JP7181824B2 - Display device - Google Patents

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Description

本発明は、表示装置に関する。 The present invention relates to display devices.

特許文献1には、液晶表示装置に設けられる保護回路が記載されている。特許文献1に記載されている液晶表示装置は、絶縁基板の周辺部において、外部接続用のパッドと、垂直走査回路、水平走査回路等の内部回路と、内部回路の入力段に設けられた保護回路と、を有する。保護回路は、ダイオード接続された複数のトランジスタを有する。保護回路は、外部から印加された静電気を電源ライン等に逃がすことで、内部回路に流れる静電気を抑制することができる。 Patent Document 1 describes a protection circuit provided in a liquid crystal display device. The liquid crystal display device described in Patent Document 1 includes pads for external connection, internal circuits such as a vertical scanning circuit and a horizontal scanning circuit, and protection provided at the input stage of the internal circuit in the peripheral portion of the insulating substrate. and a circuit. The protection circuit has a plurality of diode-connected transistors. The protection circuit releases static electricity applied from the outside to a power supply line or the like, thereby suppressing static electricity flowing in the internal circuit.

特開平6-51346号公報JP-A-6-51346

表示装置に設けられる保護回路は、静電気に対する耐性を向上させることが要求されている。 Protection circuits provided in display devices are required to have improved resistance to static electricity.

本発明は、静電気に対する耐性を向上させることができる表示装置を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a display device capable of improving resistance to static electricity.

本発明の一態様の表示装置は、基板と、前記基板の周辺領域に設けられた複数の端子と、前記基板の周辺領域に設けられ、信号線を介して前記端子と接続された内部回路と、前記内部回路と前記端子との間に設けられた保護回路と、を有し、前記保護回路は、第1電源線及び前記信号線に接続される第1トランジスタと、前記第1トランジスタのゲートに接続され、一端及び他端が前記信号線に接続される第1ゲート線と、第2電源線及び前記信号線に接続される第2トランジスタと、前記第2トランジスタのゲートに接続され、一端及び他端が前記第2電源線に接続される第2ゲート線と、を有する。 A display device of one embodiment of the present invention includes a substrate, a plurality of terminals provided in a peripheral region of the substrate, and an internal circuit provided in the peripheral region of the substrate and connected to the terminals through signal lines. and a protection circuit provided between the internal circuit and the terminal, the protection circuit including a first transistor connected to a first power supply line and the signal line, and a gate of the first transistor. a first gate line connected to the signal line at one end and the other end; a second transistor connected to the second power supply line and the signal line; and a second gate line having the other end connected to the second power supply line.

図1は、第1実施形態に係る表示装置を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing the display device according to the first embodiment. 図2は、アレイ基板を模式的に示す平面図である。FIG. 2 is a plan view schematically showing the array substrate. 図3は、表示装置の概略断面構造を表す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a schematic cross-sectional structure of the display device. 図4は、表示領域の画素配列を表す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing the pixel arrangement of the display area. 図5は、第1実施形態に係る保護回路を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a protection circuit according to the first embodiment. 図6は、保護回路を模式的に示す平面図である。FIG. 6 is a plan view schematically showing the protection circuit. 図7は、図6のVII-VII’断面図である。7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII' of FIG. 6. FIG. 図8は、図6のVIII-VIII’断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line VIII-VIII' of FIG. 図9は、第2実施形態に係る表示装置の、複数の端子と、保護回路との接続構成を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a connection configuration between a plurality of terminals and a protection circuit of the display device according to the second embodiment. 図10は、図9のX-X’断面図である。10 is a cross-sectional view taken along the line XX' of FIG. 9. FIG. 図11は、端子接続配線を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing terminal connection wiring. 図12は、第1変形例に係る保護回路を示す回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram showing a protection circuit according to the first modified example. 図13は、第2変形例に係る保護回路を示す回路図である。FIG. 13 is a circuit diagram showing a protection circuit according to a second modification.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 A form (embodiment) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. In addition, the components described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the components described below can be combined as appropriate. It should be noted that the disclosure is merely an example, and those skilled in the art will naturally include within the scope of the present invention any appropriate modifications that can be easily conceived while maintaining the gist of the invention. In addition, in order to make the description clearer, the drawings may schematically show the width, thickness, shape, etc. of each part compared to the actual embodiment, but this is only an example, and the interpretation of the present invention is not intended. It is not limited. In addition, in this specification and each figure, the same reference numerals may be given to the same elements as those described above with respect to the existing figures, and detailed description thereof may be omitted as appropriate.

(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係る表示装置を示す斜視図である。図1に示すように、表示装置1は、アレイ基板SUB1と、対向基板SUB2と、第1偏光板PL1と、第2偏光板PL2と、照明装置ILと、を備えている。第3方向Dzにおいて、照明装置IL、第1偏光板PL1、アレイ基板SUB1、対向基板SUB2、第2偏光板PL2の順に積層される。
(First embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing the display device according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the display device 1 includes an array substrate SUB1, a counter substrate SUB2, a first polarizing plate PL1, a second polarizing plate PL2, and an illumination device IL. In the third direction Dz, the illumination device IL, the first polarizing plate PL1, the array substrate SUB1, the counter substrate SUB2, and the second polarizing plate PL2 are laminated in this order.

本実施形態において、第1方向Dxは、アレイ基板SUB1の長辺に沿った方向である。第2方向Dyは、第1方向Dxと交差(又は直交)する方向である。これに限定されず、第2方向Dyは第1方向Dxに対して90°以外の角度で交差していてもよい。第1方向Dxと第2方向Dyとで規定される平面は、アレイ基板SUB1の面と平行となる。また、第1方向Dx及び第2方向Dyに直交する第3方向Dzは、アレイ基板SUB1の厚み方向である。 In this embodiment, the first direction Dx is a direction along the long side of the array substrate SUB1. The second direction Dy is a direction crossing (or orthogonal to) the first direction Dx. The second direction Dy is not limited to this, and may intersect the first direction Dx at an angle other than 90°. A plane defined by the first direction Dx and the second direction Dy is parallel to the surface of the array substrate SUB1. A third direction Dz orthogonal to the first direction Dx and the second direction Dy is the thickness direction of the array substrate SUB1.

アレイ基板SUB1は、複数の画素PXを駆動するための駆動回路基板である。アレイ基板SUB1は、基体として第1絶縁基板10を有する。アレイ基板SUB1は、第1絶縁基板10に設けられたスイッチング素子Trや、走査線GL、画素信号線SL(図4参照)等の各種配線を有する。対向基板SUB2は、アレイ基板SUB1と対向して設けられ、基体として第2絶縁基板20を有する。第1絶縁基板10及び第2絶縁基板20は、例えばガラス基板や樹脂基板などの透光性を有する材料で形成される。対向基板SUB2は、第2絶縁基板20に設けられたカラーフィルタCF、遮光層BM(図4参照)等を有する。 The array substrate SUB1 is a drive circuit board for driving a plurality of pixels PX. The array substrate SUB1 has a first insulating substrate 10 as a base. The array substrate SUB1 has switching elements Tr provided on the first insulating substrate 10, and various wirings such as scanning lines GL and pixel signal lines SL (see FIG. 4). The counter substrate SUB2 is provided facing the array substrate SUB1 and has a second insulating substrate 20 as a base. The first insulating substrate 10 and the second insulating substrate 20 are made of a translucent material such as a glass substrate or a resin substrate. The counter substrate SUB2 has a color filter CF, a light shielding layer BM (see FIG. 4), etc. provided on the second insulating substrate 20 .

アレイ基板SUB1の第2方向Dyの長さは、対向基板SUB2の第2方向Dyの長さよりも長い。図1に示すように、第1絶縁基板10は、張出部10Aを有する。張出部10Aは、平面視で、第2絶縁基板20よりも外側に張り出した部分である。 The length of the array substrate SUB1 in the second direction Dy is longer than the length of the counter substrate SUB2 in the second direction Dy. As shown in FIG. 1, the first insulating substrate 10 has a projecting portion 10A. The protruding portion 10A is a portion that protrudes outward from the second insulating substrate 20 in plan view.

張出部10Aには、ドライバIC(Integrated Circuit)110及び配線基板101が設けられている。ドライバIC110は、表示装置1の表示を制御する制御回路等を含む。ドライバIC110は、第1絶縁基板10にCOG(Chip on Grlass)実装されている。また、この例に限らず、ドライバIC110は、例えばACFを用いたCOF(Chip On Film)によって配線基板101に実装されていてもよい(以下、「COF実装」と称する)。ドライバIC110の配置は、これに限定されず、例えばモジュール外部の制御基板やフレキシブル基板上に備えられていてもよい。 A driver IC (Integrated Circuit) 110 and a wiring board 101 are provided on the projecting portion 10A. The driver IC 110 includes a control circuit and the like for controlling the display of the display device 1 . The driver IC 110 is COG (Chip on Grass) mounted on the first insulating substrate 10 . The driver IC 110 may be mounted on the wiring board 101 by COF (Chip On Film) using ACF, for example (hereinafter referred to as "COF mounting"). The arrangement of the driver IC 110 is not limited to this, and may be provided on a control board or flexible board outside the module, for example.

配線基板101は、例えばフレキシブル配線基板(FPC:Flexible Printed Circuits)によって構成される。配線基板101は、例えば異方性導電フィルム(ACF:Anisotropic Conductive Film)を用いたFOG(Film On Glass)によって第1絶縁基板10の複数の端子と接続される(以下、「FOG実装」と称する)。これにより、第1絶縁基板10の各配線と、配線基板101の各配線とがそれぞれ電気的に接続される。 The wiring board 101 is configured by, for example, a flexible printed circuit (FPC). The wiring substrate 101 is connected to a plurality of terminals of the first insulating substrate 10 by FOG (Film On Glass) using, for example, an anisotropic conductive film (ACF: Anisotropic Conductive Film) (hereinafter referred to as “FOG mounting”). ). Thereby, each wiring of the first insulating substrate 10 and each wiring of the wiring substrate 101 are electrically connected.

アレイ基板SUB1が照明装置ILと対向し、対向基板SUB2が表示面側に位置する。照明装置ILは、アレイ基板SUB1に向けて光を照射する。照明装置ILは、例えばサイドライト型バックライトや、直下型バックライトが適用可能である。照明装置ILとしては、種々の形態のものが適用可能であるが、その詳細な構造については説明を省略する。 The array substrate SUB1 faces the illumination device IL, and the counter substrate SUB2 is positioned on the display surface side. The illumination device IL irradiates light toward the array substrate SUB1. For example, a sidelight type backlight or a direct type backlight can be applied to the illumination device IL. Although various forms are applicable as the illumination device IL, the detailed structure thereof will not be described.

第1偏光板PL1を含む光学素子は、第1絶縁基板10の外面、あるいは、照明装置ILと対向する面に配置される。第2偏光板PL2を含む光学素子は、第2絶縁基板20の外面、あるいは、観察位置側の面に配置される。第1偏光板PL1の第1偏光軸及び第2偏光板PL2の第2偏光軸は、例えばX-Y平面においてクロスニコルの位置関係にある。なお、第1偏光板PL1及び第2偏光板PL2を含む光学素子は、位相差板などの他の光学機能素子を含んでいてもよい。 An optical element including the first polarizing plate PL1 is arranged on the outer surface of the first insulating substrate 10 or on the surface facing the illumination device IL. An optical element including the second polarizing plate PL2 is arranged on the outer surface of the second insulating substrate 20 or the observation position side surface. The first polarizing axis of the first polarizing plate PL1 and the second polarizing axis of the second polarizing plate PL2 are in a crossed Nicol positional relationship on the XY plane, for example. Note that the optical element including the first polarizing plate PL1 and the second polarizing plate PL2 may include other optical functional elements such as retardation plates.

図2は、アレイ基板を模式的に示す平面図である。図2に示すように、表示装置1において、表示領域DAの外側に周辺領域BEが設けられている。表示領域DAは、四角形状に形成されているが、表示領域DAの外形の形状は限定されない。例えば、表示領域DAには、角部が曲線状に設けられた略四角形状であってもよく、切り欠きがあってもよく、あるいは表示領域DAが他の多角形状に形成されてもよいし、表示領域DAが円形状あるいは楕円形状などの他の形状に形成されてもよい。 FIG. 2 is a plan view schematically showing the array substrate. As shown in FIG. 2, in the display device 1, a peripheral area BE is provided outside the display area DA. Although the display area DA is formed in a rectangular shape, the outer shape of the display area DA is not limited. For example, the display area DA may have a substantially rectangular shape with curved corners, may have a notch, or may be formed in another polygonal shape. , the display area DA may be formed in other shapes such as a circular shape or an elliptical shape.

表示領域DAは、画像を表示させるための領域であり、複数の画素PXと重なる領域である。周辺領域BEは、アレイ基板SUB1の外周よりも内側で、かつ、表示領域DAよりも外側の領域を示す。なお、周辺領域BEは表示領域DAを囲う枠状であってもよく、その場合、周辺領域BEは額縁領域ともいえる。 The display area DA is an area for displaying an image, and is an area overlapping with a plurality of pixels PX. The peripheral area BE indicates an area inside the outer periphery of the array substrate SUB1 and outside the display area DA. Note that the peripheral area BE may be frame-shaped surrounding the display area DA, in which case the peripheral area BE can be said to be a frame area.

周辺領域BEは、第1絶縁基板10の端部と表示領域DAとの間に位置する。周辺領域BEのうち、ドライバIC110及び配線基板101が設けられる領域を部分周辺領域sBEとする。部分周辺領域sBEは、表示領域DAの一辺と第1絶縁基板10の端部10sとの間の領域であり、張出部10Aは、部分周辺領域sBEのうち端部10sに沿った部分である。 The peripheral area BE is located between the edge of the first insulating substrate 10 and the display area DA. An area in the peripheral area BE where the driver IC 110 and the wiring board 101 are provided is called a partial peripheral area sBE. The partial peripheral area sBE is an area between one side of the display area DA and the edge 10s of the first insulating substrate 10, and the projecting portion 10A is a portion of the partial peripheral area sBE along the edge 10s. .

第1絶縁基板10の部分周辺領域sBEには、複数の端子T1、保護回路3、内部回路4、信号線接続配線51、信号出力配線52、信号線53等の各種配線が設けられる。また、第1絶縁基板10の周辺領域BEのうち、第2方向Dyに沿って延在する領域にはゲートドライバ18が設けられる。なお、ゲートドライバ18は、表示領域DAを挟んで2つ設けられているが、いずれか一方のみ設けられていてもよい。 Various wirings such as a plurality of terminals T1, a protection circuit 3, an internal circuit 4, a signal line connection wiring 51, a signal output wiring 52, and a signal line 53 are provided in the partial peripheral region sBE of the first insulating substrate 10. FIG. A gate driver 18 is provided in a region extending along the second direction Dy in the peripheral region BE of the first insulating substrate 10 . Although two gate drivers 18 are provided across the display area DA, only one of them may be provided.

複数の信号出力配線52は、ドライバIC110と信号線接続配線51とを接続する。複数の信号出力配線52は、第2方向Dyに対して傾斜して設けられ、ドライバIC110から供給された信号を信号線接続配線51に出力する。 A plurality of signal output wirings 52 connect the driver IC 110 and the signal line connection wirings 51 . A plurality of signal output wirings 52 are provided inclined with respect to the second direction Dy, and output signals supplied from the driver IC 110 to the signal line connection wirings 51 .

信号線接続配線51は、信号出力配線52と、表示領域DAに設けられた複数の画素信号線SL(図4参照)とを接続する。図2に示す例では、信号線接続配線51は、対向基板SUB2の第2絶縁基板20と重なる領域に設けられ、信号出力配線52は、第2絶縁基板20と重ならない領域に設けられる。図示は省略するが、信号線接続配線51と画素信号線SLとの間には、例えばマルチプレクサなどの信号線接続回路が設けられる。 The signal line connection wiring 51 connects the signal output wiring 52 and a plurality of pixel signal lines SL (see FIG. 4) provided in the display area DA. In the example shown in FIG. 2 , the signal line connection wiring 51 is provided in a region overlapping the second insulating substrate 20 of the opposing substrate SUB2, and the signal output wiring 52 is provided in a region not overlapping the second insulating substrate 20 . Although not shown, a signal line connection circuit such as a multiplexer is provided between the signal line connection wiring 51 and the pixel signal line SL.

信号線53は、ゲートドライバ18に各種制御信号を供給する配線である。信号線53は、例えば、クロック信号、電源電圧、スイッチング素子Trを駆動するゲート駆動信号(走査信号)等の信号を、ゲートドライバ18に供給する。ゲートドライバ18は、制御信号に基づいて、表示領域DAに設けられた複数の走査線GL(図4参照)を走査する。 A signal line 53 is a wiring for supplying various control signals to the gate driver 18 . The signal line 53 supplies the gate driver 18 with signals such as a clock signal, a power supply voltage, and a gate driving signal (scanning signal) for driving the switching element Tr. The gate driver 18 scans a plurality of scanning lines GL (see FIG. 4) provided in the display area DA based on the control signal.

内部回路4は、信号線53を介してドライバIC110と接続される。内部回路4は、ドライバIC110から供給される各種制御信号の信号処理を行って、ゲートドライバ18に信号を出力する回路である。内部回路4は、複数の薄膜トランジスタを有しており、種々の形態のものが適用可能である。 Internal circuit 4 is connected to driver IC 110 via signal line 53 . The internal circuit 4 is a circuit that performs signal processing on various control signals supplied from the driver IC 110 and outputs signals to the gate driver 18 . The internal circuit 4 has a plurality of thin film transistors, and various forms are applicable.

複数の端子T1は、ドライバIC110と内部回路4との間に設けられ、張出部10A、すなわち、第2絶縁基板20と重ならない領域に設けられる。複数の端子T1は、信号線53等の各種配線に接続される。言い換えると、内部回路4は、信号線53を介して複数の端子T1と接続される。複数の端子T1は、例えば、画素信号線SL、走査線GL、信号線接続配線51、信号線53等の検査の際に用いられる検査用端子である。 A plurality of terminals T<b>1 are provided between the driver IC 110 and the internal circuit 4 , and are provided in the projecting portion 10</b>A, that is, in a region that does not overlap the second insulating substrate 20 . The multiple terminals T1 are connected to various wirings such as the signal line 53 . In other words, the internal circuit 4 is connected to the multiple terminals T1 via the signal lines 53 . The plurality of terminals T1 are, for example, inspection terminals used when inspecting the pixel signal lines SL, the scanning lines GL, the signal line connection wirings 51, the signal lines 53, and the like.

保護回路3は、複数の端子T1と内部回路4との間に設けられる。保護回路3は、外部から印加された静電気、例えば複数の端子T1に印加された静電気が内部回路4に流れることを抑制する回路である。 The protection circuit 3 is provided between the multiple terminals T1 and the internal circuit 4 . The protection circuit 3 is a circuit that suppresses static electricity applied from the outside, for example, static electricity applied to a plurality of terminals T<b>1 , from flowing to the internal circuit 4 .

図3は、表示装置の概略断面構造を表す断面図である。図3は、図2のIII-III’線に沿う断面図を示している。図3に示すように、対向基板SUB2は、アレイ基板SUB1の表面に垂直な方向に対向して配置される。液晶層LCは、アレイ基板SUB1と対向基板SUB2との間に設けられる。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing a schematic cross-sectional structure of the display device. FIG. 3 shows a cross-sectional view along line III-III' of FIG. As shown in FIG. 3, the counter substrate SUB2 is arranged to face the surface of the array substrate SUB1 in a direction perpendicular to it. The liquid crystal layer LC is provided between the array substrate SUB1 and the counter substrate SUB2.

アレイ基板SUB1は、第1絶縁基板10の対向基板SUB2と対向する側に、第1絶縁膜11、第2絶縁膜12、第3絶縁膜13、第4絶縁膜14、第5絶縁膜15、画素信号線SL、画素電極PE、共通電極DE、第1配向膜AL1等を備えている。 The array substrate SUB1 has a first insulating film 11, a second insulating film 12, a third insulating film 13, a fourth insulating film 14, a fifth insulating film 15, a It includes a pixel signal line SL, a pixel electrode PE, a common electrode DE, a first alignment film AL1, and the like.

なお、本明細書において、第1絶縁基板10に垂直な方向において、第1絶縁基板10から第2絶縁基板20に向かう方向を「上側」又は単に「上」とする。また、第2絶縁基板20から第1絶縁基板10に向かう方向を「下側」又は単に「下」とする。また、「平面視」とは、第1絶縁基板10に垂直な方向から見た場合をいう。 In this specification, the direction from the first insulating substrate 10 to the second insulating substrate 20 in the direction perpendicular to the first insulating substrate 10 is referred to as "upper" or simply "upper". Also, the direction from the second insulating substrate 20 to the first insulating substrate 10 is referred to as "lower side" or simply "lower side." Also, “planar view” refers to the case when viewed from a direction perpendicular to the first insulating substrate 10 .

第1絶縁膜11は、第1絶縁基板10の上に設けられる。第2絶縁膜12は、第1絶縁膜11の上に設けられる。第3絶縁膜13は、第2絶縁膜12の上に設けられる。信号線SLは、第3絶縁膜13の上に設けられる。第4絶縁膜14は、第3絶縁膜13の上に設けられ、信号線SLを覆っている。なお、図3では図示されないが、走査線GLは、第2絶縁膜12の上に設けられる。 A first insulating film 11 is provided on the first insulating substrate 10 . A second insulating film 12 is provided on the first insulating film 11 . A third insulating film 13 is provided on the second insulating film 12 . A signal line SL is provided on the third insulating film 13 . The fourth insulating film 14 is provided on the third insulating film 13 and covers the signal line SL. Although not shown in FIG. 3, the scanning lines GL are provided on the second insulating film 12 .

共通電極DEは、第4絶縁膜14の上に設けられる。共通電極DEは、表示領域DAに亘って連続して設けられている。ただし、これに限定されず、共通電極DEはスリットが設けられ、複数に分割されていてもよい。共通電極DEは、第5絶縁膜15によって覆われている。 A common electrode DE is provided on the fourth insulating film 14 . The common electrode DE is provided continuously over the display area DA. However, it is not limited to this, and the common electrode DE may be provided with a slit and divided into a plurality of parts. The common electrode DE is covered with the fifth insulating film 15 .

画素電極PEは、第5絶縁膜15の上に設けられ、第5絶縁膜15を介して共通電極DEと対向している。画素電極PE及び共通電極DEは、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透光性を有する導電材料によって形成されている。画素電極PE及び第5絶縁膜15は、第1配向膜AL1によって覆われている。 The pixel electrode PE is provided on the fifth insulating film 15 and faces the common electrode DE with the fifth insulating film 15 interposed therebetween. The pixel electrode PE and the common electrode DE are made of a translucent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). The pixel electrode PE and the fifth insulating film 15 are covered with the first alignment film AL1.

第1絶縁膜11、第2絶縁膜12、第3絶縁膜13及び第5絶縁膜15は、例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物などの透光性を有する無機系材料によって形成されている。第4絶縁膜14は、透光性を有する樹脂材料によって形成され、無機系材料によって形成された他の絶縁膜と比べて厚い膜厚を有している。 The first insulating film 11, the second insulating film 12, the third insulating film 13, and the fifth insulating film 15 are made of, for example, a translucent inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride. The fourth insulating film 14 is made of a translucent resin material and has a greater film thickness than other insulating films made of an inorganic material.

対向基板SUB2は、第2絶縁基板20のアレイ基板SUB1と対向する側に、遮光層BM、カラーフィルタCFR、CFG、CFB、オーバーコート層OC、第2配向膜AL2などを備えている。対向基板SUB2は、第2絶縁基板20のアレイ基板SUB1と反対側に導電層21を備えている。 The counter substrate SUB2 includes, on the side of the second insulating substrate 20 facing the array substrate SUB1, a light shielding layer BM, color filters CFR, CFG, CFB, an overcoat layer OC, a second alignment film AL2, and the like. The counter substrate SUB2 has a conductive layer 21 on the opposite side of the second insulating substrate 20 to the array substrate SUB1.

表示領域DAにおいて、遮光層BMは、第2絶縁基板20のアレイ基板SUB1と対向する側に位置している。そして、遮光層BMは、画素電極PEとそれぞれ対向する開口部を規定している。画素電極PEは、画素PXの開口部ごとに区画されている。遮光層BMは、黒色の樹脂材料や、遮光性の金属材料によって形成されている。 In the display area DA, the light blocking layer BM is located on the side of the second insulating substrate 20 facing the array substrate SUB1. The light shielding layer BM defines openings facing the pixel electrodes PE. The pixel electrode PE is partitioned for each opening of the pixel PX. The light shielding layer BM is made of a black resin material or a light shielding metal material.

カラーフィルタCFR、CFG、CFBのそれぞれは、第2絶縁基板20のアレイ基板SUB1と対向する側に位置し、それぞれの端部が遮光層BMに重なっている。一例では、カラーフィルタCFR、CFG、CFBは、それぞれ赤色、緑色、青色に着色された樹脂材料によって形成されている。 Each of the color filters CFR, CFG, and CFB is located on the side of the second insulating substrate 20 facing the array substrate SUB1, and their ends overlap the light shielding layer BM. In one example, the color filters CFR, CFG, and CFB are made of resin materials colored red, green, and blue, respectively.

オーバーコート層OCは、カラーフィルタCFR、CFG、CFBを覆っている。オーバーコート層OCは、透光性を有する樹脂材料によって形成されている。第2配向膜AL2は、オーバーコート層OCを覆っている。第1配向膜AL1及び第2配向膜AL2は、例えば、水平配向性を示す材料によって形成されている。 An overcoat layer OC covers the color filters CFR, CFG, and CFB. The overcoat layer OC is made of a translucent resin material. The second alignment film AL2 covers the overcoat layer OC. The first alignment film AL1 and the second alignment film AL2 are made of, for example, a material exhibiting horizontal alignment.

導電層21は、第2絶縁基板20の上に設けられる。導電層21は、例えばITO等の透光性の導電性材料である。外部から印加される静電気や、第2偏光板PL2に帯電した静電気は、導電層21を流れる。表示装置1は、静電気を短時間に除去することができ、表示層である液晶層LCに加えられる静電気を低減することができる。これにより、表示装置1は、ESD耐性を向上させることができる。 A conductive layer 21 is provided on the second insulating substrate 20 . The conductive layer 21 is, for example, a translucent conductive material such as ITO. Static electricity applied from the outside and static electricity charged on the second polarizing plate PL2 flow through the conductive layer 21 . The display device 1 can remove static electricity in a short time, and can reduce static electricity applied to the liquid crystal layer LC, which is the display layer. Thereby, the display device 1 can improve the ESD resistance.

アレイ基板SUB1及び対向基板SUB2は、第1配向膜AL1及び第2配向膜AL2が向かい合うように配置されている。液晶層LCは、第1配向膜AL1と第2配向膜AL2との間に封入されている。液晶層LCは、誘電率異方性が負のネガ型液晶材料、あるいは、誘電率異方性が正のポジ型液晶材料によって構成されている。 The array substrate SUB1 and the counter substrate SUB2 are arranged such that the first alignment film AL1 and the second alignment film AL2 face each other. The liquid crystal layer LC is enclosed between the first alignment film AL1 and the second alignment film AL2. The liquid crystal layer LC is composed of a negative liquid crystal material with negative dielectric anisotropy or a positive liquid crystal material with positive dielectric anisotropy.

例えば、液晶層LCがネガ型液晶材料である場合であって、液晶層LCに電圧が印加されていない状態では、液晶分子LMは、X-Y平面内において、その長軸が第1方向Dxに沿う方向に初期配向している。一方、液晶層LCに電圧が印加された状態、つまり、画素電極PEと検出電極DEとの間に電界が形成されたオン時において、液晶分子LMは、電界の影響を受けてその配向状態が変化する。オン時において、入射した直線偏光は、その偏光状態が液晶層LCを通過する際に液晶分子LMの配向状態に応じて変化する。 For example, when the liquid crystal layer LC is a negative liquid crystal material and no voltage is applied to the liquid crystal layer LC, the long axis of the liquid crystal molecule LM is in the first direction Dx in the XY plane. is initially oriented in the direction along On the other hand, when a voltage is applied to the liquid crystal layer LC, that is, when an electric field is formed between the pixel electrode PE and the detection electrode DE, the liquid crystal molecules LM are affected by the electric field and their alignment state is changed to Change. In the ON state, the incident linearly polarized light changes its polarization state according to the alignment state of the liquid crystal molecules LM when passing through the liquid crystal layer LC.

図4は、表示領域の画素配列を表す回路図である。アレイ基板SUB1には、図4に示す各副画素SPXのスイッチング素子Tr、画素信号線SL、走査線GL等が形成されている。画素信号線SLは、第2方向Dyに延在する。画素信号線SLは、各画素電極PE(図3参照)に画素信号を供給するための配線である。走査線GLは、第1方向Dxに延在する。走査線GLは、各スイッチング素子Trを駆動する駆動信号(走査信号)を供給するための配線である。 FIG. 4 is a circuit diagram showing the pixel arrangement of the display area. On the array substrate SUB1, the switching elements Tr of each sub-pixel SPX, the pixel signal lines SL, the scanning lines GL, etc. shown in FIG. 4 are formed. The pixel signal line SL extends in the second direction Dy. The pixel signal line SL is a wiring for supplying a pixel signal to each pixel electrode PE (see FIG. 3). The scanning line GL extends in the first direction Dx. The scanning line GL is wiring for supplying a driving signal (scanning signal) for driving each switching element Tr.

画素PXは、複数の副画素SPXが含まれる。副画素SPXは、それぞれスイッチング素子Tr及び液晶層LCの容量を備えている。スイッチング素子Trは、薄膜トランジスタにより構成されるものであり、この例では、nチャネルのMOS(Metal Oxide Semiconductor)型のTFTで構成されている。図3に示す画素電極PEと共通電極DEとの間に第5絶縁膜15が設けられ、これらによって図4に示す保持容量Csが形成される。 A pixel PX includes a plurality of sub-pixels SPX. Each sub-pixel SPX has a capacitance of a switching element Tr and a liquid crystal layer LC. The switching element Tr is composed of a thin film transistor, and in this example, is composed of an n-channel MOS (Metal Oxide Semiconductor) type TFT. A fifth insulating film 15 is provided between the pixel electrode PE and the common electrode DE shown in FIG. 3 to form the storage capacitor Cs shown in FIG.

図3に示すカラーフィルタCFR、CFG、CFBは、例えば赤(R)、緑(G)、青(B)の3色に着色された色領域が周期的に配列されている。各副画素SPXに、R、G、Bの3色の色領域が1組として対応付けられる。そして、3色の色領域に対応する副画素SPXを1組として画素PXが構成される。なお、カラーフィルタは、4色以上の色領域を含んでいてもよい。この場合、画素PXは、4つ以上の副画素SPXを含んでいてもよい。 In the color filters CFR, CFG, and CFB shown in FIG. 3, for example, three color regions of red (R), green (G), and blue (B) are arranged periodically. Each sub-pixel SPX is associated with a set of three color areas of R, G, and B. FIG. A pixel PX is formed by using a set of sub-pixels SPX corresponding to the three color regions. Note that the color filter may include color areas of four or more colors. In this case, the pixel PX may include four or more sub-pixels SPX.

次に、保護回路3の詳細な構成について説明する。図5は、第1実施形態に係る保護回路を示す回路図である。図5に示すように、保護回路3は、複数の第1トランジスタTr1と、複数の第2トランジスタTr2と、第1電源線31と、第2電源線32と、ソース線33と、ドレイン線34と、第1ゲート線35と、第2ゲート線36とを有する。 Next, a detailed configuration of the protection circuit 3 will be described. FIG. 5 is a circuit diagram showing a protection circuit according to the first embodiment. As shown in FIG. 5, the protection circuit 3 includes a plurality of first transistors Tr1, a plurality of second transistors Tr2, a first power supply line 31, a second power supply line 32, a source line 33, and a drain line 34. , a first gate line 35 and a second gate line 36 .

第1電源線31は、第1電源111に接続され、第1電源電圧VDDが供給される。第1電源線31は、第1電源電圧VDDを複数の第1トランジスタTr1に供給する配線である。第2電源線32は、第2電源112に接続され、第2電源電圧VSSが供給される。第2電源線32は、第2電源電圧VSSを複数の第2トランジスタTr2に供給する配線である。第1電源電圧VDDは、第2電源電圧VSSよりも高い電位を有する電圧信号である。第1電源電圧VDDは、信号線53から供給される信号よりも高い電位を有し、第2電源電圧VSSは、信号線53から供給される信号よりも低い電位を有する。 The first power supply line 31 is connected to the first power supply 111 and supplied with the first power supply voltage VDD. The first power supply line 31 is a wiring that supplies the first power supply voltage VDD to the plurality of first transistors Tr1. The second power supply line 32 is connected to the second power supply 112 and supplied with the second power supply voltage VSS. The second power supply line 32 is a wiring that supplies the second power supply voltage VSS to the plurality of second transistors Tr2. The first power supply voltage VDD is a voltage signal having a higher potential than the second power supply voltage VSS. The first power supply voltage VDD has a higher potential than the signal supplied from the signal line 53 and the second power supply voltage VSS has a lower potential than the signal supplied from the signal line 53 .

なお、第1電源111及び第2電源112は、ドライバIC110に内蔵された電源回路であってもよいし、配線基板101を介して外部に設けられた電源回路であってもよい。 The first power supply 111 and the second power supply 112 may be power supply circuits built in the driver IC 110 or may be external power supply circuits via the wiring substrate 101 .

複数の第1トランジスタTr1及び複数の第2トランジスタTr2は、nチャネルのMOS型のTFTで構成される。複数の第1トランジスタTr1のソースは、共通のソース線33に接続される。ソース線33の一端33sは、接続配線37aを介して第1電源線31に接続され、ソース線33の他端33tは、接続配線37bを介して第1電源線31に接続される。また、複数の第1トランジスタTr1のドレインは、共通の信号線53に接続される。これにより、複数の第1トランジスタTr1は、それぞれ、第1電源線31及び信号線53に接続される。このように、複数の第1トランジスタTr1は、第1電源線31及び信号線53の間で並列接続されて、第1トランジスタグループTG1を構成する。 The plurality of first transistors Tr1 and the plurality of second transistors Tr2 are composed of n-channel MOS TFTs. Sources of the plurality of first transistors Tr1 are connected to a common source line 33 . One end 33s of the source line 33 is connected to the first power supply line 31 via the connection wiring 37a, and the other end 33t of the source line 33 is connected to the first power supply line 31 via the connection wiring 37b. Also, the drains of the plurality of first transistors Tr1 are connected to a common signal line 53 . Thereby, the plurality of first transistors Tr1 are connected to the first power supply line 31 and the signal line 53, respectively. In this manner, the plurality of first transistors Tr1 are connected in parallel between the first power supply line 31 and the signal line 53 to form the first transistor group TG1.

第1ゲート線35は、複数の第1トランジスタTr1のゲートに接続される。第1ゲート線35の一端35sは、接続部53aを介して信号線53に接続され、第1ゲート線35の他端35tは、接続部53bを介して信号線53に接続される。これにより、複数の第1トランジスタTr1のゲートとドレインとが短絡され、複数の第1トランジスタTr1は、いわゆるダイオード接続された構成となる。 The first gate line 35 is connected to gates of the plurality of first transistors Tr1. One end 35s of the first gate line 35 is connected to the signal line 53 via the connection portion 53a, and the other end 35t of the first gate line 35 is connected to the signal line 53 via the connection portion 53b. As a result, the gates and drains of the plurality of first transistors Tr1 are short-circuited, and the plurality of first transistors Tr1 have a so-called diode-connected configuration.

複数の第2トランジスタTr2のソースは、共通の信号線53に接続される。つまり、信号線53は、第1トランジスタTr1のドレイン及び第2トランジスタTr2のソースに接続される。また、複数の第2トランジスタTr2のドレインは、共通のドレイン線34に接続される。ドレイン線34の一端34sは、接続配線38aを介して第2電源線32に接続され、ドレイン線34の他端34tは、接続配線38bを介して第2電源線32に接続される。これにより、複数の第2トランジスタTr2は、それぞれ、第2電源線32及び信号線53に接続される。このように、複数の第2トランジスタTr2は、第2電源線32及び信号線53の間で並列接続されて、第2トランジスタグループTG2を構成する。 Sources of the plurality of second transistors Tr2 are connected to a common signal line 53 . That is, the signal line 53 is connected to the drain of the first transistor Tr1 and the source of the second transistor Tr2. Also, the drains of the plurality of second transistors Tr2 are connected to a common drain line 34 . One end 34s of the drain line 34 is connected to the second power supply line 32 via the connection wiring 38a, and the other end 34t of the drain line 34 is connected to the second power supply line 32 via the connection wiring 38b. Thereby, the plurality of second transistors Tr2 are connected to the second power line 32 and the signal line 53, respectively. In this manner, the plurality of second transistors Tr2 are connected in parallel between the second power supply line 32 and the signal line 53 to form the second transistor group TG2.

第2ゲート線36は、複数の第2トランジスタTr2のゲートに接続される。第2ゲート線36の一端36sは、接続部34aを介してドレイン線34に接続され、第2ゲート線36の他端36tは、接続部34bを介してドレイン線34に接続される。これにより、複数の第2トランジスタTr2のゲートとドレインとが短絡され、複数の第2トランジスタTr2は、いわゆるダイオード接続された構成となる。 The second gate line 36 is connected to gates of the plurality of second transistors Tr2. One end 36s of the second gate line 36 is connected to the drain line 34 via the connection portion 34a, and the other end 36t of the second gate line 36 is connected to the drain line 34 via the connection portion 34b. As a result, the gates and drains of the plurality of second transistors Tr2 are short-circuited, and the plurality of second transistors Tr2 have a so-called diode-connected configuration.

複数の第1トランジスタTr1の間には、それぞれ抵抗R1及び容量C3、C4が形成される。同様に複数の第2トランジスタTr2の間には、それぞれ抵抗R2及び容量C1、C2が形成される。抵抗R1、R2は、それぞれ第1ゲート線35、第2ゲート線36の抵抗成分である。また、容量C1は、第2ゲート線36とドレイン線34との間に形成される寄生容量である。容量C2は、第2ゲート線36と信号線53との間に形成される寄生容量である。容量C3は、第1ゲート線35とソース線33との間に形成される寄生容量である。容量C4は、第1ゲート線35と信号線53との間に形成される寄生容量である。 A resistor R1 and capacitors C3 and C4 are formed between the plurality of first transistors Tr1. Similarly, resistors R2 and capacitors C1 and C2 are formed between the plurality of second transistors Tr2. Resistances R1 and R2 are resistance components of the first gate line 35 and the second gate line 36, respectively. A capacitance C1 is a parasitic capacitance formed between the second gate line 36 and the drain line 34 . A capacitance C2 is a parasitic capacitance formed between the second gate line 36 and the signal line 53 . A capacitance C3 is a parasitic capacitance formed between the first gate line 35 and the source line 33 . A capacitance C4 is a parasitic capacitance formed between the first gate line 35 and the signal line 53 .

以上のような構成により、第1トランジスタグループTG1及び第2トランジスタグループTG2は、それぞれ、複数の第1トランジスタTr1及び複数の第2トランジスタTr2が、共通の信号線53に沿って並列接続される。言い換えると、第1トランジスタグループTG1及び第2トランジスタグループTG2は、第1電源線31と第2電源線32との間で共通の信号線53を介して直列接続される。 With the configuration as described above, in the first transistor group TG1 and the second transistor group TG2, the plurality of first transistors Tr1 and the plurality of second transistors Tr2 are connected in parallel along the common signal line 53, respectively. In other words, the first transistor group TG1 and the second transistor group TG2 are connected in series via the common signal line 53 between the first power line 31 and the second power line 32 .

端子T1から信号線53に正の電位を有する静電気が印加された場合、複数の第1トランジスタTr1がオンになり、複数の第2トランジスタTr2がオフになる。これにより、静電気は、信号線53から複数の第1トランジスタTr1を介して第1電源線31に流れる。 When static electricity having a positive potential is applied from the terminal T1 to the signal line 53, the multiple first transistors Tr1 are turned on and the multiple second transistors Tr2 are turned off. As a result, static electricity flows from the signal line 53 to the first power supply line 31 via the plurality of first transistors Tr1.

端子T1から信号線53に負の電位を有する静電気が印加された場合、複数の第1トランジスタTr1がオフになり、複数の第2トランジスタTr2がオンになる。これにより、静電気は、信号線53から複数の第2トランジスタTr2を介して第2電源線32に流れる。これにより、保護回路3は、内部回路4に静電気が流れることを抑制することができる。 When static electricity having a negative potential is applied from the terminal T1 to the signal line 53, the multiple first transistors Tr1 are turned off and the multiple second transistors Tr2 are turned on. As a result, static electricity flows from the signal line 53 to the second power supply line 32 via the plurality of second transistors Tr2. Thereby, the protection circuit 3 can suppress static electricity from flowing to the internal circuit 4 .

本実施形態では、第1ゲート線35の一端35s及び他端35tが信号線53に接続され、第2ゲート線36の一端36s及び他端36tがドレイン線34に接続される。これにより、静電気が印加された場合に、第1ゲート線35の一端35s及び他端35tの両方から電位が変化する。又は、第2ゲート線36の一端36s及び他端36tの両方から電位が変化する。 In this embodiment, one end 35 s and the other end 35 t of the first gate line 35 are connected to the signal line 53 , and one end 36 s and the other end 36 t of the second gate line 36 are connected to the drain line 34 . Thus, when static electricity is applied, the potential changes from both the one end 35s and the other end 35t of the first gate line 35 . Alternatively, the potential changes from both the one end 36s and the other end 36t of the second gate line 36 .

このため、第1ゲート線35の一端35sのみが信号線53に接続され、第2ゲート線36の一端36sのみがドレイン線34に接続された構成に比べて、複数の第1トランジスタTr1及び複数の第2トランジスタTr2のオン時定数を小さくすることができる。つまり、端子T1に近い位置の第1トランジスタTr1と、端子T1から離れた位置の第1トランジスタTr1との立ち上がり時間の差を抑制することができる。同様に、端子T1に近い位置の第2トランジスタTr2と、端子T1から離れた位置の第2トランジスタTr2との立ち上がり時間の差を抑制することができる。これにより、保護回路3は、信号線53に印加された静電気を迅速に第1電源線31又は第2電源線32に逃がすことができる。 Therefore, compared to the configuration in which only one end 35s of the first gate line 35 is connected to the signal line 53 and only one end 36s of the second gate line 36 is connected to the drain line 34, the plurality of first transistors Tr1 and the plurality of can reduce the ON time constant of the second transistor Tr2. That is, it is possible to suppress the difference in rise time between the first transistor Tr1 located near the terminal T1 and the first transistor Tr1 located far from the terminal T1. Similarly, it is possible to suppress the difference in rise time between the second transistor Tr2 located near the terminal T1 and the second transistor Tr2 located far from the terminal T1. Thereby, the protection circuit 3 can quickly release the static electricity applied to the signal line 53 to the first power line 31 or the second power line 32 .

また、本実施形態では、ソース線33の一端33s及び他端33tが第1電源線31に接続され、ドレイン線34の一端34s及び他端34tが第2電源線32に接続される。これにより、静電気が印加された場合に、複数の第1トランジスタTr1を介してソース線33の一端33s及び他端33tから第1電源線31に静電気が流れる。同様に、複数の第2トランジスタTr2を介してドレイン線34の一端34s及び他端34tから第2電源線32に静電気が流れる。 In this embodiment, one end 33 s and the other end 33 t of the source line 33 are connected to the first power line 31 , and one end 34 s and the other end 34 t of the drain line 34 are connected to the second power line 32 . Accordingly, when static electricity is applied, static electricity flows from the one end 33s and the other end 33t of the source line 33 to the first power supply line 31 via the plurality of first transistors Tr1. Similarly, static electricity flows from one end 34s and the other end 34t of the drain line 34 to the second power supply line 32 via the plurality of second transistors Tr2.

このため、ソース線33の一端33sのみが第1電源線31に接続され、ドレイン線34の一端34sのみが第2電源線32に接続された構成に比べて、静電気を第1電源線31及び第2電源線32に逃がす経路を増やすことができる。これにより、保護回路3は、信号線53に印加された静電気を迅速に第1電源線31又は第2電源線32に逃がすことができる。 Therefore, compared to the configuration in which only one end 33 s of the source line 33 is connected to the first power line 31 and only one end 34 s of the drain line 34 is connected to the second power line 32 , static electricity is It is possible to increase the number of routes for escape to the second power supply line 32 . Thereby, the protection circuit 3 can quickly release the static electricity applied to the signal line 53 to the first power line 31 or the second power line 32 .

以上のように、表示装置1は、端子T1と内部回路4との間に保護回路3を設けているので、端子T1から信号線53に静電気が印加された場合でも、内部回路4に静電気が流れることを抑制できる。したがって、表示装置1は、静電気に対する耐性を向上させることができる。 As described above, the display device 1 is provided with the protection circuit 3 between the terminal T1 and the internal circuit 4. Therefore, even if static electricity is applied from the terminal T1 to the signal line 53, the static electricity will not be generated in the internal circuit 4. flow can be suppressed. Therefore, the display device 1 can improve resistance to static electricity.

次に、保護回路3の具体的な構成例について説明する。図6は、保護回路を模式的に示す平面図である。図6では、図面を見やすくするために各配線に斜線を付して示している。図6に示すように、第2電源線32、第1電源線31、ドレイン線34、第2ゲート線36、信号線53、第1ゲート線35及びソース線33は、それぞれ第1方向Dxに延出する。また、第2電源線32、第1電源線31、ドレイン線34、第2ゲート線36、信号線53、第1ゲート線35及びソース線33は、この順で、第2方向Dyに配列される。 Next, a specific configuration example of the protection circuit 3 will be described. FIG. 6 is a plan view schematically showing the protection circuit. In FIG. 6, each wiring is hatched in order to make the drawing easier to see. As shown in FIG. 6, the second power line 32, the first power line 31, the drain line 34, the second gate line 36, the signal line 53, the first gate line 35 and the source line 33 are arranged in the first direction Dx. procrastinate. The second power line 32, the first power line 31, the drain line 34, the second gate line 36, the signal line 53, the first gate line 35, and the source line 33 are arranged in this order in the second direction Dy. be.

第2方向Dyにおいて、第1ゲート線35は、信号線53とソース線33との間に配置される。第1ゲート線35は、第1部分ゲート線35aと、第2部分ゲート線35bとを有する。第1部分ゲート線35a及び第2部分ゲート線35bはそれぞれ第1方向Dxに延在し、第2方向Dyに隣り合って配置される。第1部分ゲート線35aと、第2部分ゲート線35bとは、一端35s及び他端35tで接続される。 The first gate line 35 is arranged between the signal line 53 and the source line 33 in the second direction Dy. The first gate line 35 has a first partial gate line 35a and a second partial gate line 35b. The first partial gate line 35a and the second partial gate line 35b each extend in the first direction Dx and are arranged adjacent to each other in the second direction Dy. The first partial gate line 35a and the second partial gate line 35b are connected at one end 35s and the other end 35t.

信号線53の接続部53a、53bは、それぞれ信号線53から第2方向Dyに突出して設けられ、第1ゲート線35の一端35s及び他端35tとコンタクトホールを介して接続される。 Connection portions 53a and 53b of the signal line 53 are provided so as to protrude from the signal line 53 in the second direction Dy, and are connected to one end 35s and the other end 35t of the first gate line 35 via contact holes.

ソース線33の一端33s及び他端33tは、それぞれ接続配線37a、37bとコンタクトホールを介して接続される。接続配線37a、37bは、第2方向Dyに延在し、平面視で信号線53と交差して設けられ、コンタクトホールを介して第1電源線31と接続される。 One end 33s and the other end 33t of the source line 33 are connected to connection wirings 37a and 37b through contact holes, respectively. The connection wirings 37a and 37b extend in the second direction Dy, are provided to cross the signal line 53 in plan view, and are connected to the first power supply line 31 through contact holes.

第2方向Dyにおいて、第2ゲート線36は、信号線53とドレイン線34との間に配置される。第2ゲート線36は、第1部分ゲート線36aと、第2部分ゲート線36bとを有する。第1部分ゲート線36a及び第2部分ゲート線36bはそれぞれ第1方向Dxに延在し、第2方向Dyに隣り合って配置される。第1部分ゲート線36aと、第2部分ゲート線36bとは、一端36s及び他端36tで接続される。 The second gate line 36 is arranged between the signal line 53 and the drain line 34 in the second direction Dy. The second gate line 36 has a first partial gate line 36a and a second partial gate line 36b. The first partial gate line 36a and the second partial gate line 36b each extend in the first direction Dx and are arranged adjacent to each other in the second direction Dy. The first partial gate line 36a and the second partial gate line 36b are connected at one end 36s and the other end 36t.

ドレイン線34の接続部34a、34bは、それぞれドレイン線34から第2方向Dyに突出して設けられ、第2ゲート線36の一端36s及び他端36tとコンタクトホールを介して接続される。 Connection portions 34a and 34b of the drain line 34 are provided so as to protrude from the drain line 34 in the second direction Dy, and are connected to one end 36s and the other end 36t of the second gate line 36 via contact holes.

ドレイン線34の一端34s及び他端34tは、それぞれ接続配線38a、38bとコンタクトホールを介して接続される。接続配線38a、38bは、第2方向Dyに延在し、平面視で第1電源線31と交差して設けられ、コンタクトホールを介して第2電源線32と接続される。 One end 34s and the other end 34t of the drain line 34 are connected to connection wirings 38a and 38b through contact holes, respectively. The connection wirings 38a and 38b extend in the second direction Dy, are provided to cross the first power supply line 31 in plan view, and are connected to the second power supply line 32 through contact holes.

複数の第1トランジスタTr1は、それぞれ第1半導体層39aを有する。複数の第1半導体層39aは、それぞれ第1ゲート線35と重なる領域に配置される。複数の第1トランジスタTr1は、第1半導体層39aと重なって2つの第1部分ゲート線35a及び第2部分ゲート線35bが設けられたダブルゲート構造である。また、第1半導体層39aは、第1方向Dxに間隔SPを有して離間して配置される。 The multiple first transistors Tr1 each have a first semiconductor layer 39a. The plurality of first semiconductor layers 39a are arranged in regions overlapping the first gate lines 35, respectively. The plurality of first transistors Tr1 has a double gate structure in which two first partial gate lines 35a and second partial gate lines 35b are provided to overlap the first semiconductor layer 39a. In addition, the first semiconductor layers 39a are spaced apart with an interval SP in the first direction Dx.

複数の第2トランジスタTr2は、それぞれ第2半導体層39bを有する。複数の第2半導体層39bは、それぞれ第2ゲート線36と重なる領域に配置される。複数の第2トランジスタTr2も、第1トランジスタTr1と同様にダブルゲート構造である。また、第2半導体層39bは、第1方向Dxに間隔SPを有して離間して配置される。 Each of the plurality of second transistors Tr2 has a second semiconductor layer 39b. The plurality of second semiconductor layers 39b are arranged in regions overlapping the second gate lines 36, respectively. The plurality of second transistors Tr2 also have a double gate structure like the first transistor Tr1. In addition, the second semiconductor layers 39b are spaced apart with an interval SP in the first direction Dx.

第1半導体層39a及び第2半導体層39bは、共通の半導体層39で形成される。半導体層39(第1半導体層39a及び第2半導体層39b)は、第2方向Dyにおいて、第1ゲート線35及び第2ゲート線36に跨がって連続して設けられる。半導体層39の一端側は、ソース線33とコンタクトホールを介して接続される。半導体層39の第2方向Dyの中央部は、信号線53とコンタクトホールを介して接続される。半導体層39の他端側は、ドレイン線34とコンタクトホールを介して接続される。以下の説明では、第1半導体層39a及び第2半導体層39bを区別して説明する必要がない場合には、単に半導体層39と表す。 The first semiconductor layer 39a and the second semiconductor layer 39b are formed of a common semiconductor layer 39. As shown in FIG. The semiconductor layer 39 (first semiconductor layer 39a and second semiconductor layer 39b) is provided continuously across the first gate line 35 and the second gate line 36 in the second direction Dy. One end side of the semiconductor layer 39 is connected to the source line 33 via a contact hole. A central portion of the semiconductor layer 39 in the second direction Dy is connected to the signal line 53 via a contact hole. The other end side of the semiconductor layer 39 is connected to the drain line 34 via a contact hole. In the following description, the first semiconductor layer 39a and the second semiconductor layer 39b are simply referred to as the semiconductor layer 39 when there is no need to distinguish between them.

図7は、図6のVII-VII’断面図である。図7に示すように、半導体層39は、第1絶縁膜11の上に設けられる。半導体層39は、例えば、ポリシリコンを用いることができる。より好ましくは、半導体層39は、低温ポリシリコン(LTPS:Low Temperature Polycrystalline Silicone)である。ただし、これに限定されず、半導体層39は、アモルファスシリコン、酸化物半導体等、他の材料であってもよい。 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII' of FIG. 6. FIG. As shown in FIG. 7, the semiconductor layer 39 is provided on the first insulating film 11 . Polysilicon, for example, can be used for the semiconductor layer 39 . More preferably, the semiconductor layer 39 is Low Temperature Polycrystalline Silicone (LTPS). However, the material is not limited to this, and the semiconductor layer 39 may be made of other materials such as amorphous silicon and oxide semiconductor.

半導体層39は、チャネル領域39sと、低濃度不純物領域39tと、高濃度不純物領域39uとを含む。チャネル領域39sは、例えば、ノンドープの真性半導体又は低不純物領域であり、低濃度不純物領域39t及び高濃度不純物領域39uよりも低い導電性を有する。チャネル領域39sは、第1ゲート線35及び第2ゲート線36と重なる領域にそれぞれ設けられる。 The semiconductor layer 39 includes a channel region 39s, a low concentration impurity region 39t and a high concentration impurity region 39u. The channel region 39s is, for example, a non-doped intrinsic semiconductor or a low impurity region, and has lower conductivity than the low concentration impurity region 39t and the high concentration impurity region 39u. The channel regions 39s are provided in regions overlapping the first gate line 35 and the second gate line 36, respectively.

高濃度不純物領域39uは、ソース線33、信号線53及びドレイン線34と接続される領域、すなわち、第2絶縁膜12及び第3絶縁膜13を貫通するコンタクトホールの底面と重なる領域に設けられる。低濃度不純物領域39tはチャネル領域39sと高濃度不純物領域39uとの間に設けられる。 The high-concentration impurity region 39u is provided in a region connected to the source line 33, the signal line 53, and the drain line 34, that is, a region overlapping the bottom surface of the contact hole penetrating the second insulating film 12 and the third insulating film 13. . Low concentration impurity region 39t is provided between channel region 39s and high concentration impurity region 39u.

半導体層39と第1絶縁基板10との間に遮光層55が設けられる。遮光層55は少なくともチャネル領域39sと重なる領域に設けられる。遮光層55は、例えば金属材料で形成され、第1絶縁基板10よりも光の透過率が小さい。これにより、第1トランジスタTr1及び第2トランジスタTr2の光リークを抑制することができる。 A light shielding layer 55 is provided between the semiconductor layer 39 and the first insulating substrate 10 . The light shielding layer 55 is provided at least in a region overlapping with the channel region 39s. The light shielding layer 55 is made of, for example, a metal material and has a lower light transmittance than the first insulating substrate 10 . As a result, light leakage of the first transistor Tr1 and the second transistor Tr2 can be suppressed.

第2絶縁膜12は、半導体層39を覆って第1絶縁膜11の上に設けられる。第1ゲート線35、第2ゲート線36及び接続配線38aは、同層に、第2絶縁膜12の上に設けられる。なお、図7では図示されないが、接続配線37a、37b、38bも第1ゲート線35、第2ゲート線36及び接続配線38aと同層に設けられる。 The second insulating film 12 is provided on the first insulating film 11 to cover the semiconductor layer 39 . The first gate line 35, the second gate line 36 and the connection wiring 38a are provided on the second insulating film 12 in the same layer. Although not shown in FIG. 7, the connection wirings 37a, 37b and 38b are also provided in the same layer as the first gate line 35, the second gate line 36 and the connection wiring 38a.

第1ゲート線35、第2ゲート線36及び接続配線37a、37b、38b、38aは、表示領域DAに設けられた走査線GLと同層に設けられ、同じ材料が用いられる。第1ゲート線35、第2ゲート線36及び接続配線37a、37b、38b、38aは、例えば、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等の金属材料、又はこれらの合金材料を用いることができる。 The first gate line 35, the second gate line 36, and the connection wirings 37a, 37b, 38b, and 38a are provided in the same layer as the scanning lines GL provided in the display area DA, and are made of the same material. The first gate line 35, the second gate line 36 and the connection wirings 37a, 37b, 38b, 38a can be made of, for example, metal materials such as molybdenum (Mo) and tungsten (W), or alloy materials thereof.

第3絶縁膜13は、第1ゲート線35、第2ゲート線36及び接続配線38a等を覆って第2絶縁膜12の上に設けられる。ソース線33、信号線53、ドレイン線34、第1電源線31及び第2電源線32は、同層に、第3絶縁膜13の上に設けられる。第1電源線31の一部は、接続配線38aと重なる領域に設けられる。 The third insulating film 13 is provided on the second insulating film 12 to cover the first gate lines 35, the second gate lines 36, the connection wirings 38a, and the like. The source line 33 , the signal line 53 , the drain line 34 , the first power line 31 and the second power line 32 are provided on the third insulating film 13 in the same layer. A portion of the first power supply line 31 is provided in a region overlapping with the connection wiring 38a.

ソース線33、信号線53、ドレイン線34、第1電源線31及び第2電源線32は、表示領域DAに設けられた画素信号線SLと同層に設けられ、同じ材料が用いられる。ソース線33、信号線53、ドレイン線34、第1電源線31及び第2電源線32は、例えばアルミニウム(Al)などの低抵抗金属材料を用いることができる。すなわち、第1ゲート線35、第2ゲート線36及び接続配線37a、37b、38b、38aのシート抵抗は、ソース線33、信号線53、ドレイン線34、第1電源線31及び第2電源線32のシート抵抗よりも高い。 The source lines 33, the signal lines 53, the drain lines 34, the first power lines 31, and the second power lines 32 are provided in the same layer as the pixel signal lines SL provided in the display area DA, and are made of the same material. The source line 33, the signal line 53, the drain line 34, the first power line 31 and the second power line 32 can be made of a low resistance metal material such as aluminum (Al). That is, the sheet resistance of the first gate line 35, the second gate line 36 and the connection wirings 37a, 37b, 38b, 38a is higher than the sheet resistance of 32.

図8は、図6のVIII-VIII’断面図である。なお、図8では、複数の第1トランジスタTr1の断面構成を示しているが、図8についての説明は、第2トランジスタTr2にも適用できる。 FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line VIII-VIII' of FIG. Although FIG. 8 shows the cross-sectional configuration of a plurality of first transistors Tr1, the description of FIG. 8 can also be applied to the second transistor Tr2.

図8に示すように、半導体層39は、第1方向Dxに、間隔SPを有して配列される。第2絶縁膜12は、複数の半導体層39を覆うとともに、隣り合う半導体層39の間の間隔SPにおいて、第1絶縁膜11の上に設けられる。第1トランジスタTr1の発熱部分である半導体層39が複数に分割されているので、複数の半導体層39を連続した1つ半導体層で形成した場合に比べて、放熱可能な領域を増やすことができる。第2トランジスタTr2でも図8と同様の断面構成であり、半導体層39が間隔SPを有して複数に分割されている。 As shown in FIG. 8, the semiconductor layers 39 are arranged with intervals SP in the first direction Dx. The second insulating film 12 covers the plurality of semiconductor layers 39 and is provided on the first insulating film 11 at intervals SP between adjacent semiconductor layers 39 . Since the semiconductor layer 39, which is the heat-generating part of the first transistor Tr1, is divided into a plurality of parts, the area capable of dissipating heat can be increased compared to the case where the plurality of semiconductor layers 39 are formed as one continuous semiconductor layer. . The second transistor Tr2 also has a cross-sectional configuration similar to that of FIG. 8, and the semiconductor layer 39 is divided into a plurality of parts with intervals SP.

このため、保護回路3は、第1トランジスタグループTG1及び第2トランジスタグループTG2全体での発熱を抑制することができる。この結果、保護回路3自体の静電気に対する耐性を向上させることができる。 Therefore, the protection circuit 3 can suppress heat generation in the first transistor group TG1 and the second transistor group TG2 as a whole. As a result, the resistance to static electricity of the protection circuit 3 itself can be improved.

以上説明したように、本実施形態の表示装置1は、基板(第1絶縁基板10)と、複数の端子T1と、内部回路4と、保護回路3と、を有する。複数の端子T1は、第1絶縁基板10の周辺領域BEに設けられる。内部回路4は、第1絶縁基板10の周辺領域BEに設けられ、信号線53を介して端子T1と接続される。保護回路3は、内部回路4と端子T1との間に設けられる。保護回路3は、第1電源線31と、第2電源線32と、複数の第1トランジスタTr1と、第1ゲート線35と、複数の第2トランジスタTr2と、第2ゲート線36と、を有する。第1電源線31は、第1電源電圧VDDが供給される。第2電源線32は、第2電源電圧VSSが供給される。複数の第1トランジスタTr1のそれぞれは第1電源線31及び信号線53に接続される。第1ゲート線35は、複数の第1トランジスタTr1のゲートに接続され、一端35s及び他端35tが信号線53に接続される。複数の第2トランジスタTr2のそれぞれは第2電源線32及び信号線53に接続される。第2ゲート線36は、複数の第2トランジスタTr2のゲートに接続され、一端36s及び他端36tが第2電源線32に接続される。 As described above, the display device 1 of this embodiment has the substrate (first insulating substrate 10), the plurality of terminals T1, the internal circuit 4, and the protection circuit 3. A plurality of terminals T1 are provided in the peripheral area BE of the first insulating substrate 10 . The internal circuit 4 is provided in the peripheral area BE of the first insulating substrate 10 and is connected to the terminal T1 via the signal line 53 . The protection circuit 3 is provided between the internal circuit 4 and the terminal T1. The protection circuit 3 includes a first power supply line 31, a second power supply line 32, a plurality of first transistors Tr1, a first gate line 35, a plurality of second transistors Tr2, and a second gate line 36. have. A first power supply voltage VDD is supplied to the first power supply line 31 . The second power supply line 32 is supplied with the second power supply voltage VSS. Each of the plurality of first transistors Tr1 is connected to the first power line 31 and the signal line 53 . The first gate line 35 is connected to the gates of the plurality of first transistors Tr1 and has one end 35s and the other end 35t connected to the signal line 53 . Each of the multiple second transistors Tr2 is connected to the second power supply line 32 and the signal line 53 . The second gate line 36 is connected to gates of the plurality of second transistors Tr<b>2 and has one end 36 s and the other end 36 t connected to the second power supply line 32 .

これによれば、静電気が印加された場合に、第1ゲート線35の一端35s及び他端35tの両方から電位が変化する。又は、第2ゲート線36の一端36s及び他端36tの両方から電位が変化する。このため、複数の第1トランジスタTr1及び複数の第2トランジスタTr2のオン時定数を小さくすることができる。これにより、保護回路3は、信号線53に印加された静電気を迅速に第1電源線31又は第2電源線32に逃がすことができる。したがって、表示装置1は、静電気に対する耐性を向上させることができる。 According to this, the potential changes from both the one end 35s and the other end 35t of the first gate line 35 when static electricity is applied. Alternatively, the potential changes from both the one end 36s and the other end 36t of the second gate line 36 . Therefore, it is possible to reduce the ON time constants of the plurality of first transistors Tr1 and the plurality of second transistors Tr2. Thereby, the protection circuit 3 can quickly release the static electricity applied to the signal line 53 to the first power line 31 or the second power line 32 . Therefore, the display device 1 can improve resistance to static electricity.

なお、保護回路3の構成は、上述した例に限定されず、適宜変更することができる。例えば、保護回路3は、1本の信号線53に複数の第1トランジスタTr1及び複数の第2トランジスタTr2が設けられた構成を説明したが、複数の信号線53が設けられていてもよい。この場合、保護回路3は、複数の信号線53のそれぞれに複数の第1トランジスタTr1及び複数の第2トランジスタTr2が設けられる。また、保護回路3は、ゲートドライバ18の入力側に設けられているがこれに限定されない。保護回路3は、複数の端子T1と画像信号線SLとの間に設けられていてもよい。 Note that the configuration of the protection circuit 3 is not limited to the example described above, and can be changed as appropriate. For example, although the protection circuit 3 has a configuration in which a plurality of first transistors Tr1 and a plurality of second transistors Tr2 are provided on one signal line 53, a plurality of signal lines 53 may be provided. In this case, the protection circuit 3 is provided with a plurality of first transistors Tr1 and a plurality of second transistors Tr2 for each of the plurality of signal lines 53 . Also, although the protection circuit 3 is provided on the input side of the gate driver 18, it is not limited to this. The protection circuit 3 may be provided between the terminals T1 and the image signal lines SL.

また、第1トランジスタTr1及び第2トランジスタTr2の構成も図6から図8に示す構成に限定されない。例えば、第1トランジスタTr1及び第2トランジスタTr2は、第1ゲート線35及び第2ゲート線36が半導体層39の下に設けられたボトムゲート構造であってもよい。 Also, the configurations of the first transistor Tr1 and the second transistor Tr2 are not limited to the configurations shown in FIGS. For example, the first transistor Tr1 and the second transistor Tr2 may have a bottom gate structure in which the first gate line 35 and the second gate line 36 are provided under the semiconductor layer 39 .

また、表示装置1は液晶表示装置であるが、これに限定されない。保護回路3は、例えば、有機EL表示装置や、電気泳動型表示装置や、マイクロLED表示装置等の表示装置にも適用することができる。 Moreover, although the display device 1 is a liquid crystal display device, it is not limited to this. The protection circuit 3 can also be applied to display devices such as an organic EL display device, an electrophoretic display device, and a micro LED display device, for example.

(第2実施形態)
図9は、第2実施形態に係る表示装置の、複数の端子と、保護回路との接続構成を示す平面図である。図9に示すように、複数の端子T1-1、T1-2、T1-3、T1-4、T1-5、T1-6は、千鳥配置される。端子T1-1、T1-3、T1-5は、第1方向Dxに配列される。端子T1-2、T1-4、T1-6は、第1方向Dxに配列される。端子T1-1、T1-3、T1-5と、端子T1-2、T1-4、T1-6とは、第2方向Dyに隣り合い、且つ、第1方向Dxの位置が異なるように配置される。
(Second embodiment)
FIG. 9 is a plan view showing a connection configuration between a plurality of terminals and a protection circuit of the display device according to the second embodiment. As shown in FIG. 9, the plurality of terminals T1-1, T1-2, T1-3, T1-4, T1-5, T1-6 are staggered. Terminals T1-1, T1-3, and T1-5 are arranged in the first direction Dx. Terminals T1-2, T1-4, and T1-6 are arranged in the first direction Dx. The terminals T1-1, T1-3, T1-5 and the terminals T1-2, T1-4, T1-6 are arranged so as to be adjacent to each other in the second direction Dy and at different positions in the first direction Dx. be done.

複数の端子T1-1、T1-2、T1-3、T1-4、T1-5、T1-6には、それぞれ端子接続配線TCN-1、TCN-2、TCN-3、TCN-4、TCN-5、TCN-6が接続される。端子接続配線TCN-1、TCN-2、TCN-3は、複数の信号線53-1、53-2、53-3、第1電源線31及び第2電源線32と交差して、第2方向Dyに延在する。端子接続配線TCN-1、TCN-2、TCN-3は、例えば、表示領域DAに設けられた画像信号線SLと接続される。 A plurality of terminals T1-1, T1-2, T1-3, T1-4, T1-5, and T1-6 are provided with terminal connection wirings TCN-1, TCN-2, TCN-3, TCN-4, and TCN, respectively. -5 and TCN-6 are connected. The terminal connection wirings TCN-1, TCN-2, TCN-3 intersect with the plurality of signal lines 53-1, 53-2, 53-3, the first power line 31 and the second power line 32 to form the second extends in direction Dy. Terminal connection wirings TCN-1, TCN-2, and TCN-3 are connected to, for example, image signal lines SL provided in the display area DA.

なお、以下の説明では、複数の端子T1-1、T1-2、T1-3、T1-4、T1-5、T1-6を区別して説明する必要がない場合には、単に端子T1と表す。端子接続配線TCN-1、TCN-2、TCN-3、TCN-4、TCN-5、TCN-6を区別して説明する必要がない場合には、単に端子接続配線TCNと表す。複数の信号線53-1、53-2、53-3を区別して説明する必要がない場合には、単に信号線53と表す。 In the following description, when the terminals T1-1, T1-2, T1-3, T1-4, T1-5, and T1-6 do not need to be distinguished and described, they are simply referred to as terminals T1. . When the terminal connection wirings TCN-1, TCN-2, TCN-3, TCN-4, TCN-5, and TCN-6 need not be distinguished and explained, they are simply referred to as terminal connection wirings TCN. The signal lines 53-1, 53-2, and 53-3 are simply referred to as signal lines 53 when there is no need to distinguish between them.

端子接続配線TCN-4、TCN-5、TCN-6は、それぞれ、複数の信号線53-1、53-2、53-3と接続される。複数の信号線53-1、53-2、53-3は、それぞれ第1部分信号線53cと、第2部分信号線53dとを有する。第1部分信号線53cは、端子接続配線TCNを介して端子T1に接続される。第2部分信号線53dは、保護回路3に接続される。第1部分信号線53cと第2部分信号線53dとは、第1方向Dxに離間して設けられる。中継配線54は、第1部分信号線53cと第2部分信号線53dとを接続する。 Terminal connection wirings TCN-4, TCN-5 and TCN-6 are connected to a plurality of signal lines 53-1, 53-2 and 53-3, respectively. Each of the plurality of signal lines 53-1, 53-2, 53-3 has a first partial signal line 53c and a second partial signal line 53d. The first partial signal line 53c is connected to the terminal T1 via the terminal connection wiring TCN. The second partial signal line 53 d is connected to the protection circuit 3 . The first partial signal line 53c and the second partial signal line 53d are provided apart from each other in the first direction Dx. The relay wiring 54 connects the first partial signal line 53c and the second partial signal line 53d.

図10は、図9のX-X’断面図である。図10に示すように、複数の端子接続配線TCN及び中継配線54は、第2絶縁膜12の上に設けられる。すなわち、複数の端子接続配線TCN及び中継配線54は、第1ゲート線35及び第2ゲート線36等(図7参照)と同層に設けられ、第1ゲート線35及び第2ゲート線36等と同じ材料で形成される。 10 is a cross-sectional view taken along the line XX' of FIG. 9. FIG. As shown in FIG. 10 , a plurality of terminal connection wirings TCN and relay wirings 54 are provided on the second insulating film 12 . That is, the plurality of terminal connection wirings TCN and relay wirings 54 are provided in the same layer as the first gate lines 35, the second gate lines 36, etc. (see FIG. 7), and the first gate lines 35, the second gate lines 36, etc. made of the same material as

信号線53の第1部分信号線53c及び第2部分信号線53dは、第3絶縁膜13の上に設けられる。第1部分信号線53c及び第2部分信号線53dは、それぞれ第3絶縁膜13に設けられたコンタクトホールを介して、中継配線54と接続される。また、第1部分信号線53cは、第3絶縁膜13に設けられたコンタクトホールを介して、端子接続配線TCN-6と接続される。 A first partial signal line 53 c and a second partial signal line 53 d of the signal line 53 are provided on the third insulating film 13 . The first partial signal line 53c and the second partial signal line 53d are connected to the relay wiring 54 through contact holes provided in the third insulating film 13, respectively. Also, the first partial signal line 53c is connected to the terminal connection wiring TCN-6 through a contact hole provided in the third insulating film 13. As shown in FIG.

上述したように、信号線53は、アルミニウム(Al)などの低抵抗金属材料で形成される。端子接続配線TCN及び中継配線54は、例えばモリブデン(Mo)、タングステン(W)等の金属材料で形成される。すなわち、中継配線54は、信号線53と異なる層に設けられ、信号線53のシート抵抗よりも大きいシート抵抗を有する。 As described above, the signal line 53 is made of a low resistance metal material such as aluminum (Al). The terminal connection wiring TCN and the relay wiring 54 are made of a metal material such as molybdenum (Mo) or tungsten (W). That is, the relay wiring 54 is provided in a layer different from that of the signal line 53 and has a sheet resistance greater than that of the signal line 53 .

このように、複数の端子T1と保護回路3とは、複数の信号線53(第1部分信号線53c、第2部分信号線53d)及び中継配線54を介して接続される。これにより、複数の端子T1から保護回路3まで、中継配線54を介さずに接続した場合に比べ、複数の端子T1から保護回路3までの抵抗を大きくすることができる。これにより、複数の端子T1に印加された静電気が、複数の端子T1から保護回路3までの経路で熱変換される。このため、本実施形態では、保護回路3及び内部回路4に流れる静電気を抑制することができる。 Thus, the plurality of terminals T1 and the protection circuit 3 are connected via the plurality of signal lines 53 (the first partial signal line 53c and the second partial signal line 53d) and the relay wiring . Thereby, the resistance from the plurality of terminals T1 to the protection circuit 3 can be increased compared to the case where the plurality of terminals T1 to the protection circuit 3 are connected without the relay wiring 54 intervening. As a result, the static electricity applied to the multiple terminals T1 is thermally converted in the path from the multiple terminals T1 to the protection circuit 3 . Therefore, in the present embodiment, static electricity flowing through the protection circuit 3 and the internal circuit 4 can be suppressed.

また、図9に示すように、端子接続配線TCN-3、TCN-4、TCN-5、TCN-6は、それぞれ蛇行部TCNaを有する。蛇行部TCNaは、第2方向Dyに隣り合う第2電源線32と、複数の端子T1との間の領域に設けられる。 Further, as shown in FIG. 9, each of the terminal connection wirings TCN-3, TCN-4, TCN-5, and TCN-6 has a meandering portion TCNa. The meandering portion TCNa is provided in a region between the second power supply lines 32 adjacent in the second direction Dy and the plurality of terminals T1.

図11は、端子接続配線を示す平面図である。図11に示すように、蛇行部TCNaは、複数の直線部61と、複数の湾曲部62とを有する。複数の直線部61は、第1方向Dxに延在し、第2方向Dyに配列される。湾曲部62は、第2方向Dyに隣り合う直線部61の端部を接続する。湾曲部62は、直線部61の一端側と他端側とを交互に接続する。このように、蛇行部TCNaは蛇行状に形成され、端子接続配線TCNは端子T1と信号線53とを接続する。また、蛇行部TCNaは信号線53のシート抵抗よりも大きいシート抵抗を有する。 FIG. 11 is a plan view showing terminal connection wiring. As shown in FIG. 11 , the meandering portion TCNa has a plurality of straight portions 61 and a plurality of curved portions 62 . The plurality of linear portions 61 extend in the first direction Dx and are arranged in the second direction Dy. The curved portion 62 connects the ends of the straight portions 61 adjacent in the second direction Dy. The curved portion 62 alternately connects one end side and the other end side of the straight portion 61 . In this manner, the meandering portion TCNa is formed in a meandering shape, and the terminal connection wiring TCN connects the terminal T1 and the signal line 53 . Moreover, the meandering portion TCNa has a sheet resistance greater than that of the signal line 53 .

これにより、端子T1と信号線53とを、蛇行部TCNaを有さない直線状の配線で接続した場合に比べて、端子T1から信号線53までの配線長が長くなり、抵抗が増大する。これにより、複数の端子T1に印加された静電気が、複数の端子T1と信号線53との間の蛇行部TCNaで熱変換される。このため、本実施形態では、保護回路3及び内部回路4に流れる静電気を抑制することができる。 As a result, the wiring length from the terminal T1 to the signal line 53 becomes longer and the resistance increases, compared to the case where the terminal T1 and the signal line 53 are connected by a straight line without the meandering portion TCNa. As a result, the static electricity applied to the multiple terminals T1 is thermally converted at the meandering portion TCNa between the multiple terminals T1 and the signal line 53 . Therefore, in the present embodiment, static electricity flowing through the protection circuit 3 and the internal circuit 4 can be suppressed.

なお、複数の信号線53、複数の端子T1及び端子接続配線TCNの構成は、あくまで一例である。例えば、複数の信号線53は、3つ以上の部分に分離して設けられ、それぞれの間に中継配線54が設けられていてもよい。保護回路3に接続される信号線53は、2本以下、又は4本以上でもよい。複数の端子T1は、千鳥配置に限定されず、例えば、第1方向Dxに配列されていてもよい。 The configuration of the plurality of signal lines 53, the plurality of terminals T1, and the terminal connection wiring TCN is merely an example. For example, the plurality of signal lines 53 may be separated into three or more portions, and the relay wiring 54 may be provided between the portions. The number of signal lines 53 connected to the protection circuit 3 may be two or less, or four or more. The multiple terminals T1 are not limited to the staggered arrangement, and may be arranged in the first direction Dx, for example.

(第1変形例)
図12は、第1変形例に係る保護回路を示す回路図である。図12に示す第1変形例の保護回路3Aは、図5に示した第1実施形態に比べて、第1ゲート線35の他端35tが信号線53と非接続であり、また、第2ゲート線36の他端36tがドレイン線34と非接続となっている。
(First modification)
FIG. 12 is a circuit diagram showing a protection circuit according to the first modified example. In the protection circuit 3A of the first modified example shown in FIG. 12, the other end 35t of the first gate line 35 is not connected to the signal line 53, and the second The other end 36 t of the gate line 36 is disconnected from the drain line 34 .

第1変形例においても、ソース線33の一端33s及び他端33tが第1電源線31に接続され、ドレイン線34の一端34s及び他端34tが第2電源線32に接続される。このため、端子T1に静電気が印加された場合に、静電気を第1電源線31及び第2電源線32に逃がす経路を増やすことができる。これにより、保護回路3Aは、信号線53に印加された静電気を迅速に第1電源線31又は第2電源線32に逃がすことができる。 Also in the first modification, one end 33 s and the other end 33 t of the source line 33 are connected to the first power line 31 , and one end 34 s and the other end 34 t of the drain line 34 are connected to the second power line 32 . Therefore, when static electricity is applied to the terminal T1, the number of paths for releasing the static electricity to the first power line 31 and the second power line 32 can be increased. Thereby, the protection circuit 3A can quickly release the static electricity applied to the signal line 53 to the first power line 31 or the second power line 32 .

(第2変形例)
図13は、第2変形例に係る保護回路を示す回路図である。図13に示す第2変形例の保護回路3Bは、図5に示した第1実施形態に比べて、ソース線33の一端33sに第1電源線31が接続され、ソース線33の他端33tは第1電源線31と非接続である。また、ドレイン線34の一端34sに第2電源線32が接続され、ドレイン線34の他端34tは第2電源線32と非接続である。
(Second modification)
FIG. 13 is a circuit diagram showing a protection circuit according to a second modification. In the protection circuit 3B of the second modification shown in FIG. 13, compared with the first embodiment shown in FIG. is disconnected from the first power supply line 31 . One end 34 s of the drain line 34 is connected to the second power line 32 , and the other end 34 t of the drain line 34 is not connected to the second power line 32 .

第2変形例においても、第1ゲート線35の一端35s及び他端35tが信号線53に接続され、第2ゲート線36の一端36s及び他端36tがドレイン線34に接続される。これにより、複数の第1トランジスタTr1及び複数の第2トランジスタTr2のオン時定数を小さくすることができる。したがって、保護回路3Bは、信号線53に印加された静電気を迅速に第1電源線31又は第2電源線32に逃がすことができる。また、保護回路3Bは、第1実施形態に比べて、配線の数を少なくすることができるので、回路規模を抑制することができる。 Also in the second modification, one end 35 s and the other end 35 t of the first gate line 35 are connected to the signal line 53 , and one end 36 s and the other end 36 t of the second gate line 36 are connected to the drain line 34 . Thereby, the ON time constants of the plurality of first transistors Tr1 and the plurality of second transistors Tr2 can be reduced. Therefore, the protection circuit 3B can quickly release static electricity applied to the signal line 53 to the first power line 31 or the second power line 32 . In addition, since the protection circuit 3B can reduce the number of wirings compared to the first embodiment, the circuit scale can be suppressed.

以上、本発明の好適な実施の形態を説明したが、本発明はこのような実施の形態に限定されるものではない。実施の形態で開示された内容はあくまで一例にすぎず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で行われた適宜の変更についても、当然に本発明の技術的範囲に属する。上述した各実施形態及び各変形例の要旨を逸脱しない範囲で、構成要素の種々の省略、置換及び変更のうち少なくとも1つを行うことができる。 Although preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to such embodiments. The content disclosed in the embodiment is merely an example, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. Appropriate changes that do not deviate from the gist of the present invention naturally belong to the technical scope of the present invention. At least one of various omissions, replacements, and modifications of the components can be made without departing from the scope of each embodiment and each modification described above.

1 表示装置
3、3A、3B 保護回路
4 内部回路
10 第1絶縁基板
20 第2絶縁基板
31 第1電源線
32 第2電源線
33 ソース線
34 ドレイン線
35 第1ゲート線
36 第2ゲート線
39 半導体層
39a 第1半導体層
39b 第2半導体層
51 信号線接続配線
52 信号出力配線
53 信号線
54 中継配線
55 遮光層
101 配線基板
110 ドライバIC
111 第1電源
112 第2電源
BE 周辺領域
DA 表示領域
SUB1 アレイ基板
SUB2 対向基板
T1 端子
TCN 端子接続配線
TCNa 蛇行部
Tr1 第1トランジスタ
Tr2 第2トランジスタ
1 display device 3, 3A, 3B protective circuit 4 internal circuit 10 first insulating substrate 20 second insulating substrate 31 first power supply line 32 second power supply line 33 source line 34 drain line 35 first gate line 36 second gate line 39 Semiconductor layer 39a First semiconductor layer 39b Second semiconductor layer 51 Signal line connection wiring 52 Signal output wiring 53 Signal line 54 Relay wiring 55 Light shielding layer 101 Wiring board 110 Driver IC
111 First power supply 112 Second power supply BE Peripheral area DA Display area SUB1 Array substrate SUB2 Counter substrate T1 Terminal TCN Terminal connection wiring TCNa Snaking portion Tr1 First transistor Tr2 Second transistor

Claims (10)

基板と、
前記基板の周辺領域に設けられた複数の端子と、
前記基板の周辺領域に設けられ、信号線を介して前記端子と接続された内部回路と、
前記内部回路と前記端子との間に設けられた保護回路と、を有し、
前記保護回路は、
第1電源線及び前記信号線に接続される第1トランジスタと、
前記第1トランジスタのゲートに接続され、一端及び他端が前記信号線に接続される第1ゲート線と、
第2電源線及び前記信号線に接続される第2トランジスタと、
前記第2トランジスタのゲートに接続され、一端及び他端が前記第2電源線に接続される第2ゲート線と、を有する
表示装置。
a substrate;
a plurality of terminals provided in a peripheral region of the substrate;
an internal circuit provided in a peripheral region of the substrate and connected to the terminal via a signal line;
a protection circuit provided between the internal circuit and the terminal;
The protection circuit is
a first transistor connected to the first power supply line and the signal line;
a first gate line connected to the gate of the first transistor and having one end and the other end connected to the signal line;
a second transistor connected to the second power supply line and the signal line;
a second gate line connected to the gate of the second transistor and having one end and the other end connected to the second power supply line.
複数の前記第1トランジスタのソースに接続されたソース線を有し、
前記ソース線の一端及び他端は、前記第1電源線に接続される
請求項1に記載の表示装置。
a source line connected to the sources of the plurality of first transistors;
The display device according to claim 1, wherein one end and the other end of the source line are connected to the first power line.
複数の前記第2トランジスタのドレインに接続されたドレイン線を有し、
前記ドレイン線の一端及び他端は、前記第2電源線に接続される
請求項1又は請求項2に記載の表示装置。
having a drain line connected to the drains of the plurality of second transistors;
3. The display device according to claim 1, wherein one end and the other end of said drain line are connected to said second power line.
前記信号線は、複数の前記第1トランジスタのドレイン及び複数の前記第2トランジスタのソースに接続される
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の表示装置。
The display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the signal line is connected to the drains of the plurality of first transistors and the sources of the plurality of second transistors.
複数の前記第1トランジスタは、それぞれ第1半導体層を有し、
前記第1ゲート線は第1方向に延在し、
複数の前記第1半導体層は、前記第1ゲート線と重なる領域に設けられ、前記第1方向に間隔を有して離間して配列される
請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の表示装置。
each of the plurality of first transistors has a first semiconductor layer;
the first gate line extends in a first direction;
5. The plurality of first semiconductor layers according to any one of claims 1 to 4, wherein the plurality of first semiconductor layers are provided in a region overlapping with the first gate line and are spaced apart from each other in the first direction. Display device as described.
複数の前記第2トランジスタは、それぞれ第2半導体層を有し、
前記第2ゲート線は前記第1方向に延在し、
複数の前記第2半導体層は、前記第2ゲート線と重なる領域に設けられ、前記第1方向に間隔を有して離間して配列される
請求項5に記載の表示装置。
each of the plurality of second transistors has a second semiconductor layer;
the second gate line extends in the first direction;
6. The display device according to claim 5, wherein the plurality of second semiconductor layers are provided in a region overlapping with the second gate line, and are spaced apart from each other in the first direction.
前記第1半導体層及び前記第2半導体層は、前記第1方向と交差する第2方向において、前記第1ゲート線及び前記第2ゲート線に跨がって連続して設けられる
請求項6に記載の表示装置。
7. The first semiconductor layer and the second semiconductor layer are continuously provided across the first gate line and the second gate line in a second direction crossing the first direction. Display device as described.
複数の前記信号線と、
前記信号線と異なる層に設けられ前記信号線のシート抵抗よりも大きいシート抵抗を有し、複数の前記信号線を接続する中継配線と、を有し、
前記端子と前記保護回路とは、複数の前記信号線及び前記中継配線を介して接続される
請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の表示装置。
a plurality of signal lines;
a relay wiring that is provided in a layer different from that of the signal line, has a sheet resistance greater than that of the signal line, and connects the plurality of signal lines;
8. The display device according to any one of claims 1 to 7, wherein the terminal and the protection circuit are connected via a plurality of the signal lines and the relay wiring.
前記中継配線は、前記第1ゲート線及び前記第2ゲート線と同層に設けられる
請求項8に記載の表示装置。
9. The display device according to claim 8, wherein the relay wiring is provided in the same layer as the first gate line and the second gate line.
蛇行状に形成され、前記端子と前記信号線とを接続する端子接続配線を有する
請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の表示装置。
10. The display device according to any one of claims 1 to 9, further comprising a terminal connection wiring that is formed in a meandering shape and connects the terminal and the signal line.
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