JP7514461B2 - Curable resin composition and cured product - Google Patents

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Description

本発明は、硬化性樹脂組成物、硬化物、並びに凹凸構造体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a curable resin composition, a cured product, a concave-convex structure, and a method for producing the same.

従来より、光等のエネルギー線又は熱等を付与して重合性化合物を重合させることによって硬化する硬化性の樹脂組成物が広く知られており、例えば酸等を発生して重合性化合物の重合を開始する重合開始剤を用いた硬化性組成物がある。 Conventionally, curable resin compositions that are cured by applying energy rays such as light or heat to polymerize a polymerizable compound have been widely known. For example, there are curable compositions that use a polymerization initiator that generates an acid or the like to start the polymerization of the polymerizable compound.

硬化性組成物の硬化反応は、例えば、化合物中のエチレン性不飽和二重結合による付加重合、又は化合物中のグリシジル基の開環による開環重合などによって行われる。前者では例えばアクリロイル基を有する重合性化合物が一般に知られ、後者では例えばエポキシ環を有する重合性化合物が一般に知られている。具体的な一例として、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のオキシラン環を有する化合物などが開示されている(例えば、特許文献1~2参照)。 The curing reaction of the curable composition is carried out, for example, by addition polymerization caused by an ethylenically unsaturated double bond in the compound, or by ring-opening polymerization caused by ring-opening of a glycidyl group in the compound. In the former case, for example, a polymerizable compound having an acryloyl group is generally known, and in the latter case, for example, a polymerizable compound having an epoxy ring is generally known. As a specific example, a compound having an oxirane ring such as pentaerythritol tetraglycidyl ether has been disclosed (for example, see Patent Documents 1 and 2).

一方、硬化性組成物は、成形体の作製に用いられるほか、耐傷性を付与するための保護用材料、パターンを形成するための加工用材料等に用いられている。具体的な例として、擦過等で傷がつきにくい高硬度のハードコート層を形成する硬化性組成物、及びモールド(型)と基材とで樹脂を挟み込み、モールド(型)のナノオーダーのパターンを転写するナノインプリントリソグラフィー(NIL)用の硬化性組成物等が知られている。
前記NILの中でも、UVナノインプリントリソグラフィー(UV-NIL)は、反射防止構造を有するフィルム(ARSフィルム)の大量製造に有用な技術である。ARSフィルムは、半導体等の電子デバイス、光デバイス、記録メディア等に広く利用され、スマートフォン、タブレット、タッチパネル、太陽電池、LEDなどの表面に貼り付けて使用されている。
On the other hand, curable compositions are used not only for producing molded bodies, but also as protective materials for imparting scratch resistance, processing materials for forming patterns, etc. Specific examples include curable compositions for forming a hard coat layer with high hardness that is resistant to scratches due to rubbing, and curable compositions for nanoimprint lithography (NIL) in which a resin is sandwiched between a mold and a substrate to transfer a nano-order pattern of the mold.
Among the NILs, UV nanoimprint lithography (UV-NIL) is a useful technique for mass production of films having an anti-reflective structure (ARS film). ARS films are widely used in electronic devices such as semiconductors, optical devices, recording media, etc., and are used by being attached to the surfaces of smartphones, tablets, touch panels, solar cells, LEDs, etc.

特開2013-189504号公報JP 2013-189504 A 特開2013-112649号公報JP 2013-112649 A

従来から種々の硬化性組成物が提供されてきており、硬化性等の性能の向上が図られてきてはいるものの、近年、硬化後の硬化物における耐傷性、形状保持性、及び耐摩耗性等の耐久性に対する更なる向上が求められている。耐久性の向上には、硬化後の硬度を向上させることが有効である。 Although various curable compositions have been provided and efforts have been made to improve performance such as curability, in recent years there has been a demand for further improvements in the durability of the cured product after curing, such as scratch resistance, shape retention, and abrasion resistance. In order to improve durability, it is effective to increase the hardness after curing.

本開示は、上記に鑑みなされたものである。即ち、
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、モスアイ構造等の精細な構造の再現性に優れ、かつ、従来に比べてより高い硬度が得られる硬化性樹脂組成物を提供することにある。好ましくは、インプリント用の硬化性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、防汚性に優れ、かつ、防汚剤を含む従来の組成に比べて硬度が著しく向上された硬化性樹脂組成物を提供することにある。好ましくは、ハードコーティング(即ち、ハードコート層の形成)用の硬化性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、従来の硬化物に比べ、硬度が大幅に向上された硬化物を提供することにある。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、従来の硬化物に比べ、硬度が大幅に向上された凹凸構造体及びその製造方法を提供することにある。
The present disclosure has been made in view of the above.
An object of one embodiment of the present invention is to provide a curable resin composition that is excellent in reproducibility of fine structures such as a moth-eye structure and has a higher hardness than conventional ones, preferably a curable resin composition for imprinting.
Another object of the present invention is to provide a curable resin composition having excellent antifouling properties and significantly improved hardness compared to conventional compositions containing an antifouling agent, preferably for hard coating (i.e., formation of a hard coat layer).
Another object of the present invention is to provide a cured product having significantly improved hardness compared to conventional cured products.
Another object of the present invention is to provide a concave-convex structure having significantly improved hardness compared to conventional cured products, and a method for manufacturing the same.

本発明者等は、重合性を付与する成分の一つである重合性化合物のうち、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルを選択的に用いた硬化性樹脂組成物が特に硬度が高くなり、例えば、ハードコーティング用途及びインプリント用途に適しているとの知見を得、本開示の硬化性樹脂組成物及び硬化物は、かかる知見に基づいたものである。
また、防汚剤として界面活性剤を含有する硬化性の樹脂組成物は、従来から一般に防汚剤を含まない組成に比べて硬度が低下する傾向があるとされてきたが、防汚剤として界面活性剤を含有する組成でも硬度の低下が改善され、従来に比べ、硬度の高い硬化物の作製が可能になる。
The present inventors have found that a curable resin composition selectively using pentaerythritol tetraglycidyl ether, which is one of the polymerizable compounds that imparts polymerizability, has particularly high hardness and is suitable for, for example, hard coating applications and imprint applications. The curable resin composition and cured product of the present disclosure are based on this finding.
Furthermore, it has been believed that curable resin compositions containing a surfactant as an antifouling agent generally tend to have lower hardness than compositions that do not contain an antifouling agent. However, this reduction in hardness has been improved even in compositions that contain a surfactant as an antifouling agent, making it possible to produce cured products with higher hardness than before.

上記の課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
<1> ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル及び重合開始剤を含有し、凹凸構造体の製造に用いられる硬化性樹脂組成物である。
<2> ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、重合開始剤、及び界面活性剤を含有し、ハードコート層の形成に用いられる硬化性樹脂組成物である。
<3> 前記界面活性剤が、フッ素化合物及びシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む<2>に記載の硬化性樹脂組成物である。
<4> 前記界面活性剤が、含フッ素アクリル化合物及び含フッ素シロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む<2>又は<3>に記載の硬化性樹脂組成物である。
<5> 更に、フッ素化合物及びシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む<1>に記載の硬化性樹脂組成物である。
<6> 前記重合開始剤が、光酸発生剤、熱酸発生剤、及び光カチオン発生剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物である<1>~<5>のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物である。
<7> 更に、グリシジルエーテル化合物、グリシジルエステル化合物、グリシジルアミン化合物、脂肪族エポキシ化合物、オレフィン酸化エポキシ化合物、シリコーン変性化合物、フッ素変性エポキシ化合物、及びオキセタン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の反応性化合物を含有する<1>~<6>のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物である。
<8> 更に、アントラセン系化合物、アントラキノン系化合物、チオキサントン系化合物、ナフタレン系化合物、フェナントレン系化合物、クリセン系化合物、ペリレン系化合物、及びアクリジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の増感剤を含有する<1>~<7>のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物である。
<9> 前記増感剤が、ジアルコキシアントラセンを含む<8>に記載の硬化性樹脂組成物である。
<10> 前記ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルの含有量が、硬化性樹脂組成物全質量に対して、45質量%~97質量%である<1>~<9>のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物である。
<11> 前記ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルは、エポキシ当量が90~150である<1>~<10>のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物である。
<12> 前記重合開始剤の含有量が、前記ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルに対して、3質量%~30質量%である<1>~<11>のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物である。
<13> 前記重合開始剤の含有量が、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、0.1質量%~10質量%である<1>~<12>のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物である。
<14> 前記ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルと、脂環式エポキシ樹脂と、前記重合開始剤である光酸発生剤と、を含有する<1>に記載の硬化性樹脂組成物である。
<15> 前記ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルと、脂環式エポキシ樹脂と、前記重合開始剤である光酸発生剤と、前記界面活性剤と、を含有する<2>に記載の硬化性樹脂組成物である。
<16> 前記ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルの含有量が硬化性樹脂組成物全質量に対して60質量%~85質量%であり、前記脂環式エポキシ樹脂の含有量が硬化性樹脂組成物全質量に対して10質量%~30質量%であり、前記光酸発生剤の含有量が硬化性樹脂組成物全質量に対して1質量%~6質量%である<14>又は<15>に記載の硬化性樹脂組成物である。
<17> <1>~<16>のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物の硬化物であって、平膜における引っ掻き鉛筆硬度が7H以上である硬化物である。
<18> <1>に記載の硬化性樹脂組成物(<2>に関係しない<5>~<16>に記載の硬化性樹脂組成物を含む。)の硬化物であり、かつ、高さが50nm~1000nmであり、ピッチが20nm~1000nmである凹凸パターンを有する凹凸構造体である。
<19> <1>に記載の硬化性樹脂組成物(<2>に関係しない<5>~<16>に記載の硬化性樹脂組成物を含む。)を用い、高さが50nm~1000nmであり、かつ、ピッチが20nm~1000nmである凹凸パターンを成形し、硬化させる工程を有する凹凸構造体の製造方法である。
Specific means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A curable resin composition containing pentaerythritol tetraglycidyl ether and a polymerization initiator, which is used for producing a concave-convex structure.
<2> A curable resin composition used for forming a hard coat layer, comprising pentaerythritol tetraglycidyl ether, a polymerization initiator, and a surfactant.
<3> The curable resin composition according to <2>, wherein the surfactant includes at least one selected from the group consisting of a fluorine compound and a siloxane compound.
<4> The curable resin composition according to <2> or <3>, wherein the surfactant includes at least one selected from the group consisting of a fluorinated acrylic compound and a fluorinated siloxane compound.
<5> The curable resin composition according to <1>, further comprising at least one selected from the group consisting of a fluorine compound and a siloxane compound.
<6> The curable resin composition according to any one of <1> to <5>, wherein the polymerization initiator is at least one compound selected from the group consisting of a photoacid generator, a thermal acid generator, and a photocation generator.
<7> The curable resin composition according to any one of <1> to <6>, further comprising at least one reactive compound selected from the group consisting of a glycidyl ether compound, a glycidyl ester compound, a glycidyl amine compound, an aliphatic epoxy compound, an olefin-oxidized epoxy compound, a silicone-modified compound, a fluorine-modified epoxy compound, and an oxetane compound.
<8> The curable resin composition according to any one of <1> to <7>, further comprising at least one sensitizer selected from the group consisting of an anthracene-based compound, an anthraquinone-based compound, a thioxanthone-based compound, a naphthalene-based compound, a phenanthrene-based compound, a chrysene-based compound, a perylene-based compound, and an acridine-based compound.
<9> The curable resin composition according to <8>, wherein the sensitizer contains a dialkoxyanthracene.
<10> The curable resin composition according to any one of <1> to <9>, wherein a content of the pentaerythritol tetraglycidyl ether is 45% by mass to 97% by mass with respect to a total mass of the curable resin composition.
<11> The curable resin composition according to any one of <1> to <10>, wherein the pentaerythritol tetraglycidyl ether has an epoxy equivalent of 90 to 150.
<12> The curable resin composition according to any one of <1> to <11>, wherein a content of the polymerization initiator is 3% by mass to 30% by mass with respect to the pentaerythritol tetraglycidyl ether.
<13> The curable resin composition according to any one of <1> to <12>, wherein a content of the polymerization initiator is 0.1% by mass to 10% by mass with respect to a total mass of the curable resin composition.
<14> The curable resin composition according to <1>, comprising the pentaerythritol tetraglycidyl ether, an alicyclic epoxy resin, and a photoacid generator as the polymerization initiator.
<15> The curable resin composition according to <2>, comprising: the pentaerythritol tetraglycidyl ether; an alicyclic epoxy resin; a photoacid generator serving as the polymerization initiator; and the surfactant.
<16> The curable resin composition according to <14> or <15>, wherein a content of the pentaerythritol tetraglycidyl ether is 60% by mass to 85% by mass, a content of the alicyclic epoxy resin is 10% by mass to 30% by mass, and a content of the photoacid generator is 1% by mass to 6% by mass, based on a total mass of the curable resin composition.
<17> A cured product of the curable resin composition according to any one of <1> to <16>, wherein the cured product has a scratch pencil hardness of 7H or more in a flat film.
<18> A concave-convex structure which is a cured product of the curable resin composition according to <1> (including the curable resin compositions according to <5> to <16> not related to <2>), and has a concave-convex pattern with a height of 50 nm to 1000 nm and a pitch of 20 nm to 1000 nm.
<19> A method for producing a concave-convex structure, comprising the steps of forming a concave-convex pattern having a height of 50 nm to 1000 nm and a pitch of 20 nm to 1000 nm using the curable resin composition according to <1> (including the curable resin compositions according to <5> to <16> not related to <2>), and curing the pattern.

本発明の一実施形態によれば、モスアイ構造等の精細な構造の再現性に優れ、かつ、従来に比べてより高い硬度が得られる硬化性樹脂組成物が提供される。好ましくは、ナノインプリント用の硬化性樹脂組成物が提供される。
本発明の他の実施形態によれば、防汚性に優れ、かつ、防汚剤を含む従来の組成に比べて硬度が著しく向上された硬化性樹脂組成物が提供される。好ましくは、ハードコーティング用の硬化性樹脂組成物が提供される。
また、本発明の他の実施形態によれば、従来の硬化物に比べ、硬度が大幅に向上された硬化物が提供される。
更に、本発明の他の実施形態によれば、従来の硬化物に比べ、硬度が大幅に向上された凹凸構造体及びその製造方法が提供される。
According to one embodiment of the present invention, there is provided a curable resin composition that is excellent in reproducibility of fine structures such as a moth-eye structure and has a higher hardness than conventional curable resin compositions. Preferably, there is provided a curable resin composition for nanoimprinting.
According to another embodiment of the present invention, there is provided a curable resin composition having excellent antifouling properties and significantly improved hardness compared to conventional compositions containing an antifouling agent, preferably a curable resin composition for hard coating.
Furthermore, according to another embodiment of the present invention, there is provided a cured product having significantly improved hardness compared to conventional cured products.
Furthermore, according to another embodiment of the present invention, there is provided a concave-convex structure having significantly improved hardness compared to conventional cured products, and a method for producing the same.

凹凸構造体の製造工程の一例を示す概略図である。1A to 1C are schematic diagrams showing an example of a manufacturing process for a protrusion-recess structure. ナノインプリントで製造される凹凸構造体の一例を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a concave-convex structure manufactured by nanoimprinting. 光酸発生剤を含む硬化性樹脂組成物を用いてモスアイフィルムを作製する工程を示す工程図である。FIG. 1 is a process diagram showing a process for producing a moth-eye film using a curable resin composition containing a photoacid generator. スチールウールを用いた耐傷性の評価方法を説明するための概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a method for evaluating scratch resistance using steel wool. サンプル水準1のモスアイフィルムの転写面における耐傷性試験前後でのSEM画像である。13 shows SEM images of the transfer surface of the moth-eye film of sample level 1 before and after a scratch resistance test. サンプル水準2のモスアイフィルムの転写面における耐傷性試験前後でのSEM画像である。13 shows SEM images of the transfer surface of the moth-eye film of sample level 2 before and after a scratch resistance test. サンプル水準3のモスアイフィルムの転写面における耐傷性試験前後でのSEM画像である。13 shows SEM images of the transfer surface of the moth-eye film of sample level 3 before and after a scratch resistance test. サンプル水準1~3のモスアイフィルムの反射率を示すグラフである。1 is a graph showing the reflectance of the moth-eye films of sample levels 1 to 3. サンプル水準1~3のモスアイフィルムの透過率を示すグラフである。1 is a graph showing the transmittance of the moth-eye films of sample levels 1 to 3. サンプル水準1~2及びサンプル水準3のモスアイフィルムの硬度を示すグラフである。1 is a graph showing the hardness of the moth-eye films of sample levels 1 to 2 and sample level 3. 熱酸発生剤を含む硬化性樹脂組成物を用いてモスアイフィルムを作製する工程を示す工程図である。FIG. 1 is a process diagram showing a process for producing a moth-eye film using a curable resin composition containing a thermal acid generator. (a)はサンプル水準27の硬化膜のモスアイ構造を示すSEM写真であり、(b)はサンプル水準28の硬化膜のモスアイ構造を示すSEM写真である。1A is an SEM photograph showing the moth-eye structure of the cured film of sample level 27, and FIG. 1B is an SEM photograph showing the moth-eye structure of the cured film of sample level 28. サンプル水準27及びサンプル水準28のモスアイフィルムの硬化膜における反射率を示すグラフである。1 is a graph showing the reflectance of cured moth-eye films of sample levels 27 and 28. サンプル水準27の硬化膜の擦過試験前後におけるモスアイ構造を示すSEM写真である。1 is a SEM photograph showing the moth-eye structure of the cured film of Sample No. 27 before and after a scratch test. サンプル水準36の硬化膜の擦過試験前後におけるモスアイ構造を示すSEM写真である。1 is a SEM photograph showing the moth-eye structure of the cured film of Sample No. 36 before and after a scratch test. 人工指紋液を滴下した後の、拭き取り前後における状態を示す写真である。Photographs showing the state before and after artificial fingerprint liquid was dropped and then wiped off. 人工指紋液の拭き取りを20回繰り返す前後でのSEM写真である。The SEM images are taken before and after wiping off the artificial fingerprint liquid 20 times. 20回の拭き取り前後での反射率の変化を示すグラフである。1 is a graph showing the change in reflectance before and after 20 wipes. 20回の拭き取り前後での透過率の変化を示すグラフである。1 is a graph showing the change in transmittance before and after 20 wipings. (a)はサンプル水準39の硬化膜のモスアイ構造を示すSEM写真であり、(b)はサンプル水準42の硬化膜のモスアイ構造を示すSEM写真である。1A is an SEM photograph showing the moth-eye structure of the cured film of sample level 39, and FIG. 1B is an SEM photograph showing the moth-eye structure of the cured film of sample level 42.

以下、本開示の硬化性樹脂組成物及び硬化物について詳細に説明する。 The curable resin composition and cured product of the present disclosure are described in detail below.

本明細書において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
In this specification, a numerical range expressed using "to" means a range including the numerical values described before and after "to" as the lower and upper limits. In the numerical ranges described in stages in this disclosure, the upper or lower limit described in a certain numerical range may be replaced with the upper or lower limit of another numerical range described in stages. In addition, in the numerical ranges described in this disclosure, the upper or lower limit described in a certain numerical range may be replaced with a value shown in the examples.
In this specification, the amount of each component in a composition means, when a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition, the total amount of the plurality of substances present in the composition, unless otherwise specified.

本明細書において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念であり、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念である。 In this specification, "(meth)acrylic" is a concept that includes both acrylic and methacrylic, and "(meth)acrylate" is a concept that includes both acrylate and methacrylate.

<硬化性樹脂組成物>
本開示の第一の態様の硬化性樹脂組成物は、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル及び重合開始剤を少なくとも含有し、凹凸構造体の製造に用いられるものであり、好ましくは、反応性化合物(以下、「反応性希釈剤」ともいう。)、防汚剤、増感剤、シランカップリング剤、フィラーを含有し、必要に応じて、更に、有機溶剤、その他の添加剤を含有してもよい。
本開示の第二の態様の硬化性樹脂組成物は、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、重合開始剤、及び界面活性剤(以下、「防汚剤」ともいう。)を含有し、ハードコート層の形成(ハードコーティング)に用いられるものであり、好ましくは、反応性希釈剤、増感剤、シランカップリング剤、及びフィラーを含有し、必要に応じて、更に、有機溶剤、及び/又はその他の添加剤を含有してもよい。
以下において、第一の態様及び第二の態様の硬化性樹脂組成物を、総じて、単に「本開示の硬化性樹脂組成物」ともいう。また、「硬化性樹脂組成物」を「硬化性組成物」ということもある。
<Curable resin composition>
The curable resin composition of the first aspect of the present disclosure contains at least pentaerythritol tetraglycidyl ether and a polymerization initiator, and is used for producing a concave-convex structure. It preferably contains a reactive compound (hereinafter also referred to as a "reactive diluent"), an antifouling agent, a sensitizer, a silane coupling agent, and a filler, and may further contain an organic solvent and other additives as necessary.
The curable resin composition according to the second aspect of the present disclosure contains pentaerythritol tetraglycidyl ether, a polymerization initiator, and a surfactant (hereinafter, also referred to as an "antifouling agent"), and is used for forming a hard coat layer (hard coating). The curable resin composition preferably contains a reactive diluent, a sensitizer, a silane coupling agent, and a filler, and may further contain an organic solvent and/or other additives, as necessary.
Hereinafter, the curable resin compositions of the first and second aspects are collectively referred to simply as "curable resin compositions of the present disclosure." In addition, the "curable resin composition" may also be referred to as the "curable composition."

(ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル)
本開示の硬化性樹脂組成物は、重合性化合物として、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル(以下、「PETG」と略記することがある。)を含有する。従来から知られている重合性化合物のうち、特にペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルを選択的に含有することで、従来の硬化性樹脂組成物に比べ、硬度がより改善された硬化物を得ることができる。
(Pentaerythritol tetraglycidyl ether)
The curable resin composition of the present disclosure contains pentaerythritol tetraglycidyl ether (hereinafter, sometimes abbreviated as "PETG") as a polymerizable compound. By selectively containing, among conventionally known polymerizable compounds, in particular, pentaerythritol tetraglycidyl ether, it is possible to obtain a cured product having improved hardness compared to conventional curable resin compositions.

PETGとしては、上市されている市販品を用いてもよく、例えば、昭和電工株式会社製のショウフリー(登録商標)シリーズを用いることができる。 As PETG, commercially available products may be used, for example, the Showfree (registered trademark) series manufactured by Showa Denko K.K.

ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル(PETG)は、エポキシ当量が90~150であることが好ましい。
PETGのエポキシ当量が90~150であると、PETGの純度が高く(純度=60%~100%)、重合反応時に反応に関与することができるエポキシ基の密度が高いため、架橋密度がより向上し、硬化後の硬度がより向上する。
PETGのエポキシ当量としては、上記と同様の理由から、120以下がより好ましく、110以下が更に好ましく、100以下が特に好ましい。また、PETGのエポキシ当量も下限値は、91以上としてもよく、92以上としてもよい。
Pentaerythritol tetraglycidyl ether (PETG) preferably has an epoxy equivalent of 90 to 150.
When the epoxy equivalent of PETG is 90 to 150, the purity of PETG is high (purity = 60% to 100%) and the density of epoxy groups that can participate in the polymerization reaction is high, so that the crosslinking density is further improved and the hardness after curing is further improved.
For the same reasons as above, the epoxy equivalent of PETG is more preferably 120 or less, further preferably 110 or less, and particularly preferably 100 or less. The lower limit of the epoxy equivalent of PETG may be 91 or more, or 92 or more.

ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル(PETG)の硬化性樹脂組成物中における含有量としては、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、15質量%~97質量%であることが好ましく、45質量%~97質量%であることがより好ましく、60質量%~85質量%であることがより好ましい。
PETGの含有量が15質量%以上であると、高硬度が得られやすい。また、PETGの含有量は、他の成分の含有量を考慮すると97質量%以下が好ましい。
The content of pentaerythritol tetraglycidyl ether (PETG) in the curable resin composition is preferably 15% by mass to 97% by mass, more preferably 45% by mass to 97% by mass, and still more preferably 60% by mass to 85% by mass, relative to the total mass of the curable resin composition.
When the content of PETG is 15% by mass or more, high hardness is easily obtained. In addition, the content of PETG is preferably 97% by mass or less in consideration of the contents of other components.

(重合開始剤)
本開示の硬化性樹脂組成物は、重合開始剤の少なくとも一種を含有する。重合開始剤を含有することで、PETGの硬化反応を開始する。
(Polymerization initiator)
The curable resin composition of the present disclosure contains at least one polymerization initiator. By containing the polymerization initiator, the curing reaction of PETG is started.

重合開始剤としては、光酸発生剤、熱酸発生剤、及び光カチオン発生剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物であることが好ましい。 The polymerization initiator is preferably at least one compound selected from the group consisting of photoacid generators, thermal acid generators, and photocation generators.

-光重合開始剤(光酸発生剤)-
光重合開始剤としては、オニウム塩化合物が挙げられる。
オニウム塩化合物としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩などが挙げられる。
オニウム塩化合物は、ハロゲン金属錯体アニオン(BF 、PF 、AsF 、SbF 、B(6F5) 等)、及び(RF)PF6-nなどの特殊リン系化合物を対イオンとして有しているものであってもよい。
- Photopolymerization initiator (photoacid generator) -
The photopolymerization initiator includes an onium salt compound.
Examples of the onium salt compound include aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, and aromatic sulfonium salts.
The onium salt compound may have a halogen metal complex anion (BF 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 , B(6F5) 4 , etc.) and a special phosphorus compound such as (RF) n PF 6-n as a counter ion.

オニウム塩化合物の例として、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム・ヘキサフルオロアンチモナート、ジフェニル[(4-フェニルチオ)フェニル]スルホニウム・ヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウム・ヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウム・ヘキサフルオロアンチモナート、トリフェニルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4,4’-ビス〔ジフェニルスルホニウム〕ジフェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ビス(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、トリ-p-トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、4-イソプロピル-4’-メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート等が挙げられる。
また、オニウム塩化合物は、上市されている市販品を用いてもよく、市販品の具体例としては、株式会社アデカ製のオプトマーSP-150、オプトマーSP-152、オプトマーSP-170、オプトマーSP-172、オプトマーSP-300等、サンアプロ株式会社製のCPI-100P、CPI-100A、CPI-200K、CPI-210S、LW-S1、IK-1、IK-2、HS-1等、BASF社製のIrgacure250、Irgacure270、Irgacure290等、和光純薬工業株式会社製のWPI-113、WPI-116,WPI-170、WPI-124等、などを用いることができる。
上記に加え、更に、[{C(R2m [{B(R(式中、Mは中心核遷移金属であり;Cはシクロペンタジエニルを表し;Rはシクロペンタジエニルの炭素に結合する電子供与性置換基であり;nは4又は5であり;mは1又は2であり;lは1又は2であり;Rはホウ素原子(B)に配位する配位子であり、4つのRは同一である。)で表されるメタロセンとボラート化合物とを組み合わせたイオン会合体結晶性物質なども光カチオン重合開始剤として挙げられる。
Examples of onium salt compounds include diphenyl[4-(phenylthio)phenyl]sulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl[(4-phenylthio)phenyl]sulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate, 4,4'-bis[diphenylsulfonium]diphenylsulfide bishexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate, bis(4-tert-butylphenyl)iodonium hexafluorophosphate, and bis(4-tert-butylphenyl)iodonium. Examples of the inorganic phosphate compounds include hexafluoroantimonate, tri-p-tolylsulfonium hexafluorophosphate, and 4-isopropyl-4'-methyldiphenyliodonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate.
The onium salt compound may be a commercially available product. Specific examples of commercially available products include OPTOMER SP-150, OPTOMER SP-152, OPTOMER SP-170, OPTOMER SP-172, and OPTOMER SP-300 manufactured by ADEKA CORPORATION; CPI-100P, CPI-100A, CPI-200K, CPI-210S, LW-S1, IK-1, IK-2, and HS-1 manufactured by San-Apro Ltd.; Irgacure 250, Irgacure 270, and Irgacure 290 manufactured by BASF; and WPI-113, WPI-116, WPI-170, and WPI-124 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
In addition to the above, further examples of the cationic photopolymerization initiator include an ion association crystalline substance combining a metallocene represented by the formula [{ C5 ( R1 ) n } 2mMm ] l + [{B( R2 ) 4 } - ] l (wherein M is a central core transition metal; C5 represents cyclopentadienyl; R1 is an electron donating substituent bonded to the carbon of the cyclopentadienyl; n is 4 or 5; m is 1 or 2; l is 1 or 2; R2 is a ligand coordinated to the boron atom (B), and the four R2s are the same) with a borate compound.

光重合開始剤の含有量としては、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、0.1質量%~10.0質量%が好ましく、1.0質量%~6.0質量%がより好ましい。
また、光重合開始剤は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1% by mass to 10.0% by mass, and more preferably 1.0% by mass to 6.0% by mass, based on the total mass of the curable resin composition.
The photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

-熱重合開始剤(熱酸発生剤)-
熱酸発生剤としては、4級アンモニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩等のオニウム塩を用いることができる。
4級アンモニウム塩の例として、市販品では、King Industries社製のK-PURE(登録商標) CXC-1612、K-PURE CXC-1614、K-PURE CXC-1733、K-PURE CXC-1742、K-PURE CXC-1821、K-PURE CXC-2689、K-PURE TAG-2678、K-PURE TAG-2689、K-PURE TAG-2690等が挙げられる。
スルホニウム塩の例として、市販品では、三新化学工業株式会社製のサンエイド(登録商標)SI-60、SI-60L、SI-80、SI-80L、SI-100、SI-100L等が挙げられる。
- Thermal polymerization initiator (thermal acid generator) -
As the thermal acid generator, onium salts such as quaternary ammonium salts, sulfonium salts, iodonium salts and phosphonium salts can be used.
Examples of commercially available quaternary ammonium salts include K-PURE (registered trademark) CXC-1612, K-PURE CXC-1614, K-PURE CXC-1733, K-PURE CXC-1742, K-PURE CXC-1821, K-PURE CXC-2689, K-PURE TAG-2678, K-PURE TAG-2689, and K-PURE TAG-2690 manufactured by King Industries.
Examples of commercially available sulfonium salts include San-Aid (registered trademark) SI-60, SI-60L, SI-80, SI-80L, SI-100, and SI-100L manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.

熱酸発生剤の含有量としては、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、0.1質量%~10.0質量%が好ましく、0.2質量%~5.0質量%がより好ましい。
また、熱重合開始剤は、一種単独で又は二種以上組み合わせて用いてもよい。
The content of the thermal acid generator is preferably 0.1% by mass to 10.0% by mass, and more preferably 0.2% by mass to 5.0% by mass, based on the total mass of the curable resin composition.
The thermal polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

重合開始剤の含有量としては、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルに対して、3質量%~90質量%の範囲が好ましく、3質量%~50質量%の範囲がより好ましく、3質量%~30質量%の範囲が更に好ましく、3質量%~15質量%の範囲が特に好ましい。
重合開始剤の含有量が3質量%以上であると、PETGの硬化反応の開始に好適である。また、重合開始剤の含有量が90質量%以下であると、調液後の組成物の保存安定性及び硬化物の物性安定性の維持の点で有利である。
The content of the polymerization initiator is preferably in the range of 3% by mass to 90% by mass, more preferably in the range of 3% by mass to 50% by mass, still more preferably in the range of 3% by mass to 30% by mass, and particularly preferably in the range of 3% by mass to 15% by mass, relative to the pentaerythritol tetraglycidyl ether.
A polymerization initiator content of 3% by mass or more is suitable for initiating the curing reaction of PETG, while a polymerization initiator content of 90% by mass or less is advantageous in terms of maintaining the storage stability of the composition after preparation and the physical property stability of the cured product.

重合開始剤の含有量としては、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、0.1質量%~10質量%の範囲が好ましく、1.0質量%~8.0質量%の範囲がより好ましく、1.5質量%~6.0質量%の範囲が特に好ましい。
重合開始剤の含有量が0.1質量%以上であると、PETGの硬化反応の開始促進に好適である。また、重合開始剤の含有量が10質量%以下であると、調液後の保存安定性や硬化後の物性保持の点で有利である。
The content of the polymerization initiator is preferably in the range of 0.1 mass% to 10 mass%, more preferably in the range of 1.0 mass% to 8.0 mass%, and particularly preferably in the range of 1.5 mass% to 6.0 mass%, relative to the total mass of the curable resin composition.
A polymerization initiator content of 0.1% by mass or more is suitable for promoting the initiation of the curing reaction of PETG, while a polymerization initiator content of 10% by mass or less is advantageous in terms of storage stability after preparation and retention of physical properties after curing.

(防汚剤)
本開示の第二の態様の硬化性樹脂組成物は、防汚剤として、界面活性剤の少なくとも一種を含有する。また、本開示の第一の態様の硬化性樹脂組成物も、防汚剤として第二の態様と同様の界面活性剤の少なくとも一種を含有してもよい。
硬化性樹脂組成物が界面活性剤を含有することで、硬化させて得られる硬化物に撥水性、撥油性、親水性、親油性等が付与され、防汚性を付与することができる。
(Anti-fouling agent)
The curable resin composition of the second aspect of the present disclosure contains at least one surfactant as an antifouling agent. The curable resin composition of the first aspect of the present disclosure may also contain at least one surfactant as an antifouling agent similar to that of the second aspect.
When the curable resin composition contains a surfactant, the cured product obtained by curing the composition is imparted with water repellency, oil repellency, hydrophilicity, lipophilicity, and the like, and can also be imparted with antifouling properties.

本開示における界面活性剤は、分子中にフッ素原子又は-SiO-構造を有し、硬化後の硬化膜の表面に撥水性、撥油性、親水性、又は親油性を付与することができる化合物であり、例えば、フッ素化合物、シリコーン化合物、及びシリコーンフッ素化合物等が挙げられる。 The surfactant in this disclosure is a compound that has a fluorine atom or a -SiO- structure in the molecule and can impart water repellency, oil repellency, hydrophilicity, or lipophilicity to the surface of the cured film after curing. Examples of such surfactants include fluorine compounds, silicone compounds, and silicone fluorine compounds.

界面活性剤としては、フッ素化合物又はシロキサン化合物(含フッ素シロキサン化合物を含む)が挙げられ、含フッ素アクリル化合物及び含フッ素シロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種が好ましい。 The surfactant may be a fluorine compound or a siloxane compound (including a fluorine-containing siloxane compound), and preferably at least one selected from the group consisting of a fluorine-containing acrylic compound and a fluorine-containing siloxane compound.

界面活性剤としては、上市されている市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、DIC株式会社製のメガファックRS-90、RS-55、RS-72-K、RS-75、RS-76-E、RS-78、RS-90等、株式会社ネオス製のフタージェント601AD、602A、650A、710FL、208G、215M、FTX-218、FTX-601ADH、730LM、NFX-552等、AGCセイミケミカル株式会社製のサーフロンS386、S651、信越化学工業株式会社製のKY-164、KY-108、KY-1203、X-71-1206、株式会社T&K TOKA製のZX-058、ZX-101、ZX-104、ZX-105、ZX-106、ZX-108、ZX-109、ZX-022-U、ZX-201、ZX-202、ZX-203、ZX-212、ZX-401N、ZX-412 ZX-501、ダイキン工業株式会社製のオプツールDAC-HP、等が挙げられる。 As the surfactant, commercially available products on the market may be used. Examples of commercially available products include Megafac RS-90, RS-55, RS-72-K, RS-75, RS-76-E, RS-78, and RS-90 manufactured by DIC Corporation, Futergent 601AD, 602A, 650A, 710FL, 208G, 215M, FTX-218, FTX-601ADH, 730LM, and NFX-552 manufactured by Neos Co., Ltd., Surflon S386 and S651 manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd., KY-164, KY-108, KY-1203, and X-71-1206 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and T&K Corporation. Examples include TOKA's ZX-058, ZX-101, ZX-104, ZX-105, ZX-106, ZX-108, ZX-109, ZX-022-U, ZX-201, ZX-202, ZX-203, ZX-212, ZX-401N, ZX-412 ZX-501, and Daikin Industries' Optool DAC-HP.

界面活性剤の含有量としては、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、0.1質量%~30質量%が好ましく、0.5質量%~20質量%がより好ましく、1.0質量%~10質量%がより好ましい。
また、界面活性剤は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
The content of the surfactant is preferably 0.1% by mass to 30% by mass, more preferably 0.5% by mass to 20% by mass, and still more preferably 1.0% by mass to 10% by mass, based on the total mass of the curable resin composition.
The surfactants may be used alone or in combination of two or more.

(反応性希釈剤)
本開示の硬化性樹脂組成物は、上記成分に加え、更に、反応性化合物(反応性希釈剤)を含有することが好ましい。反応性希釈剤を含有することで、硬化性樹脂組成物の硬化性(硬化膜の硬度)及び伸び等の物性の調整もしくは向上、粘度の調整、基材への密着性、添加剤を加えた際の相溶性の向上等を行うことができる。
(Reactive Diluent)
In addition to the above components, the curable resin composition of the present disclosure preferably further contains a reactive compound (reactive diluent). By containing a reactive diluent, it is possible to adjust or improve the physical properties such as the curability (hardness of the cured film) and elongation of the curable resin composition, adjust the viscosity, improve the adhesion to the substrate, and improve the compatibility when an additive is added.

反応性希釈剤としては、グリシジルエーテル化合物、グリシジルエステル化合物、グリシジルアミン化合物、脂肪族エポキシ化合物、オレフィン酸化エポキシ化合物、シリコーン変性化合物、フッ素変性エポキシ化合物、及びオキセタン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の反応性化合物が好適に挙げられる。 The reactive diluent is preferably at least one reactive compound selected from the group consisting of glycidyl ether compounds, glycidyl ester compounds, glycidyl amine compounds, aliphatic epoxy compounds, olefin-oxidized epoxy compounds, silicone-modified compounds, fluorine-modified epoxy compounds, and oxetane compounds.

反応性希釈剤としては、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル(PETG)の物性調整を行う観点から、環状エーテル化合物、環状スルフィド類が好ましい。
環状エーテル化合物の例としては、例えば、エポキシ化合物及び変性エポキシ化合物(例えば、シリコーン(シロキサン)変性エポキシ化合物、フッ素変性エポキシ化合物)、オキセタン化合物、及びエピスルフィド化合物が好ましい。
As the reactive diluent, from the viewpoint of adjusting the physical properties of pentaerythritol tetraglycidyl ether (PETG), a cyclic ether compound or a cyclic sulfide is preferable.
Preferred examples of the cyclic ether compound include epoxy compounds and modified epoxy compounds (for example, silicone (siloxane) modified epoxy compounds, fluorine modified epoxy compounds), oxetane compounds, and episulfide compounds.

反応性希釈剤を用いる場合、環状エーテル化合物を一種単独で含有するほか、環状エーテル化合物を二種以上併用してもよい。
更には、二種以上のエポキシ化合物を併用した態様、又は、エポキシ化合物、オキセタン化合物、シリコーン(シロキサン)変性エポキシ化合物、フッ素変性エポキシ化合物、エピスルフィド化合物、及びこれら以外の他の化合物等から選択される少なくとも二種を併用した態様のいずれであってもよい。
When a reactive diluent is used, the cyclic ether compound may be contained alone or in combination of two or more kinds.
Furthermore, any of the embodiments in which two or more kinds of epoxy compounds are used in combination, or the embodiments in which at least two kinds selected from epoxy compounds, oxetane compounds, silicone (siloxane)-modified epoxy compounds, fluorine-modified epoxy compounds, episulfide compounds, and compounds other than these, etc. are used in combination may be used.

-エポキシ化合物-
エポキシ化合物としては、グリシジルエーテル化合物、グリシジルエステル化合物、グリシジルアミン化合物、脂肪族エポキシ化合物、オレフィン酸化エポキシ化合物、又はこれら化合物の変性体等が挙げられる。
エポキシ化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ、ビスフェノールF型エポキシ、水添ビスフェノールA型エポキシ、水添ビスフェノールF型エポキシ、ビスフェノールS型エポキシ、臭素化ビスフェノールA型エポキシ、ビフェニル型エポキシ、ナフタレン型エポキシ、フルオレン型エポキシ、スピロ環型エポキシ、フェノールノボラック型エポキシ、オルソクレゾールノボラック型エポキシ、臭素化クレゾールノボラック型エポキシ、テトラフェニロールエタン型エポキシ脂肪酸変性エポキシ、トルイジン型エポキシ、アニリン型エポキシ、アミノフェノール型エポキシジフェニルエーテル型エポキシ、ジシクロペンタジエン型エポキシ、ダイマー酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸ジグリシジルエーテル、ウレタン変性エポキシ、NBR変性エポキシ、CTBN変性エポキシ、リモネンオキサイド、リモネンジオキサイド、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、1.4ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6ヘキサンジオール ジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジエーテル、グリセリンポリグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ソルビトール系ポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ジシクロペンタジエニルジグリシジルエーテル、ビス[2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチル]-テトラメチルジシロキサン、アリルグリシジルエーテル、2エチルへキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、フェノールグリシジルエーテル、p-テトラブチルフェニルグリシジルエーテル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ラウリルアルコールグリシジルエーテル、レゾロシノールジグリシジルエーテル、ジグリシロールポリグリシジルエーテル、ポリグリシロールポリグリシジルエーテル、エチレングリシロールジグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、アルコールグルシジルエーテル、オルソクレジルグリシジルエーテル、メタパラクレジルグリシジルエーテル、グリシジルメタアクリレート、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAテトラグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシリックアリドメチルエステル、1,4-シクロヘキサンジメタノールビス(3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ジシクロペンタジエンジオキサイド、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(3,4-エポキシ)シクロヘキサン、3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサン等が挙げられる。
-Epoxy compounds-
Examples of the epoxy compound include a glycidyl ether compound, a glycidyl ester compound, a glycidyl amine compound, an aliphatic epoxy compound, an olefin oxide epoxy compound, and modified products of these compounds.
Specific examples of epoxy compounds include bisphenol A type epoxy, bisphenol F type epoxy, hydrogenated bisphenol A type epoxy, hydrogenated bisphenol F type epoxy, bisphenol S type epoxy, brominated bisphenol A type epoxy, biphenyl type epoxy, naphthalene type epoxy, fluorene type epoxy, spirocyclic type epoxy, phenol novolac type epoxy, orthocresol novolac type epoxy, brominated cresol novolac type epoxy, tetraphenylolethane type epoxy fatty acid modified epoxy, toluidine type epoxy, aniline type epoxy, aminophenol type epoxy diphenyl ether type epoxy, dicyclopentadiene type epoxy, dimer acid diglycidyl ester, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, dimer acid diglycidyl ether, urethane modified epoxy, NBR modified epoxy, CTBN modified epoxy, limonene oxide, limonene dioxide, butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, 1.4 butanediol diglycidyl ether, and 1,6 hexanediol. Diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, glycerin polyglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, dicyclopentadienyl diglycidyl ether, bis[2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl]-tetramethyldisiloxane, allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, phenol glycidyl ether, p-tetrabutylphenyl glycidyl ether, dibromophenyl glycidyl ether, lauryl alcohol glycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, diglycidyl polyglycidyl ether, polyglycidyl polyglycidyl ether, ethylene glycidyl ether, styrene glycidyl ether, oxide, alcohol glycidyl ether, orthocresyl glycidyl ether, meta-para-cresyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, hexahydrophthalic acid diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, bisphenol A tetraglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexane carboxylic aldo methyl ester, 1,4-cyclohexanedimethanol bis(3,4-epoxycyclohexane carboxylate), dicyclopentadiene dioxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy)cyclohexane, 3',4'-epoxycyclohexylmethyl 3',4'-epoxycyclohexane carboxylate, ε-caprolactone-modified 3',4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexane carboxylate, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, and the like.

中でも、エポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物が好ましく、下記式1で表される化合物がより好ましい。 Among these, the epoxy compound is preferably an alicyclic epoxy compound, and more preferably a compound represented by the following formula 1:



下記式1において、Xは、単結合又は2価の連結基を表す。2価の連結基としては、例えば、2価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、及びこれらが複数個連結した基等が挙げられる。
Xにおける2価の炭化水素基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、炭素数1~18のアルキレン基、2価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数1~18のアルキレン基としては、例えば、メチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン基等が挙げられる。2価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2-シクロペンチレン、1,3-シクロペンチレン、シクロペンチリデン、1,2-シクロヘキシレン、1,3-シクロヘキシレン、1,4-シクロヘキシレン、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。
また、Xは、酸素原子を有する連結基が好ましく、-CO-、-O-CO-O-、-COO-、-O-、-CONH-、又はこれらの基が複数個連結した基等が挙げられる。
In the following formula 1, X represents a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and a group in which a plurality of these groups are linked together.
The divalent hydrocarbon group for X may be linear or branched, and examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms and a divalent alicyclic hydrocarbon group. Examples of the alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include methylene, methylmethylene, dimethylmethylene, ethylene, propylene, and trimethylene groups. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as 1,2-cyclopentylene, 1,3-cyclopentylene, cyclopentylidene, 1,2-cyclohexylene, 1,3-cyclohexylene, 1,4-cyclohexylene, and cyclohexylidene groups.
Furthermore, X is preferably a linking group having an oxygen atom, and examples thereof include --CO--, --O--CO--O--, --COO--, --O--, --CONH--, and groups in which a plurality of these groups are linked together.

以下に、脂環式エポキシ化合物の具体例を示す。但し、本開示においては、これらに制限されるものではない。 Specific examples of alicyclic epoxy compounds are shown below. However, this disclosure is not limited to these.



また、エポキシ化合物は、上市されている市販品を用いてもよく、市販品の具体例としては、株式会社ダイセル製の脂環式エポキシ樹脂であるセロキサイドシリーズ(例:セロキサイド8000、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド8200等)などが挙げられる。 The epoxy compound may be a commercially available product. Specific examples of commercially available products include the Celloxide series (e.g., Celloxide 8000, Celloxide 2021P, Celloxide 2081, Celloxide 8200, etc.), which are alicyclic epoxy resins manufactured by Daicel Corporation.

-シリコーン(シロキサン)変性エポキシ化合物-
珪素原子を有するエポキシ化合物(シリコーン(シロキサン)変性エポキシ)の例としては、ビス[2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチル]-テトラメチルジシロキサン等が挙げられる。
また、シリコーン(シロキサン)変性エポキシは、上市されている市販品を用いてもよく、市販品の具体例としては、信越化学工業株式会社製の製品名:X-40-2678、X-40-2670、X-40-2705、X-40-2669等が挙げられる。
- Silicone (siloxane) modified epoxy compound -
Examples of epoxy compounds having silicon atoms (silicone (siloxane) modified epoxy) include bis[2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl]-tetramethyldisiloxane.
In addition, the silicone (siloxane) modified epoxy may be a commercially available product. Specific examples of commercially available products include those manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. under the product names X-40-2678, X-40-2670, X-40-2705, and X-40-2669.

-フッ素変性エポキシ化合物-
フッ素原子を有するエポキシ化合物(フッ素変性エポキシ化合物)としては、3-(2,2,3,3-テトラフルオロプロポキシ)-1,2-エポキシプロパン、3-(1H,1H,5H-オクタフルオロペンチロキシ)-1,2-エポキシプロパン、3-パーフルオロブチル-1,2-エポキシプロパン、3-パーフルオロへキシル-1,2-エポキシプロパン、1.4ビス(2,3-エポキシプロピル)-パーフルオロ-n-ブタン、1.6ビス(2,3-エポキシプロピル)-パーフルオロ-n-ヘキサン等が挙げられる。
また、フッ素変性エポキシ化合物は、上市されている市販品を用いてもよく、市販品の具体例としては、ダイキン工業株式会社製の製品名:1.3CHEP等が挙げられる。
- Fluorine-modified epoxy compound -
Examples of epoxy compounds having fluorine atoms (fluorine-modified epoxy compounds) include 3-(2,2,3,3-tetrafluoropropoxy)-1,2-epoxypropane, 3-(1H,1H,5H-octafluoropentyloxy)-1,2-epoxypropane, 3-perfluorobutyl-1,2-epoxypropane, 3-perfluorohexyl-1,2-epoxypropane, 1.4 bis(2,3-epoxypropyl)-perfluoro-n-butane, and 1.6 bis(2,3-epoxypropyl)-perfluoro-n-hexane.
Furthermore, the fluorine-modified epoxy compound may be a commercially available product. A specific example of a commercially available product is 1.3CHEP, a product manufactured by Daikin Industries, Ltd.

-オキセタン化合物-
オキセタン化合物の具体例としては、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、2-エチルヘキシルオキセタン、3-エチル-3{[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、1,3ビス[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]ベンゼン、3-エチル-3-(シクロへキシロキシ)メチルオキセタン、3-エチル-3-(フェノキシ)メチルオキセタン、3-メチル-3-オキセタンメタノール、3-エチル-3-オキセタンメタノール、アリルオキシオキセタン、ビスフェノールAビスオキセタン、ビスフェノールFビスオキセタン、ビスフェノールSビスオキセタン等が挙げられる。
また、オキセタン化合物は、上市されている市販品を用いてもよく、市販品の具体例としては、宇部興産株式会社製のETERNACOLL(登録商標)シリーズ(例:ETERNACOLL OXBP、ETERNACOLL OXMA等)が挙げられる。更に、東亞合成株式会社製のOXT-101、OXT-212、OXT-121、及びOXT-221(製品名)等、並びに、珪素原子を有するオキセタン化合物である東亞合成株式会社製のOX-SQ TX-100、OX-SQ SI-20(製品名)(オキセタニルシルセスキオキサン又はオキセタニルシリケート)等が挙げられる。
-Oxetane compounds-
Specific examples of the oxetane compound include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 2-ethylhexyloxetane, 3-ethyl-3{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane, xylylene bisoxetane, 1,3 bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]benzene, 3-ethyl-3-(cyclohexyloxy)methyloxetane, 3-ethyl-3-(phenoxy)methyloxetane, 3-methyl-3-oxetanemethanol, 3-ethyl-3-oxetanemethanol, allyloxyoxetane, bisphenol A bisoxetane, bisphenol F bisoxetane, and bisphenol S bisoxetane.
The oxetane compound may be a commercially available product on the market, and specific examples of commercially available products include the ETERNACOLL (registered trademark) series (e.g., ETERNACOLL OXBP, ETERNACOLL OXMA, etc.) manufactured by Ube Industries, Ltd. Further examples include OXT-101, OXT-212, OXT-121, and OXT-221 (product names) manufactured by Toagosei Co., Ltd., and OX-SQ TX-100 and OX-SQ SI-20 (product names) (oxetanyl silsesquioxane or oxetanyl silicate), which are oxetane compounds having silicon atoms, manufactured by Toagosei Co., Ltd.

-他の化合物-
上記のエポキシ化合物及びオキセタン化合物以外の他の化合物としては、例えば、エピスルフィド化合物が好適に挙げられる。
-Other compounds-
As a compound other than the above-mentioned epoxy compound and oxetane compound, for example, an episulfide compound is preferably mentioned.

上記の反応性希釈剤を含有することにより硬化性樹脂組成物の物性調整を行う場合、反応性希釈剤の含有量としては、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル(PETG)の含有量に対して、5質量%~90質量%の範囲が好ましく、10質量%~50質量%がより好ましく、更に好ましくは10質量%~30質量%の範囲である。 When the physical properties of the curable resin composition are adjusted by adding the reactive diluent, the content of the reactive diluent is preferably in the range of 5% by mass to 90% by mass, more preferably 10% by mass to 50% by mass, and even more preferably 10% by mass to 30% by mass, relative to the content of pentaerythritol tetraglycidyl ether (PETG).

上記のうち、本開示の硬化性樹脂組成物として、PETG、反応性希釈剤、及び重合開始剤を含有する組成は好適な態様の一つであり、PETG、反応性希釈剤、及び重合開始剤を含有する場合の好ましい態様は、(1)PETGと、脂環式エポキシ樹脂(好ましくは、上記式1で表される化合物)と、光重合開始剤である光酸発生剤と、を含有する態様、又はPETGと、脂環式エポキシ樹脂(好ましくは、上記式1で表される化合物)と、光重合開始剤である光酸発生剤と、界面活性剤と、を含有する態様が好ましく、更には、(2)PETG60質量%~85質量%と、脂環式エポキシ樹脂(好ましくは、上記式1で表される化合物)10質量%~30質量%と、光酸発生剤1質量%~6質量%と、を含有する態様がより好ましい。 Among the above, a composition containing PETG, a reactive diluent, and a polymerization initiator is one of the preferred embodiments of the curable resin composition of the present disclosure. When the composition contains PETG, a reactive diluent, and a polymerization initiator, the preferred embodiment is (1) an embodiment containing PETG, an alicyclic epoxy resin (preferably a compound represented by the above formula 1), and a photoacid generator that is a photopolymerization initiator, or an embodiment containing PETG, an alicyclic epoxy resin (preferably a compound represented by the above formula 1), a photoacid generator that is a photopolymerization initiator, and a surfactant. Furthermore, an embodiment containing (2) 60% to 85% by mass of PETG, 10% to 30% by mass of an alicyclic epoxy resin (preferably a compound represented by the above formula 1), and 1% to 6% by mass of a photoacid generator is more preferred.

(増感剤)
本開示の硬化性樹脂組成物は、更に、増感剤を含有してもよい。
増感剤としては、アントラセン系化合物、アントラキノン系化合物、チオキサントン系化合物、ナフタレン系化合物、フェナントレン系化合物、クリセン系化合物、ペリレン系化合物、及びアクリジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の増感剤を含有することが好ましい。
(Sensitizer)
The curable resin composition of the present disclosure may further contain a sensitizer.
The sensitizer preferably contains at least one sensitizer selected from the group consisting of anthracene-based compounds, anthraquinone-based compounds, thioxanthone-based compounds, naphthalene-based compounds, phenanthrene-based compounds, chrysene-based compounds, perylene-based compounds, and acridine-based compounds.

増感剤の具体例としては、アントラセン、1,2-ベンゾアントラセン、9-シアノアントラセン、9,10-ジシアノアントラセン、2-エチル-9,10-ジメトキシアントラセン、9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ジメトキシアントラセン、9,10-ジエトキシアントラセン、9,10-ジプロポキシアントラセン、9,10-ジグリシジルオキシアントラセン、9,10-ビス(フェニルエチル)アントラセン、アントラキノン、2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2-クロロアントラキノン、ヒドロキシアントラキノン、アミノアントラキノン、アントラキノンスルホン酸、1-ニトロアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2-エトキシ-2-フェニルアセトフェノン、4-メトキシアセトフェノン、4,4-ジメトキシアセトフェノン、4-フェニルアセトフェノン、2-ヒロドキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、チオキサンソン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサンソン等が挙げられる。 Specific examples of sensitizers include anthracene, 1,2-benzoanthracene, 9-cyanoanthracene, 9,10-dicyanoanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-dibutoxyanthracene, 9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 9,10-dipropoxyanthracene, 9,10-diglycidyloxyanthracene, 9,10-bis(phenylethyl)anthracene, anthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, hydroxyanthraquinone, aminoanthraquinone, anthraquinonesulfonic acid, 1-nitroan ... Examples include dianthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, acetophenone, diethoxyacetophenone, 2-ethoxy-2-phenylacetophenone, 4-methoxyacetophenone, 4,4-dimethoxyacetophenone, 4-phenylacetophenone, 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one, thioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone.

上記の中でも、好ましい増感剤は、硬化性の向上効果に優れる点で、ジアルコキシアントラセンが好ましく、2-エチル-9,10-ジメトキシアントラセン、9,10-ジブトキシアントラセンは特に好ましい。 Among the above, the preferred sensitizers are dialkoxyanthracenes, which have excellent effects in improving curing properties, and 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene and 9,10-dibutoxyanthracene are particularly preferred.

可視光線を利用して硬化性樹脂組成物の硬化反応を行う場合は、色素系増感性物質であるクマリン系、チアジン系、アジン系、アクリジン系、キサンテン系、チタノセン系の公知の増感剤を用いてもよい。 When the curing reaction of the curable resin composition is carried out using visible light, known dye-based sensitizers such as coumarin, thiazine, azine, acridine, xanthene, and titanocene sensitizers may be used.

増感剤の含有量としては、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、0.1質量%~10質量%が好ましく、0.3質量%~5質量%がより好ましい。
また、増感剤は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
The content of the sensitizer is preferably 0.1% by mass to 10% by mass, and more preferably 0.3% by mass to 5% by mass, based on the total mass of the curable resin composition.
The sensitizers may be used alone or in combination of two or more.

(カップリング剤)
本開示の硬化性樹脂組成物は、カップリング剤を含んでいてもよい。カップリング剤を含有することで、硬化性樹脂組成物と基材との間の密着性をより高めることができる。
(Coupling Agent)
The curable resin composition of the present disclosure may contain a coupling agent. By containing a coupling agent, it is possible to further increase the adhesion between the curable resin composition and a substrate.

カップリング剤としては、例えば、シラン系、チタネート系、又はアルミネート系等の種々のカップリング剤が挙げられる。
カップリング剤としては、例えば、「X-Si(CH-Y」で表されるシランカップリング剤が好適である。ここで、Xは、塩素原子、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ、又はアセトキシ基等を表し、メチル基を含む場合もある。nは、0~3である。Yは、ビニル基、エポキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリル基、アミノ基、スルフィド基、ウレイド基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、スチリル基、メルカプト基等が挙げられる。
Examples of the coupling agent include various coupling agents such as silane-based, titanate-based, or aluminate-based coupling agents.
As the coupling agent, for example, a silane coupling agent represented by "X 3 -Si(CH 2 ) n -Y" is suitable. Here, X represents a chlorine atom, a methoxy group, an ethoxy group, a methoxyethoxy group, an acetoxy group, or the like, and may contain a methyl group. n is an integer from 0 to 3. Examples of Y include a vinyl group, an epoxy group, a methacryloyloxy group, an acryl group, an amino group, a sulfide group, a ureido group, an isocyanate group, an isocyanurate group, a styryl group, and a mercapto group.

シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(ビニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、トリス-(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、3-ウレイドプロピルトリアルコキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる Examples of silane coupling agents include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, Silane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, tris-(trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, 3-ureidopropyltrialkoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, bis(triethoxysilylpropyl)tetrasulfide, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, etc.

カップリング剤の含有量としては、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、0.1質量%~10.0質量%が好ましく、0.5質量%~5.0質量%がより好ましい。
また、カップリング剤は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
The content of the coupling agent is preferably 0.1% by mass to 10.0% by mass, and more preferably 0.5% by mass to 5.0% by mass, based on the total mass of the curable resin composition.
The coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

(フィラー)
本開示の硬化性樹脂組成物は、用途等に応じて、更に、ナノオーダーのナノ粒子等のフィラーを含有してもよい。
ナノ粒子とは、平均一次粒子径が1nm~1000nmの有機材料又は無機材料の粒子を指す。平均一次粒子径は、レーザー解析式粒度分布計により求められる値である。
(Filler)
The curable resin composition of the present disclosure may further contain a filler such as nanoparticles of the nano-order depending on the application, etc.
Nanoparticles refer to particles of organic or inorganic materials with an average primary particle diameter of 1 nm to 1000 nm. The average primary particle diameter is a value determined by a laser analysis type particle size distribution analyzer.

ナノ粒子としては、硬化性樹脂組成物の重合反応を阻害しない粒子であればいずれの粒子であってもよい。
ナノ粒子の例として、炭素材料又は有機材料のフィラーでは、ダイヤモンド、グラフェン、酸化グラフェン、フラーレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等の粒子が挙げられる。無機材料のフィラーでは、金、銀、珪素、酸化インジウムスズ、シリカ、ジルコニア、アルミナ、窒化ケイ素、窒化炭素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、酸化チタン、炭化ケイ素等の粒子が挙げられる。
また、ナノ粒子の表面にコーティング又は反応基の化学修飾が施された粒子も好ましい。
The nanoparticles may be any particles as long as they do not inhibit the polymerization reaction of the curable resin composition.
Examples of nanoparticles include particles of diamond, graphene, graphene oxide, fullerene, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc., which are carbon or organic material fillers, and particles of gold, silver, silicon, indium tin oxide, silica, zirconia, alumina, silicon nitride, carbon nitride, aluminum nitride, boron nitride, zinc oxide, titanium oxide, silicon carbide, etc., which are inorganic material fillers.
Also preferred are nanoparticles whose surfaces are coated or chemically modified with reactive groups.

ナノ粒子は、上市されている市販品を用いてもよく、市販品の例としては、平均一次粒子径が10nm~100nmのシリカ粒子では、株式会社アドマテックス社製のアドマナノ(登録商標)YA010C、YA050C、YC100C、YA010-SM1、YA010-SV1、YA050-SM1、YA050-SV6、YA050C-SV2、YA010-SP3、YA050C-SP3、YC100C-SP3等が挙げられる。また、ジルコニア粒子では、株式会社日本触媒製のジルコスターAX-ZP-153-A、日本電工株式会社製のPCS、PCS-90、PCS-60等が挙げられる。 The nanoparticles may be commercially available products. Examples of commercially available products include silica particles with an average primary particle size of 10 nm to 100 nm, such as Admanano (registered trademark) YA010C, YA050C, YC100C, YA010-SM1, YA010-SV1, YA050-SM1, YA050-SV6, YA050C-SV2, YA010-SP3, YA050C-SP3, and YC100C-SP3 manufactured by Admatechs Co., Ltd. In addition, examples of zirconia particles include Zircostar AX-ZP-153-A manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., and PCS, PCS-90, and PCS-60 manufactured by Nippon Denko Co., Ltd.

フィラーの含有量としては、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、0.1質量%~80質量%が好ましく、10質量%~50質量%がより好ましい。
また、フィラーは、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
The content of the filler is preferably 0.1% by mass to 80% by mass, and more preferably 10% by mass to 50% by mass, based on the total mass of the curable resin composition.
The fillers may be used alone or in combination of two or more.

(有機溶剤)
本開示の硬化性樹脂組成物は、有機溶剤を含有して希釈された態様に調製されてもよい。
有機溶剤としては、例えば、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、アルコール類、エーテルアセタールエステル類、ケトン類、及び窒素化合物類から選ばれる溶剤が挙げられる。
(Organic solvent)
The curable resin composition of the present disclosure may be prepared in a diluted form containing an organic solvent.
Examples of the organic solvent include solvents selected from aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, alcohols, ether acetal esters, ketones, and nitrogen compounds.

有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、スチレン、オクタンデカン、石油エーテル、石油ナフサ、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、γ-ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、2-ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
有機溶剤は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of organic solvents include toluene, xylene, hexane, cyclohexane, styrene, octane decane, petroleum ether, petroleum naphtha, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol, γ-butyrolactone, ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, acetonitrile, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether, and propylene glycol monomethyl ether.
The organic solvents may be used alone or in combination of two or more kinds.

(その他添加剤)
本開示の硬化性樹脂組成物は、更に、必要に応じて、老化防止剤、酸化防止剤、着色剤、粘度調節剤、難燃剤、紫外線吸収剤、変色防止剤、抗菌剤、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、消泡剤、増粘剤、チキソ性付与剤、レベリング剤、離型剤等の添加剤を含有することができる。
(Other additives)
The curable resin composition of the present disclosure may further contain additives, such as an antiaging agent, an antioxidant, a colorant, a viscosity modifier, a flame retardant, an ultraviolet absorber, a discoloration inhibitor, an antibacterial agent, an antistatic agent, a plasticizer, a lubricant, an antifoaming agent, a thickener, a thixotropy imparting agent, a leveling agent, and a mold release agent, as necessary.

着色剤としては、染料、カーボンブラック、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、アンスラキノン系、フタロシアニン系等が挙げられる。
安定剤である老化防止剤、酸化防止剤の例としては、ヒンダードフェノール系化合物、リン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ヒドラジン系化合物等が挙げられる。
Examples of the colorant include dyes, carbon black, titanium oxide, zinc oxide, iron oxide, anthraquinones, and phthalocyanines.
Examples of the antioxidants and antioxidants that serve as stabilizers include hindered phenol compounds, phosphorus compounds, benzophenone compounds, and hydrazine compounds.

~硬化性樹脂組成物の硬化方法~
硬化性樹脂組成物の硬化は、200nm~1300nmの活性エネルギー線(紫外線等の光)もしくは50℃~250℃の熱の付与、又はこれらの両方の付与によって行うことができる。中でも、硬化性樹脂組成物の硬化は、200nm~850nm(好ましくは250nm~560nm)の活性エネルギー線を照射するか、又は80℃~180℃の温度で加熱することによって行うことができる。
~Method for curing curable resin composition~
The curable resin composition can be cured by applying active energy rays (light such as ultraviolet rays) of 200 nm to 1,300 nm or heat of 50° C. to 250° C., or by applying both of these. In particular, the curable resin composition can be cured by irradiating it with active energy rays of 200 nm to 850 nm (preferably 250 nm to 560 nm) or by heating it at a temperature of 80° C. to 180° C.

活性エネルギー線としては、α線、γ線、X線、紫外線、可視光線、赤外光線、電子線などが挙げられる。
また、本開示の硬化性樹脂組成物としては、紫外線、可視光線、赤外光線などの光で硬化する光硬化性組成物が好ましく、中でも、紫外線で硬化する光硬化性組成物が好ましい。
Examples of the active energy rays include α rays, γ rays, X-rays, ultraviolet rays, visible light rays, infrared rays, and electron beams.
Furthermore, the curable resin composition of the present disclosure is preferably a photocurable composition that is cured by light such as ultraviolet light, visible light, or infrared light, and among these, a photocurable composition that is cured by ultraviolet light is preferred.

活性エネルギー線の照射により硬化性樹脂組成物を硬化させる場合、露光装置として紫外線照射装置を用い、硬化性樹脂組成物に対して活性エネルギー線を照射することが好ましい。
紫外線照射装置としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀灯、レーザー露光機、LED等の光源を備えた露光装置を用いることができる。また、紫外線を照射して硬化させる場合、紫外線の照射量としては、1,000mJ/cm~40,000mJ/cmが好ましく、より好ましくは3,000mJ/cm~9,000mJ/cmである。
When the curable resin composition is cured by irradiation with active energy rays, it is preferable to use an ultraviolet ray irradiation device as the exposure device and irradiate the curable resin composition with active energy rays.
As the ultraviolet ray irradiation device, for example, an exposure device equipped with a light source such as a metal halide lamp, a high pressure mercury lamp, a laser exposure device, an LED, etc. When curing by irradiation with ultraviolet rays, the irradiation amount of ultraviolet rays is preferably 1,000 mJ/cm 2 to 40,000 mJ/cm 2 , and more preferably 3,000 mJ/cm 2 to 9,000 mJ/cm 2 .

また、加熱により硬化性樹脂組成物を硬化させる場合、赤外線で被対象物を加熱する赤外線加熱装置、電気炉等の加熱装置を用い、硬化性樹脂組成物に対して80℃~180℃の温度で1分~120分の範囲で加熱することが好ましい。 When the curable resin composition is cured by heating, it is preferable to use an infrared heating device that heats the object with infrared rays, an electric furnace, or other heating device, and heat the curable resin composition at a temperature of 80°C to 180°C for 1 to 120 minutes.

本開示の第一の態様の硬化性樹脂組成物は、凹凸構造体の製造(インプリント)に用いられる。硬化性樹脂組成物を硬化させて基材上に凹凸構造(特に、モスアイ構造)を形成することで、凹凸構造体が得られる。本開示の硬化性樹脂組成物が用いられるので、硬度が高く、反射防止性に優れた凹凸構造体の製造が可能である。
凹凸構造体は、ナノスケールの微細な凹凸パターンを有する凹凸構造体が好ましい。凹凸パターンは、高さが50nm~1000nm(好ましくは100nm~300nm)であり、ピッチが20nm~1000nm(好ましくは50nm~150nm)である場合が好ましい。
モールドの凹凸パターンの高さ及びピッチが上記範囲内にあると、本開示の硬化性樹脂組成物を用いて成形する場合の効果が良好に得られ、反射防止性に優れた凹凸構造体を製造することができる。
The curable resin composition according to the first aspect of the present disclosure is used for the manufacture (imprinting) of a concave-convex structure. The concave-convex structure is obtained by curing the curable resin composition to form a concave-convex structure (particularly, a moth-eye structure) on a substrate. Since the curable resin composition according to the present disclosure is used, it is possible to manufacture a concave-convex structure having high hardness and excellent antireflection properties.
The concave-convex structure is preferably a concave-convex structure having a nanoscale fine concave-convex pattern, preferably having a height of 50 nm to 1000 nm (preferably 100 nm to 300 nm) and a pitch of 20 nm to 1000 nm (preferably 50 nm to 150 nm).
When the height and pitch of the concave-convex pattern of the mold are within the above ranges, the effects can be obtained well when molding using the curable resin composition of the present disclosure, and a concave-convex structure with excellent anti-reflection properties can be produced.

本開示の第二の態様の硬化性樹脂組成物は、ハードコーティング、即ちハードコート層の形成に用いられる。
本開示の第二の態様の硬化性樹脂組成物は、PETGを選択的に含めて硬化する硬化性能を有する。従来、防汚成分を含有すると硬化性が低下する課題があったのに対し、本開示の第二の態様の硬化性樹脂組成物では、防汚成分を含有しても高い硬度が得られ、かつ、優れた防汚性をも付与することができる。
したがって、高い強度が要求される分野において使用される部材等の表面に本開示の第二の態様の硬化性樹脂組成物を用いてハードコート層を設けると、外力への強度耐性及び防汚性を両立することができる。
The curable resin composition according to the second aspect of the present disclosure is used for forming a hard coating, that is, a hard coat layer.
The curable resin composition according to the second aspect of the present disclosure has a curing performance of selectively containing and curing PETG. Conventionally, when an antifouling component is contained, there is a problem that the curability is reduced. In contrast, the curable resin composition according to the second aspect of the present disclosure can obtain high hardness and also impart excellent antifouling properties even when the antifouling component is contained.
Therefore, when a hard coat layer is provided on the surface of a member or the like used in a field requiring high strength using the curable resin composition of the second aspect of the present disclosure, it is possible to achieve both strength resistance to external forces and antifouling properties.

<硬化物>
本開示の硬化物は、既述の本開示の硬化性樹脂組成物の硬化物であって、平膜における引っ掻き鉛筆硬度が7H以上の硬度を有している。本開示の硬化性樹脂組成物では、従来の硬化性樹脂組成物に比べ、硬度がより向上された硬化物が得られる。
<Cured Product>
The cured product of the present disclosure is a cured product of the curable resin composition of the present disclosure described above, and has a scratch pencil hardness of 7 H or more in a flat film. The curable resin composition of the present disclosure can provide a cured product with improved hardness compared to conventional curable resin compositions.

引っ掻き鉛筆硬度は、JIS-K5600 5-4 機械法に準拠し、一方に二つの車輪を有し,中央部に45°±1°の角度の鉛筆を差し込む円筒状の孔を有する手押し鉛筆引っかき硬度試験機No.553-S(株式会社安田精機製作所製)を用い、750±10gの荷重をかけて測定される値である。
平膜における引っ掻き鉛筆硬度が7H以上であることは、従来に比べてより高硬度で耐久性に優れることを示す。引っ掻き鉛筆硬度は、9Hに近いほど好ましく、中でも、8H以上が好ましく、9H以上がより好ましい。
The scratch pencil hardness is a value measured in accordance with JIS-K5600 5-4 Machine Method using a manual pencil scratch hardness tester No. 553-S (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd.) having two wheels on one side and a cylindrical hole in the center into which a pencil is inserted at an angle of 45°±1°, with a load of 750±10 g applied.
A scratch pencil hardness of 7H or more for a flat film indicates higher hardness and superior durability compared to conventional films. The closer to 9H the scratch pencil hardness is, the more preferable, and among these, 8H or more is preferable, and 9H or more is more preferable.

<凹凸構造体及びその製造方法>
本開示の凹凸構造体は、既述の第一の態様の硬化性樹脂組成物の硬化物であり、かつ、高さが50nm~1000nmであり、ピッチが20nm~1000nmである凹凸パターンを有する。本開示の凹凸構造体は、既述の第一の態様の硬化性樹脂組成物が用いられるので、硬化後の表面硬度が高く、かつ、精細な構造を得やすいため、高さ:50nm~1000nm、ピッチ:20nm~1000nmの微細な凹凸パターンを作製するのに適している。
かかる観点から、既述の第一の態様の硬化性樹脂組成物は、凹凸構造体の製造(インプリント)に好適であり、精細な凹凸構造(特にモスアイ構造)構造が再現良く得られ、かつ、例えばマスターモールドを用いて成形されたレプリカモールド等の構造物(硬化物)は硬度に優れたものとなる。レプリカモールドは、マスターモールドよりも安価で量産性に適しているため、レプリカモールドが広く使用されるが、本開示の硬化性樹脂組成物を用いた例えばモスアイ構造を有するレプリカモールドは、高硬度で摩耗耐性に優れ、耐久性に優れる。
<Protrusion-recess structure and method for producing same>
The concave-convex structure of the present disclosure is a cured product of the curable resin composition of the first embodiment described above, and has a concave-convex pattern with a height of 50 nm to 1000 nm and a pitch of 20 nm to 1000 nm. Since the concave-convex structure of the present disclosure uses the curable resin composition of the first embodiment described above, the surface hardness after curing is high and a fine structure can be easily obtained, so that the concave-convex structure is suitable for producing a fine concave-convex pattern with a height of 50 nm to 1000 nm and a pitch of 20 nm to 1000 nm.
From this viewpoint, the curable resin composition of the first aspect described above is suitable for the production (imprinting) of a concave-convex structure, and a fine concave-convex structure (particularly a moth-eye structure) can be obtained with good reproducibility, and a structure (cured product) such as a replica mold molded using the master mold, for example, has excellent hardness. Since replica molds are cheaper than master molds and suitable for mass production, replica molds are widely used, but a replica mold having, for example, a moth-eye structure using the curable resin composition of the present disclosure has high hardness, excellent wear resistance, and excellent durability.

本開示の凹凸構造体は、既述の第一の態様の硬化性樹脂組成物を用いた方法であれば、いずれの方法を利用して作製されてもよい。本開示の凹凸構造体の作製は、好ましくは、既述の第一の態様の硬化性樹脂組成物を用い、高さが50nm~1000nmであり、かつ、ピッチが20nm~1000nmである凹凸パターンを成形し、硬化させる工程を有する方法により行われる。 The concave-convex structure of the present disclosure may be produced by any method using the curable resin composition of the first embodiment described above. The concave-convex structure of the present disclosure is preferably produced by a method using the curable resin composition of the first embodiment described above, the method including a step of forming a concave-convex pattern having a height of 50 nm to 1000 nm and a pitch of 20 nm to 1000 nm, and curing the pattern.

具体的には、以下に示す方法で作製してもよい。即ち、
凹凸構造体の製造は、高さが50nm~1000nmであり、かつ、ピッチが20nm~1000nmである凹凸パターンを備える型、及び硬化性樹脂組成物が塗布された基材を用意し、前記硬化性樹脂組成物に前記凹凸パターンを接触させて押圧し、硬化性樹脂組成物を凹凸パターンに導入する導入工程と、導入された硬化性樹脂組成物を硬化する硬化工程と、硬化性樹脂組成物を硬化させて得られた凹凸構造を備える前記基材を、前記型から離型する離型工程と、を有する方法により行ってもよい。
Specifically, the film may be prepared by the following method.
The concave-convex structure may be manufactured by a method including the steps of: preparing a mold having a concave-convex pattern with a height of 50 nm to 1000 nm and a pitch of 20 nm to 1000 nm; and a substrate coated with a curable resin composition; bringing the concave-convex pattern into contact with the curable resin composition and pressing it against the curable resin composition to introduce the curable resin composition into the concave-convex pattern; curing the introduced curable resin composition; and releasing the substrate having the concave-convex structure obtained by curing the curable resin composition from the mold.

以下、本実施形態の凹凸構造体の製造方法における各工程について図1を用いて説明する。図1は、凹凸構造体の製造工程を示す概略図である。 Hereinafter, each step in the manufacturing method of the concave-convex structure of this embodiment will be described with reference to FIG. 1. FIG. 1 is a schematic diagram showing the manufacturing process of the concave-convex structure.

図1(a)に示すように、インプリント装置100は、ステージ5、プッシュジグ6、送り出しローラ7および巻き取りローラ8を備えている。インプリント装置100は、凹凸構造体10(凹凸構造を備える基材1)を製造するための装置である。 As shown in FIG. 1(a), the imprinting apparatus 100 includes a stage 5, a push jig 6, a feed roller 7, and a take-up roller 8. The imprinting apparatus 100 is an apparatus for manufacturing a concave-convex structure 10 (a substrate 1 having a concave-convex structure).

ステージ5は、モールド2を置いて固定するための台である。図1(a)に示すように、凹凸パターンと、硬化性樹脂組成物3が塗布された基材1と、が対面するようにモールド2をステージ5に固定する。 The stage 5 is a platform on which the mold 2 is placed and fixed. As shown in FIG. 1(a), the mold 2 is fixed to the stage 5 so that the concave-convex pattern faces the substrate 1 on which the curable resin composition 3 is applied.

プッシュジグ6は、ステージ5を昇降させるためのものであり、モールド2をステージ5上に固定することにより、モールド2を昇降させる。
モールド2を固定したステージ5を上昇させることにより、硬化性樹脂組成物3が塗布された基材1と、モールド2の凹凸パターンと、を接触させることができ、さらに上昇させることにより、硬化性樹脂組成物3を凹凸パターンに導入することができる。
また、モールド2を固定したステージ5を下降させることにより、後述するように、凹凸構造を備える基材1をモールド2から離型することができる。
The push jig 6 is used to raise and lower the stage 5, and by fixing the mold 2 onto the stage 5, the mold 2 is raised and lowered.
By raising the stage 5 to which the mold 2 is fixed, the substrate 1 to which the curable resin composition 3 has been applied can be brought into contact with the concave-convex pattern of the mold 2, and by further raising it, the curable resin composition 3 can be introduced into the concave-convex pattern.
Furthermore, by lowering the stage 5 to which the mold 2 is fixed, the substrate 1 having the concave-convex structure can be released from the mold 2, as described below.

図に示すように、シート状の基材1は、送り出しローラ7および巻き取りローラ8に巻きつけられている。
送り出しローラ7は、巻きつけたシート状の基材1をモールド2が固定されたステージ5側に送り出すためのローラであり、巻き取りローラ8は、巻きつけたシート状の基材1をモールド2が固定されたステージ5側から巻き取るためのローラである。
As shown in the figure, a sheet-like substrate 1 is wound around a feed roller 7 and a take-up roller 8 .
The feed roller 7 is a roller for sending the wound sheet-like substrate 1 to the side of the stage 5 to which the mold 2 is fixed, and the winding roller 8 is a roller for winding the wound sheet-like substrate 1 from the side of the stage 5 to which the mold 2 is fixed.

[導入工程]
本工程では、図1(b)に示すように、硬化性樹脂組成物3が塗布された基材1及び凹凸パターンを備えるモールド2を、硬化性樹脂組成物3に凹凸パターンを接触させて押圧し、硬化性樹脂組成物3を凹凸パターンに導入する。
なお、導入工程前に基材1に硬化性樹脂組成物が塗布される。硬化性樹脂組成物の塗布方法は、特に限定されない。
[Introduction process]
In this process, as shown in FIG. 1(b), a substrate 1 to which a curable resin composition 3 has been applied and a mold 2 having a concave-convex pattern are brought into contact with the curable resin composition 3 and pressed against the concave-convex pattern, thereby introducing the curable resin composition 3 into the concave-convex pattern.
Before the introducing step, the curable resin composition is applied to the substrate 1. The method for applying the curable resin composition is not particularly limited.

導入工程では、モールド2を固定したステージ5を一定速度で上昇させることにより、硬化性樹脂組成物3が塗布された基材1とモールド2の凹凸パターンとを接触させた後、硬化性樹脂組成物3が塗布された基材1及び凹凸パターンを備えるモールド2を一定圧力で押圧する。 In the introduction process, the stage 5 to which the mold 2 is fixed is raised at a constant speed to bring the substrate 1 to which the curable resin composition 3 is applied into contact with the uneven pattern of the mold 2, and then the substrate 1 to which the curable resin composition 3 is applied and the mold 2 having the uneven pattern are pressed together with a constant pressure.

導入工程では、モールド及び基材を0.005MPa~1MPaの圧力で押圧することが好ましく、0.01MPa~0.2MPaの圧力で押圧することがより好ましく、0.01MPa~0.03MPaの圧力で押圧することがさらに好ましく、0.01MPa~0.02MPaの圧力で押圧することが特に好ましい。0.005MPa以上の圧力で押圧することにより、十分な量の硬化性樹脂組成物を凹凸パターンに導入することができ、その結果、透過性及び反射防止性に関して優れた機能を有する凹凸構造体が得られる。また、1MPa以下の圧力で押圧することにより、凹凸パターンに導入される硬化性樹脂組成物の量を好適に調整することができる。 In the introduction step, the mold and the substrate are preferably pressed at a pressure of 0.005 MPa to 1 MPa, more preferably at a pressure of 0.01 MPa to 0.2 MPa, even more preferably at a pressure of 0.01 MPa to 0.03 MPa, and particularly preferably at a pressure of 0.01 MPa to 0.02 MPa. By pressing at a pressure of 0.005 MPa or more, a sufficient amount of the curable resin composition can be introduced into the concave-convex pattern, resulting in a concave-convex structure having excellent functions in terms of transparency and anti-reflection properties. In addition, by pressing at a pressure of 1 MPa or less, the amount of the curable resin composition introduced into the concave-convex pattern can be suitably adjusted.

[硬化工程]
本工程では、図1(c)に示すように、凹凸パターンに導入された硬化性樹脂組成物3を硬化する。
ここでは、光透過性を有する基材1及び光硬化性組成物を用い、かつ、モールド2が固定されている側とは反対側から紫外線(UV)を基材1に照射している。基材1は光透過性を有するため、基材1に照射された紫外線は基材1を透過して硬化性樹脂組成物3に照射される。これにより、凹凸パターンに導入されている硬化性樹脂組成物3が硬化するため、硬化された凹凸構造が基材1上に形成される。
なお、紫外線を硬化性樹脂組成物3に照射する際の照射時間、照射量は、凹凸パターンに導入されている硬化性樹脂組成物3を硬化するために十分な量であれば特に限定されない。
[Curing process]
In this step, as shown in FIG. 1(c), the curable resin composition 3 introduced into the concave-convex pattern is cured.
Here, a light-transmitting substrate 1 and a photocurable composition are used, and ultraviolet (UV) rays are irradiated onto the substrate 1 from the side opposite to the side on which the mold 2 is fixed. Since the substrate 1 is light-transmitting, the ultraviolet rays irradiated onto the substrate 1 pass through the substrate 1 and are irradiated onto the curable resin composition 3. As a result, the curable resin composition 3 introduced into the concave-convex pattern is cured, and a cured concave-convex structure is formed on the substrate 1.
The irradiation time and amount of ultraviolet light when irradiating the curable resin composition 3 are not particularly limited as long as they are sufficient to cure the curable resin composition 3 introduced into the concave-convex pattern.

[離型工程]
本工程では、図1(d)に示すように、硬化性樹脂組成物3を硬化させて得られた凹凸構造を備える基材1を、モールド2から離型する。
離型工程では、モールド2を固定したステージ5を一定速度で下降させることにより、硬化性樹脂組成物を硬化して得られた凹凸構造とモールド2の凹凸パターンとの接触が解除される。
この際、図2に示すように凹凸構造とモールド2の凹凸パターンとの接触面積が大きいため、凹凸構造とモールド2の凹凸パターンとの接触を解除して離型する際に大きな離型力が必要となる。そのため、凹凸構造の先端部が折れてモールドの底に残存しやすく、モールドの寿命が短くなる問題が生じやすい。
しかし、本開示の凹凸構造体の製造方法では、硬化後の硬化物の硬度が高いので、凹凸構造の先端部が破損し難く、精細な構造パターンを再現した離型が可能である。これにより、本開示の凹凸構造体の製造方法により得られた凹凸構造体は、従来のナノインプリントで得られる凹凸構造体40に比べ、反射防止性及び撥水性に優れ、しかも凹凸構造体である例えばモールドは長寿命なものとなる。
[Mold release process]
In this step, as shown in FIG. 1( d ), the substrate 1 having the concave-convex structure obtained by curing the curable resin composition 3 is released from the mold 2 .
In the demolding step, the stage 5 to which the mold 2 is fixed is lowered at a constant speed, thereby releasing the contact between the concave-convex structure obtained by curing the curable resin composition and the concave-convex pattern of the mold 2 .
2, the contact area between the concave-convex structure and the concave-convex pattern of the mold 2 is large, so a large demolding force is required to release the contact between the concave-convex structure and the concave-convex pattern of the mold 2 and release the mold. Therefore, the tip of the concave-convex structure is likely to break off and remain on the bottom of the mold, which can cause a problem of shortening the life of the mold.
However, in the method for producing a concave-convex structure according to the present disclosure, the hardness of the cured product is high, so that the tips of the concave-convex structure are less likely to break, and it is possible to release the structure while reproducing a fine structural pattern. As a result, the concave-convex structure produced by the method for producing a concave-convex structure according to the present disclosure has superior anti-reflection and water repellency compared to the concave-convex structure 40 produced by conventional nanoimprinting, and the concave-convex structure, for example a mold, has a long life.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。以下の実施例において、本開示の硬化性樹脂組成物を単に「硬化性組成物」ともいう。
なお、以下の各表中の「-」は、該当成分を含有していないことを示す。
The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist of the present invention is not exceeded. In the following examples, the curable resin composition of the present disclosure is also simply referred to as the "curable composition".
In addition, "-" in each table below indicates that the corresponding component is not contained.

(実施例1)
-サンプル水準1-
-硬化性組成物の調製-
褐色のガラス広口規格瓶(株式会社三商、ガラス広口規格瓶 1K、満量:14ml)に、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル(PETG;商品名:ショウフリー(登録商標)、昭和電工株式会社製)9.5gと、トリアリルスルホニウム塩(光酸発生剤;商品名:CPI210S、サンアプロ株式会社製)0.5gと、を混合し、ハンドホモジナイザー(MH-1000、アズワン株式会社製)と試験管ミキサー(VXRS1、IKA社製)を用いて撹拌混合し、硬化性組成物を調製した。
硬化性組成物の粘度(23℃)を測定したところ、159mPa・sであった。
粘度の測定は、東機産業株式会社製のE型粘度計(コーンプレートタイプ)EVT-25Lを用い、硬化性組成物を23℃に保持して行った。以下に示すサンプル水準において同様である。
Example 1
-Sample level 1-
--Preparation of curable composition--
Into a brown wide-mouth standard glass bottle (Sansho Co., Ltd., wide-mouth standard glass bottle 1K, full capacity: 14 ml), 9.5 g of pentaerythritol tetraglycidyl ether (PETG; product name: Showfree (registered trademark), manufactured by Showa Denko K.K.) and 0.5 g of triallylsulfonium salt (photoacid generator; product name: CPI210S, manufactured by San-Apro Co., Ltd.) were mixed and stirred using a hand homogenizer (MH-1000, manufactured by AS ONE Corporation) and a test tube mixer (VXRS1, manufactured by IKA Corporation) to prepare a curable composition.
The viscosity of the curable composition (23° C.) was measured and found to be 159 mPa·s.
The viscosity was measured using an E-type viscometer (cone plate type) EVT-25L manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., while the curable composition was kept at 23° C. The same applies to the sample levels shown below.

-ハードコート層の形成-
調製した硬化性組成物を、予めアセトンで脱脂処理したサイズ76mm×26mmのスライドガラス(松浪硝子工業株式会社製:S1214)の上に厚みを約50μmとして塗布した試験片を、紫外線照射装置(型式:ECS5-015010、メタルハライドランプ1.5kW、アイグラフィックス株式会社製)を用いて照射量9,000mJ/cm及び照度100mW/cmの条件にて紫外線を照射し、硬化性組成物を硬化させてスライドガラス上に硬化物である硬化層(ハードコート層)を形成した。
以上のようにして、ハードコート層を有する試験片を作製した。
- Formation of hard coat layer -
The prepared curable composition was applied to a thickness of about 50 μm on a slide glass (S1214: manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd.) measuring 76 mm × 26 mm, which had been degreased in advance with acetone, to form a test piece. The test piece was irradiated with ultraviolet light using an ultraviolet irradiation device (model: ECS5-015010, metal halide lamp 1.5 kW, manufactured by iGraphics Co., Ltd.) under conditions of an irradiation amount of 9,000 mJ/ cm2 and an illuminance of 100 mW/ cm2 to cure the curable composition and form a cured layer (hard coat layer) as a cured product on the slide glass.
In this manner, a test piece having a hard coat layer was prepared.

-評価1a-
上記のハードコート層を有する試験片に対し、以下の評価を行った。評価結果を下記表2に示す。
-Evaluation 1a-
The test pieces having the above hard coat layer were subjected to the following evaluations. The evaluation results are shown in Table 2 below.

(鉛筆硬度)
ハードコート層を有する試験片を室温にて1日放置した。放置後の試験片に対して、JIS-K5600 5-4 機械法に準拠し、一方に二つの車輪を有し,中央部に45°±1°の角度の鉛筆を差し込む円筒状の孔を有する手押し鉛筆引っかき硬度試験機No.553-S(株式会社安田精機製作所製)を用い、750±10gの荷重をかけてハードコート層の引っ掻き鉛筆硬度を測定した。
引っ掻き鉛筆硬度は、6B~9Hの範囲で評価され、9Hに近いほどより硬い性状であることを示す。
(Pencil hardness)
The test piece having the hard coat layer was left at room temperature for one day. After the test piece was left, the scratch pencil hardness of the hard coat layer was measured by applying a load of 750±10 g using a manual pencil scratch hardness tester No. 553-S (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd.) having two wheels on one side and a cylindrical hole in the center for inserting a pencil at an angle of 45°±1° in accordance with JIS-K5600 5-4 Machine Method.
The scratch pencil hardness is rated in the range of 6B to 9H, with the closer to 9H the harder the material is.

(耐傷性)
上記と同様にハードコート層を有する試験片を用い、図4に示すように、試験片のハードコート層の表面に対して、番手:極細#0000(中心径:約0.012mm)のスチールウール(#0000、トラスコ中山株式会社製)34を接触させて水が入った容器を載せ、500gの荷重をかけた状態でハードコート層を一方向に擦過する操作を10往復繰り返し、ハードコート層の表面における傷の有無を評価した。
(Scratch resistance)
As in the above, a test piece having a hard coat layer was used, and as shown in FIG. 4, a steel wool (#0000, manufactured by TRUSCO NAKAYAMA CORPORATION) 34 having a fine number of #0000 (center diameter: about 0.012 mm) was brought into contact with the surface of the hard coat layer of the test piece, a container containing water was placed on it, and the hard coat layer was rubbed in one direction with a load of 500 g. This operation was repeated 10 times to evaluate the presence or absence of scratches on the surface of the hard coat layer.

-GCモスアイ金型の作製-
まず、両面鏡面研磨したグラッシーカーボン(GC、東海カーボン株式会社)に電子サイクロトロン共鳴(Electron cyclotron resonance:ECR)型イオンシャワー装置を用いて酸素イオンビームを照射し、酸素イオンビームエッチングした。その後、真空蒸着機(VPC-260F、アルバック機工株式会社)により、加工後のGC表面に真空蒸着を行って厚み30nmのCr蒸着膜を形成した。その後、離型処理(フッ素系離型剤;ダイキン工業社製のオプツールDSXを塗布)を施して、モスアイ構造と呼ばれる反射防止構造を有する幅20mmのGCモスアイ金型を作製した。
GCの加工条件は以下の通りである。
- Creation of GC moth-eye mold -
First, a double-sided mirror-polished glassy carbon (GC, Tokai Carbon Co., Ltd.) was irradiated with an oxygen ion beam using an electron cyclotron resonance (ECR) type ion shower device, and oxygen ion beam etching was performed. Then, a vacuum deposition machine (VPC-260F, ULVAC Kiko Co., Ltd.) was used to perform vacuum deposition on the processed GC surface to form a Cr deposition film with a thickness of 30 nm. Then, a mold release treatment (a fluorine-based mold release agent; Optool DSX manufactured by Daikin Industries, Ltd. was applied) was performed to produce a GC moth-eye mold with a width of 20 mm having an anti-reflection structure called a moth-eye structure.
The processing conditions for GC are as follows:



イオンビーム照射には、電子サイクロトロン共鳴(ECR)イオンシャワー装置であるEIG-210ER(エリオニクス社製)を用いた。GCモスアイ金型の作製の詳細については、N. B. Abu Talip[a]Yusofand J. Taniguchi, Microelectron. Eng. 110, 163 (2013).およびJ. Taniguchi, Y. Kamiya, and N. Unno, J. Photopolym. Sci. Technol. 1, 24 (2011).に記載の通りである。 For ion beam irradiation, an electron cyclotron resonance (ECR) ion shower device, EIG-210ER (Elionix, Inc.), was used. Details of the fabrication of the GC moth-eye mold are described in N. B. Abu Talip[a]Yusofand J. Taniguchi, Microelectron. Eng. 110, 163 (2013). and J. Taniguchi, Y. Kamiya, and N. Unno, J. Photopolym. Sci. Technol. 1, 24 (2011).

-モスアイフィルムの作製-
次いで、図3に示すように、作製したGCモスアイ金型12の加工面に上記の硬化性組成物14を1.25g/mの塗布量にて塗布して塗膜14を形成し、塗膜14の上にポリエステルフィルム(東洋紡社製、コスモシャイン(登録商標)A4300;PETフィルム)16を配置した。紫外線照射装置(型式:Aicure UP50 パナソニック株式会社製)を用いて、PETフィルムを介して塗膜14に紫外線を照射(サンプル水準1~3の照射量:10000mJ/cm、サンプル水準1~3の照度:50mW/cm)して硬化膜とし、硬化膜24をPETフィルム16とともに離型することにより、モスアイ構造が転写されたモスアイフィルムを作製した。
即ち、硬化性樹脂を用いたナノインプリントリソグラフィ(Nanoimprint Lithography: NIL、UV-NIL)によりモスアイフィルムを作製した。
- Creation of Moth Eye Film -
3, the above-mentioned curable composition 14 was applied in an amount of 1.25 g/ m2 onto the processed surface of the prepared GC moth-eye mold 12 to form a coating film 14, and a polyester film (Cosmoshine (registered trademark) A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.; PET film) 16 was placed on the coating film 14. Using an ultraviolet irradiation device (model: Aicure UP50, manufactured by Panasonic Corporation), ultraviolet light was irradiated onto the coating film 14 through the PET film (irradiation amount for sample levels 1 to 3: 10,000 mJ/ cm2 , illuminance for sample levels 1 to 3: 50 mW/ cm2 ) to form a cured film, and the cured film 24 was released together with the PET film 16 to produce a moth-eye film to which the moth-eye structure was transferred.
That is, a moth-eye film was produced by nanoimprint lithography (NIL, UV-NIL) using a curable resin.

-評価1b-
上記で得たモスアイフィルムに対し、以下の評価を行った。評価結果は、図5、図8A、図8B及び図9に示す。
-Evaluation 1b-
The moth-eye film obtained above was subjected to the following evaluations. The evaluation results are shown in Fig. 5, Fig. 8A, Fig. 8B, and Fig. 9.

(耐傷性)
図4に示すように、モスアイフィルム18の硬化膜24の表面に対して、番手:極細#0000(中心径:約0.012mm)のスチールウール(#0000、トラスコ中山株式会社製)34を接触させて水が入った容器32を載せ、100gの荷重をかけた状態で硬化膜24をPETフィルム16とともに一方向に擦過する試験を10往復繰り返し、硬化膜24の表面における傷の有無について以下の評価を行った。
イ.画像評価
モスアイフィルムの硬化膜24の、擦過試験前後における表面を走査型電子顕微鏡(SEM;ERA-8800FE、エリオニクス社製)で観察し、SEM写真により擦過による傷の有無を評価した。
ロ.反射率及び透過率の測定
紫外可視近赤外分光光度計(SolidSpec-3700、株式会社島津製作所)を用い、モスアイフィルムの硬化膜24の、擦過試験前後における表面の反射率及び透過率を測定した。
ハ.硬さ(マルテンス硬さ)
モスアイフィルムの硬化膜24の表面の硬さを、ダイナミック超微小硬度計(DUH-211、株式会社島津製作所)を用い、三角錐圧子を硬化膜に押し込んだ際の荷重と変位より測定した
(Scratch resistance)
As shown in FIG. 4 , a test was performed in which steel wool (#0000, manufactured by TRUSCO NAKAYAMA CORPORATION) 34 having a fine count of #0000 (center diameter: about 0.012 mm) was brought into contact with the surface of the cured film 24 of the moth-eye film 18, a container 32 containing water was placed on top of the steel wool, and the cured film 24 was rubbed together with the PET film 16 in one direction under a load of 100 g. The test was repeated 10 times, and the presence or absence of scratches on the surface of the cured film 24 was evaluated as follows.
A. Image Evaluation The surface of the cured film 24 of the moth-eye film was observed with a scanning electron microscope (SEM; ERA-8800FE, manufactured by Elionix) before and after the abrasion test, and the presence or absence of scratches due to abrasion was evaluated from the SEM photographs.
B. Measurement of Reflectance and Transmittance Using an ultraviolet-visible-near infrared spectrophotometer (SolidSpec-3700, Shimadzu Corporation), the reflectance and transmittance of the surface of the cured film 24 of the moth-eye film were measured before and after the abrasion test.
C. Hardness (Martens hardness)
The surface hardness of the cured film 24 of the moth-eye film was measured using a dynamic ultra-microhardness tester (DUH-211, Shimadzu Corporation) based on the load and displacement when a triangular pyramidal indenter was pressed into the cured film.

-サンプル水準2-
サンプル水準1において、組成を下記表2に示すように変更したこと以外は、サンプル水準1と同様にして、ハードコート層を有する試験片及びモスアイフィルムの作製を行い、さらに測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、表2及び図6、図8A、図8B及び図9に示す。
-Sample level 2-
A test piece having a hard coat layer and a moth-eye film were prepared in the same manner as in Sample Level 1, except that the composition in Sample Level 1 was changed as shown in Table 2 below, and further measurement and evaluation were performed. The results of the measurement and evaluation are shown in Table 2 and Figs. 6, 8A, 8B, and 9.

-サンプル水準3~7-
サンプル水準1において、組成を下記表2に示すように変更したこと以外は、サンプル水準1と同様にして、ハードコート層を有する試験片及びモスアイフィルムの作製を行い、さらに測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、表2及び図7~図9に示す。
-Sample level 3 to 7-
A test piece having a hard coat layer and a moth-eye film were prepared in the same manner as in Sample Level 1, except that the composition in Sample Level 1 was changed as shown in Table 2 below, and further measurement and evaluation were performed. The results of the measurement and evaluation are shown in Table 2 and Figs. 7 to 9.






表2中の成分の詳細については、以下の通りである。
・セロキサイド8000:株式会社ダイセル製の脂環式エポキシ化合物
・EPICLON EXA-830-CRP:ビスフェノールF型エポキシ樹脂、DIC株式会社製
・CPI210S:トリアリルスルホニウム塩(光酸発生剤;商品名:CPI210S、サンアプロ株式会社製)
・KY-1203:片末端(メタ)アクリル変性パーフルオロポリエーテル化合物(フッ素系防汚添加剤、信越化学工業株式会社製)
Details of the components in Table 2 are as follows.
CELLOXIDE 8000: alicyclic epoxy compound manufactured by Daicel Corporation EPICLON EXA-830-CRP: bisphenol F type epoxy resin manufactured by DIC Corporation CPI210S: triallylsulfonium salt (photoacid generator; product name: CPI210S, manufactured by San-Apro Ltd.)
KY-1203: One-terminated (meth)acrylic modified perfluoropolyether compound (fluorine-based antifouling additive, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

表2に示されるように、PETGを含有するサンプル水準1~2では、PETGではない他のエポキシ系化合物を含有する比較例に比べ、硬度が飛躍的に向上し、スチールウールを用いた擦過試験でも傷の発生が認められず、耐傷性に優れる結果が示された。
また、サンプル水準1~2の硬化性組成物を用いて作製したモスアイフィルムでは、図5~図6に示すように、擦過試験による傷跡はみられなかった。これに対し、サンプル水準3の硬化性組成物を用いて作製したモスアイフィルムでは、図7に示すように、擦過試験による傷跡が顕著に現れており、擦過に対する耐性に劣ることがわかる。サンプル水準1~2及びサンプル水準3のモスアイフィルムの擦過前後における反射率及び透過率を図8A及び図8Bに示す。図8A及び図8Bに表される通り、サンプル水準1~2では、擦過試験による反射率及び透過率の変化は小さく、サンプル水準3では、擦過試験後の反射率の上昇及び透過率の低下が著しく現れていることが分かる。即ち、サンプル水準3のモスアイフィルムでは、サンプル水準1~2のモスアイフィルムに比べ、擦過による形状の変化が大きいことが裏付けられた。このことは、サンプル水準1~2のモスアイフィルムの硬化膜の表面の硬さ(マルテンス硬さ)が比較例に比べて高いことが図9に示されている。
As shown in Table 2, in the samples 1 and 2 containing PETG, the hardness was dramatically improved compared to the comparative examples containing epoxy compounds other than PETG, and no scratches were observed in the abrasion test using steel wool, indicating excellent scratch resistance.
In addition, in the moth-eye films prepared using the curable compositions of sample levels 1 and 2, no scars were observed due to the scratch test, as shown in FIG. 5 and FIG. 6. In contrast, in the moth-eye films prepared using the curable compositions of sample level 3, as shown in FIG. 7, the scars due to the scratch test were prominent, and it can be seen that the resistance to scratching is poor. The reflectance and transmittance before and after scratching of the moth-eye films of sample levels 1 and 2 and sample level 3 are shown in FIG. 8A and FIG. 8B. As shown in FIG. 8A and FIG. 8B, in sample levels 1 and 2, the change in reflectance and transmittance due to the scratch test was small, and in sample level 3, the increase in reflectance and the decrease in transmittance after the scratch test were significant. That is, it was confirmed that the moth-eye film of sample level 3 had a larger change in shape due to scratching than the moth-eye films of sample levels 1 and 2. This is shown in FIG. 9, which shows that the hardness (Martens hardness) of the surface of the cured film of the moth-eye films of sample levels 1 and 2 is higher than that of the comparative example.

(実施例2)
-サンプル水準8~20-
サンプル水準1において、組成を下記表3に示すように変更したこと以外は、サンプル水準1と同様にして、ハードコート層を有する試験片を作製した。
作製した試験片のうち、一部の試験片に対し、サンプル水準1と同様の測定及び評価を行った。次いで、試験片の他の一部を、雰囲気温度85℃の恒温槽(SAFETY OVEN SPH-201、エスペック株式会社製)に入れて30分間放置し、放置後の試験片に対して、サンプル水準1と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表3に示す。
Example 2
-Sample level 8 to 20-
Test pieces having a hard coat layer were prepared in the same manner as in Sample Level 1, except that the composition in Sample Level 1 was changed as shown in Table 3 below.
Of the prepared test pieces, some of the test pieces were subjected to the same measurement and evaluation as Sample Level 1. Next, the other part of the test pieces was placed in a thermostatic chamber (SAFETY OVEN SPH-201, manufactured by ESPEC CORPORATION) at an atmospheric temperature of 85° C. and left for 30 minutes, and the test pieces after being left were subjected to the same measurement and evaluation as Sample Level 1. The results of the measurement and evaluation are shown in Table 3.



サンプル水準8~20において、反応性希釈剤の種類及び含有濃度による影響を表3に示す。
表3に示されるように、PETGと反応性希釈剤であるエポキシ化合物とを含有することで、スチールウール擦過性を向上させることができた。上記より明らかなように、反応性希釈剤を含有する場合の濃度は、30質量%未満の範囲が好ましい。
また、モスアイフィルムを作製した場合、サンプル水準1~2と同様に、擦過試験による傷跡は生じにくく、また、硬化膜の表面の硬さ(マルテンス硬さ)が高く、擦過試験による反射率及び透過率の変化も小さいものと考えられる。
Table 3 shows the effect of the type and concentration of reactive diluent on sample levels 8 to 20.
As shown in Table 3, the steel wool abrasion resistance could be improved by containing PETG and an epoxy compound as a reactive diluent. As is clear from the above, when a reactive diluent is contained, the concentration is preferably in the range of less than 30 mass%.
Furthermore, when a moth-eye film was produced, similarly to sample levels 1 and 2, scratches due to the scratch test were unlikely to occur, and the surface hardness (Martens hardness) of the cured film was high, and it is considered that changes in reflectance and transmittance due to the scratch test were also small.

(実施例3)
-サンプル水準21~26-
サンプル水準1において、組成を下記表4に示すように変更したこと以外は、サンプル水準1と同様にして、ハードコート層を有する試験片を作製し、さらに測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表4に示す。
Example 3
--Sample levels 21 to 26--
A test piece having a hard coat layer was prepared in the same manner as in sample level 1, except that the composition in sample level 1 was changed as shown in Table 4 below, and further measurement and evaluation were performed. The results of the measurement and evaluation are shown in Table 4.



サンプル水準21~26において、重合開始剤の種類による影響を表4に示す。
表4に示されるように、重合開始剤の種類を変えることによる影響は小さく、いずれの重合開始剤を用いてもPETGと併用して得られる硬度は優れていた。
また、モスアイフィルムを作製した場合、サンプル水準1~2と同様に、擦過試験による傷跡は生じにくく、また、硬化膜の表面の硬さ(マルテンス硬さ)が高く、擦過試験による反射率及び透過率の変化も小さいものと考えられる。
Table 4 shows the effect of the type of polymerization initiator on sample levels 21 to 26.
As shown in Table 4, the effect of changing the type of polymerization initiator was small, and the hardness obtained by using any polymerization initiator in combination with PETG was excellent.
Furthermore, when a moth-eye film was produced, similarly to sample levels 1 and 2, scratches due to the scratch test were unlikely to occur, and the surface hardness (Martens hardness) of the cured film was high, and it is considered that changes in reflectance and transmittance due to the scratch test were also small.

(実施例4)
-サンプル水準27~28-
-硬化性組成物の調製-
サンプル水準1において、組成を下記表5に示すように変更したこと以外は、サンプル水準1と同様にして、硬化性組成物を調製した。
Example 4
--Sample level 27 to 28--
--Preparation of curable composition--
Curable compositions were prepared in the same manner as in Sample Level 1, except that the composition in Sample Level 1 was changed as shown in Table 5 below.

-ハードコート層の形成-
調製した硬化性組成物を、予めアセトンで脱脂処理したサイズ76mm×26mmのスライドガラス(松浪硝子工業株式会社製:S1214)の上に厚みを約50μmとして塗布した試験片を、槽内温度を130℃に調整した恒温槽(Drying Oven DV41、ヤマト科学株式会社製)に入れて15分間加熱し、恒温槽から取出して室温(25℃)下で1日放置した。このようにして、硬化性組成物を硬化させることにより、スライドガラス上に硬化物である硬化層(ハードコート層)を形成した。
以上のようにして、ハードコート層を有する試験片を作製した。
次いで、上記で作製した試験片に対し、サンプル水準1と同様にして測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表5に示す。
- Formation of hard coat layer -
The prepared curable composition was applied to a thickness of about 50 μm on a slide glass (Matsunami Glass Industrial Co., Ltd.: S1214) of 76 mm × 26 mm that had been degreased with acetone in advance, and the test piece was placed in a thermostatic chamber (Drying Oven DV41, Yamato Scientific Co., Ltd.) with the temperature inside the chamber adjusted to 130 ° C., heated for 15 minutes, removed from the thermostatic chamber, and left at room temperature (25 ° C.) for 1 day. In this way, the curable composition was cured to form a cured layer (hard coat layer) on the slide glass.
In this manner, a test piece having a hard coat layer was prepared.
Next, the test pieces prepared above were measured and evaluated in the same manner as in Sample Level 1. The results of the measurements and evaluations are shown in Table 5.

サンプル水準27~28において、重合開始剤の種類による影響を表5に示す。
表5に示されるように、重合開始剤として熱酸発生剤を用いた熱硬化系に構成されることによる影響は小さく、熱酸発生剤を用いてもPETGと併用して得られる硬度は優れていた。
Table 5 shows the effect of the type of polymerization initiator on sample levels 27 and 28.
As shown in Table 5, the effect of using a thermal acid generator as a polymerization initiator to form a thermosetting system was small, and even when a thermal acid generator was used in combination with PETG, the hardness obtained was excellent.

-モスアイフィルムの作製-
次いで、図10に示すように、サンプル水準1と同様にして作製したGCモスアイ金型12の加工面に上記の硬化性組成物14を1.25g/mの塗布量にて塗布して塗膜14を形成し、塗膜14の上に厚み150μmのガラス基材26を載置した。次いで、加熱器30の上に置き、温度130℃、荷重1500N、荷重時間900秒の加熱条件でGCモスアイ金型を加熱して硬化膜とし、硬化膜24をガラス基材26とともに離型することにより、モスアイ構造が転写されたモスアイシートを作製した。
- Creation of Moth Eye Film -
10 , the above-mentioned curable composition 14 was applied in an amount of 1.25 g/ m2 onto the processed surface of a GC moth-eye mold 12 prepared in the same manner as in Sample Level 1 to form a coating film 14, and a glass substrate 26 having a thickness of 150 μm was placed on the coating film 14. Next, the GC moth-eye mold was placed on a heater 30 and heated under heating conditions of a temperature of 130° C., a load of 1500 N, and a load time of 900 seconds to form a cured film, and the cured film 24 was released together with the glass substrate 26 to produce a moth-eye sheet to which the moth-eye structure was transferred.

上記で得たモスアイシートの硬化膜24の表面を走査型電子顕微鏡(SEM;ERA-8800FE、エリオニクス社製)で観察した。その結果、サンプル水準27~28の硬化性組成物を用いて作製したモスアイシートには、図11のように、いずれも良好なモスアイ構造が転写形成されていることが目視により確認された。
さらに、紫外可視近赤外分光光度計(SolidSpec-3700、株式会社島津製作所)を用い、モスアイフィルムの硬化膜の表面の反射率を測定した。その結果を図12に示す。
The surface of the cured film 24 of the moth-eye sheet obtained above was observed with a scanning electron microscope (SEM; ERA-8800FE, manufactured by Elionix Corporation). As a result, it was visually confirmed that a good moth-eye structure was transferred and formed in all of the moth-eye sheets produced using the curable compositions of sample levels 27 to 28, as shown in FIG.
Furthermore, the reflectance of the surface of the cured moth-eye film was measured using an ultraviolet-visible-near infrared spectrophotometer (SolidSpec-3700, Shimadzu Corporation), and the results are shown in FIG.

(実施例5)
-サンプル水準29~36-
サンプル水準1において、組成を下記表6に示すように変更したこと以外は、サンプル水準1と同様にして、ハードコート層を有する試験片を作製し、さらに測定及び評価を行った。更に、以下の方法で防汚性の評価を行った。
測定及び評価の結果を以下の表6に示す。
Example 5
--Sample level 29 to 36--
A test piece having a hard coat layer was prepared in the same manner as in Sample Level 1, except that the composition was changed as shown in Table 6 below. Measurements and evaluations were then carried out. Furthermore, the antifouling property was evaluated by the following method.
The results of the measurements and evaluations are shown in Table 6 below.

-防汚性-
以下に示す油性マジック拭取り試験により防汚性を評価した。
調製した硬化性組成物をNo22バーコーターでサイズ76mm×26mmのスライドガラスの上に塗布し、紫外線照射装置(型式:ECS5-015010、メタルハライドランプ1.5kW、アイグラフィックス株式会社製)を用いて照射量6,000mJ/cm及び照度50mW/cmの条件にて紫外線を照射し、塗膜を硬化させた後、1日放置した。このようにして得た試験片の硬化膜の表面に、油性マーカーPM-41(コクヨ社製)を用いて螺旋模様を描き、キムワイプS-200(日本製紙クレシア社製)で油性インクを拭き取る操作を繰り返し、拭き取れることができた回数を記録した。
- Antifouling properties -
The stain resistance was evaluated by the oil-based marker wiping test described below.
The prepared curable composition was applied onto a glass slide measuring 76 mm x 26 mm using a No. 22 bar coater, and irradiated with ultraviolet light using an ultraviolet irradiation device (model: ECS5-015010, metal halide lamp 1.5 kW, manufactured by iGraphics Co., Ltd.) under conditions of an irradiation amount of 6,000 mJ/ cm2 and an illuminance of 50 mW/ cm2 to cure the coating film, which was then left for one day. A spiral pattern was drawn on the surface of the cured film of the test piece thus obtained using an oil-based marker PM-41 (manufactured by Kokuyo Co., Ltd.), and the operation of wiping off the oil-based ink with Kimwipe S-200 (manufactured by Nippon Paper Crecia Co., Ltd.) was repeated, and the number of times that it was possible to wipe off was recorded.



サンプル水準29~36において、防汚成分を含有させた組成を表6に示す。
表6に示されるように、防汚成分を含有することにより、硬度及び耐傷性を高く保持しながら拭き取り性をも付与することができた。これに対し、防汚成分を含有するがPETGを含有しないサンプル水準36では、拭き取り性こそ良好な結果が得られたが、硬度及び耐傷性まで両立することは不可能であった。
In sample levels 29 to 36, the compositions containing antifouling components are shown in Table 6.
As shown in Table 6, by including the antifouling component, it was possible to provide wiping properties while maintaining high hardness and scratch resistance. In contrast, in sample level 36, which contains the antifouling component but does not contain PETG, good wiping properties were obtained, but it was impossible to achieve both hardness and scratch resistance at the same time.

-モスアイフィルムの作製-
次いで、サンプル水準32及びサンプル水準36の硬化性組成物を用いてモスアイフィルムを作製し、モスアイ構造及び拭き取り性を評価した。
まず、図3に示すように、作製したGCモスアイ金型12の加工面に上記の硬化性組成物14を1.25g/mの塗布量にて塗布して塗膜14を形成し、塗膜14の上にポリエステルフィルム(東洋紡社製、コスモシャイン(登録商標)A4300;PETフィルム)16を配置した。紫外線照射装置(型式:Aicure UP50 パナソニック株式会社製)を用いて、PETフィルムを介して塗膜14に紫外線を照射(照射量:10000mJ/cm、照度:50mW/cm)して硬化膜とし、硬化膜24をPETフィルム16とともに離型することにより、モスアイ構造が転写されたモスアイフィルムを作製した。
- Creation of Moth Eye Film -
Next, moth-eye films were prepared using the curable compositions of sample level 32 and sample level 36, and the moth-eye structure and wiping properties were evaluated.
3, the above-mentioned curable composition 14 was applied in an amount of 1.25 g/ m2 onto the processed surface of the prepared GC moth-eye mold 12 to form a coating film 14, and a polyester film (Cosmoshine (registered trademark) A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.; PET film) 16 was placed on the coating film 14. Using an ultraviolet irradiation device (model: Aicure UP50, manufactured by Panasonic Corporation), ultraviolet light was irradiated onto the coating film 14 through the PET film (irradiation amount: 10,000 mJ/ cm2 , illuminance: 50 mW/ cm2 ) to form a cured film, and the cured film 24 was released together with the PET film 16 to produce a moth-eye film to which the moth-eye structure was transferred.

次いで、図4に示すように擦過試験を10往復繰り返し、硬化膜の表面における傷の有無について以下の評価を行った。
イ.画像評価
モスアイフィルムの硬化膜の、擦過試験前後における表面を走査型電子顕微鏡(SEM;ERA-8800FE、エリオニクス社製)で観察し、SEM写真により擦過による傷の有無を評価した。
ロ.接触角
全自動接触角計(DM-701、株式会社協和界面科学)を用い、モスアイフィルムのモスアイ構造の転写面における水接触角を測定した。
ハ.拭き取り性
モスアイフィルムのモスアイ構造の転写面に人工指紋液を滴下し、キムワイプS-200(日本製紙クレシア社製)で油性インクを拭き取る操作を繰り返し、拭き取れることができた回数を記録した。
Next, as shown in FIG. 4, the scratch test was repeated 10 times, and the presence or absence of scratches on the surface of the cured film was evaluated as follows.
A. Image Evaluation The surface of the cured moth-eye film before and after the abrasion test was observed with a scanning electron microscope (SEM; ERA-8800FE, manufactured by Elionix), and the presence or absence of scratches due to abrasion was evaluated from the SEM photographs.
B. Contact angle The water contact angle on the transferred surface of the moth-eye structure of the moth-eye film was measured using a fully automatic contact angle meter (DM-701, Kyowa Interface Science Co., Ltd.).
C. Wipeability: An artificial fingerprint liquid was dropped onto the transfer surface of the moth-eye structure of the moth-eye film, and the oil-based ink was repeatedly wiped off with Kimwipe S-200 (manufactured by Nippon Paper Crecia Co., Ltd.), and the number of times that the ink could be wiped off was recorded.

上記で得たモスアイフィルムの硬化膜24の表面をSEM観察したところ、サンプル水準32の硬化性組成物を用いて作製したモスアイフィルムでは、図13のように、擦過試験による傷跡はみられなかった。したがって、擦過前後での水接触角の変化は小さいものであった。これに対し、サンプル水準36の硬化性組成物を用いて作製したモスアイフィルムでは、図14に示すように、PETGを用いたサンプル水準32に比べ、擦過試験による傷跡が顕著に現れており、モスアイ構造が壊れて水接触角の変化も大きく現れた。このように、サンプル水準32とサンプル水準36とでは、擦過に対する耐性に著しい差異があることがわかる。 When the surface of the cured film 24 of the moth-eye film obtained above was observed with an SEM, no scars from the scratch test were observed in the moth-eye film produced using the curable composition of sample level 32, as shown in FIG. 13. Therefore, the change in the water contact angle before and after scratching was small. In contrast, in the moth-eye film produced using the curable composition of sample level 36, as shown in FIG. 14, the scars from the scratch test were more noticeable than in sample level 32 using PETG, and the moth-eye structure was destroyed, resulting in a large change in the water contact angle. Thus, it can be seen that there is a significant difference in resistance to scratching between sample level 32 and sample level 36.

さらに、サンプル水準32のモスアイフィルムに対し、以下の条件にてモスアイフィルムを加熱処理した後に拭き取り試験を行った。
<条件>
・加熱温度:85℃
・加熱時間:30分
・試験布:キムワイプ
・試験液:人工指紋液
[人工指紋液]
ここで使用した人工指紋液は、JIS K2246(2007)さび止め油中に記載されている下記の組成に、ローダミンB(東京化成工業株式会社製、CAS.NO81-88-9)を下記の組成に対して0.1質量%加えて調製したものである。
<組成>・精製水:500mL
・メタノール:500mL
・塩化ナトリウム:7g
・尿素:lg
・乳酸:4g
Furthermore, the moth-eye film of sample level 32 was subjected to a wiping test after being heat-treated under the following conditions.
<Conditions>
Heating temperature: 85°C
Heating time: 30 minutes Test cloth: Kimwipe Test liquid: Artificial fingerprint liquid [Artificial fingerprint liquid]
The artificial fingerprint liquid used here was prepared by adding 0.1 mass % of Rhodamine B (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., CAS. No. 81-88-9) to the following composition described in JIS K2246 (2007) Rust Preventive Oil.
<Composition> Purified water: 500mL
Methanol: 500 mL
Sodium chloride: 7g
・Urea: 1g
Lactic acid: 4g

その結果、図15に示すように、人工指紋液を良好に拭き取ることができた。
続いて、人工指紋液の拭き取りを20回繰り返した際のSEM写真を図16に示す。図16から分かるように、20回拭き取った後でもモスアイ構造に変化はなかった。また、接触角の変化も小さかった。更に、20回の拭き取り前後での反射率及び透過率の変化を図17A及び図17Bに示す。図17A及び図17Bに示すように、低下幅は1%に満たない結果であった。
As a result, as shown in FIG. 15, the artificial fingerprint liquid could be successfully wiped off.
Next, Fig. 16 shows an SEM photograph when the artificial fingerprint liquid was wiped off 20 times. As can be seen from Fig. 16, there was no change in the moth-eye structure even after wiping off 20 times. In addition, the change in the contact angle was also small. Furthermore, Figs. 17A and 17B show the changes in reflectance and transmittance before and after wiping off 20 times. As shown in Figs. 17A and 17B, the decrease was less than 1%.

(実施例6)
-サンプル水準37~38-
サンプル水準1において、組成を下記表7に示すように変更したこと以外は、サンプル水準1と同様にして、ハードコート層を有する試験片を作製し、さらに測定及び評価を行った。更に、以下の方法により増感効果の指標として接着強度の評価を行った。
測定及び評価の結果を以下の表7に示す。
Example 6
--Sample level 37 to 38--
A test piece having a hard coat layer was prepared in the same manner as in Sample Level 1, except that the composition in Sample Level 1 was changed as shown in Table 7 below, and further measurements and evaluations were carried out. Furthermore, the adhesive strength was evaluated as an index of the sensitizing effect by the following method.
The results of the measurements and evaluations are shown in Table 7 below.

-接着性-
以下の方法で、重合開始剤の吸収波長を透過しない試験体を用いて接着強度を測定し、接着性を評価した。評価結果を下記表7に示す。
エポキシガラス板(KEL-GE(10mm×250mm、新神戸電機株式会社製)の一方の表面をアセトンで脱脂処理した後、脱脂処理後の表面に、硬化性組成物の塗布厚を一定にするためのスペーサとして、メンディングテープ(MP-18、住友スリーエム株式会社製)を貼り付けた。
次いで、エポキシガラス板のメンディングテープを貼り付けた面に硬化性組成物を塗布し、硬化性組成物の塗布面積が26mm×3mmとなるように2枚のエポキシガラス板を互い違いに貼り合わせ、バチ型クリップ(クリ-44、コクヨ株式会社製)で圧締して試験体を作製した。その後、紫外線照射装置(型式:ECS5-015010、メタルハライドランプ1.5kW、アイグラフィックス株式会社製)を用い、試験体の硬化性組成物に対して照射量9,000mJ/cmとして照度100mW/cmにて紫外線を照射し、硬化性組成物を硬化させた。
その後、照射後の試験体を室温(25℃)下に1日放置した。放置後の試験片を、オートグラフAG-5KNXplus(株式会社島津製作所製)を用いて2枚のガラス板を引っ張り速度50mm/分にて引っ張り、せん断接着強度を測定した。
-Adhesiveness-
The adhesive strength was measured and the adhesiveness was evaluated by the following method using a test piece that was opaque to the absorption wavelength of the polymerization initiator. The evaluation results are shown in Table 7 below.
One surface of an epoxy glass plate (KEL-GE (10 mm × 250 mm, manufactured by Shin-Kobe Electric Machinery Co., Ltd.) was degreased with acetone, and then a mending tape (MP-18, manufactured by Sumitomo 3M Limited) was attached to the degreased surface as a spacer for making the coating thickness of the curable composition uniform.
Next, a curable composition was applied to the surface of the epoxy glass plate to which the mending tape was attached, and two epoxy glass plates were alternately attached so that the application area of the curable composition was 26 mm × 3 mm, and a test specimen was prepared by pressing with a drumstick-shaped clip (CREE-44, manufactured by KOKUYO Co., Ltd.). Thereafter, using an ultraviolet irradiation device (model: ECS5-015010, metal halide lamp 1.5 kW, manufactured by iGraphics Co., Ltd.), the curable composition of the test specimen was irradiated with ultraviolet light at an irradiation dose of 9,000 mJ/ cm2 and an illuminance of 100 mW/ cm2 to cure the curable composition.
The irradiated test specimen was then left for one day at room temperature (25° C.) After leaving the test specimen, the two glass plates were pulled at a pulling speed of 50 mm/min using an Autograph AG-5KNXplus (manufactured by Shimadzu Corporation) to measure the shear adhesive strength.



サンプル水準37~38において、増感剤を含有させた組成を表7に示す。
使用したエポキシガラス板は、重合開始剤の吸収波長を透過しないが、サンプル水準37~38の硬化性組成物は、増感剤を含むことで、増感剤の吸収波長である350nm~400nmの波長域の紫外線が照射された際に重合開始剤が感応し、硬化させることができた。つまり、PETGを硬化させる方法として重合開始剤及び増感剤を含む組成も有効であるといえる。
また、モスアイフィルムを作製した場合、サンプル水準1~2と同様に、擦過試験による傷跡は生じにくく、また、硬化膜の表面の硬さ(マルテンス硬さ)が高く、擦過試験による反射率及び透過率の変化も小さいものと考えられる。
In sample levels 37 and 38, the compositions containing sensitizers are shown in Table 7.
The epoxy glass plate used does not transmit the absorption wavelength of the polymerization initiator, but the curable compositions of sample levels 37 to 38 contain a sensitizer, so that the polymerization initiator reacts and cures when irradiated with ultraviolet light in the wavelength range of 350 nm to 400 nm, which is the absorption wavelength of the sensitizer. In other words, it can be said that a composition containing a polymerization initiator and a sensitizer is also effective as a method for curing PETG.
Furthermore, when a moth-eye film was produced, similarly to sample levels 1 and 2, scratches due to the scratch test were unlikely to occur, and the surface hardness (Martens hardness) of the cured film was high, and it is considered that changes in reflectance and transmittance due to the scratch test were also small.

(実施例7)
-サンプル水準39~42-
サンプル水準1において、組成を下記表8に示すように変更したこと以外は、サンプル水準1と同様にして、ハードコート層を有する試験片を作製し、さらに測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表8に示す。
(Example 7)
--Sample level 39 to 42--
A test piece having a hard coat layer was prepared in the same manner as in sample level 1, except that the composition in sample level 1 was changed as shown in Table 8 below, and further measurement and evaluation were performed. The results of the measurement and evaluation are shown in Table 8.



サンプル水準39~42において、フィラーを含有する組成とした場合の結果を表8に示す。
表8に示されるように、フィラーを含有する組成においても、PETGと併用して得られる硬度は優れていた。
Table 8 shows the results for sample levels 39 to 42, which were compositions containing filler.
As shown in Table 8, the compositions containing the filler also provided excellent hardness when used in combination with PETG.

-モスアイフィルムの作製-
次いで、サンプル水準39、42の硬化性組成物を用いてモスアイフィルムを作製し、モスアイ構造を評価した。
まず、図3に示すように、作製したGCモスアイ金型12の加工面に上記の硬化性組成物14を1.25g/mの塗布量にて塗布して塗膜14を形成し、塗膜14の上にポリエステルフィルム(東洋紡社製、コスモシャイン(登録商標)A4300;PETフィルム)16を配置した。紫外線照射装置(型式:ECS5-015010、メタルハライドランプ1.5kW、アイグラフィックス株式会社製)を用いて、PETフィルムを介して塗膜14に紫外線を照射(照射量:10000mJ/cm、照度:50mW/cm)して硬化膜とし、硬化膜24をPETフィルム16とともに離型することにより、モスアイ構造が転写されたモスアイフィルムを作製した。
- Creation of Moth Eye Film -
Next, moth-eye films were prepared using the curable compositions of sample levels 39 and 42, and the moth-eye structure was evaluated.
3, the above-mentioned curable composition 14 was applied in an amount of 1.25 g/ m2 onto the processed surface of the prepared GC moth-eye mold 12 to form a coating film 14, and a polyester film (Cosmoshine (registered trademark) A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.; PET film) 16 was placed on the coating film 14. Using an ultraviolet irradiation device (model: ECS5-015010, metal halide lamp 1.5 kW, manufactured by i-Graphics Co., Ltd.), ultraviolet light was irradiated onto the coating film 14 through the PET film (irradiation amount: 10,000 mJ/ cm2 , illuminance: 50 mW/ cm2 ) to form a cured film, and the cured film 24 was released together with the PET film 16 to produce a moth-eye film to which the moth-eye structure was transferred.

上記で得たモスアイフィルムの硬化膜の表面を走査型電子顕微鏡(SEM;ERA-8800FE、エリオニクス社製)で観察した。結果、サンプル水準39、42の硬化性組成物を用いて作製したモスアイフィルムには、図18のように、いずれのモスアイフィルムも目視により良好なモスアイ構造が転写形成されていることが確認された。 The surface of the cured moth-eye film obtained above was observed with a scanning electron microscope (SEM; ERA-8800FE, manufactured by Elionix). As a result, it was confirmed by visual inspection that a good moth-eye structure was transferred to the moth-eye films produced using the curable compositions of sample levels 39 and 42, as shown in Figure 18.

(実施例8)
-サンプル水準43~44-
サンプル水準1において、組成を下記表9に示すように変更したこと以外は、サンプル水準1と同様にして、ハードコート層を有する試験片を作製し、さらに測定及び評価を行った。更に、以下の方法により接着性を評価する指標として接着強度を測定した。
測定及び評価の結果を以下の表9に示す。
(Example 8)
--Sample level 43 to 44--
A test piece having a hard coat layer was prepared in the same manner as in Sample Level 1, except that the composition was changed as shown in Table 9 below. Further, the adhesive strength was measured as an index for evaluating the adhesiveness by the following method.
The results of the measurements and evaluations are shown in Table 9 below.

-接着性-
サイズ76mm×26mmのスライドガラス(S1214、松浪硝子工業株式会社製)の一方の表面をアセトンで脱脂処理した後、脱脂処理後の表面に、硬化性組成物の塗布厚を一定にするためのスペーサとして、メンディングテープ(MP-18、住友スリーエム株式会社製)を貼り付けた。
次いで、スライドガラス板のメンディングテープを貼り付けた面に硬化性組成物を塗布し、硬化性組成物の塗布面積が26mm×3mmとなるように2枚のエポキシガラス板を互い違いに張り合わせ、バチ型クリップ(クリ-44、コクヨ株式会社製)で圧締して試験体を作製した。その後、紫外線照射装置(型式:ECS5-015010、メタルハライドランプ1.5kW、アイグラフィックス株式会社製)を用い、試験体の硬化性組成物に対して照射量9,000mJ/cmとして照度100mW/cmにて紫外線を照射し、硬化性組成物を硬化させた。
その後、照射後の試験体を室温(25℃)下に1日放置した。放置後の試験片を、オートグラフAG-5KNXplus(株式会社島津製作所製)を用いて2枚のガラス板を引っ張り速度50mm/分にて引っ張り、せん断接着強度を測定した。
上記とは別に、上記スライドガラス板をアクリル板又はポリカーボネート板(PC板)に代えて同様の方法でせん断接着強度を測定した。
測定結果を下記表9に示す。
-Adhesiveness-
One surface of a slide glass (S1214, manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd.) measuring 76 mm × 26 mm was degreased with acetone, and then a mending tape (MP-18, manufactured by Sumitomo 3M Limited) was attached to the degreased surface as a spacer for keeping the coating thickness of the curable composition constant.
Next, the curable composition was applied to the surface of the slide glass plate to which the mending tape was attached, and two epoxy glass plates were alternately attached so that the application area of the curable composition was 26 mm × 3 mm, and a test specimen was prepared by pressing with a drumstick-shaped clip (CREE-44, manufactured by KOKUYO Co., Ltd.). Thereafter, using an ultraviolet irradiation device (model: ECS5-015010, metal halide lamp 1.5 kW, manufactured by iGraphics Co., Ltd.), the curable composition of the test specimen was irradiated with ultraviolet light at an irradiation dose of 9,000 mJ/ cm2 and an illuminance of 100 mW/ cm2 to cure the curable composition.
The irradiated test specimen was then left for one day at room temperature (25° C.) After leaving the test specimen, the two glass plates were pulled at a pulling speed of 50 mm/min using an Autograph AG-5KNXplus (manufactured by Shimadzu Corporation) to measure the shear adhesive strength.
Separately from the above, the shear adhesive strength was measured in the same manner, except that the slide glass plate was replaced with an acrylic plate or a polycarbonate plate (PC plate).
The measurement results are shown in Table 9 below.



サンプル水準43~44において、シランカップリング剤を含有する組成とした場合の結果を表9に示す。
表9に示されるように、シランカップリング剤を含有する組成においても、PETGと併用して得られる硬度は優れていた。
また、モスアイフィルムを作製した場合、サンプル水準1~2と同様に、擦過試験による傷跡は生じにくく、また、硬化膜の表面の硬さ(マルテンス硬さ)が高く、擦過試験による反射率及び透過率の変化も小さいものと考えられる。
Table 9 shows the results for sample levels 43 and 44, which were compositions containing a silane coupling agent.
As shown in Table 9, even in the compositions containing a silane coupling agent, the hardness obtained when used in combination with PETG was excellent.
Furthermore, when a moth-eye film was produced, similarly to sample levels 1 and 2, scratches due to the scratch test were unlikely to occur, and the surface hardness (Martens hardness) of the cured film was high, and it is considered that changes in reflectance and transmittance due to the scratch test were also small.

本開示の硬化性樹脂組成物は、高い硬度が求められる各種用途に好適であり、反射防止、回折格子(光学素子)、LSI(集積回路配線)、偏光板、ナノインプリントの分野に好ましく用いられる。また、ナノインプリント分野では、円錐もしくは多角錐等のモスアイパターン、ピラー構造、ホール構造、マイクロレンズアレイ構造、ハニカム構造、格子構造、ライン&スペース構造、レプリカモールド等の各種パターンの形成に適している。 The curable resin composition of the present disclosure is suitable for various applications requiring high hardness, and is preferably used in the fields of antireflection, diffraction gratings (optical elements), LSI (integrated circuit wiring), polarizing plates, and nanoimprinting. In the field of nanoimprinting, it is suitable for forming various patterns such as moth-eye patterns such as cones or polygonal pyramids, pillar structures, hole structures, microlens array structures, honeycomb structures, lattice structures, line and space structures, and replica molds.

2017年6月15日に出願された日本特許出願2017-117642の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。 The disclosure of Japanese Patent Application No. 2017-117642, filed on June 15, 2017, is incorporated herein by reference in its entirety. All documents, patent applications, and technical standards described herein are incorporated herein by reference to the same extent as if each individual document, patent application, and technical standard was specifically and individually indicated to be incorporated by reference.

(符号の説明)
1・・・シート状の基材
2・・・モールド
3,14・・・硬化性樹脂組成物(硬化性組成物)
5・・・ステージ
7・・・送り出しローラ
8・・・巻き取りローラ
10・・・凹凸構造体
12・・・塗膜
16・・・ポリエステルフィルム
18・・・モスアイフィルム
24・・・硬化膜
26・・・ガラス基材
30・・・加熱器
32・・・容器
34・・・スチールウール
100・・・インプリント装置
(Explanation of symbols)
1: Sheet-like substrate 2: Mold 3, 14: Curable resin composition (curable composition)
5... Stage 7... Feed-out roller 8... Take-up roller 10... Protrusion-recess structure 12... Coating film 16... Polyester film 18... Moth-eye film 24... Cured film 26... Glass substrate 30... Heater 32... Container 34... Steel wool 100... Imprinting device

Claims (10)

エポキシ当量が90~150であるペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、重合開始剤、及び界面活性剤を含有し、前記界面活性剤が、フッ素化合物及びシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含み、
前記ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルの含有量が、硬化性樹脂組成物全質量に対して、45質量%~97質量%であり
前記重合開始剤の含有量が、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、0.1質量%~10質量%であり、
前記界面活性剤の含有量が、硬化性樹脂組成物の全質量に対して、0.1質量%~30質量%である、
ハードコート層の形成に用いられる硬化性樹脂組成物。
The composition contains pentaerythritol tetraglycidyl ether having an epoxy equivalent of 90 to 150, a polymerization initiator, and a surfactant, the surfactant containing at least one selected from the group consisting of a fluorine compound and a siloxane compound,
The content of the pentaerythritol tetraglycidyl ether is 45% by mass to 97% by mass based on the total mass of the curable resin composition ,
The content of the polymerization initiator is 0.1% by mass to 10% by mass based on the total mass of the curable resin composition,
The content of the surfactant is 0.1% by mass to 30% by mass based on the total mass of the curable resin composition.
A curable resin composition used to form a hard coat layer.
前記界面活性剤が、含フッ素アクリル化合物及び含フッ素シロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 1, wherein the surfactant comprises at least one selected from the group consisting of a fluorine-containing acrylic compound and a fluorine-containing siloxane compound. 前記重合開始剤が、光酸発生剤、熱酸発生剤、及び光カチオン発生剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物である請求項1又は請求項2に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 1 or 2, wherein the polymerization initiator is at least one compound selected from the group consisting of a photoacid generator, a thermal acid generator, and a photocation generator. 更に、前記エポキシ当量が90~150であるペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル以外のグリシジルエーテル化合物、グリシジルエステル化合物、グリシジルアミン化合物、脂肪族エポキシ化合物、オレフィン酸化エポキシ化合物、シリコーン変性エポ
キシ化合物、フッ素変性エポキシ化合物、及びオキセタン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の反応性化合物を含有する請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 3, further comprising at least one reactive compound selected from the group consisting of a glycidyl ether compound other than pentaerythritol tetraglycidyl ether having an epoxy equivalent of 90 to 150, a glycidyl ester compound, a glycidyl amine compound, an aliphatic epoxy compound, an olefin-oxidized epoxy compound, a silicone-modified epoxy compound, a fluorine-modified epoxy compound, and an oxetane compound.
更に、アントラセン系化合物、アントラキノン系化合物、チオキサントン系化合物、ナフタレン系化合物、フェナントレン系化合物、クリセン系化合物、ペリレン系化合物、及びアクリジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の増感剤を含有する請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 4 further contains at least one sensitizer selected from the group consisting of anthracene-based compounds, anthraquinone-based compounds, thioxanthone-based compounds, naphthalene-based compounds, phenanthrene-based compounds, chrysene-based compounds, perylene-based compounds, and acridine-based compounds. 前記増感剤が、ジアルコキシアントラセンを含む請求項5に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 5, wherein the sensitizer comprises a dialkoxyanthracene. 前記エポキシ当量が90~150であるペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルと、脂環式エポキシ樹脂と、前記重合開始剤である光酸発生剤と、前記界面活性剤と、を含有する請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 1, which contains pentaerythritol tetraglycidyl ether having an epoxy equivalent of 90 to 150, an alicyclic epoxy resin, a photoacid generator as the polymerization initiator, and the surfactant. 前記エポキシ当量が90~150であるペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルの含有量が硬化性樹脂組成物全質量に対して60質量%~85質量%であり、前記脂環式エポキシ樹脂の含有量が硬化性樹脂組成物全質量に対して10質量%~30質量%であり、前記光酸発生剤の含有量が硬化性樹脂組成物全質量に対して1質量%~6質量%である請求項7に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 7, wherein the content of the pentaerythritol tetraglycidyl ether having an epoxy equivalent of 90 to 150 is 60% by mass to 85% by mass relative to the total mass of the curable resin composition, the content of the alicyclic epoxy resin is 10% by mass to 30% by mass relative to the total mass of the curable resin composition, and the content of the photoacid generator is 1% by mass to 6% by mass relative to the total mass of the curable resin composition. 請求項1~請求項8のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物であって、平膜における引っ掻き鉛筆硬度が7H以上である硬化物。 A cured product of the curable resin composition according to any one of claims 1 to 8, the cured product having a scratch pencil hardness of 7H or more in a flat film. フィラーを含まない請求項9に記載の硬化物。 The cured product according to claim 9, which does not contain a filler.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010032853A (en) 2008-07-30 2010-02-12 Toray Advanced Film Co Ltd Filter for display
JP2013218263A (en) 2011-12-12 2013-10-24 Fujifilm Corp Positive photosensitive resin composition for electronic component, hardened film and display device
WO2014065352A1 (en) 2012-10-26 2014-05-01 富士フイルム株式会社 Photosensitive resin composition, cured product and manufacturing method thereof, resin pattern production method, cured film, organic el display device, liquid crystal display device, and touch panel display device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010032853A (en) 2008-07-30 2010-02-12 Toray Advanced Film Co Ltd Filter for display
JP2013218263A (en) 2011-12-12 2013-10-24 Fujifilm Corp Positive photosensitive resin composition for electronic component, hardened film and display device
WO2014065352A1 (en) 2012-10-26 2014-05-01 富士フイルム株式会社 Photosensitive resin composition, cured product and manufacturing method thereof, resin pattern production method, cured film, organic el display device, liquid crystal display device, and touch panel display device

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