JP7490287B1 - Watermark embedding method and system thereof - Google Patents

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Abstract

【課題】ウォーターマーク(watermark)の不可視性(invisibility)を向上させて原イメージの品質低下を最小化できるウォーターマーク埋め込み方法およびそのシステムを提供する。【解決手段】ウォーターマーク埋め込み方法およびそのシステムが提供される。いくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法は、原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階S31と、ペイロードが内在するペイロードパターンを取得する段階S33と、原イメージにベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する段階S34と、中間イメージにペイロードパターンを埋め込む段階S35とを含むことができる。このような方法によれば、ウォーターマークの不可視性(invisibility)と抽出性能が共に向上することができる。【選択図】図3A watermark embedding method and system therefor are provided, which can improve the invisibility of a watermark and minimize degradation in quality of an original image. A watermark embedding method and system therefor are provided. A watermark embedding method according to some embodiments may include step S31 of acquiring an original image and a base pattern of the watermark, step S33 of acquiring a payload pattern in which a payload is contained, step S34 of embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image, and step S35 of embedding the payload pattern in the intermediate image. According to this method, both the invisibility and extraction performance of the watermark can be improved. [Selected Figure] FIG.

Description

本開示はウォーターマーク(watermark)埋め込み(embedding)方法およびそのシステムに関し、より詳細には、与えられたイメージにウォーターマークを不可視的に埋め込む方法およびそのシステムに関する。 The present disclosure relates to a method and system for embedding a watermark, and more particularly to a method and system for invisibly embedding a watermark in a given image.

デジタル・ウォーターマーキング(digital watermarking)は写真や動画のような各種デジタルデータに特定の情報を埋め込む(挿入する)技術を意味する。このようなウォーターマーキング技術は無断複製の防止、真偽判別、情報ラベリング(labelling)などのような多様な用途に用いられている。 Digital watermarking refers to the technology of embedding (inserting) specific information into various digital data such as photos and videos. Such watermarking technology is used for various purposes such as preventing unauthorized copying, authenticity determination, information labeling, etc.

最近では、人間の視覚では認知されない方式で原イメージにウォーターマークを埋め込む技術が大きな注目を集めており、これと関連する研究も活発に進められている。例えば、ウォーターマークの不可視性(invisibility)とウォーターマークの抽出性能(すなわち、認識率)を共に向上させるための研究が行われた。 Recently, technology that embeds watermarks in original images in a way that is not perceptible to the human eye has been attracting much attention, and related research is being actively conducted. For example, research has been conducted to improve both the invisibility of watermarks and the extraction performance (i.e., recognition rate) of watermarks.

しかし、ウォーターマークの不可視性とウォーターマークの抽出性能の間にはある程度のトレードオフ(trade-off)が存在するので、この二つを共に向上させるのは非常に難しく、持続的な研究が必要な実情である。 However, there is a certain trade-off between the invisibility of watermarks and their extraction performance, so it is very difficult to improve both at the same time, and continuous research is required.

韓国登録特許第10-1877372号公報(2018年7月13日公告)Korean Patent No. 10-1877372 (published on July 13, 2018)

本開示のいくつかの実施形態により解決しようとする技術的課題は、ウォーターマーク(watermark)の不可視性(invisibility)を向上させて原イメージの品質低下を最小化できるウォーターマーク埋め込み方法およびそのシステムを提供することにある。 The technical problem to be solved by some embodiments of the present disclosure is to provide a watermark embedding method and system that can improve the invisibility of the watermark and minimize the degradation of the quality of the original image.

本開示のいくつかの実施形態により解決しようとする他の技術的課題は、ウォーターマークの抽出性能(すなわち、認識率)を向上させることができるウォーターマーク埋め込み方法およびそのシステムを提供することにある。 Another technical problem that some embodiments of the present disclosure aim to solve is to provide a watermark embedding method and system therefor that can improve the watermark extraction performance (i.e., recognition rate).

本開示の技術的課題は以上で言及した技術的課題に制限されず、言及されていないまた他の技術的課題は以下の記載から本開示の技術分野における通常の技術者に明確に理解されるものである。 The technical problems of this disclosure are not limited to those mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by a person of ordinary skill in the technical field of this disclosure from the following description.

前記技術的課題を解決するための本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法は、少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する段階と、前記原イメージに前記ベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する段階と、前記中間イメージに前記ペイロードパターンを埋め込む段階とを含み、前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものである。 A watermark embedding method according to some embodiments of the present disclosure for solving the above technical problem includes, in a method performed by at least one computing device, the steps of obtaining an original image and a base pattern of the watermark, obtaining a payload pattern in which the payload of the watermark is embedded, embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image, and embedding the payload pattern in the intermediate image, wherein the base pattern has an inherent synchronization signal used for extracting the payload of the watermark.

前記技術的課題を解決するための本開示の他のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法は、少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、前記ペイロードが内在するペイロードパターンを取得する段階と、第1加重値パラメータの値に基づいて前記原イメージの第1領域に前記ベースパターンを埋め込む段階と、前記第1加重値パラメータの値と異なる第2加重値に基づいて前記原イメージの第2領域に前記ペイロードパターンを埋め込む段階を含み、前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものである。 A watermark embedding method according to some other embodiments of the present disclosure for solving the above technical problem is a method performed by at least one computing device, and includes the steps of obtaining an original image and a base pattern of the watermark, obtaining a payload pattern in which the payload is embedded, embedding the base pattern in a first region of the original image based on a value of a first weight parameter, and embedding the payload pattern in a second region of the original image based on a second weight parameter different from the value of the first weight parameter, wherein the base pattern has an embedded synchronization signal used for extracting the payload of the watermark.

前記技術的課題を解決するための本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込みシステムは、一つ以上のプロセッサと、前記一つ以上のプロセッサにより実行されるコンピュータープログラムを保存するメモリとを含み、前記コンピュータープログラムは、原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する動作と、前記ペイロードが内在するペイロードパターンを取得する動作と、前記原イメージに前記ベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する動作と、前記中間イメージに前記ペイロードパターンを埋め込む動作のためのインストラクションとを含み、前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード(payload)抽出に用いられる同期化信号が内在するものである。 A watermark embedding system according to some embodiments of the present disclosure for solving the above technical problem includes one or more processors and a memory for storing a computer program executed by the one or more processors, the computer program including instructions for obtaining an original image and a base pattern of a watermark, obtaining a payload pattern in which the payload is embedded, embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image, and embedding the payload pattern in the intermediate image, the base pattern having an inherent synchronization signal used for extracting the payload of the watermark.

前記技術的課題を解決するための本開示の他のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込みシステムは、一つ以上のプロセッサと、前記一つ以上のプロセッサにより実行されるコンピュータープログラムを保存するメモリとを含み、前記コンピュータープログラムは、原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する動作と、前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する動作、第1加重値に基づいて前記原イメージの第1領域に前記ベースパターンを埋め込む動作および前記第1加重値と異なる第2加重値に基づいて前記原イメージの第2領域に前記ペイロードパターンを埋め込む動作のためのインストラクションを含み、前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものである。 A watermark embedding system according to some other embodiments of the present disclosure for solving the above technical problem includes one or more processors and a memory for storing a computer program executed by the one or more processors, the computer program including instructions for obtaining an original image and a base pattern of a watermark, obtaining a payload pattern having a payload of the watermark therein, embedding the base pattern in a first region of the original image based on a first weight value, and embedding the payload pattern in a second region of the original image based on a second weight value different from the first weight value, the base pattern having an inherent synchronization signal used for extracting the payload of the watermark.

前記技術的課題を解決するための本開示のいくつかの実施形態によるコンピュータープログラムは、コンピューティング装置と結合され、原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階-前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード(payload)抽出に用いられる同期化信号が内在するものである-、前記ペイロードが内在するペイロードパターンを取得する段階、前記原イメージに前記ベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する段階および前記中間イメージに前記ペイロードパターンを埋め込む段階を実行させるためにコンピュータで読取り可能な記録媒体に保存され得る。 A computer program according to some embodiments of the present disclosure for solving the above technical problem can be stored on a computer-readable recording medium to be coupled to a computing device and execute steps of obtaining a base pattern of an original image and a watermark, the base pattern having an inherent synchronization signal used for extracting the payload of the watermark, obtaining a payload pattern having an inherent payload, embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image, and embedding the payload pattern in the intermediate image.

前記技術的課題を解決するための本開示の他のいくつかの実施形態によるコンピュータープログラムは、コンピューティング装置と結合され、原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階-前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード(payload)抽出に用いられる同期化信号が内在するものである-、前記ペイロードが内在するペイロードパターンを取得する段階、第1加重値パラメータの値に基づいて前記原イメージの第1領域に前記ベースパターンを埋め込む段階および前記第1加重値パラメータの値と異なる第2加重値に基づいて前記原イメージの第2領域に前記ペイロードパターンを埋め込む段階を実行させるためにコンピュータで読取り可能な記録媒体に保存され得る。 A computer program according to some other embodiments of the present disclosure for solving the above technical problem may be stored on a computer-readable recording medium when combined with a computing device to execute the steps of obtaining a base pattern of an original image and a watermark, the base pattern having an inherent synchronization signal used for extracting the payload of the watermark, obtaining a payload pattern having an inherent payload, embedding the base pattern in a first region of the original image based on a value of a first weight parameter, and embedding the payload pattern in a second region of the original image based on a second weight parameter different from the value of the first weight parameter.

本開示のいくつかの実施形態によれば、ウォーターマーク(watermark)のベースパターン(base pattern)とペイロードパターン(payload pattern)が個別に埋め込まれることができる。このような場合、ベースパターンとペイロードパターンに適用される加重値(すなわち、ピクセル値の調整強度を表す値)、埋め込み領域の形状などを自由に設計できるため、ウォーターマーク埋め込みアルゴリズムの設計自由度が大きく向上することができる。 According to some embodiments of the present disclosure, the base pattern and payload pattern of a watermark can be embedded separately. In this case, the weights (i.e., values representing the adjustment strength of pixel values) applied to the base pattern and payload pattern, the shape of the embedding area, etc. can be freely designed, which greatly improves the design freedom of the watermark embedding algorithm.

また、ベースパターンが先に埋め込まれ、後にペイロードパターンが埋め込まれることができる。このような場合、ベースパターンの埋め込みによりペイロードパターンの埋め込み結果が弱まる場合を未然に防止できるので、ウォーターマークの抽出性能が向上することができる。さらに、ベースパターンの埋め込み結果(すなわち、中間イメージ)を考慮してペイロードパターンの埋め込みの有無、埋め込み強度(すなわち、ピクセル値の調整強度)などを調整することもできるようになり、その結果、ウォーターマークの不可視性(invisibility)と抽出性能(すなわち、認識率)が共に向上することもできる。例えば、中間イメージの低周波数領域には埋め込み強度を低くしてペイロードパターンを埋め込むことによって、原イメージの品質低下を最小化すると同時にウォーターマークの不可視性が向上することもできる。または、中間イメージのピクセル値に既にペイロードパターンが反映されている場合(すなわち、中間イメージのピクセル値からペイロードパターンが抽出可能な場合)には、ペイロードパターンの埋め込み過程をスキップ(skip)するか埋め込み強度を低くすることによって、ウォーターマークの抽出性能を維持しながら不可視性が向上することもできる。または、中間イメージにペイロードパターンを相対的に強く埋め込むことによって、ウォーターマークの抽出性能が向上することもできる(なぜなら、周波数ドメインから検出されるベースパターンはその特性上弱く埋め込まれてもうまく検出されるため、ウォーターマークの抽出性能は結局ペイロードパターンの検出正確度により左右されるからである)。 Also, the base pattern may be embedded first, and then the payload pattern may be embedded. In this case, the embedding of the base pattern may prevent the embedding result of the payload pattern from being weakened, and thus the extraction performance of the watermark may be improved. Furthermore, the presence or absence of embedding of the payload pattern, the embedding strength (i.e., the adjustment strength of the pixel value), etc. may be adjusted in consideration of the embedding result of the base pattern (i.e., the intermediate image), and as a result, both the invisibility and extraction performance (i.e., the recognition rate) of the watermark may be improved. For example, the payload pattern may be embedded in the low frequency region of the intermediate image with a low embedding strength, thereby minimizing the deterioration of the quality of the original image and improving the invisibility of the watermark. Alternatively, if the payload pattern is already reflected in the pixel value of the intermediate image (i.e., if the payload pattern can be extracted from the pixel value of the intermediate image), the embedding process of the payload pattern may be skipped or the embedding strength may be lowered, thereby improving the invisibility while maintaining the extraction performance of the watermark. Alternatively, the watermark extraction performance can be improved by embedding the payload pattern relatively strongly in the intermediate image (because the base pattern detected from the frequency domain can be detected well even if it is weakly embedded, and the watermark extraction performance ultimately depends on the accuracy of the detection of the payload pattern).

また、原イメージの単位領域(またはサブ領域)の外郭部分(または全体)にベースパターンを埋め込んで中央部分にペイロードパターンを埋め込むことによって、ウォーターマークの不可視性と抽出性能が共に向上することができる。
また、互いに異なる乱数列を用いてペイロードを繰り返してエンコードし、エンコーディング結果を結合してペイロードパターンを生成することによって、ウォーターマークの抽出性能はより一層向上することができる。
In addition, by embedding a base pattern in the outer portion (or the entirety) of a unit region (or sub-region) of an original image and embedding a payload pattern in the center, both the invisibility and extraction performance of the watermark can be improved.
In addition, the payload is repeatedly encoded using different random number sequences and the encoding results are combined to generate a payload pattern, thereby further improving the extraction performance of the watermark.

本開示の技術的思想による効果は以上で言及した効果に制限されず、言及されていないまた他の効果は以下の記載から通常の技術者に明確に理解されるものである。 The effects of the technical ideas of this disclosure are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those of ordinary skill in the art from the following description.

本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマーク(watermark)埋め込み(embedding)システムとウォーターマーク抽出システムの動作を概略的に説明するための例示的な図である。FIG. 2 is an exemplary diagram for generally illustrating the operation of a watermark embedding system and a watermark extraction system according to some embodiments of the present disclosure. 本開示の多様な実施形態で参照できる原イメージとウォーターマークイメージの実例の図である。2A-2C are diagrams of example original and watermark images that may be referenced in various embodiments of the present disclosure. 本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法を示す例示的なフローチャートである。1 is an exemplary flow chart illustrating a watermark embedding method according to some embodiments of the present disclosure. 本開示のいくつかの実施形態によるベースパターン(base pattern)の生成方式を説明するための例示的な図である。FIG. 2 is an exemplary diagram for explaining a method of generating a base pattern according to some embodiments of the present disclosure. 本開示のいくつかの実施形態によるペイロードパターン(payload pattern)の生成方式を説明するための例示的な図である。FIG. 2 is an exemplary diagram for explaining a payload pattern generation scheme according to some embodiments of the present disclosure. 本開示の多様な実施形態で参照できるエンコーディング規則を例示する。1 illustrates exemplary encoding rules that may be referenced in various embodiments of the present disclosure. 本開示の他のいくつかの実施形態によるペイロードパターンの生成方式を説明するための例示的な図である。FIG. 13 is an exemplary diagram for explaining a payload pattern generation method according to some other embodiments of the present disclosure. 本開示のいくつかの実施形態による埋め込み加重値決定方式を説明するための例示的なフローチャートである。1 is an exemplary flow chart illustrating an embedding weight determination scheme according to some embodiments of the present disclosure. 本開示のいくつかの実施形態によるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。1 is an exemplary diagram for explaining a pattern embedding scheme according to some embodiments of the present disclosure. 本開示の他のいくつかの実施形態によるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。11A to 11C are exemplary diagrams for explaining a pattern embedding method according to some other embodiments of the present disclosure. 本開示の多様な実施形態で参照できるスケール(scale)の概念を説明するための例示的な図である。FIG. 2 is an exemplary diagram for explaining the concept of scale that can be referenced in various embodiments of the present disclosure. 本開示の多様な実施形態で参照できるスケール(scale)の概念を説明するための例示的な図である。FIG. 2 is an exemplary diagram for explaining the concept of scale that can be referenced in various embodiments of the present disclosure. 本開示のいくつかの実施形態による埋め込み領域の形状とそれによるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。1A to 1C are exemplary diagrams for explaining the shape of an embedding region and a pattern embedding method therefor according to some embodiments of the present disclosure. 本開示のいくつかの実施形態による埋め込み領域の形状とそれによるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。1A to 1C are exemplary diagrams for explaining the shape of an embedding region and a pattern embedding method therefor according to some embodiments of the present disclosure. 本開示の他のいくつかの実施形態による埋め込み領域の形状とそれによるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。11A to 11C are exemplary diagrams for explaining the shape of an embedding region and a pattern embedding method therefor according to some other embodiments of the present disclosure. 本開示のまた他のいくつかの実施形態による埋め込み領域の形状とそれによるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。11A to 11C are exemplary diagrams for explaining the shape of an embedding region and a pattern embedding method therefor according to still other embodiments of the present disclosure. 本開示のまた他のいくつかの実施形態による埋め込み領域の形状とそれによるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。11A to 11C are exemplary diagrams for explaining the shape of an embedding region and a pattern embedding method therefor according to still other embodiments of the present disclosure. 本開示のまた他のいくつかの実施形態による埋め込み領域の形状とそれによるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。11A to 11C are exemplary diagrams for explaining the shape of an embedding region and a pattern embedding method therefor according to still other embodiments of the present disclosure. 埋め込み領域の形状と関連する本開示の多様な実施形態によるパターン埋め込み方式の効果を説明するための例示的な図である。11A to 11C are exemplary diagrams illustrating the effects of pattern embedding methods according to various embodiments of the present disclosure in relation to the shape of an embedding region. 本開示の他のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法を示す例示的なフローチャートである。5 is an exemplary flow chart illustrating a watermark embedding method according to some other embodiments of the present disclosure. 本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマークの抽出方法を示す例示的なフローチャートである。1 is an exemplary flowchart illustrating a method for extracting a watermark according to some embodiments of the present disclosure. 図21に示すベースパターンの検出有無を判断する段階の細部過程を示す例示的なフローチャートである。22 is an exemplary flowchart showing a detailed process of determining whether a base pattern is detected, as shown in FIG. 21 . 図21に示す撮影イメージの変換動作を説明するための例示的な図である。22 is an exemplary diagram for explaining a conversion operation of the photographed image shown in FIG. 21; 図21に示すペイロードの抽出基準位置を決定する動作の細部過程を示す例示的なフローチャートである。22 is an exemplary flowchart showing detailed steps of an operation for determining a payload extraction reference position shown in FIG. 21 . 図21に示すペイロード抽出段階を説明するための例示的な図である。FIG. 22 is an exemplary diagram for explaining the payload extraction step shown in FIG. 21 . 本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込みシステムおよび/またはウォーターマーク抽出システムを実現できる例示的なコンピューティング装置を示す図である。FIG. 1 illustrates an example computing device capable of implementing a watermark embedding system and/or a watermark extraction system according to some embodiments of the present disclosure.

以下、添付する図面を参照して本開示の多様な実施形態について詳細に説明する。本開示の利点および特徴、並びにこれらを達成する方法は添付する図面と共に詳細に後述する実施形態を参照すると明確になる。しかし、本開示の技術的思想は以下の実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現することができ、以下の実施形態は単に本開示の技術的思想を完全にし、本開示が属する技術分野における通常の知識を有する者に本開示の範疇を完全に知らせるために提供するものであり、本開示の技術的思想は請求項の範疇によってのみ定義される。 Various embodiments of the present disclosure will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. The advantages and features of the present disclosure, as well as methods for achieving the same, will become apparent from the following detailed embodiments in conjunction with the accompanying drawings. However, the technical idea of the present disclosure is not limited to the following embodiments, and may be realized in various different forms. The following embodiments are provided merely to complete the technical idea of the present disclosure and to fully inform those skilled in the art of the present disclosure of the scope of the present disclosure, and the technical idea of the present disclosure is defined only by the scope of the claims.

本開示の多様な実施形態を説明するにあたり、関連する公知構成または機能に係る具体的な説明が本開示の要旨を曖昧にすると判断される場合はその詳細な説明は省略する。 When describing various embodiments of the present disclosure, detailed descriptions of related publicly known configurations or functions will be omitted if they are deemed to obscure the gist of the present disclosure.

他に定義のない限り、以下の実施形態で使用される用語(技術的および科学的用語を含む)は本開示が属する技術分野における通常の知識を有する者に共通して理解される意味で使用されるが、これは関連分野に従事する技術者の意図または判例、新技術の出現などによって変わり得る。本開示で使用された用語は実施形態を説明するためのものであり、本開示の範疇を制限しようとするものではない。 Unless otherwise defined, the terms (including technical and scientific terms) used in the following embodiments are used with a meaning commonly understood by those with ordinary skill in the art to which this disclosure pertains, but this may change depending on the intentions of engineers working in related fields, legal precedents, the emergence of new technologies, etc. The terms used in this disclosure are intended to describe the embodiments and are not intended to limit the scope of this disclosure.

以下の実施形態で使用される単数の表現は文脈上明白に単数であると特定されない限り、複数の概念を含む。また、複数の表現は文脈上明白に複数であると特定されない限り、単数の概念を含む。 The singular expressions used in the following embodiments include the plural concept unless the context clearly indicates that they are singular. Furthermore, the plural expressions include the singular concept unless the context clearly indicates that they are plural.

また、以下の実施形態で使用される第1、第2、A、B、(a)、(b)などの用語はある構成要素を他の構成要素と区別するために使用されるだけであり、該当構成要素の本質や順番または順序などはその用語によって限定されない。 In addition, terms such as 1st, 2nd, A, B, (a), (b) etc. used in the following embodiments are used only to distinguish one component from another, and do not limit the nature, order or sequence of the components.

以下、添付する図面を参照して本開示の多様な実施形態について詳細に説明する。 Various embodiments of the present disclosure will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込みシステム10とウォーターマーク抽出システム11の動作を概略的に説明するための例示的な図である。 Figure 1 is an exemplary diagram for illustrating the operation of a watermark embedding system 10 and a watermark extraction system 11 according to some embodiments of the present disclosure.

図1に示すように、ウォーターマーク埋め込みシステム10はペイロード(12,payload)が内在するウォーターマーク(watermark)を原イメージ13に埋め込む(挿入する)ことができるコンピューティング装置/システムである。ここで、ウォーターマークは後述するベースパターン(base pattern)とペイロードパターン(payload pattern)を総称するか、このようなパターンに内在するデータを指す用語として理解することができる。以下では、説明の便宜上、ウォーターマーク埋め込みシステム10とウォーターマーク抽出システム11をそれぞれ「埋め込みシステム10」と「抽出システム11」と略称する。 As shown in FIG. 1, the watermark embedding system 10 is a computing device/system capable of embedding (inserting) a watermark having an inherent payload (12, payload) into an original image 13. Here, the watermark can be understood as a general term for a base pattern and a payload pattern described below, or as a term referring to data inherent in such patterns. Hereinafter, for convenience of explanation, the watermark embedding system 10 and the watermark extraction system 11 will be abbreviated as "embedding system 10" and "extraction system 11", respectively.

具体的には、埋め込みシステム10はペイロード12が内在するウォーターマークを原イメージ13に不可視的に埋め込むことによってウォーターマークイメージ14を生成することができる。たとえば、埋め込みシステム10はあらかじめ定義された埋め込み規則に従って原イメージ13のピクセル値を調整することによって原イメージ13にウォーターマークを埋め込むことができる。このようにすることによって、ウォーターマークが原イメージ13に不可視的に埋め込まれることができ、原イメージ13の品質低下は最小化することができる。図2は原イメージ21と例示した方式で特定のペイロード22が埋め込まれたウォーターマークイメージ23を例示しているが、肉眼上では二つのイメージ21,23は殆ど差異がないことを確認することができる。 Specifically, the embedding system 10 can generate the watermark image 14 by invisibly embedding the watermark containing the payload 12 in the original image 13. For example, the embedding system 10 can embed the watermark in the original image 13 by adjusting pixel values of the original image 13 according to a predefined embedding rule. In this way, the watermark can be invisibly embedded in the original image 13, and the quality degradation of the original image 13 can be minimized. FIG. 2 illustrates an original image 21 and a watermark image 23 in which a specific payload 22 is embedded in an exemplary manner, and it can be confirmed that there is almost no difference between the two images 21 and 23 to the naked eye.

ペイロード12は埋め込もうとする目的データ/情報を意味する。ペイロード12のフォーマット(format)は多様に定義および設計することができる。例えば、ペイロード12のフォーマットは下記の表1のように定義および設計することができる。しかし、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。 Payload 12 refers to the target data/information to be embedded. The format of payload 12 can be defined and designed in various ways. For example, the format of payload 12 can be defined and designed as shown in Table 1 below. However, the scope of the present disclosure is not limited thereto.

表1を参照すると、ペイロード12は例えば15ビット(bits)のコントロールパラメータ(control parameter)、54ビットのボディデータ(body data)、7ビットの検証コード(例,CRC-8)および68ビットのエラー訂正コード(error correction code)を含んで構成されることができる。 Referring to Table 1, the payload 12 can be configured to include, for example, a 15-bit control parameter, 54-bit body data, a 7-bit verification code (e.g., CRC-8), and a 68-bit error correction code.

コントロールパラメータはボディデータのタイプ(例,バージョンなど)などのようなメタデータを意味する。コントロールパラメータは例えば4ビットのバージョンコード(version code)、3ビットの該当領域に対する検証コード(例,CRC-4)および8ビットのエラー訂正コードを含んで構成されることができる。 The control parameters refer to metadata such as the type of body data (e.g., version, etc.). The control parameters can be composed of, for example, a 4-bit version code, a 3-bit verification code for the corresponding area (e.g., CRC-4), and an 8-bit error correction code.

次に、ボディデータは埋め込み対象になる実際のデータ/情報(例,原イメージ13が商品イメージである場合、商品のIDなどであり得る)を意味する。54ビットのボディデータは254の場合の数を表現できるので、ボディデータにより多様な情報が容易に埋め込まれ得る。 Next, body data refers to the actual data/information to be embedded (e.g., if the original image 13 is a product image, it may be the product ID, etc.). Since 54-bit body data can represent 254 cases, more diverse information can be easily embedded in the body data.

次に、エラー訂正コードはペイロードの抽出エラーを訂正するためのコードを意味する。エラー訂正コードは、例えばBCH(Bose-Chaudhuri-Hocquenghem)コードであり得るが、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。 Next, the error correction code refers to a code for correcting an extraction error of the payload. The error correction code may be, for example, a BCH (Bose-Chaudhuri-Hocquenghem) code, but the scope of this disclosure is not limited thereto.

埋め込みシステム10がウォーターマークを埋め込む具体的な方式については図3以下の図面を参照して詳細に後述する。 The specific method by which the embedding system 10 embeds a watermark will be described in detail below with reference to Figure 3 and subsequent drawings.

場合によって、埋め込みシステム10は「ウォーターマーク挿入装置/システム」、「ウォーターマーキング(watermarking)装置/システム」、「ウォーターマークエンコーディング装置/システム」などのように命名されることもできる。 In some cases, the embedding system 10 may be referred to as a "watermark insertion device/system," a "watermarking device/system," a "watermark encoding device/system," etc.

次に、抽出システム11はウォーターマークイメージ14からペイロード12を抽出できるコンピューティング装置/システムである。たとえば、抽出システム11は撮影モジュールなどによりウォーターマークイメージ14を取得して埋め込み規則による演算を逆に行うことによってウォーターマークイメージ14に内在するペイロード12を抽出することができる。具体的な抽出方式については図21以下の図面を参照して詳細に後述する。 Next, the extraction system 11 is a computing device/system capable of extracting the payload 12 from the watermark image 14. For example, the extraction system 11 can extract the payload 12 contained in the watermark image 14 by acquiring the watermark image 14 using a photographing module or the like and performing a reverse operation according to the embedding rule. A specific extraction method will be described in detail later with reference to the drawings from FIG. 21 onwards.

場合によって、抽出システム11は「ウォーターマーク検出装置/システム」、「ウォーターマーク認識装置/システム」、「ウォーターマークデコーディング装置/システム」などのように命名され得る。 In some cases, the extraction system 11 may be referred to as a "watermark detection device/system," a "watermark recognition device/system," a "watermark decoding device/system," etc.

上述した埋め込みシステム10と抽出システム11は少なくとも一つのコンピューティング装置として実現することができる。例えば、埋め込みシステム10のすべての機能が一つのコンピューティング装置で実現されることもでき、埋め込みシステム10の第1機能は第1コンピューティング装置で実現され、第2機能は第2コンピューティング装置で実現されることもできる。または、埋め込みシステム10の特定機能が複数のコンピューティング装置で実現されることもできる。 The above-described embedded system 10 and extraction system 11 can be realized as at least one computing device. For example, all functions of the embedded system 10 can be realized in one computing device, or a first function of the embedded system 10 can be realized in a first computing device and a second function can be realized in a second computing device. Or, a specific function of the embedded system 10 can be realized in multiple computing devices.

コンピューティング装置はコンピューティング機能を備えた任意の装置をすべて含み得、このような装置の一例示に関しては図26を参照する。コンピューティング装置は多様な構成要素(例,メモリ、プロセッサなど)が相互作用する集合体であるから、場合によって「コンピューティングシステム」と命名されることもできる。もちろん、コンピューティングシステムという用語は、複数のコンピューティング装置が相互作用する集合体という概念も包括することができる。 A computing device may include any device with computing capabilities, see FIG. 26 for an example of such a device. Because a computing device is a collection of various interacting components (e.g., memory, processor, etc.), it may also be referred to as a "computing system." Of course, the term computing system may also encompass the concept of a collection of interacting computing devices.

これまで図1および図2を参照して本開示のいくつかの実施形態による埋め込みシステム10と抽出システム11の動作について概略的に説明した。以下では、図3以下の図面を参照して上述したシステム10,11で行われ得る多様な方法について詳細に説明する。 So far, the operation of the embedding system 10 and the extraction system 11 according to some embodiments of the present disclosure has been generally described with reference to Figures 1 and 2. Various methods that may be performed by the above-described systems 10 and 11 will be described in detail below with reference to Figures 3 and subsequent figures.

先に、図3ないし図19を参照して本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法について説明する。 First, a watermark embedding method according to some embodiments of the present disclosure will be described with reference to Figures 3 to 19.

以下では、理解を容易にするために、後述するウォーターマーク埋め込み方法のすべての段階/動作が上述した埋め込みシステム10で行われることを仮定して引き続き説明する。したがって、特定の段階/動作の主体が省略された場合、埋め込みシステム10で行われると理解されることができる。ただし、実際の環境では後述する方法の一部の段階/動作が別のコンピューティング装置で行われることもできる。 For ease of understanding, the following description will continue on the assumption that all steps/operations of the watermark embedding method described below are performed in the above-mentioned embedding system 10. Therefore, if the subject of a particular step/operation is omitted, it can be understood that it is performed in the embedding system 10. However, in an actual environment, some steps/operations of the method described below may be performed in a separate computing device.

図3は本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法を示す例示的なフローチャートである。ただし、これは本開示の目的を達成するための好ましい実施形態であり、必要に応じて一部の段階が追加または削除され得るのはもちろんである。 Figure 3 is an exemplary flowchart showing a watermark embedding method according to some embodiments of the present disclosure. However, this is a preferred embodiment for achieving the objectives of the present disclosure, and it is understood that some steps may be added or removed as necessary.

図3に示すように、本実施形態は同期化信号が内在する周波数スペクトルを用いてウォーターマークのベースパターンを生成する段階S31から始まる。ここで、同期化信号はウォーターマークの存在の有無、ウォーターマークイメージ(すなわち、撮影により得られたウォーターマークイメージ)の歪曲の程度、ペイロード(または、ペイロードパターン)の抽出基準位置などを判断するために用いられる信号であるが、あらかじめ定義された周波数の特性(例,特定座標のマグニチュードピーク)が同期化信号として用いられる。周波数の特性を用いる理由は同期化信号がイメージの歪曲とノイズなどに強い特性を持たなければならないからであると理解されることができる。ベースパターンは埋め込みシステム10と抽出システム11の間に事前共有することができる。 As shown in FIG. 3, this embodiment starts with step S31 of generating a base pattern of the watermark using a frequency spectrum in which a synchronization signal exists. Here, the synchronization signal is a signal used to determine the presence or absence of a watermark, the degree of distortion of a watermark image (i.e., a watermark image obtained by shooting), the extraction reference position of a payload (or a payload pattern), etc., and a predefined frequency characteristic (e.g., a magnitude peak at a specific coordinate) is used as the synchronization signal. It can be understood that the reason for using the frequency characteristic is that the synchronization signal must have a characteristic that is resistant to image distortion and noise. The base pattern can be shared in advance between the embedding system 10 and the extraction system 11.

具体的な例を挙げると、図4に示すように、埋め込みシステム10は特定座標のマグニチュードピーク(magnitude peak、図示のポイントを参照)を有する周波数スペクトル41に対して逆フーリエ変換(Inverse Fourier Transform,例,IDFT,IFFT)を行うことによってベースパターン42を生成することができる。しかし、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。周波数スペクトル41(またはスペクトルイメージ)はマグニチュードピークに該当する領域でのみ0でないマグニチュード値を有し、マグニチュードピーク以外の領域ではすべて0のマグニチュード値を有する2Dマグニチュードスペクトルであり得るが、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。 As a specific example, as shown in FIG. 4, the embedding system 10 can generate a base pattern 42 by performing an inverse Fourier transform (e.g., IDFT, IFFT) on a frequency spectrum 41 having a magnitude peak (see the illustrated point) at a specific coordinate. However, the scope of the present disclosure is not limited thereto. The frequency spectrum 41 (or spectral image) may be a 2D magnitude spectrum having a non-zero magnitude value only in the region corresponding to the magnitude peak and having a magnitude value of zero in all regions other than the magnitude peak, but the scope of the present disclosure is not limited thereto.

参考までに、図4に示す周波数スペクトル41はログスケール(logarithmic scale)のマグニチュード(大きさ)スペクトルであって、スペクトル41の中央が低い周波数を意味し、外郭に行くほど高い周波数を意味する。また、周波数スペクトル41で色が明るく表示されたところは該当座標の周波数のマグニチュード値が大きいことを意味する。 For reference, the frequency spectrum 41 shown in FIG. 4 is a logarithmic scale magnitude spectrum, with the center of the spectrum 41 representing low frequencies and the outer edges representing higher frequencies. Also, brighter colors in the frequency spectrum 41 represent a larger magnitude value for the frequency at the corresponding coordinates.

ベースパターン(例,42)は例えば「128×128」ピクセルパターン(ブロック)であり得、ベースパターン(例,42)の各ピクセルは第1色(例,白色)と第2色(例,黒色)のうちいずれか一つに該当するピクセル値(例,255,0)を有することができる。しかし、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。 The base pattern (e.g., 42) may be, for example, a "128 x 128" pixel pattern (block), and each pixel of the base pattern (e.g., 42) may have a pixel value (e.g., 255, 0) corresponding to either a first color (e.g., white) or a second color (e.g., black). However, the scope of the present disclosure is not limited thereto.

ベースパターンは場合によって「ノイズベースパターン」、「ノイズベースイメージ」、「ベースブロック」、「同期化パターン」、「同期化ブロック」などのように命名されることもできる。 A base pattern may also be named a "noise base pattern," "noise base image," "base block," "synchronization pattern," "synchronization block," etc.

再び図3を参照して説明する。 Let us explain again with reference to Figure 3.

段階S32で、原イメージとペイロードが取得される。前述したように、ペイロードは原イメージに埋め込もうとする目的データ/情報を意味する。ペイロードは例えば表1のようなフォーマットで構成できるが、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。 In step S32, an original image and a payload are obtained. As described above, the payload refers to the target data/information to be embedded in the original image. The payload may be configured in a format such as that shown in Table 1, but the scope of the present disclosure is not limited thereto.

段階S33で、ペイロードをエンコードしてウォーターマークのペイロードパターンが生成される。たとえば、埋め込みシステム10はエンコーディング規則に従ってペイロードを構成する各ビット(bit)(またはバイトなど)の値を単位パターンにエンコード(変換)することでペイロードが内在するペイロードパターンを生成することができる。以下では、ペイロードが「ビット」単位でエンコードされることを仮定して引き続き説明する。 In step S33, the payload is encoded to generate a payload pattern of the watermark. For example, the embedded system 10 can generate a payload pattern inherent in the payload by encoding (converting) the value of each bit (or byte, etc.) constituting the payload into a unit pattern according to an encoding rule. In the following, the description will continue assuming that the payload is encoded in "bit" units.

本段階S33でペイロードパターンを生成する具体的な方式は実施形態によって変わり得る。 The specific method for generating the payload pattern in step S33 may vary depending on the embodiment.

いくつかの実施形態では、図5に示すように、埋め込みシステム10があらかじめ定義された乱数列53に基づいてペイロード51の特定ビット52のエンコーディング規則55を決定し、エンコーディング規則55に基づいて該当ビット52を単位パターン56にエンコード(変換)することができる。例えば、乱数列53の長さ(すなわち、乱数個数)がペイロード51のビット長(すなわち、ビット数)と同一であると仮定する。また、図6に示すような6種類のエンコーディング規則(例,「0」と「1」を「2×2」単位パターンにエンコードする規則)が定義されていると仮定する。このような場合、埋め込みシステム10は乱数列53でペイロード51の特定ビット52に対応する乱数(54,例,「5」)を参照して該当ビット52に適用されるエンコーディング規則(55,例,5番目のエンコーディング規則)を決定し得る。そして、埋め込みシステム10はエンコーディング規則55に従って該当ビット52を単位パターン56にエンコード(変換)し得る。このようなエンコーディング過程がペイロード51の他のビットに対しても繰り返されることによってペイロードパターン(ブロック)が生成され、ペイロード51が安全にペイロードパターンに変換されることができる(すなわち、ウォーターマーク埋め込みおよび抽出過程のセキュリティ性が向上できる)。乱数列53はペイロード51の抽出時に用いなければならないので、埋め込みシステム10と抽出システム11の間に事前に共有することができる。 In some embodiments, as shown in FIG. 5, the embedding system 10 can determine an encoding rule 55 for a specific bit 52 of the payload 51 based on a predefined random number sequence 53, and encode (convert) the corresponding bit 52 into a unit pattern 56 based on the encoding rule 55. For example, assume that the length (i.e., the number of random numbers) of the random number sequence 53 is the same as the bit length (i.e., the number of bits) of the payload 51. Also assume that six types of encoding rules (e.g., rules for encoding "0" and "1" into a "2x2" unit pattern) as shown in FIG. 6 are defined. In such a case, the embedding system 10 can refer to a random number (54, e.g., "5") corresponding to the specific bit 52 of the payload 51 in the random number sequence 53 to determine an encoding rule (55, e.g., the fifth encoding rule) to be applied to the corresponding bit 52. Then, the embedding system 10 can encode (convert) the corresponding bit 52 into a unit pattern 56 according to the encoding rule 55. This encoding process is repeated for other bits of the payload 51 to generate a payload pattern (block), and the payload 51 can be securely converted into the payload pattern (i.e., the security of the watermark embedding and extraction process can be improved). The random number sequence 53 must be used when extracting the payload 51, so it can be shared in advance between the embedding system 10 and the extraction system 11.

上記の実施形態で、単位パターン(例,56)はペイロード(例,51)のビット単位(すなわち、エンコーディング単位)に対応するピクセルパターンを意味する。単位パターン(例,56)は例えば第1色(例,白色)と第2色(例,黒色)で構成された「2×2」サイズのピクセルパターン(例,白色のピクセル値である「255」と黒色のピクセル値である「0」で構成された「2×2」ピクセルパターン)であり得るが、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。ただし、以下では、理解を容易にするために、単位パターン(例,56)が図5または図6に例示した場合のような「2×2」ピクセルパターンである場合を仮定して説明する。 In the above embodiment, the unit pattern (e.g., 56) refers to a pixel pattern corresponding to a bit unit (i.e., encoding unit) of the payload (e.g., 51). The unit pattern (e.g., 56) may be, for example, a pixel pattern of size "2x2" (e.g., a "2x2" pixel pattern composed of a white pixel value "255" and a black pixel value "0") composed of a first color (e.g., white) and a second color (e.g., black), but the scope of the present disclosure is not limited thereto. However, in the following, for ease of understanding, it is assumed that the unit pattern (e.g., 56) is a "2x2" pixel pattern as exemplified in FIG. 5 or FIG. 6.

単位パターン(例,56)はブロック形状のピクセルパターンであるから、場合によって「単位ブロックパターン」、「単位ピクセルブロック」、「単位ピクセルパターン」などのように命名されることもできる。 Since the unit pattern (e.g., 56) is a block-shaped pixel pattern, it may also be named a "unit block pattern," "unit pixel block," "unit pixel pattern," etc., depending on the situation.

他のいくつかの実施形態では、図7に示すように、埋め込みシステム10が互いに異なる多数の乱数列(72-1~72-N)を用いてペイロード71から多数のペイロードパターン(またはブロック)(73-1~73-N)を生成することができる。たとえば、埋め込みシステム10は第1乱数列(例,72-1)に基づいて決定されたエンコーディング規則に従ってペイロード71をエンコードし、第1ペイロードパターン(例,73-1)を生成し、第1乱数列(例,72-1)と異なる第2乱数列(例,72-2)に基づいて決定されたエンコーディング規則に従ってペイロード71をエンコードして第2ペイロードパターン(例,72-2)を生成することができる。次に、埋め込みシステム10は多数のペイロードパターン(73-1~73-N)を結合して(集めて)最終のペイロードパターン74を生成することができる。すなわち、埋め込みシステム10は同じペイロード71を互いに異なる方式で複数回エンコードしてペイロードパターン74を生成することができる。このような場合、ウォーターマーク埋め込みおよび抽出過程のセキュリティ性がより向上することができ、ペイロード71の抽出性能(すなわち、認識率)も向上することができる(なぜなら、ウォーターマークイメージから多数のペイロードを抽出し、これらを比較して検証できるので)。 In some other embodiments, as shown in FIG. 7, the embedding system 10 may generate multiple payload patterns (or blocks) (73-1 to 73-N) from the payload 71 using multiple random number sequences (72-1 to 72-N) that are different from each other. For example, the embedding system 10 may encode the payload 71 according to an encoding rule determined based on a first random number sequence (e.g., 72-1) to generate a first payload pattern (e.g., 73-1), and encode the payload 71 according to an encoding rule determined based on a second random number sequence (e.g., 72-2) that is different from the first random number sequence (e.g., 72-1) to generate a second payload pattern (e.g., 72-2). The embedding system 10 may then combine (collect) the multiple payload patterns (73-1 to 73-N) to generate a final payload pattern 74. That is, the embedding system 10 may encode the same payload 71 multiple times in different ways to generate the payload pattern 74. In such a case, the security of the watermark embedding and extraction process can be improved, and the extraction performance (i.e., recognition rate) of the payload 71 can also be improved (because multiple payloads can be extracted from the watermark image and compared for verification).

上記の実施形態で、埋め込みシステム10は「25個」の乱数列(例,72-1)を用いて144ビットのペイロード71から「25個」の「24×24」ペイロードパターン(例,73-1)を生成し、これらを結合して「128×128」のペイロードパターン74を生成することができる。しかし、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。 In the above embodiment, the embedding system 10 can generate 25 24x24 payload patterns (e.g., 73-1) from the 144-bit payload 71 using 25 random number sequences (e.g., 72-1), and combine these to generate a 128x128 payload pattern 74. However, the scope of the present disclosure is not limited to this.

再び図3を参照して説明する。 Let us explain again with reference to Figure 3.

参考までに、図3は段階S31の後に段階S32および段階S33が行われるように示しているが、段階S31は段階S32および段階S33と同時に行われることもでき、これらの後に行われることもできる。すなわち、ベースパターンとペイロードパターンはいかなる順序で生成されても構わない。 For reference, although FIG. 3 shows steps S32 and S33 being performed after step S31, step S31 may be performed simultaneously with or after steps S32 and S33. That is, the base pattern and payload pattern may be generated in any order.

段階S34で、原イメージにベースパターンを埋め込んで中間イメージが生成される。具体的には、埋め込みシステム10はベースパターンのピクセル値に対応する埋め込み規則に基づいて原イメージのピクセル値を調整することによってベースパターンを埋め込むことができる。この時、ベースパターンの埋め込み領域(すなわち、ベースパターンが埋め込まれる領域であり、またピクセル値が調整される領域)のサイズ(スケール)、形状などは多様に設定できるが、これについては図11ないし図19を参照して後述する。 In step S34, the base pattern is embedded in the original image to generate an intermediate image. Specifically, the embedding system 10 can embed the base pattern by adjusting pixel values of the original image based on an embedding rule corresponding to pixel values of the base pattern. At this time, the size (scale), shape, etc. of the embedding area of the base pattern (i.e., the area where the base pattern is embedded and the pixel values are adjusted) can be set in various ways, which will be described later with reference to Figures 11 to 19.

埋め込み規則は例えば所定の加重値(例,加重値パラメータの値)に基づいてイメージ(例,原イメージ)のピクセル値を調整するように定義されることができ、埋め込み規則それぞれはベースパターンのピクセル値と対応することができる。 The embedding rules can be defined, for example, to adjust pixel values of an image (e.g., an original image) based on predetermined weights (e.g., values of weight parameters), and each embedding rule can correspond to a pixel value of the base pattern.

例えば、下記の表2に記載された通り、埋め込み規則は加重値(「W1」)と特定値(「α」)に基づいてLab色空間のaチャネルとbチャネルの値を相反するように調整するように定義されることができる。ここで、加重値(「W1」)はピクセル値の調整強度を示す(制御する)値であり、特定値(「α」)は基本調整幅を表す値を意味する。 For example, as shown in Table 2 below, the embedding rule can be defined to adjust the values of the a and b channels of the Lab color space in a counter-intuitive manner based on a weight value ("W1") and a specific value ("α"). Here, the weight value ("W1") is a value that indicates (controls) the adjustment strength of the pixel value, and the specific value ("α") is a value that represents the basic adjustment range.

他の例としては、埋め込み規則は加重値(例,W1)に基づいてRGB色空間のR、GおよびBチャネルの値を調整するように定義されることもできる。 As another example, the embedding rule can be defined to adjust the values of the R, G and B channels of an RGB color space based on a weighting value (e.g., W1).

また他の例として、埋め込み規則は加重値(例,W1)に基づいてYCbCr色空間のY、CbおよびCrチャネルの値を調整するように定義されることもできる。 As another example, the embedding rule can be defined to adjust the values of the Y, Cb, and Cr channels of the YCbCr color space based on a weighting value (e.g., W1).

また他の例として、埋め込み規則は上述した例示と異なる方式で定義されることもでき、上述した例示の多様な組み合わせに基づいて定義されることもできる。 As another example, the embedding rules can be defined in a manner different from the examples given above, and can be defined based on various combinations of the examples given above.

以下では、本開示を明瞭にするために、特に言及がない限り、ベースパターンに適用される埋め込み規則と加重値をそれぞれ「第1埋め込み規則」と「第1加重値」と命名し、ペイロードパターンに適用される埋め込み規則と加重値をそれぞれ「第2埋め込み規則」と「第2加重値」と命名する。 In the following, for clarity of this disclosure, unless otherwise specified, the embedding rule and weighting value applied to the base pattern will be named the "first embedding rule" and the "first weighting value", respectively, and the embedding rule and weighting value applied to the payload pattern will be named the "second embedding rule" and the "second weighting value", respectively.

段階S35で、中間イメージにペイロードパターンを埋め込んでウォーターマークイメージが生成される。具体的には、埋め込みシステム10はペイロードパターンのピクセル値に対応する第2埋め込み規則に基づいて中間イメージのピクセル値を調整することによってペイロードパターンを埋め込むことができる。この時、ペイロードパターンの埋め込み領域(すなわち、ペイロードパターンが埋め込まれる領域であり、またピクセル値が調整される領域)のサイズ、形状なども多様に設定できるが、これについては図11ないし図19を参照して後述する。 In step S35, the payload pattern is embedded in the intermediate image to generate a watermark image. Specifically, the embedding system 10 can embed the payload pattern by adjusting pixel values of the intermediate image based on a second embedding rule corresponding to pixel values of the payload pattern. At this time, the size and shape of the embedding area of the payload pattern (i.e., the area where the payload pattern is embedded and the pixel values are adjusted) can be set in various ways, which will be described later with reference to Figures 11 to 19.

第2埋め込み規則は、例えば所定の第2加重値に基づいてイメージ(例,中間イメージ)のピクセル値を調整するように定義されることができ、第2埋め込み規則それぞれはペイロードパターンのピクセル値と対応し得る。第2埋め込み規則を第1埋め込み規則と類似の方式で定義できるが、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。 The second embedding rules can be defined, for example, to adjust pixel values of an image (e.g., an intermediate image) based on a second predetermined weight value, and each of the second embedding rules can correspond to a pixel value of the payload pattern. The second embedding rules can be defined in a similar manner to the first embedding rules, although the scope of the present disclosure is not limited in this respect.

ペイロードパターンを後に埋め込む理由は実際のデータ(すなわち、ペイロード)が内在するペイロードパターンをより正確に(すなわち、うまく抽出されるように)埋め込むためのであると理解されることができる。換言すれば、ベースパターンを後に埋め込む場合、ベースパターンの埋め込みによりペイロードパターンの埋め込み結果が弱くなり得るので、このような点を未然に防止するためであると理解されることができる。 The reason for embedding the payload pattern later can be understood to be to embed the payload pattern contained in the actual data (i.e., payload) more accurately (i.e., so that it can be extracted well). In other words, if the base pattern is embedded later, the embedding of the base pattern may weaken the embedding result of the payload pattern, so this can be understood to be to prevent this from happening.

また、ベースパターンとペイロードパターンを個別に埋め込む理由は各パターンが埋め込まれる領域のサイズ、形状、埋め込み加重値(例,第1加重値、第2加重値)などを自由に設定できるという利点があるからである。このような要素を適切に設定することによってウォーターマークの不可視性と抽出性能が共に向上できるが、これについては図9ないし図19の説明を参照する。 The reason for embedding the base pattern and payload pattern separately is that it has the advantage of allowing the size, shape, and embedding weights (e.g., first weight, second weight) of the area in which each pattern is embedded to be freely set. By appropriately setting these elements, both the invisibility and extraction performance of the watermark can be improved; for more information, see the explanations of Figures 9 to 19.

一方、第1加重値および/または第2加重値を決定する具体的な方式は実施形態によって変わり得る。 Meanwhile, the specific method for determining the first weight value and/or the second weight value may vary depending on the embodiment.

いくつかの実施形態では、第1加重値が第2加重値より小さい値を有するように設定されることができる。これはベースパターンはその特性上弱く埋め込まれてもうまく検出される点とウォーターマークの抽出性能が普通のペイロードパターンの検出正確度によって大きく左右される点を反映したものと理解されることができる。 In some embodiments, the first weighting value can be set to have a smaller value than the second weighting value. This can be understood to reflect the fact that the base pattern, by its nature, can be successfully detected even if it is weakly embedded, and that the extraction performance of the watermark is largely dependent on the detection accuracy of the normal payload pattern.

他のいくつかの実施形態では、図8に示すように、埋め込みシステム10が加重値パラメータの値を変更しながら中間イメージにペイロードパターンを埋め込んでペイロード(またはペイロードパターン)の抽出性能を評価することができる(S81)。そして、埋め込みシステム10が評価結果に基づいてペイロードパターンに適用される加重値(すなわち、第2加重値)を決定することができる(S82,S83参照)。たとえば、埋め込みシステム10は評価結果が最も優れた加重値パラメータの値を第2加重値として決定することができる。このような場合、中間イメージの特性を考慮してペイロードパターンの埋め込み強度が適切に決定することができ、その結果、ウォーターマークの不可視性と抽出性能が共に向上することができる。 In some other embodiments, as shown in FIG. 8, the embedding system 10 may embed a payload pattern in the intermediate image while changing the value of the weight parameter, and evaluate the extraction performance of the payload (or payload pattern) (S81). Then, the embedding system 10 may determine a weight (i.e., a second weight) to be applied to the payload pattern based on the evaluation result (see S82, S83). For example, the embedding system 10 may determine the value of the weight parameter that has the best evaluation result as the second weight. In such a case, the embedding strength of the payload pattern may be appropriately determined taking into account the characteristics of the intermediate image, and as a result, both the invisibility and extraction performance of the watermark may be improved.

場合によっては、埋め込みシステム10が第1加重値パラメータと第2加重値パラメータの値を変更しながら原イメージにベースパターンとペイロードパターンを埋め込んでペイロードの抽出性能を評価することによってパターンそれぞれに適用される第1加重値と第2加重値の値を決定することもできる。 In some cases, the embedding system 10 can determine the values of the first and second weights to be applied to each pattern by embedding the base pattern and payload pattern in the original image while varying the values of the first and second weight parameters and evaluating the payload extraction performance.

また他のいくつかの実施形態では、上述した実施形態の多様な組み合わせに基づいて第1加重値および/または第2加重値の値が決定されることもできる。 In some other embodiments, the values of the first weighting value and/or the second weighting value may be determined based on various combinations of the above-mentioned embodiments.

段階S35により生成されたウォーターマークイメージはデジタルイメージファイル形態で出力されることもでき、プリンティング装置により紙などのような多様なプリンティング媒体上にプリンティングされることもできる。また、ウォーターマークイメージは無断複製の防止、真偽判別、情報ラベリング(labelling)などのような多様な用途に用いることができる。 The watermark image generated by step S35 can be output in the form of a digital image file, or can be printed on various printing media such as paper by a printing device. In addition, the watermark image can be used for various purposes such as preventing unauthorized copying, authenticity determination, information labeling, etc.

これまで図3ないし図8を参照して本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法の全般的な流れと技術的原理について説明した。上述した内容によれば、ウォーターマークのベースパターンとペイロードパターンが個別に埋め込まれ得る。このような場合、ベースパターンとペイロードパターンに適用される加重値(すなわち、ピクセル値の調整強度を表す値)、埋め込み領域の形状などを自由に設計できるため、ウォーターマーク埋め込みアルゴリズムの設計自由度が大きく向上することができる。 So far, the general flow and technical principles of the watermark embedding method according to some embodiments of the present disclosure have been described with reference to Figures 3 to 8. According to the above, the base pattern and payload pattern of the watermark can be embedded separately. In this case, the weights (i.e., values representing the adjustment strength of pixel values) applied to the base pattern and payload pattern, the shape of the embedding area, etc. can be freely designed, which greatly improves the design freedom of the watermark embedding algorithm.

また、ベースパターンが先に埋め込まれ、後にペイロードパターンが埋め込まれ得る。このような場合、ベースパターンの埋め込みによりペイロードパターンの埋め込み結果が弱くなる場合を未然に防止できるので、ウォーターマークの抽出性能が向上することができる。さらに、ベースパターンの埋め込み結果(すなわち、中間イメージ)を考慮してペイロードパターンの埋め込みの有無、埋め込み強度(すなわち、ピクセル値の調整強度)などを調整することもできるようになり、その結果、ウォーターマークの不可視性と抽出性能(すなわち、認識率)が共に向上することもできる。 Also, the base pattern may be embedded first, followed by the payload pattern. In such a case, it is possible to prevent the embedding result of the payload pattern from being weakened by the embedding of the base pattern, thereby improving the extraction performance of the watermark. Furthermore, it is also possible to adjust whether or not to embed the payload pattern, the embedding strength (i.e., the adjustment strength of the pixel value), etc., taking into account the embedding result of the base pattern (i.e., the intermediate image), thereby improving both the invisibility and extraction performance (i.e., the recognition rate) of the watermark.

以下では、図9ないし図19を参照して上述したウォーターマーク埋め込み方法に適用できる多様なパターン埋め込み方式について説明する。後述する多様なパターン埋め込み方式は、例えばベースパターンおよび/またはペイロードパターンの埋め込み段階(例,S34,S35)に適用することができる。 Hereinafter, various pattern embedding methods that can be applied to the above-mentioned watermark embedding method will be described with reference to Figures 9 to 19. The various pattern embedding methods described below can be applied, for example, to the base pattern and/or payload pattern embedding steps (e.g., S34, S35).

図9は本開示のいくつかの実施形態によるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。 Figure 9 is an exemplary diagram illustrating a pattern embedding method according to some embodiments of the present disclosure.

本実施形態はイメージ領域の周波数の特性によって加重値を調整し、パターン(例,ベースパターン、ペイロードパターン)を埋め込む方式に関するものである。以下では、図9に図示のように、中間イメージ91にペイロードパターンを埋め込む場合を仮定して引き続き説明する。 This embodiment relates to a method of adjusting weights according to the frequency characteristics of the image area and embedding a pattern (e.g., base pattern, payload pattern). In the following, we will continue the explanation assuming that the payload pattern is embedded in the intermediate image 91 as shown in Figure 9.

具体的には、埋め込みシステム10は中間イメージ91の領域を周波数を基準として区分することができる。たとえば、埋め込みシステム10は中間イメージ91の領域を高周波数領域(例,92)と低周波数領域(例,93)に区分することもでき、さらに細分化された基準により区分することもできる。埋め込みシステム10はピクセル単位またはより大きい単位でこのような区分を行うことができる。ただし、領域を区分する具体的な方式は実施形態によって変わり得る。 Specifically, the embedding system 10 may divide the regions of the intermediate image 91 based on frequency. For example, the embedding system 10 may divide the regions of the intermediate image 91 into a high frequency region (e.g., 92) and a low frequency region (e.g., 93), or may divide the regions based on more specific criteria. The embedding system 10 may perform such division on a pixel basis or on a larger basis. However, the specific manner in which the regions are divided may vary depending on the embodiment.

いくつかの実施形態では、埋め込みシステム10がピクセル値の変化程度に基づいて中間イメージ91の領域を区分することができる。たとえば、埋め込みシステム10は中間イメージ91でピクセル値の変化程度が基準値以上の領域を高周波数領域として区分し、基準値未満の領域を低周波数領域として区分することができる。または、埋め込みシステム10はピクセル値の変化程度に応じて中間イメージ91の領域をさらに細分化して区分することもできる。 In some embodiments, the embedding system 10 may classify regions of the intermediate image 91 based on the degree of change in pixel values. For example, the embedding system 10 may classify regions of the intermediate image 91 where the degree of change in pixel values is equal to or greater than a reference value as high frequency regions, and regions where the degree of change in pixel values is less than the reference value as low frequency regions. Alternatively, the embedding system 10 may further subdivide and classify the regions of the intermediate image 91 according to the degree of change in pixel values.

他のいくつかの実施形態では、埋め込みシステム10が境界線検出結果に基づいて中間イメージ91の領域を区分することができる。たとえば、埋め込みシステム10は境界線検出フィルタなどを用いて中間イメージ91で境界線を検出することができる。そして、埋め込みシステム10は境界線が検出された領域(例,92)を高周波数領域として区分し、残りの領域(例,93)を低周波数領域として区分することができる(なぜなら、境界線が検出された領域がピクセル値が急変する領域であるからである)。または、埋め込みシステム10は境界線の検出強度に応じて中間イメージ91の領域をさらに細分化して区分することもできる。 In some other embodiments, the embedding system 10 can classify the regions of the intermediate image 91 based on the border detection results. For example, the embedding system 10 can detect borders in the intermediate image 91 using a border detection filter or the like. The embedding system 10 can then classify the regions where the borders are detected (e.g., 92) as high frequency regions and the remaining regions (e.g., 93) as low frequency regions (because the regions where the borders are detected are regions where the pixel values change abruptly). Alternatively, the embedding system 10 can further subdivide and classify the regions of the intermediate image 91 depending on the strength of the border detection.

また他のいくつかの実施形態では、埋め込みシステム10がフーリエ変換により中間イメージ91の領域を区分することもできる。たとえば、埋め込みシステム10は中間イメージ91の領域それぞれに対してフーリエ変換を行い、領域別の周波数特性を分析し、分析結果に基づいて中間イメージ91の領域を区分することができる。 In some other embodiments, the embedding system 10 may also divide the regions of the intermediate image 91 using a Fourier transform. For example, the embedding system 10 may perform a Fourier transform on each region of the intermediate image 91, analyze the frequency characteristics of each region, and divide the regions of the intermediate image 91 based on the analysis results.

また他のいくつかの実施形態では、上述した実施形態の多様な組み合わせに基づいて中間イメージ91の領域を区分することもできる。 In some other embodiments, the regions of the intermediate image 91 may be divided based on various combinations of the above-mentioned embodiments.

次に、埋め込みシステム10は領域区分結果に基づいて加重値(すなわち、第2加重値)を調整してペイロードパターンを埋め込む。たとえば、埋め込みシステム10は高周波数領域に対しては第2加重値を増加(すなわち、上方調整)させて低周波数領域に対しては第2加重値を減少(すなわち、下方調整)させることができる。このようにすることによって、ペイロードパターンが効果的に埋め込まれると同時にウォーターマークの不可視性が向上することができる(なぜなら、低周波数領域にペイロードパターンが弱く埋め込まれるからである)。場合によって、第2加重値の増加幅(または、減少幅)は該当領域の周波数が高いほど(または低いほど)より大きく決定されることもできる。 Next, the embedding system 10 embeds the payload pattern by adjusting the weight (i.e., the second weight) based on the region division result. For example, the embedding system 10 may increase (i.e., adjust upward) the second weight for the high frequency region and decrease (i.e., adjust downward) the second weight for the low frequency region. In this way, the payload pattern can be effectively embedded while improving the invisibility of the watermark (because the payload pattern is weakly embedded in the low frequency region). In some cases, the increase (or decrease) of the second weight may be determined to be greater the higher (or lower) the frequency of the corresponding region.

より具体的な例として、中間イメージ91の第1領域92と第2領域93がそれぞれ高周波数領域と低周波数領域に該当し、第1領域92にペイロードパターンの第1ブロックが埋め込まれ第2領域93にペイロードパターンの第2ブロックが埋め込まれると仮定する。このような場合、埋め込みシステム10は中間イメージ91の第2領域93よりも大きい加重値に基づいてペイロードパターンの第1ブロックを第1領域92に埋め込むことができる。また、埋め込みシステム10は中間イメージ91の第1領域92よりも小さい加重値に基づいてペイロードパターンの第2ブロックを第2領域93に埋め込むことができる。 As a more specific example, assume that the first region 92 and the second region 93 of the intermediate image 91 correspond to a high frequency region and a low frequency region, respectively, and that the first block of the payload pattern is embedded in the first region 92 and the second block of the payload pattern is embedded in the second region 93. In this case, the embedding system 10 can embed the first block of the payload pattern in the first region 92 based on a weight value greater than that in the second region 93 of the intermediate image 91. Also, the embedding system 10 can embed the second block of the payload pattern in the second region 93 based on a weight value less than that in the first region 92 of the intermediate image 91.

これまで図9を参照して本開示のいくつかの実施形態によるパターン埋め込み方式について説明した。上述した内容によれば、イメージの領域別の周波数の特性に基づいてパターン(例,ベースパターン、ペイロードパターン)の埋め込み加重値を調整することによって、ウォーターマークの不可視性と抽出性能が共に向上することができる。もちろん、原イメージの品質低下も最小化することができる。 So far, a pattern embedding method according to some embodiments of the present disclosure has been described with reference to FIG. 9. According to the above, by adjusting the embedding weights of the patterns (e.g., base pattern, payload pattern) based on the frequency characteristics of each region of the image, both the invisibility and extraction performance of the watermark can be improved. Of course, the quality degradation of the original image can also be minimized.

以下では、図10を参照して本開示の他のいくつかの実施形態によるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。 Below, referring to FIG. 10, an exemplary diagram is provided to explain a pattern embedding method according to some other embodiments of the present disclosure.

本実施形態はイメージ領域(例,102)のピクセル値に基づいてパターンの埋め込みの有無、埋め込みの強度などを制御しながら埋め込みを行う方式に関するものである。以下では、図10に図示のように、中間イメージ101の特定単位領域102に特定単位パターン104を埋め込む場合を仮定して引き続き説明する。図10などの図面で単位領域(例,102)は単位パターン(例,104)に対応するイメージ領域を意味し、以下の説明でも「単位領域」を同じ意味で使用する。単位領域(例,102)は場合によって「単位ブロック」などのように命名されることもできる。 This embodiment relates to a method of embedding a pattern while controlling whether to embed the pattern and the embedding strength based on the pixel values of the image area (e.g., 102). In the following, the description will continue assuming that a specific unit pattern 104 is embedded in a specific unit area 102 of an intermediate image 101 as shown in FIG. 10. In drawings such as FIG. 10, the unit area (e.g., 102) means an image area corresponding to a unit pattern (e.g., 104), and the term "unit area" will be used in the following description with the same meaning. The unit area (e.g., 102) may also be named a "unit block" or the like in some cases.

具体的には、埋め込みシステム10は中間イメージ101の単位領域102のピクセル値(103を参照)から単位パターン(104,すなわち、該当単位領域102に埋め込まれる単位パターン)の抽出(検出)が可能か否か(すなわち、ペイロードパターンが既に反映されているかどうか)を判断することができる。たとえば、埋め込みシステム10は単位領域102のピクセル値(103を参照)を用いて埋め込み規則を逆に演算する場合、単位パターン104が抽出されるか否かを判断することができる。 Specifically, the embedding system 10 can determine whether it is possible to extract (detect) a unit pattern (104, i.e., a unit pattern to be embedded in the corresponding unit area 102) from the pixel values (see 103) of the unit area 102 of the intermediate image 101 (i.e., whether the payload pattern is already reflected). For example, when the embedding system 10 inversely calculates the embedding rule using the pixel values (see 103) of the unit area 102, it can determine whether the unit pattern 104 is extracted.

次に、埋め込みシステム10は単位パターン104が抽出可能であるという判断に基づいて単位パターン104の埋め込み過程をスキップ(skip)することができる。または、埋め込みシステム10はペイロードパターンに設定された加重値(すなわち、第2加重値)より小さい加重値に基づいて単位パターン104を埋め込むことができる。このような過程は中間イメージ101を構成する他の単位領域に対しても繰り返して行われることができる。このようにすることによって、ウォーターマークの不可視性は向上し、原イメージの品質低下を最小化することができる。 Next, the embedding system 10 may skip the embedding process of the unit pattern 104 based on the determination that the unit pattern 104 can be extracted. Alternatively, the embedding system 10 may embed the unit pattern 104 based on a weight value smaller than the weight value (i.e., the second weight value) set in the payload pattern. This process may be repeated for other unit areas constituting the intermediate image 101. In this way, the invisibility of the watermark may be improved and degradation of the quality of the original image may be minimized.

これまで図10を参照して本開示の他のいくつかの実施形態によるパターン埋め込み方式について説明した。以下では、図11ないし図19を参照してスケール(scale)と埋め込み領域の形状と関連するパターン埋め込み方式について説明する。 So far, the pattern embedding method according to some other embodiments of the present disclosure has been described with reference to FIG. 10. Hereinafter, the pattern embedding method related to the scale and the shape of the embedding area will be described with reference to FIGS. 11 to 19.

先に、理解を容易にするために、図11および図12を参照してスケールの概念について先に説明する。 First, to facilitate understanding, we will explain the concept of scale with reference to Figures 11 and 12.

図11に図示のように、スケールはパターン(例,ベースパターン、ペイロードパターン)のサイズ(解像度)を意味する。たとえば、スケールパラメータの値が「2」に設定された場合、「2×2」単位パターン111のサイズは「4×4」にアップスケールされることができる(112を参照)。このようなアップスケールはピクセル値を複製する方式(図11を参照)で行われることもでき、他の方式で行われることもできる。ただし、以下では、理解の便宜のために、ピクセル値の複製方式でアップスケールが行われることを仮定して引き続き説明する。また、図11および図12に係る説明では、アップスケールの前と後の単位パターン111,112を区分して指称するために単位パターン111を「第1単位パターン111」と指称し、アップスケールされた単位パターン112を「第2単位パターン112」
と指称する。
As shown in FIG. 11, scale refers to the size (resolution) of a pattern (e.g., base pattern, payload pattern). For example, if the value of the scale parameter is set to '2', the size of a '2x2' unit pattern 111 can be upscaled to '4x4' (see 112). Such upscaling can be performed by duplicating pixel values (see FIG. 11) or by other methods. However, for ease of understanding, the following description will continue on the assumption that upscaling is performed by duplicating pixel values. Also, in the description of FIG. 11 and FIG. 12, in order to distinguish between unit patterns 111 and 112 before and after upscaling, unit pattern 111 will be referred to as a 'first unit pattern 111' and upscaled unit pattern 112 will be referred to as a 'second unit pattern 112'.
It is referred to as:

図12に図示のように、第1単位パターン111がアップスケールされることによって単位領域122のサイズもそれに合わせて大きくなることができる。たとえば、中間イメージ121上で第1単位パターン111に対応する単位領域122のサイズが「2×2」であれば、第2単位パターン112に対応する単位領域123のサイズは「4×4」となる。 As shown in FIG. 12, by upscaling the first unit pattern 111, the size of the unit area 122 can be increased accordingly. For example, if the size of the unit area 122 corresponding to the first unit pattern 111 on the intermediate image 121 is "2x2", the size of the unit area 123 corresponding to the second unit pattern 112 will be "4x4".

一方、スケールパラメータの値はあらかじめ設定された固定値であり得、状況によって変動する値でもあり得る。たとえば、スケールパラメータの値は原イメージの大きさ(または解像度)に基づいて決定される変動値であり得る。具体的には、原イメージのサイズが大きくなるほどスケールパラメータの値も増加し得る。これは原イメージのサイズが大きいほどウォーターマークイメージをより遠い距離で撮影する可能性が高いという点を反映したものと理解されることができる。すなわち、ウォーターマークイメージが遠い距離で撮影された場合にもウォーターマークが正確に抽出されるように、単位パターンのサイズを増加させるものと理解されることができる。他の例としては、スケールパラメータの値は原イメージの大きさと関係なく事前に固定された値に設定されることもできる。 Meanwhile, the value of the scale parameter may be a preset fixed value or may be a variable value depending on the situation. For example, the value of the scale parameter may be a variable value determined based on the size (or resolution) of the original image. Specifically, the value of the scale parameter may increase as the size of the original image increases. This may be understood as reflecting the fact that the larger the size of the original image, the more likely it is that the watermark image will be photographed from a farther distance. In other words, it may be understood as increasing the size of the unit pattern so that the watermark can be accurately extracted even when the watermark image is photographed from a far distance. As another example, the value of the scale parameter may be set to a fixed value in advance regardless of the size of the original image.

以下では、図13ないし図19を参照して埋め込み領域の形状と関連する多様なパターン埋め込み方式について説明する。 Below, we will explain various pattern embedding methods related to the shape of the embedding area with reference to Figures 13 to 19.

以下では、理解の便宜のために、スケールパラメータの値が「4」に設定された場合(例,単位パターンのサイズが「8×8」であり、ベースパターンとペイロードパターンのサイズが「512×512」である場合)を仮定して引き続き説明する。ただし、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。 For ease of understanding, the following description will continue assuming that the value of the scale parameter is set to "4" (e.g., the size of the unit pattern is "8 x 8" and the size of the base pattern and payload pattern is "512 x 512"). However, the scope of this disclosure is not limited to this.

図13は本開示のいくつかの実施形態による埋め込み領域の形状とそれによるパターン埋め込み方式を説明するための例示的な図である。 Figure 13 is an exemplary diagram illustrating the shape of the embedding region and the pattern embedding method according to some embodiments of the present disclosure.

図13に図示のように、本実施形態はイメージ(131,例,原イメージ、中間イメージ)の単位領域(例,132)の中央部分(例,133)にベースパターンとペイロードパターン(134を参照)を共に埋め込む方式に関するものである。ここで、パターン(例,ベースパターン、ペイロードパターン)を中央部分(例,133)に埋め込むとは、パターン全体でなく中央部分(例,133)に対応するパターン(例,134)の一部分(例,135)を中央部分(例,133)に埋め込むことを意味する。 As shown in FIG. 13, this embodiment relates to a method of embedding both a base pattern and a payload pattern (see 134) in the central part (e.g., 133) of a unit area (e.g., 132) of an image (131, e.g., original image, intermediate image). Here, embedding a pattern (e.g., base pattern, payload pattern) in the central part (e.g., 133) means embedding a portion (e.g., 135) of a pattern (e.g., 134) corresponding to the central part (e.g., 133) in the central part (e.g., 133), rather than the entire pattern.

具体的には、埋め込みシステム10は単位パターン(134,すなわちアップスケールされた単位パターン)の一部分(135,例,中央部分)を抽出して単位領域132の中央部分133に埋め込むことができる。たとえば、埋め込みシステム10は単位パターン134の中央ブロック135のピクセル値を抽出して単位領域132の中央部分133に埋め込むことができる。ここで、中央ブロック135のピクセル値を抽出して中央部分133に埋め込むとは、中央ブロック135のピクセル値に対応する埋め込み規則に基づいて中央部分133のピクセル値を調整することを意味する。ペイロードパターンを構成する他の単位パターンもこれと類似の方式で埋め込むことができ、ベースパターンもこれと類似の方式で埋め込むことができる。 Specifically, the embedding system 10 can extract a portion (135, e.g., a central portion) of the unit pattern (134, i.e., the upscaled unit pattern) and embed it in the central portion 133 of the unit area 132. For example, the embedding system 10 can extract pixel values of a central block 135 of the unit pattern 134 and embed it in the central portion 133 of the unit area 132. Here, extracting pixel values of the central block 135 and embedding them in the central portion 133 means adjusting the pixel values of the central portion 133 based on an embedding rule corresponding to the pixel values of the central block 135. Other unit patterns constituting the payload pattern can also be embedded in a similar manner, and the base pattern can also be embedded in a similar manner.

または、図14に図示のように、埋め込みシステム10は単位パターン134を構成する複数のブロックそれぞれの一部分(141~144,例,中央部分)を抽出して単位領域132の中央部分133に埋め込むこともできる。ベースパターンもこれと同様の方式で埋め込むことができる。 Alternatively, as shown in FIG. 14, the embedding system 10 can extract a portion (141-144, e.g., the central portion) of each of the multiple blocks that make up the unit pattern 134 and embed it in the central portion 133 of the unit area 132. The base pattern can also be embedded in a similar manner.

パターン(例,ベースパターン、ペイロードパターン)を単位領域132の中央部分133に埋め込む理由はウォーターマークの抽出性能を向上させるためのものと理解されることができる。説明を加えると、ウォーターマークの抽出時にウォーターマークイメージがリサイジング(例,縮小)される場合が多いが、多くのリサイジング技法は各領域の中央部分のピクセル値を中心に補間を行う。したがって、中央部分(例,133)のピクセル値の特性が保存される可能性が外郭部分に比べてはるかに高く、このような理由から中央部分(例,133)にパターンを埋め込めばウォーターマークの抽出性能が向上すると理解されることができる。 The reason for embedding a pattern (e.g., base pattern, payload pattern) in the central portion 133 of the unit region 132 can be understood to be to improve the extraction performance of the watermark. To explain further, when extracting a watermark, the watermark image is often resized (e.g., reduced), and many resizing techniques perform interpolation around pixel values in the central portion of each region. Therefore, the characteristics of the pixel values in the central portion (e.g., 133) are much more likely to be preserved than in the outer portions, and for this reason, it can be understood that embedding a pattern in the central portion (e.g., 133) improves the extraction performance of the watermark.

一方、場合によっては、ウォーターマークの抽出性能をより向上させるためにペイロードパターン(例,134)がベースパターンよりもに強く埋め込まれ得る(例,第2加重値が第1加重値より大きい値に設定される場合)。これについては上述した説明を参照する。 On the other hand, in some cases, the payload pattern (e.g., 134) may be embedded more strongly than the base pattern (e.g., the second weighting value is set to a value greater than the first weighting value) to further improve the extraction performance of the watermark. See the above description for more information.

以下では、図15を参照して本開示の他のいくつかの実施形態による埋め込み領域の形状とそれによるパターン埋め込み方式について説明する。ただし、本開示を明瞭にするために、上記の実施形態と重複する説明は省略する。 Below, the shapes of the embedding regions and the pattern embedding methods using the embedding regions according to some other embodiments of the present disclosure will be described with reference to FIG. 15. However, to clarify the present disclosure, descriptions that overlap with the above embodiments will be omitted.

図15に図示のように、本実施形態はイメージ(151,例,原イメージ、中間イメージ)の単位領域(例,152)を構成する複数のサブ領域(例,153)の中央部分(例,154)にベースパターンとペイロードパターン(155参照)を共に埋め込む方式に関するものである。 As shown in FIG. 15, this embodiment relates to a method of embedding both a base pattern and a payload pattern (see 155) in the central portion (e.g., 154) of a plurality of sub-areas (e.g., 153) constituting a unit area (e.g., 152) of an image (151, e.g., original image, intermediate image).

具体的には、埋め込みシステム10は単位パターン155を構成するブロックの一部分(156~159,例,中央部分)を抽出して対応するサブ領域(例,153)の中央部分(例,154)に埋め込むことができる。たとえば、埋め込みシステム10は左上側ブロックの中央部分(156,例,「2×2」ブロック)を抽出して左上側サブ領域153の中央部分(154,例,「2×2」領域)に埋め込むことができる。ペイロードパターンを構成する他の単位パターンもこれと同様の方式で埋め込むことができ、ベースパターンもこれと同様の方式で埋め込むことができる(例,左上側ブロック156に対応するスケーリングされたベースパターンのブロックの一部分も中央部分154に埋め込まれる)。このような場合にも、上述した理由によってウォーターマークの抽出性能が向上することができる。 Specifically, the embedding system 10 can extract a portion (156-159, e.g., the central portion) of the block constituting the unit pattern 155 and embed it in the central portion (e.g., 154) of the corresponding sub-region (e.g., 153). For example, the embedding system 10 can extract the central portion (156, e.g., the "2x2" block) of the upper left block and embed it in the central portion (154, e.g., the "2x2" region) of the upper left sub-region 153. Other unit patterns constituting the payload pattern can be embedded in a similar manner, and the base pattern can also be embedded in a similar manner (e.g., a portion of the block of the scaled base pattern corresponding to the upper left block 156 is also embedded in the central portion 154). In such cases, the watermark extraction performance can be improved for the reasons described above.

以下では、図16ないし図18を参照して本開示のまた他のいくつかの実施形態による埋め込み領域の形状とそれによるパターン埋め込み方式について説明する。図16ないし図18に示すイメージ領域161,171,181は単位領域(例,152)またはサブ領域(例,153)を意味する。 Hereinafter, the shape of the embedding area and the pattern embedding method according to the other embodiments of the present disclosure will be described with reference to FIGS. 16 to 18. The image areas 161, 171, and 181 shown in FIGS. 16 to 18 refer to unit areas (e.g., 152) or subareas (e.g., 153).

図16に図示のように、埋め込みシステム10はイメージ領域161の外郭部分162にベースパターン(すなわち、外郭部分162に対応するベースパターンの一部分)を埋め込んでイメージ領域161の中央部分163にペイロードパターン(すなわち、中央部分163に対応するペイロードパターンの一部分)を埋め込むことができる(例,スケーリングされた単位パターンの第1ブロックを中央部分163に埋め込んで第1ブロックに対応するスケーリングされたベースパターンの第2ブロックを外郭部分162に埋め込む場合)。この時、外郭部分162は中央部分163と重ならないように設定することができる。このような場合、ウォーターマークの抽出性能とウォーターマークの不可視性が共に向上できるが、これについては図19の説明を参照する。 As shown in FIG. 16, the embedding system 10 can embed a base pattern (i.e., a portion of the base pattern corresponding to the outer portion 162) in an outer portion 162 of an image area 161 and embed a payload pattern (i.e., a portion of the payload pattern corresponding to the central portion 163) in a central portion 163 of the image area 161 (e.g., embedding a first block of a scaled unit pattern in the central portion 163 and embedding a second block of a scaled base pattern corresponding to the first block in the outer portion 162). In this case, the outer portion 162 can be set so as not to overlap with the central portion 163. In this case, both the extraction performance of the watermark and the invisibility of the watermark can be improved; for more information, see the description of FIG. 19.

または、図17に図示のように、埋め込みシステム10がイメージ領域171の全体にベースパターンを埋め込んでイメージ領域171の中央部分172にペイロードパターンを埋め込むことができる(例,スケーリングされた単位パターンの第1ブロックを中央部分172に埋め込んで第1ブロックに対応するスケーリングされたベースパターンの第2ブロックを領域171全体に埋め込む場合)。このような場合にも、上述した理由によってウォーターマークの抽出性能が向上することができる。 Alternatively, as shown in FIG. 17, the embedding system 10 can embed the base pattern throughout the image region 171 and embed the payload pattern in a central portion 172 of the image region 171 (e.g., embedding a first block of the scaled unit pattern in the central portion 172 and embedding a second block of the scaled base pattern corresponding to the first block throughout the region 171). In such a case, the watermark extraction performance can be improved for the reasons described above.

場合によっては、図18に図示のように、埋め込みシステム10がイメージ領域181の全体にベースパターンとペイロードパターンを共に埋め込むこともできる。 In some cases, the embedding system 10 may embed both the base pattern and the payload pattern throughout the entire image area 181, as shown in FIG. 18.

図19は埋め込み領域の形状と関連する多様な埋め込み方式の効果を説明するための例示的な図である。図19は原イメージ191の特定単位領域192の左上側サブ領域193に三つの方式でベースパターンとペイロードパターンを埋め込んだ結果(195~197)を比較して示している。具体的には、図19において、最左側のピクセル値(194,例,特定チャネルのピクセル値)はサブ領域193のピクセル値を示し、他のピクセル値(195~197)はそれぞれ図18、図15、図17(または図16で例示した形状のペイロードパターンを強く埋め込む場合)に例示した方式で生成されたウォーターマークイメージ(以下、「イメージ1」、「イメージ2」、「イメージ3」と略称する)のピクセル値を示す。図19はベースパターンとペイロードパターンの埋め込み規則がピクセル値を「6」だけ増加させるように定義された場合を仮定している。 Figure 19 is an exemplary diagram for explaining the effect of various embedding methods in relation to the shape of the embedding area. Figure 19 shows a comparison of the results (195-197) of embedding a base pattern and a payload pattern in three methods in the upper left sub-area 193 of a specific unit area 192 of an original image 191. Specifically, in Figure 19, the leftmost pixel value (194, e.g., pixel value of a specific channel) indicates the pixel value of the sub-area 193, and the other pixel values (195-197) indicate the pixel values of the watermark images (hereinafter abbreviated as "Image 1", "Image 2", and "Image 3") generated by the methods exemplified in Figures 18, 15, and 17 (or when the payload pattern of the shape exemplified in Figure 16 is strongly embedded). Figure 19 assumes that the embedding rule for the base pattern and the payload pattern is defined to increase the pixel value by "6".

図19を参照すると、「イメージ3」の場合、外郭部分のピクセル値(例,「134」)と中央部分のピクセル値(例,「140」)の差異が「イメージ2」に比べて相対的に小さいことを確認することができる。これにより「イメージ3」が相対的に原イメージ191に近い品質を有しており、ウォーターマークの不可視性も優れることが分かる。 Referring to FIG. 19, it can be seen that in the case of "Image 3," the difference between the pixel values of the outer portion (e.g., "134") and the pixel values of the center portion (e.g., "140") is relatively smaller than in "Image 2." This shows that "Image 3" has quality relatively close to the original image 191, and that the invisibility of the watermark is also excellent.

また、「イメージ3」の場合、中央部分のピクセル値(例,「140」)がペイロードパターンをよく示しているので、ウォーターマークの抽出性能も非常に優れることが分かる。 In addition, in the case of "Image 3," the pixel value in the center (e.g., "140") clearly indicates the payload pattern, so the watermark extraction performance is also very good.

結論的に、サブ領域(例,193)の全体または外郭部分にベースパターンを埋め込んで中央部分にペイロードパターンを埋め込めば、原イメージ191の品質低下が最小化され、ウォーターマークの不可視性と抽出性能は向上することが分かる。 In conclusion, by embedding a base pattern in the entire or outer portion of a sub-region (e.g., 193) and embedding a payload pattern in the center portion, the degradation in quality of the original image 191 is minimized and the invisibility and extraction performance of the watermark are improved.

これまで図3ないし図19を参照して本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法について説明した。以下では、図20を参照して本開示の他のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法について説明する。ただし、本開示を明瞭にするために、上記の実施形態と重複する説明は省略する。 So far, the watermark embedding method according to some embodiments of the present disclosure has been described with reference to Figs. 3 to 19. Below, the watermark embedding method according to some other embodiments of the present disclosure will be described with reference to Fig. 20. However, in order to clarify the present disclosure, the description that overlaps with the above embodiments will be omitted.

図20は本開示の他のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法を示す例示的なフローチャートである。ただし、これは本開示の目的を達成するための好ましい実施形態であり、必要に応じて一部の段階が追加または削除され得るのはもちろんである。 Figure 20 is an exemplary flowchart showing a watermark embedding method according to some other embodiments of the present disclosure. However, this is a preferred embodiment for achieving the objectives of the present disclosure, and it goes without saying that some steps may be added or removed as necessary.

図20に図示のように、本実施形態はベースパターンとペイロードパターンを順序に関係なく埋め込む方法に関するものである。 As shown in FIG. 20, this embodiment relates to a method for embedding base patterns and payload patterns in any order.

本実施形態も同期化信号が内在する周波数スペクトルを用いてウォーターマークのベースパターンを生成する段階S201から始まる。これについては上述した段階S31の説明を参照する。 This embodiment also starts with step S201, in which a base pattern for the watermark is generated using the frequency spectrum in which the synchronization signal resides. For this, please refer to the explanation of step S31 above.

段階S202で、原イメージとペイロードが取得される。これについては上述した段階S32の説明を参照する。 In step S202, the original image and payload are obtained. See the explanation of step S32 above.

段階S203で、ウォーターマークのペイロードパターンが生成される。これについては上述した段階S33の説明を参照する。 In step S203, a watermark payload pattern is generated. See the description of step S33 above.

段階S204で、原イメージの第1領域にベースパターンが埋め込まれ、第2領域にペイロードパターンが埋め込まれる。たとえば、埋め込みシステム10は第1加重値に基づいて原イメージの第1領域にベースパターンを埋め込み、第2加重値に基づいて原イメージの第2領域にペイロードパターンを埋め込むことができる。この時、第1加重値は第2加重値より小さい値を有するように設定できるが、本開示の範囲はこれに限定されるものではない。 In step S204, a base pattern is embedded in a first region of the original image, and a payload pattern is embedded in a second region. For example, the embedding system 10 may embed a base pattern in a first region of the original image based on a first weight value, and embed a payload pattern in a second region of the original image based on a second weight value. In this case, the first weight value may be set to have a value smaller than the second weight value, but the scope of the present disclosure is not limited thereto.

いくつかの実施形態では、第1領域の形状が第2領域と異なるように設定されることができる。たとえば、図16または図17に例示したように、原イメージの単位領域(またはサブ領域)でベースパターンが埋め込まれる領域の形状はペイロードパターンが埋め込まれる領域の形状と異なってもよい。 In some embodiments, the shape of the first region may be set to be different from the shape of the second region. For example, as illustrated in FIG. 16 or FIG. 17, the shape of the region in which the base pattern is embedded in a unit region (or subregion) of the original image may be different from the shape of the region in which the payload pattern is embedded.

また、いくつかの実施形態では、第1領域と第2領域が互いに重ならないように設定されることができる。たとえば、図16に例示したように、原イメージの単位領域(またはサブ領域)の外郭部分にベースパターンが埋め込まれ、中央部分にペイロードパターンが埋め込まれ、中央部分と外郭部分が互いに重ならないように設定されることができる。より具体的な例としては、埋め込みシステム10はスケールパラメータの値に基づいてベースパターンとペイロードパターンそれぞれをスケーリング(すなわち、アップスケール)することができる。次に、埋め込みシステム10はスケーリングされた単位パターン(すなわち、スケーリングされたペイロードパターンを構成する単位パターン)を構成する複数のブロックそれぞれの一部分を抽出して原イメージのサブ領域の中央部分に埋め込むことができる(すなわち、サブ領域別に中央部分は第2領域に属する)。また、埋め込みシステム10は複数のブロックに対応するベースパターンのブロックそれぞれの一部分を抽出して該当サブ領域の外郭部分に埋め込むことができる(すなわち、サブ領域別に外郭部分は第1領域に属する)。これについては、図15および図17などの説明をさらに参照する。 In addition, in some embodiments, the first region and the second region may be set so as not to overlap each other. For example, as illustrated in FIG. 16, the base pattern may be embedded in the outer portion of the unit region (or sub-region) of the original image, and the payload pattern may be embedded in the center portion, so that the center portion and the outer portion do not overlap each other. As a more specific example, the embedding system 10 may scale (i.e., upscale) each of the base pattern and the payload pattern based on the value of the scale parameter. Next, the embedding system 10 may extract a portion of each of the plurality of blocks constituting the scaled unit pattern (i.e., the unit pattern constituting the scaled payload pattern) and embed it in the center portion of the sub-region of the original image (i.e., the center portion of each sub-region belongs to the second region). Also, the embedding system 10 may extract a portion of each of the blocks of the base pattern corresponding to the plurality of blocks and embed it in the outer portion of the corresponding sub-region (i.e., the outer portion of each sub-region belongs to the first region). For more information, please refer to the description of FIG. 15 and FIG. 17.

一方、第1領域と第2領域の間に重畳領域が存在する場合は、埋め込みシステム10は原イメージの第1領域にベースパターンを先に埋め込んだ後に第2領域にペイロードパターンを埋め込むことができる。このような方式は図3を参照して説明したウォーターマーク埋め込み方法と実質的に同一または類似すると理解されることができる。 On the other hand, if there is an overlapping area between the first and second regions, the embedding system 10 may first embed the base pattern in the first region of the original image and then embed the payload pattern in the second region. This method may be considered to be substantially the same as or similar to the watermark embedding method described with reference to FIG. 3.

これまで図21を参照して本開示の他のいくつかの実施形態によるウォーターマーク埋め込み方法について説明した。以下では、上述した内容に従って埋め込まれたウォーターマークを抽出する方法について説明する。 So far, a method for embedding a watermark according to some other embodiments of the present disclosure has been described with reference to FIG. 21. In the following, a method for extracting a watermark embedded according to the above content will be described.

以下では、理解を容易にするために、後述するウォーターマーク埋め込み方法のすべての段階/動作が上述した抽出システム11で行われることを仮定して引き続き説明する。したがって、特定の段階/動作の主体が省略された場合、抽出システム11で行われるものと理解されることができる。ただし、実際の環境では後述する方法の一部の段階/動作が別のコンピューティング装置で行われることもできる。 For ease of understanding, the following description will continue on the assumption that all steps/operations of the watermark embedding method described below are performed in the extraction system 11 described above. Therefore, if the subject of a particular step/operation is omitted, it can be understood that it is performed in the extraction system 11. However, in an actual environment, some steps/operations of the method described below may be performed in a separate computing device.

図21は本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマークの抽出方法を示す例示的なフローチャートである。ただし、これは本開示の目的を達成するための好ましい実施形態であり、必要に応じて一部の段階が追加または削除され得るのはもちろんである。 Figure 21 is an exemplary flowchart showing a method for extracting a watermark according to some embodiments of the present disclosure. However, this is a preferred embodiment for achieving the objectives of the present disclosure, and it is understood that some steps may be added or removed as necessary.

図21に図示のように、実施形態によるウォーターマークの抽出方法は撮影イメージを取得する段階S211から始まる。たとえば、抽出システム11は内蔵された撮影モジュールによりイメージ(すなわち、ウォーターマーク抽出対象イメージ)を撮影することもでき、外部装置から撮影イメージを受信することもできる。 As shown in FIG. 21, the watermark extraction method according to the embodiment starts with step S211 of acquiring a captured image. For example, the extraction system 11 can capture an image (i.e., an image from which a watermark is to be extracted) using a built-in capture module, or can receive a captured image from an external device.

段階S212で、ベースパターンの検出有無が判断される。すなわち、撮影イメージにウォーターマークの存在有無が判断されることができる。たとえば、抽出システム11はベースパターンを検出するために撮影イメージで複数の領域(例,「256×256」、「512×512」のイメージ領域など)を抽出し、該当領域それぞれに対して図22に示す動作/段階を行うことによってベースパターンを検出することができる。複数の領域の間には重畳領域が存在し得る。図22はベースパターンが2Dマグニチュードスペクトルから生成された場合を仮定している。以下、図22を参照して説明する。 In step S212, it is determined whether a base pattern has been detected. That is, it is possible to determine whether a watermark is present in the captured image. For example, the extraction system 11 can detect the base pattern by extracting multiple regions (e.g., '256x256', '512x512' image regions, etc.) from the captured image to detect the base pattern, and performing the operations/steps shown in FIG. 22 for each of the corresponding regions. There may be overlapping regions between the multiple regions. FIG. 22 assumes that the base pattern is generated from a 2D magnitude spectrum. The following description will be made with reference to FIG. 22.

段階S221で、イメージ領域を周波数ドメインに変換して2Dマグニチュードスペクトル(MS2,以下「第2スペクトル」と称する)が生成される。 In step S221, the image region is transformed into the frequency domain to generate a 2D magnitude spectrum (MS2, hereafter referred to as the "second spectrum").

段階S222で、埋め込み過程に用いられたベースパターンの2Dマグニチュードスペクトル(MS1,以下「第1スペクトル」と称する)が準備される。 In step S222, a 2D magnitude spectrum (MS1, hereinafter referred to as the "first spectrum") of the base pattern used in the embedding process is prepared.

段階S223で、第1スペクトルMS1と第2スペクトルMS2それぞれに対してログポーラー(LogPolar)変換が行われる。ログポーラー変換は、2次元回転と大きさの変換に不変の特性を有するので、これを用いれば回転および大きさの側面における撮影イメージの欠陥がより正確に治癒されることができる。 In step S223, a log polar transform is performed on each of the first spectrum MS1 and the second spectrum MS2. The log polar transform has the property of being invariant to two-dimensional rotation and magnitude transformations, and therefore, by using this, defects in the captured image in terms of rotation and magnitude can be more accurately corrected.

段階S224で、ログポーラー変換により得られた結果イメージそれぞれが周波数ドメインに変換される。 In step S224, each resulting image obtained by the log-polar transformation is transformed into the frequency domain.

段階S225で、変換結果(f_LP1,f_LP2)に対して乗算演算が行われる。 In step S225, a multiplication operation is performed on the conversion result (f_LP1, f_LP2).

段階S226で、乗算演算の結果(R)とイメージ領域に対する変換結果(f_LP2)のマグニチュードマトリックス(MM2)の間に除算演算が行われる。その結果、該当イメージ領域に対する第1結果マトリックスが導き出されることができる。ここで、第1結果マトリックスは該当イメージ領域内にベースパターンがどれくらい含まれているのかを示すマトリックス(例,ベースパターンが含まれた比率などを示すマトリックス)として理解されることができる。また、第1結果マトリックスは該当イメージ領域とベースパターンの間の類似度を示すマトリックスとしても理解されることができる。 In step S226, a division operation is performed between the result of the multiplication operation (R) and the magnitude matrix (MM2) of the transformation result (f_LP2) for the image region. As a result, a first result matrix for the corresponding image region can be derived. Here, the first result matrix can be understood as a matrix indicating how much of the base pattern is included in the corresponding image region (e.g., a matrix indicating the ratio at which the base pattern is included, etc.). The first result matrix can also be understood as a matrix indicating the similarity between the corresponding image region and the base pattern.

段階S227で、該当イメージ領域に対する第1結果マトリックスが空間ドメインに変換される。その結果、該当イメージ領域に対する第1参照イメージが生成されることができる。 In step S227, the first result matrix for the corresponding image region is transformed into the spatial domain. As a result, a first reference image for the corresponding image region can be generated.

段階S228で、第1参照イメージを用いて該当イメージ領域に対する第1類似度などが決定されることができる。具体的には、第1参照イメージの最大ピクセル値が第1類似度として決定されることができ、最大ピクセル値を有するピクセルの「X」座標と「Y」座標がそれぞれ回転角とスケールとして決定されることができる。 In step S228, a first similarity for the corresponding image region may be determined using the first reference image. Specifically, the maximum pixel value of the first reference image may be determined as the first similarity, and the "X" and "Y" coordinates of the pixel having the maximum pixel value may be determined as the rotation angle and scale, respectively.

第1類似度はベースパターンの検出有無を判断するために用いられる値として理解されることができる。すなわち、抽出システム11は第1類似度が基準値未満の場合は該当イメージ領域でベースパターンが検出されないと判断することができ、逆の場合はベースパターンが検出されたと判断することができる。 The first similarity can be understood as a value used to determine whether or not a base pattern has been detected. That is, if the first similarity is less than a reference value, the extraction system 11 can determine that a base pattern has not been detected in the corresponding image area, and conversely, can determine that a base pattern has been detected.

上述した段階S221~S228はあらかじめ定義された条件によって撮影イメージの他の領域に対しても行われることができる(例,ベースパターンが検出されるまで行う)。 The above steps S221 to S228 can also be performed on other areas of the captured image according to predefined conditions (e.g., until the base pattern is detected).

再び図21を参照して説明する。 Let us explain again with reference to Figure 21.

段階S213で、検出されたベースパターンを用いて撮影イメージが変換され、変換された撮影イメージでペイロードの抽出位置が決定される。本段階は撮影イメージの方向を整合させ、撮影イメージのサイズ(解像度)を埋め込む時のウォーターマークイメージのサイズ(解像度)に合わせて変換する前処理過程(例,歪曲を除去する補正過程)として理解されることができる。たとえば、図23に図示のように、抽出システム11は埋め込み過程に用いられたベースパターン231を参照して撮影イメージ232の回転値(例,「θ」)とスケール(例,「120%」)を計算し(段階S212を参照)、これらを用いて撮影イメージ232を変換させることができる(233を参照)。そのようにすることによって、ウォーターマークの抽出性能が大きく向上することができる。 In step S213, the photographed image is transformed using the detected base pattern, and the payload extraction position is determined in the transformed photographed image. This step can be understood as a pre-processing process (e.g., a correction process to remove distortion) that aligns the orientation of the photographed image and transforms the size (resolution) of the photographed image to match the size (resolution) of the watermark image when embedding. For example, as shown in FIG. 23, the extraction system 11 can calculate the rotation value (e.g., "θ") and scale (e.g., "120%") of the photographed image 232 by referring to the base pattern 231 used in the embedding process (see step S212), and transform the photographed image 232 using these (see 233). In this way, the watermark extraction performance can be greatly improved.

図24はペイロードの抽出基準位置を決定する細部過程を示している。図24もベースパターンが2Dマグニチュードスペクトルから生成された場合を仮定しており、ベースパターンが検出されたイメージ領域の変換結果(以下、「変換イメージ領域」と略称する)に対して行われることができる。以下、図24を参照して説明する。ただし、図24に示す過程はログポーラー変換を行わないという点を除いては図22に示す過程と同様であるので、図22と重複する説明は省略する。 Figure 24 shows a detailed process of determining the payload extraction reference position. Figure 24 also assumes that the base pattern is generated from a 2D magnitude spectrum, and the process can be performed on the transformation result of the image area where the base pattern is detected (hereinafter, abbreviated as "transformed image area"). The process will be described below with reference to Figure 24. However, since the process shown in Figure 24 is similar to the process shown in Figure 22 except that log-polar transformation is not performed, the description overlapping with Figure 22 will be omitted.

段階S241で、変換イメージ領域を周波数ドメインに変換して周波数ドメインのマトリックス(f2,以下「第2マトリックス」と称する)が生成される。 In step S241, the transformed image region is transformed into the frequency domain to generate a frequency domain matrix (f2, hereafter referred to as the "second matrix").

段階S242で、埋め込み過程に用いられたベースパターンの周波数ドメインマトリックス(f1,以下「第1マトリックス」と称する)が準備される。 In step S242, a frequency domain matrix (f1, hereinafter referred to as the "first matrix") of the base pattern used in the embedding process is prepared.

段階S243で、第1マトリックスと第2マトリックスの間に乗算演算が行われる。 In step S243, a multiplication operation is performed between the first matrix and the second matrix.

段階S244で、乗算演算の結果(R’)と変換イメージ領域のマグニチュードマトリックス(MM2’)、すなわち第2マトリックスに対するマグニチュードマトリックス)の間に除算演算が行われることができる。その結果、該当イメージ領域に対する第2結果マトリックスが導き出されることができる。 In step S244, a division operation may be performed between the result of the multiplication operation (R') and the magnitude matrix (MM2') of the transformed image region (i.e., the magnitude matrix for the second matrix). As a result, a second result matrix for the corresponding image region may be derived.

段階S245で、変換イメージ領域に対する第2結果マトリックスが空間ドメインに変換される。その結果、変換イメージ領域に対する第2参照イメージが生成されることができる。 In step S245, the second result matrix for the transformed image domain is transformed into the spatial domain. As a result, a second reference image for the transformed image domain can be generated.

段階S246で、第2参照イメージを用いて変換イメージ領域でペイロード抽出のための基準位置(例,開始位置)などが決定される。具体的には、第2参照イメージで最大ピクセル値を有するピクセルの座標が基準位置に決定され、最大ピクセル値が第2類似度に決定されることができる。 In step S246, a reference position (e.g., a start position) for payload extraction is determined in the transformed image area using the second reference image. Specifically, the coordinates of a pixel having a maximum pixel value in the second reference image may be determined as the reference position, and the maximum pixel value may be determined as the second similarity.

第2類似度はペイロードの抽出有無を決定する判断をするために用いられる値として理解されることができる。すなわち、抽出システム11は第2類似度が基準値未満の場合、変換イメージ領域からペイロードを抽出できないと判断することができ、逆の場合はペイロード抽出動作を開始することができる。 The second similarity can be understood as a value used to make a judgment as to whether or not to extract the payload. That is, if the second similarity is less than a reference value, the extraction system 11 can determine that the payload cannot be extracted from the converted image area, and in the opposite case, the payload extraction operation can be initiated.

再び図21を参照して説明する。 Let us explain again with reference to Figure 21.

段階S214で、決定された抽出基準位置を参照して変換された撮影イメージからペイロードが抽出される。たとえば、抽出システム11は変換イメージ領域の抽出基準位置から埋め込み演算を逆に行うことによってペイロードを抽出することができる(例,単位領域別に乱数列を参照して埋め込み演算を逆に行うことによってペイロードの各ビットを抽出する)。以下では、図5および図6に示す方式でペイロードが埋め込まれた場合(すなわち、単位パターンが「2×2」ピクセルパターンである場合)を仮定して本段階S214の細部過程について説明する。 In step S214, the payload is extracted from the transformed captured image with reference to the determined extraction reference position. For example, the extraction system 11 can extract the payload by performing the embedding operation in reverse from the extraction reference position of the transformed image area (e.g., extracting each bit of the payload by performing the embedding operation in reverse with reference to the random number sequence for each unit area). Below, the detailed process of step S214 will be described assuming that the payload is embedded in the manner shown in Figures 5 and 6 (i.e., the unit pattern is a "2x2" pixel pattern).

より具体的には、抽出システム11は変換イメージ領域に対してモノクローム変換を行うこともできる。図25に図示のように、ウォーターマークイメージ253に対してモノクローム変換を行うと、調整されたピクセル値が浮き彫りになるので(251,252,254を参照)、ペイロードがより正確に抽出されることができる。 More specifically, the extraction system 11 can also perform a monochrome transformation on the transformed image region. As shown in FIG. 25, performing a monochrome transformation on the watermark image 253 highlights the adjusted pixel values (see 251, 252, 254) so that the payload can be more accurately extracted.

次に、抽出システム11はモノクローム化されたイメージ領域で「2×2」ピクセル領域(すなわち、単位領域)を巡回しながら埋め込み規則を逆に演算してペイロードを構成する各ビットを抽出することができる。この時、抽出システム11は事前に共有された乱数列を参照してペイロードのビットを抽出することができる(例,単位領域のピクセル値が図10の103のような場合は単位パターン104が抽出され、ペイロードビットが「0」に決定される)。そして、抽出システム11は抽出されたビットを連結(concatenation)してペイロードを完成させることができる。 Next, the extraction system 11 can extract each bit that constitutes the payload by reversing the embedding rule while cycling through a "2x2" pixel region (i.e., a unit region) in the monochrome image region. At this time, the extraction system 11 can extract the payload bit by referring to a random number sequence shared in advance (e.g., if the pixel value of the unit region is 103 in FIG. 10, the unit pattern 104 is extracted and the payload bit is determined to be "0"). Then, the extraction system 11 can concatenate the extracted bits to complete the payload.

一方、ウォーターマーク埋め込み過程で複数の乱数列が用いられた場合は、抽出システム11は第1乱数列を用いて第1ペイロードを抽出し、第2乱数列を用いて第2ペイロードを抽出することができる。そして、抽出システム11は第1ペイロードと第2ペイロードを比較することによって抽出されたペイロードを検証することができる。このようにすることによって、ペイロード抽出正確度がより向上することができる。
これまで図22ないし図25を参照して本開示のいくつかの実施形態によるウォーターマークの抽出方法について説明した。以下では、図26を参照して本開示のいくつかの実施形態による埋め込みシステム10および/または抽出システム11を実現できる例示的なコンピューティング装置260について説明する。
On the other hand, if multiple random number sequences are used in the watermark embedding process, the extraction system 11 can extract the first payload using the first random number sequence and the second payload using the second random number sequence. The extraction system 11 can then verify the extracted payload by comparing the first payload with the second payload. In this way, the accuracy of payload extraction can be further improved.
Thus far, the watermark extraction method according to some embodiments of the present disclosure has been described with reference to Figures 22 to 25. In the following, an exemplary computing device 260 capable of implementing the embedding system 10 and/or the extraction system 11 according to some embodiments of the present disclosure will be described with reference to Figure 26.

図26はコンピューティング装置260を示す例示的なハードウェア構成図である。 Figure 26 is an exemplary hardware configuration diagram showing a computing device 260.

図26に図示のように、コンピューティング装置260は一つ以上のプロセッサ261、バス263、通信インタフェース264、プロセッサ261により実行されるコンピュータープログラムをロード(load)するメモリ262と、コンピュータープログラム266を保存するストレージ267を含むことができる。ただし、図26には本開示の実施形態と関連する構成要素のみが示されている。したがって、本開示が属する技術分野の通常の技術者であれば、図26に示す構成要素の以外に他の汎用的な構成要素(例,カメラのような撮影モジュールなど)がさらに含まれ得ることがわかる。すなわち、コンピューティング装置260には図26に示す構成要素以外にも多様な構成要素がさらに含まれ得る。また、場合によって、図26に示す構成要素のうち一部が省略された形態でコンピューティング装置260が構成されることもできる。以下、コンピューティング装置260の各構成要素について説明する。 26, the computing device 260 may include one or more processors 261, a bus 263, a communication interface 264, a memory 262 for loading a computer program executed by the processor 261, and a storage 267 for storing a computer program 266. However, only components related to the embodiment of the present disclosure are shown in FIG. 26. Therefore, a person skilled in the art to which the present disclosure belongs will understand that other general-purpose components (e.g., a photographing module such as a camera) may be further included in addition to the components shown in FIG. 26. That is, the computing device 260 may further include various components in addition to the components shown in FIG. 26. In some cases, the computing device 260 may be configured in a form in which some of the components shown in FIG. 26 are omitted. Each component of the computing device 260 will be described below.

プロセッサ261はコンピューティング装置260の各構成の全般的な動作を制御することができる。プロセッサ261は、CPU(Central Processing Unit)、MPU(Micro Processor Unit)、MCU(Micro Controller Unit)、GPU(Graphic Processing Unit)、NPU(Neural Processing Unit)または本開示の技術分野に良く知られた任意の形態のプロセッサのうち少なくとも一つを含んで構成されることができる。また、プロセッサ261は本開示の実施形態による動作/方法を実行するための少なくとも一つのアプリケーションまたはプログラムに対する演算を行うことができる。コンピューティング装置260は一つ以上のプロセッサを備えることができる。 The processor 261 may control the overall operation of each component of the computing device 260. The processor 261 may include at least one of a CPU (Central Processing Unit), an MPU (Micro Processor Unit), an MCU (Micro Controller Unit), a GPU (Graphic Processing Unit), an NPU (Neural Processing Unit), or any other type of processor well known in the technical field of the present disclosure. The processor 261 may also perform calculations for at least one application or program for performing operations/methods according to embodiments of the present disclosure. The computing device 260 may include one or more processors.

次に、メモリ262は各種データ、命令および/または情報を保存する。メモリ262は本開示の実施形態による動作/方法を実行するためにストレージ267からコンピュータープログラム266をロードすることができる。メモリ262はRAMのような揮発性メモリとして実現できるが、本開示の技術的範囲はこれに限定されるものではない。 In turn, memory 262 stores various data, instructions and/or information. Memory 262 can load computer programs 266 from storage 267 to perform operations/methods according to embodiments of the present disclosure. Memory 262 can be implemented as a volatile memory such as a RAM, although the scope of the present disclosure is not limited in this respect.

次に、バス263はコンピューティング装置260の構成要素間の通信機能を提供する。バス263はアドレスバス(Address Bus)、データバス(Data Bus)および制御バス(Control Bus)など多様な形態のバスとして実現することができる。 Next, the bus 263 provides a communication function between the components of the computing device 260. The bus 263 can be realized as various types of buses such as an address bus, a data bus, and a control bus.

次に、通信インタフェース264はコンピューティング装置260の有無線インターネット通信を支援する。また、通信インタフェース264はインターネット通信以外の多様な通信方式を支援することもできる。このため、通信インタフェース264は本開示の技術分野に良く知られている通信モジュールを含んで構成されることができる。 Next, the communication interface 264 supports wired or wireless Internet communication for the computing device 260. The communication interface 264 may also support various communication methods other than Internet communication. For this reason, the communication interface 264 may be configured to include a communication module that is well known in the technical field of the present disclosure.

次に、ストレージ267は一つ以上のコンピュータープログラム266を非一時的に保存する。ストレージ267は、ROM(Read Only Memory)、EPROM(Erasable Programmable ROM)、EEPROM(Electrically Erasable Programmable ROM)、フラッシュメモリなどのような不揮発性メモリ、ハードディスク、リムーバブルディスク、または本開示が属する技術分野で良く知られている任意の形態のコンピュータ可読記録媒体を含んで構成されることができる。 Next, storage 267 non-temporarily stores one or more computer programs 266. Storage 267 may include non-volatile memory such as read only memory (ROM), erasable programmable ROM (EPROM), electrically erasable programmable ROM (EEPROM), flash memory, a hard disk, a removable disk, or any other form of computer-readable recording medium well known in the technical field to which the present disclosure pertains.

次に、コンピュータープログラム266はメモリ262にロードされる時プロセッサ261が本開示の多様な実施形態による動作/方法を行うようにするインストラクションを含むことができる。すなわち、プロセッサ261はロードされたインストラクションを実行させることによって、本開示の多様な実施形態による動作/方法を行うことができる。 The computer program 266 may then include instructions that, when loaded into the memory 262, cause the processor 261 to perform operations/methods according to various embodiments of the present disclosure. That is, the processor 261 may execute the loaded instructions to perform operations/methods according to various embodiments of the present disclosure.

例えば、コンピュータープログラム266は原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する動作、ペイロードが内在するペイロードパターンを取得する動作、原イメージにベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する動作および中間イメージにペイロードパターンを埋め込む動作を行うようにするインストラクションを含むことができる。 For example, the computer program 266 may include instructions to obtain an original image and a base pattern of the watermark, obtain a payload pattern in which the payload resides, embed the base pattern in the original image to generate an intermediate image, and embed the payload pattern in the intermediate image.

他の例としては、コンピュータープログラム266は原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する動作、ペイロードが内在するペイロードパターンを取得する動作、第1加重値に基づいて原イメージの第1領域にベースパターンを埋め込む動作および第1加重値と異なる第2加重値に基づいて原イメージの第2領域にペイロードパターンを埋め込む動作を行うようにするインストラクションを含むことができる。 As another example, the computer program 266 may include instructions to perform operations of obtaining a base pattern of an original image and a watermark, obtaining a payload pattern having an inherent payload, embedding the base pattern in a first region of the original image based on a first weight value, and embedding the payload pattern in a second region of the original image based on a second weight value different from the first weight value.

また他の例として、コンピュータープログラム266は図1ないし図20を参照して説明された段階/動作の少なくとも一部を行うようにするインストラクションを含むことができる。 As another example, the computer program 266 may include instructions to perform at least some of the steps/operations described with reference to Figures 1-20.

例示のような場合、コンピューティング装置260により本開示のいくつかの実施形態による埋め込みシステム10が実現されることができる。 In an illustrative example, the computing device 260 may implement an embedded system 10 according to some embodiments of the present disclosure.

また、例えば、コンピュータープログラム266は図1、図2、図21ないし図25を参照して説明された段階/動作の少なくとも一部を行うようにするインストラクションを含むことができる。 Also, for example, computer program 266 may include instructions to perform at least some of the steps/operations described with reference to Figures 1, 2, and 21-25.

例示のような場合、コンピューティング装置260により本開示のいくつかの実施形態による抽出システム11が実現されることができる。 In an illustrative example, the computing device 260 can implement an extraction system 11 according to some embodiments of the present disclosure.

一方、いくつかの実施形態で、図26に示すコンピューティング装置260はクラウド技術に基づいて実現された仮想マシンを意味するものであり得る。たとえば、コンピューティング装置260はサーバファーム(server farm)に含まれた一つ以上の物理サーバー(physical server)で動作する仮想マシンであり得る。この場合、図26に示すプロセッサ261、メモリ262およびストレージ265のうち少なくとも一部は仮想ハードウェア(virtual hardware)であり得、通信インタフェース264もまた、仮想スイッチ(virtual switch)などのような仮想化されたネットワーキング要素として実現されたものであり得る。 Meanwhile, in some embodiments, the computing device 260 shown in FIG. 26 may refer to a virtual machine implemented based on cloud technology. For example, the computing device 260 may be a virtual machine running on one or more physical servers included in a server farm. In this case, at least a portion of the processor 261, memory 262, and storage 265 shown in FIG. 26 may be virtual hardware, and the communication interface 264 may also be implemented as a virtualized networking element such as a virtual switch.

これまで図26を参照して本開示のいくつかの実施形態による埋め込みシステム10および/または抽出システム11を実現できる例示的なコンピューティング装置260について説明した。 So far, with reference to FIG. 26, we have described an exemplary computing device 260 capable of implementing the embedding system 10 and/or the extraction system 11 according to some embodiments of the present disclosure.

これまで図1ないし図26を参照して本開示の多様な実施形態およびその実施形態による効果を言及した。本開示の技術的思想による効果は、以上で言及した効果に制限されず、言及されていないまた他の効果は以下の記載から通常の技術者に明確に理解されるものである。 So far, various embodiments of the present disclosure and the effects of the embodiments have been mentioned with reference to Figures 1 to 26. The effects of the technical ideas of the present disclosure are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those of ordinary skill in the art from the following description.

また、以上の実施形態で複数の構成要素が一つに結合されるか、結合されて動作するものとして説明されたが、本開示の技術的思想が必ずしもこのような実施形態に限定されるものではない。すなわち、本開示の技術的思想の目的範囲の内であれば、そのすべての構成要素は一つ以上選択的に結合して動作することもできる。 In addition, in the above embodiments, multiple components have been described as being combined into one or as operating in combination, but the technical ideas of the present disclosure are not necessarily limited to such embodiments. In other words, within the scope of the technical ideas of the present disclosure, all of the components may be selectively combined into one or more components and operated.

これまで説明された本開示の技術的思想はコンピュータで読取り可能な記録媒体上にコンピュータで読取り可能なコードとして実現されることができる。コンピュータで読取り可能な記録媒体に記録されたコンピュータープログラムはインターネットなどのネットワークを通じて別のコンピューティング装置に転送されて該当コンピューティング装置に設置されることができ、これにより該当コンピューティング装置で使用することができる。 The technical ideas of the present disclosure described above can be realized as computer-readable code on a computer-readable recording medium. The computer program recorded on the computer-readable recording medium can be transferred to another computing device via a network such as the Internet and installed on the computing device, and can thus be used on the computing device.

図面では動作が特定の順序で示されているが、必ずしも動作が示された特定の順序または順次的な順序で実行されなければならないか、またはすべて示された動作が実行される場合のみ所望の結果が得られるものとして理解されるべきではない。特定の状況では、マルチタスクおよび並列処理が有利な場合もある。以上、添付する図面を参照して本開示の多様な実施形態について説明したが、本開示が属する技術分野における通常の知識を有する者は、その技術的思想や必須の特徴を変更せず本開示の技術的思想が異なる具体的な形態に実施することもできることを理解することができる。したがって、上記一実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。本開示の保護範囲は以下の特許請求の範囲によって解析されるべきあり、それと同等な範囲内にあるすべての技術思想は本開示によって定義される技術的思想の権利範囲に含まれると解釈されなければならない。
Although the figures show operations in a particular order, it should not be understood that the operations must be performed in the particular order shown or in a sequential order, or that desired results will be obtained only if all of the operations shown are performed. In certain situations, multitasking and parallel processing may be advantageous. Although various embodiments of the present disclosure have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present disclosure pertains can understand that the technical ideas of the present disclosure may be embodied in different specific forms without changing the technical ideas or essential features thereof. Therefore, the above embodiment is illustrative in all respects and should not be understood as being limiting. The scope of protection of the present disclosure should be analyzed according to the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the technical ideas defined by the present disclosure.

Claims (17)

少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する段階と、
前記原イメージに前記ベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する段階と、
前記中間イメージに前記ペイロードパターンを埋め込む段階とを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記ペイロードパターンを取得する段階は、
第1乱数列に基づいて決定されたエンコーディング規則を用いて前記ペイロードをエンコードすることによって第1ペイロードパターンを生成する段階と、
前記第1乱数列と異なる第2乱数列に基づいて決定されたエンコーディング規則を用いて前記ペイロードをエンコードすることによって第2ペイロードパターンを生成する段階と、
前記第1ペイロードパターンと前記第2ペイロードパターンを結合して前記ペイロードパターンを生成する段階とを含み、
前記エンコーディング規則は前記ペイロードの値をあらかじめ定義された単位パターンでエンコードする規則である、ウォーターマーク埋め込み方法。
1. A method performed by at least one computing device, comprising:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image;
embedding the payload pattern in the intermediate image;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark;
The step of acquiring a payload pattern includes:
generating a first payload pattern by encoding the payload using an encoding rule determined based on a first random number sequence;
generating a second payload pattern by encoding the payload using an encoding rule determined based on a second random number sequence different from the first random number sequence;
generating the payload pattern by combining the first payload pattern and the second payload pattern;
The watermark embedding method, wherein the encoding rule is a rule for encoding the value of the payload with a predefined unit pattern.
少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する段階と、
前記原イメージに前記ベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する段階と、
前記中間イメージに前記ペイロードパターンを埋め込む段階とを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記中間イメージを生成する段階は、
前記ベースパターンと第1加重値に基づいて前記原イメージのピクセル値を調整することによって前記中間イメージを生成する段階を含み、
前記第1加重値は前記ベースパターンによるピクセル値の調整強度を表す値であって、前記ペイロードパターンによるピクセル値の調整強度を表す第2加重値より小さい値を有する、ウォーターマーク埋め込み方法。
1. A method performed by at least one computing device, comprising:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image;
embedding the payload pattern in the intermediate image;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark;
The step of generating the intermediate image comprises:
generating the intermediate image by adjusting pixel values of the original image based on the base pattern and a first weighted value;
The first weighting value represents a strength of adjustment of pixel values by the base pattern and is smaller than a second weighting value representing a strength of adjustment of pixel values by the payload pattern.
少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する段階と、
前記原イメージに前記ベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する段階と、
前記中間イメージに前記ペイロードパターンを埋め込む段階とを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記ベースパターンは第1加重値に基づいて前記原イメージのピクセル値を調整することによって埋め込まれ、
前記第1加重値は前記ベースパターンによるピクセル値の調整強度を表す値であり、
前記ペイロードパターンを埋め込む段階は、
加重値パラメータの値を変更しながら前記ペイロードパターンを埋め込んで前記ペイロードの抽出性能を評価する段階と、
前記評価の結果に基づいて前記ペイロードパターンに適用される第2加重値を決定する段階と、
前記ペイロードパターンと前記第2加重値に基づいて前記中間イメージのピクセル値を調整する段階とを含み、
前記加重値パラメータの値は前記ペイロードパターンによるピクセル値の調整強度を表す値である、ウォーターマーク埋め込み方法。
1. A method performed by at least one computing device, comprising:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image;
embedding the payload pattern in the intermediate image;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark;
the base pattern is embedded by adjusting pixel values of the original image based on a first weighted value;
the first weight value represents a pixel value adjustment strength according to the base pattern,
The step of embedding a payload pattern includes:
embedding the payload pattern while changing a value of a weight parameter and evaluating an extraction performance of the payload;
determining a second weighting to be applied to the payload pattern based on a result of the evaluation; and
adjusting pixel values of the intermediate image based on the payload pattern and the second weighted values;
The value of the weight parameter represents a strength of adjustment of pixel values by the payload pattern .
少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する段階と、
前記原イメージに前記ベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する段階と、
前記中間イメージに前記ペイロードパターンを埋め込む段階とを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記ペイロードパターンは複数の単位パターンを含み、
前記ペイロードパターンを埋め込む段階は、
前記中間イメージの特定単位領域のピクセル値から特定単位パターンが抽出可能であるか否かを判断する段階と、
前記特定単位パターンが抽出可能であるという判断に基づいて前記特定単位パターンの埋め込み過程をスキップするか前記ペイロードパターンに設定された加重値より小さい加重値に基づいて前記特定単位パターンを埋め込む段階とを含み、
前記特定単位領域は前記複数の単位パターンのうち前記特定単位パターンが埋め込まれる領域であるウォーターマーク埋め込み方法。
1. A method performed by at least one computing device, comprising:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image;
embedding the payload pattern in the intermediate image;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark;
the payload pattern includes a plurality of unit patterns,
The step of embedding a payload pattern includes:
determining whether a specific unit pattern can be extracted from pixel values of a specific unit area of the intermediate image;
skipping an embedding process of the specific unit pattern based on whether the specific unit pattern can be extracted or embedding the specific unit pattern based on a weighting value smaller than a weighting value set in the payload pattern,
The specific unit area is an area in which the specific unit pattern is embedded among the plurality of unit patterns .
少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する段階と、
前記原イメージに前記ベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する段階と、
前記中間イメージに前記ペイロードパターンを埋め込む段階とを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記ペイロードパターンを埋め込む段階は、
前記中間イメージの第1領域に前記ペイロードパターンの第1ブロックを第1加重値に基づいて埋め込む段階と、
前記中間イメージの第2領域に前記ペイロードパターンの第2ブロックを第2加重値に基づいて埋め込む段階とを含み、
前記第1加重値と前記第2加重値はそれぞれ前記第1ブロックと前記第2ブロックによるピクセル値の調整強度を表す値であり、
前記第1領域は前記第2領域より高周波数の領域であり、
前記第1加重値は前記第2加重値より大きい値に決定される、ウォーターマーク埋め込み方法。
1. A method performed by at least one computing device, comprising:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image;
embedding the payload pattern in the intermediate image;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark;
The step of embedding a payload pattern includes:
embedding a first block of the payload pattern into a first region of the intermediate image based on a first weight value;
and embedding a second block of the payload pattern into a second region of the intermediate image based on a second weighted value;
the first weight and the second weight represent adjustment strengths of pixel values of the first block and the second block, respectively;
the first region is a higher frequency region than the second region,
The first weighting value is determined to be greater than the second weighting value .
少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する段階と、
前記原イメージに前記ベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する段階と、
前記中間イメージに前記ペイロードパターンを埋め込む段階とを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記ペイロードパターンを埋め込む段階は、
スケールパラメータの値に基づいて前記ペイロードパターンをスケーリングする段階と、
前記スケーリングされたペイロードパターンを前記中間イメージに埋め込む段階とを含み、
前記中間イメージは前記スケールパラメータの値に基づいてスケーリングされた前記ベースパターンを埋め込むことによって生成されたものである、ウォーターマーク埋め込み方法。
1. A method performed by at least one computing device, comprising:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image;
embedding the payload pattern in the intermediate image;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark;
The step of embedding a payload pattern includes:
scaling the payload pattern based on a value of a scale parameter;
embedding the scaled payload pattern into the intermediate image;
The intermediate image is generated by embedding the base pattern scaled based on the value of the scale parameter .
前記スケールパラメータの値は前記原イメージのサイズに基づいて決定される、請求項に記載のウォーターマーク埋め込み方法。 The method of claim 6 , wherein the value of the scale parameter is determined based on the size of the original image. 前記スケーリングされたペイロードパターンは複数のスケーリングされた単位パターンを含み、
前記複数のスケーリングされた単位パターンそれぞれは複数のブロックを含み、
前記スケーリングされたペイロードパターンを前記中間イメージに埋め込む段階は、
前記複数のブロックのうち第1ブロックに対応する前記中間イメージの第1領域を決定する段階と、
前記第1ブロックの値のうち一部を抽出して前記第1領域の中央部分に埋め込む段階とを含む、請求項に記載のウォーターマーク埋め込み方法。
the scaled payload pattern includes a plurality of scaled unit patterns;
each of the plurality of scaled unit patterns includes a plurality of blocks;
Embedding the scaled payload pattern into the intermediate image comprises:
determining a first region of the intermediate image corresponding to a first block of the plurality of blocks;
7. The method of claim 6 , further comprising the step of extracting a portion of the value of the first block and embedding the portion in a central portion of the first region.
前記第1ブロックに対応する前記スケーリングされたベースパターンの第2ブロックは前記第1領域の全体に埋め込まれている、請求項に記載のウォーターマーク埋め込み方法。 9. The method of claim 8 , wherein a second block of the scaled base pattern corresponding to the first block is embedded in the entire first region. 前記第1ブロックに対応する前記スケーリングされたベースパターンの第2ブロックの値のうち一部も前記第1領域の前記中央部分に埋め込まれている、請求項に記載のウォーターマーク埋め込み方法。 9. The method of claim 8 , wherein a portion of the values of a second block of the scaled base pattern corresponding to the first block is also embedded in the central portion of the first region. 前記第1ブロックに対応する前記スケーリングされたベースパターンの第2ブロックの値のうち一部は前記第1領域の外郭部分に埋め込まれている、請求項に記載のウォーターマーク埋め込み方法。 9. The watermark embedding method of claim 8 , wherein a portion of values of a second block of the scaled base pattern corresponding to the first block is embedded in an outer portion of the first region. 少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する段階と、
第1加重値の値に基づいて前記原イメージの第1領域に前記ベースパターンを埋め込む段階と、
前記第1加重値の値と異なる第2加重値に基づいて前記原イメージの第2領域に前記ペイロードパターンを埋め込む段階とを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記第1領域と前記第2領域の間には重畳領域が存在しない、ウォーターマーク埋め込み方法。
1. A method performed by at least one computing device, comprising:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in a first region of the original image based on a value of a first weight;
embedding the payload pattern in a second region of the original image based on a second weight value different from the first weight value;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark;
wherein there is no overlapping area between the first area and the second area .
少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する段階と、
第1加重値の値に基づいて前記原イメージの第1領域に前記ベースパターンを埋め込む段階と、
前記第1加重値の値と異なる第2加重値に基づいて前記原イメージの第2領域に前記ペイロードパターンを埋め込む段階とを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記第1領域の形状は前記第2領域と異なる、ウォーターマーク埋め込み方法。
1. A method performed by at least one computing device, comprising:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in a first region of the original image based on a value of a first weight;
embedding the payload pattern in a second region of the original image based on a second weight value different from the first weight value;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark;
A method for embedding a watermark, wherein the shape of the first region is different from that of the second region.
少なくとも一つのコンピューティング装置により行われる方法において、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する段階と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する段階と、
第1加重値の値に基づいて前記原イメージの第1領域に前記ベースパターンを埋め込む段階と、
前記第1加重値の値と異なる第2加重値に基づいて前記原イメージの第2領域に前記ペイロードパターンを埋め込む段階とを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記ペイロードパターンを埋め込む段階は、
スケールパラメータの値に基づいて前記ペイロードパターンをスケーリングする段階と、
前記スケーリングされたペイロードパターンを前記第2領域に埋め込む段階とを含み、
前記ベースパターンも前記スケールパラメータの値に基づいてスケーリングされた後に埋め込まれる、ウォーターマーク埋め込み方法。
1. A method performed by at least one computing device, comprising:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in a first region of the original image based on a value of a first weight;
embedding the payload pattern in a second region of the original image based on a second weight value different from the first weight value;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark;
The step of embedding a payload pattern includes:
scaling the payload pattern based on a value of a scale parameter;
embedding the scaled payload pattern into the second region;
The watermark embedding method, wherein the base pattern is also embedded after being scaled based on the value of the scale parameter.
前記スケーリングされたペイロードパターンは複数のスケーリングされた単位パターンを含み、
前記複数のスケーリングされた単位パターンそれぞれは複数のブロックを含み、
前記スケーリングされたペイロードパターンを前記第2領域に埋め込む段階は、
前記複数のブロックのうち第1ブロックに対応する前記原イメージの領域を決定する段階と、
前記第1ブロックの値のうち一部を抽出して前記決定された領域の中央部分に埋め込む段階とを含み、
前記中央部分は前記第2領域に属し、外郭部分は前記第1領域に属する、請求項14に記載のウォーターマーク埋め込み方法。
the scaled payload pattern includes a plurality of scaled unit patterns;
each of the plurality of scaled unit patterns includes a plurality of blocks;
Embedding the scaled payload pattern in the second region includes:
determining an area of the original image corresponding to a first block of the plurality of blocks;
extracting a portion of the values of the first block and embedding the portion in a central portion of the determined region;
The watermark embedding method of claim 14 , wherein the central portion belongs to the second region and the outer portion belongs to the first region.
一つ以上のプロセッサと、
前記一つ以上のプロセッサにより実行されるコンピュータープログラムを保存するメモリとを含み、
前記コンピュータープログラムは、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する動作と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する動作と、
前記原イメージに前記ベースパターンを埋め込んで中間イメージを生成する動作と、
前記中間イメージに前記ペイロードパターンを埋め込む動作のためのインストラクションとを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記中間イメージを生成する動作は、
前記ベースパターンと第1加重値に基づいて前記原イメージのピクセル値を調整することによって前記中間イメージを生成する動作を含み、
前記第1加重値は前記ベースパターンによるピクセル値の調整強度を表す値であって、前記ペイロードパターンによるピクセル値の調整強度を表す第2加重値より小さい値を有する、ウォーターマーク埋め込みシステム。
one or more processors;
and a memory for storing a computer program for execution by the one or more processors;
The computer program comprises:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
An operation of obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in the original image to generate an intermediate image;
and instructions for embedding the payload pattern in the intermediate image;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark ;
The act of generating the intermediate image comprises:
generating the intermediate image by adjusting pixel values of the original image based on the base pattern and a first weighted value;
The first weighting value represents a strength of adjustment of pixel values by the base pattern and is smaller than a second weighting value representing a strength of adjustment of pixel values by the payload pattern.
一つ以上のプロセッサと、
前記一つ以上のプロセッサにより実行されるコンピュータープログラムを保存するメモリとを含み、
前記コンピュータープログラムは、
原イメージとウォーターマークのベースパターンを取得する動作と、
前記ウォーターマークのペイロード(payload)が内在するペイロードパターンを取得する動作と、
第1加重値に基づいて前記原イメージの第1領域に前記ベースパターンを埋め込む動作と、
前記第1加重値と異なる第2加重値に基づいて前記原イメージの第2領域に前記ペイロードパターンを埋め込む動作のためのインストラクションとを含み、
前記ベースパターンは前記ウォーターマークのペイロード抽出に用いられる同期化信号が内在するものであり、
前記第1領域の形状は前記第2領域と異なる、ウォーターマーク埋め込みシステム。
one or more processors;
and a memory for storing a computer program for execution by the one or more processors;
The computer program comprises:
obtaining an original image and a base pattern for a watermark;
An operation of obtaining a payload pattern in which a payload of the watermark exists;
embedding the base pattern in a first region of the original image based on a first weight value;
and instructions for embedding the payload pattern in a second region of the original image based on a second weight value different from the first weight value;
the base pattern includes a synchronization signal used for extracting the payload of the watermark ;
The first region has a different shape than the second region .
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006191553A (en) 2004-12-09 2006-07-20 Sony United Kingdom Ltd Data processing system and data processing method
KR101877372B1 (en) 2017-05-19 2018-07-13 주식회사 하루컴퍼니 Method for embedding and extraction of watermarking data

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6614914B1 (en) * 1995-05-08 2003-09-02 Digimarc Corporation Watermark embedder and reader
US8325969B2 (en) * 2006-04-28 2012-12-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Methods for making an authenticating system
KR100878579B1 (en) * 2006-06-30 2009-01-15 포스데이타 주식회사 Watermarking Method, Watermark Validation Method, Watermarking Device and Watermark Validation Device
JP2008085695A (en) * 2006-09-28 2008-04-10 Fujitsu Ltd Electronic watermark embedding apparatus and detection apparatus
WO2012026039A1 (en) * 2010-08-27 2012-03-01 富士通株式会社 Digital watermark embedding device, digital watermark embedding method, computer program for digital watermark embedding, and digital watermark detection device
KR101148278B1 (en) * 2010-09-16 2012-05-25 중앙대학교 산학협력단 Apparatus and method for 2d barcode anti-counterfeiting based on watermark
KR101206275B1 (en) * 2010-12-27 2012-11-29 한국과학기술원 System and method for image retrieval based image watermarking and computer readable recording medium comprising instruction word for processing method thereof
KR101960290B1 (en) * 2018-07-05 2019-03-21 주식회사 하루컴퍼니 Method for embedding and extraction of watermarking data
KR102622552B1 (en) * 2019-05-29 2024-01-08 삼성에스디에스 주식회사 Method for embedding hidden marking and apparatus using the same
KR102435876B1 (en) * 2020-03-23 2022-08-24 스냅태그 주식회사 Method for embedding and extraction of watermarking data
KR102579261B1 (en) * 2021-01-06 2023-09-15 스냅태그 주식회사 Method for embedding and extraction of watermarking data
CN116746155A (en) * 2022-01-11 2023-09-12 谷歌有限责任公司 End-to-end watermarking system

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006191553A (en) 2004-12-09 2006-07-20 Sony United Kingdom Ltd Data processing system and data processing method
KR101877372B1 (en) 2017-05-19 2018-07-13 주식회사 하루컴퍼니 Method for embedding and extraction of watermarking data

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