JP7191010B2 - Systems and methods for preparing processing compositions and maintaining processing baths formed therefrom - Google Patents

Systems and methods for preparing processing compositions and maintaining processing baths formed therefrom Download PDF

Info

Publication number
JP7191010B2
JP7191010B2 JP2019507259A JP2019507259A JP7191010B2 JP 7191010 B2 JP7191010 B2 JP 7191010B2 JP 2019507259 A JP2019507259 A JP 2019507259A JP 2019507259 A JP2019507259 A JP 2019507259A JP 7191010 B2 JP7191010 B2 JP 7191010B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lithium
composition
ppm
bath
treatment composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019507259A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019524628A (en
Inventor
エル. ポスト、ゴードン
ジェイ. パウリーク、マイケル
エル. モリス、エリック
エフ. ラキエヴィチ、エドワード
エイ. メーヨー、マイケル
Original Assignee
ピーアールシー-デソト インターナショナル,インコーポレイティド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ピーアールシー-デソト インターナショナル,インコーポレイティド filed Critical ピーアールシー-デソト インターナショナル,インコーポレイティド
Publication of JP2019524628A publication Critical patent/JP2019524628A/en
Priority to JP2021073793A priority Critical patent/JP2021130605A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7191010B2 publication Critical patent/JP7191010B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/60Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using alkaline aqueous solutions with pH greater than 8
    • C23C22/66Treatment of aluminium or alloys based thereon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01DCOMPOUNDS OF ALKALI METALS, i.e. LITHIUM, SODIUM, POTASSIUM, RUBIDIUM, CAESIUM, OR FRANCIUM
    • C01D15/00Lithium compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01DCOMPOUNDS OF ALKALI METALS, i.e. LITHIUM, SODIUM, POTASSIUM, RUBIDIUM, CAESIUM, OR FRANCIUM
    • C01D15/00Lithium compounds
    • C01D15/08Carbonates; Bicarbonates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/06Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
    • C23C22/48Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 not containing phosphates, hexavalent chromium compounds, fluorides or complex fluorides, molybdates, tungstates, vanadates or oxalates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/82After-treatment
    • C23C22/83Chemical after-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/86Regeneration of coating baths

Description

関連出願の相互参照
本出願は、2016年8月12日に出願された発明の名称「シーリング組成物」の米国仮出願第62/374,188号、及び2017年6月29日に出願された発明の名称「処理組成物の調製並びにそれから形成された処理浴を維持するシステム及び方法」の米国仮出願第62/526,382号の優先権を主張し、これら両方は、参照によりそれら全体が本明細書に組み込まれる。
CROSS REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS This application is filed on June 29, 2017, and is entitled "Sealing Compositions," U.S. Provisional Application No. 62/374,188, filed on August 12, 2016. No. 62/526,382, entitled "Systems and Methods for Preparing Processing Compositions and Maintaining Processing Baths Formed Therefrom," both of which are incorporated by reference in their entireties. incorporated herein.

本発明は、金属基材などの基材を処理するための処理組成物、例えば表面上に保護コーティングを形成するための処理組成物、並びにまたそのような組成物の調製並びにこうした処理組成物から形成された処理浴を維持するシステム及び方法に関する。 The present invention relates to treating compositions for treating substrates such as metal substrates, e.g., treating compositions for forming protective coatings on surfaces, and also to the preparation of such compositions and from such treating compositions. A system and method for maintaining a formed processing bath.

改善された耐食性及び塗料接着特徴のための金属表面上の保護コーティングの使用は、金属仕上げ分野において周知である。従来の技術は、耐食性と、処理組成物によって形成されたコーティングの基材表面への接着性とを促進するために、リン酸塩及びクロムを含有する処理組成物で金属基材を処理することを含む。しかしながら、そのようなリン酸塩及び/又はクロム酸塩含有組成物の使用は、環境上及び健康上の懸念を引き起こす。結果として、クロム酸塩を含まない及び/又はリン酸塩を含まない処理組成物が開発されている。 The use of protective coatings on metal surfaces for improved corrosion resistance and paint adhesion characteristics is well known in the metal finishing art. The prior art treats metal substrates with treatment compositions containing phosphate and chromium to promote corrosion resistance and adhesion of the coating formed by the treatment composition to the substrate surface. including. However, the use of such phosphate and/or chromate containing compositions raises environmental and health concerns. As a result, chromate-free and/or phosphate-free treatment compositions have been developed.

典型的な処理プロセス中、処理組成物が基材と接触する場合、処理組成物中の金属イオンなどの特定の成分が基材の表面に堆積するか又は結合して保護層を形成する。結果として、組成物中のこれらのイオンの濃度は、プロセス中に減少する可能性があり、これは、同じコーティング組成物中で連続的にコーティングされる基材間のコーティング特徴及び再現性に悪影響を及ぼす可能性がある。従って、環境上及び健康上の懸念を引き起こさず、基材表面上に効率的な防食及び接着特徴を有する保護コーティングを形成するために使用することができる処理組成物、及び基材を処理するためのそのような組成物の継続的な使用時の組成変動及び関連するコーティング特徴及び再現性への悪影響を回避又は少なくとも軽減する手段を提供することが望ましい。従って、本発明は、環境上安全で健康に優しく、容易に入手可能な資源から費用効率の高い様式で製造することができ、さらに、リン酸塩及び/又はクロム酸塩含有組成物に匹敵する、効率的な防食を与え、基材表面への適切な接着性を有する保護層を形成し得る処理組成物を提供することを目的とする。 During a typical treatment process, when the treatment composition contacts the substrate, certain components, such as metal ions, in the treatment composition deposit or bond to the surface of the substrate to form a protective layer. As a result, the concentration of these ions in the composition can decrease during processing, which adversely affects coating characteristics and reproducibility between substrates that are successively coated in the same coating composition. may affect Thus, treating compositions that do not pose environmental and health concerns and that can be used to form protective coatings with effective anti-corrosion and adhesion characteristics on substrate surfaces, and for treating substrates It would be desirable to provide a means of avoiding or at least mitigating compositional variations and the associated adverse effects on coating characteristics and reproducibility during continued use of such compositions. Thus, the present invention is environmentally safe, health-friendly, can be manufactured from readily available resources in a cost-effective manner, and is comparable to phosphate- and/or chromate-containing compositions. It is an object of the present invention to provide a treatment composition capable of providing effective corrosion protection and forming a protective layer having adequate adhesion to the substrate surface.

別の目的は、腐食又は接着性能に影響を与える組成の変動なしに、再現可能な様式で所望の特徴を有するコーティングをもたらす、基材を処理するためのそのような組成物から形成される処理浴の継続使用を可能にする方法及びシステムを提供することにある。 Another object is a process formed from such a composition for treating a substrate that yields a coating having desired characteristics in a reproducible manner without corrosion or variations in composition affecting adhesion performance. An object of the present invention is to provide a method and system that enable continuous use of the bath.

これらの目的は、添付の特許請求の範囲に記載され、以下の記載においてより詳細に記載されるような処理組成物及びその製造方法並びに処理浴を維持するための方法及びシステムによって解決される。 These objects are solved by a processing composition and method for its manufacture, as well as a method and system for maintaining a processing bath, as set forth in the appended claims and described in more detail in the following description.

本明細書に記載の処理組成物は、一般に、二酸化炭素源、リチウム塩の形態であり得るリチウムカチオン、及び水性媒体を含む。 The treatment compositions described herein generally comprise a carbon dioxide source, lithium cations, which may be in the form of lithium salts, and an aqueous medium.

処理組成物は炭酸リチウムを含んでもよく、ここでこの炭酸リチウムは、二酸化炭素とリチウムカチオンとを水性媒体中でイン・サイチュ(in situ)で反応させることによって形成され得る。 The treatment composition may comprise lithium carbonate, where the lithium carbonate may be formed by reacting carbon dioxide and lithium cations in situ in an aqueous medium.

従って、本発明は、水性媒体中でリチウムカチオン及び二酸化炭素を合わせて、処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5,500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)のリチウム及び処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25,000ppmの量(炭酸塩として計算)の炭酸塩を含む処理組成物を形成することを含む処理組成物の製造方法に関する。 Accordingly, the present invention combines lithium cations and carbon dioxide in an aqueous medium in an amount of 5 ppm to 5,500 ppm (calculated as lithium cations) based on the total weight of the treatment composition and the total weight of the treatment composition. of 15 ppm to 25,000 ppm (calculated as carbonate) based on the method of making a treatment composition comprising forming a treatment composition comprising carbonate in an amount (calculated as carbonate).

本発明はさらに、炭酸リチウムを含む処理組成物から形成された処理浴を維持するためのシステムに関し、このシステムは、リチウム塩及び/又は二酸化炭素、及び任意選択的に水酸化物源を含む。 The present invention further relates to a system for maintaining a processing bath formed from a processing composition comprising lithium carbonate, the system comprising a lithium salt and/or carbon dioxide and optionally a hydroxide source.

また、本発明の一部は、炭酸リチウムを含む処理組成物から形成された処理浴を維持するための方法であって、この方法が:浴を用いた基材の処理中及び/又は処理後に、処理浴のpHを9.5~12.5に、リチウムを処理浴の総重量に基づいて5ppm~5,500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)に、及び炭酸塩を処理浴の総重量に基づいて15ppm~25,000ppmの量(炭酸塩として計算)に維持するのに十分な量で二酸化炭素及びリチウム塩の少なくとも1つを浴に供給することを含む。 Also part of the invention is a method for maintaining a treatment bath formed from a treatment composition comprising lithium carbonate, the method comprising: during and/or after treatment of a substrate with the bath; , the pH of the treatment bath to between 9.5 and 12.5, lithium in an amount of 5 ppm to 5,500 ppm (calculated as lithium cations) based on the total weight of the treatment bath, and carbonate in the total weight of the treatment bath. and supplying at least one of carbon dioxide and lithium salt to the bath in an amount sufficient to maintain an amount (calculated as carbonate) of 15 ppm to 25,000 ppm (calculated as carbonate) based on the present invention.

本発明はさらに、そのような組成物及び維持された処理浴で処理された基材に関する。そのような組成物及び維持された処理浴で処理された基材上に形成されたコーティングのコーティング特徴及び再現性は、この様式で形成又は維持されない組成物で処理された基材上に形成されたコーティングのコーティング特徴及び再現性よりも連続処理された基材においてより一貫している。従って、本発明に従って維持された組成物及び処理浴から形成された保護コーティングは再現性があり、適切な腐食性能及び基材表面への接着性を示す。
以下、他の記載と重複するが、本発明を示す。
[発明1]
炭酸リチウムを含む組成物であって、水性媒体中で二酸化炭素源及びリチウムカチオンを反応させることによって前記炭酸リチウムがイン・サイチュ(in situ)で形成される、組成物。
[発明2]
前記二酸化炭素源が気体、固体、又はそれらの組み合わせを含む、発明1に記載の組成物。
[発明3]
前記リチウムカチオンが組成物の総重量に基づいて5ppm~5500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)で存在する、発明1に記載の組成物。
[発明4]
pHが9.5~12.5である、発明1に記載の組成物。
[発明5]
水酸化物源をさらに含む発明1に記載の組成物。
[発明6]
前記炭酸塩が前記処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25000ppmの量(炭酸塩として計算)で存在する、発明1に記載の組成物。
[発明7]
発明1に記載の組成物で処理された基材。
[発明8]
処理組成物を製造する方法であって:
水性媒体中でリチウムカチオン及び二酸化炭素源を合わせて、前記処理組成物を形成することを含み、前記処理組成物が、前記処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5500ppmの量(リチウムカチオンで計算)のリチウムカチオン、及び前記処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25000ppmの量(炭酸塩として計算)の炭酸塩を含む、
方法。
[発明9]
前記処理組成物のpHが9.5~12.5である、発明8に記載の方法。
[発明10]
二酸化炭素以外の酸を前記処理組成物に添加することをさらに含む発明8に記載の方法。
[発明11]
前記リチウムカチオンが炭酸リチウム、水酸化リチウム、又はそれらの組み合わせを含む塩として存在する、発明8に記載の方法。
[発明12]
水酸化物源を前記水性媒体に添加することをさらに含む発明8に記載の方法。
[発明13]
前記水酸化物源が水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又はそれらの組み合わせを含む、発明8に記載の方法。
[発明14]
前記二酸化炭素源が気体、固体、又はそれらの組み合わせを含む、発明8に記載の方法。
[発明15]
発明8に記載の方法で処理された基材。
[発明16]
処理組成物を含有する処理浴中の炭酸塩レベルを維持するためのシステムであって:
リチウムカチオン;及び/又は
二酸化炭素源;及び
任意選択的に、水酸化物源;
を含むシステム。
[発明17]
前記リチウムカチオンが炭酸リチウム、水酸化リチウム、又はそれらの組み合わせを含む、発明16に記載のシステム。
[発明18]
前記二酸化炭素源が気体、固体、又はそれらの組み合わせを含む、発明16に記載のシステム。
[発明19]
前記水酸化物源が水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又はそれらの組み合わせを含む、発明16に記載のシステム。
[発明20]
発明16に記載のシステムに従って維持された浴において処理組成物で処理された基材。
[発明21]
処理組成物を含む処理浴中の炭酸塩レベルを維持するための方法であって:
前記処理組成物のpHを9.5~12.5に、リチウムを前記処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)に、及び炭酸塩を前記処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25000ppmの量(炭酸塩として計算)に維持するのに十分な量で二酸化炭素源及びリチウム源のうちの少なくとも1つを前記浴に供給すること
を含む方法。
[発明22]
前記二酸化炭素源が気体、固体、又はそれらの組み合わせを含む、発明21に記載の方法。
[発明23]
前記リチウム源が炭酸リチウム、水酸化リチウム、又はそれらの組み合わせを含む、発明21に記載の方法。
[発明24]
水酸化物源を前記浴に供給することをさらに含む発明21に記載の方法。
[発明25]
前記供給後の前記処理浴中の炭酸リチウムの量が前記処理組成物の総重量に基づいて25ppm~30000ppm(総化合物として計算)である、発明21に記載の方法。
[発明26]
前記処理浴のpH、前記処理浴中の炭酸塩の量、前記処理浴中のリチウムの量、又はそれらの組み合わせをモニターすることをさらに含む発明21に記載の方法。
[発明27]
二酸化炭素以外の酸を前記処理浴に添加することをさらに含む発明21に記載の方法。
[発明28]
発明21に記載の方法に従って維持された浴中で前記処理組成物で処理された基材。
The invention further relates to substrates treated with such compositions and maintained treatment baths. Coating characteristics and reproducibility of coatings formed on substrates treated with such compositions and maintained treatment baths are improved over substrates treated with compositions not formed or maintained in this manner. Coating characteristics and reproducibility are more consistent on continuously processed substrates than on conventional coatings. Accordingly, protective coatings formed from compositions and treatment baths maintained in accordance with the present invention are reproducible and exhibit adequate corrosion performance and adhesion to substrate surfaces.
Although overlapping with other descriptions, the present invention is shown below.
[Invention 1]
A composition comprising lithium carbonate, wherein said lithium carbonate is formed in situ by reacting a carbon dioxide source and lithium cations in an aqueous medium.
[Invention 2]
The composition of claim 1, wherein the carbon dioxide source comprises gas, solid, or a combination thereof.
[Invention 3]
A composition according to invention 1, wherein said lithium cation is present in an amount (calculated as lithium cation) of from 5 ppm to 5500 ppm based on the total weight of the composition.
[Invention 4]
The composition according to invention 1, which has a pH of 9.5 to 12.5.
[Invention 5]
The composition according to invention 1, further comprising a hydroxide source.
[Invention 6]
The composition of claim 1, wherein said carbonate is present in an amount (calculated as carbonate) of 15 ppm to 25000 ppm based on the total weight of said treatment composition.
[Invention 7]
A substrate treated with a composition according to invention 1.
[Invention 8]
A method of making a treatment composition comprising:
combining a lithium cation and a carbon dioxide source in an aqueous medium to form the treatment composition, wherein the treatment composition contains an amount of 5 ppm to 5500 ppm (in terms of lithium cations) based on the total weight of the treatment composition; of lithium cations (calculated as carbonate) and carbonate in an amount (calculated as carbonate) of 15 ppm to 25000 ppm based on the total weight of the treatment composition;
Method.
[Invention 9]
The method of claim 8, wherein the treatment composition has a pH of 9.5-12.5.
[Invention 10]
9. The method of claim 8, further comprising adding an acid other than carbon dioxide to the treatment composition.
[Invention 11]
9. The method of claim 8, wherein the lithium cation is present as a salt comprising lithium carbonate, lithium hydroxide, or combinations thereof.
[Invention 12]
9. The method of claim 8, further comprising adding a hydroxide source to said aqueous medium.
[Invention 13]
9. The method of claim 8, wherein the hydroxide source comprises lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or combinations thereof.
[Invention 14]
9. The method of claim 8, wherein the carbon dioxide source comprises gas, solid, or a combination thereof.
[Invention 15]
A substrate treated by the method according to Invention 8.
[Invention 16]
A system for maintaining carbonate levels in a treatment bath containing a treatment composition comprising:
lithium cations; and/or
a carbon dioxide source; and
optionally, a hydroxide source;
system including.
[Invention 17]
17. The system of claim 16, wherein said lithium cations comprise lithium carbonate, lithium hydroxide, or combinations thereof.
[Invention 18]
17. The system of claim 16, wherein the carbon dioxide source comprises gas, solid, or combinations thereof.
[Invention 19]
17. The system of claim 16, wherein said hydroxide source comprises lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or combinations thereof.
[Invention 20]
A substrate treated with a treatment composition in a bath maintained according to the system of invention 16.
[Invention 21]
A method for maintaining carbonate levels in a treatment bath comprising a treatment composition comprising:
The pH of the treatment composition is between 9.5 and 12.5, lithium in an amount of 5 ppm to 5500 ppm (calculated as lithium cations) based on the total weight of the treatment composition, and carbonate of the treatment composition. supplying at least one of a carbon dioxide source and a lithium source to said bath in an amount sufficient to maintain an amount (calculated as carbonate) of 15 ppm to 25000 ppm based on total weight;
method including.
[Invention 22]
22. The method of claim 21, wherein the carbon dioxide source comprises gas, solid, or a combination thereof.
[Invention 23]
22. The method of claim 21, wherein the lithium source comprises lithium carbonate, lithium hydroxide, or combinations thereof.
[Invention 24]
22. The method of claim 21, further comprising supplying a hydroxide source to said bath.
[Invention 25]
22. The method of claim 21, wherein the amount of lithium carbonate in said treatment bath after said feeding is from 25 ppm to 30000 ppm (calculated as total compounds) based on the total weight of said treatment composition.
[Invention 26]
22. The method of claim 21, further comprising monitoring the pH of the treatment bath, the amount of carbonate in the treatment bath, the amount of lithium in the treatment bath, or combinations thereof.
[Invention 27]
22. The method of claim 21, further comprising adding an acid other than carbon dioxide to said treatment bath.
[Invention 28]
A substrate treated with said treatment composition in a bath maintained according to the method of invention 21.

例D~Jにおいて使用される処理組成物を含有する処理浴を調製するために使用される連続工程を詳細に示すフロー図を示す。1 shows a flow diagram detailing the sequential process used to prepare the treatment baths containing the treatment compositions used in Examples D-J.

例L~Oにおいて使用される組成物を含有する処理浴を調製するために使用される連続工程を詳細に示すフロー図を示す。1 shows a flow diagram detailing the sequential process used to prepare the treatment baths containing the compositions used in Examples L-O.

基材表面上の処理組成物の層の厚さを示す概略図を示す。FIG. 2 shows a schematic showing the thickness of the layer of treatment composition on the substrate surface.

以下の詳細な説明の目的のために、本発明は、明示的に反対に指定されている場合を除いて、様々な代替の変形及び工程順序を想定し得ることが理解されるべきである。さらに、任意の操作例以外で、又は他に示される場合を除き、値、量、百分率、範囲、部分範囲及び分数を表すものなどのすべての数は、その用語がない場合でも「約」という言葉で始まるように読むことができる。従って、反対のことが示されていない限り、以下の明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される数値パラメータは、本発明によって得られるべき所望の特性に応じて変化し得る近似値である。少なくとも、特許請求の範囲に対する均等論の適用を制限する試みとしてではなく、各数値パラメータは、報告された有効数字の数に照らして及び通常の丸め技術(ordinary rounding technique)を適用することによって少なくとも解釈されるべきである。本明細書にクローズエンド又はオープンエンドの数値範囲が記載されている場合、その数値範囲内の、又はその範囲に含まれるすべての数、値、量、百分率、部分範囲及び分数は、これらの数、値、量、百分率、部分範囲及び分数がそれらの全体で明白に書き出されたかのように、本出願の元々の開示に具体的に含まれる、及び本出願の元々の開示に属すると考えられるべきである。 For purposes of the following detailed description, it is to be understood that the invention may assume various alternative variations and step sequences, except where expressly specified to the contrary. Further, other than in any operational example or unless otherwise indicated, all numbers, such as those expressing values, amounts, percentages, ranges, subranges and fractions, are referred to as "about" even in the absence of that term. It can be read to begin with words. Accordingly, unless indicated to the contrary, the numerical parameters set forth in the following specification and attached claims are approximations that may vary depending upon the desired properties sought to be obtained by the present invention. . At least not as an attempt to limit the application of the doctrine of equivalents to the claims, each numerical parameter is at least should be interpreted. When a closed-ended or open-ended numerical range is recited herein, all numbers, values, amounts, percentages, subranges and fractions within or within that numerical range refer to these numbers. , values, amounts, percentages, subranges and fractions are specifically included in the original disclosure of the present application as if expressly written out in their entirety and are considered to belong to the original disclosure of the present application. should.

本発明の広い範囲を示す数値範囲及びパラメータが近似値であるにもかかわらず、特定の例に示される数値は可能な限り正確に報告される。しかし、いずれの数値も、それぞれの試験測定に見られる標準偏差から必然的に生じる一定の誤差を本質的に含む。 Notwithstanding that the numerical ranges and parameters setting forth the broad scope of the invention are approximations, the numerical values set forth in the specific examples are reported as precisely as possible. Any numerical value, however, inherently contains certain errors necessarily resulting from the standard deviation found in their respective testing measurements.

本明細書で使用される場合、他に示されない限り、複数形の用語は、他に示されない限り、その単数形の対応物を包含することができ、逆もまた同様である。例えば、本明細書では「リチウム塩(“a” lithium salt)」、「水酸化物(“a” hydroxide)」、及び「処理組成物(“a” treatment composition)」について言及しているが、これらの成分の組み合わせ(すなわち複数)を使用することができる。加えて、本出願において、「又は」の使用は、「及び/又は」が特定の場合に明示的に使用され得るとしても、特に断らない限り「及び/又は」を意味する。 As used herein, unless otherwise indicated, plural terms may include their singular counterparts, and vice versa. For example, although reference is made herein to "a" lithium salt," "a" hydroxide," and "a" treatment composition, Combinations (ie, multiple) of these ingredients can be used. Additionally, in this application, the use of "or" means "and/or" unless stated otherwise, even though "and/or" may explicitly be used in certain instances.

本明細書で使用される場合、「含む(including)」、「含有する(containing)」などの用語は、「含む(comprising)」と同義であると本出願の文脈で理解され、従ってオープンエンドであり、追加の記載されていない及び/又は引用されていない要素、材料、成分及び/又は方法工程の存在を除外しない。本明細書で使用される場合、「からなる(consisting of)」は、本出願の文脈では、いかなる特定されていない要素、成分及び/又は方法工程の存在も除外すると理解される。本明細書で使用される場合、「から本質的になる(consisting essentially of)」は、本出願の文脈において、特定の要素、材料、成分及び/又は方法工程「並びに記載されているもののその基本的及び新規特徴に実質的に影響を及ぼさないもの」を含むと理解される。 As used herein, the terms "including," "containing," and the like are understood in the context of the present application to be synonymous with "comprising," thus open-ended and does not exclude the presence of additional undescribed and/or unquoted elements, materials, ingredients and/or method steps. As used herein, "consisting of", in the context of the present application, is understood to exclude the presence of any unspecified elements, ingredients and/or method steps. As used herein, "consisting essentially of", in the context of this application, refers to a particular element, material, ingredient and/or method step "and the basis of what is being described". "does not materially affect the original and novel features".

本明細書で使用される場合、「上に(on)」、「上に(onto)」、「上に適用される(applied on)」、「上に適用される(applied onto)」、「上に形成される(formed on)」、「上に堆積される(deposited on)」、「上に堆積される(deposited onto)」の用語は、表面に接触しているとは限らないが、表面に形成され、重ね合わせられ、堆積され、及び/又は提供されることを意味する。例えば、基材「上に形成された(formed over)」コーティング層は、形成されたコーティング層と基材との間に位置する同一又は異なる組成の1つ以上の他の介在コーティング層の存在を排除しない。 As used herein, "on", "onto", "applied on", "applied onto", " The terms "formed on", "deposited on", and "deposited onto" are not necessarily in contact with the surface, but It means formed on, superimposed on, deposited on, and/or provided on a surface. For example, a coating layer “formed over” a substrate excludes the presence of one or more other intervening coating layers of the same or different composition located between the formed coating layer and the substrate. do not exclude.

本明細書で他に開示されない限り、用語「実質的に含まない」は、特定の材料が存在しないことに関して使用される場合、そのような材料が、組成物、組成物を含有する浴、並びに/又は組成物から形成される及び組成物を含む層中に存在する場合には、場合によっては組成物、浴及び/又は層の総重量に基づいて、5ppm以下の微量でのみ存在することを意味する。本明細書で他に開示されない限り、用語「本質的に含まない」は、特定の材料が存在しないことに関して使用される場合、そのような材料が、組成物、組成物を含有する浴、並びに/又は組成物から形成される及び組成物を含む層中に存在する場合には、場合によっては組成物、浴及び/又は層の総重量に基づいて、1ppm以下の微量でのみ存在することを意味する。本明細書で他に開示されない限り、用語「完全に含まない」は、特定の材料が存在しないことに関して使用される場合、そのような材料が、組成物、組成物を含有する浴、並びに/又は組成物から形成される及び組成物を含む層中に存在する場合には、組成物、組成物を含有する浴、及び/又は組成物から形成される及び組成物を含む層に存在しない(すなわち、組成物、組成物を含有する浴、及び/又は組成物から形成される及び組成物を含む層がこうした材料を0ppm含有する)ことを意味する。組成物、組成物を含有する浴、並びに/又は組成物から形成される及び組成物を含む層が、特定の材料を実質的に含まない、本質的に含まない、又は完全に含まない場合、これは、そのような材料は、例えば、処理ライン内の前の処理浴からの持ち越し、地方自治体の水源、基材、及び/又は装置の溶解の結果として存在し得ることを除いて、それらから除外されることを意味する。 Unless otherwise disclosed herein, the term "substantially free", when used in reference to the absence of a particular material, includes the composition, the bath containing the composition, and the composition. and/or when present in a layer formed from and including the composition, present only in trace amounts of 5 ppm or less, optionally based on the total weight of the composition, bath and/or layer. means. Unless otherwise disclosed herein, the term "essentially free", when used in reference to the absence of a particular material, includes the composition, the bath containing the composition, and the composition. and/or when present in a layer formed from and including the composition, present only in trace amounts of 1 ppm or less, optionally based on the total weight of the composition, bath and/or layer. means. Unless otherwise disclosed herein, the term "completely free", when used in reference to the absence of a particular material, does not include the composition, the bath containing the composition, and/or or in a layer formed from and comprising the composition, if not present in the composition, a bath containing the composition, and/or a layer formed from and comprising the composition ( That is, it means that the composition, the bath containing the composition, and/or the layers formed from and containing the composition contain 0 ppm of such materials. If the composition, the bath containing the composition, and/or the layers formed from and containing the composition are substantially free, essentially free, or completely free of the specified material, This is because such materials may be present, for example, as a result of carryover from previous processing baths in the processing line, municipal water sources, substrates, and/or dissolution of equipment from them. means excluded.

本明細書で使用される場合、「塩」とは、金属カチオン及び非金属アニオンから構成され、全体の電荷がゼロであるイオン性化合物を指す。塩は水和又は無水であり得る。 As used herein, "salt" refers to an ionic compound composed of metal cations and non-metal anions and having an overall charge of zero. Salts may be hydrated or anhydrous.

本明細書で使用される場合、「水性組成物」は、主に水を含む媒体中の溶液又は分散液を指す。例えば、水性媒体は、媒体の総重量に基づいて、50重量%を超える、又は70重量%を超える、又は80重量%を超える、又は90重量%を超える、又は95重量%を超える量の水を含み得る。水性媒体は、例えば実質的に水からなってもよい。 As used herein, "aqueous composition" refers to a solution or dispersion in a medium comprising primarily water. For example, the aqueous medium is water in an amount greater than 50%, or greater than 70%, or greater than 80%, or greater than 90%, or greater than 95% by weight, based on the total weight of the medium. can include The aqueous medium may, for example, consist essentially of water.

本明細書で使用される場合、用語「酸化剤」は、シーリング組成物の成分に関して使用される場合、シーリング組成物と接触する基材中に存在する金属及び/又はシーリング組成物中に存在する金属錯化剤のうちの少なくとも1つを酸化することができる化学物質を指す。「酸化剤」に関して本明細書で使用される場合、語句「酸化することができる」は、場合によっては、基材又はシーリング組成物中に存在する原子又は分子から電子を除去することができ、それによって電子の数を減らすことができることを意味する。 As used herein, the term "oxidizing agent" when used in reference to a component of the sealing composition is present in the sealing composition and/or metals present in substrates that come into contact with the sealing composition. Refers to chemicals capable of oxidizing at least one of the metal-complexing agents. As used herein with respect to "oxidizing agent", the phrase "capable of oxidizing" is optionally capable of removing electrons from atoms or molecules present in the substrate or sealing composition; This means that the number of electrons can be reduced.

本明細書で使用される場合、用語「IA族金属」とは、例えばHandbook of Chemistry and Physics,63rd edition(1983)に示されるような元素周期表のCAS版のIA族(実際のIUPAC番号付けのグループ1に対応)にある元素を指す。 As used herein, the term "Group IA metal" refers to Group IA (actual IUPAC number (corresponding to Group 1 of the attachment).

本明細書で使用される場合、用語「IA族金属化合物」は、元素周期表のCAS版のIA族にある少なくとも1つの元素を含む化合物を指す。 As used herein, the term "Group IA metal compound" refers to a compound containing at least one element in Group IA of the CAS version of the Periodic Table of the Elements.

本明細書で使用される場合、用語「IIA族金属」とは、例えばHandbook of Chemistry and Physics,63rd edition(1983)に示されるような元素周期表のCAS版のIIA族(実際のIUPAC番号付けのグループ2に対応)にある元素を指す。 As used herein, the term "Group IIA metal" refers to Group IIA of the CAS version of the Periodic Table of the Elements (actual IUPAC number (corresponding to Group 2 of the attachment).

本明細書で使用される場合、用語「IIA族金属化合物」は、元素周期表のCAS版のIIA族にある少なくとも1つの元素を含む化合物を指す。 As used herein, the term "Group IIA metal compound" refers to a compound containing at least one element in Group IIA of the CAS version of the Periodic Table of the Elements.

本明細書で使用される場合、用語「IIIB族金属」とは、例えばHandbook of Chemistry and Physics,63rd edition(1983)に示されるような元素周期表のCAS版のイットリウム及びスカンジウム(実際のIUPAC番号付けのグループ3に対応)にある元素を指す。明確にするために、「IIIB族金属」はランタニド系列元素を明確に除外している。 As used herein, the term "Group IIIB metals" refers to yttrium and scandium in the CAS version of the Periodic Table of the Elements (the actual IUPAC (corresponding to numbering group 3). For clarity, "Group IIIB metals" specifically excludes the Lanthanide series elements.

本明細書で使用される場合、用語「IIIB族金属化合物」は、上記で定義されるような元素周期表のCAS版のIIIB族にある少なくとも1つの元素を含む化合物を指す。 As used herein, the term "Group IIIB metal compound" refers to a compound containing at least one element in Group IIIB of the CAS version of the Periodic Table of the Elements as defined above.

本明細書で使用される場合、用語「IVB族金属」とは、例えばHandbook of Chemistry and Physics,63rd edition(1983)に示されるような元素周期表のCAS版のIVB族(実際のIUPAC番号付けのグループ4に対応)にある元素を指す。 As used herein, the term "Group IVB metal" refers to Group IVB (actual IUPAC number (corresponding to Group 4 of the attachment).

本明細書で使用される場合、用語「IVB族金属化合物」は、元素周期表のCAS版のIVB族にある少なくとも1つの元素を含む化合物を指す。 As used herein, the term "Group IVB metal compound" refers to a compound containing at least one element in Group IVB of the CAS version of the Periodic Table of the Elements.

本明細書で使用される場合、用語「VB族金属」とは、例えばHandbook of Chemistry and Physics,63rd edition(1983)に示されるような元素周期表のCAS版のVB族(実際のIUPAC番号付けのグループ5に対応)にある元素を指す。 As used herein, the term "Group VB metal" refers to Group VB of the CAS version of the Periodic Table of the Elements (actual IUPAC number (corresponding to Group 5 of the attachment).

本明細書で使用される場合、用語「第VB族金属化合物」は、元素周期表のCAS版のVB族にある少なくとも1つの元素を含む化合物を指す。 As used herein, the term "Group VB metal compound" refers to a compound containing at least one element in Group VB of the CAS version of the Periodic Table of the Elements.

本明細書で使用される場合、用語「VIB族金属」とは、例えばHandbook of Chemistry and Physics,63rd edition(1983)に示されるような元素周期表のCAS版のVIB族(実際のIUPAC番号付けのグループ6に対応)にある元素を指す。 As used herein, the term "Group VIB metal" refers to Group VIB (actual IUPAC number (corresponding to group 6 of the attachment).

本明細書で使用される場合、用語「VIB族金属化合物」は、元素周期表のCAS版のVIB族にある少なくとも1つの元素を含む化合物を指す。 As used herein, the term "Group VIB metal compound" refers to a compound containing at least one element in Group VIB of the CAS version of the Periodic Table of the Elements.

本明細書で使用される場合、用語「VIIB族金属」とは、例えばHandbook of Chemistry and Physics,63rd edition(1983)に示されるような元素周期表のCAS版のIA族(実際のIUPAC番号付けのグループ7に対応)にある元素を指す。 As used herein, the term "Group VIIB metal" refers to Group IA (actual IUPAC number (corresponding to Group 7 of the attachment).

本明細書で使用される場合、用語「VIIB族金属化合物」は、元素周期表のCAS版のVIIB族にある少なくとも1つの元素を含む化合物を指す。 As used herein, the term "Group VIIB metal compound" refers to a compound containing at least one element in Group VIIB of the CAS version of the Periodic Table of the Elements.

本明細書で使用される場合、用語「XII族金属」とは、例えばHandbook of Chemistry and Physics,63rd edition(1983)に示されるような元素周期表のCAS版のIA族(実際のIUPAC番号付けのグループ12に対応)にある元素を指す。 As used herein, the term "Group XII metal" refers to Group IA (actual IUPAC number (corresponding to group 12).

本明細書で使用される場合、用語「XII族金属化合物」は、元素周期表のCAS版のXII族にある少なくとも1つの元素を含む化合物を指す。 As used herein, the term "Group XII metal compound" refers to a compound containing at least one element in Group XII of the CAS version of the Periodic Table of the Elements.

本明細書で使用される場合、用語「ランタニド系列元素」は、元素周期表のCAS版の元素57~71を指し、ランタニド系列元素の元素に相当するものを含む。本発明によれば、ランタニド系列元素は、+3及び+4の共通の酸化状態(以後+3/+4酸化状態と呼ぶ)の両方を有するものであり得る。 As used herein, the term "lanthanide series elements" refers to elements 57-71 of the CAS version of the Periodic Table of the Elements, and includes the equivalents of the elements of the lanthanide series. According to the present invention, the lanthanide series elements can have both +3 and +4 common oxidation states (hereinafter referred to as +3/+4 oxidation states).

本明細書で使用される場合、用語「ランタニド化合物」は、元素の周期表のCAS版の元素57~71のうちの少なくとも1つを含む化合物を指す。 As used herein, the term "lanthanide compound" refers to a compound containing at least one of the elements 57-71 of the CAS version of the Periodic Table of the Elements.

本明細書で使用される場合、「シーリング組成物」は、基材表面の物理的及び/又は化学的特性を変化させるように基材表面又は基材表面上に堆積された材料に影響を及ぼす組成物、例えば溶液又は分散液を指す(例えば、この組成物は防食をもたらす)。 As used herein, a “sealing composition” affects a substrate surface or a material deposited on a substrate surface to alter the physical and/or chemical properties of the substrate surface. Refers to a composition, such as a solution or dispersion (eg, the composition provides corrosion protection).

本明細書で使用される場合、「転化組成物」とは、基材表面と反応して化学的に変化させることができ、それと結合して防食を与えるフィルムを形成することができる組成物、例えば溶液又は分散液を指す。 As used herein, a "converting composition" is a composition capable of reacting with and chemically altering a substrate surface to form a film that bonds therewith to provide corrosion protection; For example, it refers to solutions or dispersions.

本明細書で使用される場合、「処理浴」は、初期処理組成物から形成された水性浴を指す。処理浴は、基材を処理組成物と接触させるプロセスの副産物である成分を含有し得る。 As used herein, "treatment bath" refers to an aqueous bath formed from the initial treatment composition. The treatment bath may contain components that are by-products of the process of contacting the substrate with the treatment composition.

本明細書で使用される場合、処理組成物から形成された処理浴を「維持する」とは、特定の成分の濃度及び/又はpHを含む処理浴の特定のパラメータを望ましい範囲に保つことを指す。これは、以下でより詳細に記載されるように、それぞれの供給源から処理浴へのオン-シフト及び/又はオフ-シフトで1つ以上の材料を添加することによって達成され得る。本明細書で使用される場合、「オン-シフト」は、処理されるべき物品が処理浴中に存在することを意味する。本明細書で使用される場合、「オフ-シフト」は、処理組成物によって処理されるべき物品が処理浴に存在しないことを意味するが、処理浴が必ずしもプロセスラインから取り除かれることを意味するのではない。 As used herein, "maintaining" a processing bath formed from the processing composition means maintaining certain parameters of the processing bath, including the concentrations of certain ingredients and/or pH, within desired ranges. Point. This can be accomplished by adding one or more materials in on-shift and/or off-shift from their respective sources to the processing bath, as described in more detail below. As used herein, "on-shift" means that the article to be treated is present in the treatment bath. As used herein, "off-shift" means that no articles to be treated with the treatment composition are present in the treatment bath, but that the treatment bath is necessarily removed from the process line. not.

孔食(pitting corrosion)は、それによってキャビティ又はホールが基材に生成される局部的な腐食の形成である。本明細書で使用される場合「ピット」という用語は、孔食に起因するそのようなキャビティ又はホールを指し、(1)試験パネル表面に対して垂直に見る場合に丸みを帯び、細長く又は不規則な外観、(2)ピッティングキャビティから生じる「彗星の尾(comet-tail)」、線、又は「ハロ(halo)」(すなわち表面変色)、及び(3)ピット内部又はピットのすぐ周りに腐食副生成物(例えば、白色、灰色又は黒色の粒状、粉末状又は非晶質の物質)が存在することを特徴とする。観察された表面のキャビティ又はホールは、腐食ピットと見なされるためには、上記の特徴のうちの少なくとも2つを示さなければならない。これらの特徴のうち1つのみを示す表面キャビティ又はホールは、腐食ピットとして分類される前に追加の分析を必要とし得る。10倍の倍率の顕微鏡を使用した目視検査は、腐食副生成物が肉眼で見えない場合に腐食副生成物の存在を決定するために使用される。 Pitting corrosion is the formation of localized corrosion whereby cavities or holes are created in the substrate. As used herein, the term "pit" refers to such cavities or holes resulting from pitting corrosion that are (1) rounded, elongated or irregular when viewed perpendicular to the test panel surface; regular appearance, (2) "comet-tails", lines, or "halos" (i.e., surface discoloration) arising from pitting cavities, and (3) within or immediately around pits. Characterized by the presence of corrosion by-products (eg white, gray or black granular, powdery or amorphous material). Observed surface cavities or holes must exhibit at least two of the above characteristics to be considered corrosion pits. Surface cavities or holes exhibiting only one of these characteristics may require additional analysis before being classified as corrosion pits. Visual inspection using a microscope at 10x magnification is used to determine the presence of corrosion byproducts if they are not visible to the naked eye.

本明細書で使用される場合、本明細書で他に開示されない限り、用語「総組成物重量」、「総浴重量」、「組成物の総重量」、「処理浴の総重量」又は類似の用語は、任意の担体及び溶媒を含むそれぞれの組成物又は浴中に存在するすべての成分の総重量を指す。 As used herein, unless otherwise disclosed herein, the terms "total composition weight", "total bath weight", "total composition weight", "total treatment bath weight" or similar refers to the total weight of all ingredients present in the respective composition or bath, including any carrier and solvent.

上述のように、本発明によれば、炭酸リチウムを含む処理組成物が開示される。炭酸リチウムは、特に、二酸化炭素と、例えば水性媒体中でリチウム塩の形態であり得るリチウムカチオンとを反応させることによって、上記で記載されたようにイン・サイチュで形成され得る。処理組成物は、シーリング組成物、転化組成物などであり得る。 As noted above, in accordance with the present invention, a treatment composition comprising lithium carbonate is disclosed. Lithium carbonate can be formed in situ as described above, inter alia, by reacting carbon dioxide with lithium cations, which can be in the form of lithium salts, for example, in an aqueous medium. The treatment composition can be a sealing composition, a conversion composition, and the like.

本発明の処理組成物は、通常アルカリ性である。本発明によれば、処理組成物のpHは、少なくとも9.5、例えば少なくとも10、例えば少なくとも11であり得、ある場合には、12.5以下、例えば12以下、例えば約11.5以下であり得る。本発明によれば、処理組成物のpHは、9.5~12.5、例えば10~12、例えば11~11.5であり得る。本発明によれば、処理組成物のpHは、二酸化炭素、水溶性及び/又は水分散性の酸、例えば硝酸、硫酸、及び/又はリン酸を含む酸性材料を含めることによって調整され得る。本発明によれば、処理組成物のpHは、炭酸塩、例えばI族炭酸塩、II族炭酸塩、水酸化物、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又は水酸化アンモニウム、アンモニア、及び/又はアミン、例えばトリエチルアミン、メチルエチルアミン、又はそれらの混合物を含む水溶性及び/又は水分散性塩基を含む塩基性材料を含めることによって調整され得る。 The treatment compositions of the invention are generally alkaline. According to the present invention, the pH of the treatment composition may be at least 9.5, such as at least 10, such as at least 11, and in some cases no greater than 12.5, such as no greater than 12, such as no greater than about 11.5. could be. According to the invention, the pH of the treatment composition may be from 9.5 to 12.5, such as from 10 to 12, such as from 11 to 11.5. According to the present invention, the pH of the treatment composition may be adjusted by including acidic materials including carbon dioxide, water-soluble and/or water-dispersible acids such as nitric acid, sulfuric acid, and/or phosphoric acid. According to the present invention, the pH of the treatment composition is adjusted to include carbonates such as Group I carbonates, Group II carbonates, hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or ammonium hydroxide, ammonia. and/or the inclusion of basic materials including water-soluble and/or water-dispersible bases including amines such as triethylamine, methylethylamine, or mixtures thereof.

本発明によれば、本発明の処理組成物を形成するために使用される二酸化炭素は、気体、固体(すなわち、ドライアイス)、又はそれらの組み合わせであり得る。 According to the invention, the carbon dioxide used to form the treatment composition of the invention can be gaseous, solid (ie, dry ice), or a combination thereof.

本発明によれば、本発明の処理組成物を形成するために使用されるリチウム塩は、無機リチウム塩、有機リチウム塩、又はそれらの組み合わせを含み得る。本発明によれば、リチウム塩のアニオン及びカチオンは両方とも水溶性であり得る。本発明によれば、リチウム塩は、25℃の温度での、少なくとも1×10-11、例えば少なくとも1×10-4、ある場合には5×10+2以下であり得る水中溶解度定数(K;25℃)を有し得る。本発明によれば、リチウム塩は、25℃の温度での、1×10-11~5×10+2、例えば1×10-4~5×10+2水中溶解度定数(K;25℃)を有し得る。本明細書で使用される場合、「溶解度定数」は、それぞれのリチウム塩の飽和水溶液中のイオンの平衡濃度の積を意味する。各濃度は、平衡式におけるそれぞれのイオン係数のべき乗になる。様々な塩に対する溶解度定数は、Handbook of Chemistry and Physicsに見出すことができる。適切なリチウム塩の例は、炭酸リチウム、水酸化リチウム、リン酸リチウム、硫酸リチウム、及び四ホウ酸リチウムである。 In accordance with the present invention, the lithium salts used to form the treatment compositions of the present invention can include inorganic lithium salts, organic lithium salts, or combinations thereof. According to the invention, both the anion and the cation of the lithium salt may be water soluble. According to the present invention, the lithium salt has a solubility constant in water (K; 25° C.). According to the invention, the lithium salt has a solubility constant in water of 1×10 −11 to 5×10 +2 , such as 1×10 −4 to 5×10 +2 at a temperature of 25° C. (K; 25° C.). can. As used herein, "solubility constant" means the product of the equilibrium concentrations of ions in saturated aqueous solutions of the respective lithium salts. Each concentration is raised to the power of its respective ionic coefficient in the equilibrium equation. Solubility constants for various salts can be found in the Handbook of Chemistry and Physics. Examples of suitable lithium salts are lithium carbonate, lithium hydroxide, lithium phosphate, lithium sulfate, and lithium tetraborate.

任意選択的に、処理組成物はまた、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、又はそれらの組み合わせなどの水酸化物も含んでいてもよい。本発明によれば、水酸化物は、1つ以上のI族水酸化物、水酸化アンモニウム、又はそれらの混合物であり得る。水酸化物は、仮に存在するとしても、処理組成物のpHが9.5~12.5のままであるような量など、任意の量で存在し得る。I族水酸化物の非限定的な例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、又はそれらの混合物が挙げられる。従って、水酸化物は、使用される場合、例えば水酸化リチウムは、任意選択的に炭酸リチウムのような他のリチウム塩と組み合わせて、処理組成物又はその一部を形成するのに使用されるリチウム塩成分として供給されてもよい。しかしながら、処理組成物はまた、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又はそれらの組み合わせなどのリチウム塩とは異なる1つ以上の水酸化物を含んでもよい。 Optionally, the treatment composition may also include hydroxides such as alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, or combinations thereof. According to the invention, the hydroxide can be one or more Group I hydroxides, ammonium hydroxide, or mixtures thereof. The hydroxide, if present, can be present in any amount, such as such that the pH of the treatment composition remains between 9.5 and 12.5. Non-limiting examples of Group I hydroxides include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, or mixtures thereof. Thus, hydroxides, if used, for example lithium hydroxide, optionally in combination with other lithium salts such as lithium carbonate, are used to form the treatment composition or part thereof. It may be supplied as a lithium salt component. However, the treatment composition may also contain one or more hydroxides different from the lithium salt, such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or combinations thereof.

本発明の処理組成物は一般に担体として水性媒体を含む。従って、組成物は、担体中のリチウム塩の溶液又は分散液の形態であり得る。 The treatment compositions of the invention generally contain an aqueous medium as a carrier. The composition may thus be in the form of a solution or dispersion of the lithium salt in the carrier.

本発明によれば、炭酸リチウムは、水性担体媒体中で二酸化炭素及びリチウムカチオンを合わせることによって形成され、ここで二酸化炭素及びリチウムカチオンは、リチウムが処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5,500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)で処理組成物中に存在し、炭酸塩は処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25,000ppmの量(炭酸塩として計算)で処理組成物中に存在するような量で存在するようにバランスをとる。上記のように、1つ以上の酸性材料及び/又は1つ以上の塩基性材料、例えば1つ以上の水酸化物などの1つ以上のpH調整剤を任意選択的にさらに水性担体媒体に添加するが、ここでそのような任意のpH調整剤、二酸化炭素及びリチウム塩の量は、処理組成物のpHが9.5~12.5になるようにバランスをとることができる。 According to the present invention, lithium carbonate is formed by combining carbon dioxide and lithium cations in an aqueous carrier medium, wherein the carbon dioxide and lithium cations are from 5 ppm to 5 ppm of lithium based on the total weight of the treatment composition. , 500 ppm (calculated as lithium cations) in the treatment composition, and the carbonate is present in the treatment composition in an amount (calculated as carbonate) of 15 ppm to 25,000 ppm based on the total weight of the treatment composition. Balance to exist in amounts that exist. Optionally, one or more pH adjusting agents, such as one or more acidic materials and/or one or more basic materials, such as one or more hydroxides, are optionally further added to the aqueous carrier medium, as described above. However, here the amounts of such optional pH modifiers, carbon dioxide and lithium salt can be balanced such that the pH of the treatment composition is between 9.5 and 12.5.

本発明によれば、処理組成物は、リチウム以外の少なくとも1つのIA族金属カチオン、VB族金属カチオン、及び/又はVIB族金属カチオンをさらに含み得る。本発明によれば、リチウム以外の少なくとも1つのIA族金属カチオン、VB族金属カチオン、及び/又はVIB族金属カチオンは、塩及びカチオンの形態であってもよく、それぞれは処理組成物の総重量に基づいて少なくとも5ppm、例えば少なくとも50ppm、例えば少なくとも150ppm、例えば少なくとも250ppmの量(金属カチオンとして計算)で処理組成物中に存在し、ある場合には、処理組成物の総重量に基づいて、5,500ppm以下、例えば1,200ppm以下、例えば1,000ppm以下、例えば500ppm以下の量(金属カチオンとして計算)で存在し得る。ある場合には、本発明によれば、リチウム金属は、処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5,500ppm、例えば50ppm~1,000ppm、例えば150ppm~500ppmの量(金属カチオンとして計算)で処理組成物中に存在し得る。 According to the present invention, the treatment composition may further comprise at least one Group IA metal cation, Group VB metal cation, and/or Group VIB metal cation other than lithium. According to the present invention, the at least one Group IA metal cation, Group VB metal cation, and/or Group VIB metal cation other than lithium may be in the form of salts and cations, each of which is equal to the total weight of the treatment composition. is present in the treatment composition in an amount (calculated as metal cation) of at least 5 ppm, such as at least 50 ppm, such as at least 150 ppm, such as at least 250 ppm, based on the total weight of the treatment composition; , 500 ppm or less, such as 1,200 ppm or less, such as 1,000 ppm or less, such as 500 ppm or less. In some cases, according to the present invention, lithium metal is present in an amount (calculated as metal cation) of 5 ppm to 5,500 ppm, such as 50 ppm to 1,000 ppm, such as 150 ppm to 500 ppm, based on the total weight of the treatment composition. It can be present in the treatment composition.

リチウムカチオン、リチウム以外のIA族カチオン、VB族カチオン、及び/又はVIB族カチオンと塩を形成するのに適したアニオンの非限定的な例には、炭酸塩、水酸化物、硝酸塩、ハロゲン、硫酸塩、リン酸塩及びケイ酸塩(例えばオルトケイ酸塩及びメタケイ酸塩)が含まれ、このようにして金属塩は、炭酸塩、水酸化物、硝酸塩、ハロゲン化物、硫酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩(例えば、オルトケイ酸塩又はメタケイ酸塩)、過マンガン酸塩、クロム酸塩、バナジン酸塩、モリブデン酸塩、及び/又は過塩素酸塩を含み得る。 Non-limiting examples of anions suitable for forming salts with lithium cations, Group IA cations other than lithium, Group VB cations, and/or Group VIB cations include carbonates, hydroxides, nitrates, halogens, Included are sulfates, phosphates and silicates (e.g. orthosilicates and metasilicates), thus metal salts include carbonates, hydroxides, nitrates, halides, sulfates, phosphates. , silicates (eg, orthosilicates or metasilicates), permanganates, chromates, vanadates, molybdates, and/or perchlorates.

本発明によれば、処理組成物の金属塩(すなわち、リチウム、リチウム以外のIA族金属、VB族、及び/又はVIB族の塩)は、それぞれ、処理組成物中に、処理組成物の総重量に基づいて少なくとも25ppm、例えば少なくとも150ppm、例えば少なくとも500ppmの量(総化合物として計算)、及びある場合には処理組成物の総重量に基づいて30,000ppm以下、例えば2,000ppm以下、例えば1,500ppm以下の量(総化合物として計算)で存在し得る。本発明によれば、金属塩はそれぞれ、処理組成物中に、処理組成物の総重量に基づいて25ppm~30,000ppm、例えば150ppm~2,000ppm、例えば500ppm~1,500の量(総化合物として計算)で存在し得る。 In accordance with the present invention, the metal salts of the treatment composition (i.e., lithium, Group IA metals other than lithium, Group VB, and/or Group VIB salts) are each included in the treatment composition in the total amount of the treatment composition. an amount of at least 25 ppm, such as at least 150 ppm, such as at least 500 ppm by weight (calculated as total compounds), and in some cases no more than 30,000 ppm, such as no more than 2,000 ppm, such as 1 ppm, based on the total weight of the treatment composition; , may be present in amounts up to 500 ppm (calculated as total compound). According to the present invention, the metal salts are each present in the treatment composition in an amount of 25 ppm to 30,000 ppm, such as 150 ppm to 2,000 ppm, such as 500 ppm to 1,500 ppm based on the total weight of the treatment composition (total compound calculated as ).

本発明によれば、本発明のシーリング組成物は、酸化剤、例えば過酸化水素、過硫酸塩、過塩素酸塩、散布酸素(sparged oxygen)、臭素酸塩、過酸化安息香酸塩、オゾンなど、又はそれらの組み合わせを含んでいてもよい。例えば、シーリング組成物は、シーリング組成物の総重量に基づいて0.1重量%~15重量%、例えば2重量%~10重量%、例えば6重量%~8重量%の酸化剤を含み得る。代替的に、本発明によれば、シーリング組成物は、酸化剤を実質的に含まない、又は場合によっては本質的に含まない、又は場合によっては完全に含まない場合がある。 According to the present invention, the sealing composition of the present invention contains an oxidizing agent such as hydrogen peroxide, persulfate, perchlorate, sparged oxygen, bromate, peroxybenzoate, ozone, etc. , or combinations thereof. For example, the sealing composition may comprise 0.1% to 15%, such as 2% to 10%, such as 6% to 8%, by weight of the oxidizing agent, based on the total weight of the sealing composition. Alternatively, according to the present invention, the sealing composition may be substantially free, or in some cases essentially free, or in some cases completely free of oxidizing agents.

本発明によれば、処理組成物はクロム又はクロム含有化合物を除外し得る。本明細書で使用される場合、用語「クロム含有化合物」は、六価クロムを含む材料を指す。そのような材料の非限定的な例には、クロム酸、三酸化クロム、無水クロム酸、二クロム酸塩、例えば二クロム酸アンモニウム、二クロム酸ナトリウム、二クロム酸カリウム、及び二クロム酸カルシウム、バリウム、マグネシウム、亜鉛、カドミウム、及びストロンチウムが含まれる。処理組成物及び/又は浴、又はそれから形成されたコーティング若しくは層が、クロムを実質的に含まない、本質的に含まない、又は完全に含まない場合、これには、これらに限定されないが、上記で列挙された六価クロム含有化合物などのあらゆる形態のクロムが含まれる。 According to the invention, the treatment composition may exclude chromium or chromium-containing compounds. As used herein, the term "chromium-containing compound" refers to materials containing hexavalent chromium. Non-limiting examples of such materials include chromic acid, chromium trioxide, chromic anhydride, dichromates such as ammonium dichromate, sodium dichromate, potassium dichromate, and calcium dichromate. , barium, magnesium, zinc, cadmium, and strontium. If the treatment composition and/or bath, or coating or layer formed therefrom, is substantially free, essentially free, or completely free of chromium, this includes, but is not limited to, includes all forms of chromium, such as the hexavalent chromium-containing compounds listed in .

従って、任意選択的に、本発明によれば、本処理組成物及び/又は処理浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層は、先行するパラグラフで列挙された元素又は化合物のいずれか1つ以上を実質的に含まなくてもよく、本質的に含まなくてもよく、及び/又は完全に含まなくてもよい。クロム又はクロム含有化合物を実質的に含まない処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層は、クロム又はクロム含有化合物が意図的に添加されないが、不純物又は環境からの避けられない汚染のためなど、微量では存在し得ることを意味する。言い換えれば、材料の量は、処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層の特性に影響を及ぼさないほどに少ない;クロムの場合、これはさらに、その元素又は化合物が、それが環境に負担をかけるようなレベルで処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層中に存在しないことを含み得る。従って、「実質的に含まない」という用語は、例えば、処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層が、組成物、浴、コーティング若しくは層の総重量に基づいて、あるとしても場合によっては、先のパラグラフで列挙した元素又は化合物のいずれか又はすべてを10ppm未満で含有することを意味し得る。「本質的に含まない」という用語は、処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層が、組成物、浴、コーティング若しくは層の総重量に基づいて、あるとしても場合によっては、先のパラグラフで列挙した元素又は化合物のいずれか又はすべてを1ppm未満で含有することを意味する。「完全に含まない」という用語は、処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層が、組成物、浴、コーティング若しくは層の総重量に基づいて、あるとしても場合によっては、先のパラグラフで列挙した元素又は化合物のいずれか又はすべてを1ppb未満で含有することを意味する。 Thus, optionally according to the present invention, the treatment composition and/or treatment bath and/or coating or layer formed therefrom comprises any one or more of the elements or compounds listed in the preceding paragraphs. may be substantially free, essentially free, and/or completely free of Treatment compositions and/or baths and/or coatings or layers formed therefrom that are substantially free of chromium or chromium-containing compounds are those to which chromium or chromium-containing compounds are not intentionally added, but are free from impurities or the environment. It means that traces may be present, such as due to no contamination. In other words, the amount of material is so low that it does not affect the properties of the treatment composition and/or bath and/or coating or layer formed therefrom; It may include not being present in the treatment composition and/or bath and/or coating or layer formed therefrom at levels such that it is environmentally damaging. Thus, the term "substantially free" means, for example, that the treatment composition and/or bath and/or coating or layer formed therefrom, based on the total weight of the composition, bath, coating or layer, is can optionally mean containing less than 10 ppm of any or all of the elements or compounds listed in the preceding paragraph. The term "essentially free" means that the treatment composition and/or bath and/or coating or layer formed therefrom, based on the total weight of the composition, bath, coating or layer, if any means containing less than 1 ppm of any or all of the elements or compounds listed in the preceding paragraph. The term "completely free" means that the treatment composition and/or bath and/or coating or layer formed therefrom, based on the total weight of the composition, bath, coating or layer, if any , means containing less than 1 ppb of any or all of the elements or compounds listed in the preceding paragraph.

本発明によれば、本発明の処理組成物及び/又は処理浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層は、ある場合には、リン酸イオン又はリン酸含有化合物及び/又は例えばリン酸亜鉛をベースとする処理剤を使用する場合に形成されるスラッジ、例えばリン酸アルミニウム、リン酸鉄及び/又はリン酸亜鉛の形成を除外し得る。本明細書で使用される場合、「リン酸塩含有化合物」は、オルトリン酸塩、ピロリン酸塩、メタリン酸塩、トリポリリン酸塩、有機ホスホネートなどのリン元素を含有する化合物を含み、一価、二価、又は三価カチオン、例えばナトリウム、カリウム、カルシウム、亜鉛、ニッケル、マンガン、アルミニウム及び/又は鉄を含み得るが、これらに限定されない。処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層がリン酸塩を実質的に含まない、本質的に含まない、又は完全に含まない場合、これは任意の形態のリン酸イオン又はリン酸塩を含有する化合物を含む。 According to the present invention, the treatment compositions and/or treatment baths and/or coatings or layers formed therefrom in some cases contain phosphate ions or phosphate-containing compounds and/or zinc phosphate, for example. The formation of sludge, such as aluminum phosphate, iron phosphate and/or zinc phosphate, formed when using the base treatment agent can be ruled out. As used herein, "phosphate-containing compound" includes compounds containing elemental phosphorus such as orthophosphates, pyrophosphates, metaphosphates, tripolyphosphates, organophosphonates, monovalent, Divalent or trivalent cations can include, but are not limited to, sodium, potassium, calcium, zinc, nickel, manganese, aluminum and/or iron. When the treatment composition and/or bath and/or coating or layer formed therefrom is substantially free, essentially free, or completely free of phosphate, it is free of any form of phosphate ion. or containing compounds containing phosphate.

従って、本発明によれば、本明細書に開示される処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層は、先のパラグラフに列挙されたイオン又は化合物のいずれかの1つ以上を実質的に含まなくてもよく、又は場合によっては本質的に含まなくてもよく、又は場合によっては完全に含まなくてもよい。リン酸塩を実質的に含まない処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層は、リン酸イオン又はリン酸塩含有化合物は、意図的に添加されないが、不純物又は環境からの避けられない汚染のためなど、微量では存在し得ることを意味する。言い換えれば、材料の量は、処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層の特性に影響を及ぼさないほどに少ない;これはさらに、リン酸塩が環境に負担をかけるようなレベルで処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層中に存在しないことを含み得る。「実質的に含まない」という用語は、特に処理組成物及び/又は浴及び/又はコーティング若しくは層が、組成物、浴、それから形成されるコーティング若しくは層の総重量に基づいて、あるとしても場合によっては、先のパラグラフで列挙したリン酸アニオン又はリン酸塩化合物のいずれか又はすべてを5ppm未満で含有することを意味し得る。「本質的に含まない」という用語は、処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層が、組成物、浴、コーティング若しくは層の総重量に基づいて、あるとしても場合によっては、先のパラグラフで列挙したリン酸アニオン又はリン酸塩化合物のいずれか又はすべてを1ppm未満で含有することを意味する。「完全に含まない」という用語は、処理組成物及び/又は浴及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層が、組成物、浴、コーティング若しくは層の総重量に基づいて、あるとしても場合によっては、先のパラグラフで列挙したリン酸アニオン又はリン酸塩化合物のいずれか又はすべてを1ppb未満で含有することを意味する。
本発明によれば、シーリング組成物は、カルシウムを含むがこれに限定されない、IIA族金属カチオン又はIIA族金属含有化合物を除外し得る。そのような材料の非限定的な例としては、IIA族金属水酸化物、IIA族金属硝酸塩、IIA族金属ハロゲン化物、IIA族金属スルファメート、IIA族金属硫酸塩、IIA族炭酸塩及び/又はIIA族金属カルボン酸塩が挙げられる。シーリング組成物及び/又はそれから形成されるコーティング若しくは層が、それぞれ、IIA族金属カチオンを実質的に含まない、本質的に含まない、又は完全に含まない場合、これは、任意の形態のIIA族金属カチオン、例えばこれらに限定されないが上記で列挙されるIIA族金属含有化合物を含む。
Thus, according to the present invention, the treatment compositions and/or baths and/or coatings or layers formed therefrom disclosed herein contain any one of the ions or compounds listed in the preceding paragraphs. The above may be substantially free, or in some cases essentially free, or in some cases completely free. Treatment compositions and/or baths and/or coatings or layers formed therefrom that are substantially free of phosphate contain phosphate ions or phosphate-containing compounds that are not intentionally added but are free from impurities or the environment. It means that trace amounts may be present, such as due to unavoidable contamination of In other words, the amount of material is so low that it does not affect the properties of the treatment composition and/or bath and/or coating or layer formed therefrom; any significant level in the treatment composition and/or bath and/or coating or layer formed therefrom. The term "substantially free" specifically refers to the treatment composition and/or bath and/or coating or layer, if any, based on the total weight of the composition, bath and coating or layer formed therefrom. By some it can mean containing less than 5 ppm of any or all of the phosphate anions or phosphate compounds listed in the preceding paragraph. The term "essentially free" means that the treatment composition and/or bath and/or coating or layer formed therefrom, based on the total weight of the composition, bath, coating or layer, if any means containing less than 1 ppm of any or all of the phosphate anions or phosphate compounds listed in the preceding paragraph. The term "completely free" means that the treatment composition and/or bath and/or coating or layer formed therefrom, based on the total weight of the composition, bath, coating or layer, if any , means containing less than 1 ppb of any or all of the phosphate anions or phosphate compounds listed in the preceding paragraph.
According to the present invention, the sealing composition may exclude Group IIA metal cations or Group IIA metal-containing compounds, including but not limited to calcium. Non-limiting examples of such materials include Group IIA metal hydroxides, Group IIA metal nitrates, Group IIA metal halides, Group IIA metal sulfamates, Group IIA metal sulfates, Group IIA carbonates and/or IIA group metal carboxylates. When the sealing composition and/or the coating or layer formed therefrom, respectively, is substantially free, essentially free, or completely free of Group IIA metal cations, this means any form of Group IIA Metal cations, including but not limited to the Group IIA metal-containing compounds listed above.

本発明によれば、シーリング組成物は、ある場合には、フッ化物又はフッ化物源を除外し得る。本明細書で使用される場合、「フッ化物源」は、フッ化物イオンを生成することが知られている一フッ化物、二フッ化物、フッ化物錯体、及びそれらの混合物を含む。組成物及び/又はそれを含む層若しくはコーティングが、フッ化物を実質的に含まない、本質的に含まない、又は完全に含まない場合、これは任意の形態のフッ化物イオン又はフッ化物源を含むが、例えば、処理ライン内の前の処理浴からの持ち越し、都市水源(例えば、虫歯を防ぐために給水に添加されるフッ化物)、前処理された基材からのフッ化物などの結果として浴に存在し得る意図しないフッ化物を含まない。すなわち、フッ化物を実質的に含まない、本質的に含まない、又は完全に含まない浴は、たとえ処理ラインで使用する前に浴を製造するために使用される組成物がフッ化物を実質的に含まなかった、本質的に含まなかった、又は完全に含まなかったとしても、これらの外部供給源に由来し得る意図しないフッ化物を有することがある。 According to the invention, the sealing composition may in some cases exclude fluoride or a fluoride source. As used herein, "fluoride source" includes monofluorides, difluorides, fluoride complexes, and mixtures thereof known to produce fluoride ions. When the composition and/or the layer or coating comprising it is substantially free, essentially free, or completely free of fluoride, it includes any form of fluoride ion or fluoride source. but for example carryover from previous treatment baths in the treatment line, municipal water sources (e.g. fluoride added to water supply to prevent tooth decay), fluoride from pretreated substrates, etc. Contains no unintended fluorides that may be present. That is, the bath is substantially free, essentially free, or completely free of fluoride, even if the composition used to make the bath is substantially free of fluoride prior to use in the processing line. Even if they are free, essentially free, or completely free, they may have unintentional fluoride that can come from these external sources.

例えば、シーリング組成物は、アンモニウム及びアルカリ金属フッ化物、酸フッ化物、フルオロホウ酸、フルオロケイ酸、フルオロチタン酸、及びフルオロジルコニウム酸、並びにそれらのアンモニウム及びアルカリ金属塩、並びに他の無機フッ化物などの任意のフッ化物源を実質的に含まない場合があり、その排他的でない例は、フッ化亜鉛、フッ化亜鉛アルミニウム、フッ化チタン、フッ化ジルコニウム、フッ化ニッケル、フッ化アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、及びフッ化水素酸、並びに当業者に既知の他の同様の材料である。 For example, sealing compositions include ammonium and alkali metal fluorides, acid fluorides, fluoroboric acid, fluorosilicic acid, fluorotitanic acid, and fluorozirconic acid, and their ammonium and alkali metal salts, as well as other inorganic fluorides. non-exclusive examples of which are zinc fluoride, zinc aluminum fluoride, titanium fluoride, zirconium fluoride, nickel fluoride, ammonium fluoride, fluoride Sodium, potassium fluoride, and hydrofluoric acid, as well as other similar materials known to those skilled in the art.

本明細書で「遊離フッ化物」と定義される、IVB族金属イオンのような金属イオン、又は水素イオンに結合していないシーリング組成物中に存在するフッ化物は、例えばThermoscientificから入手可能なフッ化物イオン選択電極(「ISE」)、VWR Internationalによって供給されるsymphony(登録商標)Fluoride Ion Selective Combination Electrode又は同様の電極を備えたOrion Dual Star Dual Channel Benchtop Meterを用いてシーリング組成物浴中の操作パラメータとして測定され得る。例えば、Light and Cappuccino,Determination of fluoride in toothpaste using an ion-selective electrode,J.Chem.Educ.,52:4,247-250,April 1975を参照のこと。フッ化物ISEは、電極を既知のフッ化物濃度の溶液に含浸し、読取値をミリボルトで記録し、次いでこれらのミリボルトの読取値を対数グラフにプロットすることによって標準化され得る。次いで未知のサンプルのミリボルト読取値は、この較正グラフと比較され、フッ化物濃度が決定できる。代替的に、フッ化物ISEは、内部較正計算を実行し、従って較正後に未知のサンプルの濃度を直接読み取ることができる計器と共に使用することができる。 Fluoride present in the sealing composition that is not bound to metal ions, such as Group IVB metal ions, or to hydrogen ions, defined herein as "free fluoride," is available, for example, from Thermoscientific. Operation in a sealing composition bath using an Orion Dual Star Dual Channel Benchtop Meter equipped with a compound ion selective electrode (“ISE”), a symphony® Fluoride Ion Selective Combination Electrode supplied by VWR International or similar electrodes can be measured as a parameter. For example, Light and Cappuccino, Determination of fluoride in toothpaste using an ion-selective electron, J. Am. Chem. Educ. , 52:4, 247-250, April 1975. A fluoride ISE can be normalized by immersing the electrode in a solution of known fluoride concentration, recording the readings in millivolts, and then plotting these millivolt readings on a logarithmic graph. The millivolt reading of an unknown sample can then be compared to this calibration graph to determine fluoride concentration. Alternatively, the Fluoride ISE can be used with instruments that perform internal calibration calculations and thus can directly read the concentration of unknown samples after calibration.

フッ化物イオンは、高い電荷密度を有する小さな陰イオンであるため、水溶液中では、IVB族金属イオンのような高い正電荷密度を有する金属イオン又は水素イオンと錯化することが多い。金属カチオン又は水素イオンにイオン的又は共有結合的に結合している溶液中のフッ化物アニオンは、本明細書において「結合フッ化物」として定義される。このように錯化したフッ化物イオンは、それらが存在する溶液を、そのような錯体からフッ化物イオンを放出するイオン強度調整緩衝液(例えば、クエン酸アニオン又はEDTA)と混合しない限り、フッ化物ISEで測定できない。その時点で(すべての)フッ化物イオンはフッ化物ISEによって測定可能であり、測定は「総フッ化物」として知られる。代替的に、総フッ化物は、シーラー組成物中に供給されたフッ化物の重量を組成物の総重量と比較することによって計算することができる。 Since fluoride ions are small anions with high charge densities, in aqueous solutions they are often complexed with metal ions with high positive charge densities, such as Group IVB metal ions, or hydrogen ions. A fluoride anion in solution that is ionically or covalently bound to a metal cation or hydrogen ion is defined herein as "bound fluoride." Fluoride ions complexed in this manner may be free of fluoride ions unless the solution in which they are present is mixed with an ionic strength adjusting buffer (e.g., citrate anion or EDTA), which releases fluoride ions from such complexes. Cannot measure with ISE. At that point (total) fluoride ions can be measured by a fluoride ISE and the measurement is known as "total fluoride". Alternatively, total fluoride can be calculated by comparing the weight of fluoride provided in the sealer composition to the total weight of the composition.

本発明によれば、処理組成物は、ある場合には、コバルトイオン又はコバルト含有化合物を実質的に含まない、又はある場合には本質的に含まない、又はある場合には完全に含まない場合がある。本明細書で使用される場合、「コバルト含有化合物」は、例えば、硫酸コバルト、硝酸コバルト、炭酸コバルト及び酢酸コバルトなどのコバルト元素を含有する化合物、錯体又は塩を含む。組成物及び/又はそれを含む層若しくはコーティングが、コバルトを実質的に含まない、本質的に含まない、又は完全に含まない場合、これは任意の形態のコバルトイオン又はコバルトを含有する化合物を含む。 According to the present invention, the treatment composition is in some cases substantially free, or in some cases essentially free, or in some cases completely free of cobalt ions or cobalt-containing compounds. There is As used herein, "cobalt-containing compound" includes compounds, complexes or salts containing elemental cobalt such as, for example, cobalt sulfate, cobalt nitrate, cobalt carbonate and cobalt acetate. When the composition and/or the layer or coating comprising it is substantially free, essentially free, or completely free of cobalt, it includes any form of cobalt ion or cobalt-containing compound. .

本発明によれば、処理組成物は、ある場合には、バナジウムイオン又はバナジウム含有化合物を実質的に含まない、又はある場合には本質的に含まない、又はある場合には完全に含まない場合がある。本明細書で使用される場合、「バナジウム含有化合物」は、例えば、アルカリ金属の対イオン又はアンモニウムカチオンを含むバナジウム酸塩及びデカバナジウム酸塩(例えば、アンモニウムデカバナジウムナトリウムを含む)のような、バナジウム元素を含む化合物、錯体又は塩を含む。組成物及び/又はそれを含む層若しくはコーティングが、バナジウムを実質的に含まない、本質的に含まない、又は完全に含まない場合、これは任意の形態のバナジウムイオン又はバナジウムを含有する化合物を含む。 According to the present invention, the treatment composition is in some cases substantially free, or in some cases essentially free, or in some cases completely free of vanadium ions or vanadium-containing compounds. There is As used herein, "vanadium-containing compounds" include, for example, vanadates and decavanadates containing alkali metal counterions or ammonium cations (e.g., including ammonium decavanadate sodium), Including compounds, complexes or salts containing the element vanadium. When the composition and/or the layer or coating comprising it is substantially free, essentially free, or completely free of vanadium, this includes any form of vanadium ions or compounds containing vanadium. .

本発明によれば、処理組成物は指示薬化合物を任意選択的にさらに含有してもよく、それは、例えば金属イオンのような化学種の存在、組成物のpHなどを示すので、そのように命名される。本明細書で使用される場合、「指示薬」、「指示薬化合物」、及び同様の用語は、何らかの外部刺激、パラメータ、又は状態、例えば金属イオンの存在に応じて、又は特定のpH若しくはpH範囲に応じて色が変わる化合物を指す。 In accordance with the present invention, the treatment composition may optionally further contain an indicator compound, which is so named because it indicates the presence of chemical species such as, for example, metal ions, the pH of the composition, and the like. be done. As used herein, “indicator,” “indicator compound,” and like terms refer to the presence of some external stimulus, parameter, or condition, such as the presence of metal ions, or to a particular pH or pH range. Refers to a compound that changes color in response.

本発明に従って使用される指示薬化合物は、種の存在、特定のpHなどを示す、当該技術分野において既知の任意の指示薬であることができる。例えば、適切な指示薬は、特定の金属イオンと金属イオン錯体を形成した後に色を変えるものであり得る。金属イオン指示薬は一般に高度に共役した有機化合物である。本明細書で使用され、当業者によって理解されるように、「共役化合物」は、単結合によって分離された2つの二重結合、例えばそれらの間に単一の炭素-炭素結合を有する2つの炭素-炭素二重結合を有する化合物を指す。本発明に従って、任意の共役化合物を使用することができる。 Indicator compounds used in accordance with the present invention can be any indicator known in the art to indicate the presence of species, a particular pH, and the like. For example, a suitable indicator may change color after forming a metal ion complex with a particular metal ion. Metal ion indicators are generally highly conjugated organic compounds. As used herein and as understood by those of ordinary skill in the art, a "conjugated compound" refers to two double bonds separated by a single bond, such as two double bonds having a single carbon-carbon bond between them. Refers to a compound with a carbon-carbon double bond. Any conjugated compound can be used in accordance with the present invention.

同様に、指示薬化合物は、pHが変化すると色が変化するものであり得る;例えば、化合物は、酸性又は中性のpHで一色であってもよく、アルカリ性のpHで色を変えてもよく、又はその逆もあり得る。そのような指示薬は周知であり、広く市販されている。従って、「第1のpHから第2のpHへの移行時に色が変化する」(すなわち、第1のpHから、酸性又はアルカリ性が高い又は低い第2のpHへ)指示薬は、第1のpHに曝された場合に第1の色を有し(又は無色)、第2のpH(すなわち、第1のpHよりも酸性又はアルカリ性が高いか低いかのいずれか)に移行すると、第2の色に変化する(又は無色から有色に変化する)。例えば、「よりアルカリ性のpH(又はより酸性でないpH)への移行時に色が変化する」という指示薬は、pHが酸性/中性からアルカリ性に移行する場合、第1の色/無色から第2の色/色になる。例えば、「より酸性のpH(又はよりアルカリ性でないpH)への移行時に色が変化する」という指示薬は、pHがアルカリ性/中性から酸性に移行する場合、第1の色/無色から第2の色/色になる。 Similarly, the indicator compound may change color with a change in pH; for example, the compound may be one color at acidic or neutral pH, change color at alkaline pH, Or vice versa. Such indicators are well known and widely available commercially. Thus, an indicator that "changes color when transitioning from a first pH to a second pH" (i.e., from a first pH to a second pH that is more or less acidic or alkaline) indicates that the first pH having a first color (or colorless) when exposed to and transitioning to a second pH (i.e., either more acidic or alkaline than the first pH), a second Change color (or change from colorless to colored). For example, an indicator that "changes color when transitioning to a more alkaline pH (or to a less acidic pH)" would change from a first color/colorless to a second color as the pH transitions from acidic/neutral to alkaline. color/become color For example, an indicator that "changes color on transition to a more acidic pH (or to a less alkaline pH)" would change from a first color/colorless to a second color as the pH transitions from alkaline/neutral to acidic. color/become color

そのような指示薬化合物の非限定的な例には、メチルオレンジ、キシレノールオレンジ、カテコールバイオレット、ブロモフェノールブルー、グリーン及びパープル、エリクロームブラックT、セレスティンブルー、ヘマトキシリン、カルマガイト、ガロシアニン、及びそれらの組み合わせが含まれる。任意選択的に、指示薬化合物は、金属イオン指示薬である有機指示薬化合物を含み得る。指示薬化合物の非限定的な例には、表1に見られるものが含まれる。特定の条件下で光を発する蛍光指示薬もまた、本発明に従って使用することができるが、蛍光指示薬の使用もまた特に除外され得る。すなわち、代替的に、蛍光を示す共役化合物は特に除外される。本明細書で使用される場合、「蛍光指示薬」及び同様の用語は、紫外線又は可視光への暴露時に蛍光を発するか又はそうでなければ色を示す化合物、分子、顔料、及び/又は染料を指す。「蛍光を発する」とは、より短い波長の光又は他の電磁放射線の吸収後に光を放出すると理解される。しばしば「タグ」と呼ばれるそのような指示薬の例には、アクリジン、アントラキノン、クマリン、ジフェニルメタン、ジフェニルナフチルメタン、キノリン、スチルベン、トリフェニルメタン、アントラシン及び/又はこれらの部分のいずれかを含有する分子及び/又はこれらのいずれかの誘導体、例えばローダミン、フェナントリジン、オキサジン、フルオロン、シアニン及び/又はアクリジンを含む。

Figure 0007191010000001
Non-limiting examples of such indicator compounds include methyl orange, xylenol orange, catechol violet, bromophenol blue, green and purple, erychrome black T, celestine blue, hematoxylin, carmagite, gallocyanine, and combinations thereof. included. Optionally, the indicator compound may comprise an organic indicator compound that is a metal ion indicator. Non-limiting examples of indicator compounds include those found in Table 1. Fluorescent indicators that emit light under certain conditions can also be used according to the invention, but the use of fluorescent indicators can also be specifically excluded. Thus, alternatively, conjugated compounds that exhibit fluorescence are specifically excluded. As used herein, "fluorescent indicator" and similar terms refer to compounds, molecules, pigments, and/or dyes that fluoresce or otherwise exhibit color upon exposure to ultraviolet or visible light. Point. "Fluoresce" is understood to emit light after absorption of shorter wavelength light or other electromagnetic radiation. Examples of such indicators, often referred to as "tags", include acridine, anthraquinone, coumarin, diphenylmethane, diphenylnaphthylmethane, quinoline, stilbene, triphenylmethane, anthracine and/or molecules containing any of these moieties and /or derivatives of any of these, such as rhodamine, phenanthridine, oxazine, fluorone, cyanine and/or acridine.
Figure 0007191010000001

本発明によれば、指示薬として有用な共役化合物は、表1に示すように、例えばカテコールバイオレットを含み得る。カテコールバイオレット(CV)は、2モルのピロカテコールを1モルのo-スルホ安息香酸無水物と縮合させることから製造されたスルホンフタレイン染料である。CVは指示薬特性を有し、金属イオンを有する組成物中に組み込まれる場合に、それは錯体を形成し、それを錯滴定(complexiometric)試薬として有用にすることが見出された。CVを含有する組成物が金属基材から来る金属イオン(すなわち、二価以上の価数を有するもの)をキレート化するにつれて、一般に青色から青紫色が観察される。 Conjugate compounds useful as indicators according to the present invention can include, for example, catechol violet, as shown in Table 1. Catechol Violet (CV) is a sulfonephthalein dye prepared from condensing 2 moles of pyrocatechol with 1 mole of o-sulfobenzoic anhydride. It has been found that CV has indicator properties and when incorporated into compositions with metal ions it forms a complex making it useful as a complexiometric reagent. A blue to violet color is generally observed as the CV-containing composition chelates metal ions (ie, those with a valence of two or greater) coming from the metal substrate.

表1に示すように、キシレノールオレンジも同様に本発明による組成物に使用され得る。キシレノールオレンジは金属イオン(すなわち、二価以上の価数を有するもの)指示薬特性を有し、金属イオンを有する組成物中に組み込まれる場合に、それは錯体を形成し、それを錯滴定(complexiometric)試薬として有用にすることが見出された。キシレノールオレンジを含有する組成物が金属イオンをキレート化するにつれて、キシレノールオレンジの溶液は赤色からほぼ青色に変わる。 As shown in Table 1, xylenol orange can also be used in compositions according to the invention. Xylenol orange has metal ion (i.e., those with a valence greater than or equal to two) indicator properties, and when incorporated into compositions with metal ions it forms a complex, making it a complexiometric It has been found to render them useful as reagents. As a composition containing xylenol orange chelates metal ions, a solution of xylenol orange turns from red to nearly blue.

本発明によれば、指示薬化合物は、処理組成物中に、少なくとも0.01g/1000gの処理組成物、例えば少なくとも0.05g/1000gの処理組成物の量で存在し得、ある場合には、3g/1000gの処理組成物以下、例えば0.3g/1000gの処理組成物以下で存在し得る。本発明によれば、指示薬化合物は、処理組成物中に、0.01g/1000gの処理組成物~3g/1000gの処理組成物、例えば0.05g/1000gの処理組成物~0.3g/1000gの処理組成物の量で存在し得る。 According to the present invention, the indicator compound may be present in the treatment composition in an amount of at least 0.01 g/1000 g of treatment composition, such as at least 0.05 g/1000 g of treatment composition, and in some cases There may be no more than 3 g/1000 g of treatment composition, such as no more than 0.3 g/1000 g of treatment composition. According to the present invention, the indicator compound may be present in the treatment composition from 0.01 g/1000 g of treatment composition to 3 g/1000 g of treatment composition, such as from 0.05 g/1000 g of treatment composition to 0.3 g/1000 g of treatment composition. of the treatment composition.

本発明によれば、特定の外部刺激に応答して色が変化する指示薬化合物は、それが例えば基材が組成物で処理されたことの視覚的表示として役立つことができるという点で処理組成物を使用する場合に利益を提供する。例えば、基材中に存在する金属イオンに曝されると色が変わる指示薬を含む処理組成物は、その基材中の金属イオンと錯化すると色が変わる;これにより、使用者は、基材が組成物と接触したことを確認することができる。アルカリ又は酸性の層を基材上に堆積させ、アルカリ性又は酸性のpHに曝される場合に色が変わる本発明の組成物と基材を接触させることによって、同様の利点を実現することができる。 According to the present invention, an indicator compound that changes color in response to a particular external stimulus is a treatment composition in that it can serve, for example, as a visual indication that a substrate has been treated with the composition. provide benefits when using For example, a treatment composition containing an indicator that changes color when exposed to metal ions present in a substrate will change color upon complexing with the metal ions in the substrate; contact with the composition. Similar benefits can be realized by depositing an alkaline or acidic layer on a substrate and contacting the substrate with a composition of the present invention that changes color when exposed to alkaline or acidic pH. .

任意選択的に、本発明の処理組成物は、窒素含有複素環式化合物をさらに含み得る。窒素含有複素環式化合物としては、1つの窒素原子を有する環式化合物、例えばピロール及び2つ以上の窒素原子を有するアゾール化合物、例えばピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール及びペンタゾール、1つの窒素原子及び1つの酸素原子、例えばオキサゾール及びイソオキサゾール、又は1つの窒素原子及び1つの硫黄原子、例えばチアゾール及びイソチアゾールを含んでいてもよい。適切なアゾール化合物の非限定的な例には、2,5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾール(CAS:l072-71-5)、1H-ベンゾトリアゾール(CAS:95-14-7)、1H-1,2,3-トリアゾール(CAS:288-36-8)、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール(CAS:2349-67-9)(5-アミノ-1,3,4-チアジアゾール-2-チオールとも呼ばれる)、及び2-アミノ-1,3,4-チアジアゾール(CAS:4005-51-0)が挙げられる。いくつかの実施形態では、例えば、アゾール化合物は、2,5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾールを含む。さらに、本発明によれば、窒素含有複素環式化合物はナトリウム塩などの塩の形態であってもよい。 Optionally, the treatment composition of the invention may further comprise a nitrogen-containing heterocyclic compound. Nitrogen-containing heterocyclic compounds include cyclic compounds having one nitrogen atom, such as pyrrole and azole compounds having two or more nitrogen atoms, such as pyrazole, imidazole, triazole, tetrazole and pentazole, one nitrogen atom and one It may contain one oxygen atom, such as oxazole and isoxazole, or one nitrogen atom and one sulfur atom, such as thiazole and isothiazole. Non-limiting examples of suitable azole compounds include 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole (CAS: 1072-71-5), 1H-benzotriazole (CAS: 95-14-7), 1H-1,2,3-triazole (CAS: 288-36-8), 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole (CAS: 2349-67-9) (5-amino-1, 3,4-thiadiazole-2-thiol), and 2-amino-1,3,4-thiadiazole (CAS: 4005-51-0). In some embodiments, for example, the azole compound includes 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole. Furthermore, according to the invention, the nitrogen-containing heterocyclic compound may be in the form of a salt such as the sodium salt.

窒素含有複素環式化合物は、組成物1リットル当たり少なくとも0.0005g、例えば組成物1リットル当たり少なくとも0.0008g、例えば組成物1リットル当たり少なくとも0.002gの濃度で処理組成物中に存在してもよく、ある場合には組成物1リットル当たり3g以下、例えば組成物1リットル当たり0.2g以下、例えば組成物1リットル当たり0.1g以下の量で処理組成物中に存在してもよい。本発明によれば、窒素含有複素環式化合物は、処理組成物中に(あるとしても)、組成物1リットル当たり0.0005g~組成物1リットル当たり3g、例えば組成物1リットル当たり0.0008g~組成物1リットル当たり0.2g、例えば組成物1リットル当たり0.002g~組成物1リットル当たり0.1gの濃度で存在してもよい。 The nitrogen-containing heterocyclic compound is present in the treatment composition at a concentration of at least 0.0005 grams per liter of composition, such as at least 0.0008 grams per liter of composition, such as at least 0.002 grams per liter of composition. may be present in the treatment composition in an amount of 3 g or less per liter of composition, such as 0.2 g or less per liter of composition, such as 0.1 g or less per liter of composition. According to the present invention, the nitrogen-containing heterocyclic compound is present (if any) in the treatment composition from 0.0005 g per liter of composition to 3 g per liter of composition, such as 0.0008 g per liter of composition. It may be present in a concentration of -0.2 g per liter of composition, such as from 0.002 g per liter of composition to 0.1 g per liter of composition.

上記で示したように、本発明の処理組成物は担体として水性媒体を含む。水性担体は、少なくとも1つの有機溶媒のような他の材料を任意選択的に含んでもよい。適切な溶媒の非限定的な例としては、プロピレングリコール、エチレングリコール、グリセロール、低分子量アルコール(すなわち、C1~C12アルコール)などが挙げられる。存在する場合、存在するとしても、有機溶媒は、処理組成物1リットル当たり少なくとも1gの溶媒、例えば処理組成物1リットル当たり少なくとも約2gの溶媒の量で処理組成物中に存在してもよく、ある場合には、処理組成物1リットル当たり40g以下の溶媒、例えば処理組成物1リットル当たり20g以下の溶媒の量で存在してもよい。本発明によれば、有機溶媒は、存在するとしても、処理組成物1リットル当たり1gの溶媒~処理組成物1リットル当たり40gの溶媒、例えば処理組成物1リットル当たり2gの溶媒~処理組成物1リットル当たり20gの溶媒の量で処理組成物中に存在し得る。 As indicated above, the treatment compositions of the present invention contain an aqueous medium as a carrier. The aqueous carrier may optionally contain other materials such as at least one organic solvent. Non-limiting examples of suitable solvents include propylene glycol, ethylene glycol, glycerol, low molecular weight alcohols (ie C1-C12 alcohols), and the like. When present, if present, the organic solvent may be present in the treatment composition in an amount of at least 1 g of solvent per liter of treatment composition, for example at least about 2 g of solvent per liter of treatment composition; In some cases, it may be present in an amount of 40 g or less of solvent per liter of treatment composition, such as 20 g or less of solvent per liter of treatment composition. According to the present invention, the organic solvent, if present, ranges from 1 g of solvent per liter of treatment composition to 40 g of solvent per liter of treatment composition, such as from 2 g of solvent per liter of treatment composition to 1 An amount of 20 g of solvent per liter may be present in the treatment composition.

上記で記載されるように、上記で記載される本発明の処理組成物は、水性担体媒体中でリチウム塩及び二酸化炭素を合わせて、処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5,500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)のリチウム及び処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25,000ppmの量(炭酸塩として計算)の炭酸塩を含む処理組成物を形成することを含む方法によって調製されてもよい。処理組成物中の適切なリチウム塩及びリチウムの量は上記で記載される。例えば、処理組成物を形成する方法において使用されるリチウム塩は、炭酸リチウム、水酸化リチウム、又はそれらの組み合わせを含むことができる。本発明の処理組成物を製造する方法は、処理組成物のpHを、少なくとも9.5、例えば少なくとも10、例えば少なくとも11のpH、ある場合には12.5以下、例えば12以下、例えば11.5以下のpHに調整することをさらに含んでいてもよい。従って、本発明によれば、処理組成物は、9.5~12.5、例えば10~12、例えば11~11.5のpHを有するように調整され得る。処理組成物のpHは、以下に記載される方法のいずれかに従って測定され得、例えば上記で記載されるように、必要に応じて任意の酸及び/又は塩基を使用して調整され得る。 As described above, the treatment composition of the present invention described above has a lithium salt and carbon dioxide combined in an aqueous carrier medium of 5 ppm to 5,500 ppm based on the total weight of the treatment composition. amount (calculated as lithium cation) of lithium and an amount of carbonate (calculated as carbonate) of from 15 ppm to 25,000 ppm based on the total weight of the treatment composition. may Suitable lithium salts and amounts of lithium in the treatment composition are described above. For example, the lithium salt used in the method of forming the treatment composition can include lithium carbonate, lithium hydroxide, or combinations thereof. The method of making the treatment composition of the present invention includes reducing the pH of the treatment composition to a pH of at least 9.5, such as at least 10, such as at least 11, in some cases 12.5 or less, such as 12 or less, such as 11.5. It may further comprise adjusting the pH to 5 or less. Thus, according to the present invention, the treatment composition may be adjusted to have a pH of 9.5-12.5, such as 10-12, such as 11-11.5. The pH of the treatment composition can be measured according to any of the methods described below, and can be adjusted using any acid and/or base as necessary, eg, as described above.

本発明によれば、処理組成物を製造する方法は、水性媒体中で二酸化炭素及びリチウム塩を合わせることを含む。本発明によれば、二酸化炭素は、気体、固体、又はそれらの組み合わせの形態で水性担体媒体に供給され得る。本明細書で使用される場合、「供給される」とは、二酸化炭素に関して使用される場合、大気以外の供給源を使用して二酸化炭素を組成物に導入することを指す。二酸化炭素は、処理組成物の総重量に基づいて少なくとも15ppm、例えば少なくとも50ppm、例えば少なくとも200ppm、ある場合には処理組成物の総重量に基づいて25,000ppm以下、例えば15,000ppm以下、例えば2,400ppm以下の量(炭酸塩として計算)で、炭酸塩を含む処理組成物を形成するのに十分な量で水性媒体に供給される。ある場合には、本発明によれば、二酸化炭素は、処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25,000ppm、例えば50ppm~15,000ppm、例えば200ppm~2,400ppmの量(炭酸塩として計算)の炭酸塩を含む処理組成物を形成するのに十分な量で水と合わせてもよい。 According to the present invention, a method of making a treatment composition comprises combining carbon dioxide and a lithium salt in an aqueous medium. According to the present invention, carbon dioxide can be supplied to the aqueous carrier medium in the form of gas, solid, or a combination thereof. As used herein, "supplied" when used with respect to carbon dioxide refers to introducing carbon dioxide into the composition using a source other than the atmosphere. Carbon dioxide is at least 15 ppm, such as at least 50 ppm, such as at least 200 ppm, based on the total weight of the treatment composition, and in some cases, 25,000 ppm or less, such as 15,000 ppm or less, such as 2 , 400 ppm or less (calculated as carbonate) in an amount sufficient to form a treatment composition containing carbonate. In some cases, according to the present invention, carbon dioxide is present in an amount of 15 ppm to 25,000 ppm, such as 50 ppm to 15,000 ppm, such as 200 ppm to 2,400 ppm (calculated as carbonate) based on the total weight of the treatment composition. ) may be combined with water in an amount sufficient to form a treatment composition comprising the carbonate salt of ).

上記で指摘したように、本発明による処理組成物を製造する方法はまた、I族水酸化物、水酸化アンモニウム、又はそれらの混合物などの水酸化物を添加することを含んでもよい。水酸化物源は、仮に存在するとしても、処理組成物のpHが9.5~12.5の範囲内にあるような量など、任意の量で存在し得る。I族水酸化物の非限定的な例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、又はそれらの混合物が挙げられる。 As noted above, methods of making treatment compositions according to the present invention may also include adding a hydroxide such as a Group I hydroxide, ammonium hydroxide, or mixtures thereof. The hydroxide source, if present, can be present in any amount, such as such that the pH of the treatment composition is within the range of 9.5 to 12.5. Non-limiting examples of Group I hydroxides include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, or mixtures thereof.

上述のように、本発明によれば、炭酸リチウムを含む処理組成物から形成された処理浴を維持するシステム及び方法も開示される。処理組成物は、上記で記載される処理組成物であり得、本明細書中の上記に記載の方法に従って製造され得るか、又は当業者に既知の任意の方法によって作製され得る。一例では、本発明によれば、「処理浴」は、例えば上記で記載されるように1つ以上の基材の処理時に、炭酸リチウムを含む初期処理組成物から形成される水性浴を指す場合がある。使用される場合、炭酸リチウムを含む処理組成物から形成された処理浴を「維持する」(炭酸リチウム組成物がどのように形成されたかにかかわらず)とは、リチウム及び炭酸塩の濃度及びpHを含む処理浴の特定のパラメータを望ましい範囲、例えば本発明による処理組成物について上記で示される範囲に維持することを指す。これは、以下でより詳細に記載されるように、それぞれの供給源から処理浴へのオン-シフト及び/又はオフ-シフトで1つ以上の材料を添加することによって達成され得る。 As noted above, systems and methods for maintaining a processing bath formed from a processing composition comprising lithium carbonate are also disclosed in accordance with the present invention. The treatment composition can be a treatment composition described above, can be manufactured according to the methods described herein above, or can be made by any method known to those of skill in the art. In one example, according to the present invention, when "treatment bath" refers to an aqueous bath formed from an initial treatment composition comprising lithium carbonate during treatment of one or more substrates, e.g., as described above. There is When used, "maintaining" a processing bath formed from a processing composition comprising lithium carbonate (regardless of how the lithium carbonate composition was formed) includes lithium and carbonate concentrations and pH within desirable ranges, such as those indicated above for the processing compositions according to the present invention. This can be accomplished by adding one or more materials in on-shift and/or off-shift from their respective sources to the processing bath, as described in more detail below.

本発明によれば、維持するシステム又は方法は、(i)処理組成物を配合するために使用される材料とは異なる材料を処理組成物から形成される処理浴に添加すること、及び/又は(ii)処理組成物を配合するために使用される材料と同じ材料を処理組成物から形成される処理浴に添加することを含んでいてもよい。例えば、処理組成物を含有する処理浴を維持する方法は、処理浴に二酸化炭素を添加することを含み得るが、処理組成物は炭酸塩を使用して配合され得る。 According to the present invention, a system or method of maintaining (i) adding a material to the treatment bath formed from the treatment composition that is different than the material used to formulate the treatment composition, and/or (ii) adding to the treatment bath formed from the treatment composition the same materials used to formulate the treatment composition; For example, a method of maintaining a processing bath containing a processing composition may include adding carbon dioxide to the processing bath, while the processing composition may be formulated using carbonates.

本発明によれば、維持するシステム又は方法は、処理組成物を配合するために使用される材料と同じ材料を、処理組成物を含有する処理浴に添加することを含んでいてもよい。例えば、処理組成物は(上記で記載されるように)二酸化炭素を使用して配合されてもよく、処理組成物を含有する処理浴を維持する方法は、処理浴に二酸化炭素を添加することを含み得る。 According to the present invention, the maintaining system or method may include adding the same materials used to formulate the treatment composition to the treatment bath containing the treatment composition. For example, the treatment composition may be formulated using carbon dioxide (as described above) and a method of maintaining a treatment bath containing the treatment composition is to add carbon dioxide to the treatment bath. can include

本発明のシステム又は方法は、浴を維持するために単により多くの処理組成物を処理浴に添加することを対象としていない。むしろ、上述のように、本発明のシステム及び方法は、処理浴のpHを9.5~12.5に、リチウムを処理浴の総重量に基づいて5ppm~5,500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)に、及び炭酸塩を処理浴の総重量に基づいて15ppm~25,000ppmの量(炭酸塩として計算)に維持するのに十分な量で二酸化炭素及び/又はリチウム塩及び/又は水酸化物を処理浴に添加することを対象とする。供給はオン-シフト又はオフ-シフトで行うことができる。 The systems or methods of the present invention are not directed to simply adding more processing composition to the processing bath to maintain the bath. Rather, as described above, the system and method of the present invention provide a treatment bath pH of 9.5 to 12.5 and lithium in an amount of 5 ppm to 5,500 ppm based on the total weight of the treatment bath (as lithium cations). carbon dioxide and/or lithium salt and/or hydroxide in an amount sufficient to maintain the carbonate in an amount of 15 ppm to 25,000 ppm (calculated as carbonate) based on the total weight of the treatment bath. is intended to be added to the treatment bath. The supply can be on-shift or off-shift.

上述のように、本発明によれば、炭酸リチウムを含む処理組成物から形成された処理浴を維持するためのシステムが開示される。本発明によれば、システムは、リチウム塩及び/又は二酸化炭素、任意選択的に水酸化物、又はこれらのいずれかの組み合わせを含み得る。リチウム塩は、例えば炭酸リチウム、水酸化リチウム又はそれらの組み合わせなどの上記で記載されるリチウム塩のいずれかの1つ以上を含み得る。二酸化炭素は、気体、固体、又はそれらの組み合わせとしての二酸化炭素を含み得る。水酸化物は、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はそれらの組み合わせなどの、上述の水酸化物のいずれかの1つ以上を含み得る。上述のリチウム塩、二酸化炭素、及び/又は水酸化物は、個別に又は任意の組み合わせでシステムに含まれてもよく、システムのそれぞれの供給源から処理組成物から形成された処理浴に添加されて、上記で記載されるようなpHとリチウム及び炭酸塩の量とを有するように維持された処理浴を達成し得る。 As noted above, in accordance with the present invention, a system for maintaining a processing bath formed from a processing composition comprising lithium carbonate is disclosed. According to the invention, the system may contain lithium salts and/or carbon dioxide, optionally hydroxides, or any combination thereof. The lithium salt may include one or more of any of the lithium salts described above, such as lithium carbonate, lithium hydroxide, or combinations thereof. Carbon dioxide can include carbon dioxide as a gas, solid, or a combination thereof. Hydroxides can include, for example, one or more of any of the above hydroxides, such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or combinations thereof. The lithium salts, carbon dioxide, and/or hydroxides described above may be included in the system individually or in any combination and are added to the treatment bath formed from the treatment composition from their respective sources in the system. can be used to achieve a treatment bath maintained to have a pH and amounts of lithium and carbonate as described above.

上述のように、本発明によれば、炭酸リチウムを含む処理組成物から形成された処理浴を維持する方法も開示される。本発明によれば、この方法は、浴を用いて基材の処理中及び/又は処理後に、処理浴のpHを9.5~12.5に、リチウムを処理浴の総重量に基づいて5ppm~5,500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)に、及び炭酸塩を処理浴の総重量に基づいて15ppm~25,000ppmの量(炭酸塩として計算)に維持するのに十分な量で二酸化炭素及びリチウム塩及び任意選択的に水酸化物の少なくとも1つを処理浴に供給することを含む。上記で記載されるリチウム塩、二酸化炭素、及び水酸化物は、処理組成物から形成された処理浴に添加されて、より詳細には本発明による処理組成物の文脈において上記で記載されるようなpH並びにリチウム及び炭酸塩の量を有するように維持する処理浴を達成し得る。例えば、本発明によれば、維持する方法は、処理浴のpHが12.5未満に維持されるような量で二酸化炭素を処理組成物から形成された処理浴に添加すること、及び/又は処理浴のpHが9.5以上に維持されるような量で水酸化物を処理浴に添加することを含み得る。例では、本発明によれば、二酸化炭素を処理浴中にゆっくりとバブリングしてもよく、又はドライアイスを一片ずつ滴下することによって添加してもよい。本発明によれば、pHを周期的又は連続的にモニターし(以下に記載)、及び/又は水酸化物を上記で議論されるように処理浴に添加してpHを9.5~12.5の間に維持してもよい。 As noted above, a method of maintaining a processing bath formed from a processing composition comprising lithium carbonate is also disclosed in accordance with the present invention. In accordance with the present invention, the method includes, during and/or after treatment of a substrate with the bath, a pH of the treatment bath of 9.5 to 12.5 and lithium of 5 ppm based on the total weight of the treatment bath. carbon dioxide in an amount of ∼5,500 ppm (calculated as lithium cations) and in an amount sufficient to maintain carbonate in an amount of 15 ppm to 25,000 ppm (calculated as carbonate) based on the total weight of the treatment bath. and supplying at least one of a lithium salt and optionally a hydroxide to the treatment bath. The lithium salt, carbon dioxide, and hydroxide described above are added to the treatment bath formed from the treatment composition, more particularly as described above in the context of the treatment composition according to the invention. A treatment bath can be achieved that maintains a stable pH and amounts of lithium and carbonate. For example, according to the present invention, the method of maintaining includes adding carbon dioxide to the treatment bath formed from the treatment composition in an amount such that the pH of the treatment bath is maintained below 12.5, and/or It may include adding hydroxide to the treatment bath in an amount such that the pH of the treatment bath is maintained above 9.5. By way of example, in accordance with the present invention, carbon dioxide may be slowly bubbled into the treatment bath, or dry ice may be added dropwise piece by piece. According to the present invention, the pH is monitored periodically or continuously (described below) and/or hydroxide is added to the treatment bath as discussed above to bring the pH from 9.5 to 12.0. 5 may be maintained.

本発明によれば、上記で記載されるように、二酸化炭素及び/又はリチウム塩及び/又は水酸化物の供給の後、リチウム(リチウムカチオンとして計算)は、処理組成物中に、処理浴の総重量に基づいて少なくとも5ppm、例えば少なくとも50ppm、例えば少なくとも150ppm、例えば少なくとも250ppmの量で存在し得、ある場合には処理浴の総重量に基づいて5,500ppm以下、例えば1,200ppm以下、例えば1,000ppm以下、例えば500ppm以下の量で存在し得る。ある場合には、本発明によれば、二酸化炭素及び/又はリチウム塩の供給の後、リチウム(リチウムカチオンとして計算)は、処理浴の総重量に基づいて5ppm~5,500ppm、例えば50ppm~1,200ppm、例えば150ppm~1,000ppm、例えば250ppm~500ppmの量で処理浴中に存在し得る。 According to the present invention, as described above, lithium (calculated as lithium cations) is incorporated into the treatment composition after the supply of carbon dioxide and/or lithium salts and/or hydroxides in the treatment bath. may be present in an amount of at least 5 ppm, such as at least 50 ppm, such as at least 150 ppm, such as at least 250 ppm, based on the total weight of the treatment bath; It may be present in an amount of 1,000 ppm or less, such as 500 ppm or less. In some cases, according to the present invention, lithium (calculated as lithium cation), after feeding carbon dioxide and/or lithium salt, is from 5 ppm to 5,500 ppm, for example from 50 ppm to 1 ppm, based on the total weight of the treatment bath. , 200 ppm, such as from 150 ppm to 1,000 ppm, such as from 250 ppm to 500 ppm.

本発明によれば、二酸化炭素及び/又はリチウム塩及び/又は水酸化物の供給の後、炭酸塩(炭酸塩として計算される)が、処理浴中に、処理浴の総重量に基づいて少なくとも15ppm、例えば、少なくとも50ppm、例えば少なくとも200ppmの量で存在し得、ある場合には、処理浴の総重量に基づいて25,000ppm以下、例えば15,000ppm以下、例えば2,400ppm以下の量で存在し得る。ある場合には、本発明によれば、二酸化炭素及び/又はリチウム塩及び/又は水酸化物の供給の後、炭酸塩(炭酸塩として計算される)は、処理浴の総重量に基づいて15ppm~25,000ppm、例えば50ppm~15,000ppm、例えば200ppm~2,400ppmの量で処理浴に存在し得る。 According to the invention, after the supply of carbon dioxide and/or lithium salt and/or hydroxide, carbonate (calculated as carbonate) is present in the treatment bath at least may be present in an amount of 15 ppm, such as at least 50 ppm, such as at least 200 ppm, and in some cases in an amount of 25,000 ppm or less, such as 15,000 ppm or less, such as 2,400 ppm or less, based on the total weight of the treatment bath; can. In some cases, according to the invention, after feeding carbon dioxide and/or lithium salt and/or hydroxide, carbonate (calculated as carbonate) is 15 ppm based on the total weight of the treatment bath. It may be present in the treatment bath in an amount of -25,000 ppm, such as 50 ppm to 15,000 ppm, such as 200 ppm to 2,400 ppm.

本発明によれば、二酸化炭素及び/又はリチウム塩及び/又は水酸化物の供給の後、処理浴は少なくとも9.5、例えば少なくとも10、例えば少なくとも11のpHを有していてもよく、ある場合には、12.5以下、例えば12以下、例えば11.5以下のpHを有してもよい。本発明によれば、二酸化炭素及び/又はリチウム塩及び/又は水酸化物の供給の後、処理浴は、9.5~12.5、例えば10~12、例えば11~11.5のpHを有し得る。 According to the invention, the treatment bath may have a pH of at least 9.5, such as at least 10, such as at least 11 after the supply of carbon dioxide and/or lithium salt and/or hydroxide; In some cases, it may have a pH of 12.5 or less, such as 12 or less, such as 11.5 or less. According to the invention, after the supply of carbon dioxide and/or lithium salt and/or hydroxide, the treatment bath has a pH of 9.5 to 12.5, such as 10 to 12, such as 11 to 11.5. can have

本発明によれば、処理浴を維持する方法は、必要に応じて任意の酸及び/又は塩基を添加することなどによって、処理浴のpHを調整することをさらに含み得る。本発明によれば、処理浴は、水溶性及び/又は水分散性の酸を含む酸性材料、例えば硝酸、硫酸、及び/又はリン酸を含めることによって維持され得る。本発明によれば、処理浴のpHは、I族炭酸塩、II族炭酸塩、水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化アンモニウム、アンモニア、アミン、例えばトリエチルアミン、メチルエチルアミン、又はそれらの混合物などの水溶性及び/又は水分散性塩基を含む塩基性材料を含めることによって維持され得る。 According to the present invention, the method of maintaining the treatment bath may further comprise adjusting the pH of the treatment bath, such as by adding any acid and/or base as needed. According to the present invention, the treatment bath may be maintained by including acidic materials, including water-soluble and/or water-dispersible acids, such as nitric acid, sulfuric acid, and/or phosphoric acid. According to the invention, the pH of the treatment bath is selected from Group I carbonates, Group II carbonates, hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, ammonium hydroxide, ammonia, amines such as triethylamine, It can be maintained by including basic materials including water-soluble and/or water-dispersible bases such as methylethylamine, or mixtures thereof.

本発明の処理浴を維持する方法は、炭酸リチウムを含む処理組成物から形成される浴のサイズに適したpHメーター及びプローブを使用して処理浴のpHをモニターすることをさらに含み得る。適切なpHメーター及びプローブの例は、Accumet AB15(Fisher Scientificから入手可能)及び単一接合電極(Ag/AgCl基準;Fisher Scientific)を含むが、これらに限定されない。 The method of maintaining the processing bath of the present invention may further comprise monitoring the pH of the processing bath using a pH meter and probe suitable for the size of the bath formed from the processing composition containing lithium carbonate. Examples of suitable pH meters and probes include, but are not limited to, Accumet AB15 (available from Fisher Scientific) and single junction electrodes (Ag/AgCl reference; Fisher Scientific).

本発明の処理浴を維持する方法は、当業者に既知の任意の方法によって処理浴中のリチウム、炭酸塩、又は炭酸リチウムの量をモニターすることをさらに含み得る。例えば、本発明によれば、リチウムをモニターする方法は、例えば、処理浴中のリチウム(金属カチオン)の濃度を計算するために特定の波長(例えば、670.784nm)で、発光分光分析装置又は同等の機器を使用すること及び規定濃度のリチウム(例えば、既知の濃度の標準(例えば5ppmのLiに希釈された500ppmのLi標準)を有する標準サンプルを使用することを含んでいてもよい。本発明の処理浴を維持する方法は、例えば手動滴定又は自動滴定法を用いることを含む、当業者に既知の任意の方法によって処理浴中の炭酸塩の量をモニターすることをさらに含み得る。 The method of maintaining the processing bath of the present invention can further comprise monitoring the amount of lithium, carbonate, or lithium carbonate in the processing bath by any method known to those skilled in the art. For example, in accordance with the present invention, a method of monitoring lithium comprises, for example, an emission spectrometer or This may involve using an equivalent instrument and using a standard sample with a defined concentration of lithium (e.g., a standard of known concentration (e.g., a 500 ppm Li standard diluted to 5 ppm Li). The method of maintaining the treatment bath of the invention may further comprise monitoring the amount of carbonate in the treatment bath by any method known to those skilled in the art including, for example, using manual titration or automated titration.

二酸化炭素及び/又はリチウム塩、及び任意選択的に水酸化物は、pH及びリチウムカチオン濃度、及び/又はリチウムカチオン濃度及び炭酸塩(アニオン)濃度が、例えば炭酸リチウムを用いた浴の維持(ここでpH、リチウム濃度及び炭酸塩濃度はすべて炭酸リチウムの浴への添加により変化する(すなわち、そのような各パラメータの独立した制御はない))と比較して、浴条件に依存して、独立して操作又は調整し得るように、炭酸リチウム含有処理組成物から形成される処理浴を維持するために使用されてもよいことを見出したことは予想外のことであった。例えば、二酸化炭素及び/又はリチウム塩及び任意選択的に水酸化物を使用して、炭酸リチウム含有処理組成物から形成された処理浴を、処理浴が9.5~12.5のpH、処理浴の総重量に基づいて5ppm~5,500ppmのリチウム(リチウムカチオンとして計算)濃度、及び処理浴の総重量に基づいて15ppm~25,000ppmの炭酸塩(炭酸塩として計算)濃度を有するように維持し得る。 Carbon dioxide and/or lithium salts, and optionally hydroxides, are added to maintain the bath (herein Dependent on bath conditions, independent It has been unexpectedly found that it may be used to maintain a processing bath formed from a lithium carbonate-containing processing composition so that it can be operated or conditioned as such. For example, using carbon dioxide and/or a lithium salt and optionally a hydroxide, the treatment bath formed from the lithium carbonate-containing treatment composition is treated at a pH of 9.5 to 12.5. To have a lithium (calculated as lithium cation) concentration of 5 ppm to 5,500 ppm based on the total weight of the bath and a carbonate (calculated as carbonate) concentration of 15 ppm to 25,000 ppm based on the total weight of the treatment bath. can be maintained.

上述のように、それから形成される処理組成物又は浴は、担体として水性媒体を含む。従って、組成物又は浴は、担体中のリチウム塩の溶液又は分散液の形態であり得る。本発明によれば、溶液又は分散液は、浸漬又は含浸、噴霧、間欠噴霧、浸漬に続く噴霧、噴霧に続く浸漬、ブラッシング、又はロールコーティングなどの任意の様々な既知の技術によって組成物又は浴で処理されるべき基材と接触させ得る。本発明によれば、基材に適用される場合の溶液又は分散液は、40°F(5℃)~約160°F(71℃)、例えば60°F(16℃)~110°F(43℃)の範囲の温度であり得る。例えば、基材を処理組成物又は浴と接触させるプロセスは、他に示されない場合は、23℃などの周囲温度又は室温で行われ得る。接触時間は、1秒~2時間、例えば5分~60分間であることが多い。 As noted above, the treatment composition or bath formed therefrom contains an aqueous medium as a carrier. The composition or bath can thus be in the form of a solution or dispersion of the lithium salt in the carrier. According to the present invention, the solution or dispersion may be applied to the composition or bath by any of a variety of known techniques such as immersion or impregnation, spraying, intermittent spraying, immersion followed by spraying, spraying followed by immersion, brushing, or roll coating. with the substrate to be treated. According to the present invention, the solution or dispersion when applied to a substrate has a temperature of 40°F (5°C) to about 160°F (71°C), such as 60°F (16°C) to 110°F ( 43° C.). For example, the process of contacting the substrate with the treatment composition or bath may be conducted at ambient or room temperature, such as 23° C., unless otherwise indicated. Contact times are often from 1 second to 2 hours, such as from 5 minutes to 60 minutes.

本発明によれば、処理組成物によって形成される層の厚さは、例えば550nmまで、例えば5nm~550nm、例えば10nm~400nm、例えば25nm~250nmであり得る。処理組成物から形成される層の厚さは、XPS(X線光電子分光法)深さプロファイリング又はTEM(透過型電子顕微鏡)を含むがこれらに限定されない、少数の分析技術を用いて決定することができる。本明細書で使用される場合、「厚さ」は、本発明の処理組成物によって形成された層に関して使用される場合、図3に示すように、(a)元の空気/基材界面の上に形成された層、(b)前処理/基材界面の下に形成された改質層、又は(c)(a)と(b)との組み合わせのいずれかを指す。図3では改質層(b)が前処理/基材界面まで延びているように示されているが、改質層(b)と前処理/基材界面との間に介在層が存在してもよい。同様に、(a)と(b)との組み合わせである(c)は連続層に限定されず、その間に介在層を有する多層を含んでもよく、層(c)の厚さの測定は介在層を除外してもよい。 According to the invention, the thickness of the layer formed by the treatment composition may be for example up to 550 nm, for example between 5 nm and 550 nm, for example between 10 nm and 400 nm, for example between 25 nm and 250 nm. The thickness of the layer formed from the treatment composition is determined using a number of analytical techniques including, but not limited to, XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) depth profiling or TEM (Transmission Electron Microscopy). can be done. As used herein, "thickness", when used in reference to a layer formed by the treatment composition of the present invention, refers to (a) the thickness of the original air/substrate interface, as shown in FIG. It refers to either a layer formed above, (b) a modified layer formed below the pretreatment/substrate interface, or (c) a combination of (a) and (b). Although modified layer (b) is shown extending to the pretreatment/substrate interface in FIG. may Similarly, the combination of (a) and (b), (c), is not limited to continuous layers, but may include multiple layers with intervening layers therebetween, where the measurement of the thickness of layer (c) is may be excluded.

本発明において使用され得る適切な基材は、金属基材、金属合金基材、及び/又はニッケルめっきされたプラスチックなどの金属化された基材を含む。本発明によれば、金属又は金属合金は、鋼、アルミニウム、亜鉛、ニッケル、及び/又はマグネシウムを含むか又はそれらであり得る。例えば、鋼基材は、冷間圧延鋼、熱間圧延鋼、電気亜鉛めっき鋼、及び/又は溶融亜鉛めっき鋼であり得る。1XXX、2XXX、3XXX、4XXX、5XXX、6XXX、又は7XXXシリーズのアルミニウム合金並びにクラッドアルミニウム合金もまた基材として使用され得る。アルミニウム合金は、0.01重量%の銅~10重量%の銅を含み得る。処理されるアルミニウム合金は、1XX.X、2XX.X、3XX.X、4XX.X、5XX.X、6XX.X、7XX.X、8XX.X、又は9XX.X(例えば:A356.0)のような鋳物も含み得る。AZ31B、AZ91C、AM60B、又はEV31Aシリーズのマグネシウム合金も基材として使用され得る。本発明で使用される基材はまた、チタン及び/又はチタン合金、亜鉛及び/又は亜鉛合金、及び/又はニッケル及び/又はニッケル合金を含んでもよい。本発明によれば、基材は、車体(例えば、限定されないが、ドア、ボディパネル、トランクデッキリッド、ルーフパネル、フード、ルーフ、及び/又はストリンガ、リベット、ランディングギア部品及び/又は航空機に使用されるスキンなど)及び/又は車両のフレームのような車両の一部を含んでいてもよい。本明細書で使用される場合、「車両」又はその変形は、民間、商業及び軍用の航空機、及び/又は自動車、オートバイ、及び/又はトラックなどの陸上の車両を含むがこれらに限定されない。 Suitable substrates that can be used in the present invention include metal substrates, metal alloy substrates, and/or metallized substrates such as nickel-plated plastics. According to the invention, the metal or metal alloy comprises or can be steel, aluminium, zinc, nickel and/or magnesium. For example, the steel substrate can be cold rolled steel, hot rolled steel, electrogalvanized steel, and/or hot dip galvanized steel. 1XXX, 2XXX, 3XXX, 4XXX, 5XXX, 6XXX, or 7XXX series aluminum alloys as well as clad aluminum alloys can also be used as substrates. The aluminum alloy may contain 0.01 wt% copper to 10 wt% copper. The aluminum alloy to be processed is 1XX. X, 2XX. X, 3XX. X, 4XX. X, 5XX. X, 6XX. X, 7XX. X, 8XX. X, or 9XX. Castings such as X (eg: A356.0) may also be included. AZ31B, AZ91C, AM60B, or EV31A series magnesium alloys may also be used as the substrate. Substrates used in the present invention may also comprise titanium and/or titanium alloys, zinc and/or zinc alloys, and/or nickel and/or nickel alloys. In accordance with the present invention, the substrate may be used in vehicle bodies such as, but not limited to, doors, body panels, trunk decklids, roof panels, hoods, roofs and/or stringers, rivets, landing gear components and/or aircraft. and/or a portion of the vehicle, such as the frame of the vehicle. As used herein, "vehicle" or variations thereof include, but are not limited to, civil, commercial and military aircraft, and/or land vehicles such as automobiles, motorcycles, and/or trucks.

本発明によれば、グリース、汚れ、及び/又は他の異物を除去するために、上記で記載される処理組成物又は浴と基材表面の少なくとも一部とを接触させる前に、基材表面の少なくとも一部を洗浄及び/又は脱酸素及び/又は別の方法で金属基材を洗浄若しくは前処理する当該技術分野で既知の従来の手段によって前処理してもよい。基材の表面の少なくとも一部は、表面を機械的に研磨すること及び/又は当業者に周知の市販のアルカリ性又は酸性の洗浄剤で表面を洗浄/脱脂することなどの物理的及び/又は化学的手段によって洗浄してもよい。本発明での使用に適したアルカリ洗浄剤の例には、Chemkleen(商標)166tlP、166m/c、177、490MX、2010LP、及びSurface Prep 1(SP1)、Ultrax 32、Ultrax 97、Ultrax 29及び92D(それぞれPPG Industries,Inc,(Cleveland、OH)から市販されている)、及びDFMシリーズのいずれか、RECC 1001、及び88X1002洗浄剤(PRC-DeSoto International,Sylmar,CA)から市販されている)並びにTurco 4215-NCLT及びRidolene(Henkel Technologies,Madison Heights,MIから市販されている)が含まれる。そのような洗浄剤は、水道水、蒸留水、又はそれらの組み合わせなどによる水リンスの前又は後にしばしば行われる。 According to the present invention, the substrate surface is treated prior to contacting at least a portion of the substrate surface with the treatment composition or bath described above to remove grease, dirt, and/or other foreign matter. may be pretreated by conventional means known in the art for cleaning and/or deoxidizing and/or otherwise cleaning or pretreating metal substrates. At least a portion of the surface of the substrate is subjected to physical and/or chemical cleaning, such as mechanically abrading the surface and/or cleaning/degreasing the surface with commercially available alkaline or acidic cleaning agents known to those skilled in the art. may be cleaned by mechanical means. Examples of alkaline cleaners suitable for use in the present invention include Chemkleen™ 166tlP, 166m/c, 177, 490MX, 2010LP, and Surface Prep 1 (SP1), Ultrax 32, Ultrax 97, Ultrax 29 and 92D. (each commercially available from PPG Industries, Inc, (Cleveland, Ohio)), and any of the DFM series, RECC 1001, and 88X1002 detergents (commercially available from PRC-DeSoto International, Sylmar, Calif.) and Turco 4215-NCLT and Ridolene (commercially available from Henkel Technologies, Madison Heights, Mich.). Such cleaning agents often precede or follow a water rinse, such as with tap water, distilled water, or combinations thereof.

上述のように、本発明によれば、洗浄された基材表面の少なくとも一部は、機械的及び/又は化学的に脱酸素化されてもよい。本明細書で使用される場合、用語「脱酸素化」は、転化組成物又は前処理組成物の均一な堆積を促進するため、並びにそのような組成物コーティングの基材表面への接着を促進するために基材の表面上に見られる酸化物層の除去を意味する。適切な脱酸素剤は当業者によく知られている。典型的な機械的脱酸素剤は、研磨パッド又は洗浄パッドを使用することなどによる、基材表面の均一な粗面化であり得る。典型的な化学的脱酸素剤としては、例えば、リン酸、硝酸、フルオロホウ酸、硫酸、クロム酸、フッ化水素酸、及び二フッ化アンモニウムなどの酸系脱酸素剤、又はAmchem 7/17脱酸素剤(Henkel Technologies,Madison Heights,MIから入手可能)、OAKITE DEOXIDIZER LNC(Chemetallから市販されている)、TURCO DEOXIDIZER 6(Henkelから市販されている)、又はそれらの組み合わせが挙げられる。多くの場合、化学的脱酸素剤は担体、多くの場合は水性媒体を含むので、脱酸素剤は担体中の溶液又は分散液の形態であってもよく、その場合溶液又は分散液は任意の種々の技術、例えば浸漬又は含浸、噴霧、間欠噴霧、浸漬に続く噴霧、噴霧に続く浸漬、ブラッシング、又はロールコーティングによって基材と接触させてもよい。本発明によれば、当業者は、例えば50°F~150°F(10℃~66℃)、例えば70°F~130°F(21°C~54°C)、例えば80°F~120°F(27°C~49°C)の範囲の温度で、エッチング速度に基づいて、金属基材に適用される場合に、溶液又は分散液の温度範囲を選択する。接触時間は、30秒~20分、例えば1分~15分、例えば90秒~12分、例えば3分~9分であり得る。 As noted above, according to the present invention, at least a portion of the cleaned substrate surface may be mechanically and/or chemically deoxidized. As used herein, the term "deoxidizing" is used to promote uniform deposition of the conversion composition or pretreatment composition, as well as promote adhesion of such composition coatings to substrate surfaces. means the removal of the oxide layer found on the surface of the substrate in order to Suitable oxygen scavengers are well known to those skilled in the art. A typical mechanical oxygen scavenger can be uniform roughening of the substrate surface, such as by using a polishing pad or cleaning pad. Typical chemical oxygen scavengers include, for example, acid-based oxygen scavengers such as phosphoric acid, nitric acid, fluoroboric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, and ammonium difluoride, or Amchem 7/17 deoxidizer. Oxygen agents (available from Henkel Technologies, Madison Heights, Mich.), OAKITE DEOXIDIZER LNC (commercially available from Chemetall), TURCO DEOXIDIZER 6 (commercially available from Henkel), or combinations thereof. Since chemical oxygen scavengers often comprise a carrier, often an aqueous medium, the oxygen scavenger may be in the form of a solution or dispersion in the carrier, where the solution or dispersion may be any The substrate may be contacted by a variety of techniques such as dipping or impregnation, spraying, intermittent spraying, dipping followed by spraying, spraying followed by dipping, brushing, or roll coating. According to the present invention, those skilled in the art will be able to Select the temperature range of the solution or dispersion when applied to the metal substrate based on the etch rate at temperatures in the range of 27° F. (27° C. to 49° C.). The contact time can be 30 seconds to 20 minutes, such as 1 minute to 15 minutes, such as 90 seconds to 12 minutes, such as 3 minutes to 9 minutes.

洗浄及び/又は脱酸素工程に続いて、残留物を除去するために、任意選択的に基材を水道水、脱イオン水、及び/又はすすぎ剤の水溶液ですすいでもよい。本発明によれば、湿潤基材表面は、陽極酸化又は転化組成物での処理など、基材保護の当業者によく知られている任意の方法によって前処理されてもよく、及び/又は上記で記載の処理組成物の1つで処理されてもよく、又は基材は、基材表面を処理する前に、例えばエアナイフを用いることによって、高温、例えば15℃~100℃、例えば20℃~90℃への基材の短時間暴露により、又は例えば赤外熱を用いるヒーターアセンブリにおいて、例えば70℃で10分間、又は基材をスクイージロール間に通すことにより、水を蒸発(flashing off)させることによって、乾燥、例えば空気乾燥させてもよい。本発明によれば、転化組成物は、例えばランタニド系列元素、IIIB族金属、及び/又はIVB族金属を含んでいてもよく、さらにIIA族金属、VB族金属、VIB族金属、VIIB族金属、及び/又はXII族を含んでいてもよい。本発明によれば、ランタニド系列元素は、例えば、セリウム、プラセオジム、テルビウム、又はそれらの組み合わせを含んでいてもよく;IIA族金属はマグネシウムを含んでいてもよく;IIIB族金属は、イットリウム、スカンジウム、又はそれらの組み合わせを含んでいてもよく;IVB族金属は、ジルコニウム、チタン、ハフニウム、又はそれらの組み合わせを含んでいてもよく;VB族金属はバナジウムを含んでいてもよく;VIB族金属は、三価又は六価のクロム及び/又はモリブデンを含んでいてもよく;VIIB族金属はマンガンを含んでいてもよく;XII族金属は亜鉛を含んでいてもよい。 Following the cleaning and/or deoxidizing steps, the substrate may optionally be rinsed with tap water, deionized water, and/or an aqueous solution of rinse agents to remove residue. According to the present invention, the wet substrate surface may be pretreated by any method well known to those skilled in the art of substrate protection, such as treatment with an anodizing or conversion composition, and/or or the substrate is heated to an elevated temperature, such as from 15° C. to 100° C., such as from 20° C. to Water is flashed off by brief exposure of the substrate to 90° C., or in a heater assembly using, for example, infrared heat, for example at 70° C. for 10 minutes, or by passing the substrate between squeegee rolls. It may be dried, eg air dried, by drying. According to the present invention, the conversion composition may contain, for example, lanthanide series elements, Group IIIB metals, and/or Group IVB metals, and further Group IIA metals, Group VB metals, Group VIB metals, Group VIIB metals, and/or Group XII. According to the present invention, lanthanide series elements may include, for example, cerium, praseodymium, terbium, or combinations thereof; Group IIA metals may include magnesium; Group IIIB metals may include yttrium, scandium, Group IVB metals may include zirconium, titanium, hafnium, or combinations thereof; Group VB metals may include vanadium; Group VIB metals may include , trivalent or hexavalent chromium and/or molybdenum; Group VIIB metals may include manganese; Group XII metals may include zinc.

本発明によれば、基材を処理組成物と接触させた後、フィルム形成樹脂を含むコーティング組成物を、処理組成物と接触した基材の表面の少なくとも一部上に堆積させてもよい。このようなコーティング組成物を基材上に堆積させるためには、例えば、ブラッシング、浸漬、フローコーティング、噴霧などの任意の適切な技術を使用してもよい。しかしながら、ある場合には、以下により詳細に記載されるように、そのようなコーティング組成物の堆積は、電着によって金属基材上に電着可能組成物が堆積される電着工程を含み得る。他の特定の例では、以下により詳細に記載されるように、そのようなコーティング組成物の堆積は粉末コーティング工程を含む。さらに他の例では、コーティング組成物は液体コーティング組成物であり得る。 According to the present invention, after contacting the substrate with the treatment composition, a coating composition comprising a film-forming resin may be deposited onto at least a portion of the surface of the substrate contacted with the treatment composition. Any suitable technique may be used to deposit such coating compositions onto a substrate, such as brushing, dipping, flow coating, spraying, and the like. However, in some cases, as described in more detail below, the deposition of such coating compositions may include an electrodeposition step in which the electrodepositable composition is deposited onto the metal substrate by electrodeposition. . In other particular examples, deposition of such coating compositions comprises a powder coating process, as described in more detail below. In still other examples, the coating composition can be a liquid coating composition.

本発明によれば、コーティング組成物は、熱硬化性フィルム形成樹脂又は熱可塑性フィルム形成樹脂を含み得る。本明細書で使用される場合、用語「フィルム形成樹脂」は、組成物中に存在する任意の希釈剤又は担体の除去時、又は周囲温度若しくは高温での硬化時に、基材の少なくとも水平面上に自立連続フィルムを形成し得る樹脂を指す。使用され得る従来のフィルム形成樹脂としては、限定されないが、特に自動車OEMコーティング組成物、自動車補修コーティング組成物、工業用コーティング組成物、建築用コーティング組成物、コイルコーティング組成物、及び航空宇宙用コーティング組成物に通常使用されるものが挙げられる。本明細書で使用される場合、用語「熱硬化性」は、硬化又は架橋の際に不可逆的に「硬化」する樹脂を指し、ここでポリマー成分のポリマー鎖は共有結合によって共に結合される。この特性は通常、例えば熱又は放射線によってしばしば誘導される組成物成分の架橋反応に関連する。硬化又は架橋反応も周囲条件下で行われてもよい。一旦硬化又は架橋すると、熱硬化性樹脂は熱を加えても溶融せず、溶媒に不溶性である。本明細書で使用される場合、用語「熱可塑性」は、共有結合によって結合されず、それによって加熱時に液体流動でき、溶媒に可溶性であるポリマー成分を含む樹脂を指す。 According to the invention, the coating composition may comprise a thermosetting film-forming resin or a thermoplastic film-forming resin. As used herein, the term "film-forming resin" means that upon removal of any diluent or carrier present in the composition, or upon curing at ambient or elevated temperatures, the Refers to a resin that can form a self-supporting continuous film. Conventional film-forming resins that may be used include, but are not limited to, automotive OEM coating compositions, automotive refinish coating compositions, industrial coating compositions, architectural coating compositions, coil coating compositions, and aerospace coatings, among others. Those commonly used in compositions can be mentioned. As used herein, the term "thermoset" refers to a resin that irreversibly "hardens" upon curing or cross-linking, wherein the polymer chains of the polymer components are bound together by covalent bonds. This property is usually associated with cross-linking reactions of the composition components, often induced by heat or radiation, for example. Curing or cross-linking reactions may also be carried out under ambient conditions. Once cured or crosslinked, thermosetting resins do not melt with the application of heat and are insoluble in solvents. As used herein, the term "thermoplastic" refers to a resin comprising polymeric components that are not covalently bonded thereby allowing liquid flow upon heating and being soluble in solvents.

先に示したように、本発明によれば、電着可能コーティング組成物は、電着コーティング工程によって基材上に堆積され得る水分散性イオン性塩グループ含有フィルム形成樹脂を含み、ここで電着可能コーティング組成物は、電着により金属基材上に堆積される。イオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーは、カチオン性電着可能コーティング組成物に使用するためのカチオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーを含み得る。本明細書で使用される場合、用語「カチオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマー」は、正電荷を付与する、スルホニウム基及びアンモニウム基などの少なくとも部分的に中和されたカチオン性基を含むポリマーを指す。カチオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーは、例えば、ヒドロキシル基、一級又は二級アミン基、及びチオール基を含む活性水素官能基を含み得る。活性水素官能基を含むカチオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーは、活性水素含有カチオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーと称され得る。カチオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーとしての使用に適したポリマーの例としては、特に、アルキドポリマー、アクリル、ポリエポキシド、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリエーテル、及びポリエステルが挙げられるが、これらに限定されない。カチオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーは、カチオン性電着可能コーティング組成物中に、電着可能なコーティング組成物の樹脂固形分の総重量に基づいて40重量%~90重量%、例えば50重量%~80重量%、例えば60重量%~75重量%の量で存在してもよい。本明細書で使用される場合、「樹脂固形分」は、イオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマー、硬化剤、及び電着可能コーティング組成物中に存在する任意のさらなる水分散性非着色成分を含む。 As indicated above, in accordance with the present invention, an electrodepositable coating composition comprises a water-dispersible ionic salt group-containing film-forming resin that can be deposited onto a substrate by an electrodeposition coating process, wherein The depositable coating composition is deposited on the metal substrate by electrodeposition. Film-forming polymers containing ionic salt groups can include film-forming polymers containing cationic salt groups for use in cationic electrodepositable coating compositions. As used herein, the term "cationic salt group-containing film-forming polymer" refers to polymers containing at least partially neutralized cationic groups, such as sulfonium and ammonium groups, that impart a positive charge. Point. Film-forming polymers containing cationic salt groups may contain active hydrogen functional groups including, for example, hydroxyl groups, primary or secondary amine groups, and thiol groups. A cationic salt group-containing film-forming polymer containing active hydrogen functional groups may be referred to as an active hydrogen-containing cationic salt group-containing film-forming polymer. Examples of polymers suitable for use as cationic salt group-containing film-forming polymers include, but are not limited to, alkyd polymers, acrylics, polyepoxides, polyamides, polyurethanes, polyureas, polyethers, and polyesters, among others. . The cationic salt group-containing film-forming polymer is present in the cationic electrodepositable coating composition from 40% to 90% by weight, such as 50% by weight, based on the total weight of the resin solids of the electrodepositable coating composition. It may be present in an amount of up to 80% by weight, such as 60% to 75% by weight. As used herein, "resin solids" includes the ionic salt group-containing film-forming polymer, curing agent, and any additional water dispersible non-pigmenting ingredients present in the electrodepositable coating composition. .

代替的に、イオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーは、アニオン性電着可能コーティング組成物に使用するためのアニオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーを含み得る。本明細書で使用される場合、用語「アニオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマー(anionic salt group-containing film-forming polymer)」は、少なくとも部分的に中和されたアニオン性官能基、例えば負電荷を与えるカルボン酸及びリン酸基を含むアニオン性ポリマーを指す。アニオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーは、活性水素官能基を含み得る。活性水素官能基を含むアニオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーは、活性水素含有アニオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーと称され得る。アニオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーは、塩基可溶化(base-solubilized)カルボン酸グループ含有フィルム形成ポリマー、例えば乾燥油若しくは半乾燥脂肪酸エステルとジカルボン酸若しくは無水物との反応生成物又は付加物;脂肪酸エステル、不飽和酸又は無水物と、ポリオールとさらに反応する任意の追加の不飽和改質材料との反応生成物を含んでいてもよい。不飽和カルボン酸のヒドロキシ-アルキルエステル、不飽和カルボン酸及び少なくとも1つの他のエチレン性不飽和モノマーの少なくとも部分的に中和されたインターポリマーもまた適切である。さらに別の適切なアニオン性電着可能樹脂は、アルキド-アミノプラストビヒクル、すなわちアルキド樹脂及びアミン-アルデヒド樹脂を含有するビヒクルを含む。他の好適なアニオン性電着可能樹脂組成物は樹脂性ポリオールの混合エステルを含む。リン酸化ポリエポキシド又はリン酸化アクリルポリマーのような他の酸官能性ポリマーもまた使用され得る。例示的なリン酸化ポリエポキシドは、米国特許出願公開第2009-0045071号明細書([0004]~[0015])及び米国特許出願第13/232,093号([0014]~[0040])に開示されており、それらの引用部分は参照により本明細書に組み込まれる。アニオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーは、アニオン性電着可能コーティング組成物中に、電着可能なコーティング組成物の樹脂固形分の総重量に基づいて50%~90%、例えば55%~80%、例えば60%~75%の量で存在してもよい。 Alternatively, the ionic salt group-containing film-forming polymer may comprise an anionic salt group-containing film-forming polymer for use in an anionic electrodepositable coating composition. As used herein, the term "anionic salt group-containing film-forming polymer" means an at least partially neutralized anionic functional group, such as a negative charge. It refers to an anionic polymer containing carboxylic acid and phosphate groups to give. The anionic salt group-containing film-forming polymer may contain active hydrogen functional groups. An anionic salt group-containing film-forming polymer containing active hydrogen functional groups may be referred to as an active hydrogen-containing anionic salt group-containing film-forming polymer. Anionic salt group-containing film-forming polymers are base-solubilized carboxylic acid group-containing film-forming polymers, such as reaction products or adducts of dry oils or semi-dry fatty acid esters with dicarboxylic acids or anhydrides; It may also include the reaction product of an ester, unsaturated acid or anhydride and any additional unsaturated modifying material that is further reacted with the polyol. Also suitable are at least partially neutralized interpolymers of hydroxy-alkyl esters of unsaturated carboxylic acids, unsaturated carboxylic acids and at least one other ethylenically unsaturated monomer. Still other suitable anionic electrodepositable resins include alkyd-aminoplast vehicles, ie vehicles containing an alkyd resin and an amine-aldehyde resin. Other suitable anionic electrodepositable resin compositions include mixed esters of resinous polyols. Other acid functional polymers such as phosphorylated polyepoxides or phosphorylated acrylic polymers may also be used. Exemplary phosphorylated polyepoxides are disclosed in US Patent Application Publication No. 2009-0045071 ([0004]-[0015]) and US Patent Application No. 13/232,093 ([0014]-[0040]). and citations thereof are incorporated herein by reference. The anionic salt group-containing film-forming polymer is present in the anionic electrodepositable coating composition from 50% to 90%, such as from 55% to 80%, based on the total weight of the resin solids of the electrodepositable coating composition. may be present in an amount of, for example, 60% to 75%.

電着可能コーティング組成物はさらに硬化剤を含み得る。硬化剤は、イオン性塩グループ含有フィルム形成ポリマーの活性水素基などの反応性基と反応して、コーティング組成物の硬化を達成してコーティングを形成し得る。適切な硬化剤の非限定的な例は、少なくとも部分的にブロックされたポリイソシアネート、アミノプラスト樹脂及びフェノプラスト樹脂、例えばそれらのアリルエーテル誘導体を含むフェノールホルムアルデヒド縮合物である。硬化剤は、カチオン性電着可能コーティング組成物中に、電着可能コーティング組成物の樹脂固形分の総重量に基づいて10~60重量%、例えば20~50重量%、例えば25~40重量%の量で存在し得る。代替的に、硬化剤は、アニオン性電着可能コーティング組成物中に、電着可能コーティング組成物の樹脂固形分の総重量に基づいて10~50重量%、例えば20~45重量%、例えば25~40重量%の量で存在し得る。 The electrodepositable coating composition may further contain a curing agent. Curing agents may react with reactive groups, such as active hydrogen groups, of the film-forming polymer containing ionic salt groups to effect curing of the coating composition to form a coating. Non-limiting examples of suitable curing agents are at least partially blocked polyisocyanates, aminoplast resins and phenoplast resins, such as phenol formaldehyde condensates, including allyl ether derivatives thereof. The curing agent is present in the cationic electrodepositable coating composition in an amount of 10 to 60 wt%, such as 20 to 50 wt%, such as 25 to 40 wt%, based on the total weight of the resin solids of the electrodepositable coating composition. can be present in an amount of Alternatively, the curing agent may be present in the anionic electrodepositable coating composition from 10 to 50% by weight, such as from 20 to 45% by weight, such as from 25% to 45% by weight, based on the total weight of the resin solids of the electrodepositable coating composition. It may be present in an amount of ˜40% by weight.

電着可能コーティング組成物は、顔料組成物のような他の任意成分、及び所望により様々な添加剤、例えば充填剤、可塑剤、酸化防止剤、殺生物剤、紫外線吸収剤及び安定剤、ヒンダードアミン光安定剤、消泡剤、殺菌剤、分散助剤、流動制御剤、界面活性剤、湿潤剤、又はそれらの組み合わせをさらに含んでいてもよい。電着可能コーティング組成物は、水及び/又は1つ以上の有機溶媒を含み得る。水は、電着可能コーティング組成物の総重量に基づいて、例えば、40重量%~90重量%、例えば50重量%~75重量%の量で存在することができる。使用される場合、有機溶媒は、通常、電着可能コーティング組成物の総重量に基づいて10重量%未満、例えば5重量%未満の量で存在し得る。電着可能なコーティング組成物は、特に水性分散液の形態で提供され得る。電着可能コーティング組成物の総固形分含有量は、電着可能コーティング組成物の総重量に基づいて、1重量%~50重量%、例えば5重量%~40重量%、例えば5重量%~20重量%であり得る。本明細書で使用される場合、「総固形分」とは、電着可能なコーティング組成物の不揮発分、すなわち、110℃に15分間加熱しても揮発しない材料を指す。 The electrodepositable coating composition may contain other optional ingredients such as pigment compositions and optionally various additives such as fillers, plasticizers, antioxidants, biocides, UV absorbers and stabilizers, hindered amines. Light stabilizers, defoamers, bactericides, dispersing aids, flow control agents, surfactants, wetting agents, or combinations thereof may also be included. The electrodepositable coating composition may contain water and/or one or more organic solvents. Water can be present, for example, in an amount of 40% to 90%, such as 50% to 75% by weight, based on the total weight of the electrodepositable coating composition. Organic solvents, if used, can typically be present in an amount of less than 10%, such as less than 5% by weight, based on the total weight of the electrodepositable coating composition. The electrodepositable coating composition can be provided in particular in the form of an aqueous dispersion. The total solids content of the electrodepositable coating composition is 1 wt% to 50 wt%, such as 5 wt% to 40 wt%, such as 5 wt% to 20 wt%, based on the total weight of the electrodepositable coating composition. % by weight. As used herein, "total solids" refers to the nonvolatile content of the electrodepositable coating composition, ie, materials that do not volatilize upon heating to 110°C for 15 minutes.

カチオン性電着可能コーティング組成物は、組成物を導電性カソード及び導電性アノードと接触させることによって導電性基材上に堆積させることができ、コーティングされる表面はカソードである。代替的に、アニオン性電着可能コーティング組成物は、組成物を導電性カソード及び導電性アノードと接触させることによって導電性基材上に堆積させることができ、コーティングされる表面はアノードである。十分な電圧が電極間に印加されると、電着可能コーティング組成物の接着性フィルムがそれぞれカソード又はアノード上に実質的に連続的に堆積される。印加電圧は変化させてもよく、例えば、50ボルト~500ボルトのように、1ボルト程度の低いものから数千ボルト程度の高いものまであり得る。電流密度は通常1平方フィート当たり1.0アンペア~15アンペア(1平方メートル当たり10.8~161.5アンペア)の間であり、電着プロセスの間に迅速に低下する傾向があり、連続的な自己絶縁フィルムの形成を示す。 A cationic electrodepositable coating composition can be deposited on a conductive substrate by contacting the composition with a conductive cathode and a conductive anode, the surface to be coated being the cathode. Alternatively, an anionic electrodepositable coating composition can be deposited on a conductive substrate by contacting the composition with a conductive cathode and a conductive anode, the surface to be coated being the anode. When a sufficient voltage is applied between the electrodes, an adherent film of the electrodepositable coating composition is substantially continuously deposited on the cathode or anode, respectively. The applied voltage may vary and can range from as low as 1 volt to as high as several thousand volts, eg, 50 volts to 500 volts. Current densities are typically between 1.0 and 15 amps per square foot (10.8-161.5 amps per square meter), tend to drop off rapidly during the electrodeposition process, and are not continuous. Figure 3 shows the formation of self-insulating films.

カチオン性又はアニオン性電着可能コーティング組成物が導電性基材の少なくとも一部上に電着されると、コーティングされた基材は、基材上の電着コーティングを硬化させるのに十分な温度及び時間加熱され得る。カチオン性電着では、コーティング基材を250°F~450°F(121.1℃~232.2℃)、例えば275°F~400°F(135℃~204.4℃)、例えば300°F~360°F(149℃~180℃)の範囲の温度に加熱し得る。アニオン性電着では、コーティング基材を200°F~450°F(93℃~232.2℃)、例えば275°F~400°F(135℃~204.4℃)、例えば300°F~360°F(149℃~180℃)、例えば200°F~210.2°F(93℃~99℃)の範囲の温度に加熱し得る。硬化時間は、硬化温度並びに他の変数、例えば電着コーティングの膜厚、組成物中に存在する触媒のレベル及びタイプなどに依存し得る。例えば、硬化時間は10分~60分、例えば20~40分の範囲であることができる。得られる硬化電着コーティングの厚さは、2~50ミクロンの範囲であり得る。 Once the cationic or anionic electrodepositable coating composition is electrodeposited onto at least a portion of the conductive substrate, the coated substrate is exposed to a temperature sufficient to cure the electrodeposited coating on the substrate. and can be heated for a period of time. Cationic electrodeposition involves subjecting the coating substrate to 250°F to 450°F (121.1°C to 232.2°C), such as 275°F to 400°F (135°C to 204.4°C), such as 300°C. It can be heated to temperatures ranging from F to 360°F (149°C to 180°C). For anionic electrodeposition, subject the coating substrate to 200°F to 450°F (93°C to 232.2°C), such as 275°F to 400°F (135°C to 204.4°C), such as 300°F to It may be heated to a temperature in the range of 360°F (149°C to 180°C), such as 200°F to 210.2°F (93°C to 99°C). Curing time may depend on the curing temperature as well as other variables such as the thickness of the electrodeposited coating, the level and type of catalyst present in the composition, and the like. For example, curing times can range from 10 minutes to 60 minutes, such as from 20 to 40 minutes. The thickness of the resulting cured electrodeposited coating can range from 2 to 50 microns.

代替的に、上述されるように、本発明によれば基材を処理組成物と接触させた後、次いで粉末コーティング組成物を、処理組成物と接触した基材の表面の少なくとも一部上に堆積させてもよい。本明細書で使用される場合、「粉末コーティング組成物」は、水及び/又は溶媒を完全に含まないコーティング組成物を指す。従って、本明細書に開示される粉末コーティング組成物は、当該技術分野において既知の水性及び/又は溶媒性コーティング組成物と同義でない。本発明によれば、粉末コーティング組成物は、(a)反応性官能基を有するフィルム形成ポリマー;及び(b)官能基と反応する硬化剤を含んでいてもよい。本発明で使用され得る粉末コーティング組成物の例には、ポリエステル系ENVIROCRONラインの粉末コーティング組成物(PPG Industries,Inc.から市販されている)又はエポキシ-ポリエステルハイブリッド粉末コーティング組成物が含まれる。本発明において使用され得る粉末コーティング組成物の代替例としては、(a)少なくとも1つの第3級アミノ尿素化合物、少なくとも1つの第3級アミノウレタン化合物、又はそれらの混合物、及び(b)少なくとも1つのフィルム形成エポキシ含有樹脂及び/又は少なくとも1つのシロキサン含有樹脂(例えば、PPG Industries,Inc.に譲渡され、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第7,470,752号明細書に記載されているものなど)を含む低温硬化の熱硬化性粉末コーティング組成物;(a)少なくとも1つの第3級アミノ尿素化合物、少なくとも1つの第3級アミノウレタン化合物、又はそれらの混合物、及び(b)少なくとも1つのフィルム形成エポキシ含有樹脂及び/又は少なくとも1つのシロキサン含有樹脂(例えば、PPG Industries,Inc.に譲渡され、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第7,432,333号明細書に記載されているものなど)を一般に含む硬化性粉末コーティング組成物;及び少なくとも30℃のTを有する反応性基含有ポリマーの固体粒子混合物を含むもの(例えば、PPG Industries,Inc.に譲渡され、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第6,797,387号明細書に記載されているものなど)を含む。 Alternatively, as described above, after contacting the substrate with the treatment composition according to the present invention, the powder coating composition is then applied onto at least a portion of the surface of the substrate contacted with the treatment composition. may be deposited. As used herein, "powder coating composition" refers to a coating composition that is completely free of water and/or solvent. Accordingly, the powder coating compositions disclosed herein are not synonymous with aqueous and/or solvent-based coating compositions known in the art. According to the present invention, the powder coating composition may comprise (a) a film-forming polymer having reactive functional groups; and (b) a curing agent that reacts with the functional groups. Examples of powder coating compositions that may be used in the present invention include the ENVIROCRON line of polyester-based powder coating compositions (commercially available from PPG Industries, Inc.) or epoxy-polyester hybrid powder coating compositions. Alternative powder coating compositions that may be used in the present invention include (a) at least one tertiary aminourea compound, at least one tertiary aminourethane compound, or mixtures thereof, and (b) at least one one film-forming epoxy-containing resin and/or at least one siloxane-containing resin (for example, as described in US Pat. No. 7,470,752, assigned to PPG Industries, Inc. and incorporated herein by reference); (a) at least one tertiary aminourea compound, at least one tertiary aminourethane compound, or mixtures thereof; and (b) at least one film-forming epoxy-containing resin and/or at least one siloxane-containing resin (for example, described in US Pat. No. 7,432,333, assigned to PPG Industries, Inc. and incorporated herein by reference); and those comprising a solid particle mixture of a reactive group-containing polymer having a T g of at least 30° C. (e.g., assigned to PPG Industries, Inc., by reference such as those described in US Pat. No. 6,797,387, incorporated herein).

粉末コーティング組成物を堆積した後、堆積した組成物を硬化させるためにしばしばコーティングを加熱する。加熱又は硬化操作は、150℃~200℃、例えば170℃~190℃の範囲の温度で、10~20分の範囲の期間にわたって行われることが多い。本発明によれば、得られるフィルムの厚さは50ミクロン~125ミクロンである。 After depositing the powder coating composition, the coating is often heated to cure the deposited composition. The heating or curing operation is often carried out at temperatures ranging from 150°C to 200°C, such as from 170°C to 190°C, for periods ranging from 10 to 20 minutes. According to the invention, the thickness of the resulting film is between 50 microns and 125 microns.

上述のように、本発明によれば、コーティング組成物は液体コーティング組成物であり得る。本明細書で使用される場合、「液体コーティング組成物」は、水及び/又は溶媒の一部を含有するコーティング組成物を指す。従って、本明細書に開示される液体コーティング組成物は、当該技術分野において既知の水性及び/又は溶媒性コーティング組成物と同義である。本発明によれば、液体コーティング組成物は、例えば(a)反応性官能基を有するフィルム形成ポリマー;及び(b)官能基と反応する硬化剤を含んでいてもよい。他の例では、液体コーティングは、空気中の酸素と反応し得る又は水及び/又は溶媒の蒸発によりフィルムに合体し得るフィルム形成ポリマーを含有し得る。これらのフィルム形成メカニズムは、熱又は紫外線又は赤外線のようなある種の放射線の適用を必要とするか又はそれによって促進され得る。本発明で使用されてもよい液体コーティング組成物の例には、SPECTRACRON(登録商標)ラインの溶媒ベースのコーティング組成物、AQUACRON(登録商標)ラインの水性硬化性コーティング組成物、及びRAYCRON(登録商標)ラインのUV硬化コーティング(すべてPPG Industries,Inc.から市販されている)が含まれる。本発明の液体コーティング組成物に使用され得る好適なフィルム形成ポリマーは、(ポリ)エステル、アルキド、(ポリ)ウレタン、イソシアヌレート、(ポリ)尿素、(ポリ)エポキシ、無水物、アクリル、(ポリ)エーテル、(ポリ)スルフィド、(ポリ)アミン、(ポリ)アミド、(ポリ)塩化ビニル、(ポリ)オレフィン、(ポリ)フッ化ビニリデン、(ポリ)シロキサン又はそれらの組み合わせを含んでいてもよい。 As noted above, according to the present invention, the coating composition can be a liquid coating composition. As used herein, "liquid coating composition" refers to a coating composition that contains a portion of water and/or solvent. Accordingly, the liquid coating compositions disclosed herein are synonymous with aqueous and/or solvent-based coating compositions known in the art. According to the present invention, a liquid coating composition may include, for example, (a) a film-forming polymer having reactive functional groups; and (b) a curing agent that reacts with the functional groups. In other examples, the liquid coating may contain film-forming polymers that may react with oxygen in the air or coalesce into a film upon evaporation of water and/or solvent. These film-forming mechanisms may require or be facilitated by the application of heat or some type of radiation such as ultraviolet or infrared radiation. Examples of liquid coating compositions that may be used in the present invention include the SPECTRACRON® line of solvent-based coating compositions, the AQUACRON® line of aqueous curable coating compositions, and the RAYCRON® line of solvent-based coating compositions. ) line of UV curable coatings (all commercially available from PPG Industries, Inc.). Suitable film-forming polymers that may be used in the liquid coating compositions of the present invention include (poly)esters, alkyds, (poly)urethanes, isocyanurates, (poly)ureas, (poly)epoxies, anhydrides, acrylics, (poly ) ethers, (poly)sulfides, (poly)amines, (poly)amides, (poly)vinyl chlorides, (poly)olefins, (poly)vinylidene fluorides, (poly)siloxanes or combinations thereof. .

本発明によれば、本明細書に記載の処理組成物と接触させた基材はまた、プライマー組成物及び/又はトップコート組成物と接触させ得る。プライマーコートは、例えば、クロム酸塩系プライマー及び高性能トップコートであり得る。本発明によれば、プライマーコートは、従来のクロム酸塩系プライマーコート、例えばPPG Industries,Inc.から入手可能なもの(製品コード44GN072)など、又はクロムを含まないプライマー、例えばPPGから入手可能なもの(DESOPRIME CA7502、DESOPRIME CA7521、Deft 02GN083,Deft 02GN084)であることができる。代替的に、プライマーコートは、クロム酸塩を含まないプライマーコート、例えば米国特許出願第10/758,973号、発明の名称「CORROSION RESISTANT COATINGS CONTAINING CARBON(炭素を含有する耐食性コーティング)」、及び米国特許出願第10/758,972号及び第10/758,972号、両方とも発明の名称「CORROSION RESISTANT COATINGS(耐食性コーティング)」に記載されるコーティング組成物(これらのすべては参照により本明細書に組み込まれる)であり得、並びに当該技術分野において既知であり、MIL-PRF-85582クラスN又はMIL-PRF-23377クラスNの軍事的要件を満たすことができる他のクロムを含まないプライマーもまた本発明と共に使用され得る。 According to the present invention, a substrate contacted with a treatment composition described herein may also be contacted with a primer composition and/or a topcoat composition. Primer coats can be, for example, chromate-based primers and high performance topcoats. In accordance with the present invention, the primer coat may be a conventional chromate-based primer coat, such as PPG Industries, Inc. (product code 44GN072), or chromium-free primers such as those available from PPG (DESOPRIME CA7502, DESOPRIME CA7521, Deft 02GN083, Deft 02GN084). Alternatively, the primer coat may be a chromate-free primer coat, such as U.S. patent application Ser. Coating compositions described in patent application Ser. and other chromium-free primers known in the art and capable of meeting the military requirements of MIL-PRF-85582 Class N or MIL-PRF-23377 Class N. can be used with the invention.

上述のように、本発明の基材はまたトップコートも含み得る。本明細書で使用される場合、用語「トップコート」は、有機又は無機系ポリマー又はポリマーのブレンドであり得るバインダの混合物を指し、通常は少なくとも1つの顔料は、少なくとも1つの溶媒又は溶媒の混合物を任意選択的に含有でき、任意選択的に少なくとも1つの硬化剤を含有できる。トップコートは、通常、その外面が大気又は環境に曝され、その内面が他のコーティング層又はポリマー基材と接触している単層又は多層コーティング系におけるコーティング層である。適切なトップコートの例としては、PPGから入手可能なもの(Deft 03W127A及びDeft 03GY292)などのMIL-PRF-85285Dに準拠するものが挙げられる。本発明によれば、トップコートは、PPG(Defthane(登録商標)ELT(商標)99GY001及び99W009)から入手可能なものなどの高性能トップコートであり得る。しかしながら、本開示を参照して当業者には理解されるように、他のトップコート及び高性能トップコートを本発明に使用することができる。 As noted above, the substrate of the present invention may also include a topcoat. As used herein, the term "topcoat" refers to a mixture of binders, which can be an organic or inorganic polymer or blend of polymers, typically at least one pigment and at least one solvent or mixture of solvents. and optionally at least one curing agent. A topcoat is usually a coating layer in a single or multilayer coating system whose outer surface is exposed to the atmosphere or environment and whose inner surface is in contact with another coating layer or polymeric substrate. Examples of suitable topcoats include those complying with MIL-PRF-85285D such as those available from PPG (Deft 03W127A and Deft 03GY292). According to the present invention, the topcoat can be a high performance topcoat such as those available from PPG (Defthane® ELT™ 99GY001 and 99W009). However, other topcoats and high performance topcoats can be used with the present invention, as will be understood by those skilled in the art with reference to this disclosure.

本発明によれば、金属基材はまた、セルフプライミングトップコート、又は強化セルフプライミングトップコートを含んでもよい。「基材への直接(direct to substrate)」又は「金属への直接(direct to metal)」コーティングとも呼ばれる「セルフプライミングトップコート」という用語は、有機又は無機系ポリマー又はポリマー、通常少なくとも1つの顔料のブレンドであることができ、任意選択的に少なくとも1つの溶媒又は溶媒混合物を含有でき、任意選択的に少なくとも1つの硬化剤を含有できるバインダの混合物を指す。「基材への直接強化コーティング」とも呼ばれる「強化セルフプライミングトップコート」という用語は、官能化フッ素化バインダの混合物、例えば他のバインダを有する全体又は部分的なフルオロエチレン-アルキルビニルエーテルを指し、これは有機若しくは無機系ポリマー又はポリマー、通常少なくとも1つの顔料のブレンドであることができ、任意選択的に少なくとも1つの溶媒又は溶媒混合物を含有でき、任意選択的に少なくとも1つの硬化剤を含有できる。セルフプライミングトップコートの例としては、TT-P-2756Aに準拠したものが挙げられる。セルフプライミングトップコートの例としては、PPGから入手可能なもの(03W169及び03GY369)が挙げられ、強化セルフプライミングトップコートの例としては、Defthane(登録商標)ELT(商標)/ESPT及びPPGから入手可能な製品コード番号97GY121が挙げられる。しかしながら、この開示を参照して当業者には理解されるように、他のセルフプライミングトップコート及び強化セルフプライミングトップコートを本発明によるコーティングシステムに使用することができる。 According to the present invention, the metal substrate may also include a self-priming topcoat, or an enhanced self-priming topcoat. The term "self-priming topcoat", also called "direct to substrate" or "direct to metal" coating, refers to an organic or inorganic polymer or polymers, usually at least one pigment , optionally containing at least one solvent or solvent mixture, and optionally containing at least one curing agent. The term "reinforced self-priming topcoat", also called "direct-to-substrate reinforced coating", refers to mixtures of functionalized fluorinated binders, such as wholly or partially fluoroethylene-alkyl vinyl ethers with other binders, which can be an organic or inorganic polymer or blend of polymers, usually at least one pigment, optionally containing at least one solvent or solvent mixture, and optionally containing at least one curing agent. Examples of self-priming topcoats include those complying with TT-P-2756A. Examples of self-priming topcoats include those available from PPG (03W169 and 03GY369) and examples of enhanced self-priming topcoats available from Defthane® ELT™/ESPT and PPG. product code number 97GY121. However, other self-priming topcoats and enhanced self-priming topcoats can be used in the coating system according to the present invention, as will be understood by those skilled in the art with reference to this disclosure.

本発明によれば、セルフプライミングトップコート及び強化セルフプライミングトップコートは、封止された基材に直接適用され得る。セルフプライミングトップコート及び強化セルフプライミングトップコートは、プライマー又はペイントフィルムなどの有機又は無機ポリマーコーティングに任意選択的に適用できる。セルフプライミングトップコート層及び強化セルフプライミングトップコートは、通常、単層又は多層コーティングシステムにおけるコーティング層であり、ここでコーティングの外面が大気又は環境に曝され、コーティングの内面が通常は基材又は任意のポリマーコーティング又はプライマーと接触している。 According to the present invention, self-priming topcoats and enhanced self-priming topcoats can be applied directly to the encapsulated substrate. Self-priming topcoats and enhanced self-priming topcoats can optionally be applied to organic or inorganic polymer coatings such as primers or paint films. Self-priming topcoat layers and enhanced self-priming topcoat layers are typically coating layers in single or multilayer coating systems where the outer surface of the coating is exposed to the atmosphere or environment and the inner surface of the coating is typically the substrate or optional of polymer coatings or primers.

本発明によれば、トップコート、セルフプライミングトップコート、及び強化セルフプライミングトップコートは、経時的に乾燥又は硬化する湿潤状態又は「完全に硬化されていない」状態のいずれかで(すなわち溶媒が蒸発する及び/又は化学反応がある)、封止基材に適用できる。コーティングは、自然に又は促進手段、例えば紫外線硬化系によって乾燥又は硬化して、フィルム又は「硬化した」塗料を形成することができる。コーティングはまた、接着剤などの半硬化状態又は完全硬化状態で適用することもできる。 According to the present invention, the topcoats, self-priming topcoats, and enhanced self-priming topcoats are prepared either in a wet or "uncured" state that dries or cures over time (i.e., when the solvent evaporates). and/or have a chemical reaction) can be applied to the sealing substrate. The coatings can dry or cure spontaneously or by accelerated means such as UV curing systems to form films or "cured" paints. Coatings can also be applied in a semi-cured or fully cured state, such as adhesives.

さらに、着色剤、及び所望により界面活性剤、湿潤剤又は触媒などの様々な添加剤をコーティング組成物(電着可能、粉末又は液体)に含めることができる。本明細書で使用される場合、用語「着色剤」は、色及び/又は他の不透明性及び/又は他の視覚効果を組成物に付与する任意の物質を意味する。着色剤の例としては、塗料業界で使用されているもの、及び/又はDry Color Manufacturers Association(DCMA)に列挙されているもの、並びに特殊効果組成物などの顔料、染料及びティント(tint)が挙げられる。一般に、着色剤は、所望の視覚的効果及び/又は色彩効果を付与するのに十分な量でコーティング組成物中に存在することができる。着色剤は、組成物の総重量に基づいて重量パーセントで、1~65重量%、例えば3~40重量%又は5~35重量%で含まれてもよい。 Additionally, various additives can be included in the coating composition (electrodepositable, powder or liquid) such as colorants and, optionally, surfactants, wetting agents or catalysts. As used herein, the term "colorant" means any substance that imparts color and/or other opacity and/or other visual effect to the composition. Examples of colorants include pigments, dyes and tints such as those used in the paint industry and/or those listed by the Dry Color Manufacturers Association (DCMA), as well as special effect compositions. be done. Generally, colorants can be present in the coating composition in an amount sufficient to impart the desired visual and/or color effect. Colorants may be included in weight percent based on the total weight of the composition, from 1 to 65 weight percent, such as from 3 to 40 weight percent or from 5 to 35 weight percent.

態様
従って以上のことから、本出願は、特に、それに限定されるものではないが、以下の態様1~24に関する。
Aspects Accordingly, in view of the foregoing, the present application is directed, in particular, but not by way of limitation, to aspects 1-24 below.

1.水性媒体中に二酸化炭素及びリチウムカチオンを含む組成物。 1. A composition comprising carbon dioxide and lithium cations in an aqueous medium.

2.二酸化炭素が気体、固体、又はそれらの組み合わせを含む、態様1に記載の組成物。 2. A composition according to aspect 1, wherein the carbon dioxide comprises a gas, a solid, or a combination thereof.

3.リチウムカチオンが処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)で存在する、態様1又は2のいずれか1つに記載の組成物。 3. 3. The composition according to any one of aspects 1 or 2, wherein the lithium cation is present in an amount (calculated as lithium cation) of from 5 ppm to 5500 ppm based on the total weight of the treatment composition.

4.pHが9.5~12.5である、態様1~3のいずれか1つに記載の組成物。 4. A composition according to any one of aspects 1-3, wherein the pH is between 9.5 and 12.5.

5.水酸化物をさらに含む態様1~4のいずれか1つに記載の組成物。 5. 5. The composition of any one of aspects 1-4, further comprising a hydroxide.

6.炭酸塩が処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25,000ppmの量(炭酸塩として計算)で存在する、態様1~5のいずれか1つに記載の組成物。 6. 6. The composition according to any one of aspects 1-5, wherein the carbonate is present in an amount (calculated as carbonate) of from 15 ppm to 25,000 ppm based on the total weight of the treatment composition.

7.以下を含む処理組成物を製造する方法であって: 7. A method of making a treatment composition comprising:

水性媒体中でリチウムカチオン及び二酸化炭素を合わせて、イン・サイチュで処理組成物を形成することを含み、前記処理組成物は処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5,500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)でリチウム及び処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25,000ppmの量(炭酸塩として計算)で炭酸塩を含む、
方法。
combining lithium cations and carbon dioxide in an aqueous medium to form a treatment composition in situ, said treatment composition containing an amount of 5 ppm to 5,500 ppm (lithium carbonate in an amount of 15 ppm to 25,000 ppm (calculated as carbonate) based on the total weight of lithium and the treatment composition (calculated as cation);
Method.

8.リチウムカチオンが炭酸リチウム、水酸化リチウム、又はそれらの組み合わせとして存在する、態様7に記載の処理組成物を製造する方法。 8. 8. A method of making a treatment composition according to aspect 7, wherein the lithium cation is present as lithium carbonate, lithium hydroxide, or a combination thereof.

9.二酸化炭素が気体、固体、又はそれらの組み合わせとして水性媒体に供給される、態様7又は8のいずれか1つに記載の処理組成物を製造する方法。 9. 9. A method of making a treatment composition according to any one of aspects 7 or 8, wherein the carbon dioxide is supplied to the aqueous medium as a gas, solid, or a combination thereof.

10.水性媒体に水酸化物を添加することを含む態様7~9のいずれか1つに記載の処理組成物を製造する方法。 10. A method of making a treatment composition according to any one of aspects 7-9 comprising adding a hydroxide to the aqueous medium.

11.水酸化物が水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又はそれらの組み合わせを含む、態様10に記載の処理組成物を製造する方法。 11. 11. A method of making a treatment composition according to aspect 10, wherein the hydroxide comprises lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or a combination thereof.

12.処理組成物のpHを9.5~12.5に調整することを含む態様7~11のいずれか1つに記載の処理組成物を製造する方法。 12. A method of making a treatment composition according to any one of aspects 7-11 comprising adjusting the pH of the treatment composition to 9.5-12.5.

13.態様7~12のいずれか1つに記載の方法に従って得られる処理組成物。 13. A treatment composition obtainable according to the method of any one of aspects 7-12.

14.炭酸リチウムを含む処理組成物から形成された処理浴を維持する方法であって、 14. A method of maintaining a processing bath formed from a processing composition comprising lithium carbonate, comprising:

浴を用いて基材の処理中及び/又は処理後に、浴のpHを9.5~12.5に、リチウムを処理浴の総重量に基づいて5ppm~5,500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)に、及び炭酸塩を処理浴の総重量に基づいて15ppm~25,000ppmの量(炭酸塩として計算)に維持するのに十分な量で、二酸化炭素及びリチウム塩の少なくとも1つを浴に供給すること
を含む、方法。
During and/or after treatment of the substrate with the bath, the pH of the bath is between 9.5 and 12.5, and lithium is added in an amount of 5 ppm to 5,500 ppm based on the total weight of the treatment bath (calculated as lithium cations). ) and at least one of carbon dioxide and a lithium salt to the bath in an amount sufficient to maintain the carbonate in an amount of 15 ppm to 25,000 ppm (calculated as carbonate) based on the total weight of the treatment bath. A method comprising providing.

15.リチウム塩が炭酸リチウム、水酸化リチウム、又はそれらの組み合わせを含む、態様14に記載の処理浴を維持する方法。 15. 15. The method of maintaining a treatment bath according to aspect 14, wherein the lithium salt comprises lithium carbonate, lithium hydroxide, or a combination thereof.

16.二酸化炭素が気体、固体、又はそれらの組み合わせとして浴に供給される、態様14又は15のいずれか1つに記載の処理浴を維持する方法。 16. 16. A method of maintaining a treatment bath according to any one of aspects 14 or 15, wherein carbon dioxide is supplied to the bath as a gas, solid, or a combination thereof.

17.水酸化物を浴に供給することを含む態様14~16のいずれか1つに記載の処理浴を維持する方法。 17. 17. A method of maintaining a treatment bath according to any one of aspects 14-16 comprising supplying hydroxide to the bath.

18.水酸化物が水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又はそれらの組み合わせを含む、態様17に記載の処理浴を維持する方法。 18. 18. The method of maintaining a treatment bath according to aspect 17, wherein the hydroxide comprises lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or combinations thereof.

19.処理浴のpH、処理浴中の炭酸塩の量、処理浴中のリチウムの量、又はそれらの組み合わせをモニターすることをさらに含む態様14~18のいずれか1つに記載の処理浴を維持する方法。 19. Maintaining the processing bath according to any one of aspects 14-18, further comprising monitoring the pH of the processing bath, the amount of carbonate in the processing bath, the amount of lithium in the processing bath, or a combination thereof. Method.

20.態様1~6又は13のいずれか1つの処理組成物で、又は態様14~19のいずれか1つの方法に従って維持された処理浴で処理された基材。 20. A substrate treated with the treatment composition of any one of aspects 1-6 or 13 or with a treatment bath maintained according to the method of any one of aspects 14-19.

21.炭酸リチウムを含む処理組成物から形成された処理浴を維持するためのシステムであって、 21. A system for maintaining a processing bath formed from a processing composition comprising lithium carbonate, comprising:

リチウム塩源;及び/又は a lithium salt source; and/or

二酸化炭素源;及び a carbon dioxide source; and

任意選択的に、水酸化物源
を含む、システム。
A system, optionally comprising a hydroxide source.

22.リチウム塩源が炭酸リチウム、水酸化リチウム、又はそれらの組み合わせを含む、態様21に記載の処理浴を維持するシステム。 22. 22. The system for maintaining a processing bath according to aspect 21, wherein the lithium salt source comprises lithium carbonate, lithium hydroxide, or a combination thereof.

23.二酸化炭素源が二酸化炭素を気体、固体、又はそれらの組み合わせとして含む、態様21又は22のいずれか1つに記載の処理浴を維持するためのシステム。 23. 23. The system for maintaining a treatment bath according to any one of aspects 21 or 22, wherein the carbon dioxide source comprises carbon dioxide as a gas, solid, or a combination thereof.

24.システムが水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又はそれらの組み合わせを含む水酸化物源を含む、態様21~23のいずれか1つに記載の処理浴を維持するためのシステム。 24. A system for maintaining a treatment bath according to any one of aspects 21-23, wherein the system comprises a hydroxide source comprising lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or combinations thereof.

本発明の特定の特徴が説明の目的で上記に記載されているが、処理組成物及びそれから形成される浴の詳細及び本明細書に開示される同じものを調製又は維持する方法の詳細の多数の変形が添付の特許請求の範囲の範囲から逸脱することなく、行うことができることは当業者にとって明らかである。 While specific features of the present invention have been set forth above for purposes of illustration, many of the details of the treatment composition and baths formed therefrom, and methods of preparing or maintaining the same disclosed herein, have been described. It will be apparent to those skilled in the art that modifications of can be made without departing from the scope of the appended claims.

以下の例は本発明を例示するものであり、本発明をそれらの詳細に限定するものと見なすべきではない。例中及び本明細書中のすべての部及び百分率は、他に示されない限り、重量による。

Figure 0007191010000002

Figure 0007191010000003
The following examples are illustrative of the invention and should not be construed as limiting the invention to their details. All parts and percentages in the examples and herein are by weight unless otherwise indicated.
example
Figure 0007191010000002

Figure 0007191010000003

例Aの洗浄剤/脱酸素剤組成物を調製するために使用した成分及びそれらの相対量を表3に与える。水酸化ナトリウム及びリン酸ナトリウムを、撹拌プレート(VWR、7×7 CER HOT/STIR)を用いて穏やかに機械的に撹拌しながら脱イオン水中に完全に溶解させた。次に、水酸化ナトリウム及びリン酸ナトリウムが完全に溶解したら、PVPを溶解するまで撹拌し、次にアラントインを添加し、溶解するまで撹拌し、次いでDMTDを添加し、溶解するまで撹拌した。DMTDが完全に溶解した後、Carbowet GA100を上記のように穏やかな機械的撹拌下で撹拌した。

Figure 0007191010000004
The ingredients and their relative amounts used to prepare the detergent/oxygen scavenger composition of Example A are provided in Table 3. Sodium hydroxide and sodium phosphate were completely dissolved in deionized water with gentle mechanical stirring using a stir plate (VWR, 7x7 CER HOT/STIR). Then when the sodium hydroxide and sodium phosphate were completely dissolved, the PVP was stirred until dissolved, then the allantoin was added and stirred until dissolved, then the DMTD was added and stirred until dissolved. After the DMTD was completely dissolved, the Carbowet GA100 was stirred under gentle mechanical agitation as above.
Figure 0007191010000004

例Bの転化コーティング処理組成物の溶液を調製するのに使用した成分及びそれらの量を表4に与える。硝酸セリウム、硝酸イットリウム及び塩化セリウム溶液を個々のカップに計量した。次いで、500グラムの脱イオン水を使用して、1,000グラムの脱イオン水を含有する容器に穏やかに撹拌しながら溶液を移した。残りの453グラムの水を添加し、過酸化水素を添加する前に均一性を確保するために溶液を10分間撹拌した。最終溶液を使用前に最低30分間撹拌した。

Figure 0007191010000005
The ingredients and their amounts used to prepare the solution of the conversion coating treatment composition of Example B are provided in Table 4. Cerium nitrate, yttrium nitrate and cerium chloride solutions were weighed into individual cups. 500 grams of deionized water was then used to transfer the solution to a container containing 1,000 grams of deionized water with gentle agitation. The remaining 453 grams of water was added and the solution was stirred for 10 minutes to ensure homogeneity before adding the hydrogen peroxide. The final solution was stirred for a minimum of 30 minutes before use.
Figure 0007191010000005

シーリング組成物を調製する際に、pHメーター(Accumet AB15、Fisher Scientific)及び単一接合電極(Ag/AgCl基準;Fisher Scientific)を使用して各例C~JのpHを測定し、pHメーター(Mettler Toledo、Seven2Go、モデルS2)及びダブルオープン(double open)接合電極(Mettler Toledo、Xerolyt(登録商標)ポリマー基準)を用いて各例K~OのpHを測定した。 In preparing the sealing compositions, the pH of each Example CJ was measured using a pH meter (Accumet AB15, Fisher Scientific) and a single junction electrode (Ag/AgCl reference; Fisher Scientific), and the pH meter ( A Mettler Toledo, Seven2Go, model S2) and a double open junction electrode (Mettler Toledo, Xerolyt® polymer reference) were used to measure the pH of each example K-O.

シーリング組成物例C及び例Kはそれぞれ、表5に示す成分を用いて、上記で記載されるように撹拌プレートを用いて穏やかに撹拌しながら炭酸リチウムを脱イオン水に溶解することにより調製した(VWR、7×7CER HOT/STIR)。例Cは11.52の最終pHを有していた。例Cは、比較例1(以下に記載)のパネルを処理するために使用された。例Kは11.14の最終pHを有していた。例Kは、比較例9(以下に記載)のパネルを処理するために使用された。 Sealing Compositions Example C and Example K were each prepared using the ingredients shown in Table 5 by dissolving lithium carbonate in deionized water with gentle stirring using a stir plate as described above. (VWR, 7x7 CER HOT/STIR). Example C had a final pH of 11.52. Example C was used to treat the panels of Comparative Example 1 (described below). Example K had a final pH of 11.14. Example K was used to treat the panels of Comparative Example 9 (described below).

シーリング組成物例D及び例Lはそれぞれ、表5に示す成分を用いて、上記で記載されるように撹拌プレートを用いて穏やかに撹拌しながら水酸化リチウムを脱イオン水に溶解することにより調製した。例Dは12.69の最終pH値を有していた。例Dを使用して、比較例2(以下に記載)のパネルを処理した。例Lは12.17の最終pH値を有していた。例Lを使用して、比較例10(以下に記載)のパネルを処理した。 Sealing Compositions Example D and Example L were each prepared using the ingredients shown in Table 5 by dissolving lithium hydroxide in deionized water with gentle stirring using a stir plate as described above. did. Example D had a final pH value of 12.69. Example D was used to treat the panels of Comparative Example 2 (described below). Example L had a final pH value of 12.17. Example L was used to treat the panels of Comparative Example 10 (described below).

比較例2に従ってパネルを処理するために例Dの組成物を含有する浴を使用した後、11.42の最終pH値が得られるまで例Dの組成物を含有する浴中に二酸化炭素ガスをバブリングすることによってシーリング組成物例Eを調製した。図1及び表5を参照のこと。例3のパネルを処理するために例Eを使用した(以下に記載)。 After using the bath containing the composition of Example D to treat a panel according to Comparative Example 2, carbon dioxide gas was passed into the bath containing the composition of Example D until a final pH value of 11.42 was obtained. A sealing composition example E was prepared by bubbling. See FIG. 1 and Table 5. Example E was used to treat the panels of Example 3 (described below).

例3に従ってパネルを処理するために例Eの組成物を含有する浴を使用した後、10.54の最終pH値が得られるまで例Eの組成物に追加の二酸化炭素ガスをバブリングすることによってシーリング組成物例Fを調製した。図1及び表5を参照のこと。例4のパネルを処理するために例Fを使用した(以下に記載)。 After using a bath containing the composition of Example E to treat a panel according to Example 3, by bubbling additional carbon dioxide gas through the composition of Example E until a final pH value of 10.54 was obtained. Sealing Composition Example F was prepared. See FIG. 1 and Table 5. Example F was used to treat the panels of Example 4 (described below).

例4に従ってパネルを処理するために例Fの組成物を含有する浴を使用した後、9.47の最終pH値が得られるまで例Fの組成物に追加の二酸化炭素ガスをバブリングすることによってシーリング組成物例Gを調製した。図1及び表5を参照のこと。例5のパネルを処理するために例Gを使用した(以下に記載)。 After using a bath containing the composition of Example F to treat a panel according to Example 4, by bubbling additional carbon dioxide gas through the composition of Example F until a final pH value of 9.47 was obtained. Sealing Composition Example G was prepared. See FIG. 1 and Table 5. Example G was used to treat the panels of Example 5 (described below).

例5に従ってパネルを処理するために例Gの組成物を含有する浴を使用した後、10.47の最終pH値が得られるまで例Gの組成物に5%の水酸化リチウム溶液を添加することによってシーリング組成物例Hを調製した。図1及び表5を参照のこと。例6のパネルを処理するために例Hを使用した(以下に記載)。 After using the bath containing the composition of Example G to treat panels according to Example 5, 5% lithium hydroxide solution is added to the composition of Example G until a final pH value of 10.47 is obtained. Sealing Composition Example H was prepared by See FIG. 1 and Table 5. Example H was used to treat the panels of Example 6 (described below).

例6に従って例Hの組成物を含有する浴を使用した後、11.48の最終pH値が得られるまで例Hの組成物に5%の水酸化リチウム溶液を添加することによってシーリング組成物例Iを調製した。図1及び表5を参照のこと。例7のパネルを処理するために例Iを使用した(以下に記載)。 After using the bath containing the composition of Example H according to Example 6, the sealing composition example was prepared by adding 5% lithium hydroxide solution to the composition of Example H until a final pH value of 11.48 was obtained. I was prepared. See FIG. 1 and Table 5. Example I was used to treat the panels of Example 7 (described below).

例7に従って例Iの組成物を含有する浴を使用した後、12.47の最終pH値が得られるまで例Iの組成物に5%の水酸化リチウム溶液を添加することによってシーリング組成物例Jを調製した。図1及び表5を参照のこと。例8のパネルを処理するために例Jを使用した(以下に記載)。 After using the bath containing the composition of Example I according to Example 7, the sealing composition example was prepared by adding 5% lithium hydroxide solution to the composition of Example I until a final pH value of 12.47 was obtained. J was prepared. See FIG. 1 and Table 5. Example J was used to treat the panels of Example 8 (described below).

比較例10に従ってパネルを処理するために例Lの組成物を含有する浴を使用した後、11.37の最終pH値が得られるまで例Lの組成物を含有する浴中に二酸化炭素ガスをバブリングすることによってシーリング組成物例Mを調製した。図2及び表5を参照のこと。例11のパネルを処理するために例Mを使用した(以下に記載)。 After using the bath containing the composition of Example L to treat a panel according to Comparative Example 10, carbon dioxide gas was passed into the bath containing the composition of Example L until a final pH value of 11.37 was obtained. Sealing Composition Example M was prepared by bubbling. See FIG. 2 and Table 5. Example M was used to treat the panels of Example 11 (described below).

例11に従ってパネルを処理するために例Mの組成物を含有する浴を使用した後、9.5の最終pH値が得られるまで例Mの組成物に追加の二酸化炭素ガスをバブリングすることによってシーリング組成物例Nを調製した。図2及び表5を参照のこと。例12のパネルを処理するために例Nを使用した(以下に記載)。 After using a bath containing the composition of Example M to treat a panel according to Example 11, by bubbling additional carbon dioxide gas through the composition of Example M until a final pH value of 9.5 was obtained. Sealing Composition Example N was prepared. See FIG. 2 and Table 5. Example N was used to treat the panels of Example 12 (described below).

例12に従って例Nの組成物を含有する浴を使用した後、11.37の最終pH値が得られるまで例Nの組成物に5%の水酸化リチウム溶液を添加することによってシーリング組成物例Oを調製した。図2及び表5を参照のこと。例13のパネルを処理するために例Oを使用した(以下に記載)。 After using the bath containing the composition of Example N in accordance with Example 12, the example sealing composition was prepared by adding 5% lithium hydroxide solution to the composition of Example N until a final pH value of 11.37 was obtained. O was prepared. See FIG. 2 and Table 5. Example O was used to treat the panels of Example 13 (described below).

パネルの調製
比較例1
3インチ×5インチ×0.032インチの大きさのアルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CAから得られる)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸し、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Cに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。
Panel preparation Comparative example 1
A 3 inch by 5 inch by 0.032 inch aluminum 2024T3 untreated substrate (obtained from Priority Metals, Orange County, Calif.) was manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and allowed to air dry prior to chemical cleaning. rice field. The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then immersed in deionized water at ambient temperature for 2 minutes with intermittent agitation, followed by a 10 second continuous deionized water rinse. The panel was then immersed in Sealing Composition Example C for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

比較例2
3インチ×5インチ×0.032インチの大きさのアルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CAから得られる)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸し、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Dに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。
Comparative example 2
A 3 inch by 5 inch by 0.032 inch aluminum 2024T3 untreated substrate (obtained from Priority Metals, Orange County, Calif.) was manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and allowed to air dry prior to chemical cleaning. rice field. The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then immersed in deionized water at ambient temperature for 2 minutes with intermittent agitation, followed by a 10 second continuous deionized water rinse. The panel was then immersed in Sealing Composition Example D for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

例3
比較例2からのパネルを例Dのシール溶液を通して処理した後、pHが11.42になるまで二酸化炭素ガスを浴中にバブリングすることにより浴のpHを調整した(すなわち、上記で記載されるように例Eを形成するため)。図1を参照のこと。
Example 3
After treating the panel from Comparative Example 2 through the sealing solution of Example D, the pH of the bath was adjusted by bubbling carbon dioxide gas into the bath until the pH was 11.42 (i.e. to form example E). See FIG.

次に、3インチ×5インチ×0.032インチの大きさの追加アルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CA)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸し、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Eに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。 An additional aluminum 2024T3 untreated substrate (Priority Metals, Orange County, Calif.) measuring 3″×5″×0.032″ was then manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and air dried prior to chemical cleaning. let me The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then immersed in deionized water at ambient temperature for 2 minutes with intermittent agitation, followed by a 10 second continuous deionized water rinse. The panel was then immersed in Sealing Composition Example E for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

例4
パネルを例Eのシール溶液を通して処理した後、pHが10.54になるまで二酸化炭素ガスを浴中にバブリングすることにより浴のpHを調整した(すなわち、上記で記載されるように例Fを形成するため)。図1を参照のこと。
Example 4
After the panels were treated through the sealing solution of Example E, the pH of the bath was adjusted by bubbling carbon dioxide gas through the bath until the pH was 10.54 (i.e., treating Example F as described above. to form). See FIG.

次に、3インチ×5インチ×0.032インチの大きさの追加アルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CA)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸し、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Fに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。 An additional aluminum 2024T3 untreated substrate (Priority Metals, Orange County, Calif.) measuring 3″×5″×0.032″ was then manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and air dried prior to chemical cleaning. let me The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then immersed in deionized water at ambient temperature for 2 minutes with intermittent agitation, followed by a 10 second continuous deionized water rinse. The panel was then immersed in Sealing Composition Example F for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

例5
パネルを例Fのシール溶液を通して処理した後、pHが9.47になるまで二酸化炭素ガスを浴中にバブリングすることにより浴のpHを調整した(すなわち、上記で記載されるように例Gを形成するため)。図1を参照のこと。
example 5
After the panels were treated through the sealing solution of Example F, the pH of the bath was adjusted by bubbling carbon dioxide gas through the bath until the pH was 9.47 (i.e., treating Example G as described above. to form). See FIG.

次に、3インチ×5インチ×0.032インチの大きさの追加アルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CA)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸し、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Gに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。 An additional aluminum 2024T3 untreated substrate (Priority Metals, Orange County, Calif.) measuring 3″×5″×0.032″ was then manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and air dried prior to chemical cleaning. let me The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then immersed in deionized water at ambient temperature for 2 minutes with intermittent agitation, followed by a 10 second continuous deionized water rinse. The panel was then immersed in Sealing Composition Example G for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

例6
パネルを例Gのシール溶液を通して処理した後、浴のpHを上記で記載されるように水酸化リチウム溶液を用いて調整した(すなわち、上記で記載されるように例Hを形成するため)。図1を参照のこと。
Example 6
After processing the panel through the sealing solution of Example G, the pH of the bath was adjusted with lithium hydroxide solution as described above (ie, to form Example H as described above). See FIG.

次に、3インチ×5インチ×0.032インチの大きさの追加アルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CA)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸リンスによって、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Hに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。 An additional aluminum 2024T3 untreated substrate (Priority Metals, Orange County, Calif.) measuring 3″×5″×0.032″ was then manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and air dried prior to chemical cleaning. let me The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then rinsed with an immersion rinse in deionized water for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation, followed by a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Sealing Composition Example H for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

例7
パネルを例Hのシール溶液を通して処理した後、浴のpHを上記で記載されるように水酸化リチウム溶液を用いて調整した(すなわち、上記で記載されるように例Iを形成するため)。図1を参照のこと。
Example 7
After the panel was processed through the sealing solution of Example H, the pH of the bath was adjusted with lithium hydroxide solution as described above (ie, to form Example I as described above). See FIG.

次に、3インチ×5インチ×0.032インチの大きさの追加アルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CA)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸リンスによって、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Iに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。 An additional aluminum 2024T3 untreated substrate (Priority Metals, Orange County, Calif.) measuring 3″×5″×0.032″ was then manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and air dried prior to chemical cleaning. let me The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then rinsed with an immersion rinse in deionized water for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation, followed by a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Sealing Composition Example I for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

例8
パネルを例Iのシール溶液を通して処理した後、浴のpHを上記で記載されるように水酸化リチウム溶液を用いて調整した(すなわち、上記で記載されるように例Iを形成するため)。図1を参照のこと。
Example 8
After the panel was processed through the sealing solution of Example I, the pH of the bath was adjusted with lithium hydroxide solution as described above (ie, to form Example I as described above). See FIG.

次に、3インチ×5インチ×0.032インチの大きさの追加アルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CA)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸し、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Jに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。 An additional aluminum 2024T3 untreated substrate (Priority Metals, Orange County, Calif.) measuring 3″×5″×0.032″ was then manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and air dried prior to chemical cleaning. let me The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then immersed in deionized water at ambient temperature for 2 minutes with intermittent agitation, followed by a 10 second continuous deionized water rinse. The panel was then immersed in Sealing Composition Example J for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

比較例9
3インチ×5インチ×0.032インチの大きさのアルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CAから得られる)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸し、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Kに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。
Comparative example 9
A 3 inch by 5 inch by 0.032 inch aluminum 2024T3 untreated substrate (obtained from Priority Metals, Orange County, Calif.) was manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and allowed to air dry prior to chemical cleaning. rice field. The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then immersed in deionized water at ambient temperature for 2 minutes with intermittent agitation, followed by a 10 second continuous deionized water rinse. The panel was then immersed in Sealing Composition Example K for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

比較例10
3インチ×5インチ×0.032インチの大きさのアルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CAから得られる)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸し、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Lに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。
Comparative example 10
A 3 inch by 5 inch by 0.032 inch aluminum 2024T3 untreated substrate (obtained from Priority Metals, Orange County, Calif.) was manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and allowed to air dry prior to chemical cleaning. rice field. The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then immersed in deionized water at ambient temperature for 2 minutes with intermittent agitation, followed by a 10 second continuous deionized water rinse. The panel was then immersed in Sealing Composition Example L for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

例11
比較例10からのパネルを例Lのシール溶液を通して処理した後、pHが11.37になるまで二酸化炭素ガスを浴中にバブリングすることにより浴のpHを調整した(すなわち、上記で記載されるように例Mを形成するため)。図2を参照のこと。
Example 11
After treating the panel from Comparative Example 10 through the sealing solution of Example L, the pH of the bath was adjusted by bubbling carbon dioxide gas into the bath until the pH was 11.37 (i.e. to form example M). See FIG.

次に、3インチ×5インチ×0.032インチの大きさの追加アルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CA)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸し、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Mに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。 An additional aluminum 2024T3 untreated substrate (Priority Metals, Orange County, Calif.) measuring 3″×5″×0.032″ was then manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and air dried prior to chemical cleaning. let me The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then immersed in deionized water at ambient temperature for 2 minutes with intermittent agitation, followed by a 10 second continuous deionized water rinse. The panel was then immersed in Sealing Composition Example M for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

例12
パネルを例Mのシール溶液を通して処理した後、pHが9.50になるまで二酸化炭素ガスを浴中にバブリングすることにより浴のpHを調整した(すなわち、上記で記載されるように例Nを形成するため)。図2を参照のこと。
Example 12
After the panels were treated through the sealing solution of Example M, the pH of the bath was adjusted by bubbling carbon dioxide gas through the bath until the pH was 9.50 (i.e., treating Example N as described above). to form). See FIG.

次に、3インチ×5インチ×0.032インチの大きさの追加アルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CA)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸し、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Nに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。 An additional aluminum 2024T3 untreated substrate (Priority Metals, Orange County, Calif.) measuring 3″×5″×0.032″ was then manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and air dried prior to chemical cleaning. let me The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then immersed in deionized water at ambient temperature for 2 minutes with intermittent agitation, followed by a 10 second continuous deionized water rinse. The panel was then immersed in Sealing Composition Example N for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

例13
パネルを例Nのシール溶液を通して処理した後、浴のpHを上記で記載されるように水酸化リチウム溶液を用いて調整した(すなわち、上記で記載されるように例Oを形成するため)。図2を参照のこと。
Example 13
After processing the panel through the sealing solution of Example N, the pH of the bath was adjusted with lithium hydroxide solution as described above (i.e., to form Example O as described above). See FIG.

次に、3インチ×5インチ×0.032インチの大きさの追加アルミニウム2024T3未処理基材(Priority Metals,Orange County,CA)をメチルエチルケトン及び使い捨て布で手動で拭き、化学洗浄の前に空気乾燥させた。パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で3.5分間、洗剤-脱酸素剤組成物例Aに含浸した。次いで、パネルを、2回の後続脱イオン水リンスに、それぞれ2分間、両方とも間欠的に撹拌しながら周囲温度で含浸した。2回目のリンスの後、パネルを連続的脱イオン水リンスで10秒間すすいだ。次いで、パネルを撹拌せずに周囲温度で5分間、転化組成物例Bに含浸した。次に、パネルを、間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間脱イオン水中に含浸リンスによって、続いて10秒間連続的脱イオン水リンスによってすすいだ。次いでパネルを間欠的に撹拌しながら周囲温度で2分間シーリング組成物例Oに含浸した。パネルを周囲条件で一晩空気乾燥した後、以下に記載されるように腐食試験を行った。 An additional aluminum 2024T3 untreated substrate (Priority Metals, Orange County, Calif.) measuring 3″×5″×0.032″ was then manually wiped with methyl ethyl ketone and a disposable cloth and air dried prior to chemical cleaning. let me The panels were soaked in detergent-oxygen scavenger composition Example A for 3.5 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. The panel was then immersed in two subsequent deionized water rinses for 2 minutes each, both with intermittent agitation, at ambient temperature. After the second rinse, the panel was rinsed with a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in Conversion Composition Example B for 5 minutes at ambient temperature without agitation. The panel was then rinsed with an immersion rinse in deionized water for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation, followed by a continuous deionized water rinse for 10 seconds. The panel was then immersed in sealing composition Example O for 2 minutes at ambient temperature with intermittent agitation. After the panels were air dried overnight at ambient conditions, corrosion testing was performed as described below.

腐食試験
例1~8からのパネルを、ASTM B117に従って作動させた中性塩噴霧キャビネット内において7日間暴露した。7日間の暴露後にパネル上の肉眼で見えるピットの数を数えることによって腐食性能を評価した。テストの前に存在していた、端にある、又はスクラッチから生じたピットはカウントから除外された。腐食性能データを表6に報告する。
Corrosion Testing Panels from Examples 1-8 were exposed for 7 days in a neutral salt spray cabinet operated according to ASTM B117. Corrosion performance was evaluated by counting the number of visible pits on the panels after 7 days of exposure. Any pits that were present prior to testing, on the edge, or resulting from scratches were excluded from the count. Corrosion performance data are reported in Table 6.

例9~13からの浴を、自動滴定法(Metrohm 799 GPT Titrino,Tiamo 2.3のソフトウェア)を用いて炭酸リチウム含有量について評価した。以下の式を使用して、%LiCO及び%COを計算した:
%LiCO=[(EP3での体積-EP2での体積)×MW LiCO×HCl濃度×100]/(SW×1000)及び
%CO=[(EP3での体積-EP2での体積)×MW CO×HCl濃度×100]/(SW×1000)、ここで、EP2は第2のエンドポイントで、EP3は第3のエンドポイントである。HCl濃度(N)は0.1012であった。
The baths from Examples 9-13 were evaluated for lithium carbonate content using an automatic titration method (Metrohm 799 GPT Titrino, Tiamo 2.3 software). % Li2CO3 and % CO3 were calculated using the following formulas:
% Li 2 CO 3 = [(volume at EP3−volume at EP2)×MW Li 2 CO 3 ×HCl concentration×100]/(SW×1000) and %CO 3 =[(volume at EP3−volume at EP2 volume) x MW CO3 x HCl concentration x 100]/(SW x 1000), where EP2 is the second endpoint and EP3 is the third endpoint. HCl concentration (N) was 0.1012.

表6に報告されているように、これらの値を用いて例9~13のシーリング組成物を含有する浴中の炭酸塩の量を計算した。

Figure 0007191010000006
These values were used to calculate the amount of carbonate in baths containing the sealing compositions of Examples 9-13, as reported in Table 6.
Figure 0007191010000006

比較例1及び9は、炭酸リチウムから製造された組成物を含有する処理浴を示す。これらの例は炭酸リチウムから製造された組成物を含有するそのような処理浴のpHを示し、比較例9はまた処理浴中の炭酸リチウム及び炭酸塩の量を示した。比較例1の処理浴のpHは11.52であり、塩噴霧暴露後に処理パネル上に5個のピットがあった。比較例9の処理浴は11.14のpHを有し、0.154%の炭酸リチウム及び1248ppmの炭酸塩を含有していた。 Comparative Examples 1 and 9 represent treatment baths containing compositions made from lithium carbonate. These examples show the pH of such treatment baths containing compositions made from lithium carbonate, and Comparative Example 9 also shows the amount of lithium carbonate and carbonate in the treatment bath. The pH of the treatment bath of Comparative Example 1 was 11.52 and there were 5 pits on the treatment panel after salt spray exposure. The treatment bath of Comparative Example 9 had a pH of 11.14 and contained 0.154% lithium carbonate and 1248 ppm carbonate.

比較例2及び10は、水酸化リチウムから製造された組成物を含有する処理浴を示した。特に、例Dにおけるリチウムの量(比較例2を製造するために使用)は、例Cのリチウム(比較例1を製造するために使用)の量(リチウム0.081モル)と同じであった。比較例2の処理浴のpHは12.69であり、塩噴霧暴露後に処理されたパネル上に100を超えるピットがあった。比較例10の処理浴は12.17のpHを有し、48ppmの炭酸塩のみを含有した。理論に拘束されることを望まないが、比較例10の処理浴中に存在する炭酸塩は、COのCO3-への転化の結果であると仮定される。これらのデータは、十分な炭酸塩が存在しない場合、リチウムが処理浴で処理された金属基材に対して防食を提供しないことを示している。 Comparative Examples 2 and 10 showed treatment baths containing compositions made from lithium hydroxide. Specifically, the amount of lithium in Example D (used to make Comparative Example 2) was the same as the amount of lithium in Example C (used to make Comparative Example 1) (0.081 moles of lithium). . The pH of the treatment bath of Comparative Example 2 was 12.69 and there were over 100 pits on the treated panel after salt spray exposure. The treatment bath of Comparative Example 10 had a pH of 12.17 and contained 48 ppm carbonate only. While not wishing to be bound by theory, it is hypothesized that the carbonate present in the treatment bath of Comparative Example 10 is the result of conversion of CO2 to CO3- . These data indicate that lithium does not provide corrosion protection to metal substrates treated in the treatment bath unless sufficient carbonate is present.

例3は、処理浴中にCOをバブリングすることによって、pHを比較例1に匹敵する範囲まで下げることができると同時に、処理パネル上のピットの数を6まで減少させることを示した。例11によって示されるように、COを添加する前に、微量の炭酸リチウムのみを有する浴中でCOを使用して炭酸リチウムを形成することもできる。 Example 3 showed that by bubbling CO2 into the treatment bath, the pH could be lowered to a range comparable to Comparative Example 1 while reducing the number of pits on the treated panel to 6. As demonstrated by Example 11, CO2 can also be used to form lithium carbonate in a bath with only traces of lithium carbonate prior to the addition of CO2 .

例4、5、及び12はまた、追加量のCOを処理浴中にバブリングすることでpHを低下させることを示したが、これらの例は、比較例1(11.52のpHを有し、処理パネル上に5個のピットを有していた)と比較して、及び例3(11.42のpHを有し、処理パネル上に6個のピットを有していた)と比較して、処理浴のpHが低下するにつれて、塩噴霧暴露後に処理パネル上の腐食ピットがますます増加する傾向を示す(すなわち、例4及び5で処理されたパネルはそれぞれpH10.54及び9.47において10及び18個のピットを有していた)。例12によって示されるように、処理浴中に1960ppmの炭酸塩が存在した。これらのデータは、炭酸リチウムを含有する浴中では、pHが腐食性能にとって重要であることを示している。 Examples 4, 5, and 12 also showed lowering the pH by bubbling additional amounts of CO2 into the treatment bath, but these examples are comparable to Comparative Example 1 (which has a pH of 11.52). and had 5 pits on the treated panel) and to Example 3 (had a pH of 11.42 and had 6 pits on the treated panel). As a result, as the pH of the treatment bath decreases, there is a tendency for more and more corrosion pits on the treated panels after salt spray exposure (i.e., panels treated with Examples 4 and 5 have pHs of 10.54 and 9.0, respectively). 47 had 10 and 18 pits). As shown by Example 12, 1960 ppm carbonate was present in the treatment bath. These data indicate that pH is important for corrosion performance in baths containing lithium carbonate.

例6、7、及び13は、例6で処理されたパネルが14ピットを有していたのに対し、例7で処理されたパネルは3ピットを有していたので、pHをそれぞれ10.47及び11.48に増加させるためのLiOHの添加が腐食性能を改善したことを示した。 Examples 6, 7, and 13 each had a pH of 10.00, since the panel treated with Example 6 had 14 pits while the panel treated with Example 7 had 3 pits. Addition of LiOH to increase to 47 and 11.48 showed improved corrosion performance.

例8は、炭酸塩レベルが十分であってもpHを12.5に上げると腐食性能が損なわれることを示したが、ここで処理パネルは39個の腐食部位を有しており、炭酸リチウムを含まず、100個を超えるピットを有する比較例2と比較して改善はあり、炭酸リチウムを浴に添加しなかった。 Example 8 showed that even with sufficient carbonate levels, increasing the pH to 12.5 impairs corrosion performance, where the treated panel had 39 corrosion sites and lithium carbonate No lithium carbonate was added to the bath, an improvement compared to Comparative Example 2, which did not contain and had more than 100 pits.

例は、耐食性に関してpH、リチウム濃度、及び炭酸塩濃度の相互作用を示している。 Examples show the interaction of pH, lithium concentration, and carbonate concentration on corrosion resistance.

Claims (20)

炭酸リチウムを含有する処理組成物を製造する方法であって:
水性媒体中でリチウムカチオン及び二酸化炭素源を合わせて、前記処理組成物を形成することを含み、前記処理組成物が、前記処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5500ppmの量(リチウムカチオンで計算)のリチウムカチオン、及び前記処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25000ppmの量(炭酸塩として計算)の炭酸塩を含み、pHが9.5~11.5であり、前記処理組成物が含む酸化剤の量が、前記処理組成物の総重量に基づいて5ppm以下である、
方法。
A method of making a treatment composition containing lithium carbonate , comprising:
combining a lithium cation and a carbon dioxide source in an aqueous medium to form the treatment composition, wherein the treatment composition contains an amount of 5 ppm to 5500 ppm (in terms of lithium cations) based on the total weight of the treatment composition; of lithium cations (calculated) and carbonate in an amount (calculated as carbonate) of from 15 ppm to 25000 ppm based on the total weight of the treatment composition and having a pH of from 9.5 to 11.5. contains 5 ppm or less of oxidizing agent, based on the total weight of the treatment composition;
Method.
二酸化炭素以外の酸を前記処理組成物に添加することをさらに含む請求項1に記載の方法。 2. The method of claim 1, further comprising adding an acid other than carbon dioxide to the treatment composition. 前記リチウムカチオンが炭酸リチウム、水酸化リチウム、又はそれらの組み合わせを含む塩として存在する、請求項1に記載の方法。 2. The method of claim 1, wherein the lithium cation is present as a salt comprising lithium carbonate, lithium hydroxide, or combinations thereof. 水酸化物源を前記水性媒体に添加することをさらに含む請求項1に記載の方法。 2. The method of claim 1, further comprising adding a hydroxide source to said aqueous medium. 前記水酸化物源が水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又はそれらの組み合わせを含む、請求項に記載の方法。 5. The method of claim 4 , wherein the hydroxide source comprises lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or combinations thereof. 前記二酸化炭素源が気体、固体、又はそれらの組み合わせを含む、請求項1に記載の方法。 2. The method of claim 1, wherein the carbon dioxide source comprises gas, solid, or a combination thereof. 処理された基材を製造する方法であって、請求項1に記載の方法によって製造された処理組成物で基材を処理することを含む、方法。 A method of making a treated substrate, comprising treating the substrate with a treatment composition made by the method of claim 1 . 炭酸リチウムを含有する処理組成物を含有する処理浴中の炭酸塩レベルを維持するためのシステムであって:
リチウム源の供給源;及び/又は
二酸化炭素源の供給源;及び
任意選択的に、水酸化物源の供給源
を含み、
前記処理組成物のpH9.5~11.5に、リチウムを前記処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)に、及び炭酸塩を前記処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25000ppmの量(炭酸塩として計算)に維持するのに十分な量で二酸化炭素源及びリチウム源のうちの少なくとも1つを前記浴に供給すること
を含むシステム。
A system for maintaining carbonate levels in a treatment bath containing a treatment composition containing lithium carbonate, comprising:
a source of a lithium source ; and/or a source of a carbon dioxide source ; and optionally a source of a hydroxide source ;
including
The pH of the treatment composition is between 9.5 and 11.5 , lithium in an amount of 5 ppm to 5500 ppm (calculated as lithium cations) based on the total weight of the treatment composition, and carbonate in the treatment composition. supplying at least one of a carbon dioxide source and a lithium source to said bath in an amount sufficient to maintain an amount (calculated as carbonate) of 15 ppm to 25000 ppm based on total weight;
system including .
前記リチウムが炭酸リチウム、水酸化リチウム、又はそれらの組み合わせを含む、請求項8に記載のシステム。 9. The system of claim 8, wherein the lithium source comprises lithium carbonate, lithium hydroxide, or combinations thereof. 前記二酸化炭素源が気体、固体、又はそれらの組み合わせを含む、請求項8に記載のシステム。 9. The system of Claim 8, wherein the carbon dioxide source comprises a gas, a solid, or a combination thereof. 前記水酸化物源が水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又はそれらの組み合わせを含む、請求項8に記載のシステム。 9. The system of claim 8, wherein the hydroxide source comprises lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or combinations thereof. 処理された基材を製造する方法であって、請求項8に記載のシステムに従って維持された浴において処理組成物で基材を処理することを含む、方法。 9. A method of manufacturing a treated substrate, comprising treating the substrate with a treatment composition in a bath maintained according to the system of claim 8. 炭酸リチウムを含有する処理組成物を含む処理浴中の炭酸塩レベルを維持するための方法であって:
前記処理組成物のpHを9.5~11.5に、リチウムを前記処理組成物の総重量に基づいて5ppm~5500ppmの量(リチウムカチオンとして計算)に、及び炭酸塩を前記処理組成物の総重量に基づいて15ppm~25000ppmの量(炭酸塩として計算)に維持するのに十分な量で二酸化炭素源及びリチウム源のうちの少なくとも1つを前記浴に供給すること
を含む方法。
A method for maintaining carbonate levels in a treatment bath comprising a treatment composition containing lithium carbonate, comprising:
The pH of the treatment composition is between 9.5 and 11.5, lithium in an amount of 5 ppm to 5500 ppm (calculated as lithium cations) based on the total weight of the treatment composition, and carbonate in the treatment composition. supplying at least one of a carbon dioxide source and a lithium source to said bath in an amount sufficient to maintain an amount (calculated as carbonate) of 15 ppm to 25000 ppm based on total weight.
前記二酸化炭素源が気体、固体、又はそれらの組み合わせを含む、請求項13に記載の方法。 14. The method of claim 13, wherein the carbon dioxide source comprises gas, solid, or a combination thereof. 前記リチウム源が炭酸リチウム、水酸化リチウム、又はそれらの組み合わせを含む、請求項13に記載の方法。 14. The method of claim 13, wherein the lithium source comprises lithium carbonate, lithium hydroxide, or combinations thereof. 水酸化物源を前記浴に供給することをさらに含む請求項13に記載の方法。 14. The method of claim 13, further comprising supplying a hydroxide source to said bath. 前記供給後の前記処理浴中の炭酸リチウムの量が前記処理組成物の総重量に基づいて25ppm~30000ppm(総化合物として計算)である、請求項13に記載の方法。 14. The method of claim 13, wherein the amount of lithium carbonate in said treatment bath after said feeding is from 25 ppm to 30000 ppm (calculated as total compounds) based on the total weight of said treatment composition. 前記処理浴のpH、前記処理浴中の炭酸塩の量、前記処理浴中のリチウムの量、又はそれらの組み合わせをモニターすることをさらに含む請求項13に記載の方法。 14. The method of claim 13, further comprising monitoring the pH of the processing bath, the amount of carbonate in the processing bath, the amount of lithium in the processing bath, or a combination thereof. 二酸化炭素以外の酸を前記処理浴に添加することをさらに含む請求項13に記載の方法。 14. The method of claim 13, further comprising adding an acid other than carbon dioxide to the treatment bath. 処理された基材を製造する方法であって、請求項13に記載の方法に従って維持された浴中において処理組成物で基材を処理することを含む、方法。 14. A method of making a treated substrate, comprising treating the substrate with a treatment composition in a bath maintained according to the method of claim 13.
JP2019507259A 2016-08-12 2017-08-14 Systems and methods for preparing processing compositions and maintaining processing baths formed therefrom Active JP7191010B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021073793A JP2021130605A (en) 2016-08-12 2021-04-26 Preparation of treatment composition and system and method of maintaining treatment bath formed therefrom

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201662374188P 2016-08-12 2016-08-12
US62/374,188 2016-08-12
US201762526382P 2017-06-29 2017-06-29
US62/526,382 2017-06-29
PCT/US2017/046705 WO2018031985A1 (en) 2016-08-12 2017-08-14 Preparation of treatment composition and system and method of maintaining a treatment bath formed therefrom

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021073793A Division JP2021130605A (en) 2016-08-12 2021-04-26 Preparation of treatment composition and system and method of maintaining treatment bath formed therefrom

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019524628A JP2019524628A (en) 2019-09-05
JP7191010B2 true JP7191010B2 (en) 2022-12-16

Family

ID=59762041

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019507259A Active JP7191010B2 (en) 2016-08-12 2017-08-14 Systems and methods for preparing processing compositions and maintaining processing baths formed therefrom
JP2021073793A Pending JP2021130605A (en) 2016-08-12 2021-04-26 Preparation of treatment composition and system and method of maintaining treatment bath formed therefrom

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021073793A Pending JP2021130605A (en) 2016-08-12 2021-04-26 Preparation of treatment composition and system and method of maintaining treatment bath formed therefrom

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20190177855A1 (en)
EP (1) EP3497265A1 (en)
JP (2) JP7191010B2 (en)
KR (3) KR20190039559A (en)
CN (1) CN109642327A (en)
AU (1) AU2017308214B2 (en)
CA (1) CA3031758C (en)
RU (1) RU2721259C1 (en)
WO (1) WO2018031985A1 (en)

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5266356A (en) * 1991-06-21 1993-11-30 The Center For Innovative Technology Method for increasing the corrosion resistance of aluminum and aluminum alloys
JPH08217438A (en) * 1995-02-13 1996-08-27 Nippon Chem Ind Co Ltd Production of lithium carbonate
JP3657733B2 (en) * 1997-04-16 2005-06-08 株式会社神戸製鋼所 Surface-treated film-coated member having excellent corrosion resistance and method for forming surface-treated film
US6797387B2 (en) 2000-09-21 2004-09-28 Ppg Industries Ohio Inc. Modified aminoplast crosslinkers and powder coating compositions containing such crosslinkers
US7091286B2 (en) 2002-05-31 2006-08-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Low-cure powder coatings and methods for using the same
JP4080381B2 (en) * 2003-06-19 2008-04-23 日本パーカライジング株式会社 Surface treatment composition of aluminum and aluminum alloy
US8323470B2 (en) 2007-08-15 2012-12-04 Ppg Industries Ohio, Inc. Electrodeposition coatings for use over aluminum substrates
JP2009140909A (en) * 2007-11-13 2009-06-25 Sanyo Electric Co Ltd Method for manufacturing cathode for nonaqueous electrolyte secondary battery, and method for manufacturing nonaqueous electrolyte secondary battery
JP5269186B2 (en) * 2008-04-22 2013-08-21 ロックウッド・リチウム・インコーポレイテッド Method for producing high purity lithium hydroxide and hydrochloric acid
CA2875335C (en) * 2012-06-08 2019-04-30 Prc-Desoto International, Inc. Indicator coatings for metal surfaces

Also Published As

Publication number Publication date
US20190177855A1 (en) 2019-06-13
WO2018031985A1 (en) 2018-02-15
KR20210148411A (en) 2021-12-07
EP3497265A1 (en) 2019-06-19
JP2021130605A (en) 2021-09-09
RU2721259C1 (en) 2020-05-18
KR20220142537A (en) 2022-10-21
JP2019524628A (en) 2019-09-05
CA3031758A1 (en) 2018-02-15
CA3031758C (en) 2021-01-12
AU2017308214A1 (en) 2019-03-07
KR20190039559A (en) 2019-04-12
CN109642327A (en) 2019-04-16
AU2017308214B2 (en) 2020-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7203720B2 (en) Systems and methods for treating metal substrates
JP7137655B2 (en) Systems and methods for treating metal substrates
KR102651352B1 (en) Sealing composition
JP7191010B2 (en) Systems and methods for preparing processing compositions and maintaining processing baths formed therefrom
JP2023133377A (en) System for treating metal substrate
KR102367049B1 (en) Pretreatment composition
KR20210126140A (en) Sealing composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190403

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200325

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200521

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20200818

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200901

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20201225

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210426

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20210426

C11 Written invitation by the commissioner to file amendments

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C11

Effective date: 20210511

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210525

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20210705

C21 Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21

Effective date: 20210706

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20210903

C211 Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211

Effective date: 20210907

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20220510

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20220601

C13 Notice of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13

Effective date: 20220701

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220729

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20220810

C23 Notice of termination of proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23

Effective date: 20221025

C03 Trial/appeal decision taken

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03

Effective date: 20221122

C30A Notification sent

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012

Effective date: 20221122

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221206

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7191010

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150