JP7180593B2 - Method for producing fluorine-containing ether compound and fluorine-containing ether compound - Google Patents

Method for producing fluorine-containing ether compound and fluorine-containing ether compound Download PDF

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Description

本発明は、含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a fluorine-containing ether compound and a fluorine-containing ether compound.

ポリ(オキシペルフルオロアルキレン)鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示す表面層を基材の表面に形成できるため、表面処理剤に好適に用いられる。含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、表面層が指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能(耐摩擦性)および拭き取りによって表面層に付着した指紋を容易に除去できる性能(指紋汚れ除去性)が長期間維持されることが求められる用途、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。 A fluorine-containing ether compound having a poly(oxyperfluoroalkylene) chain can form a surface layer exhibiting high lubricity, water and oil repellency, etc. on the surface of a base material, and is therefore suitably used as a surface treatment agent. A surface treatment agent containing a fluorine-containing ether compound has the property that the water and oil repellency does not deteriorate even when the surface layer is rubbed repeatedly with fingers (friction resistance), and the property that fingerprints adhered to the surface layer can be easily removed by wiping. It is used as a surface treatment agent for a member that constitutes the surface touched by a finger of a touch panel, for example, in applications where (fingerprint stain removability) is required to be maintained for a long period of time.

撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、耐薬品性および耐光性に優れる表面層を基材の表面に形成できる含フッ素エーテル化合物としては、含フッ素エーテル化合物の片末端に、窒素原子による分岐構造を介して2つの加水分解性シリル基を導入した含フッ素エーテル化合物が提案されている(特許文献1)。
特許文献1に記載の含フッ素エーテル化合物(下式(1A)で表される化合物)は、以下のようにして製造される。
As a fluorine-containing ether compound capable of forming a surface layer with excellent water and oil repellency, abrasion resistance, fingerprint stain removal, lubricity, chemical resistance and light resistance on the surface of a base material, one end of the fluorine-containing ether compound , proposed a fluorine-containing ether compound in which two hydrolyzable silyl groups are introduced via a branched structure with a nitrogen atom (Patent Document 1).
The fluorine-containing ether compound (compound represented by the following formula (1A)) described in Patent Document 1 is produced as follows.

下式(14)で表される化合物を、還元剤を用いて水素還元することによって、下式(15)で表される化合物を得る。
-O-(CFCFO)(CFCFO)(Rf11O)-CF-COOR ・・・(14)
-O-(CFCFO)(CFCFO)(Rf11O)-CF-CHOH ・・・(15)
ただし、Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、Rf11は、ペルフルオロアルキレン基であり、xは、1~198の整数であり、Rは、アルキル基である。
A compound represented by the following formula (15) is obtained by subjecting the compound represented by the following formula (14) to hydrogen reduction using a reducing agent.
A 1 -O-(CF 2 CF 2 O)(CF 2 CF 2 O)(R f11 O) x -CF 2 -COOR (14)
A 1 —O—(CF 2 CF 2 O)(CF 2 CF 2 O)(R f11 O) x —CF 2 —CH 2 OH (15)
However, A 1 is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R f11 is a perfluoroalkylene group, x is an integer of 1 to 198, and R is an alkyl group.

含フッ素溶媒中、塩基性化合物の存在下、前記式(15)で表される化合物にCFSOClを反応させて、下式(16)で表される化合物を得る。
-O-(CFCFO)(CFCFO)(Rf11O)-CF-CHOSOCF ・・・(16)
The compound represented by the formula (15) is reacted with CF 3 SO 2 Cl in a fluorine-containing solvent in the presence of a basic compound to obtain a compound represented by the following formula (16).
A 1 —O—(CF 2 CF 2 O)(CF 2 CF 2 O)(R f11 O) x —CF 2 —CH 2 OSO 2 CF 3 (16)

塩基性化合物の存在下、前記式(16)で表される化合物にHN(CHCH=CHを反応させて、下式(17)で表される化合物を得る。
-O-(CFCFO)(CFCFO)(Rf11O)-CF-CH-N(CHCH=CH ・・・(17)
HN(CH 2 CH=CH 2 ) 2 is reacted with the compound represented by the above formula (16) in the presence of a basic compound to obtain a compound represented by the following formula (17).
A 1 —O—(CF 2 CF 2 O)(CF 2 CF 2 O)(R f11 O) x —CF 2 —CH 2 —N(CH 2 CH═CH 2 ) 2 (17)

前記式(17)で表される化合物とHSiR13 n1 3-n1とをヒドロシリル化反応して、下式(1A)で表される化合物を得る。
-O-(CFCFO)(CFCFO)(Rf11O)-CF-CH-N[CHCHCH-SiR13 n1 3-n1 ・・・(1A)
ただし、R13は、水素原子または1価の炭化水素基であり、Xは、加水分解性基であり、n1は、0~2の整数である。
The compound represented by the formula (17) and HSiR 13 n1 X 1 3-n1 are hydrosilylated to obtain the compound represented by the following formula (1A).
A 1 —O—(CF 2 CF 2 O)(CF 2 CF 2 O)(R f11 O) x —CF 2 —CH 2 —N[CH 2 CH 2 CH 2 —SiR 13 n1 X 1 3-n1 ] 2 (1A)
However, R 13 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group, X 1 is a hydrolyzable group, and n1 is an integer of 0-2.

国際公開第2017/038832号WO2017/038832

しかし、特許文献1に記載の方法には、下記の問題がある。
・式(15)で表される化合物に反応させるCFSOClが高価で、含フッ素エーテル化合物の製造コストが高くなる。
・式(16)で表される化合物にHN(CHCH=CHを反応させて式(17)で表される化合物を得るときに、取り扱いが難しいトリフルオロメチルスルホン酸が副生する。トリフルオロメチルスルホン酸の処理に手間がかかるため、含フッ素エーテル化合物の生産性が悪くなる。
However, the method described in Patent Document 1 has the following problems.
- CF 3 SO 2 Cl to be reacted with the compound represented by the formula (15) is expensive, which increases the production cost of the fluorine-containing ether compound.
- When the compound represented by formula (16) is reacted with HN(CH 2 CH=CH 2 ) 2 to obtain the compound represented by formula (17), trifluoromethylsulfonic acid, which is difficult to handle, is produced as a by-product. do. Since the treatment of trifluoromethylsulfonic acid is troublesome, the productivity of the fluorine-containing ether compound is deteriorated.

本発明は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物または該含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物を低コストで生産性よく製造できる含フッ素エーテル組成物の製造方法、および表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物の提供を目的とする。 The present invention provides a method for producing a fluorine-containing ether composition that can produce a fluorine-containing ether compound suitably used as a surface treatment agent or a fluorine-containing ether compound useful as an intermediate for the fluorine-containing ether compound at low cost and with high productivity. The object of the present invention is to provide a fluorine-containing ether compound that is useful as an intermediate for a fluorine-containing ether compound that is preferably used as a surface treatment agent.

本発明は、下記[1]および[2]の構成を有する含フッ素エーテル化合物の製造方法、下記[3]の構成を有する含フッ素エーテル化合物の製造方法、下記[4]および[5]の構成を有する含フッ素エーテル化合物の製造方法、下記[6]の構成を有する含フッ素エーテル化合物の製造方法、下記[7]~[10]の構成を有する含フッ素エーテル化合物の製造方法、下記[11]および[12]の構成を有する含フッ素エーテル化合物、ならびに、下記[13]および[14]の構成を有する含フッ素エーテル化合物、を提供する。 The present invention provides a method for producing a fluorine-containing ether compound having the constitutions [1] and [2] below, a method for producing a fluorine-containing ether compound having the constitution [3] below, and constitutions [4] and [5] below. a method for producing a fluorine-containing ether compound having the structure [6] below, a method for producing a fluorine-containing ether compound having the structures [7] to [10] below, [11] below and [12], and a fluorine-containing ether compound having the following structures [13] and [14].

[1]下式(1)で表される化合物にNHを反応させて、下式(2)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CO-Z ・・・(1)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CO-NH ・・・(2)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基であり、
Zは、-OH、-OR、-R、ハロゲン原子または水素原子であり、RおよびRは、それぞれ1価の炭化水素基である。
[2]前記Zが-ORであり、アルコール溶媒または含フッ素溶媒中で式(1)で表される化合物にNHを反応させる、[1]の製造方法。
[1] A method for producing a fluorine-containing ether compound, which comprises reacting a compound represented by the following formula (1) with NH3 to obtain a compound represented by the following formula (2).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CO—Z (1)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CO—NH 2 (2)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m may consist of two or more R f1 O,
R 1 is a single bond, an alkylene group, a group having an etheric oxygen atom or —NH— at the terminal of the alkylene group (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ), or an alkylene group having 2 or more carbon atoms. A group having an etheric oxygen atom or -NH- between carbon-carbon atoms, or a terminal of an alkylene group having 2 or more carbon atoms (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ) and between carbon-carbon atoms A group having an etheric oxygen atom or -NH-,
Z is -OH, -OR 4 , -R 5 , a halogen atom or a hydrogen atom, and R 4 and R 5 are each monovalent hydrocarbon groups.
[2] The production method of [1], wherein Z is —OR 4 and the compound represented by formula (1) is reacted with NH 3 in an alcoholic solvent or a fluorine-containing solvent.

[3]下式(2)で表される化合物に還元剤を反応させて、下式(3)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CO-NH ・・・(2)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-NH ・・・(3)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基である。
[3] A method for producing a fluorine-containing ether compound, which comprises reacting a compound represented by the following formula (2) with a reducing agent to obtain a compound represented by the following formula (3).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CO—NH 2 (2)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —NH 2 (3)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m may consist of two or more R f1 O,
R 1 is a single bond, an alkylene group, a group having an etheric oxygen atom or -NH- at the terminal of the alkylene group (limited to the terminal on the side bonding to R f2 ), or an alkylene group having 2 or more carbon atoms. A group having an etheric oxygen atom or —NH— between carbon-carbon atoms, or the terminal of an alkylene group having 2 or more carbon atoms (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ) and between carbon-carbon atoms It is a group having an etheric oxygen atom or -NH-.

[4]下式(3)で表される化合物にYR21を反応させて、下式(4)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-NH ・・・(3)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-NR21 ・・・(4)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基であり、
Yは、HO-、RO-またはハロゲン原子であり、Rは、1価の炭化水素基であり、
21は、末端にビニル基を有する1価の有機基または1価の炭化水素基(ただし、末端にビニル基を有するものを除く。)である。
[5]前記Yがハロゲン原子であり、前記R21が、アリル基またはアリルオキシアルキル基である、[4]の製造方法。
[4] A method for producing a fluorine-containing ether compound, which comprises reacting a compound represented by the following formula (3) with YR 21 to obtain a compound represented by the following formula (4).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —NH 2 (3)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —NR 21 2 (4)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m may consist of two or more R f1 O,
R 1 is a single bond, an alkylene group, a group having an etheric oxygen atom or —NH— at the terminal of the alkylene group (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ), or an alkylene group having 2 or more carbon atoms. A group having an etheric oxygen atom or -NH- between carbon-carbon atoms, or a terminal of an alkylene group having 2 or more carbon atoms (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ) and between carbon-carbon atoms A group having an etheric oxygen atom or -NH-,
Y is HO—, R 6 O— or a halogen atom, R 6 is a monovalent hydrocarbon group,
R 21 is a monovalent organic group having a terminal vinyl group or a monovalent hydrocarbon group (excluding those having a terminal vinyl group).
[5] The production method of [4], wherein Y is a halogen atom and R 21 is an allyl group or an allyloxyalkyl group.

[6]下式(4a)で表される化合物とHSiR 3-nとをヒドロシリル化反応して、下式(5)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-NR22 ・・・(4a)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-N[-R-SiR 3-n ・・・(5)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基であり、
22は、末端にビニル基を有する1価の有機基であり、2つのR22は、同一であっても異なっていてもよく、
は、R22に由来する2価の有機基であり、
は、水素原子または1価の炭化水素基であり、
Xは、加水分解性基であり、
nは、0~2の整数である。
[6] A fluorine-containing ether compound characterized by hydrosilylating a compound represented by the following formula (4a) with HSiR 3 n X 3-n to obtain a compound represented by the following formula (5): manufacturing method.
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —NR 22 2 (4a)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —N[—R 2 —SiR 3 n X 3-n ] 2 (5)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m may consist of two or more R f1 O,
R 1 is a single bond, an alkylene group, a group having an etheric oxygen atom or —NH— at the terminal of the alkylene group (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ), or an alkylene group having 2 or more carbon atoms. A group having an etheric oxygen atom or -NH- between carbon-carbon atoms, or a terminal of an alkylene group having 2 or more carbon atoms (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ) and between carbon-carbon atoms A group having an etheric oxygen atom or -NH-,
R 22 is a monovalent organic group having a terminal vinyl group, and two R 22 may be the same or different,
R 2 is a divalent organic group derived from R 22 ,
R 3 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group,
X is a hydrolyzable group,
n is an integer of 0-2.

[7]下記工程1~4を経て下式(1)で表される化合物から下式(5)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
工程1:下式(1)で表される化合物にNHを反応させて、下式(2)で表される化合物を得る工程。
工程2:下式(2)で表される化合物に還元剤を反応させて、下式(3)で表される化合物を得る工程。
工程3:下式(3)で表される化合物にYR22を反応させて、下式(4a)で表される化合物を得る工程。
工程4:下式(4a)で表される化合物とHSiR 3-nとをヒドロシリル化反応して、下式(5)で表される化合物を得る工程。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CO-Z ・・・(1)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CO-NH ・・・(2)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-NH ・・・(3)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-NR22 ・・・(4a)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-N[-R-SiR 3-n ・・・(5)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基であり、
Zは、-OH、-OR、-R、ハロゲン原子または水素原子であり、RおよびRは、それぞれ1価の炭化水素基であり、
Yは、HO-、RO-またはハロゲン原子であり、Rは、1価の炭化水素基であり、
22は、末端にビニル基を有する1価の有機基であり、
は、R22に由来する2価の有機基であり、
は、水素原子または1価の炭化水素基であり、
Xは、加水分解性基であり、
nは、0~2の整数である。
[8]前記Zが-ORであり、アルコール溶媒または含フッ素溶媒中で式(1)で表される化合物にNHを反応させる、[7]の製造方法。
[9]前記Yがハロゲン原子であり、前記R22が、アリル基またはアリルオキシアルキル基である、[7]または[8]の製造方法。
[10]前記Qおよび前記Rがいずれも単結合である、[7]~[9]のいずれかの製造方法。
[7] A method for producing a fluorine-containing ether compound, which comprises obtaining a compound represented by the following formula (5) from a compound represented by the following formula (1) through the following steps 1 to 4.
Step 1: A step of reacting a compound represented by the following formula (1) with NH3 to obtain a compound represented by the following formula (2).
Step 2: A step of reacting a compound represented by the following formula (2) with a reducing agent to obtain a compound represented by the following formula (3).
Step 3: A step of reacting a compound represented by the following formula (3) with YR 22 to obtain a compound represented by the following formula (4a).
Step 4: A step of hydrosilylating the compound represented by the following formula (4a) and HSiR 3 n X 3-n to obtain the compound represented by the following formula (5).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CO—Z (1)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CO—NH 2 (2)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —NH 2 (3)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —NR 22 2 (4a)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —N[—R 2 —SiR 3 n X 3-n ] 2 (5)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m may consist of two or more R f1 O,
R 1 is a single bond, an alkylene group, a group having an etheric oxygen atom or —NH— at the terminal of the alkylene group (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ), or an alkylene group having 2 or more carbon atoms. A group having an etheric oxygen atom or -NH- between carbon-carbon atoms, or a terminal of an alkylene group having 2 or more carbon atoms (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ) and between carbon-carbon atoms A group having an etheric oxygen atom or -NH-,
Z is —OH, —OR 4 , —R 5 , a halogen atom or a hydrogen atom, R 4 and R 5 are each a monovalent hydrocarbon group,
Y is HO—, R 6 O— or a halogen atom, R 6 is a monovalent hydrocarbon group,
R 22 is a monovalent organic group having a terminal vinyl group,
R 2 is a divalent organic group derived from R 22 ,
R 3 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group,
X is a hydrolyzable group,
n is an integer of 0-2.
[8] The production method of [7], wherein Z is —OR 4 and the compound represented by formula (1) is reacted with NH 3 in an alcoholic solvent or a fluorine-containing solvent.
[9] The production method of [7] or [8], wherein Y is a halogen atom and R 22 is an allyl group or an allyloxyalkyl group.
[10] The production method according to any one of [7] to [9], wherein both Q and R1 are single bonds.

[11]下式(2)で表される含フッ素エーテル化合物。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CO-NH ・・・(2)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基である。
[12]前記Qおよび前記Rがいずれも単結合である、[11]の化合物。
[11] A fluorine-containing ether compound represented by the following formula (2).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CO—NH 2 (2)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m may consist of two or more R f1 O,
R 1 is a single bond, an alkylene group, a group having an etheric oxygen atom or -NH- at the terminal of the alkylene group (limited to the terminal on the side bonding to R f2 ), or an alkylene group having 2 or more carbon atoms. A group having an etheric oxygen atom or —NH— between carbon-carbon atoms, or the terminal of an alkylene group having 2 or more carbon atoms (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ) and between carbon-carbon atoms It is a group having an etheric oxygen atom or -NH-.
[12] The compound of [11], wherein both Q and R1 are single bonds.

[13]下式(3)で表される含フッ素エーテル化合物。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-NH ・・・(3)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基である。
[14]前記Qおよび前記Rがいずれも単結合である、[13]の化合物。
[13] A fluorine-containing ether compound represented by the following formula (3).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —NH 2 (3)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m may consist of two or more R f1 O,
R 1 is a single bond, an alkylene group, a group having an etheric oxygen atom or -NH- at the terminal of the alkylene group (limited to the terminal on the side bonding to R f2 ), or an alkylene group having 2 or more carbon atoms. A group having an etheric oxygen atom or —NH— between carbon-carbon atoms, or the terminal of an alkylene group having 2 or more carbon atoms (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ) and between carbon-carbon atoms It is a group having an etheric oxygen atom or -NH-.
[14] The compound of [13], wherein both Q and R1 are single bonds.

本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法によれば、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物または該含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物を低コストで生産性よく製造できる。
本発明の含フッ素エーテル化合物は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
According to the method for producing a fluorine-containing ether compound of the present invention, a fluorine-containing ether compound suitable for use as a surface treatment agent or a fluorine-containing ether compound useful as an intermediate for the fluorine-containing ether compound can be produced at low cost and with good productivity. can.
INDUSTRIAL APPLICABILITY The fluorine-containing ether compound of the present invention is useful as an intermediate for a fluorine-containing ether compound that is suitably used as a surface treatment agent.

本明細書において、式(1)で表される化合物を化合物(1)と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
本明細書における以下の用語の意味や化学式の記載様式は、以下の通りである。
オキシペルフルオロアルキレン基の化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素-炭素原子間においてエーテル結合(-O-)を形成する酸素原子を意味する。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応することによってシラノール基(Si-OH)を形成し得る基を意味する。たとえば、式(5)中のSiR 3-nである。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、NMR分析法を用い、下記の方法で算出される。
H-NMRおよび19F-NMRによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数(平均値)を求めることによって算出される。末端基は、たとえば式(5)中のAまたはSiR 3-nである。
In this specification, the compound represented by formula (1) is referred to as compound (1). Compounds represented by other formulas are similarly described.
The meanings of the following terms and the description format of the chemical formulas used in this specification are as follows.
A chemical formula for an oxyperfluoroalkylene group shall be represented with the oxygen atom to the right of the perfluoroalkylene group.
"Etheric oxygen atom" means an oxygen atom that forms an ether bond (-O-) between carbon atoms.
“Hydrolyzable silyl group” means a group capable of forming a silanol group (Si—OH) by hydrolysis reaction. For example, SiR 3 n X 3-n in formula (5).
A "surface layer" means a layer formed on the surface of a substrate.
The "number average molecular weight" of the fluorine-containing ether compound is calculated by the following method using NMR analysis.
It is calculated by determining the number (average value) of oxyperfluoroalkylene groups based on the terminal groups by 1 H-NMR and 19 F-NMR. A terminal group is, for example, A or SiR 3 n X 3-n in formula (5).

[化合物(5)]
表面処理剤に好適に用いられる化合物(5)は、本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法において最終的に得られる目的物質である。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-N[-R-SiR 3-n ・・・(5)
ただし、Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、mは、2~200の整数であり、(Rf1O)は、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、Rは、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基であり、Rは、後述する化合物(4)のR22に由来する2価の有機基であり、Rは、水素原子または1価の炭化水素基であり、Xは、加水分解性基であり、nは、0~2の整数である。
[Compound (5)]
Compound (5), which is preferably used as a surface treatment agent, is the target substance finally obtained in the method for producing a fluorine-containing ether compound of the present invention.
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —N[—R 2 —SiR 3 n X 3-n ] 2 (5)
However, A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, a terminal of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (with the proviso that , (R f1 O) m only on the side that bonds to), an etheric oxygen between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms or a terminal of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and ether between carbon-carbon atoms a group having an oxygen atom, R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group, m is an integer of 2 to 200, (R f1 O) m is two or more R f1 O R 1 is a single bond, an alkylene group, a group having an etheric oxygen atom or -NH- at the end of the alkylene group (limited to the end on the side that bonds to R f2 ) , a group having an etheric oxygen atom or —NH— between the carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms, or the terminal of an alkylene group having 2 or more carbon atoms (limited to the terminal on the side that bonds to R f2 ) and a group having an etheric oxygen atom or —NH— between carbon-carbon atoms, R 2 is a divalent organic group derived from R 22 of compound (4) described later, and R 3 is , a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group, X is a hydrolyzable group, and n is an integer of 0-2.

(A基)
Aとしては、化合物(5)によって形成される表面層の潤滑性および耐摩擦性にさらに優れる点から、炭素数1~10のペルフルオロアルキル基が好ましく、炭素数1~6のペルフルオロアルキル基がより好ましく、炭素数1~3のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。
(A group)
A is preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, because the surface layer formed by the compound (5) has better lubricity and abrasion resistance. Preferred are perfluoroalkyl groups having 1 to 3 carbon atoms.

Aが末端にCF-を有するため、化合物(5)の一方の末端がCF-となり、他方の末端が加水分解性シリル基となる。該構造の化合物(5)によれば、低表面エネルギーの表面層を形成できるため、該表面層は潤滑性および耐摩擦性に優れる。一方、両末端に加水分解性シリル基を有する従来の含フッ素エーテル化合物では、表面層の潤滑性および耐摩擦性が不充分である。Since A has CF 3 — at the terminal, one terminal of compound (5) is CF 3 — and the other terminal is a hydrolyzable silyl group. Since the compound (5) having this structure can form a surface layer with low surface energy, the surface layer is excellent in lubricity and abrasion resistance. On the other hand, with conventional fluorine-containing ether compounds having hydrolyzable silyl groups at both ends, the lubricity and abrasion resistance of the surface layer are insufficient.

(Q基)
Qとしては、単結合、1つ以上の水素原子を含む炭素数1~10のフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含む炭素数1~10のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2~10のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、ならびに、1つ以上の水素原子を含む炭素数2~10のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。
Qが単結合でない場合、Qにおける水素原子の数は、表面層の外観に優れる点から、1以上であり、2以上が好ましく、3以上が特に好ましい。Qにおける水素原子の数は、表面層の撥水撥油性にさらに優れる点から、(Qの炭素数)×2以下が好ましく、(Qの炭素数)以下が特に好ましい。
Qが水素原子を有することによって、化合物(5)の液状媒体への溶解性が高くなる。そのため、コーティング液中で化合物(5)が凝集しにくく、また、基材の表面に塗布した後、乾燥させる途中に化合物(5)が凝集しにくいため、表面層の外観にさらに優れる。
(Q group)
Q is a single bond, a fluoroalkylene group having 1 to 10 carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, a terminal of a fluoroalkylene group having 1 to 10 carbon atoms containing one or more hydrogen atoms (with the proviso that (R f1 O) a group having an etheric oxygen atom in (limited to the side that bonds to m ), and having an etheric oxygen atom between carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 to 10 carbon atoms containing one or more hydrogen atoms group, and the end of a fluoroalkylene group having 2 to 10 carbon atoms containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and an etheric oxygen between carbon atoms Groups with atoms are preferred.
When Q is not a single bond, the number of hydrogen atoms in Q is 1 or more, preferably 2 or more, and particularly preferably 3 or more, from the viewpoint of excellent appearance of the surface layer. The number of hydrogen atoms in Q is preferably (number of carbon atoms in Q)×2 or less, particularly preferably (number of carbon atoms in Q), from the viewpoint of further improving the water and oil repellency of the surface layer.
Having a hydrogen atom in Q increases the solubility of compound (5) in a liquid medium. Therefore, the compound (5) is less likely to aggregate in the coating liquid, and the compound (5) is less likely to aggregate during drying after coating on the surface of the substrate, so that the appearance of the surface layer is further excellent.

Qとしては、特に、単結合、-Rf5O-および-Rf5O-Rf6O-であることが好ましい。ただし、Rf5、Rf6は、それぞれ独立に、水素原子を有する炭素数2~6のフルオロアルキレン基を表す。Rf5、Rf6における水素原子の数は、1または2であることが好ましい。
f5Oとしては、A-O-が結合する炭素原子に水素原子を有するオキシフルオロアルキレン基が好ましく、CHFCFOが特に好ましい。Rf6Oとしては、Rf5Oが結合する炭素原子に水素原子を有するオキシフルオロアルキレン基が好ましく、CHCFO、CHCFCFO、CHCFCFCFO等が挙げられる。-Rf5O-Rf6O-としては、-CHFCFO-CHCFO-等が挙げられる。
Qは、単結合であることが特に好ましい。
Q is particularly preferably a single bond, —R f5 O— and —R f5 OR f6 O—. However, R f5 and R f6 each independently represent a C 2-6 fluoroalkylene group having a hydrogen atom. The number of hydrogen atoms in R f5 and R f6 is preferably 1 or 2.
R f5 O is preferably an oxyfluoroalkylene group having a hydrogen atom at the carbon atom to which A—O— is bonded, and particularly preferably CHFCF 2 O. R f6 O is preferably an oxyfluoroalkylene group having a hydrogen atom at the carbon atom to which R f5 O is bonded, such as CH 2 CF 2 O, CH 2 CF 2 CF 2 O, CH 2 CF 2 CF 2 CF 2 O, and the like. is mentioned. —R f5 OR f6 O— includes —CHFCF 2 O—CH 2 CF 2 O— and the like.
Q is particularly preferably a single bond.

((Rf1O)
f1としては、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、炭素数1~6のペルフルオロアルキレン基が好ましく、炭素数1~4のペルフルオロアルキレン基がより好ましく、表面層の潤滑性にさらに優れる点から、炭素数1~2のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。
((R f1 O) m )
R f1 is preferably a perfluoroalkylene group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a perfluoroalkylene group having 1 to 4 carbon atoms, from the viewpoint of further improving the abrasion resistance and fingerprint stain removability of the surface layer. A perfluoroalkylene group having 1 to 2 carbon atoms is particularly preferred from the viewpoint of even better lubricity.

化合物(5)は、(Rf1O)を有するため、フッ素原子の含有量が多い。そのため、化合物(5)は、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面層を形成できる。
また、Rf1が分岐構造を有しないペルフルオロアルキレン基であれば、(Rf1O)が直鎖構造となる。該構造の化合物(5)によれば、表面層の耐摩擦性および潤滑性に優れる。一方、ポリ(オキシペルフルオロアルキレン)鎖が分岐構造を有する場合、表面層の耐摩擦性および潤滑性がやや劣る。
Since compound (5) has (R f1 O) m , the content of fluorine atoms is large. Therefore, compound (5) can form a surface layer that is excellent in water and oil repellency, abrasion resistance, and fingerprint stain removability.
Further, when R f1 is a perfluoroalkylene group having no branched structure, (R f1 O) m has a linear structure. According to the compound (5) having this structure, the surface layer is excellent in friction resistance and lubricity. On the other hand, when the poly(oxyperfluoroalkylene) chain has a branched structure, the surface layer is slightly inferior in abrasion resistance and lubricity.

mは、5~150の整数が好ましく、10~100の整数が特に好ましい。mが前記範囲の下限値以上であれば、表面層の撥水撥油性に優れる。mが前記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性に優れる。すなわち、化合物(5)の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量あたりに存在する加水分解性シリル基の数が減少し、表面層の耐摩擦性が低下する。 m is preferably an integer of 5-150, particularly preferably an integer of 10-100. When m is at least the lower limit of the above range, the surface layer has excellent water and oil repellency. When m is equal to or less than the upper limit of the above range, the surface layer has excellent abrasion resistance. That is, when the number average molecular weight of compound (5) is too large, the number of hydrolyzable silyl groups present per unit molecular weight decreases, and the abrasion resistance of the surface layer decreases.

(Rf1O)において、2種以上のRf1Oが存在する場合、各Rf1Oの結合順序は限定されない。たとえば、CFOとCFCFOとが存在する場合、CFOとCFCFOとがランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
2種以上のRf1Oが存在するとは、炭素数の異なる2種以上のRf1Oが存在すること、および、炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類(側鎖の数や側鎖の炭素数等)が異なる2種以上のRf1Oが存在することをいう。
2種以上のRf1Oの配置については、たとえば実施例の含フッ素エーテル化合物の場合、{(CFO)x1(CFCFO)x2}で表される構造は、x1個の(CFO)とx2個の(CFCFO)とがランダムに配置されていることを表す。また、(CFCFO-CFCFCFCFO)x3で表される構造は、x3個の(CFCFO)とx3個の(CFCFCFCFO)とが交互に配置されていることを表す。
In (R f1 O) m , when two or more types of R f1 O are present, the order of bonding of each R f1 O is not limited. For example, if CF 2 O and CF 2 CF 2 O are present, the CF 2 O and CF 2 CF 2 O may be arranged randomly, alternately, in blocks.
The presence of two or more types of R f1 O means that two or more types of R f1 O with different carbon numbers are present, and even if the number of carbons is the same, the presence or absence of a side chain and the type of side chain (side chain , the number of carbon atoms in the side chain, etc.).
Regarding the arrangement of two or more types of R f1 O, for example, in the case of the fluorine-containing ether compounds of Examples, the structure represented by {(CF 2 O) x1 (CF 2 CF 2 O) x2 } has x1 ( CF 2 O) and x2 (CF 2 CF 2 O) are randomly arranged. Also, the structure represented by (CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) x 3 is composed of x 3 (CF 2 CF 2 O) and x 3 (CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) are alternately arranged.

(Rf1O)としては、表面層の耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性にさらに優れる点から、{(CFO)m1(CFCFO)m2}、(CFCFO)m3、(CFCFCFO)m4、(CFCFO-CFCFCFCFO)m5、および、これらの一端または両端1~4個の他の(Rf1O)を有する基が好ましい。特に、Qが単結合の場合、A-O-側に、1~4個の他の(Rf1O)を有する基が好ましい。これらの一端または両端1~4個の他の(Rf1O)を有する基としては、たとえば、(CFCFO){(CFO)m1(CFCFO)m2-2}、(CFCFO-CFCFCFCFO)m5-1(CFCFO)等が挙げられる。(Rf1O)としては、{(CFO)m1(CFCFO)m2}を有する基が特に好ましい。
ただし、m1は1以上の整数であり、m2は1以上の整数であり、m1+m2は2~200の整数であり、m1個のCFOおよびm2個のCFCFOの結合順序は限定されない。m3およびm4は、それぞれ、2~200の整数であり、m5は、1~100の整数である。
(R f1 O) m is {(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2 }, (CF 2 CF 2 O) m3 , (CF 2 CF 2 CF 2 O) m4 , (CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m5 and 1 to 4 other ( Groups with R f1 O) are preferred. In particular, when Q is a single bond, a group having 1 to 4 other (R f1 O) on the AO- side is preferred. Groups having 1 to 4 other (R f1 O) at one end or both ends thereof include, for example, (CF 2 CF 2 O) 2 {(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2-2 }, (CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m5-1 (CF 2 CF 2 O), and the like. (R f1 O) m is particularly preferably a group having {(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2 }.
provided that m1 is an integer of 1 or more, m2 is an integer of 1 or more, m1+m2 is an integer of 2 to 200, and the order of bonding of m1 CF 2 O and m2 CF 2 CF 2 O is limited. not. m3 and m4 are each an integer of 2-200, and m5 is an integer of 1-100.

(Rf2基)
f2としては、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、炭素数1~6のペルフルオロアルキレン基が好ましく、炭素数1~4のペルフルオロアルキレン基がより好ましく、表面層の潤滑性にさらに優れる点から、炭素数1~2のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。
f2は、たとえば、(Rf1O)が、{(CFO)m1(CFCFO)m2}および(CFCFO)m3である場合、炭素数1のペルフルオロアルキレン基であり、(CFCFCFO)m4である場合、炭素数2のペルフルオロアルキレン基であり、(CFCFO-CFCFCFCFO)m5である場合、炭素数3の直鎖のペルフルオロアルキレン基である。また、Rf1が分岐を有するペルフルオロアルキレン基の場合は、Rf2は分岐を有するペルフルオロアルキレン基となることがあり、たとえば、Rf1が(CF(CF)CFO)である場合は、Rf2は、CF(CF)となる。
f2が分岐構造を有しないペルフルオロアルキレン基であれば、表面層の耐摩擦性および潤滑性に優れる。
(R f2 group)
R f2 is preferably a perfluoroalkylene group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a perfluoroalkylene group having 1 to 4 carbon atoms, from the viewpoint of further improving the abrasion resistance and fingerprint stain removability of the surface layer. A perfluoroalkylene group having 1 to 2 carbon atoms is particularly preferred because of its superior lubricity.
R f2 is, for example, a perfluoroalkylene group having 1 carbon atoms when (R f1 O) m is {(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2 } and (CF 2 CF 2 O) m3 and (CF 2 CF 2 CF 2 O) m4 is a perfluoroalkylene group having 2 carbon atoms, and (CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m5 is a carbon It is a linear perfluoroalkylene group of number 3. When R f1 is a branched perfluoroalkylene group, R f2 may be a branched perfluoroalkylene group. For example, when R f1 is (CF(CF 3 )CF 2 O), R f2 becomes CF (CF 3 ).
If R f2 is a perfluoroalkylene group that does not have a branched structure, the surface layer will be excellent in abrasion resistance and lubricity.

(R基)
としては、単結合、炭素数1~10のアルキレン基、炭素数1~10のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、炭素数2~10のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基、ならびに、炭素数2~10のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基が好ましく、炭素数1~7のアルキレン基、および、炭素数2~7のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基が特に好ましい。化合物(5)の製造のしやすさの点からは、単結合、-CH-、-CHCH-、-CHOCH-および-CHNHCH-からなる群から選ばれる基(ただし、左側がRf2に結合する。)が好ましい。
は、単結合であることが特に好ましい。
は、極性が高くかつ耐薬品性や耐光性が不充分なエステル結合を有しないため、表面層の初期の撥水性、耐薬品性および耐光性に優れる。
(R 1 group)
R 1 is a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or an etheric oxygen atom or —NH a group having -, a group having an etheric oxygen atom or -NH- between carbon atoms of an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and a terminal of an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms (provided that R f2 and (Limited to the end of the binding side.) and a group having an etheric oxygen atom or -NH- between carbon atoms is preferable, and an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms and an alkylene group having 2 to 7 carbon atoms Groups having an etheric oxygen atom or -NH- between carbon-carbon atoms are particularly preferred. A group selected from the group consisting of a single bond, —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 OCH 2 — and —CH 2 NHCH 2 — from the viewpoint of ease of production of compound (5) (where the left side binds to R f2 ) is preferred.
R 1 is particularly preferably a single bond.
Since R1 has a high polarity and does not have an ester bond that causes insufficient chemical resistance and light resistance, the surface layer is excellent in initial water repellency, chemical resistance and light resistance.

(R基)
としては、炭素数2~10のアルキレン基、および、炭素数3~10のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基が好ましく、炭素数2~7のアルキレン基、および、炭素数3~7のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基が特に好ましい。化合物(5)の製造のしやすさの点からは、-CHCHCH-および-CHCHOCHCHCH-(ただし、右側がSiに結合する。)が好ましい。
は、極性が高くかつ耐薬品性や耐光性が不充分なエステル結合を有しないため、表面層の初期の撥水性、耐薬品性および耐光性に優れる。
としては、表面層の耐光性に優れる点からは、エーテル性酸素原子を有しないものが特に好ましい。
化合物(5)中の2つのRは、同一であっても異なっていてもよい。化合物(5)の製造のしやすさの点から、2つのRは同一の基であることが好ましい。
(R 2 groups)
R 2 is preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and a group having an etheric oxygen atom or —NH— between the carbon-carbon atoms of the alkylene group having 3 to 10 carbon atoms, and having 2 to 7 carbon atoms. and groups having an etheric oxygen atom or —NH— between the carbon atoms of the alkylene group having 3 to 7 carbon atoms are particularly preferred. -CH 2 CH 2 CH 2 - and -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 - (where the right side is bonded to Si) are preferred from the viewpoint of ease of production of compound (5).
Since R2 has a high polarity and does not have an ester bond that is insufficient in chemical resistance and light resistance, the initial water repellency, chemical resistance and light resistance of the surface layer are excellent.
As R2 , those having no etheric oxygen atom are particularly preferable from the viewpoint of excellent light resistance of the surface layer.
Two R 2 in compound (5) may be the same or different. From the viewpoint of ease of production of compound (5), two R 2 are preferably the same group.

(SiR 3-n基)
SiR 3-nは、加水分解性シリル基である。
化合物(5)は、末端に加水分解性シリル基を2つ有する。該構造の化合物(5)は基材と強固に化学結合するため、表面層は耐摩擦性に優れる。
また、化合物(5)は、一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する。該構造の化合物(5)は凝集しにくいため、表面層は外観に優れる。
(SiR 3 n X 3-n group)
SiR 3 n X 3-n is a hydrolyzable silyl group.
Compound (5) has two hydrolyzable silyl groups at its terminals. Since the compound (5) having this structure strongly chemically bonds with the base material, the surface layer has excellent abrasion resistance.
Moreover, compound (5) has a hydrolyzable silyl group only at one end. Since the compound (5) having this structure does not aggregate easily, the surface layer has an excellent appearance.

Xは、加水分解性基である。加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、化合物(5)の末端のSi-Xは、加水分解反応によってシラノール基(Si-OH)となる。シラノール基は、さらに分子間で反応してSi-O-Si結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基(基材-OH)と脱水縮合反応して、化学結合(基材-O-Si)を形成する。 X is a hydrolyzable group. A hydrolyzable group is a group that becomes a hydroxyl group through a hydrolysis reaction. That is, Si--X at the terminal of compound (5) becomes a silanol group (Si--OH) by a hydrolysis reaction. The silanol groups further react intermolecularly to form Si--O--Si bonds. In addition, the silanol group undergoes a dehydration condensation reaction with the hydroxyl group (substrate-OH) on the surface of the substrate to form a chemical bond (substrate-O-Si).

Xとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基(-NCO)等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。
Xとしては、化合物(5)の製造のしやすさの点から、アルコキシ基およびハロゲン原子が好ましい。Xとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物(5)の保存安定性に優れる点から、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、化合物(5)の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
Examples of X include an alkoxy group, a halogen atom, an acyl group, and an isocyanate group (--NCO). As the alkoxy group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable. A chlorine atom is particularly preferred as the halogen atom.
As X, an alkoxy group and a halogen atom are preferable from the viewpoint of ease of production of compound (5). X is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms from the viewpoint of less outgassing during coating and excellent storage stability of compound (5), and when long-term storage stability of compound (5) is required. is particularly preferably an ethoxy group, and is particularly preferably a methoxy group when the reaction time after coating is to be shortened.

は、水素原子または1価の炭化水素基である。1価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、これらの2種以上を組み合わせた基等が挙げられる。
としては、1価の炭化水素基が好ましく、1価の飽和炭化水素基が特に好ましい。1価の飽和炭化水素基の炭素数は、1~6が好ましく、1~3がより好ましく、1~2が特に好ましい。Rの炭素数がこの範囲であると、化合物(5)を製造しやすい。
R3 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Examples of monovalent hydrocarbon groups include alkyl groups, aryl groups, cycloalkyl groups, alkenyl groups, groups in which two or more of these groups are combined, and the like.
R 3 is preferably a monovalent hydrocarbon group, particularly preferably a monovalent saturated hydrocarbon group. The monovalent saturated hydrocarbon group preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 2 carbon atoms. When the number of carbon atoms in R 3 is within this range, compound (5) can be easily produced.

nは、0または1が好ましく、0が特に好ましい。1つの加水分解性シリル基にXが複数存在することによって、基材との密着性がより強固になる。 n is preferably 0 or 1, particularly preferably 0. The presence of a plurality of Xs in one hydrolyzable silyl group enhances the adhesion to the substrate.

SiR 3-nとしては、Si(OCH、SiCH(OCH、Si(OCHCH、SiCl、Si(OCOCH、および、Si(NCO)が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、Si(OCHが特に好ましい。
化合物(5)中の2つのSiR 3-nは、同一であっても異なっていてもよい。化合物(5)の製造のしやすさの点から、同一の基であることが好ましい。
SiR 3 n X 3-n includes Si(OCH 3 ) 3 , SiCH 3 (OCH 3 ) 2 , Si(OCH 2 CH 3 ) 3 , SiCl 3 , Si(OCOCH 3 ) 3 and Si(NCO) 3 is preferred. Si(OCH 3 ) 3 is particularly preferred from the viewpoint of ease of handling in industrial production.
Two SiR 3 n X 3-n in compound (5) may be the same or different. From the viewpoint of ease of production of compound (5), the same groups are preferred.

(化合物(5)の好ましい形態)
化合物(5)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。該化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、耐薬品性および耐光性にさらに優れる点から好ましい。
(Preferred form of compound (5))
Compound (5) includes, for example, compounds of the following formula. The compound is preferable because it is easy to industrially produce, easy to handle, and further excellent in water and oil repellency, abrasion resistance, fingerprint stain removability, lubricity, chemical resistance and light resistance.

Figure 0007180593000001
Figure 0007180593000001

ただし、Gはポリフルオロポリエーテル鎖、すなわちA-O-Q-(Rf1O)-Rf2-である。Gの好ましい形態は、上述した好ましいA、Q、(Rf1O)およびRf2を組み合わせたものとなる。where G is a polyfluoropolyether chain, ie AOQ-(R f1 O) m -R f2 -. Preferred forms of G are combinations of the preferred A, Q, (R f1 O) m and R f2 described above.

[化合物(1)]
化合物(1)は、本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法において、出発物質となる。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CO-Z ・・・(1)
ただし、A、Q、(Rf1O)、Rf2およびRは、化合物(5)で説明したA、Q、(Rf1O)、Rf2およびRと同じであり、好ましい形態も同様である。Zは、-OH、-OR、-R、ハロゲン原子または水素原子であり、RおよびRは、それぞれ1価の炭化水素基である。
[Compound (1)]
Compound (1) is a starting material in the method for producing a fluorine-containing ether compound of the present invention.
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CO—Z (1)
However, A, Q, (R f1 O) m , R f2 and R 1 are the same as A, Q, (R f1 O) m , R f2 and R 1 described in compound (5), and preferred forms is also the same. Z is -OH, -OR 4 , -R 5 , a halogen atom or a hydrogen atom, and R 4 and R 5 are each monovalent hydrocarbon groups.

Zとしては、反応性に優れる点から、-OH、-OR、-Rおよびハロゲン原子が好ましく、反応工程が少ない点から、-ORおよび-Rが特に好ましい。As Z, —OH, —OR 4 , —R 5 and a halogen atom are preferred from the viewpoint of excellent reactivity, and —OR 4 and —R 5 are particularly preferred from the viewpoint of fewer reaction steps.

およびRにおいて、1価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、これらの2種以上を組み合わせた基等が挙げられる。中でも反応工程が少ない点から、アルキル基が好ましい。1価の炭化水素基の炭素数は、合成時の分離の容易さや反応系に与える影響が少ない点から、1~20が好ましく、1~10がより好ましく、1~6がさらに好ましく、1が特に好ましい。Examples of monovalent hydrocarbon groups for R 4 and R 5 include alkyl groups, aryl groups, cycloalkyl groups, alkenyl groups, groups in which two or more of these groups are combined, and the like. Among them, an alkyl group is preferable because the number of reaction steps is small. The number of carbon atoms in the monovalent hydrocarbon group is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 10, more preferably from 1 to 6, more preferably from 1 to 1, in terms of ease of separation during synthesis and less influence on the reaction system. Especially preferred.

化合物(1)は、特許文献1に記載の方法、国際公開第2013/121984号に記載の方法、国際公開第2015/087902号に記載の方法等の公知の方法で製造できる。 Compound (1) can be produced by known methods such as the method described in Patent Document 1, the method described in International Publication No. 2013/121984, and the method described in International Publication No. 2015/087902.

[化合物(2)の製造方法]
化合物(2)は、化合物(5)等の、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第1の態様は、化合物(1)にNHを反応させて化合物(2)を得る方法である。また、本発明が化合物(1)から化合物(5)を製造する方法である場合、工程1は、化合物(1)にNHを反応させて化合物(2)を得る工程である。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CO-NH ・・・(2)
ただし、A、Q、(Rf1O)、Rf2およびRは、化合物(5)で説明したA、Q、(Rf1O)、Rf2およびRと同じであり、好ましい形態も同様である。
[Method for producing compound (2)]
Compound (2) is useful as an intermediate for fluorine-containing ether compounds, such as compound (5), which are suitably used as surface treatment agents.
A first aspect of the method for producing a fluorine-containing ether compound of the present invention is a method of reacting compound (1) with NH3 to obtain compound (2). Further, when the present invention is a method for producing compound (5) from compound (1), step 1 is a step of reacting compound (1) with NH3 to obtain compound (2).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CO—NH 2 (2)
However, A, Q, (R f1 O) m , R f2 and R 1 are the same as A, Q, (R f1 O) m , R f2 and R 1 described in compound (5), and preferred forms The same is true for

本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法にあっては、従来のCFSOCl等の高価な酸クロリドの代わりに安価なNHを用いているため、化合物(2)、ならびに化合物(2)を原料とする化合物(3)~(5)を低コストで製造できる。また、取り扱いが困難なトリフルオロメチルスルホン酸等が副生しないため、化合物(2)、ならびに化合物(2)を原料とする化合物(3)~(5)を生産性よく製造できる。また、化合物(1)とNHとの反応は、比較的低温、かつ常圧の穏やかな条件で進行するため、特殊な装置を必要とせず簡便に化合物(2)を製造できる。In the method for producing a fluorine-containing ether compound of the present invention, since inexpensive NH 3 is used instead of conventional expensive acid chlorides such as CF 3 SO 2 Cl, compound (2) and compound (2 ) can be used as raw materials to produce compounds (3) to (5) at low cost. In addition, since trifluoromethylsulfonic acid and the like, which are difficult to handle, are not by-produced, compound (2) and compounds (3) to (5) using compound (2) as a raw material can be produced with high productivity. In addition, since the reaction between compound (1) and NH 3 proceeds under mild conditions of relatively low temperature and normal pressure, compound (2) can be easily produced without requiring special equipment.

(溶媒)
化合物(1)とNHとの反応は、溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、Zが-ORの場合はZに対応したアルコール(HOR)が好ましい。溶媒としては、含フッ素溶媒を用いることも好ましい。
(solvent)
The reaction of compound (1) with NH3 is preferably carried out in a solvent. As the solvent, when Z is —OR 4 , the alcohol corresponding to Z (HOR 4 ) is preferable. As the solvent, it is also preferable to use a fluorine-containing solvent.

Zに対応したアルコールとしては、アルキルアルコール(メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、iso-ブチルアルコール、tert-ブチルアルコール等)等が挙げられる。
含フッ素溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
Alcohols corresponding to Z include alkyl alcohols (methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, iso-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, etc.).
Fluorine-containing solvents include fluorinated alkanes, fluorinated aromatic compounds, fluoroalkyl ethers, fluorinated alkylamines, fluoroalcohols, and the like.

フッ素化アルカンとしては、炭素数4~8の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばC13H(旭硝子社製、アサヒクリン(登録商標)AC-2000)、C13(旭硝子社製、アサヒクリン(登録商標)AC-6000)、CCHFCHFCF(ケマーズ社製、バートレル(登録商標)XF)等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数4~12の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばCFCHOCFCFH(旭硝子社製、アサヒクリン(登録商標)AE-3000)、COCH(3M社製、ノベック(登録商標)7100)、COC(3M社製、ノベック(登録商標)7200)、CCF(OCH)C(3M社製、ノベック(登録商標)7300)等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、たとえば2,2,3,3-テトラフルオロプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
As the fluorinated alkane, compounds having 4 to 8 carbon atoms are preferred. Commercially available products include, for example, C 6 F 13 H (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Asahiklin (registered trademark) AC-2000) and C 6 F 13 C 2 H 5 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Asahiklin (registered trademark) AC-6000). , C 2 F 5 CHFCHFCF 3 (Bertrell (registered trademark) XF, manufactured by Chemours) and the like.
Examples of fluorinated aromatic compounds include hexafluorobenzene, trifluoromethylbenzene, perfluorotoluene, bis(trifluoromethyl)benzene and the like.
As the fluoroalkyl ether, compounds having 4 to 12 carbon atoms are preferred. Commercially available products include CF 3 CH 2 OCF 2 CF 2 H (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Asahiklin (registered trademark) AE-3000), C 4 F 9 OCH 3 (manufactured by 3M, Novec (registered trademark) 7100), C 4 F 9 OC 2 H 5 (manufactured by 3M, Novec (registered trademark) 7200), C 2 F 5 CF(OCH 3 )C 3 F 7 (manufactured by 3M, Novec (registered trademark) 7300), etc. .
Examples of fluorinated alkylamines include perfluorotripropylamine and perfluorotributylamine.
Examples of fluoroalcohol include 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol, hexafluoroisopropanol and the like.

(反応条件)
反応温度は、0~400℃が好ましく、0~300℃がより好ましく、10~150℃が特に好ましい。
反応圧力は、0~30MPa[gauge]が好ましく、0~20MPa[gauge]がより好ましく0~10MPa[gauge]が特に好ましい。
反応時間は、0超~400時間が好ましく、0.01~200時間がより好ましく、1~150時間が特に好ましい。
生産性の高さを考慮した場合には高温高圧の方が望ましいが、安全性や操作性、目的物の高い選択性を考慮した場合には穏やかな条件が望ましい。
(Reaction conditions)
The reaction temperature is preferably 0 to 400°C, more preferably 0 to 300°C, and particularly preferably 10 to 150°C.
The reaction pressure is preferably 0 to 30 MPa [gauge], more preferably 0 to 20 MPa [gauge], and particularly preferably 0 to 10 MPa [gauge].
The reaction time is preferably longer than 0 to 400 hours, more preferably 0.01 to 200 hours, and particularly preferably 1 to 150 hours.
High temperature and high pressure are preferable when high productivity is considered, but mild conditions are preferable when safety, operability, and high selectivity of the target are considered.

化合物(1)と反応させるNHは、気体であっても液体であってもよく、溶媒に溶解したものであってもよい。
NHの量は、化合物(1)の1モルに対して、0.5モル以上が好ましく、1モル以上が特に好ましい。上限は特に問わないが、1,000モルが好ましい。
化合物(1)とNHとの反応は、連続反応であっても回分反応(バッチ反応)であってもよい。
NH3 to be reacted with compound (1) may be gas or liquid, and may be dissolved in a solvent.
The amount of NH 3 is preferably 0.5 mol or more, particularly preferably 1 mol or more, per 1 mol of compound (1). There is no particular upper limit, but 1,000 mol is preferable.
The reaction between compound (1) and NH3 may be a continuous reaction or a batch reaction (batch reaction).

[化合物(3)の製造方法]
化合物(3)は、化合物(5)等の、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第2の態様は、化合物(2)に還元剤を反応させて化合物(3)を得る方法である。また、本発明が化合物(1)から化合物(5)を製造する方法である場合、工程2は、化合物(2)に還元剤を反応させて化合物(3)を得る工程である。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-NH ・・・(3)
ただし、A、Q、(Rf1O)、Rf2およびRは、化合物(5)で説明したA、Q、(Rf1O)、Rf2およびRと同じであり、好ましい形態も同様である。
[Method for producing compound (3)]
Compound (3) is useful as an intermediate for fluorine-containing ether compounds, such as compound (5), which are suitably used as surface treatment agents.
A second aspect of the method for producing a fluorine-containing ether compound of the present invention is a method of obtaining compound (3) by reacting compound (2) with a reducing agent. When the present invention is a method for producing compound (5) from compound (1), step 2 is a step of reacting compound (2) with a reducing agent to obtain compound (3).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —NH 2 (3)
However, A, Q, (R f1 O) m , R f2 and R 1 are the same as A, Q, (R f1 O) m , R f2 and R 1 described in compound (5), and preferred forms is also the same.

(還元剤)
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ボラン(モノボラン、ジボラン等)、金属ナトリウム、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、金属触媒(パラジウム触媒、白金触媒等)の存在下の水素ガス等が挙げられる。
これらのうちの2種を併用してもよく、還元剤以外に助触媒を用いてもよい。
助触媒としてはルイス酸などが挙げられる。ルイス酸としては、金属ハロゲン化物やヨウ素などが挙げられる。金属ハロゲン化物の例としてはフッ化アルミニウム、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素、塩化クロム、塩化ニッケル六水和物、塩化チタン、塩化リチウムなどが挙げられる。
(reducing agent)
Reducing agents include sodium borohydride, lithium aluminum hydride, borane (monoborane, diborane, etc.), metallic sodium, sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, lithium borohydride, Lithium triethylborate, hydrogen gas in the presence of a metal catalyst (palladium catalyst, platinum catalyst, etc.), and the like.
Two of these may be used in combination, and a promoter may be used in addition to the reducing agent.
A Lewis acid etc. are mentioned as a co-catalyst. Examples of Lewis acids include metal halides and iodine. Examples of metal halides include aluminum fluoride, aluminum chloride, boron trifluoride, chromium chloride, nickel chloride hexahydrate, titanium chloride, lithium chloride, and the like.

(反応条件)
反応温度は、-20~180℃が好ましく、-10~150℃がより好ましく、0~100℃がさらに好ましく、20~90℃が特に好ましい。
反応時間は、0.1~48時間が好ましく、3~24時間が特に好ましい。
化合物(2)と還元剤との反応は、連続反応であっても回分反応(バッチ反応)であってもよい。
(Reaction conditions)
The reaction temperature is preferably -20 to 180°C, more preferably -10 to 150°C, still more preferably 0 to 100°C, and particularly preferably 20 to 90°C.
The reaction time is preferably 0.1 to 48 hours, particularly preferably 3 to 24 hours.
The reaction between compound (2) and the reducing agent may be a continuous reaction or a batch reaction (batch reaction).

[化合物(4)の製造方法]
化合物(4)は、化合物(5)等の、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第3の態様は、化合物(3)にYR21を反応させて化合物(4)を得る方法である。また、本発明が化合物(1)から化合物(5)を製造する方法である場合、工程3は、化合物(3)にYR22を反応させて化合物(4a)を得る工程である。ただし、R22は、R21のうち末端にビニル基を有する1価の有機基のみを意味する。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-NR21 ・・・(4)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-R-CH-NR22 ・・・(4a)
ただし、A、Q、(Rf1O)、Rf2およびRは、化合物(5)で説明したA、Q、(Rf1O)、Rf2およびRと同じであり、好ましい形態も同様である。Yは、HO-、RO-またはハロゲン原子であり、Rは、1価の炭化水素基であり、R21は、末端にビニル基を有する1価の有機基または1価の炭化水素基(ただし、末端にビニル基を有するものを除く。)であり、R22は、末端にビニル基を有する1価の有機基である。
[Method for producing compound (4)]
Compound (4) is useful as an intermediate for fluorine-containing ether compounds, such as compound (5), which are suitably used as surface treatment agents.
A third aspect of the method for producing a fluorine-containing ether compound of the present invention is a method of reacting compound (3) with YR 21 to obtain compound (4). When the present invention is a method for producing compound (5) from compound (1), step 3 is a step of reacting compound (3) with YR 22 to obtain compound (4a). However, R 22 means only a monovalent organic group having a terminal vinyl group among R 21 .
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —NR 21 2 (4)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —R 1 —CH 2 —NR 22 2 (4a)
However, A, Q, (R f1 O) m , R f2 and R 1 are the same as A, Q, (R f1 O) m , R f2 and R 1 described in compound (5), and preferred forms The same is true for Y is HO—, R 6 O— or a halogen atom, R 6 is a monovalent hydrocarbon group, and R 21 is a monovalent organic group or monovalent hydrocarbon having a terminal vinyl group group (excluding those having a terminal vinyl group), and R 22 is a monovalent organic group having a terminal vinyl group.

(YR21、YR22
Yとしては、反応性に優れる点から、HO-またはハロゲン原子が好ましく、ハロゲン原子が特に好ましい。ハロゲン原子としては、F、Cl、Br、Iが挙げられる。
において、1価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、これらの2種以上を組み合わせた基等が挙げられる。中でも反応工程が少ない点から、アルキル基が好ましい。1価の炭化水素基の炭素数は、合成時の分離の容易さや反応系に与える影響が少ない点から、1~20が好ましく、1~10がより好ましく、1~6がさらに好ましく、1が特に好ましい。
( YR21 , YR22 )
From the viewpoint of excellent reactivity, Y is preferably HO— or a halogen atom, and particularly preferably a halogen atom. Halogen atoms include F, Cl, Br and I.
Examples of monovalent hydrocarbon groups for R 6 include alkyl groups, aryl groups, cycloalkyl groups, alkenyl groups, and groups in which two or more of these groups are combined. Among them, an alkyl group is preferable because the number of reaction steps is small. The number of carbon atoms in the monovalent hydrocarbon group is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 10, more preferably from 1 to 6, more preferably from 1 to 1, in terms of ease of separation during synthesis and less influence on the reaction system. Especially preferred.

21としては、化合物(5)を製造しやすい点から、末端にビニル基を有する1価の有機基が好ましく、R22は末端にビニル基を有する1価の有機基である。
21、R22において、末端にビニル基を有する1価の有機基としては、末端にビニル基を有する炭素数2~10の脂肪族炭化水素基、および、末端にビニル基を有する炭素数3~10の脂肪族炭化水素基の炭素-炭素原子間(ビニル基の炭素-炭素原子間を除く。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基が好ましく、末端にビニル基を有する炭素数2~7の脂肪族炭化水素基、および、末端にビニル基を有する炭素数3~7の脂肪族炭化水素基の炭素-炭素原子間(ビニル基の炭素-炭素原子間を除く。)にエーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基がより好ましい。
22および末端にビニル基を有する1価の有機基であるR21としては、YR21、YR22を入手しやすい点から、アリル基およびアリルオキシアルキル基が好ましく、アリル基およびアルキル部分の炭素数が2~6のアリルオキシアルキル基がさらに好ましく、-CHCH=CHおよび-CHCHOCHCH=CHが特に好ましい。
また、化合物(4)における2つのR21、および化合物(4a)における2つのR22は異なっていてもよい。化合物(4)および化合物(4a)の製造のしやすさの点から、2つのR21、2つのR22は同一の基であることが好ましい。
R 21 is preferably a monovalent organic group having a terminal vinyl group, and R 22 is a monovalent organic group having a terminal vinyl group, from the viewpoint of easy production of compound (5).
In R 21 and R 22 , the monovalent organic group having a terminal vinyl group includes an aliphatic hydrocarbon group having a terminal vinyl group and having 2 to 10 carbon atoms and a vinyl group having a terminal vinyl group and having 3 carbon atoms. A group having an etheric oxygen atom or -NH- between the carbon-carbon atoms of an aliphatic hydrocarbon group of ~10 (excluding the carbon-carbon atoms of a vinyl group) is preferable, and the number of carbon atoms having a vinyl group at the end Ether between carbon atoms of 2 to 7 aliphatic hydrocarbon groups and vinyl group-terminated aliphatic hydrocarbon groups of 3 to 7 carbon atoms (excluding between carbon atoms of vinyl groups) A group having a functional oxygen atom or -NH- is more preferred.
As R 22 and R 21 which is a monovalent organic group having a terminal vinyl group, an allyl group and an allyloxyalkyl group are preferable because YR 21 and YR 22 are easily available, and the allyl group and the carbon atom of the alkyl moiety More preferred are allyloxyalkyl groups with numbers from 2 to 6, with -CH 2 CH=CH 2 and -CH 2 CH 2 OCH 2 CH=CH 2 being particularly preferred.
Also, the two R 21 in compound (4) and the two R 22 in compound (4a) may be different. Two R 21 and two R 22 are preferably the same group from the viewpoint of ease of production of compound (4) and compound (4a).

21において、1価の炭化水素基(ただし、末端にビニル基を有するものを除く。)としては、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基(ただし、末端にビニル基を有するものを除く。)、これらの2種以上を組み合わせた基等が挙げられる。1価の炭化水素基(ただし、末端にビニル基を有するものを除く。)の炭素数は、1~20が好ましく、1~10がより好ましく、1~6がさらに好ましく、1が特に好ましい。In R 21 , monovalent hydrocarbon groups (excluding those having a terminal vinyl group) include alkyl groups, aryl groups, cycloalkyl groups, and alkenyl groups (providing that those having a terminal vinyl group are ), groups in which two or more of these are combined, and the like. The number of carbon atoms in the monovalent hydrocarbon group (excluding those having a terminal vinyl group) is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, still more preferably 1 to 6, and particularly preferably 1.

YR21、YR22の好ましい具体例としては、FCHCH=CH、ClCHCH=CH、BrCHCH=CH、ICHCH=CH、FCHCHOCHCH=CH、ClCHCHOCHCH=CH、BrCHCHOCHCH=CH、ICHCHOCHCH=CH、FCHCHOCH=CH、ClCHCHOCH=CH、BrCHCHOCH=CH、ICHCHOCH=CHが挙げられる。Preferred specific examples of YR 21 and YR 22 include FCH 2 CH=CH 2 , ClCH 2 CH=CH 2 , BrCH 2 CH=CH 2 , ICH 2 CH=CH 2 , FCH 2 CH 2 OCH 2 CH=CH 2 , ClCH2CH2OCH2CH = CH2 , BrCH2CH2OCH2CH = CH2 , ICH2CH2OCH2CH = CH2 , FCH2CH2OCH = CH2 , ClCH2CH2OCH = CH 2 , BrCH2CH2OCH = CH2 , and ICH2CH2OCH = CH2 .

(塩基性化合物)
化合物(3)とYR21、YR22との反応は、反応を促進させる点から、塩基性化合物の存在下に行うことが好ましい。
塩基性化合物としては、塩基性有機化合物、塩基性無機化合物が挙げられる。
(basic compound)
The reaction of compound (3) with YR 21 and YR 22 is preferably carried out in the presence of a basic compound in order to promote the reaction.
Basic compounds include basic organic compounds and basic inorganic compounds.

塩基性有機化合物としては、アルキルアミン化合物、アリールアミン化合物、アルケニルアミン化合物、複素環アミン化合物等が挙げられ、汎用性に優れる点から、アルキルアミン化合物、複素環アミン化合物が好ましい。
アルキルアミン化合物としては、トリエチルアミンが挙げられる。
複素環アミン化合物としては、ピリジン、ルチジン、コリジン、ピロール、ピリミジン、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン、2,6-ジメチルピリジン、2,6-ジ-tert-ブチルピリジン等が挙げられる。
Examples of basic organic compounds include alkylamine compounds, arylamine compounds, alkenylamine compounds, heterocyclic amine compounds, and the like, and alkylamine compounds and heterocyclic amine compounds are preferable from the viewpoint of excellent versatility.
Alkylamine compounds include triethylamine.
Heterocyclic amine compounds include pyridine, lutidine, collidine, pyrrole, pyrimidine, N,N-dimethyl-4-aminopyridine, 2,6-dimethylpyridine, 2,6-di-tert-butylpyridine and the like.

塩基性無機化合物としては、アルカリ金属水素化物(水素化ナトリウム等)、炭酸塩(炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等)、炭酸水素化塩(炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、アルカリ金属水酸化物(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、アルカリ金属アルコキシド(カリウムtert-ブトキシド等)等が挙げられる。
塩基性化合物は、1種を単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。
Basic inorganic compounds include alkali metal hydrides (sodium hydride, etc.), carbonates (sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, etc.), hydrogen carbonates (sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc.), and alkali metal water. Examples include oxides (sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), alkali metal alkoxides (potassium tert-butoxide, etc.), and the like.
A basic compound may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types.

(相間移動触媒)
化合物(3)とYR21、YR22との反応は、相間移動触媒の存在下で行ってもよい。
相間移動触媒としては、臭化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等の第四級アンモニウム塩が挙げられる。
(Phase transfer catalyst)
The reaction of compound (3) with YR 21 and YR 22 may be carried out in the presence of a phase transfer catalyst.
Phase transfer catalysts include quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide and benzyltriethylammonium chloride.

(溶媒)
化合物(3)とYR21、YR22との反応は、溶解性に優れる点から、含フッ素溶媒中で行うことが好ましい。
含フッ素溶媒としては、化合物(2)の製造に用いることができる含フッ素溶媒と同様のものが挙げられ、好ましい形態も同様である。
溶媒は、1種を単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。
(solvent)
The reaction of compound (3) with YR 21 and YR 22 is preferably carried out in a fluorine-containing solvent from the viewpoint of excellent solubility.
Examples of the fluorine-containing solvent include the same fluorine-containing solvents as the fluorine-containing solvent that can be used in the production of compound (2), and preferred embodiments are also the same.
A solvent may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types.

(反応条件)
反応温度は、0~200℃が好ましく、20~150℃がより好ましく、50~100℃が特に好ましい。
反応時間は、0.01~24時間が好ましく、0.3~20時間がより好ましく、0.3~15時間が特に好ましい。
YR21、YR22の量は、化合物(3)の1モルに対して、0.5~20モルが好ましく、1~15モルがより好ましく、2~8モルが特に好ましい。
化合物(3)とYR21、YR22との反応は、連続反応であっても回分反応(バッチ反応)であってもよい。
(Reaction conditions)
The reaction temperature is preferably 0 to 200°C, more preferably 20 to 150°C, and particularly preferably 50 to 100°C.
The reaction time is preferably 0.01 to 24 hours, more preferably 0.3 to 20 hours, particularly preferably 0.3 to 15 hours.
The amount of YR 21 and YR 22 is preferably 0.5 to 20 mol, more preferably 1 to 15 mol, particularly preferably 2 to 8 mol, per 1 mol of compound (3).
The reaction of compound (3) with YR 21 and YR 22 may be a continuous reaction or a batch reaction (batch reaction).

[化合物(5)の製造方法]
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第4の態様は、化合物(4a)とHSiR 3-nとをヒドロシリル化反応して、化合物(5)を得る方法である。また、本発明が化合物(1)から化合物(5)を製造する方法である場合、工程4は、化合物(4a)とHSiR 3-nとをヒドロシリル化反応して、化合物(5)を得る工程である。
[Method for producing compound (5)]
A fourth aspect of the method for producing a fluorine-containing ether compound of the present invention is a method of obtaining compound (5) by subjecting compound (4a) and HSiR 3 n X 3-n to a hydrosilylation reaction. Further, when the present invention is a method for producing compound (5) from compound (1), step 4 includes hydrosilylation reaction of compound (4a) and HSiR 3 n X 3-n to obtain compound (5). is the process of obtaining

(HSiR 3-n
HSiR 3-nにおけるR、Xおよびnは、化合物(5)で説明したR、Xおよびnと同じであり、好ましい形態も同様である。
HSiR 3-nとしては、HSi(OCH、HSiCH(OCH、HSi(OCHCH、HSiCl、Si(OCOCH、および、HSi(NCO)が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、HSi(OCHが特に好ましい。
(HSiR 3 n X 3-n )
R 3 , X and n in HSiR 3 n X 3-n are the same as R 3 , X and n described in compound (5), and preferred forms are also the same.
HSiR 3 n X 3-n includes HSi(OCH 3 ) 3 , HSiCH 3 (OCH 3 ) 2 , HSi(OCH 2 CH 3 ) 3 , HSiCl 3 , Si(OCOCH 3 ) 3 and HSi(NCO) 3 is preferred. HSi(OCH 3 ) 3 is particularly preferred from the viewpoint of ease of handling in industrial production.

(ヒドロシリル化反応)
ヒドロシリル化反応は、白金、パラジウム、銀、金、ロジウム等の遷移金属触媒または有機過酸化物等のラジカル発生剤を用いて行うことが好ましい。
反応温度は、0~150℃が好ましく、10~100℃がより好ましく、20~60℃が特に好ましい。
反応時間は、0.01~24時間が好ましく、1~15時間がより好ましく、3~10時間が特に好ましい。
(Hydrosilylation reaction)
The hydrosilylation reaction is preferably carried out using a transition metal catalyst such as platinum, palladium, silver, gold and rhodium, or a radical generator such as an organic peroxide.
The reaction temperature is preferably 0 to 150°C, more preferably 10 to 100°C, and particularly preferably 20 to 60°C.
The reaction time is preferably 0.01 to 24 hours, more preferably 1 to 15 hours, particularly preferably 3 to 10 hours.

以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
以下、「%」は特に断りのない限り「質量%」である。
例1~13は実施例である。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below using examples, but the present invention is not limited to these examples.
Hereinafter, "%" means "% by mass" unless otherwise specified.
Examples 1-13 are examples.

[評価]
(転化率および選択率)
反応生成物についてガスクロマトグラフィ、H-NMRおよび19F-NMRで分析することによって組成解析を行い、転化率および選択率を算出した。
[evaluation]
(Conversion and selectivity)
The reaction product was analyzed by gas chromatography, 1 H-NMR and 19 F-NMR for composition analysis, and the conversion and selectivity were calculated.

(数平均分子量)
含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、H-NMRおよび19F-NMRによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数(平均値)を求めることによって算出した。
(Number average molecular weight)
The number average molecular weight of the fluorine-containing ether compound was calculated by determining the number (average value) of oxyperfluoroalkylene groups based on the terminal groups by 1 H-NMR and 19 F-NMR.

[例1]
特許文献1の実施例の例1-1~例1-4を参照して、化合物(1-1)を得た。
CFCFCF-O-(CFCFO){(CFO)x1(CFCFO)x2}-CF-CO-OCH ・・・(1-1)
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(1-1)の数平均分子量:4,030。
[Example 1]
Compound (1-1) was obtained with reference to Examples 1-1 to 1-4 of Examples in Patent Document 1.
CF 3 CF 2 CF 2 —O—(CF 2 CF 2 O) 2 {(CF 2 O) x1 (CF 2 CF 2 O) x2 }—CF 2 —CO—OCH 3 (1-1)
Average value of unit number x1: 18, average value of unit number x2: 20, number average molecular weight of compound (1-1): 4,030.

次いで、ニッケル製の100mLのオートクレーブに、化合物(1-1)の10.1gおよびメタノール(純正化学社製)の30gを入れ、オートクレーブ内に1.0MPaの圧力で液体NHの42gを張り、50℃で150時間反応させた。反応終了後、反応粗液をエバポレータで濃縮し、化合物(2-1)の7.6gを得た。転化率および選択率を表1に示す。
CFCFCF-O-(CFCFO){(CFO)x1(CFCFO)x2}-CF-CO-NH ・・・(2-1)
Next, 10.1 g of compound (1-1) and 30 g of methanol (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) are placed in a 100 mL autoclave made of nickel, and 42 g of liquid NH 3 is filled in the autoclave at a pressure of 1.0 MPa, The reaction was carried out at 50°C for 150 hours. After completion of the reaction, the reaction crude liquid was concentrated by an evaporator to obtain 7.6 g of compound (2-1). Conversion and selectivity are shown in Table 1.
CF 3 CF 2 CF 2 —O—(CF 2 CF 2 O) 2 {(CF 2 O) x1 (CF 2 CF 2 O) x2 } —CF 2 —CO—NH 2 (2-1)

化合物(2-1)のNMRスペクトル;
H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):7.2(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-52.5~-55.9(36F)、-81.7(1F)、-82.5(3F)、-83.2(1F)、-89.3~-91.1(90F)、-130.9(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(2-1)の数平均分子量:4,020。
NMR spectrum of compound (2-1);
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 7.2 (2H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): −52.5 to −55.9 (36F), −81.7 (1F), −82.5 ( 3F), -83.2 (1F), -89.3 to -91.1 (90F), -130.9 (2F).
Average value of unit number x1: 18, average value of unit number x2: 20, number average molecular weight of compound (2-1): 4,020.

[例2~4]
化合物(1-1)と液体NHとの反応条件を表1に記載の条件に変更した以外は例1と同様にして化合物(2-1)を得た。転化率および選択率を表1に示す。
[Examples 2-4]
Compound (2-1) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reaction conditions of compound (1-1) and liquid NH 3 were changed to those shown in Table 1. Conversion and selectivity are shown in Table 1.

Figure 0007180593000002
Figure 0007180593000002

例1、2および4を比較すると、化合物(1-1)とNHとの反応において、反応温度が高いほど、同量の化合物(2-1)が得られるまでの反応時間が短縮されるが、選択率が下がる傾向にある。例2と3とを比較すると、反応時間が長いほど転化率が上がる傾向にある。
化合物(2-1)に未反応物や副生成物が残留すると最終生成物(製品)である化合物(5-1)に影響する。そのため、未反応物を減らすために転化率は高い方が望まれる。また、副生成物を減らすために選択率は高い方が望まれる。よって、化合物(1-1)とNHとの反応は、低温かつ長時間で行うことが望ましい。
Comparing Examples 1, 2 and 4, in the reaction of compound (1-1) with NH3 , the higher the reaction temperature, the shorter the reaction time until the same amount of compound (2-1) is obtained. However, the selectivity tends to decrease. Comparing Examples 2 and 3, the longer the reaction time, the higher the conversion rate.
If unreacted substances or by-products remain in compound (2-1), they affect compound (5-1), which is the final product (product). Therefore, a higher conversion rate is desired in order to reduce unreacted substances. Also, a higher selectivity is desired in order to reduce by-products. Therefore, the reaction between compound (1-1) and NH 3 is desirably carried out at a low temperature for a long period of time.

[例5]
ニッケル製の100mLのオートクレーブに、化合物(1-1)の10.0g、ジクロロペンタフルオロプロパン(旭硝子社製、AK-225)100g、2.0mol/Lのアンモニア-メタノール溶液の5.0gを入れ、25℃で8時間撹拌した。溶媒を留去し、化合物2-1の14.8g(転化率99.0収率98.9%)を得た。
[Example 5]
A 100 mL autoclave made of nickel was charged with 10.0 g of compound (1-1), 100 g of dichloropentafluoropropane (AK-225, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), and 5.0 g of a 2.0 mol/L ammonia-methanol solution. at 25° C. for 8 hours. The solvent was distilled off to obtain 14.8 g of compound 2-1 (conversion rate 99.0, yield 98.9%).

[例6]
100mLの3つ口フラスコに例3で得た化合物(2-1)の20gをテトラヒドロフラン(以下、THFと記す。)の20gに溶解させ、これを氷浴で冷却しながら水素化アルミニウムリチウムの0.34gを溶解させたTHF溶液にゆっくり滴下した。滴下後、70℃まで昇温し、15時間撹拌した。その後、氷冷し、水酸化カリウム水溶液および水でクエンチした後、セライトで濾過し、溶媒を留去し、化合物(3-1)の19.9g(収率99%、転化率99.0%、選択率100.0%)を得た。
CFCFCF-O-(CFCFO){(CFO)x1(CFCFO)x2}-CF-CH-NH ・・・(3-1)
[Example 6]
In a 100 mL three-necked flask, 20 g of the compound (2-1) obtained in Example 3 was dissolved in 20 g of tetrahydrofuran (hereinafter referred to as THF), and this was cooled in an ice bath while adding lithium aluminum hydride to 0. It was slowly added dropwise to a THF solution in which .34 g was dissolved. After dropping, the temperature was raised to 70° C. and the mixture was stirred for 15 hours. Then, it is cooled with ice, quenched with an aqueous potassium hydroxide solution and water, filtered through celite, the solvent is distilled off, and 19.9 g of compound (3-1) (yield 99%, conversion 99.0%) is obtained. , selectivity 100.0%).
CF 3 CF 2 CF 2 —O—(CF 2 CF 2 O) 2 {(CF 2 O) x1 (CF 2 CF 2 O) x2 } —CF 2 —CH 2 —NH 2 (3-1)

化合物(3-1)のNMRスペクトル;
H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS) δ(ppm):3.2(2H)、5.2(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-52.0~-55.7(36F)、-74.3(1F)、-82.1(3F)、-89.5~-91.1(90F)、-130.3(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(3-1)の数平均分子量:4,010。
NMR spectrum of compound (3-1);
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 3.2 (2H), 5.2 (2H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): −52.0 to −55.7 (36F), −74.3 (1F), −82.1 ( 3F), -89.5 to -91.1 (90F), -130.3 (2F).
Average value of unit number x1: 18, average value of unit number x2: 20, number average molecular weight of compound (3-1): 4,010.

[例7]
50mLの3つ口フラスコ内で、炭酸水素カリウムの0.1g(関東化学社製)をTHFの23.7gおよびジメチルスルホキシドの10.5gの混合溶媒に溶解させた。フラスコ内の溶液に、例6で得た化合物(3-1)の10.3gおよびBrCHCH=CH(東ソー有機化学社製)の1.2gを加え、70℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応粗液をろ過し、溶媒を減圧留去し、ガスクロマトグラフで分画し、化合物(4-1)の10.1g(収率94%)を得た。
CFCFCF-O-(CFCFO){(CFO)x1(CFCFO)x2}-CF-CH-N(-CHCH=CH ・・・(4-1)
[Example 7]
In a 50 mL three-necked flask, 0.1 g of potassium hydrogen carbonate (manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of 23.7 g of THF and 10.5 g of dimethylsulfoxide. To the solution in the flask were added 10.3 g of the compound (3-1) obtained in Example 6 and 1.2 g of BrCH 2 CH═CH 2 (manufactured by Tosoh Organic Chemical Co., Ltd.) and stirred at 70° C. for 20 hours. After completion of the reaction, the reaction crude liquid was filtered, the solvent was distilled off under reduced pressure, and fractionation was performed using a gas chromatograph to obtain 10.1 g of compound (4-1) (yield 94%).
CF3CF2CF2 - O- ( CF2CF2O ) 2 {( CF2O ) x1 ( CF2CF2O ) x2 }-CF2 - CH2 - N( -CH2CH = CH2 ) 2 (4-1)

化合物(4-1)のNMRスペクトル;
H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS) δ(ppm):2.9(2H)、3.1(4H)、5.2(4H)、5.7(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-52.1~-55.7(36F)、-74.3(1F)、-82.2(3F)、-89.5~-91.0(90F)、-130.4(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(4-1)の数平均分子量:4,090。
NMR spectrum of compound (4-1);
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 2.9 (2H), 3.1 (4H), 5.2 (4H), 5.7 (2H) .
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): −52.1 to −55.7 (36F), −74.3 (1F), −82.2 ( 3F), -89.5 to -91.0 (90F), -130.4 (2F).
Average value of unit number x1: 18, average value of unit number x2: 20, number average molecular weight of compound (4-1): 4,090.

[例8]
例7で得た化合物(4-1)の10.1g、白金/1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量:2%)の0.03g、HSi(OCHの1.2g、ジメチルスルホキシドの0.01gおよび1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(東京化成工業社製)の0.4gを入れ、40℃で10時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径0.2μmのメンブランフィルタでろ過し、化合物(4-1)の2つのアリル基がヒドロシリル化された化合物(5-1)の9.5g(収率89%)を得た。
CFCFCF-O-(CFCFO){(CFO)x1(CFCFO)x2}-CF-CH-N[-CHCHCH-Si(OCH ・・・(5-1)
[Example 8]
10.1 g of compound (4-1) obtained in Example 7, xylene solution of platinum/1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content: 2%) 0.03 g, 1.2 g of HSi(OCH 3 ) 3 , 0.01 g of dimethyl sulfoxide and 0.4 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) were added and heated at 40° C. for 10 minutes. Stirred for an hour. After completion of the reaction, the solvent and the like were distilled off under reduced pressure, filtered through a membrane filter with a pore size of 0.2 μm, and 9.5 g of compound (5-1) in which two allyl groups of compound (4-1) were hydrosilylated ( Yield 89%) was obtained.
CF3CF2CF2 - O- ( CF2CF2O ) 2 {( CF2O ) x1 ( CF2CF2O ) x2 }-CF2 - CH2 - N [ -CH2CH2CH2- Si(OCH 3 ) 3 ] 2 (5-1)

化合物(5-1)のNMRスペクトル;
H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS) δ(ppm):0.5(4H)、1.5(4H)、2.5(4H)、3.0(2H)、3.4(18H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-52.2~-55.5(36F)、-74.1(1F)、-76.9(1F)、-82.3(3F)、-89.3~-91.2(90F)、-130.8(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(5-1)の数平均分子量:4,330。
NMR spectrum of compound (5-1);
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 0.5 (4H), 1.5 (4H), 2.5 (4H), 3.0 (2H) , 3.4 (18H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): −52.2 to −55.5 (36F), −74.1 (1F), −76.9 ( 1F), -82.3 (3F), -89.3 to -91.2 (90F), -130.8 (2F).
Average value of unit number x1: 18, average value of unit number x2: 20, number average molecular weight of compound (5-1): 4,330.

[例9]
国際公開第2013/121984号の実施例の例6-1~例6-4を参照して、化合物(1-2)を得た。
CF-O-(CFCFO-CFCFCFCFO)x3-CFCFO-CFCFCF-CO-OCH ・・・(1-2)
単位数x3の平均値:13、化合物(1-2)の数平均分子量:4,800。
[Example 9]
Compound (1-2) was obtained with reference to Examples 6-1 to 6-4 of Examples of WO 2013/121984.
CF 3 —O—(CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) x3 —CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 —CO—OCH 3 (1-2)
Average value of number of units x 3: 13, number average molecular weight of compound (1-2): 4,800.

次いで、ニッケル製の100mLのオートクレーブに、化合物(1-2)の10.0gおよびメタノール(純正化学社製)の20gを入れ、オートクレーブ内に1.0MPaの圧力で液体NHの35gを張り、25℃で210時間反応させた。反応終了後、反応粗液をエバポレータで濃縮し、化合物(2-2)の9.6gを得た(収率96%、転化率94.1%、選択率98.6%)。
CF-O-(CFCFO-CFCFCFCFO)x3-CFCFO-CFCFCF-CO-NH・・・(2-2)
Next, 10.0 g of compound (1-2) and 20 g of methanol (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) are placed in a 100 mL autoclave made of nickel, and 35 g of liquid NH 3 is filled in the autoclave at a pressure of 1.0 MPa, The reaction was carried out at 25°C for 210 hours. After completion of the reaction, the reaction crude liquid was concentrated by an evaporator to obtain 9.6 g of compound (2-2) (yield 96%, conversion 94.1%, selectivity 98.6%).
CF 3 —O—(CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) x3 —CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 —CO—NH 2 (2-2)

化合物(2-2)のNMRスペク卜ル;
H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS) δ(ppm):7.4(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):56.1(3F)、-83.1~-83.5(54F)、-88.5~-89.2(54F)、-91.1(2F)、-119.5(2F)、-126.7(52F)、-126.8(2F)。
単位数x3の平均値:13、化合物(2-2)の数平均分子量:4,790。
NMR spectrum of compound (2-2);
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 7.4 (2H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): 56.1 (3F), −83.1 to −83.5 (54F), −88.5 to − 89.2 (54F), -91.1 (2F), -119.5 (2F), -126.7 (52F), -126.8 (2F).
Average value of number of units x 3: 13, number average molecular weight of compound (2-2): 4,790.

[例10]
100mLの3つ口フラスコに例9で得た化合物(2-2)の20gをTHFの20gに溶解させ、これを氷浴で冷却しながら水素化アルミニウムリチウムの0.32gを溶解させたTHF溶液にゆっくり滴下した。滴下後、70℃まで昇温し、15時間撹拌した。その後、氷冷し、水酸化カリウム水溶液および水でクエンチした後、セライトで濾過し、溶媒を留去し、化合物(3-2)の19.9g(収率99%、転化率99.0%、選択率100.0%)を得た。
CF-O-(CFCFO-CFCFCFCFO)x3-CFCFO-CFCFCF-CH-NH ・・・(3-2)
[Example 10]
20 g of the compound (2-2) obtained in Example 9 was dissolved in 20 g of THF in a 100 mL three-necked flask, and this was cooled in an ice bath while 0.32 g of lithium aluminum hydride was dissolved in THF solution. slowly dripped into the After dropping, the temperature was raised to 70° C. and the mixture was stirred for 15 hours. Then, it is cooled with ice, quenched with an aqueous potassium hydroxide solution and water, filtered through celite, the solvent is distilled off, and 19.9 g of compound (3-2) (yield 99%, conversion 99.0%) is obtained. , selectivity 100.0%).
CF 3 —O—(CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) x3 —CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 —CH 2 —NH 2 (3-2)

化合物(3-2)のNMRスペク卜ル;
H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS) δ(ppm):3.1(2H)、5.4(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):55.9(3F)、-83.8~-84.2(54F)、-89.5~-89.1(54F)、-91.1(2F)、-119.1(2F)、-126.3(52F)、-126.3(2F)。
単位数x3の平均値:13、化合物(3-2)の数平均分子量:4,770。
NMR spectrum of compound (3-2);
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 3.1 (2H), 5.4 (2H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): 55.9 (3F), −83.8 to −84.2 (54F), −89.5 to − 89.1 (54F), -91.1 (2F), -119.1 (2F), -126.3 (52F), -126.3 (2F).
Average value of number of units x 3: 13, number average molecular weight of compound (3-2): 4,770.

[例11]
50mLの3つ口フラスコ内で、炭酸水素カリウムの0.1g(関東化学社製)をTHFの23.7gおよびジメチルスルホキシドの10.5gの混合溶媒に溶解させた。フラスコ内の溶液に、例10で得た化合物(3-2)の10.0gおよびBrCHCH=CH(東ソー有機化学社製)の1.0gを加え、70℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応粗液をろ過し、溶媒を減圧留去し、ガスクロマトグラフで分画し、化合物(4-2)の9.6g(収率95%)を得た。
CF-O-(CFCFO-CFCFCFCFO)x3-CFCFO-CFCFCF-CH-N(-CHCH=CH ・・・(4-2)
[Example 11]
In a 50 mL three-necked flask, 0.1 g of potassium hydrogen carbonate (manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of 23.7 g of THF and 10.5 g of dimethylsulfoxide. 10.0 g of the compound (3-2) obtained in Example 10 and 1.0 g of BrCH 2 CH═CH 2 (manufactured by Tosoh Organic Chemical Co., Ltd.) were added to the solution in the flask, and the mixture was stirred at 70° C. for 20 hours. After completion of the reaction, the reaction crude liquid was filtered, the solvent was distilled off under reduced pressure, and fractionation was performed using a gas chromatograph to obtain 9.6 g of compound (4-2) (yield 95%).
CF3 - O- ( CF2CF2O - CF2CF2CF2CF2O) x3- CF2CF2O - CF2CF2CF2 - CH2- N ( -CH2CH = CH2 ) 2 (4-2)

化合物(4-2)のNMRスペクトル;
H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS) δ(ppm):3.1(2H)、3.2(4H)、5.2(4H)、5.8(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):56.3(3F)、-84.0(54F)、-89.1(54F)、-91.4(2F)、-120.8(2F)、-126.7(54F)。
単位数x3の平均値:13、化合物(4-2)の数平均分子量:4,800。
NMR spectrum of compound (4-2);
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 3.1 (2H), 3.2 (4H), 5.2 (4H), 5.8 (2H) .
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): 56.3 (3F), −84.0 (54F), −89.1 (54F), −91. 4 (2F), -120.8 (2F), -126.7 (54F).
Average value of number of units x 3: 13, number average molecular weight of compound (4-2): 4,800.

[例12]
例11で得た化合物(4-2)の9.0g、白金/1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量:2%)の0.03g、HSi(OCHの1.0g、ジメチルスルホキシドの0.01gおよび1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(東京化成工業社製)の0.4gを入れ、40℃で10時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径0.2μmのメンブランフィルタでろ過し、化合物(4-2)の2つのアリル基がヒドロシリル化された化合物(5-2)の8.5g(収率90%)を得た。
CF-O-(CFCFO-CFCFCFCFO)x3-CFCFO-CFCFCF-CH-N[-CHCHCH-Si(OCH ・・・(5-2)
[Example 12]
9.0 g of compound (4-2) obtained in Example 11, xylene solution of platinum/1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content: 2%) 0.03 g, 1.0 g of HSi(OCH 3 ) 3 , 0.01 g of dimethyl sulfoxide and 0.4 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) were added and heated at 40° C. for 10 minutes. Stirred for an hour. After completion of the reaction, the solvent and the like were distilled off under reduced pressure, filtered through a membrane filter with a pore size of 0.2 μm, and 8.5 g of compound (5-2) in which two allyl groups of compound (4-2) were hydrosilylated ( Yield 90%) was obtained.
CF3 - O- ( CF2CF2O - CF2CF2CF2CF2O ) x3- CF2CF2O - CF2CF2CF2 - CH2 - N [ -CH2CH2CH2- Si(OCH 3 ) 3 ] 2 (5-2)

化合物(5-2)のNMRスペクトル;
H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS) δ(ppm):0.7(4H)、1.6(4H)、2.6(4H)、3.2(2H)、3.6(18H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):56.2(3F)、-83.9(54F)、-89.3(54F)、-91.4(2F)、-121.0(2F)、-126.8(54F)。
単位数x3の平均値:13、化合物(5-2)の数平均分子量:5,040。
NMR spectrum of compound (5-2);
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 0.7 (4H), 1.6 (4H), 2.6 (4H), 3.2 (2H) , 3.6 (18H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): 56.2 (3F), −83.9 (54F), −89.3 (54F), −91. 4 (2F), -121.0 (2F), -126.8 (54F).
Average value of number of units x 3: 13, number average molecular weight of compound (5-2): 5,040.

[例13]
50mLの3つ口フラスコ内で、炭酸水素カリウムの0.1g(関東化学社製)をTHFの23.7gおよびジメチルスルホキシドの10.5gの混合溶媒に溶解させた。フラスコ内の溶液に、例6で得た化合物(3-1)の10.0gおよびBrCHCHOCHCH=CHの1.7gを加え、70℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応粗液をろ過し、溶媒を減圧留去し、ガスクロマトグラフで分画し、化合物(4-3)の9.8g(収率95%)を得た。
CFCFCF-O-(CFCFO){(CFO)x1(CFCFO)x2}-CF-CH-N(-CHCHOCHCH=CH ・・・(4-3)
[Example 13]
In a 50 mL three-necked flask, 0.1 g of potassium hydrogen carbonate (manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of 23.7 g of THF and 10.5 g of dimethylsulfoxide. 10.0 g of the compound (3-1) obtained in Example 6 and 1.7 g of BrCH 2 CH 2 OCH 2 CH═CH 2 were added to the solution in the flask and stirred at 70° C. for 20 hours. After completion of the reaction, the reaction crude liquid was filtered, the solvent was distilled off under reduced pressure, and fractionation was performed using a gas chromatograph to obtain 9.8 g of compound (4-3) (yield 95%).
CF3CF2CF2 - O-( CF2CF2O ) 2 {( CF2O ) x1 ( CF2CF2O ) x2 } -CF2- CH2 - N ( -CH2CH2OCH2CH =CH 2 ) 2 (4-3)

化合物(4-3)のNMRスペクトル;
H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS) δ(ppm):2.5(4H)、2.7(2H)、3.7(4H)、4.1(4H)、5.3(2H)、5.5(2H)、6.1(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-52.1~-55.6(36F)、-74.4(1F)、-82.2(3F)、-89.5~-91.1(90F)、-130.4(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(4-3)の数平均分子量:4,170。
NMR spectrum of compound (4-3);
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 2.5 (4H), 2.7 (2H), 3.7 (4H), 4.1 (4H) , 5.3 (2H), 5.5 (2H), 6.1 (2H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): −52.1 to −55.6 (36F), −74.4 (1F), −82.2 ( 3F), -89.5 to -91.1 (90F), -130.4 (2F).
Average value of unit number x1: 18, average value of unit number x2: 20, number average molecular weight of compound (4-3): 4,170.

[例14]
例13で得た化合物(4-3)の9.0g、白金/1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量:2%)の0.03g、HSi(OCHの1.1g、ジメチルスルホキシドの0.01gおよび1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(東京化成工業社製)の0.4gを入れ、40℃で10時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径0.2μmのメンブランフィルタでろ過し、化合物(4-3)の2つのアリル基がヒドロシリル化された化合物(5-3)の8.6g(収率90%)を得た。
CFCFCF-O-(CFCFO){(CFO)x1(CFCFO)x2}-CF-CH-N[-CHCHOCHCHCH-Si(OCH ・・・(5-3)
[Example 14]
9.0 g of compound (4-3) obtained in Example 13, xylene solution of platinum/1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content: 2%) 0.03 g, 1.1 g of HSi(OCH 3 ) 3 , 0.01 g of dimethyl sulfoxide and 0.4 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) were added and heated at 40° C. for 10 minutes. Stirred for an hour. After completion of the reaction, the solvent and the like were distilled off under reduced pressure, filtered through a membrane filter with a pore size of 0.2 μm, and 8.6 g of compound (5-3) in which two allyl groups of compound (4-3) were hydrosilylated ( Yield 90%) was obtained.
CF3CF2CF2 - O- ( CF2CF2O ) 2 {(CF2O ) x1 ( CF2CF2O ) x2 } -CF2 - CH2 - N[ -CH2CH2OCH2CH 2 CH 2 —Si(OCH 3 ) 3 ] 2 (5-3)

化合物(5-3)のNMRスペクトル;
H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS) δ(ppm):0.6(4H)、1.5(4H)、2.5(4H)、2.7(2H)、3.4(4H)、3.5(18H)、3.6(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-52.3~-55.2(36F)、-74.4(1F)、-77.1(1F)、-82.4(3F)、-89.3~-91.3(90F)、-130.9(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(5-3)の数平均分子量:4,410。
NMR spectrum of compound (5-3);
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 0.6 (4H), 1.5 (4H), 2.5 (4H), 2.7 (2H) , 3.4 (4H), 3.5 (18H), 3.6 (4H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): −52.3 to −55.2 (36F), −74.4 (1F), −77.1 ( 1F), -82.4 (3F), -89.3 to -91.3 (90F), -130.9 (2F).
Average value of unit number x1: 18, average value of unit number x2: 20, number average molecular weight of compound (5-3): 4,410.

本発明の製造方法で得られた含フッ素エーテル化合物は、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえばタッチパネル等の表示入力装置;透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート;電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート;導通しながら撥液が必要な部材へのコート;熱交換機の撥水・防水・滑水コート;振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。
なお、2017年05月02日に出願された日本特許出願2017-091740号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
The fluorine-containing ether compound obtained by the production method of the present invention can be used in various applications where lubricity and water/oil repellency are required. For example, a display input device such as a touch panel; a surface protective coating of a transparent glass or transparent plastic member, an antifouling coating for kitchens; Antifouling coating; coating on members that require liquid repellency while conducting; water-repellent, waterproof, and water-sliding coating for heat exchangers;
In addition, the entire contents of the specification, claims and abstract of Japanese Patent Application No. 2017-091740 filed on May 02, 2017 are cited here and incorporated as disclosure of the specification of the present invention. is.

Claims (13)

下式(1)で表される化合物にNHを反応させて、下式(2)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2 -CO-Z ・・・(1)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2 -CO-NH ・・・(2)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、{(CF O) m1 (CF CF O) m2 }、(CF CF O) m3 、(CF CF O-CF CF CF CF O) m5 、および、これらの一端または両端に1~4個の他の(R f1 O)を有する基のいずれかであり、ただしm1は1以上の整数であり、m2は1以上の整数であり、m1+m2は2~200の整数であり、m1個のCF Oおよびm2個のCF CF Oの結合順序は限定されず、m3は2~200の整数であり、m5は1~100の整数であり
Zは、-OH、-OR、-R、ハロゲン原子または水素原子であり、RおよびRは、それぞれ1価の炭化水素基である。
A method for producing a fluorine-containing ether compound, which comprises reacting a compound represented by the following formula (1) with NH3 to obtain a compound represented by the following formula (2).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —C O—Z (1)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —C O—NH 2 (2)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m is represented by {(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2 }, (CF 2 CF 2 O) m3 , (CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O ) m5 and any group having 1 to 4 other (R f1 O) at one or both ends thereof, where m1 is an integer of 1 or more and m2 is an integer of 1 or more , m1+m2 are integers from 2 to 200, the order of bonding of m1 CF 2 O and m2 CF 2 CF 2 O is not limited, m3 is an integer from 2 to 200, m5 is an integer from 1 to 100 is an integer and
Z is -OH, -OR 4 , -R 5 , a halogen atom or a hydrogen atom, and R 4 and R 5 are each monovalent hydrocarbon groups.
前記Zが-ORであり、アルコール溶媒または含フッ素溶媒中で式(1)で表される化合物にNHを反応させる、請求項1に記載の製造方法。 2. The production method according to claim 1, wherein Z is -OR 4 and the compound represented by formula (1) is reacted with NH 3 in an alcoholic solvent or a fluorine-containing solvent. 下式(2)で表される化合物に還元剤を反応させて、下式(3)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2 -CO-NH ・・・(2)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2 -C-NH ・・・(3)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、{(CF O) m1 (CF CF O) m2 }、(CF CF O) m3 、(CF CF O-CF CF CF CF O) m5 、および、これらの一端または両端に1~4個の他の(R f1 O)を有する基のいずれかであり、ただしm1は1以上の整数であり、m2は1以上の整数であり、m1+m2は2~200の整数であり、m1個のCF Oおよびm2個のCF CF Oの結合順序は限定されず、m3は2~200の整数であり、m5は1~100の整数である
A method for producing a fluorine-containing ether compound, which comprises reacting a compound represented by the following formula (2) with a reducing agent to obtain a compound represented by the following formula (3).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —C O—NH 2 (2)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —C H 2 —NH 2 (3)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m is represented by {(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2 }, (CF 2 CF 2 O) m3 , (CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O ) m5 and any group having 1 to 4 other (R f1 O) at one or both ends thereof, where m1 is an integer of 1 or more and m2 is an integer of 1 or more , m1+m2 are integers from 2 to 200, the order of bonding of m1 CF 2 O and m2 CF 2 CF 2 O is not limited, m3 is an integer from 2 to 200, m5 is an integer from 1 to 100 is an integer .
下式(3)で表される化合物にYR21を反応させて、下式(4)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2 -C-NH ・・・(3)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2 -C-NR21 ・・・(4)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく
は、HO-、RO-またはハロゲン原子であり、Rは、1価の炭化水素基であり、
21は、末端にビニル基を有する1価の有機基または1価の炭化水素基(ただし、末端にビニル基を有するものを除く。)である。
A method for producing a fluorine-containing ether compound, which comprises reacting a compound represented by the following formula (3) with YR 21 to obtain a compound represented by the following formula (4).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —C H 2 —NH 2 (3)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —C H 2 —NR 21 2 (4)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m may consist of two or more R f1 O ,
Y is HO—, R 6 O— or a halogen atom, R 6 is a monovalent hydrocarbon group,
R 21 is a monovalent organic group or monovalent hydrocarbon group having a terminal vinyl group (excluding those having a terminal vinyl group).
前記Yがハロゲン原子であり、前記R21が、アリル基またはアリルオキシアルキル基である、請求項4に記載の製造方法。 5. The production method according to claim 4, wherein Y is a halogen atom and R21 is an allyl group or an allyloxyalkyl group. 下記工程1~4を経て下式(1)で表される化合物から下式(5)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
工程1:下式(1)で表される化合物にNHを反応させて、下式(2)で表される化合物を得る工程。
工程2:下式(2)で表される化合物に還元剤を反応させて、下式(3)で表される化合物を得る工程。
工程3:下式(3)で表される化合物にYR22を反応させて、下式(4a)で表される化合物を得る工程。
工程4:下式(4a)で表される化合物とHSiR 3-nとをヒドロシリル化反応して、下式(5)で表される化合物を得る工程。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-CO-Z ・・・(1)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-CO-NH ・・・(2)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-CH-NH ・・・(3)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-CH-NR22 ・・・(4a)
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2-CH-N[-R-SiR 3-n ・・・(5)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1 およびR f2 は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
Zは、-OH、-OR、-R、ハロゲン原子または水素原子であり、RおよびRは、それぞれ1価の炭化水素基であり、
Yは、HO-、RO-またはハロゲン原子であり、Rは、1価の炭化水素基であり、
22は、末端にビニル基を有する1価の有機基であり、
は、R22に由来する2価の有機基であり、
は、水素原子または1価の炭化水素基であり、
Xは、加水分解性基であり、
nは、0~2の整数である。

A method for producing a fluorine-containing ether compound, which comprises obtaining a compound represented by the following formula (5) from a compound represented by the following formula (1) through the following steps 1 to 4.
Step 1: A step of reacting a compound represented by the following formula (1) with NH3 to obtain a compound represented by the following formula (2).
Step 2: A step of reacting a compound represented by the following formula (2) with a reducing agent to obtain a compound represented by the following formula (3).
Step 3: A step of reacting a compound represented by the following formula (3) with YR 22 to obtain a compound represented by the following formula (4a).
Step 4: A step of hydrosilylating the compound represented by the following formula (4a) and HSiR 3 n X 3-n to obtain the compound represented by the following formula (5).
AOQ-(R f1 O) m -R f2 -CO-Z (1)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —CO—NH 2 (2)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —CH 2 —NH 2 (3)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —CH 2 —NR 22 2 (4a)
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —CH 2 —N[—R 2 —SiR 3 n X 3-n ] 2 (5)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m may consist of two or more R f1 O,
Z is —OH, —OR 4 , —R 5 , a halogen atom or a hydrogen atom, R 4 and R 5 are each a monovalent hydrocarbon group,
Y is HO—, R 6 O— or a halogen atom, R 6 is a monovalent hydrocarbon group,
R 22 is a monovalent organic group having a terminal vinyl group,
R 2 is a divalent organic group derived from R 22 ,
R 3 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group,
X is a hydrolyzable group,
n is an integer of 0-2.

前記Zが-ORであり、アルコール溶媒または含フッ素溶媒中で式(1)で表される化合物にNHを反応させる、請求項に記載の製造方法。 7. The production method according to claim 6 , wherein Z is -OR 4 and the compound represented by formula (1) is reacted with NH 3 in an alcoholic solvent or a fluorine-containing solvent. 前記Yがハロゲン原子であり、前記R22が、アリル基またはアリルオキシアルキル基である、請求項またはに記載の製造方法。 8. The production method according to claim 6 or 7 , wherein Y is a halogen atom and R22 is an allyl group or an allyloxyalkyl group. 前記Q単結合である、請求項のいずれか一項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 6 to 8 , wherein said Q is a single bond. 下式(2)で表される含フッ素エーテル化合物。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2 -CO-NH ・・・(2)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、{(CF O) m1 (CF CF O) m2 }、(CF CF O) m3 、(CF CF O-CF CF CF CF O) m5 、および、これらの一端または両端に1~4個の他の(R f1 O)を有する基のいずれかであり、ただしm1は1以上の整数であり、m2は1以上の整数であり、m1+m2は2~200の整数であり、m1個のCF Oおよびm2個のCF CF Oの結合順序は限定されず、m3は2~200の整数であり、m5は1~100の整数である
A fluorine-containing ether compound represented by the following formula (2).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —C O—NH 2 (2)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m is represented by {(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2 }, (CF 2 CF 2 O) m3 , (CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O ) m5 and any group having 1 to 4 other (R f1 O) at one or both ends thereof, where m1 is an integer of 1 or more and m2 is an integer of 1 or more , m1+m2 are integers from 2 to 200, the order of bonding of m1 CF 2 O and m2 CF 2 CF 2 O is not limited, m3 is an integer from 2 to 200, m5 is an integer from 1 to 100 is an integer .
前記Q単結合である、請求項10に記載の化合物。 11. The compound of Claim 10 , wherein said Q is a single bond. 下式(3)で表される含フッ素エーテル化合物。
A-O-Q-(Rf1O)-Rf2 -C-NH ・・・(3)
ただし、
Aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)と結合する側に限る。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
f1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2~200の整数であり、
(Rf1O)は、{(CF O) m1 (CF CF O) m2 }、(CF CF O) m3 、(CF CF O-CF CF CF CF O) m5 、および、これらの一端または両端に1~4個の他の(R f1 O)を有する基のいずれかであり、ただしm1は1以上の整数であり、m2は1以上の整数であり、m1+m2は2~200の整数であり、m1個のCF Oおよびm2個のCF CF Oの結合順序は限定されず、m3は2~200の整数であり、m5は1~100の整数である
A fluorine-containing ether compound represented by the following formula (3).
A—O—Q—(R f1 O) m —R f2 —C H 2 —NH 2 (3)
however,
A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms, or an ether at the end of a fluoroalkylene group containing one or more hydrogen atoms (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) a group having an etheric oxygen atom, a group having an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atoms of a fluoroalkylene group having 2 or more carbon atoms containing one or more hydrogen atoms, or a group having two carbon atoms containing one or more hydrogen atoms A group having an etheric oxygen atom between the terminal of the above fluoroalkylene group (limited to the side that bonds to (R f1 O) m ) and carbon-carbon atoms,
R f1 and R f2 are each independently a perfluoroalkylene group,
m is an integer from 2 to 200,
(R f1 O) m is represented by {(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2 }, (CF 2 CF 2 O) m3 , (CF 2 CF 2 O—CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O ) m5 and any group having 1 to 4 other (R f1 O) at one or both ends thereof, where m1 is an integer of 1 or more and m2 is an integer of 1 or more , m1+m2 are integers from 2 to 200, the order of bonding of m1 CF 2 O and m2 CF 2 CF 2 O is not limited, m3 is an integer from 2 to 200, m5 is an integer from 1 to 100 is an integer .
前記Q単結合である、請求項12に記載の化合物。 13. The compound of claim 12 , wherein said Q is a single bond.
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