JP7211726B2 - the film - Google Patents

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Description

本発明はフィルムに関するものであり、特に光学用途に好適に用いることができるフィルムに関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a film, and more particularly to a film that can be suitably used for optical applications.

(メタ)アクリル系樹脂は透明性が高く、光学フィルム用材料として従来から使用されている。中でも主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂は、透明性を維持したまま耐熱性を高めることが可能である(特許文献1など)。しかし、耐熱性を高めることにより樹脂自体は硬脆くなって割れやすくなったり、フィルム加工時に耐折強度などの機械的強度が低下する傾向となる。例えば特許文献2には、主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂から形成したフィルムが開示されているが、耐折強度については、評価基準を耐折回数50回に設定して耐折強度の評価を行っている。特許文献3には、主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂にガラス転移温度が低い柔軟性樹脂を配合した樹脂組成物から形成したフィルムが開示されているが、耐折強度の評価基準として、折り曲げた際のクラックの発生の有無によって耐折性の評価を行っている。しかし、フィルムの耐久性を高めたり、適用範囲を広げる観点からは、より高い耐折強度を備えることが望ましい。 (Meth)acrylic resins have high transparency and have been conventionally used as materials for optical films. Among them, a (meth)acrylic resin having a ring structure in its main chain can improve heat resistance while maintaining transparency (Patent Document 1, etc.). However, by increasing the heat resistance, the resin itself tends to become hard and brittle and crack easily, and mechanical strength such as folding endurance tends to decrease during film processing. For example, Patent Document 2 discloses a film formed from a (meth)acrylic resin having a ring structure in its main chain. We are evaluating the folding strength. Patent Document 3 discloses a film formed from a resin composition in which a (meth)acrylic resin having a ring structure in the main chain is blended with a flexible resin having a low glass transition temperature. As a standard, folding endurance is evaluated based on the presence or absence of cracks when folded. However, from the viewpoint of increasing the durability of the film and expanding the range of application, it is desirable to have a higher folding endurance.

特開2006-171464号公報JP 2006-171464 A 特開2008-191426号公報JP 2008-191426 A 特開2007-100044号公報JP 2007-100044 A

本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、高い耐折強度を有するフィルムを提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a film having high folding endurance.

本発明は、以下の発明を含む。
[1]ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位を有する重合体ブロック(a1)と芳香族ビニル単量体由来の単位を有する重合体ブロック(a2)を有するポリマー鎖(A)と、(メタ)アクリル系単量体由来の単位を有するポリマー鎖(B)とを有する共重合体(P)を含むフィルムであって、JIS P 8115に基づくMIT試験による耐折回数が1000回以上であることを特徴とするフィルム。
[2]温度85℃、湿度85%RHの雰囲気下に120時間置いたときの寸法変化率の絶対値が1.2%以下である[1]に記載のフィルム。
[3]厚さ100μmあたりの内部ヘイズが2.0%以下である[1]または[2]に記載のフィルム。
[4]ポリマー鎖(B)は主鎖に環構造を有する[1]~[3]のいずれかに記載のフィルム。
[5]110℃以上の温度範囲にガラス転移温度を有する[1]~[4]のいずれかに記載のフィルム。
[6]ポリマー鎖(B)がポリマー鎖(A)の重合体ブロック(a1)にグラフトしている[1]~[5]のいずれかに記載のフィルム。
[7]ポリマー鎖(A)は、重合体ブロック(a1)の両側に重合体ブロック(a2)が結合したものである[1]~[6]のいずれかに記載のフィルム。
[8]さらに(メタ)アクリル系重合体を含有する[1]~[7]のいずれかに記載のフィルム。
[9](メタ)アクリル系重合体を構成する(メタ)アクリル系単量体由来の単位が、ポリマー鎖(B)を構成する(メタ)アクリル系単量体由来の単位と同じである[8]に記載のフィルム。
[10]ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤を含む[1]~[9]のいずれかに記載のフィルム。
[11]前記フィルムが光学用フィルムである[1]~[10]のいずれかに記載のフィルム。
The present invention includes the following inventions.
[1] A polymer chain (A) having a polymer block (a1) having a diene and/or olefin-derived unit and a polymer block (a2) having an aromatic vinyl monomer-derived unit, and (meth)acrylic A film containing a copolymer (P) having a polymer chain (B) having a unit derived from a system monomer, and having a folding endurance of 1000 times or more according to the MIT test based on JIS P 8115. film to be.
[2] The film according to [1], which has an absolute value of dimensional change of 1.2% or less when left in an atmosphere of 85° C. and 85% RH for 120 hours.
[3] The film according to [1] or [2], which has an internal haze of 2.0% or less per 100 µm of thickness.
[4] The film according to any one of [1] to [3], wherein the polymer chain (B) has a ring structure in its main chain.
[5] The film according to any one of [1] to [4], which has a glass transition temperature in the temperature range of 110°C or higher.
[6] The film according to any one of [1] to [5], wherein the polymer chain (B) is grafted to the polymer block (a1) of the polymer chain (A).
[7] The film according to any one of [1] to [6], wherein the polymer chain (A) has polymer blocks (a2) bound to both sides of the polymer block (a1).
[8] The film according to any one of [1] to [7], further containing a (meth)acrylic polymer.
[9] The (meth)acrylic monomer-derived unit constituting the (meth)acrylic polymer is the same as the (meth)acrylic monomer-derived unit constituting the polymer chain (B) [ 8].
[10] containing at least one antioxidant selected from the group consisting of hindered phenol-based antioxidants, hindered amine-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and sulfur-based antioxidants [1] to [9] A film according to any one of the preceding claims.
[11] The film according to any one of [1] to [10], wherein the film is an optical film.

本発明のフィルムは、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位を有する重合体ブロック(a1)と芳香族ビニル単量体由来の単位を有する重合体ブロック(a2)を有するポリマー鎖(A)と、(メタ)アクリル系単量体由来の単位を有するポリマー鎖(B)とを有する共重合体(P)を含むため、フィルム化によって高い耐折強度を示すものとなる。 The film of the present invention comprises a polymer chain (A) having a polymer block (a1) having a diene and/or olefin-derived unit and a polymer block (a2) having an aromatic vinyl monomer-derived unit, ( Since it contains a copolymer (P) having a polymer chain (B) having a unit derived from a meth)acrylic monomer, it exhibits high folding endurance when formed into a film.

本発明のフィルムは、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位を有する重合体ブロック(a1)と芳香族ビニル単量体由来の単位を有する重合体ブロック(a2)を有するポリマー鎖(A)と、(メタ)アクリル系単量体由来の単位を有するポリマー鎖(B)とを有する共重合体(P)を含むものである。本発明のフィルムはこのような共重合体(P)を必須的に含む樹脂組成物から形成され、高い機械的強度(例えば、耐折強度)を備えるものである。以下、本発明のフィルムを構成する共重合体(P)について、まず説明する。 The film of the present invention comprises a polymer chain (A) having a polymer block (a1) having a diene and/or olefin-derived unit and a polymer block (a2) having an aromatic vinyl monomer-derived unit, ( It contains a copolymer (P) having a polymer chain (B) having a unit derived from a meth)acrylic monomer. The film of the present invention is formed from a resin composition essentially containing such a copolymer (P) and has high mechanical strength (for example, folding endurance). Hereinafter, the copolymer (P) constituting the film of the present invention will be described first.

共重合体(P)は、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位を有する重合体ブロック(a1)と芳香族ビニル単量体由来の単位を有する重合体ブロック(a2)を有するポリマー鎖(A)と、(メタ)アクリル系単量体由来の単位を有するポリマー鎖(B)とを有する。ポリマー鎖(A)において、重合体ブロック(a1)は基本的にソフト成分として機能し、重合体ブロック(a2)はハード成分として機能する。ポリマー鎖(A)によって共重合体(P)の硬脆さを低減することができ、機械的強度に優れたフィルムを得ることができる。また、フィルムの高温高湿下での寸法安定性や形状安定性を高めることができる。 The copolymer (P) comprises a polymer chain (A) having a polymer block (a1) having units derived from a diene and/or an olefin and a polymer block (a2) having units derived from an aromatic vinyl monomer. , and a polymer chain (B) having a unit derived from a (meth)acrylic monomer. In the polymer chain (A), the polymer block (a1) basically functions as a soft component and the polymer block (a2) functions as a hard component. The polymer chain (A) can reduce the hardness and brittleness of the copolymer (P), and a film having excellent mechanical strength can be obtained. In addition, the dimensional stability and shape stability of the film under high temperature and high humidity conditions can be enhanced.

重合体ブロック(a1)のジエン由来の単位を形成するジエンとしては、1,3-ブタジエン(別名:ブタジエン)、2-メチル-1,3-ブタジエン(別名:イソプレン)、1,3-ペンタジエン、1,4-ペンタジエン、1,5-ヘキサジエン、2,5-ジメチル-1,5-ヘキサジエン(別名:ジイソブテン)等のアルカジエンが好ましく用いられ、なかでも1,3-ブタジエン、2-メチル-1,3-ブタジエン、1,3-ペンタジエン等の共役ジエンがより好ましい。重合体ブロック(a1)のオレフィン由来の単位を形成するオレフィンとしては、エチレン、プロピレン、1-ブテン、イソブテン、2-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ブテン、1-テトラデセン、1-オクタデセン等のモノオレフィンが好ましく用いられ、なかでも炭素-炭素二重結合がα位にあるアルケンであるα-オレフィンがより好ましい。これらジエンおよびオレフィンの炭素数は、2以上が好ましく、3以上がより好ましく、また20以下が好ましく、10以下がより好ましく、6以下がさらに好ましい。 Examples of the diene forming the diene-derived unit of the polymer block (a1) include 1,3-butadiene (alias: butadiene), 2-methyl-1,3-butadiene (alias: isoprene), 1,3-pentadiene, Alkadienes such as 1,4-pentadiene, 1,5-hexadiene, 2,5-dimethyl-1,5-hexadiene (also known as diisobutene) are preferably used, and among these, 1,3-butadiene, 2-methyl-1, Conjugated dienes such as 3-butadiene and 1,3-pentadiene are more preferred. The olefins forming the olefin-derived units of the polymer block (a1) include ethylene, propylene, 1-butene, isobutene, 2-methyl-1-butene, 3-methyl-1-butene, 1-tetradecene, 1- Monoolefins such as octadecene are preferably used, and α-olefins, which are alkenes having a carbon-carbon double bond at the α-position, are more preferable. The number of carbon atoms in these dienes and olefins is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and preferably 20 or less, more preferably 10 or less, and even more preferably 6 or less.

ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位は、ジエンおよび/またはオレフィンが重合することにより形成される単位として規定される。オレフィン由来の単位は、同じ構造が形成される限り、オレフィンの(共)重合によって実際に形成されるものに限らず、ジエン由来の単位が水素化されることによって形成されてもよい。重合体ブロック(a1)には、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位として、ブタジエン由来の単位、イソプレン由来の単位、エチレン由来の単位、プロピレン由来の単位、1-ブテン由来の単位、およびイソブテン由来の単位から選ばれる少なくとも1種が含まれることが好ましい。 Diene and/or olefin derived units are defined as units formed by polymerizing dienes and/or olefins. The olefin-derived units are not limited to those actually formed by (co)polymerization of olefins, but may also be formed by hydrogenation of diene-derived units, as long as the same structure is formed. The polymer block (a1) contains, as diene and/or olefin-derived units, butadiene-derived units, isoprene-derived units, ethylene-derived units, propylene-derived units, 1-butene-derived units, and isobutene-derived units. At least one selected from units is preferably included.

重合体ブロック(a1)としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン-1、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-ブテン共重合体等のオレフィン(共)重合体;ポリイソプレン、ポリブタジエン、イソプレン-ブタジエン共重合体等のジエン(共)重合体;エチレン-プロピレン-ジエン共重合体、イソブテン-イソプレン共重合体等のオレフィンとジエンの共重合体等が挙げられる。オレフィン(共)重合体としてはα-オレフィン(共)重合体が好ましく、ジエン(共)重合体としては共役ジエン(共)重合体が好ましく、オレフィンとジエンの共重合体としてはα-オレフィンと共役ジエンの共重合体が好ましい。これらの中でもポリイソプレン、イソブテン-イソプレン共重合体等のα-オレフィンと共役ジエンの共重合体や、ポリエチレン、ポリプロピレンがより好ましい。 Examples of the polymer block (a1) include olefin (co)polymers such as polyethylene, polypropylene, polybutene-1, ethylene-propylene copolymer and ethylene-butene copolymer; polyisoprene, polybutadiene, isoprene-butadiene copolymer Diene (co)polymers such as polymers; copolymers of olefins and dienes such as ethylene-propylene-diene copolymers and isobutene-isoprene copolymers. The olefin (co)polymer is preferably an α-olefin (co)polymer, the diene (co)polymer is preferably a conjugated diene (co)polymer, and the copolymer of an olefin and a diene is α-olefin and Copolymers of conjugated dienes are preferred. Among these, copolymers of α-olefins and conjugated dienes such as polyisoprene and isobutene-isoprene copolymers, and polyethylene and polypropylene are more preferable.

重合体ブロック(a1)は、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位に加え、さらに他の不飽和単量体由来の単位を有していてもよい。他の不飽和単量体は、重合性二重結合を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル;(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル等の不飽和カルボン酸およびそのエステル;スチレン、ビニルトルエン、メトキシスチレン、α-メチルスチレン、2-ビニルピリジン等の芳香族ビニル化合物;ビニルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルメトキシシラン等のビニルシラン等が挙げられる。重合体ブロック(a1)は、これら他の不飽和単量体とジエンおよび/またはオレフィンとの共重合体であってもよい。なお、重合体ブロック(a1)はジエンおよび/またはオレフィン由来の単位を主成分として含むことが好ましく、重合体ブロック(a1)100質量%中、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位の含有割合が50質量%以上であることが好ましく、60質量%以上がより好ましく、70質量%以上がさらに好ましい。重合体ブロック(a1)は、実質的にジエンおよび/またはオレフィン由来の単位のみから構成されていてもよく、例えばジエンおよび/またはオレフィン由来の単位が99質量%以上であってもよい。 The polymer block (a1) may have units derived from other unsaturated monomers in addition to units derived from dienes and/or olefins. Other unsaturated monomers are not particularly limited as long as they are compounds having a polymerizable double bond. Examples include vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; (meth)acrylic acid, maleic anhydride, (meth) ) unsaturated carboxylic acids such as methyl acrylate and ethyl (meth)acrylate and esters thereof; aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene, methoxystyrene, α-methylstyrene, and 2-vinylpyridine; vinyltrimethoxysilane, Examples include vinylsilanes such as γ-(meth)acryloyloxypropylmethoxysilane. Polymer block (a1) may be a copolymer of these other unsaturated monomers with dienes and/or olefins. In addition, the polymer block (a1) preferably contains diene and/or olefin-derived units as a main component. It is preferably at least 60% by mass, more preferably at least 70% by mass. The polymer block (a1) may consist essentially of diene- and/or olefin-derived units, for example, the diene- and/or olefin-derived units may be 99% by mass or more.

重合体ブロック(a1)は、例えば上記に説明した他の不飽和単量体由来の単位として、芳香族ビニル単量体由来の単位を有していてもよい。重合体ブロック(a1)が芳香族ビニル単量体由来の単位を有することにより、共重合体(P)の透明性を高めやすくなる。例えば、共重合体(P)のポリマー鎖(A)とポリマー鎖(B)の屈折率差が大きい場合でも、共重合体(P)の透明性を高めることが容易になる。 The polymer block (a1) may have units derived from aromatic vinyl monomers, for example, as units derived from other unsaturated monomers as described above. When the polymer block (a1) has an aromatic vinyl monomer-derived unit, it becomes easier to increase the transparency of the copolymer (P). For example, even when the difference in refractive index between the polymer chains (A) and the polymer chains (B) of the copolymer (P) is large, it is easy to increase the transparency of the copolymer (P).

芳香族ビニル単量体由来の単位を形成する芳香族ビニル単量体は、芳香環にビニル基が結合した化合物であれば特に限定されず、例えば、スチレン、ビニルトルエン、メトキシスチレン、α-メチルスチレン、α-ヒドロキシメチルスチレン、α-ヒドロキシエチルスチレン等のスチレン系単量体;2-ビニルナフタレン等の多環芳香族炭化水素環ビニル単量体;N-ビニルカルバゾール、2-ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン等の芳香族複素環ビニル単量体等が挙げられる。これらの中でも、スチレン系単量体が好ましい。スチレン系単量体には、スチレンのみならず、スチレンの重合性二重結合炭素またはベンゼン環に任意の置換基が結合したスチレン誘導体も含まれ、当該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、ハロゲン基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基等が挙げられる。スチレンに結合したアルキル基とアルコキシ基は、炭素数1~4が好ましく、炭素数1~2がより好ましく、スチレンに結合したアルキル基とアルコキシ基は、水素原子の少なくとも一部がヒドロキシル基またはハロゲン基で置換されていてもよい。なお、共重合体(P)の着色を低減する観点から、スチレン系単量体はアミノ基を有しないものが好ましい。さらに、スチレン系単量体は、スチレンの重合性二重結合炭素またはベンゼン環に置換基が結合していない無置換のスチレンであることが好ましい。 Aromatic vinyl monomers forming units derived from aromatic vinyl monomers are not particularly limited as long as they are compounds in which a vinyl group is bonded to an aromatic ring. Examples include styrene, vinyltoluene, methoxystyrene, α-methyl Styrenic monomers such as styrene, α-hydroxymethylstyrene, α-hydroxyethylstyrene; polycyclic aromatic hydrocarbon ring vinyl monomers such as 2-vinylnaphthalene; N-vinylcarbazole, 2-vinylpyridine, vinyl Examples include aromatic heterocyclic vinyl monomers such as imidazole and vinylthiophene. Among these, styrenic monomers are preferred. Styrenic monomers include not only styrene but also styrene derivatives in which any substituent is attached to the polymerizable double-bond carbon of styrene or the benzene ring, and the substituents include alkyl groups, alkoxy groups, hydroxyl group, halogen group, amino group, nitro group, sulfo group and the like. The alkyl group and alkoxy group bonded to styrene preferably have 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms. may be substituted with a group. From the viewpoint of reducing coloring of the copolymer (P), the styrene-based monomer preferably does not have an amino group. Furthermore, the styrenic monomer is preferably unsubstituted styrene in which no substituent is attached to the polymerizable double-bond carbon of styrene or the benzene ring.

重合体ブロック(a1)が芳香族ビニル単量体由来の単位を有する場合、芳香族ビニル単量体由来の単位の含有割合は、重合体ブロック(a1)中、1質量%以上であることが好ましく、2質量%以上がより好ましく、3質量%以上がさらに好ましく、また40質量%以下が好ましく、35質量%以下がより好ましく、30質量%以下がさらに好ましい。この場合、重合体ブロック(a1)中、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位と芳香族ビニル単量体由来の単位の合計の含有割合は、70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上がより好ましく、90質量%以上がさらに好ましい。重合体ブロック(a1)は、実質的にジエンおよび/またはオレフィン由来の単位と芳香族ビニル単量体由来の単位のみから構成されていてもよく、例えばこれらの単位の合計含有割合が99質量%以上であってもよい。 When the polymer block (a1) has an aromatic vinyl monomer-derived unit, the content of the aromatic vinyl monomer-derived unit is preferably 1% by mass or more in the polymer block (a1). It is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and preferably 40% by mass or less, more preferably 35% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less. In this case, the total content of diene and/or olefin-derived units and aromatic vinyl monomer-derived units in the polymer block (a1) is preferably 70% by mass or more, and 80% by mass or more. is more preferable, and 90% by mass or more is even more preferable. The polymer block (a1) may consist essentially only of diene and/or olefin-derived units and aromatic vinyl monomer-derived units, for example, the total content of these units is 99% by mass. or more.

重合体ブロック(a1)が、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位に加えて他の不飽和単量体由来の単位を有するものである場合は、重合体ブロック(a1)は、これらの単量体のランダム共重合体であることが好ましい。 When the polymer block (a1) has units derived from other unsaturated monomers in addition to units derived from dienes and/or olefins, the polymer block (a1) contains these monomers is preferably a random copolymer of

重合体ブロック(a2)は、芳香族ビニル単量体由来の単位を有する。重合体ブロック(a2)を形成する芳香族ビニル単量体の説明は、上記の重合体ブロック(a1)の芳香族ビニル単量体に関する説明が参照される。 The polymer block (a2) has units derived from aromatic vinyl monomers. For the description of the aromatic vinyl monomer forming the polymer block (a2), refer to the description of the aromatic vinyl monomer of the polymer block (a1) above.

重合体ブロック(a2)は、芳香族ビニル単量体由来の単位に加え、さらに他の不飽和単量体由来の単位を有していてもよい。他の不飽和単量体は、重合性二重結合を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル;(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル等の不飽和カルボン酸およびそのエステル;ビニルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルメトキシシラン等のビニルシラン等が挙げられる。重合体ブロック(a2)は、これら他の不飽和単量体と芳香族ビニル単量体との共重合体(特にランダム共重合体)であってもよい。なお、重合体ブロック(a2)中のジエンおよび/またはオレフィン由来の単位の含有割合は1質量%以下であることが好ましく、重合体ブロック(a2)は、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位を有しないことが好ましい。 The polymer block (a2) may have units derived from other unsaturated monomers in addition to the units derived from the aromatic vinyl monomer. Other unsaturated monomers are not particularly limited as long as they are compounds having a polymerizable double bond. Examples include vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; (meth)acrylic acid, maleic anhydride, (meth) ) unsaturated carboxylic acids such as methyl acrylate and ethyl (meth)acrylate and their esters; and vinylsilanes such as vinyltrimethoxysilane and γ-(meth)acryloyloxypropylmethoxysilane. The polymer block (a2) may be a copolymer (particularly a random copolymer) of these other unsaturated monomers and aromatic vinyl monomers. The content of diene- and/or olefin-derived units in the polymer block (a2) is preferably 1% by mass or less, and the polymer block (a2) contains diene- and/or olefin-derived units. preferably not.

重合体ブロック(a2)は芳香族ビニル単量体由来の単位を主成分として含むことが好ましい。具体的には、重合体ブロック(a2)中、芳香族ビニル単量体由来の単位の含有割合が70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上がより好ましく、90質量%以上がさらに好ましい。重合体ブロック(a2)は、実質的に芳香族ビニル単量体由来の単位のみから構成されていてもよく、例えば芳香族ビニル単量体由来の単位の含有割合が99質量%以上であってもよい。 The polymer block (a2) preferably contains units derived from an aromatic vinyl monomer as a main component. Specifically, the content of units derived from the aromatic vinyl monomer in the polymer block (a2) is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and further preferably 90% by mass or more. preferable. The polymer block (a2) may be substantially composed only of units derived from aromatic vinyl monomers, for example, the content of units derived from aromatic vinyl monomers is 99% by mass or more. good too.

ポリマー鎖(A)としては、例えば、スチレン-ブタジエンブロック共重合体、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体の水添物(例えば、スチレン-エチレン/ブチレン-スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン-ブタジエン/ブチレン-スチレンブロック共重合体)、スチレン-イソプレンブロック共重合体、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体の水添物(例えば、スチレン-エチレン/プロピレン-スチレンブロック共重合体(SEPS))等が挙げられる。また、これらのブロック共重合体において、ブタジエンブロックがブタジエン/スチレンブロックになったものや、イソプレンブロックがイソプレン/スチレンブロックになったものが挙げられる。なお、前記表記において、各ブロックは「-」で区分され、各ブロック中の「/」の表記は、当該ブロック中を構成する単量体単位を表す。 Examples of the polymer chain (A) include styrene-butadiene block copolymers, styrene-butadiene-styrene block copolymers, hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymers (e.g., styrene-ethylene/butylene- Styrene block copolymer (SEBS), styrene-butadiene/butylene-styrene block copolymer), styrene-isoprene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer hydrogenated products (eg, styrene-ethylene/propylene-styrene block copolymer (SEPS)); Moreover, in these block copolymers, those in which a butadiene block has become a butadiene/styrene block, and those in which an isoprene block has become an isoprene/styrene block can be mentioned. In the notation, each block is separated by "-", and the notation of "/" in each block represents a monomer unit constituting the block.

ポリマー鎖(A)は、重合体ブロック(a1)の両側に重合体ブロック(a2)が結合したものであることが好ましい。これによりポリマー鎖(A)がエラストマーとして機能し、共重合体(P)の機械的強度をより高めることができる。この場合、ポリマー鎖(A)は、トリブロック共重合体であってもよく、マルチブロック共重合体であってもよく、ラジアルブロック共重合体であってもよいが、ポリマー鎖(A)の特性制御が容易であり、また共重合体(P)中へのポリマー鎖(B)の導入が容易な点から、トリブロック共重合体であることが好ましい。このような共重合体としては、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体およびその水添物、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体およびその水添物等が挙げられる。 The polymer chain (A) is preferably a polymer block (a1) having polymer blocks (a2) bound to both sides thereof. Thereby, the polymer chain (A) functions as an elastomer, and the mechanical strength of the copolymer (P) can be further enhanced. In this case, the polymer chain (A) may be a triblock copolymer, a multiblock copolymer, or a radial block copolymer. A triblock copolymer is preferred because it is easy to control properties and easy to introduce the polymer chain (B) into the copolymer (P). Such copolymers include styrene-butadiene-styrene block copolymers and hydrogenated products thereof, styrene-isoprene-styrene block copolymers and hydrogenated products thereof, and the like.

ポリマー鎖(A)中、重合体ブロック(a2)の含有割合は5質量%以上であることが好ましく、7質量%以上がより好ましく、9質量%以上がさらに好ましく、また55質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましく、45質量%以下がさらに好ましい。これにより、ポリマー鎖(A)がソフト成分とハード成分をバランス良く有するものとなり、共重合体(P)の機械的強度を高めることが容易になる。同様の観点から、ポリマー鎖(A)中、重合体ブロック(a1)の含有割合は45質量%以上であることが好ましく、50質量%以上がより好ましく、55質量%以上がさらに好ましく、また95質量%以下が好ましく、93質量%以下がより好ましく、91質量%以下がさらに好ましい。また、ポリマー鎖(A)中、芳香族ビニル単量体由来の単位の含有割合は8質量%以上であることが好ましく、10質量%以上がより好ましく、12質量%以上がさらに好ましく、また60質量%以下が好ましく、55質量%以下がより好ましく、50質量%以下がさらに好ましい。 The content of the polymer block (a2) in the polymer chain (A) is preferably 5% by mass or more, more preferably 7% by mass or more, still more preferably 9% by mass or more, and preferably 55% by mass or less. , is more preferably 50% by mass or less, and even more preferably 45% by mass or less. As a result, the polymer chain (A) has a well-balanced soft component and hard component, which facilitates increasing the mechanical strength of the copolymer (P). From the same viewpoint, the content of the polymer block (a1) in the polymer chain (A) is preferably 45% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, further preferably 55% by mass or more, and 95% by mass or more. % by mass or less is preferable, 93% by mass or less is more preferable, and 91% by mass or less is even more preferable. In the polymer chain (A), the content of units derived from the aromatic vinyl monomer is preferably 8% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, further preferably 12% by mass or more, and 60% by mass or more. % by mass or less is preferable, 55% by mass or less is more preferable, and 50% by mass or less is even more preferable.

ポリマー鎖(A)の重量平均分子量は、0.1万以上が好ましく、0.5万以上がより好ましく、1万以上がさらに好ましく、3万以上がさらにより好ましく、また30万以下が好ましく、25万以下がより好ましく、20万以下がさらに好ましく、15万以下がさらにより好ましい。ポリマー鎖(A)の重量平均分子量をこのような範囲とすることで、共重合体(P)の機械的強度を確保し、共重合体(P)の成形加工性を高めることが容易になる。 The weight average molecular weight of the polymer chain (A) is preferably 10,000 or more, more preferably 50,000 or more, still more preferably 10,000 or more, even more preferably 30,000 or more, and preferably 300,000 or less, 250,000 or less is more preferable, 200,000 or less is still more preferable, and 150,000 or less is even more preferable. By setting the weight average molecular weight of the polymer chain (A) to such a range, it becomes easy to secure the mechanical strength of the copolymer (P) and improve the molding processability of the copolymer (P). .

共重合体(P)に含まれるポリマー鎖(B)について説明する。ポリマー鎖(B)は、(メタ)アクリル系単量体由来の単位を少なくとも有するものである。ポリマー鎖(B)によって共重合体(P)の透明性を高めることができる。 The polymer chain (B) contained in the copolymer (P) will be explained. The polymer chain (B) has at least units derived from (meth)acrylic monomers. The polymer chain (B) can enhance the transparency of the copolymer (P).

ポリマー鎖(B)の(メタ)アクリル系単量体由来の単位(以下、「(メタ)アクリル単位」と称する場合がある)は、(メタ)アクリル系単量体を重合することによりポリマー鎖(B)に導入することができる。(メタ)アクリル系単量体には(メタ)アクリル酸およびその誘導体が含まれ、(メタ)アクリル系単量体のα位またはβ位にはアルキル基(好ましくは、炭素数1~4のアルキル基)が結合していてもよく、当該アルキル基は、水素原子の少なくとも一部が、ヒドロキシル基またはハロゲン基で置換されていてもよい。(メタ)アクリル系単量体由来の単位に含まれるカルボン酸の形態は特に限定されず、遊離酸、エステル、塩、酸アミド等の形態が挙げられる。 The (meth)acrylic monomer-derived units of the polymer chain (B) (hereinafter sometimes referred to as "(meth)acrylic units") are polymerized into the polymer chain by polymerizing the (meth)acrylic monomers. (B) can be introduced. (Meth)acrylic monomers include (meth)acrylic acid and derivatives thereof, and the α- or β-position of the (meth)acrylic monomer is an alkyl group (preferably, a alkyl group) may be bonded, and at least part of the hydrogen atoms of the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group or a halogen group. The form of the carboxylic acid contained in the unit derived from the (meth)acrylic monomer is not particularly limited, and examples thereof include forms such as free acid, ester, salt and acid amide.

ポリマー鎖(B)は、(メタ)アクリル単位として、(メタ)アクリル酸エステル由来の単位を有することが好ましい。(メタ)アクリル酸エステル由来の単位を与える(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸のエステル結合の酸素原子に直鎖状、分岐状または環状の脂肪族炭化水素基や芳香族炭化水素基が結合した(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。 The polymer chain (B) preferably has a (meth)acrylic acid ester-derived unit as the (meth)acrylic unit. (Meth)acrylic acid esters that give units derived from (meth)acrylic acid esters include linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups attached to the oxygen atoms of the ester bonds of (meth)acrylic acid. Examples include (meth)acrylic acid esters with a hydrogen group bonded thereto.

直鎖状または分岐状の脂肪族炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸sec-ブチル、(メタ)アクリル酸tert-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸アミル、(メタ)アクリル酸イソアミル、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸へプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル等の(メタ)アクリル酸アルキルが挙げられる。(メタ)アクリル酸アルキルのアルキル基は、C1-18アルキル基が好ましく、C1-12アルキル基がより好ましく、C1-6アルキル基がさらに好ましい。なお本明細書において、「C1-18」や「C1-12」との記載は、それぞれ「炭素数1~18」、「炭素数1~12」を意味する。 Examples of (meth)acrylic acid esters having a linear or branched aliphatic hydrocarbon group include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, (meth)acryl isopropyl acid, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, sec-butyl (meth)acrylate, tert-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, amyl (meth)acrylate , isoamyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, (meth) ) alkyl (meth)acrylates such as dodecyl acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate, heptadecyl (meth)acrylate and octadecyl (meth)acrylate. The alkyl group of the alkyl (meth)acrylate is preferably a C1-18 alkyl group, more preferably a C1-12 alkyl group, and still more preferably a C1-6 alkyl group. In this specification, the descriptions "C1-18" and "C1-12" mean "1 to 18 carbon atoms" and "1 to 12 carbon atoms", respectively.

環状の脂肪族炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸シクロプロピル、(メタ)アクリル酸シクロブチル、(メタ)アクリル酸シクロペンチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等の(メタ)アクリル酸シクロアルキル;(メタ)アクリル酸イソボルニル等の架橋環式(メタ)アクリレート等が挙げられる。(メタ)アクリル酸シクロアルキルのシクロアルキル基は、C3-20シクロアルキル基が好ましく、C4-12シクロアルキル基がより好ましく、C5-10シクロアルキル基がさらに好ましい。 Examples of (meth)acrylic acid esters having a cyclic aliphatic hydrocarbon group include (meth)acrylates such as cyclopropyl (meth)acrylate, cyclobutyl (meth)acrylate, cyclopentyl (meth)acrylate, and cyclohexyl (meth)acrylate. ) cycloalkyl acrylate; bridged cyclic (meth)acrylates such as isobornyl (meth)acrylate; The cycloalkyl group of cycloalkyl (meth)acrylate is preferably a C3-20 cycloalkyl group, more preferably a C4-12 cycloalkyl group, and still more preferably a C5-10 cycloalkyl group.

芳香族炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸トリル、(メタ)アクリル酸キシリル、(メタ)アクリル酸ナフチル、(メタ)アクリル酸ビナフチル、(メタ)アクリル酸アントリル等の(メタ)アクリル酸アリール;(メタ)アクリル酸ベンジル等の(メタ)アクリル酸アラルキル;(メタ)アクリル酸フェノキシエチル等の(メタ)アクリル酸アリールオキシアルキル等が挙げられる。(メタ)アクリル酸アリールのアリール基は、C6-20アリール基が好ましく、C6-14アリール基がより好ましい。(メタ)アクリル酸アラルキルのアラルキル基は、C6-10アリールC1-4アルキル基が好ましい。(メタ)アクリル酸アリールオキシアルキルのアリールオキシアルキル基は、C6-10アリールオキシC1-4アルキル基が好ましく、フェノキシC1-4アルキル基がより好ましい。 Examples of (meth)acrylic acid esters having an aromatic hydrocarbon group include phenyl (meth)acrylate, tolyl (meth)acrylate, xylyl (meth)acrylate, naphthyl (meth)acrylate, and binaphthyl (meth)acrylate. , aryl (meth)acrylates such as anthryl (meth)acrylate; aralkyl (meth)acrylates such as benzyl (meth)acrylate; aryloxyalkyl (meth)acrylates such as phenoxyethyl (meth)acrylate; mentioned. The aryl group of the aryl (meth)acrylate is preferably a C6-20 aryl group, more preferably a C6-14 aryl group. The aralkyl group of aralkyl (meth)acrylate is preferably a C6-10 aryl C1-4 alkyl group. The aryloxyalkyl group of the aryloxyalkyl (meth)acrylate is preferably a C6-10 aryloxy C1-4 alkyl group, more preferably a phenoxy C1-4 alkyl group.

(メタ)アクリル酸エステルは、ヒドロキシル基、ハロゲン基、アルコキシ基、エポキシ基等の置換基を有していてもよい。このような(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル等の(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル;(メタ)アクリル酸クロロメチル、(メタ)アクリル酸2-クロロエチル等の(メタ)アクリル酸ハロゲン化アルキル;(メタ)アクリル酸2-メトキシエチル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル;(メタ)アクリル酸グリシジル等の(メタ)アクリル酸エポキシアルキル等が挙げられる。(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルと(メタ)アクリル酸エポキシアルキルのアルキル基は、C1-12アルキル基が好ましく、C1-6アルキル基がより好ましい。(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルのアルコキシアルキル基は、C1-12アルコキシC1-12アルキル基が好ましく、当該アルコキシ基はC1-6がより好ましく、当該アルキル基はC1-6がより好ましい。 The (meth)acrylic acid ester may have a substituent such as a hydroxyl group, a halogen group, an alkoxy group and an epoxy group. Such (meth)acrylic acid esters include hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate; chloromethyl (meth)acrylate, 2-chloroethyl (meth)acrylate and the like ( alkoxyalkyl (meth)acrylates such as 2-methoxyethyl (meth)acrylate; epoxyalkyl (meth)acrylates such as glycidyl (meth)acrylate; and the like. The alkyl group of hydroxyalkyl (meth)acrylate and epoxyalkyl (meth)acrylate is preferably a C1-12 alkyl group, more preferably a C1-6 alkyl group. The alkoxyalkyl group of the alkoxyalkyl (meth)acrylate is preferably a C1-12 alkoxy C1-12 alkyl group, more preferably a C1-6 alkoxy group, and more preferably a C1-6 alkyl group.

ポリマー鎖(B)は主鎖に環構造を有することが好ましい。すなわち、ポリマー鎖(B)は、ポリマー鎖(B)の主鎖に環構造を有する単位(以下、「環構造単位」と称する場合がある)を有することが好ましい。ポリマー鎖(B)が主鎖に環構造を有することで、フィルムの透明性や耐熱性を高めることができる。また、耐溶剤性、寸法安定性、表面硬度、接着性、酸素や水蒸気のバリヤ性、各種の光学特性の向上も期待できる。さらに延伸フィルムとした場合は、延伸条件に応じて、ポリマー鎖(B)の環構造に由来して位相差を発現させることも可能となる。 The polymer chain (B) preferably has a ring structure in its main chain. That is, the polymer chain (B) preferably has a unit having a ring structure (hereinafter sometimes referred to as a "ring structure unit") in the main chain of the polymer chain (B). Having a ring structure in the main chain of the polymer chain (B) can improve the transparency and heat resistance of the film. Improvements in solvent resistance, dimensional stability, surface hardness, adhesiveness, barrier properties against oxygen and water vapor, and various optical properties can also be expected. Further, in the case of a stretched film, depending on the stretching conditions, it is also possible to develop a retardation derived from the ring structure of the polymer chain (B).

ポリマー鎖(B)の主鎖の環構造は、(メタ)アクリル系単量体の一部または全部を環構造内に含んでいてもよく、(メタ)アクリル系単量体とは別に導入された環構造であってもよい。(メタ)アクリル系単量体の一部または全部を環構造内に含ませる場合には、例えば、隣接する(メタ)アクリル系単量体由来の単位の2個のカルボン酸基を酸無水物化、イミド化などによって連結すればよい。また隣接する(メタ)アクリル系単量体由来の単位のうち一方がヒドロキシル基やアミノ基などのプロトン性水素原子含有基を有する場合には、この一方の(メタ)アクリル系単量体由来の単位のプロトン性水素原子含有基と他方の(メタ)アクリル系単量体由来の単位のカルボン酸基とが縮合することでも、環構造を形成できる。環構造を(メタ)アクリル系単量体由来の単位とは別に導入する場合は、例えば、(メタ)アクリル系単量体と、環構造内に重合性二重結合を有する単量体とを共重合すればよい。 The ring structure of the main chain of the polymer chain (B) may contain part or all of the (meth)acrylic monomer in the ring structure, and is introduced separately from the (meth)acrylic monomer. may be a ring structure. When part or all of the (meth)acrylic monomer is included in the ring structure, for example, two carboxylic acid groups of adjacent (meth)acrylic monomer-derived units are anhydrided , imidization or the like. In addition, when one of the adjacent (meth)acrylic monomer-derived units has a protic hydrogen atom-containing group such as a hydroxyl group or an amino group, this one (meth)acrylic monomer-derived unit A ring structure can also be formed by condensing the protic hydrogen atom-containing group of the unit with the carboxylic acid group of the other (meth)acrylic monomer-derived unit. When introducing a ring structure separately from a unit derived from a (meth)acrylic monomer, for example, a (meth)acrylic monomer and a monomer having a polymerizable double bond in the ring structure Copolymerization is sufficient.

環構造は、4員環構造、5員環構造、6員環構造、7員環構造、8員環構造等のいずれでもよく、好ましくは5員環構造または6員環構造である。 The ring structure may be any of a 4-membered ring structure, a 5-membered ring structure, a 6-membered ring structure, a 7-membered ring structure, an 8-membered ring structure, etc., preferably a 5-membered ring structure or a 6-membered ring structure.

環構造としては、共重合体(P)の耐熱性の観点から、ラクトン環構造、環状イミド構造(例えば、スクシンイミド構造、グルタルイミド構造等)、環状無水物構造(例えば、無水コハク酸構造、無水グルタル酸構造等)等が好ましく挙げられる。これらの環構造は、ポリマー鎖(B)の主鎖に1種のみ含まれていてもよく、2種以上含まれていてもよい。これらの中でも、ラクトン環構造、スクシンイミド構造、無水コハク酸構造、グルタルイミド構造、および無水グルタル酸構造から選ばれる少なくとも1種が好ましい。 As the ring structure, from the viewpoint of heat resistance of the copolymer (P), a lactone ring structure, a cyclic imide structure (e.g., succinimide structure, glutarimide structure, etc.), a cyclic anhydride structure (e.g., succinic anhydride structure, anhydride glutaric acid structure, etc.) are preferred. One type of these ring structures may be contained in the main chain of the polymer chain (B), or two or more types thereof may be contained. Among these, at least one selected from a lactone ring structure, a succinimide structure, a succinic anhydride structure, a glutarimide structure, and a glutaric anhydride structure is preferred.

ポリマー鎖(B)が主鎖の環構造としてラクトン環構造を有する場合、ラクトン環構造の環員数は特に限定されず、例えば4員環から8員環のいずれかであればよい。なお、環構造の安定性に優れる点から、ラクトン環構造は5員環または6員環であることが好ましく、6員環であることがより好ましい。 When the polymer chain (B) has a lactone ring structure as the ring structure of the main chain, the number of ring members of the lactone ring structure is not particularly limited, and may be, for example, a 4-membered ring to an 8-membered ring. From the viewpoint of excellent stability of the ring structure, the lactone ring structure is preferably a 5- or 6-membered ring, more preferably a 6-membered ring.

ラクトン環構造としては、例えば特開2004-168882号公報に開示される構造等が挙げられるが、ラクトン環構造の導入が容易であること、具体的には、前駆体(ラクトン環化前の重合体)の重合収率が高いこと、前駆体の環化縮合反応におけるラクトン環含有率を高めることができること、(メタ)アクリレート由来の単位を有する重合体を前駆体にできることなどの理由から、下記式(1)で表される構造が好ましく示される。下記式(1)において、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。 Examples of the lactone ring structure include structures disclosed in JP-A-2004-168882. coalescence), the lactone ring content in the cyclization condensation reaction of the precursor can be increased, and a polymer having a (meth)acrylate-derived unit can be used as a precursor. A structure represented by formula (1) is preferably shown. In formula (1) below, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.

Figure 0007211726000001
Figure 0007211726000001

式(1)のR1、R2およびR3の置換基としては、炭化水素基等の有機残基が挙げられ、例えば、置換基を有していてもよいC1-20の炭化水素基等が挙げられる。当該炭化水素基としては、飽和または不飽和の直鎖状、分岐状または環状の脂肪族炭化水素基や芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基等のC1-20アルキル基(好ましくはC1-10のアルキル基であり、より好ましくはC1-6のアルキル基);エテニル基、プロペニル基等のC2-20アルケニル基(好ましくはC2-10のアルケニル基であり、より好ましくはC2-6のアルケニル基);シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のC3-20シクロアルキル基(好ましくはC4-12のシクロアルキル基であり、より好ましくはC5-8のシクロアルキル基)等が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のC6-20アリール基(好ましくはC6-14のアリール基であり、より好ましくはC6-10のアリール基);ベンジル基、フェニルエチル基等のC7-20アラルキル基(好ましくはC7-15のアラルキル基であり、より好ましくはC7-11のアラルキル基)等が挙げられる。これらの炭化水素基は酸素原子やハロゲン原子を含んでいてもよく、具体的には、炭化水素基の有する水素原子の1つ以上が、ヒドロキシル基、カルボキシル基、エーテル基およびエステル基から選ばれる少なくとも1種類の基により置換されていてもよい。 Examples of substituents for R 1 , R 2 and R 3 in formula (1) include organic residues such as hydrocarbon groups, such as C1-20 hydrocarbon groups optionally having substituents. is mentioned. Examples of the hydrocarbon group include saturated or unsaturated linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups. Examples of aliphatic hydrocarbon groups include C1-20 alkyl groups (preferably C1-10 alkyl groups, more preferably C1-6 alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group and isopropyl group). group); C2-20 alkenyl groups (preferably C2-10 alkenyl groups, more preferably C2-6 alkenyl groups) such as ethenyl group and propenyl group; C3-20 cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group groups (preferably C4-12 cycloalkyl groups, more preferably C5-8 cycloalkyl groups), and the like. Examples of the aromatic hydrocarbon group include C6-20 aryl groups (preferably C6-14 aryl groups, more preferably C6-10 aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl, naphthyl, and biphenyl groups). aryl group); C7-20 aralkyl groups (preferably C7-15 aralkyl groups, more preferably C7-11 aralkyl groups) such as benzyl group and phenylethyl group; These hydrocarbon groups may contain an oxygen atom or a halogen atom, and specifically, one or more of the hydrogen atoms possessed by the hydrocarbon groups are selected from hydroxyl groups, carboxyl groups, ether groups and ester groups. It may be substituted with at least one group.

ラクトン環構造は、例えば、隣接する(メタ)アクリル酸エステル由来の単位のエステル基と、ヒドロキシル基やアミノ基などのプロトン性水素原子含有基を有する(メタ)アクリル系単量体由来の単位のプロトン性水素原子含有基とを環化縮合することにより、ポリマー鎖(B)に導入することができる。 The lactone ring structure is, for example, an ester group of an adjacent (meth)acrylic acid ester-derived unit and a (meth)acrylic monomer-derived unit having a protic hydrogen atom-containing group such as a hydroxyl group or an amino group. It can be introduced into the polymer chain (B) by cyclic condensation with a protic hydrogen atom-containing group.

式(1)のラクトン環構造において、耐熱性に優れ、複屈折率が小さい共重合体(P)を得ることが容易な点から、R1およびR2はそれぞれ独立して水素原子またはC1-20アルキル基であり、R3は水素原子またはメチル基であることが好ましく、R1およびR2はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基であり、R3は水素原子またはメチル基であることがより好ましい。 In the lactone ring structure of formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or C1- 20 alkyl group , R3 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, R1 and R2 are each independently a hydrogen atom or a methyl group , and R3 is a hydrogen atom or a methyl group. more preferred.

ラクトン環構造は、例えば、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル系単量体Aと、(メタ)アクリル系単量体Bとを重合(好ましくは共重合)して分子鎖にヒドロキシ基とエステル基またはカルボキシル基とを導入した後、これらヒドロキシ基とエステル基またはカルボキシル基との間で脱アルコールまたは脱水環化縮合を生じさせることにより形成できる。重合成分として、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル系単量体Aは必須であり、(メタ)アクリル系単量体Bは前記単量体Aを包含する。単量体Bは単量体Aと一致していてもよいし、一致しなくてもよい。単量体Bが単量体Aと一致するときには、単量体Aの単独重合となる。 The lactone ring structure is obtained, for example, by polymerizing (preferably copolymerizing) a (meth)acrylic monomer A having a hydroxy group and a (meth)acrylic monomer B to form a hydroxy group and an ester group in the molecular chain. Alternatively, it can be formed by introducing a carboxyl group and then causing dealcoholization or dehydration cyclocondensation between the hydroxy group and an ester group or a carboxyl group. As a polymerizable component, a (meth)acrylic monomer A having a hydroxy group is essential, and a (meth)acrylic monomer B includes the monomer A described above. Monomer B may or may not be identical to monomer A. When monomer B matches monomer A, it results in homopolymerization of monomer A.

ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル系単量体Aとしては、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸、2-(ヒドロキシエチル)アクリル酸、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキル(例えば、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸イソプロピル、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸n-ブチル、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸t-ブチル)、2-(ヒドロキシエチル)アクリル酸アルキル(例えば、2-(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチル、2-(ヒドロキシエチル)アクリル酸エチル)等が挙げられ、好ましくは、ヒドロキシアリル部位を有する単量体である2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸や2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキルが挙げられる。特に好ましくは2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチルが示される。 Examples of the (meth)acrylic monomer A having a hydroxy group include 2-(hydroxymethyl)acrylic acid, 2-(hydroxyethyl)acrylic acid, alkyl 2-(hydroxymethyl)acrylate (e.g., 2-(hydroxy methyl)methyl acrylate, 2-(hydroxymethyl)ethyl acrylate, 2-(hydroxymethyl)isopropyl acrylate, 2-(hydroxymethyl)n-butyl acrylate, 2-(hydroxymethyl)t-butyl acrylate) , 2-(hydroxyethyl)alkyl acrylate (e.g., methyl 2-(hydroxyethyl)acrylate, ethyl 2-(hydroxyethyl)acrylate), etc., preferably a monomer having a hydroxyallyl moiety 2-(hydroxymethyl)acrylic acid and alkyl 2-(hydroxymethyl)acrylates. Particularly preferred are methyl 2-(hydroxymethyl)acrylate and ethyl 2-(hydroxymethyl)acrylate.

(メタ)アクリル系単量体Bとしては、ビニル基とエステル基またはカルボキシル基とを有する単量体が好ましく、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸アルキル(例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等)、(メタ)アクリル酸アリール(例えば、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル等)、2-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸アルキル(例えば、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル等の2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキル、2-(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチル等の2-(ヒドロキシエチル)アクリル酸アルキル)等が挙げられる。 As the (meth)acrylic monomer B, a monomer having a vinyl group and an ester group or a carboxyl group is preferable. methyl acid, ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, etc.), aryl (meth)acrylate (e.g., phenyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, etc.), alkyl 2-(hydroxyalkyl)acrylates (e.g., methyl 2-(hydroxymethyl)acrylate, ethyl 2-(hydroxymethyl)acrylate) 2-(hydroxymethyl)alkyl acrylate such as, 2-(hydroxyethyl)alkyl acrylate such as methyl 2-(hydroxyethyl)acrylate), and the like.

ポリマー鎖(B)は、式(1)で表されるラクトン環構造を1種のみ有していてもよく、2種以上有していてもよい。 The polymer chain (B) may have only one type of lactone ring structure represented by formula (1), or may have two or more types.

ポリマー鎖(B)が主鎖の環構造として無水コハク酸構造(すなわち無水マレイン酸単量体に由来する構造)またはスクシンイミド構造(すなわちマレイミド単量体に由来する構造)を有する場合、無水コハク酸構造またはスクシンイミド構造としては、下記式(2)で表される構造が好ましく示される。下記式(2)において、R4およびR5は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、R6は水素原子または置換基を表し、X1は酸素原子または窒素原子を表し、X1が酸素原子のときn1=0であり、X1が窒素原子のときn1=1である。 When the polymer chain (B) has a succinic anhydride structure (that is, a structure derived from a maleic anhydride monomer) or a succinimide structure (that is, a structure derived from a maleimide monomer) as the ring structure of the main chain, succinic anhydride As the structure or succinimide structure, the structure represented by the following formula (2) is preferably shown. In the following formula (2), R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 6 represents a hydrogen atom or a substituent, X 1 represents an oxygen atom or a nitrogen atom, and X 1 is an oxygen atom, n1=0, and when X1 is a nitrogen atom, n1= 1 .

Figure 0007211726000002
Figure 0007211726000002

式(2)のR6の置換基としては、炭化水素基等の有機残基が挙げられ、例えば、置換基を有していてもよいC1-20の炭化水素基が挙げられる。当該炭化水素基としては、飽和または不飽和の直鎖状、分岐状または環状の脂肪族炭化水素基や芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基等のC1-20アルキル基(好ましくはC1-10のアルキル基であり、より好ましくはC1-6のアルキル基);エテニル基、プロペニル基等のC2-20アルケニル基(好ましくはC2-10のアルケニル基であり、より好ましくはC2-6のアルケニル基);シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のC3-20シクロアルキル基(好ましくはC4-12のシクロアルキル基であり、より好ましくはC5-8のシクロアルキル基)等が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のC6-20アリール基(好ましくはC6-14のアリール基であり、より好ましくはC6-10のアリール基);ベンジル基、フェニルエチル基等のC7-20アラルキル基(好ましくはC7-15のアラルキル基であり、より好ましくはC7-11のアラルキル基)等が挙げられる。これらの炭化水素基は、ハロゲン等の置換基を有していてもよい。 Examples of the substituent for R 6 in formula (2) include organic residues such as hydrocarbon groups, such as C1-20 hydrocarbon groups optionally having substituents. Examples of the hydrocarbon group include saturated or unsaturated linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups. Examples of aliphatic hydrocarbon groups include C1-20 alkyl groups (preferably C1-10 alkyl groups, more preferably C1-6 alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group and isopropyl group). group); C2-20 alkenyl groups (preferably C2-10 alkenyl groups, more preferably C2-6 alkenyl groups) such as ethenyl group and propenyl group; C3-20 cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group groups (preferably C4-12 cycloalkyl groups, more preferably C5-8 cycloalkyl groups), and the like. Examples of the aromatic hydrocarbon group include C6-20 aryl groups (preferably C6-14 aryl groups, more preferably C6-10 aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl, naphthyl, and biphenyl groups). aryl group); C7-20 aralkyl groups (preferably C7-15 aralkyl groups, more preferably C7-11 aralkyl groups) such as benzyl group and phenylethyl group; These hydrocarbon groups may have a substituent such as halogen.

1が酸素原子のとき、式(2)により示される環構造は無水コハク酸構造となる。無水コハク酸構造は、例えば、無水マレイン酸と(メタ)アクリル系単量体(例えば、(メタ)アクリル酸エステル等)とを共重合することによって、ポリマー鎖(B)に導入することができる。 When X 1 is an oxygen atom, the ring structure represented by formula (2) is a succinic anhydride structure. A succinic anhydride structure can be introduced into the polymer chain (B) by, for example, copolymerizing maleic anhydride and a (meth)acrylic monomer (e.g., (meth)acrylic acid ester, etc.). .

1が窒素原子のとき、式(2)により示される環構造はスクシンイミド構造となる。スクシンイミド構造は、例えば、マレイミドと(メタ)アクリル系単量体(例えば、(メタ)アクリル酸エステル)とを共重合することによって、ポリマー鎖(B)に導入することができる。スクシンイミド構造としては、例えば、N位が無置換のスクシンイミド構造、N-メチルスクシンイミド構造、N-エチルスクシンイミド構造、N-シクロヘキシルスクシンイミド構造、N-フェニルスクシンイミド構造、N-ナフチルスクシンイミド構造、N-ベンジルスクシンイミド構造等が挙げられる。また、スクシンイミド構造を与えるマレイミドとしては、N位が無置換のマレイミド、N-メチルマレイミド、N-エチルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-ナフチルマレイミド、N-ベンジルマレイミド等を用いることができる。 When X 1 is a nitrogen atom, the ring structure represented by formula (2) is a succinimide structure. A succinimide structure can be introduced into the polymer chain (B), for example, by copolymerizing maleimide and a (meth)acrylic monomer (eg, (meth)acrylate). The succinimide structure includes, for example, a succinimide structure in which the N-position is unsubstituted, an N-methylsuccinimide structure, an N-ethylsuccinimide structure, an N-cyclohexylsuccinimide structure, an N-phenylsuccinimide structure, an N-naphthylsuccinimide structure, and an N-benzylsuccinimide structure. structure and the like. As the maleimide giving a succinimide structure, N-unsubstituted maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-naphthylmaleimide, N-benzylmaleimide and the like are used. be able to.

ポリマー鎖(B)がX1が窒素原子であるスクシンイミド構造を有する場合、耐熱性に優れ、複屈折率が小さい共重合体(P)を得ることが容易な点から、R4およびR5は水素原子であり、R6はC3-20シクロアルキル基またはC6-20芳香族基(アリール基、アラルキル基等)であることが好ましく、R4およびR5は水素原子であり、R6はシクロヘキシル基またはフェニル基であることがより好ましい。 When the polymer chain ( B) has a succinimide structure in which X 1 is a nitrogen atom, it is easy to obtain a copolymer (P) having excellent heat resistance and a small birefringence. is a hydrogen atom, R 6 is preferably a C3-20 cycloalkyl group or a C6-20 aromatic group (aryl group, aralkyl group, etc.), R 4 and R 5 are hydrogen atoms, and R 6 is cyclohexyl more preferably a group or a phenyl group.

ポリマー鎖(B)は、式(2)で表される環構造を1種のみ有していてもよく、2種以上有していてもよい。 The polymer chain (B) may have only one type of ring structure represented by formula (2), or may have two or more types.

ポリマー鎖(B)が主鎖の環構造としてグルタルイミド構造または無水グルタル酸構造を有する場合、グルタルイミド構造または無水グルタル酸構造としては、下記式(3)で表される構造が好ましく示される。下記式(3)において、R7およびR8は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、R9は水素原子または置換基を表し、X2は酸素原子または窒素原子を表し、X2が酸素原子のときn2=0であり、X2が窒素原子のときn2=1である。 When the polymer chain (B) has a glutarimide structure or glutaric anhydride structure as the ring structure of the main chain, the glutarimide structure or glutaric anhydride structure is preferably represented by the following formula (3). In the following formula (3), R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 9 represents a hydrogen atom or a substituent, X 2 represents an oxygen atom or a nitrogen atom, and X 2 is an oxygen atom, n2= 0 , and when X2 is a nitrogen atom, n2=1.

Figure 0007211726000003
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式(3)中、R7およびR8のアルキル基としては、直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましく挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、n-ヘキシル基、イソへキシル基、n-ヘプチル基、イソヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基等のC1-8アルキル基等が挙げられる。なお、耐熱性に優れ、複屈折率が小さい共重合体(P)を得ることが容易な点から、R7およびR8は、それぞれ独立して水素原子またはC1-4アルキル基が好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましい。 In formula (3), the alkyl group for R 7 and R 8 is preferably a linear or branched alkyl group, such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl C1-8 group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n-heptyl group, isoheptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, etc. An alkyl group and the like can be mentioned. From the viewpoint of facilitating the production of a copolymer (P) having excellent heat resistance and a small birefringence index, each of R 7 and R 8 is preferably independently a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group. Atoms or methyl groups are more preferred.

式(3)のR9の置換基としては、炭化水素基等の有機残基が挙げられ、例えば、置換基を有していてもよいC1-20の炭化水素基が挙げられる。当該炭化水素基としては、飽和または不飽和の直鎖状、分岐状または環状の脂肪族炭化水素基や芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基等のC1-20アルキル基(好ましくはC1-10のアルキル基であり、より好ましくはC1-6のアルキル基);エテニル基、プロペニル基等のC2-20アルケニル基(好ましくはC2-10のアルケニル基であり、より好ましくはC2-6のアルケニル基);シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のC3-20シクロアルキル基(好ましくはC4-12のシクロアルキル基であり、より好ましくはC5-8のシクロアルキル基)等が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のC6-20アリール基(好ましくはC6-14のアリール基であり、より好ましくはC6-10のアリール基);ベンジル基、フェニルエチル基等のC7-20アラルキル基(好ましくはC7-15のアラルキル基であり、より好ましくはC7-11のアラルキル基)等が挙げられる。これらの炭化水素基は、ハロゲン等の置換基を有していてもよい。これらの中でも、耐熱性に優れ、複屈折率が小さい共重合体(P)を得ることが容易な点から、R9は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはアラルキル基であることが好ましく、メチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、またはトリル基がより好ましい。 Examples of the substituent for R 9 in formula (3) include organic residues such as hydrocarbon groups, such as C1-20 hydrocarbon groups optionally having substituents. Examples of the hydrocarbon group include saturated or unsaturated linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups. Examples of aliphatic hydrocarbon groups include C1-20 alkyl groups (preferably C1-10 alkyl groups, more preferably C1-6 alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group and isopropyl group). group); C2-20 alkenyl groups (preferably C2-10 alkenyl groups, more preferably C2-6 alkenyl groups) such as ethenyl group and propenyl group; C3-20 cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group groups (preferably C4-12 cycloalkyl groups, more preferably C5-8 cycloalkyl groups), and the like. Examples of the aromatic hydrocarbon group include C6-20 aryl groups (preferably C6-14 aryl groups, more preferably C6-10 aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl, naphthyl, and biphenyl groups). aryl group); C7-20 aralkyl groups (preferably C7-15 aralkyl groups, more preferably C7-11 aralkyl groups) such as benzyl group and phenylethyl group; These hydrocarbon groups may have a substituent such as halogen. Among these, R 9 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group because it is easy to obtain a copolymer (P) having excellent heat resistance and a small birefringence. A methyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, or a tolyl group is more preferred.

2が酸素原子のとき、式(3)により示される環構造は無水グルタル酸構造となる。無水グルタル酸構造は、例えば、隣接する(メタ)アクリル系単量体由来の単位の2個のカルボン酸基を酸無水物化することにより、ポリマー鎖(B)に導入することができる。 When X 2 is an oxygen atom, the ring structure represented by formula (3) is a glutaric anhydride structure. The glutaric anhydride structure can be introduced into the polymer chain (B) by, for example, anhydrideizing two carboxylic acid groups of adjacent (meth)acrylic monomer-derived units.

2が窒素原子のとき、式(3)により示される環構造はグルタルイミド構造となる。グルタルイミド構造は、例えば、隣接する(メタ)アクリル系単量体由来の単位の2個のカルボン酸基をイミド化したり、隣接する(メタ)アクリル酸アミド由来の単位のアミド基と(メタ)アクリル酸エステル由来の単位のエステル基とを環化縮合することにより、ポリマー鎖(B)に導入することができる。 When X 2 is a nitrogen atom, the ring structure represented by formula (3) is a glutarimide structure. The glutarimide structure, for example, imidizes two carboxylic acid groups of adjacent (meth)acrylic monomer-derived units, or amide groups and (meth) It can be introduced into the polymer chain (B) by cyclic condensation with an ester group of a unit derived from an acrylic acid ester.

式(3)の環構造において、X2が窒素原子であるグルタルイミド構造を有する場合、耐熱性に優れ、複屈折率が小さい共重合体(P)を得ることが容易な点から、R7およびR8はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基であり、R9は、メチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、またはトリル基であることがさらに好ましく、R7およびR8はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基であり、R9はシクロヘキシル基またはフェニル基であることが特に好ましい。 When the ring structure of formula (3) has a glutarimide structure in which X 2 is a nitrogen atom, it is easy to obtain a copolymer (P) having excellent heat resistance and a small birefringence. and R 8 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, R 9 is more preferably a methyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, or a tolyl group, and R 7 and R 8 are each independently hydrogen It is particularly preferred that R 9 is an atom or a methyl group and that R 9 is a cyclohexyl group or a phenyl group.

ポリマー鎖(B)は、式(3)で表される環構造を1種のみ有していてもよく、2種以上有していてもよい。 The polymer chain (B) may have only one type of ring structure represented by formula (3), or may have two or more types.

上記に説明した環構造のうち、フィルムに良好な表面硬度、耐溶剤性、接着性、バリヤ特性、光学特性が付与される観点から、ポリマー鎖(B)の環構造単位は、ラクトン環構造および/またはスクシンイミド構造(マレイミド単量体由来の構造)を含むことが好ましい。本発明のフィルムを位相差フィルムに適用するような場合は、延伸条件に応じて正の位相差を付与でき、位相差特性の安定性が優れる観点から、ポリマー鎖(B)の環構造単位はラクトン環構造を含むことがより好ましい。 Among the cyclic structures described above, the cyclic structural units of the polymer chain (B) are lactone ring structures and / Or it preferably contains a succinimide structure (a structure derived from a maleimide monomer). When the film of the present invention is applied to a retardation film, a positive retardation can be imparted depending on the stretching conditions, and from the viewpoint of excellent stability of retardation properties, the ring structural unit of the polymer chain (B) is More preferably, it contains a lactone ring structure.

ポリマー鎖(B)中の環構造単位の含有割合は特に限定されないが、ポリマー鎖(B)中、環構造単位の含有割合は3質量%以上が好ましく、4質量%以上がより好ましく、5質量%以上がさらに好ましく、また50質量%以下が好ましく、45質量%以下がより好ましく、40質量%以下がさらに好ましい。このように環構造単位の含有割合を調整することにより、フィルムに耐熱性と機械的強度の両方をバランス良く付与することができる。フィルムにより高い耐熱性や機械的強度を付与する場合は、ポリマー鎖(B)中の構造単位の含有割合を10質量%以上、15質量%以上、20質量%以上、あるいは25質量%以上とすることもできる。なお、ここで説明した環構造単位の含有割合は、ポリマー鎖(B)の主鎖に含まれる環構造を有する単位の含有率を意味し、例えば上記式(1)~(3)で表される構造の含有割合を意味する。 The content of the cyclic structural unit in the polymer chain (B) is not particularly limited, but the content of the cyclic structural unit in the polymer chain (B) is preferably 3% by mass or more, more preferably 4% by mass or more, and 5% by mass. % or more, preferably 50% by mass or less, more preferably 45% by mass or less, and even more preferably 40% by mass or less. By adjusting the content of the ring structural unit in this manner, both heat resistance and mechanical strength can be imparted to the film in a well-balanced manner. When imparting higher heat resistance and mechanical strength to the film, the content of the structural unit in the polymer chain (B) is 10% by mass or more, 15% by mass or more, 20% by mass or more, or 25% by mass or more. can also The content ratio of the cyclic structural unit described here means the content ratio of units having a cyclic structure contained in the main chain of the polymer chain (B), and is represented by the above formulas (1) to (3), for example. means the content ratio of the structure

ポリマー鎖(B)は、さらに他の不飽和単量体由来の単位を有していてもよい。他の不飽和単量体は、重合性二重結合を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル;スチレン、ビニルトルエン、メトキシスチレン、α-メチルスチレン、2-ビニルピリジン等の芳香族ビニル化合物;ビニルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルメトキシシラン等のビニルシラン等が挙げられる。例えば、ポリマー鎖(B)が芳香族ビニル単量体由来の単位を有していれば、共重合体(P)の屈折率や位相差特性を調整することが容易になる。芳香族ビニル単量体の詳細は、ポリマー鎖(A)の芳香族ビニル単量体の説明が参照される。なお、ポリマー鎖(B)が2種以上の単量体成分から形成されるものである場合、ポリマー鎖(B)はランダム共重合体であることが好ましい。 The polymer chain (B) may further have units derived from other unsaturated monomers. Other unsaturated monomers are not particularly limited as long as they are compounds having a polymerizable double bond. Examples include vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; styrene, vinyl toluene, methoxystyrene, α-methylstyrene. , 2-vinylpyridine; and vinylsilanes such as vinyltrimethoxysilane and γ-(meth)acryloyloxypropylmethoxysilane. For example, if the polymer chain (B) has an aromatic vinyl monomer-derived unit, it becomes easy to adjust the refractive index and retardation properties of the copolymer (P). For details of the aromatic vinyl monomer, refer to the description of the aromatic vinyl monomer of the polymer chain (A). In addition, when the polymer chain (B) is formed from two or more monomer components, the polymer chain (B) is preferably a random copolymer.

ポリマー鎖(B)は、(メタ)アクリル単位と環構造単位の合計含有割合が、85質量%以上が好ましく、88質量%以上がより好ましく、90質量%以上がさらに好ましい。これにより、共重合体(P)の透明性や耐熱性を高めることが容易になる。また、(メタ)アクリル酸エステル由来の単位と環構造単位の合計含有割合がこのような範囲にあることが好ましい。 The total content of (meth)acrylic units and ring structural units in the polymer chain (B) is preferably 85% by mass or more, more preferably 88% by mass or more, and even more preferably 90% by mass or more. This facilitates enhancing the transparency and heat resistance of the copolymer (P). Moreover, it is preferable that the total content ratio of the (meth)acrylic acid ester-derived unit and the ring structural unit is within such a range.

ポリマー鎖(B)はポリマー鎖(A)にグラフトしていることが好ましい。従って、共重合体(P)はポリマー鎖(B)をグラフト鎖として有するグラフト共重合体であることが好ましい。なお、国際純正応用化学連合(IUPAC)高分子命名法委員会による高分子科学の基本的術語の用語集によると、グラフト高分子とは、「ある高分子中に側鎖として主鎖に結合した1種または数種のブロックがあり、しかもこれらの側鎖が主鎖とは異なる構成(化学構造)上または配置上の特徴をもつ場合、この高分子をグラフト高分子という。」と説明されている。グラフト共重合体は、連鎖移動反応法、高分子開始剤法、カップリング法、マクロモノマー法、表面グラフト法等の公知の製造方法により得ることができ、これらの方法から1つのみを採用してもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。これらの方法の詳細は、日本化学会編、化学便覧(応用化学編)第6版を参考にできる。 The polymer chain (B) is preferably grafted onto the polymer chain (A). Therefore, the copolymer (P) is preferably a graft copolymer having the polymer chain (B) as a graft chain. According to the glossary of basic terms in polymer science by the International Union of Pure and Applied Chemistry (IUPAC) Committee on Polymer Nomenclature, a graft polymer is defined as "a If there is one or several blocks and these side chains have structural (chemical structure) or configurational features different from the main chain, the polymer is called a graft polymer.” there is The graft copolymer can be obtained by known production methods such as chain transfer reaction method, polymer initiator method, coupling method, macromonomer method and surface graft method, and only one of these methods is adopted. may be used, or a plurality of them may be used in combination. For details of these methods, reference can be made to Kagaku Binran (Applied Chemistry), 6th edition, edited by the Chemical Society of Japan.

共重合体(P)は、ポリマー鎖(A)に、ポリマー鎖(B)を形成する単量体成分を付加重合することにより製造することが簡便である。従って、共重合体(P)は、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位を有する重合体ブロック(a1)と芳香族ビニル単量体由来の単位を有する重合体ブロック(a2)を有する共重合体(以下、「原料共重合体(P1)」と称する)の存在下で、(メタ)アクリル系単量体を含む単量体成分を重合することによって得られるものが好ましい。なお本明細書において、「原料共重合体(P1)」を単に「共重合体(P1)」と称する場合がある。原料共重合体(P1)の詳細は、上記のポリマー鎖(A)の説明が参照される。 The copolymer (P) is conveniently produced by addition-polymerizing the polymer chain (A) with a monomer component forming the polymer chain (B). Therefore, the copolymer (P) is a copolymer ( Hereinafter, it is preferably obtained by polymerizing a monomer component containing a (meth)acrylic monomer in the presence of a "raw material copolymer (P1)"). In this specification, the "raw material copolymer (P1)" may be simply referred to as "copolymer (P1)". For the details of the starting copolymer (P1), refer to the description of the polymer chain (A) above.

共重合体(P)は、ポリマー鎖(B)が、ポリマー鎖(A)の重合体ブロック(a1)にグラフトしていることが好ましい。詳細には、ポリマー鎖(B)は、重合体ブロック(a1)のジエンおよび/またはオレフィン由来の単位に結合していることが好ましい。この場合、ポリマー鎖(B)は、ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位の主鎖の炭素原子に結合していてもよく、当該主鎖に置換基(側鎖)として結合した炭化水素基の炭素原子に結合していてもよい。ポリマー鎖(B)は、例えば、共重合体ブロック(a1)の主鎖のジエン由来の二重結合に結合してもよく、当該二重結合の隣接炭素原子に結合してもよい。あるいは、ポリマー鎖(B)は、共重合体ブロック(a1)の主鎖に置換基(側鎖)として結合したジエン由来の二重結合に結合したり、当該二重結合の隣接炭素原子に結合していてもよい。 In the copolymer (P), the polymer chain (B) is preferably grafted onto the polymer block (a1) of the polymer chain (A). Specifically, the polymer chain (B) preferably bonds to the diene- and/or olefin-derived units of the polymer block (a1). In this case, the polymer chain (B) may be bonded to the carbon atoms of the main chain of the diene- and/or olefin-derived units, and the carbon atoms of the hydrocarbon groups bonded to the main chain as substituents (side chains). It may be attached to an atom. The polymer chain (B) may be bonded, for example, to a diene-derived double bond in the main chain of the copolymer block (a1), or may be bonded to a carbon atom adjacent to the double bond. Alternatively, the polymer chain (B) is bonded to a diene-derived double bond bonded as a substituent (side chain) to the main chain of the copolymer block (a1), or bonded to the carbon atom adjacent to the double bond. You may have

原料共重合体(P1)としては、オレフィン性二重結合量が0.030mmol/g以上2.3mmol/g以下であるものを用いることが好ましい。オレフィン性二重結合量が0.030mmol/g以上の原料共重合体(P1)を用いることにより、透明性が高い共重合体(P)を得やすくなる。一方、オレフィン性二重結合量が2.3mmol/g以下の原料共重合体(P1)を用いることにより、ゲル化物の発生が少ない共重合体(P)を得やすくなる。共重合体(P1)のオレフィン性二重結合量は、0.040mmol/g以上がより好ましく、0.050mmol/g以上がさらに好ましく、また2.0mmol/g以下がより好ましい。共重合体(P1)のオレフィン性二重結合量はヨウ素滴定法により求めることができる。 As the starting copolymer (P1), it is preferable to use one having an olefinic double bond content of 0.030 mmol/g or more and 2.3 mmol/g or less. By using the starting copolymer (P1) having an olefinic double bond content of 0.030 mmol/g or more, it becomes easier to obtain the copolymer (P) with high transparency. On the other hand, by using the starting copolymer (P1) having an olefinic double bond content of 2.3 mmol/g or less, it becomes easier to obtain the copolymer (P) with less occurrence of gelation. The olefinic double bond content of the copolymer (P1) is more preferably 0.040 mmol/g or more, still more preferably 0.050 mmol/g or more, and more preferably 2.0 mmol/g or less. The olefinic double bond content of the copolymer (P1) can be determined by an iodine titration method.

共重合体(P)は、原料共重合体(P1)の存在下で、(メタ)アクリル系単量体を含む単量体成分を重合する工程(重合工程)を含む製造方法により得ることができる。重合工程で(メタ)アクリル系単量体を含む単量体成分が重合することによりポリマー鎖(B)が形成され、原料共重合体(P1)がポリマー鎖(A)を与え、これにより、ポリマー鎖(B)がポリマー鎖(A)の重合体ブロック(a1)のジエンおよび/またはオレフィン由来の単位に結合した共重合体(P)が得られる。なお、原料共重合体(P1)は、例えば重合体ブロック(a1)を構成する単量体成分を重合して重合体ブロック(a1)を形成した後、重合体ブロック(a1)の存在下で重合体ブロック(a2)を構成する単量体成分を重合することにより、得ることができる。 The copolymer (P) can be obtained by a production method including a step (polymerization step) of polymerizing a monomer component containing a (meth)acrylic monomer in the presence of the starting copolymer (P1). can. A polymer chain (B) is formed by polymerizing a monomer component containing a (meth)acrylic monomer in the polymerization step, and the raw material copolymer (P1) gives the polymer chain (A), thereby A copolymer (P) is obtained in which the polymer chain (B) is bonded to the diene- and/or olefin-derived units of the polymer block (a1) of the polymer chain (A). In addition, the raw material copolymer (P1) can be prepared, for example, by polymerizing the monomer components constituting the polymer block (a1) to form the polymer block (a1), and then in the presence of the polymer block (a1). It can be obtained by polymerizing the monomer components that constitute the polymer block (a2).

重合工程においてポリマー鎖(B)が重合体ブロック(a1)のジエンおよび/またはオレフィン由来の単位に結合するようにする点から、重合工程では、原料共重合体(P1)の重合体ブロック(a1)のジエンおよび/またはオレフィン由来の単位が有する二重結合(オレフィン性二重結合)のビニル位、アリル位等活性が高い水素が引き抜かれるようにすることが好ましい。これにより当該箇所でラジカルが生成し、ポリマー鎖(B)を形成する単量体成分を付加重合させることができる。この際、上記に説明したように、原料共重合体(P1)が有するオレフィン性二重結合量を調整することにより、共重合体(P)の透明性を高めたり、ゲル化物の発生を抑えやすくなる。 In the polymerization step, the polymer block (a1 ) of the diene- and/or olefin-derived unit (olefinic double bond) of the vinyl position, allyl position, etc. of the double bond is preferably abstracted. As a result, a radical is generated at the site, and the monomer component forming the polymer chain (B) can be subjected to addition polymerization. At this time, as described above, by adjusting the amount of olefinic double bonds possessed by the raw material copolymer (P1), the transparency of the copolymer (P) can be increased and the occurrence of gelation can be suppressed. easier.

重合工程において、原料共重合体(P1)は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。後者の場合、フィルムの物性を調整することが容易となる。 Polymerization step WHEREIN: Only 1 type may be used for the raw material copolymer (P1), and 2 or more types may be used together. In the latter case, it becomes easier to adjust the physical properties of the film.

ポリマー鎖(B)の形成に用いられる単量体成分には、(メタ)アクリル系単量体に加え、環構造単位を与える単量体として、環構造内に重合性二重結合を有する単量体等を使用することもできる。例えば、主鎖に環構造を有するポリマー鎖(B)を形成する場合は、環構造内に重合性二重結合を有する単量体を用いてもよく、重合工程の後で環構造形成工程を行うことにより環構造を形成可能な単量体を用いてもよい。また、それ以外の他の不飽和単量体を用いることもできる。これらの単量体成分の詳細は、上記のポリマー鎖(B)を形成する(メタ)アクリル系単量体、ポリマー鎖(B)の環構造を与える単量体、ポリマー鎖(B)を形成する他の不飽和単量体の説明が参照される。 The monomer components used to form the polymer chain (B) include, in addition to the (meth)acrylic monomer, a monomer having a polymerizable double bond in the ring structure as a monomer giving a ring structure unit. Ammers and the like can also be used. For example, when forming a polymer chain (B) having a ring structure in the main chain, a monomer having a polymerizable double bond in the ring structure may be used, and the ring structure forming step is performed after the polymerization step. You may use the monomer which can form a ring structure by carrying out. Other unsaturated monomers can also be used. Details of these monomer components include the above-described (meth)acrylic monomer forming the polymer chain (B), the monomer providing the ring structure of the polymer chain (B), and the Reference is made to the description of other unsaturated monomers.

単量体成分の重合は、塊状重合法、溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法等の公知の重合法を用いて行うことができるが、溶液重合法を用いることが好ましい。溶液重合法を用いれば、共重合体(P)への微小な異物の混入を抑えることができ、共重合体(P)を光学材料用途等に好適に適用しやすくなる。重合形式としては、例えば、バッチ重合法、連続重合法のいずれも用いることができる。重合の際、単量体成分は一括で仕込んでもよく、分割添加してもよい。 Polymerization of the monomer component can be carried out using known polymerization methods such as bulk polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization and suspension polymerization, but solution polymerization is preferred. If the solution polymerization method is used, it is possible to suppress contamination of the copolymer (P) with minute foreign matter, and the copolymer (P) can be suitably applied to optical material applications and the like. As a polymerization method, for example, both a batch polymerization method and a continuous polymerization method can be used. At the time of polymerization, the monomer components may be charged all at once or may be added in portions.

重合の際の原料共重合体(P1)の使用量は、原料共重合体(P1)と単量体成分の合計100質量部に対して、1質量部以上が好ましく、3質量部以上がより好ましく、5質量部以上がさらに好ましく、7質量部以上がさらにより好ましく、9質量部以上がさらにより好ましく、12質量部以上が特に好ましく、また50質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましく、25質量部以下がさらに好ましい。単量体成分の使用量は、原料共重合体(P1)と単量体成分の合計100質量部に対して、50質量部以上が好ましく、70質量部以上がより好ましく、75質量部以上がさらに好ましく、また99質量部以下が好ましく、97質量部以下がより好ましく、95質量部以下がさらに好ましく、88質量部以下がさらにより好ましい。 The amount of the raw material copolymer (P1) used during polymerization is preferably 1 part by mass or more, more preferably 3 parts by mass or more, with respect to a total of 100 parts by mass of the raw material copolymer (P1) and the monomer component. Preferably, 5 parts by mass or more is more preferable, 7 parts by mass or more is even more preferable, 9 parts by mass or more is even more preferable, 12 parts by mass or more is particularly preferable, 50 parts by mass or less is preferable, and 30 parts by mass or less is more preferable. Preferably, 25 parts by mass or less is more preferable. The amount of the monomer component used is preferably 50 parts by mass or more, more preferably 70 parts by mass or more, and more preferably 75 parts by mass or more with respect to a total of 100 parts by mass of the starting copolymer (P1) and the monomer component. It is more preferably 99 parts by mass or less, more preferably 97 parts by mass or less, still more preferably 95 parts by mass or less, and even more preferably 88 parts by mass or less.

重合溶媒は、単量体成分の組成に応じて適宜選択でき、通常のラジカル重合反応で使用される有機溶媒を用いることができる。具体的には、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アニソール等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート等のエステル類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール等のアルコール類;アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;クロロホルム;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The polymerization solvent can be appropriately selected according to the composition of the monomer components, and organic solvents used in ordinary radical polymerization reactions can be used. Specifically, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and ethylbenzene; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and anisole; esters such as ethyl, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate; cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol; Nitriles such as pionitrile, butyronitrile and benzonitrile; chloroform; dimethylsulfoxide and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

原料共重合体(P1)と単量体成分との重合反応は、重合触媒(重合開始剤)の存在下で行うことが好ましい。重合触媒としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2-アミジノプロパン)・二塩酸塩、ジメチル-2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、4,4’-アゾビス(4-シアノペンタン酸)等のアゾ化合物;過硫酸カリウム等の過硫酸塩類;クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、t-アミルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-アミルパーオキシオクトエート、t-アミルパーオキシイソノナノエート、t-アミルパーオキシイソプロピルカーボネート、t-アミルパーオキシ2-エチルヘキシルカーボネート等の有機過酸化物等を用いることができる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、水素引き抜き力が強い有機過酸化物を用いることが好ましい。重合触媒の使用量は、例えば、単量体成分100質量部に対して0.01~1質量部とすることが好ましい。 The polymerization reaction between the starting copolymer (P1) and the monomer component is preferably carried out in the presence of a polymerization catalyst (polymerization initiator). Examples of the polymerization catalyst include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis(2-amidinopropane) dihydrochloride, dimethyl-2,2′-azobis(2-methylpropio azo compounds such as 4,4′-azobis (4-cyanopentanoic acid); persulfates such as potassium persulfate; cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, lauroyl Peroxide, benzoyl peroxide, t-butylperoxyisopropyl carbonate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxyoctoate, t-amylperoxyisononanoate, t-amylperoxy Organic peroxides such as isopropyl carbonate and t-amylperoxy 2-ethylhexyl carbonate can be used. These may use only 1 type and may use 2 or more types together. Among these, it is preferable to use an organic peroxide having a strong hydrogen abstraction power. The amount of the polymerization catalyst to be used is preferably 0.01 to 1 part by weight per 100 parts by weight of the monomer component.

反応液中の原料共重合体(P1)と単量体成分の合計濃度は、3質量%以上が好ましく、5質量%以上がより好ましく、10質量%以上がさらに好ましく、また80質量%以下が好ましく、70質量%以下がより好ましい。反応液中の重合溶媒濃度は、20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、また97質量%以下が好ましく、95質量%以下がより好ましく、90質量%以下がさらに好ましい。重合反応中に、原料共重合体(P1)、単量体成分、重合触媒、反応溶媒等を適宜追加することも可能である。 The total concentration of the raw material copolymer (P1) and the monomer component in the reaction solution is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, further preferably 10% by mass or more, and 80% by mass or less. Preferably, 70% by mass or less is more preferable. The polymerization solvent concentration in the reaction solution is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and preferably 97% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, and even more preferably 90% by mass or less. During the polymerization reaction, the starting copolymer (P1), monomer components, polymerization catalyst, reaction solvent, etc. can be added as appropriate.

重合反応は、窒素ガス等の不活性ガスの雰囲気または気流下で行うのが好ましい。残存単量体を少なくするために、重合開始剤としてアゾビス系化合物と過酸化物を併用してもよい。反応温度は、50℃~200℃が好ましい。反応時間は、共重合反応の進行度合や、ゲル化物の生成の程度を見ながら適宜調整すればよく、例えば1時間~20時間行うことが好ましい。 The polymerization reaction is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or under a stream of air. In order to reduce residual monomers, an azobis-based compound and a peroxide may be used in combination as polymerization initiators. The reaction temperature is preferably 50°C to 200°C. The reaction time may be appropriately adjusted while observing the degree of progress of the copolymerization reaction and the degree of formation of the gelled product.

上記の重合工程により、(メタ)アクリル系単量体由来の単位を含むポリマー鎖(B)がポリマー鎖(A)に結合した共重合体(P)が得られる。重合工程において、単量体成分として、(メタ)アクリル系単量体と環構造内に重合性二重結合を有する単量体(例えば、無水マレイン酸やマレイミド)を用いる場合は、(メタ)アクリル単位と環構造単位(無水コハク酸構造、スクシンイミド構造)を有するポリマー鎖(B)がポリマー鎖(A)に結合した共重合体(P)が得られる。 Through the above polymerization step, a copolymer (P) in which a polymer chain (B) containing units derived from a (meth)acrylic monomer is bonded to a polymer chain (A) is obtained. In the polymerization step, when using a (meth)acrylic monomer and a monomer having a polymerizable double bond in the ring structure (e.g., maleic anhydride or maleimide) as a monomer component, (meth) A copolymer (P) is obtained in which a polymer chain (B) having an acrylic unit and a ring structural unit (succinic anhydride structure, succinimide structure) is bonded to the polymer chain (A).

一方、ポリマー鎖(B)の環構造単位として、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、またはグルタルイミド構造を有する共重合体(P)を得る場合は、重合工程に続いて環構造形成工程を行うことが好ましい。環構造形成工程では、重合工程で形成された(メタ)アクリル単位を有するポリマー鎖(B)の主鎖に環構造を形成する。具体的には、重合工程で形成された(メタ)アクリル単位を有するポリマー鎖(B)の隣接(メタ)アクリル単位の置換基どうしを縮合反応させて、ポリマー鎖の(B)主鎖に環構造を形成する。環化縮合反応には、エステル化反応、酸無水物化反応、アミド化反応、イミド化反応等が含まれる。例えば、隣接する(メタ)アクリル単位の2個のカルボン酸基を酸無水物化することによって、無水グルタル酸構造を形成することができ、イミド化することによってグルタルイミド構造を形成することができる。また隣接する(メタ)アクリル単位のうち一方がヒドロキシル基やアミノ基などのプロトン性水素原子含有基を有する場合には、この一方の(メタ)アクリル単位のプロトン性水素原子含有基と他方の(メタ)アクリル単位のカルボン酸基とを縮合することによって、ラクトン環構造を形成することができる。 On the other hand, when obtaining a copolymer (P) having a lactone ring structure, a glutaric anhydride structure, or a glutarimide structure as the ring structure unit of the polymer chain (B), the polymerization step is followed by the ring structure formation step. is preferred. In the ring structure forming step, a ring structure is formed in the main chain of the polymer chain (B) having (meth)acrylic units formed in the polymerization step. Specifically, the substituents of adjacent (meth)acrylic units of the polymer chain (B) having (meth)acrylic units formed in the polymerization step are subjected to a condensation reaction to form a ring on the (B) main chain of the polymer chain. form a structure. Cyclocondensation reactions include esterification reactions, acid anhydride reactions, amidation reactions, imidization reactions, and the like. For example, a glutaric anhydride structure can be formed by acid anhydride conversion of two carboxylic acid groups of adjacent (meth)acrylic units, and a glutarimide structure can be formed by imidization. When one of the adjacent (meth)acrylic units has a protic hydrogen atom-containing group such as a hydroxyl group or an amino group, the protic hydrogen atom-containing group of one (meth)acrylic unit and the other ( A lactone ring structure can be formed by condensing the meth)acrylic unit with the carboxylic acid group.

環構造形成工程において、隣接する(メタ)アクリル単位の縮合反応は、触媒(環化触媒)の存在下で行うことが好ましい。環化触媒としては、酸、塩基およびそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種を用いることができる。酸、塩基およびそれらの塩は有機物であっても無機物であってもよく、特に限定されない。なかでも、環化反応の触媒としては、有機リン化合物を用いることが好ましい。有機リン化合物を環化触媒として用いることにより、環化縮合反応を効率的に行うことができるとともに、得られる共重合体(P)の着色を低減することができる。 In the ring structure forming step, the condensation reaction of adjacent (meth)acrylic units is preferably carried out in the presence of a catalyst (cyclization catalyst). At least one selected from the group consisting of acids, bases and salts thereof can be used as the cyclization catalyst. Acids, bases and salts thereof may be organic or inorganic and are not particularly limited. Among them, it is preferable to use an organic phosphorus compound as a catalyst for the cyclization reaction. By using an organic phosphorus compound as a cyclization catalyst, the cyclization condensation reaction can be efficiently performed, and the resulting copolymer (P) can be less colored.

環化触媒として用いることができる有機リン化合物としては、例えば、アルキル(アリール)亜ホスホン酸およびこれらのモノエステルまたはジエステル;ジアルキル(アリール)ホスフィン酸およびこれらのエステル;アルキル(アリール)ホスホン酸およびこれらのモノエステルまたはジエステル;アルキル(アリール)亜ホスフィン酸およびこれらのエステル;亜リン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル;リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸2-エチルヘキシル、リン酸オクチル、リン酸イソデシル、リン酸ラウリル、リン酸ステアリル、リン酸イソステアリル、リン酸フェニル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジ-2-エチルヘキシル、リン酸ジイソデシル、リン酸ジラウリル、リン酸ジステアリル、リン酸ジイソステアリル、リン酸ジフェニル、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリイソデシル、リン酸トリラウリル、リン酸トリステアリル、リン酸トリイソステアリル、リン酸トリフェニル等のリン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル;モノ-、ジ-またはトリ-アルキル(アリール)ホスフィン;アルキル(アリール)ハロゲンホスフィン;酸化モノ-、ジ-またはトリ-アルキル(アリール)ホスフィン;ハロゲン化テトラアルキル(アリール)ホスホニウム等が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、触媒活性が高く、着色性が低いことから、リン酸モノエステルまたはジエステルが特に好ましい。環化触媒の使用量は、例えば、重合工程で得られた共重合体100質量部に対して0.001~1質量部とすることが好ましい。 Organic phosphorus compounds that can be used as cyclization catalysts include, for example, alkyl(aryl)phosphonous acids and their monoesters or diesters; dialkyl(aryl)phosphinic acids and their esters; alkyl(aryl)phosphonic acids and their monoesters or diesters of; , lauryl phosphate, stearyl phosphate, isostearyl phosphate, phenyl phosphate, dimethyl phosphate, diethyl phosphate, di-2-ethylhexyl phosphate, diisodecyl phosphate, dilauryl phosphate, distearyl phosphate, di Phosphate monoesters, diesters or triesters such as isostearyl, diphenyl phosphate, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, triisodecyl phosphate, trilauryl phosphate, tristearyl phosphate, triisostearyl phosphate, triphenyl phosphate; mono-, di- or tri-alkyl(aryl)phosphine; alkyl(aryl)halogenphosphine; mono-, di- or tri-alkyl(aryl)phosphine oxide; tetraalkyl(aryl)phosphonium halide and the like. These may use only 1 type and may use 2 or more types together. Among these, phosphoric acid monoesters and diesters are particularly preferred because of their high catalytic activity and low colorability. The amount of the cyclization catalyst used is preferably, for example, 0.001 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the copolymer obtained in the polymerization step.

環構造形成工程における反応温度は、50℃~300℃が好ましい。反応時間は、環化縮合反応の進行度合を見ながら適宜調整すればよく、例えば5分~6時間行うことが好ましい。 The reaction temperature in the ring structure forming step is preferably 50°C to 300°C. The reaction time may be appropriately adjusted while observing the degree of progress of the cyclization condensation reaction, and is preferably carried out for, for example, 5 minutes to 6 hours.

環構造形成工程は、加熱下で行うことが好ましい。この際、重合工程で得られた重合溶媒を含む重合溶液をそのまま加熱してもよいし、重合溶媒を脱揮した後に加熱してもよいし、これらの両方を組み合わせて行ってもよい。環化縮合反応に用いる反応器としては、例えば、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる装置、ベント付押出機等が挙げられる。 The ring structure-forming step is preferably performed under heating. At this time, the polymerization solution containing the polymerization solvent obtained in the polymerization step may be heated as it is, the polymerization solvent may be devolatilized and then heated, or both of these may be combined. Reactors used for the cyclization condensation reaction include, for example, autoclaves, kettle-type reactors, devices comprising a heat exchanger and a devolatilization tank, extruders with vents, and the like.

環構造形成工程では、脱揮を行うことが好ましい。脱揮は、反応器内を真空ポンプ等で減圧することにより行うことができる。脱揮により、重合工程で用いられ環構造形成工程に持ち込まれた重合溶媒や、環化縮合反応により副生したアルコール等が除去され、得られる共重合体(P)中の残存揮発分を少なくすることができる。また、環化縮合反応で副生したアルコール等が除去されるため、反応平衡が生成側に傾き有利となる。 Volatilization is preferably performed in the ring structure forming step. Volatilization can be performed by reducing the pressure in the reactor with a vacuum pump or the like. The devolatilization removes the polymerization solvent used in the polymerization step and brought into the ring structure formation step, alcohol by-produced in the cyclization condensation reaction, etc., and reduces the residual volatile content in the resulting copolymer (P). can do. In addition, since the alcohol and the like by-produced in the cyclization condensation reaction are removed, the reaction equilibrium is inclined toward the production side, which is advantageous.

脱揮をしながら環化縮合反応を行う場合、効率的に脱揮を行う点から、環化縮合反応を減圧下で行うことが好ましい。環化縮合反応での減圧は、例えば、絶対圧として90kPa以下とすることが好ましく、80kPa以下がより好ましく、70kPa以下がさらに好ましい。一方、減圧状態を実現するための設備が過剰仕様とならず、設備費を低く抑える点から、減圧する際の絶対圧は0.1kPa以上が好ましく、1kPa以上がより好ましい。なお、脱揮をせずに環化縮合反応を行う場合は、環化縮合反応は常圧下または加圧下で行ってもよい。 When the cyclization condensation reaction is performed while devolatilizing, the cyclization condensation reaction is preferably performed under reduced pressure from the viewpoint of efficient devolatilization. The pressure reduction in the cyclization condensation reaction is, for example, preferably 90 kPa or less, more preferably 80 kPa or less, and even more preferably 70 kPa or less, as an absolute pressure. On the other hand, the absolute pressure when reducing the pressure is preferably 0.1 kPa or more, more preferably 1 kPa or more, from the viewpoint that the equipment for realizing the reduced pressure state does not have excessive specifications and the equipment cost is kept low. When the cyclization condensation reaction is performed without devolatilization, the cyclization condensation reaction may be performed under normal pressure or under pressure.

ベント付押出機を用いる場合、押出機は、シリンダと、シリンダ内に設けられたスクリューとを有し、加熱手段を備えていることが好ましい。シリンダには、ベントが1つまたは複数設けられる。ベントは、押出機内の移送方向に対して、少なくとも原料投入部の下流側に設けられることが好ましく、原料投入部の上流側にも設けられてもよい。 When a vented extruder is used, the extruder preferably has a cylinder, a screw provided in the cylinder, and heating means. The cylinder is provided with one or more vents. The vent is preferably provided at least on the downstream side of the raw material charging section with respect to the transfer direction in the extruder, and may also be provided on the upstream side of the raw material charging section.

押出機内に供給された共重合体を、スクリューで混練しながら押出機の上流側から下流側へ移送される過程で環化縮合反応が進み、押出機の下流側から共重合体(P)が排出される。押出機の下流側にはダイスが設けられていることが好ましく、ダイスから共重合体(P)を吐出することにより、所定の形状(フィルム状や棒状)に成形することができる。例えば、棒状に成形された共重合体を細かく切断すれば、ペレットを製造することができる。 The copolymer fed into the extruder is kneaded by a screw while being transported from the upstream side to the downstream side of the extruder while the cyclization condensation reaction progresses, and the copolymer (P) is released from the downstream side of the extruder. Ejected. A die is preferably provided on the downstream side of the extruder, and by discharging the copolymer (P) from the die, it can be formed into a predetermined shape (film or rod). For example, pellets can be produced by finely cutting a rod-shaped copolymer.

環構造形成工程において環化縮合反応を環化触媒の存在下で行う場合、環化縮合反応の後またはその途中で失活剤を加えることが好ましい。例えば、共重合体(P)を含む樹脂組成物をペレット化したりフィルム化する際、当該樹脂組成物中に環化触媒が残存していると、環化縮合反応が起こることによってアルコール等が発生して、所望しない発泡が起こる可能性がある。しかし、環化縮合反応の後またはその途中で失活剤を加えることにより、このような発泡が防ぐことができる。 When the cyclization-condensation reaction is performed in the presence of a cyclization catalyst in the ring structure-forming step, it is preferable to add a deactivator after or during the cyclization-condensation reaction. For example, when a resin composition containing a copolymer (P) is pelletized or formed into a film, if a cyclization catalyst remains in the resin composition, a cyclization condensation reaction occurs to generate alcohol or the like. As a result, undesirable foaming can occur. However, by adding a quenching agent after or during the cyclization condensation reaction, such foaming can be prevented.

失活剤としては、環化触媒を中和できる物質が好適に用いられる。例えば環化触媒が酸性物質である場合、失活剤としては塩基性物質を用いることができ、逆に環化触媒が塩基性物質である場合、失活剤としては酸性物質を用いることができる。なお上記に説明したように、環化触媒として有機リン化合物が好適に用いられ、当該化合物は酸性物質であることが多いことから、失活剤としては塩基性物質を用いることが好ましい。塩基性物質としては、環化縮合反応を停止する機能を有し得るものであれば特に限定されないが、例えば金属カルボン酸塩、金属錯体、金属酸化物などが用いられる。逆に、環化触媒として塩基性物質を用いる場合は、失活剤としては、上記に説明した環化触媒に使用可能な酸性物質を用いることができる。 As the deactivator, a substance capable of neutralizing the cyclization catalyst is preferably used. For example, when the cyclization catalyst is an acidic substance, a basic substance can be used as the deactivator, and conversely, when the cyclization catalyst is a basic substance, an acidic substance can be used as the deactivator. . As described above, an organic phosphorus compound is preferably used as the cyclization catalyst, and the compound is often an acidic substance. Therefore, it is preferable to use a basic substance as the deactivator. The basic substance is not particularly limited as long as it can stop the cyclization condensation reaction, and for example, metal carboxylates, metal complexes, metal oxides and the like are used. Conversely, when a basic substance is used as the cyclization catalyst, an acidic substance that can be used for the cyclization catalyst described above can be used as the deactivator.

失活剤を加えるタイミングは、環化縮合反応の途中か、当該反応より後であって共重合体(P)を含む樹脂組成物をペレット化したりフィルム化する前であることが好ましい。例えば、溶融状態の樹脂組成物に失活剤を加えてもよく、溶媒に溶解した樹脂組成物に失活剤を加えてもよい。上記に説明したように押出機を用いて環化縮合反応を行う場合は、当該押出機において環化縮合反応が十分行われた後の位置に失活剤を添加するようにしてもよい。 The timing of adding the deactivator is preferably during the cyclization condensation reaction or after the reaction and before pelletizing or filming the resin composition containing the copolymer (P). For example, the deactivator may be added to the resin composition in a molten state, or the deactivator may be added to the resin composition dissolved in a solvent. When the cyclization condensation reaction is performed using an extruder as described above, the deactivator may be added to a position after the cyclization condensation reaction has sufficiently occurred in the extruder.

共重合体(P)の重量平均分子量は、0.2万以上が好ましく、0.5万以上がより好ましく、3万以上がさらに好ましく、5万以上がさらにより好ましく、また60万以下が好ましく、40万以下がより好ましく、30万以下がさらに好ましく、20万以下がさらにより好ましい。共重合体(P)の重量平均分子量をこのような範囲とすることで、共重合体(P)の成形加工性が向上する。 The weight average molecular weight of the copolymer (P) is preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, still more preferably 30,000 or more, even more preferably 50,000 or more, and preferably 600,000 or less. , is more preferably 400,000 or less, more preferably 300,000 or less, and even more preferably 200,000 or less. By setting the weight average molecular weight of the copolymer (P) to such a range, the moldability of the copolymer (P) is improved.

共重合体(P)の重量平均分子量は、ポリマー鎖(A)の重量平均分子量の1.1倍以上が好ましく、1.2倍以上がより好ましく、1.3倍以上がさらに好ましく、また10倍以下が好ましく、7倍以下がより好ましく、5倍以下がさらに好ましい。これにより、共重合体(P)に、透明性と機械的強度の各特性をバランス良く付与することが容易になる。 The weight average molecular weight of the copolymer (P) is preferably 1.1 times or more, more preferably 1.2 times or more, still more preferably 1.3 times or more, and 10 times the weight average molecular weight of the polymer chain (A). It is preferably twice or less, more preferably seven times or less, and even more preferably five times or less. This makes it easy to give the copolymer (P) properties of transparency and mechanical strength in a well-balanced manner.

共重合体(P)の屈折率はポリマー鎖(A)の屈折率と近い値であることが好ましく、これにより共重合体(P)の透明性を確保しやすくなる。具体的には、共重合体(P)の屈折率とポリマー鎖(A)の屈折率との差が0.1未満であることが好ましく、0.05以下がより好ましく、0.02以下がさらに好ましい。同様の観点から、共重合体(P)中のポリマー鎖(A)の屈折率とポリマー鎖(B)の屈折率は近い値であることが好ましく、具体的には、ポリマー鎖(A)の屈折率とポリマー鎖(B)の屈折率との差が0.1未満であることが好ましく、0.05以下がより好ましく、0.02以下がさらに好ましい。 The refractive index of the copolymer (P) is preferably close to the refractive index of the polymer chain (A), which facilitates ensuring the transparency of the copolymer (P). Specifically, the difference between the refractive index of the copolymer (P) and the refractive index of the polymer chain (A) is preferably less than 0.1, more preferably 0.05 or less, and 0.02 or less. More preferred. From the same point of view, it is preferable that the refractive index of the polymer chain (A) in the copolymer (P) and the refractive index of the polymer chain (B) are close to each other. The difference between the refractive index and the refractive index of the polymer chain (B) is preferably less than 0.1, more preferably 0.05 or less, even more preferably 0.02 or less.

本発明のフィルムは、共重合体(P)を1種のみ含有するものであってもよく、2種以上含有するものであってもよい。また、上記に説明した共重合体(P)に加えて、他の重合体を含有するものであってもよい。この場合、本発明のフィルムは、共重合体(P)を樹脂成分(マトリックス樹脂)として含むものであってもよく、他の重合体を樹脂成分(マトリックス樹脂)として含むものであってもよい。他の重合体としては、共重合体(P)との相溶性に優れる点から、(メタ)アクリル系重合体が好ましく用いられる。これにより、フィルムの透明性や耐熱性を高めることが容易になる。 The film of the present invention may contain only one copolymer (P), or may contain two or more copolymers (P). Moreover, in addition to the copolymer (P) explained above, other polymers may be contained. In this case, the film of the present invention may contain the copolymer (P) as a resin component (matrix resin), or may contain another polymer as a resin component (matrix resin). . As the other polymer, a (meth)acrylic polymer is preferably used because of its excellent compatibility with the copolymer (P). This facilitates enhancing the transparency and heat resistance of the film.

(メタ)アクリル系重合体は、上記のポリマー鎖(B)で説明した(メタ)アクリル系単量体由来の単位を有するものであればよく、好ましくは、上記のポリマー鎖(B)で説明した(メタ)アクリル酸エステル由来の単位を有する。(メタ)アクリル系重合体は、上記のポリマー鎖(B)で説明した他の不飽和単量体由来の単位を有していてもよい。(メタ)アクリル系重合体は、共重合体(P)との相溶性を高める観点から、共重合体(P)のポリマー鎖(B)に含まれる(メタ)アクリル系単量体由来の単位を有することがより好ましい。すなわち、(メタ)アクリル系重合体を構成する(メタ)アクリル系単量体由来の単位が、ポリマー鎖(B)を構成する(メタ)アクリル系単量体由来の単位と同じであることが好ましい。 The (meth)acrylic polymer may have a unit derived from the (meth)acrylic monomer described in the polymer chain (B) above, and is preferably described in the polymer chain (B) above. It has a unit derived from a (meth)acrylic acid ester. The (meth)acrylic polymer may have units derived from other unsaturated monomers described in the polymer chain (B) above. From the viewpoint of enhancing compatibility with the copolymer (P), the (meth)acrylic polymer is a unit derived from a (meth)acrylic monomer contained in the polymer chain (B) of the copolymer (P). It is more preferable to have That is, the unit derived from the (meth)acrylic monomer constituting the (meth)acrylic polymer is the same as the unit derived from the (meth)acrylic monomer constituting the polymer chain (B). preferable.

(メタ)アクリル系重合体は、環構造を有するものであることが好ましく、主鎖に環構造を有するものであることがより好ましい。これにより、フィルムの透明性や耐熱性を高めることができる。(メタ)アクリル系重合体の主鎖の環構造としては、ラクトン環構造、環状イミド構造(例えば、スクシンイミド構造、グルタルイミド構造等)、環状無水物構造(例えば、無水コハク酸構造、無水グルタル酸構造等)等が好ましく挙げられ、これらの環構造の詳細は、上記のポリマー鎖(B)の環構造に関する説明が参照される。なかでも、(メタ)アクリル系重合体は、共重合体(P)のポリマー鎖(B)が有する環構造と同じ環構造を主鎖に有することが好ましい。 The (meth)acrylic polymer preferably has a ring structure, and more preferably has a ring structure in its main chain. Thereby, the transparency and heat resistance of the film can be enhanced. The ring structure of the main chain of the (meth)acrylic polymer includes a lactone ring structure, a cyclic imide structure (e.g., succinimide structure, glutarimide structure, etc.), a cyclic anhydride structure (e.g., succinic anhydride structure, glutaric anhydride structure, etc.). structure, etc.) and the like are preferably mentioned, and for the details of these ring structures, refer to the above description of the ring structure of the polymer chain (B). Among them, the (meth)acrylic polymer preferably has, in its main chain, the same ring structure as that of the polymer chain (B) of the copolymer (P).

(メタ)アクリル系重合体は、共重合体(P)のポリマー鎖(B)が有する(メタ)アクリル単位と同じ(メタ)アクリル単位を有するとともに、ポリマー鎖(B)が有する環構造単位と同じ環構造単位を有することが好ましい。これにより(メタ)アクリル系重合体と共重合体(P)との相溶性が高まり、フィルムの透明性や耐熱性を高めることが容易になる。 The (meth)acrylic polymer has the same (meth)acrylic unit as the (meth)acrylic unit possessed by the polymer chain (B) of the copolymer (P), and the ring structural unit possessed by the polymer chain (B). It is preferred to have the same ring structural unit. This enhances the compatibility between the (meth)acrylic polymer and the copolymer (P), making it easier to enhance the transparency and heat resistance of the film.

このような(メタ)アクリル系重合体は、共重合体(P)を重合生成する際に、(メタ)アクリル系重合体も一緒に重合生成することが簡便である。上記に説明した共重合体(P)の製造方法では、共重合体(P)とともに、共重合体(P)のポリマー鎖(B)に対応した(メタ)アクリル系重合体も同時に生成するが、この際、共重合体(P)と(メタ)アクリル系重合体を分離しないことにより、共重合体(P)と(メタ)アクリル系重合体を含む樹脂組成物を得ることができる。なおフィルムが(メタ)アクリル系重合体以外の重合体を含有する場合は、共重合体(P)を単離して、あるいは単離せずに、他の重合体を配合することにより、フィルム形成用の樹脂組成物を調製することができる。 Such a (meth)acrylic polymer is conveniently polymerized together with the (meth)acrylic polymer when the copolymer (P) is polymerized. In the method for producing the copolymer (P) described above, a (meth)acrylic polymer corresponding to the polymer chain (B) of the copolymer (P) is simultaneously produced together with the copolymer (P). At this time, by not separating the copolymer (P) and the (meth)acrylic polymer, a resin composition containing the copolymer (P) and the (meth)acrylic polymer can be obtained. In the case where the film contains a polymer other than the (meth)acrylic polymer, the copolymer (P) may be isolated, or may be mixed with another polymer without isolation to form a film-forming polymer. can be prepared.

フィルム中の共重合体(P)の含有割合は、1質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、5質量%以上がさらに好ましく、15質量%以上がさらにより好ましく、これによりフィルムの機械的強度を高めやすくなる。フィルム中の共重合体(P)の含有割合の上限は特に限定されず、フィルムは共重合体(P)のみから構成されていてもよく、フィルム中の共重合体(P)の含有割合が90質量%以下であってもよく、70質量%以下、50質量%以下、40質量%以下、または30質量%以下であってもよい。 The content of the copolymer (P) in the film is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, and even more preferably 15% by mass or more. It becomes easier to increase the mechanical strength. The upper limit of the content of the copolymer (P) in the film is not particularly limited, and the film may be composed only of the copolymer (P), and the content of the copolymer (P) in the film is It may be 90% by mass or less, 70% by mass or less, 50% by mass or less, 40% by mass or less, or 30% by mass or less.

フィルム中の共重合体(P)のポリマー鎖(A)の含有割合は、1質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、5質量%以上がさらに好ましく、12質量%以上がさらにより好ましく、また50質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましく、25質量%以下がさらに好ましい。フィルム中のポリマー鎖(A)の含有割合が1質量%以上であれば、フィルムの機械的強度を高めやすくなる。フィルム中のポリマー鎖(A)の含有割合が50質量%以下であれば、フィルムの透明性や耐熱性を高めやすくなる。 The content of the polymer chain (A) of the copolymer (P) in the film is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, and even more preferably 12% by mass or more. It is preferably 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and even more preferably 25% by mass or less. If the content of the polymer chain (A) in the film is 1% by mass or more, the mechanical strength of the film can be easily increased. If the content of the polymer chain (A) in the film is 50% by mass or less, the transparency and heat resistance of the film can be easily improved.

フィルムが(メタ)アクリル系重合体を含有する場合、フィルム中の(メタ)アクリル系重合体の含有割合は、1質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、20質量%以上がさらに好ましく、30質量%以上がさらにより好ましく、また99質量%以下が好ましく、95質量%以下がより好ましく、90質量%以下がさらに好ましい。 When the film contains a (meth)acrylic polymer, the content of the (meth)acrylic polymer in the film is preferably 1% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and further 20% by mass or more. It is preferably 30% by mass or more, still more preferably 99% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, and even more preferably 90% by mass or less.

フィルム中の共重合体(P)と(メタ)アクリル系重合体の合計含有割合は、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましく、90質量%以上がさらにより好ましい。フィルム中の共重合体(P)と(メタ)アクリル系重合体の含有割合の上限は特に限定されず、フィルムは実質的に共重合体(P)と(メタ)アクリル系重合体のみから構成されていてもよい。 The total content of the copolymer (P) and (meth)acrylic polymer in the film is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 80% by mass or more, and 90% by mass or more. is even more preferred. The upper limit of the content ratio of the copolymer (P) and (meth)acrylic polymer in the film is not particularly limited, and the film is substantially composed only of the copolymer (P) and (meth)acrylic polymer. may have been

本発明のフィルムは、上記に説明した(メタ)アクリル系重合体以外の重合体を含有していてもよく、そのような重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-プロピレン重合体、ポリ(4-メチル-1-ペンテン)等のオレフィン系重合体;塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系重合体;ポリスチレン、スチレン-メタクリル酸メチル共重合体、スチレン-アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体等のスチレン系重合体;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610等のポリアミド;ポリアセタール;ポリカーボネート;ポリフェニレンオキシド;ポリフェニレンスルフィド;ポリエーテルエーテルケトン;ポリサルホン;ポリエーテルサルホン;ポリオキシペンジレン;ポリアミドイミド;シクロオレフィンポリマー;セルロース誘導体;ポリブタジエン系ゴム、(メタ)アクリル系ゴムを配合したABS樹脂やASA樹脂等のゴム質重合体;等が挙げられる。 The film of the present invention may contain a polymer other than the (meth)acrylic polymer described above. Such polymers include, for example, polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene polymer, poly Olefin polymers such as (4-methyl-1-pentene); Halogen-containing polymers such as vinyl chloride and chlorinated vinyl resin; Polystyrene, styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, acrylonitrile -Styrenic polymers such as butadiene-styrene copolymers; polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamides such as nylon 6, nylon 66 and nylon 610; polyacetal; polyether ether ketone; polysulfone; polyether sulfone; polyoxypentylene; polyamideimide; cycloolefin polymer; cellulose derivative; union; and the like.

本発明のフィルムは、製造容易性の観点から、重合体として、共重合体(P)と(メタ)アクリル系重合体を含有することが好ましい。従って、本発明のフィルムは、共重合体(P)と(メタ)アクリル系重合体を含有する樹脂組成物から形成されることが好ましい。 From the viewpoint of ease of production, the film of the present invention preferably contains a copolymer (P) and a (meth)acrylic polymer as polymers. Therefore, the film of the present invention is preferably formed from a resin composition containing a copolymer (P) and a (meth)acrylic polymer.

フィルムを形成する樹脂組成物の重量平均分子量は、0.2万以上が好ましく、0.5万以上がより好ましく、3万以上がさらに好ましく、5万以上がさらにより好ましく、また60万以下が好ましく、40万以下がより好ましく、30万以下がさらに好ましく、20万以下がさらにより好ましい。フィルムを構成する重合体の重量平均分子量をこのような範囲にあれば、フィルムの成形加工性が向上する。なお、ここで説明した重量平均分子量は、フィルムをゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の値を意味し、例えばフィルムが共重合体(P)と(メタ)アクリル系重合体を含有する場合は、これら複数種類の重合体の全体の重量平均分子量となる。 The weight average molecular weight of the film-forming resin composition is preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, still more preferably 30,000 or more, even more preferably 50,000 or more, and 600,000 or less. It is preferably 400,000 or less, more preferably 300,000 or less, and even more preferably 200,000 or less. If the weight-average molecular weight of the polymer constituting the film is within this range, the moldability of the film is improved. In addition, the weight average molecular weight described here means a polystyrene-equivalent value obtained by measuring the film by gel permeation chromatography, for example, when the film contains a copolymer (P) and a (meth)acrylic polymer is the total weight-average molecular weight of these multiple types of polymers.

フィルムを形成する樹脂組成物の重量平均分子量は、共重合体(P)のポリマー鎖(A)の重量平均分子量の1.1倍以上が好ましく、1.2倍以上がより好ましく、1.3倍以上がさらに好ましく、また10倍以下が好ましく、7倍以下がより好ましく、5倍以下がさらに好ましい。これにより、フィルムの透明性や機械的強度を高めることが容易になる。 The weight average molecular weight of the film-forming resin composition is preferably 1.1 times or more, more preferably 1.2 times or more, more preferably 1.3 times the weight average molecular weight of the polymer chain (A) of the copolymer (P). It is more preferably 10 times or less, more preferably 7 times or less, and even more preferably 5 times or less. This facilitates enhancing the transparency and mechanical strength of the film.

フィルムを形成する樹脂組成物の屈折率は共重合体(P)のポリマー鎖(A)の屈折率と近い値であることが好ましく、これによりフィルムの透明性を確保しやすくなる。具体的には、フィルムの屈折率と共重合体(P)のポリマー鎖(A)の屈折率との差が0.1未満であることが好ましく、0.05以下がより好ましく、0.02以下がさらに好ましい。 The refractive index of the resin composition forming the film is preferably close to the refractive index of the polymer chain (A) of the copolymer (P), which facilitates ensuring the transparency of the film. Specifically, the difference between the refractive index of the film and the refractive index of the polymer chain (A) of the copolymer (P) is preferably less than 0.1, more preferably 0.05 or less, and 0.02. More preferred are:

フィルムは、種々の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤;ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤;耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤;ガラス繊維、炭素繊維等の補強材;近赤外線吸収剤;トリス(ジブロモプロピル)ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤;位相差上昇剤、位相差低減剤、位相差安定剤等の位相差調整剤;アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤を含む帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤;有機フィラーや無機フィラー;樹脂改質剤;有機充填剤や無機充填剤;等が挙げられる。フィルム中の各添加剤の含有割合は、好ましくは0~5質量%、より好ましくは0~2質量%の範囲内である。 The film may contain various additives. Additives include, for example, ultraviolet absorbers; antioxidants such as hindered phenol, phosphorus, and sulfur; stabilizers such as light stabilizers, weather stabilizers, and heat stabilizers; Reinforcing material; Near-infrared absorber; Flame retardants such as tris(dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate, antimony oxide; antistatic agents including cationic and nonionic surfactants; coloring agents such as inorganic pigments, organic pigments and dyes; organic fillers and inorganic fillers; resin modifiers; organic fillers and inorganic fillers; . The content of each additive in the film is preferably in the range of 0 to 5% by mass, more preferably 0 to 2% by mass.

紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾエート系化合物、トリアゾール系化合物、およびトリアジン系化合物等が挙げられ、公知の紫外線吸収剤を用いることができる。ベンゾフェノン系化合物としては、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、4-n-オクチルオキシ-2-ヒドロキシベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン等が挙げられる。サリシケート系化合物としては、p-t-ブチルフェニルサリシケート等が挙げられる。ベンゾエート系化合物としては、2,4-ジ-t-ブチルフェニル-3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。トリアゾール系化合物としては、2,2’-メチレンビス[4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)フェノール]、2-(3,5-ジ-tert-ブチル-2-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-p-クレゾール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ビス(1-メチル-1-フェニルエチル)フェノール、2-ベンゾトリアゾール-2-イル-4,6-ジ-tert-ブチルフェノール、2-[5-クロロ(2H)-ベンゾトリアゾール-2-イル]-4-メチル-6-t-ブチルフェノール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ジ-t-ブチルフェノール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール等が挙げられる。トリアジン系化合物としては、2-[4,6-ビス(ビフェニル-4-イル)-1,3,6-トリアジ-2-イル]-5-[(2-エチルヘキシル)オキシ]フェノール、2-モノ(ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリアジン化合物、2,4-ビス(ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリアジン化合物、2,4,6-トリス(ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリアジン化合物等が挙げられる。市販の紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤であるチヌビン(登録商標)1577、チヌビン(登録商標)460、チヌビン(登録商標)477(BASFジャパン社製)、アデカスタブ(登録商標)LA-F70(ADEKA社製)、トリアゾール系紫外線吸収剤であるアデカスタブ(登録商標)LA-31(ADEKA社製)等が挙げられる。紫外線吸収剤は、1種のみを用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。 Examples of UV absorbers include benzophenone compounds, salicylate compounds, benzoate compounds, triazole compounds, and triazine compounds, and known UV absorbers can be used. Benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 4-n-octyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone and the like. Examples of salicylate-based compounds include pt-butylphenyl salicicate and the like. Benzoate compounds include 2,4-di-t-butylphenyl-3',5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzoate and the like. Triazole compounds include 2,2′-methylenebis[4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-6-(2H-benzotriazol-2-yl)phenol], 2-(3,5 -di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-p-cresol, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4 ,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol, 2-benzotriazol-2-yl-4,6-di-tert-butylphenol, 2-[5-chloro(2H)-benzotriazole-2- yl]-4-methyl-6-t-butylphenol, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-di-t-butylphenol, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4 -(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol and the like. Triazine compounds include 2-[4,6-bis(biphenyl-4-yl)-1,3,6-triazi-2-yl]-5-[(2-ethylhexyl)oxy]phenol, 2-mono (Hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine compound, 2,4-bis(hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine compound, 2,4,6-tris(hydroxyphenyl)-1,3,5 - triazine compounds and the like. Commercially available UV absorbers include, for example, triazine-based UV absorbers Tinuvin (registered trademark) 1577, Tinuvin (registered trademark) 460, Tinuvin (registered trademark) 477 (manufactured by BASF Japan), Adekastab (registered trademark) LA. -F70 (manufactured by ADEKA), Adekastab (registered trademark) LA-31 (manufactured by ADEKA), which is a triazole-based UV absorber, and the like. Only one type of ultraviolet absorber may be used, or two or more types may be used in combination.

酸化防止剤としては、ラジカル捕捉機能または過酸化物分解機能を有する化合物を使用することができ、公知の酸化防止剤を用いることができる。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、ベンゾトリアゾール系酸化防止剤、ベンゾフェノン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、サルチル酸エステル系酸化防止剤、およびトリアジン系酸化防止剤等が挙げられる。これらの酸化防止剤の中でも、本発明のフィルムは、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、およびイオウ系酸化防止剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含有することが好ましい。これによりフィルムの酸化劣化や変色が抑制される。 As the antioxidant, a compound having a radical scavenging function or a peroxide decomposition function can be used, and known antioxidants can be used. Examples of antioxidants include hindered phenol-based antioxidants, hindered amine-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, benzotriazole-based antioxidants, benzophenone-based antioxidants, and hydroxylamine-based antioxidants. Antioxidants, salicylic acid ester-based antioxidants, triazine-based antioxidants, and the like are included. Among these antioxidants, the film of the present invention contains at least one selected from the group consisting of hindered phenol-based antioxidants, hindered amine-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and sulfur-based antioxidants. preferably. This suppresses oxidation deterioration and discoloration of the film.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、2,4-ビス[(ラウリルチオ)メチル]-o-クレゾール、1,3,5-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)、1,3,5-トリス(4-t-ブチル-3-ヒドロキシ-2,6-ジメチルベンジル)、ペンタエリスリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]等が挙げられる。 Hindered phenol antioxidants include 2,4-bis[(laurylthio)methyl]-o-cresol, 1,3,5-tris(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl), 1,3,5-tris(4-t-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl), pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] etc.

ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)セバケート、ビス(N-メチル-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)セバケート、N,N’-ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)-1,6-ヘキサメチレンジアミン、2-メチル-2-(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)アミノ-N-(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)プロピオンアミド、テトラキス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)(1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、ポリ[(6-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)イミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル)((2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ)ヘキサメチル((2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ)]等を使用することができる。 Hindered amine antioxidants include bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis(N-methyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, N,N'-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,6-hexamethylenediamine, 2-methyl-2-(2,2,6,6-tetramethyl-4 -piperidyl)amino-N-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)propionamide, tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)(1,2,3, 4-butanetetracarboxylate, poly[(6-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)imino-1,3,5-triazine-2,4-diyl)((2,2,6,6 -tetramethyl-4-piperidyl)imino)hexamethyl((2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)imino)] and the like can be used.

リン系酸化防止剤としては、トリス(イソデシル)フォスファイト、トリス(トリデシル)フォスファイト、フェニルイソオクチルフォスファイト、フェニルイソデシルフォスファイト、フェニルジ(トリデシル)フォスファイト、ジフェニルイソオクチルフォスファイト、ジフェニルイソデシルフォスファイト、ジフェニルトリデシルフォスファイト、トリフェニルフォスファイト、トリス(ノニルフェニル)フォスファイト、4,4’イソプロピリデンジフェノールアルキルフォスファイト、トリスノニルフェニルフォスファイト、トリスジノニルフェニルフォスファイト、その他フォスファイト構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することができる。 Phosphorus antioxidants include tris(isodecyl)phosphite, tris(tridecyl)phosphite, phenylisooctylphosphite, phenylisodecylphosphite, phenyldi(tridecyl)phosphite, diphenylisooctylphosphite, diphenylisodecyl Phosphite, diphenyltridecylphosphite, triphenylphosphite, tris(nonylphenyl)phosphite, 4,4' isopropylidenediphenol alkylphosphite, trisnonylphenylphosphite, trisdinonylphenylphosphite, other phosphites Structured oligomeric and polymeric type compounds and the like can also be used.

イオウ系酸化防止剤としては、2,2-チオ-ジエチレンビス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,4-ビス[(オクチルチオ)メチル]-o-クレゾール、2,4-ビス[(ラウリルチオ)メチル]-o-クレゾール、テトラキス[メチレン-3-(ドデシルチオ)プロピオネート]メタン等が挙げられる。その他チオエーテル構造を有するオリゴマータイプやポリマータイプの化合物等も使用することができる。 Sulfur antioxidants include 2,2-thio-diethylenebis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 2,4-bis[(octylthio)methyl]- o-cresol, 2,4-bis[(laurylthio)methyl]-o-cresol, tetrakis[methylene-3-(dodecylthio)propionate]methane and the like. In addition, oligomer type or polymer type compounds having a thioether structure can also be used.

本発明のフィルムは、上記に説明したように、共重合体(P)を必須的に含む樹脂組成物をフィルム化することにより形成することができ、当該樹脂組成物はさらに(メタ)アクリル系重合体や添加剤等の他の成分をさらに含んでいてもよい。本発明のフィルムは、延伸フィルムであってもよく、未延伸フィルムであってもよいが、高い機械的強度を発現させる観点から、延伸フィルムであることが好ましい。従って、本発明のフィルムは、共重合体(P)を含む樹脂組成物を延伸することにより形成されることが好ましい。延伸フィルムは、一軸延伸フィルムと二軸延伸フィルムのいずれであってもよいが、二軸延伸フィルムがより好ましい。二軸延伸した場合は、直交する2つの方向に延伸するため、フィルム面内の任意の方向についての機械的強度を向上させることができる。また、フィルムの面内位相差を小さくし、光学等方性の高いフィルムを得やすくなる。 The film of the present invention can be formed by forming a film from a resin composition essentially containing the copolymer (P) as described above, and the resin composition further comprises a (meth)acrylic Other components such as polymers and additives may be further included. The film of the present invention may be a stretched film or an unstretched film, but is preferably a stretched film from the viewpoint of exhibiting high mechanical strength. Therefore, the film of the present invention is preferably formed by stretching the resin composition containing the copolymer (P). The stretched film may be either a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film, but a biaxially stretched film is more preferable. When the film is biaxially stretched, the film is stretched in two directions perpendicular to each other, so that the mechanical strength can be improved in any direction in the plane of the film. In addition, the in-plane retardation of the film is reduced, making it easier to obtain a film with high optical isotropy.

延伸フィルムの延伸倍率は1.2倍以上であることが好ましく、1.4倍以上がより好ましく、1.6倍以上がさらに好ましく、また3.5倍以下が好ましく、3.0倍以下がより好ましく、2.8倍以下がさらに好ましい。二軸延伸する場合は、2つの延伸方向に対する延伸倍率がそれぞれこのような範囲にあることが好ましい。面積比で定義した延伸倍率は、1.2倍以上が好ましく、1.4倍以上がより好ましく、1.6倍以上がさらに好ましく、また12倍以下が好ましく、10倍以下がより好ましく、8倍以下がさらに好ましい。延伸倍率をこのように設定することで、延伸に伴うフィルムの機械的強度の向上等の効果が得やすくなる。 The draw ratio of the stretched film is preferably 1.2 times or more, more preferably 1.4 times or more, still more preferably 1.6 times or more, and preferably 3.5 times or less, and 3.0 times or less. More preferably, 2.8 times or less is even more preferable. In the case of biaxial stretching, it is preferable that the stretching ratios in the two stretching directions are within such ranges. The draw ratio defined by the area ratio is preferably 1.2 times or more, more preferably 1.4 times or more, still more preferably 1.6 times or more, preferably 12 times or less, and more preferably 10 times or less. More preferably less than twice. By setting the draw ratio in this way, it becomes easier to obtain effects such as an improvement in the mechanical strength of the film accompanying the drawing.

延伸フィルムは、例えば溶融押出法によりフィルム成形して延伸することにより、得ることができる。延伸方法としては、従来公知の延伸方法が適用でき、例えば、自由幅一軸延伸、定幅一軸延伸等の一軸延伸;逐次二軸延伸、同時二軸延伸等の二軸延伸;フィルムの延伸時にその片面または両面に収縮性フィルムを接着して積層体を形成し、その積層体を加熱延伸処理してフィルムに延伸方向と直交する方向の収縮力を付与することにより、延伸方向と厚さ方向とにそれぞれ配向した分子群が混在する複屈折性フィルムを得る延伸等が挙げられる。なお、フィルムの耐折性等の機械的強度が向上する観点からは、二軸延伸が好ましく用いられる。 A stretched film can be obtained, for example, by forming a film by a melt extrusion method and stretching the film. As the stretching method, conventionally known stretching methods can be applied, for example, uniaxial stretching such as free width uniaxial stretching and constant width uniaxial stretching; biaxial stretching such as sequential biaxial stretching and simultaneous biaxial stretching; A laminate is formed by adhering a shrinkable film on one or both sides, and the laminate is heated and stretched to apply a shrinkage force in a direction perpendicular to the stretching direction to the film, thereby stretching the film in both the stretching direction and the thickness direction. Examples include stretching for obtaining a birefringent film in which molecular groups oriented in each direction are mixed. From the viewpoint of improving mechanical strength such as folding endurance of the film, biaxial stretching is preferably used.

延伸装置としては、例えば、ロール延伸機、テンター型延伸機、小型の実験用延伸装置として引張試験機、一軸延伸機、逐次二軸延伸機、同時二軸延伸機等が挙げられ、これらいずれの装置を用いることができる。 The stretching apparatus includes, for example, a roll stretching machine, a tenter type stretching machine, and a small experimental stretching apparatus such as a tensile tester, a uniaxial stretching machine, a sequential biaxial stretching machine, a simultaneous biaxial stretching machine, and the like. equipment can be used.

延伸温度としては、延伸に供する樹脂組成物の最も高いガラス転移温度近辺で行うことが好ましい。延伸温度は、例えば最も高いガラス転移温度-30℃以上とすることが好ましく、最も高いガラス転移温度-15℃以上がより好ましく、最も高いガラス転移温度以上がさらに好ましく、また最も高いガラス転移温度+60℃以下が好ましく、最も高いガラス転移温度+50℃以下がより好ましく、最も高いガラス転移温度+45℃以下がさらに好ましい。延伸温度は、フィルムの所望する物性に応じて適宜設定することができる。例えば、より高い機械的強度を有するフィルムを得る場合には、延伸温度を低めに設定、例えば最も高いガラス転移温度+20℃未満に設定すればよい。一方、寸法変化率の小さいフィルムや面内位相差の小さいフィルムを得る場合には、延伸温度を高めに設定、例えば最も高いガラス転移温度+20℃以上、あるいは最も高いガラス転移温度+24℃以上に設定すればよい。これにより高い機械的強度と小さい寸法変化率の両方をバランス良く兼ね備えたフィルムを得やすくなる。なお通常は、このような高い延伸温度で延伸フィルムを製造する場合、フィルムの機械的強度が低下し、耐折強度がほとんど発現しない場合があるところ、本発明のフィルムは共重合体(P)を含有することにより、延伸温度を高く設定しても高い機械的強度を有するフィルムを得ることができる。 The stretching temperature is preferably around the highest glass transition temperature of the resin composition to be stretched. The stretching temperature is, for example, preferably the highest glass transition temperature −30° C. or higher, more preferably the highest glass transition temperature −15° C. or higher, further preferably the highest glass transition temperature or higher, and the highest glass transition temperature +60 ° C. or less is preferable, the highest glass transition temperature +50° C. or less is more preferable, and the highest glass transition temperature +45° C. or less is even more preferable. The stretching temperature can be appropriately set according to the desired physical properties of the film. For example, if a film with higher mechanical strength is to be obtained, the stretching temperature may be set lower, for example below the highest glass transition temperature plus 20°C. On the other hand, when obtaining a film with a small dimensional change rate or a film with a small in-plane retardation, the stretching temperature is set higher, for example, the highest glass transition temperature + 20 ° C. or higher, or the highest glass transition temperature + 24 ° C. or higher. do it. This makes it easier to obtain a film having both high mechanical strength and small dimensional change in good balance. Normally, when a stretched film is produced at such a high stretching temperature, the mechanical strength of the film is reduced and folding endurance may hardly be exhibited. By containing, it is possible to obtain a film having high mechanical strength even if the stretching temperature is set high.

延伸速度(一方向)は、10~20,000%/分の範囲内とすることが好ましく、より好ましくは100~10,000%/分の範囲内である。10%/分よりも遅いと、十分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなる傾向となる。20,000%/分よりも速いと、延伸フィルムの破断等が起こるおそれがある。 The stretching speed (one direction) is preferably in the range of 10 to 20,000%/min, more preferably in the range of 100 to 10,000%/min. When it is slower than 10%/min, it takes time to obtain a sufficient draw ratio, which tends to increase the production cost. If the rate is faster than 20,000%/min, the stretched film may break.

延伸フィルムは、光学特性や機械的特性を安定させるために、延伸後、必要に応じて熱処理(アニーリング)を施してもよい。この場合、ガラス転移温度+20℃以上で熱処理を施すことにより、高い機械的強度と小さい寸法変化率の両方をバランス良く兼ね備えたフィルムを得やすくなる。なお、延伸後の熱処理(アニーリング)は施さなくてもよい。 In order to stabilize optical properties and mechanical properties, the stretched film may be subjected to heat treatment (annealing) after stretching, if necessary. In this case, by performing heat treatment at a glass transition temperature of +20° C. or higher, it becomes easier to obtain a film having both high mechanical strength and small dimensional change rate in good balance. Note that heat treatment (annealing) after stretching may not be performed.

樹脂組成物をフィルム成形するのに先立って、樹脂組成物を濾過する工程(濾過工程)を設けてもよい。濾過工程を行うことにより、樹脂組成物中の異物量を低減することができ、これにより表面凹凸や欠点が少なく透明性の高いフィルムを得やすくなる。濾過工程は、上記に説明した重合工程または環構造形成工程に引き続いて連続的に実施することができる。 A step of filtering the resin composition (filtration step) may be provided prior to forming the resin composition into a film. By carrying out the filtration step, the amount of foreign matter in the resin composition can be reduced, thereby making it easier to obtain a highly transparent film with few surface irregularities and defects. The filtration step can be carried out continuously after the polymerization step or ring structure formation step explained above.

濾過に用いるフィルタとしては、従来公知のフィルタを使用することができ、特に制限されないが、例えば、リーフディスクフィルタ、キャンドルフィルタ、パックディスクフィルタ、円筒型フィルタ等を用いることができる。なかでも、有効濾過面積が大きいリーフディスクフィルタまたはキャンドルフィルタを用いることが好ましい。 As a filter used for filtration, conventionally known filters can be used, and there is no particular limitation. For example, leaf disc filters, candle filters, pack disc filters, cylindrical filters and the like can be used. Among them, it is preferable to use a leaf disk filter or a candle filter, which has a large effective filtration area.

フィルタの濾過精度(孔径)は、通常は、例えば15μm以下であればよい。なお、本発明のフィルムを光学用途に用いる場合は、その光学的欠点低減の点から、濾過精度は10μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましい。濾過精度の下限は特に限定されず、例えば0.2μm以上である。 The filtration accuracy (pore size) of the filter is usually, for example, 15 μm or less. When the film of the present invention is used for optical applications, the filtration accuracy is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less, from the viewpoint of reducing optical defects. The lower limit of filtration accuracy is not particularly limited, and is, for example, 0.2 μm or more.

本発明のフィルムは、上記のように構成され、高い機械的強度を備えるものとなる。具体的には、本発明のフィルムは、JIS P 8115(2001)に基づくMIT試験による耐折回数が1000回以上となる。例えば、ポリメチルメタクリレートや特開2008-191426号公報に開示されるような主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系重合体の場合、これを延伸フィルム化しても、このような高い機械的強度を付与することは難しく、MIT試験による耐折回数はせいぜい数100回程度に留まる。しかし本発明のフィルムは、上記に説明した共重合体(P)を含むことにより、高い機械的強度を備えるものとなり、耐折回数が1000回以上のものとすることができる。本発明のフィルムは、耐折回数が1500回以上であることが好ましく、1800回以上がより好ましく、2200回以上がさらに好ましい。耐折回数はまた、4000回以上であってもよく、6000回以上であってもよく、8000回以上であってもよい。耐折回数の上限は特に限定されない。このような高い機械的強度を有するフィルムは、共重合体(P)を含む樹脂組成物を延伸フィルム化することにより、容易に得ることができる。MIT試験による耐折回数は実施例に記載の方法により求める。耐折回数は、いずれかの方向に折り曲げたときの耐折回数が上記範囲にあることが好ましく、任意の直交する2方向にそれぞれ折り曲げたときの耐折回数が上記範囲にあることがより好ましい。 The film of the present invention is constructed as described above and has high mechanical strength. Specifically, the film of the present invention has a folding endurance of 1000 times or more according to the MIT test based on JIS P 8115 (2001). For example, in the case of a (meth)acrylic polymer having a lactone ring structure in the main chain as disclosed in polymethyl methacrylate or JP-A-2008-191426, even if it is made into a stretched film, such a high mechanical It is difficult to impart sufficient strength, and the folding endurance in the MIT test is at most several hundred times. However, since the film of the present invention contains the copolymer (P) described above, it has high mechanical strength and can be folded 1000 times or more. The film of the present invention preferably has a folding endurance of 1500 times or more, more preferably 1800 times or more, and even more preferably 2200 times or more. The folding endurance may be 4000 times or more, 6000 times or more, or 8000 times or more. The upper limit of the folding endurance is not particularly limited. A film having such high mechanical strength can be easily obtained by stretching a resin composition containing the copolymer (P) into a film. The folding endurance number by the MIT test is determined by the method described in Examples. The number of folding endurances is preferably within the above range when folded in either direction, and more preferably within the above range when folded in two arbitrary orthogonal directions. .

本発明のフィルムは、温度85℃、湿度85%RHの雰囲気下に120時間置いたときの寸法変化率の絶対値が1.2%以下であることが好ましく、1.0%以下がより好ましく、0.7%以下がさらに好ましい。樹脂組成物を延伸してフィルム形成した場合、樹脂組成物に含まれる重合体が延伸方向に沿って配向することにより、残留応力が発生しやすくなる。このような残留応力は、フィルムを高温高湿下に置いたときに、配向緩和に伴う寸法変化を生じさせる原因となる。しかし本発明のフィルムは、比較的高温で成形することができ、これによりフィルム内での重合体の配向が弱まり、配向緩和に伴う寸法変化率を低減することができる。しかも本発明のフィルムは、比較的高温で成形しても、高い機械的強度を付与することが可能となる。フィルムの寸法変化率は実施例に記載の方法により求める。 The absolute value of the dimensional change rate of the film of the present invention is preferably 1.2% or less, more preferably 1.0% or less, when placed in an atmosphere of 85° C. and 85% RH for 120 hours. , is more preferably 0.7% or less. When the resin composition is stretched to form a film, the polymer contained in the resin composition is oriented along the stretching direction, and residual stress tends to occur. Such residual stress causes a dimensional change due to orientation relaxation when the film is placed under high temperature and high humidity. However, the film of the present invention can be formed at a relatively high temperature, which weakens the orientation of the polymer within the film and reduces the rate of dimensional change that accompanies the relaxation of the orientation. Moreover, the film of the present invention can be imparted with high mechanical strength even when molded at a relatively high temperature. The dimensional change rate of the film is determined by the method described in Examples.

本発明のフィルムは、温度85℃、湿度85%RHの雰囲気下に120時間置いたときの吸水率が1.8質量%以下であることが好ましく、1.5質量%以下がより好ましく、1.3質量%以下がさらに好ましい。例えばポリメチルメタクリレートから形成したフィルムは、吸水によって可塑化しやすくなるところ、本発明のフィルムは吸水率が低く、高湿下での可塑化も起こりにくい。吸水率は実施例に記載の方法により求める。 The film of the present invention preferably has a water absorption rate of 1.8% by mass or less, more preferably 1.5% by mass or less when placed in an atmosphere of 85° C. temperature and 85% RH for 120 hours. 0.3 mass % or less is more preferable. For example, a film formed from polymethyl methacrylate tends to be plasticized by absorbing water, whereas the film of the present invention has a low water absorption rate and is less likely to be plasticized under high humidity. The water absorption is determined by the method described in Examples.

本発明のフィルムは、波長590nmの光に対する面内位相差Reが10nm以下であることが好ましく、5nm以下がより好ましく、2nm以下がさらに好ましく、0.8nm以下がさらにより好ましい。本発明のフィルムは比較的高温で成形することによって、配向複屈折に由来する面内位相差Reを低いものとすることができ、これにより、低位相差を求められる光学用途に好適に適用することができる。なお、延伸温度を低めに設定することにより、面内位相差Reを高いフィルムを得ることも可能である。面内位相差Reは、Re=(nx-ny)×dで定義され、nxはフィルム面内の遅相軸方向(フィルム面内で屈折率が最大となる方向)の屈折率、nyはフィルム面内でnxと垂直方向の屈折率、dはフィルムの厚さ(nm)を表す。面内位相差Reの下限値は0nmである。 The film of the present invention preferably has an in-plane retardation Re of 10 nm or less, more preferably 5 nm or less, still more preferably 2 nm or less, and even more preferably 0.8 nm or less with respect to light having a wavelength of 590 nm. By molding the film of the present invention at a relatively high temperature, the in-plane retardation Re derived from orientation birefringence can be made low, so that it can be suitably applied to optical applications that require a low retardation. can be done. A film having a high in-plane retardation Re can be obtained by setting the stretching temperature to a lower value. In-plane retardation Re is defined as Re = (nx-ny) × d, nx is the refractive index in the slow axis direction in the film plane (the direction in which the refractive index is maximized in the film plane), ny is the film In-plane nx and perpendicular refractive index, d represents the thickness (nm) of the film. The lower limit of the in-plane retardation Re is 0 nm.

本発明のフィルムの厚さ方向の位相差Rthは特に限定されないが、波長590nmの光に対する厚さ方向の位相差Rthが-100nm以上100nm以下が好ましく、-30nm以上30nm以下がより好ましく、-10nm以上10nm以下がさらに好ましい。これにより良好な視野角特性やコントラスト特性を示すものとなる。厚さ方向の位相差Rthは、Rth=d×{(nx+ny)/2-nz}で定義され、nzはフィルム厚み方向の屈折率を表す。 The thickness direction retardation Rth of the film of the present invention is not particularly limited, but the thickness direction retardation Rth for light with a wavelength of 590 nm is preferably −100 nm or more and 100 nm or less, more preferably −30 nm or more and 30 nm or less, and −10 nm. 10 nm or less is more preferable. As a result, good viewing angle characteristics and contrast characteristics are exhibited. The thickness direction retardation Rth is defined by Rth=d×{(nx+ny)/2−nz}, where nz represents the refractive index in the film thickness direction.

本発明のフィルムは、厚さ100μmあたりの内部ヘイズが2.0%以下であることが好ましく、1.0%以下がより好ましく、0.5%以下がさらに好ましい。これにより、透明性に優れたフィルムとすることができる。 The film of the present invention preferably has an internal haze of 2.0% or less, more preferably 1.0% or less, even more preferably 0.5% or less per 100 µm of thickness. Thereby, it can be set as the film excellent in transparency.

本発明のフィルムは、耐熱性を高める観点から、110℃以上の温度範囲にガラス転移温度を有することが好ましい。前記ガラス転移温度は、好ましくは115℃以上であり、さらに好ましくは120℃以上である。また、フィルム形成の際の加工性を高める観点から、前記ガラス転移温度は300℃未満が好ましく、200℃未満がより好ましく、180℃未満がさらに好ましい。 The film of the present invention preferably has a glass transition temperature in the temperature range of 110° C. or higher from the viewpoint of enhancing heat resistance. The glass transition temperature is preferably 115° C. or higher, more preferably 120° C. or higher. In addition, from the viewpoint of enhancing workability during film formation, the glass transition temperature is preferably less than 300°C, more preferably less than 200°C, and even more preferably less than 180°C.

上記に説明したガラス転移温度を高温側のガラス転移温度とした場合、本発明のフィルムは、それよりも110℃未満の温度範囲にさらに低温側のガラス転移温度を有することが好ましい。フィルムが、このような低温側のガラス転移温度を有していれば、フィルムの機械的強度や耐衝撃性を高めることができる。低温側のガラス転移温度は、50℃未満が好ましく、30℃未満がより好ましく、10℃未満がさらに好ましく、また-100℃以上が好ましく、-90℃以上がより好ましく、-80℃以上がさらに好ましい。 When the glass transition temperature described above is taken as the glass transition temperature on the high-temperature side, the film of the present invention preferably has a glass transition temperature on the low-temperature side within a temperature range of less than 110°C. If the film has such a glass transition temperature on the low temperature side, the mechanical strength and impact resistance of the film can be enhanced. The glass transition temperature on the low temperature side is preferably less than 50°C, more preferably less than 30°C, still more preferably less than 10°C, preferably -100°C or higher, more preferably -90°C or higher, and further -80°C or higher. preferable.

フィルムの厚さは、その用途によって好適範囲が異なるため一概に定めることができないが、フィルムの強度を確保する観点から、1μm以上が好ましく、5μm以上がより好ましく、20μm以上がさらに好ましい。一方、フィルムの薄型化の観点から、フィルムの厚さは350μm以下が好ましく、200μm以下がより好ましく、150μm以下がさらに好ましい。フィルムの厚さは、例えば、ミツトヨ社製のデジマチックマイクロメーターを用いて測定することができる。 The thickness of the film cannot be unconditionally determined because the suitable range differs depending on the application, but from the viewpoint of ensuring the strength of the film, it is preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, and even more preferably 20 μm or more. On the other hand, from the viewpoint of thinning the film, the thickness of the film is preferably 350 μm or less, more preferably 200 μm or less, and even more preferably 150 μm or less. The thickness of the film can be measured, for example, using a Mitutoyo Digimatic Micrometer.

本発明のフィルムは、透明性に優れることから、光学用フィルムとして好適に用いることができる。光学用フィルムとしては、例えば、光学用保護フィルム(具体的には、各種の光ディスク(VD、CD、DVD、MD、LDなど)の基板の保護フィルム)、液晶ディスプレイなどの画像表示装置が備える偏光板に用いる偏光子保護フィルム、視野角補償フィルム、光拡散フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィルム、タッチパネル用導電フィルム、位相差フィルム、光変換用フィルム等が挙げられる。 Since the film of the present invention is excellent in transparency, it can be suitably used as an optical film. Examples of optical films include optical protective films (specifically, protective films for substrates of various optical discs (VD, CD, DVD, MD, LD, etc.)), and polarized light provided in image display devices such as liquid crystal displays. Examples include polarizer protective films, viewing angle compensation films, light diffusion films, reflective films, antireflection films, antiglare films, brightness enhancement films, conductive films for touch panels, retardation films, and light conversion films used for plates.

光学用フィルムは、他の光学材料が積層されて構成されていてもよい。他の光学材料が積層されることにより、フィルムにさらに光学特性を付与することができる。他の光学材料としては、例えば、偏光板、ポリカーボネート製延伸配向フィルム、環状ポリオレフィン製延伸配向フィルム等が挙げられる。 The optical film may be configured by laminating other optical materials. Further optical properties can be imparted to the film by laminating other optical materials. Other optical materials include, for example, polarizing plates, stretched and oriented films made of polycarbonate, and stretched and oriented films made of cyclic polyolefin.

光学用フィルムの表面には、必要に応じて、各種機能性コーティング層が設けられてもよい。機能性コーティング層としては、例えば、帯電防止層、粘接着剤層、接着層、易接着層、防眩(ノングレア)層、光触媒層等の防汚層、反射防止層、ハードコート層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層、電磁波遮蔽層、ガスバリヤー層等が挙げられる。また、光学用フィルムの表面に、入射する光線の透過率または反射率を適宜調整するための光学調整層が設けられていてもよい。 Various functional coating layers may be provided on the surface of the optical film, if necessary. Functional coating layers include, for example, an antistatic layer, an adhesive layer, an adhesive layer, an easy adhesive layer, an antiglare (non-glare) layer, an antifouling layer such as a photocatalyst layer, an antireflection layer, a hard coat layer, an ultraviolet A shielding layer, a heat ray shielding layer, an electromagnetic wave shielding layer, a gas barrier layer and the like can be mentioned. Further, an optical adjustment layer for appropriately adjusting the transmittance or reflectance of incident light may be provided on the surface of the optical film.

本発明のフィルムは、特に偏光子保護フィルムに好適に用いることができる。この場合、偏光子の片面または両面に光学用フィルム(偏光子保護フィルム)を設けて、偏光板を構成すればよい。光学用フィルム(偏光子保護フィルム)は、偏光子に直接または別の層を介して間接的に接着剤や粘着剤で固定されることが好ましい。 The film of the present invention is particularly suitable for use as a polarizer protective film. In this case, the polarizing plate may be constructed by providing an optical film (polarizer protective film) on one or both sides of the polarizer. The optical film (polarizer protective film) is preferably fixed directly to the polarizer or indirectly via another layer with an adhesive or adhesive.

偏光子の種類は特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコールフィルムを染色および延伸した偏光子;脱水処理したポリビニルアルコールまたは脱塩酸処理したポリ塩化ビニルなどのポリエン偏光子;多層積層体あるいはコレステリック液晶を用いた反射型偏光子;薄膜結晶フィルムからなる偏光子等が挙げられる。偏光板の構造の一例としては、ポリビニルアルコールをヨウ素または二色性染料などの二色性物質により染色した後に一軸延伸して偏光子を得て、この偏光子の片面または両面に偏光子保護フィルム(光学用フィルム)を設けた構造が挙げられる。 The type of polarizer is not particularly limited, for example, a polarizer obtained by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol film; a reflective polarizer; and a polarizer made of a thin crystal film. As an example of the structure of the polarizing plate, polyvinyl alcohol is dyed with iodine or a dichroic substance such as a dichroic dye, and then uniaxially stretched to obtain a polarizer, and a polarizer protective film is provided on one or both sides of the polarizer. (Optical film) is provided.

光学用フィルムは、表面に透明導電層を形成することにより、透明導電フィルムとして用いることもできる。透明導電層を構成する材料としては、従来、当該分野で導電性材料として用いられているものがいずれも使用可能であり、具体的には、有機導電性化合物;有機導電性ポリマー;酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム-スズ酸化物(ITO)、アンチモン-スズ酸化物(ATO)、亜鉛-アルミニウム酸化物、インジウム-亜鉛酸化物(IZO)等の金属酸化物;金、銀、銅、パラジウム、アルミニウム等の金属が挙げられる。 The optical film can also be used as a transparent conductive film by forming a transparent conductive layer on the surface. As the material constituting the transparent conductive layer, any of those conventionally used as a conductive material in the relevant field can be used. Specifically, organic conductive compounds; organic conductive polymers; indium oxide; Metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-tin oxide (ATO), zinc-aluminum oxide, indium-zinc oxide (IZO); gold, silver, copper, Metals such as palladium and aluminum are included.

光学用フィルム(例えば、偏光子保護フィルム、透明導電フィルム)は、画像表示装置に好適に用いることができる。画像表示装置としては、例えば、液晶表示装置等が挙げられる。例えば液晶表示装置の場合、画像表示部が、液晶セル、偏光板、バックライト等の部材とともに、本発明のフィルムを有するように構成することができる。液晶表示装置以外の画像表示装置としては、例えば、エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル(PDP)、電界放出ディスプレイ(FED)、QLED、マイクロLED等が挙げられる。 An optical film (for example, a polarizer protective film, a transparent conductive film) can be suitably used for an image display device. Examples of image display devices include liquid crystal display devices. For example, in the case of a liquid crystal display device, the image display section can be configured to have the film of the present invention together with members such as a liquid crystal cell, a polarizing plate and a backlight. Examples of image display devices other than liquid crystal display devices include electroluminescence (EL) display panels, plasma display panels (PDP), field emission displays (FED), QLEDs, and micro LEDs.

以下、本発明を実施例および比較例を示すことにより具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下の説明では特に断らない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を表す。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below by showing Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these. In the following description, "part" means "mass part" and "%" means "% by mass" unless otherwise specified.

(1)分析方法
(1-1)重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)
重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用い、ポリスチレン換算により求めた。測定に用いた装置および測定条件は以下の通りである。
-測定システム:東ソー社製、GPCシステムHLC-8220
-測定側カラム構成
ガードカラム:東ソー社製、TSKguardcolumn SuperHZ-L
分離カラム:東ソー社製、TSKgel SuperHZM-M 2本直列接続
-リファレンス側カラム構成
リファレンスカラム:東ソー製、TSKgel SuperH-RC
-展開溶媒:クロロホルム(和光純薬工業社製、特級)
-溶媒流量:0.6mL/分
-標準試料:TSK標準ポリスチレン(東ソー社製、PS-オリゴマーキット)
(1) Analysis method (1-1) Weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn)
The weight average molecular weight and number average molecular weight were determined by polystyrene conversion using gel permeation chromatography (GPC). The apparatus and measurement conditions used for the measurement are as follows.
-Measurement system: GPC system HLC-8220 manufactured by Tosoh Corporation
- Column configuration on the measurement side Guard column: TSKguardcolumn SuperHZ-L manufactured by Tosoh Corporation
Separation column: TSKgel SuperHZM-M, manufactured by Tosoh Corporation 2 columns connected in series - reference side column configuration Reference column: TSKgel SuperH-RC, manufactured by Tosoh Corporation
- Developing solvent: chloroform (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, special grade)
- Solvent flow rate: 0.6 mL / min - Standard sample: TSK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation, PS-oligomer kit)

(1-2)ガラス転移温度(Tg)
ガラス転移温度は、JIS K 7121(2012)に準拠して求めた。具体的には、示差走査熱量計(リガク製、Thermo plus EVO DSC-8230)を用い、窒素ガス雰囲気下、サンプルを常温から200℃まで昇温(昇温速度20℃/分)して得られたDSC曲線から、始点法により評価した。リファレンスにはα-アルミナを用いた。40℃未満のガラス転移温度は示差走査熱量計(ネッチ社製、DSC-3500)を用い、窒素ガス雰囲気下、サンプルを-100℃から60℃まで昇温(昇温速度10℃/分)して得られたDSC曲線から、始点法により評価した。リファレンスには空の容器を用いた。
(1-2) glass transition temperature (Tg)
The glass transition temperature was obtained according to JIS K 7121 (2012). Specifically, using a differential scanning calorimeter (Thermo plus EVO DSC-8230 manufactured by Rigaku), a sample was heated from normal temperature to 200 ° C. (heating rate 20 ° C./min) in a nitrogen gas atmosphere. From the obtained DSC curve, it was evaluated by the starting point method. α-alumina was used as a reference. A glass transition temperature of less than 40°C was measured by using a differential scanning calorimeter (DSC-3500, manufactured by Netsch Co.) and heating the sample from -100°C to 60°C in a nitrogen gas atmosphere (heating rate: 10°C/min). It was evaluated by the starting point method from the DSC curve obtained by the method. An empty container was used as a reference.

(1-3)モノマー転化率
モノマー転化率(反応率)は、ガスクロマトグラフィー(島津製作所社製、GC-2014)を用いて、重合反応液中の残存単量体量を測定することにより求めた。
(1-3) Monomer conversion rate Monomer conversion rate (reaction rate) is obtained by measuring the amount of residual monomer in the polymerization reaction solution using gas chromatography (manufactured by Shimadzu Corporation, GC-2014). rice field.

(1-4)オレフィン性二重結合量
オレフィン性の二重結合量はヨウ素滴定により求めた。サンプルを0.1~3g秤量してトルエン20gに溶解させた後、ウィイス試液(0.1mol/L塩化ヨウ素・酢酸溶液、和光純薬工業社製)12.5mLを加えて撹拌し、1時間静置した。ここに10w/v%ヨウ化カリウム溶液(キシダ化学社製)を10mLとイオン交換水50mLを加えよく撹拌した後、でんぷん溶液(キシダ化学社製)を数滴加えさらに撹拌した。液をよく撹拌しながら0.1mol/Lチオ硫酸ナトリウム溶液(和光純薬工業社製)で滴定を行い、ヨウ素の着色がなくなったときを終点とした。また、サンプルを用いない空試験も実施した。サンプル中のオレフィン性二重結合量は以下の式で求めた。
オレフィン性二重結合量(mmol/g)=(A-B)×F×x/(2×C×d)
A:空試験のチオ硫酸ナトリウム量(g)
B:本試験のチオ硫酸ナトリウム量(g)
F:チオ硫酸ナトリウムファクター
x:チオ硫酸ナトリウム濃度(0.1mol/L)
C:サンプル量(g)
d:チオ硫酸ナトリウム密度(1.01g/mL)
(1-4) Amount of Olefinic Double Bonds The amount of olefinic double bonds was obtained by iodometric titration. After weighing 0.1 to 3 g of the sample and dissolving it in 20 g of toluene, add 12.5 mL of Wiiss' test solution (0.1 mol/L iodine chloride/acetic acid solution, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and stir for 1 hour. left undisturbed. 10 mL of 10 w/v % potassium iodide solution (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) and 50 mL of deionized water were added thereto and stirred well, and then several drops of starch solution (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) were added and further stirred. Titration was performed with a 0.1 mol/L sodium thiosulfate solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) while stirring the liquid well, and the end point was when the iodine coloration disappeared. A blank test was also conducted without using any sample. The amount of olefinic double bonds in the sample was determined by the following formula.
Olefinic double bond amount (mmol/g) = (AB) x F x x/(2 x C x d)
A: Amount of sodium thiosulfate in blank test (g)
B: Sodium thiosulfate amount (g) in this test
F: sodium thiosulfate factor x: sodium thiosulfate concentration (0.1 mol / L)
C: sample amount (g)
d: sodium thiosulfate density (1.01 g/mL)

(1-5)内部ヘイズ(厚さ100μmあたりの内部ヘイズ)
石英セルに1,2,3,4-テトラヒドロナフタリン(テトラリン)を満たし、その中に実施例で作製した延伸フィルムを浸漬し、ヘイズメーター(日本電色工業社製、NDH-5000)を用いてヘイズを測定し、次式に従って厚さ100μmあたりの内部ヘイズを算出した:厚さ100μmあたりの内部ヘイズ(%)=得られた測定値(%)×(100μm/フィルムの厚さ(μm))。なお、測定は3枚のフィルムを用いて行い、その平均値から厚さ100μmあたりの内部ヘイズを算出した。
(1-5) Internal haze (internal haze per 100 μm thickness)
A quartz cell is filled with 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene (tetralin), the stretched film prepared in the example is immersed therein, and a haze meter (NDH-5000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) is used. The haze was measured and the internal haze per 100 μm thickness was calculated according to the following formula: internal haze (%) per 100 μm thickness = obtained measured value (%) × (100 μm/film thickness (μm)). . The measurement was performed using three films, and the internal haze per 100 μm thickness was calculated from the average value.

(1-6)MIT試験による耐折回数
実施例で作製した延伸フィルムを90mm×15mmの大きさに切り出して試験片とし、MIT耐折度試験機(テスター産業社製、BE-201)を用いて、温度23℃、相対湿度50%の雰囲気中で荷重200gを加え、JIS P 8115(2001)に基づきMIT耐折度試験を行い耐折回数を測定した。試験片は、延伸の際のMD方向またはTD方向が長手方向となるように切り出し、MD方向が長手方向となる試験片を用いたときの試験結果をMD方向の耐折回数とし、TD方向が長手方向となる試験片を用いたときの試験結果をTD方向の耐折回数として求めた。未延伸フィルムの場合は、任意の直交する2方向の耐折回数を求めた。
(1-6) Folding endurance number by MIT test The stretched film prepared in the example was cut into a size of 90 mm × 15 mm and used as a test piece, and an MIT folding endurance tester (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd., BE-201) was used. Then, a load of 200 g was applied in an atmosphere with a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%, and an MIT folding endurance test was performed based on JIS P 8115 (2001) to measure the number of folding endurances. The test piece is cut out so that the MD or TD direction during stretching is the longitudinal direction, and the test result when using a test piece whose longitudinal direction is the MD direction is the number of folds in the MD direction, and the TD direction is The test result when using a test piece in the longitudinal direction was obtained as the number of folding endurances in the TD direction. In the case of an unstretched film, the number of folding endurances in two arbitrary orthogonal directions was determined.

(1-7)吸水率
実施例で作製した延伸フィルムを100mm×100mmの大きさに切り出し、真空乾燥機を用いて、温度40℃、真空下で一晩絶乾処理を行い、試験片とした。試験前の試験片の質量をmg単位(小数点第一位)で測定した。試験片を恒温恒湿器(ADVANTEC社製、THE051FA)に入れ、温度85℃、相対湿度85%の雰囲気下に120時間置いた後、恒温恒湿器から取り出した直後の試験片の質量を測定した。試験前後の試験片の質量変化から吸水率を求めた。
(1-7) Water Absorption Rate The stretched film prepared in the example was cut into a size of 100 mm × 100 mm, and subjected to absolute drying treatment overnight under vacuum at a temperature of 40 ° C. using a vacuum dryer to obtain a test piece. . The mass of the specimen before testing was measured in mg (1 decimal place). Place the test piece in a thermo-hygrostat (THE051FA manufactured by ADVANTEC), place it in an atmosphere of 85°C and 85% relative humidity for 120 hours, and then measure the mass of the test piece immediately after taking it out of the thermo-hygrostat. bottom. The water absorption was obtained from the mass change of the test piece before and after the test.

(1-8)寸法変化率
実施例で作製した延伸フィルムを100mm×100mmの大きさに切り出し、真空乾燥機を用いて、温度40℃、真空下で一晩絶乾処理を行い、試験片とした。試験前の試験片の内側80mm×80mm四方を40mm間隔で、縦方向(MD方向)3箇所と横方向(TD方向)3箇所マークし、縦方向のマーク間距離と横方向のマーク間距離をデジタルノギスにより計測した。試験片を恒温恒湿器(ADVANTEC社製、THE051FA)に入れ、温度85℃、相対湿度85%の雰囲気下に120時間置いた後、恒温恒湿器から取り出した直後の試験片の縦方向のマーク間距離と横方向のマーク間距離をデジタルノギスにより計測した。試験前後の試験片のマーク間距離の変化から寸法変化率を求めた。
(1-8) Dimensional change rate The stretched film prepared in the example was cut into a size of 100 mm × 100 mm, and was dried overnight under vacuum at a temperature of 40 ° C. using a vacuum dryer. bottom. Before the test, 80 mm × 80 mm square inside the test piece was marked at 40 mm intervals, 3 points in the vertical direction (MD direction) and 3 points in the horizontal direction (TD direction), and the distance between the marks in the vertical direction and the distance between the marks in the horizontal direction Measured with a digital vernier caliper. Place the test piece in a constant temperature and humidity chamber (THE051FA manufactured by ADVANTEC) and place it in an atmosphere of 85 ° C. temperature and 85% relative humidity for 120 hours. The distance between marks and the distance between marks in the horizontal direction were measured with digital calipers. The dimensional change rate was obtained from the change in the distance between the marks of the test piece before and after the test.

(1-9)位相差
実施例で作製した延伸フィルムを、全自動複屈折計(王子計測機器社製、KOBRA-WR)を用いて、入射角40°の条件で、波長590nmの光に対する面内位相差Reと厚さ方向の位相差Rthを測定した。フィルムの面内における遅相軸方向の屈折率をnx、フィルムの面内における進相軸方向の屈折率をny、フィルムの厚さ方向の屈折率をnz、フィルムの厚さをdとして、下記式から面内位相差Reと厚さ方向の位相差Rthをそれぞれ求めた。
面内位相差Re=(nx-ny)×d
厚み方向位相差Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d
(1-9) Retardation Using a fully automatic birefringence meter (KOBRA-WR, manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.), the stretched film prepared in the example was subjected to a light with a wavelength of 590 nm under the condition of an incident angle of 40 °. The internal retardation Re and the thickness direction retardation Rth were measured. The refractive index in the slow axis direction in the plane of the film is nx, the refractive index in the fast axis direction in the plane of the film is ny, the refractive index in the thickness direction of the film is nz, and the thickness of the film is d. The in-plane retardation Re and the thickness direction retardation Rth were obtained from the equations.
In-plane retardation Re=(nx−ny)×d
Thickness direction retardation Rth = [(nx + ny) / 2-nz] × d

(2)樹脂組成物の製造
(2-1)調製例1:樹脂組成物R1の調製
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応器に、SEBSトリブロック共重合体として、タフテック(登録商標)P1083(旭化成社製、オレフィン性二重結合量2.01mmol/g、スチレン単位含有量20質量%、屈折率1.500)を6部とタフテック(登録商標)H1052(旭化成社製、オレフィン性二重結合量0.27mmol/g、スチレン単位含有量20質量%、屈折率1.500)を4部、メタクリル酸メチル(MMA)73.8部、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル(MHMA)10.8部、n-ドデシルメルカプタン(nDM)0.025部、重合溶媒としてトルエン100部を仕込み、これに窒素を通じつつ105℃まで昇温し、開始剤としてt-ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート(化薬アクゾ社製、カヤカルボン(登録商標)Bic75)を0.06部加えた。重合反応の開始を確認した後、スチレン(St)5.4部を3時間かけて一定速度で添加し、スチレンの滴下開始と同時に0.185部のカヤカルボン(登録商標)Bic75を1部のトルエンに希釈したものを4時間かけて一定速度で滴下しながら105℃~110℃で溶液重合を行い、さらにカヤカルボン(登録商標)Bic75の滴下終了後2時間熟成を行った。ここに環化触媒としてリン酸ステアリル0.07部を加え、90℃~110℃の還流下で2時間環化反応を行い、得られた反応液に、酸化防止剤としてアデカスタブ(登録商標)AO-412Sおよびアデカスタブ(登録商標)AO-60(ともにADEKA社製)をそれぞれ0.05部加えた。これにより、MMAとMHMAとStから重合形成され、主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系共重合体と、当該共重合体鎖がSEBSトリブロック共重合体鎖のジエン/オレフィン由来の単位に結合したグラフト共重合体とを含む樹脂組成物が得られた。重合反応液中の残存単量体量より算出したMMAの転化率は94%、MHMAの転化率は94%、Stの転化率は99%であった。転化率から計算したSEBSトリブロック共重合体鎖に結合している(メタ)アクリル系共重合体鎖と、(メタ)アクリル系共重合体の組成比(質量基準)は、MMA:MHMA:St=82.6:11.9:5.5であり、環構造単位の含有率は22.0質量%であった。
次に得られた重合反応液を、オートクレーブに入れ240℃で1時間加熱処理を行った後、リアベント数が1個、フォアベント数が2個のベントタイプスクリュー二軸押出機(L/D:45)内に樹脂換算で600g/hの処理速度で導入し、この押出機内で脱揮を行い、押し出すことにより、透明な樹脂組成物R1のペレットを得た。なお、二軸押出機の運転条件は、バレル温度260℃、回転数300rpm、減圧度13.3~400hPa(10~300mmHg)であった。得られた樹脂組成物R1の重量平均分子量は15.5万、数平均分子量は5.5万、高温側のガラス転移温度は122℃、低温側のガラス転移温度は-54℃、屈折率は1.501であった。
(2) Production of Resin Composition (2-1) Preparation Example 1: Preparation of Resin Composition R1 Into a reactor equipped with a stirrer, temperature sensor, cooling pipe, and nitrogen introduction pipe, SEBS triblock copolymer, 6 parts of Tuftec (registered trademark) P1083 (manufactured by Asahi Kasei Corporation, olefinic double bond content 2.01 mmol / g, styrene unit content 20% by mass, refractive index 1.500) and Tuftec (registered trademark) H1052 (Asahi Kasei Corporation 4 parts of olefinic double bond content 0.27 mmol / g, styrene unit content 20 mass%, refractive index 1.500), 73.8 parts of methyl methacrylate (MMA), 2-(hydroxymethyl) acrylic 10.8 parts of methyl acid (MHMA), 0.025 parts of n-dodecyl mercaptan (nDM), and 100 parts of toluene as a polymerization solvent were charged, and the temperature was raised to 105°C while nitrogen was passed therethrough. 0.06 part of oxyisopropyl carbonate (manufactured by Kayaku Akzo Co., Ltd., Kayacarbon (registered trademark) Bic75) was added. After confirming the start of the polymerization reaction, 5.4 parts of styrene (St) was added at a constant rate over 3 hours. solution polymerization was carried out at 105° C. to 110° C. while dropping at a constant rate over 4 hours. 0.07 part of stearyl phosphate as a cyclization catalyst is added thereto, and the cyclization reaction is carried out under reflux at 90° C. to 110° C. for 2 hours. -412S and ADEKA STAB (registered trademark) AO-60 (both manufactured by ADEKA) were each added in an amount of 0.05 part. As a result, a (meth)acrylic copolymer polymerized from MMA, MHMA and St and having a lactone ring structure in the main chain, and a diene/olefin-derived copolymer chain in which the copolymer chain is a SEBS triblock copolymer chain A resin composition comprising the graft copolymer attached to the units was obtained. The conversion rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 94%, the conversion rate of MHMA was 94%, and the conversion rate of St was 99%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic copolymer chain bonded to the SEBS triblock copolymer chain calculated from the conversion rate and the (meth)acrylic copolymer is MMA:MHMA:St = 82.6:11.9:5.5, and the content of the ring structural unit was 22.0% by mass.
Next, the obtained polymerization reaction solution was placed in an autoclave and heat-treated at 240 ° C. for 1 hour, and then a vent type screw twin screw extruder (L / D: 45) at a processing rate of 600 g/h in terms of resin, devolatilized in this extruder, and extruded to obtain pellets of transparent resin composition R1. The operating conditions of the twin-screw extruder were a barrel temperature of 260° C., a rotation speed of 300 rpm, and a degree of pressure reduction of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg). The resulting resin composition R1 had a weight average molecular weight of 155,000, a number average molecular weight of 55,000, a glass transition temperature of 122° C. on the high temperature side, a glass transition temperature of −54° C. on the low temperature side, and a refractive index of was 1.501.

(2-2)調製例2:樹脂組成物R2の調製
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応器に、SEBSトリブロック共重合体として、タフテック(登録商標)P1083を3.5部とタフテック(登録商標)H1052を5.2部とタフテック(登録商標)H1041(旭化成社製、オレフィン性二重結合量0.45mmol/g、スチレン単位含有量30質量%、屈折率1.513)を6.3部、MMA66.3部、MHMA12.8部、nDM0.01部、重合溶媒としてトルエン100部を仕込み、これに窒素を通じつつ105℃まで昇温し、開始剤としてカヤカルボン(登録商標)Bic75を0.115部加えた。重合反応の開始を確認した後、St5.95部と、0.252部のカヤカルボン(登録商標)Bic75を1部のトルエンに希釈したものとをそれぞれ3時間かけて一定速度で滴下しながら105℃~110℃で溶液重合を行い、さらに4時間熟成を行った。ここに環化触媒としてリン酸ステアリル0.07部を加え、90℃~110℃の還流下で2時間環化反応を行い、得られた反応液に、酸化防止剤としてアデカスタブ(登録商標)AO-412S、アデカスタブ(登録商標)AO-60およびアデカスタブ(登録商標)2112(いずれもADEKA社製)をそれぞれ0.05部加えた。これにより、MMAとMHMAとStから重合形成され、主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系共重合体と、当該共重合体鎖がSEBSトリブロック共重合体鎖のジエン/オレフィン由来の単位に結合したグラフト共重合体とを含む樹脂組成物が得られた。重合反応液中の残存単量体量より算出したMMAの転化率は95%、MHMAの転化率は96%、Stの転化率は99%であった。転化率から計算したSEBSトリブロック共重合体鎖に結合している(メタ)アクリル系共重合体鎖と、(メタ)アクリル系共重合体の組成比(質量基準)は、MMA:MHMA:St=79.3:14.8:5.9であり、環構造単位の含有率は29.7質量%であった。
次に得られた重合反応液を、オートクレーブに入れ240℃で1時間加熱処理を行った後、リアベント数が1個、フォアベント数が2個のベントタイプスクリュー二軸押出機(L/D:45)内に樹脂換算で600g/hの処理速度で導入し、この押出機内で脱揮を行い、押し出すことにより、透明な樹脂組成物R2のペレットを得た。なお、二軸押出機の運転条件は、バレル温度260℃、回転数300rpm、減圧度13.3~400hPa(10~300mmHg)であった。得られた樹脂組成物R2の重量平均分子量は13.7万、数平均分子量は5.1万、高温側のガラス転移温度は124℃、低温側のガラス転移温度は-54℃、屈折率は1.501であった。
(2-2) Preparation Example 2: Preparation of Resin Composition R2 In a reactor equipped with a stirrer, temperature sensor, cooling pipe, and nitrogen introduction pipe, 3 Tuftec (registered trademark) P1083 was added as an SEBS triblock copolymer. .5 parts and 5.2 parts of Tuftec (registered trademark) H1052 and Tuftec (registered trademark) H1041 (manufactured by Asahi Kasei Corporation, olefinic double bond content 0.45 mmol / g, styrene unit content 30% by mass, refractive index 1 .513), 66.3 parts of MMA, 12.8 parts of MHMA, 0.01 part of nDM, and 100 parts of toluene as a polymerization solvent were charged, and the temperature was raised to 105° C. while nitrogen was passed through. 0.115 parts of ® Bic 75 were added. After confirming the start of the polymerization reaction, 5.95 parts of St and 0.252 parts of Kayacarvone (registered trademark) Bic75 diluted with 1 part of toluene were added dropwise at a constant rate over 3 hours at 105°C. Solution polymerization was carried out at ~110°C, followed by aging for 4 hours. 0.07 part of stearyl phosphate as a cyclization catalyst is added thereto, and the cyclization reaction is carried out under reflux at 90° C. to 110° C. for 2 hours. -412S, ADEKA STAB (registered trademark) AO-60 and ADEKA STAB (registered trademark) 2112 (both manufactured by ADEKA) were each added in an amount of 0.05 part. As a result, a (meth)acrylic copolymer polymerized from MMA, MHMA and St and having a lactone ring structure in the main chain, and a diene/olefin-derived copolymer chain in which the copolymer chain is a SEBS triblock copolymer chain A resin composition comprising the graft copolymer attached to the units was obtained. The conversion rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 95%, the conversion rate of MHMA was 96%, and the conversion rate of St was 99%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic copolymer chain bonded to the SEBS triblock copolymer chain calculated from the conversion rate and the (meth)acrylic copolymer is MMA:MHMA:St =79.3:14.8:5.9, and the content of ring structural units was 29.7% by mass.
Next, the obtained polymerization reaction solution was placed in an autoclave and heat-treated at 240 ° C. for 1 hour, and then a vent type screw twin screw extruder (L / D: 45) at a processing rate of 600 g/h in terms of resin, devolatilized in this extruder, and extruded to obtain pellets of transparent resin composition R2. The operating conditions of the twin-screw extruder were a barrel temperature of 260° C., a rotation speed of 300 rpm, and a degree of pressure reduction of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg). The resulting resin composition R2 had a weight average molecular weight of 137,000, a number average molecular weight of 51,000, a glass transition temperature of 124° C. on the high temperature side, a glass transition temperature of −54° C. on the low temperature side, and a refractive index of was 1.501.

(2-3)調製例3:樹脂組成物R3の調製
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応器に、SEBSトリブロック共重合体として、Kraton社製のA1536(オレフィン性二重結合量0.10mmol/g、スチレン単位含有量39質量%、屈折率1.519)を10部、MMA79.8部、フェニルマレイミド(PMI)8.4部、nDM0.05部、重合溶媒としてトルエン100部を仕込み、これに窒素を通じつつ105℃まで昇温し、開始剤としてカヤカルボン(登録商標)Bic75を0.07部加えた。重合反応の開始を確認した後、St1.8部と、0.144部のカヤカルボン(登録商標)Bic75を1部のトルエンに希釈したものとをそれぞれ3時間かけて一定速度で滴下しながら105℃~110℃で溶液重合を行い、さらに4時間熟成を行った。熟成後、得られた反応液に、酸化防止剤としてアデカスタブ(登録商標)AO-412Sおよびアデカスタブ(登録商標)AO-60(いずれもADEKA社製)をそれぞれ0.05部加えた。これにより、MMAとPMIとStから重合形成された(メタ)アクリル系共重合体と、当該共重合体鎖がSEBSトリブロック共重合体鎖のジエン/オレフィン由来の単位に結合したグラフト共重合体とを含む樹脂組成物が得られた。重合反応液中の残存単量体量より算出したMMAの転化率は95%、PMIの転化率は99%、Stの転化率は100%であった。転化率から計算したSEBSトリブロック共重合体鎖に結合している(メタ)アクリル系共重合体鎖と、(メタ)アクリル系共重合体の組成比(質量基準)は、MMA:PMI:St=88.2:9.7:2.1であり、環構造単位の含有率は9.7質量%であった。
次に得られた重合反応液を、リアベント数が1個、フォアベント数が2個のベントタイプスクリュー二軸押出機(L/D:45)内に樹脂換算で600g/hの処理速度で導入し、この押出機内で脱揮を行い、押し出すことにより、透明な樹脂組成物R3のペレットを得た。なお、二軸押出機の運転条件は、バレル温度260℃、回転数300rpm、減圧度13.3~400hPa(10~300mmHg)であった。得られた樹脂組成物R3の重量平均分子量は15.4万、数平均分子量は6.2万、高温側のガラス転移温度は128℃、低温側のガラス転移温度は-68℃、屈折率は1.515であった。
(2-3) Preparation Example 3: Preparation of Resin Composition R3 A reactor equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling pipe, and a nitrogen inlet pipe was charged with A1536 (olefinic Double bond amount 0.10 mmol / g, styrene unit content 39% by mass, refractive index 1.519) 10 parts, MMA 79.8 parts, phenylmaleimide (PMI) 8.4 parts, nDM 0.05 parts, polymerization solvent 100 parts of toluene was charged as a solution, and the temperature was raised to 105° C. while passing nitrogen through it, and 0.07 part of Kayacarvone (registered trademark) Bic 75 was added as an initiator. After confirming the start of the polymerization reaction, 1.8 parts of St and 0.144 parts of Kayacarbon (registered trademark) Bic75 diluted with 1 part of toluene were added dropwise at a constant rate over 3 hours to 105°C. Solution polymerization was carried out at ~110°C, followed by aging for 4 hours. After aging, 0.05 parts of each of ADEKA STAB (registered trademark) AO-412S and ADEKA STAB (registered trademark) AO-60 (both manufactured by ADEKA) were added as antioxidants to the obtained reaction solution. As a result, a (meth)acrylic copolymer polymerized from MMA, PMI, and St, and a graft copolymer in which the copolymer chain is bonded to the diene/olefin-derived unit of the SEBS triblock copolymer chain A resin composition containing was obtained. The conversion rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 95%, the conversion rate of PMI was 99%, and the conversion rate of St was 100%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic copolymer chain bonded to the SEBS triblock copolymer chain calculated from the conversion rate and the (meth)acrylic copolymer is MMA:PMI:St = 88.2:9.7:2.1, and the content of ring structural units was 9.7% by mass.
Next, the obtained polymerization reaction solution was introduced into a vent-type screw twin-screw extruder (L/D: 45) having one rear vent and two fore vents at a processing rate of 600 g/h in terms of resin. Then, devolatilization was performed in this extruder and extrusion was performed to obtain pellets of transparent resin composition R3. The operating conditions of the twin-screw extruder were a barrel temperature of 260° C., a rotation speed of 300 rpm, and a degree of pressure reduction of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg). The resulting resin composition R3 had a weight average molecular weight of 154,000, a number average molecular weight of 62,000, a glass transition temperature of 128° C. on the high temperature side, a glass transition temperature of −68° C. on the low temperature side, and a refractive index of was 1.515.

(2-4)調製例4:樹脂組成物R4の調製
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応器に、SEBSトリブロック共重合体として、JSR社製のDYNARON(登録商標)2324(オレフィン性二重結合量0.10mmol/g、スチレン単位含有量39質量%、屈折率1.519)を10部、MMA85.5部、アクリル酸メチル(MA)4.5部、nDM0.05部、重合溶媒としてトルエン100部を仕込み、これに窒素を通じつつ105℃まで昇温し、開始剤としてカヤカルボン(登録商標)Bic75を0.06部加えた。重合反応の開始を確認した後、0.185部のカヤカルボン(登録商標)Bic75を1部のトルエンに希釈したものを3時間かけて一定速度で滴下しながら105℃~110℃で溶液重合を行い、さらに4時間熟成を行った。熟成後、得られた反応液に、酸化防止剤としてアデカスタブ(登録商標)AO-412Sおよびアデカスタブ(登録商標)AO-60(いずれもADEKA社製)をそれぞれ0.05部加えた。これにより、MMAとMAから重合形成された(メタ)アクリル系共重合体と、当該共重合体鎖がSEBSトリブロック共重合体鎖のジエン/オレフィン由来の単位に結合したグラフト共重合体とを含む樹脂組成物が得られた。重合反応液中の残存単量体量より算出したMMAの転化率は95%、MAの転化率は96%であった。転化率から計算したSEBSトリブロック共重合体鎖に結合している(メタ)アクリル系共重合体鎖と、(メタ)アクリル系共重合体の組成比(質量基準)は、MMA:MA=94.5:5.5であった。
次に得られた重合反応液を、リアベント数が1個、フォアベント数が2個のベントタイプスクリュー二軸押出機(L/D:45)内に樹脂換算で600g/hの処理速度で導入し、この押出機内で脱揮を行い、押し出すことにより、透明な樹脂組成物R4のペレットを得た。なお、二軸押出機の運転条件は、バレル温度260℃、回転数300rpm、減圧度13.3~400hPa(10~300mmHg)であった。得られた樹脂組成物R4の重量平均分子量は12.7万、数平均分子量は5.2万、高温側のガラス転移温度は107℃、低温側のガラス転移温度は-68℃、屈折率は1.490であった。
(2-4) Preparation Example 4: Preparation of Resin Composition R4 In a reactor equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling pipe, and a nitrogen introduction pipe, DYNARON (registered trademark) manufactured by JSR Co., Ltd. was added as an SEBS triblock copolymer. ) 2324 (olefinic double bond content 0.10 mmol / g, styrene unit content 39% by mass, refractive index 1.519) 10 parts, MMA 85.5 parts, methyl acrylate (MA) 4.5 parts, nDM0 0.05 part and 100 parts of toluene as a polymerization solvent were charged, heated to 105° C. while passing nitrogen, and 0.06 part of Kayacarvone (registered trademark) Bic 75 as an initiator was added. After confirming the initiation of the polymerization reaction, 0.185 parts of Kayacarvone (registered trademark) Bic75 diluted with 1 part of toluene was added dropwise at a constant rate over 3 hours to carry out solution polymerization at 105°C to 110°C. was further aged for 4 hours. After aging, 0.05 parts of each of ADEKA STAB (registered trademark) AO-412S and ADEKA STAB (registered trademark) AO-60 (both manufactured by ADEKA) were added as antioxidants to the obtained reaction solution. As a result, a (meth)acrylic copolymer polymerized from MMA and MA and a graft copolymer in which the copolymer chain is bonded to the diene/olefin-derived unit of the SEBS triblock copolymer chain are formed. A resin composition containing The conversion rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 95%, and the conversion rate of MA was 96%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic copolymer chains bonded to the SEBS triblock copolymer chain calculated from the conversion rate and the (meth)acrylic copolymer was MMA:MA=94. 0.5:5.5.
Next, the obtained polymerization reaction solution was introduced into a vent-type screw twin-screw extruder (L/D: 45) having one rear vent and two fore vents at a processing rate of 600 g/h in terms of resin. Then, devolatilization was performed in this extruder and extrusion was performed to obtain pellets of transparent resin composition R4. The operating conditions of the twin-screw extruder were a barrel temperature of 260° C., a rotation speed of 300 rpm, and a degree of pressure reduction of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg). The resulting resin composition R4 had a weight average molecular weight of 127,000, a number average molecular weight of 52,000, a glass transition temperature of 107° C. on the high temperature side, a glass transition temperature of −68° C. on the low temperature side, and a refractive index of was 1.490.

(2-5)調製例5:樹脂組成物R5の調製
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応器に、MMA83.5部、MHMA12部、n-DM0.07部、重合溶媒としてトルエン90.9部を仕込み、これに窒素を通じつつ、105℃まで昇温させた。昇温に伴う還流が始まったところで、重合開始剤としてt-アミルパーオキシイソノナノエート(アルケマ吉富社製、ルペロックス(登録商標)570)を0.07部加えるとともに、St4.5部とt-アミルパーオキシイソノナノエート0.145部を2時間かけて滴下しながら約105℃~110℃の還流下で溶液重合を行い、さらに4時間熟成を行った。ここに、環化触媒としてリン酸ステアリル(堺化学工業社製、Phoslex A-18)0.07部を加え、約90℃~110℃の還流下で2時間環化反応を行った。これによりMMAとMHMAとStから重合形成され、主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系共重合体が得られた。重合反応液中の残存単量体量より算出したMMAの転化率は94%、MHMAの転化率は94%、Stの転化率は99%であった。
次に得られた重合反応液を、240℃に加熱した多管式熱交換器に通して環化縮合反応を完結させた後、リアベント数が1個、フォアベント数が4個で、先端にリーフディスク型のポリマーフィルター(濾過精度:5μm)を備えたベントタイプスクリュー二軸押出機(L/D:52)内に導入し、この押出機内で脱揮を行い、押し出すことにより、透明な樹脂組成物R5のペレットを得た。なお、二軸押出機のバレル温度は250℃であった。樹脂組成物R5の重量平均分子量は13.0万、数平均分子量は5.8万、ガラス転移温度は122℃、屈折率は1.500であった。
(2-5) Preparation Example 5: Preparation of Resin Composition R5 83.5 parts of MMA, 12 parts of MHMA, 0.07 parts of n-DM, and polymerization were added to a reactor equipped with a stirring device, temperature sensor, cooling tube, and nitrogen inlet tube. 90.9 parts of toluene was charged as a solvent, and the temperature was raised to 105° C. while passing nitrogen through it. At the point where reflux with the temperature rise started, 0.07 parts of t-amyl peroxyisononanoate (manufactured by Arkema Yoshitomi Co., Ltd., Luperox (registered trademark) 570) was added as a polymerization initiator, and 4.5 parts of St and t- While adding 0.145 parts of amyl peroxyisononanoate dropwise over 2 hours, solution polymerization was carried out under reflux at about 105° C. to 110° C., followed by aging for 4 hours. To this, 0.07 part of stearyl phosphate (Phoslex A-18, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a cyclization catalyst, and a cyclization reaction was carried out under reflux at about 90°C to 110°C for 2 hours. As a result, a (meth)acrylic copolymer polymerized from MMA, MHMA and St and having a lactone ring structure in the main chain was obtained. The conversion rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 94%, the conversion rate of MHMA was 94%, and the conversion rate of St was 99%.
Next, the resulting polymerization reaction solution is passed through a shell-and-tube heat exchanger heated to 240° C. to complete the cyclization condensation reaction. It is introduced into a vent-type screw twin-screw extruder (L/D: 52) equipped with a leaf disk-type polymer filter (filtration accuracy: 5 μm), devolatilized in this extruder, and extruded to obtain a transparent resin. Pellets of composition R5 were obtained. The barrel temperature of the twin-screw extruder was 250°C. Resin composition R5 had a weight average molecular weight of 130,000, a number average molecular weight of 58,000, a glass transition temperature of 122° C., and a refractive index of 1.500.

(2-6)調製例6:樹脂組成物R6の調製
調製例4において、MMA79.5部、MHMA15.0部、トルエン100部を用い、重合開始剤としてt-アミルパーオキシイソナノエート0.12部を添加するとともに、St5.5部と、1.4部のトルエンに希釈したt-アミルパーオキシイソナノエート0.24部を添加した以外は、調製例4と同様として重合反応と環化反応を行った。これによりMMAとMHMAとStから重合形成され、主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系共重合体が得られた。MMAの転化率は94%、MHMAの転化率は95%、Stの転化率は99%であった。次いで、調製例4と同様にして二軸押出機から押し出すことにより、樹脂組成物R6のペレットを得た。樹脂組成物R6の重量平均分子量は13.0万、数平均分子量は5.0万、ガラス転移温度は125℃、屈折率は1.501であった。
(2-6) Preparation Example 6: Preparation of Resin Composition R6 In Preparation Example 4, 79.5 parts of MMA, 15.0 parts of MHMA, and 100 parts of toluene were used, and 0.5 parts of t-amylperoxyisonanoate was used as a polymerization initiator. A polymerization reaction and a ring reaction were carried out in the same manner as in Preparation Example 4, except that 5.5 parts of St and 0.24 parts of t-amyl peroxyisonanoate diluted in 1.4 parts of toluene were added. reaction was carried out. As a result, a (meth)acrylic copolymer polymerized from MMA, MHMA and St and having a lactone ring structure in the main chain was obtained. The MMA conversion was 94%, the MHMA conversion was 95%, and the St conversion was 99%. Subsequently, by extruding from a twin-screw extruder in the same manner as in Preparation Example 4, pellets of resin composition R6 were obtained. Resin composition R6 had a weight average molecular weight of 130,000, a number average molecular weight of 50,000, a glass transition temperature of 125° C., and a refractive index of 1.501.

(3)フィルムの製造例
(3-1)実施例1:フィルムF1の製造
樹脂組成物R1を250℃で熱プレス成形して、厚さ約160μmの未延伸フィルムを得た。得られた未延伸フィルムを96mm×96mmの大きさに切り出し、逐次二軸延伸機(東洋精機製作所社製、X6-S)を用いて、温度156℃(Tg+34℃)にて300%/分の延伸速度で縦方向(MD方向)および横方向(TD方向)の順にそれぞれ延伸倍率が2.0倍となるように逐次二軸延伸を行い、冷却することにより、厚さ40μmの延伸フィルムF1を得た。フィルムF1のMIT耐折回数は、MD方向が3500回、TD方向が3800回であり、寸法変化率は-0.2%、吸水率は1.2%、内部ヘイズ(100μm換算)は0.22、面内位相差Reが0.1nm、厚み方向位相差Rthが3.8nmであった。
(3) Film Production Examples (3-1) Example 1: Production of Film F1 Resin composition R1 was heat-press molded at 250° C. to obtain an unstretched film having a thickness of about 160 μm. The obtained unstretched film was cut into a size of 96 mm × 96 mm, and a sequential biaxial stretching machine (X6-S manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.) was used at a temperature of 156 ° C. (Tg + 34 ° C.) at 300% / min. A stretched film F1 having a thickness of 40 μm was obtained by sequentially biaxially stretching at a stretching rate of 2.0 times in the order of the longitudinal direction (MD direction) and the transverse direction (TD direction) and cooling. Obtained. The MIT folding endurance of the film F1 was 3500 times in the MD direction and 3800 times in the TD direction, the dimensional change rate was -0.2%, the water absorption rate was 1.2%, and the internal haze (converted to 100 µm) was 0.2%. 22, the in-plane retardation Re was 0.1 nm, and the thickness direction retardation Rth was 3.8 nm.

(3-2)実施例2:フィルムF2の製造
実施例1において、延伸温度を148℃(Tg+26℃)とした以外は、実施例1と同様の操作を行うことで延伸フィルムF2を得た。フィルムF2のMIT耐折回数は、MD方向が4500回、TD方向が4500回であり、寸法変化率は-0.5%、吸水率は1.2%、内部ヘイズ(100μm換算)は0.24、面内位相差Reが0.2nm、厚み方向位相差Rthが5.0nmであった。
(3-2) Example 2: Production of film F2 A stretched film F2 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the stretching temperature was changed to 148°C (Tg + 26°C). The MIT folding endurance of film F2 was 4500 times in the MD direction and 4500 times in the TD direction. 24, the in-plane retardation Re was 0.2 nm, and the thickness direction retardation Rth was 5.0 nm.

(3-3)実施例3:フィルムF3の製造
実施例1において、延伸温度を138℃(Tg+16℃)とした以外は、実施例1と同様の操作を行うことで延伸フィルムF3を得た。フィルムF3のMIT耐折回数は、MD方向が5000回、TD方向が5200回であり、寸法変化率は-1.0%、吸水率は1.2%、内部ヘイズ(100μm換算)は0.23、面内位相差Reが1.0nm、厚み方向位相差Rthが4.0nmであった。
(3-3) Example 3: Production of Film F3 A stretched film F3 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the stretching temperature was changed to 138° C. (Tg+16° C.). The MIT folding endurance of film F3 was 5000 times in the MD direction and 5200 times in the TD direction. 23, the in-plane retardation Re was 1.0 nm, and the thickness direction retardation Rth was 4.0 nm.

(3-4)実施例4:フィルムF4の製造
実施例1において、樹脂組成物R1の代わりに樹脂組成物R2を用い、延伸温度を158℃(Tg+34℃)とした以外は、実施例1と同様の操作を行うことで延伸フィルムF4を得た。フィルムF4のMIT耐折回数は、MD方向、TD方向がともに10000回を超えたため測定を中断した。フィルムF4の寸法変化率は-0.1%、吸水率は0.9%、内部ヘイズ(100μm換算)は0.18、面内位相差Reが0.3nm、厚み方向位相差Rthが9.7nmであった。
(3-4) Example 4: Production of film F4 In Example 1, the resin composition R2 was used instead of the resin composition R1, and the stretching temperature was 158 ° C. (Tg + 34 ° C.). A stretched film F4 was obtained by performing the same operation. The MIT folding endurance of the film F4 exceeded 10000 in both the MD direction and the TD direction, so the measurement was discontinued. Film F4 had a dimensional change of −0.1%, a water absorption of 0.9%, an internal haze (converted to 100 μm) of 0.18, an in-plane retardation Re of 0.3 nm, and a thickness direction retardation Rth of 9.0. was 7 nm.

(3-5)実施例5:フィルムF5の製造
実施例1において、樹脂組成物R1の代わりに樹脂組成物R3を用い、延伸温度を162℃(Tg+34℃)とした以外は、実施例1と同様の操作を行うことで延伸フィルムF5を得た。フィルムF5のMIT耐折回数は、MD方向が3000回、TD方向が2500回であり、寸法変化率は-0.1%、吸水率は1.1%、内部ヘイズ(100μm換算)は0.19、面内位相差Reが0.5nm、厚み方向位相差Rthが4.0nmであった。
(3-5) Example 5: Production of film F5 In Example 1, the resin composition R3 was used instead of the resin composition R1, and the stretching temperature was 162 ° C. (Tg + 34 ° C.). A stretched film F5 was obtained by performing the same operation. The MIT folding endurance of film F5 was 3000 times in the MD direction and 2500 times in the TD direction. 19, the in-plane retardation Re was 0.5 nm, and the thickness direction retardation Rth was 4.0 nm.

(3-6)実施例6:フィルムF6の製造
実施例1において、樹脂組成物R1の代わりに樹脂組成物R4を用い、延伸温度を137℃(Tg+30℃)とした以外は、実施例1と同様の操作を行うことで延伸フィルムF6を得た。フィルムF6のMIT耐折回数は、MD方向が4000回、TD方向が4000回であり、寸法変化率は-0.9%、吸水率は1.2%、内部ヘイズ(100μm換算)は0.70、面内位相差Reが0.1nm、厚み方向位相差Rthが-3.0nmであった。
(3-6) Example 6: Production of film F6 In Example 1, the resin composition R4 was used instead of the resin composition R1, and the stretching temperature was 137 ° C. (Tg + 30 ° C.). A stretched film F6 was obtained by performing the same operation. The MIT folding endurance of film F6 was 4000 times in the MD direction and 4000 times in the TD direction. 70, the in-plane retardation Re was 0.1 nm, and the thickness direction retardation Rth was -3.0 nm.

(3-7)比較例1:フィルムF7の製造
実施例1において、樹脂組成物R1の代わりに樹脂組成物R5を用い、延伸温度を138℃(Tg+16℃)とした以外は、実施例1と同様の操作を行うことで延伸フィルムF7を得た。フィルムF7のMIT耐折回数は、MD方向が600回、TD方向が600回であり、寸法変化率は-1.3%、吸水率は2.0%、内部ヘイズ(100μm換算)は0.08、面内位相差Reが0.1nm、厚み方向位相差Rthが0.3nmであった。
(3-7) Comparative Example 1: Production of Film F7 In Example 1, the resin composition R5 was used instead of the resin composition R1, and the stretching temperature was 138 ° C. (Tg + 16 ° C.). A stretched film F7 was obtained by performing the same operation. The MIT folding endurance of the film F7 was 600 times in the MD direction and 600 times in the TD direction, the dimensional change rate was -1.3%, the water absorption rate was 2.0%, and the internal haze (converted to 100 µm) was 0.3%. 08, the in-plane retardation Re was 0.1 nm, and the thickness direction retardation Rth was 0.3 nm.

(3-8)比較例2:フィルムF8の製造
実施例1において、樹脂組成物R1の代わりに樹脂組成物R6を用い、延伸温度を141℃(Tg+16℃)とした以外は、実施例1と同様の操作を行うことで延伸フィルムF87を得た。フィルムF8のMIT耐折回数は、MD方向が500回、TD方向が500回であり、寸法変化率は-0.8%、吸水率は2.2%、内部ヘイズ(100μm換算)は0.07、面内位相差Reが0.1nm、厚み方向位相差Rthが-0.4nmであった。
(3-8) Comparative Example 2: Production of Film F8 In Example 1, the resin composition R6 was used instead of the resin composition R1, and the stretching temperature was 141 ° C. (Tg + 16 ° C.). A stretched film F87 was obtained by performing the same operation. The MIT folding endurance of film F8 was 500 times in the MD direction and 500 times in the TD direction. 07, the in-plane retardation Re was 0.1 nm, and the thickness direction retardation Rth was -0.4 nm.

(3-9)比較例3:フィルムF9の製造
比較例2において、延伸温度を159℃(Tg+34℃)とした以外は、比較例2と同様の操作を行うことで延伸フィルムF9を得た。フィルムF9のMIT耐折回数は、MD方向が1回、TD方向が1回であり、寸法変化率は-0.2%、吸水率は2.1%、内部ヘイズ(100μm換算)は0.08、面内位相差Reが0.1nm、厚み方向位相差Rthが0.0nmであった。
(3-9) Comparative Example 3: Production of Film F9 A stretched film F9 was obtained in the same manner as in Comparative Example 2, except that the stretching temperature was changed to 159° C. (Tg+34° C.). The MIT folding endurance of film F9 was 1 in the MD direction and 1 in the TD direction. 08, the in-plane retardation Re was 0.1 nm, and the thickness direction retardation Rth was 0.0 nm.

(3-10)比較例4:フィルムF10の製造
樹脂組成物R1を260℃で熱プレス成形して、厚さ約40μmの未延伸フィルムF10を得た。フィルムF10のMIT耐折回数は、MD方向が3回、TD方向が2回であり、寸法変化率は-0.1%、吸水率は1.2%、内部ヘイズ(100μm換算)は0.22、面内位相差Reが0.1nm、厚み方向位相差Rthが0.1nmであった。
(3-10) Comparative Example 4 Production of Film F10 The resin composition R1 was heat-press molded at 260° C. to obtain an unstretched film F10 having a thickness of about 40 μm. The MIT folding endurance of the film F10 is 3 times in the MD direction and 2 times in the TD direction, the dimensional change rate is -0.1%, the water absorption rate is 1.2%, and the internal haze (converted to 100 µm) is 0.1%. 22, the in-plane retardation Re was 0.1 nm, and the thickness direction retardation Rth was 0.1 nm.

Figure 0007211726000004
Figure 0007211726000004

比較例1~3のフィルムは、(メタ)アクリル系重合体を含有する樹脂組成物を延伸することにより製造したものである。比較例1、2のフィルムは、比較的低温のTg+16℃の温度で延伸したものであるが、MIT試験による耐折回数が500回~600回に留まった。高温のTg+34℃の温度で延伸形成した比較例3のフィルムは、1回折り曲げただけで破損した。一方、実施例1~6で製造したフィルムは、SEBSブロック共重合体のポリマー鎖(A)に(メタ)アクリル系重合体のポリマー鎖(B)がグラフトした共重合体を含有する樹脂組成物を延伸形成したものであり、MIT試験による耐折回数が1000回以上となり、優れた機械的強度(耐折強度)を示した。実施例1、4~6のフィルムは、高温のTg+30~34℃の温度で延伸形成したにも関わらず、優れた耐折強度を示し、さらに寸法安定性にも優れるものとなった。なお、実施例1と同じ樹脂組成物から形成した比較例4の未延伸フィルムは、耐折強度をほとんど有しなかった。 The films of Comparative Examples 1 to 3 were produced by stretching a resin composition containing a (meth)acrylic polymer. The films of Comparative Examples 1 and 2 were stretched at a relatively low temperature of Tg+16° C., but the folding endurance was only 500 to 600 times in the MIT test. The film of Comparative Example 3 stretch formed at a temperature of Tg+34° C., which was higher, broke after one bend. On the other hand, the films produced in Examples 1 to 6 are resin compositions containing a copolymer in which the polymer chain (B) of the (meth)acrylic polymer is grafted onto the polymer chain (A) of the SEBS block copolymer. was stretched and formed, and the number of folding endurance in the MIT test was 1000 times or more, showing excellent mechanical strength (folding endurance). Although the films of Examples 1 and 4 to 6 were stretched at a high temperature of Tg + 30 to 34°C, they exhibited excellent folding endurance and also excellent dimensional stability. The unstretched film of Comparative Example 4 formed from the same resin composition as in Example 1 had almost no folding endurance.

本発明のフィルムは、光学用保護フィルム、偏光子保護フィルム、視野角補償フィルム、光拡散フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィルム、タッチパネル用導電フィルム、位相差フィルム等に用いることができる。 The film of the present invention is used for optical protective films, polarizer protective films, viewing angle compensation films, light diffusion films, reflective films, antireflection films, antiglare films, brightness enhancement films, conductive films for touch panels, retardation films, etc. can be used.

Claims (12)

ジエンおよび/またはオレフィン由来の単位を有する重合体ブロック(a1)と芳香族ビニル単量体由来の単位を有する重合体ブロック(a2)を有するポリマー鎖(A)と、(メタ)アクリル系単量体由来の単位を有するポリマー鎖(B)とを有する共重合体(P)を含むフィルムであって、
前記フィルムは延伸フィルムであり、
JIS P 8115に基づくMIT試験による耐折回数が1000回以上であり、
波長590nmの光に対する面内位相差Reが10nm以下であり、
波長590nmの光に対する厚さ方向の位相差Rthが-100nm以上100nm以下であることを特徴とする光学用フィルム。
A polymer chain (A) having a polymer block (a1) having a diene and/or olefin-derived unit and a polymer block (a2) having an aromatic vinyl monomer-derived unit, and a (meth)acrylic monomer A film comprising a copolymer (P) having a polymer chain (B) having units derived from a polymer,
The film is a stretched film,
The folding endurance is 1000 times or more in the MIT test based on JIS P 8115 ,
The in-plane retardation Re for light with a wavelength of 590 nm is 10 nm or less,
An optical film having a thickness direction retardation Rth of −100 nm or more and 100 nm or less with respect to light having a wavelength of 590 nm .
温度85℃、湿度85%RHの雰囲気下に120時間置いたときの寸法変化率の絶対値が1.2%以下である請求項1に記載の光学用フィルム。 2. The optical film according to claim 1, wherein the absolute value of the dimensional change is 1.2% or less when placed in an atmosphere of 85° C. and 85% RH for 120 hours. 厚さ100μmあたりの内部ヘイズが2.0%以下である請求項1または2に記載の光学用フィルム。 3. The optical film according to claim 1, which has an internal haze of 2.0% or less per 100 [mu]m of thickness. 前記ポリマー鎖(B)は主鎖に環構造を有する請求項1~3のいずれかに記載の光学用フィルム。 4. The optical film according to claim 1, wherein the polymer chain (B) has a ring structure in its main chain. 110℃以上の温度範囲にガラス転移温度を有する請求項1~4のいずれかに記載の光学用フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 4, which has a glass transition temperature in the temperature range of 110°C or higher. ポリマー鎖(B)がポリマー鎖(A)の重合体ブロック(a1)にグラフトしている請求項1~5のいずれかに記載の光学用フィルム。 6. The optical film according to any one of claims 1 to 5, wherein the polymer chain (B) is grafted to the polymer block (a1) of the polymer chain (A). 前記ポリマー鎖(A)は、重合体ブロック(a1)の両側に重合体ブロック(a2)が結合したものである請求項1~6のいずれかに記載の光学用フィルム。 7. The optical film according to any one of claims 1 to 6, wherein the polymer chain (A) is formed by bonding polymer blocks (a2) to both sides of the polymer block (a1). さらに(メタ)アクリル系重合体を含有する請求項1~7のいずれかに記載の光学用フィルム。 8. The optical film according to any one of claims 1 to 7, further comprising a (meth)acrylic polymer. 前記(メタ)アクリル系重合体を構成する(メタ)アクリル系単量体由来の単位が、前記ポリマー鎖(B)を構成する(メタ)アクリル系単量体由来の単位と同じである請求項8に記載の光学用フィルム。 The unit derived from the (meth)acrylic monomer constituting the (meth)acrylic polymer is the same as the unit derived from the (meth)acrylic monomer constituting the polymer chain (B). 9. The optical film according to 8. ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤を含む請求項1~9のいずれかに記載の光学用フィルム。 The antioxidant according to any one of claims 1 to 9, comprising at least one antioxidant selected from the group consisting of hindered phenol antioxidants, hindered amine antioxidants, phosphorus antioxidants, and sulfur antioxidants. Optical film. 前記ポリマー鎖(B)は、(メタ)アクリル単位と環構造単位の合計含有割合が85質量%以上である請求項1~10のいずれかに記載の光学用フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 10, wherein the polymer chain (B) has a total content of (meth)acrylic units and cyclic structural units of 85% by mass or more. 温度85℃、湿度85%RHの雰囲気下に120時間置いたときの吸水率が1.8質量%以下である請求項1~11のいずれかに記載の光学用フィルム。12. The optical film according to any one of claims 1 to 11, which has a water absorption rate of 1.8% by mass or less when placed in an atmosphere of 85°C temperature and 85% RH for 120 hours.
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