JP7102793B2 - Resin substrate - Google Patents

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Description

本発明は、樹脂基板に関する。 The present invention relates to a resin substrate.

近年、自動車に搭載される電子機器の数は増加傾向にあり、これら電子機器の小型化が急速に進んでいる。一方で、小型化に伴い高密度化された導体から発生する発熱量は大きくなってきており、いかに熱を放散させるかが重要な課題となっている。
従来のガラス-エポキシ樹脂によるプリント基板の放熱性を改良する技術として、金属基板の一面もしくは両面に絶縁層を介して回路パターンを形成する金属ベース基板、及びアルミナや窒化アルミなどのセラミック基板に銅板をダイレクトに接合した基板が提案されている。上記の金属ベース基板およびセラミック基板は、性能およびコストの面で両立させることが難しい。
そして、樹脂基板の放熱性を得るために、樹脂粘度を低くし、無機充填材を高濃度に充填した樹脂組成、および樹脂基板が提案されている。例えば、特許文献1には、無機充填材を高濃度に充填する事が可能で放熱性に優れた熱伝導シート状物とそれを用いた熱伝導基板が開示されており、放熱性が必要とされる基板用途に適していると考えられている。
In recent years, the number of electronic devices installed in automobiles has been increasing, and the miniaturization of these electronic devices is rapidly progressing. On the other hand, the amount of heat generated from a densified conductor is increasing with the miniaturization, and how to dissipate the heat has become an important issue.
As a technique for improving the heat dissipation of a conventional glass-epoxy resin printed circuit board, a metal base substrate that forms a circuit pattern on one or both sides of a metal substrate via an insulating layer, and a copper plate on a ceramic substrate such as alumina or aluminum nitride. A substrate in which the above is directly bonded has been proposed. It is difficult to achieve both the metal base substrate and the ceramic substrate in terms of performance and cost.
Then, in order to obtain the heat dissipation of the resin substrate, a resin composition in which the resin viscosity is lowered and the inorganic filler is filled in a high concentration, and a resin substrate have been proposed. For example, Patent Document 1 discloses a heat conductive sheet-like material that can be filled with an inorganic filler at a high concentration and has excellent heat dissipation, and a heat conductive substrate using the same, and heat dissipation is required. It is considered to be suitable for substrate applications.

特許第3312723号公報Japanese Patent No. 33127223

しかしながら、特許文献1に記載の様な無機充填材を高濃度に充填した樹脂基板は、溶融時の流動性が低下するため、積層板を作製する際に複雑な回路パターンへの埋め込み性が低下するといった課題が有る。 However, a resin substrate filled with an inorganic filler at a high concentration as described in Patent Document 1 has a reduced fluidity at the time of melting, and therefore has a reduced embedding property in a complicated circuit pattern when manufacturing a laminated board. There is a problem such as doing.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、成形性を低下させる事なく、熱伝導率を向上する樹脂基板を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a resin substrate that improves thermal conductivity without lowering moldability.

本発明者らは、上記課題を解決するため、以下の手段を提供する。 The present inventors provide the following means for solving the above problems.

[1] 無機充填材を含む熱硬化性樹脂組成物を繊維基材に保持して半硬化状態としたプリプレグを1枚、もしくは2枚以上加熱加圧して成形した樹脂基板であって、
前記樹脂基板の厚さをtとし、縦t、横2tの厚み方向の切断面の面積を100面積%とした時、
酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分が0.5~8面積%有ることを特徴とする樹脂基板。
[2] 前記樹脂基板の厚み方向の切断面を、プリプレグの積層枚数nで厚み方向に等分し、プリプレグ1枚分に相当する縦t/n、横2tの面積をA1からAnとし、前記A1からAnのそれぞれの面積を100面積%とした時、酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分がA1からAnにそれぞれ0~20面積%有ることを特徴とする[1]に記載の樹脂基板。
[3] 前記プリプレグは、片面又は両面において空隙を有するプリプレグを含む[1]又は[2]の樹脂基板。
[1] A resin substrate formed by heating and pressurizing one or two or more prepregs in which a thermosetting resin composition containing an inorganic filler is held on a fiber base material and is in a semi-cured state.
When the thickness of the resin substrate is t and the area of the cut surface in the thickness direction of vertical t and horizontal 2 t is 100 area%,
A resin substrate characterized in that a portion of 10% or less of an element derived from an inorganic filler excluding oxygen and a fiber base material is present in an area% of 0.5 to 8%.
[2] The cut surface in the thickness direction of the resin substrate is equally divided in the thickness direction by the number of laminated prepregs n, and the areas of vertical t / n and horizontal 2t corresponding to one prepreg are set from A1 to An. When the area of each of A1 to An is 100 area%, the portion of 10% or less of the element derived from the inorganic filler and the fiber base material excluding oxygen is characterized by having 0 to 20 area% of each of A1 to An. The resin substrate according to [1].
[3] The resin substrate of [1] or [2], wherein the prepreg contains a prepreg having voids on one side or both sides.

本発明の樹脂基板の内に、部分的に充填材が少ない部分と多い部分を作り出すことにより、充填材が多い部分が熱伝導パスとなり、熱伝導率が高くなる。全体の無機充填材充填量を減らせるため、複雑な回路パターンへの埋込性も良い。成形性を低下させる事なく、熱伝導率を向上する樹脂基板を提供するができる。 By partially creating a portion having a small amount of the filler and a portion having a large amount of the filler in the resin substrate of the present invention, the portion having a large amount of the filler becomes a heat conduction path, and the thermal conductivity is increased. Since the total amount of the inorganic filler filled can be reduced, the embedding property in a complicated circuit pattern is also good. It is possible to provide a resin substrate having improved thermal conductivity without lowering moldability.

本発明第一実施形態の樹脂基板の構成を表す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the resin substrate of 1st Embodiment of this invention. 本発明第二実施形態の樹脂基板の構成を表す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the resin substrate of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第一実施形態の基板の製造方法の一例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating an example of the manufacturing method of the substrate of 1st Embodiment of this invention. 本発明の第一実施形態の樹脂基板の製造方法の他の例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating another example of the manufacturing method of the resin substrate of 1st Embodiment of this invention. 本発明の第二実施形態の樹脂基板の製造方法の一例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating an example of the manufacturing method of the resin substrate of the 2nd Embodiment of this invention. 成形性評価用基板の構成を表す平面図である。It is a top view which shows the structure of the substrate for formability evaluation. 図6に示した成形性評価用基板の構成を表す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the substrate for formability evaluation shown in FIG.

以下、本実施形態について、図を適宜参照しながら詳細に説明する。以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際とは異なっていることがある。以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。 Hereinafter, the present embodiment will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. The drawings used in the following description may be enlarged for convenience in order to make the features of the present invention easy to understand, and the dimensional ratios of the respective components may differ from the actual ones. be. The materials, dimensions, etc. exemplified in the following description are examples, and the present invention is not limited thereto, and the present invention can be appropriately modified without changing the gist thereof.

(樹脂基板)
本発明の樹脂基板は、無機充填材を含む熱硬化性樹脂組成物を繊維基材に保持して半硬化状態としたプリプレグを2枚以上加熱加圧して成形した樹脂基板である。本発明の樹脂基板は、前記樹脂基板の厚さをtとし、縦t、横2tの厚み方向の切断面の面積を100面積%とした時、酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分が0.5~8面積%有ることを特徴とする。酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分には、無機充填材が少ない箇所であり、以後、「無機充填材疎部」とも言う。また、酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分(無機充填材疎部)が1~7面積%有ることが好ましく、2~6面積%有ることがより好ましい。また、酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が5%以下の部分が0.5~6面積%有ることが好ましく、1~5面積%有ることがより好ましい。
(Resin substrate)
The resin substrate of the present invention is a resin substrate formed by heating and pressurizing two or more prepregs in which a thermosetting resin composition containing an inorganic filler is held on a fiber base material and is in a semi-cured state. The resin substrate of the present invention is derived from an inorganic filler and a fiber base material excluding oxygen when the thickness of the resin substrate is t and the area of the cut surface in the thickness direction of vertical t and horizontal 2 t is 100 area%. It is characterized in that there is 0.5 to 8 area% of a portion containing 10% or less of an element. The portion where the amount of the inorganic filler other than oxygen and the element derived from the fiber base material is 10% or less is a portion where the inorganic filler is small, and hereinafter, it is also referred to as "sparse portion of the inorganic filler". Further, it is preferable that the portion (sparse portion of the inorganic filler) containing 10% or less of the element derived from the inorganic filler excluding oxygen and the fiber base material is 1 to 7 area%, and more preferably 2 to 6 area%. Further, it is preferable that the portion of the inorganic filler excluding oxygen and the element derived from the fiber base material is 5% or less is 0.5 to 6 area%, and more preferably 1 to 5 area%.

このような無機充填材が少ない箇所(無機充填材疎部)が有ると、部分的に無機充填材が多くなっている箇所ができる。無機充填材が多い部分(「無機充填材密部」とも言う。)は熱伝導パスができやすい事から、樹脂基板の熱伝導率が向上する。無機充填材疎部が0.5面積%未満であると、熱伝導パスが少なく、熱伝導率は高くならない。無機充填材疎部が8面積%より多いと、熱伝導率が低い無機充填材が少ない箇所が多くなってしまい、熱伝導率は下がる。
本発明の樹脂基板は、基板の厚み方向の切断面を、プリプレグの積層枚数nで厚み方向に等分し、プリプレグ1枚分に相当する縦t/n、横2tの面積をA1からAnとし、前記A1からAnのそれぞれの面積を100面積%とした時、酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分(無機充填材疎部)がA1からAnにそれぞれ0~20面積%有ることが好ましい。無機充填材疎部がA1からAnにそれぞれ0.3~10面積%有ることがより好ましい。無機充填材が少ない部分(無機充填材疎部)がA1からAnにそれぞれ1.0~7.0面積%有ることが更に好ましい。
各プリプレグ1枚分に20面積%以上、無機充填材が少ない部分(無機充填材疎部)が有ると、熱伝導が阻害され、熱伝導率が低下する。
If there is such a place where the inorganic filler is small (sparse part of the inorganic filler), there is a part where the inorganic filler is abundant. Since a heat conduction path is easily formed in a portion having a large amount of inorganic filler (also referred to as “dense portion of inorganic filler”), the thermal conductivity of the resin substrate is improved. When the sparse portion of the inorganic filler is less than 0.5 area%, the heat conduction path is small and the heat conductivity does not increase. If the sparse portion of the inorganic filler is more than 8 area%, there are many places where the inorganic filler having low thermal conductivity is small, and the thermal conductivity is lowered.
In the resin substrate of the present invention, the cut surface in the thickness direction of the substrate is equally divided in the thickness direction by the number of laminated prepregs n, and the area of vertical t / n and horizontal 2t corresponding to one prepreg is set from A1 to An. When the area of each of A1 to An is 100 area%, the portion of the inorganic filler excluding oxygen and the element derived from the fiber base material of 10% or less (sparse portion of the inorganic filler) is 0 from A1 to An, respectively. It is preferable to have ~ 20 area%. It is more preferable that the sparse portion of the inorganic filler is 0.3 to 10 area% in each of A1 to An. It is more preferable that A1 to An each have 1.0 to 7.0 area% of a portion having a small amount of the inorganic filler (sparse portion of the inorganic filler).
If each prepreg has a portion of 20 area% or more and a small amount of the inorganic filler (sparse portion of the inorganic filler), heat conduction is inhibited and the thermal conductivity is lowered.

[第一実施形態]
<樹脂基板の構成>
図1は、本発明第一実施形態の樹脂基板10の構成を表す断面図である。本発明第一実施形態の樹脂基板10は、無機充填材を含む熱硬化性樹脂組成物を繊維基材15に保持して半硬化状態としたプリプレグを3枚加熱加圧して成形した樹脂基板である。本実施形態の樹脂基板10が熱硬化性樹脂組成物の硬化物12と繊維基材15とを含む。熱硬化性樹脂組成物の硬化物12が無機充填材を含む熱硬化性樹脂組成物を硬化してなるものであり、無機充填材と熱硬化性樹脂の硬化物とからなる。
[First Embodiment]
<Structure of resin substrate>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of the resin substrate 10 according to the first embodiment of the present invention. The resin substrate 10 of the first embodiment of the present invention is a resin substrate formed by heating and pressurizing three prepregs in which a thermosetting resin composition containing an inorganic filler is held on a fiber base material 15 and is in a semi-cured state. be. The resin substrate 10 of this embodiment contains a cured product 12 of a thermosetting resin composition and a fiber base material 15. The cured product 12 of the thermosetting resin composition is obtained by curing the thermosetting resin composition containing the inorganic filler, and is composed of the inorganic filler and the cured product of the thermosetting resin.

<樹脂基板の層構造>
本実施形態の樹脂基板10は、3枚のプリプレグに由来する3層構造からなる。第一層は、第一プリプレグ(図示なし)由来の熱硬化性樹脂組成物の硬化物12-1と繊維基材15-1とを有し、第二層は、第二プリプレグ由来の熱硬化性樹脂組成物の硬化物12-2と繊維基材15-2とを有し、第三層は、第三プリプレグ由来の熱硬化性樹脂組成物の硬化物12-3と繊維基材15-3とを有する。
<Layer structure of resin substrate>
The resin substrate 10 of the present embodiment has a three-layer structure derived from three prepregs. The first layer has a cured product 12-1 of a thermosetting resin composition derived from the first prepreg (not shown) and a fiber base material 15-1, and the second layer is thermosetting derived from the second prepreg. It has a cured product 12-2 of a sex resin composition and a fiber base material 15-2, and the third layer is a cured product 12-3 of a thermosetting resin composition derived from a third prepreg and a fiber base material 15-. Has 3 and.

本実施形態の樹脂基板10は、内部(プリプレグとプリプレグの界面)、および表層に、さらに金属箔が積層されて金属箔張基板を形成してもよい。表層に金属箔を積層する場合、金属箔は、一方の面のみに付設しても、両面に付設してもよい。 In the resin substrate 10 of the present embodiment, a metal foil may be further laminated on the inside (the interface between the prepreg and the prepreg) and on the surface layer to form a metal foil-covered substrate. When the metal foil is laminated on the surface layer, the metal foil may be attached to only one surface or both sides.

前記金属箔としては特に制限されず、通常用いられる金属箔から適宜選択することができる。具体的には金箔、銅箔、アルミニウム箔等を挙げることができ、一般的には銅箔が用いられる。前記金属箔の厚みとしては、1μm~200μmであれば特に制限されず、使用する電力等に応じて好適な厚みを選択することができる。 The metal foil is not particularly limited, and can be appropriately selected from commonly used metal foils. Specific examples thereof include gold foil, copper foil, and aluminum foil, and copper foil is generally used. The thickness of the metal foil is not particularly limited as long as it is 1 μm to 200 μm, and a suitable thickness can be selected according to the electric power used and the like.

また、前記金属箔として、ニッケル、ニッケル-リン、ニッケル-スズ合金、ニッケル-鉄合金、鉛、鉛-スズ合金等を中間層とし、この両表面に0.5μm~15μmの銅層と10μm~150μmの銅層を設けた3層構造の複合箔、又はアルミニウムと銅箔とを複合した2層構造複合箔を用いることもできる。 Further, as the metal foil, nickel, nickel-phosphorus, nickel-tin alloy, nickel-iron alloy, lead, lead-tin alloy and the like are used as intermediate layers, and a copper layer of 0.5 μm to 15 μm and a copper layer of 10 μm to 10 μm on both surfaces thereof. It is also possible to use a three-layer structure composite foil provided with a 150 μm copper layer, or a two-layer structure composite foil in which aluminum and copper foil are composited.

前記金属板は熱伝導率が高く、熱容量が大きい金属材料からなることが好ましい。具体的には、銅、アルミニウム、鉄、及びリードフレームに使われる合金等が例示できる。 The metal plate is preferably made of a metal material having a high thermal conductivity and a large heat capacity. Specifically, copper, aluminum, iron, alloys used for lead frames and the like can be exemplified.

前記金属板の板厚は用途に応じて適宜選択することができる。例えば、前記金属板は、軽量化や加工性を優先する場合はアルミニウムを、放熱性を優先する場合は銅を、というように目的を応じて材質を選定することができる。 The thickness of the metal plate can be appropriately selected depending on the intended use. For example, the material of the metal plate can be selected according to the purpose, such as aluminum when weight reduction and workability are prioritized, and copper when heat dissipation is prioritized.

前記基板10において、金属箔(銅箔)ピール強度を高めるため、従来の公知の方法で、金属箔を表面処理する前工程があってもよい。 In the substrate 10, in order to increase the peel strength of the metal foil (copper foil), there may be a pre-step of surface-treating the metal foil by a conventionally known method.

金属箔とプリプレグをプレス・成形する条件は、プリプレグの未硬化・半硬化熱硬化性樹脂を硬化することができれば、特に限定されない。例えば、加熱及び加圧処理であることが好ましい。加熱及び加圧処理における加熱温度は特に限定されない。通常100℃~250℃の範囲であり、好ましくは130℃~230℃の範囲である。また、加熱及び加圧処理における加圧条件は特に限定されない。通常1MPa~20MPaの範囲であり、好ましくは1MPa~15MPaの範囲である。また、加熱及び加圧処理には、真空プレスが好適に用いられる。
また、金属箔を備えた樹脂基板は、必要に応じて、エッチング処理および穴開け処理などの各種処理のうちいずれか1種類または2種類以上が施されていてもよい。
The conditions for pressing and molding the metal foil and the prepreg are not particularly limited as long as the uncured / semi-cured thermosetting resin of the prepreg can be cured. For example, heating and pressure treatment are preferable. The heating temperature in the heating and pressurizing treatment is not particularly limited. It is usually in the range of 100 ° C. to 250 ° C., preferably in the range of 130 ° C. to 230 ° C. Further, the pressurizing conditions in the heating and pressurizing treatment are not particularly limited. It is usually in the range of 1 MPa to 20 MPa, preferably in the range of 1 MPa to 15 MPa. Further, a vacuum press is preferably used for the heating and pressurizing treatment.
Further, the resin substrate provided with the metal foil may be subjected to any one or more of various treatments such as etching treatment and drilling treatment, if necessary.

<無機充填材疎部>
本実施形態の樹脂基板10は、無機充填材が少ない箇所(無機充填材疎部)18を有することを特徴とする。前記樹脂基板10の厚さをtとし、縦t、横2tの厚み方向の切断面の面積を100面積%とした時、この無機充填材疎部が0.5~8面積%有る。本発明の無機充填材が少ない箇所(無機充填材疎部)18は、酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分である。
<Inorganic filler sparse part>
The resin substrate 10 of the present embodiment is characterized by having a portion (sparse portion of the inorganic filler) 18 in which the amount of the inorganic filler is small. When the thickness of the resin substrate 10 is t and the area of the cut surface in the thickness direction of vertical t and horizontal 2 t is 100 area%, the inorganic filler sparse portion is 0.5 to 8 area%. The portion 18 where the inorganic filler of the present invention is small (sparse portion of the inorganic filler) is a portion where the element derived from the inorganic filler excluding oxygen and the fiber base material is 10% or less.

「無機充填材疎部の成分」
無機充填材疎部18の成分は、本発明の樹脂基板の熱伝導率と成形性の効果を達成することができれば、特に限定されないが、容易に製造する観点から、無機充填材疎部18の樹脂組成物の硬化物は、周囲の樹脂組成物の硬化物と同じ種類の熱硬化性樹脂と無機充填剤材を含むことが好ましい。
"Components of sparse parts of inorganic filler"
The component of the sparse portion 18 of the inorganic filler is not particularly limited as long as the effects of thermal conductivity and moldability of the resin substrate of the present invention can be achieved, but from the viewpoint of easy production, the sparse portion 18 of the inorganic filler 18 The cured product of the resin composition preferably contains the same type of thermosetting resin and inorganic filler as the cured product of the surrounding resin composition.

「無機充填材疎部の配置」
本実施形態の無機充填材疎部18の配置(分布)としては、樹脂基板の熱伝導率と成形性の効果があれば特に限定がないが、熱伝導経路を形成しやすい観点から、熱伝導経路を阻害しない位置にあることが好ましい。例えば、本実施形態の無機充填材疎部18は、樹脂基板10の厚み方向の切断面において、図1に示すように、第一層の繊基材15-1と第二層の繊維基材15-2との間に形成されている。より具体的には、例えば、図1に示す樹脂基板10の厚み方向の切断面において、同一層の繊維基材の開口部の真下の部分でない箇所で形成されていることが好ましい。更に、容易に製造する観点から、一例として、第一層の樹脂組成物の硬化物12-1と第二層の樹脂組成物の硬化物12-2との接続面において、硬化物12-1の側に形成されてもよい。
"Arrangement of sparse parts of inorganic filler"
The arrangement (distribution) of the sparse portion 18 of the inorganic filler of the present embodiment is not particularly limited as long as it has the effects of thermal conductivity and moldability of the resin substrate, but from the viewpoint of easily forming a thermal conduction path, thermal conduction It is preferably in a position that does not obstruct the pathway. For example, in the sparse portion 18 of the inorganic filler of the present embodiment, as shown in FIG. 1, the fiber base material 15-1 of the first layer and the fiber base material of the second layer are formed on the cut surface of the resin substrate 10 in the thickness direction. It is formed between 15-2. More specifically, for example, it is preferable that the resin substrate 10 is formed at a portion not directly below the opening of the fiber substrate of the same layer on the cut surface in the thickness direction of the resin substrate 10 shown in FIG. Further, from the viewpoint of easy production, as an example, at the connecting surface between the cured product 12-1 of the resin composition of the first layer and the cured product 12-2 of the resin composition of the second layer, the cured product 12-1 It may be formed on the side of.

「無機充填材疎部のサイズ」
本実施形態の無機充填材疎部18のサイズとしては、樹脂基板の熱伝導率と成形性の効果があれば特に限定がないが、熱伝導経路を形成しやすい観点から、例えば、本実施形態の無機充填材疎部18は、樹脂基板10の厚み方向の切断面において、図1に示すように、幅が繊維基材の開口径以下であることが好ましい。
"Size of sparse part of inorganic filler"
The size of the sparse portion 18 of the inorganic filler of the present embodiment is not particularly limited as long as it has the effects of thermal conductivity and moldability of the resin substrate, but from the viewpoint of easily forming a thermal conductive path, for example, the present embodiment. As shown in FIG. 1, the width of the sparse portion 18 of the inorganic filler is preferably equal to or less than the opening diameter of the fiber base material on the cut surface of the resin substrate 10 in the thickness direction.

「無機充填材疎部の形状」
本実施形態の無機充填材疎部18の形状としては、樹脂基板の熱伝導率と成形性の効果があれば特に限定がないが、熱伝導経路を形成しやすい観点から、例えば、本実施形態の無機充填材疎部18は、樹脂基板10の厚み方向の切断面において、図1に示すように、基板面と並行する横幅が、基板厚さと並行する厚さより大きい略楕円状か平板状(ディスク状)であることが好ましい。
"Shape of sparse part of inorganic filler"
The shape of the sparse portion 18 of the inorganic filler of the present embodiment is not particularly limited as long as it has the effects of thermal conductivity and moldability of the resin substrate, but from the viewpoint of easily forming a thermal conductive path, for example, the present embodiment. As shown in FIG. 1, the inorganic filler sparse portion 18 has a substantially elliptical shape or a flat plate shape in which the width parallel to the substrate surface is larger than the thickness parallel to the substrate thickness on the cut surface of the resin substrate 10 in the thickness direction. It is preferably in the form of a disk).

<樹脂基板の製造方法>
本実施形態の積層基板は、プリプレグを硬化したものである。
本実施形態の樹脂基板の製造方法の一実施形態において、まず、図3(a)~(b)に示すように、例えば、第二プリプレグ33-1と第二プリプレグ33-2を2枚用いて加熱プレス・成形工程により、基板37を形成することができる。
<Manufacturing method of resin substrate>
The laminated substrate of this embodiment is a cured prepreg.
In one embodiment of the method for manufacturing a resin substrate of the present embodiment, first, as shown in FIGS. 3A to 3B, for example, two second prepregs 33-1 and two second prepregs 33-2 are used. The substrate 37 can be formed by a heating press / molding step.

基板37は、図3(c)~(d)に示すように、更に、空隙を有する第一プリプレグ31を1枚用いて、第一プリプレグ31の空隙を有する側面と基板37に対向して、加熱プレス・成形工程により、本実施形態の樹脂基板30を形成することができる。
空隙を有する第一プリプレグ31と基板37を積層して樹脂基板30を作製すると、空隙部分には樹脂が優先的に流れ込んで空隙を埋めるため、空隙が有った部分には無機充填材が少ない箇所(無機充填材疎部38)が生じ、空隙が有った部分の周囲には無機充填材が多い箇所が生じる。
第一プリプレグ31の空隙の大きさは、繊維基材35-1の目開きよりも小さな空隙となるよう、スリットダイの繊維基材35-1への押し込み量と接触角度、および塗料の吐出量によって制御する。繊維基材35-1の目開きよりも大きな空隙が多数あると、プリプレグ1枚当たりの無機充填材疎部の面積が大きくなり、熱伝導が伝わりにくくなる場合が有る。
As shown in FIGS. 3C to 3D, the substrate 37 further uses one first prepreg 31 having a gap, and faces the side surface of the first prepreg 31 having a gap and the substrate 37. The resin substrate 30 of the present embodiment can be formed by the heat pressing / molding step.
When the resin substrate 30 is produced by laminating the first prepreg 31 having voids and the substrate 37, the resin preferentially flows into the voids to fill the voids, so that there is little inorganic filler in the voids. A portion (sparse portion 38 of the inorganic filler) is generated, and a portion having a large amount of the inorganic filler is generated around the portion having the void.
The size of the gap of the first prepreg 31 is smaller than the opening of the fiber base material 35-1, so that the amount of pushing the slit die into the fiber base material 35-1 and the contact angle, and the amount of paint discharged Controlled by. If there are many voids larger than the opening of the fiber base material 35-1, the area of the sparse portion of the inorganic filler per prepreg may become large, and heat conduction may be difficult to transfer.

第二プリプレグ33をプレス・成形し、基板37を形成する条件は、第二プリプレグ33の未硬化・半硬化熱硬化性樹脂を硬化することができれば、特に限定されない。上記したプリプレグの製造方法とは異なり、硬化反応を実質的に進行させる条件であることが好ましい。例えば、加熱及び加圧処理であることが好ましい。加熱及び加圧処理における加熱温度は特に限定されない。通常100℃~250℃の範囲であり、好ましくは130℃~230℃の範囲である。また、加熱及び加圧処理における加圧条件は特に限定されない。通常1MPa~20MPaの範囲であり、好ましくは1MPa~15MPaの範囲である。また、加熱及び加圧処理には、真空プレスが好適に用いられる。 The conditions for pressing and molding the second prepreg 33 to form the substrate 37 are not particularly limited as long as the uncured / semi-cured thermosetting resin of the second prepreg 33 can be cured. Unlike the above-mentioned method for producing a prepreg, it is preferable that the conditions are such that the curing reaction substantially proceeds. For example, heating and pressure treatment are preferable. The heating temperature in the heating and pressurizing treatment is not particularly limited. It is usually in the range of 100 ° C. to 250 ° C., preferably in the range of 130 ° C. to 230 ° C. Further, the pressurizing conditions in the heating and pressurizing treatment are not particularly limited. It is usually in the range of 1 MPa to 20 MPa, preferably in the range of 1 MPa to 15 MPa. Further, a vacuum press is preferably used for the heating and pressurizing treatment.

第一プリプレグ31と基板37をプレス・成形し、樹脂基板30を形成する条件は、第一プリプレグ31の未硬化・半硬化熱硬化性樹脂を硬化し、無機充填材疎部38を形成することができれば、特に限定されない。通常100℃~250℃の範囲であり、好ましくは130℃~230℃の範囲である。また、加熱及び加圧処理における加圧条件は特に限定されない。通常1MPa~20MPaの範囲であり、好ましくは1MPa~15MPaの範囲である。また、加熱及び加圧処理には、真空プレスが好適に用いられる。 The condition for forming the resin substrate 30 by pressing and molding the first prepreg 31 and the substrate 37 is that the uncured / semi-cured thermosetting resin of the first prepreg 31 is cured to form the inorganic filler sparse portion 38. If possible, there is no particular limitation. It is usually in the range of 100 ° C. to 250 ° C., preferably in the range of 130 ° C. to 230 ° C. Further, the pressurizing conditions in the heating and pressurizing treatment are not particularly limited. It is usually in the range of 1 MPa to 20 MPa, preferably in the range of 1 MPa to 15 MPa. Further, a vacuum press is preferably used for the heating and pressurizing treatment.

図3に示す例において、基板37に用いる第二プリプレグ33が2枚であるが、2枚に限らず、1枚でも、3枚以上でもよい。この枚数は、第二プリプレグ33の厚さおよび強度などの条件に基づいて適宜設定可能である。また、樹脂基板30に用いる第一プリプレグ31が1枚であるが、1枚に限らず、2枚以上でもよい。 In the example shown in FIG. 3, the number of the second prepregs 33 used for the substrate 37 is two, but the number is not limited to two, and one or three or more may be used. This number can be appropriately set based on conditions such as the thickness and strength of the second prepreg 33. Further, although the number of the first prepreg 31 used for the resin substrate 30 is one, the number is not limited to one, and two or more may be used.

本実施形態の樹脂基板の製造方法のその他の例において、まず、図4(a)~(b)に示すように、例えば、空隙を有する第一プリプレグ41と空隙を有しない第二プリプレグ43-1と空隙を有しない第二プリプレグ43-2とを積層して樹脂基板40を作製する。具体的には、第一プリプレグ41の空隙を有する側面と第二プリプレグ43-1に対向して、加熱プレス・成形工程により、樹脂基板40を形成することができる。第二プリプレグ41の空隙部分には樹脂が優先的に流れ込んで空隙を埋めるため、空隙が有った部分は無機充填材が少ない無機充填材疎部48が、空隙が有った部分の周囲には無機充填材が多い箇所が生じる。 In another example of the method for producing a resin substrate of the present embodiment, first, as shown in FIGS. 4A to 4B, for example, a first prepreg 41 having a gap and a second prepreg 43 having no gap- The resin substrate 40 is produced by laminating 1 and the second prepreg 43-2 having no voids. Specifically, the resin substrate 40 can be formed by a heat pressing / molding step so as to face the side surface of the first prepreg 41 having a gap and the second prepreg 43-1. Since the resin preferentially flows into the void portion of the second prepreg 41 to fill the void, the inorganic filler sparse portion 48 having less inorganic filler is formed around the void portion in the portion having the void. There are places where there are many inorganic fillers.

第一プリプレグ41と第二プリプレグ43-1と第二プリプレグ43-2とをプレス・成形し、樹脂基板40を形成する条件は、プリプレグの未硬化・半硬化熱硬化性樹脂を硬化し、無機充填材疎部48を形成することができれば、特に限定されない。通常100℃~250℃の範囲であり、好ましくは130℃~230℃の範囲である。また、加熱及び加圧処理における加圧条件は特に限定されない。通常1MPa~20MPaの範囲であり、好ましくは1MPa~15MPaの範囲である。また、加熱及び加圧処理には、真空プレスが好適に用いられる。 The condition for forming the resin substrate 40 by pressing and molding the first prepreg 41, the second prepreg 43-1 and the second prepreg 4-3 is that the uncured / semi-cured thermosetting resin of the prepreg is cured and inorganic. The present invention is not particularly limited as long as the filler sparse portion 48 can be formed. It is usually in the range of 100 ° C. to 250 ° C., preferably in the range of 130 ° C. to 230 ° C. Further, the pressurizing conditions in the heating and pressurizing treatment are not particularly limited. It is usually in the range of 1 MPa to 20 MPa, preferably in the range of 1 MPa to 15 MPa. Further, a vacuum press is preferably used for the heating and pressurizing treatment.

図4に示す例において、樹脂基板40に用いる第一プリプレグ41が1枚であるが、1枚に限らず、2枚以上でもよい。第二プリプレグ43が2枚であるが、2枚に限らず、1枚でも、3枚以上でもよい。 In the example shown in FIG. 4, the number of the first prepreg 41 used for the resin substrate 40 is one, but the number is not limited to one, and two or more may be used. The number of the second prepreg 43 is two, but the number is not limited to two, and one or three or more may be used.

<空隙を有する第一プリプレグの作製方法>
本発明の第一実施態様の樹脂基板の製造に用いる空隙を有する第一プリプレグは熱硬化性樹脂と無機充填材を混合して作製した樹脂組成物を、ガラスクロスなどの繊維基材の片面からスリットダイを用いて塗布し、繊維基材の目開きを通して繊維基材の塗布裏面に通過させることによって繊維基材に樹脂組成物を保持させる塗布方法において、ガラスクロスなどの繊維基材へのスリットダイの押し込み量と接触角度、および塗料の吐出量を制御することにより、ガラスクロスなどの繊維基材の目開きを通る塗料量を減らし、塗布裏面に空隙がある第一プリプレグを作製することができる。
<Method of producing the first prepreg with voids>
The first prepreg having voids used for producing the resin substrate of the first embodiment of the present invention is a resin composition prepared by mixing a thermosetting resin and an inorganic filler from one side of a fiber base material such as a glass cloth. In a coating method in which the resin composition is held by the fiber base material by applying it using a slit die and passing it through the opening of the fiber base material to the coating back surface of the fiber base material, a slit in the fiber base material such as glass cloth is used. By controlling the die pushing amount and contact angle, and the paint ejection amount, it is possible to reduce the amount of paint passing through the opening of the fiber base material such as glass cloth and to produce a first prepreg with voids on the back surface of the coating. can.

また、プリプレグに空隙を形成するその他方法としては、半硬化温度で気化する発泡剤の添加や、プリプレグ表面の凹状パターの加工(エンボス加工)などが挙げられる。その場合、空隙になった箇所の裏面が凸になったり、空隙の周囲が凸になったりすることにならないことが好ましい。また、有機充填剤(粒子)の添加により、無機充填材疎部の作製も可能である。例えば、後述の空隙を有しない第二プリプレグを作製した後に、片面に剣山状の突起を押し付けて凹凸を作った後、平板を押しあてるなどの方法で凸になった部分を平らに慣らせば、空隙を形成することができる。 Other methods for forming voids in the prepreg include addition of a foaming agent that vaporizes at a semi-curing temperature and processing of a concave putter on the surface of the prepreg (embossing). In that case, it is preferable that the back surface of the gap is not convex or the periphery of the gap is not convex. Further, by adding an organic filler (particles), it is possible to prepare a sparse portion of an inorganic filler. For example, after producing a second prepreg that does not have a gap, which will be described later, a sword-shaped protrusion is pressed against one side to create unevenness, and then a flat plate is pressed against the convex portion to flatten the convex portion. For example, a void can be formed.

樹脂組成物としては、具体的には、例えば、樹脂組成物に含まれているエポキシ樹脂および硬化剤それぞれが固形である場合、粉体状に粉砕して混合し粉体状の樹脂組成物を加熱、溶融させて、溶融した樹脂組成物を用いることができる。 Specifically, as the resin composition, for example, when each of the epoxy resin and the curing agent contained in the resin composition is solid, the resin composition is crushed into a powder and mixed to obtain a powder resin composition. The resin composition melted by heating and melting can be used.

また、樹脂組成物としては、樹脂組成物に、メチルエチルケトンやシクロヘキサノン等の溶剤を加えて、混合した樹脂組成物の塗料を用いることができる。 Further, as the resin composition, a paint having a resin composition obtained by adding a solvent such as methyl ethyl ketone or cyclohexanone to the resin composition and mixing the resin composition can be used.

第一プリプレグにおける前記樹脂組成物の含有率は、特に限定することはない。成形性の観点から、20vol%以上であることが好ましく、30vol%以上であることがより好ましい。また、多層基板の位置合わせ精度、寸法精度の観点から、80vol%以下であることが好ましく、70vol%以下であることがより好ましく、60vol%以下であることが更に好ましい。 The content of the resin composition in the first prepreg is not particularly limited. From the viewpoint of moldability, it is preferably 20 vol% or more, and more preferably 30 vol% or more. Further, from the viewpoint of alignment accuracy and dimensional accuracy of the multilayer substrate, it is preferably 80 vol% or less, more preferably 70 vol% or less, and further preferably 60 vol% or less.

樹脂組成物の塗料を用いる場合、乾燥方法は、塗料に含まれる有機溶剤の少なくとも一部を除去できれば特に制限されず、通常用いられる乾燥方法から、塗料に含まれる有機溶剤に応じて適宜選択することができる。一般的には、60℃~150℃程度で加熱処理する方法を挙げることができる。
このときの固化とは、流動性を有する液状物が自立可能な状態の固体状態に変化することを指す。塗料に含まれる有機溶剤が一部残留する状態も、半硬化状態も固化状態に含むことができる。例えば、60~150℃で1~120分程度、好ましくは70~120℃で3~90分程度の条件下で固化させることができる。
When the paint of the resin composition is used, the drying method is not particularly limited as long as at least a part of the organic solvent contained in the paint can be removed, and is appropriately selected from the commonly used drying methods according to the organic solvent contained in the paint. be able to. Generally, a method of heat treatment at about 60 ° C. to 150 ° C. can be mentioned.
The solidification at this time means that the liquid material having fluidity changes to a solid state in which it can stand on its own. The solidified state can include both a state in which a part of the organic solvent contained in the paint remains and a semi-cured state. For example, it can be solidified at 60 to 150 ° C. for about 1 to 120 minutes, preferably at 70 to 120 ° C. for about 3 to 90 minutes.

第一プリプレグを樹脂組成物の塗料を用いて作製した場合、前記プリプレグにおける溶剤残存率は、2.0質量%以下であることが好ましく、1.0質量%以下であることがより好ましく、0.8質量%以下であることがさらに好ましい。 When the first prepreg is prepared using the paint of the resin composition, the solvent residual ratio in the prepreg is preferably 2.0% by mass or less, more preferably 1.0% by mass or less, and 0. It is more preferably 8.8% by mass or less.

前記溶剤残存率は、プリプレグを40mm角に切り出し、190℃に予熱した恒温槽中に2時間乾燥させたときの、乾燥前後の質量変化から求める。 The solvent residual ratio is obtained from the mass change before and after drying when the prepreg is cut into 40 mm squares and dried in a constant temperature bath preheated to 190 ° C. for 2 hours.

<空隙を有しない第二プリプレグの作製方法>
本発明の第一実施態様の樹脂基板に用いる空隙を有しない第二プリプレグは、繊維基材と樹脂組成物からなる。
<Method of producing a second prepreg without voids>
The second prepreg having no voids used in the resin substrate of the first embodiment of the present invention comprises a fiber base material and a resin composition.

本発明の第一実施態様の樹脂基板の製造に用いる空隙を有しない第二プリプレグは熱硬化性樹脂と無機充填材を混合して作製した樹脂組成物を、ガラスクロスなどの繊維基材の片面からスリットダイを用いて塗布し、繊維基材の目開きを通して繊維基材の塗布裏面に通過させることによって繊維基材に樹脂組成物を保持させる塗布方法において、ガラスクロスなどの繊維基材へのスリットダイの押し込み量と接触角度、および塗料の吐出量を制御することにより、空隙を有しない第二プリプレグを作製することができる。 The second prepreg having no voids used for producing the resin substrate of the first embodiment of the present invention is a resin composition prepared by mixing a thermosetting resin and an inorganic filler on one side of a fiber base material such as a glass cloth. In a coating method in which the resin composition is retained in the fiber base material by applying the resin composition from the fiber base material using a slit die and passing the resin composition through the opening of the fiber base material through the coating back surface of the fiber base material, the resin composition is applied to the fiber base material such as glass cloth. By controlling the pushing amount and contact angle of the slit die and the discharging amount of the paint, a second prepreg having no gap can be produced.

本発明の第一実施態様の樹脂基板の製造に用いる空隙を有しない第二プリプレグは、上記のような繊維基材に、例えば、上記樹脂組成物を含浸させることによりも得られる。具体的には、樹脂組成物を繊維基材に含浸し、繊維基材に含浸した樹脂組成物を加熱乾燥することにより、第二プリプレグが得られる。 The second prepreg having no voids used for producing the resin substrate of the first embodiment of the present invention can also be obtained by impregnating the above-mentioned fiber base material with, for example, the above-mentioned resin composition. Specifically, the second prepreg is obtained by impregnating the fiber base material with the resin composition and heating and drying the resin composition impregnated with the fiber base material.

第二プリプレグにおける前記樹脂組成物の含有率は、特に限定することはない。成形性の観点から、20vol%以上であることが好ましく、30vol%以上であることがより好ましい。また、多層基板の位置合わせ精度、金属箔密着性寸法精度の観点から、80vol%以下であることが好ましく、70vol%以下であることがより好ましく、60vol%以下であることが更に好ましい。 The content of the resin composition in the second prepreg is not particularly limited. From the viewpoint of moldability, it is preferably 20 vol% or more, and more preferably 30 vol% or more. Further, from the viewpoint of the alignment accuracy of the multilayer substrate and the dimensional accuracy of the metal leaf adhesion, it is preferably 80 vol% or less, more preferably 70 vol% or less, and further preferably 60 vol% or less.

樹脂組成物を繊維基材に含浸する方法に特に制限はない。例えば、塗工機により塗布する方法を挙げることができる。詳細には、繊維基材を樹脂組成物にくぐらせて引き上げる縦型塗工法、及び支持フィルム上に樹脂組成物を塗工してから繊維基材を押し付けて含浸させる横型塗工法などを挙げることができる。 The method of impregnating the fiber base material with the resin composition is not particularly limited. For example, a method of applying by a coating machine can be mentioned. Details include a vertical coating method in which the fiber base material is passed through the resin composition and pulled up, and a horizontal coating method in which the fiber base material is pressed and impregnated after the resin composition is applied on the support film. Can be done.

具体的には、例えば、前記樹脂組成物に含まれているエポキシ樹脂および硬化剤それぞれが固形である場合、粉体状に粉砕して混合し粉体状の樹脂組成物を加熱、溶融させて、溶融した樹脂組成物中に繊維基材を含浸させることより、第二プリプレグを得ることができる。 Specifically, for example, when the epoxy resin and the curing agent contained in the resin composition are each solid, they are crushed into powder and mixed to heat and melt the powdery resin composition. The second prepreg can be obtained by impregnating the molten resin composition with a fiber base material.

樹脂組成物に、メチルエチルケトンやシクロヘキサノン等の溶剤を加えて樹脂組成物の塗料とした場合は、樹脂組成物の塗料中に繊維基材を含浸させる。その後、乾燥により溶剤分を除去し、樹脂組成物を固化させる。 When a solvent such as methyl ethyl ketone or cyclohexanone is added to the resin composition to prepare a coating material for the resin composition, the coating material for the resin composition is impregnated with a fiber base material. Then, the solvent component is removed by drying to solidify the resin composition.

乾燥方法は、塗料に含まれる有機溶剤の少なくとも一部を除去できれば特に制限されず、通常用いられる乾燥方法から、塗料に含まれる有機溶剤に応じて適宜選択することができる。一般的には、60℃~150℃程度で加熱処理する方法を挙げることができる。
このときの固化とは、流動性を有する液状物が自立可能な状態の固体状態に変化することを指す。塗料に含まれる有機溶剤が一部残留する状態も、半硬化状態も固化状態に含むことができる。例えば、60~150℃で1~120分程度、好ましくは70~120℃で3~90分程度の条件下で固化させることができる。
The drying method is not particularly limited as long as at least a part of the organic solvent contained in the paint can be removed, and can be appropriately selected from the commonly used drying methods according to the organic solvent contained in the paint. Generally, a method of heat treatment at about 60 ° C. to 150 ° C. can be mentioned.
The solidification at this time means that the liquid material having fluidity changes to a solid state in which it can stand on its own. The solidified state can include both a state in which a part of the organic solvent contained in the paint remains and a semi-cured state. For example, it can be solidified at 60 to 150 ° C. for about 1 to 120 minutes, preferably at 70 to 120 ° C. for about 3 to 90 minutes.

第二プリプレグは、積層又は貼付する前に、プレスやロールラミネータなどによる熱間加圧処理により、あらかじめ表面を平滑化してから使用してもよい。熱間加圧処理の方法は、半硬化樹脂組成物シートの製造方法で挙げた方法と同様である。また、前記プリプレグの熱間加圧処理における加熱温度、減圧度、及びプレス圧等の処理条件についても、半硬化樹脂組成物の加熱・加圧処理で挙げた条件と同様である。 The surface of the second prepreg may be smoothed in advance by hot pressure treatment with a press, a roll laminator, or the like before laminating or pasting. The method of hot pressure treatment is the same as the method described in the method for producing a semi-cured resin composition sheet. Further, the treatment conditions such as the heating temperature, the degree of depressurization, and the pressing pressure in the hot pressurization treatment of the prepreg are the same as the conditions mentioned in the heating / pressurizing treatment of the semi-cured resin composition.

第二プリプレグを樹脂組成物の塗料を用いて作製した場合、前記プリプレグにおける溶剤残存率は、2.0質量%以下であることが好ましく、1.0質量%以下であることがより好ましく、0.8質量%以下であることがさらに好ましい。 When the second prepreg is prepared using the paint of the resin composition, the solvent residual ratio in the prepreg is preferably 2.0% by mass or less, more preferably 1.0% by mass or less, and 0. It is more preferably 8.8% by mass or less.

前記溶剤残存率は、プリプレグを40mm角に切り出し、190℃に予熱した恒温槽中に2時間乾燥させたときの、乾燥前後の質量変化から求める。 The solvent residual ratio is obtained from the mass change before and after drying when the prepreg is cut into 40 mm squares and dried in a constant temperature bath preheated to 190 ° C. for 2 hours.

<繊維基材>
本実施形態の樹脂基板に用いる第一プリプレグと第二プリプレグは樹脂組成物と繊維基材からなる。本実施形態の樹脂基板に用いる繊維基材としては、金属箔張り積層基板や多層プリント配線板を製造する際に通常用いられるものであれば特に制限されず、通常織布や不織布等の繊維基材が用いられる。
<Fiber base material>
The first prepreg and the second prepreg used for the resin substrate of the present embodiment are composed of a resin composition and a fiber base material. The fiber base material used for the resin substrate of the present embodiment is not particularly limited as long as it is usually used when manufacturing a metal foil-clad laminated substrate or a multilayer printed wiring board, and is usually a fiber base such as a woven fabric or a non-woven fabric. The material is used.

本実施形態に係る繊維基材の目開きは特に制限されない。熱伝導率及び絶縁性の観点から、目開きは前記充填材の平均粒子径(D50)の2倍以上であることが好ましい。また、繊維基材の空隙率が30%以上であることが好ましい。繊維基材の空隙率とは繊維基材の面積に対する目開き部分の面積の割合である。 The opening of the fiber base material according to the present embodiment is not particularly limited. From the viewpoint of thermal conductivity and insulating property, the opening is preferably twice or more the average particle size (D50) of the filler. Further, the porosity of the fiber base material is preferably 30% or more. The porosity of the fiber base material is the ratio of the area of the opening portion to the area of the fiber base material.

繊維基材の材質は特に制限されない。具体的には、ガラス、アルミナ、ボロン、シリカアルミナガラス、シリカガラス、チラノ、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア等の無機繊維や、アラミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン、カーボン、セルロース等の有機繊維、及びこれらの混抄系を挙げることができる。中でも、ガラス繊維の織布(ガラスクロース)が好ましく用いられる。これにより例えば、プリプレグを用いて基板を構成する場合、屈曲性があり任意に折り曲げ可能な基板を得ることができる。さらに、製造プロセスでの温度変化や吸湿等に伴う多層基板の寸法変化を小さくすることも可能となる。 The material of the fiber base material is not particularly limited. Specifically, inorganic fibers such as glass, alumina, boron, silica-alumina glass, silica glass, tyrano, silicon carbide, silicon nitride, and zirconia, aramid, polyether ether ketone, polyetherimide, polyether sulfone, and carbon. , Organic fibers such as cellulose, and mixed abstracts thereof. Of these, a glass fiber woven fabric (glass cloth) is preferably used. As a result, for example, when a substrate is constructed using a prepreg, a flexible substrate that can be bent arbitrarily can be obtained. Further, it is possible to reduce the dimensional change of the multilayer substrate due to the temperature change and moisture absorption in the manufacturing process.

本実施形態に係る繊維基材の厚さは特に限定されない。より良好な可とう性を付与する観点から、75μm以下であることがより好ましく、含浸性の観点から60μm以下であることが好ましい。繊維基材の厚みの下限は特に制限されないが、通常10μm程度である。 The thickness of the fiber base material according to this embodiment is not particularly limited. From the viewpoint of imparting better flexibility, it is more preferably 75 μm or less, and from the viewpoint of impregnation property, it is preferably 60 μm or less. The lower limit of the thickness of the fiber base material is not particularly limited, but is usually about 10 μm.

<樹脂組成物>
本実施形態の樹脂基板に用いる第一プリプレグと第二プリプレグは樹脂組成物と繊維基材からなる。この樹脂組成物は、無機充填材と熱硬化性樹脂を含む。本実施形態の樹脂基板に用いる第一プリプレグと第二プリプレグは同じ種類の熱硬化性樹脂組成物を使用しても、あるいは異なる種類の熱硬化性樹脂組成物を使用してもよく、製造の容易さの観点から、同じ種類の熱硬化性樹脂組成物を使用することが好ましい。
<Resin composition>
The first prepreg and the second prepreg used for the resin substrate of the present embodiment are composed of a resin composition and a fiber base material. This resin composition contains an inorganic filler and a thermosetting resin. The first prepreg and the second prepreg used for the resin substrate of the present embodiment may use the same type of thermosetting resin composition or different types of thermosetting resin compositions, and may be produced. From the viewpoint of ease, it is preferable to use the same type of thermosetting resin composition.

「無機充填材」 "Inorganic filler"

本実施形態の第一プリプレグと第二プリプレグに用いる無機充填材は、粒子状の無機材料のうちのいずれか1種類または2種類以上である。この無機充填材の具体例は、酸化マグネシウム(MgO)、酸化アルミニウム(Al)および窒化ホウ素(BN)、窒化アルミニウム(AlN)、シリカ(SiO)などである。
無機充填材としては、酸化マグネシウムが安価で熱伝導率が高く(42~60W/(m・K))、かつ体積抵抗率も高い(>1014Ω・cm)ため、好ましい。
無機充填材の平均粒径としては、2~80μmである。公知のレーザー回折・散乱法による粒度測定装置(例えば、日機装株式会社製「マイクロトラックMT-3000型」)を用いて測定する。(レーザー回折・散乱法とは、充填材粒子にレーザー光を照射したとき、粒子径により散乱光の強度パターンが変化することを利用した測定法である)。
The inorganic filler used for the first prepreg and the second prepreg of the present embodiment is any one or more of the particulate inorganic materials. Specific examples of this inorganic filler are magnesium oxide (MgO), aluminum oxide (Al 2 O 3 ) and boron nitride (BN), aluminum nitride (AlN), silica (SiO 2 ) and the like.
As the inorganic filler, magnesium oxide is preferable because it is inexpensive, has high thermal conductivity (42 to 60 W / (m · K)), and has high volume resistivity (> 10 14 Ω · cm).
The average particle size of the inorganic filler is 2 to 80 μm. The measurement is performed using a known particle size measuring device by a laser diffraction / scattering method (for example, "Microtrack MT-3000 type" manufactured by Nikkiso Co., Ltd.). (The laser diffraction / scattering method is a measurement method that utilizes the fact that when the filler particles are irradiated with laser light, the intensity pattern of the scattered light changes depending on the particle size).

前記樹脂組成物に含まれる充填材の含有率は特に制限されない。充填材は、樹脂組成物の全固形分の全体積中の40体積%~80体積%で含有されることが好ましい。樹脂組成物において、充填材が全体積中の40体積%~80体積%で含有されると、樹脂組成物の熱伝導率をより高める効果が得られる。
充填材の含有率は、熱伝導性及び流動性を高める観点から、40体積%~70体積%であることがより好ましく、45体積%~60体積%であることがさらに好ましい。
ここで、樹脂組成物の全固形分とは、樹脂組成物から揮発性の成分を除去した残分を意味する。
The content of the filler contained in the resin composition is not particularly limited. The filler is preferably contained in an amount of 40% to 80% by volume of the total solid content of the resin composition. When the filler is contained in the resin composition in an amount of 40% by volume to 80% by volume in the total volume, the effect of further increasing the thermal conductivity of the resin composition can be obtained.
The content of the filler is more preferably 40% by volume to 70% by volume, further preferably 45% by volume to 60% by volume, from the viewpoint of enhancing thermal conductivity and fluidity.
Here, the total solid content of the resin composition means a residue obtained by removing volatile components from the resin composition.

なお、本明細書における充填材の含有率(体積%)は、下記の式(1)により求めた値とする。 The content (volume%) of the filler in the present specification is a value calculated by the following formula (1).

充填材の含有率(体積%)=(W1/D1)/((W1/D1)+(W2/D2)+Σ(Wi/Di))×100 ・・・・・(1) Filler content (volume%) = (W1 / D1) / ((W1 / D1) + (W2 / D2) + Σ (Wi / Di)) x 100 ... (1)

ここで、各変数は以下の通りである。
W1:充填材の質量組成比(質量%)
W2:熱硬化性樹脂の質量組成比(質量%)
Wi:熱硬化性樹脂以外のその他の各任意固形成分の質量組成比(質量%)
D1:充填材の比重
D2:熱硬化性樹脂の比重
Di:熱硬化性樹脂以外のその他の各任意固形成分の比重
Here, each variable is as follows.
W1: Mass composition ratio of filler (mass%)
W2: Mass composition ratio of thermosetting resin (mass%)
Wi: Mass composition ratio (mass%) of each other arbitrary solid component other than the thermosetting resin
D1: Specific density of filler D2: Specific density of thermosetting resin Di: Specific density of each other arbitrary solid component other than thermosetting resin

前記充填材は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。例えば、平均粒子径(D50)が2μm以上80μm以下の範囲に含まれる、D50が異なる2種以上の充填材を併用することができるが、この組み合わせに限定されるものではない。 The filler may be used alone or in combination of two or more. For example, two or more kinds of fillers having different D50s and having an average particle diameter (D50) of 2 μm or more and 80 μm or less can be used in combination, but the combination is not limited to this.

「熱硬化性樹脂」
本実施形態に係る熱硬化性樹脂は、例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂及びシアネート樹脂を挙げることができる。
"Thermosetting resin"
Examples of the thermosetting resin according to the present embodiment include epoxy resin, phenol resin and cyanate resin.

本実施形態の熱硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性の官能基を有する化合物であれば特に制限はない。具体的には、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、トリアジン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、シアネートエステル樹脂、及びこれら樹脂の変性樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は1種単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。 The thermosetting resin of the present embodiment is not particularly limited as long as it is a compound having a thermosetting functional group, for example. Specific examples thereof include epoxy resins, polyimide resins, polyamideimide resins, triazine resins, phenol resins, melamine resins, polyester resins, cyanate ester resins, and modified resins of these resins. These resins may be used alone or in combination of two or more.

前記熱硬化性樹脂は、耐熱性の観点から、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びトリアジン樹脂から選ばれる樹脂の少なくとも1種であることが好ましく、接着性の観点から、エポキシ樹脂であることがより好ましい。前記エポキシ樹脂は、1種単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。 The thermosetting resin is preferably at least one of the resins selected from the epoxy resin, the phenol resin and the triazine resin from the viewpoint of heat resistance, and more preferably the epoxy resin from the viewpoint of adhesiveness. The epoxy resin may be used alone or in combination of two or more.

前記熱硬化性樹脂は、モノマーであっても、モノマーを硬化剤等により部分的に反応させたプレポリマーの状態であってもよい。例えば、後述の分子内にメソゲン基を有するエポキシ樹脂の例のように、分子内にメソゲン基を有する樹脂は一般に結晶化しやすく、溶媒への溶解度も低いものが多いが、一部反応させて重合させることで結晶化を抑制することができるため、成形性が向上する場合がある。 The thermosetting resin may be a monomer or a prepolymer in which the monomer is partially reacted with a curing agent or the like. For example, as in the case of the epoxy resin having a mesogen group in the molecule described later, the resin having a mesogen group in the molecule is generally easy to crystallize and has low solubility in a solvent, but it is partially reacted and polymerized. Since crystallization can be suppressed by allowing the mixture to be formed, the moldability may be improved.

本実施形態の第一プリプレグと第二プリプレグに用いる熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂を含んでいることが好ましい。 It is preferable that the thermosetting resin used for the first prepreg and the second prepreg of the present embodiment contains an epoxy resin.

<<エポキシ樹脂>>
エポキシ樹脂は、1つの分子の中に1つ以上のエポキシ基(-CO)を含む化合物のうちのいずれか1種類または2種類以上である。中でも、エポキシ樹脂は、1つの分子の中に2つ以上のエポキシ基を含んでいることが好ましい。エポキシ樹脂は、モノマーであっても、モノマーを硬化剤等により部分的に反応させたプレポリマーの状態であってもよい。
<< Epoxy resin >>
The epoxy resin is any one or more of the compounds containing one or more epoxy groups (−C 3H 5 O) in one molecule. Above all, the epoxy resin preferably contains two or more epoxy groups in one molecule. The epoxy resin may be a monomer or a prepolymer in which the monomer is partially reacted with a curing agent or the like.

エポキシ樹脂の種類は、特に限定されないが、例えば、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族型エポキシ樹脂および長鎖脂肪族型エポキシ樹脂などである。 The type of epoxy resin is not particularly limited, but for example, glycidyl ether type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, novolac type epoxy resin, cyclic aliphatic type epoxy resin and long chain aliphatic type epoxy resin. And so on.

グリシジルエーテル型エポキシ樹脂は、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂およびビスフェノールF型エポキシ樹脂などである。ノボラック型エポキシ樹脂は、例えば、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂およびフェノールノボラック型エポキシ樹脂などである。この他、エポキシ樹脂の種類は、例えば、難燃性エポキシ樹脂、ヒダントイン系エポキシ樹脂およびイソシアヌレート系エポキシ樹脂などでもよい。 The glycidyl ether type epoxy resin is, for example, a bisphenol A type epoxy resin and a bisphenol F type epoxy resin. The novolak type epoxy resin is, for example, a cresol novolac type epoxy resin and a phenol novolac type epoxy resin. In addition, the type of epoxy resin may be, for example, a flame-retardant epoxy resin, a hydantoin-based epoxy resin, an isocyanurate-based epoxy resin, or the like.

なお、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂の具体例は、グリシジルエーテル型の構造(基)を含んでいる化合物であれば、特に限定されない。このように特定の構造を含んでいれば種類が限定されないことは、グリシジルエステル型エポキシ樹脂などの他のエポキシ樹脂の具体例に関しても同様である。 The specific example of the glycidyl ether type epoxy resin is not particularly limited as long as it is a compound containing a glycidyl ether type structure (group). As described above, the type is not limited as long as it contains a specific structure, and the same applies to specific examples of other epoxy resins such as glycidyl ester type epoxy resins.

中でも、エポキシ樹脂は、1つの分子の中にメソゲン骨格を含んでいることが好ましい。その理由は、以下の通りである。 Above all, the epoxy resin preferably contains a mesogen skeleton in one molecule. The reason is as follows.

第1に、エポキシ樹脂の分子同士において、ベンゼン環同士が重なりやすくなるため、そのベンゼン環間の距離が小さくなる。これにより、エポキシ樹脂を含む樹脂組成物では、エポキシ樹脂の密度が向上する。また、エポキシ樹脂硬化物では、分子の格子振動が散乱しにくくなるため、高い熱伝導率が得られる。 First, in the epoxy resin molecules, the benzene rings tend to overlap each other, so that the distance between the benzene rings becomes small. As a result, the density of the epoxy resin is improved in the resin composition containing the epoxy resin. Further, in the epoxy resin cured product, high thermal conductivity can be obtained because the lattice vibration of the molecules is less likely to be scattered.

この「メソゲン骨格」とは、2つ以上の芳香環を含むと共に剛直性および配向性を有する原子団の総称である。具体的には、メソゲン骨格は、例えば、2つ以上のベンゼン環を含むと共にベンゼン環同士が単結合および非単結合のうちのいずれかを介して結合された骨格である。 This "mesogen skeleton" is a general term for atomic groups containing two or more aromatic rings and having rigidity and orientation. Specifically, the mesogen skeleton is, for example, a skeleton containing two or more benzene rings and having benzene rings bonded to each other via either a single bond or a non-single bond.

なお、3つ以上のベンゼン環が結合される場合、その結合の方向性は、特に限定されない。すなわち、3つ以上のベンゼン環は、直線状となるように結合されてもよいし、途中で1回以上折れ曲がるように結合されてもよいし、2つ以上の方向に分岐するように結合されてもよい。 When three or more benzene rings are bonded, the direction of the bond is not particularly limited. That is, three or more benzene rings may be bonded so as to be linear, may be bonded so as to be bent once or more in the middle, or may be bonded so as to branch in two or more directions. You may.

「非単結合」とは、1または2以上の構成元素を含むと共に1または2以上の多重結合を含む2価の基の総称である。具体的には、非単結合は、例えば、炭素(C)、窒素(N)、酸素(O)および水素(H)などの構成元素のうちのいずれか1種類または2種類以上を含んでいる。また、非単結合は、多重結合として、二重結合および三重結合のうちの一方または双方を含んでいる。 "Non-single bond" is a general term for divalent groups containing one or more constituent elements and one or more multiple bonds. Specifically, the non-single bond contains any one or more of the constituent elements such as carbon (C), nitrogen (N), oxygen (O) and hydrogen (H). .. In addition, the non-single bond includes one or both of a double bond and a triple bond as a multiple bond.

メソゲン骨格は、ベンゼン環同士の結合の種類として、単結合だけを含んでいてもよいし、非単結合だけを含んでいてもよいし、単結合および非単結合の双方を含んでいてもよい。また、非単結合の種類は、1種類だけでもよいし、2種類以上でもよい。 The mesogen skeleton may contain only a single bond, a non-single bond, or both a single bond and a non-single bond as the type of bond between the benzene rings. .. Further, the type of non-single bond may be only one type or two or more types.

メソゲン骨格の具体例は、ビフェニルおよびターフェニルなどである。なお、ターフェニルは、o-ターフェニルでもよいし、m-ターフェニルでもよいし、p-ターフェニルでもよい。 Specific examples of the mesogen skeleton are biphenyl and terphenyl. The terphenyl may be o-terphenyl, m-terphenyl, or p-terphenyl.

本実施形態のプリプレグに用いる熱硬化性樹脂の具体例としては、例えば、三菱化学株式会社製 YL-6121H(テトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂50%、4,4’-ビフェノール型エポキシ50%混合物、エポキシ当量175g/eq)、日本化薬株式会社製BREN105(臭素化多官能エポキシ樹脂、エポキシ当量271g/eq)、新日鉄住金化学株式会社製YH434L(四官能ポリグリシジルアミン、エポキシ当量122g/eq)、DIC株式会社製830-S(ビスフェノールF型エポキシ樹脂、エポキシ当量173g/eq)、新日鉄住金化学株式会社製FX289Z(リン変性エポキシ樹脂、エポキシ当量225g/eq)などが挙げられる。 Specific examples of the thermosetting resin used in the prepreg of the present embodiment include YL-6121H (tetramethyl biphenol type epoxy resin 50%, 4,4'-biphenol type epoxy 50% mixture, epoxy) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. Equivalent 175 g / eq), BREN105 (brominated polyfunctional epoxy resin, epoxy equivalent 271 g / eq) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., YH434L (tetrafunctional polyglycidylamine, epoxy equivalent 122 g / eq) manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Chemical Co., Ltd., DIC 830-S manufactured by 830-S Co., Ltd. (bisphenol F type epoxy resin, epoxy equivalent 173 g / eq), FX289Z manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. (phosphor modified epoxy resin, epoxy equivalent 225 g / eq) and the like can be mentioned.

前記熱硬化性樹脂は、成形性、接着性、及び熱伝導性の観点から、樹脂組成物の全固形分の全体積中の20体積%~60体積%で含有されることが好ましく、30体積%~60体積%で含有されることがより好ましく、40体積%~55体積%で含有されることがさらに好ましい。
なお、前記樹脂組成物が後述の硬化剤や硬化促進剤を含む場合、ここでいう熱硬化性樹脂の含有率には、これら硬化剤や硬化促進剤の含有率を含めるものとする。
From the viewpoint of moldability, adhesiveness, and thermal conductivity, the thermosetting resin is preferably contained in an amount of 20% to 60% by volume, preferably 30% by volume, based on the total volume of the total solid content of the resin composition. It is more preferably contained in an amount of% to 60% by volume, and further preferably contained in an amount of 40% to 55% by volume.
When the resin composition contains a curing agent and a curing accelerator described later, the content of the thermosetting resin referred to here includes the content of these curing agents and the curing accelerator.

「硬化剤」
本実施形態の樹脂組成物が、さらに硬化剤を少なくとも1種類含むことが好ましい。硬化剤としては熱硬化性樹脂を熱硬化可能であれば特に制限されない。前記熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂の場合の硬化剤としては、例えば、酸無水物系硬化剤、アミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、及びメルカプタン系硬化剤等の重付加型硬化剤や、イミダゾール等の触媒型硬化剤等を挙げることができる。
中でも、耐熱性の観点から、アミン系硬化剤及びフェノール系硬化剤から選ばれる少なくとも1種類を用いることが好ましく、さらに、保存安定性の観点から、フェノール系硬化剤の少なくとも1種類を用いることがより好ましい。
"Hardener"
It is preferable that the resin composition of the present embodiment further contains at least one kind of curing agent. The curing agent is not particularly limited as long as the thermosetting resin can be thermally cured. When the thermosetting resin is an epoxy resin, examples of the curing agent include a heavy addition type curing agent such as an acid anhydride-based curing agent, an amine-based curing agent, a phenol-based curing agent, and a mercaptan-based curing agent, and imidazole. Such as a catalytic curing agent and the like.
Above all, from the viewpoint of heat resistance, it is preferable to use at least one kind selected from an amine-based curing agent and a phenol-based curing agent, and further, from the viewpoint of storage stability, it is preferable to use at least one kind of phenol-based curing agent. More preferred.

アミン系硬化剤としては、通常用いられるものを特に制限なく用いることができ、市販されているものであってもよい。中でも、硬化性の観点から、2以上の官能基を有する多官能硬化剤であることが好ましく、更に熱伝導性の観点から、剛直な骨格を有する多官能硬化剤であることがより好ましい。 As the amine-based curing agent, those usually used can be used without particular limitation, and commercially available ones may be used. Among them, a polyfunctional curing agent having two or more functional groups is preferable from the viewpoint of curability, and a polyfunctional curing agent having a rigid skeleton is more preferable from the viewpoint of thermal conductivity.

2官能のアミン系硬化剤として、例えば、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメトキシビフェニル、4,4’-ジアミノフェニルベンゾエート、1,5-ジアミノナフタレン、1,3-ジアミノナフタレン、1,4-ジアミノナフタレン、1,8-ジアミノナフタレン等が挙げられる。中でも、熱伝導率の観点から、4,4’-ジアミノジフェニルメタン及び1,5-ジアミノナフタレンから選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、1,5-ジアミノナフタレンであることがより好ましい。 Examples of bifunctional amine-based curing agents include 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, and 4,4'-diamino-3,3'-dimethoxybiphenyl. , 4,4'-Diaminophenylbenzoate, 1,5-diaminonaphthalene, 1,3-diaminonaphthalene, 1,4-diaminonaphthalene, 1,8-diaminonaphthalene and the like. Among them, from the viewpoint of thermal conductivity, at least one selected from 4,4'-diaminodiphenylmethane and 1,5-diaminonaphthalene is preferable, and 1,5-diaminonaphthalene is more preferable.

フェノール系硬化剤としては、通常用いられるものを特に制限なく用いることができ、市販の低分子フェノール化合物や、それらをノボラック化したフェノール樹脂を用いることができる。 As the phenol-based curing agent, commonly used ones can be used without particular limitation, and commercially available low-molecular-weight phenol compounds and novolakized phenol resins can be used.

低分子フェノール化合物として、例えば、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール等の単官能のものや、カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン等の2官能のもの、さらに、1,2,3-トリヒドロキシベンゼン、1,2,4-トリヒドロキシベンゼン、1,3,5-トリヒドロキシベンゼン、1,3,5-トリス(4-ヒドロキシフェニル)ベンゼン等の3官能のものなどが使用可能である。また、これら低分子フェノール化合物をメチレン鎖等で連結してノボラック化した、フェノールノボラック樹脂を硬化剤として用いることもできる。 Examples of low-molecular-weight phenol compounds include monofunctional ones such as phenol, o-cresol, m-cresol, and p-cresol, bifunctional ones such as catechol, resorcinol, and hydroquinone, and 1,2,3-tritri. Trifunctional substances such as hydroxybenzene, 1,2,4-trihydroxybenzene, 1,3,5-trihydroxybenzene, and 1,3,5-tris (4-hydroxyphenyl) benzene can be used. Further, a phenol novolac resin obtained by connecting these small molecule phenol compounds with a methylene chain or the like to form a novolak can also be used as a curing agent.

フェノール系硬化剤としては、熱伝導性、耐熱性、溶剤溶解性などの観点から、多官能低分子フェノール硬化剤である、1,3,5-トリス(4-ヒドロキシフェニル)ベンゼンが好ましい。 As the phenolic curing agent, 1,3,5-tris (4-hydroxyphenyl) benzene, which is a polyfunctional low molecular weight phenol curing agent, is preferable from the viewpoint of thermal conductivity, heat resistance, solvent solubility and the like.

本実施形態の樹脂組成物が硬化剤を含む場合、樹脂組成物中の硬化剤の含有量は特に制限されない。例えば、硬化剤がアミン系硬化剤の場合は、アミン系硬化剤の活性水素の当量(アミン当量)と、エポキシ樹脂のエポキシ当量との比(アミン当量/エポキシ当量)が0.5~2となることが好ましく、0.8~1.2となることがより好ましい。また、硬化剤がフェノール系硬化剤の場合は、フェノール性水酸基の活性水素の当量(フェノール性水酸基当量)と、メソゲン含有エポキシ樹脂のエポキシ当量との比(フェノール性水酸基当量/エポキシ当量)が0.5~2となることが好ましく、0.8~1.2となることがより好ましい。 When the resin composition of the present embodiment contains a curing agent, the content of the curing agent in the resin composition is not particularly limited. For example, when the curing agent is an amine-based curing agent, the ratio of the active hydrogen equivalent (amine equivalent) of the amine-based curing agent to the epoxy equivalent of the epoxy resin (amine equivalent / epoxy equivalent) is 0.5 to 2. It is preferably 0.8 to 1.2, and more preferably 0.8 to 1.2. When the curing agent is a phenolic curing agent, the ratio of the equivalent of active hydrogen of the phenolic hydroxyl group (phenolic hydroxyl group equivalent) to the epoxy equivalent of the mesogen-containing epoxy resin (phenolic hydroxyl group equivalent / epoxy equivalent) is 0. It is preferably .5-2, more preferably 0.8-1.2.

「硬化促進剤」
本実施形態の樹脂組成物においてフェノール系硬化剤を用いる場合、必要に応じて硬化促進剤を併用しても構わない。硬化促進剤を併用することで、さらに十分に硬化させることができる。硬化促進剤の種類や配合量は特に限定されないが、反応速度や反応温度、保管性などの観点から、適切なものを選択することができる。硬化促進剤の具体例としては、イミダゾール系化合物、有機リン系化合物、第3級アミン、及び第4級アンモニウム塩などが挙げられる。これらは1種単独でも、2種類以上を併用してもよい。
"Curing accelerator"
When a phenolic curing agent is used in the resin composition of the present embodiment, a curing accelerator may be used in combination if necessary. By using a curing accelerator in combination, it can be further sufficiently cured. The type and amount of the curing accelerator are not particularly limited, but an appropriate one can be selected from the viewpoints of reaction rate, reaction temperature, storage stability and the like. Specific examples of the curing accelerator include imidazole compounds, organophosphorus compounds, tertiary amines, and quaternary ammonium salts. These may be used alone or in combination of two or more.

前記樹脂組成物が硬化促進剤を含む場合、樹脂組成物中の硬化促進剤の含有率は特に制限されない。成形性の観点から、熱硬化性樹脂と硬化剤の合計質量の0.5質量%~1.5質量%であることが好ましく、0.5質量%~1質量%であることがより好ましく、0.75質量%~1質量%であることがさらに好ましい。 When the resin composition contains a curing accelerator, the content of the curing accelerator in the resin composition is not particularly limited. From the viewpoint of moldability, the total mass of the thermosetting resin and the curing agent is preferably 0.5% by mass to 1.5% by mass, more preferably 0.5% by mass to 1% by mass. It is more preferably 0.75% by mass to 1% by mass.

「シランカップリング剤」
前記樹脂組成物は、シランカップリング剤の少なくとも1種をさらに含むことが好ましい。シランカップリング剤を添加する効果としては、充填材や第二の充填材の表面とその周りを取り囲む熱硬化性樹脂の間で共有結合を形成する役割(バインダ剤に相当)を果たし、熱を効率良く伝達する働きや、さらには水分の浸入を妨げることによって絶縁信頼性の向上にも寄与する。
"Silane coupling agent"
The resin composition preferably further contains at least one of the silane coupling agents. As an effect of adding the silane coupling agent, it plays a role of forming a covalent bond (corresponding to a binder agent) between the surface of the filler or the second filler and the thermosetting resin surrounding the surface, and heat is generated. It contributes to the improvement of insulation reliability by efficiently transmitting the heat and preventing the infiltration of water.

前記シランカップリング剤の種類としては特に限定されず、市販のものを使用して構わない。熱硬化性樹脂(好ましくはエポキシ樹脂)や、必要に応じて含まれる硬化剤との相溶性、及び樹脂と充填材との界面での熱伝導欠損を低減することを考慮すると、本発明においては、末端にエポキシ基、アミノ基、メルカプト基、ウレイド基、又は水酸基を有するシランカップリング剤を用いることが好適である。これらシランカップリング剤は1種単独でも、2種類以上を併用してもよい。 The type of the silane coupling agent is not particularly limited, and a commercially available product may be used. Considering the compatibility with a thermosetting resin (preferably an epoxy resin) and a curing agent contained as necessary, and the reduction of heat conduction defects at the interface between the resin and the filler, in the present invention, , It is preferable to use a silane coupling agent having an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a ureido group, or a hydroxyl group at the terminal. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

「その他の成分」
本発明における樹脂組成物は、上記成分に加え、必要に応じてその他の成分を含むことができる。例えば、エラストマー、分散剤等が挙げられる。エラストマーとしては、アクリル樹脂が挙げられ、より具体的には(メタ)アクリル酸または(メタ)アクリル酸エステルから誘導されるホモポリマーまたはコポリマーを挙げることができる。分散剤としては、味の素ファインテック株式会社製アジスパーシリーズ、楠本化成株式会社製HIPLAADシリーズ、株式会社花王製ホモゲノールシリーズ等が挙げられる。これら分散剤は二種類以上を併用することができる。
"Other ingredients"
The resin composition in the present invention may contain other components in addition to the above components, if necessary. For example, elastomers, dispersants and the like can be mentioned. Examples of the elastomer include acrylic resins, and more specifically, homopolymers or copolymers derived from (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid esters. Examples of the dispersant include Ajinomoto Fine-Tech Co., Ltd.'s Ajisper series, Kusumoto Kasei Co., Ltd.'s HIPLAAD series, and Kao's Co., Ltd. Homogenol series. Two or more of these dispersants can be used in combination.

<樹脂組成物の塗料>
前記樹脂組成物は、例えば、固体状の熱硬化性樹脂を用いる場合、有機溶剤の少なくとも1種を添加して樹脂組成物の塗料を調整してもよい。有機溶剤を含むことで、種々の成形プロセスに適合させることができる。有機溶剤としては、通常用いられる有機溶剤を用いることができる。具体的には、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、アミド系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、エステル系溶剤、ニトリル系溶剤等を挙げることができる。例えば、メチルイソブチルケトン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、γ-ブチロラクトン、スルホラン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等を用いることができる。これらは1種単独でも、2種類以上を併用した混合溶剤として用いてもよい。
<Paint of resin composition>
When a solid thermosetting resin is used as the resin composition, for example, at least one organic solvent may be added to prepare the paint of the resin composition. By including an organic solvent, it can be adapted to various molding processes. As the organic solvent, a commonly used organic solvent can be used. Specific examples thereof include alcohol solvents, ether solvents, ketone solvents, amide solvents, aromatic hydrocarbon solvents, ester solvents, nitrile solvents and the like. For example, methyl isobutyl ketone, dimethylacetamide, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, sulfolane, cyclohexanone, methyl ethyl ketone and the like can be used. These may be used alone or as a mixed solvent in which two or more kinds are used in combination.

<半硬化樹脂組成物>
本発明の半硬化樹脂組成物(単に「樹脂組成物」という場合がある)は前記樹脂組成物に由来するものであり、前記樹脂組成物を半硬化処理してなる。前記半硬化樹脂組成物は、例えば、これをシート状に成形した場合に、半硬化処理していない樹脂組成物からなる樹脂組成物シートに比べて取り扱い性が向上する。その観点から、本実施形態のプリプレグに構成される樹脂組成物が半硬化樹脂組成物であることが好ましい。
<Semi-curing resin composition>
The semi-cured resin composition of the present invention (sometimes referred to simply as "resin composition") is derived from the resin composition, and the resin composition is semi-cured. When the semi-cured resin composition is molded into a sheet, for example, the handleability is improved as compared with a resin composition sheet made of a resin composition which has not been semi-cured. From this point of view, it is preferable that the resin composition composed of the prepreg of the present embodiment is a semi-cured resin composition.

ここで、前記半硬化樹脂組成物とは、前記半硬化樹脂組成物の粘度が、常温(25~30℃)では10Pa・s~10Pa・sであることに対して、100℃では常温よりも粘度が低下する特徴を有するものである。例えば、前記半硬化樹脂組成物は、常温ではシート形状を保持できるが、100℃程度の高温にすると溶融することがなる。また、後述する硬化後の硬化樹脂組成物は加温によって溶融することはない。なお、上記粘度は、動的粘弾性測定(DMA)(例えば、サーモサイエンティフィック株式会社製Rheo Stress 6000)によって測定される。なお、測定条件は、周波数1Hz、荷重40g、昇温速度3℃/分であり、せん断試験により行う。 Here, the semi-cured resin composition is 100 ° C., whereas the viscosity of the semi-cured resin composition is 104 Pa · s to 105 Pa · s at room temperature (25 to 30 ° C.). Has the characteristic that the viscosity is lower than the normal temperature. For example, the semi-cured resin composition can retain its sheet shape at room temperature, but melts at a high temperature of about 100 ° C. Further, the cured resin composition after curing, which will be described later, is not melted by heating. The viscosity is measured by dynamic viscoelasticity measurement (DMA) (for example, Rheo Stress 6000 manufactured by Thermo Scientific Co., Ltd.). The measurement conditions are a frequency of 1 Hz, a load of 40 g, and a heating rate of 3 ° C./min, and the measurement is performed by a shear test.

前記半硬化処理としては、前記樹脂組成物を温度60℃~200℃で1分間~30分間加熱する方法を挙げることができる。 Examples of the semi-curing treatment include a method of heating the resin composition at a temperature of 60 ° C. to 200 ° C. for 1 minute to 30 minutes.

<樹脂組成物の硬化物>
樹脂組成物の硬化物は前記樹脂組成物に由来するものであり、前記樹脂組成物を硬化処理してなる。前記樹脂組成物の硬化物は熱伝導性と絶縁性に優れる。本発明の一実施形態の基板と積層基板は、例えば、本実施形態のプリプレグを硬化してなるものであり、本実施形態のプリプレグに用いる樹脂組成物を硬化処理してなる樹脂組成物の硬化物を含む。
<Cured product of resin composition>
The cured product of the resin composition is derived from the resin composition, and is obtained by curing the resin composition. The cured product of the resin composition is excellent in thermal conductivity and insulating property. The substrate and the laminated substrate of one embodiment of the present invention are, for example, cured of the prepreg of the present embodiment, and the resin composition obtained by curing the resin composition used for the prepreg of the present embodiment is cured. Including things.

樹脂組成物の硬化物は、未硬化状態の樹脂組成物又は前記半硬化樹脂組成物を硬化処理することで製造することができる。前記硬化処理の方法は、樹脂組成物の構成や硬化物の目的等に応じて適宜選択することができるが、加熱・加圧処理であることが好ましい。
例えば、未硬化状態の樹脂組成物又は前記半硬化樹脂組成物を100℃~250℃で1時間~10時間、好ましくは130℃~230℃で1時間~8時間加熱することで樹脂組成物の硬化物が得られる。
The cured product of the resin composition can be produced by curing the uncured resin composition or the semi-cured resin composition. The curing treatment method can be appropriately selected depending on the composition of the resin composition, the purpose of the cured product, and the like, but is preferably heat / pressure treatment.
For example, the resin composition by heating the uncured resin composition or the semi-cured resin composition at 100 ° C. to 250 ° C. for 1 hour to 10 hours, preferably 130 ° C. to 230 ° C. for 1 hour to 8 hours. A cured product is obtained.

[第二実施形態]
<樹脂基板の構成>
図2は、本発明第二実施形態の樹脂基板20の構成を表す断面図である。本発明第二実施形態の樹脂基板20は、無機充填材を含む熱硬化性樹脂組成物を繊維基材25に保持して半硬化状態としたプリプレグを3枚加熱加圧して成形した樹脂基板である。本実施形態の樹脂基板20が熱硬化性樹脂組成物の硬化物22と繊維基材25とを含む。熱硬化性樹脂組成物の硬化物22が無機充填材を含む熱硬化性樹脂組成物を硬化してなるものであり、無機充填材と熱硬化性樹脂の硬化物とからなる。
樹脂基板20に用いることができる熱硬化性樹脂組成物と繊維基材の種類は、第一実施形態の樹脂基板10と同じである。
[Second Embodiment]
<Structure of resin substrate>
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the resin substrate 20 according to the second embodiment of the present invention. The resin substrate 20 of the second embodiment of the present invention is a resin substrate formed by heating and pressurizing three prepregs in which a thermosetting resin composition containing an inorganic filler is held on a fiber base material 25 and is in a semi-cured state. be. The resin substrate 20 of the present embodiment contains a cured product 22 of a thermosetting resin composition and a fiber base material 25. The cured product 22 of the thermosetting resin composition is obtained by curing the thermosetting resin composition containing the inorganic filler, and is composed of the inorganic filler and the cured product of the thermosetting resin.
The types of the thermosetting resin composition and the fiber base material that can be used for the resin substrate 20 are the same as those of the resin substrate 10 of the first embodiment.

本実施形態の樹脂基板20は、第二実施形態の樹脂基板10と同様に、内部(プリプレグとプリプレグの界面)、およびその表層には、さらに金属箔が積層されて金属箔張基板を形成してもよい。表層に金属箔を積層する場合、金属箔は、一方の面のみに付設しても、両面に付設してもよい。また、金属箔を備えた樹脂基板は、必要に応じて、エッチング処理および穴開け処理などの各種処理のうちいずれか1種類または2種類以上施されていてもよい。 Similar to the resin substrate 10 of the second embodiment, the resin substrate 20 of the present embodiment is formed by further laminating a metal foil on the inside (intersection of the prepreg and the prepreg) and on the surface layer thereof to form a metal foil-covered substrate. You may. When the metal foil is laminated on the surface layer, the metal foil may be attached to only one surface or both sides. Further, the resin substrate provided with the metal foil may be subjected to any one or more of various treatments such as etching treatment and drilling treatment, if necessary.

<樹脂基板の層構造>
本実施形態の樹脂基板20は、3枚プリプレグ由来する3層構造からなる。第一層は、第一プリプレグ(図示なし)由来の熱硬化性樹脂組成物の硬化物22-1と繊維基材25-1とを有し、第二層は、第二プリプレグ(図示なし)由来の熱硬化性樹脂組成物の硬化物22-2と繊維基材25-2とを有し、第三層は、第三プリプレグ(図示なし)由来の熱硬化性樹脂組成物の硬化物22-3と繊維基材25-3とを有する。
<Layer structure of resin substrate>
The resin substrate 20 of the present embodiment has a three-layer structure derived from three prepregs. The first layer has a cured product 22-1 of a thermosetting resin composition derived from the first prepreg (not shown) and a fiber base material 25-1, and the second layer has a second prepreg (not shown). It has a cured product 22-2 of a thermosetting resin composition derived from it and a fiber base material 25-2, and the third layer is a cured product 22 of a thermosetting resin composition derived from a third prepreg (not shown). It has -3 and a fiber base material 25-3.

<無機充填材疎部>
本実施形態の樹脂基板20は、無機充填材が少ない箇所(無機充填材疎部)28を有することを特徴とする。前記樹脂基板20の厚さをtとし、縦t、横2tの厚み方向の切断面の面積を100面積%とした時、この無機充填材疎部が0.5~8面積%有る。本発明の無機充填材が少ない箇所(無機充填材疎部)28は、酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分である。
更に、本発明の樹脂基板20は、基板20の厚み方向の切断面を、プリプレグの積層枚数3で厚み方向に等分し、プリプレグ1枚分に相当する縦t/n、横2tの面積をA1からA3とし、前記A1からA3のそれぞれの面積を100面積%とした時、無機充填材疎部がA1からA3にそれぞれ0~20面積%有る。
本実施無機充填材疎部28の成分、サイズ、形状は、第一実施形態の無機充填材疎部疎部18と同様である。
<Inorganic filler sparse part>
The resin substrate 20 of the present embodiment is characterized by having a portion (sparse portion of the inorganic filler) 28 having a small amount of the inorganic filler. When the thickness of the resin substrate 20 is t and the area of the cut surface in the thickness direction of vertical t and horizontal 2 t is 100 area%, the inorganic filler sparse portion is 0.5 to 8 area%. The portion 28 of the present invention in which the amount of the inorganic filler is small (the sparse portion of the inorganic filler) is a portion where the element derived from the inorganic filler excluding oxygen and the fiber base material is 10% or less.
Further, in the resin substrate 20 of the present invention, the cut surface in the thickness direction of the substrate 20 is equally divided in the thickness direction by the number of laminated prepregs 3, and the area of vertical t / n and horizontal 2t corresponding to one prepreg is obtained. When A1 to A3 are used and the areas of A1 to A3 are 100 area%, there are 0 to 20 area% of inorganic filler sparse parts in A1 to A3, respectively.
The components, size, and shape of the sparse portion 28 of the inorganic filler of the present embodiment are the same as those of the sparse portion 18 of the inorganic filler of the first embodiment.

<無機充填材疎部の配置>
本実施形態の無機充填材疎部28の配置(分布)としては、樹脂基板の熱伝導率と成形性の効果があれば特に限定がないが、熱伝導経路を形成しやすい観点から、分散した状態であることが好ましい。例えば、本実施形態の無機充填材疎部28は、樹脂基板20の厚み方向の切断面において、図2に示すように、第一層の繊維基材25-1と第二層の繊維基材25-2との間、第二層の繊維基材25-2と第二層の繊維基材25-3との間にそれぞれ形成されている。より具体的には、例えば、図2に示す樹脂基板20の厚み方向の切断面において、同一層の繊維基材の開口部の真下の部分でない箇所で形成されていることが好ましい。更に、容易に製造する観点から、図2に示す一例として、第一層の樹脂組成物の硬化物22-1と第二層の樹脂組成物の硬化物22-2との接続面、第二層の樹脂組成物の硬化物22-2と第三層の樹脂組成物の硬化物22-3との接続面において、硬化物22-3の側に形成されてもよい。
<Arrangement of sparse parts of inorganic filler>
The arrangement (distribution) of the sparse portion 28 of the inorganic filler of the present embodiment is not particularly limited as long as it has the effects of thermal conductivity and moldability of the resin substrate, but is dispersed from the viewpoint of easily forming a thermal conduction path. It is preferably in a state. For example, in the sparse portion 28 of the inorganic filler of the present embodiment, as shown in FIG. 2, the fiber base material 25-1 of the first layer and the fiber base material of the second layer are formed on the cut surface of the resin substrate 20 in the thickness direction. It is formed between 25-2, between the second layer fiber base material 25-2 and the second layer fiber base material 25-3, respectively. More specifically, for example, it is preferable that the resin substrate 20 is formed at a portion not directly below the opening of the fiber substrate of the same layer on the cut surface in the thickness direction of the resin substrate 20 shown in FIG. Further, from the viewpoint of easy production, as an example shown in FIG. 2, a connecting surface between the cured product 22-1 of the resin composition of the first layer and the cured product 22-2 of the resin composition of the second layer, the second It may be formed on the side of the cured product 22-3 at the connecting surface between the cured product 22-2 of the resin composition of the layer and the cured product 22-3 of the resin composition of the third layer.

(樹脂基板の製造方法)
本実施形態の積層基板の製造方法は、まず、図5(a)~(c)に示すように、例えば、空隙を有する第一プリプレグ51-1の1枚と第二プリプレグ53の1枚と空隙を有する第一プリプレグ51-2の1枚を、その順で積層して樹脂基板50を作製する。具体的には、外層としての第一プリプレグ51の空隙を有する側面と、中間層としての第二プリプレグ53に対向し、第一プリプレグ51がプリプレグ2を挟むように配置し、加熱プレス・成形工程により、樹脂基板50を形成することができる。第一プリプレグ51の空隙部分には樹脂が優先的に流れ込んで空隙を埋めるため、空隙が有った部分は無機充填材が少ない無機充填材疎部58が、空隙が有った部分の周囲には無機充填材が多い箇所が生じる。
(Manufacturing method of resin substrate)
In the method for manufacturing the laminated substrate of the present embodiment, first, as shown in FIGS. 5A to 5C, for example, one of the first prepregs 51-1 having a gap and one of the second prepregs 53 are used. One of the first prepregs 51-2 having voids is laminated in this order to prepare a resin substrate 50. Specifically, the side surface of the first prepreg 51 as the outer layer having a gap and the second prepreg 53 as the intermediate layer are arranged so as to sandwich the prepreg 2, and the heating press / molding step is performed. Therefore, the resin substrate 50 can be formed. Since the resin preferentially flows into the void portion of the first prepreg 51 to fill the void, the inorganic filler sparse portion 58 having less inorganic filler is formed around the void portion in the portion having the void. There are places where there are many inorganic fillers.

上記第一プリプレグ51と第二プリプレグ53は、それぞれ第一実施形態の第一プリプレグ41と第二プリプレグ43と同様な方法で得ることができる。 The first prepreg 51 and the second prepreg 53 can be obtained in the same manner as the first prepreg 41 and the second prepreg 43 of the first embodiment, respectively.

第一プリプレグ51と第二プリプレグ53をプレス・成形し、樹脂基板50を形成する条件は、第一プリプレグ51と第二プリプレグ53の未硬化・半硬化熱硬化性樹脂を硬化し、無機充填材疎部58を形成することができれば、特に限定されない。通常100℃~250℃の範囲であり、好ましくは130℃~230℃の範囲である。また、加熱及び加圧処理における加圧条件は特に限定されない。通常1MPa~20MPaの範囲であり、好ましくは1MPa~15MPaの範囲である。また、加熱及び加圧処理には、真空プレスが好適に用いられる。 The conditions for forming the resin substrate 50 by pressing and molding the first prepreg 51 and the second prepreg 53 are that the uncured / semi-cured thermosetting resin of the first prepreg 51 and the second prepreg 53 is cured, and the inorganic filler is used. As long as the sparse portion 58 can be formed, the present invention is not particularly limited. It is usually in the range of 100 ° C. to 250 ° C., preferably in the range of 130 ° C. to 230 ° C. Further, the pressurizing conditions in the heating and pressurizing treatment are not particularly limited. It is usually in the range of 1 MPa to 20 MPa, preferably in the range of 1 MPa to 15 MPa. Further, a vacuum press is preferably used for the heating and pressurizing treatment.

図5に示す例において、樹脂基板50に用いる第一プリプレグ51が2枚であるが、2枚に限らず、3枚以上でもよい。樹脂基板50に用いる第二プリプレグ53が1枚であるが、1枚に限らず、2枚以上でもよい。この枚数は、第一プリプレグ51と第二プリプレグ53の厚さおよび強度などの条件に基づいて適宜設定可能である。 In the example shown in FIG. 5, the number of the first prepreg 51 used for the resin substrate 50 is two, but the number is not limited to two, and three or more may be used. The number of the second prepreg 53 used for the resin substrate 50 is one, but the number is not limited to one, and two or more may be used. This number can be appropriately set based on conditions such as the thickness and strength of the first prepreg 51 and the second prepreg 53.

本発明の実施例に関して、詳細に説明する。 Examples of the present invention will be described in detail.

(実施例1)
<空隙を有する第一プリプレグの作製>
樹脂組成物として、以下の材料を準備した。
熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂(テトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂50%、4,4’-ビフェノール型エポキシ50%混合物、エポキシ当量175g/eq、三菱化学株式会社製 YL-6121H) … 60質量部
硬化剤(1,3,5-トリス(4-ヒドロキシフェニル)ベンゼン、活性水素当量118g/eq) … 40質量部
硬化促進剤(2-エチル-4-メチルイミダゾール、四国化成社製 2E4MZ) … 1質量部
有機溶剤としてメチルエチルケトン … 50質量部
(Example 1)
<Preparation of the first prepreg with voids>
The following materials were prepared as the resin composition.
Epoxy resin as a thermosetting resin (tetramethylbiphenol type epoxy resin 50%, 4,4'-biphenol type epoxy 50% mixture, epoxy equivalent 175 g / eq, Mitsubishi Chemical Corporation YL-6121H) ... 60 parts by mass
Hardener (1,3,5-tris (4-hydroxyphenyl) benzene, active hydrogen equivalent 118 g / eq) ... 40 parts by mass Hardening accelerator (2-ethyl-4-methylimidazole, 2E4MZ manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) ... 1 Parts by mass Methylethylketone as an organic solvent ... 50 parts by mass

これらの材料をメディアレス分散機(浅田鉄工社製 デスパミル MD-10)に投入し、撹拌して樹脂混合液を作製した。次に、この樹脂混合液に無機充填材として酸化マグネシウム粉末(平均粒径30μm、熱伝導率45W/(m・K))を投入し、よく撹拌分散させ、第一樹脂組成物の塗料を作製した。このとき、酸化マグネシウム粉末は、樹脂組成物の塗料からメチルエチルケトンを除いた固形分体積を100体積%としたときに60体積%(以下、充填率)となるように調整した。 These materials were put into a medialess disperser (Despamill MD-10 manufactured by Asada Iron Works Co., Ltd.) and stirred to prepare a resin mixture. Next, magnesium oxide powder (average particle size 30 μm, thermal conductivity 45 W / (m · K)) was added to this resin mixed solution as an inorganic filler, and the mixture was well stirred and dispersed to prepare a paint of the first resin composition. did. At this time, the magnesium oxide powder was adjusted to be 60% by volume (hereinafter, filling rate) when the solid content volume obtained by removing methyl ethyl ketone from the coating material of the resin composition was 100% by volume.

さらに、繊維基材としてガラスクロス(IPC規格1080(株)有沢製作所製の非開繊ガラスクロス、厚さ0.055mm、質量47g/m、密度66×46本/25mm、平織タイプ)を用いた。調整した樹脂組成物の塗料を、このガラスクロスの片面からスリットダイを用いて塗布し、ガラスクロスの目開きを通してガラスクロスの塗布裏面に通過させることによってガラスクロスに塗料を保持させる塗布方法において、ガラスクロスへのスリットダイのノズル押し込み量を4.8mmに制御することにより、ガラスクロスの目開きを通る塗料量を減らし、塗布裏面に空隙がある第一プリプレグを作製した。乾燥条件としては、100℃にて加熱乾燥してメチルエチルケトンを除去し、縦150mm、横150mmに裁断し、樹脂組成物層とガラスクロスを含む本実施例の第一プリプレグを得た。厚さは172μmであった。 Furthermore, glass cloth (IPC standard 1080, non-open fiber glass cloth manufactured by Arisawa Mfg. Co., Ltd., thickness 0.055 mm, mass 47 g / m 2 , density 66 x 46 lines / 25 mm, plain weave type) is used as the fiber base material. board. In a coating method in which a paint of the adjusted resin composition is applied from one side of the glass cloth using a slit die and passed through the opening of the glass cloth to the back side of the glass cloth to hold the paint. By controlling the amount of the slit die nozzle pushed into the glass cloth to 4.8 mm, the amount of paint passing through the opening of the glass cloth was reduced, and a first prepreg having voids on the back surface of the coating was produced. As the drying conditions, methyl ethyl ketone was removed by heating and drying at 100 ° C., and the mixture was cut into a length of 150 mm and a width of 150 mm to obtain a first prepreg of this example containing a resin composition layer and a glass cloth. The thickness was 172 μm.

<樹脂基板>
得られた第一プリプレグを2枚用いて、それぞれの空隙を有する側と空隙を有する側を向かい合わせて積層し、加熱加圧(温度170℃、1MPaにて20分間)を行い、加えてさらに2回目の加熱加圧(温度200℃、4MPaにて1時間)を行い、無機充填材が少ない無機充填材疎部を有する樹脂基板を得た。厚さが340μmであった。
第一プリプレグの空隙の無い側をA、空隙の有る側をBとした場合、本実施例において、2枚の第一プリプレグABでの層構成は、「AB/BA」で表す。表1に示す。
第一プリプレグの空隙部分には樹脂が優先的に流れ込んで空隙を埋めるため、空隙が有った部分は無機充填材が少ない無機充填材疎部が、空隙が有った部分の周囲には無機充填材が多い箇所が生じる。
<Resin substrate>
Using two of the obtained first prepregs, the side having the respective voids and the side having the voids were laminated facing each other, heated and pressurized (temperature 170 ° C., 1 MPa for 20 minutes), and further added. The second heating and pressurization (temperature 200 ° C., 4 MPa for 1 hour) was carried out to obtain a resin substrate having an inorganic filler sparse portion with a small amount of the inorganic filler. The thickness was 340 μm.
When the side without the voids of the first prepreg is A and the side with the voids is B, the layer structure of the two first prepregs AB is represented by "AB / BA" in this embodiment. It is shown in Table 1.
Since the resin preferentially flows into the voids of the first prepreg to fill the voids, the voids are filled with inorganic fillers with less inorganic filler, and the voids are surrounded by inorganic particles. There are places where there is a lot of filler.

(実施例2、3、6)
<空隙を有する第一プリプレグの作製>
ガラスクロスへのスリットダイのノズル押し込み量は表1に示す以外は、実施例1と同様な方法で空隙を有するそれぞれの第一プリプレグを作製した。
(Examples 2, 3 and 6)
<Preparation of the first prepreg with voids>
The amount of the slit die nozzle pushed into the glass cloth was different from that shown in Table 1, and each first prepreg having a gap was prepared in the same manner as in Example 1.

<樹脂基板>
作製した第一プリプレグを表1に示す枚数を用い、表1に示す層構成で積層した以外は、実施例1と同様な方法で本実施例の樹脂基板を作製した。
実施例2は、[AB/BA]/BAの順で最初2枚硬化して、次に1枚積層して、硬化した。
実施例3、6は、[AB/BA]の2枚が先に硬化させて内層とし、外層の一面に2枚BA/AB、その他の面に2枚BA/ABを積層してプレスした。
積層の層構成の表示方法A、Bは、実施例1と同じ意味である。
<Resin substrate>
The resin substrate of this example was prepared in the same manner as in Example 1 except that the prepared first prepregs were laminated in the layer structure shown in Table 1 using the number of sheets shown in Table 1.
In Example 2, two sheets were first cured in the order of [AB / BA] / BA, and then one sheet was laminated and cured.
In Examples 3 and 6, two sheets of [AB / BA] were first cured to form an inner layer, two sheets BA / AB were laminated on one surface of the outer layer, and two sheets BA / AB were laminated on the other surface and pressed.
The methods A and B for displaying the layered structure of the laminate have the same meaning as in the first embodiment.

(実施例4)
<空隙を有する第一プリプレグの作製>
ガラスクロスへのスリットダイのノズル押し込み量は表1に示す以外は、実施例1と同様な方法で空隙を有する本実施例の第一プリプレグを作製した。
(Example 4)
<Preparation of the first prepreg with voids>
The first prepreg of this example having voids was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of the slit die nozzle pushed into the glass cloth is shown in Table 1.

<空隙を有しない第二プリプレグの作製>
樹脂組成物の塗料として実施例1の第一プリプレグと同様な樹脂組成物の塗料、繊維基材として実施例1の第一プリプレグと同様なガラスクロスを用いて、この塗料を、このガラスクロスの片面からスリットダイを用いて塗布し、ガラスクロスの目開きを通してガラスクロスの塗布裏面に通過させることによってガラスクロスに塗料を保持させる塗布方法において、ガラスクロスへのスリットダイのノズル押し込み量を5mmに制御することにより、ガラスクロスの目開きを通る塗料量を増やし、塗布裏面に空隙がない第二プリプレグを作製した。乾燥条件としては、100℃にて加熱乾燥してメチルエチルケトンを除去し、縦150mm、横150mmに裁断し、樹脂組成物層とガラスクロスを含む本実施例の第二プリプレグを得た。厚さは172μmであった。
<Making a second prepreg without voids>
Using the same resin composition paint as the first prepreg of Example 1 as the paint of the resin composition and the same glass cloth as the first prepreg of Example 1 as the fiber base material, this paint was applied to the glass cloth. In the coating method in which the paint is applied from one side using a slit die and the paint is held on the glass cloth by passing it through the opening of the glass cloth through the coating back surface of the glass cloth, the amount of the slit die nozzle pushed into the glass cloth is set to 5 mm. By controlling, the amount of paint passing through the opening of the glass cloth was increased, and a second prepreg having no voids on the back surface of the coating was produced. As the drying conditions, methyl ethyl ketone was removed by heating and drying at 100 ° C., and the mixture was cut into a length of 150 mm and a width of 150 mm to obtain a second prepreg of this example containing a resin composition layer and a glass cloth. The thickness was 172 μm.

<樹脂基板>
第一プリプレグを4枚、第二プリプレグを2枚用いて、「AA/AB/[AB/BA]/BA/AA」の配置で、[AB/BA]中の2枚は先に硬化させて内層とし、外層の一面に2枚AA/AB、その他の面に2枚BA/AAを積層してプレスした以外は、実施例1と同様な方法でそれぞれの樹脂基板が得られた。
空隙を有しない第二プリプレグがAAと表示され、空隙を有する第一プリプレグの表示方法、層構成の表示方法は、実施例1と同じである。
<Resin substrate>
Using 4 first prepregs and 2 second prepregs, in the arrangement of "AA / AB / [AB / BA] / BA / AA", 2 of [AB / BA] are cured first. Each resin substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that two AA / AB sheets were laminated on one surface of the outer layer and two BA / AA sheets were laminated on the other surface and pressed as the inner layer.
The second prepreg having no voids is displayed as AA, and the method of displaying the first prepreg having voids and the method of displaying the layer structure are the same as those in the first embodiment.

(実施例5、7)
<空隙を有する第一プリプレグの作製>
ガラスクロスへのスリットダイのノズル押し込み量は表1に示す以外は、実施例1と同様な方法で空隙を有する本実施例の第一プリプレグを作製した。
(Examples 5 and 7)
<Preparation of the first prepreg with voids>
The first prepreg of this example having voids was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of the slit die nozzle pushed into the glass cloth is shown in Table 1.

<空隙を有する第三プリプレグの作製>
ガラスクロスへのスリットダイのノズル押し込み量は表1に示す以外は、実施例1と同様な方法で空隙を有する本実施例の第三プリプレグを作製した。
<Preparation of a third prepreg with voids>
The third prepreg of this example having voids was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of the slit die nozzle pushed into the glass cloth is shown in Table 1.

<樹脂基板>
第一プリプレグを5枚、第三プリプレグを1枚用いて、「AA/AC/[AB/BA]/BA/AB」の配置で、[AB/BA]中の2枚は先に硬化させて内層とし、外層の一面に2枚AA/AC、その他の面に2枚BA/ABを積層してプレスした以外は、実施例1と同様な方法でそれぞれの樹脂基板が得られた。
第三プリプレグは第一プリプレグに比べて、より大きい空隙を有するプリプレグであり、空隙を有する側がCとし、空隙を有する第一プリプレグの表示方法、層構成の表示方法は、実施例1と同じである。
<Resin substrate>
Using 5 first prepregs and 1 third prepreg, in the arrangement of "AA / AC / [AB / BA] / BA / AB", 2 of [AB / BA] are cured first. Each resin substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that two AA / AC sheets were laminated on one surface of the outer layer and two BA / AB sheets were laminated on the other surface and pressed as the inner layer.
The third prepreg is a prepreg having a larger void than the first prepreg, and the side having the void is C, and the display method and the layer structure of the first prepreg having the void are the same as those in the first embodiment. be.

(比較例1)
<空隙を有しない第二プリプレグの作製>
実施例4と同様な方法で空隙を有しない第二プリプレグを作製した。
<樹脂基板>
第二プリプレグを6枚用いて、「AA/AA/[AA/AA]/AA/AA」の層構成で積層してプレスした以外は、実施例1と同様な方法で本実施例の樹脂基板が得られた。
(Comparative Example 1)
<Making a second prepreg without voids>
A second prepreg having no voids was prepared in the same manner as in Example 4.
<Resin substrate>
The resin substrate of this example was formed in the same manner as in Example 1 except that six second prepregs were laminated and pressed in a layered structure of "AA / AA / [AA / AA] / AA / AA". was gotten.

(比較例2)
<空隙を有する第一プリプレグの作製>
ガラスクロスへのスリットダイのノズル押し込み量は表1に示す以外は、実施例1と同様な方法で空隙を有する本実施例の第一プリプレグを作製した。
<空隙を有しない第二プリプレグの作製>
実施例4と同様な方法で空隙を有しない第二プリプレグを作製した。
<樹脂基板>
第一プリプレグを5枚、第二プリプレグを1枚用いて、「AA/AB/[AB/BA]/BA/AB」の配置で積層してプレスした以外は、実施例1と同様な方法で本比較例の樹脂基板が得られた。
(比較例3)
<空隙を有する第一プリプレグの作製>
ガラスクロスへのスリットダイのノズル押し込み量は表1に示す以外は、実施例1と同様な方法で空隙を有する本実施例の第一プリプレグを作製した。
<樹脂基板>
本比較例で作製した第一プリプレグを6枚用いた以外は、実施例1と同様な方法で本実施例の樹脂基板が得られた。
(Comparative Example 2)
<Preparation of the first prepreg with voids>
The first prepreg of this example having voids was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of the slit die nozzle pushed into the glass cloth is shown in Table 1.
<Making a second prepreg without voids>
A second prepreg having no voids was prepared in the same manner as in Example 4.
<Resin substrate>
Using 5 first prepregs and 1 second prepreg, they were laminated and pressed in the arrangement of "AA / AB / [AB / BA] / BA / AB" in the same manner as in Example 1. The resin substrate of this comparative example was obtained.
(Comparative Example 3)
<Preparation of the first prepreg with voids>
The first prepreg of this example having voids was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of the slit die nozzle pushed into the glass cloth is shown in Table 1.
<Resin substrate>
The resin substrate of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that six first prepregs prepared in this comparative example were used.

(評価方法)
この樹脂基板のそれぞれの特性を調べたところ、表1に示した結果が得られた。ここでは、各樹脂基板の厚さ切断面において無機充填材疎部の面積比(%)、樹脂基板の熱伝導率、成形性を調べた。
(Evaluation method)
When the characteristics of each of the resin substrates were examined, the results shown in Table 1 were obtained. Here, the area ratio (%) of the sparse portion of the inorganic filler on the thickness cut surface of each resin substrate, the thermal conductivity of the resin substrate, and the moldability were investigated.

<無機充填材疎部の面積比>
得られた樹脂基板を厚み方向に切断した後、切断面を研磨し、平滑な切断面を得た。この切断面の、ガラスクロス及び無機充填材について、SEM(走査型電子顕微鏡)で観察を行いながら、SEMに付属しているEDX(エネルギー分散型X線分析装置)で元素分析を行い、ガラスクロス及び無機充填材含有の無機元素と、元素濃度を測定した。
基板厚さtの樹脂基板の場合、切断面の縦t、横2tの範囲をガラスクロス及び無機充填材含有の無機元素で元素マッピングを行い、ガラスクロスまたは無機充填材から検出された無機元素の元素濃度が10%未満となる部分(無機充填材疎部)について識別し、測定範囲全体を100面積%とした時の、無機充填材疎部の面積%を算出した。
基板の外層に銅箔が有る場合、外層の銅箔は除いて基板厚さtとする。
基板の内層に銅箔が有する場合、エッチングされており均一には存在していないので、基板厚さに含む。上記と同様な観察範囲において、SEM観察及び元素分析を行う。ガラスクロス、無機充填材、金属箔(銅箔)由来の元素が10%以下の部分を無機充填材疎部とする。金属箔を除く面積を100面積%として、無機充填材疎部の面積割合を求める。
<Area ratio of sparse parts of inorganic filler>
After cutting the obtained resin substrate in the thickness direction, the cut surface was polished to obtain a smooth cut surface. While observing the glass cloth and the inorganic filler on the cut surface with an SEM (scanning electron microscope), elemental analysis is performed with the EDX (energy dispersive X-ray analyzer) attached to the SEM to perform elemental analysis on the glass cloth. And the inorganic element contained in the inorganic filler and the element concentration were measured.
In the case of a resin substrate having a substrate thickness of t, element mapping is performed with a glass cloth and an inorganic element containing an inorganic filler in the range of vertical t and horizontal 2 t of the cut surface, and the inorganic element detected from the glass cloth or the inorganic filler is used. A portion having an element concentration of less than 10% (sparse portion of the inorganic filler) was identified, and the area% of the sparse portion of the inorganic filler was calculated when the entire measurement range was 100 area%.
When the outer layer of the substrate has a copper foil, the thickness of the substrate is t excluding the copper foil of the outer layer.
When the copper foil is contained in the inner layer of the substrate, it is included in the thickness of the substrate because it is etched and does not exist uniformly. SEM observation and elemental analysis are performed in the same observation range as above. The portion where the element derived from the glass cloth, the inorganic filler, and the metal foil (copper foil) is 10% or less is defined as the sparse portion of the inorganic filler. The area ratio of the sparse portion of the inorganic filler is determined with the area excluding the metal foil as 100 area%.

<樹脂基板の熱伝導率>
熱伝導性を調べるため、樹脂基板の熱伝導率(W/(m・K))を測定した。具体的には、最初に、樹脂基板を切断して、円形状の測定用試料(直径=10mm,厚さ=0.3~1.0mm)を作製した。続いて、熱伝導率測定装置(アドバンス理工株式会社(旧アルバック理工株式会社)製のTCシリーズ)を用いて測定用試料を分析して、熱拡散係数α(m/s)を測定した。また、サファイアを標準試料として、示差走査熱量分析(DSC)を用いて測定用試料の比熱Cpを測定した。さらに、アルキメデス法を用いて測定用試料の密度rを測定した。最後に、下記の数式(2)に基づいて、熱伝導率λ(W/(m・K))を算出した。
<Thermal conductivity of resin substrate>
In order to investigate the thermal conductivity, the thermal conductivity (W / (m · K)) of the resin substrate was measured. Specifically, first, a resin substrate was cut to prepare a circular measurement sample (diameter = 10 mm, thickness = 0.3 to 1.0 mm). Subsequently, the measurement sample was analyzed using a thermal conductivity measuring device (TC series manufactured by Advance Riko Co., Ltd. (formerly ULVAC Riko Co., Ltd.)), and the thermal diffusion coefficient α (m 2 / s) was measured. In addition, using sapphire as a standard sample, the specific heat Cp of the measurement sample was measured using differential scanning calorimetry (DSC). Further, the density r of the measurement sample was measured using the Archimedes method. Finally, the thermal conductivity λ (W / (m · K)) was calculated based on the following mathematical formula (2).

λ=α×Cp×r ・・・・・(2)
(λは熱伝導率(W/(m・K))、αは熱拡散率(m/s)、Cpは比熱(J/kg・K)、rは密度(kg/m)である。)
λ = α × Cp × r ・ ・ ・ ・ ・ (2)
(Λ is the thermal conductivity (W / (m · K)), α is the thermal diffusivity (m 2 / s), Cp is the specific heat (J / kg · K), and r is the density (kg / m 3 ). .)

<樹脂基板の成形性>
まず、図6と7に示した成形性評価用基板100を製造した。基板の表面に厚さ105μmの銅箔層104と105を配置し、銅箔層104を部分的にエッチングして、メッシュ状の溝106(幅=0.5mm,深さ=105μm)を形成した。この場合には、金属層104の外縁(4つの辺)に最も近い溝106とその銅箔層104の外縁との間の距離を9.5mm、溝106同士の間隔を9.5mmとした。
成形性を評価する場合には、成形性評価基板100の上に、実施例1~4、6、比較例2、3においては第一プリプレグを2枚使用し、銅箔/プリプレグ(AB/BA)成形性評価基板100の順に重ねて、積層体とした。実施例5、7においては第二プリプレグと第三プリプレグを1枚使用し、銅箔/プリプレグ(BA/AC)/成形性評価基板100の順に重ねて、積層体とした。比較例1においては第二プリプレグを2枚使用し、銅箔/プリプレグ(AA/AA)/成形性評価基板100の順に重ねて、積層体とした。この銅箔としては、70μmの銅箔を用いた。続いて、平板プレス機を用いて、積層方向において積層体を加熱(温度=180℃)および加圧(圧力=4MPa)した。これにより、プリプレグの1部が評価用基板100の溝106に入り込んだため、多層基板が得られた。金属顕微鏡を用いて多層基板の断面を観察した。
<Formability of resin substrate>
First, the formability evaluation substrate 100 shown in FIGS. 6 and 7 was manufactured. Copper foil layers 104 and 105 having a thickness of 105 μm were arranged on the surface of the substrate, and the copper foil layers 104 were partially etched to form a mesh-like groove 106 (width = 0.5 mm, depth = 105 μm). .. In this case, the distance between the groove 106 closest to the outer edge (four sides) of the metal layer 104 and the outer edge of the copper foil layer 104 was set to 9.5 mm, and the distance between the grooves 106 was set to 9.5 mm.
When evaluating the moldability, two first prepregs are used on the moldability evaluation substrate 100 in Examples 1 to 4, 6 and Comparative Examples 2 and 3, and a copper foil / prepreg (AB / BA) is used. ) Formability evaluation The substrates 100 were stacked in this order to form a laminated body. In Examples 5 and 7, one second prepreg and one third prepreg were used, and the copper foil / prepreg (BA / AC) / moldability evaluation substrate 100 was laminated in this order to form a laminated body. In Comparative Example 1, two second prepregs were used, and the copper foil / prepreg (AA / AA) / moldability evaluation substrate 100 were stacked in this order to form a laminated body. As this copper foil, a 70 μm copper foil was used. Subsequently, using a flat plate press, the laminate was heated (temperature = 180 ° C.) and pressurized (pressure = 4 MPa) in the lamination direction. As a result, a part of the prepreg entered the groove 106 of the evaluation substrate 100, so that a multilayer substrate was obtained. The cross section of the multilayer substrate was observed using a metallurgical microscope.

顕微鏡の観察結果に関しては、溝106の内部に樹脂組成物が充填されている場合を「〇」、その溝6の内部に樹脂組成物が充填されていない場合を「×」と評価した。 Regarding the observation results of the microscope, the case where the groove 106 was filled with the resin composition was evaluated as “◯”, and the case where the inside of the groove 6 was not filled with the resin composition was evaluated as “x”.

<空孔率>
プリプレグの空隙を、空孔率として評価した。
空孔率は、5mm×5mmの大きさでプリプレグ裏面(空隙を有する側)を観察して、プリプレグの面積に対して、空孔の面積を求めた。
例えば、プリプレグが5mm×5mmであり、空孔が0.4mmあった場合、空孔率が1.6%となる。
空孔率が大きければ充填材疎部も大きくなる傾向にある。
<Porosity>
The voids in the prepreg were evaluated as porosity.
The porosity was determined by observing the back surface of the prepreg (the side having voids) with a size of 5 mm × 5 mm and determining the area of the prepreg with respect to the area of the prepreg.
For example, if the prepreg is 5 mm × 5 mm and the pores are 0.4 mm 2 , the porosity is 1.6%.
The larger the porosity, the larger the sparse part of the filler.

以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、各実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、及びその他の変更が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the drawings, the configurations and combinations thereof in the respective embodiments are examples, and the configurations are added or omitted within a range not deviating from the gist of the present invention. , Replacement, and other changes are possible.

Figure 0007102793000001
Figure 0007102793000001

12、22、32、42、52、…樹脂組成物の硬化物、
15、25、35、45、55…繊維基材(ガラスクロス)、
18、28、38,48,58…無機充填材疎部、
10、20、30,40,50…樹脂基板
31、41、51…第一プリプレグ、
33、43、53…第二プリプレグ。
102…繊維基材、
103…樹脂硬化物層、
104、105…銅箔層
106…溝
12, 22, 32, 42, 52, ... A cured product of the resin composition,
15, 25, 35, 45, 55 ... Fiber base material (glass cloth),
18, 28, 38, 48, 58 ... Inorganic filler sparse part,
10, 20, 30, 40, 50 ... Resin substrates 31, 41, 51 ... First prepreg,
33, 43, 53 ... Second prepreg.
102 ... Fiber substrate,
103 ... Resin cured product layer,
104, 105 ... Copper foil layer 106 ... Groove

Claims (3)

無機充填材を含む熱硬化性樹脂組成物を繊維基材に保持して半硬化状態としたプリプレグを1枚、もしくは2枚以上加熱加圧して成形した樹脂基板であって、
前記樹脂基板の厚さをtとし、縦t、横2tの厚み方向の切断面の面積を100面積%とした時、
酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分が0.5~8面積%有り、
前記樹脂基板の表面と平行の方向において、前記酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分と、前記酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%を超えた部分と、交互に並んでいる
ことを特徴とする樹脂基板。
A resin substrate formed by heating and pressurizing one or two or more prepregs in which a thermosetting resin composition containing an inorganic filler is held on a fiber base material and is in a semi-cured state.
When the thickness of the resin substrate is t and the area of the cut surface in the thickness direction of vertical t and horizontal 2 t is 100 area%,
There is 0.5 to 8 area% of the element derived from the inorganic filler and fiber base material excluding oxygen, which is 10% or less .
In the direction parallel to the surface of the resin substrate, the portion where the element derived from the inorganic filler and the fiber base material excluding oxygen is 10% or less and the element derived from the inorganic filler and the fiber base material excluding oxygen are 10%. It is lined up alternately with the part beyond
A resin substrate characterized by this.
無機充填材を含む熱硬化性樹脂組成物を繊維基材に保持して半硬化状態としたプリプレグを1枚、もしくは2枚以上加熱加圧して成形した樹脂基板であって、A resin substrate formed by heating and pressurizing one or two or more prepregs in which a thermosetting resin composition containing an inorganic filler is held on a fiber base material and is in a semi-cured state.
前記樹脂基板の厚さをtとし、縦t、横2tの厚み方向の切断面の面積を100面積%とした時、 When the thickness of the resin substrate is t and the area of the cut surface in the thickness direction of vertical t and horizontal 2 t is 100 area%,
酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分が0.5~8面積%有り、 There is 0.5 to 8 area% of the element derived from the inorganic filler and fiber base material excluding oxygen, which is 10% or less.
前記樹脂基板の厚み方向の切断面において、前記酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分は、前記繊維基材の開口部の真下の部分でない箇所で形成され、かつその幅が前記繊維基材の開口径以下である On the cut surface in the thickness direction of the resin substrate, a portion of the inorganic filler excluding oxygen and an element derived from the fiber base material of 10% or less is formed at a portion not directly below the opening of the fiber base material. And the width is equal to or less than the opening diameter of the fiber base material.
ことを特徴とする樹脂基板。A resin substrate characterized by this.
前記樹脂基板の厚み方向の切断面を、プリプレグの積層枚数nで厚み方向に等分し、プリプレグ1枚分に相当する縦t/n、横2tの面積をA1からAnとし、前記A1からAnのそれぞれの面積を100面積%とした時、酸素を除く無機充填材及び繊維基材由来の元素が10%以下の部分がA1からAnにそれぞれ0~20面積%有ることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の樹脂基板。 The cut surface in the thickness direction of the resin substrate is equally divided in the thickness direction by the number of laminated prepregs n, and the areas of vertical t / n and horizontal 2t corresponding to one prepreg are set from A1 to An. A claim is characterized in that each of A1 to An has a portion of 10% or less of an element derived from an inorganic filler excluding oxygen and a fiber base material, respectively, when the area of each of the above is 100 area%. 1 or the resin substrate according to claim 2 .
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