JP7120242B2 - ink composition - Google Patents
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Description
本発明は、ポリチオフェン化合物、オニウムボレート塩及び液体担体を含む、インク組成物に関する。また、本開示は、インク組成物から形成された電荷輸送性薄膜、及び該電荷輸送性薄膜を有する有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。 The present invention relates to ink compositions comprising a polythiophene compound, an onium borate salt and a liquid carrier. The present disclosure also relates to a charge-transporting thin film formed from the ink composition, and an organic electroluminescence device having the charge-transporting thin film.
有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機ELという)素子には、発光層や電荷注入層として、有機化合物からなる電荷輸送性薄膜が用いられる。特に、正孔注入層は、陽極と、正孔輸送層あるいは発光層との電荷の授受を担い、有機EL素子の低電圧駆動及び高輝度を達成するために重要な機能を果たす。
正孔注入層の形成方法は、蒸着法に代表されるドライプロセスと、スピンコート法に代表されるウェットプロセスとに大別され、これら各プロセスを比べると、ウェットプロセスの方が大面積に平坦性の高い薄膜を効率的に製造できる。それゆえ、有機ELディスプレイの大面積化が進められている現在、ウェットプロセスで形成可能な正孔注入層が望まれている。
このような事情に鑑み、本発明者らは、各種ウェットプロセスに適用可能であるとともに、有機EL素子の正孔注入層に適用した場合に優れたEL素子特性を実現できる薄膜を与える電荷輸送性材料や、それに用いる有機溶媒に対する溶解性の良好な化合物を開発してきている(特許文献1及び2)。A charge-transporting thin film made of an organic compound is used as a light emitting layer or a charge injection layer in an organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL) device. In particular, the hole-injecting layer is responsible for transferring charges between the anode and the hole-transporting layer or the light-emitting layer, and plays an important role in achieving low-voltage driving and high luminance of the organic EL device.
The method of forming the hole injection layer is broadly divided into a dry process represented by vapor deposition and a wet process represented by spin coating. It is possible to efficiently manufacture a thin film with high toughness. Therefore, as organic EL displays are becoming larger in area, there is a demand for a hole injection layer that can be formed by a wet process.
In view of such circumstances, the present inventors have found that a thin film having charge transport properties that can be applied to various wet processes and that can realize excellent EL device characteristics when applied to the hole injection layer of an organic EL device. Materials and compounds with good solubility in organic solvents used for them have been developed (Patent Documents 1 and 2).
一方、有機電子デバイス用インク組成物として、スルホン化共役ポリマー、アミン化合物等を含む組成物が知られている(特許文献3)。該インク組成物中のアミン化合物の存在は、良好な貯蔵寿命と安定性を有するインク組成物を提供するだけでなく、該インク組成物から形成される薄膜は、優れた均質性を示す。しかしながら、該インク組成物から形成される正孔注入層を含む有機発光ダイオード(OLED)デバイスの電荷輸送性は、依然として改善の余地がある。 On the other hand, as an ink composition for organic electronic devices, a composition containing a sulfonated conjugated polymer, an amine compound, etc. is known (Patent Document 3). The presence of an amine compound in the ink composition not only provides the ink composition with good shelf life and stability, but the thin films formed from the ink composition exhibit excellent homogeneity. However, the charge transport properties of organic light emitting diode (OLED) devices containing hole injection layers formed from the ink compositions still need improvement.
本発明が解決しようとする課題は、各種ウェットプロセスに適用可能であり、電荷輸送性に優れたインク組成物を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide an ink composition that is applicable to various wet processes and has excellent charge transport properties.
本発明者らは、鋭意研究を行った結果、特定構造を有するポリチオフェン化合物、特定構造を有するオニウムボレート塩及び液体担体を含むインク組成物は、各種ウェットプロセスに適用可能であり、電荷輸送性に優れた電荷輸送性薄膜を形成できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive research, the present inventors have found that an ink composition containing a polythiophene compound having a specific structure, an onium borate salt having a specific structure, and a liquid carrier can be applied to various wet processes and has good charge transport properties. The inventors have found that an excellent charge-transporting thin film can be formed, and completed the present invention.
すなわち、本発明は、下記の発明を提供する。 That is, the present invention provides the following inventions.
(1)インク組成物であって、
(A)式(I):
[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、H、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、フルオロアルコキシ、アリールオキシ、-SO3M、又は-O-[Z-O]p-Reであるか、あるいは、R1及びR2は、一緒になって-O-Z-O-を形成する
(式中、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムであり、Zは、場合によりハロゲン又はYで置換されているヒドロカルビレン基(ここで、Yは、炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルコキシアルキル基であり、該アルキル基又はアルコキシアルキル基は、任意の位置がスルホン酸基で置換されていてもよい)であり、pは、1以上の整数であり、そして、Reは、H、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールである)]で表される繰り返し単位を含むポリチオフェン;
(B)オニウムボレート塩であって、式(a1):
で表されるアニオン、及び式(a2):
で表される1価又は2価のアニオン
[式中、Arは、それぞれ独立して、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいヘテロアリール基であり、Rは、炭素数1~10のアルキル基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数1~10のフルオロアルキル基、炭素数7~10のアラルキル基又は炭素数7~10のフルオロアラルキル基であり、Lは、アルキレン基、-NH-、酸素原子、硫黄原子又は-CN+-である]からなる群より選択される少なくとも1種のアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩(ただし、電気的中性な塩である);及び
(C)有機溶媒を含む液体担体
を含む組成物。(1) An ink composition comprising
(A) Formula (I):
[wherein R 1 and R 2 are each independently H, alkyl, fluoroalkyl, alkoxy, fluoroalkoxy, aryloxy, -SO 3 M, or -O-[ZO] p -R e Alternatively, R 1 and R 2 together form —O—ZO—, where M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium and Z is a hydrocarbylene group optionally substituted with halogen or Y (wherein Y is a linear or branched alkyl or alkoxyalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the alkyl or an alkoxyalkyl group may be substituted with a sulfonic acid group at any position), p is an integer greater than or equal to 1, and R e is H, alkyl, fluoroalkyl, or aryl is)] polythiophene containing a repeating unit represented by;
(B) an onium borate salt of formula (a1):
and an anion of formula (a2):
A monovalent or divalent anion represented by [wherein Ar is each independently an optionally substituted aryl group or optionally substituted heteroaryl group, and R is , an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, or a fluoroaralkyl group having 7 to 10 carbon atoms. , L is an alkylene group, —NH—, an oxygen atom, a sulfur atom, or —CN + —. and (C) a liquid carrier comprising an organic solvent.
(2)Arが、1又は2以上の電子吸引性置換基を有するアリール基である、(1)記載のインク組成物。 (2) The ink composition according to (1), wherein Ar is an aryl group having one or more electron-withdrawing substituents.
(3)電子吸引性置換基が、ハロゲン原子である、(2)記載のインク組成物。 (3) The ink composition according to (2), wherein the electron-withdrawing substituent is a halogen atom.
(4)前記アニオンが、式(a3)で表される、(1)~(3)のいずれか一つに記載のインク組成物。
(5)対カチオンが、式(c1)~(c5):
からなる群より選択される、(1)~(4)のいずれか一つに記載のインク組成物。(5) the counter cation is represented by formulas (c1) to (c5):
The ink composition according to any one of (1) to (4), which is selected from the group consisting of
(6)(B)成分が下記式で表される、(1)~(5)のいずれか一つに記載のインク組成物。
(7)R1及びR2が、それぞれ独立に、H、フルオロアルキル、-SO3M、-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Re、又は-ORfであるか、あるいは、R1及びR2は、一緒になって-O-(CH2)q-O-(ここで、(CH2)qは、場合によりYで置換されている)を形成し;ここで、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムであり、各々のRa、Rb、Rc、及びRdが、それぞれ独立に、H、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールであり;Reが、H、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールであり;pが、1、2、又は3であり;Rfが、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールであり;qが、1、2、又は3であり;そしてYが、炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシアルキル基であり、該アルコキシアルキル基は任意の位置がスルホン酸基で置換されていてもよい、(1)~(6)のいずれか一つに記載のインク組成物。(7) R 1 and R 2 are each independently H, fluoroalkyl, -SO 3 M, -O[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e , or -OR f , or R 1 and R 2 together are -O-(CH 2 ) q -O-, where (CH 2 ) q is optionally substituted with Y wherein M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium, and each R a , R b , R c , and R d is independently H, halogen, alkyl, fluoroalkyl, or aryl; R e is H, alkyl, fluoroalkyl , or aryl; p is 1, 2, or 3; , fluoroalkyl, or aryl; q is 1, 2, or 3; and Y is a linear or branched alkoxyalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the alkoxyalkyl group being any The ink composition according to any one of (1) to (6), which is optionally substituted with a sulfonic acid group.
(8)R1が、Hであり、そしてR2が、H以外である、(1)~(7)のいずれか一つに記載のインク組成物。(8) The ink composition according to any one of (1) to (7), wherein R 1 is H and R 2 is other than H.
(9)R1及びR2が、両方ともH以外である、(1)~(7)のいずれか一つに記載のインク組成物。(9) The ink composition according to any one of (1) to (7), wherein both R 1 and R 2 are other than H.
(10)R1及びR2が、それぞれ独立に、-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Re、又は-ORfであるか、あるいは、R1及びR2は、一緒になって-O-(CH2)q-O-を形成する、(9)記載のインク組成物。(10) R 1 and R 2 are each independently -O[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e or -OR f , or The ink composition according to (9), wherein R 1 and R 2 together form —O—(CH 2 ) q —O—.
(11)R1及びR2が、両方とも-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Reである、(9)記載のインク組成物。(11) The ink composition according to (9), wherein both R 1 and R 2 are -O[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e .
(12)各々のRa、Rb、Rc、及びRdが、それぞれ独立に、H、(C1-C8)アルキル、(C1-C8)フルオロアルキル、又はフェニルであり;そしてReが、(C1-C8)アルキル、(C1-C8)フルオロアルキル、又はフェニルである、(7)~(11)のいずれか一つに記載のインク組成物。(12) each R a , R b , R c , and R d is each independently H, (C 1 -C 8 )alkyl, (C 1 -C 8 )fluoroalkyl, or phenyl; and The ink composition according to any one of (7) to (11), wherein R e is (C 1 -C 8 )alkyl, (C 1 -C 8 )fluoroalkyl, or phenyl.
(13)(A)成分が、下記式:
で表される基(式中、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムである)、及びこれらの組合せからなる群より選択される繰り返し単位を含む、(1)~(12)のいずれか一つに記載のインク組成物。(13) Component (A) has the following formula:
wherein M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium), and a repeating unit selected from the group consisting of combinations thereof, The ink composition according to any one of (1) to (12).
(14)(A)成分が、スルホン化ポリ(3-MEET)である、(1)~(13)のいずれか一つに記載のインク組成物。 (14) The ink composition according to any one of (1) to (13), wherein component (A) is sulfonated poly(3-MEET).
(15)(A)成分が、式(I)で表される繰り返し単位を、繰り返し単位の総重量に基づいて50重量%より多い量で含む、(1)~(14)のいずれか一つに記載のインク組成物。 (15) Any one of (1) to (14), wherein component (A) contains repeating units represented by formula (I) in an amount greater than 50% by weight based on the total weight of repeating units. The ink composition according to .
(16)(C)成分が、グリコールモノエーテル類、グリコールジエーテル類及びグリコール類からなる群より選択される少なくとも1種を含む、(1)~(15)のいずれか一つに記載のインク組成物。 (16) The ink according to any one of (1) to (15), wherein component (C) contains at least one selected from the group consisting of glycol monoethers, glycol diethers and glycols. Composition.
(17)更に、(D)アミン化合物を含む、(1)~(16)のいずれか一つに記載のインク組成物。 (17) The ink composition according to any one of (1) to (16), further comprising (D) an amine compound.
(18)(D)成分が、(D1)第三級アルキルアミン化合物と、(D2)第三級アルキルアミン化合物以外のアミン化合物とを含む、(17)記載のインク組成物。 (18) The ink composition according to (17), wherein the component (D) comprises (D1) a tertiary alkylamine compound and (D2) an amine compound other than the tertiary alkylamine compound.
(19)(D2)成分が、第一級アルキルアミン化合物である、(18)記載のインク組成物。 (19) The ink composition according to (18), wherein the component (D2) is a primary alkylamine compound.
(20)第一級アルキルアミン化合物が、エチルアミン、n-ブチルアミン、t-ブチルアミン、2-エチルヘキシルアミン、n-ヘキシルアミン、n-デシルアミン及びエチレンジアミンからなる群より選択される少なくとも1種である、(19)記載のインク組成物。 (20) The primary alkylamine compound is at least one selected from the group consisting of ethylamine, n-butylamine, t-butylamine, 2-ethylhexylamine, n-hexylamine, n-decylamine and ethylenediamine, ( 19) The ink composition described above.
(21)第一級アルキルアミン化合物が、n-ブチルアミンである、(19)又は(20)記載のインク組成物。 (21) The ink composition according to (19) or (20), wherein the primary alkylamine compound is n-butylamine.
(22)更に、(E)金属酸化物ナノ粒子を含む、(1)~(21)のいずれか一つに記載に記載のインク組成物。 (22) The ink composition according to any one of (1) to (21), further comprising (E) metal oxide nanoparticles.
(23)更に、(F)マトリックス化合物を含む、(1)~(22)のいずれか一つに記載のインク組成物。 (23) The ink composition according to any one of (1) to (22), further comprising (F) a matrix compound.
(24)(1)~(23)のいずれか一つに記載のインク組成物から形成された電荷輸送性薄膜。 (24) A charge-transporting thin film formed from the ink composition according to any one of (1) to (23).
(25)(24)記載の電荷輸送性薄膜を有する有機エレクトロルミネッセンス素子。 (25) An organic electroluminescence device having the charge-transporting thin film according to (24).
(26)(1)~(23)のいずれか一つに記載のインク組成物を基材上に塗布し、溶媒を蒸発させることを特徴とする電荷輸送性薄膜の製造方法。 (26) A method for producing a charge-transporting thin film, which comprises applying the ink composition according to any one of (1) to (23) onto a substrate and evaporating the solvent.
(27)インク組成物であって、
(A)式(I):
[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、H、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、フルオロアルコキシ、アリールオキシ、-SO3M、又は-O-[Z-O]p-Reであるか、あるいは、R1及びR2は、一緒になって-O-Z-O-を形成する
(式中、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムであり、Zは、場合によりハロゲン又はYで置換されているヒドロカルビレン基(ここで、Yは、炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルコキシアルキル基であり、該アルキル基又はアルコキシアルキル基は、任意の位置がスルホン酸基で置換されていてもよい)であり、pは、1以上の整数であり、そして、Reは、H、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールである)]で表される繰り返し単位を含むポリチオフェン;
(B)オニウムボレート塩であって、式(a1):
で表されるアニオン、式(a2):
で表される1価又は2価のアニオン、及び(a5)
で表されるアニオン
[式中、Arは、それぞれ独立して、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいヘテロアリール基であり、Rは、炭素数1~10のアルキル基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数1~10のフルオロアルキル基、炭素数7~10のアラルキル基又は炭素数7~10のフルオロアラルキル基であり、Lは、アルキレン基、-NH-、酸素原子、硫黄原子又は-CN+-であり、Eは長周期型周期表の第13族又は第15族に属する元素を表す]からなる群より選択される少なくとも1種のアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩(ただし、電気的中性な塩である);
(C)有機溶媒を含む液体担体;及び
(F)マトリックス化合物
を含む組成物。(27) An ink composition comprising:
(A) Formula (I):
[wherein R 1 and R 2 are each independently H, alkyl, fluoroalkyl, alkoxy, fluoroalkoxy, aryloxy, -SO 3 M, or -O-[ZO] p -R e Alternatively, R 1 and R 2 together form —O—ZO—, where M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium and Z is a hydrocarbylene group optionally substituted with halogen or Y (wherein Y is a linear or branched alkyl or alkoxyalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the alkyl or an alkoxyalkyl group may be substituted with a sulfonic acid group at any position), p is an integer greater than or equal to 1, and R e is H, alkyl, fluoroalkyl, or aryl is)] polythiophene containing a repeating unit represented by;
(B) an onium borate salt of formula (a1):
An anion of the formula (a2):
A monovalent or divalent anion represented by and (a5)
[Wherein Ar is each independently an optionally substituted aryl group or optionally substituted heteroaryl group, R has 1 to 10 carbon atoms an alkyl group, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms or a fluoroaralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and L is an alkylene group , -NH-, an oxygen atom, a sulfur atom or -CN + -, and E represents an element belonging to Group 13 or Group 15 of the long period periodic table]. An onium borate salt consisting of an anion and a countercation (provided that it is an electrically neutral salt);
(C) a liquid carrier comprising an organic solvent; and (F) a composition comprising a matrix compound.
本発明により、各種ウェットプロセスに適用可能であり、電荷輸送性に優れたインク組成物を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide an ink composition that is applicable to various wet processes and has excellent charge transport properties.
本明細書に使用されるとき、単数で記載された名詞又は単数・複数を区別せずに記載された名詞は、特に断りない限り「1つ(1個)以上」又は「少なくとも1つ(1個)」を意味する。 As used herein, nouns written in the singular or indiscriminately in the singular or plural are defined as “one (one) or more” or “at least one (one)” unless otherwise specified. individual)”.
本明細書に使用されるとき、「~を含む(comprises)」という用語は、「本質的に~からなる」及び「~からなる」を包含する。「~を含む(comprising)」という用語は、「本質的に~からなる」及び「~からなる」を包含する。 As used herein, the term "comprises" includes "consisting essentially of" and "consisting of." The term "comprising" encompasses "consisting essentially of" and "consisting of".
「~がない(free of)」という句は、この句により修飾される材料の外部添加がないこと、及び当業者には公知の分析手法(例えば、ガス又は液体クロマトグラフィー、分光光度法、光学顕微鏡法等)により観測できる検出可能な量のこの材料が存在しないことを意味する。 The phrase "free of" means the absence of external additions of materials modified by this phrase and analytical techniques known to those skilled in the art (e.g., gas or liquid chromatography, spectrophotometry, optical It means that there is no detectable amount of this material observable by microscopy, etc.).
本開示を通して、種々の刊行物が参照により取り込まれる。参照により本明細書に取り込まれる該刊行物における任意の言語の意味が、本開示の言語の意味と矛盾するならば、特に断りない限り、本開示の言語の意味が優先するものである。 Throughout this disclosure, various publications are incorporated by reference. If the meaning of any language in that publication incorporated herein by reference conflicts with the meaning of language in the disclosure, the meaning of language in the disclosure controls unless otherwise stated.
本明細書に使用されるとき、有機基に関して「(Cx-Cy)」(ここで、x及びyは、それぞれ整数である)という用語は、この基が、1個の基に炭素原子x個から炭素原子y個までを含んでよいことを意味する。As used herein, the term "(C x -C y )" (where x and y are each integers) in reference to an organic group means that the group contains carbon atoms in one group It means that it may contain from x to y carbon atoms.
本明細書に使用されるとき、「アルキル」という用語は、一価の直鎖又は分岐の飽和炭化水素基、更に典型的には、一価の直鎖又は分岐の飽和(C1-C40)炭化水素基、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、ヘキシル、2-エチルヘキシル、オクチル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコシル、ベヘニル、トリアコンチル、及びテトラコンチル等を意味する。As used herein, the term “alkyl” refers to a monovalent straight or branched chain saturated hydrocarbon group, more typically a monovalent straight or branched saturated (C 1 -C 40 ) hydrocarbon groups such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, hexyl, 2-ethylhexyl, octyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, behenyl, triacontyl, and tetracontyl, etc. do.
本明細書に使用されるとき、「フルオロアルキル」という用語は、1個以上のフッ素原子で置換されている、本明細書中と同義のアルキル基、更に典型的には(C1-C40)アルキル基を意味する。フルオロアルキル基の例は、例えば、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ペルフルオロアルキル、1H,1H,2H,2H-ペルフルオロオクチル、ペルフルオロエチル、及び-CH2CF3を含む。As used herein, the term "fluoroalkyl" refers to an alkyl group as defined herein, substituted with one or more fluorine atoms, more typically (C 1 -C 40 ) means an alkyl group. Examples of fluoroalkyl groups include, eg, difluoromethyl, trifluoromethyl , perfluoroalkyl, 1H,1H,2H,2H - perfluorooctyl, perfluoroethyl, and --CH.sub.2CF.sub.3.
本明細書に使用されるとき、「ヒドロカルビレン」という用語は、炭化水素、典型的には(C1-C40)炭化水素から2個の水素原子を除去することにより形成される二価基を意味する。ヒドロカルビレン基は、直鎖、分岐又は環状であってよく、そして飽和又は不飽和であってよい。ヒドロカルビレン基の例は、メチレン、エチレン、1-メチルエチレン、1-フェニルエチレン、プロピレン、ブチレン、1,2-フェニレン、1,3-フェニレン、1,4-フェニレン、及び2,6-ナフチレンを含むが、これらに限定されない。As used herein, the term “hydrocarbylene” refers to a divalent hydrogen atom formed by removing two hydrogen atoms from a hydrocarbon, typically a (C 1 -C 40 ) hydrocarbon. means the base. Hydrocarbylene groups may be linear, branched or cyclic, and saturated or unsaturated. Examples of hydrocarbylene groups are methylene, ethylene, 1-methylethylene, 1-phenylethylene, propylene, butylene, 1,2-phenylene, 1,3-phenylene, 1,4-phenylene, and 2,6-naphthylene. including but not limited to.
本明細書に使用されるとき、「アルコキシ」という用語は、-O-アルキル(ここで、アルキル基は、本明細書中と同義である)として示される一価基を意味する。アルコキシ基の例は、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、及びtert-ブトキシを含むが、これらに限定されない。 As used herein, the term "alkoxy" means a monovalent group designated as -O-alkyl, wherein alkyl group is as defined herein. Examples of alkoxy groups include, but are not limited to, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, and tert-butoxy.
本明細書に使用されるとき、「アリール」という用語は、1個以上の6員炭素環(その不飽和が、3個の共役二重結合により表される)を含有する一価の不飽和炭化水素基を意味する。アリール基は、単環式アリール及び多環式アリールを含む。多環式アリールとは、2個以上の6員炭素環(その不飽和が、3個の共役二重結合により表される)を含有する一価の不飽和炭化水素基であって、隣接する環が、1個以上の結合若しくは二価の架橋基により相互に結合しているか、又は一緒になって縮合している基のことをいう。アリール基の例は、フェニル、アントラセニル、ナフチル、フェナントレニル、フルオレニル、及びピレニルを含むが、これらに限定されない。 As used herein, the term "aryl" refers to a monovalent unsaturated ring containing one or more six-membered carbocyclic rings, the unsaturation of which is represented by three conjugated double bonds. means a hydrocarbon group. Aryl groups include monocyclic aryl and polycyclic aryl. A polycyclic aryl is a monovalent unsaturated hydrocarbon group containing two or more six-membered carbocyclic rings, the unsaturation of which is represented by three conjugated double bonds, and adjacent A group in which rings are joined together or fused together by one or more bonds or divalent bridging groups. Examples of aryl groups include, but are not limited to, phenyl, anthracenyl, naphthyl, phenanthrenyl, fluorenyl, and pyrenyl.
本明細書に使用されるとき、「アリールオキシ」という用語は、-O-アリール(ここで、アリール基は、本明細書中と同義である)として示される一価基を意味する。アリールオキシ基の例は、フェノキシ、アントラセノキシ、ナフトキシ、フェナントレノキシ、及びフルオレノキシを含むが、これらに限定されない。 As used herein, the term "aryloxy" means a monovalent radical designated as -O-aryl, wherein aryl group is as defined herein. Examples of aryloxy groups include, but are not limited to, phenoxy, anthracenoxy, naphthoxy, phenanthreoxy, and fluorenoxy.
本明細書に記載の任意の置換基又は基は、1個以上の炭素原子で、1個以上の同じか又は異なる本明細書に記載の置換基によって、場合により置換されていてもよい。例えば、ヒドロカルビレン基は、アリール基又はアルキル基で更に置換されていてもよい。本明細書に記載の任意の置換基又は基はまた、1個以上の炭素原子で、例えば、F、Cl、Br、及びIのようなハロゲン;ニトロ(NO2)、シアノ(CN)、並びにヒドロキシ(OH)からなる群より選択される1個以上の置換基によって、場合により置換されていてもよい。Any substituent or group described herein may be optionally substituted at one or more carbon atoms by one or more of the same or different substituents described herein. For example, hydrocarbylene groups may be further substituted with aryl or alkyl groups. Any substituents or groups described herein may also be substituted at one or more carbon atoms, for example, halogen such as F, Cl, Br, and I; nitro (NO 2 ), cyano (CN), and optionally substituted with one or more substituents selected from the group consisting of hydroxy (OH).
本明細書に使用されるとき、電荷輸送性とは、導電性と同義であり、正孔輸送性とも同義である。また、本発明のインク組成物は、それ自体に電荷輸送性があるものでもよく、インク組成物を使用して得られる固体膜に電荷輸送性があるものでもよい。 As used herein, charge-transporting is synonymous with conductivity and is also synonymous with hole-transporting. Further, the ink composition of the present invention may itself have charge-transporting properties, or may have charge-transporting properties in a solid film obtained by using the ink composition.
本明細書に使用されるとき、「正孔キャリア化合物」とは、正孔の移動を容易にすることができる(即ち、正電荷キャリア)か、かつ/又は例えば、電子デバイスにおいて電子の移動をブロックできる任意の化合物のことをいう。正孔キャリア化合物は、電子デバイスの、典型的には有機電子デバイス(例えば、有機発光デバイス等)の正孔輸送層(HTL)、正孔注入層(HIL)及び電子ブロック層(EBL)中で有用な化合物を含む。 As used herein, a "hole carrier compound" is a compound that is capable of facilitating the movement of holes (i.e., positive charge carriers) and/or facilitates the movement of electrons, for example, in an electronic device. It refers to any compound that can be blocked. Hole carrier compounds are used in hole transport layers (HTL), hole injection layers (HIL) and electron blocking layers (EBL) of electronic devices, typically organic electronic devices (e.g., organic light emitting devices, etc.). Contains useful compounds.
本明細書に使用されるとき、正孔キャリア化合物、例えば、ポリチオフェンに関する「ドープされた」という用語は、この正孔キャリア化合物が、ドーパントにより促進される、化学変換、典型的には酸化又は還元反応、更に典型的には酸化反応を受けたことを意味する。本明細書に使用されるとき、「ドーパント」という用語は、正孔キャリア化合物、例えば、ポリチオフェンを酸化又は還元する、典型的には酸化する物質のことをいう。本明細書で、正孔キャリア化合物が、ドーパントにより促進される、化学変換、典型的には酸化又は還元反応、更に典型的には酸化反応を受けるプロセスは、「ドーピング反応」又は単純に「ドーピング」と呼ばれる。ドーピングは、ポリチオフェンの特性を変えるが、この特性は、電気的特性(抵抗率及び仕事関数等)、機械的特性、及び光学的特性を含んでよいが、これらに限定されない。ドーピング反応の過程で、正孔キャリア化合物は、帯電し、そしてドーパントは、ドーピング反応の結果として、ドープされた正孔キャリア化合物に対して逆荷電した対イオンになる。本明細書に使用されるとき、物質は、ドーパントと称されるためには、正孔キャリア化合物を化学反応させるか、酸化するか、又は還元し、典型的には酸化しなければならない。正孔キャリア化合物と反応しないが、対イオンとして作用しうる物質は、本開示ではドーパントとはみなされない。したがって、正孔キャリア化合物、例えば、ポリチオフェンに関する「ドープされていない」という用語は、この正孔キャリア化合物が、本明細書に記載のドーピング反応を受けていないことを意味する。 As used herein, the term "doped" with respect to a hole carrier compound, such as polythiophene, means that the hole carrier compound has undergone a chemical transformation, typically oxidation or reduction, promoted by a dopant. It means that it has undergone a reaction, more typically an oxidation reaction. As used herein, the term "dopant" refers to a substance that oxidizes or reduces, typically oxidizes, a hole carrier compound such as polythiophene. As used herein, a process in which a hole carrier compound undergoes a chemical transformation, typically an oxidation or reduction reaction, more typically an oxidation reaction, promoted by a dopant is referred to as a "doping reaction" or simply "doping is called. Doping changes the properties of polythiophenes, which may include, but are not limited to, electrical properties (such as resistivity and work function), mechanical properties, and optical properties. During the doping reaction, the hole carrier compound becomes charged and the dopant becomes an oppositely charged counterion with respect to the doped hole carrier compound as a result of the doping reaction. As used herein, a substance must chemically react with, oxidize, or reduce, typically oxidize, a hole carrier compound to be called a dopant. Substances that do not react with the hole carrier compound but can act as counterions are not considered dopants for purposes of this disclosure. Thus, the term "undoped" with respect to a hole carrier compound, such as polythiophene, means that the hole carrier compound has not undergone the doping reaction described herein.
本明細書に使用されるとき、「パイルアップ」とはインク組成物がバンクの側面を這い上がる現象を意味する。
インク組成物を塗布するための方法は種々知られているが、そのような方法の一例として、インク組成物を微小な液滴としてノズルから吐出させ、被塗布物に付着させるインクジェット法(液滴吐出法)を挙げることができる。有機EL素子の製造を目的として、インクジェット法を用いて電荷輸送性薄膜を基板上に形成する場合、基板上に形成された薄膜電極(多くの場合、パターニングされた薄膜電極)上にバンク(隔壁)を形成して、薄膜電極上の必要な領域が、バンクで囲まれた膜形成領域となるようにし、その膜形成領域のみに、インクジェット法によりインク組成物を塗布して電荷輸送性薄膜を形成する、という方法がしばしば採用される。As used herein, "pile-up" means the phenomenon of the ink composition creeping up the sides of the bank.
Various methods for applying an ink composition are known. One example of such a method is an inkjet method in which the ink composition is ejected from a nozzle in the form of fine droplets and adhered to an object to be coated (droplets discharge method) can be mentioned. When a charge-transporting thin film is formed on a substrate using an inkjet method for the purpose of manufacturing an organic EL device, a bank (partition wall) is formed on a thin film electrode (in many cases, a patterned thin film electrode) formed on the substrate. ) is formed so that the necessary region on the thin film electrode becomes a film forming region surrounded by banks, and an ink composition is applied only to the film forming region by an inkjet method to form a charge transporting thin film. The method of forming is often adopted.
このようにして形成される電荷輸送性薄膜は、その厚さが薄膜全体にわたって均一な状態であることが好ましい。しかし現実には、特に上記のようなバンクを用いる方法により形成された場合、電荷輸送性薄膜が厚さの不均一な状態となることがある。そのような状態の一例として、形成された電荷輸送性薄膜の周辺部の厚さが、薄膜の中央から端に向かう方向に沿って増大した状態を挙げることができる。これは、前記膜形成領域内に塗布されたインク組成物がバンクの側面を這い上がることにより、形成される塗膜の周囲の厚さが、塗膜の中央から端(換言すれば、塗膜がバンクの側面と接触する部分)に向かう方向に沿って増大した状態になることに起因し、この状態にある塗膜から形成された電荷輸送性薄膜は、前記の如く厚さの不均一な状態になる。本明細書では、このようにインク組成物がバンクの側面を這い上がる現象を「パイルアップ現象」又は単に「パイルアップ」と称する。 The charge-transporting thin film thus formed preferably has a uniform thickness over the entire thin film. In reality, however, the thickness of the charge-transporting thin film may become non-uniform, especially when it is formed by the method using banks as described above. An example of such a state is a state in which the peripheral thickness of the formed charge-transporting thin film increases along the direction from the center to the edge of the thin film. This is because the ink composition applied in the film-forming region creeps up the side surface of the bank, and the peripheral thickness of the formed coating film increases from the center to the edge of the coating film (in other words, the coating film (portion in contact with the side surface of the bank), the charge-transporting thin film formed from the coating film in this state has a non-uniform thickness as described above. become a state. In this specification, the phenomenon in which the ink composition crawls up the sides of the bank is referred to as "pile-up phenomenon" or simply "pile-up."
本開示のインク組成物は、非水系でもよく水が含まれていても良いが、インクジェット塗布におけるプロセス適合性とインクの保存安定性の観点で、非水系であることが好ましい。本明細書に使用されるとき、「非水系」は、本開示のインク組成物中の水の総量が、インク組成物の総量に対して0~2重量%であることを意味する。典型的には、インク組成物中の水の総量は、インク組成物の総量に対して0~1重量%、更に典型的には0~0.5重量%である。ある実施態様において、本開示のインク組成物には水が実質的に存在しない。 The ink composition of the present disclosure may be non-aqueous and may contain water, but is preferably non-aqueous from the viewpoint of process compatibility in inkjet coating and storage stability of the ink. As used herein, "non-aqueous" means that the total amount of water in the ink composition of the present disclosure is 0-2% by weight based on the total weight of the ink composition. Typically, the total amount of water in the ink composition is 0-1 wt%, more typically 0-0.5 wt%, based on the total weight of the ink composition. In some embodiments, water is substantially absent from the ink compositions of the present disclosure.
[(A)成分]
(A)成分は、式(I):
[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、H、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、フルオロアルコキシ、アリールオキシ、-SO3M、又は-O-[Z-O]p-Reであるか、あるいは、R1及びR2は、一緒になって-O-Z-O-を形成し、ここで、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムであり、Zは、場合によりハロゲン又はYで置換されているヒドロカルビレン基(ここで、Yは、炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルコキシアルキル基であり、該アルキル基又はアルコキシアルキル基は、任意の位置がスルホン酸基で置換されていてもよい)であり、pは、1以上の整数であり、そしてReは、H、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールである]で表される繰り返し単位を含む、ポリチオフェンである。(A)成分は、単独でも、二種以上を併用してもよい。[(A) component]
Component (A) has the formula (I):
[wherein R 1 and R 2 are each independently H, alkyl, fluoroalkyl, alkoxy, fluoroalkoxy, aryloxy, -SO 3 M, or -O-[ZO] p -R e Alternatively, R 1 and R 2 together form -OZO-, where M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium and Z is a hydrocarbylene group optionally substituted with halogen or Y (wherein Y is a linear or branched alkyl or alkoxyalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the alkyl The group or alkoxyalkyl group may be substituted with a sulfonic acid group at any position), p is an integer greater than or equal to 1, and R e is H, alkyl, fluoroalkyl, or aryl. is a polythiophene containing a repeating unit represented by Component (A) may be used alone or in combination of two or more.
ある実施態様において、R1及びR2は、それぞれ独立に、H、フルオロアルキル、-SO3M、-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Re、又は-ORfであるか、あるいは、R1及びR2は、一緒になって-O-(CH2)q-O-(ここで、(CH2)qは、場合によりYで置換されている)を形成し;ここで、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムであり、各々のRa、Rb、Rc、及びRdは、それぞれ独立に、H、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールであり;Reは、H、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールであり;pは、1、2、又は3であり;Rfは、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールであり;qは、1、2、又は3であり、そしてYは、炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシアルキル基であり、該アルコキシアルキル基は任意の位置がスルホン酸基で置換されていてもよい。In certain embodiments, R 1 and R 2 are each independently H, fluoroalkyl, -SO 3 M, -O[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e , or —OR f , or R 1 and R 2 together are —O—(CH 2 ) q —O—, where (CH 2 ) q is optionally substituted with Y wherein M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium, and each R a , R b , R c , and R d is , each independently H, halogen, alkyl, fluoroalkyl, or aryl; R e is H, alkyl, fluoroalkyl , or aryl; p is 1, 2, or 3; , alkyl, fluoroalkyl, or aryl; q is 1, 2, or 3, and Y is a linear or branched alkoxyalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the alkoxyalkyl group being Any position may be substituted with a sulfonic acid group.
ある実施態様において、R1は、Hであり、そしてR2は、H以外である。このような実施態様において、繰り返し単位は、3-置換チオフェンから誘導される。In some embodiments, R 1 is H and R 2 is other than H. In such embodiments, repeat units are derived from 3-substituted thiophenes.
ポリチオフェンは、レジオランダム型又はレジオレギュラー型化合物であってよい。その非対称構造のため、3-置換チオフェンの重合から、繰り返し単位間の3種の可能性がある位置化学結合を含有するポリチオフェン構造の混合物が生成する。2個のチオフェン環が結合するとき利用可能なこの3種の配向は、2,2’、2,5’、及び5,5’カップリングである。2,2’(即ち、頭-頭)カップリング及び5,5’(即ち、尾-尾)カップリングは、レジオランダム型カップリングと呼ばれる。対照的に、2,5’(即ち、頭-尾)カップリングは、レジオレギュラー型カップリングと呼ばれる。位置規則性(regioregularity)の程度は、例えば、約0~100%、又は約25~99.9%、又は約50~98%でありうる。位置規則性は、例えば、NMR分光法を用いる等の、当業者には公知の標準法により決定することができる。 Polythiophenes may be regiorandom or regioregular compounds. Due to its asymmetric structure, polymerization of 3-substituted thiophenes produces a mixture of polythiophene structures containing three possible regiochemical bonds between repeat units. The three orientations available when two thiophene rings are attached are 2,2', 2,5' and 5,5' couplings. 2,2' (ie, head-to-head) and 5,5' (ie, tail-to-tail) couplings are referred to as regiorandom couplings. In contrast, 2,5' (ie, head-to-tail) couplings are called regioregular couplings. The degree of regioregularity can be, for example, about 0-100%, or about 25-99.9%, or about 50-98%. Regioregularity can be determined by standard methods known to those skilled in the art, eg, using NMR spectroscopy.
ある実施態様において、ポリチオフェンは、レジオレギュラー型である。幾つかの実施態様において、ポリチオフェンの位置規則性は、少なくとも約85%、典型的には少なくとも約95%、更に典型的には少なくとも約98%であってよい。幾つかの実施態様において、位置規則性の程度は、少なくとも約70%、典型的には少なくとも約80%であってよい。更に他の実施態様において、レジオレギュラー型ポリチオフェンは、少なくとも約90%の位置規則性の程度を、典型的には少なくとも約98%の位置規則性の程度を有する。 In some embodiments, the polythiophene is regioregular. In some embodiments, the regioregularity of the polythiophene can be at least about 85%, typically at least about 95%, more typically at least about 98%. In some embodiments, the degree of regioregularity may be at least about 70%, typically at least about 80%. In yet another embodiment, the regioregular polythiophene has a degree of regioregularity of at least about 90%, typically at least about 98%.
3-置換チオフェンモノマー(該モノマーから誘導されるポリマーを含む)は、市販されているか、又は当業者には公知の方法により製造することができる。側基を持つレジオレギュラー型ポリチオフェンを含む、合成方法、ドーピング法、及びポリマー特性評価は、例えば、McCulloughらの米国特許第6,602,974号及びMcCulloughらの米国特許第6,166,172号に提供される。 3-Substituted thiophene monomers (including polymers derived therefrom) are commercially available or can be prepared by methods known to those skilled in the art. Synthetic methods, doping methods, and polymer characterization, including pendant regioregular polythiophenes, are described, for example, in McCullough et al., US Pat. No. 6,602,974 and McCullough et al., US Pat. No. 6,166,172. provided to
別の実施態様において、R1及びR2は、両方ともH以外である。このような実施態様において、繰り返し単位は、3,4-二置換チオフェンから誘導される。In another embodiment R 1 and R 2 are both other than H. In such embodiments, repeat units are derived from 3,4-disubstituted thiophenes.
ある実施態様において、R1及びR2は、それぞれ独立に、-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Re、又は-ORfであるか、あるいは、R1及びR2は、一緒になって-O-(CH2)q-O-を形成する。ある実施態様において、R1及びR2は、両方とも-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Reである。R1及びR2は、同一であっても異なっていてもよい。In certain embodiments, R 1 and R 2 are each independently -O[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e , or -OR f ; Alternatively, R 1 and R 2 together form -O-(CH 2 ) q -O-. In some embodiments, R 1 and R 2 are both -O[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e . R 1 and R 2 may be the same or different.
ある実施態様において、各々のRa、Rb、Rc、及びRdは、それぞれ独立に、H、(C1-C8)アルキル、(C1-C8)フルオロアルキル、又はフェニルであり;そしてReは、(C1-C8)アルキル、(C1-C8)フルオロアルキル、又はフェニルである。In certain embodiments, each R a , R b , R c , and R d is each independently H, (C 1 -C 8 )alkyl, (C 1 -C 8 )fluoroalkyl, or phenyl. and R e is (C 1 -C 8 )alkyl, (C 1 -C 8 )fluoroalkyl, or phenyl.
ある実施態様において、R1及びR2は、それぞれ-O[CH2-CH2-O]p-Reである。ある実施態様において、R1及びR2は、それぞれ-O[CH(CH3)-CH2-O]p-Reである。In some embodiments, R 1 and R 2 are each -O[CH 2 -CH 2 -O] p -R e . In some embodiments, R 1 and R 2 are each -O[CH(CH 3 )-CH 2 -O] p -R e .
ある実施態様において、Reは、メチル、プロピル、又はブチルである。In some embodiments, R e is methyl, propyl, or butyl.
ある実施態様において、qは、2である。 In some embodiments, q is two.
ある実施態様において、-O-(CH2)q-O-は、1つ以上の位置がYで置換されている。ある実施態様において、-O-(CH2)q-O-は、1つの位置がYで置換されている。In certain embodiments, —O—(CH 2 ) q —O— is substituted with Y at one or more positions. In one embodiment, —O—(CH 2 ) q —O— is substituted with Y at one position.
ある実施態様において、qは、2であり、Yは、3-スルホブトキシメチル基である。この場合、-O-(CH2)2-O-基は、1つの位置が3-スルホブトキシメチル基で置換されていると、好ましい。In some embodiments, q is 2 and Y is a 3-sulfobutoxymethyl group. In this case the -O-(CH 2 ) 2 -O- group is preferably substituted in one position by a 3-sulfobutoxymethyl group.
ある実施態様において、ポリチオフェンは、下記式:
で表される基(式中、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムである)、及びこれらの組合せからなる群より選択される繰り返し単位を含む。In some embodiments, the polythiophene has the formula:
(wherein M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium), and repeating units selected from the group consisting of combinations thereof.
当業者には明らかであろうが、下記式:
で示される繰り返し単位は、下記式:
3-(2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ)チオフェン[本明細書では3-MEETと呼ばれる]
で示される構造により表されるモノマーから誘導され;下記式:
で示される繰り返し単位は、下記式:
(式中、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムである)
スルホン化3-(2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ)チオフェン[本明細書ではスルホン化3-MEETと呼ばれる]
で示される構造により表されるモノマーから誘導され;下記式:
で示される繰り返し単位は、下記式:
3,4-ビス(2-(2-ブトキシエトキシ)エトキシ)チオフェン[本明細書では3,4-ジBEETと呼ばれる]
で示される構造により表されるモノマーから誘導され;下記式:
で示される繰り返し単位は、下記式:
3,4-ビス((1-プロポキシプロパン-2-イル)オキシ)チオフェン[本明細書では3,4-ジPPTと呼ばれる]
で示される構造により表されるモノマーから誘導され、そして下記式:
で示される繰り返し単位は、下記式:
3,4-エチレンジオキシチオフェン
で示される構造により表されるモノマーから誘導される。As will be apparent to those skilled in the art, the formula:
The repeating unit represented by is represented by the following formula:
3-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)thiophene [referred to herein as 3-MEET]
derived from a monomer represented by the structure represented by the formula:
The repeating unit represented by is represented by the following formula:
(Where M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium)
Sulfonated 3-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)thiophene [referred to herein as sulfonated 3-MEET]
derived from a monomer represented by the structure represented by the formula:
The repeating unit represented by is represented by the following formula:
3,4-bis(2-(2-butoxyethoxy)ethoxy)thiophene [referred to herein as 3,4-diBEET]
derived from a monomer represented by the structure represented by the formula:
The repeating unit represented by is represented by the following formula:
3,4-bis((1-propoxypropan-2-yl)oxy)thiophene [referred to herein as 3,4-diPPT]
is derived from a monomer represented by the structure shown in and having the formula:
The repeating unit represented by is represented by the following formula:
It is derived from a monomer represented by the structure shown in 3,4-ethylenedioxythiophene.
3,4-二置換チオフェンモノマー(該モノマーから誘導されるポリマーを含む)は、市販されているか、又は当業者には公知の方法により製造することができる。例えば、3,4-二置換チオフェンモノマーは、3,4-ジブロモチオフェンを、式:HO-[Z-O]p-Re又はHORf[式中、Z、Re、Rf及びpは、本明細書中と同義である]で与えられる化合物の金属塩、典型的にはナトリウム塩と反応させることにより生成させることができる。3,4-disubstituted thiophene monomers (including polymers derived therefrom) are commercially available or can be prepared by methods known to those skilled in the art. For example, a 3,4-disubstituted thiophene monomer can be 3,4-dibromothiophene with the formula: HO-[ZO] p -R e or HOR f where Z, R e , R f and p are , as defined herein] with a metal salt, typically the sodium salt.
3,4-二置換チオフェンモノマーの重合は、最初に3,4-二置換チオフェンモノマーの2及び5位を臭素化して、対応する3,4-二置換チオフェンモノマーの2,5-ジブロモ誘導体を形成することにより実施される。次にニッケル触媒の存在下での3,4-二置換チオフェンの2,5-ジブロモ誘導体のGRIM(グリニャールメタセシス)重合により、ポリマーを得ることができる。このような方法は、例えば、米国特許第8,865,025号に記載されており、これは、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。チオフェンモノマーを重合する別の既知の方法は、酸化剤として、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-1,4-ベンゾキノン(DDQ)のような金属非含有有機酸化剤を用いるか、又は、例えば塩化鉄(III)、塩化モリブデン(V)、及び塩化ルテニウム(III)のような遷移金属ハロゲン化物を用いる、酸化重合によるものである。 Polymerization of 3,4-disubstituted thiophene monomers involves first brominating the 2 and 5 positions of the 3,4-disubstituted thiophene monomer to give the corresponding 2,5-dibromo derivative of the 3,4-disubstituted thiophene monomer. It is carried out by forming Polymers can then be obtained by GRIM (Grignard metathesis) polymerization of 2,5-dibromo derivatives of 3,4-disubstituted thiophenes in the presence of nickel catalysts. Such methods are described, for example, in US Pat. No. 8,865,025, which is incorporated herein by reference in its entirety. Another known method of polymerizing thiophene monomers uses a metal-free organic oxidant such as 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone (DDQ) as the oxidant, or , for example by oxidative polymerization using transition metal halides such as iron(III) chloride, molybdenum(V) chloride, and ruthenium(III) chloride.
金属塩、典型的にはナトリウム塩に変換され、そして3,4-二置換チオフェンモノマーを生成させるのに使用されうる、式:HO-[Z-O]p-Re又はHORfを有する化合物の例は、トリフルオロエタノール、エチレングリコールモノヘキシルエーテル(ヘキシルセロソルブ)、プロピレングリコールモノブチルエーテル(Dowanol(商標) PnB)、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(エチルカルビトール)、ジプロピレングリコールn-ブチルエーテル(Dowanol(商標) DPnB)、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル(フェニルカルビトール)、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルカルビトール)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(Dowanol(商標) DPM)、ジイソブチルカルビノール、2-エチルヘキシルアルコール、メチルイソブチルカルビノール、エチレングリコールモノフェニルエーテル(Dowanol(商標) Eph)、プロピレングリコールモノプロピルエーテル(Dowanol(商標) PnP)、プロピレングリコールモノフェニルエーテル(Dowanol(商標) PPh)、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル(プロピルカルビトール)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(ヘキシルカルビトール)、2-エチルヘキシルカルビトール、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル(Dowanol(商標) DPnP)、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(Dowanol(商標) TPM)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(メチルカルビトール)、及びトリプロピレングリコールモノブチルエーテル(Dowanol(商標) TPnB)を含むが、これらに限定されない。Compounds having the formula: HO-[ZO] p -R e or HOR f that can be converted to metal salts, typically sodium salts, and used to generate 3,4-disubstituted thiophene monomers Examples of are trifluoroethanol, ethylene glycol monohexyl ether (hexylcellosolve), propylene glycol monobutyl ether (Dowanol™ PnB), diethylene glycol monoethyl ether (ethyl carbitol), dipropylene glycol n-butyl ether (Dowanol™ ) DPnB), diethylene glycol monophenyl ether (phenyl carbitol), ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol), dipropylene glycol monomethyl ether (Dowanol™ DPM), diisobutyl carbinol, 2- Ethylhexyl Alcohol, Methyl Isobutyl Carbinol, Ethylene Glycol Monophenyl Ether (Dowanol™ Eph), Propylene Glycol Monopropyl Ether (Dowanol™ PnP), Propylene Glycol Monophenyl Ether (Dowanol™ PPh), Diethylene Glycol Monopropyl Ether (Propyl Carbitol), Diethylene Glycol Monohexyl Ether (Hexyl Carbitol), 2-Ethylhexyl Carbitol, Dipropylene Glycol Monopropyl Ether (Dowanol™ DPnP), Tripropylene Glycol Monomethyl Ether (Dowanol™ TPM), Including, but not limited to, diethylene glycol monomethyl ether (methyl carbitol), and tripropylene glycol monobutyl ether (Dowanol™ TPnB).
本開示の式(I)で表される繰り返し単位を有するポリチオフェンは、重合によるその形成に続いて、更に修飾することができる。例えば、3-置換チオフェンモノマーから誘導される1種以上の繰り返し単位を有するポリチオフェンは、水素が、スルホン化によるスルホン酸基(-SO3H)のような置換基によって置換されうる、1個以上の部位を有していてもよい。Polythiophenes having repeat units of formula (I) of the present disclosure can be further modified following their formation by polymerization. For example, a polythiophene having one or more repeating units derived from a 3-substituted thiophene monomer can have one or more hydrogens replaced by a substituent such as a sulfonic acid group (—SO 3 H) by sulfonation. You may have a part of
本明細書に使用されるとき、ポリチオフェンに関連する「スルホン化」という用語は、そのポリチオフェンが、1個以上のスルホン酸基(-SO3H)を含むことを意味する。(当該ポリチオフェンは、「スルホン化ポリチオフェン」とも言う。)
典型的には、-SO3H基の硫黄原子は、ポリチオフェンの基本骨格に直接結合しており、側基には結合していない。本開示の目的には、側基は、理論的に又は実際にポリマーから脱離されても、ポリマー鎖の長さを縮めない一価基である。スルホン化ポリチオフェンポリマー及び/又はコポリマーは、当業者には公知の任意の方法を用いて製造することができる。例えば、ポリチオフェンを、例えば、発煙硫酸、硫酸アセチル、ピリジンSO3等のような、スルホン化試薬と反応させることによりスルホン化することができる。別の例では、モノマーをスルホン化試薬を用いてスルホン化し、次に既知の方法及び/又は本明細書に記載の方法により重合することができる。当業者には明らかであろうが、スルホン酸基は、塩基性化合物、例えば、アルカリ金属水酸化物、アンモニア及びアルキルアミン(例えば、モノ-、ジ-及びトリアルキルアミン、例えば、トリエチルアミン等)の存在下で、対応する塩又は付加体の形成をもたらし得る。よって、ポリチオフェンに関連する「スルホン化」という用語は、このポリチオフェンが、1個以上の-SO3M基(ここで、Mは、アルカリ金属イオン(例えば、Na+、Li+、K+、Rb+、Cs+等)、アンモニウム(NH4
+)、モノ-、ジ-、及びトリアルキルアンモニウム(トリエチルアンモニウム等)であってよい)を含んでもよいという意味を含む。As used herein, the term “sulfonated” in relation to polythiophene means that the polythiophene contains one or more sulfonic acid groups (—SO 3 H). (The polythiophene is also called "sulfonated polythiophene".)
Typically, the sulfur atom of the —SO 3 H group is directly attached to the polythiophene backbone and not to any side groups. For the purposes of this disclosure, a pendant group is a monovalent group that, when theoretically or actually eliminated from a polymer, does not reduce the length of the polymer chain. Sulfonated polythiophene polymers and/or copolymers can be made using any method known to those skilled in the art. For example, polythiophenes can be sulfonated by reacting with a sulfonating reagent such as, for example, oleum, acetyl sulfate, pyridine SO3 , and the like. In another example, a monomer can be sulfonated using a sulfonating reagent and then polymerized by known methods and/or methods described herein. As will be apparent to those skilled in the art, sulfonic acid groups can be added to basic compounds such as alkali metal hydroxides, ammonia and alkylamines (such as mono-, di- and trialkylamines such as triethylamine, etc.). In its presence, it may lead to the formation of the corresponding salt or adduct. Thus, the term “sulfonated” in relation to polythiophene means that the polythiophene has one or more —SO 3 M groups, where M is an alkali metal ion (eg, Na + , Li + , K + , Rb + , Cs + etc.), ammonium (NH 4 + ), mono-, di-, and trialkylammonium (such as triethylammonium)).
共役ポリマーのスルホン化及びスルホン化共役ポリマー(スルホン化ポリチオフェンを含む)は、Seshadriらの米国特許第8,017,241号に記載されており、これは、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
また、スルホン化ポリチオフェンについては、国際公開第2008/073149号及び国際公開第2016/171935号に記載されており、これは、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。Sulfonation of conjugated polymers and sulfonated conjugated polymers (including sulfonated polythiophenes) are described in Seshadri et al., US Pat. No. 8,017,241, which is incorporated herein by reference in its entirety. be
Sulfonated polythiophenes are also described in WO2008/073149 and WO2016/171935, which are hereby incorporated by reference in their entireties.
ある実施態様において、ポリチオフェンは、スルホン化されている。 In some embodiments, the polythiophene is sulfonated.
ある実施態様において、スルホン化ポリチオフェンは、式(I):
[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、H、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、フルオロアルコキシ、アリールオキシ、又は-O-[Z-O]p-Re(式中、Zは、場合によりハロゲン化されているヒドロカルビレン基であり、pは、1以上の整数であり、そして、Reは、H、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールである)である。
但し、R1及びR2のいずれかは、-SO3M(Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムである。)である。]
で表される繰り返し単位を含む。In certain embodiments, the sulfonated polythiophene has formula (I):
[wherein R 1 and R 2 are each independently H, alkyl, fluoroalkyl, alkoxy, fluoroalkoxy, aryloxy, or -O-[Z-O] p -R e (wherein Z is optionally halogenated hydrocarbylene group, p is an integer greater than or equal to 1, and R e is H, alkyl, fluoroalkyl, or aryl.
However, either of R 1 and R 2 is —SO 3 M (M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium or trialkylammonium). ]
Including repeating units represented by
ある実施態様において、スルホン化ポリチオフェンは、式(I)[式中、各々のR1及びR2が、それぞれ独立に、H、フルオロアルキル、-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Re、又は-ORfであり;ここで、各々のRa、Rb、Rc、及びRdは、それぞれ独立に、H、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールであり;Reは、H、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールであり;pは、1、2、又は3であり;そしてRfは、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールである。
但し、R1及びR2のいずれかは、-SO3M(Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムである。)である。]
で表される繰り返し単位を含む。In certain embodiments, the sulfonated polythiophene has the formula (I) [wherein each R 1 and R 2 is independently H, fluoroalkyl, -O[C(R a R b )-C(R c R d )—O] p —R e , or —OR f ; wherein each R a , R b , R c , and R d is independently H, halogen, alkyl, fluoroalkyl , or aryl; R e is H, alkyl, fluoroalkyl, or aryl; p is 1, 2, or 3; and R f is alkyl, fluoroalkyl, or aryl.
However, either of R 1 and R 2 is —SO 3 M (M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium or trialkylammonium). ]
Including repeating units represented by
ある実施態様において、R1が、-SO3M(Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムである。)であり、そしてR2が、-SO3M以外である。Mは、好ましくは、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムであり、より好ましくはトリアルキルアンモニウムである。In some embodiments, R 1 is —SO 3 M (M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium), and R 2 is —SO 3 Other than M. M is preferably monoalkylammonium, dialkylammonium or trialkylammonium, more preferably trialkylammonium.
ある実施態様において、R1が、-SO3Mであり、そしてR2が、-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Re、又は-ORfである。In some embodiments, R 1 is -SO 3 M and R 2 is -O[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e , or -OR is f .
ある実施態様において、R1が、-SO3Mであり、そしてR2が、-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Reである。In some embodiments, R 1 is -SO 3 M and R 2 is -O[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e .
ある実施態様において、R1が、-SO3Mであり、そしてR2が、-O-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH3である。In some embodiments, R 1 is -SO 3 M and R 2 is -O-CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 -O-CH 3 .
ある実施態様において、スルホン化ポリチオフェンは、式(I):
[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、H、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、フルオロアルコキシ、アリールオキシ、又は-O-[Z-O]p-Re(式中、Zは、場合によりハロゲン化されているヒドロカルビレン基であり、pは、1以上の整数であり、そして、Reは、H、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールである)である]
で表される繰り返し単位を含むポリチオフェンのスルホン化により得られる。In certain embodiments, the sulfonated polythiophene has formula (I):
[wherein R 1 and R 2 are each independently H, alkyl, fluoroalkyl, alkoxy, fluoroalkoxy, aryloxy, or -O-[Z-O] p -R e (wherein Z is optionally halogenated hydrocarbylene group, p is an integer greater than or equal to 1, and R e is H, alkyl, fluoroalkyl, or aryl]
obtained by sulfonation of a polythiophene containing repeating units represented by
ある実施態様において、スルホン化ポリチオフェンは、式(I)[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、H、フルオロアルキル、-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Re、又は-ORfであり;ここで、各々のRa、Rb、Rc、及びRdは、それぞれ独立に、H、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールであり;Reは、H、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールであり;pは、1、2、又は3であり;そしてRfは、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールである]で表される繰り返し単位を含むポリチオフェンのスルホン化により得られる。In certain embodiments, the sulfonated polythiophene has the formula (I) [wherein R 1 and R 2 are each independently H, fluoroalkyl, -O[C(R a R b )-C(R c R d ) —O] p —R e , or —OR f ; wherein each R a , R b , R c , and R d is each independently H, halogen, alkyl, fluoroalkyl, or is aryl; R e is H, alkyl, fluoroalkyl, or aryl; p is 1, 2, or 3; and R f is alkyl, fluoroalkyl, or aryl] obtained by sulfonation of polythiophene containing repeating units.
ある実施態様において、R1は、Hであり、そしてR2は、H以外である。このような実施態様において、繰り返し単位は、3-置換チオフェンから誘導される。In some embodiments, R 1 is H and R 2 is other than H. In such embodiments, repeat units are derived from 3-substituted thiophenes.
スルホン化ポリチオフェンは、レジオランダム型又はレジオレギュラー型化合物でありうるポリチオフェンから得られる。その非対称構造のため、3-置換チオフェンの重合から、繰り返し単位間の3種の可能性がある位置化学結合を含有するポリチオフェン構造の混合物が生成する。2個のチオフェン環が結合するとき利用可能なこの3種の配向は、2,2’、2,5’、及び5,5’カップリングである。2,2’(即ち、頭-頭)カップリング及び5,5’(即ち、尾-尾)カップリングは、レジオランダム型カップリングと呼ばれる。対照的に、2,5’(即ち、頭-尾)カップリングは、レジオレギュラー型カップリングと呼ばれる。位置規則性(regioregularity)の程度は、例えば、約0~100%、又は約25~99.9%、又は約50~98%でありうる。位置規則性は、例えば、NMR分光法を用いる等の、当業者には公知の標準法により決定することができる。 Sulfonated polythiophenes are derived from polythiophenes which can be regiorandom or regioregular compounds. Due to its asymmetric structure, polymerization of 3-substituted thiophenes produces a mixture of polythiophene structures containing three possible regiochemical bonds between repeat units. The three orientations available when two thiophene rings are attached are 2,2', 2,5' and 5,5' couplings. 2,2' (ie, head-to-head) and 5,5' (ie, tail-to-tail) couplings are referred to as regiorandom couplings. In contrast, 2,5' (ie, head-to-tail) couplings are called regioregular couplings. The degree of regioregularity can be, for example, about 0-100%, or about 25-99.9%, or about 50-98%. Regioregularity can be determined by standard methods known to those skilled in the art, eg, using NMR spectroscopy.
3-置換チオフェンモノマー(該モノマーから誘導されるポリマーを含む)は、市販されているか、又は当業者には公知の方法により製造することができる。側基を持つレジオレギュラー型ポリチオフェンを含む、合成方法、ドーピング法、及びポリマー特性評価は、例えば、McCulloughらの米国特許第6,602,974号及びMcCulloughらの米国特許第6,166,172号に提供される。共役ポリマーのスルホン化及びスルホン化共役ポリマー(スルホン化ポリチオフェンを含む)は、Seshadriらの米国特許第8,017,241号に記載されている。 3-Substituted thiophene monomers (including polymers derived therefrom) are commercially available or can be prepared by methods known to those skilled in the art. Synthetic methods, doping methods, and polymer characterization, including pendant regioregular polythiophenes, are described, for example, in McCullough et al., US Pat. No. 6,602,974 and McCullough et al., US Pat. No. 6,166,172. provided to Sulfonation of conjugated polymers and sulfonated conjugated polymers (including sulfonated polythiophenes) are described in US Pat. No. 8,017,241 to Seshadri et al.
ある実施態様において、R1は、Hであり、そしてR2は、-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Re、又は-ORfである。ある実施態様において、R1は、Hであり、そしてR2は、-O[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Reである。In some embodiments, R 1 is H and R 2 is -O[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e , or -OR f . In some embodiments, R 1 is H and R 2 is -O[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e .
ある実施態様において、各々のRa、Rb、Rc、及びRdは、それぞれ独立に、H、(C1-C8)アルキル、(C1-C8)フルオロアルキル、又はフェニルであり;Re及びRfは、それぞれ独立に、H、(C1-C8)アルキル、(C1-C8)フルオロアルキル、又はフェニルである。In certain embodiments, each R a , R b , R c , and R d is each independently H, (C 1 -C 8 )alkyl, (C 1 -C 8 )fluoroalkyl, or phenyl. R e and R f are each independently H, (C 1 -C 8 )alkyl, (C 1 -C 8 )fluoroalkyl, or phenyl;
ある実施態様において、R2は、-O[CH2-CH2-O]p-Reである。ある実施態様において、R2は、-ORfである。In some embodiments, R 2 is -O[CH 2 -CH 2 -O] p -R e . In some embodiments, R 2 is -OR f .
金属塩、典型的にはナトリウム塩に変換することができ、そしてチオフェンモノマーに結合して3-置換チオフェン(次にこれを使用して、スルホン化すべきポリチオフェンを生成させる)を形成させることができる、式:HO[C(RaRb)-C(RcRd)-O]p-Re又はHORfを有する化合物の例は、トリフルオロエタノール、エチレングリコールモノヘキシルエーテル(ヘキシルセロソルブ)、プロピレングリコールモノブチルエーテル(Dowanol(商標) PnB)、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(エチルカルビトール)、ジプロピレングリコールn-ブチルエーテル(Dowanol(商標) DPnB)、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル(フェニルカルビトール)、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルカルビトール)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(Dowanol(商標) DPM)、ジイソブチルカルビノール、2-エチルヘキシルアルコール、メチルイソブチルカルビノール、エチレングリコールモノフェニルエーテル(Dowanol(商標) Eph)、プロピレングリコールモノプロピルエーテル(Dowanol(商標) PnP)、プロピレングリコールモノフェニルエーテル(Dowanol(商標) PPh)、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル(プロピルカルビトール)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(ヘキシルカルビトール)、2-エチルヘキシルカルビトール、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル(Dowanol(商標) DPnP)、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(Dowanol(商標) TPM)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(メチルカルビトール)、及びトリプロピレングリコールモノブチルエーテル(Dowanol(商標) TPnB)を含むが、これらに限定されない。It can be converted to a metal salt, typically the sodium salt, and coupled to the thiophene monomer to form a 3-substituted thiophene, which is then used to form the polythiophene to be sulfonated. , HO[C(R a R b )-C(R c R d )-O] p -R e or HOR f are trifluoroethanol, ethylene glycol monohexyl ether (hexylcellosolve) , propylene glycol monobutyl ether (Dowanol™ PnB), diethylene glycol monoethyl ether (ethyl carbitol), dipropylene glycol n-butyl ether (Dowanol™ DPnB), diethylene glycol monophenyl ether (phenyl carbitol), ethylene glycol mono Butyl Ether (Butyl Cellosolve), Diethylene Glycol Monobutyl Ether (Butyl Carbitol), Dipropylene Glycol Monomethyl Ether (Dowanol™ DPM), Diisobutyl Carbinol, 2-Ethylhexyl Alcohol, Methylisobutyl Carbinol, Ethylene Glycol Monophenyl Ether (Dowanol™ ) Eph), propylene glycol monopropyl ether (Dowanol™ PnP), propylene glycol monophenyl ether (Dowanol™ PPh), diethylene glycol monopropyl ether (propyl carbitol), diethylene glycol monohexyl ether (hexyl carbitol), 2-ethylhexyl carbitol, dipropylene glycol monopropyl ether (Dowanol™ DPnP), tripropylene glycol monomethyl ether (Dowanol™ TPM), diethylene glycol monomethyl ether (methyl carbitol), and tripropylene glycol monobutyl ether (Dowanol (trademark) TPnB).
ある実施態様において、Reは、H、メチル、プロピル、又はブチルである。ある実施態様において、Rfは、CH2CF3である。In some embodiments, R e is H, methyl, propyl, or butyl. In some embodiments, R f is CH 2 CF 3 .
ある実施態様において、スルホン化ポリチオフェンは、下記式:
で示される繰り返し単位を含むポリチオフェンをスルホン化することにより得られる。In some embodiments, the sulfonated polythiophene has the formula:
obtained by sulfonating a polythiophene containing repeating units represented by
当業者には明らかであろうが、下記式:
で示される繰り返し単位は、下記式:
3-(2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ)チオフェン[本明細書では3-MEETと呼ばれる]
で示される構造により表されるモノマーから誘導される。As will be apparent to those skilled in the art, the formula:
The repeating unit represented by is represented by the following formula:
3-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)thiophene [referred to herein as 3-MEET]
is derived from a monomer represented by the structure shown in
したがって、下記式:
で示される繰り返し単位を含むポリチオフェンのスルホン化により、スルホン化ポリ(3-MEET)が生じる。Therefore, the formula:
Sulfonation of polythiophenes containing repeating units represented by yields sulfonated poly(3-MEET).
ある実施態様において、ポリチオフェンは、スルホン化ポリ(3-MEET)である。 In some embodiments, the polythiophene is sulfonated poly(3-MEET).
本開示に使用されるポリチオフェンは、ホモポリマー又はコポリマー(統計的、ランダム、勾配、及びブロックコポリマーを含む)であってよい。モノマーA及びモノマーBを含むポリマーとしては、ブロックコポリマーは、例えば、A-Bジブロックコポリマー、A-B-Aトリブロックコポリマー、及び-(AB)k-マルチブロックコポリマーを含む。ポリチオフェンは、他のタイプのモノマー(例えば、チエノチオフェン、セレノフェン、ピロール、フラン、テルロフェン、アニリン、アリールアミン、及びアリーレン(例えば、フェニレン、フェニレンビニレン、及びフルオレン等)等)から誘導される繰り返し単位を含んでもよい。Polythiophenes used in this disclosure may be homopolymers or copolymers (including statistical, random, gradient, and block copolymers). For polymers comprising monomer A and monomer B, block copolymers include, for example, AB diblock copolymers, ABA triblock copolymers, and -(AB) k -multiblock copolymers. Polythiophenes contain repeat units derived from other types of monomers such as thienothiophenes, selenophenes, pyrroles, furans, tellurophenes, anilines, arylamines, and arylenes such as phenylenes, phenylene vinylenes, and fluorenes. may contain.
ある実施態様において、ポリチオフェンは、式(I)で表される繰り返し単位を、繰り返し単位の総重量に基づいて50重量%より多い、典型的には80重量%より多い、更に典型的には90重量%より多い、更になお典型的には95重量%より多い量で含む。 In certain embodiments, the polythiophene comprises greater than 50% by weight, typically greater than 80% by weight, more typically greater than 90% by weight of repeating units of formula (I), based on the total weight of the repeating units. greater than 95% by weight, and even more typically greater than 95% by weight.
当業者には明らかであろうが、重合に使用される出発モノマー化合物の純度に応じて、形成されるポリマーは、不純物から誘導される繰り返し単位を含有してもよい。本明細書に使用されるとき、「ホモポリマー」という用語は、1つのタイプのモノマーから誘導される繰り返し単位を含むポリマーを意味するものであるが、不純物から誘導される繰り返し単位を含有してもよい。ある実施態様において、ポリチオフェンは、基本的に全ての繰り返し単位が、式(I)で表される繰り返し単位である、ホモポリマーである。 As will be apparent to those skilled in the art, depending on the purity of the starting monomeric compounds used in the polymerization, the polymer formed may contain repeat units derived from impurities. As used herein, the term "homopolymer" shall mean a polymer containing repeat units derived from one type of monomer, but containing repeat units derived from impurities. good too. In one embodiment, the polythiophene is a homopolymer in which essentially all repeating units are repeating units of formula (I).
ポリチオフェンは、典型的には約1,000~1,000,000g/molの間の数平均分子量を有する。更に典型的には、この共役ポリマーは、約5,000~100,000g/molの、更になお典型的には約10,000~約50,000g/molの間の数平均分子量を有する。数平均分子量は、例えば、ゲル透過クロマトグラフィーのような、当業者に公知の方法により決定することができる。 Polythiophenes typically have number average molecular weights between about 1,000 and 1,000,000 g/mol. More typically, the conjugated polymer has a number average molecular weight of about 5,000 to 100,000 g/mol, even more typically between about 10,000 and about 50,000 g/mol. Number average molecular weight can be determined by methods known to those skilled in the art, such as, for example, gel permeation chromatography.
本発明においては、前記のポリチオフェンを還元剤で処理した後に用いてもよい。
ポリチオフェンでは、それらを構成する繰り返し単位の一部において、その化学構造が「キノイド構造」と呼ばれる酸化型の構造となっている場合がある。用語「キノイド構造」は、用語「ベンゼノイド構造」に対して用いられるもので、芳香環を含む構造である後者に対し、前者は、その芳香環内の二重結合が環外に移動し(その結果、芳香環は消失する)、環内に残る他の二重結合と共役する2つの環外二重結合が形成された構造を意味する。当業者にとって、これらの両構造の関係は、ベンゾキノンとヒドロキノンの構造の関係から容易に理解できるものである。種々の共役ポリマーの繰り返し単位についてのキノイド構造は、当業者にとって周知である。一例として、前記式(I)で表されるポリチオフェンの繰り返し単位に対応するキノイド構造を、下記式(I’)に示す。
[式中、R1及びR2は、式(I)において定義された通りである。]In the present invention, the above polythiophene may be used after being treated with a reducing agent.
In polythiophenes, some of the repeating units constituting them may have an oxidized chemical structure called a "quinoid structure". The term "quinoid structure" is used for the term "benzenoid structure", the latter being a structure containing an aromatic ring, whereas the former is a structure in which the double bond within the aromatic ring moves out of the ring (the As a result, the aromatic ring disappears), meaning a structure in which two exocyclic double bonds conjugated with other double bonds remaining in the ring are formed. For those skilled in the art, the relationship between these two structures can be readily understood from the structural relationship between benzoquinone and hydroquinone. Quinoid structures for repeating units of various conjugated polymers are well known to those skilled in the art. As an example, a quinoid structure corresponding to the repeating unit of the polythiophene represented by formula (I) is shown in formula (I') below.
[wherein R 1 and R 2 are as defined in formula (I). ]
このキノイド構造は、前記のドーピング反応によって生じ、ポリチオフェンに電荷輸送性を付与する「ポーラロン構造」及び「バイポーラロン構造」と称される構造の一部を成すものである。これらの構造は公知である。有機EL素子の作成において、「ポーラロン構造」及び/又は「バイポーラロン構造」の導入は必須であり、実際、有機EL素子作成時、電荷輸送性ワニスから形成された電荷輸送性薄膜を焼成処理するときに、前記のドーピング反応を意図的に起こさせて、これを達成している。このドーピング反応を起こさせる前のポリチオフェンにキノイド構造が含まれているのは、ポリチオフェンが、その製造過程(スルホン化ポリチオフェンの場合、特に、その中のスルホン化工程)において、ドーピング反応と同等の、意図しない酸化反応を起こしたためと考えられる。 This quinoid structure forms a part of the structures called "polaron structure" and "bipolaron structure" which are generated by the doping reaction and which impart charge transport properties to polythiophene. These structures are known. The introduction of a "polaron structure" and/or a "bipolaron structure" is essential in the production of organic EL elements, and in practice, the charge-transporting thin film formed from the charge-transporting varnish is baked when the organic EL element is produced. Sometimes this is achieved by deliberately causing the doping reactions described above. The quinoid structure is contained in the polythiophene before the doping reaction is caused because the polythiophene has the same This is considered to be due to an unintended oxidation reaction.
ポリチオフェンに含まれるキノイド構造の量と、ポリチオフェンの有機溶媒に対する分散性の間には相関があり、キノイド構造の量が多くなると、分散性は低下する。このため、インク組成物から電荷輸送性薄膜が形成された後でのキノイド構造の導入は問題を生じないが、前記の意図しない酸化反応により、ポリチオフェンにキノイド構造が過剰に導入されていると、インク組成物の製造に支障をきたす。ポリチオフェンにおいては、有機溶媒に対する分散性にばらつきがあることが知られているが、その原因の1つは、前記の意図しない酸化反応によりポリチオフェンに導入されたキノイド構造の量が、各々のポリチオフェンの製造条件の差に応じて変動することであると考えられる。
そこで、ポリチオフェンを、還元剤を用いる還元処理に付すと、ポリチオフェンにキノイド構造が過剰に導入されていても、還元によりキノイド構造が減少し、ポリチオフェンの有機溶媒に対する分散性が向上するため、均質性に優れた電荷輸送性薄膜を与える良好なインク組成物を、安定的に製造することが可能になる。There is a correlation between the amount of quinoid structure contained in polythiophene and the dispersibility of polythiophene in an organic solvent. As the amount of quinoid structure increases, the dispersibility decreases. Therefore, the introduction of the quinoid structure after the formation of the charge-transporting thin film from the ink composition does not cause any problem, but if the quinoid structure is excessively introduced into the polythiophene due to the unintended oxidation reaction, It interferes with the production of the ink composition. It is known that polythiophene varies in its dispersibility in organic solvents. One of the reasons for this is that the amount of quinoid structure introduced into polythiophene by the unintended oxidation reaction described above is different from that of each polythiophene. It is considered that it fluctuates according to the difference in manufacturing conditions.
Therefore, when polythiophene is subjected to a reduction treatment using a reducing agent, even if the quinoid structure is excessively introduced into the polythiophene, the reduction reduces the quinoid structure and improves the dispersibility of the polythiophene in an organic solvent. It is possible to stably produce a good ink composition that gives a charge-transporting thin film excellent in .
この還元処理に用いる還元剤は、前記キノイド構造を還元して非酸化型の構造、即ち、前記ベンゼノイド構造に変換する(例えば、前記式(I)で表されるポリチオフェンにおいては、前記式(I’)で表されるキノイド構造を、前記式(I)で表される構造に変換する)ことができるものである限り特に制限はなく、例えば、アンモニア水、ヒドラジン等を使用することが好ましい。還元剤の量は、処理すべきポリチオフェン100重量部に対し、通常0.1~10重量部、好ましくは0.5~2重量部である。 The reducing agent used in this reduction treatment reduces the quinoid structure to convert it into a non-oxidized structure, that is, the benzenoid structure (for example, in the polythiophene represented by the formula (I), the formula (I ') is not particularly limited as long as it can convert the quinoid structure represented by formula (I) to the structure represented by the formula (I). For example, it is preferable to use aqueous ammonia, hydrazine, or the like. The amount of the reducing agent is generally 0.1-10 parts by weight, preferably 0.5-2 parts by weight, per 100 parts by weight of the polythiophene to be treated.
還元処理の方法及び条件に特に制限はない。例えば、適当な溶媒の存在下又は非存在下、単にポリチオフェンを還元剤と接触させることにより、この処理を行うことができる。通常、ポリチオフェンを28%アンモニア水中で撹拌する(例えば、室温にて終夜)等の、比較的温和な条件下での還元処理により、ポリチオフェンの有機溶媒に対する分散性は十分に向上する。
スルホン化ポリチオフェンの場合、必要であれば、スルホン化ポリチオフェンを対応するアンモニウム塩、例えばトリアルキルアンモニウム塩(スルホン化ポリチオフェンアミン付加体)に変換した後に、還元処理に付してもよい。There are no particular restrictions on the method and conditions of the reduction treatment. For example, this treatment can be carried out simply by contacting the polythiophene with a reducing agent, in the presence or absence of a suitable solvent. Generally, reduction treatment under relatively mild conditions such as stirring polythiophene in 28% aqueous ammonia (for example, overnight at room temperature) sufficiently improves the dispersibility of polythiophene in organic solvents.
In the case of sulfonated polythiophenes, if necessary, the sulfonated polythiophenes may be converted to the corresponding ammonium salts, such as trialkylammonium salts (sulfonated polythiophene amine adducts), prior to reduction treatment.
なお、この還元処理によりポリチオフェンの溶媒に対する分散性が変化する結果、処理の開始時には反応系に溶解していなかったポリチオフェンが、処理の完了時には溶解している場合がある。そのような場合には、ポリチオフェンと非相溶性の有機溶剤(スルホン化ポリチオフェンの場合、アセトン,イソプロピルアルコール等)を反応系に添加して、ポリチオフェンの沈殿を生じさせ、濾過する等の方法により、ポリチオフェンを回収することができる。 As a result of this reduction treatment changing the dispersibility of the polythiophene in the solvent, the polythiophene that was not dissolved in the reaction system at the start of the treatment may be dissolved at the completion of the treatment. In such a case, an organic solvent incompatible with polythiophene (in the case of sulfonated polythiophene, acetone, isopropyl alcohol, etc.) is added to the reaction system to precipitate polythiophene, followed by filtering. Polythiophene can be recovered.
インク組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、場合により(A)成分以外の正孔キャリア化合物を更に含んでいてもよい。 The ink composition may optionally further contain a hole carrier compound other than component (A) as long as the effects of the present invention are not impaired.
オプションの正孔キャリア化合物は、例えば、低分子量化合物又は高分子量化合物を含む。オプションの正孔キャリア化合物は、非ポリマーであってもポリマーであってもよい。非ポリマー正孔キャリア化合物は、架橋性低分子及び架橋していない低分子を含むが、これらに限定されない。非ポリマー正孔キャリア化合物の例は、N,N’-ビス(3-メチルフェニル)-N,N’-ビス(フェニル)ベンジジン(CAS # 65181-78-4);N,N’-ビス(4-メチルフェニル)-N,N’-ビス(フェニル)ベンジジン;N,N’-ビス(2-ナフタレニル)-N,N’-ビス(フェニルベンジジン)(CAS # 139255-17-1);1,3,5-トリス(N,N-ビス(3-メチルフェニル)アミノ)ベンゼン(m-MTDABとも呼ばれる);N,N’-ビス(1-ナフタレニル)-N,N’-ビス(フェニル)ベンジジン(CAS # 123847-85-8、NPB);4,4’,4”-トリス(N,N-フェニル-3-メチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m-MTDATAとも呼ばれる、CAS # 124729-98-2);4,4’-ビス(カルバゾール-9-イル)ビフェニル(CBPとも呼ばれる、CAS # 58328-31-7);1,3,5-トリス(ジフェニルアミノ)ベンゼン;1,3,5-トリス(2-(9-エチルカルバジル-3)エチレン)ベンゼン;1,3,5-トリス[(3-メチルフェニル)フェニルアミノ]ベンゼン;1,3-ビス(N-カルバゾリル)ベンゼン;1,4-ビス(ジフェニルアミノ)ベンゼン;4,4’-ビス(N-カルバゾリル)-1,1’-ビフェニル;4-(ジベンジルアミノ)ベンズアルデヒド-N,N-ジフェニルヒドラゾン;4-(ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド ジフェニルヒドラゾン;4-(ジメチルアミノ)ベンズアルデヒド ジフェニルヒドラゾン;4-(ジフェニルアミノ)ベンズアルデヒド ジフェニルヒドラゾン;9-エチル-3-カルバゾールカルボキシアルデヒド ジフェニルヒドラゾン;銅(II)フタロシアニン;N,N’-ビス(3-メチルフェニル)-N,N’-ジフェニルベンジジン;N,N’-ジ(1-ナフチル)-N,N’-ジフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン;N,N’-ジフェニル-N,N’-ジ-p-トリルベンゼン-1,4-ジアミン;テトラ-N-フェニルベンジジン;チタニル フタロシアニン;トリ-p-トリルアミン;トリス(4-カルバゾール-9-イルフェニル)アミン;及びトリス[4-(ジエチルアミノ)フェニル]アミンを含むが、これらに限定されない。 Optional hole carrier compounds include, for example, low molecular weight compounds or high molecular weight compounds. The optional hole carrier compound can be non-polymeric or polymeric. Non-polymeric hole carrier compounds include, but are not limited to, crosslinkable small molecules and non-crosslinked small molecules. Examples of non-polymeric hole carrier compounds are N,N'-bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)benzidine (CAS # 65181-78-4); 4-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)benzidine; N,N'-bis(2-naphthalenyl)-N,N'-bis(phenylbenzidine) (CAS # 139255-17-1); 1 ,3,5-tris(N,N-bis(3-methylphenyl)amino)benzene (also called m-MTDAB); N,N′-bis(1-naphthalenyl)-N,N′-bis(phenyl) Benzidine (CAS # 123847-85-8, NPB); 4,4′,4″-tris(N,N-phenyl-3-methylphenylamino)triphenylamine (also called m-MTDATA, CAS # 124729-98 -2); 4,4′-bis(carbazol-9-yl)biphenyl (also called CBP, CAS # 58328-31-7); 1,3,5-tris(diphenylamino)benzene; 1,3,5 -tris(2-(9-ethylcarbazyl-3)ethylene)benzene; 1,3,5-tris[(3-methylphenyl)phenylamino]benzene; 1,3-bis(N-carbazolyl)benzene; 1 ,4-bis(diphenylamino)benzene;4,4'-bis(N-carbazolyl)-1,1'-biphenyl;4-(dibenzylamino)benzaldehyde-N,N-diphenylhydrazone;4-(diethylamino) Benzaldehyde diphenylhydrazone; 4-(dimethylamino)benzaldehyde diphenylhydrazone; 4-(diphenylamino)benzaldehyde diphenylhydrazone; 9-ethyl-3-carbazolecarboxaldehyde diphenylhydrazone; copper (II) phthalocyanine; -methylphenyl)-N,N'-diphenylbenzidine; N,N'-di(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine; N,N' -diphenyl-N,N'-di-p-tolylbenzene-1,4-diamine; tetra-N-phenylbenzidine; titanyl phthalocyanine; tri-p-tolylamine; tris(4-carbazol-9-ylphenyl)amine; and tris[4-(diethylamino)phenyl]amine.
オプションのポリマー正孔キャリア化合物は、ポリ[(9,9-ジヘキシルフルオレニル-2,7-ジイル)-alt-co-(N,N’-ビス{p-ブチルフェニル}-1,4-ジアミノフェニレン)];ポリ[(9,9-ジオクチルフルオレニル-2,7-ジイル)-alt-co-(N,N’-ビス{p-ブチルフェニル}-1,1’-ビフェニレン-4,4’-ジアミン)];ポリ(9,9-ジオクチルフルオレン-co-N-(4-ブチルフェニル)ジフェニルアミン)(TFBとも呼ばれる)及びポリ[N,N’-ビス(4-ブチルフェニル)-N,N’-ビス(フェニル)-ベンジジン](一般にポリ-TPDと呼ばれる)を含むが、これらに限定されない。 An optional polymeric hole carrier compound is poly[(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-co-(N,N'-bis{p-butylphenyl}-1,4- diaminophenylene)]; poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-co-(N,N′-bis{p-butylphenyl}-1,1′-biphenylene-4 ,4′-diamine)]; poly(9,9-dioctylfluorene-co-N-(4-butylphenyl)diphenylamine) (also called TFB) and poly[N,N′-bis(4-butylphenyl)- N,N'-bis(phenyl)-benzidine] (commonly referred to as poly-TPD).
他のオプションの正孔キャリア化合物は、例えば、2010年11月18日に公開の米国特許出願公開第2010/0292399号;2010年5月6日に公開の米国特許出願公開第2010/0109000号;及び2010年5月6日に公開の米国特許出願公開2010/0108954号に記載されている。本明細書に記載のオプションの正孔キャリア化合物は、当該分野において公知であり、そして市販されている。 Other optional hole carrier compounds are, for example, U.S. Patent Application Publication No. 2010/0292399, published November 18, 2010; U.S. Patent Application Publication No. 2010/0109000, published May 6, 2010; and in US Patent Application Publication No. 2010/0108954, published May 6, 2010. Optional hole carrier compounds described herein are known in the art and commercially available.
[(B)成分]
(B)成分は、オニウムボレート塩であって、式(a1):
で表されるアニオン、及び式(a2):
で表される1価又は2価のアニオン
[式中、Arは、それぞれ独立して、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいヘテロアリール基であり、Rは、炭素数1~10のアルキル基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数1~10のフルオロアルキル基、炭素数7~10のアラルキル基又は炭素数7~10のフルオロアラルキル基であり、Lは、アルキレン基、-NH-、酸素原子、硫黄原子又は-CN+-である]からなる群より選択される少なくとも1種のアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩(ただし、電気的中性な塩である)である。[(B) component]
Component (B) is an onium borate salt represented by formula (a1):
and an anion of formula (a2):
A monovalent or divalent anion represented by [Wherein Ar is each independently an optionally substituted aryl group or optionally substituted heteroaryl group, and R is , an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, or a fluoroaralkyl group having 7 to 10 carbon atoms. , L is an alkylene group, —NH—, an oxygen atom, a sulfur atom, or —CN + —. is a neutral salt).
(B)成分は、(A)成分のポリチオフェンを酸化し、電気的特性(抵抗率及び仕事関数等)を改善するドーパントとして機能する。(B)成分のように、式(a1)又は(a2)で表されるアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩をドーパントとして用いると、ポリチオフェンの電気的特性を大きく改善することができ、電荷輸送性に優れたインク組成物とすることができる。 The component (B) functions as a dopant that oxidizes the polythiophene of the component (A) and improves electrical properties (resistivity, work function, etc.). When an onium borate salt composed of an anion represented by formula (a1) or (a2) and a counter cation represented by the formula (a1) or (a2) is used as a dopant, as in the component (B), the electrical properties of the polythiophene can be greatly improved. An ink composition having excellent transportability can be obtained.
式(a1)及び(a2)において、Arは、それぞれ独立して、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいヘテロアリール基である。 In formulas (a1) and (a2), each Ar is independently an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heteroaryl group.
アリール基としては、炭素数6~20のアリール基等が挙げられる。その具体例としては、フェニル基、トリル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントリル基、2-アントリル基、9-アントリル基、1-フェナントリル基、2-フェナントリル基、3-フェナントリル基、4-フェナントリル基、9-フェナントリル基等が挙げられ、フェニル基、トリル基及びナフチル基が好ましい。 Examples of the aryl group include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples include a phenyl group, a tolyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 1-anthryl group, a 2-anthryl group, a 9-anthryl group, a 1-phenanthryl group, a 2-phenanthryl group, and a 3-phenanthryl group. group, 4-phenanthryl group, 9-phenanthryl group and the like, with phenyl group, tolyl group and naphthyl group being preferred.
ヘテロアリール基としては、好ましくは炭素数2~20のヘテロアリール基が挙げられる。その具体例としては、2-チエニル基、3-チエニル基、2-フラニル基、3-フラニル基、2-オキサゾリル基、4-オキサゾリル基、5-オキサゾリル基、3-イソオキサゾリル基、4-イソオキサゾリル基、5-イソオキサゾリル基等の含酸素ヘテロアリール基、2-チアゾリル基、4-チアゾリル基、5-チアゾリル基、3-イソチアゾリル基、4-イソチアゾリル基、5-イソチアゾリル基等の含硫黄ヘテロアリール基、2-イミダゾリル基、4-イミダゾリル基、2-ピリジル基、3-ピリジル基、4-ピリジル基、2-ピラジル基、3-ピラジル基、5-ピラジル基、6-ピラジル基、2-ピリミジル基、4-ピリミジル基、5-ピリミジル基、6-ピリミジル基、3-ピリダジル基、4-ピリダジル基、5-ピリダジル基、6-ピリダジル基、1,2,3-トリアジン-4-イル基、1,2,3-トリアジン-5-イル基、1,2,4-トリアジン-3-イル基、1,2,4-トリアジン-5-イル基、1,2,4-トリアジン-6-イル基、1,3,5-トリアジン-2-イル基、1,2,4,5-テトラジン-3-イル基、1,2,3,4-テトラジン-5-イル基、2-キノリニル基、3-キノリニル基、4-キノリニル基、5-キノリニル基、6-キノリニル基、7-キノリニル基、8-キノリニル基、1-イソキノリニル基、3-イソキノリニル基、4-イソキノリニル基、5-イソキノリニル基、6-イソキノリニル基、7-イソキノリニル基、8-イソキノリニル基、2-キノキサニル基、5-キノキサニル基、6-キノキサニル基、2-キナゾリニル基、4-キナゾリニル基、5-キナゾリニル基、6-キナゾリニル基、7-キナゾリニル基、8-キナゾリニル基、3-シンノリニル基、4-シンノリニル基、5-シンノリニル基、6-シンノリニル基、7-シンノリニル基、8-シンノリニル基等の含窒素ヘテロアリール基等が挙げられる。 Heteroaryl groups preferably include heteroaryl groups having 2 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a 2-thienyl group, a 3-thienyl group, a 2-furanyl group, a 3-furanyl group, a 2-oxazolyl group, a 4-oxazolyl group, a 5-oxazolyl group, a 3-isoxazolyl group, and a 4-isoxazolyl group. , an oxygen-containing heteroaryl group such as a 5-isoxazolyl group, a 2-thiazolyl group, a 4-thiazolyl group, a 5-thiazolyl group, a 3-isothiazolyl group, a 4-isothiazolyl group, a sulfur-containing heteroaryl group such as a 5-isothiazolyl group, 2-imidazolyl group, 4-imidazolyl group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-pyrazyl group, 3-pyrazyl group, 5-pyrazyl group, 6-pyrazyl group, 2-pyrimidyl group, 4-pyrimidyl group, 5-pyrimidyl group, 6-pyrimidyl group, 3-pyridazyl group, 4-pyridazyl group, 5-pyridazyl group, 6-pyridazyl group, 1,2,3-triazin-4-yl group, 1, 2,3-triazin-5-yl group, 1,2,4-triazin-3-yl group, 1,2,4-triazin-5-yl group, 1,2,4-triazin-6-yl group, 1,3,5-triazin-2-yl group, 1,2,4,5-tetrazin-3-yl group, 1,2,3,4-tetrazin-5-yl group, 2-quinolinyl group, 3- quinolinyl group, 4-quinolinyl group, 5-quinolinyl group, 6-quinolinyl group, 7-quinolinyl group, 8-quinolinyl group, 1-isoquinolinyl group, 3-isoquinolinyl group, 4-isoquinolinyl group, 5-isoquinolinyl group, 6- isoquinolinyl group, 7-isoquinolinyl group, 8-isoquinolinyl group, 2-quinoxanyl group, 5-quinoxanyl group, 6-quinoxanyl group, 2-quinazolinyl group, 4-quinazolinyl group, 5-quinazolinyl group, 6-quinazolinyl group, 7- nitrogen-containing heteroaryl groups such as a quinazolinyl group, 8-quinazolinyl group, 3-cinnolinyl group, 4-cinnolinyl group, 5-cinnolinyl group, 6-cinnolinyl group, 7-cinnolinyl group, 8-cinnolinyl group;
前記置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基及び炭素数2~20のアルキニル基等が挙げられる。 Examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms and an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms.
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。 A halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like, and a fluorine atom is preferable.
炭素数1~20のアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基、n-エイコサニル基等が挙げられるが、炭素数1~18のアルキル基が好ましく、炭素数1~8のアルキル基がより好ましい。 The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched or cyclic, and specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n- dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, n-eicosanyl group and the like. An alkyl group having 1 to 18 carbon atoms is preferred, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferred.
炭素数2~20のアルケニル基の具体例としては、エテニル基、n-1-プロペニル基、n-2-プロペニル基、1-メチルエテニル基、n-1-ブテニル基、n-2-ブテニル基、n-3-ブテニル基、2-メチル-1-プロペニル基、2-メチル-2-プロペニル基、1-エチルエテニル基、1-メチル-1-プロペニル基、1-メチル-2-プロペニル基、n-1-ペンテニル基、n-1-デセニル基、n-1-エイコセニル基等が挙げられる。 Specific examples of alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms include ethenyl group, n-1-propenyl group, n-2-propenyl group, 1-methylethenyl group, n-1-butenyl group, n-2-butenyl group, n-3-butenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 1-ethylethenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, n- 1-pentenyl group, n-1-decenyl group, n-1-eicosenyl group and the like.
炭素数2~20のアルキニル基の具体例としては、エチニル基、n-1-プロピニル基、n-2-プロピニル基、n-1-ブチニル基、n-2-ブチニル基、n-3-ブチニル基、1-メチル-2-プロピニル基、n-1-ペンチニル基、n-2-ペンチニル基、n-3-ペンチニル基、n-4-ペンチニル基、1-メチル-n-ブチニル基、2-メチル-n-ブチニル基、3-メチル-n-ブチニル基、1,1-ジメチル-n-プロピニル基、n-1-ヘキシニル基、n-1-デシニル基、n-1-ペンタデシニル基、n-1-エイコシニル基等が挙げられる。 Specific examples of alkynyl groups having 2 to 20 carbon atoms include ethynyl, n-1-propynyl, n-2-propynyl, n-1-butynyl, n-2-butynyl and n-3-butynyl. group, 1-methyl-2-propynyl group, n-1-pentynyl group, n-2-pentynyl group, n-3-pentynyl group, n-4-pentynyl group, 1-methyl-n-butynyl group, 2- methyl-n-butynyl group, 3-methyl-n-butynyl group, 1,1-dimethyl-n-propynyl group, n-1-hexynyl group, n-1-decynyl group, n-1-pentadecynyl group, n- 1-eicosinyl group and the like.
Arは、好ましくは、1又は2以上の電子吸引性置換基を有するアリール基である。Arが電子吸引性置換基を有するアリール基であると、ルイス酸性が向上する点で好ましい。前記電子吸引性基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等が挙げられ、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。Arは、特に好ましくは、ペンタフルオロフェニル基である。 Ar is preferably an aryl group having one or more electron-withdrawing substituents. It is preferable that Ar is an aryl group having an electron-withdrawing substituent, since the Lewis acidity is improved. Examples of the electron-withdrawing group include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, etc. A halogen atom is preferred, and a fluorine atom is particularly preferred. Ar is particularly preferably a pentafluorophenyl group.
(B)成分が式(a1)で表されるアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩である場合、式(a4):
で表されるアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩が、特に好ましい。When component (B) is an onium borate salt consisting of an anion represented by formula (a1) and a counter cation, formula (a4):
An onium borate salt consisting of an anion represented by and a counter cation is particularly preferred.
式(a1)において、Rは、炭素数1~10のアルキル基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数1~10のフルオロアルキル基、炭素数7~10のアラルキル基又は炭素数7~10のフルオロアラルキル基である。 In formula (a1), R is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, or 7 carbon atoms. ∼10 fluoroaralkyl groups.
炭素数1~10のアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等の炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖状アルキル基等が挙げられるが、炭素数1~8のアルキル基が好ましく、炭素数1~6のアルキル基がより好ましい。 The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, branched or cyclic, and examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s -Linear or branched chain having 1 to 10 carbon atoms such as butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group and n-decyl group A chain alkyl group and the like can be mentioned, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable.
炭素数3~20のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ビシクロブチル基、ビシクロペンチル基、ビシクロヘキシル基、ビシクロヘプチル基、ビシクロオクチル基、ビシクロノニル基、ビシクロデシル基等の炭素数3~20の環状アルキル基が挙げられる。 Cycloalkyl groups having 3 to 20 carbon atoms include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclononyl, cyclodecyl, bicyclobutyl, bicyclopentyl and bicyclohexyl groups. , a bicycloheptyl group, a bicyclooctyl group, a bicyclononyl group, a bicyclodecyl group, and other cyclic alkyl groups having 3 to 20 carbon atoms.
炭素数1~10のフルオロアルキル基の具体例としては、炭素数1~10のアルキル基の水素原子の少なくとも1つをフッ素原子で置換した基が挙げられる。
その具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エチル基、ノナフルオロブチル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、ウンデカフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-ウンデカフロオロヘキシル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-デカフルオロヘキシル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシル基等が挙げられる。Specific examples of fluoroalkyl groups having 1 to 10 carbon atoms include groups in which at least one hydrogen atom of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is substituted with a fluorine atom.
Specific examples thereof include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, a 2,2,3,3,3- pentafluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl group, nonafluorobutyl group, 4,4,4-trifluoro butyl group, undecafluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoro pentyl group, tridecafluorohexyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-undecafluorohexyl group, 2,2,3,3,4,4, 5,5,6,6-decafluorohexyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl group and the like.
炭素数7~10のアラルキル基としては、アルキル基の水素原子の少なくとも1つをアリール基で置換した基が挙げられ、例えば、ベンジル基、1-ナフチルメチル基、2-ナフチルメチル基、フェニルエチル基、1-ナフチルエチル基、2-ナフチルメチル基等が挙げられるが、炭素数7~9のアラルキル基が好ましい。 Aralkyl groups having 7 to 10 carbon atoms include groups in which at least one hydrogen atom of an alkyl group is substituted with an aryl group, such as benzyl, 1-naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl, phenylethyl, group, 1-naphthylethyl group, 2-naphthylmethyl group and the like, and an aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms is preferred.
炭素数7~10のフルオロアラルキル基の具体例としては、炭素数7~10のアラルキル基の水素原子の少なくとも1つをフッ素原子で置換した基が挙げられる。
その具体例としては、パーフルオロベンジル基、ペンタフルオロフェニルメチル基、ヘプタフルオロ-1-ナフチルメチル基、ヘプタフルオロ-2-ナフチルメチル基、ヘプタフルオロ-1-ナフチルエチル基、ヘプタフルオロ-2-ナフチルエチル基等が挙げられる。Specific examples of C7-10 fluoroaralkyl groups include groups in which at least one hydrogen atom of a C7-10 aralkyl group is substituted with a fluorine atom.
Specific examples include perfluorobenzyl group, pentafluorophenylmethyl group, heptafluoro-1-naphthylmethyl group, heptafluoro-2-naphthylmethyl group, heptafluoro-1-naphthylethyl group, heptafluoro-2-naphthyl An ethyl group etc. are mentioned.
これらの中でも、式(a1)におけるRは、炭素数1~6のアルキル基が好ましい。本発明で好適に用いることのできる式(a1)で表されるアニオンとしては下記式で表されるものが挙げられるが、これに限定されるものではない。 Among these, R in formula (a1) is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of anions represented by formula (a1) that can be suitably used in the present invention include those represented by the following formulas, but are not limited thereto.
式(a2)において、Lは、アルキレン基、-NH-、酸素原子、硫黄原子又は-CN+-である。アルキレン基としては、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、炭素数1~20、好ましくは炭素数1~10のアルキレン基が挙げられる。その具体例としては、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。In formula (a2), L is an alkylene group, -NH-, an oxygen atom, a sulfur atom or -CN + -. The alkylene group may be linear, branched or cyclic, and includes alkylene groups having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, and a hexamethylene group.
Lは、-CN+-であると、特に好ましい。It is particularly preferred that L is -CN + -.
(B)成分が式(a2)で表されるアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩である場合、式(a3):
で表されるアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩が、特に好ましい。When component (B) is an onium borate salt consisting of an anion represented by formula (a2) and a counter cation, formula (a3):
An onium borate salt consisting of an anion represented by and a counter cation is particularly preferred.
(B)成分の対カチオンは、特に限定されるものではないが、15~17族に属する元素を含むカチオンが好ましく、硫黄を含むカチオンがより好ましい。 The counter cation of component (B) is not particularly limited, but a cation containing an element belonging to Groups 15 to 17 is preferred, and a cation containing sulfur is more preferred.
(B)成分の対カチオンは、式(c1)~(c5):
からなる群より選択されることが好ましい。中でも、対カチオンが(c1)で表されるカチオンは、特に好ましい。The counter cation of component (B) is represented by formulas (c1) to (c5):
It is preferably selected from the group consisting of Among them, a cation whose counter cation is represented by (c1) is particularly preferred.
(B)成分は、下記式:
で表されるオニウムボレート塩であることが特に好ましい。Component (B) has the following formula:
An onium borate salt represented by is particularly preferred.
(B)成分は、1種単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。また、必要に応じて公知のその他のオニウムボレート塩を併用してもよい。なお、(B)成分は、例えば、特開2005-314682号公報等に記載された公知の方法を参考に合成することができる。 (B) component may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types. In addition, other known onium borate salts may be used in combination, if necessary. The component (B) can be synthesized with reference to known methods described in, for example, JP-A-2005-314682.
(A)成分と(B)成分との比率は、物質量(モル)比で、(A)成分:(B)成分=1:0.01~15とすることができ、好ましくは、1:0.1~10、より好ましくは、1:0.5~5である。(A)成分と(B)成分との比率がこの範囲であると、素子特性の観点から、好ましい。 The ratio of component (A) and component (B) can be (A):component (B) = 1:0.01 to 15, preferably 1: 0.1-10, more preferably 1:0.5-5. It is preferable from the viewpoint of device characteristics that the ratio of the component (A) and the component (B) is within this range.
(B)成分は、インク組成物への溶解を容易にするため、あらかじめ後述する(C)液体担体を構成する有機溶媒に溶かしておいてもよい。
このような有機溶媒としては、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、1,2-ブチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等のカーボネート類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソアミルケトン、2-ヘプタノン等のケトン類;エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノアセテートのモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル、モノフェニルエーテル又はトリエチレングリコールジメチルエーテル等の多価アルコール及びその誘導体類;ジオキサン等の環式エーテル類;蟻酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート等のエステル類;トルエン、キシレン、3-フェノキシトルエン、4-メトキシトルエン、安息香酸メチル、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン、イソホロン等の芳香族炭化水素類等が挙げられ、これらは単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
有機溶媒を使用する場合、その使用割合は、(B)成分100重量部に対して、15~1,000重量部が好ましく、30~500重量部がより好ましい。In order to facilitate dissolution in the ink composition, the component (B) may be dissolved in advance in an organic solvent constituting the liquid carrier (C) described later.
Examples of such organic solvents include carbonates such as propylene carbonate, ethylene carbonate, 1,2-butylene carbonate, dimethyl carbonate and diethyl carbonate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isoamyl ketone and 2-heptanone; ethylene Glycol, ethylene glycol monoacetate, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, dipropylene glycol, monomethyl ether, monoethyl ether, monopropyl ether, monobutyl ether, monophenyl ether or triphenyl ether of dipropylene glycol monoacetate. Polyhydric alcohols such as ethylene glycol dimethyl ether and derivatives thereof; Cyclic ethers such as dioxane; Ethyl formate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate , ethyl pyruvate, ethyl ethoxyacetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, 2-hydroxy-3- Esters such as methyl methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate, and 3-methyl-3-methoxybutyl acetate; Aromatic hydrocarbons and the like may be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more.
When an organic solvent is used, its usage ratio is preferably 15 to 1,000 parts by weight, more preferably 30 to 500 parts by weight, per 100 parts by weight of component (B).
本願の目的を妨げない範囲で、インク組成物は、(B)成分以外のドーパントを含有してもよい。ドーパントは当該分野において公知である。例えば、米国特許第7,070,867号;米国特許出願公開第2005/0123793号;及び米国特許出願公開第2004/0113127号を参照のこと。ドーパントは、イオン性化合物であってもよい。ドーパントは、カチオン及びアニオンを含むことができる。 The ink composition may contain a dopant other than the component (B) as long as it does not interfere with the purpose of the present application. Dopants are known in the art. See, for example, US Patent No. 7,070,867; US Patent Application Publication No. 2005/0123793; and US Patent Application Publication No. 2004/0113127. The dopant may be an ionic compound. Dopants can include cations and anions.
イオン性化合物のカチオンは、例えば、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、又はAuであってよい。 The cations of the ionic compounds are, for example, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, or Au may be used.
イオン性化合物のカチオンは、例えば、金、モリブデン、レニウム、鉄、及び銀カチオンであってよい。 The cations of the ionic compounds can be, for example, gold, molybdenum, rhenium, iron, and silver cations.
幾つかの実施態様において、ドーパントは、アルキル、アリール、及びヘテロアリールスルホナート又はカルボキシラートを含む、スルホナート又はカルボキシラートを含んでもよい。本明細書に使用されるとき、「スルホナート」とは、-SO3M1基(ここで、M1は、H+又はアルカリ金属イオン(例えば、Na+、Li+、K+、Rb+、Cs+等);又はアンモニウム(NH4 +)であってよい)のことをいう。本明細書に使用されるとき、「カルボキシラート」とは、-CO2M1基(ここで、M1は、H+又はアルカリ金属イオン(例えば、Na+、Li+、K+、Rb+、Cs+等);又はアンモニウム(NH4 +)であってよい)のことをいう。スルホナート及びカルボキシラートドーパントの例は、ベンゾアート化合物、ヘプタフルオロブチラート、メタンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、p-トルエンスルホナート、ペンタフルオロプロピオナート、及びポリマースルホナート類、ペルフルオロスルホナート含有アイオノマー類等を含むが、これらに限定されない。In some embodiments, dopants may include sulfonates or carboxylates, including alkyl, aryl, and heteroaryl sulfonates or carboxylates. As used herein, a “sulfonate” refers to the group —SO 3 M 1 , where M 1 is H + or an alkali metal ion (e.g., Na + , Li + , K + , Rb + , Cs + etc.); or ammonium (NH 4 + )). As used herein, "carboxylate" refers to the group --CO 2 M 1 , where M 1 is H + or an alkali metal ion (eg, Na + , Li + , K + , Rb + , Cs + etc.); or ammonium (NH 4 + )). Examples of sulfonate and carboxylate dopants are benzoate compounds, heptafluorobutyrate, methanesulfonate, trifluoromethanesulfonate, p-toluenesulfonate, pentafluoropropionate, and polymeric sulfonates, perfluorosulfonate-containing ionomers This includes, but is not limited to, the like.
幾つかの実施態様において、ドーパントは、スルホナートもカルボキシラートも含まない。 In some embodiments, dopants do not include sulfonates or carboxylates.
幾つかの実施態様において、ドーパントは、スルホニルイミド(例えば、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド等);アンチモナート(例えば、ヘキサフルオロアンチモナート等);アルセナート(例えば、ヘキサフルオロアルセナート等);リン化合物(例えば、ヘキサフルオロホスファート等);及び(B)成分を除くボレート(例えば、テトラフルオロボレート、テトラアリールボレート、及びトリフルオロボレート等)を含んでよい。テトラアリールボレート類の例は、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(TPFB)のようなハロゲン化テトラアリールボレート類を含むが、これらに限定されない。トリフルオロボレート類の例は、(2-ニトロフェニル)トリフルオロボレート、ベンゾフラザン-5-トリフルオロボレート、ピリミジン-5-トリフルオロボレート、ピリジン-3-トリフルオロボレート、及び2,5-ジメチルチオフェン-3-トリフルオロボレートを含むが、これらに限定されない。 In some embodiments, the dopant is a sulfonylimide (such as bis(trifluoromethanesulfonyl)imide); an antimonate (such as hexafluoroantimonate); an arsenate (such as hexafluoroarsenate); (eg, hexafluorophosphate, etc.); and borate (eg, tetrafluoroborate, tetraarylborate, trifluoroborate, etc.) excluding the component (B). Examples of tetraarylborates include, but are not limited to, halogenated tetraarylborates such as tetrakispentafluorophenylborate (TPFB). Examples of trifluoroborates are (2-nitrophenyl)trifluoroborate, benzofurazan-5-trifluoroborate, pyrimidine-5-trifluoroborate, pyridine-3-trifluoroborate, and 2,5-dimethylthiophene- Including but not limited to 3-trifluoroborate.
ドーパントは、例えば、共役ポリマーとの、例えば、1つ以上の電子移動反応を受けることによって、ドープされたポリチオフェンが生成する材料であってよい。ドーパントは、適切な電荷均衡する対アニオンを提供するように選択することができる。反応は、当該分野において公知のとおり、ポリチオフェンとドーパントの混合により起こり得る。例えば、ドーパントは、ポリマーからカチオン-アニオンドーパント(金属塩等)への自発電子移動を受けて、共役ポリマーを、アニオンが会合しているその酸化型の形態で、遊離金属と共に残すことができる。例えば、LebedevらのChem. Mater., 1998, 10, 156-163を参照のこと。本明細書に開示されるとおり、ポリチオフェン及びドーパントとは、反応することによりドープされたポリマーを形成する成分のことをいう場合がある。ドーピング反応は、電荷キャリアが生成される電荷移動反応であってよく、この反応は、可逆的であっても不可逆的であってもよい。幾つかの実施態様において、銀イオンは、銀金属及びドープされたポリマーへの又はこれらからの電子移動を受けることができる。 The dopant can be, for example, a material from which a doped polythiophene is produced, eg, by undergoing one or more electron transfer reactions, eg, with a conjugated polymer. The dopant can be selected to provide a suitable charge-balancing counteranion. Reactions can occur by mixing polythiophenes and dopants, as is known in the art. For example, the dopant can undergo spontaneous electron transfer from the polymer to a cation-anion dopant (such as a metal salt), leaving the conjugated polymer in its anion-associated oxidized form with the free metal. See, for example, Lebedev et al., Chem. Mater., 1998, 10, 156-163. As disclosed herein, polythiophene and dopant may refer to components that react to form a doped polymer. The doping reaction may be a charge transfer reaction in which charge carriers are generated, and this reaction may be reversible or irreversible. In some embodiments, silver ions can undergo electron transfer to or from silver metal and doped polymers.
最終配合物において、組成物は、元の成分の組合せとは明確に異なるものであってよい(即ち、ポリチオフェン及び/又はドーパントは、混合前と同じ形態で最終組成物中に存在してもしなくともよい)。
ドーパントとしては、無機酸、有機酸、有機又は無機酸化剤等が用いられる。有機酸としては、ポリマー有機酸及び/又は低分子有機酸(非ポリマー有機酸)が用いられる。
一実施形態では、有機酸はスルホン酸であり、その塩(-SO3M2(ここで、M2は、アルカリ金属イオン(例えば、Na+、Li+、K+、Rb+、Cs+等)、アンモニウム(NH4
+)、モノ-、ジ-、及びトリアルキルアンモニウム(トリエチルアンモニウム等))でもよい。該スルホン酸のなかでも、アリールスルホン酸が好ましい。In the final formulation, the composition may be distinct from the original combination of ingredients (i.e., the polythiophene and/or dopants may or may not be present in the final composition in the same form as before mixing). can be used).
Inorganic acids, organic acids, organic or inorganic oxidizing agents, and the like are used as dopants. As organic acids, polymeric organic acids and/or low-molecular-weight organic acids (non-polymeric organic acids) are used.
In one embodiment, the organic acid is a sulfonic acid and its salt (-SO 3 M 2 , where M 2 is an alkali metal ion (eg, Na + , Li + , K + , Rb + , Cs + etc. ), ammonium (NH 4 + ), mono-, di-, and trialkylammonium (such as triethylammonium).Among the sulfonic acids, arylsulfonic acids are preferred.
幾つかの実施態様において、ドーパントの具体例としては、塩化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機強酸;塩化アルミニウム(III)(AlCl3)、四塩化チタン(IV)(TiCl4)、三臭化ホウ素(BBr3)、三フッ化ホウ素エーテル錯体(BF3・OEt2)、塩化鉄(III)(FeCl3)、塩化銅(II)(CuCl2)、五塩化アンチモン(V)(SbCl5)、五フッ化砒素(V)(AsF5)、五フッ化リン(PF5)、トリス(4-ブロモフェニル)アルミニウムヘキサクロロアンチモナート(TBPAH)等のルイス酸;ポリスチレンスルホン酸等のポリマー有機酸;ベンゼンスルホン酸、トシル酸、カンファースルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、5-スルホサリチル酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、国際公開第2005/000832号に記載されている1,4-ベンゾジオキサンジスルホン酸誘導体、国際公開第2006/025342号に記載されているアリールスルホン酸誘導体、特開2005-108828号公報に記載されているジノニルナフタレンスルホン酸誘導体等の低分子有機酸(非ポリマー有機酸);7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン(TCNQ)、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-1,4-ベンゾキノン(DDQ)、ヨウ素、ヘテロポリ酸化合物等の有機又は無機酸化剤を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 In some embodiments, specific examples of dopants include strong inorganic acids such as hydrogen chloride, sulfuric acid , nitric acid, phosphoric acid; Boron bromide (BBr 3 ), boron trifluoride etherate (BF 3 OEt 2 ), iron (III) chloride (FeCl 3 ), copper (II) chloride (CuCl 2 ), antimony (V) pentachloride (SbCl 5 ), Lewis acids such as arsenic (V) pentafluoride (AsF 5 ), phosphorus pentafluoride (PF 5 ), tris(4-bromophenyl)aluminum hexachloroantimonate (TBPAH); polymeric organic compounds such as polystyrene sulfonic acid; acids; benzenesulfonic acid, tosylic acid, camphorsulfonic acid, hydroxybenzenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1,4-benzodioxanedisulfonic acid derivatives described in WO 2005/000832, Low-molecular-weight organic acids (non-polymeric organic acids) such as arylsulfonic acid derivatives described in WO 2006/025342 and dinonylnaphthalenesulfonic acid derivatives described in JP-A-2005-108828;7, Organic or inorganic oxidizing agents such as 7,8,8-tetracyanoquinodimethane (TCNQ), 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone (DDQ), iodine, heteropolyacid compounds, etc. can be, but are not limited to.
幾つかの実施態様において、ドーパントは、アリールスルホン酸化合物、ヘテロポリ酸化合物、長周期型周期表の第13族又は15族に属する元素を含むイオン化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含む。
特に好ましいドーパントとしては、ポリスチレンスルホン酸等のポリマー有機酸、5-スルホサリチル酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、国際公開第2005/000832号に記載されている1,4-ベンゾジオキサンジスルホン酸誘導体、特開2005-108828号公報に記載されているジノニルナフタレンスルホン酸誘導体等の低分子有機酸(非ポリマー有機酸)を挙げることができる。また、下記式(2)で示されるスルホン酸誘導体も、好適に用いることができる。In some embodiments, the dopant includes at least one selected from the group consisting of an arylsulfonic acid compound, a heteropolyacid compound, and an ionic compound containing an element belonging to Group 13 or Group 15 of the long period periodic table. .
Particularly preferred dopants include polymeric organic acids such as polystyrenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1,4-benzodioxanedisulfonic acid derivatives described in WO 2005/000832, JP 2005 Low-molecular-weight organic acids (non-polymeric organic acids) such as dinonylnaphthalenesulfonic acid derivatives described in JP-108828 can be mentioned. Moreover, a sulfonic acid derivative represented by the following formula (2) can also be preferably used.
〔式中、X1は、O、S又はNHを表し、Aは、X1及びc個の(SO3H)基以外の置換基を有していてもよいナフタレン環又はアントラセン環を表し、Tは、非置換若しくは置換の炭化水素基、1,3,5-トリアジン基、又は非置換若しくは置換の下記式(3)若しくは(4):
で示される基(式中、W1及びW2は、それぞれ独立して、O、S、S(O)基、S(O2)基、又は非置換若しくは置換基が結合したN、Si、P、P(O)基を示す。W1は単結合でもよい。R46~R59はそれぞれ独立して水素原子又はハロゲン原子を表す。)を表し、cは、Aに結合するスルホン酸基数を表し、1≦c≦4を満たす整数であり、dは、TとX1との結合数を示し、1≦dを満たす整数である。〕
[In the formula, X 1 represents O, S or NH, A represents a naphthalene ring or anthracene ring optionally having substituents other than X 1 and c (SO 3 H) groups, T is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group, a 1,3,5-triazine group, or an unsubstituted or substituted formula (3) or (4) below:
(wherein W 1 and W 2 are each independently an O, S, S(O) group, S(O 2 ) group, or an unsubstituted or substituted N, Si, P, P(O) groups, W 1 may be a single bond, R 46 to R 59 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, and c is the number of sulfonic acid groups bonded to A is an integer that satisfies 1≤c≤4, d indicates the number of connections between T and X1, and is an integer that satisfies 1≤d. ]
式(3)又は(4)のR46~R59は好ましくはフッ素原子であり、全てフッ素原子であることがより好ましい。式(3)のW1は単結合が好ましい。最も好ましいのは式(3)におけるW1が単結合であり、R46~R53が全てフッ素原子である。R 46 to R 59 in formula (3) or (4) are preferably fluorine atoms, more preferably all fluorine atoms. W 1 in formula (3) is preferably a single bond. Most preferably, W 1 in formula (3) is a single bond and R 46 to R 53 are all fluorine atoms.
本発明に係るアリールスルホン酸化合物は、更に下記式(5)で示されるものを用いることもできる。
(式中、X1は、O、S又はNHを表し、Ar5は、アリール基を表し、cは、スルホン酸基数を表し、1~4を満たす整数である。)As the arylsulfonic acid compound according to the present invention, one represented by the following formula (5) can also be used.
(In the formula, X 1 represents O, S or NH, Ar 5 represents an aryl group, c represents the number of sulfonic acid groups, and is an integer satisfying 1 to 4.)
前記式(5)中、X1は、O、S又はNHを表すが、合成が容易であることから、特に、Oが好ましい。
cは、ナフタレン環に結合するスルホン酸基数を表し、1~4を満たす整数であるが、当該化合物に高電子受容性及び高溶解性を付与することを考慮すると、c=1又は2が好ましい。中でも、下記式(6)で示される化合物が、好適である。
(式中、Ar5は、アリール基を表す。)In the formula (5), X 1 represents O, S or NH, and O is particularly preferable because of its easy synthesis.
c represents the number of sulfonic acid groups bonded to the naphthalene ring and is an integer satisfying 1 to 4, but c = 1 or 2 is preferable in consideration of imparting high electron-accepting properties and high solubility to the compound. . Among them, a compound represented by the following formula (6) is suitable.
(wherein Ar 5 represents an aryl group.)
式(5)及び式(6)におけるアリール基としては、フェニル基、キシリル基、トリル基、ビフェニル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられ、これらのアリール基は置換基を有していてもよい。
この置換基としては、水酸基、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、一価炭化水素基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基、スルホン基、ハロゲン原子等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これらのアリール基の中でも特に下記式(7)で示されるアリール基が好適に用いられる。
(式中、R60~R64は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のハロゲン化アルキル基、炭素数2~10のハロゲン化アルケニル基を示す。)Examples of the aryl group in the formulas (5) and (6) include aryl groups such as a phenyl group, a xylyl group, a tolyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group. good.
Examples of the substituent include hydroxyl group, amino group, silanol group, thiol group, carboxyl group, phosphoric acid group, phosphoric acid ester group, ester group, thioester group, amide group, nitro group, cyano group, monovalent hydrocarbon group, Examples include, but are not limited to, organooxy groups, organoamino groups, organosilyl groups, organothio groups, acyl groups, sulfone groups, and halogen atoms.
Among these aryl groups, an aryl group represented by the following formula (7) is particularly preferably used.
(wherein R 60 to R 64 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a represents a halogenated alkenyl group.)
式(7)中、ハロゲン原子としては、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素原子のいずれでもよいが、本発明においては、特にフッ素原子が好適である。
炭素数1~10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、2-エチルヘキシル基、n-デシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
炭素数1~10のハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,2,2,2-ペンタフルオロエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3,3-ヘプタフルオロプロピル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,4-ノナフルオロブチル基等が挙げられる。
炭素数2~10のハロゲン化アルケニル基としては、パーフルオロビニル基、パーフルオロプロペニル基(アリル基)、パーフルオロブテニル基等が挙げられる。
これらの中でも、有機溶剤に対する溶解性をより高めることを考慮すると、特に、下記式(8)で示されるアリール基を用いることが好ましい。
(式中、R62は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のハロゲン化アルキル基、炭素数2~10のハロゲン化アルケニル基を示す。)In the formula (7), the halogen atom may be any of chlorine, bromine, fluorine and iodine atoms, but in the present invention, the fluorine atom is particularly preferred.
Examples of alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl. group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, 2-ethylhexyl group, n-decyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.
Examples of halogenated alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms include trifluoromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2,2-pentafluoroethyl group, 3,3,3- trifluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4, A 4-nonafluorobutyl group and the like can be mentioned.
Examples of the halogenated alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms include perfluorovinyl group, perfluoropropenyl group (allyl group), perfluorobutenyl group and the like.
Among these, it is particularly preferable to use an aryl group represented by the following formula (8) in consideration of further increasing the solubility in organic solvents.
(In the formula, R 62 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogenated alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms. )
式(8)中、R62は特に、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルケニル基、ニトロ基が好ましく、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロペニル基、ニトロ基がより好ましい。In formula (8), R 62 is particularly preferably a halogenated alkyl group, a halogenated alkenyl group or a nitro group, more preferably a trifluoromethyl group, a perfluoropropenyl group or a nitro group.
更に、後述する(F)マトリックス化合物を添加した場合は、下記式(a5)で表されるアニオンとその対カチオンとからなるイオン化合物も、ドーパントとして好適に用いることができる。
(式中、Eは長周期型周期表の第13族又は第15族に属する元素を表し、Arは、各々独立して、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいヘテロアリール基を表わす。)Furthermore, when (F) a matrix compound described later is added, an ionic compound composed of an anion represented by the following formula (a5) and its counter cation can also be suitably used as a dopant.
(Wherein, E represents an element belonging to Group 13 or Group 15 of the long period periodic table, Ar each independently has an optionally substituted aryl group or a substituent represents a good heteroaryl group.)
式(a5)中、Eは長周期型周期表の第13族又は第15族に属する元素の中でもホウ素、ガリウム、リン、アンチモンが好ましく、ホウ素がより好ましい。 In formula (a5), E is preferably boron, gallium, phosphorus, or antimony among the elements belonging to group 13 or group 15 of the long period periodic table, and more preferably boron.
式(a5)中、アリール基、ヘテロアリール基の例示としては、5又は6員環の単環又は2~4縮合環由来の1価の基が挙げられる。中でも、化合物の安定性、耐熱性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環由来の1価の基が好ましい。
更に、Arのうち少なくとも1つの基が、フッ素原子又は塩素原子を置換基として1つ又は2つ以上有することがより好ましい。特に、Arの水素原子がすべてフッ素原子で置換されたパーフルオロアリール基であることが最も好ましい。パーフルオロアリール基の具体例としては、ペンタフルオロフェニル基、ヘプタフルオロ-2-ナフチル基、テトラフルオロ-4-ピリジル基等が挙げられる。In the formula (a5), examples of the aryl group and heteroaryl group include a monovalent group derived from a 5- or 6-membered monocyclic ring or 2 to 4 condensed rings. Among them, a monovalent group derived from a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a quinoline ring, or an isoquinoline ring is preferred from the viewpoint of compound stability and heat resistance.
Furthermore, at least one group of Ar more preferably has one or more fluorine atoms or chlorine atoms as substituents. In particular, a perfluoroaryl group in which all hydrogen atoms of Ar are substituted with fluorine atoms is most preferred. Specific examples of perfluoroaryl groups include pentafluorophenyl, heptafluoro-2-naphthyl and tetrafluoro-4-pyridyl groups.
上述した中でも、下記式(10)、(11):
で示されるアニオンとカチオンの組合せであるイオン化合物(特許第5381931号を参照)を好適に用いることができる。Among the above, the following formulas (10) and (11):
An ionic compound (see Japanese Patent No. 5381931) which is a combination of an anion and a cation represented by is preferably used.
また、ヘテロポリ酸化合物も、ドーパントとして特に好ましい。ヘテロポリ酸化合物は、代表的に式(A)で示されるKeggin型あるいは式(B)で示されるDawson型の化学構造で示される、ヘテロ原子が分子の中心に位置する構造を有し、バナジウム(V)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等の酸素酸であるイソポリ酸と、異種元素の酸素酸とが縮合してなるポリ酸である。このような異種元素の酸素酸としては、主にケイ素(Si)、リン(P)、ヒ素(As)の酸素酸が挙げられる。
ヘテロポリ酸化合物の具体例としては、リンモリブデン酸、ケイモリブデン酸、リンタングステン酸、リンタングストモリブデン酸、ケイタングステン酸等が挙げられるが、得られる薄膜を備えた有機EL素子の特性を考慮すると、リンモリブデン酸、リンタングステン酸、ケイタングステン酸が好適であり、リンタングステン酸がより好ましい。
なお、これらのヘテロポリ酸化合物は、公知の合成法によって合成して用いてもよいが、市販品としても入手可能である。例えば、リンタングステン酸(Phosphotungstic acid hydrate、又は12-Tungstophosphoric acid n-hydrate,化学式:H3(PW12O40)・nH2O)や、リンモリブデン酸(Phosphomolybdic acid hydrate、又は12-Molybdo(VI)phosphoric acid n-hydrate,化学式:H3(PMo12O40)・nH2O(n≒30))は、関東化学(株)、和光純薬(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)、日本無機化学工業(株)、日本新金属(株)等のメーカーから入手可能である。Specific examples of heteropolyacid compounds include phosphomolybdic acid, silicomolybdic acid, phosphotungstic acid, phosphotungstomolybdic acid, and silicotungstic acid. Phosphomolybdic acid, phosphotungstic acid, silicotungstic acid are preferred, and phosphotungstic acid is more preferred.
These heteropolyacid compounds may be synthesized by a known synthesis method and used, but they are also available as commercial products. For example, phosphotungstic acid hydrate (or 12-Tungstophosphoric acid n-hydrate, chemical formula: H 3 (PW 12 O 40 )·nH 2 O), phosphomolybdic acid hydrate (or 12-Molybdo (VI ) phosphoric acid n-hydrate, chemical formula: H 3 (PMo 12 O 40 ) nH 2 O (n≈30)) was manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., Wako Pure Chemical Industries, Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., Japan It is available from manufacturers such as Inorganic Chemical Industry Co., Ltd. and Japan New Metals Co., Ltd.
幾つかの実施態様では、ドーピングプロセスから反応副産物を除去してもよい。例えば、銀のような金属は、濾過によって除去することができる。 In some embodiments, reaction by-products may be removed from the doping process. For example, metals such as silver can be removed by filtration.
例えば、ハロゲン及び金属を除去するために、材料を精製することができる。ハロゲンは、例えば、塩化物、臭化物及びヨウ化物を含む。金属は、例えば、ドーパントのカチオン(ドーパントのカチオンの還元型を含む)、又は触媒若しくは開始剤残留物から残された金属を含む。金属は、例えば、銀、ニッケル、及びマグネシウムを含む。量は、例えば、100ppm未満、又は10ppm未満、又は1ppm未満であってよい。 For example, the material can be purified to remove halogens and metals. Halogen includes, for example, chloride, bromide and iodide. Metals include, for example, dopant cations (including reduced forms of dopant cations), or metals left over from catalyst or initiator residues. Metals include, for example, silver, nickel, and magnesium. The amount may be, for example, less than 100 ppm, or less than 10 ppm, or less than 1 ppm.
銀含量を含む金属含量は、特に50ppmを超える濃度では、ICP-MSにより測定することができる。 Metal content, including silver content, can be determined by ICP-MS, especially at concentrations above 50 ppm.
ある実施態様において、ポリチオフェンが(B)成分を含むドーパントでドープされるとき、ポリチオフェンとドーパントを混合することにより、ドープされたポリマー組成物が形成される。混合は、当業者には公知の任意の方法を用いて達成されうる。例えば、ポリチオフェンを含む溶液を、ドーパントを含む別の溶液と混合することができる。ポリチオフェン及びドーパントを溶解するのに使用される溶媒は、後述の(C)液体担体を構成する1種以上有機溶媒である。反応は、当該分野において公知のとおり、ポリチオフェンとドーパントの混合により起こり得る。生じるドープされたポリチオフェン組成物は、組成物に基づいて、約40重量%~75重量%のポリマー及び約25重量%~55重量%のドーパントを含む。別の実施態様において、ドープされたポリチオフェン組成物は、組成物に基づいて、約50重量%~65重量%のポリチオフェン及び約35重量%~50重量%のドーパントを含む。典型的には、ポリチオフェンの重量は、ドーパントの重量よりも大きい。典型的には、ドーパントは、約0.25~0.5m/ruの量のテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸銀のような銀塩であってよい(ここで、mは、銀塩のモル量であり、そしてruは、ポリマー繰り返し単位のモル量である)。 In some embodiments, when the polythiophene is doped with a dopant comprising component (B), the doped polymer composition is formed by mixing the polythiophene and the dopant. Mixing can be accomplished using any method known to those skilled in the art. For example, a solution containing polythiophene can be mixed with another solution containing a dopant. The solvent used for dissolving the polythiophene and the dopant is one or more organic solvents that constitute (C) the liquid carrier described below. Reactions can occur by mixing polythiophenes and dopants, as is known in the art. The resulting doped polythiophene composition contains about 40% to 75% polymer and about 25% to 55% dopant, by weight based on the composition. In another embodiment, the doped polythiophene composition comprises from about 50% to 65% polythiophene and from about 35% to 50% dopant, by weight based on the composition. Typically, the polythiophene weight is greater than the dopant weight. Typically, the dopant may be a silver salt such as silver tetrakis(pentafluorophenyl)borate in an amount of about 0.25-0.5 m/ru (where m is the mole of silver salt). and ru is the molar amount of polymer repeat units).
ドープされたポリチオフェンは、当業者には公知の方法により(例えば、溶媒の回転蒸発等により)単離されて、乾燥又は実質乾燥材料(粉末等)が得られる。残留溶媒の量は、乾燥又は実質乾燥材料に基づいて、例えば、10重量%以下、又は5重量%以下、又は1重量%以下であってよい。乾燥又は実質乾燥粉末は、1種以上の新しい溶媒に再分散又は再溶解することができる。 The doped polythiophene is isolated by methods known to those skilled in the art (eg, by rotary evaporation of the solvent, etc.) to give a dry or substantially dry material (such as a powder). The amount of residual solvent may be, for example, 10% or less, or 5% or less, or 1% or less, by weight based on dry or substantially dry material. A dry or substantially dry powder can be redispersed or redissolved in one or more fresh solvents.
[(C)成分]
(C)成分は、有機溶媒を含む液体担体である。(C)成分は、(A)成分及び(B)成分を良好に溶解し、かつ、(A)成分と(B)成分を均一に混合してインク組成物とするために必要な成分である。(C)成分としては、インク組成物の湿潤性、粘度、形態制御のようなインク特性を調節するために、(A)成分及び/又は(B)成分を部分的に可溶化するか、又は膨潤させる有機溶媒を含有してもよい。また、(C)成分は、(A)成分の非溶媒として作用する1種以上の有機溶媒を更に含んでもよい。[(C) Component]
Component (C) is a liquid carrier containing an organic solvent. Component (C) is a component necessary to dissolve components (A) and (B) well and to uniformly mix components (A) and (B) to form an ink composition. . As component (C), component (A) and/or component (B) are partially solubilized or It may contain a swelling organic solvent. In addition, component (C) may further contain one or more organic solvents that act as non-solvents for component (A).
(C)成分は、単独でも、二種以上を併用してもよい。(C)成分は、アノード又は発光層のようなデバイス中の他の層との使用及び加工に適応させた二種以上の有機溶媒を含む溶媒混合物であってもよい。また、有機溶媒は、例えば、基板湿潤性、溶媒除去の容易性、粘性、表面張力及び出射性等のインク特性を改善するために、(C)成分中に種々の割合で使用されることができる。 Component (C) may be used alone or in combination of two or more. Component (C) may be a solvent mixture comprising two or more organic solvents adapted for use and processing with other layers in the device, such as the anode or emissive layer. Organic solvents may also be used in component (C) in varying proportions to improve ink properties such as substrate wettability, ease of solvent removal, viscosity, surface tension and jettability. can.
(C)成分としては、例えば、「グリコール系溶媒(s1)」を例示することができる。「グリコール系溶媒」とは、式Rh-O-(Rg-O)n-Ri(式中、それぞれのRgは、各々独立に、直鎖状又は分岐状C2-C4非置換アルキレン基であり、Rh及びRiは、各々独立に、水素原子、直鎖状、分岐状又は環状C1-C8非置換アルキル基或いは直鎖状又は分岐状C1-C8非置換脂肪族アシル基であり、nは、1~6の整数である)で表される、1種以上の芳香族構造を有していない有機溶媒であり、グリコールモノエーテル類;グリコールジエーテル類;グリコールエステルエーテル類;グリコールモノエステル類;グリコールジエステル類;及びグリコール類等を例示することができる。前記Rgは、C2又はC3非置換アルキレン基であることが特に好ましい。また前記nは、1~4の整数であることが特に好ましい。前記アルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状C1-C6非置換アルキル基が好ましく、直鎖状C1-C4非置換アルキル基がより好ましく、メチル基及びn-ブチル基が特に好ましい。前記アシル基としては、直鎖状又は分岐状C2-C6非置換脂肪族アシル基が好ましく、直鎖状C2-C4非置換アシル基がより好ましく、アセチル基及びプロピオニル基が特に好ましい。As the component (C), for example, a "glycol solvent (s1)" can be exemplified. “Glycol-based solvent” means a solvent of the formula R h —O—(R g —O) n —R i , where each R g is independently a linear or branched C 2 -C 4 a substituted alkylene group, wherein R h and R i are each independently a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic C 1 -C 8 unsubstituted alkyl group or a linear or branched C 1 -C 8 non is a substituted aliphatic acyl group, n is an integer of 1 to 6), one or more organic solvents having no aromatic structure, glycol monoethers; glycol diethers glycol ester ethers; glycol monoesters; glycol diesters; and glycols. It is particularly preferred that said Rg is a C2 or C3 unsubstituted alkylene group. Further, n is particularly preferably an integer of 1-4. The alkyl group is preferably a linear, branched or cyclic C 1 -C 6 unsubstituted alkyl group, more preferably a linear C 1 -C 4 unsubstituted alkyl group, a methyl group and an n-butyl group. Especially preferred. The acyl group is preferably a linear or branched C 2 -C 6 unsubstituted aliphatic acyl group, more preferably a linear C 2 -C 4 unsubstituted acyl group, and particularly preferably an acetyl group and a propionyl group. .
(C)成分中の(s1)成分は、例えば以下の溶媒を包含する。
・エチレングリコール、プロピレングリコールであるグリコール類又はそのオリゴマー(2量体~4量体、例えばジエチレングリコール)であるグリコール類
・前記グリコール類のモノアルキルエーテルであるグリコールモノエーテル類
・前記グリコール類のジアルキルエーテルであるグリコールジエーテル類
・前記グリコール類の脂肪族カルボン酸モノエステルであるグリコールモノエステル類
・前記グリコール類の脂肪族カルボン酸ジエステルであるグリコールジエステル類
・前記グリコールモノエーテル類の脂肪族カルボン酸モノエステルであるグリコールエステルエーテル類Component (s1) in component (C) includes, for example, the following solvents.
- Glycols that are ethylene glycol and propylene glycol or their oligomers (dimers to tetramers, such as diethylene glycol) - Glycol monoethers that are monoalkyl ethers of the above glycols - Dialkyl ethers of the above glycols Glycol diethers which are aliphatic carboxylic acid monoesters of the above glycols Glycol diesters which are aliphatic carboxylic acid diesters of the above glycols Aliphatic carboxylic acid monoesters of the above glycol monoethers Glycol ester ethers that are esters
これらの中でも、(C)成分が、グリコールモノエーテル類、グリコールジエーテル類及びグリコール類からなる群より選択される少なくとも1種を含み、該グリコールモノエーテル類、グリコールジエーテル類及びグリコール類の総含有量が、(C)成分の総重量に基づいて50重量%より多いと、インクジェット塗布による成膜時に、インク固形分の溶解性を保つことができ、かつ、インク組成物が後述する(E)金属酸化物ナノ粒子を含有する場合、(E)成分の凝集を適切に制御し、より平坦な膜を形成することができるため、好ましい。グリコールモノエーテル類、グリコールジエーテル類及びグリコール類の総含有量は、(C)成分の総重量に基づいて60重量%以上であることがより好ましく、更により好ましくは75重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。グリコールモノエーテル類、グリコールジエーテル類及びグリコール類の含有比率の上限は100重量%である。 Among these, the component (C) contains at least one selected from the group consisting of glycol monoethers, glycol diethers and glycols, and the total of the glycol monoethers, glycol diethers and glycols When the content is more than 50% by weight based on the total weight of the component (C), the solubility of the solid content of the ink can be maintained during film formation by inkjet coating, and the ink composition can maintain the solubility (E ) When metal oxide nanoparticles are contained, aggregation of the component (E) can be appropriately controlled to form a flatter film, which is preferable. The total content of glycol monoethers, glycol diethers and glycols is more preferably 60% by weight or more, still more preferably 75% by weight or more, particularly preferably 75% by weight or more, based on the total weight of component (C). is 90% by weight or more. The upper limit of the content ratio of glycol monoethers, glycol diethers and glycols is 100% by weight.
(C)成分中の(s1)成分は混合しても良い。例は限定されないが、グリコールジエーテル類とグリコール類を混合させることが挙げられる。具体例としては、後述するグリコールジエーテル類及びグリコール類の具体例が挙げられるが、好ましくは、グリコールジエーテル類として、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、グリコール類として、エチレングリコール、ジエチレングリコールが挙げられる。 The component (s1) in the component (C) may be mixed. Examples include, but are not limited to, mixing glycol diethers and glycols. Specific examples include the glycol diethers and glycols to be described later. Preferably, the glycol diethers are triethylene glycol dimethyl ether and triethylene glycol butyl methyl ether, and the glycols are ethylene glycol, Diethylene glycol is mentioned.
グリコールモノエーテル類の例は、アルキレングリコールモノエーテル(グリコールモノエーテル類)を含む。好適なグリコールモノエーテル類の例は、限定されないが、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル(ヘキシルセロソルブ)、プロピレングリコールモノブチルエーテル(Dowanol(商標) PnB)、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(エチルカルビトール)、ジプロピレングリコールn-ブチルエーテル(Dowanol(商標) DPnB)、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルカルビトール)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(Dowanol(商標) DPM)、プロピレングリコールモノプロピルエーテル(Dowanol(商標) PnP)、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル(プロピルカルビトール)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(ヘキシルカルビトール)、2-エチルヘキシルカルビトール、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル(Dowanol(商標) DPnP)、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(Dowanol(商標) TPM)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(メチルカルビトール)及びトリプロピレングリコールモノブチルエーテル(Dowanol(商標) TPnB)を含む。 Examples of glycol monoethers include alkylene glycol monoethers (glycol monoethers). Examples of suitable glycol monoethers include, but are not limited to, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monohexyl ether (hexylcellosolve), propylene glycol monobutyl ether (Dowanol™ PnB), diethylene glycol monoethyl ether (ethylcarbitol ), dipropylene glycol n-butyl ether (Dowanol™ DPnB), ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol), dipropylene glycol monomethyl ether (Dowanol™ DPM), propylene glycol monopropyl ether (Dowanol™ PnP), diethylene glycol monopropyl ether (propyl carbitol), diethylene glycol monohexyl ether (hexyl carbitol), 2-ethylhexyl carbitol, dipropylene glycol monopropyl ether (Dowanol™ DPnP), tri Propylene glycol monomethyl ether (Dowanol™ TPM), diethylene glycol monomethyl ether (methyl carbitol) and tripropylene glycol monobutyl ether (Dowanol™ TPnB).
グリコールジエーテル類の例は、例えば、エチレングリコールジエーテル(1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタン及び1,2-ジブトキシエタン等);ジエチレングリコールジエーテル(ジエチレングリコールジメチルエーテル及びジエチレングリコールジエチルエーテル等);プロピレングリコールジエーテル(プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル及びプロピレングリコールジブチルエーテル等);ジプロピレングリコールジエーテル(ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル及びジプロピレングリコールジブチルエーテル等);並びに本明細書に言及されるエチレングリコール及びプロピレングリコールエーテルのより高次の類似体(すなわち、トリ-及びテトラ-類似体、例えば、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等)を含む。 Examples of glycol diethers include, for example, ethylene glycol diethers (1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane and 1,2-dibutoxyethane, etc.); diethylene glycol diethers (diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether etc.); propylene glycol diethers (such as propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether and propylene glycol dibutyl ether); dipropylene glycol diethers (such as dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether and dipropylene glycol dibutyl ether); Higher analogues of ethylene glycol and propylene glycol ethers referred to herein (i.e., tri- and tetra-analogs such as triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol butyl methyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, etc.) )including.
グリコール類の例は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール等を含む。 Examples of glycols include ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, tripropylene glycol and the like.
(C)成分中の(s1)成分は、更に、エチレングリコールモノエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノエーテルアセテート等(グリコールエステルエーテル類)を考慮することができ、ここで、エーテルは、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソ-プロピル、n-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル及びシクロヘキシルから選択されることができる。また、上記リストのより高次のグリコールエーテル類似体(ジ-、トリ-及びテトラ-等)を含む。
例は、限定されないが、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、2-エトキシエチルアセテート、2-ブトキシエチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含む。Component (s1) in component (C) may further include ethylene glycol monoether acetate and propylene glycol monoether acetate (glycol ester ethers), where ethers are, for example, methyl, ethyl , n-propyl, iso-propyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl and cyclohexyl. It also includes the higher glycol ether analogues (di-, tri- and tetra-, etc.) listed above.
Examples include, but are not limited to, propylene glycol methyl ether acetate, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate.
(C)成分中の(s1)成分は、更に、エチレングリコールジアセテート等(グリコールジエステル類)を考慮することができ、また、より高次のグリコールエーテル類似体(ジ-、トリ-及びテトラ-等)を含む。
例は、限定されないが、エチレングリコールジアセテート、トリエチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテートを含む。Component (s1) in component (C) can further include ethylene glycol diacetate and the like (glycol diesters), and higher order glycol ether analogues (di-, tri- and tetra- etc.).
Examples include, but are not limited to, ethylene glycol diacetate, triethylene glycol diacetate, propylene glycol diacetate.
(C)成分は、更に、グリコール系溶媒を除く有機溶媒(s2)を考慮することができる。(s2)成分は、単独でも、二種以上を併用してもよい。(s2)成分は例えば、脂肪族及び芳香族ケトン類、ジメチルスルホキシド(DMSO)及び2,3,4,5-テトラヒドロチオフェン-1,1-ジオキシド(テトラメチレンスルホン;スルホラン)のような有機硫黄溶媒;テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン(THP)、テトラメチル尿素(TMU)、N,N’-ジメチルプロピレン尿素;アルキル化ベンゼン類(キシレン及びその異性体等)等の芳香族炭化水素類、ハロゲン化ベンゼン類、N-メチルピロリジノン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジクロロメタン、ジオキサン類、酢酸エチル、安息香酸エチル、安息香酸メチル、炭酸ジメチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン;アセトニトリル、3-メトキシプロピオニトリル、3-エトキシプロピオニトリル等のニトリル類;、アニソール、エトキシベンゼン、ジメトキシベンゼン等の芳香族エーテル類;メタノール、エタノール、トリフルオロエタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、t-ブタノール、2-エチルヘキシルアルコール、2-(ベンジルオキシ)エタノール、ジイソブチルカルビノール、メチルイソブチルカルビノール等のアルコール類、又はこれらの組合せを含むが、これらに限定されない。 The (C) component can further consider an organic solvent (s2) excluding glycol-based solvents. The (s2) component may be used alone or in combination of two or more. Component (s2) is, for example, aliphatic and aromatic ketones, organic sulfur solvents such as dimethylsulfoxide (DMSO) and 2,3,4,5-tetrahydrothiophene-1,1-dioxide (tetramethylene sulfone; sulfolane) ; tetrahydrofuran (THF), tetrahydropyran (THP), tetramethylurea (TMU), N,N'-dimethylpropylene urea; aromatic hydrocarbons such as alkylated benzenes (xylene and its isomers, etc.), halogenated Benzenes, N-methylpyrrolidinone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dichloromethane, dioxanes, ethyl acetate, ethyl benzoate, methyl benzoate, dimethyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate; acetonitrile, Nitriles such as 3-methoxypropionitrile and 3-ethoxypropionitrile; aromatic ethers such as anisole, ethoxybenzene and dimethoxybenzene; methanol, ethanol, trifluoroethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol , t-butanol, 2-ethylhexyl alcohol, 2-(benzyloxy)ethanol, diisobutylcarbinol, methylisobutylcarbinol, or combinations thereof.
(s2)成分は、ニトリル類、アルコール類、芳香族エーテル類又は芳香族炭化水素類が好ましい。
例は、限定されないが、ニトリル類として、メトキシプロピオニトリル、エトキシプロピオニトリル、アルコール類として、ベンジルアルコール、2-(ベンジルオキシ)エタノール、芳香族エーテル類として、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソール、フェノキシトルエン、芳香族炭化水素類として、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン又はテトラリンが挙げられる。
これらの中でも、アルコール類がより好ましく、アルコール類の中でも2-(ベンジルオキシ)エタノールがより好ましい。Component (s2) is preferably nitriles, alcohols, aromatic ethers or aromatic hydrocarbons.
Examples include, but are not limited to, nitriles such as methoxypropionitrile, ethoxypropionitrile, alcohols such as benzyl alcohol, 2-(benzyloxy)ethanol, aromatic ethers such as methylanisole, dimethylanisole, ethylanisole. , butylphenyl ether, butylanisole, pentylanisole, hexylanisole, heptylanisole, octylanisole, phenoxytoluene, aromatic hydrocarbons such as pentylbenzene, hexylbenzene, heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene, cyclohexylbenzene or tetralin. mentioned.
Among these, alcohols are more preferable, and 2-(benzyloxy)ethanol is more preferable among alcohols.
(s2)成分のその他の例としては、脂肪族及び芳香族ケトン類が挙げられる。脂肪族及び芳香族ケトン類は、アセトン、アセトニルアセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、メチルイソブテニルケトン、2-ヘキサノン、2-ペンタノン、アセトフェノン、エチルフェニルケトン、シクロヘキサノン、及びシクロペンタノンを含むが、これらに限定されない。幾つかの実施態様において、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、及びアセトンのような、ケトンに対してα位に位置する炭素上にプロトンを有するケトン類は回避される。 Other examples of the (s2) component include aliphatic and aromatic ketones. Aliphatic and aromatic ketones are acetone, acetonylacetone, methylethylketone (MEK), methylisobutylketone, methylisobutenylketone, 2-hexanone, 2-pentanone, acetophenone, ethylphenylketone, cyclohexanone, and cyclopentanone. including but not limited to. In some embodiments, ketones with protons on carbons alpha to the ketone are avoided, such as cyclohexanone, methyl ethyl ketone, and acetone.
いくつかの実施態様において、非プロトン非極性溶媒の使用は、プロトンに感受性であるエミッター技術を備えるデバイス(例えば、PHOLED等)の寿命を延ばす追加の利益を提供することができる。 In some embodiments, the use of aprotic non-polar solvents can provide the added benefit of extending the lifetime of devices with emitter technology that is sensitive to protons (eg, PHOLEDs, etc.).
ある実施態様において、(C)成分は、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール(グリコール類)、テトラメチル尿素又はそれらの混合物を含む。
好適なグリコール類の例は、限定されないが、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール等が挙げられる。In some embodiments, component (C) comprises dimethylsulfoxide, ethylene glycol (glycols), tetramethylurea, or mixtures thereof.
Examples of suitable glycols include, but are not limited to, ethylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, and the like.
(C)成分が(s1)成分と(s2)成分とを含む場合、(s1)成分の含有量:wts1(重量)と、(s2)成分の含有量:wts2(重量)とが、式(1-1)を満たすことが好ましく、式(1-2)を満たすことがより好ましく、式(1-3)を満たすことが最も好ましい。
0.05≦wts2/(wts1+wts2)≦0.50 (1-1)
0.10≦wts2/(wts1+wts2)≦0.40 (1-2)
0.15≦wts2/(wts1+wts2)≦0.30 (1-3)
なお、(s1)成分が2種以上含有されている場合、wts1は(s1)成分の合計含有量(重量)を示し、(s2)成分が2種以上含有されている場合、wts2は(s2)成分の合計含有量(重量)を示す。
ある態様において、(s1)成分と(s2)成分の含有量が上記関係を満たすと、インクジェット塗布による成膜時に、(E)成分の凝集をよりいっそう適切に制御し、より平坦な膜を形成することができるため、好ましい。When the component (C) contains the component (s1) and the component (s2), the content of the component (s1): wts1 (weight) and the content of the component (s2): wts2 (weight) are expressed by the formula ( 1-1) is preferably satisfied, formula (1-2) is more preferably satisfied, and formula (1-3) is most preferably satisfied.
0.05≦wts2/(wts1+wts2)≦0.50 (1-1)
0.10≦wts2/(wts1+wts2)≦0.40 (1-2)
0.15≦wts2/(wts1+wts2)≦0.30 (1-3)
When two or more components (s1) are contained, wts1 indicates the total content (weight) of the components (s1), and when two or more components (s2) are contained, wts2 is (s2 ) indicates the total content (weight) of the components.
In one aspect, when the content of the component (s1) and the component (s2) satisfies the above relationship, aggregation of the component (E) can be more appropriately controlled during film formation by inkjet coating, forming a flatter film. preferred because it can
(C)成分の量は、インク組成物の総量に対して、約50重量%~約99重量%、典型的には約75重量%~約98重量%、更に典型的には約90重量%~約95重量%である。 The amount of component (C) is about 50% to about 99% by weight, typically about 75% to about 98% by weight, more typically about 90% by weight, based on the total amount of the ink composition. to about 95% by weight.
[(D)成分]
インク組成物は、更に(D)アミン化合物を含むことができる。(D)成分を添加することにより、(A)成分の(C)成分に対する分散性を向上させることができる。(D)成分は、エタノールアミン化合物及びアルキルアミン化合物を含むが、これらに限定されない。(D)成分は、単独でも、二種以上を併用してもよい。[(D) component]
The ink composition may further contain (D) an amine compound. By adding the component (D), the dispersibility of the component (A) in the component (C) can be improved. Component (D) includes, but is not limited to, ethanolamine compounds and alkylamine compounds. Component (D) may be used alone or in combination of two or more.
適切なエタノールアミン化合物の例は、ジメチルエタノールアミン[(CH3)2NCH2CH2OH]、トリエタノールアミン[N(CH2CH2OH)3]、及びN-tert-ブチルジエタノールアミン[t-C4H9N(CH2CH2OH)2]を含む。Examples of suitable ethanolamine compounds are dimethylethanolamine [(CH 3 ) 2 NCH 2 CH 2 OH], triethanolamine [N(CH 2 CH 2 OH) 3 ], and N-tert-butyldiethanolamine [t- C4H9N ( CH2CH2OH ) 2 ] .
アルキルアミン化合物は、第1級、第2級、及び第3級アルキルアミン化合物を含む。第1級アルキルアミン化合物の例は、例えば、エチルアミン[C2H5NH2]、n-ブチルアミン[C4H9NH2]、t-ブチルアミン[C4H9NH2]、2-エチルヘキシルアミン、n-ヘキシルアミン[C6H13NH2]、n-デシルアミン[C10H21NH2]、及びエチレンジアミン[H2NCH2CH2NH2]を含む。第2級アルキルアミン化合物は、例えば、ジエチルアミン[(C2H5)2NH]、ジ(n-プロピルアミン)[(n-C3H9)2NH]、ジ(イソプロピルアミン)[(i-C3H9)2NH]、及びジメチルエチレンジアミン[CH3NHCH2CH2NHCH3]を含む。第3級アルキルアミン化合物は、例えば、トリメチルアミン[(CH3)3N]、トリエチルアミン[(C2H5)3N]、トリ(n-ブチル)アミン[(C4H9)3N]、及びテトラメチルエチレンジアミン[(CH3)2NCH2CH2N(CH3)2]を含む。Alkylamine compounds include primary, secondary, and tertiary alkylamine compounds. Examples of primary alkylamine compounds include, for example, ethylamine [C 2 H 5 NH 2 ], n-butylamine [C 4 H 9 NH 2 ], t-butylamine [C 4 H 9 NH 2 ], 2-ethylhexylamine , n-hexylamine [C 6 H 13 NH 2 ], n-decylamine [C 10 H 21 NH 2 ], and ethylenediamine [H 2 NCH 2 CH 2 NH 2 ]. Secondary alkylamine compounds include, for example, diethylamine [(C 2 H 5 ) 2 NH], di(n-propylamine) [(nC 3 H 9 ) 2 NH], di(isopropylamine) [(i —C 3 H 9 ) 2 NH], and dimethylethylenediamine [CH 3 NHCH 2 CH 2 NHCH 3 ]. Tertiary alkylamine compounds include, for example, trimethylamine [(CH 3 ) 3 N], triethylamine [(C 2 H 5 ) 3 N], tri(n-butyl)amine [(C 4 H 9 ) 3 N], and tetramethylethylenediamine [ ( CH3 ) 2NCH2CH2N ( CH3 ) 2 ].
(D)成分が、(D1)第三級アルキルアミン化合物と、(D2)第三級アルキルアミン化合物以外のアミン化合物とを含むと、溶解性又は分散性の観点で好ましい。 It is preferable from the viewpoint of solubility or dispersibility that component (D) contains (D1) a tertiary alkylamine compound and (D2) an amine compound other than the tertiary alkylamine compound.
(D1)成分は、(A)成分の溶解性又は分散性を高めるために使用される。インク組成物の製造前に、(A)成分を(D1)成分で前処理すると、(A)成分の(C)成分への溶解性又は分散性が高められるため、好ましい。本願のインク組成物を非水系インク組成物とする場合、(A)成分は通常、水性分散液で得られるため、該水性分散液を乾燥させて、粉末状としたものを(C)成分に溶解又は分散させて、インク組成物とする。この場合、(A)成分の水性分散液に(D1)成分を添加・混合後、乾燥させたものを用いると、(A)成分の(C)成分への溶解性・分散性が向上するため、好ましい。(D1)成分は、トリエチルアミンが好ましい。 Component (D1) is used to enhance the solubility or dispersibility of component (A). It is preferable to pretreat component (A) with component (D1) before manufacturing the ink composition, because the solubility or dispersibility of component (A) in component (C) is enhanced. When the ink composition of the present application is a non-aqueous ink composition, the component (A) is usually obtained as an aqueous dispersion. It is dissolved or dispersed to form an ink composition. In this case, if the component (D1) is added to the aqueous dispersion of the component (A), mixed and then dried, the solubility and dispersibility of the component (A) in the component (C) are improved. ,preferable. The component (D1) is preferably triethylamine.
(D2)成分は、第一級アルキルアミン化合物であると好ましい。該第一級アルキルアミン化合物が、エチルアミン、n-ブチルアミン、t-ブチルアミン、2-エチルヘキシルアミン、n-ヘキシルアミン、n-デシルアミン及びエチレンジアミンからなる群より選択される少なくとも1種であると、(A)成分の溶解性又は分散性の観点で好ましい。(D2)成分は、より好ましくは、n-ブチルアミン又は2-エチルヘキシルアミンであり、特に好ましくはn-ブチルアミンである。 Component (D2) is preferably a primary alkylamine compound. When the primary alkylamine compound is at least one selected from the group consisting of ethylamine, n-butylamine, t-butylamine, 2-ethylhexylamine, n-hexylamine, n-decylamine and ethylenediamine, (A ) is preferred from the viewpoint of the solubility or dispersibility of the components. Component (D2) is more preferably n-butylamine or 2-ethylhexylamine, and particularly preferably n-butylamine.
(D)成分の量は、インク組成物の総量に対する重量百分率として調節及び測定することができる。ある実施態様において、(D)成分の量は、インク組成物の総量に対して、少なくとも0.01重量%、少なくとも0.10重量%、少なくとも1.00重量%、少なくとも1.50重量%、又は少なくとも2.00重量%である。ある実施態様において、(D)成分の量は、インク組成物の総量に対して、約0.01重量~約2.00重量%、典型的には約0.05重量%~約1.50重量%、更に典型的には約0.1重量%~約1.00重量%である。(A)成分としてスルホン化ポリチオフェンを用いる場合、(D)成分の少なくとも一部が、スルホン化共役ポリマーとのアンモニウム塩、例えばトリアルキルアンモニウム塩(スルホン化ポリチオフェンアミン付加体)の形態で存在していてもよい。 The amount of component (D) can be adjusted and measured as a weight percentage relative to the total amount of the ink composition. In some embodiments, the amount of component (D) is at least 0.01 wt%, at least 0.10 wt%, at least 1.00 wt%, at least 1.50 wt%, based on the total weight of the ink composition, or at least 2.00% by weight. In some embodiments, the amount of component (D) is from about 0.01 wt% to about 2.00 wt%, typically from about 0.05 wt% to about 1.50 wt%, based on the total weight of the ink composition. % by weight, more typically from about 0.1% to about 1.00% by weight. When sulfonated polythiophene is used as component (A), at least part of component (D) exists in the form of an ammonium salt, such as a trialkylammonium salt (sulfonated polythiopheneamine adduct) with the sulfonated conjugated polymer. may
(D1)成分と(D2)成分との比率は、特に限定されないが、物質量(モル)比で、(D2)成分:(D1)成分=3:1~15:1とすることができ、好ましくは、5:1~10:1である。 The ratio of the component (D1) and the component (D2) is not particularly limited, but the amount (mole) ratio of the substances (D2): component (D1) can be set to 3:1 to 15:1, Preferably it is from 5:1 to 10:1.
[(E)成分]
インク組成物は、更に(E)金属酸化物ナノ粒子を含むことができる。インク組成物に(E)成分を含有させると、インク組成物を使用して得られる電荷輸送性薄膜の透明性を高く、かつ、可視スペクトルの吸光度を低くすることができる。その結果、該電荷輸送性薄膜を用いて作製された有機EL素子の電流効率、外部量子効率及び輝度半減期を向上させることができる。(E)成分は、単独でも、二種以上を併用してもよい。[(E) component]
The ink composition may further comprise (E) metal oxide nanoparticles. By including component (E) in the ink composition, the transparency of the charge-transporting thin film obtained by using the ink composition can be increased and the absorbance in the visible spectrum can be decreased. As a result, it is possible to improve the current efficiency, the external quantum efficiency and the luminance half-life of the organic EL device produced using the charge-transporting thin film. The component (E) may be used alone or in combination of two or more.
本明細書に使用されるとき、「半金属」という用語は、金属と非金属との化学的及び/又は物理的性質の中間の又は混合物の性質を有する元素のことをいう。本明細書において、「半金属」という用語は、ホウ素(B)、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、及びテルル(Te)のことをいう。
本明細書において、「金属酸化物」とは、スズ(Sn)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、ジルコニウム(Zr)、亜鉛(Zn)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)及びW(タングステン)等の金属及び上述した半金属のうち1種又は2種以上の組み合わせの酸化物のことをいう。As used herein, the term "metalloid" refers to an element having chemical and/or physical properties intermediate or a mixture of those of metals and non-metals. As used herein, the term "metalloid" refers to boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), and tellurium (Te).
As used herein, "metal oxide" includes tin (Sn), titanium (Ti), aluminum (Al), zirconium (Zr), zinc (Zn), niobium (Nb), tantalum (Ta) and W ( Tungsten) and other metals, and oxides of one or a combination of two or more of the above semimetals.
本明細書に使用されるとき、「ナノ粒子」という用語は、ナノスケールの粒子であって、その一次粒子の数平均径が、典型的には500nm以下である粒子のことをいう。一次粒子の平均径は、例えば、透過電子顕微鏡法(TEM)や、BET法による比表面積から換算する方法等を利用することができる。 As used herein, the term "nanoparticle" refers to a nanoscale particle whose primary particle number average diameter is typically less than or equal to 500 nm. For the average diameter of primary particles, for example, transmission electron microscopy (TEM) or a method of converting from specific surface area by BET method, or the like can be used.
TEMによる粒子径の測定法では、画像処理ソフトウェアを用いてナノ粒子の投影画像を処理してから、面積相当径(これは、ナノ粒子と同じ面積を持つ円の直径として定義される)を求める方法で、粒子径を測定することができる。典型的には、TEM(例えば、透過型電子顕微鏡HT7700(株式会社日立ハイテクノロジーズより入手可能))と共に提供される、TEMの製造販売元が作成した画像処理ソフトウェアを用いて、前記の投影画像の処理を行う。平均粒子径は、円相当径の数平均として求める事ができる。 In the TEM particle size measurement method, an image processing software is used to process the projected image of the nanoparticles and then determine the area equivalent diameter (which is defined as the diameter of a circle with the same area as the nanoparticles). method can measure the particle size. Typically, the projection image is obtained using image processing software provided with a TEM (e.g., a transmission electron microscope HT7700 (available from Hitachi High-Technologies Co., Ltd.)) created by the manufacturer of the TEM. process. The average particle size can be determined as the number average of equivalent circle diameters.
(E)成分の一次粒子の数平均粒径は、500nm以下;250nm以下;100nm以下;又は50nm以下;又は25nm以下である。典型的には、(E)成分は、約1nm~約100nm、更に典型的には約2nm~約30nmの数平均粒径を有する。 The number average particle size of the primary particles of component (E) is 500 nm or less; 250 nm or less; 100 nm or less; or 50 nm or less; or 25 nm or less. Typically, component (E) has a number average particle size of about 1 nm to about 100 nm, more typically about 2 nm to about 30 nm.
金属酸化物としては、ホウ素(B)、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、テルル(Te)、スズ(Sn)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、ジルコニウム(Zr)、亜鉛(Zn)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)及びW(タングステン)等の酸化物、又はこれらを含む混合酸化物が挙げられる。適切な金属酸化物ナノ粒子の非限定的な特定の例は、B2O3、B2O、SiO2、SiO、GeO2、GeO、As2O4、As2O3、As2O5、Sb2O3、Sb2O5、TeO2、SnO2、ZrO2、Al2O3、ZnO及びこれらの混合物を含むナノ粒子を含むが、これらに限定されない。Metal oxides include boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te), tin (Sn), titanium (Ti), and aluminum (Al). , zirconium (Zr), zinc (Zn), niobium (Nb), tantalum (Ta) and W (tungsten), or mixed oxides containing these. Specific non - limiting examples of suitable metal oxide nanoparticles are B2O3 , B2O , SiO2 , SiO, GeO2 , GeO , As2O4 , As2O3 , As2O5 , Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 , TeO 2 , SnO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , ZnO and mixtures thereof.
ある実施態様において、インク組成物は、B2O3、B2O、SiO2、SiO、GeO2、GeO、As2O4、As2O3、As2O5、SnO2、SnO、Sb2O3、TeO2、又はこれらの混合物を含む1種以上の金属酸化物ナノ粒子を含む。 In some embodiments, the ink composition comprises B2O3 , B2O , SiO2 , SiO, GeO2 , GeO, As2O4 , As2O3 , As2O5 , SnO2 , SnO , Sb 2 O 3 , TeO 2 , or mixtures thereof, including one or more metal oxide nanoparticles.
ある実施態様において、インク組成物は、SiO2を含む1種以上の金属酸化物ナノ粒子を含む。(E)成分が、SiO2を含む金属酸化物ナノ粒子であると、インク組成物を使用して得られる電荷輸送性薄膜の透明性をより高く、かつ、可視スペクトルの吸光度をより低くでき、該電荷輸送性薄膜を用いて作製された有機EL素子の電流効率、外部量子効率及び輝度半減期をよりいっそう向上させることができるため、好ましい。In some embodiments, the ink composition comprises one or more metal oxide nanoparticles comprising SiO2 . When the component (E) is metal oxide nanoparticles containing SiO 2 , the charge-transporting thin film obtained using the ink composition can have higher transparency and lower absorbance in the visible spectrum, It is preferable because the current efficiency, the external quantum efficiency and the luminance half-life of the organic EL element manufactured using the charge-transporting thin film can be further improved.
金属酸化物ナノ粒子は、1種以上の有機キャッピング基を含んでもよい。このような有機キャッピング基は、反応性であっても非反応性であってもよい。反応性有機キャッピング基は、例えば、UV線又はラジカル開始剤の存在下で、架橋できる有機キャッピング基である。 The metal oxide nanoparticles may contain one or more organic capping groups. Such organic capping groups may be reactive or non-reactive. A reactive organic capping group is an organic capping group that can be crosslinked, for example, in the presence of UV radiation or a radical initiator.
ある実施態様において、金属酸化物ナノ粒子は、1種以上の有機キャッピング基を含む。 In some embodiments, the metal oxide nanoparticles comprise one or more organic capping groups.
適切な金属酸化物ナノ粒子の例は、日産化学工業(株)によりORGANOSILICASOL(商標)として販売されている、種々の溶媒(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルアセトアミド、エチレングリコール、イソプロパノール、メタノール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)中の分散液として利用できるSiO2ナノ粒子を含む。Examples of suitable metal oxide nanoparticles are those sold as ORGANOSILICASOL™ by Nissan Chemical Industries, Ltd. in various solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethylacetamide, ethylene glycol, isopropanol, methanol, SiO2 nanoparticles available as dispersions in ethylene glycol monopropyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.).
インク組成物中の(E)成分の量は、(A)及び(B)成分並びに任意の(D)~(F)成分を合わせた重量に対する重量百分率として、調節及び測定することができる。ある実施態様において、(E)成分の量は、(A)及び(B)成分並びに任意の(D)~(F)成分を合わせた重量に対して、1重量%~98重量%、典型的には約2重量%~約95重量%、更に典型的には約5重量%~約90重量%、更になお典型的には約10重量%~約90重量%である。ある実施態様において、(E)成分の量は、(A)及び(B)成分並びに任意の(D)~(F)成分を合わせた重量に対して、約20重量%~約98重量%、典型的には約25重量%~約95重量%である。 The amount of component (E) in the ink composition can be adjusted and measured as a weight percentage relative to the combined weight of components (A) and (B) and any of components (D)-(F). In some embodiments, the amount of component (E) is from 1% to 98% by weight, based on the combined weight of components (A) and (B) and any of components (D)-(F), typically about 2% to about 95%, more typically about 5% to about 90%, even more typically about 10% to about 90% by weight. In some embodiments, the amount of component (E) is from about 20% to about 98% by weight, based on the combined weight of components (A) and (B) and any of components (D)-(F), Typically from about 25% to about 95% by weight.
[(F)成分]
インク組成物は、正孔注入層(HIL)又は正孔輸送層(HTL)中で有用であることが知られている1種以上の(F)マトリックス化合物を更に含むことができる。(F)成分は薄膜作製時のバイルアップを改善し、厚さを均一かつ平坦にするすることができる化合物であり、こうした機能を有する材料であれば、特に限定されず使用できる。(F)成分を更に含むインク組成物を用いて作製された電荷輸送性薄膜を有する有機EL素子は、電荷輸送性薄膜の上層側に形成される発光層等の厚みの均一性も改善されるため、発光ムラ等がなく、素子特性を改善することができる。(F)成分は、単独でも、二種以上を併用してもよい。[(F) Component]
The ink composition may further comprise one or more (F) matrix compounds known to be useful in hole injection layers (HIL) or hole transport layers (HTL). Component (F) is a compound capable of improving the build-up during thin film production and making the thickness uniform and flat. In an organic EL device having a charge-transporting thin film produced using an ink composition that further contains the component (F), the thickness uniformity of the light-emitting layer, etc. formed on the upper layer side of the charge-transporting thin film is also improved. Therefore, it is possible to improve the device characteristics without unevenness in light emission. Component (F) may be used alone or in combination of two or more.
(F)成分は、低分子量又は高分子量化合物であってよく、そして本明細書に記載のポリチオフェンとは異なる。マトリックス化合物は、例えば、合成ポリマーであってよい。例えば、2006年8月10日に公開の米国特許公開2006/0175582号を参照のこと。合成ポリマーは、例えば、炭素基本骨格を含むことができる。幾つかの実施態様において、合成ポリマーは、酸素原子又は窒素原子を含む少なくとも1個のポリマー側基を有する。合成ポリマーは、ルイス塩基であってもよい。典型的には、合成ポリマーは、炭素基本骨格を含み、そして25℃を超えるガラス転移点を有する。合成ポリマーはまた、25℃以下のガラス転移点及び/又は25℃を超える融点を有する、半結晶性又は結晶性ポリマーであってもよい。合成ポリマーは、1種以上の酸性基、例えば、スルホン酸基を含んでもよい。 Component (F) may be a low molecular weight or high molecular weight compound and is different from the polythiophenes described herein. A matrix compound may be, for example, a synthetic polymer. See, for example, US Patent Publication No. 2006/0175582, published Aug. 10, 2006. Synthetic polymers can include, for example, carbon backbones. In some embodiments, the synthetic polymer has at least one pendant polymer group containing an oxygen atom or a nitrogen atom. The synthetic polymer may be a Lewis base. Typically, synthetic polymers contain a carbon backbone and have a glass transition temperature above 25°C. The synthetic polymer may also be a semi-crystalline or crystalline polymer having a glass transition temperature below 25°C and/or a melting point above 25°C. The synthetic polymer may contain one or more acid groups, such as sulfonic acid groups.
ある実施態様において、(F)成分である合成ポリマーは、少なくとも1個のフッ素原子及び少なくとも1個のスルホン酸(-SO3H)残基により置換されている、少なくとも1個のアルキル又はアルコキシ基であって、場合により少なくとも1個のエーテル結合(-O-)基により中断されているアルキル又はアルコキシ基を含む、1個以上の繰り返し単位を含むポリマー酸である。In one embodiment, the synthetic polymer, component (F), has at least one alkyl or alkoxy group substituted by at least one fluorine atom and at least one sulfonic acid (—SO 3 H) residue. is a polymeric acid comprising one or more repeat units comprising an alkyl or alkoxy group optionally interrupted by at least one ether-linked (--O--) group.
ある実施態様において、ポリマー酸は、式(II)に従う繰り返し単位及び式(III)に従う繰り返し単位:
[式中、各々のR5、R6、R7、R8、R9、R10、及びR11は、独立に、H、ハロゲン、フルオロアルキル、又はペルフルオロアルキルであり;そしてXは、-[OC(RjRk)-C(RlRm)]r-O-[CRnRo]z-SO3Hであって、各々のRj、Rk、Rl、Rm、Rn及びRoは、独立に、H、ハロゲン、フルオロアルキル、又はペルフルオロアルキルであり;rは、0~10であり;そしてzは、1~5である]を含む。In certain embodiments, the polymeric acid comprises repeat units according to formula (II) and repeat units according to formula (III):
[wherein each R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R 11 is independently H, halogen, fluoroalkyl, or perfluoroalkyl; and X is - [OC(R j R k )-C(R l R m )] r —O-[CR n R o ] z —SO 3 H wherein each of R j , R k , R l , R m , R n and R o are independently H, halogen, fluoroalkyl, or perfluoroalkyl; r is 0-10; and z is 1-5.
ある実施態様において、各々のR5、R6、R7、及びR8は、独立に、Cl又はFである。ある実施態様において、各々のR5、R7、及びR8は、Fであり、そしてR6は、Clである。ある実施態様において、各々のR5、R6、R7、及びR8は、Fである。 In some embodiments, each R5, R6 , R7 , and R8 is independently Cl or F. In some embodiments, each R 5 , R 7 and R 8 is F and R 6 is Cl. In some embodiments, each R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 is F.
ある実施態様において、各々のR9、R10、及びR11は、Fである。In some embodiments, each R 9 , R 10 , and R 11 is F.
ある実施態様において、各々のRj、Rk、Rl、Rm、Rn及びRoは、独立に、F、(C1-C8)フルオロアルキル、又は(C1-C8)ペルフルオロアルキルである。In some embodiments, each R j , R k , R l , R m , R n and R o is independently F, (C 1 -C 8 )fluoroalkyl, or (C 1 -C 8 )perfluoro is alkyl.
ある実施態様において、各々のRn及びRoは、Fであり;rは、0であり;そしてzは、2である。In certain embodiments, each R n and R o is F; r is 0;
ある実施態様において、各々のR5、R7、及びR8は、Fであり、そしてR6は、Clであり;そして各々のRn及びRoは、Fであり;rは、0であり;そしてzは、2である。 In certain embodiments, each R5, R7 , and R8 is F and R6 is Cl; and each Rn and R0 is F; Yes; and z is two.
ある実施態様において、各々のR5、R6、R7、及びR8は、Fであり;そして各々のRn及びRoは、Fであり;rは、0であり;そしてzは、2である。and each R n and R o is F ; r is 0; and z is 2.
式(II)に従う繰り返し単位の数(「n1」)対式(III)に従う繰り返し単位の数(「n2」)の比は、特に限定されない。n1:n2比は、典型的には9:1~1:9、更に典型的には8:2~2:8である。ある実施態様において、n1:n2比は、9:1である。ある実施態様において、n1:n2比は、8:2である。 The ratio of the number of repeating units according to formula (II) (“n1”) to the number of repeating units according to formula (III) (“n2”) is not particularly limited. The n1:n2 ratio is typically 9:1 to 1:9, more typically 8:2 to 2:8. In some embodiments, the n1:n2 ratio is 9:1. In one embodiment, the n1:n2 ratio is 8:2.
本開示の使用に適したポリマー酸は、当業者には公知の方法を用いて合成されるか、又は商業的供給元から得られる。例えば、式(II)に従う繰り返し単位及び式(III)に従う繰り返し単位を含むポリマーは、式(IIa)により表されるモノマーを式(IIIa)により表されるモノマー: Polymeric acids suitable for use in the present disclosure are synthesized using methods known to those skilled in the art or obtained from commercial sources. For example, a polymer comprising repeat units according to formula (II) and repeat units according to formula (III) can be obtained by combining a monomer represented by formula (IIa) with a monomer represented by formula (IIIa):
[式中、R5~R11は、上記と同義であり、Z1は、-[OC(RjRk)-C(RlRm)]r-O-[CRnRo]z-SO2Fであって、Rj、Rk、Rl、Rm、Rn及びRo、r、及びzは、本明細書中と同義である]と、公知の重合方法により共重合し、続いてスルホニルフルオリド基の加水分解によりスルホン酸基に変換することによって製造されうる。
[Wherein, R 5 to R 11 are as defined above, and Z 1 is -[OC(R j R k )-C(R l R m )] r -O-[CR n R o ] z —SO 2 F, wherein R j , R k , R l , R m , R n and R o , r, and z have the same meanings as defined herein] and copolymerization by a known polymerization method. and subsequent hydrolysis of the sulfonyl fluoride group to convert it to a sulfonic acid group.
例えば、テトラフルオロエチレン(TFE)又はクロロトリフルオロエチレン(CTFE)は、スルホン酸の前駆体基を含む1種以上のフッ素化モノマー(例えば、F2C=CF-O-CF2-CF2-SO2F;F2C=CF-[O-CF2-CRpF-O]q1-CF2-CF2-SO2F(ここで、Rpは、F又はCF3であり、そしてq1は、1~10である);F2C=CF-O-CF2-CF2-CF2-SO2F;及びF2C=CF-OCF2-CF2-CF2-CF2-SO2F等)と共重合されうる。For example, tetrafluoroethylene (TFE) or chlorotrifluoroethylene (CTFE) can be added to one or more fluorinated monomers (eg, F 2 C═CF—O—CF 2 —CF 2 — containing precursor groups of sulfonic acid). SO 2 F; F 2 C═CF—[O—CF 2 —CR p F—O] q1 —CF 2 —CF 2 —SO 2 F, where R p is F or CF 3 and q1 is 1 to 10); F 2 C=CF-O-CF 2 -CF 2 -CF 2 -SO 2 F; and F 2 C=CF-OCF 2 -CF 2 -CF 2 -CF 2 -SO 2 F, etc.).
ポリマー酸の当量は、ポリマー酸に存在する酸基1モル当たりのポリマー酸の質量(グラム)として定義される。ポリマー酸の当量は、約400~約15,000gポリマー/mol酸、典型的には約500~約10,000gポリマー/mol酸、更に典型的には約500~8,000gポリマー/mol酸、更になお典型的には約500~2,000gポリマー/mol酸、更にいっそう典型的には約600~約1,700gポリマー/mol酸である。 The equivalent weight of a polymeric acid is defined as the mass (grams) of polymeric acid per mole of acid groups present in the polymeric acid. The equivalent weight of the polymeric acid is from about 400 to about 15,000 g polymer/mol acid, typically from about 500 to about 10,000 g polymer/mol acid, more typically from about 500 to 8,000 g polymer/mol acid, Even more typically about 500 to 2,000 g polymer/mol acid, even more typically about 600 to about 1,700 g polymer/mol acid.
このようなポリマー酸は、例えば、E.I. DuPontにより商品名 NAFION(登録商標)の下で販売されているもの、Solvay Specialty Polymersにより商品名 AQUIVION(登録商標)の下で販売されているもの、又はAGC株式会社により商品名 FLEMION(登録商標)の下で販売されているものである。 Such polymeric acids are, for example, those sold under the trade name NAFION® by E.I. DuPont, those sold under the trade name AQUIVION® by Solvay Specialty Polymers, or AGC It is sold under the trade name FLEMION® by the Corporation.
ある実施態様において、(F)成分である合成ポリマーは、少なくとも1個のスルホン酸(-SO3H)残基を含む1個以上の繰り返し単位を含むポリエーテルスルホンである。In one embodiment, the synthetic polymer, component (F), is a polyethersulfone comprising one or more repeating units comprising at least one sulfonic acid (--SO 3 H) residue.
ある実施態様において、ポリエーテルスルホンは、式(IV):
に従う繰り返し単位、並びに式(V)に従う繰り返し単位及び式(VI)に従う繰り返し単位:
[式中、R12~R20は、それぞれ独立に、H、ハロゲン、アルキル、又はSO3Hであるが、ただし、R12~R20の少なくとも1個は、SO3Hであり;そしてR21~R28は、それぞれ独立に、H、ハロゲン、アルキル、又はSO3Hであるが、ただし、R21~R28の少なくとも1個は、SO3Hであり、そしてR29及びR30は、それぞれH又はアルキルである]からなる群より選択される繰り返し単位を含む。In some embodiments, the polyethersulfone has the formula (IV):
and repeat units according to formula (V) and repeat units according to formula (VI):
[wherein R 12 to R 20 are each independently H, halogen, alkyl, or SO 3 H, with the proviso that at least one of R 12 to R 20 is SO 3 H; 21 to R 28 are each independently H, halogen, alkyl, or SO 3 H, provided that at least one of R 21 to R 28 is SO 3 H, and R 29 and R 30 are , each being H or alkyl].
ある実施態様において、R29及びR30は、それぞれアルキルである。ある実施態様において、R29及びR30は、それぞれメチルである。In some embodiments, R 29 and R 30 are each alkyl. In some embodiments, R 29 and R 30 are each methyl.
ある実施態様において、R12~R17、R19、及びR20は、それぞれHであり、そしてR18は、SO3Hである。In some embodiments, R 12 -R 17 , R 19 , and R 20 are each H and R 18 is SO 3 H.
ある実施態様において、R21~R25、R27、及びR28は、それぞれHであり、そしてR26は、SO3Hである。In some embodiments, R 21 -R 25 , R 27 and R 28 are each H and R 26 is SO 3 H.
ある実施態様において、ポリエーテルスルホンは、式(VII):
[式中、aは、0.7~0.9であり、そしてbは、0.1~0.3である]により表される。In some embodiments, the polyethersulfone has the formula (VII):
where a is from 0.7 to 0.9 and b is from 0.1 to 0.3.
ポリエーテルスルホンは、スルホン化されていてもいなくともよい、他の繰り返し単位を更に含んでもよい。 The polyethersulfone may further contain other repeat units, which may or may not be sulfonated.
例えば、ポリエーテルスルホンは、式(VIII):
[式中、R31及びR32は、それぞれ独立に、H又はアルキルである]で示される繰り返し単位を含んでもよい。For example, polyethersulfone has the formula (VIII):
[wherein R 31 and R 32 are each independently H or alkyl].
本明細書に記載の任意の2個以上の繰り返し単位は、一緒になって繰り返し単位を形成することができ、そしてポリエーテルスルホンは、このような繰り返し単位を含んでもよい。例えば、式(IV)に従う繰り返し単位は、式(VI)に従う繰り返し単位と合わせられて、式(IX):
に従う繰り返し単位を与えうる。Any two or more repeat units described herein can be taken together to form a repeat unit, and the polyethersulfone may include such repeat units. For example, repeating units according to formula (IV) are combined with repeating units according to formula (VI) to give formula (IX):
can provide repeat units according to
同様に、例えば、式(IV)に従う繰り返し単位は、式(VIII)に従う繰り返し単位と合わせられて、式(X):
に従う繰り返し単位を与えうる。Similarly, for example, repeating units according to formula (IV) are combined with repeating units according to formula (VIII) to give formula (X):
can provide repeat units according to
ある実施態様において、ポリエーテルスルホンは、式(XI):
[式中、aは、0.7~0.9であり、そしてbは、0.1~0.3である]により表される。In some embodiments, the polyethersulfone has the formula (XI):
wherein a is from 0.7 to 0.9 and b is from 0.1 to 0.3.
少なくとも1個のスルホン酸(-SO3H)残基を含む1個以上の繰り返し単位を含むポリエーテルスルホンは、市販されており、例えば、スルホン化ポリエーテルスルホンは、小西化学工業株式会社によりS-PESとして販売されている。Polyethersulfones containing one or more repeating units containing at least one sulfonic acid (—SO 3 H) residue are commercially available; - Marketed as PES.
ある態様において、(F)成分である合成ポリマーは、下記式(XII):
で示される繰り返し単位を含む、ビニル芳香族重合体である。式中、Ar’は、置換されていてもよい芳香環であり、2種類以上でもよい。Ar’としては置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいナフチル基等が挙げられる。In one aspect, the synthetic polymer, component (F), has the following formula (XII):
It is a vinyl aromatic polymer containing a repeating unit represented by. In the formula, Ar' is an optionally substituted aromatic ring, and may be of two or more types. Ar' includes an optionally substituted phenyl group, an optionally substituted naphthyl group, and the like.
ある態様において、(F)成分である合成ポリマーは、ビニル芳香族重合体(例えば、ポリ(スチレン)又はその誘導体(但し、ポリスチレンスルホン酸を除く));ポリ(酢酸ビニル)又はその誘導体;ポリ(エチレン-co-酢酸ビニル)又はその誘導体;ポリ(ピロリドン)又はその誘導体(例えば、ポリ(1-ビニルピロリドン-co-酢酸ビニル));ポリ(ビニルピリジン)又はその誘導体;ポリ(メタクリル酸メチル)又はその誘導体;ポリ(アクリル酸ブチル)又はその誘導体;ポリ(アリールエーテルケトン)又はその誘導体;ポリ(アリールスルホン)又はその誘導体;ポリ(エステル)又はその誘導体;あるいはこれらの組合せ等のようなポリマー又はオリゴマーを含む。これらのポリマー又はオリゴマーは、薄膜作製時のバイルアップの改善の点で好ましい。 In one aspect, the synthetic polymer that is component (F) is a vinyl aromatic polymer (e.g., poly(styrene) or a derivative thereof (excluding polystyrene sulfonic acid)); poly(vinyl acetate) or a derivative thereof; (ethylene-co-vinyl acetate) or derivatives thereof; poly(pyrrolidone) or derivatives thereof (e.g. poly(1-vinylpyrrolidone-co-vinyl acetate)); poly(vinylpyridine) or derivatives thereof; poly(methyl methacrylate) ) or derivatives thereof; poly(butyl acrylate) or derivatives thereof; poly(aryletherketone) or derivatives thereof; poly(arylsulfone) or derivatives thereof; poly(esters) or derivatives thereof; Including polymers or oligomers. These polymers or oligomers are preferable in terms of improving build-up during thin film production.
中でも、(F)成分は、ビニル芳香族重合体又はその誘導体であると、薄膜作製時のバイルアップがよりいっそう改善するため、好ましい。より好ましくは、1種以上の置換若しくは非置換のスチレンから合成されるホモポリマー若しくはコポリマー又はその誘導体であり、特に好ましくは、少なくともスチレン及び4-ヒドロキシスチレンから合成されるコポリマー又はその誘導体である。更に、(F)成分としてビニル芳香族重合体又はその誘導体を使用すると、インク組成物から得られる電荷輸送性薄膜の透明性を高く、かつ、可視スペクトルの吸光度を低くしやすくなるため、好ましい。その結果、該電荷輸送性薄膜を用いて作製された有機EL素子の電流効率、外部量子効率及び輝度半減期を向上させることができる。 Among them, the component (F) is preferably a vinyl aromatic polymer or a derivative thereof because the build-up during thin film production is further improved. More preferred are homopolymers or copolymers synthesized from one or more substituted or unsubstituted styrenes or derivatives thereof, and particularly preferred are copolymers synthesized from at least styrene and 4-hydroxystyrene or derivatives thereof. Furthermore, the use of a vinyl aromatic polymer or derivative thereof as the component (F) is preferable because the transparency of the charge-transporting thin film obtained from the ink composition can be increased and the absorbance in the visible spectrum can be easily decreased. As a result, it is possible to improve the current efficiency, the external quantum efficiency and the luminance half-life of the organic EL device produced using the charge-transporting thin film.
ビニル芳香族重合体又はその誘導体は、式(XII)で示される繰り返し単位以外の繰り返し単位を形成するモノマー成分を含んでも良い、コポリマー又はホモポリマーであり、モノマー成分全体に占める式(XII)で示される繰り返し単位を形成するモノマーの割合が50重量%以上のコポリマー又はホモポリマーを指す。モノマー成分全体に占める式(XII)で示される繰り返し単位を形成するモノマーの割合は、好ましくは70重量%以上、より好ましくは80重量%以上であり、ある態様においては100%である。 The vinyl aromatic polymer or derivative thereof is a copolymer or homopolymer which may contain a monomer component forming a repeating unit other than the repeating unit represented by formula (XII), and the ratio of formula (XII) to the total monomer components is A copolymer or homopolymer in which the ratio of monomers forming the indicated repeating unit is 50% by weight or more. The ratio of the monomer forming the repeating unit represented by formula (XII) to the entire monomer component is preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and in one embodiment, 100%.
(F)成分であるマトリックス化合物は、例えば、少なくとも1種の半導体マトリックス化合物成分からなっていてよい。この半導体マトリックス化合物成分は、本明細書に記載の(A)成分とは異なる。半導体マトリックス化合物成分は、典型的には主鎖及び/又は側鎖に正孔運搬単位を含む繰り返し単位からなる、半導体低分子又は半導体ポリマーであってよい。半導体マトリックス化合物成分は、中性型であっても、又はドープされていてもよく、典型的には有機溶媒(例えば、トルエン、クロロホルム、アセトニトリル、シクロヘキサノン、アニソール、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン、安息香酸エチル及びこれらの混合物等)に可溶性及び/又は分散性である。 The matrix compound as component (F) may be composed of, for example, at least one semiconductor matrix compound component. This semiconductor matrix compound component is different from the (A) component described herein. The semiconducting matrix compound component may be a semiconducting small molecule or semiconducting polymer, typically composed of repeating units containing hole-carrying units in the backbone and/or side chains. The semiconductor matrix compound component may be in neutral form or doped and is typically an organic solvent (e.g. toluene, chloroform, acetonitrile, cyclohexanone, anisole, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, benzoic acid ethyl and mixtures thereof).
ある態様においては、フッ素化されたポリマー酸とその他のマトリックス化合物とは成膜性の観点から混合しないほうが好ましい場合がある。 In certain embodiments, it may be preferable not to mix the fluorinated polymeric acid and other matrix compounds from the standpoint of film-forming properties.
インク組成物中の(F)成分の量は、(A)及び(B)成分並びに任意の(D)~(F)成分を合わせた重量に対して、5重量%~95重量%であることが好ましく、より好ましくは50重量%~90重量%、特に好ましくは60重量%~80量%である。(F)成分の量が上記範囲であると、バイルアップをよりいっそう改善することができる。 The amount of component (F) in the ink composition should be 5% to 95% by weight based on the combined weight of components (A) and (B) and optional components (D) to (F). is preferred, more preferably 50% to 90% by weight, particularly preferably 60% to 80% by weight. When the amount of component (F) is within the above range, the build-up can be further improved.
本願は、更に、インク組成物であって、
(A)式(I):
[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、H、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、フルオロアルコキシ、アリールオキシ、-SO3M、又は-O-[Z-O]p-Reであるか、あるいは、R1及びR2は、一緒になって-O-Z-O-を形成する
(式中、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムであり、Zは、場合によりハロゲン又はYで置換されているヒドロカルビレン基(ここで、Yは、炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルコキシアルキル基であり、該アルキル基又はアルコキシアルキル基は、任意の位置がスルホン酸基で置換されていてもよい)であり、pは、1以上の整数であり、そして、Reは、H、アルキル、フルオロアルキル、又はアリールである)]で表される繰り返し単位を含むポリチオフェン;
(B)オニウムボレート塩であって、式(a1):
で表されるアニオン、式(a2):
で表される1価又は2価のアニオン、及び(a5)
で表されるアニオン
[式中、Arは、それぞれ独立して、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいヘテロアリール基であり、Rは、炭素数1~10のアルキル基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数1~10のフルオロアルキル基、炭素数7~10のアラルキル基又は炭素数7~10のフルオロアラルキル基であり、Lは、アルキレン基、-NH-、酸素原子、硫黄原子又は-CN+-であり、Eは長周期型周期表の第13族又は第15族に属する元素を表す]からなる群より選択される少なくとも1種のアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩(ただし、電気的中性な塩である);
(C)有機溶媒を含む液体担体;及び
(F)マトリックス化合物
を含む組成物を提供する。本構成のインク組成物を使用すると、薄膜作製時のバイルアップがいっそう改善され、厚さが均一で電荷輸送性に優れた電荷輸送性薄膜とすることができる。The present application further provides an ink composition comprising:
(A) Formula (I):
[wherein R 1 and R 2 are each independently H, alkyl, fluoroalkyl, alkoxy, fluoroalkoxy, aryloxy, -SO 3 M, or -O-[ZO] p -R e Alternatively, R 1 and R 2 together form —O—ZO—, where M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium and Z is a hydrocarbylene group optionally substituted with halogen or Y (wherein Y is a linear or branched alkyl or alkoxyalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the alkyl or an alkoxyalkyl group may be substituted with a sulfonic acid group at any position), p is an integer greater than or equal to 1, and R e is H, alkyl, fluoroalkyl, or aryl is)] polythiophene containing a repeating unit represented by;
(B) an onium borate salt of formula (a1):
An anion of the formula (a2):
A monovalent or divalent anion represented by and (a5)
[Wherein Ar is each independently an optionally substituted aryl group or optionally substituted heteroaryl group, R has 1 to 10 carbon atoms an alkyl group, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms or a fluoroaralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and L is an alkylene group , -NH-, an oxygen atom, a sulfur atom or -CN + -, and E represents an element belonging to Group 13 or Group 15 of the long period periodic table]. An onium borate salt consisting of an anion and a countercation (provided that it is an electrically neutral salt);
(C) a liquid carrier comprising an organic solvent; and (F) a matrix compound. By using the ink composition of this configuration, the build-up during thin film formation is further improved, and a charge-transporting thin film having a uniform thickness and excellent charge-transporting properties can be obtained.
[インク組成物] [Ink composition]
インク組成物は、当業者には公知の任意の適切な方法により調製することができる。例えば、1つの方法において、最初の水性混合物は、本明細書に記載のポリチオフェンの分散液を、必要に応じてポリマー酸等のマトリックス化合物の水性分散液、及び必要に応じて追加の溶媒と混合することにより調製される。混合物中の水を含む溶媒を、典型的には蒸発により次に除去する。生じる乾燥生成物を、ジメチルスルホキシド、グリコール系溶媒のような1種以上の有機溶媒に溶解又は分散させ、加圧下で濾過することにより、非水性混合物が生成する。このような非水性混合物に、オニウムボレート塩又はその溶液若しくは分散液、場合によりアミン化合物、金属酸化物ナノ粒子の分散液及びマトリックス化合物又はその分散液若しくは溶液と混合することにより、最終のインク組成物を製造することができる。これらの成分の添加順は、特に限定されず、任意の添加順でインク組成物を製造することができる。 The ink composition can be prepared by any suitable method known to those skilled in the art. For example, in one method, the initial aqueous mixture is a dispersion of polythiophenes described herein, optionally mixed with an aqueous dispersion of a matrix compound such as a polymeric acid, and optionally an additional solvent. It is prepared by Solvents, including water, in the mixture are then removed, typically by evaporation. The resulting dry product is dissolved or dispersed in one or more organic solvents such as dimethylsulfoxide, glycol-based solvents and filtered under pressure to produce a non-aqueous mixture. By mixing such a non-aqueous mixture with an onium borate salt or a solution or dispersion thereof, optionally an amine compound, a dispersion of metal oxide nanoparticles and a matrix compound or a dispersion or solution thereof, the final ink composition can manufacture things. The order of addition of these components is not particularly limited, and the ink composition can be produced in any order of addition.
別の方法において、本明細書に記載のインク組成物は、ストック溶液から調製することができる。例えば、本明細書に記載のポリチオフェンのストック溶液は、水性分散液からポリチオフェンを乾燥状態で、典型的には蒸発により単離することによって調製することができる。乾燥されたポリチオフェンは、次に1種以上の有機溶媒、及び場合によりアミン化合物と合わせられる。オニウムボレート塩のストック溶液は、有機溶媒で溶解することにより、製造することができる。マトリックス化合物のストック溶液は、マトリックス化合物がポリマー酸の場合、水性分散液からポリマー酸を乾燥状態で、典型的には蒸発により単離することによって調製することができる。乾燥されたポリマー酸は、次に1種以上の有機溶媒と合わせられる。他のマトリックス化合物のストック溶液は、同様に製造することができる。金属酸化物ナノ粒子のストック溶液は、例えば、市販の分散液を1種以上の有機溶媒であって、市販の分散液に含まれる溶媒(単数又は複数)と同一であっても異なっていてもよい有機溶媒で希釈することにより、製造することができる。各ストック溶液の所望の量を次に合わせることにより、本開示のインク組成物を形成する。 In another method, the ink compositions described herein can be prepared from stock solutions. For example, the polythiophene stock solutions described herein can be prepared by isolating the polythiophene in the dry state, typically by evaporation, from an aqueous dispersion. The dried polythiophene is then combined with one or more organic solvents and optionally an amine compound. A stock solution of the onium borate salt can be prepared by dissolving in an organic solvent. A stock solution of the matrix compound, when the matrix compound is a polymeric acid, can be prepared by isolating the polymeric acid in a dry state, typically by evaporation, from an aqueous dispersion. The dried polymeric acid is then combined with one or more organic solvents. Stock solutions of other matrix compounds can be similarly prepared. A stock solution of metal oxide nanoparticles, for example, is a commercially available dispersion in one or more organic solvents, which may be the same or different from the solvent(s) contained in the commercially available dispersion. It can be prepared by diluting with a good organic solvent. Desired amounts of each stock solution are then combined to form the ink compositions of the present disclosure.
更に別の方法において、本明細書に記載のインク組成物は、本明細書に記載のとおり乾燥状態で個々の成分を単離するが、ストック溶液を調製する代わりに、乾燥状態の成分を合わせて、次に1種以上の有機溶媒に溶解することによりNQインク組成物を提供することによって、調製することができる。 In yet another method, the ink compositions described herein isolate the individual components in the dry state as described herein, but instead of preparing a stock solution, the dry components are combined. and then dissolving in one or more organic solvents to provide an NQ ink composition.
なお、アミン化合物は通常、最終的にインク組成物を調製する際に添加するが、それ以前の時点で予め添加しておいてもよい。例えば、(A)成分としてスルホン化ポリチオフェンを用いる場合、先に述べたように、スルホン化ポリチオフェンにアミン化合物を添加して、対応するアンモニウム塩、例えばトリアルキルアンモニウム塩(スルホン化ポリチオフェンアミン付加体)に変換してもよい。必要であれば、このアンモニウム塩を還元処理に付してもよいし、還元処理されたスルホン化ポリチオフェンの溶液にアミン化合物(例えばトリエチルアミン)を添加して、スルホン化ポリチオフェンをアンモニウム塩(例えばトリエチルアンモニウム塩)として、粉末の形態で沈殿させ、これを回収してもよい。
このような処理の方法に特に制限はないが、例えば、還元処理されたスルホン化ポリチオフェンに水及びトリエチルアミンを加えて溶解し、これを加熱下(例えば60℃)に撹拌した後、得られた溶液にイソプロピルアルコール及びアセトンを添加して、スルホン化共役ポリマーのトリエチルアンモニウム塩の沈殿を生じさせ、これを濾過して回収する等の方法を採用し得る。The amine compound is usually added when the ink composition is finally prepared, but it may be added in advance at an earlier time. For example, when sulfonated polythiophene is used as the component (A), as described above, an amine compound is added to the sulfonated polythiophene to obtain a corresponding ammonium salt such as a trialkylammonium salt (sulfonated polythiophene amine adduct). can be converted to If desired, the ammonium salt can be subjected to a reduction treatment, or an amine compound (e.g., triethylamine) is added to a solution of the reduced sulfonated polythiophene to convert the sulfonated polythiophene to an ammonium salt (e.g., triethylammonium). As a salt), it may be precipitated in the form of a powder and recovered.
Although there is no particular limitation on the method of such treatment, for example, water and triethylamine are added to the reduction-treated sulfonated polythiophene to dissolve it, and after stirring while heating (for example, 60° C.), the resulting solution is isopropyl alcohol and acetone to precipitate the triethylammonium salt of the sulfonated conjugated polymer, which is recovered by filtration.
インク組成物中の全固形分(%TS)は、インク組成物の総量に対して、約0.1重量%~約50重量%、典型的には約0.3重量%~約40重量%、更に典型的には約0.5重量%~約15重量%、更になお典型的には約1重量%~約5重量%である。 The total solids content (% TS) in the ink composition is from about 0.1 wt% to about 50 wt%, typically from about 0.3 wt% to about 40 wt%, based on the total weight of the ink composition. , more typically from about 0.5% to about 15% by weight, and even more typically from about 1% to about 5% by weight.
[電荷輸送性薄膜を形成する方法]
電荷輸送性薄膜は、インク組成物を基材上に塗布し、溶媒を蒸発させることにより製造することができる。電荷輸送性薄膜は、正孔運搬薄膜であることが好ましい。
本開示のインク組成物は、基板上の薄膜として注型及びアニーリングすることができる。[Method for Forming Charge-Transporting Thin Film]
A charge-transporting thin film can be produced by coating the ink composition on a substrate and evaporating the solvent. The charge-transporting thin film is preferably a hole-transporting thin film.
The ink composition of the present disclosure can be cast and annealed as a thin film on a substrate.
よって、本開示はまた、正孔運搬薄膜の形成方法であって、
1)基板を本明細書に開示のインク組成物でコーティングすること;及び
2)基板上のコーティングをアニーリングすることにより、正孔運搬薄膜を形成すること
を含む方法に関する。Accordingly, the present disclosure also provides a method of forming a hole transporting thin film comprising:
1) coating a substrate with an ink composition disclosed herein; and 2) forming a hole transporting thin film by annealing the coating on the substrate.
基板上のインク組成物のコーティングは、例えば、回転注型、スピンコーティング、ディップ注型、ディップコーティング、スロットダイコーティング、インクジェット印刷、グラビアコーティング、ドクターブレード法、及び例えば、有機電子デバイスの作製のための当該分野において公知の任意の他の方法を含む、当該分野において公知の方法によって実行することができる。 Coating of the ink composition on a substrate can be, for example, spin casting, spin coating, dip casting, dip coating, slot die coating, inkjet printing, gravure coating, doctor blading, and for the fabrication of organic electronic devices, for example. can be performed by any method known in the art, including any other method known in the art.
基板は、可撓性であっても剛性であっても、有機であっても無機であってもよい。適切な基板化合物は、例えば、ガラス(例えば、ディスプレイガラスを含む)、セラミック、金属、及びプラスチック薄膜を含む。 The substrate can be flexible or rigid, organic or inorganic. Suitable substrate compounds include, for example, glass (including, for example, display glass), ceramic, metal, and plastic films.
本明細書に使用されるとき、「アニーリング」という用語は、本開示のインク組成物でコーティングされた基板上に硬化層、典型的には薄膜を形成するための任意の一般的プロセスのことをいう。一般的アニーリングプロセスは、当業者には公知である。典型的には、インク組成物でコーティングされた基板から溶媒を除去する。溶媒の除去は、例えば、大気圧未満の圧力にコーティングされた基板を付すことにより、かつ/又は基板に積層されたコーティングをある温度(アニーリング温度)まで加熱し、この温度をある期間(アニーリング時間)維持し、そして次に生じた層、典型的には薄膜をゆっくり室温まで冷却させることにより達成できる。 As used herein, the term "annealing" refers to any general process for forming a cured layer, typically a thin film, on a substrate coated with the ink composition of the present disclosure. Say. General annealing processes are known to those skilled in the art. Typically, the solvent is removed from the substrate coated with the ink composition. Removal of the solvent can be accomplished, for example, by subjecting the coated substrate to sub-atmospheric pressure and/or heating the coating laminated to the substrate to a temperature (annealing temperature) and maintaining this temperature for a period of time (annealing time ) and then allow the resulting layer, typically a thin film, to cool slowly to room temperature.
アニーリングの工程は、インク組成物でコーティングされた基板を、当業者には公知の任意の方法を用いて加熱することにより、例えば、オーブン中又はホットプレート上で加熱することにより実行することができる。アニーリングは、不活性環境、例えば、窒素雰囲気又は希ガス(例えば、アルゴンガス等)雰囲気下で実行することができる。アニーリングは、空気雰囲気で実行してもよい。 The step of annealing can be performed by heating the substrate coated with the ink composition using any method known to those skilled in the art, such as in an oven or on a hot plate. . Annealing can be performed in an inert environment, such as a nitrogen atmosphere or a noble gas (eg, argon gas, etc.) atmosphere. Annealing may be performed in an air atmosphere.
ある実施態様において、アニーリング温度は、約25℃~約350℃、典型的には150℃~約325℃、更に典型的には約200℃~約300℃、更になお典型的には約230~約300℃である。 In some embodiments, the annealing temperature is from about 25°C to about 350°C, typically from 150°C to about 325°C, more typically from about 200°C to about 300°C, even more typically from about 230°C to about 325°C. It is about 300°C.
アニーリング時間は、アニーリング温度が維持される時間である。アニーリング時間は、約3~約40分間、典型的には約15~約30分間である。 Annealing time is the time for which the annealing temperature is maintained. Annealing time is from about 3 to about 40 minutes, typically from about 15 to about 30 minutes.
ある実施態様において、アニーリング温度は、約25℃~約350℃、典型的には150℃~約325℃、更に典型的には約200℃~約300℃、更になお典型的には約250~約300℃であり、そしてアニーリング時間は、約3~約40分間、典型的には約15~約30分間である。 In some embodiments, the annealing temperature is from about 25° C. to about 350° C., typically from 150° C. to about 325° C., more typically from about 200° C. to about 300° C., even more typically from about 250° C. to about 350° C. about 300° C., and the annealing time is about 3 to about 40 minutes, typically about 15 to about 30 minutes.
本開示は、本明細書に記載の方法により形成される正孔運搬薄膜に関する。 The present disclosure relates to hole-transporting thin films formed by the methods described herein.
可視光の透過は重要であり、そして薄膜の厚さが大きいところでの良好な透過(低い吸光)は特に重要である。例えば、本開示の方法により製造された薄膜は、約380~800nmの波長を有する光の、少なくとも約85%、典型的には少なくとも90%の透過率(典型的には、基板を伴う)を示すことができる。ある実施態様において、透過率は少なくとも約90%である。 Visible light transmission is important, and good transmission (low extinction) at high film thickness is especially important. For example, thin films produced by the methods of the present disclosure have a transmittance (typically with the substrate) of at least about 85%, typically at least 90%, for light having a wavelength of about 380-800 nm. can be shown. In some embodiments, the transmittance is at least about 90%.
1つの実施態様において、本開示の方法により製造された薄膜は、約5nm~約500nm、典型的には約5nm~約150nm、更に典型的には約50nm~120nmの厚さを有する。 In one embodiment, thin films produced by the methods of the present disclosure have a thickness of about 5 nm to about 500 nm, typically about 5 nm to about 150 nm, more typically about 50 nm to 120 nm.
ある実施態様において、本開示の方法により製造された薄膜は、少なくとも約90%の透過率を示し、そして約5nm~約500nm、典型的には約5nm~約150nm、更に典型的には約50nm~120nmの厚さを有する。ある実施態様において、本開示の方法により製造された薄膜は、少なくとも約90%の透過率(%T)を示し、そして約50nm~120nmの厚さを有する。 In some embodiments, thin films produced by the methods of the present disclosure exhibit a transmittance of at least about 90% and exhibit a transmittance of about 5 nm to about 500 nm, typically about 5 nm to about 150 nm, more typically about 50 nm. It has a thickness of ~120 nm. In some embodiments, thin films produced by the methods of the present disclosure exhibit a transmittance (%T) of at least about 90% and have a thickness of about 50 nm to 120 nm.
本開示の方法により製造された薄膜は、最終デバイスの電子的特性を向上させるのに使用される電極又は追加の層を場合により含有する基板上に製造することができる。得られる薄膜は、1種以上の有機溶媒に対して抵抗性である場合が有り、これらの溶媒は、その後デバイスの作製中にコーティング又は堆積される層のための、インク中の液体担体として使用される溶媒になり得る。薄膜は、例えば、トルエンに対して抵抗性であり、トルエンは、その後デバイスの作製中にコーティング又は堆積される層のためのインク中の溶媒になり得る。 Thin films produced by the methods of the present disclosure can be produced on substrates that optionally contain electrodes or additional layers used to enhance the electronic properties of the final device. The resulting thin films may be resistant to one or more organic solvents, which are used as liquid carriers in inks for layers that are subsequently coated or deposited during device fabrication. can be a solvent for Thin films are, for example, resistant to toluene, which can be a solvent in inks for layers that are subsequently coated or deposited during device fabrication.
[有機ELデバイス]
本開示はまた、本明細書に記載の方法により調製される薄膜を含む有機エレクトロルミネッセンス素子(デバイス)に関する。本明細書に記載のデバイスは、例えば、溶解法を含む当該分野において公知の方法により製造することができる。標準法によりインクを適用し、そして溶媒を除去することができる。本明細書に記載の方法により調製される薄膜は、デバイス中のHIL及び/又はHTL層であってよい。[Organic EL device]
The present disclosure also relates to organic electroluminescent elements (devices) comprising thin films prepared by the methods described herein. Devices described herein can be manufactured by methods known in the art, including, for example, dissolution methods. The ink can be applied and the solvent removed by standard methods. Thin films prepared by the methods described herein may be HIL and/or HTL layers in devices.
方法は、当該分野において公知であり、そして例えば、OLED及びOPVデバイスを含む、有機電子デバイスを作製するために利用することができる。当該分野において公知の方法は、輝度、効率、及び寿命を測定するために利用することができる。有機発光ダイオード(OLED)は、例えば、米国特許第4,356,429号及び4,539,507号(Kodak)に記載されている。発光する導電性ポリマーは、例えば、米国特許第5,247,190号及び5,401,827号(Cambridge Display Technologies)に記載されている。デバイスアーキテクチャ、物理的原理、溶解法、多層化、混合、並びに化合物の合成及び配合は、Kraftら、“Electroluminescent Conjugated Polymers-Seeing Polymers in a New Light,” Angew. Chem. Int. Ed., 1998, 37, 402-428に記載されており、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。 Methods are known in the art and can be utilized to make organic electronic devices, including, for example, OLED and OPV devices. Methods known in the art are available for measuring luminance, efficiency, and lifetime. Organic light emitting diodes (OLEDs) are described, for example, in US Pat. Nos. 4,356,429 and 4,539,507 (Kodak). Conductive polymers that emit light are described, for example, in US Pat. Nos. 5,247,190 and 5,401,827 (Cambridge Display Technologies). Device architecture, physical principles, dissolution methods, multilayering, mixing, and compound synthesis and formulation are described in Kraft et al., "Electroluminescent Conjugated Polymers-Seeing Polymers in a New Light," Angew. Chem. Int. Ed., 1998, 37, 402-428, which is incorporated herein by reference in its entirety.
Sumationから入手できる化合物、Merck Yellow、Merck Blue、American Dye Sources (ADS)から、Kodak(例えば、A1Q3等)から、及び実にAldrichから入手できる化合物(BEHP-PPV等)のような、種々の導電性ポリマー、更には有機分子を含む、当該分野において公知であり、かつ市販されている発光体を使用することができる。このような有機エレクトロルミネセント化合物の例は、以下を含む:
(i)ポリ(p-フェニレンビニレン)及びフェニレン残基上の種々の位置で置換されているその誘導体;
(ii)ポリ(p-フェニレンビニレン)及びビニレン残基上の種々の位置で置換されているその誘導体;
(iii)ポリ(p-フェニレンビニレン)及びフェニレン残基上の種々の位置で置換されており、そしてまたビニレン残基上の種々の位置で置換されているその誘導体;
(iv)ポリ(アリーレンビニレン)であって、アリーレンが、ナフタレン、アントラセン、フリレン、チエニレン、オキサジアゾール等のような残基であってよい、ポリ(アリーレンビニレン);
(v)ポリ(アリーレンビニレン)の誘導体であって、アリーレンが、上記(iv)中と同様であってよく、そして更にアリーレン上の種々の位置に置換基を有する、誘導体;
(vi)ポリ(アリーレンビニレン)の誘導体であって、アリーレンが、上記(iv)中と同様であってよく、そして更にビニレン上の種々の位置に置換基を有する、誘導体;
(vii)ポリ(アリーレンビニレン)の誘導体であって、アリーレンが、上記(iv)中と同様であってよく、そして更にアリーレン上の種々の位置に置換基を、及びビニレン上の種々の位置に置換基を有する、誘導体;
(viii)(iv)、(v)、(vi)、及び(vii)中の化合物のような、アリーレンビニレンオリゴマーと非共役オリゴマーとのコポリマー;並びに
(ix)ポリ(p-フェニレン)及びフェニレン残基上の種々の位置で置換されているその誘導体(ポリ(9,9-ジアルキルフルオレン)等のようなラダーポリマー誘導体を含む);
(x)ポリ(アリーレン)であって、アリーレンが、ナフタレン、アントラセン、フリレン、チエニレン、オキサジアゾール等のような残基であってよい、ポリ(アリーレン);及びアリーレン残基上の種々の位置で置換されているその誘導体;
(xi)(x)中の化合物のようなオリゴアリーレンと非共役オリゴマーとのコポリマー;
(xii)ポリキノリン及びその誘導体;
(xiii)ポリキノリンと、可溶性を提供するために、フェニレン上で例えば、アルキル又はアルコキシ基により置換されているp-フェニレンとのコポリマー;
(xiv)ポリ(p-フェニレン-2,6-ベンゾビスチアゾール)、ポリ(p-フェニレン-2,6-ベンゾビスオキサゾール)、ポリ(p-フェニレン-2,6-ベンゾイミダゾール)、及びその誘導体のような、リジッドロッドポリマー、並びにその誘導体;
(xv)ポリフルオレン単位を持つポリフルオレンポリマー及びコポリマー。Various conductive compounds such as compounds available from Sumation, Merck Yellow, Merck Blue, from American Dye Sources (ADS), from Kodak (eg A1Q3, etc.), and indeed compounds available from Aldrich (BEHP-PPV, etc.) Emitters known in the art and commercially available can be used, including polymers as well as organic molecules. Examples of such organic electroluminescent compounds include:
(i) poly(p-phenylene vinylene) and its derivatives substituted at various positions on the phenylene residue;
(ii) poly(p-phenylenevinylene) and its derivatives substituted at various positions on the vinylene residue;
(iii) poly(p-phenylene vinylene) and derivatives thereof substituted at various positions on the phenylene residue and also substituted at various positions on the vinylene residue;
(iv) poly(arylene vinylene)s, wherein the arylene may be a residue such as naphthalene, anthracene, furylene, thienylene, oxadiazole, etc.;
(v) derivatives of poly(arylenevinylene), wherein the arylene may be as in (iv) above, and further have substituents at various positions on the arylene;
(vi) derivatives of poly(arylenevinylene), wherein the arylene may be as in (iv) above, and further have substituents at various positions on the vinylene;
(vii) Derivatives of poly(arylenevinylene), wherein the arylene may be the same as in (iv) above, and further have substituents at various positions on the arylene, and at various positions on the vinylene. a derivative having a substituent;
(viii) copolymers of arylene vinylene oligomers and non-conjugated oligomers, such as compounds in (iv), (v), (vi), and (vii); and (ix) poly(p-phenylene) and phenylene residues. derivatives thereof substituted at various positions on the group, including ladder polymer derivatives such as poly(9,9-dialkylfluorene);
(x) poly(arylene), where the arylene may be a residue such as naphthalene, anthracene, furylene, thienylene, oxadiazole, etc.; and various positions on the arylene residue. derivatives thereof substituted with;
(xi) copolymers of oligoarylenes and non-conjugated oligomers such as compounds in (x);
(xii) polyquinolines and derivatives thereof;
(xiii) copolymers of polyquinolines and p-phenylenes substituted on the phenylenes by, for example, alkyl or alkoxy groups to provide solubility;
(xiv) poly(p-phenylene-2,6-benzobisthiazole), poly(p-phenylene-2,6-benzobisoxazole), poly(p-phenylene-2,6-benzimidazole), and derivatives thereof Rigid rod polymers, as well as derivatives thereof, such as;
(xv) Polyfluorene polymers and copolymers having polyfluorene units.
好ましい有機発光ポリマーは、緑色、赤色、青色、若しくは白色光を放射するSUMATIONの発光ポリマー(Light Emitting Polymers)(「LEP」)又はそのファミリー、コポリマー、誘導体、又はこれらの混合物を含み;SUMATIONのLEPは、Sumation KKから入手できる。他のポリマーは、Covion Organic Semiconductors GmbH, Frankfurt, Germany(今やMerck(登録商標)に所有されている)から入手できるポリスピロフルオレン様ポリマーを含む。 Preferred organic light-emitting polymers include SUMATION's Light Emitting Polymers (“LEPs”) or families, copolymers, derivatives, or mixtures thereof that emit green, red, blue, or white light; SUMATION's LEPs are available from Sumation KK. Other polymers include polyspirofluorene-like polymers available from Covion Organic Semiconductors GmbH, Frankfurt, Germany (now owned by Merck®).
あるいは、ポリマーよりむしろ、蛍光又は燐光を放射する有機低分子が有機エレクトロルミネセント層として使える。低分子有機エレクトロルミネセント化合物の例は、(i)トリス(8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq);(ii)1,3-ビス(N,N-ジメチルアミノフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール(OXD-8);(iii)オキソ-ビス(2-メチル-8-キノリナト)アルミニウム;(iv)ビス(2-メチル-8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム;(v)ビス(ヒドロキシベンゾキノリナト)ベリリウム(BeQ2);(vi)ビス(ジフェニルビニル)ビフェニレン(DPVBI);及びアリールアミン置換ジスチリルアリーレン(DSAアミン)を含む。Alternatively, organic small molecules that emit fluorescence or phosphorescence, rather than polymers, can be used as the organic electroluminescent layer. Examples of small molecule organic electroluminescent compounds are (i) tris(8-hydroxyquinolinato)aluminum (Alq); (ii) 1,3-bis(N,N-dimethylaminophenyl)-1,3,4 (iii) oxo-bis(2-methyl-8-quinolinato)aluminum; (iv) bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)aluminum; (v) bis(hydroxy benzoquinolinato)beryllium (BeQ 2 ); (vi) bis(diphenylvinyl)biphenylene (DPVBI); and arylamine-substituted distyrylarylenes (DSA amines).
このようなポリマー及び低分子化合物は、当該分野において周知であり、そして例えば、米国特許第5,047,687号に記載されている。 Such polymers and small molecules are well known in the art and are described, for example, in US Pat. No. 5,047,687.
デバイスは、多くの場合、例えば、溶解法又は真空法、更には印刷法及びパターン形成法により調製できる多層構造を用いて作製することができる。詳しくは、正孔注入層(HIL)のための本明細書に記載の実施態様であって、正孔注入層としての使用のために本組成物が配合される実施態様の利用を、効果的に実行することができる。 Devices can often be fabricated using multilayer structures that can be prepared by, for example, solution or vacuum methods, as well as printing and patterning methods. In particular, utilization of the embodiments described herein for a hole injection layer (HIL), wherein the composition is formulated for use as a hole injection layer, is effectively can run to
デバイス中のHILの例は以下を含む:
1)PLED及びSMOLEDを含むOLED中の正孔注入;例えば、PLED中のHILには、共役が炭素又はケイ素原子を巻き込む、全ての分類の共役ポリマー発光体を使用することができる。SMOLED中のHILでは、以下が例である:蛍光発光体を含有するSMOLED;燐光発光体を含有するSMOLED;HIL層に加えて1種以上の有機層を含むSMOLED;及び低分子層が、溶液若しくはエアゾール噴霧から、又は任意の他の処理方法により処理されているSMOLED。更に、他の例は、以下を含む:デンドリマー又はオリゴマー有機半導体系のOLED中のHIL;両極性発光FETであって、HILが、電荷注入を調節するため又は電極として使用されるFET中のHIL;
2)OPV中の正孔抽出層;
3)トランジスタ中のチャネル材料;
4)論理ゲートのような、トランジスタの組合せを含む回路中のチャネル材料;
5)トランジスタ中の電極材料;
6)コンデンサ中のゲート層;
7)化学センサーであって、ドーピングレベルの調節が、感知すべき種と導電性ポリマーとの関係により達成されるセンサー;
8)バッテリー中の電極又は電解質材料。Examples of HIL in devices include:
1) Hole injection in OLEDs, including PLEDs and SMOLEDs; for example, HILs in PLEDs can use all classes of conjugated polymer emitters where the conjugation involves carbon or silicon atoms. For HIL in SMOLEDs, the following are examples: SMOLEDs containing fluorescent emitters; SMOLEDs containing phosphorescent emitters; SMOLEDs containing one or more organic layers in addition to the HIL layer; or SMOLEDs that have been treated from aerosol sprays or by any other treatment method. Still other examples include: HIL in OLEDs based on dendrimer or oligomeric organic semiconductors; HIL in ambipolar light-emitting FETs, where the HIL is used to regulate charge injection or as an electrode. ;
2) a hole extraction layer in the OPV;
3) channel materials in transistors;
4) channel materials in circuits containing combinations of transistors, such as logic gates;
5) electrode materials in transistors;
6) gate layers in capacitors;
7) chemical sensors in which doping level control is achieved by the relationship between the species to be sensed and the conducting polymer;
8) Electrode or electrolyte materials in batteries.
種々の光活性層をOPVデバイスに使用することができる。光起電デバイスは、例えば、米国特許第5,454,880号;6,812,399号;及び6,933,436号に記載されるような、例えば、導電性ポリマーと混合されたフラーレン誘導体を含む光活性層により調製することができる。光活性層は、導電性ポリマーの混合物、導電性ポリマーと半導体ナノ粒子との混合物、及びフタロシアニン、フラーレン、及びポルフィリンのような低分子の二重層を含むことができる。 Various photoactive layers can be used in OPV devices. Photovoltaic devices include, for example, fullerene derivatives mixed with conducting polymers, such as those described in U.S. Pat. Nos. 5,454,880; 6,812,399; can be prepared with a photoactive layer comprising Photoactive layers can include mixtures of conducting polymers, mixtures of conducting polymers and semiconducting nanoparticles, and bilayers of small molecules such as phthalocyanines, fullerenes, and porphyrins.
一般的電極化合物及び基板、更には封入化合物を使用することができる。 Common electrode compounds and substrates as well as encapsulating compounds can be used.
1つの実施態様において、カソードは、Au、Ca、Al、Ag、又はこれらの組合せを含む。1つの実施態様において、アノードは、酸化インジウムスズを含む。1つの実施態様において、発光層は、少なくとも1種の有機化合物を含む。 In one embodiment, the cathode comprises Au, Ca, Al, Ag, or combinations thereof. In one embodiment, the anode comprises indium tin oxide. In one embodiment, the emissive layer comprises at least one organic compound.
例えば、中間層のような界面修飾層、及び光学スペーサー層を使用することができる。 For example, interfacial modification layers, such as intermediate layers, and optical spacer layers can be used.
電子輸送層を使用することができる。 An electron transport layer can be used.
本開示はまた、本明細書に記載のデバイスの製造方法に関する。 The present disclosure also relates to methods of manufacturing the devices described herein.
ある実施態様において、デバイスの製造方法は、以下を含む:基板を提供すること;例えば、酸化インジウムスズのような透明導電体を基板上に積層すること;本明細書に記載のインク組成物を提供すること;透明導電体上にインク組成物を積層することにより、正孔注入層又は正孔輸送層を形成すること;正孔注入層又は正孔輸送層(HTL)上に活性層を積層すること;及び活性層上にカソードを積層すること。 In some embodiments, the method of making the device includes: providing a substrate; laminating a transparent conductor, such as indium tin oxide, on the substrate; providing; forming a hole injection layer or hole transport layer by laminating an ink composition on a transparent conductor; laminating an active layer on the hole injection layer or hole transport layer (HTL) and laminating the cathode onto the active layer.
本明細書に記載されるとおり、基板は、可撓性であっても剛性であっても、有機であっても無機であってもよい。適切な基板化合物は、例えば、ガラス、セラミック、金属、及びプラスチック薄膜を含む。 As described herein, the substrate can be flexible or rigid, organic or inorganic. Suitable substrate compounds include, for example, glass, ceramic, metal, and plastic thin films.
別の実施態様において、デバイスの製造方法は、本明細書に記載のインク組成物を、OLED、光起電デバイス、ESD、SMOLED、PLED、センサー、超コンデンサ、カチオン変換器、薬物放出デバイス、エレクトロクロミック素子、トランジスタ、電界効果トランジスタ、電極モディファイア、有機電界トランジスタ用の電極モディファイア、アクチュエータ、又は透明電極中の、HIL又はHTL層の一部として適用することを含む。 In another embodiment, the method of making a device comprises applying the ink composition described herein to an OLED, a photovoltaic device, an ESD, a SMOLED, a PLED, a sensor, a supercapacitor, a cation converter, a drug release device, an electro Including application as part of a HIL or HTL layer in chromic devices, transistors, field effect transistors, electrode modifiers, electrode modifiers for organic field effect transistors, actuators or transparent electrodes.
HIL又はHTL層を形成するためのインク組成物の積層は、当該分野において公知の方法(例えば、回転注型、スピンコーティング、ディップ注型、ディップコーティング、スロットダイコーティング、インクジェット印刷、グラビアコーティング、ドクターブレード法、及び例えば、有機電子デバイスの作製のための当該分野において公知の任意の他の方法を含む)により実行することができる。 Lamination of the ink composition to form the HIL or HTL layer can be done by methods known in the art (e.g. spin casting, spin coating, dip casting, dip coating, slot die coating, inkjet printing, gravure coating, doctor blading, and any other method known in the art for making organic electronic devices, for example).
1つの実施態様において、HIL層は、熱的にアニーリングされる。1つの実施態様において、HIL層は、約25℃~約350℃、典型的には150℃~約325℃の温度で熱的にアニーリングされる。1つの実施態様において、HIL層は、約25℃~約350℃、典型的には150℃~約325℃の温度で、約3~約40分間、典型的には約15~約30分間熱的にアニーリングされる。 In one embodiment, the HIL layer is thermally annealed. In one embodiment, the HIL layer is thermally annealed at a temperature of about 25°C to about 350°C, typically 150°C to about 325°C. In one embodiment, the HIL layer is heat treated at a temperature of about 25° C. to about 350° C., typically 150° C. to about 325° C., for about 3 to about 40 minutes, typically about 15 to about 30 minutes. effectively annealed.
本開示により、約380~800nmの波長を有する光の、少なくとも約85%、典型的には少なくとも約90%の透過率(典型的には、基板を伴う)を示すことができる、HIL又はHTLを調製することができる。ある実施態様において、透過率は少なくとも約90%である。 According to the present disclosure, a HIL or HTL that can exhibit a transmittance (typically with a substrate) of at least about 85%, typically at least about 90%, for light having a wavelength of about 380-800 nm. can be prepared. In some embodiments, the transmittance is at least about 90%.
1つの実施態様において、HIL層は、約5nm~約500nm、典型的には約5nm~約150nm、更に典型的には約50nm~120nmの厚さを有する。 In one embodiment, the HIL layer has a thickness of about 5 nm to about 500 nm, typically about 5 nm to about 150 nm, more typically about 50 nm to 120 nm.
ある実施態様において、HIL層は、少なくとも約90%の透過率を示し、そして約5nm~約500nm、典型的には約5nm~約150nm、更に典型的には約50nm~120nmの厚さを有する。ある実施態様において、HIL層は、少なくとも約90%の透過率(%T)を示し、そして約50nm~120nmの厚さを有する。 In some embodiments, the HIL layer exhibits a transmittance of at least about 90% and has a thickness of about 5 nm to about 500 nm, typically about 5 nm to about 150 nm, more typically about 50 nm to 120 nm. . In some embodiments, the HIL layer exhibits a transmittance (%T) of at least about 90% and has a thickness of about 50 nm to 120 nm.
本開示のインク、方法及びプロセス、薄膜、並びにデバイスは、以下の非限定例により更に説明される。 The disclosed inks, methods and processes, thin films, and devices are further illustrated by the following non-limiting examples.
[1]オニウムボレート塩の合成
[合成例1]オニウムボレート塩(P-1)の合成
下式で示されるP-1は、以下の方法で合成した。
10L四ツ口フラスコに、ジエチルエーテル6,068mL、下記式(Q-1)で表される化合物151.7g、KCN9.4gを仕込み、34~36℃で3時間反応させた。反応後、常圧濃縮を行い、267.2gの褐色液体を得た。得られた褐色液体を、55℃でエバポレーターにて濃縮後、35℃で16時間減圧乾燥し、157.7gの薄い茶色の固体である式(Q-2)で表される中間体を得た。得られた中間体(Q-2)は、LDI-MSにて同定した。
LDI-MS m/Z found:1050.12([M]-calcd:
1049.97).
LDI-MS m/Z found: 1050.12 ([M ] -calcd:
1049.97).
300mL三角フラスコに、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート11.043g、中間体(Q-2)22.000g、イオン交換水110mL、ジエチルエーテル110mLを仕込み、25℃で16時間反応させた。反応後のフラスコ内容物を300mL分液ロートに移し、水層を分離した。イオン交換水100mLでエーテル層を5回洗浄した。エーテル層を40~45℃でエバポレーターにて濃縮後、20時間減圧乾燥し、24.000gの淡黄色の固体である目的物を得た。得られた目的物は、1H-NMR及びLDI-MSにて同定した。
1H-NMR(300MHz、DMSO-d6):δ7.40~7.80(19H,m)
LDI-MS m/Z found:371.04([M]+calcd:
371.09).
LDI-MS m/Z found:1050.11([M]-calcd:
1049.97).A 300 mL conical flask was charged with 11.043 g of diphenyl[4-(phenylthio)phenyl]sulfonium trifluoromethanesulfonate, 22.000 g of intermediate (Q-2), 110 mL of ion-exchanged water, and 110 mL of diethyl ether, and the mixture was heated at 25° C. for 16 hours. reacted. After the reaction, the contents of the flask were transferred to a 300 mL separating funnel to separate the aqueous layer. The ether layer was washed 5 times with 100 mL of ion-exchanged water. The ether layer was concentrated by an evaporator at 40 to 45° C. and dried under reduced pressure for 20 hours to obtain 24.000 g of the desired product as a pale yellow solid. The target product obtained was identified by 1 H-NMR and LDI-MS.
1 H-NMR (300MHz, DMSO-d6): δ7.40-7.80 (19H, m)
LDI-MS m/Z found: 371.04 ([M] + calcd:
371.09).
LDI-MS m/Z found: 1050.11 ([M ] -calcd:
1049.97).
[合成例2]オニウムボレート塩(P-2)の合成
下式で示されるP-2は、以下の方法で合成した。
トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(東京化成工業(株)製)38.1g、ペンタン1200gを反応容器に仕込み、撹拌下、室温にてn-ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6M)38.8gを滴下し、室温で3時間反応してスラリー状の反応液を得た。
反応液をろ過して得られた結晶物をペンタンにてかけ洗いし、60℃で減圧乾燥して中間体であるリチウム n-ブチルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート38.1gを得た(収率89%)。38.1 g of tris(pentafluorophenyl)borane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 1200 g of pentane were charged into a reaction vessel, and 38.8 g of a hexane solution of n-butyllithium (1.6 M) was added at room temperature while stirring. It was added dropwise and reacted at room temperature for 3 hours to obtain a slurry-like reaction liquid.
The crystals obtained by filtering the reaction solution were spray-washed with pentane and dried under reduced pressure at 60° C. to obtain 38.1 g of the intermediate lithium n-butyltris(pentafluorophenyl)borate (yield 89). %).
続いて、(4-フェニルチオフェニル)ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスファート(サンアプロ(株)製)22.5gをジクロロメタン530gに溶解させた溶液に、上記で得られたボレート30gをイオン交換水400gに溶解させた水溶液を加え、撹拌下で1時間混合した。混合後、静置して水層を除き、ジクロロメタン溶液をイオン交換水400gで5回洗浄した。水洗後のジクロロメタン溶液を減圧下、脱溶媒し、目的物である(4-フェニルチオフェニル)ジフェニルスルホニウム n-ブチルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート塩の淡黄色固体40gを得た(収率97%)。得られた目的物は、1H-NMR及び19F-NMRにて同定した。
1H-NMR(DMSO-d6):δ 7.6~7.8(12H,m),7.4~7.5(5H,m),7.3(2H,d),1.0~1.2(4H,m),0.6~0.8(5H,m)ppm.
19F-NMR(DMSO-d6):δ -132(6F,d),-159.5(3F,t),-163(6F,t)ppm.Subsequently, 22.5 g of (4-phenylthiophenyl) diphenylsulfonium hexafluorophosphate (manufactured by San-Apro Co., Ltd.) was dissolved in 530 g of dichloromethane, and 30 g of the borate obtained above was dissolved in 400 g of deionized water. The resulting aqueous solution was added and mixed under stirring for 1 hour. After mixing, the mixture was allowed to stand, the aqueous layer was removed, and the dichloromethane solution was washed with 400 g of ion-exchanged water five times. The dichloromethane solution after washing with water was desolvated under reduced pressure to obtain 40 g of the desired product as a pale yellow solid of (4-phenylthiophenyl)diphenylsulfonium n-butyltris(pentafluorophenyl)borate salt (yield 97%). . The target product obtained was identified by 1 H-NMR and 19 F-NMR.
1 H-NMR (DMSO-d6): δ 7.6-7.8 (12H, m), 7.4-7.5 (5H, m), 7.3 (2H, d), 1.0- 1.2 (4H, m), 0.6-0.8 (5H, m) ppm.
19 F-NMR (DMSO-d6): δ −132 (6F, d), −159.5 (3F, t), −163 (6F, t) ppm.
[2]電荷輸送性物質の調整
[合成例3]スルホン化ポリ(3-MEET)(以下、S-ポリ(3-MEET)ともいう)アミン付加物の調製
S-ポリ(3-MEET)の水性分散液(水中0.598%固形物)500gをトリエチルアミン(東京化成工業(株)製) 0.858gと混合することにより調製した。生じた混合物を回転蒸発により乾固し、そして次に、真空オーブンにて50℃で一晩更に乾燥した。黒色の粉末3.8gとして生成物を単離した。
電荷輸送性物質であるS-ポリ(3-MEET)2.00gを28%アンモニア水(純正化学(株)製)100mLに溶解させ、室温にて終夜撹拌させた。反応液は、アセトン1500mLにて再沈殿し、析出物をろ過にて回収した。得られた析出物は、再度、水20mL及びトリエチルアミン(東京化成工業(株)製)7.59gにて溶解させ、60℃、1時間撹拌した。反応液を冷却後、イソプロピルアルコール1000mL,及びアセトン500mLの混合溶媒にて再沈殿し、析出物をろ過にて回収した。得られた析出物は、0mmHg、50℃にて1時間真空乾燥し、アンモニア水で処理したS-ポリ(3-MEET)-A 1.30gを得た。[2] Preparation of charge-transporting substance [Synthesis Example 3] Preparation of sulfonated poly(3-MEET) (hereinafter also referred to as S-poly(3-MEET)) amine adduct S-poly(3-MEET) An aqueous dispersion (0.598% solids in water) was prepared by mixing 500 g with 0.858 g of triethylamine (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.). The resulting mixture was rotary evaporated to dryness and then further dried in a vacuum oven at 50° C. overnight. The product was isolated as 3.8 g of black powder.
2.00 g of S-poly(3-MEET), which is a charge-transporting substance, was dissolved in 100 mL of 28% aqueous ammonia (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) and stirred overnight at room temperature. The reaction solution was reprecipitated with 1500 mL of acetone, and the precipitate was collected by filtration. The resulting precipitate was again dissolved in 20 mL of water and 7.59 g of triethylamine (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) and stirred at 60° C. for 1 hour. After cooling the reaction solution, it was reprecipitated with a mixed solvent of 1000 mL of isopropyl alcohol and 500 mL of acetone, and the precipitate was collected by filtration. The resulting precipitate was vacuum-dried at 0 mmHg and 50° C. for 1 hour to obtain 1.30 g of S-poly(3-MEET)-A treated with aqueous ammonia.
[3]インク組成物の調製
[実施例1-1]
合成例3にて得た電荷輸送性物質であるS-ポリ(3-MEET)-A 0.125gを、エチレングリコール(関東化学(株)製)2.28g、ジエチレングリコール(関東化学(株)製)2.28g、及びn-ブチルアミン(東京化成工業(株)製)0.20gに溶解させた。溶液の調整はホットスターラーを用い、80℃で1時間撹拌させた。次いで、トリエチレングリコールジメチルエーテル(東京化成工業(株)製)1.25gを加え、ホットスターラーを用い、400rpm、80℃で1時間撹拌させた。最後に、P-1を0.125g加え、ホットスターラーを用い、400rpm、40℃で10分間撹拌させ、得られた溶液を、孔径0.2μmのPPシリンジフィルターでろ過して4wt%のインク組成物を得た。[3] Preparation of ink composition [Example 1-1]
2.28 g of ethylene glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), diethylene glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), ) and 0.20 g of n-butylamine (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.). A hot stirrer was used to prepare the solution, and the mixture was stirred at 80° C. for 1 hour. Then, 1.25 g of triethylene glycol dimethyl ether (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added and stirred at 400 rpm and 80° C. for 1 hour using a hot stirrer. Finally, 0.125 g of P-1 was added and stirred with a hot stirrer at 400 rpm and 40° C. for 10 minutes. got stuff
[実施例1-2]
合成例3にて得た電荷輸送性物質であるS-ポリ(3-MEET)-A 0.025gを、エチレングリコール(関東化学(株)製)2.35g、ジエチレングリコール(関東化学(株)製)2.35g、及びn-ブチルアミン(東京化成工業(株)製)0.04gに溶解させた。溶液の調整はホットスターラーを用い、80℃で1時間撹拌させた。次いで、トリエチレングリコールジメチルエーテル(東京化成工業(株)製)1.25gを加え、ホットスターラーを用い、400rpm、80℃で1時間撹拌させた。放冷後、P-1を0.013g、(F)成分として粉末状の4-ヒドロキシスチレン/スチレン=70/30の共重合体(マルカリンカーCST7030(丸善石油化学(株)製))を0.213g加え、ホットスターラーを用い、400rpm、40℃で30分間撹拌させた。得られた溶液を、孔径0.2μmのPPシリンジフィルターでろ過して4wt%のインク組成物を得た。[Example 1-2]
0.025 g of S-poly(3-MEET)-A, which is the charge-transporting substance obtained in Synthesis Example 3, was mixed with 2.35 g of ethylene glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) ) and 0.04 g of n-butylamine (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.). A hot stirrer was used to prepare the solution, and the mixture was stirred at 80° C. for 1 hour. Then, 1.25 g of triethylene glycol dimethyl ether (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added and stirred at 400 rpm and 80° C. for 1 hour using a hot stirrer. After standing to cool, 0.013 g of P-1, powdery 4-hydroxystyrene / styrene = 70/30 copolymer (Marukalinker CST7030 (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.)) as component (F) was added to 0. .213 g was added and stirred for 30 minutes at 400 rpm and 40° C. using a hot stirrer. The obtained solution was filtered through a PP syringe filter with a pore size of 0.2 μm to obtain a 4 wt % ink composition.
[実施例1-3]
合成例3にて得た電荷輸送性物質であるS-ポリ(3-MEET)-A 0.025gを、エチレングリコール(関東化学(株)製)1.53g、ジエチレングリコール(関東化学(株)製)2.35g、及びn-ブチルアミン(東京化成工業(株)製)0.04gに溶解させた。溶液の調整はホットスターラーを用い、80℃で1時間撹拌させた。次いで、トリエチレングリコールジメチルエーテル(東京化成工業(株)製)1.25gを加え、ホットスターラーを用い、400rpm、80℃で1時間撹拌させた。放冷後、P-1を0.013g、オルガノシリカゾル(EG-ST(日産化学工業(株)製)、平均粒子径:12nm、固形分濃度:20~21wt%、分散媒:エチレングリコール)を1.04g加え、ホットスターラーを用い、400rpm、40℃で30分間撹拌させた。得られた溶液を、孔径0.2μmのPPシリンジフィルターでろ過して4wt%のインク組成物を得た。[Example 1-3]
0.025 g of S-poly(3-MEET)-A, which is the charge-transporting substance obtained in Synthesis Example 3, was mixed with 1.53 g of ethylene glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), diethylene glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd. ) and 0.04 g of n-butylamine (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.). A hot stirrer was used to prepare the solution, and the mixture was stirred at 80° C. for 1 hour. Then, 1.25 g of triethylene glycol dimethyl ether (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added and stirred at 400 rpm and 80° C. for 1 hour using a hot stirrer. After cooling, 0.013 g of P-1, organosilica sol (EG-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), average particle size: 12 nm, solid content concentration: 20 to 21 wt%, dispersion medium: ethylene glycol). 1.04 g was added and stirred for 30 minutes at 400 rpm and 40° C. using a hot stirrer. The obtained solution was filtered through a PP syringe filter with a pore size of 0.2 μm to obtain a 4 wt % ink composition.
[実施例1-4]
合成例3にて得た電荷輸送性物質であるS-ポリ(3-MEET)-A 0.025gを、エチレングリコール(関東化学(株)製)2.35g、ジエチレングリコール(関東化学(株)製)2.35g、及びn-ブチルアミン(東京化成工業(株)製)0.04gに溶解させた。溶液の調整はホットスターラーを用い、80℃で1時間撹拌させた。次いで、トリエチレングリコールジメチルエーテル(東京化成工業(株)製)1.25gを加え、ホットスターラーを用い、400rpm、80℃で1時間撹拌させた。放冷後、P-2を0.013g、(F)成分として粉末状の4-ヒドロキシスチレン/スチレン=70/30の共重合体(マルカリンカーCST7030(丸善石油化学(株)製))を0.213g加え、ホットスターラーを用い、400rpm、40℃で30分間撹拌させた。得られた溶液を、孔径0.2μmのPPシリンジフィルターでろ過して4wt%のインク組成物を得た。[Example 1-4]
0.025 g of S-poly(3-MEET)-A, which is the charge-transporting substance obtained in Synthesis Example 3, was mixed with 2.35 g of ethylene glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) ) and 0.04 g of n-butylamine (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.). A hot stirrer was used to prepare the solution, and the mixture was stirred at 80° C. for 1 hour. Then, 1.25 g of triethylene glycol dimethyl ether (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added and stirred at 400 rpm and 80° C. for 1 hour using a hot stirrer. After cooling, 0.013 g of P-2, powdery 4-hydroxystyrene / styrene = 70/30 copolymer (Marukalinker CST7030 (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.)) as component (F) was added to 0. .213 g was added and stirred for 30 minutes at 400 rpm and 40° C. using a hot stirrer. The obtained solution was filtered through a PP syringe filter with a pore size of 0.2 μm to obtain a 4 wt % ink composition.
[実施例1-5]
合成例3にて得た電荷輸送性物質であるS-ポリ(3-MEET)-A 0.025gを、エチレングリコール(関東化学(株)製)4.70g、ジエチレングリコール(関東化学(株)製)4.70g、及びn-ブチルアミン(東京化成工業(株)製)0.04gに溶解させた。溶液の調整はホットスターラーを用い、80℃で1時間撹拌させた。次いで、トリエチレングリコールジメチルエーテル(東京化成工業(株)製)2.50gを加え、ホットスターラーを用い、400rpm、80℃で1時間撹拌させた。放冷後、P-1を0.013g、(F)成分として粉末状の4-ヒドロキシスチレン/スチレン=70/30の共重合体(マルカリンカーCST7030(丸善石油化学(株)製))を0.213g加え、ホットスターラーを用い、400rpm、40℃で30分間撹拌させた。得られた溶液を、孔径0.2μmのPPシリンジフィルターでろ過して2wt%のインク組成物を得た。[Example 1-5]
0.025 g of S-poly(3-MEET)-A, which is the charge-transporting substance obtained in Synthesis Example 3, was mixed with 4.70 g of ethylene glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) ) and 0.04 g of n-butylamine (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.). A hot stirrer was used to prepare the solution, and the mixture was stirred at 80° C. for 1 hour. Then, 2.50 g of triethylene glycol dimethyl ether (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added and stirred at 400 rpm and 80° C. for 1 hour using a hot stirrer. After standing to cool, 0.013 g of P-1, powdery 4-hydroxystyrene / styrene = 70/30 copolymer (Marukalinker CST7030 (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.)) as component (F) was added to 0. .213 g was added and stirred for 30 minutes at 400 rpm and 40° C. using a hot stirrer. The resulting solution was filtered through a PP syringe filter with a pore size of 0.2 μm to obtain a 2 wt % ink composition.
[比較例1]
初めに、AQUIVION D66-20BS水溶液(Solvay社製、テトラフルオロエチレン/ペルフルオロ-2-(ビニルオキシ)エタン-1-スルホン酸コポリマー、676gポリマー/酸1モルの当量)の溶媒をエバボレーターにて留去し、得られた残留物を減圧乾燥機にて80℃で1時間減圧乾燥させ、D66-20BSの粉末を得た。得られた粉末を用いて、D66-20BSの10wt%エチレングリコール溶液を作製した。溶液の調製は、ホットスターラーを用い、400rpm、90℃で1時間撹拌することにより行った。
次に、別の容器を用意し、合成例3にて得たS-ポリ(3-MEET)-A 0.020gを、エチレングリコール(関東化学(株)製)1.20g、ジエチレングリコール(関東化学(株)製)1.95g、トリエチレングリコールジメチルエーテル(東京化成工業(株)製)4.88g、2-(ベンジルオキシ)エタノール(関東化学(株)製)0.98g及びn-ブチルアミン(東京化成工業(株)製)0.032gに溶解させた。溶液の調製は、ホットスターラーを用い、80℃で1時間撹拌することにより行った。次いで、得られた溶液に、D66-20BSの10wt%エチレングリコール溶液を0.10g加え、得られた混合物を、ホットスターラーを用いて400rpm、80℃で1時間撹拌した。最後に、オルガノシリカゾル(EG-ST(日産化学工業(株)製)、平均粒子径:12nm、固形分濃度:20~21wt%、分散媒:エチレングリコール)を0.83g加え、得られた混合物を、ホットスターラーを用いて400rpm、80℃で10分間撹拌し、得られた分散液を孔径0.2μmのPPシリンジフィルターでろ過して2wt%のインク組成物を得た。[Comparative Example 1]
First, the solvent of AQUIVION D66-20BS aqueous solution (manufactured by Solvay, tetrafluoroethylene/perfluoro-2-(vinyloxy)ethane-1-sulfonic acid copolymer, 676 g polymer/equivalent to 1 mol of acid) was distilled off by an evaporator. The obtained residue was dried under reduced pressure at 80° C. for 1 hour in a vacuum dryer to obtain a powder of D66-20BS. Using the obtained powder, a 10 wt % ethylene glycol solution of D66-20BS was prepared. The solution was prepared by stirring at 400 rpm and 90° C. for 1 hour using a hot stirrer.
Next, another container was prepared, and 0.020 g of S-poly(3-MEET)-A obtained in Synthesis Example 3 was added to 1.20 g of ethylene glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), diethylene glycol (Kanto Chemical Co., Ltd.) 1.95 g, triethylene glycol dimethyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 4.88 g, 2-(benzyloxy) ethanol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 0.98 g and n-butylamine (Tokyo 0.032 g (manufactured by Kasei Kogyo Co., Ltd.). The solution was prepared by stirring at 80° C. for 1 hour using a hot stirrer. Then, 0.10 g of a 10 wt % ethylene glycol solution of D66-20BS was added to the resulting solution, and the resulting mixture was stirred at 400 rpm and 80° C. for 1 hour using a hot stirrer. Finally, 0.83 g of organosilica sol (EG-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), average particle size: 12 nm, solid content concentration: 20 to 21 wt%, dispersion medium: ethylene glycol) was added, and the resulting mixture was stirred with a hot stirrer at 400 rpm and 80° C. for 10 minutes, and the resulting dispersion was filtered through a PP syringe filter with a pore size of 0.2 μm to obtain a 2 wt % ink composition.
[4]有機EL素子の作製及び特性評価
[実施例2-1~2-4]
実施例1-1~1-4で得られたインク組成物を用いて、以下の手順により実施例2-1~2-4の有機EL素子を作製した。
実施例1-1から1-4で得られた組成物を、それぞれ、スピンコーターを用いてITO基板に塗布した後、真空乾燥機にて15分間乾燥した。次に、乾燥させた各ITO基板をグローブボックス内に挿入し、窒素下、230℃で30分間焼成し、ITO基板上に厚さ50nmの正孔注入層を形成した。ITO基板としては、酸化インジウムスズ(ITO)が表面上に膜厚150nmでパターニングされた25mm×25mm×0.7tのガラス基板を用い、使用前にO2プラズマ洗浄装置(150W、30秒間)によって表面上の不純物を除去した。[4] Fabrication and property evaluation of organic EL device [Examples 2-1 to 2-4]
Using the ink compositions obtained in Examples 1-1 to 1-4, organic EL devices of Examples 2-1 to 2-4 were produced according to the following procedure.
Each of the compositions obtained in Examples 1-1 to 1-4 was applied to an ITO substrate using a spin coater and then dried for 15 minutes using a vacuum dryer. Next, each dried ITO substrate was inserted into a glove box and baked at 230° C. for 30 minutes under nitrogen to form a hole injection layer with a thickness of 50 nm on the ITO substrate. As the ITO substrate, a 25 mm × 25 mm × 0.7 t glass substrate on which indium tin oxide (ITO) was patterned with a film thickness of 150 nm was used. Surface impurities were removed.
次いで、正孔注入層を形成したITO基板に対し、蒸着装置(真空度1.0×10-5Pa)を用いて、正孔輸送層としてα-NPD(N,N'-ジ(1-ナフチル)-N,N'-ジフェニルベンジジン)を0.2nm/秒にて30nm成膜した。次に、正孔輸送層として関東化学(株)製の電子ブロック材料HTEB-01を10nm成膜した。次いで、発光層として新日鉄住金化学(株)製の発光層ホスト材料NS60と発光層ドーパント材料Ir(PPy)3を共蒸着した。共蒸着はIr(PPy)3の濃度が6%になるように蒸着レートをコントロールし、40nm積層させた。次いで、電子輸送層としてAlq3、電子注入層としてフッ化リチウム及び陰極層としてアルミニウムの薄膜を順次積層して有機EL素子を得た。この際、蒸着レートは、Alq3及びアルミニウムについては0.2nm/秒、フッ化リチウムについては0.02nm/秒の条件でそれぞれ行い、膜厚は、それぞれ20nm、0.5nm及び80nmとした。
なお、空気中の酸素、水等の影響による特性劣化を防止するため、有機EL素子は封止基板により封止した後、その特性を評価した。封止は、以下の手順で行った。酸素濃度2ppm以下、露点-76℃以下の窒素雰囲気中で、有機EL素子を封止基板の間に収め、封止基板を接着剤((株)MORESCO製、モレスコモイスチャーカット WB90US(P))により貼り合わせた。この際、捕水剤(ダイニック(株)製,HD-071010W-40)を有機EL素子と共に封止基板内に収めた。貼り合わせた封止基板に対し、UV光を照射(波長:365nm、照射量:6,000mJ/cm2)した後、80℃で1時間、アニーリング処理して接着剤を硬化させた。Next, α- NPD (N,N'-di(1- Naphthyl)-N,N'-diphenylbenzidine) was deposited to a thickness of 30 nm at 0.2 nm/sec. Next, an electron blocking material HTEB-01 manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd. was deposited to a thickness of 10 nm as a hole transport layer. Next, a light-emitting layer host material NS60 manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. and a light-emitting layer dopant material Ir(PPy) 3 were co-deposited as a light-emitting layer. In the co-evaporation, the deposition rate was controlled so that the concentration of Ir(PPy) 3 was 6%, and the thickness was 40 nm. Subsequently, thin films of Alq 3 as an electron transport layer, lithium fluoride as an electron injection layer, and aluminum as a cathode layer were successively laminated to obtain an organic EL device. At this time, the deposition rate was 0.2 nm/sec for Alq 3 and aluminum, and 0.02 nm/sec for lithium fluoride, respectively, and the film thicknesses were 20 nm, 0.5 nm and 80 nm, respectively.
In order to prevent deterioration of characteristics due to the influence of oxygen, water, etc. in the air, the characteristics of the organic EL element were evaluated after being sealed with a sealing substrate. Sealing was performed by the following procedure. In a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 2 ppm or less and a dew point of −76° C. or less, the organic EL element was placed between the sealing substrates, and the sealing substrates were glued (manufactured by MORESCO Co., Ltd., MORESCO Moisture Cut WB90US (P)). pasted together by At this time, a water trapping agent (HD-071010W-40 manufactured by Dainic Co., Ltd.) was contained in the sealing substrate together with the organic EL element. The bonded sealing substrates were irradiated with UV light (wavelength: 365 nm, irradiation amount: 6,000 mJ/cm 2 ) and then annealed at 80° C. for 1 hour to cure the adhesive.
実施例2-1~2-4の素子について、輝度10000cd/m2で駆動した場合における駆動電圧、電流密度及び発光効率(電流効率及び外部量子効率)、並びに輝度の半減期(初期輝度10000cd/m2が半分に達するのに要する時間)を測定した。結果を表1に示す。For the devices of Examples 2-1 to 2-4, the drive voltage, current density and luminous efficiency (current efficiency and external quantum efficiency) when driven at a luminance of 10000 cd/m 2 , and luminance half-life (initial luminance 10000 cd/m The time required for m 2 to reach half) was measured. Table 1 shows the results.
なお、輝度、駆動電圧、電流密度、電流効率及び外部量子効率は、(株)イーエッチシー製 多チャンネルIVL測定装置により測定した。輝度半減期は、(株)イーエッチシー製 有機EL輝度寿命評価システムPEL-105Sにより測定した。 The luminance, driving voltage, current density, current efficiency and external quantum efficiency were measured using a multi-channel IVL measuring device manufactured by EHC Co., Ltd. The luminance half-life was measured by an organic EL luminance life evaluation system PEL-105S manufactured by EHC Co., Ltd.
実施例2-1~2-4に示すように、(A)式(I)で表される繰り返し単位を含むポリチオフェン、(B)式(a1)又は(a2)で表されるアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩、及び有機溶媒を含む液体担体を含むインク組成物は、ウェットプロセスに適用可能であり、該組成物から形成される正孔注入層は良好に有機EL素子として駆動した。 As shown in Examples 2-1 to 2-4, (A) a polythiophene containing a repeating unit represented by formula (I), and (B) an anion and a counter cation represented by formula (a1) or (a2) An ink composition containing an onium borate salt consisting of and a liquid carrier containing an organic solvent was applicable to a wet process, and a hole injection layer formed from the composition was well driven as an organic EL device.
実施例2-1と2-2の比較より、インク組成物が更に(F)マトリックス化合物を含有すると、作製された有機EL素子の電流効率、外部量子効率及び輝度半減期が向上し、好ましい。実施例2-1と2-3の比較より、インク組成物が更に(E)金属酸化物ナノ粒子を含有すると、作製された有機EL素子の電流効率、外部量子効率及び輝度半減期が向上し、好ましい。 A comparison of Examples 2-1 and 2-2 reveals that the current efficiency, external quantum efficiency and luminance half-life of the produced organic EL device are improved when the ink composition further contains (F) the matrix compound, which is preferable. From a comparison of Examples 2-1 and 2-3, when the ink composition further contained (E) metal oxide nanoparticles, the current efficiency, external quantum efficiency and luminance half-life of the produced organic EL device were improved. ,preferable.
[5]ポジ型感光性樹脂組成物の調製
以下の合成例で用いる略号の意味は、次の通りである。
MMA:メチルメタクリレート
HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート
HPMA:4-ヒドロキシフェニルメタクリレート
HPMA-QD:4-ヒドロキシフェニルメタクリレート1molと、1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニルクロリド1.1molの縮合反応によって合成される化合物
CHMI:N-シクロヘキシルマレイミド
PFHMA:2-(パーフルオロヘキシル)エチルメタクリレート
MAA:メタクリル酸
AIBN:α、α’-アゾビスイソブチロニトリル
QD1:α、α、α’-トリス(4-ヒドロキシフェニル)-1-エチル-4-イソプロピルベンゼン1molと、1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニルクロリド1.5molの縮合反応によって合成される化合物
GT-401:ブタンテトラカルボン酸テトラ(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)修飾ε-カプロラクトン(商品名:エポリードGT-401(株式会社ダイセル製))
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
CHN:シクロヘキサノン[5] Preparation of positive photosensitive resin composition The abbreviations used in the following synthesis examples have the following meanings.
MMA: methyl methacrylate HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate HPMA: 4-hydroxyphenyl methacrylate HPMA-QD: condensation reaction of 1 mol of 4-hydroxyphenyl methacrylate and 1.1 mol of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride CHMI: N-cyclohexylmaleimide PFHMA: 2-(perfluorohexyl)ethyl methacrylate MAA: methacrylic acid AIBN: α,α'-azobisisobutyronitrile QD1: α,α,α'-tris( 4-Hydroxyphenyl)-1-ethyl-4-isopropylbenzene (1 mol) and 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride (1.5 mol) are subjected to a condensation reaction to synthesize compound GT-401: Butanetetracarboxylic acid. Tetra(3,4-epoxycyclohexylmethyl)-modified ε-caprolactone (trade name: Epolead GT-401 (manufactured by Daicel Corporation))
PGME: propylene glycol monomethyl ether PGMEA: propylene glycol monomethyl ether acetate CHN: cyclohexanone
[数平均分子量及び重量平均分子量の測定]
以下の合成例に従い得られた共重合体の数平均分子量及び重量平均分子量を、東ソー(株)製GPC装置(ShodexカラムKD800及びTOSOHカラムTSK-GEL)を用い、溶出溶媒N,N’-ジメチルホルムアミド(添加剤として、臭化リチウム-水和物(LiBr・H2O)を10mmol/L(リットル)混合)を流量1ml/分でカラム中に(カラム温度40℃)流して溶離させるという条件で測定した。なお、下記の数平均分子量(以下、Mnと称す。)及び重量平均分子量(以下、Mwと称す。)は、ポリスチレン換算値にて表される。[Measurement of number average molecular weight and weight average molecular weight]
The number average molecular weight and weight average molecular weight of the copolymer obtained according to the following synthesis examples were measured using a GPC apparatus manufactured by Tosoh Corporation (Shodex column KD800 and TOSOH column TSK-GEL), and the elution solvent N,N'-dimethyl Formamide (10 mmol/L (liter) mixture of lithium bromide-hydrate (LiBr.H 2 O) as an additive) is passed through the column (
<合成例4>
MMA 10.0g、HEMA 12.5g、CHMI 20.0g、HPMA 2.50g、MAA 5.00g及びAIBN 3.20gをPGME 79.8gに溶解し、60℃乃至100℃にて20時間反応させることにより、アクリル重合体溶液(固形分濃度40wt%)を得た(P3)。得られたアクリル重合体P3のMnは3,700、Mwは6,100であった。<Synthesis Example 4>
10.0 g of MMA, 12.5 g of HEMA, 20.0 g of CHMI, 2.50 g of HPMA, 5.00 g of MAA and 3.20 g of AIBN are dissolved in 79.8 g of PGME and reacted at 60° C. to 100° C. for 20 hours. to obtain an acrylic polymer solution (solid concentration: 40 wt %) (P3). The obtained acrylic polymer P3 had an Mn of 3,700 and an Mw of 6,100.
<合成例5>
HPMA-QD 2.50g、PFHMA 7.84g、MAA 0.70g、CHMI 1.46g及びAIBN 0.33gをCHN 51.3gに溶解し、110℃にて20時間撹拌して反応させることにより、アクリル重合体溶液(固形分濃度20wt%)を得た(P4)。得られたアクリル重合体P4のMnは4,300、Mwは6,300であった。<Synthesis Example 5>
2.50 g of HPMA-QD, 7.84 g of PFHMA, 0.70 g of MAA, 1.46 g of CHMI and 0.33 g of AIBN were dissolved in 51.3 g of CHN and stirred at 110° C. for 20 hours to react to give an acrylic A polymer solution (solid concentration: 20 wt %) was obtained (P4). The obtained acrylic polymer P4 had an Mn of 4,300 and an Mw of 6,300.
合成例4で得られたP3 5.04g、合成例5で得られたP4 0.05g、QD1 0.40g、GT-401 0.09g及びPGMEA 6.42gを混合し、室温で3時間撹拌して均一な溶液とすることにより、ポジ型感光性樹脂組成物を調製した。 5.04 g of P3 obtained in Synthesis Example 4, 0.05 g of P4 obtained in Synthesis Example 5, 0.40 g of QD1, 0.09 g of GT-401 and 6.42 g of PGMEA were mixed and stirred at room temperature for 3 hours. A positive photosensitive resin composition was prepared by making a uniform solution.
[6]バンク付基板の作製
(株)テクノビジョン製UV-312を用いて10分間オゾン洗浄したITO-ガラス基板上に、スピンコーターを用いて、前記工程[5]にて得られたポジ型感光性樹脂組成物を塗布した後、基板をホットプレート上でのプリベーク(温度100℃で120秒間加熱)に付して、膜厚1.2μmの薄膜を形成した。この薄膜に、長辺200μm、短辺100μmの長方形が多数描かれたパターンのマスクを介して、キヤノン(株)製紫外線照射装置PLA-600FAにより、紫外線(365nmにおける光強度:5.5mW/cm2)を一定時間照射した。その後、薄膜を2.38%TMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)水溶液に20秒間浸漬して現像を行った後、超純水による薄膜の流水洗浄を20秒間行った。次いで、この長方形パターンが形成された薄膜をポストベーク(温度230℃で30分間加熱)に付して硬化させ、バンク付基板を作製した。[6] Preparation of banked substrate using UV-312 manufactured by Technovision Co., Ltd. On an ITO-glass substrate that has been ozone-cleaned for 10 minutes, a spin coater is used to apply the positive type obtained in the above step [5]. After applying the photosensitive resin composition, the substrate was pre-baked on a hot plate (heated at 100° C. for 120 seconds) to form a thin film having a thickness of 1.2 μm. This thin film is irradiated with ultraviolet rays (light intensity at 365 nm: 5.5 mW/cm 2 ) was irradiated for a certain period of time. Thereafter, the thin film was developed by immersing it in a 2.38% TMAH (tetramethylammonium hydroxide) aqueous solution for 20 seconds, and then washed with running ultrapure water for 20 seconds. Next, the thin film having the rectangular pattern formed thereon was post-baked (heated at 230° C. for 30 minutes) to cure it, thereby producing a substrate with banks.
[7]電荷輸送性薄膜の断面形状の評価
[実施例3]及び[比較例2]
前記工程[6]にて得られたバンク付基板上の長方形の開口部(膜形成領域)に、クラスターテクノロジー(株)製 Inkjet Designerを用いて、実施例1-5及び比較例1で得られたインク組成物をそれぞれ吐出し、得られた塗膜を、10Pa以下の減圧度(真空度)で15分減圧乾燥し、その後ホットプレートにて230℃で30分乾燥させて、実施例3及び比較例2の電荷輸送性薄膜を形成した。
実施例3及び比較例2の電荷輸送性薄膜の断面の形状を、微細形状測定機ET4000A((株)小坂研究所製)にて測定した。得られた結果を、図1に示す。[7] Evaluation of cross-sectional shape of charge-transporting thin film [Example 3] and [Comparative example 2]
Inkjet Designer manufactured by Cluster Technology Co., Ltd. was used in the rectangular openings (film formation regions) on the banked substrate obtained in the above step [6], and the ink obtained in Examples 1-5 and Comparative Example 1 was used. Each of the ink compositions was discharged, and the resulting coating film was dried under reduced pressure (degree of vacuum) of 10 Pa or less for 15 minutes, and then dried on a hot plate at 230 ° C. for 30 minutes. A charge-transporting thin film of Comparative Example 2 was formed.
The cross-sectional shapes of the charge-transporting thin films of Example 3 and Comparative Example 2 were measured with a fine shape measuring machine ET4000A (manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.). The results obtained are shown in FIG.
実施例3と比較例2を比較すると、実施例3の電荷輸送性薄膜の断面の形状は、比較例2の薄膜の断面のそれと比較して、バンク近傍での膜の這い上がり(膜厚の増加)が明らかに少ない。
以上の結果から、(A)式(I)で表される繰り返し単位を含むポリチオフェン、(B)式(a1)、(a2)又は(a5)で表されるアニオンと対カチオンとからなるオニウムボレート塩、(C)有機溶媒を含む液体担体、及び(F)マトリックス化合物を含むインク組成物を用いることにより、電荷輸送性薄膜形成時のパイルアップの抑制が可能となることが確認された。このことより、本発明のインク組成物を用いて得られる有機EL素子において、パイルアップに伴う開口部の減少や、発光層の不均一な厚みに伴う発光ムラ等がなく、素子特性が大幅に改善されることが期待される。Comparing Example 3 and Comparative Example 2, the cross-sectional shape of the charge-transporting thin film of Example 3 is different from that of the thin film of Comparative Example 2 in that the film creeps up in the vicinity of the bank (thickness of the film increases). increase) is clearly small.
From the above results, (A) a polythiophene containing a repeating unit represented by the formula (I), and (B) an onium borate composed of an anion and a counter cation represented by the formula (a1), (a2) or (a5) It was confirmed that by using an ink composition containing a salt, (C) a liquid carrier containing an organic solvent, and (F) a matrix compound, it is possible to suppress pile-up during formation of a charge-transporting thin film. As a result, in the organic EL device obtained using the ink composition of the present invention, there is no decrease in openings due to pile-up, and there is no unevenness in light emission due to uneven thickness of the light-emitting layer, and the device characteristics are greatly improved. It is hoped that this will improve.
本発明のインク組成物は、有機エレクトロルミネッセンス素子の電荷輸送性薄膜用材料として使用することができる。 The ink composition of the present invention can be used as a charge-transporting thin film material for organic electroluminescence devices.
Claims (14)
(A)下記式(I):
で表される基(式中、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムである)より選択される繰り返し単位を含む、ポリチオフェン;
(B)下記式(II):
で表わされるオニウムボレート塩;及び
(C)有機溶媒を含む液体担体
を含む組成物。 An ink composition comprising:
(A) the following formula (I):
A polythiophene comprising a repeating unit selected from a group represented by the formula wherein M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium ;
(B) the following formula (II):
and (C) a liquid carrier comprising an organic solvent.
(A)下記式(I):
で表される基(式中、Mは、H、アルカリ金属、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、又はトリアルキルアンモニウムである)より選択される繰り返し単位を含む、ポリチオフェン;
(B)下記式(II):
で表わされるオニウムボレート塩;
(C)有機溶媒を含む液体担体;及び
(F)マトリックス化合物
を含む組成物。 An ink composition comprising:
(A) the following formula (I):
A polythiophene comprising a repeating unit selected from a group represented by the formula wherein M is H, alkali metal, ammonium, monoalkylammonium, dialkylammonium, or trialkylammonium ;
(B) the following formula (II):
An onium borate salt represented by ;
(C) a liquid carrier comprising an organic solvent; and (F) a composition comprising a matrix compound.
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