JP7144008B2 - Method for manufacturing stainless steel processed products in which fingerprints are inconspicuous - Google Patents

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Description

本発明は、表面凹凸を有する付着した指紋や汚れが目立ちにくいステンレス加工品の製造方法に関する。さらには、付着した指紋や汚れが目立ちにくい発色処理したステンレス加工品の製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a stainless processed product having surface unevenness, on which attached fingerprints and stains are inconspicuous. Furthermore, the present invention relates to a method for producing a color-developed stainless-steel processed product on which attached fingerprints and stains are inconspicuous.

ステンレス加工品は、耐腐食性に優れるため工業製品、家庭用品等のステンレス加工品として広く採用されている。しかしながら、人の手が接触する可能性の高い部位に使用されるステンレス加工品の表面には使用中に指紋が付着する。指紋がステンレス加工品の表面に付着すると、見る角度により指紋付着部がその周囲に対して青白く見えたり、赤褐色を帯びた色に見えたりすることで、汚らしく見える。この指紋汚れはステンレス加工品の外観に問題となっている。 Stainless processed products are widely used as stainless steel processed products such as industrial products and household goods because of their excellent corrosion resistance. However, fingerprints adhere to the surfaces of stainless processed products used in areas that are likely to come into contact with human hands during use. When a fingerprint adheres to the surface of a stainless processed product, depending on the viewing angle, the fingerprint adhered portion appears pale or tinged with reddish brown in relation to its surroundings, making the surface look dirty. This fingerprint smudge poses a problem in the appearance of stainless processed products.

この指紋汚れに対する抵抗(以下、「耐指紋性」という。)を付与する方法としては、金属素材表面に撥水、撥油性のある被膜を形成する技術が提案されている。特許文献1には、フッ素化合物を含有するコーティング層を形成することが開示されている。しかしながら、コーティング層を形成することは、金属素材固有の質感を損なうこととなり、耐腐食性に優れるステンレス加工品においてはステンレス固有の特性を損なうことになる。また、発色処理したステンレス加工品においては、コーティング層により色調の変化が生じるという問題がある。 As a method of imparting resistance to fingerprint stains (hereinafter referred to as "fingerprint resistance"), a technique of forming a water- and oil-repellent film on the surface of a metal material has been proposed. Patent Literature 1 discloses forming a coating layer containing a fluorine compound. However, the formation of a coating layer impairs the unique texture of the metal material, and in the case of stainless processed products with excellent corrosion resistance, it impairs the properties inherent in stainless steel. Further, in the case of processed stainless steel products that have undergone coloring treatment, there is a problem that the coating layer causes a change in color tone.

耐指紋性を付与する方法として、特許文献2には、指紋が付着した金属表面の極微細な凹凸に起因する光散乱現象を極小とすることで、指紋が付着しても目立ちにくい金蔵表面を形成することが提案されている。具体的には、中心線平均粗さ(Ra)が0.5μm以上で、かつ、表面粗さのパワースペクトル解析で10μm以下の波長領域の凹凸が検出されないこと等が開示されている。しかしながら、かかる金属表面の極微細な凹凸を制御することは、加工品製造の制御が難しく、生産性の観点からも、耐指紋性を付与する方法として適切ではない。 As a method for imparting anti-fingerprint properties, Patent Document 2 discloses that a metal surface on which fingerprints are adhered is inconspicuous by minimizing the light scattering phenomenon caused by the extremely fine unevenness of the metal surface. It is proposed to form Specifically, it is disclosed that the center line average roughness (Ra) is 0.5 μm or more, and that unevenness in a wavelength range of 10 μm or less is not detected by power spectrum analysis of surface roughness. However, it is difficult to control the production of processed products by controlling such ultrafine irregularities on the metal surface, and from the viewpoint of productivity, it is not suitable as a method for imparting anti-fingerprint properties.

特許文献3には、ステンレス鋼にブラスト処理及び電解研磨処理を行うことで、指紋隠蔽性、耐食性、洗浄性等の優れる表面凹凸形状の面内均一性に優れたステンレス鋼の製造方法が開示されている。しかしながら、かかる方法を採用しても耐指紋性は、必ずしも満足のいくものではない。 Patent Literature 3 discloses a method for producing stainless steel having excellent in-plane uniformity of uneven surface shape with excellent fingerprint hiding properties, corrosion resistance, washability, etc., by subjecting stainless steel to blasting and electropolishing. ing. However, even if such a method is adopted, the fingerprint resistance is not necessarily satisfactory.

特開2015-221528号公報JP 2015-221528 A 特開平11-226606号公報JP-A-11-226606 特許第5860991号公報Japanese Patent No. 5860991

本発明は、耐指紋性に優れ、かつ表面の色むらがないステンレス加工品及び発色処理したステンレス加工品並びにその製造方法を提供するものである。 The present invention provides a stainless steel product excellent in fingerprint resistance and free from surface color unevenness, a stainless steel product subjected to coloring treatment, and a method for producing the same.

本発明の課題は、以下の態様により解決できる。具体的には、 The problems of the present invention can be solved by the following aspects. In particular,

(態様1) 研削材と圧縮空気の混合物をステンレス加工品表面に吹き付けることにより、前記ステンレス加工品表面に凹凸面を形成するサンドブラスト処理工程、サンドブラスト処理されたステンレス加工品を電解洗浄剤中で前記ステンレス加工品を陽極として陽極電解洗浄を行う電解洗浄処理工程、電解洗浄処理されたステンレス加工品表面を電解研磨する電解研磨処理工程、とからなることを特徴とする表面に凹凸面が形成されたステンレス加工品の製造方法である。
サンドブラスト処理後に電解洗浄を行うことにより、サンドブラスト処理によりステンレス加工表面に残った微細な研削材及び研削されたステンレス屑が除去されて、電解研磨処理によってステンレス加工品表面に形成される表面凹凸が均一となり、ステンレス加工表面の光散乱が付着託指の隠蔽に効果的に作用するからである。
(Aspect 1) A sandblasting step of forming an uneven surface on the surface of the stainless steel workpiece by blowing a mixture of an abrasive and compressed air onto the surface of the stainless steel workpiece ; An electrolytic cleaning treatment step in which anodic electrolytic cleaning is performed using a stainless processed product as an anode , and an electrolytic polishing treatment step in which the electrolytically cleaned stainless steel processed product surface is electrolytically polished. A method for manufacturing a stainless processed product.
By performing electrolytic cleaning after sandblasting, the fine abrasives remaining on the surface of the stainless steel processed by sandblasting and the ground stainless steel shavings are removed. This is because the light scattering on the stainless-steel processed surface effectively acts to conceal the adhered finger.

(態様2) 研削材と圧縮空気の混合物をステンレス加工品表面に吹き付けることにより、前記ステンレス加工品表面に凹凸面を形成するサンドブラスト処理工程、サンドブラスト処理されたステンレス加工品を電解洗浄剤中で前記ステンレス加工品を陽極として陽極電解洗浄を行う電解洗浄処理工程、電解洗浄処理されたステンレス加工品表面を、電解研磨する電解研磨処理工程、電解研磨処理されたステンレス加工品を、クロム酸と硫酸の混合溶液からなる発色処理液に浸漬して、ステンレス加工品表面に発色皮膜を形成する発色処理工程、発色処理されたステンレス加工品を、クロム酸とリン酸の混合溶液からなる硬化処理液に浸漬して、発色処理工程で形成された発色皮膜を硬化する硬化処理工程、とからなることを特徴とする表面に凹凸面が形成された化学発色ステンレス加工品の製造方法である。
サンドブラスト処理後に電解洗浄を行うことにより、サンドブラスト処理によりステンレス加工表面に残った微細な研削材及び研削されたステンレス屑が除去されて、電解研磨処理によってステンレス加工品表面に形成される表面凹凸が均一となり、発色処理したステンレス加工表面の光散乱が付着託指の隠蔽に効果的に作用するからである。
(Aspect 2) A sandblasting step of forming an uneven surface on the surface of the stainless steel workpiece by blowing a mixture of an abrasive and compressed air onto the surface of the stainless steel workpiece ; An electrolytic cleaning process in which anodic electrolytic cleaning is performed using a stainless steel product as an anode , an electrolytic polishing process in which the surface of the electrolytically cleaned stainless steel product is electrolytically polished, and an electrolytically polished stainless steel product is subjected to chromic acid and sulfuric acid. A coloring treatment process in which a colored film is formed on the surface of a stainless steel product by immersing it in a coloring treatment liquid consisting of a mixed solution, and the stainless steel product that has undergone coloring treatment is immersed in a hardening treatment liquid consisting of a mixed solution of chromic acid and phosphoric acid. and a curing treatment step of curing the coloring film formed in the coloring treatment step.
By performing electrolytic cleaning after sandblasting, the fine abrasives remaining on the surface of the stainless steel processed by sandblasting and the ground stainless steel shavings are removed. This is because the light scattering on the colored stainless steel processed surface effectively acts to hide the adhered finger.

本発明によれば、サンドブラスト処理後に電解洗浄を行うことにより、ステンレス加工品の表面凹凸が均一となり、表面凹凸による光散乱が指紋隠蔽に効果的となり、耐指紋性に優れ、かつ色むらがない、ステンレス加工品を実現できる。 According to the present invention, by performing electrolytic cleaning after sandblasting, the surface unevenness of the stainless steel processed product becomes uniform, light scattering due to the surface unevenness is effective for hiding fingerprints, and the product has excellent fingerprint resistance and no color unevenness. , stainless steel processed products can be realized.

本発明のステンレス加工品の製造方法を構成する工程の流れを示す工程図である。FIG. 2 is a process chart showing the flow of steps constituting the method for manufacturing a stainless processed product of the present invention. 本発明の発色ステンレス加工品の製造方法を構成する工程の流れを示す工程図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is process drawing which shows the flow of the process which comprises the manufacturing method of the colored stainless steel processed goods of this invention. 本発明の製造方法により作製した発色ステンレス加工品の外観を示す写真である。1 is a photograph showing the appearance of a colored stainless processed product produced by the production method of the present invention.

図1は、本発明の耐指紋性に優れる表面凹凸を有するステンレス加工品の製造方法を構成する工程の流れを示す工程図である。本発明の耐指紋性に優れる表面凹凸を有するステンレス加工品は、サンドブラスト処理、電解洗浄処理、電解研磨処理をこの順によって行うことにより製造することができる。特に、サンドブラスト処理後に電解洗浄処理を行うことで耐指紋性が向上する。
図2は、本発明の耐指紋性に優れる表面凹凸を有する発色ステンレス加工品の製造方法を構成する工程の流れを示す工程図である。本発明の耐指紋性に優れる表面凹凸を有する発色ステンレス加工品は、サンドブラスト処理、電解洗浄処理、電解研磨処理、発色処理、硬化処理をこの順によって行うことにより製造することができる。サンドブラスト処理後に電解洗浄処理を行うことで耐指紋性が向上する点は、図1に示したステンレス加工品と同様である。
以下、本発明において、処理対象となる金属材及び金属材加工品、並びに処理方法であるサンドブラスト処理工程、電解洗浄工程、電解研磨処理工程、発色処理工程、硬化処理工程の順に説明し、併せて評価方法についても説明する。なお、本発明は以下の発明を実施するための態様に限定されるものではない。
FIG. 1 is a process diagram showing the flow of steps constituting the method for producing a stainless processed product having surface irregularities with excellent anti-fingerprint properties according to the present invention. The stainless processed article of the present invention having surface irregularities with excellent anti-fingerprint properties can be produced by performing sandblasting, electrolytic cleaning, and electrolytic polishing in this order. In particular, the anti-fingerprint property is improved by performing the electrolytic cleaning treatment after the sandblasting treatment.
FIG. 2 is a process chart showing the flow of steps constituting the method for producing a colored stainless processed product having surface irregularities with excellent anti-fingerprint properties according to the present invention. The colored stainless steel product having surface irregularities with excellent anti-fingerprint properties of the present invention can be produced by performing sandblasting, electrolytic cleaning, electrolytic polishing, coloring, and curing in this order. It is the same as the stainless processed product shown in FIG. 1 in that the anti-fingerprint property is improved by performing the electrolytic cleaning treatment after the sandblasting treatment.
Hereinafter, in the present invention, the metal material and the processed metal material to be treated, and the sandblasting process, the electrolytic cleaning process, the electrolytic polishing process, the coloring process, and the hardening process, which are the processing methods, will be described in this order. The evaluation method will also be explained. In addition, this invention is not limited to the aspect for implementing the following invention.

(1)金属材
本発明において使用する金属材としては、サンドブラスト処理、電解洗浄処理、電解研磨処理により表面凹凸加工が可能であって、かつ化学発色処理が可能な金属材であれば、オーステナイト系ステンレス鋼、フェライト系ステンレス鋼などのステンレス鋼材に限定されるものではない。具体的には、アルミ、アルミ合金、鉄、鉄合金、ステンレス、ニッケル、ニッケル合金、チタン、チタン合金、マグネシウム、マグネシウム合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、亜鉛、又は、亜鉛合金等が挙げられ、さらに公知の金属材料も使用することができる。
(1) Metal material As the metal material used in the present invention, if the metal material can be subjected to surface unevenness processing by sandblasting, electrolytic cleaning, and electrolytic polishing, and can be chemically colored, austenitic It is not limited to stainless steel materials such as stainless steel and ferritic stainless steel. Specifically, aluminum, aluminum alloys, iron, iron alloys, stainless steel, nickel, nickel alloys, titanium, titanium alloys, magnesium, magnesium alloys, tungsten, tungsten alloys, molybdenum, molybdenum alloys, zinc, zinc alloys, etc. and known metal materials can also be used.

アルミ及びアルミ合金としては、例えばAlを40質量%以上含むあるいは、80質量%以上含む、あるいは99質量%以上含むものを使用することができる。例えば、JIS H 4000~JIS H 4180、JIS H 5202、JIS H 5303あるいはJIS Z 3232~JIS Z 3263に規格されているアルミ及びアルミ合金を用いることができる。例えば、JIS H 4000に規格されているアルミニウムの合金番号1085、1080、1070、1050、1100、1200、1N00、1N30に代表される、Al:99.00質量%以上のアルミニウム又はその合金等を用いることができる。 As the aluminum and aluminum alloy, for example, those containing 40% by mass or more, 80% by mass or more, or 99% by mass or more of Al can be used. For example, aluminum and aluminum alloys compliant with JIS H 4000 to JIS H 4180, JIS H 5202, JIS H 5303, or JIS Z 3232 to JIS Z 3263 can be used. For example, aluminum with 99.00% by mass or more of Al, represented by alloy numbers 1085, 1080, 1070, 1050, 1100, 1200, 1N00, and 1N30 standardized in JIS H 4000, or an alloy thereof is used. be able to.

鉄合金としては、例えばステンレス、軟鋼、炭素鋼、鉄ニッケル合金、鋼等を用いることができる。例えばJIS G 3101~JIS G 7603、JIS C 2502~JIS C 8380、JIS A 5504~JIS A 6514またはJIS E 1101~JIS E 5402-1に記載されている鉄または鉄合金を用いることができる。
ステンレスは、SUS 301、SUS 304、SUS 310、SUS 316、SUS 430、SUS 631(いずれもJIS規格)などを用いることができる。軟鋼は、炭素が0.15質量%以下の軟鋼を用いることができ、JIS G3141に記載の軟鋼等を用いることができる。鉄ニッケル合金は、Niを35~85質量%含み、残部がFe及び不可避不純物からなり、具体的には、JIS C2531に記載の鉄ニッケル合金等を用いることができる。
Examples of iron alloys that can be used include stainless steel, mild steel, carbon steel, iron-nickel alloys, and steel. For example, iron or iron alloys described in JIS G 3101 to JIS G 7603, JIS C 2502 to JIS C 8380, JIS A 5504 to JIS A 6514 or JIS E 1101 to JIS E 5402-1 can be used.
As stainless steel, SUS 301, SUS 304, SUS 310, SUS 316, SUS 430, SUS 631 (all of which are JIS standards) or the like can be used. Mild steel having a carbon content of 0.15% by mass or less can be used, and mild steel described in JIS G3141 can be used. The iron-nickel alloy contains 35 to 85% by mass of Ni, with the balance being Fe and unavoidable impurities. Specifically, an iron-nickel alloy described in JIS C2531 or the like can be used.

ニッケル及びニッケル合金としては、例えばNiを40質量%以上含むあるいは、80質量%以上含む、あるいは99.0質量%以上含むものを使用することができる。例えば、JIS H 4541~JIS H 4554、JIS H 5701またはJIS G 7604~ JIS G 7605、JIS C 2531に規格されているニッケルまたはニッケル合金を用いることができる。また、例えば、JIS H4551に記載の合金番号NW2200、NW2201に代表される、Ni:99.0質量%以上のニッケル又はその合金等を用いることができる。 As nickel and nickel alloys, nickel containing 40% by mass or more, 80% by mass or more, or 99.0% by mass or more can be used. For example, nickel or a nickel alloy standardized in JIS H 4541 to JIS H 4554, JIS H 5701, JIS G 7604 to JIS G 7605, and JIS C 2531 can be used. Further, for example, nickel having a Ni content of 99.0% by mass or more, represented by alloy numbers NW2200 and NW2201 described in JIS H4551, or an alloy thereof can be used.

チタン及びチタン合金としては、例えばTiを40質量%以上含むあるいは、80質量%以上含む、あるいは99.0質量%以上含むものを使用することができる。例えば、JIS H 4600~JIS H 4675、JIS H 5801に規格されているチタン及びチタン合金を用いることができる。 Titanium and titanium alloys that contain Ti in an amount of 40% by mass or more, 80% by mass or more, or 99.0% by mass or more can be used. For example, titanium and titanium alloys compliant with JIS H 4600 to JIS H 4675 and JIS H 5801 can be used.

マグネシウム及びマグネシウム合金としては、例えばMgを40質量%以上含むあるいは、80質量%以上含む、あるいは99.0質量%以上含むものを使用することができる。例えば、JIS H 4201~JIS H 4204、JIS H 5203~JIS H 5303、JIS H 6125に規格されているマグネシウム及びマグネシウム合金を用いることができる。 Magnesium and magnesium alloys that contain, for example, 40% by mass or more, 80% by mass or more, or 99.0% by mass or more of Mg can be used. For example, magnesium and magnesium alloys specified in JIS H 4201 to JIS H 4204, JIS H 5203 to JIS H 5303, and JIS H 6125 can be used.

タングステン及びタングステン合金としては、例えばWを40質量%以上含むあるいは、80質量%以上含む、あるいは99.0質量%以上含むものを使用することができる。例えば、JIS H 4463に規格されているタングステン及びタングステン合金を用いることができる。 As the tungsten and tungsten alloy, for example, those containing 40% by mass or more of W, 80% by mass or more, or 99.0% by mass or more of W can be used. For example, tungsten and tungsten alloys specified in JIS H 4463 can be used.

モリブデン及びモリブデン合金としては、例えばMoを40質量%以上含むあるいは、80質量%以上含む、あるいは99.0質量%以上含むものを使用することができる。 As molybdenum and molybdenum alloys, those containing 40% by mass or more, 80% by mass or more, or 99.0% by mass or more of Mo can be used.

(2)金属材加工品
本発明の金属材加工品としては、塗装などの表面被覆層を形成していない無垢表面を有する金属材加工物品、具体的には、建築用資材(手摺、フェンス)、食品製造装置(切断機、洗浄機、ミキサー、熱交換器)、食品用ショーケース等がある。また、化学発色処理を行って優れた美観を呈する意匠性に優れた金属材加工物品がある。これらは、完成品、部品を問わない。具体的には、建築用資材(例えば、釘、ボルト、ナット、ネジ、ヤスリ、線材、パイプ、鋼板、ホース継手、鍵穴キャップ等)、日用品(例えば、マグカップ、スプーン、ホーク、メガネフレーム、しおり、カゴ、椅子、机、魔法瓶、玩具、爪切り等)、水回り用品(シンク、浴槽、システムキッチン、水切りプレート、洗いかご等)、服飾用品(ホック、ボタン、かんざし、バックル、ファスナー、メダル等)、機械部品(チェーン、フリクションリング、マニホールド、自動車のボディー、自転車のフレーム、車いすのフレーム等)、その他広告パネル等がある。
金属材加工品は化学発色処理をした金属材を加工したものでも、金属材を加工した後に化学発色処理をしたもののいずれでもよい。
(2) Metal material processed product The metal material processed product of the present invention includes a metal material processed product having a solid surface on which no surface coating layer such as coating is formed, specifically construction materials (handrails, fences). , food manufacturing equipment (cutting machines, washing machines, mixers, heat exchangers), food showcases, etc. In addition, there is a metal material processed article excellent in design property that exhibits an excellent aesthetic appearance by performing a chemical coloring treatment. These may be finished products or parts. Specifically, construction materials (e.g., nails, bolts, nuts, screws, files, wire rods, pipes, steel plates, hose joints, keyhole caps, etc.), daily necessities (e.g., mugs, spoons, forks, eyeglass frames, bookmarks, Baskets, chairs, desks, thermos bottles, toys, nail clippers, etc.), plumbing supplies (sinks, bathtubs, system kitchens, draining plates, washing baskets, etc.), clothing accessories (hooks, buttons, hairpins, buckles, fasteners, medals, etc.) , mechanical parts (chains, friction rings, manifolds, car bodies, bicycle frames, wheelchair frames, etc.), and other advertising panels.
The processed metal material may be a metal material that has undergone a chemical coloring treatment, or a metal material that has been processed and then subjected to a chemical coloring treatment.

(3)サンドブラスト処理
サンドブラスト処理は、投射材(研削材や研磨剤と称されることもある。)を被処理体に衝突させて表面処理を行うものである。投射材の投射方法には、機械式、空気式、湿式がある。空気式には、負圧によって投射材を運ぶバキューム式と、正圧によって投射材を運ぶ直圧式がある。
サンドブラスト処理工程において、金属材表面を効率良く加工するために本工程で使用される投射材としては、金属材より高硬度(例えば、モース硬度で6以上、より好適には8以上のもの)な無機材料を使用することが好ましく、球形あるいは多角形などの角のある粒子が好ましく、とくに角のある粒子が好ましい。具体例としては、ガラスビーズ、ジルコニア粒子、スチールグリッド、アルミナ粒子、シリカ粒子、炭化ケイ素粒子などがある。
(3) Sandblasting In sandblasting, a projecting material (sometimes referred to as an abrasive or an abrasive) is made to collide with an object to perform surface treatment. There are mechanical, pneumatic, and wet methods for projecting the projectile material. The pneumatic type includes a vacuum type that carries the projection material by negative pressure and a direct pressure type that carries the projection material by positive pressure.
In the sandblasting process, the blasting material used in this process for efficiently processing the surface of the metal material should have a hardness higher than that of the metal material (for example, Mohs hardness of 6 or more, more preferably 8 or more). It is preferred to use inorganic materials, preferably angular particles such as spheres or polygons, particularly angular particles. Specific examples include glass beads, zirconia particles, steel grids, alumina particles, silica particles, silicon carbide particles and the like.

投射材の粒度(番手)は、#70~#800のものが好ましく、#90~#500のものがより好ましい。粒度が#70より小さいものは粒子径が大きく、処理品のヘイズが高くなり、視認性が低下する傾向となる。粒度が#800を超えるものは、粒子径が小さいために、サンドブラスト処理が非効率となりやすいからである。 The particle size (number) of the shot material is preferably #70 to #800, more preferably #90 to #500. If the particle size is smaller than #70, the particle size is large, the haze of the treated product becomes high, and the visibility tends to decrease. This is because particles with a particle size exceeding #800 tend to be inefficient in sandblasting due to their small particle size.

投射材が金属材に投射されるときの投射圧は、0.05~1MPaが好ましく、0.1~0.5MPaがより好ましい。投射圧が0.05未満であると、投射圧が低いために、サンドブラスト工程が非効率となり、かつばらつきのある凹凸表面が形成されやすい。投射圧が1MPaを超えると、投射材が金属材表面に到達するときの衝突エネルギーが大きくなりやすく、処理面の凹凸の形状が大きくなり、化学発色処理をした金属材表面の色調が劣ることになるからである。 The projection pressure when the projection material is projected onto the metal material is preferably 0.05 to 1 MPa, more preferably 0.1 to 0.5 MPa. If the blasting pressure is less than 0.05, the sandblasting process becomes inefficient due to the low blasting pressure, and uneven surfaces with variations are likely to be formed. When the blasting pressure exceeds 1 MPa, the collision energy when the blasting material reaches the surface of the metal material tends to increase, the shape of the unevenness on the treated surface becomes large, and the color tone of the surface of the metal material that has undergone chemical coloring treatment deteriorates. Because it becomes.

投射材を金属材に投射するときの投射角度は、金属材表面を0°とした場合に、10~90°とすることが好ましい。10°未満だと、サンドブラスト工程が非効率となりやすいからである。効率性を考慮すると、投射角度は、好ましくは15°以上、より好ましくは20°以上である。 When the projection material is projected onto the metal material, the projection angle is preferably 10 to 90 degrees when the surface of the metal material is assumed to be 0 degrees. This is because if the angle is less than 10°, the sandblasting process tends to be inefficient. Considering efficiency, the projection angle is preferably 15° or more, more preferably 20° or more.

投射材を金属材表面に投射するときの投射距離(投射開始位置から金属材板面までの距離)は、5~300mmが好ましく、10~250mmがより好ましい。1mm未満だと、衝突エネルギーが大きくなり、金属材処理面のヘイズが高くなり、視認性が低下する。400mmを超えると、サンドブラスト処理が非効率となりやすいからである。 The projection distance (the distance from the projection start position to the surface of the metal plate) when the projection material is projected onto the surface of the metal material is preferably 5 to 300 mm, more preferably 10 to 250 mm. If it is less than 1 mm, the impact energy increases, the haze on the treated surface of the metal material increases, and the visibility decreases. This is because sandblasting tends to become inefficient when the thickness exceeds 400 mm.

投射材を金属材表面に投射するときの投射量は、50~300g/minが好ましく、100~200g/minがより好ましい。50g/min未満であるとサンドブラスト処理が非効率となりやすく、300g/minを超えると、処理品に目視で確認できる程度のムラが発生しやすくなるからである。 When the projection material is projected onto the surface of the metal material, the amount of projection is preferably 50 to 300 g/min, more preferably 100 to 200 g/min. If it is less than 50 g/min, the sandblasting process tends to be inefficient, and if it exceeds 300 g/min, unevenness that can be visually confirmed tends to occur in the processed product.

(4)電解洗浄処理
電解洗浄は、電解液中で被処理体を陽極または陰極として電解する洗浄方法である。被処理体表面から発生するガスの攪拌作用により汚れが除去される。被処理体を陽極とする陽極電解洗浄法は、被処理体表面に発生する酸素ガスにより有機物汚れが酸化反応を受け破壊される効果がある。陽極電解洗浄法は不純物に強く、水素脆性を防ぐこともできる。被処理体を陰極とする陰極電解洗浄法は、被処理体表面に水素ガスが発生する。同じ電流密度で電解するとガス発生量は、陽極電解洗浄法の2倍量で、ガスによる攪拌効果による洗浄性が高い。水素脆性が問題となる素材は、後処理で水素除去処理を行う必要がある。
本発明では、被処理体を陽極とする陽極電解洗浄法が好ましい。
(4) Electrolytic Cleaning Treatment Electrolytic cleaning is a cleaning method in which an object to be treated is electrolyzed as an anode or a cathode in an electrolytic solution. Dirt is removed by the stirring action of the gas generated from the surface of the object to be treated. The anodic electrolytic cleaning method, in which the object to be treated is used as an anode, has the effect of destroying the organic stains through an oxidation reaction caused by the oxygen gas generated on the surface of the object to be treated. The anodic electrolytic cleaning method is resistant to impurities and can also prevent hydrogen embrittlement. In the cathodic electrolytic cleaning method in which the object to be treated is used as a cathode, hydrogen gas is generated on the surface of the object to be treated. When electrolyzed at the same current density, the amount of gas generated is twice that of the anodic electrolytic cleaning method, and the cleaning performance is high due to the stirring effect of the gas. Materials that pose a problem of hydrogen embrittlement must be post-processed to remove hydrogen.
In the present invention, an anodic electrolytic cleaning method using the object to be treated as an anode is preferred.

電解洗浄は、一般的にアルカリ水溶液中で行うが、酸水溶液中で行う電解酸洗浄がある。電解酸洗浄は、酸によるスケールと錆の溶解力、電気分解により発生するガス(酸素、水素)の攪拌作用、水素による還元力を利用できる。電解酸洗浄は鉄鋼系素材だけに使用されている。
本発明では、電解酸洗浄が好ましい。
Electrolytic cleaning is generally carried out in an alkaline aqueous solution, but there is also electrolytic acid cleaning carried out in an acid aqueous solution. Electrolytic acid cleaning can utilize the dissolving power of acid for scale and rust, the stirring action of gases (oxygen and hydrogen) generated by electrolysis, and the reducing power of hydrogen. Electrolytic acid cleaning is used only for steel-based materials.
Electrolytic acid cleaning is preferred in the present invention.

電解洗浄に用いる電解液には、緩衝作用によるPHの確保、汚れの乳化・分散作用、硬水軟化作用を有する無機酸塩(炭酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩)、汚れ成分への湿潤・浸透・再付着防止作用を有する界面活性剤、金属イオンの補足・酸化膜の除去作用を有するキレート剤を添加することができる。 Electrolytic solutions used for electrolytic cleaning include inorganic acid salts (carbonates, silicates, phosphates) that ensure pH by buffering, emulsifying and dispersing dirt, softening water hardness, and wetting and moistening dirt components. Surfactants having permeation and anti-redeposition actions, and chelating agents having metal ion trapping and oxide film removal actions can be added.

電解酸洗浄の条件(電解液組成、処理温度、処理時間、電流密度)は、被処理体により好適に選択することができる。一般的には、処理温度は15~50℃、処理時間は30~180min、電流密度は3~10A/dm2である。 The conditions of electrolytic acid cleaning (electrolytic solution composition, treatment temperature, treatment time, current density) can be suitably selected depending on the object to be treated. Generally, the treatment temperature is 15-50° C., the treatment time is 30-180 min, and the current density is 3-10 A/dm 2 .

(5)電解研磨処理
電解研磨は、金属に応じた電解研磨溶液中で、金属をプラスとして直流電流を流して、微細な凹凸のある金属表面の凸部分の溶解により金属表面を平滑化し光沢化する研磨方法である。バフ研磨などの物理的研磨により発生した汚れ、異物、加工変質層を除去できる。
(5) Electropolishing treatment Electropolishing is performed by applying a direct current to the metal in an electropolishing solution suitable for the metal, and dissolving the convex portions of the metal surface with fine unevenness to smooth and gloss the metal surface. It is a polishing method that It is possible to remove dirt, foreign matter, and a work-affected layer generated by physical polishing such as buffing.

電解研磨液の種類は過酸化水素水,氷酪酸,燐酸,硫酸,硝酸,クロム酸,重クロム酸ソーダ等の単独または混合酸性水溶液が好ましい。その他、添加剤としてエチレングリコールモノエチルエーテル,エチレングリコールモノブチルエステルやグリセリンを使用することができる。これら添加剤は電解液を安定化させ、濃度変化、経時変化、使用による劣化に対して適正電解範囲を広げる効果がある。 The electropolishing liquid is preferably a single or mixed acidic aqueous solution of hydrogen peroxide, glacial butyric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, nitric acid, chromic acid, sodium dichromate, and the like. In addition, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ester and glycerin can be used as additives. These additives have the effect of stabilizing the electrolytic solution and widening the range of appropriate electrolysis against changes in concentration, changes over time, and deterioration due to use.

具体的には、40~80vol%リン酸、5~30vol%硫酸、15~20vol%水、0~35vol%エチレングリコールからなる電解液中で、40~70℃、3~10min、直流(10~30V、3~60A/dm3)で行うことができる。 Specifically, in an electrolytic solution consisting of 40 to 80 vol% phosphoric acid, 5 to 30 vol% sulfuric acid, 15 to 20 vol% water, and 0 to 35 vol% ethylene glycol, 40 to 70 ° C., 3 to 10 min, direct current (10 to 30 V, 3-60 A/dm 3 ).

(6)発色処理
発色処理により、サンドブラスト処理、電解研磨処理を経た金属材表面に極薄の光透過性酸化皮膜(以下、「発色皮膜」という。)が形成される。金属材は発色皮膜による光の干渉作用を利用して発色する。金属材の素地表面が持つ美麗さを反映した趣のある色調を発現させることが可能である。以下は、ステンレス加工品を具体例として述べる。
(6) Color-developing treatment By color-developing treatment, an ultra-thin light-transmitting oxide film (hereinafter referred to as "color-developing film") is formed on the surface of the metal material that has undergone sandblasting and electropolishing. The metal material develops color by utilizing the light interference effect of the color-developing film. It is possible to express a tasteful color tone that reflects the beauty of the base surface of the metal material. A stainless processed product will be described below as a specific example.

(6-1)発色処理
発色方法としては、硫酸とクロム酸との混合液(以下、「発色溶液」という。)中にステンレス加工品を陽極として直流による電気分解を行い、水溶液中に浸漬した参照電極との電位差により所望する発色皮膜を生成する、いわゆるインコ法を採用する(特開昭48-011243号公報参照)。
光の干渉ピークから光学的に発色皮膜の厚みを求めると、ステンレス加工品の表面に生成される発色皮膜の厚みは、陽極と参照極との電位差(以下、「発色電位」という。)に比例する。その値は、各色調において、6mV(ブルー:90nm)、13mV(ゴールド:150nm)、16mV(レッド:180nm)、19.5mV(グリーン:220nm)である(竹内 武著、実務表面技術33巻11号、1986年 参照)。この発色皮膜の厚みは、ステンレス加工品に生成されている不動態皮膜の厚み(1~3nm)に比べて有意に大きい。
したがって、発色ステンレス加工品に生じる色ムラは、発色皮膜の厚みのばらつきにより生じるため、発色皮膜の厚みを制御することが肝要である。
(6-1) Color-developing treatment As a color-developing method, a stainless processed product was electrolyzed with a direct current in a mixed solution of sulfuric acid and chromic acid (hereinafter referred to as "color-developing solution"), and then immersed in an aqueous solution. A so-called inco method is employed in which a desired colored film is formed by a potential difference with a reference electrode (see JP-A-48-011243).
When the thickness of the coloring film is optically obtained from the light interference peak, the thickness of the coloring film formed on the surface of the stainless processed product is proportional to the potential difference between the anode and the reference electrode (hereinafter referred to as "coloring potential"). do. The values are 6 mV (blue: 90 nm), 13 mV (gold: 150 nm), 16 mV (red: 180 nm), and 19.5 mV (green: 220 nm) in each color tone (Takeshi Takeuchi, Jitsugyo Onsen Gijutsu, Vol. 33, 11 No., 1986). The thickness of this colored film is significantly larger than the thickness (1 to 3 nm) of the passive film formed on the stainless processed product.
Therefore, it is important to control the thickness of the colored film because the color unevenness in the colored stainless processed product is caused by the variation in the thickness of the colored film.

(6-2)発色皮膜
発色皮膜の生成速度を低くすることで、色調の発現を穏やかにして、色むらを低減することができる。ステンレス加工品の表面に生成される発色皮膜の厚みは、発色電位と相関があるからである。
発色溶液中の硫酸とクロム酸の混合比(クロム酸/硫酸)は、クロム酸15~30wt/vl%に対し、硫酸40~50wt/vl%が好適である。クロム酸濃度を低減することで、発色皮膜の生成速度を低くすることができ、発色皮膜の生成厚みを精密に制御できるからである。
発色皮膜の生成速度は、発色電位速度(mV/sec)で制御することができる。発色電位速度は、0.02~0.08mV/sec、好ましくは0.050~0.065mV/secである。発色電位速度が0.02mV/sec未満であると発色皮膜の生成が遅れ生産性が低下するからである。発色電位速度が0.08mV/secを超えると生成した発色皮膜の厚みが不均一となり、色調の違和感、色ムラが生じるからである。
(6-2) Color-developing film By lowering the generation rate of the color-developing film, it is possible to moderate the expression of color tone and reduce color unevenness. This is because the thickness of the coloring film formed on the surface of the stainless processed product correlates with the coloring potential.
The mixing ratio of sulfuric acid and chromic acid (chromic acid/sulfuric acid) in the coloring solution is preferably 15-30 wt/vl % chromic acid and 40-50 wt/vl % sulfuric acid. This is because by reducing the concentration of chromic acid, the rate of formation of the colored film can be lowered, and the thickness of the formed colored film can be precisely controlled.
The generation speed of the colored film can be controlled by the coloring potential speed (mV/sec). The coloring potential speed is 0.02 to 0.08 mV/sec, preferably 0.050 to 0.065 mV/sec. This is because if the coloring potential speed is less than 0.02 mV/sec, the formation of the coloring film is delayed and the productivity is lowered. This is because if the coloring potential speed exceeds 0.08 mV/sec, the thickness of the formed coloring film becomes uneven, resulting in unnatural color tone and color unevenness.

(6-3)マンガンイオン
発色溶液中のクロム酸濃度の低減に伴う発色皮膜の生成速度を補うために、マンガンイオン(Mn2+)を添加することができる。発色溶液に用いるマンガン塩としては、塩酸マンガン(MnCl)、硫酸マンガン(MnSO)、硝酸マンガン(Mn(NO))などがあり、これらの中の1種または2種以上を用いることができる。発色溶液中のマンガンイオン(Mn2+)濃度は、0.5~300mmol/Lが好ましく、5~150mmol/Lがより好ましい。マンガンイオン(Mn2+)濃度が0.5mmol/L未満では、発色皮膜の生成を促す効果がなく、マンガンイオン(Mn2+)濃度が300mmol/Lを超えると不溶な部分が残って、発色皮膜の生成に影響を及ぼすからである。
(6-3) Manganese Ions Manganese ions (Mn 2+ ) can be added in order to compensate for the rate of formation of a colored film as the concentration of chromic acid in the coloring solution decreases. Manganese salts used in the coloring solution include manganese hydrochloride (MnCl 2 ), manganese sulfate (MnSO 4 ), manganese nitrate (Mn(NO 3 ) 2 ) and the like, and one or more of these may be used. can be done. The manganese ion (Mn 2+ ) concentration in the coloring solution is preferably 0.5 to 300 mmol/L, more preferably 5 to 150 mmol/L. When the manganese ion (Mn 2+ ) concentration is less than 0.5 mmol/L, there is no effect of promoting the formation of the colored film, and when the manganese ion (Mn 2+ ) concentration exceeds 300 mmol/L, an insoluble portion remains and the colored film is formed. This is because it affects generation.

(7)硬化処理
酸化発色させて発色皮膜を形成したステンレス加工品を電解処理して発色皮膜を硬化させる。この硬化処理は、リン酸とクロム酸との混液中で電解によりクロムを発色皮膜の多孔部分に埋め込ませることにより発色皮膜を硬化させる(硬化処理を施し、ステンレス加工品表面に金属光沢を有する各種色調の発色を施すようにしたものである。
(7) Hardening Treatment The stainless steel product on which the colored film is formed by oxidation is electrolytically treated to harden the colored film. In this hardening treatment, the colored film is hardened by filling the pores of the colored film with chromium by electrolysis in a mixed solution of phosphoric acid and chromic acid (hardening treatment is applied to the surface of the stainless processed product to give it a metallic luster). It is intended to give color development of color tone.

(8)評価
無垢および発色ステンレス加工品のいずれについても耐指紋視認性を目視により評価した。また、発色ステンレス加工品については、「60度鏡面光沢度〔Gs(60°)〕」も評価した。
(8) Evaluation Both solid and colored stainless processed products were visually evaluated for anti-fingerprint visibility. In addition, the "60 degree specular glossiness [Gs (60 degrees)]" was also evaluated for the colored stainless processed products.

(8-1)耐指紋視認性
耐指紋視認性の評価は目視で行った。具体的には、人間の手の指(親指)を試験片に3秒間押しつけ、その指紋痕の目立つ程度を目視にて観察し、以下の基準で表記した。
・指紋痕が全く判別できないもの 〇
・指紋痕が明瞭に判別できるもの ×
(8-1) Anti-Fingerprint Visibility The anti-fingerprint visibility was evaluated visually. Specifically, a finger (thumb) of a human hand was pressed against the test piece for 3 seconds, and the degree of conspicuousness of the fingerprint was visually observed, and expressed according to the following criteria.
・Fingerprints that cannot be identified at all 〇 ・Fingerprints that can be clearly identified ×

(8-2)60度鏡面光沢度(Gs60°)
本試験品表面の鏡面状態を数値として表すために、60°鏡面光沢法(Gs60°)を用いた。60°鏡面光沢度の測定方法は、JIS Z8741「鏡面光沢度-測定方法」に記載されており、この記載に基づいて発色ステンレス加工品表面の光沢度を測定した。測定装置は、光沢度計(東洋精機製作所製 グロスメーターU)を用いた。
(8-2) 60 degree specular gloss (Gs60°)
A 60° specular gloss method (Gs60°) was used to express the specular state of the surface of the test product as a numerical value. The method for measuring the 60° specular glossiness is described in JIS Z8741 "Specular glossiness--Measuring method", and the glossiness of the surface of the colored stainless processed product was measured based on this description. A gloss meter (Gloss meter U manufactured by Toyo Seiki Seisakusho) was used as a measuring device.

次に本発明の効果を奏する実施態様を実施例として示す。また、そのまとめを表1に示す。 Next, an embodiment exhibiting the effects of the present invention will be shown as an example. Table 1 shows the summary.

Figure 0007144008000001
Figure 0007144008000001

<実施例1>
(1)サンドブラスト処理
試験片(30×30×1mmt)をサンドブラスト装置(図示せず)に入れ、試験片の主面に対して、以下の条件でサンドブラスト処理を行い、サンドブラスト処理品1を作製した。
〔サンドブラスト処理条件〕
・研削材 ガラスパウダー(#60)
・投射圧 0.4MPa
・投射角度 40°
・投射時間 15sec
・投射距離 50mm
・投射量 450g/min
<Example 1>
(1) Sandblasting A test piece (30 × 30 × 1 mmt) was placed in a sandblasting device (not shown), and the main surface of the test piece was sandblasted under the following conditions to produce a sandblasted product 1. .
[Sandblasting conditions]
・Abrasive glass powder (#60)
・Projection pressure 0.4MPa
・Projection angle 40°
・Projection time 15 sec
・Projection distance 50mm
・Amount of projection 450g/min

(2)電解洗浄処理
サンドブラスト処理品1を以下の条件で電解洗浄処理を行い、電解洗浄処理品1を作製した。
〔電解洗浄処理条件〕
・電解洗浄液組成 亜硫酸ナトリウム100g/L、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル10ml/L、ポリオキシエチレンアルキルエーテル1ml/L、ラウリル硫酸ナトリウム2ml/L
・処理温度 45℃
・処理時間 4min
・電流密度 8.0A/dm2
・超音波処理 1min 基準周波数24.5~27.5kHz
(2) Electrolytic Cleaning Treatment The sandblasted product 1 was subjected to an electrolytic cleaning treatment under the following conditions to produce an electrolytically cleaned product 1 .
[Electrolytic cleaning treatment conditions]
・Electrolytic cleaning liquid composition Sodium sulfite 100 g/L, polyoxyethylene octylphenyl ether 10 ml/L, polyoxyethylene alkyl ether 1 ml/L, sodium lauryl sulfate 2 ml/L
・Processing temperature 45℃
・Processing time 4min
・Current density 8.0A/dm 2
・Ultrasonic treatment 1min Standard frequency 24.5 to 27.5kHz

(3)電解研磨処理
電解洗浄処理品1を以下の条件で、電解研磨処理を行い、電解研磨処理品1(以下、「実施例1品」という。)を作製した。
[電解研磨処理条件]
・電解研磨液組成 リン酸700ml/L、硫酸200ml/L、エチレングリコール0.2ml/L
・処理温度 70℃
・処理時間 8min
・電流密度 8.0A/dm
(3) Electropolishing Treatment Electrolytic polishing treatment was performed on the electrolytically cleaned product 1 under the following conditions to prepare an electrolytically polished product 1 (hereinafter referred to as "Example 1 product").
[Conditions of electropolishing treatment]
・Electropolishing liquid composition Phosphoric acid 700ml/L, sulfuric acid 200ml/L, ethylene glycol 0.2ml/L
・Processing temperature 70℃
・Processing time 8min
・Current density 8.0A/dm 2

<実施例2>
サンドブラスト処理の研削材をガラスビーズ(#200)とした以外は、実施例1と同様にして、電解研磨処理品2(以下、「実施例2品」という。)を作製した。
<Example 2>
Electropolished product 2 (hereinafter referred to as "Example 2 product") was produced in the same manner as in Example 1, except that glass beads (#200) were used as the abrasive for sandblasting.

<実施例3>
サンドブラスト処理の研削材をジルコン(#60)とした以外は、実施例1と同様にして、電解研磨処理品3(以下、「実施例3品」という。)を作製した。
<Example 3>
An electropolished product 3 (hereinafter referred to as "Example 3 product") was produced in the same manner as in Example 1, except that zircon (#60) was used as the abrasive for sandblasting.

<実施例4>
(1)サンドブラスト処理
試験片(30×30×1mmt)をサンドブラスト装置(図示せず)に入れ、試験片の主面に対して、以下の条件でサンドブラスト処理を行い、サンドブラスト処理品4を作製した。
〔サンドブラスト処理条件〕
・研削材 ガラスパウダー(#60)
・投射圧 0.4MPa
・投射角度 40°
・投射時間 15sec
・投射距離 50mm
・投射量 450g/min
<Example 4>
(1) Sandblasting A test piece (30 × 30 × 1 mmt) was placed in a sandblasting device (not shown), and the main surface of the test piece was sandblasted under the following conditions to prepare a sandblasted product 4. .
[Sandblasting conditions]
・Abrasive glass powder (#60)
・Projection pressure 0.4MPa
・Projection angle 40°
・Projection time 15 sec
・Projection distance 50mm
・Amount of projection 450g/min

(2)電解洗浄処理
サンドブラスト処理品1を以下の条件で電解洗浄処理を行い、電解洗浄処理品4を作製した。
〔電解洗浄処理条件〕
・電解洗浄液組成 亜硫酸ナトリウム100g/L、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル10ml/L、ポリオキシエチレンアルキルエーテル1ml/L、ラウリル硫酸ナトリウム2ml/L
・処理温度 45℃
・処理時間 4min
・電流密度 8.0A/dm2
・超音波処理 1min 基準周波数24.5~27.5kHz
(2) Electrolytic Cleaning Treatment The sandblasted product 1 was subjected to an electrolytic cleaning treatment under the following conditions to prepare an electrolytically cleaned product 4 .
[Electrolytic cleaning treatment conditions]
・Electrolytic cleaning liquid composition Sodium sulfite 100 g/L, polyoxyethylene octylphenyl ether 10 ml/L, polyoxyethylene alkyl ether 1 ml/L, sodium lauryl sulfate 2 ml/L
・Processing temperature 45℃
・Processing time 4min
・Current density 8.0A/dm 2
・Ultrasonic treatment 1min Standard frequency 24.5 to 27.5kHz

(3)電解研磨処理
電解洗浄処理品1を以下の条件で、電解研磨処理を行い、電解研磨処理品4を作製した。
[電解研磨処理条件]
・電解研磨液組成 リン酸700ml/L、硫酸200ml/L、エチレングリコール0.2ml/L
・処理温度 70℃
・処理時間 8min
・電流密度 8.0A/dm
(3) Electrolytic Polishing Treatment Electropolishing treatment was performed on the electrolytically cleaned product 1 under the following conditions to prepare an electrolytically polished product 4 .
[Conditions of electropolishing treatment]
・Electropolishing liquid composition Phosphoric acid 700ml/L, sulfuric acid 200ml/L, ethylene glycol 0.2ml/L
・Processing temperature 70℃
・Processing time 8min
・Current density 8.0A/dm 2

(4)発色処理
電解研磨処理品4を以下の条件で発色処理を行い、発色処理品4を作製した。
〔発色処理条件〕
・発色液組成 酸化クロム250g/L、硫酸500g/L
・処理温度 80℃
・処理時間 8min
・発色電位 8mV
(4) Color development treatment Electropolishing product 4 was subjected to color development treatment under the following conditions to prepare color development product 4 .
[Color development processing conditions]
・Coloring solution composition chromium oxide 250g/L, sulfuric acid 500g/L
・Processing temperature 80℃
・Processing time 8min
・Color development potential 8mV

(5)硬化処理
発色処理品4を以下の条件で硬化処理を行い、硬化処理品4(以下、「実施例4品」という。)を作製した。
〔硬化処理条件〕
・硬化液組成 酸化クロム250g/L、リン酸2.5g/L
・処理温度 25℃
・処理時間 10min
・電流密度 0.5A/dm2
(5) Curing treatment Coloring treated product 4 was subjected to curing treatment under the following conditions to prepare cured product 4 (hereinafter referred to as "Example 4 product").
[Curing conditions]
・Hardening liquid composition chromium oxide 250g/L, phosphoric acid 2.5g/L
・Processing temperature 25℃
・Processing time 10min
・Current density 0.5A/dm 2

<実施例5>
サンドブラスト処理の研削材をガラスビーズ(#200)とした以外は、実施例4と同様にして、硬化処理品5(以下、「実施例5品」という。)を作製した。
<Example 5>
Hardened product 5 (hereinafter referred to as “Example 5 product”) was produced in the same manner as in Example 4, except that glass beads (#200) were used as the abrasive for sandblasting.

<実施例6>
サンドブラスト処理の研削材をジルコン(#60)とした以外は、実施例4と同様にして、硬化処理品6(以下、「実施例6品」という。)を作製した。
<Example 6>
A hardened product 6 (hereinafter referred to as “Example 6 product”) was produced in the same manner as in Example 4, except that zircon (#60) was used as the abrasive for sandblasting.

<比較例1>
(1)サンドブラスト処理
試験片(30×30×1mmt)をサンドブラスト装置(図示せず)に入れ、試験片の主面に対して、以下の条件(実施例1と同じ)でサンドブラスト処理を行い、比較例1品を作製した。
〔サンドブラスト処理条件〕
・研削材 ガラスビーズ(#200)
・投射圧 0.4MPa
・投射角度 40°
・投射時間 15sec
・投射距離 50mm
・投射量 450g/min
<Comparative Example 1>
(1) Sandblasting A test piece (30 × 30 × 1 mmt) is placed in a sandblasting device (not shown), and the main surface of the test piece is sandblasted under the following conditions (same as in Example 1), Comparative example 1 product was produced.
[Sandblasting conditions]
・Abrasive glass beads (#200)
・Projection pressure 0.4MPa
・Projection angle 40°
・Projection time 15 sec
・Projection distance 50mm
・Amount of projection 450g/min

<比較例2>
未処理の試験片(30×30×1mmt)を比較例2品とした。
<Comparative Example 2>
An untreated test piece (30×30×1 mmt) was used as Comparative Example 2.

<比較例3>
(1)サンドブラスト処理
試験片(30×30×1mmt)をサンドブラスト装置(図示せず)に入れ、試験片の主面に対して、以下の条件(実施例1と同じ)でサンドブラスト処理を行い、サンドブラスト処理品7を作製した。
〔サンドブラスト処理条件〕
・研削材 ガラスビーズ(#200)
・投射圧 0.4MPa
・投射角度 40°
・投射時間 15sec
・投射距離 50mm
・投射量 450g/min
<Comparative Example 3>
(1) Sandblasting A test piece (30 × 30 × 1 mmt) is placed in a sandblasting device (not shown), and the main surface of the test piece is sandblasted under the following conditions (same as in Example 1), A sandblasted product 7 was produced.
[Sandblasting conditions]
・Abrasive glass beads (#200)
・Projection pressure 0.4MPa
・Projection angle 40°
・Projection time 15 sec
・Projection distance 50mm
・Amount of projection 450g/min

(2)発色処理
サンドブラスト処理品7を以下の条件(実施例5と同じ)で発色処理を行い、発色処理品7を作製した。
〔発色処理条件〕
・発色液組成 酸化クロム250g/L、硫酸500g/L
・処理温度 80℃
・処理時間 8min
・発色電位 8mV
(2) Color-developing treatment The sandblasted product 7 was subjected to color-developing treatment under the following conditions (same as in Example 5) to prepare a color-developing product 7 .
[Color development processing conditions]
・Coloring solution composition chromium oxide 250g/L, sulfuric acid 500g/L
・Processing temperature 80℃
・Processing time 8min
・Color development potential 8mV

(3)硬化処理
発色処理品7を以下の条件(実施例5と同じ)で硬化処理を行い、硬化処理品7(以下、「比較例3品」という。)を作製した。
〔硬化処理条件〕
・硬化液組成 酸化クロム250g/L、リン酸2.5g/L
・処理温度 25℃
・処理時間 10min
・電流密度 0.5A/dm2
(3) Curing treatment Coloring treated product 7 was subjected to curing treatment under the following conditions (same as Example 5) to prepare cured product 7 (hereinafter referred to as "comparative example 3 product").
[Curing conditions]
・Hardening liquid composition chromium oxide 250g/L, phosphoric acid 2.5g/L
・Processing temperature 25℃
・Processing time 10min
・Current density 0.5A/dm 2

<比較例4>
(1)発色処理
試験片(30×30×1mmt)を以下の条件(実施例5と同じ)で発色処理を行い、発色処理品8を作製した。
〔発色処理条件〕
・発色液組成 酸化クロム250g/L、硫酸500g/L
・処理温度 80℃
・処理時間 8min
・発色電位 8mV
<Comparative Example 4>
(1) Color-developing treatment A test piece (30 x 30 x 1 mmt) was subjected to color-developing treatment under the following conditions (same as in Example 5) to prepare a color-developing product 8 .
[Color development processing conditions]
・Coloring solution composition chromium oxide 250g/L, sulfuric acid 500g/L
・Processing temperature 80℃
・Processing time 8min
・Color development potential 8mV

(3)硬化処理
発色処理品8を以下の条件(実施例5と同じ)で硬化処理を行い、硬化処理品8(以下、「比較例4品」という。)を作製した。
〔硬化処理条件〕
・硬化液組成 酸化クロム250g/L、リン酸2.5g/L
・処理温度 25℃
・処理時間 10min
・電流密度 0.5A/dm2
の研削材をガラスビーズ(#200)とした以外は、実施例4と同様にして、硬化処理品5(以下、「実施例5品」という。)を作製した。
(3) Curing treatment The coloring treated product 8 was subjected to a curing treatment under the following conditions (same as in Example 5) to prepare a cured product 8 (hereinafter referred to as "comparative example 4 product").
[Curing conditions]
・Hardening liquid composition chromium oxide 250g/L, phosphoric acid 2.5g/L
・Processing temperature 25℃
・Processing time 10min
・Current density 0.5A/dm 2
Hardened product 5 (hereinafter referred to as "Example 5 product") was produced in the same manner as in Example 4, except that glass beads (#200) were used as the abrasive.

<評価>
(1)60度鏡面光沢度(Gs60°)評価
実施例4品、実施例5品、実施例6品、比較例3品、比較例4品、それぞれについて、60度鏡面光沢度(Gs60°)はJIS Z8741に準拠した光沢度計(東洋精機製作所製 グロスメーターU)を使用して入射角60度で測定した。光沢度は、表1に示す通りである。
また、実施例4品、実施例5品、実施例6品、比較例3品、比較例4品の光反射の状況を図3に示す。60度鏡面光沢度及び光反射の状況から、実施例品は比較例品に比べて光散乱性に優れる。
<Evaluation>
(1) Evaluation of 60-degree specular gloss (Gs60°) For each of Example 4, Example 5, Example 6, Comparative Example 3, and Comparative Example 4, 60-degree specular gloss (Gs60°) was measured at an incident angle of 60 degrees using a JIS Z8741 gloss meter (Toyo Seiki Seisakusho Gloss Meter U). Glossiness is as shown in Table 1.
FIG. 3 shows the states of light reflection of Example 4, Example 5, Example 6, Comparative Example 3, and Comparative Example 4. From the 60-degree specular glossiness and light reflection, the example products are superior in light scattering property to the comparative example products.

(2)耐指紋性評価
指に人工指紋液(伊勢久(株)製、JIS C9606の付属書4に準拠)を付着させたものを、実施例1品~実施例6品及び比較例1品~比較例4品に押し付けて指紋を付着させた。これを目視観察し、以下の基準で評価した。評価結果を表1に示す。実施例品は、いずれも耐指紋性は「〇」であった。
〇:指紋の付着跡が見えない。
×:指紋の付着跡が見える
(2) Anti-fingerprint evaluation A finger to which an artificial fingerprint solution (manufactured by Isekyu Co., Ltd., conforming to Annex 4 of JIS C9606) is attached, is subjected to Example 1 to Example 6 and Comparative Example 1 to A fingerprint was adhered by pressing against the 4 products of Comparative Example. This was visually observed and evaluated according to the following criteria. Table 1 shows the evaluation results. All of the products of the examples had a fingerprint resistance of "O".
◯: No trace of fingerprints is visible.
×: Traces of fingerprints can be seen

本発明により、耐指紋性に優れるステンレス加工品を提供できる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a stainless processed product having excellent anti-fingerprint properties.

Claims (2)

研削材と圧縮空気の混合物をステンレス加工品表面に吹き付けることにより、前記ステンレス加工品表面に凹凸面を形成するサンドブラスト処理工程、
サンドブラスト処理されたステンレス加工品を電解洗浄剤中で前記ステンレス加工品を陽極として陽極電解洗浄を行う電解洗浄処理工程、
電解洗浄処理されたステンレス加工品表面を電解研磨する電解研磨処理工程、
とからなることを特徴とする表面に凹凸面が形成されたステンレス加工品の製造方法。
a sandblasting step of forming an uneven surface on the surface of the stainless steel workpiece by blowing a mixture of an abrasive and compressed air onto the surface of the stainless steel workpiece;
an electrolytic cleaning step of anodic electrolytic cleaning of the sandblasted stainless processed product in an electrolytic cleaning agent using the stainless steel processed product as an anode;
an electrolytic polishing treatment step of electrolytically polishing the surface of the stainless processed product that has been electrolytically cleaned;
A method for manufacturing a stainless processed product having an uneven surface on the surface, characterized by comprising:
研削材と圧縮空気の混合物をステンレス加工品表面に吹き付けることにより、前記ステンレス加工品表面に凹凸面を形成するサンドブラスト処理工程、
サンドブラスト処理されたステンレス加工品を電解洗浄剤中で前記ステンレス加工品を陽極として陽極電解洗浄を行う電解洗浄処理工程、
電解洗浄処理されたステンレス加工品表面を、電解研磨する電解研磨処理工程、
電解研磨処理されたステンレス加工品を、クロム酸と硫酸の混合溶液からなる発色処理液に浸漬して、ステンレス加工品表面に発色皮膜を形成する発色処理工程、
発色処理されたステンレス加工品を、クロム酸とリン酸の混合溶液からなる硬化処理液に浸漬して、発色処理工程で形成された発色皮膜を硬化する硬化処理工程、
とからなることを特徴とする表面に凹凸面が形成された化学発色ステンレス加工品の製造方法。
a sandblasting step of forming an uneven surface on the surface of the stainless steel workpiece by blowing a mixture of an abrasive and compressed air onto the surface of the stainless steel workpiece;
an electrolytic cleaning step of anodic electrolytic cleaning of the sandblasted stainless processed product in an electrolytic cleaning agent using the stainless steel processed product as an anode;
an electrolytic polishing treatment step of electrolytically polishing the surface of the stainless processed product that has been electrolytically washed;
A coloring treatment step of forming a colored film on the surface of the stainless steel processed product by immersing the electropolished stainless steel processed product in a coloring treatment liquid consisting of a mixed solution of chromic acid and sulfuric acid;
A hardening treatment step of immersing the stainless processed product that has undergone the coloring treatment in a hardening treatment liquid consisting of a mixed solution of chromic acid and phosphoric acid to harden the colored film formed in the coloring treatment step;
A method for producing a chemically colored stainless processed product having an uneven surface formed on the surface, characterized by comprising:
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