JP7260776B2 - 光学部品の製造方法及び発光装置の製造方法 - Google Patents
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Description
このような用途に用いられる発光装置は、発光素子を備え、発光素子が蛍光体を含有する光学部品を通して光を出射するため、光学部品の性能によって、光取り出し効率、輝度、色度などの光特性が左右されることがある。従って、このような光学部品について種々の工夫がなされている(例えば、特許文献1、2)。
本発明は、光取り出し効率に優れた光学部品をより簡便かつ確実に、高精度に製造することができる光学部品の製造方法、さらに、この製造方法で得られた光学部品を用いた発光装置の製造方法を提供することを目的とする。
(1)蛍光体を除く無機材料と、粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナの混合物とを交互に積層した積層体を準備し、
該積層体を焼結して、前記無機材料を含む透光層と、前記蛍光体又は前記混合物を含む蛍光体層とが交互に積層された焼結体を形成し、
該焼結体を、前記透光層で切断し、透光層/蛍光体層/透光層の板状体を形成することを含む光学部品の製造方法。
(2)上記製造方法で得られた光学部品を準備し、
発光素子を基板上にフリップチップ実装し、
前記発光素子の上面に前記光学部品を固定することを含む発光装置の製造方法。
この実施形態の光学部品の製造方法は、図1A~1Dに示すように、
蛍光体を除く無機材料11aと、粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナの混合物12aとを交互に積層した積層体18aを準備し(図1A)、
得られた積層体18aを焼結して、無機材料による透光層11bと、蛍光体又は混合物による蛍光体層12とが交互に積層された焼結体18を形成し、
得られた焼結体18を、透光層11bで切断し、透光層11b/蛍光体層12/透光層11bの板状体を形成する(図1C)ことを含む。
このような方法では、蛍光体を含む層を切断又は研磨することなく、薄膜状の光学部品を、簡易かつ確実に、精度よく製造することができる。これによって得られた光学部品は、光学部品での光損失を低減することができ、光取り出し効率を向上し、色むら等を低減することが可能となる。
このような光学部品の製造方法では、さらに、図1Dに示すように、得られた光学部品13における透光層11bを研磨して、より表面を平坦に又はより薄膜化した透光層11としてもよい。
まず、無機材料と、粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナとの混合物とを準備する。
ここでの無機材料は、蛍光体を構成する無機材料を含まない。また、後述するように、焼結した後に透光性となる材料である。ここで透光性とは、発光素子からの光(例えば、波長320nm~850nmの範囲の光)の透過率が50%以上のものが挙げられ、60%以上が好ましく、70%以上がより好ましい。
無機材料としては、例えば、アルミニウムもしくはイットリウムの酸化物又はこれらの複合酸化物等が挙げられ、具体的には、アルミナ、サファイア等が好ましい。準備する無機材料の形態は、積層体とするために、粒状のもの又は板状のものが好ましい。粒状のものである場合、例えば、0.2μm~1.3μmの粒径が挙げられ、0.3μm~0.8μmが好ましく、0.3μm~0.6μmがより好ましい。なお、粒状の粒子は、球体であるものよりも、表面に凹凸等を有する不規則な形状であるものが好ましい。板状のものは、その表面が平坦であるものが好ましく、例えば、板状に加工されたサファイア基板等が挙げられる。
蛍光体としては、例えば、セリウムで賦活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(例えばY3(Al,Ga)5O12:Ce)、セリウムで賦活されたルテチウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(例えばLu3(Al,Ga)5O12:Ce)、ユウロピウムおよび/又はクロムで賦活された窒素含有アルミノ珪酸カルシウム系蛍光体(例えばCaO-Al2O3-SiO2:Eu)、ユウロピウムで賦活されたシリケート系蛍光体(例えば(Sr,Ba)2SiO4:Eu)、βサイアロン系蛍光体(例えばSi6-zAlzOzN8-z:Eu(0<Z<4.2))、CASN系蛍光体(例えばCaAlSiN3:Eu)、SCASN系蛍光体(例えば(Sr,Ca)AlSiN3:Eu)等の窒化物系蛍光体、マンガンで賦活されたフッ化珪酸カリウム系蛍光体(例えばK2SiF6:Mn)、硫化物系蛍光体、量子ドット蛍光体などが挙げられる。これらは1種のみ又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
粒状の蛍光体は、例えば、粒径1μm~50μmのものが挙げられ、2μm~40μmが好ましく、より好ましくは、2μm~15μmである。なお、粒状の粒子は、球体であるものよりも、表面に凹凸等を有する不規則な形状であるものが好ましい。
粒状の蛍光体とアルミナとの混合物を用いる場合、蛍光体及びアルミナの重量は、積層体とする場合の厚み等により適宜設定することができるが、例えば、蛍光体粉末とアルミナ粒子の混合比は、蛍光体粉末とアルミナ粒子の合計量100質量%に対して、蛍光体粉末の含有量が、好ましくは0.1質量%以上99.9質量%以下、より好ましくは0.5質量%以上99質量%以下、さらに好ましくは1質量%以上95質量%以下、よりさらに好ましくは2質量%以上80質量%以下、よりさらに好ましくは3質量%以上70質量%以下、よりさらに好ましくは3質量%以上50質量%以下、よりさらに好ましくは4質量%以上50質量%以下、とくに好ましくは5質量%以上50質量%以下である。このような割合に設定することにより、光学部品として、入射した光を十分に蛍光体によって波長変換させることができる光学部品を得ることができる。
なお、無機材料、蛍光体及び/又は混合物には、積層体とするために、水分、潤滑油等を添加してもよい。さらに、蛍光体粒子による光の変換を妨げず、発光素子からの光を透過させる粉体を添加してもよい。発光素子からの光を透過させる粉体としては、MgO、LiF、Nb2O5、NiO、SiO2、TiO2及びY2O3の少なくとも1種を含む粉体が挙げられる。これらを添加する場合には、各層を構成する材料の全重量に対して、5%以下が挙げられ、1%以下が好ましい。
積層方法としては、例えば、(a)粒状の無機材料11aを金型に充填し、圧縮して層状又は板状に成形し、続いて、粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナの混合物12aを、成形した無機材料層又は板状の無機材料の上に充填し、再度圧縮して層状又は板状に成形する工程を繰返して積層体18aを形成してもよいし、(b)無機材料11aと、粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナの混合物12aとを、それぞれ別個に圧縮して形成した層状又は板状体を、交互に積層して再度圧縮して積層体18aを形成してもよいし、(c)板状の無機材料11aと、粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナの混合物12aとを積層し、圧縮して積層体18aを形成してもよいし、(d)粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナの混合物12aを層状又は板状体を複数形成し、粒状の無機材料11aと、層状又は板状体とを交互に複数重ねた後、再度圧縮して積層体18aを形成してもよい。
金型プレス成形時の圧力は、好ましくは5MPaから50MPaであり、より好ましくは5MPaから20MPaである。金型プレス成形時の圧力が前記範囲であれば、成形体を所望の形状に整えることができる。
CIP処理における圧力は、好ましくは50MPa~200MPaであり、より好ましくは50MPa~180MPaである。CIP処理における圧力が前記範囲であると、成形体の密度を高め、全体が略均一な密度を有する成形体を得ることができ、後の焼成工程において、得られる焼結体の密度を高めることができる。
ここでの各層の積層厚みは、適宜調整することができる。例えば、一辺が500μm~1500μmの発光素子の光学部品として利用するために、光学部品としての厚みは、20μm~500μmが挙げられる。無機材料11aを含む層と、粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナの混合物12aを含む層とは、同程度の厚みであってもよいし、一方が他方よりも厚膜であってもよい。なかでも、後工程で、無機材料11aを含む層を切断及び/又は研磨することを考慮して、無機材料11aを含む層の厚みを調整することが好ましい。
積層体18aの各層の積層数は、例えば、切断工程の容易さを考慮して、合計で数層~十数層が好ましい。
積層体18aの平面形状及び大きさは、後述する焼結体を得るための焼成炉に入る程度であればよく、種々の形状及び大きさとすることができる。
続いて、上記で得られた積層体18aを焼成し、焼結体18を得る。
焼成は、一次焼成を行った後に二次焼成を行ってもよく、複数回の焼成を行ってもよい。焼成温度は、例えば、1200℃以上が挙げられ、1200℃~1800℃が好ましい。特に、無機材料としてアルミナ、蛍光体としてYAGを用いた場合は、1600℃~1780℃が好ましい。この温度で焼成することによって、透光性の焼結体18が得られる。焼成温度は、準備した積層体18aの厚み及び大きさによるが、例えば、1時間~10時間が挙げられ、2時間~8時間が好ましい。
このような焼結によって、図1Bに示すように、上述した無機材料が焼結された透光層と、粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナの混合物が焼結された蛍光体層とが交互に配置され、両者の界面が強固に密着して一体的に構成された焼結体18を形成することができる。ここでの透光性とは、上述したように、発光素子からの光(例えば、波長320nm~850nmの範囲の光)の50%以上を透過するものが挙げられる。
上記で得られた焼結体18を、図1Bに示すように、透光層11b、つまり無機材料層、例えば、点線Aで切断する。切断位置は、切断方法及び後工程で切断面を研磨すること、位置の制御が容易であること等を考慮して、透光層11bの厚み方向における中央近傍の位置で切断することが好ましい。このような切断によって、図1Cに示すように、透光層11b/蛍光体層12/透光層11bの板状体13aを形成する。
切断は、例えば、ブレード、レーザー等を用いて行うことができる。
得られた板状体13aにおいて、例えば、透光層11bの厚みは、10μm~160μm、蛍光体層12の厚みは、10μm~200μmが挙げられ、それぞれ10μm~25μm、50μm~100μmであることが好ましい。得られた板状体13aは、そのまま光学部品として用いることができる。
得られた透光層11b/蛍光体層12/透光層11bの板状体13aは、その表裏面、つまり、透光層11bの、蛍光体層12の反対側の面をそれぞれ研削及び/又は研磨することが好ましい。
研削及び/又は研磨は当該分野で公知の方法のいずれを用いてもよく、通常、市販の研削又は研磨機を用いて行うことが好ましい。このような研削及び/又は研磨により、図1Dに示すように、透光層11bを所望の厚み及び/又は平滑な表面を有する透光層11とすることができ、所望の厚み、性能等を有する光学部品13とすることができる。例えば、透光層11/蛍光体層12/透光層11の光学部品13の総厚みは、20μm~500μmが挙げられ、70μm~200μmが好ましい。うち、蛍光体層12は、その中に含有されている蛍光体の種類、量等によって適宜調整することができ、例えば、10μm~200μmが挙げられ、50μm~100μmが好ましい。蛍光体層12の表裏面に接する透光層11は、例えば、5μm~150μmが挙げられ、10μm~25μmが好ましい。2つの透光層11は同じ膜厚でもよいし、異なる膜厚でもよい。
なお、光学部品13は、必要に応じて、所定の平面形状及び平面積(大きさ)となるように加工してもよい。
例えば、図1Eに示すように、光学部品の上側の外縁の一部に曲面による凹部22aを有する形状に加工してもよい。
この実施形態の発光装置の製造方法は、図2A~図2Eに示すように、
上述した方法で得られた光学部品13を準備し(図1D)、
発光素子15を基板14上にフリップチップ実装し(図2A)、
発光素子15の上面に光学部品13を固定する(図2B)ことを含む。
これらの工程は、任意の工程で行うことができる。例えば、発光素子15上に光学部品13を固定した後、その発光素子15を基板14上に実装してもよいし、発光素子15を基板14上に実装した後、光学部品13を準備し、光学部品13を発光素子15の上面に固定してもよい。
このように、薄膜状であり、特性が安定した光学部品を発光装置に利用することができることから、光取り出し効率が向上するとともに、色むら等を防止した発光装置を簡易かつ確実に製造することができる。
このような発光装置の製造方法では、さらに、基板上であって、発光素子の側面を光反射性部材で被覆することが好ましい。また、光学部品の側面をも光反射性部材で被覆することがより好ましい。
まず、発光素子15を準備する。
例えば、図2Aに示すように、発光素子15を基板14にフリップチップ実装する。発光素子15の基板14へのフリップチップ実装は、例えば、接合部材16を介して行うことができる。ここで、接合部材16としては、例えば、錫-ビスマス系、錫-銅系、錫-銀系、金-錫系などの半田、AuとSnとを主成分とする合金、AuとSiとを主成分とする合金、AuとGeとを主成分とする合金等の共晶合金、あるいは、銀、金、パラジウムなどの導電性ペースト、バンプ、ACP、ACF等の異方性導電材、低融点金属のろう材、これらを組み合わせた導電性接着剤、導電性複合接着剤等が挙げられる。
発光素子15の上面への光学部品13の固定は、圧着又は焼結、直接接合、透光性の接合部材又は高屈折率の有機接着剤等により、発光素子の上に固定することができる。
発光素子は、その組成、発光色又は波長、大きさ、個数等、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、青色、緑色の発光素子としては、ZnSe、窒化物系半導体(InXAlYGa1-X-YN、0≦X、0≦Y、X+Y≦1)、GaPなどの半導体層を用いたもの、赤色の発光素子としては、GaAlAs、AlInGaPなどの半導体層を用いたものが挙げられる。
発光素子は、通常、透光性の支持基板(例えば、サファイア基板)上に、半導体層を積層させて形成される。基板が発光素子の上面側となり、発光素子の主な光取り出し面となる。支持基板は半導体層との接合面に凹凸を有していてもよい。これにより半導体層から出射された光が、基板に当たるときの臨界角を意図的に変えて、基板の外部に光を容易に取り出すことができる。
発光素子においては、支持基板は半導体層の積層後に除去されていてもよい。除去は、例えば、研磨、LLO(レーザ・リフト・オフ)等で行うことができる。支持基板が除去された場合は、支持基板に最も近かった半導体層の表面が発光素子の上面となり、発光素子の主な光取り出し面となる。
発光素子は、同一面側に正負一対の電極を有するものが好ましい。これにより、発光素子を実装基板にフリップチップ実装することができる。そして、一対の電極が形成された面と対向する面が主な光取り出し面となる。
発光装置の製造方法では、図2Dに示すように、基板14上に搭載された発光素子15の側面の一部又は全部を被覆する光反射性部材17を形成することが好ましい。光反射性部材17は、発光素子15の側面に加えて、光学部品13の側面の一部又は全部を被覆してもよい。なかでも、光反射性部材17は、発光素子15の側面の全部及び光学部品13の側面の全部を被覆することが好ましい。また、光反射性部材17の上面は、光学部品13の上面に対して突出していても、凹んでいてもよいが、図2D及び2Eに示すように、光反射性部材17の上面と光学部品13の上面とが面一であることがより好ましい。また、光反射性部材17は、発光素子15と基板14との間にも配置されていてもよい。
一般に、光出射面となる光学部品の上面から出射された光は、横方向にも広がりを有する。光反射性部材の上面が、光学部品の上面の高さよりも高い場合には、光学部品の上面から出射された光が光反射性部材に当たって反射され、配光のばらつきが生じる。これに対して、光学部品の側面を光反射性部材で覆いつつ、その側面の外周を覆う光反射性部材の高さをそれと同じか、低くすることにより、出射された光の全部を外部に直接取り出すことができる。
光反射性部材は、絶縁材料を用いることが好ましく、例えば、樹脂材料を用いて形成することができる。樹脂材料としては、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂の1種以上を含む樹脂又はハイブリッド樹脂が挙げられる。光反射性部材は、これらの樹脂材料に、反射性物質を含有させることにより形成することができる。反射性物質としては、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ムライトなどが挙げられる。反射性物質の含有量は、得ようとする発光装置の特性等によって適宜調整することができる。例えば、光反射性部材の全重量に対して反射性物質の含有量を30wt%以上とし、その厚みを50μm以上又は100μm以上とすることが好ましい。
光反射性部材は、例えば、射出成形、ポッティング成形、樹脂印刷法、トランスファーモールド法、圧縮成形などにより成形することができる。
11a 無機材料
11b 透光層
12 蛍光体層
12a 粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナの混合物
13 光学部品
13a 板状体
14 基板
15 発光素子
16 接合部材
17 光反射性部材
18 焼結体
18a 積層体
19 接合部材
22a 凹部
Claims (10)
- 蛍光体を除く無機材料と、粒状の蛍光体又は粒状の蛍光体及びアルミナの混合物と、を交互に積層した積層体を準備し、
該積層体を焼結して、前記無機材料を含む透光層と、前記蛍光体又は前記混合物を含む蛍光体層と、が交互に積層された焼結体を形成し、
該焼結体を、前記積層の方向に対して垂直な方向に前記透光層面内で切断し、透光層/蛍光体層/透光層の板状体を形成することを含む光学部品の製造方法。 - さらに、得られた光学部品における前記透光層を研磨することを含む請求項1に記載の光学部品の製造方法。
- 前記積層体を1200℃以上で焼結する請求項1または2に記載の光学部品の製造方法。
- 前記無機材料は、粒状のアルミナ又は板状のサファイアを含む請求項1~3のいずれか1つに記載の光学部品の製造方法。
- 請求項1~4のいずれか1つに記載の製造方法で得られた光学部品を準備し、
発光素子を基板上にフリップチップ実装し、
前記発光素子の上面に前記光学部品を固定することを含む発光装置の製造方法。 - 前記光学部品と前記発光素子との固定を、直接接合で行う請求項5に記載の発光装置の製造方法。
- さらに、前記光学部品の上面の外縁の一部を除去する請求項5または6に記載の発光装置の製造方法。
- さらに、前記基板上であって、前記発光素子の側面を光反射性部材で被覆する請求項5~7のいずれか1つに記載の発光装置の製造方法。
- さらに、前記光学部品の側面を光反射性部材で被覆する請求項8に記載の発光装置の製造方法。
- 前記光学部品の前記発光素子からの光に対する透過率は50%以上である請求項5~9のいずれか1つに記載の発光装置の製造方法。
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