JP7155509B2 - decorative material - Google Patents

decorative material Download PDF

Info

Publication number
JP7155509B2
JP7155509B2 JP2017211268A JP2017211268A JP7155509B2 JP 7155509 B2 JP7155509 B2 JP 7155509B2 JP 2017211268 A JP2017211268 A JP 2017211268A JP 2017211268 A JP2017211268 A JP 2017211268A JP 7155509 B2 JP7155509 B2 JP 7155509B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
decorative material
unevenness
substrate
width
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017211268A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019081339A (en
Inventor
志穂 柴野
和宏 須賀
優 岡本
佳夫 助川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2017211268A priority Critical patent/JP7155509B2/en
Priority to PCT/JP2018/036431 priority patent/WO2019066026A1/en
Publication of JP2019081339A publication Critical patent/JP2019081339A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7155509B2 publication Critical patent/JP7155509B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は化粧材に関し、従来とは異なる質感を備える化粧材に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a decorative material, and more particularly to a decorative material having texture different from conventional ones.

化粧材における意匠表現は多岐に亘るが、例えば特許文献1や特許文献2に記載のように、多数の万線状の凹凸模様を設けることで、表面で反射される光線の強度、すなわち光沢度が、照明光の入射角及び観察者の視線方向の組み合わせに応じて変化する特有の外観上の質感を持たせる技術がある。 There are a wide variety of design expressions in decorative materials, but for example, as described in Patent Document 1 and Patent Document 2, by providing a large number of parallel line-shaped uneven patterns, the intensity of the light reflected on the surface, that is, the glossiness However, there is a technique for giving a unique appearance texture that changes according to the combination of the incident angle of the illumination light and the viewing direction of the observer.

特公平7-22989号公報Japanese Patent Publication No. 7-22989 特開平4-125199号公報JP-A-4-125199

特許文献1及び特許文献2に記載のような、多数の万線状の凹凸模様を形成することで、例えば木材の表面(木目)の照り感を表現することもできる。
しかしながら近年においては、さらなる意匠表現の多様化の要望があり、これらの要望に対して新たな質感を与えるような表現を提供する必要がある。
By forming a multiplicity of parallel line-shaped uneven patterns as described in Patent Documents 1 and 2, it is possible to express, for example, the luster of the surface (wood grain) of the wood.
However, in recent years, there has been a demand for further diversification of design expressions, and it is necessary to provide expressions that give new textures to meet these demands.

そこで本発明は、これまでとは異なる質感を実現することができる構造を具備した化粧材を提供することを課題とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a decorative material having a structure capable of realizing a different texture.

以下、本発明について説明する。 The present invention will be described below.

本発明の1つの態様は、表面に模様が形成されてなる化粧材であって、模様は、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した形態であり、複数の凸線条部の頂部を含む仮想の面を模様頂部包絡面としたとき、模様頂部包絡面は凹凸を有している、化粧材である。 One aspect of the present invention is a decorative material having a pattern formed on the surface, the pattern being a form in which a plurality of convex filaments and a plurality of concave filaments are alternately arranged, and the plurality of convex When a virtual surface including the apex of the filament portion is assumed to be a pattern top enveloping surface, the pattern top enveloping surface has unevenness.

上記化粧材において、基材、及び、基材の一方の面に配置され、模様を形成する模様形成層を備え、基材の表面に凹凸を有することにより模様頂部包絡面の凹凸が形成されるように構成してもよい。 The decorative material includes a substrate and a pattern forming layer disposed on one surface of the substrate to form a pattern, and the surface of the substrate has unevenness to form unevenness on the envelope surface of the top of the pattern. It may be configured as

上記化粧材において、複数の凸線条部の高さが異なることにより模様頂部包絡面の凹凸が形成されるように構成してもよい。 In the above-described decorative material, unevenness may be formed on the pattern top enveloping surface by varying the heights of the plurality of ridges.

凸線条部の幅をW、凹線条部の幅をWとしてW/Wをデューティー比としたとき、凸線条部の高さHによらずデューティー比が一定である関係を有する模様を含むように構成してもよい。 A relationship in which the duty ratio is constant regardless of the height H of the protruding filament portion, where W a is the width of the protruding filament portion, W b is the width of the concave filament portion, and W a /W b is the duty ratio. may be configured to include a pattern having

凸線条部の幅をW、凹線条部の幅をWとしてW/Wをデューティー比としたとき、凸線条部の高さHが高いほどデューティー比が小さくなる関係を有する模様を含むように構成してもよい。 When W a is the width of the ridge portion, W b is the width of the ridge portion, and W a /W b is the duty ratio, the higher the height H of the ridge portion, the smaller the duty ratio. It may be configured to include a pattern having

凸線条部の幅が30μm未満であるように構成してもよく、凸線条部の幅をW、凸線条部の高さをHとしたとき、H/Wが1より大きい部位を含むように構成してもよい。 The width of the ridge portion may be less than 30 μm, and H/W a is greater than 1, where W a is the width of the ridge portion and H is the height of the ridge portion. It may be configured to include a site.

本発明の化粧材によれば、凸線条部、凹線条部、及び模様頂部仮想包絡面の形態の特有の構造により、照明光の入射角と観察者の視線方向との組合せに応じて変化する光沢度において、従来とは異なる、より変化に富んだ質感を有するものとなる。更に、化粧材表面の模様部分を手で触れた場合には、凸線条部、凹線条部、及び模様頂部仮想包絡面の形態により、従来の凸条部からなる化粧材と比べて、触感においてもより変化に富んだ質感を有する。 According to the decorative material of the present invention, according to the combination of the incident angle of the illumination light and the line-of-sight direction of the observer, due to the unique structure of the form of the convex filament portion, the concave filament portion, and the pattern top virtual envelope surface, In the varying degree of gloss, it has a more varied texture different from the conventional one. Furthermore, when the pattern portion on the surface of the decorative material is touched with a hand, due to the shape of the projected line portion, the recessed line portion, and the virtual envelope surface of the top of the pattern, compared to the conventional decorative material composed of the projected line portion, It also has a more varied texture in terms of tactile sensation.

化粧材10の表面の一部を拡大して表した平面図である。3 is a plan view showing an enlarged part of the surface of the decorative material 10. FIG. 化粧材10の断面を表した図である。1 is a diagram showing a cross section of a decorative material 10; FIG. 化粧材20の断面を表した図である。2 is a diagram showing a cross section of a decorative material 20; FIG. 化粧材30の表面の一部を拡大して表した図である。It is the figure which expanded and represented a part of surface of the decorative material 30. FIG. 図4のうち1つの単位領域33に注目して表した図である。5 is a diagram focusing on one unit area 33 in FIG. 4. FIG. 図6(a)~図6(c)はいずれも化粧材30の断面を表した図である。6(a) to 6(c) are cross-sectional views of the decorative material 30. FIG. 化粧材50の表面の一部を拡大して表した図である。It is the figure which expanded and represented a part of surface of the decorative material 50. FIG. 網状領域について説明する図である。It is a figure explaining a net|network area. レーザにより型に凹凸を形成する場面を説明する図である。It is a figure explaining the scene which forms unevenness|corrugation in a type|mold with a laser. 図10(a)~図10(c)は、化粧材10の層構成の他の例を説明する図である。10(a) to 10(c) are diagrams illustrating another example of the layer structure of the decorative material 10. FIG.

以下、本発明を図面に示す形態に基づき説明する。ただし、本発明はこれら形態に限定されるものではない。なお、以下に示す図面では分かりやすさのため部材の大きさや比率を変更または誇張して記載することがある。また、見やすさのため説明上不要な部分の図示や繰り返しとなる符号は省略することがある。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described below based on the embodiments shown in the drawings. However, the present invention is not limited to these forms. Note that in the drawings shown below, the sizes and ratios of members may be changed or exaggerated for clarity. In addition, for the sake of visibility, parts that are not required for explanation and repetitive symbols may be omitted.

図1は第1の形態にかかる化粧材10の一部を拡大し、模様形成層12側から平面視した図(平面図)である。図1及び以下に示す図には便宜のため必要に応じて、方向を表す矢印(x、y、z)も表した。ここでxy方向は化粧材10における面内方向、z方向は厚さ方向である。図1は化粧材10を模様層形成層12側の特にz方向から視た図と言うことになる。
また図2には、化粧材10の断面形状を表した。この断面は後で説明する凸線条部13の稜線が延びる方向に対して直交する厚さ方向(z方向)断面である。
図1、図2からわかるように、化粧材10は、基材11及び該基材11の一方の面に積層された模様形成層12を有して構成されている。
FIG. 1 is a plan view (plan view) of a part of the decorative material 10 according to the first embodiment, which is enlarged and viewed from the pattern forming layer 12 side. Directional arrows (x, y, z) are also shown as necessary in FIG. 1 and the following figures for convenience. Here, the xy direction is the in-plane direction of the decorative material 10, and the z direction is the thickness direction. FIG. 1 is a diagram of the decorative material 10 viewed from the pattern layer forming layer 12 side, particularly from the z direction.
2 shows the cross-sectional shape of the decorative material 10. As shown in FIG. This cross section is a cross section in the thickness direction (z direction) orthogonal to the direction in which the ridgeline of the protruding linear portion 13, which will be described later, extends.
As can be seen from FIGS. 1 and 2, the decorative material 10 comprises a substrate 11 and a pattern forming layer 12 laminated on one surface of the substrate 11 .

基材11は、模様形成層12を支持するとともに化粧材10に強度を付与する機能を有するシート状の部材である。さらに本形態の基材11は模様形成層12が配置される側の面に凹凸を有する基材凹凸面Sが形成される。本形態ではこれにより模様形成層12において仮想の面である模様頂部仮想包絡面Sにも凹凸が形成される。
図2に点線で表した線は仮想の線であることを意味する。
The base material 11 is a sheet-like member having a function of supporting the pattern forming layer 12 and imparting strength to the decorative material 10 . Further, the substrate 11 of this embodiment has an uneven substrate surface S k having unevenness on the surface on which the pattern forming layer 12 is arranged. In this embodiment, unevenness is also formed on the imaginary surface of the pattern forming layer 12, i.e., the imaginary enveloping surface St at the top of the pattern.
Dotted lines in FIG. 2 are imaginary lines.

基材凹凸面Sは、xy方向位置において表面高度が一定でなく、xy方向の位置により表面の高さ位置が変わるような凹凸面とされている。より具体的には、極大部分即ち極大点又は極大線(稜線乃至尾根線)を1つ以上有し、極大部分同士の間隔が目視乃至は触感で認識可能な程度の3mm以上300mm以下程度の範囲に分布する事が好ましく、より好ましくは10mm以上100mm以下程度とする。
高さ変化は1方向のみ、例えば、x方向のみで高さが変化しy方向は一定高さの所謂波板状の凹凸面でも良い。具体的には、基材凹凸面Sをzx平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
z=Asin(kx+φ)
y=B
(A、k、B、φは適宜の定数)
で表わされる正弦波曲線となり、一方、yz平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
Z=C
x=D
(C、Dは適宜定数)
である凹凸形状が挙げられる。
The uneven surface Sk of the base material is an uneven surface in which the surface height is not constant in the xy-direction positions, and the surface height position changes depending on the xy-direction positions. More specifically, it has one or more maximal portions, ie, maximal points or maximal lines (ridge lines or ridge lines), and the distance between the maximal portions is in the range of about 3 mm or more and 300 mm or less, which is visually or tactilely recognizable. , more preferably about 10 mm or more and 100 mm or less.
The height may be changed only in one direction, for example, the height may be changed only in the x direction, and the height may be constant in the y direction. Specifically, the shape obtained by cutting the substrate uneven surface Sk along a virtual cutting plane parallel to the zx plane is
z=A sin(kx+φ)
y=B
(A, k, B, and φ are appropriate constants)
is a sinusoidal curve represented by, while the shape cut by a virtual cutting plane parallel to the yz plane is
Z=C
x=D
(C and D are constants as appropriate)
An uneven shape is exemplified.

また、x方向とy方向との両方向に高さが変化する凹凸面でも良い。具体的には、基材凹凸面Sをzx平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
z=Asin(kx+φ)
y=B
(A、k、φ、Bは適宜の定数)
で表わされる正弦波曲線となり、一方、yz平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
z=Esin(my+ξ)
x=F
(E、m、ξ、Fは適宜定数)
である凹凸形状が挙げられる。
Alternatively, the uneven surface may have a height that changes in both the x-direction and the y-direction. Specifically, the shape obtained by cutting the substrate uneven surface Sk along a virtual cutting plane parallel to the zx plane is
z=A sin(kx+φ)
y=B
(A, k, φ, B are appropriate constants)
is a sinusoidal curve represented by, while the shape cut by a virtual cutting plane parallel to the yz plane is
z = E sin (my + ξ)
x=F
(E, m, ξ, and F are constants as appropriate)
An uneven shape is exemplified.

かかる基材凹凸面Sの凹凸状としては、以上の他にも、求める化粧材の表面外観意匠乃至触感に応じて、各種の凹凸面形状を採用し得る。
又、これらの基材凹凸面Sの高さの高低差は、目視で視認乃至触感で認知可能な程度の0.1mm以上10mm以下程度とすることが好ましく、より好ましくは0.5mm以上1mm以下程度である。特に、シート状の基材に金属ロール形態のエンボス版によりエンボス加工して凹凸を賦形する製造方法を採用して量産する場合は、加工適性上、基材凹凸面Sの高さの高低差の上限は、1mm以下、好ましくは0.7mm以下とする。
In addition to the above, various uneven surface shapes can be adopted as the uneven shape of the base material uneven surface Sk according to the desired surface appearance design and tactile feel of the decorative material.
In addition, the difference in height of the uneven surface Sk of the base material is preferably about 0.1 mm or more and 10 mm or less, more preferably 0.5 mm or more and 1 mm, which is visually recognizable or tactile. It is about the following. In particular, when mass production is carried out by adopting a manufacturing method in which a sheet-like base material is embossed with an embossing plate in the form of a metal roll to form unevenness, the height of the base material uneven surface Sk is high or low due to processing suitability. The upper limit of the difference is 1 mm or less, preferably 0.7 mm or less.

基材11は従来公知の化粧材と同様のものを適用することができ、その材料は特に限定されない。例えば、基材の材料としては、通常、ポリエチレン、ポリプロピレン、オレフィン系熱可塑性エラストマー、アイオノマー等のポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑性ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、ABS樹脂(アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体)、スチレン樹脂等の熱可塑性樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、2液硬化型ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、或いは、ラジカル重合型のアクリレート系やカチオン重合型のエポキシ系等で電離放射線(紫外線、電子線等)で硬化する電離放射線硬化性樹脂等が用いられる。なお、基材の材料が樹脂の場合、公知の着色剤で着色しても良い。この他、紙、不織布、金属、木、陶磁器や硝子等のセラミックス、セメント、石等もシート、板、立体物等の形状で、適宜上記樹脂材料と積層させて、使用することもできる。 As the base material 11, the same material as conventionally known decorative material can be applied, and the material is not particularly limited. For example, the material of the substrate is generally polyolefin resin such as polyethylene, polypropylene, olefin thermoplastic elastomer, ionomer, etc., acrylic resin such as polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, etc., thermoplastic resin such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, etc. Thermoplastic resins such as polyester resins, thermoplastic urethane resins, vinyl chloride resins, ABS resins (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer), styrene resins, melamine resins, unsaturated polyester resins, two-component curable urethane resins, etc. A curable resin, or an ionizing radiation curable resin such as a radical polymerization type acrylate type or a cationic polymerization type epoxy type which is cured by ionizing radiation (ultraviolet rays, electron beams, etc.) is used. In addition, when the material of the base material is a resin, it may be colored with a known coloring agent. In addition, paper, non-woven fabric, metal, wood, ceramics such as porcelain and glass, cement, stone, etc. can also be used in the form of sheets, plates, three-dimensional objects, etc., and can be appropriately laminated with the above resin material.

基材の厚さには特に制限は無いが、シート状基材又はフィルム状基材の場合は、例えば、最も薄い部分で厚さ20μm以上1000μm以下程度、板状基材の場合は、例えば、最も薄い部分で1mm以上20mm以下程度とすることができる。 The thickness of the substrate is not particularly limited, but in the case of a sheet-like substrate or a film-like substrate, for example, the thickness of the thinnest portion is about 20 μm or more and 1000 μm or less, and in the case of a plate-like substrate, for example, The thinnest portion can be about 1 mm or more and 20 mm or less.

模様形成層12は、基材11の面のうち基材凹凸面S上に積層された層であり、化粧材10における模様を形成する層である。本形態で模様形成層12は次のような形態を備えている。 The pattern forming layer 12 is a layer laminated on the uneven surface Sk of the base material 11 and forms a pattern in the decorative material 10 . In this embodiment, the pattern forming layer 12 has the following configuration.

本形態で模様形成層12は図1、及び図2からわかるように、凸線条部13と凹線条部14とが交互に配列して模様を形成している。
この凸線条部13は図2に表れる断面において高さH13、幅W13の略長方形とされている。凸線条部13はこの断面を有して、その稜線が配列方向とは異なる方向(例えば配列方向に直交する方向)に延びるように構成されている。凸線条部13が延びる長さは特に限定されることはなく適宜必要に応じて決めることができる。ここで、1つの凸線条部13の高さはその幅方向で異なる場合があるが、その際には最も高い部位を凸線条部13の高さとする。また、凸線条部13の幅はその高さ方向中央における幅を凸線条部の幅とする。
一方、凹線条部14は図2に表れるように隣り合う凸線条部13の間に形成され、凸線条部13の形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部14の幅W14は、凸線条部13のピッチP13から凸線条部13の幅W13を引いた値となる。
As can be seen from FIGS. 1 and 2, in the pattern forming layer 12 in this embodiment, the convex line portions 13 and the concave line portions 14 are alternately arranged to form a pattern.
The protruding linear portion 13 has a substantially rectangular shape with a height H 13 and a width W 13 in the cross section shown in FIG. The protruding linear portion 13 has this cross section, and its ridgeline is configured to extend in a direction different from the arrangement direction (for example, a direction orthogonal to the arrangement direction). The length by which the protruding filamentary portion 13 extends is not particularly limited and can be appropriately determined according to need. Here, the height of one protruding filamentary portion 13 may vary in its width direction, but in that case, the height of the protruding filamentous portion 13 is the highest portion. Further, the width of the protruding filamentary portion 13 is defined as the width at the center in the height direction.
On the other hand, the recessed line portions 14 are formed between the adjacent projected line portions 13 as shown in FIG. Therefore, the width W 14 of the concave filamentary portion 14 is a value obtained by subtracting the width W 13 of the convex filamentary portion 13 from the pitch P 13 of the convex filamentary portion 13 .

ここで、W13、W14、H14の大きさは特に限定されることはないが、化粧材の模様を形成するという観点から微細なものあることが好ましく、本形態ではそれぞれ、1μm≦W13≦1000μm、1μm≦W14≦1000μm、3μm≦H13≦3000μmであることが好ましい。 Here, the sizes of W 13 , W 14 , and H 14 are not particularly limited, but from the viewpoint of forming the pattern of the decorative material, they are preferably fine. 13 ≤ 1000 µm, 1 µm ≤ W 14 ≤ 1000 µm, and 3 µm ≤ H 13 ≤ 3000 µm.

また、凸線条部13における高さと幅の比であるH13/W13(アスペクト比とも言う。)は1よりも大きいことが好ましい。これによれば化粧材の質感をさらに新しいものとすることができる。但し、アスペクト比が大き過ぎると、型製造の難度が上がり、又、型及び化粧材において外力が加わった際に凸線条部13への応力が集中しては損傷し易くなる。そのため、通常は、アスペクト比は5以下、好ましくは3以下とされる。 Moreover, it is preferable that H 13 /W 13 (also referred to as aspect ratio), which is the ratio of the height to the width of the protruding linear portion 13, be greater than one. According to this, the texture of the decorative material can be further improved. However, if the aspect ratio is too large, the difficulty of manufacturing the mold increases, and when an external force is applied to the mold and the decorative material, stress concentrates on the ridges 13, making them susceptible to damage. Therefore, the aspect ratio is usually 5 or less, preferably 3 or less.

なお、本形態の凸線条部13の断面形状は略長方形であるが、これに限定されることなく他の形態であってもよい。これには例えば台形、先端が半円形である形状、及び、出隅部にRが形成され形状等を挙げることができ、適宜変更することは可能である。このとき凸線条部の幅は、上記したようにその高さ方向中央における幅を凸線条部の幅とする。後で説明する各形態でも同様である。 In addition, although the cross-sectional shape of the protruding line portion 13 of this embodiment is substantially rectangular, it is not limited thereto and may be of another form. For example, a trapezoidal shape, a shape with a semicircular tip, and a shape with an outward corner formed with an R can be mentioned, and it is possible to change them as appropriate. At this time, as for the width of the protruding linear portion, the width at the center in the height direction is defined as the width of the protruding linear portion as described above. The same applies to each form described later.

ここで、模様形成層12は基材側(基端部側)とは反対側(頂部側)において全体として凹凸を有している。本形態の当該凹凸は次の通りである。
図2に符号Sで表した点線のように、凸線条部13の頂部の稜線を含むような仮想の包絡面を模様頂部包絡面Sとする。そして、本形態ではこの仮想包絡面Sが凹凸を有するように形成されている。この凹凸は、前記の基材凹凸面Sの説明の箇所で例示した凹凸形状と同様の凹凸形状の中から選択される。
尚、特に模様頂部包絡面Sは化粧材の最表面の形状となる為、基材凹凸面S以上に化粧材の外観意匠乃至触感に大きく寄与する。よって、特に模様頂部包絡面Sは所望の外観意匠乃至触感の再現に最適な形状を選択する必要がある。
例えば、化粧材表面が木板表面(木目)の外観意匠及び触感を再現すると共に、年輪のうち秋材部がレリーフ上に突出した所謂「浮造り調」の木板表面(木目)の外観意匠及び触感を再現する場合は、模様頂部包絡面Sの形状は浮造り調木板表面の年輪の凹凸形状に対応した、秋材部が相対的に突出し春材部が相対的に凹んだ凹凸形状とする。この場合、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した万線状の凹凸形状の方は、年輪の秋材部の平均的走行方向に大略一致する方向に延在するよう配置される。
Here, the pattern forming layer 12 has unevenness as a whole on the side (top side) opposite to the substrate side (base end side). The unevenness of this embodiment is as follows.
An imaginary enveloping surface that includes the ridgeline of the top of the ridge portion 13 is assumed to be a pattern top enveloping surface St, as indicated by the dotted line St in FIG. In this embodiment, the imaginary envelope surface St is formed to have unevenness. The irregularities are selected from irregularities similar to the irregularities exemplified in the explanation of the substrate irregular surface Sk .
In particular, since the pattern top enveloping surface St forms the shape of the outermost surface of the decorative material, it greatly contributes to the appearance design and tactile feel of the decorative material more than the uneven surface Sk of the base material. Therefore, especially for the pattern top envelope surface St, it is necessary to select the optimum shape for reproducing the desired appearance design and tactile sensation.
For example, the decorative material surface reproduces the appearance design and feel of the wood board surface (wood grain), and the appearance design and feel of the wood board surface (wood grain) of the so-called "floating style" in which the autumn wood part of the annual rings protrudes above the relief. When reproducing , the shape of the pattern top envelope surface St should be an uneven shape in which the autumn wood part is relatively projected and the spring wood part is relatively recessed, corresponding to the uneven shape of the annual rings on the surface of the ukizukuri wood board. . In this case, the line-like uneven shape in which a plurality of protruding filaments and a plurality of concave filamentary portions are alternately arranged extends in a direction that roughly coincides with the average running direction of the autumn wood portion of annual rings. are arranged as follows.

又、例えば、化粧材表面が花崗岩板の外観意匠及び触感を再現する場合は、模様頂部包絡面Sの形状は花崗岩板表面の劈開面に配列した微小単結晶群の表面凹凸形状に対応した各単結晶部分に対応した凹凸形状とする。この場合、凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した万線状の凹凸形状の方は、劈開面上の各単結晶の輪郭線で区画される閉領域毎に万線状凹凸形状を嵌合し、且つ境界線を介して隣接する閉領域同志は、凸線条部及び凹線条部の延在方向、凸線条部の幅、及び凹線条部の幅のうち何れか1つ以上が異なるよう配置される。 Further, for example, when the decorative material surface reproduces the appearance design and feel of a granite plate, the shape of the pattern top enveloping surface St corresponds to the surface irregularity shape of the micro single crystal group arranged on the cleavage plane of the granite plate surface. An uneven shape corresponding to each single crystal portion is formed. In this case, the line-shaped irregularities in which the protruding line portions and the plurality of recessed line portions are alternately arranged are arranged in parallel lines for each closed region defined by the outline of each single crystal on the cleavage plane. The closed areas that fit the uneven shape and are adjacent to each other via the boundary line are the extending directions of the protruding filament portion and the concave filament portion, the width of the protruding filament portion, and the width of the concave filament portion. Any one or more are arranged differently.

尚、斯かる万線状凹凸の配置の具体例としては、特開平8-52849号公報(特に、図2、図3、図10)開示の配置をあげることができる。 Incidentally, as a specific example of the arrangement of such parallel lines, the arrangement disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-52849 (in particular, FIGS. 2, 3, and 10) can be mentioned.

本形態では、模様形成層12の複数の凸線条部13の高さがいずれも同じとされているため、模様頂部仮想包絡面Sの凹凸形状は基材11の基材凹凸面Sの凹凸に沿ったものになる。ただし本発明はこれに限定されることなく、後で説明するように基材の凹凸とは無関係に模様頂部仮想包絡面Sの凹凸が形成されてもよいし、基材の凹凸と他の凹凸との合成により模様頂部仮想包絡面Sの凹凸が決まっても良い。即ち、模様頂部包絡面Sの形状と基材凹凸面Sの形状とは同形状とする必要は無く、所望の外観意匠乃至触感に応じて、両者を同様の形状としても良いし、或いは両者を別形状としても良い。 In this embodiment, since the heights of the plurality of ridges 13 of the pattern forming layer 12 are all the same, the uneven shape of the imaginary enveloping surface St at the top of the pattern is the same as that of the substrate uneven surface Sk of the substrate 11. It follows the unevenness of the However, the present invention is not limited to this, and as will be described later, the unevenness of the imaginary enveloping surface St at the top of the pattern may be formed independently of the unevenness of the base material, or the unevenness of the base material and other The unevenness of the pattern top imaginary envelope surface St may be determined by combining with the unevenness. That is, the shape of the pattern top enveloping surface St and the shape of the substrate irregular surface Sk do not need to be the same shape, and both may be of the same shape depending on the desired appearance design or tactile sensation. Both may have different shapes.

このように、凸線条部を有するとともに、この凸線条部による模様頂部仮想包絡面が凹凸を有することにより、外観意匠乃至触感において従来とは異なる特有の質感を与えることができる。 In this way, by having the protruding filaments and having unevenness in the imaginary enveloping surface of the top of the pattern formed by the protruding filaments, it is possible to give a unique texture different from the conventional ones in terms of appearance design and tactile sensation.

模様形成層12を形成する材料は、化粧材に用いられる通常の材料を適宜用いることができる。基材を加熱軟化させて型(エンボス版)を押圧するのであれば模様形成層12は基材11と同じ材料により形成される。また模様形成層12を基材11と別層として基材11に積層するのであれば、溶融した組成物を成形後に硬化させる観点から、基材11とは別に準備した、上記基材11と同様の樹脂を用いることができる。 As a material for forming the pattern forming layer 12, a normal material used for decorative materials can be appropriately used. The pattern forming layer 12 is made of the same material as the base material 11 if the base material is heated and softened to press the mold (embossing plate). In addition, if the pattern forming layer 12 is laminated on the base material 11 as a separate layer from the base material 11, from the viewpoint of curing the melted composition after molding, the same as the base material 11 prepared separately from the base material 11. can be used.

なお、ここで示した凸線条部はその稜線が直線状に延びる形態であるが、これに限らず、平面視に於いて、凸線条部は稜線が延びる方向に対して放物線、双曲線、正弦波曲線、双曲線正弦関数曲線、楕円関数曲線、サイクロイド曲線等の曲線状乃至は波型状など他の形態となるようにすることもできる。後で説明する各形態でも同様である。 In addition, although the ridge line shown here has a form in which the ridge line extends linearly, the ridge line is not limited to this, and in a plan view, the ridge line portion has a parabolic, hyperbolic, or curved shape in the direction in which the ridge extends. Other shapes such as sinusoidal curves, hyperbolic sinusoidal curves, elliptical function curves, cycloidal curves, or other curvilinear or wavy shapes are also possible. The same applies to each form described later.

図3には第2の形態を説明する図を示した。図3は図2と同じ視点による化粧材20の断面図である。図3からわかるように、化粧材20では基材21は模様形成層22が配置される側の面も平滑な平坦面であり、凹凸を有していない。基材21の材料や厚さは基材11と同様に考えることができる。 FIG. 3 shows a diagram for explaining the second embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view of the decorative material 20 from the same viewpoint as in FIG. As can be seen from FIG. 3, in the decorative material 20, the surface of the base material 21 on which the pattern forming layer 22 is arranged is also a smooth flat surface, and does not have unevenness. The material and thickness of the base material 21 can be considered in the same manner as the base material 11 .

一方、模様形成層22に具備される凸線条部23及び凹線条部24において、凸線条部23の高さH23が、複数の凸線条部23で異なるように形成されている。これにより、基材凹凸面Sが平坦な平面であっても、模様頂部仮想包絡面Sが凹凸を有するように構成されている。
このような化粧材20によっても従来とは異なる特有の質感を与えることができる。
On the other hand, in the convex filamentary portions 23 and the concave filamentary portions 24 provided in the pattern forming layer 22, the height H23 of the convex filamentary portions 23 is formed so that the plurality of convex filamentary portions 23 are different. . As a result, even if the substrate uneven surface Sk is a flat plane, the pattern top imaginary envelope surface St is configured to have unevenness.
Such a decorative material 20 can also give a unique texture different from the conventional ones.

模様頂部包絡面Sの凹凸形状の考え方は化粧材10で説明した模様頂部包絡面Sと同様である。 The concept of the uneven shape of the pattern top enveloping surface St is the same as that of the pattern top enveloping surface St described for the decorative material 10 .

また、凸線条部23の幅W23、凹線条部24の幅W24、及び凸線条部23の高さH23の大きさは特に限定されることはないが、化粧材の模様を形成するという観点から微細なものあることが好ましく、本形態ではそれぞれ、1μm≦W23≦1000μm、1μm≦W24≦1000μm、3μm≦H23≦3000μmであることが好ましい。 Further, the width W 23 of the protruding filamentary portion 23, the width W 24 of the concave filamentary portion 24, and the height H 23 of the protruding filamentary portion 23 are not particularly limited, but the pattern of the decorative material is not limited. In the present embodiment, it is preferable that 1 μm≦W 23 ≦1000 μm, 1 μm≦W 24 ≦1000 μm, and 3 μm≦H 23 ≦3000 μm.

図4は第3の形態にかかる化粧材30の一部を拡大し、模様形成層32側から平面視した図である。本形態の化粧材30は、正六角形の領域である単位領域33が平面視で2次元的にxy方向に配列されている。わかりやすさのため、図4には1つの単位領域33について太線で縁取りをして表した。
尚、ここで言う単位領域とは、繰り返し単位、即ち、平面(xy平面)内において、並進対称性を有する方向(3対の対辺と直交する方向)に隣接して繰り返し配列することにより平面を隙間無く被覆することが可能な単位となる領域を意味する。
FIG. 4 is an enlarged view of a part of the decorative material 30 according to the third embodiment, viewed from the pattern forming layer 32 side. In the decorative material 30 of the present embodiment, unit regions 33, which are regular hexagonal regions, are arranged two-dimensionally in the xy directions in a plan view. For the sake of clarity, FIG. 4 shows one unit region 33 bordered by a thick line.
The unit area referred to here is a repeating unit, that is, in a plane (xy plane), a plane is formed by repeatedly arranging adjacent in a direction having translational symmetry (a direction orthogonal to three pairs of opposite sides). It means a unit area that can be covered without gaps.

図5には、図4のうちから1つの単位領域33を抜きだして拡大した図を表した。図5からわかるように、単位領域33はさらに複数の個別領域34~個別領域43の10領域に分かれており、個別領域34~個別領域43にそれぞれの模様形成層が設けられている。
本形態の化粧材30では繰り返し単位としての単位領域33が配列され、この単位領域33の中に、それぞれの模様を具備する個別領域34~個別領域43が形成される例である。ただし、このような繰り返し単位としての単位領域がなく、全体に個別領域が複数形成されたものであってもよい。そして本形態では2種類の領域が存在するため、わかり易さのために「単位領域」及び「個別領域」と呼んで区別するが、これらを総称して「領域」として表現することもできる。
FIG. 5 shows an enlarged view of one unit area 33 extracted from FIG. As can be seen from FIG. 5, the unit area 33 is further divided into 10 individual areas 34 to 43, and each of the individual areas 34 to 43 is provided with a pattern forming layer.
In the decorative material 30 of this embodiment, unit regions 33 are arranged as repeating units, and in this unit region 33, individual regions 34 to 43 having respective patterns are formed. However, a plurality of individual regions may be formed in the whole without the unit region as such a repeating unit. Since there are two types of regions in this embodiment, they are distinguished by calling them "unit regions" and "individual regions" for ease of understanding, but they can also be collectively expressed as "regions."

図4、図5には一部に点線が示されているが、この点線は実際には存在しない線であるが、単位領域及び個別領域の境界をわかり易くするために付した仮想の線である。図4、図5からわかるように本形態では単位領域33は正六角形であり、単位領域33内において各個別領域34~個別領域43は三角形である。 Although dotted lines are partially shown in FIGS. 4 and 5, these dotted lines do not actually exist, but are imaginary lines added to facilitate understanding of the boundaries between the unit regions and the individual regions. . As can be seen from FIGS. 4 and 5, in this embodiment, the unit area 33 is a regular hexagon, and the individual areas 34 to 43 within the unit area 33 are triangular.

図6(a)~図6(c)には、個別領域34~個別領域43のうち、3つの個別領域34、35、36が備える断面形状を表した。この断面はいずれも個別領域に形成される凸線条部の稜線が延びる方向に対して直交する厚さ方向(z方向)断面である。
図6(a)~図6(c)からわかるように、化粧材30は、基材21及び該基材21の一方の面に積層された模様形成層32を有して構成されている。この模様形成層32が上記単位領域33及び個別領域34~個別領域43の形状を形成している。
6A to 6C show cross-sectional shapes of three individual regions 34, 35, and 36 among the individual regions 34 to 43. FIG. All of these cross sections are cross sections in the thickness direction (z direction) orthogonal to the direction in which the ridge lines of the protruding linear portions formed in the individual regions extend.
As can be seen from FIGS. 6(a) to 6(c), the decorative material 30 includes a substrate 21 and a pattern forming layer 32 laminated on one surface of the substrate 21. As shown in FIG. The pattern forming layer 32 forms the shapes of the unit regions 33 and the individual regions 34 to 43 .

本形態の基材21は、上記した化粧材20の基材21と同様である。従って、基材21のうち模様形成層32が積層される側の面も平滑な平坦面に形成されている。 The base material 21 of this embodiment is the same as the base material 21 of the decorative material 20 described above. Therefore, the surface of the substrate 21 on which the pattern forming layer 32 is laminated is also formed as a smooth flat surface.

模様形成層32は、基材21の一方の面に積層された模様を形成する層であり、この模様が単位領域33及び個別領域34~個別領域43のように所定の形状を有して模様を構成している。本形態で模様形成層32は次のような形態を備えている。 The pattern forming layer 32 is a layer that forms a pattern laminated on one surface of the base material 21, and the pattern has a predetermined shape such as the unit region 33 and the individual regions 34 to 43. constitutes In this embodiment, the pattern forming layer 32 has the following configuration.

上記したように、本形態で模様形成層32は、化粧材30の平面視で正六角形の単位領域33を有し、複数の単位領域33が2次元的にxy平面内に配列されて全平面を被覆している。そして、各々の単位領域33が複数の個別領域34~個別領域43に分かれており、個別領域ごとにそれぞれの模様が形成されている。以下個別領域34、35、36を例に説明する。 As described above, in the present embodiment, the pattern forming layer 32 has the regular hexagonal unit regions 33 in plan view of the decorative material 30, and the plurality of unit regions 33 are two-dimensionally arranged in the xy plane to form the entire plane. is covered. Each unit area 33 is divided into a plurality of individual areas 34 to 43, and a pattern is formed for each individual area. The individual regions 34, 35, and 36 will be described below as an example.

個別領域34は図5、及び図6(a)からわかるように、万線状の凸線条部34aと凹線条部34bとが交互に配列してなる。
この凸線条部34aは図6(a)に表れる断面において高さH34a、幅W34aの略長方形とされている。凸線条部34aはこの断面を有して、その稜線が配列方向とは異なる方向(例えば配列方向に直交する方向)に延びるように構成されている。凸線条部34aが延びる長さは個別領域34の輪郭形状により決まる。
一方、凹線条部34bは図6(a)に表れるように隣り合う凸線条部34aの間に形成され、凸線条部34aの形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部34bの幅W34bは、凸線条部34aのピッチP34aから凸線条部34aの幅W34aを引いた値となる。
As can be seen from FIGS. 5 and 6(a), the individual regions 34 are formed by alternately arranging protruding linear portions 34a and concave linear portions 34b.
The protruding linear portion 34a has a substantially rectangular shape with a height H 34a and a width W 34a in the cross section shown in FIG. 6(a). The protruding linear portion 34a has this cross section, and its ridgeline is configured to extend in a direction different from the arrangement direction (for example, a direction orthogonal to the arrangement direction). The length by which the protruding linear portion 34 a extends is determined by the contour shape of the individual region 34 .
On the other hand, the recessed line portions 34b are formed between the adjacent projected line portions 34a as shown in FIG. 6(a), and the shape thereof is determined by the shape of the projected line portions 34a. Therefore, the width W 34b of the concave filamentary portion 34b is a value obtained by subtracting the width W 34a of the convex filamentary portion 34a from the pitch P 34a of the convex filamentary portion 34a.

ここで、W34a、W34b、H34aの大きさは特に限定されることはないが、化粧材の模様を形成するという観点から微細なものあることが好ましく、本形態ではそれぞれ、1μm≦W34a≦1000μm、1μm≦W34b≦1000μm、3μm≦H34a≦3000μmであることが好ましい。 Here, the sizes of W 34a , W 34b , and H 34a are not particularly limited, but from the viewpoint of forming the pattern of the decorative material, they are preferably fine. 34a ≤ 1000 µm, 1 µm ≤ W 34b ≤ 1000 µm, and 3 µm ≤ H 34a ≤ 3000 µm.

また、凸線条部34aにおける高さと幅の比であるH34a/W34a(アスペクト比とも言う。)は1よりも大きいことが好ましい。これによれば化粧材の質感をさらに新しいものとすることができる。但し、アスペクト比が大き過ぎると、型製造の難度が上がり、又、型及び化粧材において外力が加わった際に凸線条部34aへの応力が集中しては損傷し易くなる。そのため、通常は、アスペクト比は5以下、好ましくは3以下とされる。 Moreover, it is preferable that H 34a /W 34a (also referred to as an aspect ratio), which is the ratio of the height to the width of the protruding linear portion 34a, be greater than one. According to this, the texture of the decorative material can be further improved. However, if the aspect ratio is too large, the difficulty of manufacturing the mold increases, and when an external force is applied to the mold and the decorative material, stress concentrates on the protruding filaments 34a, making them susceptible to damage. Therefore, the aspect ratio is usually 5 or less, preferably 3 or less.

ここで、個別領域34に属する複数の凸線条部34aは基材側(基端部側)とは反対側(頂部側)において全体として凹凸を有している。本形態の当該凹凸も上記した模様頂部包絡面Sと同様に考えることができる。すなわち、本形態でもこの模様頂部仮想包絡面Sが凹凸を有するように形成されている。この凹凸は前記の模様頂部包絡面S同様の形状とすることができる。 Here, the plurality of ridges 34a belonging to the individual region 34 have unevenness as a whole on the side (top side) opposite to the substrate side (base end side). The unevenness of this embodiment can also be considered in the same manner as the pattern top enveloping surface St described above. That is, also in this embodiment, the imaginary envelope surface St at the top of the pattern is formed to have unevenness . The unevenness may have the same shape as the pattern top enveloping surface St.

模様形成層32を形成する材料は、上記模様形成層12と同様に考えることができる。 The material forming the pattern forming layer 32 can be considered in the same manner as the pattern forming layer 12 described above.

個別領域35は個別領域34に隣り合う個別領域であり、図5、及び図6(b)からわかるように、万線状の凸線条部35aと凹線条部35bとが交互に配列してなる。
凸線条部35aは図6(b)に表れる断面において高さH35a、及び幅W35aの長方形とされている。凸線条部35aはこの断面を有してその稜線が配列方向とは異なる方向(例えば配列方向に直交する方向)で、かつ、個別領域34の凸線条部34aが延びる方向とは異なる方向に延びるように構成されている。凸線条部35aが延びる長さは個別領域35の輪郭形状により決まる。
一方、凹線条部35bは図6(b)に表れるように隣り合う凸線条部35aの間に形成され、凸線条部35aの形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部35bの幅W35bは、凸線条部35aのピッチP35aから凸線条部35aの幅W35aを引いた値となる。
The individual region 35 is an individual region adjacent to the individual region 34, and as can be seen from FIGS. It becomes
The protruding linear portion 35a has a rectangular shape with a height H35a and a width W35a in the cross section shown in FIG. 6(b). The protruding linear portion 35a has this cross section, and the ridge line thereof is in a direction different from the arrangement direction (for example, a direction orthogonal to the arrangement direction) and in a direction different from the direction in which the protruding linear portion 34a of the individual region 34 extends. is configured to extend to The length by which the protruding linear portion 35 a extends is determined by the contour shape of the individual region 35 .
On the other hand, as shown in FIG. 6(b), the recessed filamentary portions 35b are formed between adjacent protruding filamentary portions 35a, and the shape thereof is determined by the shape of the protruding filamentary portions 35a. Therefore, the width W35b of the recessed filamentary portion 35b is a value obtained by subtracting the width W35a of the protruding filamentary portion 35a from the pitch P35a of the protruding filamentary portion 35a.

ここで、個別領域35における高さH35a、幅W35a、幅W35bの好ましい大きさの範囲は個別領域34と同様に考えることができる。これに加えて個別領域35では、個別領域34との関係で、H34a>H35aであることが好ましい。さらに、本形態で個別領域35は、W34a=W35a、W34b<W35b、及び、P34<P35とされている。
ここで、H34a>H35aとは、個別領域34に属する凸線条部34aの高さの平均が、個別領域35に属する凸線条部35aの高さの平均よりも大きいことを意味する。
Here, the preferred size ranges of the height H 35a , width W 35a , and width W 35b in the individual region 35 can be considered in the same manner as in the individual region 34 . In addition, in the individual region 35, in relation to the individual region 34, it is preferable that H 34a >H 35a . Furthermore, in the present embodiment, the individual regions 35 are W 34a =W 35a , W 34b <W 35b , and P 34 <P 35 .
Here, H 34a >H 35a means that the average height of the ridges 34a belonging to the individual region 34 is greater than the average height of the ridges 35a belonging to the individual region 35. .

そしてここでも、個別領域35に属する複数の凸線条部35aは基材側(基端部側)とは反対側(頂部側)において全体として凹凸を有している。これも上記した模様頂部包絡面Sと同様に考えることができる。 Also in this case, the plurality of ridges 35a belonging to the individual region 35 have unevenness as a whole on the side (top side) opposite to the substrate side (base end side). This can also be considered in the same manner as the pattern top enveloping surface St described above.

個別領域36は個別領域34に隣り合う個別領域であり、図5、及び図6(c)からわかるように、万線状の凸線条部36aと凹線条部36bとが交互に配列してなる。
凸線条部36aは図6(c)に表れる断面において高さH36a、及び幅W36aの長方形とされている。凸線条部36aはこの断面を有してその稜線が配列方向とは異なる方向(例えば配列方向に直交する方向)で、かつ、個別領域36の凸線条部36aが延びる方向とは異なる方向に延びるように構成されている。凸線条部36aが延びる長さは個別領域36の輪郭形状により決まる。
一方、凹線条部36bは図6(c)に表れるように隣り合う凸線条部36aの間に形成され、凸線条部36aの形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部36bの幅W36bは、凸線条部36aのピッチP36aから凸線条部36aの幅W36aを引いた値となる。
The individual region 36 is an individual region adjacent to the individual region 34, and as can be seen from FIGS. It becomes
The protruding filament portion 36a has a rectangular shape with a height H 36a and a width W 36a in the cross section shown in FIG. 6(c). The protruding linear portions 36a have this cross section, and the ridgeline thereof is in a direction different from the arrangement direction (for example, a direction perpendicular to the arrangement direction) and in a direction different from the direction in which the protruding linear portions 36a of the individual regions 36 extend. is configured to extend to The length by which the protruding linear portion 36 a extends is determined by the contour shape of the individual region 36 .
On the other hand, as shown in FIG. 6(c), the recessed filamentary portions 36b are formed between adjacent protruding filamentary portions 36a, and the shape thereof is determined by the shape of the protruding filamentary portions 36a. Therefore, the width W 36b of the concave filamentary portion 36b is a value obtained by subtracting the width W 36a of the convex filamentary portion 36a from the pitch P 36a of the convex filamentary portion 36a.

ここで、個別領域36における高さH36a、幅W36a、幅W36bの好ましい大きさの範囲は個別領域34と同様に考えることができる。これに加えて個別領域36では、個別領域34との関係で、H34a>H36aであることが好ましい。さらに、本形態で個別領域36は、W34a<W36a、W34b<W36b、及び、P35a=P36aとされている。
ここで、H34a>H36aとは、個別領域34に属する凸線条部34aの高さの平均が、個別領域36に属する凸線条部36aの高さの平均よりも大きいことを意味する。
Here, the preferred size ranges of the height H 36a , width W 36a , and width W 36b in the individual region 36 can be considered in the same manner as in the individual region 34 . In addition, in the individual region 36, in relation to the individual region 34, it is preferable that H 34a >H 36a . Furthermore, in the present embodiment, the individual regions 36 are W 34a <W 36a , W 34b <W 36b , and P 35a =P 36a .
Here, H 34a >H 36a means that the average height of the ridges 34a belonging to the individual region 34 is greater than the average height of the ridges 36a belonging to the individual region 36. .

そしてここでも、個別領域36に属する複数の凸線条部36aは基材側(基端部側)とは反対側(頂部側)において全体として凹凸を有している。これも上記した模様頂部包絡面Sと同様に考えることができる。 Also in this case, the plurality of ridges 36a belonging to the individual region 36 have unevenness as a whole on the side (top side) opposite to the substrate side (base end side). This can also be considered in the same manner as the pattern top enveloping surface St described above.

他の個別領域37~個別領域43についても同様に考えることができる。
そして、それぞれの個別領域が特有の模様頂部仮想包絡面Sの凹凸形状を有しているとともに、凸線条部の高さ、幅、及び延びる向きの少なくとも1つにおいて隣の個別領域と異なっていることが好ましい。
このような模様形成層12でも、これまでとは異なる特有の質感を表現することができる。
The other individual areas 37 to 43 can be similarly considered.
Each individual region has a unique uneven shape of the imaginary enveloping surface St at the top of the pattern, and is different from the adjacent individual region in at least one of the height, width, and extending direction of the protruding filaments. preferably.
Even with such a pattern forming layer 12, it is possible to express a unique texture different from that of the past.

この中でも、本形態では、複数存在する領域(単位領域及び個別領域を問わず凹凸層に存在する領域の総称としての領域。)の間で、凸線条部の平均高さが異なる関係にある領域が含まれるものが好ましい。このように平均高さが異なる関係にある複数の領域を含むことで、従来と異なる質感の表現の多様性を高めることができる。
ここで、このように凸線条部における高さを領域間で異なるものとする際には、次のようにしてもよい。すなわち、凸線条部の幅をW、凹線条部の幅をWとしてW/Wをデューティー比としたとき、凸線条部の高さHによらずデューティー比W/Wが同じ、又は、凸線条部の高さHが高いものほどデューティー比W/Wが小さくなるように構成することができる。これにより従来に対してさらに異なる質感の表現をすることができる。因みに、特許文献1(特公平7-22989号公報)及び特許文献2(特開平4-125199号公報)開示の化粧材に於いては、其の実施例にも記載の如く、金属の版材上に版下画像からの露光でパターニングされた感光性レジスト膜を介してしての腐蝕により製造したエンボス版により賦形するものである。そのため、所謂サイドエッチング現象により必然的に斯かるデューティー比W/Wは高さHの増大と共に増大するものしか製造し得無い(此の辺の事情については、同樣の分野の技術を開示する特許第4612200号公報の特許請求の範囲及び図1參照)。
Among these, in the present embodiment, there is a relationship in which the average heights of the projected linear portions are different between a plurality of regions (regions as a general term for regions existing in the uneven layer regardless of whether they are unit regions or individual regions). Those that include regions are preferred. Including a plurality of areas having different average heights in this manner can increase the variety of expression of textures different from the conventional one.
Here, when differentiating the heights of the protruding linear portions between the regions in this way, the following may be done. That is, when W a is the width of the convex filament portion and W b is the width of the concave filament portion and W a /W b is the duty ratio, the duty ratio W a / The duty ratio W a /W b can be configured to decrease as W b is the same or as the height H of the protruding linear portion increases. This makes it possible to express textures that are further different from conventional ones. Incidentally, in the decorative materials disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Publication No. 7-22989) and Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 4-125199), as described in the examples, metal plate materials An embossing plate manufactured by etching through a photosensitive resist film patterned by light exposure from a block image is formed on the top. Therefore, due to the so-called side etching phenomenon, the duty ratio W a /W b inevitably increases as the height H increases. (See the claims of Japanese Patent No. 4612200 and FIG. 1).

図7には、第4の形態にかかる化粧材50を平面視した図を表した。図7は、図4に相当する図である。この化粧材50では、模様形成層52において、領域53~領域57がx方向に配列され、点線で示した各領域の境界が曲線状である例である。各領域には上記個別領域の例に倣って凸線条部凹線条部、模様頂部包絡面S、及び基材凹凸面Sが具備されている。
このような化粧材50によっても本発明の効果を奏するものとなる。
FIG. 7 shows a plan view of the decorative material 50 according to the fourth embodiment. FIG. 7 is a diagram corresponding to FIG. This decorative material 50 is an example in which regions 53 to 57 are arranged in the x-direction in the pattern forming layer 52, and the boundaries between the regions indicated by dotted lines are curved. Each region has a convex linear portion, a concave linear portion, a pattern top enveloping surface S t , and a substrate uneven surface S k , following the example of the individual regions described above.
The effects of the present invention can be obtained even with such a decorative material 50 .

次に化粧材の製造方法の例を説明する。ここでは化粧材30を作製する方法を例示する。ただし、化粧材を製造する方法がこれに限定されることはない。
以下に説明する製造方法には、原稿画像を作製する工程、版下画像を作製する工程、版を作製する工程、及び模様形成層を作製する工程を含んでいる。
Next, an example of a method for manufacturing a decorative material will be described. Here, a method for producing the decorative material 30 is exemplified. However, the method of manufacturing the decorative material is not limited to this.
The manufacturing method described below includes a step of preparing an original image, a step of preparing a block copy image, a step of preparing a plate, and a step of preparing a pattern forming layer.

原稿画像を作製する工程では、模様形成層32に表現すべき模様を取得してこれを原稿画像とする。原稿画像はデジタルデータであることが好ましいため、デジタルデータでない場合には写真やスキャナ等を用いることによりデジタルデータ化する。また、初めから模様をCAD等を用いてデジタルデータを利用して設計していた場合にはそのデジタルデータを用いることができる。
これで、デジタルデータとして原稿画像が得られる。
In the step of preparing the document image, a pattern to be expressed on the pattern forming layer 32 is obtained and used as the document image. Since the document image is preferably digital data, if it is not digital data, it is converted into digital data by using a photograph, a scanner, or the like. Moreover, when the pattern is designed from the beginning using digital data using CAD or the like, the digital data can be used.
Thus, a document image is obtained as digital data.

版下画像を作製する工程では、得られた原稿画像を、濃度-万線変換プログラムによって、模様の階調画像に対応して二値画像としての万線パターンを二次元仮想平面上に生成して配置し、デジタルデータとして版下画像を得る。 In the process of creating a block copy image, a line pattern is generated as a binary image on a two-dimensional virtual plane in correspondence with the gradation image of the pattern using a density-line conversion program. Then, the block copy image is obtained as digital data.

ここでは、予め設定しておいた、凸線条部の周期、万線の線形状、線が延びる方向、万線の幅の可変レンジ等の万線生成条件に従い、二値画像として万線を生成する。このようにして生成された万線は、その線分部分が、化粧材における凸線条部に該当し、線分と線分との間の部分が化粧材における凹線条部に該当する。このようにして、万線模様を有する版下画像が得られる。 Here, lines are generated as a binary image in accordance with preset line generation conditions such as the period of the ridges, the shape of the lines, the direction in which the lines extend, and the variable range of the width of the lines. Generate. The parallel lines generated in this way correspond to the convex linear portions of the decorative material, and the portions between the line segments correspond to the concave linear portions of the decorative material. In this way, a block copy image having a parallel line pattern is obtained.

版を作製する工程では、版下画像に基づいて図4の如き平面視形状の凹凸模樣を表面に有するエンボス版(化粧材用成形型)の作製を行う。
該凹凸模樣は、閉領域からなる各個別領域34~43、34~43、34~43、…が相互に隣接して連結することで平面を区画して被覆した個別領域の集合体を有する。
ここで、このような凹凸模様は、図4に対応する図8に示したように(見易さのため一部を太線であらわしている。)、各領域の輪郭形状のみからなり万線状の凸線条部及び凹線条部を具備しない画像である網状領域32’に対して、各個別領域に相当する領域内34~43、34~43、…内に万線状の凸線条部34a、35a、36a・・・及び凹線条部34b、35b、36b、…を交互に配列してなるものと考える。
そして具体的には凹凸模様の製造工程は以下の手順(1)~(5)からなる。
In the step of making a plate, an embossed plate (molding die for decorative material) having a concave-convex pattern having a plan view shape as shown in FIG.
The concave-convex pattern has an aggregate of individual areas covered by partitioning a plane by connecting individual areas 34 to 43, 34 to 43, 34 to 43, .
Here, as shown in FIG. 8 corresponding to FIG. 4 (partially represented by thick lines for ease of viewing), such an uneven pattern consists only of the contour shape of each region. With respect to the net-like region 32 ′, which is an image that does not have the convex linear portions and the concave linear portions, the parallel convex linear lines are formed in the regions 34 to 43, 34 to 43, . . . It is assumed that the portions 34a, 35a, 36a, .
Specifically, the manufacturing process of the uneven pattern consists of the following procedures (1) to (5).

〔(1)濃淡階調版下画像作成工程〕
以下の画像作成工程(1)-1~(1)-3を、アドビシステムズ社製のグラフィックデザイン描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、TIFF形式で8bitの画像濃淡階調(256階調)で2540dpiの解像度の画像データ(網状領域、万線、及び両者の合成画像)を作成した。
[(1) Gradation gradation image creation process]
The following image creation steps (1)-1 to (1)-3 are performed using Adobe Systems' graphic design drawing software "Illustrator", TIFF format, 8-bit image gradation (256 gradations), 2540 dpi. image data (reticulated area, parallel lines, and a composite image of both) with a resolution of .

(1)-1
先ず、図4の凹凸模様の平面視画像から、万線画像を除いた図8に示した画像に相当する網状領域32’の画像を作成した。
(1)-1
First, an image of the net-like region 32' corresponding to the image shown in FIG. 8, excluding the parallel line image, was created from the plan view image of the uneven pattern in FIG.

(1)-2
描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、各個別領域34、35、…、42、43に嵌め込むべき万線状の凸線条部及び凹線条部34a及び34b、35a及び35b、…、42a及び42b、43a及び43bの形状(以下、万線形状ともいう。)に対応するデジタルの濃淡画像データを作成した。
尚、該濃淡画像は、後述の金属ロール表面の一座標毎に画像濃度を対応させたものである。
(1)-2
, 42, 43 to be fitted into each of the individual regions 34, 35, . . . , 42, 43. Digital grayscale image data corresponding to the shapes of 42b, 43a and 43b (hereinafter also referred to as parallel line shapes) were created.
The grayscale image corresponds to the image density for each coordinate of the surface of the metal roll, which will be described later.

(1)-3
描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、以上で得られた網状領域内の各個別領域内に以上で得られた各個別領域用の万線形状を嵌め込み、図4の凹凸模様に対応する濃淡画像データを得た。この濃淡画像データを凹凸模様画像データともいう。
(1)-3
Using the drawing software "Illustrator", the parallel line shape for each individual area obtained above is inserted into each individual area in the net-like area obtained above, and the grayscale image data corresponding to the uneven pattern in FIG. got This grayscale image data is also referred to as uneven pattern image data.

〔(2)金属ロール準備工程〕
上記工程(1)と並行して、図9に示したようなエンボス版彫刻用の金属ロール60を準備した。金属ロール60は、軸方向両端部に回転駆動軸(shaft)61を有する中空の鉄製の円筒の表面に銅層をメッキ形成したものである。砥石で金属ロール60の表面を研磨して粗面化し、彫刻用レーザ光の鏡面反射による彫刻効率の低下を防止する処理をした。
[(2) Metal roll preparation step]
In parallel with the above step (1), a metal roll 60 for embossing plate engraving as shown in FIG. 9 was prepared. The metal roll 60 is formed by plating a copper layer on the surface of a hollow iron cylinder having rotating shafts 61 at both ends in the axial direction. The surface of the metal roll 60 was roughened by polishing with a whetstone to prevent a decrease in engraving efficiency due to specular reflection of engraving laser light.

〔(3)レーザ光彫刻工程〕
図9に模式的に示したように、レーザ光直接彫刻機を用い、工程(2)で用意した金属ロール60の表面を工程(1)で作成した模様画像データに基づき彫刻する。これによりその表面に図4のような化粧材表面の模様と同一平面視形状で且つ逆模様(化粧材の凸に対応する部分がエンボス版面上では凹となる関係)の形状を形成した。
従ってエンボス版における模様が備えるべき形状は、上記した化粧材における模様の凹凸関係が反転した態様であり、同様に考えることができる。
[(3) Laser beam engraving step]
As schematically shown in FIG. 9, a laser direct engraving machine is used to engrave the surface of the metal roll 60 prepared in step (2) based on the pattern image data created in step (1). As a result, a shape having the same planar shape as the pattern on the surface of the decorative material and a reverse pattern (the portions corresponding to the convex portions of the decorative material become concave on the embossed plate surface) was formed on the surface as shown in FIG.
Therefore, the shape that the pattern on the embossed plate should have is a mode in which the concave-convex relationship of the pattern on the decorative material is reversed, and can be considered in the same way.

金属ロール60をその回転駆動軸61を介して電動機で駆動し、回転駆動軸61を中心軸として回転する。レーザーヘッド62から出射される発振波長1024nm、レーザスポット径10μm、出力600Wのファイバーレーザ光Lで金属ロール60の表面の全面を走査する。その際には工程(1)で作成した凹凸模様画像データの濃度値に応じてレーザ光をON-OFF切換(照射又は非照射の切換)を行い、照射位置には1回のレーザ光照射による金属の蒸発で深さ10μmの凹部を形成する。かかるレーザ光による金属ロール表面に対する走査を10回繰り返した。また、蒸発した金属が粉体となって金属ロール60の表面に残留又は付着することを防止するため、彫刻液吐出ヘッド63から彫刻液Tを金属ロール60の表面のレーザ光照射領域に吹き付けた状態でレーザ光照射を行った。
その際に、例えば、凹凸模様画像データ上で版深50μmに対応する画像濃度の位置座標においては、合計10回の走査のうち、最初の5回分のみレーザ光を照射(ON)し、残り5回分についてはレーザ光は非照射(OFF)となるよう制御する。
かかるレーザ光の走査を完了させ、金属ロール60の表面に所望の凹凸形状を形成した。
The metal roll 60 is driven by an electric motor via its rotary drive shaft 61 and rotates around the rotary drive shaft 61 as its central axis. The entire surface of the metal roll 60 is scanned with a fiber laser beam L emitted from a laser head 62 having an oscillation wavelength of 1024 nm, a laser spot diameter of 10 μm, and an output of 600 W. At that time, the laser light is switched ON-OFF (switching between irradiation and non-irradiation) according to the density value of the uneven pattern image data created in step (1), and the irradiation position is irradiated with the laser light once. Evaporation of the metal forms recesses with a depth of 10 μm. The scanning of the metal roll surface with such laser light was repeated 10 times. In order to prevent the evaporated metal from remaining or adhering to the surface of the metal roll 60 in the form of powder, the engraving liquid T was sprayed from the engraving liquid discharge head 63 onto the laser beam irradiated area of the surface of the metal roll 60. Laser light irradiation was performed in this state.
At that time, for example, at the position coordinates of the image density corresponding to the plate depth of 50 μm on the uneven pattern image data, the laser light is irradiated (ON) only for the first five scans out of a total of ten scans, and the remaining five scans are performed. The batch is controlled so that the laser light is not irradiated (OFF).
The scanning of the laser beam was completed, and the desired uneven shape was formed on the surface of the metal roll 60 .

〔(4)電界研磨工程〕
彫刻液を洗浄した後、電解研磨を行い、金属ロール60の表面に付着した金属の残渣を除去した。
[(4) Electropolishing step]
After washing the engraving liquid, electropolishing was performed to remove metal residue adhering to the surface of the metal roll 60 .

〔(5)クロムメッキ工程〕
工程(4)の後、該金属ロール表面にメッキにより厚さ10μmのクロム層を形成した。
[(5) Chrome plating step]
After step (4), a chromium layer having a thickness of 10 μm was formed on the surface of the metal roll by plating.

以上により模様形成層32の表面に形成された模様の凹凸が反転した形状を表面に備える版(化粧材用成形型、本形態ではエンボス版)を得ることができる。 As described above, it is possible to obtain a plate (molding die for decorative material, embossed plate in the present embodiment) having a surface in which the unevenness of the pattern formed on the surface of the pattern forming layer 32 is reversed.

次に、模様形成層を作製する工程で、作製された版(エンボス版)を用いて、基材21にエンボス加工を行えば化粧材30が得られる。エンボス加工は、適宜な公知の方法によれば良く、特に制限はない。エンボス加工の代表的な方法は例えば次のようなものである。
基材としてポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂からなる樹脂シートを用いる。この基材を加熱軟化させ、その表面にエンボス版を押圧して該樹脂シート表面にエンボス版表面の凹凸模樣を賦形する。そして樹脂シートを冷却して固化させて樹脂シート上の凹凸模様を固定する。その後に凹凸模様が賦形された樹脂シートをエンボス版から離型する。
ここで、各種エンボス加工法について、さらに説明すると例えば次の(A)~(E)のような方法がある。
Next, in the step of producing the pattern forming layer, the decorative material 30 is obtained by embossing the substrate 21 using the produced plate (embossing plate). Embossing may be performed by any suitable known method, and is not particularly limited. A representative method of embossing is, for example, as follows.
A resin sheet made of a thermoplastic resin such as a polyolefin resin is used as a base material. This base material is heated and softened, and an embossing plate is pressed against the surface of the base material to shape the uneven pattern of the embossing plate surface on the surface of the resin sheet. Then, the resin sheet is cooled and solidified to fix the uneven pattern on the resin sheet. After that, the resin sheet on which the uneven pattern is formed is released from the embossing plate.
Here, various embossing methods will be further explained, for example, the following methods (A) to (E).

(A)基材となる樹脂シートを加熱軟化させ、エンボス版を押圧して、エンボス加工する。
(B)エンボス版を押圧する時の熱圧で表面シートとなる樹脂シート(基材)とベースシートとする樹脂シート(第2の基材)とを熱融着することにより、エンボス加工とラミネートとを同時に行うダブリングエンボス法によりエンボス加工する。
(C)表面シートとする樹脂シート(基材)を、Tダイから溶融押出しをし、冷却ローラを兼ねるシリンダ状のエンボス版上に接触させて表面シートの成膜と同時にエンボス加工する。このとき、さらに表面シートの裏面側に挿入したベースシートとする樹脂シート(第2の基材)を熱融着させてダブリングエンボスを成膜と同時に行う。
(D)特開昭57-87318号公報、特開平7-32476号公報等に開示の如く、シリンダ状のエンボス版の表面に電離放射線硬化性樹脂の未硬化液状物を塗工する。さらにその上に、樹脂シート等からなるベースシートを重ねた状態で電離放射線を照射して未硬化液状物を硬化させて硬化物とする。その際、該硬化物をベースシートと接着させた後、エンボス版から離型して、ベースシートと該ベースシート上の硬化物とからなる基材とすることで、基材にエンボス加工する。
(E)チタン紙等の紙にメラミン樹脂等の熱硬化性樹脂の未硬化物を含浸した含浸紙を、コア紙、木材合板上等の裏打材上に載置して、これら載置した複数層を熱プレス成形することによって各層を積層一体化し熱硬化性樹脂化粧材を作製する。そのとき、含浸紙表面側にエンボス版を挿入することによって、熱硬化性樹脂を含浸硬化させて化粧材とする際にその表面に熱プレスと同時にエンボス加工する。
(A) A resin sheet serving as a base material is heated and softened, and an embossing plate is pressed to perform embossing.
(B) Embossing and lamination by heat-sealing a resin sheet (base material) that serves as a surface sheet and a resin sheet (second base material) that serves as a base sheet by heat and pressure when the embossing plate is pressed. and are simultaneously embossed by a doubling embossing method.
(C) A resin sheet (base material) to be used as a surface sheet is melt-extruded from a T-die, brought into contact with a cylindrical embossing plate that also serves as a cooling roller, and embossed at the same time as forming the surface sheet. At this time, a resin sheet (second base material) inserted into the back side of the top sheet and used as a base sheet is heat-sealed to perform doubling embossing at the same time as film formation.
(D) As disclosed in JP-A-57-87318, JP-A-7-32476, etc., the surface of a cylindrical embossing plate is coated with an uncured liquid of an ionizing radiation curable resin. Further, a base sheet made of a resin sheet or the like is superimposed thereon, and ionizing radiation is irradiated to cure the uncured liquid material to obtain a cured material. At that time, after the cured product is adhered to the base sheet, the mold is released from the embossing plate to form a substrate comprising the base sheet and the cured product on the base sheet, thereby embossing the substrate.
(E) Impregnated paper obtained by impregnating paper such as titanium paper with uncured thermosetting resin such as melamine resin is placed on a backing material such as core paper or wood plywood, and a plurality of these are placed A thermosetting resin decorative material is produced by laminating and integrating each layer by hot-press molding the layers. At that time, by inserting an embossing plate on the surface side of the impregnated paper, the thermosetting resin is impregnated and hardened to form a decorative material, and the surface is embossed simultaneously with the hot press.

なお、(A)~(C)のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には熱可塑性樹脂が使用され、(D)のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には電離放射線硬化性樹脂が使用され、(E)のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には熱硬化性樹脂が使用される。 In addition, thermoplastic resins are typically used as the material of the substrate used in the embossing methods (A) to (C), and the material of the substrate used in the embossing method (D) is typically In (E), an ionizing radiation-curable resin is used, and in the embossing method (E), a thermosetting resin is typically used as the material of the base material.

以上のようにして化粧材30を得ることができる。 The decorative material 30 can be obtained as described above.

次に、以上のように説明した化粧材10、20、30、50の変形例としての化粧材を説明する。図10(a)~図10(c)に層構成を示した。ここで図10(a)~図10(c)では化粧材10を基に説明するが、他の形態の化粧材についても同様に考えることができる。 Next, decorative materials as modifications of the decorative materials 10, 20, 30, and 50 described above will be described. The layer structure is shown in FIGS. 10(a) to 10(c). Here, FIGS. 10A to 10C are described based on the decorative material 10, but other forms of decorative material can be similarly considered.

図10(a)の構成の化粧材10’は単層からなる化粧材である。このような化粧材10’は、例えば、熱可塑性樹脂シートからなる基材11を、加熱軟化してエンボス版を押圧するエンボス加工を行えば良い。この結果、基材11の表面には、所望の凹凸形状の凸線条部13及び凹線条部14からなる模様形成層12による模様が賦形される。この構成では付加的な装飾層は無いが、基材11を透明なものとした場合でも、他の素材に積層することで、当該他の素材の模様を活かして表面化粧することができる。また、基材11は適宜着色剤で茶色や灰色等に着色してもよく、この場合には基材自体が装飾層となる。 The decorative material 10' having the structure shown in FIG. 10(a) is a single-layered decorative material. Such a decorative material 10' can be obtained by, for example, embossing the base material 11 made of a thermoplastic resin sheet by heating and softening it and pressing an embossing plate. As a result, on the surface of the substrate 11, a pattern is formed by the pattern forming layer 12 composed of the convex linear portions 13 and the concave linear portions 14 having desired uneven shapes. In this configuration, there is no additional decorative layer, but even if the base material 11 is transparent, by laminating it on another material, the surface can be decorated by making use of the pattern of the other material. Further, the substrate 11 may be appropriately colored with a coloring agent such as brown or gray. In this case, the substrate itself becomes the decorative layer.

図10(b)の構成の化粧材10’’は、図10(a)の構成に対して、基材11の裏側に装飾層11aを形成した構成である。この様な構成の化粧材10’’を作製するには、例えば、基材11としては装飾層11aが透視できる様に透明な樹脂シートを使用し、この基材11の裏側とする面に装飾層11aを印刷形成した後、加熱軟化させてエンボス版を表側とする面に押圧するエンボス加工を行えば良い。 A decorative material 10'' having the structure shown in FIG. 10(b) has a structure in which a decorative layer 11a is formed on the back side of the base material 11 in contrast to the structure shown in FIG. 10(a). In order to produce the decorative material 10'' having such a structure, for example, a transparent resin sheet is used as the base material 11 so that the decorative layer 11a can be seen through, and the back side of the base material 11 is decorated. After the layer 11a is printed and formed, the layer 11a is softened by heating and embossed by pressing it against the surface facing the embossing plate.

図10(c)の構成の化粧材10’’’は、図10(b)の構成に対して、さらに装飾層11aの面のうち模様形成層12が配置される側とは反対側にもベースシートとする他の基材11bを積層した例である。この様な構成の化粧材10’’’を作製するには、ベースシートとする着色した不透明な熱可塑性樹脂シートからなる基材11bの表側とする面に、装飾層11aを印刷形成した後、このベースシートと、表面シートとする透明な熱可塑性樹脂シートからなる基材11とを、ダブリングエンボス法で熱融着によって積層すると同時に基材11の表面に所望の模様をエンボス加工すれば良い。 The decorative material 10''' having the structure shown in FIG. 10(c) has the structure shown in FIG. 10(b). This is an example in which another base material 11b is laminated as a base sheet. In order to produce the decorative material 10''' having such a structure, the decorative layer 11a is formed by printing on the front side of the base material 11b made of a colored opaque thermoplastic resin sheet as a base sheet. This base sheet and a substrate 11 made of a transparent thermoplastic resin sheet serving as a surface sheet are laminated by thermal fusion using the doubling embossing method, and at the same time a desired pattern is embossed on the surface of the substrate 11 .

以上説明した化粧材の用途は特に制限は無いが、例えば、壁、床、天井等の建築物の内装材、建築物の外壁、屋根、門扉、塀、柵等の外裝材、扉、窓枠、扉、扉枠等の建具、廻り縁、幅木、手摺等の造作部材の表面材、テレビ受像機、冷蔵庫等の家電製品の筐体の表面材、箪笥等の家具の表面材、箱、樹脂瓶等の容器の表面材、車両等の内装材又は外裝材、船舶の内装材又は外裝材等である。 Applications of the decorative materials described above are not particularly limited, but examples include interior materials for buildings such as walls, floors, and ceilings; exterior materials for exterior walls, roofs, gates, fences, and fences; Fittings such as frames, doors, and door frames; surface materials for fixtures such as rims, baseboards and handrails; surface materials for housings of home electric appliances such as TV receivers and refrigerators; surface materials for furniture such as chests of drawers; , surface materials for containers such as resin bottles, interior or exterior materials for vehicles, interior or exterior materials for ships, and the like.

10、20、30、50 化粧材
11、21 基材
12、22、32、52 模様形成層
13、23、34a、35a、36a 凸線条部
14、24、34b、35b、36b 凹線条部
Reference Signs List 10, 20, 30, 50 Decorative material 11, 21 Base material 12, 22, 32, 52 Pattern forming layer 13, 23, 34a, 35a, 36a Protruding filamentary portions 14, 24, 34b, 35b, 36b Concave filamentary portions

Claims (6)

表面に模様が形成されてなる化粧材であって、
前記模様は、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した形態であり、
前記複数の凸線条部の頂部を含む仮想の面を模様頂部包絡面としたとき、前記模様頂部包絡面は凹凸を有しており、
前記複数の凸線条部の高さが異なることにより前記模様頂部包絡面の前記凹凸が形成されており
基材、及び、前記基材の一方の面に配置され、前記模様を形成する模様形成層を備え、
前記基材の表面に凹凸を有することにより前記模様頂部包絡面の前記凹凸が形成される、
化粧材。
A decorative material having a pattern formed on its surface,
The pattern is a form in which a plurality of convex filaments and a plurality of concave filaments are alternately arranged,
When the imaginary surface including the apexes of the plurality of ridges is a pattern apex enveloping surface, the pattern apex enveloping surface has irregularities,
The unevenness of the pattern top enveloping surface is formed by the heights of the plurality of ridges being different.is being,
A substrate, and a pattern forming layer disposed on one surface of the substrate and forming the pattern,
The unevenness of the top enveloping surface of the pattern is formed by having the unevenness on the surface of the base material.
cosmetic material.
表面に模様が形成されてなる化粧材であって、
前記模様は、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した形態であり、
前記複数の凸線条部の頂部を含む仮想の面を模様頂部包絡面としたとき、前記模様頂部包絡面は凹凸を有しており、
前記凸線条部の幅をW、前記凹線条部の幅をWとしてW/Wをデューティー比としたとき、前記凸線条部の高さHによらず前記デューティー比が一定である関係を有する模様を含
基材、及び、前記基材の一方の面に配置され、前記模様を形成する模様形成層を備え、
前記基材の表面に凹凸を有することにより前記模様頂部包絡面の前記凹凸が形成される、
化粧材。
A decorative material having a pattern formed on its surface,
The pattern is a form in which a plurality of convex filaments and a plurality of concave filaments are alternately arranged,
When the imaginary surface including the apexes of the plurality of ridges is a pattern apex enveloping surface, the pattern apex enveloping surface has irregularities,
Wa, the width of the recessed line portion is Wbas Wa/Wbis a duty ratio, patterns having a relationship that the duty ratio is constant irrespective of the height H of the protruding linear portion are included.fruit,
A substrate, and a pattern forming layer disposed on one surface of the substrate and forming the pattern,
The unevenness of the pattern top enveloping surface is formed by having the unevenness on the surface of the base material.
cosmetic material.
表面に模様が形成されてなる化粧材であって、
前記模様は、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した形態であり、
前記複数の凸線条部の頂部を含む仮想の面を模様頂部包絡面としたとき、前記模様頂部包絡面は凹凸を有しており、
前記凸線条部の幅をW、前記凹線条部の幅をWとしてW/Wをデューティー比としたとき、前記凸線条部の高さHが高いほど前記デューティー比が小さくなる関係を有する模様を含む、
化粧材。
A decorative material having a pattern formed on its surface,
The pattern is a form in which a plurality of convex filaments and a plurality of concave filaments are alternately arranged,
When the imaginary surface including the apexes of the plurality of ridges is a pattern apex enveloping surface, the pattern apex enveloping surface has irregularities,
When W a is the width of the convex filament portion, W b is the width of the concave filament portion, and W a /W b is the duty ratio, the higher the height H of the convex filament portion, the higher the duty ratio. Including a pattern with a decreasing relationship,
cosmetic material.
基材、及び、前記基材の一方の面に配置され、前記模様を形成する模様形成層を備え、
前記基材の表面に凹凸を有することにより前記模様頂部包絡面の前記凹凸が形成される、請求項に記載の化粧材。
A substrate, and a pattern forming layer disposed on one surface of the substrate and forming the pattern,
4. The decorative material according to claim 3 , wherein the unevenness of the top enveloping surface of the pattern is formed by having unevenness on the surface of the base material.
前記凸線条部の幅が30μm未満である、請求項1乃至4のいずれかに記載の化粧材。 5. The decorative material according to any one of claims 1 to 4, wherein the width of said protruding linear portion is less than 30 µm. 前記凸線条部の幅をW、前記凸線条部の高さをHとしたとき、H/Wが1より大きい部位を含む、請求項1乃至5のいずれかに記載の化粧材。 The decorative material according to any one of claims 1 to 5, comprising a portion where H/W a is greater than 1, where W a is the width of the protruding filament portion and H is the height of the protruding filament portion. .
JP2017211268A 2017-09-29 2017-10-31 decorative material Active JP7155509B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017211268A JP7155509B2 (en) 2017-10-31 2017-10-31 decorative material
PCT/JP2018/036431 WO2019066026A1 (en) 2017-09-29 2018-09-28 Decorative material and mold for decorative material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017211268A JP7155509B2 (en) 2017-10-31 2017-10-31 decorative material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019081339A JP2019081339A (en) 2019-05-30
JP7155509B2 true JP7155509B2 (en) 2022-10-19

Family

ID=66670002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017211268A Active JP7155509B2 (en) 2017-09-29 2017-10-31 decorative material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7155509B2 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010064344A1 (en) 2008-12-04 2010-06-10 パナソニック株式会社 Exterior part and method of manufacturing same
JP6152214B1 (en) 2016-03-31 2017-06-21 株式会社精工技研 Decorative resin molded product

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07137221A (en) * 1993-06-29 1995-05-30 Dainippon Printing Co Ltd Decorative sheet

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010064344A1 (en) 2008-12-04 2010-06-10 パナソニック株式会社 Exterior part and method of manufacturing same
JP6152214B1 (en) 2016-03-31 2017-06-21 株式会社精工技研 Decorative resin molded product

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019081339A (en) 2019-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2019066026A1 (en) Decorative material and mold for decorative material
JP7294408B2 (en) decorative material
WO2019189407A1 (en) Decorative material
WO2019194202A1 (en) Method for manufacturing decorative material
JP7155509B2 (en) decorative material
JP7067203B2 (en) Cosmetic material
JP6911704B2 (en) Cosmetic material
JP7069619B2 (en) Decorative material and mold for the decorative material
WO2021060530A1 (en) Decorative material
JP7283173B2 (en) decorative material
JP7386594B2 (en) Decorative materials and methods of manufacturing decorative materials
US20210031483A1 (en) Decorative material and method for producing decorative material
JP7230405B2 (en) Decorative materials, shaped sheets
WO2020196707A1 (en) Decorative material
JP2020168768A (en) Decorative material
JP7243031B2 (en) decorative material
JP7402600B2 (en) Decorative material
JP7230406B2 (en) Decorative materials, shaped sheets
JP7255295B2 (en) Decorative materials, shaped sheets
JP7338199B2 (en) decorative material
JP7386593B2 (en) Decorative materials and methods of manufacturing decorative materials
JP2019171820A (en) Decorative material
JP2021161691A (en) Decorative material
JP2020157551A (en) Decorative material
JP2021160128A (en) Decorative material

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200828

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210928

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220405

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220421

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220906

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220919

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7155509

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150