JP7161512B2 - Nail measurement method, nail seal manufacturing method, information processing device, nail seal manufacturing system, and program - Google Patents

Nail measurement method, nail seal manufacturing method, information processing device, nail seal manufacturing system, and program Download PDF

Info

Publication number
JP7161512B2
JP7161512B2 JP2020171132A JP2020171132A JP7161512B2 JP 7161512 B2 JP7161512 B2 JP 7161512B2 JP 2020171132 A JP2020171132 A JP 2020171132A JP 2020171132 A JP2020171132 A JP 2020171132A JP 7161512 B2 JP7161512 B2 JP 7161512B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nail
model
curve
control
point
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020171132A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2022062925A (en
Inventor
葵 遠山
Original Assignee
菊水電子工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 菊水電子工業株式会社 filed Critical 菊水電子工業株式会社
Priority to JP2020171132A priority Critical patent/JP7161512B2/en
Publication of JP2022062925A publication Critical patent/JP2022062925A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7161512B2 publication Critical patent/JP7161512B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本開示は、爪の採寸方法、ネイルシール製造方法、情報処理装置、及びネイルシール製造システム、及びプログラムに関する。 The present disclosure relates to a nail measuring method, a nail seal manufacturing method, an information processing device, a nail seal manufacturing system, and a program.

近年、手軽に爪に装飾を施すことができるネイルシールの人気が高まっており、様々な種類のネイルシールが広く市場に流通している。例えば、粘着性シートに装飾を施したタイプのネイルシールや、液状の光硬化樹脂によって立体的な装飾を施したジェルネイルシールなどがある。ネイルシールは、爪への貼り付け、爪からの取り外しが容易である上、サロンでのネイル施術に比べて安価であるため、ユーザは、ネイルシールを気軽に取り替えて色々なデザインや色彩を楽しむことができる。 2. Description of the Related Art In recent years, the popularity of nail stickers that can easily decorate nails has increased, and various types of nail stickers are widely available on the market. For example, there are a type of nail sticker in which an adhesive sheet is decorated, and a gel nail sticker in which a three-dimensional decoration is given with a liquid photocurable resin. Nail stickers are easy to stick to and remove from nails, and are cheaper than nail treatments at salons, so users can easily change nail stickers and enjoy various designs and colors. be able to.

最近ではネイルシールの品質が向上しており、ネイルシールを綺麗に貼り付けることができれば、サロンでネイル施術を受けたかのような美しい爪になりうる。しかし、ネイルシールの貼り付けに失敗すると、見た目が格好が悪くなり、ネイルシールが爪から剥がれやすくなる。また、市場に流通しているネイルシールは個々人の爪に合わせて作られたものではないため、ネイルシールの形が自分の爪にぴったり合うことはほとんどない。ユーザは、爪からはみ出したネイルシールの一部を自分でカットすることになるが、カットによって装飾の一部が欠けたり、デザインのバランスが崩れたりする。 Recently, the quality of nail stickers has improved, and if the nail stickers can be applied neatly, the nails can be as beautiful as if they had been treated at a salon. However, if the application of the nail sticker fails, the nail sticker looks unsightly and the nail sticker tends to peel off from the nail. In addition, since the nail seals available in the market are not made to fit individual nails, the shape of the nail seals rarely fits one's nails perfectly. The user has to cut off the portion of the nail sticker protruding from the nail by himself, but the cutting causes part of the decoration to be missing or the design to be out of balance.

下記の特許文献1では、光切断法、TOF(Time Of Flight)法、単眼カメラ測定法、及び複眼カメラ測定法などの測距法を利用して爪の形状を測定し、その測定結果に基づいてオリジナルネイルシールを製作する方法が提案されている。また、下記の特許文献2では、爪の画像にエッジ検出などの特徴検出技術を適用して爪の形状を取得し、取得した爪の形状を利用してオリジナルネイルシールを製作する方法が提案されている。 In Patent Document 1 below, the nail shape is measured using distance measurement methods such as a light section method, a TOF (Time Of Flight) method, a monocular camera measurement method, and a compound eye camera measurement method, and based on the measurement results A method for producing an original nail seal has been proposed. In addition, Patent Document 2 below proposes a method of applying a feature detection technique such as edge detection to a nail image to acquire the shape of the nail, and using the acquired nail shape to produce an original nail sticker. ing.

国際公開第2018/016206号公報International Publication No. 2018/016206 特開2016-85725号公報JP 2016-85725 A

上記の提案方法を利用することで、ユーザが自分の爪に合ったオリジナルネイルシールを製作できるようになる。しかし、上記の提案方法は、爪の形状そのままをネイルシールに写し取るような方法でオリジナルネイルシールを製作しており、測定の仕組みが複雑である。また、輪郭線の凹凸やアーチの歪みなどもネイルシールの形状に反映される。そのようなネイルシールでは、貼り付け時の僅かなずれで爪の表面が見えたり、ネイルシールが爪からはみ出したりするため、正確に貼り付けることが難しい。また、爪への貼り付けまで行う装置を導入すれば、さらに仕組みが複雑になる。 By using the above proposed method, the user can produce an original nail sticker that matches his/her own nail. However, in the above proposed method, the original nail seal is produced by copying the shape of the nail as it is onto the nail seal, and the measurement mechanism is complicated. In addition, the shape of the nail seal is also affected by contour irregularities and arch distortion. With such a nail sticker, it is difficult to apply it accurately because the surface of the nail can be seen or the nail sticker protrudes from the nail even if there is a slight misalignment at the time of application. In addition, if a device that even sticks to the nail is introduced, the mechanism will become even more complicated.

上記のような事情から、ユーザの爪にフィットすることだけでなく、ユーザが自らの手で比較的容易に貼り付けることができる形状を持ったオリジナルネイルシールを製作するための仕組みが求められる。爪へのフィット感は、爪の特徴的な部分について、ユーザの爪の形を巧くネイルシールの形状に反映させることで実現されうる。貼り付けの容易性は、ユーザがネイルシールを貼り付ける際に爪とネイルシールとを合わせやすくする形状をネイルシールに巧く残してあげることで実現されうる。これらの要求を満たせば、自分の爪にフィットした実用的なオリジナルネイルシールを製作できるようになるだろう。 In view of the circumstances described above, there is a demand for a mechanism for producing an original nail sticker that not only fits the user's nail, but also has a shape that allows the user to attach the sticker relatively easily with their own hands. The feeling of fit to the nail can be realized by skillfully reflecting the shape of the user's nail in the shape of the nail seal for the characteristic part of the nail. Ease of application can be realized by skillfully leaving a shape on the nail sticker that allows the user to easily align the nail with the nail sticker when applying the nail sticker. If you meet these requirements, you will be able to create practical original nail stickers that fit your nails.

本開示の1つの観点によれば、本開示の目的は、自分の爪にフィットした実用的なオリジナルネイルシールを手軽に製作できるようにするための爪の採寸方法及びこれを用いたネイルシールの製造方法を提供することにある。 According to one aspect of the present disclosure, the purpose of the present disclosure is to provide a nail measuring method and a nail seal using the method for easily producing a practical original nail seal that fits one's nail. It is to provide a manufacturing method.

本開示の第1の態様によれば、ネイルモデルを用いて爪を採寸する方法が提供される。該方法では、爪の平坦部を写した第1の写真から爪の輪郭を検出し、複数の直線及び複数の直線を繋ぐ複数の曲線で構成されるネイルモデルの形状が爪の輪郭にフィットするようにネイルモデルの制御パラメータを決定することと、爪のアーチ部におけるカーブの形状に基づいてネイルモデルの制御パラメータを補正することとを含む処理をコンピュータが実行する。 SUMMARY According to a first aspect of the present disclosure, a method of measuring a nail using a nail model is provided. In this method, the contour of the nail is detected from a first photograph of the flat part of the nail, and the shape of the nail model, which is composed of a plurality of straight lines and a plurality of curves connecting the straight lines, fits the contour of the nail. and correcting the nail model control parameters based on the shape of the curve in the nail arch.

本開示の第2の態様によれば、上記の第1の態様に係る方法によって決定されたネイルモデルの情報を受け付け、ネイルモデルの情報に基づいてシール素材を裁断する、ネイルシール製造方法が提供される。 According to a second aspect of the present disclosure, there is provided a nail sticker manufacturing method that receives information on a nail model determined by the method according to the first aspect, and cuts a sticker material based on the information on the nail model. be done.

本開示の第3の態様によれば、ネイルシールの形状を規定するネイルモデルを決定する情報処理装置が提供される。この装置は、爪の平坦部を写した第1の写真から爪の輪郭を検出し、複数の直線及び複数の直線を繋ぐ複数の曲線で構成されるネイルモデルが、爪の輪郭にフィットするようにネイルモデルの制御パラメータを決定する決定部と、爪のアーチ部におけるカーブの形状に基づいてネイルモデルの制御パラメータを補正する補正部とを備える。 According to a third aspect of the present disclosure, an information processing device is provided that determines a nail model that defines the shape of a nail seal. This device detects the contour of the nail from a first photograph of the flat portion of the nail, and creates a nail model composed of a plurality of straight lines and a plurality of curves connecting the straight lines so as to fit the contour of the nail. a determining unit for determining control parameters of the nail model; and a correcting unit for correcting the control parameters of the nail model based on the shape of the curve in the arch portion of the nail.

本開示の第4の態様によれば、情報処理装置と、上記の第1の態様に係る方法によって決定されたネイルモデルの情報を情報処理装置から受信し、その情報に基づいてシール素材を裁断するネイルシール製造装置とを含むネイルシール製造システムが提供される。 According to a fourth aspect of the present disclosure, an information processing device receives information about a nail model determined by the method according to the first aspect from the information processing device, and cuts a seal material based on the information. A nail seal manufacturing system is provided including a nail seal manufacturing apparatus for manufacturing a nail seal.

本開示の第5の態様によれば、上記の第1の態様及び第2の態様の少なくとも一方に係る方法の処理をコンピュータに実行させる、プログラムが提供される。さらに他の態様として、このプログラムが格納された、非一時的なコンピュータ可読記録媒体(Non-transitory computer readable storage medium)が提供されうる。 According to a fifth aspect of the present disclosure, there is provided a program that causes a computer to execute the process of the method according to at least one of the first aspect and the second aspect. As yet another aspect, a non-transitory computer readable storage medium storing this program can be provided.

本開示によれば、自分の爪にフィットした実用的なオリジナルネイルシールを手軽に製作できるようにする。 According to the present disclosure, it is possible to easily produce a practical original nail seal that fits one's nail.

本開示の実施形態に係るネイルシール製造システムのシステム構成について説明するためのブロック図である。1 is a block diagram for explaining the system configuration of a nail seal manufacturing system according to an embodiment of the present disclosure; FIG. 本開示の実施形態に係る情報処理装置の機能を実現可能なハードウェア構成について説明するためのブロック図である。2 is a block diagram for explaining a hardware configuration capable of realizing functions of an information processing apparatus according to an embodiment of the present disclosure; FIG. 本開示の実施形態に係るネイルシール製造装置の機能を実現可能なハードウェア構成について説明するためのブロック図である。1 is a block diagram for explaining a hardware configuration capable of realizing functions of a nail sticker manufacturing apparatus according to an embodiment of the present disclosure; FIG. 本開示の実施形態に係る情報処理装置の機能について説明するためのブロック図である。1 is a block diagram for explaining functions of an information processing device according to an embodiment of the present disclosure; FIG. ネイルモデルの決定に用いる写真データの例を示した図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of photographic data used for nail model determination; ネイルモデルについて説明するための図である。It is a figure for demonstrating a nail model. パラメータテーブルについて説明するための図表である。4 is a chart for explaining a parameter table; FIG. ネイルモデルの決定方法について説明するための第1の図である。FIG. 10 is a first diagram for explaining a method of determining a nail model; FIG. ネイルモデルの決定方法について説明するための第2の図である。FIG. 10 is a second diagram for explaining a method of determining a nail model; 制御パラメータの補正方法について説明するための図表である。FIG. 4 is a chart for explaining a method of correcting control parameters; FIG. ネイルモデルに追加される持ち手について説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a handle added to the nail model; 本開示の実施形態に係るネイルモデルの決定方法及びネイルシールの製造方法について説明するためのフロー図である。FIG. 4 is a flow chart for explaining a nail model determination method and a nail seal manufacturing method according to an embodiment of the present disclosure;

以下に添付図面を参照しながら、本開示の実施形態について説明する。なお、本明細書及び図面において実質的に同一の機能を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する場合がある。 Embodiments of the present disclosure will be described below with reference to the accompanying drawings. Elements having substantially the same functions in the present specification and drawings may be denoted by the same reference numerals, thereby omitting redundant description.

[1.ネイルシール製造システムの構成]
図1を参照しながら、本開示の実施形態に係るネイルシール製造システムのシステム構成について説明する。図1は、本開示の実施形態に係るネイルシール製造システムのシステム構成について説明するためのブロック図である。図1に示したネイルシール製造システム10は、本開示の実施形態に係るネイルシール製造システムの一例である。
[1. Configuration of nail seal manufacturing system]
A system configuration of a nail seal manufacturing system according to an embodiment of the present disclosure will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a block diagram for explaining the system configuration of the nail seal manufacturing system according to the embodiment of the present disclosure. A nail seal manufacturing system 10 shown in FIG. 1 is an example of a nail seal manufacturing system according to an embodiment of the present disclosure.

図1に示すように、ネイルシール製造システム10は、情報処理装置11と、ネイルシール製造装置12とを含む。情報処理装置11は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、PC(Personal Computer)、ゲーム機などの電子機器である。図1の例では、情報処理装置11とネイルシール製造装置12とはネットワークNWを介して接続されている。ネットワークNWは、例えば、有線LAN(Local Area Network)、無線LAN、光通信ネットワーク、携帯電話ネットワーク、又はこれらの組み合わせでである。 As shown in FIG. 1 , the nail sticker manufacturing system 10 includes an information processing device 11 and a nail sticker manufacturing device 12 . The information processing device 11 is, for example, an electronic device such as a smart phone, a tablet terminal, a PC (Personal Computer), or a game machine. In the example of FIG. 1, the information processing device 11 and the nail sticker manufacturing device 12 are connected via a network NW. The network NW is, for example, a wired LAN (Local Area Network), a wireless LAN, an optical communication network, a mobile phone network, or a combination thereof.

後述するように、情報処理装置11は、オリジナルネイルシールを所望するユーザの爪を写した写真から、そのユーザの爪にフィットするネイルモデルを決定し、決定したネイルモデルの情報をネイルシール製造装置12へ送信する。ネイルモデルは、シール素材を裁断してネイルシールを製作する際の裁断線を示す2次元モデルである。ネイルシール製造装置12は、情報処理装置11から受け取ったネイルモデルの情報に基づいてシール素材を裁断して、ユーザの爪にフィットするオリジナルネイルシールを製造する。 As will be described later, the information processing apparatus 11 determines a nail model that fits the user's nail from a photograph of the nail of the user who desires the original nail sticker, and transmits information on the determined nail model to the nail sticker manufacturing apparatus. 12. The nail model is a two-dimensional model that shows cutting lines for cutting a seal material to produce a nail seal. The nail seal manufacturing device 12 cuts the seal material based on the nail model information received from the information processing device 11 to manufacture an original nail seal that fits the user's nail.

なお、図1に示したネイルシール製造システム10の構成は一例であり、情報処理装置11とネイルシール製造装置12とは有線又は無線で直接接続されてもよい。例えば、両装置は、USB(Universal Serial Bus)、IEEE1394、Bluetooth、IrDA(Infrared Data Association)などの接続形態で接続されてもよい。また、ネイルシール製造装置12はクラウドシステムであってもよく、この場合、ネイルシール製造装置12の機能はクラウド型サービスとして提供される。このような変形例についても当然に本開示の実施形態の技術的範囲に含まれる。 The configuration of the nail sticker manufacturing system 10 shown in FIG. 1 is an example, and the information processing device 11 and the nail sticker manufacturing device 12 may be directly connected by wire or wirelessly. For example, both devices may be connected by a connection form such as USB (Universal Serial Bus), IEEE1394, Bluetooth, IrDA (Infrared Data Association). Moreover, the nail sticker manufacturing apparatus 12 may be a cloud system, and in this case, the functions of the nail sticker manufacturing apparatus 12 are provided as a cloud type service. Such modifications are naturally included in the technical scope of the embodiments of the present disclosure.

(情報処理装置のハードウェア)
ここで、図2を参照しながら、本開示の実施形態に係る情報処理装置の機能を実現可能なハードウェア構成について説明する。図2は、本開示の実施形態に係る情報処理装置の機能を実現可能なハードウェア構成について説明するためのブロック図である。後述する情報処理装置11の機能は、図2に例示したハードウェア要素を用いて実現することができる。また、情報処理装置11の機能は、コンピュータプログラムを用いて図2に例示したハードウェアを制御することで実現されうる。
(Hardware of information processing device)
Here, a hardware configuration capable of realizing the functions of the information processing apparatus according to the embodiment of the present disclosure will be described with reference to FIG. 2 . FIG. 2 is a block diagram for explaining a hardware configuration capable of realizing the functions of the information processing device according to the embodiment of the present disclosure. The functions of the information processing device 11, which will be described later, can be realized using the hardware elements illustrated in FIG. Also, the functions of the information processing apparatus 11 can be realized by controlling the hardware illustrated in FIG. 2 using a computer program.

図2の例において、情報処理装置11は、カメラ11a、プロセッサ11b、メモリ11c、表示インターフェース(IF:Interface)11d、通信インターフェース11e、及び外部インターフェース11fを有する。なお、実施の態様に応じて一部の要素が省略されてもよいし、他の要素が追加されてもよい。 In the example of FIG. 2, the information processing device 11 has a camera 11a, a processor 11b, a memory 11c, a display interface (IF) 11d, a communication interface 11e, and an external interface 11f. Note that some elements may be omitted or other elements may be added depending on the mode of implementation.

カメラ11aは、少なくとも1つのレンズ群を含む光学系、CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサ又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサなどの固体撮像素子、及び画像信号を処理する信号処理回路を有する撮像装置である。図2の例ではカメラ11aが情報処理装置11に内蔵されているが、カメラ11aは、後述する外部インターフェース11fに接続された外部カメラであってもよい。 The camera 11a has an optical system including at least one lens group, a solid-state imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device) image sensor or a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensor, and a signal processing circuit that processes image signals. It is a device. Although the camera 11a is built in the information processing apparatus 11 in the example of FIG. 2, the camera 11a may be an external camera connected to an external interface 11f, which will be described later.

プロセッサ11bは、CPU(Central Processing Unit)、DSP(Digital Signal Processor)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、FPGA(Field Programmable Gate Array)、GPU(Graphic Processing Unit)などの処理回路(Processing circuitry)である。メモリ11cは、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)、HDD(Hard Disk Drive)、SSD(Solid State Drive)、フラッシュメモリなどの記憶装置(Storage device)である。 The processor 11b is processing circuitry such as a CPU (Central Processing Unit), a DSP (Digital Signal Processor), an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), an FPGA (Field Programmable Gate Array), and a GPU (Graphic Processing Unit). . The memory 11c is a storage device such as a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), an HDD (Hard Disk Drive), an SSD (Solid State Drive), and a flash memory.

表示インターフェース11dは、LCD(Liquid Crystal Display)、ELD(Electro-Luminescence Display)などのディスプレイデバイスを接続するためのインターフェース回路である。通信インターフェース11eは、ネットワークNWに接続するためのインターフェース回路である。 The display interface 11d is an interface circuit for connecting display devices such as LCDs (Liquid Crystal Displays) and ELDs (Electro-Luminescence Displays). The communication interface 11e is an interface circuit for connecting to the network NW.

外部インターフェース11fは、情報処理装置11の外部に設置される外部デバイスを接続するためのインターフェース回路である。外部インターフェース11fは、例えば、USBポート、IEEE1394ポート、SCSI(Small Computer System Interface)などである。外部インターフェース11fには、例えば、キーボード、マウス、タッチパネルなどの入力機器や、プリンタなどの出力機器が接続されうる。また、外部インターフェース11fには、非一時的なコンピュータ可読記録媒体(Non-transitory computer readable storage medium)である記録媒体11gが接続されうる。例えば、記録媒体11gは、磁気記録媒体、光ディスク、光磁気ディスク、半導体メモリなどである。 The external interface 11 f is an interface circuit for connecting an external device installed outside the information processing apparatus 11 . The external interface 11f is, for example, a USB port, IEEE1394 port, SCSI (Small Computer System Interface), or the like. For example, input devices such as a keyboard, mouse, and touch panel, and output devices such as a printer can be connected to the external interface 11f. A recording medium 11g, which is a non-transitory computer readable storage medium, can be connected to the external interface 11f. For example, the recording medium 11g is a magnetic recording medium, an optical disk, a magneto-optical disk, a semiconductor memory, or the like.

上記のプロセッサ11bは、記録媒体11gに格納されたコンピュータプログラムを読み出してメモリ11cに格納し、メモリ11cから読み出したコンピュータプログラムに従って情報処理装置11の動作を制御することができる。なお、情報処理装置11の動作を制御するコンピュータプログラムは、メモリ11cに予め格納されていてもよいし、通信インターフェース11eを介してダウンロードされてもよい。 The processor 11b can read the computer program stored in the recording medium 11g, store it in the memory 11c, and control the operation of the information processing apparatus 11 according to the computer program read from the memory 11c. The computer program that controls the operation of the information processing device 11 may be stored in advance in the memory 11c or may be downloaded via the communication interface 11e.

(ネイルシール製造装置のハードウェア)
次に、図3を参照しながら、本開示の実施形態に係るネイルシール製造装置の機能を実現可能なハードウェア構成について説明するためのブロック図である。図3は、本開示の実施形態に係るネイルシール製造装置の機能を実現可能なハードウェア構成について説明するためのブロック図である。
(Hardware of nail seal manufacturing equipment)
Next, referring to FIG. 3, it is a block diagram for explaining a hardware configuration capable of realizing the functions of the nail seal manufacturing apparatus according to the embodiment of the present disclosure. FIG. 3 is a block diagram for explaining a hardware configuration capable of realizing the functions of the nail seal manufacturing apparatus according to the embodiment of the present disclosure.

図3に示すように、ネイルシール製造装置12は、制御装置121、印刷装置122、及び裁断装置123を有する。なお、制御装置121、印刷装置122、及び裁断装置123は、それぞれ別体であってもよいし、これらのうちの2つの装置が一体であってもよいし、これら全ての装置が一体であってもよい。また、制御装置121、印刷装置122、及び裁断装置123は、これらのうちの少なくとも2つの装置が有線及び/又は無線のネットワークを用いて接続されていてもよい。 As shown in FIG. 3 , the nail sticker manufacturing device 12 has a control device 121 , a printing device 122 and a cutting device 123 . The control device 121, the printing device 122, and the cutting device 123 may be separate units, two of these units may be integrated, or all these units may be integrated. may At least two of the control device 121, printing device 122, and cutting device 123 may be connected using a wired and/or wireless network.

制御装置121は、プロセッサ121a、メモリ121b、通信インターフェース121c、及び外部インターフェース121dを有する。プロセッサ121a、メモリ121b、通信インターフェース121c、及び外部インターフェース121dは、それぞれ上述したプロセッサ11b、メモリ11c、通信インターフェース11e、及び外部インターフェース11fと同様の機能を有する。図3の例では、外部インターフェース121dを介して制御装置121に印刷装置122及び裁断装置123が接続されている。 The control device 121 has a processor 121a, a memory 121b, a communication interface 121c, and an external interface 121d. The processor 121a, memory 121b, communication interface 121c, and external interface 121d have functions similar to those of the processor 11b, memory 11c, communication interface 11e, and external interface 11f, respectively. In the example of FIG. 3, a printing device 122 and a cutting device 123 are connected to the control device 121 via the external interface 121d.

制御装置121は、通信インターフェース121cを用いて、情報処理装置11からネイルモデルの情報及びネイルシールに施す装飾の情報を受信する。また、制御装置121は、受信した情報をメモリ121bに格納し、プロセッサ121aを用いて印刷装置122及び裁断装置123の動作を制御し、メモリ121bに格納された情報に基づいてシール素材への装飾の印刷及びネイルシールの裁断を行う。なお、装飾の種類、シール素材の種類、印刷方法、裁断方法は実施の態様に応じて任意に選択可能である。 The control device 121 receives nail model information and nail sticker decoration information from the information processing device 11 using the communication interface 121c. Further, the control device 121 stores the received information in the memory 121b, controls the operation of the printing device 122 and the cutting device 123 using the processor 121a, and decorates the seal material based on the information stored in the memory 121b. Print and cut nail stickers. The type of decoration, the type of seal material, the printing method, and the cutting method can be arbitrarily selected according to the mode of implementation.

(情報処理装置の機能)
次に、図4を参照しながら、本開示の実施形態に係る情報処理装置の機能について説明する。図4は、本開示の実施形態に係る情報処理装置の機能について説明するためのブロック図である。なお、図4に例示した情報処理装置11の機能は、本開示の実施形態に係る情報処理装置が有する機能の一例である。
(Function of information processing device)
Next, functions of the information processing apparatus according to the embodiment of the present disclosure will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a block diagram for explaining functions of the information processing device according to the embodiment of the present disclosure. Note that the functions of the information processing device 11 illustrated in FIG. 4 are an example of the functions of the information processing device according to the embodiment of the present disclosure.

図4に示すように、情報処理装置11は、記憶部111、輪郭検出部112、アーチ検出部113、パラメータ決定部114、モデル補正部115、及び持ち手追加部116を有する。なお、輪郭検出部112、アーチ検出部113、及びパラメータ決定部114は、本開示に係る決定部の一実装例である。モデル補正部115は、本開示に係る補正部の一実装例である。 As shown in FIG. 4 , the information processing device 11 has a storage unit 111 , a contour detection unit 112 , an arch detection unit 113 , a parameter determination unit 114 , a model correction unit 115 and a handle addition unit 116 . Note that the contour detection unit 112, the arch detection unit 113, and the parameter determination unit 114 are one implementation example of the determination unit according to the present disclosure. The model corrector 115 is one implementation of the corrector according to the present disclosure.

記憶部111の機能は、上述したメモリ11c及び記録媒体11gのいずれか一方によって実現されうる。輪郭検出部112、アーチ検出部113、パラメータ決定部114、モデル補正部115、及び持ち手追加部116の機能は、主に、上述したプロセッサ11bの機能によって実現されうる。 The function of the storage unit 111 can be realized by either one of the memory 11c and the recording medium 11g described above. The functions of the contour detection unit 112, the arch detection unit 113, the parameter determination unit 114, the model correction unit 115, and the handle addition unit 116 can be realized mainly by the functions of the processor 11b described above.

記憶部111には、写真データ111a、及びパラメータテーブル111bが格納される。写真データ111aは、図5に示すように、爪の平坦部を写した第1の写真PCT1のデータ、及び爪の付け根に向かう向きに爪のアーチ部を写した第2の写真PCT2のデータを含む。図5は、ネイルモデルの決定に用いる写真データの例を示した図である。写真データ111aは、カメラ11aで撮影した写真データでもよいし、ネットワークNW又は記録媒体11gを介して取得された写真データでもよい。また、第1の写真PCT1及び第2の写真PCT2のサイズは原寸大に調整される。 The storage unit 111 stores photograph data 111a and a parameter table 111b. As shown in FIG. 5, the photo data 111a includes data of a first photo PCT1 showing the flat part of the nail and data of a second photo PCT2 showing the arch part of the nail in the direction toward the base of the nail. include. FIG. 5 is a diagram showing an example of photograph data used for nail model determination. The photo data 111a may be photo data taken by the camera 11a, or photo data acquired via the network NW or the recording medium 11g. Also, the sizes of the first photo PCT1 and the second photo PCT2 are adjusted to the actual size.

ここで言う爪の平坦部とは、手のひらを下に向けて平面上に置き、その平面に垂直な向きで爪を上方から見下ろしたときに見える爪の輪郭内側の部分を指す。また、ここで言う爪のアーチ部とは、指の先端から爪の付け根に向かう方向(以下、奥行き方向)に沿って爪を見たときに見える爪の湾曲(所謂、横アーチ)部分を指す。アーチ部は、奥行き方向に垂直な面で爪を切断した場合の断面部に相当する。なお、爪は人体の一部であり、同一人物の爪であっても日によって形が変化するものであるため、平坦部及びアーチ部として認識される部分に多少の誤差は生じうるし、そのような誤差は当然に許容されうる。 The flat portion of the nail referred to here refers to the portion inside the outline of the nail that can be seen when the nail is viewed from above with the palm facing down on a flat surface and the nail being oriented perpendicular to the plane. In addition, the arch portion of the nail referred to here refers to the curved (so-called lateral arch) portion of the nail that can be seen when looking at the nail along the direction from the tip of the finger to the base of the nail (hereinafter referred to as the depth direction). . The arch portion corresponds to a cross-sectional portion when the nail is cut along a plane perpendicular to the depth direction. Note that the nail is a part of the human body, and even if it is the nail of the same person, its shape changes from day to day. errors can of course be allowed.

パラメータテーブル111bは、ネイルモデル20の制御パラメータを格納するためのテーブルである。ネイルモデル20は、シール素材からネイルシールを切り出す際の裁断線を決めるためのモデル情報である。ネイルモデル20は、複数の直線と、それら複数の直線を繋ぐ複数の曲線で構成される。例えば、ネイルモデル20は、図6に示すように、平行な2本の直線と、それら2本の直線を繋ぐ4本の曲線とで構成される。図6は、ネイルモデルについて説明するための図である。図6の例では、4本の曲線それぞれが3次のベジェ曲線である。 The parameter table 111b is a table for storing control parameters of the nail model 20. FIG. The nail model 20 is model information for determining a cutting line for cutting out a nail seal from a seal material. The nail model 20 is composed of a plurality of straight lines and a plurality of curved lines connecting the straight lines. For example, as shown in FIG. 6, the nail model 20 is composed of two parallel straight lines and four curved lines connecting the two straight lines. FIG. 6 is a diagram for explaining the nail model. In the example of FIG. 6, each of the four curves is a cubic Bezier curve.

ここで、点SP1、SP3を結ぶ直線を直線L1、点SP2、SP4を結ぶ直線を直線L2と呼ぶ。また、点SP1、EP12を結ぶ曲線を曲線C1、点SP2、EP12を結ぶ曲線を曲線C2、点SP3、EP34を結ぶ曲線を曲線C3、点SP4、EP34を結ぶ曲線を曲線C4と呼ぶ。直線L1、L2は平行に維持される。曲線C1、C2、C3、C4はそれぞれ3次のベジェ曲線であるため、各曲線の形状は始点、終点、及び2つの制御点で決定される。曲線C1の制御点は点P11、P12であり、曲線C2の制御点は点P21、P22であり、曲線C3の制御点は点P31、P32であり、曲線C4の制御点は点P41、P42である。 Here, a straight line connecting the points SP1 and SP3 is called a straight line L1, and a straight line connecting the points SP2 and SP4 is called a straight line L2. A curve connecting points SP1 and EP12 is called curve C1, a curve connecting points SP2 and EP12 is called curve C2, a curve connecting points SP3 and EP34 is called curve C3, and a curve connecting points SP4 and EP34 is called curve C4. Straight lines L1 and L2 are maintained parallel. Since the curves C1, C2, C3, and C4 are each cubic Bezier curves, the shape of each curve is determined by a start point, an end point, and two control points. The control points of curve C1 are points P11 and P12, the control points of curve C2 are points P21 and P22, the control points of curve C3 are points P31 and P32, and the control points of curve C4 are points P41 and P42. be.

曲線C1の形状を決める2つの制御点のうち、直線L1と曲線C1との接続点(SP1)に近い制御点P11は、直線L1の延長線上に配置される。また、曲線C2の形状を決める2つの制御点のうち、直線L2と曲線C2との接続点(SP2)に近い制御点P21は、直線L2の延長線上に配置される。曲線C3の形状を決める2つの制御点のうち、直線L1と曲線C3との接続点(SP3)に近い制御点P31は、直線L1の延長線上に配置される。曲線C4の形状を決める2つの制御点のうち、直線L2と曲線C4との接続点(SP4)に近い制御点P41は、直線L2の延長線上に配置される。このような制御点配置によって、対応する曲線と直線が滑らかに接続される。 Of the two control points that determine the shape of the curve C1, the control point P11, which is close to the connection point (SP1) between the straight line L1 and the curve C1, is arranged on the extension of the straight line L1. Also, of the two control points that determine the shape of the curve C2, the control point P21 that is close to the connection point (SP2) between the straight line L2 and the curve C2 is arranged on the extension of the straight line L2. Of the two control points that determine the shape of the curve C3, the control point P31, which is close to the connection point (SP3) between the straight line L1 and the curve C3, is arranged on the extension of the straight line L1. Of the two control points that determine the shape of the curve C4, the control point P41 near the connection point (SP4) between the straight line L2 and the curve C4 is arranged on the extension of the straight line L2. Such control point arrangement smoothly connects corresponding curves and straight lines.

曲線C1の形状を決める2つの制御点のうち、曲線C1、C2の接続点(EP12)に近い制御点P12と、点EP12と、曲線C2の形状を決める2つの制御点のうち、曲線C1、C2の接続点(EP12)に近い制御点P12とは同一直線上に配置される。同様に、曲線C3の形状を決める2つの制御点のうち、曲線C3、C4の接続点(EP34)に近い制御点P32と、点EP34と、曲線C4の形状を決める2つの制御点のうち、曲線C3、C4の接続点(EP34)に近い制御点P42とは同一直線上に配置される。このような制御点配置によって、点EP12で曲線C1、C2が滑らかに接続され、点EP34で曲線C3、C4が滑らかに接続される。 Of the two control points that determine the shape of the curve C1, the control point P12 and the point EP12 near the connection point (EP12) of the curves C1 and C2. It is arranged on the same straight line as the control point P12 near the connection point (EP12) of C2. Similarly, of the two control points that determine the shape of the curve C3, the control point P32 and the point EP34 near the connection point (EP34) of the curves C3 and C4, and the two control points that determine the shape of the curve C4 are: It is arranged on the same straight line as the control point P42 near the connection point (EP34) of the curves C3 and C4. With such a control point arrangement, the curves C1 and C2 are smoothly connected at the point EP12, and the curves C3 and C4 are smoothly connected at the point EP34.

ここで、点SP1、SP2、SP3、SP4のXY座標をそれぞれ(x1,y1)、(x2,y2)、(x3,y3)、(x4,y4)と表記する。また、点EP12、EP34のXY座標を(Xa,Ya)、(Xb,Yb)と表記する。また、点P11、P21、P31、P41のY座標をそれぞれv1、v2、v3、v4と表記し、点P12、P22、P32、P42のX座標をそれぞれh1、h2、h3、h4と表記する。なお、爪の先端から爪の付け根に向かう方向に沿った軸をX軸とし、爪の平坦部に略平行な平面上でX軸に直交する軸をY軸とする。 Here, the XY coordinates of points SP1, SP2, SP3, and SP4 are expressed as (x1, y1), (x2, y2), (x3, y3), and (x4, y4), respectively. Also, the XY coordinates of the points EP12 and EP34 are expressed as (Xa, Ya) and (Xb, Yb). The Y coordinates of points P11, P21, P31, and P41 are denoted by v1, v2, v3, and v4, respectively, and the X coordinates of points P12, P22, P32, and P42 are denoted by h1, h2, h3, and h4, respectively. The axis along the direction from the tip of the claw to the root of the claw is defined as the X axis, and the axis orthogonal to the X axis on a plane substantially parallel to the flat portion of the claw is defined as the Y axis.

上述した配置条件を考慮すると、曲線C1の制御点P11、P12の座標はそれぞれ(x1,v1)、(h1,Ya)となる。同様に、曲線C2の制御点P21、P22の座標はそれぞれ(x2,v2)、(h2,Ya)となる。また、曲線C3の制御点P31、P32の座標はそれぞれ(x3,v3)、(h3,Yb)となる。同様に、曲線C4の制御点P41、P42の座標はそれぞれ(x4,v4)、(h4,Yb)となる。 Considering the arrangement conditions described above, the coordinates of the control points P11 and P12 of the curve C1 are (x1, v1) and (h1, Ya), respectively. Similarly, the coordinates of control points P21 and P22 of curve C2 are (x2, v2) and (h2, Ya), respectively. Also, the coordinates of the control points P31 and P32 of the curve C3 are (x3, v3) and (h3, Yb), respectively. Similarly, the coordinates of control points P41 and P42 of curve C4 are (x4, v4) and (h4, Yb), respectively.

上述した直線L1、L2及び曲線C1、C2、C3、C4と各点との関係、及び各点の座標に関する情報は、図7に示すようなパラメータテーブル111bに格納される。図7は、パラメータテーブルについて説明するための図表である。後述するように、情報処理装置11は、パラメータテーブル111bのデータを決定することでネイルモデル20の形状を決定し、そのデータを補正することでネイルモデル20の形状を補正する。 The relationship between the straight lines L1, L2 and the curves C1, C2, C3, C4 described above and each point, and information about the coordinates of each point are stored in the parameter table 111b shown in FIG. FIG. 7 is a chart for explaining the parameter table. As will be described later, the information processing apparatus 11 determines the shape of the nail model 20 by determining data in the parameter table 111b, and corrects the shape of the nail model 20 by correcting the data.

なお、説明の中で「始点」及び「終点」という表現を用いているが、「始点」「終点」に対応付けられた2つの点のうち、どちらの点を始点にするかは任意に設定可能である。例えば、図7の例では、直線L1の始点を点SP1、終点を点SP3としているが、始点を点SP3、終点を点SP1としてもよい。また、曲線C1の始点を点SP1、終点を点EP12としているが、始点を点EP12、終点を点SP1と変形してもよい。但し、この場合には2つの制御点も入れ替わり、先に指定すべき制御点(第1制御点)は点P12、後に指定すべき制御点(第2制御点)は点P11となる。 In addition, although the expressions "start point" and "end point" are used in the explanation, which of the two points associated with the "start point" and "end point" is set arbitrarily. It is possible. For example, in the example of FIG. 7, the start point of the straight line L1 is the point SP1 and the end point is the point SP3, but the start point may be the point SP3 and the end point may be the point SP1. Also, the starting point of the curve C1 is the point SP1 and the end point is the point EP12, but the starting point may be the point EP12 and the end point may be the point SP1. However, in this case, the two control points are also switched, and the control point to be specified first (first control point) is point P12, and the control point to be specified later (second control point) is point P11.

再び図4を参照する。輪郭検出部112は、写真データ111aを読み出し、第1の写真PCT1から爪の輪郭を検出する。輪郭の検出結果はパラメータ決定部114に入力される。アーチ検出部113は、写真データ111aを読み出し、第2の写真PCT2から爪のカーブを検出する。カーブの検出結果はモデル補正部115に入力される。なお、輪郭の検出及びカーブの検出には、エッジ抽出や物体認識技術など、任意の画像処理技術が利用されてよい。 Please refer to FIG. 4 again. The contour detection unit 112 reads the photograph data 111a and detects the contour of the nail from the first photograph PCT1. The contour detection result is input to the parameter determination unit 114 . The arch detection unit 113 reads the photo data 111a and detects the curve of the nail from the second photo PCT2. The curve detection result is input to the model correction unit 115 . Any image processing technique such as edge extraction or object recognition technique may be used for contour detection and curve detection.

(制御パラメータの決定)
パラメータ決定部114は、図8に示すように、爪の輪郭上に直線L1、L2の始点及び終点を配置する。図8は、ネイルモデルの決定方法について説明するための第1の図である。例えば、パラメータ決定部114は、平行な2本の直線で近似できる輪郭上の2つの直線部を検出し、一方の直線部の2つの端部に直線L1の始点SP1と終点SP3とを配置し、他方の直線部の2つの端部に直線L2の始点SP2と終点SP4とを配置する。
(Determination of control parameters)
The parameter determination unit 114 arranges the start and end points of the straight lines L1 and L2 on the contour of the nail, as shown in FIG. FIG. 8 is a first diagram for explaining the nail model determination method. For example, the parameter determination unit 114 detects two straight line portions on the contour that can be approximated by two parallel straight lines, and arranges the start point SP1 and the end point SP3 of the straight line L1 at the two ends of one straight line portion. , the start point SP2 and the end point SP4 of the straight line L2 are arranged at the two ends of the other straight line portion.

また、パラメータ決定部114は、輪郭上で2つの直線部の端部を繋ぐ曲線を検出し、指先に近い位置にある曲線の頂部に曲線C1、C2の接続点EP12を配置し、爪の付け根に近い位置にある曲線の頂部に曲線C3、C4の接続点EP34を配置する。曲線の頂部は、例えば、直線L1、L2に直交する直線と曲線との接点を見つける方法で検出できる。ここでは説明の都合上、指先に近い位置にあるか、爪の付け根に近い位置にあるかという位置関係で上記2つの曲線を区別しているが、パラメータ決定部114は、それらが異なる曲線であることを認識していればよく、位置関係を認識していなくてよい。 Further, the parameter determining unit 114 detects a curve that connects the ends of the two straight lines on the contour, places a connection point EP12 between the curves C1 and C2 at the top of the curve near the fingertip, and determines the base of the nail. A connection point EP34 of the curves C3 and C4 is placed at the top of the curve at a position close to . The top of the curve can be detected, for example, by finding the point of contact between the curve and a straight line perpendicular to the straight lines L1, L2. For the convenience of explanation, the above two curves are distinguished according to the positional relationship between the position closer to the fingertip and the position closer to the base of the nail. It suffices if the user recognizes that, and does not need to recognize the positional relationship.

パラメータ決定部114は、輪郭上に配置した始点SP1と接続点EP12とを結ぶ曲線C1、及び輪郭上に配置した始点SP2と接続点EP12とを結ぶ曲線C2を決定する。また、パラメータ決定部114は、輪郭上に配置した始点SP3と接続点EP34とを結ぶ曲線C3、及び輪郭上に配置した始点SP4と接続点EP34とを結ぶ曲線C4を決定する。このとき、パラメータ決定部114は、曲線C1、C2、C3、C4が爪の輪郭にフィットするように各制御点の位置を調整する。 The parameter determination unit 114 determines a curve C1 that connects the starting point SP1 and the connection point EP12 placed on the contour, and a curve C2 that connects the start point SP2 and the connection point EP12 placed on the contour. The parameter determination unit 114 also determines a curve C3 connecting the starting point SP3 and the connection point EP34 arranged on the contour, and a curve C4 connecting the starting point SP4 and the connection point EP34 arranged on the contour. At this time, the parameter determination unit 114 adjusts the position of each control point so that the curves C1, C2, C3, and C4 fit the contour of the nail.

図7に示したように、曲線C1の形状を規定する制御点P11の座標は(x1,v1)、制御点P12の座標は(h1,Ya)であり、調整可能な制御パラメータは、制御点P11のY座標(v1)及び制御点P12のX座標(h1)である。パラメータ決定部114は、曲線C1が爪の輪郭にフィットする制御パラメータh1、v1を決定する。また、パラメータ決定部114は、曲線C2の調整可能な制御パラメータh2、v2を調整し、曲線C2が爪の輪郭にフィットするように制御パラメータh2、v2を決定する。同様に、パラメータ決定部114は、曲線C3、C4について、制御パラメータh3、h4、v3、v4を決定する。 As shown in FIG. 7, the coordinates of the control point P11 that defines the shape of the curve C1 are (x1, v1), the coordinates of the control point P12 are (h1, Ya), and the adjustable control parameters are the control points The Y coordinate (v1) of P11 and the X coordinate (h1) of the control point P12. The parameter determination unit 114 determines control parameters h1 and v1 that allow the curve C1 to fit the contour of the nail. The parameter determination unit 114 also adjusts the adjustable control parameters h2 and v2 of the curve C2 to determine the control parameters h2 and v2 so that the curve C2 fits the contour of the nail. Similarly, parameter determination unit 114 determines control parameters h3, h4, v3, and v4 for curves C3 and C4.

上記の方法でパラメータ決定部114により決定された制御パラメータ(直線L1、L2それぞれの始点及び終点の座標、及び曲線C1、C2、C3、C4それぞれの各制御点の座標)は、パラメータテーブル111bに格納される。この時点でのパラメータテーブル111bに対応するネイルモデル20の形状は、爪のアーチ部の湾曲を考慮していない。そのため、後述するモデル補正部115の機能は、湾曲を考慮した形状になるようにネイルモデル20を補正する。つまり、モデル補正部115は、ネイルモデル20の幅(直線L1、L2間の距離)と、爪を平面に広げたときの爪の幅とがほぼ一致するようにネイルモデル20を補正する。 The control parameters determined by the parameter determination unit 114 by the above method (the coordinates of the starting and ending points of the straight lines L1 and L2, and the coordinates of the control points of the curves C1, C2, C3, and C4) are stored in the parameter table 111b. Stored. The shape of the nail model 20 corresponding to the parameter table 111b at this point does not consider the curvature of the nail arch. Therefore, the function of the model correction unit 115, which will be described later, corrects the nail model 20 so that it has a shape that takes into consideration the curvature. That is, the model correcting unit 115 corrects the nail model 20 so that the width of the nail model 20 (the distance between the straight lines L1 and L2) substantially matches the width of the nail when the nail is spread flat.

(ネイルモデルの補正)
モデル補正部115は、図9に示すように、第2の写真PCT2における爪のカーブに円弧(図中では点A1、A2を結ぶ曲線)をフィットさせる。図9は、ネイルモデルの決定方法について説明するための第2の図である。円弧は円の一部であり、例えば、円弧の2つの端部A1、A2の間の距離(補正前のネイルモデル20における直線L1、L2間の距離に相当)と、円弧の中心A0から端点A1、A2に伸ばした2本の直線間の角度θとで円弧の形状が決まる。端点A1、A2は決まっているため、爪のカーブにフィットする円弧を得ることは、中心A0から端点A1、A2に伸びる直線間の角度θを求めることに相当する。
(Correction of nail model)
As shown in FIG. 9, the model correction unit 115 fits an arc (curve connecting points A1 and A2 in the figure) to the nail curve in the second photograph PCT2. FIG. 9 is a second diagram for explaining the nail model determination method. An arc is a portion of a circle, for example, the distance between the two ends A1, A2 of the arc (equivalent to the distance between the straight lines L1, L2 in the nail model 20 before correction) and the distance from the center A0 of the arc to the end point The shape of the arc is determined by the angle θ between the two straight lines extending to A1 and A2. Since the end points A1 and A2 are determined, obtaining an arc that fits the curve of the nail corresponds to obtaining the angle θ between straight lines extending from the center A0 to the end points A1 and A2.

角度θを得たモデル補正部115は、下記の式(1)に基づいて補正係数kを求める。補正係数kは、端点A1、A2を結ぶ直線の長さ(d1)に対する円弧の長さ(d2)の比(d2/d1)である。モデル補正部115は、図10に示すように、パラメータテーブル111bに記載の各座標についてX座標の値に補正係数kを乗算し、パラメータテーブル111bの制御パラメータ(各点の座標)を補正する。図10は、制御パラメータの補正方法について説明するための図表である。
k=θ/(2・sin(θ/2)) …(1)
After obtaining the angle θ, the model correction unit 115 obtains a correction coefficient k based on the following formula (1). The correction coefficient k is the ratio (d2/d1) of the arc length (d2) to the straight line length (d1) connecting the end points A1 and A2. As shown in FIG. 10, the model correction unit 115 multiplies the X-coordinate value of each coordinate described in the parameter table 111b by a correction coefficient k to correct the control parameters (coordinates of each point) of the parameter table 111b. FIG. 10 is a chart for explaining a method of correcting control parameters.
k=θ/(2·sin(θ/2)) (1)

上記の補正により、アーチ部の湾曲を考慮したネイルモデル20の形状が決定される。ネイルモデル20の情報は、ネイルシール製造装置12に送られる。ネイルモデル20の情報は、パラメータテーブル111bに記載の制御パラメータそのものであってもよいし、パラメータテーブル111bの制御パラメータに基づいて描かれたネイルモデル20の図(線図など)であってもよい。ネイルモデル20の情報を受けたネイルシール製造装置12は、ネイルモデル20に基づいてシール素材を裁断する。これにより、ユーザの爪にフィットするオリジナルネイルシールが製造される。 The above correction determines the shape of the nail model 20 taking into account the curvature of the arch. Information on the nail model 20 is sent to the nail seal manufacturing apparatus 12 . The information of the nail model 20 may be the control parameters themselves described in the parameter table 111b, or may be a diagram (such as a diagram) of the nail model 20 drawn based on the control parameters of the parameter table 111b. . The nail seal manufacturing apparatus 12 that receives the information on the nail model 20 cuts the seal material based on the nail model 20. - 特許庁As a result, an original nail seal that fits the user's nail is manufactured.

(持ち手の追加)
なお、ネイルシールをシートから剥がしやすくし、ネイルシールを爪に貼り付けやすくするため、ネイルシールに持ち手を追加してもよい。なお、持ち手の追加は、情報処理装置11が実施してもよいし、ネイルシール製造装置12が実施してもよい。図4の例では、情報処理装置11が持ち手追加部116の機能により持ち手の追加を実施する。この場合、持ち手追加部116は、図11に示すように、持ち手20aをネイルモデル20に追加する。図11は、ネイルモデルに追加される持ち手について説明するための図である。
(addition of handle)
A handle may be added to the nail seal in order to facilitate the peeling of the nail seal from the sheet and the easy attachment of the nail seal to the nail. The addition of the handle may be performed by the information processing device 11 or may be performed by the nail sticker manufacturing device 12 . In the example of FIG. 4 , the information processing device 11 adds a handle using the function of the handle addition unit 116 . In this case, the handle adding section 116 adds the handle 20a to the nail model 20 as shown in FIG. FIG. 11 is a diagram for explaining the handle added to the nail model.

ネイルモデル20の情報が制御パラメータそのものである場合、持ち手追加部116は、持ち手の形状を示す情報と、持ち手が接続される部分の座標とを含む持ち手情報をネイルモデル20の情報に追加してネイルシール製造装置12に送る。一方、ネイルモデル20の情報がネイルモデル20の図である場合、持ち手追加部116は、ネイルモデル20の図に持ち手を追加した図を作成し、その図をネイルシール製造装置12に送る。なお、ネイルシール製造装置12が持ち手を追加する場合には、持ち手追加部116の機能は省略されてよい。
以上、ネイルシール製造システムについて説明した。
When the information of the nail model 20 is the control parameter itself, the handle adding unit 116 adds the handle information including the information indicating the shape of the handle and the coordinates of the part to which the handle is connected to the nail model 20 information. , and sent to the nail seal manufacturing device 12. On the other hand, if the information of the nail model 20 is a drawing of the nail model 20 , the handle adding unit 116 creates a drawing of the nail model 20 with the handle added, and sends the drawing to the nail sticker manufacturing apparatus 12 . . In addition, when the nail sticker manufacturing apparatus 12 adds a handle, the function of the handle adding section 116 may be omitted.
The nail seal manufacturing system has been described above.

[2.ネイルシール製造システムの動作]
次に、図12を参照しながら、本開示の実施形態に係るネイルモデルの決定方法及びネイルシールの製造方法について説明する。図12は、本開示の実施形態に係るネイルモデルの決定方法及びネイルシールの製造方法について説明するためのフロー図である。
[2. Operation of nail seal manufacturing system]
Next, a nail model determination method and a nail seal manufacturing method according to an embodiment of the present disclosure will be described with reference to FIG. 12 . FIG. 12 is a flowchart for explaining a nail model determination method and a nail seal manufacturing method according to an embodiment of the present disclosure.

(S101)情報処理装置11は、爪の平坦部を写した第1の写真PCT1、及び爪のアーチ部を写した第2の写真PCT2のデータを取得し、写真データ111aとして記憶部111に格納する。 (S101) The information processing device 11 acquires the data of the first photo PCT1 showing the flat portion of the nail and the second photo PCT2 showing the arch portion of the nail, and stores them in the storage unit 111 as photo data 111a. do.

(S102、S103)情報処理装置11は、輪郭検出部112により第1の写真PCT1から爪の輪郭を検出し、パラメータ決定部114により爪の輪郭にフィットするようにネイルモデル20の制御パラメータを調整する。 (S102, S103) The information processing device 11 detects the contour of the nail from the first photograph PCT1 by the contour detection unit 112, and adjusts the control parameters of the nail model 20 so as to fit the contour of the nail by the parameter determination unit 114. do.

例えば、パラメータ決定部114は、平行な2本の直線で近似できる輪郭上の2つの直線部を検出し、一方の直線部の2つの端部に直線L1の始点SP1と終点SP3とを配置し、他方の直線部の2つの端部に直線L2の始点SP2と終点SP4とを配置する。また、パラメータ決定部114は、輪郭上で2つの直線部の端部を繋ぐ曲線を検出し、爪の先端に近い位置にある曲線の頂部に曲線C1、C2の接続点EP12を配置し、爪の付け根に近い位置にある曲線の頂部に曲線C3、C4の接続点EP34を配置する。 For example, the parameter determination unit 114 detects two straight line portions on the contour that can be approximated by two parallel straight lines, and arranges the start point SP1 and the end point SP3 of the straight line L1 at the two ends of one straight line portion. , the start point SP2 and the end point SP4 of the straight line L2 are arranged at the two ends of the other straight line portion. Further, the parameter determination unit 114 detects a curve that connects the ends of the two straight lines on the contour, and places a connection point EP12 between the curves C1 and C2 at the top of the curve located near the tip of the nail. A connection point EP34 of the curves C3 and C4 is arranged at the top of the curve located near the root of .

また、パラメータ決定部114は、輪郭上に配置した始点SP1と接続点EP12とを結ぶ曲線C1、及び輪郭上に配置した始点SP2と接続点EP12とを結ぶ曲線C2を決定する。また、パラメータ決定部114は、輪郭上に配置した始点SP3と接続点EP34とを結ぶ曲線C3、及び輪郭上に配置した始点SP4と接続点EP34とを結ぶ曲線C4を決定する。このとき、パラメータ決定部114は、曲線C1、C2、C3、C4が爪の輪郭にフィットするように各制御点の位置を調整する。 The parameter determination unit 114 also determines a curve C1 connecting the starting point SP1 and the connection point EP12 arranged on the contour, and a curve C2 connecting the starting point SP2 and the connection point EP12 arranged on the contour. The parameter determination unit 114 also determines a curve C3 connecting the starting point SP3 and the connection point EP34 arranged on the contour, and a curve C4 connecting the starting point SP4 and the connection point EP34 arranged on the contour. At this time, the parameter determination unit 114 adjusts the position of each control point so that the curves C1, C2, C3, and C4 fit the contour of the nail.

(S104、S105)情報処理装置11は、アーチ検出部113により第2の写真PCT2から爪のカーブを検出し、モデル補正部115によって、爪のカーブに円弧がフィットするように円弧の形状を決定する。また、モデル補正部115は、上記の式(1)に基づいて補正係数kを求め、パラメータテーブル111bに記載の各座標についてX座標の値に補正係数kを乗算することによって、パラメータテーブル111bの制御パラメータ(各点の座標)を補正する。 (S104, S105) The information processing device 11 detects the curve of the nail from the second photograph PCT2 by the arch detection unit 113, and determines the shape of the arc by the model correction unit 115 so that the arc fits the curve of the nail. do. In addition, the model correction unit 115 obtains the correction coefficient k based on the above equation (1), and multiplies the value of the X coordinate for each coordinate described in the parameter table 111b by the correction coefficient k. Correct the control parameters (coordinates of each point).

(S106)情報処理装置11は、持ち手追加部116によりネイルモデル20に持ち手20aを追加する。変形例として、持ち手の追加は、ネイルシール製造装置12が実施してもよいし、S106の処理自体が省略されてもよい。 ( S<b>106 ) The information processing apparatus 11 adds the handle 20 a to the nail model 20 by the handle adding section 116 . As a modification, the addition of the handle may be performed by the nail sticker manufacturing apparatus 12, or the processing of S106 itself may be omitted.

(S107)情報処理装置11は、ネイルシールのデザイン等の設定情報を取得し、その設定情報と共にネイルモデル20の情報をネイルシール製造装置12に送信する。なお、設定情報には、ネイルシールの材質やデザインなどを特定するための情報や、ネイルシールのデザイン画などが含まれていてもよい。 (S107) The information processing apparatus 11 acquires setting information such as the design of the nail sticker, and transmits information on the nail model 20 to the nail sticker manufacturing apparatus 12 together with the setting information. The setting information may include information for specifying the material and design of the nail sticker, and the design image of the nail sticker.

(S108)ネイルシール製造装置12は、情報処理装置11から受信した設定情報及びネイルモデル20の情報に基づいてネイルシールを製造する。例えば、ネイルシール製造装置12は、印刷装置122により、受信した設定情報に基づいてネイルシールのデザインを印刷し、裁断装置123により、受信したネイルモデル20の情報に基づいてネイルシールを裁断する。なお、ジェルネイルシールの場合、印刷装置122は、印刷の代わりに又は印刷に加えて、液状の光硬化樹脂でシール基材上に装飾を作る。S108の処理が完了すると、図12に示した一連の処理は終了する。
以上、ネイルシール製造システムの動作について説明した。
( S<b>108 ) The nail sticker manufacturing apparatus 12 manufactures nail stickers based on the setting information and the information of the nail model 20 received from the information processing apparatus 11 . For example, the nail sticker manufacturing apparatus 12 prints the design of the nail sticker using the printing device 122 based on the received setting information, and cuts the nail sticker using the cutting device 123 based on the received information of the nail model 20 . In the case of a gel nail seal, the printing device 122 creates a decoration on the seal base material with a liquid photocurable resin instead of printing or in addition to printing. When the process of S108 is completed, the series of processes shown in FIG. 12 ends.
The operation of the nail seal manufacturing system has been described above.

上記のように、本開示の実施形態では、直線L1、L2及び曲線C1、C2、C3、C4で構成されるネイルモデル20を利用して爪の形状を測定し、ネイルモデル20を用いてオリジナルネイルシールを作成する。シンプルなモデル構成でありながら、3次ベジェ曲線を利用しているため爪のカーブに良くフィットし、また、貼り付け時に爪の両サイドにある直線部に合わせやすいように直線が残されていることで貼り付け時の失敗リスクを低減している。つまり、上記の実施形態によれば、爪の形状に十分フィットしていながら、ユーザが自ら貼り付ける場合でも正確な位置に貼り付けやすく、手軽に綺麗に仕上がる実用的なオリジナルネイルシールを製作することが可能になる。また、綺麗に貼り付けられることで、ネイルシールが爪から剥がれにくくもなる。 As described above, in the embodiment of the present disclosure, the nail model 20 composed of straight lines L1, L2 and curved lines C1, C2, C3, C4 is used to measure the shape of the nail, and the nail model 20 is used to measure the original shape of the nail. Create nail stickers. Although the model has a simple structure, it uses a cubic Bezier curve that fits well on the curve of the nail. This reduces the risk of failure during installation. In other words, according to the above-described embodiment, it is possible to manufacture a practical original nail sticker that fits the shape of the nail sufficiently, is easy to stick to an accurate position even when the user sticks it by himself/herself, and is easily and neatly finished. becomes possible. In addition, by sticking neatly, the nail sticker is less likely to peel off from the nail.

以上、添付図面を参照しながら本開示の好適な実施形態について説明したが、本開示は係る例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。 Although the preferred embodiments of the present disclosure have been described above with reference to the accompanying drawings, the present disclosure is not limited to such examples. It is obvious that a person skilled in the art can conceive of various modifications or modifications within the scope described in the claims, and these naturally belong to the technical scope of the present disclosure.

10 ネイルシール製造システム
11 情報処理装置
11a カメラ
11b、121a プロセッサ
11c、121b メモリ
11d 表示インターフェース
11e、121c 通信インターフェース
11f、121d 外部インターフェース
11g 記録媒体
12 ネイルシール製造装置
20 ネイルモデル
20a 持ち手
111 記憶部
111a 写真データ
111b パラメータテーブル
112 輪郭検出部
113 アーチ検出部
114 パラメータ決定部
115 モデル補正部
116 持ち手追加部
121 制御装置
122 印刷装置
123 裁断装置
L1、L2 直線
C1、C2、C3、C4 曲線
NW ネットワーク
PCT1 第1の写真
PCT2 第2の写真
REFERENCE SIGNS LIST 10 nail sticker manufacturing system 11 information processing device 11a camera 11b, 121a processor 11c, 121b memory 11d display interface 11e, 121c communication interface 11f, 121d external interface 11g recording medium 12 nail sticker manufacturing device 20 nail model 20a handle 111 storage unit 111a Photograph data 111b Parameter table 112 Contour detection unit 113 Arch detection unit 114 Parameter determination unit 115 Model correction unit 116 Handle addition unit 121 Control device 122 Printing device 123 Cutting device L1, L2 Straight lines C1, C2, C3, C4 Curve NW network PCT1 1st photo PCT2 2nd photo

Claims (11)

ネイルモデルを用いて爪を採寸する方法であって、
爪の平坦部を写した第1の写真から前記爪の輪郭を検出し、平行な2本の直線と、前記2本の直線を繋ぐ複数の曲線で構成される前記ネイルモデルの形状が前記爪の輪郭にフィットするように前記ネイルモデルの制御パラメータを決定することと、
前記爪のアーチ部におけるカーブの形状に基づいて前記ネイルモデルの制御パラメータを補正することと
を含む処理をコンピュータが実行する、方法。
A method of measuring a nail using a nail model, comprising:
The contour of the nail is detected from a first photograph of the flat portion of the nail, and the shape of the nail model composed of two parallel straight lines and a plurality of curved lines connecting the two straight lines is determined as the above. determining control parameters of the nail model to fit the contour of the nail;
correcting the control parameters of the nail model based on the shape of the curve in the nail arch.
前記処理は、前記爪の付け根に向かう向きに前記爪のアーチ部を写した第2の写真から前記爪のアーチ部におけるカーブを検出することをさらに含む、
請求項1に記載の方法。
The process further includes detecting a curve in the nail arch from a second photograph of the nail arch oriented toward the base of the nail.
The method of claim 1.
前記複数の曲線のそれぞれは、3次のベジェ曲線であり、
前記ネイルモデルの制御パラメータは、前記2本の直線それぞれの始点及び終点を決める第1のパラメータ群と、前記複数の曲線それぞれについての前記3次のベジェ曲線の始点、終点、及び制御点を決める第2のパラメータ群とを含む、
請求項に記載の方法。
each of the plurality of curves is a cubic Bezier curve;
The control parameters of the nail model include a first group of parameters that determine the start and end points of each of the two straight lines, and the start, end and control points of the cubic Bezier curves for each of the plurality of curves. a second set of parameters,
The method of claim 1 .
前記2本の直線の2つの端部は、第1のベジェ曲線及び第2のベジェ曲線で繋がれ、
前記第1のベジェ曲線の制御点のうち、前記第1のベジェ曲線と前記第2のベジェ曲線との接続点に近い第1の制御点と、前記第2のベジェ曲線の制御点のうち、前記接続点に近い第2の制御点とは、同一直線上に配置される、
請求項に記載の方法。
The two ends of the two straight lines are connected by a first Bezier curve and a second Bezier curve,
Of the control points of the first Bezier curve, the first control point near the connection point between the first Bezier curve and the second Bezier curve, and the control point of the second Bezier curve, A second control point close to the connection point is arranged on the same straight line,
4. The method of claim 3 .
前記第1のベジェ曲線の制御点のうち、前記接続点から遠い第3の制御点は、前記第1のベジェ曲線と繋がる直線の延長線上に配置され、
前記第2のベジェ曲線の制御点のうち、前記接続点から遠い第4の制御点は、前記第2のベジェ曲線と繋がる直線の延長線上に配置される、
請求項に記載の方法。
Among the control points of the first Bezier curve, a third control point far from the connection point is arranged on an extension of a straight line connected to the first Bezier curve,
Among the control points of the second Bezier curve, a fourth control point far from the connection point is arranged on an extension of a straight line connecting with the second Bezier curve.
5. The method of claim 4 .
前記ネイルモデルの制御パラメータを補正する処理は、
第2の写真における前記爪のカーブに円弧をフィットさせ、前記円弧の形状に基づく補正係数を用いて前記ネイルモデルの制御パラメータを補正することを含む、
請求項に記載の方法。
The process of correcting the control parameters of the nail model includes:
fitting an arc to the curve of the nail in a second photograph and correcting control parameters of the nail model using a correction factor based on the shape of the arc;
6. The method of claim 5 .
前記ネイルモデルの制御パラメータを補正する処理は、
前記円弧の中心と前記円弧の一端とを結ぶ直線と、前記円弧の中心と前記円弧の他端とを結ぶ直線とが成す角度を求め、前記角度に基づいて、前記ネイルモデルの幅が前記爪を平面に広げた場合の前記爪の幅に一致するように前記第1のパラメータ群及び前記第2のパラメータ群を補正するための前記補正係数を求めることを含む、
請求項に記載の方法。
The process of correcting the control parameters of the nail model includes:
An angle formed by a straight line connecting the center of the arc and one end of the arc and a straight line connecting the center of the arc and the other end of the arc is obtained, and the width of the nail model is determined based on the angle. Determining the correction coefficient for correcting the first parameter group and the second parameter group so as to match the width of the nail when spread on a plane,
7. The method of claim 6 .
請求項1~のいずれか1項に記載の方法によって決定された前記ネイルモデルの情報を受け付け、前記ネイルモデルの情報に基づいてシール素材を裁断する
処理をコンピュータが実行する、ネイルシール製造方法。
A nail sticker manufacturing method, wherein a computer receives information on the nail model determined by the method according to any one of claims 1 to 7 , and cuts a sticker material based on the information on the nail model. .
爪の平坦部を写した第1の写真から前記爪の輪郭を検出し、平行な2本の直線と、前記2本の直線を繋ぐ複数の曲線で構成されるネイルモデルが前記爪の輪郭にフィットするように前記ネイルモデルの制御パラメータを決定する決定部と、
前記爪のアーチ部におけるカーブの形状に基づいて前記ネイルモデルの制御パラメータを補正する補正部と
を備える、情報処理装置。
The contour of the nail is detected from a first photograph of the flat portion of the nail, and a nail model composed of two parallel straight lines and a plurality of curves connecting the two straight lines is the contour of the nail. a determination unit that determines control parameters of the nail model to fit the
an information processing apparatus comprising: a correction unit that corrects control parameters of the nail model based on a shape of a curve in the arch portion of the nail.
情報処理装置と、
請求項1~のいずれか1項に記載の方法によって決定された前記ネイルモデルの情報を前記情報処理装置から受信し、前記ネイルモデルの情報に基づいてシール素材を裁断するネイルシール製造装置と
を含む、ネイルシール製造システム。
an information processing device;
a nail sticker manufacturing device that receives information of the nail model determined by the method according to any one of claims 1 to 7 from the information processing device and cuts a sticker material based on the information of the nail model; A nail seal manufacturing system, comprising:
請求項1~のいずれか1項に記載の処理をコンピュータに実行させる、プログラム。 A program that causes a computer to execute the process according to any one of claims 1 to 7 .
JP2020171132A 2020-10-09 2020-10-09 Nail measurement method, nail seal manufacturing method, information processing device, nail seal manufacturing system, and program Active JP7161512B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020171132A JP7161512B2 (en) 2020-10-09 2020-10-09 Nail measurement method, nail seal manufacturing method, information processing device, nail seal manufacturing system, and program

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020171132A JP7161512B2 (en) 2020-10-09 2020-10-09 Nail measurement method, nail seal manufacturing method, information processing device, nail seal manufacturing system, and program

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022062925A JP2022062925A (en) 2022-04-21
JP7161512B2 true JP7161512B2 (en) 2022-10-26

Family

ID=81255141

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020171132A Active JP7161512B2 (en) 2020-10-09 2020-10-09 Nail measurement method, nail seal manufacturing method, information processing device, nail seal manufacturing system, and program

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7161512B2 (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012125312A (en) 2010-12-14 2012-07-05 Casio Computer Co Ltd Nail printing device and printing control method
JP2012125311A (en) 2010-12-14 2012-07-05 Casio Computer Co Ltd Nail printing device and printing control method
JP2012232039A (en) 2011-05-09 2012-11-29 Casio Computer Co Ltd Nail printing device and printing control method thereof
JP2017121305A (en) 2016-01-06 2017-07-13 カシオ計算機株式会社 Drawing device, and operation control method and operation control program therefor
CN109558784A (en) 2017-09-27 2019-04-02 卡西欧计算机株式会社 Nail outline detection device, nail outline detection method and recording medium
JP2019050895A (en) 2017-09-13 2019-04-04 カシオ計算機株式会社 Drawing apparatus and drawing method
JP2019111004A (en) 2017-12-22 2019-07-11 カシオ計算機株式会社 Drawing system, drawing device, and terminal device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012125312A (en) 2010-12-14 2012-07-05 Casio Computer Co Ltd Nail printing device and printing control method
JP2012125311A (en) 2010-12-14 2012-07-05 Casio Computer Co Ltd Nail printing device and printing control method
JP2012232039A (en) 2011-05-09 2012-11-29 Casio Computer Co Ltd Nail printing device and printing control method thereof
JP2017121305A (en) 2016-01-06 2017-07-13 カシオ計算機株式会社 Drawing device, and operation control method and operation control program therefor
JP2019050895A (en) 2017-09-13 2019-04-04 カシオ計算機株式会社 Drawing apparatus and drawing method
CN109558784A (en) 2017-09-27 2019-04-02 卡西欧计算机株式会社 Nail outline detection device, nail outline detection method and recording medium
JP2019111004A (en) 2017-12-22 2019-07-11 カシオ計算機株式会社 Drawing system, drawing device, and terminal device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022062925A (en) 2022-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20230394775A1 (en) Electronic device for generating image including 3d avatar reflecting face motion through 3d avatar corresponding to face and method of operating same
US10986265B2 (en) Electronic device and control method thereof
JP6074494B2 (en) Shape recognition device, shape recognition program, and shape recognition method
US20170053434A1 (en) Methods and apparatus for 3d imaging and custom manufacturing
CN103399644B (en) The implementation method of a kind of laser virtual keyboard and device
CN111626166B (en) Image processing method, device, electronic equipment and storage medium
US11461949B2 (en) Electronic device for providing avatar and operating method thereof
US20180276230A1 (en) Information processing device, information processing method, and program
CN104809288A (en) Trying method or customizing nail art
CN108921148A (en) Determine the method and device of positive face tilt angle
KR101338671B1 (en) Photo printed nail art, manufacturing device thereof, and manufacturing method thereof
CN109523604A (en) A kind of virtual shape of face generation method, device, electronic equipment and storage medium
US8643679B2 (en) Storage medium storing image conversion program and image conversion apparatus
US10912372B2 (en) Facial stencils
JP7161512B2 (en) Nail measurement method, nail seal manufacturing method, information processing device, nail seal manufacturing system, and program
JP2022084658A (en) Method for generating 3d object arranged in extended real space
JP2015197710A (en) Makeup support device, and program
EP3859686A1 (en) Apparatus and method for model reconstruction using photogrammetry
JP2011152317A (en) Eyebrow drawing assisting tool, and method for manufacturing the same
JP2009253324A (en) Image processing unit, image processing method, and program
WO2023024536A1 (en) Drawing method and apparatus, and computer device and storage medium
EP3705982A1 (en) Apparatus and method for adaptively configuring user interface
CN113238661B (en) Data processing method and system for data glove, electronic equipment and medium
CN106371736B (en) Exchange method, interactive device and operation stick
JP2010113480A (en) Image forming device and image forming program

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210628

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220823

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220922

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221004

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221014

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7161512

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350