JP7775397B2 - ステロイド化合物、その使用、およびその調製方法 - Google Patents

Description

本発明は、医薬品の分野に関し、特にステロイド化合物、その用途およびその調製方法に関する。

神経精神疾患には、不安症、うつ病、精神分裂病などが含まれ、中国では疾患全体の中で第１位であり、中国の疾患全体の約２０％を占める（Wang Juncheng et al., China Health Service Management, 2009(5): 348-350）。絶え間ない社会近代化、労働リズムの加速、および生活負荷の高まりに伴い、様々な精神神経疾患を有する患者数は劇的に増加し、症状の進行は著しく加速しており、これらの疾患を治療するための新薬の開発、研究および製造がより切迫している。一方、臨床データからは、多くの患者が同時に様々な精神神経疾患に見舞われていることが示唆されている。精神神経疾患の同時罹患率が高いことが、臨床治療をより大きな課題に直面せしめている。

動物では、ＧＡＢＡ（ガンマ－アミノ酪酸）（γ－アミノ酪酸）は、神経組織にのみ存在し、免疫学的研究により、最高濃度のＧＡＢＡは黒質において見られることが示されている。ＧＡＢＡは、重要な抑制性神経伝達物質であり、深く研究されてきた。ＧＡＢＡは、様々な代謝活動に関与し、高い生理学的活性を有する。ＧＡＢＡ系は、脳および中枢神経系の主要な抑制性シグナル経路であり、中枢神経系の機能にとって大きな意義がある。ＧＡＢＡ（Ａ）レセプター（ＧＡＲＢＡＡＲ）は、イオンレセプターであり、リガンド開口型イオンチャネルである。主な抑制性神経伝達物質であるその内因性リガンドγ－アミノ酪酸（ＧＡＢＡ）は、中枢神経系にある。ＧＡＢＡ（Ａ）レセプターの活性化後、細胞外Ｃｌ^－は、ＧＡＢＡレセプターの細孔を選択的に通過させられる。Ｃｌ^－は、内部電位が静止電位よりも低いときにニューロン細胞から流出し、内部電位が静止電位（すなわち－７５ｍｖ）よりも高いときにニューロン細胞に流入する。これにより、活動電位の見込みをうまく減らし、神経伝達を抑制することができる。不安症およびうつ病は、同時罹患率が極めて高く、重複して併発する現象があると考えられる。不安症およびうつ病はまた、統合失調症の重要な精神症状である。研究結果により、これら３つの疾患の原因および病態においてＧＡＢＡ作動系およびＧＡＢＡ（Ａ）レセプターが重要な役割を果たしていることが確認され、ＧＡＢＡ作動系に関連した病態生理学的プロセスが３つの疾患すべての決定因子の１つである可能性が示された。ＧＡＢＡ作動系およびＧＡＢＡ（Ａ）レセプターは、不安症、うつ病および統合失調症の病態学的プロセスに、分子レベル、前臨床および臨床レベルで関与することが示されており、ＧＡＢＡ（Ａ）レセプターは、これらの疾患の治療における重要な薬物標的として長い間使用されてきた。

ＧＡＢＡそのものに結合し、レセプター複合体（ＧＲＣ）を形成して脳の興奮性を変化させることに加えて、ＧＡＢＡ（Ａ）レセプターは、バルビツール酸塩（商品名、セコバルビタールナトリウム）、ベンゾジアゼピン（商品名、ジアゼパム）などの他の低分子化合物と結合できることが臨床試験で確認された。これらの薬物は、それぞれＧＡＢＡ（Ａ）レセプターの特定のアロステリック部位に結合し、その治療効果を発揮する。さらに、研究により、ＧＡＢＡ（Ａ）レセプター上にステロイド化合物のためのユニークな結合部位があることが示されている（Lan, NC et al., Neurochem. Res. 16: 347-356 (1991)）。

神経刺激性ステロイドは、内因的に生じ得る。最も強力な内因性神経刺激性ステロイドは、３α－ヒドロキシ－５－還元型プレグナン－２０－オン、および３α－２１－ジヒドロキシ－５－還元型プレグナン－２０－オンであり、それぞれ、ホルモンステロイドであるプロゲステロンおよびデオキシコルチコステロンの代謝産物である。脳興奮性を変化させるこれらのステロイド代謝産物の能力は、１９８６年に認知された（Majewska, M. D. et al., Science 232: 1004-1007 (1986); Harrison, N. L. et al., J. Pharmacol. Exp. Ther.241:346-353 (1987)）。卵巣ホルモンプロゲステロンおよびその代謝産物は、脳興奮性に対して深刻な影響を有することが実証されている（Backstrom, T. et al, Acta Obstet. Gynecol. Scand. Suppl. 130: 19-24 (1985); Pfaff, D.W and McEwen, B. S., Science 219:808-814 (1983); Gyermek et al, J Med Chem. 11 : 117 (1968); Lambert,
J. et al, Trends Pharmacol. Sci. 8:224-227 (1987)）。プロゲステロンおよびその代謝産物の濃度は、月経周期の段階によって異なる。月経が始まる前にプロゲステロンおよびその代謝産物の濃度が低下することは、十分に立証されている。月経開始前の特定の身体症状が月毎に再発することも十分に立証されている。これらの症状は、月経前症候群（ＰＭＳ）と関連付けられるようになっており、ストレス（緊張）、不安、および片頭痛を含む（Dalton, K., Premenstrual Syndrome and Progesterone Therapy, 2nd edition, Chicago Yearbook, Chicago (1984)）。ＰＭＳを有する対象は、月１回の頻度で再発し、月経前に存在し、月経後には認められない症状を有する。

他の研究は、プロゲステロンの減少がてんかんの女性患者における発作頻度の増加と関連することを見出している（Laidlaw, J., Lancet, 1235-1237 (1956)）。プロゲステロン代謝産物の減少とはより直接的な相関性が観察されている（Rosciszewska et al, J. Neurol. Neurosurg. Psych. 49:47-51 (1986)）。また、原発性全身小発作てんかんの対象については、発作の時間的発生率が、月経前症候群の症状の発生率と相関している（Backstrom, T. et al, J. Psychosom. Obstet. Gynaecol. 2:8-20 (1983)）。ステロイドデオキシコルチコステロンは、月経周期と相関するてんかん発作を有する対象の治療に有効であることが見出されている（Aird, RB. and Gordan, G, J. Amer. Med. Soc. 145:715-719 (1951)）。

また、低濃度プロゲステロンに関連する症候群は、産後うつ病（ＰＰＤ）である。出産直後には、プロゲステロン濃度が劇的に低下し、ＰＰＤの発症につながる。ＰＰＤの症状は、軽度のうつ病から、入院を必要とする精神病にまで及ぶ。ＰＰＤはまた、重度の不安症および神経過敏とも関連している。ＰＰＤは古典的な抗うつ薬による治療からは影響を受けにくく、ＰＰＤを経験している女性はＰＭＳの発生率の増加を示す（Dalton, K., Premenstrual Syndrome and Progesterone Therapy, 2nd edition, Chicago Yearbook, Chicago (1984)）。まとめると、これらの観察は、プロゲステロンおよびデオキシコルチコステロン、ならびに、さらに具体的にはその代謝産物が、脳の興奮性のホメオスタシス調節において、重要な役割を果たしていることを意味しており、これは月経関連性てんかん、ＰＭＳおよびＰＰＤに関連する発作活動または症状の増加として顕著である。

多くの研究は、関連する疾患を効果的に治療できる薬物を得るために、ＧＡＢＡ（Ａ）レセプターに基づいている。ＣＮ１０３９５８５４０Ａ、ＣＮ１０５３３９２８Ａなどは、神経精神疾患の治療のための一連の神経性ステロイド化合物を開示している。ＧＡＢＡ（Ａ）はγ－アミノ酪酸レセプター（ＧＡＢＡ Ｒ）のサブタイプであり、ＧＡＢＡ Ｒには、ＧＡＢＡ（Ａ）、ＧＡＢＡ（Ｂ）およびＧＡＢＡ（Ｃ）の３つのサブタイプがある。ＧＡＢＡ （Ａ）は、塩化物イオンチャネルである。

ＧＡＢＡ（Ａ）は、５つのサブユニット（ポリペプチド鎖）から構成され、ヘテロペンタマー構造を形成する。５つのサブユニットのうち、２組は同一であるので、具体的なＧＡＢＡ（Ａ）レセプターには３種類のサブユニットがあり、一般にα、β、γとして知られている。サブユニットそれぞれはいくつかの異なるサブタイプを有し、αはα_１、α_２、α_３、α_４、α_５、α６を有し、βはβ_１、β_２、β_３を有し、γはγ_１、γ_２、γ_３、γ_４を有する。さらに、δ、ε、ρ_１～３、θ、πなどのサブユニットが存在し、αおよびβとペンタマーを形成できる。

統計によると、サブユニットの組み合わせが異なるＧＡＢＡ（Ａ）レセプターは合計２３個である。レセプターの特異的アイソフォームは、脳内のニューロンの分布領域に関係している。たとえば、γサブユニットを含むＧＡＢＡ（Ａ）レセプターは主にシナプスの内側に位置し、δサブユニットを含むＧＡＢＡ（Ａ）レセプターは主にシナプスの外側（シナプス外）に分布している。（Activation of GABA(A) Receptors: Views from Outside the Synaptic Cleft, Neuron, Vol 56, 2007, 763-770）；ある研究（Endogenous neurosteroids regulate GABA(A) receptors through two discrete transmembrane sites:Nature.Vol 444.23 November. 2006.486-489）は、テトラヒドロデオキシコルチコステロン（ＴＨＤＯＣ）などの内因性ステロイドは、高濃度（マイクロモルレベル）ではシナプス中のＧＡＢＡレセプターα_１β_２γ_２（以下、ＧＡＢＡ_Ａ１と呼ぶ）を直接的に活性化し、一方、低濃度（サブマイクロモルレベル）ではＧＡＢＡレセプターα_１β_２γ_２を増強することを示した。

しかしながら、シナプス外のレセプターサブタイプ（α_４β_３δなど、以下、ＧＡＢＡ_Ａ４と呼ぶ）を直接的に活性化することができるステロイド化合物についての報告は、なされていない。

本発明の目的の１つは、神経疾患をより効果的に治療することができるステロイド化合物を提供することである。本発明の化合物は、良好な有効性、薬物動態学的（ＰＫ）特性、経口生体利用性、製剤化可能性、安定性、安全性、クリアランス、および／または代謝を提供し、知覚麻酔および鎮静のような副作用を低減することが期待される。

上記の目的を考慮して、本発明は、式（Ｉ）の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩を提供する。

式中、
Ｒ１は、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルコキシ、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、または置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシクリルである。

Ｒ２は、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルコキシ、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシクリルである。

Ｒ３は、水素、非置換Ｃ１～６アルキル、または－ＣＨ_２ＯＲ^ａであり、ここで、Ｒ^ａは、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルコキシ、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシクリルである。

Ｌは、－Ｃ（Ｒｂ）（Ｒｂ）－であり、Ｒｂそれぞれは、独立して、水素またはＣ１～Ｃ６アルキルであり、ｎは、０～３の整数である。

Ｒ４は、ハロゲン、または置換もしくは非置換のヘテロアリールもしくはヘテロシクリルである。

さらに好ましい化合物は、
Ｒ１は、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキルであり；
Ｒ２は、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキルであり；
Ｒ３は、水素、非置換Ｃ１～６アルキルであり；
Ｒｂは、水素であり、ｎは、１～２の整数であり；
Ｒ４は、任意にシアノ、ニトロ、ヒドロキシ、ハロ、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ６アルコキシ、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル、－Ｃ（Ｏ）Ｒｄ、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｅ）（Ｒｆ）、－Ｃ（Ｏ）Ｏ（Ｒｄ）、－Ｎ（Ｒｅ）（Ｒｆ）、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｅ）（Ｒｆ）、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ（Ｒｄ）、－ＯＣ（Ｏ）Ｒｄ、－Ｓ（Ｏ）_０～２Ｒｄ、－Ｓ（Ｏ）_０～２ＯＲｄ、または－Ｓ（Ｏ）_０～２Ｎ（Ｒｅ）（Ｒｆ）で置換された、ヘテロアリールであり、
Ｒｄそれぞれは、独立して、水素またはＣ１～Ｃ６アルキルであり；
ＲｅおよびＲｆそれぞれは、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリールである。

さらに好ましい化合物は、
Ｒ１は、水素またはメチルであり；
Ｒ２は、水素であり；
Ｒ３は、水素であり；
Ｌは、－ＣＨ_２－であり；
Ｒ４は、単環式もしくは二環式のヘテロアリール、または単環式もしくは二環式のヘテロシクリルであり、ヘテロ原子それぞれは、酸素または窒素または硫黄であり、二環式の環は、スピロであってもよくまたは縮合していてもよい。

さらに好ましい化合物は、
Ｒ４は、２～４個の窒素原子を含有する５員もしくは６員のヘテロアリールであり、任意にシアノ、ニトロ、ヒドロキシ、ハロ、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ６アルコキシ、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキルで置換されている。

または、式ＩＩに示される化合物である。

式中、
Ｒ１は、水素、またはハロゲン置換もしくは非置換Ｃ１～３アルキル基であり；
Ｒ２は、水素、ハロゲン、ハロゲン置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル基、またはハロゲン置換もしくは非置換Ｃ１～６アルコキシ基であり；
Ｘは、ＣＨ_２、Ｎ、Ｏ、またはＳであり；
Ｒ５は、以下の群から選択される。

式中、
Ｒ６は、Ｈ、ハロゲン、ＣＮ、ＣＦ３、ＮＯ２、ハロゲン置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、またはハロゲン置換もしくは非置換Ｃ１～６アルコキシである。

または、好ましい化合物は、以下から選択される。

本発明はまた、上記の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩のいずれか、または薬学的に許容可能な賦形剤を含む医薬組成物を提供する。

本発明はまた、ＧＡＢＡ（Ａ）レセプターに正または負の影響を及ぼすような、ＧＡＢＡモジュレーターとして作用することができる、本明細書に記載の化合物を提供する。中枢神経系（ＣＮＳ）の興奮性のモジュレーターとして、このような化合物は、ＧＡＢＡ（Ａ）レセプターを調節するその能力によって、ＣＮＳ活性を有することが期待される。

本発明はさらに、本明細書に記載の化合物、または医薬組成物の、神経疾患の予防または治療における用途を提供する。当該神経疾患は、好ましくは睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、痙性障害、記憶障害および／もしくは認知障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、物質乱用障害および／もしくは禁断症候群、または耳鳴から選択され；当該気分障害は、うつ病であり、当該うつ病は、重篤気分障害、重度の抑うつ性障害、持続性の抑うつ性障害、月経前緊張症、物質もしくは薬物誘発性障害、身体疾患による障害、他の特定される抑うつ性障害および特定不能の抑うつ性障害であり、好ましくは軽度のうつ病、中等度のうつ病、重度のうつ病、または産後うつ病である。また、上記の化合物または医薬組成物は、経口、皮下、静脈内、または筋肉内投与することができる。

〔定義〕
〔化学的定義〕
本明細書に記載の化合物は、１つ以上の不斉中心を含み得、したがって、種々の異性体形態にて、例えばエナンチオマーおよび／またはジアステレオマーにて、存在し得る。例えば、本明細書に記載の化合物は、個別のエナンチオマー、ジアステレオマーまたは幾何異性体の形態であり得、または立体異性体の混合物の形態であり得る。当該混合物の形態には、ラセミ混合物および１つ以上の立体異性体に富む混合物が含まれる。異性体は、キラル高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）およびキラル塩の形成および結晶化を含む、当業者に公知の方法によって、混合物から単離することができ；または、好ましい異性体は、不斉合成によって調製することができる。

以下の用語は、それと共に提供される以下の意味を有することが意図され、本発明の記載および意図される範囲を理解するために有用である。本発明を記載する場合、それは、化合物、当該化合物を含有する医薬組成物、ならびに試験方法の化合物および組成物を含み得る。本発明に含まれる用語の定義については、以下の記載を参照することができ、以下に定義される部分はいずれも、多くの置換基で置換されてもよい。対応する定義は、そのような置換された部分を含めて、以下に列挙されるそれらの範囲の内である。特に明記しない限り、用語「置換」は、以下に定義されるとおりである。

「アルキル」は、１～２０個の炭素原子を有する直鎖または分枝飽和炭化水素基（「Ｃ１～２０アルキル」）を指す。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～１２個の炭素原子を有する（「Ｃ１～１２アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～１０個の炭素原子を有する（「Ｃ１～１０アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～９個の炭素原子を有する（「Ｃ１～９アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～８個の炭素原子を有する（「Ｃ１～８アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～７個の炭素原子（「Ｃ１～７アルキル」）を有する。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～６個の炭素原子を有する（「Ｃ１～６アルキル」、本明細書では「低級アルキル」とも呼ぶ）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～５個の炭素原子（「Ｃ１～５アルキル」）を有する。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～４個の炭素原子を有する（「Ｃ１～４アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は１～３個の炭素原子を有する（「Ｃ１～３アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～２個の炭素原子を有する（「Ｃ１～２アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１個の炭素原子を有する（「Ｃ１アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、２～６個の炭素原子を有する（「Ｃ２～６アルキル」）。Ｃ１～６アルキル基の例には、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ－プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ－ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ－ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ－ブチル（Ｃ４）、イソブチル（Ｃ４）、ｎ－ペンチル（Ｃ５）、３－ペンタニル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３－メチル－２－ブタニル（Ｃ５）、第三級アミル（Ｃ５）、およびｎ－ヘキシル（Ｃ６）が含まれる。アルキル基のさらなる例には、ｎ－ヘプチル（Ｃ７）、ｎ－オクチル（Ｃ８）などが含まれる。特に明記しない限り、アルキル基の例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、１個以上の置換基、例えば１～５個の置換基、１～３個の置換基、または１個の置換基で、置換されていない（「非置換アルキル」）か、または置換されている（「置換アルキル」）。特定の実施形態において、アルキル基は、非置換Ｃ１～１０アルキル（例えば、－ＣＨ３）である。特定の実施形態において、アルキル基は、置換Ｃ１～１０アルキルである。

「アルケニル」は、２～２０個の炭素原子、１個以上の炭素－炭素二重結合（例えば、１、２、３、または４個の炭素－炭素二重結合）、および任意に１個以上の炭素－炭素三重結合（例えば、１、２、３、または４個の炭素－炭素三重結合）を有する直鎖または分枝炭化水素基（「Ｃ２～２０アルケニル」）を指す。特定の実施形態において、アルケニルは、三重結合を全く含有しない。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～１０個の炭素原子を有する（「Ｃ２～１０アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～９個の炭素原子を有する（「Ｃ２～９アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～８個の炭素原子を有する（「Ｃ２～８アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～７個の炭素原子を有する（「Ｃ２～７アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～６個の炭素原子を有する（「Ｃ２～６アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～５個の炭素原子を有する（「Ｃ２～５アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～４個の炭素原子を有する（「Ｃ２～４アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～３個の炭素原子を有する（「Ｃ２～３アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルケニル」）。１個以上の炭素－炭素二重結合は、内部のもの（２－ブテニルなど）であっても、または末端のもの（１－ブテニルなど）であってもよい。Ｃ２～４アルケニル基の例には、エテニル（Ｃ２）、１－プロペニル（Ｃ３）、２－プロペニル（Ｃ３）、１－ブテニル（Ｃ４）、２－ブテニル（Ｃ４）、ブタジエニル（Ｃ４）などが含まれる。Ｃ２～６アルケニル基の例には、上述のＣ２～４アルケニル基、およびペンテニル（Ｃ５）、ペンタジエニル（Ｃ５）、ヘキセニル（Ｃ６）などが含まれる。アルケニルのさらなる例には、ヘプテニル（Ｃ７）、オクテニル（Ｃ８）、オクタトリエニル（Ｃ８）などが含まれる。特に明記しない限り、アルケニル基の例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、１個以上の置換基、例えば１～５個の置換基、１～３個の置換基、または１個の置換基で、置換されていない（「非置換アルケニル」）か、または置換されている（「置換アルケニル」）。特定の実施形態において、アルケニル基は、非置換Ｃ２～１０アルケニルである。特定の実施形態において、アルケニル基は、置換Ｃ２～１０アルケニルである。

「アルキニル」は、２～２０個の炭素原子、１個以上の炭素－炭素三重結合（例えば、１、２、３、または４個の炭素－炭素三重結合）、および任意に１個以上の炭素－炭素二重結合（例えば、１、２、３、または４個の炭素－炭素二重結合）を有する直鎖または分枝炭化水素基（「Ｃ２～２０アルキニル」）を指す。特定の実施形態において、アルキニルは、二重結合を全く含有しない。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～１０個の炭素原子を有する（「Ｃ２～１０アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～９個の炭素原子を有する（「Ｃ２～９アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～８個の炭素原子を有する（「Ｃ２～８アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～７個の炭素原子を有する（「Ｃ２～７アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～６個の炭素原子を有する（「Ｃ２～６アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～５個の炭素原子を有する（「Ｃ２～５アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～４個の炭素原子を有する（「Ｃ２～４アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～３個の炭素原子を有する（「Ｃ２～３アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルキニル」）。１個以上の炭素－炭素三重結合は、内部のもの（２－ブチニルなど）であっても、または末端のもの（１－ブチニルなど）であってもよい。Ｃ２～４アルキニル基の例には、限定するものではないが、エチニル（Ｃ２）、１－プロピニル（Ｃ３）、２－プロピニル（Ｃ３）、１－ブチニル（Ｃ４）、２－ブチニル（Ｃ４）などが含まれる。Ｃ２～６アルケニル基の例には、上述のＣ２～４アルキニル基、およびペンチニル（Ｃ５）、ヘキシニル（Ｃ６）などが含まれる。アルキニル基のさらなる例には、ヘプチニル（Ｃ７）、オクチニル（Ｃ８）などが含まれる。特に明記しない限り、アルキニル基の例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、１個以上の置換基、例えば１～５個の置換基、１～３個の置換基、または１個の置換基で、置換されていない（「非置換アルキニル」）か、または置換されている（「置換アルキニル」）。特定の実施形態において、アルキニル基は、非置換Ｃ２～１０アルキニルである。特定の実施形態において、アルキニル基は、置換Ｃ２～１０アルキニルである。

「アリール」は、６～１４個の環炭素原子およびゼロ個のヘテロ原子を芳香族環系に有する、単環式または多環式（例えば、二環式または三環式）４ｎ＋２芳香族環系（例えば、環式配列で共有される６、１０または１４個のπ電子を有する）（「Ｃ６～１４アリール」）を指す。いくつかの実施形態において、アリール基は、６個の炭素原子の環を有する（「Ｃ６アリール」；例えば、フェニル）。いくつかの実施形態において、アリール基は、１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ１０アリール」；例えば、１ナフチルおよび２－ナフチルなどのナフチル）。いくつかの実施形態において、アリール基は、１４個の環炭素原子を有する（「Ｃ１４アリール」；例えば、アントラシル）。「アリール」にはまた、上記で定義されるように、アリール環が１つ以上のカルボシクリルまたはヘテロシクリル基と縮合している環系も含まれる。ここで、ラジカルまたは結合点は、アリール環上にあり、そのような場合、炭素原子の数は、引き続きアリール環系中の炭素原子の数を表す。典型的なアリール基には、アセアントリレン、アセナフチレン、アセフェナントリレン、アントラセン、アズレン、ベンゼン、クリセン、コロネン、フルオランテン、フルオレン、ヘキサセン、ヘキサフェン、ヘキサレン、ａｓ－インダセン、ｓ－インダセン、インダン、インデン、ナフタレン、オクタセン、オクタフェン、オクタレン、オバレン、ペンタ－２，４－ジエン、ペンタセン、ペンタレン、ペンタフェン、ペリレン、フェナレン、フェナントレン、ピセン、プレイアデン、ピレン、ピラントレン、ルビセン、トリフェニレンおよびトリナフタレン由来の基が含まれるが、これらに限定されない。特にアリール基には、フェニル、ナフチル、インデニル、およびテトラヒドロナフチルが含まれる。特に明記しない限り、アリール基の例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、１個以上の置換基で、置換されていない（「非置換アリール」）か、または置換されている（「置換アリール」）。特定の実施形態において、アリール基は、非置換Ｃ６～１４アリールである。特定の実施形態において、アリール基は、置換Ｃ６～１４アリールである。

「ヘテロアリール」は、芳香族環系中に環炭素原子および１～４個のヘテロ原子を有する５～１０員の単環式または二環式の４ｎ＋２芳香族環系（例えば、環式配列で共有される６または１０個のπ電子を有する）のラジカル（「５～１０員のヘテロアリール」）を指す。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。１つ以上の窒素原子を含有するヘテロアリール基において、結合点は、結合価が許容するならば、炭素原子または窒素原子であり得る。ヘテロアリール二環式環系は、１つまたは両方の環中に、１つ以上のヘテロ原子を含み得る。「ヘテロアリール」には、上記で定義されたヘテロアリール環が１つ以上のカルボシクリルまたはヘテロシクリル基と縮合している環系が含まれる。ここで、結合点は、ヘテロアリール環上にあり、そのような場合、環員の数は、引き続きヘテロアリール環系中の環員の数を表す。「ヘテロアリール」にはまた、上記で定義されたヘテロアリール環が１つ以上のアリール基と縮合している環系も含まれる。ここで、結合点は、アリール環上またはヘテロアリール環上のいずれかにあり、そのような場合、環員の数は、縮合（アリール／ヘテロアリール）環系中の環員の数を表す。１つの環がヘテロ原子を含まない二環式ヘテロアリール基（例えば、インドリル、キノリニル、カルバゾリルなど）は、結合点がいずれかの環上にあり、すなわち、ヘテロ原子を有する環（例えば、２－インドリル）またはヘテロ原子を含まない環（例えば、５－インドリル）のいずれかにあり得る。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系中に環炭素原子および１～４個の環ヘテロ原子を有する５～１０員の芳香族環系（「５～１０員のヘテロアリール」）である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系中に環炭素原子および１～４個の環ヘテロ原子を有する５～８員の芳香族環系（「５～８員のヘテロアリール」）である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系中に環炭素原子および１～４個の環ヘテロ原子を有する５～６員の芳香族環系（「５～６員のヘテロアリール」）である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。いくつかの実施形態において、５～６員のヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される１～３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員のヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される１～２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員のヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される１個の環ヘテロ原子を有する。特に明記しない限り、ヘテロアリール基の例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、１個以上の置換基で、置換されていない（「非置換ヘテロアリール」）か、または置換されている（「置換ヘテロアリール」）。特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、非置換５～１４員ヘテロアリールである。特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、置換５～１４員ヘテロアリールである。１個のヘテロ原子を含有する例示的な５員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、ピロリル、フラニルおよびチオフェニルが含まれる。２個のヘテロ原子を含有する例示的な５員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、およびイソチアゾリルが含まれる。３個のヘテロ原子を含有する例示的な５員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、トリアゾリル、オキサジアゾリル、およびチアジアゾリルが含まれる。４個のヘテロ原子を含有する例示的な５員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、テトラゾリルが含まれる。１個のヘテロ原子を含有する例示的な６員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、ピリジニルが含まれる。２つのヘテロ原子を含有する例示的な６員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、ピリダジニル、ピリミジニル、およびピラジニルが含まれる。３個または４個のヘテロ原子を含有する例示的な６員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、それぞれ、トリアジニルおよびテトラジニルが含まれる。１個のヘテロ原子を含有する例示的な７員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、アゼピニル、オキセピニル、およびチエピニルが含まれる。例示的な５，６－二環式ヘテロアリール基には、限定するものではないが、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾチオフェニル、イソベンゾチオフェニル、ベンゾフラニル、ベンゾイソフラニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、インドリジニル、およびプリニルが含まれる。例示的な６，６－二環式ヘテロアリール基には、限定するものではないが、ナフチリジニル、プテリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シノリニル、キノキサリニル、フタラジニル、およびキナゾリニルが含まれる。

「カルボシクリル（carbocyclyl）」または「カルボシクリック（carbocyclic）」は、非芳香族環系中に３～１０個の環炭素原子（「Ｃ３～１０カルボシクリル」）およびゼロ個のヘテロ原子を有する非芳香族環状炭化水素基のラジカルを指す。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３～８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～８カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～６カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～６カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、５～１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５～１０カルボシクリル」）。例示的なＣ３～６カルボシクリル基には、シクロプロピル（Ｃ３）、シクロプロペニル（Ｃ３）、シクロブチル（Ｃ４）、シクロブテニル（Ｃ４）、シクロペンチル（Ｃ５）、シクロペンテニル（Ｃ５）、シクロヘキシル（Ｃ６）、シクロヘキセニル（Ｃ６）、シクロヘキサジエニル（Ｃ６）などが含まれるが、これらに限定されない。例示的なＣ３～８カルボシクリル基には、上記のＣ３～６カルボシクリック基、およびシクロヘプチル（Ｃ７）、シクロヘプテニル（Ｃ７）、シクロヘプタジエニル（Ｃ７）、シクロヘプタトリエニル（Ｃ７）、シクロオクチル（Ｃ８）、シクロオクテニル（Ｃ８）、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル（Ｃ７）、ビシクロ［２．２．２］オクチル（Ｃ８）などが含まれるが、これらに限定されない。例示的なＣ３～１０カルボシクリル基には、上記のＣ３～８カルボシクリル基、およびシクロノニル（Ｃ９）、シクロノネニル（Ｃ９）、シクロデシル（Ｃ１０）、シクロデセニル（Ｃ１０）、オクタヒドロ－１Ｈ－インデニル（Ｃ９）、デカヒドロナフチル（Ｃ１０）、スピロ［４．５］デシル（Ｃ１０）などが含まれるが、これらに限定されない。上述の例によって説明されるように、いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、単環式環（「単環式カルボシクリル」）、または、二環式環系（「二環式カルボシクリル」）などの縮合環系、架橋環系もしくはスピロ環系を含むカルボシクリル基である。カルボシクリル基は、飽和または部分的に不飽和のカルボシクリル基であり得る。「カルボシクリル」にはまた、上記のカルボシクリック環が１個以上のアリールまたはヘテロアリール基に縮合した環系も含まれる。ここで、結合点は、カルボシクリック環上にあり、そのような場合、炭素の数は、引き続きカルボシクリック環系中の炭素の数を表す。特に明記しない限り、カルボシクリル基それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、１個以上の置換基で、置換されていない「非置換カルボシクリル」か、または置換されている（「置換カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリルは、非置換Ｃ３～１０カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、カルボシクリルは、置換Ｃ３～１０カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、「カルボシクリル」は、３～１０個の環炭素原子を有する、単環式の飽和カルボシクリル（「Ｃ３～１０シクロアルキル」）である。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、３～８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～８シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、３～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～６シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、５～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ５～６シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、５～１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５～１０シクロアルキル」）。Ｃ５～６シクロアルキル基の例には、シクロペンチル（Ｃ５）およびシクロヘキシル（Ｃ６）が含まれる。Ｃ３～６シクロアルキル基の例には、上記のＣ５～６シクロアルキル基、ならびにシクロプロピル（Ｃ３）およびシクロブチル（Ｃ４）が含まれる。Ｃ３～８シクロアルキル基の例には、上記のＣ３～６シクロアルキル基、ならびにシクロヘプチル（Ｃ７）およびシクロオクチル（Ｃ８）が含まれる。特に明記しない限り、シクロアルキル基の例それぞれは、独立して、１個以上の置換基で、置換されていない（「非置換シクロアルキル」）か、または置換されている（「置換シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキルは、非置換Ｃ３～１０シクロアルキルである。いくつかの実施形態において、シクロアルキルは置換Ｃ３～１０シクロアルキルである。

「ヘテロシクリル」または「ヘテロシクリック」は、環炭素原子および１～４個の環ヘテロ原子を有する３～１０員の非芳香族環系のラジカル（「３～１０員ヘテロシクリル」）を指す。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素、硫黄、ホウ素、リンおよびケイ素から選択される。１つ以上の窒素原子を含有するヘテロシクリック基において、結合点は、結合価が許容するならば、炭素原子または窒素原子であり得る。ヘテロシクリル基は、単環式（「単環式ヘテロシクリル」）、または、二環式系（「二環式ヘテロシクリル」）などの縮合、架橋もしくはスピロ環系のいずれかであり得る。ヘテロシクリル基は、飽和または部分的に不飽和であり得る。ヘテロシクリル二環式環系は、１つまたは両方の環中に、１つ以上のヘテロ原子を含み得る。「ヘテロシクリル」にはまた、上記で定義されたヘテロシクリル環が１つ以上のカルボシクリル基と縮合し結合点がカルボシクリルもしくはヘテロシクリル環上にある環系、または、上記で定義されたヘテロシクリル環が１つ以上のアリールもしくはヘテロアリール基と縮合し結合点がヘテロシクリル環上にある環系も含まれる。そのような場合、環員の数は、引き続きヘテロシクリル環系中の環員の数を表す。特に明記しない限り、ヘテロシクリルの例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、１個以上の置換基で、置換されていない（「非置換ヘテロシクリル」）か、または置換されている（「置換ヘテロシクリル」）。特定の実施形態において、ヘテロシクリル基は、非置換３～１０員ヘテロシクリルである。特定の実施形態において、ヘテロシクリル基は、置換３～１０員ヘテロシクリルである。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１～４個の環ヘテロ原子を有する５～１０員の非芳香族環系（「５～１０員のヘテロシクリル」）である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素、硫黄、ホウ素、リンおよびケイ素から選択される。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１～４個の環ヘテロ原子を有する５～８員の非芳香族環系（「５～８員のヘテロシクリル」）である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１～４個の環ヘテロ原子を有する５～６員の非芳香族環系（「５～６員のヘテロシクリル」）である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。いくつかの実施形態において、５～６員のヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される１～３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員のヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される１～２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員のヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される１個の環ヘテロ原子を有する。

化合物または化合物上に存在する基を説明するために使用される場合の「ヘテロ」は、当該化合物または基中の１個以上の炭素原子が窒素、酸素または硫黄ヘテロ原子で置換されていることを意味する。ヘテロは、上記のヒドロカルビルのいずれにも適用することができる：例えば、アルキル、例えばヘテロアルキル；シクロアルキル基、例えばヘテロシクリル基；アリール、例えばヘテロアリール；シクロアルケニル基、例えばシクロヘテロアルケニルなど；当該ヒドロカルビルは、１～５個のヘテロ原子、特に１～３個のヘテロ原子を有する。

「アルコキシ」は、基－ＯＲを指す。ここで、Ｒは、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。特定のアルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｎ－ペントキシ、ｎ－ヘキソキシ、および１，２－ジメチルブトキシである。特定のアルコキシ基は、低級アルコキシ、すなわち１～６個の炭素原子を有するものである。さらなる特定のアルコキシ基は、１～４個の炭素原子を有する。例示的な置換アルコキシ基には、以下が含まれるが、これらに限定されない：－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ（Ｃ_６～Ｃ_１０アリール）、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ（５～１０員ヘテロアリール）、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ（Ｃ_３～Ｃ_１０シクロアルキル）、および－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ（４～１０員ヘテロシクリル）；ここで、ｔは、０～４の整数である。任意の置換される基には、存在するアリール、ヘテロアリール、シクロアルキルまたはヘテロシクリル基が含まれ、それ自体が、非置換Ｃ_１～Ｃ_４アルキル基、ハロ、非置換Ｃ_１～Ｃ_４アルコキシ基、非置換Ｃ_１～Ｃ_４ハロアルキル基、非置換Ｃ_１～Ｃ_４ヒドロキシアルキル基、もしくは非置換Ｃ_１～Ｃ_４ハロアルコキシ基、またはヒドロキシ基によって、置換され得る。

「カルボキシ」は、－Ｃ（Ｏ）ＯＨを指す。

「シアノ」は、－ＣＮを指す。

「ハロ」または「ハロゲン」は、フッ素原子（Ｆ）、塩素原子（Ｃｌ）、臭素原子（Ｂｒ）、およびヨウ素原子（Ｉ）を指す。特定の実施形態において、ハロ基は、フッ素原子または塩素原子のいずれかである。

「ヒドロキシ」は、－ＯＨを指す。

「ニトロ」は、－ＮＯ２を指す。

〔他の定義〕
用語「薬学的に許容可能な塩」は、信頼できる医学的判断の範囲内で、過度の毒性、刺激、アレルギー反応などを伴わずにヒトおよび下等動物の組織と接触して使用するために適しており、合理的な利益／リスク比に釣り合う、それらの塩を指す。薬学的に許容可能な塩は、当技術分野で公知である。例えば、Ｂｅｒｇｅらは、J. Pharmaceutical Sciences (1977) 66:1-19に薬学的に許容可能な塩を詳細に記載している。本発明の化合物の薬学的に許容可能な塩には、適切な無機および有機の酸および塩基から誘導されるものが含まれる。薬学的に許容可能な無毒性の酸付加塩の例は、アミノ基の塩である。当該アミノ基の塩は、塩酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸および過塩素酸などの無機酸を用いて形成されるか、または、酢酸、シュウ酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、コハク酸もしくはマロン酸などの有機酸を用いて形成されるか、または、イオン交換などの当技術分野で使用される他の方法を使用することによって形成される。他の薬学的に許容可能な塩には、アジピン酸塩、アルギン酸塩、アスコルビン酸塩、アスパラギン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、安息香酸塩、重硫酸塩、ホウ酸塩、酪酸塩、ショウノウ酸塩、ショウノウスルホン酸塩、クエン酸塩、シクロペンタンプロピオン酸塩、ジグルコン酸塩、ドデシル硫酸塩、エタンスルホン酸塩、ギ酸塩、フマル酸塩、グルコヘプタン酸塩、グリセロリン酸塩、グルコン酸塩、ヘミ硫酸塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、ヨウ化水素酸塩、２－ヒドロキシ－エタンスルホン酸塩、ラクトビオン酸塩、乳酸塩、ラウリン酸塩、ラウリン硫酸塩、リンゴ酸塩、マレイン酸塩、マロン酸塩、メタンスルホン酸塩、２－ナフタレンスルホン酸塩、ニコチン酸塩、硝酸塩、オレイン酸塩、シュウ酸塩、パルミチン酸塩、パモ酸塩、ペクチン酸塩、過硫酸塩、３－フェニルプロピオン酸塩、リン酸塩、ピクリン酸塩、ピバリン酸塩、プロピオン酸塩、ステアリン酸塩、コハク酸塩、硫酸塩、酒石酸塩、チオシアン酸塩、ｐ－トルエンスルホン酸塩、ウンデカン酸塩、吉草酸塩などが含まれる。適切な塩基から誘導される薬学的に許容可能な塩には、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩およびＮ＋（Ｃ１～４アルキル）４塩が含まれる。代表的なアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩には、ナトリウム、リチウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムなどが含まれる。さらなる薬学的に許容可能な塩には、適切な場合には、ハロゲン化物、水酸化物、カルボン酸塩、硫酸塩、リン酸塩、硝酸塩、低級アルキルスルホン酸塩、およびアリールスルホン酸塩などの対イオンを用いて形成される、非毒性アンモニウム、第四級アンモニウム、およびアミンカチオンが含まれる。

図１は、血漿および脳におけるコントロールの経時的変化を示すグラフである。 図２は、血漿および脳におけるＫＨ０２２の経時的変化を示すグラフである。

本発明の技術的基本構想をより良く説明するために、本発明は、一部の化合物の合成または生物学的例を提供するが、本発明の保護範囲をさらに限定するものではない。

〔材料および方法〕
本明細書中に提供される化合物は、容易に入手可能な出発材料から、以下の一般的な方法および手順を使用して、調製することができる。典型的な、または好ましいプロセス条件下（すなわち、反応温度、時間、反応物のモル比、溶媒、圧力など）では、特に明記しない限り、他のプロセス条件を使用することもできることが理解される。最適な反応条件は、使用される特定の反応物または溶媒によって、変化し得る。しかし、そのような条件は、日常的な最適化に基づいて当業者によって決定され得る。

さらに、特定の官能基の望ましくない反応を防止するために、従来の保護基が要求され得ることは、当業者には明らかである。特定の官能基のための適切な保護基をどのように選択するか、および保護および脱保護のための適切な条件をどのように選択するかは、当技術分野で公知である。

本明細書中に提供される化合物は、公知の標準的な方法によって、単離および精製され得る。当該方法には、再結晶、カラムクロマトグラフィー、ＨＰＬＣ、または超臨界流体クロマトグラフィー（ＳＦＣ）が含まれるが、これらに限定されない。本明細書中の代表的なピラゾールの調製の詳細は、以下の反応スキームにおいて提供される。

本明細書中に提供される化合物は、当業者に公知の適切な試薬、出発材料および精製方法を使用して、当技術分野に記載される方法にしたがって、調製され得る。

〔実施例１：化合物ＫＨ００１の合成〕

化合物ＫＨＣ－２：ＫＣＮ（６００．０ｇ、９．２ｍｏｌ）、酢酸（６４０ｍＬ）を、メタノール（４Ｌ）中の化合物ＫＨＣ－１（１００．０ｇ、０．３ｍｏｌ）の溶液に添加し、室温（ＲＴ）にて一晩、反応物を撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチル（ＥＡ）を用いて抽出した。有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥させ、真空下で濃縮し、粗生成物を得た。これを酢酸（２．５Ｌ）に溶解した。二酸化プラチナ（２４．０ｇ、０．１ｍｏｌ）を反応溶液に添加し、Ｈ_２ガスを用いて水素化を行った。反応が完了したことをＴＬＣが示したら、反応溶液を濾過し、次いで濾液を約２００ｍＬにまで濃縮し、氷水（２．４Ｌ）で希釈した。ＮａＮＯ_２（４６．０ｇ、０．７ｍｏｌ）水溶液を混合物にゆっくりと滴下した後、混合物を室温にて１５時間、撹拌し、ＥＡを用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、ブラインを用いて洗浄し、乾燥させ、濃縮し、シリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、ＫＨＣ－２（５７．３ｇ、収率５５％）を得た。

化合物ＫＨＣ－３：Ｎ_２雰囲気下、－７８℃で、臭化エチニルマグネシウム（３９５ｍＬ、０．５Ｍ）をＴＨＦ（１Ｌ）中の化合物ＫＨＣ－２（５７．３ｇ、１６４．５ｍｍｏｌ）の溶液に滴下し、次いで徐々にＲＴに加温し、ＲＴにて一晩、撹拌した。飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を上記混合物にゆっくりと添加した後、ＥＡを用いて抽出した。有機相を、ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させ、濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、化合物ＫＨＣ－３（３３．７ｇ、収率５５％）を得た。

化合物ＫＨＣ－４：化合物ＫＨＣ－３（３３．７ｇ、９０．５ｍｍｏｌ）を酢酸（２００ｍＬ）および水（２０ｍＬ）の混合溶媒に溶解させた後、Ｄｏｗｅｘ－５０（１０．０ｇ）を添加することによって加熱還流した。反応終了後、ＲＴまで冷却し、樹脂を濾過し、ＥＡを用いて洗浄した。４０％ＮａＯＨ水溶液を用いて濾液を中和し、有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させ、濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、化合物ＫＨＣ－４（２３．６ｇ、収率７０％）を得た。

化合物ＫＨＣ－５：ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の化合物ＫＨＣ－４（２３．６ｇ、６３．３ｍｍｏｌ）およびパラジウムブラック（１．２ｇ）を、ＲＴにて一晩、撹拌した後、Ｈ_２ガスを用いて水素化した。混合物をセライトのパッドを通して濾過し、ＥＡを用いて洗浄し、濾液を真空中で濃縮し、粗化合物を得た。この粗化合物をアセトンから再結晶化し、化合物ＫＨＣ－５（１９．０ｇ、収率８０％）を得た。

化合物ＫＨ００１：ＮａＯＨ水溶液（５０ｍＬ、１Ｍ）をＴＨＦ（２００ｍｌ）中の化合物ＫＨＣ－５（１９．０ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）の溶液にゆっくりと添加し、ＲＴにて一晩、撹拌した。反応液のｐＨを、希塩酸を用いて調整した後、ＥＡを用いて抽出した。有機相を、ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させ、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、化合物ＫＨ００１（１３．５ｇ、収率８０％）を得た。¹H NMR(400MHz,CDCl₃ ), δ 4. 06(s,1H), 2.32-2.28(dd,1H), 2.15(s,3H),1.84-1.77(m,2H), 1.74-1.61(m,5H), 1.61-1.
54(m,3H), 1.48-1.46(m,1H), 1.33-1.14(m,10H), 1.02-0.95(m,1H), 0.93(s,3H), 0.85-0.79(m,3H), 0.75(s,3H)。

〔実施例２：化合物ＫＨ００２の合成〕

化合物ＫＨＣ－６：実施例１において合成した化合物ＫＨ００１（１．５ｇ、４．５ｍｍｏｌ）を、溶液が透明になるまでＣＨ_３ＯＨ（４０ｍＬ）中に溶解させた後、溶液を氷水中で５℃まで冷却した。続いて、冷却した溶液に臭素（１．５ｇ、９．２ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。氷浴を取り除き、ＲＴにて４時間、反応を行うと、反応溶液は橙色から淡黄色になった。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応溶液に水（３０ｍＬ）を添加し、ＥＡ（２×３５ｍＬ）を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２）によって精製し、白色固体（１．０ｇ、収率５６．７％）を得た。

化合物ＫＨ００２：化合物ＫＨＣ－６（８０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を、溶液が透明になるまでＴＨＦ（５ｍＬ）中に溶解させた後、Ｋ_２ＣＯ_３（８３ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）および４－シアノピラゾール（５６ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示した後、反応物を、水１０ｍＬを用いて洗浄し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝１００：１）によって精製した後、再結晶化（ＥＡ／ＰＥ＝１：１０）して、白色固体（３６ｍｇ、収率４２．５％）を得た。¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.82 (s, 1H), 7.80 (s, 1H), 5.06-4.93 (m, 2H), 4.05-4.04 (m, 1H), 2.32 (dd, 1H), 1.88-1.83 (m, 2H), 1.79-1.66 (m, 4H), 1.64-1.58 (m,2H), 1.54-1.44 (m, 4H), 1.39-1.13 (m, 9H), 1.04-0.97 (m, 1H), 0.94 (s, 3H), 0.85-0.75
(m, 3H), 0.74 (s, 3H)。

〔実施例３：化合物ＫＨ００３の合成〕

化合物ＫＨ００３：化合物ＫＨＣ－６（５０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を、溶液が透明になるまでＴＨＦ（５ｍＬ）中に溶解させた後、Ｋ_２ＣＯ_３（５０ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）および１Ｈ－トリアゾール（２５ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示した後、反応物を、水１０ｍＬを用いて洗浄し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝１５０：１）によって精製した後、再結晶化（ＥＡ／ＰＥ＝１：１０）して、白色固体（１７ｍｇ、収率３５．５％）を得た。¹H NMR
(400 MHz, CDCl₃) δ 7.76 (s, 1H), 7.60 (s, 1H), 5.31-5.17 (m, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.37 (d, 1H), 1.87-1.61 (m, 8H), 1.52-1.10 (m, 13H), 1.04-0.98 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.92-0.79 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。

〔実施例４：化合物ＫＨ００４およびＫＨ００５の合成〕

化合物ＫＨ００４およびＫＨ００５：化合物ＫＨＣ－６（１０３ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を、溶液が透明になるまでＣＨ_３ＣＮ（１５ｍＬ）中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（２４４ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）および１Ｈ－テトラゾリウム（５３ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応物を、水１０ｍＬを用いて洗浄し、ＥＡ（２×２５ｍＬ）を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝１５０：１から９０：１）によって精製し、２つの化合物を得た。これら２つの化合物それぞれを、再結晶化（ＥＡ／ＰＥ＝１：１０）して、白色固体１（２４ｍｇ、収率２４．０％）および白色固体２（３６ｍｇ、収率３６．０％）を得た。白色固体１（ＫＨ００４）：¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.57 (s, 1H), 5.50 (s, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.35 (dd, 1H), 1.92-1.81 (m, 3H), 1.74-1.68 (m, 3H), 1.64-1.57 (m,4H), 1.46-1.11 (m, 10H), 1.05-0.98 (m, 2H), 0.96 (s, 3H),0.88-0.78 (m, 3H), 0.75 (s, 3H)。白色固体２（ＫＨ００５）：¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.71 (s, 1H), 5.38 -5.23 (m, 2H), 4.06-4.05 (m,
1H), 2.41 (dd, 1H), 2.28 (dd, 1H), 1.91-1.72 (m, 4H), 1.68-1.51 (m, 7H), 1.47-1.11 (m, 10H), 1.06-0.99 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.91-0.78 (m, 3H), 0.75 (s, 3H)。

〔実施例５：化合物ＫＨ００６の合成〕

化合物ＫＨ００６：化合物ＫＨＣ－６（５０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を、溶液が透明になるまでＣＨ_３ＣＮ（８ｍＬ）中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１１７ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）および１Ｈ－ピラゾール（２４ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応物を、水１０ｍＬを用いて洗浄し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムのフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝１００：１）によって精製し、再結晶化（ＥＡ／ＰＥ＝１：１０）して、白色固体（２４ｍｇ、収率５０．２％）を得た。¹H
NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.56 (d, 1H), 7.39 (d, 1H), 6.34 (s, 1H), 5.03-4.92 (m,
2H), 4.05-4.04 (m, 1H), 2.28 (dd, 1H), 1.86-1.73 (m, 4H), 1.71-1.61 (m, 3H), 1. 60-1.49 (m,4H), 1.48-1.09 (m, 10H), 1.03-0.97 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.81-0.76 (
m, 3H), 0.74 (s, 3H)。

〔実施例６：化合物ＫＨ００７の合成〕

化合物ＫＨ００７：化合物ＫＨＣ－６（１５０ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中に溶解させた後、Ｋ_２ＣＯ_３（１５２ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）および１Ｈ－イミダゾール（７５ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応溶液に水（１０ｍＬ）を添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝３０：１）によって精製した後、再結晶化（ＥＡ）して、白色固体（３５ｍｇ、収率２４．１％）を得た。¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.47 (s, 1H), 7.11 (s, 1H), 6.85 (s, 1H), 4.74(d, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.30 (dd, 1H),1.88-1.68 (m, 4H), 1.64-1.56 (m, 3H), 1.52-1.45 (m,4H), 1.40-1.11 (m, 10H), 1.04-0.97 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.83-0.77 (m, 3H), 0.75 (s, 3H)。

〔実施例７：化合物ＫＨ００８の合成〕

化合物ＫＨ００８：化合物ＫＨＣ－６（１００ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中に溶解させた後、Ｋ_２ＣＯ_３（９７ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）および３－シアノピラゾール（６８ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）を添加した。７０℃にて２時間以上、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応溶液に水（１０ｍＬ）を添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝３：１）によって精製した後、再結晶化（ＣＨ３ＣＮ）して、白色固体（２０ｍｇ、収率１９．４％）を得た。¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.44 (d, 1H), 6.72 (d, 1H), 6.34 (s, 1H), 5.00 (q, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.32 (dd, 1H), 1.88-1.68 (m, 4H), 1.63-1.60 (m, 3H), 1.50-1.45 (m,4H), 1.41-1.11 (m, 10H), 1.04-0.97 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.87-0.79 (m, 3H), 0.75 (s, 3H)。

〔実施例８：化合物ＫＨ００９の合成〕

化合物ＫＨ００９：化合物ＫＨＣ－６（５０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ（５ｍＬ）中にはっきりと溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１２０ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）および１Ｈ－インドール（６８ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応溶液に水（１０ｍＬ）を添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＥＡ＝１０：１）によって精製し、淡黄色固体（３４ｍｇ、収率６２．４％）を得た。¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.65-7.63 (m, 1H), 7.21-7.18 (m, 1H), 7.13-7.10 (m, 2H), 7.01-7.00 (m, 1H), 6.57 (d, 1H), 4.83 (d, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.30 (dd, 1H), 1.82-1.72
(m, 4H), 1.64-1.61 (m, 3H), 1.51-1.45 (m,4H), 1.41-1.11 (m, 10H),1.01-0.96 (m, 1H), 0.96 (s, 3H), 0.92-0.77 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。

〔実施例９：化合物ＫＨ０１０の合成〕

化合物ＫＨ０１０：化合物ＫＨＣ－６（１００ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ（５ｍＬ）中に溶解させた後、Ｋ_２ＣＯ_３（１０１ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）および４－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール（３５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を添加した。５０℃にて２時間以上、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応溶液に水（１０ｍＬ）を添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ／アセトン＝７：１）によって精製した後、再結晶化（ＣＨ_３ＣＮ）して、白色固体（６１ｍｇ、収率５３．１％）を得た。¹H NMR
(400 MHz, CDCl₃) δ 7.71 (d, 2H), 4.98 (q, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.32 (dd, 1H), 1.87-1.68 (m, 4H), 1.64-1.57 (m, 3H), 1.52-1.45 (m,4H), 1.41-1.11 (m, 10H), 1.04-0.97 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.87-0.82 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。

〔実施例１０：化合物ＫＨ０１１の合成〕

化合物ＫＨ０１１：化合物ＫＨＣ－６（５０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ（５ｍＬ）中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１２０ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）および１Ｈ－インダゾール（４３ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応溶液に水（１０ｍＬ）を添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝３：１）によって精製した後、再結晶化（ＣＨ３ＣＮ）して、白色固体（２０ｍｇ、収率３６．６％）を得た。¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.11 (s, 1H), 7.78 (d, 1H), 7.45-7.41 (m, 1H), 7.23-7.19 (m, 2H),5.31-5.20 (m, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.35 (dd, 1H), 1.87-1.72 (m,
4H), 1.67-1.63 (m, 3H), 1.54-1.45 (m,4H), 1.42-1.14 (m, 10H), 1.01-0.98 (m, 1H), 0.96 (s, 3H), 0.93-0.78 (m, 3H), 0.75 (s, 3H)。

〔実施例１１：化合物ＫＨ０１２の合成〕

化合物ＫＨ０１２：化合物ＫＨＣ－６（５０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ（５ｍＬ）中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１２０ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）および１Ｈ－プリン（４４ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応溶液に水（１０ｍＬ）を添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色固体として粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝２０：１）によって精製した後、再結晶化（ＣＨ_３ＣＮ）して、白色固体（５ｍｇ、収率９．１％）を得た。¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 9.22 (s, 1H), 9.06(s, 1H), 8.25(s, 1H), 5.18 (q, 2H), 4.07-4.06 (m, 1H), 2.49 (dd, 1H), 1.93-1.72 (m, 4H), 1.68-1.65 (m, 3H), 1.58-1.45 (m,4H), 1.42-1.13 (m, 10H), 1.06-1.00 (m, 1H), 0.96 (s, 3H), 0.90-0.80 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。

〔実施例１２：化合物ＫＨ０１３の合成〕

化合物ＫＨ０１３：化合物ＫＨＣ－６（８０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ（８ｍＬ）中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１９６ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）および４－クロロピラゾール（６２ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１５ｍＬを添加し、ＥＡ（２×３０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝１００：１）によって精製した後、再結晶化（ＥＡ／ＰＥ＝１：１０）して、白色固体（２８ｍｇ、収率３２．３％）を得た。¹H NMR (400MHz, CDCl3) δ 7.46 (s, 1H), 7.38 (s, 1H), 4.96-4.83 (m, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H),2.19 (dd, 1H), 1.86-1.71 (m, 4H), 1.64-1.55 (m, 3H), 1.51-1.45 (m,4H), 1.45-1.10 (m, 10H), 1.03-0.96 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.86-0.77 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。

〔実施例１３：化合物ＫＨ０１４の合成〕

化合物ＫＨ０１４：化合物ＫＨＣ－６（６０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を、ＤＭＦ（５ｍＬ）中に溶解させた後、ＮａＯＨ（１ｍＬ、１．０ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝５０：１）によって精製し、白色固体（１２ｍｇ、収率２２．９２％）を得た。¹H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 4.94 - 4.89 (m, 1H), 4.18 (t, 1H), 4.06 - 4.02 (m, 2H), 3.80 (t, 1H), 2.27 (dd, 1H), 1.77 - 0.65 (m, 27H), 0.68 (s, 3H)。

〔実施例１４：化合物ＫＨ０１５の合成〕

化合物ＫＨ０１５：化合物ＫＨＣ－６（６０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ（５ｍＬ）中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（９８ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）および６－クロロプリン（４６ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体（３９ｍｇ、収率５３．６１％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 8.60 (s, 1H), 8.37 (s, 1H), 5.41 (q, 2H), 4.20 (d, 1H), 3.79 (t, 1H), 2.56 (dd, 1H), 1.80 - 0.75 (m, 27H), 0.69 (s, 3H)
〔実施例１５：化合物ＫＨ０１６の合成〕

化合物ＫＨ０１６：ＫＨＣ－６（６０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ５ｍＬ中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（９８ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）および２－メルカプトチオフェン（１７ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体（１９ｍｇ、収率２８．３４％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.35 (d, 1H), 7.14 (d, 1H), 6.95 (dd, 1H), 4.04 (t, 1H), 3.62 (q, 2H), 2.45 (dd, 1H), 1.65 - 0.81 (m, 27H), 0.73 (s, 3H)。

〔実施例１６：化合物ＫＨ０１７の合成〕

化合物ＫＨ０１７：ＫＨＣ－６（６０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ５ｍＬ中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（９８ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）および６－メトキシプリン（４５ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に１０ｍＬ水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体（４６ｍｇ、収率６３．７６％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 8.57 (s, 1H), 8.32 (s, 1H), 5.37 (q, 2H), 4.20 (d, 1H), 3.91 (s, 3H), 3.79 (t, 1H), 2.53 (dd, 1H), 1.79 - 0.75 (m, 27H), 0.69 (s, 3H)。

〔実施例１７：化合物ＫＨ０１８およびＫＨ０１９の合成〕

化合物ＫＨ０１８およびＫＨ０１９：ＫＨＣ－６（６０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を、ＣＨ３ＣＮ５ｍＬ中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（９８ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）および５－メチル－１Ｈ－テトラゾール（２５ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、それぞれ、白色固体ＫＨ６０７００５３－１（１３ｍｇ、２０．８８％）、および白色固体としてＫＨ６０７００５３－２（２７ｍｇ、４３．３７％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 4.39 (s, 2H), 4.05 (t, 1H), 2.56 (s, 3H), 2.34 (dd, 1H), 1.92 - 0.76 (m, 27H), 0.74 (s, 3H)。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 5.15 (dd, 2H), 4.06 (t, 1H), 2.43 (s, 3H), 2.39 (dd, 1H), 1.95 - 0.78 (m, 27H), 0.75 (s, 3H)。

〔実施例１８：化合物ＫＨ０２０の合成〕

化合物ＫＨ０２０：ＫＨＣ－６（６０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ５ｍＬ中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（９８ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）および２－オキサ－６－アザ－スピロ［３，３］ヘプタン（３０ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体（２１ｍｇ、収率３２．５６％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 4.75 (s, 4H), 4.04 (t, 1H), 3.57 (dd, 4H), 3.40 (dd, 2H), 2.13 (dd, 1H), 1.90 - 0.75 (m, 27H), 0.73 (s, 3H)。

〔実施例１９：化合物ＫＨ０２１の合成〕

化合物ＫＨＣ－７：ＫＨ００１（０．７０ｇ、２．１１ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_２Ｃｌ_２１００ｍＬ中に溶解させ、ＤＭＰ（１．７８ｇ、４．２０ｍｍｏｌ）をバッチにて添加した。Ｎ_２雰囲気下で室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水４０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×８０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ／アセトン＝４０：１→３０：１）によって精製し、白色固体としてＫＨＣ－７（０．６２ｇ、収率８９．４７％）を得た。

化合物ＫＨ０２１：ＦｅＣｌ_３（０．６１ｇ、３．７５ｍｍｏｌ）およびＬｉＣｌ（０．３４ｇ、８．０７ｍｍｏｌ）を混合し、Ｎ_２雰囲気下で１００ｍＬの三口フラスコに添加した。次いで無水ＴＨＦ（４０ｍＬ）を添加し、混合物をＲＴにて５分間、撹拌し、－４５℃に冷却した。次いでＣＨ_３ＭｇＢｒ（１５．２０ｍＬ、１５．２０ｍｍｏｌ）を滴下し、－４０℃にて１５分間、混合物を撹拌した後、無水ＴＨＦに溶解した化合物ＫＨＣ－７（０．６２ｇ、１．８８ｍｍｏｌ）を滴下した。反応物を約－２０℃に加熱し、２時間撹拌した。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、飽和ＮＨ_４Ｃｌ水溶液４０ｍＬを用いて反応溶液をクエンチし、ＥＡ（２＊８０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ／アセトン＝４０：１→３５：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０２１（０．５２ｇ、収率７８．５０％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) 2.29 (dd, 1H), 2.13 (s, 3H), 1.88 - 1.25 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.88 - 0.78 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。

〔実施例２０：化合物ＫＨ０２２およびＫＨ０２３の合成〕

化合物ＫＨＣ－８およびＫＨＣ－９：化合物ＫＨ０２１（１．２５ｇ、３．６０ｍｍｏｌ）を、透明になるまでメタノール４０ｍＬ中に溶解させた後、臭素（０．８６ｇ、５．４０ｍｍｏｌ）を滴下した。室温にて４時間の反応後、反応溶液は橙色から淡黄色に変わり、反応が完了したことをＴＬＣモニタリングが示した。反応混合物に、３０ｍＬの水３０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×６５ｍＬ）を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和塩化ナトリウムを用いて洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィー（ジクロロメタンを用いて溶離）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－８（０．９３ｇ、６０．７８％）および白色固体ＫＨＣ－９（０．３６ｇ、１９．８９％）を得た。

化合物ＫＨ０２２およびＫＨ０２３：化合物ＫＨＣ－８（１００ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）を、透明になるまでアセトニトリル５ｍＬ中に溶解させ、Ｃｓ_２ＣＯ_３（２３４ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）および１Ｈ－テトラゾール（５０ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをＴＬＣモニタリングが示した。反応混合物に水１０ｍＬを添加し、酢酸エチル（２×２０ｍＬ）を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和塩化ナトリウムを用いて洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。厚いシリカゲル調製プレートを用いた薄層クロマトグラフィーを使用して精製（ジクロロメタン／メタノール＝３０：１を用いて溶離）し、それぞれ、白色固体ＫＨ０２２（２０ｍｇ、２０．０８％）および白色固体ＫＨ０２３（４７ｍｇ、４７．１９％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.56 (s, 1H), 5.54 - 5.45 (m, 2H), 2.35 (dd, 1H), 1.89 - 1.25 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.88 - 0.80 (m, 3H), 0.72 (s, 3H). ¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.71 (s, 1H), 5.30 (dd, 2H), 2.35 (dd, 1H), 1.83 - 1.23 (m, 21H),1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.87 - 0.78 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)。

〔実施例２１：化合物ＫＨ０２４の合成〕

化合物ＫＨ０２４：ＫＨＣ－８（６０ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ５ｍＬ中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（９１ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）および３－シアノピラゾール（２６ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０２４（１６ｍｇ、２６．０９％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) 7.45 (d, 1H), 6.73 (d, 1H), 5.06 (q, 2H), 2.30 (dd, 1H),
1.86 - 1.23 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.87 - 0.77 (m, 3H), 0.72 (s,
3H)。

〔実施例２２：化合物ＫＨ０２５の合成〕

化合物ＫＨ０２５：ＫＨＣ－８（１００ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）を、ＤＭＳＯ５ｍＬ中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（２３５ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）および３－ヒドロキシベンゾイソオキサゾール（９７ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝５：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０２５（７０ｍｇ、６０．７６％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.72 (d, 1H), 7.58 - 7.49 (m, 1H), 7.42 (d, 1H), 7.29
(d, 1H), 5.11 - 4.95 (m, 2H), 2.35 (dd, 1H), 1.87 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.99 (s, 3H), 0.87 - 0.80 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)
〔実施例２３：化合物ＫＨ０２６の合成〕

化合物ＫＨ０２６：ＫＨＣ－８（５３ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ５ｍＬ中に溶解させた後、Ｋ_２ＣＯ_３（１００ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）および２－メルカプトベンゾオキサゾール（２４ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝６：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０２６（３０ｍｇ、５０．４０％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.55 (d, 1H), 7.42 (d, 1H), 7.34 - 7.24 (m, 2H), 4.33
(m, 2H), 2.54 (dd, 1H), 1.83 - 1.23 (m, 21H), 1.18 (s, 3H), 0.94 (s, 3H), 0.85 - 0.78 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。

〔実施例２４：化合物ＫＨ０２７の合成〕

化合物ＫＨ０２７：ＫＨＣ－９（１１０ｍｇ、０．２２ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ１０ｍＬ中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（２１５ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）および４－シアノピラゾール（６１ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝６：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０２７（７６ｍｇ、６５．３０％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.23 (s, 1H), 8.13 (s, 1H), 7.92 (s, 1H), 7.83 (s, 1H), 7.03 (s, 1H), 2.11 (dd, 1H), 1.83 - 1.23 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.91 (s, 3H), 0.82 - 0.75 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。

〔実施例２５：化合物ＫＨ０２８の合成〕

化合物ＫＨ０２８：ＫＨＣ－８（７０ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）を、ＤＭＳＯ８ｍＬ中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１６０ｍｇ、０．４９ｍｍｏｌ）および２－ヒドロキシベンゾオキサゾール（６６ｍｇ、０．４９ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝６０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０２８（５５ｍｇ、７１．６１％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.24 - 7.18 (m, 1H), 7.17 - 7.06 (m, 2H), 6.75 - 6.64
(m, 1H), 4.58 (dd, 2H), 2.38 (dd, 1H), 1.92 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.97
(s, 3H), 0.89 - 0.78 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)。

〔実施例２６：化合物ＫＨ０２９の合成〕

化合物ＫＨ０２９：ＫＨＣ－８（６０ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）を、ＤＭＳＯ５ｍＬ中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１３８ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）およびび８－メチル－４－ヒドロキシキナゾリン（６８ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝６０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０２９（５０ｍｇ、７０．７２％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.13 (d, 1H), 7.90 (s, 1H), 7.61 (d, 1H), 7.39 (t, 1H), 4.81 (s, 2H), 2.63 (s, 3H), 2.43 (dd, 1H), 1.88 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.97 (s, 3H), 0.90 - 0.81 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)。

〔実施例２７：化合物ＫＨ０３０の合成〕

化合物ＫＨ０３０：ＫＨＣ－８（５０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を、ＤＭＳＯ５ｍＬ中に溶解させた後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（７８ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）および３－ヒドロキシ－４－メチル－５－メトキシ－４Ｈ－１，２，４－トリアゾール（３１ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝４：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０３０（２０ｍｇ、３５．１６％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 4.47 (q, 2H), 3.93 (s, 3H), 3.12 (s, 3H), 2.28 (dd, 1H), 1.86 - 1.22 (m, 21H), 1.19 (s, 3H), 0.94 (s, 3H), 0.85 - 0.78 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。

〔実施例２８：化合物ＫＨ０３１の合成〕

化合物ＫＨ０３１：ＫＨＣ－８（６０ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）を、ＣＨ_３ＣＮ５ｍＬ中に溶解させた後、Ｋ_２ＣＯ_３（５８ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）および１－メチル－５－メルカプト－１Ｈ－テトラゾール（６８ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて反応を行った。反応が完了したことをＴＬＣモニタリングが示したら、反応混合物に水１０ｍＬを添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝４：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０３１（５０ｍｇ、７７．４７％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) 4.40 (dd, 2H), 3.97 (s, 3H), 2.47 (dd, 1H), 1.88 - 1.22 (m, 21H), 1.19 (s, 3H), 0.93 (s, 3H), 0.87 - 0.79 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。

〔実施例２９：化合物ＫＨ０３２の合成〕

化合物ＫＨ０３２：ＫＨＣ－８（５０ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｋ_２ＣＯ_３（５０ｍｇ，０．３６ｍｍｏｌ）および１－ヒドロキシ－１Ｈ－イミダゾール（３０ｍｇ，０．３６ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝２：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０３２（１１ｍｇ、２１．３７％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 9.26 (s, 1H), 6.32 (s, 1H), 6.17 (s, 1H), 4.53 - 4.32
(m, 2H), 2.31 (dd, 1H), 1.86 - 1.25 (m, 21H), 1.21 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.88 - 0.78 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。

〔実施例３０：化合物ＫＨ０３３の合成〕

化合物ＫＨ０３３：ＫＨＣ－８（６０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１３８ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）および２－ヒドロキシキノリン（６１ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝４：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０３３（１５ｍｇ、２１．８７％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.05 (d, 1H), 7.75 (dd, 2H), 7.61 (t, 1H), 7.39 (t, 1H), 7.05 (d, 1H), 5.15 (s, 2H), 2.43 (dd, 1H), 1.98 - 1.23 (m, 21H), 1.21 (s, 3H), 0.97 (s, 3H), 0.91 - 0.78 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。

〔実施例３１：化合物ＫＨ０３４の合成〕

化合物ＫＨ０３４：ＫＨＣ－８（６０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｋ_２ＣＯ_３（５８ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）および３－ヒドロキシ－１Ｈ－１，２，４－トリアゾール（３６ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０３４（４０ｍｇ、６６．４５％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 9.30 (s, 1H), 7.42 (s, 1H), 4.47 (q, 2H), 2.33 (dd, 1H), 1.87 - 1.25 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.87 - 0.79 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。

〔実施例３２：化合物ＫＨ０３５の合成〕

化合物ＫＨ０３５：ＫＨＣ－８（８０ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を６ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１８４ｍｇ，０．５６ｍｍｏｌ）および８－フルオロ－４－ヒドロキシキナゾリン（９２ｍｇ，０．５６ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝２：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０３５（６５ｍｇ、６７．２１％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.06 (d, 1H), 7.88 (s, 1H), 7.55 - 7.40 (m, 2H), 4.79
(m, 2H), 2.43 (dd, 1H), 1.88 - 1.22 (m, 21H), 1.21 (s, 3H), 0.96 (s, 3H), 0.90 - 0.81 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)。

〔実施例３３：化合物ＫＨ０３６の合成〕

化合物ＫＨ０３６：ＫＨＣ－８（６０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｋ_２ＣＯ_３（５８ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）および６－フルオロピリジン［３，４－ｄ］ピリミジン－４－オン（６９ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０３６（４０ｍｇ、５６．０２％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.82 (s, 1H), 7.80 (s, 1H), 7.66 (d, 1H), 4.80 (q, 2H), 2.43 (dd, 1H), 1.89 - 1.23 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.90 - 0.80 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。

〔実施例３４：化合物ＫＨ０３７の合成〕

化合物ＫＨ０３７：ＫＨＣ－８（６０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＣＨ_３ＣＮに溶解した後、Ｋ_２ＣＯ_３（５８ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）および４－メチル－４Ｈ－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール（４９ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝３：２）によって精製し、白色固体ＫＨ０３７（５３ｍｇ、８２．３０％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.16 (s, 1H), 4.34 (dd, 2H), 3.65 (s, 3H), 2.45 (dd, 1H), 1.88 - 1.22 (m, 21H), 1.19 (s, 3H), 0.91 (s, 3H), 0.87 - 0.79 (m, 3H), 0.70
(s, 3H)。

〔実施例３５：化合物ＫＨ０３８の合成〕

化合物ＫＨ０３８：ＫＨＣ－８（６０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１３８ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）および３－ヒドロキシイソキサゾール（３６ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝１５：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０３８（３９ｍｇ、６５．００％）を得た。
¹H NMR (300 MHz, CDCl₃) δ 8.12 (d, 1H), 6.06 (d, 1H), 4.87 (s, 2H), 2.29 (dd, 1H), 1.90 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.97 (s, 3H), 0.90 - 0.74 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。

〔実施例３６：化合物ＫＨ０３９の合成〕

化合物ＫＨ０３９：ＫＨＣ－８（７５ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を５ｍｌのＣＨ_３ＣＮに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１７１ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）および５‐フェニルテトラゾール（７７ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝３：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０３９（７９ｍｇ、８９．３９％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.19 - 8.07 (m, 2H), 7.55 - 7.42 (m, 3H), 5.54 - 5.40
(m, 2H), 2.37 (dd, 1H), 1.92 - 1.23 (m, 21H), 1.21 (s, 3H), 0.97 (s, 3H), 0.90 - 0.78 (m, 3H), 0.73 (s, 3H)。

〔実施例３７：化合物ＫＨ０４０の合成〕

化合物ＫＨ０４０：ＫＨＣ－８（６０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＣＨ３ＣＮに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（９１ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）および４－シアノピラゾール（２６ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０４０（１６ｍｇ、２６．０９％）を得た。¹H NMR (400 MHz,
CDCl₃) δ 7.82 (s, 1H), 7.81 (s, 1H), 5.00 (q, 2H), 2.32 (dd, 1H), 1.88 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.94 (s, 3H), 0.87 - 0.79 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。

〔実施例３８：化合物ＫＨ０４１の合成〕

化合物ＫＨ０４１：ＫＨＣ－８（７０ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＣＨ_３ＣＮに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１６０ｍｇ、０．４９ｍｍｏｌ）および２－メルカプトチオフェノン（５７ｍｇ、０．４９ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＰＥ＝１：１）によって精製し、灰色固体ＫＨ０４１（２７ｍｇ、３５．５３％）を得た。¹H NMR (400 MHz,
CDCl₃) δ 7.35 (dd, 1H), 7.14 (dd, 1H), 6.95 (dd, 1H), 3.62 (dd, 2H), 1.90 - 1. 21 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.90 (s, 3H), 0.84 - 0.74 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。

〔実施例３９：化合物ＫＨ０４２の合成〕

化合物ＫＨ０４２：ＫＨＣ－８（１５０ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）を水（１５ｍＬ）およびアセトン（３０ｍＬ）に溶解した後、Ｋ_２ＣＯ_３（４９ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×３０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝５０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０４２（２１ｍｇ、１６．５４％）を得た。¹H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 4.92 (t, 1H), 4.06 - 4.04 (m, 2H), 3.85 (t, 1H), 2.27 (dd, 1H), 1.82 - 1.10 (m, 21H), 1.05 (s, 3H), 0.87 (s, 3H), 0.85 - 0.70 (m, 3H), 0.65 (s, 3H).。

〔実施例３９：化合物ＫＨ０４３およびＫＨ０４４の合成〕

化合物ＫＨ０４３およびＫＨ０４４：ＫＨＣ－８（６０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を５ｍｌのＣＨ３ＣＮに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（９１ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）および１Ｈ－トリアゾール（１５ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ６０７０１００－１（１２ｍｇ、２０．７０％）および白色固体ＫＨ６０７０１００－２（２７ｍｇ、４６．５８％）をそれぞれ得た。¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.68 (s, 2H), 5.34 - 5.20 (m, 2H), 2.25 (dd, 1H), 1.88 - 1.23 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.89 - 0.79 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.76 (s, 1H), 7.61 (s, 1H), 5.25 (dd, 2H), 2.37 (dd, 1H), 1.86 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.94 (s, 3H), 0.86 - 0.76 (m, 3H), 0.71
(s, 3H)。

〔実施例４０：化合物ＫＨ０４５の合成〕
化合物ＫＨＣ－１１：化合物ＫＨＣ－１０（１５０．０ｇ，１８３．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５００ｍＬ）に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（６．０ｇ）を溶液に添加した。続いて、この溶液をＨ_２ガス下で水素化し、室温にて２４時間攪拌し続けた後、濾過を行った。濾液を真空下で濃縮し、粗生成物を得た。続いて、この粗生成物を溶液（溶離液：ＰＥ：アセトン＝１：１）と共に攪拌し、化合物ＫＨＣ－１１（１５０．０ｇ、収率９９．２６％）を得た。

化合物ＫＨＣ－１２：ＫＨＣ－１１（１５０．０ｇ，５４７．４ｍｍｏｌ）を１０００ｍＬのＣＨ_３ＯＨに溶解した後、Ｉ２（１４．０ｇ，５４．８ｍｍｏｌ）を溶液に添加した。この溶液を６０℃に加熱して、１２時間撹拌し続けた。続いて、この溶液を真空下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ：ＥＡ＝１０：１）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－１２（１３０．０ｇ，７４．２０％）を得た。

化合物ＫＨＣ－１３：ＫＨＣ－１２（１３０．０ｇ、４０６．２ｍｍｏｌ）を１０００ｍｌのＤＭＦに溶解し、ｔ－ＢｕＯＫ（９１．０ｇ、８１２．４ｍｍｏｌ）トリメチルヨードニウムスルフィド（１６５．８ｇ、８１２．７ｍｍｏｌ）を溶液に添加した。この溶液を、Ｎ_２ガス下で室温にて１２時間攪拌し続けた。続いて、ブラインを反応混合物に添加し、ＥＡ（３×１Ｌ）を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮して、白色固体ＫＨＣ－１３（１２０．０ｇ、８８．５０％）を得た。

化合物ＫＨＣ－１４：ＫＨＣ－１３（１２０．０ｇ、３５９．４ｍｍｏｌ）を９００ｍＬのエタノールおよび１６０ｍＬの水に溶解し、ＮａＮ_３（７０．２ｇ、１０７７．９ｍｍｏｌ）およびＮＨ_４Ｃｌ（６７．２ｇ、１２５７．９ｍｍｏｌ）を溶液に添加した。この溶液を９０^ｏ℃にて一晩、攪拌し続けた。ブラインを反応混合物に添加し、ＥＡ（３×１Ｌ）を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ：ＥＡ＝１０：１）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－１４（１３０．０ｇ、９５．５９％）を得た。

化合物ＫＨＣ－１５：ＫＨＣ－１４（１２５．６ｇ、３３２．４ｍｍｏｌ）を１０００ｍＬのＣＨ_３ＣＮに溶解し、ＮａＩ（２４９．３ｇ、１６６２．０ｍｍｏｌ）を溶液に添加した。この溶液を、室温にて３０分間撹拌し続けた後、ＴＭＳＣｌ（１４４．９、１３２９．６ｍｍｏｌ）を反応溶液に滴下した。反応は、室温にて４時間撹拌し続けることにより行った。ブラインを反応混合物に添加し、ＥＡ（３×１Ｌ）を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ：ＥＡ＝１０：１）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－１５（７２．０ｇ、７５．２０％）を得た。

化合物ＫＨＣ－１６：ＫＨＣ－１５（７２．０ｇ、２５０．０ｍｍｏｌ）を１０００ｍＬのＣＨ_３ＯＨに溶解し、Ｉ２（１９．０ｇ、７５．０ｍｍｏｌ）を溶液に添加した。反応溶液を６０℃に加熱し、１２時間攪拌し続けた後、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ：ＥＡ＝１０：１）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－１６（５３．０ｇ、６３．５０％）を得た。

化合物ＫＨＣ－１７：トリメチルシリルアセチレン（７７．８ｇ，７９３．０ｍｍｏｌ）を１０００ｍＬのＴＨＦに取り込み、－７８℃にてｎ－ブチルリチウム溶液（１．６ｍ、３２９．０ｍｍｏｌ、２０５．６ｍｌ）を添加した。反応溶液を２時間攪拌し続けた。続いて、４００ｍＬのＴＨＦ中の化合物ＫＨＣ－１６（５３．０ｇ、１５８．６ｍｍｏｌ）を、反応溶液に添加した。この混合物を－７８℃にて２時間撹拌し、徐々に０℃まで加熱した後、飽和ＮＨ_４Ｃｌ溶液に注いだ。ＥＡ（８００ｍＬ×３）を用いて、混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をクロマトグラフィーカラム（溶離液：ＰＥ：ＥＡ＝１０：１）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－１７（５６．０ｇ、８１．５５％）を得た。

化合物ＫＨＣ－１８：８００ｍＬのＴＨＦ中のＫＨＣ－１７（５６．０ｇ、１２９．３ｍｍｏｌ）を、１．０ＭのＴＢＡＦ（１２９．３ｍｍｏｌ、１２９．３ｍｌ）と０℃にて混合し、混合物を１時間撹拌し続けた。ブラインを反応混合物に添加し、ＥＡ（３×１Ｌ）を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ：ＥＡ＝５：１）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－１８（４３．０ｇ、９２．３０％）を得た。

化合物ＫＨＣ－１９：８００ｍＬのＴＨＦ中のＫＨＣ－１８（３８．０ｇ、１０５．６ｍｍｏｌ）を、１．０ＭのＨＣｌと混合してＰＨ＝３とし、混合物を室温にて１２時間撹拌し続けた。ブライン（１．０Ｌ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（３×１Ｌ）を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ：ＥＡ＝５：１）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－１９（３２．０ｇ、９６．５０％）を得た。

化合物ＫＨＣ－２０：また、メタンスルホン酸（１４８．０ｇ、１５４１．６ｍｍｏｌ）を１０００ｍＬのＣＨ_２Ｃｌ_２と混合し、ＣＨ_２Ｃｌ_２（１０００ｍＬ）中のＫＨＣ－１９（３２．０ｇ、１０１．９ｍｍｏｌ）を溶液に滴下して加えた。反応溶液を６０^ｏＣにて、２時間撹拌し続け、室温まで冷却した。ブライン（１．０Ｌ）を反応混合物に添加し、ＣＨ_２Ｃｌ_２（３×１．０Ｌ）を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ：ＥＡ＝１０：１）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－２０（２０．０ｇ、６２．５０％）を得た。

化合物ＫＨＣ－２１：化合物ＫＨＣ－２０（２０．０ｇ、６３．７ｍｍｏｌ）を５００ｍＬのＴＨＦに溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（３．０ｇ）を溶液に添加した。続いて、この溶液をＨ_２ガス下で水素化した。反応溶液を室温にて２日間撹拌し続けた後、濾過を行った。濾液を真空下で濃縮し、粗生成物を得た。続いて、この粗生成物をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ：ＥＡ＝１５：１）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－２１（１７．０ｇ、８４．４０％）を得た。

化合物ＫＨ０４５：２０００ｍＬの三つ口フラスコ中で、Ｎ_２下にて、ＦｅＣｌ_３（２３．０ｇ、１４２．０ｍｍｏｌ）およびＬｉＣｌ（１３．５ｇ、３２１．４ｍｍｏｌ）を混合し、８００ｍＬの無水ＴＨＦを添加した。混合物を室温にて２０分間撹拌し続けた後、－４０℃まで冷却した。溶液にＣＨ_３ＭｇＢｒ（３Ｍ、１９０ＭＬ、５７０．０ｍｍｏｌ）を滴下して加えた後、－４０^ｏ℃にて３０分間撹拌し続けた。無水ＴＨＦ（２００ｍＬ）中のＫＨＣ－２１（１７．０ｇ、５３．８ｍｍｏｌ）を上記反応溶液に滴下して加えた後、溶液を－２０^ｏ℃まで加熱し、４時間撹拌し続けた。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、飽和ＮＨ_４Ｃｌ（４０ｍＬ）を用いて反応溶液を急冷し、ＥＡ（３×１．０Ｌ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインＩを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。真空下で濃縮し、粗生成物を得た。続いて、この粗生成物をシリカゲルについてのフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＰＥ／ＥＡ＝１５：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０４５（１０．２ｇ、収率５７．１０％）を得た。¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 2.34 - 2.25 (m, 1H), 2.14 (s, 3H), 2.00 (t, J = 11.4 Hz, 1H), 1.87 - 1.78 (m, 1H), 1.75 - 1.54 (m, 9H), 1.51 - 1. 43 (m, 2H), 1.39 - 1.30 (m, 4H), 1.27 - 1.13 (m, 7H), 1.09 - 0.84 (m, 8H)。

〔実施例４１：化合物ＫＨ０４６の合成〕

化合物ＫＨＣ－２２および化合物ＫＨＣ－２３：化合物ＫＨ０４５（１．５０ｇ、４．５０ｍｍｏｌ）を４０ｍＬのＣＨ_３ＯＨに溶解した後、溶液にＢｒ_２（１．０８ｇ、６．７５ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。室温にて４時間反応させると、反応溶液は橙色から淡黄色に変色した。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（３０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×６５ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルについてのフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２）によって精製し、白色固体ＫＨＣ－２２（１．１９ｇ、６４．３４％）および白色固体ＫＨＣ－２３（０．３３ｇ、１７．８４％）を得た。

化合物ＫＨ０４６：ＫＨＣ－２２（５０ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｋ_２ＣＯ_３（２１ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）および８－フルオロ－４－ヒドロキシキナゾリン（２５ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝４：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０４６（３３ｍｇ、５５．５６％）を得た。¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.06 (d, 1H), 7.88 (s, 1H), 7.55 - 7.40 (m, 2H), 4.80 (q, 2H), 2. 44 (dd, 1H), 2.04 - 2.01 (m, 1H), 1.91 - 1.88 (m, 1H), 1.84 - 1.16 (m, 21H), 1.1
5 - 0.80 (m, 8H)。

〔実施例４２：化合物ＫＨ０４７の合成〕

化合物ＫＨ０４７：ＫＨＣ－２２（５０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）をＣＨ_３ＣＮ（５ｍＬ）に溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（４９ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）および５－メルカプト－１－メチル－１Ｈ－テトラゾリウム（１７ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝４：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０４７（５１ｍｇ、５０．１２％）を得た。¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) 4.40 (dd, 2H), 3.97 (s, 3H), 2.48 (dd, 1H), 2.05 - 1.99 (m, 1H), 1.93 - 1.82 (m, 1H), 1.83 - 1.14 (m, 21H), 1.13 - 0.70 (m, 8H)。

〔実施例４３：化合物ＫＨ０４８の合成〕

化合物ＫＨ０４８：ＫＨＣ－２２（６０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｋ_２ＣＯ_３（５８ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）および６－フルオロピリジン［３，４－ｄ］ピリミジン－４－オン（６９ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０４８（３７ｍｇ、５０．１２％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.82 (s, 1H), 7.79 (s, 1H), 7.66 (d, 1H), 4.80 (dd, 2H), 2.44 (dd, 1H), 2.05 - 1.99 (m, 1H), 1.93 - 1.82 (m, 1H), 1.83 - 1.14 (m, 21H), 1.13 - 0.70 (m, 8H)。

〔実施例４４：化合物ＫＨ０４９の合成〕

化合物ＫＨ０４９：ＫＨＣ－２２（６０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＣＨ_３ＣＮで溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（６２ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）および２－メルカプトベンゾキサゾール（２９ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝４：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０４９（４２ｍｇ、４２．９２％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.55 (d, 1H), 7.42 (d, 1H), 7.34 - 7.24 (m, 2H), 4.33
(dd, 2H), 2.57 (dd, 1H), 2.05 - 1.99 (m, 1H), 1.93 - 1.82 (m, 1H), 1.83 - 1.14 (m, 21H), 1.13 - 0.70 (m, 8H)。

〔実施例４５：化合物ＫＨ０５０の合成〕

化合物ＫＨ０５０：ＫＨＣ－２２（６０ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＣＨ_３ＣＮに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（６２ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）および３－メルカプト－４－メチル－４Ｈ－１，２，４－トリアゾール（２２ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌで洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝７０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０５０（１７ｍｇ、２５．４１％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.22 (s, 1H), 4.37 (dd, 2H), 3.68 (s, 3H), 2.50 (dd, 1H), 2.10 - 1.97 (m, 1H), 2.06 - 2.02 (m, 1H), 1.79 - 1.14 (m, 21H), 1.12 - 0.79
(m, 8H)。

〔実施例４６：化合物ＫＨ０５１の合成〕

化合物ＫＨ０５１：ＫＨＣ－２２（６０ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｋ_２ＣＯ_３（５８ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）および３－ヒドロキシ－１Ｈ－１，２，４－トリアゾール（３６ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝４０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０５１（２７ｍｇ、４６．３６％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 9.57 (s, 1H), 7.42 (s, 1H), 4.46 (q, 2H), 2.34 (dd, 1H), 2.07 - 1.96 (m, 1H), 1.88 - 1.82 (m, 1H), 1.79 (s, 21H), 1.11 - 0.81 (m, 8H)。

〔実施例４７：化合物ＫＨ０５２および化合物ＫＨ０５３の合成〕

化合物ＫＨ０５２および化合物ＫＨ０５３：ＫＨＣ－２２（１００ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＣＨ_３ＣＮに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（２３４ｍｇ，０．７２ｍｍｏｌ）および１Ｈ－テトラゾール（５０ｍｇ，０．７２ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４を用いて乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝３０：１）で精製し、白色固体ＫＨ６０７００６９－１（１９ｍｇ、１９．７４％）および白色固体ＫＨ６０７００６９－２（４４ｍｇ、４５．７２％）をそれぞれ得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.57 (s, 1H), 5.49 (s, 2H), 2.33 (dd, 1H), 2.05 - 2.01 (m, 1H), 1.94 - 1.84 (m, 1H), 1.83 - 1.15 (m, 21H), 1.14 - 0.82 (m, 8H)。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.72 (s, 1H), 5.29 (dd, 2H), 2.41 (dd, 1H), 2.06 - 2. 01 (m, 1H), 1.95 - 1.85 (m, 1H), 1.85 - 1.15 (m, 21H), 1.14 - 0.82 (m, 8H)。

〔実施例４８：化合物ＫＨ０５４の合成〕

化合物ＫＨ０５４：ＫＨＣ－２２（６０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＣＨ_３ＣＮに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（６２ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）および２－ヒドロキシオキサゾール［４，５－ｂ］］ピリジン（２６ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝７０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０５４（１７ｍｇ、４２．９２％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.25 (d, 1H), 7.01 (d, 1H), 6.69 (t, 1H), 5.11 (q, 2H), 2.40 (dd, 1H), 2.08 - 1.98 (m, 1H), 1.93 - 1.83 (m, 1H), 1.82 - 1.14 (m, 21H), 1.15 - 0.81 (m, 8H)。

〔実施例４９：化合物ＫＨ０５５の合成〕

化合物ＫＨ０５５：ＫＨＣ－２２（６０ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＣＨ_３ＣＮに溶解した後、Ｃｓ２ＣＯ３（１５６ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）および４－シアノピラゾール（４５ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝３０：１）で精製し、白色固体ＫＨ０５５（５１ｍｇ、５０．１２％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.83 (s, 1H), 7.81 (s, 1H), 4.99 (q, 2H), 2.32 (dd, 1H), 2.05 - 2.01 (m, 1H), 1.92 - 1.83 (m, 1H), 1.82 - 1.15 (m, 21H), 1.14 - 0.81 (m, 8H)。

〔実施例５０：化合物ＫＨ０５６の合成〕

化合物ＫＨ０５６：ＫＨＣ－２３（４０ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＣＨ３ＣＮに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１９８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）および４－シアノピラゾール（２８ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ＣＨ_３ＯＨ＝３０：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０５６（１２ｍｇ、２３．３０％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.22 (s, 1H), 8.14 (s, 1H), 7.92 (s, 1H), 7.84 (s, 1H), 7.02 (s, 1H), 2.10 (dd, 1H), 2.05 - 2.00 (m, 1H), 1.87 - 1.78 (m, 1H), 1.78 -
1.14 (m, 21H), 1.12 - 0.79 (m, 8H)。

〔実施例５１：化合物ＫＨ０５７の合成〕

化合物ＫＨ０５７：ＫＨＣ－２２（６０ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１４３ｍｇ，０．４４ｍｍｏｌ）および２－ヒドロキシベンゾオキサゾール（５９ｍｇ，０．４４ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝３：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０５７（３０ｍｇ、４２．９２％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 7.24 - 7.19 (m, 1H), 7.17 - 7.07 (m, 2H), 6.75 - 6.65
(m, 1H), 4.58 (s, 2H), 2.40 (dd, 1H), 2.08 - 1.98 (m, 1H), 1.93 - 1.83 (m, 1H),
1.82 - 1.14 (m, 21H), 1.15 - 0.81 (m, 8H)。

〔実施例５２：化合物ＫＨ０５８の合成〕

化合物ＫＨ０５８：ＫＨＣ－２２（８０ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１９０ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ）および８－メチル－４－キナゾリノン（９３ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝３：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０５８（２８ｍｇ、３０．０１％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.13 (d, 1H), 7.88 (s, 1H), 7.61 (d, 1H), 7.39 (t, 1H), 4.80 (dd, 2H), 3.49 (s, 3H), 2.45 (dd, 1H), 2.03 - 2.01 (m, 1H), 1.92 - 1.84 (m, 1H), 1.83 - 1.16 (m, 21H), 1.14 - 0.80 (m, 8H)。

〔実施例５３：化合物ＫＨ０５９の合成〕

化合物ＫＨ０５９：ＫＨＣ－２２（８０ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１９０ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ）および８－ヒドロキシ－１，７－ナフチリジン（８５ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝３：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０５８（２８ｍｇ、３０．８９％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.86 (d, 1H), 7.88 (d, 1H), 7.54 (dd, 1H), 6.96 (d, 1H), 6.45 (d, 1H), 4.86 (s, 2H), 2.45 (dd, 1H), 2.09 - 1.95 (m, 1H), 1.87 - 1.83 (m, 1H), 1.80 - 1.15 (m, 21H), 1.12 - 0.76 (m, 8H)。

〔実施例５４：化合物ＫＨ０６０の合成〕

化合物ＫＨ０６０：ＫＨＣ－２２（１００ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｃｓ_２ＣＯ_３（１５６ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）および３－ヒドロキシ－４－メチル－５－メトキシ－４Ｈ－１，２，４－トリアゾール（６２ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝４：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０５８（５６ｍｇ、５０．７２％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 4.54 - 4.40 (m, 2H), 3.93 (s, 3H), 3.12 (s, 3H), 2.29
(dd, 1H), 2.03 - 1.99 (m, 1H), 1.85 - 1.82 (m, 1H), 1.77 - 1.13 (m, 21H), 1.10 - 0.81 (m, 8H)。

〔実施例５５：化合物ＫＨ０６１の合成〕

化合物ＫＨ０６１：ＫＨＣ－２２（８０ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を５ｍＬのＤＭＳＯに溶解した後、Ｃｓ２ＣＯ３（１５６ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）および２－ヒドロキシキノリン（８４ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ）を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のＴＬＣモニタリングが示したら、水（１０ｍＬ）を反応混合物に添加し、ＥＡ（２×２０ｍＬ）を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ＮａＣｌを用いて洗浄し、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をＴＬＣ（溶離液：ＰＥ／アセトン＝４：１）によって精製し、白色固体ＫＨ０５８（４５ｍｇ、４９．７６％）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 8.05 (d, 1H), 7.75 (dd, 2H), 7.61 (t, 1H), 7.39 (t, 1H), 7.05 (d, 1H), 5.15 (s, 2H), 2.43 (dd, 1H), 2.04 - 2.00 (m, 1H), 1.86 - 1.83 (m, 1H), 1.78 - 1.12 (m, 21H), 1.10 - 0.80 (m, 8H)。

〔実施例５６：インビトロ細胞生存率アッセイ〕
本発明に用いられるコントロール化合物は、以下に説明する化学構造を有する：

コントロール化合物の詳細な合成は、ＣＮ１０５３３９３８１Ｂを参照して調製した。

本発明は、組み換えＧＡＢＡ_Ａ受容体の２つのサブユニット、すなわちα_１β_２γ_２およびα_４β_３δを適用して、パッチクランプ電気生理学によるインビトロでの例示的な化合物の性能を評価する。

［５６．１ 電気生理学的試験溶液］
（細胞外液および細胞内液組成）
細胞外液：１４０ｍＭ ＮａＣｌ、５ｍＭ ＣｓＣｌ、２ｍＭ ＣａＣｌ_２・２Ｈ_２Ｏ、１ｍＭ ＭｇＣｌ_２・６Ｈ_２Ｏ、５ｍＭ ＨＥＰＥＳ、１０ｍＭ Ｄ－グルコース、ｐＨ＝７．４（ＮａＯＨ）。

細胞内液：１３０ｍＭ ＣｓＣｌ、０．１ｍＭ ＣａＣｌ２・Ｈ_２Ｏ、２ｍＭ ＭｇＣｌ_２・６Ｈ_２Ｏ、１．１ｍＭ ＥＧＴＡ、５ｍＭ Ｎａ_２－ＡＴＰ、１０ｍＭ ＨＥＰＥＳ、ｐＨ＝７．２（ＣｓＯＨ）。

調製した細胞内液をチューブ当たり１ｍＬに分注し、凍結して、－２０℃の冷蔵庫にて保存した。毎日、新しく溶融した細胞内液を実験に使用した。全ての細胞内液を３ヶ月以内に消費した。

［５６．２ イオンチャネルの安定な発現を有する細胞株］

［５６．３ 細胞培養］
［５６．３．１ ＧＡＢＡ_Ａ（α１β２γ２）細胞培養］
ＧＡＢＡ_Ａ（α１β２γ２）受容体を安定に発現するＨＥＫ２９３細胞株を、１０％ウシ胎児血清と、８００μｇ／ｍＬのＧ４１８と、２００μｇ／ｍＬのハイグロマイシンＢと、１００μｇ／ｍＬのゼオシンとを補充したダルベッコ改変イーグル培地（ＤＭＥＭ）中で培養した。細胞を、５％二酸化炭素を含む３７℃の加湿インキュベーター中で増殖させた。

細胞継代：古い培地を除去し、細胞を、ＰＢＳを用いて１回洗浄した。続いて、１ｍＬの０．２５％－トリプシン－ＥＤＴＡ溶液を添加し、３７℃にて０．５分間インキュベートした。皿の底から細胞を分離したら、３７℃で予熱した完全培地（５ｍｌ）を加える。細胞凝集体を、穏やかなピペッティングによって解離させた。細胞懸濁液を滅菌遠心管に移した後、細胞懸濁液を１０００ｒｐｍで５分間回転させ、細胞を収集した。６ｃｍの細胞培養皿（最終培地容量：５ｍＬ）に、２．５×１０^５細胞を播種することによって、細胞を増幅または維持した。

電気生理学的性能を維持するために、細胞密度は８０％を超えてはならない。

手動パッチクランプ試験の前に、０．２５％－トリプシン－ＥＤＴＡ溶液を用いて細胞を分離した。続いて、８×１０^３個の細胞をカバースリップ上にプレーティングし、２４ウェルプレート（最終培地容量：５００μＬ）中で培養し、１８時間後にパッチクランプによって試験を行った。

［５６．３．２ ＧＡＢＡ_Ａ（α４β３δ）細胞培養］
ＨＥＫ２９３細胞株を、１０％ウシ胎児血清を含むＤＭＥＭ中で、３７℃、５％二酸化炭素下にて培養した。

細胞継代：古い培地を除去し、細胞を、ＰＢＳを用いて１回洗浄した。続いて、１ｍＬの０．２５％－トリプシン－ＥＤＴＡ溶液を添加し、細胞を消化した。培養皿を、予熱したインキュベーター中で、３７℃にて０．５分間インキュベートした。細胞が分離するとすぐに、３７℃で予熱した完全培地を約５ｍＬ添加した。細胞凝集体を、穏やかなピペッティングによって解離させた。細胞懸濁液を滅菌遠心管に移した後、細胞懸濁液を約１０００ｒｐｍで５分間回転させた。６ｃｍの皿（最終培地容量：５ｍＬ）に２．５×１０^５細胞を播種することによって、細胞を増幅または維持した。トランスフェクションのために、８×１０^３個の細胞をカバースリップ上にプレーティングし、２４ウェルプレート（最終培地容量：５ｍＬ）中で培養した。

トランスフェクション：２日目に、ＧＡＢＡ_Ａ４のトランスフェクション（α４、β３、δプラスミド比 １：１：１）を行った。Ｘ－ｔｒｅｍｅＧＥＮＥ ＨＰ ＤＡＮトランスフェクション試薬キットを使用した。プラスミドとトランスフェクション試薬との比率は、１μｇ：２μＬであった。２４ウェルプレート中のプラスミドの量は、ウェル当たり０．５μｇであり、トランスフェクション試薬は１μＬであった。１２ウェルを調製するために、以下の特定の工程を取った：６００μＬのＯｐｔｉ－ＭＥＭを、６μｇのプラスミドと共に滅菌遠心管に添加し、十分に混合した。続いて、１２μＬのトランスフェクション試薬を添加した。室温にて１５分間インキュベートした後、十分に混合した。続いて、トランスフェクション複合体を、細胞に接種（ウェル当たり５０μＬ）し、トランスフェクション複合体を軽く撹拌して混合した。

この混合物を３日目に交換し、４日目にパッチクランプを行った。

［５６．４ パッチクランプ試験］
マイクロピペットプラー（Ｐ９７、Ｓｕｔｔｅｒ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ）を用いて、ガラスピペット（ＢＦ １５０－８６－１０、Ｓｕｔｔｅｒ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ）を引っ張った。顕微鏡（ＩＸ７１、Ｏｌｙｍｐｕｓ）下にて、マイクロマニピュレーター（ＭＰ２８５、Ｓｕｔｔｅｒ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ）を用いてガラスピペットを操作した。細胞に接触した後、わずかな吸引を加えることで、高いシール抵抗（ＧΩ）に達した。高シールに達した後、高速キャパシタンス（ｐＦ）補償を行い、膜を破壊した。ホールセルモード（Whole‐cell mode）を達成した後、全細胞キャパシタンス補償から細胞キャパシタンス（ｐＦ）補償を行った。漏電減算は行わなかった。

重力供給溶液送達システムを介して、倒立顕微鏡の試料台に取り付けられた記録チャンバに、試験溶液および対照溶液を流した。実験の間、真空吸引によって記録チャンバから溶液を回収した。各濃度を複数回試験した。全ての試験を室温にて行った。

ＧＡＢＡ_Ａ１受容体を記録した全細胞モデル電流実験プロトコルを以下のように示した：密封時、細胞は－７０ｍＶの保持電位であり、ギャップフリーモード（gap‐free mode）でピーク電流を記録した。細胞は、活性電流に対して３μＭのＧＡＢＡを用いて適用される。被験物質を３０秒間適用した後、各濃度の被験物質に３μＭのＧＡＢＡを適用し、続いて細胞外液を用いて２分間洗浄した。最後に、１００μＭのＧＡＢＡをポジティブコントロールとして使用した。データをＥＰＣ－１０増幅器によって収集し、ＰａｔｃｈＭａｓｔｅｒ（ＨＥＫＡ）ソフトウェアに保存した。

ＧＡＢＡ_Ａ４受容体を記録した全細胞モデル電流実験プロトコルを以下のように示した：密封時、細胞は－７０ｍＶの保持電位であり、ギャップフリーモード（gap‐free mode）でピーク電流を記録した。細胞は、活性電流に対して１０ｎΜのＧＡＢＡを用いて適用される。被験物質を３０秒間適用した後、各濃度の被験物質を１０ｎΜのＧＡＢＡを用いて適用し、続いて細胞外液を用いて２分間洗浄した。最後に、１０μＭのＧＡＢＡをポジティブコントロールとして使用した。データをＥＰＣ－１０増幅器によって収集し、ＰａｔｃｈＭａｓｔｅｒ（ＨＥＫＡ）ソフトウェアに保存した。

［５６．５ データ品質基準］
データが許容できるかどうかを判断するために、以下の基準が使用される：
（１）電極抵抗＜５ＭΩ
（２）シール抵抗＞１ＧΩ
（３）アクセス抵抗の開始＜１５ＭΩ
（４）アクセス抵抗の終了＜１５ＭΩ
（５）明らかな自然電流減衰はない。

（６）膜電位が－７０ｍｖである場合、明らかな漏電はない。

［５６．６ データ解析］
ＧＡＢＡ_Ａ１の検出では、３μΜのＧＡＢＡの電流および試験化合物の種々の濃度を、それぞれ１００μΜのＧＡＢＡの電流に正規化し、

続いて、各濃度に対応する活性化率を計算した。ＧＡＢＡ_Ａ４の検出では、１０ｎΜのＧＡＢＡの電流および試験化合物の種々の濃度を、それぞれ１０μΜのＧＡＢＡの電流に正規化し、

続いて、各濃度に対応する活性化率を計算した。平均値、標準偏差および標準誤差を各試験群について計算した。非線形回帰を用いて、ＥＣ５０値を算出した：
Ｙ＝Ｂｏｔｔｏｍ＋（Ｔｏｐ－Ｂｏｔｔｏｍ）／（１＋１０＾（（ＬｏｇＥＣ５０－Ｘ）×ＨｉｌｌＳｌｏｐｅ））
データを濃度応答に適合させるため、ＥＣ５０は半最大効果を与える濃度であり、ＨｉｌｌｓｌｏｐｅはＨｉｌｌ係数であった。Ｇｒａｐｈｐａｄ５．０ソフトウェアを用いて、カーブフィッティングおよびＥＣ５０の計算を行った。

［５６．７ インビトロ実験結果］

Ａ：＞８０％、Ｂ：６０％～８０％（６０％を含む）、Ｃ：４０％～６０％（４０％を含む）、Ｄ：２０％～４０％（２０％を含む）、Ｅ：０～２０％。

表１は、０．１μＭおよび１μＭの濃度での例示的な化合物の有効性を示した。有効性は、１００μｍｏｌのＧＡＢＡでのみ生じたピーク電流に対するＧＡＢＡ_Ａ１受容体に生じたピーク電流の比率に基づき、その比率に１００％を乗じた。ＧＡＢＡ_Ａ１受容体に生じたピーク電流は、例示的な化合物が、これら２つの濃度それぞれで、３μｍｏｌのＧＡＢＡと共にＧＡＢＡ_Ａ１受容体に作用することであった。

Ｅ_ｍａｘは、１００μｍｏｌのＧＡＢＡでのみ生じたピーク電流に対するＧＡＢＡ_Ａ１受容体で生じたピーク電流の比率として定義され、この比率に１００％を乗じる。ＧＡＢＡ_Ａ１受容体で生じたピーク電流は、例示的な化合物が３μｍｏｌのＧＡＢＡと共にＧＡＢＡ_Ａ１受容体に作用するということである。

Ｎ／Ａは、電流が濃度と共に変化しないことを示す。

Ｅ_ｍａｘは、ＧＡＢＡのみで生じたピーク電流に対するＧＡＢＡ_Ａ１受容体で生じたピーク電流の比率として定義され、この比率に１００％を乗じる。ＧＡＢＡ_Ａ１受容体で生じたピーク電流は、例示的な化合物が、ＧＡＢＡ_Ａ１受容体に単独で、または１０ｎｍｏｌのＧＡＢＡと共にそれぞれ作用することである。

〔実施例５７：投与後の脳および血漿中薬物動態〕
［１．プロトコル］
［１．１ 被験薬］
本発明のＫＨ０２２および実施例５６に記載のコントロール
［１．２ 動物］
実験動物はＣＤ－１マウスである。

［１．３ 投与］
水中の３０％ ＳＢＥＣＤを用いた胃内投与のための試験化合物の調製。実験の初日に、第１群の動物に、ＫＨ０２２またはコントロールの溶液を５ｍＬ／ｋｇの用量で腹腔内注射した。投与前に、動物の体重を測定し、体重に従って投与容量を計算した。伏在静脈穿刺（または他の適切な収集位置）によって、全血サンプル（グループあたり約０．０３ｍｌ）を特定の時間に収集した。血液サンプルを約４℃、３，２００ｇにて１０分間遠心分離することによって、直ちに血漿に処理し、ドライアイス中に素早く置き、ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析まで－２０℃未満で維持した。各時点で、動物を、ＣＯ２を用いて安楽死させた後、脳組織を収集し、すすぎ洗いし、生理食塩水を用いて乾燥させた。これを、脳重量（ｇ）の４倍容量の１５ｍＭのＰＢＳ（ｐＨ７．４）：ＭｅＯＨ＝２：１を用いてホモジナイズした。ホモジナイズ後、標識した遠心管にサンプルを移し、ドライアイス中に素早く置き、ＬＣ－ＭＳ／ＭＳ分析のために－２０℃以下で保存した。

［２．データ解析］
投与製剤サンプル中の試験化合物の濃度をＬＣ／ＵＶによって決定し、検量線は少なくとも６つの校正基準を含み、Ｒ^２≧０．９９９であった。生体基質中の試験化合物の濃度を、ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ方法を用いて測定した。試験化合物または内部標準の保持時間、クロマトグラムの取得およびクロマトグラムの積分をＳｏｆｔｗａｒｅ Ａｎａｌｙｓｔ（Applied Biosystems）によって処理し、データ統計をＳｏｆｔｗａｒｅ Ｗａｔｓｏｎ ＬＩＭＳ（Thermo Fisher Scientific）またはＡｎａｌｙｓｔ（Applied Biosystems）によって処理した。サンプル中の検体濃度の単位はｎｇ／ｍＬであり、３桁の有効数字を留保し、百分率で表される全ての値（偏差％および変動係数％など）を小数点以下１桁にした。WinNonlin^TM Version 6.3（Pharsight、Mountain View、CA）薬物動態学的ソフトウェアの非コンパートメントモデルを用いて血漿濃度を処理し、線形対数台形法を用いて薬物動態学的パラメータを計算した。

［実験結果］
図１および図２に示すように、同じ用量で、ＫＨ０２２は、コントロールよりもマウスの脳においてゆっくりと除去され（８時間での脳におけるコントロールの検出はない）、マウスの脳におけるＫＨ０２２の含有量は、２時間でコントロールの２．５倍である。

［５７．３ マウスにおける抗不安試験］
［５７．３．１ 明暗入れ替えボックス］
明暗入れ替えボックスは、例示的な化合物の抗不安効果について標準的かつ十分に特徴付けられたアッセイである。光は、マウスを回避的にし、かつストレスを与えるため、マウスは自然に明るいボックスを避ける。しかしながら、マウスの探索習性によりマウスは明るいボックスを探索しようとすることもまた促される。例示的な化合物による明るいボックスに向かう時間の増加は、マウスに対する抗不安効果を反映する。実験マウスを、体重に基づき、無作為にネガティブコントロール群、試験化合物（ＫＨ００４またはＫＨ０２２）の２つの異なる用量群（１ｍｇ／ｋｇおよび３ｍｇ／ｋｇ）を含む、５群に分割した。すべての群が、１０個体の雄マウスを有するようにした。試験介入のためにあらかじめ５日間連続で対応する用量をマウスに投与し、最後の投与の３０分後に抗不安実験を行った。明るいボックスにいる保持時間を、ＫＨ００４およびＫＨ０２２の抗不安効果を評価するための主要な指標として選択した。

［実験結果］

注意：表中のデータは、いずれも平均±標準偏差（平均±ＳＤ）で表している。各実験群中の１０個体の動物について統計解析を行い、^＊Ｐ＜０．０５、^＊＊Ｐ＜０．０１、^＊＊＊Ｐ＜０．００１、^＊＊＊＊Ｐ＜０．０００１は、実験群およびネガティブコントロール群の動物の相違を表す。

［５７．３．２ 高架式十字迷路（ＥＰＭ）試験］
探索行動のためのＥＰＭを用いて、不安様症状を形成する、共通の中央プラットフォームから伸びる２つのオープンアームおよび２つのクローズドアームからなる、一般的な運動および不安様行動を評価した。抗不安化合物は、試験系における動物の不安葛藤状態を軽減させるものである。実験マウスを、体重に基づいて、ネガティブコントロール群、試験化合物（ＫＨ００４またはＫＨ０２２）の２つの異なる用量群（１ｍｇ／ｋｇおよび３ｍｇ／ｋｇ）を含む、４群に無作為に分けた。すべての群が、１０個体の雄マウスを有するようにした。試験介入のため、あらかじめ５日間連続して対応する用量をマウスに投与し、最後の投与の３０分後に抗不安実験を行った。マウスのオープンアームの保持時間（潜伏時間）のパーセンテージを、ＫＨ００４およびＫＨ０２２の抗不安効果を評価するための主要な指標として使用し、結果を表５に示す。

注意：表中のデータは、いずれも平均値±標準偏差（平均±ＳＤ）で表している。各実験群中の１０個体の動物について統計解析を行い、^＊Ｐ＜０．０５、^＊＊Ｐ＜０．０１、^＊＊＊Ｐ＜０．００１、^＊＊＊＊Ｐ＜０．０００１は、各実験群およびネガティブコントロール群の動物の相違を表す。結論：ＫＨ００４およびＫＨ０２２は、動物のオープンアームにおける保持時間のパーセントを有意に増加させ、抗不安効果を示した。

［５７．３．３ 投与中の副作用の実験］
ＧＡＢＡ（Ａ）受容体に作用する薬物は行動の知覚麻痺（副作用）を生じ得るので、高架式十字迷路実験の過程で投与中のマウスの副作用を観察した。各群１０個体のマウスについて、歩行、機敏性および腹臥行動の３つの行動発現を観察した。「＋」は重症度を示す。３つの「＋」が最も重症であり、通常の行動を再開するための所要時間は６０分を超える。陽性薬物は実施例５６に記載のコントロール化合物であり、結果を表６に示す。

ＫＨ００４およびＫＨ０２２は、表６の陽性薬物と比較して副作用が少ない。

Claims (9)

1. 式（ＩＩ）に示される化合物、またはその薬学的に許容可能な塩を含む医薬組成物であって、
   
   式中、
   Ｒ１は、水素、またはハロゲン置換もしくは非置換Ｃ１～３アルキルであり；
   Ｒ２は、水素、ハロゲン、ハロゲン非置換もしくは置換Ｃ１～６アルキル、またはハロゲン非置換もしくは置換Ｃ１～６アルコキシであり；
   Ｘは、ＣＨ_２であり；
   Ｒ５は、以下からなる群から選択され；
   
   式中、
   Ｒ６は、Ｈ、ハロゲン、ＣＮ、ＣＦ３、ＮＯ２、ハロゲン非置換もしくは置換Ｃ１～６アルキル、またはハロゲン非置換もしくは置換Ｃ１～６アルコキシである；
   医薬組成物。
2. 化合物、またはその薬学的に許容可能な塩を含む医薬組成物であって、
   前記化合物は、以下からなる群から選択される；
   
   
   医薬組成物。
3. 薬学的に許容可能な賦形剤を含む、請求項１に記載の医薬組成物。
4. 薬学的に許容可能な賦形剤を含む、請求項２に記載の医薬組成物。
5. 前記医薬組成物は、経口、皮下、静脈内、または筋肉内投与される、請求項４に記載の医薬組成物。
6. 請求項１～５のいずれか１項に記載の医薬組成物の、神経疾患を予防または治療するための薬物の調製における使用。
7. 前記神経疾患は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、痙性障害、記憶障害および／もしくは認知障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、物質乱用障害および切断症候群、または耳鳴からなる群より選択される、請求項６に記載の使用。
8. 前記気分障害は、うつ病であり、
   前記うつ病は、重篤気分障害、重度の抑うつ性障害、持続性の抑うつ性障害、月経前緊張症、物質もしくは薬物誘発性障害、他の身体疾患による障害、または他の特定される抑うつ性障害および特定不能の抑うつ性障害である、請求項７に記載の使用。
9. 前記神経疾患は、軽度のうつ病、中等度のうつ病、重度のうつ病、または産後うつ病である、請求項６に記載の使用。