JPH0111232Y2 - - Google Patents

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JPH0111232Y2
JPH0111232Y2 JP1981023638U JP2363881U JPH0111232Y2 JP H0111232 Y2 JPH0111232 Y2 JP H0111232Y2 JP 1981023638 U JP1981023638 U JP 1981023638U JP 2363881 U JP2363881 U JP 2363881U JP H0111232 Y2 JPH0111232 Y2 JP H0111232Y2
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JP
Japan
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far
foot
infrared rays
infrared
hot water
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JP1981023638U
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JPS57136340U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、遠赤外線放射セラミツクスの有する
優れた特性と、人体の新陳代謝促進に最も効果が
あり、かつ東洋医学にいう「ツボ」が多数存在す
る足に着目し案出された遠赤外線放射セラミツク
ス製足専用浴槽に関する。
肩こり、各種しびれ等の循環器系統の障害に遠
赤外線は優れた効果を有し、又遠赤外線の照射を
受けたお湯は実際の湯温度は低くとも、高く感じ
られ、したがつて心臓や脳等の重要な器官に負担
をかけることなく健康上最も好ましいとされる温
めの湯温度により身体の芯まで温めることがで
き、医療効果の他に遠赤外線の照射を受けたお湯
にあつては身体に負担をかけることなく好適な新
陳代謝を促進させるという効果をも有する。
また、入浴という行為そのものは、身体の清浄
化とともに汗腺を開放し、かつ血行を促進し、新
陳代謝を良くし、疲労回復を図るという目的を達
成するためでもある。
また、足そのものには人間の臓器、器官に影響
を与えるツボが多数存在し、かつ四肢には血液の
60%が存在するという生理学的根拠からしても、
足部の刺激等により効果的に新陳代謝を促進し、
血行を良くし、老廃物等を排出することにより、
疲労回復あるいは各種臓器、器官に間接的な刺激
を与えることによる治療等を図る場所としては、
最適の場所である。
また足は、靴、靴下等により長時間に亘り、密
閉かつ束縛化されており、血行が悪く、かつ汗腺
も閉じられ、汚れやすく、これによる身体の影響
も極めて多大なものである。
本考案はこのように入浴行為、足、遠赤外線と
いう三要素をうまくミツクスした遠赤外線放射セ
ラミツクス製足専用浴槽を提供することにより、
疲労、健康の回復、健康維持という目的を容易に
達成せんとするものであり、従来例としては、小
部分からなる遠赤外線放射体を足裏下に載置する
等の手段があるが、遠赤外線の利用としては部分
的なものであり、優れた特性をもつ遠赤外線の活
用としては不完全なものであつた。
前述した問題点は、内周を遠赤外線放射セラミ
ツクスにより成形され且つ底部に排口と上部に注
口を配設した足収納室と、内周を遠赤外線放射セ
ラミツクスにより成形された前記足収納室の蓋と
からなり且つ前記排口と前記注口間にヒーターと
遠赤外線放射セラミツクスを配した温水通過部を
設けたことを特徴とする遠赤外線放射セラミツク
ス製足専用浴槽によつて解決される。
以下図面に基づいて本考案の一実施例を説明す
る。
図中1は、足専用浴槽本体であり、基台1′上
には取り外し自在の足専用浴槽2が載置され、該
足専用浴槽2には足収納部3が形成され、上方部
には蓋4が位置する。第2図は第1図中のA−A
断面図である。
足収納部3の内周面及び蓋4の内周面からは、
例えば内周面全体を遠赤外線放射セラミツクスそ
のもので構成するか或いは他の部材で形成された
足収納部3及び蓋4の内周表面に遠赤外線放射セ
ラミツクス板を配設する等の手段で遠赤外線を照
射するものであり、足裏、足表面は当然乍ら踵か
ら膝下近辺に至る迄遠赤外線を照射するものであ
る。
一方、本考案では足収納部3内の温水10が排
口6からヒーター7を通り、温められた温水がボ
ツクス8内に入り、遠赤外線放射セラミツクス5
から温水が遠赤外線照射を受け注口9から足収納
部3内へ注入される温水通過部が設けられ、ヒー
ター7の昇温能力を適宜調節することにより足収
納部3内の温水温度を所望の温度に保つことがで
きるとともに温水自身に遠赤外線を照射したこと
により、実際の湯温度は低くとも高く感じられ、
したがつて心臓や脳等の重要な器官に負担をかけ
ることなく足部から序々にひいては身体の芯に至
るまで温めることができる温水を供給することが
できる。
尚、温水の循環は循環ポンプ或いはエアーポン
プ等により強制的になしても良い。
以上説明した如く、本考案によれば足収納部3
と蓋4は内周が遠赤外線を放射するとともに足全
体を包覆する如く形成されており、足裏から膝下
近辺に至る迄足の周囲全方向に遠赤外線を照射で
き、足に多数存在するツボに刺激を与え身体の臓
器、器官に好影響を与えるとともに、靴・靴下等
により長時間血行阻害された足の血行を促進し、
新陳代謝を活発にし疲労回復させることができ
る。さらに本考案にあつては温水通過部内で温水
自身が遠赤外線放射セラミツクス5により遠赤外
線照射を受けたことにより温水は実際の湯温度は
低くとも高く感じられ、したがつて心臓や脳等の
重要な器官に負担をかけることなく足部を介して
ひいては身体の芯に至るまで健康に最も良いとさ
れる温めの湯温度により温めることができ、湯上
り後も長時間に亘り湯冷めせず、身体に負担をか
けることなく新陳代謝効果を発揮でき、疲労回
復、血行促進、ツボ刺激効果等をさらに一層効果
的に発揮できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の遠赤外線放射セラミツクス製
足専用浴槽の概略断面図、第2図は第1図のA−
A部概略断面図である。 1′……基台、2……足専用浴槽、3……足収
納部、4……蓋、5……遠赤外線放射セラミツク
ス、6……排口、7……ヒーター、8……ボツク
ス、9……注口、10……温水。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 内周を遠赤外線放射セラミツクスにより成形さ
    れ且つ底部に排口と上部に注口を配設した足収納
    室と、内周を遠赤外線放射セラミツクスにより成
    形された前記足収納室の蓋とからなり且つ前記排
    口と前記注口間にヒーターと遠赤外線放射セラミ
    ツクスを配した温水通過部を設けたことを特徴と
    する遠赤外線放射セラミツクス製足専用浴槽。
JP1981023638U 1981-02-21 1981-02-21 Expired JPH0111232Y2 (ja)

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JP1981023638U JPH0111232Y2 (ja) 1981-02-21 1981-02-21

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JP1981023638U JPH0111232Y2 (ja) 1981-02-21 1981-02-21

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Publication Number Publication Date
JPS57136340U JPS57136340U (ja) 1982-08-25
JPH0111232Y2 true JPH0111232Y2 (ja) 1989-03-31

Family

ID=29821388

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JP1981023638U Expired JPH0111232Y2 (ja) 1981-02-21 1981-02-21

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Families Citing this family (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6092526U (ja) * 1983-11-28 1985-06-24 東陶機器株式会社 浴槽
JPS6097131U (ja) * 1983-12-06 1985-07-02 東陶機器株式会社 健康湯槽

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JPS5726253B2 (ja) * 1973-09-13 1982-06-03
JPS57139342A (en) * 1981-02-20 1982-08-28 Tensho Electric Ind Co Bath tub for foot only

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JPS57136340U (ja) 1982-08-25

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