JP7379005B2 - Imaging element, imaging device, and control method - Google Patents
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Description
本発明は、撮像素子、撮像素子を有する撮像装置、および撮像素子の制御方法に関する。 The present invention relates to an image sensor, an image sensor having the image sensor, and a method for controlling the image sensor.
特許文献1には、画素から出力された信号をアナログ-デジタル(Analog-to-Digital, 以下ADと称する)変換するAD変換回路が画素毎に配置された撮像素子が開示されている。すなわち、入力信号の電圧が参照信号よりも高いときに信号を出力する差動入力回路と、入力信号電圧と参照信号電圧との比較結果を表す比較信号が反転するときの遷移速度を高速化する正帰還回路と、を有する。
差動入力回路の電流源は、トランジスタである。そして、回路に供給される電流値を小さく設定しても、正帰還回路が動作することによって、出力遷移時間が短縮される。 The current source of the differential input circuit is a transistor. Even if the current value supplied to the circuit is set to a small value, the output transition time is shortened by operating the positive feedback circuit.
相対的に小さな電流値で比較器を駆動する特許文献1の技術では、僅かな電流の変化によって画素毎の比較信号の反転タイミングにばらつきが生じるので、ノイズが発生しやすい。そのため、同時並列的に動作する比較器の消費電力を抑制したグローバルシャッタ駆動が実現されているものの、撮像素子の駆動制御に応じた適切な画像(例えば、ノイズの少ない画像)が取得できない可能性がある。
In the technique disclosed in
以上の事情に鑑み、本発明は、撮像素子の駆動制御に応じて適切に画像を取得することができる撮像素子、撮像装置、および制御方法を提供することを目的とする。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide an imaging device, an imaging device, and a control method that can appropriately acquire images according to drive control of the imaging device.
上記目的を達成するために、本発明の撮像素子は、入射した光量に対応する画素信号を出力する画素回路と、前記画素信号をAD変換するAD変換回路と、を各々が含む複数の画素が2次元的に配置されている撮像素子であって、並列に動作する前記AD変換回路の数に基づいて、複数の前記AD変換回路の各々を駆動する駆動電流値を切り替えるように制御する制御部を備える、ことを特徴とする。 In order to achieve the above object, an image sensor of the present invention has a plurality of pixels each including a pixel circuit that outputs a pixel signal corresponding to the amount of incident light, and an AD conversion circuit that converts the pixel signal from AD to AD. Control that controls to switch a drive current value for driving each of the plurality of AD conversion circuits based on the number of the AD conversion circuits that are two-dimensionally arranged and operate in parallel. It is characterized by comprising a part.
本発明によれば、撮像素子の駆動制御に応じて適切に画像を取得することができる。 According to the present invention, an image can be appropriately acquired according to drive control of an image sensor.
以下、本発明の実施形態について添付図面を参照しながら詳細に説明する。以下に説明される各実施形態は、本発明を実現可能な構成の一例に過ぎない。以下の各実施形態は、本発明が適用される装置の構成や各種の条件に応じて適宜に修正または変更することが可能である。したがって、本発明の範囲は、以下の各実施形態に記載される構成によって限定されるものではない。例えば、相互に矛盾のない限りにおいて実施形態内に記載された複数の構成を組み合わせた構成も採用可能である。 Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. Each embodiment described below is only an example of a configuration that can realize the present invention. Each of the following embodiments can be modified or changed as appropriate depending on the configuration of the device to which the present invention is applied and various conditions. Therefore, the scope of the present invention is not limited by the configurations described in each embodiment below. For example, a configuration in which a plurality of configurations described in the embodiments are combined can be adopted as long as there is no mutual contradiction.
以下の説明では、デジタル信号パルスにおけるHighレベルおよびLowレベルを、それぞれ、「High」および「Low」と表記することがある。 In the following description, the High level and Low level of the digital signal pulse may be expressed as "High" and "Low", respectively.
<第1実施形態>
図1から図10を参照しながら、本発明の第1実施形態に係る撮像素子100の構成および駆動手法について説明する。
<First embodiment>
The configuration and driving method of an
図1は、本発明の第1実施形態に係る撮像素子100の半導体基板構造を示す模式図である。図1に示すように、撮像素子100は、不図示の光学系を通過した光を受ける第1基板110と第2基板120とが積層されることで形成されている。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a semiconductor substrate structure of an
第1基板110は、光電変換部を各々が含み行列状に(2次元的に)配置された複数の画素領域111を有する。第2基板120は、AD変換部を各々が含み第1基板110と同様に行列状に配置された複数の画素領域121を有すると共に、制御部122を有する。
The
第1基板110の1つの画素領域111は、第2基板120の1つの画素領域121と対応しており、接続部を介して相互に接続されている。互いに対応する画素領域111の回路と画素領域121の回路とが協働することによって、撮像素子100の1つの単位画素として機能する。
One
互いに異なる基板110,120の画素領域111,121の回路同士は、例えば、公知の接続手法(マイクロバンプ接続やダイレクトボンディング接続構造等)によって、画素単位で接続される。なお、撮像素子100は、以上のような2層の積層構造に限定されず、例えば、非積層構造による単一基板で構成されてもよいし、3層以上の積層構造であってもよい。
The circuits in the
図2は、本発明の第1実施形態に係る単位画素200の機能的構成を示すブロック図である。図2に示すように、1つの画素200は、画素回路210とAD変換回路201とを含む。AD変換回路201は、差動入力回路220、正帰還回路230、およびラッチ回路240を含む。前述の通り、1つの画素領域111と1つの画素領域121とが組み合わせられて1つの画素200が構成されている。
FIG. 2 is a block diagram showing the functional configuration of the
画素回路210は、光電変換部を含む回路であって、入射した光量に対応する電圧の画素信号を、AD変換回路201(差動入力回路220)に対して出力する。
The
AD変換回路201は、スロープ比較型のAD変換回路である。 The AD conversion circuit 201 is a slope comparison type AD conversion circuit.
差動入力回路220は、画素回路210から入力された画素信号と時間の経過に応じて電圧が比例変化する参照信号Refとを比較し、画素信号と参照信号Refとの大小関係を示す比較信号を、正帰還回路230を介してラッチ回路240に出力する。
The
正帰還回路230は、差動入力回路220が出力する比較信号が反転する際の遷移速度を高速化する。
The
ラッチ回路240は、比較信号が反転したときの時刻コードを保持可能である。時刻コードは、所定の時間周期に従って1カウントずつ増加するデジタル信号である。時刻コードは、不図示のカウンタ回路によって生成され、各画素200のラッチ回路240に入力される。以上のカウンタ回路は、参照信号Refの電圧が比例変化を始める時点に合わせて時刻コードのカウントアップ動作を開始する。
The
画素回路210から出力される画素信号の電圧に応じて、正帰還回路230が出力する比較信号の反転タイミングが変化する。比較信号の反転タイミングに対応した時刻コードがラッチ回路240に保持されるので、結果として、アナログ信号である画素信号の電圧が、デジタル信号である時刻コードに変換される。
Depending on the voltage of the pixel signal output from the
ラッチ回路240に保持されたデジタル信号は、信号処理および出力データ形式の変換がなされた後に、画素200(撮像素子100)の外部へ出力される。上記の信号処理は、例えば、DFE(Digital Front End)等における相関二重サンプリング処理、ゲイン処理、信号並べ替え処理である。相関二重サンプリング処理は、画素のリセットノイズを含む電位(N信号レベル)と、N信号レベルから転送された電子数に応じた電位(N+S信号レベル)との差分値を生成する処理である。
The digital signal held in the
図3は、本発明の第1実施形態に係る1つの画素200における画素回路210と差動入力回路220と正帰還回路230との等価回路図である。
FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the
画素回路210は、フォトダイオード211、転送トランジスタ、フローティングディフュージョン213、リセットトランジスタ214、および排出トランジスタ215を有する。以下、「フォトダイオード(Photodiode)」はPDと略称されることがあり、「フローティングディフュージョン(Floating Diffusion)」はFDと略称されることがある。
The
PD211は、光学系を通過した光を受けて、入射した光量に応じて発生した電子を蓄積する光電変換部である。
The
転送トランジスタ212は、信号パルスTxによって駆動されることにより、PD211に蓄積された電子をFD213に転送する転送部である。
The
FD213は、PD211から転送された電子を保持して電圧に変換する電荷電圧変換部である。また、FD213は差動入力回路220の入力ノードとしても機能する。差動入力回路220では、FD213の電圧と参照信号Refとが比較される。
The
リセットトランジスタ214は、信号パルスResによって駆動されることにより、FD213の電子を排出して基準電圧にリセットするリセット部である。
The
排出トランジスタ215は、信号パルスOfgによって駆動されることにより、PD211に蓄積された電子を電源AVDDに排出する排出部である。
The
差動入力回路220は、P型MOSトランジスタ(以下、PMOS)221,222,225、およびN型MOSトランジスタ(以下NMOS)223,224,226,227,228を有する。PMOS221,222は、カレントミラー回路を構成する。NMOS223,224は、差動対を構成する。NMOS228は、定電流源として機能する。NMOS226は差動対への定電流供給を行毎に制御し、NMOS227は差動対への定電流供給を列毎に制御する。PMOS225は比較信号を出力する。
The
差動対であるNMOS223,224のうち、NMOS224のゲートがFD213と接続されており、NMOS223のゲートに参照信号Refが入力される。NMOS228のソースは所定電圧(GND)に接続されている。NMOS223のドレインは、カレントミラー回路を構成するPMOS221,222のゲートおよびPMOS221のドレインと接続されており、NMOS224のドレインは、PMOS222のドレインおよびPMOS225のゲートと接続されている。PMOS221,222およびPMOS225のソースは、電源AVDDに接続されている。NMOS226,227は、差動対であるNMOS223,224と、電流源であるNMOS228との間に直列的に挿入されており、定電流の供給を制御可能な構成となっている。NMOS226,227のゲートは、それぞれ制御部122に接続されており、制御部122から入力される制御信号パルスによって差動入力回路220への定電流供給が制御される。また、電流源としてのNMOS228は、制御部122から入力されるバイアス電圧によってIcm電流値を制御可能である。特に、本実施形態に係る撮像素子100は、異なるIcm電流値(駆動電流値)で差動入力回路220が動作する2つ以上のモードを有する。制御部122が実行する制御についての詳細は後述する。
Of the
正帰還回路230は、PMOS231、NMOS232~235、およびPMOS236を有する。正帰還回路230の入力ノードとしてのノードVinは、PMOS225のドレインと接続されている。PMOS231およびNMOS232はインバータ回路を構成する。PMOS231およびNMOS232の各々のドレインであるノードVoutからラッチ回路240に対して、差動入力回路220が出力する比較信号が反転する際の遷移速度を高速化して出力することができる。
NMOS233は、信号パルスIniによって駆動されることにより、AD変換動作の開始時のノードVinの電圧をLowにリセットする。同様に、PMOS236は、信号パルスIniによって駆動されることにより、AD変換動作においてノードVinへの電源供給を制御する。
The
NMOS234のゲートは、NMOS235を介してノードVoutと接続されている。そのため、ノードVinの電圧がインバータ回路(PMOS231およびNMOS232)の閾値電圧を越えてノードVoutの電圧がLowになると、NMOS234は導通する。この時、PMOS236もLowレベルの信号パルスIniが印加されているので、導通している。したがって、正帰還回路230は、PMOS236とNMOS234を介してノードVinを急速に充電することにより、その電位を電源AVDDまで一気に持ち上げる。その結果、差動入力回路220から出力される比較信号が反転する際の遷移速度が高速化する。
The gate of
ただし、NMOS235のゲートは制御部122と接続しているので、制御部122から受けた制御信号パルスによってNMOS235の導通が制御される。したがって、上記した比較信号の反転を高速化は、制御部122によって動作状態と非動作状態とが切り替えられる。特に、本実施形態の撮像素子100では、相対的に小さなIcm電流値で差動入力回路が動作するときには正帰還動作が有効となるように制御する一方、相対的に大きなIcm電流値で差動入力回路が動作するときには正帰還動作が無効となるように制御する。
However, since the gate of the
図4は、上述したAD変換回路201の動作を説明するタイミングチャートである。以下の説明において、制御部122から差動入力回路220に出力されている制御信号はそれぞれHighであり、差動入力回路220には所定のIcm電流値が供給されていると想定する。また、正帰還回路230のNMOS235はオン(導通)状態であるように制御されていると想定する。
FIG. 4 is a timing chart illustrating the operation of the AD conversion circuit 201 described above. In the following description, it is assumed that the control signals output from the
時刻t401において、信号パルスResがHighからLowに変化すると、リセットトランジスタ214がオフ(非導通)状態になる。結果として、基準電圧AVDDでリセットされていたFD213が、リセット解除後のリセットノイズを含む電位(N信号レベル)に固定される。
At time t401, when the signal pulse Res changes from High to Low, the
時刻t402において、信号パルスIniがHighからLowに変化すると、ノードVinのリセット状態が解除され、N信号レベルのAD変換を行うための待機状態に遷移する。同時刻(t402)に、参照信号Refの電圧は、時間経過に応じた比例変化をし始め、画素200のN信号レベルと参照信号Refの電圧との比較が開始する。参照信号Refの電圧が画素200のN信号レベルよりも高い期間ではPMOS225がオフ状態になるので、ノードVinの電圧はリセット解除後のLowのまま維持され、ノードVoutから出力される電圧はHighである。
At time t402, when the signal pulse Ini changes from High to Low, the reset state of the node Vin is released and the node Vin transitions to a standby state for performing AD conversion of the N signal level. At the same time (t402), the voltage of the reference signal Ref starts to change proportionally over time, and the comparison between the N signal level of the
時刻t403において、参照信号Refの電圧がN信号レベルを下回ると、電流源であるNMOS228の出力電流がNMOS223を流れなくなってPMOS221,222のゲート電位が上昇するので、PMOS222のチャネル抵抗が増大する。NMOS224を介してPMOS222に流れ込む電流が電圧降下を起こしてPMOS225のゲート電位を低下させるので、PMOS225が出力する比較信号(すなわち、ノードVinの電圧)がLowからHighに反転する。正帰還回路230は、インバータ回路を介して、ノードVinの電圧を反転させた出力をVoutとしてラッチ回路240にさらに出力する。ラッチ回路240は、VoutがHighからLowに変化した反転タイミングの時刻コードを当該画素200のN信号レベルとして保持する。前述したように、NMOS235がオン状態に制御されていれば、正帰還回路230が駆動され正帰還動作がなされるので、比較信号のHighからLowへの遷移が高速化される。一方で、Icm電流値として十分に大きな電流が設定されている場合は、NMOS235をオフ状態に制御することによって正帰還動作が無効化される。
At time t403, when the voltage of the reference signal Ref falls below the N signal level, the output current of the
時刻t404において、参照信号Refの電圧の変化が停止して、画素200のN信号レベルのAD変換が終了する。
At time t404, the voltage of the reference signal Ref stops changing, and AD conversion of the N signal level of the
時刻t405において、信号パルスIniがLowからHighに変化すると、正帰還回路230において、NMOS233が導通すると共にPMOS236がオフ状態になるので、ノードVinがLow(GND)にリセットされる。その結果、比較信号VoutもLowからHighに遷移する。
At time t405, when the signal pulse Ini changes from Low to High, in the
時刻t406から時刻t407において、信号パルスTxがHighに変化すると、転送トランジスタ212がオン状態になるので、PD211に蓄積された電子がFD213に転送される。これに応じて、FD213の電位は、N信号レベルから転送された電子数に応じた電位(N+S信号レベル)に低下する。
When the signal pulse Tx changes to High from time t406 to time t407, the
時刻t408から時刻t411までの期間は、N+S信号レベルのAD変換期間であって、上述したN信号レベルのAD変換期間である時刻t402から時刻t405までの期間と同様に制御される。より詳細には以下の通りである。 The period from time t408 to time t411 is an AD conversion period of the N+S signal level, and is controlled in the same manner as the period from time t402 to time t405, which is the AD conversion period of the N signal level described above. More details are as follows.
時刻t408において、信号パルスIniがHighからLowに変化すると、ノードVinのリセット状態が解除され、画素200のN+S信号レベルと参照信号Refの電圧との比較が開始する。
At time t408, when the signal pulse Ini changes from High to Low, the reset state of the node Vin is released and a comparison between the N+S signal level of the
時刻t409において、参照信号Refの電圧がN+S信号レベルを下回ると、前述と同様にPMOS225のゲートの電位が低下し、PMOS225が出力する比較信号(すなわち、ノードVinの電圧)がLowからHighに反転する。正帰還回路230は、インバータ回路を介して、ノードVinの電圧を反転させた出力をVoutとしてラッチ回路240にさらに出力する。ラッチ回路240は、VoutがHighからLowに変化した反転タイミングの時刻コードを当該画素のN+S信号レベルとして保持する。この時、前述したように、正帰還回路230が駆動されることによって比較信号がHighからLowに高速に遷移する。
At time t409, when the voltage of the reference signal Ref falls below the N+S signal level, the potential of the gate of the
時刻t410において、参照信号Refの電圧の変化が停止して、画素200のN+S信号レベルのAD変換が終了する。
At time t410, the voltage of the reference signal Ref stops changing, and AD conversion of the N+S signal level of the
時刻t411において、信号パルスIniがLowからHighに変化すると、正帰還回路230において、NMOS233が導通すると共にPMOS236がオフ状態になるので、ノードVinがLow(GND)にリセットされる。その結果、比較信号VoutもLowからHighに遷移する。
At time t411, when the signal pulse Ini changes from Low to High, in the
時刻t412において、信号パルスResがLowからHighに変化すると、リセットトランジスタ214がオン状態になるので、FD213が基準電位AVDDでリセットされる。
At time t412, when the signal pulse Res changes from Low to High, the
図5は、本発明の第1実施形態に係る制御部122、差動入力回路220、および正帰還回路230の構成図である。図5では、図示の簡単のため、画素200の差動入力回路220および正帰還回路230の一部を省略して示している。図5では、3行2列の画素200が図示されているが、実際にはさらに多くの画素200が配置されている。概略的には、制御部122にて生成された制御信号が、差動入力回路220および正帰還回路230に入力される。
FIG. 5 is a configuration diagram of the
制御部122は、行選択部510、列選択部520、電流設定部530、定電流源531、NMOS532、および正帰還動作設定部540を有する。
The
行選択部510は、駆動モード設定部1170が設定する駆動モードに応じて、差動入力回路220に対するIcm電流値の定電流の供給を行単位で制御する。すなわち、行選択部510は、信号線301A,301B,301C,…を介して各行のNMOS226のオン/オフ制御を実行する。NMOS226がオン状態になった行では定電流が供給され差動入力回路220が動作する一方、NMOS226がオフ状態になった行では定電流の供給が停止するので差動入力回路220が動作しない。
The
列選択部520は、同様に、駆動モード設定部1170が設定する駆動モードに応じて、差動入力回路220に対するIcm電流値の定電流の供給を列単位で制御する。すなわち、行選択部510は、信号線302a,302b,…を介して各列のNMOS227のオン/オフ制御を実行する。NMOS227がオン状態になった列では定電流が供給され差動入力回路220が動作する一方、NMOS227がオフ状態になった列では定電流の供給が停止するので差動入力回路220が動作しない。
Similarly, the
したがって、本実施形態に係る撮像素子100では、行選択部510および列選択部520によって選択されオン状態に制御された行および列に相当する画素200の差動入力回路220のみが動作する。駆動モードに応じた差動入力回路220の選択については、図6以降の説明にて後述される。
Therefore, in the
電流設定部530は、定電流源531およびNMOS532と協働して、差動入力回路220へ供給される定電流のIcm電流値を全画素200に亘って制御する。NMOS532は、各画素200の差動入力回路220の定電流源であるNMOS228と共にカレントミラー回路を構成するので、定電流源531により供給されNMOS532を流れる電流と同じ電流値を有する電流が各差動入力回路220に供給される。
The
したがって、電流設定部530は、駆動モードに応じて定電流源531の電流値を設定することで、差動入力回路220へ供給される定電流のIcm電流値を全画素200一律に切り替える。電流設定部530によって切り替えられ差動入力回路220に供給される電流値は、駆動モードに応じた値であって、例えば、0.1μA程度の相対的に小さな値と5μA程度の相対的に大きな値とを取り得る。すなわち、AD変換回路201の差動入力回路220に入力される駆動電流値は、複数の候補電流値のいずれかから選択される値を取る。駆動モードに応じた差動入力回路220への駆動電流値の制御は、図6以降の説明にて後述される。
Therefore, the
正帰還動作設定部540は、正帰還回路230による正帰還動作の有効/無効を切り替えるように制御する。電流設定部530を相対的に小さな電流値にて動作させる場合には、比較信号が反転する速度を補うために、正帰還動作を全画素200一律に有効化する。他方、電流設定部530を相対的に大きな電流値にて動作させる場合には、正帰還動作を全画素200一律に無効化する。
The positive feedback
図6から図10を参照しながら、駆動モード毎の制御部122による制御手法について説明する。以下、代表的な駆動モードとして、グローバルシャッタ駆動モード、列並列駆動モード、間引きグローバルシャッタ駆動モード(以下、間引きGS駆動モード)、領域並列駆動モード、およびオートフォーカス駆動モード(以下、AF駆動モード)を例示する。
A control method by the
図6は、撮像素子100がグローバルシャッタ駆動モードにて動作する様子を示す模式図である。グローバルシャッタ駆動モードは、全画素200が同時に駆動されて信号電荷の蓄積と読出しを実行するモードである。グローバルシャッタ駆動モードは撮像面内において画素200毎に露光時刻が揃うので、動体の撮影に適している。グローバルシャッタ駆動モードでは、全画素200が一律に動作することで、差動入力回路220の駆動電流に対応する電力が全画素200にて消費されるので、消費電力が大きい。そのため、グローバルシャッタ駆動モードでは、Icm電流値を0.1μAに設定し、全画素200のNMOS226とNMOS227とをオン状態に設定し、正帰還動作を有効にして、撮像素子100を駆動する。
FIG. 6 is a schematic diagram showing how the
図7は、撮像素子100が列並列駆動モードにて動作する様子を示す模式図である。列並列駆動モードは、画素200が行毎に順次に駆動されて信号電荷の蓄積と読出しを実行するモードである。同時に駆動される画素200の数、すなわち差動入力回路220の数は、画素200の列数と等しい。したがって、グローバルシャッタ駆動モードと比較して消費電力が低いので、Icm電流値を相対的に大きい5μAに設定し、正帰還動作を無効にして、撮像素子100を駆動する。列並列駆動モードでは、差動入力回路220からの比較信号が反転するタイミングのばらつきが低減されるので、グローバルシャッタ駆動モードと比較してノイズを抑制できる。
FIG. 7 is a schematic diagram showing how the
図7(a)および図7(b)は、画素200が行毎に順次に走査される様子を示している。まず、図7(a)に示すように、行選択部510が、画素配列の第1行目を選択することで第1行目のNMOS226をオン状態に設定すると共に、他の行のNMOS226をオフ状態に設定する。列選択部520は、画素配列の全ての列を選択することで全列のNMOS227をオン状態に設定する。結果として、図7(a)に斜線で示した画素200の差動入力回路220にIcm電流値の定電流が供給され、図4を参照して上述したように画素200が駆動される。その後、処理が次の行に切り替わる。
FIGS. 7A and 7B show how the
次いで、図7(b)に示すように、行選択部510が、画素配列の第2行目を選択することで第2行目のNMOS226をオン状態に設定すると共に、他の行のNMOS226をオフ状態に設定する。列選択部520は、画素配列の全ての列のNMOS227をオン状態に維持する。以下、同様に画素200が行毎に駆動されていく。
Next, as shown in FIG. 7B, the
以上のように、行選択部510は、画素配列の各行を順次に繰り返し選択することによって、列並列的に全ての画素200から信号を読み出す。なお、行選択部510が、以上のように1行毎に画素200を読み出すのではなく、複数行の画素200を順次に選択して走査してもよい。
As described above, the
以下、図8から図10を参照して、他の駆動モードについて説明する。以下の駆動モードでは、図7の列並列駆動モードと同様に、Icm電流値を相対的に大きい5μAに設定し、正帰還動作を無効にして、撮像素子100を駆動する。他方、以下の駆動モードでは、行選択部510および列選択部520による画素200の選択手法が、図7の列並列駆動モードと相違する。
Other drive modes will be described below with reference to FIGS. 8 to 10. In the following drive mode, similarly to the column parallel drive mode in FIG. 7, the Icm current value is set to a relatively large value of 5 μA, the positive feedback operation is disabled, and the
図8は、撮像素子100が間引きGS駆動モードにて動作する様子を示す模式図である。間引きGS駆動モードは、行選択部510が2行毎に1行の画素200を選択すると共に、列選択部520が2列毎に1列の画素200を選択することで、4画素(2行2列)当たり1画素が一度に駆動されて信号電荷の蓄積と読出しを実行するモードである。間引きGS駆動モードは、グローバルシャッタ駆動モードと同様、撮像面内において画素200毎に露光時刻が揃うので、動体の撮影に適している。また、間引きGS駆動モードでは、一部の画素200によって撮像が行われるので、高解像度の画素信号が不要なケースに適している。なお、間引き率は1/4(4画素当たり1画素)に限定されず、他の間引き率(例えば、1/9(9画素当たり1画素))が採用されてもよい。
FIG. 8 is a schematic diagram showing how the
図9は、撮像素子100が領域並列駆動モードにて動作する様子を示す模式図である。領域並列駆動モードは、画素配列を領域分割することで構成された複数の画素200を含む画素グループ901内の同じ相対位置にある画素200が並列的に駆動されて信号電荷の蓄積と読出しを実行するモードである。図9の例では、矩形点線で示される水平3画素×垂直2画素の領域(6画素)が1つの画素グループ901を構成している。複数の画素グループ901が行列状に配置されている。なお、画素グループ901における行方向および列方向の画素200の数は本例に限定されず、任意の画素数が採用され得る。図7の列並列駆動モードは、水平方向(行方向)の全画素×垂直方向(列方向)の1画素を1つの画素グループと設定した領域並列駆動モードであると捉えることが可能である。
FIG. 9 is a schematic diagram showing how the
図9(a)および図9(b)は、画素グループ901内(領域内)の画素200が順次に選択される様子を示している。まず、図9(a)に示すように、各画素グループ901内の1つ目の相対位置(左上)にある画素200が選択される。より具体的には、行選択部510が、画素グループ901の第1行目に相当する行(1行目、3行目、5行目、…)を選択することで当該行のNMOS226をオン状態に設定すると共に、他の行のNMOS226をオフ状態に設定する。列選択部520は、画素グループ901内の第1列目に相当する列(1列目、4列目、7列目、…)を選択することで当該列のNMOS227をオン状態に設定すると共に、他の列のNMOS227をオフ状態に設定する。結果として、図9(a)に斜線で示した画素200の差動入力回路220にIcm電流値の定電流が供給され、図4を参照して上述したように画素200が駆動される。その後、処理が次の画素200に切り替わる。
FIGS. 9A and 9B show how
次いで、図9(b)に示すように、各画素グループ901内の2つ目の相対位置(中央上)にある画素200が選択される。より具体的には、行選択部510が、画素グループ901の第1行目に相当する行(1行目、3行目、5行目、…)のNMOS226のオン状態を維持する。列選択部520は、画素グループ901の第2列目に相当する列(2列目、5列目、8列目、…)を選択することで当該列のNMOS227をオン状態に設定すると共に、他の列のNMOS227をオフ状態に設定する。
Next, as shown in FIG. 9(b), the
以上のように、行選択部510および列選択部520は、画素グループ901内の画素200を相対位置毎に順次に繰り返し選択することによって、領域並列的に全ての画素200から信号を読み出す。
As described above, the
図10は、撮像素子100がAF駆動モードにて動作する様子を示す模式図である。AF駆動モードは、画素200を特定の周期の行毎に順次に駆動されて信号電荷の蓄積と読出しを実行するモードである。以上のような撮像素子100の駆動手法は「行間引き読出し」とも称される。特に、本例のAF駆動モードは、いわゆる撮像面位相差AFに使用される特定行の画素200の信号のみを読み出す駆動手法であって、単に各行を順次に読み出す列並列駆動モードとは相違する。撮像面位相差AFは、撮影レンズの相異なる射出瞳を通過した光束をそれぞれフォトダイオードによって受光し、受光量に応じて出力される信号の相対的なズレ量を検出することで撮影レンズのピントの方向とズレ量とを直接的に求める合焦手法である。撮像面位相差AFは、コントラストAF等と比較して、高速な焦点検出を行うことができる。撮影レンズの相異なる射出瞳を通過した光束の信号を取得する手法として、1つのマイクロレンズを有する画素のPDを2分割する手法と、特定の射出瞳領域からの光束のみを受光するようにPDの表面に遮光幕を形成する手法とが存在する。本例のAF駆動モードは、上記のいずれの手法にも適用することができる。
FIG. 10 is a schematic diagram showing how the
図10(a)および図10(b)は、位相差信号を取得可能な行の画素200が順次に選択される様子を示している。まず、図10(a)に示すように、行選択部510が、位相差信号を取得可能な第3行目を選択することで第3行目のNMOS226をオン状態に設定すると共に、他の行のNMOS226をオフ状態に設定する。列選択部520は、画素配列の全ての列を選択することで全列のNMOS227をオン状態に設定する。結果として、図10(a)に斜線で示した画素200の差動入力回路220にIcm電流値の定電流が供給され、図4を参照して上述したように画素200が駆動される。その後、処理が次の行に切り替わる。
FIGS. 10A and 10B show how
次いで、図10(b)に示すように、行選択部510は、位相差信号を取得可能な第6行目を選択することで第6行目のNMOS226をオン状態に設定すると共に、他の行のNMOS226をオフ状態に設定する。列選択部520は、画素配列の全ての列のNMOS227をオン状態に維持する。
Next, as shown in FIG. 10(b), the
以上のように、行選択部510は、AF動作に必要な画素配列の特定行を順次に繰り返し選択することによって、撮像面位相差AFに用いる信号を読み出す。AF動作においては、ユーザが選択した任意の測距点や、被写体検出によって選択された特定の領域のみにおいて、撮像面位相差AF用の信号を取得できればよいケースがある。AF駆動モードは、以上のようなケースにおいて不要な画素200の信号を読み出さずにAF動作に必要な信号を高速に読み出すことができるので、AF速度を高速化することができる。
As described above, the
以上説明した駆動モードのうち、図6に示すグローバルシャッタ駆動モードでは、全ての画素200が一律に動作する。したがって、Icm電流値を相対的に小さい0.1μAに設定し、全画素200のNMOS226とNMOS227とをオン状態に設定し、正帰還動作を有効状態にして、撮像素子100を駆動する。一方、図7から図10に示す他の駆動モードでは、同時に並列的に駆動される画素200の数が相対的に少ないので、Icm電流値を相対的に大きい5μAに設定し、正帰還動作を無効状態にして、撮像素子100を駆動する。他の駆動モードの制御によれば、差動入力回路220からの比較信号が反転するタイミングのばらつきが低減されるので、グローバルシャッタ駆動モードと比較してノイズを抑制できる。以上の構成においては、Icm電流値を0.1μAと5μAとのいずれかに切り替えて駆動しているが、Icm電流値は以上の設定値に限定されない。Icm電流値(相対的に大きい値および相対的に小さい値)は、同時に駆動される画素200の数や、電源ICの電流供給能力、用途目的等の種々の要素に応じて任意に変更され得る。
Among the drive modes described above, in the global shutter drive mode shown in FIG. 6, all
以上の構成によれば、AD変換回路201の各々を駆動するIcm電流値が撮像素子100の駆動モードに応じて設定されるので、駆動モード、すなわち撮像素子100の駆動制御に応じて適切に画像を取得することができる。より具体的には、以上の構成によれば、駆動モードに応じた適切な画質を有する画像を取得することができる。
According to the above configuration, the Icm current value for driving each of the AD conversion circuits 201 is set according to the drive mode of the
<第2実施形態>
以下、図11および図12を参照して、本発明の第2実施形態に係る撮像装置1100について説明する。なお、以下に例示する各実施形態において、作用、機能が第1実施形態と同等である要素については、以上の説明で参照した符号を流用して各々の説明を適宜に省略する。
<Second embodiment>
An imaging device 1100 according to a second embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 11 and 12. In each of the embodiments illustrated below, the reference numerals referred to in the above description will be used for elements whose operations and functions are equivalent to those of the first embodiment, and the description of each will be omitted as appropriate.
図11は、本発明の第2実施形態に係る撮像装置1100の全体的な構成を示すブロック図である。撮像装置1100は、第1実施形態に係る撮像素子100、光学系1110、信号処理部1120、記憶部1130、表示部1140、記録部1150、入力インターフェース1160、駆動モード設定部1170、およびメカニカルシャッタ1180を有する。
FIG. 11 is a block diagram showing the overall configuration of an imaging device 1100 according to the second embodiment of the present invention. The imaging device 1100 includes the
光学系1110は、フォーカスレンズ、ズームレンズ、絞り等の光学要素を含む撮像レンズである。
The
撮像素子100は、前述したように、光学系1110によって結像された被写体像を光電変換して得られるアナログ信号をデジタル信号に変換して出力する。
As described above, the
信号処理部1120は、撮像素子100から出力された画像信号に対して、欠陥画素の補正、ノイズ低減、色変換、ホワイトバランス補正、ガンマ補正等の画像処理、解像度変換処理、および画像圧縮処理を実行する画像処理部として機能する。
The
記憶部1130は、信号処理部1120が使用する演算処理用のメモリであって、撮像装置1100にて連続撮影が実行される場合はバッファーメモリとして機能することができる。
The
表示部1140は、信号処理部1120から出力された画像信号(画像データ)等の情報を表示するディスプレイである。
The
記録部1150は、信号処理部1120から出力された画像信号(画像データ)等の情報を記録する記録媒体であって、例えば、メモリカードやハードディスクである。
The
入力インターフェース1160は、ボタン、スイッチ、電子ダイヤル等の操作部材からの入力を電気的に受信する。本実施形態では、特に、ユーザが撮影モードを選択する操作を受け付ける。
駆動モード設定部1170は、入力インターフェース1160から入力された撮影モードに応じて、撮像素子100に適用すべき駆動モードを選択し、適用すべき駆動モードを示す信号(駆動モード情報)を制御部122および信号処理部1120に出力する。第1実施形態にて説明したように、本発明の実施形態に係る撮像素子100では、駆動モード情報に基づいて制御部122が画素200の動作を制御する。また、信号処理部1120は、駆動モード情報に基づいて、撮像素子100からの画像信号の処理手法(画像処理手法)を選択して実行する。詳細は図12を参照して後述される。
The drive
メカニカルシャッタ1180は、光学系1110からの光束を撮像素子100に対して入射させる露光状態と光束を遮る遮光状態とを機械的に制御するシャッタ機構である。露光状態の継続時間は種々に設定可能である。動画のような高いフレームレートで読み出さなくてよい静止画の撮影モードでは、メカニカルシャッタ1180によって撮像素子100の露光時間を制御し、撮像素子100が遮光状態となった後に画素信号を順次にAD変換して読み出すことができる。
The
図12は、本発明の第2実施形態に係る撮像装置1100における駆動制御手法の説明図である。図12は、ユーザが選択可能な撮影モードと、駆動モード、Icm電流値、差動入力回路220の動作、および信号処理手法との対応関係(すなわち、撮影モードと制御パラメータとの対応関係)を示している。撮影モードとして、高解像動画モード、高フレームレート(High Frame Rate, HFR)動画モード、および静止画モードが例示されている。
FIG. 12 is an explanatory diagram of a drive control method in the imaging device 1100 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 12 shows the correspondence between the user-selectable shooting modes, the drive mode, the Icm current value, the operation of the
入力インターフェース1160から入力された撮影モードが高解像動画モードである場合、駆動モード設定部1170は、図6のグローバルシャッタ駆動モードで撮像素子100を駆動するように制御部122および信号処理部1120を制御する。グローバルシャッタ駆動モードが選択されることによって、高解像度の画像が取得されると共に、動く被写体におけるローリング歪みの発生が抑制される。制御部122は、Icm電流値を全ての画素200一律に0.1μAに設定すると共に、正帰還回路230が動作するように設定することで、比較信号が反転する遷移速度を高速化する。
When the shooting mode input from the
動画モードにおいては、信号処理部1120が、取得した複数の画像を動画用フォーマットに変換することが必要である。例えば、フルHD動画であれば、画像解像度を1920×1080にビニングする処理が必要であり、4K動画であれば画像解像度を3840×2160にビニングする処理が必要である。加えて、信号処理部1120は、動画モードにおいて、連続する静止画フレームを有する動画ファイルのサイズを抑制するための圧縮処理を実行する。以上の圧縮処理においては、例えば、同一フレーム内(空間方向)の類似データの平均化処理や、複数フレーム間(時間方向)のデータ差分の置換え処理等が実行される。以上の処理の結果、高解像動画モードでは静止画と比較してノイズが目立ち難いので、相対的にノイズの大きい図6のグローバルシャッタ駆動モードを用いても動画像におけるノイズの影響が小さい。
In the video mode, the
入力インターフェース1160から入力された撮影モードがHFR動画モードである場合、駆動モード設定部1170は、図8の間引きGS駆動モードで撮像素子100を駆動するように制御部122および信号処理部1120を制御する。間引きGS駆動モードが選択されることによって、動画像の解像度はグローバルシャッタ駆動モードと比較して1/4となるが、高いフレームレートで信号を読み出すことができると共に、動く被写体におけるローリング歪みの発生が抑制される。間引きGS駆動モードでは、同時並列に駆動される画素200の数がグローバルシャッタ駆動モードよりも少ないので、制御部122は、駆動する画素200のIcm電流値を5μAに設定すると共に、正帰還回路230が動作しないように設定する。結果として、HFR動画モードでは、グローバルシャッタ駆動モードと比較して、ノイズの発生が抑制される。
When the shooting mode input from the
入力インターフェース1160から入力された撮影モードが静止画モードである場合、駆動モード設定部1170は、図7の列並列駆動モードで撮像素子100を駆動するように制御部122および信号処理部1120を制御する。静止画モードでは、動画のような高いフレームレートで画像信号を読み出さなくてよいからである。制御部122は、HFR動画モードと同様に、駆動する画素200のIcm電流値を5μAに設定すると共に、正帰還回路230が動作しないように設定する。結果として、静止画モードでは、グローバルシャッタ駆動モードと比較して、ノイズの発生が抑制される。
When the shooting mode input from the
なお、以上の制御パラメータは一例であって、任意に設定され得る。すなわち、本実施形態に係る撮像素子100は、撮像装置1100において優先すべき性能に応じて任意に設定され得る。例えば、HFR動画モードにおいて、消費電力の低減を優先すべき場合は、低解像度の間引きGS駆動モードで撮像素子100を駆動する場合に、Icm電流値を0.1μAに設定し、正帰還回路230を動作させてもよい。
Note that the above control parameters are just examples and can be set arbitrarily. That is, the
以上の構成によれば、撮像装置1100の駆動モード設定部1170が、撮像装置1100の撮影モードに応じて撮像素子100の駆動モードを選択するので、撮影モード、すなわち、撮影の用途に応じて撮像素子100の駆動が制御される。例えば、撮影モードに応じて、グローバルシャッタ駆動モードによる撮影と低ノイズ駆動モード(例えば、間引きGS駆動モード)による撮影とが切り替えられる。結果として、撮影の用途に応じた適切な画質を有する画像(動画および静止画)を取得することができる。
According to the above configuration, the drive
<その他の実施形態>
以上、本発明の好ましい実施の形態について説明したが、本発明は上述した実施の形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
<Other embodiments>
Although preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications and changes can be made within the scope of the gist thereof.
100 撮像素子
122 制御部
200 画素(単位画素)
201 AD変換回路
210 画素回路
220 差動入力回路
230 正帰還回路
901 画素グループ
1100 撮像装置
1170 駆動モード設定部
100
200 pixels (unit pixel)
201
Claims (8)
前記画素信号をAD変換するAD変換回路と、を各々が含む複数の画素が2次元的に配置されている撮像素子であって、
並列に動作する前記AD変換回路の数に基づいて、複数の前記AD変換回路の各々を駆動する駆動電流値を切り替えるように制御する制御部を備える、ことを特徴とする撮像素子。 a pixel circuit that outputs a pixel signal corresponding to the amount of incident light;
An image sensor in which a plurality of pixels are two-dimensionally arranged, each including an AD conversion circuit that AD converts the pixel signal,
An image pickup device comprising: a control unit that controls to switch a drive current value for driving each of the plurality of AD conversion circuits based on the number of the AD conversion circuits that operate in parallel .
前記画素信号の電圧と参照信号の電圧とを比較した結果を示す比較信号が反転する際の遷移速度を高速化する正帰還回路を備え、
前記制御部は、
前記AD変換回路を駆動する前記駆動電流値を切り替えると共に前記正帰還回路による正帰還動作の有効状態と無効状態とを切り替える、ことを特徴とする請求項1に記載の撮像素子。 Each of the plurality of AD conversion circuits,
comprising a positive feedback circuit that speeds up the transition speed when a comparison signal indicating a result of comparing the voltage of the pixel signal and the voltage of the reference signal is inverted;
The control unit includes:
2. The image sensor according to claim 1, wherein the drive current value for driving the AD conversion circuit is switched, and a positive feedback operation by the positive feedback circuit is switched between a valid state and a disabled state.
前記AD変換回路の前記駆動電流値を第1電流値に切り替えた場合に前記正帰還動作が有効状態となるように制御し、
前記AD変換回路の前記駆動電流値を前記第1電流値よりも高い第2電流値に切り替えた場合に前記正帰還動作が無効状態となるように制御する、ことを特徴とする請求項2に記載の撮像素子。 The control unit, for each of the plurality of AD conversion circuits,
controlling the positive feedback operation to be in a valid state when the drive current value of the AD conversion circuit is switched to a first current value;
According to claim 2, the positive feedback operation is controlled to be in an invalid state when the drive current value of the AD conversion circuit is switched to a second current value higher than the first current value. The image sensor described.
複数の前記AD変換回路を順次に選択して、選択された前記AD変換回路を並列に動作させる、ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の撮像素子。 The control unit includes:
The image sensor according to any one of claims 1 to 3 , wherein a plurality of the AD conversion circuits are sequentially selected and the selected AD conversion circuits are operated in parallel .
前記制御部は、
複数の前記AD変換回路を行毎に順次に選択して、選択された行の前記AD変換回路を並列に動作させる、ことを特徴とする請求項4に記載の撮像素子。 The plurality of pixels each including the AD conversion circuit are arranged in a matrix,
The control unit includes:
5. The image sensor according to claim 4 , wherein the plurality of AD conversion circuits are sequentially selected row by row, and the AD conversion circuits in the selected rows are operated in parallel .
前記制御部は、
複数の前記AD変換回路を前記画素グループ内の相対位置毎に順次に選択して、選択された相対位置にある前記AD変換回路を並列に動作させる、ことを特徴とする請求項4に記載の撮像素子。 The plurality of pixels each including the AD conversion circuit are divided into a plurality of pixel groups,
The control unit includes:
5. The plurality of AD conversion circuits are sequentially selected for each relative position within the pixel group, and the AD conversion circuits located at the selected relative positions are operated in parallel. Image sensor.
撮影モードに応じて、前記撮像素子に適用すべき駆動モードを選択する駆動モード設定部と、を備える撮像装置であって、
前記撮像素子の前記制御部は、
前記駆動モード設定部が選択した前記駆動モードに従って複数の前記画素の動作を制御する、ことを特徴とする撮像装置。 An image sensor according to any one of claims 1 to 6 ,
An imaging device comprising: a drive mode setting unit that selects a drive mode to be applied to the image sensor according to a shooting mode,
The control unit of the image sensor includes:
An imaging device, characterized in that the operation of the plurality of pixels is controlled according to the drive mode selected by the drive mode setting section.
前記画素信号をAD変換するAD変換回路と、を各々が含む複数の画素が2次元的に配置されている撮像素子の制御方法であって、
並列に動作する前記AD変換回路の数に基づいて、複数の前記AD変換回路の各々を駆動する駆動電流値を切り替えるように制御する、ことを特徴とする制御方法。 a pixel circuit that outputs a pixel signal corresponding to the amount of incident light;
A method for controlling an image sensor in which a plurality of pixels are two-dimensionally arranged, each including an AD conversion circuit that AD converts the pixel signal,
A control method comprising controlling to switch a drive current value for driving each of the plurality of AD conversion circuits based on the number of the AD conversion circuits operating in parallel .
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