JP7276212B2 - Thermally conductive silicone composition and method for producing the same - Google Patents

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Description

本発明は、熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法に関し、ソルダーレジスト基板に対して良好な耐ボイド性能を有しながら、低粘度で耐ズレ性に優れた熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thermally conductive silicone composition and a method for producing the same, and more particularly to a thermally conductive silicone composition that exhibits good void resistance for solder resist substrates, low viscosity, and excellent misalignment resistance, and production thereof. Regarding the method.

一般に、電気・電子部品は使用中に熱が発生するので、これらの部品を適切に動作させるためには除熱が必要であり、従来、その除熱用に使用する種々の熱伝導性材料が提案されている。この場合の熱伝導性材料としては、(1)取り扱いが容易なシート状のものと、(2)放熱用グリースと称されるペースト状のものという2種類の形態のものがある。 In general, electrical and electronic parts generate heat during use, so heat removal is necessary for proper operation of these parts. Proposed. In this case, there are two types of thermally conductive materials: (1) easy-to-handle sheet-like materials and (2) paste-like heat-dissipating greases.

(1)のシート状のものは取り扱いが容易であるだけでなく、安定性にも優れるという利点がある一方、接触熱抵抗が必然的に大きくなるため、放熱性能は放熱用グリースの場合より劣ることになる。またシート状を保つためにある程度の強度及び硬さが必要となるので、素子と筐体の間に生じる公差を吸収することができず、それらの応力によって素子が破壊されることもある。 The sheet-like material of (1) is not only easy to handle, but also has the advantage of being excellent in stability. It will be. In addition, since a certain degree of strength and hardness is required to maintain the sheet shape, the tolerance generated between the element and the housing cannot be absorbed, and the element may be destroyed by the stress.

これに対し、(2)の放熱用グリースの場合には、塗布装置等を用いることによって電気・電子製品の大量生産にも適応できるだけでなく、接触熱抵抗が低いので放熱性能にも優れるという利点がある。しかしながら、良好な塗布性能を得るために放熱用グリースの粘度を低くした場合には、素子の冷熱衝撃等によって放熱グリースがズレる結果(ポンプアウト現象)、除熱が十分でなくなり、その結果素子が誤作動を起こすことがあった。 On the other hand, in the case of heat dissipating grease of (2), not only can it be applied to the mass production of electrical and electronic products by using a coating device, but it also has the advantage of being excellent in heat dissipating performance due to its low contact thermal resistance. There is However, if the viscosity of the heat dissipating grease is lowered in order to obtain good application performance, the heat dissipating grease will shift due to the thermal shock of the element (pump-out phenomenon), resulting in insufficient heat removal, and as a result, the element will be damaged. A malfunction occurred.

そこで、特定のオルガノポリシロキサンと、酸化亜鉛、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素等の増稠剤、及び1分子中にケイ素原子に直結した水酸基を少なくとも1個有するオルガノポリシロキサン、ならびにアルコキシシランとを組み合わせてベースオイルのブリードを抑えた、グリース状シリコーン組成物、液状シリコーンと、一定の熱伝導率を有しモース硬度が6以上の熱伝導性無機充填剤、及び一定の熱伝導率を有し、モース硬度が5以下の熱伝導性無機充填剤を組み合わせてなる、熱伝導性及びディスペンス性に優れた熱伝導性シリコーン組成物(特許文献1:特開平11-246884号公報)、特定の基油と平均粒径が0.5~50μmの金属アルミニウム粉体とを組み合わせてなる熱伝導性グリース組成物(特許文献2:特開2000-63873号公報)、平均粒径の異なる2種の窒化アルミニウム粉末を混合して使用することにより、シリコーングリース中の窒化アルミニウムの充填率を高めたシリコーングリース組成物(特許文献3:特開2000-169873号公報)、オイルの粘性を高めてブリードアウトを抑制したシリコーングリース組成物等の、さらに高性能な熱伝導性シリコーン組成物が提案されてきた。しかしながら、使用される電子・電気部品の高性能化に十分対応することのできるものは未だ得られていない。 Therefore, a specific organopolysiloxane, a thickening agent such as zinc oxide, alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, an organopolysiloxane having at least one hydroxyl group directly bonded to a silicon atom in one molecule, and an alkoxy A grease-like silicone composition that suppresses base oil bleeding by combining with silane, a liquid silicone, a thermally conductive inorganic filler having a constant thermal conductivity and a Mohs hardness of 6 or more, and a constant thermal conductivity A thermally conductive silicone composition having excellent thermal conductivity and dispensing properties (Patent Document 1: JP-A-11-246884), which is obtained by combining a thermally conductive inorganic filler having a Mohs hardness of 5 or less, specified and a metallic aluminum powder having an average particle size of 0.5 to 50 μm (Patent Document 2: JP-A-2000-63873), two types with different average particle sizes A silicone grease composition (Patent Document 3: JP-A-2000-169873) in which the filling rate of aluminum nitride in the silicone grease is increased by mixing and using the aluminum nitride powder of the above, and the viscosity of the oil is increased to bleed. Higher performance thermally conductive silicone compositions have been proposed, such as out-controlled silicone grease compositions. However, there has not yet been obtained a device that can sufficiently cope with the high performance of electronic and electrical parts used.

特開平11-246884号公報JP-A-11-246884 特開2000-63873号公報JP-A-2000-63873 特開2000-169873号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-169873

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、ソルダーレジスト基板に対して良好な耐ボイド性能を有しながら、低粘度で耐ズレ性に優れた熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a thermally conductive silicone composition that exhibits good void resistance for solder resist substrates, low viscosity, and excellent misalignment resistance, and a method for producing the same. intended to

ソルダーレジスト基板は、硬化剤として塩基性触媒や塩基性硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物の硬化物である。このため熱伝導性グリース(熱伝導性シリコーン組成物)をソルダーレジスト基板に塗布した場合に、塩基性触媒や残余の塩基性硬化剤により、熱伝導性グリースに含有されるアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンが加水分解し、これによりアルコールが揮発する。この現象は電子部品の発熱が大きいときに顕著であり、最悪の場合に圧力により熱伝導性シリコーン組成物を押しのけて、貫通孔や割れが発生して熱の通り道がなくなる。 A solder resist substrate is a cured product of an epoxy resin composition containing a basic catalyst or a basic curing agent as a curing agent. For this reason, when thermally conductive grease (thermally conductive silicone composition) is applied to a solder resist substrate, hydrolysis of the alkoxy groups contained in the thermally conductive grease is caused by the basic catalyst and residual basic curing agent. The organic organosiloxane hydrolyzes, which volatilizes the alcohol. This phenomenon is conspicuous when the electronic component generates a large amount of heat. In the worst case, the pressure pushes the thermally conductive silicone composition away, causing through-holes or cracks, resulting in no heat passage.

本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、(A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと、(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサンとを、特定モル比(Si-H/Si-Vi)で反応させた反応生成物と、特定の平均粒径の金属酸化物である熱伝導性無機充填材(C)及び(D)を組み合わせ、かつ特定量とし、さらに(E)アルコキシ基含有の加水分解性オルガノシロキサン、及び必要に応じて白金族金属系触媒を配合し、加熱混合して(A)成分と(B)成分の反応を行い、その後、特定量の(F)アルコキシ縮合触媒を組み合わせ、特定粘度、及び単位体積当たりのSi-H残基量が特定量である熱伝導性シリコーン組成物とすることで、ソルダーレジスト基板に対する耐ボイド性と耐ズレ性とを両立できることを知見し、本発明をなすに至ったものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that (A) an organopolysiloxane having an alkenyl group bonded to a silicon atom and (B) an organohydrogenpolysiloxane are mixed in a specific molar ratio (Si- H / Si-Vi) and the thermally conductive inorganic fillers (C) and (D), which are metal oxides having a specific average particle size, are combined in a specific amount, and (E ) A hydrolyzable organosiloxane containing an alkoxy group and, if necessary, a platinum group metal catalyst are blended, heated and mixed to react components (A) and (B), and then a specific amount of (F ) Combining an alkoxy condensation catalyst to obtain a thermally conductive silicone composition having a specific viscosity and a specific amount of Si—H residues per unit volume, thereby improving void resistance and displacement resistance to a solder resist substrate. The inventors have found that they can be compatible with each other, and have completed the present invention.

本発明は、熱伝導性シリコーン組成物中のアルコキシ縮合触媒及びアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンと、ソルダーレジスト基板に吸収された水分が反応して、アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンの遮蔽層がソルダーレジスト基板表面にできる。この表面遮蔽層はソルダーレジスト基板からの水分と熱伝導性シリコーン組成物中のアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンとの反応を止めるために、アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンからのアルコール生成(アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンの加水分解)を止める。これにより、熱伝導性シリコーン組成物の割れやボイドの発生が抑えられる。 In the present invention, the hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group reacts with the alkoxy condensation catalyst and the hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group in the thermally conductive silicone composition and the moisture absorbed by the solder resist substrate to form the hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group. A shielding layer forms on the surface of the solder resist substrate. This surface shielding layer prevents the reaction between the moisture from the solder resist substrate and the hydrolyzable organosiloxane having alkoxy groups in the thermally conductive silicone composition. (Hydrolysis of hydrolyzable organosiloxanes with alkoxy groups) is terminated. This suppresses cracks and voids in the thermally conductive silicone composition.

従って、本発明は、下記熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法を提供する。
1.(A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと、(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサンとを、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基と(B)成分中のSi-H基とのモル比(Si-H/Si-Vi)2~10の割合で反応させた反応生成物、
(C)金属酸化物から選ばれる平均粒径3μm以下の熱伝導性無機充填材、
(D)金属酸化物から選ばれる平均粒径5μm以上の熱伝導性無機充填材、
(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサン、及び
(F)グアニジル基を含有するシラン又はシロキサンであるアルコキシ縮合触媒:(E)成分に対して0.01~1質量%
を含有し、(C)成分と(D)成分の合計配合量が、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して2,000~8,000質量部であり、25℃における絶対粘度が50~500Pa・sで、単位体積当たりのSi-H残基量が1×10-6~1×10-3mol/cm3である熱伝導性シリコーン組成物。
2.(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンの配合量が、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して、25~400質量部である1に記載の熱伝導性シリコーン組成物。
3.ソルダーレジスト基板用である1又は2に記載の熱伝導性シリコーン組成物。
4.(A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと、(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサンとを、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基と(B)成分中のSi-H基とのモル比(Si-H/Si-Vi)2~10の割合で反応させた反応生成物、
(C)金属酸化物から選ばれる平均粒径3μm以下の熱伝導性無機充填材、
(D)金属酸化物から選ばれる平均粒径5μm以上の熱伝導性無機充填材、
(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサン、及び
(F)アルコキシ縮合触媒:(E)成分に対して0.01~1質量%
を含有し、(C)成分と(D)成分の合計配合量が、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して2,000~8,000質量部であり、25℃における絶対粘度が50~500Pa・sで、単位体積当たりのSi-H残基量が1×10 -6 ~1×10 -3 mol/cm 3 である熱伝導性シリコーン組成物の製造方法であって、
(I)(A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサン、(C)金属酸化物から選ばれる平均粒径3μm以下の熱伝導性無機充填材、(D)金属酸化物から選ばれる平均粒径5μm以上の熱伝導性無機充填材、(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサン、及び必要に応じて白金族金属系触媒を、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基と(B)成分中のSi-H基とのモル比(Si-H/Si-Vi)が2~10となるように混合して混合物を得る工程と、
(II)得られた混合物を100~180℃で30分~4時間加熱して、(A)成分と(B)成分とを反応させる工程と、
(III)上記で得られた反応混合物に、(F)アルコキシ縮合触媒を室温で10~60分間混合する工程と
を含む熱伝導性シリコーン組成物の製造方法。
5.(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンの配合量が、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して、25~400質量部である4に記載の熱伝導性シリコーン組成物の製造方法。
6.ソルダーレジスト基板用である4又は5に記載の熱伝導性シリコーン組成物の製造方法。
Accordingly, the present invention provides the following thermally conductive silicone composition and method for producing the same.
1. (A) an organopolysiloxane having a silicon-bonded alkenyl group and (B) an organohydrogenpolysiloxane are combined with the silicon-bonded alkenyl groups in component (A) and the Si— in component (B). a reaction product reacted with H groups at a molar ratio (Si—H/Si—Vi) of 2 to 10;
(C) a thermally conductive inorganic filler with an average particle size of 3 μm or less selected from metal oxides;
(D) a thermally conductive inorganic filler having an average particle size of 5 μm or more selected from metal oxides;
(E) a hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group, and (F) an alkoxy condensation catalyst that is a silane or siloxane containing a guanidyl group : 0.01 to 1% by mass relative to component (E)
and the total amount of components (C) and (D) is 2,000 to 8,000 parts by mass per 100 parts by mass of components (A) and (B), and 25 A thermally conductive silicone composition having an absolute viscosity of 50 to 500 Pa·s at °C and an amount of Si—H residues per unit volume of 1×10 −6 to 1×10 −3 mol/cm 3 .
2. 1. The thermal conductivity according to 1, wherein the amount of (E) the hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group is 25 to 400 parts by mass with respect to the total of 100 parts by mass of the components (A) and (B). Silicone composition.
3. 3. The thermally conductive silicone composition according to 1 or 2, which is for solder resist substrates.
4. (A) an organopolysiloxane having a silicon-bonded alkenyl group and (B) an organohydrogenpolysiloxane are combined with the silicon-bonded alkenyl groups in component (A) and the Si— in component (B). a reaction product reacted with H groups at a molar ratio (Si—H/Si—Vi) of 2 to 10;
(C) a thermally conductive inorganic filler with an average particle size of 3 μm or less selected from metal oxides;
(D) a thermally conductive inorganic filler having an average particle size of 5 μm or more selected from metal oxides;
(E) a hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group, and
(F) Alkoxy condensation catalyst: 0.01 to 1% by mass relative to component (E)
and the total amount of components (C) and (D) is 2,000 to 8,000 parts by mass per 100 parts by mass of components (A) and (B), and 25 A method for producing a thermally conductive silicone composition having an absolute viscosity at °C of 50 to 500 Pa·s and an amount of Si—H residues per unit volume of 1×10 −6 to 1×10 −3 mol/cm 3 . There is
(I) (A) an organopolysiloxane having an alkenyl group bonded to a silicon atom, (B) an organohydrogenpolysiloxane, and (C) a thermally conductive inorganic filler having an average particle size of 3 μm or less selected from metal oxides; (D) a thermally conductive inorganic filler having an average particle size of 5 μm or more selected from metal oxides, (E) a hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group, and, if necessary, a platinum group metal-based catalyst, (A) a step of mixing the alkenyl groups bonded to silicon atoms in the component and the Si—H groups in the component (B) so that the molar ratio (Si—H/Si—Vi) is 2 to 10 to obtain a mixture; ,
(II) heating the resulting mixture at 100 to 180° C. for 30 minutes to 4 hours to react components (A) and (B);
(III) A method for producing a thermally conductive silicone composition comprising the step of mixing (F) an alkoxy condensation catalyst with the reaction mixture obtained above at room temperature for 10 to 60 minutes.
5. 4. The thermal conductivity according to 4, wherein the amount of (E) the hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group is 25 to 400 parts by mass with respect to the total of 100 parts by mass of the components (A) and (B). A method for producing a silicone composition.
6. 6. The method for producing a thermally conductive silicone composition according to 4 or 5, which is for a solder resist substrate.

本発明によれば、ソルダーレジスト基板に対して良好な耐ボイド性能を有し、低粘度でありながら耐ズレ性に優れた熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法を提供することができる。よって本発明は、使用中に熱が発生するソルダーレジスト基板を用いた電気・電子部品からの除熱に好適である。
以下、「熱伝導性シリコーン組成物」を「シリコーン組成物」と記載する場合がある。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is possible to provide a thermally conductive silicone composition that has good void resistance for solder resist substrates, low viscosity and excellent displacement resistance, and a method for producing the same. Therefore, the present invention is suitable for removing heat from electrical/electronic components using solder resist substrates that generate heat during use.
Hereinafter, "thermally conductive silicone composition" may be referred to as "silicone composition".

以下、本発明について詳細に説明する。 The present invention will be described in detail below.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、
(A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサンとを特定割合で反応させた反応生成物、
(C)金属酸化物から選ばれる平均粒径3μm以下の熱伝導性無機充填材、
(D)金属酸化物から選ばれる平均粒径5μm以上の熱伝導性無機充填材、
(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサン、及び
(F)アルコキシ縮合触媒
を含有し、特定粘度、及び単位体積当たりのSi-H残基量が特定量のものである。
以下に、各成分について説明する。
The thermally conductive silicone composition of the present invention is
A reaction product obtained by reacting (A) an organopolysiloxane having alkenyl groups bonded to silicon atoms and (B) an organohydrogenpolysiloxane at a specific ratio;
(C) a thermally conductive inorganic filler with an average particle size of 3 μm or less selected from metal oxides;
(D) a thermally conductive inorganic filler having an average particle size of 5 μm or more selected from metal oxides;
It contains (E) a hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group and (F) an alkoxy condensation catalyst, and has a specific viscosity and a specific amount of Si—H residues per unit volume.
Each component will be described below.

[反応生成物]
本発明に用いられる反応生成物は、(A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと、(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサンとを、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基と(B)成分中のSi-H基とのモル比(Si-H/Si-Vi)2~10で反応させた反応生成物である。
[Reaction product]
The reaction product used in the present invention comprises (A) an organopolysiloxane having a silicon-bonded alkenyl group and (B) an organohydrogenpolysiloxane combined with a silicon-bonded alkenyl group in component (A). It is a reaction product obtained by reacting groups with Si--H groups in component (B) at a molar ratio (Si--H/Si--Vi) of 2-10.

[(A)成分]
(A)成分は、ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に平均して少なくとも1個(通常1~20個、好ましくは1~10個)程度有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンである。これらは1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。
[(A) component]
Component (A) is an alkenyl group-containing organopolysiloxane having an average of at least one silicon-bonded alkenyl group per molecule (usually 1 to 20, preferably 1 to 10). These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types as appropriate.

(A)成分の分子構造は特に限定されず、例えば、直鎖状構造、一部分岐を有する直鎖状構造、分岐鎖状構造、環状構造、分岐を有する環状構造が挙げられるが、通常、実質的に直鎖状のオルガノポリシロキサンであることが好ましく、具体的には、分子鎖が主にジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状のジオルガノポリシロキサンであることが好ましい。また、(A)成分は、単一のシロキサン単位からなる重合体であっても、2種以上のシロキサン単位からなる共重合体であってもよい。さらに、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基の位置は特に制限されず、このアルケニル基は分子鎖末端のケイ素原子及び分子鎖非末端(分子鎖途中)のケイ素原子のどちらか一方にのみ結合していてもよいし、これら両者に結合していてもよい。 The molecular structure of component (A) is not particularly limited. It is preferably a straight-chain organopolysiloxane. Specifically, the molecular chain is mainly composed of repeating diorganosiloxane units, and both ends of the molecular chain are blocked with triorganosiloxy groups. is preferably a diorganopolysiloxane of The component (A) may be a polymer consisting of a single siloxane unit or a copolymer consisting of two or more siloxane units. Further, the position of the alkenyl group bonded to the silicon atom in the component (A) is not particularly limited, and the alkenyl group may be either a silicon atom at the terminal of the molecular chain or a silicon atom at the non-terminal of the molecular chain (in the middle of the molecular chain). may be bound only to or may be bound to both of them.

(A)成分としては、例えば、下記平均組成式(1)
1 m2 nSiO(4-m-n)/2 (1)
(式中、R1は独立に脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の1価炭化水素基であり、R2は独立にアルケニル基であり、mは0.5~2.5、好ましくは1.0~2.1の正数であり、nは0.001~1.1、好ましくは0.001~1.0の正数である。但し、m+nは通常0.501~3.0、好ましくは2.0~3.0の正数である。)
で表され、ケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも1個有するオルガノポリシロキサンが挙げられる。
As the component (A), for example, the following average composition formula (1)
R1mR2nSiO (4-mn)/2 ( 1 )
(wherein R 1 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturation, R 2 is independently an alkenyl group, m is 0.5 to 2.5, It is preferably a positive number of 1.0 to 2.1, and n is a positive number of 0.001 to 1.1, preferably 0.001 to 1.0, provided that m+n is usually 0.501 to 3. .0, preferably a positive number from 2.0 to 3.0.)
and having at least one alkenyl group bonded to a silicon atom.

上記R1としては、例えば、炭素数1~10の脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の1価炭化水素基が挙げられる。R1の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;ベンジル基、2-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基等のアラルキル基;これらの炭化水素基中の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全てが塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;シアノ基等によって置換された基、例えば、クロロメチル基、2-ブロモエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等が挙げられる。
これらの中でも、メチル基、フェニル基又はこれら両者の組み合わせが好ましい。R1がメチル基、フェニル基又はこれら両者の組み合わせである(A)成分は、合成が容易であり、化学的安定性が良好である。
Examples of R 1 include unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon groups containing no aliphatic unsaturated bonds having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples of R 1 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, hexyl group, octyl group and decyl group; aryl groups such as xylyl group and naphthyl group; cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; aralkyl groups such as benzyl group, 2-phenylethyl group and 3-phenylpropyl group; Halogen atoms such as a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom for some or all of the bonded hydrogen atoms; A fluoropropyl group, a cyanoethyl group and the like can be mentioned.
Among these, a methyl group, a phenyl group, or a combination of both is preferred. Component (A) in which R 1 is a methyl group, a phenyl group, or a combination of both is easy to synthesize and has good chemical stability.

上記R2としては、例えば、炭素数2~8のアルケニル基が挙げられる。R2の具体例としては、ビニル基、アリル基、1-プロペニル基、イソプロペニル基、1-ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。これらの中でもビニル基が好ましい。R2がビニル基である(A)成分は、合成が容易であり、化学的安定性が良好である。 Examples of R 2 include alkenyl groups having 2 to 8 carbon atoms. Specific examples of R 2 include vinyl group, allyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 1-butenyl group, isobutenyl group and hexenyl group. Among these, a vinyl group is preferred. The component (A) in which R 2 is a vinyl group is easy to synthesize and has good chemical stability.

(A)成分の具体例としては、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジビニルメチルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖の片末端がジメチルビニルシロキシ基封鎖で他方の片末端がトリメチルシロキシ基封鎖であるジメチルポリシロキサン、分子鎖の片末端がジメチルビニルシロキシ基封鎖で他方の片末端がトリメチルシロキシ基封鎖であるメチルビニルポリシロキサン、分子鎖の片末端がジメチルビニルシロキシ基封鎖で他方の片末端がトリメチルシロキシ基封鎖であるジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体等が挙げられる。これらのオルガノポリシロキサンは、1種単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよく、また重合度の異なる1種又は2種以上を併用してもよい。 Specific examples of component (A) include dimethylsiloxane-methylvinylsiloxane copolymer with trimethylsiloxy groups blocked at both molecular chain ends, methylvinylpolysiloxane with trimethylsiloxy groups blocked at both molecular chain ends, and dimethyl with trimethylsiloxy groups blocked at both molecular chain ends. Siloxane/methylvinylsiloxane/methylphenylsiloxane copolymer, dimethylsiloxane/methylvinylsiloxane/diphenylsiloxane copolymer with trimethylsiloxy group-blocked at both molecular chain ends, dimethylpolysiloxane with dimethylvinylsiloxy group-blocked at both molecular chain ends, both molecular chain ends dimethylvinylsiloxy-terminated methylvinylpolysiloxane, dimethylvinylsiloxy-terminated dimethylsiloxane/methylvinylsiloxane copolymer, dimethylvinylsiloxy-terminated dimethylsiloxane/methylvinylsiloxane/methylphenylsiloxane at both molecular chain ends Polymer, dimethylsiloxane-methylvinylsiloxy group-blocked at both molecular chain ends, dimethylsiloxane-methylvinylsiloxane-diphenylsiloxane copolymer, dimethylpolysiloxane-blocked at both molecular chain ends with divinylmethylsiloxy group, dimethylpolysiloxane-blocked at both molecular chain ends with trivinylsiloxy group , a dimethylpolysiloxane in which one end of the molecular chain is blocked with a dimethylvinylsiloxy group and the other end is blocked with a trimethylsiloxy group, and one end of the molecular chain is blocked with a dimethylvinylsiloxy group and the other end is blocked with a trimethylsiloxy group. methylvinylpolysiloxane, and a dimethylsiloxane-methylvinylsiloxane copolymer having a molecular chain end capped with a dimethylvinylsiloxy group at one end and a molecular chain end capped with a trimethylsiloxy group at the other end. These organopolysiloxanes may be used singly or in combination of two or more. Alternatively, one or two or more having different degrees of polymerization may be used in combination.

なお、アルケニル基の含有量は、オルガノポリシロキサン中0.002~1.2mol/100g、特に0.003~0.5mol/100gとすることが好ましい。アルケニル基の量が、多すぎると架橋度が高くなりすぎて、高粘度のグリースとなる場合があり、少なすぎると耐ズレ性に対して十分な架橋度合いが得られない場合がある。 The alkenyl group content in the organopolysiloxane is preferably 0.002 to 1.2 mol/100 g, more preferably 0.003 to 0.5 mol/100 g. If the amount of alkenyl groups is too large, the degree of cross-linking may become too high, resulting in a highly viscous grease.

(A)成分の25℃における絶対粘度は、0.1~20,000mPa・sが好ましく、10~5,000mPa・sがより好ましい。上記絶対粘度が低すぎると、得られるシリコーン組成物中の熱伝導性無機充填材が沈降しやすくなり、長期の保存性に欠けるおそれがある。また、上記絶対粘度が高すぎると、得られるシリコーン組成物は著しく流動性に欠けたものとなりやすく、作業性が劣ったものとなるおそれがある。なお、本発明において、絶対粘度は、マルコム粘度計(タイプPC-10AA)等のスパイラル粘度計による測定値である。 The absolute viscosity of component (A) at 25° C. is preferably 0.1 to 20,000 mPa·s, more preferably 10 to 5,000 mPa·s. If the absolute viscosity is too low, the thermally conductive inorganic filler in the resulting silicone composition tends to settle out, possibly resulting in poor long-term storage stability. On the other hand, if the absolute viscosity is too high, the resulting silicone composition will tend to lack fluidity and may have poor workability. In the present invention, absolute viscosity is a value measured by a spiral viscometer such as a Malcolm viscometer (type PC-10AA).

[(B)成分]
(B)成分は、1分子中に1個以上のケイ素原子に結合した水素原子(Si-H基)を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンであり、1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、シリコーン組成物の硬化剤であり、1分子中に平均1個以上、好ましくは2個以上(通常2~300個程度、より好ましくは2~200個程度)のケイ素原子に結合した水素原子(Si-H基)を有するものである。
[(B) Component]
Component (B) is an organohydrogenpolysiloxane having one or more silicon-bonded hydrogen atoms (Si—H groups) in one molecule, and is used alone or in combination of two or more. be able to. Component (B) organohydrogenpolysiloxane is a curing agent for silicone compositions, and has an average of 1 or more, preferably 2 or more (usually about 2 to 300, more preferably 2 to 200) per molecule. degree) of hydrogen atoms (Si—H groups) bonded to silicon atoms.

(B)成分の分子構造は特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐鎖状、環状、又は三次元網状構造の樹脂状物が挙げられ、いずれのものであってもよいが、下記平均組成式(2)で示されるものを用いることができる。
3 pqSiO(4-p-q)/2 (2)
(式中、R3は独立に脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の1価炭化水素基である。pは0.4~2.5、好ましくは0.8~2.2の正数であり、qは0.03~1.0、好ましくは0.05~0.95の正数であり、かつp+qは0.43~3.0、好ましくは0.85~3.0の正数である。)
The molecular structure of component (B) is not particularly limited. Those represented by the compositional formula (2) can be used.
R3pHqSiO ( 4-pq)/2 ( 2)
(wherein R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturation; p is 0.4 to 2.5, preferably 0.8 to 2.2; is a positive number, q is a positive number of 0.03 to 1.0, preferably 0.05 to 0.95, and p+q is 0.43 to 3.0, preferably 0.85 to 3.0 is a positive number of

式(2)中のR3としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基、シクロヘキシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;3-クロロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等の、通常、炭素数1~10、好ましくは1~8程度の脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又はハロゲン置換の1価炭化水素基等が例示される。メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 R 3 in formula (2) includes alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, isopropyl group, isobutyl group, tert-butyl group and cyclohexyl group; Aryl groups such as tolyl group and xylyl group; aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; halogenated alkyl groups such as 3-chloropropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group; Examples include unsubstituted or halogen-substituted monovalent hydrocarbon groups that do not contain about 10, preferably about 1 to 8, aliphatic unsaturated bonds. A methyl group, an ethyl group, a propyl group, a phenyl group and a 3,3,3-trifluoropropyl group are preferred, and a methyl group is more preferred.

(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンとして、具体的には、例えば、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン、メチルハイドロジェンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)メチルシラン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)フェニルシラン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、H(CH32SiO1/2単位とSiO2単位との共重合体、H(CH32SiO1/2単位と(CH33SiO1/2単位とSiO2単位との共重合体や、これらのオルガノハイドロジェンポリシロキサンの2種以上の混合物等が挙げられる。 Specific examples of (B) component organohydrogenpolysiloxane include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, methylhydrogencyclo Polysiloxane, methylhydrogensiloxane/dimethylsiloxane cyclic copolymer, tris(dimethylhydrogensiloxy)methylsilane, tris(dimethylhydrogensiloxy)phenylsilane, dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylsiloxane/methylhydrogen at both molecular chain ends Siloxane copolymer, dimethylhydrogensiloxy-blocked methylhydrogenpolysiloxane at both molecular chain ends, trimethylsiloxy-blocked methylhydrogenpolysiloxane at both molecular chain ends, dimethylpolysiloxane blocked at both molecular chain ends with dimethylhydrogensiloxy groups, molecule Dimethylsiloxane/diphenylsiloxane copolymer with dimethylhydrogensiloxy group-blocked at both chain ends, dimethylsiloxane/methylhydrogensiloxane copolymer with trimethylsiloxy group-blocked at both molecular chain ends, dimethylsiloxane/diphenylsiloxane with both molecular chain ends blocked with trimethylsiloxy group・Methylhydrogensiloxane copolymer, dimethylsiloxane endblocked with dimethylhydrogensiloxy groups at both molecular chain ends ・Methylhydrogensiloxane copolymer, copolymer of H(CH 3 ) 2 SiO 1/2 units and SiO 2 units , copolymers of H(CH 3 ) 2 SiO 1/2 units, (CH 3 ) 3 SiO 1/2 units and SiO 2 units, and mixtures of two or more of these organohydrogenpolysiloxanes. be done.

(B)成分のケイ素原子に結合した水素原子(Si-H基)の含有量は、オルガノハイドロジェンポリシロキサン中、0.001~0.02mol/g、特に0.001~0.01mol/gとすることが好ましい。Si-H基の量が多すぎると架橋度が高くなりすぎて、高粘度のグリースとなる場合があり、少なすぎると耐ズレ性に対して十分な架橋度合いが得られない場合がある。 The content of hydrogen atoms (Si—H groups) bonded to silicon atoms in component (B) is 0.001 to 0.02 mol/g, particularly 0.001 to 0.01 mol/g, in the organohydrogenpolysiloxane. It is preferable to If the amount of Si—H groups is too large, the degree of crosslinking may become too high, resulting in a highly viscous grease.

(B)成分の25℃における絶対粘度は特に限定されないが、0.5~1,000,000mPa・sが好ましく、1~100,000mPa・sがより好ましい。また、(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、1分子中のケイ素原子数(又は重合度)が2~500個、好ましくは3~300個程度のものが好ましい。 The absolute viscosity of component (B) at 25° C. is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 1,000,000 mPa·s, more preferably 1 to 100,000 mPa·s. The organohydrogenpolysiloxane of component (B) preferably has 2 to 500, preferably 3 to 300 silicon atoms (or degree of polymerization) per molecule.

本発明のシリコーン組成物は、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基と(B)成分中のSi-H基とのモル比(Si-H/Si-Vi)が2~10となる範囲で反応させた反応生成物を含むものである。このような範囲となるように、(A)成分と(B)成分とを反応させる。上記モル比は、3~8とする量がより好ましい。上記モル比が0<Si-H/Si-Vi<2であると、粘度が上昇して塗布性が劣るシリコーン組成物になる。一方、上記モル比範囲の上限10を超えると、熱サイクル時にシリコーン組成物のズレが発生する。 In the silicone composition of the present invention, the molar ratio (Si-H/Si-Vi) of the silicon-bonded alkenyl groups in component (A) to the Si--H groups in component (B) is 2 to 10. It includes a reaction product obtained by reacting within a range. The (A) component and the (B) component are reacted so as to have such a range. More preferably, the molar ratio is 3-8. If the above molar ratio is 0<Si-H/Si-Vi<2, the silicone composition will have an increased viscosity and poor coating properties. On the other hand, when the upper limit of the molar ratio range of 10 is exceeded, the silicone composition shifts during heat cycles.

[白金族金属系触媒]
本発明のシリコーン組成物には、(A)成分と(B)成分の反応を促進するための付加反応触媒である白金族金属系触媒を含有することが好ましく、ヒドロシリル化反応に用いられる触媒として周知の触媒が挙げられる。これらは1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。これらの中でも、塩化白金酸又は塩化白金酸塩等の白金錯体を、アルケニル基等のビニル基を有するオルガノポリシロキサンで希釈したヒドロシリル化触媒が好ましい。これは、白金錯体と、ビニル基を有するオルガノポリシロキサンとを混合することで得ることができる。白金錯体中にトルエン等の溶媒が含まれる場合は、混合後に溶媒を取り除くとよい。
[Platinum group metal-based catalyst]
The silicone composition of the present invention preferably contains a platinum group metal catalyst, which is an addition reaction catalyst for promoting the reaction between components (A) and (B). Well-known catalysts can be mentioned. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types as appropriate. Among these, a hydrosilylation catalyst obtained by diluting a platinum complex such as chloroplatinic acid or chloroplatinate with an organopolysiloxane having a vinyl group such as an alkenyl group is preferred. This can be obtained by mixing a platinum complex and an organopolysiloxane having a vinyl group. If the platinum complex contains a solvent such as toluene, the solvent should be removed after mixing.

白金族金属系触媒を配合する場合の配合量は、(A)成分に対する白金族金属元素の質量換算で0.1~2,000ppmが好ましく、より好ましくは0.5~1,000ppmである。(F)成分が多すぎると不均一な反応が起こりゲル物が発生する場合があり、少なすぎると耐ズレ性に対して十分な架橋度合いが得られない場合がある。 When the platinum group metal-based catalyst is blended, the blending amount is preferably 0.1 to 2,000 ppm, more preferably 0.5 to 1,000 ppm in terms of mass of the platinum group metal element with respect to component (A). If the amount of component (F) is too large, a non-uniform reaction may occur, resulting in the formation of a gel.

[(C)成分]
(C)成分は、金属酸化物から選ばれる平均粒径3μm以下の熱伝導性無機充填材であり、1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。この無機充填材は、比表面積が大きく、アルコキシ基が存在する(E)成分と反応することにより、150℃における貯蔵弾性率を向上させる成分である。また、(D)成分の熱伝導性無機充填材の粒度分布を整えて、最密充填にして配合量を増大させ、シリコーン組成物の熱伝導率を向上させるための成分である。
[(C) Component]
Component (C) is a thermally conductive inorganic filler selected from metal oxides and having an average particle size of 3 μm or less, and can be used singly or in combination of two or more. This inorganic filler has a large specific surface area and is a component that improves the storage elastic modulus at 150° C. by reacting with the component (E) in which alkoxy groups are present. It is also a component for improving the thermal conductivity of the silicone composition by regulating the particle size distribution of the thermally conductive inorganic filler of component (D) and increasing the blending amount by close packing.

(C)成分の金属酸化物としては、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウムが挙げられる。これらは絶縁材料であり、工業的に広範囲な粒径の品種が選択可能であり、資源的に入手が容易であり、比較的安価で入手可能であることから、放熱材料として広範に用いられる。 (C) Component metal oxides include aluminum oxide, zinc oxide and magnesium oxide. These are insulating materials, industrially selectable from a wide range of grain sizes, readily available as resources, and relatively inexpensive, and are therefore widely used as heat dissipation materials.

(C)成分の無機充填材としては、不定形、造粒粉、球状でも使用可能であるが、その中でも特に充填性の観点から、球状無機充填材を使用することが好ましい。 As the inorganic filler of the component (C), amorphous, granulated powder, and spherical fillers can be used. Among them, spherical inorganic fillers are preferably used from the viewpoint of filling properties.

(C)成分の平均粒径は3μm以下であり、0.5~2.5μmがより好ましい。平均粒径が小さすぎると、シリコーン組成物の流動性が低下し、良好な塗布性能が得られないおそれがある。なお、本発明において、(C)及び(D)成分の平均粒径の測定は、レーザ回折・散乱法、例えば、日機装(株)製の粒度分析計であるマイクロトラックMT3300EXにより測定した体積累積平均粒径値D50(又はメジアン径)である。 The average particle diameter of component (C) is 3 μm or less, more preferably 0.5 to 2.5 μm. If the average particle size is too small, the fluidity of the silicone composition may be reduced, failing to obtain good coating performance. In the present invention, the average particle diameter of the components (C) and (D) is measured by a laser diffraction/scattering method, for example, a volume cumulative average measured by Microtrac MT3300EX, a particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. Particle size value D 50 (or median diameter).

(C)成分の配合量は、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して50~4,000質量部が好ましく、300~3,000質量部がより好ましい。(C)成分の配合量が少なすぎると、得られるシリコーン組成物にズレが発生したり、熱伝導率が低下するおそれがあり、一方、多すぎると高粘度になり、シリコーン組成物を均一に塗布することが困難となるおそれがある。なお、(C)成分は、(D)成分とともに(E)成分と予め加熱混合された混合物としてもよい。 The amount of component (C) to be blended is preferably 50 to 4,000 parts by mass, more preferably 300 to 3,000 parts by mass, per 100 parts by mass of components (A) and (B). If the amount of component (C) is too small, the resulting silicone composition may be misaligned or the thermal conductivity may be lowered. It may be difficult to apply. In addition, (C) component is good also as a mixture previously heat-mixed with (E) component with (D) component.

[(D)成分]
(D)成分は、金属酸化物から選ばれる平均粒径5μm以上の熱伝導性無機充填材であり、1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。この無機充填材は、主要な熱伝導の経路となる成分である。
[(D) Component]
Component (D) is a thermally conductive inorganic filler having an average particle size of 5 μm or more selected from metal oxides, and can be used singly or in combination of two or more. This inorganic filler is the main heat conduction path component.

(D)成分の金属酸化物としては、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ケイ素等が挙げられる。なお、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウムは、上記(C)成分と重複するが、平均粒径が相違する。 (D) Component metal oxides include aluminum oxide, zinc oxide, magnesium oxide and silicon oxide. Aluminum oxide, zinc oxide, and magnesium oxide overlap with the above component (C), but differ in average particle size.

(D)成分の無機充填材としては、不定形、造粒粉、球状でも使用可能であるが、その中でも特に充填性の観点から、球状無機充填材を使用することが好ましい。 As the inorganic filler of the component (D), amorphous, granulated powder, and spherical fillers can be used. Among them, spherical inorganic fillers are preferably used from the viewpoint of filling properties.

(D)成分の平均粒径は5μm以上であり、5~200μmが好ましく、6~150μmがより好ましく、7~100μmがさらに好ましい。平均粒径が5μmより小さいと、シリコーン組成物が不均一になり、耐ズレ性が悪くなる。平均粒径が大きすぎても、シリコーン組成物が不均一になり、耐ズレ性が悪くなるおそれがある。 Component (D) has an average particle size of 5 μm or more, preferably 5 to 200 μm, more preferably 6 to 150 μm, and even more preferably 7 to 100 μm. If the average particle size is less than 5 μm, the silicone composition will be non-uniform and the resistance to slippage will be poor. If the average particle size is too large, the silicone composition may become non-uniform, resulting in poor slip resistance.

(D)成分の配合量は、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して800~8,000質量部が好ましく、700~7,000質量部がより好ましい。(D)成分の配合量が少なすぎると、必要とする熱伝導性が得られないおそれがあり、一方、多すぎると高粘度になり、シリコーン組成物を均一に塗布することが困難となるおそれがある。なお、(D)成分は、(C)成分とともに(E)成分と予め加熱混合された混合物としてもよい。 The amount of component (D) to be blended is preferably 800 to 8,000 parts by mass, more preferably 700 to 7,000 parts by mass, per 100 parts by mass of components (A) and (B). If the amount of component (D) is too small, the required thermal conductivity may not be obtained, while if it is too large, the viscosity may become high, making it difficult to evenly apply the silicone composition. There is In addition, (D) component is good also as a mixture previously heat-mixed with (E) component with (C) component.

本発明のシリコーン組成物において、(C)成分と(D)成分の合計配合量は、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して2,000~8,000質量部であり、1,000~5,000質量部が好ましい。上記合計配合量が2,000質量部未満だと十分な熱伝導率を達成できず、8,000質量部を超えると十分な塗布性能が得られない。また(C)成分と(D)成分の質量比((C):(D))は、15:85~65:35が好ましい。 In the silicone composition of the present invention, the total amount of components (C) and (D) is 2,000 to 8,000 parts by mass per 100 parts by mass of components (A) and (B). and preferably 1,000 to 5,000 parts by mass. If the total amount is less than 2,000 parts by mass, sufficient thermal conductivity cannot be achieved, and if it exceeds 8,000 parts by mass, sufficient coating performance cannot be obtained. The mass ratio of component (C) to component (D) ((C):(D)) is preferably 15:85 to 65:35.

[(E)成分]
(E)成分は、アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンであり、1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。(E)成分の添加により、シリコーン組成物の粘度を低下させることができる。また、(E)成分は、(C)及び(D)成分をシリコーン組成物に高充填しても、シリコーン組成物の流動性を保ち、このシリコーン組成物に良好な取り扱い性を付与する役割も兼ね備えている。さらに(E)成分は、ソルダーレジスト基板に塗布する際に、後述する(F)成分の存在下に、ソルダーレジスト基板に吸収された水分と反応して、アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンの遮蔽層を形成し、熱伝導性シリコーン組成物の割れやボイドの発生を抑える役割も兼ね備えている。
[(E) component]
Component (E) is a hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group, and can be used alone or in combination of two or more. Addition of component (E) can reduce the viscosity of the silicone composition. In addition, component (E) maintains the fluidity of the silicone composition even when the silicone composition is highly filled with components (C) and (D), and also plays a role in imparting good handleability to this silicone composition. I have it. Furthermore, when the component (E) is applied to the solder resist substrate, in the presence of the component (F) described later, the component (E) reacts with moisture absorbed by the solder resist substrate to form a hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group. It also has the role of forming a shielding layer and suppressing cracks and voids in the thermally conductive silicone composition.

(E)成分としては、下記一般式(3)で表されるオルガノポリシロキサンが挙げられ、3官能の加水分解性オルガノポリシロキサンを含有することが好ましい。

Figure 0007276212000001
(式中、R4は独立に脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の1価炭化水素基である。X1、X2、X3はR4又は-R5-SiR6 (3-g)(OR7gで示される基であり、それぞれ異なってもよいが、少なくとも1つは-R5-SiR6 (3-g)(OR7gである。R5は酸素原子又は炭素数1~4のアルキレン基、R6は独立に脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の1価炭化水素基であり、R7は独立に炭素数1~4のアルキル基もしくはアルコキシアルキル基、又はアシル基であり、gは1~3の整数である。a及びbはそれぞれ1≦a≦1,000、0≦b≦1,000である。) Component (E) includes an organopolysiloxane represented by the following general formula (3), and preferably contains a trifunctional hydrolyzable organopolysiloxane.
Figure 0007276212000001
(wherein R 4 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturation; X 1 , X 2 and X 3 are R 4 or -R 5 -SiR 6 (3 -g) a group represented by (OR 7 ) g , each of which may be different, but at least one is -R 5 -SiR 6 (3-g) (OR 7 ) g , where R 5 is an oxygen atom or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R 6 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bonds, and R 7 is independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxyalkyl group or an acyl group, g is an integer of 1 to 3, and a and b are 1≦a≦1,000 and 0≦b≦1,000, respectively.)

(E)成分としては、下記一般式(4)

Figure 0007276212000002
(式中、R4は独立に脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の1価炭化水素基であり、R7は独立に炭素数1~4のアルキル基もしくはアルコキシアルキル基、又はアシル基であり、cは5~100の整数であり、gは1~3の整数である。)
で表されるオルガノポリシロキサン、特に25℃における絶対粘度が0.005~100mPa・sのオルガノポリシロキサンが好ましい。 As the component (E), the following general formula (4)
Figure 0007276212000002
(wherein R 4 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond, and R 7 is independently an alkyl or alkoxyalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an acyl group, c is an integer of 5 to 100, and g is an integer of 1 to 3.)
Particularly preferred is an organopolysiloxane having an absolute viscosity of 0.005 to 100 mPa·s at 25°C.

上記式(3)及び(4)中、R4は独立に脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の、好ましくは炭素数1~10、より好ましくは1~6、さらに好ましくは1~3の1価炭化水素基であり、その例としては、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基等が挙げられる。直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基が挙げられる。分岐鎖状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基、2-エチルヘキシル基が挙げられる。環状アルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基が挙げられる。アラルキル基としては、例えば、2-フェニルエチル基、2-メチル-2-フェニルエチル基が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、例えば、3,3,3-トリフルオロプロピル基、2-(ノナフルオロブチル)エチル基、2-(ヘプタデカフルオロオクチル)エチル基が挙げられる。R4として、メチル基、フェニル基が好ましい。 In the above formulas (3) and (4), R 4 is independently an unsubstituted or substituted group containing no aliphatic unsaturated bond, preferably having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, still more preferably 1 to 1 to 3 monovalent hydrocarbon group, examples of which include straight-chain alkyl groups, branched-chain alkyl groups, cyclic alkyl groups, aryl groups, aralkyl groups, and halogenated alkyl groups. Linear alkyl groups include, for example, methyl, ethyl, propyl, hexyl, and octyl groups. Branched chain alkyl groups include, for example, isopropyl, isobutyl, tert-butyl and 2-ethylhexyl groups. Cyclic alkyl groups include, for example, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Aryl groups include, for example, a phenyl group and a tolyl group. Examples of aralkyl groups include 2-phenylethyl group and 2-methyl-2-phenylethyl group. Halogenated alkyl groups include, for example, 3,3,3-trifluoropropyl, 2-(nonafluorobutyl)ethyl and 2-(heptadecafluorooctyl)ethyl groups. R 4 is preferably a methyl group or a phenyl group.

5は酸素原子又はメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の炭素数1~4のアルキレン基である。R6は独立に脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の1価炭化水素基であり、上記R4にて例示したものと同様のものが挙げられる。 R 5 is an oxygen atom or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms such as methylene, ethylene and propylene. R 6 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond, and examples thereof are the same as those exemplified for R 4 above.

上記R7は独立に炭素数1~4のアルキル基もしくはアルコキシアルキル基、又はアシル基である。アルキル基としては、例えば、R4にて例示したものと同様の、炭素数1~4のアルキル基等が挙げられる。アルコキシアルキル基としては、例えば、メトキシエチル基、メトキシプロピル基等が挙げられる。アシル基としては、例えば、炭素数2~8のアシル基が好ましく、アセチル基、オクタノイル基等が挙げられる。R7はアルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基がより好ましい。
a、bは上記の通りであるが、好ましくはa+bが5~150であり、cは5~100の整数であり、好ましくは10~50である。gは1~3の整数であり、好ましくは3である。なお、分子中にOR7基は1~6個、特に3又は6個有することが好ましい。
R 7 above is independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxyalkyl group, or an acyl group. Examples of the alkyl group include alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms similar to those exemplified for R 4 . Examples of alkoxyalkyl groups include methoxyethyl and methoxypropyl groups. As the acyl group, for example, an acyl group having 2 to 8 carbon atoms is preferable, and examples thereof include an acetyl group and an octanoyl group. R7 is preferably an alkyl group, more preferably a methyl group or an ethyl group.
a and b are as described above, preferably a+b is 5-150 and c is an integer of 5-100, preferably 10-50. g is an integer of 1 to 3, preferably 3; It is preferable to have 1 to 6, particularly 3 or 6, OR 7 groups in the molecule.

(E)成分の好適な具体例としては、下記のものを挙げることができる。

Figure 0007276212000003
Preferred specific examples of the component (E) include the following.
Figure 0007276212000003

(E)成分の配合量は、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して、25~400質量部が好ましく、50~350質量部がより好ましい。25質量部未満だと、シリコーン組成物が増粘して吐出不可となるおそれがあり、一方、400質量部を超えると低粘度になりすぎて(E)成分がブリードするおそれがある。
また(C)成分と(D)成分との合計100質量部に対しての(E)成分の配合量は、4.8~9.2質量部が好ましく、5.0~9.1質量部がより好ましい。4.8質量部未満だと、シリコーン組成物が増粘して吐出不可となるおそれがあり、一方、9.2質量部を超えると低粘度になりすぎて(E)成分がブリードするおそれがある。
The blending amount of component (E) is preferably 25 to 400 parts by mass, more preferably 50 to 350 parts by mass, per 100 parts by mass of components (A) and (B). If it is less than 25 parts by mass, the silicone composition may become too viscous to be ejected.
The amount of component (E) to be blended with respect to a total of 100 parts by mass of components (C) and (D) is preferably 4.8 to 9.2 parts by mass, and 5.0 to 9.1 parts by mass. is more preferred. If the amount is less than 4.8 parts by mass, the silicone composition may increase in viscosity and may not be ejected. be.

[(F)成分]
(F)成分は、アルコキシ縮合触媒であり、本発明の組成物において、(E)成分のアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンを脱水縮合させて、ソルダーレジスト基板表面に遮蔽層を形成するための成分である。
アルコキシ縮合触媒として、具体的には、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート等のアルキル錫エステル化合物、テトライソプロポキシチタン、テトラ-n-ブトキシチタン、テトラキス(2-エチルヘキソキシ)チタン、ジプロポキシビス(アセチルアセトナ)チタン、チタニウムイソプロポキシオクチレングリコール等のチタン酸エステル、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジイソプロポキシビス(メチルアセトアセテート)チタン、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトネート)チタン、ジブトキシビス(エチルアセトアセトネート)チタン、ジメトキシビス(エチルアセトアセトネート)チタン等のチタンキレート化合物、ナフテン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、亜鉛-2-エチルオクトエート、鉄-2-エチルヘキソエート、コバルト-2-エチルヘキソエート、マンガン-2-エチルヘキソエート、ナフテン酸コバルト、アルコキシアルミニウム化合物等の有機金属化合物、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノアルキル基置換アルコキシシラン、ヘキシルアミン、リン酸ドデシルアミン等のアミン化合物及びその塩、ベンジルトリエチルアンモニウムアセテート等の第4級アンモニウム塩、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、蓚酸リチウム等のアルカリ金属の低級脂肪酸塩、ジメチルヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン等のジアルキルヒドロキシルアミン、テトラメチルグアニジルプロピルトリメトキシシラン、テトラメチルグアニジルプロピルメチルジメトキシシラン、テトラメチルグアニジルプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シラン等のグアニジル基を含有するシラン又はシロキサン(グアニジン化合物)等が例示されるが、これらはその1種に限定されず、2種もしくはそれ以上の混合物として使用してもよい。中でもアルキル錫エステル化合物、チタンキレート化合物、グアニジン化合物が好ましく、特にはグアニジン化合物が好適に用いられる。
[(F) component]
Component (F) is an alkoxy condensation catalyst for forming a shielding layer on the surface of the solder resist substrate by dehydrating and condensing the hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group of component (E) in the composition of the present invention. is a component of
Specific examples of alkoxy condensation catalysts include alkyltin ester compounds such as dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, and dibutyltin dioctoate; Titanate such as propoxybis(acetylacetona)titanium, titanium isopropoxyoctylene glycol, diisopropoxybis(ethylacetoacetate)titanium, diisopropoxybis(methylacetoacetate)titanium, diisopropoxybis(acetylacetonate) titanium chelates such as titanium chelates such as dibutoxybis(ethylacetoacetonate)titanium, dibutoxybis(ethylacetoacetonate)titanium, dimethoxybis(ethylacetoacetonate)titanium, zinc naphthenate, zinc stearate, zinc-2-ethyloctoate, iron-2-ethylheptate Organometallic compounds such as xoate, cobalt-2-ethylhexoate, manganese-2-ethylhexoate, cobalt naphthenate, alkoxyaluminum compounds, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ -Aminoalkyl group-substituted alkoxysilanes such as aminopropyltrimethoxysilane, amine compounds such as hexylamine and dodecylamine phosphate and salts thereof, quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium acetate, potassium acetate, sodium acetate, lithium oxalate Lower fatty acid salts of alkali metals such as dimethylhydroxylamine, dialkylhydroxylamine such as diethylhydroxylamine, tetramethylguanidylpropyltrimethoxysilane, tetramethylguanidylpropylmethyldimethoxysilane, tetramethylguanidylpropyltris ( Examples include silanes containing guanidyl groups such as trimethylsiloxy)silane, siloxanes (guanidine compounds), and the like, but these are not limited to one type, and two or more of them may be used as a mixture. Among them, alkyltin ester compounds, titanium chelate compounds, and guanidine compounds are preferred, and guanidine compounds are particularly preferred.

(F)アルコキシ縮合触媒の添加量は、(E)成分に対し、0.01~1質量%であり、好ましくは0.02~0.5質量%である。アルコキシ縮合触媒の添加量が少なすぎるとソルダーレジスト基板に塗布した際に基板表面に遮蔽層が得られず、多すぎると経済的でない。 The amount of the alkoxy condensation catalyst (F) to be added is 0.01 to 1% by mass, preferably 0.02 to 0.5% by mass, based on the component (E). If the amount of the alkoxy condensation catalyst to be added is too small, a shielding layer cannot be obtained on the substrate surface when applied to the solder resist substrate, and if it is too large, it is not economical.

[その他成分]
本発明のシリコーン組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、上記以外の任意の成分を配合することができる。
シリコーン組成物の着色、流動性の制御又は補強の目的のために、上記(C)、(D)成分以外の充填材を配合してもよい。充填材は1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。充填材としては、例えば、ウォラストナイト、タルク、酸化アルミニウム、硫酸カルシウム、炭酸マグネシウム、カオリン等のクレー;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、グラファイト、バライト、マラカイト等の炭酸銅;ザラカイト等の炭酸ニッケル;ウィザライト等の炭酸バリウム;ストロンチアナイト等の炭酸ストロンチウム;フォーステライト、シリマナイト、ムライト、パイロフィライト、カオリナイト、バーミキュライト等のケイ酸塩;ケイ藻土等の非補強性の充填材;これらの充填材の表面を有機ケイ素化合物で処理したもの等が挙げられる。
上記充填材を配合する場合の配合量は、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して100質量部以下が好ましい。
[Other ingredients]
The silicone composition of the present invention may contain optional components other than the above as long as they do not impair the effects of the present invention.
Fillers other than the above components (C) and (D) may be blended for the purpose of coloring, controlling fluidity, or reinforcing the silicone composition. You may use a filler individually by 1 type or in combination of 2 or more types as appropriate. Examples of fillers include clays such as wollastonite, talc, aluminum oxide, calcium sulfate, magnesium carbonate and kaolin; copper carbonates such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, graphite, barite and malachite; nickel carbonates such as zalachite. barium carbonate such as witherite; strontium carbonate such as strontianite; silicates such as forsterite, sillimanite, mullite, pyrophyllite, kaolinite, vermiculite; non-reinforcing fillers such as diatomaceous earth; The surface of the filler in (1) is treated with an organosilicon compound.
When the above filler is blended, the amount to be blended is preferably 100 parts by mass or less per 100 parts by mass in total of the components (A) and (B).

シリコーン組成物の接着性を向上させるために、接着付与剤を配合してもよい。接着付与剤は1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。接着付与剤として、具体的には、メチルビニルジメトキシシラン、エチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、エチルビニルジエトキシシラン等のアルキルアルケニルジアルコキシシラン;メチルビニルジオキシムシラン、エチルビニルジオキシムシラン等のアルキルアルケニルジオキシムシラン;メチルビニルジアセトキシシラン、エチルビニルジアセトキシシラン等のアルキルアルケニルジアセトキシシラン;メチルビニルジヒドロキシシラン、エチルビニルジヒドロキシシラン等のアルケニルアルキルジヒドロキシシラン;メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)プロパン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン等のオルガノトリアルコキシシラン;トリアリルイソシアヌレート、ジアリル(3-トリメトキシシリル)イソシアヌレート、トリス(3-トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、トリス(3-トリエトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、トリス(3-トリプロポキシシリルプロピル)イソシアヌレート等のイソシアヌレート化合物;テトラエチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、テトラ(2-エチルヘキシル)チタネート、チタンエチルアセトネート、チタンアセチルアセトネート等のチタン化合物;エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)等のアルミニウム化合物;ジルコニウムアセチルアセトネート、ジルコニウムブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウムビスアセチルアセトネート、ジルコニウムエチルアセトアセテート等のジルコニウム化合物が挙げられる。
接着付与剤を配合する場合の配合量は特に限定されないが、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して0.01~10質量部が好ましい。
A tackifier may be added to improve the adhesion of the silicone composition. The tackifiers can be used singly or in combination of two or more. Specific examples of tackifiers include alkylalkenyldialkoxysilanes such as methylvinyldimethoxysilane, ethylvinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane, and ethylvinyldiethoxysilane; methylvinyldioximesilane, ethylvinyldioximesilane; alkylalkenyldioxime silanes such as; alkylalkenyldiacetoxysilanes such as methylvinyldiacetoxysilane and ethylvinyldiacetoxysilane; alkenylalkyldihydroxysilanes such as methylvinyldihydroxysilane and ethylvinyldihydroxysilane; Methoxysilane, allyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane Organotrialkoxysilanes such as silane, bis(trimethoxysilyl)propane, bis(trimethoxysilyl)hexane; triallyl isocyanurate, diallyl(3-trimethoxysilyl)isocyanurate, tris(3-trimethoxysilylpropyl)isocyanate isocyanurate compounds such as nurate, tris(3-triethoxysilylpropyl) isocyanurate, tris(3-tripropoxysilylpropyl) isocyanurate; tetraethyl titanate, tetrapropyl titanate, tetrabutyl titanate, tetra(2-ethylhexyl) titanate, Titanium compounds such as titanium ethylacetonate and titanium acetylacetonate; ethylacetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris(ethylacetoacetate), alkylacetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris(acetylacetonate), aluminum monoacetylacetonate aluminum compounds such as nitratebis(ethylacetoacetate); and zirconium compounds such as zirconium acetylacetonate, zirconium butoxyacetylacetonate, zirconium bisacetylacetonate, and zirconium ethylacetoacetate.
The amount of the tackifier to be added is not particularly limited, but it is preferably 0.01 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the components (A) and (B).

[熱伝導性シリコーン組成物の製造方法]
本発明の熱伝導性シリコーン組成物の製造方法としては、下記工程を有するものが挙げられる。
(I)上記(A)、(B)、(C)、(D)、(E)成分及び必要に応じて白金族金属系触媒を、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基と(B)成分中のSi-H基とのモル比(Si-H/Si-Vi)が2~10となるように混合して混合物を得る工程、
(II)得られた混合物を100~180℃で30分~4時間加熱して、上記(A)成分と(B)成分とを反応させる工程、
(III)上記で得られた反応混合物に、(F)アルコキシ縮合触媒を室温(25℃、以下同じ)で10~60分間混合する工程。
[Method for producing thermally conductive silicone composition]
A method for producing the thermally conductive silicone composition of the present invention includes the following steps.
(I) the above components (A), (B), (C), (D), (E) and, if necessary, a platinum group metal-based catalyst, combined with alkenyl groups bonded to silicon atoms in component (A); (B) a step of obtaining a mixture by mixing so that the molar ratio (Si-H/Si-Vi) to the Si-H groups in the component is 2 to 10;
(II) a step of heating the obtained mixture at 100 to 180° C. for 30 minutes to 4 hours to react the components (A) and (B);
(III) A step of mixing (F) an alkoxy condensation catalyst with the reaction mixture obtained above at room temperature (25° C., hereinafter the same) for 10 to 60 minutes.

(I)上記(A)、(B)、(C)、(D)、(E)成分及び必要に応じて白金族金属系触媒を、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基と(B)成分中のSi-H基とのモル比(Si-H/Si-Vi)が2~10となるように混合して混合物を得る工程
上述した(A)~(E)成分及び必要に応じて白金族金属系触媒を上述した配合割合で混合する。必要に応じてその他成分を加えてもよい。混合装置は特に限定されず、トリミックス、ツウィンミックス、プラネタリーミキサー(いずれも(株)井上製作所製混合機の登録商標)、ウルトラミキサー(みずほ工業(株)製混合機の登録商標)、ハイビスディスパーミックス(特殊機化工業(株)製混合機の登録商標)等の混合機を用いて混合する。液状物と無機充填材を混合する温度は特に限定されず、室温で10~60分混合するとよい。また、減圧下(例えば70mmHg)で混合してもよい。
(I) the above components (A), (B), (C), (D), (E) and, if necessary, a platinum group metal-based catalyst, combined with alkenyl groups bonded to silicon atoms in component (A); Step of obtaining a mixture by mixing so that the molar ratio (Si—H/Si—Vi) with Si—H groups in component (B) is 2 to 10 The platinum group metal-based catalyst is mixed in the above-mentioned proportion according to the above. Other ingredients may be added as needed. The mixing device is not particularly limited, and Trimix, Twinmix, Planetary Mixer (both registered trademarks of mixers manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.), Ultra Mixer (registered trademarks of mixers manufactured by Mizuho Industry Co., Ltd.), Hibis Mix using a mixer such as Dispermix (registered trademark of mixer manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.). The temperature at which the liquid substance and the inorganic filler are mixed is not particularly limited, and it is preferable to mix them at room temperature for 10 to 60 minutes. Moreover, you may mix under reduced pressure (for example, 70 mmHg).

(II)得られた混合物を100~180℃で30分~4時間加熱して、上記(A)成分と(B)成分とを反応させる工程
得られた混合物を、(A)成分と(B)成分とを反応させるために100~180℃、好ましくは110~170℃で、30分~4時間、好ましくは1~3時間加熱する。さらに減圧下(例えば70mmHg)で加熱してもよい。
(II) A step of heating the obtained mixture at 100 to 180° C. for 30 minutes to 4 hours to react the above components (A) and (B). ) at 100 to 180° C., preferably 110 to 170° C., for 30 minutes to 4 hours, preferably 1 to 3 hours, to react with the components. Further, heating may be performed under reduced pressure (for example, 70 mmHg).

(III)上記で得られた反応混合物に、(F)アルコキシ縮合触媒を室温で10~60分間混合する工程
上記で得られた反応混合物に、(F)アルコキシ縮合触媒を室温で10~60分間、好ましくは10~30分間混合することにより、本発明の熱伝導性シリコーン組成物を得ることができる。
本発明において、(F)アルコキシ縮合触媒は、得られる熱伝導性シリコーン組成物において、(E)成分のアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンを脱水縮合するための成分であることから、加熱混合しないことが必要である。(F)アルコキシ縮合触媒を(A)~(E)成分と同時に混合し、加熱してしまうと(E)成分のアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンが脱水縮合してしまうため、反応中にゲル物が多量に発生し不均一な状態になる。
(III) Step of mixing the reaction mixture obtained above with (F) an alkoxy condensation catalyst at room temperature for 10 to 60 minutes To the reaction mixture obtained above, add (F) an alkoxy condensation catalyst at room temperature for 10 to 60 minutes , preferably for 10 to 30 minutes, the thermally conductive silicone composition of the present invention can be obtained.
In the present invention, (F) the alkoxy condensation catalyst is a component for dehydration condensation of the hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group of component (E) in the resulting thermally conductive silicone composition. it is necessary not to (F) If the alkoxy condensation catalyst is mixed together with the components (A) to (E) and heated, the hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group of the component (E) will undergo dehydration condensation. A large amount of gel is generated and becomes non-uniform.

[熱伝導性シリコーン組成物]
上記の方法により得られた本発明の熱伝導性シリコーン組成物の25℃における絶対粘度は50~500Pa・sであり、150~400Pa・sであることが好ましい。絶対粘度が50Pa・s未満だと、塗付中のシリコーン組成物の液だれが生じ、塗布性が低下する。さらに、長期保管中の(C)成分及び(D)成分の沈降が生じるおそれがある。一方、500Pa・sを超えると、塗布性が低下して、生産効率が低下する。シリコーン組成物の絶対粘度は、例えば、(A)成分と(B)成分の架橋度合いや、(C)、(D)成分及び(E)成分の量を調整すること、上記製造方法にて調製することで上記範囲とすることができる。
[Thermal conductive silicone composition]
The absolute viscosity at 25° C. of the thermally conductive silicone composition of the present invention obtained by the above method is 50 to 500 Pa·s, preferably 150 to 400 Pa·s. If the absolute viscosity is less than 50 Pa·s, the silicone composition drips during application, resulting in poor application properties. Furthermore, sedimentation of components (C) and (D) may occur during long-term storage. On the other hand, when it exceeds 500 Pa·s, the coatability deteriorates and the production efficiency decreases. The absolute viscosity of the silicone composition can be adjusted, for example, by adjusting the degree of cross-linking of components (A) and (B), the amounts of components (C), (D) and (E), or by the manufacturing method described above. By doing so, the above range can be obtained.

また、本発明の熱伝導性シリコーン組成物の単位体積当たりのSi-H残基量は、1×10-6~1×10-3mol/cm3であり、1×10-5~5×10-4mol/cm3が好ましい。Si-H残基量が1×10-6mol/cm3未満だと、例えば、被着体に挟んで下記に示すズレ試験を行った場合に、被着体と化学的な相互作用をする官能基(Si-H基)が減るために、ズレが発生しやすくなる。また1×10-3mol/cm3を超えると、Si-H/Si-Viのバランスが崩れ、架橋密度が低くズレやすい組成物になったり、(A)+(B)成分の比率に対して(C)成分、(D)成分の量が多かったり、(E)成分が少なくなるために、塗布性能に劣るシリコーン組成物となる。シリコーン組成物の単位体積当たりのSi-H残基量は、例えば、(A)、(B)成分におけるSi-H/Si-Viのバランスを2~10の間、(A)+(B)成分に対する(E)成分の比率、(A)+(B)成分に対する(C)+(D)成分の比率を前述の記述の範囲にすることで、上記範囲とすることができる。なお、シリコーン組成物の単位体積当たりのSi-H残基量は、(B)成分中のSi-Hのモル数から(A)成分中のSi-Viのモル数を引いて、シリコーン組成物全体の体積で割ることで、単位体積当たりのSi-H残基量を計算することができる。 The amount of Si—H residues per unit volume of the thermally conductive silicone composition of the present invention is 1×10 −6 to 1×10 −3 mol/cm 3 , and 1×10 −5 to 5×1×10 −5 mol/cm 3 . 10 -4 mol/cm 3 is preferred. If the amount of Si—H residues is less than 1×10 −6 mol/cm 3 , for example, when the following displacement test is performed while sandwiching between adherends, chemical interaction with the adherend occurs. Since the number of functional groups (Si—H groups) is reduced, misalignment is more likely to occur. On the other hand, if it exceeds 1×10 −3 mol/cm 3 , the Si—H/Si—Vi balance is lost, resulting in a composition with a low crosslink density and a tendency to shift. Therefore, the amount of components (C) and (D) is too large, and the amount of component (E) is too small, resulting in a silicone composition with inferior coating performance. The amount of Si—H residues per unit volume of the silicone composition is, for example, the balance of Si—H/Si—Vi in components (A) and (B) between 2 and 10, (A)+(B) The above range can be obtained by setting the ratio of the component (E) to the component and the ratio of the component (C)+(D) to the component (A)+(B) within the ranges described above. The amount of Si—H residues per unit volume of the silicone composition is obtained by subtracting the number of moles of Si—Vi in component (A) from the number of moles of Si—H in component (B). By dividing by the total volume, the amount of Si—H residues per unit volume can be calculated.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物の熱伝導率は、2W/mK以上が好ましく、3W/mK以上がより好ましい。上限は特に限定されないが、20W/mK以下とすることができる。このように優れた熱伝導率を有するため、放熱用として好適である。なお、熱伝導率は、ISO 22007-2準拠のホットディスク法により測定した、25℃における値である。 The thermal conductivity of the thermally conductive silicone composition of the present invention is preferably 2 W/mK or higher, more preferably 3 W/mK or higher. Although the upper limit is not particularly limited, it can be 20 W/mK or less. Since it has such excellent thermal conductivity, it is suitable for heat dissipation. The thermal conductivity is the value at 25° C. measured by the hot disk method in accordance with ISO 22007-2.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物の用途、使用方法等として、ソルダーレジスト基板に実装した発熱部品に対して好適に利用できる。発熱部品に対して直接塗布をして排熱することはもちろん、発熱部品の裏面のソルダーレジスト面からの排熱、発熱部品と同じ面のソルダーレジスト部周囲に対しても塗布を行い、排熱に使用できる。産業上の利用分野としては、車載用電子部品、パソコンなどの電子機器、携帯型の通信端末などに好適に使用可能である。 The thermally conductive silicone composition of the present invention can be suitably used for heat-generating components mounted on solder resist substrates. Exhaust heat by applying directly to heat-generating parts, as well as exhausting heat from the solder resist surface on the back side of heat-generating parts, and applying around the solder resist part on the same side as heat-generating parts to exhaust heat. can be used for As industrial application fields, it can be suitably used for electronic parts for vehicles, electronic equipment such as personal computers, portable communication terminals, and the like.

以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、実施例中の(A)、(B)、(E)成分及びシリコーン組成物の絶対粘度は、以下に示すマルコム粘度計で測定した25℃における値である。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below by showing examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. The absolute viscosities of the components (A), (B) and (E) and the silicone composition in the examples are the values at 25° C. measured with the following Malcom viscometer.

実施例及び比較例で使用した成分を下記に説明する。なお、括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は、下記に制限されるものではない。
(A)アルケニル基含有オルガノポリシロキサン
A-1:絶対粘度100mPa・sの分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(ビニル基含量:0.040mol/100g)
A-2:絶対粘度5,000mPa・sの平均構造が分子鎖の片末端がジメチルビニルシロキシ基で他方の片末端がトリメチルシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン(ビニル基含量:0.006mol/100g)
The ingredients used in the examples and comparative examples are described below. In addition, the bonding order of each siloxane unit shown in parentheses is not limited to the following.
(A) Alkenyl group-containing organopolysiloxane A-1: dimethylpolysiloxane with absolute viscosity of 100 mPa·s and dimethylvinylsiloxy group-blocked at both ends of the molecular chain (vinyl group content: 0.040 mol/100 g)
A-2: A dimethylpolysiloxane having an average structure with an absolute viscosity of 5,000 mPa s in which one end of the molecular chain is blocked with a dimethylvinylsiloxy group and the other end is blocked with a trimethylsiloxy group (vinyl group content: 0.006 mol/ 100g)

(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサン
B-1:絶対粘度12mPa・sの下記式で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン(Si-H基含量:0.0055mol/g)

Figure 0007276212000004
(B) Organohydrogenpolysiloxane B-1: Organohydrogenpolysiloxane represented by the following formula with an absolute viscosity of 12 mPa·s (Si—H group content: 0.0055 mol/g)
Figure 0007276212000004

B-2:絶対粘度17mPa・sの下記式で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン(Si-H含量:0.0013mol/g)

Figure 0007276212000005
B-2: Organohydrogenpolysiloxane represented by the following formula with an absolute viscosity of 17 mPa·s (Si—H content: 0.0013 mol/g)
Figure 0007276212000005

(C)熱伝導性無機充填材
C-1:酸化亜鉛2種(JIS規格、平均粒径1μm、不定形)
C-2:酸化アルミニウム粉末(平均粒径1μm、球状)
(C) Thermally conductive inorganic filler C-1: 2 types of zinc oxide (JIS standard, average particle size 1 μm, irregular shape)
C-2: Aluminum oxide powder (average particle size 1 μm, spherical)

(D)熱伝導性無機充填材
D-1:酸化アルミニウム粉末(平均粒径10μm、球状)
(D) Thermally conductive inorganic filler D-1: aluminum oxide powder (average particle size 10 μm, spherical)

(E)加水分解性オルガノシロキサン
E-1:絶対粘度30mPa・sの下記式で表されるオルガノポリシロキサン

Figure 0007276212000006
(E) Hydrolyzable Organosiloxane E-1: Organopolysiloxane represented by the following formula with an absolute viscosity of 30 mPa·s
Figure 0007276212000006

下記の方法により得られるヒドロシリル化触媒
塩化白金酸H2PtCl6・6H2O(37.6質量%白金)8.0gを還流コンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付けた100mLの反応フラスコに入れ、次いでエタノールを40.0g及びジビニルテトラメチルジシロキサンを16.0g加えた。70℃で50時間加熱反応させた後、反応混合物を室温(25℃)にて撹拌しながら炭酸水素ナトリウム16gを徐々に加えて2時間中和した。反応混合物を吸引濾過し、濾液を減圧留去し、エタノール及び過剰のジビニルテトラメチルジシロキサンを実質的に取り除いた後、トルエンで希釈し、全量を600gとした(白金0.5質量%含有)。
上述した白金-ビニルシロキサン錯体トルエン溶液に290gの絶対粘度600mPa・sの分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサンを加えて撹拌し、トルエンを60℃/20torrで減圧留去し、実質的にトルエンを取り除いたものをヒドロシリル化触媒とした(白金1.0質量%含有)。
Hydrosilylation catalyst obtained by the following method 8.0 g of chloroplatinic acid H 2 PtCl 6 .6H 2 O (37.6% by weight platinum) are placed in a 100 mL reaction flask equipped with a reflux condenser, thermometer and stirring device, 40.0 grams of ethanol and 16.0 grams of divinyltetramethyldisiloxane were then added. After reacting with heating at 70° C. for 50 hours, the reaction mixture was neutralized for 2 hours by gradually adding 16 g of sodium hydrogen carbonate while stirring at room temperature (25° C.). The reaction mixture was subjected to suction filtration, the filtrate was distilled off under reduced pressure to substantially remove ethanol and excess divinyltetramethyldisiloxane, and then diluted with toluene to make the total amount 600 g (containing 0.5% by mass of platinum). .
To the platinum-vinylsiloxane complex toluene solution described above, 290 g of dimethylpolysiloxane having an absolute viscosity of 600 mPa s and having both molecular chain ends blocked with dimethylvinylsiloxy groups was added and stirred, and toluene was distilled off under reduced pressure at 60 ° C./20 torr. A hydrosilylation catalyst (containing 1.0% by mass of platinum) was obtained by removing toluene from the product.

(F)アルコキシ縮合触媒
F-1:テトラメチルグアニジルプロピルトリメトキシシラン
F-2:ジブチル錫ジアセテート
F-3:ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン
(F) Alkoxy condensation catalyst F-1: Tetramethylguanidylpropyltrimethoxysilane F-2: Dibutyltin diacetate F-3: Diisopropoxybis(ethylacetoacetate)titanium

[ソルダーレジスト基板作製方法]
FR-4基板(ガラスエポキシ材 R1705、銅箔70/70μm、パナソニック電工(株)製)に、ソルダーレジスト PSR-800 AUS410(太陽誘電(株)製)を30μmの厚さになるようにスピンコートし、150℃/1時間硬化させた。その後に裏面を同方法でソルダーレジストを30μmの厚さになるようにスピンコートして、裏面を150℃/1時間硬化して両面コート基板とした。保管は25℃/50%RH環境において、飽和吸湿をさせた。
[Method for preparing solder resist substrate]
Solder resist PSR-800 AUS410 (manufactured by Taiyo Yuden Co., Ltd.) is spin-coated to a thickness of 30 μm on an FR-4 substrate (glass epoxy material R1705, copper foil 70/70 μm, manufactured by Panasonic Electric Works Co., Ltd.). and cured at 150° C./1 hour. Thereafter, the back surface was spin-coated with a solder resist to a thickness of 30 μm by the same method, and the back surface was cured at 150° C. for 1 hour to obtain a double-sided coated substrate. Saturated moisture absorption was performed in a storage environment of 25°C/50% RH.

[実施例1~8、比較例1~3、5~7]
(I)表1、2に示す配合量で(A)、(B)、(C)、(D)、(E)成分及び白金族金属系触媒を配合して、プラネタリーミキサーを用いて室温(25℃)減圧(70mmHg)下で60分混合した。
(II)(I)で得られた混合物を165℃に加熱し、減圧(70mmHg)下で120分混合し、反応混合物を得た。
(III)(II)で得られた(A)、(B)成分の架橋反応が完了した反応混合物に、表1、2に示す配合量の(F)アルコキシ縮合触媒を室温にて常圧で15分間混合してシリコーン組成物を作製した。
[Examples 1 to 8, Comparative Examples 1 to 3, 5 to 7]
(I) Components (A), (B), (C), (D), and (E) and a platinum group metal-based catalyst were blended in the blending amounts shown in Tables 1 and 2, and the mixture was mixed at room temperature using a planetary mixer. (25° C.) and mixed under reduced pressure (70 mmHg) for 60 minutes.
(II) The mixture obtained in (I) was heated to 165° C. and mixed under reduced pressure (70 mmHg) for 120 minutes to obtain a reaction mixture.
(III) To the reaction mixture in which the crosslinking reaction of the components (A) and (B) obtained in (II) was completed, the alkoxy condensation catalyst (F) in the amount shown in Tables 1 and 2 was added at room temperature and normal pressure. A silicone composition was made by mixing for 15 minutes.

[比較例4]
上記(I)工程において、(F)成分を同時に混合して(II)工程で加熱した以外は、実施例5と同様の方法でシリコーン組成物を得た。
[Comparative Example 4]
A silicone composition was obtained in the same manner as in Example 5, except that component (F) was mixed at the same time in step (I) above and heated in step (II).

シリコーン組成物の特性は次に示す方法にて測定した。
[熱伝導率測定]
京都電子工業(株)製のTPA-501を用いて、25℃において測定した。
Properties of the silicone composition were measured by the following methods.
[Thermal conductivity measurement]
Measurement was performed at 25° C. using TPA-501 manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.

[絶対粘度測定]
絶対粘度は25℃における値を示し、その測定はマルコム粘度計(タイプPC-10AA)を用いた。シリコーン組成物の塗布プロセスにおいて、実用上絶対粘度500Pa・sより大きいものは使用不可と考えられる。
[Absolute viscosity measurement]
The absolute viscosity is the value at 25° C., and the measurement was performed using a Malcom viscometer (type PC-10AA). In the application process of the silicone composition, it is considered practically unusable to have an absolute viscosity of more than 500 Pa·s.

[シリコーン組成物のズレ性試験]
シリコーン組成物をガラス板上に0.325mL塗布して、1mmのスペーサーを挿入し、ガラス板で挟んで直径約20mm/厚さ1mmの円盤状のサンプルを作製した。
ガラスに挟まれたサンプルを円盤が垂直状態になるように配置して、冷熱試験条件:-40℃/30分⇔150℃/30分の条件でサイクル試験を行い、サイクル250回後の状態を観察した。円盤状のシリコーン組成物がもとのガラス板の位置からズレている場合は「ズレ有」とした。垂直にシリコーン組成物を配置して、元の位置からズレが発生しない場合を「ズレ無」とした。このような状況が好ましい。
[Slipping Test of Silicone Composition]
0.325 mL of the silicone composition was applied to a glass plate, a 1 mm spacer was inserted, and sandwiched between glass plates to prepare a disk-shaped sample with a diameter of about 20 mm and a thickness of 1 mm.
Place the sample sandwiched between glass so that the disk is vertical, and perform a cycle test under the conditions of -40 ° C / 30 minutes ⇔ 150 ° C / 30 minutes, and the state after 250 cycles. Observed. If the disk-shaped silicone composition was displaced from the original position on the glass plate, it was evaluated as "displaced". When the silicone composition was placed vertically and no deviation occurred from the original position, it was evaluated as "no deviation". Such a situation is preferred.

[シリコーン組成物のボイド性試験]
シリコーン組成物をソルダーレジスト基板上に0.067mL塗布して、0.4mmのスペーサーを挿入し、ガラス板と前述の作製したソルダーレジスト基板で挟んで直径約10mm/厚さ0.4mmの円盤状のサンプルを作製した。
ガラスとソルダーレジスト基板に挟まれたサンプルを円盤が水平状態になるように配置して、150℃に予め加熱した乾燥機に投入し、150℃で90分間保管した。円盤状のシリコーン組成物に全体面積の5%以上の割れやボイドがある場合は、「割れ(ワレ)/ボイド有」とした。150℃で90分間保管しても割れやボイドが発生しない場合を「割れ(ワレ)/ボイド無」とした。単位面積当たりの熱伝導パスの減少がないので、このような状況が好ましい。
[Void property test of silicone composition]
0.067 mL of the silicone composition is applied onto the solder resist substrate, a 0.4 mm spacer is inserted, and a disk shape with a diameter of about 10 mm and a thickness of 0.4 mm is sandwiched between the glass plate and the solder resist substrate prepared above. A sample of
The sample sandwiched between the glass and the solder resist substrate was arranged so that the disk was horizontal, placed in a dryer preheated to 150° C., and stored at 150° C. for 90 minutes. If the disc-shaped silicone composition had cracks or voids that accounted for 5% or more of the total area, it was classified as "Cracks/voids present". A case where no cracks or voids occurred even after being stored at 150° C. for 90 minutes was defined as “no cracks/voids”. This situation is preferred because there is no reduction in heat transfer paths per unit area.

Figure 0007276212000007
Figure 0007276212000007

Figure 0007276212000008
Figure 0007276212000008

表1及び2の結果は、本発明の熱伝導性シリコーン組成物が、25℃における絶対粘度500Pa・s以下であることから塗布性に優れ、熱伝導率に優れるものであり、また耐久試験に投入しても冷熱サイクル時のズレが発生せず、ボイド試験においても割れやボイドが発生しないことから、使用中に熱が発生する電気・電子部品からの除熱に優れるものであることを実証している。 The results in Tables 1 and 2 show that the thermally conductive silicone composition of the present invention has an absolute viscosity of 500 Pa·s or less at 25°C, and therefore has excellent coatability and thermal conductivity. Even when it is put in, there is no deviation during the cooling/heating cycle, and no cracks or voids occur in the void test. are doing.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、熱伝導性に優れるだけでなく、ソルダーレジスト基板に対する耐ボイド性と耐ズレ性が良好であるので、使用中に熱が発生する電気・電子部品からの除熱に好適である。 The thermally conductive silicone composition of the present invention not only has excellent thermal conductivity, but also has good void resistance and misalignment resistance to solder resist substrates, so it can be used from electric and electronic parts that generate heat during use. Suitable for heat removal.

Claims (6)

(A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと、(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサンとを、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基と(B)成分中のSi-H基とのモル比(Si-H/Si-Vi)2~10の割合で反応させた反応生成物、
(C)金属酸化物から選ばれる平均粒径3μm以下の熱伝導性無機充填材、
(D)金属酸化物から選ばれる平均粒径5μm以上の熱伝導性無機充填材、
(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサン、及び
(F)グアニジル基を含有するシラン又はシロキサンであるアルコキシ縮合触媒:(E)成分に対して0.01~1質量%
を含有し、(C)成分と(D)成分の合計配合量が、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して2,000~8,000質量部であり、25℃における絶対粘度が50~500Pa・sで、単位体積当たりのSi-H残基量が1×10-6~1×10-3mol/cm3である熱伝導性シリコーン組成物。
(A) an organopolysiloxane having a silicon-bonded alkenyl group and (B) an organohydrogenpolysiloxane are combined with the silicon-bonded alkenyl groups in component (A) and the Si— in component (B). a reaction product reacted with H groups at a molar ratio (Si—H/Si—Vi) of 2 to 10;
(C) a thermally conductive inorganic filler with an average particle size of 3 μm or less selected from metal oxides;
(D) a thermally conductive inorganic filler having an average particle size of 5 μm or more selected from metal oxides;
(E) a hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group, and (F) an alkoxy condensation catalyst that is a silane or siloxane containing a guanidyl group : 0.01 to 1% by mass relative to component (E)
and the total amount of components (C) and (D) is 2,000 to 8,000 parts by mass per 100 parts by mass of components (A) and (B), and 25 A thermally conductive silicone composition having an absolute viscosity of 50 to 500 Pa·s at °C and an amount of Si—H residues per unit volume of 1×10 −6 to 1×10 −3 mol/cm 3 .
(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンの配合量が、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して、25~400質量部である請求項1に記載の熱伝導性シリコーン組成物。 The heat according to claim 1, wherein the amount of (E) the hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group is 25 to 400 parts by mass with respect to the total of 100 parts by mass of the components (A) and (B). A conductive silicone composition. ソルダーレジスト基板用である請求項1又は2に記載の熱伝導性シリコーン組成物。 3. The thermally conductive silicone composition according to claim 1, which is used for solder resist substrates. (A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと、(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサンとを、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基と(B)成分中のSi-H基とのモル比(Si-H/Si-Vi)2~10の割合で反応させた反応生成物、
(C)金属酸化物から選ばれる平均粒径3μm以下の熱伝導性無機充填材、
(D)金属酸化物から選ばれる平均粒径5μm以上の熱伝導性無機充填材、
(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサン、及び
(F)アルコキシ縮合触媒:(E)成分に対して0.01~1質量%
を含有し、(C)成分と(D)成分の合計配合量が、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して2,000~8,000質量部であり、25℃における絶対粘度が50~500Pa・sで、単位体積当たりのSi-H残基量が1×10 -6 ~1×10 -3 mol/cm 3 である熱伝導性シリコーン組成物の製造方法であって、
(I)(A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサン、(C)金属酸化物から選ばれる平均粒径3μm以下の熱伝導性無機充填材、(D)金属酸化物から選ばれる平均粒径5μm以上の熱伝導性無機充填材、(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサン、及び必要に応じて白金族金属系触媒を、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基と(B)成分中のSi-H基とのモル比(Si-H/Si-Vi)が2~10となるように混合して混合物を得る工程と、
(II)得られた混合物を100~180℃で30分~4時間加熱して、(A)成分と(B)成分とを反応させる工程と、
(III)上記で得られた反応混合物に、(F)アルコキシ縮合触媒を室温で10~60分間混合する工程と
を含む熱伝導性シリコーン組成物の製造方法。
(A) an organopolysiloxane having a silicon-bonded alkenyl group and (B) an organohydrogenpolysiloxane are combined with the silicon-bonded alkenyl groups in component (A) and the Si— in component (B). a reaction product reacted with H groups at a molar ratio (Si—H/Si—Vi) of 2 to 10;
(C) a thermally conductive inorganic filler with an average particle size of 3 μm or less selected from metal oxides;
(D) a thermally conductive inorganic filler having an average particle size of 5 μm or more selected from metal oxides;
(E) a hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group, and
(F) Alkoxy condensation catalyst: 0.01 to 1% by mass relative to component (E)
and the total amount of components (C) and (D) is 2,000 to 8,000 parts by mass per 100 parts by mass of components (A) and (B), and 25 A method for producing a thermally conductive silicone composition having an absolute viscosity at °C of 50 to 500 Pa·s and an amount of Si—H residues per unit volume of 1×10 −6 to 1×10 −3 mol/cm 3 . There is
(I) (A) an organopolysiloxane having an alkenyl group bonded to a silicon atom, (B) an organohydrogenpolysiloxane, and (C) a thermally conductive inorganic filler having an average particle size of 3 μm or less selected from metal oxides; (D) a thermally conductive inorganic filler having an average particle size of 5 μm or more selected from metal oxides, (E) a hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group, and, if necessary, a platinum group metal-based catalyst, (A) a step of mixing the alkenyl groups bonded to silicon atoms in the component and the Si—H groups in the component (B) so that the molar ratio (Si—H/Si—Vi) is 2 to 10 to obtain a mixture; ,
(II) heating the resulting mixture at 100 to 180° C. for 30 minutes to 4 hours to react components (A) and (B);
(III) A method for producing a thermally conductive silicone composition comprising the step of mixing (F) an alkoxy condensation catalyst with the reaction mixture obtained above at room temperature for 10 to 60 minutes.
(E)アルコキシ基を有する加水分解性オルガノシロキサンの配合量が、(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対して、25~400質量部である請求項4に記載の熱伝導性シリコーン組成物の製造方法。(E) The heat according to claim 4, wherein the amount of hydrolyzable organosiloxane having an alkoxy group is 25 to 400 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of components (A) and (B). A method for making a conductive silicone composition. ソルダーレジスト基板用である請求項4又は5に記載の熱伝導性シリコーン組成物の製造方法。6. The method for producing a thermally conductive silicone composition according to claim 4 or 5, which is used for solder resist substrates.
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