JP7392637B2

JP7392637B2 - Evaporative gas treatment system

Info

Publication number: JP7392637B2
Application number: JP2020192209A
Authority: JP
Inventors: 治貴浦部; 佳樹渋谷; 真土居
Original assignee: JFE Engineering Corp
Current assignee: JFE Engineering Corp
Priority date: 2020-11-19
Filing date: 2020-11-19
Publication date: 2023-12-06
Anticipated expiration: 2040-11-19
Also published as: JP2022080972A

Description

本発明は、液化天然ガスをはじめとする低温液体が貯留された貯槽内で発生する蒸発ガスを処理するシステムに関するものである。 The present invention relates to a system for processing evaporated gas generated in a storage tank in which low-temperature liquid such as liquefied natural gas is stored.

都市ガス製造の原料である天然ガス（ＮＧ）は、日本国内においては液化天然ガス（ＬＮＧ）として輸入、貯蔵される。ＬＮＧを始めとする低温液体の貯蔵には断熱材等で断熱されたタンクが用いられるが、タンクへの入熱により低温液体の一部が蒸発し、タンク内に蒸発ガス（ＢＯＧ）が発生する。この蒸発ガスによってタンクの内圧が上昇すると、タンクの破損、及び、それに伴うガス漏れや爆発事故の危険性がある。これを防ぐため、蒸発ガスを何らかの方法によりタンク内から除去する必要がある。 Natural gas (NG), which is the raw material for city gas production, is imported and stored in Japan as liquefied natural gas (LNG). Tanks insulated with heat insulating materials are used to store low-temperature liquids such as LNG, but some of the low-temperature liquid evaporates due to heat input to the tank, generating evaporated gas (BOG) inside the tank. . If the internal pressure of the tank increases due to this evaporated gas, there is a risk of damage to the tank and associated gas leakage or explosion. To prevent this, it is necessary to remove the evaporated gas from the tank by some method.

蒸発ガスをタンク内から除去する方法として、もっとも簡単な方法はタンク外への放出であるが、天然ガスのように蒸発ガスが可燃性や有毒性を有する場合、大気中に放出することは好ましくない。そのため、蒸発ガスをガスコンプレッサーにより昇圧してガス送出パイプラインへ導入する、あるいは、都市ガス製造工場内を流れるＬＮＧ中に導入して再液化させるといった処理が一般的に行われている。 The easiest way to remove evaporative gas from inside a tank is to release it outside the tank, but if the evaporative gas is flammable or toxic, such as natural gas, it is preferable to release it into the atmosphere. do not have. Therefore, the evaporated gas is generally subjected to a process of increasing the pressure using a gas compressor and introducing it into a gas delivery pipeline, or introducing it into LNG flowing in a city gas production plant and reliquefying it.

特許文献１には、蒸発ガスを効率よく処理する方法として、コンプレッサーにより蒸発ガスを大気圧と都市ガス運用圧力（4MPa～7MPa）の間の圧力まで圧縮し、その圧縮ガスをタンクから送出された低温液体に混合して再液化するという技術が開示されている。 Patent Document 1 describes a method for efficiently processing evaporated gas, in which the evaporated gas is compressed to a pressure between atmospheric pressure and city gas operating pressure (4 MPa to 7 MPa) using a compressor, and the compressed gas is sent out from a tank. A technique has been disclosed in which it is mixed with a low-temperature liquid and reliquefied.

特開２０１１－１１７５６２号公報Japanese Patent Application Publication No. 2011-117562

しかしながら、特許文献１に開示される方法では、蒸発ガスが混合できるように低温液体を昇圧して過冷度を与える必要があり、その昇圧された低温液体に蒸発ガスを混合するため、蒸発ガスを圧縮するための圧縮機（コンプレッサー）が必須であり、圧縮機の動力消費が大きいという課題があった。
また、タンクから送出される低温液体の流量は供給先の需要によって増減するものであるので、低温液体の流量が少ない場合には、蒸発ガスの全量を低温液体に混合することができず、蒸発ガスを処理しきれないという課題もあった。 However, in the method disclosed in Patent Document 1, it is necessary to increase the pressure of the low-temperature liquid to give a degree of supercooling so that the evaporated gas can be mixed with the evaporated gas. A compressor is required to compress the air, and the problem is that the compressor consumes a lot of power.
In addition, the flow rate of the cryogenic liquid sent out from the tank increases or decreases depending on the demand of the supply destination, so if the flow rate of the cryogenic liquid is small, the entire amount of evaporated gas cannot be mixed with the cryogenic liquid, and the evaporation occurs. There was also the issue of not being able to fully process the gas.

本発明は、係る課題を解決するためになされたものであり、圧縮機等の動力を必要とすることなく、かつ、低温液体の流量に関わらず蒸発ガスを処理することができる蒸発ガス処理システムを提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and is an evaporative gas treatment system that can process evaporative gas without requiring power from a compressor or the like and regardless of the flow rate of the low-temperature liquid. The purpose is to provide

（１）本発明に係る蒸発ガス処理システムは、低温液体が貯留された貯槽から発生する蒸発ガスを処理するものであって、前記貯槽から発生する蒸発ガスを抜き出す抜き出しラインと、前記蒸発ガスを吸着する吸着材が収容された吸着容器と、前記貯槽から低温液体を送出する送出ポンプと、該送出ポンプによって送出された低温液体及び該低温液体が気化したガスが流れる低温液体・ガス送出ラインと、該低温液体・ガス送出ラインに設けられて前記低温液体を気化する気化器と、前記低温液体・ガス送出ラインにおける前記気化器の上流側に設けられて前記低温液体の冷熱を利用して熱交換する熱交換器と、前記抜き出しラインから抜き出された蒸発ガスを導入して、前記吸着容器と前記熱交換器との間で循環させる循環ラインと、を備えたことを特徴とするものである。 (1) The evaporative gas treatment system according to the present invention processes evaporative gas generated from a storage tank in which a low-temperature liquid is stored, and includes an extraction line for extracting the evaporative gas generated from the storage tank, and an extraction line for extracting the evaporative gas from the storage tank. an adsorption container containing an adsorbent to be adsorbed; a delivery pump that delivers the low temperature liquid from the storage tank; and a low temperature liquid/gas delivery line through which the low temperature liquid sent out by the delivery pump and the gas obtained by vaporizing the low temperature liquid flow. a vaporizer provided in the low temperature liquid/gas delivery line to vaporize the low temperature liquid; and a vaporizer provided upstream of the vaporizer in the low temperature liquid/gas delivery line to generate heat using the cold heat of the low temperature liquid. It is characterized by comprising a heat exchanger for exchanging heat, and a circulation line that introduces the evaporated gas extracted from the extraction line and circulates it between the adsorption container and the heat exchanger. be.

（２）また、上記（１）に記載のものにおいて、前記吸着材に吸着された蒸発ガスを脱着するための熱源として、前記低温液体・ガス送出ラインにおける前記気化器の下流側のガスを前記吸着容器に供給するガス供給ラインを設けたことを特徴とするものである。 (2) In the item described in (1) above, the gas on the downstream side of the vaporizer in the low temperature liquid/gas delivery line is used as a heat source for desorbing the vaporized gas adsorbed by the adsorbent. This device is characterized in that a gas supply line is provided to supply the adsorption container.

（３）また、上記（１）又は（２）に記載のものにおいて、前記低温液体・ガス送出ラインにおける前記気化器の上流側に設けられた気液混合器と、前記吸着材から脱着した脱着ガスを前記気液混合器に供給する第１脱着ガス供給ラインと、を設けたことを特徴とするものである。 (3) In addition, in the item described in (1) or (2) above, a gas-liquid mixer provided upstream of the vaporizer in the low-temperature liquid/gas delivery line, and a A first desorption gas supply line for supplying gas to the gas-liquid mixer is provided.

（４）また、上記（１）乃至（３）のいずれかに記載のものにおいて、前記吸着材から脱着した脱着ガスを前記低温液体・ガス送出ラインにおける前記気化器の下流側に供給する第２脱着ガス供給ラインを設けたことを特徴とするものである。 (4) Furthermore, in the device according to any one of (1) to (3) above, a second This is characterized by the provision of a desorption gas supply line.

（５）また、上記（４）に記載のものにおいて、前記第２脱着ガス供給ラインによって前記低温液体・ガス送出ラインに脱着ガスを戻す位置よりも上流側に低温液体・ガス送出ラインを流れるガスの圧力を調整する圧調弁を設けたことを特徴とするものである。 (5) Furthermore, in the item described in (4) above, the gas flowing through the cryogenic liquid/gas delivery line upstream of the position where the desorption gas is returned to the cryogenic liquid/gas delivery line by the second desorption gas supply line. This is characterized by the provision of a pressure regulating valve for regulating the pressure.

（６）また、上記（４）に記載のものにおいて、前記第２脱着ガス供給ラインに、脱着ガスの圧力を昇圧するための昇圧装置を設けたことを特徴とするものである。 (6) Furthermore, in the device described in (4) above, the second desorption gas supply line is provided with a pressure increasing device for increasing the pressure of the desorption gas.

（７）また、上記（１）乃至（６）のいずれかに記載のものにおいて、前記吸着容器は、第１吸着容器と第２吸着容器の２個からなり、前記循環ラインを前記第１吸着容器と前記第２吸着容器に選択的に接続して、第１吸着容器と第２吸着容器によって前記蒸発ガスの吸着と脱着を交互に行えるようにしたことを特徴とするものである。 (7) Further, in the item described in any one of (1) to (6) above, the adsorption container is composed of two adsorption containers, a first adsorption container and a second adsorption container, and the circulation line is connected to the first adsorption container. It is characterized in that the container and the second adsorption container are selectively connected so that the first adsorption container and the second adsorption container can alternately adsorb and desorb the evaporated gas.

本発明においては、蒸発ガスを抜き出す抜き出しラインと、蒸発ガスを吸着する吸着材が収容された吸着容器と、低温液体・ガス送出ラインにおける気化器の上流側に設けられて低温液体の冷熱を利用して熱交換する熱交換器と、貯槽から抜き出された蒸発ガスを抜き出しラインから導入して、吸着容器と熱交換器との間で循環させる循環ラインとを備えたことにより、脱着の際に高圧のガスを得ることができるので圧縮機等を必要とすることがなく、貯槽から発生する蒸発ガスを低い消費電力で処理できる。
また、低温液体・ガス送出ラインの流量が少ないときには蒸発ガスを吸着容器内に保持し、流量が多くなった際に吸着容器から放出することで蒸発ガスを処理することができる。 In the present invention, an extraction line for extracting evaporated gas, an adsorption container containing an adsorbent for adsorbing evaporated gas, and a low-temperature liquid/gas delivery line provided upstream of the vaporizer to utilize the cold heat of the low-temperature liquid. The system is equipped with a heat exchanger that exchanges heat during desorption, and a circulation line that introduces the evaporated gas extracted from the storage tank from the extraction line and circulates it between the adsorption vessel and the heat exchanger. Since it is possible to obtain high-pressure gas, there is no need for a compressor or the like, and the evaporated gas generated from the storage tank can be processed with low power consumption.
Further, when the flow rate of the low temperature liquid/gas delivery line is low, the evaporated gas can be held in the adsorption container, and when the flow rate is high, it can be released from the adsorption container, thereby processing the evaporated gas.

本発明の実施の形態１に係る蒸発ガス処理システムの説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of an evaporative gas treatment system according to Embodiment 1 of the present invention. 本発明の実施の形態２に係る蒸発ガス処理システムの説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of an evaporative gas treatment system according to Embodiment 2 of the present invention. 本発明の実施の形態３に係る蒸発ガス処理システムの説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of an evaporative gas treatment system according to Embodiment 3 of the present invention. 本発明の実施の形態４に係る蒸発ガス処理システムの説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of an evaporative gas treatment system according to Embodiment 4 of the present invention.

［実施の形態１］
本実施の形態に係る蒸発ガス処理システム１は、ＬＮＧ等の低温液体３が貯留された貯槽５から発生する蒸発ガスを処理するものであって、図１に示すように、貯槽５から発生する蒸発ガスを抜き出す抜き出しライン７と、蒸発ガスを吸着する吸着材が収容された吸着容器９と、貯槽５から送出される低温液体３及び低温液体３が気化したガスが流れる低温液体・ガス送出ライン１１と、抜き出しライン７から抜き出された蒸発ガスを導入して、吸着容器９と低温液体・ガス送出ライン１１に設けられた熱交換器１３との間で循環させる循環ライン１５とを備えている。 [Embodiment 1]
The evaporative gas treatment system 1 according to the present embodiment processes evaporative gas generated from a storage tank 5 in which a low-temperature liquid 3 such as LNG is stored, and as shown in FIG. An extraction line 7 for extracting evaporated gas, an adsorption container 9 containing an adsorbent that adsorbs evaporated gas, and a low-temperature liquid/gas delivery line through which the low-temperature liquid 3 sent from the storage tank 5 and the gas obtained by vaporizing the low-temperature liquid 3 flow. 11, and a circulation line 15 that introduces the vaporized gas extracted from the extraction line 7 and circulates it between the adsorption container 9 and the heat exchanger 13 provided in the low temperature liquid/gas delivery line 11. There is.

＜抜き出しライン＞
抜き出しライン７は、貯槽５に貯留された低温液体３が蒸発して発生する蒸発ガス（「ボイルオフガス」、「ＢＯＧ」ともいう）を、貯槽５から抜き出すラインであり、一端が貯槽５、他端が循環ライン１５に接続されている。抜き出しライン７に設けられた第１開閉弁１７を開放することで、貯槽５から抜き出された蒸発ガスが循環ライン１５に導入される。 <Extraction line>
The extraction line 7 is a line for extracting evaporated gas (also referred to as "boil-off gas" or "BOG") generated by evaporation of the low-temperature liquid 3 stored in the storage tank 5 from the storage tank 5. The end is connected to the circulation line 15. By opening the first on-off valve 17 provided in the extraction line 7, the evaporated gas extracted from the storage tank 5 is introduced into the circulation line 15.

＜吸着容器＞
吸着容器９は、抜き出しライン７から抜き出された蒸発ガスを吸着するための吸着材が収容されたものである。
吸着容器９に収容される吸着材（例えば活性炭など）の吸着能力は、低温ほど大きくなるので、吸着材を低温状態に保つことで、吸着材の吸着量が増大し、大量の蒸発ガスを吸着することができる。また、大量の蒸発ガスを保持した吸着材に熱源を与えて温度を上げることで、吸着材の吸着能力が低下し、吸着していた蒸発ガスを放出（脱着）させることができる。 <Adsorption container>
The adsorption container 9 houses an adsorbent for adsorbing the evaporated gas extracted from the extraction line 7.
The adsorption capacity of the adsorbent (for example, activated carbon) stored in the adsorption container 9 increases as the temperature decreases, so by keeping the adsorbent at a low temperature, the adsorption amount of the adsorbent increases and a large amount of evaporated gas can be adsorbed. can do. Furthermore, by applying a heat source to the adsorbent holding a large amount of evaporated gas to raise its temperature, the adsorption capacity of the adsorbent is reduced, and the adsorbed evaporated gas can be released (desorbed).

＜低温液体・ガス送出ライン＞
低温液体・ガス送出ライン１１は、貯槽５から送出される低温液体３を気化してガス幹線へ送出するラインであり、貯槽５内に設けられた送出ポンプ１９と、気液混合器２１と、昇圧ポンプ２３と、熱交換器１３と、気化器２５が設けられている。
送出ポンプ１９によって貯槽５から払い出された低温液体３は、昇圧ポンプ２３によって昇圧された後、気化器２５によって加熱気化されて、ガス幹線に送出される。気化器２５の熱源としては、例えば海水があげられる。 <Cryogenic liquid/gas delivery line>
The low temperature liquid/gas delivery line 11 is a line that vaporizes the low temperature liquid 3 sent from the storage tank 5 and sends it to the gas main line, and includes a delivery pump 19 provided in the storage tank 5, a gas-liquid mixer 21, A boost pump 23, a heat exchanger 13, and a vaporizer 25 are provided.
The low temperature liquid 3 discharged from the storage tank 5 by the delivery pump 19 is pressurized by the boost pump 23, heated and vaporized by the vaporizer 25, and sent to the gas main line. As a heat source for the vaporizer 25, for example, seawater can be cited.

本実施の形態では、気化器２５の上流側（図１における送出ポンプ１９と昇圧ポンプ２３の間）に気液混合器２１が設けられており、気液混合器２１には、後述する第１脱着ガス供給ライン３７が接続されている。気液混合器２１によって、貯槽５から払い出された低温液体３に第１脱着ガス供給ライン３７から供給されるガス（脱着ガス）が気液混合されて、昇圧ポンプ２３に導入される。 In this embodiment, a gas-liquid mixer 21 is provided upstream of the vaporizer 25 (between the delivery pump 19 and the booster pump 23 in FIG. 1), and the gas-liquid mixer 21 includes a first A desorption gas supply line 37 is connected. The gas (desorption gas) supplied from the first desorption gas supply line 37 is mixed with the low temperature liquid 3 discharged from the storage tank 5 by the gas-liquid mixer 21 and introduced into the boost pump 23 .

また、昇圧ポンプ２３の下流側、かつ、気化器２５の上流側には、低温液体３の冷熱を利用して熱交換する熱交換器１３が設けられており、さらに熱交換器１３には、循環ライン１５が接続されている。昇圧ポンプ２３で昇圧されて過冷度の上がった低温液体３は、熱交換器１３に導入され、低温液体３の冷熱によって、循環ライン１５を流れる蒸発ガスを冷却する。 Further, a heat exchanger 13 is provided downstream of the boost pump 23 and upstream of the vaporizer 25 for exchanging heat using the cold heat of the low-temperature liquid 3. A circulation line 15 is connected. The low temperature liquid 3 whose pressure has been increased by the pressure boost pump 23 and the degree of subcooling has increased is introduced into the heat exchanger 13, and the evaporated gas flowing through the circulation line 15 is cooled by the cold heat of the low temperature liquid 3.

＜循環ライン＞
循環ライン１５は、抜き出しライン７から導入される蒸発ガスを、吸着容器９と熱交換器１３との間で循環させるラインであり、循環ブロワ２７と、第２開閉弁２９と、第３開閉弁３１が設けられている。
抜き出しライン７から抜き出された蒸発ガスは、循環ライン１５における循環ブロワ２７の上流に導入され、循環ブロワ２７によって熱交換器１３へ供給される。蒸発ガスは熱交換器１３で低温液体・ガス送出ライン１１を流れる低温液体３の冷熱によって冷却され、吸着容器９に導入される。 <Circulation line>
The circulation line 15 is a line that circulates the evaporated gas introduced from the extraction line 7 between the adsorption container 9 and the heat exchanger 13, and includes a circulation blower 27, a second on-off valve 29, and a third on-off valve. 31 are provided.
The evaporated gas extracted from the extraction line 7 is introduced into the circulation line 15 upstream of the circulation blower 27 and is supplied to the heat exchanger 13 by the circulation blower 27. The evaporated gas is cooled by the cold heat of the low temperature liquid 3 flowing through the low temperature liquid/gas delivery line 11 in the heat exchanger 13 and introduced into the adsorption vessel 9 .

吸着容器９に導入された蒸発ガスは、吸着容器９に収容された吸着材に吸着される。蒸発ガスは吸着容器９に導入される前に熱交換器１３によって冷却されているので、蒸発ガスの冷熱によって吸着材が冷却され、蒸発ガスの吸着が促進される。 The evaporated gas introduced into the adsorption container 9 is adsorbed by the adsorbent contained in the adsorption container 9. Since the evaporated gas is cooled by the heat exchanger 13 before being introduced into the adsorption container 9, the adsorbent is cooled by the cold heat of the evaporated gas, and adsorption of the evaporated gas is promoted.

吸着材が蒸発ガスを吸着すると、吸着熱が発生する。吸着熱とは、空間中を飛び回っていた気体の分子が吸着材表面に固定化される際に、気体の持っていた運動エネルギーが熱となって発現されるものである。吸着が進むと、この吸着熱によって、容器内の温度が上昇し、吸着量が低下する。 When the adsorbent adsorbs vaporized gas, heat of adsorption is generated. Heat of adsorption is the kinetic energy of the gas that is expressed as heat when the molecules of the gas flying around in space are fixed on the surface of the adsorbent. As the adsorption progresses, the temperature inside the container increases due to the heat of adsorption, and the amount of adsorption decreases.

ある程度吸着量が低下すると、吸着容器９に導入した蒸発ガスの全量を吸着することができなくなるので、吸着されない蒸発ガスは再度循環ライン１５に払い出される。吸着容器９から循環ライン１５に払い出された蒸発ガスは、抜き出しライン７から導入される蒸発ガスと混合されて、熱交換器１３で再冷却されてから吸着容器９に戻される。再冷却された蒸発ガスの冷熱により、吸着材が冷却されて、再び蒸発ガスの吸着が促進される。 When the amount of adsorption decreases to a certain extent, it becomes impossible to adsorb the entire amount of evaporated gas introduced into the adsorption container 9, so the evaporated gas that is not adsorbed is discharged to the circulation line 15 again. The evaporated gas discharged from the adsorption container 9 to the circulation line 15 is mixed with the evaporated gas introduced from the extraction line 7, recooled in the heat exchanger 13, and then returned to the adsorption container 9. The adsorbent is cooled by the cold heat of the recooled evaporated gas, and adsorption of the evaporated gas is promoted again.

このように、循環ライン１５があることで吸着容器９内を冷却し続けることができるので、高い吸着量を保つことができ、大量の蒸発ガスを吸着することができる。
また、蒸発ガスを低温液体３の冷熱を用いて吸着材の冷却をするための冷媒として用いているので、吸着材との直接接触により熱輸送が行われるため、温度変化の応答性が良い。したがって、吸着工程の処理時間を短く抑えることができる。 In this way, the presence of the circulation line 15 allows the interior of the adsorption container 9 to be continuously cooled, so that a high amount of adsorption can be maintained and a large amount of evaporated gas can be adsorbed.
Furthermore, since the evaporated gas is used as a refrigerant to cool the adsorbent using the cold heat of the low-temperature liquid 3, heat transport is performed through direct contact with the adsorbent, so responsiveness to temperature changes is good. Therefore, the processing time of the adsorption step can be kept short.

吸着材によって所定の量まで蒸発ガスを吸着すると、吸着処理を停止して、脱着処理に切り替える。前述したように、吸着材に吸着された蒸発ガスの脱着は吸着材を加熱することで行う。加熱のための熱源として、本実施の形態の蒸発ガス処理システム１では、図１に示すようなガス供給ライン３３を設けて、低温液体３が気化したガス（気化ガス）を吸着容器９に導入するようにしている。 When the adsorbent adsorbs evaporated gas to a predetermined amount, the adsorption process is stopped and switched to the desorption process. As described above, the vaporized gas adsorbed by the adsorbent is desorbed by heating the adsorbent. As a heat source for heating, the evaporated gas treatment system 1 of this embodiment is provided with a gas supply line 33 as shown in FIG. I try to do that.

＜ガス供給ライン＞
ガス供給ライン３３は、低温液体３が気化したガスを吸着容器９に供給するラインであり、一端が低温液体・ガス送出ライン１１における気化器２５の下流側、他端が吸着容器９に接続されている。ガス供給ライン３３に設けられた第４開閉弁３５を開放することで、気化器２５の下流側の気化ガスを吸着容器９に導入することができる。 <Gas supply line>
The gas supply line 33 is a line that supplies gas obtained by vaporizing the low temperature liquid 3 to the adsorption container 9, and has one end connected to the downstream side of the vaporizer 25 in the low temperature liquid/gas delivery line 11, and the other end connected to the adsorption container 9. ing. By opening the fourth on-off valve 35 provided in the gas supply line 33, the vaporized gas downstream of the vaporizer 25 can be introduced into the adsorption container 9.

気化器２５の下流側の気化ガスは、高温のガス（例えば５℃）であるので、ガス供給ライン３３から気化ガスが吸着容器９に導入されることで、容器内の温度が上がり、吸着材に吸着された蒸発ガスの脱着が行われる。吸着容器９内は、蒸発ガスを冷却しながら循環させたことで、大量の蒸発ガスを保持した状態であり、そこに、高温高圧の気化ガスを導入することで、吸着されていた大量の蒸発ガスが脱着され、高い圧力の脱着ガスを得ることができる。
また、熱源である気化ガスを直接吸着容器９内に導入しているので、吸着材と直接接触して熱輸送が行われるため温度変化の応答性が良く、脱着工程の処理時間を短く抑えることができる。 The vaporized gas on the downstream side of the vaporizer 25 is a high-temperature gas (for example, 5° C.), so when the vaporized gas is introduced into the adsorption container 9 from the gas supply line 33, the temperature inside the container increases and the adsorbent material Desorption of vaporized gases adsorbed by the gas is performed. The inside of the adsorption container 9 retains a large amount of evaporated gas by circulating the evaporated gas while cooling it, and by introducing high temperature and high pressure vaporized gas therein, the large amount of evaporated gas that had been adsorbed is removed. The gas is desorbed and a high pressure desorbed gas can be obtained.
In addition, since the vaporized gas, which is a heat source, is directly introduced into the adsorption vessel 9, heat is transported through direct contact with the adsorbent, so responsiveness to temperature changes is good, and the processing time of the desorption process can be kept short. I can do it.

吸着材を加熱することによって得られた脱着ガスを効率的に処理するため、本実施の形態の蒸発ガス処理システム１では、図１に示すような第１脱着ガス供給ライン３７を設けて、脱着ガスを低温液体３に気液混合して再液化するようにしている。 In order to efficiently process the desorption gas obtained by heating the adsorbent, the evaporative gas treatment system 1 of this embodiment is provided with a first desorption gas supply line 37 as shown in FIG. The gas is mixed with the low-temperature liquid 3 and re-liquefied.

＜第１脱着ガス供給ライン＞
第１脱着ガス供給ライン３７は、吸着材から脱着した脱着ガスを低温液体・ガス送出ライン１１に設けられた気液混合器２１に供給するものであり、一端が吸着容器９、他端が気液混合器２１に接続されている。第１脱着ガス供給ライン３７に設けられた第５開閉弁３９を開放することで、脱着ガスを気液混合器２１に導入することができる。 <First desorption gas supply line>
The first desorption gas supply line 37 supplies the desorption gas desorbed from the adsorbent to the gas-liquid mixer 21 provided in the low temperature liquid/gas delivery line 11, and has one end connected to the adsorption container 9 and the other end connected to the gas It is connected to the liquid mixer 21. By opening the fifth on-off valve 39 provided in the first desorption gas supply line 37, the desorption gas can be introduced into the gas-liquid mixer 21.

上記のように構成された本実施の形態の蒸発ガス処理システム１の動作について、図１を用いて説明する。なお、下記の説明における、温度及び圧力は一例を示すものであり、実際の運用時にはこの限りではない。 The operation of the evaporative gas treatment system 1 of this embodiment configured as described above will be explained using FIG. 1. Note that the temperature and pressure in the following description are merely examples, and are not limited to this during actual operation.

＜吸着工程＞
貯槽５内のＬＮＧ等の低温液体（例えば-163℃）は、送出ポンプ１９によって例えば1MPa程度の圧力で低温液体・ガス送出ライン１１に送出されて気液混合器２１に導入される。吸着工程時には気液混合器２１に脱着ガスは供給されないので、低温液体３は気液混合器２１を通過し、昇圧ポンプ２３で4MPa～7MPaに昇圧されて、熱交換器１３に導入される。
また、貯槽５内の蒸発ガス（-120℃～-150℃）は、第１開閉弁１７を開放することで、抜き出しライン７から抜き出されて、循環ライン１５に導入される。循環ライン１５に導入された蒸発ガスは、循環ブロワ２７によって熱交換器１３に送出され、低温液体３と熱交換して、例えば-160℃に冷却される。
蒸発ガスと熱交換した低温液体３は、気化器２５によって気化してガスとなり、ガス幹線に送出される。 <Adsorption process>
A low-temperature liquid (for example, -163° C.) such as LNG in the storage tank 5 is delivered to the low-temperature liquid/gas delivery line 11 by a delivery pump 19 at a pressure of, for example, about 1 MPa, and introduced into the gas-liquid mixer 21 . Since no desorption gas is supplied to the gas-liquid mixer 21 during the adsorption process, the low-temperature liquid 3 passes through the gas-liquid mixer 21, is pressurized to 4 MPa to 7 MPa by the boost pump 23, and is introduced into the heat exchanger 13.
Further, the evaporated gas (-120°C to -150°C) in the storage tank 5 is extracted from the extraction line 7 and introduced into the circulation line 15 by opening the first on-off valve 17. The evaporated gas introduced into the circulation line 15 is sent to the heat exchanger 13 by the circulation blower 27, exchanges heat with the low temperature liquid 3, and is cooled to, for example, -160°C.
The low-temperature liquid 3 that has exchanged heat with the evaporated gas is vaporized by the vaporizer 25 and turned into gas, which is sent to the gas main line.

冷却された蒸発ガスは、吸着容器９に導入され（この時、第２開閉弁２９を開状態とする）、吸着容器９に収容された吸着材と直接接触することで、蒸発ガスが吸着材に吸着すると共に吸着材が冷却される。冷却によって吸着能力が向上するが、一定量吸着が進むと吸着熱によって吸着容器９内の温度が上昇するとともに容器内の蒸発ガスの温度も上昇し、冷却効率が低下する。
吸着材が吸着しきれなかった蒸発ガスは、第３開閉弁３１を開放することで、再度循環ライン１５に送出され、抜き出しライン７から導入される蒸発ガスと合流して再び熱交換器１３で冷却される。冷却された蒸発ガスは再度吸着容器９に導入され、吸着材を冷却し吸着が再び促進される。 The cooled evaporated gas is introduced into the adsorption container 9 (at this time, the second on-off valve 29 is opened), and the evaporated gas is brought into direct contact with the adsorbent contained in the adsorption container 9. At the same time, the adsorbent is cooled. Although the adsorption capacity is improved by cooling, when the adsorption progresses by a certain amount, the temperature inside the adsorption container 9 rises due to the heat of adsorption, and the temperature of the evaporated gas inside the container also rises, and the cooling efficiency decreases.
By opening the third on-off valve 31, the evaporated gas that has not been completely adsorbed by the adsorbent is sent to the circulation line 15 again, where it joins with the evaporated gas introduced from the extraction line 7 and is returned to the heat exchanger 13. cooled down. The cooled evaporated gas is introduced into the adsorption container 9 again, cools the adsorbent, and adsorption is promoted again.

上記のように、発生した吸着熱を熱交換器１３で除去しながら吸着材を冷却し続けることにより、吸着容器９内の吸着量が増えていく。吸着量が所定の値に達したら、第１開閉弁１７を閉止して蒸発ガスの導入を停止する。なお、吸着量は、吸着容器９内の圧力および温度の初期状態からの変化量、または、吸着容器９の導入側および払出側に設けた積算流量計値の差から計算することができる。
蒸発ガスの導入を停止した後は、循環ブロワ２７をすぐに停止してもよいし、しばらく循環させることで吸着容器９内の温度を更に低下させてから停止してもよい。
循環ブロワ２７を停止した後、第２開閉弁２９、第３開閉弁３１を閉止して吸着工程を終了する。 As described above, by continuing to cool the adsorbent while removing the generated heat of adsorption with the heat exchanger 13, the amount of adsorption in the adsorption container 9 increases. When the amount of adsorption reaches a predetermined value, the first on-off valve 17 is closed to stop introducing the evaporated gas. Note that the amount of adsorption can be calculated from the amount of change in the pressure and temperature inside the adsorption container 9 from the initial state, or the difference between the integrated flow meter values provided on the introduction side and the discharge side of the adsorption container 9.
After stopping the introduction of the evaporated gas, the circulation blower 27 may be stopped immediately, or may be stopped after the temperature inside the adsorption container 9 is further lowered by circulating the gas for a while.
After stopping the circulation blower 27, the second on-off valve 29 and the third on-off valve 31 are closed to complete the adsorption process.

＜脱着工程＞
吸着工程終了後、任意のタイミング（工場の需給バランス等による）で第４開閉弁３５を開放し、ガス供給ライン３３より、気化ガス（5℃、4MPa～7MPa）を吸着容器９に導入する。温度が高い気化ガスを導入することで、蒸発ガスを吸着した吸着材と気化ガスが直接接触して吸着材が加熱される。加熱によって、吸着材に吸着されていた蒸発ガスが脱着し、容器内で脱着を進行させることで容器内の脱着ガスの圧力が昇圧される。脱着ガスの昇圧は、必要に応じて任意の値に調整可能であるが、例えば7MPa程度まで昇圧することができる。 <Desorption process>
After the adsorption process is completed, the fourth on-off valve 35 is opened at an arbitrary timing (depending on the supply and demand balance of the factory, etc.), and vaporized gas (5° C., 4 MPa to 7 MPa) is introduced into the adsorption container 9 from the gas supply line 33. By introducing the vaporized gas at a high temperature, the adsorbent that has adsorbed the vaporized gas comes into direct contact with the vaporized gas, and the adsorbent is heated. By heating, the vaporized gas adsorbed by the adsorbent is desorbed, and as the desorption progresses within the container, the pressure of the desorbed gas within the container is increased. The pressure of the desorption gas can be adjusted to any value as necessary, and can be increased to about 7 MPa, for example.

吸着容器９内の脱着ガスの圧力が所定の圧力まで上昇したら、第１脱着ガス供給ライン３７の第５開閉弁３９を開放して、脱着ガスを低温液体・ガス送出ライン１１に設けられた気液混合器２１へ導入する。脱着ガスは、気液混合器２１を通流する低温液体３の圧力（1MPa）より高い圧力を有しているので、圧縮機等を必要とすることなく、低温液体３に気液混合して再液化することができる。 When the pressure of the desorption gas in the adsorption container 9 rises to a predetermined pressure, the fifth on-off valve 39 of the first desorption gas supply line 37 is opened, and the desorption gas is transferred to the gas provided in the low temperature liquid/gas delivery line 11. The liquid is introduced into the liquid mixer 21. Since the desorption gas has a pressure higher than the pressure (1 MPa) of the low temperature liquid 3 flowing through the gas-liquid mixer 21, it can be mixed with the low temperature liquid 3 without the need for a compressor or the like. Can be reliquefied.

脱着ガスの量（脱着量）が所定の値に達したら、第４開閉弁３５を閉止して気化ガスの導入を停止する。その後ライン内あるいは吸着容器９内の圧が減圧したら、第５開閉弁３９を閉止して脱着ガスの払い出しを停止し、脱着工程を終了する。脱着量は、吸着容器９内の圧力および温度の脱着操作開始時からの変化量、または、吸着容器９の気化ガス導入側（ガス供給ライン３３）および脱着ガス払出側（第１脱着ガス供給ライン３７）に設けた積算流量計値の差から計算することができる。 When the amount of desorption gas (desorption amount) reaches a predetermined value, the fourth on-off valve 35 is closed to stop introducing the vaporized gas. Thereafter, when the pressure in the line or in the adsorption container 9 is reduced, the fifth on-off valve 39 is closed to stop discharging the desorption gas, and the desorption process is completed. The amount of desorption is the amount of change in the pressure and temperature inside the adsorption container 9 from the start of the desorption operation, or the amount of change in the pressure and temperature inside the adsorption container 9 from the start of the desorption operation, or the amount of change between the vaporized gas introduction side (gas supply line 33) and the desorption gas output side (first desorption gas supply line) of the adsorption container 9. It can be calculated from the difference between the integrated flowmeter values provided in 37).

吸着と脱着を繰り返して行う場合は、脱着工程終了後の任意のタイミング（工場の需給バランス等による）で前述した吸着工程を実施する。 When adsorption and desorption are performed repeatedly, the above-described adsorption step is performed at an arbitrary timing (depending on the supply and demand balance of the factory, etc.) after the desorption step is completed.

上述したように、従来、蒸発ガスを低温液体３に混合して再液化する場合には圧縮機（コンプレッサー）が必要であったのに対し、本実施の形態では、吸着材から蒸発ガスを脱着することで高圧の脱着ガスを得ることができるので、低消費電力で蒸発ガスを処理することができる。 As mentioned above, conventionally, a compressor was required to mix evaporated gas with the low-temperature liquid 3 and reliquefy it, but in this embodiment, the evaporated gas is desorbed from the adsorbent. By doing so, high-pressure desorption gas can be obtained, so evaporated gas can be treated with low power consumption.

なお、本実施の形態では、吸着材を加熱するための熱源として、気化ガスを用いる例を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、海水やヒーターなどを用いて、吸着容器９を外部から加熱するようにしてもよく、その場合にも高い圧力の脱着ガスを得ることができる。
もっとも、前述したように、気化ガスを熱源として吸着容器９に導入することで、吸着材と直接接触して加熱することができるので、脱着工程の処理時間を短く抑えることができて好ましい。 Note that in this embodiment, an example in which vaporized gas is used as a heat source for heating the adsorbent has been described, but the present invention is not limited to this. For example, the adsorption container 9 may be heated from the outside using seawater, a heater, or the like, and a high-pressure desorption gas can also be obtained in that case.
However, as described above, by introducing the vaporized gas into the adsorption container 9 as a heat source, it is possible to directly contact and heat the adsorbent, which is preferable because the processing time of the desorption step can be kept short.

また、本実施の形態では、循環ライン１５における循環ブロワ２７の上流に抜き出しライン７を接続して蒸発ガスを導入する例を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、抜き出しライン７を吸着容器９に接続して、吸着容器９に直接蒸発ガスを導入してもよい。
もっとも、図１のように、吸着容器９に導入する前に蒸発ガスを熱交換器１３に通流させて冷却することで、より効率的に吸着材を冷却することができるので好ましい。 Furthermore, in this embodiment, an example has been described in which the extraction line 7 is connected upstream of the circulation blower 27 in the circulation line 15 to introduce evaporated gas, but the present invention is not limited to this. For example, the extraction line 7 may be connected to the adsorption container 9 to directly introduce the evaporated gas into the adsorption container 9.
However, as shown in FIG. 1, it is preferable to cool the evaporated gas by passing it through the heat exchanger 13 before introducing it into the adsorption container 9, since the adsorbent can be cooled more efficiently.

［実施の形態２］
実施の形態１では、吸着材から脱着した脱着ガスを貯槽５から払い出された低温液体３に気液混合して再液化する例を説明したが、本実施の形態では、脱着ガスを気化ガスに混合させて処理する例を説明する。 [Embodiment 2]
In Embodiment 1, an example was explained in which the desorption gas desorbed from the adsorbent is mixed with the low temperature liquid 3 discharged from the storage tank 5 to re-liquefy it, but in this embodiment, the desorption gas is converted into vaporized gas. An example of mixing and processing will be explained.

本実施の形態に係る蒸発ガス処理システム４１は、図１に示した蒸発ガス処理システム１の第１脱着ガス供給ライン３７に代えて、図２に示すように、第２脱着ガス供給ライン４３を設けている。
また、本実施の形態における低温液体・ガス送出ライン１１には、第２脱着ガス供給ライン４３によって脱着ガスを戻す位置よりも上流側に、圧調弁４５が設けられている。
第２脱着ガス供給ライン４３と圧調弁４５について以下に説明する。
なお、図２において、図１と同一部分には同一の符号を付し、説明を省略する。 The evaporative gas treatment system 41 according to the present embodiment includes a second desorption gas supply line 43 as shown in FIG. 2 in place of the first desorption gas supply line 37 of the evaporative gas treatment system 1 shown in FIG. It is set up.
Further, in the low temperature liquid/gas delivery line 11 in this embodiment, a pressure regulating valve 45 is provided upstream of the position where the desorption gas is returned by the second desorption gas supply line 43.
The second desorption gas supply line 43 and the pressure regulating valve 45 will be explained below.
Note that in FIG. 2, the same parts as in FIG.

＜第２脱着ガス供給ライン＞
第２脱着ガス供給ライン４３は、脱着ガスを低温液体・ガス送出ライン１１における気化器２５の下流側に供給するラインであり、一端が吸着容器９、他端が低温液体・ガス送出ライン１１における気化器２５の下流側に接続されている。第２脱着ガス供給ライン４３に設けられた第６開閉弁４７を開放することで、脱着ガスを気化器２５の下流側に導入することができる。 <Second desorption gas supply line>
The second desorption gas supply line 43 is a line that supplies desorption gas to the downstream side of the vaporizer 25 in the low-temperature liquid/gas delivery line 11 , and has one end in the adsorption container 9 and the other end in the low-temperature liquid/gas delivery line 11 . It is connected to the downstream side of the vaporizer 25. By opening the sixth on-off valve 47 provided in the second desorption gas supply line 43, the desorption gas can be introduced into the downstream side of the vaporizer 25.

＜圧調弁＞
圧調弁４５は、低温液体・ガス送出ライン１１を流れるガスの圧力を調整するものである。
吸着容器９から払い出される脱着ガスは、吸着容器９や配管の圧力損失により、気化器２５の下流側の気化ガスよりも低圧になり、脱着ガスを低温液体・ガス送出ライン１１に導入できない場合がある。
そのため、低温液体・ガス送出ライン１１における第２脱着ガス供給ライン４３によって脱着ガスを戻す位置よりも上流側に圧調弁４５を設けて気化ガスを減圧することで、脱着ガスを低温液体・ガス送出ライン１１に導入できるようにしている。 <Pressure regulating valve>
The pressure regulating valve 45 regulates the pressure of the gas flowing through the low temperature liquid/gas delivery line 11.
The desorption gas discharged from the adsorption container 9 may have a lower pressure than the vaporized gas downstream of the vaporizer 25 due to pressure loss in the adsorption container 9 and piping, and the desorption gas may not be introduced into the low temperature liquid/gas delivery line 11. be.
Therefore, by providing a pressure regulating valve 45 upstream of the position where the desorption gas is returned by the second desorption gas supply line 43 in the low temperature liquid/gas delivery line 11 to reduce the pressure of the vaporized gas, the desorption gas can be transferred to the low temperature liquid/gas. It is designed so that it can be introduced into the sending line 11.

また、上記は気化ガスを減圧することで、脱着ガスを導入しやすくするものであるが、他の態様として、第２脱着ガス供給ライン４３に昇圧装置（図示なし）を設けて、脱着ガスを昇圧するようにしてもよい。気化ガスを減圧する圧調弁４５に代えて、脱着ガスを昇圧する昇圧装置を用いる場合であっても同様の効果を得ることができる。 Further, in the above method, the desorption gas is easily introduced by reducing the pressure of the vaporized gas, but in another embodiment, a pressure booster (not shown) is provided in the second desorption gas supply line 43 to introduce the desorption gas. The pressure may be increased. Similar effects can be obtained even when a pressure booster that boosts the pressure of the desorption gas is used instead of the pressure regulating valve 45 that reduces the pressure of the vaporized gas.

上記のように構成された本実施の形態の蒸発ガス処理システム４１の動作について、図２を用いて説明する。なお、吸着工程については実施の形態１と同様であるので、説明を省略し、脱着工程についてのみ説明する。 The operation of the evaporative gas treatment system 41 of this embodiment configured as described above will be explained using FIG. 2. Note that since the adsorption process is the same as in Embodiment 1, the explanation will be omitted and only the desorption process will be explained.

＜脱着工程＞
吸着工程終了後、任意のタイミング（工場の需給バランス等による）で第４開閉弁３５を開放し、ガス供給ライン３３より、気化ガス（5℃、4MPa～7MPa）を吸着容器９に導入する。気化ガスを導入し、容器内で脱着を進行させることで容器内の脱着ガスの圧力が昇圧される（例えば7MPa程度まで昇圧可能）のは実施の形態１で説明した通りである。 <Desorption process>
After the adsorption process is completed, the fourth on-off valve 35 is opened at an arbitrary timing (depending on the supply and demand balance of the factory, etc.), and vaporized gas (5° C., 4 MPa to 7 MPa) is introduced into the adsorption container 9 from the gas supply line 33. As described in Embodiment 1, the pressure of the desorption gas in the container is increased (for example, the pressure can be increased to about 7 MPa) by introducing vaporized gas and allowing desorption to proceed within the container.

吸着容器９内の脱着ガスの圧力が所定の圧力（例えばガス幹線の要求圧力以上）まで上昇したら、第２脱着ガス供給ライン４３の第６開閉弁４７を開放して、脱着ガスを低温液体・ガス送出ライン１１における気化器２５の下流側へ導入する。脱着ガスは、吸着容器９内で昇圧されているが、吸着容器９や配管の圧力損失により、低温液体・ガス送出ライン１１を通流する気化ガスの圧力（4MPa～7MPa）より低圧になった場合には、低温液体・ガス送出ライン１１に設けられた圧調弁４５によって気化ガスを減圧してから脱着ガスを低温液体・ガス送出ライン１１に導入する。 When the pressure of the desorption gas in the adsorption container 9 rises to a predetermined pressure (for example, higher than the required pressure of the gas main line), the sixth on-off valve 47 of the second desorption gas supply line 43 is opened to convert the desorption gas into a low-temperature liquid. The gas is introduced downstream of the vaporizer 25 in the gas delivery line 11 . The desorption gas is pressurized in the adsorption container 9, but due to pressure loss in the adsorption container 9 and piping, the pressure has become lower than the pressure (4 MPa to 7 MPa) of the vaporized gas flowing through the low temperature liquid/gas delivery line 11. In this case, the pressure of the vaporized gas is reduced by the pressure regulating valve 45 provided in the low temperature liquid/gas delivery line 11, and then the desorption gas is introduced into the low temperature liquid/gas delivery line 11.

もっとも、ガス幹線には所定の要求圧力があるので、それを下回るような減圧を行うことは難しい。そこで、上記圧力損失を考慮して、ガス幹線の要求圧力より高めに低温液体３を昇圧ポンプ２３で昇圧し、圧調弁４５で減圧してもガス幹線の要求圧力を満たすようにすればよい。
具体的には、ガス幹線の要求圧力が5.0MPaの場合、昇圧ポンプ２３で低温液体３を例えば5.1MPaまで昇圧する。
5.1MPaの低温液体３を気化させると5.1MPaの気化ガスとなるので、その一部を吸着容器９に導入する。5.1MPaの気化ガスによって吸着容器９内の脱着ガスは5.1MPaまで昇圧可能だが、その後の圧力損失により、脱着ガスの圧力は5.0MPaまで低下する。一方、低温液体・ガス送出ライン１１においては圧調弁４５で気化ガスを5.0MPaに減圧し、減圧した気化ガスに5.0MPaの脱着ガスを導入する。これによって、要求圧力を満たすガスをガス幹線に送ることができる。 However, since the gas main line has a predetermined required pressure, it is difficult to reduce the pressure below that. Therefore, in consideration of the above pressure loss, the pressure of the low-temperature liquid 3 may be increased to a level higher than the required pressure of the gas main line using the boost pump 23, and even if the pressure is reduced using the pressure regulating valve 45, the required pressure of the gas main line may be satisfied. .
Specifically, when the required pressure of the gas main line is 5.0 MPa, the pressure of the low temperature liquid 3 is increased to, for example, 5.1 MPa using the boost pump 23.
When the low temperature liquid 3 of 5.1 MPa is vaporized, it becomes a vaporized gas of 5.1 MPa, and a part of it is introduced into the adsorption container 9. Although the pressure of the desorption gas in the adsorption container 9 can be increased to 5.1 MPa by the vaporized gas of 5.1 MPa, the pressure of the desorption gas decreases to 5.0 MPa due to the subsequent pressure loss. On the other hand, in the low-temperature liquid/gas delivery line 11, the pressure of the vaporized gas is reduced to 5.0 MPa by the pressure regulating valve 45, and a desorption gas of 5.0 MPa is introduced into the reduced pressure of the vaporized gas. This allows gas that satisfies the required pressure to be sent to the gas main line.

脱着ガスの量（脱着量）が所定の値に達したら、第４開閉弁３５を閉止して気化ガスの導入を停止する。その後ライン内あるいは吸着容器９内の圧が減圧したら、第６開閉弁４７を閉止して脱着ガスの払い出しを停止し、脱着工程を終了する。脱着量は、吸着容器９内の圧力および温度の脱着操作開始時からの変化量、または、吸着容器９の気化ガス導入側（ガス供給ライン３３）および脱着ガス払出側（第２脱着ガス供給ライン４３）に設けた積算流量計値の差から計算することができる。 When the amount of desorption gas (desorption amount) reaches a predetermined value, the fourth on-off valve 35 is closed to stop introducing the vaporized gas. Thereafter, when the pressure in the line or in the adsorption container 9 is reduced, the sixth on-off valve 47 is closed to stop discharging the desorption gas, and the desorption process is completed. The amount of desorption is the amount of change in the pressure and temperature inside the adsorption container 9 from the start of the desorption operation, or the amount of change in the pressure and temperature inside the adsorption container 9 from the start of the desorption operation, or the amount of change between the vaporized gas introduction side (gas supply line 33) and the desorption gas output side (second desorption gas supply line) of the adsorption container 9. It can be calculated from the difference between the integrated flow meter values provided in 43).

実施の形態１と同様に、吸着と脱着を繰り返して行う場合は、脱着工程終了後の任意のタイミング（工場の需給バランス等による）で前述した吸着工程を実施する。 As in Embodiment 1, when adsorption and desorption are performed repeatedly, the adsorption step described above is performed at an arbitrary timing (depending on the supply and demand balance of the factory, etc.) after the end of the desorption step.

実施の形態１で説明した蒸発ガス処理システム１（図１参照）の場合には、脱着ガスを低温液体３に混合して再液化するため、脱着ガスの量が多いと低温液体３が沸騰してしまうので混合できる脱着ガスの量に上限があるが、本実施の形態では、気化ガスに脱着ガスを混合するので、低温液体３が沸騰することに起因する問題は生じない。したがって、低温液体・ガス送出ラインの流量が少ない場合でも問題なく脱着ガスを処理できる。 In the case of the evaporative gas processing system 1 (see FIG. 1) described in Embodiment 1, the desorption gas is mixed with the low temperature liquid 3 and reliquefied, so if the amount of desorption gas is large, the low temperature liquid 3 will boil. However, in this embodiment, since the desorption gas is mixed with the vaporized gas, problems caused by boiling of the low temperature liquid 3 do not occur. Therefore, even when the flow rate of the low temperature liquid/gas delivery line is low, the desorption gas can be processed without any problem.

［実施の形態３］
実施の形態１、２では、脱着ガスを貯槽５から払い出された低温液体３に気液混合する例と、気化器２５の下流の気化ガスに混合する例を説明したが、本実施の形態では、脱着ガスの圧力に応じて脱着ガスの混合先を低温液体３または気化ガスに切替可能とした例を説明する。 [Embodiment 3]
In Embodiments 1 and 2, an example in which the desorption gas is mixed with the low-temperature liquid 3 discharged from the storage tank 5 and an example in which it is mixed with the vaporized gas downstream of the vaporizer 25 was explained, but in this embodiment Next, an example will be described in which the mixing destination of the desorption gas can be switched to the low temperature liquid 3 or the vaporized gas depending on the pressure of the desorption gas.

本実施の形態に係る蒸発ガス処理システム４９は、図３に示すように、第１脱着ガス供給ライン３７から分岐させて第２脱着ガス供給ライン４３を設けており、低温液体・ガス送出ライン１１には、実施の形態２と同様に圧調弁４５が設けられている。
図３における各構成は実施の形態１、２で説明したものと同様であるので、図１、図２と同一部分には同一の符号を付し、各構成の説明を省略する。 As shown in FIG. 3, the evaporative gas treatment system 49 according to the present embodiment includes a second desorption gas supply line 43 branched from the first desorption gas supply line 37, and a low temperature liquid/gas delivery line 11. A pressure regulating valve 45 is provided in the same manner as in the second embodiment.
Since each configuration in FIG. 3 is the same as that described in Embodiments 1 and 2, the same parts as in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and description of each configuration will be omitted.

上記のように構成された本実施の形態の蒸発ガス処理システム４９の動作について、図３を用いて説明する。なお、吸着工程については実施の形態１、２と同様であるので、説明を省略し、脱着工程についてのみ説明する。 The operation of the evaporative gas processing system 49 of this embodiment configured as described above will be explained using FIG. 3. Note that since the adsorption process is the same as in Embodiments 1 and 2, the explanation will be omitted and only the desorption process will be explained.

吸着容器９内の脱着ガスの圧力が所定の圧力（例えばガス幹線の要求圧力以上）まで上昇したら、第２脱着ガス供給ライン４３の第６開閉弁４７を開放して、脱着ガスを低温液体・ガス送出ライン１１における気化器２５の下流側へ導入する。脱着ガスは、吸着容器９内で昇圧されているが、吸着容器９や配管の圧力損失により、低温液体・ガス送出ライン１１を通流する気化ガスの圧力（4MPa～7MPa）より低圧になった場合には、低温液体・ガス送出ライン１１に設けられた圧調弁４５によって気化ガスをガス幹線の要求圧力の範囲で減圧してから脱着ガスを低温液体・ガス送出ライン１１に導入する。 When the pressure of the desorption gas in the adsorption container 9 rises to a predetermined pressure (for example, higher than the required pressure of the gas main line), the sixth on-off valve 47 of the second desorption gas supply line 43 is opened to convert the desorption gas into a low-temperature liquid. The gas is introduced downstream of the vaporizer 25 in the gas delivery line 11 . The desorption gas is pressurized in the adsorption container 9, but due to pressure loss in the adsorption container 9 and piping, the pressure has become lower than the pressure (4 MPa to 7 MPa) of the vaporized gas flowing through the low temperature liquid/gas delivery line 11. In this case, the pressure of the vaporized gas is reduced within the required pressure range of the gas main line by the pressure regulating valve 45 provided in the low-temperature liquid/gas delivery line 11, and then the desorption gas is introduced into the low-temperature liquid/gas delivery line 11.

吸着材から脱着した脱着ガスの量（脱着量）が増えるにつれて、吸着容器９内のガスの量が減っていくので、第２脱着ガス供給ライン４３を通流する脱着ガスの圧力は徐々に低下していく。脱着量が所定の値（例えば脱着ガスの圧力がガス幹線の要求圧力以下になると判断される値）に達したら、第６開閉弁４７を閉止すると共に、第５開閉弁３９を開放して、脱着ガスを昇圧ポンプ２３の上流に設けられた気液混合器２１へ導入する。この時の脱着ガスの圧力は、ガス幹線の要求圧力を下回ってはいるが、気液混合器２１を通流する低温液体３の圧力（1MPa）を上回っているので、圧縮機等を必要とすることなく、低温液体３に気液混合することができる。 As the amount of desorption gas desorbed from the adsorbent (desorption amount) increases, the amount of gas in the adsorption container 9 decreases, so the pressure of the desorption gas flowing through the second desorption gas supply line 43 gradually decreases. I will do it. When the amount of desorption reaches a predetermined value (for example, a value at which the pressure of the desorption gas is determined to be equal to or lower than the required pressure of the gas main line), the sixth on-off valve 47 is closed, and the fifth on-off valve 39 is opened. The desorption gas is introduced into the gas-liquid mixer 21 provided upstream of the boost pump 23. The pressure of the desorbed gas at this time is lower than the required pressure of the gas main line, but exceeds the pressure (1 MPa) of the low temperature liquid 3 flowing through the gas-liquid mixer 21, so a compressor etc. is not required. Gas-liquid can be mixed into the low-temperature liquid 3 without having to do so.

吸着材に吸着していた蒸発ガスの脱着が所定量に達したら（または第６開閉弁４７の閉止と同時に）、第４開閉弁３５を閉止して気化ガスの導入を停止する。その後ライン内あるいは吸着容器９内の圧が減圧したら、第５開閉弁３９を閉止して脱着ガスの払い出しを停止し、脱着工程を終了する。脱着量は、吸着容器９内の圧力および温度の脱着操作開始時からの変化量、または、吸着容器９の気化ガス導入側（ガス供給ライン３３）および脱着ガス払出側（第１脱着ガス供給ライン３７）に設けた積算流量計値の差から計算することができる。 When the desorption of the vaporized gas adsorbed on the adsorbent reaches a predetermined amount (or at the same time as the sixth on-off valve 47 is closed), the fourth on-off valve 35 is closed to stop introducing the vaporized gas. Thereafter, when the pressure in the line or in the adsorption container 9 is reduced, the fifth on-off valve 39 is closed to stop discharging the desorption gas, and the desorption process is completed. The amount of desorption is the amount of change in the pressure and temperature inside the adsorption container 9 from the start of the desorption operation, or the amount of change in the pressure and temperature inside the adsorption container 9 from the start of the desorption operation, or the amount of change between the vaporized gas introduction side (gas supply line 33) and the desorption gas output side (first desorption gas supply line) of the adsorption container 9. It can be calculated from the difference between the integrated flowmeter values provided in 37).

実施の形態２で説明した蒸発ガス処理システム４１（図２参照）の場合には、脱着ガスの圧力がガス幹線の要求圧力（4Mpa～7MPa）以下になると判断される時点で脱着を終了するため、一度の脱着工程で脱着できる量は実施の形態１（図１参照）よりも少ない。これに対し、本実施の形態では、脱着ガスの圧力がガス幹線の要求圧力以下になったあとも、引き続き低温液体３（1MPa）に気液混合させることができるので、より多くのガスを脱着させることができる。脱着工程でより多くのガスを脱着させることで、続く吸着工程においてより多くの蒸発ガスを吸着することができるので、蒸発ガスの吸着効率が向上する。 In the case of the evaporative gas treatment system 41 (see FIG. 2) described in Embodiment 2, desorption is terminated when it is determined that the pressure of the desorption gas becomes equal to or lower than the required pressure of the gas main line (4 MPa to 7 MPa). , the amount that can be desorbed in one desorption step is smaller than in Embodiment 1 (see FIG. 1). In contrast, in this embodiment, even after the pressure of the desorption gas becomes lower than the required pressure of the gas main line, the low temperature liquid 3 (1MPa) can continue to be mixed with gas and liquid, so more gas can be desorbed. can be done. By desorbing more gas in the desorption step, more evaporated gas can be adsorbed in the subsequent adsorption step, thereby improving the adsorption efficiency of evaporated gas.

また、実施の形態１で説明した蒸発ガス処理システム１（図１参照）は、脱着ガスの全量を低温液体３に気液混合するので、導入した脱着ガスの分流量が増加し、昇圧ポンプ２３の消費電力が大きいが、これに対し、本実施の形態は、はじめに脱着ガスを気化ガスへ混合する分、低温液体３への混合量を減らすことができるので、昇圧ポンプ２３の消費電力を低く抑えることができて望ましい。 Furthermore, since the evaporated gas treatment system 1 (see FIG. 1) described in the first embodiment mixes the entire amount of desorption gas into the low temperature liquid 3, the divided flow rate of the introduced desorption gas increases, and the boost pump 23 However, in this embodiment, since the desorption gas is first mixed into the vaporized gas, the amount of mixture into the low-temperature liquid 3 can be reduced, so the power consumption of the boost pump 23 can be reduced. It is desirable that it can be suppressed.

なお、実施の形態１～３は脱着ガスの処理方法として、貯槽５から払い出された低温液体３、または、低温液体３が気化した気化ガスに混合させる例を説明したが、本発明は脱着ガスの払い出し先を限定するものではない。例えば、本発明はコンデンサ等を用いることなく高圧の脱着ガスを得られるので、高圧ガスが要求されるガスエンジンなどに脱着ガスを利用することもできる。 In addition, in Embodiments 1 to 3, as a method for processing desorption gas, an example was explained in which the low temperature liquid 3 discharged from the storage tank 5 or the vaporized gas in which the low temperature liquid 3 is vaporized is mixed. There are no restrictions on where gas can be paid. For example, since the present invention can obtain high-pressure desorption gas without using a condenser or the like, the desorption gas can also be used in gas engines that require high-pressure gas.

［実施の形態４］
実施の形態１～３で説明した吸着工程および脱着工程はバッチ式であり、１つの吸着容器９に対し、吸着工程中は脱着処理（吸着材の加熱及び脱着ガスの払い出し）を停止し、脱着工程中は吸着処理（吸着材の冷却及び蒸発ガスの導入）を停止する必要がある。また、図１～図３に示した蒸発ガス処理システム１、４１、４９は吸着容器９を１つしか有していないため、例えば、脱着工程中は貯槽５から蒸発ガスを抜き出すことができない。
そこで、本実施の形態では、吸着容器を２つ備えることで、貯槽５で常時発生する蒸発ガスを連続的に処理可能とする例を説明する。その一例として、図３に示した実施の形態３の蒸発ガス処理システム４９における吸着容器９が２個の吸着容器から構成されるものを図４に示す。図４において図３と同一部分には同一の符号を付して説明を省略し、以下に本実施の形態の特徴部分について詳しく説明する。 [Embodiment 4]
The adsorption process and the desorption process described in Embodiments 1 to 3 are batch-type, and for one adsorption container 9, the desorption process (heating the adsorbent and discharging the desorption gas) is stopped during the adsorption process, and the desorption process is stopped during the adsorption process. During the process, it is necessary to stop the adsorption process (cooling of the adsorbent and introduction of vaporized gas). Further, since the evaporative gas processing systems 1, 41, and 49 shown in FIGS. 1 to 3 have only one adsorption container 9, evaporative gas cannot be extracted from the storage tank 5 during the desorption process, for example.
Therefore, in this embodiment, an example will be described in which two adsorption containers are provided so that the evaporated gas constantly generated in the storage tank 5 can be continuously processed. As an example, FIG. 4 shows that the adsorption container 9 in the evaporative gas treatment system 49 of the third embodiment shown in FIG. 3 is composed of two adsorption containers. In FIG. 4, the same parts as in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and the explanation will be omitted, and the characteristic parts of this embodiment will be explained in detail below.

本実施の形態に係る蒸発ガス処理システム５１は、図４に示すように、第１吸着容器９ａと第２吸着容器９ｂの２個からなる吸着容器９を備えている。第１吸着容器９ａ及び第２吸着容器９ｂは実施の形態１～３で説明した吸着容器９と同様のものであり、それぞれ容器９内に吸着材が収容されている。 As shown in FIG. 4, the evaporated gas processing system 51 according to the present embodiment includes two adsorption containers 9, a first adsorption container 9a and a second adsorption container 9b. The first adsorption container 9a and the second adsorption container 9b are similar to the adsorption container 9 described in Embodiments 1 to 3, and an adsorbent is accommodated in each container 9.

また、図４に示すように蒸発ガスを循環させる循環ライン１５が分岐して、第１吸着容器９ａと第２吸着容器９ｂにそれぞれ接続されている。第１吸着容器９ａ側に接続している循環ライン１５には第２開閉弁２９ａ、第３開閉弁３１ａが設けられており、第２吸着容器側９ｂに接続している循環ラインには第２開閉弁２９ｂ、第３開閉弁３１ｂが設けられている。第２開閉弁２９ａ、２９ｂ及び第３開閉弁３１ａ、３１ｂは実施の形態１で説明した第２開閉弁２９及び第３開閉弁３１と同様のものであるので説明を省略する。 Further, as shown in FIG. 4, a circulation line 15 for circulating evaporated gas is branched and connected to the first adsorption container 9a and the second adsorption container 9b, respectively. The circulation line 15 connected to the first adsorption container 9a side is provided with a second on-off valve 29a and the third on-off valve 31a, and the circulation line connected to the second adsorption container side 9b is provided with a second on-off valve 29a and a third on-off valve 31a. An on-off valve 29b and a third on-off valve 31b are provided. The second on-off valves 29a, 29b and the third on-off valves 31a, 31b are the same as the second on-off valves 29 and third on-off valves 31 described in the first embodiment, so their explanations will be omitted.

第２開閉弁２９ａ及び第３開閉弁３１ａを開放すると共に第２開閉弁２９ｂ及び第３開閉弁３１ｂを閉止することで、循環ライン１５を第１吸着容器９ａに接続し、抜き出しライン７から導入される蒸発ガスを、第１吸着容器９ａと熱交換器１３との間で循環させることができる。
また、第２開閉弁２９ｂ及び第３開閉弁３１ｂを開放すると共に第２開閉弁２９ａ及び第３開閉弁３１ａを閉止することで、循環ライン１５を第２吸着容器９ｂに接続し、抜き出しライン７から導入される蒸発ガスを、第２吸着容器９ｂと熱交換器１３との間で循環させることができる。
上記のように、本実施の形態においては、循環ライン１５を第１吸着容器９ａと第２吸着容器９ｂに選択的に接続可能となっている。 By opening the second on-off valve 29a and the third on-off valve 31a and closing the second on-off valve 29b and the third on-off valve 31b, the circulation line 15 is connected to the first adsorption container 9a and introduced from the extraction line 7. The evaporated gas can be circulated between the first adsorption container 9a and the heat exchanger 13.
Also, by opening the second on-off valve 29b and the third on-off valve 31b and closing the second on-off valve 29a and the third on-off valve 31a, the circulation line 15 is connected to the second adsorption container 9b, and the extraction line 7 The evaporated gas introduced therein can be circulated between the second adsorption container 9b and the heat exchanger 13.
As described above, in this embodiment, the circulation line 15 can be selectively connected to the first adsorption container 9a and the second adsorption container 9b.

同様に、気化ガスを供給するガス供給ライン３３及び脱着ガスを払い出す第１脱着ガス供給ライン３７も分岐して、第１吸着容器９ａと第２吸着容器９ｂにそれぞれ接続されている。第１吸着容器９ａ側に接続しているガス供給ライン３３、第１脱着ガス供給ライン３７には第７開閉弁５３ａ、第８開閉弁５５ａが設けられており、第２吸着容器９ｂ側に接続しているガス供給ライン３３、第１脱着ガス供給ライン３７には第７開閉弁５３ｂ、第８開閉弁５５ｂが設けられている。 Similarly, a gas supply line 33 for supplying vaporized gas and a first desorption gas supply line 37 for discharging desorption gas are also branched and connected to the first adsorption container 9a and the second adsorption container 9b, respectively. A seventh on-off valve 53a and an eighth on-off valve 55a are provided in the gas supply line 33 and the first desorption gas supply line 37 connected to the first adsorption container 9a side, and are connected to the second adsorption container 9b side. The gas supply line 33 and the first desorption gas supply line 37 are provided with a seventh on-off valve 53b and an eighth on-off valve 55b.

第７開閉弁５３ａ及び第８開閉弁５５ａを開放すると共に第７開閉弁５３ｂ及び第８開閉弁５５ｂを閉止することで、ガス供給ライン３３及び第１脱着ガス供給ライン３７を第１吸着容９ａ器に接続し、第１吸着容器９ａで脱着処理を行うことができる。
また、第７開閉弁５３ｂ及び第８開閉弁５５ｂを開放すると共に第７開閉弁５３ａ及び第８開閉弁５５ａを閉止することで、ガス供給ライン３３及び第１脱着ガス供給ライン３７を第２吸着容器９ｂに接続し、第２吸着容器９ｂで脱着処理を行うことができる。
上記のように、本実施の形態においては、ガス供給ライン３３及び第１脱着ガス供給ライン３７を第１吸着容器９ａと第２吸着容器９ｂに選択的に接続可能となっている。 By opening the seventh on-off valve 53a and the eighth on-off valve 55a and closing the seventh on-off valve 53b and the eighth on-off valve 55b, the gas supply line 33 and the first desorption gas supply line 37 are connected to the first adsorption capacity 9a. The desorption process can be performed in the first adsorption container 9a.
In addition, by opening the seventh on-off valve 53b and the eighth on-off valve 55b and closing the seventh on-off valve 53a and the eighth on-off valve 55a, the gas supply line 33 and the first desorption gas supply line 37 are transferred to the second adsorption It is possible to connect to the container 9b and perform desorption processing in the second adsorption container 9b.
As described above, in this embodiment, the gas supply line 33 and the first desorption gas supply line 37 can be selectively connected to the first adsorption container 9a and the second adsorption container 9b.

上記のように構成された本実施の形態の蒸発ガス処理システム５１においては、第１吸着容器９ａと第２吸着容器９ｂによって蒸発ガスの吸着と脱着を交互に行うことができるので、貯槽で常時発生する蒸発ガスを連続的に処理することができる。 In the evaporated gas treatment system 51 of the present embodiment configured as described above, adsorption and desorption of evaporated gas can be performed alternately by the first adsorption container 9a and the second adsorption container 9b, so that the storage tank is always used. The evaporated gas generated can be treated continuously.

なお、吸着工程、脱着工程の実施に伴う各開閉弁の開閉操作を自動制御によって行ってもよい。各開閉弁を自動制御する場合には、吸着容器の温度、圧力および各ラインにおける低温液体及びガスの温度、圧力及び流量を検知して制御演算装置に入力し、該入力値に基づいて、吸着量や脱着量等を算出し、算出した吸着量や脱着量及び各入力値に基づいて各開閉弁を自動制御するとよい。 Note that the opening and closing operations of the respective on-off valves accompanying the implementation of the adsorption step and the desorption step may be performed by automatic control. When automatically controlling each on-off valve, the temperature and pressure of the adsorption container and the temperature, pressure and flow rate of the low temperature liquid and gas in each line are detected and input to the control calculation device, and based on the input values, the adsorption It is preferable to calculate the adsorption amount, desorption amount, etc., and automatically control each on-off valve based on the calculated adsorption amount, desorption amount, and each input value.

また、第６開閉弁４７は、例えばガス幹線の要求圧力以上の圧力で開く逆止弁としてもよい。その場合、設定圧力を境に第６開閉弁４７が自動開閉するため、開閉制御を不要とすることができる。 Further, the sixth on-off valve 47 may be, for example, a check valve that opens at a pressure equal to or higher than the required pressure of the gas main line. In that case, since the sixth on-off valve 47 automatically opens and closes once the set pressure is reached, opening/closing control can be made unnecessary.

１蒸発ガス処理システム（実施の形態１）
３低温液体
５貯槽
７抜き出しライン
９吸着容器
９ａ第１吸着容器
９ｂ第２吸着容器
１１低温液体・ガス送出ライン
１３熱交換器
１５循環ライン
１７第１開閉弁
１９送出ポンプ
２１気液混合器
２３昇圧ポンプ
２５気化器
２７循環ブロワ
２９第２開閉弁
２９ａ第２開閉弁（第１吸着容器側）
２９ｂ第２開閉弁（第２吸着容器側）
３１第３開閉弁
３１ａ第３開閉弁（第１吸着容器側）
３１ｂ第３開閉弁（第２吸着容器側）
３３ガス供給ライン
３５第４開閉弁
３７第１脱着ガス供給ライン
３９第５開閉弁
４１蒸発ガス処理システム（実施の形態２）
４３第２脱着ガス供給ライン
４５圧調弁
４７第６開閉弁
４９蒸発ガス処理システム（実施の形態３）
５１蒸発ガス処理システム（実施の形態４）
５３ａ第７開閉弁（第１吸着容器側）
５３ｂ第７開閉弁（第２吸着容器側）
５５ａ第８開閉弁（第１吸着容器側）
５５ｂ第８開閉弁（第２吸着容器側） 1 Evaporative gas treatment system (Embodiment 1)
3 Low temperature liquid 5 Storage tank 7 Extraction line 9 Adsorption container 9a First adsorption container 9b Second adsorption container 11 Low temperature liquid/gas delivery line 13 Heat exchanger 15 Circulation line 17 First on-off valve 19 Delivery pump 21 Gas-liquid mixer 23 Pressure increase Pump 25 Vaporizer 27 Circulation blower 29 Second on-off valve 29a Second on-off valve (first adsorption container side)
29b Second on-off valve (second adsorption container side)
31 Third on-off valve 31a Third on-off valve (first adsorption container side)
31b Third on-off valve (second adsorption container side)
33 Gas supply line 35 Fourth on-off valve 37 First desorption gas supply line 39 Fifth on-off valve 41 Evaporative gas treatment system (Embodiment 2)
43 Second desorption gas supply line 45 Pressure regulating valve 47 Sixth on-off valve 49 Evaporative gas treatment system (Embodiment 3)
51 Evaporative gas treatment system (Embodiment 4)
53a 7th on-off valve (first adsorption container side)
53b 7th on-off valve (second adsorption container side)
55a 8th on-off valve (first adsorption container side)
55b 8th on-off valve (second adsorption container side)

Claims

An evaporative gas treatment system that processes evaporative gas generated from a storage tank in which low-temperature liquid is stored,
an extraction line for extracting evaporative gas generated from the storage tank;
an adsorption container containing an adsorbent that adsorbs the evaporated gas;
a delivery pump that delivers low-temperature liquid from the storage tank;
a low temperature liquid/gas delivery line through which the low temperature liquid sent out by the delivery pump and the gas obtained by vaporizing the low temperature liquid flow;
a vaporizer installed in the cryogenic liquid/gas delivery line to vaporize the cryogenic liquid;
a heat exchanger that is provided upstream of the vaporizer in the low temperature liquid/gas delivery line and exchanges heat using the cold heat of the low temperature liquid;
a circulation line that introduces the evaporated gas extracted from the extraction line and circulates it between the adsorption container and the heat exchanger,
The evaporative gas extracted from the extraction line is introduced into the side of the circulation line that is sent to the heat exchanger, is cooled by the heat exchanger, and is introduced into the adsorption container. Gas treatment system.

An evaporative gas treatment system that processes evaporative gas generated from a storage tank in which low-temperature liquid is stored,
an extraction line for extracting evaporative gas generated from the storage tank;
an adsorption container containing an adsorbent that adsorbs the evaporated gas;
a delivery pump that delivers low-temperature liquid from the storage tank;
a low temperature liquid/gas delivery line through which the low temperature liquid sent out by the delivery pump and the gas obtained by vaporizing the low temperature liquid flow;
a vaporizer installed in the cryogenic liquid/gas delivery line to vaporize the cryogenic liquid;
a heat exchanger that is provided upstream of the vaporizer in the low temperature liquid/gas delivery line and exchanges heat using the cold heat of the low temperature liquid;
a circulation line that introduces the evaporated gas extracted from the extraction line and circulates it between the adsorption container and the heat exchanger;
a gas-liquid mixer provided upstream of the vaporizer in the low-temperature liquid/gas delivery line;
An evaporative gas treatment system comprising: a first desorption gas supply line that supplies the desorption gas desorbed from the adsorbent to the gas-liquid mixer.

A gas supply line is provided for supplying gas downstream of the vaporizer in the low temperature liquid/gas delivery line to the adsorption container as a heat source for desorbing the vaporized gas adsorbed by the adsorbent. The evaporative gas treatment system according to claim 1 or 2 .

4. A second desorption gas supply line is provided for supplying the desorption gas desorbed from the adsorbent to a downstream side of the vaporizer in the low temperature liquid/gas delivery line. The evaporative gas treatment system described in .

A pressure regulating valve for adjusting the pressure of the gas flowing through the low temperature liquid/gas delivery line is provided upstream of a position where the desorption gas is returned to the low temperature liquid/gas delivery line by the second desorption gas supply line. The evaporative gas treatment system according to claim 4.

5. The evaporative gas treatment system according to claim 4, wherein the second desorption gas supply line is provided with a pressure booster for increasing the pressure of the desorption gas.

The adsorption container consists of two adsorption containers, a first adsorption container and a second adsorption container, and the circulation line is selectively connected to the first adsorption container and the second adsorption container, and the circulation line is selectively connected to the first adsorption container and the second adsorption container. 7. The evaporative gas treatment system according to claim 1, wherein the evaporative gas is alternately adsorbed and desorbed by the adsorption container.