JP7190273B2 - Method for manufacturing substrate having modified layer - Google Patents

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Description

本発明は、改質層を有する基板及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a substrate having a modified layer and a manufacturing method thereof.

表面に改質層を有する様々な基板が開発されている。例えば、非特許文献1には、微細な貫通孔のアレイを有するステンレス製の基板が記載されている。非特許文献1に記載された基板は、貫通孔の内部が親水性であり、貫通孔が開口する面が疎水性となるように表面処理されている。非特許文献1に記載された基板は、容易に各貫通孔の内部に液体を定量的に導入することができると報告されている。 Various substrates having modified layers on their surfaces have been developed. For example, Non-Patent Document 1 describes a stainless steel substrate having an array of fine through holes. The substrate described in Non-Patent Document 1 is surface-treated so that the inside of the through-hole is hydrophilic and the surface where the through-hole opens is hydrophobic. It is reported that the substrate described in Non-Patent Document 1 can easily and quantitatively introduce a liquid into each through-hole.

また、非特許文献2には、マイクロチャンバーが記載されている。非特許文献2に記載されたマイクロチャンバーは、ガラス基板に形成されたウェルアレイであり、ウェルが開口する面には、ポリジメチルシロキサン(PDMS)の薄膜が積層されている。非特許文献2に記載されたマイクロチャンバーは、シール性が高いPDMS層を有するため、ガラス基板で蓋をして各チャンバーを密閉することができると報告されている。また、PDMS層が十分に薄いことから、PDMSによる酵素反応の阻害が抑制され、マイクロチャンバー内で効率よく無細胞タンパク質合成を行うことができると報告されている。 In addition, Non-Patent Document 2 describes a microchamber. The microchamber described in Non-Patent Document 2 is a well array formed on a glass substrate, and a polydimethylsiloxane (PDMS) thin film is laminated on the surface where the wells are opened. Since the microchamber described in Non-Patent Document 2 has a PDMS layer with high sealing properties, it is reported that each chamber can be sealed by covering with a glass substrate. In addition, it has been reported that since the PDMS layer is sufficiently thin, inhibition of enzymatic reactions by PDMS is suppressed, and cell-free protein synthesis can be efficiently performed in the microchamber.

Morrison T., et al., Nanoliter high throughput quantitative PCR, Nucleic Acids Research, 34 (18), e123, 2006.Morrison T., et al., Nanoliter high throughput quantitative PCR, Nucleic Acids Research, 34 (18), e123, 2006. Okano T., Cell-free protein synthesis from a single copy of DNA in a glass microchamber, Lab Chip, 12, 2704-2711, 2012.Okano T., Cell-free protein synthesis from a single copy of DNA in a glass microchamber, Lab Chip, 12, 2704-2711, 2012.

しかしながら、非特許文献1に記載された基板は、その製造工程が複雑である。また、非特許文献2に記載されたマイクロチャンバーは、ガラス基板にPDMS層を積層した後に、フォトレジストでマスクし、エッチングによりウェルアレイを形成する方法で製造される。このため、すでに形成されたウェルアレイの表面に改質層を積層して、非特許文献2に記載されたマイクロチャンバーを製造することはできない。本発明は、凹部を有する基板の表面に、簡便に改質層を積層する技術を提供することを目的とする。 However, the substrate described in Non-Patent Document 1 has a complicated manufacturing process. The microchamber described in Non-Patent Document 2 is manufactured by a method of forming a well array by laminating a PDMS layer on a glass substrate, masking it with a photoresist, and etching it. Therefore, the microchamber described in Non-Patent Document 2 cannot be produced by stacking a modified layer on the surface of an already formed well array. An object of the present invention is to provide a technique for easily laminating a modified layer on the surface of a substrate having recesses.

本発明は以下の態様を含む。
[1]改質層を有する基板の製造方法であって、凹部を有する基板の、前記凹部が開口する面及び前記凹部の内表面に、保護層を積層することと、前記保護層の一部を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し、前記凹部の内表面に前記保護層が積層された基板を得ることと、前記凹部が開口する面に、前記保護層を溶解する溶剤が透過性を有する、第1の改質層を積層することと、前記基板に前記溶剤を接触させて、前記凹部の内表面に積層された前記保護層を除去することにより、前記凹部が開口する面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることと、を含む、製造方法。
[2]前記凹部が開口する面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることの後に、前記第1の改質層及び前記凹部の内表面に、第2の改質層を積層することと、前記第1の改質層に積層された前記第2の改質層を除去することにより、前記凹部が開口する面に前記第1の改質層が積層され、前記凹部の内表面に前記第2の改質層が積層された基板を得ることと、を更に含む、[1]に記載の製造方法。
[3]改質層を有する基板の製造方法であって、凹部を有する基板の、前記凹部が開口する面及び前記凹部の内表面に、第1の改質層を積層することと、前記第1の改質層に保護層を積層することと、前記保護層及び前記第1の改質層の一部を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し、前記凹部の内表面に前記第1の改質層及び前記保護層がこの順に積層された基板を得ることと、前記基板に前記保護層を溶解する溶剤を接触させて、前記凹部の内表面に積層された前記保護層を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し前記凹部の内表面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることと、を含む、製造方法。
[4]前記凹部が開口する面が露出し前記凹部の内表面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることの後に、前記凹部の内表面に積層された前記第1の改質層及び前記凹部が開口する面に、第2の改質層を積層することと、前記凹部の内表面に積層された前記第2の改質層を除去することにより、前記凹部が開口する面に前記第2の改質層が積層され、前記凹部の内表面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることと、を更に含む、[3]に記載の製造方法。
[5]改質層を有する基板の製造方法であって、凹部を有する基板の、前記凹部が開口する面及び前記凹部の内表面に、第1の改質層を積層することと、前記第1の改質層に保護層を積層することと、前記保護層及び前記第1の改質層の一部を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し、前記凹部の内表面に前記第1の改質層及び前記保護層がこの順に積層された基板を得ることと、前記凹部に積層された前記保護層及び前記凹部が開口する面に、第2の改質層を積層することと、前記凹部に積層された前記保護層及び前記保護層に積層された前記第2の改質層を除去することにより、前記凹部が開口する面に前記第2の改質層が積層され、前記凹部の内表面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることと、を含む、製造方法。
[6]前記凹部の1つあたりの容積が1~1×10fLである、[1]~[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7]凹部を有する基板であって、前記凹部が開口する面に第1の改質層が積層されており、前記凹部の1つあたりの容積が1~1×10fLであり、前記第1の改質層が極薄膜である、基板。
[8]前記凹部の内表面に第2の改質層が積層されている、[7]に記載の基板。
[9]前記第1の改質層又は前記第2の改質層に生体分子が固定されている、[8]に記載の基板。
[10]生体分子の反応用である、[7]~[9]のいずれかに記載の基板。
The present invention includes the following aspects.
[1] A method for manufacturing a substrate having a modified layer, comprising: laminating a protective layer on a surface of a substrate having a concave portion where the concave portion opens and an inner surface of the concave portion; By removing, the surface where the recess opens is exposed, obtaining a substrate in which the protective layer is laminated on the inner surface of the recess, and a solvent that dissolves the protective layer on the surface where the recess opens is transparent, and the solvent is brought into contact with the substrate to remove the protective layer laminated on the inner surface of the recess, so that the recess is opened. obtaining a substrate in which the first modified layer is laminated on the surface facing the substrate.
[2] After obtaining a substrate in which the first modified layer is laminated on the surface where the recess opens, a second modified layer is formed on the first modified layer and the inner surface of the recess. By laminating and removing the second modified layer laminated on the first modified layer, the first modified layer is laminated on the surface where the recess opens, and the recess is formed. The manufacturing method according to [1], further comprising obtaining a substrate having the second modified layer laminated on the inner surface thereof.
[3] A method for manufacturing a substrate having a modified layer, comprising: laminating a first modified layer on a surface of a substrate having a concave portion where the concave portion opens and an inner surface of the concave portion; By laminating a protective layer on one modified layer and removing a part of the protective layer and the first modified layer, the surface where the recess opens is exposed, and the inner surface of the recess is Obtaining a substrate in which the first modified layer and the protective layer are laminated in this order, and contacting the substrate with a solvent that dissolves the protective layer to laminate the protective layer on the inner surface of the recess. and obtaining a substrate in which the opening surface of the recess is exposed and the first modified layer is laminated on the inner surface of the recess by removing.
[4] After obtaining a substrate in which the surface where the recess opens is exposed and the first modified layer is laminated on the inner surface of the recess, the first modified layer laminated on the inner surface of the recess The recess is opened by laminating a second modified layer on the surface where the quality layer and the recess are opened, and removing the second modified layer stacked on the inner surface of the recess. The manufacturing method according to [3], further comprising obtaining a substrate in which the second modified layer is laminated on the surface and the first modified layer is laminated on the inner surface of the recess.
[5] A method for manufacturing a substrate having a modified layer, comprising: laminating a first modified layer on a surface of a substrate having a concave portion where the concave portion opens and an inner surface of the concave portion; By laminating a protective layer on one modified layer and removing a part of the protective layer and the first modified layer, the surface where the recess opens is exposed, and the inner surface of the recess is Obtaining a substrate in which the first modified layer and the protective layer are laminated in this order, and laminating a second modified layer on the surface where the protective layer laminated in the recess and the recess opens. By removing the protective layer laminated on the recess and the second modified layer laminated on the protective layer, the second modified layer is laminated on the surface where the recess opens. and obtaining a substrate in which the first modified layer is laminated on the inner surface of the recess.
[6] The manufacturing method according to any one of [1] to [5], wherein the volume of each recess is 1 to 1×10 9 fL.
[7] A substrate having recesses, wherein a first modified layer is laminated on a surface where the recesses open, and a volume per one of the recesses is 1 to 1×10 9 fL; A substrate, wherein the first modified layer is an ultrathin film.
[8] The substrate according to [7], wherein a second modified layer is laminated on the inner surface of the recess.
[9] The substrate according to [8], wherein biomolecules are immobilized on the first modified layer or the second modified layer.
[10] The substrate according to any one of [7] to [9], which is for reaction of biomolecules.

本発明によれば、凹部を有する基板に、簡便に改質層を積層する技術を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the technique which laminates|stacks a modified layer simply on the board|substrate which has a recessed part can be provided.

(a)~(e)は、第1実施形態に係る基板の製造方法を説明する模式図である。(a) to (e) are schematic diagrams for explaining the substrate manufacturing method according to the first embodiment. (a)及び(b)は、改質層を積層した基板に、溶剤Sを接触させた状態を示す模式図である。(a) and (b) are schematic diagrams showing a state in which a solvent S is brought into contact with a substrate having a modified layer laminated thereon. (a)~(c)は、第2実施形態に係る基板の製造方法を説明する模式図である。(a) to (c) are schematic diagrams for explaining a method for manufacturing a substrate according to a second embodiment. (a)~(e)は、第3実施形態に係る基板の製造方法を説明する模式図である。(a) to (e) are schematic diagrams for explaining a method for manufacturing a substrate according to the third embodiment. (a)~(c)は、第4実施形態に係る基板の製造方法を説明する模式図である。(a) to (c) are schematic diagrams for explaining a method for manufacturing a substrate according to a fourth embodiment. (a)~(c)は、第5実施形態に係る基板の製造方法を説明する模式図である。(a) to (c) are schematic diagrams for explaining a method for manufacturing a substrate according to a fifth embodiment. (a)~(c)は、実験例2の実験工程を説明する模式図である。(a) to (c) are schematic diagrams for explaining the experimental steps of Experimental Example 2. FIG. (a)は、実験例2の結果を示す写真である。(b)及び(c)は、実験例2の結果を示す蛍光顕微鏡写真である。(a) is a photograph showing the results of Experimental Example 2. FIG. (b) and (c) are fluorescence micrographs showing the results of Experimental Example 2. FIG.

以下、場合により図面を参照しつつ、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一又は対応する符号を付し、重複する説明は省略する。なお、各図における寸法比は、説明のため誇張している部分があり、必ずしも実際の寸法比とは一致しない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as the case may be. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same or corresponding reference numerals, and overlapping descriptions are omitted. Note that the dimensional ratios in each drawing are exaggerated for the sake of explanation, and do not necessarily match the actual dimensional ratios.

[改質層を有する基板の製造方法]
(第1実施形態)
1実施形態において、本発明は、改質層を有する基板の製造方法であって、凹部を有する基板の、前記凹部が開口する面及び前記凹部の内表面に、保護層を積層する工程(1a)と、前記保護層の一部を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し、前記凹部の内表面に前記保護層が積層された基板を得る工程(1b)と、前記凹部が開口する面に、前記保護層を溶解する溶剤が透過性を有する、第1の改質層を積層する工程(1c)と、前記基板に前記溶剤を接触させて、前記凹部の内表面に積層された前記保護層を除去することにより、前記凹部が開口する面に前記第1の改質層が積層された基板を得る工程(1d)とを含む、製造方法を提供する。本実施形態の製造方法によれば、凹部を有する基板に簡便に改質層を積層することができる。
[Method for manufacturing a substrate having a modified layer]
(First embodiment)
In one embodiment, the present invention provides a method for manufacturing a substrate having a modified layer, comprising a step of laminating a protective layer on a surface of a substrate having recesses where the recesses open and on the inner surface of the recesses (1a ), a step (1b) of obtaining a substrate in which a surface on which the recess is opened is exposed by removing a part of the protective layer, and the protective layer is laminated on the inner surface of the recess; A step (1c) of laminating a first modified layer, which is permeable to a solvent that dissolves the protective layer, on the opening surface, and bringing the solvent into contact with the substrate and laminating it on the inner surface of the recess. a step (1d) of obtaining a substrate in which the first modified layer is laminated on the surface where the recess is opened by removing the protective layer. According to the manufacturing method of this embodiment, the modified layer can be easily laminated on the substrate having the concave portion.

本実施形態の製造方法に用いられる基板の材料としては、ガラス;シリコン等の半導体;クロム、ステンレス、金、マグネシウム合金等の金属、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂等が挙げられる。基板は、1種の材料から構成されていてもよいし、複数の材料の組み合わせにより構成されていてもよい。また、基板の表面は金属酸化物でコーティングされていてもよい。金属酸化物としては、Al,Ta、Nb、ZrO、TiO,HfO,Ni酸化物、Cr酸化物、Fe酸化物、Mn酸化物、W酸化物、Cu酸化物、Ag酸化物等が挙げられる。 Materials for the substrate used in the manufacturing method of the present embodiment include glass; semiconductors such as silicon; metals such as chromium, stainless steel, gold, and magnesium alloys; and resins such as polycarbonate and polymethyl methacrylate. The substrate may be composed of one kind of material, or may be composed of a combination of a plurality of materials. Also, the surface of the substrate may be coated with a metal oxide. Examples of metal oxides include Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , TiO 2 , HfO 2 , Ni oxides, Cr oxides, Fe oxides, Mn oxides, W oxides, Cu oxide, Ag oxide, etc. are mentioned.

凹部を有する基板は、反応性のガス、イオン、ラジカル等を用いたドライエッチング、反応性の液体を用いたウエットエッチング、切削、金型を基板に押し付けるエンボス加工等により基板を加工して製造することができる。 Substrates with recesses are manufactured by processing substrates by dry etching using reactive gas, ions, radicals, etc., wet etching using reactive liquids, cutting, embossing by pressing a mold against the substrate, etc. be able to.

凹部は基板上に複数存在していることが好ましく、複数の凹部が規則的に配置されたアレイを形成していることが好ましい。また、凹部は、基板の一方面のみに形成されていてもよく、両面に形成されていてもよい。 A plurality of recesses are preferably present on the substrate, and preferably form an array in which the plurality of recesses are regularly arranged. Further, the recess may be formed only on one surface of the substrate, or may be formed on both surfaces.

凹部の形状は、特に限定されず、例えば、円筒形であってもよく、多面体形(例えば、直方体、六角柱、八角柱等)であってもよく、円錐台形であってもよく、角錐台形(三角錐台形、四角錐台形、五角錐台形、六角錐台形、七角以上の多角錐台形等)であってもよく、逆円錐台形であってもよく、逆角錐台形(逆三角錐台形、逆四角錐台形、逆五角錐台形、逆六角錐台形、七角以上の逆多角錐台形)等であってもよく、これらの形状の二つ以上を組み合わせた形状であってもよい。 The shape of the recess is not particularly limited, and may be, for example, a cylindrical shape, a polyhedral shape (eg, a rectangular parallelepiped, a hexagonal prism, an octagonal prism, etc.), a truncated cone, or a truncated pyramid. (Triangular truncated pyramid, quadrangular truncated pyramid, pentagonal truncated pyramid, hexagonal truncated pyramid, polygonal truncated pyramid with seven or more sides, etc.), may be an inverted truncated cone, and an inverted truncated pyramid (inverted truncated triangular pyramid, inverted truncated quadrangular pyramid, inverted truncated pentagonal pyramid, inverted truncated hexagonal pyramid, inverted truncated polygonal pyramid with seven or more angles, etc., or a combination of two or more of these shapes.

凹部1つあたりの容積は、例えば1~1×10fLであってもよく、例えば1~1×10fLであってもよく、例えば1~1×10fLであってもよい。 The volume per recess may be, for example, 1 to 1×10 9 fL, for example, 1 to 1×10 6 fL, or, for example, 1 to 1×10 3 fL.

基板上の凹部の密度は、例えば1~2×10個/cmであってもよく、例えば1~2×10個/cmであってもよく、例えば1~2×10個/cmであってもよい。 The density of the recesses on the substrate may be, for example, 1-2×10 7 /cm 2 , such as 1-2×10 5 /cm 2 , such as 1-2×10 3 . /cm 2 .

また、基板の形状は、特に限定されず、例えば、矩形、多角形(例えば、三角形、五角形、六角形、七角形以上の多角形)、円形、楕円形、これらの組み合わせ等が挙げられる。 The shape of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include rectangles, polygons (eg, triangles, pentagons, hexagons, polygons with heptagons or more), circles, ellipses, combinations thereof, and the like.

また、基板の面積は、凹部の設計によって適宜変更することができ、例えば1~1000cmであってもよく、例えば1~100cmであってもよい。 Also, the area of the substrate can be appropriately changed depending on the design of the recess, and may be, for example, 1 to 1000 cm 2 , or may be, for example, 1 to 100 cm 2 .

図1(a)~(e)は、第1実施形態に係る基板の製造方法を説明する模式図である。以下、図1(a)~(e)を参照しながら、第1実施形態の製造方法について説明する。 1(a) to 1(e) are schematic diagrams for explaining the method for manufacturing a substrate according to the first embodiment. The manufacturing method of the first embodiment will be described below with reference to FIGS.

(工程(1a))
図1(a)は、凹部120を有する基板110の断面図である。本工程では、図1(b)に示すように、凹部120を有する基板110の、凹部120が開口する面130及び凹部120の内表面121に、保護層140を積層する。本明細書において、「凹部が開口する面」とは、基板の凹部が形成された面における凹部以外の領域をいう。
(Step (1a))
FIG. 1(a) is a cross-sectional view of a substrate 110 having a recess 120. FIG. In this step, as shown in FIG. 1B, a protective layer 140 is laminated on the surface 130 of the substrate 110 having the concave portion 120 and the inner surface 121 of the concave portion 120 . In this specification, the term "surface on which the recess is opened" refers to a region other than the recess on the surface of the substrate on which the recess is formed.

保護層140としては、容易に除去することができ、凹部120の形状を崩さない材料であれば特に限定されず、例えば、AZフォトレジスト(メルク社)、SU-8フォトレジスト(マイクロケム社)等のレジスト;クロム等の金属膜;インク等の塗料等を用いることができる。 The protective layer 140 is not particularly limited as long as it can be easily removed and does not change the shape of the recess 120. For example, AZ photoresist (Merck), SU-8 photoresist (MicroChem). a resist such as chrome; a metal film such as chromium; a paint such as ink.

保護層140の積層は、用いる保護層の材料に応じて、塗布、浸漬、スピンコート、蒸着、スプレー、スパッタ成膜、化学気相蒸着(CVD)、メッキ等により行うことができる。 Lamination of the protective layer 140 can be performed by coating, dipping, spin coating, vapor deposition, spraying, sputter deposition, chemical vapor deposition (CVD), plating, or the like, depending on the material of the protective layer used.

(工程(1b))
続いて、図1(c)に示すように、保護層140の一部を除去することにより、凹部120が開口する面130が露出し、凹部120の内表面121に保護層140が積層された基板を得る。
(Step (1b))
Subsequently, as shown in FIG. 1C, by removing a part of the protective layer 140, the surface 130 where the recess 120 opens is exposed, and the protective layer 140 is laminated on the inner surface 121 of the recess 120. get the substrate.

保護層140の一部の除去は、ドライエッチング、ウエットエッチング、化学的機械研磨等により行うことができる。このような加工方法をエッチバックという場合がある。この結果、面130において、基板110の材質が露出した状態になる。また、凹部120には保護層140が充填されており、凹部120の開口部において保護層140が露出面141を形成した状態となる。いいかえると、凹部120の内表面121は、保護層140が積層された状態になる。 Part of the protective layer 140 can be removed by dry etching, wet etching, chemical mechanical polishing, or the like. Such a processing method is sometimes called etchback. As a result, the material of the substrate 110 is exposed on the surface 130 . Moreover, the recess 120 is filled with the protective layer 140 , and the protective layer 140 forms an exposed surface 141 at the opening of the recess 120 . In other words, the inner surface 121 of the recess 120 is in a state where the protective layer 140 is laminated.

(工程(1c))
続いて、図1(d)に示すように、凹部120が開口する面130に、第1の改質層(図1中、「A」で示す。)を積層する。第1の改質層は、面130だけでなく、保護層140の露出面141にも積層されてもよい。ここで、凹部120の内表面121は、保護層140が積層されている。このため、内表面121には第1の改質層は積層されない。
(Step (1c))
Subsequently, as shown in FIG. 1(d), a first modified layer (indicated by "A" in FIG. 1) is laminated on the surface 130 where the recess 120 opens. The first modified layer may be laminated not only on the surface 130 but also on the exposed surface 141 of the protective layer 140 . Here, a protective layer 140 is laminated on the inner surface 121 of the recess 120 . Therefore, the first modified layer is not laminated on the inner surface 121 .

本明細書において、改質層とは、基板の表面の性質を変化させる物質の層を意味する。例えば、親水性の基板の表面に改質層を積層して疎水性に変化させることができる。あるいは、疎水性の基板の表面に改質層を積層して親水性に変化させることができる。改質層は1種の材料から形成されていてもよく、2種以上の材料の混合物から形成されていてもよい。また、改質層は1つの層から形成されていてもよく、積層された複数の層から形成されていてもよい。 As used herein, a modified layer means a layer of material that changes the properties of the surface of the substrate. For example, a modification layer can be laminated on the surface of a hydrophilic substrate to change it to be hydrophobic. Alternatively, a modifying layer can be laminated on the surface of a hydrophobic substrate to make it hydrophilic. The modified layer may be made of one material, or may be made of a mixture of two or more materials. Moreover, the modified layer may be formed from one layer, or may be formed from a plurality of laminated layers.

(工程(1d))
続いて、第1の改質層を積層した基板に、保護層140を溶解する溶剤を接触させて、凹部120の内表面121に積層された保護層140を除去する。この結果、図1(e)に示すように、凹部120が開口する面130に第1の改質層が積層された基板100を得ることができる。基板100において、凹部120の内表面121には第1の改質層Aは積層されておらず、基板110の材質が露出している。
(Step (1d))
Subsequently, the substrate laminated with the first modified layer is brought into contact with a solvent that dissolves the protective layer 140 to remove the protective layer 140 laminated on the inner surface 121 of the recess 120 . As a result, as shown in FIG. 1(e), the substrate 100 having the first modified layer laminated on the surface 130 where the recess 120 opens can be obtained. In the substrate 100, the first modified layer A is not laminated on the inner surface 121 of the recess 120, and the material of the substrate 110 is exposed.

第1実施形態の製造方法によれば、凹部が開口する面のみに改質層を簡便に積層することができる。 According to the manufacturing method of the first embodiment, it is possible to simply laminate the modified layer only on the surface where the concave portion opens.

第1実施形態の製造方法では、第1の改質層として、保護層140を溶解する溶剤が透過性を有するものを使用する。保護層140を溶解する溶剤が透過性を有する観点から、第1の改質層は、極薄膜であることが好ましい。 In the manufacturing method of the first embodiment, a layer having permeability to a solvent that dissolves the protective layer 140 is used as the first modified layer. From the viewpoint that the solvent that dissolves the protective layer 140 is permeable, the first modified layer is preferably an extremely thin film.

本明細書において、極薄膜とは、厚さ0.5~1000nm程度の膜を意味する。極薄膜の厚さは、例えば0.5~10nmであることが好ましく、1~2nmであることがより好ましい。極薄膜は、自己組織化単分子膜であることが特に好ましい。 In this specification, an ultra-thin film means a film having a thickness of about 0.5 to 1000 nm. The thickness of the ultra-thin film is, for example, preferably 0.5 to 10 nm, more preferably 1 to 2 nm. It is particularly preferred that the ultrathin film is a self-assembled monolayer.

図2(a)は、第1の改質層(図2中、「A」で示す。)を積層した基板に、保護層140を溶解する溶剤Sを接触させて、凹部120の内表面121に積層された保護層140を除去している状態を示す模式図である。 In FIG. 2A, a substrate on which a first modified layer (indicated by “A” in FIG. 2) is laminated is brought into contact with a solvent S that dissolves the protective layer 140, and the inner surface 121 of the concave portion 120 is exposed. 1 is a schematic diagram showing a state in which a protective layer 140 laminated on a layer is removed. FIG.

図2(a)に示すように、第1の改質層が極薄膜であると、第1の改質層を溶剤Sが透過して、凹部120の内表面121に積層された保護層140を除去することができる。また、保護層140の露出面141に積層されていた第1の改質層も、保護層140と共に除去される。一方、凹部120が開口する面130に積層された第1の改質層は溶剤Sで剥離することなく残存する。 As shown in FIG. 2A, when the first modified layer is an ultra-thin film, the solvent S permeates the first modified layer, and the protective layer 140 laminated on the inner surface 121 of the recess 120 can be removed. Moreover, the first modified layer laminated on the exposed surface 141 of the protective layer 140 is also removed together with the protective layer 140 . On the other hand, the first modified layer laminated on the surface 130 where the recess 120 opens remains without being peeled off by the solvent S.

図2(b)は、溶剤Sが第1の改質層に対して透過性を有しない場合を説明する模式図である。図2(b)に示すように、溶剤Sが第1の改質層を透過できない場合、凹部120の内表面121に積層された保護層140を除去することができない。 FIG. 2(b) is a schematic diagram illustrating the case where the solvent S does not have permeability to the first modified layer. As shown in FIG. 2B, when the solvent S cannot permeate the first modified layer, the protective layer 140 laminated on the inner surface 121 of the recess 120 cannot be removed.

このように、第1実施形態の製造方法においては、第1の改質層は、極薄膜であることが好ましい。第1の改質層を形成する材料は、基板110の材質に応じて適宜選択することができる。 Thus, in the manufacturing method of the first embodiment, it is preferable that the first modified layer is an extremely thin film. A material for forming the first modified layer can be appropriately selected according to the material of the substrate 110 .

第1の改質層を形成する具体的な材料としては、生体分子、生体分子捕捉分子、生体分子若しくは生体分子捕捉分子以外の材料等が挙げられる。生体分子としては、例えば、核酸、ペプチド、抗体、抗体断片、酵素等が挙げられる。また、生体分子捕捉分子としては、例えば、核酸アプタマー、ペプチドアプタマー、抗体、抗体断片等が挙げられる。また、生体分子若しくは生体分子捕捉分子以外の材料としては、例えば、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)、テトラメチルシラン(TMS)等のメチル基終端を有する有機シラン;3-アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)等のアミノ基終端を有する有機シラン;パーフルオロアルキルシラン等のフルオロアルキル基終端を有する有機シラン;3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GLYMO)等のグリシジル基終端を有する有機シラン;スルホペタイン3-ウンデカンチオール等のアルカンチオール;オクタデシルホスホン酸等のアルキルホスホン酸;トリクレジルホスファイト等のリン酸エステル;ステアリン酸等の脂肪酸;フッ素型イソシアネート化合物等のイソシアナート;アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂;エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂;上記生体分子又は生体分子捕捉分子が結合したシランカップリング剤;クロム、金、アルミニウム等の金属;酸化アルミニウム等の金属酸化物;ガラス又は無機材料を含有したペースト材料;ポリイミド等の分子配向膜;ニトリロトリ酢酸Ni錯体(Ni-NTA)、カルボキシメチルアスパラギン酸Co錯体(Co-CMA)等の金属キレート錯体;ニトリロトリ酢酸(NTA)、カルボキシメチルアスパラギン酸(CMA)等のキレート剤;PDMS等のシリコーンポリマー等が挙げられる。 Specific materials for forming the first modified layer include biomolecules, biomolecule-capturing molecules, and materials other than biomolecules or biomolecule-capturing molecules. Examples of biomolecules include nucleic acids, peptides, antibodies, antibody fragments, enzymes and the like. Examples of biomolecule-capturing molecules include nucleic acid aptamers, peptide aptamers, antibodies, antibody fragments, and the like. Materials other than biomolecules or biomolecule-capturing molecules include, for example, hexamethyldisilazane (HMDS), tetraethyl orthosilicate (TEOS), tetramethylsilane (TMS) and other methyl group-terminated organic silanes; Amino-terminated organosilanes such as aminopropyltriethoxysilane (APTES); Fluoroalkyl-terminated organosilanes such as perfluoroalkylsilane; Glycidyl-terminated silanes such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (GLYMO) Alkanethiols such as sulfopetine 3-undecanethiol; Alkylphosphonic acids such as octadecylphosphonic acid; Phosphate esters such as tricresyl phosphite; Fatty acids such as stearic acid; Thermoplastic resins such as acrylic resins; Thermosetting resins such as epoxy resins; Silane coupling agents to which the above biomolecules or biomolecule-capturing molecules are bound; Metals such as chromium, gold, and aluminum; Metal oxides such as aluminum oxide; paste materials containing glass or inorganic materials; molecular alignment films such as polyimide; metal chelate complexes such as nitrilotriacetic acid Ni complex (Ni-NTA) and carboxymethylaspartic acid Co complex (Co-CMA); chelating agents such as carboxymethylaspartic acid (CMA); silicone polymers such as PDMS;

第1の改質層の積層は、用いる第1の改質層の材料に応じて、塗布、浸漬、スピンコート、スプレー、スパッタ成膜、化学気相蒸着(CVD)、メッキ等により行うことができる。 Lamination of the first modified layer can be carried out by coating, dipping, spin coating, spraying, sputtering, chemical vapor deposition (CVD), plating, etc., depending on the material of the first modified layer used. can.

第1の改質層は、生体分子若しくは生体分子捕捉分子そのものからなる層であってもよく、生体分子若しくは生体分子捕捉分子以外の材料からなる層であってもよい。また、第1の改質層には、生体分子若しくは生体分子捕捉分子、又は生体分子若しくは生体分子捕捉分子以外の材料を更に結合させてもよい。 The first modified layer may be a layer composed of the biomolecule or the biomolecule-capturing molecule itself, or may be a layer composed of a material other than the biomolecule or the biomolecule-capturing molecule. In addition, biomolecules, biomolecule-capturing molecules, or materials other than biomolecules or biomolecule-capturing molecules may be further bound to the first modified layer.

例えば、上述した金属又は金属酸化膜からなる第1の改質層に、上述した、アルカンチオール、アルキルホスホン酸、リン酸エステル等を更に結合させてもよい。あるいは、上述した金属等からなる第1の改質層をOH基末端に改質し、更に上述したイソシアネート等を結合させてもよい。あるいは、上述した第1の改質層の表面をアミノ基末端に改質し、更に、上述した脂肪酸、ニトリロトリ酢酸(NTA)、カルボキシメチルアスパラギン酸(CMA)等のキレート剤等を結合させてもよい。また、ニトリロトリ酢酸(NTA)には、更にニッケルイオンを配位させてもよく、カルボキシメチルアスパラギン酸(CMA)には更にコバルトイオンを配位させてもよい。あるいは、生体分子若しくは生体分子捕捉分子以外の材料からなる第1の改質層に生体分子若しくは生体分子捕捉分子を更に結合させてもよいし、生体分子若しくは生体分子捕捉分子そのものからなる第1の改質層に生体分子若しくは生体分子捕捉分子を更に結合させてもよい。 For example, the above-described alkanethiol, alkylphosphonic acid, phosphate ester, or the like may be further bonded to the first modified layer made of the above-described metal or metal oxide film. Alternatively, the first modified layer made of the above-mentioned metal or the like may be modified to have an OH group terminal, and further the above-mentioned isocyanate or the like may be bound. Alternatively, the surface of the first modified layer described above is modified to have an amino group terminal, and further, a chelating agent such as the above-described fatty acid, nitrilotriacetic acid (NTA), carboxymethylaspartic acid (CMA), etc. may be bound. good. Nitrilotriacetic acid (NTA) may be further coordinated with nickel ions, and carboxymethylaspartic acid (CMA) may be further coordinated with cobalt ions. Alternatively, a biomolecule or a biomolecule-capturing molecule may be further bound to the first modified layer made of a material other than the biomolecule or the biomolecule-capturing molecule, or the first modified layer made of the biomolecule or the biomolecule-capturing molecule itself may be used. A biomolecule or a biomolecule-capturing molecule may be further bound to the modified layer.

生体分子又は生体分子捕捉分子は、上述したものと同様であり、例えば、核酸、ペプチド、タンパク質等が挙げられる。ここで、核酸、ペプチドは、それぞれ、核酸アプタマー、ペプチドアプタマーであってもよい。また、タンパク質としては、例えば、抗体、抗体断片、酵素等が挙げられる。また、核酸、ペプチド、タンパク質は、それぞれ変異体ライブラリーの構成要素であってもよい。なお、本明細書において、「タンパク質」、「ペプチド」の用語は厳密な区別なく用いられ、アミノ酸の数の多少によりペプチドという場合やタンパク質という場合がある。 Biomolecules or biomolecule-capturing molecules are the same as those described above, and include, for example, nucleic acids, peptides, proteins, and the like. Here, the nucleic acid and peptide may be nucleic acid aptamers and peptide aptamers, respectively. Examples of proteins include antibodies, antibody fragments, enzymes, and the like. Nucleic acids, peptides and proteins may each also be members of a mutant library. In the present specification, the terms "protein" and "peptide" are used without strict distinction, and the terms "peptide" and "protein" may be used depending on the number of amino acids.

第1の改質層への生体分子の結合は、例えば、ケミカルクロスリンカーによる結合;抗原抗体反応による結合;タンパク質捕捉分子による結合;アビジン-ビオチン結合;ヒスチジンタグとニッケルイオンとの結合等を利用することにより行うことができる。 Binding of biomolecules to the first modified layer uses, for example, chemical crosslinker binding; antigen-antibody reaction binding; protein capturing molecule binding; avidin-biotin binding; It can be done by

第1の改質層に結合させるタンパク質捕捉分子としては、例えば、アビジン;ビオチン;ニッケル、コバルト等の金属イオン;マルトース;グアニンヌクレオチド;グルタチオン;抗原等が挙げられる。 Protein-capturing molecules bound to the first modified layer include, for example, avidin; biotin; metal ions such as nickel and cobalt; maltose;

第1の改質層へのタンパク質捕捉分子の結合は、例えば、ケミカルクロスリンカーによる結合等を利用することにより行うことができる。 Binding of the protein-capturing molecule to the first modified layer can be carried out by using, for example, binding with a chemical crosslinker.

また、保護層140を溶解する溶剤は、使用する保護層140の材料に応じて適宜選択することができ、例えば、水;N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、ブチルカルビトール(BDG)、モノエタノールアミン(MEA)、メタノール、エタノール、変性エタノール、2-プロパノール(IPA)、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、2-ブタノン(MEK)、4-メチル-2-ペンタノン(MIBK)、アセトン等の有機溶剤;水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、アンモニア水等のアルカリ溶液;酢酸、クエン酸溶液、グリコール酸溶液、シュウ酸溶液、酒石酸アンモニウム溶液、リン酸、硝酸、塩酸、硫酸、臭化水素酸、過酸化水素水等の酸溶液等が挙げられる。例えば、保護層140がレジストである場合には、レジストの材料に応じて有機溶剤等を用いることができる。また、保護層140が金属膜である場合には、アルカリ溶液、酸溶液等を用いることができる。また、保護層140が塗料である場合には、塗料の材料に応じて、水、有機溶剤等を用いることができる。 Also, the solvent that dissolves the protective layer 140 can be appropriately selected according to the material of the protective layer 140 to be used. -butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), butyl carbitol (BDG), monoethanolamine (MEA), methanol, ethanol, denatured ethanol, 2-propanol (IPA), methyl lactate , ethyl lactate, ethyl acetate, butyl acetate, acetone, 2-butanone (MEK), 4-methyl-2-pentanone (MIBK), organic solvents such as acetone; sodium hydroxide solution, potassium hydroxide solution, tetramethylammonium hydroxy TMAH, alkaline solutions such as aqueous ammonia; An acid solution and the like can be mentioned. For example, when the protective layer 140 is a resist, an organic solvent or the like can be used depending on the material of the resist. Moreover, when the protective layer 140 is a metal film, an alkaline solution, an acid solution, or the like can be used. Moreover, when the protective layer 140 is a paint, water, an organic solvent, or the like can be used depending on the material of the paint.

(第2実施形態)
第2実施形態の製造方法は、第1実施形態の製造方法により製造された基板100に第2の改質層を更に積層する点において、第1実施形態の製造方法と主に異なる。
(Second embodiment)
The manufacturing method of the second embodiment mainly differs from the manufacturing method of the first embodiment in that a second modified layer is further laminated on the substrate 100 manufactured by the manufacturing method of the first embodiment.

第2実施形態の製造方法は、第1実施形態の工程(1d)の後に、第1の改質層及び凹部120の内表面121に、第2の改質層を積層する工程(2a)と、第1の改質層に積層された第2の改質層を除去することにより、凹部120が開口する面130に第1の改質層が積層され、凹部120の内表面121に第2の改質層が積層された基板を得る工程(2b)とを更に含む製造方法である。 The manufacturing method of the second embodiment includes a step (2a) of laminating a second modified layer on the first modified layer and the inner surface 121 of the recess 120 after the step (1d) of the first embodiment. By removing the second modified layer laminated on the first modified layer, the first modified layer is laminated on the surface 130 where the recess 120 opens, and the second modified layer is formed on the inner surface 121 of the recess 120. and a step (2b) of obtaining a substrate laminated with the modified layer of (2b).

図3(a)~(c)は、第2実施形態に係る基板の製造方法を説明する模式図である。以下、図3(a)~(c)を参照しながら、第2実施形態の製造方法について説明する。 3(a) to 3(c) are schematic diagrams for explaining a method for manufacturing a substrate according to the second embodiment. The manufacturing method of the second embodiment will be described below with reference to FIGS.

(工程(2a))
図3(a)は、第1実施形態の工程(1d)で得られた基板100の断面図であり、図1(e)に示す基板100に対応する。図3(a)に示すように、基板100では、凹部120が開口する面130に第1の改質層(図3中、「A」で示す。)が積層されている。基板100において、凹部120の内表面121には第1の改質層Aは積層されておらず、基板110の材質が露出している。
(Step (2a))
FIG. 3(a) is a cross-sectional view of the substrate 100 obtained in step (1d) of the first embodiment, and corresponds to the substrate 100 shown in FIG. 1(e). As shown in FIG. 3A, in the substrate 100, the first modified layer (indicated by "A" in FIG. 3) is laminated on the surface 130 where the recess 120 opens. In the substrate 100, the first modified layer A is not laminated on the inner surface 121 of the recess 120, and the material of the substrate 110 is exposed.

本工程では、図3(b)に示すように、基板100の、面130に積層された第1の改質層A、及び、凹部120の内表面121に、第2の改質層(図3中、「B」で示す。)を積層する。 In this step, as shown in FIG. 3B, the first modified layer A laminated on the surface 130 of the substrate 100 and the second modified layer ( 3, indicated by “B”) are laminated.

この結果、面130においては、基板110に、第1の改質層A、第2の改質層Bがこの順に積層された状態になる。また、凹部120においては、基板110に第2の改質層Bが積層された状態になる。 As a result, on the surface 130 , the first modified layer A and the second modified layer B are laminated in this order on the substrate 110 . Also, in the recess 120 , the second modified layer B is laminated on the substrate 110 .

第2の改質層の材料は、第1の改質層の材料に応じて適宜選択することができ、第1の改質層Aの上に積層した後、第2の改質層Bのみを除去できるものを用いることができる。 The material of the second modified layer can be appropriately selected according to the material of the first modified layer, and after lamination on the first modified layer A, only the second modified layer B can be used.

第2の改質層の材料は、第1の改質層について例示したものと同様の材料の中から適宜選択することができる。第2の改質層の積層は、用いる第2の改質層の材料に応じて、塗布、浸漬、スピンコート、スプレー、スパッタ成膜、化学気相蒸着(CVD)、メッキ等により行うことができる。 The material for the second modified layer can be appropriately selected from materials similar to those exemplified for the first modified layer. Lamination of the second modified layer can be carried out by coating, dipping, spin coating, spraying, sputtering, chemical vapor deposition (CVD), plating, etc., depending on the material of the second modified layer used. can.

第2の改質層Bは、第1の改質層Aと同様に、生体分子若しくは生体分子捕捉分子そのものからなる層であってもよく、生体分子若しくは生体分子捕捉分子以外の材料からなる層であってもよい。また、第1実施形態の製造方法における第1の改質層について上述したのと同様に、第2の改質層Bには、生体分子若しくは生体分子捕捉分子、又は生体分子若しくは生体分子捕捉分子以外の材料を更に結合させてもよい。 The second modified layer B, like the first modified layer A, may be a layer composed of biomolecules or biomolecule-capturing molecules themselves, or a layer composed of a material other than biomolecules or biomolecule-capturing molecules. may be Further, in the same manner as described above for the first modified layer in the manufacturing method of the first embodiment, the second modified layer B contains biomolecules or biomolecule-capturing molecules, or biomolecules or biomolecule-capturing molecules. Other materials may also be combined.

第2の改質層Bへの生体分子の結合は、上述した第1の改質層Aへの生体分子の結合と同様に行うことができ、例えば、ケミカルクロスリンカーによる結合;抗原抗体反応による結合;タンパク質捕捉分子による結合;アビジン-ビオチン結合;ヒスチジンタグとニッケルイオンとの結合等を利用することにより行うことができる。 The binding of biomolecules to the second modified layer B can be performed in the same manner as the binding of biomolecules to the first modified layer A described above, for example, binding by a chemical crosslinker; binding; binding by a protein-capturing molecule; avidin-biotin binding; binding between a histidine tag and a nickel ion, or the like.

第2の改質層Bに結合させるタンパク質捕捉分子としては、第1実施形態の製造方法における第1の改質層について例示したものと同様であり、例えば、アビジン;ビオチン;ニッケル、コバルト等の金属イオン;マルトース;グアニンヌクレオチド;グルタチオン;抗原等が挙げられる。 The protein-capturing molecules to be bound to the second modified layer B are the same as those exemplified for the first modified layer in the production method of the first embodiment. maltose; guanine nucleotide; glutathione; antigen;

第2の改質層Bへのタンパク質捕捉分子の結合は、第1実施形態の製造方法における第1の改質層へのタンパク質捕捉分子の結合と同様であり、例えば、ケミカルクロスリンカーによる結合等を利用することにより行うことができる。 The binding of the protein-capturing molecule to the second modified layer B is the same as the binding of the protein-capturing molecule to the first modified layer in the production method of the first embodiment. can be done by using

(工程(2b))
続いて、本工程において、第1の改質層Aに積層された第2の改質層Bを除去することにより、凹部120が開口する面130に第1の改質層Aが積層され、凹部120の内表面121に第2の改質層Bが積層された基板200を得る。本工程では、第1の改質層Aに積層された第2の改質層Bは除去されるが、凹部120の内表面121積層した第2の改質層Bは残存する。第2の改質層Bの除去は、溶剤による除去等の方法により行うことができる。溶剤は、第2の改質層Bの材料、第1の改質層Aの材料等に応じて適宜選択することができ、第1実施形態の製造方法において上述したものと同様である。
(Step (2b))
Subsequently, in this step, by removing the second modified layer B laminated on the first modified layer A, the first modified layer A is laminated on the surface 130 where the recess 120 opens, A substrate 200 in which the second modified layer B is laminated on the inner surface 121 of the recess 120 is obtained. In this step, the second modified layer B laminated on the first modified layer A is removed, but the second modified layer B laminated on the inner surface 121 of the recess 120 remains. The removal of the second modified layer B can be performed by a method such as removal using a solvent. The solvent can be appropriately selected according to the material of the second modified layer B, the material of the first modified layer A, etc., and is the same as that described above in the manufacturing method of the first embodiment.

本工程では、第1の改質層Aに積層された第2の改質層Bは除去されるが、凹部120の内表面121に積層した第2の改質層Bは残存する。この理由としては、例えば次のようなことが挙げられる。すなわち、面130においては、基板110の材質と第1の改質層Aとの間の相互作用と、改質層Aと改質層Aに積層された第2の改質層Bとの相互作用が異なるためである。ここで、相互作用としては、化学結合、静電相互作用、摩擦抵抗、密着等が挙げられる。これらの相互作用の違いにより、基板110の材質と第1の改質層Aとの間の付着力が、第1の改質層Aと第2の改質層Bとの間の付着力よりも大きくなり、第1の改質層Aに積層された第2の改質層Bは除去される。また、凹部120においては、基板110の材質と第2の改質層Bとの相互作用により十分大きな付着力が作用するため、凹部120の内表面121に積層した第2の改質層Bは残存する。 In this step, the second modified layer B laminated on the first modified layer A is removed, but the second modified layer B laminated on the inner surface 121 of the recess 120 remains. The reasons for this include, for example, the following. That is, on the surface 130, the interaction between the material of the substrate 110 and the first modified layer A and the interaction between the modified layer A and the second modified layer B laminated on the modified layer A This is because the actions are different. Here, the interaction includes chemical bonding, electrostatic interaction, frictional resistance, adhesion, and the like. Due to the difference in these interactions, the adhesion between the material of the substrate 110 and the first modified layer A is lower than the adhesion between the first modified layer A and the second modified layer B. increases, and the second modified layer B stacked on the first modified layer A is removed. In addition, in the recess 120, a sufficiently large adhesive force acts due to the interaction between the material of the substrate 110 and the second modified layer B, so that the second modified layer B laminated on the inner surface 121 of the recess 120 is remain.

第2実施形態の製造方法によれば、凹部の内表面と凹部が開口する面に異なる改質層を簡便に積層することができる。 According to the manufacturing method of the second embodiment, different modified layers can be easily laminated on the inner surface of the recess and the surface where the recess opens.

(第3実施形態)
第3実施形態の製造方法は、第1実施形態の製造方法と比較して、改質層が積層される位置が主に異なる。具体的には、第1実施形態の製造方法では、凹部120が開口する面130に改質層が積層される。これに対し、第3実施形態の製造方法では、凹部120の内表面121に改質層が積層される。
(Third embodiment)
The manufacturing method of the third embodiment differs from the manufacturing method of the first embodiment mainly in the position where the modified layer is laminated. Specifically, in the manufacturing method of the first embodiment, the modified layer is laminated on the surface 130 where the recess 120 opens. In contrast, in the manufacturing method of the third embodiment, the modified layer is laminated on the inner surface 121 of the recess 120 .

第3実施形態の製造方法は、凹部を有する基板の、前記凹部が開口する面及び前記凹部の内表面に、第1の改質層を積層する工程(3a)と、前記第1の改質層に保護層を積層する工程(3b)と、前記保護層及び前記第1の改質層の一部を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し、前記凹部の内表面に前記第1の改質層及び前記保護層がこの順に積層された基板を得る工程(3c)と、前記基板に前記保護層を溶解する溶剤を接触させて、前記凹部の内表面に積層された前記保護層を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し前記凹部の内表面に前記第1の改質層が積層された基板を得る工程(3d)とを含む製造方法である。 The manufacturing method of the third embodiment includes a step (3a) of laminating a first modified layer on a surface of a substrate having a recess and an inner surface of the recess, and By the step (3b) of laminating a protective layer on the layer and removing a part of the protective layer and the first modified layer, the surface where the recess opens is exposed, and the inner surface of the recess is covered with the A step (3c) of obtaining a substrate in which the first modified layer and the protective layer are laminated in this order; and a step (3d) of obtaining a substrate in which the opening surface of the recess is exposed by removing the protective layer and the first modified layer is laminated on the inner surface of the recess.

図4(a)~(e)は、第3実施形態に係る基板の製造方法を説明する模式図である。以下、図4(a)~(e)を参照しながら、第3実施形態の製造方法について説明する。 4A to 4E are schematic diagrams for explaining a method for manufacturing a substrate according to the third embodiment. The manufacturing method of the third embodiment will be described below with reference to FIGS.

(工程(3a))
図4(a)は、凹部120を有する基板110の断面図である。本工程では、図4(b)に示すように、凹部120を有する基板110の、凹部120が開口する面130及び凹部120の内表面121に、第1の改質層(図4中、「A」で示す。)を積層する。
(Step (3a))
FIG. 4(a) is a cross-sectional view of the substrate 110 having the recess 120. FIG. In this step, as shown in FIG. 4B, a first modified layer (in FIG. 4, " A”) are laminated.

第3実施形態の製造方法において、凹部を有する基板、第1の改質層は、第1実施形態の製造方法におけるものと同様である。 In the manufacturing method of the third embodiment, the substrate having recesses and the first modified layer are the same as in the manufacturing method of the first embodiment.

(工程(3b))
続いて、図4(c)に示すように、第1の改質層に保護層140を積層する。保護層140は、第1実施形態の製造方法におけるものと同様である。
(Step (3b))
Subsequently, as shown in FIG. 4C, a protective layer 140 is laminated on the first modified layer. The protective layer 140 is the same as in the manufacturing method of the first embodiment.

(工程(3c))
続いて、図4(d)に示すように、保護層140及び第1の改質層の一部を除去することにより、凹部120が開口する面130が露出し、凹部120の内表面121に第1の改質層及び保護層140がこの順に積層された基板を得る。保護層140の除去は、第1実施形態の製造方法におけるものと同様にして行うことができる。この結果、面130において、基板110の材質が露出した状態になる。また、凹部120では、基板110に、第1の改質層、保護層140がこの順に積層された状態となる。
(Step (3c))
Subsequently, as shown in FIG. 4D, by removing a part of the protective layer 140 and the first modified layer, the surface 130 where the recess 120 opens is exposed, and the inner surface 121 of the recess 120 is exposed. A substrate is obtained in which the first modified layer and the protective layer 140 are laminated in this order. Removal of the protective layer 140 can be performed in the same manner as in the manufacturing method of the first embodiment. As a result, the material of the substrate 110 is exposed on the surface 130 . Further, in the concave portion 120, the first modified layer and the protective layer 140 are laminated in this order on the substrate 110. As shown in FIG.

(工程(3d))
続いて、第1の改質層を積層した基板に、保護層140を溶解する溶剤を接触させて、凹部120の内表面121に積層された保護層140を除去する。保護層140を溶解する溶剤は、第1実施形態の製造方法におけるものと同様である。この結果、図4(e)に示すように、凹部120が開口する面130が露出し凹部120の内表面121に第1の改質層が積層された基板300を得る。基板300において、面130では、基板110の材質が露出している。また、凹部120の内表面121には第1の改質層が積層されている。
(Step (3d))
Subsequently, the substrate laminated with the first modified layer is brought into contact with a solvent that dissolves the protective layer 140 to remove the protective layer 140 laminated on the inner surface 121 of the recess 120 . The solvent that dissolves the protective layer 140 is the same as in the manufacturing method of the first embodiment. As a result, as shown in FIG. 4E, a substrate 300 is obtained in which the surface 130 where the recess 120 opens is exposed and the first modified layer is laminated on the inner surface 121 of the recess 120 . The material of the substrate 110 is exposed on the surface 130 of the substrate 300 . A first modified layer is laminated on the inner surface 121 of the recess 120 .

第3実施形態の製造方法によれば、凹部の内表面のみに改質層を簡便に積層することができる。 According to the manufacturing method of the third embodiment, the modified layer can be simply laminated only on the inner surface of the recess.

このように、第3実施形態の製造方法では、実施形態1の製造方法における改質層と異なり、保護層140を溶解する溶剤が改質層を透過する必要はない。したがって、改質層は極薄膜である必要はないが、極薄膜であってもよい。 Thus, in the manufacturing method of the third embodiment, unlike the modified layer in the manufacturing method of the first embodiment, the solvent that dissolves the protective layer 140 does not need to permeate the modified layer. Therefore, the modified layer need not be an ultrathin film, but may be an ultrathin film.

(第4実施形態)
第4実施形態の製造方法は、第3実施形態の製造方法により製造された基板300に第2の改質層を更に積層する点において、第3実施形態の製造方法と主に異なる。
(Fourth embodiment)
The manufacturing method of the fourth embodiment mainly differs from the manufacturing method of the third embodiment in that a second modified layer is further laminated on the substrate 300 manufactured by the manufacturing method of the third embodiment.

第4実施形態の製造方法は、第3実施形態の工程(3d)の後に、凹部120の内表面121に積層された第1の改質層及び凹部120が開口する面130に、第2の改質層を積層する工程(4a)と、凹部120の内表面121に積層された第2の改質層を除去することにより、凹部が開口する面130に第2の改質層が積層され、凹部120の内表面121に第1の改質層が積層された基板を得る工程(4b)とを更に含む製造方法である。 In the manufacturing method of the fourth embodiment, after the step (3d) of the third embodiment, a second The step (4a) of laminating the modified layer and removing the second modified layer laminated on the inner surface 121 of the recess 120 form the second modified layer on the surface 130 where the recess opens. , and a step (4b) of obtaining a substrate in which the first modified layer is laminated on the inner surface 121 of the concave portion 120 .

図5(a)~(c)は、第4実施形態に係る基板の製造方法を説明する模式図である。以下、図5(a)~(e)を参照しながら、第4実施形態の製造方法について説明する。 5(a) to 5(c) are schematic diagrams for explaining a method for manufacturing a substrate according to the fourth embodiment. The manufacturing method of the fourth embodiment will be described below with reference to FIGS.

(工程(4a))
図5(a)は、第3実施形態の工程(3d)で得られた基板300の断面図であり、図4(e)に示す基板300に対応する。図5(a)に示すように、基板300において、凹部120が開口する面130では基板110の材質が露出しており、凹部120の内表面121には第1の改質層(図5中、「A」で示す。)が積層されている。
(Step (4a))
FIG. 5(a) is a cross-sectional view of the substrate 300 obtained in step (3d) of the third embodiment, and corresponds to the substrate 300 shown in FIG. 4(e). As shown in FIG. 5A, in the substrate 300, the material of the substrate 110 is exposed on the surface 130 where the recess 120 opens, and the inner surface 121 of the recess 120 is coated with the first modified layer (see FIG. 5). , indicated by “A”) are stacked.

本工程では、図5(b)に示すように、基板300の、凹部120の内表面121に積層された第1の改質層A及び面130に、第2の改質層(図5中、「B」で示す。)を積層する。 In this step, as shown in FIG. 5B, a second modified layer ( , denoted by “B”).

この結果、面130においては、基板110に、第2の改質層Bが積層された状態になる。また、凹部120においては、基板110に第1の改質層A、第2の改質層Bがこの順に積層された状態になる。 As a result, on the surface 130 , the second modified layer B is laminated on the substrate 110 . In the recess 120, the first modified layer A and the second modified layer B are laminated in this order on the substrate 110. As shown in FIG.

(工程(4b))
続いて、本工程において、凹部120の内表面121に積層された第2の改質層Bを除去することにより、面130に第2の改質層Bが積層され、凹部120の内表面121に第1の改質層Aが積層された基板400を得る。
(Step (4b))
Subsequently, in this step, by removing the second modified layer B laminated on the inner surface 121 of the recess 120, the second modified layer B is laminated on the surface 130, and the inner surface 121 of the recess 120 A substrate 400 on which the first modified layer A is laminated is obtained.

第2の改質層Bの除去は、溶剤による除去等の方法により行うことができる。溶剤は、第2の改質層Bの材料、第1の改質層Aの材料等に応じて適宜選択することができ、第1実施形態の製造方法において上述したものと同様である。 The removal of the second modified layer B can be performed by a method such as removal using a solvent. The solvent can be appropriately selected according to the material of the second modified layer B, the material of the first modified layer A, etc., and is the same as that described above in the manufacturing method of the first embodiment.

本工程では、第1の改質層Aに積層された第2の改質層Bは除去されるが、凹部120が開口する面130に積層した第2の改質層Bは残存する。この理由としては、例えば次のようなことが挙げられる。すなわち、凹部120においては、基板110の材質と第1の改質層Aとの間の相互作用と、改質層Aと改質層Aに積層された第2の改質層Bとの相互作用が異なるためである。ここで、相互作用としては、化学結合、静電相互作用、摩擦抵抗、密着等が挙げられる。これらの相互作用の違いにより、基板110の材質と第1の改質層Aとの間の付着力が、第1の改質層Aと第2の改質層Bとの間の付着力よりも大きくなり、第1の改質層Aに積層された第2の改質層Bは除去される。また、面130においては、基板110の材質と第2の改質層Bとの相互作用により十分大きな付着力が作用するため、面130に積層した第2の改質層Bは残存する。 In this step, the second modified layer B laminated on the first modified layer A is removed, but the second modified layer B laminated on the surface 130 where the recess 120 opens remains. The reasons for this include, for example, the following. That is, in the concave portion 120, the interaction between the material of the substrate 110 and the first modified layer A and the interaction between the modified layer A and the second modified layer B laminated on the modified layer A This is because the actions are different. Here, the interaction includes chemical bonding, electrostatic interaction, frictional resistance, adhesion, and the like. Due to the difference in these interactions, the adhesion between the material of the substrate 110 and the first modified layer A is lower than the adhesion between the first modified layer A and the second modified layer B. increases, and the second modified layer B stacked on the first modified layer A is removed. Further, on the surface 130, a sufficiently large adhesive force acts due to the interaction between the material of the substrate 110 and the second modified layer B, so that the second modified layer B laminated on the surface 130 remains.

第4実施形態の製造方法において、第2の改質層Bの材料は、第1実施形態の製造方法における第1の改質層について例示したものと同様の材料の中から適宜選択することができる。但し、第4実施形態の製造方法では、第1実施形態の製造方法における第1の改質層Aと異なり、保護層140を溶解する溶剤が第1の改質層を透過する必要はなく、また、第2の改質層を除去する溶剤が第1の改質層を透過する必要もない。 In the manufacturing method of the fourth embodiment, the material of the second modified layer B can be appropriately selected from materials similar to those exemplified for the first modified layer in the manufacturing method of the first embodiment. can. However, in the manufacturing method of the fourth embodiment, unlike the first modified layer A in the manufacturing method of the first embodiment, the solvent that dissolves the protective layer 140 does not need to pass through the first modified layer, Also, the solvent for removing the second modified layer does not need to pass through the first modified layer.

したがって、第4実施形態における第1の改質層及び第2の改質層は、それぞれ極薄膜であってもよいし、極薄膜でなくてもよい。第4実施形態における第1の改質層及び第2の改質層の膜厚は、例えば0.5~100,000nmであってもよく、例えば0.5~1,000nmであってもよく、例えば、0.5~10nmであってもよい。 Therefore, each of the first modified layer and the second modified layer in the fourth embodiment may or may not be an ultrathin film. The film thicknesses of the first modified layer and the second modified layer in the fourth embodiment may be, for example, 0.5 to 100,000 nm, and may be, for example, 0.5 to 1,000 nm. , for example, from 0.5 to 10 nm.

また、凹部の内表面に配置される第1の改質層の膜厚は、凹部の容積によっても制限される。例えば、凹部の内部を第1の改質層が満たしてしまうと、凹部としての機能が失われてしまう。 Moreover, the film thickness of the first modified layer disposed on the inner surface of the recess is also limited by the volume of the recess. For example, if the first modified layer fills the interior of the recess, the function of the recess is lost.

これについて凹部が1辺の長さ1,000nmの立方体形状である場合を例に説明する。1辺の長さ1,000nmの立方体形状の凹部の容積は1fLである。この場合、凹部の内表面に積層する改質層の膜厚は1辺の長さの1/2である500nm未満にしなければ凹部の内部が改質層で満たされてしまう。 This will be explained by taking as an example the case where the concave portion has a cubic shape with a side length of 1,000 nm. The volume of the cubic recess with a side length of 1,000 nm is 1 fL. In this case, unless the film thickness of the modified layer laminated on the inner surface of the recess is less than 500 nm, which is half the length of one side, the interior of the recess is filled with the modified layer.

一方、例えば、凹部が1辺の長さ10μmの立方体形状である場合、この凹部の容積は1×10fLである。この場合には、例えば、膜厚1,000nm程度の改質層であっても、凹部の内部満たしてしまうことがなく、積層することが可能である。 On the other hand, for example, when the recess has a cubic shape with a side length of 10 μm, the volume of this recess is 1×10 3 fL. In this case, for example, even a modified layer having a thickness of about 1,000 nm can be laminated without filling the interior of the recess.

極薄膜でない改質層の材料としては、例えば、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂;エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂;核酸、ペプチド、抗体、抗体断片、酵素等の生体分子;核酸アプタマー、ペプチドアプタマー、抗体、抗体断片等の生体分子捕捉分子;上記生体分子又は生体分子捕捉分子が結合したシランカップリング剤;クロム、金、アルミニウム等の金属;酸化アルミニウム等の金属酸化物;ガラス又は無機材料を含有したペースト材料;PDMS等のシリコーンポリマー等が挙げられる。 Examples of materials for the modified layer that is not an ultrathin film include thermoplastic resins such as acrylic resins; thermosetting resins such as epoxy resins; biomolecules such as nucleic acids, peptides, antibodies, antibody fragments, enzymes; nucleic acid aptamers, peptide aptamers. , antibodies, antibody fragments and other biomolecule-capturing molecules; silane coupling agents to which the biomolecules or biomolecule-capturing molecules are bound; metals such as chromium, gold and aluminum; metal oxides such as aluminum oxide; Contained paste materials; silicone polymers such as PDMS, and the like.

第4実施形態の製造方法によれば、凹部の内表面と凹部が開口する面に異なる改質層を簡便に積層することができる。 According to the manufacturing method of the fourth embodiment, different modified layers can be easily laminated on the inner surface of the recess and the surface where the recess opens.

(第5実施形態)
第5実施形態の製造方法は、第4実施形態の製造方法と比較して、最終的に製造される基板は同様であるが、製造工程の一部が異なっている。
(Fifth embodiment)
The manufacturing method of the fifth embodiment differs from the manufacturing method of the fourth embodiment in part of the manufacturing process, although the final manufactured substrate is the same.

第5実施形態の製造方法は、第3実施形態の工程(3c)の後に、凹部120に積層された保護層140及び凹部120が開口する面130に、第2の改質層を積層する工程(5a)と、凹部120に積層された保護層140及び保護層140に積層された第2の改質層を除去することにより、凹部120が開口する面130に第2の改質層が積層され、凹部の内表面121に第1の改質層が積層された基板を得る工程(5b)とを含む製造方法である。 The manufacturing method of the fifth embodiment is a step of laminating a second modified layer on the protective layer 140 laminated in the recess 120 and the surface 130 where the recess 120 opens after the step (3c) of the third embodiment. (5a), by removing the protective layer 140 laminated on the recess 120 and the second modified layer laminated on the protective layer 140, the second modified layer is laminated on the surface 130 where the recess 120 opens. and a step (5b) of obtaining a substrate in which the first modified layer is laminated on the inner surface 121 of the recess.

図6(a)~(c)は、第5実施形態に係る基板の製造方法を説明する模式図である。以下、図6(a)~(e)を参照しながら、第5実施形態の製造方法について説明する。 FIGS. 6A to 6C are schematic diagrams for explaining the substrate manufacturing method according to the fifth embodiment. The manufacturing method of the fifth embodiment will be described below with reference to FIGS.

(工程(5a))
図6(a)は、第3実施形態の工程(3c)が終了した状態を示す断面図であり、図4(d)に対応する。図6(a)に示すように、基板110の凹部120が開口する面130では基板110の材質が露出しており、凹部120の内表面121には第1の改質層(図6中、「A」で示す。)及び保護層140がこの順に積層されている。
(Step (5a))
FIG. 6(a) is a cross-sectional view showing a state after step (3c) of the third embodiment is completed, and corresponds to FIG. 4(d). As shown in FIG. 6A, the material of the substrate 110 is exposed on the surface 130 of the substrate 110 where the recess 120 opens, and the inner surface 121 of the recess 120 is coated with the first modified layer (in FIG. 6, "A") and the protective layer 140 are laminated in this order.

本工程では、図6(b)に示すように、凹部120に積層された保護層140及び凹部120が開口する面130に、第2の改質層(図6中、「B」で示す。)を積層する。 In this step, as shown in FIG. 6B, a second modified layer (indicated by "B" in FIG. 6) is formed on the protective layer 140 laminated in the recess 120 and on the surface 130 where the recess 120 opens. ) are stacked.

この結果、面130においては、基板110に、第2の改質層Bが積層された状態になる。また、凹部120においては、基板110に第1の改質層A、保護層140、第2の改質層Bがこの順に積層された状態になる。 As a result, on the surface 130 , the second modified layer B is laminated on the substrate 110 . Further, in the concave portion 120, the first modified layer A, the protective layer 140, and the second modified layer B are laminated in this order on the substrate 110. As shown in FIG.

(工程(5b))
続いて、本工程において、凹部120に積層された保護層140及び保護層140に積層された第2の改質層Bを除去することにより、凹部120が開口する面130に第2の改質層Bが積層され、凹部の内表面121に第1の改質層Aが積層された基板400を得る。
(Step (5b))
Subsequently, in this step, by removing the protective layer 140 laminated on the recess 120 and the second modified layer B laminated on the protective layer 140, the surface 130 where the recess 120 opens is subjected to the second modification. A substrate 400 is obtained in which the layer B is laminated and the first modified layer A is laminated on the inner surface 121 of the recess.

第5実施形態の製造方法では、第2の改質層Bとして、保護層140を溶解する溶剤が透過性を有するものを使用する。保護層140を溶解する溶剤が透過性を有する観点から、第2の改質層Bは、極薄膜であることが好ましい。極薄膜については、第1実施形態の製造方法において上述したものと同様である。 In the manufacturing method of the fifth embodiment, as the second modified layer B, a layer that is permeable to the solvent that dissolves the protective layer 140 is used. From the viewpoint that the solvent that dissolves the protective layer 140 is permeable, the second modified layer B is preferably an extremely thin film. The ultra-thin film is the same as that described above in the manufacturing method of the first embodiment.

保護層140及び第2の改質層Bの除去は、保護層140を溶解する溶剤による除去等の方法により行うことができる。溶剤は、保護層140の材料、第1の改質層Aの材料、第2の改質層Bの材料等に応じて適宜選択することができ、第1実施形態の製造方法において上述したものと同様である。 The protective layer 140 and the second modified layer B can be removed by a method such as removal using a solvent that dissolves the protective layer 140 . The solvent can be appropriately selected according to the material of the protective layer 140, the material of the first modified layer A, the material of the second modified layer B, and the like. is similar to

本工程では、保護層140に積層された第2の改質層Bは除去されるが、凹部120が開口する面130に積層した第2の改質層Bは残存する。この理由としては、例えば次のようなことが挙げられる。すなわち、凹部120においては、基板110の材質と第1の改質層Aとの間の相互作用により十分大きな付着力が作用するため、凹部120の内表面121に積層した第1の改質層Aは残存し、保護層140及び保護層140に積層された第2の改質層Bは除去される。ここで、相互作用としては、化学結合、静電相互作用、摩擦抵抗、密着等が挙げられる。また、面130においては、基板110の材質と第2の改質層Bとの相互作用により十分大きな付着力が作用するため、面130に積層した第2の改質層Bは残存する。 In this step, the second modified layer B laminated on the protective layer 140 is removed, but the second modified layer B laminated on the surface 130 where the recess 120 opens remains. The reasons for this include, for example, the following. That is, in the recess 120, a sufficiently large adhesive force acts due to the interaction between the material of the substrate 110 and the first modified layer A, so that the first modified layer laminated on the inner surface 121 of the recess 120 A remains, and the protective layer 140 and the second modified layer B laminated on the protective layer 140 are removed. Here, the interaction includes chemical bonding, electrostatic interaction, frictional resistance, adhesion, and the like. Further, on the surface 130, a sufficiently large adhesive force acts due to the interaction between the material of the substrate 110 and the second modified layer B, so that the second modified layer B laminated on the surface 130 remains.

第5実施形態の製造方法において、第2の改質層Bの材料は、第1実施形態の製造方法における第1の改質層について例示したものと同様の材料の中から適宜選択することができる。 In the manufacturing method of the fifth embodiment, the material of the second modified layer B can be appropriately selected from materials similar to those exemplified for the first modified layer in the manufacturing method of the first embodiment. can.

[基板]
1実施形態において、本発明は、凹部を有する基板であって、前記凹部が開口する面に第1の改質層が積層されており、前記凹部の1つあたりの容積が1~1×10fLであり、前記第1の改質層が極薄膜である、基板を提供する。極薄膜については第1実施形態の製造方法において上述したものと同様である。
[substrate]
In one embodiment, the present invention is a substrate having recesses, wherein a first modified layer is laminated on a surface where the recesses open, and the volume per one of the recesses is 1 to 1×10. 9 fL, and wherein the first modified layer is an ultra-thin film. The ultra-thin film is the same as that described above in the manufacturing method of the first embodiment.

本実施形態の基板は、凹部を有する基板であって、前記凹部が開口する面が改質されており、前記凹部の1つあたりの容積が1~1×10fLである基板といいかえることもできる。本明細書において、基板の面が改質されているとは、基板の表面に、基板の材質とは異なる性質が付与されていることを意味する。また、凹部が開口する面の改質された部分は、第1の改質層であるということができる。また、第1の改質層は極薄膜である。 The substrate of the present embodiment can be said to be a substrate having recesses, the surface on which the recesses open is modified, and the volume of each recess is 1 to 1×10 9 fL. can also In this specification, the term "the surface of the substrate is modified" means that the surface of the substrate is endowed with properties different from those of the material of the substrate. Further, the modified portion of the surface where the recess opens can be said to be the first modified layer. Also, the first modified layer is an extremely thin film.

本実施形態の基板において、凹部1つあたりの容積は、例えば1~1×10fLであってもよく、例えば1~1×10fLであってもよい。 In the substrate of this embodiment, the volume per recess may be, for example, 1 to 1×10 6 fL, or may be, for example, 1 to 1×10 3 fL.

本実施形態の基板は、上述した第1実施形態の製造方法により製造することができる。本実施形態において、凹部は基板上に複数存在していることが好ましく、複数の凹部が規則的に配置されたアレイを形成していることが好ましい。また、凹部は、基板の一方面のみに形成されていてもよく、両面に形成されていてもよい。 The substrate of this embodiment can be manufactured by the manufacturing method of the first embodiment described above. In the present embodiment, it is preferable that a plurality of recesses be present on the substrate, and preferably form an array in which the plurality of recesses are regularly arranged. Further, the recess may be formed only on one surface of the substrate, or may be formed on both surfaces.

凹部の大きさ、形状、数、基板の大きさ、形状、材質は、第1実施形態の製造方法において上述したものと同様である。また、凹部の内表面で基板の材質が露出していてもよいし、凹部の内表面に第2の改質層が積層されていてもよい。 The size, shape, and number of recesses, and the size, shape, and material of the substrate are the same as those described above in the manufacturing method of the first embodiment. Further, the material of the substrate may be exposed on the inner surface of the recess, or the second modified layer may be laminated on the inner surface of the recess.

ここで、凹部の内表面に第2の改質層が積層されているとは、凹部の内表面が改質されているといいかえることもできる。また、凹部の内表面の改質された部分は、第2の改質層であるということができる。 Here, it can also be said that the second modified layer is laminated on the inner surface of the recessed portion to modify the inner surface of the recessed portion. Also, the modified portion of the inner surface of the recess can be said to be the second modified layer.

また、第1の改質層、第2の改質層としては、上述したものと同様のものを用いることができる。第1の改質層、第2の改質層は、生体分子若しくは生体分子捕捉分子そのものからなる層であってもよく、生体分子若しくは生体分子捕捉分子以外の材料からなる層であってもよい。また、第1実施形態の製造方法における第1の改質層について上述したのと同様に、第1の改質層又は第2の改質層には、生体分子若しくは生体分子捕捉分子、又は生体分子若しくは生体分子捕捉分子以外の材料を更に結合させてもよい。 As the first modified layer and the second modified layer, the same layers as those described above can be used. The first modified layer and the second modified layer may be layers composed of biomolecules or biomolecule-capturing molecules themselves, or may be layers composed of materials other than biomolecules or biomolecule-capturing molecules. . Further, in the same manner as described above for the first modified layer in the manufacturing method of the first embodiment, the first modified layer or the second modified layer contains biomolecules, biomolecule-capturing molecules, or biomolecules. Materials other than molecules or biomolecule capture molecules may be further bound.

本実施形態の基板は、前記第1の改質層又は第2の改質層に生体分子が固定されたものであってもよい。本実施形態の基板は生体分子の反応の用途に好適に利用することができる。生体分子の反応としては、特に限定されず、例えば、酵素反応、抗原抗体反応、遺伝子の転写、mRNAの翻訳等が挙げられる。本実施形態の基板は、反応させた後の生体分子の測定用、分析用の用途に利用するものであってもよい。 The substrate of this embodiment may have biomolecules immobilized on the first modified layer or the second modified layer. The substrate of this embodiment can be suitably used for biomolecular reactions. Reactions of biomolecules are not particularly limited, and examples thereof include enzyme reactions, antigen-antibody reactions, gene transcription, and mRNA translation. The substrate of the present embodiment may be used for measurement and analysis of biomolecules after reaction.

本実施形態の基板は、例えば、凹部の内表面に積層された第2の改質層が酵素を含むものであってもよい。この場合、凹部に酵素の基質を導入することにより、凹部で酵素反応を行うことができる。その後、酵素反応に応じたシグナルを検出することにより酵素活性を測定することができる。 In the substrate of this embodiment, for example, the second modified layer laminated on the inner surface of the recess may contain an enzyme. In this case, an enzymatic reaction can be carried out in the recess by introducing a substrate for the enzyme into the recess. Enzyme activity can then be measured by detecting a signal according to the enzymatic reaction.

ここで、酵素は酵素変異体ライブラリーを構成する各酵素変異体であってもよい。例えば、基板上の凹部がアレイを形成しており、各凹部にそれぞれアミノ酸配列が異なる酵素変異体を固定させて酵素反応を行うことにより、酵素を大規模にスクリーニングすることができる。 Here, the enzyme may be each enzyme mutant that constitutes an enzyme mutant library. For example, recesses on a substrate form an array, enzyme mutants having different amino acid sequences are immobilized in each recess, and an enzymatic reaction is performed, whereby enzymes can be screened on a large scale.

次に実施例を示して本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

[実験例1]
(改質層を有する基板の製造)
凹部の内表面が親水性であり、凹部が開口する面を疎水性に改質したマイクロリアクターアレイチップを作製した。
[Experimental example 1]
(Production of substrate having modified layer)
A microreactor array chip was prepared in which the inner surface of the recess was hydrophilic and the opening surface of the recess was modified to be hydrophobic.

まず、ドライエッチング加工により、幅30mm、長さ30mmの石英基板の一方面上に、直径4μm、高さ4μmの円柱状の凹部(マイクロリアクター)がピッチ10μmで100万個配列した基板を製造した。 First, by dry etching, a quartz substrate having a width of 30 mm and a length of 30 mm was provided on one side thereof with one million cylindrical concave portions (microreactors) having a diameter of 4 μm and a height of 4 μm arranged at a pitch of 10 μm. .

続いて、基板の凹部が開口する面及び凹部の内表面に、フォトレジストを積層した。続いて、ソフトベークを行い、保護層を形成した。 Subsequently, a photoresist was laminated on the surface of the substrate where the recess was opened and the inner surface of the recess. Subsequently, soft baking was performed to form a protective layer.

続いて、酸素プラズマを用いたドライエッチングを行い、保護層の一部を除去した。この結果、凹部が開口する面が露出し、凹部の内表面に保護層が積層された基板を得た。 Subsequently, dry etching using oxygen plasma was performed to partially remove the protective layer. As a result, a substrate was obtained in which the surfaces where the recesses were opened were exposed and the protective layer was laminated on the inner surfaces of the recesses.

続いて、凹部が開口する面に改質層を形成した。具体的には、まず、有機シランを積層した。有機シランの積層はスピンコートにより行った。続いて、ベークすることにより、凹部が開口する面に疎水性の極薄膜を形成した。この極薄膜が改質層である。 Subsequently, a modified layer was formed on the surface on which the recess was opened. Specifically, organic silane was laminated first. Lamination of organic silane was performed by spin coating. Subsequently, by baking, a hydrophobic ultra-thin film was formed on the surface where the concave portions were opened. This ultra-thin film is the modified layer.

続いて、基板を溶剤に浸し、凹部の内表面に積層された保護層と、余分な改質層を除去した。この結果、凹部が開口する面に疎水性の極薄膜が積層され、凹部の内表面は石英である、改質層を有するマイクロリアクターアレイチップが得られた。 Subsequently, the substrate was immersed in a solvent to remove the protective layer laminated on the inner surface of the recess and the excess modified layer. As a result, a microreactor array chip having a modified layer was obtained in which a hydrophobic ultrathin film was laminated on the surface where the recess was opened and the inner surface of the recess was made of quartz.

[実験例2]
(基板への液体の封入)
実験例1で製造したマイクロリアクターアレイチップのマイクロリアクターアレイにフルオレセイン溶液を封入した。図7(a)~(c)は、実験工程を説明する模式図である。
[Experimental example 2]
(Liquid Encapsulation in Substrate)
A fluorescein solution was enclosed in the microreactor array of the microreactor array chip manufactured in Experimental Example 1. FIGS. 7A to 7C are schematic diagrams for explaining the experimental steps.

まず、図7(a)に示すように、実験例1で製造したマイクロリアクターアレイチップの表面にフルオレセイン溶液Fを垂らした。続いて、図7(b)に示すように、ブレードBLの一方面でフルオレセイン溶液を押し出しながら、他方面でオイルMを伸ばし、マイクロリアクターアレイにフルオレセイン溶液を封入した。図7(c)は、マイクロリアクターアレイにフルオレセイン溶液が封入された様子を示す模式図である。 First, as shown in FIG. 7(a), a fluorescein solution F was dropped on the surface of the microreactor array chip produced in Experimental Example 1. Subsequently, as shown in FIG. 7(b), while pushing out the fluorescein solution on one side of the blade BL, the oil M was spread on the other side to seal the fluorescein solution in the microreactor array. FIG. 7(c) is a schematic diagram showing a state in which a fluorescein solution is enclosed in a microreactor array.

続いて、蛍光顕微鏡でマイクロリアクターアレイチップを観察し、フルオレセイン溶液の封入状態を観察した。 Subsequently, the microreactor array chip was observed with a fluorescence microscope to observe the encapsulation state of the fluorescein solution.

図8(a)は、マイクロリアクターアレイチップの表面にフルオレセイン溶液を垂らした様子を示す写真である。図8(a)に示すように、フルオレセイン溶液が撥水されたことから、マイクロリアクターアレイチップの凹部が開口する面が疎水性に改質されたことが確認された。 FIG. 8(a) is a photograph showing a state in which a fluorescein solution was dropped on the surface of a microreactor array chip. As shown in FIG. 8(a), the fluorescein solution was water-repellent, so it was confirmed that the surface of the microreactor array chip on which the recesses were opened was modified to be hydrophobic.

図8(b)及び(c)は、フルオレセインの蛍光を観察した蛍光顕微鏡写真である。その結果、オイルで封入したマイクロリアクターアレイ内部にフルオレセインの蛍光が確認された。この結果は、マイクロリアクターアレイ内部に液体が入っていることを示し、マイクロリアクターアレイの内表面が親水性であることを示す。 FIGS. 8(b) and (c) are fluorescence microscope photographs of the fluorescence of fluorescein. As a result, fluorescence of fluorescein was confirmed inside the microreactor array sealed with oil. This result indicates that the microreactor array contains liquid inside and that the inner surface of the microreactor array is hydrophilic.

以上の結果から、すでに凹部が形成された基板に、簡便に改質層を積層し、凹部の内表面を親水性に、凹部が開口する面を疎水性に改質できたことが確認された。 From the above results, it was confirmed that by simply laminating the modified layer on the substrate on which the recesses were already formed, the inner surface of the recesses could be modified to be hydrophilic and the surface where the recesses open could be modified to be hydrophobic. .

本発明によれば、凹部を有する基板に、簡便に改質層を積層する技術を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the technique which laminates|stacks a modified layer simply on the board|substrate which has a recessed part can be provided.

100,200,300…改質層を有する基板、110…基板、120…凹部、121…凹部の内表面、130…凹部が開口する面、140…保護層、141…保護層の露出面、A,B…改質層、S…溶剤、F…フルオレセイン溶液、BL…ブレード、M…オイル。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100, 200, 300... Substrate having a modified layer 110... Substrate 120... Recess 121... Inner surface of recess 130... Surface where recess opens 140... Protective layer 141... Exposed surface of protective layer, A , B... modified layer, S... solvent, F... fluorescein solution, BL... blade, M... oil.

Claims (6)

改質層を有する基板の製造方法であって、
凹部を有する基板の、前記凹部が開口する面及び前記凹部の内表面に、保護層を積層することと、
前記保護層の一部を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し、前記凹部の内表面に前記保護層が積層された基板を得ることと、
前記凹部が開口する面に、前記保護層を溶解する溶剤が透過性を有する、第1の改質層を積層することと、
前記基板に前記溶剤を接触させて、前記凹部の内表面に積層された前記保護層を除去することにより、前記凹部が開口する面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることと、
を含む、製造方法。
A method for manufacturing a substrate having a modified layer,
Laminating a protective layer on a surface of a substrate having a recess, where the recess opens, and on an inner surface of the recess;
Obtaining a substrate in which a surface where the recess is opened is exposed by removing a part of the protective layer, and the protective layer is laminated on the inner surface of the recess;
Laminating a first modified layer, which is permeable to a solvent that dissolves the protective layer, on the surface where the recess opens;
Obtaining a substrate having the first modified layer laminated on the surface where the recess opens by removing the protective layer laminated on the inner surface of the recess by bringing the solvent into contact with the substrate. When,
A manufacturing method, including:
前記凹部が開口する面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることの後に、
前記第1の改質層及び前記凹部の内表面に、第2の改質層を積層することと、
前記第1の改質層に積層された前記第2の改質層を除去することにより、前記凹部が開口する面に前記第1の改質層が積層され、前記凹部の内表面に前記第2の改質層が積層された基板を得ることと、
を更に含む、請求項1に記載の製造方法。
After obtaining the substrate in which the first modified layer is laminated on the surface where the recess opens,
Laminating a second modified layer on the first modified layer and the inner surface of the recess;
By removing the second modified layer laminated on the first modified layer, the first modified layer is laminated on the surface where the recess opens, and the inner surface of the recess is covered with the second modified layer. Obtaining a substrate on which the modified layer of 2 is laminated;
The manufacturing method of claim 1, further comprising:
改質層を有する基板の製造方法であって、
凹部を有する基板の、前記凹部が開口する面及び前記凹部の内表面に、第1の改質層を積層することと、
前記第1の改質層に保護層を積層することと、
前記保護層及び前記第1の改質層の一部を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し、前記凹部の内表面に前記第1の改質層及び前記保護層がこの順に積層された基板を得ることと、
前記基板に前記保護層を溶解する溶剤を接触させて、前記凹部の内表面に積層された前記保護層を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し前記凹部の内表面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることと、
を含む、製造方法。
A method for manufacturing a substrate having a modified layer,
Laminating a first modified layer on a surface of a substrate having recesses on which the recesses open and an inner surface of the recesses;
Laminating a protective layer on the first modified layer;
By removing a part of the protective layer and the first modified layer, the surface where the recess opens is exposed, and the first modified layer and the protective layer are formed on the inner surface of the recess in this order. obtaining a laminated substrate;
A solvent that dissolves the protective layer is brought into contact with the substrate to remove the protective layer laminated on the inner surface of the recess. Obtaining a substrate on which one modified layer is laminated;
A manufacturing method, including:
前記凹部が開口する面が露出し前記凹部の内表面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることの後に、
前記凹部の内表面に積層された前記第1の改質層及び前記凹部が開口する面に、第2の改質層を積層することと、
前記凹部の内表面に積層された前記第2の改質層を除去することにより、前記凹部が開口する面に前記第2の改質層が積層され、前記凹部の内表面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることと、
を更に含む、請求項3に記載の製造方法。
After obtaining a substrate in which the surface where the recess opens is exposed and the first modified layer is laminated on the inner surface of the recess,
Laminating a second modified layer on the first modified layer laminated on the inner surface of the recess and on the surface where the recess opens;
By removing the second modified layer laminated on the inner surface of the recess, the second modified layer is laminated on the surface where the recess opens, and the first modified layer is formed on the inner surface of the recess. Obtaining a substrate on which a modified layer is laminated;
4. The manufacturing method of claim 3, further comprising:
改質層を有する基板の製造方法であって、
凹部を有する基板の、前記凹部が開口する面及び前記凹部の内表面に、第1の改質層を積層することと、
前記第1の改質層に保護層を積層することと、
前記保護層及び前記第1の改質層の一部を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し、前記凹部の内表面に前記第1の改質層及び前記保護層がこの順に積層された基板を得ることと、
前記凹部に積層された前記保護層及び前記凹部が開口する面に、第2の改質層を積層することと、
前記凹部に積層された前記保護層及び前記保護層に積層された前記第2の改質層を除去することにより、前記凹部が開口する面に前記第2の改質層が積層され、前記凹部の内表面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることと、
を含む、製造方法。
A method for manufacturing a substrate having a modified layer,
Laminating a first modified layer on a surface of a substrate having recesses on which the recesses open and an inner surface of the recesses;
Laminating a protective layer on the first modified layer;
By removing a part of the protective layer and the first modified layer, the surface where the recess opens is exposed, and the first modified layer and the protective layer are formed on the inner surface of the recess in this order. obtaining a laminated substrate;
Laminating a second modified layer on the protective layer laminated in the recess and on the surface where the recess opens;
By removing the protective layer laminated on the recess and the second modified layer laminated on the protective layer, the second modified layer is laminated on the surface where the recess opens, and the recess is obtaining a substrate having the first modified layer laminated on the inner surface of the
A manufacturing method, including:
前記凹部の1つあたりの容積が1~1×10fLである、請求項1~5のいずれか一項に記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 5, wherein the volume of each recess is 1 to 1 x 109 fL.
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