JP7183347B2 - 音響トランスデューサ、ウェアラブルサウンドデバイス及び音響トランスデューサの製造方法 - Google Patents
音響トランスデューサ、ウェアラブルサウンドデバイス及び音響トランスデューサの製造方法 Download PDFInfo
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Description
Claims (30)
- 音響変換を行うように構成され、ウェアラブルサウンドデバイス内に配置される或いはウェアラブルサウンドデバイス内に配置されることが意図される、音響トランスデューサであって、
少なくとも1つのアンカ構造と、
第1の層内に配置され、第2の層内に配置される前記少なくとも1つのアンカ構造によって固定される、フィルム構造と、
前記フィルム構造上に配置され、ベントを一時的に形成するために前記フィルム構造を作動させるように構成される、アクチュエータとを含み、
前記フィルム構造は、スペースを、ウェアラブルサウンドデバイスのユーザの外耳道に接続されるべき第1の容積と、前記ウェアラブルサウンドデバイスの周囲に接続されるべき第2の容積とに仕切り、
前記外耳道及び前記周囲は、前記フィルム構造が作動させられるときに一時的に開かれる前記ベントを介して接続されることが意図される、
音響トランスデューサ。 - 前記第1の層内に配置される前記フィルム構造は、膜を含み、該膜は、前記音響変換を行うように構成される、請求項1に記載の音響トランスデューサ。
- 前記音響変換を行う前記膜は、前記ベントを形成するために作動させられるように構成され、スリットが、前記膜内に形成され、前記ベントは、前記スリットの故に形成される、請求項2に記載の音響トランスデューサ。
- 前記スリットの傍の前記フィルム構造の部分が、当該音響トランスデューサ内の如何なる他のコンポーネントとも物理的に接触しない、請求項3に記載の音響トランスデューサ。
- 前記スリットは、前記膜を、第1の膜部分と、第2の膜部分とに分割し、
前記第1の膜部分は、第1の変位を有するように作動させられ、
前記第2の膜部分は、第2の変位を有するように作動させられ、
前記スリットの部分に亘って、前記第1の膜部分の前記第1の変位と前記第2の膜部分の前記第2の変位との間の差が、前記膜の厚さよりも大きく、前記ベントは、前記スリットの前記部分に亘って形成される、
請求項3に記載の音響トランスデューサ。 - 前記フィルム構造は、前記第1の層内に配置される第1のフラップを含み、該第1のフラップは、
前記少なくとも1つのアンカ構造の第1のアンカ構造によって固定される第1の端と、
前記ベントを形成するために第1の上下移動を行うように構成される第2の端とを含む、
請求項1に記載の音響トランスデューサ。 - 前記フィルム構造は、前記第1の層内に配置される第2のフラップを含み、該第2のフラップは、
前記少なくとも1つのアンカ構造の第2のアンカ構造によって固定される第1の端と、
前記ベントを形成するために第2の上下移動を行うように構成される、前記第1のフラップの前記第2の端に対向する第2の端とを含む、
請求項6に記載の音響トランスデューサ。 - 前記第1の層内に配置される前記フィルム構造は、前記音響変換を行うように構成される膜を含み、該膜は、前記第1のフラップと、前記第2のフラップとを含む、請求項7に記載の音響トランスデューサ。
- 前記ウェアラブルサウンドデバイスは、ハウジング構造を更に含み、前記第1の容積と前記第2の容積とに分割される前記スペースは、前記ハウジング構造内に形成される、請求項1に記載の音響トランスデューサ。
- 前記ウェアラブルサウンドデバイスは、感知結果を生成するように構成される感知デバイスを更に含み、
前記ベントが形成されたか否かが、前記感知結果に従って決定される、
請求項1に記載の音響トランスデューサ。 - 前記ベントは、前記感知結果によって示される感知量が第1の極性を備える特定の閾値を超えるときに、開いていることが意図され、
前記ベントは、前記感知量が前記第1の極性とは反対の第2の極性を備える前記特定の閾値を超えるときに、閉じていることが意図される、
請求項10に記載の音響トランスデューサ。 - 前記ベントの開放の程度は、前記感知結果によって示される第2の感知量に単調に関連付けられることが意図される、請求項10に記載の音響トランスデューサ。
- 前記感知デバイスは、近接センサを含み、前記感知結果によって示される感知量が、物体と前記近接センサとの間の距離を表し、前記ベントの開放の程度は、前記感知される距離に相関することが意図される、請求項10に記載の音響トランスデューサ。
- 前記感知デバイスは、運動センサを含み、前記感知結果によって示される第2の感知量が、前記ウェアラブルサウンドデバイスの動きを表し、前記ベントの開放の程度は、前記感知される動きに相関することが意図される、請求項10に記載の音響トランスデューサ。
- 前記音響変換を行うように構成される膜を含み、
前記ウェアラブルサウンドデバイスは、前記膜を作動させる駆動信号を生成するように構成される駆動回路を含み、
前記駆動回路は、周波数応答等価器を含み、
前記周波数応答等価器は、前記ベントが開けられているときに有効にされ、
前記周波数応答等価器は、前記ベントが閉じられているときに無効にされる、
請求項1に記載の音響トランスデューサ。 - 音響トランスデューサのための製造方法であって、
第1の層と第2の層とを含むウェーハを提供すること、
前記ウェーハの第1の側面に形成される作動材料を形成し且つパターン化すること、
トレンチラインを形成するために前記ウェーハの前記第1の層をパターン化すること、及び
前記ウェーハの前記第2の層の第1の部分を除去することを含み、
前記第2の層の第2の部分が、少なくとも1つのアンカ構造を形成し、前記パターン化された第1の層は、前記少なくとも1つのアンカ構造によって固定されるフィルム構造を形成し、
スリットが、前記トレンチラインの故に、前記フィルム構造内に形成され且つ前記フィルム構造を貫通し、
前記フィルム構造は、一時的にベントを形成するために作動させられるように構成され、前記ベントは、前記スリットの故に形成され、
前記フィルム構造は、スペースを、外耳道に接続されるべき第1の容積と、ウェアラブルサウンドデバイスの周囲に接続されるべき第2の容積とに仕切り、
前記外耳道及び前記周囲は、一時的に開けられる前記ベントを介して接続されることが意図される、
製造方法。 - 絶縁層が、前記ウェーハ内の前記第1の層と前記第2の層との間に形成され、当該製造方法は、前記スリットが前記フィルム構造を貫通するように、前記絶縁層の一部分を除去することを含む、請求項16に記載の製造方法。
- 前記第1の層は、単結晶シリコンを含み、前記ウェーハは、シリコンオンインシュレータ(SOI)ウェーハである、請求項16に記載の製造方法。
- 前記第1の層は、多結晶シリコンを含み、前記ウェーハは、ポリシリコンオンインシュレータ(POI)ウェーハである、請求項16に記載の製造方法。
- 前記第1の層は、前記第2の層上に直接的に形成される、請求項16に記載の製造方法。
- 前記第1の層は、絶縁層を含む、請求項20に記載の製造方法。
- 前記絶縁層は、二酸化ケイ素を含む、請求項21に記載の製造方法。
- 前記作動材料と前記ウェーハの前記第1の層との間に第1の導電層を形成し且つパターン化することを含み、
前記パターン化された第1の導電層は、アクチュエータのための第1の電極として機能する、
請求項16に記載の製造方法。 - 前記作動材料の上に第2の導電層を形成し且つパターン化することを含み、
前記パターン化された第2の導電層は、アクチュエータのための第2の電極として機能する、
請求項16に記載の製造方法。 - 前記第2の導電層を覆う保護層を形成することを含む、請求項24に記載の製造方法。
- 前記作動材料は、圧電材料を含む、請求項16に記載の製造方法。
- 前記圧電材料は、ジルコン酸チタン酸鉛(PZT)材料を含む、請求項26に記載の製造方法。
- 前記フィルム構造は、音響変換を行うように構成される膜を含み、
前記フィルム構造は、前記スリットによって仕切られる第1の部分と第2の部分とを含み、前記第1の部分及び前記第2の部分は、前記ベントを一時的に形成するために作動させられるように構成され、
前記第1の部分、前記第2の部分及び前記膜は、同じプロセスで製造される、
請求項16に記載の製造方法。 - 前記フィルム構造は、フラップを含む前記第1の層を介して製造され、
前記フラップの自由端が、前記ベントを形成するために上下移動を行うように構成され、
前記フラップの自由端は、前記上下移動を行うときに、前記音響トランスデューサの如何なるコンポーネントとも接触しない、
請求項16に記載の製造方法。 - 前記ベントを形成することに起因して生成される正味空気移動は、実質的にゼロである、請求項16に記載の製造方法。
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