JP7484216B2 - Thermal Transfer System - Google Patents
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Description
本発明は、カードに対してオーバーコート層等の転写層を熱転写する熱転写システムに関する。 The present invention relates to a thermal transfer system that thermally transfers a transfer layer, such as an overcoat layer, onto a card.
一般にIDカードにおいては、カード所有者の顔写真などの画像情報と、カード所有者の住所、氏名、生年月日などの文字情報とが、カードに印画される。例えば特許文献1において、複数の印画ユニットを備え、ID番号によって対応づけられた画像情報と文字情報とからIDカードを作製するIDカード作製装置が提案されている。 Generally, ID cards have image information such as the card owner's face photo and text information such as the card owner's address, name, and date of birth printed on the card. For example, Patent Document 1 proposes an ID card production device that has multiple printing units and produces ID cards from image information and text information that are associated by an ID number.
また画像情報および文字情報が印画されたカードに対して、これら画像情報および文字情報を保護するためオーバーコート層が熱転写される。 In addition, an overcoat layer is thermally transferred onto the card on which the image and text information is printed to protect the image and text information.
オーバーコート層を熱転写する熱転写システムとして、プラテンローラと、このプラテンローラとの間でインクリボンとカードを挟持してインクリボンのオーバーコート層をカードに転写する加熱ヘッドからなる加熱体とを有するシステムが知られている。 A known thermal transfer system for thermally transferring an overcoat layer is one that has a platen roller and a heating element consisting of a heating head that clamps an ink ribbon and a card between the platen roller and the heating head to transfer the overcoat layer of the ink ribbon to the card.
このような熱転写システムにおいて、プラテンローラと加熱ヘッドとの間の隙間が大きすぎると、インクリボンを用いて確実に熱転写を実行することが困難となる。他方、プラテンローラと加熱ヘッドとの間の隙間が小さくなると、カード上に熱転写されたオーバーコート層のうち搬送方向後端側に割れが生じることがある。このようなオーバーコート層の後端側に生じる割れは、カードがプラテンローラと加熱ヘッドとの間から離れる際、加熱ヘッドがプラテンローラ側へ急激に落ちて、インクリボンに過度の力が加わるためと考えられている。 In such a thermal transfer system, if the gap between the platen roller and the heating head is too large, it becomes difficult to reliably perform thermal transfer using the ink ribbon. On the other hand, if the gap between the platen roller and the heating head is too small, cracks may occur on the trailing end side in the transport direction of the overcoat layer thermally transferred onto the card. It is believed that such cracks on the trailing end side of the overcoat layer occur because, when the card leaves the gap between the platen roller and the heating head, the heating head suddenly drops toward the platen roller, applying excessive force to the ink ribbon.
本開示は、このような点を考慮してなされたものであり、熱転写時において被転写体に転写された転写層の後端割れを防止することができる熱転写システムを提供することを目的とする。 The present disclosure has been made in consideration of these points, and aims to provide a thermal transfer system that can prevent cracks at the rear end of the transfer layer transferred to the transfer recipient during thermal transfer.
本開示は、支持層と転写層とを有する転写媒体を用いて、被転写体に対して前記転写層を転写する熱転写システムにおいて、前記被転写体側に設けられたプラテンローラと、前記転写媒体側に設けられ、前記プラテンローラとの間で前記転写媒体と前記被転写体を挟持して、前記転写媒体の前記転写層を前記被転写体に対して転写する加熱体とを備え、前記プラテンローラと前記加熱体との間に、前記プラテンローラと前記加熱体との間の最小隙間を規定する隙間規定機構が設けられ、この隙間規定機構により前記最小隙間αは0.5mm≦α≦0.6mmとなる、熱転写システムである。 The present disclosure relates to a thermal transfer system that uses a transfer medium having a support layer and a transfer layer to transfer the transfer layer to a transferee, the thermal transfer system comprising a platen roller provided on the transferee side, and a heating body provided on the transfer medium side, which sandwiches the transfer medium and the transferee between the platen roller and the heating body to transfer the transfer layer of the transfer medium to the transferee, and a gap regulation mechanism that regulates the minimum gap between the platen roller and the heating body is provided between the platen roller and the heating body, and the minimum gap α is 0.5 mm≦α≦0.6 mm due to this gap regulation mechanism.
本開示は、前記隙間規定機構は前記プラテンローラを支持する一対の支持部と、前記加熱体側に取り付けられ、各々が前記プラテンローラの対応する支持部に当接する一対のスタッドとを有する、熱転写システムである。 The present disclosure is a thermal transfer system in which the gap regulation mechanism has a pair of support parts that support the platen roller, and a pair of studs that are attached to the heater side and each of which abuts against a corresponding support part of the platen roller.
本開示は、各スタッドは、対応する支持部側への突出長さが可変となる、熱転写システムである。 The present disclosure is a thermal transfer system in which each stud has a variable protruding length toward the corresponding support.
本開示は、前記加熱体に、この加熱体を前記プラテンローラ側へ常時押圧する押圧手段が取り付けられている、熱転写システムである。 The present disclosure is a thermal transfer system in which a pressing means is attached to the heating element, which constantly presses the heating element against the platen roller.
本開示によれば、熱転写時において、被転写体に転写された転写層の後端割れを確実に抑えることができる。 According to the present disclosure, it is possible to reliably prevent rear end cracks in the transfer layer transferred to the transfer target during thermal transfer.
<本発明の実施の形態>
以下、図1乃至図10Bを参照して、本発明の実施の形態について説明する。はじめに図4を参照して、カードを発行するためのカード発行システム35全体について説明する。
<Embodiments of the present invention>
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to Figures 1 to 10B. First, an entire card issuing
<カード発行システム>
図4に示すように、カード発行システム35は、ケーシング46と、ケーシング46内上方に設けられ、多数のカードを収納するとともにIDカード等のカード(被転写体)14(図1参照)を順次排出するカードホッパ31と、カードホッパ31の下流側に設けられ、カードの表面に画像情報および文字情報を印画する印画装置30と、を備えている。この印画装置30は、カード1の表面に顔画像を印字するY印刷部30a、M印刷部30bおよびC印刷部30cを有する。このうちY印刷部30aはカード1の表面にイエロー印刷を施すものであり、M印刷部30bはカード1の表面にマゼンダ印刷を施すものであり、C印刷部30cはカード1の表面にシアン印刷を施すものであり、Y印刷部30a、M印刷部30bおよびC印刷部30cにより顔画像が印刷される。またC印刷部30cの下流側にインク定着部30dが設けられている。さらにインク定着部30dの下流側に、カード1の表面に表面情報を印字する表面印字部30eが設けられている。
<Card issuing system>
As shown in Fig. 4, the card issuing
また図4に示すように、印画装置30の下流側には、カードの表面に印画された画像情報および文字情報を保護する第1保護シート(オーバーコート層ともいう)13bをカードの表面上に設ける、発明による熱転写システムとしての第1保護シート形成部39が設けられている。また第1保護シート形成部39の下流側には、第1保護シート13b上に更に第2保護シートを設ける、熱転写システムとしての第2保護シート形成部40が設けられている。また第2保護シート形成部40の下流側には、カードを集積部45へ振分ける振分け機構44が設けられている。
As shown in FIG. 4, downstream of the
なお本実施の形態において、所有者の画像情報および文字情報が電子的に格納されたICチップ(図示せず)がカード14内に実装されていてもよい。この場合、図4に示すリーダライタ37により、カード14のICチップに画像情報および文字情報が書き込まれてもよい。
In this embodiment, an IC chip (not shown) in which the owner's image information and text information are electronically stored may be mounted in the
また本実施の形態において、カード14の表面だけでなく裏面にも、所有者の画像情報または文字情報が印画されてもよい。この場合、図4に示す裏面印画ユニット38により、カードの裏面に画像情報および文字情報が印画されてもよい。
In this embodiment, image information or text information of the owner may be printed not only on the front side but also on the back side of the
<熱転写システム>
次に本発明による熱転写システムを構成する第1保護シート形成部39および第2保護シート形成部40について、図1乃至図3により説明する。以下、第1保護シート形成部39について説明するが、第2保護シート形成部40も、第1保護シート形成部39と略同一構成をもつ。
<Thermal transfer system>
Next, the first protective
図1乃至図3に示すように、第1保護シート形成部39は、少なくとも図5に示す支持層13aとオーバーコート層(転写層ともいう)13bとを含むインクリボン(転写媒体ともいう)13を用いてIDカード等のカード(被転写体ともいう)14にオーバーコート層13bを加熱して転写するものであり、第1保護シート形成部39は本発明による熱転写システムを構成する。このような第1保護シート形成部(以下、熱転写システムという)39は、矢印R1で示す方向にインクリボン13を送り出す送出部25と、送出部25のインクリボン13の搬送方向下流側に配置された転写装置18Aと、転写装置18Aの下流側に配置され、矢印R2で示す方向に転写済のインクリボン13を巻き取る巻取部26と、を備えている。図1に示すように、インクリボン13は、送出部25から案内ローラ16によって転写装置18Aまで案内され、転写装置18Aから剥離ローラ17を経て巻取部26に巻取られる。
As shown in Fig. 1 to Fig. 3, the first protective
一方、カード14は導入ライン11により転写装置18Aまで搬送され、転写装置18Aから排出ライン12を経て外方へ排出される。
Meanwhile, the
次に転写装置18Aについて説明する。図1に示すように転写装置18Aはカード14を支持するゴム製のプラテンローラ19と、インクリボン13およびカード14を挟んでプラテンローラ19と対向するよう設けられた加熱体18を有している。図1に示すように、加熱体18は、インクリボン13の支持層13a側に設けられている。そして加熱体18とプラテンローラ19とによりカード14とインクリボン13がニップされ(挟持され)、加熱体18により、インクリボン13のオーバーコート層13bが加熱される。これによって、インクリボン(転写媒体)13のオーバーコート層(転写層)13bがカード(被転写体)14に対して転写される。
Next, the
転写装置18Aについて更に述べる。転写装置18Aは上述のように、ゴム製プラテンローラ19と加熱体18とを有し、このうち加熱体18はセラミック基板を含む加熱ヘッド18aと、加熱ヘッド18aのインクリボン13側に配置された金属板20とを有する。加熱ヘッド18aを構成するセラミック基板は、その表面粗さ(算術平均粗さRa)が0.1~0.3μm、その表面の摩擦係数が0.4~0.8となっている。
The
一方、金属板20は、厚さ0.3~0.5mmとなっており、インクリボン13と当接する金属板本体20aと、この金属板本体20aに連結された支持板20bとを有し、全体として断面L字状を構成している(図2参照)。
On the other hand, the
金属板20は、銅製またはアルミニウム製となっており、全体として薄板からなり優れた熱伝導性をもつ。このため加熱ヘッド18aからの熱を金属板20を介してスムーズにインクリボン13側へ伝えることができる。
The
また金属板20に対しては、予めバフ研磨処理が施されて、その表面粗さ(算術平均粗さ)が0.004~0.02μmとなっている。
The
その後金属板には、メッキ処理、コーティング処理、蒸着処理等の表面処理が施され、金属板20の表面は優れた滑り性、耐摩耗性および耐熱性をもつ。
The metal plate is then subjected to surface treatments such as plating, coating, and deposition, giving the surface of the
具体的には、金属板20に対してアルバック社製のNIFGRIP(ニフグリップ)の表面処理が施されている。
Specifically, the
このNIFGRIP処理とは、無電解ニッケルとフッ素樹脂を処理液中で共析させ、この処理液を用いて銅製またはアルミニウム製の母材上に皮膜を形成し、皮膜中にフッ素樹脂を容積比で30%含有させ、皮膜を成膜した後、熱処理を行って皮膜中の無電解ニッケルとフッ素樹脂を強固に密着させる処理のことをいう。 This NIFGRIP process involves co-deposition of electroless nickel and fluororesin in a treatment solution, forming a coating on a copper or aluminum base material using this treatment solution, making the coating contain 30% fluororesin by volume, and after the coating is formed, carrying out a heat treatment to firmly bond the electroless nickel and fluororesin in the coating.
このNIFGRIP処理は、母材と皮膜との密着性に優れ、離型性、非粘着性、滑り性、耐食性に優れた高機能複合皮膜を形成することができる表面処理技術である。 This NIFGRIP process is a surface treatment technology that can form a highly functional composite coating that has excellent adhesion between the base material and the coating, as well as excellent release properties, non-stickiness, slipperiness, and corrosion resistance.
このような表面処理により、金属板20の表面は、全体として、その表面粗さ(算術平均粗さRa)が0.004~0.02μm、その摩擦係数が0.2以下、好ましくは約0.1となる。
By carrying out this surface treatment, the surface of the
ところで図2および図3に示すように、加熱体18の加熱ヘッド18aは、中間板24を介して支持フレーム21に取付ボルト22により固定されている。また加熱ヘッド18aのインクリボン13側に設けられた金属板20は、その支持板20bを支持フレーム21に取付ボルト23により固定することにより、支持フレーム21に固定されている。このように金属板20を加熱ヘッド18a固定用の支持フレーム21に固定することにより、金属板20を容易に設置することができ、金属板20を設置するため、別個の支持機構を設ける必要はない。
As shown in Figures 2 and 3, the
次に図5により、支持層13aとオーバーコート層13bとを有するインクリボン13の構成について説明する。
Next, the structure of the
本発明において支持層(基材)13aは、熱転写時に熱が加えられるため、加熱された状態でも取り扱い上支障のない程度の機械的強度を有する材料であることが好ましい。このような支持層の材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、1,4-ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリフェニレンサルフィドフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリサルホンフィルム、アラミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、セロハン、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリエチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム、ポリイミドフィルム、アイオノマーフィルム等が挙げられる。また、支持層の厚さは、2μm以上、20μm以下であることが好ましく、4μm以上、10μm以下であることがより好ましい。 In the present invention, the support layer (substrate) 13a is preferably made of a material that has sufficient mechanical strength to be handled without problems even when heated, since heat is applied during thermal transfer. Examples of materials for such a support layer include polyethylene terephthalate (PET) film, 1,4-polycyclohexylene dimethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyphenylene sulfide film, polystyrene film, polypropylene film, polysulfone film, aramid film, polycarbonate film, polyvinyl alcohol film, cellophane, cellulose derivatives such as cellulose acetate, polyethylene film, polyvinyl chloride film, nylon film, polyimide film, ionomer film, etc. The thickness of the support layer is preferably 2 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 4 μm or more and 10 μm or less.
オーバーコート層13bとしては、熱溶融性のコート層または熱昇華性のコート層を用いることができる。オーバーコート層13bはカード14表面に印画された画像情報および文字情報を上方から覆って、これら画像情報および文字情報を保護する。
The overcoat layer 13b may be a heat melting coating layer or a heat sublimation coating layer. The overcoat layer 13b covers the image information and text information printed on the surface of the
なお、上記熱転写システム39の各構成部分、例えば転写装置18A、送出部25、巻取部26等は、カード発行システム35に組込まれた制御部35Aにより駆動制御される。
The components of the
ところで、図3、図6および図7に示すように、プラテンローラ19と加熱体18との間には、プラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間α、具体的にはプラテンローラ19と加熱体18の金属板20との間の最小隙間αを規定する隙間規定機構50が設けられている。
As shown in Figures 3, 6 and 7, a
なお、本実施の形態において、加熱体18は、加熱ヘッド18aと、加熱ヘッド18aのインクリボン13側に設けられた金属板20とを有する例を示したが、この金属板20は必須のものではなく、加熱体18は加熱ヘッド18aのみからなっていてもよい。加熱体18が加熱ヘッド18aのみからなる場合、プラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間αは、プラテンローラ19と加熱ヘッド18aとの間の最小隙間となる。
In the present embodiment, the
図1乃至図7に示すように、プラテンローラ19は回転軸19aを有し、この回転軸19aは一対の支持部19A,19Aにより回転自在に支持されている。本実施の形態において、各支持部19A,19Aはボールベアリングからなる。
As shown in Figures 1 to 7, the
他方、加熱体18を支持する支持フレーム21に、プラテンローラ19の一対の支持部19A,19A側へ突出する一対のスタッド52,52が取り付けられている。支持フレーム21に取り付けられた各スタッド52,52は、対応するプラテンローラ19の支持部19A,19Aに当接してプラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間αを規定する。
On the other hand, a pair of
本実施の形態において、プラテンローラ19側の支持部19A,19Aと、加熱体18側のスタッド52,52とにより、プラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間αを規定する隙間規定機構50が構成される。
In this embodiment, the
また加熱体18側のスタッド52,52は支持フレーム21に、対応する支持部19A,19Aに向かう突出長さL(図6および図7)が可変となるよう取り付けられている。
The
さらに加熱体18を支持する支持フレーム21は固定構造体(図示せず)によりスプリング(押圧手段)54を介して支持され、このことにより加熱体18はスプリング54によりプラテンローラ19側へ常時押圧されている。
Furthermore, the
なお、図3、図6および図7に示すように、プラテンローラ19側の支持部19A,19Aと、加熱体18側のスタッド52,52とにより隙間規定機構50が構成されるが、この隙間規定機構50は図1および図2において便宜上取り除かれている。また、図6および図7,および後述する図8A乃至図11において、便宜上、加熱体18から金属板20が取り外されている。
As shown in Figures 3, 6 and 7, the
本実施の形態において、プラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間αは、カード14の厚みaが約0.8mmのとき、0.5mm≦α≦0.6mmと設定されている。
In this embodiment, the minimum gap α between the
この場合、最小隙間αが0.5mmより小さいと、後述のようにインクリボン13に対して加熱体18から過度の張力が加わるため、カード14の後端にオーバーコート層13bの割れが生じる。他方、最小隙間αが0.6mmより大きいと、カード14に対してインクリボン13のオーバーコート層13bを確実に転写することができない。このため、最小隙間αは、0.5mm≦α≦0.6mmに設定されている。
In this case, if the minimum gap α is smaller than 0.5 mm, excessive tension is applied to the
またこの最小隙間αは、スタッド52,52の突出長さLを変化させることにより調整可能となっている。
This minimum gap α can also be adjusted by changing the protruding length L of the
<本実施の形態の作用>
次に、このような構成からなる本実施の形態による熱転写システム39の作用について説明する。
<Operation of this embodiment>
Next, the operation of the
まず上流側の印画装置30によって、予め表面に画像情報および文字情報が印画されたIDカード等のカード14が、熱転写システム39側へ送られる。この際、制御部35Aは導入ライン11を駆動させて、カード14を転写装置18Aに向けて搬送するとともに、ヒータ部15によりカード14を予備加熱する。一方、制御部35Aは巻取部26を駆動させてインクリボン13を、送出部25から転写装置18Aに向けて搬送する。
First, a
このとき、インクリボン13に対して送出部25に内蔵されたブレーキ機構により張力が加わる。
At this time, tension is applied to the
カード14が転写装置18Aの加熱ヘッド18aと金属板20とからなる加熱体18と、プラテンローラ19との間に到達すると、制御部35Aにより加熱体18の加熱ヘッド18aが駆動され、加熱ヘッド18aが金属板20の金属板本体20aを介してインクリボン13を加熱しながらカード14に対して押し付ける。これによって、インクリボン13のオーバーコート層13bがカード14上に転写される。このことにより、カード14上に上流側の印画装置30によって予め印画された画像情報および文字情報がオーバーコート層13bにより覆われて保護される。
When the
他方、転写装置18Aの加熱体18により転写されたインクリボン13は、剥離ローラ17を介してカード14から剥離されて巻取部26に巻取られる。
On the other hand, the
この間、加熱ヘッド18aは金属板20の金属板本体20aを介してインクリボン13を加熱しながらカード14に対して押付ける。この際、インクリボン13は金属板20上を走行しながら加熱されることになるが、上述のように金属板20はその表面粗さ(Ra)が0.004~0.02μmとなっており、かつその摩擦係数が0.2以下となっている。このためインクリボン13は金属板20上をスムーズに走行することができ、金属板20上で摩擦により停止したり、無理な力が加わって破断することはない。またインクリボン13に傷が付いて、このインクリボン13の傷がカード14に転写されることもない。さらに金属板20は優れた熱伝導性をもつ銅製またはアルミニウム製からなっているため、加熱ヘッド18aの熱をスムーズにインクリボン13側へ伝えることができる。
During this time, the
次にプラテンローラ19と加熱体18との間でカード14に対してインクリボン13を熱転写する熱転写作用について、図8A乃至図10Bおよび図11により、詳しく述べる。
Next, the thermal transfer action of thermally transferring the
まず図8Aおよび図8Bに示すように、カード14とインクリボン13がプラテンローラ19と加熱体18との間まで搬送される。このとき支持フレーム21は上方へ待機しており、プラテンローラ19に対して加熱体18は上方へ離れた位置にある。
First, as shown in Figures 8A and 8B, the
次にカード14の先端部がプラテンローラ19と加熱体18との間に達すると、支持フレーム21が降下し、カード14およびインクリボン13がプラテンローラ19と加熱体18との間で挟持される。そしてこの状態で図9Aおよび図9Bに示すように、カード14とインクリボン13がプラテンローラ19と加熱体18との間で挟持されながら搬送方向(図9Aの右方向)へ搬送される。
Next, when the leading edge of the
この間、支持フレーム21は、スプリング54により下方へ押圧されるため、加熱体18はプラテンローラ19側へ常時押圧される。このため、プラテンローラ19と加熱体18との間の隙間は、インクリボン13の厚みを無視するとカードの厚みa(約0.8mm)に設定される(図6参照)。
During this time, the
このようにカード14とインクリボン13がプラテンローラ19と加熱体18との間で挟持されながら搬送される間、上述のようにインクリボン13のオーバーコート層13bがカード14上に転写される。
As the
このとき、プラテンローラ19側の支持部19Aと、加熱体18側のスタッド52との間の隙間はbとなる(図6参照)。
At this time, the gap between the
このようにしてインクリボン13のオーバーコート層13bがカード14上に転写されると、カード14の搬送方向後端がプラテンローラ19と加熱体18との間に達し、次にカード14がプラテンローラ19と加熱体18との間から離れる(図10Aおよび図10B参照)。
When the overcoat layer 13b of the
この場合、支持フレーム21が常時スプリング54により下方へ押圧されているため、加熱体18がプラテンローラ19側へ降下する。この際、プラテンローラ19側の支持部19Aに対して、加熱体18側のスタッド52が当接し、支持部19Aとスタッド52との間の隙間は0となる。
In this case, the
このとき、プラテンローラ19と加熱体18との間の隙間は、最小隙間αに保たれる。
At this time, the gap between the
本実施の形態において、プラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間αは、α=a-bとして規定される。
In this embodiment, the minimum gap α between the
そしてこのαはカード14の厚みa=約0.8mmのとき、0.5mm≦α≦0.6mmに設定されている。
When the thickness a of the
このようにプラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間αを、0.5mm≦α≦0.6mmと設定することにより、カード14の搬送方向後端がプラテンローラ19と加熱体18との間から離れ、加熱体18がプラテンローラ19側へ降下しても、加熱体18の降下距離を小さく、例えば0.2~0.3mm程度に抑えることができる。
By setting the minimum gap α between the
また、カード14の搬送方向後端がプラテンローラ19と加熱体18との間から離れる際、加熱体18の降下距離を小さく抑えることができるため、加熱体18が大きく降下して、その際インクリボン13に対して加熱体18から過度に張力が加わることはない。この結果として、インクリボン13に過度に張力が加わった際にカード14の後端に生じるオーバーコート層13bの割れを確実に防止することができる。
In addition, when the rear end of the
次に比較例としての熱転写システムについて図11により説明する。 Next, a comparative thermal transfer system will be described with reference to Figure 11.
図11に示すように、加熱体18側にスタッド52を設けない場合、プラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間αは0となる。この場合、カード14の搬送方向後端がプラテンローラ19と加熱体18との間から離れる際、加熱体18がプラテンローラ19側へカード14の厚みaだけ(例えば0.8mm)降下してしまうことが考えられる。この場合は、加熱体18が大きく降下し、インクリボン13に対して加熱体18から過度に張力が加わる。この結果として、インクリボン13に過度に張力が加わることにより、カード14の後端にオーバーコート層13bの割れが生じてしまう。
As shown in FIG. 11, if no
これに対して本実施の形態によれば、カード14の搬送方向後端がプラテンローラ19と加熱体18との間から離れる際、加熱体18の降下距離を小さく抑えることができるため、加熱体18が大きく降下して、その際インクリボン13に対して加熱体18から過度に張力が加わることはない。この結果として、カード14の後端に生じるオーバーコート層13bの割れを確実に防止することができる。
In contrast, according to this embodiment, when the rear end of the
ところで、プラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間αを、0.5mm≦α≦0.6mmと設定した理由を整理すると、以下のようなものである。
The reason why the minimum gap α between the
すなわち、最小隙間αが0.5mmより小さいと、例えば0.5mmより小さいと、カード14の搬送方向後端がプラテンローラ19と加熱体18との間から離れる際、加熱体18が大きく降下して、インクリボン13に対して加熱体18から過度の張力が加わるため、カード14の後端にオーバーコート層13bの割れが生じてしまう。このため最小隙間αは上述のように、0.5mm以上となっている。
In other words, if the minimum gap α is smaller than 0.5 mm, for example if it is smaller than 0.5 mm, when the trailing end of the
他方、最小隙間αが0.6mmより大きいと、カード14の厚みにバラツキが生じカード14の厚みが薄くなると、熱転写作用中にプラテンローラ19と加熱体18との間でカード14とインクリボン13とを確実に挟持することができずカード14に対してインクリボン13のオーバーコート層13bを確実に転写することができない。このため最小隙間αは上述のように0.6mm以下となっている。
On the other hand, if the minimum gap α is greater than 0.6 mm, the thickness of the
以上のように本実施の形態によれば、プラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間αを0.5mm≦α≦0.6mmと定めることにより、最小隙間αを0.5mm以上とすることができる。カード14の後端がプラテンローラ19と加熱体18との間から離れる際に、加熱体18の降下距離を小さく抑えることができ、この結果としてカード14の後端にオーバーコート層13bの割れが発生することはない。また最小隙間αを0.6mm以下とすることができ、プラテンローラ19と加熱体18との間でカード14とインクリボン13とを確実に挟持してカード14に対してインクリボン13のオーバーコート層13bを確実に転写することができる。
As described above, according to this embodiment, the minimum gap α between the
また本実施の形態によれば、スタッド52は支持フレーム21に対して突出長さLが可変となるよう取り付けられているため、スタッド52の突出長さLを変えることで、装置の実情に合わせてプラテンローラ19と加熱体18との間の最小隙間αを0.5mm≦α≦0.6mmの間の適切な値に設定することができる。
In addition, according to this embodiment, the
11 導入ライン
12 排出ライン
13 インクリボン
13a 支持層
13b オーバーコート層
14 カード
15 ヒータ部
16 案内ローラ
17 剥離ローラ
18 加熱体
18A 転写装置
18a 加熱ヘッド
19 プラテンローラ
19A 支持部
19a 回転軸
20 金属板
20a 金属板本体
20b 支持板
21 支持フレーム
22 取付ボルト
23 取付ボルト
25 送出部
26 巻取部
50 隙間規定機構
52 スタッド
54 スプリング
REFERENCE SIGNS
Claims (2)
前記被転写体側に設けられたプラテンローラと、
前記転写媒体側に設けられ、前記プラテンローラとの間で前記転写媒体と前記被転写体を挟持して、前記転写媒体の前記転写層を前記被転写体に対して転写する加熱体とを備え、
前記転写層がオーバーコート層からなり、
前記プラテンローラと前記加熱体との間に、前記プラテンローラと前記加熱体との間の最小隙間αを規定する隙間規定機構が設けられ、この隙間規定機構により前記最小隙間αは0.5mm≦α≦0.6mmとなり、
前記加熱体は、支持フレームにより支持され、前記支持フレームに前記支持フレームを前記プラテン側に向かって押圧する一対のスプリングが取り付けられ、
前記隙間規定機構は前記プラテンローラを支持する一対の支持部と、前記加熱体側に取り付けられ、各々が前記プラテンローラの対応する支持部に当接する一対のスタッドとを有し、前記支持フレーム上で前記一対のスタッド間に前記一対のスプリングが配置されている、熱転写システム。 A thermal transfer system for transferring a transfer layer onto a transfer-receiving body using a transfer medium having a support layer and a transfer layer, comprising:
a platen roller provided on the transfer object side;
a heating member provided on the transfer medium side, sandwiching the transfer medium and the object to be transferred between the platen roller and the heating member, and transferring the transfer layer of the transfer medium to the object to be transferred;
the transfer layer is an overcoat layer,
a gap regulation mechanism is provided between the platen roller and the heating body for regulating a minimum gap α between the platen roller and the heating body, and the minimum gap α is 0.5 mm≦α≦0.6 mm by this gap regulation mechanism ;
the heating element is supported by a support frame, and a pair of springs are attached to the support frame to press the support frame toward the platen;
a pair of support portions for supporting the platen roller, and a pair of studs attached to the heater side, each of which abuts against a corresponding support portion of the platen roller; and a pair of springs disposed between the pair of studs on the support frame.
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