JP7287515B2 - radiation detector - Google Patents

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JP7287515B2 JP2022014660A JP2022014660A JP7287515B2 JP 7287515 B2 JP7287515 B2 JP 7287515B2 JP 2022014660 A JP2022014660 A JP 2022014660A JP 2022014660 A JP2022014660 A JP 2022014660A JP 7287515 B2 JP7287515 B2 JP 7287515B2
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Description

本発明は、樹脂可撓性基板の光電変換パネルを用いた際に、シンチレータの耐湿性を向上させた放射線検出器に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a radiation detector in which the moisture resistance of a scintillator is improved when a photoelectric conversion panel with a flexible resin substrate is used.

近年、コンピューテッド・ラジオグラフィー(CR:computed radiography)やフラットパネルディテクター(FPD:flat panel detector)等に代表されるデジタル方式の放射線画像検出器は、デジタルの放射線画像が直接得られ、陰極管や液晶パネル等の画像表示装置に画像を直接表示することが可能であることから、病院及び診療所等での画像診断に広く用いられている。最近はヨウ化セシウム(CsI)を含むシンチレータ層を使用し、薄膜トランジスタ(TFT)を組み合わせたフラットパネルが、高感度のX線画像可視化システムとして着目されている。 In recent years, digital radiation image detectors represented by computed radiography (CR) and flat panel detectors (FPD) can directly obtain digital radiation images, and cathode tubes Since images can be directly displayed on an image display device such as a liquid crystal panel or a liquid crystal panel, they are widely used for image diagnosis in hospitals, clinics, and the like. Recently, a flat panel that uses a scintillator layer containing cesium iodide (CsI) and is combined with a thin film transistor (TFT) has attracted attention as a highly sensitive X-ray image visualization system.

FPDにおいて、受光素子とスイッチング素子は、ガラス基板上に設けられることが多く、ガラス基板は、カップリングするシンチレータの受光素子側からの防湿保護の役割を担っていた。また、防湿保護や環境の温度変動による部材の熱膨張を制御し、反りや剥離を防止するという観点からも、シンチレータの光電変換パネルと対向する面側にもガラスからなる基板を用いることが多かった。 In FPDs, the light-receiving element and the switching element are often provided on a glass substrate, and the glass substrate has played the role of moisture-proof protection from the light-receiving element side of the scintillator to be coupled. In addition, from the viewpoint of moisture-proof protection, controlling the thermal expansion of members due to environmental temperature fluctuations, and preventing warping and peeling, a substrate made of glass is often used on the side of the scintillator facing the photoelectric conversion panel. rice field.

近年、フレキシブル化や軽量化を目的とし、ガラス基板の代わりに樹脂基板を使用して、樹脂基板上にスイッチング素子及び受光素子を設けた光電変換パネルの採用が考えられている。基材をガラスから樹脂や複合材料等に変更する技術(たとえば特開2015-230175号公報、特開2013-126730号公報)も提案されており、医用画像を取得する放射線検出器において光電変換パネルを樹脂基板に変更する要求が高まっている。 In recent years, for the purpose of flexibility and weight reduction, adoption of a photoelectric conversion panel in which a switching element and a light receiving element are provided on a resin substrate using a resin substrate instead of a glass substrate has been considered. Technologies for changing the base material from glass to resin, composite materials, etc. (for example, JP-A-2015-230175, JP-A-2013-126730) have also been proposed, and photoelectric conversion panels are used in radiation detectors that acquire medical images. There is an increasing demand to change the substrate to a resin substrate.

特開2015-230175号公報JP 2015-230175 A 特開2013-126730号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-126730

樹脂基板の場合、従来ガラス基板であったときは遮断されていた湿度が樹脂基板にすることにより透過し、シンチレータの湿度劣化、配線等の腐食が考えられる。また、樹脂基板によって堅牢性が低下し、表面の傷から、検出器自体が劣化したり、破損するという課題も考えられている。 In the case of a resin substrate, the moisture that was blocked by the conventional glass substrate penetrates through the resin substrate, which may cause humidity deterioration of the scintillator and corrosion of the wiring. In addition, there is a problem that the resin substrate lowers the robustness and the detector itself deteriorates or breaks due to scratches on the surface.

また、フレキシブル化や軽量化に伴い、使用中の衝撃や荷重にズレを発生させることがある。放射線像検出装置では、光電変換素子アレイ、放射線像変換パネル各々のムラや欠陥を撮影前に補正により信号を均一化する。しかし、市場環境内で内部に静電気がたまることによるムラがあるが、熱変動や衝撃によるズレにより、補正の位置情報がズレ、元々のムラや欠陥がより強調されたものとして画像上にムラや欠陥を発生させ、診断に支障をきたすこともある。 In addition, with flexibility and weight reduction, there is a possibility that the impact and load during use may be deviated. In the radiographic image detection apparatus, unevenness and defects in each of the photoelectric conversion element array and the radiographic image conversion panel are corrected before photographing to make signals uniform. However, in the market environment, there is unevenness due to the accumulation of static electricity inside, and due to misalignment due to thermal fluctuations and impacts, the position information for correction is misaligned, and the original unevenness and defects are emphasized. It can also create defects and interfere with diagnosis.

このような状況の下、本発明者らは可撓性のある光電変換パネルを用いた際に、シンチレータの耐湿性を向上させるべく鋭意検討した結果、シンチレータ層を防湿材料で封入することで、前記課題をいずれも解消できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明の構成は以下の通りである。 Under such circumstances, the inventors of the present invention conducted intensive studies to improve the moisture resistance of the scintillator when using a flexible photoelectric conversion panel. The inventors have found that all of the above problems can be solved, and have completed the present invention. The configuration of the present invention is as follows.

[1]第1のポリイミドフィルム上に、柱状結晶で構成されたシンチレータ層を有するシンチレータパネルと、
前記第1のポリイミドフィルムとは異なる第2のポリイミドフィルム上に受光素子及びスイッチング素子を有する光電変換パネルであって、前記受光素子が前記シンチレータ層と対向している前記光電変換パネルと、
前記シンチレータパネルと前記光電変換パネルを接着する粘着層と、
少なくとも前記シンチレータ層を封止する金属箔と、
前記金属箔を剛性板である筐体に接着する接着剤層と、
を備えた放射線検出器。
[2]前記粘着層は、感圧性粘着層であることを特徴とする[1]に記載の放射線検出器。
[3]前記金属箔はアルミニウムであることを特徴とする[1]または[2]に記載の放射線検出器。
[4]前記光電変換パネルは可撓性を有することを特徴とする[1]~[3]のいずれかに記載の放射線検出器。
[5]前記感圧性粘着層の膜厚は、1~100μmであることを特徴とする[1]~[4]のいずれかに記載の放射線検出器。
[1] A scintillator panel having a scintillator layer composed of columnar crystals on a first polyimide film;
a photoelectric conversion panel having a light-receiving element and a switching element on a second polyimide film different from the first polyimide film, wherein the light-receiving element faces the scintillator layer;
an adhesive layer that bonds the scintillator panel and the photoelectric conversion panel;
a metal foil that seals at least the scintillator layer;
an adhesive layer that adheres the metal foil to a housing that is a rigid plate;
A radiation detector with
[2] The radiation detector according to [1], wherein the adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer.
[3] The radiation detector according to [1] or [2], wherein the metal foil is aluminum .
[4] The radiation detector according to any one of [1] to [3], wherein the photoelectric conversion panel is flexible.
[5] The radiation detector according to any one of [1] to [4], wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 1 to 100 μm.

本発明によれば、樹脂基板や複合材料などの可撓性のある材料から構成された光電変換パネルをシンチレータ層と組み合わせる場合に、所定の防湿材料でシンチレータ層を被覆することによって、シンチレータの湿度劣化を抑制できる。また本発明の構成を採用することによって、反りや剥離、内部の静電気の蓄積によるムラといった樹脂基板を用いる場合に課題とされるものをいずれも解決した放射線検出器が得られる。 According to the present invention, when a photoelectric conversion panel made of a flexible material such as a resin substrate or a composite material is combined with a scintillator layer, the scintillator layer is coated with a predetermined moisture-proof material to reduce the humidity of the scintillator. Deterioration can be suppressed. Further, by adopting the configuration of the present invention, a radiation detector can be obtained that solves all of the problems associated with using a resin substrate, such as warpage, peeling, and unevenness due to accumulation of static electricity inside.

本発明に係る放射線検出器を示す模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a radiation detector according to the present invention; FIG. 本発明に係る放射線検出器の第1の態様を示す模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a first aspect of a radiation detector according to the present invention; FIG. 本発明に係る放射線検出器の第2の態様を示す模式断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a second aspect of the radiation detector according to the present invention; 本発明に係る放射線検出器の第3の態様を示す模式断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a third aspect of the radiation detector according to the present invention; 本発明に係る放射線検出器の剛性板を用いた態様を示す模式断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment using a rigid plate of the radiation detector according to the present invention; 光電変換パネルの概略図を示す。The schematic of a photoelectric conversion panel is shown. 図6の拡大図を示す。Fig. 7 shows an enlarged view of Fig. 6; 図7における画素断面図(Y-Y断面図)を示す。FIG. 8 shows a pixel cross-sectional view (YY cross-sectional view) in FIG. フレキシブルTFTの画素断面図を示す。FIG. 3 shows a cross-sectional view of a pixel of a flexible TFT. フレキシブルTFTの画素断面図の他の態様例を示す。FIG. 10 shows another example of a pixel cross-sectional view of a flexible TFT. フレキシブルTFTの作製プロセスを示す。1 shows a fabrication process of a flexible TFT.

本発明の放射線検出器は、シンチレータ層を有するシンチレータパネルと、可撓性を有する光電変換パネルとから構成される。
このような本発明の構成部材を以下に示す。
The radiation detector of the present invention comprises a scintillator panel having a scintillator layer and a flexible photoelectric conversion panel.
Such constituent members of the present invention are shown below.

シンチレータパネル
シンチレータ層は、蛍光体を含有する。 蛍光体層は、外部から入射された放射線であるX線のエネルギーを、可視光に変換する役割を有する。
The scintillator panel scintillator layer contains a phosphor. The phosphor layer has a function of converting the energy of X-rays, which are radiation incident from the outside, into visible light.

本発明において蛍光体とはα線、γ線、X線等の電離放射線が照射されたときに原子が励起されることにより発光する蛍光体をいう。すなわち、放射線を紫外・可視光に変換して放出する蛍光体を指す。蛍光体は外部から入射されたX線などの放射線エネルギーを効率よく光に変換可能な材料である限り特に制限されない。また、放射線の光への変換は必ずしも瞬時に行われる必要は無く、蛍光体層に一旦潜像として蓄積され、後から読み出す方式を用いても良い。 In the present invention, the phosphor means a phosphor that emits light when atoms are excited when irradiated with ionizing radiation such as α-rays, γ-rays and X-rays. In other words, it refers to a phosphor that converts radiation into ultraviolet/visible light and emits it. The phosphor is not particularly limited as long as it is a material capable of efficiently converting radiation energy such as X-rays incident from the outside into light. Moreover, the conversion of radiation into light does not necessarily have to be instantaneous, and a method of temporarily storing the latent image in the phosphor layer and reading it later may be used.

例えば、本発明に係る蛍光体としては、X線などの放射線を可視光などの異なる波長に変換することが可能な物質を適宜使用することが出来る。具体的には、「蛍光体ハンドブック」(蛍光体同学会編・オーム社・1987年)の284頁から299頁に至る箇所に記載されたシンチレータ及び蛍光体や、米国Lawrence Berkeley National LaboratoryのWebホームページ「Scintillation Properties(http://scintillator.lbl.gov/)」に記載の物質などが考えられるが、ここに指摘されていない物質でも、「X線などの放射線を可視光などの異なる波長に変換することが可能な物質」であれば、蛍光体粒子として用いることが出来る。 For example, as the phosphor according to the present invention, a substance capable of converting radiation such as X-rays into different wavelengths such as visible light can be appropriately used. Specifically, scintillators and phosphors described on pages 284 to 299 of "Phosphor Handbook" (edited by Phosphor Dome, Ohmsha, 1987), and the website of Lawrence Berkeley National Laboratory in the United States. Substances described in "Scintillation Properties (http://scintillator.lbl.gov/)" can be considered, but even substances not pointed out here are "converting radiation such as X-rays into different wavelengths such as visible light If it is a "substance capable of

具体的な蛍光体の組成としては、以下の例が挙げられる。
まず、基本組成式(I):
IX・aMIIX'2・bMIIIX''3:zA
で表わされる金属ハロゲン化物系蛍光体が挙げられる。
Specific phosphor compositions include the following examples.
First, the basic compositional formula (I):
M I X・a M II X′ 2・b M III X″ 3 : zA
A metal halide-based phosphor represented by is exemplified.

上記式において、MIは1価の陽イオンになり得る元素、すなわち、リチウム(Li),ナトリウム(Na),カリウム(K),ルビジウム(Rb),セシウム(Cs),タリウム(Tl)および銀(Ag)などからなる群より選択される少なくとも1種を表す。 In the above formula, M I is an element that can become a monovalent cation, that is, lithium (Li), sodium (Na), potassium (K), rubidium (Rb), cesium (Cs), thallium (Tl) and silver. It represents at least one selected from the group consisting of (Ag) and the like.

IIは2価の陽イオンになり得る元素、すなわちベリリウム(Be),マグネシウム(Mg),カルシウム(Ca),ストロンチウム(Sr),バリウム(Ba),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn)およびカドミウム(Cd)などからなる群より選択される少なくとも1種を表す。 M II is an element that can become a divalent cation, namely beryllium (Be), magnesium (Mg), calcium (Ca), strontium (Sr), barium (Ba), nickel (Ni), copper (Cu), zinc represents at least one selected from the group consisting of (Zn), cadmium (Cd) and the like.

IIIは、スカンジウム(Sc),イットリウム(Y),アルミニウム(Al),ガリウム(Ga),インジウム(In)およびランタノイドに属する元素からなる群より選択される少なくとも1種を表す。 M III represents at least one selected from the group consisting of scandium (Sc), yttrium (Y), aluminum (Al), gallium (Ga), indium (In) and elements belonging to lanthanides.

X、X'およびX"は、それぞれハロゲン元素を表すが、それぞれが異なる元素であっても、同じ元素であっても良い。
Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を表す。
a,bおよびzはそれぞれ独立に、0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<z<1.0の範囲内の数値を表す。
X, X' and X'' each represent a halogen element, but may be different elements or the same element.
A consists of Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Na, Mg, Cu, Ag (silver), Tl and Bi (bismuth) represents at least one element selected from the group;
a, b and z each independently represents a numerical value within the range of 0≦a<0.5, 0≦b<0.5 and 0<z<1.0.

また、基本組成式(II):
IIFX:zLn
で表わされる希土類付活金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体も挙げられる。
Further, the basic compositional formula (II):
M II FX: zLn
Rare earth-activated metal fluorohalide-based phosphors represented by are also included.

上記式において、MIIは少なくとも1種のアルカリ土類金属元素を、Lnはランタノイドに属する少なくとも1種の元素を、Xは、少なくとも1種のハロゲン元素を、それぞれ表す。またzは、0<z≦0.2である。 In the above formula, M II represents at least one alkaline earth metal element, Ln represents at least one element belonging to lanthanides, and X represents at least one halogen element. Moreover, z is 0<z<=0.2.

また、基本組成(III):
Ln22S:zA
で表される希土類酸硫化物系蛍光体も挙げられる。
Also, the basic composition (III):
Ln2O2S : zA
Rare earth oxysulfide-based phosphors represented by are also included.

上記式において、Lnはランタノイドに属する少なくとも1種の元素を、Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を、それぞれ表す。またzは、0<z<1である。 In the above formula, Ln is at least one element belonging to lanthanoids, A is Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Na, Mg , Cu, Ag (silver), Tl and Bi (bismuth), respectively. Moreover, z is 0<z<1.

特にLnとしてガドリニウム(Gd)を用いたGd22Sは、Aの元素種にテルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)等を用いることによって、受光素子が最も受光しやすい波長領域で、高い発光特性を示すことが知られており、特に好ましい。 In particular, Gd 2 O 2 S using gadolinium (Gd) as Ln uses terbium (Tb), dysprosium (Dy), etc. as the element species of A, so that high light emission is obtained in the wavelength region where the light receiving element is most likely to receive light. It is known to exhibit properties and is particularly preferred.

また、基本組成(IV):
IIS:zA
で表される金属硫化物系蛍光体も挙げられる。
Also, the basic composition (IV):
M II S: zA
A metal sulfide-based phosphor represented by is also included.

上記式において、MIIは2価の陽イオンになり得る元素、すなわちアルカリ土類金属,Zn(亜鉛),Sr(ストロンチウム),Ga(ガリウム)等からなる群より選択される少なくとも1種の元素を、Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を、それぞれ表す。またzは、0<z<1である。 In the above formula, M II is an element that can become a divalent cation, i.e., at least one element selected from the group consisting of alkaline earth metals, Zn (zinc), Sr (strontium), Ga (gallium), etc. A is Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Na, Mg, Cu, Ag (silver), Tl and Bi (bismuth) Each represents at least one element selected from the group consisting of Moreover, z is 0<z<1.

また、基本組成(V):
a(AG)b:zA
で表される金属オキソ酸塩系蛍光体も挙げられる。
Also, the basic composition (V):
M a (AG) b : zA
A metal oxoacid salt phosphor represented by is also included.

上記式において、Mは陽イオンになり得る金属元素であり、(AG)はリン酸塩、ホウ酸塩、ケイ酸塩、硫酸塩、タングステン酸塩、アルミン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種のオキソ酸基を、Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を、それぞれ表す。
またaおよびbは、金属及びオキソ酸基の価数に応じて取り得る値全てを表す。zは、0<z<1である。
In the above formula, M is a metal element that can become a cation, and (AG) is at least selected from the group consisting of phosphates, borates, silicates, sulfates, tungstates and aluminates. A is Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Na, Mg, Cu, Ag (silver), Each represents at least one element selected from the group consisting of Tl and Bi (bismuth).
Moreover, a and b represent all possible values depending on the valence of the metal and oxoacid group. z is 0<z<1.

また、基本組成式(VI):
ab:zA
で表わされる金属酸化物系蛍光体が挙げられる。
Also, the basic compositional formula (VI):
M a O b : zA
A metal oxide phosphor represented by is mentioned.

上記式において、Mは陽イオンになり得る金属元素であり、前記したMI~MIIのいずれかの例示より選択される少なくとも1種の元素を表す。
またaおよびbは、金属及びオキソ酸基の価数に応じて取り得る値全てを表す。zは、0<z<1である。
In the above formula, M is a metal element capable of becoming a cation and represents at least one element selected from any one of the above examples of M I to M II .
Moreover, a and b represent all possible values depending on the valence of the metal and oxoacid group. z is 0<z<1.

また他に、基本組成式(VII):
LnOX:zA
で表わされる金属酸ハロゲン化物系蛍光体が挙げられる。
In addition, the basic compositional formula (VII):
LnOX: zA
A metal acid halide-based phosphor represented by is mentioned.

上記式において、Lnはランタノイドに属する少なくとも1種の元素を、Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を、それぞれ表す。またzは、0<z<1である。 In the above formula, Ln is at least one element belonging to lanthanoids, A is Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Na, Mg , Cu, Ag (silver), Tl and Bi (bismuth), respectively. Moreover, z is 0<z<1.

本発明において、シンチレータ層は、通常、蛍光体母体化合物と賦活剤とからなる。また、シンチレータ層は、気相堆積法により形成された蛍光体柱状結晶で構成されても、蛍光体粒子分散液を塗布して粒子を堆積させた層であってもよい。 In the present invention, the scintillator layer usually consists of a phosphor base compound and an activator. The scintillator layer may be composed of phosphor columnar crystals formed by a vapor phase deposition method, or may be a layer in which particles are deposited by applying a phosphor particle dispersion.

気相堆積法としては、加熱蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法その他を用いることができるが、特に加熱蒸着法が望ましい。
粒子分散液を使用する場合、高分子結合材(以下「バインダー」ともいう。)が含まれていてもよく、高分子結合材としては、具体的には、ポリウレタン、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル-アクリロニトリル共重合体、ブタジエン-アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、セルロース誘導体(ニトロセルロース等)、スチレン-ブタジエン共重合体、各種の合成ゴム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。なかでもポリウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体、ポリビニルブチラール、ニトロセルロースを使用することが好ましい。
As the vapor phase deposition method, a heating vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, or the like can be used, but a heating vapor deposition method is particularly desirable.
When the particle dispersion is used, it may contain a polymer binder (hereinafter also referred to as a "binder"). Specific examples of the polymer binder include polyurethane, vinyl chloride copolymer, chloride Vinyl-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, butadiene-acrylonitrile copolymer, polyamide resin, polyvinyl butyral, polyester, cellulose derivatives (nitrocellulose, etc.), styrene- Butadiene copolymers, various synthetic rubber resins, phenol resins, epoxy resins, urea resins, melamine resins, phenoxy resins, silicon resins, acrylic resins, ureaformamide resins, and the like can be used. Among them, it is preferable to use polyurethane, polyester, vinyl chloride copolymer, polyvinyl butyral, and nitrocellulose.

シンチレータパネルは、前記シンチレータ層を含む限りその構成は特に制限されないが、シンチレータ支持基板が設けられていてもよい。支持基板は、シンチレータ層を形成する蛍光体の土台として用いられるとともに、シンチレータ層の構造を保持する役割を有する。なお、支持体は必ずしも必要でない場合がある。 The structure of the scintillator panel is not particularly limited as long as it includes the scintillator layer, but a scintillator support substrate may be provided. The support substrate is used as a base for the phosphor forming the scintillator layer, and has a role of holding the structure of the scintillator layer. Note that the support may not always be necessary.

支持基板の材料としては、X線等の放射線を透過させることが可能な、各種のガラス、高分子、金属等のフィルム、シート、板等が挙げられる。支持体の原材料の具体例としては、石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラス;アモルファスカーボン板;サファイア、チッ化珪素、炭化珪素などの板状セラミック;シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素、ガリウム燐、ガリウム窒素などを板状に成形した半導体;又、セルロースアセテートフィルム、ポリエステル樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等の高分子フィルム(プラスチックフィルム)や炭素繊維強化樹脂シート等の高分子シート(プラスチックシート);アルミニウムシート、鉄シート、銅シート、鉛板等の金属シート或いは該金属の酸化物の被覆層を有する金属シート;バイオナノファイバーフィルムなどが挙げられる。支持体は、1層の上記原材料からなっていてもよいし、同種または異種の2層以上の上記原材料からなっていてもよい。
シンチレータ層は、支持基板に形成されていても、光電変換パネルを構成する受光素子などの表面に設けられていてもよい。
Examples of materials for the support substrate include films, sheets, plates, etc. of various glasses, polymers, metals, etc., which are capable of transmitting radiation such as X-rays. Specific examples of raw materials for the support include plate glass such as quartz, borosilicate glass, and chemically strengthened glass; amorphous carbon plate; plate ceramics such as sapphire, silicon nitride, and silicon carbide; silicon, germanium, gallium arsenide, and gallium. Semiconductors made of phosphorus, gallium nitrogen, etc. molded into plates; polymer films (plastic films) such as cellulose acetate films, polyester resin films, polyethylene terephthalate films, polyamide films, polyimide films, triacetate films, and polycarbonate films; and carbon fibers Polymer sheets (plastic sheets) such as reinforced resin sheets; metal sheets such as aluminum sheets, iron sheets, copper sheets, lead sheets, etc., or metal sheets having a coating layer of oxides of the metals; bio-nanofiber films, and the like. The support may be composed of one layer of the above raw material, or may be composed of two or more layers of the same or different kinds of the above raw material.
The scintillator layer may be formed on the support substrate, or may be provided on the surface of the light receiving element constituting the photoelectric conversion panel.

光電変換パネル
本発明で用いられる光電変換パネルは、光を、電気信号に変換して、外部に出力する役割を有するものであり、可撓性を有するものが使用される。ここで、本発明で用いられる光電変換パネルの構成は特に制限はないものの、通常、支持基板と、受光素子およびスイッチング素子とを有し、支持基板上に素子が積層された形態を有している。これらの素子は、シンチレータ層で発生した光を吸収して、電荷の形に変換する機能を有している。ここで、これらの素子は、そのような機能を有する限り、どのような具体的な構造を有していてもよい。例えば、受光素子は、透明電極と、入光した光により励起されて電荷を発生する電荷発生層と、対電極とからなるものとすることができる。これら透明電極、電荷発生層および対電極は、いずれも、従来公知のものを用いることができ、ガラス板又は樹脂フィルムを主成分として構成されることが好ましい。また、本発明で用いられる受光素子は、適当なフォトセンサーから構成されていても良く、例えば、複数のフォトダイオードを2次元的に配置してなるものであってもよく、あるいは、CCD(Charge Coupled Devices)、CMOS(Complementary metal-oxide-semiconductor)センサーなどの2次元的なフォトセンサーからなるものであっても良い。
Photoelectric Conversion Panel The photoelectric conversion panel used in the present invention has a role of converting light into an electric signal and outputting it to the outside, and a flexible one is used. Here, although the structure of the photoelectric conversion panel used in the present invention is not particularly limited, it usually has a support substrate, a light receiving element and a switching element, and has a form in which the elements are stacked on the support substrate. there is These elements have the function of absorbing light generated in the scintillator layer and converting it into electric charges. Here, these elements may have any specific structure as long as they have such functions. For example, the light-receiving element can be composed of a transparent electrode, a charge-generating layer that is excited by incident light to generate charges, and a counter electrode. Conventionally known materials can be used for the transparent electrode, the charge generation layer and the counter electrode, and it is preferable that they are mainly composed of a glass plate or a resin film. Further, the light receiving element used in the present invention may be composed of a suitable photosensor, for example, a plurality of photodiodes arranged two-dimensionally, or a CCD (Charge Sensor). Coupled Devices), CMOS (Complementary metal-oxide-semiconductor) sensors, or other two-dimensional photosensors.

スイッチング素子は、上記受光素子で得られた電荷を蓄積するとともに、蓄積された電荷に基づく信号の出力を行う機能を有する。ここで、スイッチング素子は、どのような具体的な構造を有していてもよく、例えば、光電変換素子で生成された電荷を画素毎に蓄積する電荷蓄積素子であるコンデンサと、蓄積された電荷を信号として出力する画像信号出力素子であるトランジスタとを用いて構成することができる。ここで、好ましいトランジスタの例として、TFT(薄膜トランジスタ)が挙げられる。 The switching element has a function of accumulating electric charges obtained by the light receiving element and outputting a signal based on the accumulated electric charges. Here, the switching element may have any specific structure. can be configured using a transistor which is an image signal output element for outputting as a signal. Here, a TFT (thin film transistor) is given as an example of a preferable transistor.

光電変換パネルの概略を図6に示す。図6に示すように、TFT基板4のシンチレータ基板に対向する側の面(以下、表面という。)4a上には、複数の走査線5と複数の信号線6とが互いに交差するように配設されている。また、複数の走査線5と複数の信号線6により区画された各小領域rには、放射線を検出するための受光素子としてのフォトダイオード7がそれぞれ設けられている。 An outline of a photoelectric conversion panel is shown in FIG. As shown in FIG. 6, a plurality of scanning lines 5 and a plurality of signal lines 6 are arranged so as to cross each other on a surface (hereinafter referred to as a surface) 4a of the TFT substrate 4 facing the scintillator substrate. is set. A photodiode 7 as a light receiving element for detecting radiation is provided in each small area r defined by the plurality of scanning lines 5 and the plurality of signal lines 6 .

TFT基板4の表面4a上の領域のうち、TFT基板4上に複数のフォトダイオード7が二次元状(マトリクス状)に配列されて構成されている領域(すなわち図6において一点鎖線で囲まれた領域)が画素領域Raを構成し、画素領域Raの周囲の画素領域Ra以外のTFT基板4上の領域(すなわち図6において一点鎖線の外側の領域)が周辺領域Rbを構成している。 Of the area on the surface 4a of the TFT substrate 4, the area where a plurality of photodiodes 7 are arranged two-dimensionally (in a matrix) on the TFT substrate 4 (that is, the area surrounded by the dashed-dotted line in FIG. 6). area) constitutes the pixel area Ra, and the area on the TFT substrate 4 other than the pixel area Ra around the pixel area Ra (that is, the area outside the dashed line in FIG. 6) constitutes the peripheral area Rb.

受光素子としてフォトダイオード7が用いられているが、この他にも、例えばフォトトランジスター等を用いることも可能である。各フォトダイオード7は、図6やその拡大図である図7に示すように、スイッチング素子であるTFT8のソース電極8sに接続されている。また、TFT8のドレイン電極8dは信号線6に接続されている。 Although the photodiode 7 is used as the light receiving element, it is also possible to use, for example, a phototransistor. Each photodiode 7 is connected to a source electrode 8s of a TFT 8, which is a switching element, as shown in FIG. 6 and its enlarged view in FIG. A drain electrode 8 d of the TFT 8 is connected to the signal line 6 .

フォトダイオード7は、放射線が入射し、シンチレータ基板で放射線から変換された可視光等の光が照射されると、その内部で電子正孔対を発生させる。フォトダイオード7は、このようにして、照射された可視光を電荷に変換するようになっている。 When radiation is incident on the photodiode 7 and light such as visible light converted from the radiation by the scintillator substrate is irradiated, the photodiode 7 generates electron-hole pairs therein. The photodiode 7 is thus adapted to convert the irradiated visible light into electric charge.

そして、TFT8は、ゲート電極8gにオン電圧が印加されるとオン状態となり、ソース電極8sやドレイン電極8dを介してフォトダイオード7内に蓄積されている電荷を信号線6に放出させる。また、TFT8は、走査線5を介してゲート電極8gにオフ電圧が印加されるとオフ状態となり、フォトダイオード7から信号線6への電荷の放出を停止して、フォトダイオード7内に電荷を蓄積させるようになっている。 The TFT 8 turns on when an on-voltage is applied to the gate electrode 8g, and discharges charges accumulated in the photodiode 7 to the signal line 6 via the source electrode 8s and the drain electrode 8d. Further, the TFT 8 is turned off when an off voltage is applied to the gate electrode 8g through the scanning line 5, stops the discharge of the charge from the photodiode 7 to the signal line 6, and stores the charge in the photodiode 7. It is designed to be accumulated.

すなわち、TFTオフ状態でX線から変換された可視光に応じた電荷をPD内で発生させて蓄積、その後TFTをオンすることによりその蓄積電荷を信号線6を介して外部回路に出力することにより、X線の画像情報と電気情報に変換することを実現する。 That is, in the TFT off state, charges corresponding to visible light converted from X-rays are generated and stored in the PD, and then the TFTs are turned on to output the stored charges to an external circuit via the signal line 6. This realizes conversion into X-ray image information and electric information.

図7における画素断面図(Y-Y断面図)を図8に示す。ここでTFT基板はガラスで構成され、その上に前述のTFTとPD、それに加え適宜絶縁体が積層されている。
図9にフレキシブルTFTの画素断面図を示す。図9における支持基板は、可撓性のあるフィルムやプラスチック基板が使用される。
FIG. 8 shows a cross-sectional view of the pixel in FIG. 7 (YY cross-sectional view). Here, the TFT substrate is made of glass, and the above-mentioned TFTs and PDs, as well as appropriate insulators, are laminated thereon.
FIG. 9 shows a cross-sectional view of a pixel of a flexible TFT. A flexible film or plastic substrate is used for the support substrate in FIG.

図10にフレキシブルTFTの画素断面図の他の実施例を示す。可撓性のあるフィルムやプラスチック基板上に防湿性を備えた層を形成した後に前述のTFTとPD、それに加え適宜絶縁体が積層されている。 FIG. 10 shows another embodiment of a pixel sectional view of a flexible TFT. After a moisture-proof layer is formed on a flexible film or plastic substrate, the above-described TFT and PD and an insulator are laminated as appropriate.

図11にフレキシブルTFTの作製プロセスを示す。ガラス基板TFTでは、ガラス基板上に直接TFTやPDを作製していたのに対して、フレキシブルTFTは、
・ガラス基板表面にフィルム材を塗布した後にTFTやPDを作製
・TFTやPDを作製後にフィルムをガラスから剥離
・必要に応じてプラスチック基板等の支持基板を貼り付け
といったフローで実現される。
FIG. 11 shows the manufacturing process of the flexible TFT. With glass substrate TFTs, TFTs and PDs are directly fabricated on the glass substrate, whereas flexible TFTs
・TFTs and PDs are produced after applying a film material to the surface of the glass substrate. ・After the TFTs and PDs are produced, the film is peeled off from the glass. ・If necessary, a support substrate such as a plastic substrate is attached.

また他の態様としては、
・ガラス基板表面にフィルム材を塗布
・フィルム上に防湿層を形成した後にTFTやPDを作製
・TFTやPDを作製後にフィルムをガラスから剥離
・必要に応じてプラスチック基板等の支持基板を貼り付け
といったフローで実現することも可能である。
As another aspect,
・Apply a film material on the surface of the glass substrate ・Create TFTs and PDs after forming a moisture-proof layer on the film ・Peel off the film from the glass after manufacturing the TFTs and PDs ・Attach a supporting substrate such as a plastic substrate as necessary It is also possible to implement it with a flow such as

このように、本発明で用いうる光電変換パネルを構成する素子として種々の構成のものを用いることができる。例えば、支持基板上に複数のフォトダイオードと複数のTFT素子を形成してなる素子を用いることができる。 As described above, elements having various configurations can be used as elements constituting the photoelectric conversion panel that can be used in the present invention. For example, an element in which a plurality of photodiodes and a plurality of TFT elements are formed on a support substrate can be used.

また、支持基板は、光電変換パネルの支持体として機能するものであり、各種のガラス、高分子材料、金属等を用いることができる。これらは1種単独で用いても積層して用いてもよい。かかる支持基板としては、上記シンチレータパネルを構成する基板と同様の材料を例示できる。光電変換パネルが可撓性を有するには、支持基板は、厚さ50~500μmの可撓性を有するフィルムまたはシート、もしくは薄膜ガラスに樹脂コートをしたような有機無機複合材料であることが好ましい。 Moreover, the support substrate functions as a support for the photoelectric conversion panel, and various types of glass, polymer materials, metals, and the like can be used. These may be used singly or in combination. Examples of such supporting substrate include materials similar to those of the substrate constituting the scintillator panel. In order for the photoelectric conversion panel to have flexibility, the support substrate is preferably a flexible film or sheet having a thickness of 50 to 500 μm, or an organic-inorganic composite material such as a thin glass coated with a resin. .

ここで、「可撓性を有する」とは、たわみやすい性質を有することであり、目安として120℃での弾性率(E120)が、0.1~300GPaであることをいう。また、「弾性率」とは、引張試験機を用い、JIS-C2318に準拠したサンプルの標線が示すひずみと、それに対応する応力が直線的な関係を示す領域において、ひずみ量に対する応力の傾きを求めた値である。これがヤング率と呼ばれる値であり、かかるヤング率を弾性率とする。
支持基板は、上記120℃での弾性率(E120)が、0.1~300GPaであることが好ましく、1~100GPaであることがより好ましい。
Here, "having flexibility" means having a flexible property, and as a guideline, the elastic modulus (E120) at 120° C. is 0.1 to 300 GPa. In addition, the "elastic modulus" is the strain indicated by the standard line of the sample conforming to JIS-C2318 using a tensile tester, and the slope of the stress with respect to the amount of strain in the area where the corresponding stress shows a linear relationship. is the value obtained by This value is called Young's modulus, and this Young's modulus is defined as the elastic modulus.
The support substrate preferably has an elastic modulus (E120) at 120° C. of 0.1 to 300 GPa, more preferably 1 to 100 GPa.

可撓性を有する支持基板の原材料としては、上記原材料の中でも、特に、厚さ50~500μmの可撓性を有する高分子フィルムおよび高分子シートが好ましい。可撓性を有する高分子フィルムとしては、具体的には、ポリエチレンナフタレートフィルム(E120=7GPa)、ポリエチレンテレフタレートフィルム(E120=4GPa)、ポリカーボネートフィルム(E120=2GPa)、ポリイミドフィルム(E120=7GPa)、ポリエーテルイミドフィルム(E120=3GPa)、アラミドフィルム(E120=12GPa)、ポリスルホンフィルム(E120=2GPa)、ポリエーテルスルホンフィルム(E120=2GPa)、バイオナノファイバーフィルム等が挙げられる。なお、弾性率の値は、同種の高分子フィルムでも変動しうるので、必ずしも括弧内の値になるわけではないが、括弧内の値は目安として一例を示したものである。 Among the raw materials described above, flexible polymer films and polymer sheets having a thickness of 50 to 500 μm are particularly preferred as raw materials for the flexible support substrate. Specific examples of flexible polymer films include polyethylene naphthalate film (E120=7 GPa), polyethylene terephthalate film (E120=4 GPa), polycarbonate film (E120=2 GPa), and polyimide film (E120=7 GPa). , polyetherimide film (E120=3GPa), aramid film (E120=12GPa), polysulfone film (E120=2GPa), polyethersulfone film (E120=2GPa), bio-nanofiber film, and the like. Note that the elastic modulus values may vary even for the same type of polymer film, so the values in parentheses are not necessarily the values in parentheses, but the values in parentheses are examples as a guideline.

支持基板は、その反射率を調整する目的で、光吸収性や光反射性が、例えば着色により付与されていてもよい。すなわち、支持体は反射層としての機能を兼ね備えていてもよい。そのような支持基板としては、例えば、支持体中に白色顔料やカーボンブラックが練りこまれた白色PETや黒色PETが挙げられる。 For the purpose of adjusting the reflectance, the support substrate may be imparted with light absorbability or light reflectivity, for example, by coloring. That is, the support may also function as a reflective layer. Examples of such a support substrate include white PET and black PET in which a white pigment or carbon black is kneaded into the support.

放射線検出器
本発明の放射線検出器は、上記シンチレータパネルと、光電変換パネルとから構成される。光電変換パネルは、受光素子およびスイッチング素子はシンチレータ層と対向している。
Radiation Detector The radiation detector of the present invention comprises the scintillator panel and a photoelectric conversion panel. In the photoelectric conversion panel, the light receiving element and the switching element face the scintillator layer.

そして、本発明にかかる放射線検出器ではシンチレータ層が防湿材料で封入されてなる。このような本発明の放射線検出器の基本構成を図1に示す。なお、図1中にシンチレータ支持基板が図示されているが、本発明では必ずしもシンチレータ支持基板は必須ではない。 In the radiation detector according to the present invention, the scintillator layer is sealed with a moisture-proof material. FIG. 1 shows the basic configuration of such a radiation detector of the present invention. Although the scintillator support substrate is illustrated in FIG. 1, the scintillator support substrate is not necessarily essential in the present invention.

防湿材料は、シンチレータパネルを防湿し、シンチレータ層の劣化を抑制する役割を果たす。劣化としては、例えば、シンチレータ層の蛍光体が潮解性である場合は、蛍光体の潮解によるシンチレータ層の劣化などがある。このため、防湿材料はシンチレータパネル全体を防湿するものであっても、光電変換パネルとシンチレータパネルを防湿するものであっても、さたに、シンチレータパネルと受光素子・スイッチング素子を合わせて防湿するものであってもよい。 The moisture-proof material plays a role of preventing the scintillator panel from moisture and suppressing deterioration of the scintillator layer. For example, when the phosphor of the scintillator layer is deliquescent, the deterioration may include deterioration of the scintillator layer due to deliquescence of the phosphor. For this reason, the moisture-proof material can be used to protect the entire scintillator panel, or the photoelectric conversion panel and the scintillator panel. can be anything.

防湿材料は、シンチレータ層の劣化防止の点から、透湿度は、1.0g/m2・day以下である材料からなることが好ましく、さらに、透湿度0.1g/m2・day以下、さらには0.01g/m2・day以下である材料からなることが好ましい。 From the viewpoint of preventing deterioration of the scintillator layer, the moisture-proof material preferably has a moisture permeability of 1.0 g/m 2 ·day or less, more preferably 0.1 g/m 2 ·day or less, further preferably 0.01 g/m 2 ·day or less. It is preferably made of a material that is g/m 2 ·day or less.

ここで、防湿材料の透湿度は、以下の通り、JIS Z 0208により規定された方法に準拠して測定できる。防湿材料から構成されるフィルムを規定の容器に設け、容器内の温度を40°Cに保ちながら、前記フィルムを境界面として、一方の側の空間を90%RH(相対湿度)、他方の側の空間を、吸湿剤を用いて乾燥状態に保つ。この状態で24時間にこの防湿材料からなるフィルムを通過する水蒸気の質量(g)(保護フィルムを1mm2・day に換算する)を透湿度と定義する。 Here, the moisture permeability of the moisture-proof material can be measured according to the method specified by JIS Z 0208 as follows. A film made of a moisture-proof material is provided in a specified container, and while maintaining the temperature in the container at 40 ° C, the film is used as a boundary surface, and the space on one side is 90% RH (relative humidity), and the other side keep the space dry using a desiccant. In this state, the mass (g) of water vapor passing through the film made of this moisture-proof material in 24 hours (converting the protective film to 1 mm 2 ·day) is defined as moisture permeability.

防湿材料としては、透湿度の低い材料から構成され、パラキシリレン、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリメタクリレート、ニトロセルロース、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ポリエチレンナフタレートなどがから構成される。 The moisture-proof material is composed of a material with low moisture permeability, such as paraxylylene, polyester such as polyethylene terephthalate, polymethacrylate, nitrocellulose, cellulose acetate, polypropylene, and polyethylene naphthalate.

防湿材料の防湿性を向上させる観点からは、さらに保護フィルムや金属酸化物などが蒸着された蒸着フィルムが複数枚積層された積層フィルムまたは積層膜、AlやCuといった金属箔と樹脂フィルムもしくは、超薄膜ガラスと樹脂フィルムを積層した有機無機複合フィルムであってもよい。たとえば、そのような積層フィルムまたは積層膜としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルム上に、金属酸化物や金属等を蒸着させたり、蒸着フィルムを複数枚積層させた構成を含むとすることもできる。 金属酸化物には、二酸化ケイ素(SiO2)、酸化アルミニウム(Al23)、ITO等が挙げられる。 From the viewpoint of improving the moisture resistance of moisture-proof materials, laminated films or laminated films in which multiple vapor-deposited films on which protective films and metal oxides are vapor-deposited are laminated, metal foils such as Al and Cu and resin films, It may be an organic-inorganic composite film in which a thin glass and a resin film are laminated. For example, such a laminated film or laminated film may include a polyethylene terephthalate film or polyethylene terephthalate film on which a metal oxide, a metal, or the like is vapor-deposited, or a plurality of vapor-deposited films are laminated. . Metal oxides include silicon dioxide ( SiO2 ), aluminum oxide ( Al2O3 ), ITO, and the like .

ポリパラキシリレンで耐湿膜が形成する場合、目的とするシンチレータ層が形成された支持体やパネルをCVD装置の蒸着室に入れ、ジパラキシリレンが昇華した蒸気中に露出させておくことにより、全表面がポリパラキシリレン膜で被覆された放射線検出器を得ることができる。 In the case of forming a moisture-resistant film with polyparaxylylene, the substrate or panel on which the desired scintillator layer is formed is placed in the vapor deposition chamber of a CVD apparatus, and the entire surface is exposed to the vapor in which diparaxylylene is sublimated. is coated with a polyparaxylylene film.

防湿材料は、熱融着性の樹脂を含む熱融着材料から構成されてもよい。熱融着性の樹脂としては、一般に使用されるインパルスシーラーで融着可能な樹脂であれば特に制限されないが、例えば、エチレン酢酸ビニルコポリマー(EVA)やポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)等が挙げられる。ホットメルト樹脂を採用することも可能であり、ポリオレフィン系、ポリエステル系またはポリアミド系樹脂を主成分ものが好適であるがこれに限定されない。ホットメルト樹脂はシンチレータパネルと光電変換パネルとの接着も兼ねることができる。 The moisture-proof material may be made of a heat-sealable material containing a heat-sealable resin. The heat-sealable resin is not particularly limited as long as it is a resin that can be fused with a generally used impulse sealer. Examples include ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), polypropylene (PP), and polyethylene (PE). mentioned. Hot-melt resins can also be used, and those containing polyolefin-based, polyester-based, or polyamide-based resins as the main component are preferred, but are not limited to these. The hot-melt resin can also serve as an adhesive between the scintillator panel and the photoelectric conversion panel.

本発明で言うホットメルト樹脂とは、水や溶剤を含まず室温で固体であり、不揮発性の熱可塑性材料からなる接着性樹脂ある。樹脂温度が上昇すると溶融し、樹脂温度が低下すると固化する。また加熱溶融状態で接着性が有り、常温で固体状態となり接着性を持たないものである。光透過性の点から、ポリオレフィン系樹脂がより好ましい。 The hot-melt resin referred to in the present invention is an adhesive resin that does not contain water or solvent and is solid at room temperature and is composed of a non-volatile thermoplastic material. It melts when the resin temperature rises and solidifies when the resin temperature drops. In addition, it has adhesiveness when heated and melted, but becomes solid at room temperature and does not have adhesiveness. Polyolefin-based resins are more preferable from the viewpoint of light transmittance.

さらに防湿材料として、鉛やステンレスなどの金属や、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などの無機材料を使用することも可能である。たとえば、金属の場合は蒸着やメッキなどの方法が採用できるし、シート状のものを使用可能である。また無機材料の場合はCVDなどの公知の方法が採用可能である。 Furthermore, metals such as lead and stainless steel, and inorganic materials such as silicon nitride, silicon oxynitride, and silicon oxynitride carbide can also be used as moisture-proof materials. For example, in the case of metal, a method such as vapor deposition or plating can be adopted, and a sheet-like material can be used. In the case of inorganic materials, known methods such as CVD can be employed.

防湿材料から形成される保護層の厚さは、防湿機能を有する限り特に制限されないが、10~100μmであることが好ましい。
本発明の放射線検出器は、その構成により、以下の態様が挙げられる。
The thickness of the protective layer formed from a moisture-proof material is not particularly limited as long as it has a moisture-proof function, but it is preferably 10 to 100 μm.
The radiation detector of the present invention has the following aspects depending on its configuration.

(第1の態様)
本発明にかかる放射線検出器の第1の態様を、図2(a)~(g)に示す。
第1の態様は、図2(a)に示されるように前記防湿材料かなる防湿層が、シンチレータパネルの表面の防湿層(A)、および放射線検出器の対向面のシンチレータパネルを覆う防湿層(B)から構成される。
(First aspect)
A first embodiment of a radiation detector according to the present invention is shown in FIGS. 2(a)-(g).
In the first mode, as shown in FIG. 2(a), the moisture-proof layer made of the moisture-proof material covers the moisture-proof layer (A) on the surface of the scintillator panel and the scintillator panel on the opposite surface of the radiation detector. (B).

防湿層(A)と防湿層(B)が、図2(b)に示すように、シンチレータパネルの外周を覆うように一体となった形状であることが一態様である。パラキシリレンなどを、シンチレータパネル表面に蒸着することによって、このような一体となった防湿層を形成することが可能である。 One aspect is that the moisture-proof layer (A) and the moisture-proof layer (B) are integrated so as to cover the outer periphery of the scintillator panel, as shown in FIG. 2(b). By vapor-depositing paraxylylene or the like on the surface of the scintillator panel, it is possible to form such an integrated moisture-proof layer.

防湿層(A)と防湿層(B)が、図2(c)に示すように、シンチレータパネルの側面端部で接合されるものも一態様である。この場合、防湿層には、バリアフィルムとして、端部接合するための最内層にEVA、PP、LDPE、LLDPE及びメタロセン触媒を使用して製造したLDPE、LLDPE、またこれらフィルムとHDPEフィルムの混合使用した熱可塑性樹脂や、ポリオレフィン系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリウレタン系若しくはアクリル系の樹脂を主成分とした市販の熱可塑性樹脂シート、主に防湿機能を担うCr23、Sixy(x=1、y=1.5~2.0)、Ta23、ZrN、SiC、TiC、PSG、Si34、単結晶Si、アモルファスSi、W、アルミニウム、Al23等を蒸着もしくは箔として設けた無機膜、基材としエチレンテトラフルオロエチル共重合体(ETFE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、延伸ポリプロピレン(OPP)、ポリスチレン(PS)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、2軸延伸ナイロン6、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリイミド、ポリエーテルスチレン(PES)など一般の包装用フィルムに使用されているフィルム材料を用いる事ができる。シンチレータパネルの周辺部で前記したホットメルト樹脂で接合されたり、バリアフィルム同士が熱圧着される。接合は、一方の防湿層を底材ないし蓋材とし、他方が箱材として全体を覆うように構成してもよい。 In one embodiment, the moisture-proof layer (A) and the moisture-proof layer (B) are joined at the side edges of the scintillator panel as shown in FIG. 2(c). In this case, the moisture-proof layer includes, as a barrier film, EVA, PP, LDPE, LLDPE, and LDPE and LLDPE produced using a metallocene catalyst for the innermost layer for edge bonding, or a mixture of these films and HDPE films. thermoplastic resins, commercially available thermoplastic resin sheets mainly composed of polyolefin, polyamide, polyester, polyurethane or acrylic resins, Cr 2 O 3 and Six O y ( x=1, y=1.5 to 2.0), Ta 2 O 3 , ZrN, SiC, TiC, PSG, Si 3 N 4 , single crystal Si, amorphous Si, W, aluminum, Al 2 O 3 and the like. Ethylene tetrafluoroethyl copolymer (ETFE), high density polyethylene (HDPE), oriented polypropylene (OPP), polystyrene (PS), polymethyl methacrylate (PMMA), biaxial as base material Film materials such as oriented nylon 6, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyimide, and polyetherstyrene (PES) that are used for general packaging films can be used. The periphery of the scintillator panel is bonded with the hot-melt resin described above, or the barrier films are thermo-compressed to each other. The joint may be configured such that one of the moisture-proof layers is used as a bottom material or a lid material, and the other is used as a box material to cover the whole.

さらにシンチレータパネルの表面および対向面とともに、側面が防湿層により被覆されていても良い。側面の被覆は、前記した防湿保護フィルムが例示され、表面を被覆したものと同じ材質のものであっても良く、あるいは、異なる適当な樹脂によるものであっても良い。側面を被覆する異なる樹脂として、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。ここで、側面の被覆を形成する際に、これらの樹脂に更にポリイソシアネート硬化剤を混合させたものを用いることで強度とハードコートフィルムとの密着性を向上させることが可能となる。またこれらの樹脂は1種単独でも2種類以上を混合させて用いても良い。 Furthermore, the sides of the scintillator panel may be covered with a moisture-proof layer as well as the surface and the opposing surface. The coating of the side surface is exemplified by the moisture-proof protective film described above, and may be made of the same material as that used to coat the surface, or may be made of a different suitable resin. Polyester resin, silicone resin, urethane resin, epoxy resin, acrylic resin, fluororesin, etc., can be used as different resins for covering the side surfaces. Here, when forming the side coating, it is possible to improve the strength and adhesion to the hard coat film by using a mixture of these resins and a polyisocyanate curing agent. These resins may be used singly or in combination of two or more.

さらに、図2(d)に示すように、防湿層(A)と防湿層(B)、およびシンチレータパネルの側面端部の封止剤層からなることも一態様である。防湿層(A)および防湿層(B)の側面が樹脂(封止剤)で封止されていてもよい。この場合、防湿層には、バリアフィルムが使用され、周辺シール用に封止剤が使用される。封止剤としては、アクリル系、エポキシ系、シリコン系等の熱硬化または紫外線硬化型の樹脂を使用できる。ゴム系の封止剤としては、スチレン-イソプレン-スチレン等のブロックコポリマー系や、ポリブタジエン、ポリブチレン等の合成ゴム系接着剤、及び天然ゴム等を使用できる。市販されているゴム系封止剤の例としては一液型RTVゴムKE420(信越化学工業社製)等が好適に使用される。シリコン封止剤としては、過酸化物架橋タイプや付加縮合タイプを単体または混合で使用してもよい。さらにアクリル系やゴム系粘着剤と混合して使用することもできるし、アクリル系封止剤のポリマー主鎖や側鎖にシリコン成分をペンダントした封止剤を使用してもよい。封止剤としてアクリル系樹脂を用いる場合は、単量体成分として炭素数1~14のアルキル側鎖を有するアクリル酸エステルを含有するラジカル重合性モノマーを反応させた樹脂を用いることが好ましい。また、単量体成分として、側鎖に水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の極性基を有する、アクリル酸エステルやその他のビニル系単量体を添加するのが好ましい。さらに封止剤として、粘着性を有する光学グリース等も使用できる。透明性が高く粘着性があれば公知のいかなるものも使用できる。市販されている光学グリースの例としてはシリコンオイル KF96H(100万CS:信越化学工業社製)等が好適に使用される。 Furthermore, as shown in FIG. 2(d), it is also an aspect that the moisture-proof layer (A) and the moisture-proof layer (B) are composed of a sealant layer on the side edges of the scintillator panel. Side surfaces of the moisture-proof layer (A) and the moisture-proof layer (B) may be sealed with a resin (sealant). In this case, a barrier film is used for the moisture barrier and a sealant is used for peripheral sealing. As the sealant, thermosetting or ultraviolet-curing resins such as acrylic, epoxy, and silicon can be used. As the rubber sealant, block copolymers such as styrene-isoprene-styrene, synthetic rubber adhesives such as polybutadiene and polybutylene, and natural rubber can be used. As an example of a commercially available rubber sealant, one-liquid type RTV rubber KE420 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is preferably used. As the silicone sealant, a peroxide cross-linking type or an addition condensation type may be used alone or in combination. Further, it can be used by mixing with an acrylic or rubber-based pressure-sensitive adhesive, or a sealant in which a silicon component is pendant to the polymer main chain or side chain of an acrylic sealant may be used. When an acrylic resin is used as the sealant, it is preferable to use a resin obtained by reacting a radically polymerizable monomer containing an acrylic acid ester having an alkyl side chain of 1 to 14 carbon atoms as a monomer component. Further, as a monomer component, it is preferable to add an acrylic acid ester or other vinyl-based monomer having a polar group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, or an amino group in the side chain. Furthermore, as a sealant, optical grease or the like having adhesiveness can be used. Any known adhesive can be used as long as it has high transparency and adhesiveness. As an example of commercially available optical grease, silicone oil KF96H (1 million CS: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is preferably used.

さらに、シンチレータパネルが、接着層を介して受光素子およびスイッチング素子と貼り合わされていることが好ましく、たとえば図2(e)に示されるように、防湿層(B)が、接着層によって受光素子およびはスイッチング素子と貼り合されていてもよい。樹脂基板の薄層光電変換パネルとシンチレータパネルとを組み合わせると、ガラス基板などを使用する場合に比べ、より反りやすくなり、剥離しやすくなるが、接着層を設けることがこれらの課題が解決する。 Furthermore, it is preferable that the scintillator panel is attached to the light receiving element and the switching element via an adhesive layer. For example, as shown in FIG. may be attached to the switching element. Combining a thin-layer photoelectric conversion panel with a resin substrate and a scintillator panel makes it easier to warp and separate than when using a glass substrate or the like, but providing an adhesive layer solves these problems.

接着層を構成する材料としては、例えば、ホットメルトシート及び感圧性接着シート等を用いることが好ましい。 ここで、ホットメルトシートとは、水又は溶剤を含まず、室温では固形であり、不揮発性の熱可塑性材料からなる接着性樹脂(ホットメルト樹脂)をシート状に成形したものをいう。ホットメルトシートは、被着体の間に挿入した後、融点以上の温度で溶融させて、再び融点以下の温度にして固化させることにより、被着体同士を接合できるものである。 As the material forming the adhesive layer, it is preferable to use, for example, a hot-melt sheet, a pressure-sensitive adhesive sheet, or the like. Here, the hot-melt sheet refers to a sheet formed from an adhesive resin (hot-melt resin) that does not contain water or solvent, is solid at room temperature, and is made of a non-volatile thermoplastic material. The hot-melt sheet is inserted between adherends, melted at a temperature above the melting point, and solidified again at a temperature below the melting point, thereby joining the adherends together.

CsI(Tl)からなるシンチレータ層のように、潮解性を有するシンチレータ層に接触させても、シンチレータ層が潮解することがないため、シンチレータパネルと光電変換パネルとの接合に好適である。 また、ホットメルトシートには残留揮発物等が含まれることがなく、シンチレータパネル及び光電変換パネルを接合した後、乾燥させても、接着層の収縮が小さく、寸法安定性に優れる。 Since the scintillator layer does not deliquesce even when it is brought into contact with a scintillator layer having deliquescence such as a scintillator layer made of CsI(Tl), it is suitable for bonding a scintillator panel and a photoelectric conversion panel. In addition, the hot-melt sheet does not contain residual volatile matter and the like, and even after bonding the scintillator panel and the photoelectric conversion panel and then drying, the adhesive layer shrinks little and has excellent dimensional stability.

ホットメルトシートを用いてシンチレータパネルと光電変換パネルとを貼り合わせる際に、ホットメルトシートは適切な温度で溶融し、かつ市場環境で溶融しないことが必要である。具体的には、接着層を構成するホットメルト樹脂の融点は、通常50~150℃、好ましくは60~120℃、さらに好ましくは60~90℃である。 When the hot-melt sheet is used to bond the scintillator panel and the photoelectric conversion panel together, the hot-melt sheet must melt at an appropriate temperature and not melt in the market environment. Specifically, the melting point of the hot melt resin forming the adhesive layer is usually 50 to 150.degree. C., preferably 60 to 120.degree. C., more preferably 60 to 90.degree.

上記ホットメルト樹脂には、例えば、ポリオレフィン系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリウレタン系若しくはアクリル系の樹脂を主成分としたものを用いることができる。これらのうち、光透過性、防湿性及び接着性の観点から、ポリオレフィン系の樹脂を主成分としたものが好ましい。ポリオレフィン系の樹脂としては、例えばエチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン-アクリル酸共重合体(EAA)、エチレン-アクリル酸エステル共重合体(EMA)、エチレン-メタクリル酸共重合体(EMAA)、エチレン-メタクリル酸エステル共重合体(EMMA)、アイオノマー樹脂等を用いることができる。上記共重合体のモノマー比率を調整することで、樹脂の融点を任意に調整することができる。例えば、EVA系のホットメルト樹脂では、酢酸ビニルの重量比率を1%~40%とすることで、融点を110℃~60℃に調整することができる。なお、これらの樹脂は、二種以上組み合わせた、いわゆるポリマーブレンドとして用いてもよい。 As the hot-melt resin, for example, a resin containing polyolefin-based, polyamide-based, polyester-based, polyurethane-based or acrylic-based resin as a main component can be used. Among these, from the viewpoint of light transmittance, moisture resistance and adhesiveness, those containing polyolefin resin as a main component are preferred. Examples of polyolefin resins include ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene-acrylic acid copolymer (EAA), ethylene-acrylic acid ester copolymer (EMA), ethylene-methacrylic acid copolymer ( EMAA), ethylene-methacrylic acid ester copolymer (EMMA), ionomer resin and the like can be used. By adjusting the monomer ratio of the copolymer, the melting point of the resin can be arbitrarily adjusted. For example, in an EVA-based hot-melt resin, the melting point can be adjusted to 110°C to 60°C by adjusting the weight ratio of vinyl acetate to 1% to 40%. In addition, these resins may be used as a so-called polymer blend in which two or more kinds are combined.

上記接着層は、一種又はそれぞれ融点の異なる二種以上のホットメルト樹脂を含むホットメルトシートからなる層であってもよいし、二層以上のホットメルトシートの積層体であり、該二層以上の層がそれぞれ融点の異なるホットメルト樹脂で形成されていてもよい。 The adhesive layer may be a layer made of a hot-melt sheet containing one or two or more hot-melt resins having different melting points, or a laminate of two or more hot-melt sheets. layers may be made of hot-melt resins having different melting points.

上記ホットメルトシートは、溶融したホットメルト樹脂をダイコーター等によって塗布することによって形成してもよいし、市販のホットメルトシートを用いてもよい。
接着層には感圧性接着シートを用いてもよい。本発明の接着層に用いることができる感圧性接着シートとしては、例えば、感圧性粘着剤を塗布した、いわゆる両面テープがある。感圧性粘着剤には、例えば、アクリル系、ウレタン系、ゴム系又はシリコーン系の樹脂を主成分とするものがある。なかでも、光透過性及び接着性の観点から、アクリル系又はシリコーン系の樹脂を主成分とするものが好ましい。市販の両面テープには、例えば、日東電工(株)製 No.5601、No.5603、No.5605等、(株)寺岡製作所製 No.7027、No.7029等、積水化学工業(株)製 #5402、#5402A、#5405、#5405A等がある。
The hot-melt sheet may be formed by applying a molten hot-melt resin using a die coater or the like, or a commercially available hot-melt sheet may be used.
A pressure-sensitive adhesive sheet may be used for the adhesive layer. As a pressure-sensitive adhesive sheet that can be used for the adhesive layer of the present invention, for example, there is a so-called double-sided tape coated with a pressure-sensitive adhesive. Pressure-sensitive adhesives include, for example, those containing acrylic, urethane, rubber, or silicone resins as main components. Among them, from the viewpoint of light transmittance and adhesiveness, those containing acrylic or silicone resin as a main component are preferable. Commercially available double-sided tapes include, for example, No.5601, No.5603, No.5605 manufactured by Nitto Denko Corporation, No.7027, No.7029 manufactured by Teraoka Seisakusho Co., Ltd., and a tape manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. #5402, #5402A, #5405, #5405A, etc.

接着層の屈折率は、必要に応じて、粒子等の添加により所望の値に調整することができる。一般的に、接着層はシンチレータよりも屈折率が小さい場合が多く、屈折率調整には、接着層に高屈折率の微粒子を添加することが望ましい。例えば、アルミナ、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、二酸化チタン、硫酸バリウム、シリカ、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、ガラス及び樹脂などを挙げることができる。これらは一種単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。上記粒子の中でも、特に高い屈折率を有する二酸化チタンが好ましい。二酸化チタンとしては、ルチル型、ブルッカイト型、及び、アナターゼ型のいずれの結晶構造を有するものであってもよいが、樹脂の屈折率との比率が大きく、高輝度を達成できることや可視光の反射率などの観点からルチル型のものが特に好ましい。上記粒子の面積平均粒子径は、接着層の透明性を著しく損なわないために、1~50nmが好ましく、1~20nmがさらに好ましい。上記粒子は、接着層を構成する全ての材料を100体積%としたとき、3~30体積%となる量で含まれていることが好ましく、5~20体積%となる量で含まれていることがさらに好ましい。上記粒子がこのような範囲で含まれていることで、接着層の透明性を著しく損なうことなく屈折率を向上させることができる。 The refractive index of the adhesive layer can be adjusted to a desired value by adding particles or the like, if necessary. In general, the adhesive layer often has a smaller refractive index than the scintillator, and it is desirable to add fine particles having a high refractive index to the adhesive layer to adjust the refractive index. Examples include alumina, yttrium oxide, zirconium oxide, titanium dioxide, barium sulfate, silica, zinc oxide, calcium carbonate, glass and resin. These may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types. Among the above particles, titanium dioxide having a particularly high refractive index is preferred. Titanium dioxide may have any of rutile, brookite, and anatase crystal structures. The rutile type is particularly preferable from the viewpoint of efficiency and the like. The area-average particle size of the particles is preferably 1 to 50 nm, more preferably 1 to 20 nm, so as not to significantly impair the transparency of the adhesive layer. The particles are preferably contained in an amount of 3 to 30% by volume, and are contained in an amount of 5 to 20% by volume, when all the materials constituting the adhesive layer are 100% by volume. is more preferred. By containing the particles in such a range, the refractive index can be improved without significantly impairing the transparency of the adhesive layer.

上記接着層の膜厚は、通常1~100μm、好ましくは1~30μm、さらに好ましくは3~20μmである。膜厚の下限を上記範囲にすることで、シンチレータパネルと光電変換パネルとの接着性を確保することができる。また、膜厚の上限を上記範囲に抑えることで、シンチレータ層で発光した光が接着剤層内部で拡散されるのが抑制され、鮮鋭性の高い画像を得ることができる。 The thickness of the adhesive layer is usually 1 to 100 μm, preferably 1 to 30 μm, more preferably 3 to 20 μm. Adhesion between the scintillator panel and the photoelectric conversion panel can be ensured by setting the lower limit of the film thickness within the above range. Further, by setting the upper limit of the film thickness within the above range, the light emitted from the scintillator layer is suppressed from being diffused inside the adhesive layer, and a highly sharp image can be obtained.

さらに、図2(f)に示されるように防湿層(A)が、接着層を介してシンチレータパネルに貼り合されるもの一態様である。この時使用される接着層としては、上記したものが例示される。薄層や樹脂基板から組み合わせると、剥離や反り、または市場環境内で内部に静電気がたまることによるムラがあるが、防湿層(A)を固定する事でこれらの課題も解決する。 Furthermore, as shown in FIG. 2( f ), the moisture-proof layer (A) is one mode of bonding to the scintillator panel via an adhesive layer. Examples of the adhesive layer used at this time include those described above. When combined from a thin layer or resin substrate, there are unevenness due to peeling, warping, or static electricity buildup inside in the market environment, but these problems can be solved by fixing the moisture-proof layer (A).

さらに、図2(g)に示されるように、防湿層(A)及び防湿層(B)の少なくとも一方または両方が、導電機能を具備していてもよい。導電機能を備えさせると、市場環境内で内部に静電気を逃すことが可能となり、静電気によるムラを解消できる。 Furthermore, as shown in FIG. 2(g), at least one or both of the moisture-proof layer (A) and the moisture-proof layer (B) may have a conductive function. Providing a conductive function makes it possible to release static electricity inside in a market environment, eliminating unevenness due to static electricity.

導電機能の具備は、防湿材料に帯電防止剤を含ませることで達成でき、また防湿材料表面に道電層を設けることができる。帯電防止剤としては、例えば、カーボン粒子(カーボンブラック、グラファイト、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ)、酸化半導体粒子(酸化亜鉛系、酸化スズ系、酸化インジウム系)、界面活性剤(テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルホスフォート、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル)、親水性高分子(スルホン酸塩、4級アンモニウム塩、ポリエチレングリコールメタクリレート共重合体、ポリエーテルエステルアミド、ポリエーテルアミドイミド、ポリエチレンオキシド-エピクロルヒドリン共重合体)、導電性高分子(ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ(3,4-ジアルキルピロール)、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(アニリンスルホン酸))等を挙げることができる。 Providing a conductive function can be achieved by including an antistatic agent in the moisture-proof material, and a conductive layer can be provided on the surface of the moisture-proof material. Antistatic agents include, for example, carbon particles (carbon black, graphite, carbon fiber, carbon nanotubes), oxide semiconductor particles (zinc oxide, tin oxide, indium oxide), surfactants (tetraalkylammonium salts, tri Alkyl benzyl ammonium salt, alkyl sulfonate, alkyl phosphate, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene alkyl ether), hydrophilic polymer (sulfonate, quaternary ammonium salt, polyethylene glycol methacrylate copolymer, polyether ester amide , polyetheramide imide, polyethylene oxide-epichlorohydrin copolymer), conductive polymers (polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, polyaniline, poly(3,4-dialkylpyrrole), poly(3,4-ethylenedioxythiophene), poly(aniline sulfonic acid)) and the like.

下記のような帯電防止機能を有する材料のみで形成することも可能である。例えば、界面活性剤(テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルホスフォート、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル)、親水性高分子(スルホン酸塩、4級アンモニウム塩、ポリエチレングリコールメタクリレート共重合体、ポリエーテルエステルアミド、ポリエーテルアミドイミド、ポリエチレンオキシド-エピクロルヒドリン共重合体)、導電性高分子(ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ(3,4-ジアルキルピロール)、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(アニリンスルホン酸))等が挙げられる。 It is also possible to form only with materials having an antistatic function as described below. For example, surfactants (tetraalkylammonium salts, trialkylbenzylammonium salts, alkylsulfonates, alkylphosphates, glycerin fatty acid esters, polyoxyethylene alkyl ethers), hydrophilic polymers (sulfonates, quaternary ammonium salts , polyethylene glycol methacrylate copolymer, polyether ester amide, polyether amide imide, polyethylene oxide-epichlorohydrin copolymer), conductive polymer (polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, polyaniline, poly(3,4-dialkylpyrrole), poly(3,4-ethylenedioxythiophene), poly(aniline sulfonic acid)) and the like.

金属微粒子が混入された導電性シートや導電性接着剤等の導電性ポリマーや、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)等の導電性酸化物等で形成することも可能である。さらに導電性酸化物層や導電性金属層を形成してもよい。 It can also be made of a conductive sheet mixed with fine metal particles, a conductive polymer such as a conductive adhesive, or a conductive oxide such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). Furthermore, a conductive oxide layer or a conductive metal layer may be formed.

(第2の態様)
本発明にかかる放射線検出器の第2の態様を、図3(a)~(e)に示す。
図3(a)に示されるように、第2の態様では、防湿材料が、シンチレータパネル表面の防湿層(A)と、受光素子およびスイッチング素子の支持体と素子の間の防湿層(B)とから構成される。
(Second aspect)
A second embodiment of the radiation detector according to the present invention is shown in FIGS. 3(a)-(e).
As shown in FIG. 3(a), in the second embodiment, the moisture-proof material comprises a moisture-proof layer (A) on the surface of the scintillator panel and a moisture-proof layer (B) between the supports and the elements of the light receiving element and the switching element. Consists of

光電変換パネルは、図3(b)に示されるように、支持基板上に形成された防湿層(B)上にスイッチング素子および受光素子を設けたものも一態様である。このため、防湿層(B)は絶縁性の高い無機材料から形成されることが好ましい。
なお、防湿層(A)は前記第1の態様と同様の構成を採用できる。
As shown in FIG. 3(b), the photoelectric conversion panel also has one mode in which a switching element and a light receiving element are provided on a moisture-proof layer (B) formed on a support substrate. For this reason, the moisture-proof layer (B) is preferably made of an inorganic material with high insulating properties.
Incidentally, the moisture-proof layer (A) can employ the same structure as in the first aspect.

防湿層(A)と防湿層(B)が、図3(c)に示すように、シンチレータパネルの側面端部で接合されるものも一態様である。この場合、防湿層(A)には、バリアフィルムとして、第一の態様で述べたフィルムを採用する事ができるが一例として、Al箔とPETを貼り合せた有機無機複合フィルム等が使用され、フィルムの周辺部が、最内層に設けられたホットメルト樹脂で接合される。接合は、一方の防湿層を底材ないし蓋材とし、他方が箱材として全体を覆うように構成してもよい。 In one embodiment, the moisture-proof layer (A) and the moisture-proof layer (B) are joined at the side edges of the scintillator panel as shown in FIG. 3(c). In this case, the moisture-proof layer (A) can employ the film described in the first aspect as a barrier film. The peripheral portion of the film is joined with the hot-melt resin provided in the innermost layer. The joint may be configured such that one of the moisture-proof layers is used as a bottom material or a lid material, and the other is used as a box material to cover the whole.

さらに第1の態様と同様に、シンチレータパネルの表面の防湿層(A)および受光素子およびスイッチング素子の支持体と素子の間の防湿層(B)とともに、シンチレータ層および素子の側面が防湿層により被覆されていても良い。側面の被覆は、前記した防湿保護フィルムが例示され、第1の態様と同様に表面を被覆したものと同じ材質のものであっても良く、あるいは、異なる適当な樹脂によるものであっても良い。側面を被覆する異なる樹脂として、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。ここで、側面の被覆を形成する際に、これらの樹脂に更にポリイソシアネート硬化剤を混合させたものを用いることで強度とハードコートフィルムとの密着性を向上させることが可能となる。またこれらの樹脂は1種単独でも2種類以上を混合させて用いても良い。 Furthermore, in the same manner as in the first embodiment, along with the moisture-proof layer (A) on the surface of the scintillator panel and the moisture-proof layer (B) between the support and the elements of the light receiving element and the switching element, the side surfaces of the scintillator layer and the elements are covered by the moisture-proof layer. It may be covered. The coating of the side surface is exemplified by the moisture-proof protective film described above, and may be made of the same material as that used to coat the surface in the same manner as in the first embodiment, or may be made of a different suitable resin. . Polyester resin, silicone resin, urethane resin, epoxy resin, acrylic resin, fluororesin, etc., can be used as different resins for covering the side surfaces. Here, when forming the side coating, it is possible to improve the strength and adhesion to the hard coat film by using a mixture of these resins and a polyisocyanate curing agent. These resins may be used singly or in combination of two or more.

さらに、図3(d)に示すように、防湿層(A)と防湿層(B)、およびシンチレータパネルの側面端部の封止剤層からなることも一態様である。封止剤としては、第1の態様に例示したものと同様のものを採用できる。 Furthermore, as shown in FIG. 3(d), it is also an aspect to consist of a moisture-proof layer (A), a moisture-proof layer (B), and a sealant layer at the side edges of the scintillator panel. As the sealant, the same one as exemplified in the first aspect can be employed.

さらに、図3(e)に示されるように、受光素子およびスイッチング素子が接着層を介してシンチレータパネルに貼り合されていてもよい。樹脂基板の薄層光電変換パネルとシンチパネルとを組み合わせると、ガラス基板などを使用する場合にくらべ、より反りやすくなり、剥離しやすくなるが、接着層を設けることがこれらの課題が解決する。 Furthermore, as shown in FIG. 3(e), the light receiving element and the switching element may be attached to the scintillator panel via an adhesive layer. Combining a thin-layer photoelectric conversion panel with a resin substrate and a cinch panel makes it easier to warp and separate than when using a glass substrate or the like, but providing an adhesive layer solves these problems.

接着層を構成する材料としては、前記した通りである。
さらに、第1の態様と同様に防湿層(A)が、接着層を介してシンチレータパネルに貼り合されるもの一態様である。さらに、防湿層(A)及び防湿層(B)の少なくとも一方または両方が、導電機能を具備していてもよい。導電機能を備えさせると、市場環境内で内部に静電気を逃すことが可能となり、静電気によるムラを解消できる。
Materials constituting the adhesive layer are as described above.
Further, as in the first mode, the moisture-proof layer (A) is bonded to the scintillator panel via an adhesive layer. Furthermore, at least one or both of the moisture-proof layer (A) and the moisture-proof layer (B) may have a conductive function. Providing a conductive function makes it possible to release static electricity inside in a market environment, eliminating unevenness due to static electricity.

(第3の態様)
本発明にかかる放射線検出器の第3の態様を、図4(a)~(d)に示す。
図4(a)に示されるように、第3の態様では、シンチレータパネルの表面の防湿層(A)と、
光電変換パネルのシンチレータと反対側の表面の防湿層(B)とから構成される。
なお、防湿層(A)は前記第1および第2の態様と同様の構成を採用できる。
(Third aspect)
A third embodiment of the radiation detector according to the present invention is shown in FIGS. 4(a)-(d).
As shown in FIG. 4(a), in the third aspect, a moisture-proof layer (A) on the surface of the scintillator panel,
It is composed of the scintillator of the photoelectric conversion panel and the moisture-proof layer (B) on the opposite surface.
Incidentally, the moisture-proof layer (A) can employ the same structure as in the first and second aspects.

防湿層(A)と防湿層(B)が、図4(b)に示すように、シンチレータパネルの側面端部で接合されるものも一態様である。この場合、防湿層(A)には、バリアフィルムとして、第一の態様で述べたフィルムを採用する事ができるが一例として、Al箔とPETを貼り合せた有機無機複合フィルム等が使用され、フィルムの周辺部が、最内層に設けられたホットメルト樹脂で接合される。接合は、一方の防湿層を底材ないし蓋材とし、他方が箱材として全体を覆うように構成してもよい。 In one embodiment, the moisture-proof layer (A) and the moisture-proof layer (B) are joined at the side edges of the scintillator panel as shown in FIG. 4(b). In this case, the moisture-proof layer (A) can employ the film described in the first aspect as a barrier film. The peripheral portion of the film is joined with the hot-melt resin provided in the innermost layer. The joint may be configured such that one of the moisture-proof layers is used as a bottom material or a lid material, and the other is used as a box material to cover the whole.

さらに第1および第2の態様と同様に、シンチレータパネルの表面の防湿層(A)および光電変換パネルのシンチレータと反対側の表面の防湿層(B)とともに、シンチレータパネルおよび光電変換パネルの側面が防湿層により被覆されていても良い。側面の被覆は、前記した防湿保護フィルムが例示され、第1および第2の態様と同様に表面を被覆したものと同じ材質のものであっても良く、あるいは、異なる適当な樹脂によるものであっても良い。側面を被覆する異なる樹脂として、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。ここで、側面の被覆を形成する際に、これらの樹脂に更にポリイソシアネート硬化剤を混合させたものを用いることで強度とハードコートフィルムとの密着性を向上させることが可能となる。またこれらの樹脂は1種単独でも2種類以上を混合させて用いても良い。 Furthermore, as in the first and second aspects, the sides of the scintillator panel and the photoelectric conversion panel together with the moisture-proof layer (A) on the surface of the scintillator panel and the moisture-proof layer (B) on the surface opposite to the scintillator of the photoelectric conversion panel It may be covered with a moisture-proof layer. The coating of the side surface is exemplified by the moisture-proof protective film described above, and may be made of the same material as that used to coat the surface as in the first and second embodiments, or may be made of a different suitable resin. can be Polyester resin, silicone resin, urethane resin, epoxy resin, acrylic resin, fluororesin, etc., can be used as different resins for covering the side surfaces. Here, when forming the side coating, it is possible to improve the strength and adhesion to the hard coat film by using a mixture of these resins and a polyisocyanate curing agent. These resins may be used singly or in combination of two or more.

さらに、図4(c)に示すように、防湿層(A)と防湿層(B)、およびシンチレータパネルの側面端部の封止剤層からなることも一態様である。封止剤としては、第1および第2の態様に例示したものと同様のものを採用できる。 Furthermore, as shown in FIG. 4(c), it is also an aspect to consist of a moisture-proof layer (A), a moisture-proof layer (B), and a sealant layer on the side edges of the scintillator panel. As the sealant, the same ones as exemplified in the first and second aspects can be employed.

さらに、図4(d)に示されるように、シンチレータパネルが、接着層を介して、光電変化ンパネル上の受光素子およびスイッチング素子と貼り合されていてもよい。樹脂基板の薄層光電変換パネルとシンチパネルとを組み合わせると、ガラス基板などを使用する場合に比べ、より反りやすくなり、剥離しやすくなるが、接着層を設けることがこれらの課題が解決する。 Furthermore, as shown in FIG. 4(d), the scintillator panel may be attached to the light receiving element and switching element on the photoelectric conversion panel via an adhesive layer. Combining a thin-layer photoelectric conversion panel with a resin substrate and a cinch panel makes it easier to warp and separate than when using a glass substrate or the like, but providing an adhesive layer solves these problems.

接着層を構成する材料としては、前記した通りである。
さらに、防湿層(A)及び防湿層(B)の少なくとも一方または両方が、導電機能を具備していてもよい。導電機能を備えさせると、市場環境内で内部に静電気を逃すことが可能となり、静電気によるムラを解消できる。
Materials constituting the adhesive layer are as described above.
Furthermore, at least one or both of the moisture-proof layer (A) and the moisture-proof layer (B) may have a conductive function. Providing a conductive function makes it possible to release static electricity inside in a market environment, eliminating unevenness due to static electricity.

(剛性板の態様)
本発明では、さらに光電変換パネルのシンチレータ側と反対の面に、剛性板を有するのも一態様である。
薄層樹脂基板から構成されるフレキシブルな放射線検出器は、使用中の衝撃によりズレを発生させることがある。そこで、剛性板で固定することによって、部材の密着性を増し、ズレや欠陥の増加のない放射線検出器を得ることができる。
(Aspect of rigid plate)
In one aspect of the present invention, a rigid plate is further provided on the surface of the photoelectric conversion panel opposite to the scintillator side.
A flexible radiation detector constructed from a thin-layer resin substrate may be displaced due to impact during use. Therefore, by fixing with a rigid plate, it is possible to increase the adhesion of the members and obtain a radiation detector free from misalignment and increase in defects.

剛性板とは、弾性率が10GPa以上の板であれば厚さや材質は特に制限されない。鉛などの金属、ガラス、カーボン、CFRPなど複合材料、PETなどの樹脂材料など、特に制約はなく使用することができる。また防湿材料が、剛性板の機能を兼ねることもできる。 The rigid plate is not particularly limited in thickness and material as long as it has an elastic modulus of 10 GPa or more. Metals such as lead, glass, carbon, composite materials such as CFRP, and resin materials such as PET can be used without particular restrictions. Also, the moisture-proof material can also function as a rigid plate.

剛性板の対象物への接合は、接着剤層を介して行われることが好ましい。接合する材料には特に制約はないが、ホットメルトシートを介して行われることが好ましい。上記ホットメルトシートは、既知のものを用いることができる。また、ホットメルトシートの種類としては、その主成分により、例えばポリオレフィン系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリウレタン系、EVA系等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。 Bonding of the rigid plate to the object is preferably done via an adhesive layer. Although there are no particular restrictions on the materials to be joined, it is preferable to use a hot-melt sheet. A known hot-melt sheet can be used. The types of hot-melt sheets include, for example, polyolefin-based, polyamide-based, polyester-based, polyurethane-based, EVA-based, etc., depending on the main component. However, it is not limited to these.

剛性板は放射線検出器の構成部材として使用されていれば、使用箇所は、外表面であっても内表面であっても、内部であってもよい。
剛性板を用いた態様を図5(a)~(f)に示す。
たとえば、図5(a)に示されるように、該光電変換パネルのシンチレータ側と反対の面に、剛性板を有するのが一態様である。
As long as the rigid plate is used as a constituent member of the radiation detector, it may be used on the outer surface, the inner surface, or the inside.
An embodiment using a rigid plate is shown in FIGS. 5(a) to 5(f).
For example, as shown in FIG. 5(a), one mode is to have a rigid plate on the surface opposite to the scintillator side of the photoelectric conversion panel.

また、図5(b)に示すように、光電変換パネルのシンチレータ側と反対の面に、剛性板を有し、かつ防湿層(B)が剛性板上で光電変換パネル支持基板と間に形成されていてもよい。さらに図5(c)に示すように、剛性板が防湿層(B)の機能を備えるものであってもよい。防湿層の機能を備える場合、剛性板として、放射線を透過しにくい鉛など原子番号40以上の金属からなる金属板が使用でき、これらは防湿層としても機能する。 Further, as shown in FIG. 5(b), a rigid plate is provided on the surface of the photoelectric conversion panel opposite to the scintillator side, and a moisture-proof layer (B) is formed on the rigid plate between the photoelectric conversion panel support substrate and the photoelectric conversion panel support substrate. may have been Furthermore, as shown in FIG. 5(c), the rigid plate may have the function of the moisture-proof layer (B). When the function of the moisture-proof layer is provided, a metal plate made of a metal having an atomic number of 40 or higher such as lead, which does not easily transmit radiation, can be used as the rigid plate, and these also function as the moisture-proof layer.

図5(d)に示すように、前記シンチレータパネル表面に剛性板を有していてもよい。シンチレータ表面は、放射線入射側でも、出射側の光電変換パネル側でもいいが、望ましくは、外部表面に形成することが好ましい。 As shown in FIG. 5(d), a rigid plate may be provided on the surface of the scintillator panel. The surface of the scintillator may be on the radiation incident side or on the radiation emitting side of the photoelectric conversion panel, but is preferably formed on the external surface.

図5(e)に示すように、防湿層(A)は前記シンチレータパネル表面の剛性板の表面に形成されているのも一態様である。
さらに図5(f)に示すように、剛性板が防湿層(A)の機能を備えてもよい。
剛性板が放射線検出器を収める筐体の天板であってもよい。
As shown in FIG. 5(e), in one embodiment, the moisture-proof layer (A) is formed on the surface of a rigid plate on the surface of the scintillator panel.
Further, as shown in FIG. 5(f), the rigid plate may have the function of the moisture-proof layer (A).
The rigid plate may be the top plate of the housing that houses the radiation detector.

また、本発明の放射線検出器は、X線はどちらの側から照射されてもよく、シンチレータパネル側からX線が照射された場合、シンチレータのX線利用効率が向上するためより強く発光し、光電変換パネル側からX線が照射された場合、受光素子に近いシンチレータ強く発光するため、撮影によって得られる放射線画像の分解能が高い。 In addition, the radiation detector of the present invention may be irradiated with X-rays from either side, and when the X-rays are irradiated from the scintillator panel side, the scintillator uses the X-rays more efficiently and emits stronger light, When X-rays are irradiated from the photoelectric conversion panel side, the scintillator close to the light receiving element emits strong light, so the resolution of the radiographic image obtained by imaging is high.

本発明によれば、薄膜、軽量化が可能であり、反りや剥離、内部の静電気の蓄積によるムラといったことを生ずることのない放射線検出器が提供される。このような本発明にかかる放射線検出器は、種々の態様のX線画像撮影システムに応用することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a radiation detector that can be made thin and lightweight, and that does not cause warping, peeling, or unevenness due to accumulation of static electricity inside. Such a radiation detector according to the present invention can be applied to various types of X-ray imaging systems.

4・・・TFT基板
5・・・走査線
6・・・信号線
7・・・フォトダイオード
8・・・TFT
4 TFT substrate 5 Scanning line 6 Signal line 7 Photodiode 8 TFT

Claims (5)

第1のポリイミドフィルム上に、柱状結晶で構成されたシンチレータ層を有するシンチレータパネルと、
前記第1のポリイミドフィルムとは異なる第2のポリイミドフィルム上に受光素子及びスイッチング素子を有する光電変換パネルであって、前記受光素子が前記シンチレータ層
と対向している前記光電変換パネルと、
前記シンチレータパネルと前記光電変換パネルを接着する粘着層と、
少なくとも前記シンチレータ層を封止する金属箔と、
前記金属箔を剛性板である筐体に接着する接着剤層と、
を備えた放射線検出器。
a scintillator panel having a scintillator layer composed of columnar crystals on the first polyimide film;
a photoelectric conversion panel having a light-receiving element and a switching element on a second polyimide film different from the first polyimide film, wherein the light-receiving element faces the scintillator layer;
an adhesive layer that bonds the scintillator panel and the photoelectric conversion panel;
a metal foil that seals at least the scintillator layer;
an adhesive layer that adheres the metal foil to a housing that is a rigid plate;
A radiation detector with
前記粘着層は、感圧性粘着層であることを特徴とする請求項1に記載の放射線検出器。 2. The radiation detector according to claim 1, wherein said adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer. 前記金属箔はアルミニウムであることを特徴とする請求項1または2に記載の放射線検出器。 3. The radiation detector according to claim 1, wherein said metal foil is aluminum. 前記光電変換パネルは可撓性を有することを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の放射線検出器。 4. The radiation detector according to claim 1, wherein said photoelectric conversion panel is flexible. 前記感圧性粘着層の膜厚は、1~100μmであることを特徴とする請求項に記載の放射線検出器。 3. The radiation detector according to claim 2 , wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 1 to 100 μm.
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