JP7343024B1 - An optical film, a polarizing plate, a surface plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, a method for selecting an optical film, and a method for evaluating fingerprint wiping performance. - Google Patents

An optical film, a polarizing plate, a surface plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, a method for selecting an optical film, and a method for evaluating fingerprint wiping performance. Download PDF

Info

Publication number
JP7343024B1
JP7343024B1 JP2022158209A JP2022158209A JP7343024B1 JP 7343024 B1 JP7343024 B1 JP 7343024B1 JP 2022158209 A JP2022158209 A JP 2022158209A JP 2022158209 A JP2022158209 A JP 2022158209A JP 7343024 B1 JP7343024 B1 JP 7343024B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical film
less
contact angle
particles
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2022158209A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2024051848A (en
Inventor
淳 辻本
行光 岩田
理哲 竹井
将史 田中
圭輔 池田
玄 古井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2022158209A priority Critical patent/JP7343024B1/en
Priority to JP2023131865A priority patent/JP2024052542A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7343024B1 publication Critical patent/JP7343024B1/en
Priority to CN202380013248.9A priority patent/CN118119864A/en
Priority to CN202410375596.7A priority patent/CN118033794A/en
Priority to KR1020247003575A priority patent/KR20240046710A/en
Priority to PCT/JP2023/034628 priority patent/WO2024070996A1/en
Priority to KR1020247009180A priority patent/KR20240046775A/en
Priority to CN202410376425.6A priority patent/CN118033795B/en
Priority to US18/686,673 priority patent/US20240272331A1/en
Priority to TW113105130A priority patent/TW202423675A/en
Priority to TW113105124A priority patent/TWI843695B/en
Priority to US18/617,293 priority patent/US20240272330A1/en
Publication of JP2024051848A publication Critical patent/JP2024051848A/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

【課題】防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを提供する。【解決手段】第1面と、前記第1面とは反対側の面である第2面を有する光学フィルムであって、前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、前記第1面は凹凸形状を有し、前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される突出谷部空間体積であるVvvが0.005ml/m2以上であり、下記の手法により測定される落下式接触角が30.0度以上である、光学フィルム。<落下式接触角の測定>前記光学フィルムの前記第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記第1面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。【選択図】図1An object of the present invention is to provide an optical film that has excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties. An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, wherein the optical film is arranged such that the optical film extends from the first surface toward the second surface. The first surface has an anti-reflection layer and an anti-glare layer in this order, the first surface has an uneven shape, and the first surface has a protruding valley space volume Vvv of 0 as defined in ISO 25178-2:2012. .005 ml/m2 or more, and a falling contact angle measured by the method described below is 30.0 degrees or more. <Measurement of falling contact angle> A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method. [Selection diagram] Figure 1

Description

本開示は、光学フィルム、並びに、前記光学フィルムを用いた偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置、並びに、前記光学フィルムの製造方法、並びに、光学フィルムの選定方法、並びに、指紋拭き取り性の評価方法に関する。 The present disclosure relates to an optical film, a polarizing plate, a surface plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, a method for selecting an optical film, and a fingerprint wiping method. Concerning gender evaluation methods.

テレビ、ノートPC、デスクトップPCのモニター等の画像表示装置の表面には、照明及び人物等の背景の映り込みを抑制したり、表面の反射を抑制したりするために、光学フィルムが設置される場合がある。
光学フィルムとしては、例えば、特許文献1~3等が提案されている。
Optical films are installed on the surfaces of image display devices such as televisions, notebook PCs, and desktop PC monitors in order to suppress reflections of backgrounds such as lighting and people, and to suppress reflections on the surface. There are cases.
As optical films, for example, Patent Documents 1 to 3 have been proposed.

国際公開第2019/026466号International Publication No. 2019/026466 国際公開第2019/026471号International Publication No. 2019/026471 特開2019-85473号公報JP 2019-85473 Publication

特許文献1~2の光学フィルムは、表面に凹凸が形成された防眩層を有する防眩フィルムである。表面に凹凸形状を有する光学フィルムは、凹凸形状に指紋が入り込むことにより、指紋拭き取り性が低下する傾向がある。防眩フィルムは、防眩性を良好にするほど指紋拭き取り性が低下する傾向が高くなる。特許文献1~2の光学フィルムは、防汚性について何ら検討していない。 The optical films of Patent Documents 1 and 2 are anti-glare films that have an anti-glare layer with an uneven surface. An optical film having an uneven surface has a tendency for fingerprint wiping properties to deteriorate due to fingerprints getting into the uneven surface. As for the anti-glare film, the better the anti-glare property is, the more likely the fingerprint wiping property is to be reduced. The optical films of Patent Documents 1 and 2 do not have any study on antifouling properties.

特許文献3の光学フィルムは、オレイン酸の滑落角が32°以下であるコートフィルムである。特許文献3のコートフィルムは、指紋を拭き取りやすくすることを課題としているが、指紋拭き取り性が良好とはいえないものであった。
光学フィルムに付着した指紋が十分に拭き取られない場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との光学特性のコントラストにより、光学フィルムの見栄えが低下してしまう。特に、反射防止層を有する光学フィルムの場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との反射率のコントラストが大きくなり、光学フィルムの見栄えが大きく低下してしまう。
The optical film of Patent Document 3 is a coated film in which the sliding angle of oleic acid is 32° or less. Although the coated film of Patent Document 3 aims to make fingerprints easy to wipe off, it cannot be said that the fingerprint wiping properties are good.
If the fingerprints attached to the optical film are not wiped off sufficiently, the appearance of the optical film will deteriorate due to the contrast in optical properties between areas that have fingerprint components and areas that do not have fingerprint components. Particularly, in the case of an optical film having an antireflection layer, the contrast in reflectance between a portion having a fingerprint component and a portion not having a fingerprint component becomes large, and the appearance of the optical film is greatly deteriorated.

本開示は、表面に凹凸形状を有し、かつ、表面に反射防止層を有する光学フィルムにおいて、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを提供することを課題とする。本開示は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置を提供することを課題とする。本開示は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムの製造方法を提供することを課題とする。本開示は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムの選定方法を提供することを課題とする。本開示は、指紋拭き取り性を簡易に評価し得る評価方法を提供することを課題とする。 An object of the present disclosure is to provide an optical film having an uneven surface and an antireflection layer on the surface, which has excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties. An object of the present disclosure is to provide a polarizing plate, a surface plate, an image display panel, and an image display device that have excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties. An object of the present disclosure is to provide a method for manufacturing an optical film that has excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties. An object of the present disclosure is to provide a method for selecting an optical film that has excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties. An object of the present disclosure is to provide an evaluation method that can easily evaluate fingerprint wiping performance.

本開示は、以下の[1]~[8]を提供する。
[1] 第1面と、前記第1面とは反対側の面である第2面を有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第1面は凹凸形状を有し、
前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される突出谷部空間体積であるVvvが0.005ml/m以上であり、
下記の手法により測定される落下式接触角が30.0度以上である、光学フィルム。
<落下式接触角の測定>
前記光学フィルムの前記第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記第1面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
[2] 偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、[1]に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第2面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
[3] 樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが[1]に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第2面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
[4] 表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして[1]に記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
[5] [4]に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
[6] [1]に記載の光学フィルムの製造方法であって、
基材上に防眩層を形成する第1の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第2の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
[7] 下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
(光学フィルムの選定条件)
第1面と、前記第1面とは反対側の面である第2面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第1面は凹凸形状を有し、
前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される突出谷部空間体積であるVvvが0.005ml/m以上であり、
下記の手法により測定される落下式接触角が30.0度以上である。
<落下式接触角の測定>
前記光学フィルムの前記第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記第1面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
[8] 下記の測定により測定した落下式接触角の値を評価指標とする、指紋拭き取り性の評価方法。
<落下式接触角の測定>
測定対象物の表面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記表面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
The present disclosure provides the following [1] to [8].
[1] An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
The optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface,
the first surface has an uneven shape;
The first surface has a protruding valley space volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/m 2 or more,
An optical film having a falling contact angle of 30.0 degrees or more as measured by the method below.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.
[2] A polarizing plate comprising a polarizer, a first transparent protective plate disposed on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate disposed on the other side of the polarizer. hand,
At least one of the first transparent protection plate and the second transparent protection plate is the optical film according to [1], and the second surface of the optical film and the polarizer are arranged to face each other. Also, a polarizing plate.
[3] A surface plate for an image display device in which a protective film is laminated onto a resin plate or a glass plate, wherein the protective film is the optical film according to [1], and the second surface of the optical film and the resin plate or the glass plate are arranged to face each other.
[4] An image display panel having a display element and an optical film disposed on the light exit surface side of the display element, the image display panel including the optical film according to [1] as the optical film.
[5] An image display device including the image display panel according to [4].
[6] A method for producing the optical film according to [1], comprising:
An optical film manufacturing method comprising a first step of forming an anti-glare layer on a base material and a second step of forming an anti-reflection layer on the anti-glare layer.
[7] An optical film selection method that selects an optical film that satisfies the following selection conditions.
(Selection conditions for optical film)
An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
The optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface,
the first surface has an uneven shape;
The first surface has a protruding valley space volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/m 2 or more,
The falling contact angle measured by the method below is 30.0 degrees or more.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.
[8] A method for evaluating fingerprint wiping performance, using the value of the falling contact angle measured by the following method as an evaluation index.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet with a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the surface of the object to be measured. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.

本開示の光学フィルム、偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性を良好にすることができる。本開示の光学フィルムの製造方法は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを、簡易に製造することができる。本開示の光学フィルムの選定方法は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを、効率よく選定することができる。本開示の指紋拭き取り性の評価方法は、測定対象物の指紋拭き取り性を簡易に評価することができる。 The optical film, polarizing plate, surface plate, image display panel, and image display device of the present disclosure have excellent anti-glare properties and can have good fingerprint wiping properties. The method for producing an optical film of the present disclosure can easily produce an optical film that has excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties. The method for selecting an optical film of the present disclosure can efficiently select an optical film that has excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties. The fingerprint wiping property evaluation method of the present disclosure can easily evaluate the fingerprint wiping property of a measurement target.

本開示の光学フィルムの一実施形態を示す概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of an optical film of the present disclosure. 本開示の画像表示パネルの一実施形態を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of an image display panel of the present disclosure.

以下、本開示の実施形態を説明する。
[光学フィルム]
本開示の光学フィルムは、以下のものである。
第1面と、前記第1面とは反対側の面である第2面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第1面は凹凸形状を有し、
前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される突出谷部空間体積であるVvvが0.005ml/m以上であり、
下記の手法により測定される落下式接触角が30.0度以上である、光学フィルム。
<落下式接触角の測定>
前記光学フィルムの前記第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記第1面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
Embodiments of the present disclosure will be described below.
[Optical film]
The optical film of the present disclosure is as follows.
An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
The optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface,
the first surface has an uneven shape;
The first surface has a protruding valley space volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/m 2 or more,
An optical film having a falling contact angle of 30.0 degrees or more as measured by the method below.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.

図1は、本開示の光学フィルム100の断面形状の概略断面図である。
図1の光学フィルム100は、凹凸形状を有する第1面と、前記第1面とは反対側の面である第2面を有している。図1では、上側の面が第1面、下側の面が第2面である。
図1の光学フィルムは、第1面から第2面に向けて、反射防止層30、防眩層20及び基材10をこの順に有している。
図1は模式的な断面図である。すなわち、光学フィルム100を構成する各層の縮尺、及び凹凸形状の縮尺は、図示しやすくするために模式化したものであり、実際の縮尺とは相違している。図2及び3も同様である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the cross-sectional shape of an optical film 100 of the present disclosure.
The optical film 100 of FIG. 1 has a first surface having an uneven shape and a second surface that is a surface opposite to the first surface. In FIG. 1, the upper surface is the first surface, and the lower surface is the second surface.
The optical film of FIG. 1 has an antireflection layer 30, an antiglare layer 20, and a base material 10 in this order from the first surface to the second surface.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view. That is, the scale of each layer constituting the optical film 100 and the scale of the uneven shape are simplified for ease of illustration, and are different from the actual scale. The same applies to FIGS. 2 and 3.

本開示の光学フィルムは、図1の積層構成に限定されない。例えば、本開示の光学フィルムは、基材を有さない積層構成であってもよい。本開示の光学フィルムは、基材、防眩層及び反射防止層以外の層を有するものであってもよい。 The optical film of the present disclosure is not limited to the laminated structure shown in FIG. For example, the optical film of the present disclosure may have a laminated structure without a base material. The optical film of the present disclosure may have layers other than the base material, antiglare layer, and antireflection layer.

<第1面>
本開示の光学フィルムは第1面を有する。本開示の光学フィルムは、反射防止層の表面が第1面であることが好ましい。
<Side 1>
The optical film of the present disclosure has a first surface. In the optical film of the present disclosure, it is preferable that the surface of the antireflection layer is the first surface.

光学フィルムの第1面は、凹凸形状を有し、ISO 25178-2:2012に規定される突出谷部空間体積であるVvvが0.005ml/m以上である。第1面が凹凸形状を有さない場合、光学フィルムの防眩性を良好にすることができない。第1面が凹凸形状を有していても、Vvvが0.005ml/m未満の場合、光学フィルムの防眩性を良好にすることができない。 The first surface of the optical film has an uneven shape, and the protruding valley space volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 is 0.005 ml/m 2 or more. If the first surface does not have an uneven shape, the optical film cannot have good anti-glare properties. Even if the first surface has an uneven shape, if Vvv is less than 0.005 ml/m 2 , the optical film cannot have good anti-glare properties.

Vvvは、0.007ml/m以上であることが好ましく、0.010ml/m以上であることがより好ましく、0.020ml/m以上であることがより好ましく、0.030ml/m以上であることがより好ましい。
Vvvが大きすぎると、落下式接触角を30.0度以上にし難くなる傾向がある。このため、Vvvは、0.100ml/m以下であることが好ましく、0.080ml/m以下であることがより好ましく、0.060ml/m以下であることがより好ましく、0.045ml/m以下であることがより好ましい。
Vvv is preferably 0.007 ml/m 2 or more, more preferably 0.010 ml/m 2 or more, more preferably 0.020 ml/m 2 or more, and 0.030 ml/m 2 It is more preferable that it is above.
If Vvv is too large, it tends to be difficult to increase the falling contact angle to 30.0 degrees or more. Therefore, Vvv is preferably 0.100 ml/m 2 or less, more preferably 0.080 ml/m 2 or less, more preferably 0.060 ml/m 2 or less, and 0.045 ml/m 2 or less. /m 2 or less is more preferable.

第1面のVvvの範囲の実施形態は、0.005ml/m以上0.100ml/m以下、0.005ml/m以上0.080ml/m以下、0.005ml/m以上0.060ml/m以下、0.005ml/m以上0.045ml/m以下、0.007ml/m以上0.100ml/m以下、0.007ml/m以上0.080ml/m以下、0.007ml/m以上0.060ml/m以下、0.007ml/m以上0.045ml/m以下、0.010ml/m以上0.100ml/m以下、0.010ml/m以上0.080ml/m以下、0.010ml/m以上0.060ml/m以下、0.010ml/m以上0.045ml/m以下、0.020ml/m以上0.100ml/m以下、0.020ml/m以上0.080ml/m以下、0.020ml/m以上0.060ml/m以下、0.020ml/m以上0.045ml/m以下、0.030ml/m以上0.100ml/m以下、0.030ml/m以上0.080ml/m以下、0.030ml/m以上0.060ml/m以下、0.030ml/m以上0.045ml/m以下が挙げられる。 The embodiment of the range of Vvv on the first side is 0.005 ml/m 2 or more and 0.100 ml/m 2 or less, 0.005 ml/m 2 or more and 0.080 ml/m 2 or less, and 0.005 ml/m 2 or more and 0. .060ml/ m2 or less, 0.005ml/ m2 or more and 0.045ml/ m2 or less, 0.007ml/m2 or more and 0.100ml/ m2 or less, 0.007ml/ m2 or more and 0.080ml/ m2 Below, 0.007ml/ m2 or more and 0.060ml/ m2 or less, 0.007ml/ m2 or more and 0.045ml/ m2 or less, 0.010ml/ m2 or more and 0.100ml/ m2 or less, 0.010ml / m2 or more and 0.080ml/ m2 or less, 0.010ml/ m2 or more and 0.060ml/m2 or less, 0.010ml/ m2 or more and 0.045ml/ m2 or less, 0.020ml/m2 or more and 0 .100ml/ m2 or less, 0.020ml/ m2 or more and 0.080ml/ m2 or less, 0.020ml/m2 or more and 0.060ml/ m2 or less, 0.020ml/ m2 or more and 0.045ml/ m2 Below, 0.030ml/ m2 or more and 0.100ml/ m2 or less, 0.030ml/ m2 or more and 0.080ml/ m2 or less, 0.030ml/ m2 or more and 0.060ml/ m2 or less, 0.030ml / m2 or more and 0.045ml/ m2 or less.

光学フィルムの第1面は、下記の手法により測定される落下式接触角が30.0度以上である。
<落下式接触角の測定>
前記光学フィルムの前記第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記第1面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
The first surface of the optical film has a falling contact angle of 30.0 degrees or more as measured by the method described below.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.

第1面の落下式接触角が30.0度未満の場合、指紋拭き取り性を良好にすることができない。落下式接触角と、指紋拭き取り性との関係を以下に説明する。
本開示の落下式接触角の測定では、光学フィルムの第1面に対して、液滴を45mmの高さから落下させる。第1面に落下した液滴は、落下時の衝撃によりつぶれた形状となるため、落下直後の液滴の接触角は小さくなる傾向がある。特に、Vvvが所定の値以上の凹凸形状を有する光学フィルムの場合、液滴が濡れ広がりやすいため、落下直後の液滴の接触角が小さくなる傾向が高くなる。
光学フィルムの第1面上において、つぶれた形状で存在する液液は拭き取り難い。本開示の落下式接触角の測定では、着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定している。そして、本開示の光学フィルムは、落下式接触角が30.0度以上である。すなわち、落下式接触角が30.0度以上である本開示の光学フィルムは、落下時の衝撃でつぶれた形状となった液滴が、球形に近い形状に回復することを意味している。このため、本開示の光学フィルムは、Vvvが0.005ml/m以上である凹凸形状を有するにも関わらず、指紋拭き取り性を良好にすることができる。
When the falling contact angle of the first surface is less than 30.0 degrees, good fingerprint wiping performance cannot be achieved. The relationship between the falling contact angle and the fingerprint wiping property will be explained below.
In the falling contact angle measurement of the present disclosure, a droplet is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. Since the droplet that has fallen onto the first surface has a crushed shape due to the impact upon falling, the contact angle of the droplet immediately after falling tends to be small. In particular, in the case of an optical film having an uneven shape with a Vvv of a predetermined value or more, the droplet easily wets and spreads, so the contact angle of the droplet immediately after falling tends to be small.
Liquid present in a collapsed shape on the first surface of the optical film is difficult to wipe off. In the falling contact angle measurement of the present disclosure, the static contact angle 10 seconds after the droplet has been deposited is measured by the θ/2 method. The optical film of the present disclosure has a falling contact angle of 30.0 degrees or more. That is, in the optical film of the present disclosure having a falling contact angle of 30.0 degrees or more, this means that droplets that have been crushed due to impact upon falling recover to a nearly spherical shape. Therefore, the optical film of the present disclosure can have good fingerprint wiping properties even though it has an uneven shape with a Vvv of 0.005 ml/m 2 or more.

光学フィルムの表面を指で触ると、触った時の圧力により、指紋成分が凹凸形状の内部に浸透する。本開示の落下式接触角の測定において、液滴を45mmの高さから落下させる理由は、前述した現象(圧力により指紋成分が凹凸形状の内部に浸透する現象)を考慮したためである。
落下式接触角の測定において、滴下する液滴の量は5.0μlとすることが好ましい。
When you touch the surface of an optical film with your finger, the pressure of the touch causes the fingerprint components to penetrate into the concavo-convex shape. In the falling contact angle measurement of the present disclosure, the reason why the droplet is dropped from a height of 45 mm is to take into consideration the above-mentioned phenomenon (the phenomenon in which fingerprint components penetrate into the inside of the uneven shape due to pressure).
In the falling contact angle measurement, the amount of droplets dropped is preferably 5.0 μl.

指紋には、水だけではなく、皮脂等も含まれている。このため、本開示の落下式接触角の測定では、純水ではなく、表面張力が30mN/mの液体を用いている。本明細書では、表面張力が30mN/mの液体としては、下記の組成の液体を用いた。本明細書において、表面張力は、JIS K2241:2017で規定するウィルヘルミー表面張力計により測定した値を意味する。
<表面張力が30mN/mの液体の組成>
エチレングリコールモノエチルエーテルを100質量%含む液体。
Fingerprints contain not only water but also sebum and the like. Therefore, in the falling contact angle measurement of the present disclosure, a liquid with a surface tension of 30 mN/m is used instead of pure water. In this specification, a liquid having the following composition was used as the liquid having a surface tension of 30 mN/m. In this specification, surface tension means a value measured by a Wilhelmy surface tension meter specified in JIS K2241:2017.
<Composition of liquid with surface tension of 30 mN/m>
A liquid containing 100% by mass of ethylene glycol monoethyl ether.

落下式接触角は、40.0度以上であることが好ましく、45.0度以上であることがより好ましく、50.0度以上であることがさらに好ましい。
落下式接触角が大きすぎる場合、反射防止層中のフッ素系化合物及びシリコーン系化合物の含有量が増加し、光学フィルムの耐擦傷性が低下しやすくなる。このため、落下式接触角は70.0度以下であることが好ましく、60.0度以下であることがより好ましく、55.0度以下であることがさらに好ましい。
The falling contact angle is preferably 40.0 degrees or more, more preferably 45.0 degrees or more, and even more preferably 50.0 degrees or more.
If the falling contact angle is too large, the content of fluorine-based compounds and silicone-based compounds in the antireflection layer increases, and the scratch resistance of the optical film tends to decrease. Therefore, the falling contact angle is preferably 70.0 degrees or less, more preferably 60.0 degrees or less, and even more preferably 55.0 degrees or less.

第1面の落下式接触角の範囲の実施形態は、30.0度以上70.0度以下、30.0度以上60.0度以下、30.0度以上55.0度以下、40.0度以上70.0度以下、40.0度以上60.0度以下、40.0度以上55.0度以下、45.0度以上70.0度以下、45.0度以上60.0度以下、45.0度以上55.0度以下、50.0度以上70.0度以下、50.0度以上60.0度以下、50.0度以上55.0度以下が挙げられる。 The falling contact angle range of the first surface is 30.0 degrees or more and 70.0 degrees or less, 30.0 degrees or more and 60.0 degrees or less, 30.0 degrees or more and 55.0 degrees or less, and 40. 0 degrees or more and 70.0 degrees or less, 40.0 degrees or more and 60.0 degrees or less, 40.0 degrees or more and 55.0 degrees or less, 45.0 degrees or more and 70.0 degrees or less, 45.0 degrees or more and 60.0 degrees degree or less, 45.0 degrees or more and 55.0 degrees or less, 50.0 degrees or more and 70.0 degrees or less, 50.0 degrees or more and 60.0 degrees or less, and 50.0 degrees or more and 55.0 degrees or less.

本明細書において、Vvv、Vvc及びVmpは、コア部と突出山部を分離する負荷面積率を10%、コア部と突出谷部を分離する負荷面積率を80%、として算出したものである。
本明細書において、Sxpは、負荷面積率2.5%の高さと、負荷面積率50%の高さとの差分を意味する。
In this specification, Vvv, Vvc, and Vmp are calculated assuming that the load area ratio separating the core part and the protruding peak part is 10%, and the load area ratio separating the core part and the protruding valley part is 80%. .
In this specification, Sxp means the difference between the height at a load area ratio of 2.5% and the height at a load area ratio of 50%.

本明細書において、Vvv、Vvc、Vmp、Sxp及びSal等の表面形状は、共焦点レーザー顕微鏡を用いて測定することが好ましい。共焦点レーザー顕微鏡としては、キーエンス社の「VK-X」シリーズ等が挙げられる。また、前述の「VK-X」シリーズの「マルチファイル解析アプリケーション」を用いることにより、Vvv、Vvc、Vmp、Sxp及びSalを簡易に算出することができる。
前述の「VK-X」シリーズを用いて、Vvv、Vvc、Vmp、Sxp及びSalを測定する際の測定条件は、実施例に記載の条件に従うことが好ましい。例えば、F-オペレーションは平面傾き補正(領域指定)とすることが好ましい。測定領域は1辺が50μm以上200μm以下の長方形が好ましく、測定点は1辺あたりで500点以上2000点以下であることが好ましい。
In this specification, surface shapes such as Vvv, Vvc, Vmp, Sxp, and Sal are preferably measured using a confocal laser microscope. Examples of confocal laser microscopes include the "VK-X" series manufactured by Keyence Corporation. Further, by using the "multi-file analysis application" of the "VK-X" series described above, Vvv, Vvc, Vmp, Sxp, and Sal can be easily calculated.
The measurement conditions when measuring Vvv, Vvc, Vmp, Sxp, and Sal using the aforementioned "VK-X" series are preferably in accordance with the conditions described in Examples. For example, it is preferable that the F-operation is plane tilt correction (area specification). The measurement area is preferably a rectangle with one side of 50 μm or more and 200 μm or less, and the number of measurement points is preferably 500 or more and 2000 or less per side.

本明細書において、表面形状(Vvv、Vvc、Vmp、Sxp及びSal)、接触角(落下式接触角、純水接触角)、元素比率(F/無機Si、有機Si/無機Si、F/有機Si等)、光学物性(RSCI、ヘイズ、全光線透過率、透過像鮮明度等)は、特に断りのない限り、16箇所の測定値から最大値及び最小値を除いた14の測定値の平均値を意味する。
本明細書において、16の測定箇所は、測定サンプルの外縁から1cmの領域を余白として除き、残りの領域に関して、縦方向及び横方向を5等分する線を引いた際の、交点の16箇所を測定の中心とすることが好ましい。例えば、測定サンプルが長方形の場合、長方形の外縁から0.5cmの領域を余白として除き、残りの領域を縦方向及び横方向に5等分した点線の交点の16箇所を中心として測定を行う。そして、16箇所の測定値から最大値及び最小値を除いた14の測定値の平均値を、パラメータの値とすることが好ましい。測定サンプルが円形、楕円形、三角形、五角形等の長方形以外の形状の場合、これら形状に内接する長方形を描き、前記長方形に関して、上記手法により16箇所の測定を行うことが好ましい。
In this specification, surface shape (Vvv, Vvc, Vmp, Sxp and Sal), contact angle (falling contact angle, pure water contact angle), elemental ratio (F/inorganic Si, organic Si/inorganic Si, F/organic Si, etc.), optical properties ( RSCI , haze, total light transmittance, transmitted image clarity, etc.) are based on the 14 measured values excluding the maximum and minimum values from the 16 measured values, unless otherwise specified. Means the average value.
In this specification, the 16 measurement points are the 16 points of intersection when a 1 cm area from the outer edge of the measurement sample is removed as a margin, and a line dividing the remaining area into 5 equal parts in the vertical and horizontal directions is drawn. It is preferable to center the measurement on For example, if the measurement sample is a rectangle, a 0.5 cm area from the outer edge of the rectangle is removed as a margin, and the remaining area is divided into 5 equal parts in the vertical and horizontal directions, and measurements are performed centering on 16 points of intersection of dotted lines. Preferably, the average value of 14 measured values obtained by removing the maximum value and minimum value from the measured values at 16 locations is set as the value of the parameter. When the measurement sample has a shape other than a rectangle, such as a circle, an ellipse, a triangle, or a pentagon, it is preferable to draw a rectangle inscribed in these shapes and perform measurements at 16 locations on the rectangle using the above method.

本明細書において、表面形状(Vvv、Vvc、Vmp、Sxp及びSal)、接触角(落下式接触角、純水接触角)、表面張力、元素比率(F/無機Si、有機Si/無機Si、F/有機Si等)、光学物性(RSCI、ヘイズ、全光線透過率、透過像鮮明度等)は、特に断りのない限り、温度23±5℃、相対湿度40%以上65%以下で測定したものとする。また、各測定の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に30分以上60分以下晒してから測定を行うものとする。
本開示の光学フィルムは、第1面の純水接触角が100度以上120度以下であることが好ましく、110度以上115度以下であることがより好ましい。
純水接触角は、第1面側の表面に純水を1.0μL滴下し、着滴10秒後の静的接触角をθ/2法に従って計測することができる。
In this specification, surface shape (Vvv, Vvc, Vmp, Sxp and Sal), contact angle (falling contact angle, pure water contact angle), surface tension, element ratio (F/inorganic Si, organic Si/inorganic Si, F/organic Si, etc.), optical properties ( RSCI , haze, total light transmittance, transmitted image clarity, etc.) are measured at a temperature of 23 ± 5°C and a relative humidity of 40% to 65%, unless otherwise specified. It shall be assumed that Furthermore, before starting each measurement, the target sample is exposed to the atmosphere for 30 minutes or more and 60 minutes or less, and then the measurement is performed.
In the optical film of the present disclosure, the pure water contact angle on the first surface is preferably 100 degrees or more and 120 degrees or less, more preferably 110 degrees or more and 115 degrees or less.
The contact angle of pure water can be determined by dropping 1.0 μL of pure water on the first surface side and measuring the static contact angle 10 seconds after the droplet has landed according to the θ/2 method.

本開示の光学フィルムの第1面は、Vvvと、ISO 25178-2:2012に規定されるコア部空間体積であるVvcとの比(Vvv/Vvc)が、0.10以下であることが好ましい。Vvv/Vvcを0.10以下とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。Vvv/Vvcは、0.09以下であることがより好ましく、0.08以下であることがさらに好ましい。 The first surface of the optical film of the present disclosure preferably has a ratio (Vvv/Vvc) of 0.10 or less between Vvv and Vvc, which is the core space volume defined in ISO 25178-2:2012. . By setting Vvv/Vvc to 0.10 or less, the fingerprint wiping property can be easily improved. Vvv/Vvc is more preferably 0.09 or less, and even more preferably 0.08 or less.

本開示の光学フィルムの第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される突出山部実体体積であるVmpが0.005ml/m以上0.100ml/m以下であることが好ましい。
第1面のVmpを0.005ml/m以上とすることにより防眩性を良好にしやすくできる。Vmpは、0.007ml/m以上であることがより好ましく、0.010ml/m以上であることがより好ましく、0.020ml/m以上であることがより好ましい。
第1面のVmpを0.100ml/m以下とすることにより、光学フィルムの耐擦傷性を良好にしやすくできる。Vmpは、0.080(ml/m)以下であることがより好ましく、0.060(ml/m)以下であることがより好ましく、0.045(ml/m)以下であることがより好ましい。
The first surface of the optical film of the present disclosure preferably has a protruding mountain substantial volume Vmp defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/m 2 or more and 0.100 ml/m 2 or less.
By setting the Vmp of the first surface to 0.005 ml/m 2 or more, good anti-glare properties can be easily achieved. Vmp is more preferably 0.007 ml/m 2 or more, more preferably 0.010 ml/m 2 or more, and even more preferably 0.020 ml/m 2 or more.
By setting the Vmp of the first surface to 0.100 ml/m 2 or less, the scratch resistance of the optical film can be easily improved. Vmp is more preferably 0.080 (ml/m 2 ) or less, more preferably 0.060 (ml/m 2 ) or less, and 0.045 (ml/m 2 ) or less. is more preferable.

本開示の光学フィルムの第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される最小自己相関長さであるSalが4.0μm以上12.0μm以下であることが好ましい。 The first surface of the optical film of the present disclosure preferably has a minimum autocorrelation length Sal of 4.0 μm or more and 12.0 μm or less as defined in ISO 25178-2:2012.

Salは、横方向に着目したパラメータである。Salが小さいほど、第1面は、凹凸が密集している形状を有し、Salが大きいほど、第1面は、凹凸の間隔が広い形状を有している。JIS B0601に規定される「粗さ曲線要素の平均長RSm」の値には、微細な凹凸は殆ど影響せず、大きな凹凸のみが影響する。一方、Salの値には、大きな凹凸が影響するだけではなく、微細な凹凸も影響する点で、RSmと相違している。また、凹凸の間隔が広くても、凸部が小さかったり、凹凸形状が複雑であったりすると、Salは小さくなる傾向がある。また、凸部が単調な形状であると、Salが大きくなる傾向がある。 Sal is a parameter focused on the horizontal direction. As Sal is smaller, the first surface has a shape in which the unevenness is densely packed, and as Sal is larger, the first surface has a shape in which the intervals between the unevenness are wide. The value of "average length RSm of roughness curve elements" specified in JIS B0601 is hardly affected by minute irregularities, and only by large irregularities. On the other hand, the value of Sal is different from RSm in that it is affected not only by large irregularities but also by minute irregularities. Further, even if the interval between the concavo-convex portions is wide, if the convex portions are small or the convex-concave shape is complex, Sal tends to become small. Further, if the convex portion has a monotonous shape, Sal tends to increase.

Salを4.0μm以上とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。Salを12.0μm以下とすることにより、防眩性をより良好にしやすくできる。
Salの下限は、5.0μm以上であることがより好ましく、6.0μm以上であることがさらに好ましい。Salの上限は、11.0μm以下であることがより好ましく、10.0μm以下であることがさらに好ましい。
第1面のSalの範囲の実施形態は、4.0μm以上12.0μm以下、4.0μm以上11.0μm以下、4.0μm以上10.0μm以下、5.0μm以上12.0μm以下、5.0μm以上11.0μm以下、5.0μm以上10.0μm以下、6.0μm以上12.0μm以下、6.0μm以上11.0μm以下、6.0μm以上10.0μm以下が挙げられる。
By setting Sal to 4.0 μm or more, the fingerprint wiping property can be easily improved. By setting Sal to 12.0 μm or less, antiglare properties can be easily improved.
The lower limit of Sal is more preferably 5.0 μm or more, and even more preferably 6.0 μm or more. The upper limit of Sal is more preferably 11.0 μm or less, and even more preferably 10.0 μm or less.
The range of Sal on the first surface is 4.0 μm or more and 12.0 μm or less, 4.0 μm or more and 11.0 μm or less, 4.0 μm or more and 10.0 μm or less, 5.0 μm or more and 12.0 μm or less, and 5. Examples include 0 μm to 11.0 μm, 5.0 μm to 10.0 μm, 6.0 μm to 12.0 μm, 6.0 μm to 11.0 μm, and 6.0 μm to 10.0 μm.

本開示の光学フィルムの第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される極点高さであるSxpが0.15μm以上2.00μm以下であることが好ましい。
Sxpは、凹凸形状の中で特に高い凸部を取り除いた後の、凹凸形状の平均面と凸部との差分を示すパラメータである。Sxpを0.15μm以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。Sxpを2.00μm以下とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。
Sxpの下限は、0.20μm以上であることがより好ましく、0.25μm以上であることがより好ましく、0.50μm以上であることがより好ましく、0.70μm以上であることがより好ましい。Sxpの上限は、1.80μm以下であることがより好ましく、1.50μm以下であることがより好ましく、1.40μm以下であることがより好ましい。
第1面のSxpの範囲の実施形態は、0.15μm以上2.00μm以下、0.15μm以上1.80μm以下、0.15μm以上1.50μm以下、0.15μm以上1.40μm以下、0.20μm以上2.00μm以下、0.20μm以上1.80μm以下、0.20μm以上1.50μm以下、0.20μm以上1.40μm以下、0.25μm以上2.00μm以下、0.25μm以上1.80μm以下、0.25μm以上1.50μm以下、0.25μm以上1.40μm以下、0.50μm以上2.00μm以下、0.50μm以上1.80μm以下、0.50μm以上1.50μm以下、0.50μm以上1.40μm以下、0.70μm以上2.00μm以下、0.70μm以上1.80μm以下、0.70μm以上1.50μm以下、0.70μm以上1.40μm以下が挙げられる。
The first surface of the optical film of the present disclosure preferably has a pole height Sxp defined in ISO 25178-2:2012 of 0.15 μm or more and 2.00 μm or less.
Sxp is a parameter indicating the difference between the average surface of the uneven shape and the convex portion after removing particularly high protrusions from the uneven shape. By setting Sxp to 0.15 μm or more, anti-glare properties can be easily improved. By setting Sxp to 2.00 μm or less, fingerprint wiping performance can be easily improved.
The lower limit of Sxp is more preferably 0.20 μm or more, more preferably 0.25 μm or more, more preferably 0.50 μm or more, and more preferably 0.70 μm or more. The upper limit of Sxp is more preferably 1.80 μm or less, more preferably 1.50 μm or less, and even more preferably 1.40 μm or less.
In the embodiment, the Sxp range of the first surface is 0.15 μm or more and 2.00 μm or less, 0.15 μm or more and 1.80 μm or less, 0.15 μm or more and 1.50 μm or less, 0.15 μm or more and 1.40 μm or less, and 0. 20μm or more and 2.00μm or less, 0.20μm or more and 1.80μm or less, 0.20μm or more and 1.50μm or less, 0.20μm or more and 1.40μm or less, 0.25μm or more and 2.00μm or less, 0.25μm or more and 1.80μm Below, 0.25 μm to 1.50 μm, 0.25 μm to 1.40 μm, 0.50 μm to 2.00 μm, 0.50 μm to 1.80 μm, 0.50 μm to 1.50 μm, 0.50 μm Examples include 1.40 μm or more, 0.70 μm or more and 2.00 μm or less, 0.70 μm or more and 1.80 μm or less, 0.70 μm or more and 1.50 μm or less, and 0.70 μm or more and 1.40 μm or less.

本開示の光学フィルムは、第1面側の表面領域をX線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式2~4を満たすことが好ましい。
3.5≦F/無機Si≦10.0 (式2)
0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 (式3)
5.0≦F/有機Si≦50.0 (式4)
[式2~4中、「F」はフッ素元素の比率であり、「無機Si」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Si」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。]
In the optical film of the present disclosure, it is preferable that the element ratio obtained by analyzing the surface area on the first surface side by X-ray photoelectron spectroscopy satisfies the following formulas 2 to 4.
3.5≦F/Inorganic Si≦10.0 (Formula 2)
0.08≦Organic Si/Inorganic Si≦1.00 (Formula 3)
5.0≦F/Organic Si≦50.0 (Formula 4)
[In formulas 2 to 4, "F" is the ratio of the fluorine element, "inorganic Si" is the ratio of the silicon element belonging to the inorganic silicon compound, and "organic Si" is the ratio of the silicon element belonging to the organosilicon compound. It is a ratio. ]

本明細書において「第1面側の表面領域」とは、第1面側の表面から深さ10nmまでの領域を表す。本明細書において、「X線光電子分光法」のことを、「XPS」と称する場合がある。第1面側の表面領域の元素比率は、例えば、実施例に記載の手法により測定できる。 In this specification, the "surface region on the first surface side" refers to a region from the surface on the first surface side to a depth of 10 nm. In this specification, "X-ray photoelectron spectroscopy" may be referred to as "XPS". The element ratio in the surface region on the first surface side can be measured, for example, by the method described in Examples.

光学フィルムの第1面の表面領域において、無機Siは、主にシリカ粒子に由来する。光学フィルムの第1面の表面領域において、有機Si及びFは、主にレベリング剤に由来する。
Si2p軌道のX線光電子スペクトルから、無機成分と有機成分とをピーク分離することにより、無機Siと有機Siとを分けることができる。
In the surface region of the first side of the optical film, inorganic Si mainly originates from silica particles. In the surface region of the first side of the optical film, organic Si and F mainly originate from the leveling agent.
Inorganic Si and organic Si can be separated by peak-separating the inorganic and organic components from the X-ray photoelectron spectrum of the Si2p orbital.

光学フィルムの第1面の表面領域において、無機Siは、第1面の屈折率を低くすることができる一方で、指紋拭き取り性を悪化させる傾向がある。また、光学フィルムの第1面の表面領域において、無機Siに対して有機Si及びFを所定量以上含むことにより、指紋拭き取り性を良好にする傾向がある。さらに、光学フィルムの第1面の表面領域において、有機SiとFとをバランスよく含むことにより、指紋拭き取り性を良好にする傾向がある。したがって、F/無機Siを3.5以上、かつ、有機Si/無機Siを0.08以上、かつ、F/有機Siを5.0以上50.0以下とすることにより、落下式接触角を30.0度以上にしやすくでき、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。
また、F/無機Siを10.0以下、かつ、有機Si/無機Siを1.00以下とすることにより、反射防止層の塗工性の低下を抑制しやすくできる。
In the surface region of the first surface of the optical film, inorganic Si can lower the refractive index of the first surface, but tends to deteriorate the fingerprint wiping property. Furthermore, by containing a predetermined amount or more of organic Si and F relative to inorganic Si in the surface region of the first surface of the optical film, fingerprint wiping properties tend to be improved. Furthermore, by containing organic Si and F in a well-balanced manner in the surface region of the first surface of the optical film, fingerprint wiping properties tend to be improved. Therefore, by setting F/inorganic Si to 3.5 or more, organic Si/inorganic Si to 0.08 or more, and F/organic Si to 5.0 or more and 50.0 or less, the falling contact angle can be increased. The temperature can be easily adjusted to 30.0 degrees or more, and the fingerprint wiping property can be easily improved.
Further, by setting F/inorganic Si to 10.0 or less and organic Si/inorganic Si to 1.00 or less, it is possible to easily suppress deterioration in coatability of the antireflection layer.

F/無機Siは、下限が4.0以上であることがより好ましく、4.5以上であることがさらに好ましく、上限が9.0以下であることがより好ましく、8.0以下であることがさらに好ましい。
有機Si/無機Siは、下限が0.10以上であることがより好ましく、0.15以上であることがさらに好ましく、上限が0.80以下であることがより好ましく、0.50以下であることがさらに好ましい。
F/有機Siは、下限が10.0以上であることがより好ましく、15.0以上であることがさらに好ましく、22.0以上であることがよりさらに好ましく、上限が40.0以下であることがより好ましく、35.0以下であることがさらに好ましい。
The lower limit of F/inorganic Si is more preferably 4.0 or more, even more preferably 4.5 or more, and the upper limit is more preferably 9.0 or less, and 8.0 or less. is even more preferable.
The lower limit of organic Si/inorganic Si is more preferably 0.10 or more, even more preferably 0.15 or more, and the upper limit is more preferably 0.80 or less, and 0.50 or less. It is even more preferable.
The lower limit of F/organic Si is more preferably 10.0 or more, even more preferably 15.0 or more, even more preferably 22.0 or more, and the upper limit is 40.0 or less. is more preferable, and even more preferably 35.0 or less.

F/無機Siの範囲の実施形態は、3.5以上10.0以下、3.5以上9.0以下、3.5以上8.0以下、4.0以上10.0以下、4.0以上9.0以下、4.0以上8.0以下、4.5以上10.0以下、4.5以上9.0以下、4.5以上8.0以下が挙げられる。
有機Si/無機Siの範囲の実施形態は、0.08以上1.00以下、0.08以上0.80以下、0.08以上0.50以下、0.10以上1.00以下、0.10以上0.80以下、0.10以上0.50以下、0.15以上1.00以下、0.15以上0.80以下、0.15以上0.50以下が挙げられる。
F/有機Siの範囲の実施形態は、5.0以上50.0以下、5.0以上40.0以下、5.0以上35.0以下、10.0以上50.0以下、10.0以上40.0以下、10.0以上35.0以下、15.0以上50.0以下、15.0以上40.0以下、15.0以上35.0以下、22.0以上50.0以下、22.0以上40.0以下、22.0以上35.0以下が挙げられる。
Embodiments of the range of F/inorganic Si include 3.5 or more and 10.0 or less, 3.5 or more and 9.0 or less, 3.5 or more and 8.0 or less, 4.0 or more and 10.0 or less, and 4.0. Examples thereof include 9.0 or more, 4.0 or more and 8.0 or less, 4.5 or more and 10.0 or less, 4.5 or more and 9.0 or less, and 4.5 or more and 8.0 or less.
Embodiments of the range of organic Si/inorganic Si include 0.08 or more and 1.00 or less, 0.08 or more and 0.80 or less, 0.08 or more and 0.50 or less, 0.10 or more and 1.00 or less, and 0. Examples include 10 or more and 0.80 or less, 0.10 or more and 0.50 or less, 0.15 or more and 1.00 or less, 0.15 or more and 0.80 or less, and 0.15 or more and 0.50 or less.
Embodiments of the range of F/organic Si include 5.0 or more and 50.0 or less, 5.0 or more and 40.0 or less, 5.0 or more and 35.0 or less, 10.0 or more and 50.0 or less, and 10.0. 40.0 or more, 10.0 or more and 35.0 or less, 15.0 or more and 50.0 or more, 15.0 or more and 40.0 or more, 15.0 or more and 35.0 or less, 22.0 or more and 50.0 or less , 22.0 or more and 40.0 or less, and 22.0 or more and 35.0 or less.

本開示の光学フィルムは、第1面側の表面領域をX線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Siの割合が2原子%以上20原子%以下であることが好ましい。全元素に対する無機Siの割合を2原子%以上とすることにより、第1面の屈折率を低くしやすくできるため、光学フィルムの反射防止性を良好にしやすくできる。無機Siの割合を20原子%以下とすることにより、F/無機Siを3.5以上、かつ、有機Si/無機Siを0.08以上にしやすくできる。
全元素に対する無機Siの割合は、下限が3原子%以上であることがより好ましく、4原子%以上であることがさらに好ましく、上限が15原子%以下であることがより好ましく、12原子%以下であることがさらに好ましい。
全元素に対する無機Siの割合の範囲の実施形態は、2原子%以上20原子%以下、2原子%以上15原子%以下、2原子%以上12原子%以下、3原子%以上20原子%以下、3原子%以上15原子%以下、3原子%以上12原子%以下、4原子%以上20原子%以下、4原子%以上15原子%以下、4原子%以上12原子%以下が挙げられる。
In the optical film of the present disclosure, regarding the element ratio obtained by analyzing the surface area on the first surface side by X-ray photoelectron spectroscopy, the ratio of inorganic Si to all elements is 2 atomic % or more and 20 atomic % or less. preferable. By setting the proportion of inorganic Si to all elements to be 2 atomic % or more, the refractive index of the first surface can be easily lowered, so that the antireflection properties of the optical film can be easily improved. By setting the proportion of inorganic Si to 20 atomic % or less, F/inorganic Si can be easily made to be 3.5 or more and organic Si/inorganic Si to be 0.08 or more.
The lower limit of the ratio of inorganic Si to all elements is more preferably 3 atom% or more, even more preferably 4 atom% or more, and the upper limit is more preferably 15 atom% or less, 12 atom% or less. It is more preferable that
Embodiments of the range of the ratio of inorganic Si to all elements include 2 at% or more and 20 at% or less, 2 at% or more and 15 at% or less, 2 at% or more and 12 at% or less, 3 at% or more and 20 at% or less, Examples include 3 atom % to 15 atom %, 3 atom % to 12 atom %, 4 atom % to 20 atom %, 4 atom % to 15 atom %, and 4 atom % to 12 atom %.

<積層構成>
本開示の光学フィルムは、第1面から第2面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有する。光学フィルムの第1面側の最表面は反射防止層であることが好ましい。
本開示の光学フィルムは、反射防止層及び防眩層以外の層を有していてもよい。反射防止層及び防眩層以外の層としては、基材、帯電防止層、接着剤層等が挙げられる。
本開示の光学フィルムは、第1面から第2面に向けて、反射防止層、防眩層及び基材をこの順に有することが好ましい。
<Laminated structure>
The optical film of the present disclosure has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface. It is preferable that the outermost surface of the optical film on the first surface side is an antireflection layer.
The optical film of the present disclosure may have layers other than the antireflection layer and the antiglare layer. Layers other than the antireflection layer and the antiglare layer include a base material, an antistatic layer, an adhesive layer, and the like.
The optical film of the present disclosure preferably has an antireflection layer, an antiglare layer, and a base material in this order from the first surface to the second surface.

《基材》
光学フィルムは、製造の容易性、及び、取り扱い性のため、基材を有することが好ましい。
"Base material"
The optical film preferably has a base material for ease of manufacture and ease of handling.

基材としては、光透過性、平滑性及び耐熱性を備え、さらに機械的強度に優れたものが好ましい。このような基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース(TAC)、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン(Cyclo-Olefin-Polymer:COP)等のプラスチックフィルムが挙げられる。基材は、2枚以上のプラスチックフィルムを貼り合わせたものであってもよい。
プラスチックフィルムの中でも、機械的強度及び寸法安定性のため、延伸加工されたポリエステルフィルムが好ましく、二軸延伸加工されたポリエステルフィルムがより好ましい。ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。TACフィルム、アクリルフィルムは、光透過性及び光学的等方性を良好にしやすいため好適である。COPフィルム、ポリエステルフィルムは耐候性に優れるため好適である。
The base material is preferably one that has light transmittance, smoothness, heat resistance, and excellent mechanical strength. Such base materials include polyester, triacetylcellulose (TAC), cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, polyamide, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, Examples include plastic films such as polyetherketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyurethane, and amorphous olefin (Cyclo-Olefin-Polymer: COP). The base material may be made by laminating two or more plastic films together.
Among plastic films, stretched polyester films are preferred, and biaxially stretched polyester films are more preferred, for mechanical strength and dimensional stability. Examples of the polyester film include polyethylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film. TAC film and acrylic film are suitable because they tend to have good light transmittance and optical isotropy. COP film and polyester film are suitable because they have excellent weather resistance.

基材の厚みは、5μm以上300μm以下であることが好ましく、20μm以上200μm以下であることがより好ましく、30μm以上120μm以下であることがさらに好ましい。
光学フィルムを薄膜化したい場合は、基材の厚みの好ましい上限は100μm以下であり、より好ましい上限は80μm以下である。また、基材がポリエステル、COP、アクリル等の低透湿性基材の場合には、薄膜化のための基材の厚さの好ましい上限は60μm以下であり、より好ましい上限は40μm以下である。大画面の場合であっても、基材の厚みの上限が前述した範囲であれば、歪みを生じにくくさせることができる点でも好適である。
基材の厚みは、例えば、膜厚測定器で測定できる。膜厚測定器としては、ミツトヨ社のデジマチック標準外側マイクロメーター(品番:MDC-25SX)等が挙げられる。基材の厚みは、任意の10点を測定した平均値が上記数値であればよい。
The thickness of the base material is preferably 5 μm or more and 300 μm or less, more preferably 20 μm or more and 200 μm or less, and even more preferably 30 μm or more and 120 μm or less.
When it is desired to make the optical film thin, the preferable upper limit of the thickness of the base material is 100 μm or less, and the more preferable upper limit is 80 μm or less. Further, when the base material is a low moisture permeable base material such as polyester, COP, acrylic, etc., the preferable upper limit of the thickness of the base material for thinning is 60 μm or less, and the more preferable upper limit is 40 μm or less. Even in the case of a large screen, it is preferable that the upper limit of the thickness of the base material be within the above-mentioned range, since distortion can be made less likely to occur.
The thickness of the base material can be measured, for example, with a film thickness measuring device. Examples of the film thickness measuring device include Mitutoyo's Digimatic Standard Outside Micrometer (product number: MDC-25SX). The thickness of the base material may be as long as the average value measured at ten arbitrary points is the above value.

基材は、JIS K7361-1:1997の全光線透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、85%以上であることがさらに好ましい。
基材は、JIS K7136:2000のヘイズが10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、3%以下であることがさらに好ましい。
The total light transmittance of the base material according to JIS K7361-1:1997 is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 85% or more.
The haze of the base material according to JIS K7136:2000 is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and even more preferably 3% or less.

基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理等の物理的な処理を施したり、化学的な処理を施したりしてもよい。また、基材は、表面に易接着層を有するものであってもよい。 The surface of the base material may be subjected to physical treatment such as corona discharge treatment or chemical treatment to improve adhesiveness. Moreover, the base material may have an easily adhesive layer on the surface.

《防眩層》
防眩層は、防眩性の中心を担う層である。
防眩層は、例えば、(A)エンボスロールを用いた方法、(B)エッチング処理、(C)型による成型、(D)塗布による塗膜の形成等により形成できる。安定した表面形状を得やすくするためには(C)の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応のためには(D)の塗布による塗膜の形成が好適である。
《Anti-glare layer》
The anti-glare layer is a layer that plays a central role in anti-glare properties.
The anti-glare layer can be formed, for example, by (A) a method using an embossing roll, (B) etching treatment, (C) molding with a mold, (D) forming a coating film by coating, and the like. In order to easily obtain a stable surface shape, molding using a mold (C) is preferable, and in order to increase productivity and support a wide variety of products, forming a coating film by coating (D) is preferable.

(C)の手段では、例えば、型に樹脂を流し込み、成形した樹脂を型から取り出すことにより、防眩層を形成することができる。型から取り出した成形した樹脂は、基材上に配置してもよい。型は、防眩層の表面形状を反転した型を用いる。このような型は、例えば、下記の(c1-1)~(c1-2)、あるいは、下記の(c2)の手法で作製することができる。
(c1-1)Vvv等が所定の範囲となる形状をシミュレーションで作成する。さらに、シミュレーションした形状を反転する。
(c1-2)反転した形状が反映されるように、金属の表面をレーザー光で彫刻したり、金属の表面をフォトリソグラフィにより加工したりすることにより、型を得る。
In the method (C), the anti-glare layer can be formed by, for example, pouring a resin into a mold and taking out the molded resin from the mold. The molded resin taken out from the mold may be placed on a base material. The mold used is one in which the surface shape of the anti-glare layer is reversed. Such a mold can be produced, for example, by the following methods (c1-1) to (c1-2) or (c2) below.
(c1-1) A shape in which Vvv etc. fall within a predetermined range is created by simulation. Furthermore, the simulated shape is inverted.
(c1-2) A mold is obtained by engraving the surface of the metal with a laser beam or processing the surface of the metal by photolithography so that the inverted shape is reflected.

(c2)汎用の電気鋳造法により、(D)で作製した防眩層の形状を反転した型を得る。 (c2) A mold in which the shape of the anti-glare layer produced in (D) is reversed is obtained by a general-purpose electroforming method.

(D)により防眩層を形成する場合、例えば、下記の(d1)及び(d2)の手段が挙げられる。(d1)は、(d2)よりもVvv等の表面形状の範囲を調整しやすい点で好ましい。
(d1)バインダー樹脂及び粒子を含む塗布液を塗布、乾燥し、粒子に基づく凹凸を有する防眩層を形成する手段。
(d2)任意の樹脂と、前記樹脂と相溶性の悪い樹脂を含む塗布液を塗布して、樹脂を相分離させて凹凸を形成する手段。
When forming an anti-glare layer using (D), for example, the following methods (d1) and (d2) may be used. (d1) is preferable to (d2) in that it is easier to adjust the range of surface shape such as Vvv.
(d1) A means for coating and drying a coating liquid containing a binder resin and particles to form an anti-glare layer having irregularities based on the particles.
(d2) Means for forming unevenness by applying a coating liquid containing an arbitrary resin and a resin having poor compatibility with the resin to cause phase separation of the resin.

-厚み-
防眩層の厚みTは、カール抑制、機械的強度、硬度及び靭性とのバランスのため、2.0μm以上10.0μm以下であることが好ましく、3.0μm以上8.0μm以下であることがより好ましく、4.0μm以上6.0μm以下であることがさらに好ましい。
防眩層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡による光学フィルムの断面写真の任意の箇所を20点選び、その平均値により算出できる。STEMの加速電圧は10kv以上30kV以下、STEMの倍率は1000倍以上7000倍以下とすることが好ましい。
-Thickness-
The thickness T of the anti-glare layer is preferably 2.0 μm or more and 10.0 μm or less, and preferably 3.0 μm or more and 8.0 μm or less, in order to balance curl suppression, mechanical strength, hardness, and toughness. More preferably, it is 4.0 μm or more and 6.0 μm or less.
The thickness of the anti-glare layer can be calculated, for example, by selecting 20 arbitrary points in a cross-sectional photograph of an optical film taken with a scanning transmission electron microscope and calculating the average value thereof. It is preferable that the accelerating voltage of STEM is 10 kV or more and 30 kV or less, and the magnification of STEM is 1000 times or more and 7000 times or less.

-成分-
防眩層は、主として樹脂成分を含むことが好ましい。さらに、防眩層は、必要に応じて、有機粒子及び無機粒子等の粒子、ナノメートル単位の微粒子、屈折率調整剤、帯電防止剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、粘度調整剤及び熱重合開始剤等の添加剤を含むことが好ましい。
-component-
It is preferable that the anti-glare layer mainly contains a resin component. Furthermore, the anti-glare layer may contain particles such as organic particles and inorganic particles, fine particles in nanometer units, a refractive index adjuster, an antistatic agent, a leveling agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and an antioxidant. , a viscosity modifier, a thermal polymerization initiator, and other additives are preferably included.

防眩層は、バインダー樹脂及び粒子を含むことが好ましい。
粒子は有機粒子及び無機粒子が挙げられ、無機粒子が好ましい。すなわち、防眩層は、バインダー樹脂及び無機粒子を含むことが好ましい。また、防眩層は、バインダー樹脂、無機粒子及び有機粒子を含むことがより好ましい。
The anti-glare layer preferably contains a binder resin and particles.
Examples of the particles include organic particles and inorganic particles, with inorganic particles being preferred. That is, the anti-glare layer preferably contains a binder resin and inorganic particles. Moreover, it is more preferable that the anti-glare layer contains a binder resin, inorganic particles, and organic particles.

―粒子―
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等が挙げられ、シリカが好ましい。無機粒子の中でも、不定形無機粒子が好ましく、不定形シリカがより好ましい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル-スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン-メラミン-ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等から選ばれる1種以上の樹脂を含む粒子が挙げられる。
-particle-
Examples of the inorganic particles include silica, alumina, zirconia, and titania, with silica being preferred. Among the inorganic particles, amorphous inorganic particles are preferable, and amorphous silica is more preferable.
The organic particles are selected from polymethyl methacrylate, polyacrylic-styrene copolymer, melamine resin, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, benzoguanamine-melamine-formaldehyde condensate, silicone, fluorine resin, polyester resin, etc. Examples include particles containing more than one type of resin.

不定形無機粒子とは、大粒径の無機粒子を粉砕した後、分級して得られた特定の形状を持たない無機粒子のことを意味する。 The term "amorphous inorganic particles" refers to inorganic particles that do not have a specific shape and are obtained by pulverizing large-sized inorganic particles and then classifying them.

粒子としては、無機粒子を含むことが好ましい。また、粒子として、不定形無機粒子を含むことがより好ましく、不定形無機粒子及び有機粒子を含むことがさらに好ましい。不定形無機粒子としては、不定形シリカが好ましい。 The particles preferably include inorganic particles. Moreover, it is more preferable that the particles include amorphous inorganic particles, and even more preferably, amorphous inorganic particles and organic particles are included. As the amorphous inorganic particles, amorphous silica is preferable.

不定形無機粒子は、球形の粒子に比べて、Vvvを大きくしやすく、Salを小さくしやすい傾向がある。しかし、不定形無機粒子の粒子径分布が広すぎると、Vvvが大きくなりやすくなるため、指紋拭き取り性が低下しやすくなる。特に、不定形無機粒子が凝集すると、Vvvはより大きくなり、指紋拭き取り性がより低下しやすくなる。一方、不定形無機粒子の粒子径分布が狭すぎると、塗布適性が低下しやすい。このため、不定形無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布が後述する範囲であることが好ましい。しかし、無機粒子は単独で使用すると凝集しやすい。したがって、Vvvを上記範囲として、かつ、指紋拭き取り性を良好にしやすくするためには、不定形粒子の粒子径分布を後述する範囲として、かつ、有機粒子を併用することが好ましい。 Amorphous inorganic particles tend to have a larger Vvv and a smaller Sal than spherical particles. However, if the particle size distribution of the amorphous inorganic particles is too wide, Vvv tends to increase, and fingerprint wiping properties tend to deteriorate. In particular, when amorphous inorganic particles agglomerate, Vvv becomes larger, and the fingerprint wiping property is more likely to deteriorate. On the other hand, if the particle size distribution of the amorphous inorganic particles is too narrow, the coating suitability tends to decrease. For this reason, it is preferable that the volume-based cumulative distribution of the particle diameter of the amorphous inorganic particles falls within the range described below. However, inorganic particles tend to aggregate when used alone. Therefore, in order to keep Vvv within the above range and to facilitate good fingerprint wiping performance, it is preferable to keep the particle size distribution of the amorphous particles within the range described below and to use organic particles in combination.

不定形無機粒子等の無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布d10と、粒子径の体積基準の累積分布d50と、粒子径の体積基準の累積分布d90とが、下記(1)及び(2)の関係を満たす、ことが好ましい。
1.5≦d50/d10≦4.0 (1)
1.0≦d90/d50≦3.0 (2)
Inorganic particles such as amorphous inorganic particles have a volume-based cumulative distribution of particle diameters d10, a volume-based cumulative distribution of particle diameters d50, and a volume-based cumulative distribution of particle diameters d90 as shown in (1) and ( It is preferable that the relationship 2) is satisfied.
1.5≦d50/d10≦4.0 (1)
1.0≦d90/d50≦3.0 (2)

d50/d10が1.5以上であることは、粒子径が平均以下の領域における無機粒子の粒度分布が広いことを意味している。d50/d10を1.5以上とすることにより、凹凸表面に細かい凹凸が付与されやすくなるため、Salを小さくしやすくできる。d50/d10を4.0以下とすることにより、防眩層に埋没する無機粒子の量が増えることを抑制し、無機粒子の添加効率を上げることができる。
d90/d50が1.0以上であることは、粒子径が平均以上の領域における無機粒子の粒度分布が広いことを意味している。d90/d50を1.0以上とすることにより、Vvvを大きくしやすく、かつ、Salを大きくしやすくできる。d90/d50を3.0以下とすることにより、Vvvが大きくなり過ぎること、及び、Salが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
When d50/d10 is 1.5 or more, it means that the particle size distribution of the inorganic particles is wide in the region where the particle size is below the average. By setting d50/d10 to 1.5 or more, fine irregularities can be easily imparted to the irregular surface, making it easier to reduce Sal. By setting d50/d10 to 4.0 or less, it is possible to suppress an increase in the amount of inorganic particles buried in the anti-glare layer and increase the addition efficiency of inorganic particles.
When d90/d50 is 1.0 or more, it means that the particle size distribution of the inorganic particles is wide in the region where the particle size is above average. By setting d90/d50 to 1.0 or more, Vvv and Sal can be easily increased. By setting d90/d50 to 3.0 or less, it is possible to easily prevent Vvv from becoming too large and Sal from becoming too large.

d50/d10は、下限は1.8以上であることより好ましく、2.0以上であることがさらに好ましく、上限は3.5以下であることより好ましく、3.0以下であることがさらに好ましい。
d90/d50は、下限は1.3以上であることより好ましく、1.5以上であることがさらに好ましく、上限は2.5以下であることより好ましく、2.0以下であることがさらに好ましい。
不定形無機粒子等の無機粒子のd10、d50及びd90は、レーザー回折法により測定することができる。
The lower limit of d50/d10 is more preferably 1.8 or more, more preferably 2.0 or more, and the upper limit is more preferably 3.5 or less, and even more preferably 3.0 or less. .
The lower limit of d90/d50 is more preferably 1.3 or more, more preferably 1.5 or more, and the upper limit is more preferably 2.5 or less, and even more preferably 2.0 or less. .
The d10, d50, and d90 of inorganic particles such as amorphous inorganic particles can be measured by a laser diffraction method.

不定形無機粒子等の無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布d50が、2.5μm以上5.5μm以下であることが好ましく、3.0μm以上5.0μm以下であることがより好ましく、3.3μm以上4.7μm以下であることがさらに好ましい。
d50を2.5μm以上とすることにより、無機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Salが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。d50を5.5μm以下とすることにより、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Salが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。また、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制することにより、粒子の間に谷を形成しやすくできるため、Vvvを大きくしやすくできる。
防眩層の厚みTと、不定形無機粒子等の無機粒子のd50とは、d50/Tが0.55以上1.00以下であることが好ましく、0.60以上0.95以下であることがより好ましく、0.70以上0.90以下であることがさらに好ましい。
d50/Tを0.55以上とすることにより、Salを大きくしやすくできる。d50/Tを1.00以下とすることにより、Salを小さくしやすくできる。
The volume-based cumulative distribution d50 of particle diameters of inorganic particles such as amorphous inorganic particles is preferably 2.5 μm or more and 5.5 μm or less, more preferably 3.0 μm or more and 5.0 μm or less, More preferably, the thickness is 3.3 μm or more and 4.7 μm or less.
By setting d50 to 2.5 μm or more, it is possible to prevent the number of inorganic particles from increasing too much, and therefore it is possible to easily prevent Sal from becoming too small. By setting d50 to 5.5 μm or less, it is possible to prevent the number of inorganic particles from decreasing too much, thereby making it easier to prevent Sal from becoming too large. Moreover, by suppressing the number of inorganic particles from decreasing too much, it is possible to easily form valleys between the particles, thereby making it easy to increase Vvv.
Regarding the thickness T of the anti-glare layer and the d50 of inorganic particles such as amorphous inorganic particles, d50/T is preferably 0.55 or more and 1.00 or less, and 0.60 or more and 0.95 or less. is more preferable, and even more preferably 0.70 or more and 0.90 or less.
By setting d50/T to 0.55 or more, Sal can be easily increased. By setting d50/T to 1.00 or less, Sal can be easily reduced.

防眩層の厚みTと、不定形無機粒子等の無機粒子のd90とは、d90/Tが1.00以上1.50以下であることが好ましく、1.08以上1.45以下であることがより好ましく、1.20以上1.40以下であることがさらに好ましい。
d90/Tを1.00以上とすることにより、Vmpを大きくしやすくできる。d90/Tを1.50以下とすることにより、Vmpを小さくしやすくできる。
Regarding the thickness T of the anti-glare layer and the d90 of inorganic particles such as amorphous inorganic particles, d90/T is preferably 1.00 or more and 1.50 or less, and 1.08 or more and 1.45 or less. is more preferable, and even more preferably 1.20 or more and 1.40 or less.
By setting d90/T to 1.00 or more, Vmp can be easily increased. By setting d90/T to 1.50 or less, Vmp can be easily reduced.

不定形無機粒子等の無機粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して、8質量部以上40質量部以下であることが好ましく、12質量部以上30質量部以下であることがより好ましく、15質量部以上28質量部以下であることがさらに好ましい。
不定形無機粒子等の無機粒子の含有量を8質量部以上とすることにより、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、無機粒子が緻密に配置され、無機粒子の間に谷が形成される。このため、Vvvが所定の値以上となり、さらに、Salが大きくなり過ぎないため、防眩性を良好にしやすくできる。
不定形無機粒子等の無機粒子の含有量を40質量部以下とすることにより、無機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Salが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
The content of inorganic particles such as amorphous inorganic particles is preferably 8 parts by mass or more and 40 parts by mass or less, more preferably 12 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the binder resin. , more preferably 15 parts by mass or more and 28 parts by mass or less.
By setting the content of inorganic particles such as amorphous inorganic particles to 8 parts by mass or more, it is possible to prevent the number of inorganic particles from decreasing too much, so that the inorganic particles are densely arranged and valleys are formed between the inorganic particles. be done. Therefore, Vvv becomes a predetermined value or more, and Sal does not become too large, so that it is easy to improve the anti-glare property.
By setting the content of inorganic particles such as amorphous inorganic particles to 40 parts by mass or less, it is possible to suppress the number of inorganic particles from increasing too much, and therefore it is possible to easily suppress Sal from becoming too small.

有機粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して、1質量部以上25質量部以下であることが好ましく、3量部以上18質量部以下であることがより好ましく、8質量部以上14質量部以下であることがさらに好ましい。
有機粒子の含有量を1質量部以上とすることにより、無機粒子の凝集を抑制しやすくできる。また、有機粒子の含有量を1質量部以上とすることにより、有機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、粒子の間に谷を形成しやすくできる。このため、Vvvを大きくしやすくできる。なお、粒子の数が減ると、Vmpが増加する傾向がある。
有機粒子は粒子径分布が比較的均一であるため、有機粒子の含有量が増加すると、Salが小さくなる傾向が強くなる。このため、有機粒子の含有量を25質量部以下とすることにより、Salが小さくなり過ぎることを抑制し、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。
The content of the organic particles is preferably 1 part by mass or more and 25 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or more and 18 parts by mass or less, and 8 parts by mass or more and 14 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the binder resin. It is more preferably less than parts by mass.
By setting the content of organic particles to 1 part by mass or more, aggregation of inorganic particles can be easily suppressed. In addition, by setting the content of organic particles to 1 part by mass or more, it is possible to prevent the number of organic particles from decreasing too much, thereby making it easier to form valleys between particles. Therefore, Vvv can be easily increased. Note that as the number of particles decreases, Vmp tends to increase.
Since organic particles have a relatively uniform particle size distribution, as the content of organic particles increases, Sal tends to become smaller. Therefore, by setting the content of organic particles to 25 parts by mass or less, it is possible to prevent Sal from becoming too small and to improve the fingerprint wiping property.

有機粒子の平均粒子径は、1.0μm以上5.0μm以下であることが好ましく、1.2μm以上3.0μm以下であることがより好ましく、1.3μm以上2.5μm以下であることがさらに好ましい。
有機粒子の平均粒子径を1.0μm以上とすることにより、有機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Salが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。このため、有機粒子の平均粒子径を1.0μm以上とすることにより、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。有機粒子の平均粒子径を5.0μm以下とすることにより、有機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、粒子の間に谷を形成しやすくできる。このため、Vvvを大きくしやすくでき。なお、粒子の数が減ると、Vmpが増加する傾向がある。
本明細書において、有機粒子の平均粒子径は、レーザー回折法における体積平均値d50として求められる値を意味する。
The average particle diameter of the organic particles is preferably 1.0 μm or more and 5.0 μm or less, more preferably 1.2 μm or more and 3.0 μm or less, and even more preferably 1.3 μm or more and 2.5 μm or less. preferable.
By setting the average particle diameter of the organic particles to 1.0 μm or more, it is possible to prevent the number of organic particles from increasing too much, and therefore it is possible to easily prevent Sal from becoming too small. Therefore, by setting the average particle diameter of the organic particles to 1.0 μm or more, it is possible to easily improve the fingerprint wiping property. By setting the average particle diameter of the organic particles to 5.0 μm or less, it is possible to prevent the number of organic particles from decreasing too much, thereby making it easier to form valleys between the particles. Therefore, Vvv can be easily increased. Note that as the number of particles decreases, Vmp tends to increase.
In this specification, the average particle diameter of organic particles means a value determined as a volume average value d50 in a laser diffraction method.

有機粒子は、粒度分布が狭いものが好ましい。具体的には、有機粒子は、平均粒子径の±0.5μmの範囲内の粒子の割合が、有機粒子の全量の80体積%以上であることが好ましく、85体積%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。有機粒子の粒度分布を狭くすることで、均一な粒径の有機粒子が緻密に配置されて、Vvvが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
有機粒子の形状としては、球状、円盤状、ラグビーボール状、不定形等が挙げられる。これらの形状の中でも、粒度分布を制御しやすいため、球状の有機粒子が好ましい。
The organic particles preferably have a narrow particle size distribution. Specifically, in the organic particles, the proportion of particles within ±0.5 μm of the average particle diameter is preferably 80% by volume or more, more preferably 85% by volume or more of the total amount of organic particles. It is preferably 90% or more, and more preferably 90% or more. By narrowing the particle size distribution of the organic particles, organic particles with uniform particle sizes are densely arranged, making it easier to prevent Vvv from becoming too large.
Examples of the shape of the organic particles include spherical, disc-shaped, rugby ball-shaped, and irregular shapes. Among these shapes, spherical organic particles are preferred because the particle size distribution can be easily controlled.

防眩層の厚みに対する有機粒子の平均粒子径(有機粒子の平均粒子径/防眩層の厚み)は、0.20以上0.70以下であることが好ましく、0.23以上0.50以下であることがより好ましく、0.25以上0.35以下であることがさらに好ましい。有機粒子の平均粒子径/防眩層の厚みを前記範囲とすることにより、Vvv及びSalを上述した範囲にしやすくできる。 The average particle diameter of the organic particles relative to the thickness of the anti-glare layer (average particle diameter of organic particles/thickness of the anti-glare layer) is preferably 0.20 or more and 0.70 or less, and 0.23 or more and 0.50 or less. More preferably, it is 0.25 or more and 0.35 or less. By setting the average particle diameter of the organic particles/thickness of the antiglare layer within the above range, Vvv and Sal can easily be set within the above ranges.

―無機微粒子―
防眩層は、バインダー樹脂及び粒子に加えて、さらに無機微粒子を含んでいてもよい。本明細書において、無機微粒子と上述した粒子とは、平均粒子径で区別できる。
防眩層が無機微粒子を含むことにより、粒子の屈折率と、防眩層の粒子以外の組成物の屈折率との差が小さくなり、内部ヘイズを小さくしやすくできる。
-Inorganic fine particles-
The anti-glare layer may further contain inorganic fine particles in addition to the binder resin and particles. In this specification, inorganic fine particles and the above-mentioned particles can be distinguished by their average particle diameter.
When the anti-glare layer contains inorganic fine particles, the difference between the refractive index of the particles and the refractive index of the composition other than the particles of the anti-glare layer becomes small, and the internal haze can be easily reduced.

無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる微粒子が挙げられる。これらの中でも、内部ヘイズの発生を抑制しやすいシリカが好適である。 Examples of the inorganic fine particles include fine particles made of silica, alumina, zirconia, titania, and the like. Among these, silica is preferred because it can easily suppress the generation of internal haze.

無機微粒子の平均粒子径は、1nm以上200nm以下であることが好ましく、2nm以上100nm以下であることがより好ましく、5nm以上50nm以下であることがさらに好ましい。 The average particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 1 nm or more and 200 nm or less, more preferably 2 nm or more and 100 nm or less, and even more preferably 5 nm or more and 50 nm or less.

―バインダー樹脂―
バインダー樹脂は、耐擦傷性を良好にしやすくするため、熱硬化性樹脂組成物の硬化物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
バインダー樹脂は、本開示の効果を阻害しない範囲で、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。
-Binder resin-
The binder resin preferably contains a cured product of a curable resin composition, such as a cured product of a thermosetting resin composition or a cured product of an ionizing radiation-curable resin composition, in order to easily improve scratch resistance. It is more preferable to include a cured product of an ionizing radiation-curable resin composition.
The binder resin may contain a thermoplastic resin as long as the effects of the present disclosure are not impaired.

バインダー樹脂の全量に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、耐擦傷性を良好にしやすくするため、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、100質量%であることがさらに好ましい。 The ratio of the cured product of the curable resin composition to the total amount of the binder resin is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and 100% by mass to facilitate good scratch resistance. % is more preferable.

熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
The thermosetting resin composition is a composition containing at least a thermosetting resin, and is a resin composition that is cured by heating.
Examples of the thermosetting resin include acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin. In the thermosetting resin composition, a curing agent is added to these curable resins as necessary.

電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物(以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう)を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する、多官能(メタ)アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能(メタ)アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線(UV)又は電子線(EB)が用いられるが、その他、X線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
The ionizing radiation-curable resin composition is a composition containing a compound having an ionizing radiation-curable functional group (hereinafter also referred to as "ionizing radiation-curable compound"). Examples of the ionizing radiation-curable functional group include ethylenically unsaturated bond groups such as (meth)acryloyl group, vinyl group, and allyl group, as well as epoxy group and oxetanyl group. As the ionizing radiation-curable compound, a compound having an ethylenically unsaturated bond group is preferable, a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups is more preferable, and among them, a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups, More preferred are polyfunctional (meth)acrylate compounds. As the polyfunctional (meth)acrylate compound, both monomers and oligomers can be used.
Ionizing radiation refers to electromagnetic waves or charged particle beams that have energy quanta that can polymerize or crosslink molecules, and ultraviolet (UV) or electron beam (EB) are usually used, but other types include X-rays. Electromagnetic waves such as γ rays, α rays, and charged particle beams such as ion beams can also be used.

多官能(メタ)アクリレート系化合物のうち、2官能(メタ)アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールAテトラプロポキシジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
3官能以上の(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
上記(メタ)アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよい。例えば、上記(メタ)アクリレート系モノマーは、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等により、分子骨格の一部を変性したものも使用することができる。
Among polyfunctional (meth)acrylate compounds, examples of bifunctional (meth)acrylate monomers include ethylene glycol di(meth)acrylate, bisphenol A tetraethoxy diacrylate, bisphenol A tetrapropoxy diacrylate, and 1,6-hexanediol. Examples include diacrylate.
Examples of trifunctional or higher-functional (meth)acrylate monomers include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate. Examples include pentaerythritol tetra(meth)acrylate, isocyanuric acid-modified tri(meth)acrylate, and the like.
The (meth)acrylate monomer may have a partially modified molecular skeleton. For example, as the above (meth)acrylate monomers, those whose molecular skeletons are partially modified with ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, alkyl, cyclic alkyl, aromatic, bisphenol, etc. can also be used.

多官能(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレートとの反応によって得られる。
好ましいエポキシ(メタ)アクリレートは、3官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、及び2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレートである。
Examples of the polyfunctional (meth)acrylate oligomer include acrylate polymers such as urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, and polyether (meth)acrylate.
Urethane (meth)acrylates are obtained, for example, by reacting polyhydric alcohols and organic diisocyanates with hydroxy (meth)acrylates.
Preferred epoxy (meth)acrylates include (meth)acrylates obtained by reacting trifunctional or higher functional aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, etc. with (meth)acrylic acid; Aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, (meth)acrylate obtained by reacting an aliphatic epoxy resin, etc. with a polybasic acid and (meth)acrylic acid, and an aromatic epoxy resin with two or more functional groups, alicyclic It is a (meth)acrylate obtained by reacting a group epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, etc., a phenol, and (meth)acrylic acid.

多官能(メタ)アクリレート系オリゴマーの重量平均分子量は、500以上3000以下であることが好ましく、700以上2500以下であることがより好ましい。
本明細書において、重量平均分子量は、GPC分析によって測定され、かつ標準ポリスチレンで換算された平均分子量である。
The weight average molecular weight of the polyfunctional (meth)acrylate oligomer is preferably 500 or more and 3,000 or less, more preferably 700 or more and 2,500 or less.
In this specification, the weight average molecular weight is an average molecular weight measured by GPC analysis and converted to standard polystyrene.

また、防眩層塗布液の粘度を調整するなどの目的で、電離放射線硬化性化合物として、単官能(メタ)アクリレートを併用してもよい。単官能(メタ)アクリレートとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート及びイソボルニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
上記電離放射線硬化性化合物は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
Further, for the purpose of adjusting the viscosity of the anti-glare layer coating liquid, a monofunctional (meth)acrylate may be used in combination as the ionizing radiation-curable compound. Monofunctional (meth)acrylates include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, and cyclohexyl (meth)acrylate. , 2-ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, and isobornyl (meth)acrylate.
The above-mentioned ionizing radiation-curable compounds can be used alone or in combination of two or more.

電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α-ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α-アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる1種以上が挙げられる。
光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものである。促進剤としては、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等が挙げられる。
When the ionizing radiation curable compound is an ultraviolet curable compound, the ionizing radiation curable composition preferably contains additives such as a photopolymerization initiator and a photopolymerization accelerator.
Examples of the photopolymerization initiator include one or more selected from acetophenone, benzophenone, α-hydroxyalkylphenone, Michler's ketone, benzoin, benzyl dimethyl ketal, benzoyl benzoate, α-acyl oxime ester, thioxanthone, and the like.
The photopolymerization accelerator can reduce polymerization inhibition caused by air during curing and can speed up the curing speed. Examples of the accelerator include p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester and p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester.

バインダー樹脂が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含む場合、電離放射線硬化性樹脂組成物は、多官能(メタ)アクリレートモノマー及び多官能(メタ)アクリレートオリゴマーを含むことが好ましい。
多官能(メタ)アクリレートモノマーと多官能(メタ)アクリレートオリゴマーとの質量比は、5:95~60:40であることが好ましく、20:80~60:40であることがより好ましく、40:60~60:40であることがさらに好ましい。
多官能(メタ)アクリレートモノマーを所定の割合以上とすることにより、防眩層の耐擦傷性を良好にしやすくできる。
多官能(メタ)アクリレートオリゴマーを所定の割合以上とすることにより、防眩層用塗布液の粘度を高め、防眩層の下方に粒子が沈むことを抑制しやすくできるとともに、粒子に基づく凸部の間にバインダー樹脂が流れ落ちることを抑制しやすくできる。このため、Vvvを所定の値以上にしやすく、かつSalを所定の値以下にしやすくできる。一方、多官能(メタ)アクリレートオリゴマーの割合が多くなり過ぎると、防眩層の強度が低下する場合がある。また、防眩層用塗布液の粘度が高すぎると、Vmpが大きくなり過ぎたり、Salが小さくなり過ぎたりする場合がある。このため、電離放射線硬化性樹脂組成物は、所定量の多官能(メタ)アクリレートオリゴマーと、所定量の多官能(メタ)アクリレートモノマーとを含むことが好ましい。
When the binder resin contains a cured product of an ionizing radiation-curable resin composition, the ionizing radiation-curable resin composition preferably contains a polyfunctional (meth)acrylate monomer and a polyfunctional (meth)acrylate oligomer.
The mass ratio of the polyfunctional (meth)acrylate monomer to the polyfunctional (meth)acrylate oligomer is preferably 5:95 to 60:40, more preferably 20:80 to 60:40, and 40: More preferably, the ratio is 60 to 60:40.
By controlling the content of the polyfunctional (meth)acrylate monomer to a predetermined ratio or more, it is possible to easily improve the scratch resistance of the anti-glare layer.
By setting the polyfunctional (meth)acrylate oligomer at a predetermined ratio or more, the viscosity of the anti-glare layer coating liquid can be increased, and it is possible to easily suppress particles from sinking below the anti-glare layer, and also to prevent convex portions based on the particles. It is possible to easily prevent the binder resin from flowing down during the process. Therefore, Vvv can be easily set to a predetermined value or more, and Sal can be easily set to a predetermined value or less. On the other hand, if the proportion of the polyfunctional (meth)acrylate oligomer becomes too large, the strength of the anti-glare layer may decrease. Furthermore, if the viscosity of the anti-glare layer coating liquid is too high, Vmp may become too large or Sal may become too small. Therefore, the ionizing radiation-curable resin composition preferably contains a predetermined amount of a polyfunctional (meth)acrylate oligomer and a predetermined amount of a polyfunctional (meth)acrylate monomer.

―溶剤、乾燥条件―
防眩層塗布液は、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能としたりするために溶剤を含むことが好ましい。溶剤の種類によって、塗布、乾燥した後の防眩層の表面形状が異なるため、溶剤の飽和蒸気圧、基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。
具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン等)、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、アルコール類(イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、グリコールエーテル類(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
-Solvent, drying conditions-
The anti-glare layer coating liquid preferably contains a solvent in order to adjust the viscosity and enable each component to be dissolved or dispersed. Since the surface shape of the anti-glare layer after coating and drying differs depending on the type of solvent, it is preferable to select a solvent in consideration of the saturated vapor pressure of the solvent, the permeability of the solvent into the base material, etc.
Specifically, the solvent includes, for example, ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic Hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), alcohols (isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), glycol ethers (propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethyl sulfoxide, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.) etc.), and a mixture thereof may also be used.

防眩層塗布液中の溶剤は、蒸発速度が速い溶剤を主成分とすることが好ましい。溶剤の蒸発速度を速くすることにより、粒子が防眩層の下部に沈むことを抑制し、さらには、粒子に基づく凸部の間にバインダー樹脂が流れ落ちることを抑制しやすくできる。このため、Vvvを所定の値以上にしやすく、かつSalを所定の値以下にしやすくできる。
主成分とは、溶剤の全量の50質量%以上であることを意味し、好ましくは70質量%以上、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは97質量%以上である。
本明細書において、蒸発速度が速い溶剤は、酢酸ブチルの蒸発速度を100とした際に、蒸発速度が100以上の溶剤を意味する。蒸発速度が速い溶剤の蒸発速度は、120以上300以下であることがより好ましく、150以上220以下であることがさらに好ましい。
蒸発速度が速い溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトン(蒸発速度160)、トルエン(蒸発速度200)、メチルエチルケトン(蒸発速度370)が挙げられる。
一方、蒸発速度が100未満の蒸発速度が遅い溶剤としては、シクロヘキサノン(蒸発速度32)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(蒸発速度44)が挙げられる。
It is preferable that the main component of the solvent in the anti-glare layer coating liquid be a solvent with a high evaporation rate. By increasing the evaporation rate of the solvent, it is possible to suppress the particles from sinking to the lower part of the anti-glare layer, and furthermore, it is possible to easily suppress the binder resin from flowing down between the convex portions based on the particles. Therefore, Vvv can be easily set to a predetermined value or more, and Sal can be easily set to a predetermined value or less.
The main component means 50% by mass or more of the total amount of the solvent, preferably 70% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, even more preferably 97% by mass or more.
In this specification, a solvent with a high evaporation rate means a solvent with an evaporation rate of 100 or more when the evaporation rate of butyl acetate is 100. The evaporation rate of the solvent having a high evaporation rate is more preferably 120 or more and 300 or less, and even more preferably 150 or more and 220 or less.
Examples of solvents with high evaporation rates include methyl isobutyl ketone (evaporation rate 160), toluene (evaporation rate 200), and methyl ethyl ketone (evaporation rate 370).
On the other hand, examples of solvents with a slow evaporation rate of less than 100 include cyclohexanone (evaporation rate of 32) and propylene glycol monomethyl ether acetate (evaporation rate of 44).

また、防眩層塗布液から防眩層を形成する際には、乾燥条件を制御することが好ましい。
乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度は30℃以上120℃以下が好ましく、乾燥風速は0.2m/s以上50m/s以下が好ましい。また、乾燥により防眩層の表面形状を制御するために、電離放射線の照射は塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
乾燥条件は、上記の温度範囲及び風速範囲において、2段階の乾燥を実施することが好ましい。そして、1段階目の乾燥に比べて、2段階目の乾燥を、乾燥温度を高温として、かつ、風速を強くすることが好ましい。1段階目にゆっくり乾燥させることで、不定形無機粒子の表面をバインダー樹脂が覆った際に、バインダー樹脂の表面に不定形無機粒子の形状を反映させやすくできる。また、1段階目の乾燥より2段階目の乾燥温度を高温として、風速を強くすることにより、有機粒子の凝集を抑制しやすくできるため、有機粒子を緻密に配置しやすくできる。したがって、2段階の乾燥とすることにより、Vvvを所定の値以上にしやすく、かつSalを所定の値以下にしやすくできる。
1段階目の乾燥は、乾燥温度を30℃以上60℃未満、乾燥風速を0.2m/s以上7m/s未満とすることが好ましい。2段階目の乾燥は、乾燥温度を60℃以上120℃以下、乾燥風速を7m/s以上50m/s以下とすることが好ましい。
Further, when forming an anti-glare layer from an anti-glare layer coating liquid, it is preferable to control drying conditions.
Drying conditions can be controlled by drying temperature and wind speed within the dryer. The drying temperature is preferably 30° C. or more and 120° C. or less, and the drying wind speed is preferably 0.2 m/s or more and 50 m/s or less. Further, in order to control the surface shape of the anti-glare layer by drying, it is preferable to perform irradiation with ionizing radiation after drying the coating liquid.
As for the drying conditions, it is preferable to carry out two-stage drying within the above temperature range and wind speed range. And, compared to the first stage drying, it is preferable to set the drying temperature to a higher temperature and to increase the wind speed in the second stage drying. Slow drying in the first step makes it easier to reflect the shape of the amorphous inorganic particles on the surface of the binder resin when the binder resin covers the surface of the amorphous inorganic particles. Further, by setting the drying temperature in the second stage higher than that in the first stage drying and increasing the wind speed, agglomeration of organic particles can be easily suppressed, so that it is possible to easily arrange the organic particles in a dense manner. Therefore, by carrying out two-stage drying, Vvv can be easily controlled to a predetermined value or more, and Sal can be easily controlled to be a predetermined value or less.
In the first stage drying, it is preferable that the drying temperature is 30° C. or more and less than 60° C., and the drying wind speed is 0.2 m/s or more and less than 7 m/s. In the second stage drying, it is preferable that the drying temperature is 60° C. or more and 120° C. or less, and the drying wind speed is 7 m/s or more and 50 m/s or less.

《反射防止層》
反射防止層は、第1面側の最表面に位置することが好ましい。
反射防止層は、例えば、低屈折率層の単層構造;高屈折率層と低屈折率層の2層構造;3層構造以上の多層構造;が挙げられる。低屈折率層及び高屈折率層は、汎用のウェット法又はドライ法等により形成することができる。ウェット法の場合は前記単層構造又は2層構造が好ましく、ドライ法の場合は前記多層構造が好ましい。
ウェット法は、生産効率及び耐薬品性の点で、ドライ法よりも優れている。
本開示の光学フィルムでは、防眩層の凹凸形状を維持しやすくするため、反射防止層は低屈折率層の単層構造であることが好ましい。
《Anti-reflection layer》
The antireflection layer is preferably located on the outermost surface on the first surface side.
Examples of the antireflection layer include a single layer structure of a low refractive index layer; a two layer structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer; and a multilayer structure of three or more layers. The low refractive index layer and the high refractive index layer can be formed by a general-purpose wet method, dry method, or the like. In the case of a wet method, the above-mentioned single-layer structure or two-layer structure is preferable, and in the case of a dry method, the above-mentioned multi-layer structure is preferable.
Wet methods are superior to dry methods in terms of production efficiency and chemical resistance.
In the optical film of the present disclosure, the antireflection layer preferably has a single-layer structure of a low refractive index layer in order to easily maintain the uneven shape of the antiglare layer.

―単層構造又は2層構造の場合―
単層構造は低屈折率層の単層であり、2層構造は高屈折率層及び低屈折率層から形成される。単層構造又は2層構造は、ウェット法により好ましく形成される。
ウェット法により反射防止層を形成する方法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、フッ素樹脂のような低屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子又は高屈折率粒子を含有させた塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。
ウェット法の中でも、密着性及び耐擦傷性のために、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子又は高屈折率粒子塗布液により、反射防止層を形成することが好ましい。すなわち、低屈折率層は、バインダー樹脂及び低屈折率粒子を含むことが好ましい。また、高屈折率層は、バインダー樹脂及び高屈折率粒子を含むことが好ましい。
-In case of single layer structure or double layer structure-
A single layer structure is a single layer of a low refractive index layer, and a two layer structure is formed from a high refractive index layer and a low refractive index layer. A single-layer structure or a two-layer structure is preferably formed by a wet method.
Methods for forming an antireflection layer using a wet method include a method using a sol-gel method using a metal alkoxide, a method using a low refractive index resin such as a fluororesin, and a method using a binder resin composition. An example of this method is to apply a coating liquid containing low refractive index particles or high refractive index particles.
Among the wet methods, it is preferable to form an antireflection layer on the binder resin composition using a coating liquid of low refractive index particles or high refractive index particles for the sake of adhesion and scratch resistance. That is, the low refractive index layer preferably contains a binder resin and low refractive index particles. Moreover, it is preferable that the high refractive index layer contains a binder resin and high refractive index particles.

低屈折率層の屈折率は、下限は、1.10以上が好ましく、1.20以上がより好ましく、1.26以上がより好ましく、1.28以上がより好ましく、1.30以上がより好ましく、上限は、1.48以下が好ましく、1.45以下がより好ましく、1.40以下がより好ましく、1.38以下がより好ましく、1.32以下がより好ましい。
本明細書において、屈折率は、波長550nmにおける値を意味するものとする。
The lower limit of the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.10 or more, more preferably 1.20 or more, more preferably 1.26 or more, more preferably 1.28 or more, and more preferably 1.30 or more. The upper limit is preferably 1.48 or less, more preferably 1.45 or less, more preferably 1.40 or less, more preferably 1.38 or less, and more preferably 1.32 or less.
In this specification, the refractive index means a value at a wavelength of 550 nm.

低屈折率層の厚みは、下限は、80nm以上が好ましく、85nm以上がより好ましく、90nm以上がより好ましく、上限は、150nm以下が好ましく、110nm以下がより好ましく、105nm以下がより好ましい。 The lower limit of the thickness of the low refractive index layer is preferably 80 nm or more, more preferably 85 nm or more, more preferably 90 nm or more, and the upper limit is preferably 150 nm or less, more preferably 110 nm or less, and more preferably 105 nm or less.

低屈折率層のバインダー樹脂は、耐擦傷性をより良くするため、熱硬化性樹脂組成物の硬化物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
低屈折率層のバインダー樹脂は、本開示の効果を阻害しない範囲で、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。
The binder resin of the low refractive index layer contains a cured product of a curable resin composition, such as a cured product of a thermosetting resin composition or a cured product of an ionizing radiation-curable resin composition, in order to improve scratch resistance. It is preferable that the composition contains a cured product of an ionizing radiation-curable resin composition.
The binder resin of the low refractive index layer may contain a thermoplastic resin as long as the effects of the present disclosure are not impaired.

低屈折率層の硬化性樹脂組成物の硬化物としては、防眩層で例示した硬化性樹脂組成物の硬化物と同様のものが挙げられる。
低屈折率層のバインダー樹脂の全量に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、97質量%以上であることがさらに好ましい。
Examples of the cured product of the curable resin composition for the low refractive index layer include those similar to the cured products of the curable resin composition exemplified for the anti-glare layer.
The ratio of the cured product of the curable resin composition to the total amount of the binder resin in the low refractive index layer is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and preferably 97% by mass or more. More preferred.

低屈折率層のバインダー樹脂は、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を含むことにより、低屈折率層用塗布液の粘度を高め、低屈折率層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくなる。このため、バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を含むことにより、Vvvを所定の値以上にしやすく、かつ、Salを所定の値以下にしやすくできる。さらに、第1面の表面近傍に有機Si及びフッ素を残存させやすくなるため、式2~4の元素比率を満たしやすくできる。一方、低屈折率層用塗布液の粘度が高くなり過ぎると、反射防止層用塗布液の塗布時に防眩層の表面に欠陥が生じる場合がある。
熱可塑性樹脂の含有量は、上述した作用及び塗膜強度のため、バインダー樹脂の全量の0.1質量%以上3.0質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.2質量%以上1.5質量%以下、さらに好ましくは0.3質量%以上0.7質量%以下である。
The binder resin of the low refractive index layer may contain a thermoplastic resin. By including a thermoplastic resin as the binder resin, the viscosity of the coating liquid for the low refractive index layer is increased, and the coating liquid for the low refractive index layer becomes difficult to flow down between the convex portions of the anti-glare layer. Therefore, by including a thermoplastic resin as the binder resin, Vvv can be easily set to a predetermined value or more, and Sal can be easily set to a predetermined value or less. Furthermore, it becomes easier to leave organic Si and fluorine near the surface of the first surface, making it easier to satisfy the element ratios of formulas 2 to 4. On the other hand, if the viscosity of the coating liquid for a low refractive index layer becomes too high, defects may occur on the surface of the anti-glare layer during application of the coating liquid for an antireflection layer.
The content of the thermoplastic resin is preferably 0.1% by mass or more and 3.0% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or more based on the total amount of the binder resin, for the above-mentioned effects and coating strength. It is 1.5% by mass or less, more preferably 0.3% by mass or more and 0.7% by mass or less.

熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ABS樹脂(耐熱ABS樹脂を含む)、AS樹脂、AN樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリブチレンテフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、およびポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられ、透明性の観点からアクリル系樹脂が好ましい。
熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、2万以上20万以下であることが好ましく、3万以上15万以下であることがより好ましく、5万以上10万以下であることがさらに好ましい。
Thermoplastic resins include polystyrene resins, polyolefin resins, ABS resins (including heat-resistant ABS resins), AS resins, AN resins, polyphenylene oxide resins, polycarbonate resins, polyacetal resins, acrylic resins, and polyethylene terephthalate resins. Examples include resins, polybutylene tephthalate resins, polysulfone resins, and polyphenylene sulfide resins, with acrylic resins being preferred from the viewpoint of transparency.
The weight average molecular weight of the thermoplastic resin is preferably 20,000 or more and 200,000 or less, more preferably 30,000 or more and 150,000 or less, and even more preferably 50,000 or more and 100,000 or less.

低屈折率粒子は、中空粒子及び中実粒子が挙げられる。低屈折率粒子としては、中空粒子及び中実粒子の何れか一方のみを含んでいてもよいが、屈折率を低くするため、中空粒子を含むことが好ましい。低屈折率層の塗膜強度の低下を抑制するためには、中空粒子に加えて、さらに中実粒子を含んでいてもよい。なお、中実粒子を含まず、中空粒子のみを含むことにより、本開示の効果を発揮しやすくできる。
中空粒子及び中実粒子の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物、有機化合物のいずれであってもよいが、低屈折率化及び強度のためにシリカが好ましい。すなわち、低屈折率層は、中空シリカ粒子を含むことが好ましい。また、低屈折率層は、中空シリカ粒子に加えて、さらに中実シリカ粒子を含むことも好ましい。
Examples of low refractive index particles include hollow particles and solid particles. Although the low refractive index particles may include only either hollow particles or solid particles, it is preferable to include hollow particles in order to lower the refractive index. In order to suppress a decrease in coating film strength of the low refractive index layer, solid particles may be further included in addition to hollow particles. Note that by including only hollow particles without including solid particles, the effects of the present disclosure can be easily exhibited.
The material of the hollow particles and the solid particles may be any of inorganic compounds such as silica and magnesium fluoride, and organic compounds, but silica is preferable for low refractive index and strength. That is, the low refractive index layer preferably contains hollow silica particles. Moreover, it is also preferable that the low refractive index layer further contains solid silica particles in addition to the hollow silica particles.

中空粒子の平均一次粒子径は、低屈折率層の厚みより小さいものが好ましく、例えば、1nm以上150nm以下が挙げられる。中空粒子の平均一次粒子径は、35nm以上100nm以下であることが好ましく、50nm以上100nm以下であることがより好ましく、60nm以上80nm以下であることがさらに好ましい。
中実粒子の平均一次粒子径は、低屈折率層の厚みより小さいものが好ましく、例えば、0.5nm以上100nm以下が挙げられる。中実粒子の平均一次粒子径は、1nm以上30nm以下であることが好ましく、5nm以上20nm以下であることがより好ましく、10nm以上15nm以下であることがさらに好ましい。
The average primary particle diameter of the hollow particles is preferably smaller than the thickness of the low refractive index layer, for example, from 1 nm to 150 nm. The average primary particle diameter of the hollow particles is preferably 35 nm or more and 100 nm or less, more preferably 50 nm or more and 100 nm or less, and even more preferably 60 nm or more and 80 nm or less.
The average primary particle diameter of the solid particles is preferably smaller than the thickness of the low refractive index layer, for example, from 0.5 nm to 100 nm. The average primary particle diameter of the solid particles is preferably 1 nm or more and 30 nm or less, more preferably 5 nm or more and 20 nm or less, and even more preferably 10 nm or more and 15 nm or less.

中空粒子及び後述する中実粒子、並びに、後述する高屈折粒子の平均一次粒子径は、以下の(A1)~(A3)の作業により算出できる。
(A1)反射防止部材の断面をTEM又はSTEMで撮像する。TEM又はSTEMの加速電圧は10kv~30kV、倍率は5万~30万倍とすることが好ましい。
(A2)観察画像から任意の10個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な2本の直線で挟んだとき、該2本の直線間距離が最大となるような2本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
(A3)同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を5回行って、合計50個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子の平均一次粒子径とする。
The average primary particle diameter of hollow particles, solid particles described below, and high refractive particles described below can be calculated by the following operations (A1) to (A3).
(A1) A cross section of the antireflection member is imaged using TEM or STEM. It is preferable that the accelerating voltage of TEM or STEM is 10 kV to 30 kV, and the magnification is 50,000 to 300,000 times.
(A2) Extract ten arbitrary particles from the observed image and calculate the particle diameter of each particle. The particle diameter is measured as the distance between two parallel straight lines in a combination such that when the cross section of the particle is sandwiched between two arbitrary parallel straight lines, the distance between the two straight lines becomes the maximum.
(A3) Perform the same operation five times on the observation image of the same sample on another screen, and use the value obtained from the number average of the particle diameters of a total of 50 particles as the average primary particle diameter of the particles.

中空粒子の含有量が多くなるほど、バインダー樹脂中の中空粒子の充填率が高くなり、低屈折率層の屈折率が低下する。このため、中空粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して100質量部以上であることが好ましく、150質量部以上であることがより好ましい。
一方で、中空粒子の含有量が多すぎると、中空粒子が損傷したり、脱落したりしやすくなって、低屈折率層の耐擦傷性等の機械的強度が低下する傾向がある。また、中空粒子の含有量が多すぎると、上記式2及び3を満たしにくくなる場合がある。このため、中空粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して300質量部以下であることが好ましく、250質量部以下であることがより好ましい。
As the content of hollow particles increases, the filling rate of hollow particles in the binder resin increases, and the refractive index of the low refractive index layer decreases. Therefore, the content of the hollow particles is preferably 100 parts by mass or more, more preferably 150 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the binder resin.
On the other hand, if the content of hollow particles is too large, the hollow particles are likely to be damaged or fall off, and the mechanical strength such as scratch resistance of the low refractive index layer tends to decrease. Moreover, if the content of hollow particles is too large, it may become difficult to satisfy the above formulas 2 and 3. Therefore, the content of the hollow particles is preferably 300 parts by mass or less, more preferably 250 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the binder resin.

中実粒子の含有量は、低屈折率層の耐擦傷性を良好にするために、バインダー樹脂100質量部に対して20質量部以上であることが好ましく、40質量部以上であることがより好ましい。
一方で、中実粒子の含有量が多すぎると、中実粒子が凝集しやすくなる。また、中実粒子の含有量が多すぎると、上記式2及び3を満たしにくくなる場合がある。このため、中実粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して100質量部以下であることが好ましく、60質量部以下であることがより好ましい。
In order to improve the scratch resistance of the low refractive index layer, the content of the solid particles is preferably 20 parts by mass or more, more preferably 40 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the binder resin. preferable.
On the other hand, if the content of solid particles is too large, the solid particles tend to aggregate. Moreover, if the content of solid particles is too large, it may become difficult to satisfy the above formulas 2 and 3. Therefore, the content of the solid particles is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the binder resin.

低屈折率層は、第1表面が上記式2~4の元素比率を満たしやすくするため、有機Si及びフッ素を含むレベリング剤を含むことが好ましい。有機Si及びフッ素を含むレベリング剤は、分子内に有機Si及びフッ素を含む化合物であってもよい。また、有機Si及びフッ素を含むレベリング剤は、分子内に有機Siを含む化合物と、分子内にフッ素を含む化合物とを併用してもよい。バインダー樹脂との相溶性を良くしやすくするため、低屈折率層は、レベリング剤として、1つの分子内に有機Si及びフッ素を含む化合物を含むことが好ましい。レベリング剤は、分子内にバインダー樹脂と反応性を有する官能基を有することが好ましい。
上記式2~4の元素比率は、主に、レベリング剤の含有量、及び、レベリング剤内の有機Si及びフッ素の割合により調整できる。しかし、レベリング剤の含有量、及び、レベリング剤内の有機Si及びフッ素の割合だけでは、防眩層の凸部の間に流れ落ちる低屈折率層用塗布液の量をコントロールすることは難しい。上記式2~4の元素比率を満たしやすくするためには、低屈折率層用塗布液の粘度を高くしたり、低屈折率層用塗布液の乾燥条件を制御したりして、防眩層の凸部の間に流れ落ちる低屈折率層用塗布液の量を少なくすることが好ましい。
The low refractive index layer preferably contains a leveling agent containing organic Si and fluorine so that the first surface easily satisfies the element ratios of formulas 2 to 4 above. The leveling agent containing organic Si and fluorine may be a compound containing organic Si and fluorine in the molecule. Further, as the leveling agent containing organic Si and fluorine, a compound containing organic Si in the molecule and a compound containing fluorine in the molecule may be used in combination. In order to easily improve compatibility with the binder resin, the low refractive index layer preferably contains a compound containing organic Si and fluorine in one molecule as a leveling agent. The leveling agent preferably has a functional group reactive with the binder resin in its molecule.
The element ratios in formulas 2 to 4 above can be adjusted mainly by the content of the leveling agent and the proportions of organic Si and fluorine in the leveling agent. However, it is difficult to control the amount of the low refractive index layer coating liquid that flows between the convex portions of the anti-glare layer only by the content of the leveling agent and the proportions of organic Si and fluorine in the leveling agent. In order to easily satisfy the element ratios of formulas 2 to 4 above, the viscosity of the coating liquid for the low refractive index layer is increased or the drying conditions of the coating liquid for the low refractive index layer are controlled. It is preferable to reduce the amount of the coating liquid for a low refractive index layer that flows down between the convex portions.

レベリング剤の好ましい含有量は、レベリング剤内の有機Si及びフッ素の割合に応じて、上記式2~4の元素比率を満たすように調整することが好ましい。
本開示の一実施形態では、低屈折率層の全固形分に対するレベリング剤の含有量は、10質量%以上40質量%以下であることが好ましく、15質量%以上40質量%以下であることがより好ましく、20質量%以上40質量%以下であることがさらに好ましい。
The preferred content of the leveling agent is preferably adjusted to satisfy the element ratios of formulas 2 to 4 above, depending on the proportions of organic Si and fluorine in the leveling agent.
In one embodiment of the present disclosure, the content of the leveling agent based on the total solid content of the low refractive index layer is preferably 10% by mass or more and 40% by mass or less, and preferably 15% by mass or more and 40% by mass or less. More preferably, it is 20% by mass or more and 40% by mass or less.

高屈折率層は、低屈折率層よりも防眩層側に配置することが好ましい。
高屈折率層の屈折率は、下限は、1.53以上が好ましく、1.54以上がより好ましく、1.55以上がより好ましく、1.56以上がより好ましく、上限は、1.85以下が好ましく、1.80以下がより好ましく、1.75以下がより好ましく、1.70以下がより好ましい。
The high refractive index layer is preferably arranged closer to the anti-glare layer than the low refractive index layer.
The lower limit of the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.53 or more, more preferably 1.54 or more, more preferably 1.55 or more, more preferably 1.56 or more, and the upper limit is 1.85 or less. is preferable, 1.80 or less is more preferable, 1.75 or less is more preferable, and 1.70 or less is more preferable.

高屈折率層の厚みは、上限は、200nm以下が好ましく、180nm以下がより好ましく、150nm以下がさらに好ましく、下限は、50nm以上が好ましく、70nm以上がより好ましい。 The upper limit of the thickness of the high refractive index layer is preferably 200 nm or less, more preferably 180 nm or less, even more preferably 150 nm or less, and the lower limit is preferably 50 nm or more, more preferably 70 nm or more.

高屈折率層のバインダー樹脂としては、低屈折率層のバインダー樹脂と同様のものが挙げられる。 Examples of the binder resin for the high refractive index layer include those similar to those for the low refractive index layer.

高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、酸化イットリウム及び酸化ジルコニウム等が挙げられる。
高屈折率粒子の平均一次粒子径は、2nm以上が好ましく、5nm以上がより好ましく、10nm以上がさらに好ましい。また、高屈折率粒子の平均一次粒子径は、白化抑制及び透明性の観点から、200nm以下が好ましく、100nm以下がより好ましく、80nm以下がより好ましく、60nm以下がより好ましく、30nm以下がより好ましい。
高屈折率粒子の含有量は、高屈折率層の屈折率が上述した範囲となるような含有量とすればよい。
Examples of high refractive index particles include antimony pentoxide, zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, yttrium oxide, and zirconium oxide.
The average primary particle diameter of the high refractive index particles is preferably 2 nm or more, more preferably 5 nm or more, and even more preferably 10 nm or more. In addition, from the viewpoint of suppressing whitening and transparency, the average primary particle diameter of the high refractive index particles is preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, more preferably 60 nm or less, and more preferably 30 nm or less. .
The content of the high refractive index particles may be such that the refractive index of the high refractive index layer falls within the range described above.

低屈折率層及び高屈折率層等の反射防止層をウェット法により形成する場合、反射防止層用塗布液の粘度を高くすることが好ましい。反射防止層用塗布液の粘度を高くすることにより、反射防止層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくなるため、防眩層上に反射防止層を形成しても、防眩層の表面形状を維持しやすくできる。このため、反射防止層用塗布液の粘度を適度に高くすることにより、Vvvを所定の値以上にしやすく、かつ、Salを所定の値以下にしやすくできる。さらに、第1面の表面近傍に有機Si及びフッ素を残存させやすくなるため、式2~4の元素比率を満たしやすくできる。例えば、バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を添加したり、電離放射線硬化性樹脂組成物としてオリゴマーの割合を増やしたり、溶剤として粘度の高い溶剤を選択したりすることなどにより、反射防止層用塗布液の粘度を高くすることができる。
一方、反射防止層用塗布液の粘度を高くし過ぎると、反射防止層用塗布液の塗布時に防眩層の表面に欠陥が生じる場合がある。
このため、反射防止層用塗布液の23℃の粘度は、0.1mPa・s以上5.0mPa・s以下であることが好ましい。
When forming antireflection layers such as a low refractive index layer and a high refractive index layer by a wet method, it is preferable to increase the viscosity of the antireflection layer coating liquid. By increasing the viscosity of the coating solution for the anti-reflection layer, the coating solution for the anti-reflection layer becomes difficult to flow down between the convex parts of the anti-glare layer, so even if the anti-reflection layer is formed on the anti-glare layer, the The surface shape of the glare layer can be easily maintained. Therefore, by appropriately increasing the viscosity of the antireflection layer coating liquid, Vvv can be easily controlled to a predetermined value or more, and Sal can be easily controlled to be a predetermined value or less. Furthermore, it becomes easier to leave organic Si and fluorine near the surface of the first surface, making it easier to satisfy the element ratios of formulas 2 to 4. For example, by adding a thermoplastic resin as a binder resin, increasing the proportion of oligomer in an ionizing radiation-curable resin composition, or selecting a highly viscous solvent as a solvent, the coating solution for an antireflection layer can be improved. Viscosity can be increased.
On the other hand, if the viscosity of the antireflection layer coating liquid is made too high, defects may occur on the surface of the antiglare layer during coating of the antireflection layer coating liquid.
Therefore, the viscosity of the antireflection layer coating liquid at 23° C. is preferably 0.1 mPa·s or more and 5.0 mPa·s or less.

反射防止層用塗布液の溶剤としては、防眩層用塗布液の溶剤として例示したものと同様のものが挙げられる。 Examples of the solvent for the antireflection layer coating solution include the same solvents as those exemplified as the solvent for the antiglare layer coating solution.

反射防止層塗布液から防眩層を形成する際には、乾燥条件を制御することが好ましい。
乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度は30℃以上70℃以下が好ましく、乾燥風速は10m/s以上30m/s以下が好ましい。乾燥温度を低温とすることにより、反射防止層用塗布液の粘度を高くしやすくできる。また、風速を強くすることにより、反射防止層用塗布液の粘度を速やかに上げることができる。したがって、反射防止層用塗布液を比較的低温、かつ、強い風速で乾燥することにより、反射防止層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくすることができる。すなわち、反射防止層用塗布液を比較的低温、かつ、強い風速で乾燥することにより、第1面のVvv等の表面形状を上述した範囲にしやすくでき、かつ、式1~4を満たしやすくできる。
電離放射線の照射は反射防止層用塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
When forming an anti-glare layer from an anti-reflection layer coating liquid, it is preferable to control drying conditions.
Drying conditions can be controlled by drying temperature and wind speed within the dryer. The drying temperature is preferably 30° C. or more and 70° C. or less, and the drying wind speed is preferably 10 m/s or more and 30 m/s or less. By setting the drying temperature to a low temperature, it is possible to easily increase the viscosity of the coating liquid for an antireflection layer. Furthermore, by increasing the wind speed, the viscosity of the antireflection layer coating liquid can be quickly increased. Therefore, by drying the antireflection layer coating liquid at a relatively low temperature and at a strong wind speed, the antireflection layer coating liquid can be prevented from flowing down between the convex portions of the antiglare layer. That is, by drying the coating solution for the antireflection layer at a relatively low temperature and at a strong wind speed, the surface shape of the first surface, such as Vvv, can be easily brought into the above-mentioned range, and Equations 1 to 4 can be easily satisfied. .
Irradiation with ionizing radiation is preferably performed after drying the antireflection layer coating solution.

―3層構造以上の多層構造の場合―
ドライ法により好ましく形成される多層構造は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に合計3層以上積層された構成である。多層構造においても、低屈折率層は、光学フィルムの最表面に配置することが好ましい。
-In the case of a multilayer structure with three or more layers-
A multilayer structure preferably formed by a dry method has a structure in which a total of three or more layers of high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated. Even in a multilayer structure, the low refractive index layer is preferably placed on the outermost surface of the optical film.

高屈折率層は、厚みは10nm以上200nm以下であることが好ましく、屈折率は2.10以上2.40以下であることが好ましい。高屈折率層の厚みは20nm以上70nm以下であることがより好ましい。
低屈折率層は、厚みは5nm以上200nm以下であることが好ましく、屈折率は1.33以上1.53以下であることが好ましい。低屈折率層の厚みは20nm以上120nm以下であることがより好ましい。
The high refractive index layer preferably has a thickness of 10 nm or more and 200 nm or less, and preferably has a refractive index of 2.10 or more and 2.40 or less. The thickness of the high refractive index layer is more preferably 20 nm or more and 70 nm or less.
The low refractive index layer preferably has a thickness of 5 nm or more and 200 nm or less, and a refractive index of 1.33 or more and 1.53 or less. The thickness of the low refractive index layer is more preferably 20 nm or more and 120 nm or less.

<光学特性>
光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるRSCIが3.0%以下であることが好ましい。
[全光線反射率(RSCI)の測定]
前記光学フィルムの前記第2面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率(RSCI)を測定する。
<Optical properties>
It is preferable that the optical film has an RSCI , which is a total light reflectance measured by the method described below, of 3.0% or less.
[Measurement of total light reflectance ( RSCI )]
A sample is prepared by bonding a black plate to the second surface of the optical film via a transparent adhesive. The total light reflectance ( RSCI ) is measured using the optical film side of the sample as the light incident surface.

SCIを3.0%以下とすることにより、照度が強い光が第1面に入射しない環境において、黒表示部の黒味を高めやすくできるため、コントラストを良好にしやすくできる。光学フィルムのRSCIは、2.5%以下であることがより好ましく、2.0%以下であることがさらに好ましい。光学フィルムのRSCIの下限は特に制限されないが、通常は0.1%以上である。 By setting the R SCI to 3.0% or less, it is possible to easily increase the blackness of the black display area in an environment in which high-intensity light is not incident on the first surface, thereby making it easy to improve the contrast. The RSCI of the optical film is more preferably 2.5% or less, and even more preferably 2.0% or less. The lower limit of the RSCI of the optical film is not particularly limited, but is usually 0.1% or more.

通常、RSCIを3.0%以下とした場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との反射率のコントラストが大きくなり、光学フィルムの見栄えが大きく低下しやすくなる。しかし、本開示の光学フィルムは、落下式接触角を高くすることにより指紋拭き取り性が良好であるため、RSCIを3.0%以下としても、光学フィルムの見栄えが低下することを抑制しやすくできる。 Generally, when the RSCI is set to 3.0% or less, the contrast in reflectance between a portion having a fingerprint component and a portion not having a fingerprint component increases, and the appearance of the optical film tends to deteriorate significantly. However, since the optical film of the present disclosure has good fingerprint wiping properties by increasing the falling contact angle, it is easy to suppress deterioration in the appearance of the optical film even if the RSCI is 3.0% or less. can.

SCIは、積分球を用いてサンプル表面にあらゆる方向から光を与え、正反射方向に相当するライトトラップを閉じて測定される反射光である。
代表的なRSCIの測定装置は、JIS Z8722:2009の幾何条件cに準拠した構成となっている。より具体的には、代表的なRSCIの測定装置は、積分球分光光度計の光源としてD65を用い、受光器の位置はサンプルの法線に対して+8度であり、受光器の開口角は10度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して-8度であり、視野角は2度又は10度である。本明細書では視野角を2度としている。
上記条件を満たす測定装置としては、例えば、コニカミノルタ社製の積分球分光光度計(商品名:CM-2002)が挙げられる。
RSCI is reflected light measured by applying light to the sample surface from all directions using an integrating sphere and closing a light trap corresponding to the direction of specular reflection.
A typical RSCI measuring device has a configuration conforming to geometric condition c of JIS Z8722:2009. More specifically, a typical RSCI measurement device uses a D65 as the light source of an integrating sphere spectrophotometer, the position of the receiver is +8 degrees with respect to the normal to the sample, and the aperture angle of the receiver is is 10 degrees, the light trap position is −8 degrees with respect to the sample normal, and the viewing angle is 2 degrees or 10 degrees. In this specification, the viewing angle is set to 2 degrees.
An example of a measuring device that satisfies the above conditions is an integrating sphere spectrophotometer (trade name: CM-2002) manufactured by Konica Minolta.

サンプルの透明粘着剤の屈折率と、光学フィルムの第2面側の層の屈折率との差は、0.05以内であることが好ましく、0.03以内であることがより好ましく、0.01以内であることがさらに好ましい。サンプルの透明粘着剤の屈折率と、黒色板のバインダー樹脂の屈折率との差は、0.05以内であることが好ましく、0.03以内であることがより好ましく、0.01以内であることがさらに好ましい。 The difference between the refractive index of the transparent adhesive of the sample and the refractive index of the layer on the second surface side of the optical film is preferably within 0.05, more preferably within 0.03, and more preferably within 0.03. More preferably, it is within 0.01. The difference between the refractive index of the transparent adhesive of the sample and the refractive index of the binder resin of the black plate is preferably within 0.05, more preferably within 0.03, and more preferably within 0.01. It is even more preferable.

光学フィルムは、JIS K7361-1:1997の全光線透過率が80%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。
全光線透過率及びヘイズを測定する際の光入射面は、光学フィルムの第2面側とする。
The optical film preferably has a total light transmittance of 80% or more according to JIS K7361-1:1997, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more.
The light incident surface when measuring the total light transmittance and haze is the second surface side of the optical film.

光学フィルムは、JIS K7136:2000のヘイズが20%以上75%以下であることが好ましい。ヘイズは、下限は30%以上であることがより好ましく、40%以上であることがさらに好ましく、50%以上であることがよりさらに好ましく、上限は70%以下であることがより好ましく、65%以下であることがさらに好ましい。
ヘイズを20%以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。また、ヘイズを75%以下とすることにより、映像の解像度の低下を抑制しやすくできる。
光学フィルムのヘイズの実施形態は、20%以上75%以下、20%以上70%以下、20%以上65%以下、30%以上75%以下、30%以上70%以下、30%以上65%以下、40%以上75%以下、40%以上70%以下、40%以上65%以下、50%以上75%以下、50%以上70%以下、50%以上65%以下が挙げられる。
The optical film preferably has a haze of 20% or more and 75% or less according to JIS K7136:2000. The lower limit of haze is more preferably 30% or more, further preferably 40% or more, even more preferably 50% or more, and the upper limit is more preferably 70% or less, 65%. It is more preferable that it is the following.
By setting the haze to 20% or more, anti-glare properties can be easily improved. Further, by setting the haze to 75% or less, it is possible to easily suppress a decrease in image resolution.
Embodiments of the haze of the optical film include 20% or more and 75% or less, 20% or more and 70% or less, 20% or more and 65% or less, 30% or more and 75% or less, 30% or more and 70% or less, and 30% or more and 65% or less. , 40% or more and 75% or less, 40% or more and 70% or less, 40% or more and 65% or less, 50% or more and 75% or less, 50% or more and 70% or less, and 50% or more and 65% or less.

光学フィルムは、映像の解像度及びコントラストを良好にしやすくするために、内部ヘイズが20%以下であることが好ましく、15%以下であることがより好ましく、10%以下であることがさらに好ましい。
内部ヘイズは汎用の手法で測定することができ、例えば、光学フィルムの第1表面上に透明粘着剤層を介して透明シートを貼り合わせるなどして、第1表面の凹凸を潰すことにより測定することができる。
In order to easily improve the resolution and contrast of images, the optical film preferably has an internal haze of 20% or less, more preferably 15% or less, and even more preferably 10% or less.
Internal haze can be measured by a general-purpose method, for example, by bonding a transparent sheet on the first surface of an optical film via a transparent adhesive layer and flattening the irregularities on the first surface. be able to.

光学フィルムは、JIS K7374:2007に準拠して測定した透過像鮮明度に関して、光学櫛の幅が0.125mmの透過像鮮明度をC0.125、光学櫛の幅が0.25mmの透過像鮮明度をC0.25、光学櫛の幅が0.5mmの透過像鮮明度をC0.5、光学櫛の幅が1.0mmの透過像鮮明度をC1.0、光学櫛の幅が2.0mmの透過像鮮明度をC2.0と定義した際に、C0.125、C0.25、C0.5、C1.0及びC2.0の値が下記の範囲であることが好ましい。
0.125は、防眩性を良好にするため、50%以下が好ましく、40%以下がより好ましく、30%以下がより好ましく、20%以下がより好ましい。C0.125は、解像度を良好にするため、1.0%以上が好ましい。C0.125の範囲としては、1.0%以上50%以下、1.0%以上40%以下、1.0%以上30%以下、1.0%以上20%以下が挙げられる。
0.25は、防眩性を良好にするため、50%以下が好ましく、40%以下がより好ましく、30%以下がより好ましく、20%以下がより好ましい。C0.25は、解像度を良好にするため、1.0%以上が好ましい。C0.25の範囲としては、1.0%以上50%以下、1.0%以上40%以下、1.0%以上30%以下、1.0%以上20%以下が挙げられる。
0.5は、防眩性を良好にするため、50%以下が好ましく、40%以下がより好ましく、30%以下がより好ましく、20%以下がより好ましい。C0.5は、解像度を良好にするため、1.0%以上が好ましい。C0.5の範囲としては、1.0%以上50%以下、1.0%以上40%以下、1.0%以上30%以下、1.0%以上20%以下が挙げられる。
1.0は、防眩性を良好にするため、50%以下が好ましく、40%以下がより好ましく、30%以下がより好ましく、20%以下がより好ましい。C1.0は、解像度を良好にするため、1.0%以上が好ましい。C1.0の範囲としては、1.0%以上50%以下、1.0%以上40%以下、1.0%以上30%以下、1.0%以上20%以下が挙げられる。
2.0は、防眩性を良好にするため、50%以下が好ましく、40%以下がより好ましく、30%以下がより好ましく、20%以下がより好ましい。C2.0は、解像度を良好にするため、5.0%以上が好ましい。C2.0の範囲としては、5.0%以上50%以下、5.0%以上40%以下、5.0%以上30%以下、5.0%以上20%以下が挙げられる。
Regarding the transmitted image clarity measured in accordance with JIS K7374:2007, the optical film has a transmitted image clarity of C 0.125 when the width of the optical comb is 0.125 mm, and a transmitted image clarity when the width of the optical comb is 0.25 mm. C 0.25 is the clarity of the transmitted image when the width of the optical comb is 0.5 mm, C 0.5 is the clarity of the transmitted image when the width of the optical comb is 1.0 mm, and C 1.0 is the clarity of the transmitted image when the width of the optical comb is 2.0 mm. When the degree is defined as C 2.0 , the values of C 0.125 , C 0.25 , C 0.5 , C 1.0 and C 2.0 are preferably in the following ranges.
In order to improve anti-glare properties, C 0.125 is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. C 0.125 is preferably 1.0% or more in order to improve resolution. The range of C 0.125 includes 1.0% to 50%, 1.0% to 40%, 1.0% to 30%, and 1.0% to 20%.
In order to improve anti-glare properties, C 0.25 is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. C 0.25 is preferably 1.0% or more in order to improve resolution. Examples of the range of C 0.25 include 1.0% to 50%, 1.0% to 40%, 1.0% to 30%, and 1.0% to 20%.
In order to improve anti-glare properties, C 0.5 is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. C 0.5 is preferably 1.0% or more in order to improve resolution. Examples of the range of C 0.5 include 1.0% to 50%, 1.0% to 40%, 1.0% to 30%, and 1.0% to 20%.
In order to improve anti-glare properties, C 1.0 is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. C 1.0 is preferably 1.0% or more in order to improve resolution. Examples of the range of C 1.0 include 1.0% to 50%, 1.0% to 40%, 1.0% to 30%, and 1.0% to 20%.
In order to improve anti-glare properties, C 2.0 is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. C 2.0 is preferably 5.0% or more in order to improve resolution. Examples of the range of C 2.0 include 5.0% to 50%, 5.0% to 40%, 5.0% to 30%, and 5.0% to 20%.

光学フィルムは、防眩性を良好にするため、C0.125、C0.5、C1.0及びC2.0の合計が、200%以下が好ましく、150%以下がより好ましく、100%以下がより好ましく、80%以下がより好ましい。前記合計は、解像度を良好にするため、10.0%以上が好ましい。前記合計の範囲としては、10.0%以上200%以下、10.0%以上150%以下、10.0%以上100%以下、10.0%以上80%以下が挙げられる。 In order to improve the anti-glare properties of the optical film, the total of C 0.125 , C 0.5 , C 1.0 and C 2.0 is preferably 200% or less, more preferably 150% or less, more preferably 100% or less, and 80%. The following are more preferred. The total is preferably 10.0% or more in order to improve resolution. Examples of the range of the total include 10.0% to 200%, 10.0% to 150%, 10.0% to 100%, and 10.0% to 80%.

<大きさ、形状等>
光学フィルムは、所定の大きさにカットした枚葉状の形態でもよいし、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態であってもよい。枚葉の大きさは特に限定されないが、最大径が2インチ以上500インチ以下程度である。「最大径」とは、光学フィルムの任意の2点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、光学フィルムが長方形の場合は、該領域の対角線が最大径となる。光学フィルムが円形の場合は、円の直径が最大径となる。
ロール状の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は500mm以上3000mm以下、長さは500m以上5000m以下程度である。ロール状の形態の光学フィルムは、画像表示装置等の大きさに合わせて、枚葉状にカットして用いることができる。カットする際、物性が安定しないロール端部は除外することが好ましい。
枚葉の形状も特に限定されず、例えば、三角形、四角形、五角形等の多角形、円形、ランダムな不定形等の形状が挙げられる。より具体的には、光学フィルムが四角形状である場合には、縦横比は表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、横:縦=1:1、4:3、16:10、16:9、2:1等が挙げられるが、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。
<Size, shape, etc.>
The optical film may be in the form of a sheet cut into a predetermined size, or may be in the form of a roll formed by winding a long sheet into a roll. The size of the leaves is not particularly limited, but the maximum diameter is about 2 inches or more and 500 inches or less. The term "maximum diameter" refers to the maximum length when any two points on the optical film are connected. For example, if the optical film is rectangular, the diagonal line of the area has the maximum diameter. When the optical film is circular, the diameter of the circle is the maximum diameter.
The width and length of the roll are not particularly limited, but generally the width is about 500 mm or more and 3000 mm or less, and the length is about 500 m or more and 5000 m or less. The optical film in the form of a roll can be used by cutting it into sheets according to the size of the image display device or the like. When cutting, it is preferable to exclude the ends of the roll whose physical properties are unstable.
The shape of the sheet is not particularly limited, and examples thereof include polygons such as triangles, quadrangles, and pentagons, circles, and random irregular shapes. More specifically, when the optical film has a rectangular shape, the aspect ratio is not particularly limited as long as it poses no problem as a display screen. For example, width:height = 1:1, 4:3, 16:10, 16:9, 2:1, etc. However, in automotive applications and digital signage with rich design, it is limited to these aspect ratios. Not done.

光学フィルムの第2表面の表面形状は特に限定されないが、略平滑であることが好ましい。略平滑とは、カットオフ値0.8mmにおける、JIS B0601:1994の算術平均粗さRaが0.03μm未満であることを意味し、好ましくは0.02μm以下である。 Although the surface shape of the second surface of the optical film is not particularly limited, it is preferably substantially smooth. Substantially smooth means that the arithmetic mean roughness Ra according to JIS B0601:1994 at a cutoff value of 0.8 mm is less than 0.03 μm, preferably 0.02 μm or less.

[光学フィルムの製造方法]
本開示の光学フィルムの製造方法は、上述した本開示の光学フィルムの製造方法であって、基材上に防眩層を形成する第1の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第2の工程とを有するものである。
[Optical film manufacturing method]
The method for manufacturing an optical film of the present disclosure is the method for manufacturing an optical film of the present disclosure described above, which includes a first step of forming an anti-glare layer on a base material, and forming an anti-reflection layer on the anti-glare layer. and a second step of forming.

基材上に防眩層を形成する手段としては、上述した、(A)エンボスロールを用いた方法、(B)エッチング処理、(C)型による成型、(D)塗布による塗膜の形成、が挙げられる。
(A)の方法の場合、例えば、基材上に樹脂層を形成し、樹脂層側からエンボスロールを用いて賦型することにより、基材上に防眩層を形成できる。
(B)の方法の場合、例えば、基材上に光硬化性樹脂の層を形成し、フォトエッチングすることにより、基材上に防眩層を形成できる。
(C)の方法の場合、例えば、型に樹脂を流し込み、成形した樹脂を型から取り出すとともに、基材上に配置することにより、基材上に防眩層を形成することができる。
(D)の方法の場合、例えば、基材上に、上述した(d1)又は(d2)の手法により塗膜を形成することにより、基材上に防眩層を形成することができる。
Means for forming the anti-glare layer on the substrate include the above-mentioned (A) method using an embossing roll, (B) etching treatment, (C) molding with a mold, (D) formation of a coating film by coating, can be mentioned.
In the case of method (A), for example, an anti-glare layer can be formed on the base material by forming a resin layer on the base material and shaping it from the resin layer side using an embossing roll.
In the case of method (B), for example, an anti-glare layer can be formed on the substrate by forming a layer of photocurable resin on the substrate and photo-etching it.
In the case of method (C), for example, an anti-glare layer can be formed on a base material by pouring a resin into a mold, taking out the molded resin from the mold, and placing it on the base material.
In the case of method (D), for example, an anti-glare layer can be formed on the substrate by forming a coating film on the substrate by the method (d1) or (d2) described above.

防眩層上に反射防止層を形成する手段としては、例えば、上述した、ウェット法又はドライ法が挙げられる。 Examples of means for forming the antireflection layer on the antiglare layer include the above-mentioned wet method or dry method.

[偏光板]
本開示の偏光板は、偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、上述した本開示の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第2面と前記偏光子とが対向して配置されたものである。
[Polarizer]
The polarizing plate of the present disclosure includes a polarizer, a first transparent protective plate placed on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate placed on the other side of the polarizer. A polarizing plate,
At least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the optical film of the present disclosure described above, and the second surface of the optical film and the polarizer are disposed to face each other. It is something.

<偏光子>
偏光子としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン-酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等のシート型偏光子、平行に並べられた多数の金属ワイヤからなるワイヤーグリッド型偏光子、リオトロピック液晶や二色性ゲスト-ホスト材料を塗布した塗布型偏光子、多層薄膜型偏光子等が挙げられる。これらの偏光子は、透過しない偏光成分を反射する機能を備えた反射型偏光子であってもよい。
<Polarizer>
Examples of polarizers include sheet-type polarizers such as polyvinyl alcohol films dyed with iodine and stretched, polyvinyl formal films, polyvinyl acetal films, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer films, etc., and many sheets arranged in parallel. Examples include wire grid type polarizers made of metal wires, coated type polarizers coated with lyotropic liquid crystal or dichroic guest-host materials, and multilayer thin film type polarizers. These polarizers may be reflective polarizers having a function of reflecting polarized light components that are not transmitted.

<透明保護板>
偏光子の一方の側には第一の透明保護板、他方の側には第二の透明保護板が配置される。第一の透明保護板及び第二の透明保護板の少なくとも一方は、上述した本開示の光学フィルムである。
本開示の偏光板は、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の一方が上述した本開示の光学フィルムであってもよいし、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の両方が上述した本開示の光学フィルムであってもよい。
<Transparent protection plate>
A first transparent protection plate is arranged on one side of the polarizer, and a second transparent protection plate is arranged on the other side. At least one of the first transparent protection plate and the second transparent protection plate is the optical film of the present disclosure described above.
In the polarizing plate of the present disclosure, one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate may be the optical film of the present disclosure described above, or the first transparent protective plate and the second transparent protective plate may be the optical film of the present disclosure. Both may be the optical film of the present disclosure described above.

第一の透明保護板及び第二の透明保護板のうち、本開示の光学フィルムではない透明保護板としては、汎用のプラスチックフィルム及びガラス等を用いることができる。 Among the first transparent protection plate and the second transparent protection plate, a general-purpose plastic film, glass, or the like can be used as the transparent protection plate that is not the optical film of the present disclosure.

偏光子と透明保護板とは、接着剤を介して貼り合わせることが好ましい。接着剤は汎用の接着剤を用いることができ、PVA系接着剤が好ましい。 It is preferable that the polarizer and the transparent protective plate are bonded together via an adhesive. A general-purpose adhesive can be used as the adhesive, and a PVA-based adhesive is preferable.

[画像表示装置用の表面板]
本開示の画像表示装置用の表面板は、樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが上述した本開示の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第2面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置されたものである。
[Surface plate for image display device]
The surface plate for an image display device of the present disclosure is a surface plate for an image display device in which a protective film is laminated onto a resin plate or a glass plate, and the protective film is the optical film of the present disclosure described above, The second surface of the optical film and the resin plate or the glass plate are arranged to face each other.

樹脂板又はガラス板としては、画像表示装置の表面板として汎用的に使用されている樹脂板又はガラス板を用いることができる。 As the resin plate or glass plate, a resin plate or a glass plate that is commonly used as a surface plate of an image display device can be used.

樹脂板又はガラス板の厚みは、強度を良好にするため、10μm以上であることが好ましい。樹脂板又はガラス板の厚みの上限は、通常は5000μm以下である。薄型化のためには、樹脂板又はガラス板の厚みの上限は、1000μm以下であることが好ましく、500μm以下であることがより好ましく、100μm以下であることがさらに好ましい。
樹脂板又はガラス板の厚みの範囲の実施形態は、10μm以上5000μm以下、10μm以上1000μm以下、10μm以上500μm以下、10μm以上100μm以下が挙げられる。
The thickness of the resin plate or glass plate is preferably 10 μm or more in order to improve the strength. The upper limit of the thickness of the resin plate or glass plate is usually 5000 μm or less. In order to reduce the thickness, the upper limit of the thickness of the resin plate or glass plate is preferably 1000 μm or less, more preferably 500 μm or less, and even more preferably 100 μm or less.
Examples of the thickness range of the resin plate or glass plate include 10 μm or more and 5000 μm or less, 10 μm or more and 1000 μm or less, 10 μm or more and 500 μm or less, and 10 μm or more and 100 μm or less.

[画像表示パネル]
本開示の画像表示パネルは、表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして上述した本開示の光学フィルムを含むものである(図2参照)。
[Image display panel]
The image display panel of the present disclosure is an image display panel having a display element and an optical film disposed on the light exit surface side of the display element, and includes the optical film of the present disclosure described above as the optical film ( (see Figure 2).

画像表示パネル内において、本開示の光学フィルムは、第2面側が表示素子側を向くように配置することが好ましい。
画像表示パネル内において、本開示の光学フィルムは、表示素子の光出射面側の最表面に配置することが好ましい。
In the image display panel, the optical film of the present disclosure is preferably arranged such that the second surface side faces the display element side.
In the image display panel, the optical film of the present disclosure is preferably disposed on the outermost surface on the light exit surface side of the display element.

表示素子としては、液晶表示素子、EL表示素子(有機EL表示素子、無機EL表示素子)、プラズマ表示素子等が挙げられ、さらには、マイクロLED表示素子等のLED表示素子が挙げられる。これら表示素子は、表示素子の内部にタッチパネル機能を有していてもよい。
液晶表示素子の液晶の表示方式としては、IPS方式、VA方式、マルチドメイン方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等が挙げられる。
Examples of display elements include liquid crystal display elements, EL display elements (organic EL display elements, inorganic EL display elements), plasma display elements, and further, LED display elements such as micro LED display elements. These display elements may have a touch panel function inside the display element.
Examples of the liquid crystal display method of the liquid crystal display element include an IPS method, a VA method, a multi-domain method, an OCB method, an STN method, and a TSTN method.

また、本開示の画像表示パネルは、表示素子と光学フィルムとの間にタッチパネルを有するタッチパネル付きの画像表示パネルであってもよい。 Further, the image display panel of the present disclosure may be an image display panel with a touch panel that has a touch panel between a display element and an optical film.

画像表示パネルの大きさは特に限定されないが、最大径が2インチ以上500インチ以下程度である。最大径とは、画像表示パネルの面内の任意の2点を結んだ際の最大長さを意味する。 The size of the image display panel is not particularly limited, but the maximum diameter is about 2 inches or more and 500 inches or less. The maximum diameter means the maximum length when connecting any two points within the plane of the image display panel.

[画像表示装置]
本開示の画像表示装置は、本開示の画像表示パネルを含むものである。
[Image display device]
The image display device of the present disclosure includes the image display panel of the present disclosure.

本開示の画像表示装置は、本開示の画像表示パネルを含むものであれば特に限定されない。本開示の画像表示装置は、本開示の画像表示パネルと、前記画像表示パネルに電気的に接続された駆動制御部と、これらを収容する筐体とを備えることが好ましい。
表示素子が液晶表示素子である場合、本開示の画像表示装置にはバックライトが必要である。バックライトは、液晶表示素子の光出射面側とは反対側に配置される。
The image display device of the present disclosure is not particularly limited as long as it includes the image display panel of the present disclosure. It is preferable that the image display device of the present disclosure includes the image display panel of the present disclosure, a drive control section electrically connected to the image display panel, and a housing that accommodates these.
When the display element is a liquid crystal display element, the image display device of the present disclosure requires a backlight. The backlight is arranged on the side opposite to the light exit surface of the liquid crystal display element.

画像表示装置の大きさは特に限定されないが、有効表示領域の最大径が2インチ以上500インチ以下程度である。
画像表示装置の有効表示領域とは、画像を表示し得る領域である。例えば、画像表示装置が表示素子を囲う筐体を有する場合、筐体の内側の領域が有効画像領域となる。
なお、有効画像領域の最大径とは、有効画像領域内の任意の2点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、有効画像領域が長方形の場合は、該領域の対角線が最大径となる。また、有効画像領域が円形の場合は、該領域の直径が最大径となる。
The size of the image display device is not particularly limited, but the maximum diameter of the effective display area is about 2 inches or more and 500 inches or less.
The effective display area of an image display device is an area where an image can be displayed. For example, when an image display device has a casing that surrounds a display element, the area inside the casing becomes the effective image area.
Note that the maximum diameter of the effective image area refers to the maximum length when any two points within the effective image area are connected. For example, if the effective image area is rectangular, the diagonal line of the area has the maximum diameter. Furthermore, when the effective image area is circular, the diameter of the area is the maximum diameter.

[光学フィルムの選定方法]
本開示の光学フィルムの選定方法は、下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定するものである。
(光学フィルムの選定条件)
第1面と、前記第1面とは反対側の面である第2面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第1面は凹凸形状を有し、
前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される突出谷部空間体積であるVvvが0.005ml/m以上であり、
下記の手法により測定される落下式接触角が30.0度以上である。
<落下式接触角の測定>
前記光学フィルムの前記第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記第1面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
本開示の画像表示パネルを含むものである。
[How to select optical film]
The optical film selection method of the present disclosure selects an optical film that satisfies the following selection conditions.
(Selection conditions for optical film)
An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
The optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface,
the first surface has an uneven shape;
The first surface has a protruding valley space volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/m 2 or more,
The falling contact angle measured by the method below is 30.0 degrees or more.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.
It includes the image display panel of the present disclosure.

本開示の光学フィルムの選定方法では、追加の選定条件を有していてもよい。追加の選定条件としては、光学フィルムの好適な実施形態が挙げられる。追加の選定条件としては、例えば、下記A~Dが挙げられる。
A:Vvv/Vvcが、0.10以下。
B:前記光学フィルムが、前記第1面から前記第2面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する。
C:元素比率が、下記の式2~4を満たす。
3.5≦F/無機Si≦10.0 (式2)
0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 (式3)
5.0≦F/有機Si≦50.0 (式4)
D:下記の手法により測定される全光線反射率であるRSCIが3.0%以下。
[全光線反射率(RSCI)の測定]
前記光学フィルムの前記第2面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率(RSCI)を測定する。
The optical film selection method of the present disclosure may include additional selection conditions. Additional selection criteria include preferred embodiments of the optical film. Additional selection conditions include, for example, the following A to D.
A: Vvv/Vvc is 0.10 or less.
B: The optical film has the antireflection layer, the antiglare layer, and the base material in this order from the first surface to the second surface.
C: The element ratio satisfies the following formulas 2 to 4.
3.5≦F/Inorganic Si≦10.0 (Formula 2)
0.08≦Organic Si/Inorganic Si≦1.00 (Formula 3)
5.0≦F/Organic Si≦50.0 (Formula 4)
D: RSCI , which is the total light reflectance measured by the method below, is 3.0% or less.
[Measurement of total light reflectance ( RSCI )]
A sample is prepared by bonding a black plate to the second surface of the optical film via a transparent adhesive. The total light reflectance ( RSCI ) is measured using the optical film side of the sample as the light incident surface.

本開示の光学フィルムの選定方法によれば、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを、効率よく選定することができる。 According to the optical film selection method of the present disclosure, it is possible to efficiently select an optical film that has excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties.

[指紋拭き取り性の評価方法]
本開示の指紋拭き取り性の評価方法は、下記の測定により測定した落下式接触角の値を評価指標とするものである。
<落下式接触角の測定>
測定対象物の表面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記表面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
[Evaluation method of fingerprint wiping performance]
The fingerprint wiping property evaluation method of the present disclosure uses the value of the falling contact angle measured by the following measurement as an evaluation index.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet with a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the surface of the object to be measured. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.

本開示の指紋拭き取り性の評価方法によれば、測定対象物の指紋拭き取り性を簡易に評価することができる。具体的には、落下式接触角の値が小さいほど、指紋拭き取り性が良好であると評価することができる。 According to the fingerprint wiping property evaluation method of the present disclosure, it is possible to easily evaluate the fingerprint wiping property of a measurement target. Specifically, it can be evaluated that the smaller the value of the falling contact angle is, the better the fingerprint wiping property is.

本開示は、以下の[1]~[17]を含む。
[1] 第1面と、前記第1面とは反対側の面である第2面を有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第1面は凹凸形状を有し、
前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される突出谷部空間体積であるVvvが0.005ml/m以上であり、
下記の手法により測定される落下式接触角が30.0度以上である、光学フィルム。
<落下式接触角の測定>
前記光学フィルムの前記第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記第1面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
[2] 前記第1面は、Vvvと、ISO 25178-2:2012に規定されるコア部空間体積であるVvcとの比(Vvv/Vvc)が、0.10以下である、[1]に記載の光学フィルム。
[3] 前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される最小自己相関長さであるSalが4.0μm以上12.0μm以下である、[1]又は[2]に記載の光学フィルム。
[4] 前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される極点高さであるSxpが0.15μm以上2.00μm以である、[1]~[3]の何れかに記載の光学フィルム。
[5] 前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する、[1]~[4]の何れかに記載の光学フィルム。
[6] 前記防眩層が、バインダー樹脂及び粒子を含む、[1]~[5]の何れかに記載の光学フィルム。
[7] 前記光学フィルムは、前記第1面側の表面領域をX線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式2~4を満たす、[1]~[6]の何れかに記載の光学フィルム。
3.5≦F/無機Si≦10.0 (式2)
0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 (式3)
5.0≦F/有機Si≦50.0 (式4)
[式2~4中、「F」はフッ素元素の比率であり、「無機Si」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Si」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。]
[8] 前記X線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Siの割合が2原子%以上20原子%以下である、[7]に記載の光学フィルム。
[9] 前記光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるRSCIが3.0%以下である、[1]~[8]の何れかに記載の光学フィルム。
[全光線反射率(RSCI)の測定]
前記光学フィルムの前記第2面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率(RSCI)を測定する。
[10] JIS K7136:2000のヘイズが20%以上75%以下である、[1]~[9]の何れかに記載の光学フィルム。
[11] 偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、[1]~[10]の何れかに記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第2面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
[12] 樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが[1]~[10]の何れかに記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第2面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
[13] 表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして[1]~[10]の何れかに記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
[14] [13]に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
[15] [1]~[10]の何れかに記載の光学フィルムの製造方法であって、
基材上に防眩層を形成する第1の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第2の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
[16] 下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
(光学フィルムの選定条件)
第1面と、前記第1面とは反対側の面である第2面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第1面は凹凸形状を有し、
前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される突出谷部空間体積であるVvvが0.005ml/m以上であり、
下記の手法により測定される落下式接触角が30.0度以上である。
<落下式接触角の測定>
前記光学フィルムの前記第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記第1面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
[17] 下記の測定により測定した落下式接触角の値を評価指標とする、指紋拭き取り性の評価方法。
<落下式接触角の測定>
測定対象物の表面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記表面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
The present disclosure includes the following [1] to [17].
[1] An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
The optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface,
the first surface has an uneven shape;
The first surface has a protruding valley space volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/m 2 or more,
An optical film having a falling contact angle of 30.0 degrees or more as measured by the method below.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.
[2] In [1], the first surface has a ratio of Vvv to Vvc, which is the core space volume defined in ISO 25178-2:2012, (Vvv/Vvc) is 0.10 or less. The optical film described.
[3] The optical device according to [1] or [2], wherein the first surface has a minimum autocorrelation length Sal of 4.0 μm or more and 12.0 μm or less as defined in ISO 25178-2:2012. film.
[4] The first surface has a pole height Sxp defined in ISO 25178-2:2012 of 0.15 μm or more and 2.00 μm or less, according to any one of [1] to [3]. optical film.
[5] The optical film according to any one of [1] to [4], wherein the optical film has the antireflection layer, the antiglare layer, and the base material in this order from the first surface to the second surface. optical film.
[6] The optical film according to any one of [1] to [5], wherein the anti-glare layer contains a binder resin and particles.
[7] The optical film is any one of [1] to [6], wherein the element ratio obtained by analyzing the surface area on the first surface side by X-ray photoelectron spectroscopy satisfies the following formulas 2 to 4. An optical film described in Crab.
3.5≦F/Inorganic Si≦10.0 (Formula 2)
0.08≦Organic Si/Inorganic Si≦1.00 (Formula 3)
5.0≦F/Organic Si≦50.0 (Formula 4)
[In formulas 2 to 4, "F" is the ratio of fluorine element, "inorganic Si" is the ratio of silicon element belonging to inorganic silicon compounds, and "organic Si" is the ratio of silicon element belonging to organosilicon compounds. It is a ratio. ]
[8] The optical film according to [7], wherein the ratio of inorganic Si to all elements is 2 at % or more and 20 at % or less with respect to the element ratio obtained by analysis by the X-ray photoelectron spectroscopy.
[9] The optical film according to any one of [1] to [8], wherein the optical film has a total light reflectance, RSCI , of 3.0% or less as measured by the method described below.
[Measurement of total light reflectance ( RSCI )]
A sample is prepared by bonding a black plate to the second surface of the optical film via a transparent adhesive. The total light reflectance ( RSCI ) is measured using the optical film side of the sample as the light incident surface.
[10] The optical film according to any one of [1] to [9], which has a haze of 20% or more and 75% or less according to JIS K7136:2000.
[11] A polarizing plate comprising a polarizer, a first transparent protective plate disposed on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate disposed on the other side of the polarizer. hand,
At least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the optical film according to any one of [1] to [10], and the second surface of the optical film and the polarizer Polarizing plate placed facing each other.
[12] A surface plate for an image display device in which a protective film is laminated on a resin plate or a glass plate, wherein the protective film is the optical film according to any one of [1] to [10], and the A surface plate for an image display device, in which the second surface of an optical film and the resin plate or the glass plate are arranged to face each other.
[13] An image display panel comprising a display element and an optical film disposed on the light exit surface side of the display element, wherein the optical film is the optical film according to any one of [1] to [10]. Including, image display panel.
[14] An image display device including the image display panel according to [13].
[15] A method for producing an optical film according to any one of [1] to [10], comprising:
An optical film manufacturing method comprising a first step of forming an anti-glare layer on a base material and a second step of forming an anti-reflection layer on the anti-glare layer.
[16] An optical film selection method that selects an optical film that satisfies the following selection conditions.
(Selection conditions for optical film)
An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
The optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface,
the first surface has an uneven shape;
The first surface has a protruding valley space volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/m 2 or more,
The falling contact angle measured by the method below is 30.0 degrees or more.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.
[17] A method for evaluating fingerprint wiping performance, using the value of the falling contact angle measured by the following measurement as an evaluation index.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet with a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the surface of the object to be measured. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.

次に、本開示を実施例により更に詳細に説明するが、本開示はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「%」は特に断りのない限り質量基準とする。 Next, the present disclosure will be explained in more detail with reference to examples, but the present disclosure is not limited to these examples in any way. Note that "parts" and "%" are based on mass unless otherwise specified.

1.測定及び評価
以下のように、実施例及び比較例の光学フィルムの測定及び評価を行った。各測定及び評価時の雰囲気は、温度23±5℃、相対湿度40%以上65%以下とした。また、各測定及び評価の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に30分以上60分以下晒してから測定及び評価を行った。結果を表1又は2に示す。
1. Measurement and Evaluation The optical films of Examples and Comparative Examples were measured and evaluated as follows. The atmosphere during each measurement and evaluation was a temperature of 23±5° C. and a relative humidity of 40% to 65%. Furthermore, before starting each measurement and evaluation, the target sample was exposed to the atmosphere for 30 minutes or more and 60 minutes or less, and then the measurement and evaluation were performed. The results are shown in Table 1 or 2.

1-1.表面形状の測定
実施例及び比較例の防眩フィルムを10cm×10cmに切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。切断した防眩フィルムの基材側をパナック社の光学透明粘着シート(商品名:パナクリーンPD-S1、厚み25μm)を介して、縦10cm×横10cmの大きさのガラス板(厚み2.0mm)に貼り合わせたサンプル1を作製した。
共焦点レーザー顕微鏡(VK-X250(制御部)、VK-X260(測定部))を用いて、計測ステージにサンプル1が固定かつ密着した状態となるようにセットしたのち、以下の測定条件1、画像処理条件1及び解析条件1にて、各サンプルの第1面の表面形状の測定及び解析を行った。なお、測定・解析ソフトにはマルチファイル解析アプリケーション(バージョン1.3.1.120)を用いた。
1-1. Measurement of Surface Shape The anti-glare films of Examples and Comparative Examples were cut into 10 cm x 10 cm pieces. The cutting locations were selected from random locations after visually confirming that there were no abnormalities such as dust or scratches. The substrate side of the cut anti-glare film was placed on a glass plate (2.0 mm thick) measuring 10 cm long x 10 cm wide through an optically transparent adhesive sheet made by Panac (product name: Panaclean PD-S1, thickness 25 μm). ) was prepared.
Using a confocal laser microscope (VK-X250 (control unit), VK-X260 (measurement unit)), set the sample 1 so that it is fixed and in close contact with the measurement stage, and then perform the following measurement conditions 1. The surface shape of the first surface of each sample was measured and analyzed under image processing conditions 1 and analysis conditions 1. Note that a multi-file analysis application (version 1.3.1.120) was used as the measurement and analysis software.

(測定条件1)
レーザー波長:408nm
測定用光学系:共焦点光学系
対物レンズ:150倍
Zoom:1倍
測定領域:93.95μm×70.44μm
測定点の数:1024×768点
測定条件:透明体表面形状/高精度/ダブルスキャンあり
(Measurement conditions 1)
Laser wavelength: 408nm
Measurement optical system: Confocal optical system Objective lens: 150x Zoom: 1x Measurement area: 93.95 μm x 70.44 μm
Number of measurement points: 1024 x 768 points Measurement conditions: Transparent body surface shape/High precision/Double scan available

(画像処理条件1)
・DCL/BCL:DCL=13000,BCL=65535,処理方法:周囲の画素から補完する
・高さカットレベル:強
(解析条件1)
・領域:全領域
・フィルター種別:ガウシアン
・S-フィルター:0.25μm
・F-オペレーション:平面傾き補正(領域指定)
・L-フィルター:なし
・終端効果の補正:ON
・Sal算出時のs:s=0.20
・Sxp算出時のp,q:p=2.5%,q=50.0%
(Image processing condition 1)
・DCL/BCL: DCL=13000, BCL=65535, Processing method: Complement from surrounding pixels ・Height cut level: Strong (Analysis condition 1)
・Area: All areas ・Filter type: Gaussian ・S-filter: 0.25μm
・F-Operation: Plane tilt correction (area specification)
・L-filter: None ・Terminal effect correction: ON
・s when calculating Sal: s=0.20
・p, q when calculating Sxp: p=2.5%, q=50.0%

解析ソフトから、各測定領域の「Vvv」、「Vvc」、「Vmp」、「Sal」、「Sxp」を表示させて、測定値とした。 Using the analysis software, "Vvv", "Vvc", "Vmp", "Sal", and "Sxp" of each measurement area were displayed and used as measured values.

1-2.接触角
<通常の接触角>
実施例及び比較例の光学フィルムを10cm四方に切断した。切断した光学フィルムの基材側を、透明粘着シートを介して、ガラス板(縦10cm×横10cm、厚み2.0mm)に貼り合わせて測定用のサンプルを作製した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、光学フィルムのランダムな部位から選択した。光学フィルムとガラス板とを貼り合わせる際には、光学フィルムに皺が生じないようにするとともに、光学フィルムとガラス板との間に気泡が入らないようにした。
接触角計(DM-300、協和界面科学社)を用いて、各サンプルの第1面側の表面に純水を1.0μL滴下し、着滴10秒後の静的接触角をθ/2法に従って計測した。純水を滴下する際には、シリンジの針部がフッ素樹脂コートされたシリンジを用いた。
<落下式接触角>
表面張力が30mN/mの液滴を、シリンジの針部がフッ素樹脂コートされたシリンジに入れた。各サンプルの第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を、45mmの高さから自然落下させた。落下した液滴の量は5.0μlであった。液体は下記の組成のものを用いた。液滴は、第1面の垂直方向から落下させた。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定した。測定装置は、接触角計(品番:DM-300、協和界面科学社)を用いた。
<液体の組成>
エチレングリコールモノエチルエーテルを100質量%含む液体(富士フィルム和光純薬社、品番:ぬれ張力試験用混合液No.30)
1-2. Contact angle <normal contact angle>
The optical films of Examples and Comparative Examples were cut into 10 cm square pieces. The substrate side of the cut optical film was bonded to a glass plate (10 cm long x 10 cm wide, 2.0 mm thick) via a transparent adhesive sheet to prepare a sample for measurement. The cutting location was selected from a random location on the optical film after visually confirming that there were no abnormalities such as dust or scratches. When bonding the optical film and the glass plate, care was taken not only to prevent wrinkles from forming on the optical film but also to prevent air bubbles from entering between the optical film and the glass plate.
Using a contact angle meter (DM-300, Kyowa Interface Science Co., Ltd.), drop 1.0 μL of pure water onto the first surface of each sample, and measure the static contact angle after 10 seconds of droplet deposition by θ/2. Measured according to the law. When dropping pure water, a syringe whose needle was coated with fluororesin was used.
<Falling contact angle>
A droplet with a surface tension of 30 mN/m was placed in a syringe whose needle was coated with a fluororesin. A droplet having a surface tension of 30 mN/m was allowed to fall naturally onto the first surface of each sample from a height of 45 mm. The amount of droplets that fell was 5.0 μl. The liquid used had the following composition. The droplet was dropped from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet was deposited was measured by the θ/2 method. A contact angle meter (product number: DM-300, Kyowa Interface Science Co., Ltd.) was used as a measuring device.
<Liquid composition>
Liquid containing 100% by mass of ethylene glycol monoethyl ether (Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product number: Wetting tension test mixture No. 30)

1-3.元素比率
実施例及び比較例の光学フィルムから測定用片を切り出した。X線光電子分光分析装置を用いて、以下に記載する条件で、各測定用片の第1面側の表面領域のC1s軌道、O1s軌道、Si2p軌道、及び、F1s軌道のX線光電子スペクトルを測定した。各X線光電子スペクトルについてピーク分離を行い、F元素及びSi元素等の比率を求めた。また、Si2p軌道のX線光電子スペクトルから、無機ケイ素化合物に帰属するSi元素(無機Si)、及び、有機ケイ素化合物に帰属するSi元素(有機Si)、の割合を求めた。
<測定>
装置:島津製作所社製の商品名「Kratos Nova」
X線源:AlKα
X線出力:150W
エミッション電流:10mA
加速電圧:15kV
測定領域:300×700μm
帯電中和機構:ON
パスエネルギー(ナロースペクトル測定時):40eV
1-3. Element Ratio Measurement pieces were cut out from the optical films of Examples and Comparative Examples. Using an X-ray photoelectron spectrometer, measure the X-ray photoelectron spectra of the C1s orbit, O1s orbit, Si2p orbit, and F1s orbit of the surface area on the first surface side of each measurement piece under the conditions described below. did. Peak separation was performed for each X-ray photoelectron spectrum, and the ratios of F element, Si element, etc. were determined. Furthermore, from the X-ray photoelectron spectrum of the Si2p orbital, the proportions of Si elements belonging to inorganic silicon compounds (inorganic Si) and Si elements belonging to organosilicon compounds (organic Si) were determined.
<Measurement>
Equipment: Product name “Kratos Nova” manufactured by Shimadzu Corporation
X-ray source: AlKα
X-ray output: 150W
Emission current: 10mA
Acceleration voltage: 15kV
Measurement area: 300 x 700μm
Charge neutralization mechanism: ON
Pass energy (during narrow spectrum measurement): 40eV

1-4.全光線反射率(RSCI
実施例及び比較例の光学フィルムを10cm×10cmに切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。切断した光学フィルムの基材側をパナック社の光学透明粘着シート(商品名:パナクリーンPD-S1)を介して、縦10cm×横10cmの大きさの黒色板(クラレ社、商品名:コモグラス DFA2CG 502K(黒)系、厚み2mm)に貼り合わせたサンプル2を作製した。
積分球分光光度計(コニカミノルタ株式会社製、商品名:CM-2002)を用い、サンプル2の第1面側から、全光線反射率(RSCI)を測定した。積分球分光光度計の光源はD65、受光器の位置はサンプルの法線に対して+8度であり、受光器の開口角は10度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して-8度であり、視野角は2度であった。
1-4. Total light reflectance ( RSCI )
The optical films of Examples and Comparative Examples were cut into 10 cm x 10 cm. The cutting locations were selected from random locations after visually confirming that there were no abnormalities such as dust or scratches. The substrate side of the cut optical film was attached to a black board (Kuraray Co., Ltd., product name: COMOGLAS DFA2CG) with a size of 10 cm long x 10 cm wide via an optical transparent adhesive sheet (product name: Panaclean PD-S1) made by Panac Co., Ltd. A sample 2 was prepared by bonding it to a 502K (black) system, 2 mm thick.
The total light reflectance (R SCI ) was measured from the first surface side of Sample 2 using an integrating sphere spectrophotometer (manufactured by Konica Minolta, Inc., trade name: CM-2002). The light source of the integrating sphere spectrophotometer is D65, the receiver position is +8 degrees with respect to the sample normal, the receiver aperture angle is 10 degrees, and the light trap position is with respect to the sample normal. -8 degrees, and the viewing angle was 2 degrees.

1-5.ヘイズ(Hz)
実施例及び比較例の光学フィルムを10cm四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。ヘイズメーター(HM-150、村上色彩技術研究所製)を用いて、各サンプルのJIS K7136:2000のヘイズを測定した。
光源が安定するよう事前に装置の電源スイッチをONにしてから15分以上待ち、入口開口に何もセットせずに校正を行い、その後に入口開口に測定サンプルをセットして測定した。光入射面は基材側とした。
なお、実施例及び比較例の光学フィルムは、何れも全光線透過率が90%以上であった。
1-5. Haze (Hz)
The optical films of Examples and Comparative Examples were cut into 10 cm square pieces. The cutting locations were selected from random locations after visually confirming that there were no abnormalities such as dust or scratches. The JIS K7136:2000 haze of each sample was measured using a haze meter (HM-150, manufactured by Murakami Color Research Institute).
After turning on the power switch of the device in advance to stabilize the light source, we waited for at least 15 minutes, performed calibration without setting anything in the entrance opening, and then set the measurement sample in the entrance opening and performed measurements. The light incident surface was on the base material side.
Note that the optical films of Examples and Comparative Examples both had a total light transmittance of 90% or more.

1-6.透過像鮮明度
実施例及び比較例の光学フィルムを10cm四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。スガ試験機社製の写像性測定器(商品名:ICM-1T)を用いて、JIS K7374:2007に準拠して、サンプルの透過像鮮明度を測定した。光学櫛の幅は0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm、2.0mmの5つとした。測定時の光入射面は基材側とした。C0.125、C0.25、C0.5、C1.0及びC2.0の値と、C0.125、C0.5、C1.0及びC2.0の合計値を表2に示す。
1-6. Transmitted image clarity The optical films of Examples and Comparative Examples were cut into 10 cm square pieces. The cutting locations were selected from random locations after visually confirming that there were no abnormalities such as dust or scratches. Using an image clarity measuring device manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. (trade name: ICM-1T), the transmitted image clarity of the sample was measured in accordance with JIS K7374:2007. The optical comb had five widths: 0.125 mm, 0.25 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm. The light incident surface during measurement was on the base material side. Table 2 shows the values of C 0.125 , C 0.25 , C 0.5 , C 1.0 and C 2.0 and the total value of C 0.125 , C 0.5 , C 1.0 and C 2.0 .

1-7.黒味
サンプルは、1-4で作製したサンプル2を用いた。観測者の目線を床から160cm前後に変更した以外は、1-4と同様にして、サンプルを観察した。
下記評価ポイントに基づき、20人の被験者が評価した。20人の被験者は、20歳台~50歳台の各年代で5名ずつとした。20人の評価の平均点を算出し、下記基準によりランク付けした。下記基準のランクが高いほど、黒表示部の黒味が良好であるといえる。
<評価ポイント>
(1)白さが感じられず十分に黒く感じられるもの:3点
(2)黒いがやや白さが感じられるもの:2点
(3)白さが気になるもの:1点
<評価基準>
A:平均点が2.5以上
B:平均点が2.0以上2.5未満
C:平均点が1.5以上2.0未満
D:平均点が1.5未満
1-7. As the dark sample, Sample 2 prepared in 1-4 was used. The sample was observed in the same manner as in 1-4 except that the observer's line of sight was changed to about 160 cm from the floor.
20 subjects evaluated based on the following evaluation points. The 20 subjects were 5 in each age group, ranging from their 20s to their 50s. The average score of the 20 evaluations was calculated and ranked based on the following criteria. It can be said that the higher the rank of the following criteria, the better the blackness of the black display area.
<Evaluation points>
(1) Items that do not feel white and are sufficiently black: 3 points (2) Items that are black but feel slightly white: 2 points (3) Items that are concerned about whiteness: 1 point <Evaluation criteria>
A: Average score is 2.5 or more B: Average score is 2.0 or more and less than 2.5 C: Average score is 1.5 or more and less than 2.0 D: Average score is less than 1.5

1-8.防眩性
明室環境下で、高さ70cmの水平な台に、1-4で作製したサンプル2の凹凸表面が上になるように設置した。その際、照明光の概ね真下になるようにサンプルを設置した。サンプルを正面から観察して(ただし、観察者が照明光を遮らないようにした)、下記の評価基準で凹凸表面への照明光の映り込みを評価した。
照明は、Hf32形の直管三波長形昼白色蛍光灯を用い、照明の位置は水平台から鉛直方向2m上方の高さとした。サンプルの凹凸表面上の照度が500lux以上1000lux以下となる範囲で評価した。観測者の目線は床から120cm前後とした。観測者は、視力0.7以上の健康な30歳台の人とした。
<評価基準>
A:照明の輪郭がなく、位置も分からない
B:照明の輪郭はないが、位置がぼんやりと分かる
C:照明の輪郭と位置がぼんやりと分かる
D:照明の輪郭のぼやけが弱く、位置もはっきりと分かる
1-8. Anti-glare property Sample 2 prepared in 1-4 was placed on a horizontal table with a height of 70 cm in a bright room environment with the uneven surface facing upward. At that time, the sample was placed almost directly below the illumination light. The sample was observed from the front (provided that the observer did not block the illumination light), and the reflection of the illumination light on the uneven surface was evaluated using the following evaluation criteria.
For illumination, an Hf32 straight tube three-wavelength daylight white fluorescent lamp was used, and the illumination position was 2 m above the horizontal table in the vertical direction. Evaluation was made within a range in which the illuminance on the uneven surface of the sample was 500 lux or more and 1000 lux or less. The observer's line of sight was approximately 120 cm from the floor. The observer was a healthy person in his 30s with visual acuity of 0.7 or higher.
<Evaluation criteria>
A: There is no outline of the lighting, and the position cannot be determined. B: There is no outline of the lighting, but the position is vague. C: The outline and position of the lighting are vague. D: The outline of the lighting is weakly blurred, and the position is clear. I understand that

1-9.指紋拭き取り性
下記の人工垢0.1mlをウエスに染み込ませた。染み込ませる時間は10秒とした。ウエスは、日本製紙クレシア社の商品名「キムタオル ワイパー」を用いた。
ウエスに染み込ませた人工垢を、ゴムの表面に300g/cmの荷重で転写した。ゴムの形状は、直径12mmの円柱形状とした。転写時間は5秒とした。ゴムの表面に転写した人工垢を、300g/cmの荷重でサンプル2の第1面に転写した。転写時間は5秒とした。分光測色計(コニカミノルタ株式会社製、商品名:CM-600d)を用い、サンプル2の第1面側から、人工垢が転写した箇所の全光線反射SCIのL値、a値及びb値を測定した。得られたL値、a値及びb値を、L1、a1及びb1とする。
次いで、人工垢を転写したサンプル2の黒色板側を、学振摩耗試験機(テスター産業(株)製、商品名「AB-301」)の土台に貼り合わせた。前記試験機の摩擦子にウエスを取り付け、下記の拭き取り条件でサンプル2の第1面に転写した人工垢を拭き取った。ウエスは、アズワン社の商品名「ASPURE PROPREA II」を用いた。分光測色計(コニカミノルタ株式会社製、商品名:CM-600d)を用い、サンプル2の第1面側から、人工垢を拭き取った箇所の全光線反射SCIのL値、a値及びb値を測定した。得られたL値、a値及びb値を、L2、a2及びb2とする。
下記式により、色差(ΔE)を算出し、色差の値により下記基準によりランク付けした。下記基準のランクが高いほど、指紋拭き取り性が良好であるといえる。
ΔE={(L1-L2)+(a1-a2)+(b1-b2)1/2
<人工垢>
オレイン酸を約45質量%、トリオレインを約25質量%、オレイン酸コレステロールを約20質量%、流動パラフィンを約4%、スクアレンを約4%、コレステロールを約2%含む液体(伊勢久社製の人工垢(JIS C9606:2007の汚染液に準拠))。
<拭き取り条件>
・移動速度:100mm/秒
・荷重:150g/cm
・拭き取り回数:片道1回
<評価基準>
A:色差が2以下
B:色差が2超4以下
C:色差が4超7以下
D:色差が7超
1-9. Fingerprint wiping property A cloth was soaked with 0.1 ml of the following artificial dirt. The soaking time was 10 seconds. The cloth used was "Kim Towel Wiper" manufactured by Nippon Paper Crecia Co., Ltd.
The artificial plaque soaked into the cloth was transferred onto the rubber surface under a load of 300 g/cm 2 . The shape of the rubber was a cylinder with a diameter of 12 mm. The transfer time was 5 seconds. The artificial plaque transferred to the rubber surface was transferred to the first surface of Sample 2 under a load of 300 g/cm 2 . The transfer time was 5 seconds. Using a spectrophotometer (manufactured by Konica Minolta, Inc., product name: CM-600d), measure the total light reflection SCI L * value, a * value, and b * values were measured. The obtained L * value, a * value, and b * value are defined as L1, a1, and b1.
Next, the black plate side of Sample 2, onto which the artificial stain had been transferred, was attached to the base of a Gakushin abrasion tester (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd., trade name "AB-301"). A rag was attached to the friction element of the testing machine, and the artificial dirt transferred to the first surface of Sample 2 was wiped off under the following wiping conditions. As for the cloth, the product name "ASPURE PROPREA II" manufactured by As One Company was used. Using a spectrophotometer (manufactured by Konica Minolta, Inc., product name: CM-600d), measure the total light reflection SCI L * value, a * value, and b * values were measured. The obtained L * value, a * value, and b * value are defined as L2, a2, and b2.
The color difference (ΔE) was calculated using the following formula, and the color difference values were ranked according to the following criteria. It can be said that the higher the rank of the following criteria, the better the fingerprint wiping performance.
ΔE={(L1-L2) 2 + (a1-a2) 2 + (b1-b2) 2 } 1/2
<Artificial plaque>
A liquid containing approximately 45% by mass of oleic acid, approximately 25% by mass of triolein, approximately 20% by mass of cholesterol oleate, approximately 4% liquid paraffin, approximately 4% squalene, and approximately 2% cholesterol (manufactured by Isekyu Co., Ltd.). Artificial grime (based on JIS C9606:2007 contaminated liquid)).
<Wiping conditions>
・Moving speed: 100mm/sec ・Load: 150g/cm 2
・Number of wiping: 1 time each way <Evaluation criteria>
A: Color difference is 2 or less B: Color difference is more than 2 and less than 4 C: Color difference is more than 4 and less than 7 D: Color difference is more than 7

1-10.総合評価
防眩性及び指紋拭き取り性の2つの評価を元に、下記の基準で総合評価を行った。
<評価基準>
A:2つの評価の全てがAであるもの。
B:2つの評価のうち、1つがAであり、1つがBであるもの。
C:2つの評価のうち、2つともBであるもの。
D:2つの評価の中に、1つでもC又はDがあるもの。
1-10. Comprehensive Evaluation Based on the two evaluations of anti-glare properties and fingerprint wiping properties, a comprehensive evaluation was performed according to the following criteria.
<Evaluation criteria>
A: All two evaluations are A.
B: Of the two evaluations, one is A and one is B.
C: Out of two evaluations, both are B.
D: At least one of the two evaluations is C or D.

2.光学フィルムの作製
[実施例1]
基材(厚み80μmのトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フイルム社)上に、下記の防眩層塗布液1を塗布した。次いで、50℃、風速2m/sで40秒間乾燥し、さらに、70℃風速15m/sで45秒間乾燥した。次いで、酸素濃度200ppm以下の窒素雰囲気下にて積算光量が50mJ/cmになるように紫外線を照射して、厚み5.5μmの防眩層を形成した。
次いで、防眩層上に、下記の低屈折率層塗布液1を塗布した。次いで、40℃、風速20m/sで15秒間乾燥し、さらに、70℃風速15m/sで30秒間乾燥した。次いで、酸素濃度200ppm以下の窒素雰囲気下にて積算光量が150mJ/cmになるように紫外線を照射して、厚み0.10μmの低屈折率層を形成し、実施例1の光学フィルムを得た。低屈折率層の屈折率は1.31であった。
2. Production of optical film [Example 1]
The following anti-glare layer coating liquid 1 was applied onto a base material (80 μm thick triacetyl cellulose resin film, Fuji Film Co., Ltd.). Next, it was dried at 50° C. for 40 seconds at a wind speed of 2 m/s, and further dried at 70° C. for 45 seconds at a wind speed of 15 m/s. Next, ultraviolet rays were irradiated in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 200 ppm or less so that the cumulative amount of light was 50 mJ/cm 2 to form an anti-glare layer with a thickness of 5.5 μm.
Next, the following low refractive index layer coating liquid 1 was applied onto the anti-glare layer. Next, it was dried at 40° C. for 15 seconds at a wind speed of 20 m/s, and further dried at 70° C. for 30 seconds at a wind speed of 15 m/s. Next, ultraviolet rays were irradiated in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 200 ppm or less so that the cumulative light amount was 150 mJ/cm 2 to form a low refractive index layer with a thickness of 0.10 μm, and the optical film of Example 1 was obtained. Ta. The refractive index of the low refractive index layer was 1.31.

<防眩層塗布液1>
・ウレタンアクリレートA 30部
(三菱ケミカル社、商品名:U-1700B:分子量2,000、官能基数10)
・ウレタンアクリレートB 10部
(新中村化学工業社、商品名:U-15HA:分子量2,300、官能基数15)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 60部
(東亜合成社、商品名:M-305)
・シリカ粒子 23部
(表面処理不定形シリカ、d10:1.2μm、d50:3.7μm、d90:6.2μm)
・有機粒子B 8部
(球状ポリアクリル-スチレン共重合体、平均粒子径1.5μm、屈折率1.595)
・光重合開始剤 5.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad184)
・光重合開始剤 1.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad907)
・シリコーン系レベリング剤 0.1部
(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名:TSF4460)
・溶剤(トルエン) 190部
・溶剤(シクロヘキサノン) 5部
・溶剤(メチルイソブチルケトン) 20部
<Anti-glare layer coating liquid 1>
・Urethane acrylate A 30 parts (Mitsubishi Chemical Company, trade name: U-1700B: molecular weight 2,000, number of functional groups 10)
・Urethane acrylate B 10 parts (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., trade name: U-15HA: molecular weight 2,300, number of functional groups 15)
・Pentaerythritol triacrylate 60 parts (Toagosei, trade name: M-305)
・23 parts of silica particles (surface treated amorphous silica, d10: 1.2 μm, d50: 3.7 μm, d90: 6.2 μm)
・8 parts of organic particles B (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle diameter 1.5 μm, refractive index 1.595)
・Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad184)
・Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM Resins B.V., trade name: Omnirad907)
・Silicone leveling agent 0.1 part (Momentive Performance Materials, product name: TSF4460)
・Solvent (toluene) 190 parts ・Solvent (cyclohexanone) 5 parts ・Solvent (methyl isobutyl ketone) 20 parts

<低屈折率層塗布液1>
・多官能アクリレート 100部
(東亜合成社製、商品名「アロニックス M-400」)
・アクリルポリマー 0.5部(重量平均分子量:40,000)
・中空シリカ粒子 180部
(平均一次粒子径75nm、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子)
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 600部
(信越化学社、商品名「KY1203」、固形分:20%、溶剤:メチルイソブチルケトン)
・光重合開始剤 5.0部
(IGM Resins社、商品名「Omnirad127」)
・溶剤(メチルイソブチルケトン) 11,000部
・溶剤(1-メトキシ-2-プロピルアセテート) 1,300部
<Low refractive index layer coating liquid 1>
・100 parts of polyfunctional acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name "Aronix M-400")
・Acrylic polymer 0.5 part (weight average molecular weight: 40,000)
・Hollow silica particles 180 parts (average primary particle diameter 75 nm, particles surface-treated with a silane coupling agent having a methacryloyl group)
・600 parts of fluorine-based silicone leveling agent having a reactive functional group (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "KY1203", solid content: 20%, solvent: methyl isobutyl ketone)
・Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins, trade name "Omnirad127")
・Solvent (methyl isobutyl ketone) 11,000 parts ・Solvent (1-methoxy-2-propyl acetate) 1,300 parts

[実施例2,3,5,6]
防眩層塗布液1を下記の防眩層塗布液2~5に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2,3,5,6の光学フィルムを得た。
[Example 2, 3, 5, 6]
Optical films of Examples 2, 3, 5, and 6 were obtained in the same manner as in Example 1, except that anti-glare layer coating liquid 1 was changed to anti-glare layer coating liquids 2 to 5 below.

[実施例4]
防眩層塗布液1を下記の防眩層塗布液2に変更し、低屈折率層塗布液1を下記の低屈折率層塗布液2に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例4の光学フィルムを得た。
[Example 4]
The same procedure as in Example 1 was carried out, except that anti-glare layer coating liquid 1 was changed to anti-glare layer coating liquid 2 below, and low refractive index layer coating liquid 1 was changed to low refractive index layer coating liquid 2 below. An optical film of Example 4 was obtained.

[実施例7]
防眩層塗布液1を下記の防眩層塗布液6に変更し、防眩層の厚みを4.8μmとした以外は、実施例1と同様にして、実施例7の光学フィルムを得た。
[Example 7]
An optical film of Example 7 was obtained in the same manner as in Example 1, except that anti-glare layer coating liquid 1 was changed to anti-glare layer coating liquid 6 below and the thickness of the anti-glare layer was 4.8 μm. .

[実施例8]
防眩層塗布液1を下記の防眩層塗布液2に変更し、低屈折率層塗布液1を下記の低屈折率層塗布液3に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例8の光学フィルムを得た。低屈折率層の屈折率は1.36であった。
[Example 8]
The same procedure as in Example 1 was carried out, except that the anti-glare layer coating liquid 1 was changed to the following anti-glare layer coating liquid 2, and the low refractive index layer coating liquid 1 was changed to the following low refractive index layer coating liquid 3. An optical film of Example 8 was obtained. The refractive index of the low refractive index layer was 1.36.

[比較例1]
低屈折率層塗布液1を下記の低屈折率層塗布液4に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例1の光学フィルムを得た。
[Comparative example 1]
An optical film of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the low refractive index layer coating liquid 1 was changed to the following low refractive index layer coating liquid 4.

[比較例2~3]
防眩層塗布液1を下記の防眩層塗布液2~3に変更した以外は、比較例1と同様にして、比較例2~3の光学フィルムを得た。
[Comparative Examples 2-3]
Optical films of Comparative Examples 2 and 3 were obtained in the same manner as Comparative Example 1, except that anti-glare layer coating liquid 1 was changed to anti-glare layer coating liquids 2 and 3 below.

[比較例4]
防眩層塗布液1を下記の防眩層塗布液7に変更し、防眩層の厚みを5.0μmとした以外は、実施例1と同様にして、比較例4の光学フィルムを得た。
[Comparative example 4]
An optical film of Comparative Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1, except that anti-glare layer coating liquid 1 was changed to anti-glare layer coating liquid 7 below and the thickness of the anti-glare layer was 5.0 μm. .

<防眩層塗布液2>
・ウレタンアクリレートA 30部
(三菱ケミカル社、商品名:U-1700B:分子量2,000、官能基数10)
・ウレタンアクリレートB 10部
(新中村化学工業社、商品名:U-15HA:分子量2,300、官能基数15)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 60部
(東亜合成社、商品名:M-305)
・シリカ粒子 21部
(表面処理不定形シリカ、d10:1.2μm、d50:3.7μm、d90:6.2μm)
・有機粒子B 10部
(球状ポリアクリル-スチレン共重合体、平均粒子径1.5μm、屈折率1.595)
・光重合開始剤 5.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad184)
・光重合開始剤 1.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad907)
・シリコーン系レベリング剤 0.1部
(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名:TSF4460)
・溶剤(トルエン) 180部
・溶剤(シクロヘキサノン) 15部
・溶剤(メチルイソブチルケトン) 20部
<Anti-glare layer coating liquid 2>
・Urethane acrylate A 30 parts (Mitsubishi Chemical Company, trade name: U-1700B: molecular weight 2,000, number of functional groups 10)
・Urethane acrylate B 10 parts (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., trade name: U-15HA: molecular weight 2,300, number of functional groups 15)
・Pentaerythritol triacrylate 60 parts (Toagosei, trade name: M-305)
・21 parts of silica particles (surface-treated amorphous silica, d10: 1.2 μm, d50: 3.7 μm, d90: 6.2 μm)
- 10 parts of organic particles B (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle diameter 1.5 μm, refractive index 1.595)
・Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad184)
・Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM Resins B.V., trade name: Omnirad907)
・Silicone leveling agent 0.1 part (Momentive Performance Materials, product name: TSF4460)
・Solvent (toluene) 180 parts ・Solvent (cyclohexanone) 15 parts ・Solvent (methyl isobutyl ketone) 20 parts

<防眩層塗布液3>
・ウレタンアクリレートA 30部
(三菱ケミカル社、商品名:U-1700B:分子量2,000、官能基数10)
・ウレタンアクリレートB 10部
(新中村化学工業社、商品名:U-15HA:分子量2,300、官能基数15)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 60部
(東亜合成社、商品名:M-305)
・シリカ粒子 19部
(表面処理不定形シリカ、d10:1.2μm、d50:3.7μm、d90:6.2μm)
・有機粒子A 3部
(球状ポリアクリル-スチレン共重合体、平均粒子径1.5μm、屈折率1.515)
・有機粒子B 5部
(球状ポリアクリル-スチレン共重合体、平均粒子径1.5μm、屈折率1.595)
・光重合開始剤 5.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad184)
・光重合開始剤 1.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad907)
・シリコーン系レベリング剤 0.1部
(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名:TSF4460)
・溶剤(トルエン) 175部
・溶剤(シクロヘキサノン) 15部
・溶剤(メチルイソブチルケトン) 25部
<Anti-glare layer coating liquid 3>
・Urethane acrylate A 30 parts (Mitsubishi Chemical Company, trade name: U-1700B: molecular weight 2,000, number of functional groups 10)
・Urethane acrylate B 10 parts (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., trade name: U-15HA: molecular weight 2,300, number of functional groups 15)
・Pentaerythritol triacrylate 60 parts (Toagosei, trade name: M-305)
・Silica particles 19 parts (surface treated amorphous silica, d10: 1.2 μm, d50: 3.7 μm, d90: 6.2 μm)
・3 parts of organic particles A (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle diameter 1.5 μm, refractive index 1.515)
- 5 parts of organic particles B (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle diameter 1.5 μm, refractive index 1.595)
・Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad184)
・Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM Resins B.V., trade name: Omnirad907)
・Silicone leveling agent 0.1 part (Momentive Performance Materials, product name: TSF4460)
・Solvent (toluene) 175 parts ・Solvent (cyclohexanone) 15 parts ・Solvent (methyl isobutyl ketone) 25 parts

<防眩層塗布液4>
・ウレタンアクリレートA 30部
(三菱ケミカル社、商品名:U-1700B:分子量2,000、官能基数10)
・ウレタンアクリレートB 10部
(新中村化学工業社、商品名:U-15HA:分子量2,300、官能基数15)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 60部
(東亜合成社、商品名:M-305)
・シリカ粒子 20部
(表面処理不定形シリカ、d50:3.5μm)
・有機粒子A 8部
(球状ポリアクリル-スチレン共重合体、平均粒子径1.5μm、屈折率1.515)
・有機粒子B 2部
(球状ポリアクリル-スチレン共重合体、平均粒子径1.5μm、屈折率1.595)
・光重合開始剤 5.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad184)
・光重合開始剤 1.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad907)
・シリコーン系レベリング剤 0.1部
(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名:TSF4460)
・溶剤(トルエン) 200部
・溶剤(シクロヘキサノン) 5部
・溶剤(メチルイソブチルケトン) 10部
<Anti-glare layer coating liquid 4>
・Urethane acrylate A 30 parts (Mitsubishi Chemical Company, trade name: U-1700B: molecular weight 2,000, number of functional groups 10)
・Urethane acrylate B 10 parts (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., trade name: U-15HA: molecular weight 2,300, number of functional groups 15)
・Pentaerythritol triacrylate 60 parts (Toagosei, trade name: M-305)
・20 parts of silica particles (surface-treated amorphous silica, d50: 3.5 μm)
・8 parts of organic particles A (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle diameter 1.5 μm, refractive index 1.515)
・Organic particles B 2 parts (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle diameter 1.5 μm, refractive index 1.595)
・Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad184)
・Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM Resins B.V., trade name: Omnirad907)
・Silicone leveling agent 0.1 part (Momentive Performance Materials, product name: TSF4460)
・Solvent (toluene) 200 parts ・Solvent (cyclohexanone) 5 parts ・Solvent (methyl isobutyl ketone) 10 parts

<防眩層塗布液5>
・ウレタンアクリレートA 30部
(三菱ケミカル社、商品名:U-1700B:分子量2,000、官能基数10)
・ウレタンアクリレートB 10部
(新中村化学工業社、商品名:U-15HA:分子量2,300、官能基数15)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 60部
(東亜合成社、商品名:M-305)
・シリカ粒子 10部
(表面処理不定形シリカ、d10:0.08、d50:2.8μm、d90:4.5μm)
・有機粒子A 5部
(球状ポリアクリル-スチレン共重合体、平均粒子径1.5μm、屈折率1.515)
・有機粒子B 5部
(球状ポリアクリル-スチレン共重合体、平均粒子径1.5μm、屈折率1.595)
・光重合開始剤 5.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad184)
・光重合開始剤 1.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad907)
・シリコーン系レベリング剤 0.1部
(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名:TSF4460)
・溶剤(トルエン) 180部
・溶剤(シクロヘキサノン) 30部
・溶剤(メチルイソブチルケトン) 5部
<Anti-glare layer coating liquid 5>
・Urethane acrylate A 30 parts (Mitsubishi Chemical Company, trade name: U-1700B: molecular weight 2,000, number of functional groups 10)
・Urethane acrylate B 10 parts (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., trade name: U-15HA: molecular weight 2,300, number of functional groups 15)
・Pentaerythritol triacrylate 60 parts (Toagosei, trade name: M-305)
・10 parts of silica particles (surface-treated amorphous silica, d10: 0.08, d50: 2.8 μm, d90: 4.5 μm)
・5 parts of organic particles A (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle diameter 1.5 μm, refractive index 1.515)
- 5 parts of organic particles B (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle diameter 1.5 μm, refractive index 1.595)
・Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad184)
・Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM Resins B.V., trade name: Omnirad907)
・Silicone leveling agent 0.1 part (Momentive Performance Materials, product name: TSF4460)
・Solvent (toluene) 180 parts ・Solvent (cyclohexanone) 30 parts ・Solvent (methyl isobutyl ketone) 5 parts

<防眩層塗布液6>
・ウレタンアクリレートC 60部
(新中村化学工業社、商品名:U-1100H:分子量800、官能基数6)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 40部
(東亜合成社、商品名:M-305)
・有機粒子C 11部
(球状ポリアクリル-スチレン共重合体、平均粒子径3.0μm、屈折率1.595)
・無機超微粒子 70部
(表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤:MIBK、固形分;30%)
(平均一次粒子径12nm)
・光重合開始剤 5.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad184)
・光重合開始剤 1.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad907)
・シリコーン系レベリング剤 0.1部
(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名:TSF4460)
・溶剤(トルエン) 180部
・溶剤(シクロヘキサノン) 15部
<Anti-glare layer coating liquid 6>
・Urethane acrylate C 60 parts (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., trade name: U-1100H: molecular weight 800, number of functional groups 6)
・Pentaerythritol triacrylate 40 parts (Toagosei, trade name: M-305)
・Organic particles C 11 parts (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle diameter 3.0 μm, refractive index 1.595)
・70 parts of inorganic ultrafine particles (silica with reactive functional groups introduced onto the surface, solvent: MIBK, solid content: 30%)
(Average primary particle diameter 12 nm)
・Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad184)
・Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM Resins B.V., trade name: Omnirad907)
・Silicone leveling agent 0.1 part (Momentive Performance Materials, product name: TSF4460)
・Solvent (toluene) 180 parts ・Solvent (cyclohexanone) 15 parts

<防眩層塗布液7>
・ウレタンアクリレートA 30部
(三菱ケミカル社、商品名:U-1700B:分子量2,000、官能基数10)
・ウレタンアクリレートB 10部
(新中村化学工業社、商品名:U-15HA:分子量2,300、官能基数15)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 60部
(東亜合成社、商品名:M-305)
・シリカ粒子 3部
(表面処理不定形シリカ、d10:0.08、d50:2.8μm、d90:4.5μm)
・有機粒子B 0.5部
(球状ポリアクリル-スチレン共重合体、平均粒子径1.5μm、屈折率1.595)
・光重合開始剤 5.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad184)
・光重合開始剤 1.0部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad907)
・シリコーン系レベリング剤 0.1部
(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名:TSF4460)
・溶剤(トルエン) 180部
・溶剤(シクロヘキサノン) 5部
・溶剤(メチルイソブチルケトン) 25部
<Anti-glare layer coating liquid 7>
・Urethane acrylate A 30 parts (Mitsubishi Chemical Company, trade name: U-1700B: molecular weight 2,000, number of functional groups 10)
・Urethane acrylate B 10 parts (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., trade name: U-15HA: molecular weight 2,300, number of functional groups 15)
・Pentaerythritol triacrylate 60 parts (Toagosei, trade name: M-305)
・3 parts of silica particles (surface treated amorphous silica, d10: 0.08, d50: 2.8 μm, d90: 4.5 μm)
・Organic particles B 0.5 part (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle diameter 1.5 μm, refractive index 1.595)
・Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad184)
・Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM Resins B.V., trade name: Omnirad907)
・Silicone leveling agent 0.1 part (Momentive Performance Materials, product name: TSF4460)
・Solvent (toluene) 180 parts ・Solvent (cyclohexanone) 5 parts ・Solvent (methyl isobutyl ketone) 25 parts

<低屈折率層塗布液2>
・多官能アクリレート 180部
(東亜合成社製、商品名「アロニックス M-400」)
・中空シリカ粒子 100部
(平均一次粒子径75nm、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子)
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 600部
(信越化学社、商品名「KY1203」、固形分:20%、溶剤:メチルイソブチルケトン)
・光重合開始剤 5部
(IGM Resins社、商品名「Omnirad127」)
・溶剤(メチルイソブチルケトン) 11,000部
・溶剤(1-メトキシ-2-プロピルアセテート) 1,300部
<Low refractive index layer coating liquid 2>
・180 parts of polyfunctional acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name "Aronix M-400")
・Hollow silica particles 100 parts (average primary particle diameter 75 nm, particles surface-treated with a silane coupling agent having a methacryloyl group)
・600 parts of fluorine-based silicone leveling agent having a reactive functional group (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "KY1203", solid content: 20%, solvent: methyl isobutyl ketone)
・Photopolymerization initiator 5 parts (IGM Resins, trade name "Omnirad127")
・Solvent (methyl isobutyl ketone) 11,000 parts ・Solvent (1-methoxy-2-propyl acetate) 1,300 parts

<低屈折率層塗布液3>
・多官能アクリレート 100部
(東亜合成社製、商品名「アロニックス M-400」)
・アクリルポリマー 0.5部(重量平均分子量:40,000)
・中空シリカ粒子 100部
(平均一次粒子径75nm、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子)
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 250部
(信越化学社、商品名「KY1203」、固形分:20%、溶剤:メチルイソブチルケトン)
・光重合開始剤 5部
(IGM Resins社、商品名「Omnirad127」)
・溶剤(メチルイソブチルケトン) 11,000部
・溶剤(1-メトキシ-2-プロピルアセテート) 1,300部
<Low refractive index layer coating liquid 3>
・100 parts of polyfunctional acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name "Aronix M-400")
・Acrylic polymer 0.5 part (weight average molecular weight: 40,000)
・Hollow silica particles 100 parts (average primary particle diameter 75 nm, particles surface-treated with a silane coupling agent having a methacryloyl group)
・250 parts of fluorine-based silicone leveling agent having a reactive functional group (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "KY1203", solid content: 20%, solvent: methyl isobutyl ketone)
・Photopolymerization initiator 5 parts (IGM Resins, trade name "Omnirad127")
・Solvent (methyl isobutyl ketone) 11,000 parts ・Solvent (1-methoxy-2-propyl acetate) 1,300 parts

<低屈折率層塗布液4>
・多官能アクリレート 100部
(東亜合成社製、商品名「アロニックス M-400」)
・アクリルポリマー 0.5部(重量平均分子量:40,000)
・中空シリカ粒子 180部
(平均一次粒子径75nm、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子)
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 150部
(信越化学社、商品名「KY1203」、固形分:20%、溶剤:メチルイソブチルケトン)
・光重合開始剤 5.0部
(IGM Resins社、商品名「Omnirad127」)
・溶剤(メチルイソブチルケトン) 11,000部
・溶剤(1-メトキシ-2-プロピルアセテート) 1,300部
<Low refractive index layer coating liquid 4>
・100 parts of polyfunctional acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name "Aronix M-400")
・Acrylic polymer 0.5 part (weight average molecular weight: 40,000)
・Hollow silica particles 180 parts (average primary particle diameter 75 nm, particles surface-treated with a silane coupling agent having a methacryloyl group)
・150 parts of fluorine-based silicone leveling agent having a reactive functional group (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "KY1203", solid content: 20%, solvent: methyl isobutyl ketone)
・Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins, trade name "Omnirad127")
・Solvent (methyl isobutyl ketone) 11,000 parts ・Solvent (1-methoxy-2-propyl acetate) 1,300 parts

表1の結果から、実施例の光学フィルムは、防眩性及び指紋拭き取り性を良好にし得ることが確認できる。 From the results in Table 1, it can be confirmed that the optical films of Examples can improve anti-glare properties and fingerprint wiping properties.

10:基材
20:防眩層
30:反射防止層
100:光学フィルム
110:表示素子
120:画像表示パネル
10: Base material 20: Anti-glare layer 30: Anti-reflection layer 100: Optical film 110: Display element 120: Image display panel

Claims (17)

第1面と、前記第1面とは反対側の面である第2面を有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第1面は凹凸形状を有し、
前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される突出谷部空間体積であるVvvが0.005ml/m以上であり、かつ、ISO 25178-2:2012に規定される最小自己相関長さであるSalが4.0μm以上12.0μm以下であり、
下記の手法により測定される落下式接触角が30.0度以上である、光学フィルム。
<落下式接触角の測定>
前記光学フィルムの前記第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記第1面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
The optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface,
the first surface has an uneven shape;
The first surface has a protruding valley space volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/ m2 or more, and a minimum autocorrelation defined in ISO 25178-2:2012. The length Sal is 4.0 μm or more and 12.0 μm or less,
An optical film having a falling contact angle of 30.0 degrees or more as measured by the method below.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.
前記第1面は、Vvvと、ISO 25178-2:2012に規定されるコア部空間体積であるVvcとの比(Vvv/Vvc)が、0.10以下である、請求項1に記載の光学フィルム。 The optical device according to claim 1, wherein the first surface has a ratio (Vvv/Vvc) of Vvv and Vvc, which is a core space volume defined in ISO 25178-2:2012, of 0.10 or less. film. 前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される最小自己相関長さであるSalが4.0μm以上11.0μm以下である、請求項1又は2に記載の光学フィルム。 3. The optical film according to claim 1, wherein the first surface has a minimum autocorrelation length Sal of 4.0 μm or more and 11.0 μm or less as defined in ISO 25178-2:2012. 前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定され、負荷面積率2.5%の高さと、負荷面積率50%の高さとの差分を意味する極点高さであるSxpが0.15μm以上2.00μm以である、請求項1又は2に記載の光学フィルム。 The first surface is defined by ISO 25178-2:2012, and has a pole height Sxp of 0.15 μm, which is the difference between the height at a load area ratio of 2.5% and the height at a load area ratio of 50%. The optical film according to claim 1 or 2, which has a thickness of 2.00 μm or more. 前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する、請求項1又は2に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1 or 2, wherein the optical film has the antireflection layer, the antiglare layer, and a base material in this order from the first surface to the second surface. 前記防眩層が、バインダー樹脂及び粒子を含む、請求項1又は2に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1 or 2, wherein the anti-glare layer contains a binder resin and particles. 前記光学フィルムは、前記第1面側の表面領域をX線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式2~4を満たす、請求項1又は2に記載の光学フィルム。
3.5≦F/無機Si≦10.0 (式2)
0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 (式3)
5.0≦F/有機Si≦50.0 (式4)
[式2~4中、「F」はフッ素元素の比率であり、「無機Si」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Si」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。]
3. The optical film according to claim 1, wherein the element ratio obtained by analyzing the surface area on the first surface side by X-ray photoelectron spectroscopy satisfies the following formulas 2 to 4.
3.5≦F/Inorganic Si≦10.0 (Formula 2)
0.08≦Organic Si/Inorganic Si≦1.00 (Formula 3)
5.0≦F/Organic Si≦50.0 (Formula 4)
[In formulas 2 to 4, "F" is the ratio of fluorine element, "inorganic Si" is the ratio of silicon element belonging to inorganic silicon compounds, and "organic Si" is the ratio of silicon element belonging to organosilicon compounds. It is a ratio. ]
前記X線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Siの割合が2原子%以上20原子%以下である、請求項7に記載の光学フィルム。 8. The optical film according to claim 7, wherein the ratio of inorganic Si to all elements is 2 atomic % or more and 20 atomic % or less with respect to the element ratio obtained by analysis by the X-ray photoelectron spectroscopy. 前記光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるRSCIが3.0%以下である、請求項1又は2に記載の光学フィルム。
[全光線反射率(RSCI)の測定]
前記光学フィルムの前記第2面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率(RSCI)を測定する。
The optical film according to claim 1 or 2, wherein the optical film has a total light reflectance, RSCI , of 3.0% or less as measured by the following method.
[Measurement of total light reflectance ( RSCI )]
A sample is prepared by bonding a black plate to the second surface of the optical film via a transparent adhesive. The total light reflectance ( RSCI ) is measured using the optical film side of the sample as the light incident surface.
JIS K7136:2000のヘイズが20%以上75%以下である、請求項1又は2に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1 or 2, having a haze of 20% or more and 75% or less according to JIS K7136:2000. 偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、請求項1又は2に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第2面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
A polarizing plate comprising a polarizer, a first transparent protective plate disposed on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate disposed on the other side of the polarizer,
At least one of the first transparent protection plate and the second transparent protection plate is the optical film according to claim 1 or 2, and the second surface of the optical film and the polarizer are opposed to each other. Polarizing plate arranged.
樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが請求項1又は2に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第2面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。 A surface plate for an image display device in which a protective film is laminated on a resin plate or a glass plate, wherein the protective film is the optical film according to claim 1 or 2, and the second surface of the optical film and A surface plate for an image display device, wherein the resin plate or the glass plate is disposed to face each other. 表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして請求項1又は2に記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。 An image display panel comprising a display element and an optical film disposed on a light exit surface side of the display element, the image display panel comprising the optical film according to claim 1 or 2 as the optical film. 請求項13に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。 An image display device comprising the image display panel according to claim 13. 請求項1に記載の光学フィルムの製造方法であって、
基材上に防眩層を形成する第1の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第2の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
A method for producing an optical film according to claim 1, comprising:
An optical film manufacturing method comprising a first step of forming an anti-glare layer on a base material and a second step of forming an anti-reflection layer on the anti-glare layer.
下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
(光学フィルムの選定条件)
第1面と、前記第1面とは反対側の面である第2面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第1面から前記第2面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第1面は凹凸形状を有し、
前記第1面は、ISO 25178-2:2012に規定される突出谷部空間体積であるVvvが0.005ml/m以上であり、かつ、ISO 25178-2:2012に規定される最小自己相関長さであるSalが4.0μm以上12.0μm以下であり、
下記の手法により測定される落下式接触角が30.0度以上である。
<落下式接触角の測定>
前記光学フィルムの前記第1面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記第1面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
An optical film selection method that selects an optical film that satisfies the following selection conditions.
(Selection conditions for optical film)
An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
The optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface,
the first surface has an uneven shape;
The first surface has a protruding valley space volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/ m2 or more, and a minimum autocorrelation defined in ISO 25178-2:2012. The length Sal is 4.0 μm or more and 12.0 μm or less,
The falling contact angle measured by the method below is 30.0 degrees or more.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.
下記の測定により測定した落下式接触角の値を評価指標とする、指紋拭き取り性の評価方法。
<落下式接触角の測定>
測定対象物の表面に対して、表面張力が30mN/mの液滴を45mmの高さから落下させる。前記液滴は、前記表面の垂直方向から落下させる。着滴10秒後の静的接触角をθ/2法により測定する。
A method for evaluating fingerprint wiping performance using the value of the falling contact angle measured by the following method as an evaluation index.
<Measurement of falling contact angle>
A droplet with a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the surface of the object to be measured. The droplet is caused to fall from a direction perpendicular to the surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is deposited is measured by the θ/2 method.
JP2022158209A 2022-09-30 2022-09-30 An optical film, a polarizing plate, a surface plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, a method for selecting an optical film, and a method for evaluating fingerprint wiping performance. Active JP7343024B1 (en)

Priority Applications (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022158209A JP7343024B1 (en) 2022-09-30 2022-09-30 An optical film, a polarizing plate, a surface plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, a method for selecting an optical film, and a method for evaluating fingerprint wiping performance.
JP2023131865A JP2024052542A (en) 2022-09-30 2023-08-14 Optical film, and polarizer, surface plate, image display panel and image display device using optical film, and manufacturing method of optical film, and selection method of optical film, and evaluation method of fingerprint wiping property
US18/686,673 US20240272331A1 (en) 2022-09-30 2023-09-25 Optical film, and polarizing plate, surface plate, image display panel and image display device using the optical film, and method for producing the optical film, and method for selecting optical film, and evaluation method of finger print wiping property
PCT/JP2023/034628 WO2024070996A1 (en) 2022-09-30 2023-09-25 Optical film, polarizing plate, surface plate, image display panel, and image display device using said optical film, method for manufacturing said optical film, method for selecting optical film, and method for evaluating fingerprint wipe-off properties
CN202410375596.7A CN118033794A (en) 2022-09-30 2023-09-25 Optical film, polarizing plate, surface plate, image display panel, image display device, method for producing and selecting optical film, and method for evaluating fingerprint wiping property
KR1020247003575A KR20240046710A (en) 2022-09-30 2023-09-25 An optical film, a polarizer, a surface plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, a method for selecting the optical film, and a method for evaluating fingerprint wipeability.
CN202380013248.9A CN118119864A (en) 2022-09-30 2023-09-25 Optical film, polarizing plate, surface plate, image display panel, image display device, method for producing and selecting optical film, and method for evaluating fingerprint wiping property
KR1020247009180A KR20240046775A (en) 2022-09-30 2023-09-25 Optical film, and, polarizing plate using the optical film, surface plate, image display panel and image display device, and, method for producing the optical film, and, method for selecting optical film, and, evaluation method for fingerprint wiping performance
CN202410376425.6A CN118033795B (en) 2022-09-30 2023-09-25 Optical film, polarizing plate, surface plate, image display panel, and image display device using the optical film, method for producing the optical film, and method for selecting the optical film
TW113105130A TW202423675A (en) 2022-09-30 2023-09-26 Optical film, polarizing plate, surface plate, image display panel, and image display device using said optical film, method for manufacturing said optical film, method for selecting optical film, and method for evaluating fingerprint wipe-off properties
TW113105124A TWI843695B (en) 2022-09-30 2023-09-26 Optical film, polarizing plate, surface plate, image display panel and image display device using the optical film, method for manufacturing the optical film, and method for screening the optical film
US18/617,293 US20240272330A1 (en) 2022-09-30 2024-03-26 Optical film, and polarizing plate, surface plate, image display panel and image display device using the optical film, and method for producing the optical film, and method for selecting optical film, and evaluation method of finger print wiping property

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022158209A JP7343024B1 (en) 2022-09-30 2022-09-30 An optical film, a polarizing plate, a surface plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, a method for selecting an optical film, and a method for evaluating fingerprint wiping performance.

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023131865A Division JP2024052542A (en) 2022-09-30 2023-08-14 Optical film, and polarizer, surface plate, image display panel and image display device using optical film, and manufacturing method of optical film, and selection method of optical film, and evaluation method of fingerprint wiping property

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP7343024B1 true JP7343024B1 (en) 2023-09-12
JP2024051848A JP2024051848A (en) 2024-04-11

Family

ID=87934841

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022158209A Active JP7343024B1 (en) 2022-09-30 2022-09-30 An optical film, a polarizing plate, a surface plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, a method for selecting an optical film, and a method for evaluating fingerprint wiping performance.
JP2023131865A Pending JP2024052542A (en) 2022-09-30 2023-08-14 Optical film, and polarizer, surface plate, image display panel and image display device using optical film, and manufacturing method of optical film, and selection method of optical film, and evaluation method of fingerprint wiping property

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023131865A Pending JP2024052542A (en) 2022-09-30 2023-08-14 Optical film, and polarizer, surface plate, image display panel and image display device using optical film, and manufacturing method of optical film, and selection method of optical film, and evaluation method of fingerprint wiping property

Country Status (2)

Country Link
JP (2) JP7343024B1 (en)
CN (1) CN118119864A (en)

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010122560A (en) 2008-11-21 2010-06-03 Dainippon Printing Co Ltd Method for manufacturing optical sheet and optical sheet
WO2012157682A1 (en) 2011-05-16 2012-11-22 大日本印刷株式会社 Method for producing antireflection film, antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP2015206841A (en) 2014-04-17 2015-11-19 大日本印刷株式会社 Antiglare film, polarizing plate, liquid crystal panel and image display device
JP2016044192A (en) 2014-08-20 2016-04-04 株式会社トクヤマ Antiglare property imparting agent
JP2016126023A (en) 2014-12-26 2016-07-11 王子ホールディングス株式会社 Light diffusion sheet
WO2017057564A1 (en) 2015-09-30 2017-04-06 旭硝子株式会社 Video projection structure and video projection method
WO2017061493A1 (en) 2015-10-09 2017-04-13 大日本印刷株式会社 Optical sheet, polarizing plate, optical sheet sorting method, optical sheet production method, and display device
WO2017068765A1 (en) 2015-10-20 2017-04-27 パナソニックIpマネジメント株式会社 Wavelength conversion element and light-emitting device
JP2017134094A (en) 2016-01-25 2017-08-03 旭硝子株式会社 Antiglare film-covered substrate, film-forming coating liquid, and manufacturing method therefor
JP2018002987A (en) 2016-07-08 2018-01-11 中国塗料株式会社 Photocurable resin composition, cured coat formed from the composition and base material with coat, and method for producing cured coat and base material with coat
JP2020173452A (en) 2017-08-04 2020-10-22 株式会社ダイセル Anti-glare film
WO2021075082A1 (en) 2019-10-17 2021-04-22 株式会社ダイセル Optical multilayer body, method for producing same, and use of same

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010122560A (en) 2008-11-21 2010-06-03 Dainippon Printing Co Ltd Method for manufacturing optical sheet and optical sheet
WO2012157682A1 (en) 2011-05-16 2012-11-22 大日本印刷株式会社 Method for producing antireflection film, antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP2015206841A (en) 2014-04-17 2015-11-19 大日本印刷株式会社 Antiglare film, polarizing plate, liquid crystal panel and image display device
JP2016044192A (en) 2014-08-20 2016-04-04 株式会社トクヤマ Antiglare property imparting agent
JP2016126023A (en) 2014-12-26 2016-07-11 王子ホールディングス株式会社 Light diffusion sheet
WO2017057564A1 (en) 2015-09-30 2017-04-06 旭硝子株式会社 Video projection structure and video projection method
WO2017061493A1 (en) 2015-10-09 2017-04-13 大日本印刷株式会社 Optical sheet, polarizing plate, optical sheet sorting method, optical sheet production method, and display device
WO2017068765A1 (en) 2015-10-20 2017-04-27 パナソニックIpマネジメント株式会社 Wavelength conversion element and light-emitting device
JP2017134094A (en) 2016-01-25 2017-08-03 旭硝子株式会社 Antiglare film-covered substrate, film-forming coating liquid, and manufacturing method therefor
JP2018002987A (en) 2016-07-08 2018-01-11 中国塗料株式会社 Photocurable resin composition, cured coat formed from the composition and base material with coat, and method for producing cured coat and base material with coat
JP2020173452A (en) 2017-08-04 2020-10-22 株式会社ダイセル Anti-glare film
WO2021075082A1 (en) 2019-10-17 2021-04-22 株式会社ダイセル Optical multilayer body, method for producing same, and use of same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2024052542A (en) 2024-04-11
CN118119864A (en) 2024-05-31
JP2024051848A (en) 2024-04-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7343023B1 (en) An optical film, a polarizing plate, a surface plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, and a method for selecting an optical film
JP7343024B1 (en) An optical film, a polarizing plate, a surface plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, a method for selecting an optical film, and a method for evaluating fingerprint wiping performance.
WO2024070996A1 (en) Optical film, polarizing plate, surface plate, image display panel, and image display device using said optical film, method for manufacturing said optical film, method for selecting optical film, and method for evaluating fingerprint wipe-off properties
JP7409575B1 (en) Optical films, image display panels and image display devices
JP7409574B1 (en) Optical films, image display panels and image display devices
JP7380960B1 (en) Optical films, image display panels and image display devices
CN118033795B (en) Optical film, polarizing plate, surface plate, image display panel, and image display device using the optical film, method for producing the optical film, and method for selecting the optical film
TWI852515B (en) Optical film, image display panel and image display device
WO2023145650A1 (en) Antireflective member, and polarizing plate, image display panel, image display device, and antireflective article which use said antireflective member, and method for selecting antireflective member
WO2022014560A1 (en) Antireflective member, and polarizing plate, image display device, and antireflective article in which said antireflective member is used, as well as method for selecting antireflective member
TW202434441A (en) Optical film
KR20240144299A (en) Anti-reflection member, and polarizing plate, image display panel, image display device and anti-reflection article using said anti-reflection member, and method for selecting anti-reflection member
JP2024028673A (en) Antiglare film and polarizing plate using the same, faceplate, image display panel, and image display device
KR20240089048A (en) Anti-glare film, and polarizers, surface plates, image display panels, and image display devices using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220930

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20220930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221129

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230307

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20230427

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230626

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230801

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230814

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7343024

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150