JP7310186B2 - Thin film and transfer sheet - Google Patents

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本発明は、薄型フィルム、および、薄型フィルムを備える転写シートに関する。 The present invention relates to thin films and transfer sheets comprising thin films.

数nm~数μm程度の厚さを有した薄膜層は、生体器官の表面に対する接着性を有するため、当該薄膜層を臓器や皮膚等に貼り付けて利用することが試みられている。
例えば、非特許文献1では、上記薄膜層が創傷の被覆材として利用可能であることが報告されている。また、上記薄膜層を、スキンケアやメイクアップの補助のために肌に貼り付けることも提案されている。例えば、特許文献1では、薄膜層を肌に貼り付けた後に、薄膜層の上から化粧料を塗布する美容方法が提案されている。さらに、特許文献2には、薄膜層と、薄膜層へのインクの塗布によって形成された発色部とを備える薄型フィルムが記載されている。例えば、肌色の発色部を備える薄型フィルムを肌に貼り付けることで、肌における傷の隠蔽や、シミやソバカスを目立たなくすることが可能である。
A thin film layer having a thickness of several nanometers to several micrometers is adhesive to the surfaces of living organs, and thus attempts have been made to apply such thin film layers to organs, skin, and the like.
For example, Non-Patent Document 1 reports that the thin film layer can be used as a dressing for wounds. It has also been proposed to apply the thin film layer to the skin to aid skin care and make-up. For example, Patent Literature 1 proposes a cosmetic method in which a thin film layer is attached to the skin and then a cosmetic is applied over the thin film layer. Further, Patent Literature 2 describes a thin film including a thin film layer and a coloring portion formed by applying ink to the thin film layer. For example, by attaching a thin film having a flesh-colored coloring portion to the skin, it is possible to conceal scars on the skin and make spots and freckles less noticeable.

国際公開第2014/058066号WO2014/058066 特開2015-193604号公報JP 2015-193604 A

T.Fujie et al.,Adv.Funct.Mater.,2009年,19巻,2560-2568頁T. Fujie et al. , Adv. Funct. Mater. , 2009, Vol. 19, pp. 2560-2568

しかしながら、印刷法等によって薄膜層にインクを供給して発色部を形成する場合、インクの濡れ広がりが生じるために、所望の色の発色部を所望の範囲に精度よく形成することは困難であった。例えば、所定のパターンに発色部を形成しようとした場合には、発色部の外縁に滲みが生じて、設計されたパターンと実際に形成されたパターンとの間に隔たりが生じてしまう。 However, when ink is supplied to a thin film layer by a printing method or the like to form a coloring portion, it is difficult to precisely form a coloring portion of a desired color in a desired range because the ink spreads by wetting. rice field. For example, when it is attempted to form a coloring portion in a predetermined pattern, blurring occurs at the outer edge of the coloring portion, creating a gap between the designed pattern and the actually formed pattern.

本発明は、発色部の形成精度を高めることのできる薄型フィルム、および、当該薄型フィルムを備える転写シートを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a thin film capable of enhancing the accuracy of forming a coloring portion, and a transfer sheet provided with the thin film.

上記課題を解決する薄型フィルムは、0.1g/m以上4g/m以下の平均質量を有する薄膜層を備える薄型フィルムであって、前記薄膜層は、インクの硬化物である発色部が形成される対象面を有し、前記対象面の算術平均粗さRaが、0.1μm以上5μm以下である。 A thin film that solves the above problems is a thin film comprising a thin film layer having an average mass of 0.1 g/m 2 or more and 4 g/m 2 or less, wherein the thin film layer has a coloring part that is a cured product of ink. A target surface is formed, and the arithmetic mean roughness Ra of the target surface is 0.1 μm or more and 5 μm or less.

上記構成によれば、対象面に供給されたインクと接する薄膜層の表面積が増大することに起因して、インクの広がりが抑えられる。その結果、発色部の形成精度が高められる。
上記構成において、薄型フィルムは、前記対象面に前記発色部を備えてもよい。
上記構成によれば、形成精度の高い発色部を備える薄型フィルムが実現される。
According to the above configuration, the spread of the ink is suppressed due to the increase in the surface area of the thin film layer in contact with the ink supplied to the target surface. As a result, the formation accuracy of the coloring portion is enhanced.
The said structure WHEREIN: A thin film may equip the said object surface with the said coloring part.
According to the above configuration, a thin film having a coloring portion with high forming accuracy is realized.

上記構成において、薄型フィルムは、前記発色部を覆う疎水性樹脂層を備えてもよい。
上記構成によれば、発色部が外気に曝されることや、発色部が直接に被転写体に接することが抑えられる。
In the above configuration, the thin film may include a hydrophobic resin layer covering the coloring portion.
According to the above configuration, the exposure of the coloring portion to the outside air and the direct contact of the coloring portion with the transfer-receiving body can be suppressed.

上記構成において、前記薄膜層は、生体適合高分子膜であり、前記薄膜層の密度は、1g/cm以上3g/cm以下であってもよい。
上記構成によれば、生体への貼り付けに適した薄膜層が実現される。そして、こうした生体組織に親和性を有した薄型フィルムにおいて、発色部の形成精度が高められる。
In the above configuration, the thin film layer may be a biocompatible polymer film, and the thin film layer may have a density of 1 g/cm 3 or more and 3 g/cm 3 or less.
According to the above configuration, a thin film layer suitable for attachment to a living body is realized. In addition, in such a thin film having affinity for living tissue, the accuracy of formation of the coloring portion can be enhanced.

上記構成において、前記薄型フィルムは、前記薄膜層における前記対象面と反対側の面を最外面として有し、当該最外面、または、前記薄型フィルムにおける当該最外面とは反対側の最外面が、肌に貼り付けられてもよい。 In the above configuration, the thin film has a surface opposite to the target surface of the thin film layer as the outermost surface, and the outermost surface or the outermost surface of the thin film opposite to the outermost surface is It may be attached to the skin.

上記構成によれば、形成精度の高い発色部を備える薄型フィルムが肌に貼り付けられるため、メイクアップの補助等の薄型フィルムの機能が高められる。また、薄膜層の両面が対象面であって両面に発色部が形成されている形態と比較して、薄型フィルムを薄くすることができる。したがって、メイクアップの補助等の薄型フィルムに求められる機能を十分に実現しつつも、薄型フィルムの肌に対する追従性が高められ、使用者の違和感を低減することができる。 According to the above configuration, since the thin film having the coloring portion with high formation accuracy can be attached to the skin, the function of the thin film, such as assisting makeup, is enhanced. In addition, the thin film can be made thinner as compared with a mode in which both surfaces of the thin film layer are the target surfaces and the coloring portions are formed on both surfaces. Therefore, while the functions required of the thin film such as assisting makeup are sufficiently realized, the skin followability of the thin film is enhanced, and the discomfort felt by the user can be reduced.

上記課題を解決する薄型フィルムは、上記薄型フィルムと、前記薄型フィルムを支持する支持基材と、を備える。
上記構成によれば、転写シートの保管時や移動時に、薄型フィルムの変形が抑えられる。また、支持基材に支持されていることにより、薄型フィルムが取り扱いやすくなる。
A thin film that solves the above problems includes the thin film and a supporting substrate that supports the thin film.
According to the above configuration, deformation of the thin film is suppressed when the transfer sheet is stored or moved. In addition, being supported by the supporting substrate facilitates handling of the thin film.

本発明によれば、薄膜層に対する発色部の形成精度を高めることができる。 According to the present invention, it is possible to improve the accuracy of forming the coloring portion with respect to the thin film layer.

薄型フィルムの一実施形態について、第1形態の薄型フィルムの断面構造を示す図。The figure which shows the cross-sectional structure of the thin film of a 1st form about one Embodiment of a thin film. (a)は、従来の薄膜層における発色部の形成過程を示す図、(b)は、一実施形態の薄膜層における発色部の形成過程を示す図。(a) is a diagram showing a formation process of a coloring portion in a conventional thin film layer, and (b) is a diagram showing a formation process of a coloring portion in a thin film layer according to an embodiment. 薄型フィルムの一実施形態について、第2形態の薄型フィルムの断面構造を示す図。The figure which shows the cross-sectional structure of the thin film of a 2nd form about one Embodiment of a thin film. 薄型フィルムの一実施形態について、第2形態の薄型フィルムにおける他の例の断面構造を示す図。The figure which shows the cross-sectional structure of the other example in the thin film of 2nd form about one Embodiment of a thin film. 薄型フィルムの一実施形態について、第3形態の薄型フィルムの断面構造を示す図。The figure which shows the cross-sectional structure of the thin film of a 3rd form about one Embodiment of a thin film. 薄型フィルムの一実施形態について、薄型フィルムの変形例の断面構造を示す図。The figure which shows the cross-sectional structure of the modification of a thin film about one Embodiment of a thin film. 転写シートの一実施形態について、転写シートの断面構造を示す図。The figure which shows the cross-sectional structure of a transfer sheet about one Embodiment of a transfer sheet.

図面を参照して、薄型フィルム、および、転写シートの一実施形態を説明する。転写シートは、転写シートが備える薄型フィルムを、被転写体に転写するために用いられる。被転写体は特に限定されないが、例えば生体の皮膚である。 An embodiment of a thin film and a transfer sheet will be described with reference to the drawings. The transfer sheet is used to transfer the thin film included in the transfer sheet to the object to be transferred. The object to be transferred is not particularly limited, but is, for example, the skin of a living body.

[薄型フィルムの構成]
本実施形態の薄型フィルム10として、3つの形態を順に説明する。
図1が示すように、第1形態の薄型フィルム10Aは、薄膜層20から構成される。薄膜層20は、インクの硬化物である発色部が形成される対象面20Sを有する。薄型フィルム10Aは、対象面20Sへの発色部の形成が行われた後に、被転写体に貼り付けられる。
[Structure of thin film]
As the thin film 10 of this embodiment, three forms will be described in order.
As shown in FIG. 1, the thin film 10A of the first embodiment is composed of thin film layers 20. As shown in FIG. The thin film layer 20 has a target surface 20S on which a colored portion, which is a cured product of ink, is formed. The thin film 10A is adhered to the transfer-receiving body after forming the coloring portion on the target surface 20S.

薄膜層20が有する2つの面のうちの一方のみが対象面20Sであってもよいし、2つの面の両方が対象面20Sであってもよい。言い換えれば、薄膜層20の片面のみに発色部が形成されてもよいし、薄膜層20の両面に発色部が形成されてもよい。図1は、薄膜層20の片面のみが対象面20Sである形態を例示している。 Only one of the two surfaces of the thin film layer 20 may be the target surface 20S, or both of the two surfaces may be the target surface 20S. In other words, the coloring portion may be formed only on one side of the thin film layer 20 or may be formed on both sides of the thin film layer 20 . FIG. 1 illustrates a configuration in which only one side of the thin film layer 20 is the target surface 20S.

対象面20Sは凹凸を有し、対象面20Sの算術平均粗さRaは、0.1μm以上5μm以下である。算術平均粗さRaは、JISB 0601-1994に準拠して測定される。対象面20Sの凹凸は、薄膜層20の表面の成形によって形成された凹凸であってもよいし、薄膜層20に分散した粒子の形状に追従する凹凸であってもよい。また、対象面20Sの凹凸は、対象面20Sにて突出する複数の凸部から構成されてもよいし、対象面20Sにて窪む複数の凹部から構成されてもよいし、こうした凸部と凹部との混合により構成されてもよい。凸部や凹部の大きさは、一定であってもよいし、一定でなくてもよい。また、凸部や凹部は、規則的に配置されていてもよいし、不規則に配置されていてもよい。 The target surface 20S has unevenness, and the arithmetic mean roughness Ra of the target surface 20S is 0.1 μm or more and 5 μm or less. Arithmetic mean roughness Ra is measured according to JISB 0601-1994. The unevenness of the target surface 20</b>S may be unevenness formed by shaping the surface of the thin film layer 20 or may be unevenness following the shape of particles dispersed in the thin film layer 20 . Further, the unevenness of the target surface 20S may be composed of a plurality of protrusions protruding from the target surface 20S, or may be composed of a plurality of recesses recessed from the target surface 20S. It may be configured by mixing with recesses. The sizes of the protrusions and recesses may be constant or may not be constant. Moreover, the convex portions and the concave portions may be arranged regularly or may be arranged irregularly.

対象面20Sが上記の表面粗さを有することにより、発色部の形成精度が高められる。この原理を、図2を参照して説明する。図2(a)は、平坦な面にインクを塗布した場合を模式的に示し、図2(b)は、凹凸を有する面にインクを塗布した場合を模式的に示す。 Since the target surface 20S has the above surface roughness, the formation accuracy of the coloring portion is enhanced. This principle will be explained with reference to FIG. FIG. 2(a) schematically shows a case where ink is applied to a flat surface, and FIG. 2(b) schematically shows a case where ink is applied to an uneven surface.

対象面20Sと対向する方向から見た平面視において所定の面積を有する領域にインクを供給した場合に、対象面20Sが凹凸を有する方が、当該領域にてインクに接する薄膜層20の表面積が増大する。例えば、図2が示すように、上記平面視にて幅Woを有する領域RoにインクInを供給した場合、領域RoにてインクInに接する薄膜層20の表面積は、対象面20Sが凹凸を有する場合の方が大きくなる。 When ink is supplied to a region having a predetermined area in a plan view viewed from the direction facing the target surface 20S, the surface area of the thin film layer 20 in contact with the ink in the target surface 20S is larger when the target surface 20S has unevenness. increase. For example, as shown in FIG. 2, when the ink In is supplied to the region Ro having the width Wo in plan view, the surface area of the thin film layer 20 in contact with the ink In in the region Ro is such that the target surface 20S has unevenness. case becomes larger.

インクが含む液体は、薄膜層20の厚さ方向に浸透するとともに対象面20Sに沿って広がる。これにより、インクの濡れ広がりが生じる。インクが対象面20Sに沿って広がるとき、インクが広がる領域の上記平面視での大きさは、対象面20Sが凹凸を有する場合の方が、対象面20Sが平坦である場合と比較して小さくなる。例えば、図2が示すように、領域Roに供給された所定量のインクInが広がる表面積を表面積Lとするとき、対象面20Sが平坦である場合での、表面積Lを有する領域R1の上記平面視での幅W1よりも、対象面20Sが凹凸を有する場合での、表面積Lを有する領域R2の上記平面視での幅W2の方が小さくなる。 The liquid contained in the ink permeates the thin film layer 20 in the thickness direction and spreads along the target surface 20S. This causes wetting and spreading of the ink. When the ink spreads along the target surface 20S, the size of the region in which the ink spreads in plan view is smaller when the target surface 20S has unevenness than when the target surface 20S is flat. Become. For example, as shown in FIG. 2, when the surface area L is the surface area over which a predetermined amount of ink In supplied to the region Ro is spread, the plane of the region R1 having the surface area L when the target surface 20S is flat When the target surface 20S has unevenness, the width W2 of the region R2 having the surface area L in plan view is smaller than the width W1 in view.

したがって、対象面20Sが凹凸を有することにより、上記平面視にてインクが濡れ広がる範囲が縮小され、インクの供給された領域よりも発色層が広がって形成されることが抑えられる。 Therefore, since the target surface 20S has unevenness, the area where the ink spreads is reduced in plan view, and the formation of the coloring layer over the area to which the ink is supplied is suppressed.

また、対象面20Sが凹凸を有する場合、上述のように、インクが供給された領域でインクに接する薄膜層20の表面積が増大することにより、薄膜層20の厚さ方向へのインクの浸透、すなわち、インクが含む液状の媒質の浸透が促進される。その結果、インクが含む顔料等の発色材料の対象面20Sへの定着が促進され、対象面20Sに沿ったインクの広がりが抑えられる。これによっても、インクの供給された領域よりも発色層が広がって形成されることが抑えられる。 Further, when the target surface 20S has unevenness, as described above, the surface area of the thin film layer 20 in contact with the ink in the region where the ink is supplied increases, so that the ink permeates in the thickness direction of the thin film layer 20. That is, penetration of the liquid medium contained in the ink is promoted. As a result, the fixing of the coloring material such as the pigment contained in the ink to the target surface 20S is promoted, and the spreading of the ink along the target surface 20S is suppressed. This also prevents the coloring layer from being formed to extend beyond the area to which the ink is supplied.

対象面20Sの算術平均粗さRaが0.1μm以上であれば、上述のようにインクの供給された領域よりも発色層が広がって形成されることを抑える効果が十分に得られる。また、対象面20Sの算術平均粗さRaが5μmより大きいと、薄膜層20の厚さが局所的に薄い部分が生じる場合があり、薄膜層20の強度が低くなりやすい。したがって、対象面20Sの算術平均粗さRaが5μm以下であることにより、薄膜層20が破れやすくなることが抑えられる。薄膜層20の強度を高めるためには、対象面20Sの算術平均粗さRaは、4μm以下であることがより好ましい。 If the arithmetic mean roughness Ra of the target surface 20S is 0.1 μm or more, the effect of suppressing the formation of the coloring layer to spread beyond the ink-supplied area as described above can be sufficiently obtained. Further, when the arithmetic mean roughness Ra of the target surface 20S is larger than 5 μm, the thickness of the thin film layer 20 may be locally thinned, and the strength of the thin film layer 20 tends to be low. Therefore, when the arithmetic mean roughness Ra of the target surface 20S is 5 μm or less, the thin film layer 20 is prevented from being easily broken. In order to increase the strength of the thin film layer 20, the arithmetic mean roughness Ra of the target surface 20S is more preferably 4 μm or less.

薄膜層20は、単一の層であってもよいし、複数の層から構成されていてもよい。薄膜層20は、被転写体に対する接着性を発現する程度の薄さを有する。こうした特性を薄膜層20の質量で表すと、薄膜層20の単位面積あたりの平均質量は、0.1g/m以上4g/m以下である。このときの薄膜層20の密度は、例えば、1g/cm以上3g/cm以下である。 The thin film layer 20 may be a single layer or may be composed of multiple layers. The thin film layer 20 has such a thickness that it exhibits adhesiveness to the transferred body. Expressing these characteristics in terms of the mass of the thin film layer 20, the average mass per unit area of the thin film layer 20 is 0.1 g/m 2 or more and 4 g/m 2 or less. The density of the thin film layer 20 at this time is, for example, 1 g/cm 3 or more and 3 g/cm 3 or less.

上記平均質量は、薄膜層20における任意の3箇所の各々を、平面視にて1辺が100mmの正方形形状の膜片に切り出し、3つの膜片の精密天秤で測定した質量の平均値を100倍することにより求められる。 The above-mentioned average mass is obtained by cutting each of the three arbitrary locations in the thin film layer 20 into square-shaped film pieces with one side of 100 mm in plan view, and measuring the average value of the mass of the three film pieces with a precision balance. Calculated by multiplying.

上記平均質量が0.1g/m以上であることにより、薄膜層20の強度が十分に確保されるため、被転写体への貼り付けに際して薄膜層20が破れることが抑えられる。上記平均質量が4g/m以下であることにより、薄膜層20の被転写体に対する接着性、特に肌に対する接着性が十分に得られる。そして、薄膜層20を肌に貼り付けたときに、薄膜層20に皺が発生することや使用者に違和感が生じることが抑えられる。 When the average mass is 0.1 g/m 2 or more, the strength of the thin film layer 20 is sufficiently ensured, so that the thin film layer 20 is prevented from tearing when it is attached to a transferred body. When the average mass is 4 g/m 2 or less, the adhesion of the thin film layer 20 to the transferred body, especially to the skin, is sufficiently obtained. In addition, when the thin film layer 20 is applied to the skin, wrinkles in the thin film layer 20 and uncomfortable feeling for the user can be suppressed.

なお、上記平均質量は、薄膜層20が、添加剤として、例えばオイル等の可塑剤として機能する成分や、各種の樹脂成分や、粒子等を含有している場合に大きくなる。添加剤を含有しない場合には、薄膜層20の単位面積あたりの平均質量は、0.1g/m以上2.0g/m以下であることが好ましい。 The average mass increases when the thin film layer 20 contains, as additives, components such as oils that function as plasticizers, various resin components, particles, and the like. When the additive is not contained, the average mass per unit area of the thin film layer 20 is preferably 0.1 g/m 2 or more and 2.0 g/m 2 or less.

図3を参照して、薄型フィルムの第2形態を説明する。図3が示すように、第2形態の薄型フィルム10Bは、上述の薄膜層20に加えて、発色部21を備えている。発色部21は、対象面20Sに位置している。なお、以下の図においては、発色部21における対象面20Sと反対側の面を平坦に図示しているが、発色部21は対象面20Sの凹凸に追従した形状を有していてもよい。 A second form of thin film will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3, the thin film 10B of the second embodiment includes a coloring portion 21 in addition to the thin film layer 20 described above. The coloring portion 21 is positioned on the target surface 20S. In the drawings below, the surface of the coloring portion 21 opposite to the target surface 20S is shown flat, but the coloring portion 21 may have a shape that follows the unevenness of the target surface 20S.

発色部21は、発色材料を含むインクの硬化物である。発色部21は、所定の波長域の光源下において視認可能な任意の色を呈する。例えば、発色部21は、可視領域の光の下にて有色に視認されてもよいし、紫外領域の光の下にて有色に視認されてもよい。 The coloring portion 21 is a cured product of ink containing a coloring material. The coloring portion 21 presents an arbitrary visible color under a light source in a predetermined wavelength range. For example, the coloring portion 21 may be visually recognized as colored under light in the visible region, or may be visually recognized as colored under light in the ultraviolet region.

発色部21は、単色であってもよいし、互いに異なる色を呈する複数の領域を有していてもよい。また、発色部21は、対象面20Sにおける一部の領域に位置していてもよいし、対象面20Sの全体に位置していてもよい。例えば、発色部21は、模様、絵柄、文字等のパターンを構成していてもよいし、色の濃度が徐々に変化するグラデーション状に構成されていてもよい。 The coloring portion 21 may be monochromatic, or may have a plurality of regions exhibiting different colors. Further, the coloring portion 21 may be positioned in a partial area of the target surface 20S, or may be positioned over the entire target surface 20S. For example, the coloring portion 21 may form a pattern such as a design, a picture, or a character, or may be formed in a gradation form in which the color density gradually changes.

発色部21によって実現される薄型フィルム10Bの機能は特に限定されない。発色部21によって、肌における傷やシミやソバカス等の瑕疵の隠蔽機能が薄型フィルム10Bに付与されてもよいし、タトゥーシールのような肌に対する装飾機能が薄型フィルム10Bに付与されてもよい。また、発色部21が、識別情報等の情報を有するパターンを構成し、こうした情報が、被転写体に貼られた薄型フィルム10Bから読み取られて利用されてもよい。この場合、発色部21は、可視領域の光の下では視認されないように構成されていてもよい。例えば、薄膜層20の両面が対象面20Sである場合、一方の対象面20Sには、可視領域の光の下で視認可能な色の発色部21が形成され、他方の対象面20Sには、上記情報を有する発色部21であって、可視領域の光の下では視認されない発色部21が形成されていてもよい。 The function of the thin film 10B realized by the coloring portion 21 is not particularly limited. The thin film 10B may be provided with a function of concealing defects such as scars, spots, and freckles on the skin by the coloring portion 21, or a function of decorating the skin like a tattoo sticker may be provided with the thin film 10B. Further, the coloring portion 21 may form a pattern having information such as identification information, and such information may be read from the thin film 10B attached to the transfer-receiving body and used. In this case, the coloring section 21 may be configured so as not to be visually recognized under light in the visible range. For example, when both surfaces of the thin film layer 20 are the target surfaces 20S, one target surface 20S is formed with a coloring portion 21 having a color that is visible under light in the visible region, and the other target surface 20S is: A coloring portion 21 having the above information and not visible under light in the visible region may be formed.

対象面20Sが上述の表面粗さを有していることにより、発色部21の形成範囲の精度が高められる。したがって、所望のパターンに発色部21を形成しようとする場合には、パターンの滲みが抑えられて、設計に対するパターンの形成精度が高められる。また、発色部21にて互いに異なる色を呈する領域が隣接する場合には、色の切り替わりの位置の設計に対する精度が高められる。発色部21がグラデーション状に構成されている場合にも、色の濃度の変化の位置の精度が高められるため、グラデーションの勾配が、設計に沿って精度よく形成される。 Since the target surface 20S has the above-described surface roughness, the accuracy of the formation range of the coloring portion 21 is enhanced. Therefore, when the coloring portion 21 is to be formed in a desired pattern, bleeding of the pattern is suppressed, and the accuracy of forming the pattern with respect to the design is enhanced. In addition, when regions exhibiting different colors are adjacent to each other in the coloring portion 21, the accuracy of designing the color switching position is enhanced. Even when the coloring portion 21 is configured in a gradation pattern, the accuracy of the positions of changes in color density is enhanced, so that the gradient of the gradation can be accurately formed according to the design.

なお、図3が示すように、発色部21は、対象面20S上に位置していてもよいし、図4が示すように、発色部21の一部は、対象面20Sから薄膜層20の内部に浸み込んでいてもよい。発色部21の形成のためのインクが含む発色材料が、媒質とともに薄膜層20内に浸透した場合には、薄膜層20の内部に一部が浸み込んだ発色部21が形成される。 Incidentally, as shown in FIG. 3, the coloring portion 21 may be positioned on the target surface 20S, and as shown in FIG. It may soak into the inside. When the coloring material contained in the ink for forming the coloring portion 21 permeates into the thin film layer 20 together with the medium, the coloring portion 21 partially soaked inside the thin film layer 20 is formed.

図5を参照して、薄型フィルムの第3形態を説明する。図5が示すように、第3形態の薄型フィルム10Cは、上述の薄膜層20および発色部21に加えて、疎水性樹脂層22を備えている。疎水性樹脂層22は、対象面20S上にて、発色部21を覆っている。疎水性樹脂層22は、例えば、薄膜層20上の全体に広がっている。 A third embodiment of the thin film will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 5, the thin film 10C of the third embodiment includes a hydrophobic resin layer 22 in addition to the thin film layer 20 and the coloring portion 21 described above. The hydrophobic resin layer 22 covers the coloring portion 21 on the target surface 20S. The hydrophobic resin layer 22 spreads over the thin film layer 20, for example.

疎水性樹脂層22が設けられていることによって、発色部21が保護される。薄型フィルム10Cのなかで、薄膜層20に対して発色部21が位置する側の面が、被転写体の外側に向けられて外気に曝される場合、疎水性樹脂層22の表面が最外面となって外気に曝される。そのため、疎水性樹脂層22が設けられず発色部21が外気に曝される形態と比較して、擦れ等によって発色部21が対象面20Sから脱離することが抑えられる。また、薄型フィルム10Cのなかで、薄膜層20に対して発色部21が位置する側の面が、被転写体としての肌に貼り付けられる場合には、疎水性樹脂層22が設けられていることによって、発色部21が直接に肌に接することが抑えられるため、発色材料が肌に刺激を与えることが抑えられる。 The coloring portion 21 is protected by the provision of the hydrophobic resin layer 22 . In the thin film 10C, when the surface of the thin film 10C on which the coloring portion 21 is located faces the outside of the transferred body and is exposed to the outside air, the surface of the hydrophobic resin layer 22 is the outermost surface. exposed to the outside air. Therefore, compared to a form in which the hydrophobic resin layer 22 is not provided and the coloring portion 21 is exposed to the outside air, the coloring portion 21 is prevented from being detached from the target surface 20S due to rubbing or the like. Further, in the thin film 10C, a hydrophobic resin layer 22 is provided in the case where the surface of the thin film 10C on which the coloring portion 21 is located is attached to the skin as an object to be transferred. As a result, the coloring portion 21 is prevented from coming into direct contact with the skin, so that the stimulation of the skin by the coloring material is suppressed.

薄型フィルム10Cが肌に貼り付けられる場合、薄型フィルム10Cは汗等の水分と接触しやすい。疎水性樹脂層22は、疎水性の樹脂を主成分とするため、薄型フィルム10Cが水分と接触する場合であっても、疎水性樹脂層22が発色部21を覆っている状態を好適に維持できる。 When the thin film 10C is attached to the skin, the thin film 10C is likely to come into contact with moisture such as sweat. Since the hydrophobic resin layer 22 is mainly composed of a hydrophobic resin, even when the thin film 10C comes into contact with moisture, the state in which the hydrophobic resin layer 22 covers the coloring portion 21 is preferably maintained. can.

疎水性樹脂層22の単位面積あたりの平均質量は、3.9g/m以下であることが好ましい。このときの疎水性樹脂層22の密度は、例えば、1g/cm以上3g/cm以下である。上記平均質量は、薄膜層20の平均質量と同様の方法によって測定される。 The average mass per unit area of the hydrophobic resin layer 22 is preferably 3.9 g/m 2 or less. The density of the hydrophobic resin layer 22 at this time is, for example, 1 g/cm 3 or more and 3 g/cm 3 or less. The average mass is measured by the same method as for the average mass of the thin film layer 20 .

なお、第1~第3形態のいずれにおいても、薄膜層20の厚さは、必ずしも、対象面20Sにて凸部である部位で厚く、対象面20Sにて凹部である部位で薄くなっている必要はない。薄膜層20は、1つの対象面20Sにおいて凸部となる部位で当該対象面20Sと反対側の面が凹部となる部分、言い換えれば、断面波形状を有した部分を含んでもよい。図6は、例として、こうした薄膜層20を備える第2形態の薄型フィルム10Bを示す。薄膜層20が断面波形状を有していると、薄膜層20が対象面20Sにて凸部となる部位で厚くなっている形態と比較して、特に当該凸部の部位でインクの媒質が薄膜層20を透過しやすい。それゆえ、発色材料の対象面20Sへの定着が促進されて、対象面20Sに沿ったインクの広がりが抑えられる。 In any of the first to third embodiments, the thickness of the thin film layer 20 is necessarily thicker at convex portions on the target surface 20S and thinner at concave portions on the target surface 20S. No need. The thin film layer 20 may include a portion that is a convex portion on one target surface 20S and a concave portion on the surface opposite to the target surface 20S, in other words, a portion that has a wavy cross-sectional shape. FIG. 6 shows, by way of example, a second form of thin film 10B comprising such a thin film layer 20 . When the thin film layer 20 has a wavy cross-sectional shape, the ink medium is particularly thick at the convex portions of the target surface 20S, compared to the case where the thin film layer 20 is thicker at the convex portions of the target surface 20S. It easily penetrates the thin film layer 20 . Therefore, the fixing of the coloring material to the target surface 20S is promoted, and the spreading of the ink along the target surface 20S is suppressed.

[薄型フィルムの材料]
薄膜層20を構成する材料は、特に限定されない。被転写体が生体である場合、薄膜層20は、生体組織と親和性を有した生体適合高分子膜であることが好ましい。この場合、薄膜層20の材料は、例えば、ポリ乳酸、ヒアルロン酸、ポリグリコール酸、フィブロイン、ポリカプロラクトン、キトサン等の高分子材料、これらの高分子材料の共重合体、および、アクリルウレタン共重合体からなる群から選択される1種以上の材料である。薄膜層20の材料における分子量の制限は特になく、薄膜層20は、所定の平均分子量を有する1種類の材料から構成されていてもよいし、互いに異なる平均分子量を有する複数種類の材料から構成されてもよい。
[Thin film material]
A material constituting the thin film layer 20 is not particularly limited. When the object to be transferred is a living body, the thin film layer 20 is preferably a biocompatible polymer film having affinity for living tissue. In this case, the material of the thin film layer 20 is, for example, polymeric materials such as polylactic acid, hyaluronic acid, polyglycolic acid, fibroin, polycaprolactone, chitosan, copolymers of these polymeric materials, and acrylic urethane copolymers. one or more materials selected from the group consisting of coalescing; There is no particular limitation on the molecular weight of the material of the thin film layer 20, and the thin film layer 20 may be composed of one type of material having a predetermined average molecular weight, or may be composed of a plurality of types of materials having mutually different average molecular weights. may

また、薄型フィルム10が被転写体としての肌に貼り付けられる場合、薄膜層20は、皮膚において所定の機能を発揮する物質である機能性物質を含有していてもよい。機能性物質は、例えば、保湿クリームや美容液等のスキンケアに用いられる化粧料あるいは化粧料成分、色素、薬剤、タンパク質、および、酵素等である。薄膜層20は、機能性物質を1種類のみ含有していてもよいし、2種類以上を含有していてもよい。また、薄膜層20は、可塑剤等の各種の添加剤を含有していてもよい。 Moreover, when the thin film 10 is attached to the skin as a transfer target, the thin film layer 20 may contain a functional substance, which is a substance that exhibits a predetermined function on the skin. Functional substances are, for example, cosmetics used for skin care such as moisturizing creams and serums, cosmetic ingredients, pigments, drugs, proteins, enzymes, and the like. The thin film layer 20 may contain only one kind of functional substance, or may contain two or more kinds. Moreover, the thin film layer 20 may contain various additives such as a plasticizer.

対象面20Sの凹凸を粒子の含有によって生じさせる場合、粒子としては、例えば、無機フィラーや有機フィラーが用いられる。無機フィラーの材料としては、例えば、タルク、シリカ、マイカ、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カルシウム、金属石鹸、シリコーン等が挙げられる。有機フィラーの材料としては、例えば、ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース等が挙げられる。薄膜層20が含有する粒子のレーザー回折散乱法による体積平均粒子径は、薄膜層20の形成工程にて粒子の凝集を抑える観点から0.5μm以上であることが好ましく、上記形成工程にて粒子の沈降を抑える観点から20.0μm以下であることが好ましい。 When the unevenness of the target surface 20S is generated by containing particles, for example, an inorganic filler or an organic filler is used as the particles. Examples of inorganic filler materials include talc, silica, mica, alumina, zinc oxide, titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium silicate, calcium silicate, metallic soap, and silicone. Materials for the organic filler include, for example, polyamide, polyethylene, polypropylene, acrylic resin, polyurethane, polytetrafluoroethylene, and cellulose. The volume average particle diameter of the particles contained in the thin film layer 20 measured by a laser diffraction scattering method is preferably 0.5 μm or more from the viewpoint of suppressing aggregation of particles in the process of forming the thin film layer 20. It is preferably 20.0 μm or less from the viewpoint of suppressing sedimentation.

発色部21の形成のためのインクは、液体である媒質と、顔料や染料である発色材料とを含む。媒質は分散媒であっても溶媒であってもよく、すなわち、発色材料はインク中に分散されていてもよいし溶解されていてもよい。さらに、インクは、分散された発色材料と溶解された発色材料とを含んでいてもよい。 The ink for forming the coloring portion 21 includes a liquid medium and a coloring material such as a pigment or a dye. The medium may be a dispersion medium or a solvent, that is, the color forming material may be dispersed or dissolved in the ink. Additionally, the ink may include dispersed color-forming material and dissolved color-forming material.

インクの媒質としては、水や各種の有機溶剤を用いることができる。複数の材料の混合によってインクの媒質が構成されていてもよい。顔料としては、公知の有機顔料や無機顔料を用いることができる。黒色の無機顔料の一例としては、カーボンブラックが挙げられる。染料としては、例えば、公知の合成食用色素や天然食用色素を用いることができる。インクは、発色材料として複数の種類の材料を含んでいてもよく、複数の顔料や染料の混合によって所望の色味に調整されていればよい。薄型フィルム10が肌に貼り付けられる場合には、インクの材料、特に、発色材料は、肌に対する影響が小さい材料であることが好ましい。また、インクは、分散剤等の添加剤を含有していてもよい。 Water and various organic solvents can be used as the ink medium. The ink medium may be composed of a mixture of a plurality of materials. As the pigment, known organic pigments and inorganic pigments can be used. An example of a black inorganic pigment is carbon black. As the dye, for example, known synthetic food coloring and natural food coloring can be used. The ink may contain a plurality of types of materials as coloring materials, and may be adjusted to a desired color by mixing a plurality of pigments and dyes. When the thin film 10 is attached to the skin, it is preferable that the ink material, particularly the coloring material, is a material that has little effect on the skin. Moreover, the ink may contain additives such as a dispersant.

疎水性樹脂層22を構成する疎水性樹脂は、特に限定されない。疎水性樹脂としては、例えば、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、アクリル樹脂、ポリカーボネート等の高分子材料、これらの高分子材料の共重合体、アクリルウレタン共重合体等が挙げられる。疎水性樹脂層22の材料における分子量の制限は特になく、疎水性樹脂層22は、所定の平均分子量を有する1種類の材料から構成されていてもよいし、互いに異なる平均分子量を有する複数種類の材料から構成されてもよい。 The hydrophobic resin forming the hydrophobic resin layer 22 is not particularly limited. Hydrophobic resins include, for example, polymeric materials such as polylactic acid, polycaprolactone, acrylic resins and polycarbonate, copolymers of these polymeric materials, acrylic urethane copolymers, and the like. There is no particular limitation on the molecular weight of the material of the hydrophobic resin layer 22, and the hydrophobic resin layer 22 may be composed of one type of material having a predetermined average molecular weight, or a plurality of types of materials having different average molecular weights. It may be constructed from any material.

また、薄型フィルム10が肌に貼り付けられる場合、疎水性樹脂層22は、皮膚において所定の機能を発揮する物質である機能性物質を含有していてもよい。機能性物質は、例えば、保湿クリームや美容液等のスキンケアに用いられる化粧料あるいは化粧料成分、色素、薬剤、タンパク質、および、酵素等である。疎水性樹脂層22は、機能性物質を1種類のみ含有していてもよいし、2種類以上を含有していてもよい。また、疎水性樹脂層22は、可塑剤等の各種の添加剤を含有していてもよい。 Moreover, when the thin film 10 is attached to the skin, the hydrophobic resin layer 22 may contain a functional substance, which is a substance that exhibits a predetermined function on the skin. Functional substances are, for example, cosmetics used for skin care such as moisturizing creams and serums, cosmetic ingredients, pigments, drugs, proteins, enzymes, and the like. The hydrophobic resin layer 22 may contain only one kind of functional substance, or may contain two or more kinds. Moreover, the hydrophobic resin layer 22 may contain various additives such as a plasticizer.

[転写シートの構成]
図7が示すように、転写シート30は、薄型フィルム10と、薄型フィルム10を支持する支持基材31とを備えている。図7では、転写シート30が第3形態の薄型フィルム10Cを備える形態を例示しているが、転写シート30は第2形態の薄型フィルム10Bを備えていてもよい。
[Structure of transfer sheet]
As shown in FIG. 7 , the transfer sheet 30 includes the thin film 10 and a supporting substrate 31 that supports the thin film 10 . FIG. 7 exemplifies the form in which the transfer sheet 30 is provided with the thin film 10C of the third form, but the transfer sheet 30 may be provided with the thin film 10B of the second form.

薄型フィルム10が有する面のうち、支持基材31に支持される面が、支持面11Fであり、支持面11Fと反対側の最外面が、非支持面11Nである。薄膜層20の片面のみが対象面20Sである場合、支持面11Fは、薄型フィルム10における対象面20Sと同一の側に向いた最外面であってもよいし、対象面20Sと反対側に向いた最外面であってもよい。支持面11Fが凹凸を有する場合、支持基材31は、支持面11Fの凹凸を埋めていてもよいし、埋めていなくてもよい。 Among the surfaces of the thin film 10, the surface supported by the supporting substrate 31 is the supporting surface 11F, and the outermost surface opposite to the supporting surface 11F is the non-supporting surface 11N. When only one side of the thin film layer 20 is the target surface 20S, the support surface 11F may be the outermost surface of the thin film 10 facing the same side as the target surface 20S, or may be the outermost surface facing the target surface 20S. It may be the outermost surface. When the support surface 11F has unevenness, the support substrate 31 may or may not fill the unevenness of the support surface 11F.

薄型フィルム10が被転写体に貼り付けられたときに、支持面11Fは外気に曝され、非支持面11Nは被転写体に接する。すなわち、薄膜層20の片面のみに発色部21が設けられる場合、薄型フィルム10が有する面のうち、薄膜層20に対して発色部21と同一の側に位置する最外面が被転写体に貼り付けられてもよいし、薄膜層20に対して発色部21と反対側に位置する最外面が被転写体に貼り付けられてもよい。 When the thin film 10 is adhered to the transfer target, the support surface 11F is exposed to the outside air, and the non-support surface 11N is in contact with the transfer target. That is, when the coloring portion 21 is provided only on one side of the thin film 20, the outermost surface of the thin film 10, which is located on the same side as the coloring portion 21 with respect to the thin film layer 20, is attached to the transferred body. Alternatively, the outermost surface of the thin film layer 20 located on the side opposite to the coloring portion 21 may be attached to the transferred body.

特に第2形態の薄型フィルム10Bを転写シート30が備える場合、発色部21が位置する側の最外面が被転写体に貼り付けられる形態であれば、被転写体上において発色部21が薄膜層20で覆われるため、発色部21の脱離が抑えられる。一方、発色部21と反対側の最外面が被転写体としての肌に貼り付けられる形態であれば、発色部21が肌に刺激を与えることが抑えられる。 In particular, when the transfer sheet 30 is provided with the thin film 10B of the second form, if the outermost surface on the side where the coloring part 21 is located is attached to the transferred body, the coloring part 21 is a thin layer on the transferred body. Since it is covered with 20, detachment of the coloring part 21 is suppressed. On the other hand, if the outermost surface on the side opposite to the coloring portion 21 is adhered to the skin as a transferred body, the coloring portion 21 can be prevented from irritating the skin.

なお、転写シート30は、薄型フィルム10として、第1形態の薄型フィルム10Aを備えていてもよい。この場合、対象面20Sが非支持面11Nとされ、転写シート30に対して発色部21が形成された後に、転写シート30が転写に用いられる。 Note that the transfer sheet 30 may include the thin film 10</b>A of the first embodiment as the thin film 10 . In this case, the target surface 20S is the non-supporting surface 11N, and the transfer sheet 30 is used for transfer after the color developing portion 21 is formed on the transfer sheet 30. FIG.

支持基材31は、転写シート30の保管時や、転写シート30の使用に際して薄型フィルム10を被転写体上へ移動させるときに、薄型フィルム10の変形を抑える機能を有する。支持基材31に支持されていることにより、薄型フィルム10が取り扱いやすくなる。 The support base material 31 has a function of suppressing the deformation of the thin film 10 when the transfer sheet 30 is stored or when the thin film 10 is moved onto the object to be transferred when the transfer sheet 30 is used. Being supported by the support base material 31 makes it easier to handle the thin film 10 .

支持基材31は、多孔質基材であることが好ましい。多孔質基材は、内部に微小な多数の間隙を有する基材であり、液体を浸透あるいは透過させることができる。支持基材31として用いることのできる多孔質基材としては、例えば、不織布、紙、編物、織物等の繊維材料からなるシート、メッシュ状のように間隙を含む構造を有する樹脂シートが挙げられる。これらの基材のなかでも、水分を速やかに吸収して拡散できることから、不織布が好適に用いられる。不織布を構成する繊維は、例えば、綿、麻、羊毛、パルプ等の天然繊維、レーヨン等の半合成繊維、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸等の合成繊維等である。上記の繊維のなかでも、天然繊維、特にパルプが好適に用いられる。不織布は、1種類の繊維から構成されていてもよいし、2種類以上の繊維から構成されていてもよい。 The support base material 31 is preferably a porous base material. A porous substrate is a substrate having a large number of minute gaps inside, and can permeate or permeate a liquid. Porous substrates that can be used as the support substrate 31 include, for example, sheets made of fiber materials such as nonwoven fabrics, paper, knitted fabrics, and woven fabrics, and resin sheets having a structure including gaps such as a mesh. Among these base materials, nonwoven fabrics are preferably used because they can rapidly absorb and diffuse moisture. Fibers constituting the non-woven fabric are, for example, natural fibers such as cotton, hemp, wool and pulp, semi-synthetic fibers such as rayon, and synthetic fibers such as polyvinyl alcohol and polyacrylic acid. Among the above fibers, natural fibers, particularly pulp, are preferably used. The nonwoven fabric may be composed of one type of fiber, or may be composed of two or more types of fiber.

支持基材31として用いる不織布の製造方法は特に限定されず、例えば、スパンレース法、スパンボンド法、ニードルパンチ法、メルトブロー法、エアレイ法、フラッシュ紡糸法、および、樹脂接着法のうちのいずれかによって製造された不織布であればよい。支持基材31として用いる不織布の目付けは、10g/m以上150g/m以下であることが好ましく、肌触り等の使用感に優れることから、20g/m以上50g/m以下であることがより好ましい。
なお、支持基材31は、多孔質基材に限らず、内部に間隙を有さない樹脂シートや金属箔等の基材から構成されてもよい。
The manufacturing method of the nonwoven fabric used as the support base material 31 is not particularly limited, and for example, any one of the spunlace method, spunbond method, needle punch method, melt blow method, air lay method, flash spinning method, and resin adhesion method. It may be a nonwoven fabric manufactured by The basis weight of the nonwoven fabric used as the support base material 31 is preferably 10 g/m 2 or more and 150 g/m 2 or less, and is 20 g/m 2 or more and 50 g/m 2 or less because it is excellent in use feeling such as touch. is more preferred.
In addition, the supporting base material 31 is not limited to the porous base material, and may be composed of a base material such as a resin sheet or a metal foil that does not have a gap inside.

転写シート30は、薄型フィルム10の非支持面11Nを覆う保護層を備えていてもよい。保護層は、薄型フィルム10の非支持面11Nを保護する機能を有する。保護層は、多孔質基材から構成されることが好ましい。保護層を構成する多孔質基材としては、支持基材31を構成する多孔質基材として例示した上記の各材料を用いることができる。保護層と支持基材31とは、同一の種類の多孔質基材から構成されてもよいし、互いに異なる種類の多孔質基材から構成されてもよい。なお、保護層は、多孔質基材に限らず、内部に間隙を有さない樹脂シートや金属箔等の基材から構成されてもよい。 The transfer sheet 30 may have a protective layer that covers the non-supporting surface 11N of the thin film 10 . The protective layer has a function of protecting the non-supporting surface 11N of the thin film 10 . The protective layer is preferably composed of a porous substrate. As the porous base material constituting the protective layer, each of the above-mentioned materials exemplified as the porous base material constituting the supporting base material 31 can be used. The protective layer and the supporting substrate 31 may be composed of the same type of porous substrate, or may be composed of different types of porous substrates. In addition, the protective layer is not limited to the porous base material, and may be composed of a base material such as a resin sheet or a metal foil having no internal gaps.

[薄型フィルムおよび転写シートの製造方法]
薄型フィルム10および転写シート30の製造方法の一例を説明する。なお、上述した構成の薄型フィルム10および転写シート30を形成可能であれば、薄型フィルム10および転写シート30は、下記の製造方法とは異なる方法によって製造されてもよい。
[Method for producing thin film and transfer sheet]
An example of a method for manufacturing the thin film 10 and the transfer sheet 30 will be described. Note that the thin film 10 and the transfer sheet 30 may be manufactured by a method different from the manufacturing method described below as long as the thin film 10 and the transfer sheet 30 having the configurations described above can be formed.

まず、成膜用基材の表面に、薄膜層20を形成する。成膜用基材としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、水溶性樹脂、金属酸化物、金属等から構成された基材が用いられる。例えば、成膜用基材は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、シクロオレフィン、ポリアミド、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルアルコール等の樹脂からなる基材、こうした樹脂基材に対して延伸加工や離型処理やマット加工が施された基材である。あるいは、成膜用基材として、ガラス、石英、アルミニウム等の無機物からなる基材や、こうした無機物からなる基材に対して離型処理やマット加工を施した基材が用いられてもよい。また、成膜用基材は、多孔質基材のように、液体の浸透性が高い基材であってもよい。 First, the thin film layer 20 is formed on the surface of the film-forming substrate. As the film-forming base material, a base material composed of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a water-soluble resin, a metal oxide, a metal, or the like is used. For example, the film-forming substrate is a substrate made of a resin such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, acrylic resin, polycarbonate, cycloolefin, polyamide, epoxy resin, urethane resin, polyvinyl alcohol, etc. Such resin substrates It is a base material that has been stretched, released, or matted. Alternatively, a substrate made of an inorganic material such as glass, quartz, aluminum, or the like, or a substrate made of such an inorganic material subjected to mold release treatment or matte processing may be used as the film-forming substrate. Also, the film-forming substrate may be a substrate having high liquid permeability, such as a porous substrate.

薄膜層20の材料が溶媒に溶かされた塗液が、成膜用基材の表面に塗布され、その塗膜が乾燥されることによって、薄膜層20が形成される。上記溶媒としては、薄膜層20の材料の特性に応じて、酢酸エチルや酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトンやエチルメチルケトン等のケトン系溶剤、トルエンやヘキサン等の非極性溶媒、水やアルコール等の極性溶媒等が用いられる。 A coating liquid in which the material of the thin film layer 20 is dissolved in a solvent is applied to the surface of the film-forming substrate, and the thin film layer 20 is formed by drying the coating film. Examples of the solvent include ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, ketone solvents such as acetone and ethyl methyl ketone, nonpolar solvents such as toluene and hexane, and water and alcohol, depending on the characteristics of the material of the thin film layer 20. A polar solvent such as is used.

塗液の塗布方法は、塗液の塗布量を精密に制御可能な方法であれば特に限定されない。塗布方法としては、例えば、グラビア法、マイクログラビア法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、シルクスクリーン法、ダイコーティング法、および、カーテンコーティング法のいずれかが利用されることが好ましい。 The method of applying the coating liquid is not particularly limited as long as it is a method capable of precisely controlling the coating amount of the coating liquid. As the coating method, for example, gravure, microgravure, spin coating, spray coating, silk screen, die coating, or curtain coating is preferably used.

成膜用基材を支持基材31として用いてもよいし、支持基材31とは異なる基材を成膜用基材として用い、成膜用基材上に形成した薄膜層20を支持基材31上へ転写してもよい。転写方法としては、吸引による剥離を利用する方法や犠牲膜を利用する方法等、公知の転写方法が用いられればよい。 The film-forming substrate may be used as the supporting substrate 31, or a substrate different from the supporting substrate 31 may be used as the film-forming substrate, and the thin film layer 20 formed on the film-forming substrate may be used as the supporting substrate. It may be transferred onto the material 31 . As a transfer method, a known transfer method such as a method using peeling by suction or a method using a sacrificial film may be used.

薄膜層20の対象面20Sの凹凸を形成する方法としては、公知の方法が用いられればよい。例えば、薄膜層20の表面の成形による凹凸の形成方法として、下記の4つの方法が挙げられる。第1の方法では、成膜用基材として、予め凹凸が形成された基材、すなわち、マット加工が施された基材を使用する。表面に凹凸を有する成膜用基材を使用することで、薄膜層20における成膜用基材と接する面に凹凸が形成される。第2の方法では、成膜用基材への塗液の塗布時に、ランダムなパターンの印刷版を使用して塗膜の表面に凹凸を形成することにより、薄膜層20における成膜用基材とは反対側の面に凹凸を形成する。第3の方法では、塗膜の乾燥前に凹凸のパターンを有する版を塗膜の表面に接触させることにより、薄膜層20における成膜用基材とは反対側の面に凹凸を形成する。第4の方法では、塗膜を乾燥した後、その成膜物の表面に、凹凸のパターンを有する版を加熱して押し当てる、もしくは、成膜物を加熱して、冷却した上記版に押し当てることにより、薄膜層20における成膜用基材とは反対側の面に凹凸を形成する。なお、凹凸の形成に用いる版は、金属製であってもよいし、樹脂製であってもよい。 A known method may be used as a method for forming the unevenness on the target surface 20S of the thin film layer 20 . For example, the following four methods are available as methods of forming unevenness by molding the surface of the thin film layer 20 . In the first method, a substrate on which irregularities are formed in advance, that is, a substrate that has been subjected to matte processing is used as the film-forming substrate. By using a film-forming base material having unevenness on the surface, the surface of the thin film layer 20 in contact with the film-forming base material is formed with unevenness. In the second method, when the coating liquid is applied to the film-forming substrate, a printing plate with a random pattern is used to form unevenness on the surface of the coating film, so that the film-forming substrate in the thin film layer 20 Concavities and convexities are formed on the surface opposite to the . In the third method, unevenness is formed on the surface of the thin film layer 20 opposite to the film-forming substrate by contacting the surface of the coating with a plate having an uneven pattern before the coating is dried. In the fourth method, after drying the coating film, a plate having an uneven pattern is heated and pressed against the surface of the film, or the film is heated and pressed against the cooled plate. As a result, unevenness is formed on the surface of the thin film layer 20 opposite to the film-forming substrate. The plate used for forming the unevenness may be made of metal or may be made of resin.

薄膜層20に粒子を含有させる場合には、塗液に粒子を分散させればよい。なお、薄膜層20の表面の成形と粒子の含有との双方によって、対象面20Sの凹凸が形成されてもよい。 When the thin film layer 20 contains particles, the particles may be dispersed in the coating liquid. It should be noted that unevenness of the target surface 20S may be formed by both shaping the surface of the thin film layer 20 and containing particles.

発色部21は、成膜用基材上にて対象面20Sを上面として有する薄膜層20に対して形成されてもよいし、支持基材31上にて対象面20Sを上面として有する薄膜層20に対して形成されてもよい。成膜用基材上の薄膜層20に発色部21を形成して薄型フィルム10を形成した後に、薄型フィルム10を支持基材31に転写する方法によれば、薄膜層20に対して発色部21と同一の側の最外面が支持面11Fとなる転写シート30を形成できる。また、支持基材31上の薄膜層20に発色部21を形成して薄型フィルム10を形成する方法によれば、薄膜層20に対して発色部21と反対側の最外面が支持面11Fとなる転写シート30を形成できる。 The coloring portion 21 may be formed on the thin film layer 20 having the target surface 20S as the top surface on the film-forming substrate, or may be formed on the thin film layer 20 having the target surface 20S as the top surface on the support substrate 31. may be formed for According to the method of forming the thin film 10 by forming the coloring portion 21 on the thin film layer 20 on the film forming substrate, and then transferring the thin film 10 to the supporting substrate 31, the coloring portion is formed on the thin film layer 20. A transfer sheet 30 can be formed in which the outermost surface on the same side as 21 serves as the support surface 11F. According to the method of forming the thin film 10 by forming the coloring portion 21 on the thin film layer 20 on the support substrate 31, the outermost surface of the thin film layer 20 opposite to the coloring portion 21 is the supporting surface 11F. A transfer sheet 30 can be formed.

発色部21の形成方法、すなわち、対象面20Sへのインクの供給方法としては、印刷法が用いられることが好ましい。印刷法としては、例えば、インクジェット印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷等の方法が挙げられる。なお、例えばスプレーを利用した方法のように、印刷法以外の方法を利用して対象面20Sへインクを供給してもよい。 A printing method is preferably used as a method for forming the coloring portion 21, that is, as a method for supplying ink to the target surface 20S. Examples of printing methods include inkjet printing, offset printing, and screen printing. Ink may be supplied to the target surface 20S using a method other than the printing method, such as a method using spraying.

発色部21の形成時において薄膜層20を支持する基材が、液体の浸透性の高い基材であると、薄膜層20の厚さ方向へのインクの媒質の浸透が促進される。その結果、発色材料の対象面20Sへの定着が促進され、対象面20Sに沿ったインクの広がりが抑えられる。また、薄膜層20が粒子を含有する場合、粒子が吸湿性を有していると、これによっても、薄膜層20の厚さ方向へのインクの媒質の浸透が促進される。 If the base material supporting the thin film layer 20 when forming the coloring portion 21 is a base material with high liquid permeability, the penetration of the ink medium in the thickness direction of the thin film layer 20 is promoted. As a result, the fixing of the coloring material to the target surface 20S is promoted, and the spreading of the ink along the target surface 20S is suppressed. In addition, when the thin film layer 20 contains particles, if the particles have hygroscopicity, this also promotes penetration of the ink medium in the thickness direction of the thin film layer 20 .

疎水性樹脂層22は、疎水性樹脂層22の材料が溶媒に溶かされた塗液が、発色部21の形成された対象面20Sに塗布され、その塗膜が乾燥されることによって形成される。上記溶媒としては、疎水性樹脂層22の材料の特性に応じて、酢酸エチルや酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトンやエチルメチルケトン等のケトン系溶剤、トルエンやヘキサン等の非極性溶媒、水やアルコール等の極性溶媒等が用いられる。 The hydrophobic resin layer 22 is formed by applying a coating liquid obtained by dissolving the material of the hydrophobic resin layer 22 in a solvent to the target surface 20S on which the color developing portion 21 is formed, and drying the coating film. . Examples of the solvent include ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, ketone solvents such as acetone and ethyl methyl ketone, nonpolar solvents such as toluene and hexane, and water, depending on the characteristics of the material of the hydrophobic resin layer 22. and polar solvents such as alcohol are used.

塗液の塗布方法は、塗液の塗布量を精密に制御可能な方法であれば特に限定されない。塗布方法としては、例えば、グラビア法、マイクログラビア法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、シルクスクリーン法、ダイコーティング法、および、カーテンコーティング法のいずれかが利用されることが好ましい。
保護層を備える転写シート30を形成する場合には、薄型フィルム10の非支持面11Nに、保護層が積層される。
The method of applying the coating liquid is not particularly limited as long as it is a method capable of precisely controlling the coating amount of the coating liquid. As the coating method, for example, gravure, microgravure, spin coating, spray coating, silk screen, die coating, or curtain coating is preferably used.
When forming the transfer sheet 30 having a protective layer, the protective layer is laminated on the non-supporting surface 11N of the thin film 10 .

[薄型フィルムの転写方法]
転写シート30を用いた薄型フィルム10の転写方法を説明する。以下では、支持基材31として多孔質基材を用い、支持基材31を湿潤させて、被転写体としての肌に薄型フィルム10を転写する方法について説明する。
[Transfer method for thin film]
A method of transferring the thin film 10 using the transfer sheet 30 will be described. A method of transferring the thin film 10 to the skin as a transfer target by using a porous base material as the support base material 31 and moistening the support base material 31 will be described below.

まず、肌における薄型フィルム10の貼付箇所に、水等の液体を供給する。供給される液体である供給液は、転写シート30を湿潤可能な液体であればよく、具体的には、水を含む液体、あるいは、マッサージオイル等の油類であればよい。例えば、供給液としては、水や、化粧水等の化粧料を用いることができる。 First, a liquid such as water is supplied to a portion of the skin where the thin film 10 is attached. The supply liquid, which is the liquid to be supplied, may be any liquid that can wet the transfer sheet 30, specifically, any liquid containing water or oils such as massage oil. For example, as the supply liquid, water or cosmetics such as lotion can be used.

続いて、転写シート30を、薄型フィルム10の非支持面11Nが貼付箇所に接するように、肌上に配置する。そして、支持基材31の上から、転写シート30を指等で押圧することにより、供給液を支持基材31にまで浸透させる。 Subsequently, the transfer sheet 30 is placed on the skin so that the non-supporting surface 11N of the thin film 10 is in contact with the application site. Then, by pressing the transfer sheet 30 with a finger or the like from above the support base material 31 , the supply liquid is permeated into the support base material 31 .

続いて、薄型フィルム10から支持基材31を剥離する。これにより、薄型フィルム10が肌に貼り付けられる。転写シート30が湿潤することによって、多孔質基材である支持基材31が膨張することや、支持基材31と薄型フィルム10との間まで供給液が浸入すること等に起因して、支持基材31が薄型フィルム10から剥がれやすくなる。 Subsequently, the support base material 31 is peeled off from the thin film 10 . Thereby, the thin film 10 is attached to the skin. When the transfer sheet 30 gets wet, the supporting base material 31, which is a porous base material, expands, and the supply liquid penetrates between the supporting base material 31 and the thin film 10. The base material 31 becomes easier to peel off from the thin film 10 .

なお、上記転写方法においては、肌上に転写シート30を配置する前に、肌に供給液を供給する方法を例示したが、肌上に転写シート30を配置した後に、供給液が転写シート30に対して供給されてもよい。また、転写シート30を湿潤させずに、支持基材31を薄型フィルム10から剥離してもよい。この場合、支持基材31は多孔質基材でなくてもよい。 In the above transfer method, the method of supplying the supply liquid to the skin before placing the transfer sheet 30 on the skin was exemplified. may be supplied to Alternatively, the support base material 31 may be peeled off from the thin film 10 without wetting the transfer sheet 30 . In this case, the supporting substrate 31 does not have to be a porous substrate.

[実施例]
上述した薄型フィルムおよび転写シートについて、具体的な実施例および比較例を用いて説明する。
[Example]
The thin film and transfer sheet described above will be described using specific examples and comparative examples.

(実施例1)
DL-ポリ乳酸(武蔵野化学研究所社製)を、10wt%となるように酢酸エチルに溶解して、薄膜層の形成のための塗液を生成した。成膜用基材として、サンドブラスト加工によって表面に凹凸を形成し、離型処理を施した厚さ1mmの青板ガラスを用い、ワイヤーバーを用いて成膜用基材の表面に上記塗液を塗布して塗膜を形成した。成膜用基材の表面の算術平均粗さRaは0.15μmである。上記塗膜を、オーブンで加熱して乾燥・固化させることにより、薄膜層を形成した。乾燥時の加熱温度は70℃以上120℃以下の範囲から選択した。以上の工程では、薄膜層を、乾燥後の平均質量が0.4g/mとなるように形成した。
(Example 1)
DL-polylactic acid (manufactured by Musashino Chemical Laboratory Co., Ltd.) was dissolved in ethyl acetate to a concentration of 10 wt % to prepare a coating liquid for forming a thin film layer. As a substrate for film formation, a soda plate glass with a thickness of 1 mm whose surface is sandblasted to form unevenness and subjected to mold release treatment is used, and the coating liquid is applied to the surface of the substrate for film formation using a wire bar. to form a coating film. The arithmetic mean roughness Ra of the surface of the film-forming substrate is 0.15 μm. A thin film layer was formed by drying and solidifying the coating film by heating in an oven. The heating temperature during drying was selected from the range of 70°C or higher and 120°C or lower. In the above steps, the thin film layer was formed so as to have an average weight of 0.4 g/m 2 after drying.

続いて、支持基材として不織布(フタムラ化学社製)を薄膜層に積層し、成膜用基材を剥離して、薄膜層を成膜用基材から支持基材に転写した。不織布の主成分はセルロースであり、目付けは20g/mである。支持基材上の薄膜層の上面は、凹凸を有する対象面となる。 Subsequently, a non-woven fabric (manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd.) as a supporting substrate was laminated on the thin film layer, the film forming substrate was peeled off, and the thin film layer was transferred from the film forming substrate to the supporting substrate. The main component of the nonwoven fabric is cellulose, and the basis weight is 20 g/m 2 . The upper surface of the thin film layer on the supporting base material becomes a target surface having irregularities.

続いて、支持基材上の薄膜層の対象面に、インクジェット印刷法を用いてインクを塗布し、パターン状の発色部を形成した。発色部の形成のためのインクは、媒質として水を用い、発色材料として赤色102号、黄色4号、カーボンブラックを用いて調整した。各発色材料は、インクの色が肌色系の色となるように配合した。形成対象のパターンは、0.5mm幅の帯状領域が0.5mm間隔で平行に並ぶラインアンドスペース型のパターンとした。
これにより、実施例1の薄型フィルムおよび転写シートを得た。実施例1の薄型フィルムは、第2形態の薄型フィルムである。
Subsequently, an ink was applied to the target surface of the thin film layer on the support base material using an inkjet printing method to form a patterned colored portion. The ink for forming the color-developing portion was prepared using water as a medium and Red No. 102, Yellow No. 4, and carbon black as color-developing materials. Each coloring material was blended so that the color of the ink would be a skin color. The pattern to be formed was a line-and-space type pattern in which belt-like regions with a width of 0.5 mm are arranged in parallel at intervals of 0.5 mm.
Thus, a thin film and a transfer sheet of Example 1 were obtained. The thin film of Example 1 is the thin film of the second embodiment.

(実施例2)
成膜用基材として実施例1とは表面粗さの異なる青板ガラスを用いたこと以外は、実施例1と同様の工程によって、実施例2の薄型フィルムおよび転写シートを得た。実施例2で用いた青板ガラスは、表面にサンドブラスト加工によって形成された凹凸を有しており、表面の算術平均粗さRaは3.5μmである。実施例2における発色部の形成対象のパターンは、実施例1と同一のパターンである。
(Example 2)
A thin film and a transfer sheet of Example 2 were obtained by the same steps as in Example 1, except that soda lime glass having a different surface roughness from that of Example 1 was used as the film forming substrate. The soda lime glass used in Example 2 has unevenness formed by sandblasting on the surface, and the surface arithmetic mean roughness Ra is 3.5 μm. The pattern for forming the color-developing portion in the second embodiment is the same pattern as in the first embodiment.

(実施例3)
成膜用基材として実施例1とは表面粗さの異なる青板ガラスを用い、乾燥後の平均質量が0.7g/mとなるように薄膜層を形成したこと以外は、実施例1と同様の工程によって、実施例3の薄型フィルムおよび転写シートを得た。実施例3で用いた青板ガラスは、表面にサンドブラスト加工によって形成された凹凸を有しており、表面の算術平均粗さRaは2.8μmである。実施例3における発色部の形成対象のパターンは、実施例1と同一のパターンである。
(Example 3)
Same as in Example 1, except that soda lime glass having a different surface roughness from that in Example 1 was used as the film-forming substrate, and the thin film layer was formed so that the average mass after drying was 0.7 g/m 2 . A thin film and a transfer sheet of Example 3 were obtained by the same process. The soda lime glass used in Example 3 has unevenness formed by sandblasting on the surface, and the surface arithmetic mean roughness Ra is 2.8 μm. The pattern for forming the coloring portion in the third embodiment is the same pattern as in the first embodiment.

(比較例)
成膜用基材として実施例1とは表面粗さの異なる青板ガラスを用い、乾燥後の平均質量が0.7g/mとなるように薄膜層を形成したこと以外は、実施例1と同様の工程によって、比較例の薄型フィルムおよび転写シートを得た。比較例で用いた青板ガラスは、表面にサンドブラスト加工によって形成された凹凸を有しており、表面の算術平均粗さRaは0.05μmである。比較例における発色部の形成対象のパターンは、実施例1と同一のパターンである。
(Comparative example)
Same as in Example 1, except that soda lime glass having a different surface roughness from that in Example 1 was used as the film-forming substrate, and the thin film layer was formed so that the average mass after drying was 0.7 g/m 2 . A thin film and a transfer sheet of Comparative Examples were obtained by the same process. The soda lime glass used in the comparative example has unevenness formed by sandblasting on the surface, and the surface arithmetic mean roughness Ra is 0.05 μm. The pattern for forming the colored portion in the comparative example is the same pattern as in the first example.

(評価方法)
<表面粗さの測定>
各実施例および比較例の薄型フィルムにおける薄膜層の対象面について、算術平均粗さRaを測定した。測定に際しては、各実施例および比較例における発色部の形成前の薄膜層から、一辺が20mmの正方形形状の試験片を作製し、平滑な基材の表面を水で湿らせて、試験片における対象面とは反対側の面を基材に貼り付け、数時間から24時間程度、試験片を乾燥させた後、表面粗さを測定した。測定は、表面粗さ形状測定機(東京精密社製:サーフコム130A)を用い、JIS B 0601:1994に準拠した測定方法で実施した。
(Evaluation method)
<Measurement of surface roughness>
Arithmetic mean roughness Ra was measured for the target surface of the thin film layer in each of the thin films of Examples and Comparative Examples. For the measurement, a square-shaped test piece with a side of 20 mm was prepared from the thin film layer before the formation of the colored portion in each example and comparative example, and the surface of the smooth substrate was moistened with water. The surface opposite to the target surface was attached to the base material, and the surface roughness was measured after drying the test piece for several hours to about 24 hours. The measurement was performed using a surface roughness profiler (Surfcom 130A, manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.) according to a measuring method conforming to JIS B 0601:1994.

<発色部の形成精度の評価>
各実施例および比較例の薄型フィルムが有する発色部のパターンについて、対象面と対向する方向から見た平面視における帯状領域の幅を計測した。帯状領域の幅が、0.5mmである場合を「◎」、0.5mmを超え0.6mm以下である場合を「○」、0.6mmを超え0.65mm以下である場合を「△」、0.65mmを超える場合を「×」とした。
<Evaluation of Formation Accuracy of Colored Portion>
With respect to the pattern of the colored portion of the thin film of each example and comparative example, the width of the belt-like region in plan view from the direction facing the target surface was measured. When the width of the band-shaped region is 0.5 mm, "⊚" is used. , and the case of exceeding 0.65 mm was set as "x".

<評価結果>
各実施例および比較例について、対象面の算術平均粗さRaの測定結果、および、発色部の形成精度の評価結果を表1に示す。
<Evaluation results>
Table 1 shows the measurement results of the arithmetic mean roughness Ra of the target surface and the evaluation results of the formation accuracy of the colored portion for each example and comparative example.

Figure 0007310186000001
Figure 0007310186000001

対象面の算術平均粗さRaが、0.1μmよりも小さい比較例では、隣接する帯状領域間の隙間が視認し難く、ラインアンドスペース型のパターンが形成できていなかった。一方、対象面の算術平均粗さRaが、0.1μm以上である実施例1~3では、隣接する帯状領域間の隙間が視認可能であり、ラインアンドスペース型のパターンが形成されていた。特に、対象面の算術平均粗さRaが大きくなるほど、形成予定のパターンと比較して帯状領域の幅の広がりが抑えられ、パターンの形成精度が高められることが確認された。 In the comparative examples in which the arithmetic mean roughness Ra of the target surface was smaller than 0.1 μm, the gaps between the adjacent belt-like regions were difficult to see, and the line-and-space pattern could not be formed. On the other hand, in Examples 1 to 3 in which the target surface had an arithmetic mean roughness Ra of 0.1 μm or more, the gap between the adjacent band-shaped regions was visible, and a line-and-space pattern was formed. In particular, it was confirmed that the greater the arithmetic mean roughness Ra of the target surface, the more the width of the belt-like region is suppressed compared to the pattern to be formed, and the higher the pattern formation accuracy.

以上、実施形態および実施例にて説明したように、上記薄型フィルムおよび転写シートによれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
(1)発色部21が形成される対象面20Sの算術平均粗さRaが、0.1μm以上5μm以下であれば、対象面20Sに供給されたインクと接する薄膜層20の表面積が増大することに起因して、インクの広がりが抑えられる。その結果、発色部21の形成精度が高められる。
As described above in the embodiments and examples, according to the thin film and the transfer sheet, the effects listed below can be obtained.
(1) If the target surface 20S on which the coloring portion 21 is formed has an arithmetic mean roughness Ra of 0.1 μm or more and 5 μm or less, the surface area of the thin film layer 20 in contact with the ink supplied to the target surface 20S increases. spread of the ink is suppressed. As a result, the formation accuracy of the coloring portion 21 is enhanced.

(2)薄型フィルム10が、発色部21を覆う疎水性樹脂層22を備える形態では、発色部21が外気に曝されることや、発色部21が直接に被転写体に接することが抑えられる。 (2) In the form in which the thin film 10 includes the hydrophobic resin layer 22 that covers the coloring portion 21, the coloring portion 21 is prevented from being exposed to the outside air and the coloring portion 21 is prevented from coming into direct contact with the transferred material. .

(3)被転写体が肌である場合、形成精度の高い発色部21を備える薄型フィルム10が肌に貼り付けられるため、メイクアップの補助等の薄型フィルム10の機能が高められる。また、薄膜層20の片面のみが対象面20Sであって、薄膜層20における対象面20Sと反対側の面が薄型フィルム10の最外面である形態では、薄膜層20の両面が対象面20Sであって両面に発色部21を備える形態と比較して、薄型フィルム10を薄くすることができる。したがって、メイクアップの補助等の薄型フィルム10に求められる機能を十分に実現しつつも、薄型フィルム10の肌に対する追従性が高められ、使用者の違和感を低減することができる。 (3) When the object to be transferred is the skin, the thin film 10 having the coloring portion 21 with high forming accuracy is attached to the skin, so that the function of the thin film 10 such as assisting makeup is enhanced. In addition, in a mode in which only one surface of the thin film layer 20 is the target surface 20S and the surface of the thin film layer 20 opposite to the target surface 20S is the outermost surface of the thin film 10, both surfaces of the thin film layer 20 are the target surface 20S. Therefore, the thin film 10 can be made thinner as compared with the form having the coloring portions 21 on both sides. Therefore, while the functions required of the thin film 10, such as assisting makeup, can be sufficiently achieved, the followability of the thin film 10 to the skin is enhanced, and discomfort felt by the user can be reduced.

10,10A,10B,10C…薄型フィルム、11F…支持面、11N…非支持面、20…薄膜層、20S…対象面、21…発色部、22…疎水性樹脂層、30…転写シート、31…支持基材。 10, 10A, 10B, 10C thin film 11F supporting surface 11N non-supporting surface 20 thin film layer 20S target surface 21 coloring portion 22 hydrophobic resin layer 30 transfer sheet 31 …a supporting substrate.

Claims (5)

0.1g/m以上4g/m以下の平均質量を有する薄膜層を備える薄型フィルムであって、
前記薄膜層は、インクの硬化物である発色部が形成される対象面を有し、
前記薄膜層は、生体適合高分子膜であり、
前記薄膜層の密度は、1g/cm 以上3g/cm 以下であり、
前記対象面の算術平均粗さRaが、0.1μm以上5μm以下である
薄型フィルム。
A thin film comprising a thin film layer having an average mass of 0.1 g/m 2 or more and 4 g/m 2 or less,
The thin film layer has a target surface on which a colored portion, which is a cured product of ink, is formed,
the thin film layer is a biocompatible polymer film,
The thin film layer has a density of 1 g/cm 3 or more and 3 g/cm 3 or less,
A thin film, wherein the target surface has an arithmetic mean roughness Ra of 0.1 μm or more and 5 μm or less.
前記対象面に前記発色部を備える
請求項1に記載の薄型フィルム。
The thin film according to claim 1, wherein the target surface is provided with the coloring portion.
前記発色部を覆う疎水性樹脂層を備える
請求項2に記載の薄型フィルム。
3. The thin film according to claim 2, further comprising a hydrophobic resin layer covering the coloring portion.
前記薄型フィルムは、前記薄膜層における前記対象面と反対側の面を最外面として有し、当該最外面、または、前記薄型フィルムにおける当該最外面とは反対側の最外面が、肌に貼り付けられる
請求項1~のいずれか一項に記載の薄型フィルム。
The thin film has a surface opposite to the target surface in the thin film layer as an outermost surface, and the outermost surface or the outermost surface of the thin film opposite to the outermost surface is attached to the skin. The thin film according to any one of claims 1 to 3 .
請求項1~のいずれか一項に記載の薄型フィルムと、
前記薄型フィルムを支持する支持基材と、
を備える転写シート。
A thin film according to any one of claims 1 to 4 ,
a supporting substrate that supports the thin film;
A transfer sheet comprising:
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