JP7139590B2 - COMPOSITION FOR CONDUCTOR-FORMING, JOINT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - Google Patents

COMPOSITION FOR CONDUCTOR-FORMING, JOINT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME Download PDF

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Description

本発明は、導体形成用組成物、並びに接合体及びその製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a conductor-forming composition, a joined body, and a method for producing the same.

銅は高い導電性及び熱伝導性を有するため、導体配線材料、熱伝達材料、熱交換材料、放熱材料等として広く用いられている。 Copper has high electrical and thermal conductivity, so it is widely used as a conductor wiring material, a heat transfer material, a heat exchange material, a heat dissipation material, and the like.

近年、フォトリソグラフィに代わる銅パターンの形成方法として、金属を含むインク、ペースト等をインクジェット印刷、スクリーン印刷等により基材上に金属を含む層を形成する工程と、加熱して導電性を発現させる導体化工程とを含む、いわゆるプリンテッドエレクトロニクスが知られている。 In recent years, as a method of forming a copper pattern as an alternative to photolithography, a process of forming a layer containing a metal on a substrate by ink, paste, etc. containing a metal by inkjet printing, screen printing, etc., and heating to express conductivity So-called printed electronics are known, including a conductive process.

印刷により銅パターンを形成する印刷インク又は印刷ペーストとしては、銅ナノ粒子の分散液、金属錯体の溶液又は分散液等が検討されている。しかし、銅は、室温で酸化状態が安定であることから、必ず酸化状態の銅を含む。そのため、銅が導電性及び導熱性を発現するには、酸化状態の銅を還元し、さらに銅の連続体とすることが必要である。 As printing inks or printing pastes for forming copper patterns by printing, dispersions of copper nanoparticles, solutions or dispersions of metal complexes, and the like have been investigated. However, since copper is stable in its oxidation state at room temperature, it always contains copper in its oxidation state. Therefore, in order for copper to exhibit electrical conductivity and thermal conductivity, it is necessary to reduce copper in an oxidized state and further convert it into a copper continuum.

これを解決する方法として、特許文献1には、低温で焼結でき、良好な導電性を発現する被覆銅粒子及びその製造方法が記載されている。特許文献1に記載の銅粒子は、シュウ酸銅等の銅前駆体とヒドラジン等の還元性化合物とを混合して複合化合物を得る工程と、前記複合化合物をアルキルアミンの存在下で加熱する工程とを有する方法によって製造されるものである。特許文献1の実施例では、作製した銅粒子を含むインクをアルゴン雰囲気中、60℃/分で300℃まで加熱して30分保持することで導体化を達成している。また、特許文献2には、導電性金属粉末、有機ビヒクル等を含む導電性ペースト組成物が記載されている。有機バインダー除去を目的に、通常、250℃~330℃、空気雰囲気、窒素雰囲気等で熱処理を施して有機ビヒクルを燃焼させた後、金属粉末が酸化されないように中性または還元雰囲気で850℃~1300℃で焼結することが記載されている。 As a method for solving this problem, Patent Document 1 describes a coated copper particle that can be sintered at a low temperature and exhibits good electrical conductivity, and a method for producing the same. The copper particles described in Patent Document 1 are obtained by mixing a copper precursor such as copper oxalate and a reducing compound such as hydrazine to obtain a composite compound, and a step of heating the composite compound in the presence of an alkylamine. It is manufactured by a method having In the example of Patent Document 1, the ink containing the produced copper particles is heated to 300° C. at 60° C./min in an argon atmosphere and held for 30 minutes to achieve conductivity. Moreover, Patent Document 2 describes a conductive paste composition containing a conductive metal powder, an organic vehicle, and the like. For the purpose of removing the organic binder, heat treatment is usually performed at 250°C to 330°C in an air atmosphere, a nitrogen atmosphere, or the like to burn the organic vehicle, and then the metal powder is heated at 850°C to 850°C in a neutral or reducing atmosphere so that the metal powder is not oxidized. Sintering at 1300° C. is described.

特開2012-072418号公報JP 2012-072418 A 特開2012-226865号公報JP 2012-226865 A

ところで、電子部品の端子の接合材料に用いられる銅パターンの形成工程等においては、より低温で導体化できることが望まれている。例えば、特許文献1の実施例では、300℃まで加熱して導体性が発現しており、これよりも低い温度で導電化が可能な導体形成用組成物が求められている。 By the way, in the process of forming a copper pattern used as a bonding material for terminals of electronic parts, it is desired that the copper pattern can be made conductive at a lower temperature. For example, in the examples of Patent Document 1, the conductive property is exhibited by heating up to 300° C., and there is a demand for a conductor-forming composition that can be made conductive at a temperature lower than this.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、低温(例えば、250℃以下)で導体化が可能であり、金属接合材料として用いることが可能な導体形成用組成物を提供することを主な目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a conductor-forming composition that can be formed into a conductor at a low temperature (e.g., 250° C. or lower) and that can be used as a metal bonding material. is the main purpose.

本発明は、下記(1)~(3)に示す導体形成用組成物、下記(4)、(5)に示す接合体の製造方法、及び下記(6)に示す接合体を提供する。 The present invention provides a conductor-forming composition shown in (1) to (3) below, a method for producing a joined body shown in (4) and (5) below, and a joined body shown in (6) below.

(1)金属銅を含むコア粒子とコア粒子の表面の少なくとも一部を被覆する有機物とを有する第1の粒子と、酸化銅を含む第2の粒子と、分散媒と、を含有する、導体形成用組成物。
(2)第2の粒子の含有量が、第1の粒子100質量部に対して0.5質量部~12質量部である、(1)に記載の導体形成用組成物。
(3)還元剤をさらに含有する、(1)又は(2)に記載の導体形成用組成物。
(4)第一の基材、(1)~(3)のいずれかに記載の導体形成用組成物からなる組成物層、及び第二の基材がこの順に積層されている接合前駆体を用意する工程と、接合前駆体を、不活性ガス、還元性ガス又はこれらの混合ガスのいずれかのガス雰囲気下、120℃~250℃で加熱する工程と、を備える、接合体の製造方法。
(5)ガス雰囲気が、水素ガス又はギ酸ガスを含む雰囲気である、(4)に記載の接合体の製造方法。
(6)第一の基材と、第二の基材と、第一の基材と第二の基材とを接合する導体層と、を備え、導体層が、(1)~(3)のいずれかに記載の導体形成用組成物に含有される第1の粒子及び第2の粒子が焼結してなる焼結体を含む、接合体。
(1) A conductor containing first particles having a core particle containing metallic copper and an organic substance covering at least a part of the surface of the core particle, second particles containing copper oxide, and a dispersion medium Forming composition.
(2) The conductor-forming composition according to (1), wherein the content of the second particles is 0.5 parts by mass to 12 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the first particles.
(3) The conductor-forming composition according to (1) or (2), further containing a reducing agent.
(4) a first base material, a composition layer made of the conductor-forming composition according to any one of (1) to (3), and a second base material, which are laminated in this order. A method of manufacturing a bonded body, comprising the steps of: preparing; and heating a bonding precursor at 120° C. to 250° C. in an atmosphere of an inert gas, a reducing gas, or a mixed gas thereof.
(5) The method for producing a joined body according to (4), wherein the gas atmosphere is an atmosphere containing hydrogen gas or formic acid gas.
(6) A first base material, a second base material, and a conductor layer that joins the first base material and the second base material, wherein the conductor layer comprises (1) to (3) A joined body, comprising a sintered body obtained by sintering the first particles and the second particles contained in the conductor-forming composition according to any one of the above.

本発明によれば、低温(例えば、250℃以下)で導体化が可能であり、金属接合材料として用いることが可能な導体形成用組成物、並びにこれを用いた接合体及びその製造方法が提供される。 According to the present invention, a conductor-forming composition that can be formed into a conductor at a low temperature (e.g., 250° C. or lower) and can be used as a metal bonding material, a bonded body using the same, and a method for producing the same are provided. be done.

導体形成用組成物を用いた接合体の製造方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic cross section for demonstrating one Embodiment of the manufacturing method of the joined body using the composition for conductor formation. 製造例2で合成した第1の粒子の回折角範囲30~80°におけるX線回折(XRD)スペクトルである。4 is an X-ray diffraction (XRD) spectrum in the diffraction angle range of 30 to 80° of the first particles synthesized in Production Example 2. FIG.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Embodiments for carrying out the present invention will be described in detail below. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

本明細書において「~」を用いて示された数値範囲は、「~」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。さらに本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。 In this specification, the numerical range indicated using "to" indicates the range including the numerical values before and after "to" as the minimum and maximum values, respectively. Furthermore, in the present specification, the content of each component in the composition refers to the total amount of the multiple substances present in the composition when there are multiple substances corresponding to each component in the composition, unless otherwise specified. means

本明細書において「導体形成用組成物」とは、焼結させて導電性を有する物体、すなわち「導体」を形成させることが可能な組成物をいう。「導体化」とは、金属を含有する粒子を焼結させて導電性を有する物体に変化させることをいう。「導体」とは、導電性を有する物体をいう。 As used herein, the term "conductor-forming composition" refers to a composition that can be sintered to form a conductive object, that is, a "conductor". “Conductivity” refers to sintering metal-containing particles to transform them into a conductive object. "Conductor" refers to an object having electrical conductivity.

本明細書において「基材」とは、導体形成用組成物からなる組成物層を形成できる面を有する物体をいう。 As used herein, the term "substrate" refers to an object having a surface on which a composition layer made of a conductor-forming composition can be formed.

本明細書において「工程」とは、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。 As used herein, the term "process" includes not only an independent process but also a process that cannot be clearly distinguished from other processes as long as the intended purpose of the process is achieved.

本明細書において「層」とは、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構成に加え、一部に形成されている形状の構成も包含される。 In the present specification, the term "layer" includes not only the configuration of shapes formed over the entire surface but also the configuration of shapes formed partially when observed as a plan view.

本明細書において第1の粒子及び第2の粒子が「焼結」した状態には、第1の粒子及び第2の粒子が完全に又は部分的に融け合って一体化(融着)している状態と、第1の粒子及び第2の粒子が融合せずに接触しているのみの状態のいずれもが含まれる。 In the present specification, the state in which the first particles and the second particles are "sintered" means that the first particles and the second particles are completely or partially fused and integrated (fused). It includes both a state in which the first particle and the second particle are in contact without being fused together.

<導体形成用組成物>
本実施形態の導体形成用組成物は、金属銅を含むコア粒子とコア粒子の表面の少なくとも一部を被覆する有機物とを有する第1の粒子と、酸化銅を含む第2の粒子と、分散媒と、を含有する。このような導体形成用組成物を使用することによって、低温(例えば、250℃以下)で導体化が可能となり得る。
<Conductor-forming composition>
The conductor-forming composition of the present embodiment comprises first particles having core particles containing metallic copper and an organic material covering at least a part of the surfaces of the core particles, second particles containing copper oxide, and dispersed and a medium. By using such a conductor-forming composition, it may become possible to form a conductor at a low temperature (for example, 250° C. or lower).

(第1の粒子)
第1の粒子は、金属銅を含むコア粒子とコア粒子の表面の少なくとも一部を被覆する有機物とを有する。第1の粒子としては、例えば、特開2016-037627の銅含有粒子を好適に用いることができる。
(first particle)
The first particle has a core particle containing metallic copper and an organic substance covering at least part of the surface of the core particle. As the first particles, for example, copper-containing particles disclosed in JP-A-2016-037627 can be suitably used.

特開2016-037627の銅含有粒子は、銅を含むコア粒子と、コア粒子の表面の少なくとも一部に存在するアルキルアミンに由来する物質を含む有機物と、を有し、アルキルアミンは炭化水素基の炭素数が7以下であるアルキルアミンを含む。有機物を構成するアルキルアミンの炭化水素基の鎖長が比較的短いため、比較的低い温度(例えば、150℃以下)でも熱分解し、コア粒子同士が融着し易い。 The copper-containing particles of JP-A-2016-037627 have a core particle containing copper and an organic substance containing an alkylamine-derived substance present on at least a part of the surface of the core particle, and the alkylamine is a hydrocarbon group. contains alkylamines having 7 or less carbon atoms. Since the chain length of the hydrocarbon group of the alkylamine constituting the organic substance is relatively short, thermal decomposition occurs even at a relatively low temperature (for example, 150° C. or less), and the core particles are easily fused together.

有機物は、炭化水素基の炭素数が7以下であるアルキルアミンを含んでいてもよい。炭化水素基の炭素数が7以下であるアルキルアミンは、例えば、1級アミン、2級アミン、アルキレンジアミン等であってよい。1級アミンとしては、エチルアミン、2-エトキシエチルアミン、プロピルアミン、3-エトキシプロピルアミン、ブチルアミン、4-メトキシブチルアミン、イソブチルアミン、ペンチルアミン、イソペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン等を挙げることができる。2級アミンとしては、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、エチルプロピルアミン、エチルペンチルアミン等を挙げることができる。アルキレンジアミンとしては、エチレンジアミン、N,N-ジメチルエチレンジアミン、N,N’-ジメチルエチレンジアミン、N,N-ジエチルエチレンジアミン、N,N’-ジエチルエチレンジアミン、1,3-プロパンジアミン、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジアミン、N,N-ジメチル-1,3-ジアミノプロパン、N,N’-ジメチル-1,3-ジアミノプロパン、N,N-ジエチル-1,3-ジアミノプロパン、1,4-ジアミノブタン、1,5-ジアミノ-2-メチルペンタン、1,6-ジアミノへキサン、N,N’-ジメチル-1,6-ジアミノへキサン、1,7-ジアミノヘプタン等を挙げることができる。 The organic substance may contain an alkylamine having a hydrocarbon group with 7 or less carbon atoms. The alkylamine having a hydrocarbon group with 7 or less carbon atoms may be, for example, a primary amine, a secondary amine, an alkylenediamine, or the like. Examples of primary amines include ethylamine, 2-ethoxyethylamine, propylamine, 3-ethoxypropylamine, butylamine, 4-methoxybutylamine, isobutylamine, pentylamine, isopentylamine, hexylamine, cyclohexylamine and heptylamine. be able to. Examples of secondary amines include diethylamine, dipropylamine, dibutylamine, ethylpropylamine, ethylpentylamine and the like. Examples of alkylenediamines include ethylenediamine, N,N-dimethylethylenediamine, N,N'-dimethylethylenediamine, N,N-diethylethylenediamine, N,N'-diethylethylenediamine, 1,3-propanediamine, 2,2-dimethyl- 1,3-propanediamine, N,N-dimethyl-1,3-diaminopropane, N,N'-dimethyl-1,3-diaminopropane, N,N-diethyl-1,3-diaminopropane, 1,4 -diaminobutane, 1,5-diamino-2-methylpentane, 1,6-diaminohexane, N,N'-dimethyl-1,6-diaminohexane, 1,7-diaminoheptane and the like. .

コア粒子の表面の少なくとも一部を被覆する有機物は、炭化水素基の炭素数が7以下であるアルキルアミン以外の有機物を含んでいてもよい。有機物全体に対する炭化水素基の炭素数が7以下であるアルキルアミンの割合は、50質量%以上であることが好ましく、60質量%以上であることがより好ましく、70質量%以上であることがさらに好ましい。 The organic matter covering at least part of the surface of the core particles may contain an organic matter other than the alkylamine having a hydrocarbon group with 7 or less carbon atoms. The proportion of alkylamines having a hydrocarbon group with 7 or less carbon atoms in the total organic substance is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and further preferably 70% by mass or more. preferable.

コア粒子の表面の少なくとも一部を被覆する有機物は、その割合がコア粒子及び有機物の合計に対して0.1質量%~20質量%であることが好ましい。有機物の割合が0.1質量%以上であると、充分な耐酸化性が得られる傾向にある。有機物の割合が20質量%以下であると、低温での導体化が達成され易くなる傾向にある。コア粒子及び有機物の合計に対する有機物の割合は0.3質量%~10質量%であることがより好ましく、0.5質量%~5質量%であることがさらに好ましい。 The ratio of the organic matter covering at least part of the surface of the core particles is preferably 0.1% by mass to 20% by mass with respect to the total of the core particles and the organic matter. When the proportion of organic matter is 0.1% by mass or more, sufficient oxidation resistance tends to be obtained. When the proportion of the organic matter is 20% by mass or less, it tends to be easier to achieve conductivity at low temperatures. The ratio of the organic matter to the total of the core particles and the organic matter is more preferably 0.3% by mass to 10% by mass, more preferably 0.5% by mass to 5% by mass.

第1の粒子の大きさは、長軸の長さの平均値が10nm~500nmの範囲内であることが好ましい。導体化温度を低くする観点からは長軸の長さの平均値が20nm~500nmであることがより好ましく、30nm~500nmであることがさらに好ましい。第1の粒子の長軸は、第1の粒子に外接し、互いに平行である二平面の間の距離が最大となるように選ばれる二平面間の距離を意味する。第1の粒子の長軸は、電子顕微鏡による観察等の公知の方法により、測定することができる。長軸の長さの平均値は、無作為に選択される200個の第1の粒子について測定した長軸の長さの算術平均値を意味する。なお、電子顕微鏡像から無作為に第1の粒子を選択する際には、粒子径が3nm未満である第1の粒子は測定対象から除外する。 As for the size of the first particles, the average length of the long axis is preferably in the range of 10 nm to 500 nm. From the viewpoint of lowering the conductive temperature, the average length of the major axis is more preferably 20 nm to 500 nm, and even more preferably 30 nm to 500 nm. The major axis of the first grain means the distance between two planes which are circumscribed to the first grain and are chosen such that the distance between the two planes which are parallel to each other is maximized. The long axis of the first particles can be measured by a known method such as observation with an electron microscope. The average major axis length means the arithmetic average of the major axis lengths measured for 200 randomly selected first particles. When the first particles are randomly selected from the electron microscope image, the first particles having a particle diameter of less than 3 nm are excluded from the measurement targets.

第1の粒子の形状は特に制限されない。例えば、球状、長粒状、扁平状、繊維状等を挙げることができ、第1の粒子の用途にあわせて選択できる。印刷用ペーストとして用いる観点からは、球状、長粒状であることが好ましい。 The shape of the first particles is not particularly limited. For example, it may be spherical, long-grained, flattened, or fibrous, and can be selected according to the application of the first particles. From the viewpoint of use as a printing paste, it is preferably spherical or long-grained.

第1の粒子は、少なくとも金属銅を含み、必要に応じてその他の物質を含んでもよい。金属銅以外の物質としては、金、銀、白金、錫、ニッケル等の金属又はこれらの金属元素を含む化合物、還元性化合物又は有機物等を挙げることができる。導電性に優れる導体(層)を形成する観点からは、第1の粒子中の金属銅の含有率は50質量%以上であることが好ましく、60質量%以上であることがより好ましく、70質量%以上であることがさらに好ましい。 The first particles contain at least metallic copper and may contain other substances as needed. Substances other than metallic copper include metals such as gold, silver, platinum, tin and nickel, compounds containing these metal elements, reducing compounds, organic substances, and the like. From the viewpoint of forming a conductor (layer) with excellent conductivity, the content of metallic copper in the first particles is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and 70% by mass. % or more is more preferable.

第1の粒子は、CuKα線を用いたX線回折(XRD)において、2θ=44±2°、2θ=51±2°、及び2θ=75±2°の回折ピークを示すことが好ましい。これらのピークは、金属銅由来の回折ピークに対応する。 The first particles preferably exhibit diffraction peaks at 2θ=44±2°, 2θ=51±2°, and 2θ=75±2° in X-ray diffraction (XRD) using CuKα rays. These peaks correspond to diffraction peaks derived from metallic copper.

X線回折は、例えば、粉末X線回折装置(株式会社リガク製、Geigerflex RAD-2X、CuKα:波長(λ)=1.5418Å)を用いて測定される。 X-ray diffraction is measured using, for example, a powder X-ray diffractometer (manufactured by Rigaku Corporation, Geigerflex RAD-2X, CuKα: wavelength (λ)=1.5418 Å).

第1の粒子は、表面の少なくとも一部が有機物で被覆されているために、空気中で保存している間も金属銅の酸化が抑制されており、酸化銅の含有率が小さいと推測される。また、第1の粒子中の酸化銅の含有率は、例えば、粉末X線回折装置によって測定することができ、第1の粒子中の酸化銅の含有率は5質量%以下であってよい。 Since at least part of the surface of the first particles is coated with an organic substance, oxidation of metallic copper is suppressed even during storage in the air, and it is presumed that the content of copper oxide is small. be. Also, the content of copper oxide in the first particles can be measured by, for example, a powder X-ray diffractometer, and the content of copper oxide in the first particles may be 5% by mass or less.

第1の粒子の含有量は、製造する接合体の導電性の観点から、組成物全量を基準として、30質量%~98質量%であることが好ましく、35質量%~95質量%であることがより好ましく、40質量%~90質量%であることがさらに好ましい。 The content of the first particles is preferably 30% by mass to 98% by mass, more preferably 35% by mass to 95% by mass, based on the total amount of the composition, from the viewpoint of the conductivity of the bonded body to be produced. is more preferable, and 40% by mass to 90% by mass is even more preferable.

第1の粒子の製造方法は特に制限されない。製造方法としては、例えば、特開2016-037626の第1の粒子の製造方法が挙げられる。 The method for producing the first particles is not particularly limited. Examples of the production method include the first particle production method of JP-A-2016-037626.

特開2016-037626の第1の粒子の製造方法は、銅前駆体として、炭素数が9以下である脂肪酸と銅との金属塩を使用するものである。これにより、銅前駆体としてシュウ酸銅等を用いる特許文献1に記載の方法と比較して、より沸点の低いアルキルアミンを反応媒として使用することが可能になると考えられる。その結果、得られる第1の粒子の表面に存在する有機物がより熱分解し易いものとなり、導体化を低温で実施することがより容易になる。 The first method for producing particles disclosed in JP-A-2016-037626 uses a metal salt of a fatty acid having 9 or less carbon atoms and copper as a copper precursor. It is considered that this makes it possible to use an alkylamine having a lower boiling point as a reaction medium than the method described in Patent Document 1 using copper oxalate or the like as a copper precursor. As a result, the organic substance existing on the surface of the obtained first particles is more easily decomposed by heat, and it becomes easier to conduct the conductive formation at a low temperature.

(第2の粒子)
第2の粒子は、酸化銅を含む粒子であり、当該粒子の表面が有機物で被覆されていない粒子である。第2の粒子は、第1の粒子とは異なる粒子である。酸化銅は、酸化銅(I)、酸化銅(II)、及びその他の酸化数を有する酸化銅からなる群から選択される少なくとも1種であってもよい。これらのうち、金属銅への還元のし易さから、酸化銅は、酸化銅(I)であることが好ましい。
(Second particle)
The second particles are particles containing copper oxide, and the surfaces of the particles are not coated with an organic substance. The second particles are different particles than the first particles. The copper oxide may be at least one selected from the group consisting of copper (I) oxide, copper (II) oxide, and copper oxides having other oxidation numbers. Among these, the copper oxide is preferably copper (I) oxide because it is easily reduced to metallic copper.

第2の粒子は、CuKα線を用いたX線回折において、金属銅由来の回折ピーク(例えば、上述の2θ=44±2°、2θ=51±2°、及び2θ=75±2°の回折ピーク)が観測されないこと(検出限界以下であること)が好ましい。 In the X-ray diffraction using CuKα rays, the second particles have diffraction peaks derived from metallic copper (for example, the above diffraction peaks of 2θ = 44 ± 2°, 2θ = 51 ± 2°, and 2θ = 75 ± 2°) peak) is not observed (below the detection limit).

第2の粒子は、市販品を用いてもよく、公知の合成方法によって合成したものを用いてもよい。第2の粒子の合成方法としては、例えば、アセチルアセトナト銅錯体をポリオール溶媒中で加熱する方法が知られている(Angew.Chem.Int.Ed.2001,40,359-362)。この合成方法では、一次粒子径が100nm以下の酸化銅(I)粒子を得ることが可能である。 The second particles may be commercially available products or those synthesized by a known synthesis method. As a method for synthesizing the second particles, for example, a method of heating a copper acetylacetonato complex in a polyol solvent is known (Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 359-362). This synthesis method makes it possible to obtain copper (I) oxide particles having a primary particle size of 100 nm or less.

第2の粒子の平均粒径は、分散媒への分散性及び酸化物粒子とともに組成物層を形成したときの平滑性の観点から、200nm以下であることが好ましい。第2の粒子の平均粒径は、80nm以下であることがより好ましく、50nm以下であることがさらに好ましい。第2の粒子の平均粒径は、第2の粒子全体の体積に対する比率(体積分率)が50%のときの粒径(D50)である。第2の粒子の平均粒径(D50)は、レーザー散乱型粒径測定装置(例えば、マイクロトラック)を用いて、レーザー散乱法により水中に第2の粒子を懸濁させた懸濁液を測定することで得ることができる。 The average particle size of the second particles is preferably 200 nm or less from the viewpoint of dispersibility in a dispersion medium and smoothness when a composition layer is formed together with oxide particles. The average particle diameter of the second particles is more preferably 80 nm or less, even more preferably 50 nm or less. The average particle size of the second particles is the particle size (D 50 ) when the ratio (volume fraction) to the total volume of the second particles is 50%. The average particle diameter (D 50 ) of the second particles is measured by using a laser scattering particle size measuring device (e.g., Microtrac) to obtain a suspension of the second particles in water by a laser scattering method. It can be obtained by measuring.

第2の粒子の含有量は、第1の粒子100質量部に対して0.5質量部~12質量部であることが好ましく、0.3質量部~10質量部であることがより好ましく、0.5質量部~5質量部であることがさらに好ましい。第2の粒子の含有量が12質量部以下であると、第2の粒子の分散媒への分散性がより良好となる傾向にある。第2の粒子の含有量が0.5質量部以上であると、接合体の密着性がより向上する傾向にある。 The content of the second particles is preferably 0.5 parts by mass to 12 parts by mass, more preferably 0.3 parts by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the first particles, More preferably, it ranges from 0.5 parts by mass to 5 parts by mass. When the content of the second particles is 12 parts by mass or less, the dispersibility of the second particles in the dispersion medium tends to be better. When the content of the second particles is 0.5 parts by mass or more, the adhesion of the joined body tends to be further improved.

(分散媒)
分散媒は、特に制限されずに、導電インク、導電ペースト等の製造に一般に用いられる有機溶剤から用途に応じて適宜選択できる。分散媒は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。粘度調整の観点から、分散媒は、テルピネオール、イソボルニルシクロヘキサノール、ジヒドロテルピネオール、及びジヒドロテルピネオールアセテートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。
(dispersion medium)
The dispersion medium is not particularly limited, and can be appropriately selected from organic solvents generally used for producing conductive inks, conductive pastes, etc., depending on the application. A dispersion medium may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. From the viewpoint of viscosity adjustment, the dispersion medium preferably contains at least one selected from the group consisting of terpineol, isobornylcyclohexanol, dihydroterpineol, and dihydroterpineol acetate.

分散媒の含有量は、第1の粒子100質量部に対して1質量部~300質量部であることが好ましく、3質量部~200質量部であることがより好ましく、5質量部~150質量部であることがさらに好ましい。分散媒の質量比が300質量部以下であると、得られる導体(層)がより良好な導電性を示す傾向にある。また、1質量部以上であると、分散性がより良好なる傾向にある。 The content of the dispersion medium is preferably 1 part by mass to 300 parts by mass, more preferably 3 parts by mass to 200 parts by mass, and 5 parts by mass to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the first particles. Part is more preferred. When the mass ratio of the dispersion medium is 300 parts by mass or less, the resulting conductor (layer) tends to exhibit better conductivity. Moreover, when it is 1 part by mass or more, the dispersibility tends to be better.

(還元剤)
導体形成用組成物は、還元剤をさらに含有していてもよい。ここで、還元剤は還元性を有する化合物であって、かつ分散媒として作用するものであってもよい。還元剤としては、例えば、フロログルシノール、レゾール等のフェノール化合物、亜リン酸ジイソプロピル、亜リン酸ジフェニル等の亜リン酸化合物、ギ酸、ギ酸ステアリルアミン等のギ酸化合物、ジヒドロキシナフトエ酸、ジヒドロキシ安息香酸、3-ヒドロキシ-2-メチル安息香酸等の芳香族ヒドロキシカルボン酸化合物、クエン酸等の脂肪族ヒドロキシカルボン酸化合物、グルコース、ショ糖等の糖類、ジグリセリン、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール等のポリオール類、アスコルビン酸、シュウ酸、グリオキシル酸等の有機酸化合物、エタノール、プロパノール、ブチルアルコール等のアルキルアルコール類、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、2-エチルヘキシルアミン等のアルキルアミン類などが挙げられる。還元剤は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。これらのうち、還元剤は、分散媒との相溶性の観点から、ポリオール類であってもよい。
(reducing agent)
The conductor-forming composition may further contain a reducing agent. Here, the reducing agent may be a compound having reducing properties and acting as a dispersion medium. Examples of reducing agents include phenolic compounds such as phloroglucinol and resol, phosphorous compounds such as diisopropyl phosphite and diphenyl phosphite, formic acid compounds such as formic acid and stearylamine formate, dihydroxynaphthoic acid, and dihydroxybenzoic acid. , Aromatic hydroxycarboxylic acid compounds such as 3-hydroxy-2-methylbenzoic acid, Aliphatic hydroxycarboxylic acid compounds such as citric acid, Sugars such as glucose and sucrose, Diglycerin, Ethylene glycol, Dipropylene glycol, Triethylene Polyols such as glycol, organic acid compounds such as ascorbic acid, oxalic acid, glyoxylic acid, alkyl alcohols such as ethanol, propanol, butyl alcohol, alkylamines such as butylamine, pentylamine, hexylamine, 2-ethylhexylamine, etc. is mentioned. One reducing agent may be used alone, or two or more reducing agents may be used in combination. Among these, the reducing agent may be polyols from the viewpoint of compatibility with the dispersion medium.

還元剤の含有量は、第1の粒子100質量部に対して1質量部~20質量部であってもよい。 The content of the reducing agent may be 1 part by mass to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the first particles.

(その他の成分)
導体形成用組成物は、第1の粒子、第2の粒子、分散媒、及び還元剤以外の成分をその他の成分として含有していてもよい。その他の成分としては、例えば、シランカップリング剤等の架橋剤などが挙げられる。その他の成分の含有量は、例えば、第1の粒子100質量部に対して、0.1質量部~5.0質量部であってもよい。
(other ingredients)
The conductor-forming composition may contain components other than the first particles, the second particles, the dispersion medium, and the reducing agent as other components. Other components include, for example, a cross-linking agent such as a silane coupling agent. The content of other components may be, for example, 0.1 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the first particles.

導体形成用組成物の粘度は、特に制限されずに、用途に応じて選択できる。例えば、導体形成用組成物をスクリーン印刷法に適用する場合は、粘度が0.1Pa・s~30Pa・sであることが好ましく、1Pa・s~30Pa・sであることがより好ましい。導体形成用組成物をスピンコート法に適用する場合は、粘度が0.3mPa・s~1000mPa・sであることが好ましく、1mPa・s~800mPa・sであることがより好ましい。導体形成用組成物の粘度はE型粘度計(東機産業株式会社製、製品名:VISCOMETER-TV22、適用コーンプレート型ロータ:3°×R17.65)を用いて測定される25℃における粘度を意味する。 The viscosity of the conductor-forming composition is not particularly limited and can be selected depending on the application. For example, when the conductor-forming composition is applied to screen printing, the viscosity is preferably 0.1 Pa·s to 30 Pa·s, more preferably 1 Pa·s to 30 Pa·s. When the conductor-forming composition is applied to the spin coating method, the viscosity is preferably 0.3 mPa·s to 1000 mPa·s, more preferably 1 mPa·s to 800 mPa·s. The viscosity of the conductor-forming composition is the viscosity at 25° C. measured using an E-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., product name: VISCOMETER-TV22, applicable cone-plate rotor: 3°×R17.65). means

導体形成用組成物の製造方法は、特に限定されずに、当該技術分野で通常用いられる方法を用いることができる。例えば、第1の粒子、第2の粒子、並びに必要に応じて含まれる還元剤及びその他の成分を分散媒中に分散処理することで調製することができる。分散処理は、石川式撹拌機、自転公転式撹拌機、超薄膜高速回転式分散機、ロールミル、超音波分散機、ビーズミル等のメディア分散機、ホモミキサー、シルバーソン撹拌機等のキャビテーション撹拌装置、アルテマイザー等の対向衝突法などを用いることができる。また、これらの手法を適宜組み合わせて用いてもよい。 The method for producing the conductor-forming composition is not particularly limited, and methods commonly used in the art can be used. For example, it can be prepared by dispersing the first particles, the second particles, and optionally the reducing agent and other components in a dispersion medium. Dispersion processing includes media dispersers such as Ishikawa type agitators, rotation/revolution agitators, ultra-thin film high-speed rotary dispersers, roll mills, ultrasonic dispersers, and bead mills, cavitation agitators such as homomixers and Silverson agitators, A facing collision method such as an altemizer can be used. Moreover, you may use these methods, combining them suitably.

<接合体の製造方法>
本実施形態の接合体の製造方法は、第一の基材、上述の導体形成用組成物からなる組成物層、及び第二の基材がこの順に積層されている接合前駆体を用意する工程(接合前駆体準備工程)と、接合前駆体を、不活性ガス、還元性ガス又はこれらの混合ガスのいずれかのガス雰囲気下、120℃~250℃で加熱する工程(加熱工程)と、を備える。以下、接合体の製造方法の例を、図面を参照して説明する。
<Method for manufacturing joined body>
The manufacturing method of the bonded body of the present embodiment includes a step of preparing a bonding precursor in which a first base material, a composition layer made of the above-described conductor-forming composition, and a second base material are laminated in this order. (bonding precursor preparation step); and a step of heating the bonding precursor at 120° C. to 250° C. in a gas atmosphere of an inert gas, a reducing gas, or a mixed gas thereof (heating step). Prepare. An example of a method for manufacturing a joined body will be described below with reference to the drawings.

図1は、導体形成用組成物を用いた接合体の製造方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。本実施形態の方法は、図1に示すように、第一の基材1、上述の導体形成用組成物からなる、第1の粒子4a及び第2の粒子4bを含む組成物層3、及び第二の基材2がこの順に積層されている接合前駆体10を用意する(図1の(a))。接合前駆体10は、例えば、第一の基材上に、上述の導体形成用組成物を用いて、第1の粒子4a及び第2の粒子4bを含む組成物層3を形成し、組成物層3上に第二の基材2を配置することによって、得ることができる。次に、特定のガス雰囲気内で、用意した接合前駆体10を特定の温度で加熱する(図1の(b))。このとき、例えば、方向Aから、荷重をかけながら(加圧しながら)加熱してもよい。これら工程を経ることによって、第一の基材1と、第二の基材2と、第一の基材1と第二の基材2とを接合する導体層5と、を備える接合体20が得られる(図1の(c))。導体層5は、導体形成用組成物に含有される第1の粒子4a及び第2の粒子4bが焼結してなる焼結体を含む。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining an embodiment of a method for producing a joined body using a conductor-forming composition. As shown in FIG. 1, the method of the present embodiment comprises a first substrate 1, a composition layer 3 comprising the above conductor-forming composition and containing first particles 4a and second particles 4b, A bonding precursor 10 in which the second base materials 2 are laminated in this order is prepared (FIG. 1(a)). The bonding precursor 10 is formed by, for example, forming a composition layer 3 containing first particles 4a and second particles 4b on a first base material using the above-described conductor-forming composition. It can be obtained by placing a second substrate 2 on layer 3 . Next, the prepared bonding precursor 10 is heated at a specific temperature in a specific gas atmosphere (FIG. 1(b)). At this time, for example, the heating may be performed from the direction A while applying a load (pressurizing). By going through these steps, a joined body 20 comprising a first base material 1, a second base material 2, and a conductor layer 5 that joins the first base material 1 and the second base material 2 is obtained (FIG. 1(c)). The conductor layer 5 includes a sintered body obtained by sintering the first particles 4a and the second particles 4b contained in the conductor-forming composition.

第一の基材1は、基材中に金属を含む。金属として具体的には、金、銀、銅、白金、パラジウム、亜鉛、ニッケル、錫、コバルト、鉄、アルミニウム等の金属、これらの金属を含む合金などが挙げられる。基材は金属銅基材であってもよい。また、基材は曲面を有していてもよい。 The first substrate 1 contains metal in the substrate. Specific examples of metals include metals such as gold, silver, copper, platinum, palladium, zinc, nickel, tin, cobalt, iron, and aluminum, and alloys containing these metals. The substrate may be a metallic copper substrate. Also, the substrate may have a curved surface.

第一の基材1全体に対する第1の粒子4a及び第2の粒子4bの割合は、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。第1の粒子及び第2の粒子の割合が50質量%以上であると、得られる導体(層)と、基材に含まれる金属との間で、金属結合を形成し易くなる傾向にある。 The ratio of the first particles 4a and the second particles 4b to the entire first base material 1 is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and 80% by mass or more. is more preferable, and 90% by mass or more is particularly preferable. When the ratio of the first particles and the second particles is 50% by mass or more, there is a tendency to easily form a metallic bond between the obtained conductor (layer) and the metal contained in the substrate.

第一の基材1上に組成物層3を形成する方法は、組成物層3を基材上に任意の形状で形成することができるのであれば特に制限されない。このような方法としては、例えば、インクジェット法、スーパーインクジェット法、スクリーン印刷法、転写印刷法、オフセット印刷法、ジェットプリンティング法、ディスペンス法、ジェットディスペンス法、ニードルディスペンス法、カンマコート法、バーコート法、スリットコート法、ダイコート法、グラビアコート法、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法、ソフトリソグラフ法、ディップペンリソグラフ法、粒子堆積法、スプレーコート法、スピンコート法、ディップコート法、電着塗装法等が挙げられる。 The method for forming the composition layer 3 on the first base material 1 is not particularly limited as long as the composition layer 3 can be formed on the base material in an arbitrary shape. Such methods include, for example, an inkjet method, a super inkjet method, a screen printing method, a transfer printing method, an offset printing method, a jet printing method, a dispensing method, a jet dispensing method, a needle dispensing method, a comma coating method, and a bar coating method. , slit coating method, die coating method, gravure coating method, relief printing method, intaglio printing method, gravure printing method, soft lithography method, dip pen lithography method, particle deposition method, spray coating method, spin coating method, dip coating method, electro Examples include a coating method and the like.

組成物層3の形状及び厚みは、特に制限されずに、目的に応じて適宜選択することができる。また、組成物層3の厚みは、例えば、0.2μm~2000μmであることが好ましい。導電性及び接合体の接続信頼性の観点からは、1μm~1000μmであることがより好ましい。 The shape and thickness of the composition layer 3 are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Moreover, the thickness of the composition layer 3 is preferably, for example, 0.2 μm to 2000 μm. From the viewpoint of electrical conductivity and connection reliability of the joined body, it is more preferably 1 μm to 1000 μm.

第二の基材2としては、第一の基材1で例示したものを用いることができる。第二の基材2は、第一の基材1と同一であってもよく、異なっていてもよい。 As the second base material 2, those exemplified for the first base material 1 can be used. The second substrate 2 may be the same as the first substrate 1 or may be different.

加熱工程では、接合前駆体を、特定の雰囲気下、特定の温度条件で加熱する。これによって、第一の基材1と、第二の基材2と、第一の基材1と第二の基材2とを接合する導体層5と、備える接合体20が得られる。 In the heating step, the bonding precursor is heated under specific temperature conditions in a specific atmosphere. As a result, the joined body 20 including the first base material 1, the second base material 2, and the conductor layer 5 that joins the first base material 1 and the second base material 2 is obtained.

加熱工程におけるガス雰囲気は、窒素、アルゴン等の不活性ガス、水素、ギ酸等の還元性ガス、又はこれらの不活性ガスと還元性ガスとの混合ガスのいずれかのガス雰囲気である。ガス雰囲気は、水素ガス又はギ酸ガスを含む還元性ガス雰囲気であってもよい。還元性ガス雰囲気で加熱を行うことによって、第1の粒子表面の有機物の脱離及び第2の粒子に含まれる酸化銅の金属銅への還元を容易にし、該粒子の銅を含むコア粒子同士の焼結(融着)を促進するとともに、基材に含まれる金属と該コア粒子に含まれる銅との焼結(融着)を促進する。 The gas atmosphere in the heating step is an inert gas such as nitrogen or argon, a reducing gas such as hydrogen or formic acid, or a mixed gas of these inert gases and reducing gases. The gas atmosphere may be a reducing gas atmosphere containing hydrogen gas or formic acid gas. By heating in a reducing gas atmosphere, desorption of organic matter on the surface of the first particles and reduction of copper oxide contained in the second particles to metallic copper are facilitated, and core particles containing copper of the particles are separated from each other. and promotes sintering (fusion) between the metal contained in the base material and the copper contained in the core particles.

加熱工程における雰囲気中の気圧条件は、特に制限されずに、大気圧条件であっても減圧条件であってもよいが、減圧(負圧)条件とすることによって、低温での導体化がより促進される傾向にある。 The atmospheric pressure conditions in the atmosphere in the heating step are not particularly limited, and may be atmospheric pressure conditions or reduced pressure conditions. tend to be promoted.

加熱工程における温度条件は120℃~250℃の範囲であり、120℃~230℃の範囲であることが好ましい。温度が120℃以上であると、充分な導電性を有する導体(層)が得られる傾向にある。加熱工程における昇温条件は、一定の速度で昇温させても、不規則に変化させて昇温させてもよい。加熱工程における加熱時間は、特に制限されずに、加熱温度、加熱雰囲気、粒子の量等を考慮して選択することができる。また、加熱方法は、特に制限されずに、熱板、赤外ヒータ、パルスレーザ等を用いて加熱することができる。 The temperature condition in the heating step is in the range of 120°C to 250°C, preferably in the range of 120°C to 230°C. When the temperature is 120° C. or higher, a conductor (layer) having sufficient conductivity tends to be obtained. The temperature rising conditions in the heating step may be raised at a constant rate, or may be raised at an irregular rate. The heating time in the heating step is not particularly limited, and can be selected in consideration of the heating temperature, the heating atmosphere, the amount of particles, and the like. Moreover, the heating method is not particularly limited, and heating can be performed using a hot plate, an infrared heater, a pulse laser, or the like.

接合体の製造方法では、必要に応じてその他の工程を備えていてもよい。その他の工程としては、加熱工程後に水又は有機溶剤に浸漬して残存成分を除去する工程、加熱工程後に光焼成で残存成分を除去する工程等を挙げることができる。 The method for manufacturing a joined body may include other steps as necessary. Other steps include a step of removing residual components by immersion in water or an organic solvent after the heating step, and a step of removing residual components by photobaking after the heating step.

本発明の導体形成用組成物を用いて製造される導体(層)の体積抵抗率は、1000μΩ・cm以下であることが好ましく、500μΩ・cm以下であることがより好ましく、300μΩ・cm以下であることがさらに好ましく、200μΩ・cm以下であることが特に好ましい。導体(層)の形状は、特に制限されずに、薄膜状、バンプ状、パターン状等であってもよい。 The volume resistivity of the conductor (layer) produced using the conductor-forming composition of the present invention is preferably 1000 μΩ·cm or less, more preferably 500 μΩ·cm or less, and 300 μΩ·cm or less. It is more preferable that the resistance is 200 μΩ·cm or less. The shape of the conductor (layer) is not particularly limited, and may be a thin film shape, a bump shape, a pattern shape, or the like.

<接合体>
本実施形態の接合体は、第一の基材と、第二の基材と、第一の基材と第二の基材とを接合する導体層と、備える。導体層は、上述の導体形成用組成物に含有される第1の粒子及び第2の粒子が焼結した構造を含む。接合体は、太陽電池、ディスプレイ、タッチパネル、トランジスタ、半導体パッケージ、積層セラミックコンデンサ等の電子部品に使用される接続端子、放熱膜等の部材などとして利用することができる。本実施形態の接合体は、例えば、従来はんだ接合によって製造された接合体に代えて、使用することができる。
<Joint body>
The joined body of this embodiment includes a first base material, a second base material, and a conductor layer that joins the first base material and the second base material. The conductor layer includes a structure in which the first particles and the second particles contained in the conductor-forming composition are sintered. The bonded body can be used as a member such as a connection terminal used in electronic parts such as a solar cell, a display, a touch panel, a transistor, a semiconductor package, a laminated ceramic capacitor, and a heat dissipation film. The bonded body of this embodiment can be used, for example, in place of a bonded body manufactured by conventional solder bonding.

接合体の接合強度の測定方法は、製造した接合体の形状によって適宜選択される。例えば、接合体を接合面に対して垂直方向に引き剥がすプル強度テスト、接合面に対して水平方法に引き剥がすシェア強度テスト、屈曲性のある薄膜を引き剥がすピール強度テスト等が挙げられる。 A method for measuring the bonding strength of the bonded body is appropriately selected depending on the shape of the manufactured bonded body. Examples include a pull strength test in which the bonded body is peeled off in a direction perpendicular to the bonding surface, a shear strength test in which the bonded body is peeled off in a direction horizontal to the bonding surface, a peel strength test in which a flexible thin film is peeled off, and the like.

以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on examples, but the present invention is not limited to these.

[製造例1]ノナン酸銅の合成
水酸化銅(関東化学株式会社、特級)91.5g(0.94mol)に1-プロパノール(関東化学株式会社、特級)150mLを加えて撹拌し、これにノナン酸(関東化学株式会社、90%以上)370.9g(2.34mol)を加えた。得られた混合物を、セパラブルフラスコ中で90℃、30分間加熱撹拌した。得られた溶液を加熱したままろ過して未溶解物を除去した。その後放冷し、生成したノナン酸銅を吸引ろ過し、洗浄液が透明になるまでヘキサンで洗浄した。得られた粉体を50℃の防爆オーブンで3時間乾燥してノナン酸銅(II)を得た。収量は340g(収率96質量%)であった。
[Production Example 1] Synthesis of copper nonanoate 150 mL of 1-propanol (Kanto Chemical Co., Ltd., special grade) was added to 91.5 g (0.94 mol) of copper hydroxide (Kanto Chemical Co., special grade) and stirred. 370.9 g (2.34 mol) of nonanoic acid (Kanto Kagaku Co., Ltd., 90% or more) was added. The obtained mixture was heated and stirred at 90° C. for 30 minutes in a separable flask. The resulting solution was filtered while being heated to remove undissolved matter. After that, it was allowed to cool, and the copper nonanoate formed was filtered by suction and washed with hexane until the washing liquid became clear. The resulting powder was dried in an explosion-proof oven at 50° C. for 3 hours to obtain copper (II) nonanoate. The yield was 340 g (yield 96% by mass).

[製造例2]第1の粒子の合成
上記で得られたノナン酸銅(II)15.01g(0.040mol)及び酢酸銅(II)無水物(関東化学株式会社、特級)7.21g(0.040mol)をセパラブルフラスコに入れ、1-プロパノール22mL及びヘキシルアミン(東京化成工業株式会社)32.1g(0.32mol)を添加し、オイルバス中、80℃で加熱撹拌して溶解させた。氷浴に移し、内温が5℃になるまで冷却した後、ヒドラジン一水和物(関東化学株式会社、特級)7.72mL(0.16mol)を加えて、さらに氷浴中で撹拌した。なお、銅:ヘキシルアミンのモル比は1:4である。次いで、オイルバス中で10分間、90℃で加熱撹拌した。その際、発泡を伴う還元反応が進み、セパラブルフラスコの内壁が銅光沢を呈し、溶液が暗赤色に変化した。遠心分離を9000rpm(回転/分)で1分間実施して固体物を得た。固形物をさらにヘキサン15mLで洗浄する工程を3回繰り返し、酸残渣を除去して、銅光沢を有する第1の粒子を含む銅ケークを得た。
[Production Example 2] Synthesis of first particles 15.01 g (0.040 mol) of copper (II) nonanoate obtained above and 7.21 g of copper (II) acetate anhydride (Kanto Chemical Co., Ltd., special grade) ( 0.040 mol) is placed in a separable flask, 22 mL of 1-propanol and 32.1 g (0.32 mol) of hexylamine (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are added, and dissolved by heating and stirring at 80 ° C. in an oil bath. rice field. After the mixture was transferred to an ice bath and cooled to an internal temperature of 5°C, 7.72 mL (0.16 mol) of hydrazine monohydrate (Kanto Chemical Co., Ltd., special grade) was added, and the mixture was further stirred in an ice bath. The molar ratio of copper:hexylamine is 1:4. Then, the mixture was heated and stirred at 90° C. for 10 minutes in an oil bath. At that time, a reduction reaction accompanied by foaming progressed, the inner wall of the separable flask exhibited a copper luster, and the solution turned dark red. Centrifugation was performed at 9000 rpm (revolutions per minute) for 1 minute to obtain a solid material. The step of washing the solid with 15 mL of hexane was repeated three times to remove the acid residue and obtain a copper cake containing first particles with copper luster.

粉末X線回折装置(株式会社リガク製、Geigerflex RAD-2X、X線源:CuKα線、回折角範囲30~80°)を用いて、製造例2で合成した第1の粒子を分析した。図2に、第1の粒子の回折角範囲30~80°におけるX線回折(XRD)スペクトルを示す。X線回折において、2θ=43.7°、50.9°、及び74.6°にピークを有することを確認した。このX線回折(XRD)スペクトルから、第1の粒子は、金属銅を含み、酸化銅をほとんど含まないことが確認された。 The first particles synthesized in Production Example 2 were analyzed using a powder X-ray diffractometer (Geigerflex RAD-2X manufactured by Rigaku Corporation, X-ray source: CuKα rays, diffraction angle range 30 to 80°). FIG. 2 shows the X-ray diffraction (XRD) spectrum of the first particles in the diffraction angle range of 30-80°. It was confirmed to have peaks at 2θ=43.7°, 50.9°, and 74.6° in X-ray diffraction. From this X-ray diffraction (XRD) spectrum, it was confirmed that the first particles contained metallic copper and almost no copper oxide.

[実施例1~6、比較例1]
第1の粒子として上記で合成した銅ケーク、第2の粒子として酸化銅(I)粒子(タキロンシーアイ株式会社、製品名Nano Tek(登録商標)、平均粒径:48nm)、分散媒としてテルピネオール(和光純薬工業株式会社)及びイソボルニルシクロヘキサノール(テルソルブMTPH、日本テルペン化学株式会社)、並びに還元剤としてエチレングリコール(和光純薬工業株式会社)を表1に示す配合質量部で混合して導体形成用組成物を作製した。得られた導体形成用組成物を目視にて確認したところ、いずれも組成物全体は均質なペースト状であり、第1の粒子及び第2の粒子の分散性は良好であった。
[Examples 1 to 6, Comparative Example 1]
Copper cake synthesized above as the first particles, copper (I) oxide particles as the second particles (Takiron C.I. Co., Ltd., product name Nano Tek (registered trademark), average particle size: 48 nm), terpineol as a dispersion medium ( Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and isobornylcyclohexanol (Terusolv MTPH, Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.), and ethylene glycol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a reducing agent were mixed in the blending mass parts shown in Table 1. A conductor-forming composition was prepared. Visual inspection of the resulting conductor-forming composition revealed that the composition as a whole was in the form of a homogeneous paste, and that the first particles and the second particles had good dispersibility.

実施例1~6及び比較例1の導体形成用組成物を用いて、接合体を作製した。より詳細には、導体形成用組成物を予め、アセトンで超音波洗浄して有機物を除去した金属銅基材(第一の基材)上に、2×2mm、厚み0.1mmのステンシル版を用いてステンシル印刷して組成物層を形成した。その後、2×2mm、厚み0.25mmの銅基材(第二の基材)を、第一の基材上の組成物層を覆うように配置した。その後、加熱処理を行い、実施例1~6及び比較例1の接合体を得た。加熱処理には雰囲気制御加熱圧着装置(RF-100B、アユミ工業株式会社)を使用した。加熱処理は、窒素ガス雰囲気下の負圧(8.5×10Pa)で、昇温速度30℃/分で250℃まで加熱し、続いて窒素とギ酸との混合ガスを導入して9.0×10Paに調整し、250℃で60分間保持することによって行った。 Using the conductor-forming compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1, joined bodies were produced. More specifically, a stencil plate having a size of 2×2 mm and a thickness of 0.1 mm was prepared on a metallic copper substrate (first substrate) from which the conductor-forming composition had been ultrasonically cleaned with acetone in advance to remove organic substances. A composition layer was formed by stencil printing using. A 2×2 mm, 0.25 mm thick copper substrate (second substrate) was then placed over the composition layer on the first substrate. After that, heat treatment was performed to obtain joined bodies of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1. An atmosphere-controlled thermocompression bonding apparatus (RF-100B, Ayumi Industry Co., Ltd.) was used for the heat treatment. The heat treatment was carried out by heating to 250° C. at a temperature increase rate of 30° C./min under a nitrogen gas atmosphere under negative pressure (8.5×10 4 Pa), followed by introducing a mixed gas of nitrogen and formic acid. 0×10 4 Pa and maintained at 250° C. for 60 minutes.

(接合強度測定)
得られた接合体をダイシェア強度(MPa)により評価した。DS-100ロードセルを装着した万能型ボンドテスタ(4000シリーズ、ノードソン・アドバンスト・テクノロジー株式会社)を用い、測定スピード100μm/sec、測定高さ12μmで銅基材(第二の基材)を水平方向に押し、接合体のダイシェア強度(MPa)を測定した。表1に結果を示す。
(bonding strength measurement)
The resulting joined bodies were evaluated by die shear strength (MPa). Using a universal bond tester (4000 series, Nordson Advanced Technology Co., Ltd.) equipped with a DS-100 load cell, the copper substrate (second substrate) is horizontally measured at a measurement speed of 100 μm/sec and a measurement height of 12 μm. After pressing, the die shear strength (MPa) of the joined body was measured. Table 1 shows the results.

Figure 0007139590000001
Figure 0007139590000001

第2の粒子を含有する導体形成用組成物を用いて作製した実施例1~4の接合体のダイシェア強度は、第2の粒子を含有しない導体形成用組成物を用いて作製した比較例1の接合体のダイシェア強度と比較して3倍~14倍優れていた。また、還元剤をさらに含有する導体形成用組成物を用いて作製した実施例5、6の接合体のダイシェア強度は、比較例1の接合体のダイシェア強度と比較して17倍~18倍優れていた。 The die shear strengths of the joined bodies of Examples 1 to 4 produced using the conductor-forming composition containing the second particles were compared with those of Comparative Example 1 produced using the conductor-forming composition containing no second particles. It was 3 to 14 times better than the die shear strength of the bonded body. In addition, the die shear strength of the joined bodies of Examples 5 and 6, which were produced using the conductor-forming composition further containing a reducing agent, was 17 to 18 times superior to the die shear strength of the joined body of Comparative Example 1. was

以上より、本発明の導体形成用組成物が、250℃以下で導体化が可能であり、金属接合材料として用いることが可能であることが確認された。 From the above, it was confirmed that the conductor-forming composition of the present invention can be formed into a conductor at 250° C. or lower and can be used as a metal bonding material.

1…第一の基材、2…第二の基材、3…組成物層、4a…第1の粒子、4b…第2の粒子、5…導体層、10…接合前駆体、20…接合体。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... First base material, 2... Second base material, 3... Composition layer, 4a... First particle, 4b... Second particle, 5... Conductor layer, 10... Bonding precursor, 20... Bonding body.

Claims (5)

金属銅を含むコア粒子と前記コア粒子の表面の少なくとも一部を被覆する有機物とを有する第1の粒子と、
酸化銅を含む第2の粒子と、
分散媒と、
を含有し、
前記有機物が、炭化水素基の炭素数が7以下であるアルキルアミンを含み、
前記第2の粒子の含有量が、前記第1の粒子100質量部に対して0.5質量部~5質量部である、導体形成用組成物。
a first particle having a core particle containing metallic copper and an organic substance covering at least part of the surface of the core particle;
second particles comprising copper oxide;
a dispersion medium;
contains
The organic substance contains an alkylamine having a hydrocarbon group with 7 or less carbon atoms,
The conductor-forming composition , wherein the content of the second particles is 0.5 parts by mass to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the first particles .
還元剤をさらに含有する、請求項1に記載の導体形成用組成物。 The conductor-forming composition according to claim 1 , further comprising a reducing agent. 第一の基材、請求項1又は2に記載の導体形成用組成物からなる組成物層、及び第二の基材がこの順に積層されている接合前駆体を用意する工程と、
前記接合前駆体を、不活性ガス、還元性ガス又はこれらの混合ガスのいずれかのガス雰囲気下、120℃~250℃で加熱する工程と、
を備える、接合体の製造方法。
a step of preparing a bonding precursor in which a first substrate, a composition layer made of the conductor-forming composition according to claim 1 or 2 , and a second substrate are laminated in this order;
heating the bonding precursor at 120° C. to 250° C. in a gas atmosphere of an inert gas, a reducing gas, or a mixed gas thereof;
A method of manufacturing a joined body, comprising:
前記ガス雰囲気が、水素ガス又はギ酸ガスを含む雰囲気である、請求項に記載の接合体の製造方法。 4. The method for manufacturing a joined body according to claim 3 , wherein the gas atmosphere is an atmosphere containing hydrogen gas or formic acid gas. 第一の基材と、第二の基材と、前記第一の基材と前記第二の基材とを接合する導体層と、を備え、
前記導体層が、請求項1又は2に記載の導体形成用組成物に含有される第1の粒子及び第2の粒子が焼結してなる焼結体を含む、接合体。
A first base material, a second base material, and a conductor layer that joins the first base material and the second base material,
A joined body, wherein the conductor layer includes a sintered body obtained by sintering the first particles and the second particles contained in the conductor-forming composition according to claim 1 or 2 .
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