JP7202633B2 - 高分子成形品 - Google Patents

Description

本発明は、高分子成形品に関する。

食品の製造や加工などを行なう食品工場において、異物が食品に混入することは、衛生上の問題から、回避すべき重要な課題である。したがって、食品工場においては、まず、食品に異物が混入するのを回避することが求められるが、たとえ食品に異物が混入したとしても、食品の出荷前に異物を検出することができれば、異物が混入した食品の流通を回避することができる。

食品工場においては、たとえば、ヘラ、チリトリ、スクレーパなど、高分子材料により成形された高分子成形品がさまざま使用される。これらの高分子成形品は、使用時に欠けたりして、破片が食品に混入してしまう可能性がある。そのような観点から、破片が食品に混入したとしても容易に検出することができるように、たとえば特許文献１には、強磁性ステンレス粉を含む高分子材料により成形された高分子成形品（ハケなど）が開示されている。特許文献１の高分子成形品は、その一部または全部が食品に混入したとしても、金属探知機が強磁性ステンレス粉に反応することで、金属探知機により検知することができる。

特開２０１４－２３７７８６号公報

金属探知機による異物の検知は、低コストで実現可能であるという理由により、これまで広く採用されてきた。しかし、近年では、食品への異物混入をより確実に検知するために、より精度の高いＸ線検査装置を採用する事例が多くなってきている。

ところが、特許文献１に開示されるような高分子成形品に含まれる強磁性ステンレス粉は、Ｘ線に対する感度が低いために、Ｘ線検査装置で検知するためには、高分子成形品に大量に含ませる必要がある。強磁性ステンレス粉を大量に含ませることにより、素材が脆くなって製造が困難になるだけでなく、使用中も破壊されやすくなってしまう。さらに、強磁性ステンレス粉は、たとえ少ない量であっても、その磁性により凝集しやすいために、高分子材料中で均一に分散させることが難しい。そのため、強磁性ステンレス粉が凝集して２次粒子を形成した部分において、製造中、使用中を問わず、高分子成形品が破壊してしまう可能性がある。

本発明は、上述した問題に鑑みなされたもので、Ｘ線検査装置で容易に検知することが可能な高分子成形品を提供することを目的とする。

本発明の高分子成形品は、高分子材料を成形してなる高分子成形品であって、高分子材料と、高分子材料に分散して混入されるタングステン含有粉とを含み、前記高分子成形品が、ヘラ、チリトリ、ハサミのハンドル、紐、結束バンド、筆記具、ハンマー、ベローズ、吸盤、スクレーパ、食品成形用型枠または食品容器であることを特徴とする。

また、前記タングステン含有粉の含有量が、１～４０質量％であることが好ましい。

また、前記タングステン含有粉の粒径が、０．４～１０μｍであることが好ましい。

また、前記タングステン含有粉の粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。

本発明によれば、Ｘ線検査装置で容易に検知することが可能な高分子成形品を提供することができる。

（ａ）は、本発明の一実施形態に係るヘラの斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）のＡ－Ａ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るチリトリの斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）のＢ－Ｂ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るハサミのハンドルの側面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＣ－Ｃ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係る紐の斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）のＤ－Ｄ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係る結束バンドの斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）のＥ－Ｅ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係る筆記具の側面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＦ－Ｆ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るハンマーの斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）のＧ－Ｇ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るベローズの側面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＨ－Ｈ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係る吸盤の側面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＩ－Ｉ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るスクレーパの使用状態を模式的に示す図であり、（ｂ）は、（ａ）のＪ－Ｊ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係る食品成形用型枠の斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）のＫ－Ｋ線切断端面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係る食品容器の斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）のＬ－Ｌ線切断端面図である。

以下、添付図面を参照して、本発明のいくつかの実施形態に係る高分子成形品を説明する。ただし、以下に示す実施形態は一例であり、本発明の高分子成形品は以下の例に限定されることはない。

本実施形態の高分子成形品は、図１～図１２に示されるように、高分子材料を成形してなる高分子成形品である。高分子成形品は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。高分子成形品は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、高分子成形品は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、高分子成形品の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

高分子成形品は、たとえば、食品などに混入したような場合にＸ線検査装置により検知する必要のある、食品の製造や加工などを行なう食品工場などにおいて有利に使用することができる成形品とすることができる。高分子成形品は、たとえば、ヘラ（図１）、チリトリ（図２）、ハサミのハンドル（図３）、紐（図４）、結束バンド（図５）、筆記具（図６）、ハンマー（図７）、ベローズ（図８）、吸盤（図９）、スクレーパ（図１０）、食品成形用型枠（図１１）または食品容器（図１２）である。

高分子成形品に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

高分子成形品に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、高分子成形品に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含む高分子成形品の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、高分子成形品の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分における高分子成形品の破断を抑制できる。

高分子成形品に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、高分子成形品に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、高分子成形品の破断強度を高く保つという観点から、高分子成形品に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

以下、高分子成形品の例として、ヘラ、チリトリ、ハサミのハンドル、紐、結束バンド、筆記具、ハンマー、ベローズ、吸盤、スクレーパ、食品成形用型枠および食品容器を説明する。

図１は、本発明の一実施形態であるヘラ１１を示している。ヘラ１１は、たとえば、対象物に塗布物を塗布したり、対象物に付着した付着物を剥がしたりする用途に用いられる。ヘラ１１は、図示されるように、ブレード１１ａおよび把手１１ｂを備え、ブレード１１ａおよび把手１１ｂが一体として成形されている。ただし、ヘラ１１は、ブレード１１ａおよび把手１１ｂが互いに別個に成形されて連結されてもよい。ヘラ１１は、本実施形態では、ブレード１１ａおよび把手１１ｂともに、高分子材料を成形してなる高分子成形品であるが、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよく、たとえばブレード１１ａおよび把手１１ｂのいずれか一方だけが高分子成形品であってもよい。

ヘラ１１は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。ヘラ１１は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、ヘラ１１は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、ヘラ１１の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

ヘラ１１に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

ヘラ１１に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、ヘラ１１に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含むヘラ１１の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、ヘラ１１の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分におけるヘラ１１の破断を抑制できる。

ヘラ１１に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、ヘラ１１に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、ヘラ１１の破断強度を高く保つという観点から、ヘラ１１に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図２は、本発明の一実施形態であるチリトリ１２を示している。チリトリ１２は、たとえば、掃き集めた塵を受けて、捨てる所まで運ぶ用途に用いられる。チリトリ１２は、図示されるように、チリトリ本体１２ａおよび持ち手１２ｂを備え、チリトリ本体１２ａおよび持ち手１２ｂが一体として成形されている。ただし、チリトリ１２は、チリトリ本体１２ａおよび持ち手１２ｂが互いに別個に成形されて連結されてもよい。チリトリ１２は、本実施形態では、チリトリ本体１２ａおよび持ち手１２ｂともに、高分子材料を成形してなる高分子成形品であるが、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよく、たとえばチリトリ本体１２ａおよび持ち手１２ｂのいずれか一方だけが高分子成形品であってもよい。

チリトリ１２は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。チリトリ１２は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、チリトリ１２は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、チリトリ１２の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

チリトリ１２に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

チリトリ１２に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、チリトリ１２に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含むチリトリ１２の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、チリトリ１２の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分におけるチリトリ１２の破断を抑制できる。

チリトリ１２に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、チリトリ１２に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、チリトリ１２の破断強度を高く保つという観点から、チリトリ１２に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図３は、本発明の一実施形態であるハサミ１３のハンドル１３ａ、１３ａを示している。ハサミ１３は、たとえば、物を二つの刃１３ｂ、１３ｂで挟んで切断する用途に用いられる道具であり、ハンドル１３ａ、１３ａは、ハサミ１３の持ち手部分である。ハンドル１３ａは、高分子材料を成形してなる高分子成形品である。ハンドル１３ａは、本実施形態では、その全体が高分子成形品として構成されているが、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよく、たとえばハンドルの一部、たとえば指穴部分のみが高分子成形品であってもよい。

ハサミ１３のハンドル１３ａは、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。ハンドル１３ａは、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、ハンドル１３ａは、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、ハンドル１３ａの破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

ハンドル１３ａに含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

ハンドル１３ａに含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、ハンドル１３ａに含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含むハンドル１３ａの破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、ハンドル１３ａの成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分におけるハンドル１３ａの破断を抑制できる。

ハンドル１３ａに含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、ハンドル１３ａに含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、ハンドル１３ａの破断強度を高く保つという観点から、ハンドル１３ａに含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図４は、本発明の一実施形態である紐１４を示している。紐１４は、細長の長尺部材であり、たとえば、対象物を縛るために用いられる。紐１４は、高分子材料を成形してなる高分子成形品である。紐１４は、本実施形態では略円筒状に形成されているが、細長の長尺状に形成されていれば、その形状は特に限定されることはなく、略四角筒状、略円柱状など他の形状であってもよい。

紐１４は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。紐１４は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、紐１４は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、紐１４の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

紐１４に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

紐１４に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、紐１４に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含む紐１４の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、紐１４の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分における紐１４の破断を抑制できる。

紐１４に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、紐１４に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、紐１４の破断強度を高く保つという観点から、紐１４に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図５は、本発明の一実施形態である結束バンド１５を示している。結束バンド１５は、たとえば、複数のケーブルなどの対象物を束ねる用途に用いられる。結束バンド１５は、バンド部１５ａおよびバンド固定部１５ｂを備えている。結束バンド１５は、バンド部１５ａをバンド固定部１５ｂの挿通孔内に挿通して係止させることによって、対象物を結束することができる。結束バンド１５は、本実施形態では、バンド部１５ａおよびバンド固定部１５ｂともに、高分子材料を成形してなる高分子成形品であるが、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよく、たとえばバンド部１５ａおよびバンド固定部１５ｂのいずれか一方のみが高分子成形品であってもよい。

結束バンド１５は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。結束バンド１５は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、結束バンド１５は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、結束バンド１５の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

結束バンド１５に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

結束バンド１５に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、結束バンド１５に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含む結束バンド１５の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、結束バンド１５の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分における結束バンド１５の破断を抑制できる。

結束バンド１５に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、結束バンド１５に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、結束バンド１５の破断強度を高く保つという観点から、結束バンド１５に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図６は、本発明の一実施形態である筆記具１６を示している。筆記具１６は、たとえば、文字や絵をかく用途に用いられる。筆記具１６は、ケース１６ａと、グリップ１６ｂと、ノックバー１６ｃと、芯材１６ｄとを備えている。本実施形態では、筆記具１６のケース１６ａ、グリップ１６ｂ、ノックバー１６ｃおよび芯材１６ｄの一部が、高分子材料を成形してなる高分子成形品である。ただし、筆記具１６は、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよく、たとえばケース１６ａ、グリップ１６ｂ、ノックバー１６ｃおよび芯材１６ｄの一部のいずれかが、高分子成形品ではなく、他の材料により形成されてもよい。

筆記具１６は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。筆記具１６は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、筆記具１６は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、筆記具１６の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

筆記具１６に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

筆記具１６に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、筆記具１６に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含む筆記具１６の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、筆記具１６の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分における筆記具１６の破断を抑制できる。

筆記具１６に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、筆記具１６に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、筆記具１６の破断強度を高く保つという観点から、筆記具１６に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図７は、本発明の一実施形態であるハンマー１７を示している。ハンマー１７は、たとえば、板金作業で金属板の形状を修正するような場合など、対象物に衝撃を加える用途に用いられる道具である。ハンマー１７は、対象物に衝撃を加える際に対象物に衝突するヘッド部１７ａと、使用者の持ち手部分である柄部１７ｂとを備えている。ハンマー１７は、本実施形態では、ヘッド部１７ａおよび柄部１７ｂともに、高分子材料を成形してなる高分子成形品である。ただし、ハンマー１７は、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよく、たとえばヘッド部１７ａおよび柄部１７ｂのいずれか一方のみが高分子成形品であってもよい。

ハンマー１７は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。ハンマー１７は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、ハンマー１７は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、ハンマー１７の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

ハンマー１７に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

ハンマー１７に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、ハンマー１７に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含むハンマー１７の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、ハンマー１７の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分におけるハンマー１７の破断を抑制できる。

ハンマー１７に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、ハンマー１７に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、ハンマー１７の破断強度を高く保つという観点から、ハンマー１７に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図８は、本発明の一実施形態であるベローズ１８を示している。ベローズ１８は、蛇腹状に形成された伸縮部材であり、たとえば、流体の漏洩防止などのシール用部品として用いられる。ベローズ１８は、本実施形態では、その全体が高分子材料を成形してなる高分子成形品である。ただし、ベローズ１８は、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよく、たとえばベローズ１８の端部の接続部分のみが他の材料により形成されていてもよい。

ベローズ１８は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。ベローズ１８は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、ベローズ１８は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、ベローズ１８の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

ベローズ１８に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

ベローズ１８に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、ベローズ１８に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含むベローズ１８の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、ベローズ１８の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分におけるベローズ１８の破断を抑制できる。

ベローズ１８に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、ベローズ１８に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、ベローズ１８の破断強度を高く保つという観点から、ベローズ１８に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図９は、本発明の一実施形態である吸盤１９を示している。吸盤１９は、たとえば、内外の圧力の差を利用して対象物に吸着する部品として用いられる。吸盤１９は、本実施形態では、その全体が高分子材料を成形してなる高分子成形品である。ただし、吸盤１９は、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよく、たとえば吸盤１９の端部の接続部分のみが他の材料により形成されていてもよい。

吸盤１９は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。吸盤１９は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、吸盤１９は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、吸盤１９の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

吸盤１９に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

吸盤１９に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、吸盤１９に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含む吸盤１９の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、吸盤１９の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分における吸盤１９の破断を抑制できる。

吸盤１９に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、吸盤１９に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、吸盤１９の破断強度を高く保つという観点から、吸盤１９に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図１０は、本発明の一実施形態であるスクレーパ２０を示している。スクレーパ２０は、たとえば、回転駆動部Ｄに接続されて、鍋Ｐの内面に付着した食材を削り落とすなど、対象物の表面に付着している付着物を削り落とす用途に用いられる。スクレーパ２０は、本実施形態では、その全体が高分子材料を成形してなる高分子成形品である。ただし、スクレーパ２０は、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよく、たとえば対象物（鍋Ｐの内面など）に接触する部位（先端部分）のみが高分子成形品により形成されていてもよい。

スクレーパ２０は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。スクレーパ２０は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、スクレーパ２０は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、スクレーパ２０の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

スクレーパ２０に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

スクレーパ２０に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、スクレーパ２０に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含むスクレーパ２０の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、スクレーパ２０の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分におけるスクレーパ２０の破断を抑制できる。

スクレーパ２０に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、スクレーパ２０に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、スクレーパ２０の破断強度を高く保つという観点から、スクレーパ２０に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図１１は、本発明の一実施形態である食品成形用型枠２１を示している。食品成形用型枠２１は、たとえば、型枠２１ａに食材（チョコレートなど）を充填して固めることにより、食品を形作る用途に用いられる。食品成形用型枠２１は、図示された例では、略円形状の型枠２１ａを備えているが、型枠の形状や大きさは、特に限定されることはなく、形作る食品の形状や大きさに応じて適宜選択可能である。また、食品成形用型枠２１は、全体が、高分子材料を成形してなる高分子成形品であるが、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよい。

食品成形用型枠２１は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。食品成形用型枠２１は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、食品成形用型枠２１は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、食品成形用型枠２１の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

食品成形用型枠２１に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

食品成形用型枠２１に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、食品成形用型枠２１に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含む食品成形用型枠２１の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、食品成形用型枠２１の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分における食品成形用型枠２１の破断を抑制できる。

食品成形用型枠２１に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、食品成形用型枠２１に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、食品成形用型枠２１の破断強度を高く保つという観点から、食品成形用型枠２１に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

図１２は、本発明の一実施形態である食品容器２２を示している。食品容器２２は、食品を収容する用途に用いられ、たとえば、食品を収容して運搬するばんじゅう（食品運搬容器）などとして用いられる。食品容器２２は、図示された例では、略直方体形状に形成された、食品を収容するための収容部２２ａを備えているが、収容部２２ａの形状は、特に限定されることはなく、収容する食品に応じて適宜決定可能である。また、食品容器２２は、全体が、高分子材料を成形してなる高分子成形品であるが、少なくとも一部が高分子成形品により構成されていればよい。

食品容器２２は、高分子材料１と、高分子材料１に分散して混入されるタングステン含有粉２とを含んでいる。食品容器２２は、Ｘ線に対する感度の高いタングステンを含むタングステン含有粉２を含むことにより、従来の強磁性ステンレス粉を含む高分子成形品と比べて、Ｘ線検査装置で容易に検知することができる。したがって、食品容器２２は、食品の製造や加工などを行なう食品工場において、部分的に破損して落下したりしても、Ｘ線検査装置で容易に検知することができるので、食品への混入を抑制することができる。さらに、従来の強磁性ステンレス粉と比べて、タングステン含有粉２の含有量が少なくてもＸ線検査装置で検知することができるので、タングステン含有粉２の含有量を少なく抑えることができ、また、タングステン含有粉２の重量が従来の強磁性ステンレス粉と同じでも体積を小さく抑えることができ、食品容器２２の破断強度を高いレベルで維持することができるとともに、耐摩耗性など高分子材料が本来有する物性の低下を抑制することができる。

食品容器２２に含まれる高分子材料１は、特に限定されることはなく、たとえば、合成樹脂またはゴムを含み、より具体的には、ポリエチレン、高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、硬質または軟質ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、熱可塑性または熱硬化性ウレタン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－エチレンプロピレンゴム－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）などや、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、共重合ナイロンなどのポリアミド系樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ニトリルゴム、フッ素ゴムなどの合成ゴム、オレフィン系エラストマーなどのプラスチックエラストマーなどを含む。高分子材料１は、これらの成分が１種だけ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。

食品容器２２に含まれるタングステン含有粉２は、タングステンを含む粉（粒子）であり、たとえば、金属タングステン粉、酸化タングステン（ＷＯ₃など）粉、炭化タングステン粉、窒化タングステン粉、またはそれらの混合粉などであり、その中でも、金属タングステン粉または酸化タングステン粉が好適に用いられる。タングステン含有粉２は、食品容器２２に含ませることができればよく、その大きさ、形状、含有量などは特に限定されることはない。

タングステン含有粉２の粒径は、特に限定されることはなく、たとえば０．１～５０μｍとすることができるが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性や、高分子材料１およびタングステン含有粉２を含む食品容器２２の破断強度の観点から、０．４～１０μｍが好ましく、０．６～４μｍがさらに好ましく、１～３μｍがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の粒径分布は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、レーザー回折法による粒径分布測定によって求められる粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることが好ましい。タングステン含有粉２の粒径分布を上記範囲とすることにより、高分子材料１中でのタングステン含有粉２の分散性を高めることができ、タングステン含有粉２を含む高分子材料１の加工性を向上させることができる。そのような観点から、タングステン含有粉２の［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、１．６以下であることがさらに好ましく、１．２以下であることがよりさらに好ましい。

タングステン含有粉２の形状は、特に限定されることはないが、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の凝集を抑えて、高分子材料１内でのタングステン含有粉２の分散性を高めるために、略球形であることが好ましい。タングステン含有粉２の形状を略球形とすることで、食品容器２２の成形時に、高分子材料１中でタングステン含有粉２同士が接触しても互いに接着することが抑制され、たとえ接着しても分離しやすいので、タングステン含有粉２の凝集が抑制され、タングステン含有粉２の凝集部分における食品容器２２の破断を抑制できる。

食品容器２２に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、特に限定されることはなく、Ｘ線検査装置によって検知可能な範囲で適宜設定が可能である。たとえば、食品容器２２に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることがよりさらに好ましい。また、たとえば、食品容器２２の破断強度を高く保つという観点から、食品容器２２に含まれるタングステン含有粉２の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

１ 高分子材料
２ タングステン含有粉
１１ ヘラ
１１ａ ブレード
１１ｂ 把手
１２ チリトリ
１２ａ チリトリ本体
１２ｂ 持ち手
１３ ハサミ
１３ａ ハンドル
１３ｂ 刃
１４ 紐
１５ 結束バンド
１５ａ バンド部
１５ｂ バンド固定部
１６ 筆記具
１６ａ ケース
１６ｂ グリップ
１６ｃ ノックバー
１６ｄ 芯材
１７ ハンマー
１７ａ ヘッド部
１７ｂ 柄部
１８ ベローズ
１９ 吸盤
２０ スクレーパ
２１ 食品成形用型枠
２１ａ 型枠
２２ 食品容器
２２ａ 収容部
Ｄ 回転駆動部
Ｐ 鍋

Claims (3)

1. 高分子材料を成形してなる高分子成形品であって、
   高分子材料と、高分子材料に分散して混入されるタングステン含有粉とを含み、
   前記高分子成形品が、ヘラ、チリトリ、ハサミのハンドル、紐、結束バンド、筆記具、ハンマー、ベローズ、吸盤、スクレーパ、食品成形用型枠または食品容器であり、
   前記タングステン含有粉の粒径分布の広がりを示す指標である［（ｄ９０－ｄ１０）／ｄ５０］が、２．０以下であることを特徴とする、高分子成形品。
2. 前記タングステン含有粉の含有量が、１～４０質量％であることを特徴とする請求項１記載の高分子成形品。
3. 前記タングステン含有粉の粒径が、０．４～１０μｍであることを特徴とする請求項１または２記載の高分子成形品。

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