JP7351170B2 - Polishing pad and polishing method - Google Patents
Polishing pad and polishing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP7351170B2 JP7351170B2 JP2019175695A JP2019175695A JP7351170B2 JP 7351170 B2 JP7351170 B2 JP 7351170B2 JP 2019175695 A JP2019175695 A JP 2019175695A JP 2019175695 A JP2019175695 A JP 2019175695A JP 7351170 B2 JP7351170 B2 JP 7351170B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- protrusion
- polishing pad
- polished
- recess
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
本発明は、研磨パッド、及び研磨方法に関する。 The present invention relates to a polishing pad and a polishing method.
特許文献1に開示されるように、板ガラス等の被研磨物の表面における平滑性を高めるためには、研磨パッドを用いて被研磨物の表面が研磨される。研磨パッドを用いて被研磨物を研磨するには、回転している研磨パッドを、被研磨物の表面に当接する。このとき、研磨パッドと、被研磨物との間には、研磨用スラリーが供給され、その研磨用スラリーに含まれる研磨材により被研磨物の表面が研磨される。 As disclosed in Patent Document 1, in order to improve the smoothness of the surface of an object to be polished, such as a plate glass, the surface of the object to be polished is polished using a polishing pad. To polish an object to be polished using a polishing pad, the rotating polishing pad is brought into contact with the surface of the object to be polished. At this time, a polishing slurry is supplied between the polishing pad and the object to be polished, and the surface of the object to be polished is polished by the abrasive material contained in the polishing slurry.
研磨パッドが被研磨物に押し当てられた際には、研磨パッドの突出部における先端面が被研磨物に押圧されることから、突出部の形状は、研磨の効率に大きな影響を与える。従来の研磨パッドの突出部の形状には、研磨の効率を高めるという観点、及び研磨パッドの寿命を延ばす観点から、未だ改善の余地があった。 When the polishing pad is pressed against the object to be polished, the tip end surface of the protrusion of the polishing pad is pressed against the object to be polished, so the shape of the protrusion has a great influence on the efficiency of polishing. There is still room for improvement in the shape of the protrusion of conventional polishing pads from the viewpoint of increasing polishing efficiency and extending the life of the polishing pad.
本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、研磨の効率を高め、かつ長期間使用可能な研磨パッドを提供することにある。 The present invention has been made in view of these circumstances, and its purpose is to provide a polishing pad that increases polishing efficiency and can be used for a long period of time.
上記課題を解決する研磨パッドは、被研磨物との相対回転により前記被研磨物を研磨する研磨パッドであって、突出部を有する研磨層を備え、前記突出部は、先端側に開口する凹部と、平面視において前記凹部を囲む環状をなし、先端面が平面状である環状壁部とを備える。 A polishing pad that solves the above problems is a polishing pad that polishes an object to be polished by relative rotation with the object, and includes a polishing layer having a protrusion, and the protrusion has a recess that opens toward the tip side. and an annular wall portion surrounding the recessed portion in plan view and having a planar tip end surface.
被研磨物は、研磨パッドの研磨層に設けられた突出部の先端における相対回転方向の前方側の角部の付近にて集中的に研磨される。上記構成のように、先端側に開口する凹部を有する突出部は、相対回転方向の前方側を向く側面に連なる角部に加えて、凹部における相対回転方向の前方側を向く内側面に連なる角部の一部も、突出部の先端における相対回転方向の前方側の角部になる。突出部における研磨が強く行われる部位である相対回転方向の前方側の角部が増加することにより、突出部による研磨効率が向上する。 The object to be polished is intensively polished near the front corner in the relative rotation direction at the tip of the protrusion provided on the polishing layer of the polishing pad. As in the above configuration, the protrusion having the recess opening on the tip side has a corner connected to the side surface facing forward in the direction of relative rotation, as well as a corner connected to the inner surface facing forward in the direction of relative rotation in the recess. A part of the portion also becomes a corner portion on the front side in the relative rotation direction at the tip of the protruding portion. The polishing efficiency of the protrusion is improved by increasing the front corner in the relative rotation direction, which is a portion where the protrusion is strongly polished.
また、突出部に対して、凹部を囲む環状をなし、先端面が平面状である環状壁部を設けている。これにより、凹部の形成に起因する突出部の強度の過度な低下が抑制されて、突出部が早期に壊れること、例えば、突出部の形状が崩れたり、突出部が研磨層から剥離したりすることを抑制できる。そのため、角部を増加させるために突出部の数を増やした場合と比較して長期間使用可能となる。 Further, an annular wall portion surrounding the recessed portion and having a planar tip end surface is provided for the protruding portion. This suppresses an excessive decrease in the strength of the protruding part due to the formation of the recess, and prevents the protruding part from breaking early, for example, the shape of the protruding part collapses, or the protruding part peels off from the polishing layer. can be suppressed. Therefore, it can be used for a longer period of time compared to the case where the number of protrusions is increased to increase the number of corners.
前記凹部は、平面視において、当該研磨パッドの相対回転方向に交差する方向に延びる細長形状であることが好ましい。
上記構成によれば、突出部に対して、凹部における研磨パッドの相対回転方向の前方側を向く内側面に連なる角部を、相対回転方向に交差する方向の広範囲に形成できる。これにより、突出部による研磨効率が更に向上する。
The recess preferably has an elongated shape extending in a direction intersecting the relative rotation direction of the polishing pad in plan view.
According to the above configuration, the corner portion that is connected to the inner surface of the concave portion facing the front side in the relative rotation direction of the polishing pad can be formed in a wide range in the direction intersecting the relative rotation direction with respect to the protrusion portion. This further improves the polishing efficiency of the protrusions.
前記凹部における当該研磨パッドの相対回転方向の前方側を向く内側面は、基端側から先端側に向かって、前記相対回転方向の後方側に傾斜する傾斜面であることが好ましい。
上記構成によれば、研磨パッドと被研磨物とが相対回転された際に、突出部の傾斜面状の内側面に連なる角部の付近が被研磨物に好適に押圧されて、当該角部の付近が被研磨物の研磨に利用され易くなる。
The inner surface of the recess facing forward in the relative rotation direction of the polishing pad is preferably an inclined surface that slopes from the proximal end toward the distal end toward the rear in the relative rotation direction.
According to the above configuration, when the polishing pad and the object to be polished are rotated relative to each other, the vicinity of the corner connected to the inclined inner surface of the protrusion is suitably pressed against the object to be polished, and the corner The area around the area becomes easier to use for polishing the object to be polished.
一つの前記突出部に対して複数の前記凹部が設けられていることが好ましい。
上記構成によれば、一つの大きな凹部を形成した場合と比較して、突出部の強度が向上する。また、突出部における研磨が強く行われる部位である相対回転方向の前方側の角部が増加することにより、突出部による研磨効率が向上する。
Preferably, a plurality of the recesses are provided for one protrusion.
According to the above configuration, the strength of the protrusion is improved compared to the case where one large recess is formed. In addition, the polishing efficiency of the protrusion is improved by increasing the front corner in the relative rotation direction, which is a portion where the protrusion is strongly polished.
上記課題を解決する研磨方法は、上記研磨パッドと、前記被研磨物とを相対回転させることにより前記被研磨物を研磨する。 A polishing method for solving the above problem polishes the object to be polished by relatively rotating the polishing pad and the object to be polished.
本発明によれば、研磨の効率を高めることができるとともに、より長期間の使用が可能になる。 According to the present invention, polishing efficiency can be increased and use for a longer period of time becomes possible.
以下、研磨パッドの一実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面では、説明の便宜上、構成の一部を誇張して示す場合がある。また、各部分の寸法比率についても、実際と異なる場合がある。 Hereinafter, one embodiment of a polishing pad will be described with reference to the drawings. Note that in the drawings, a part of the configuration may be shown in an exaggerated manner for convenience of explanation. Furthermore, the dimensional ratio of each part may also differ from the actual size.
図1~図3に示すように、研磨パッド11は、円形状の内周端11aと、円形状の外周端11bとを有する。研磨パッド11は、基材層12と、基材層12の主面PSに積層された研磨層13とを有している。研磨パッド11は、被研磨物との相対回転により被研磨物を研磨するために用いられる。 As shown in FIGS. 1 to 3, the polishing pad 11 has a circular inner peripheral end 11a and a circular outer peripheral end 11b. The polishing pad 11 includes a base layer 12 and a polishing layer 13 laminated on the main surface PS of the base layer 12. The polishing pad 11 is used to polish an object to be polished by rotating relative to the object.
<基材層>
図3に示すように、研磨パッド11の基材層12は、金属層12aと、研磨層13よりも圧縮変形し易い弾性層12bとを備える二層構造である。金属層12aは、例えば、アルミニウム、ステンレス鋼等から構成される。弾性層12bは、ゴム又はエラストマーから構成される。弾性層は、非発泡体であってもよいし発泡体であってもよい。金属層12aと弾性層12bとは接着層を介して接着されている。
<Base material layer>
As shown in FIG. 3, the base layer 12 of the polishing pad 11 has a two-layer structure including a metal layer 12a and an elastic layer 12b that is more easily compressed and deformed than the polishing layer 13. The metal layer 12a is made of, for example, aluminum, stainless steel, or the like. The elastic layer 12b is made of rubber or elastomer. The elastic layer may be a non-foamed material or a foamed material. The metal layer 12a and the elastic layer 12b are bonded together via an adhesive layer.
<研磨層>
図3に示すように、研磨層13は、基材層12の弾性層側の面に積層されて、研磨パッド11の一方側(図3の紙面上側)の主面を形成している。研磨層13は、基材層12に支持される平板状の支持部14と、この支持部14から、研磨パッド11の一方の主面側に突出する複数の突出部15とを備えている。支持部14と複数の突出部15とは、ウレタンゴム等の弾性材料から一体に構成されている。研磨層13と基材層12とは接着層を介して接着されている。
<Polishing layer>
As shown in FIG. 3, the polishing layer 13 is laminated on the surface of the base layer 12 on the elastic layer side to form the main surface on one side (the upper side of the paper in FIG. 3) of the polishing pad 11. As shown in FIG. The polishing layer 13 includes a flat support portion 14 supported by the base layer 12 and a plurality of protrusions 15 that protrude from the support portion 14 toward one main surface of the polishing pad 11 . The support portion 14 and the plurality of protrusions 15 are integrally made of an elastic material such as urethane rubber. The polishing layer 13 and the base material layer 12 are bonded together via an adhesive layer.
図2及び図3に示すように、研磨層13の突出部15は、平行四辺形状の先端面20と、先端面20に連なる第1側面21と、その第1側面21の反対側の面である第2側面22と、第1側面21と第2側面22とを接続する第3側面23及び第4側面24とを有する四角柱状である。突出部15の先端面20は、基材層12の主面PSに平行な平面状である。なお、先端面20は、基材層12の主面PSの状態や研磨層13の寸法誤差により、例えば、±5°以内の程度の角度で傾斜していてもよい。 As shown in FIGS. 2 and 3, the protrusion 15 of the polishing layer 13 has a parallelogram-shaped tip surface 20, a first side surface 21 continuous to the tip surface 20, and a surface opposite to the first side surface 21. It has a quadrangular prism shape having a certain second side surface 22, and a third side surface 23 and a fourth side surface 24 that connect the first side surface 21 and the second side surface 22. The tip surface 20 of the protrusion 15 has a planar shape parallel to the main surface PS of the base layer 12. Note that the tip surface 20 may be inclined at an angle within ±5°, for example, depending on the state of the main surface PS of the base material layer 12 and the dimensional error of the polishing layer 13.
図1に示すように、研磨層13は、突出部15の配置が異なる複数の領域を有している。上記複数の領域は、研磨層13の平面視において、中心角を60°として6等分した扇形の各領域であって、研磨パッド11は、図1における時計回りの順で領域A1,A2,A3,A4,A5,A6に区分される。領域A1と領域A4、領域A2と領域A5、及び領域A3と領域A6は、研磨パッド11の平面視において、それぞれ中心を挟んで対向するように配置されている。 As shown in FIG. 1, the polishing layer 13 has a plurality of regions in which the protrusions 15 are arranged differently. The plurality of regions are fan-shaped regions that are divided into six equal parts with a central angle of 60° in a plan view of the polishing layer 13, and the polishing pad 11 is divided into six areas in clockwise order in FIG. It is divided into A3, A4, A5, and A6. Area A1 and area A4, area A2 and area A5, and area A3 and area A6 are arranged so as to face each other with the center in between, when the polishing pad 11 is viewed from above.
図1及び図2に示すように、図1の上下方向を基準の径方向D1とした場合、領域A1,A4の各突出部15は、第1側面21及び第2側面22が径方向D1に沿って延在するように設けられている。図1に示すように、領域A1,A4においては、径方向D1に離間して配置される複数の突出部15からなる列が、径方向D1と直交する方向に離間して複数、配置されている。 As shown in FIGS. 1 and 2, when the vertical direction in FIG. 1 is the reference radial direction D1, each of the protrusions 15 in areas A1 and A4 has a first side surface 21 and a second side surface 22 in the radial direction D1. It is provided so as to extend along the line. As shown in FIG. 1, in areas A1 and A4, a plurality of rows of protrusions 15 are arranged spaced apart in the radial direction D1. There is.
領域A2,A5の各突出部15は、第1側面21及び第2側面22が、径方向D1から時計回りに60°回転した径方向D2に沿って延在するように設けられている。そして、領域A2,A5においては、径方向D2に離間して配置される複数の突出部15からなる列が、径方向D2と直交する方向に離間して複数、配置されている。 Each of the protrusions 15 in the areas A2 and A5 is provided such that the first side surface 21 and the second side surface 22 extend along the radial direction D2 rotated by 60 degrees clockwise from the radial direction D1. In areas A2 and A5, a plurality of rows of protrusions 15 are arranged spaced apart in a direction perpendicular to the radial direction D2.
領域A3,A6の各突出部15は、第1側面21及び第2側面22が、径方向D1から時計回りに120°回転した径方向D3に沿って延在するように設けられている。そして、領域A3,A6においては、径方向D3に離間して配置される複数の突出部15からなる列が、径方向D3と直交する方向に離間して複数、配置されている。 Each of the protrusions 15 in the regions A3 and A6 is provided such that the first side surface 21 and the second side surface 22 extend along the radial direction D3 rotated by 120 degrees clockwise from the radial direction D1. In areas A3 and A6, a plurality of rows of protrusions 15 are arranged spaced apart in a direction perpendicular to the radial direction D3.
上記のとおり、各突出部15の第1側面21及び第2側面22は、径方向D1,D2,D3のいずれかの方向に延在している。したがって、各突出部15の第1側面21及び第2側面22は、図1に矢印で示す相対回転方向RDと異なる方向、即ち、相対回転方向RDに交差する方向に延在している。本実施形態において、相対回転方向RDは、研磨パッド11の周方向に一致する。 As described above, the first side surface 21 and the second side surface 22 of each protrusion 15 extend in one of the radial directions D1, D2, and D3. Therefore, the first side surface 21 and the second side surface 22 of each protrusion 15 extend in a direction different from the relative rotation direction RD indicated by the arrow in FIG. 1, that is, in a direction intersecting the relative rotation direction RD. In this embodiment, the relative rotation direction RD coincides with the circumferential direction of the polishing pad 11.
<突出部>
図3に示すように、各突出部15の第1側面21は、相対回転方向RDの前方側を向く側面であり、基材層12の主面PSに対する角度である第1角度θ1が鋭角となる傾斜面である。第1角度θ1は、例えば、80°以下であることが好ましく、より好ましくは70°以下であり、さらに好ましくは60°以下である。この第1角度θ1は、10°以上であることが好ましく、より好ましくは20°以上であり、さらに好ましくは30°以上である。
<Protrusion>
As shown in FIG. 3, the first side surface 21 of each protrusion 15 is a side surface facing the front side in the relative rotation direction RD, and the first angle θ1, which is the angle with respect to the main surface PS of the base material layer 12, is an acute angle. It is an inclined surface. The first angle θ1 is, for example, preferably 80° or less, more preferably 70° or less, and still more preferably 60° or less. This first angle θ1 is preferably 10° or more, more preferably 20° or more, and still more preferably 30° or more.
各突出部15において、基材層12の主面PSに対する第2側面22の角度である第2角度θ2は特に限定されないが、上記の第1角度θ1よりも大きいことが好ましく、上記の第1角度θ1よりも大きく、かつ直角又は鋭角であることがより好ましい。 In each protrusion 15, the second angle θ2, which is the angle of the second side surface 22 with respect to the main surface PS of the base material layer 12, is not particularly limited, but is preferably larger than the first angle θ1, and the second angle θ2 is preferably larger than the first angle θ1. It is more preferable that the angle is larger than the angle θ1 and is a right angle or an acute angle.
なお、上述した第1角度θ1及び第2角度θ2は、各突出部15において第1側面21が延在する方向に対して直交する断面における角度を示す。また、基材層12の主面PSが凹凸を有する場合は、研磨パッド11と被研磨物との相対回転の軸方向に対して直交する仮想面が角度の基準となる主面PSに相当する。 Note that the above-described first angle θ1 and second angle θ2 indicate angles in a cross section perpendicular to the direction in which the first side surface 21 of each protrusion 15 extends. Further, when the main surface PS of the base material layer 12 has unevenness, a virtual plane perpendicular to the axial direction of relative rotation between the polishing pad 11 and the object to be polished corresponds to the main surface PS serving as the reference for the angle. .
図2及び図3に示すように、各突出部15は、先端面20に開口する凹部25と、平面視において、凹部25を囲む環状の環状壁部とを備えている。環状壁部は、第1側面21を形成する壁部21aと、第2側面22を形成する壁部22aと、第3側面23を形成する壁部23aと、第4側面24を形成する壁部24aとからなる。突出部15の平面状の先端面20は、環状壁部を構成する壁部21a~24aの各先端面によって形成されている。 As shown in FIGS. 2 and 3, each protrusion 15 includes a recess 25 opening in the distal end surface 20 and an annular wall surrounding the recess 25 in plan view. The annular wall portion includes a wall portion 21a forming the first side surface 21, a wall portion 22a forming the second side surface 22, a wall portion 23a forming the third side surface 23, and a wall portion forming the fourth side surface 24. 24a. The planar tip surface 20 of the protrusion 15 is formed by the tip surfaces of the walls 21a to 24a forming the annular wall.
平面視において、凹部25は、突出部15の第1側面21及び第2側面22が延在する方向に延びる細長形状に形成されている。なお、本実施形態において細長形状は、長円形状である。すなわち、凹部25における第1側面21及び第2側面22が延在する方向の長さL1は、同方向に直交する方向の長さL2よりも長い。例えば、長さL1は、長さL2の2~5倍の長さであることが好ましい。また、長さL1は、突出部15の第1側面21に沿う方向の長さに対して、20~90%となる長さであることが好ましい。 In plan view, the recess 25 is formed in an elongated shape extending in the direction in which the first side surface 21 and the second side surface 22 of the protrusion 15 extend. Note that in this embodiment, the elongated shape is an ellipse. That is, the length L1 of the recessed portion 25 in the direction in which the first side surface 21 and the second side surface 22 extend is longer than the length L2 in the direction orthogonal to the same direction. For example, the length L1 is preferably 2 to 5 times the length L2. Further, the length L1 is preferably 20 to 90% of the length of the protrusion 15 in the direction along the first side surface 21.
凹部25の深さL3は、突出部15の基端である支持部14の主面から先端面20までの長さに対して、50~100%となる長さであることが好ましい。
凹部25は、突出部15の第1側面21側に位置する第1内側面26、及び突出部15の第2側面22側に位置する第2内側面27を有している。第1内側面26は、相対回転方向RDの後方側を向く内側面であり、第2内側面27は、相対回転方向RDの前方側を向く内側面である。基材層12の主面PSに対する第1内側面26の角度である第3角度θ3は、特に限定されないが、上記の第1角度θ1よりも大きいことが好ましく、上記の第1角度θ1よりも大きく、かつ直角又は鋭角であることがより好ましい。基材層12の主面PSに対する第2内側面27の角度である第4角度θ4は直角である。
The depth L3 of the recess 25 is preferably 50 to 100% of the length from the main surface of the support portion 14, which is the base end of the protrusion 15, to the distal end surface 20.
The recess 25 has a first inner surface 26 located on the first side surface 21 side of the protrusion 15 and a second inner surface 27 located on the second side surface 22 side of the protrusion 15 . The first inner surface 26 is an inner surface facing the rear side in the relative rotation direction RD, and the second inner surface 27 is an inner surface facing the front side in the relative rotation direction RD. The third angle θ3, which is the angle of the first inner surface 26 with respect to the main surface PS of the base material layer 12, is not particularly limited, but is preferably larger than the first angle θ1, and is preferably larger than the first angle θ1. More preferably, it is large and has a right angle or an acute angle. The fourth angle θ4, which is the angle of the second inner surface 27 with respect to the main surface PS of the base material layer 12, is a right angle.
<研磨パッドの溝>
図1に示すように、研磨パッド11の溝16は、研磨パッド11の内周端11aから外周端11bへ向かって直線状に延びる主幹溝16aと、主幹溝16aと研磨パッド11の外周端11bとを直線状に連結する分岐溝16bとを備えている。主幹溝16a及び分岐溝16bは、研磨パッド11の内周端11aと外周端11bとの間において連続した溝16を構成している。
<Groove of polishing pad>
As shown in FIG. 1, the grooves 16 of the polishing pad 11 include a main groove 16a extending linearly from an inner circumferential end 11a to an outer circumferential end 11b of the polishing pad 11, and a main groove 16a and an outer circumferential end 11b of the polishing pad 11. and a branch groove 16b that linearly connects the two. The main groove 16a and the branch groove 16b constitute a continuous groove 16 between the inner peripheral end 11a and the outer peripheral end 11b of the polishing pad 11.
図3に示すように、研磨パッド11の溝16は、突出部15と、これに隣り合う突出部15との間に形成されている。研磨パッド11の溝16は、研磨層13からなる内底を有する第1溝16cと、基材層12からなる内底を有する第2溝16dとから構成されている。第2溝16dは、研磨層13と研磨層13とが離間した部分に形成され、突出部15とこれに隣り合う突出部15との間において基材層12が露出している部分である。換言すると、研磨層13は、基材層12上に離間して配置された複数の研磨層13から構成されることで、研磨パッド11は、基材層12を内底として構成された第2溝16dを有している。なお、図1では、第1溝16cと第2溝16dと区別するために第2溝16dを梨地模様で示している。 As shown in FIG. 3, the groove 16 of the polishing pad 11 is formed between one protrusion 15 and an adjacent protrusion 15. As shown in FIG. The groove 16 of the polishing pad 11 includes a first groove 16c having an inner bottom made of the polishing layer 13 and a second groove 16d having an inner bottom made of the base material layer 12. The second groove 16d is formed in a portion where the polishing layers 13 are separated from each other, and is a portion where the base material layer 12 is exposed between the protrusion 15 and the protrusion 15 adjacent thereto. In other words, the polishing layer 13 is composed of a plurality of polishing layers 13 spaced apart from each other on the base layer 12, and the polishing pad 11 has a second polishing layer 13 configured with the base layer 12 as an inner bottom. It has a groove 16d. In addition, in FIG. 1, the second groove 16d is shown in a matte pattern to distinguish it from the first groove 16c and the second groove 16d.
<研磨パッドの各寸法>
研磨パッド11、及び研磨パッド11の各部位の寸法は限定されないが、例えば、以下に記載する寸法とすることができる。
<Dimensions of polishing pad>
The dimensions of the polishing pad 11 and each part of the polishing pad 11 are not limited, but may be, for example, the dimensions described below.
研磨パッド11の直径は、例えば、10~1000mm程度である。
突出部15の大きさは、例えば、平面視において、第1側面21に沿う方向の長さが5~50mm程度であり、第1側面21に沿う方向に直交する方向の長さが3~20mm程度であり、高さが5~30mm程度である。
The diameter of the polishing pad 11 is, for example, about 10 to 1000 mm.
The size of the protrusion 15 is, for example, in a plan view, the length in the direction along the first side surface 21 is about 5 to 50 mm, and the length in the direction perpendicular to the direction along the first side surface 21 is about 3 to 20 mm. The height is about 5 to 30 mm.
突出部15の凹部25の長さL1は、例えば、3~15mm程度であり、凹部25の長さL2は、例えば、1.5~5mm程度であり、凹部25の深さL3は、例えば、3~8mm程度である。 The length L1 of the recess 25 of the protrusion 15 is, for example, approximately 3 to 15 mm, the length L2 of the recess 25 is, for example, approximately 1.5 to 5 mm, and the depth L3 of the recess 25 is, for example, approximately 3 to 15 mm. It is about 3 to 8 mm.
突出部15の先端面20における壁部21a,22aの幅H1は、例えば、3mm以上であり、壁部23a,24aの幅H2は、例えば、1.5mm以上である。この場合には、突出部15の強度を確保することが容易である。また、突出部15の先端面20における壁部21a,22aの幅H1は、例えば、8mm以下であり、壁部23a,24aの幅H2は、例えば、3mm以下である。この場合には、凹部25をより大きく形成することが容易である。 The width H1 of the walls 21a, 22a at the tip surface 20 of the protrusion 15 is, for example, 3 mm or more, and the width H2 of the walls 23a, 24a is, for example, 1.5 mm or more. In this case, it is easy to ensure the strength of the protrusion 15. Further, the width H1 of the walls 21a and 22a at the tip end surface 20 of the protrusion 15 is, for example, 8 mm or less, and the width H2 of the walls 23a, 24a is, for example, 3 mm or less. In this case, it is easy to make the recess 25 larger.
<研磨パッドの使用方法及び研磨パッドの作用>
研磨パッド11は、例えば、回転駆動装置を備えた周知の研磨機に取り付けられる。被研磨物の表面は、研磨パッド11と被研磨物との相対回転により研磨される。被研磨物としては、ガラス板、ステンレス板、アルミニウム板等の板材が挙げられる。なお、こうした研磨では、砥粒を含む研磨用スラリーが用いられる。
<How to use the polishing pad and its function>
The polishing pad 11 is attached to, for example, a known polishing machine equipped with a rotary drive device. The surface of the object to be polished is polished by relative rotation between the polishing pad 11 and the object to be polished. Examples of the object to be polished include plate materials such as glass plates, stainless steel plates, and aluminum plates. Note that in such polishing, a polishing slurry containing abrasive grains is used.
図4に、研磨パッド11の使用状態の一例を示す。研磨パッド11は、研磨機の回転軸RSに取り付けられる。被研磨物としてのガラス板GSは、支持台B上に固定されている。研磨用スラリーSLは、回転軸RSの中空部、及び研磨パッド11の中央の貫通孔を通じてガラス板GSの上面と研磨層13との間に供給される。研磨パッド11は、研磨層13における各突出部15の第1側面21が先頭になってガラス板GSに対して進行する方向に回転される。これにより、ガラス板GSの上面が研磨される。このとき、研磨パッド11の有する溝16は、研磨用スラリーの流路となる。 FIG. 4 shows an example of how the polishing pad 11 is used. The polishing pad 11 is attached to the rotating shaft RS of the polishing machine. A glass plate GS as an object to be polished is fixed on a support base B. The polishing slurry SL is supplied between the upper surface of the glass plate GS and the polishing layer 13 through the hollow part of the rotating shaft RS and the through hole in the center of the polishing pad 11. The polishing pad 11 is rotated in a direction in which the first side surface 21 of each protrusion 15 in the polishing layer 13 is at the front and advances relative to the glass plate GS. As a result, the upper surface of the glass plate GS is polished. At this time, the grooves 16 of the polishing pad 11 serve as flow paths for the polishing slurry.
ここで、ガラス板GSに対する突出部15による研磨は、突出部15の先端における相対回転方向RDの前方側の角部の付近にて強く行われる。
図5に示すように、本実施形態の研磨パッド11の研磨層13における各突出部15は、先端面20に開口する凹部25を有している。そのため、突出部15の先端には、相対回転方向RDの前方側の角部として、第1側面21に連なる角部C1、及び第2内側面27に連なる角部C2の二つの角部が存在することになり、これら二つの角部C1,C2の付近のそれぞれにて強い研磨が行われる。突出部15における強い研磨が行われる部分が増加することにより、突出部15による研磨効率が向上する。
Here, the glass plate GS is strongly polished by the protrusion 15 near the front corner of the tip of the protrusion 15 in the relative rotation direction RD.
As shown in FIG. 5, each protrusion 15 in the polishing layer 13 of the polishing pad 11 of this embodiment has a recess 25 opening to the tip surface 20. As shown in FIG. Therefore, at the tip of the protrusion 15, there are two corners as front corners in the relative rotation direction RD: a corner C1 connected to the first side surface 21 and a corner C2 connected to the second inner side surface 27. As a result, strong polishing is performed in the vicinity of these two corner portions C1 and C2. By increasing the portion of the protrusion 15 that is subjected to strong polishing, the polishing efficiency of the protrusion 15 is improved.
また、各突出部15の凹部25は、研磨用スラリーSLを一時的に保持するスラリーポケットとしても機能する。つまり、ガラス板GSの上面と研磨層13との間に供給された研磨用スラリーSLが凹部25に入り込み、その一部が凹部25内に保持される。これにより、突出部15における上記の角部C1,C2の付近とガラス板GSとの間に研磨用スラリーSLが存在する状況が確保されやすくなる。 Further, the recess 25 of each protrusion 15 also functions as a slurry pocket that temporarily holds the polishing slurry SL. That is, the polishing slurry SL supplied between the upper surface of the glass plate GS and the polishing layer 13 enters the recess 25 and a portion thereof is retained within the recess 25 . This makes it easier to ensure that the polishing slurry SL exists between the vicinity of the corners C1 and C2 of the protrusion 15 and the glass plate GS.
なお、各突出部15に凹部25が設けられているか否かの点のみが異なる二種類の研磨パッドを作製し、両研磨パッドの研磨効率を比較したところ、各突出部15に凹部25を設けることによって8~9%程度の研磨効率の向上が確認できた。 In addition, when two types of polishing pads were prepared that differed only in whether or not each protrusion 15 was provided with a recess 25, and the polishing efficiency of both polishing pads was compared, it was found that each protrusion 15 was provided with a recess 25. As a result, it was confirmed that the polishing efficiency was improved by about 8 to 9%.
詳述すると、一定の速度で連続的に搬送されるガラス板に対して、研磨パッドを取り付けた研磨機を用いて8時間の研磨を行った。上記の操作を、各突出部15に凹部25が設けられている研磨パッド、及び各突出部15に凹部25が設けられていない研磨パッドを用いて、それぞれ21回ずつ行い、研磨によるガラス板の厚さの減少量を測定した。各突出部15に凹部25が設けられていない研磨パッドを用いた場合の上記減少量の平均値は、9.02μmであったのに対して、各突出部15に凹部25が設けられている研磨パッドを用いた場合の上記減少量の平均値は、9.75μmであった。 Specifically, a glass plate that was continuously conveyed at a constant speed was polished for 8 hours using a polishing machine equipped with a polishing pad. The above operation was performed 21 times each using a polishing pad in which each protrusion 15 was provided with a recess 25 and a polishing pad in which each protrusion 15 was not provided with a recess 25. The amount of decrease in thickness was measured. The average value of the reduction amount when using a polishing pad in which each protrusion 15 is not provided with a recess 25 is 9.02 μm, whereas in the case where each protrusion 15 is provided with a recess 25 The average value of the reduction amount when using a polishing pad was 9.75 μm.
次に、本実施形態の効果について記載する。
(1)研磨パッド11は、突出部15を有する研磨層13を備えている。突出部15は、先端側に開口する凹部25と、平面視において凹25部を囲む環状をなし、先端面が平面状である環状壁部とを備えている。
Next, the effects of this embodiment will be described.
(1) The polishing pad 11 includes a polishing layer 13 having a protrusion 15. The protrusion 15 includes a recess 25 that opens toward the distal end, and an annular wall that surrounds the recess 25 in plan view and has a planar end surface.
上記構成によれば、突出部15における研磨が強く行われる部位である相対回転方向RDの前方側の角部が増加する。これにより、突出部15による研磨効率が向上する。
また、突出部15に対して、凹部25を囲む環状壁部が設けられている。これにより、凹部25の形成に起因する突出部15の強度の過度な低下が抑制されて、突出部15が早期に壊れること、例えば、突出部15の形状が崩れたり、突出部15が研磨層13から剥離したりすることを抑制できる。そのため、角部を増加させるために突出部の数を増やした場合と比較してより長期間の使用が可能となる。
According to the above configuration, the corner portion on the front side in the relative rotation direction RD, which is a portion of the protrusion 15 that is strongly polished, increases. This improves the polishing efficiency of the protrusion 15.
Furthermore, an annular wall surrounding the recess 25 is provided for the protrusion 15 . This suppresses an excessive decrease in the strength of the protrusion 15 due to the formation of the recess 25, and prevents the protrusion 15 from breaking early, for example, the shape of the protrusion 15 collapses, or the protrusion 15 is removed from the polishing layer. It is possible to suppress peeling off from 13. Therefore, compared to the case where the number of protruding parts is increased to increase the number of corner parts, it is possible to use the product for a longer period of time.
(2)凹部25は、平面視において、研磨パッド11の相対回転方向RDに交差する方向に延びる形状である。
上記構成によれば、突出部15における第2内側面27に連なる角部C2を、相対回転方向RDに交差する方向の広範囲に形成できる。これにより、突出部15による研磨効率が更に向上する。
(2) The recess 25 has a shape extending in a direction intersecting the relative rotation direction RD of the polishing pad 11 when viewed from above.
According to the above configuration, the corner C2 of the protrusion 15 that is continuous with the second inner surface 27 can be formed over a wide range in the direction intersecting the relative rotation direction RD. This further improves the polishing efficiency of the protrusion 15.
(3)凹部25は、平面視において、細長形状であり、その角部が丸まっている。
上記構成によれば、研磨時に突出部15に作用する負荷が環状壁部の全体に分散しやすくなる。これにより、突出部15が早期に壊れることを更に抑制できる。
(3) The recess 25 has an elongated shape in plan view, and its corners are rounded.
According to the above configuration, the load acting on the protrusion 15 during polishing is easily dispersed over the entire annular wall. Thereby, it is possible to further suppress the protrusion 15 from breaking at an early stage.
(4)研磨パッド11の研磨層13における各突出部15は、基材層12の主面PSに平行な先端面20と、その先端面20に連なるとともに基材層12の主面PSに対する角度が鋭角となる傾斜面状の第1側面21とを有している。この第1側面21は、研磨パッド11と被研磨物との相対回転方向RDとは異なる方向に延在している。 (4) Each protrusion 15 in the polishing layer 13 of the polishing pad 11 has a tip surface 20 that is parallel to the main surface PS of the base layer 12, and is connected to the tip surface 20 and at an angle with respect to the main surface PS of the base layer 12. The first side surface 21 has an inclined surface shape and has an acute angle. This first side surface 21 extends in a direction different from the relative rotation direction RD between the polishing pad 11 and the object to be polished.
上記構成によれば、研磨パッド11と被研磨物とが相対回転された際に、各突出部15の傾斜面状の第1側面21に連なる角部C1の付近が被研磨物に好適に押圧される。これにより、突出部15の角部C1の付近が被研磨物の研磨に利用され易くなる。 According to the above configuration, when the polishing pad 11 and the object to be polished are rotated relative to each other, the vicinity of the corner C1 continuous to the inclined first side surface 21 of each protrusion 15 is suitably pressed against the object to be polished. be done. This makes it easier to use the vicinity of the corner C1 of the protrusion 15 for polishing the object to be polished.
なお、本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・凹部25の形状は特に限定されるものではなく、その平面視形状や断面形状等の各種形状を適宜変更してもよい。
Note that this embodiment can be implemented with the following modifications. This embodiment and the following modified examples can be implemented in combination with each other within a technically consistent range.
- The shape of the recessed portion 25 is not particularly limited, and various shapes such as its plan view shape and cross-sectional shape may be changed as appropriate.
例えば、図6に示すように、凹部25の第2内側面27を、基材層12の主面PSに対する角度である第4角度θ4が鋭角となる傾斜面としてもよい。第4角度θ4は、例えば、80°以下であることが好ましく、より好ましくは70°以下であり、さらに好ましくは60°以下である。また、第4角度θ4は、10°以上であることが好ましく、より好ましくは20°以上であり、さらに好ましくは30°以上である。第4角度θ4を上記の角度とすることにより、突出部15における第2内側面27に連なる角部C2の付近における研磨に関しても、上記(4)と同様の効果が得られる。 For example, as shown in FIG. 6, the second inner side surface 27 of the recess 25 may be an inclined surface where the fourth angle θ4, which is the angle with respect to the main surface PS of the base material layer 12, is an acute angle. The fourth angle θ4 is, for example, preferably 80° or less, more preferably 70° or less, and even more preferably 60° or less. Further, the fourth angle θ4 is preferably 10° or more, more preferably 20° or more, and still more preferably 30° or more. By setting the fourth angle θ4 to the above-mentioned angle, the same effect as in (4) above can be obtained regarding polishing in the vicinity of the corner C2 of the protrusion 15 that is connected to the second inner surface 27.
また、上記実施形態の凹部25は、平面視において、研磨パッド11の相対回転方向RDに交差する方向に延びる細長形状であり、細長形状を長円形状としていたが、例えば、細長形状を、相対回転方向RDに交差する方向に延びる長四角形状等の多角形状としてもよいし、正円形状、正方形状のように、相対回転方向RDに交差する方向に延びる形状以外の形状としてもよい。なお、本明細書において、多角形状や長円形状の環状も、環状に該当する。 Further, the recess 25 in the above embodiment has an elongated shape extending in a direction intersecting the relative rotation direction RD of the polishing pad 11 in plan view, and the elongated shape is an oval shape. It may be a polygonal shape such as a rectangular shape extending in a direction intersecting the rotational direction RD, or a shape other than a shape extending in a direction intersecting the relative rotational direction RD, such as a perfect circular shape or a square shape. In addition, in this specification, a polygonal shape or an elliptical shape also corresponds to a ring shape.
・凹部25は、研磨層13を貫通して基材層12に達する貫通孔であってもよい。
・各突出部15に設けられる各凹部25は全て同じ形状であってもよいし、一部又は全部が異なる形状であってもよい。
- The recess 25 may be a through hole that penetrates the polishing layer 13 and reaches the base layer 12.
- The recesses 25 provided in each protrusion 15 may all have the same shape, or may have partially or entirely different shapes.
・一つの突出部15に対して、2以上の凹部25を設けてもよい。複数の凹部25を設ける場合、突出部15における各凹部25の配置は特に限定されるものではない。
例えば、図7に示すように、相対回転方向RDに重なるように並ぶ複数の凹部25を有する突出部15としてもよいし、図8に示すように、相対回転方向RDに重ならないように並ぶ複数の凹部25を有する突出部15としてもよい。また、相対回転方向RDに重なるように並ぶ複数の凹部25と、相対回転方向RDに重ならないように並ぶ複数の凹部25とを有する突出部15としてもよい。
- Two or more recesses 25 may be provided for one protrusion 15. When providing a plurality of recesses 25, the arrangement of each recess 25 in the protrusion 15 is not particularly limited.
For example, as shown in FIG. 7, the protrusion 15 may have a plurality of recesses 25 arranged so as to overlap in the relative rotation direction RD, or as shown in FIG. The protrusion 15 may have a recess 25 . Further, the protrusion 15 may have a plurality of recesses 25 lined up so as to overlap in the relative rotation direction RD and a plurality of recesses 25 lined up so as not to overlap in the relative rotation direction RD.
突出部15に対して、一つの大きな凹部25を設けた場合と比較して、複数の凹部25を設けた場合には、突出部15の各側面を形成する壁部21a~24aの間を接続する壁部が形成されることにより、突出部15の強度が向上する。 Compared to the case where one large recess 25 is provided for the protrusion 15, when a plurality of recesses 25 are provided, the walls 21a to 24a forming each side surface of the protrusion 15 are connected. The strength of the protruding portion 15 is improved by forming the wall portion.
また、図7に示すように、突出部15に対して、複数の凹部25を相対回転方向RDに重なるように設けた場合には、凹部25の形成数に応じて、突出部15における研磨が強く行われる部位である相対回転方向RDの前方側の角部が更に増加する。これにより、突出部15による研磨効率が更に向上する。 Further, as shown in FIG. 7, when a plurality of recesses 25 are provided in the protrusion 15 so as to overlap in the relative rotation direction RD, polishing in the protrusion 15 is performed depending on the number of recesses 25 formed. The corner portion on the front side in the relative rotation direction RD, which is a portion where the rotation is strongly performed, further increases. This further improves the polishing efficiency of the protrusion 15.
・突出部15の形状は特に限定されるものではなく、その平面視形状や断面形状等の各種形状を適宜変更してもよい。例えば、上記実施形態の突出部の第1側面21は、基材層12の主面PSに対する角度である第1角度θ1が鋭角となる傾斜面であったが、第1角度θ1が直角となる垂直面であってもよい。 - The shape of the protrusion 15 is not particularly limited, and various shapes such as its plan view shape and cross-sectional shape may be changed as appropriate. For example, the first side surface 21 of the protrusion in the above embodiment is an inclined surface where the first angle θ1, which is the angle with respect to the main surface PS of the base material layer 12, is an acute angle, but the first angle θ1 is a right angle. It may be a vertical plane.
・突出部15は全て同じ形状であってもよいし、一部又は全部が異なる形状であってもよい。
・前記研磨パッド11の基材層12は、弾性層12bが省略されたものであってもよい。
- All the protrusions 15 may have the same shape, or some or all of them may have different shapes.
- The base material layer 12 of the polishing pad 11 may be one in which the elastic layer 12b is omitted.
・研磨パッド11の研磨層13は、基材層12上に離間して配置される複数の研磨層13から構成されているが、一体となった単数の研磨層13から構成されてもよい。
・研磨パッド11は、各突出部15の延在する方向に基づいて領域A1~A6に区分されているが、これに限定されず、区分する領域の数や形状は変更されてもよい。また、研磨パッド11における領域を特に設定せずに、各突出部15を研磨パッドの中心から放射状となるように延在してもよい。
- Although the polishing layer 13 of the polishing pad 11 is composed of a plurality of polishing layers 13 spaced apart from each other on the base material layer 12, it may be composed of a single polishing layer 13 that is integrated.
- Although the polishing pad 11 is divided into regions A1 to A6 based on the extending direction of each protrusion 15, the present invention is not limited to this, and the number and shape of the divided regions may be changed. Alternatively, each protrusion 15 may extend radially from the center of the polishing pad without specifically setting a region on the polishing pad 11.
・研磨パッド11は、研磨層13側から見た平面視(図1)において反時計回りとなるように相対回転させて使用するが、時計回りとなるように相対回転させて使用する研磨パッドに変更されてもよい。 - The polishing pad 11 is used by being relatively rotated counterclockwise when viewed from the polishing layer 13 side (FIG. 1); May be changed.
・前記研磨パッド11の研磨層13の各突出部15に砥粒を含有させることで、研磨用スラリーを用いずに水等を研磨用液として被研磨物を研磨してもよい。
・前記研磨パッド11を回転させずに、被研磨物を回転させることで被研磨物を研磨してもよい。また、研磨パッド11は、複数の研磨パッドを遊星歯車機構により同時に回転させて用いる研磨機に装着して用いてもよい。
- By containing abrasive grains in each protrusion 15 of the polishing layer 13 of the polishing pad 11, the object to be polished may be polished using water or the like as a polishing liquid without using a polishing slurry.
- The object to be polished may be polished by rotating the object to be polished without rotating the polishing pad 11. Further, the polishing pad 11 may be used by being attached to a polishing machine that uses a planetary gear mechanism to simultaneously rotate a plurality of polishing pads.
GS…ガラス板、PS…主面、RD…相対回転方向、11…研磨パッド、12…基材層、13…研磨層、15…突出部、20…先端面、21…第1側面、22…第2側面、23…第3側面、24…第4側面、21a~24a…壁部、25…凹部、26…第1内側面、27…第2内側面。 GS... Glass plate, PS... Main surface, RD... Relative rotation direction, 11... Polishing pad, 12... Base material layer, 13... Polishing layer, 15... Projection, 20... Tip surface, 21... First side surface, 22... Second side surface, 23... Third side surface, 24... Fourth side surface, 21a to 24a... Wall portion, 25... Recessed portion, 26... First inner surface, 27... Second inner surface.
Claims (4)
複数の突出部と、隣り合う前記突出部の間に形成されている溝とを有する研磨層を備え、
前記突出部は、先端面と、前記先端面に連なるとともに当該研磨パッドの相対回転方向に交差する方向に延在している第1側面とを有する四角柱状であり、
前記突出部は、前記先端面に開口する凹部と、平面視において前記凹部を囲む環状をなし、前記先端面が平面状である環状壁部とを備え、
前記凹部は、平面視において、前記第1側面が延在する方向に延びる細長形状であることを特徴とする研磨パッド。 A polishing pad that polishes an object to be polished by relative rotation with the object to be polished,
A polishing layer having a plurality of protrusions and grooves formed between the adjacent protrusions ,
The protrusion has a rectangular prism shape having a tip surface and a first side surface that is continuous with the tip surface and extends in a direction intersecting the relative rotation direction of the polishing pad,
The protrusion includes a recess opening in the tip surface , and an annular wall portion surrounding the recess in a plan view, and the tip surface is planar .
The polishing pad is characterized in that the recess has an elongated shape extending in the direction in which the first side surface extends in plan view .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019175695A JP7351170B2 (en) | 2019-09-26 | 2019-09-26 | Polishing pad and polishing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019175695A JP7351170B2 (en) | 2019-09-26 | 2019-09-26 | Polishing pad and polishing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021049624A JP2021049624A (en) | 2021-04-01 |
JP7351170B2 true JP7351170B2 (en) | 2023-09-27 |
Family
ID=75158322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019175695A Active JP7351170B2 (en) | 2019-09-26 | 2019-09-26 | Polishing pad and polishing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7351170B2 (en) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003300149A (en) | 2002-02-07 | 2003-10-21 | Sony Corp | Grinding pad, grinding device, and grinding method |
JP2005183707A (en) | 2003-12-19 | 2005-07-07 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | Polishing pad for cmp and polishing method using same |
JP2007290114A (en) | 2006-03-27 | 2007-11-08 | Toshiba Corp | Polishing pad, polishing method, and polishing device |
US20100056031A1 (en) | 2008-08-29 | 2010-03-04 | Allen Chiu | Polishing Pad |
JP2018051730A (en) | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 富士紡ホールディングス株式会社 | Polishing pad, manufacturing method for the same, and manufacturing method for polished product |
JP2019510650A (en) | 2016-03-24 | 2019-04-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Small textured pads for chemical mechanical polishing |
-
2019
- 2019-09-26 JP JP2019175695A patent/JP7351170B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003300149A (en) | 2002-02-07 | 2003-10-21 | Sony Corp | Grinding pad, grinding device, and grinding method |
JP2005183707A (en) | 2003-12-19 | 2005-07-07 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | Polishing pad for cmp and polishing method using same |
JP2007290114A (en) | 2006-03-27 | 2007-11-08 | Toshiba Corp | Polishing pad, polishing method, and polishing device |
US20100056031A1 (en) | 2008-08-29 | 2010-03-04 | Allen Chiu | Polishing Pad |
JP2019510650A (en) | 2016-03-24 | 2019-04-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Small textured pads for chemical mechanical polishing |
JP2018051730A (en) | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 富士紡ホールディングス株式会社 | Polishing pad, manufacturing method for the same, and manufacturing method for polished product |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021049624A (en) | 2021-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7232285B2 (en) | A retaining ring having an inner surface containing features | |
JP2018535841A (en) | Polishing or grinding pad assembly | |
JP5114113B2 (en) | Work carrier | |
US8303378B2 (en) | Polishing pad, polishing method and method of forming polishing pad | |
US20080064311A1 (en) | Polishing Pad | |
JP2008020071A (en) | Brake pad made of a plurality of friction member layers | |
JP6529210B2 (en) | Polishing method using polishing disk and article used therefor | |
US20130225051A1 (en) | Abrasive pad assembly | |
JP7351170B2 (en) | Polishing pad and polishing method | |
TWI599150B (en) | Motor and dynamic pressure plate thereof | |
JP7087365B2 (en) | Polishing pad | |
JP7469735B2 (en) | Polishing pad and polishing method | |
US6739963B1 (en) | Disk for grinding concrete | |
JP6354432B2 (en) | Polishing pad | |
JP2018103297A (en) | Polishing jig and polishing device | |
KR102485810B1 (en) | Retainer ring of chemical and mechanical polishing apparatus | |
JP6489327B2 (en) | Cup type rotating grindstone | |
JP2023023551A (en) | Polishing pad and polishing method | |
JP7444050B2 (en) | Double-sided polishing carrier and wafer polishing method | |
JP2019171550A (en) | Polishing body | |
JP6602629B2 (en) | Polishing brush | |
JP2007214379A (en) | Polishing pad | |
JPH11188645A (en) | Cup type grinder | |
US20170209978A1 (en) | Eraser wheel assembly structure | |
US1141616A (en) | Polishing-head. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220622 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230404 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230605 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230815 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230828 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7351170 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |