JP7324242B2 - Gas purifying device and transport heating device - Google Patents

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JP7324242B2 JP2021060352A JP2021060352A JP7324242B2 JP 7324242 B2 JP7324242 B2 JP 7324242B2 JP 2021060352 A JP2021060352 A JP 2021060352A JP 2021060352 A JP2021060352 A JP 2021060352A JP 7324242 B2 JP7324242 B2 JP 7324242B2
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Description

本発明は、例えばリフロー装置に適用される気体浄化装置及び搬送加熱装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a gas purifying device and a transfer heating device that are applied to, for example, a reflow device.

電子部品又はプリント配線基板に対して、予めはんだ組成物を供給しておき、リフロー炉の中に基板を搬送コンベヤで搬送するリフロー装置が使用されている。リフロー装置の加熱ゾーンでは、熱風が基板に対して吹きつけられることによって、はんだ組成物内のはんだを溶融させて基板の電極と電子部品とがはんだ付けされる。はんだ組成物は、粉末はんだ、溶剤、フラックスを含む。フラックスは、成分としてベース樹脂例えばロジンなどを含み、はんだ付けされる金属表面の酸化膜を除去し、はんだ付けの際に加熱で再酸化するのを防止し、はんだの表面張力を小さくして濡れを良くする塗布剤の働きをするものである。 A reflow apparatus is used in which a solder composition is supplied in advance to an electronic component or a printed wiring board, and the board is transported into a reflow furnace by a transport conveyor. In the heating zone of the reflow device, hot air is blown against the substrate to melt the solder in the solder composition and solder the electrodes of the substrate and the electronic component. The solder composition includes powdered solder, solvent and flux. Flux contains a base resin such as rosin as a component, removes the oxide film on the surface of the metal to be soldered, prevents re-oxidation due to heating during soldering, and reduces the surface tension of solder to improve wettability. It works as a coating agent to improve the

このフラックスは、加熱により、液化し、さらに、一部が気化する。したがって、大気又は不活性ガスと気化した物質が混合された気体(以下、フラックスヒュームと適宜称する)が加熱室としての炉内に充満する。フラックスヒュームは、温度の低い部位に付着し易く、冷やされることで液化し、付着している部位から滴下してしまうことから、基板の上面に付着することもあり、基板の性能を損なうこととなる。また、炉内において温度が低下する部分に堆積する等によりリフロー工程に大きな影響を与える場合もある。したがって、リフロー炉内のフラックスを低減、除去するようになされる。 This flux is liquefied and partially vaporized by heating. Therefore, a gas in which vaporized substances are mixed with air or an inert gas (hereinafter referred to as flux fumes as appropriate) fills the furnace as a heating chamber. Flux fumes tend to adhere to low-temperature parts, liquefy when cooled, and drip from the adhered parts, so they may adhere to the upper surface of the substrate, impairing the performance of the substrate. Become. In addition, the reflow process may be greatly affected by depositing on the part where the temperature drops in the furnace. Therefore, the flux in the reflow furnace is reduced and eliminated.

従来のフラックス低減方法は、加熱室としての炉内のフラックスヒュームを炉外のフラックス回収装置に導き、フラックス回収装置においてフラックスヒュームを冷却することによってフラックス成分を液化させてフラックスを回収し、フラックス回収後の気体を炉内に戻すものであった。 In the conventional flux reduction method, the flux fumes inside the furnace serving as the heating chamber are led to the flux recovery device outside the furnace, and the flux fumes are cooled in the flux recovery device to liquefy the flux components and recover the flux. It was to return the later gas into the furnace.

例えば特許文献1には、気化したフラックス成分を含む熱風が本体部の内部に流通し、本体部の内面に熱風の流れ方向に直交する方向に突起し、気化物質が衝突し熱交換されて冷却され、冷却されたフラックス成分が付着する突起状部材が設けられたフラックス回収装置が記載されている。また、特許文献2には、外周面に熱交換フィンを有する本体筒内に内部にジグザグ通路を形成するように複数の冷却フィンを設けたカートリッジの構成の不純物除去手段が記載されている。 For example, in Patent Document 1, hot air containing vaporized flux components circulates inside the main body, projects on the inner surface of the main body in a direction perpendicular to the flow direction of the hot air, and the vaporized substances collide and exchange heat to cool the air. and a flux recovery device provided with projecting members to which the cooled flux components adhere. Further, Patent Document 2 describes an impurity removing means having a cartridge configuration in which a plurality of cooling fins are provided so as to form zigzag passages inside a body cylinder having heat exchange fins on the outer peripheral surface.

特開2008-246514号公報JP 2008-246514 A 特許第2928843号公報Japanese Patent No. 2928843

これらのフラックス成分を凝縮させるフラックス回収装置を設けた場合でも、ロジンなどのベース樹脂成分が液化しないために、粉体として残留する粉体汚れが発生していた。粉体が配管やパネル穴を目詰まりさせ、装置の機能が低下したり、粉体付着による基板の清掃が必要となったり、基板不良が発生したり、クリーンルームのパーティクル値が上昇したりする問題があった。 Even when a flux recovery device for condensing these flux components is provided, the base resin component such as rosin does not liquefy, so powder stains remain as powder. Problems that powder clogs pipes and panel holes, lowers equipment functionality, requires substrate cleaning due to powder adhesion, causes substrate defects, and increases the particle value in the clean room. was there.

したがって、本発明は、かかる粉体汚れを除去することができ、さらに、清掃が簡単に行うことができる気体浄化装置及び搬送加熱装置を提供することを目的とする。
搬送加熱装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a gas purifying device and a transport heating device that can remove such powder stains and that can be easily cleaned.
An object of the present invention is to provide a transfer heating device.

本発明は、円筒形のケースと、
大気又は不活性気体と加熱により気化した物質が混合された気体をケースに導入する気体導入口と、
浄化後の気体をケースから排出する気体排出口と、
気体導入口から気体排出口に向かってケース内を流れる気体が通過する開口を有する第1の板状体と、
第1の板状体と相対的に回転し、第1の板状体の少なくとも表面に付着した物質の少なくとも一部を清掃するようになされた第1の清掃手段と、
開口を通過した気体が衝突する面を有する第2の板状体と、
第2の板状体によって捕集された物質の少なくとも一部を収容する収容部と
を備えた気体浄化装置である。
また、本発明は、被加熱物を加熱する加熱室を有し、加熱室を搬送装置によって被加熱物を通過させる搬送加熱装置において、
大気又は不活性気体と加熱により気化した物質が混合された気体を気体浄化装置に供給する構成とされ、
気体浄化装置は,
円筒形のケースと
大気又は不活性気体と加熱により気化した物質が混合された気体をケースに導入する気体導入口と、
浄化後の気体をケースから排出する気体排出口と、
気体導入口から気体排出口に向かってケース内を流れる気体が通過する開口を有する第1の板状体と、
第1の板状体と相対的に回転し、第1の板状体の少なくとも表面に付着した物質の少なくとも一部を清掃するようになされた第1の清掃手段と、
開口を通過した気体が衝突する面を有する第2の板状体と、
第2の板状体によって捕集された物質の少なくとも一部を収容する収容部と
を備えた搬送加熱装置である。
The present invention provides a cylindrical case and
a gas inlet for introducing into the case a gas obtained by mixing atmospheric air or an inert gas with a substance vaporized by heating;
a gas outlet for discharging gas after purification from the case;
a first plate-like body having an opening through which the gas flowing in the case from the gas inlet to the gas outlet passes;
a first cleaning means that rotates relative to the first plate-like body and cleans at least a part of the substance adhering to at least the surface of the first plate-like body;
a second plate-like body having a surface on which the gas passing through the opening collides;
and a storage section for storing at least part of the substance collected by the second plate-shaped body.
The present invention also provides a conveying/heating apparatus having a heating chamber for heating an object to be heated, and allowing the object to be heated to pass through the heating chamber by means of a conveying device,
A gas in which atmospheric air or an inert gas and a substance vaporized by heating are mixed is supplied to the gas purification device,
The gas purifier is
a cylindrical case, a gas introduction port for introducing into the case a gas in which atmospheric air or an inert gas and a substance vaporized by heating are mixed;
a gas outlet for discharging gas after purification from the case;
a first plate-like body having an opening through which the gas flowing in the case from the gas inlet to the gas outlet passes;
a first cleaning means that rotates relative to the first plate-like body and cleans at least a part of the substance adhering to at least the surface of the first plate-like body;
a second plate-like body having a surface on which the gas passing through the opening collides;
and a storage unit that stores at least part of the substance collected by the second plate-shaped body.

少なくとも一つの実施形態によれば、粉体を回収することによって気体を浄化することができ、また、付着した粉体の汚れを簡単に清掃することができる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本発明中に記載されたいずれの効果であってもよい。また、以下の説明における例示された効果により本発明の内容が限定して解釈されるものではない。 According to at least one embodiment, it is possible to purify the gas by recovering the powder, and to easily clean the dirt of the adhering powder. Note that the effects described here are not necessarily limited, and may be any of the effects described in the present invention. Also, the effects illustrated in the following description should not be construed as limiting the content of the present invention.

図1は、本発明を適用できる従来のリフロー装置の概略を示す略線図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing an outline of a conventional reflow apparatus to which the present invention can be applied. 図2は、リフロー時の温度プロファイルの例を示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing an example of a temperature profile during reflow. 図3は、加熱用炉体の一例の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of an example of a heating furnace body. 図4は、本発明の第1の実施形態の気体浄化装置の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the gas purification device of the first embodiment of the invention. 図5は、上下のケースを分離したときの気体浄化装置の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the gas purification device when the upper and lower cases are separated. 図6Aは、図4のII-II矢視図であり、図6Bは、図4のI-I断面図である。6A is a view taken along line II-II in FIG. 4, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line II in FIG. 図7は、気体浄化装置の一部拡大断面図である。FIG. 7 is a partially enlarged sectional view of the gas purifier. 図8は、気体浄化装置の一部の斜視図である。FIG. 8 is a perspective view of part of the gas purifier. 図9は、図6の一部の拡大斜視図である。9 is an enlarged perspective view of a portion of FIG. 6; FIG. 図10は、気体浄化装置の軸及び軸に取り付けられた清掃フィンの斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of the shaft of the gas purifier and the cleaning fins attached to the shaft. 図11は、本発明の第2の実施形態の気体浄化装置の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of a gas purifier according to a second embodiment of the invention. 図12は、上下のケースを分離したときの気体浄化装置の断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view of the gas purification device when the upper and lower cases are separated. 図13は、軸を直動させた状態の気体浄化装置の断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view of the gas purifier with the shaft linearly moved. 図14Aは、図11のII-II矢視図であり、図14Bは、図11のI-I断面図である。14A is a view taken along line II-II in FIG. 11, and FIG. 14B is a cross-sectional view taken along line II in FIG. 図15は、本発明の第3の実施形態の気体浄化装置の断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view of a gas purifier according to a third embodiment of the invention. 図16は、上下のケースを分離したときの気体浄化装置の断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view of the gas purification device when the upper and lower cases are separated. 図17は、軸を直動させた状態の気体浄化装置の断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view of the gas purifier with the shaft linearly moved. 図18は、本発明の変形例を説明するための略線図である。FIG. 18 is a schematic diagram for explaining a modification of the invention. 図19A及び図19Bは、本発明の他の変形例及びさらに他の変形例を説明するための略線図である。19A and 19B are schematic diagrams for explaining another modified example and still another modified example of the present invention.

以下、本発明を実施の形態について説明する。なお、説明は、以下の順序で行う。
<1.リフロー装置の一例>
<2.本発明の第1の実施形態>
<3.本発明の第2の実施形態>
<4.本発明の第3の実施形態>
<5.変形例>
なお、以下に説明する一実施の形態は、本発明の好適な具体例であり、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において、特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの実施の形態に限定されないものとする。
Embodiments of the present invention will be described below. In addition, description is given in the following order.
<1. Example of reflow device>
<2. First embodiment of the present invention>
<3. Second embodiment of the present invention>
<4. Third embodiment of the present invention>
<5. Variation>
The embodiment described below is a preferred specific example of the present invention, and is subject to various technically preferable limitations. It shall not be limited to these embodiments unless there is a description to the effect that the

<1.リフロー装置の一例>
図1は、本発明を適用できる従来のリフロー装置101の概略的構成を示す。リフロー装置101は、リフロー炉102と、被加熱物例えば両面に表面実装用電子部品が搭載されたプリント基板(以下、ワークと称する)Wをリフロー炉102内を通過させる搬送手段としての搬送チェーン103と、搬送チェーン103の移動経路を規定する回転体(アイドラー、スプロケットなど)105a、105b、105c、105dと、外板106とを備える。なお、図1では、平行する2本の搬送チェーンの一方の搬送チェーン103のみが示されている。
<1. Example of reflow device>
FIG. 1 shows a schematic configuration of a conventional reflow device 101 to which the present invention can be applied. The reflow apparatus 101 includes a reflow furnace 102 and a conveying chain 103 as a means for conveying an object to be heated, such as a printed circuit board (hereinafter referred to as a work) W having surface-mounted electronic components mounted on both sides thereof, through the reflow furnace 102. , rotors (idlers, sprockets, etc.) 105a, 105b, 105c, 105d that define the movement path of the transport chain 103, and an outer plate . Note that FIG. 1 shows only one conveying chain 103 of the two parallel conveying chains.

リフロー炉102は、ワークWを上下から加熱し、加熱後に冷却するためのものである。搬送チェーン103は、搬送方向に平行して配されている2本の搬送チェーンの一方である。例えば搬送チェーン103として、ローラチェーンが使用されている。外板106は、全体を覆うためのケースである。 The reflow furnace 102 is for heating the workpiece W from above and below and cooling it after heating. The conveying chain 103 is one of two conveying chains arranged in parallel with the conveying direction. For example, a roller chain is used as the transport chain 103 . The outer plate 106 is a case for covering the whole.

ワークWは、搬入口107からリフロー炉102内に搬入された後、搬送チェーン103によって所定速度で矢印方向(図1に向かって左から右方向)へ搬送され、最終的に搬出口108から取り出される。図示しないが、搬入口107の前段には、ワークWを搬入するためのワーク搬入装置が設けられ、搬出口108の後段には、ワークWを外部へ送り出すためのワーク搬出装置が配置されている。 The workpiece W is carried into the reflow furnace 102 from the carry-in port 107 , then transported at a predetermined speed in the direction of the arrow (from left to right in FIG. 1) by the carrier chain 103 , and finally taken out from the carry-out port 108 . be Although not shown, a work loading device for loading the work W is provided in front of the loading port 107, and a work unloading device for sending out the work W to the outside is arranged in the rear stage of the loading port 108. .

搬入口107から搬出口108に至る搬送経路に沿って、リフロー炉102が例えば9個のゾーンZ1からZ9に順次分割され、これらのゾーンZ1~Z9がインライン状に配列されている。搬入口107側から7個のゾーンZ1~Z7が加熱ゾーンであり、搬出口108側の2個のゾーンZ8およびZ9が冷却ゾーンである。冷却ゾーンZ8およびZ9に関連して強制冷却ユニット(図示しない)が設けられている。なお、ゾーン数は、一例であって、他の個数のゾーンを備えても良い。複数のゾーンZ1~Z9がリフロー時の温度プロファイルにしたがってワークWの温度を制御する。 The reflow furnace 102 is sequentially divided into nine zones Z1 to Z9, for example, along the transfer path from the carry-in port 107 to the carry-out port 108, and these zones Z1 to Z9 are arranged inline. Seven zones Z1 to Z7 from the inlet 107 side are heating zones, and two zones Z8 and Z9 on the outlet 108 side are cooling zones. Forced cooling units (not shown) are provided in connection with cooling zones Z8 and Z9. Note that the number of zones is an example, and other numbers of zones may be provided. A plurality of zones Z1 to Z9 control the temperature of the workpiece W according to the temperature profile during reflow.

ゾーンZ1~Z7のそれぞれは、上部炉体及び下部炉体を有する。ゾーンZ1~Z7のそれぞれに含まれる上部炉体及び下部炉体には、送風機(例えばターボファン)と温度検出器(例えば熱電対)が設けられている。冷却ゾーンZ8及びZ9にも送風機と温度検出器が設けられている。M1及びM11がゾーンZ1の送風機のモータである。M2~M9及びM12~M19も各ゾーンの送風機のモータを示す。 Each of zones Z1-Z7 has an upper furnace body and a lower furnace body. An upper furnace body and a lower furnace body included in each of zones Z1 to Z7 are provided with blowers (for example, turbofans) and temperature detectors (for example, thermocouples). Cooling zones Z8 and Z9 are also equipped with fans and temperature sensors. M1 and M11 are the blower motors for zone Z1. M2-M9 and M12-M19 also indicate the blower motors for each zone.

上述した複数のゾーンZ1~Z9がリフロー時の温度プロファイルにしたがってワークWの温度を制御する。図2に温度プロファイルの一例の概略を示す。横軸が時間であり、縦軸がワークW例えば電子部品が実装されたプリント配線板の表面温度である。最初の区間が加熱によって温度が上昇する昇温部R1であり、次の区間がほぼ一定温度のプリヒート(予熱)部R2であり、次の区間がリフロー(本加熱)部R3であり、最後の区間が冷却部R4である。 The plurality of zones Z1 to Z9 described above control the temperature of the workpiece W according to the temperature profile during reflow. FIG. 2 shows an outline of an example of the temperature profile. The horizontal axis is time, and the vertical axis is the surface temperature of a work W, such as a printed wiring board on which electronic components are mounted. The first section is a temperature raising section R1 where the temperature rises by heating, the next section is a preheating (preheating) section R2 with a substantially constant temperature, the next section is a reflow (main heating) section R3, and the last section The section is the cooling section R4.

昇温部R1は、常温からプリヒート部R2(例えば150℃~170℃)まで基板を加熱する期間である。プリヒート部R2は、例えば等温加熱を行い、フラックスを活性化し、電極、はんだ粉の表面の酸化膜を除去し、また、プリント配線板の加熱ムラをなくすための期間である。リフロー部R3(例えばピーク温度で220℃~240℃)は、はんだが溶融し、接合が完成する期間である。リフロー部R3では、はんだの溶融温度を超える温度まで昇温が必要とされる。リフロー部R3は、プリヒート部R2を経過していても、温度上昇のムラが存在するので、はんだの溶融温度を超える温度までの加熱が必要とされる。最後の冷却部R4は、急速にプリント配線板を冷却し、はんだ組成を形成する期間である。なお、鉛フリーはんだの場合では、リフロー部における温度は、より高温(例えば240℃~260℃)となる。 The temperature rising section R1 is a period during which the substrate is heated from room temperature to the preheating section R2 (for example, 150.degree. C. to 170.degree. C.). The preheating section R2 is a period for performing isothermal heating, for example, to activate the flux, remove oxide films on the surfaces of the electrodes and solder powder, and eliminate uneven heating of the printed wiring board. The reflow portion R3 (eg, 220° C. to 240° C. at peak temperature) is the period during which the solder melts and the joint is completed. In the reflow portion R3, it is necessary to raise the temperature to a temperature exceeding the melting temperature of the solder. Even after passing through the preheating portion R2, the reflow portion R3 has an uneven temperature rise, so heating to a temperature exceeding the melting temperature of the solder is required. The final cooling section R4 is a period during which the printed wiring board is rapidly cooled and the solder composition is formed. In the case of lead-free solder, the temperature in the reflow section is higher (for example, 240° C. to 260° C.).

図2において、曲線1は、鉛フリーはんだの温度プロファイルの一例を示す。Sn-Pb共晶はんだの場合の温度プロファイルの一例は、曲線2で示すものとなる。鉛フリーはんだの融点は、共晶はんだの融点より高いので、プリヒート部R2及びリフロー部R3における設定温度が共晶はんだに比して高いものとされている。 In FIG. 2, curve 1 shows an example of the temperature profile of lead-free solder. An example temperature profile for Sn--Pb eutectic solder is shown by curve 2. Since the melting point of lead-free solder is higher than that of eutectic solder, the set temperatures in the preheating section R2 and the reflow section R3 are higher than those of eutectic solder.

図1に示すリフロー装置では、図2における昇温部R1の温度制御を、主としてゾーンZ1及びZ2が受け持つ。プリヒート部R2の温度制御は、主としてゾーンZ3、Z4及びZ5が受け持つ。リフロー部R3の温度制御は、ゾーンZ6及びZ7が受け持つ。冷却部R4の温度制御は、ゾーンZ8及びゾーンZ9が受け持つ。 In the reflow apparatus shown in FIG. 1, the zones Z1 and Z2 mainly take charge of the temperature control of the temperature raising section R1 in FIG. Zones Z3, Z4 and Z5 are mainly responsible for temperature control of the preheating section R2. Zones Z6 and Z7 take charge of temperature control of the reflow section R3. Zones Z8 and Z9 take charge of temperature control of the cooling section R4.

図3を参照して、一つのゾーン例えばゾーンZ5の構成を説明する。上部炉体1と下部炉体11との対向間隙内で、プリント配線板の両面に表面実装用電子部品が搭載されたワークWが搬送コンベヤ21上に置かれて搬送される。上部炉体1内及び下部炉体11内は、雰囲気気体である例えば窒素(N2)気体が充満している。上部炉体1及び下部炉体11は、ワークWに対して熱風(熱せられた雰囲気気体)を噴出してワークWを加熱する。なお、熱風と共に赤外線を照射しても良い。 The configuration of one zone, for example, zone Z5, will be described with reference to FIG. In the gap between the upper furnace body 1 and the lower furnace body 11, a work W having surface-mounted electronic components mounted on both sides of a printed wiring board is placed on a conveyor 21 and conveyed. The interior of the upper furnace body 1 and the interior of the lower furnace body 11 are filled with an atmospheric gas such as nitrogen (N2) gas. The upper furnace body 1 and the lower furnace body 11 blow hot air (heated atmosphere gas) to the work W to heat the work W. As shown in FIG. In addition, you may irradiate infrared rays with a hot air.

上部炉体1は、主加熱源2、副加熱源3、送風機4、蓄熱部材5、熱風循環ダクト6、開口部7等からなる。なお、下部炉体11は、例えば、上述した下部炉体1とほぼ同様に、主加熱源12、副加熱源13、送風機14、蓄熱部材15、熱風循環ダクト16、開口部17等を備えている。送風機4は、モータM5と、モータ取り付け板8と、回転羽根9を有する。同様に、送風機14は、モータM15と、モータ取り付け板18と、回転羽根19を有する。送風機としては、ターボファン、シロッコファンなどの遠心ファン、軸流ブロワなどを使用してもよい。なお、図3に示す炉体の構成は、一例であり、他の構成をとりうる。 The upper furnace body 1 comprises a main heating source 2, a sub-heating source 3, an air blower 4, a heat storage member 5, a hot air circulation duct 6, an opening 7 and the like. The lower furnace body 11 includes, for example, a main heating source 12, a sub-heating source 13, an air blower 14, a heat storage member 15, a hot air circulation duct 16, an opening 17, etc., in substantially the same manner as the lower furnace body 1 described above. there is The blower 4 has a motor M5, a motor mounting plate 8, and rotary vanes 9. As shown in FIG. Similarly, the blower 14 has a motor M15, a motor mounting plate 18, and rotary vanes 19. As shown in FIG. As the air blower, a centrifugal fan such as a turbo fan or a sirocco fan, an axial blower, or the like may be used. Note that the configuration of the furnace body shown in FIG. 3 is an example, and other configurations may be employed.

開口部7及び17を通じて熱風がワークWに対して吹きつけられる。主加熱源2、主加熱源12、副加熱源3及び副加熱源13は、例えば電熱ヒータで構成される。蓄熱部材5及び蓄熱部材15は、例えばアルミニウムからなり、多数の孔が形成され、その孔を通じて熱風が通過してワークWに対して吹きつけられる。 Hot air is blown against the work W through the openings 7 and 17 . The main heating source 2, the main heating source 12, the sub-heating source 3, and the sub-heating source 13 are composed of electric heaters, for example. The heat storage member 5 and the heat storage member 15 are made of, for example, aluminum, and are formed with a large number of holes through which hot air passes and is blown against the workpiece W. As shown in FIG.

例えば上部炉体1において、熱風は、送風機4によって循環される。すなわち、(主加熱源2→蓄熱部材3→開口部7→ワークW→熱風循環ダクト6→副加熱源3→熱風循環ダクト6→送風機4→主加熱源2)の経路を介して熱風が循環する。下部炉体11においても同様に、熱風が循環する。 For example, in the upper furnace body 1 , hot air is circulated by the blower 4 . That is, the hot air circulates through the route of (main heating source 2→heat storage member 3→opening 7→work W→hot air circulation duct 6→auxiliary heating source 3→hot air circulation duct 6→blower 4→main heating source 2). do. Hot air circulates in the lower furnace body 11 as well.

ゾーンZ5内の雰囲気気体が配管22を通じて図示しないフラックス回収装置に送られる。フラックス回収装置では、フラックスヒューム中のフラックスが除去及び回収され、フラックスが低減又は除去された浄化後の気体が生成される。フラックス回収装置により浄化された後の気体が配管23を通じて下部炉体11内に導入される。上部炉体1においても同様にフラックス回収装置により浄化された気体が導入される。 Atmospheric gas in zone Z5 is sent through pipe 22 to a flux recovery device (not shown). The flux recovery device removes and recovers the flux in the flux fumes, and generates purified gas in which the flux is reduced or removed. The gas purified by the flux recovery device is introduced into the lower furnace body 11 through the pipe 23 . In the upper furnace body 1 as well, the gas purified by the flux recovery device is introduced.

<2.本発明の第1の実施形態>
本発明による気体浄化装置より具体的には、粉体回収装置は、上述したフラックス回収装置の後に設けられる。さらに、炉体(加熱装置)に限らず、冷却ゾーンZ8及びZ9と関連して本発明による気体浄化装置を設けてもよい。さらに、ワーク搬出側に設けられた金属製の隔壁で仕切られたバッファ室と関連して本発明による気体浄化装置を設けてもよい。また、液化方式のフラックス回収装置と併用しないで、単独で本発明による気体浄化装置を設けて粉体回収と液化回収の両方を行うようにしてもよい。
<2. First embodiment of the present invention>
More specifically, the gas purification device according to the present invention, the powder recovery device is provided after the flux recovery device described above. Furthermore, the gas purifying device according to the present invention may be provided in association with not only the furnace body (heating device) but also the cooling zones Z8 and Z9. Furthermore, the gas purifying device according to the present invention may be provided in association with a buffer chamber partitioned by a metal partition provided on the work unloading side. Alternatively, the gas purifying apparatus according to the present invention may be provided independently to perform both powder recovery and liquefaction recovery without using the liquefaction type flux recovery apparatus.

図4~図10を参照して本発明の第1の実施形態の気体浄化装置について説明する。図4は、気体浄化装置の断面図であり、図5は、上下のケースを分離したときの気体浄化装置の断面図であり、図6Aは、図4のII-II矢視図であり、図6Bは、図4のI-I断面図である。図7は、気体浄化装置の一部拡大断面図であり、図8は、気体浄化装置の主要部の斜視図であり、図9は、図6の一部(円で囲んだ部分A)の拡大斜視図であり、図10は、気体浄化装置の軸及び軸に取り付けられた清掃フィンの斜視図である。気体浄化装置は、ステンレス、鉄などの金属により構成されている。 A gas purifier according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 10. FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of the gas purification device, FIG. 5 is a cross-sectional view of the gas purification device when the upper and lower cases are separated, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line II of FIG. 4. FIG. 7 is a partially enlarged sectional view of the gas purifier, FIG. 8 is a perspective view of the main part of the gas purifier, and FIG. 9 is a part (encircled portion A) of FIG. Figure 10 is an enlarged perspective view, Figure 10 is a perspective view of the shaft of the gas purifier and the cleaning fins attached to the shaft; The gas purification device is made of metal such as stainless steel and iron.

清掃時にモータMによって回転駆動される軸31がほぼ円筒状のケースの蓋板34及び35を貫通するように設けられる(図4、図5及び図6A)。ケースは、上部ケース32と下部ケース33からなる。上部ケース32は、図6B、図8及び図9に示すように、断面が半円を形成するように形成されたものである。 A shaft 31, which is rotated by a motor M during cleaning, is provided so as to pass through cover plates 34 and 35 of the substantially cylindrical case (FIGS. 4, 5 and 6A). The case consists of an upper case 32 and a lower case 33 . As shown in FIGS. 6B, 8 and 9, the upper case 32 is formed to have a semicircular cross section.

下部ケース33の上部は、上部ケース32の下部と嵌合する箱状のもので、下部ケース33の底面に回収した粉体を蓄える回収容器36a,36b,36c,36d,36e(特に個々の回収容器を区別する必要がない場合には、単に回収容器36と称する)が着脱自在に連結されている。図8では、上部ケース32及び下部ケース33が二点鎖線で示されており、また、モータM及び回収容器36の図示が省略されている。 The upper part of the lower case 33 has a box-like shape that fits with the lower part of the upper case 32, and collection containers 36a, 36b, 36c, 36d, and 36e (in particular, individual collected powders) for storing the collected powder on the bottom surface of the lower case 33. When there is no need to distinguish between containers, simply referred to as collection container 36) is detachably connected. In FIG. 8, the upper case 32 and the lower case 33 are indicated by two-dot chain lines, and illustration of the motor M and the collection container 36 is omitted.

上部ケース32の一端の蓋板34の近傍の上部に気体導入用の開口が形成され、この開口から上方へ延びる筒状の気体導入部37が設けられている。上部ケース32の他端の蓋板35の近傍の上部に気体排出用の開口が形成され、この開口から上方へ延びる筒状の気体排出部38が設けられている。気体導入部37に対して大気又は不活性気体と加熱により気化した物質が混合された気体例えば液化方式のフラックス回収装置からベース樹脂成分を含む気体が導入される。気体の温度は、例えば100℃~120℃程度である。そして、気体浄化装置のケース内を気体が流れて粉体回収後の気体が気体排出部38から加熱ゾーンの炉体及び/又は冷却ゾーンの炉体に戻される。 A gas introduction opening is formed in the upper portion near the cover plate 34 at one end of the upper case 32, and a cylindrical gas introduction portion 37 extending upward from this opening is provided. A gas discharge opening is formed in the upper portion near the cover plate 35 at the other end of the upper case 32, and a cylindrical gas discharge portion 38 extending upward from this opening is provided. A gas in which atmospheric air or an inert gas and a substance vaporized by heating are mixed, for example, a gas containing a base resin component from a liquefaction type flux recovery device is introduced into the gas introduction portion 37 . The temperature of the gas is, for example, about 100.degree. C. to 120.degree. Then, the gas flows through the case of the gas purifier, and the gas after powder recovery is returned from the gas discharge part 38 to the furnace body in the heating zone and/or the furnace body in the cooling zone.

気体導入用の開口と気体排出用の開口の間に、ほぼ等間隔で第1の板状体としてのノズル板39a,39b,39c,39d,39e(特に個々のノズル板を区別する必要がない場合には、単にノズル板39と称する)が設けられる(図4、図5、図7、図8及び図9)。ノズル板39は、ケースの長手方向(気体進行方向)とほぼ直交して平行に設けられた円板である。ノズル板39の中心に開口40a,40b,40c,40d,40e(特に個々の開口を区別する必要がない場合には、単に開口40と称する)が形成されている。開口40内を軸31が貫通している。開口40の径が軸31の径の例えば2倍程度に設定されている。開口40の領域中軸31で塞がれていない領域を気体が通過する。 Nozzle plates 39a, 39b, 39c, 39d, and 39e as first plate-like bodies are provided at approximately equal intervals between the gas introduction opening and the gas discharge opening. In some cases, simply referred to as a nozzle plate 39) is provided (FIGS. 4, 5, 7, 8 and 9). The nozzle plate 39 is a circular plate provided parallel to and substantially perpendicular to the longitudinal direction of the case (the gas traveling direction). Apertures 40a, 40b, 40c, 40d, and 40e (simply referred to as apertures 40 when there is no particular need to distinguish individual apertures) are formed in the center of the nozzle plate 39. As shown in FIG. A shaft 31 passes through the opening 40 . The diameter of the opening 40 is set to, for example, about twice the diameter of the shaft 31 . The gas passes through the area of the opening 40 that is not blocked by the shaft 31 .

ノズル板39の上部半円部分は、上部ケース32の内面から下方に向かってように形成され、ノズル板39の下部半円部分は、下部ケース33から上方に向かうように形成されている。ノズル板39a,39b,39c,39d,39eのそれぞれの配設位置に対応する位置に下部ケース33の底面から隔壁41a,41b,41c,41d,41e(特に個々の隔壁を区別する必要がない場合には、単に隔壁41と称する)が立設されている。隔壁41と上部端と連続してノズル板39の下部半円部分が形成されている。隔壁41によって区切られた室内に回収された粉体が保持され、さらに、底面の回収容器36に貯留される。 An upper semicircular portion of the nozzle plate 39 is formed downward from the inner surface of the upper case 32 , and a lower semicircular portion of the nozzle plate 39 is formed upward from the lower case 33 . Partition walls 41a, 41b, 41c, 41d and 41e (especially when there is no need to distinguish individual partition is simply referred to as a partition wall 41). A lower semicircular portion of the nozzle plate 39 is formed continuously with the partition wall 41 and the upper end. The collected powder is held in a chamber partitioned by the partition wall 41 and further stored in the collection container 36 on the bottom.

ノズル板39の下流側に所定の間隔を隔てて、第2の板状体としての円板状の衝突板42a,42b,42c,42d,42e(特に個々の衝突板を区別する必要がない場合には、単に衝突板42と称する)が軸31に固着されている。衝突板42は、ノズル板39の開口40より大きい径を有し、ノズル板39の直径より小さい直径を有する。したがって、ノズル板39の開口40を通過した気体が衝突板42に衝突すると共に、衝突板42の外周と上部ケース32の内面の間の空隙を通過して下流側のノズル板39に向かって流れる。 Disk-shaped impingement plates 42a, 42b, 42c, 42d, and 42e as second plate-like bodies are arranged downstream of the nozzle plate 39 at predetermined intervals (especially when there is no need to distinguish individual impingement plates). ) is fixed to the shaft 31 . The impingement plate 42 has a diameter larger than the opening 40 of the nozzle plate 39 and a diameter smaller than the diameter of the nozzle plate 39 . Therefore, the gas that has passed through the opening 40 of the nozzle plate 39 collides with the impingement plate 42, passes through the gap between the outer circumference of the impingement plate 42 and the inner surface of the upper case 32, and flows toward the nozzle plate 39 on the downstream side. .

衝突板42に気体が衝突することによって、気体に含まれる物質の少なくとも一部例えばロジンなどのベース樹脂成分が粉体状で徐々に堆積される。ノズル板39に気体が衝突することによっても、気体中のベース樹脂成分が粉体状で徐々に堆積される。粉体は、下部ケース33の収容空間に落下し、さらに、回収容器36に貯留される。 As the gas collides with the collision plate 42, at least part of the substance contained in the gas, for example, a base resin component such as rosin, is gradually deposited in the form of powder. The collision of the gas with the nozzle plate 39 also gradually deposits the base resin component in the gas in the form of powder. The powder falls into the accommodation space of the lower case 33 and is further stored in the collection container 36 .

ある程度の時間、気体浄化装置が動作すると、粉体が下方に落下しないでノズル板39及び衝突板42に付着し、粉体を捕集する能力が低下する。ノズル板39に付着した粉体を清掃するための第1の清掃手段としての清掃フィン43a,43b,43c,43d,43e(特に個々の清掃フィンを区別する必要がない場合には、単に清掃フィン43と称する)が軸31に固定されている。 When the gas purifying device operates for a certain period of time, the powder does not fall downward and adheres to the nozzle plate 39 and the impingement plate 42, and the ability to collect the powder is reduced. Cleaning fins 43a, 43b, 43c, 43d, and 43e as a first cleaning means for cleaning the powder adhering to the nozzle plate 39 (in particular, when there is no need to distinguish individual cleaning fins, only cleaning fins may be used). 43) is fixed to the shaft 31. As shown in FIG.

清掃フィン43cは、図7及び図9に拡大して示すように、ノズル板39の板面とほぼ直交する板面を有し、軸31の周面に固着された2枚の矩形板44a及び44bを有する。矩形板44a及び44bの先端から軸31との固着部に向かってスリット45a及び45bが形成されている。スリット45a及び45b内にノズル板39cが入り込み、ノズル板39cの気体衝突面(表面と称する)とその裏面に対して矩形板44a及び44bがほぼ垂直に交差する。スリット45a及び45bの開口幅は、ノズル板39cの板厚よりやや大に設定され、ノズル板39がスリット45a及び45b内で回転可能とされている。スリット45a及び45bは、軸31までに到達せず、矩形板44a及び44bと軸31の接続部に基部46a及び46bが形成される。基部46a及び46bがノズル板39cの開口40c内に位置する。なお、清掃フィン43が弾力性を有する場合には、清掃フィン43をノズル板39の表面及び裏面と接触させるようにしてもよい。 7 and 9, the cleaning fin 43c has a plate surface substantially orthogonal to the plate surface of the nozzle plate 39, and includes two rectangular plates 44a and 44a fixed to the peripheral surface of the shaft 31. 44b. Slits 45a and 45b are formed from the tips of the rectangular plates 44a and 44b toward the portion fixed to the shaft 31. As shown in FIG. The nozzle plate 39c enters the slits 45a and 45b, and the rectangular plates 44a and 44b intersect the gas collision surface (referred to as the front surface) of the nozzle plate 39c and the back surface of the nozzle plate 39c substantially perpendicularly. The opening width of the slits 45a and 45b is set slightly larger than the plate thickness of the nozzle plate 39c so that the nozzle plate 39 can rotate within the slits 45a and 45b. The slits 45 a and 45 b do not reach the shaft 31 , and base portions 46 a and 46 b are formed at the connecting portions of the rectangular plates 44 a and 44 b and the shaft 31 . Bases 46a and 46b are positioned within opening 40c of nozzle plate 39c. If the cleaning fins 43 have elasticity, the cleaning fins 43 may be brought into contact with the front and back surfaces of the nozzle plate 39 .

上述した本発明の第1の実施形態では、軸31に対して図10に示すように、衝突板42a~42eと清掃フィン43a~43eが固着されており、モータMによって軸31が回転すると、衝突板42a~42eと清掃フィン43a~43eが回転する。モータMは、清掃時に軸31を回転させるようになされている。 In the first embodiment of the present invention described above, as shown in FIG. 10, collision plates 42a to 42e and cleaning fins 43a to 43e are fixed to shaft 31, and when shaft 31 is rotated by motor M, Collision plates 42a-42e and cleaning fins 43a-43e rotate. The motor M is adapted to rotate the shaft 31 during cleaning.

モータMによって軸31が回転されると、清掃フィン43cを構成する矩形板44a及び44bが回転し、ノズル板39cの表面及び裏面の両面に付着している粉体を掻き落とす。したがって、ノズル板39cの両面が清掃され、捕集能力の低下が抑えられる。また、基部46a及び46bがノズル板39cの開口40c内に位置しているので、基部46a及び46bによって開口40c内に付着した粉体を掻き落とすことができ、開口40cが目詰まりすることが防止できる。 When the shaft 31 is rotated by the motor M, the rectangular plates 44a and 44b forming the cleaning fins 43c are rotated to scrape off powder adhering to both the front and back surfaces of the nozzle plate 39c. Therefore, both surfaces of the nozzle plate 39c are cleaned, and deterioration of the collecting ability is suppressed. In addition, since the bases 46a and 46b are positioned within the opening 40c of the nozzle plate 39c, the bases 46a and 46b can scrape off the powder adhering to the opening 40c, thereby preventing clogging of the opening 40c. can.

なお、他の清掃フィン43a,43b,43d,43eも上述した清掃フィン43cと同様の形状を有し、清掃フィン43a,43b,43d,43eがノズル板39a,39b,39d,39eの両面をそれぞれ清掃する。なお、ノズル板39は,気体が入る側の裏面の方が表面に比して粉体が付着する量が多いので、裏面側のみを清掃する構成としてもよい。 The other cleaning fins 43a, 43b, 43d, and 43e also have the same shape as the cleaning fin 43c described above, and the cleaning fins 43a, 43b, 43d, and 43e cover both surfaces of the nozzle plates 39a, 39b, 39d, and 39e, respectively. to clean up. Since the back surface of the nozzle plate 39 on which gas enters is more likely to be covered with powder than the front surface, only the back surface of the nozzle plate 39 may be cleaned.

ノズル板39と同様に、衝突板42にも粉体が付着する。特に、衝突板42の気体が衝突する面(表面)側に付着する粉体の量がその裏面側に付着する粉体の量に比して多い。衝突板42の表面に対して付着した粉体を掻き落とすために、衝突板42の表面に近接して第2の清掃手段としての清掃ロッド47a,47b,47c,47d,47e(特に個々の清掃ロッドを区別する必要がない場合には、単に清掃ロッド47と称する)が設けられている。清掃ロッド47は、上部ケース32の内面に一端が固定され、他端が軸31の周面の近傍まで延びる形状を有し、金属、ゴム等の材料からなる。モータMによって軸31が回転されると、衝突板42が回転し、清掃ロッド47によって衝突板42の表面に付着した粉体が掻き落とされる。なお、清掃ロッド47が弾力性を有する場合には、清掃ロッド47を衝突板42の表面と接触させるようにしてもよい。また、清掃ロッド47によって衝突板42の両面を清掃するようにしてもよい。 Powder adheres to the impingement plate 42 as well as the nozzle plate 39 . In particular, the amount of powder adhering to the surface (front side) of the impingement plate 42 with which the gas collides is greater than the amount of powder adhering to the back side thereof. Cleaning rods 47a, 47b, 47c, 47d, and 47e (especially individual cleaning rods) serving as second cleaning means are placed in the vicinity of the surface of the impact plate 42 to scrape off the powder adhering to the surface of the impact plate 42. If there is no need to distinguish between rods, simply referred to as cleaning rod 47) is provided. The cleaning rod 47 has one end fixed to the inner surface of the upper case 32 and the other end extending to the vicinity of the peripheral surface of the shaft 31, and is made of a material such as metal or rubber. When the shaft 31 is rotated by the motor M, the impingement plate 42 is rotated, and the powder adhering to the surface of the impingement plate 42 is scraped off by the cleaning rod 47 . Incidentally, if the cleaning rod 47 has elasticity, the cleaning rod 47 may be brought into contact with the surface of the collision plate 42 . Moreover, both surfaces of the collision plate 42 may be cleaned by the cleaning rod 47 .

上述した本発明の第1の実施形態によれば、フラックスヒューム又はフラックス回収後の気体がケース内に導入され、ノズル板39の開口を通じて衝突板42に気体が衝突することによっても、気体中のベース樹脂成分が粉体となり、下部ケース33内に落下する。粉体が除去された気体が気体排出口38から排出されてリフロー装置に戻される。したがって、リフロー装置において、粉体が配管やパネル穴を目詰まりさせ、装置の機能が低下したり、粉体付着による基板の清掃が必要となったり、基板不良が発生したり、クリーンルームのパーティクル値が上昇したりすることを防止することができる。さらに、フラックスヒュームが導入された場合、フラックスヒュームを液化させて回収することができる。 According to the first embodiment of the present invention described above, flux fumes or gas after flux recovery is introduced into the case, and the gas collides with the impingement plate 42 through the opening of the nozzle plate 39. The base resin component becomes powder and drops into the lower case 33 . The gas from which the powder has been removed is discharged from the gas discharge port 38 and returned to the reflow device. Therefore, in the reflow equipment, the powder clogs the pipes and panel holes, and the function of the equipment deteriorates. can be prevented from rising. Furthermore, when flux fumes are introduced, the flux fumes can be liquefied and recovered.

<3.本発明の第2の実施形態>
図11、図12及び図13を参照して本発明の第2の実施形態の気体浄化装置について説明する。図11は、気体浄化装置の断面図であり、図12は、上下のケースを分離したときの気体浄化装置の断面図であり、図13は、軸31が延長方向に変位した時の断面図であり、図14Aは、図11のII-II矢視図であり、図14Bは、図11のI-I断面図である。
<3. Second embodiment of the present invention>
A second embodiment of a gas purifier according to the present invention will be described with reference to FIGS. 11, 12 and 13. FIG. 11 is a cross-sectional view of the gas purification device, FIG. 12 is a cross-sectional view of the gas purification device when the upper and lower cases are separated, and FIG. 13 is a cross-sectional view when the shaft 31 is displaced in the extension direction. 14A is a view taken along line II-II in FIG. 11, and FIG. 14B is a cross-sectional view taken along line II in FIG.

第1の実施形態と同様に、上部ケース32及び下部ケース33によって構成される筒状の空間内に気体導入部37から例えばフラックス回収後の気体が導入され、ノズル板39の開口を通過した気体が衝突板42に衝突することによって、気体中のベース樹脂等の粒子成分が粉体として回収される。軸31に対して衝突板42a~42eとノズル板清掃手段としての清掃フィン51a,51b,51c,51d,51e(特に個々の清掃フィンを区別する必要がない場合には、単に清掃フィン51と称する)が固着されている。 As in the first embodiment, for example, the gas after flux recovery is introduced from the gas introduction part 37 into the cylindrical space formed by the upper case 32 and the lower case 33, and the gas that has passed through the opening of the nozzle plate 39 collides with the collision plate 42, the particle components such as the base resin in the gas are recovered as powder. Collision plates 42a to 42e and cleaning fins 51a, 51b, 51c, 51d, and 51e as nozzle plate cleaning means with respect to shaft 31 (when there is no particular need to distinguish individual cleaning fins, they are simply referred to as cleaning fins 51). ) is fixed.

第1の実施形態と同様に、清掃フィン51は、軸31に対して固着され、板面がノズル板39の裏面と近接する2枚の矩形板を有している。さらに、清掃フィン51の軸31との固着部分近傍の短手方向の幅が他の部分に比して大きくされ、清掃フィン51の基部の突出部がノズル板39の中心の開口40内に入り込むようになされる。突出部は、板状であるため、開口40を気体が通過することを妨げない。第1の実施形態と同様に、清掃ロッド47が衝突板42の表面と近接して設けられている。 As in the first embodiment, the cleaning fins 51 are fixed to the shaft 31 and have two rectangular plates whose plate surfaces are close to the back surface of the nozzle plate 39 . Further, the width of the cleaning fin 51 in the vicinity of the fixing portion to the shaft 31 in the lateral direction is made larger than the other portions, and the protruding portion of the base of the cleaning fin 51 enters the opening 40 at the center of the nozzle plate 39. is made as follows. Since the projecting portion is plate-shaped, it does not prevent the gas from passing through the opening 40 . As in the first embodiment, a cleaning rod 47 is provided close to the surface of the impingement plate 42 .

したがって、軸31がモータMによって回転されると、ノズル板39の裏面に付着している粉体が清掃フィン51によって掻き落とされ、衝突板42の表面に付着している粉体が清掃ロッド47によって掻き落とされる。同時に、ノズル板39の開口40内に清掃フィン51の基部の突出部が入り込んでいるので、開口40が粉体によって狭くなったり、目詰まりしたりすることを防止できる。 Therefore, when the shaft 31 is rotated by the motor M, the powder adhering to the back surface of the nozzle plate 39 is scraped off by the cleaning fins 51, and the powder adhering to the surface of the impingement plate 42 is removed by the cleaning rod 47. scraped off by At the same time, since the projecting portion of the base of the cleaning fin 51 is inserted into the opening 40 of the nozzle plate 39, it is possible to prevent the opening 40 from being narrowed or clogged with powder.

上述した第2の実施形態において、図13において矢印で示すように、軸31が気体導入側から気体排出側に向かって直動可能としてもよい。この場合には、清掃ロッド47に付着した粉体を掻き落とすことができる。 In the second embodiment described above, the shaft 31 may be linearly movable from the gas introduction side toward the gas discharge side, as indicated by the arrow in FIG. In this case, powder adhering to the cleaning rod 47 can be scraped off.

<4.本発明の第3の実施形態>
図15、図16及び図17を参照して本発明の第3の実施形態の気体浄化装置について説明する。図15は、気体浄化装置の断面図であり、図16は、上下のケースを分離したときの気体浄化装置の断面図であり、図17は、軸31が延長方向に変位した時の断面図である。
<4. Third embodiment of the present invention>
A gas purifier according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 15, 16 and 17. FIG. 15 is a cross-sectional view of the gas purifier, FIG. 16 is a cross-sectional view of the gas purifier when the upper and lower cases are separated, and FIG. 17 is a cross-sectional view when the shaft 31 is displaced in the extension direction. is.

第1及び第2の実施形態と同様に、上部ケース32及び下部ケース33によって構成される筒状の空間内に気体導入部37から例えばフラックス回収後の気体が導入され、ノズル板39の開口を通過した気体が衝突板42に衝突することによって、気体中のベース樹脂等の粒子成分が粉体として回収される。軸31に対して衝突板42a' ,42b,42c,42d,42e'(特に個々の衝突板を区別する必要がない場合には、単に衝突板42' と称する) とノズル板清掃手段としての清掃フィン52a,52b,52c,52d,52e(特に個々の清掃フィンを区別する必要がない場合には、単に清掃フィン52と称する)が固着されている。 As in the first and second embodiments, the gas after flux recovery, for example, is introduced from the gas introduction portion 37 into the cylindrical space formed by the upper case 32 and the lower case 33, and the opening of the nozzle plate 39 is introduced. As the passing gas collides with the collision plate 42, the particle components such as the base resin in the gas are recovered as powder. Collision plates 42a', 42b, 42c, 42d, and 42e' with respect to shaft 31 (simply referred to as impingement plates 42' when there is no particular need to distinguish individual impingement plates) and cleaning as nozzle plate cleaning means Fins 52a, 52b, 52c, 52d, 52e (simply referred to as cleaning fins 52 when there is no particular need to distinguish individual cleaning fins) are fixed.

清掃フィン52は、軸31に対して固着され、板面がノズル板39の裏面と近接する2枚の矩形板を有している。第1の実施形態と同様に、清掃ロッド47が衝突板42' の表面と近接して設けられている。衝突板42' の径がノズル板39の開口40の径より小さく、衝突板42' が開口40内を通過することが可能とされている。 The cleaning fins 52 are fixed to the shaft 31 and have two rectangular plates whose plate surfaces are close to the back surface of the nozzle plate 39 . As in the first embodiment, a cleaning rod 47 is provided adjacent the surface of the impingement plate 42'. The diameter of the impingement plate 42' is smaller than the diameter of the opening 40 of the nozzle plate 39 so that the impingement plate 42' can pass through the opening 40. As shown in FIG.

したがって、軸31がモータMによって回転されると、ノズル板39の裏面に付着している粉体が清掃フィン52によって掻き落とされ、衝突板42の表面に付着している粉体が清掃ロッド47によって掻き落とされる。 Therefore, when the shaft 31 is rotated by the motor M, the powder adhering to the back surface of the nozzle plate 39 is scraped off by the cleaning fins 52, and the powder adhering to the surface of the impingement plate 42 is removed by the cleaning rod 47. scraped off by

上述した第3の実施形態において、図17において矢印で示すように、軸31が気体導入側から気体排出側に向かって直動可能とされている。図17に示す状態からさらに軸31が直動すると、衝突板42' がノズル板39の開口40内を通過して清掃フィン52がノズル板39の表面に近接した状態となる。なお、清掃フィン52 が板状であり、清掃ロッド47がロッド状であるため、清掃フィン52の位置を調整することによって、清掃フィン52が清掃ロッド47を通過することができる。 In the above-described third embodiment, the shaft 31 is linearly movable from the gas introduction side toward the gas discharge side, as indicated by the arrow in FIG. 17, the collision plate 42' passes through the opening 40 of the nozzle plate 39 and the cleaning fins 52 come close to the surface of the nozzle plate 39. As shown in FIG. Since the cleaning fins 52 are plate-shaped and the cleaning rods 47 are rod-shaped, the cleaning fins 52 can pass through the cleaning rods 47 by adjusting the positions of the cleaning fins 52 .

したがって、軸31がモータMによって回転されると、ノズル板39の表面に付着している粉体が清掃フィン52によって掻き落とされ、衝突板42' の裏面に付着している粉体が清掃ロッド47によって掻き落とされる。同時に、ノズル板39の開口40内を衝突板42' が通過するので、開口40が粉体によって狭くなったり、目詰まりしたりすることを防止できる。このように、第3の実施形態は、ノズル板39の両面並びに開口40を清掃することができる。 Therefore, when the shaft 31 is rotated by the motor M, the powder adhering to the surface of the nozzle plate 39 is scraped off by the cleaning fins 52, and the powder adhering to the rear surface of the impingement plate 42' is removed by the cleaning rod. Scraped off by 47. At the same time, since the impingement plate 42' passes through the opening 40 of the nozzle plate 39, it is possible to prevent the opening 40 from being narrowed or clogged with powder. Thus, the third embodiment can clean both sides of the nozzle plate 39 as well as the openings 40 .

<5.本発明の変形例>
図18、図19A及び図19Bを参照して本発明の変形例について説明する。なお、簡単のため、これらの図において、軸31を一点鎖線で表し、清掃フィン、清掃ロッド及び回収容器の図示を省略している。また、上部ケース及び下部ケースは、円筒状のケース61として表している。
<5. Modified example of the present invention>
A modification of the present invention will now be described with reference to FIGS. 18, 19A and 19B. For the sake of simplicity, in these figures, the shaft 31 is represented by a dashed line, and the illustration of the cleaning fins, the cleaning rod, and the collection container is omitted. Also, the upper case and the lower case are represented as a cylindrical case 61 .

図18に示す構成は、ノズル板39a及び39bのそれぞれの開口40a及び40bの気体の入口側に開口40a及び40bのエッジからケース61の内面に向かって拡がる形状の傾斜部62a及び62bを設けるものである。傾斜部62a及び62bによって気体を開口40a及び40bに向けて集中させて流速を増大させることができる。その結果、粉体の回収効率をより高くすることができる。 The structure shown in FIG. 18 is provided with inclined portions 62a and 62b in a shape expanding from the edges of the openings 40a and 40b toward the inner surface of the case 61 on the gas inlet side of the openings 40a and 40b of the nozzle plates 39a and 39b, respectively. is. Ramps 62a and 62b allow gas to be concentrated toward openings 40a and 40b to increase flow velocity. As a result, the powder recovery efficiency can be further increased.

図19Aに示す変形例は、一定間隔Lで設けられているノズル板39a,39b及び39cに対する衝突板42a,42b及び42cの間隔x1,x2及びx3を変更するものである。すなわち、気体の流入側から間隔を徐々に小さくするものである(x1>x2>x3)。このようにすると、衝突エネルギーが徐々に大きくなり、回収効率を高めることができる。言い換えると、気体の排出側での気体の流速が遅くなることを補償することができる。 In the modification shown in FIG. 19A, the intervals x1, x2 and x3 of the collision plates 42a, 42b and 42c with respect to the nozzle plates 39a, 39b and 39c provided at a constant interval L are changed. That is, the distance is gradually reduced from the gas inflow side (x1>x2>x3). By doing so, the collision energy gradually increases, and the recovery efficiency can be improved. In other words, it is possible to compensate for the slow flow rate of the gas on the gas discharge side.

図19Bに示す変形例は、ノズル板39a,39b及び39cに対する衝突板42a,42b及び42cの間隔を一定とし、ノズル板39a,39b及び39cの開口40a,40b及び40cの径を徐々に小さくするものである(d1>d2>d3)。このようにすると、衝突エネルギーが徐々に大きくなり、回収効率を高めることができる。言い換えると、気体の排出側での気体の流速が遅くなることを補償することができる。 In the modification shown in FIG. 19B, the distances between the collision plates 42a, 42b and 42c relative to the nozzle plates 39a, 39b and 39c are kept constant, and the diameters of the openings 40a, 40b and 40c of the nozzle plates 39a, 39b and 39c are gradually reduced. (d1>d2>d3). By doing so, the collision energy gradually increases, and the recovery efficiency can be improved. In other words, it is possible to compensate for the slow flow rate of the gas on the gas discharge side.

以上、本発明の実施の形態について具体的に説明したが、上述の各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。例えばノズル板の清掃手段としては、板状に限らずロッド状であってもよく、衝突板の清掃手段としてはロッド状に限らず板状であってもよい。また、衝突板の両面に近接する衝突板清掃手段を設けて衝突板の両面を清掃するようにしてもよい。さらに、ノズル板清掃手段と衝突板清掃手段の一方を設けてもよい。また、下部ケースの上部でノズル板との境界に位置する仕切りを設け、仕切りに形成した開口を通じて粉体を回収するようにしてもよい。よりさらに、ノズル板と清掃フィンは、相対的に回転する関係であればよく、同様に、衝突板と清掃ロッドは、相対的に回転する関係であればよい。 Although the embodiments of the present invention have been specifically described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible based on the technical idea of the present invention. For example, the nozzle plate cleaning means may be rod-shaped instead of plate-shaped, and the impingement plate cleaning means may be plate-shaped instead of rod-shaped. Moreover, it is also possible to provide collision plate cleaning means close to both surfaces of the collision plate so as to clean both surfaces of the collision plate. Furthermore, one of the nozzle plate cleaning means and the impingement plate cleaning means may be provided. Further, a partition may be provided at the upper part of the lower case at the boundary with the nozzle plate, and the powder may be recovered through an opening formed in the partition. Furthermore, the nozzle plate and the cleaning fins may be in a relatively rotating relationship, and similarly, the impingement plate and the cleaning rod may be in a relatively rotating relationship.

さらに、本発明は、リフロー装置等のはんだ付け装置に限らず、プリント配線板上に表面実装部品を熱硬化型の接着剤によって接着するための実装装置、パターン形成された銅張積層板上に形成されたソルダーレジストを硬化させる装置などにも適用することができる。すなわち、本発明は、加熱処理を行うことによって気化した物質が大気又は不活性気体に対して混合された気体から粉体を回収する場合に対して適用できる。 Furthermore, the present invention is not limited to a soldering device such as a reflow device, but also includes a mounting device for bonding surface-mounted components to a printed wiring board with a thermosetting adhesive, and a soldering device on a copper-clad laminate having a pattern formed thereon. It can also be applied to an apparatus for curing the formed solder resist. That is, the present invention can be applied to recovering powder from a gas in which a substance vaporized by heat treatment is mixed with the atmosphere or an inert gas.

また、上述の実施の形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料及び数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料及び数値などを用いてもよい。また、上述の実施の形態の構成、方法、工程、形状、材料及び数値などは、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。 In addition, the configurations, methods, processes, shapes, materials, numerical values, etc. mentioned in the above-described embodiments are merely examples, and different configurations, methods, processes, shapes, materials, numerical values, etc. may be used as necessary. may Also, the configurations, methods, steps, shapes, materials, numerical values, etc. of the above-described embodiments can be combined with each other without departing from the gist of the present invention.

M・・・モータ、1・・・上部炉体、11・・・下部炉体、31・・・軸、
32・・・上部ケース、33・・・下部ケース、36a~36e・・・回収容器、
37・・・気体導入部、38・・・気体排出部、39a~39e・・・ノズル板、
40a~40e・・・開口、42a~42e・・・衝突板、
43a~43e・・・清掃フィン、47a~47e・・・清掃ロッド、
51a~51e・・・清掃フィン、101・・・リフロー装置
M... motor, 1... upper furnace body, 11... lower furnace body, 31... shaft,
32 Upper case, 33 Lower case, 36a to 36e Collection container,
37... Gas introduction part, 38... Gas discharge part, 39a to 39e... Nozzle plate,
40a to 40e... openings, 42a to 42e... collision plates,
43a to 43e... cleaning fins, 47a to 47e... cleaning rods,
51a to 51e cleaning fins, 101 reflow device

Claims (11)

円筒形のケースと、
大気又は不活性気体と加熱により気化した物質が混合された気体を前記ケースに導入する気体導入口と、
浄化後の気体を前記ケースから排出する気体排出口と、
前記気体導入口から前記気体排出口に向かって前記ケース内を流れる前記気体が通過する開口を有する第1の板状体と、
前記第1の板状体と相対的に回転し、前記第1の板状体の少なくとも表面に付着した前記物質の少なくとも一部を清掃するようになされた第1の清掃手段と、
前記開口を通過した前記気体が衝突する面を有する第2の板状体と、
前記第2の板状体によって捕集された前記物質の少なくとも一部を収容する収容部と
を備えた気体浄化装置。
a cylindrical case,
a gas introduction port for introducing into the case a gas obtained by mixing atmospheric air or an inert gas with a substance vaporized by heating;
a gas outlet for discharging the purified gas from the case;
a first plate-like body having an opening through which the gas flowing in the case from the gas inlet toward the gas outlet passes;
a first cleaning means that rotates relative to the first plate-like body and cleans at least part of the substance adhering to at least the surface of the first plate-like body;
a second plate-like body having a surface on which the gas passing through the opening collides;
A gas purifying device comprising: a storage section that stores at least part of the substance collected by the second plate-like body.
前記第1の清掃手段が前記第1の板状体の表面と近接し、前記第1の板状体に付着した前記物質の少なくとも一部を掻き落とすようになされた請求項に記載の気体浄化装置。 2. The gas according to claim 1 , wherein said first cleaning means approaches the surface of said first plate-like body and scrapes off at least part of said substance adhering to said first plate-like body. purifier. 前記第1の清掃手段が前記第1の板状体の前記開口を清掃するようになされた請求項又はに記載の気体浄化装置。 3. The gas purifier according to claim 1 , wherein said first cleaning means cleans said opening of said first plate-like body. 前記第1の清掃手段が回転軸に固着された請求項からのいずれかに記載の気体浄化装置。 4. A gas purifier according to any one of claims 1 to 3 , wherein said first cleaning means is fixed to a rotating shaft. 前記回転軸が直動可能とされ、前記第1の清掃手段が前記回転軸に固着された請求項に記載の気体浄化装置。 5. The gas purifier according to claim 4 , wherein said rotary shaft is linearly movable, and said first cleaning means is fixed to said rotary shaft. 前記第2の板状体と相対的に回転し、前記第2の板状体の少なくとも表面に付着した前記物質の少なくとも一部を清掃するようになされた第2の清掃手段を有する請求項1からのいずれかに記載の気体浄化装置。 2. A second cleaning means which rotates relative to said second plate-like body and cleans at least part of said substance adhering to at least the surface of said second plate-like body. 6. The gas purifying device according to any one of 1 to 5 . 前記第2の清掃手段が前記第2の板状体の表面と近接し、前記第2の板状体に付着した前記物質の少なくとも一部を掻き落とすようになされた請求項に記載の気体浄化装置。 7. The gas according to claim 6 , wherein said second cleaning means approaches the surface of said second plate-like body and scrapes off at least part of said substance adhering to said second plate-like body. purifier. 前記第2の清掃手段が前記ケースに設けられた請求項又はに記載の気体浄化装置。 8. A gas purifier according to claim 6 , wherein said second cleaning means is provided on said case. 前記第2の板状体が直動可能な回転軸に固着された請求項1からのいずれかに記載の気体浄化装置。 9. The gas purifier according to any one of claims 1 to 8 , wherein said second plate-like body is fixed to a rotary shaft capable of direct movement. 前記第1の板状体の前記開口の径が前記第2の板状体の径より大とされた請求項1からのいずれかに記載の気体浄化装置。 10. The gas purifier according to any one of claims 1 to 9 , wherein the diameter of said opening of said first plate-like body is larger than the diameter of said second plate-like body. 被加熱物を加熱する加熱室を有し、前記加熱室を搬送装置によって前記被加熱物を通過させる搬送加熱装置において、
大気又は不活性気体と加熱により気化した物質が混合された気体を気体浄化装置に供給する構成とされ、
前記気体浄化装置は,
円筒形のケースと
大気又は不活性気体と加熱により気化した物質が混合された気体を前記ケースに導入する気体導入口と、
浄化後の気体を前記ケースから排出する気体排出口と、
前記気体導入口から前記気体排出口に向かって前記ケース内を流れる前記気体が通過する開口を有する第1の板状体と、
前記第1の板状体と相対的に回転し、前記第1の板状体の少なくとも表面に付着した前記物質の少なくとも一部を清掃するようになされた第1の清掃手段と、
前記開口を通過した前記気体が衝突する面を有する第2の板状体と、
前記第2の板状体によって捕集された前記物質の少なくとも一部を収容する収容部と
を備えた搬送加熱装置。
A conveying/heating device having a heating chamber for heating an object to be heated, wherein the object to be heated is passed through the heating chamber by a conveying device,
A gas in which atmospheric air or an inert gas and a substance vaporized by heating are mixed is supplied to the gas purification device,
The gas purifier,
a cylindrical case, a gas introduction port for introducing into the case a gas in which atmospheric air or an inert gas and a substance vaporized by heating are mixed;
a gas outlet for discharging the purified gas from the case;
a first plate-like body having an opening through which the gas flowing in the case from the gas inlet toward the gas outlet passes;
a first cleaning means that rotates relative to the first plate-like body and cleans at least part of the substance adhering to at least the surface of the first plate-like body;
a second plate-like body having a surface on which the gas passing through the opening collides;
and a storage unit that stores at least part of the substance collected by the second plate-shaped body.
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