JP7419097B2 - Curable composition, cured product, near-infrared absorption filter, method for producing cured product, method for producing near-infrared absorption filter, low-temperature storage method for curable composition, method for transporting curable composition, and method for producing curable composition How to provide - Google Patents

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Description

本発明は、近赤外線吸収フィルタを製造することができる硬化性組成物、硬化物、近赤外線吸収フィルタ、硬化物の製造方法、近赤外線吸収フィルタの製造方法、硬化性組成物の低温保管方法、硬化性組成物の輸送方法、及び硬化性組成物の提供方法に関する。 The present invention provides a curable composition capable of producing a near-infrared absorption filter, a cured product, a near-infrared absorption filter, a method for producing a cured product, a method for producing a near-infrared absorption filter, a method for storing a curable composition at low temperature, The present invention relates to a method for transporting a curable composition and a method for providing a curable composition.

可視光は透過するが近赤外光をカットする光学フィルタ(近赤外線吸収フィルタ)が、種々の用途に使用されている。
例えば、デジタルスチルカメラやビデオカメラ等の撮像装置には、CCD(電荷結合素子)やCMOS(相補型金属酸化膜半導体)等の固体撮像素子が使用され、これら固体撮像素子には、近赤外線をカットして視感度補正を行うための近赤外線吸収フィルタが使用されている。
Optical filters (near-infrared absorption filters) that transmit visible light but cut near-infrared light are used for various purposes.
For example, solid-state imaging devices such as CCD (charge-coupled device) and CMOS (complementary metal-oxide semiconductor) are used in imaging devices such as digital still cameras and video cameras. A near-infrared absorption filter is used to cut and correct visibility.

近赤外線吸収フィルタは、例えば、近赤外線吸収剤及び溶剤を含む組成物を用いて製造される(特許文献1参照)。 A near-infrared absorption filter is manufactured using, for example, a composition containing a near-infrared absorber and a solvent (see Patent Document 1).

特表2018-043185号公報Special table 2018-043185 publication

近年、素子の小型化が求められている。近赤外線吸収フィルタを製造するための組成物における近赤外線吸収剤の含有量を多くすることで、近赤外線吸収フィルタを薄くすることができ、素子の小型化に貢献できる。このため、近赤外線吸収フィルタを製造するための組成物には、近赤外線吸収剤の溶剤溶解性が高いことが望まれる。 In recent years, there has been a demand for smaller devices. By increasing the content of the near-infrared absorbing agent in the composition for producing the near-infrared absorption filter, the near-infrared absorption filter can be made thinner, contributing to miniaturization of the device. For this reason, it is desired that the near-infrared absorbent has high solvent solubility in a composition for producing a near-infrared absorbing filter.

また、近赤外線吸収フィルタを製造するための組成物は、組成物の製造場所や近赤外線吸収フィルタの製造場所等で保管された後に使用されることや、組成物の製造場所から近赤外線吸収フィルタの製造場所まで移送されることが多い。近赤外線吸収フィルタを製造するための組成物が熱硬化性材料を含むと、組成物を加熱して硬化することにより近赤外線吸収フィルタを製造することができるが、熱硬化性材料を含む組成物は、保管や移送時に熱硬化性材料が反応して変質してしまう場合がある。熱硬化性材料の反応を防ぐために、熱硬化性材料を含む組成物の保管や移送を低温下で行うことが考えられるが、保管や移送を低温下で行うと、析出物が生じてしまう場合があるという問題がある。したがって、近赤外線吸収フィルタを製造するための組成物には、低温安定性に優れること、すなわち、低温下で保管や移送をしても析出物が生じ難いことも望まれる。 In addition, the composition for manufacturing the near-infrared absorption filter may be used after being stored at the composition manufacturing site or the near-infrared absorption filter manufacturing site, or the near-infrared absorption filter may be used from the composition manufacturing site. It is often transported to the production site. When the composition for producing a near-infrared absorption filter contains a thermosetting material, the near-infrared absorption filter can be produced by heating and curing the composition. The thermosetting material may react and deteriorate during storage or transportation. In order to prevent the reaction of thermosetting materials, it is possible to store and transport compositions containing thermosetting materials at low temperatures, but if storage and transport are performed at low temperatures, precipitates may form. There is a problem that there is. Therefore, it is also desired that a composition for producing a near-infrared absorption filter has excellent low-temperature stability, that is, it does not easily generate precipitates even when stored or transported at low temperatures.

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、近赤外線吸収剤の溶剤溶解性及び低温安定性に優れた硬化性組成物と、当該硬化性組成物を用いた硬化物及び近赤外線吸収フィルタと、当該硬化物の製造方法及び当該近赤外線吸収フィルタの製造方法と、前述の硬化性組成物の低温保管方法及び前述の硬化性組成物の輸送方法と、前述の硬化性組成物の提供方法とを提供することを目的とする。 The present invention was made in view of the above problems, and provides a curable composition with excellent solvent solubility and low-temperature stability of a near-infrared absorber, a cured product using the curable composition, and a near-infrared absorbent. An absorption filter, a method for producing the cured product, a method for producing the near-infrared absorption filter, a method for storing the above-mentioned curable composition at a low temperature, a method for transporting the above-mentioned curable composition, and a method for producing the above-mentioned curable composition. The purpose is to provide a method of providing information.

本発明者らは、熱硬化性材料(A)と、近赤外線吸収染料(B)と、溶剤(S)とを含み、近赤外線吸収染料(B)が、>N=で表される部分構造を有し、溶剤(S)が、ハンセン溶解度パラメータの極性項δpが12(MPa0.5)以上である溶剤(S1)を含み、近赤外線吸収染料(B)の質量に対する溶剤(S1)の質量の比が、30以上である組成物によって上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。より具体的には、本発明は以下のものを提供する。 The present inventors have developed a method that includes a thermosetting material (A), a near-infrared absorbing dye (B), and a solvent (S), where the near-infrared absorbing dye (B) is a portion represented by >N + =. structure, the solvent (S) contains a solvent (S1) in which the polar term δp of the Hansen solubility parameter is 12 (MPa 0.5 ) or more, and the solvent (S1) is based on the mass of the near-infrared absorbing dye (B). It has been discovered that the above problems can be solved by a composition in which the mass ratio of is 30 or more, and the present invention has been completed. More specifically, the present invention provides the following.

本発明の第1の態様は、熱硬化性材料(A)と、近赤外線吸収染料(B)と、溶剤(S)とを含み、近赤外線吸収染料(B)が、>N=で表される部分構造を有し、溶剤(S)が、ハンセン溶解度パラメータの極性項δpが12(MPa0.5)以上である溶剤(S1)を含み、近赤外線吸収染料(B)の質量に対する溶剤(S1)の質量の比が、30以上である、硬化性組成物である。 A first aspect of the present invention comprises a thermosetting material (A), a near-infrared absorbing dye (B), and a solvent (S), wherein the near-infrared absorbing dye (B) is expressed by >N + = The solvent (S) has a partial structure of A curable composition in which the mass ratio of (S1) is 30 or more.

本発明の第2の態様は、第1の態様にかかる硬化性組成物の硬化物である。 The second aspect of the present invention is a cured product of the curable composition according to the first aspect.

本発明の第3の態様は、第1の態様にかかる硬化性組成物の硬化物からなる、近赤外線吸収フィルタである。 A third aspect of the present invention is a near-infrared absorption filter comprising a cured product of the curable composition according to the first aspect.

本発明の第4の態様は、第1の態様にかかる硬化性組成物を硬化することを含む、硬化物の製造方法である。 A fourth aspect of the present invention is a method for producing a cured product, which includes curing the curable composition according to the first aspect.

本発明の第5の態様は、第1の態様にかかる硬化性組成物を硬化することを含む、近赤外線吸収フィルタの製造方法である。 A fifth aspect of the present invention is a method for producing a near-infrared absorption filter, which includes curing the curable composition according to the first aspect.

本発明の第6の態様は、第1の態様にかかる硬化性組成物を、10℃以下で保管する、硬化性組成物の低温保管方法である。 A sixth aspect of the present invention is a low-temperature storage method for a curable composition, in which the curable composition according to the first aspect is stored at 10° C. or lower.

本発明の第7の態様は、第1の態様にかかる硬化性組成物を、10℃以下で輸送機により輸送する、硬化性組成物の輸送方法である。 A seventh aspect of the present invention is a method for transporting a curable composition, in which the curable composition according to the first aspect is transported by a transporter at a temperature of 10° C. or lower.

本発明の第8の態様は、第4の態様にかかる硬化物の製造方法を実行するプロセスライン、又は、第5の態様にかかる近赤外線吸収フィルタの製造方法を実行するプロセスラインに対し、第6の態様にかかる硬化性組成物の低温保管方法によって保管された硬化性組成物を提供する、硬化性組成物の提供方法である。 An eighth aspect of the present invention provides a process line that executes the method for manufacturing a cured product according to the fourth aspect or a process line that executes the method for manufacturing a near-infrared absorption filter according to the fifth aspect. This is a method for providing a curable composition, which provides a curable composition stored by the method for storing a curable composition at low temperature according to the sixth aspect.

本発明によれば、近赤外線吸収フィルタを製造することができる、近赤外線吸収剤の溶剤溶解性及び低温安定性に優れた硬化性組成物と、当該硬化性組成物を用いた硬化物及び近赤外線吸収フィルタと、当該硬化物の製造方法及び当該近赤外線吸収フィルタの製造方法と、前述の硬化性組成物の低温保管方法及び前述の硬化性組成物の輸送方法と、前述の硬化性組成物の提供方法とを提供することができる。 According to the present invention, there is provided a curable composition with excellent solvent solubility and low-temperature stability of a near-infrared absorber, which can produce a near-infrared absorbing filter, and a cured product using the curable composition and a near-infrared absorbing filter. An infrared absorption filter, a method for producing the cured product, a method for producing the near-infrared absorption filter, a method for storing the curable composition at a low temperature, a method for transporting the curable composition, and the curable composition. and the provision method.

≪硬化性組成物≫
硬化性組成物は、熱硬化性材料(A)と、近赤外線吸収染料(B)と、溶剤(S)とを含む。近赤外線吸収染料(B)は、>N=で表される部分構造を有し、溶剤(S)は、ハンセン溶解度パラメータの極性項δpが12(MPa0.5)以上である溶剤(S1)を含む。近赤外線吸収染料(B)の質量に対する溶剤(S1)の質量の比は、30以上である。
≪Curable composition≫
The curable composition includes a thermosetting material (A), a near-infrared absorbing dye (B), and a solvent (S). The near-infrared absorbing dye (B) has a partial structure represented by >N + =, and the solvent (S) is a solvent (S1) in which the polar term δp of the Hansen solubility parameter is 12 (MPa 0.5 ) or more. )including. The ratio of the mass of the solvent (S1) to the mass of the near-infrared absorbing dye (B) is 30 or more.

この硬化性組成物は、特定構造の近赤外線吸収剤(B)と特定の溶剤(S1)とを特定の質量比で有するため、近赤外線吸収剤(B)の溶剤(S1)溶解性に優れる。このため、硬化性組成物における近赤外線吸収剤(B)の濃度を高くすることができる。よって、硬化性組成物を用いて形成される近赤外線吸収フィルタ等の硬化物を、所望の近赤外線吸収特性を有しつつ薄くすることができ、近赤外線吸収フィルタ等の硬化物を具備する素子を小型化することができる。
また、この硬化性組成物は、低温安定性に優れる、すなわち低温下で保管や移送しても析出物が生じ難い。例えば、硬化性組成物を10℃以下で保管や移送しても、析出物が生じない。
硬化性組成物の必須又は任意の成分と、製造方法とについて説明する。
This curable composition has a near-infrared absorber (B) with a specific structure and a specific solvent (S1) in a specific mass ratio, so it has excellent solubility of the near-infrared absorber (B) in the solvent (S1). . Therefore, the concentration of the near-infrared absorber (B) in the curable composition can be increased. Therefore, a cured product such as a near-infrared absorption filter formed using a curable composition can be made thin while having desired near-infrared absorption characteristics, and an element including the cured product such as a near-infrared absorption filter can be made thin. can be downsized.
Further, this curable composition has excellent low temperature stability, that is, it does not easily generate precipitates even when stored or transferred at low temperatures. For example, even if the curable composition is stored or transported at 10° C. or lower, no precipitate is generated.
The essential or optional components of the curable composition and the manufacturing method will be explained.

<熱硬化性材料(A)>
熱硬化性材料(A)は、硬化性組成物を用いて形成される近赤外線吸収フィルタ等の硬化物の基材となる成分である。
熱硬化性材料(A)は、加熱により硬化可能な成分であれば特に制限されず、例えば、低分子化合物でも、樹脂等の高分子化合物でもよい。熱硬化性材料(A)が熱硬化性樹脂の場合、質量平均分子量は、10,000以上300,000以下が好ましく、20,000以上200,000以下がより好ましい。
熱硬化性材料(A)は、その硬化物が、可視光を透過することが好ましい。可視光とは、例えば波長380nm以上780nm未満の範囲の光である。
<Thermosetting material (A)>
The thermosetting material (A) is a component that becomes a base material of a cured product such as a near-infrared absorbing filter formed using the curable composition.
The thermosetting material (A) is not particularly limited as long as it is a component that can be cured by heating, and may be, for example, a low molecular compound or a high molecular compound such as a resin. When the thermosetting material (A) is a thermosetting resin, the mass average molecular weight is preferably 10,000 or more and 300,000 or less, more preferably 20,000 or more and 200,000 or less.
It is preferable that the cured product of the thermosetting material (A) transmits visible light. Visible light is, for example, light with a wavelength of 380 nm or more and less than 780 nm.

熱硬化性材料(A)としては、エポキシ基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基等の熱硬化性基を有する化合物が挙げられる。具体例としては、イソシアネート基やブロックイソシアネート基を有するイソシアネート化合物及びエポキシ基を有するエポキシ化合物等が挙げられる。可視光透過性(透明性)の観点から、エポキシ基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基等の熱硬化性基を有する(メタ)アクリル樹脂が好ましい。なお、本明細書において、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」の両者を意味する。
これらは、1種単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
Examples of the thermosetting material (A) include compounds having thermosetting groups such as epoxy groups, isocyanate groups, and blocked isocyanate groups. Specific examples include isocyanate compounds having an isocyanate group or blocked isocyanate group, and epoxy compounds having an epoxy group. From the viewpoint of visible light transmission (transparency), (meth)acrylic resins having thermosetting groups such as epoxy groups, isocyanate groups, and blocked isocyanate groups are preferred. In addition, in this specification, "(meth)acrylic" means both "acrylic" and "methacrylic."
These can be used alone or in combination of two or more.

良好な熱硬化性と、低温での安定性と、硬化物の良好な可視光透過性とを同時に満たす硬化性組成物を得やすいことから、熱硬化性材料は、ブロックイソシアネート基を有する(メタ)アクリル樹脂が好ましく、下記式(a1)で表される構造単位、下記式(a2)で表される構造単位、及び下記式(a3)で表される構造単位、を含む(メタ)アクリル樹脂(以下樹脂Aとも記載する)がより好ましい。

Figure 0007419097000001
(式(a1)、(a2)、及び(a3)中、Rは、それぞれ独立に水素原子、又はメチル基であり、Rは、単結合、又は炭素原子数1以上5以下のアルキレン基であり、Rは、ブロックイソシアネート基であり、Rは、2価の炭化水素基であり、Rは、単結合、又は2価の連結基であり、Rは、2以上のベンゼン環を含む炭化水素基である。) Since it is easy to obtain a curable composition that simultaneously satisfies good thermosetting properties, stability at low temperatures, and good visible light transmittance of the cured product, thermosetting materials having blocked isocyanate groups (meth ) Acrylic resin is preferable, and (meth)acrylic resin includes a structural unit represented by the following formula (a1), a structural unit represented by the following formula (a2), and a structural unit represented by the following formula (a3). (hereinafter also referred to as resin A) is more preferred.
Figure 0007419097000001
(In formulas (a1), (a2), and (a3), R 1 is each independently a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms. , R 3 is a blocked isocyanate group, R 4 is a divalent hydrocarbon group, R 5 is a single bond or a divalent linking group, and R 6 is two or more benzene groups. It is a hydrocarbon group containing a ring.)

以下、式(a1)で表される構造単位について「構造単位A1」とも記し、式(a2)で表される構造単位について「構造単位A2」とも記し、式(a3)で表される構造単位について「構造単位A3」とも記す。 Hereinafter, the structural unit represented by formula (a1) will also be referred to as "structural unit A1", the structural unit represented by formula (a2) will also be referred to as "structural unit A2", and the structural unit represented by formula (a3) It is also written as "structural unit A3".

上記式(a1)で表される構造単位A1は、Rとしてブロックイソシアネート基を有する。ブロックイソシアネート基とは、イソシアネート基が、熱解離性の保護基によりブロックされた基を意味する。
このため、構造単位A1を有する上記の樹脂を加熱した場合、ブロックイソシアネート基中の保護基が脱離し、活性なイソシアネート基が生成する。
The structural unit A1 represented by the above formula (a1) has a blocked isocyanate group as R3 . A blocked isocyanate group means a group in which an isocyanate group is blocked with a thermally dissociable protecting group.
Therefore, when the above-mentioned resin having the structural unit A1 is heated, the protective group in the blocked isocyanate group is removed and an active isocyanate group is generated.

加熱により生成するイソシアネート基は、活性水素を有する官能基と容易に反応する。ここで、上記式(a2)で表される構造単位A2は、活性水素基を有する官能基である水酸基を有する。このため、上記の樹脂を加熱すると、構造単位A1において活性なイソシアネート基が生成する。このイソシアネート基(-NCO)と、構造単位A2中の水酸基とが反応することで、ウレタン結合(-NH-CO-O-)による架橋が進行し、硬化物が形成される。 Isocyanate groups generated by heating easily react with functional groups having active hydrogen. Here, the structural unit A2 represented by the above formula (a2) has a hydroxyl group which is a functional group having an active hydrogen group. Therefore, when the above resin is heated, active isocyanate groups are generated in the structural unit A1. By reacting this isocyanate group (-NCO) with the hydroxyl group in structural unit A2, crosslinking by the urethane bond (-NH-CO-O-) progresses and a cured product is formed.

さらに、上記式(a3)で表される構造単位は、Rとして、2以上のベンゼン環を含む炭化水素基を有する。ここで、2以上のベンゼン環を含む炭化水素基は、硬化物の透明性や、良好な機械的特性及び耐熱性に寄与する。
従って、上記の樹脂を加熱する場合、樹脂の硬化が良好に進行する。
Furthermore, the structural unit represented by the above formula (a3) has a hydrocarbon group containing two or more benzene rings as R 6 . Here, the hydrocarbon group containing two or more benzene rings contributes to the transparency, good mechanical properties, and heat resistance of the cured product.
Therefore, when the above-mentioned resin is heated, curing of the resin progresses well.

以下、樹脂に含まれる必須又は任意の構造単位、樹脂の製造方法等について説明する。 The essential or optional structural units contained in the resin, the method for producing the resin, etc. will be described below.

<構造単位A1>
樹脂Aは、前述の通り、ブロックイソシアネート基を有する構造単位A1を含む。樹脂Aは、2種以上の構造単位A1を組み合わせて含んでいてもよい。
<Structural unit A1>
As described above, resin A includes a structural unit A1 having a blocked isocyanate group. Resin A may contain a combination of two or more types of structural units A1.

構造単位A1は、前述の式(a1)で表される構造単位である。式(a1)において、Rは水素原子、又はメチル基である。 Structural unit A1 is a structural unit represented by the above-mentioned formula (a1). In formula (a1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group.

式(a1)中、Rは、単結合、又は炭素原子数1以上5以下のアルキレン基である。アルキレン基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状であるのが好ましい。Rとしてのアルキレン基の具体例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、及びペンタン-1,5-ジイル基等が挙げられる。
これらの基の中では、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、及びペンタン-1,5-ジイル基が好ましく、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、及びプロパン-1,3-ジイル基がより好ましく、エタン-1,2-ジイル基が特に好ましい。
In formula (a1), R 2 is a single bond or an alkylene group having 1 or more and 5 or less carbon atoms. The alkylene group may be linear or branched, preferably linear. Specific examples of the alkylene group as R2 include methylene group, ethane-1,2-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group. , butane-1,4-diyl group, and pentane-1,5-diyl group.
Among these groups, methylene group, ethane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, and pentane-1,5-diyl group are preferred; ethane-1,2-diyl group, and propane-1,3-diyl group are more preferred, and ethane-1,2-diyl group is particularly preferred.

式(a1)中、Rは、ブロックイソシアネート基である。前述の通り、ブロックイソシアネート基とは、イソシアネート基が、熱解離性の保護基によりブロックされた基を意味する。
かかる熱解離性の保護基は、イソシアネート基と、保護基を与えるブロック剤とを反応させることにより形成される。
In formula (a1), R 3 is a blocked isocyanate group. As mentioned above, the blocked isocyanate group means a group in which the isocyanate group is blocked with a thermally dissociable protecting group.
Such a thermally dissociable protecting group is formed by reacting an isocyanate group with a blocking agent that provides a protecting group.

かかるブロック剤としては、例えば、アルコール系化合物、フェノール系化合物、アルコール系化合物及びフェノール系化合物以外の水酸基含有化合物、活性メチレン系化合物、アミン系化合物、イミン系化合物、オキシム系化合物、カルバミン酸系化合物、尿素系化合物、酸アミド系(ラクタム系)化合物、酸イミド系化合物、トリアゾール系化合物、ピラゾール系化合物、ピロール系化合物、メルカプタン系化合物、及び重亜硫酸塩等が挙げられる。 Examples of such blocking agents include alcohol compounds, phenol compounds, hydroxyl group-containing compounds other than alcohol compounds and phenol compounds, active methylene compounds, amine compounds, imine compounds, oxime compounds, and carbamic acid compounds. , urea-based compounds, acid amide-based (lactam-based) compounds, acid imide-based compounds, triazole-based compounds, pyrazole-based compounds, pyrrole-based compounds, mercaptan-based compounds, and bisulfites.

アルコール系化合物としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、sec-ブタノール、2-エチルヘキシルアルコール、1-オクタノール、2-オクタノール、シクロヘキシルアルコール、エチレングリコール、ベンジルアルコール、2,2,2-トリフルオロエタノール、2,2,2-トリクロロエタノール、2-(ヒドロキシメチル)フラン、2-メトキシエタノール、メトキシプロパノール、2-2-エトキシエタノール、n-プロポキシエタノール、2-ブトキシエタノール、2-(2-エトキシエトキシ)エタノール、2-(4-エトキシブトキシ)エタノール、2-(2-ブトキシエトキシ)エタノール、N,N-ジブチル-2-ヒドロキシアセトアミド、N-モルホリンエタノール、2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4-メタノール、3-オキサゾリジンエタノール、2-ヒドロキシメチルピリジン、フルフリルアルコール、12-ヒドロキシステアリン酸、及びメタクリル酸2-ヒドロキシエチル等が挙げられる。 Examples of alcohol compounds include methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, 2-ethylhexyl alcohol, 1-octanol, 2-octanol, cyclohexyl alcohol, ethylene glycol, benzyl alcohol, 2,2,2- Trifluoroethanol, 2,2,2-trichloroethanol, 2-(hydroxymethyl)furan, 2-methoxyethanol, methoxypropanol, 2-2-ethoxyethanol, n-propoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2-(2 -ethoxyethoxy)ethanol, 2-(4-ethoxybutoxy)ethanol, 2-(2-butoxyethoxy)ethanol, N,N-dibutyl-2-hydroxyacetamide, N-morpholineethanol, 2,2-dimethyl-1, Examples include 3-dioxolane-4-methanol, 3-oxazolidineethanol, 2-hydroxymethylpyridine, furfuryl alcohol, 12-hydroxystearic acid, and 2-hydroxyethyl methacrylate.

フェノール系化合物としては、例えば、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、2-エチルフェノール、3-エチルフェノール、4-エチルフェノール、2-n-プロピルフェノール、3-n-プロピルフェノール、4-n-プロピルフェノール、2-イソプロピルフェノール、3-イソプロピルフェノール、4-イソプロピルフェノール、2-n-ブチルフェノール、3-n-ブチルフェノール、4-n-ブチルフェノール、2-sec-ブチルフェノール、3-sec-ブチルフェノール、4-sec-ブチルフェノール、2-tert-ブチルフェノール、3-tert-ブチルフェノール、4-tert-ブチルフェノール、2-n-ヘキシルフェノール、3-n-ヘキシルフェノール、4-n-ヘキシルフェノール、2-(2-エチルヘキシル)フェノール、3-(2-エチルヘキシル)フェノール、4-(2-エチルヘキシル)フェノール、2-n-オクチルフェノール、3-n-オクチルフェノール、4-n-オクチルフェノール、2-n-ノニルフェノール、3-n-ノニルフェノール、4-n-ノニルフェノール、2,3-ジメチルフェノール、2,4-ジメチルフェノール、2,5-ジメチルフェノール、2,6-ジメチルフェノール、3,4-ジメチルフェノール、3,5-ジメチルフェノール、2,3-ジn-プロピルフェノール、2,4-ジn-プロピルフェノール、2,5-ジn-プロピルフェノール、2,6-ジn-プロピルフェノール、3,4-ジn-プロピルフェノール、3,5-ジn-プロピルフェノール、2,3-ジイソプロピルフェノール、2,4-ジイソプロピルフェノール、2,5-ジイソプロピルフェノール、2,6-ジイソプロピルフェノール、3,4-ジイソプロピルフェノール、3,5-ジイソプロピルフェノール、3-イソプロピル-2-メチルフェノール、4-イソプロピル-2-メチルフェノール、5-イソプロピル-2-メチルフェノール、6-イソプロピル-2-メチルフェノール、2-イソプロピル-3-メチルフェノール、4-イソプロピル-3-メチルフェノール、5-イソプロピル-3-メチルフェノール、6-イソプロピル-3-メチルフェノール、2-イソプロピル-4-メチルフェノール、3-イソプロピル-4-メチルフェノール、5-イソプロピル-4-メチルフェノール、6-イソプロピル-4-メチルフェノール、2,3-ジn-ブチルフェノール、2,4-ジn-ブチルフェノール、2,5-ジn-ブチルフェノール、2,6-ジn-ブチルフェノール、3,4-ジn-ブチルフェノール、3,5-ジn-ブチルフェノール、2,3-ジsec-ブチルフェノール、2,4-ジsec-ブチルフェノール、2,5-ジsec-ブチルフェノール、2,6-ジsec-ブチルフェノール、3,4-ジsec-ブチルフェノール、3,5-ジsec-ブチルフェノール、2,3-ジtert-ブチルフェノール、2,4-ジtert-ブチルフェノール、2,5-ジtert-ブチルフェノール、2,6-ジtert-ブチルフェノール、3,4ジtert-ブチルフェノール、3,5-ジtert-ブチルフェノール、2,3-ジn-オクチルフェノール、2,4-ジn-オクチルフェノール、2,5-ジn-オクチルフェノール、2,6-ジn-オクチルフェノール、3,4-ジn-オクチルフェノール、3,5-ジn-オクチルフェノール、2,3-ジ2-エチルヘキシルフェノール、2,4-ジ2-エチルヘキシルフェノール、2,5-ジ2-エチルヘキシルフェノール、2,6-ジ2-エチルヘキシルフェノール、3,4-ジ2-エチルヘキシルフェノール、3,5-ジ2-エチルヘキシルフェノール、2,3-ジn-ノニルフェノール、2,4-ジn-ノニルフェノール、2,5-ジn-ノニルフェノール、2,6-ジn-ノニルフェノール、3,4-ジn-ノニルフェノール、3,5-ジn-ノニルフェノール、2-ニトロフェノール、3-ニトロフェノール、4-ニトロフェノール、2-ブロモフェノール、3-ブロモフェノール、4-ブロモフェノール2-クロロフェノール、3-クロロフェノール、4-クロロフェノール、2-フルオロフェノール、3-フルオロフェノール、4-フルオロフェノール、スチレン化フェノール(α-メチルベンジル基によるフェノールのモノ、ジ、又はトリ置換体)、サリチル酸メチル、4-ヒドロキシ安息香酸メチル、4-ヒドロキシ安息香酸ベンジル、4-ヒドロキシ安息香酸2-エチルヘキシル、4-[(ジメチルアミノ)メチル]フェノール、4-[(ジメチルアミノ)メチル]ノニルフェノール、ビス(4-ヒドロキシフェニル)酢酸、2-ヒドロキシピリジン、2-ヒドロキシキノリン、8-ヒドロキシキノリン、及び2-クロロ-3-ピリジノール等が挙げられる。 Examples of phenolic compounds include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2-ethylphenol, 3-ethylphenol, 4-ethylphenol, 2-n-propylphenol, 3-n-propylphenol. , 4-n-propylphenol, 2-isopropylphenol, 3-isopropylphenol, 4-isopropylphenol, 2-n-butylphenol, 3-n-butylphenol, 4-n-butylphenol, 2-sec-butylphenol, 3-sec -butylphenol, 4-sec-butylphenol, 2-tert-butylphenol, 3-tert-butylphenol, 4-tert-butylphenol, 2-n-hexylphenol, 3-n-hexylphenol, 4-n-hexylphenol, 2- (2-ethylhexyl)phenol, 3-(2-ethylhexyl)phenol, 4-(2-ethylhexyl)phenol, 2-n-octylphenol, 3-n-octylphenol, 4-n-octylphenol, 2-n-nonylphenol, 3 -n-nonylphenol, 4-n-nonylphenol, 2,3-dimethylphenol, 2,4-dimethylphenol, 2,5-dimethylphenol, 2,6-dimethylphenol, 3,4-dimethylphenol, 3,5- Dimethylphenol, 2,3-di-n-propylphenol, 2,4-di-n-propylphenol, 2,5-di-n-propylphenol, 2,6-di-n-propylphenol, 3,4-di-n- Propylphenol, 3,5-di-n-propylphenol, 2,3-diisopropylphenol, 2,4-diisopropylphenol, 2,5-diisopropylphenol, 2,6-diisopropylphenol, 3,4-diisopropylphenol, 3, 5-diisopropylphenol, 3-isopropyl-2-methylphenol, 4-isopropyl-2-methylphenol, 5-isopropyl-2-methylphenol, 6-isopropyl-2-methylphenol, 2-isopropyl-3-methylphenol, 4-isopropyl-3-methylphenol, 5-isopropyl-3-methylphenol, 6-isopropyl-3-methylphenol, 2-isopropyl-4-methylphenol, 3-isopropyl-4-methylphenol, 5-isopropyl-4 -Methylphenol, 6-isopropyl-4-methylphenol, 2,3-di-n-butylphenol, 2,4-di-n-butylphenol, 2,5-di-n-butylphenol, 2,6-di-n-butylphenol, 3 , 4-di-n-butylphenol, 3,5-di-n-butylphenol, 2,3-disec-butylphenol, 2,4-disec-butylphenol, 2,5-disec-butylphenol, 2,6-disec -butylphenol, 3,4-disec-butylphenol, 3,5-disec-butylphenol, 2,3-di-tert-butylphenol, 2,4-di-tert-butylphenol, 2,5-di-tert-butylphenol, 2, 6-di-tert-butylphenol, 3,4-di-tert-butylphenol, 3,5-di-tert-butylphenol, 2,3-di-n-octylphenol, 2,4-di-n-octylphenol, 2,5-di-n-octylphenol , 2,6-di-n-octylphenol, 3,4-di-n-octylphenol, 3,5-di-n-octylphenol, 2,3-di-2-ethylhexylphenol, 2,4-di-2-ethylhexylphenol, 2, 5-di2-ethylhexylphenol, 2,6-di2-ethylhexylphenol, 3,4-di2-ethylhexylphenol, 3,5-di2-ethylhexylphenol, 2,3-di-n-nonylphenol, 2,4 -Di-n-nonylphenol, 2,5-di-n-nonylphenol, 2,6-di-n-nonylphenol, 3,4-di-n-nonylphenol, 3,5-di-n-nonylphenol, 2-nitrophenol, 3-nitro Phenol, 4-nitrophenol, 2-bromophenol, 3-bromophenol, 4-bromophenol 2-chlorophenol, 3-chlorophenol, 4-chlorophenol, 2-fluorophenol, 3-fluorophenol, 4-fluorophenol , styrenated phenol (mono-, di-, or tri-substitution of phenol by α-methylbenzyl group), methyl salicylate, methyl 4-hydroxybenzoate, benzyl 4-hydroxybenzoate, 2-ethylhexyl 4-hydroxybenzoate, 4 -[(dimethylamino)methyl]phenol, 4-[(dimethylamino)methyl]nonylphenol, bis(4-hydroxyphenyl)acetic acid, 2-hydroxypyridine, 2-hydroxyquinoline, 8-hydroxyquinoline, and 2-chloro- Examples include 3-pyridinol.

アルコール系化合物及びフェノール系化合物以外の水酸基含有化合物としては、例えば、N-ヒドロキシスクシンイミド、及びトリフェニルシラノールが挙げられる。 Examples of hydroxyl group-containing compounds other than alcohol compounds and phenol compounds include N-hydroxysuccinimide and triphenylsilanol.

活性メチレン系化合物としては、例えば、メルドラム酸、マロン酸ジアルキル(例えば、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジn-ブチル、マロン酸ジtert-ブチル、マロン酸ジ2-エチルヘキシル、マロン酸メチルn-ブチル、マロン酸エチルn-ブチル、マロン酸メチルsec-ブチル、マロン酸エチルsec-ブチル、マロン酸メチルtert-ブチル、マロン酸エチルtert-ブチル、メチルマロン酸ジエチル、マロン酸ジベンジル、マロン酸ジフェニル、マロン酸ベンジルメチル、マロン酸エチルフェニル、マロン酸tert-ブチルフェニル、及びイソプロピリデンマロネート等)、アセト酢酸アルキル(例えば、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸n-プロピル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸n-ブチル、アセト酢酸tert-ブチル、アセト酢酸ベンジル、及びアセト酢酸フェニル等)、2-アセトアセトキシエチルメタクリレート、アセチルアセトン、及びシアノ酢酸エチル等が挙げられる。 Examples of active methylene compounds include Meldrum's acid, dialkyl malonate (e.g., dimethyl malonate, diethyl malonate, di-n-butyl malonate, di-tert-butyl malonate, di-2-ethylhexyl malonate, methyl malonate). n-butyl, ethyl n-butyl malonate, methyl sec-butyl malonate, ethyl sec-butyl malonate, methyl tert-butyl malonate, ethyl tert-butyl malonate, diethyl methylmalonate, dibenzyl malonate, malonic acid diphenyl, benzylmethyl malonate, ethylphenyl malonate, tert-butylphenyl malonate, isopropylidene malonate, etc.), alkyl acetoacetate (e.g., methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, n-propyl acetoacetate, isopropyl acetoacetate) , n-butyl acetoacetate, tert-butyl acetoacetate, benzyl acetoacetate, phenyl acetoacetate, etc.), 2-acetoacetoxyethyl methacrylate, acetylacetone, and ethyl cyanoacetate.

アミン系化合物としては、例えば、ジブチルアミン、ジフェニルアミン、アニリン、N-メチルアニリン、カルバゾール、ビス(2,2,6,6-テトラメチルピペリジニル)アミン、ジn-プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、イソプロピルエチルアミン、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンアミン、2,2,5-トリメチルヘキサメチレンアミン、N-イソプロピルシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ビス(3,5,5-トリメチルシクロヘキシル)アミン、ピペリジン、2,6-ジメチルピペリジン、tert-ブチルメチルアミン、tert-ブチルエチルアミン、tert-ブチルn-プロピルアミン、tert-ブチルn-ブチルアミン、tert-ブチルベンジルアミン、tert-ブチルフェニルアミン、2,2,6-トリメチルピペリジン、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、(ジメチルアミノ)-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジン、6-メチル-2-ピペリジン、及び6-アミノカプロン酸等が挙げられる。 Examples of amine compounds include dibutylamine, diphenylamine, aniline, N-methylaniline, carbazole, bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl)amine, di-n-propylamine, diisopropylamine, isopropyl Ethylamine, 2,2,4-trimethylhexamethyleneamine, 2,2,5-trimethylhexamethyleneamine, N-isopropylcyclohexylamine, dicyclohexylamine, bis(3,5,5-trimethylcyclohexyl)amine, piperidine, 2, 6-dimethylpiperidine, tert-butylmethylamine, tert-butylethylamine, tert-butyl n-propylamine, tert-butyl n-butylamine, tert-butylbenzylamine, tert-butylphenylamine, 2,2,6-trimethyl Piperidine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, (dimethylamino)-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine, 6-methyl- Examples include 2-piperidine and 6-aminocaproic acid.

イミン系化合物としては、例えば、エチレンイミン、ポリエチレンイミン、1,4,5,6-テトラヒドロピリミジン、及びグアニジン等が挙げられる。 Examples of imine compounds include ethyleneimine, polyethyleneimine, 1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, and guanidine.

オキシム系化合物としては、例えば、ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム、ジアセチルモノオキシム、ベンゾフェノンオキシム、2,2,6,6-テトラメチルシクロヘキサノンオキシム、ジイソプロピルケトンオキシム、メチルtert-ブチルケトンオキシム、ジイソブチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、メチルイソプロピルケトンオキシム、メチル2,4-ジメチルペンチルケトンオキシム、メチル3-エチルへプチルケトンオキシム、メチルイソアミルケトンオキシム、n-アミルケトンオキシム、2,2,4,4-テトラメチル-1,3-シクロブタンジオンモノオキシム、4,4’-ジメトキシベンゾフェノンオキシム、及び2-ヘプタノンオキシム等が挙げられる。 Examples of oxime compounds include formaldoxime, acetaldoxime, acetoxime, methylethylketoxime, cyclohexanoneoxime, diacetylmonoxime, benzophenoneoxime, 2,2,6,6-tetramethylcyclohexanoneoxime, diisopropylketoneoxime, methyl tert-butyl ketone oxime, diisobutyl ketone oxime, methyl isobutyl ketone oxime, methyl isopropyl ketone oxime, methyl 2,4-dimethylpentyl ketone oxime, methyl 3-ethyl heptyl ketone oxime, methyl isoamyl ketone oxime, n-amyl ketone oxime, Examples include 2,2,4,4-tetramethyl-1,3-cyclobutanedione monooxime, 4,4'-dimethoxybenzophenone oxime, and 2-heptanone oxime.

カルバミン酸系化合物としては、例えば、N-フェニルカルバミン酸フェニル等が挙げられる。 Examples of carbamic acid compounds include phenyl N-phenylcarbamate.

尿素系化合物としては、例えば、尿素、チオ尿素、及びエチレン尿素等が挙げられる。 Examples of urea-based compounds include urea, thiourea, and ethyleneurea.

酸アミド系(ラクタム系)化合物としては、例えば、アセトアニリド、N-メチルアセトアミド、酢酸アミド、ε-カプロラクタム、δ-バレロラクタム、γ-ブチロラクタム、ピロリドン、2,5-ピペラジンジオン、及びラウロラクタム等が挙げられる。 Examples of acid amide (lactam) compounds include acetanilide, N-methylacetamide, acetamide, ε-caprolactam, δ-valerolactam, γ-butyrolactam, pyrrolidone, 2,5-piperazinedione, and laurolactam. Can be mentioned.

酸イミド系化合物としては、例えば、コハク酸イミド、マレイン酸イミド、及びフタルイミド等が挙げられる。 Examples of acid imide compounds include succinimide, maleimide, and phthalimide.

トリアゾール系化合物としては、例えば、1,2,4-トリアゾール、及びベンゾトリアゾール等が挙げられる。 Examples of triazole compounds include 1,2,4-triazole and benzotriazole.

ピラゾール系化合物としては、例えば、ピラゾール、3,5-ジメチルピラゾール、3,5-ジイソプロピルピラゾール、3,5-ジフェニルピラゾール、3,5-ジtert-ブチルピラゾール、3-メチルピラゾール、4-ベンジル-3,5-ジメチルピラゾール、4-ニトロ-3,5-ジメチルピラゾール、4-ブロモ-3,5-ジメチルピラゾール、及び3-メチル-5-フェニルピラゾール等が挙げられる。 Examples of pyrazole compounds include pyrazole, 3,5-dimethylpyrazole, 3,5-diisopropylpyrazole, 3,5-diphenylpyrazole, 3,5-di-tert-butylpyrazole, 3-methylpyrazole, 4-benzyl- Examples include 3,5-dimethylpyrazole, 4-nitro-3,5-dimethylpyrazole, 4-bromo-3,5-dimethylpyrazole, and 3-methyl-5-phenylpyrazole.

ピロール系化合物としては、ピロール、2-メチルピロール、3-メチルピロール、2,4-ジメチルピロール等が挙げられる。 Examples of pyrrole compounds include pyrrole, 2-methylpyrrole, 3-methylpyrrole, 2,4-dimethylpyrrole, and the like.

メルカプタン系化合物としては、例えば、n-ブチルメルカプタン、n-ドデシルメルカプタン、n-ヘキシルメルカプタン、チオフェノール、及びピリジン-2-チオール等が挙げられる。 Examples of mercaptan compounds include n-butylmercaptan, n-dodecylmercaptan, n-hexylmercaptan, thiophenol, and pyridine-2-thiol.

重亜硫酸塩としては、例えば、重亜硫酸ソーダ等が挙げられる。 Examples of bisulfites include sodium bisulfite.

以上説明した式(a1)で表される構造単位A1の中では、樹脂の調製が容易であることや、硬化性が良好であること等から、下記式(a1-1)、式(a1-2)、又は式(a1-3)で表される構造単位が好ましい。

Figure 0007419097000002
(式(a1-1)、式(a1-2)及び式(a1-3)中、R、及びRは、前記式(a1)と同様であり、Rは、それぞれ独立に炭素原子数1以上12以下の有機基であり、Rは、それぞれ独立にハロゲン原子又は炭素原子数1以上6以下の有機基であり、Rは、それぞれ独立に炭素原子数1以上6以下の有機基であり、aは、0以上3以下の整数である。) Among the structural units A1 represented by the formula (a1) explained above, the following formulas (a1-1) and (a1- 2) or a structural unit represented by formula (a1-3) is preferable.
Figure 0007419097000002
(In formula (a1-1), formula (a1-2) and formula (a1-3), R 1 and R 2 are the same as in formula (a1) above, and R 7 is each independently a carbon atom. R 8 is each independently a halogen atom or an organic group having 1 to 6 carbon atoms; R 9 is each independently an organic group having 1 to 6 carbon atoms; group, and a is an integer from 0 to 3.)

式(a1-1)中、Rとしての有機基としては、炭素原子数1以上12以下のアルキル基、炭素原子数3以上12以下のシクロアルキル基、炭素原子数2以上12以下のアルコキシアルキル基、フェニル基、炭素原子数7以上12以下のフェニルアルキル基、炭素原子数2以上12以下のアシル基等が挙げられる。これらの基の中では、アルキル基が好ましく、炭素原子数1以上6以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1以上3以下のアルキル基がさらに好ましく、メチル基、又はエチル基が特に好ましい。
アルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
式(a1-1)中、二つのRは、同一であっても異なっていてもよい。
In formula (a1-1), the organic group as R 7 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and an alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms. group, a phenyl group, a phenylalkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an acyl group having 2 to 12 carbon atoms, and the like. Among these groups, an alkyl group is preferred, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferred, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is even more preferred, and a methyl group or an ethyl group is particularly preferred.
The alkyl group may be linear or branched.
In formula (a1-1), two R 7 's may be the same or different.

式(a1-2)中、Rは、ピラゾリル基上の置換基であって、それぞれ独立にハロゲン原子又は炭素原子数1以上6以下の有機基である。
の好適な例としては、ハロゲン原子、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数3以上6以下のシクロアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基、炭素原子数2以上6以下の脂肪族アシル基等が挙げられる。
としては、ハロゲン原子、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、及び炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基が好ましく、炭素原子数1以上6以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1以上3以下のアルキル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。
式(a1-2)中、aは0以上3以下の整数であり、0以上2以下の整数が好ましい。
In formula (a1-2), R 8 is a substituent on the pyrazolyl group, and each independently represents a halogen atom or an organic group having 1 or more and 6 or less carbon atoms.
Suitable examples of R8 include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and 2 carbon atoms. Examples include aliphatic acyl groups of 6 or less.
R8 is preferably a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. An alkyl group of 1 or more and 3 or less is more preferable, and a methyl group is particularly preferable.
In formula (a1-2), a is an integer of 0 or more and 3 or less, preferably an integer of 0 or more and 2 or less.

式(a1-3)中、Rとしての有機基としては、炭素原子数1以上12以下のアルキル基、炭素原子数3以上12以下のシクロアルキル基、炭素原子数2以上12以下のアルコキシアルキル基、フェニル基、炭素原子数7以上12以下のフェニルアルキル基等が挙げられる。
式(a1-3)中、二つのRは、同一であっても異なっていてもよい。
In formula (a1-3), the organic group as R 9 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and an alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms. group, a phenyl group, a phenylalkyl group having 7 or more and 12 or less carbon atoms, and the like.
In formula (a1-3), two R 9 's may be the same or different.

構造単位A1は、下記式(a-I)で表される(メタ)アクリル酸エステルを、他の構造単位を与える単量体と共重合させることにより、樹脂中に組み入れられる。
式(a-I)で表される(メタ)アクリル酸エステルの中では、下記式(a-I-1)、式(a-I-2)、又は式(a-I-3)で表される(メタ)アクリル酸エステルが好ましく、下記式(a-I-1a)、式(a-I-2a)、又は式(a-I-3a)で表される(メタ)アクリル酸エステルがより好ましい。
構造単位A1は、樹脂中に、ブロック状に存在していてもよく、ランダムに存在していてもよい。加熱によって構造単位A1中で生じるイソシアネート基と、水酸基とが良好に反応しやすい点から、構造単位A1は、樹脂中にランダムに存在するのが好ましい。

Figure 0007419097000003
The structural unit A1 is incorporated into the resin by copolymerizing a (meth)acrylic acid ester represented by the following formula (a-I) with a monomer that provides another structural unit.
Among the (meth)acrylic acid esters represented by formula (a-I), those represented by the following formula (a-I-1), formula (a-I-2), or formula (a-I-3) are The (meth)acrylic ester represented by the following formula (a-I-1a), formula (a-I-2a), or formula (a-I-3a) is preferable. More preferred.
The structural unit A1 may be present in a block shape or randomly in the resin. The structural units A1 are preferably present randomly in the resin because the isocyanate groups generated in the structural units A1 by heating are likely to react well with the hydroxyl groups.
Figure 0007419097000003

構造単位A1を与える(メタ)アクリル酸エステルの好適な具体例としては、下記の化合物が挙げられる。

Figure 0007419097000004
Preferred specific examples of the (meth)acrylic acid ester that provides the structural unit A1 include the following compounds.
Figure 0007419097000004

これらの中では、樹脂の製造が容易である点や、硬化性が良好である樹脂を得やすい点等から、下記の(メタ)アクリル酸エステルが好ましい。

Figure 0007419097000005
Among these, the following (meth)acrylic esters are preferred because they are easy to manufacture and easy to obtain resins with good curability.
Figure 0007419097000005

樹脂Aにおける構造単位A1の量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。樹脂A中の構造単位A1の含有量は、硬化性の点から、樹脂Aの全構造単位に対して、15モル%以上が好ましく、15モル%以上45モル%以下がより好ましい。良好な硬化性の点からは、樹脂A中の構造単位A1の含有量は、樹脂Aの全構造単位に対して、20モル%以上40モル%以下が好ましく、25モル%以上35モル%以下がより好ましい。 The amount of structural unit A1 in resin A is not particularly limited as long as it does not impede the object of the present invention. From the viewpoint of curability, the content of the structural unit A1 in the resin A is preferably 15 mol% or more, more preferably 15 mol% or more and 45 mol% or less, based on the total structural units of the resin A. From the viewpoint of good curability, the content of structural unit A1 in resin A is preferably 20 mol% or more and 40 mol% or less, and 25 mol% or more and 35 mol% or less, based on the total structural units of resin A. is more preferable.

<構造単位A2>
構造単位A2は、前述の式(a2)で表される構造単位である。式(a2)において、Rは水素原子、又はメチル基である。
<Structural unit A2>
Structural unit A2 is a structural unit represented by the above-mentioned formula (a2). In formula (a2), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group.

式(a2)中、Rは2価の炭化水素基である。Rとしての炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であっても、芳香族炭化水素基であっても、脂肪族部分と芳香族部分とを有する炭化水素基であってもよい。樹脂の硬化性の点からは、Rは2価の脂肪族炭化水素基であるのが好ましい。Rが2価の脂肪族炭化水素基である場合、脂肪族炭化水基の構造は、直鎖状であっても、分岐鎖状であっても、環状であっても、これらを組み合わせた構造であってもよく、直鎖状が好ましい。 In formula (a2), R 4 is a divalent hydrocarbon group. The hydrocarbon group as R 4 may be an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, or a hydrocarbon group having an aliphatic portion and an aromatic portion. From the viewpoint of curability of the resin, R 4 is preferably a divalent aliphatic hydrocarbon group. When R 4 is a divalent aliphatic hydrocarbon group, the structure of the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic, or a combination of these. It may have any structure, preferably linear.

としての炭化水素基の炭素原子数は特に限定されない。炭化水素基が脂肪族炭化水素基である場合、炭素原子数は1以上20以下が好ましく、2以上10以下がより好ましく、2以上6以下が特に好ましい。炭化水素基が、芳香族基であるか、脂肪族部分と芳香族部分とを有する炭化水素基である場合、炭素原子数は6以上20以下が好ましく、6以上12以下がより好ましい。 The number of carbon atoms in the hydrocarbon group as R 4 is not particularly limited. When the hydrocarbon group is an aliphatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 2 or more and 10 or less, particularly preferably 2 or more and 6 or less. When the hydrocarbon group is an aromatic group or a hydrocarbon group having an aliphatic portion and an aromatic portion, the number of carbon atoms is preferably 6 or more and 20 or less, more preferably 6 or more and 12 or less.

2価の脂肪族炭化水素基の具体例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、エタン-1.1-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基、ヘプタデカン-1,17-ジイル基、オクタデカン-1,18-ジイル基、ノナデカン-1,19-ジイル基、及びイコサン-1,20-ジイル基が挙げられる。
これらの中では、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基、ヘプタデカン-1,17-ジイル基、オクタデカン-1,18-ジイル基、ノナデカン-1,19-ジイル基、及びイコサン-1,20-ジイル基が好ましく、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、及びデカン-1,10-ジイル基がより好ましく、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、及びヘキサン-1,6-ジイル基がより好ましい。
Specific examples of divalent aliphatic hydrocarbon groups include methylene group, ethane-1,2-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,3-diyl group, and propane-1,2-diyl group. Diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane- 1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group, heptadecane-1,17-diyl group, octadecane-1,18-diyl group, nonadecane-1,19-diyl group, and icosane- A 1,20-diyl group is mentioned.
Among these, methylene group, ethane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, Diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane- 1,12-diyl group, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group, heptadecane-1,17-diyl group group, octadecane-1,18-diyl group, nonadecane-1,19-diyl group, and icosane-1,20-diyl group are preferred, methylene group, ethane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group Diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane- 1,9-diyl group and decane-1,10-diyl group are more preferred, and ethane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1 ,5-diyl group, and hexane-1,6-diyl group are more preferred.

2価の芳香族炭化水素基の具体例としては、p-フェニレン基、m-フェニレン基、o-フェニレン基、ナフタレン-1,4-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、及びナフタレン-2,7-ジイル基等が挙げられ、p-フェニレン基、m-フェニレン基が好ましく、p-フェニレン基がより好ましい。 Specific examples of the divalent aromatic hydrocarbon group include p-phenylene group, m-phenylene group, o-phenylene group, naphthalene-1,4-diyl group, naphthalene-2,6-diyl group, and naphthalene- Examples include 2,7-diyl group, p-phenylene group and m-phenylene group are preferred, and p-phenylene group is more preferred.

構造単位A2は、下記式(a-II)で表される(メタ)アクリル酸エステルを、他の構造単位を与える単量体と共重合させることにより、樹脂中に組み入れられる。
構造単位A2は、樹脂中に、ブロック状に存在していてもよく、ランダムに存在していてもよい。加熱によって構造単位A1中で生じるイソシアネート基と、水酸基とが良好に反応しやすい点から、構造単位A2は、樹脂中にランダムに存在するのが好ましい。

Figure 0007419097000006
(式(a-II)中、R及びRは、式(a2)と同様である。) The structural unit A2 is incorporated into the resin by copolymerizing a (meth)acrylic acid ester represented by the following formula (a-II) with a monomer that provides another structural unit.
The structural unit A2 may be present in a block shape or randomly in the resin. The structural units A2 are preferably present randomly in the resin because the isocyanate groups generated in the structural units A1 by heating and the hydroxyl groups tend to react well.
Figure 0007419097000006
(In formula (a-II), R 1 and R 4 are the same as in formula (a2).)

構造単位A2を与える(メタ)アクリル酸エステルの好適な具体例としては、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレート、4-ヒドロキシフェニルアクリレート、4-ヒドロキシフェニルメタクリレート、3-ヒドロキシフェニルアクリレート、及び3-ヒドロキシフェニルメタクリレート等が挙げられる。
これらの中では、2-ヒドロキシエチルアクリレート、及び2-ヒドロキシエチルメタクリレートが好ましい。
Preferred specific examples of (meth)acrylic esters providing structural unit A2 include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, -hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxyphenyl acrylate, 4-hydroxyphenyl methacrylate, 3-hydroxyphenyl acrylate, and 3-hydroxyphenyl methacrylate.
Among these, 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate are preferred.

樹脂Aにおける構造単位A2の量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。
樹脂Aにおける構造単位A2の量は、樹脂Aの全構造単位に対して、15モル%以上が好ましく、15モル%以上45モル%以下がより好ましい。良好な硬化性の点からは、樹脂A中の構造単位A2の含有量は、樹脂Aの全構造単位に対して、20モル%以上40モル%以下が好ましく、25モル%以上35モル%以下がより好ましい。
また、樹脂A中、構造単位A1のモル数と、構造単位A2のモル数とは、構造単位A1のモル数/構造単位A2のモル数として、80/100以上100/80以下が好ましく、90/100以上100/90以下がより好ましく、95/100以上100/95以下が特に好ましい。樹脂A中、構造単位A1のモル数と、構造単位A2のモル数とは、等モルであるのが最も好ましい。
The amount of structural unit A2 in resin A is not particularly limited as long as it does not impede the object of the present invention.
The amount of structural unit A2 in resin A is preferably 15 mol% or more, more preferably 15 mol% or more and 45 mol% or less, based on the total structural units of resin A. From the viewpoint of good curability, the content of structural unit A2 in resin A is preferably 20 mol% or more and 40 mol% or less, and 25 mol% or more and 35 mol% or less, based on the total structural units of resin A. is more preferable.
In addition, the number of moles of structural unit A1 and the number of moles of structural unit A2 in resin A are preferably 80/100 or more and 100/80 or less, as the number of moles of structural unit A1/the number of moles of structural unit A2. /100 or more and 100/90 or less are more preferable, and 95/100 or more and 100/95 or less are particularly preferable. It is most preferable that the number of moles of the structural unit A1 and the number of moles of the structural unit A2 in the resin A are equal moles.

<構造単位A3>
構造単位A3は、前述の式(a3)で表される構造単位である。式(a3)において、Rは水素原子、又はメチル基である。
<Structural unit A3>
Structural unit A3 is a structural unit represented by the above-mentioned formula (a3). In formula (a3), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group.

式(a3)中、Rは、2以上のベンゼン環を含む有機基である。2以上のベンゼン環を含む有機基を、Rとして有する構造単位A3を含むことにより、良好な透明性を示す硬化物を形成できる。
に含まれる2以上のベンゼン環は、互いに縮合してもよく、単結合、又は連結基により結合されていてもよい。
の炭素原子数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。Rの炭素原子数は、10以上50以下が好ましく、10以上30以下がより好ましい。
In formula (a3), R 6 is an organic group containing two or more benzene rings. By including the structural unit A3 having an organic group containing two or more benzene rings as R 6 , a cured product exhibiting good transparency can be formed.
Two or more benzene rings contained in R 6 may be fused with each other, or may be bonded by a single bond or a linking group.
The number of carbon atoms in R 6 is not particularly limited as long as it does not impede the purpose of the present invention. The number of carbon atoms in R 6 is preferably 10 or more and 50 or less, more preferably 10 or more and 30 or less.

としての、2以上のベンゼン環を含む有機基としては、下記の多環式化合物、又は下記の多環式化合物に置換基が導入された化合物から、1つの水素原子を除いた基が挙げられる。下記式中Xは、-O-、-S-、-CO-、-SO-、-CO-NH-、-CO-NH-CO-、-NH-CO-NH-、-CO-O-、-CO-O-CO-、-O-CO-O-、-SO、-NH-、-S-S-、-CH-、-CH(CH)-、又は-C(CH-である。

Figure 0007419097000007
The organic group containing two or more benzene rings as R 6 is a group obtained by removing one hydrogen atom from the following polycyclic compound or a compound in which a substituent is introduced into the following polycyclic compound. Can be mentioned. In the following formula, X is -O-, -S-, -CO-, -SO 2 -, -CO-NH-, -CO-NH-CO-, -NH-CO-NH-, -CO-O- , -CO-O-CO-, -O-CO-O-, -SO 2 , -NH-, -S-S-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, or -C(CH 3 ) 2 -.
Figure 0007419097000007

上記の多環式化合物に導入されうる置換基としては、ハロゲン原子、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数3以上6以下のシクロアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基、炭素原子数2以上6以下の脂肪族アシル基、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。
上記の多環式化合物に置換基が導入される場合、置換基の数は特に限定されないが、4以下が好ましく、1又は2が好ましい。
Substituents that can be introduced into the above polycyclic compound include halogen atoms, alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 6 carbon atoms, and alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms. group, an aliphatic acyl group having 2 to 6 carbon atoms, a nitro group, and a cyano group.
When substituents are introduced into the above polycyclic compound, the number of substituents is not particularly limited, but is preferably 4 or less, and preferably 1 or 2.

以上説明したRとしては、下記式で表される基が好ましい。
下記式中、R10、R11、及びR13は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数3以上6以下のシクロアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基、炭素原子数2以上6以下の脂肪族アシル基、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、R12は、水素原子又は炭素原子数1以上6以下のアルキル基であり、b及びcは、それぞれ独立に0以上4以下の整数であり、dは、0以上7以下の整数である。

Figure 0007419097000008
As R 6 explained above, a group represented by the following formula is preferable.
In the following formula, R 10 , R 11 , and R 13 each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. A group selected from the group consisting of an alkoxy group having 6 or less, an aliphatic acyl group having 2 to 6 carbon atoms, a nitro group, and a cyano group, and R 12 is a hydrogen atom or a group having 1 to 6 carbon atoms. is an alkyl group, b and c are each independently an integer of 0 to 4, and d is an integer of 0 to 7.
Figure 0007419097000008

これらの基の中では、透明性の高い硬化物を形成しやすいことと、樹脂中への導入が容易であることとから、下記式で表される基が好ましく、下記式において2つのbがともに0であるビフェニリル基がより好ましい。

Figure 0007419097000009
Among these groups, the groups represented by the following formula are preferred because they easily form a highly transparent cured product and are easy to introduce into the resin, and in the following formula, two b are A biphenylyl group in which both groups are 0 is more preferred.
Figure 0007419097000009

以上説明した基Rは、Rを介して、樹脂の主鎖に結合する。Rは、単結合又は2価の連結基である。
2価の連結基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。2価の連結基の好適な例としては、炭素原子数1以上6以下のアルキレン基、-O-、-S-、-CO-、-SO-、-CO-NH-、-CO-NH-CO-、-NH-CO-NH-、-CO-O-、-CO-O-CO-、-O-CO-O-、-SO、-NH-、及び-S-S-からなる群より選択される2価基と、前述の群から選択される2以上の2価基を組み合わせた基とが挙げられる。
の中でも、単結合、炭素原子数1以上6以下のアルキレン基、及び-CO-O-が好ましく、単結合、及び-CO-O-がより好ましく、-CO-O-*(*は、式(a3)中、Rと結合する結合手の末端を表す。)が特に好ましい。なお、Rがアルキレン基である場合、アルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
The group R 6 explained above is bonded to the main chain of the resin via R 5 . R 5 is a single bond or a divalent linking group.
The divalent linking group is not particularly limited as long as it does not impede the purpose of the present invention. Suitable examples of the divalent linking group include alkylene groups having 1 to 6 carbon atoms, -O-, -S-, -CO-, -SO 2 -, -CO-NH-, -CO-NH -CO-, -NH-CO-NH-, -CO-O-, -CO-O-CO-, -O-CO-O-, -SO 2 , -NH-, and -S-S- Examples include a divalent group selected from the group and a group combining two or more divalent groups selected from the above-mentioned group.
Among R 6 , a single bond, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and -CO-O- are preferable, a single bond and -CO-O- are more preferable, and -CO-O-* (* is , which represents the terminal end of the bond bonding to R 6 in formula (a3)) is particularly preferred. In addition, when R 6 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched.

以上より、構造単位A3としては、下記式(a3-1)で表される構造単位が好ましい。式(a3-1)中、R、R10、及びbは、それぞれ前述の通りである。

Figure 0007419097000010
From the above, the structural unit A3 is preferably a structural unit represented by the following formula (a3-1). In formula (a3-1), R 1 , R 10 and b are each as described above.
Figure 0007419097000010

構造単位A3は、下記式(a-III)で表される不飽和化合物を、他の構造単位を与える単量体と共重合させることにより、樹脂中に組み入れられる。
構造単位A3は、樹脂中に、ブロック状に存在していてもよく、ランダムに存在していてもよい。構造単位A1と、構造単位A2とを、樹脂中に、均一に分布させやすいことから、構造単位A3は、樹脂中にランダムに存在するのが好ましい。
The structural unit A3 is incorporated into the resin by copolymerizing an unsaturated compound represented by the following formula (a-III) with a monomer providing another structural unit.
The structural unit A3 may be present in a block shape or randomly in the resin. Since it is easy to uniformly distribute the structural units A1 and A2 in the resin, it is preferable that the structural units A3 exist randomly in the resin.

式(a-III)で表される不飽和化合物としては、下記式(a-III-1)で表される(メタ)アクリル酸エステルが好ましく、下記式(a-III-1a)で表される(メタ)アクリル酸エステルがより好ましい。式(a-III)、式(a-III-1)、及び式(a-III-1a)において、R、R、R、R10、及びbはそれぞれ前述の通りである。

Figure 0007419097000011
As the unsaturated compound represented by the formula (a-III), a (meth)acrylic acid ester represented by the following formula (a-III-1) is preferable, and the unsaturated compound represented by the following formula (a-III-1a) is preferable. More preferred are (meth)acrylic acid esters. In formula (a-III), formula (a-III-1), and formula (a-III-1a), R 1 , R 5 , R 6 , R 10 , and b are each as described above.
Figure 0007419097000011

構造単位A3を与える不飽和化合物の好適な具体例としては、アクリル酸(1,1’-ビフェニル-4-イル)エステル、メタクリル酸(1,1’-ビフェニル-4-イル)エステル、アクリル酸(1,1’-ビフェニル-3-イル)エステル、メタクリル酸(1,1’-ビフェニル-3-イル)エステル、4-ビニル-1,1’-ビフェニル、及び3-ビニル-1,1’-ビフェニルが挙げられる。
これらの中では、アクリル酸(1,1’-ビフェニル-4-イル)エステル、及びメタクリル酸(1,1’-ビフェニル-4-イル)エステルが好ましい。
Preferred specific examples of unsaturated compounds providing structural unit A3 include acrylic acid (1,1'-biphenyl-4-yl) ester, methacrylic acid (1,1'-biphenyl-4-yl) ester, and acrylic acid (1,1'-biphenyl-4-yl) ester. (1,1'-biphenyl-3-yl) ester, methacrylic acid (1,1'-biphenyl-3-yl) ester, 4-vinyl-1,1'-biphenyl, and 3-vinyl-1,1' -Biphenyl.
Among these, acrylic acid (1,1'-biphenyl-4-yl) ester and methacrylic acid (1,1'-biphenyl-4-yl) ester are preferred.

樹脂Aにおける構造単位A3の量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。樹脂A中の構造単位A3の量は、良好な硬化性と硬化物の硬化性とから、樹脂Aの全構造単位中30モル%以上50モル%以下が好ましく、35モル%以上50モル%以下がより好ましく、40モル%以上50モル%以下が特に好ましい。 The amount of structural unit A3 in resin A is not particularly limited as long as it does not impede the object of the present invention. The amount of structural unit A3 in resin A is preferably 30 mol% or more and 50 mol% or less, and 35 mol% or more and 50 mol% or less, based on the total structural units of resin A, from the viewpoint of good curability and curability of the cured product. is more preferable, and particularly preferably 40 mol% or more and 50 mol% or less.

<その他の構造単位>
樹脂Aは、本発明の目的を阻害しない範囲において、前述の構造単位A1、構造単位A2、及び構造単位A3以外にその他構造単位を含んでいてもよい。
<Other structural units>
Resin A may contain other structural units in addition to the above-mentioned structural unit A1, structural unit A2, and structural unit A3 within a range that does not impede the object of the present invention.

その他の構造単位としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位が挙げられる。構成単位を含むものを用いることができる。(メタ)アクリル酸は、アクリル酸、又はメタクリル酸である。(メタ)アクリル酸エステルは、下記式(a-IV)で表されるものであって、本発明の目的を阻害しない限り特に限定されない。 Examples of other structural units include structural units derived from (meth)acrylic esters. Those containing structural units can be used. (Meth)acrylic acid is acrylic acid or methacrylic acid. The (meth)acrylic ester is represented by the following formula (a-IV), and is not particularly limited as long as it does not impede the purpose of the present invention.

Figure 0007419097000012
Figure 0007419097000012

上記式(a-IV)中、Ra1は、水素原子又はメチル基である。Ra11は、構造単位A1中のブロックイソシアネート基から生成したイソシアネート基と反応しうる、活性水素を含む基を有さない有機基である。
活性水素を含む基としては、例えば、水酸基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシ基等が挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
In the above formula (a-IV), R a1 is a hydrogen atom or a methyl group. R a11 is an organic group that does not have an active hydrogen-containing group that can react with the isocyanate group generated from the blocked isocyanate group in structural unit A1.
Examples of groups containing active hydrogen include hydroxyl groups, mercapto groups, amino groups, and carboxy groups. This organic group may contain a bond or substituent other than a hydrocarbon group such as a hetero atom. Further, this organic group may be linear, branched, or cyclic.

a11の有機基中の炭化水素基以外の置換基としては、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、ハロゲン原子、アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ基、シリル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、ニトロソ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオアルキル基、アリールオキシアルキル基、アリールチオアルキル基、N,N-ジ置換アミノ基(-NRR’:R及びR’はそれぞれ独立に炭化水素基を示す)等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。 Substituents other than hydrocarbon groups in the organic group of R a11 are not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, and include halogen atoms, alkylthio groups, arylthio groups, cyano groups, silyl groups, alkoxy groups, alkoxy carbonyl group, nitro group, nitroso group, acyl group, acyloxy group, alkoxyalkyl group, alkylthioalkyl group, aryloxyalkyl group, arylthioalkyl group, N,N-disubstituted amino group (-NRR': R and R' each independently represents a hydrocarbon group). The hydrogen atom included in the above substituent may be substituted with a hydrocarbon group. Moreover, the hydrocarbon group contained in the above-mentioned substituent may be linear, branched, or cyclic.

a11としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又は複素環基が好ましく、これらの基は、ハロゲン原子、アルキル基、又は複素環基で置換されていてもよい。また、これらの基がアルキレン部分を含む場合、アルキレン部分は、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。 R a11 is preferably an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a heterocyclic group, and these groups may be substituted with a halogen atom, an alkyl group, or a heterocyclic group. Further, when these groups contain an alkylene moiety, the alkylene moiety may be interrupted by an ether bond, a thioether bond, or an ester bond.

アルキル基が、直鎖状又は分岐鎖状のものである場合、その炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上15以下がより好ましく、1以上10以下が特に好ましい。好適なアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、sec-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、イソノニル基、n-デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。 When the alkyl group is linear or branched, the number of carbon atoms is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 15 or less, particularly preferably 1 or more and 10 or less. Examples of suitable alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, sec -pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group, and isodecyl group.

a11が、脂環式基、又は脂環式基を含む基である場合、好適な脂環式基としては、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等単環の脂環式基や、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、及びテトラシクロドデシル基等の多環の脂環式基が挙げられる。 When R a11 is an alicyclic group or a group containing an alicyclic group, suitable alicyclic groups include monocyclic alicyclic groups such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group, an adamantyl group, and a norbornyl group. Polycyclic alicyclic groups such as a group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group can be mentioned.

その他の構造単位を与える、上記の(メタ)アクリル酸エステル以外の単量体としては、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等が挙げられる。これらのモノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Examples of monomers other than the above-mentioned (meth)acrylic esters that provide other structural units include allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, and styrenes. These monomers can be used alone or in combination of two or more.

アリル化合物としては、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類;アリルオキシエタノール;等が挙げられる。 Examples of allyl compounds include allyl esters such as allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, and allyl lactate; allyloxyethanol; etc. Can be mentioned.

ビニルエーテル類としては、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、1-メチル-2,2-ジメチルプロピルビニルエーテル、2-エチルブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル;ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル-2,4-ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等のビニルアリールエーテル;等が挙げられる。 Examples of vinyl ethers include hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethylhexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethyl butyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, Alkyl vinyl ethers such as dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether; vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether , vinyl aryl ethers such as vinyl anthrani ether; and the like.

ビニルエステル類としては、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル-β-フェニルブチレート、安息香酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等が挙げられる。 Vinyl esters include vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valerate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl methoxy acetate, vinyl butoxy acetate, and vinyl phenyl. Examples include acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinyl benzoate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, vinyl naphthoate, and the like.

スチレン類としては、スチレン;メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン等のアルキルスチレン;メトキシスチレン、4-メトキシ-3-メチルスチレン、ジメトキシスチレン等のアルコキシスチレン;クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、2-ブロモ-4-トリフルオロメチルスチレン、4-フルオロ-3-トリフルオロメチルスチレン等のハロスチレン;等が挙げられる。 Styrenes include styrene; methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, diethylstyrene, isopropylstyrene, butylstyrene, hexylstyrene, cyclohexylstyrene, decylstyrene, benzylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxy Alkyl styrenes such as methylstyrene and acetoxymethylstyrene; alkoxystyrenes such as methoxystyrene, 4-methoxy-3-methylstyrene and dimethoxystyrene; chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, Halostyrenes such as dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethylstyrene, and 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene; and the like.

樹脂Aが、前述の構造単位A1、構造単位A2、及び構造単位A3以外にその他構造単位を含む場合、樹脂A中の構造単位A1、構造単位A2、及び構造単位A3の総量は、樹脂A中の全構造単位に対して80モル%以上が好ましく、90モル%以上がより好ましく、95モル%以上が特に好ましい。
透明性の高い硬化物を形成しやすいことと、良好な硬化性とを両立させやすい点から、樹脂Aは、その他の構造単位を含まず、構造単位A1、構造単位A2、及び構造単位A3のみからなるが好ましい。
When resin A contains other structural units other than the above-mentioned structural units A1, structural units A2, and structural units A3, the total amount of structural units A1, structural units A2, and structural units A3 in resin A is It is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, particularly preferably 95 mol% or more based on the total structural units.
Resin A contains only structural units A1, A2, and A3 without any other structural units, since it is easy to form a highly transparent cured product and have good curability. It is preferable to consist of

以上説明した樹脂Aの製造方法は特に限定されない。一般的には、前述の構造単位A1、構造単位A2、及び構造単位A3を与える単量体と、必要に応じてその他の構造単位を与える単量体とを、それぞれ所定量混合した後、適当な溶剤中にて、重合開始剤の存在下に、例えば、50℃以上120℃以下の温度範囲において重合を行うことにより、樹脂が得られる。樹脂は、有機溶剤中の溶液として得られることが多いが、溶液として得られた樹脂を、そのまま後述する硬化性組成物に配合したり、そのまま硬化性組成物として使用したりすることができる。 The method for producing resin A described above is not particularly limited. In general, after mixing predetermined amounts of the monomers that provide the above-mentioned structural units A1, A2, and A3, and monomers that provide other structural units as necessary, The resin can be obtained by polymerizing in a suitable solvent in the presence of a polymerization initiator at a temperature range of, for example, 50° C. or higher and 120° C. or lower. The resin is often obtained as a solution in an organic solvent, but the resin obtained as a solution can be blended as it is into the curable composition described below, or used as it is as a curable composition.

上記の方法により得られる樹脂Aの質量平均分子量は、30000以上が好ましく、35000以上100000以下がより好ましく、40000以上80000以下が特に好ましい。質量平均分子量は、GPCにより測定される、ポリスチレン換算の分子量である。樹脂の質量平均分子量がある程度大きいことにより、耐溶剤性や、耐熱分解性に優れる硬化物を形成しやすい。 The mass average molecular weight of the resin A obtained by the above method is preferably 30,000 or more, more preferably 35,000 or more and 100,000 or less, particularly preferably 40,000 or more and 80,000 or less. The mass average molecular weight is a polystyrene equivalent molecular weight measured by GPC. When the weight average molecular weight of the resin is high to a certain extent, it is easy to form a cured product having excellent solvent resistance and heat decomposition resistance.

上記のように得られた樹脂Aの溶液を、ヘキサン、ジエチルエーテル、メタノール、水等の貧溶媒と混合して、樹脂Aを沈殿させ、沈殿した樹脂Aを回収して用いてもよい。沈殿した樹脂Aは、ろ過後に洗浄され、次いで、常圧、又は減圧下に、構造単位A1中のブロックイソシアネート基が分解しない程度の温度で乾燥されるのが好ましい。このようにして、粉末状である固体の樹脂を回収できる。粉末状の樹脂は、そのまま使用されてもよく、硬化性組成物に配合されて使用されてもよい。 The solution of resin A obtained as described above may be mixed with a poor solvent such as hexane, diethyl ether, methanol, water, etc. to precipitate resin A, and the precipitated resin A may be recovered and used. The precipitated resin A is preferably washed after filtration and then dried under normal pressure or reduced pressure at a temperature that does not decompose the blocked isocyanate group in the structural unit A1. In this way, solid resin in powder form can be recovered. The powdered resin may be used as it is or may be blended into a curable composition.

硬化性組成物における熱硬化性材料(A)の濃度は、5質量%以上40質量%以下が好ましく、10質量%以上30質量%以下がより好ましい。 The concentration of the thermosetting material (A) in the curable composition is preferably 5% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 30% by mass or less.

<近赤外線吸収染料(B)>
近赤外線吸収染料(B)は、近赤外線(波長780nm以上1200nm以下)の領域内に吸収を有する染料であり、>N=で表される部分構造を有する。
近赤外線吸収染料(B)の具体例としては、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、及びジイモニウム系化合物等が挙げられる。これらの中では、近赤外線吸収染料(B)としての性能と、硬化性組成物における溶解性とが良好であることから、シアニン系か化合物が好ましい。
<Near-infrared absorbing dye (B)>
The near-infrared absorbing dye (B) is a dye that absorbs in the near-infrared region (wavelength of 780 nm or more and 1200 nm or less), and has a partial structure represented by >N + =.
Specific examples of the near-infrared absorbing dye (B) include cyanine compounds, squarylium compounds, and diimonium compounds. Among these, cyanine compounds are preferred because they have good performance as a near-infrared absorbing dye (B) and good solubility in the curable composition.

シアニン系化合物としては、下記式(b1-1)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0007419097000013
(式(b1-1)中、
は下記式(b1-2)又は(b1-3)で表される基であり、
は下記式(b1-4)又は(b1-5)で表される基であり、
21~R24はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数1以上20以下のアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素原子数6以上20以下のアリール基であり、
1又は複数のR21と、1又は複数のR22とからなる群より選択される任意の2つの基は、互いに結合して環を形成してもよく、
n1は、1以上5以下の整数であり、
X1は、1価のアニオンである。)
Figure 0007419097000014
(式(b1-2)及び(b1-3)中、
31~R38はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数1以上20以下のアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素原子数6以上20以下のアリール基であり、
41~R46はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数1以上20以下のアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素原子数6以上20以下のアリール基である。)
Figure 0007419097000015
(式(b1-4)及び(b1-5)中、R31~R38及びR41~R46は、(b1-2)及び(b1-3)におけるR31~R38及びR41~R46と同じである。) Examples of cyanine compounds include compounds represented by the following formula (b1-1).
Figure 0007419097000013
(In formula (b1-1),
Z 1 is a group represented by the following formula (b1-2) or (b1-3),
Z 2 is a group represented by the following formula (b1-4) or (b1-5),
R 21 to R 24 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or a carbon atom number which may have a substituent. an aryl group of 6 or more and 20 or less,
Any two groups selected from the group consisting of one or more R 21 and one or more R 22 may be bonded to each other to form a ring,
n1 is an integer from 1 to 5,
X1 is a monovalent anion. )
Figure 0007419097000014
(In formulas (b1-2) and (b1-3),
R 31 to R 38 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or a carbon atom number which may have a substituent. an aryl group of 6 or more and 20 or less,
R 41 to R 46 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or a carbon atom number which may have a substituent. It is an aryl group of 6 or more and 20 or less. )
Figure 0007419097000015
(In formulas (b1-4) and (b1-5), R 31 to R 38 and R 41 to R 46 are R 31 to R 38 and R 41 to R in (b1-2) and (b1-3). (Same as 46. )

式(b1-1)中、R21~R24としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
21~R24としての炭素原子数1以上20以下のアルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、その具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。
21~R24としての炭素原子数6以上20以下のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
X1としては、BF 、PF 、ClO 、I等が挙げられる。
式(b1-1)において、n1が2以上5以下の整数の場合は、n1個の括弧内の構造は同一でも異なっていてもよい。
In formula (b1-1), examples of the halogen atom as R 21 to R 24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and the like.
The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms as R 21 to R 24 may be linear or branched, and specific examples thereof include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n -butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, n-hexyl group and the like.
Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms as R 21 to R 24 include a phenyl group and a naphthyl group.
Examples of X1 include BF 4 , PF 6 , ClO 4 , I and the like.
In formula (b1-1), when n1 is an integer from 2 to 5, the structures in the n1 parentheses may be the same or different.

式(b1-2)及び式(b1-3)中、R31~R38やR41~R46としての、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数1以上20以下のアルキル基及び置換基を有していてもよい炭素原子数6以上20以下のアリール基としては、式(b1-1)におけるR21~R24と同様である。 In formula (b1-2) and formula (b1-3), as R 31 to R 38 or R 41 to R 46 , an alkyl having 1 to 20 carbon atoms that may have a halogen atom or a substituent; The aryl group having 6 or more and 20 or less carbon atoms which may have a group or a substituent is the same as R 21 to R 24 in formula (b1-1).

近赤外線吸収染料(B)の質量に対する溶剤(S1)の質量の比([溶剤(S1)の質量]/[近赤外線吸収染料(B)の質量])は、30以上であり、35以上であることが好ましく、50以上であることがより好ましい。また、近赤外線吸収染料(B)の質量に対する溶剤(S1)の質量の比は、300以下であることが好ましい。
また、近赤外線吸収染料(B)は、熱硬化性材料(A)100質量部に対して0.5質量部以上10質量部以下であることが好ましく、1質量部以上5質量部以下であることがより好ましい。
また、硬化性組成物における近赤外線吸収染料(B)の濃度は、例えば、0.1質量%以上2質量%以下であり、0.1質量%以上0.5質量%以下であることが好ましい。
The ratio of the mass of the solvent (S1) to the mass of the near-infrared absorbing dye (B) ([mass of solvent (S1)]/[mass of near-infrared absorbing dye (B)]) is 30 or more, and 35 or more. The number is preferably 50 or more, and more preferably 50 or more. Further, the ratio of the mass of the solvent (S1) to the mass of the near-infrared absorbing dye (B) is preferably 300 or less.
Further, the near-infrared absorbing dye (B) is preferably 0.5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and 1 part by mass or more and 5 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the thermosetting material (A). It is more preferable.
Further, the concentration of the near-infrared absorbing dye (B) in the curable composition is, for example, 0.1% by mass or more and 2% by mass or less, preferably 0.1% by mass or more and 0.5% by mass or less. .

<溶剤(S)>
溶剤(S)は、溶剤(S)が、ハンセン溶解度パラメータの極性項δpが12(MPa0.5)以上である溶剤(S1)を含む。
<Solvent (S)>
The solvent (S) includes a solvent (S1) in which the polar term δp of the Hansen solubility parameter is 12 (MPa 0.5 ) or more.

ハンセン溶解度パラメータの極性項(双極子相互作用によるエネルギーの項)δpは、チャールズハンセンらによって開発されたソフトフェア(ソフト名:Hansen Solubility Parameter in Practice(HSPiP))で求めることができる。
ハンセン溶解度パラメータの極性項δpは、好ましくは13(MPa0.5)以上、より好ましくは16(MPa0.5)以上である。ハンセン溶解度パラメータの極性項δpの上限値は特に限定されるものではないが、例えば20(MPa0.5)以下である。
このような特定の溶剤(S1)を、特定構造の近赤外線吸収剤(B)と共に、特定の質量比で配合した硬化性組成物とすることにより、近赤外線吸収剤(B)の溶剤(S1)溶解性に優れ、且つ、硬化性組成物の低温安定性に優れる。
また、ハンセン溶解度パラメータの極性項δpが16以上(MPa0.5)である溶剤(S1)を含む硬化性組成物は、スピンコート法による成膜性に優れるため、スピンコート法によって膜厚等が均一な塗布膜を形成することができ、膜厚等が均一な硬化物を得ることができる。
The polar term (term of energy due to dipole interaction) δp of the Hansen solubility parameter can be determined using software developed by Charles Hansen et al. (software name: Hansen Solubility Parameter in Practice (HSPiP)).
The polar term δp of the Hansen solubility parameter is preferably 13 (MPa 0.5 ) or more, more preferably 16 (MPa 0.5 ) or more. The upper limit of the polarity term δp of the Hansen solubility parameter is not particularly limited, but is, for example, 20 (MPa 0.5 ) or less.
By forming a curable composition in which such a specific solvent (S1) is blended with a near-infrared absorber (B) having a specific structure in a specific mass ratio, the solvent (S1) for the near-infrared absorber (B) ) Excellent solubility and low temperature stability of the curable composition.
In addition, a curable composition containing a solvent (S1) whose polar term δp of the Hansen solubility parameter is 16 or more (MPa 0.5 ) has excellent film formability by spin coating, so it is possible to reduce the film thickness etc. by spin coating. A uniform coating film can be formed, and a cured product with uniform film thickness etc. can be obtained.

溶剤(S1)の沸点は、150℃以上が好ましく、180℃以上がより好ましく、200℃以上がさらに好ましい。なお、沸点は、大気圧下の沸点である。溶剤(S1)の沸点の上限は特に限定されるものではないが、例えば250℃以下である。 The boiling point of the solvent (S1) is preferably 150°C or higher, more preferably 180°C or higher, and even more preferably 200°C or higher. Note that the boiling point is the boiling point under atmospheric pressure. The upper limit of the boiling point of the solvent (S1) is not particularly limited, but is, for example, 250° C. or lower.

溶剤(S1)としては、化学構造中にエステル構造、アミド構造、スルホン酸エステル構造やスルホキシド構造を有する溶剤を好適に用いることができる。このような構造を化学構造中に備えることによって、δpを所望の値としやすくなる。
また、上述のエステル構造、アミド構造、スルホン酸エステル構造やスルホキシド構造は、分子中における環状骨格の一部として存在していてもよい。
典型的な例として、化学構造中にラクトン構造、ラクタム構造や、スルトン構造を含む溶剤が挙げられる。
化学構造中にラクトン構造を含む溶剤とは、-CO-O-結合を含む環状骨格であるラクトン骨格を含む溶剤である。
化学構造中にラクタム構造を含む溶剤とは、-CO-NH-結合を含む環状骨格であるラクタム骨格を含む溶剤である。
化学構造中にスルトン構造を含む溶剤とは、-O-SO-結合を含む環状骨格であるスルトン(sultone)骨格を含む溶剤である。
As the solvent (S1), a solvent having an ester structure, an amide structure, a sulfonic acid ester structure, or a sulfoxide structure in its chemical structure can be suitably used. By including such a structure in the chemical structure, it becomes easier to set δp to a desired value.
Moreover, the above-mentioned ester structure, amide structure, sulfonic acid ester structure, and sulfoxide structure may exist as part of the cyclic skeleton in the molecule.
Typical examples include solvents containing a lactone structure, a lactam structure, or a sultone structure in their chemical structure.
A solvent containing a lactone structure in its chemical structure is a solvent containing a lactone skeleton, which is a cyclic skeleton containing a -CO-O- bond.
A solvent containing a lactam structure in its chemical structure is a solvent containing a lactam skeleton, which is a cyclic skeleton containing a -CO-NH- bond.
A solvent containing a sultone structure in its chemical structure is a solvent containing a sultone skeleton, which is a cyclic skeleton containing an -O-SO 2 - bond.

溶剤(S1)の好適な具体例としては、γ-ブチロラクトン(δp:16.6MPa0.5、沸点:204~205℃)、N,N-ジメチルホルムアミド(δp:13.7MPa0.5、沸点:153℃)、ジメチルスルホキシド(δp:16.4MPa0.5、沸点:189℃)、N-メチルピロリドン(δp:12.3MPa0.5、沸点:202℃)等が挙げられる。 Preferred specific examples of the solvent (S1) include γ-butyrolactone (δp: 16.6 MPa 0.5 , boiling point: 204-205°C), N,N-dimethylformamide (δp: 13.7 MPa 0.5 , boiling point : 153°C), dimethyl sulfoxide (δp: 16.4 MPa 0.5 , boiling point: 189°C), N-methylpyrrolidone (δp: 12.3 MPa 0.5 , boiling point: 202°C), and the like.

溶剤(S)は、溶剤(S1)とは異なる溶剤(S2)を含有していてもよい。
溶剤(S2)としては、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)、シクロペンタノン(CP)、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、乳酸エチル(EL)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、3-メトキシブチルアセテート、酢酸ブチル、3-メトキシ-1-ブタノール等が挙げられる。
溶剤(S2)を含有する場合は、溶剤(S1)の含有量は、溶剤(S1)の質量と溶剤(S2)の質量との合計に対して15質量%以上であることが好ましく、20質量%以上であることがより好ましい。溶剤(S1)の含有量は、溶剤(S1)の質量と溶剤(S2)の質量との合計に対して80質量%以下であることが好ましく、60質量%以下であることがより好ましい。
The solvent (S) may contain a solvent (S2) different from the solvent (S1).
As the solvent (S2), propylene glycol methyl ether acetate (PGMEA), cyclopentanone (CP), methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexanone, cyclopentanone, ethyl lactate (EL), propylene glycol monomethyl ether (PGME), 3- Examples include methoxybutyl acetate, butyl acetate, 3-methoxy-1-butanol, and the like.
When containing a solvent (S2), the content of the solvent (S1) is preferably 15% by mass or more based on the total mass of the solvent (S1) and the mass of the solvent (S2), and the content of the solvent (S1) is preferably 15% by mass or more, and 20% by mass. % or more is more preferable. The content of the solvent (S1) is preferably 80% by mass or less, more preferably 60% by mass or less based on the total mass of the solvent (S1) and the mass of the solvent (S2).

硬化性組成物の固形分濃度は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。固形分濃度は、例えば、5質量%以上60質量%以下が好ましく、10質量%以上50質量%以下がより好ましい。 The solid content concentration of the curable composition is not particularly limited as long as it does not impede the object of the present invention. The solid content concentration is, for example, preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less.

<その他の添加剤>
硬化性組成物は、熱硬化性材料(A)、近赤外線吸収染料(B)及び溶剤(S)以外にも、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、他の配合剤を含んでいてもよい。他の配合剤としては、例えば、界面活性剤及び酸化防止剤等が挙げられる。
<Other additives>
In addition to the thermosetting material (A), the near-infrared absorbing dye (B), and the solvent (S), the curable composition may contain other ingredients as long as they do not impede the purpose of the present invention. . Examples of other compounding agents include surfactants and antioxidants.

界面活性剤は、例えば、硬化性組成物製造時の消泡性を高め、硬化性組成物の安定性及び硬化性組成物の塗布性等をより高めるために使用される。 The surfactant is used, for example, to improve antifoaming properties during the production of the curable composition, and to further improve the stability of the curable composition, the applicability of the curable composition, and the like.

界面活性剤としては、水溶性の界面活性剤が好ましく使用できる。界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、及び両性界面活性剤のいずれも使用することができる。界面活性剤は、シリコーン系であってもよい。 As the surfactant, water-soluble surfactants can be preferably used. As the surfactant, any of nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, and amphoteric surfactants can be used. The surfactant may be silicone-based.

<硬化性組成物の製造方法>
硬化性組成物は、熱硬化性材料(A)と、近赤外線吸収染料(B)と、溶剤(S)と、必要に応じて添加するその他の添加剤とを混合することにより、製造することができる。
<Method for manufacturing curable composition>
The curable composition can be manufactured by mixing the thermosetting material (A), the near-infrared absorbing dye (B), the solvent (S), and other additives added as necessary. I can do it.

≪硬化物及び近赤外線吸収フィルタ並びにこれらの製造方法≫
硬化性組成物を硬化することにより、硬化物を得ることができる。
硬化物は、パターン化された硬化物でも、パターン化されていない平坦な硬化物でもよい。
≪Cured product, near-infrared absorption filter, and manufacturing method thereof≫
A cured product can be obtained by curing the curable composition.
The cured product may be a patterned cured product or a flat non-patterned cured product.

このような硬化性組成物の硬化物は、近赤外線吸収フィルタとして使用することができる。近赤外線吸収フィルタとは、可視光は透過するが近赤外光を吸収(カット)する光学フィルタであり、硬化性組成物に含まれる近赤外線吸収染料(B)によって近赤外光が吸収される。近赤外線吸収フィルタは、可視光領域の波長の光を全て透過してもよく、可視光領域の波長のうち特定の波長の光のみを透過してもよい。
近赤外線吸収フィルタは、CCD、CMOS等の固体撮像素子や、液晶表示装置、有機EL等の画像表示装置等、各種装置の部材として用いることができる。
A cured product of such a curable composition can be used as a near-infrared absorption filter. A near-infrared absorption filter is an optical filter that transmits visible light but absorbs (cuts) near-infrared light, and the near-infrared light is absorbed by the near-infrared absorption dye (B) contained in the curable composition. Ru. The near-infrared absorption filter may transmit all light having wavelengths in the visible light region, or may transmit only light having a specific wavelength among the wavelengths in the visible light region.
The near-infrared absorption filter can be used as a member of various devices, such as solid-state imaging devices such as CCDs and CMOSs, and image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL devices.

硬化物は、例えば、支持体上に硬化性組成物からなる硬化性組成物層を形成し、硬化性組成物層を硬化することにより、製造することができる。 The cured product can be produced, for example, by forming a curable composition layer made of a curable composition on a support and curing the curable composition layer.

硬化性組成物層を形成する支持体としては、ガラス等の透明基材や、半導体基板上に固体撮像素子が設けられた基板等が挙げられる。
硬化性組成物層の支持体上への形成方法としては、スピンコート法、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、滴下法、インクジェット法、スクリーン印刷法、アプリケーター法等の塗布法、ナノインプリント法や、金型等を用いた転写法が挙げられる。
硬化性組成物層は、単層でも多層でもよい。
Examples of the support on which the curable composition layer is formed include transparent substrates such as glass, substrates in which a solid-state imaging device is provided on a semiconductor substrate, and the like.
Methods for forming the curable composition layer on the support include coating methods such as spin coating, slit coating, spraying, roll coating, dropping, inkjet, screen printing, and applicator methods, and nanoimprinting. Examples include a transfer method using a mold or the like.
The curable composition layer may be a single layer or a multilayer.

硬化性組成物層の硬化は、加熱により行う。硬化性組成物を硬化することができれば加熱条件は特に限定されないが、例えば、加熱温度は140℃以上220℃以下、加熱時間は1分間以上30分間以下である。
また、硬化と同時又は別個の加熱によって溶剤(S)を除去することが好ましい。
The curable composition layer is cured by heating. The heating conditions are not particularly limited as long as the curable composition can be cured, but for example, the heating temperature is 140°C or more and 220°C or less, and the heating time is 1 minute or more and 30 minutes or less.
Moreover, it is preferable to remove the solvent (S) by heating simultaneously with or separately from curing.

パターン化された硬化物を得る場合は、例えば、硬化性組成物を硬化した後、硬化物表面に所望のパターン形状を有するレジスト層を設け、レジスト層をマスクとしてエッチング等によって硬化物を加工すればよい。 When obtaining a patterned cured product, for example, after curing the curable composition, a resist layer having a desired pattern shape is provided on the surface of the cured product, and the cured product is processed by etching or the like using the resist layer as a mask. Bye.

上記硬化性組成物は近赤外線吸収剤の溶剤溶解性に優れるため、硬化性組成物における近赤外線吸収剤(B)の濃度を高くすることで、所望の近赤外線吸収特性を有しつつ薄い近赤外線吸収フィルタ等の硬化物を製造することができる。また、上記硬化性組成物は低温安定性に優れるため、低温で保管や移送した後の硬化性組成物を用いた場合であっても、膜厚等が均一な近赤外線吸収フィルタ等の硬化物を得ることができる。 Since the above-mentioned curable composition has excellent solvent solubility of the near-infrared absorber, by increasing the concentration of the near-infrared absorber (B) in the curable composition, a thin near-infrared absorbent can be obtained while having the desired near-infrared absorption characteristics. Cured products such as infrared absorption filters can be manufactured. In addition, since the above-mentioned curable composition has excellent low-temperature stability, even when the curable composition is used after being stored or transported at low temperatures, cured products such as near-infrared absorbing filters with uniform film thickness, etc. can be obtained.

≪硬化性組成物の低温保管方法及び硬化性組成物の輸送方法≫
硬化性組成物の低温保管方法では、上記硬化性組成物を10℃以下で保管する。
硬化性組成物の輸送方法では、上記硬化性組成物を、10℃以下で輸送機により輸送する。
ここで、輸送機は、硬化性組成物を所望する温度で輸送できる限り特に限定されない。輸送機の具体例としては、トラック等の自動車、鉄道車両、船舶、及び航空機等が挙げられる。
保管や輸送の温度は、10℃以下とすることができ、さらには、5℃以下や-20℃以下にすることができる。
保管や輸送の温度の下限は、硬化性組成物が固化したり、硬化性組成物中の成分が析出したりしなければ特に限定されない。保管や輸送の温度は、例えば、-22℃以上であってよく、-15℃以上であってもよい。
上記硬化性組成物は、低温安定性に優れている。このため、上記硬化性組成物を低温で保管したり、低温で輸送機により輸送したりしても、硬化性組成物における析出物の発生が抑制される。このため、低温での保管や輸送の後であっても、上記硬化性組成物の組成が保管や輸送の前から変化し難く、硬化性組成物を用いて所望する性質の硬化物を製造することができる。
≪Low-temperature storage method for curable composition and method for transporting curable composition≫
In the low temperature storage method for a curable composition, the curable composition is stored at 10°C or lower.
In the method for transporting a curable composition, the curable composition is transported by a transporter at a temperature of 10° C. or lower.
Here, the transporter is not particularly limited as long as it can transport the curable composition at a desired temperature. Specific examples of transport aircraft include automobiles such as trucks, railway vehicles, ships, and aircraft.
The storage and transportation temperature can be 10°C or lower, and further can be 5°C or lower or -20°C or lower.
The lower limit of the temperature for storage and transportation is not particularly limited as long as the curable composition does not solidify or components in the curable composition precipitate. The storage and transportation temperature may be, for example, -22°C or higher, or -15°C or higher.
The above curable composition has excellent low temperature stability. Therefore, even if the curable composition is stored at a low temperature or transported by a transporter at a low temperature, the generation of precipitates in the curable composition is suppressed. Therefore, even after storage or transportation at low temperatures, the composition of the curable composition is unlikely to change from before storage or transportation, and the curable composition can be used to produce a cured product with desired properties. be able to.

≪硬化性組成物の提供方法≫
硬化性組成物の提供方法では、上記の硬化物の製造方法を実行するプロセスライン、又は、上記の近赤外線吸収フィルタの製造方法を実行するプロセスラインに対し、上記の硬化性組成物の低温保管方法によって保管された硬化性組成物を提供する。提供される硬化性組成物の温度は、低温保管されていた状態の温度であってもよく、10℃超、具体的には、例えば15℃以上25℃以下程度でもよい。
ここでの硬化性組成物は、上述した材料の中から適宜選択して調製された組成物であればよく、プロセスラインの大きさ、稼働スピードに応じて硬化性組成物の調製や、プロセスラインへの提供のタイミングを図ればよい。
また、保管や移送の温度は、硬化性組成物に合わせて適宜設定すればよい。
なお、硬化物や近赤外線吸収フィルタの製造方法を実行する事業主体と、本提供方法を実行する事業主体は必ずしも同一である必要はない。
<<Method for providing curable composition>>
In the method for providing a curable composition, the curable composition is stored at a low temperature in a process line that executes the above method for producing a cured product or a process line that executes the above method for producing a near-infrared absorbing filter. A curable composition stored by a method is provided. The temperature of the curable composition provided may be the temperature at which it was stored at a low temperature, and may be higher than 10°C, specifically, for example, about 15°C or higher and 25°C or lower.
The curable composition here may be a composition appropriately selected and prepared from the materials mentioned above, and the curable composition may be prepared depending on the size and operating speed of the process line. All you have to do is plan the timing of the provision.
Moreover, the temperature for storage and transportation may be appropriately set according to the curable composition.
Note that the business entity that executes the method for manufacturing the cured product or near-infrared absorption filter and the business entity that executes the present provision method are not necessarily the same.

以下、実施例、及び比較例により、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例になんら限定されない。 Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the following examples.

〔溶剤溶解性試験〕
近赤外線吸収染料(B)として下記シアニン系化合物B1(製品名:S01965、Spectruminfo社製)を用い、25℃で1時間撹拌し、表1に記載する溶剤に溶解する最大濃度を測定した。結果を表1に示す。

Figure 0007419097000016
Figure 0007419097000017
[Solvent solubility test]
The following cyanine compound B1 (product name: S01965, manufactured by Spectruminfo) was used as a near-infrared absorbing dye (B), stirred at 25° C. for 1 hour, and the maximum concentration dissolved in the solvent shown in Table 1 was measured. The results are shown in Table 1.
Figure 0007419097000016
Figure 0007419097000017

〔実施例1~5、及び比較例1~4〕
実施例1~5、及び比較例1~4では、熱硬化性材料(A)として、以下の樹脂aを用いた。下記構造式における各構成単位中の括弧の右下の数字は、樹脂中の構成単位の含有量(モル%)を表す。樹脂aの質量平均分子量Mwは50000であり、分散度(質量平均分子量Mw/数平均分子量Mn)は4.5である。

Figure 0007419097000018
また、近赤外線吸収染料(B)として上記シアニン系化合物B1(製品名:S01965、Spectruminfo社製)を用いた。
また、溶剤(S1)として、ガンマブチロラクトン(GBL)、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)を用いた。
また、溶媒(S2)として、シクロペンタノン(CP)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を用いた。 [Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4]
In Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4, the following resin a was used as the thermosetting material (A). The number at the bottom right of the parentheses in each structural unit in the structural formula below represents the content (mol %) of the structural unit in the resin. The mass average molecular weight Mw of resin a is 50,000, and the degree of dispersion (mass average molecular weight Mw/number average molecular weight Mn) is 4.5.
Figure 0007419097000018
Further, the above cyanine compound B1 (product name: S01965, manufactured by Spectruminfo) was used as the near-infrared absorbing dye (B).
Further, as the solvent (S1), gamma butyrolactone (GBL), N,N-dimethylformamide (DMF), and dimethyl sulfoxide (DMSO) were used.
Moreover, cyclopentanone (CP) and propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were used as the solvent (S2).

(硬化性組成物の製造)
表2に記載の種類及び混合比(質量比)の溶剤(S1)及び溶剤(S2)の混合溶剤と、樹脂aと、シアニン系化合物B1とを、容器に投入し、25℃で、1時間撹拌して、実施例1~5及び比較例1~3の硬化性組成物を得た。樹脂aは、混合溶剤及び樹脂aの合計質量に対する樹脂aの質量の比(樹脂aの質量/(混合溶剤の質量+樹脂aの質量))が0.20となる量を用いた。また、シアニン系化合物B1は、樹脂aに対するシアニン系化合物B1の質量比(シアニン系化合物B1の質量/樹脂aの質量)が0.015となる量を用いた。
得られた実施例1~5及び比較例1~4の硬化性組成物は、いずれも、樹脂a及びシアニン系化合物B1が混合溶剤に溶解しており、均一な溶液であった。
(Manufacture of curable composition)
A mixed solvent of solvent (S1) and solvent (S2) of the type and mixing ratio (mass ratio) listed in Table 2, resin a, and cyanine compound B1 were placed in a container and heated at 25°C for 1 hour. By stirring, curable compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were obtained. Resin a was used in an amount such that the ratio of the mass of resin a to the total mass of the mixed solvent and resin a (mass of resin a/(mass of mixed solvent + mass of resin a)) was 0.20. Further, the cyanine compound B1 was used in an amount such that the mass ratio of the cyanine compound B1 to the resin a (mass of the cyanine compound B1/mass of the resin a) was 0.015.
The resulting curable compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 had resin a and cyanine compound B1 dissolved in a mixed solvent, and were uniform solutions.

〔低温安定性〕
実施例1~5及び比較例1~4の硬化性組成物を、25℃、5℃又は-20℃で、7日間保管した後、目視で観察し、析出物が生じていなかった場合を○評価とし、析出物が生じていた場合を×評価とした。結果を表2に示す。
[Low temperature stability]
After storing the curable compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 at 25°C, 5°C, or -20°C for 7 days, they were visually observed, and the cases where no precipitates were observed were marked as ○. The case where a precipitate was formed was evaluated as ×. The results are shown in Table 2.

Figure 0007419097000019
Figure 0007419097000019

表1から、溶剤(S1)としてのガンマブチロラクトン(GBL)、ジメチルスルホキシド(DMSO)及びN,N-ジメチルホルムアミド(DMF)は、近赤外線吸収染料(B)の溶解性に優れることが分かる。このため、溶剤(S1)を含む硬化性組成物は、近赤外線吸収染料(B)の溶剤溶解性に優れることが分かる。
表2から、近赤外線吸収染料(B)の質量に対する溶剤(S1)の質量の比が30以上である実施例1~5の硬化性組成物は、5℃や-20℃で保管しても、析出物が生じていないことが分かる。このため、実施例1~5の硬化性組成物は、低温安定性に優れることが分かる。
Table 1 shows that gamma-butyrolactone (GBL), dimethyl sulfoxide (DMSO), and N,N-dimethylformamide (DMF) as the solvent (S1) have excellent solubility of the near-infrared absorbing dye (B). Therefore, it can be seen that the curable composition containing the solvent (S1) has excellent solvent solubility of the near-infrared absorbing dye (B).
From Table 2, the curable compositions of Examples 1 to 5 in which the mass ratio of the solvent (S1) to the mass of the near-infrared absorbing dye (B) is 30 or more can be stored at 5°C or -20°C. , it can be seen that no precipitates were formed. Therefore, it can be seen that the curable compositions of Examples 1 to 5 have excellent low temperature stability.

Claims (11)

熱硬化性材料(A)と、近赤外線吸収染料(B)と、溶剤(S)とを含み、
前記近赤外線吸収染料(B)が、>N=で表される部分構造を有し、
前記溶剤(S)が、ハンセン溶解度パラメータの極性項δpが12(MPa0.5)以上である溶剤(S1)を含み、
前記近赤外線吸収染料(B)の質量に対する前記溶剤(S1)の質量の比が、30以上であり、
前記近赤外線吸収染料(B)が、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物及びジイモニウム系化合物から選択される少なくとも一種であり、
前記熱硬化性材料(A)が、エポキシ基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基から選択される少なくとも一種の熱硬化性基を有する、硬化性組成物。
Including a thermosetting material (A), a near-infrared absorbing dye (B), and a solvent (S),
The near-infrared absorbing dye (B) has a partial structure represented by >N + =,
The solvent (S) includes a solvent (S1) whose polar term δp of the Hansen solubility parameter is 12 (MPa 0.5 ) or more,
The ratio of the mass of the solvent (S1) to the mass of the near-infrared absorbing dye (B) is 30 or more,
The near-infrared absorbing dye (B) is at least one selected from cyanine compounds, squarylium compounds, and diimonium compounds,
A curable composition , wherein the thermosetting material (A) has at least one thermosetting group selected from an epoxy group, an isocyanate group, and a blocked isocyanate group .
前記溶剤(S1)が、化学構造中にエステル構造、アミド構造、スルホン酸エステル構造及びスルホキシド構造からなる群から選ばれる一種以上の構造を含む溶剤である、請求項1に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 1, wherein the solvent (S1) is a solvent containing one or more structures selected from the group consisting of an ester structure, an amide structure, a sulfonic acid ester structure, and a sulfoxide structure in its chemical structure. . 前記溶剤(S1)とは異なる溶剤(S2)を含有し、
前記溶剤(S1)の含有量が、前記溶剤(S1)の質量と前記溶剤(S2)の質量との合計に対して15質量%以上である、請求項1又は2に記載の硬化性組成物。
Contains a solvent (S2) different from the solvent (S1),
The curable composition according to claim 1 or 2, wherein the content of the solvent (S1) is 15% by mass or more based on the total mass of the solvent (S1) and the mass of the solvent (S2). .
前記近赤外線吸収染料(B)の質量に対する前記溶剤(S1)の質量の比が、300以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the ratio of the mass of the solvent (S1) to the mass of the near-infrared absorbing dye (B) is 300 or less. 請求項1~のいずれか1項に記載の硬化性組成物の硬化物。 A cured product of the curable composition according to any one of claims 1 to 4 . 請求項1~のいずれか1項に記載の硬化性組成物の硬化物からなる、近赤外線吸収フィルタ。 A near-infrared absorbing filter comprising a cured product of the curable composition according to any one of claims 1 to 4 . 請求項1~のいずれか1項に記載の硬化性組成物を硬化することを含む、硬化物の製造方法。 A method for producing a cured product, comprising curing the curable composition according to any one of claims 1 to 4 . 請求項1~のいずれか1項に記載の硬化性組成物を硬化することを含む、近赤外線吸収フィルタの製造方法。 A method for producing a near-infrared absorption filter, comprising curing the curable composition according to any one of claims 1 to 4 . 化性組成物を、10℃以下で保管する、硬化性組成物の低温保管方法であって、
前記硬化性組成物は、熱硬化性材料(A)と、近赤外線吸収染料(B)と、溶剤(S)とを含み、
前記近赤外線吸収染料(B)が、>N =で表される部分構造を有し、
前記溶剤(S)が、ハンセン溶解度パラメータの極性項δpが12(MPa 0.5 )以上である溶剤(S1)を含み、
前記近赤外線吸収染料(B)の質量に対する前記溶剤(S1)の質量の比が、30以上であり、
前記熱硬化性材料(A)が、エポキシ基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基から選択される少なくとも一種の熱硬化性基を有する、硬化性組成物の低温保管方法
A method for storing a curable composition at a low temperature, the method comprising: storing the curable composition at a temperature of 10° C. or lower,
The curable composition includes a thermosetting material (A), a near-infrared absorbing dye (B), and a solvent (S),
The near-infrared absorbing dye (B) has a partial structure represented by >N + =,
The solvent (S) includes a solvent (S1) whose polar term δp of the Hansen solubility parameter is 12 (MPa 0.5 ) or more,
The ratio of the mass of the solvent (S1) to the mass of the near-infrared absorbing dye (B) is 30 or more,
A method for storing a curable composition at a low temperature, wherein the thermosetting material (A) has at least one thermosetting group selected from an epoxy group, an isocyanate group, and a blocked isocyanate group .
化性組成物を、10℃以下で輸送機により輸送する、硬化性組成物の輸送方法であって、
前記硬化性組成物は、熱硬化性材料(A)と、近赤外線吸収染料(B)と、溶剤(S)とを含み、
前記近赤外線吸収染料(B)が、>N =で表される部分構造を有し、
前記溶剤(S)が、ハンセン溶解度パラメータの極性項δpが12(MPa 0.5 )以上である溶剤(S1)を含み、
前記近赤外線吸収染料(B)の質量に対する前記溶剤(S1)の質量の比が、30以上であり、
前記熱硬化性材料(A)が、エポキシ基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基から選択される少なくとも一種の熱硬化性基を有する、硬化性組成物の輸送方法
A method for transporting a curable composition, the method comprising: transporting the curable composition using a transporter at a temperature of 10°C or lower,
The curable composition includes a thermosetting material (A), a near-infrared absorbing dye (B), and a solvent (S),
The near-infrared absorbing dye (B) has a partial structure represented by >N + =,
The solvent (S) includes a solvent (S1) whose polar term δp of the Hansen solubility parameter is 12 (MPa 0.5 ) or more,
The ratio of the mass of the solvent (S1) to the mass of the near-infrared absorbing dye (B) is 30 or more,
A method for transporting a curable composition, wherein the thermosetting material (A) has at least one thermosetting group selected from an epoxy group, an isocyanate group, and a blocked isocyanate group .
硬化性組成物を硬化することを含む、硬化物の製造方法を実行するプロセスライン、又は、硬化性組成物を硬化することを含む、近赤外線吸収フィルタの製造方法を実行するプロセスラインに対し、
硬化性組成物を、10℃以下で保管する、硬化性組成物の低温保管方法によって保管された硬化性組成物を提供する、硬化性組成物の提供方法であって、
前記硬化性組成物は、熱硬化性材料(A)と、近赤外線吸収染料(B)と、溶剤(S)とを含み、
前記近赤外線吸収染料(B)が、>N =で表される部分構造を有し、
前記溶剤(S)が、ハンセン溶解度パラメータの極性項δpが12(MPa 0.5 )以上である溶剤(S1)を含み、
前記近赤外線吸収染料(B)の質量に対する前記溶剤(S1)の質量の比が、30以上であり、
前記熱硬化性材料(A)が、エポキシ基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基から選択される少なくとも一種の熱硬化性基を有する、硬化性組成物の提供方法
For a process line that executes a method for producing a cured product, which includes curing a curable composition, or a process line that executes a method for producing a near-infrared absorption filter, which includes curing a curable composition ,
A method for providing a curable composition, which provides a curable composition stored by a low-temperature storage method for a curable composition, in which the curable composition is stored at 10 ° C. or lower ,
The curable composition includes a thermosetting material (A), a near-infrared absorbing dye (B), and a solvent (S),
The near-infrared absorbing dye (B) has a partial structure represented by >N + =,
The solvent (S) includes a solvent (S1) whose polar term δp of the Hansen solubility parameter is 12 (MPa 0.5 ) or more,
The ratio of the mass of the solvent (S1) to the mass of the near-infrared absorbing dye (B) is 30 or more,
A method for providing a curable composition, wherein the thermosetting material (A) has at least one thermosetting group selected from an epoxy group, an isocyanate group, and a blocked isocyanate group .
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