例の配線スイッチ回路におけ
る記憶回路マトリクス、および記憶回路  ・をリフレ
ッシュする回路の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a memory circuit matrix and a circuit for refreshing the memory circuit in a wiring switch circuit according to an embodiment of the present invention.

本実施例における記憶回路R1゜〜Ra、 R2゜〜R
33tR30〜R,,,R4゜〜R,,,Rs、−’R
s3.R,,〜R、、、R,、〜R,,、R,。〜R,
2,Rg。〜R,,では、ゲート電極Sに選択線80〜
Sい一方の電極りにデータ線り、〜D、が接続され、ア
レイ状に配置される。
Memory circuits R1° to Ra, R2° to R in this embodiment
33tR30~R,,,R4゜~R,,,Rs,-'R
s3. R,, ~R,,,R,, ~R,,,R,. ~R,
2, Rg. ~R,, the selection line 80~ is connected to the gate electrode S.
Data lines ~D are connected to one of the electrodes and arranged in an array.

また、記憶回路の選択情報は、リフレッシュ制御回路4
3からの信号41をデコーダ回路40でデコードするこ
とにより得られ1選択sS、〜S。
In addition, the selection information of the storage circuit is stored in the refresh control circuit 4.
1 selection sS, ~S obtained by decoding the signal 41 from 3 with the decoder circuit 40.

の中1選択された1零たけが5vになる。1 selected zero out of 1 becomes 5v.

また、記憶回路に供給するデータについては、FROM
リード信号42によりFROM4.4のデータが読み出
され、データ線D0〜D3に情報を与える。
Also, regarding the data supplied to the memory circuit, FROM
Data from FROM 4.4 is read by read signal 42, and information is provided to data lines D0 to D3.

この動作を各選択線に対して周期的に操り返すことによ
り、記憶回路の情報は常に保持される。
By periodically repeating this operation for each selection line, the information in the memory circuit is always retained.

また、FROM44へのデータの書き込゛みについては
、半導体集積回路lの外部からの書き込み線45により
、書き込みデータ、書き込み信号等を与えることにより
行う。
Furthermore, data is written to the FROM 44 by applying write data, write signals, etc. via a write line 45 from outside the semiconductor integrated circuit 1.

このように、半導体集積回路1に電源を投入すると、自
動的にリフレッシュ動作が開始され、リフレッシュが一
巡した時点で配線の状態が確定する。
In this way, when power is applied to the semiconductor integrated circuit 1, a refresh operation is automatically started, and the state of the wiring is determined when the refresh operation completes one cycle.

本実施例では、スイッチトランジスタを制御する記憶回
路に対応するFROMに配線情報を書き込むことにより
1回路モジュール間を自由に接続することができる。
In this embodiment, one circuit module can be freely connected by writing wiring information in the FROM corresponding to the memory circuit that controls the switch transistor.

また、同一半導体基板内にFROMを設けたことにより
、外付は部品が減少して、コスト、および実装面積を低
減することができる。
Further, by providing the FROM on the same semiconductor substrate, the number of external parts can be reduced, and the cost and mounting area can be reduced.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、配線の遮断、および接続構造を記憶す
るメモリ部が小面積で実現できる。
According to the present invention, a memory section that stores wiring cutoff and connection structure can be realized in a small area.

また、バックアップメモリとして規則構造を有するFR
OMを同一基板内に設けることにより、集積回路の端子
数を減らすことができ、さらに、外付けFROMが不要
になる。
In addition, FR with a regular structure is used as a backup memory.
By providing the OM on the same substrate, the number of terminals of the integrated circuit can be reduced, and furthermore, an external FROM is not required.

このため、システムを構成する際の実装面積を低減して
実装コストを低減することが可能である。
Therefore, it is possible to reduce the mounting area and the mounting cost when configuring the system.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の配線スイッチ回路における
記憶回路マトリクス、および記憶回路をリフレッシュす
る回路の構成図、第2図は本発明の一実施例の配線スイ
ッチ回路におけるトランジスタスイッチ・マトリクスの
構成図、第3図は本発明の一実施例の配線スイッチ回路
における記憶回路の構成図、第4図は本発明の一実施例
における半導体集積回路の構成図である。 1:半導体基板、2〜5:回路モジュール、6:配線ス
イッチ回路、7〜10.71〜73.81〜83.91
〜93,101〜103:配線、11〜14:入出力線
、20:トランジスタスイッチ・マトリクス、30:ト
ランジスタ、31:端子。 40:デコーダ回路、41:リフレッシュ制御回路から
の信号、42:PROMIJ−ド信号、43:リフレッ
シュ制御回路、44 : FROM、45 :書き込み
線、D:電極、D0〜D、:データ線、R1〜R,t、
 R,。〜R,,,R,。〜R32,R4゜〜R,,,
R,。 〜R,3,R,。〜R,,,R,,〜R、、、R,。〜
R,,、R,。 〜R92:記憶回路、S:ゲート電極、80〜S、:選
択線、T鱒〜T口、T2゜〜T23.T、。〜T、2.
T、。 〜Ts3.T、。〜T、、、T、、〜T、、、Ts、〜
T、、 :配線遮断用トランジスタ、T3.”’T3z
、T、。〜TGz:配線接続用トランジスタ。 第   1   図 第   2   図 第、3 図 第  4  図
FIG. 1 is a configuration diagram of a memory circuit matrix in a wired switch circuit according to an embodiment of the present invention and a circuit for refreshing the memory circuit, and FIG. 2 is a diagram of a transistor switch matrix in a wired switch circuit according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a block diagram of a memory circuit in a wiring switch circuit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention. 1: Semiconductor substrate, 2-5: Circuit module, 6: Wiring switch circuit, 7-10.71-73.81-83.91
~93, 101-103: Wiring, 11-14: Input/output line, 20: Transistor switch matrix, 30: Transistor, 31: Terminal. 40: Decoder circuit, 41: Signal from refresh control circuit, 42: PROMIJ-de signal, 43: Refresh control circuit, 44: FROM, 45: Write line, D: Electrode, D0~D,: Data line, R1~ R,t,
R. ~R,,,R,. ~R32,R4゜~R,,,
R. ~R,3,R,. 〜R,,,R,,〜R,,,R,. ~
R,,,R,. ~R92: Memory circuit, S: Gate electrode, 80~S,: Selection line, T trout ~ T mouth, T2°~T23. T. ~T, 2.
T. ~Ts3. T. ~T,,,T,,~T,,,Ts,~
T, , : Wiring cutoff transistor, T3. ”'T3z
,T. ~TGz: Transistor for wiring connection. Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、半導体集積回路の配線間の接続・遮断を行う配線ス
イッチ回路において、同一の半導体基板上に、MOSト
ランジスタの第1拡散層電極に接続された配線と、該M
OSトランジスタの第2拡散層電極に接続された配線と
、該MOSトランジスタのゲート電極に接続されて配線
情報を記憶する手段と、該配線情報記憶手段に接続され
て該配線情報記憶手段ヘ供給する情報を記憶する手段と
、該配線情報記憶手段を選択する手段とを備えたことを
特徴とする配線スイッチ回路。 2、上記配線情報記憶手段は、MOSトランジスタから
構成され、該MOSトランジスタの一方の拡散層電極が
上記MOSトランジスタのゲート電極に接続され、他方
の拡散層電極が上記供給情報記憶手段の読み出し回路に
接続され、該ゲート電極は上記選択手段に接続されたこ
とを特徴とする特許請求範囲第1項記載の配線スイッチ
回路。
[Claims] 1. In a wiring switch circuit that connects and disconnects wirings of a semiconductor integrated circuit, wirings connected to the first diffusion layer electrode of a MOS transistor and the M
A wiring connected to the second diffusion layer electrode of the OS transistor, a means connected to the gate electrode of the MOS transistor for storing wiring information, and a means connected to the wiring information storage means to supply the wiring information to the wiring information storage means. A wiring switch circuit comprising means for storing information and means for selecting the wiring information storage means. 2. The wiring information storage means is composed of a MOS transistor, one diffusion layer electrode of the MOS transistor is connected to the gate electrode of the MOS transistor, and the other diffusion layer electrode is connected to the readout circuit of the supply information storage means. 2. The wiring switch circuit according to claim 1, wherein the gate electrode is connected to the selection means.
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