JP7226414B2 - Light emitting device, optical device and information processing device - Google Patents

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本発明は、発光装置、光学装置および情報処理装置に関する。 The present invention relates to a light emitting device, an optical device and an information processing device.

特許文献1には、光源と、所定の平面上において互いに隣接して配置される複数のレンズを有すると共に、光源が出射する光を拡散する光拡散部材と、光拡散部材によって拡散された光が被写体で反射した反射光を受光する撮像素子と、を備え、複数のレンズは、拡散された光における干渉縞の周期が三画素以下となるように配置された撮像装置が記載されている。 Patent Document 1 discloses a light source, a light diffusion member that has a plurality of lenses arranged adjacent to each other on a predetermined plane, diffuses light emitted from the light source, and light diffused by the light diffusion member. and an imaging device for receiving reflected light reflected by an object, and a plurality of lenses are arranged so that the period of interference fringes in diffused light is three pixels or less.

特開2018-54769号公報JP 2018-54769 A

ところで、発光素子アレイを駆動する回路のインダクタンスを低減したい場合など、発光素子アレイの一つの側面側だけでなく、複数の側面側にボンディングワイヤ等の配線を設ける場合がある。また、受光素子や温度検知素子など、複数の回路素子を発光素子アレイの側面に近接配置させる場合がある。
このような場合、発光素子アレイを駆動する駆動素子側の配線基板上と、発光素子アレイを挟んで駆動素子と反対側の配線基板上とに複数の回路素子を分けて配置するとともに、残りの側面側にボンディングワイヤ等の配線を設ける構成が考えられる。
しかしながら、発光素子アレイと駆動素子との間に回路素子を配置すると、発光素子アレイと駆動素子とを接続する配線パターンの経路が制限され、回路のインダクタンスが増加してしまう場合がある。
By the way, wiring such as bonding wires may be provided not only on one side surface of the light emitting element array but also on a plurality of side surfaces, such as when it is desired to reduce the inductance of the circuit that drives the light emitting element array. Also, a plurality of circuit elements such as a light receiving element and a temperature detecting element may be arranged close to the side surface of the light emitting element array.
In such a case, a plurality of circuit elements are separately arranged on the wiring substrate on the side of the driving element that drives the light emitting element array and on the wiring substrate on the side opposite to the driving element with the light emitting element array interposed therebetween. A configuration in which wiring such as a bonding wire is provided on the side surface is conceivable.
However, when a circuit element is arranged between the light emitting element array and the driving element, the route of the wiring pattern connecting the light emitting element array and the driving element is restricted, which may increase the inductance of the circuit.

本発明は、発光素子アレイの駆動素子側に回路素子を設ける構成と比較し、駆動素子と発光素子アレイとを近接させやすい構造の発光装置などを提供する。 The present invention provides a light-emitting device or the like having a structure in which a drive element and a light-emitting element array are easily brought closer to each other than a configuration in which a circuit element is provided on the drive element side of the light-emitting element array.

請求項1に記載の発明は、配線基板と、互いに対向する第1の側面および第2の側面と、当該第1の側面および当該第2の側面とを接続する、互いに対向する第3の側面および第4の側面とを有し、前記配線基板上に設けられた発光素子アレイと、前記第1の側面側の前記配線基板上に設けられ、前記発光素子アレイを駆動する駆動素子と、前記第2の側面よりも前記駆動素子からの距離が遠い前記配線基板の位置に、当該第2の側面に沿って設けられた第1の回路素子および第2の回路素子と、前記第3の側面側および前記第4の側面側に設けられ、前記発光素子アレイの上面電極から当該発光素子アレイの外側に向けて延びる配線部材と、を備え、前記第1の側面と前記駆動素子との間には、他の回路素子が設けられていない発光装置である。
請求項2に記載の発明は、前記第1の回路素子および前記第2の回路素子の少なくとも一方は、前記発光素子アレイが出射した光を受光する受光素子である請求項1に記載の発光装置である。
請求項3に記載の発明は、前記第1の回路素子および前記第2の回路素子の少なくとも一方は、前記発光素子アレイの温度を検知する温度検知素子である請求項1に記載の発光装置である。
請求項4に記載の発明は、前記第1の回路素子および前記第2の回路素子の少なくとも一方は、前記発光素子アレイに電流を供給するキャパシタである請求項1ないし3のいずれか1項に記載の発光装置である。
請求項5に記載の発明は、前記第2の側面と前記第1の回路素子および前記第2の回路素子との間には、前記発光素子アレイの前記上面電極から当該発光素子アレイの外側に向けて延びる配線部材が設けられていない請求項1ないし4のいずれか1項に記載の発光装置である。
請求項6に記載の発明は、前記第1の回路素子および前記第2の回路素子はそれぞれ複数の端子を有し、前記第1の回路素子は前記第2の回路素子よりも前記第3の側面側に配置されるとともに、当該第1の回路素子の前記複数の端子それぞれに接続される配線は当該第3の側面側に引き出され、前記第2の回路素子は前記第1の回路素子よりも前記第4の側面側に配置されるとともに、当該第2の回路素子の前記複数の端子それぞれに接続される配線は当該第4の側面側に引き出されている請求項1ないし5のいずれか1項に記載の発光装置である。
請求項7に記載の発明は、前記発光素子アレイの出射経路上に、当該発光素子アレイから出射された光を外部に向けて拡散する光拡散部材が設けられている請求項1ないし6のいずれか1項に記載の発光装置である。
請求項8に記載の発明は、前記第1の回路素子および前記第2の回路素子の少なくとも一方は、前記発光素子アレイが出射した光を受光する受光素子であり、前記光拡散部材は、平面視において前記発光素子アレイおよび前記受光素子と重なる位置に設けられている請求項7に記載の発光装置である。
請求項9に記載の発明は、前記発光素子アレイは、互いに並列に接続された複数の発光素子を有する請求項1ないし8のいずれか1項に記載の発光装置である。
請求項10に記載の発明は、請求項1ないし9のいずれか1項に記載の発光装置と、前記発光装置が備える発光素子アレイから出射され被測定物で反射された反射光を受光する受光部と、を備え、前記受光部は、前記発光素子アレイから光が出射されてから当該受光部で受光されるまでの時間に相当する信号を出力する光学装置である。
請求項11に記載の発明は、請求項10に記載の光学装置と、前記光学装置が備える発光素子アレイから出射され被測定物で反射され、当該光学装置が備える受光部が受光した反射光に基づき、当該被測定物の三次元形状を特定する形状特定部と、を備える情報処理装置である。
請求項12に記載の発明は、前記形状特定部での特定結果に基づき、自装置の使用に関する認証処理を行う認証処理部と、を備える請求項11に記載の情報処理装置である。
According to the first aspect of the present invention, the wiring substrate, the first and second side surfaces facing each other, and the third side surfaces facing each other connecting the first and second side surfaces. and a fourth side surface, the light emitting element array provided on the wiring substrate; a driving element provided on the wiring substrate on the first side surface side for driving the light emitting element array; a first circuit element and a second circuit element provided along the second side surface at a position of the wiring substrate farther from the driving element than the second side surface; and the third side surface. and a wiring member provided on the fourth side surface and extending from the upper surface electrode of the light emitting element array toward the outside of the light emitting element array, between the first side surface and the driving element. is a light-emitting device that is not provided with other circuit elements.
The invention according to claim 2 is the light emitting device according to claim 1, wherein at least one of the first circuit element and the second circuit element is a light receiving element for receiving light emitted from the light emitting element array. is.
The invention according to claim 3 is the light-emitting device according to claim 1, wherein at least one of the first circuit element and the second circuit element is a temperature detection element for detecting the temperature of the light-emitting element array. be.
A fourth aspect of the invention is directed to any one of the first to third aspects, wherein at least one of the first circuit element and the second circuit element is a capacitor that supplies a current to the light emitting element array. The light emitting device described.
According to a fifth aspect of the invention, between the second side surface and the first circuit element and the second circuit element, a 5. The light-emitting device according to any one of claims 1 to 4, wherein no wiring member extending toward is provided.
According to a sixth aspect of the invention, the first circuit element and the second circuit element each have a plurality of terminals, and the first circuit element is more likely to be connected to the third circuit element than the second circuit element. Wirings arranged on the side surface and connected to each of the plurality of terminals of the first circuit element are drawn out to the third side, and the second circuit element is located farther from the first circuit element. is arranged on the fourth side surface side, and wirings connected to the plurality of terminals of the second circuit element are led out to the fourth side surface side. 1. The light-emitting device according to item 1.
The invention according to claim 7 is any one of claims 1 to 6, wherein a light diffusing member for diffusing light emitted from the light emitting element array toward the outside is provided on an emission path of the light emitting element array. 1. The light-emitting device according to claim 1.
According to an eighth aspect of the invention, at least one of the first circuit element and the second circuit element is a light receiving element for receiving light emitted from the light emitting element array, and the light diffusing member is a flat surface. 8. The light-emitting device according to claim 7, which is provided at a position overlapping with the light-emitting element array and the light-receiving element when viewed.
The invention according to claim 9 is the light-emitting device according to any one of claims 1 to 8, wherein the light-emitting element array has a plurality of light-emitting elements connected in parallel.
The invention according to claim 10 is a light emitting device according to any one of claims 1 to 9; and a portion, wherein the light receiving portion outputs a signal corresponding to the time from when the light is emitted from the light emitting element array to when the light is received by the light receiving portion.
The invention according to claim 11 is directed to the optical device according to claim 10, and the reflected light emitted from the light emitting element array provided in the optical device, reflected by the object to be measured, and received by the light receiving unit provided in the optical device. and a shape identifying unit that identifies the three-dimensional shape of the object to be measured based on the information processing apparatus.
The invention according to claim 12 is the information processing apparatus according to claim 11, further comprising an authentication processing unit that performs authentication processing regarding use of the device based on the result of identification by the shape identification unit.

請求項1に記載の発明によれば、発光素子アレイの駆動素子側に回路素子を設ける構成と比較し、駆動素子と発光素子アレイとを近接させやすい。
請求項2に記載の発明によれば、発光素子アレイが出射した光を受光する受光素子を有する構成において、駆動素子と発光素子アレイとを近接させやすい。
請求項3に記載の発明によれば、発光素子アレイの温度を検知する温度検知素子を有する構成において、駆動素子と発光素子アレイとを近接させやすい。
請求項4に記載の発明によれば、発光素子アレイに電流を供給するキャパシタを有する構成において、駆動素子と発光素子アレイとを近接させやすい。
請求項5に記載の発明によれば、第2の側面と第1の回路素子との間、および第2の側面と第2の回路素子との間に配線部材が設けられている場合と比較し、回路素子を発光素子アレイに近接して配置しやすい。
請求項6に記載の発明によれば、第1の回路素子が接続される配線と第2の回路素子が接続される配線とを同じ側に引き出す場合に比べ、2個の回路素子を発光素子アレイに近接させて配置しやすい。
請求項7に記載の発明によれば、光拡散部材がない構成と比較し、発光素子アレイから出射された光が広い範囲に照射される。
請求項8に記載の発明によれば、発光素子アレイおよび受光素子と重なる位置に設けられていない場合と比較し、発光素子アレイから出射されて光拡散部材で反射した光に対する受光素子での受光量が増加する。
請求項9に記載の発明によれば、発光素子を個別に駆動する構成と比較し、強い光強度の光が照射される。
請求項10に記載の発明によれば、三次元測定が行える光学装置が提供される。
請求項11に記載の発明によれば、三次元形状を測定できる情報処理装置が提供される。
請求項12に記載の発明によれば、三次元形状に基づく認証処理を搭載した情報処理装置が提供される。
According to the first aspect of the invention, it is easier to bring the driving element and the light emitting element array closer to each other than the configuration in which the circuit element is provided on the driving element side of the light emitting element array.
According to the second aspect of the invention, in the configuration in which the light-emitting element array has light-receiving elements for receiving light emitted from the light-emitting element array, it is easy to bring the driving element and the light-emitting element array close to each other.
According to the third aspect of the invention, in the configuration having the temperature detection element for detecting the temperature of the light emitting element array, the driving element and the light emitting element array can be easily brought close to each other.
According to the fourth aspect of the invention, in the configuration having the capacitor that supplies current to the light emitting element array, it is easy to bring the driving element and the light emitting element array close to each other.
According to the invention of claim 5, compared with the case where wiring members are provided between the second side surface and the first circuit element and between the second side surface and the second circuit element In addition, it is easy to arrange the circuit elements close to the light emitting element array.
According to the sixth aspect of the invention, compared to the case where the wiring to which the first circuit element is connected and the wiring to which the second circuit element is connected are led out to the same side, the two circuit elements are connected to the light emitting element. Easy to place close to the array.
According to the seventh aspect of the invention, the light emitted from the light emitting element array irradiates a wider range than the configuration without the light diffusing member.
According to the eighth aspect of the present invention, the light emitted from the light emitting element array and reflected by the light diffusion member is received by the light receiving element as compared with the case where the light emitting element array and the light receiving element are not provided at a position overlapping the light emitting element array. increase in quantity.
According to the ninth aspect of the invention, compared to a configuration in which the light emitting elements are individually driven, light with a higher intensity is emitted.
According to the tenth aspect of the invention, an optical device capable of three-dimensional measurement is provided.
According to the eleventh aspect of the invention, an information processing apparatus capable of measuring a three-dimensional shape is provided.
According to the twelfth aspect of the invention, an information processing apparatus equipped with authentication processing based on a three-dimensional shape is provided.

情報処理装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of an information processing apparatus. 情報処理装置の構成を説明するブロック図である。It is a block diagram explaining the structure of an information processing apparatus. 発光素子アレイの平面図である。2 is a plan view of a light emitting element array; FIG. 発光素子アレイにおける1個のVCSELの断面構造を説明する図である。It is a figure explaining the cross-sectional structure of one VCSEL in a light emitting element array. 光拡散部材の一例を説明する図である。(a)は、平面図、(b)は、(a)のVB-VB線での断面図である。It is a figure explaining an example of a light-diffusion member. (a) is a plan view, and (b) is a sectional view taken along line VB-VB of (a). ローサイド駆動により発光素子アレイを駆動する等価回路の一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of an equivalent circuit that drives a light emitting element array by low-side driving; 本実施の形態が適用される発光装置を説明する図である。(a)は、平面図、(b)は、(a)のVIIB-VIIB線での断面図、(c)は、(a)のVIIC-VIIC線での断面図である。It is a figure explaining the light-emitting device to which this Embodiment is applied. (a) is a plan view, (b) is a sectional view taken along line VIIB-VIIB in (a), and (c) is a sectional view taken along line VIIC-VIIC in (a). 本実施の形態が適用される発光装置における配線基板および基材に設けられる配線パターンを説明する図である。(a)は、配線基板の表面、(b)は、基材の表面、(c)は、基材の裏面である。FIG. 3 is a diagram illustrating wiring patterns provided on a wiring substrate and a base material in a light emitting device to which the present embodiment is applied; (a) is the front surface of the wiring board, (b) is the front surface of the substrate, and (c) is the rear surface of the substrate. 比較のために示す発光装置を説明する平面図である。(a)は、平面図、(b)は、(a)のIXB-IXB線での断面図、(c)は、(a)のIXC-IXC線での断面図である。It is a top view explaining the light-emitting device shown for comparison. (a) is a plan view, (b) is a sectional view taken along line IXB-IXB of (a), and (c) is a sectional view taken along line IXC-IXC of (a). 比較のために示す発光装置における配線基板および基材に設けられる配線パターンを説明する図である。(a)は、配線基板の表面、(b)は、基材の表面、(c)は、基材の裏面である。FIG. 3 is a diagram illustrating wiring patterns provided on a wiring substrate and a base material in a light emitting device shown for comparison; (a) is the front surface of the wiring board, (b) is the front surface of the substrate, and (c) is the rear surface of the substrate.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
情報処理装置は、その情報処理装置にアクセスしたユーザがアクセスすることが許可されているか否かを識別し、アクセスが許可されているユーザであることが認証された場合にのみ、自装置である情報処理装置の使用を許可するようになっていることが多い。これまで、パスワード、指紋、虹彩などにより、ユーザを認証する方法が用いられてきた。最近では、さらにセキュリティ性の高い認証方法が求められている。この方法として、ユーザの顔の形状など、三次元像による認証が行われるようになっている。
ここでは、情報処理装置は、一例として携帯型情報処理端末であるとして説明し、三次元像として捉えられた顔の形状を認識することで、ユーザを認証するとして説明する。なお、情報処理装置は、携帯型情報処理端末以外のパーソナルコンピュータ(PC)などの情報処理装置に適用しうる。
さらに、本実施の形態で説明する構成、機能、方法等は、顔の形状の認識以外の三次元形状を被測定物とした認識にも適用しうる。すなわち、顔以外の物体の形状の認識に適用してもよい。また、被測定物までの距離は問わない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
An information processing device identifies whether or not a user who has accessed the information processing device is permitted to access, and only when the user who is permitted access is authenticated, is the device itself. In many cases, the use of information processing equipment is permitted. Traditionally, methods have been used to authenticate users by means of passwords, fingerprints, irises, and the like. Recently, there is a demand for an authentication method with even higher security. As this method, authentication is performed using a three-dimensional image such as the shape of the user's face.
Here, the information processing apparatus is described as being a portable information processing terminal as an example, and is described as authenticating a user by recognizing the shape of a face captured as a three-dimensional image. Note that the information processing apparatus can be applied to an information processing apparatus such as a personal computer (PC) other than the portable information processing terminal.
Furthermore, the configurations, functions, methods, and the like described in the present embodiment can also be applied to recognition of a three-dimensional shape as an object to be measured other than face shape recognition. That is, it may be applied to recognition of shapes of objects other than faces. Moreover, the distance to the object to be measured does not matter.

(情報処理装置1)
図1は、情報処理装置1の一例を示す図である。前述したように、情報処理装置1は、一例として携帯型情報処理端末である。
情報処理装置1は、ユーザインターフェイス部(以下では、UI部と表記する。)2と三次元像を取得する光学装置3とを備える。UI部2は、例えばユーザに対して情報を表示する表示デバイスとユーザの操作により情報処理に対する指示が入力される入力デバイスとが一体化されて構成されている。表示デバイスは、例えば液晶ディスプレイや有機ELディスプレイであり、入力デバイスは、例えばタッチパネルである。
(Information processing device 1)
FIG. 1 is a diagram showing an example of an information processing device 1. As shown in FIG. As described above, the information processing device 1 is a portable information processing terminal as an example.
The information processing device 1 includes a user interface section (hereinafter referred to as a UI section) 2 and an optical device 3 that acquires a three-dimensional image. The UI unit 2 is configured by, for example, integrating a display device for displaying information to a user and an input device for inputting an instruction for information processing by a user's operation. A display device is, for example, a liquid crystal display or an organic EL display, and an input device is, for example, a touch panel.

光学装置3は、発光装置4と、三次元センサ(以下では、3Dセンサと表記する。)5とを備える。発光装置4は、三次元像を取得するための被測定物、ここで説明する例では顔に向けて光を照射する。3Dセンサ5は、発光装置4により照射されて顔で反射されて戻ってきた光を取得する。ここでは、光の飛行時間による、いわゆるToF(Time of Flight)法に基づいて、顔の三次元像を取得するとする。以下では、顔の三次元像を取得する場合であっても、顔を被測定物と表記する。なお、顔以外を被測定物として三次元像を取得してもよい。三次元像を取得することを、3Dセンシングと表記することがある。3Dセンサ5は、受光部の一例である。 The optical device 3 includes a light emitting device 4 and a three-dimensional sensor (hereinafter referred to as a 3D sensor) 5 . The light emitting device 4 irradiates light toward an object to be measured for acquiring a three-dimensional image, which is a face in the example described here. The 3D sensor 5 acquires the light emitted by the light emitting device 4 and reflected back from the face. Here, it is assumed that a three-dimensional image of the face is acquired based on the so-called ToF (Time of Flight) method, which uses the time of flight of light. In the following description, the face is referred to as an object to be measured even when a three-dimensional image of the face is acquired. A three-dimensional image may be obtained by using an object other than the face as the object to be measured. Acquiring a three-dimensional image is sometimes referred to as 3D sensing. The 3D sensor 5 is an example of a light receiving section.

なお、情報処理装置1は、CPU、ROM、RAMなどを含むコンピュータとして構成されている。なお、ROMには、不揮発性の書き換え可能なメモリ、例えばフラッシュメモリを含む。そして、ROMに蓄積されたプログラムや定数が、RAMに展開されて、CPUが実行することによって、情報処理装置1が動作し、各種の情報処理が実行される。 The information processing apparatus 1 is configured as a computer including a CPU, ROM, RAM, and the like. The ROM includes non-volatile rewritable memory such as flash memory. Then, the programs and constants stored in the ROM are expanded in the RAM and executed by the CPU, thereby causing the information processing apparatus 1 to operate and various information processing to be performed.

図2は、情報処理装置1の構成を説明するブロック図である。
情報処理装置1は、上記した光学装置3と、光学装置制御部8と、システム制御部9とを備える。光学装置制御部8は、光学装置3を制御する。そして、光学装置制御部8は、形状特定部81を含む。システム制御部9は、情報処理装置1全体をシステムとして制御する。そして、システム制御部9は、認証処理部91を含む。そして、システム制御部9には、UI部2、スピーカ92、二次元カメラ(図2では、2Dカメラと表記する。)93などが接続されている。
以下、順に説明する。
FIG. 2 is a block diagram for explaining the configuration of the information processing device 1. As shown in FIG.
The information processing device 1 includes the optical device 3, the optical device control section 8, and the system control section 9 described above. The optical device control section 8 controls the optical device 3 . The optical device control section 8 includes a shape specifying section 81 . The system control unit 9 controls the entire information processing apparatus 1 as a system. The system control unit 9 also includes an authentication processing unit 91 . The system control unit 9 is connected to the UI unit 2, a speaker 92, a two-dimensional camera (referred to as a 2D camera in FIG. 2) 93, and the like.
They will be described in order below.

光学装置3が備える発光装置4は、配線基板10と、基材100と、発光素子アレイ20と、光拡散部材30と、光量監視用受光素子(図2および以下では、PDと表記する。)40と、温度検知用素子(図2および以下では、TDと表記する。)45と、駆動部50と、保持部60と、キャパシタ70とを備える。さらに、発光装置4は、駆動部50を動作させるために、抵抗素子6、キャパシタ7などの受動素子を備える。駆動部50は、後述するように発光素子アレイ20を駆動する駆動素子を備える。よって、図では、駆動部(駆動素子)と表記する。なお、キャパシタ70として2個を図示しているが、1個でもよく、2個を超える数であってもよい。さらに、抵抗素子6およびキャパシタ7のそれぞれは、複数あってよい。ここでは、発光素子アレイ20、PD40、TD45および駆動部50以外のキャパシタ70、3Dセンサ5、抵抗素子6、キャパシタ7などをそれぞれ区別しないで回路部品と表記することがある。 The light-emitting device 4 included in the optical device 3 includes a wiring substrate 10, a base material 100, a light-emitting element array 20, a light diffusion member 30, and a light-receiving element for light amount monitoring (referred to as PD in FIG. 2 and below). 40 , a temperature detection element (referred to as TD in FIG. 2 and below) 45 , a driving section 50 , a holding section 60 and a capacitor 70 . Furthermore, the light emitting device 4 includes passive elements such as the resistance element 6 and the capacitor 7 in order to operate the driving section 50 . The driving unit 50 includes driving elements for driving the light emitting element array 20 as described later. Therefore, in the figure, it is described as a driving section (driving element). Although two capacitors 70 are illustrated, the number may be one or more than two. Furthermore, each of the resistive element 6 and the capacitor 7 may be plural. Here, the capacitor 70, the 3D sensor 5, the resistance element 6, the capacitor 7, and the like other than the light emitting element array 20, PD 40, TD 45, and drive unit 50 may be referred to as circuit components without being distinguished from each other.

発光素子アレイ20、PD40およびTD45は、基材100上に設けられている。基材100は、電気絶縁性部材で構成されている。そして、基材100、駆動部50、キャパシタ70、抵抗素子6、キャパシタ7は、配線基板10上に設けられている。つまり、発光素子アレイ20、PD40およびTD45は、基材100を介して、配線基板10上に設けられている。ここでは、基材100を介する場合であっても、発光素子アレイ20、PD40およびTD45は、配線基板10上に設けられているとする。なお、駆動部50は、一例として、半導体集積回路で構成されている。 Light emitting element array 20 , PD 40 and TD 45 are provided on substrate 100 . The base material 100 is composed of an electrically insulating member. Base material 100 , drive unit 50 , capacitor 70 , resistor element 6 and capacitor 7 are provided on wiring board 10 . That is, the light emitting element array 20, PD 40 and TD 45 are provided on the wiring board 10 with the base material 100 interposed therebetween. Here, it is assumed that the light emitting element array 20, the PD 40 and the TD 45 are provided on the wiring board 10 even if the substrate 100 is interposed therebetween. In addition, the driving unit 50 is configured by a semiconductor integrated circuit as an example.

発光素子アレイ20は、複数の発光素子が二次元に配列されたアレイとして構成されている(後述する図3参照)。発光素子は、一例として垂直共振器面発光レーザ素子VCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting Laser)である。以下では、発光素子は垂直共振器面発光レーザ素子VCSELであるとして説明する。そして、垂直共振器面発光レーザ素子VCSELをVCSELと表記する。発光素子アレイ20は、配線基板10または基材100の表面に対して垂直方向に光を出射する。ToF法により三次元センシングを行う場合、発光素子アレイ20は、例えば、100MHz以上で、且つ、立ち上り時間が1ns以下のパルス光(以下では、出射光パルスと表記する。)を出射することが求められる。また、顔認証を例とする場合、光が照射される距離は10cm程度から1m程度である。そして、3D形状として測定する範囲は、1m角程度である。なお、光が照射される距離を測定距離と表記し、被測定物の3D形状を測定する範囲を測定範囲または照射範囲と表記する。また、測定範囲または照射範囲に仮想的に設けられる面を照射面と表記する。 The light emitting element array 20 is configured as an array in which a plurality of light emitting elements are arranged two-dimensionally (see FIG. 3 described later). The light emitting element is, for example, a vertical cavity surface emitting laser element VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting Laser). In the following description, the light emitting element is a vertical cavity surface emitting laser element VCSEL. A vertical cavity surface emitting laser element VCSEL is denoted as VCSEL. The light-emitting element array 20 emits light in a direction perpendicular to the surface of the wiring board 10 or base material 100 . When three-dimensional sensing is performed by the ToF method, the light emitting element array 20 is required to emit pulsed light (hereinafter referred to as an emitted light pulse) having a frequency of 100 MHz or more and a rise time of 1 ns or less. be done. Further, in the case of face authentication as an example, the distance at which light is emitted is approximately 10 cm to 1 m. The range to be measured as a 3D shape is about 1 m square. Note that the distance irradiated with light is referred to as a measurement distance, and the range in which the 3D shape of the object to be measured is measured is referred to as a measurement range or an irradiation range. Also, a surface virtually provided in the measurement range or the irradiation range is referred to as an irradiation surface.

PD40は、受光した光量(以下では、受光量と表記する。)に応じた電気信号を出力する、アノードとなるp型のSi領域、i(イントリンシック)型のSi領域、カソードとなるn型のSi領域で構成されたpin型などのフォトダイオードである。そして、p型のSi領域にアノード電極が設けられ、n型のSi領域にカソード電極が設けられている。なお、PD40は、第1の回路素子の一例であり、受光素子の一例である。 The PD 40 outputs an electric signal corresponding to the amount of light received (hereinafter referred to as the amount of received light), and includes a p-type Si region that serves as an anode, an i (intrinsic) type Si region, and an n-type that serves as a cathode. The photodiode is a pin-type photodiode composed of a Si region of . An anode electrode is provided in the p-type Si region, and a cathode electrode is provided in the n-type Si region. The PD 40 is an example of a first circuit element and an example of a light receiving element.

TD45は、基材100の温度を検知する温度検知素子である。TD45は、例えば、表面実装型の負特性サーミスタ(NTC:Negative Temperature Coefficient Thermistor)や正特性サーミスタ(PTC:Positive Temperature Coefficient Thermistor)である。負特性サーミスタは、温度が上がると抵抗値が下がり、正特性サーミスタは、ある一定の温度を超えると、抵抗値が急上昇する。TD45の上記の特性を利用して、基材100の温度を検知して、間接的に発光素子アレイ20の温度を監視する。よって、TD45は、発光素子アレイ20に近接して配置されるとよい。サーミスタは極性を有しないが、他の温度センサ素子には、極性を有するものがある。なお、TD45は、第2の回路素子の一例である。 A TD 45 is a temperature sensing element that senses the temperature of the substrate 100 . The TD 45 is, for example, a surface mount type negative temperature coefficient thermistor (NTC) or a positive temperature coefficient thermistor (PTC). A negative temperature coefficient thermistor decreases in resistance as the temperature rises, and a positive temperature coefficient thermistor increases in resistance when the temperature exceeds a certain level. Using the above characteristics of the TD 45, the temperature of the base material 100 is detected, and the temperature of the light emitting element array 20 is indirectly monitored. Therefore, the TD 45 should be arranged close to the light emitting element array 20 . A thermistor is non-polar, but some other temperature sensor elements are polar. Note that the TD45 is an example of the second circuit element.

光拡散部材30は、発光素子アレイ20およびPD40を覆うように設けられる。つまり、光拡散部材30は、基材100上に設けられた保持部60により、基材100上の発光素子アレイ20およびPD40から予め定められた距離離して設けられている。なお、光拡散部材30が発光素子アレイ20およびPD40を覆うとは、光拡散部材30が発光素子アレイ20の出射する光の出射経路上に設けられ、発光素子アレイ20が出射する光が光拡散部材30を透過するように設けられていることを言う。平面視した場合に、発光素子アレイ20およびPD40と光拡散部材30とが重なる状態を言う。ここで、平面視とは、後述する図3、図7(a)などにおいて、xy平面で見た場合を指す。なお、PD40は、発光素子アレイ20が出射した光の内、光拡散部材30によって反射された光の一部を受光しやすいように、光拡散部材30によって覆われる位置であって、発光素子アレイ20に近接して配置されるとよい。図2では、光拡散部材30は、TD45も覆うように設けられているが、光拡散部材30が、TD45を覆わないようにしてもよい。光拡散部材30がTD45を覆わないようにすれば、高価な光拡散部材30の面積が小さくて済む。 A light diffusing member 30 is provided to cover the light emitting element array 20 and the PD 40 . That is, the light diffusing member 30 is provided at a predetermined distance from the light emitting element array 20 and the PD 40 on the substrate 100 by the holding portion 60 provided on the substrate 100 . The light diffusion member 30 covering the light emitting element array 20 and the PD 40 means that the light diffusion member 30 is provided on the light emission path of the light emitted from the light emitting element array 20, and the light emitted from the light emitting element array 20 is diffused. It means that it is provided so as to penetrate the member 30 . It refers to a state in which the light emitting element array 20 and the PD 40 overlap with the light diffusion member 30 when viewed in plan. Here, the planar view refers to the case of viewing on the xy plane in FIG. 3, FIG. 7A, etc. described later. The PD 40 is a position covered by the light diffusing member 30 so as to easily receive part of the light reflected by the light diffusing member 30 among the light emitted from the light emitting element array 20. 20. In FIG. 2 , the light diffusion member 30 is provided so as to cover the TD 45 as well, but the light diffusion member 30 may not cover the TD 45 . If the light diffusion member 30 does not cover the TD 45, the area of the expensive light diffusion member 30 can be reduced.

保持部60は、光拡散部材30の縁辺部に設けられ、光拡散部材30を保持する。ここでは、保持部60は、発光素子アレイ20、PD40およびTD45を囲むように設けられている。ここでは、基材100の外形、光拡散部材30の外形および保持部60の外形が同じであるとした。このため、基材100、光拡散部材30および保持部60の外縁が重なっている。なお、基材100の外形が光拡散部材30の外形や保持部60の外形より大きくてもよい。 The holding portion 60 is provided at the edge portion of the light diffusion member 30 and holds the light diffusion member 30 . Here, the holding section 60 is provided so as to surround the light emitting element array 20, PD40 and TD45. Here, it is assumed that the outer shape of the base material 100, the outer shape of the light diffusing member 30, and the outer shape of the holding portion 60 are the same. Therefore, the outer edges of the base material 100, the light diffusing member 30, and the holding portion 60 overlap each other. The outer shape of the base material 100 may be larger than the outer shape of the light diffusion member 30 and the outer shape of the holding portion 60 .

発光装置4における配線基板10、基材100、発光素子アレイ20、光拡散部材30、駆動部50および保持部60の詳細については、後述する。 Details of the wiring board 10, the base material 100, the light emitting element array 20, the light diffusion member 30, the driving section 50, and the holding section 60 in the light emitting device 4 will be described later.

3Dセンサ5は、複数の受光セルを備える。例えば、各受光セルは、発光素子アレイ20からの出射光パルスに対する被測定物からのパルス状の反射光(以下では、受光パルスと表記する。)を受光し、受光されるまでの時間に対応する電荷を受光セル毎に蓄積するように構成されている。3Dセンサ5は、各受光セルが2つのゲートとそれらに対応した電荷蓄積部とを備えたCMOS構造のデバイスとして構成されている。そして、2つのゲートに交互にパルスを加えることによって、発生した光電子を2つの電荷蓄積部の何れかに高速に転送する。2つの電荷蓄積部には、出射光パルスと受光パルスとの位相差に応じた電荷が蓄積される。そして、3Dセンサ5は、ADコンバータを介して、受光セル毎に出射光パルスと受光パルスとの位相差に応じたデジタル値を信号として出力する。すなわち、3Dセンサ5は、発光素子アレイ20から光が出射されてから3Dセンサ5で受光されるまでの時間に相当する信号を出力する。なお、ADコンバータは、3Dセンサ5が備えてもよく、3Dセンサ5の外部に設けられてもよい。 The 3D sensor 5 comprises a plurality of light receiving cells. For example, each light-receiving cell receives a pulse-shaped reflected light (hereinafter referred to as a light-receiving pulse) from the object to be measured in response to the light pulse emitted from the light-emitting element array 20, and corresponds to the time until the light is received. Each light receiving cell is configured to accumulate an electric charge to be applied to the light receiving cell. The 3D sensor 5 is constructed as a CMOS device in which each light-receiving cell has two gates and corresponding charge storage portions. By alternately applying pulses to the two gates, the generated photoelectrons are transferred at high speed to either of the two charge storage units. Charges corresponding to the phase difference between the emitted light pulse and the received light pulse are accumulated in the two charge accumulation units. Then, the 3D sensor 5 outputs a digital value as a signal corresponding to the phase difference between the emitted light pulse and the received light pulse for each light receiving cell via the AD converter. That is, the 3D sensor 5 outputs a signal corresponding to the time from when the light is emitted from the light emitting element array 20 to when the light is received by the 3D sensor 5 . Note that the AD converter may be provided in the 3D sensor 5 or may be provided outside the 3D sensor 5 .

以上説明したように、顔認証を例とする場合、発光素子アレイ20は、距離が10cm程度から1m程度で1m角程度の照射範囲に光を照射することが求められる。そして、被測定物からの反射光を3Dセンサ5が受光することで、被測定物の3D形状が測定される。このため、発光素子アレイ20は、大出力であって、発光素子アレイ20の発熱を効率よく放熱することが求められるとともに、発光素子アレイ20の過熱が抑制されることが求められる。 As described above, in the case of face authentication, the light emitting element array 20 is required to irradiate light in an irradiation range of about 1 m square at a distance of about 10 cm to about 1 m. Then, the 3D shape of the object to be measured is measured by the 3D sensor 5 receiving the reflected light from the object to be measured. For this reason, the light-emitting element array 20 is required to have a large output, efficiently dissipate heat generated by the light-emitting element array 20 , and be required to suppress overheating of the light-emitting element array 20 .

光学装置制御部8の形状特定部81は、3Dセンサ5から受光セル毎に得られるデジタル値を取得し、受光セル毎に被測定物までの距離を算出する。そして算出された距離により、被測定物の3D形状を特定する。 A shape specifying unit 81 of the optical device control unit 8 acquires a digital value obtained for each light receiving cell from the 3D sensor 5, and calculates the distance to the object to be measured for each light receiving cell. Then, the 3D shape of the object to be measured is specified based on the calculated distance.

システム制御部9の認証処理部91は、形状特定部81が特定した特定結果である被測定物の3D形状がROMなどに予め蓄積された3D形状である場合に、情報処理装置1の使用に関する認証処理を行う。なお、情報処理装置1の使用に関する認証処理とは、一例として、自装置である情報処理装置1の使用を許可するか否かの処理である。例えば、被測定物である顔の3D形状が、ROM等の記憶部材に記憶された顔形状に一致すると判断される場合には、情報処理装置1が提供する各種アプリケーション等を含む情報処理装置1の使用が許可される。
上記の形状特定部81および認証処理部91は、一例として、プログラムによって構成される。また、ASICやFPGA等の集積回路で構成されてもよい。さらには、プログラム等のソフトウエアとASIC等の集積回路とで構成されてもよい。
The authentication processing unit 91 of the system control unit 9 determines whether the 3D shape of the object to be measured, which is the specified result specified by the shape specifying unit 81, is a 3D shape stored in advance in a ROM or the like. Perform authentication processing. Note that the authentication processing regarding the use of the information processing device 1 is, for example, a processing of whether or not to permit the use of the information processing device 1 which is the own device. For example, when it is determined that the 3D shape of the face, which is the object to be measured, matches the face shape stored in a storage member such as a ROM, the information processing apparatus 1 including various applications provided by the information processing apparatus 1 is allowed to use.
The shape identification unit 81 and the authentication processing unit 91 described above are configured by a program, for example. Alternatively, it may be configured by an integrated circuit such as ASIC or FPGA. Furthermore, it may be composed of software such as a program and an integrated circuit such as an ASIC.

図2では、光学装置3、光学装置制御部8およびシステム制御部9をそれぞれ分けて示したが、システム制御部9が光学装置制御部8を含んでもよい。また、光学装置制御部8が光学装置3に含まれてもよい。さらに、光学装置3、光学装置制御部8およびシステム制御部9が一体に構成されてもよい。 Although the optical device 3 , the optical device control section 8 and the system control section 9 are shown separately in FIG. 2 , the system control section 9 may include the optical device control section 8 . Also, the optical device controller 8 may be included in the optical device 3 . Furthermore, the optical device 3, the optical device controller 8 and the system controller 9 may be integrated.

次に、発光装置4を説明する前に、発光装置4を構成する発光素子アレイ20、光拡散部材30、および発光素子アレイ20を駆動する回路を説明する。なお、発光素子アレイ20を駆動する回路は、駆動部50、キャパシタ70、PD40およびTD45を含む。 Next, before describing the light emitting device 4, the light emitting element array 20, the light diffusing member 30, and the circuit for driving the light emitting element array 20, which constitute the light emitting device 4, will be described. A circuit for driving the light emitting element array 20 includes the driving section 50, the capacitor 70, the PD40 and the TD45.

(発光素子アレイ20の構成)
図3は、発光素子アレイ20の平面図である。発光素子アレイ20は、平面視した形状である平面形状が四角形であって、複数のVCSELが二次元のアレイ状に配列されて構成されている。紙面の右方向をx方向、紙面の上方向をy方向とする。x方向およびy方向に反時計回りで直交する方向をz方向とする。なお、各図面におけるx、y、z方向は、共通である。なお、表面とは、+z方向側の面を言い、裏面とは、-z方向側の面を言う。他の場合も同様である。なお、複数のVCSELは、図3に示したように必ずしも格子の交点に配置されることを要しない。例えば、隣接して設けられた複数の三角形の頂点に配置するなど、他の配列であってもよい。
(Configuration of light-emitting element array 20)
FIG. 3 is a plan view of the light emitting element array 20. FIG. The light-emitting element array 20 has a rectangular planar shape when viewed from above, and is configured by arranging a plurality of VCSELs in a two-dimensional array. The right direction of the paper is defined as the x direction, and the upper direction of the paper is defined as the y direction. A direction perpendicular to the x-direction and the y-direction in a counterclockwise direction is defined as the z-direction. Note that the x, y, and z directions in each drawing are common. The front surface refers to the surface on the +z direction side, and the back surface refers to the surface on the -z direction side. The same is true for other cases. Note that the plurality of VCSELs need not necessarily be arranged at the intersections of the grid as shown in FIG. For example, other arrangements such as arranging at the vertices of a plurality of adjacent triangles may be used.

VCSELは、半導体基板200(後述する図4参照)上に積層された下部多層膜反射鏡と上部多層膜反射鏡との間に発光領域となる活性領域を設け、半導体基板200の垂直方向である+z方向にレーザ光を出射させる発光素子である。このことから、二次元のアレイ化が容易である。発光素子アレイ20の備えるVCSELの数は、一例として、100個~1000個である。なお、複数のVCSELは、互いに並列に接続され、並列に駆動される。上記したVCSELの数は一例であり、発光素子アレイ20のVCSELの数は、測定距離や測定範囲に応じて設定されればよい。 In the VCSEL, an active region that becomes a light emitting region is provided between a lower multilayer reflector and an upper multilayer reflector that are stacked on a semiconductor substrate 200 (see FIG. 4, which will be described later). It is a light-emitting element that emits laser light in the +z direction. This makes it easy to form a two-dimensional array. The number of VCSELs included in the light emitting element array 20 is, for example, 100 to 1000. A plurality of VCSELs are connected in parallel and driven in parallel. The number of VCSELs described above is an example, and the number of VCSELs in the light-emitting element array 20 may be set according to the measurement distance and measurement range.

発光素子アレイ20の表面には、複数のVCSELに共通のアノード電極218(後述する図4参照)が設けられている。発光素子アレイ20の裏面には、カソード電極214が設けられている(後述する図4参照)。つまり、複数のVCSELは、並列接続されている。複数のVCSELを並列接続して駆動することで、VCSELを個別に駆動する場合に比べ、強い強度の光が同時に出射されて被測定物に照射される。 An anode electrode 218 (see FIG. 4 described later) common to a plurality of VCSELs is provided on the surface of the light emitting element array 20 . A cathode electrode 214 is provided on the back surface of the light emitting element array 20 (see FIG. 4 described later). That is, multiple VCSELs are connected in parallel. By driving a plurality of VCSELs connected in parallel, light having a high intensity is simultaneously emitted and applied to the object to be measured, compared to the case where the VCSELs are driven individually.

ここでは、平面形状が四角形である発光素子アレイ20の+x方向側の側面を側面21A、-x方向側の側面を側面21B、+y方向側の側面を側面22Aおよび-y方向側の側面を側面22Bと表記する。側面21Aと側面21Bとが対向する。側面22Aと側面22Bとは、それぞれが側面21Aと側面21Bとをつなぐとともに、対向する。ここで、側面21Aが第1の側面の一例、側面21Bが第2の側面の一例、側面22Aが第3の側面の一例および側面22Bが第4の側面の一例である。 Here, the +x direction side of the light emitting element array 20 having a square planar shape is the side 21A, the −x direction side is the side 21B, the +y direction side is the side 22A, and the −y direction side is the side. 22B. Side 21A and side 21B face each other. The side surfaces 22A and 22B connect the side surfaces 21A and 21B and face each other. Here, the side surface 21A is an example of a first side surface, the side surface 21B is an example of a second side surface, the side surface 22A is an example of a third side surface, and the side surface 22B is an example of a fourth side surface.

(VCSELの構造)
図4は、発光素子アレイ20における1個のVCSELの断面構造を説明する図である。このVCSELは、λ共振器構造のVCSELである。紙面の上方向をz方向とする。
(Structure of VCSEL)
FIG. 4 is a diagram illustrating the cross-sectional structure of one VCSEL in the light-emitting element array 20. As shown in FIG. This VCSEL is a VCSEL with a λ resonator structure. The upward direction of the paper is defined as the z direction.

VCSELは、n型のGaAsなどの半導体基板200上に、Al組成の異なるAlGaAs層を交互に重ねたn型の下部分布ブラック型反射鏡(DBR:Distributed Bragg Reflector)202と、上部スペーサ層および下部スペーサ層に挟まれた量子井戸層を含む活性領域206と、Al組成の異なるAlGaAs層を交互に重ねたp型の上部分布ブラック型反射鏡208とが順に積層されて構成されている。以下では、分布ブラック型反射鏡をDBRと表記する。 The VCSEL has an n-type Distributed Bragg Reflector (DBR) 202 in which AlGaAs layers with different Al compositions are alternately stacked on a semiconductor substrate 200 such as n-type GaAs, an upper spacer layer and a lower An active region 206 including a quantum well layer sandwiched between spacer layers and a p-type top distributed Black type reflector 208 in which AlGaAs layers with different Al compositions are alternately laminated are laminated in this order. In the following, the distributed black reflector will be referred to as DBR.

n型の下部DBR202は、Al0.9Ga0.1As層とGaAs層とをペアとした積層体で、各層の厚さはλ/4nr(但し、λは発振波長、nrは媒質の屈折率)であり、これらを交互に40周期で積層してある。n型不純物であるシリコンをドーピングした後のキャリア濃度は、例えば、3×1018cm-3である。 The n-type lower DBR 202 is a laminated body in which an Al 0.9 Ga 0.1 As layer and a GaAs layer are paired, and the thickness of each layer is λ/4n r (where λ is the oscillation wavelength and n r is the refractive index of the medium). , which are alternately stacked in 40 cycles. The carrier concentration after doping with silicon, which is an n-type impurity, is, for example, 3×10 18 cm −3 .

活性領域206は、下部スペーサ層と、量子井戸活性層と、上部スペーサ層とが積層されて構成されている。例えば、下部スペーサ層は、アンドープのAl0.6Ga0.4As層であり、量子井戸活性層は、アンドープのInGaAs量子井戸層およびアンドープのGaAs障壁層であり、上部スペーサ層は、アンドープのAl0.6Ga0.4As層である。 The active region 206 is constructed by stacking a lower spacer layer, a quantum well active layer, and an upper spacer layer. For example, the lower spacer layer is an undoped Al0.6Ga0.4As layer, the quantum well active layer is an undoped InGaAs quantum well layer and an undoped GaAs barrier layer, and the upper spacer layer is an undoped Al0.6Ga0.4 . It is an As layer.

p型の上部DBR208は、p型のAl0.9Ga0.1As層とGaAs層とをペアとした積層体で、各層の厚さはλ/4nrであり、これらを交互に29周期積層してある。p型不純物であるカーボンをドーピングした後のキャリア濃度は、例えば、3×1018cm-3である。好ましくは、上部DBR208の最上層には、p型GaAsからなるコンタクト層が形成され、上部DBR208の最下層もしくはその内部に、p型AlAsの電流狭窄層210が形成されている。 The p-type upper DBR 208 is a laminated body in which a p-type Al 0.9 Ga 0.1 As layer and a GaAs layer are paired, each layer has a thickness of λ/4n r , and these layers are alternately laminated for 29 cycles. . The carrier concentration after doping with p-type impurity carbon is, for example, 3×10 18 cm −3 . Preferably, a contact layer made of p-type GaAs is formed on the uppermost layer of the upper DBR 208, and a current confinement layer 210 of p-type AlAs is formed on the lowermost layer of the upper DBR 208 or inside it.

上部DBR208から下部DBR202に至るまで積層された半導体層をエッチングすることにより、半導体基板200上に円筒状のメサMが形成される。これにより、電流狭窄層210は、メサMの側面に露出する。酸化工程により、電流狭窄層210には、メサMの側面から酸化された酸化領域210Aと酸化領域210Aによって囲まれた導電領域210Bとが形成される。なお、酸化工程において、AlAs層はAlGaAs層よりも酸化速度が速く、酸化領域210Aは、メサMの側面から内部に向けてほぼ一定の速度で酸化されるため、導電領域210Bの平面形状は、メサMの外形を反映した形状、すなわち円形状となり、その中心は、一点鎖線で示すメサMの軸方向とほぼ一致する。本実施の形態において、メサMは、柱状構造をなしている。 A cylindrical mesa M is formed on the semiconductor substrate 200 by etching the semiconductor layers laminated from the upper DBR 208 to the lower DBR 202 . As a result, the current confinement layer 210 is exposed on the side surface of the mesa M. As shown in FIG. Through the oxidation process, the current confinement layer 210 is formed with an oxidized region 210A oxidized from the side surface of the mesa M and a conductive region 210B surrounded by the oxidized region 210A. In the oxidation step, the AlAs layer is oxidized at a faster rate than the AlGaAs layer, and the oxidized region 210A is oxidized from the side surface of the mesa M toward the inside at a substantially constant rate. It has a shape reflecting the outer shape of the mesa M, that is, a circular shape, and its center substantially coincides with the axial direction of the mesa M indicated by the dashed line. In this embodiment, the mesa M has a columnar structure.

メサMの最上層には、Ti/Auなどを積層した金属製の環状のp側電極212が形成される。p側電極212は、上部DBR208に設けられたコンタクト層にオーミック接触する。環状のp側電極212の内側の上部DBR208の表面は、レーザ光が外部へ出射される光出射口212Aとなる。つまり、VCSELでは、半導体基板200に垂直な方向に光が出射され、メサMの軸方向が光軸になる。さらに、半導体基板200の裏面には、n側電極としてカソード電極214が形成される。なお、p側電極212の内側の上部DBR208の表面が光出射面である。つまり、VCSELの光軸方向が、光出射方向になる。 On the uppermost layer of the mesa M, a metallic ring-shaped p-side electrode 212 is formed by laminating Ti/Au or the like. The p-side electrode 212 makes ohmic contact with a contact layer provided on the upper DBR 208 . The surface of the upper DBR 208 inside the annular p-side electrode 212 serves as a light emission port 212A through which laser light is emitted to the outside. That is, in the VCSEL, light is emitted in a direction perpendicular to the semiconductor substrate 200, and the axial direction of the mesa M becomes the optical axis. Furthermore, a cathode electrode 214 is formed as an n-side electrode on the back surface of the semiconductor substrate 200 . The surface of the upper DBR 208 inside the p-side electrode 212 is the light exit surface. That is, the optical axis direction of the VCSEL is the light emission direction.

そして、p側電極212のアノード電極(後述するアノード電極218)が接続される部分および光出射口212Aを除いて、メサMの表面を覆うように、絶縁層216が設けられる。そして、光出射口212Aを除いて、アノード電極218がp側電極212とオーミック接触するように設けられる。なお、アノード電極218は、複数のVCSELに共通に設けられている。つまり、発光素子アレイ20を構成する複数のVCSELは、各々のp側電極212がアノード電極218により並列接続されている。なお、アノード電極218は、発光素子アレイの上面電極の一例である。 An insulating layer 216 is provided so as to cover the surface of the mesa M except for a portion to which an anode electrode (an anode electrode 218 described later) of the p-side electrode 212 is connected and the light exit port 212A. An anode electrode 218 is provided so as to be in ohmic contact with the p-side electrode 212 except for the light exit port 212A. Note that the anode electrode 218 is commonly provided for a plurality of VCSELs. In other words, the p-side electrodes 212 of the plurality of VCSELs forming the light-emitting element array 20 are connected in parallel by the anode electrodes 218 . Note that the anode electrode 218 is an example of a top electrode of the light emitting element array.

なお、VCSELは、単一横モードで発振してもよく、多重横モードで発振してもよい。一例として、VCSELの1個の光出力は、4mW~8mWである。よって、例えば500個のVCSELで発光素子アレイ20が構成されている場合、発光素子アレイ20の光出力は、2W~4Wになる。このような大出力の発光素子アレイ20では、発光素子アレイ20からの発熱が大きい。 Note that the VCSEL may oscillate in a single transverse mode or in multiple transverse modes. As an example, the optical power of one VCSEL is 4mW to 8mW. Therefore, when the light emitting element array 20 is composed of, for example, 500 VCSELs, the light output of the light emitting element array 20 is 2W to 4W. In such a high-output light-emitting element array 20, heat generation from the light-emitting element array 20 is large.

(光拡散部材30の構成)
図5は、光拡散部材30の一例を説明する図である。図5(a)は、平面図、図5(b)は、図5(a)のVB-VB線での断面図である。図5(a)において、紙面の右方向をx方向、紙面の上方向をy方向とする。x方向およびy方向に反時計回りで直交する方向をz方向とする。よって、図5(b)において、紙面の右方向がx方向、紙面の上方向がz方向となる。
(Structure of Light Diffusion Member 30)
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of the light diffusion member 30. As shown in FIG. FIG. 5(a) is a plan view, and FIG. 5(b) is a sectional view taken along line VB--VB of FIG. 5(a). In FIG. 5A, the right direction of the paper is defined as the x direction, and the upper direction of the paper is defined as the y direction. A direction perpendicular to the x-direction and the y-direction in a counterclockwise direction is defined as the z-direction. Therefore, in FIG. 5B, the right direction of the paper surface is the x direction, and the upper direction of the paper surface is the z direction.

図5(b)に示すように、光拡散部材30は、両面が平行で平坦なガラス基材31と、ガラス基材31の裏面に設けられ、光を拡散させるための凹凸が形成された樹脂層32とを備える。光拡散部材30は、発光素子アレイ20のVCSELから入射する光の拡がり角をさらに拡げて出射する。つまり、光拡散部材30の樹脂層32に形成された凹凸は、光を屈折させたり、散乱させたりして、入射する光の拡がり角αより出射する光の拡がり角βを大きくする。つまり、図5(b)に示すように、VCSELから出射される光の拡がり角αより、光拡散部材30を透過して光拡散部材30から出射される光の拡がり角βが大きくなる(α<β)。このため、光拡散部材30を用いると、光拡散部材30を用いない場合に比べ、発光素子アレイ20の出射する光が照射される照射面の面積が拡大される。また、照射面における光密度が低下する。なお、光密度とは、放射照度をいい、拡がり角α、βは、半値全幅(FWHM)である。 As shown in FIG. 5B, the light diffusing member 30 includes a glass substrate 31 whose both surfaces are parallel and flat, and a resin material provided on the back surface of the glass substrate 31 and having unevenness for diffusing light. a layer 32; The light diffusing member 30 further expands the spread angle of light incident from the VCSELs of the light emitting element array 20 and emits the light. In other words, the unevenness formed on the resin layer 32 of the light diffusing member 30 refracts or scatters the light, making the divergence angle β of the emitted light larger than the divergence angle α of the incident light. That is, as shown in FIG. 5B, the divergence angle β of light transmitted through the light diffusion member 30 and emitted from the light diffusion member 30 is larger than the divergence angle α of light emitted from the VCSEL (α <β). Therefore, when the light diffusion member 30 is used, the area of the irradiated surface irradiated with the light emitted from the light emitting element array 20 is enlarged compared to the case where the light diffusion member 30 is not used. Also, the light density on the irradiated surface decreases. The light density means irradiance, and the spread angles α and β are the full width at half maximum (FWHM).

そして、光拡散部材30は、例えば、平面形状が四角形であって、x方向の幅Wxおよびy方向の縦幅Wyが1mm~10mm、z方向の厚みtdが0.1mm~1mmである。そして、光拡散部材30が以上のような大きさおよび形状であれば、特に、携帯型情報処理端末の顔認証や、数m程度までの比較的近距離の計測に適した光拡散部材が提供される。なお、光拡散部材30の平面形状は、多角形や円形など、他の形状であってもよい。 The light diffusing member 30 has, for example, a rectangular planar shape, a width W x in the x direction and a vertical width W y in the y direction of 1 mm to 10 mm, and a thickness t d in the z direction of 0.1 mm to 1 mm. be. If the light diffusing member 30 has the size and shape as described above, a light diffusing member suitable for face authentication of a portable information processing terminal and relatively short-distance measurement up to several meters is provided. be done. The planar shape of the light diffusing member 30 may be other shapes such as a polygon or a circle.

(発光素子アレイ20を駆動する回路)
発光素子アレイ20をより高速に駆動させたい場合は、ローサイド駆動するのがよい。ローサイド駆動とは、VCSELなどの駆動対象に対して、電流経路の下流側にMOSトランジスタ等の駆動素子を位置させた構成を言う。逆に、上流側に駆動素子を位置させた構成をハイサイド駆動と言う。
(Circuit for Driving Light Emitting Element Array 20)
If it is desired to drive the light emitting element array 20 at a higher speed, low side driving is preferable. Low-side driving refers to a configuration in which a driving element such as a MOS transistor is positioned downstream of a current path with respect to a driving target such as a VCSEL. Conversely, a configuration in which the drive element is positioned on the upstream side is called high-side drive.

図6は、ローサイド駆動により発光素子アレイ20を駆動する等価回路の一例を示す図である。図6では、発光素子アレイ20のVCSELと、駆動部50と、キャパシタ70と、電源82と、PD40と、PD40に流れる電流を検出する光量検出用抵抗素子41と、TD45と、TD45に流れる電流を検出する温度検出用抵抗素子46とを示す。なお、キャパシタ70は、電源82に対して並列接続されている。
なお、電源82は、図2に示した光学装置制御部8に設けられている。電源82は、+側を電源電位とし、-側を接地電位とする直流電圧を発生する。電源電位は、電源線83に供給され、接地電位は、接地線84に供給される。
FIG. 6 is a diagram showing an example of an equivalent circuit for driving the light-emitting element array 20 by low-side driving. In FIG. 6, the VCSEL of the light emitting element array 20, the drive unit 50, the capacitor 70, the power supply 82, the PD 40, the light amount detection resistance element 41 for detecting the current flowing through the PD 40, the TD 45, and the current flowing through the TD 45 and a temperature detecting resistance element 46 for detecting the temperature. Note that the capacitor 70 is connected in parallel with the power supply 82 .
The power supply 82 is provided in the optical device control section 8 shown in FIG. A power supply 82 generates a DC voltage having a power supply potential on the + side and a ground potential on the - side. A power supply potential is supplied to the power supply line 83 and a ground potential is supplied to the ground line 84 .

発光素子アレイ20は、前述したように複数のVCSELが並列接続されて構成されている。VCSELのアノード電極218(図4参照)が電源線83に接続される。
駆動部50は、nチャネル型のMOSトランジスタ51と、MOSトランジスタ51をオンオフする信号発生回路52とを備える。MOSトランジスタ51のドレインは、VCSELのカソード電極214(図4参照)に接続される。MOSトランジスタ51のソースは、接地線84に接続される。そして、MOSトランジスタ51のゲートは、信号発生回路52に接続される。つまり、VCSELと駆動部50のMOSトランジスタ51とは、電源線83と接地線84との間に直列接続されている。信号発生回路52は、光学装置制御部8の制御により、MOSトランジスタ51をオン状態にする「Hレベル」の信号と、MOSトランジスタ51をオフ状態にする「Lレベル」の信号とを発生する。
The light emitting element array 20 is configured by connecting a plurality of VCSELs in parallel as described above. An anode electrode 218 (see FIG. 4) of the VCSEL is connected to the power line 83 .
The drive unit 50 includes an n-channel MOS transistor 51 and a signal generation circuit 52 that turns the MOS transistor 51 on and off. The drain of the MOS transistor 51 is connected to the cathode electrode 214 (see FIG. 4) of the VCSEL. The source of MOS transistor 51 is connected to ground line 84 . The gate of MOS transistor 51 is connected to signal generation circuit 52 . That is, the VCSEL and the MOS transistor 51 of the driving section 50 are connected in series between the power line 83 and the ground line 84 . Under the control of the optical device control section 8, the signal generating circuit 52 generates an "H level" signal for turning on the MOS transistor 51 and an "L level" signal for turning off the MOS transistor 51. FIG.

キャパシタ70は、一方の端子が電源線83に接続され、他方の端子が接地線84に接続されている。つまり、キャパシタ70は、電源82に対して並列接続されている。キャパシタ70が複数ある場合には、複数のキャパシタ70は、並列接続される。なお、キャパシタ70は、例えば電解コンデンサやセラミックコンデンサなどである。 The capacitor 70 has one terminal connected to the power line 83 and the other terminal connected to the ground line 84 . That is, capacitor 70 is connected in parallel with power supply 82 . When there are multiple capacitors 70, the multiple capacitors 70 are connected in parallel. Note that the capacitor 70 is, for example, an electrolytic capacitor or a ceramic capacitor.

PD40は、カソード電極が電源線83に接続され、アノード電極が光量検出用抵抗素子41の一方の端子と接続されている。そして、光量検出用抵抗素子41の他方の端子が接地線84に接続されている。つまり、PD40と光量検出用抵抗素子41とは、電源線83と接地線84との間に直列接続されている。そして、PD40と光量検出用抵抗素子41との接続点である出力端子42は、光学装置制御部8に接続されている。 The PD 40 has a cathode electrode connected to the power supply line 83 and an anode electrode connected to one terminal of the resistance element 41 for light amount detection. The other terminal of the light quantity detection resistive element 41 is connected to the ground line 84 . In other words, the PD 40 and the light intensity detecting resistance element 41 are connected in series between the power line 83 and the ground line 84 . An output terminal 42 , which is a connection point between the PD 40 and the resistance element 41 for light amount detection, is connected to the optical device control section 8 .

温度検出用抵抗素子46は、一方の端子が電源線83に接続され、他方の端子がTD45の一方の電極と接続されている。そして、TD45の他方の電極が接地線84に接続されている。つまり、温度検出用抵抗素子46とTD45とは、電源線83と接地線84との間に直列接続されている。そして、温度検出用抵抗素子46とTD45との接続点である出力端子47は、光学装置制御部8に接続されている。 The temperature detection resistance element 46 has one terminal connected to the power supply line 83 and the other terminal connected to one electrode of the TD 45 . The other electrode of TD 45 is connected to ground line 84 . That is, the temperature detection resistance element 46 and the TD 45 are connected in series between the power line 83 and the ground line 84 . An output terminal 47 , which is a connection point between the temperature detection resistance element 46 and the TD 45 , is connected to the optical device control section 8 .

次に、ローサイド駆動である発光素子アレイ20の駆動方法を説明する。
まず、駆動部50における信号発生回路52の発生する信号が「Lレベル」であるとする。この場合、MOSトランジスタ51は、オフ状態である。つまり、MOSトランジスタ51のソース-ドレイン間には電流が流れない。よって、直列接続されたVCSELにも、電流が流れない。VCSELは非発光である。
Next, a method for driving the light-emitting element array 20, which is low-side driving, will be described.
First, it is assumed that the signal generated by the signal generating circuit 52 in the driving section 50 is at "L level". In this case, MOS transistor 51 is off. In other words, no current flows between the source and drain of the MOS transistor 51 . Therefore, no current flows through the series-connected VCSELs either. VCSELs are non-emissive.

このとき、キャパシタ70が、電源82により充電される。つまり、キャパシタ70の電源線83に接続された一方の端子が電源電位になり、接地線84に接続された他方の端子が接地電位になる。キャパシタ70は、容量と電源電圧(=電源電位-接地電位)と時間とで決まる電荷を蓄積する。 At this time, capacitor 70 is charged by power supply 82 . That is, one terminal of the capacitor 70 connected to the power supply line 83 becomes the power supply potential, and the other terminal connected to the ground line 84 becomes the ground potential. Capacitor 70 accumulates charge determined by capacity, power supply voltage (=power supply potential-ground potential), and time.

次に、駆動部50における信号発生回路52の発生する信号が「Hレベル」になると、MOSトランジスタ51がオフ状態からオン状態に移行する。すると、キャパシタ70に蓄積されていた電荷が放電され、直列接続されたMOSトランジスタ51とVCSELとに電流が流れてVCSELが発光する。 Next, when the signal generated by the signal generation circuit 52 in the driving section 50 becomes "H level", the MOS transistor 51 is turned on from the off state. Then, the charge accumulated in the capacitor 70 is discharged, current flows through the series-connected MOS transistor 51 and the VCSEL, and the VCSEL emits light.

そして、駆動部50における信号発生回路52の発生する信号が「Lレベル」になると、MOSトランジスタ51がオン状態からオフ状態に移行する。これにより、VCSELの発光が停止する。すると、電源82によりキャパシタ70への電荷の蓄積が再開される。 Then, when the signal generated by the signal generation circuit 52 in the driving section 50 becomes "L level", the MOS transistor 51 shifts from the ON state to the OFF state. This causes the VCSEL to stop emitting light. Then, the power supply 82 resumes accumulating charges in the capacitor 70 .

以上説明したように、信号発生回路52の出力する信号が「Lレベル」と「Hレベル」とに移行する毎に、MOSトランジスタ51がオンオフを繰り返し、VCSELの発光が停止状態である非発光と発光とが繰り返される。つまり、VCSELから光パルスが出射される。MOSトランジスタ51のオンオフの繰り返しは、スイッチングと呼ばれることがある。ここでは、図6の等価回路に示すような、発光素子アレイ20、MOSトランジスタ51、キャパシタ70などで構成された発光素子アレイ20への電流経路を、発光素子アレイ20を駆動する回路または回路と表記する。
ここで、MOSトランジスタ51は、発光素子アレイ20を駆動する駆動素子の一例である。駆動素子は、MOSトランジスタ以外の電界効果トランジスタやバイポーラトランジスタなどであってもよい。つまり、駆動部50は、駆動素子を含んで構成されている。よって、ここでは、駆動部50を駆動素子と表記することがある。
As described above, the MOS transistor 51 is repeatedly turned on and off each time the signal output from the signal generating circuit 52 transitions between the "L level" and the "H level". Light emission is repeated. That is, an optical pulse is emitted from the VCSEL. The repetition of turning on and off of the MOS transistor 51 is sometimes called switching. Here, the current path to the light emitting element array 20 composed of the light emitting element array 20, the MOS transistor 51, the capacitor 70, etc. as shown in the equivalent circuit of FIG. write.
Here, the MOS transistor 51 is an example of a drive element that drives the light emitting element array 20. FIG. The drive element may be a field effect transistor or a bipolar transistor other than the MOS transistor. In other words, the driving section 50 is configured including a driving element. Therefore, the drive unit 50 may be referred to as a drive element here.

なお、キャパシタ70を設けずに、電源82からVCSELに電荷(電流)を直接供給してもよいが、キャパシタ70に電荷を蓄積し、MOSトランジスタ51がオフからオンに移行した際に蓄積された電荷を放電させて、VCSELに電流を急激に供給することで、VCSELの発光の立ち上り時間が短くなる。 Although the charge (current) may be directly supplied from the power supply 82 to the VCSEL without providing the capacitor 70, the charge is accumulated in the capacitor 70 and accumulated when the MOS transistor 51 transitions from off to on. By discharging the electric charge and rapidly supplying the current to the VCSEL, the rise time of the light emission of the VCSEL is shortened.

PD40は、電源線83と接地線84との間に光量検出用抵抗素子41を介して逆方向接続されている。このため、光が照射されていない状態では、電流が流れない。前述したように、PD40がVCSELの出射する光の内、光拡散部材30で反射された光の一部を受光すると、PD40には受光量に応じた電流が流れる。よって、PD40に流れる電流が出力端子42の電圧として測定され、発光素子アレイ20の光出力が検知される。そこで、光学装置制御部8は、PD40の受光量に基づいて、発光素子アレイ20の光出力が予め定められた光出力になるように制御する。例えば、光学装置制御部8は、発光素子アレイ20の光出力が予め定められた光出力より小さい場合は、電源82の電源電位を高くすることにより、キャパシタ70が蓄積する電荷量を増加させて、VCSELに流れる電流を増加させる。一方、発光素子アレイ20の光出力が予め定められた光出力より多い場合は、電源82の電源電位を低くすることにより、キャパシタ70が蓄積する電荷量を減少させて、VCSELに流れる電流を低減させる。このようにして、発光素子アレイ20の光出力が制御される。 The PD 40 is connected in the opposite direction between the power supply line 83 and the ground line 84 via the light amount detection resistive element 41 . Therefore, current does not flow when light is not applied. As described above, when the PD 40 receives part of the light emitted from the VCSEL and reflected by the light diffusing member 30, a current corresponding to the amount of received light flows through the PD 40. FIG. Therefore, the current flowing through the PD 40 is measured as the voltage of the output terminal 42, and the optical output of the light emitting element array 20 is detected. Therefore, based on the amount of light received by the PD 40, the optical device control unit 8 controls the light output of the light emitting element array 20 to a predetermined light output. For example, when the optical output of the light emitting element array 20 is smaller than the predetermined optical output, the optical device control section 8 raises the power supply potential of the power supply 82 to increase the amount of charge accumulated in the capacitor 70. , increases the current through the VCSEL. On the other hand, when the optical output of the light emitting element array 20 is greater than the predetermined optical output, the power supply potential of the power supply 82 is lowered to reduce the amount of charge accumulated in the capacitor 70, thereby reducing the current flowing through the VCSEL. Let Thus, the light output of the light emitting element array 20 is controlled.

また、PD40の受光量が極端に低下した場合には、光拡散部材30が外れたり、破損したりして、発光素子アレイ20が出射する光が直接外部に照射されているおそれがある。このような場合には、光学装置制御部8によって、発光素子アレイ20の光出力が抑制される。例えば、発光素子アレイ20からの光の出射、つまり被測定物への光の照射が停止される。 Also, when the amount of light received by the PD 40 is extremely low, the light diffusing member 30 may come off or break, and the light emitted from the light emitting element array 20 may be directly irradiated to the outside. In such a case, the optical device control section 8 suppresses the light output of the light emitting element array 20 . For example, the emission of light from the light emitting element array 20, that is, the irradiation of light to the object to be measured is stopped.

以上説明したように、PD40は、発光素子アレイ20の光出力を検知するために設けられている。よって、PD40を発光素子アレイ20から遠くに配置すればするほど、受光量が小さくなり、発光素子アレイ20の光出力の検知感度が低下する。このため、PD40は、発光素子アレイ20の近傍に配置されることがよい。 As described above, the PD 40 is provided to detect the light output of the light emitting element array 20. FIG. Therefore, the farther the PD 40 is placed from the light-emitting element array 20, the smaller the amount of light received, and the lower the light output detection sensitivity of the light-emitting element array 20 becomes. Therefore, the PD 40 is preferably arranged near the light emitting element array 20 .

TD45は、電源線83と接地線84との間に温度検出用抵抗素子46と直列接続されている。よって、出力端子47は、電源電圧(=電源電位-接地電位)が温度検出用抵抗素子46とTD45とで分圧された電圧となる。TD45が例えば負特性サーミスタ(NTC)である場合、前述したように、基材100の温度の上昇に伴って抵抗値が低下する。すると、出力端子47の電圧が、基材100の温度の上昇に伴って低下する。光学装置制御部8は、出力端子47の電圧から、基材100、つまり発光素子アレイ20の温度を検知する。なお、発光素子アレイ20は、温度が予め定められた許容温度を超える場合には、発光素子アレイ20の動作が不安定になったり、発光素子アレイ20が破壊されたりするおそれがある。そこで、光学装置制御部8は、出力端子47の電圧から発光素子アレイ20の温度が許容温度を超えことを検知した場合に、駆動部50を制御して、発光素子アレイ20に流れる電流を抑制したり、発光素子アレイ20に流れる電流を遮断したりする。このようにして、発光素子アレイ20の過熱が抑制される。 The TD 45 is connected in series with the temperature detection resistance element 46 between the power line 83 and the ground line 84 . Therefore, the output terminal 47 becomes a voltage obtained by dividing the power supply voltage (=power supply potential-ground potential) by the temperature detecting resistance element 46 and the TD45. If the TD 45 is, for example, a negative temperature coefficient thermistor (NTC), the resistance value decreases as the temperature of the base material 100 rises, as described above. Then, the voltage of the output terminal 47 decreases as the temperature of the substrate 100 increases. The optical device control section 8 detects the temperature of the substrate 100 , that is, the light emitting element array 20 from the voltage of the output terminal 47 . If the temperature of the light-emitting element array 20 exceeds a predetermined allowable temperature, the operation of the light-emitting element array 20 may become unstable or the light-emitting element array 20 may be destroyed. Therefore, when the optical device control section 8 detects that the temperature of the light emitting element array 20 exceeds the allowable temperature from the voltage of the output terminal 47, it controls the driving section 50 to suppress the current flowing through the light emitting element array 20. or cut off the current flowing through the light emitting element array 20 . Thus, overheating of the light emitting element array 20 is suppressed.

以上説明したように、TD45は、発光素子アレイ20の温度を検知するために設けられている。よって、TD45を発光素子アレイ20から遠くに配置すればするほど、TD45の温度の変化が小さくなり、発光素子アレイ20の温度の検知感度が低下する。このため、TD45は、発光素子アレイ20の近傍に配置されることがよい。 As described above, the TD 45 is provided to detect the temperature of the light emitting element array 20. FIG. Therefore, the farther the TD 45 is placed from the light-emitting element array 20, the smaller the change in the temperature of the TD 45, and the lower the temperature detection sensitivity of the light-emitting element array 20 becomes. Therefore, the TD 45 is preferably arranged near the light emitting element array 20 .

つまり、PD40およびTD45は、発光素子アレイ20に近接して配置したい回路素子の一例である。 In other words, the PD 40 and TD 45 are examples of circuit elements that should be arranged close to the light emitting element array 20 .

(発光装置4)
次に、発光装置4について、詳細に説明する。
図7は、本実施の形態が適用される発光装置4を説明する図である。図7(a)は、平面図、図7(b)は、図7(a)のVIIB-VIIB線での断面図、図7(c)は、図7(a)のVIIC-VIIC線での断面図である。ここで、図7(a)において、紙面の右方向をx方向、紙面の上方向をy方向とする。x方向およびy方向に反時計回りで直交する方向をz方向とする。よって、図7(b)、(c)において、紙面の右方向がx方向、紙面の上方向がz方向になる。以下に示す同様の図面においても、同じである。
(Light emitting device 4)
Next, the light emitting device 4 will be described in detail.
FIG. 7 is a diagram illustrating a light emitting device 4 to which this embodiment is applied. 7(a) is a plan view, FIG. 7(b) is a cross-sectional view taken along line VIIB-VIIB of FIG. 7(a), and FIG. 7(c) is taken along line VIIC-VIIC of FIG. 7(a). is a cross-sectional view of. Here, in FIG. 7A, the right direction of the paper is defined as the x direction, and the upper direction of the paper is defined as the y direction. A direction perpendicular to the x-direction and the y-direction in a counterclockwise direction is defined as the z-direction. Therefore, in FIGS. 7B and 7C, the right direction on the paper surface is the x direction, and the upward direction on the paper surface is the z direction. The same applies to similar drawings shown below.

図7(b)、(c)に示すように、発光装置4は、配線基板10上に、基材100および駆動部50が設けられている。そして、基材100上に発光素子アレイ20、PD40、TD45および保持部60が設けられている。保持部60上に、光拡散部材30が設けられている。そして、図7(a)に示すように、発光素子アレイ20、PD40およびTD45は、光拡散部材30で覆われている。よって、PD40によって、発光素子アレイ20が出射した光の内、光拡散部材30の裏面で反射した光の一部が受光される。なお、保持部60は、配線基板10上に設けられていてもよい。 As shown in FIGS. 7B and 7C, the light-emitting device 4 has a base material 100 and a drive unit 50 provided on a wiring substrate 10 . A light-emitting element array 20, a PD 40, a TD 45, and a holding portion 60 are provided on the substrate 100. FIG. A light diffusion member 30 is provided on the holding portion 60 . Then, as shown in FIG. 7A, the light emitting element array 20, PD 40 and TD 45 are covered with the light diffusion member 30. As shown in FIG. Therefore, the PD 40 receives part of the light reflected by the back surface of the light diffusion member 30 among the light emitted from the light emitting element array 20 . Note that the holding portion 60 may be provided on the wiring board 10 .

そして、図7(a)に示すように、発光装置4では、PD40およびTD45と、発光素子アレイ20と、駆動部50とがx方向に直線状に配列されている。つまり、駆動素子であるMOSトランジスタ51(図6参照)を含む駆動部50は、発光素子アレイ20の側面21A側に設けられ、PD40およびTD45は、発光素子アレイ20の側面21B側に設けられている。そして、PD40とTD45とは、側面21Bに沿う方向に並んで設けられている。つまり、PD40およびTD45は、発光素子アレイ20の側面21B側において、y方向にTD45、PD40の順に並んで配置されている。 As shown in FIG. 7A, in the light emitting device 4, the PDs 40 and TDs 45, the light emitting element array 20, and the driving section 50 are linearly arranged in the x direction. That is, the drive section 50 including the MOS transistor 51 (see FIG. 6) as a drive element is provided on the side surface 21A of the light emitting element array 20, and the PD 40 and TD 45 are provided on the side surface 21B of the light emitting element array 20. there is The PD 40 and the TD 45 are arranged side by side along the side surface 21B. That is, the PD 40 and the TD 45 are arranged side by side in the y-direction on the side surface 21B side of the light emitting element array 20 in the order of TD 45 and PD 40 .

このように配置することで、図7(a)に示す、発光素子アレイ20の駆動部50側の端部、つまり側面21Aから駆動部50の発光素子アレイ20側の端部までの距離D1が、後述する比較例(後述する図9(a)参照)における距離D2と比較し、短くなっている。さらに、発光素子アレイ20のカソード電極214と駆動部50のMOSトランジスタ51のドレイン(図6参照)とを接続する発光素子アレイ用カソード配線パターン12(後述する図8(a)参照)は、x方向に直線状に設けられている。よって、発光素子アレイ20の駆動部50側の端部から駆動部50までの距離D1が短いと、発光素子アレイ用カソード配線パターン12のx方向の長さが短くなる。これにより、発光素子アレイ20を駆動する回路のインダクタンスが小さくなり、発光素子アレイ20を高速にオンオフさせられる。 By arranging in this way, the distance D1 from the end of the light emitting element array 20 on the side of the driving unit 50, that is, the side surface 21A shown in FIG. , is shorter than the distance D2 in a comparative example described later (see FIG. 9A described later). Furthermore, the cathode wiring pattern 12 for light emitting element array (see FIG. 8A described later) connecting the cathode electrode 214 of the light emitting element array 20 and the drain of the MOS transistor 51 of the driving section 50 (see FIG. 6) is x It is provided linearly in the direction. Therefore, when the distance D1 from the end portion of the light emitting element array 20 on the side of the driving section 50 to the driving section 50 is short, the length of the cathode wiring pattern 12 for the light emitting element array in the x direction becomes short. As a result, the inductance of the circuit that drives the light emitting element array 20 is reduced, and the light emitting element array 20 can be turned on and off at high speed.

図7(b)、(c)に示す発光装置4の断面図を説明する前に、配線基板10および基材100に設けられる配線パターンを詳細に説明する。
図8は、本実施の形態が適用される発光装置4における配線基板10および基材100に設けられる配線パターンを説明する図である。図8(a)は、配線基板10の表面、図8(b)は、基材100の表面、図8(c)は、基材100の裏面である。
Before describing the cross-sectional views of the light emitting device 4 shown in FIGS. 7B and 7C, wiring patterns provided on the wiring substrate 10 and the base material 100 will be described in detail.
FIG. 8 is a diagram illustrating wiring patterns provided on the wiring board 10 and the base material 100 in the light emitting device 4 to which the present embodiment is applied. 8A shows the front surface of the wiring board 10, FIG. 8B shows the front surface of the substrate 100, and FIG. 8C shows the back surface of the substrate 100. FIG.

配線基板10は、例えば3層の多層基板である。つまり、配線基板10は、基材100や駆動部50などが搭載される表面側から第1導電層、第2導電層、第3導電層を備えている。さらに、第1導電層と第2導電層との間、第2導電層と第3導電層との間に、絶縁層を備えている。例えば、第3導電層を電源線83、第2導電層を接地線84とする。 The wiring board 10 is, for example, a three-layer multilayer board. In other words, the wiring board 10 has a first conductive layer, a second conductive layer, and a third conductive layer from the surface side on which the base material 100 and the drive unit 50 are mounted. Furthermore, an insulating layer is provided between the first conductive layer and the second conductive layer and between the second conductive layer and the third conductive layer. For example, the third conductive layer is the power line 83 and the second conductive layer is the ground line 84 .

第1導電層、第2導電層、第3導電層は、例えば銅(Cu)、銀(Ag)などの金属またはこれらの金属を含む導電性ペーストなどの導電性材料で構成される。絶縁層は、例えばエポキシ樹脂、セラミックなどで構成される。 The first conductive layer, the second conductive layer, and the third conductive layer are made of a conductive material such as a metal such as copper (Cu) or silver (Ag) or a conductive paste containing these metals. The insulating layer is made of, for example, epoxy resin, ceramic, or the like.

図8(a)は、配線基板10の第1導電層による配線パターンを示し、接地線84である第2導電層、電源線83である第3導電層による配線パターンは示さない。第2導電層および第3導電層は、第1導電層で構成される配線パターンと接続するために用いられるビアが設けられる部分を除いて、べた膜である。
図8(a)に示すように、第1導電層により、発光素子アレイ20への電流経路の一部を構成する発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1、11-2、発光素子アレイ用カソード配線パターン12、PD40への電流経路の一部を構成するPD用アノード配線パターン13、PD用カソード配線パターン14、TD45への電流経路の一部を構成するTD用アノード配線パターン15、TD用カソード配線パターン16が形成されている。なお、発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1、11-2、発光素子アレイ用カソード配線パターン12などをそれぞれ区別しない場合は、配線パターンまたは配線と表記する。他の場合も同様である。
8A shows the wiring pattern of the first conductive layer of the wiring board 10, but does not show the wiring pattern of the second conductive layer as the ground line 84 and the third conductive layer as the power supply line 83. FIG. The second conductive layer and the third conductive layer are solid films except for the portions where vias used for connecting with the wiring pattern formed by the first conductive layer are provided.
As shown in FIG. 8(a), the first conductive layer forms a part of the current path to the light emitting element array 20, the light emitting element array anode wiring patterns 11-1 and 11-2, and the light emitting element array cathode. Wiring pattern 12, PD anode wiring pattern 13 forming part of the current path to PD 40, PD cathode wiring pattern 14, TD anode wiring pattern 15 forming part of the current path to TD 45, TD cathode A wiring pattern 16 is formed. When the anode wiring patterns 11-1 and 11-2 for the light-emitting element array, the cathode wiring pattern 12 for the light-emitting element array, and the like are not distinguished from each other, they are referred to as wiring patterns or wiring. The same is true for other cases.

このように、配線基板10を多層基板とし、電源線83を第3導電層とし、接地線84を第2導電層として構成することで、電源電位および接地電位の変動が抑制されやすい。そして、第1導電層で形成された配線パターンと第2導電層または第3導電層とは、ビアを介して電気的に接続される。ビアとは、例えば、配線基板10を厚さ方向に貫いて設けられた孔に導電性材料が埋め込まれて構成された導電部である。 By configuring the wiring board 10 as a multi-layer board, the power line 83 as the third conductive layer, and the ground line 84 as the second conductive layer, fluctuations in the power supply potential and the ground potential are easily suppressed. The wiring pattern formed in the first conductive layer and the second conductive layer or the third conductive layer are electrically connected through vias. A via is, for example, a conductive portion formed by embedding a conductive material in a hole provided through the wiring board 10 in the thickness direction.

ここで、発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1、11-2は、基材100に設けられた配線パターンを介して、発光素子アレイ20のアノード電極218と接続される配線である。発光素子アレイ用カソード配線パターン12は、発光素子アレイ20のカソード電極214と駆動部50の駆動素子の一例であるMOSトランジスタ51のドレインとが、基材100に設けられた配線パターンを介して接続される配線である。
PD用アノード配線パターン13は、基材100に設けられた配線パターンを介して、PD40のアノード電極と接続される配線である。PD用カソード配線パターン14は、基材100に設けられた配線パターンを介して、PD40のカソード電極と接続される配線である。なお、PD40のアノード電極およびカソード電極は、PD40の端子である。
TD用アノード配線パターン15は、基材100に設けられた配線パターンを介して、TD45の一方の端子(極性を有する場合は、+側の端子)が接続される配線である。TD用カソード配線パターン16は、基材100に設けられた配線パターンを介して、TD45の他方の端子(極性を有する場合は、-側の端子)が接続される配線である。
さらに、第1導電層により、キャパシタ70、抵抗素子6、キャパシタ7などの回路部品が接続される配線パターンが形成されている。なお、これらの配線パターンについては図示を省略する。
Here, the anode wiring patterns 11 - 1 and 11 - 2 for the light emitting element array are wirings connected to the anode electrodes 218 of the light emitting element array 20 via the wiring patterns provided on the base material 100 . In the light emitting element array cathode wiring pattern 12, the cathode electrode 214 of the light emitting element array 20 and the drain of the MOS transistor 51, which is an example of the driving element of the driving section 50, are connected via a wiring pattern provided on the base material 100. wiring.
The PD anode wiring pattern 13 is wiring connected to the anode electrode of the PD 40 via the wiring pattern provided on the base material 100 . The PD cathode wiring pattern 14 is wiring connected to the cathode electrode of the PD 40 via the wiring pattern provided on the base material 100 . The anode electrode and cathode electrode of the PD 40 are terminals of the PD 40 .
The TD anode wiring pattern 15 is a wiring to which one terminal of the TD 45 (the + side terminal if it has polarity) is connected via the wiring pattern provided on the base material 100 . The TD cathode wiring pattern 16 is a wiring to which the other terminal of the TD 45 (the negative terminal if it has polarity) is connected via the wiring pattern provided on the base material 100 .
Furthermore, the first conductive layer forms a wiring pattern to which circuit components such as the capacitor 70, the resistance element 6, and the capacitor 7 are connected. Illustration of these wiring patterns is omitted.

発光素子アレイ用カソード配線パターン12は、平面形状が四角形である。発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1、11-2は、発光素子アレイ用カソード配線パターン12を±y方向から挟み込んで対向するように、発光素子アレイ用カソード配線パターン12の±y方向側に隣接して設けられている。 The light-emitting element array cathode wiring pattern 12 has a rectangular planar shape. The light emitting element array anode wiring patterns 11-1 and 11-2 are arranged on the ±y direction sides of the light emitting element array cathode wiring pattern 12 so as to sandwich the light emitting element array cathode wiring pattern 12 from the ±y directions and face each other. are located adjacent to each other.

PD用アノード配線パターン13、PD用カソード配線パターン14は、発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1、11-2および発光素子アレイ用カソード配線パターン12の-x方向側に設けられている。そして、PD用アノード配線パターン13は、+y方向側に設けられ、PD用カソード配線パターン14は、配線基板10の中央部から+y方向側に折り曲げられたL字状に設けられている。つまり、PD40のアノード電極およびカソード電極に接続される配線が発光素子アレイ20の側面22A側に引き出されている。 The PD anode wiring pattern 13 and the PD cathode wiring pattern 14 are provided on the -x direction side of the light emitting element array anode wiring patterns 11-1 and 11-2 and the light emitting element array cathode wiring pattern 12, respectively. The PD anode wiring pattern 13 is provided on the +y direction side, and the PD cathode wiring pattern 14 is provided in an L shape bent from the central portion of the wiring substrate 10 toward the +y direction side. That is, the wiring connected to the anode electrode and the cathode electrode of the PD 40 is led out to the side surface 22A of the light emitting element array 20. As shown in FIG.

TD用アノード配線パターン15、PD用カソード配線パターン16は、発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1、11-2および発光素子アレイ用カソード配線パターン12の-x方向側に設けられている。そして、TD用アノード配線パターン15は、-y方向側に設けられ、TD用カソード配線パターン16は、配線基板10の中央部から-y方向側に折り曲げられた逆L字状に設けられている。つまり、TD45の二つの端子に接続される配線が発光素子アレイ20の側面22B側に引き出されている。 The TD anode wiring pattern 15 and the PD cathode wiring pattern 16 are provided on the -x direction side of the light emitting element array anode wiring patterns 11-1 and 11-2 and the light emitting element array cathode wiring pattern 12, respectively. The TD anode wiring pattern 15 is provided on the -y direction side, and the TD cathode wiring pattern 16 is provided in an inverted L shape bent from the central portion of the wiring board 10 to the -y direction side. . In other words, the wiring connected to the two terminals of the TD 45 is led out to the side surface 22B of the light emitting element array 20 .

基材100は、電気絶縁性材料で構成されている。なお、基材100上には発光素子アレイ20が設けられるので、電気絶縁性で配線基板10よりも熱伝導率が高い熱放熱部材で構成されているとよい。電気絶縁性の熱放熱部材としては、窒化ケイ素や窒化アルミニウムなどのセラミックスがある。基材100が熱放熱部材で構成されていれば、発光素子アレイ20の発生する熱が基材100を介して保持部60、光拡散部材30に伝導して放熱されやすくなり、放熱効率が向上する。 The base material 100 is made of an electrically insulating material. Since the light-emitting element array 20 is provided on the substrate 100 , it is preferable that the substrate 100 is made of a heat-dissipating member having electrical insulation and higher thermal conductivity than the wiring substrate 10 . Ceramics such as silicon nitride and aluminum nitride are examples of electrically insulating heat radiation members. If the base material 100 is made of a heat dissipating member, the heat generated by the light emitting element array 20 is conducted to the holding part 60 and the light diffusion member 30 via the base material 100 and is easily dissipated, thereby improving the heat dissipation efficiency. do.

図8(b)に示す基材100の表面には、発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1F、111-2F、発光素子アレイ用カソード配線パターン112F、PD用アノード配線パターン113F、PD用カソード配線パターン114F、TD用アノード配線パターン115F、TD用カソード配線パターン116Fが形成されている。発光素子アレイ用カソード配線パターン112Fを除いて、発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1F、111-2F、PD用アノード配線パターン113F、PD用カソード配線パターン114F、TD用アノード配線パターン115F、TD用カソード配線パターン116Fは、図8(a)に示した配線基板10に設けられた発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1、11-2、PD用アノード配線パターン13、PD用カソード配線パターン14、TD用アノード配線パターン15、TD用カソード配線パターン16とそれぞれ同じ平面形状である。発光素子アレイ用カソード配線パターン112Fは、配線基板10の発光素子アレイ用カソード配線パターン12に比べ、x方向の長さが短くなっている。これは、発光素子アレイ用カソード配線パターン12の+x方向側の一部を、基材100で覆わないためである。 Anode wiring patterns 111-1F and 111-2F for light emitting element array, cathode wiring pattern 112F for light emitting element array, anode wiring pattern 113F for PD, and cathode wiring for PD are provided on the surface of the substrate 100 shown in FIG. 8B. A pattern 114F, a TD anode wiring pattern 115F, and a TD cathode wiring pattern 116F are formed. Except for the light emitting element array cathode wiring pattern 112F, the light emitting element array anode wiring patterns 111-1F and 111-2F, the PD anode wiring pattern 113F, the PD cathode wiring pattern 114F, the TD anode wiring pattern 115F, and the TD The cathode wiring pattern 116F includes the light emitting element array anode wiring patterns 11-1 and 11-2, the PD anode wiring pattern 13, the PD cathode wiring pattern 14, It has the same planar shape as the TD anode wiring pattern 15 and the TD cathode wiring pattern 16, respectively. The light emitting element array cathode wiring pattern 112</b>F is shorter in the x direction than the light emitting element array cathode wiring pattern 12 of the wiring substrate 10 . This is because the substrate 100 does not cover a portion of the cathode wiring pattern 12 for the light emitting element array on the +x direction side.

図8(c)に示す基材100の裏面には、発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1B、111-2B、発光素子アレイ用カソード配線パターン112B、PD用アノード配線パターン113B、PD用カソード配線パターン114B、TD用アノード配線パターン115B、TD用カソード配線パターン116Bが形成されている。これらの配線パターンの平面形状は、図8(b)に示した基材の表面に形成された発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1F、111-2F、発光素子アレイ用カソード配線パターン112F、PD用アノード配線パターン113F、PD用カソード配線パターン114F、TD用アノード配線パターン115F、TD用カソード配線パターン116Fをミラー反転した形状である。 Anode wiring patterns 111-1B and 111-2B for light emitting element array, cathode wiring pattern 112B for light emitting element array, anode wiring pattern 113B for PD, and cathode wiring for PD are provided on the back surface of the substrate 100 shown in FIG. 8(c). A pattern 114B, a TD anode wiring pattern 115B, and a TD cathode wiring pattern 116B are formed. The planar shapes of these wiring patterns are the anode wiring patterns 111-1F and 111-2F for the light emitting element array and the cathode wiring patterns 112F and PD for the light emitting element array formed on the surface of the substrate shown in FIG. The anode wiring pattern 113F for PD, the cathode wiring pattern 114F for PD, the anode wiring pattern 115F for TD, and the cathode wiring pattern 116F for TD are mirror-inverted.

そして、基材100の表面に形成された発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1F、111-2F、発光素子アレイ用カソード配線パターン112F、PD用アノード配線パターン113F、PD用カソード配線パターン114F、TD用アノード配線パターン115F、TD用カソード配線パターン116Fと、基材100の裏面に形成された発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1B、111-2B、発光素子アレイ用カソード配線パターン112B、PD用アノード配線パターン113B、PD用カソード配線パターン114B、TD用アノード配線パターン115B、TD用カソード配線パターン116Bとは、同じ番号の配線パターン同士が基材100の厚さ方向に貫いて設けられた導電路であるビアを介して電気的に接続されている。図7(b)、(c)に示すように、ビアは、配線パターンの番号に“V”を付して表記する。例えば、図7(b)に示すように、表面に設けられた発光素子アレイ用アノード配線パターン111-2Fと裏面に設けられた発光素子アレイ用アノード配線パターン111-2Bとは、ビア111-2Vで接続されている。一組の配線パターン間を複数のビアを用いて接続することで、回路のインダクタンスが低減される。 Then, the light emitting element array anode wiring patterns 111-1F and 111-2F, the light emitting element array cathode wiring pattern 112F, the PD anode wiring pattern 113F, and the PD cathode wiring patterns 114F and TD formed on the surface of the base material 100. Anode wiring pattern 115F for TD, cathode wiring pattern 116F for TD, anode wiring patterns 111-1B and 111-2B for light emitting element array formed on the back surface of base material 100, cathode wiring pattern 112B for light emitting element array, anode for PD The wiring pattern 113B, the cathode wiring pattern 114B for PD, the anode wiring pattern 115B for TD, and the cathode wiring pattern 116B for TD are conductive paths in which wiring patterns having the same number penetrate through the substrate 100 in the thickness direction. It is electrically connected through a certain via. As shown in FIGS. 7B and 7C, vias are indicated by adding "V" to the wiring pattern number. For example, as shown in FIG. 7B, the light-emitting element array anode wiring pattern 111-2F provided on the front surface and the light-emitting element array anode wiring pattern 111-2B provided on the back surface are connected via vias 111-2V. connected with By connecting a set of wiring patterns using a plurality of vias, the inductance of the circuit is reduced.

そして、図7(a)に示すように、基材100上に発光素子アレイ20、PD40およびTD45が搭載される。
まず、基材100の発光素子アレイ用カソード配線パターン112F上に、発光素子アレイ20のカソード電極214(図4参照)が導電性接着剤などにより接着される。そして、発光素子アレイ20のアノード電極218(図4参照)と発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1F、111-2Fとがボンディングワイヤ23A、23Bにより接続される。
そして、PD40のカソード電極が基材100のPD用カソード配線パターン114F上に導電性接着剤により接着され、PD40のアノード電極が基材100のPD用アノード配線パターン113Fとボンディングワイヤ23Cにより接続される。さらに、TD45の一方の端子(極性がある場合は+側端子)が基材100のTD用アノード配線パターン115Fに導電性接着剤またはハンダにより接続され、TD45の他方の端子(極性がある場合は-側端子)が基材100のTD用カソード配線パターン116Fに導電性接着剤またはハンダにより接続される。
Then, as shown in FIG. 7A, the light emitting element array 20, the PD 40 and the TD 45 are mounted on the substrate 100. As shown in FIG.
First, the cathode electrode 214 (see FIG. 4) of the light emitting element array 20 is bonded onto the cathode wiring pattern 112F for the light emitting element array of the substrate 100 with a conductive adhesive or the like. The anode electrode 218 (see FIG. 4) of the light emitting element array 20 and the anode wiring patterns 111-1F and 111-2F for the light emitting element array are connected by bonding wires 23A and 23B.
Then, the cathode electrode of the PD 40 is adhered to the PD cathode wiring pattern 114F of the substrate 100 with a conductive adhesive, and the anode electrode of the PD 40 is connected to the PD anode wiring pattern 113F of the substrate 100 by the bonding wire 23C. . Furthermore, one terminal of the TD 45 (+ side terminal if there is polarity) is connected to the TD anode wiring pattern 115F of the substrate 100 with a conductive adhesive or solder, and the other terminal of the TD 45 (if there is polarity) - side terminal) is connected to the TD cathode wiring pattern 116F of the substrate 100 with a conductive adhesive or solder.

そして、図8(a)の配線基板10の破線で囲って示す場所に、基材100が搭載される。これにより、配線基板10の発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1、11-2と基材100の発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1B、111-2Bとが接続され、配線基板10の発光素子アレイ用カソード配線パターン12と基材100の発光素子アレイ用カソード配線パターン112Bとが接続される。同様に、配線基板10のPD用アノード配線パターン13と基材100のPD用アノード配線パターン113Bとが接続され、配線基板10のPD用カソード配線パターン14と基材100のPD用カソード配線パターン114Bとが接続される。さらに、配線基板10のTD用アノード配線パターン15と基材100のTD用アノード配線パターン115Bとが接続され、配線基板10のTD用カソード配線パターン16と基材100のTD用カソード配線パターン116Bとが接続される。これらの接続は、例えば導電性接着剤で行われる。 Then, the base material 100 is mounted on the wiring substrate 10 at the place surrounded by the dashed line in FIG. 8(a). As a result, the anode wiring patterns 11-1 and 11-2 for the light emitting element array of the wiring board 10 and the anode wiring patterns 111-1B and 111-2B for the light emitting element array of the substrate 100 are connected, and the wiring board 10 emits light. The element array cathode wiring pattern 12 and the light emitting element array cathode wiring pattern 112B of the substrate 100 are connected. Similarly, the PD anode wiring pattern 13 of the wiring substrate 10 and the PD anode wiring pattern 113B of the substrate 100 are connected, and the PD cathode wiring pattern 14 of the wiring substrate 10 and the PD cathode wiring pattern 114B of the substrate 100 are connected. is connected. Further, the TD anode wiring pattern 15 of the wiring board 10 and the TD anode wiring pattern 115B of the base material 100 are connected, and the TD cathode wiring pattern 16 of the wiring board 10 and the TD cathode wiring pattern 116B of the base material 100 are connected. is connected. These connections are made, for example, with a conductive adhesive.

図8(a)から分かるように、発光素子アレイ用カソード配線パターン12の+x方向側の一部は、基材100で覆われない。よって、配線基板10のこの基材100で覆われていない発光素子アレイ用カソード配線パターン12の部分と接続されるように駆動部50が搭載される。
このようにして、図7(a)、(b)、(c)に示した発光装置4が構成される。
As can be seen from FIG. 8( a ), a portion of the cathode wiring pattern 12 for light emitting element array on the +x direction side is not covered with the base material 100 . Accordingly, the drive unit 50 is mounted so as to be connected to the portion of the light-emitting element array cathode wiring pattern 12 that is not covered with the base material 100 of the wiring substrate 10 .
Thus, the light emitting device 4 shown in FIGS. 7(a), (b), and (c) is constructed.

図7(a)を参照してさらに説明すると、基材100の発光素子アレイ用カソード配線パターン112F上に発光素子アレイ20が配置されることで、発光素子アレイ20のカソード電極214(図4参照)と発光素子アレイ用カソード配線パターン112Fが接続される。そして、発光素子アレイ20のアノード電極218(図4参照)と基材100の発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1Fとが、発光素子アレイ20の側面22A側においてボンディングワイヤ23Aで接続され、発光素子アレイ20のアノード電極218(図4参照)と基材100の発光素子アレイ用アノード配線パターン111-2Fとが、発光素子アレイ20の側面22B側においてボンディングワイヤ23Bで接続される。そして、発光素子アレイ用アノード配線パターンは、発光素子アレイ20の側面21A、21B側には設けられていない。つまり、発光素子アレイ20の側面21A、21B側には、アノード電極218と発光素子アレイ用アノード配線パターンとを接続するボンディングワイヤを設けていない。よって、発光素子アレイ20に駆動部50を近接して配置させられるとともに、発光素子アレイ20に近接して配置したい回路素子の一例であるPD40およびTD45を発光素子アレイ20に近接して配置させられる。ここで、ボンディングワイヤ23A、23Bなどのボンディングワイヤが発光素子アレイ20の上面電極から発光素子アレイ20の外側に向けて延びる配線部材の一例である。 7A, the light-emitting element array 20 is arranged on the light-emitting element array cathode wiring pattern 112F of the substrate 100, so that the cathode electrode 214 (see FIG. 4) of the light-emitting element array 20 is formed. ) and the light emitting element array cathode wiring pattern 112F are connected. Then, the anode electrode 218 (see FIG. 4) of the light emitting element array 20 and the anode wiring pattern 111-1F for the light emitting element array of the substrate 100 are connected by the bonding wire 23A on the side surface 22A side of the light emitting element array 20, and light is emitted. The anode electrode 218 (see FIG. 4) of the element array 20 and the anode wiring pattern 111-2F for the light emitting element array of the substrate 100 are connected on the side surface 22B of the light emitting element array 20 with the bonding wire 23B. The anode wiring pattern for the light emitting element array is not provided on the sides 21A and 21B of the light emitting element array 20 . In other words, no bonding wires for connecting the anode electrode 218 and the anode wiring pattern for the light emitting element array are provided on the sides 21A and 21B of the light emitting element array 20 . Therefore, the driving unit 50 can be arranged close to the light emitting element array 20, and the PD 40 and TD 45, which are examples of circuit elements to be arranged close to the light emitting element array 20, can be arranged close to the light emitting element array 20. . Here, bonding wires such as the bonding wires 23A and 23B are examples of wiring members that extend from the upper surface electrodes of the light emitting element array 20 toward the outside of the light emitting element array 20 .

そして、図7(b)の配線基板10のy方向の中央から-y方向側にずれたVIIB-VIIB線での断面図に示すように、基材100の表面の発光素子アレイ用アノード配線パターン111-2Fが基材100の裏面の発光素子アレイ用アノード配線パターン111-2Bとビア111-2Vを介して接続され、発光素子アレイ用アノード配線パターン111-2Bが配線基板10の発光素子アレイ用アノード配線パターン11-2と接続される。発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1F、発光素子アレイ用アノード配線パターン111-1B、発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1も同様である。
また、図7(a)の配線基板10のy方向の中央部のVIIC-VIIC線での断面図に示すように、基材100の表面の発光素子アレイ用カソード配線パターン112Fが基材100の裏面の発光素子アレイ用カソード配線パターン112Bとビア112Vを介して接続され、発光素子アレイ用カソード配線パターン112Bが配線基板10の発光素子アレイ用カソード配線パターン12と接続される。発光素子アレイ用カソード配線パターン12は、駆動部50に接続されている。
Then, as shown in the cross-sectional view taken along the line VIIB--VIIB shifted in the -y direction from the center in the y direction of the wiring board 10 in FIG. 111-2F is connected to the light emitting element array anode wiring pattern 111-2B on the back surface of the substrate 100 via vias 111-2V, and the light emitting element array anode wiring pattern 111-2B is connected to the light emitting element array anode wiring pattern 111-2B on the wiring board 10. It is connected to the anode wiring pattern 11-2. The same applies to the light emitting element array anode wiring pattern 111-1F, the light emitting element array anode wiring pattern 111-1B, and the light emitting element array anode wiring pattern 11-1.
Further, as shown in the sectional view taken along line VIIC--VIIC in the central portion of the wiring board 10 in the y direction in FIG. It is connected to the light emitting element array cathode wiring pattern 112B on the back surface through vias 112V, and the light emitting element array cathode wiring pattern 112B is connected to the light emitting element array cathode wiring pattern 12 of the wiring substrate 10. FIG. The light-emitting element array cathode wiring pattern 12 is connected to the driving section 50 .

そして、発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1、11-2は、キャパシタ70の一方の端子に接続される。なお、発光素子アレイ用アノード配線パターン11-1、11-2毎に、キャパシタ70を設けてもよい。 The anode wiring patterns 11 - 1 and 11 - 2 for the light emitting element array are connected to one terminal of the capacitor 70 . A capacitor 70 may be provided for each of the light emitting element array anode wiring patterns 11-1 and 11-2.

図7(b)の断面図に示すように、基材100の表面のTD用カソード配線パターン116Fが基材100の裏面のTD用カソード配線パターン116Bとビア116Vを介して接続され、TD用カソード配線パターン116Bが配線基板10のTD用カソード配線パターン16と接続されている。
同様に、基材100の表面のTD用アノード配線パターン115Fが基材100の裏面のTD用アノード配線パターン115Bとビア115Vを介して接続され、TD用アノード配線パターン115Bが配線基板10のTD用アノード配線パターン15と接続されている。
PD40を接続する配線パターンについても同様であるので説明を省略する。
As shown in the cross-sectional view of FIG. 7B, the TD cathode wiring pattern 116F on the front surface of the base material 100 is connected to the TD cathode wiring pattern 116B on the back surface of the base material 100 via vias 116V. The wiring pattern 116B is connected to the TD cathode wiring pattern 16 of the wiring board 10 .
Similarly, the TD anode wiring pattern 115F on the front surface of the base material 100 is connected to the TD anode wiring pattern 115B on the back surface of the base material 100 via vias 115V, and the TD anode wiring pattern 115B is connected to the TD anode wiring pattern 115B on the wiring substrate 10. It is connected to the anode wiring pattern 15 .
The wiring pattern for connecting the PD 40 is the same, so the description is omitted.

本実施の形態の発光装置4では、駆動素子を含む駆動部50を発光素子アレイ20の側面21A側に近接して配置した。さらに、発光素子アレイ20に近接して配置したいPD40およびTD45を発光素子アレイ20の側面21B側に並列に配置することで、PD40およびTD45を発光素子アレイ20に近接して配置した。以下では、本実施の形態が適用されない比較のために示す発光装置4′を説明する。 In the light-emitting device 4 of the present embodiment, the driving section 50 including the driving elements is arranged close to the side surface 21A of the light-emitting element array 20 . Further, the PD 40 and TD 45 are arranged close to the light emitting element array 20 by arranging the PD 40 and TD 45 to be arranged close to the light emitting element array 20 in parallel on the side surface 21B of the light emitting element array 20 . A light-emitting device 4' shown for comparison to which this embodiment is not applied will be described below.

(比較例の発光装置4′)
図9は、比較のために示す発光装置4′を説明する平面図である。図9(a)は、平面図、図9(b)は、図9(a)のIXB-IXB線での断面図、図9(c)は、図9(a)のIXC-IXC線での断面図である。なお、発光装置4′において、発光装置4と同じ機能を有する部材は、発光装置4と同じ符号を付して説明を省略する。
(Comparative light emitting device 4')
FIG. 9 is a plan view illustrating a light emitting device 4' shown for comparison. 9(a) is a plan view, FIG. 9(b) is a cross-sectional view along line IXB-IXB of FIG. 9(a), and FIG. 9(c) is line IXC-IXC of FIG. 9(a). is a cross-sectional view of. In the light-emitting device 4', members having the same functions as those of the light-emitting device 4 are assigned the same reference numerals as those of the light-emitting device 4, and description thereof is omitted.

発光装置4′では、基材100上においてPD40を発光素子アレイ20と駆動部50との間に設けている。つまり、発光装置4′は、発光素子アレイ20に近接して配置したいPD40とTD45とを発光素子アレイ20を挟んで配置している。つまり、PD40を発光素子アレイ20の側面21A側に、TD45を発光素子アレイ20の側面21B側に近接して配置している。このため、発光素子アレイ20の側面21Aと駆動素子を含む駆動部50の発光素子アレイ20側の端部との距離D2が、発光装置4の距離D1に比べ、大きくなっている。このため、発光素子アレイ20を駆動する回路のインダクタンスが大きくなり、発光素子アレイ20を高速にオンオフさせにくくなっている。 In the light emitting device 4 ′, the PD 40 is provided between the light emitting element array 20 and the driving section 50 on the substrate 100 . That is, in the light emitting device 4', the PD 40 and the TD 45, which are to be arranged close to the light emitting element array 20, are arranged with the light emitting element array 20 interposed therebetween. That is, the PD 40 is arranged close to the side surface 21A of the light emitting element array 20, and the TD 45 is arranged close to the side surface 21B of the light emitting element array 20. FIG. Therefore, the distance D2 between the side surface 21A of the light emitting element array 20 and the end portion of the driving section 50 including the driving elements on the light emitting element array 20 side is larger than the distance D1 of the light emitting device 4 . As a result, the inductance of the circuit that drives the light emitting element array 20 increases, making it difficult to turn on and off the light emitting element array 20 at high speed.

図10は、比較のために示す発光装置4′における配線基板10および基材100に設けられる配線パターンを説明する図である。図10(a)は、配線基板10の表面、図10(b)は、基材100の表面、図10(c)は、基材100の裏面である。
図10(a)に示すように、PD用アノード配線パターン13、PD用カソード配線パターン14は、発光素子アレイ用カソード配線パターン12を挟んで±y方向側に対向するように設けられている。つまり、PD40のアノード電極およびカソード電極に接続される配線が発光素子アレイ20の側面21Aに沿って、互いに逆方向に引き出されている。同様に、TD用アノード配線パターン15、PD用カソード配線パターン16は、±y方向側に対向するように設けられている。つまり、TD45のアノード電極およびカソード電極に接続される配線が発光素子アレイ20の側面21Bに沿って、互いに逆方向に引き出されている。
FIG. 10 is a diagram illustrating wiring patterns provided on the wiring board 10 and the base material 100 in the light emitting device 4' shown for comparison. 10A shows the front surface of the wiring board 10, FIG. 10B shows the front surface of the substrate 100, and FIG.
As shown in FIG. 10A, the PD anode wiring pattern 13 and the PD cathode wiring pattern 14 are provided so as to face each other in the ±y direction with the light emitting element array cathode wiring pattern 12 interposed therebetween. That is, the wirings connected to the anode electrode and the cathode electrode of the PD 40 are pulled out along the side surface 21A of the light emitting element array 20 in opposite directions. Similarly, the TD anode wiring pattern 15 and the PD cathode wiring pattern 16 are provided so as to face each other in the ±y direction. In other words, the wirings connected to the anode electrode and the cathode electrode of the TD 45 are led out along the side surface 21B of the light emitting element array 20 in directions opposite to each other.

そして、図10(a)に示すように、発光装置4′では、発光素子アレイ20を駆動する回路のインダクタンスが大きくなることを抑制するために、発光素子アレイ用カソード配線パターン12の平面形状を四角形とし、発光素子アレイ20のカソード電極214と駆動部50のMOSトランジスタ51のドレインとを直線状に接続している。このためには、発光素子アレイ用カソード配線パターン12とPD用カソード配線パターン114Fとを電気絶縁性の部材を挟んで立体交差させることになる。
このため、図10(b)、(c)に示すように、PD用カソード配線パターン114Fに対応するPD用カソード配線パターン114Bのy方向の長さを、PD用カソード配線パターン114Fに比べて-y方向側に短くしている。よって、基材100を配線基板10の破線で示す部分に搭載した場合、PD用カソード配線パターン114Bが発光素子アレイ用カソード配線パターン12に接触して短絡することを抑制している。
As shown in FIG. 10(a), in the light-emitting device 4', the planar shape of the light-emitting element array cathode wiring pattern 12 is designed to suppress an increase in the inductance of the circuit that drives the light-emitting element array 20. It is rectangular, and the cathode electrode 214 of the light emitting element array 20 and the drain of the MOS transistor 51 of the driving section 50 are connected in a straight line. For this purpose, the cathode wiring pattern 12 for the light emitting element array and the cathode wiring pattern 114F for the PD are three-dimensionally crossed with an electrically insulating member interposed therebetween.
Therefore, as shown in FIGS. 10B and 10C, the y-direction length of the PD cathode wiring pattern 114B corresponding to the PD cathode wiring pattern 114F is - It is shortened in the y direction. Therefore, when the base material 100 is mounted on the portion indicated by the dashed line of the wiring board 10, the PD cathode wiring pattern 114B is prevented from coming into contact with the light emitting element array cathode wiring pattern 12 and causing a short circuit.

以上説明したように、比較例である発光装置4′は、発光素子アレイ20を駆動する回路のインダクタンスが大きくなることを抑制するために発光素子アレイ用カソード配線パターン12を四角形として、発光素子アレイ20のカソード電極214と駆動部50との間を直線状に接続しようとすると、配線を立体交差させることになる。つまり、電気絶縁性の基材100を用いることになる。 As described above, in the light-emitting device 4' of the comparative example, the cathode wiring pattern 12 for the light-emitting element array is square in order to suppress an increase in the inductance of the circuit that drives the light-emitting element array 20. If an attempt is made to connect the cathode electrode 214 of 20 and the drive unit 50 in a straight line, the wiring will be crossed over. In other words, an electrically insulating substrate 100 is used.

一方、本実施の形態が適用される発光装置4では、図8(a)、(b)、(c)から分かるように、発光素子アレイ20の側面21A側に回路素子を設けないため、発光素子アレイ用カソード配線パターン12に対して交差する配線を設けることを要しない。よって、図7、図8では、基材100を用いたが、基材100を用いなくてもよい。つまり、図8(a)に示した配線基板10上に、基材100を介すことなく、発光素子アレイ20、PD40およびTD45を搭載してもよい。この場合、配線基板10を、電気絶縁性の熱放熱部材としてもよい。 On the other hand, in the light emitting device 4 to which the present embodiment is applied, as can be seen from FIGS. It is not necessary to provide wiring crossing the element array cathode wiring pattern 12 . Therefore, although the substrate 100 is used in FIGS. 7 and 8, the substrate 100 may not be used. That is, the light emitting element array 20, the PD 40 and the TD 45 may be mounted on the wiring board 10 shown in FIG. 8A without the base material 100 interposed therebetween. In this case, the wiring board 10 may be an electrically insulating heat radiation member.

以上説明したように、本実施の形態が適用される発光装置4では、発光素子アレイ20の側面21A側に駆動素子を含む駆動部50を近接して配置している。そして、発光素子アレイ20に近接して配置したいPD40およびTD45を、発光素子アレイ20の側面21B側において、側面21Bに沿って並べて配列している。このようにすることで、発光素子アレイ20と駆動素子を含む駆動部50とを近接させやすくしている。 As described above, in the light emitting device 4 to which the present embodiment is applied, the driving section 50 including the driving elements is arranged close to the side surface 21A of the light emitting element array 20 . The PDs 40 and TDs 45 to be arranged close to the light-emitting element array 20 are arranged side by side along the side surface 21B on the side surface 21B of the light-emitting element array 20 . By doing so, the light-emitting element array 20 and the driving section 50 including the driving elements can be easily brought close to each other.

なお、本実施の形態では、第1の回路素子の一例として光量監視用受光素子(PD40)、第2の回路素子の一例として温度検知用素子(TD45)で説明したが、第1の回路素子または第2の回路素子として、発光素子アレイ20に電流を供給するキャパシタ70など、他の回路素子を配置してもよい。 In this embodiment, the light intensity monitoring light receiving element (PD40) is described as an example of the first circuit element, and the temperature detection element (TD45) is described as an example of the second circuit element. Alternatively, other circuit elements such as the capacitor 70 that supplies current to the light emitting element array 20 may be arranged as the second circuit elements.

なお、本実施の形態では、光拡散部材30を用いたが、光拡散部材30に代えて、光を透過する部材、例えば、保護用のカバーなどの透明基材、集光レンズやマイクロレンズアレイなどの光学部材を有する構成に適用してもよい。 Although the light diffusing member 30 is used in the present embodiment, instead of the light diffusing member 30, a light-transmitting member such as a transparent base material such as a protective cover, a condenser lens, or a microlens array may be used. You may apply to the structure which has optical members, such as.

1…情報処理装置、2…ユーザインターフェイス(UI)部、3…光学装置、4、4′…発光装置、5…3Dセンサ、6…抵抗素子、7、70…キャパシタ、8…光学装置制御部、9…システム制御部、10…配線基板、11-1、11-2、111-1F、111-2F、111-1B、111-2B…発光素子アレイ用アノード配線パターン、12、112F、112B…発光素子アレイ用カソード配線パターン、13、113F、113B…PD用アノード配線パターン、14、114F、114B…PD用カソード配線パターン、15、115F、115B…TD用アノード配線パターン、16、116F、116B…TD用カソード配線パターン、20…発光素子アレイ、21A、21B、22A、22B…側面、23A、23B、23C…ボンディングワイヤ、30…光拡散部材、40…光量監視用受光素子(PD)、45…温度検知用素子(TD)、50…駆動部、51…MOSトランジスタ、52…信号発生回路、60…保持部、81…形状特定部、82…電源、83…電源線、84…接地線、91…認証処理部、100…基材、200…半導体基板、202…下部DBR、206…活性領域、208…上部DBR、210…電流狭窄層、210A…酸化領域、210B…導電領域、214…カソード電極、218…アノード電極、M…メサ、VCSEL…垂直共振器面発光レーザ素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Information processing apparatus 2... User interface (UI) part 3... Optical apparatus 4, 4'... Light-emitting device 5... 3D sensor 6... Resistance element 7, 70... Capacitor 8... Optical apparatus control part , 9... System control unit 10... Wiring board 11-1, 11-2, 111-1F, 111-2F, 111-1B, 111-2B... Anode wiring pattern for light emitting element array 12, 112F, 112B... Cathode wiring patterns for light emitting element array 13, 113F, 113B... Anode wiring patterns for PD, 14, 114F, 114B... Cathode wiring patterns for PD, 15, 115F, 115B... Anode wiring patterns for TD, 16, 116F, 116B... Cathode wiring pattern for TD 20 Light-emitting element array 21A, 21B, 22A, 22B Side surface 23A, 23B, 23C Bonding wire 30 Light diffusion member 40 Photodetector for light quantity monitoring (PD) 45 Temperature detection element (TD) 50 Drive section 51 MOS transistor 52 Signal generation circuit 60 Holding section 81 Shape identification section 82 Power supply 83 Power supply line 84 Ground line 91 ... authentication processing unit 100 ... base material 200 ... semiconductor substrate 202 ... lower DBR 206 ... active region 208 ... upper DBR 210 ... current constriction layer 210A ... oxidized region 210B ... conductive region 214 ... cathode electrode , 218 Anode electrode M Mesa VCSEL Vertical cavity surface emitting laser element

Claims (12)

配線基板と、
互いに対向する第1の側面および第2の側面と、当該第1の側面および当該第2の側面とを接続する、互いに対向する第3の側面および第4の側面とを有し、前記配線基板上に設けられた発光素子アレイと、
前記第1の側面側の前記配線基板上に設けられ、前記発光素子アレイを駆動する駆動素子と、
前記第2の側面よりも前記駆動素子からの距離が遠い前記配線基板の位置に、当該第2の側面に沿って設けられた第1の回路素子および第2の回路素子と、
前記第3の側面側および前記第4の側面側に設けられ、前記発光素子アレイの上面電極から当該発光素子アレイの外側に向けて延びる配線部材と、を備え、
前記第1の側面と前記駆動素子との間には、他の回路素子が設けられていない発光装置。
a wiring board;
The wiring board has a first side surface and a second side surface facing each other, and a third side surface and a fourth side surface facing each other connecting the first side surface and the second side surface, and connecting the first side surface and the second side surface. a light emitting element array provided thereon;
a driving element provided on the wiring substrate on the first side surface side for driving the light emitting element array;
a first circuit element and a second circuit element provided along the second side surface at a position of the wiring board farther from the driving element than the second side surface;
wiring members provided on the third side surface and the fourth side surface and extending from the upper surface electrode of the light emitting element array toward the outside of the light emitting element array;
A light-emitting device in which no other circuit element is provided between the first side surface and the driving element.
前記第1の回路素子および前記第2の回路素子の少なくとも一方は、前記発光素子アレイが出射した光を受光する受光素子である請求項1に記載の発光装置。 2. The light emitting device according to claim 1, wherein at least one of said first circuit element and said second circuit element is a light receiving element for receiving light emitted from said light emitting element array. 前記第1の回路素子および前記第2の回路素子の少なくとも一方は、前記発光素子アレイの温度を検知する温度検知素子である請求項1に記載の発光装置。 2. The light emitting device according to claim 1, wherein at least one of said first circuit element and said second circuit element is a temperature sensing element that senses the temperature of said light emitting element array. 前記第1の回路素子および前記第2の回路素子の少なくとも一方は、前記発光素子アレイに電流を供給するキャパシタである請求項1ないし3のいずれか1項に記載の発光装置。 4. The light emitting device according to claim 1, wherein at least one of said first circuit element and said second circuit element is a capacitor that supplies current to said light emitting element array. 前記第2の側面と前記第1の回路素子および前記第2の回路素子との間には、前記発光素子アレイの前記上面電極から当該発光素子アレイの外側に向けて延びる配線部材が設けられていない請求項1ないし4のいずれか1項に記載の発光装置。 Between the second side surface and the first circuit element and the second circuit element, a wiring member extending from the upper surface electrode of the light emitting element array toward the outside of the light emitting element array is provided. The light-emitting device according to any one of claims 1 to 4. 前記第1の回路素子および前記第2の回路素子はそれぞれ複数の端子を有し、
前記第1の回路素子は前記第2の回路素子よりも前記第3の側面側に配置されるとともに、当該第1の回路素子の前記複数の端子それぞれに接続される配線は当該第3の側面側に引き出され、
前記第2の回路素子は前記第1の回路素子よりも前記第4の側面側に配置されるとともに、当該第2の回路素子の前記複数の端子それぞれに接続される配線は当該第4の側面側に引き出されている
請求項1ないし5のいずれか1項に記載の発光装置。
each of the first circuit element and the second circuit element has a plurality of terminals;
The first circuit element is arranged closer to the third side than the second circuit element, and wiring connected to each of the plurality of terminals of the first circuit element is located on the third side. pulled out to the side,
The second circuit element is arranged closer to the fourth side than the first circuit element, and wiring connected to each of the plurality of terminals of the second circuit element is located on the fourth side. 6. The light-emitting device according to claim 1, wherein the light-emitting device is pulled out to the side.
前記発光素子アレイの出射経路上に、当該発光素子アレイから出射された光を外部に向けて拡散する光拡散部材が設けられている請求項1ないし6のいずれか1項に記載の発光装置。 7. The light emitting device according to any one of claims 1 to 6, wherein a light diffusing member that diffuses light emitted from the light emitting element array toward the outside is provided on an emission path of the light emitting element array. 前記第1の回路素子および前記第2の回路素子の少なくとも一方は、前記発光素子アレイが出射した光を受光する受光素子であり、
前記光拡散部材は、平面視において前記発光素子アレイおよび前記受光素子と重なる位置に設けられている請求項7に記載の発光装置。
at least one of the first circuit element and the second circuit element is a light receiving element that receives light emitted from the light emitting element array;
8. The light-emitting device according to claim 7, wherein the light diffusing member is provided at a position overlapping with the light-emitting element array and the light-receiving element in plan view.
前記発光素子アレイは、互いに並列に接続された複数の発光素子を有する請求項1ないし8のいずれか1項に記載の発光装置。 9. The light-emitting device according to claim 1, wherein said light-emitting element array has a plurality of light-emitting elements connected in parallel. 請求項1ないし9のいずれか1項に記載の発光装置と、
前記発光装置が備える発光素子アレイから出射され被測定物で反射された反射光を受光する受光部と、を備え、
前記受光部は、前記発光素子アレイから光が出射されてから当該受光部で受光されるまでの時間に相当する信号を出力する光学装置。
a light emitting device according to any one of claims 1 to 9;
a light-receiving unit that receives reflected light emitted from a light-emitting element array included in the light-emitting device and reflected by an object to be measured;
The optical device, wherein the light receiving section outputs a signal corresponding to the time from when the light is emitted from the light emitting element array to when the light is received by the light receiving section.
請求項10に記載の光学装置と、
前記光学装置が備える発光素子アレイから出射され被測定物で反射され、当該光学装置が備える受光部が受光した反射光に基づき、当該被測定物の三次元形状を特定する形状特定部と、
を備える情報処理装置。
an optical device according to claim 10;
a shape identifying unit that identifies the three-dimensional shape of the object to be measured based on the reflected light emitted from the light emitting element array provided in the optical device, reflected by the object to be measured, and received by the light receiving unit provided in the optical device;
Information processing device.
前記形状特定部での特定結果に基づき、自装置の使用に関する認証処理を行う認証処理部と、
を備える請求項11に記載の情報処理装置。
an authentication processing unit that performs authentication processing regarding the use of the device based on the identification result of the shape identification unit;
The information processing apparatus according to claim 11, comprising:
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