JP7107121B2 - semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Description
本発明は半導体集積回路に関し、特に、負荷を駆動するための半導体素子を有する半導体集積回路に関する。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a semiconductor element for driving a load.
近年、負荷を駆動するための出力段の半導体素子(以下において「出力段素子」という。)と、出力段素子の制御回路や保護回路等を1チップ化したインテリジェントパワースイッチ(IPS)の開発が進んでいる。IPSは、例えばトランスミッション、エンジン及びブレーキ等の車両電装システムに広く利用されており、小型化、高性能化及び高信頼性に応える製品が要望されている。 In recent years, the development of an intelligent power switch (IPS) that integrates a semiconductor element in the output stage (hereinafter referred to as "output stage element") for driving a load and a control circuit, protection circuit, etc. for the output stage element into one chip has been developed. progressing. IPSs are widely used in vehicle electrical systems such as transmissions, engines, and brakes, and there is a demand for products that meet the requirements of miniaturization, high performance, and high reliability.
IPS等の半導体集積回路において、組立工程前のウェハ状態で種々の電気的特性の試験が実施されるが、出力段素子のオン指令時にのみ測定可能な特性項目がある。この特性項目の試験の際には、出力段素子がオン状態となるため、テスターやプローブカード等の試験システムに大電流を流す必要があり、試験システムの電源容量が増大すると共にプローブカードの針本数が増大し、チップサイズの増大とコストアップに繋がる。一方、この特性項目の試験を実施しない場合には、組立工程における試験でこの特性項目に起因した特性不良が検出されることになり、組立材料及び組立工数のロスが発生する。 In a semiconductor integrated circuit such as an IPS, various electrical characteristic tests are performed in a wafer state before an assembly process, but there are characteristic items that can be measured only when an output stage element is commanded to turn on. When testing this characteristic item, the output stage elements are turned on, so it is necessary to pass a large current through the test system such as a tester and probe card. The number increases, leading to an increase in chip size and cost. On the other hand, if the test for this characteristic item is not performed, a characteristic defect caused by this characteristic item will be detected in the test in the assembly process, resulting in loss of assembly materials and assembly man-hours.
特許文献1には、半導体集積回路におけるテスト時にテストモードを設けることが開示されている。 Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-200001 discloses that a test mode is provided at the time of testing in a semiconductor integrated circuit.
上記問題に鑑み、本発明は、出力段素子のオン指令時にのみ測定可能な特性項目を、出力段素子に電流を流さずに測定することができる半導体集積回路を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit capable of measuring a characteristic item that can be measured only when an output stage element is turned on, without applying a current to the output stage element.
本発明の一態様は、(a)電源と負荷との間に接続される出力段素子と、(b)出力段素子のオン指令時に動作し、出力段素子の電気的特性を検出する特性検出回路と、(c)電源から供給される電源電位を基準として、電源電位よりも低い内部電位を生成する内部電位生成回路と、(d)生成された内部電位に応じて、電源電位を昇圧することにより出力段素子を駆動するゲート信号を出力するチャージポンプ回路と、(e)電源に第1主端子領域が接続され、内部電位生成回路の出力端子とチャージポンプ回路の入力端子との間に第2主端子領域が接続された制御回路素子と、(f)制御回路素子の制御電極に接続されたテストパッドとを備え、出力段素子のオン指令時に、テストパッドに電圧を印加して制御回路素子をオンすることによりチャージポンプ回路を強制的に停止させ、出力段素子をオフさせた状態で、特性検出回路が動作する閾値電圧を測定する半導体集積回路であることを要旨とする。 One aspect of the present invention includes (a) an output stage element connected between a power supply and a load, and (b) a characteristic detection that operates when an ON command is given to the output stage element and detects the electrical characteristics of the output stage element. (c) an internal potential generation circuit that generates an internal potential lower than the power supply potential with reference to the power supply potential supplied from the power supply; and (d) boosts the power supply potential according to the generated internal potential. and (e) the first main terminal region is connected to the power supply and is between the output terminal of the internal potential generating circuit and the input terminal of the charge pump circuit. (f) a control circuit element connected to the second main terminal region; and (f) a test pad connected to the control electrode of the control circuit element. The gist of the present invention is a semiconductor integrated circuit that forcibly stops a charge pump circuit by turning on a circuit element and measures a threshold voltage at which a characteristic detection circuit operates in a state where an output stage element is turned off.
本発明によれば、出力段素子のオン指令時にのみ測定可能な特性項目を、出力段素子に電流を流さずに測定することができる半導体集積回路を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor integrated circuit that can measure a characteristic item that can be measured only when an output stage element is commanded to turn on, without applying a current to the output stage element.
以下において、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下の説明で参照する図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な厚みや寸法は以下の説明を参酌して判断すべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。 Embodiments of the present invention are described below with reference to the drawings. In the description of the drawings referred to in the following description, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic, and the relationship between thickness and planar dimension, the ratio of thickness of each layer, and the like are different from the actual ones. Therefore, specific thicknesses and dimensions should be determined with reference to the following description. In addition, it goes without saying that there are portions with different dimensional relationships and ratios between the drawings.
本発明の実施形態に係る半導体集積回路では、同一半導体チップに種々の半導体素子がモノリシック若しくはハイブリッドに集積化される。本発明の実施形態において、集積回路の要素として出力段素子又は制御回路素子等の半導体素子が含まれる。これらの出力段素子又は制御回路素子の「第1主端子領域」とは、出力段素子が電界効果トランジスタ(FET)や静電誘導トランジスタ(SIT)の場合には、ソース又はドレインのいずれか一方となる、主電流が流入若しくは流出する半導体領域を意味する。出力段素子又は制御回路素子の「第1主端子領域」とは、出力段素子又は制御回路素子に主電流が流入若しくは流出する半導体領域を意味する。例えば、出力段素子が絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(IGBT)の場合には、「第1主端子領域」はエミッタ又はコレクタのいずれか一方となる半導体領域に対応する。出力段素子が静電誘導サイリスタ(SIサイリスタ)やゲートターンオフサイリスタ(GTO)の場合には、「第1主端子領域」はアノード又はカソードのいずれか一方となる半導体領域を意味する。 In the semiconductor integrated circuit according to the embodiment of the present invention, various semiconductor elements are monolithically or hybridly integrated on the same semiconductor chip. In embodiments of the present invention, the elements of the integrated circuit include semiconductor devices such as output stage devices or control circuitry. The "first main terminal region" of these output stage elements or control circuit elements means either the source or the drain when the output stage element is a field effect transistor (FET) or a static induction transistor (SIT). means a semiconductor region into or out of which the main current flows. The "first main terminal region" of the output stage element or the control circuit element means a semiconductor region through which the main current flows into or out of the output stage element or the control circuit element. For example, when the output stage element is an insulated gate bipolar transistor (IGBT), the "first main terminal region" corresponds to a semiconductor region that serves as either an emitter or a collector. When the output stage element is a static induction thyristor (SI thyristor) or a gate turn-off thyristor (GTO), the "first main terminal region" means a semiconductor region that serves as either an anode or a cathode.
また、出力段素子又は制御回路素子の「第2主端子領域」とは、出力段素子がFETやSITであれば、上記第1主端子領域とはならないソース又はドレインのいずれか一方となる半導体領域を意味する。IGBTにおいては、「第2主端子領域」は上記第1主端子領域とはならないエミッタ又はコレクタのいずれか一方となる領域を意味する。SIサイリスタやGTOにおいては、「第2主端子領域」は上記第1主端子領域とはならないアノード又はカソードのいずれか一方となる領域を意味する。 Further, the "second main terminal region" of the output stage element or the control circuit element is a semiconductor that serves as either the source or the drain that does not become the first main terminal area if the output stage element is an FET or SIT. means area. In an IGBT, the "second main terminal region" means either an emitter or collector region that does not serve as the first main terminal region. In the case of SI thyristors and GTOs, the "second main terminal region" means either an anode or a cathode region that does not become the first main terminal region.
このように、出力段素子又は制御回路素子の「第1主端子領域」がソースであれば、「第2主端子領域」はドレインを意味する。出力段素子又は制御回路素子の「第1主端子領域」がエミッタであれば、「第2主端子領域」はコレクタを意味する。出力段素子の「第1主端子領域」がアノードであれば、「第2主端子領域」はカソードを意味する。MISFET等で対称構造の出力段素子となる場合は、バイアス関係を交換すれば「第1主端子領域」の機能と「第2主端子領域」の機能を交換可能な場合もある。 Thus, if the "first main terminal region" of the output stage element or the control circuit element is the source, the "second main terminal region" means the drain. If the "first main terminal area" of the output stage element or the control circuit element is the emitter, then the "second main terminal area" means the collector. If the "first main terminal area" of the output stage element is the anode, then the "second main terminal area" means the cathode. In the case of an output stage element having a symmetrical structure such as a MISFET, it may be possible to exchange the function of the "first main terminal region" and the function of the "second main terminal region" by exchanging the bias relationship.
<半導体集積回路>
本発明の実施形態に係る半導体集積回路1として、図1に示すように、電源30と負荷32との間に出力段素子10を配置したハイサイド型IPSを例示する。本発明の実施形態に係る半導体集積回路1は、出力段素子10の他に、出力段素子10の制御端子(ゲート)を駆動する動作回路11と、動作回路11の動作を制御する論理回路12と、出力段素子10の過電流を検出する過電流検出回路(特性検出回路)13を備える。また、本発明の実施形態に係る半導体集積回路1は、電源端子21、出力端子22、入力端子23、状態端子24及び接地端子25を配置している。なお、図示を省略するが、本発明の実施形態に係る半導体集積回路1は、過熱検出回路等の他の回路を更に備えていてもよい。
<Semiconductor integrated circuit>
As a semiconductor integrated
本発明の実施形態では、出力段素子10としてnチャネルMOSFETを例示する。図示を省略するが、出力段素子10には、還流ダイオード(FWD)が逆並列に接続されていてもよい。出力段素子10としては、pチャネルMOSFETであってもよく、MOSFET以外のMOSSIT、MISFET、MISSIT等のMISトランジスタ、SIサイリスタ等のサイリスタ、或いはIGBT等のパワー半導体素子であってもよい。
In the embodiment of the present invention, an n-channel MOSFET is exemplified as the
出力段素子10の第1主端子領域(ドレイン)は電源端子21に接続されている。電源端子21には、外部の電源30から電源電位Vcc(例えば13V程度)が供給される。出力段素子10の第2主端子領域(ソース)は出力端子22を介してモータ等の負荷32の一端に接続されている。負荷32の他端は接地されている。
A first main terminal region (drain) of the
出力段素子10のゲートは動作回路11の出力端子に接続されている。出力段素子10は、動作回路11からのゲート信号GSにより制御される。出力段素子10は、動作回路11からのゲート信号GSの電圧が所定の閾値(例えば18V程度)以上の場合にオン状態となり、負荷32を駆動する。一方、出力段素子10は、動作回路11からのゲート信号GSの電圧が所定の閾値未満の場合にオフ状態となる。
A gate of the
過電流検出回路13は、出力段素子10のソース及び出力端子22に接続された入力端子と、論理回路12の第1入力端子に接続された出力端子を有する。過電流検出回路13は、出力段素子10の出力電圧VOUTから、出力段素子10に流れる過電流を検出する。過電流検出回路13は、例えば、出力電圧VOUTが以下の式(1)を満たす場合に、出力段素子10に過電流が流れていると判定する。
VOUT≦Vcc-VOC …(1)
The
VOUT≤Vcc - VOC (1)
式(1)において、VOCは過電流を検出する閾値を定義する過電流閾値電圧である。過電流閾値電圧VOCは例えば0.3V程度であり、出力段素子10の種類等に応じて適宜設定可能である。本発明の実施形態に係る半導体集積回路において、組立前のウェハ状態で過電流閾値電圧VOCを確認する試験が実施される(過電流閾値電圧VOCの試験については後述する)。
In equation (1), VOC is the overcurrent threshold voltage that defines the threshold for overcurrent detection. The overcurrent threshold voltage VOC is, for example, approximately 0.3 V, and can be appropriately set according to the type of the
出力段素子10に流れる電流IOUTは、以下の式(2)で表すことができる。
IOUT=(Vcc-VOUT)/Ron …(2)
A current IOUT flowing through the
IOUT=(Vcc-VOUT ) /Ron (2)
式(2)において、Ronは出力段素子10のオン抵抗である。Ronは例えば120mΩ程度であり、出力段素子10の種類等に応じて適宜設定可能である。出力電圧VOUTが式(1)を満たす場合に流れる電流IOUT(例えば4.5A程度)が過電流と判定される。
In equation (2), Ron is the ON resistance of the
過電流検出回路13は、出力段素子10の出力電圧VOUTが式(1)を満たす場合に動作し、出力段素子10に過電流が流れたことを示す過電流検出信号DSを出力する。過電流検出回路13は、出力電圧VOUTが式(1)を満たさない場合には動作せず、過電流検出信号DSを出力しない。
The
過電流検出回路13は、他の回路との動作が混在しないように、制御回路31から入力端子23を介して入力される入力信号INが、出力段素子10のオン指令であるハイ(H)レベルの場合にのみ動作するように設計されている。例えば、論理回路12が、制御回路31からの入力信号INに応じて過電流検出回路13の動作を制御してもよい。或いは、過電流検出回路13を入力端子23に接続し、過電流検出回路13が制御回路31からの入力信号INとしてHレベルを受け付けた場合にのみ動作するようにしてもよい。
In the
論理回路12は、過電流検出回路13の出力端子に接続された第1入力端子と、入力端子23に接続された第2入力端子と、動作回路11の第1入力端子に接続された第1出力端子と、状態端子24に接続された第2出力端子を有する。
The
入力端子23は制御回路31に接続され、制御回路31から出力段素子10のオン・オフ動作を制御するための指令である入力信号INが供給される。出力段素子10をオンさせるためのオン指令時には、入力信号INがハイ(H)レベルとなる。一方、出力段素子10をオフさせるためのオフ指令時には、入力信号INがロー(L)レベルとなる。状態端子24は制御回路31に接続される。状態端子24は、図示を省略するが、例えば外部の10kΩ程度の抵抗を介して5Vの電源に接続される。
The
論理回路12は、制御回路31から入力端子23を介して入力された入力信号INに応じて、動作回路11の動作を制御する制御信号CSを動作回路11へ出力する。論理回路12は、入力信号INがHレベルの場合に、動作回路11を動作させる制御信号CSを動作回路11へ出力する。論理回路12は、入力信号INがLレベルの場合に、動作回路11を停止させる制御信号CSを動作回路11へ出力する。
The
更に、論理回路12は、出力段素子10の状態を示す状態信号STを、状態端子24を介して制御回路31へ出力する。過電流検出回路13から過電流検出信号DSが出力されていない場合、論理回路12は、出力段素子10が通常状態であることを示す状態信号STとしてHレベルを、状態端子24を介して制御回路31へ出力する。
Furthermore, the
一方、過電流検出回路13から過電流検出信号DSが出力された場合、論理回路12は、出力段素子10が異常状態であることを示す状態信号STとしてLレベルを、状態端子24を介して制御回路31へ出力する。制御回路31は、状態信号STとしてLレベルを受け付けた場合、出力段素子10が異常状態であると判断し、入力信号INをHレベルからLレベルに切り替えて出力する。論理回路12は、入力信号INとしてLレベルを受けて、動作回路11を停止させる制御信号CSを動作回路11へ出力する。これにより、動作回路11を停止させ、出力段素子10をオフ状態となるため、出力段素子10の破壊を防止することができる。
On the other hand, when the overcurrent detection signal DS is output from the
動作回路11は、論理回路12に接続された第1入力端子と、電源端子21に接続された第2入力端子と、出力段素子10のゲートに接続された出力端子とを有する。動作回路11は、論理回路12からの制御信号CSに応じて動作する。動作回路11は、論理回路12から動作回路11を動作させるための制御信号CSを受け付けた場合には、電源電位Vccを基準として、電源電位Vccよりも高電位のゲート信号GSを出力段素子10のゲートへ出力し、出力段素子10をオンさせる。一方、動作回路11は、論理回路12から動作回路11を停止させるための制御信号CSを受け付けた場合には動作を停止して、ゲート信号GSを出力せず、出力段素子10をオフさせる。
The operating
動作回路11は、図2に示すように、内部電位生成回路41と、チャージポンプ回路42とを備える。内部電位生成回路41は、論理回路12に接続された第1入力端子と、電源端子21に接続された第2入力端子と、チャージポンプ回路42の第1入力端子に接続された出力端子を有する。内部電位生成回路41は、論理回路12から動作回路11を動作させるための制御信号CSを受け付けた場合には、電源電位Vccを基準として、電源電位Vccよりも所定の電圧だけ低い内部電位VGNDを生成する。例えば、電源電位Vccが13V程度であり、内部電位VGNDが8V程度である。内部電位生成回路41は、論理回路12から動作回路11を停止させるための制御信号CSを受け付けた場合には、内部電位VGNDを生成せず、例えば電源電位Vccを出力する。
The
チャージポンプ回路42は、内部電位生成回路41の出力端子に接続された第1入力端子と、電源端子21及び内部電位生成回路41の第2入力端子に接続された第2入力端子と、出力段素子10のゲートに接続された出力端子とを有する。チャージポンプ回路42は、内部電位生成回路41から出力された内部電位VGNDを受け付けた場合に、電源電位Vccを出力段素子10のターンオンに要する電圧まで昇圧することにより、ゲート信号GSを生成する。
The
チャージポンプ回路42は、例えば図3に示すように、発振回路61、インバータ62及び昇圧回路63を有する。発振回路61の第1入力端子には図2に示した電源端子21が接続され、発振回路61の第2入力端子には図2に示した内部電位生成回路41の出力端子が接続されている。発振回路61の出力端子にはインバータ62の入力端子が接続されている。発振回路61は、内部電位生成回路41から内部電位VGNDが入力された場合に、矩形波である発振信号を出力する。インバータ62は、発振回路61からの発振信号を論理反転して出力する。
The
昇圧回路63は、例えば3段で構成されており、1段目としてインバータ64、コンデンサ65、2つのダイオード66,67を有し、2段目としてインバータ68、コンデンサ69、2つのダイオード70,71とを有し、3段目としてインバータ72と、コンデンサ73、2つのダイオード74,75を有する。
The
1段目のインバータ64の入力端子はインバータ62の出力端子に接続され、インバータ64の出力端子はコンデンサ65の一端に接続されている。コンデンサ65の他端は、ダイオード66のカソード及びダイオード67のアノードに接続されている。ダイオード66のアノードは、図2に示した電源端子21に接続されている。
The input terminal of the first-
2段目のインバータ68の入力端子は発振回路61の出力端子に接続され、インバータ68の出力端子はコンデンサ69の一端に接続されている。コンデンサ69の他端は、ダイオード70のカソード、ダイオード71のアノード及び1段目のダイオード67のカソードに接続されている。ダイオード70のアノードは、図2に示した電源端子21に接続されている。
The input terminal of the
3段目のインバータ72の入力端子はインバータ62の出力端子に接続され、インバータ72の出力端子はコンデンサ73の一端に接続されている。コンデンサ73の他端は、ダイオード74のカソード及びダイオード75のアノードに接続されている。ダイオード74のアノードは、図2に示した電源端子21に接続されている。ダイオード75のカソードは、図2に示した出力段素子10のゲートに接続されている。
The input terminal of the third-
図3に示したチャージポンプ回路42の動作の一例を説明する。例えば、発振回路61からの発振信号がLレベルの場合、インバータ62がHレベルを出力し、昇圧回路63の1段目のインバータ64がLレベルを出力する。これにより、コンデンサ65の一端が内部電位VGNDに接続され、コンデンサ65はダイオード66を介して電源電圧Vccが充電される。この結果、コンデンサ65の端子電圧は、Vcc-Vfとなる。ここで、Vfはダイオード66,67,71の順方向電圧である。
An example of the operation of the
次に、発振回路61からの発振信号がHレベルになると、インバータ62がLレベルを出力し、昇圧回路63の1段目のインバータ64がHレベルを出力する。これにより、コンデンサ65の一端には電源電圧Vccが印加される。この結果、コンデンサ65の他端の電圧は2(Vcc-VGND)-Vf+VGNDとなる。このとき、昇圧回路63の2段目のインバータ68がLレベルを出力する。これにより、コンデンサ69の一端が内部電位VGNDに接続され、コンデンサ69の他端には1段目のダイオード67を介して2(Vcc-VGND)-Vfの電圧が印加される。この結果、コンデンサ69の端子電圧は、2(Vcc-VGND)-2Vf+VGNDとなる。
Next, when the oscillation signal from the
次に、発振回路61からの発振信号がLレベルになると、2段目のインバータ68がHレベルを出力する。これにより、コンデンサ69の一端には電源電圧Vccが印加される。この結果、コンデンサ69の他端の電圧は、2(Vcc-VGND)-2Vf+VGNDの電圧にVccが重畳されて3(Vcc-VGND)-2Vf+VGNDとなる。このとき、昇圧回路63の3段目のインバータ72がLレベルを出力する。これにより、コンデンサ73の一端が内部電位VGNDに接続され、コンデンサ73の他端には、2段目のダイオード71を介して3(Vcc-VGND)-2Vf+VGNDの電圧が印加される。この結果、コンデンサ73の端子電圧は、3(Vcc-VGND)-3Vf+VGNDとなる。この3(Vcc-VGND)-3Vf+VGNDに昇圧された電圧は、ダイオード75を介して、ゲート信号GSとして出力される。なお、図3に示したチャージポンプ回路42の構成は一例であり、これに特に限定されない。
Next, when the oscillation signal from the
図2に示した動作回路11の説明に戻る。動作回路11は更に、制御回路素子43、テストパッド(ゲートパッド)44及び抵抗45を有する。制御回路素子43、テストパッド44及び抵抗45は、内部電位生成回路41及びチャージポンプ回路42と同一のチップに集積化されている。制御回路素子43、テストパッド44及び抵抗45のチップ内の配置位置は特に限定されない。
Returning to the description of the
図2では、制御回路素子43がMOSFETである場合を例示するが、MOSFET以外のMISトランジスタやIGBT等の他のスイッチング素子であってもよい。制御回路素子43の第1主端子領域(ソース)は、内部電位生成回路41の出力端子及びチャージポンプ回路42の第1入力端子に接続されている。制御回路素子43の第2主端子領域(ドレイン)は、電源端子21、内部電位生成回路41の第2入力端子、及びチャージポンプ回路42の第2入力端子に接続されている。制御回路素子43の制御端子(ゲート)にはテストパッド44が接続されている。
Although FIG. 2 illustrates the case where the
テストパッド44は、プローブカードの針を当てられるように例えば100μm角程度のサイズを有する。図1に示した過電流検出回路13の過電流閾値電圧VOCの試験の際には、テストパッド44に所定の電圧(例えば18V程度)を印加することにより制御回路素子43をオンさせる。IPSの通常動作時には、テストパッド44には電圧は印加されず、制御回路素子43は非導通となる。
The
テストパッド44及び制御回路素子43のゲートと、内部電位生成回路41の出力端子及びチャージポンプ回路42の第1入力端子との間には、抵抗45が接続されている。抵抗45は、テストパッド44に電圧を印加した際のサージを吸収する機能を有する。
A
<比較例>
ここで、比較例として、図2に示した動作回路11の代わりに、図4に示した動作回路11xを用いた場合を説明する。図4に示すように、比較例に係る動作回路11xは、内部電位生成回路41及びチャージポンプ回路42を有する点は図2に示した動作回路11と同様であるが、制御回路素子43、テストパッド44及び抵抗45を有しない点が図2に示した動作回路11と異なる。
<Comparative example>
Here, as a comparative example, a case where the
比較例に係る動作回路11xを用いた場合において、図1に示した過電流検出回路13の過電流閾値電圧VOCを測定する際には、過電流検出回路13が動作可能な状態とするように、入力信号INをHレベルとする必要がある。このため、論理回路12は入力信号INとしてHレベルを受けて、動作回路11を動作させるための制御信号CSを出力する。動作回路11は、論理回路12からの制御信号CSを受けて動作し、出力段素子10をオンさせる。出力段素子10をオン状態として、出力端子22に負荷32に替えて接続した可変電圧電源により可変電圧を出力電圧VOUTとして印加する。出力電圧VOUTを電源電圧Vccから徐々に下げつつ、出力電圧VOUTを電圧計により測定する。
When the
出力電圧VOUTが下がり、式(1)の関係を満たすと過電流検出回路13が動作し、過電流検出信号DSを出力する。論理回路12は、過電流検出回路13からの過電流検出信号DSを受けて、状態信号STをHレベルからLレベルへ切り替えて出力する。状態信号STがLレベルへ変化したときの出力電圧VOUTを電圧計により測定し、電源電圧Vccから測定された出力電圧VOUTを減算することにより、過電流閾値電圧VOCを算出することができる。
When the output voltage V OUT drops and the relationship of expression (1) is satisfied, the
比較例に係る動作回路11xを用いた過電流閾値電圧VOCの測定の際には、上述したように出力段素子10がオン状態のため、出力段素子10には式(2)で示した電流IOUTが流れる。出力段素子10がオン状態で出力電圧VOUTを変動させるには、出力段素子10に数Aの電流IOUTを流す必要がある。したがって、プローブカードの針本数が増大し、プローブエリア増大によりチップサイズが増大する。一方、ウェハ状態で試験を実施しない場合、組立時の試験において過電流閾値電圧VOCの不良に起因した不良が発生し、組立材料及び組立工数のロスが発生する。
When the overcurrent threshold voltage VOC is measured using the
<半導体集積回路の動作>
これに対して、図2に示した動作回路11を用いた本発明の実施形態に係る半導体集積回路1における、ウェハ状態での過電流検出回路13の過電流閾値電圧VOUTの試験方法の一例を説明する。
<Operation of Semiconductor Integrated Circuit>
On the other hand, in the semiconductor integrated circuit 1 according to the embodiment of the present invention using the
図1に示した制御回路31から入力信号INとして、出力段素子10のオン指令であるHレベルが入力端子23を介して入力される。論理回路12は、入力信号INとしてHレベルを受けて、動作回路11を動作させるための制御信号CSを出力する。図2に示した動作回路11の内部電位生成回路41は、論理回路12からの制御信号CSを受けて動作し、電源電位Vccよりも低い内部電位VGNDを生成し、生成した内部電位VGNDをチャージポンプ回路42へ出力する。チャージポンプ回路42は、内部電位VGNDを受けて動作し、電源電位Vccを基準として、出力段素子10のゲート信号GSの電位を昇圧することにより、出力段素子10をオン状態となる。
An H level, which is an ON command for the
この際、図2に示したテストパッド44にプローブカードの針を当てて所定の電圧(例えば18V程度)が印加され、制御回路素子43をオン状態とする。これにより、電源端子21、内部電位生成回路41の第2入力端子、及びチャージポンプ回路42の第2入力端子に供給されている電源電圧Vccと、内部電位生成回路41の出力端子及びチャージポンプ回路42の第1入力端子に供給されている内部電位VGNDを短絡し、電源電圧Vccと内部電位VGND間の電圧を無くす。これにより、チャージポンプ回路42を強制的に停止させ、無効化することができる。この結果、図1に示した制御回路31から入力信号INが入力されている場合でも、出力段素子10をオフさせることができる。
At this time, the needle of the probe card is applied to the
出力段素子10をオフ状態として、出力端子22に負荷32に替えて接続した可変電圧電源により可変電圧を出力電圧VOUTとして印加する。出力電圧VOUTを電源電圧Vccから徐々に下げながら、出力電圧VOUTを電圧計で計測する。この際、出力段素子10がオフ状態のため、出力段素子10には電流IOUTが流れない。但し、制御回路31から入力信号INが入力されているため、過電流検出回路13は動作可能な状態となっている。
With the
出力電圧VOUTの印加開始から出力電圧VOUTが式(1)を満たすまでの間は、過電流検出回路13は動作せず、過電流検出信号DSを出力しない。論理回路12は、過電流検出回路13から過電流検出信号DSが出力されないため、状態信号STとしてLレベルを状態端子24を介して制御回路31へ出力する。
From the start of application of the output voltage V OUT until the output voltage V OUT satisfies equation (1), the
その後、出力電圧VOUTが下がり、式(1)を満たす関係となった場合、過電流検出回路13が動作し、過電流検出信号DSを出力する。論理回路12は、過電流検出回路13から過電流検出信号DSを受けて、状態信号STをHレベルからLレベルに切り替えて、状態端子24を介して制御回路31へ出力する。状態信号STがLレベルとなったタイミングにおける出力電圧VOUTを電圧計により測定し、電源電位Vccから測定された出力電圧VOUTを減算することにより、過電流閾値電圧VOCを算出することができる。
After that, when the output voltage V OUT drops and the relationship satisfies the expression (1), the
以上説明したように、本発明の実施形態に係る半導体集積回路1によれば、ウェハ状態での過電流閾値電圧VOCの試験の際に、制御回路31からの入力信号INがHレベルでも、即ち、制御回路31から出力段素子10のオン指令が出ている状態でも、出力段素子10をオンさせず、出力段素子10に電流IOUTを流さずに過電流閾値電圧VOCを測定することができる。したがって、出力段素子10がオン状態で過電流閾値電圧VOCを測定する場合と比較して、プローブカードの針本数を低減することができ、プローブエリア増大によるチップサイズ増大を抑制することができる。また、ウェハ状態での特性保証が可能となるので、組立不良の発生を抑制することができる。
As described above, according to the semiconductor integrated
<実施例>
本発明の実施形態に係る半導体集積回路1において、過電流検出回路13の過電流閾値電圧VOCを測定した。図1に示した電源電位Vccを13V、入力信号INの電圧VINのHレベルを5V、状態信号STの電圧VSTのHレベルを5Vとした。図2に示したテストパッド44に電圧を印加して制御回路素子43をオンし、内部電位VGNDと電源電位Vccを短絡させた。この状態で、出力端子22に接続した電流容量数十mAのパルスジェネレータにより、出力電圧VOUTを13Vから12Vまで下げた後、13Vまで戻すようにスイープしたときの波形を図5に示す。
<Example>
The overcurrent threshold voltage VOC of the
図5に示すように、状態信号STの電圧VSTが時刻t1においてHレベルからLレベルに変化し、時刻t2でLレベルからHレベルに変化している。時刻t1における出力電圧VOUTは12.7Vであり、電源電圧Vccの13Vから12.7Vを減算することにより、過電流閾値電圧VOCが0.3Vであることが確認された。図5に示す波形には現れていないが、出力電圧VOUTのスイープには電流容量数十mAのパルスジェネレータを用いており、出力段素子10に電流IOUTが流れていないことも確認された。したがって、出力段素子10に電流IOUTを流さずに、過電流閾値電圧VOCを測定することができた。
As shown in FIG. 5, the voltage VST of the state signal ST changes from H level to L level at time t1, and changes from L level to H level at time t2. The output voltage VOUT at time t1 was 12.7V, and it was confirmed that the overcurrent threshold voltage VOC was 0.3V by subtracting 12.7V from the power supply voltage Vcc of 13V. Although not shown in the waveform shown in FIG. 5, a pulse generator with a current capacity of several tens of mA was used for sweeping the output voltage VOUT , and it was also confirmed that the current IOUT did not flow through the
(その他の実施形態)
上記のように、本発明は実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面は本発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
(Other embodiments)
As noted above, although the present invention has been described by way of embodiments, the discussion and drawings forming part of this disclosure should not be understood as limiting the invention. Various alternative embodiments, implementations and operational techniques will become apparent to those skilled in the art from this disclosure.
例えば、本発明の実施形態では、半導体集積回路1の電気的特性として、出力段素子10の過電流を検出する過電流検出回路13の過電流閾値電圧VOCを測定する場合を例示したが、過電流閾値電圧VOCを測定する場合に限定されない。出力段素子10のオン指令時、即ち制御回路31からの入力信号INがHレベルの場合にのみ動作する電気的特性の試験の際に、出力段素子10に電流を流さずに測定可能とする状況であれば、本発明の実施形態に係る半導体集積回路は適用可能である。
For example, in the embodiment of the present invention, as an electrical characteristic of the semiconductor integrated
1…半導体集積回路
10…出力段素子
11…動作回路
12…論理回路
13…過電流検出回路
21…電源端子
22…出力端子
23…入力端子
24…状態端子
25…接地端子
30…電源
31…制御回路
32…負荷
41…内部電位生成回路
42…チャージポンプ回路
43…制御回路素子
44…テストパッド
45…抵抗
61…発振回路
62,64,68,72…インバータ
63…昇圧回路
65,69,73…コンデンサ
66,67,70,71,74,75…ダイオード
REFERENCE SIGNS
Claims (4)
前記出力段素子のオン指令時に動作し、前記出力段素子の電気的特性を検出する特性検出回路と、
前記電源から供給される電源電位を基準として、前記電源電位よりも低い内部電位を生成する内部電位生成回路と、
前記生成された内部電位に応じて、前記電源電位を昇圧することにより前記出力段素子を駆動するゲート信号を出力するチャージポンプ回路と、
前記電源に第1主端子領域が接続され、前記内部電位生成回路の出力端子と前記チャージポンプ回路の入力端子との間に第2主端子領域が接続された制御回路素子と、
前記制御回路素子の制御電極に接続されたテストパッドと、
を備え、
前記出力段素子のオン指令時に、前記テストパッドに電圧を印加して前記制御回路素子をオンすることにより前記チャージポンプ回路を強制的に停止させ、前記出力段素子をオフさせた状態で、前記特性検出回路が動作する閾値電圧を測定することを特徴とする半導体集積回路。 an output stage element connected between the power supply and the load;
a characteristic detection circuit that operates when an ON command is given to the output stage element and detects an electrical characteristic of the output stage element;
an internal potential generation circuit for generating an internal potential lower than the power supply potential with reference to the power supply potential supplied from the power supply;
a charge pump circuit that outputs a gate signal for driving the output stage element by boosting the power supply potential according to the generated internal potential;
a control circuit element having a first main terminal region connected to the power supply and having a second main terminal region connected between an output terminal of the internal potential generation circuit and an input terminal of the charge pump circuit;
a test pad connected to the control electrode of the control circuit element;
with
When the output stage element is instructed to turn on, the charge pump circuit is forcibly stopped by applying a voltage to the test pad to turn on the control circuit element, and with the output stage element turned off, the A semiconductor integrated circuit characterized by measuring a threshold voltage at which a characteristic detection circuit operates.
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