JP7365135B2 - Surface modifier composition - Google Patents

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本発明は、N-アルケニルラクタム系ブロック共重合体を含有する表面改質剤組成物に関する。 The present invention relates to a surface modifier composition containing an N-alkenyl lactam block copolymer.

ラクタム構造を有する重合体は、親水性を有し、人体や環境への安全性が高いことから、分散媒体に着色材等の固体粒子を分散した分散組成物;表面改質剤;粘接着剤;電子部品;医薬品;化粧品等の分野で広く用いられている。 Polymers with a lactam structure have hydrophilic properties and are highly safe for the human body and the environment, so they can be used as dispersion compositions in which solid particles such as colorants are dispersed in a dispersion medium; surface modifiers; adhesives It is widely used in fields such as agents; electronic parts; pharmaceuticals; and cosmetics.

表面改質剤は、基材表面に所望の特性を付与できることから、プラスチック、ガラス、金属等に広く用いられている。特に、これらの基材が水や湿気と接触する用途に使用される場合は、基材表面に親水性を付与するための表面改質剤が用いられているが、ラクタム構造を有する重合体は表面改質剤として用いられている。例えば、N-ビニルピロリドンに由来する構造単位を含むブロックを有するA-Bブロック共重合体を、コーティング剤として用いることが知られている(特許文献1(段落0006)参照)。 Surface modifiers are widely used for plastics, glass, metals, etc. because they can impart desired properties to the surface of substrates. In particular, when these base materials are used in applications where they come into contact with water or moisture, surface modifiers are used to impart hydrophilicity to the base material surface, but polymers with a lactam structure Used as a surface modifier. For example, it is known that an AB block copolymer having a block containing a structural unit derived from N-vinylpyrrolidone is used as a coating agent (see Patent Document 1 (paragraph 0006)).

A-Bブロック共重合体の製造には、リビング重合法を用いることが知られている(例えば、特許文献2(請求項1、第20頁第18~23行)参照)。リビング重合法には、リビングアニオン重合法、リビングカチオン重合法、リビングラジカル重合法等がある。リビングアニオン重合法およびリビングカチオン重合法は厳密な重合条件が必要で、さらに共存できる官能基が限定される。これに対して、リビングラジカル重合法は極性官能基と共存できる汎用性と、モノマーや溶媒の純度などに影響されない簡便性とを保ちつつ、分子量分布の精密制御、均一な組成のポリマーを製造できる。そのため分子量が制御された狭い分子量分布、均一な組成の、極性基を有するブロック共重合体の製造には、リビングラジカル重合法が用いられている。 It is known that a living polymerization method is used to produce an AB block copolymer (see, for example, Patent Document 2 (Claim 1, page 20, lines 18 to 23)). Living polymerization methods include living anionic polymerization methods, living cationic polymerization methods, living radical polymerization methods, and the like. The living anionic polymerization method and the living cationic polymerization method require strict polymerization conditions, and furthermore, the functional groups that can coexist are limited. In contrast, the living radical polymerization method maintains the versatility of coexisting with polar functional groups, and the simplicity of not being affected by the purity of monomers or solvents, while allowing precise control of molecular weight distribution and production of polymers with uniform composition. . Therefore, a living radical polymerization method is used to produce a block copolymer having a polar group and a narrow molecular weight distribution with a controlled molecular weight and a uniform composition.

なお、ブロック共重合体を製造する場合、重合時副生する重合体不純物が不可避的に含まれることとなる。そこで、このような重合体不純物の含有量を低減する方法が提案されている。例えば、特許文献3には、重合後のブロック共重合体について特定の溶媒を用いて液々抽出することで、重合体不純物を選択的に除去する精製方法が記載されている(特許文献3(段落0017~0024)参照)。しかしながら、特許文献3では、スチレン系ホモポリマーの精製除去について検討されているが、ラクタム構造を有する重合体の除去方法は検討されていない。 Note that when producing a block copolymer, it inevitably contains polymer impurities that are produced as by-products during polymerization. Therefore, methods have been proposed to reduce the content of such polymer impurities. For example, Patent Document 3 describes a purification method in which polymer impurities are selectively removed by liquid-liquid extraction of a block copolymer after polymerization using a specific solvent (Patent Document 3 ( (See paragraphs 0017-0024). However, in Patent Document 3, purification and removal of a styrene homopolymer is studied, but a method for removing a polymer having a lactam structure is not studied.

特開2015-168764号公報Japanese Patent Application Publication No. 2015-168764 国際公開第2004/096870号International Publication No. 2004/096870 特開2015-113444号公報Japanese Patent Application Publication No. 2015-113444

従来のN-ビニルラクタム系ブロック共重合体を用いたコーティング剤では、被覆層(コーティング層)が長時間にわたって水に晒されると、被覆層が徐々に基材表面から欠落するという問題があった。
本発明は上記事情を鑑みてなされたものであり、耐久性に優れた表面改質層を形成することができる表面改質剤組成物を提供することを目的とする。
Conventional coating agents using N-vinyl lactam block copolymers have had the problem that when the coating layer is exposed to water for a long period of time, the coating layer gradually peels off from the substrate surface. .
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a surface modifier composition that can form a surface modified layer with excellent durability.

上記課題を解決することができた本発明の表面改質剤組成物は、重合生成物を含有する表面改質剤組成物であって、前記重合生成物がモノマー組成物を重合することにより得られたものであり、N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位を有するAブロックと、N-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーに由来する構造単位を有するBブロックとを有するブロック共重合体を含有し、前記重合生成物の分子量分布(PDI)が2.0以下であり、かつ、前記ブロック共重合体の含有率が、前記重合生成物100質量%中において、80質量%以上であることを特徴とする。 The surface modifier composition of the present invention that can solve the above problems is a surface modifier composition containing a polymerization product, wherein the polymerization product is obtained by polymerizing a monomer composition. A block copolymer having an A block having a structural unit derived from an N-alkenyl lactam monomer and a B block having a structural unit derived from a vinyl monomer other than the N-alkenyl lactam monomer. and the molecular weight distribution (PDI) of the polymerization product is 2.0 or less, and the content of the block copolymer is 80% by mass or more in 100% by mass of the polymerization product. It is characterized by

本発明の表面改質剤組成物は、表面改質剤成分として、N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位を有するAブロックと、N-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーに由来する構造単位を有するBブロックとを有するN-アルケニルラクタム系ブロック共重合体を含有する重合生成物を含有する。このブロック共重合体は、AブロックとBブロックとを有することで、基材に親水性に優れる表面改質層を形成することができる。また、本発明の表面改質剤組成物は、前記ブロック共重合体の含有率が80質量%以上である。換言するとAブロックのみからなる重合物、Bブロックのみからなる重合物のような重合体不純物の含有率が20質量%以下である。そのため、本発明の表面改質剤組成物は、得られる表面改質層が水に対して優れた耐久性を示す。 The surface modifier composition of the present invention comprises, as surface modifier components, an A block having a structural unit derived from an N-alkenyl lactam monomer and a structural unit derived from a vinyl monomer other than the N-alkenyl lactam monomer. It contains a polymerization product containing an N-alkenyl lactam block copolymer having a B block having This block copolymer can form a surface-modified layer with excellent hydrophilicity on the base material by having the A block and the B block. Further, in the surface modifier composition of the present invention, the content of the block copolymer is 80% by mass or more. In other words, the content of polymer impurities such as a polymer consisting only of A blocks and a polymer consisting only of B blocks is 20% by mass or less. Therefore, in the surface modifier composition of the present invention, the resulting surface modified layer exhibits excellent durability against water.

本発明の表面改質剤組成物は、水に対する耐久性に優れた表面改質層を形成できる。 The surface modifier composition of the present invention can form a surface modified layer with excellent durability against water.

本発明の表面改質剤組成物は、重合生成物を含有する表面改質剤組成物であって、前記重合生成物がモノマー組成物を重合することにより得られたものであり、N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位を有するAブロックと、N-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーに由来する構造単位を有するBブロックとを有するブロック共重合体を含有し、前記重合生成物の分子量分布(PDI)が2.0以下であり、かつ、前記ブロック共重合体の含有率が、前記重合生成物100質量%中において、80質量%以上であることを特徴とする。 The surface modifier composition of the present invention is a surface modifier composition containing a polymerization product, wherein the polymerization product is obtained by polymerizing a monomer composition, and is an N-alkenyl A block copolymer having an A block having a structural unit derived from a lactam monomer and a B block having a structural unit derived from a vinyl monomer other than an N-alkenyllactam monomer, and the molecular weight of the polymerization product is Distribution (PDI) is 2.0 or less, and the content of the block copolymer is 80% by mass or more in 100% by mass of the polymerization product.

本発明の表面改質剤組成物は、表面改質剤成分として、N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位を有するAブロックと、N-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーに由来する構造単位を有するBブロックとを有するN-アルケニルラクタム系ブロック共重合体を含有する重合生成物を含有する。このブロック共重合体は、AブロックとBブロックとを有することで、基材に親水性に優れる表面改質層を形成することができる。また、本発明の表面改質剤組成物は、前記ブロック共重合体の含有率が80質量%以上である。換言するとAブロックのみからなる重合物、Bブロックのみからなる重合物のような重合体不純物の含有率が20質量%以下である。そのため、本発明の表面改質剤組成物は、得られる表面改質層が水に対して優れた耐久性を示す。 The surface modifier composition of the present invention comprises, as surface modifier components, an A block having a structural unit derived from an N-alkenyl lactam monomer and a structural unit derived from a vinyl monomer other than the N-alkenyl lactam monomer. It contains a polymerization product containing an N-alkenyl lactam block copolymer having a B block having This block copolymer can form a surface-modified layer with excellent hydrophilicity on the base material by having the A block and the B block. Further, in the surface modifier composition of the present invention, the content of the block copolymer is 80% by mass or more. In other words, the content of polymer impurities such as a polymer consisting only of A blocks and a polymer consisting only of B blocks is 20% by mass or less. Therefore, in the surface modifier composition of the present invention, the resulting surface modified layer exhibits excellent durability against water.

本発明において、「重合生成物」とは、前記ブロック共重合体を得るために重合操作を行った際に得られる生成物を指す。前記「重合生成物」には、所望とするブロック共重合体と、このブロック共重合体を合成する際に副生した重合体不純物を含む。 In the present invention, the term "polymerization product" refers to a product obtained when a polymerization operation is performed to obtain the block copolymer. The "polymerization product" includes a desired block copolymer and polymer impurities that are by-produced during the synthesis of this block copolymer.

本発明において、「重合体不純物」とは、所望とするブロック共重合体を合成する際に、不可避的に副生する他の重合体である。例えば、A-B型ジブロック共重合体を合成する際に副生する重合体不純物としては、Aブロックと同様の組成を有するランダムポリマー、Bブロックと同様の組成を有するランダムポリマーが挙げられる。A-B-A型トリブロック共重合体またはB-A-B型トリブロック共重合体を合成する際に副生する重合体不純物としては、Aブロックと同様の組成を有するランダムポリマー、Bブロックと同様の組成を有するランダムポリマーが挙げられる。なお、「重合体不純物」は、所望とするブロック共重合体を合成する際に副生した重合体であり、別途添加される重合体は含まない。 In the present invention, "polymer impurities" are other polymers that are inevitably produced as by-products when synthesizing a desired block copolymer. For example, polymer impurities produced as by-products when synthesizing AB type diblock copolymers include random polymers having the same composition as the A block and random polymers having the same composition as the B block. Polymer impurities that are produced as by-products when synthesizing the A-B-A type triblock copolymer or the B-A-B type triblock copolymer include random polymers having the same composition as the A block, and the B block. A random polymer having a composition similar to that of Note that "polymer impurities" are polymers that are produced as by-products when synthesizing a desired block copolymer, and do not include polymers that are added separately.

本発明において、「Aブロック」は「Aセグメント」と言い換えることができ、「Bブロック」は「Bセグメント」と言い換えることができる。本発明において、「ビニルモノマー」とは分子中にラジカル重合可能な炭素-炭素二重結合を有するモノマーのことをいう。「ビニルモノマーに由来する構造単位」とは、ビニルモノマーのラジカル重合可能な炭素-炭素二重結合が、重合して炭素-炭素単結合になった構造単位をいう。「(メタ)アクリル」は「アクリルおよびメタクリルの少なくとも一方」をいう。「(メタ)アクリレート」は「アクリレートおよびメタクリレートの少なくとも一方」をいう。「(メタ)アクリロイル」は「アクリロイルおよびメタクロイルの少なくとも一方」をいう。 In the present invention, "A block" can be translated as "A segment", and "B block" can be translated as "B segment". In the present invention, "vinyl monomer" refers to a monomer having a radically polymerizable carbon-carbon double bond in the molecule. The term "structural unit derived from a vinyl monomer" refers to a structural unit in which a radically polymerizable carbon-carbon double bond of a vinyl monomer is polymerized to become a carbon-carbon single bond. "(Meth)acrylic" refers to "at least one of acrylic and methacrylic." "(Meth)acrylate" refers to "at least one of acrylate and methacrylate." "(Meth)acryloyl" refers to "at least one of acryloyl and methacryloyl."

以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示である。本発明は以下の実施形態に何ら限定されない。 An example of a preferred embodiment of the present invention will be described below. However, the following embodiments are merely illustrative. The present invention is not limited to the following embodiments.

<重合生成物>
前記重合生成物は、AブロックとBブロックとを有するブロック共重合体と、重合体不純物とを含有する。
<Polymerization product>
The polymerization product contains a block copolymer having an A block and a B block, and polymer impurities.

前記重合生成物は、前記ブロック共重合体の含有率が、重合生成物100質量%中、80質量%以上、好ましくは85質量%以上、より好ましくは90質量%以上である。 The content of the block copolymer in the polymerization product is 80% by mass or more, preferably 85% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more based on 100% by mass of the polymerization product.

前記重合生成物が、A-B型ジブロック共重合体を合成することを目的として得られたものである場合、重合生成物中のA-B型ジブロック共重合体の含有率が、重合生成物100質量%中、80質量%以上、好ましくは85質量%以上、より好ましくは90質量%以上である。 When the polymerization product is obtained for the purpose of synthesizing an AB type diblock copolymer, the content of AB type diblock copolymer in the polymerization product is It is 80% by mass or more, preferably 85% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more in 100% by mass of the product.

前記重合生成物が、A-B-A型トリブロック共重合体またはB-A-B型トリブロック共重合体を合成することを目的として得られたものである場合、重合生成物中のA-B-A型トリブロック共重合体およびA-B型ジブロック共重合体の合計含有率が、重合生成物100質量%中、80質量%以上、好ましくは85質量%以上、より好ましくは90質量%以上である。 When the polymerization product is obtained for the purpose of synthesizing an ABA triblock copolymer or a BAB triblock copolymer, A in the polymerization product -The total content of the B-A type triblock copolymer and the AB type diblock copolymer is 80% by mass or more, preferably 85% by mass or more, more preferably 90% by mass, based on 100% by mass of the polymerization product. % by mass or more.

前記重合生成物の重量平均分子量(Mw)は5,000以上が好ましく、より好ましくは6,000以上、さらに好ましくは7,000以上であり、500,000以下が好ましく、より好ましくは400,000以下、さらに好ましくは300,000以下である。重量平均分子量が上記範囲内にあれば、形成される改質層の耐久性がより良好となる。前記重合生成物の分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(以下「GPC」という)法により測定される。 The weight average molecular weight (Mw) of the polymerization product is preferably 5,000 or more, more preferably 6,000 or more, even more preferably 7,000 or more, and preferably 500,000 or less, more preferably 400,000. It is preferably 300,000 or less. If the weight average molecular weight is within the above range, the durability of the modified layer to be formed will be better. The molecular weight of the polymerization product is measured by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as "GPC").

前記重合生成物の分子量分布(PDI)は、2.0以下であり、1.8以下であることが好ましく、1.5以下であることがより好ましく、1.3以下であることがさらに好ましい。なお、本発明において、分子量分布(PDI)とは、(重合生成物の重量平均分子量(Mw))/(重合生成物の数平均分子量(Mn))によって求められるものである。PDIが小さいほど分子量分布の幅が狭い、分子量のそろった重合生成物となり、その値が1.0のとき最も分子量分布の幅が狭い。重合生成物の分子量分布(PDI)が、2.0を超えると、分子量の小さいものや、分子量の大きいものが含まれることになる。 The molecular weight distribution (PDI) of the polymerization product is 2.0 or less, preferably 1.8 or less, more preferably 1.5 or less, and even more preferably 1.3 or less. . In the present invention, the molecular weight distribution (PDI) is determined by (weight average molecular weight (Mw) of polymerization product)/(number average molecular weight (Mn) of polymerization product). The smaller the PDI, the narrower the width of the molecular weight distribution, resulting in a polymerization product with uniform molecular weight, and when the value is 1.0, the width of the molecular weight distribution is the narrowest. If the molecular weight distribution (PDI) of the polymerization product exceeds 2.0, it will include those with small molecular weights and those with large molecular weights.

(ブロック共重合体)
前記ブロック共重合体の各種構成成分等について以下説明する。
(Block copolymer)
Various constituent components of the block copolymer will be explained below.

(Aブロック)
AブロックはN-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位を含むポリマーブロックである。
(A block)
The A block is a polymer block containing a structural unit derived from an N-alkenyl lactam monomer.

前記N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位は、環状N-アルケニルラクタム構造を有するビニルモノマーに由来する構造単位であれば特に制限されないが、下記一般式(1)で表される構造単位であることが好ましい。 The structural unit derived from the N-alkenyl lactam monomer is not particularly limited as long as it is a structural unit derived from a vinyl monomer having a cyclic N-alkenyl lactam structure, but may be a structural unit represented by the following general formula (1). It is preferable that there be.

Figure 0007365135000001
〔式(1)において、R11、R12、R13およびR14は、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1~10のアルキル基を示す。m1は0~4の整数を示す。n1は1~3の整数を示す。〕
Figure 0007365135000001
[In formula (1), R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are the same or different and represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent. m1 represents an integer from 0 to 4. n1 represents an integer from 1 to 3. ]

前記R11~R14におけるアルキル基の炭素数としては、1~6が好ましく、より好ましくは1~4である。前記アルキル基として、更に好ましくはメチル基、エチル基であり、特に好ましくはメチル基である。前記R11~R14における置換基としては、特に制限されないが、カルボキシ基、スルホン酸基及びこれらのエステルや塩;アミノ基;ヒドロキシ基等が挙げられる。 The number of carbon atoms in the alkyl group in R 11 to R 14 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4. The alkyl group is more preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group. Substituents for R 11 to R 14 are not particularly limited, but include carboxy groups, sulfonic acid groups, and esters and salts thereof; amino groups; hydroxy groups, and the like.

11としては水素原子又はメチル基であることが好ましく、より好ましくは水素原子である。
前記R12~R14としては水素原子であることが好ましい。
m1としては、0~2の整数であることが好ましく、より好ましくは0~1の整数であり、更に好ましくは0である。
n1としては、1又は2であることが好ましく、より好ましくは1である。
R 11 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom.
The above R 12 to R 14 are preferably hydrogen atoms.
m1 is preferably an integer of 0 to 2, more preferably an integer of 0 to 1, and even more preferably 0.
n1 is preferably 1 or 2, more preferably 1.

前記一般式(1)で表される構造単位を形成するビニルモノマーとしては、例えばN-ビニルピロリドン、N-ビニル-5-メチルピロリドン、N-ビニル-5-エチルピロリドン、N-ビニル-5-プロピルピロリドン、N-ビニル-5-ブチルピロリドン、1-(2-プロペニル)-2-ピロリドン等の5員環ラクタム構造を有するビニルモノマー;N-ビニルピペリドン等の6員環ラクタム構造を有するビニルモノマー;N-ビニルカプロラクタム等の7員環ラクタム構造を有するビニルモノマー等が挙げられる。前記一般式(1)で表される構造単位を形成するビニルモノマーは、1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも5員環ラクタム構造を有するビニルモノマーが好ましく、N-ビニルピロリドンがより好ましい。 Examples of the vinyl monomer forming the structural unit represented by the general formula (1) include N-vinylpyrrolidone, N-vinyl-5-methylpyrrolidone, N-vinyl-5-ethylpyrrolidone, N-vinyl-5- Vinyl monomers having a 5-membered ring lactam structure such as propylpyrrolidone, N-vinyl-5-butylpyrrolidone, and 1-(2-propenyl)-2-pyrrolidone; Vinyl monomers having a 6-membered ring lactam structure such as N-vinylpiperidone; Examples include vinyl monomers having a 7-membered lactam structure such as N-vinylcaprolactam. One or more types of vinyl monomers forming the structural unit represented by the general formula (1) can be used. Among these, vinyl monomers having a 5-membered lactam structure are preferred, and N-vinylpyrrolidone is more preferred.

Aブロックは、N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位のみであっても良いし、他の構造単位が含まれていてもよい。Aブロックを親水性とする観点から、Aブロック中のN-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位の含有率は、80質量%以上が好ましく、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは95質量%以上であり、特に好ましくは98質量%以上である。Aブロック中のN-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位の含有率が高い程、基材表面の親水性を向上することができる。 The A block may be composed only of structural units derived from N-alkenyl lactam monomers, or may contain other structural units. From the viewpoint of making the A block hydrophilic, the content of structural units derived from the N-alkenyl lactam monomer in the A block is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and even more preferably 95% by mass. % or more, particularly preferably 98% by mass or more. The higher the content of structural units derived from the N-alkenyl lactam monomer in the A block, the more hydrophilicity of the substrate surface can be improved.

Aブロックの他の構造単位を形成し得るモノマーの具体例としては、鎖状アルキル基(直鎖アルキル基または分岐鎖アルキル基)を有する(メタ)アクリレート、環状アルキル基を有する(メタ)アクリレート、多環式構造を有する(メタ)アクリレート、芳香族基を有する(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコール構造単位を有する(メタ)アクリレート、環状エーテル基を有する(メタ)アクリレート、N-ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート、ラクトン変性ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート、アルコキシ基を有する(メタ)アクリレート、含酸素ヘテロ環基を有する(メタ)アクリレート、アミノ基を有する(メタ)アクリレート、酸性基を有する(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸等の(メタ)アクリル系ビニルモノマー;α-オレフィン;芳香族ビニルモノマー;ヘテロ環含有不飽和モノマー;ビニルアミド;カルボン酸ビニル;ジエン類等を挙げることができる。 Specific examples of monomers that can form other structural units of the A block include (meth)acrylates having a chain alkyl group (straight chain alkyl group or branched chain alkyl group), (meth)acrylates having a cyclic alkyl group, (meth)acrylate having a polycyclic structure, (meth)acrylate having an aromatic group, (meth)acrylate having a polyalkylene glycol structural unit, (meth)acrylate having a cyclic ether group, N-dialkylaminoalkyl (meth) ) acrylate, (meth)acrylate with a hydroxy group, (meth)acrylate with a lactone-modified hydroxy group, (meth)acrylate with an alkoxy group, (meth)acrylate with an oxygen-containing heterocyclic group, (meth)acrylate with an amino group ) Acrylates, (meth)acrylates having acidic groups, (meth)acrylic vinyl monomers such as (meth)acrylic acid; α-olefins; aromatic vinyl monomers; heterocycle-containing unsaturated monomers; vinylamides; vinyl carboxylates; dienes There are many examples of this.

Aブロックにおいて2種以上の構造単位が含有される場合は、Aブロックに含有される各種構造単位は、Aブロック中においてランダム共重合、ブロック共重合等の何れの態様で含有されていてもよく、均一性の観点からランダム共重合の態様で含有されていることが好ましい。例えば、Aブロックが、a1ブロックからなる構造単位とa2ブロックとからなる構造単位との共重合体により形成されていてもよい。 When two or more types of structural units are contained in the A block, the various structural units contained in the A block may be contained in any form such as random copolymerization or block copolymerization in the A block. , is preferably contained in a random copolymerized form from the viewpoint of uniformity. For example, the A block may be formed of a copolymer of a structural unit consisting of an a1 block and a structural unit consisting of an a2 block.

(Bブロック)
Bブロックは、N-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーに由来する構造単位を含むポリマーブロックである。Bブロックにおける前記構造単位は、1種のみでもあってもよいし、2種以上を有していてもよい。
(B block)
The B block is a polymer block containing a structural unit derived from a vinyl monomer other than the N-alkenyl lactam monomer. The number of the structural units in the B block may be one type or two or more types.

Bブロックの他の構造単位を形成し得るN-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーの具体例としては、例えば、(メタ)アクリル系ビニルモノマー、α-オレフィン、芳香族ビニルモノマー、ヘテロ環含有不飽和モノマー、ビニルアミド、カルボン酸ビニル、ジエン類等を挙げることができる。 Specific examples of vinyl monomers other than N-alkenyl lactam monomers that can form other structural units of block B include (meth)acrylic vinyl monomers, α-olefins, aromatic vinyl monomers, and heterocycle-containing monomers. Saturated monomers, vinylamide, vinyl carboxylates, dienes, etc. can be mentioned.

前記(メタ)アクリル系ビニルモノマーとしては、例えば、鎖状アルキル基(直鎖アルキル基または分岐鎖アルキル基)を有する(メタ)アクリレート、環状アルキル基を有する(メタ)アクリレート、多環式構造を有する(メタ)アクリレート、芳香族基を有する(メタ)アクリレート、環状エーテル基を有する(メタ)アクリレート、N-ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート、酸性基を有する(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸等が挙げられる。 Examples of the (meth)acrylic vinyl monomer include (meth)acrylates having a chain alkyl group (straight chain alkyl group or branched chain alkyl group), (meth)acrylates having a cyclic alkyl group, and polycyclic structures. (meth)acrylates having an aromatic group, (meth)acrylates having an aromatic group, (meth)acrylates having a cyclic ether group, N-dialkylaminoalkyl (meth)acrylates, (meth)acrylates having a hydroxy group, (meth)acrylates having an acidic group ( Examples include meth)acrylate and (meth)acrylic acid.

前記直鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレートとしては、直鎖アルキル基の炭素数が1~20である直鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレートが好ましく、直鎖アルキル基の炭素数が1~10である直鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレートがより好ましい。前記直鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレートとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、n-ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、n-ラウリル(メタ)アクリレート、n-ステアリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The (meth)acrylate having a straight chain alkyl group is preferably a (meth)acrylate having a straight chain alkyl group in which the straight chain alkyl group has 1 to 20 carbon atoms; (meth)acrylates having a linear alkyl group of 10 are more preferred. As the (meth)acrylate having a linear alkyl group, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, Examples include n-octyl (meth)acrylate, n-nonyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, n-lauryl (meth)acrylate, and n-stearyl (meth)acrylate.

前記分岐鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレートとしては、分岐鎖アルキル基の炭素数が1~20である分岐鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレートが好ましく、分岐鎖アルキル基の炭素数が1~10である分岐鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレートが好ましい。前記分岐鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレートとしては、イソプロピル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec-ブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The (meth)acrylate having a branched-chain alkyl group is preferably a (meth)acrylate having a branched-chain alkyl group in which the branched-chain alkyl group has 1 to 20 carbon atoms; Preferred are (meth)acrylates with a branched alkyl group of 10. Examples of the (meth)acrylate having a branched chain alkyl group include isopropyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, sec-butyl (meth)acrylate, tert-butyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, 2- Examples include ethylhexyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, and the like.

前記環状アルキル基を有する(メタ)アクリレートとしては、環状アルキル基の炭素数が6~12の環状アルキル基を有する(メタ)アクリレートであることが好ましい。環状アルキル基としては、単環構造を有する環状アルキル基(例えば、シクロアルキル基)が挙げられる。単環構造の環状アルキル基を有する(メタ)アクリレートの具体例としては、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The (meth)acrylate having a cyclic alkyl group is preferably a (meth)acrylate having a cyclic alkyl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the cyclic alkyl group include a cyclic alkyl group having a monocyclic structure (for example, a cycloalkyl group). Specific examples of (meth)acrylates having a cyclic alkyl group with a monocyclic structure include cyclohexyl (meth)acrylate, methylcyclohexyl (meth)acrylate, and cyclododecyl (meth)acrylate.

前記多環式構造を有する(メタ)アクリレートとしては、多環式構造の炭素数が6~12の多環式構造を有する(メタ)アクリレートであることが好ましい。多環式構造としては、橋かけ環構造を有する環状アルキル基(例えば、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基)が挙げられる。多環式構造を有する(メタ)アクリレートの具体例としては、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、2-エチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The (meth)acrylate having a polycyclic structure is preferably a (meth)acrylate having a polycyclic structure having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the polycyclic structure include cyclic alkyl groups having a bridged ring structure (eg, adamantyl group, norbornyl group, and isobornyl group). Specific examples of (meth)acrylates having a polycyclic structure include isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, and 2-methyl-2-adamantyl. (meth)acrylate, 2-ethyl-2-adamantyl (meth)acrylate, and the like.

前記芳香族基を有する(メタ)アクリレートとしては、芳香族基の炭素数が6~12の芳香族基を有する(メタ)アクリレートであることが好ましい。芳香族基としては、アリール基、アルキルアリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリールオキシアルキル基、アルキルアリールオキシ基、アラルキルオキシ基等が挙げられ、特にフェニル基、ベンジル基、トリル基、フェノキシエチル基が好ましい。芳香族基を有する(メタ)アクリレートの具体例としては、ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The (meth)acrylate having an aromatic group is preferably a (meth)acrylate having an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aromatic group include an aryl group, an alkylaryl group, an aralkyl group, an aryloxy group, an aryloxyalkyl group, an alkylaryloxy group, an aralkyloxy group, and in particular a phenyl group, a benzyl group, a tolyl group, and a phenoxyethyl group. Groups are preferred. Specific examples of (meth)acrylates having an aromatic group include benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, and the like.

環状エーテル基を有する(メタ)アクリレートとしては、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、(メタ)アクリロイルモルホリン、(メタ)アクリル酸2-(4-モルホリニル)エチル、(3-エチルオキセタン-3-イル)メチル(メタ)アクリレート、(2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン-4-イル)メチル(メタ)アクリレート、環状トリメチロールプロパンホルマール(メタ)アクリレート、2-〔(2-テトラヒドロピラニル)オキシ〕エチル(メタ)アクリレート、1,3-ジオキサン-(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of (meth)acrylates having a cyclic ether group include glycidyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, (meth)acryloylmorpholine, 2-(4-morpholinyl)ethyl (meth)acrylate, (3- Ethyloxetan-3-yl) methyl (meth)acrylate, (2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolan-4-yl) methyl (meth)acrylate, cyclic trimethylolpropane formal (meth)acrylate, 2- Examples include [(2-tetrahydropyranyl)oxy]ethyl (meth)acrylate and 1,3-dioxane-(meth)acrylate.

前記N-ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレートとしては、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノブチル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノブチル(メタ)アクリレート、N,N-ジプロピルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジブチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N-ジブチルアミノブチル(メタ)アクリレート、N,N-ジヘキシルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジオクチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The N-dialkylaminoalkyl (meth)acrylates include N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminobutyl (meth)acrylate, N,N-diethylaminoethyl (meth)acrylate, N, N-diethylaminopropyl (meth)acrylate, N,N-diethylaminobutyl (meth)acrylate, N,N-dipropylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dibutylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dibutyl Examples include aminopropyl (meth)acrylate, N,N-dibutylaminobutyl (meth)acrylate, N,N-dihexylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dioctylaminoethyl (meth)acrylate, and the like.

前記ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレートとしては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、8-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、10-ヒドロキシデシル(メタ)アクリレート、12-ヒドロキシラウリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the (meth)acrylate having a hydroxy group include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 6-hydroxypropyl (meth)acrylate. Examples include hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, and 12-hydroxylauryl (meth)acrylate.

前記酸性基としては、カルボキシ基(-COOH)、スルホン酸基(-SO3H)、リン酸基(-OPO32)、ホスホン酸基(-PO32)、ホスフィン酸基(-PO22)が挙げられる。前記酸性基を有する(メタ)アクリレートとしては、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートに無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸等の酸無水物を反応させたモノマー等のカルボキシ基を有する(メタ)アクリレート;スルホン酸エチル(メタ)アクリレート等のスルホン酸基を有する(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸2-(ホスホノオキシ)エチル等のリン酸基を有する(メタ)アクリレート等を挙げることでき、好ましくはカルボキシ基を有する(メタ)アクリレートである。 Examples of the acidic group include a carboxy group (-COOH), a sulfonic acid group (-SO 3 H), a phosphoric acid group (-OPO 3 H 2 ), a phosphonic acid group (-PO 3 H 2 ), and a phosphinic acid group (- PO 2 H 2 ). The (meth)acrylate having an acidic group is a (meth)acrylate having a carboxy group such as a monomer obtained by reacting a hydroxyalkyl (meth)acrylate with an acid anhydride such as maleic anhydride, succinic anhydride, or phthalic anhydride. ; (meth)acrylates having a sulfonic acid group such as ethyl sulfonate (meth)acrylate; (meth)acrylates having a phosphoric acid group such as 2-(phosphonooxy)ethyl (meth)acrylate; and preferably It is a (meth)acrylate having a carboxy group.

前記α-オレフィンとしては、1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン等が挙げられる。
前記芳香族ビニルモノマーとしては、スチレン、α-メチルスチレン、4-メチルスチレン、2-メチルスチレン、3-メチルスチレン、4-メトキシスチレン、2-ヒドロキシメチルスチレン、1-ビニルナフタレン等が挙げられる。
前記ヘテロ環含有不飽和モノマーとしては、2-ビニルチオフェン、N-メチル-2-ビニルピロール、2-ビニルピリジン、4-ビニルピリジン等が挙げられる。
前記ビニルアミドとしては、N-ビニルホルムアミド、N-ビニルアセトアミド等が挙げられる。
前記カルボン酸ビニルとしては、酢酸ビニル、ピバル酸ビニル、安息香酸ビニル等が挙げられる。
前記ジエン類としては、ブタジエン、イソプレン、4-メチル-1,4-ヘキサジエン、7-メチル-1,6-オクタジエン等が挙げられる。
Examples of the α-olefin include 1-hexene, 1-octene, 1-decene, and the like.
Examples of the aromatic vinyl monomer include styrene, α-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methoxystyrene, 2-hydroxymethylstyrene, 1-vinylnaphthalene, and the like.
Examples of the heterocycle-containing unsaturated monomer include 2-vinylthiophene, N-methyl-2-vinylpyrrole, 2-vinylpyridine, and 4-vinylpyridine.
Examples of the vinylamide include N-vinylformamide and N-vinylacetamide.
Examples of the vinyl carboxylate include vinyl acetate, vinyl pivalate, vinyl benzoate, and the like.
Examples of the dienes include butadiene, isoprene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 7-methyl-1,6-octadiene, and the like.

Bブロックは、前記Aブロックよりも疎水性であることが好ましい。Bブロックが疎水性であることで、疎水性の基材表面に親水性を付与することができる。疎水性とは、水との相互作用が弱く、水との親和力が弱い性質を意味している。よって、水と混和する割合、すなわち溶解度が疎水性の指標となる。 The B block is preferably more hydrophobic than the A block. Since the B block is hydrophobic, hydrophilicity can be imparted to the surface of the hydrophobic base material. Hydrophobicity means a property that has a weak interaction with water and a weak affinity for water. Therefore, the rate of miscibility with water, that is, the solubility, is an index of hydrophobicity.

Aブロックよりも疎水性であるポリマーブロックを得るために、疎水性ビニルモノマーに由来する構造単位の含有率は、Bブロック100質量%中において、80質量%以上が好ましく、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは98質量%以上である。また、Bブロックが疎水性ビニルモノマーのみから構成されていてもよい。 In order to obtain a polymer block that is more hydrophobic than the A block, the content of structural units derived from the hydrophobic vinyl monomer is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass in 100% by mass of the B block. The content is more preferably 98% by mass or more. Moreover, the B block may be composed only of hydrophobic vinyl monomers.

前記疎水性ビニルモノマーは、20℃の水における溶解度が50質量%未満であり、好ましくは40質量%未満、より好ましくは30質量%未満である。前記疎水性ビニルモノマーの具体的には、鎖状アルキル基(直鎖アルキル基または分岐鎖アルキル基)を有する(メタ)アクリレート、環状アルキル基を有する(メタ)アクリレート、多環式構造を有する(メタ)アクリレート、芳香族基を有する(メタ)アクリレート、環状エーテル基を有する(メタ)アクリレート、N-ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、芳香族ビニルモノマー、ヘテロ環含有不飽和モノマー等を挙げることができ、これらの中から1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 The hydrophobic vinyl monomer has a solubility in water at 20°C of less than 50% by weight, preferably less than 40% by weight, more preferably less than 30% by weight. Specifically, the hydrophobic vinyl monomers include (meth)acrylates having a chain alkyl group (straight chain alkyl group or branched chain alkyl group), (meth)acrylates having a cyclic alkyl group, and (meth)acrylates having a polycyclic structure. Examples include meth)acrylate, (meth)acrylate having an aromatic group, (meth)acrylate having a cyclic ether group, N-dialkylaminoalkyl (meth)acrylate, aromatic vinyl monomer, and heterocycle-containing unsaturated monomer. One kind or a combination of two or more kinds thereof can be used.

Bブロックは、反応性官能基を有していてもよい。このような反応性官能基を有していれば、表面改質剤組成物に架橋剤を配合することで、形成される表面改質層に架橋構造を導入することができる。前記反応性官能基としては、エポキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基などが挙げられる。反応性官能基を有するビニルモノマーとしては、環状エーテル基を有する(メタ)アクリレート、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート、カルボキシ基を有する(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸等が挙げられる。 The B block may have a reactive functional group. If such a reactive functional group is present, a crosslinked structure can be introduced into the surface modified layer to be formed by adding a crosslinking agent to the surface modifier composition. Examples of the reactive functional group include an epoxy group, a hydroxy group, and a carboxy group. Examples of the vinyl monomer having a reactive functional group include (meth)acrylate having a cyclic ether group, (meth)acrylate having a hydroxy group, (meth)acrylate having a carboxyl group, (meth)acrylic acid, and the like.

Bブロックに反応性官能基を導入する場合、反応性官能基を有するビニルモノマーに由来する構造単位の含有率は、ブロック共重合体全体100質量%中において、1質量%以上が好ましく、20質量%以下が好ましい。 When introducing a reactive functional group into the B block, the content of structural units derived from a vinyl monomer having a reactive functional group is preferably 1% by mass or more, and 20% by mass based on 100% by mass of the entire block copolymer. % or less is preferable.

Bブロックに反応性官能基を導入する場合、反応性基の含有量は、ブロック共重合体全体において、0.01mmol/g以上が好ましく、1.5mmol/g以下が好ましい。 When introducing a reactive functional group into the B block, the content of the reactive group is preferably 0.01 mmol/g or more, and preferably 1.5 mmol/g or less in the entire block copolymer.

Bブロックを形成するビニルモノマーとしては、表面改質剤組成物を塗布する基材の材質により適宜選択できる。例えば、基材がポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン・コポリマー樹脂等のポリオレフィン樹脂等の低極性材料の場合は、直鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレート、分岐鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレート、環状アルキル基を有する(メタ)アクリレートおよび多環式構造を有する(メタ)アクリレートよりなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。また、基材がポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂またはポリエーテルサルフォン樹脂の場合は、直鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレート、分岐鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレート、芳香族基を有する(メタ)アクリレートおよび芳香族ビニルモノマーよりなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。 The vinyl monomer forming the B block can be appropriately selected depending on the material of the base material to which the surface modifier composition is applied. For example, if the base material is a low polar material such as a polyolefin resin such as polypropylene resin, polyethylene resin, cyclic polyolefin resin, or cyclic olefin copolymer resin, (meth)acrylate having a straight chain alkyl group or a (meth)acrylate having a branched chain alkyl group It is preferable that it is at least one selected from the group consisting of (meth)acrylate, (meth)acrylate having a cyclic alkyl group, and (meth)acrylate having a polycyclic structure. In addition, when the base material is polystyrene resin, polyester resin, polyphenylene sulfide resin, or polyether sulfone resin, (meth)acrylate having a straight chain alkyl group, (meth)acrylate having a branched chain alkyl group, aromatic It is preferable that the monomer is at least one selected from the group consisting of (meth)acrylates having groups and aromatic vinyl monomers.

前記Bブロックは、前記N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位の含有率が5質量%未満、好ましくは3質量%未満、より好ましくは1質量%未満であり、N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位を含有しないことが好ましい。換言すると、前記BブロックにおけるN-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーに由来する構造単位の含有率は95質量%以上、好ましくは97質量%以上、より好ましくは99質量%以上、さらに好ましくは100質量%である。Bブロック中のN-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位の含有率が低い程、基材との密着性が向上する。 The B block has a content of structural units derived from the N-alkenyl lactam monomer of less than 5% by mass, preferably less than 3% by mass, more preferably less than 1% by mass, and has a content of structural units derived from the N-alkenyllactam monomer. It is preferable not to contain any derived structural units. In other words, the content of structural units derived from vinyl monomers other than the N-alkenyl lactam monomer in the B block is 95% by mass or more, preferably 97% by mass or more, more preferably 99% by mass or more, and even more preferably 100% by mass or more. Mass%. The lower the content of structural units derived from the N-alkenyl lactam monomer in the B block, the better the adhesion to the base material.

Bブロックにおいて2種以上の構造単位が含有される場合は、Bブロックに含有される各種構造単位は、Bブロック中においてランダム共重合、ブロック共重合等のいずれの態様で含有されていてもよく、均一性の観点からランダム共重合の態様で含有されていることが好ましい。例えば、Bブロックが、b1ブロックからなる構造単位とb2ブロックとからなる構造単位との共重合体により形成されていてもよい。 When two or more types of structural units are contained in the B block, the various structural units contained in the B block may be contained in any mode such as random copolymerization or block copolymerization in the B block. , is preferably contained in a random copolymerized form from the viewpoint of uniformity. For example, the B block may be formed of a copolymer of a structural unit consisting of a b1 block and a structural unit consisting of a b2 block.

(ブロック共重合体)
前記ブロック共重合体の構造は、線状ブロック共重合体であることが好ましい。また、線状ブロック共重合体は、いずれの構造(配列)であっても良いが、線状ブロック共重合体の物性、または組成物の物性の観点から、AブロックをA、BブロックをBと表現したとき、(A-B)m型、(A-B)m-A型、および(B-A)m-B型(mは1以上の整数、例えば1~3の整数)よりなる群から選択される少なくとも1種の構造を持つ共重合体であることが好ましい。これらの中でも、加工時の取扱い性、組成物の物性の観点から、A-B型ジブロック共重合体、A-B-A型トリブロック共重合体、B-A-B型トリブロック共重合体であることが好ましい。A-B型ジブロック共重合体、A-B-A型トリブロック共重合体またはB-A-B型トリブロック共重合体を構成することで、Aブロックが有するN-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位と、Bブロックに有する他のビニルモノマーに由来する構造単位とが局在化し、疎水性の基材表面に親水性を付与することができると考えられる。前記ブロック共重合体は、AブロックおよびBブロック以外の他のブロックを有していてもよい。
(Block copolymer)
The structure of the block copolymer is preferably a linear block copolymer. In addition, the linear block copolymer may have any structure (arrangement), but from the viewpoint of the physical properties of the linear block copolymer or the physical properties of the composition, the A block is A and the B block is B. When expressed as, (A-B) m type, (A-B) m -A type, and (B-A) m -B type (m is an integer of 1 or more, for example, an integer of 1 to 3). A copolymer having at least one structure selected from the group is preferred. Among these, from the viewpoint of handling properties during processing and physical properties of the composition, AB type diblock copolymers, ABA type triblock copolymers, and BAB type triblock copolymers are preferred. Preferably, it is a combination. By constructing an A-B type diblock copolymer, an A-B-A type triblock copolymer, or a B-A-B type triblock copolymer, the N-alkenyl lactam monomer contained in the A block It is thought that the derived structural units and the structural units derived from other vinyl monomers included in the B block are localized and can impart hydrophilicity to the surface of the hydrophobic base material. The block copolymer may have blocks other than the A block and B block.

Aブロックの含有率は、ブロック共重合体全体100質量%中において、30質量%以上が好ましく、より好ましくは35質量%以上、さらに好ましくは40質量%以上であり、90質量%以下が好ましく、より好ましくは85質量%以下、さらに好ましくは80質量%以下である。Bブロックの含有率は、ブロック共重合体全体100質量%中において、10質量%以上が好ましく、より好ましくは15質量%以上、さらに好ましくは20質量%以上であり、70質量%以下が好ましく、より好ましくは65質量%以下、さらに好ましくは60質量%以下である。AブロックおよびBブロックの含有率を、上記範囲内に調整することで、得られる表面改質層の親水性と耐久性が一層向上する。 The content of the A block is preferably 30% by mass or more, more preferably 35% by mass or more, even more preferably 40% by mass or more, and preferably 90% by mass or less, based on 100% by mass of the entire block copolymer. It is more preferably 85% by mass or less, and still more preferably 80% by mass or less. The content of the B block is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, even more preferably 20% by mass or more, and preferably 70% by mass or less, based on 100% by mass of the entire block copolymer. It is more preferably 65% by mass or less, and still more preferably 60% by mass or less. By adjusting the content of A block and B block within the above range, the hydrophilicity and durability of the resulting surface modified layer are further improved.

ブロック共重合体中のAブロックとBブロックとの質量比(Aブロック/Bブロック)は、30/70以上が好ましく、より好ましくは35/65以上、さらに好ましくは40/60以上であり、90/10以下が好ましく、より好ましくは85/15以下、さらに好ましくは80/20以下である。AブロックとBブロックとの質量比が前記範囲内であれば、得られる表面改質層の親水性と耐久性が一層向上する。 The mass ratio of A block to B block (A block/B block) in the block copolymer is preferably 30/70 or more, more preferably 35/65 or more, still more preferably 40/60 or more, and 90 /10 or less is preferable, more preferably 85/15 or less, still more preferably 80/20 or less. If the mass ratio of the A block and the B block is within the above range, the hydrophilicity and durability of the resulting surface modified layer will be further improved.

前記ブロック共重合体における前記N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位の含有率は、30質量%以上が好ましく、より好ましくは35質量%以上、さらに好ましくは40質量%以上であり、90質量%以下が好ましく、より好ましくは85質量%以下、さらに好ましくは80質量%以下である。 The content of structural units derived from the N-alkenyl lactam monomer in the block copolymer is preferably 30% by mass or more, more preferably 35% by mass or more, even more preferably 40% by mass or more, and 90% by mass. % or less, more preferably 85% by mass or less, still more preferably 80% by mass or less.

前記ブロック共重合体は、末端に硫黄原子を含有する置換基を有していないことが好ましい。前記硫黄原子を含有する置換基としては、ジチオカルバメート基、キサンタート基などが挙げられる。末端に硫黄原子を含有する置換基を有していなければ、着色や臭気を抑制ができる。 It is preferable that the block copolymer does not have a substituent containing a sulfur atom at the end. Examples of the sulfur atom-containing substituent include a dithiocarbamate group and a xanthate group. If it does not have a substituent containing a sulfur atom at the end, coloration and odor can be suppressed.

<重合生成物の製造方法>
本発明で用いる重合生成物は、ブロックを構成するビニルモノマーを順次重合反応することによって、Aブロックを先に製造し、AブロックにBブロックのモノマーを重合する方法;Bブロックを先に製造し、BブロックにAブロックのモノマーを重合する方法等が挙げられる。
<Method for producing polymerization product>
The polymerization product used in the present invention can be produced by sequentially polymerizing the vinyl monomers constituting the blocks, whereby the A block is first produced and the monomers of the B block are polymerized onto the A block; , a method of polymerizing monomers of the A block into the B block, and the like.

ビニルモノマーの重合反応による重合生成物の製造方法としては、例えば、リビングアニオン重合法、リビングカチオン重合法、リビングラジカル重合法等のリビング重合法があり、本発明においてはリビングラジカル重合法により重合生成物を製造することが好ましい。リビングアニオン重合法およびリビングカチオン重合法は厳密な重合条件が必要で、さらに共存できる官能基が限定されるが、リビングラジカル重合法は極性官能基と共存できる汎用性と、モノマーや溶媒の純度などに影響されない簡便性とを保ちつつ、分子量分布の精密制御、均一な組成のポリマーを製造できるため好ましい。すなわち、前記ブロック共重合体としては、リビングラジカル重合により重合されたものが好ましい。 Examples of methods for producing polymer products by polymerization reactions of vinyl monomers include living polymerization methods such as living anionic polymerization, living cationic polymerization, and living radical polymerization. It is preferable to manufacture products. Living anionic polymerization and living cationic polymerization require strict polymerization conditions, and the functional groups that can coexist are limited, whereas living radical polymerization has the versatility to coexist with polar functional groups, as well as the purity of monomers and solvents. This method is preferable because it allows precise control of molecular weight distribution and the production of a polymer with a uniform composition while maintaining simplicity and unaffected by. That is, the block copolymer is preferably one polymerized by living radical polymerization.

また、従来のラジカル重合法は、開始反応、成長反応だけでなく、停止反応、連鎖移動反応により成長末端の失活が起こり、様々な分子量、不均一な組成のポリマーの混合物となり易い傾向がある。これに対してリビングラジカル重合法は、従来のラジカル重合法の簡便性と汎用性を保ちながら、停止反応や、連鎖移動が起こりにくく、成長末端が失活することなく成長するため、分子量分布の精密制御、均一な組成のポリマーの製造が容易である点で好ましい。 In addition, in conventional radical polymerization methods, the growth terminal is deactivated not only by initiation reactions and propagation reactions but also by termination reactions and chain transfer reactions, which tends to result in a mixture of polymers with various molecular weights and non-uniform compositions. . Living radical polymerization, on the other hand, maintains the simplicity and versatility of conventional radical polymerization, but is less likely to cause termination reactions or chain transfer, and grows without deactivating growing terminals, resulting in a change in molecular weight distribution. This is preferable because precise control and production of a polymer with a uniform composition is easy.

リビングラジカル重合法には、重合成長末端を安定化させる手法の違いにより、遷移金属触媒を用いる方法(ATRP法);硫黄系の可逆的連鎖移動剤を用いる方法(RAFT法);有機テルル化合物を用いる方法(TERP法)等の方法がある。ATRP法は、アミン系錯体を使用するため、酸性基を有するビニルモノマーの酸性基を保護せず使用することができない場合がある。RAFT法は、多種のモノマーを使用した場合、低分子量分布になりづらく、かつ硫黄臭や着色等の不具合がある場合がある。これらの方法のなかでも、使用できるモノマーの多様性、高分子領域での分子量制御、均一な組成、あるいは着色の観点から、TERP法を用いることが好ましい。 Depending on the method of stabilizing the polymer growth terminal, living radical polymerization methods include a method using a transition metal catalyst (ATRP method); a method using a sulfur-based reversible chain transfer agent (RAFT method); and a method using an organic tellurium compound. There are methods such as the method used (TERP method). Since the ATRP method uses an amine complex, it may not be possible to use the vinyl monomer having an acidic group without protecting its acidic group. In the RAFT method, when a wide variety of monomers are used, it is difficult to obtain a low molecular weight distribution, and there may be problems such as sulfur odor and coloring. Among these methods, it is preferable to use the TERP method from the viewpoint of diversity of monomers that can be used, control of molecular weight in the polymer region, uniform composition, or coloring.

TERP法とは、有機テルル化合物を連鎖移動剤として用い、ラジカル重合性化合物(ビニルモノマー)を重合させる方法であり、例えば、国際公開第2004/14848号、国際公開第2004/14962号、国際公開第2004/072126号、および国際公開第2004/096870号に記載された方法である。 The TERP method is a method of polymerizing a radically polymerizable compound (vinyl monomer) using an organic tellurium compound as a chain transfer agent. For example, WO 2004/14848, WO 2004/14962, WO This is the method described in No. 2004/072126 and International Publication No. 2004/096870.

TERP法の具体的な重合法としては、下記(a)~(d)が挙げられる。
(a)ビニルモノマーを、一般式(3)で表される有機テルル化合物を用いて重合する。
(b)ビニルモノマーを、一般式(3)で表される有機テルル化合物とアゾ系重合開始剤との第1混合物を用いて重合する。
(c)ビニルモノマーを、一般式(3)で表される有機テルル化合物と一般式(4)で表される有機ジテルリド化合物との混合物を用いて重合する。
(d)ビニルモノマーを、一般式(3)で表される有機テルル化合物とアゾ系重合開始剤と一般式(4)で表される有機ジテルリド化合物との第2混合物を用いて重合する。
Specific polymerization methods of the TERP method include the following (a) to (d).
(a) A vinyl monomer is polymerized using an organic tellurium compound represented by general formula (3).
(b) A vinyl monomer is polymerized using a first mixture of an organic tellurium compound represented by general formula (3) and an azo polymerization initiator.
(c) A vinyl monomer is polymerized using a mixture of an organic tellurium compound represented by general formula (3) and an organic ditelluride compound represented by general formula (4).
(d) A vinyl monomer is polymerized using a second mixture of an organic tellurium compound represented by general formula (3), an azo polymerization initiator, and an organic ditelluride compound represented by general formula (4).

Figure 0007365135000002
〔一般式(3)中、R31は、炭素数1~8のアルキル基、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。R32およびR33は、それぞれ、水素原子または炭素数1~8のアルキル基を表す。R34は、炭素数1~8のアルキル基、アリール基、芳香族へテロ環基、アルコキシ基、アシル基、アミド基、オキシカルボニル基、シアノ基、アリル基またはプロパルギル基を表す。
一般式(4)中、R31は、炭素数1~8のアルキル基、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。〕
Figure 0007365135000002
[In the general formula (3), R 31 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or an aromatic heterocyclic group. R 32 and R 33 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R 34 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, an aromatic heterocyclic group, an alkoxy group, an acyl group, an amide group, an oxycarbonyl group, a cyano group, an allyl group, or a propargyl group.
In the general formula (4), R 31 represents an alkyl group, an aryl group, or an aromatic heterocyclic group having 1 to 8 carbon atoms. ]

31で表される基は、炭素数1~8のアルキル基、アリール基または芳香族ヘテロ環基であり、具体的には次の通りである。
炭素数1~8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の直鎖または分岐鎖アルキル基や、シクロヘキシル基等の環状アルキル基等を挙げることができる。好ましくは炭素数1~4の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、更に好ましくはメチル基またはエチル基である。
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等を挙げることができる。
芳香族ヘテロ環基としては、ピリジル基、フリル基、チエニル基等を挙げることができる。
The group represented by R 31 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or an aromatic heterocyclic group, and specifically as follows.
Examples of alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group. , straight chain or branched alkyl groups such as octyl groups, and cyclic alkyl groups such as cyclohexyl groups. Preferably it is a straight or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
Examples of the aromatic heterocyclic group include a pyridyl group, a furyl group, and a thienyl group.

32およびR33で表される基は、それぞれ独立に水素原子または炭素数1~8のアルキル基であり、各基は、具体的には次の通りである。
炭素数1~8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の直鎖または分岐鎖アルキル基や、シクロヘキシル基等の環状アルキル基等を挙げることができる。好ましくは炭素数1~4の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、更に好ましくはメチル基またはエチル基である。
The groups represented by R 32 and R 33 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and each group is specifically as follows.
Examples of alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group. , straight chain or branched alkyl groups such as octyl groups, and cyclic alkyl groups such as cyclohexyl groups. Preferably it is a straight or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.

34で表される基は、炭素数1~8のアルキル基、アリール基、置換アリール基、芳香族ヘテロ環基、アルコキシ基、アシル基、アミド基、オキシカルボニル基、シアノ基、アリル基またはプロパルギル基であり、具体的には次の通りである。
炭素数1~8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の直鎖または分岐鎖アルキル基、シクロヘキシル基等の環状アルキル基等を挙げることができる。好ましくは炭素数1~4の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、更に好ましくはメチル基またはエチル基である。
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等を挙げることができる。好ましくはフェニル基である。
置換アリール基としては、置換基を有しているフェニル基、置換基を有しているナフチル基等を挙げることができる。前記置換基を有しているアリール基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、-COR311で示されるカルボニル含有基(R311は炭素数1~8のアルキル基、アリール基、炭素数1~8のアルコキシ基またはアリーロキシ基)、スルホニル基、トリフルオロメチル基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、1個または2個置換しているのがよい。
芳香族ヘテロ環基としては、ピリジル基、フリル基、チエニル基等を挙げることができる。
アルコキシ基としては、炭素数1~8のアルキル基が酸素原子に結合した基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等を挙げることができる。
アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等を挙げることができる。
アミド基としては、-CONR321322(R321、R322は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~8のアルキル基またはアリール基)を挙げることがきる。
オキシカルボニル基としては、-COOR331(R331は水素原子、炭素数1~8のアルキル基またはアリール基)で表される基が好ましく、例えばカルボキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル基、sec-ブトキシカルボニル基、tert-ブトキシカルボニル基、n-ペンチルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等を挙げることができる。好ましいオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基が挙げられる。
アリル基としては、-CR341342-CR343=CR344345(R341、R342は、それぞれ独立に水素原子または炭素数1~8のアルキル基、R343、R344、R345は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~8のアルキル基またはアリール基であり、それぞれの置換基が環状構造で繋がっていてもよい)等を挙げることができる。
プロパルギル基としては、-CR351352-C≡CR353(R351、R352は、水素原子または炭素数1~8のアルキル基、R353は、水素原子、炭素数1~8のアルキル基、アリール基またはシリル基)等を挙げることができる。
The group represented by R 34 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, a substituted aryl group, an aromatic heterocyclic group, an alkoxy group, an acyl group, an amide group, an oxycarbonyl group, a cyano group, an allyl group, or It is a propargyl group, and specifically as follows.
Examples of alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group. Examples include straight-chain or branched alkyl groups such as octyl groups, cyclic alkyl groups such as cyclohexyl groups, and the like. Preferably it is a straight or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Preferably it is a phenyl group.
Examples of the substituted aryl group include a phenyl group having a substituent, a naphthyl group having a substituent, and the like. Examples of the substituent for the aryl group having the above substituent include a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, an amino group, a nitro group, a cyano group, and a carbonyl-containing group represented by -COR 311 (R 311 is a carbon Examples include an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group or aryloxy group having 1 to 8 carbon atoms), a sulfonyl group, a trifluoromethyl group, and the like. Further, it is preferable that one or two of these substituents are substituted.
Examples of the aromatic heterocyclic group include a pyridyl group, a furyl group, and a thienyl group.
The alkoxy group is preferably a group in which an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is bonded to an oxygen atom, such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert- Examples include butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group and the like.
Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a benzoyl group.
Examples of the amide group include -CONR 321 R 322 (R 321 and R 322 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an aryl group).
The oxycarbonyl group is preferably a group represented by -COOR 331 (R 331 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an aryl group), such as a carboxyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group. Examples include n-butoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, and phenoxycarbonyl group. Preferred oxycarbonyl groups include methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl groups.
As an allyl group, -CR 341 R 342 -CR 343 =CR 344 R 345 (R 341 and R 342 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R 343 , R 344 and R 345 are , each independently a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group having 1 to 8 carbon atoms, and each substituent may be connected in a cyclic structure).
As a propargyl group, -CR 351 R 352 -C≡CR 353 (R 351 and R 352 are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R 353 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) , aryl group or silyl group).

一般式(3)で表される有機テルル化合物は、具体的には(メチルテラニルメチル)ベンゼン、(メチルテラニルメチル)ナフタレン、エチル-2-メチル-2-メチルテラニル-プロピオネート、エチル-2-メチル-2-n-ブチルテラニル-プロピオネート、(2-トリメチルシロキシエチル)-2-メチル-2-メチルテラニル-プロオピオネート、(2-ヒドロキシエチル)-2-メチル-2-メチルテラニル-プロピオネートまたは(3-トリメチルシリルプロパルギル)-2-メチル-2-メチルテラニル-プロピオネート等、国際公開第2004/14848号、国際公開第2004/14962号、国際公開第2004/072126号、および国際公開第2004/096870号に記載された有機テルル化合物の全てを例示することができる。 Specifically, the organic tellurium compound represented by the general formula (3) is (methyltellanylmethyl)benzene, (methyltellanylmethyl)naphthalene, ethyl-2-methyl-2-methyltellanyl-propionate, ethyl-2- Methyl-2-n-butyltellanyl-propionate, (2-trimethylsiloxyethyl)-2-methyl-2-methyltellanyl-proopionate, (2-hydroxyethyl)-2-methyl-2-methyltellanyl-propionate or (3- trimethylsilylpropargyl)-2-methyl-2-methyltellanyl-propionate, etc., as described in WO 2004/14848, WO 2004/14962, WO 2004/072126, and WO 2004/096870. All of the organic tellurium compounds mentioned above can be exemplified.

一般式(4)で表される有機ジテルリド化合物の具体例としては、ジメチルジテルリド、ジエチルジテルリド、ジ-n-プロピルジテルリド、ジイソプロピルジテルリド、ジシクロプロピルジテルリド、ジ-n-ブチルジテルリド、ジ-s-ブチルジテルリド、ジ-t-ブチルジテルリド、ジシクロブチルジテルリド、ジフェニルジテルリド、ビス-(p-メトキシフェニル)ジテルリド、ビス-(p-アミノフェニル)ジテルリド、ビス-(p-ニトロフェニル)ジテルリド、ビス-(p-シアノフェニル)ジテルリド、ビス-(p-スルホニルフェニル)ジテルリド、ジナフチルジテルリドまたはジピリジルジテルリド等を例示することができる。 Specific examples of the organic ditelluride compound represented by the general formula (4) include dimethyl ditelluride, diethyl ditelluride, di-n-propyl ditelluride, diisopropyl ditelluride, dicyclopropyl ditelluride, and ditelluride. -n-butyl ditelluride, di-s-butyl ditelluride, di-t-butyl ditelluride, dicyclobutyl ditelluride, diphenyl ditelluride, bis-(p-methoxyphenyl) ditelluride, bis-(p-aminophenyl) ditelluride, bis Examples include -(p-nitrophenyl) ditelluride, bis-(p-cyanophenyl) ditelluride, bis-(p-sulfonylphenyl) ditelluride, dinaphthyl ditelluride, and dipyridyl ditelluride.

アゾ系重合開始剤は、通常のラジカル重合で使用するアゾ系重合開始剤であれば特に制限なく使用することができる。例えば、2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)(AIBN)(65℃、トルエン)、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(AMBN)(67℃、トルエン)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(ADVN)(52℃、トルエン)、1,1’-アゾビス(1-シクロヘキサンカルボニトリル)(ACHN)(88℃、トルエン)、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート(MAIB)(66℃、トルエン)、4,4’-アゾビス(4-シアノバレリアン酸)(ACVA)(69℃、水(Na塩として))、1,1’-アゾビス(1-アセトキシ-1-フェニルエタン)(61℃、トルエン)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)(V-70)(30℃、トルエン)、2,2’-アゾビス(2-メチルアミジノプロパン)二塩酸塩(56℃、水)、2,2’-アゾビス[2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパン](61℃、メタノール)、2,2’-アゾビス[2-メチル-N-(2-ヒドロキシエチル)プロピオンアミド](86℃、水)、2,2’-アゾビス(N-ブチル-2-メチルプロピオンアミド)(110℃、エチルベンゼン)、またはジメチル1,1’-アゾビス(1-シクロヘキサンカルボキシレート)(73℃、トルエン)等を例示することができる。これらの中でもアゾ系重合開始剤としては油溶性アゾ系重合開始剤が好ましく、AIBN、AMBN、ADVN、ACHN、V-70がより好ましい。上記アゾ系重合開始剤の化合物名の後の括弧内に記載した数値は、これらの10時間半減期温度および10時間半減期温度の測定に用いた溶媒である。前記アゾ系重合開始剤の10時間半減期温度とは、溶媒中でのアゾ基の濃度が10時間で半分となる温度のことをいう。半減期温度の測定に使用する溶媒としては、油溶性アゾ系重合開始剤ではトルエン、エチルベンゼン等が挙げられ、水溶性アゾ系重合開始剤では水、メタノール等が挙げられる。 The azo polymerization initiator can be used without particular limitation as long as it is an azo polymerization initiator used in normal radical polymerization. For example, 2,2'-azobis(isobutyronitrile) (AIBN) (65°C, toluene), 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile) (AMBN) (67°C, toluene), 2, 2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (ADVN) (52°C, toluene), 1,1'-azobis(1-cyclohexanecarbonitrile) (ACHN) (88°C, toluene), dimethyl-2, 2'-azobisisobutyrate (MAIB) (66°C, toluene), 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid) (ACVA) (69°C, water (as Na salt)), 1,1' -Azobis(1-acetoxy-1-phenylethane) (61°C, toluene), 2,2'-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (V-70) (30°C, toluene), 2,2'-azobis(2-methylamidinopropane) dihydrochloride (56°C, water), 2,2'-azobis[2-(2-imidazolin-2-yl)propane] (61°C, methanol), 2,2'-azobis[2-methyl-N-(2-hydroxyethyl)propionamide] (86°C, water), 2,2'-azobis(N-butyl-2-methylpropionamide) (110°C, ethylbenzene) or dimethyl 1,1'-azobis(1-cyclohexanecarboxylate) (73°C, toluene). Among these, as the azo polymerization initiator, oil-soluble azo polymerization initiators are preferred, and AIBN, AMBN, ADVN, ACHN, and V-70 are more preferred. The numerical value written in parentheses after the compound name of the azo polymerization initiator is the solvent used to measure the 10-hour half-life temperature and the 10-hour half-life temperature. The 10-hour half-life temperature of the azo polymerization initiator refers to the temperature at which the concentration of azo groups in the solvent is halved in 10 hours. Examples of the solvent used for measuring the half-life temperature include toluene, ethylbenzene, etc. for oil-soluble azo polymerization initiators, and water, methanol, etc. for water-soluble azo polymerization initiators.

重合工程は、不活性ガスで置換した容器で、ビニルモノマーと一般式(3)の有機テルル化合物とに、ビニルモノマーの種類に応じて反応促進、分子量および分子量分布の制御等の目的で、さらにアゾ系重合開始剤および/または一般式(4)の有機ジテルリド化合物を混合する。このとき、不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウム等を挙げることができる。好ましくは、アルゴン、窒素が良い。 In the polymerization step, in a container purged with an inert gas, the vinyl monomer and the organic tellurium compound of general formula (3) are added, depending on the type of vinyl monomer, for the purpose of promoting the reaction, controlling the molecular weight and molecular weight distribution, etc. An azo polymerization initiator and/or an organic ditelluride compound of general formula (4) are mixed. At this time, examples of the inert gas include nitrogen, argon, helium, and the like. Preferably, argon or nitrogen is used.

前記(a)、(b)、(c)および(d)におけるビニルモノマーの使用量は、目的とする共重合体の物性により適宜調節すればよい。一般式(3)の有機テルル化合物1molに対しビニルモノマーを5mol~10000molとすることが好ましい。 The amount of the vinyl monomer used in (a), (b), (c) and (d) may be adjusted as appropriate depending on the physical properties of the desired copolymer. It is preferable that the vinyl monomer be used in an amount of 5 mol to 10,000 mol per mol of the organic tellurium compound of general formula (3).

前記(b)の一般式(3)の有機テルル化合物とアゾ系重合開始剤とを併用する場合、一般式(3)の有機テルル化合物1molに対してアゾ化合物を0.01mol~10molとすることが好ましい。 When the organic tellurium compound of general formula (3) in the above (b) and an azo polymerization initiator are used together, the amount of the azo compound should be 0.01 mol to 10 mol per 1 mol of the organic tellurium compound of general formula (3). is preferred.

前記(c)の一般式(3)の有機テルル化合物と一般式(4)の有機ジテルリド化合物とを併用する場合、一般式(3)の有機テルル化合物1molに対して一般式(4)の有機ジテルリド化合物を0.01mol~100molとすることが好ましい。 When the organic tellurium compound of the general formula (3) in the above (c) and the organic ditelluride compound of the general formula (4) are used together, the organic tellurium compound of the general formula (4) per 1 mol of the organic tellurium compound of the general formula (3) The amount of the ditelluride compound is preferably 0.01 mol to 100 mol.

前記(d)の一般式(3)の有機テルル化合物と一般式(4)の有機ジテルリド化合物とアゾ系重合開始剤とを併用する場合、一般式(3)の有機テルル化合物1molに対して一般式(4)の有機ジテルリド化合物を0.01mol~100molとすることが好ましく、一般式(3)の有機テルル化合物1molに対してアゾ系重合開始剤を0.01mol~10molとすることが好ましい。 When the organic tellurium compound of the general formula (3) in the above (d), the organic ditelluride compound of the general formula (4), and the azo polymerization initiator are used together, the general The amount of the organic ditelluride compound of formula (4) is preferably 0.01 mol to 100 mol, and the amount of the azo polymerization initiator is preferably 0.01 mol to 10 mol per mol of the organic tellurium compound of formula (3).

重合反応は、無溶媒でも行うことができるが、ラジカル重合で一般に使用される非プロトン性溶媒またはプロトン性溶媒を使用し、前記混合物を撹拌して行なってもよい。使用できる非プロトン性溶媒は、例えば、アニソール、ベンゼン、トルエン、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトン、2-ブタノン(メチルエチルケトン)、ジオキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラン(THF)、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートまたはトリフルオロメチルベンゼン等を例示することができる。また、プロトン性溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、1-メトキシ-2-プロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノールまたはジアセトンアルコール等を例示することができる。 The polymerization reaction can be carried out without a solvent, but it may also be carried out using an aprotic or protic solvent commonly used in radical polymerization and stirring the mixture. Aprotic solvents that can be used are, for example, anisole, benzene, toluene, N,N-dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), acetone, 2-butanone (methyl ethyl ketone), dioxane, propylene glycol monomethyl ether acetate, chloroform. , carbon tetrachloride, tetrahydrofuran (THF), ethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, trifluoromethylbenzene, and the like. Examples of the protic solvent include water, methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 1-methoxy-2-propanol, hexafluoroisopropanol, diacetone alcohol, and the like.

溶媒の使用量としては、適宜調節すればよく、例えば、ビニルモノマー組成物1gに対して、0.01ml以上が好ましく、より好ましくは0.05ml以上、さらに好ましくは0.1ml以上であり、50ml以下が好ましく、より好ましくは10ml以下、さらに好ましくは1ml以下である。 The amount of the solvent to be used may be adjusted as appropriate; for example, it is preferably 0.01 ml or more, more preferably 0.05 ml or more, still more preferably 0.1 ml or more, and 50 ml per 1 g of the vinyl monomer composition. The amount is preferably below, more preferably 10 ml or less, still more preferably 1 ml or less.

反応温度、反応時間は、得られる共重合体の分子量或いは分子量分布により適宜調節すればよいが、通常、0℃~150℃で、1分~100時間撹拌する。TERP法は、低い重合温度および短い重合時間であっても高い収率と精密な分子量分布を得ることができる。このとき、圧力は、通常、常圧で行われるが、加圧または減圧しても構わない。 Although the reaction temperature and reaction time may be adjusted as appropriate depending on the molecular weight or molecular weight distribution of the resulting copolymer, stirring is usually carried out at 0° C. to 150° C. for 1 minute to 100 hours. The TERP method can obtain high yield and precise molecular weight distribution even at low polymerization temperature and short polymerization time. At this time, the pressure is usually normal pressure, but the pressure may be increased or reduced.

重合反応の終了後、得られた反応混合物から、通常の分離精製手段により、使用溶媒、残存ビニルモノマーの除去等を行い、目的とする共重合体を分離することができる。 After the polymerization reaction is completed, the desired copolymer can be separated from the resulting reaction mixture by removing the solvent used, residual vinyl monomer, etc., by ordinary separation and purification means.

重合反応により得られる共重合体の成長末端は、テルル化合物由来の-TeR31(式中、R31は一般式(3)中のR31と同じである。)の形態であり、重合反応終了後の空気中の操作により失活していくが、テルル原子が残存する場合がある。テルル原子が末端に残存した共重合体は着色したり、熱安定性が劣ったりするため、テルル原子を除去することが好ましい。 The growing terminal of the copolymer obtained by the polymerization reaction is in the form of -TeR 31 (in the formula, R 31 is the same as R 31 in the general formula (3)) derived from the tellurium compound, and the growth end is in the form of -TeR 31 (in the formula, R 31 is the same as R 31 in the general formula (3)). Although it is deactivated by subsequent operations in air, tellurium atoms may remain. Since a copolymer with tellurium atoms remaining at the terminals is colored and has poor thermal stability, it is preferable to remove the tellurium atoms.

テルル原子を除去する方法としては、トリブチルスタンナンまたはチオール化合物等を用いるラジカル還元方法;活性炭、シリカゲル、活性アルミナ、活性白土、モレキュラーシーブスおよび高分子吸着剤等で吸着する方法;イオン交換樹脂等で金属を吸着する方法;過酸化水素水または過酸化ベンゾイル等の過酸化物を添加したり、空気または酸素を系中に吹き込むことで共重合体末端のテルル原子を酸化分解させ、水洗や適切な溶媒を組み合わせることにより残留テルル化合物を除去する液-液抽出法や固-液抽出法;特定の分子量以下のもののみを抽出除去する限界ろ過等の溶液状態での精製方法等を用いることができ、また、これらの方法を組み合わせて用いることもできる。 Methods for removing tellurium atoms include a radical reduction method using tributylstannane or a thiol compound; adsorption methods using activated carbon, silica gel, activated alumina, activated clay, molecular sieves, polymer adsorbents, etc.; methods using ion exchange resins, etc. Method of adsorbing metals; adding peroxide such as hydrogen peroxide or benzoyl peroxide, or blowing air or oxygen into the system to oxidize and decompose the tellurium atoms at the end of the copolymer, followed by washing with water or appropriate treatment. Liquid-liquid extraction and solid-liquid extraction methods that remove residual tellurium compounds by combining solvents; purification methods in a solution state such as ultrafiltration that extract and remove only those with a specific molecular weight or less can be used. , these methods can also be used in combination.

なお、重合反応により得られる共重合体の他方端(成長末端と反対側の末端)は、テルル化合物由来の-CR323334(式中、R32、R33およびR34は、一般式(3)中のR32、R33およびR34と同じである。)の形態である。よって、TERP法により得られる共重合体は、末端に硫黄原子を含有する置換基を有さない。 The other end of the copolymer obtained by the polymerization reaction (the end opposite to the growing end) is -CR 32 R 33 R 34 derived from a tellurium compound (wherein R 32 , R 33 and R 34 are general The form is the same as R 32 , R 33 and R 34 in formula (3). Therefore, the copolymer obtained by the TERP method does not have a substituent containing a sulfur atom at the end.

(重合生成物の製造方法の好適態様)
以下、前記重合生成物の製造方法の一態様について説明する。
前記製造方法は、一般式(3)で表される有機テルル化合物とアゾ系重合開始剤との第1混合物、または、一般式(3)で表される有機テルル化合物とアゾ系重合開始剤と一般式(4)で表される有機ジテルリド化合物との第2混合物を用いて、N-アルケニルラクタム系モノマーを含有する第1モノマー組成物を重合するAブロック重合工程と、前記第1混合物または前記第2混合物を用いて、N-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーを含有する第2モノマー組成物を重合するBブロック重合工程とを有し、全ての重合工程において、前記アゾ系重合開始剤の10時間半減期温度(T1/2)と反応温度(Tr)との差(T1/2-Tr)が10℃~60℃であることが好ましく、より好ましくは10℃~50℃、さらに好ましくは10℃~40℃、特に好ましくは10℃~30℃である。
(Preferred embodiment of method for producing polymerization product)
Hereinafter, one embodiment of the method for producing the polymerization product will be described.
The production method includes a first mixture of an organic tellurium compound represented by general formula (3) and an azo polymerization initiator, or a first mixture of an organic tellurium compound represented by general formula (3) and an azo polymerization initiator. A block polymerization step of polymerizing a first monomer composition containing an N-alkenyl lactam monomer using a second mixture with an organic ditelluride compound represented by general formula (4); and a B block polymerization step of polymerizing a second monomer composition containing a vinyl monomer other than the N-alkenyl lactam monomer using the second mixture, and in all polymerization steps, the azo polymerization initiator is The difference (T 1/2 - Tr) between the 10-hour half-life temperature (T 1/2 ) and the reaction temperature (Tr) is preferably 10°C to 60°C, more preferably 10°C to 50°C, and more preferably The temperature is preferably 10°C to 40°C, particularly preferably 10°C to 30°C.

一般的に、TERP法において、ビニルモノマーがラクタム構造や酸性基を有していると、これらのラクタム構造や酸性基が重合末端ラジカルを失活させやすい。例えば、ラクタム構造では、重合末端ラジカルに水素ラジカルを提供し失活させる可能性がある。また、酸性基では、ドーマント種を形成する有機テルルへプロトン配位が起こり、ドーマント種形成を阻害し重合末端を失活させる可能性がある。そのため、ビニルモノマーがラクタム構造や酸性基を有していると、重合生成物中の各ブロック成分が結合していない重合体(「未連結成分」)の含有率が増加する傾向がある。しかしながら、重合温度を、添加するアゾ系重合開始剤の10時間半減期温度よりも10℃以上低い温度とすることで、未連結成分の生成を抑制することができる。 Generally, in the TERP method, if the vinyl monomer has a lactam structure or acidic group, these lactam structures or acidic groups tend to deactivate the polymerization terminal radical. For example, in a lactam structure, a hydrogen radical may be provided to the polymerization terminal radical to deactivate it. Furthermore, in the case of acidic groups, proton coordination occurs to organic tellurium that forms dormant species, which may inhibit dormant species formation and deactivate polymerization terminals. Therefore, when the vinyl monomer has a lactam structure or an acidic group, the content of polymers ("unlinked components") in which block components are not bonded in the polymerization product tends to increase. However, by setting the polymerization temperature to a temperature that is 10° C. or more lower than the 10-hour half-life temperature of the azo polymerization initiator to be added, the generation of unlinked components can be suppressed.

前記好適態様では、重合時に第1混合物または第2混合物を使用する。これらの第1混合物または第2混合物は、前記Aブロック重合工程と前記Bブロック重合工程とにおいて共通のものを使用する。つまり、例えば、A-B型ジブロック共重合体を製造する場合、第1段目の重合工程を行った後、この反応液(第1段目の重合物と、第1混合物または第2混合物を含有する。)に第2段目のモノマー組成物を添加して、第2段目の重合工程を行う。 In the preferred embodiment, the first mixture or the second mixture is used during polymerization. The same first mixture or second mixture is used in the A block polymerization step and the B block polymerization step. That is, for example, when producing an AB type diblock copolymer, after performing the first stage polymerization step, this reaction solution (the first stage polymer and the first mixture or the second mixture A second stage monomer composition is added to the mixture (containing the following) to carry out the second stage polymerization step.

前記第1混合物において、アゾ系重合開始剤の使用量は、一般式(3)の有機テルル化合物1molに対して、0.01mol以上が好ましく、より好ましくは0.05mol以上、さらに好ましくは0.1mol以上であり、10mol以下が好ましく、より好ましくは2mol以下、さらに好ましくは1mol以下である。 In the first mixture, the amount of the azo polymerization initiator used is preferably 0.01 mol or more, more preferably 0.05 mol or more, still more preferably 0.01 mol or more, per 1 mol of the organic tellurium compound of general formula (3). The amount is 1 mol or more, preferably 10 mol or less, more preferably 2 mol or less, even more preferably 1 mol or less.

前記第2混合物において、アゾ系重合開始剤の使用量は、一般式(3)の有機テルル化合物1molに対して、0.01mol以上が好ましく、より好ましくは0.05mol以上、さらに好ましくは0.1mol以上であり、10mol以下が好ましく、より好ましくは2mol以下、さらに好ましくは1mol以下である。 In the second mixture, the amount of the azo polymerization initiator used is preferably 0.01 mol or more, more preferably 0.05 mol or more, still more preferably 0.01 mol or more, per 1 mol of the organic tellurium compound of general formula (3). The amount is 1 mol or more, preferably 10 mol or less, more preferably 2 mol or less, even more preferably 1 mol or less.

前記第2混合物において、一般式(4)の有機ジテルリド化合物の使用量は、一般式(3)の有機テルル化合物1molに対して、0.01mol以上が好ましく、より好ましくは0.1mol以上、さらに好ましくは0.2mol以上であり、100mol以下が好ましく、より好ましくは5mol以下、さらに好ましくは3mol以下である。 In the second mixture, the amount of the organic ditelluride compound of general formula (4) to be used is preferably 0.01 mol or more, more preferably 0.1 mol or more, and Preferably it is 0.2 mol or more, preferably 100 mol or less, more preferably 5 mol or less, still more preferably 3 mol or less.

前記Aブロック重合工程では、一般式(3)で表される有機テルル化合物とアゾ系重合開始剤との第1混合物、または、一般式(3)で表される有機テルル化合物とアゾ系重合開始剤と一般式(4)で表される有機ジテルリド化合物との第2混合物を用いて、N-アルケニルラクタム系モノマーを含有する第1モノマー組成物を重合する。 In the A block polymerization step, a first mixture of an organic tellurium compound represented by general formula (3) and an azo polymerization initiator, or a first mixture of an organic tellurium compound represented by general formula (3) and an azo polymerization initiator A first monomer composition containing an N-alkenyl lactam monomer is polymerized using a second mixture of the agent and the organic ditelluride compound represented by the general formula (4).

前記Aブロック重合工程において、ビニルモノマーの使用量は、一般式(3)の有機テルル化合物1molに対し、5mol以上が好ましく、より好ましくは10mol以上、さらに好ましくは20mol以上であり、10000mol以下が好ましく、より好ましくは300mol以下、さらに好ましくは100mol以下である。 In the A block polymerization step, the amount of vinyl monomer used is preferably 5 mol or more, more preferably 10 mol or more, even more preferably 20 mol or more, and preferably 10,000 mol or less, per 1 mol of the organic tellurium compound of general formula (3). , more preferably 300 mol or less, still more preferably 100 mol or less.

前記Bブロック重合工程では、一般式(3)で表される有機テルル化合物とアゾ系重合開始剤との第1混合物、または、一般式(3)で表される有機テルル化合物とアゾ系重合開始剤と一般式(4)で表される有機ジテルリド化合物との第2混合物を用いて、N-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーを含有する第2モノマー組成物を重合する。 In the B block polymerization step, a first mixture of an organic tellurium compound represented by general formula (3) and an azo polymerization initiator, or a first mixture of an organic tellurium compound represented by general formula (3) and an azo polymerization initiator A second monomer composition containing a vinyl monomer other than the N-alkenyl lactam monomer is polymerized using a second mixture of the agent and the organic ditelluride compound represented by the general formula (4).

前記Bブロック重合工程において、ビニルモノマーの使用量は、一般式(3)の有機テルル化合物1molに対し、5mol以上が好ましく、より好ましくは7mol以上、さらに好ましくは10mol以上であり、10000mol以下が好ましく、より好ましくは300mol以下、さらに好ましくは100mol以下である。 In the B block polymerization step, the amount of vinyl monomer used is preferably 5 mol or more, more preferably 7 mol or more, even more preferably 10 mol or more, and preferably 10,000 mol or less, per 1 mol of the organic tellurium compound of general formula (3). , more preferably 300 mol or less, still more preferably 100 mol or less.

前記好適態様では、前記アゾ系重合開始剤の10時間半減期温度(T1/2)と全ての重合工程の反応温度(Tr)との差(T1/2-Tr)が、10℃以上あり、60℃以下、好ましくは50℃以下、より好ましくは40℃以下であり、特に好ましくは30℃以下である。なお、アゾ系重合開始剤を複数使用する場合、全てのアゾ系重合開始剤の10時間半減期温度について、上記範囲を満たすことが好ましい。 In the preferred embodiment, the difference (T 1/2 - Tr) between the 10-hour half-life temperature (T 1/2 ) of the azo polymerization initiator and the reaction temperature (Tr) of all polymerization steps is 10° C. or more. The temperature is 60°C or lower, preferably 50°C or lower, more preferably 40°C or lower, particularly preferably 30°C or lower. In addition, when using multiple azo polymerization initiators, it is preferable that the 10-hour half-life temperature of all the azo polymerization initiators satisfies the above range.

前記好適態様において、反応温度は、0℃以上が好ましく、より好ましくは10℃以上、さらに好ましくは20℃以上であり、特に好ましくは30℃以上であり、80℃以下が好ましく、より好ましくは60℃以下、さらに好ましくは55℃以下である。また、反応時間は、1時間以上が好ましく、より好ましくは3時間以上、さらに好ましくは5時間以上であり、100時間以下が好ましく、より好ましくは50時間以下、さらに好ましくは30時間以下である。 In the preferred embodiment, the reaction temperature is preferably 0°C or higher, more preferably 10°C or higher, even more preferably 20°C or higher, particularly preferably 30°C or higher, and preferably 80°C or lower, more preferably 60°C or higher. The temperature is preferably 55°C or lower, more preferably 55°C or lower. Further, the reaction time is preferably 1 hour or more, more preferably 3 hours or more, even more preferably 5 hours or more, and preferably 100 hours or less, more preferably 50 hours or less, and still more preferably 30 hours or less.

前記好適態様では、各重合工程における原料となるモノマー組成物中のモノマーの重合率(モノマー転化率)を、90質量%以上とすることが好ましく、より好ましくは96質量%以上、さらに好ましくは97質量%以上、特に好ましくは98質量%以上である。 In the preferred embodiment, the polymerization rate (monomer conversion rate) of the monomer in the monomer composition serving as a raw material in each polymerization step is preferably 90% by mass or more, more preferably 96% by mass or more, and even more preferably 97% by mass. It is at least 98% by mass, particularly preferably at least 98% by mass.

前記好適態様は、少なくともAブロック重合工程とBブロック重合工程とを有する。これらの重合工程の順序は特に限定されず、Aブロック重合工程を先に行い、Bブロック重合工程を後に行ってもよいし、Bブロック重合工程を先に行い、Aブロック重合工程を後に行ってもよい。また、前記好適態様は、AブロックおよびBブロック以外の他のブロックを重合する工程を有していてもよい。 The preferred embodiment has at least an A block polymerization step and a B block polymerization step. The order of these polymerization steps is not particularly limited, and the A block polymerization step may be performed first and the B block polymerization step later, or the B block polymerization step may be performed first and the A block polymerization step later. Good too. Further, the preferred embodiment may include a step of polymerizing blocks other than the A block and the B block.

<表面改質剤組成物>
本発明の表面改質剤組成物は前記重合生成物を含有し、さらに溶媒を含有することができる。
<Surface modifier composition>
The surface modifier composition of the present invention contains the polymerization product and may further contain a solvent.

前記溶媒としては、水、有機溶媒、水及び有機溶媒の混合溶媒を挙げることできる。前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、1-メトキシ-2-プロパノール、ジアセトンアルコール等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル;N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等のアミド;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物;n-ヘキサン等の脂肪族炭化水素化合物;シクロヘキサン等の脂環式炭化水素化合物等が挙げられる。これらの有機溶媒は、それぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the solvent include water, organic solvents, and mixed solvents of water and organic solvents. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 1-methoxy-2-propanol, and diacetone alcohol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; diethyl Ethers such as ether and tetrahydrofuran; Acetic esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate; Amides such as N,N-dimethylformamide and N-methylpyrrolidone; Aromatic hydrocarbon compounds such as benzene, toluene, and xylene ; aliphatic hydrocarbon compounds such as n-hexane; and alicyclic hydrocarbon compounds such as cyclohexane. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

前記溶媒は、表面改質剤組成物の塗工性を良好にするため、重合生成物およびその他添加剤成分が可溶な有機溶媒を配合することが好ましい。また、表面改質剤組成物の取扱い性の観点から、重合生成物および他の固形成分の合計濃度は50質量%以下とすることが好ましく、0.1質量%以上であることが好ましい。なお、前記溶媒は、表面改質剤組成物が塗布される基材(フィルム等)の性能を損ねないものが好ましい。 In order to improve the coating properties of the surface modifier composition, the solvent preferably contains an organic solvent in which the polymerization product and other additive components are soluble. Furthermore, from the viewpoint of handleability of the surface modifier composition, the total concentration of the polymerization product and other solid components is preferably 50% by mass or less, and preferably 0.1% by mass or more. The solvent is preferably one that does not impair the performance of the substrate (film, etc.) to which the surface modifier composition is applied.

本発明の表面改質剤組成物は、基材表面に親水性を付与することができることから、コーティング剤、プライマー組成物等としても用いることができる。さらに、本発明の表面改質剤組成物は、前記重合生成物及び溶媒に加えて、用途に応じて、可塑剤、着色材(顔料、染料等)、カップリング剤、防腐剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、難燃剤、充填剤、架橋剤、フィラー等を含有することができる。 Since the surface modifier composition of the present invention can impart hydrophilicity to the surface of a substrate, it can also be used as a coating agent, a primer composition, etc. Furthermore, in addition to the polymerization product and solvent, the surface modifier composition of the present invention may also contain plasticizers, colorants (pigments, dyes, etc.), coupling agents, preservatives, and antistatic agents, depending on the purpose. , antioxidants, ultraviolet absorbers, surfactants, flame retardants, fillers, crosslinking agents, fillers, and the like.

前記架橋剤としては、ブロック共重合体に導入された反応性官能基と反応し得る官能基を1分子中に2つ以上有する化合物が挙げられる。前記架橋剤は特に限定されず、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート型架橋剤、メラミン樹脂系架橋剤、尿素樹脂系架橋剤等が挙げられる。 Examples of the crosslinking agent include compounds having two or more functional groups in one molecule that can react with the reactive functional groups introduced into the block copolymer. The crosslinking agent is not particularly limited, and examples thereof include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, metal chelate crosslinking agents, melamine resin crosslinking agents, urea resin crosslinking agents, and the like.

前記表面改質剤組成物は、さらにハードコート剤を含有するハードコート用組成物とすることもでき、ハードコート用組成物を用いれば基材表面に親水性を有するハードコート層を形成できる。 The surface modifier composition can also be made into a hard coat composition that further contains a hard coat agent, and if the hard coat composition is used, a hard coat layer having hydrophilic properties can be formed on the surface of the substrate.

前記ハードコート剤としては、例えば、(メタ)アクリル系材料が挙げられる。(メタ)アクリル系材料としては、特に限定されないが、例えば、モノマー系ラジカル重合タイプの単官能(メタ)アクリレート、2官能(メタ)アクリレート、3官能(メタ)アクリレート、および4~6官能(メタ)アクリレート;オリゴマー系ラジカル重合タイプのエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、共重合系(メタ)アクリレート、ポリブタジエン(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート、アミノ樹脂(メタ)アクリレート等が挙げられる。(メタ)アクリル系材料は単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the hard coating agent include (meth)acrylic materials. Examples of (meth)acrylic materials include, but are not particularly limited to, monomer-based radical polymerization type monofunctional (meth)acrylates, bifunctional (meth)acrylates, trifunctional (meth)acrylates, and 4- to 6-functional (meth)acrylates. ) Acrylate; Oligomer radical polymerization type epoxy (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, copolymerization (meth)acrylate, polybutadiene (meth)acrylate, silicone (meth)acrylate, amino resin ( Examples include meth)acrylate. (Meth)acrylic materials may be used alone or in combination of two or more.

ハードコート剤の硬化タイプとしては、特に限定されないが、例えば、光化学反応による紫外線(UV)硬化型;常温硬化型および二液反応硬化型の熱硬化型等が上げられる。すなわち、ハードコート剤としては、特に限定されないが、例えば、一般に知られているUV硬化樹脂型、ウレタン系樹脂、縮合系樹脂が挙げられる。 The curing type of the hard coating agent is not particularly limited, but includes, for example, an ultraviolet (UV) curing type using a photochemical reaction; a thermosetting type such as a room temperature curing type and a two-component reaction curing type. That is, the hard coating agent is not particularly limited, but includes, for example, commonly known UV curing resin types, urethane resins, and condensation resins.

<塗布物>
本発明の物品は、前記表面改質剤組成物を基材に塗布してなるものである。前記物品は、基材と、前記基材の表面の少なくとも一部に形成された改質層とを有し、前記改質層が、前記表面改質剤組成物から形成されている。
<Coated material>
The article of the present invention is obtained by applying the surface modifier composition to a base material. The article includes a base material and a modified layer formed on at least a portion of the surface of the base material, and the modified layer is formed from the surface modifier composition.

前記基材としては、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン・コポリマー樹脂等のポリオレフィン樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリエステル系樹脂;ポリフェニレンサルファイド樹脂;ポリエーテルサルフォン樹脂;金属;ガラス;ポリアミド樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリアクリル酸メチル樹脂;ポリビニルアルコール樹脂;トリアセチルセルロース等が挙げられる。基材の形状としては、基材の形状としては、フィルム、繊維等が挙げられる。 The base material includes polyolefin resins such as polypropylene resin, polyethylene resin, cyclic polyolefin resin, and cyclic olefin copolymer resin; polystyrene resin; polyester resin; polyphenylene sulfide resin; polyether sulfone resin; metal; glass; polyamide resin ; polycarbonate resin; polymethyl acrylate resin; polyvinyl alcohol resin; triacetyl cellulose and the like. Examples of the shape of the base material include films, fibers, and the like.

一般的に「シート」とは、JISにおける定義上、薄く、一般にその厚さが長さと幅の割には小さい平らな製品をいい、一般的に「フィルム」とは、長さおよび幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通常、ロールの形で供給されるものをいう(日本工業規格JIS K6900)。例えば、厚さに関して言えば、狭義では100μm以上のものをシートと称し、100μm未満のものをフィルムと称することがある。しかし、シートとフィルムの境界は定かではなく、本発明において文言上両者を区別する必要がないので、本発明においては「シート」と称する場合でも「フィルム」を含むものとし、「フィルム」と称する場合でも「シート」を含むのとする。 In general, a "sheet" is defined by JIS as a flat product that is thin and generally has a small thickness relative to its length and width, and a "film" generally refers to a flat product whose thickness is small relative to its length and width. A thin flat product with an extremely small thickness and an arbitrarily limited maximum thickness, usually supplied in the form of a roll (Japanese Industrial Standard JIS K6900). For example, in terms of thickness, in a narrow sense, a thickness of 100 μm or more is sometimes referred to as a sheet, and a thickness of less than 100 μm is sometimes referred to as a film. However, the boundary between a sheet and a film is not clear, and there is no need to distinguish between the two in terms of the wording in the present invention. Therefore, in the present invention, even when the term ``sheet'' is used, it includes ``film''; However, it also includes "sheets".

本発明の表面改質剤組成物の塗布物を有する物品としては、例えば、基材と、前記基材の少なくとも片面における少なくとも一部に形成された改質層とを有し、前記改質層が前記表面改質剤組成物から形成されているフィルムを挙げることができる。 An article having a coating of the surface modifier composition of the present invention includes, for example, a base material and a modified layer formed on at least a portion of at least one side of the base material, and the modified layer is formed from the surface modifier composition.

前記基材の形状がフィルムの場合、厚さは特に制限はなく、適宜選定されるが、通常5μm以上が好ましく、より好ましくは10μm以上であり、さらに好ましくは20μm以上であり、200μm以下が好ましく、より好ましくは100μm以下、さらに好ましくは50μm以下である。厚さ5μmよりも薄いと基材強度が不足等の問題が発生する。 When the shape of the base material is a film, the thickness is not particularly limited and may be selected as appropriate, but is usually preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, still more preferably 20 μm or more, and preferably 200 μm or less. , more preferably 100 μm or less, still more preferably 50 μm or less. If the thickness is less than 5 μm, problems such as insufficient base material strength will occur.

前記基材は、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面または両面に、酸化法、凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。前記酸化法としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられる。前記凹凸化法としては、サンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果および操作性などの面から、好ましく用いられる。また、前記基材として片面または両面にプライマー処理を施したものも用いることができる。 The base material may be surface-treated, if desired, on one or both sides by an oxidation method, a roughening method, etc., for the purpose of improving adhesion with a layer provided on the surface. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, plasma treatment, chromic acid treatment (wet type), flame treatment, hot air treatment, and ozone/ultraviolet irradiation treatment. Examples of the roughening method include a sandblasting method and a solvent treatment method. These surface treatment methods are appropriately selected depending on the type of the base film, but corona discharge treatment is generally preferably used in terms of effectiveness and operability. Further, as the base material, one which has been subjected to primer treatment on one or both sides can also be used.

前記表面改質剤組成物から形成された改質層としては、コーティング層、プライマー層、ハードコート層等が挙げられる。 Examples of the modified layer formed from the surface modifier composition include a coating layer, a primer layer, a hard coat layer, and the like.

コーティング層及びプライマー層は、前記コーティング剤組成物を、基材に塗工し、乾燥させることにより形成できる。塗工方法としては、特に限定されないが、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、スプレーコート法、キスコート法、ワイヤーバーコード法、カーテンコート法、ディップコート法、バーコート法が挙げられる。塗工後の加熱乾燥温度は、基材の材質や用途によりも異なるが、基材の変形を抑えるため200℃以下であることが好ましく、ブロック共重合体の相分離の観点から25℃以上であることが好ましい。層の厚さ(乾燥後の厚さ)は、特に限定されないが、好ましくは10nm~10μmである。 The coating layer and the primer layer can be formed by applying the coating agent composition to a base material and drying it. Coating methods include, but are not particularly limited to, reverse coating, gravure coating, spray coating, kiss coating, wire barcoding, curtain coating, dip coating, and bar coating. The heating and drying temperature after coating varies depending on the material and purpose of the base material, but is preferably 200°C or lower to suppress deformation of the base material, and 25°C or higher from the viewpoint of phase separation of the block copolymer. It is preferable that there be. The thickness of the layer (thickness after drying) is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 10 μm.

ハードコート層は、前記ハードコート用表面改質剤組成物を、基材に塗工し、乾燥させ、ハードコート剤を硬化させることにより形成できる。前記ハードコート用組成物の塗工方法は特に限定されないが、上記コーティング層及びプライマー層と同様の方法が採用できる。ハードコート剤を硬化させる方法は、ハードコート剤に応じて適宜選択すればよい。 The hard coat layer can be formed by applying the hard coat surface modifier composition to a base material, drying it, and curing the hard coat agent. The method for applying the hard coat composition is not particularly limited, but the same method as for the coating layer and primer layer can be adopted. The method for curing the hard coat agent may be appropriately selected depending on the hard coat agent.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。また、各種物性測定は以下の機器により測定を行った。なお、略語の意味は下記のとおりである。 Hereinafter, the present invention will be specifically explained based on Examples, but the present invention is not limited to these specific examples. In addition, various physical properties were measured using the following equipment. The meanings of the abbreviations are as follows.

VP:N-ビニル-2-ピロリドン
IBXA:イソボルニルアクリレート
St:スチレン
BTEE:エチル-2-メチル-2-n-ブチルテラニル-プロピオネート
AIBN:2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)
ACHN:1,1’-アゾビス(1-シクロヘキサンカルボニトリル)
PMA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
MP:1-メトキシ-2-プロパノール
VP: N-vinyl-2-pyrrolidone IBXA: Isobornyl acrylate St: Styrene BTEE: Ethyl-2-methyl-2-n-butylterranyl-propionate AIBN: 2,2'-azobis(isobutyronitrile)
ACHN: 1,1'-azobis(1-cyclohexanecarbonitrile)
PMA: Propylene glycol monomethyl ether acetate MP: 1-methoxy-2-propanol

<評価方法>
(重合率)
核磁気共鳴(NMR)測定装置(Bruker社製、型式:AVANCE500(周波数500MHz))を用いて、1H-NMRを測定(溶媒:重水素化クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン)した。得られたNMRスペクトルについて、モノマー由来のビニル基と、ポリマー由来のエステル側鎖のピークの積分比を求め、モノマーの重合率を算出した。
<Evaluation method>
(Polymerization rate)
1 H-NMR was measured using a nuclear magnetic resonance (NMR) measuring device (manufactured by Bruker, model: AVANCE 500 (frequency 500 MHz)) (solvent: deuterated chloroform, internal standard: tetramethylsilane). Regarding the obtained NMR spectrum, the integral ratio of the peaks of the vinyl group derived from the monomer and the ester side chain derived from the polymer was determined, and the polymerization rate of the monomer was calculated.

(重量平均分子量(Mw)および分子量分布(PDI))
高速液体クロマトグラフ(東ソー製、型式:HLC-8320)を用いて、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により求めた。カラムはTSKgel SuperMultipore HZ-H(Φ4.6mm×150mm)(東ソー社製)を2本、移動相にテトラヒドロフラン、検出器に示差屈折率検出器を使用した。測定条件は、カラム温度を40℃、試料濃度を1mg/mL、試料注入量を10μL、流速を0.35mL/minとした。標準物質としてポリスチレン(東ソー社製、TSK Standerd)を使用して検量線(校正曲線)を作成し、重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)を測定した。これらの測定値から分子量分布(PDI=Mw/Mn)を算出した。
(Weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (PDI))
It was determined by gel permeation chromatography (GPC) using a high performance liquid chromatograph (manufactured by Tosoh, model: HLC-8320). The columns used were two TSKgel SuperMultipore HZ-H (Φ4.6 mm x 150 mm) (manufactured by Tosoh Corporation), tetrahydrofuran was used as the mobile phase, and a differential refractive index detector was used as the detector. The measurement conditions were a column temperature of 40° C., a sample concentration of 1 mg/mL, a sample injection amount of 10 μL, and a flow rate of 0.35 mL/min. A calibration curve was created using polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation, TSK Standard) as a standard substance, and the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) were measured. Molecular weight distribution (PDI=Mw/Mn) was calculated from these measured values.

(ブロック共重合体の含有率)
高速液体クロマトグラフィー(商品名:HPLC 11Series、アジレント・テクノロジー製)、カラム(商品名:L-Column2 ODS 5μm、4.6×150mm、CERI製)、カラム温度40℃、検出器(ELSD PL-ELS2100、ポリマーラボラトリー製、エバポレーター温度80℃、ネブライザー温度70℃、ガス流量1.1SLM)、移動相A(メタノール)、移動相B(テトラヒドロフラン(THF))を用いて、1mL/分の流速にて、7分間で移動相A100%から移動相B100%になるグラジエント条件で分析した。サンプルは7mg/mLのTHF溶液を10μL打ち込んだ。別途合成した、各ブロックの未連結成分を用いて検量線を作成し、それぞれ定量した。また、全体から未連結成分量を除いた残部をブロック共重合体の含有率とした。
(Content of block copolymer)
High performance liquid chromatography (product name: HPLC 11Series, manufactured by Agilent Technologies), column (product name: L-Column2 ODS 5 μm, 4.6 x 150 mm, manufactured by CERI), column temperature 40°C, detector (ELSD PL-ELS2100) , manufactured by Polymer Laboratory, evaporator temperature 80°C, nebulizer temperature 70°C, gas flow rate 1.1 SLM), mobile phase A (methanol), mobile phase B (tetrahydrofuran (THF)) at a flow rate of 1 mL/min. The analysis was performed under gradient conditions from 100% mobile phase A to 100% mobile phase B in 7 minutes. For the sample, 10 μL of a 7 mg/mL THF solution was poured. A calibration curve was created using separately synthesized unconnected components of each block, and each was quantified. Further, the content of the block copolymer was determined by removing the amount of unlinked components from the whole.

(接触角(水中気泡法))
接触角計(商品名:DropMasterDM500、協和界面科学(株)製)を用いて接触角を測定した。改質層を下向きにして試験台にフィルムを固定し、超純水が入ったガラスセルに浸漬させた。注射針を装着したシリンジを用いて、気泡(1μL)を浸漬させたフィルムの中心部に付着させ、改質層と気泡との接触角をθ/2法を用いて測定した。接触角は、作成直後のフィルムを超純水に浸漬して測定した。なお、改質層を形成していない基材の接触角は、並ガラスが140.2°、ポリエチレンテレフタレート(PET)が119.4°である。
(Contact angle (underwater bubble method))
The contact angle was measured using a contact angle meter (trade name: DropMaster DM500, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). The film was fixed on a test stand with the modified layer facing downward, and immersed in a glass cell containing ultrapure water. Using a syringe equipped with an injection needle, air bubbles (1 μL) were attached to the center of the immersed film, and the contact angle between the modified layer and the air bubbles was measured using the θ/2 method. The contact angle was measured by immersing the film immediately after production in ultrapure water. Note that the contact angle of the base material on which no modified layer is formed is 140.2° for ordinary glass and 119.4° for polyethylene terephthalate (PET).

(水に対する耐久性試験)
純水250mLを容器に入れ、液温を40℃に調整した。この容器にフィルム(基材シートに改質層が形成されたもの)を浸漬し、撹拌しながら24時間、40℃で保持した。24時間後、フィルムを取り出し、改質層の剥離の有無を目視で確認した。改質層の剥離がない場合を「○」、剥離がある場合を「×」と評価した。
(Durability test against water)
250 mL of pure water was placed in a container, and the liquid temperature was adjusted to 40°C. A film (having a modified layer formed on a base sheet) was immersed in this container and held at 40° C. for 24 hours while stirring. After 24 hours, the film was taken out and the presence or absence of peeling of the modified layer was visually confirmed. The case where there was no peeling of the modified layer was evaluated as "○", and the case where there was peeling was evaluated as "x".

(溶出性試験)
純水250mLを容器に入れ、液温を40℃に調整した。この容器にフィルム(基材シートに改質層が形成されたもの)を2枚浸漬し、撹拌しながら24時間、40℃で保持した。24時間後、フィルムを取り出し、液中のポリ-VPの溶出量を測定した。溶出量の測定は、超微量紫外可視分光光度計(製品名:NANODROP 2000c、Thermal Fisher. Scientific製)、石英セル(10×10×40mm)を用いて、220nmの波長の吸光度を分析した。別途合成した、Aブロックの未連結成分(N-ビニル-2-ピロリドンのホモポリマー)を用いて検量線を作成し、定量した。
(Dissolution test)
250 mL of pure water was placed in a container, and the liquid temperature was adjusted to 40°C. Two films (base sheets with a modified layer formed thereon) were immersed in this container and held at 40° C. for 24 hours while stirring. After 24 hours, the film was taken out and the amount of poly-VP eluted from the solution was measured. The elution amount was measured by analyzing the absorbance at a wavelength of 220 nm using an ultra-trace UV-visible spectrophotometer (product name: NANODROP 2000c, manufactured by Thermal Fisher. Scientific) and a quartz cell (10 x 10 x 40 mm). A calibration curve was created using a separately synthesized unlinked component of the A block (a homopolymer of N-vinyl-2-pyrrolidone) and quantified.

<重合生成物の製造>
(製造方法No.1)
窒素置換したグローブボックス内で、予め窒素置換したVP 6.0g、BTEE 0.180g、AIBN 0.020g、アニソール 4.8gを仕込み、54℃で22時間反応させた。重合率は99%であった。
<Production of polymerization product>
(Manufacturing method No. 1)
In a glove box purged with nitrogen, 6.0 g of VP, 0.180 g of BTEE, 0.020 g of AIBN, and 4.8 g of anisole were charged and reacted at 54° C. for 22 hours. The polymerization rate was 99%.

この反応液に、予め窒素置換したIBXA 6.0g、AIBN 0.020g、アニソール 4.8gを加え、54℃で27時間反応させた。重合率は98%であった。また、反応液に残存していた重合1段目のモノマーも重合し、これらの反応液に残存していた重合1段目のモノマーの重合率は100%であった。 To this reaction solution, 6.0 g of IBXA, 0.020 g of AIBN, and 4.8 g of anisole, which had been purged with nitrogen in advance, were added, and the mixture was reacted at 54° C. for 27 hours. The polymerization rate was 98%. In addition, the monomers in the first stage of polymerization remaining in the reaction solution were also polymerized, and the polymerization rate of the monomers in the first stage of polymerization remaining in the reaction solution was 100%.

反応終了後、反応液をテトラヒドロフラン(THF)で希釈し、撹拌下のヘプタン中に注いだ。析出したポリマーを吸引濾過、乾燥し、重合生成物No.1を得た。重合生成物は、Mwは18,250、PDIは1.2、重合1段目の未連結成分(Aブロックと同様の組成を有するポリマー)の含有率が3質量%、重合2段目の未連結成分(Bブロックと同様の組成を有するポリマー)の含有率が3質量%、ブロック共重合体の含有率は94質量%であった。なお、共重合体中の各構造単位の含有率は、重合反応に用いたモノマーの仕込み比率、重合率および未連結成分の含有率から算出した。 After the reaction was completed, the reaction solution was diluted with tetrahydrofuran (THF) and poured into heptane under stirring. The precipitated polymer was suction filtered and dried to obtain polymerization product No. I got 1. The polymerization product had an Mw of 18,250, a PDI of 1.2, a content of 3% by mass of unlinked components in the first stage of polymerization (polymer having the same composition as the A block), and a content of 3% by mass of unlinked components in the first stage of polymerization, and a content of unlinked components in the second stage of polymerization. The content of the connecting component (a polymer having the same composition as the B block) was 3% by mass, and the content of the block copolymer was 94% by mass. The content of each structural unit in the copolymer was calculated from the charging ratio of monomers used in the polymerization reaction, the polymerization rate, and the content of unlinked components.

(製造方法No.2)
窒素置換したグローブボックス内で、予め窒素置換したVP 5.0g、BTEE 0.150g、ACHN 0.024g、アニソール 4.0gを仕込み、76℃で23時間反応させた。重合率は100%であった。
(Manufacturing method No. 2)
In a glove box purged with nitrogen, 5.0 g of VP, 0.150 g of BTEE, 0.024 g of ACHN, and 4.0 g of anisole were charged and reacted at 76° C. for 23 hours. The polymerization rate was 100%.

この反応液に、予め窒素置換したSt 5.0g、ACHN 0.061g、アニソール 4.0gを加え、76℃で70時間反応させた。重合率は97%であった。 To this reaction solution were added 5.0 g of St, 0.061 g of ACHN, and 4.0 g of anisole, which had been previously purged with nitrogen, and reacted at 76° C. for 70 hours. The polymerization rate was 97%.

反応終了後、反応液をTHFで希釈し、撹拌下のヘプタン中に注いだ。析出したポリマーを吸引濾過、乾燥し、重合生成物No.2を得た。重合生成物は、Mwは29,150、PDIは1.3、重合1段目の未連結成分(Aブロックと同様の組成を有するポリマー)の含有率が8質量%、重合2段目の未連結成分(Bブロックと同様の組成を有するポリマー)の含有率が5質量%、ブロック共重合体の含有率は87質量%であった。なお、共重合体中の各構造単位の含有率は、重合反応に用いたモノマーの仕込み比率、重合率および未連結成分の含有率から算出した。 After the reaction was completed, the reaction solution was diluted with THF and poured into heptane under stirring. The precipitated polymer was suction filtered and dried to obtain polymerization product No. I got 2. The polymerization product has an Mw of 29,150, a PDI of 1.3, a content of unlinked components (polymer having the same composition as the A block) in the first stage of polymerization of 8% by mass, and a content of unlinked components in the second stage of polymerization of 8% by mass. The content of the connecting component (polymer having the same composition as the B block) was 5% by mass, and the content of the block copolymer was 87% by mass. The content of each structural unit in the copolymer was calculated from the charging ratio of monomers used in the polymerization reaction, the polymerization rate, and the content of unlinked components.

(製造方法No.3)
窒素置換したグローブボックス内で、予め窒素置換したVP 6.0g、BTEE 0.180g、AIBN 0.020g、アニソール 4.8gを仕込み、62℃で27時間反応させた。重合率は100%であった。
(Manufacturing method No. 3)
In a glove box that had been purged with nitrogen, 6.0 g of VP, 0.180 g of BTEE, 0.020 g of AIBN, and 4.8 g of anisole were charged and reacted at 62° C. for 27 hours. The polymerization rate was 100%.

この反応液に、予め窒素置換したIBXA 6.0g、AIBN 0.020g、アニソール 4.8gを加え、62℃で45時間反応させた。重合率は100%であった。 To this reaction solution, 6.0 g of IBXA, 0.020 g of AIBN, and 4.8 g of anisole, which had been purged with nitrogen in advance, were added and reacted at 62° C. for 45 hours. The polymerization rate was 100%.

反応終了後、反応液をTHFで希釈し、撹拌下のヘプタン中に注いだ。析出したポリマーを吸引濾過、乾燥し、重合生成物No.3を得た。重合生成物は、Mwは20,040、PDIは1.3、重合1段目の未連結成分(Aブロックと同様の組成を有するポリマー)の含有率が15質量%、重合2段目の未連結成分(Bブロックと同様の組成を有するポリマー)の含有率が6質量%、ブロック共重合体の含有率は79質量%であった。なお、共重合体中の各構造単位の含有率は、重合反応に用いたモノマーの仕込み比率、重合率および未連結成分の含有率から算出した。 After the reaction was completed, the reaction solution was diluted with THF and poured into heptane under stirring. The precipitated polymer was suction filtered and dried to obtain polymerization product No. I got 3. The polymerization product has an Mw of 20,040, a PDI of 1.3, a content of unlinked components (polymer having the same composition as the A block) in the first stage of polymerization of 15% by mass, and a content of unlinked components in the second stage of polymerization of 15% by mass. The content of the connecting component (polymer having the same composition as the B block) was 6% by mass, and the content of the block copolymer was 79% by mass. The content of each structural unit in the copolymer was calculated from the charging ratio of monomers used in the polymerization reaction, the polymerization rate, and the content of unlinked components.

(製造方法No.4)
窒素置換したグローブボックス内で、予め窒素置換したVP 5.0g、BTEE 0.150g、ACHN 0.024g、アニソール 4.0gを仕込み、88℃で20時間反応させた。重合率は100%であった。
(Manufacturing method No. 4)
In a glove box purged with nitrogen, 5.0 g of VP, 0.150 g of BTEE, 0.024 g of ACHN, and 4.0 g of anisole were charged and reacted at 88° C. for 20 hours. The polymerization rate was 100%.

この反応液に、予め窒素置換したSt 5.0g、ACHN 0.061g、アニソール 4.0gを加え、88℃で49時間反応させた。重合率は98%であった。 To this reaction solution, 5.0 g of St, 0.061 g of ACHN, and 4.0 g of anisole, which had been purged with nitrogen in advance, were added, and the mixture was reacted at 88° C. for 49 hours. The polymerization rate was 98%.

反応終了後、反応液をTHFで希釈し、撹拌下のヘプタン中に注いだ。析出したポリマーを吸引濾過、乾燥し、重合生成物No.4を得た。重合生成物は、Mwは27,890、PDIは1.5、重合1段目の未連結成分(Aブロックと同様の組成を有するランダムポリマー)の含有率が16質量%、重合2段目の未連結成分(Bブロックと同様の組成を有するランダムポリマー)の含有率が22質量%、ブロック共重合体の含有率は62質量%であった。なお、共重合体中の各構造単位の含有率は、重合反応に用いたモノマーの仕込み比率、重合率および未連結成分の含有率から算出した。 After the reaction was completed, the reaction solution was diluted with THF and poured into heptane under stirring. The precipitated polymer was suction filtered and dried to obtain polymerization product No. I got 4. The polymerization product had an Mw of 27,890, a PDI of 1.5, a content of unlinked components (a random polymer having the same composition as the A block) in the first stage of polymerization, and a content of 16% by mass in the second stage of polymerization. The content of unlinked components (random polymer having the same composition as the B block) was 22% by mass, and the content of the block copolymer was 62% by mass. The content of each structural unit in the copolymer was calculated from the charging ratio of monomers used in the polymerization reaction, the polymerization rate, and the content of unlinked components.

Figure 0007365135000003
Figure 0007365135000003

Figure 0007365135000004
Figure 0007365135000004

製造方法No.1は、重合工程第1段目および重合工程第2段目の反応温度がいずれも54℃であり、アゾ系重合開始剤(AIBN)の10時間半減期温度(65℃)との差(T2/1-Tr)が11℃である。この製造方法No.1で得られた重合生成物は、所望とするブロック共重合体の含有率が94質量%と高く、重合体不純物が低減されている。 Manufacturing method No. 1, the reaction temperature in the first stage of the polymerization process and the second stage of the polymerization process are both 54 °C, and the difference (T 2/1 -Tr) is 11°C. This manufacturing method No. The polymerization product obtained in Example 1 has a high content of the desired block copolymer of 94% by mass, and has reduced polymer impurities.

製造方法No.2は、重合工程第1段目および重合工程第2段目の反応温度がいずれも76℃であり、アゾ系重合開始剤(ACHN)の10時間半減期温度(88℃)との差(T2/1-Tr)が12℃である。この製造方法No.2で得られた重合生成物は、所望とするブロック共重合体の含有率が87質量%と高く、重合体不純物が低減されている。 Manufacturing method No. 2, the reaction temperature in the first stage of the polymerization process and the second stage of the polymerization process is both 76 °C, and the difference (T 2/1 -Tr) is 12°C. This manufacturing method No. The polymerization product obtained in Example 2 has a high content of the desired block copolymer of 87% by mass, and has reduced polymer impurities.

製造方法No.3は、重合工程第1段目および重合工程第2段目の反応温度がいずれも62℃であり、アゾ系重合開始剤(AIBN)の10時間半減期温度(65℃)との差(T2/1-Tr)が3℃である。この製造方法No.3で得られた重合生成物は、所望とするブロック共重合体の含有率が79質量%と低く、重合体不純物の含有率が多い。 Manufacturing method No. 3, the reaction temperature in the first stage of the polymerization process and the second stage of the polymerization process is both 62 °C, and the difference (T 2/1 - Tr) is 3°C. This manufacturing method No. The polymerization product obtained in step 3 has a low content of the desired block copolymer of 79% by mass, and a high content of polymer impurities.

製造方法No.4は、重合工程第1段目および重合工程第2段目の反応温度がいずれも88℃であり、アゾ系重合開始剤(ACHN)の10時間半減期温度(88℃)との差(T2/1-Tr)が0℃である。この製造方法No.4で得られた重合生成物は、所望とするブロック共重合体の含有率が62質量%と低く、重合体不純物の含有率が多い。 Manufacturing method No. 4, the reaction temperature in the first stage of the polymerization process and the second stage of the polymerization process is both 88 °C, and the difference (T 2/1 -Tr) is 0℃. This manufacturing method No. The polymerization product obtained in 4 had a low content of the desired block copolymer of 62% by mass, and a high content of polymer impurities.

<フィルムの製造>
(フィルムNo.1~4)(基材:並ガラス(表面処理がされていないソーダ石灰ガラス))
(接触角測定用)
重合生成物をMPに溶解させて、表面改質剤組成物(濃度:1質量%)を調製した。接触角の測定に用いるサンプルとして、基材(縦5cm、横5cm、厚さ0.7mm)上に、スピンコーター(商品名:MS-A100、ミカサ社製)を用いて、200rpm、2秒、500rpm、2秒、2000rpm、5秒の連続回転にて前記表面改質剤組成物 0.6mlをスピンコーティング塗工し、基材と改質層とを有するフィルムを作製した。スピンコーティング後、90℃に設定した熱風乾燥器中で30分間乾燥を行った。得られたフィルムは、基材の片面の全面に改質層が形成されている。
(耐久性試験用)
重合生成物をMPに溶解させて、表面改質剤組成物(濃度:1質量%)を調製した。耐久性試験に用いるサンプルとして、基材(縦5cm、横5cm、厚さ0.7mm)に前記表面改質剤組成物 0.3mlをキャスト塗工し、基材と改質層とを有するフィルムを作製した。キャストコーティング後、90℃に設定した熱風乾燥器中で30分間乾燥を行った。得られたフィルムは、基材の片面の全面に改質層が形成されている。
<Production of film>
(Film No. 1 to 4) (Base material: ordinary glass (soda lime glass without surface treatment))
(For contact angle measurement)
A surface modifier composition (concentration: 1% by mass) was prepared by dissolving the polymerization product in MP. As a sample used for contact angle measurement, a spin coater (trade name: MS-A100, manufactured by Mikasa) was applied onto a base material (5 cm long, 5 cm wide, 0.7 mm thick) at 200 rpm for 2 seconds. 0.6 ml of the surface modifier composition was applied by spin coating with continuous rotation at 500 rpm for 2 seconds and 2000 rpm for 5 seconds to produce a film having a base material and a modified layer. After spin coating, drying was performed for 30 minutes in a hot air dryer set at 90°C. In the obtained film, a modified layer is formed on the entire surface of one side of the base material.
(for durability test)
A surface modifier composition (concentration: 1% by mass) was prepared by dissolving the polymerization product in MP. As a sample used in the durability test, 0.3 ml of the surface modifier composition was cast onto a base material (5 cm long, 5 cm wide, 0.7 mm thick), and a film having a base material and a modified layer was prepared. was created. After cast coating, drying was performed for 30 minutes in a hot air dryer set at 90°C. In the obtained film, a modified layer is formed on the entire surface of one side of the base material.

(フィルムNo.5~8)(基材:ポリエチレンテレフタレート(PET))
(接触角測定用)
重合生成物をMPに溶解させて、表面改質剤組成物(濃度:1質量%)を調製した。接触角の測定に用いるサンプルとして、基材(縦5cm、横5cm、厚さ0.125mm)上に、スピンコーター(商品名:MS-A100、ミカサ社製)を用いて、200rpm、2秒、500rpm、2秒、2000rpm、5秒の連続回転にて前記表面改質剤組成物 0.6mlをスピンコーティング塗工し、基材と改質層とを有するフィルムを作製した。スピンコーティング後、90℃に設定した熱風乾燥器中で30分間乾燥を行った。得られたフィルムは、基材の片面の全面に改質層が形成されている。得られたフィルムは、基材の片面の全面に改質層が形成されている。
(耐久性試験用)
重合生成物をMPに溶解させて、表面改質剤組成物(濃度:6質量%)を調製した。耐久性試験に用いるサンプルとして、基材(縦5cm、横5cm、厚さ0.125mm)に前記表面改質剤組成物 0.3mlをキャスト塗工し、基材と改質層とを有するフィルムを作製した。キャストコーティング後、90℃に設定した熱風乾燥器中で30分間乾燥を行った。得られたフィルムは、基材の片面の全面に改質層が形成されている。
(Film No. 5 to 8) (Base material: polyethylene terephthalate (PET))
(For contact angle measurement)
A surface modifier composition (concentration: 1% by mass) was prepared by dissolving the polymerization product in MP. As a sample used for contact angle measurement, a spin coater (product name: MS-A100, manufactured by Mikasa) was applied onto a base material (5 cm long, 5 cm wide, 0.125 mm thick) at 200 rpm for 2 seconds. 0.6 ml of the surface modifier composition was applied by spin coating with continuous rotation at 500 rpm for 2 seconds and 2000 rpm for 5 seconds to produce a film having a base material and a modified layer. After spin coating, drying was performed for 30 minutes in a hot air dryer set at 90°C. In the obtained film, a modified layer is formed on the entire surface of one side of the base material. In the obtained film, a modified layer is formed on the entire surface of one side of the base material.
(for durability test)
A surface modifier composition (concentration: 6% by mass) was prepared by dissolving the polymerization product in MP. As a sample used for the durability test, 0.3 ml of the surface modifier composition was cast onto a base material (5 cm long, 5 cm wide, 0.125 mm thick) to form a film having a base material and a modified layer. was created. After cast coating, drying was performed for 30 minutes in a hot air dryer set at 90°C. In the obtained film, a modified layer is formed on the entire surface of one side of the base material.

得られたフィルムNo.1~8について、接触角の測定及び水に対する耐久性試験を行い、結果を表3に示した。 The obtained film No. Contact angle measurements and water durability tests were conducted for Nos. 1 to 8, and the results are shown in Table 3.

Figure 0007365135000005
Figure 0007365135000005

(フィルムNo.9~12)(基材:並ガラス((表面処理がされていないソーダ石灰ガラス)))
重合生成物をMPに溶解させて、表面改質剤組成物(濃度:6質量%)を調製した。基材(縦4cm、横9cm、厚さ0.7mm)の両面の全体に表面改質剤組成物を塗工し、基材とその両面に形成された改質層とを有するフィルムを作製した。なお、表面改質剤組成物は、バーコーター(ウェット皮膜厚:50μm)を用いてコーティングした。塗工は、まず基材の片面にコーティング後、90℃に設定した熱風乾燥器中で30分間乾燥を行った。次いで、他方の面にもコーティングを行い、90℃に設定した熱風乾燥器中で30分間乾燥を行った。なお、フィルムは各表面改質剤組成物について2枚作製した。
(Film No. 9 to 12) (Base material: ordinary glass ((soda lime glass without surface treatment)))
A surface modifier composition (concentration: 6% by mass) was prepared by dissolving the polymerization product in MP. A surface modifier composition was applied to the entire surface of both sides of a base material (length: 4 cm, width: 9 cm, thickness: 0.7 mm) to produce a film having a base material and modified layers formed on both sides of the base material. . Note that the surface modifier composition was coated using a bar coater (wet film thickness: 50 μm). For coating, first, one side of the substrate was coated, and then dried for 30 minutes in a hot air dryer set at 90°C. Next, the other side was also coated and dried for 30 minutes in a hot air dryer set at 90°C. Note that two films were produced for each surface modifier composition.

(フィルムNo.13~16)(基材:ポリエチレンテレフタレート(PET))
重合生成物をMPに溶解させて、表面改質剤組成物(濃度:6質量%)を調製した。基材(縦4cm、横9cm、厚さ0.125mm)の両面の全体に表面改質剤組成物を塗工し、基材とその両面に形成された改質層とを有するフィルムを作製した。なお、表面改質剤組成物は、バーコーター(ウェット皮膜厚:50μm)を用いてコーティングした。塗工は、まず基材の片面にコーティング後、90℃に設定した熱風乾燥器中で30分間乾燥を行った。次いで、他方の面にもコーティングを行い、90℃に設定した熱風乾燥器中で30分間乾燥を行った。なお、フィルムは各表面改質剤組成物について2枚作製した。
(Film No. 13 to 16) (Base material: polyethylene terephthalate (PET))
A surface modifier composition (concentration: 6% by mass) was prepared by dissolving the polymerization product in MP. A surface modifier composition was applied to the entire surface of both sides of a base material (length: 4 cm, width: 9 cm, thickness: 0.125 mm) to produce a film having a base material and modified layers formed on both sides of the base material. . Note that the surface modifier composition was coated using a bar coater (wet film thickness: 50 μm). For coating, first, one side of the substrate was coated, and then dried for 30 minutes in a hot air dryer set at 90°C. Next, the other side was also coated and dried for 30 minutes in a hot air dryer set at 90°C. Note that two films were produced for each surface modifier composition.

得られたフィルムNo.9~16について、溶出性試験を行い、結果を表4に示した。 The obtained film No. A dissolution test was conducted for Nos. 9 to 16, and the results are shown in Table 4.

Figure 0007365135000006
Figure 0007365135000006

フィルムNo.1、2、5、6、9、10、13、14は、改質層が前記重合生成物No.1または2を含有する表面改質剤組成物から形成されている場合である。これらのフィルムは、改質層の耐久性が優れており、かつ、ポリ-VPの溶出量が少なかった。これらの結果から、未連結成分の含有率が低い重合生成物を用いた表面改質剤組成物は、基材に対する密着性が高く、耐久性に優れた改質層が得られている。 Film no. 1, 2, 5, 6, 9, 10, 13, and 14, the modified layer is the polymerization product No. 1, 2, 5, 6, 9, 10, 13, and 14. This is the case when the surface modifier composition is formed from a surface modifier composition containing 1 or 2. In these films, the modified layer had excellent durability and the amount of poly-VP eluted was small. These results show that the surface modifier composition using a polymerization product with a low content of unlinked components has a modified layer with high adhesion to the substrate and excellent durability.

フィルムNo.3、4、7、8、11、12、15、16は、改質層が前記重合生成物No.3または4を含有する表面改質剤組成物から形成されている場合である。これらのフィルムは、改質層の耐久性が劣っており、かつ、ポリ-VPの溶出量が多かった。 Film no. In No. 3, 4, 7, 8, 11, 12, 15, and 16, the modified layer is the polymerization product No. 3 or 4. In these films, the durability of the modified layer was poor and the amount of poly-VP eluted was large.

本発明の表面改質剤組成物は、基材表面に塗布したり、基材に混合することで、疎水性の基材表面に親水性を付与することができる。 The surface modifier composition of the present invention can impart hydrophilicity to the surface of a hydrophobic substrate by applying it to the surface of the substrate or mixing it with the substrate.

Claims (11)

重合生成物を含有する表面改質剤組成物であって、
前記重合生成物が、有機テルル化合物を用いたリビングラジカル重合法によってモノマー組成物を重合することにより得られたものであり、
N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位を有するAブロックと、N-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーに由来する構造単位を有するBブロックとを有するブロック共重合体を含有し、
前記ブロック共重合体における前記N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位の含有率が30質量%以上であり、
前記Bブロック100質量%において、疎水性ビニルモノマーに由来する構造単位の含有率が98質量%以上であり、前記疎水性ビニルモノマーは20℃の水における溶解度が50質量%未満であり、
前記重合生成物の分子量分布(PDI)が2.0以下であり、かつ、
前記ブロック共重合体の含有率が、前記重合生成物100質量%中において、80質量%以上であることを特徴とする表面改質剤組成物。
A surface modifier composition containing a polymerization product, the composition comprising:
The polymerization product is obtained by polymerizing a monomer composition by a living radical polymerization method using an organic tellurium compound,
Containing a block copolymer having an A block having a structural unit derived from an N-alkenyl lactam monomer and a B block having a structural unit derived from a vinyl monomer other than the N-alkenyl lactam monomer,
The content of structural units derived from the N-alkenyl lactam monomer in the block copolymer is 30% by mass or more,
In the 100% by mass of the B block, the content of structural units derived from a hydrophobic vinyl monomer is 98% by mass or more, and the hydrophobic vinyl monomer has a solubility in water at 20 ° C. of less than 50% by mass,
The molecular weight distribution (PDI) of the polymerization product is 2.0 or less, and
A surface modifier composition, wherein the content of the block copolymer is 80% by mass or more based on 100% by mass of the polymerization product.
前記BブロックにおけるN-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーが、(メタ)アクリル系ビニルモノマー、α-オレフィン、芳香族ビニルモノマー、ヘテロ環含有不飽和モノマー、ビニルアミド、カルボン酸ビニルおよびジエン類よりなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の表面改質剤組成物。 The vinyl monomer other than the N-alkenyl lactam monomer in the B block consists of a (meth)acrylic vinyl monomer, an α-olefin, an aromatic vinyl monomer, a heterocycle-containing unsaturated monomer, vinylamide, vinyl carboxylate, and dienes. The surface modifier composition according to claim 1, which is at least one selected from the group consisting of: 重合生成物を含有する表面改質剤組成物であって、
前記重合生成物が、モノマー組成物を重合することにより得られたものであり、
N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位を有するAブロックと、N-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーに由来する構造単位を有するBブロックとを有するブロック共重合体を含有し、
前記ブロック共重合体における前記N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位の含有率が30質量%以上であり、
前記BブロックにおけるN-アルケニルラクタム系モノマー以外のビニルモノマーが、多環式構造を有する(メタ)アクリレートを含有し、
前記Bブロック100質量%において、疎水性ビニルモノマーに由来する構造単位の含有率が98質量%以上であり、前記疎水性ビニルモノマーは20℃の水における溶解度が50質量%未満であり、
前記重合生成物の分子量分布(PDI)が2.0以下であり、かつ、
前記ブロック共重合体の含有率が、前記重合生成物100質量%中において、80質量%以上であることを特徴とする表面改質剤組成物。
A surface modifier composition containing a polymerization product, the composition comprising:
The polymerization product is obtained by polymerizing a monomer composition,
Containing a block copolymer having an A block having a structural unit derived from an N-alkenyl lactam monomer and a B block having a structural unit derived from a vinyl monomer other than the N-alkenyl lactam monomer,
The content of structural units derived from the N-alkenyl lactam monomer in the block copolymer is 30% by mass or more,
The vinyl monomer other than the N-alkenyl lactam monomer in the B block contains a (meth)acrylate having a polycyclic structure,
In the 100% by mass of the B block, the content of structural units derived from a hydrophobic vinyl monomer is 98% by mass or more, and the hydrophobic vinyl monomer has a solubility in water at 20 ° C. of less than 50% by mass,
The molecular weight distribution (PDI) of the polymerization product is 2.0 or less, and
A surface modifier composition, wherein the content of the block copolymer is 80% by mass or more based on 100% by mass of the polymerization product.
前記N-アルケニルラクタム系モノマーに由来する構造単位が、下記一般式(1)で表される構造単位である請求項1~3のいずれか一項に記載の表面改質剤組成物。
Figure 0007365135000007
〔式(1)において、R11、R12、R13およびR14は、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1~10のアルキル基を示す。m1は0~4の整数を示す。n1は1~3の整数を示す。〕
The surface modifier composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the structural unit derived from the N-alkenyl lactam monomer is a structural unit represented by the following general formula (1).
Figure 0007365135000007
[In formula (1), R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are the same or different and represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent. m1 represents an integer from 0 to 4. n1 represents an integer from 1 to 3. ]
前記Bブロックが、前記Aブロックよりも疎水性である請求項1~4のいずれか一項に記載の表面改質剤組成物。 The surface modifier composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the B block is more hydrophobic than the A block. 前記重合生成物の重量平均分子量が、5,000~500,000である請求項1~5のいずれか一項に記載の表面改質剤組成物。 The surface modifier composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the polymerization product has a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000. 前記ブロック共重合体中のAブロックとBブロックとの質量比(Aブロック/Bブロック)が、30/70~90/10である請求項1~6のいずれか一項に記載の表面改質剤組成物。 The surface modification according to any one of claims 1 to 6, wherein the mass ratio of A block to B block (A block/B block) in the block copolymer is 30/70 to 90/10. agent composition. 前記ブロック共重合体がA-B型ジブロック共重合体である請求項1~7のいずれか一項に記載の表面改質剤組成物。 The surface modifier composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the block copolymer is an AB type diblock copolymer. 前記表面改質剤組成物が、さらに溶媒を含有する請求項1~8のいずれか一項に記載の表面改質剤組成物。 The surface modifier composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the surface modifier composition further contains a solvent. 基材と、前記基材の表面の少なくとも一部に形成された改質層とを有し、
前記改質層が、請求項1~9のいずれか一項に記載の表面改質剤組成物から形成されていることを特徴とする物品。
comprising a base material and a modified layer formed on at least a portion of the surface of the base material,
An article characterized in that the modified layer is formed from the surface modifier composition according to any one of claims 1 to 9.
基材と、前記基材の少なくとも片面における少なくとも一部に形成された改質層とを有し、
前記改質層が、請求項1~9のいずれか一項に記載の表面改質剤組成物から形成されていることを特徴とするフィルム。
comprising a base material and a modified layer formed on at least a portion of at least one side of the base material,
A film characterized in that the modified layer is formed from the surface modifier composition according to any one of claims 1 to 9.
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