JP7087686B2 - Photocurable fluoropolyether-based rubber composition and its cured product - Google Patents

Photocurable fluoropolyether-based rubber composition and its cured product Download PDF

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Description

本発明は、光、特に紫外線の照射によって硬化する光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物に関するものであり、得られるフルオロポリエーテル系ゴム硬化物は特に耐圧縮永久歪み特性に優れる。 The present invention relates to a photocurable fluoropolyether-based rubber composition that is cured by irradiation with light, particularly ultraviolet rays, and a cured product thereof, and the obtained fluoropolyether-based rubber cured product is particularly excellent in compression-resistant permanent strain resistance. ..

従来から、加熱硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物は、耐熱性、低温性、耐薬品性、耐溶剤性、耐油性等の性質がバランスよく、優れた特性を有するため、自動車産業を中心に幅広い分野で応用されている(特許文献1、2及び3)。しかし、上記加熱硬化タイプの組成物は、硬化物を得るには加熱が必要であるため、加熱炉を設置するための比較的大きなスペースが必要であること、加熱炉に入らない様な大型部品や加熱不可部品への応用が難しいこと、成型工程がバッチ式となるために生産性が低下してしまうこと等の課題を有している。 Conventionally, heat-curable fluoropolyether-based rubber compositions have well-balanced properties such as heat resistance, low temperature resistance, chemical resistance, solvent resistance, and oil resistance, and have excellent properties, so that they are mainly used in the automobile industry. It is applied in a wide range of fields (Patent Documents 1, 2 and 3). However, since the above-mentioned heat-curing type composition requires heating to obtain a cured product, a relatively large space for installing a heating furnace is required, and large parts that do not enter the heating furnace are required. It has problems such as difficulty in application to non-heatable parts and a decrease in productivity due to the batch type molding process.

これに対して、室温硬化タイプのフルオロポリエーテル系ゴム組成物が見出され、このような組成物としては、これまでに縮合硬化タイプ、アミド架橋タイプが発明されている。これら組成物は、硬化物を得るための加熱処理が不要であり、しかも得られる硬化物が耐熱性、低温性、耐薬品性、耐溶剤性、耐油性等に優れることから、様々な分野で応用が期待されている(特許文献4、5、6、7及び8)。しかし、室温硬化タイプのゴム組成物は、保存中経時的に増粘したり、硬化完了までに24時間以上かかるなど、保存安定性と速硬化性の両立という面で課題を有していた。 On the other hand, a room temperature curing type fluoropolyether rubber composition has been found, and as such a composition, a condensation curing type and an amide crosslinked type have been invented so far. These compositions do not require heat treatment to obtain a cured product, and the obtained cured product is excellent in heat resistance, low temperature resistance, chemical resistance, solvent resistance, oil resistance, etc., and therefore, in various fields. Applications are expected (Patent Documents 4, 5, 6, 7 and 8). However, the room temperature curing type rubber composition has problems in terms of both storage stability and quick curing, such as thickening over time during storage and taking 24 hours or more to complete curing.

また上記室温硬化タイプのフルオロポリエーテル系ゴム組成物をО-リング等に成型し、ガスケット材として使用しようとすると、耐圧縮永久歪み特性において十分な性能が得られないという問題もあった。 Further, when the room temperature curing type fluoropolyether rubber composition is molded into an О-ring or the like and used as a gasket material, there is also a problem that sufficient performance cannot be obtained in terms of compression resistance permanent strain resistance.

特開2001-192546号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-192546 特許第3646775号公報Japanese Patent No. 3646775 特許第4016239号公報Japanese Patent No. 4016239 特許第3232221号公報Japanese Patent No. 3232221 特許第3183624号公報Japanese Patent No. 3183624 特許第3350347号公報Japanese Patent No. 3350347 特許第3617568号公報Japanese Patent No. 3617568 特許第5146690号公報Japanese Patent No. 5146690

従って、本発明は、耐熱性、低温性、耐薬品性、耐溶剤性、耐油性等に優れたゴム状の硬化物を与え、且つ組成物の保存安定性や室温での良好な硬化特性を有し、かつ耐圧縮永久歪み特性に優れた硬化物を与える光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a rubber-like cured product having excellent heat resistance, low temperature resistance, chemical resistance, solvent resistance, oil resistance, etc., and also provides storage stability of the composition and good curing characteristics at room temperature. It is an object of the present invention to provide a photocurable fluoropolyether-based rubber composition and a cured product thereof, which have and gives a cured product having excellent compression-resistant permanent strain characteristics.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、(A)1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中にパーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物、(B)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子を2個以上有する含フッ素オルガノ水素シロキサン、(C)光活性型ヒドロシリル化反応金属触媒、及び(D)BET比表面積が50m2/g以上で、かつアルキル基含有ケイ素化合物及びビニル基含有ケイ素化合物により表面が疎水化処理されたシリカ微粉末を含む光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物が、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成した。即ち、本発明は、下記の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物を提供するものである。 As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors have (A) a linear chain having two or more alkenyl groups in one molecule and a perfluoropolyether structure in the main chain. A polyfluoro compound, (B) a fluorine-containing organohydrogen siloxane having two or more hydrogen atoms directly connected to a silicon atom in one molecule, (C) a photoactive hydrosilylation reaction metal catalyst, and (D) a BET specific surface area of 50 m. It has been found that a photocurable fluoropolyether-based rubber composition containing 2 / g or more and silica fine powder whose surface has been hydrophobized with an alkyl group-containing silicon compound and a vinyl group-containing silicon compound can achieve the above object. , The present invention has been completed. That is, the present invention provides the following photocurable fluoropolyether-based rubber composition and a cured product thereof.

[1]
(A)1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中にパーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物:100質量部、
(B)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子を2個以上有する含フッ素オルガノ水素シロキサン:(A)成分のアルケニル基1モルに対してSi-H基として0.5~3.0モルとなる量、
(C)光活性型ヒドロシリル化反応金属触媒:(A)成分に対して金属原子の質量換算で0.1~500ppm、及び、
(D)BET比表面積が0.1m2/g以上で、かつ、アルキル基含有反応性ケイ素化合物及びアルケニル基含有反応性ケイ素化合物より表面が疎水化処理されたシリカ微粉末:(A)成分100質量部に対して1~40質量部
を含有する光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
[2]
(D)成分のシリカ微粉末が、アルキル基を有するシラザン化合物及びアルケニル基を有するシラザン化合物で表面処理されたものである[1]に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
[3]
(D)成分のシリカ微粉末が乾式法シリカ微粉末である[1]又は[2]に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
[4]
(D)成分のシリカ微粉末において、シリカ微粉末の表面処理剤は、アルケニル基含有反応性ケイ素化合物が0.1~40mol%、アルキル基含有反応性ケイ素化合物が60~99.9mol%のmol比の割合(但し、アルキル基含有反応性ケイ素化合物とアルケニル基含有反応性ケイ素化合物との合計で100モル%)で処理されたものである[1]~[3]のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
[5]
(A)成分が、下記式(1)で表される直鎖状ポリフルオロ化合物である[1]~[4]のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。

Figure 0007087686000001
[式(1)中、Xは-CH2-、-CH2O-、-CH2OCH2-又は-Y-NR1-CO-
(ここで、Yは-CH2-、-Si(CH32CH2CH2CH2-、-Si(CH3)(CH=CH2)CH2CH2CH2-、-Si(CH=CH22CH2CH2CH2-又は下記構造式(Z)
Figure 0007087686000002
(式(Z)中、R3、R4はそれぞれ独立に-CH3又は-CH=CH2である。)
で示されるo-、m-又はp-シリルフェニレン基であり、R1は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)であり、
X’は-CH2-、-OCH2-、-CH2OCH2-又は-CO-NR2-Y’-
(ここで、Y’は-CH2-、-CH2CH2CH2Si(CH32-、-CH2CH2CH2Si(CH3)(CH=CH2)-、-CH2CH2CH2Si(CH=CH22-又は下記構造式(Z’)
Figure 0007087686000003
(式(Z’)中、R3'、R4'はそれぞれ独立に-CH3又は-CH=CH2である。)
で示されるo-、m-又はp-シリルフェニレン基であり、R2は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)であり、gは独立に0又は1であり、
Rf1は下記式(i)又は(ii)である。
Figure 0007087686000004
(式(i)中、p及びqはそれぞれ0又は1~150の整数であって、且つpとqの和の平均は2~200である。rは0~6の整数、tは2又は3である。)
Figure 0007087686000005
(式(ii)中、uは1~200の整数、vは1~50の整数、tは2又は3である。)
で表される2価のパーフルオロポリエーテル基である。]
[6]
(B)成分の含フッ素オルガノ水素シロキサンが、1分子中に1個以上の1価のパーフルオロアルキル基、1価のパーフルオロオキシアルキル基、2価のパーフルオロアルキレン基、及び/又は2価のパーフルオロオキシアルキレン基を有するものである[1]~[5]のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
[7]
(C)成分の光活性型ヒドロシリル化反応金属触媒が、(η5-シクロペンタジエニル)トリ(σ-アルキル)白金(IV)錯体である[1]~[6]のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
[8]
(E)成分として、ヒドロシリル化反応の反応制御剤を含む[1]~[7]のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
[9]
[1]~[8]のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の硬化物。 [1]
(A) A linear polyfluoro compound having two or more alkenyl groups in one molecule and having a perfluoropolyether structure in the main chain: 100 parts by mass,
(B) Fluoro-containing organohydrogen siloxane having two or more hydrogen atoms directly connected to silicon atoms in one molecule: 0.5 to 3.0 mol as Si—H group with respect to 1 mol of alkenyl group of component (A) Amount,
(C) Photoactive hydrosilylation reaction metal catalyst: 0.1 to 500 ppm in terms of mass of metal atom with respect to the component (A), and
(D) Silica fine powder having a BET specific surface area of 0.1 m 2 / g or more and having a surface hydrophobic treatment of an alkyl group-containing reactive silicon compound and an alkenyl group-containing reactive silicon compound: (A) component 100 A photocurable fluoropolyether-based rubber composition containing 1 to 40 parts by mass with respect to parts by mass.
[2]
The photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to [1], wherein the silica fine powder of the component (D) is surface-treated with a silazane compound having an alkyl group and a silazane compound having an alkenyl group.
[3]
The photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to [1] or [2], wherein the silica fine powder of the component (D) is a dry silica fine powder.
[4]
In the silica fine powder of the component (D), the surface treatment agent for the silica fine powder is 0.1 to 40 mol% of the alkenyl group-containing reactive silicon compound and 60 to 99.9 mol% of the alkyl group-containing reactive silicon compound. The item according to any one of [1] to [3], which is treated with a ratio of ratio (however, 100 mol% in total of the alkyl group-containing reactive silicon compound and the alkenyl group-containing reactive silicon compound). Photocurable fluoropolyether-based rubber composition.
[5]
The photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to any one of [1] to [4], wherein the component (A) is a linear polyfluoro compound represented by the following formula (1).
Figure 0007087686000001
[In formula (1), X is -CH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 OCH 2- or -Y-NR 1 -CO-
(Here, Y is -CH 2- , -Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2- , -Si (CH 3 ) (CH = CH 2 ) CH 2 CH 2 CH 2- , -Si (CH) = CH 2 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 -or the following structural formula (Z)
Figure 0007087686000002
(In equation (Z), R 3 and R 4 are independently -CH 3 or -CH = CH 2 , respectively.)
It is an o-, m- or p-silylphenylene group represented by, and R 1 is a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group).
X'is -CH 2- , -OCH 2- , -CH 2 OCH 2- or -CO-NR 2 -Y'-
(Here, Y'is -CH 2- , -CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2- , -CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) (CH = CH 2 )-, -CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH = CH 2 ) 2 -or the following structural formula (Z')
Figure 0007087686000003
(In equation (Z ' ), R 3'and R 4'are independently -CH 3 or -CH = CH 2. )
It is an o-, m- or p-silylphenylene group represented by, R 2 is a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group), and g is independently 0 or 1.
Rf 1 is the following formula (i) or (ii).
Figure 0007087686000004
(In formula (i), p and q are integers of 0 or 1 to 150, respectively, and the average sum of p and q is 2 to 200. r is an integer of 0 to 6, and t is 2 or. 3)
Figure 0007087686000005
(In equation (ii), u is an integer of 1 to 200, v is an integer of 1 to 50, and t is 2 or 3.)
It is a divalent perfluoropolyether group represented by. ]
[6]
The fluorine-containing organohydrogensiloxane (B) component is one or more monovalent perfluoroalkyl groups, monovalent perfluorooxyalkyl groups, divalent perfluoroalkylene groups, and / or divalents in one molecule. The photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to any one of [1] to [5], which has the perfluorooxyalkylene group of the above.
[7]
In any one of [1] to [6], the photoactive hydrosilylation reaction metal catalyst of the component (C) is a (η 5 -cyclopentadienyl) tri (σ-alkyl) platinum (IV) complex. The photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to the above.
[8]
The photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to any one of [1] to [7], which comprises a reaction control agent for a hydrosilylation reaction as a component (E).
[9]
The cured product of the photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to any one of [1] to [8].

本発明によれば、耐熱性、低温性、耐薬品性、耐溶剤性、耐油性等に優れた光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物を提供することができる。また、保存安定性と良好な硬化特性を示し、かつ得られるゴム硬化物が良好な耐圧縮永久歪み特性を示す光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及び硬化物を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a photocurable fluoropolyether-based rubber composition having excellent heat resistance, low temperature resistance, chemical resistance, solvent resistance, oil resistance and the like. Further, it is possible to provide a photocurable fluoropolyether-based rubber composition and a cured product, which exhibit storage stability and good curing characteristics, and the obtained cured rubber product exhibits good compression-resistant permanent strain resistance.

以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited thereto.

〔(A)成分〕
本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物における(A)成分は、1分子中に2個以上のアルケニル基を有する直鎖状ポリフルオロ化合物である。ここでアルケニル基の数は、1分子中に2~30個が好ましく、2~10個がより好ましく、特に2~6個が好ましい。なお、本発明の組成物には、1分子中に1個のアルケニル基を有し、且つ主鎖中にパーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物は含まない。
本発明の(A)成分において、「直鎖状」とは、主鎖のパーフルオロポリエーテル構造を構成するパーフルオロオキシアルキレンからなる繰り返し単位同士が直鎖状に結合していることを意味するものであって、個々の繰り返し単位自体は、分岐状のパーフルオロオキシアルキレン単位(例えば、[-CF2CF(CF3)O-]単位、[-CF(CF3)O-]単位など)を含有するものであってもよい。
[(A) component]
The component (A) in the photocurable fluoropolyether-based rubber composition of the present invention is a linear polyfluoro compound having two or more alkenyl groups in one molecule. Here, the number of alkenyl groups is preferably 2 to 30 in one molecule, more preferably 2 to 10, and particularly preferably 2 to 6. The composition of the present invention does not contain a linear polyfluoro compound having one alkenyl group in one molecule and having a perfluoropolyether structure in the main chain.
In the component (A) of the present invention, "linearity" means that the repeating units made of perfluorooxyalkylene constituting the perfluoropolyether structure of the main chain are linearly bonded to each other. The individual repeating units themselves are branched perfluorooxyalkylene units (eg, [-CF 2 CF (CF 3 ) O-] units, [-CF (CF 3 ) O-] units, etc.). May be contained.

(A)成分としては、特に下記式(1)で表される主鎖中のパーフルオロオキシアルキレン繰り返し単位中に分岐構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物が好ましい。 As the component (A), a linear polyfluoro compound having a branched structure in the perfluorooxyalkylene repeating unit in the main chain represented by the following formula (1) is particularly preferable.

Figure 0007087686000006
Figure 0007087686000006

[式(1)中、Xは-CH2-、-CH2O-、-CH2OCH2-又は-Y-NR1-CO-
(ここで、Yは-CH2-、-Si(CH32CH2CH2CH2-、-Si(CH3)(CH=CH2)CH2CH2CH2-、-Si(CH=CH22CH2CH2CH2-又は下記構造式(Z)
[In formula (1), X is -CH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 OCH 2- or -Y-NR 1 -CO-
(Here, Y is -CH 2- , -Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2- , -Si (CH 3 ) (CH = CH 2 ) CH 2 CH 2 CH 2- , -Si (CH) = CH 2 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 -or the following structural formula (Z)

Figure 0007087686000007
Figure 0007087686000007

(式(Z)中、R3、R4はそれぞれ独立に-CH3又は-CH=CH2である。)
で示されるo-、m-又はp-シリルフェニレン基であり、R1は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)であり、
(In equation (Z), R 3 and R 4 are independently -CH 3 or -CH = CH 2 , respectively.)
It is an o-, m- or p-silylphenylene group represented by, and R 1 is a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group).

X’は-CH2-、-OCH2-、-CH2OCH2-又は-CO-NR2-Y’-
(ここで、Y’は-CH2-、-CH2CH2CH2Si(CH32-、-CH2CH2CH2Si(CH3)(CH=CH2)-、-CH2CH2CH2Si(CH=CH22-又は下記構造式(Z’)
X'is -CH 2- , -OCH 2- , -CH 2 OCH 2- or -CO-NR 2 -Y'-
(Here, Y'is -CH 2- , -CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2- , -CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) (CH = CH 2 )-, -CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH = CH 2 ) 2 -or the following structural formula (Z')

Figure 0007087686000008
Figure 0007087686000008

(式(Z’)中、R3'、R4'はそれぞれ独立に-CH3又は-CH=CH2である。)
で示されるo-、m-又はp-シリルフェニレン基であり、R2は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)である。
(In equation (Z ' ), R 3'and R 4'are independently -CH 3 or -CH = CH 2. )
It is an o-, m- or p-silylphenylene group represented by, and R 2 is a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group).

gは独立に0又は1である。
Rf1は下記式(i)又は(ii)
g is independently 0 or 1.
Rf 1 is the following formula (i) or (ii)

Figure 0007087686000009
Figure 0007087686000009

(式(i)中、p及びqはそれぞれ0又は1~150の整数であって、且つpとqの和の平均は2~200である。rは0~6の整数、tは2又は3である。) (In formula (i), p and q are integers of 0 or 1 to 150, respectively, and the average sum of p and q is 2 to 200. r is an integer of 0 to 6, and t is 2 or. 3)

Figure 0007087686000010
Figure 0007087686000010

(式(ii)中、uは1~200の整数、vは1~50の整数、tは2又は3である。)
で表される2価のパーフルオロポリエーテル基である。]
(In equation (ii), u is an integer of 1 to 200, v is an integer of 1 to 50, and t is 2 or 3.)
It is a divalent perfluoropolyether group represented by. ]

ここで、R1、R2としては、水素原子、炭素数1~12、特に1~10の炭化水素基が好ましく、炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基などや、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素等のハロゲン原子で置換した置換1価炭化水素基などが挙げられる。 Here, as R 1 and R 2 , a hydrogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, particularly 1 to 10 are preferable, and as the hydrocarbon group, specifically, a methyl group, an ethyl group and a propyl group are used. , Alkyl groups such as butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group; aryl groups such as phenyl group and trill group; aralkyl groups such as benzyl group and phenylethyl group, and a part of hydrogen atom of these groups or Examples thereof include a substituted monovalent hydrocarbon group in which the whole is substituted with a halogen atom such as fluorine.

ここで、式(1)中のRf1は2価のパーフルオロポリエーテル基であり、下記式(i)又は(ii)で表される基が好ましい。 Here, Rf 1 in the formula (1) is a divalent perfluoropolyether group, and a group represented by the following formula (i) or (ii) is preferable.

Figure 0007087686000011
Figure 0007087686000011

(式(i)中、p及びqはそれぞれ0又は1~150の整数、好ましくは10~150の整数であって、且つpとqの和の平均は、2~200、好ましくは20~160である。また、rは0~6の整数、好ましくは0~4の整数、tは2又は3である。) (In formula (i), p and q are 0 or an integer of 1 to 150, preferably an integer of 10 to 150, respectively, and the average sum of p and q is 2 to 200, preferably 20 to 160. In addition, r is an integer of 0 to 6, preferably an integer of 0 to 4, and t is 2 or 3).

Figure 0007087686000012
Figure 0007087686000012

(式(ii)中、uは1~200の整数、好ましくは20~160の整数であり、vは1~50の整数、好ましくは5~40の整数であり、tは2又は3である。) (In formula (ii), u is an integer of 1 to 200, preferably an integer of 20 to 160, v is an integer of 1 to 50, preferably an integer of 5 to 40, and t is 2 or 3. .)

Rf1基の好ましい例としては、例えば、下記の3つのもの((i-1)、(i-2)及び(ii-1))が挙げられる。この内、特に1番目の式の構造の2価の基が好ましい。 Preferred examples of one Rf group include, for example, the following three ((i-1), (i-2) and (ii-1)). Of these, a divalent group having the structure of the first equation is particularly preferable.

Figure 0007087686000013
Figure 0007087686000013

(式(i-1)中、p1及びq1はそれぞれ1~150の整数、p1+q1(平均)=2~200である。Lは2~6の整数である。) (In equation (i-1), p1 and q1 are integers of 1 to 150, respectively, and p1 + q1 (average) = 2 to 200. L is an integer of 2 to 6.)

Figure 0007087686000014
Figure 0007087686000014

(式(i-2)中、p2及びq2はそれぞれ1~150の整数、p2+q2(平均)=2~200である。Lは2~6の整数である。) (In equation (i-2), p2 and q2 are integers of 1 to 150, respectively, and p2 + q2 (average) = 2 to 200. L is an integer of 2 to 6.)

Figure 0007087686000015
Figure 0007087686000015

(式(ii-1)中、u1は1~200の整数、v1は1~50の整数である。) (In equation (ii-1), u1 is an integer of 1 to 200, and v1 is an integer of 1 to 50.)

(A)成分の好ましい例としては、下記式(2)で表される化合物が挙げられる。 Preferred examples of the component (A) include a compound represented by the following formula (2).

Figure 0007087686000016
Figure 0007087686000016

[式(2)中、X1は-CH2-、-CH2O-、-CH2OCH2-又は-Y-NR11-CO-(Yは前記と同じものを示し、R11は水素原子、メチル基、フェニル基又はアリル基である)で表される基を示し、X1’は-CH2-、-OCH2-、-CH2OCH2-又は-CO-NR12-Y’-(R12は上記R11と同じものを示し、Y’は前記と同じものを示す)で表される基であり、gは独立に0又は1、Lは2~6の整数、p3及びq3はそれぞれ1~150の整数、p3+q3(平均)=2~200である。] [In formula (2), X 1 is -CH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 OCH 2- or -Y-NR 11 -CO- (Y indicates the same as above, R 11 is hydrogen. A group represented by an atom, a methyl group, a phenyl group or an allyl group), where X 1'is -CH 2- , -OCH 2- , -CH 2 OCH 2- or -CO-NR 12 -Y'. -(R 12 indicates the same as R 11 above, Y'indicates the same as above), g is independently 0 or 1, L is an integer of 2 to 6, p3 and q3 is an integer of 1 to 150, and p3 + q3 (average) = 2 to 200, respectively. ]

式(1)で表される直鎖状ポリフルオロ化合物の具体例としては、下記式で表されるものが挙げられる。 Specific examples of the linear polyfluoro compound represented by the formula (1) include those represented by the following formula.

Figure 0007087686000017
Figure 0007087686000017

(式中、p’及びq’はそれぞれ1~150の整数、p’+q’(平均)=6~200である。) (In the formula, p'and q'are integers of 1 to 150, respectively, and p'+ q'(average) = 6 to 200.)

Figure 0007087686000018
Figure 0007087686000018

(式中、p’及びq’はそれぞれ1~150の整数、p’+q’(平均)=6~200である。) (In the formula, p'and q'are integers of 1 to 150, respectively, and p'+ q'(average) = 6 to 200.)

Figure 0007087686000019
Figure 0007087686000019

(式中、p”及びq”はそれぞれ1~150の整数、p”+q”=2~200を満足する数を示す。) (In the formula, p "and q" indicate integers of 1 to 150, respectively, and numbers satisfying p "+ q" = 2 to 200.)

式(1)で表される直鎖状ポリフルオロ化合物に含まれるアルケニル基量は、好ましくは0.00005~0.00050モル/gであり、更に好ましくは0.00007~0.00040モル/gである。直鎖状ポリフルオロ化合物に含まれるアルケニル基量が少なすぎると、硬化物の物理的強度が低下したり、硬化物が得られなくなったりする場合がある。また、アルケニル基量が多すぎると、得られる硬化物が脆く割れやすい場合がある。 The amount of the alkenyl group contained in the linear polyfluoro compound represented by the formula (1) is preferably 0.00005 to 0.00050 mol / g, more preferably 0.00007 to 0.00040 mol / g. Is. If the amount of alkenyl groups contained in the linear polyfluoro compound is too small, the physical strength of the cured product may decrease or the cured product may not be obtained. Further, if the amount of alkenyl groups is too large, the obtained cured product may be brittle and easily cracked.

なお、式(1)の直鎖状ポリフルオロ化合物の粘度(23℃)は、好ましくは100~100,000mPa・s、より好ましくは500~50,000mPa・s、更に好ましくは1,000~20,000mPa・sの範囲内にある。この範囲内の粘度の直鎖状ポリフルオロ化合物を光硬化型組成物に用い、組成物をシール、ポッティング、コーティング、含浸等に使用すれば、硬化物が適当な物理的特性を有するので望ましい。式(1)の直鎖状ポリフルオロ化合物は用途に応じて最も適切な粘度のものを選択する。この際、低粘度のポリマーと高粘度のポリマーを混合し、所望の粘度に調整して用いることも可能である。なお、本発明において、粘度は回転粘度計(例えば、BL型、BH型、BS型、コーンプレート型、レオメータ等)により測定することができるが、特に、上記一般式(1)又は(2)で表される直鎖状ポリフルオロ化合物の粘度(23℃)は、JIS K7117-1に規定された粘度測定により求めることができる。
また、主鎖のパーフルオロポリエーテル構造を構成するパーフルオロオキシアルキレン単位の繰り返し数などで反映される直鎖状ポリフルオロ化合物の重合度(又は分子量)は、例えば、フッ素系溶剤を展開溶媒としてゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析におけるポリスチレン換算の数平均重合度(又は数平均分子量)等として求めることができる。
The viscosity (23 ° C.) of the linear polyfluoro compound of the formula (1) is preferably 100 to 100,000 mPa · s, more preferably 500 to 50,000 mPa · s, still more preferably 1,000 to 20. It is within the range of 000 mPa · s. It is desirable to use a linear polyfluoro compound having a viscosity within this range for a photocurable composition, and to use the composition for sealing, potting, coating, impregnation, etc., because the cured product has appropriate physical properties. As the linear polyfluoro compound of the formula (1), the one having the most appropriate viscosity is selected according to the application. At this time, it is also possible to mix a low-viscosity polymer and a high-viscosity polymer and adjust the viscosity to a desired level before use. In the present invention, the viscosity can be measured by a rotational viscometer (for example, BL type, BH type, BS type, cone plate type, rheometer, etc.), and in particular, the above general formula (1) or (2). The viscosity (23 ° C.) of the linear polyfluoro compound represented by (1) can be determined by the viscosity measurement specified in JIS K7117-1.
Further, the degree of polymerization (or molecular weight) of the linear polyfluoro compound reflected by the number of repetitions of the perfluorooxyalkylene unit constituting the perfluoropolyether structure of the main chain is determined by, for example, using a fluorosolvent as a developing solvent. It can be determined as a polystyrene-equivalent number average degree of polymerization (or number average molecular weight) or the like in gel permeation chromatography (GPC) analysis.

更に本発明では、式(1)の直鎖状ポリフルオロ化合物を目的に応じた所望の数平均分子量に調節するため、予め、直鎖状ポリフルオロ化合物を、分子内にヒドロシリル基(Si-H基)を2個含有する有機ケイ素化合物と通常の方法及び条件でヒドロシリル化反応させ、鎖長延長された生成物を(A)成分として使用することも可能である。 Further, in the present invention, in order to adjust the linear polyfluoro compound of the formula (1) to a desired number average molecular weight according to the purpose, the linear polyfluoro compound is previously provided with a hydrosilyl group (Si—H) in the molecule. It is also possible to hydrosilylate the organosilicon compound containing two groups) by a usual method and conditions, and use the product having an extended chain length as the component (A).

これらの直鎖状ポリフルオロ化合物は、1種単独で使用されてもよく、若しくは2種以上を組み合わせて使用されてもよい。
本発明の組成物中、(A)成分は、50~98質量%含有することが好ましく、60~95質量%含有することがより好ましく、70~90質量%含有することがさらに好ましい。
These linear polyfluoro compounds may be used alone or in combination of two or more.
In the composition of the present invention, the component (A) is preferably contained in an amount of 50 to 98% by mass, more preferably 60 to 95% by mass, and even more preferably 70 to 90% by mass.

〔(B)成分〕
(B)成分は、1分子中に含フッ素有機基を1個以上、好ましくは1~10個有し、且つケイ素原子に直結した水素原子(即ち、Si-Hで示されるヒドロシリル基)を2個以上、好ましくは3~50個有する含フッ素オルガノ水素シロキサンである。(B)成分は、(A)成分の架橋剤及び/又は鎖長延長剤として機能するものである。また(B)成分は、(A)成分との相溶性、分散性、硬化後の均一性等の観点から、含フッ素有機基として、1分子中に1個以上の1価のパーフルオロアルキル基、1価のパーフルオロオキシアルキル基、2価のパーフルオロアルキレン基、及び/又は2価のパーフルオロオキシアルキレン基等のフッ素含有基を有するものが好ましい。
[(B) component]
The component (B) has 1 or more, preferably 1 to 10 fluorine-containing organic groups in one molecule, and 2 hydrogen atoms (that is, a hydrosilyl group represented by Si—H) directly connected to a silicon atom. It is a fluorine-containing organohydrogen siloxane having 3 or more, preferably 3 to 50. The component (B) functions as a cross-linking agent and / or a chain length extender for the component (A). Further, the component (B) is a fluorine-containing organic group having one or more monovalent perfluoroalkyl groups in one molecule from the viewpoint of compatibility with the component (A), dispersibility, uniformity after curing and the like. Those having a fluorine-containing group such as a monovalent perfluorooxyalkyl group, a divalent perfluoroalkylene group, and / or a divalent perfluorooxyalkylene group are preferable.

この1価又は2価の含フッ素有機基としては、例えば下記式で表されるもの等を挙げることができる。 Examples of the monovalent or divalent fluorine-containing organic group include those represented by the following formulas.

Figure 0007087686000020
Figure 0007087686000020

(式中、gは1~20の整数、好ましくは2~10の整数である。) (In the formula, g is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 10.)

Figure 0007087686000021
Figure 0007087686000021

(式中、fは1~200の整数、好ましくは1~100の整数、hは1~3の整数である。) (In the formula, f is an integer of 1 to 200, preferably an integer of 1 to 100, and h is an integer of 1 to 3.)

Figure 0007087686000022
Figure 0007087686000022

(式中、i及びjはそれぞれ1以上の整数、好ましくは1~100の整数、i+jの平均は2~200、好ましくは2~100である。) (In the formula, i and j are integers of 1 or more, preferably integers of 1 to 100, and the average of i + j is 2 to 200, preferably 2 to 100.)

Figure 0007087686000023
Figure 0007087686000023

(式中、d及びeはそれぞれ1~50の整数、好ましくは1~40の整数である。) (In the formula, d and e are integers of 1 to 50, preferably integers of 1 to 40, respectively.)

また、これらパーフルオロアルキル基、パーフルオロオキシアルキル基、パーフルオロアルキレン基又はパーフルオロオキシアルキレン基と(B)成分中のケイ素原子とは2価の連結基により繋がれていることが好ましく、該2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基及びそれらの組み合わせ、若しくはこれらの基にエーテル結合(酸素原子)、アミド結合、カルボニル結合、エステル結合、ジオルガノシリレン基等を介在させたものであってもよく、例えば、下記の炭素数2~12の2価の連結基等が挙げられる。 Further, it is preferable that these perfluoroalkyl group, perfluorooxyalkyl group, perfluoroalkylene group or perfluorooxyalkylene group and the silicon atom in the component (B) are linked by a divalent linking group. As the divalent linking group, an alkylene group, an arylene group and a combination thereof, or an ether bond (oxygen atom), an amide bond, a carbonyl bond, an ester bond, a diorganosylylene group, etc. are interposed in these groups. It may be present, and examples thereof include the following divalent linking groups having 2 to 12 carbon atoms.

Figure 0007087686000024
Figure 0007087686000024

(式中、Phはフェニル基、Ph’はフェニレン基である。) (In the formula, Ph is a phenyl group and Ph'is a phenylene group.)

また、この(B)成分の含フッ素オルガノ水素シロキサンにおける上記1価又は2価の含フッ素有機基及びケイ素原子に結合した水素原子以外のケイ素原子に結合した1価の置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基等のアルケニル基;フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基及びこれらの基の水素原子の一部又は全部が塩素原子、シアノ基等で置換された、例えば、クロロメチル基、クロロプロピル基、シアノエチル基等の炭素数1~20、好ましくは1~12の非置換又は置換の1価炭化水素基が挙げられる。 Further, as the monovalent or divalent fluorine-containing organic group in the fluorine-containing organohydrogen siloxane of the component (B) and the monovalent substituent bonded to a silicon atom other than the hydrogen atom bonded to the silicon atom, for example, Alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group and decyl group; alkenyl group such as vinyl group and allyl group; aryl group such as phenyl group, trill group and naphthyl group An aralkyl group such as a benzyl group or a phenylethyl group and a carbon such as a chloromethyl group, a chloropropyl group or a cyanoethyl group in which a part or all of the hydrogen atom of these groups is substituted with a chlorine atom, a cyano group or the like. Examples thereof include an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having a number of 1 to 20, preferably 1 to 12.

(B)成分の含フッ素オルガノ水素シロキサンとしては、環状、鎖状、三次元網状及びそれらの組み合わせのいずれでもよい。この含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサンのケイ素原子数は、特に制限されるものではないが、通常2~60、好ましくは3~30程度である。 The fluorine-containing organohydrogensiloxane (B) component may be cyclic, chain-like, three-dimensional network-like, or a combination thereof. The number of silicon atoms of this fluorine-containing organohydrogenpolysiloxane is not particularly limited, but is usually about 2 to 60, preferably about 3 to 30.

このような1価又は2価の含フッ素有機基及びケイ素原子結合水素原子を有する(B)成分としては、例えば下記の化合物が挙げられる。これらの化合物は、1種単独でも2種以上を併用して用いられてもよい。なお、下記式において、Meはメチル基、Phはフェニル基を示す。 Examples of the component (B) having such a monovalent or divalent fluorine-containing organic group and a silicon atom-bonded hydrogen atom include the following compounds. These compounds may be used alone or in combination of two or more. In the following formula, Me represents a methyl group and Ph represents a phenyl group.

Figure 0007087686000025
Figure 0007087686000025

Figure 0007087686000026
Figure 0007087686000026

Figure 0007087686000027
Figure 0007087686000027

Figure 0007087686000028
Figure 0007087686000028

Figure 0007087686000029
Figure 0007087686000029

Figure 0007087686000030
Figure 0007087686000030

Figure 0007087686000031
Figure 0007087686000031

Figure 0007087686000032
Figure 0007087686000032

Figure 0007087686000033
Figure 0007087686000033

Figure 0007087686000034
Figure 0007087686000034

上記(B)成分の含フッ素オルガノ水素シロキサンに含まれるSi-H基量は、好ましくは0.00050~0.01000モル/gであり、更に好ましくは0.00100~0.00800モル/gである。含フッ素オルガノ水素シロキサンに含まれるSi-H基量が少なすぎると架橋密度が不十分となり、得られる硬化物の物理的特性が低下する場合があり、Si-H基量が多すぎると硬化時に発泡したり、得られる硬化物の物理的特性が経時で大きく変化したりする場合がある。 The amount of Si—H group contained in the fluorine-containing organohydrogensiloxane of the component (B) is preferably 0.00050 to 0.01000 mol / g, more preferably 0.00100 to 0.00800 mol / g. be. If the amount of Si—H groups contained in the fluorine-containing organohydrogen siloxane is too small, the crosslink density may be insufficient and the physical properties of the obtained cured product may deteriorate. It may foam or the physical properties of the resulting cured product may change significantly over time.

上記(B)成分の配合量は、(A)成分中に含まれるビニル基、アリル基、シクロアルケニル基等のアルケニル基1モルに対し、(B)成分中のヒドロシリル基、即ちSi-H基が0.5~3.0モル、好ましくは0.8~2.0モルとなる量である。ヒドロシリル基(≡Si-H)が少なすぎると、架橋密度が不十分となる結果、硬化物が得られない。また、ヒドロシリル基が多すぎると硬化時に発泡してしまう。 The blending amount of the component (B) is 1 mol of an alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group or a cycloalkenyl group contained in the component (A), and a hydrosilyl group in the component (B), that is, a Si—H group. Is an amount of 0.5 to 3.0 mol, preferably 0.8 to 2.0 mol. If the number of hydrosilyl groups (≡Si—H) is too small, the crosslink density becomes insufficient, and as a result, a cured product cannot be obtained. Also, if there are too many hydrosilyl groups, they will foam during curing.

〔(C)成分〕
(C)成分は、光活性型ヒドロシリル化反応金属触媒である。光活性型ヒドロシリル化反応金属触媒は、光、特に300~400nmの近紫外線の照射によって該触媒中の金属が活性化され、(A)成分中のアルケニル基と、(B)成分中のヒドロシリル基との付加反応を促進する触媒である。この光活性型ヒドロシリル化反応金属触媒は、主に白金族系金属触媒、若しくはニッケル系金属触媒がこれに該当し、白金族系金属触媒としては白金系、パラジウム系、ロジウム系の金属錯体化合物、ニッケル系金属触媒としてはニッケル系、鉄系、コバルト系の金属錯体化合物がある。中でも白金系金属錯体化合物は、比較的入手し易く、且つ良好な触媒活性を示すため、好ましい。
[(C) component]
The component (C) is a photoactive hydrosilylation reaction metal catalyst. In the photoactive hydrosilylation reaction metal catalyst, the metal in the catalyst is activated by irradiation with light, particularly near ultraviolet rays of 300 to 400 nm, and the alkenyl group in the component (A) and the hydrosilyl group in the component (B) are activated. It is a catalyst that promotes the addition reaction with. This photoactive hydrosilylation reaction metal catalyst mainly corresponds to a platinum group metal catalyst or a nickel metal catalyst, and the platinum group metal catalyst includes platinum-based, palladium-based, and rhodium-based metal complex compounds. Examples of the nickel-based metal catalyst include nickel-based, iron-based, and cobalt-based metal complex compounds. Among them, platinum-based metal complex compounds are preferable because they are relatively easily available and exhibit good catalytic activity.

光活性型の白金系金属錯体化合物としては、例えば、(η5-シクロペンタジエニル)トリ(σ-アルキル)白金錯体化合物やβ-ジケトナト白金錯体化合物などがあり、具体的には(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)、(シクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)、(1,2,3,4,5-ペンタメチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)、(シクロペンタジエニル)ジメチルエチル白金(IV)、(シクロペンタジエニル)ジメチルアセチル白金(IV)、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)、(メトキシカルボニルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)、(ジメチルフェニルシリルシクロペンタジエニル)トリメチルシクロペンタジエニル白金(IV)、トリメチル(アセチルアセトナト)白金(IV)、トリメチル(3,5-ヘプタンジオネート)白金(IV)、トリメチル(メチルアセトアセテート)白金(IV)、ビス(2,4-ペンタンジオナト)白金(II)、ビス(2,4-へキサンジオナト)白金(II)、ビス(2,4-へプタンジオナト)白金(II)、ビス(3,5-ヘプタンジオナト)白金(II)、ビス(1-フェニル-1,3-ブタンジオナト)白金(II)、ビス(1,3-ジフェニル-1,3-プロパンジオナト)白金(II)、ビス(ヘキサフルオロアセチルアセトナト)白金(II)などが挙げられる。 Examples of the photoactive platinum-based metal complex compound include (η 5 -cyclopentadienyl) tri (σ-alkyl) platinum complex compound and β-diketonato platinum complex compound, and specifically (methylcyclo). Pentazienyl) trimethyl platinum (IV), (cyclopentadienyl) trimethyl platinum (IV), (1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentadienyl) trimethyl platinum (IV), (cyclopentadi) Enyl) dimethylethyl platinum (IV), (cyclopentadienyl) dimethylacetyl platinum (IV), (trimethylsilylcyclopentadienyl) trimethylplatinum (IV), (methoxycarbonylcyclopentadienyl) trimethylplatinum (IV), ( Dimethylphenylsilylcyclopentadienyl) trimethylcyclopentadienyl platinum (IV), trimethyl (acetylacetonato) platinum (IV), trimethyl (3,5-heptandionate) platinum (IV), trimethyl (methylacetoacetate) Platinum (IV), bis (2,4-pentandionato) platinum (II), bis (2,4-hexandionato) platinum (II), bis (2,4-heptanzionato) platinum (II), bis ( 3,5-Heptandionato) Platinum (II), Bis (1-phenyl-1,3-Butandionato) Platinum (II), Bis (1,3-Diphenyl-1,3-Propanezionato) Platinum (II), Bis (Hexafluoroacetylacetonato) Platinum (II) and the like can be mentioned.

これらの触媒の使用にあたっては、それが固体触媒であるときには固体状で使用することも可能であるが、より均一な硬化物を得るためには触媒を適切な溶媒に溶解したものを(A)成分の直鎖状ポリフルオロ化合物に相溶させて使用することが好ましい。 In using these catalysts, when it is a solid catalyst, it can be used in a solid state, but in order to obtain a more uniform cured product, the catalyst is dissolved in an appropriate solvent (A). It is preferable to use it by dissolving it in a linear polyfluoro compound as a component.

使用する溶媒の種類については、触媒が可溶なものであれば特に限定はされないが、炭化水素基の水素の一部がフッ素で置換された溶媒、又は炭化水素基の水素の一部がフッ素で置換された溶媒と炭化水素基の水素の全てがフッ素で置換された溶媒との混合溶媒を使用することが、触媒を組成物中により均一に分散可能である点で、より好ましい。 The type of solvent used is not particularly limited as long as the catalyst is soluble, but a solvent in which a part of hydrogen of a hydrocarbon group is replaced with hydrogen or a part of hydrogen of a hydrocarbon group is fluorine. It is more preferable to use a mixed solvent of the solvent substituted with and the solvent in which all of the hydrogens of the hydrocarbon group are substituted with fluorine, in that the catalyst can be more uniformly dispersed in the composition.

炭化水素基の水素の一部がフッ素で置換された溶媒としては、例えば1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1,2-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1-メチル-3-(ペンタフルオロエチル)ベンゼン、1,1,1-トリフルオロ-3-[3-(トリフルオロメチル)フェニル]プロパン-2-オン、4-フルオロ-3-(トリフルオロメチル)安息香酸メチル、ヘプタフルオロ酪酸n-ブチル、3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸エチル、2-メチル-5-(トリフルオロメチル)ベンズアルデヒド、2,3-ジメトキシベンゾトリフルオリドなどが挙げられる。 Examples of the solvent in which a part of the hydrogen of the hydrocarbon group is replaced with fluorine include 1,3-bis (trifluoromethyl) benzene, 1,2-bis (trifluoromethyl) benzene, and 1,4-bis (tri). Fluoromethyl) benzene, 1-methyl-3- (pentafluoroethyl) benzene, 1,1,1-trifluoro-3- [3- (trifluoromethyl) phenyl] propan-2-one, 4-fluoro-3 -Methyl benzoate (trifluoromethyl) n-butyl heptafluorobutyrate, ethyl 3,5-bis (trifluoromethyl) benzoate, 2-methyl-5- (trifluoromethyl) benzaldehyde, 2,3-dimethoxybenzo Trifluoride and the like can be mentioned.

また炭化水素基の水素の全てがフッ素で置換された溶媒としては、例えばオクタフルオロトルエン、(1,1,2,3,3,3-ヘキサフルオロプロポキシ)パーフルオロベンゼン、ペンタフルオロエチル2,2,2-トリフルオロエチルエーテル、フロリナート(3M社製)、PF5060(3M社製)、パーフルオロポリエーテルオリゴマーなどが挙げられる。 Examples of the solvent in which all of the hydrogens of the hydrocarbon group are substituted with fluorine include octafluorotoluene, (1,1,2,3,3,3-hexafluoropropoxy) perfluorobenzene, and pentafluoroethyl 2,2. , 2-Trifluoroethyl ether, Florinate (manufactured by 3M), PF5060 (manufactured by 3M), perfluoropolyether oligomer and the like.

触媒を溶液として用いる場合、(A)成分の直鎖状ポリフルオロ化合物と触媒溶液との好ましい混合比は、100:0.01~1.00(質量比)の範囲である。触媒溶液の添加量がこの範囲より多い場合には、硬化物の物性に影響を与える可能性があり、一方この範囲よりも少ない場合には、組成物への分散性不良を招く可能性がある。よって、触媒溶液の濃度はこの混合比の範囲内になるよう、適宜調整を行えばよい。 When the catalyst is used as a solution, the preferable mixing ratio of the linear polyfluoro compound (A) to the catalyst solution is in the range of 100: 0.01 to 1.00 (mass ratio). If the amount of the catalyst solution added is more than this range, it may affect the physical properties of the cured product, while if it is less than this range, it may cause poor dispersibility in the composition. .. Therefore, the concentration of the catalyst solution may be appropriately adjusted so as to be within the range of this mixing ratio.

(C)成分の使用量は、(A)成分に対して該触媒中の金属原子の質量換算で0.1~500ppm、好ましくは1~100ppmである。使用量が少なすぎると、光硬化性組成物が十分な光硬化性を得られず、一方多すぎると発泡したり硬化物の耐熱性に悪影響を及ぼす可能性がある。 The amount of the component (C) used is 0.1 to 500 ppm, preferably 1 to 100 ppm in terms of mass of the metal atom in the catalyst with respect to the component (A). If the amount used is too small, the photocurable composition cannot obtain sufficient photocurability, while if it is too large, it may foam or adversely affect the heat resistance of the cured product.

〔(D)成分〕
(D)成分は、BET比表面積が0.1m2/g以上であり、かつ、アルキル基含有反応性ケイ素化合物及びアルケニル基含有反応性ケイ素化合物の両方の表面処理剤で表面が疎水化処理されたシリカ微粉末である。これによって、本発明の組成物から得られる硬化物に適切な物理的強度と良好な耐圧縮永久歪み特性を付与することができる。
[(D) component]
The surface of the component (D) is hydrophobized with a surface treatment agent having a BET specific surface area of 0.1 m 2 / g or more and both an alkyl group-containing reactive silicon compound and an alkenyl group-containing reactive silicon compound. It is a fine powder of silica. Thereby, it is possible to impart appropriate physical strength and good compression-resistant permanent strain resistance to the cured product obtained from the composition of the present invention.

シリカ微粉末(表面疎水化処理後)のBET比表面積は、好ましくは0.1~1,000m2/g、より好ましくは1~500m2/g、更に好ましくは10~400m2/g、特に好ましくは20~300m2/gである。BET比表面積が0.1m2/gより低い場合、組成物中への分散安定性が得られず経時で沈降が起きたり、また補強効果の低下により硬化物に所望の物理的強度や圧縮永久歪み特性が得られないことがある。またBET比表面積が1,000m2/gより高いと、組成物中で成分の吸着が起きたり、高い増粘効果のために添加量が少なくなり、硬化物に所望の物理的強度や圧縮永久歪み特性が得られないことがある。なお、本発明においてBET比表面積はJIS Z 8830に規定された一点法のN2ガス吸着によって測定することができる。
微粉末シリカとしては、乾式シリカ(煙霧質シリカ又はヒュームドシリカ)、沈降法シリカ、ゲル法シリカ、コロイダルシリカ等の湿式シリカ、粉砕シリカ、結晶性シリカ(石英微粉末)溶融球状シリカ等が例示されるが、これらの中でも組成物中での分散安定性や硬化物への補強効果等から乾式シリカが最も好ましい。
The BET specific surface area of the silica fine powder (after surface hydrophobic treatment) is preferably 0.1 to 1,000 m 2 / g, more preferably 1 to 500 m 2 / g, still more preferably 10 to 400 m 2 / g, and particularly. It is preferably 20 to 300 m 2 / g. When the BET specific surface area is lower than 0.1 m 2 / g, dispersion stability in the composition cannot be obtained and sedimentation occurs over time, and the desired physical strength and compression permanentity of the cured product are obtained due to a decrease in the reinforcing effect. Distortion characteristics may not be obtained. Further, when the BET specific surface area is higher than 1,000 m 2 / g, adsorption of components occurs in the composition, and the amount added is small due to the high thickening effect, so that the cured product has the desired physical strength and compression permanent. Distortion characteristics may not be obtained. In the present invention, the BET specific surface area can be measured by N 2 gas adsorption of the one-point method specified in JIS Z 8830.
Examples of the fine powder silica include dry silica (foam silica or fumed silica), precipitation method silica, gel method silica, wet silica such as colloidal silica, pulverized silica, and crystalline silica (quartz fine powder) molten spherical silica. However, among these, dry silica is most preferable because of its dispersion stability in the composition and its reinforcing effect on the cured product.

上記疎水化処理シリカ微粉末は、シリカ表面のケイ素原子に結合した水酸基(シラノール基)をアルキル基含有反応性ケイ素化合物及びアルケニル基含有反応性ケイ素化合物の両方の表面処理剤で処理することにより得られる。 The hydrophobized silica fine powder is obtained by treating a hydroxyl group (silanol group) bonded to a silicon atom on the silica surface with a surface treatment agent for both an alkyl group-containing reactive silicon compound and an alkenyl group-containing reactive silicon compound. Be done.

アルキル基含有反応性ケイ素化合物としては、以下に限定されるものではないが、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン、ヘキサプロピルジシラザン、1,3-ジエチル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、1,3-ジメチル-1,1,3,3-テトラエチルジシラザン等のシラザン化合物、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、トリプロピルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、ジプロピルジクロロシラン等のクロロシラン化合物等が挙げられるが、作業性やシリカ表面のシラノール基との反応性等から、シラザン化合物を用いるのが好ましく、特にヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザンを用いる場合が好ましい。 The alkyl group-containing reactive silicon compound is not limited to the following, but is not limited to hexamethyldisilazane, hexaethyldisilazane, hexapropyldisilazane, 1,3-diethyl-1,1,3,3-tetra. Silazan compounds such as methyldisilazane, 1,3-dimethyl-1,1,3,3-tetraethyldisilazane, alkoxysilane compounds such as methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, and propyltrimethoxysilane, trimethylchlorosilane, triethyl. Examples thereof include chlorosilane compounds such as chlorosilane, tripropylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, diethyldichlorosilane, and dipropyldichlorosilane, but it is preferable to use a silazane compound because of workability and reactivity with the silanol group on the silica surface. In particular, it is preferable to use hexamethyldisilazane and hexaethyldisilazane.

アルケニル基含有反応性ケイ素化合物としては、以下に限定されるものではないが、1,3-ジビニルテトラメチルジシラザン、1,3-ジアリルテトラメチルジシラザン、1,3-ジブテニルテトラメチルジシラザン、1,3-ジペンテニルテトラメチルジシラザン、1,3-ジヘキセニルテトラメチルジシラザン、1,3-ジヘプテニルテトラメチルジシラザン、1,3-ジオクテニルテトラメチルジシラザン、1,3-ジノネニルテトラメチルジシラザン、1,3-ジデケニルテトラメチルジシラザン、1,3-ジビニルテトラエチルジシラザン、1,3-ジメチルテトラビニルジシラザン等のシラザン化合物、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ブテニルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物、ジメチルビニルクロロシラン、アリルジメチルクロロシラン等のクロロシラン化合物等が挙げられるが、作業性やシリカ表面のシラノール基との反応性等から、シラザン化合物を用いるのが好ましく、特に1,3-ジビニルテトラメチルジシラザン、1,3-ジアリルテトラメチルジシラザンを用いる場合が好ましい。 The alkenyl group-containing reactive silicon compound is not limited to the following, but is not limited to 1,3-divinyltetramethyldisilazane, 1,3-diallyltetramethyldisilazane, and 1,3-dibutenyltetramethyldisilazane. , 1,3-Dipentenyltetramethyldisilazane, 1,3-dihexenyltetramethyldisilazane, 1,3-diheptenyltetramethyldisirazane, 1,3-dioctenyltetramethyldisilazane, 1,3 -Cilazan compounds such as dinonenyltetramethyldisilazane, 1,3-didekenyltetramethyldisilazane, 1,3-divinyltetraethyldisilazane, 1,3-dimethyltetravinyldisilazane, vinyltrimethoxysilane, allyl. Examples thereof include alkoxysilane compounds such as trimethoxysilane and butenyltrimethoxysilane, and chlorosilane compounds such as dimethylvinylchlorosilane and allyldimethylchlorosilane. However, due to workability and reactivity with silanol groups on the silica surface, silazane compounds are used. It is preferable to use, and it is particularly preferable to use 1,3-divinyltetramethyldisilazane and 1,3-diallyltetramethyldisilazane.

アルキル基含有反応性ケイ素化合物及びアルケニル基含有反応性ケイ素化合物は、それぞれ単独の化合物で処理してもよいし、複数の化合物を組み合わせて処理してもよい。 The alkyl group-containing reactive silicon compound and the alkenyl group-containing reactive silicon compound may be treated with a single compound, or may be treated with a combination of a plurality of compounds.

シリカ微粉末を疎水化処理する際、アルケニル基含有反応性ケイ素化合物が0.1~40mol%、アルキル基含有反応性ケイ素化合物が60~99.9mol%のmol比(但し、アルキル基含有反応性ケイ素化合物とアルケニル基含有反応性ケイ素化合物との合計で100モル%)で処理されることが好ましく、アルケニル基含有反応性ケイ素化合物が0.1mol%よりも少ないと、所望のゴム物性、特に圧縮永久歪み特性が得られなかったり、逆に40mol%よりも多いと、得られるゴム硬化物が硬く脆くなり、所望のゴム物性が得られない可能性がある。 When the silica fine powder is hydrophobized, the mol ratio of the alkenyl group-containing reactive silicon compound is 0.1 to 40 mol%, and the alkyl group-containing reactive silicon compound is 60 to 99.9 mol% (however, the alkyl group-containing reactive silicon compound). It is preferable to treat with 100 mol% in total of the silicon compound and the alkenyl group-containing reactive silicon compound, and when the alkenyl group-containing reactive silicon compound is less than 0.1 mol%, the desired rubber characteristics, particularly compression. If the permanent strain property is not obtained, or conversely, if it is more than 40 mol%, the obtained cured rubber product becomes hard and brittle, and the desired rubber physical property may not be obtained.

表面処理剤を使用して処理する方法としては、予め未処理のシリカ微粉末を粉体の状態で直接処理剤により気相処理するか又は、処理剤を適当な溶媒に希釈して処理するのが好ましい。かかる希釈溶媒としてはヘキサン、トルエン、アセトンなどが用いられる。 As a method of treatment using a surface treatment agent, the silica fine powder which has not been treated in advance is directly treated with a treatment agent in the form of a powder, or the treatment agent is diluted with an appropriate solvent for treatment. Is preferable. As such a diluting solvent, hexane, toluene, acetone and the like are used.

表面処理方法としては、通常、公知の技術を採用することができ、例えば常圧で密閉された機械混練り装置に、或いは流動層に上記未処理のシリカ微粉末と表面処理剤を入れ、必要に応じて不活性ガス存在下において室温下或いは加熱下にて混合処理される。場合により加湿をしてもよく、混練り後乾燥することにより調製することができる。 As a surface treatment method, a known technique can be usually adopted. For example, it is necessary to put the untreated silica fine powder and the surface treatment agent in a mechanical kneading device sealed at normal pressure or in a flow layer. Depending on the above, the mixing treatment is carried out at room temperature or under heating in the presence of an inert gas. In some cases, it may be humidified, and can be prepared by kneading and then drying.

この(D)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対して、1~40質量部であり、5~20質量部の範囲であることが好ましい。配合量が1質量部未満の場合には、得られる硬化物の物理的強度が得られず、一方、40質量部を超えると組成物の流動性が悪くなり、また光による硬化特性も著しく低下する可能性がある。 The blending amount of the component (D) is 1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), and is preferably in the range of 5 to 20 parts by mass. When the blending amount is less than 1 part by mass, the physical strength of the obtained cured product cannot be obtained, while when it exceeds 40 parts by mass, the fluidity of the composition is deteriorated and the curing property by light is significantly deteriorated. there's a possibility that.

本発明の組成物における(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分の合計含有量は、70~100質量%であることが好ましく、80~100質量%であることがより好ましく、90~100質量%であることがさらに好ましい。 The total content of the component (A), the component (B), the component (C) and the component (D) in the composition of the present invention is preferably 70 to 100% by mass, preferably 80 to 100% by mass. Is more preferable, and 90 to 100% by mass is further preferable.

〔(E)成分〕
本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物には、更に、(E)成分として、本発明の効果を損なわない範囲で従来公知のヒドロシリル化反応の反応制御剤を配合することができる。これによって、組成物は更に良好な保存性を得ることができる。反応制御剤としては、例えば1-エチニル-1-ヒドロキシシクロヘキサン、3-メチル-1-ブチン-3-オール、3,5-ジメチル-1-ヘキシン-3-オール、3-メチル-1-ペンテン-3-オール、フェニルブチノールなどのアセチレンアルコールや、3-メチル-3-ペンテン-1-イン、3,5-ジメチル-3-ヘキセン-1-イン等のアセチレン化合物などが挙げられる。また、以下の構造式で示される含フッ素アセチレンアルコール化合物、若しくはポリメチルビニルシロキサン環式化合物、有機リン化合物なども反応制御剤として用いることができる。
[(E) component]
The photocurable fluoropolyether-based rubber composition of the present invention may further contain, as the component (E), a conventionally known reaction control agent for the hydrosilylation reaction as long as the effects of the present invention are not impaired. Thereby, the composition can obtain a better storage stability. Examples of the reaction control agent include 1-ethynyl-1-hydroxycyclohexane, 3-methyl-1-butyne-3-ol, 3,5-dimethyl-1-hexin-3-ol, 3-methyl-1-pentene-. Examples thereof include acetylene alcohols such as 3-ol and phenylbutynol, and acetylene compounds such as 3-methyl-3-pentene-1-in and 3,5-dimethyl-3-hexene-1-in. Further, a fluorine-containing acetylene alcohol compound represented by the following structural formula, a polymethylvinylsiloxane cyclic compound, an organic phosphorus compound and the like can also be used as a reaction control agent.

Figure 0007087686000035
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Figure 0007087686000036
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Figure 0007087686000037
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Figure 0007087686000038
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Figure 0007087686000039
Figure 0007087686000039

Figure 0007087686000040
Figure 0007087686000040

これら反応制御剤は、その化学構造によって制御能力が異なるため、添加量についてはそれぞれ最適な量に調整すべきである。一般的に、反応制御剤の添加量が少なすぎると室温での長期保存性が得られず、反応制御剤の添加量が多すぎると、硬化性が鈍くなり十分な硬化性が得られなくなる可能性がある。 Since these reaction control agents have different control capacities depending on their chemical structures, the addition amount should be adjusted to the optimum amount. In general, if the amount of the reaction control agent added is too small, long-term storage at room temperature cannot be obtained, and if the amount of the reaction control agent added is too large, the curability becomes dull and sufficient curability may not be obtained. There is sex.

〔その他の成分〕
本発明の組成物においては、その実用性を高めるために上記の(A)~(E)成分以外にも、可塑剤、粘度調節剤、可撓性付与剤、無機質充填剤、接着促進剤、接着助剤、シランカップリング剤等の各種配合剤を必要に応じて添加することができる。これら添加剤の配合量は、本発明の効果を損なわない範囲、及び光硬化性組成物の特性及び硬化物の物性を損なわない限りにおいて任意である。
[Other ingredients]
In the composition of the present invention, in order to enhance its practicality, in addition to the above-mentioned components (A) to (E), a plasticizer, a viscosity modifier, a flexibility-imparting agent, an inorganic filler, an adhesion promoter, etc. Various compounding agents such as an adhesive aid and a silane coupling agent can be added as needed. The blending amount of these additives is arbitrary as long as the effects of the present invention are not impaired, and the characteristics of the photocurable composition and the physical properties of the cured product are not impaired.

可塑剤、粘度調節剤、可撓性付与剤として、下記式(3)で表されるポリフルオロモノアルケニル化合物、及び/又は、下記式(4)及び/又は(5)で表される無官能性の直鎖状ポリフルオロ化合物を併用することができる。 As a plasticizer, a viscosity modifier, and a flexibility-imparting agent, a polyfluoromonoalkenyl compound represented by the following formula (3) and / or a non-functional compound represented by the following formulas (4) and / or (5). A sex linear polyfluoro compound can be used in combination.

Figure 0007087686000041
Figure 0007087686000041

[式(3)中、X’は上記と同じ、Rf3は、下記式(iii)であり、aは、0又は1である。 [In the formula (3), X'is the same as above, Rf 3 is the following formula (iii), and a is 0 or 1.

Figure 0007087686000042
Figure 0007087686000042

(式(iii)中、f1は1以上の整数、好ましくは2~100の整数であり、tは2又は3であり、且つf1は上記(A)成分のRf1基に関するp+q(平均)及びrの和、並びにu及びvの和のいずれの和よりも小さいことが好ましい。)] (In the formula (iii), f1 is an integer of 1 or more, preferably an integer of 2 to 100, t is 2 or 3, and f1 is p + q (average) and p + q (average) with respect to one Rf group of the component (A) above. It is preferable that it is smaller than the sum of r and the sum of u and v.)]

Figure 0007087686000043
Figure 0007087686000043

(式(4)中、Dは式:Cs2s+1-(sは1~3)で表される基であり、c1は1~200の整数、好ましくは2~100の整数であり、且つ、c1は前記(A)成分のRf1基に関するp+q(平均)及びrの和、並びにu及びvの和のいずれの和よりも小さいことが好ましい。) (In the formula (4), D is a group represented by the formula: C s F 2s + 1- (s is 1 to 3), and c1 is an integer of 1 to 200, preferably an integer of 2 to 100. In addition, c1 is preferably smaller than the sum of p + q (average) and r with respect to the Rf 1 group of the component (A), and the sum of u and v.)

Figure 0007087686000044
Figure 0007087686000044

(式(5)中、Dは式:Cs2s+1-(sは1~3)で表される基であり、d1及びe1はそれぞれ1~200の整数、好ましくは1~100の整数であり、且つ、d1とe1の和は、前記(A)成分のRf1基に関するp+q(平均)及びrの和、並びにu及びvの和のいずれの和以下である。) (In the formula (5), D is a group represented by the formula: C s F 2s + 1- (s is 1 to 3), and d1 and e1 are integers of 1 to 200, preferably 1 to 100, respectively. It is an integer, and the sum of d1 and e1 is less than or equal to the sum of p + q (average) and r with respect to the Rf 1 group of the component (A), and the sum of u and v.)

上記式(3)で表されるポリフルオロモノアルケニル化合物の具体例としては、例えば、下記のものが挙げられる(なお、下記f1’は、上記f1の要件を満足するものである。)。 Specific examples of the polyfluoromonoalkenyl compound represented by the above formula (3) include the following (note that the following f1'satisfies the requirements of the above f1).

Figure 0007087686000045
Figure 0007087686000045

式(4)及び(5)で表される直鎖状ポリフルオロ化合物の具体例としては、例えば、下記のものが挙げられる(なお、下記c1’、及びd1’とe1’の和は、上記C1、及びd1とe1の和の要件を満足するものである。)。 Specific examples of the linear polyfluoro compound represented by the formulas (4) and (5) include the following (note that the sum of the following c1'and d1'and e1'is described above. It satisfies the requirements of C1 and the sum of d1 and e1).

Figure 0007087686000046
Figure 0007087686000046

(式中、c1’は1~200の整数である。) (In the formula, c1'is an integer from 1 to 200.)

Figure 0007087686000047
Figure 0007087686000047

(式中、d1’は1~200の整数、e1’は1~200の整数で、d1’+e1’=2~200である。) (In the formula, d1'is an integer of 1 to 200, e1'is an integer of 1 to 200, and d1'+ e1'= 2 to 200.)

式(3)~(5)の化合物の配合量は、本組成物中の(A)成分、特に式(1)の直鎖状ポリフルオロ化合物100質量部に対して1~300質量部、好ましくは50~250質量部である。また、回転粘度計による粘度(23℃)は、直鎖状ポリフルオロ化合物と同様の理由から、5~100,000mPa・sの範囲であることが望ましい。 The blending amount of the compounds of the formulas (3) to (5) is preferably 1 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A) in the present composition, particularly the linear polyfluoro compound of the formula (1). Is 50 to 250 parts by mass. Further, the viscosity (23 ° C.) by the rotational viscometer is preferably in the range of 5 to 100,000 mPa · s for the same reason as that of the linear polyfluoro compound.

無機質充填剤として、例えば、石英粉末、溶融石英粉末、珪藻土、炭酸カルシウム等の補強性又は準補強性充填剤、酸化鉄、カーボンブラック、アルミン酸コバルト等の無機顔料、酸化チタン、酸化鉄、カーボンブラック、酸化セリウム、水酸化セリウム、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、炭酸マンガン等の耐熱向上剤、アルミナ、窒化硼素、炭化ケイ素、金属粉末等の熱伝導性付与剤、カーボンブラック、銀粉末、導電性亜鉛華等の導電性付与剤等を挙げることができる。 Examples of the inorganic filler include reinforcing or semi-reinforcing fillers such as quartz powder, molten quartz powder, diatomaceous earth and calcium carbonate, inorganic pigments such as iron oxide, carbon black and cobalt aluminate, titanium oxide, iron oxide and carbon. Heat resistance improver such as black, cerium oxide, cerium hydroxide, zinc carbonate, magnesium carbonate, manganese carbonate, thermal conductivity imparting agent such as alumina, boron nitride, silicon carbide, metal powder, carbon black, silver powder, conductive zinc Examples thereof include a conductivity-imparting agent such as flower.

また、本発明では、必要により、カルボン酸無水物、チタン酸エステル等の接着促進剤、接着付与剤及び/又はシランカップリング剤を添加することができる。 Further, in the present invention, if necessary, an adhesion promoter such as a carboxylic acid anhydride or a titanium acid ester, an adhesion imparting agent and / or a silane coupling agent can be added.

[光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物]
本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物は、上記した(A)~(D)成分、好ましくは(A)~(E)成分と、その他の任意成分とをプラネタリーミキサー、ロスミキサー、ホバートミキサー等の混合装置、必要に応じてニーダー、三本ロール等の混練装置を使用して均一に混合することによって製造することができる。
[Photocurable fluoropolyether-based rubber composition]
In the photocurable fluoropolyether-based rubber composition of the present invention, the above-mentioned components (A) to (D), preferably the components (A) to (E), and other optional components are mixed with a planetary mixer or a loss mixer. , A mixing device such as a Hobart mixer, and if necessary, a kneading device such as a kneader or a triple roll can be used to uniformly mix the mixture.

本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の製造方法は特に制限されず、上記成分を練り合わせることにより製造することができる。また2種の組成物として調製し、使用時に混合するようにしてもよい。 The method for producing the photocurable fluoropolyether-based rubber composition of the present invention is not particularly limited, and can be produced by kneading the above components. Further, it may be prepared as two kinds of compositions and mixed at the time of use.

以下、(A)~(E)成分を配合した場合について光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の製造方法の一例を示す。 Hereinafter, an example of a method for producing a photocurable fluoropolyether-based rubber composition will be shown when the components (A) to (E) are blended.

[ベースコンパウンドの製造方法]
まず(A)成分100質量部に対して(D)成分を10~50質量部の範囲で加熱又は無加熱条件下で配合し、加熱・減圧条件下、若しくは加熱・加圧条件下で混練りを行って、(A)成分中に(D)成分が均一に分散してなるベースコンパウンドを調製する。
[Manufacturing method of base compound]
First, the component (D) is blended in the range of 10 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A) under heating or no heating conditions, and kneaded under heating / depressurizing conditions or heating / pressurizing conditions. To prepare a base compound in which the component (D) is uniformly dispersed in the component (A).

ここで、(A)成分と(D)成分との配合・混練りは、(D)成分である疎水化処理されたシリカ微粉末の表面を(A)成分である直鎖状ポリフルオロ化合物で十分に被覆するために行われる。これにより、(B)成分が(D)成分のシリカ表面に吸着されにくくなったり、(B)成分及び(D)成分同士が凝集されにくくなることによって、光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の粘度が低減し、光硬化性が向上するからである。(A)成分と(D)成分との配合・混練りは、プラネタリーミキサー、ゲートミキサー及びニーダー等の混練り装置などによって行うことができる。 Here, the compounding / kneading of the component (A) and the component (D) is carried out by using a linear polyfluoro compound as the component (A) on the surface of the hydrophobized silica fine powder as the component (D). It is done to cover well. As a result, the component (B) is less likely to be adsorbed on the silica surface of the component (D), and the components (B) and (D) are less likely to aggregate with each other, whereby the photocurable fluoropolyether-based rubber composition is formed. This is because the viscosity of silica is reduced and the photocurability is improved. The mixing and kneading of the component (A) and the component (D) can be performed by a kneading device such as a planetary mixer, a gate mixer and a kneader.

ベースコンパウンド中の(A)成分と(D)成分との配合比は、(D)成分である疎水化処理されたシリカ微粉末の種類によっても異なるが、(A)成分100質量部に対して(D)成分を10~50質量部とすることが好ましい。(A)成分100質量部に対して(D)成分が10質量部未満である場合には、最終配合組成物の粘度の低減が困難で、非常に粘度が高くなってしまうことがある。また、(A)成分100質量部に対して(D)成分が50質量部を超えると、混練り時の発熱が激しくなり、組成物の機械的特性が低下し、粉末の機械での配合が難しくなることがある。 The compounding ratio of the component (A) and the component (D) in the base compound varies depending on the type of the hydrophobized silica fine powder as the component (D), but with respect to 100 parts by mass of the component (A). The component (D) is preferably 10 to 50 parts by mass. When the component (D) is less than 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), it is difficult to reduce the viscosity of the final compounding composition, and the viscosity may become very high. Further, when the component (D) exceeds 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), heat generation during kneading becomes intense, the mechanical properties of the composition deteriorate, and the powder is blended in a machine. It can be difficult.

ベースコンパウンド製造時の配合・混練りの温度及び時間に関しては、適宜決定すればよいが、熱処理温度は120~180℃、成分が均一に分散するように混練りは1時間以上行うことが好ましい。 The temperature and time of compounding and kneading during the production of the base compound may be appropriately determined, but the heat treatment temperature is preferably 120 to 180 ° C., and the kneading is preferably carried out for 1 hour or more so that the components are uniformly dispersed.

配合・混練り時の圧力に関しては、用いる装置によって異なるので、その装置に応じて加圧若しくは減圧下で行うことが好ましい。例えば、プラネタリーミキサーやゲートミキサーで混練りする場合には、その圧力条件はゲージ圧で-0.05MPa以下の減圧下であることが好ましい。また、ニーダーで混練りする場合には、その圧力条件はゲージ圧で0.4~0.6MPaの加圧下であることが好ましい。この条件下で操作を行う理由は、(A)成分が(D)成分の表面に濡れやすく(被覆しやすく)するためである。 Since the pressure at the time of blending and kneading differs depending on the apparatus used, it is preferable to carry out under pressurization or depressurization depending on the apparatus. For example, when kneading with a planetary mixer or a gate mixer, the pressure condition is preferably a reduced pressure of −0.05 MPa or less at a gauge pressure. Further, when kneading with a kneader, the pressure condition is preferably a gauge pressure of 0.4 to 0.6 MPa. The reason for performing the operation under this condition is that the component (A) easily gets wet (easily covers) the surface of the component (D).

[光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の製造]
以上のようにして得られた(A)成分及び(D)成分からなるベースコンパウンドに、更に、上記(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(E)成分を所定量配合し、均一に混合することにより、光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物を得ることができる。
[Manufacturing of photocurable fluoropolyether-based rubber composition]
A predetermined amount of the above-mentioned (A) component, (B) component, (C) component and (E) component is further added to the base compound composed of the (A) component and the (D) component obtained as described above. , A photocurable fluoropolyether-based rubber composition can be obtained by uniformly mixing.

なお、本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物を使用するに当たり、その用途、目的に応じて適当なフッ素系溶剤、例えば、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、フロリナート(3M社製)、パーフルオロブチルメチルエーテル、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロポリエーテルオリゴマー、又はそれらの混合物等に所望の濃度に該組成物を溶解して使用してもよい。特に、薄膜コーティング用途においては溶剤を使用することが好ましい。 In using the photocurable fluoropolyether-based rubber composition of the present invention, a fluorine-based solvent suitable for the intended use and purpose, for example, 1,3-bis (trifluoromethyl) benzene, fluorolinerto (3M). The composition may be dissolved in a desired concentration in perfluorobutylmethyl ether, perfluorobutylethyl ether, perfluoropolyether oligomer, a mixture thereof, or the like. In particular, it is preferable to use a solvent in thin film coating applications.

[光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の光硬化方法]
製造された光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物は、光照射により硬化され得る。硬化の際、照射する光は発光スペクトルにおける最大ピーク波長が300~400nmの領域にあり、且つ300nmより短い波長領域にある各波長の放射照度は前記最大ピーク波長の放射照度の5%以下、好ましくは1%以下、より好ましくは0.1%以下、つまり0に近ければ近いほど好ましい。300nmより短い波長領域にあり、放射照度が前記最大ピーク波長の放射照度の5%より大きい波長を有する光を照射すると、ポリマー末端基の分解が起こったり、触媒の一部が分解したりするなどして、十分な硬化物を得ることができない可能性がある。
[Photo-curing method for photo-curable fluoropolyether-based rubber composition]
The produced photocurable fluoropolyether-based rubber composition can be cured by light irradiation. At the time of curing, the irradiated light has a maximum peak wavelength in the region of 300 to 400 nm in the emission spectrum, and the irradiance of each wavelength in the wavelength region shorter than 300 nm is preferably 5% or less of the irradiance of the maximum peak wavelength. Is 1% or less, more preferably 0.1% or less, that is, the closer it is to 0, the more preferable. Irradiation with light having a wavelength region shorter than 300 nm and having an irradiance greater than 5% of the irradiance of the maximum peak wavelength causes decomposition of the polymer terminal group, decomposition of a part of the catalyst, and the like. Therefore, it may not be possible to obtain a sufficient cured product.

本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物を硬化させるのに用いる活性光線種は特に限定はされないが、紫外線、特には、最大ピーク波長が300~400nmである近紫外線であることが好ましい。良好な硬化性を得るための紫外線照射量(照度)は、積算光量として100mJ/cm2~100,000mJ/cm2、好ましくは1,000mJ/cm2~10,000mJ/cm2、より好ましくは5,000~10,000mJ/cm2である。紫外線照射量(照度)が上記範囲未満の場合には、組成物中の光活性型ヒドロシリル化反応触媒を活性化するのに十分なエネルギーが得られず、十分な硬化物を得ることができない可能性がある。また、紫外線照射量(照度)が上記範囲を超える場合には、組成物に必要以上のエネルギーが照射され、ポリマー末端基の分解が起こったり、触媒の一部が失活したりするなどして、十分な硬化物を得ることができない可能性がある。 The active light species used for curing the photocurable fluoropolyether rubber composition of the present invention is not particularly limited, but ultraviolet rays, particularly near ultraviolet rays having a maximum peak wavelength of 300 to 400 nm are preferable. .. The amount of ultraviolet irradiation (illuminance) for obtaining good curability is 100 mJ / cm 2 to 100,000 mJ / cm 2 , preferably 1,000 mJ / cm 2 to 10,000 mJ / cm 2 , more preferably 1,000 mJ / cm 2 to 100,000 mJ / cm 2, as the integrated light amount. It is 5,000 to 10,000 mJ / cm 2 . When the ultraviolet irradiation amount (illuminance) is less than the above range, sufficient energy cannot be obtained to activate the photoactive hydrosilylation reaction catalyst in the composition, and it is possible that a sufficient cured product cannot be obtained. There is sex. In addition, when the ultraviolet irradiation amount (illuminance) exceeds the above range, the composition is irradiated with more energy than necessary, the polymer terminal groups are decomposed, and a part of the catalyst is inactivated. , It may not be possible to obtain a sufficient cured product.

紫外線照射は複数の発光スペクトルを有する光であっても、単一の発光スペクトルを有する光であってもよい。また、単一の発光スペクトルは300nmから400nmまでの領域にブロードなスペクトルを有するものであってもよい。単一の発光スペクトルを有する光は、300nmから400nmまで、好ましくは350nmから380nmまでの範囲にピーク(即ち、最大ピーク波長)を有する光である。このような光を照射する光源としては、例えば、紫外線発光ダイオード(紫外線LED)や、紫外線発光半導体レーザー等の紫外線発光半導体素子光源が挙げられる。 The ultraviolet irradiation may be light having a plurality of emission spectra or light having a single emission spectrum. Further, the single emission spectrum may have a broad spectrum in the region from 300 nm to 400 nm. Light having a single emission spectrum is light having a peak (ie, maximum peak wavelength) in the range of 300 nm to 400 nm, preferably 350 nm to 380 nm. Examples of the light source for irradiating such light include an ultraviolet light emitting diode (ultraviolet LED) and an ultraviolet light emitting semiconductor element light source such as an ultraviolet light emitting semiconductor laser.

複数の発光スペクトルを有する光を照射する光源としては、例えば、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯、ケミカルランプ、ナトリウムランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等のランプ等、窒素等の気体レーザー、有機色素溶液の液体レーザー、無機単結晶に希土類イオンを含有させた固体レーザー等が挙げられる。 Examples of the light source for irradiating light having a plurality of emission spectra include a metal halide lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, a chemical lamp, a sodium lamp, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a lamp such as an ultrahigh pressure mercury lamp, and the like. Examples thereof include a gas laser such as, a liquid laser of an organic dye solution, and a solid laser in which a rare earth ion is contained in an inorganic single crystal.

前記光が発光スペクトルにおいて300nmよりも短い波長領域にピークを有する場合、若しくは、300nmよりも短い波長領域に前記発光スペクトルにおける最大ピーク波長の放射照度の5%よりも大きい放射照度を有する波長が存在する場合(例えば、発光スペクトルが広域波長領域に渡ってブロードである場合)には、光学フィルターにより300nmよりも短い波長領域にある波長の光を除去する。これにより、300nmよりも短い波長領域にある各波長の放射照度を最大ピーク波長の放射照度の5%以下、好ましくは1%以下、より好ましくは0.1%以下、さらに好ましくは0%にする。なお、発光スペクトルにおいて300nmから400nmまでの波長領域に複数のピークが存在する場合には、その中で最大の吸光度を示すピーク波長を最大ピーク波長とする。光学フィルターは300nmよりも短い波長をカットするものであれば特に制限されないが、公知の物を使用すればよい。例えば365nmバンドパスフィルター等を使用することができる。なお、紫外線の照度、スペクトル分布は分光放射照度計、例えばUSR-45D(ウシオ電機)にて測定することができる。 When the light has a peak in a wavelength region shorter than 300 nm in the emission spectrum, or a wavelength having a wavelength larger than 5% of the emission illuminance of the maximum peak wavelength in the emission spectrum exists in the wavelength region shorter than 300 nm. (For example, when the emission spectrum is broad over a wide wavelength region), an optical filter removes light having a wavelength in a wavelength region shorter than 300 nm. As a result, the irradiance of each wavelength in the wavelength region shorter than 300 nm is set to 5% or less, preferably 1% or less, more preferably 0.1% or less, still more preferably 0% of the irradiance of the maximum peak wavelength. .. When a plurality of peaks are present in the wavelength region from 300 nm to 400 nm in the emission spectrum, the peak wavelength showing the maximum absorbance among them is set as the maximum peak wavelength. The optical filter is not particularly limited as long as it cuts wavelengths shorter than 300 nm, but known ones may be used. For example, a 365 nm bandpass filter or the like can be used. The illuminance and spectral distribution of ultraviolet rays can be measured with a spectroscopic irradiance meter, for example, USR-45D (Ushio Denki).

光照射装置としては、特に限定はされないが、例えばスポット式照射装置、面式照射装置、ライン式照射装置、コンベア式照射装置等の照射装置が使用できる。 The light irradiation device is not particularly limited, and for example, an irradiation device such as a spot type irradiation device, a surface type irradiation device, a line type irradiation device, and a conveyor type irradiation device can be used.

本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物を硬化させる際、光照射時間は、例えば1~300秒、好ましくは10~200秒、より好ましくは30~150秒であり、光照射の1~60分後、特には5~30分後には光硬化性組成物は流動性を失いゴム弾性体(ゴム硬化物)を得ることができる。 When the photocurable fluoropolyether rubber composition of the present invention is cured, the light irradiation time is, for example, 1 to 300 seconds, preferably 10 to 200 seconds, more preferably 30 to 150 seconds, and 1 of the light irradiation. After about 60 minutes, particularly after 5 to 30 minutes, the photocurable composition loses its fluidity and a rubber elastic body (rubber cured product) can be obtained.

[光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム硬化物]
上記(A)~(D)成分、好ましくは(A)~(E)成分を主成分とする本発明の光硬化性組成物は、前記光硬化方法により耐薬品性及び耐溶剤性に優れ、且つ透湿性の低いゴム硬化物を形成することができる。また、圧縮永久歪み特性にも優れる。ゴム硬化物の形成は、本発明の光硬化性組成物を適当な容器内に注入するか、若しくは適当な基体上にコーティングした後に、光照射し硬化させる等の従来公知の方法により容易に行うことができる。
[Photo-curable fluoropolyether-based rubber cured product]
The photocurable composition of the present invention containing the above components (A) to (D), preferably the components (A) to (E) as main components, is excellent in chemical resistance and solvent resistance by the photocuring method. Moreover, it is possible to form a cured rubber product having low moisture permeability. It also has excellent compression set characteristics. The formation of the cured rubber product is easily carried out by a conventionally known method such as injecting the photocurable composition of the present invention into a suitable container or coating it on a suitable substrate and then irradiating it with light to cure it. be able to.

本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム硬化物は、例えば、自動車用、化学プラント用、半導体製造ライン用、分析・理化学機器用、医療機器用、燃料電池用、インクジェットプリンタ用、航空機用、有機ELパネル用等の様々な用途の部材として好適に使用することができる。 The photocurable fluoropolyether-based rubber cured product of the present invention is, for example, for automobiles, chemical plants, semiconductor production lines, analytical / physics and chemistry equipment, medical equipment, fuel cells, inkjet printers, aircraft, etc. It can be suitably used as a member for various purposes such as for an organic EL panel.

更に詳述すると、本発明の硬化物及び硬化物を含むゴム製品は、例えば、自動車用ゴム部品、具体的には、ダイヤフラム類、バルブ類、若しくはシール材等;化学プラント用ゴム部品、具体的には、ポンプ用ダイヤフラム、バルブ類、ホース類、パッキン類、オイルシール、ガスケット、タンク配管補修用シール材等のシール材等;半導体製造ライン用ゴム部品、具体的には、薬品が接触する機器用のダイヤフラム、弁、パッキン、ガスケット等のシール材等、低摩擦耐磨耗性を要求されるバルブ等;分析・理化学機器用ゴム部品、具体的には、ポンプ用ダイヤフラム、弁、シール部品(パッキン等);医療機器用ゴム部品、具体的には、ポンプ、バルブ、ジョイント等;燃料電池用ゴム部品、具体的には、燃料電池用シール材;インクジェットプリンタ用ゴム部品;航空機用ゴム部品;有機ELパネル用ゴム部品;その他のゴム部品;具体的には、テント膜材料、シーラント、成型部品、押し出し部品、被覆材、複写機ロール材料、電気用防湿コーティング材、センサー用ポッティング材、工作機器用シール材、積層ゴム布等に有用である。 More specifically, the cured product of the present invention and the rubber product containing the cured product include, for example, rubber parts for automobiles, specifically, diaphragms, valves, sealing materials, etc .; rubber parts for chemical plants, specifically. Sealing materials such as diaphragms for pumps, valves, hoses, packings, oil seals, gaskets, sealing materials for repairing tank pipes, etc .; rubber parts for semiconductor manufacturing lines, specifically, equipment with which chemicals come into contact. Valves that require low friction and wear resistance, such as sealing materials for diaphragms, valves, packings, gaskets, etc .; rubber parts for analytical and physics and chemistry equipment, specifically, diaphragms for pumps, valves, sealing parts ( Packing, etc.); Rubber parts for medical equipment, specifically, pumps, valves, joints, etc .; Rubber parts for fuel cells, specifically, sealing materials for fuel cells; Rubber parts for inkjet printers; Rubber parts for aircraft; Rubber parts for organic EL panels; Other rubber parts; Specifically, tent film materials, sealants, molded parts, extruded parts, covering materials, copying machine roll materials, moisture-proof coating materials for electricity, potting materials for sensors, machine tools. It is useful for sealing materials, laminated rubber cloth, etc.

以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。なお、下記の例において部は質量部を示す。また、粘度は23℃における測定値を示す(JIS K7117-1に準拠)。分子量は、フッ素系溶剤を展開溶媒としたGPC分析におけるポリスチレン換算の数平均分子量を示す。比表面積はJIS Z 8830に規定された一点法によるN2ガス吸着により測定を行った。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. In the following example, the part indicates a mass part. The viscosity indicates the measured value at 23 ° C. (according to JIS K7117-1). The molecular weight indicates a polystyrene-equivalent number average molecular weight in GPC analysis using a fluorine-based solvent as a developing solvent. The specific surface area was measured by N 2 gas adsorption by the one-point method specified in JIS Z 8830.

疎水化処理シリカ微粉末の調製
[合成例1]
BET比表面積 300m2/gの未処理乾式シリカ微粉末(品名 AEROSIL300:日本アエロジル(株)社製商品名)100gに1,3-ジビニルテトラメチルジシラザン1.1g(0.006モル)、及びヘキサメチルジシラザン17.3g(0.107モル)の混合物を添加し、温度200℃で120分加熱撹拌後に冷却し、調製した。得られた処理シリカのBET表面積は182m2/gであった。
Preparation of Hydrophobized Silica Fine Powder [Synthesis Example 1]
BET specific surface area 300 m 2 / g untreated dry silica fine powder (product name AEROSIL300: trade name manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 100 g, 1,3-divinyltetramethyldisilazane 1.1 g (0.006 mol), and A mixture of 17.3 g (0.107 mol) of hexamethyldisilazan was added, and the mixture was heated and stirred at a temperature of 200 ° C. for 120 minutes and then cooled to prepare. The BET surface area of the obtained treated silica was 182 m 2 / g.

[合成例2]
比表面積 50m2/gの未処理乾式シリカ微粉末(品名 AEROSIL50:日本アエロジル(株)社製商品名)100gに1,3-ジビニルテトラメチルジシラザン0.19g(0.001モル)、及びヘキサメチルジシラザン2.91g(0.018モル)の混合物を添加し、温度200℃で120分加熱撹拌後に冷却し、調製した。得られた処理シリカのBET表面積は41m2/gであった。
[Synthesis Example 2]
Untreated dry silica fine powder with a specific surface area of 50 m 2 / g (product name AEROSIL50: trade name manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 1,3-divinyltetramethyldisilazane 0.19 g (0.001 mol) and hexa A mixture of 2.91 g (0.018 mol) of methyldisilazan was added, and the mixture was heated and stirred at a temperature of 200 ° C. for 120 minutes and then cooled to prepare. The BET surface area of the obtained treated silica was 41 m 2 / g.

[合成例3]
比表面積 50m2/gの未処理乾式シリカ微粉末(品名 AEROSIL50:日本アエロジル(株)社製商品名)100gに1,3-ジオクテニルテトラメチルジシラザン0.35g(0.001モル)、及びヘキサメチルジシラザン2.91g(0.018モル)の混合物を添加し、温度200℃で120分加熱撹拌後に冷却し、調製した。得られた処理シリカのBET表面積は35m2/gであった。
[Synthesis Example 3]
Untreated dry silica fine powder with a specific surface area of 50 m 2 / g (product name AEROSIL50: trade name manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 1,3-dioctenyltetramethyldisilazane 0.35 g (0.001 mol), And 2.91 g (0.018 mol) of hexamethyldisilazane was added, and the mixture was heated and stirred at a temperature of 200 ° C. for 120 minutes and then cooled to prepare. The BET surface area of the obtained treated silica was 35 m 2 / g.

[合成例4]
比表面積 300m2/gの未処理乾式シリカ微粉末(品名 AEROSIL300:日本アエロジル(株)社製商品名)100gにヘキサメチルジシラザン18.3g(0.113モル)の混合物を添加し、温度200℃で120分加熱撹拌後に冷却し、調製した。得られた処理シリカのBET表面積は195m2/gであった。
[Synthesis Example 4]
A mixture of 18.3 g (0.113 mol) of hexamethyldisilazane is added to 100 g of untreated dry silica fine powder (product name AEROSIL300: trade name manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) having a specific surface area of 300 m 2 / g, and the temperature is 200. After heating and stirring at ° C. for 120 minutes, the mixture was cooled and prepared. The BET surface area of the obtained treated silica was 195 m 2 / g.

[合成例5]
比表面積 50m2/gの未処理乾式シリカ微粉末(品名 AEROSIL50:日本アエロジル(株)社製商品名)100gにヘキサメチルジシラザン3.07g(0.019モル)の混合物を添加し、温度200℃で120分加熱撹拌後に冷却し、調製した。得られた処理シリカのBET表面積は43m2/gであった。
[Synthesis Example 5]
A mixture of 3.07 g (0.019 mol) of hexamethyldisilazane is added to 100 g of untreated dry silica fine powder (product name AEROSIL50: trade name manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) having a specific surface area of 50 m 2 / g, and the temperature is 200. After heating and stirring at ° C. for 120 minutes, the mixture was cooled and prepared. The BET surface area of the obtained treated silica was 43 m 2 / g.

光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物用ベースコンパウンドの製造
[製造例]
下記式(6)で表されるポリマー(粘度9,000mPa・s、ビニル基量0.00013モル/g、数平均分子量15,700)100部に上記合成例1~5で調製した、疎水化処理されたシリカ微粉末20部をプラネタリーミキサーにて分割添加し、1時間混練りを行った(表1)。次いで、150℃で1時間混合減圧(-0.08~-0.10MPa)熱処理し、冷却後3本ロールにて分散処理してベースコンパウンド1~5の製造を行った。また、ベースコンパウンド1~5の粘度を測定した(表1)。
Production of base compound for photocurable fluoropolyether-based rubber composition [Production example]
Hydrophobization prepared in the above synthesis examples 1 to 5 in 100 parts of a polymer represented by the following formula (6) (viscosity 9,000 mPa · s, vinyl group amount 0.00013 mol / g, number average molecular weight 15,700). Twenty parts of the treated silica fine powder was added separately by a planetary mixer and kneaded for 1 hour (Table 1). Then, the mixture was heat-treated at 150 ° C. for 1 hour under reduced pressure (−0.08 to −0.10 MPa), cooled, and then dispersed with three rolls to produce base compounds 1 to 5. In addition, the viscosities of the base compounds 1 to 5 were measured (Table 1).

Figure 0007087686000048
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Figure 0007087686000049
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光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の調製
[実施例1]
製造例1で調製したベースコンパウンド120部に式(6)で示されるポリマー33.3部をプラネタリーミキサー内に仕込み、均一になるまで混合した。これに(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)の1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン溶液(白金濃度3.0質量%)0.08部、1-エチニル-1-ヒドロキシシクロヘキサンのトルエン溶液(5.0質量%)0.06部、下記式(7)で示される含フッ素オルガノ水素シロキサン3.5部(Si-H基量0.00500モル/g)を順次添加し、均一になるよう混合した。その後、脱泡操作を行うことにより組成物を調製した。表2は、実施例及び比較例の組成(単位:質量部)を示す。
Preparation of Photocurable Fluoropolyether-based Rubber Composition [Example 1]
To 120 parts of the base compound prepared in Production Example 1, 33.3 parts of the polymer represented by the formula (6) was charged into a planetary mixer and mixed until uniform. To this, 0.08 part of a 1,3-bis (trifluoromethyl) benzene solution (platinum concentration 3.0% by mass) of (methylcyclopentadienyl) trimethylplatinum (IV), 1-ethynyl-1-hydroxycyclohexane 0.06 part of a toluene solution (5.0% by mass) and 3.5 parts of a fluorine-containing organohydrogensiloxane represented by the following formula (7) (Si—H group amount 0.00500 mol / g) were sequentially added and uniformly added. It was mixed so as to be. Then, the composition was prepared by performing a defoaming operation. Table 2 shows the compositions (unit: parts by mass) of Examples and Comparative Examples.

Figure 0007087686000050
Figure 0007087686000050

[実施例2]
上記実施例1において、使用するベースコンパウンドを製造例2で調製したもの(120部)に変更した以外は同様にして組成物を調製した。
[Example 2]
In Example 1 above, the composition was prepared in the same manner except that the base compound used was changed to the one prepared in Production Example 2 (120 parts).

[実施例3]
上記実施例1において、使用するベースコンパウンドを製造例3で調製したもの(120部)に変更した以外は同様にして組成物を調製した。
[Example 3]
In Example 1 above, the composition was prepared in the same manner except that the base compound used was changed to the one prepared in Production Example 3 (120 parts).

[比較例1]
上記実施例1において、使用するベースコンパウンドを製造例4で調製したもの(120部)に変更した以外は同様にして組成物を調製した。
[Comparative Example 1]
In Example 1 above, the composition was prepared in the same manner except that the base compound used was changed to the one prepared in Production Example 4 (120 parts).

[比較例2]
上記実施例1において、使用するベースコンパウンドを製造例5で調製したもの(120部)に変更した以外は同様にして組成物を調製した。
[Comparative Example 2]
In Example 1 above, the composition was prepared in the same manner except that the base compound used was changed to the one prepared in Production Example 5 (120 parts).

[保存安定性評価]
上記実施例及び比較例で得られた光硬化性組成物を遮光中、23℃で2週間放置し初期粘度との比較を行った。その結果を表2に示す。なお、粘度の測定はJIS K7117-1に準拠し、東機産業株式会社製TV-10U型回転粘度計(ロッドNo.H7、23℃、50rpm)を使用して行った。その結果を表2に示す。
[Evaluation of storage stability]
The photocurable compositions obtained in the above Examples and Comparative Examples were left at 23 ° C. for 2 weeks in the dark, and compared with the initial viscosity. The results are shown in Table 2. The viscosity was measured in accordance with JIS K7117-1 using a TV-10U type rotational viscometer (rod No. H7, 23 ° C., 50 rpm) manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. The results are shown in Table 2.

[光硬化性評価]
上記実施例及び比較例より得られた組成物を、25℃、8mmφのアルミニウム基材上、試料厚み1.0mmで塗布し、UV照射を行い、25℃での弾性率の経時変化を測定した。測定にはTAインスツルメント社製アレスG2を使用し、UV照射にはLumen Dynamics社製OmniCure S2000に320-390nmのバンドパスフィルターを付け、365nmで100mW/cm2のUV照度で90秒間照射を行った。その結果を表3に示す。
[Evaluation of photocurability]
The compositions obtained from the above Examples and Comparative Examples were applied on an aluminum substrate having a sample thickness of 1.0 mm at 25 ° C., UV irradiation was performed, and the change in elastic modulus at 25 ° C. with time was measured. .. Ares G2 manufactured by TA Instruments is used for measurement, and a 320-390 nm bandpass filter is attached to OmniCure S2000 manufactured by Lumen Dynamics for UV irradiation, and irradiation is performed at 365 nm with a UV illuminance of 100 mW / cm 2 for 90 seconds. gone. The results are shown in Table 3.

Figure 0007087686000051
Figure 0007087686000051

Figure 0007087686000052
Figure 0007087686000052

表2の結果より、本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物が遮光中23℃において良好な保存安定性を示すことが分かった。
また、表3の結果より、本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物がUV照射後、25℃で良好な硬化性を示すことが分かった。
From the results in Table 2, it was found that the photocurable fluoropolyether-based rubber composition of the present invention exhibited good storage stability at 23 ° C. in the light-shielded state.
Further, from the results in Table 3, it was found that the photocurable fluoropolyether-based rubber composition of the present invention exhibits good curability at 25 ° C. after UV irradiation.

[光硬化物のゴム物性評価]
上記実施例及び比較例で得られた組成物をそれぞれ(H)×(D)×(t)=105mm×85mm×2mmの型に流し込み、面照射タイプのUV-LED照射器(シーシーエス(株)製)を用いて光照射を行った。その際、365nmの光の積算光量が9,000mJ/cm2となるよう100mW/cm290秒間照射を行った。光照射後は直ちに遮光し、23℃で24時間静置した。24時間後、JIS K6250、6251、625
3、6262に準じてそれぞれゴム物性評価を行った。結果を表4に示す。
[Evaluation of rubber properties of photo-cured products]
The compositions obtained in the above Examples and Comparative Examples were poured into a mold of (H) × (D) × (t) = 105 mm × 85 mm × 2 mm, respectively, and a surface irradiation type UV-LED irradiator (CCS Co., Ltd.) (Manufactured) was used for light irradiation. At that time, irradiation was performed at 100 mW / cm for 90 seconds so that the integrated light amount of 365 nm light was 9,000 mJ / cm 2 . Immediately after the light irradiation, the light was shielded and the mixture was allowed to stand at 23 ° C. for 24 hours. After 24 hours, JIS K6250, 6251, 625
The physical characteristics of rubber were evaluated according to 3 and 6262, respectively. The results are shown in Table 4.

Figure 0007087686000053
Figure 0007087686000053

表4の結果より、本発明の組成物の光硬化物が圧縮永久歪み特性に優れることが分かった。 From the results in Table 4, it was found that the photocured product of the composition of the present invention was excellent in compression set.

Claims (8)

(A)1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中にパーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物であって、下記式(1)で表され、アルケニル基量が0.00005~0.00050モル/gである直鎖状ポリフルオロ化合物:100質量部、
Figure 0007087686000054
[式(1)中、Xは-CH2-、-CH2O-、-CH2OCH2-又は-Y-NR1-CO-
(ここで、Yは-CH2-、-Si(CH32CH2CH2CH2-、-Si(CH3)(CH=CH2)CH2CH2CH2-、-Si(CH=CH22CH2CH2CH2-又は下記構造式(Z)
Figure 0007087686000055
(式(Z)中、R3、R4はそれぞれ独立に-CH3又は-CH=CH2である。)
で示されるo-、m-又はp-シリルフェニレン基であり、R1は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)であり、
X’は-CH2-、-OCH2-、-CH2OCH2-又は-CO-NR2-Y’-
(ここで、Y’は-CH2-、-CH2CH2CH2Si(CH32-、-CH2CH2CH2Si(CH3)(CH=CH2)-、-CH2CH2CH2Si(CH=CH22-又は下記構造式(Z’)
Figure 0007087686000056
(式(Z’)中、R3'、R4'はそれぞれ独立に-CH3又は-CH=CH2である。)
で示されるo-、m-又はp-シリルフェニレン基であり、R2は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)であり、gは独立に0又は1であり、
Rf1は下記式(i)又は(ii-1)で表される2価のパーフルオロポリエーテル基である。
Figure 0007087686000057
(式(i)中、p及びqはそれぞれ0又は1~150の整数であって、且つpとqの和の平均は2~200である。rは0~6の整数、tは2又は3である。)
Figure 0007087686000058
(式(ii-1)中、u1は1~200の整数、v1は1~50の整数である。)
(B)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子を2個以上有する含フッ素オルガノ水素シロキサンであって、1分子中に1個以上の
Figure 0007087686000059
(式中、gは1~20の整数である。)で示される1価のパーフルオロアルキル基、
Figure 0007087686000060
(式中、fは1~200の整数、hは1~3の整数である。)で示される1価のパーフルオロオキシアルキル基、
Figure 0007087686000061
(式中、gは1~20の整数である。)で示される2価のパーフルオロアルキレン基、
及び/又は
Figure 0007087686000062
(式中、i及びjはそれぞれ1以上の整数、i+jの平均は2~200である。)又は
Figure 0007087686000063
(式中、d及びeはそれぞれ1~50の整数である。)で示される2価のパーフルオロオキシアルキレン基
を有し、ケイ素原子数が2~60であり、Si-H基量が0.00050~0.01000モル/gであり、環状、鎖状、三次元網状及びそれらの組み合わせのいずれかである含フッ素オルガノ水素シロキサン:(A)成分のアルケニル基1モルに対してSi-H基として0.5~3.0モルとなる量、
(C)光活性型ヒドロシリル化反応金属触媒:(A)成分に対して金属原子の質量換算で0.1~500ppm、及び、
(D)BET比表面積が0.1m2/g以上で、かつ、アルキル基含有反応性ケイ素化合物及びアルケニル基含有反応性ケイ素化合物により表面が疎水化処理されたシリカ微粉末であって、アルケニル基含有反応性ケイ素化合物が0.1~40mol%、アルキル基含有反応性ケイ素化合物が60~99.9mol%のmol比の割合(但し、アルキル基含有反応性ケイ素化合物とアルケニル基含有反応性ケイ素化合物との合計で100モル%)で処理されたものであるシリカ微粉末:(A)成分100質量部に対して1~40質量部
を含有し、JIS K6262に準拠した150℃×70時間での圧縮永久歪みが11%以下であるゴム硬化物を与えるものである光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
(A) A linear polyfluoro compound having two or more alkenyl groups in one molecule and having a perfluoropolyether structure in the main chain, which is represented by the following formula (1) and has an alkenyl group. Linear polyfluoro compound having an amount of 0.00005 to 0.00050 mol / g: 100 parts by mass,
Figure 0007087686000054
[In formula (1), X is -CH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 OCH 2- or -Y-NR 1 -CO-
(Here, Y is -CH 2- , -Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2- , -Si (CH 3 ) (CH = CH 2 ) CH 2 CH 2 CH 2- , -Si (CH) = CH 2 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 -or the following structural formula (Z)
Figure 0007087686000055
(In equation (Z), R 3 and R 4 are independently -CH 3 or -CH = CH 2 , respectively.)
It is an o-, m- or p-silylphenylene group represented by, and R 1 is a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group).
X'is -CH 2- , -OCH 2- , -CH 2 OCH 2- or -CO-NR 2 -Y'-
(Here, Y'is -CH 2- , -CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2- , -CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) (CH = CH 2 )-, -CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH = CH 2 ) 2 -or the following structural formula (Z')
Figure 0007087686000056
(In equation (Z ' ), R 3'and R 4'are independently -CH 3 or -CH = CH 2. )
It is an o-, m- or p-silylphenylene group represented by, R 2 is a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group), and g is independently 0 or 1.
Rf 1 is a divalent perfluoropolyether group represented by the following formula (i) or (ii-1).
Figure 0007087686000057
(In formula (i), p and q are integers of 0 or 1 to 150, respectively, and the average sum of p and q is 2 to 200. r is an integer of 0 to 6, and t is 2 or. 3)
Figure 0007087686000058
(In equation (ii-1), u1 is an integer of 1 to 200, and v1 is an integer of 1 to 50.) ]
(B) A fluorine-containing organohydrogensiloxane having two or more hydrogen atoms directly connected to a silicon atom in one molecule, and one or more in one molecule.
Figure 0007087686000059
(In the formula, g is an integer of 1 to 20.) A monovalent perfluoroalkyl group represented by.
Figure 0007087686000060
(In the formula, f is an integer of 1 to 200 and h is an integer of 1 to 3.) A monovalent perfluorooxyalkyl group represented by.
Figure 0007087686000061
(In the formula, g is an integer of 1 to 20.) A divalent perfluoroalkylene group represented by.
And / or
Figure 0007087686000062
(In the formula, i and j are integers of 1 or more, respectively, and the average of i + j is 2 to 200.) Or
Figure 0007087686000063
(In the formula, d and e are integers of 1 to 50, respectively.) It has a divalent perfluorooxyalkylene group, the number of silicon atoms is 2 to 60, and the amount of Si—H group is 0. Fluoro-containing organohydrogensiloxane which is .00005 to 0.01000 mol / g and is any of cyclic, chain, three-dimensional network and combinations thereof: Si—H with respect to 1 mol of the alkenyl group of the component (A). Amount of 0.5 to 3.0 mol as a base,
(C) Photoactive hydrosilylation reaction metal catalyst: 0.1 to 500 ppm in terms of mass of metal atom with respect to the component (A), and
(D) Silica fine powder having a BET specific surface area of 0.1 m 2 / g or more and having a surface hydrophobicized with an alkyl group-containing reactive silicon compound and an alkenyl group-containing reactive silicon compound, the alkenyl group. The ratio of the molar ratio of the content-reactive silicon compound is 0.1 to 40 mol% and the alkyl group-containing reactive silicon compound is 60 to 99.9 mol% (however, the alkyl group-containing reactive silicon compound and the alkenyl group-containing reactive silicon compound are contained. Silica fine powder treated with 100 mol% in total): (A) Contains 1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component, and conforms to JIS K6262 at 150 ° C. × 70 hours. A photocurable fluoropolyether-based rubber composition that gives a cured rubber composition having a compression set of 11% or less.
(D)成分のシリカ微粉末が、アルキル基を有するシラザン化合物及びアルケニル基を有するシラザン化合物で表面処理されたものである請求項1に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。 The photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to claim 1, wherein the silica fine powder of the component (D) is surface-treated with a silazane compound having an alkyl group and a silazane compound having an alkenyl group. (D)成分のシリカ微粉末が乾式法シリカ微粉末である請求項1又は2に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。 The photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to claim 1 or 2, wherein the silica fine powder of the component (D) is a dry silica fine powder. (A)成分のRf1が、下記の(i-1)、(i-2)及び(ii-1)から選ばれるいずれかの基である請求項1~3のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
Figure 0007087686000064
(式(i-1)中、p1及びq1はそれぞれ1~150の整数、p1+q1(平均)=2~200である。Lは2~6の整数である。)
Figure 0007087686000065
(式(i-2)中、p2及びq2はそれぞれ1~150の整数、p2+q2(平均)=2~200である。Lは2~6の整数である。)
Figure 0007087686000066
(式(ii-1)中、u1は1~200の整数、v1は1~50の整数である。)
The invention according to any one of claims 1 to 3, wherein Rf 1 of the component (A) is a group selected from the following (i-1), (i-2) and (ii-1). Photocurable fluoropolyether-based rubber composition.
Figure 0007087686000064
(In equation (i-1), p1 and q1 are integers of 1 to 150, respectively, and p1 + q1 (average) = 2 to 200. L is an integer of 2 to 6.)
Figure 0007087686000065
(In equation (i-2), p2 and q2 are integers of 1 to 150, respectively, and p2 + q2 (average) = 2 to 200. L is an integer of 2 to 6.)
Figure 0007087686000066
(In equation (ii-1), u1 is an integer of 1 to 200, and v1 is an integer of 1 to 50.)
(B)成分中のパーフルオロアルキル基、パーフルオロオキシアルキル基、パーフルオロアルキレン基又はパーフルオロオキシアルキレン基と(B)成分中のケイ素原子とは2価の連結基により繋がれ、該2価の連結基は、アルキレン基、アリーレン基及びそれらの組み合わせ、若しくはこれらの基にエーテル結合、アミド結合、カルボニル結合、エステル結合、又はジオルガノシリレン基を介在させたものである請求項1~4のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。 The perfluoroalkyl group, perfluorooxyalkyl group, perfluoroalkylene group or perfluorooxyalkylene group in the component (B) and the silicon atom in the component (B) are linked by a divalent linking group, and the divalent group is used. The linking group according to claim 1 to 4 is an alkylene group, an arylene group and a combination thereof, or a group thereof in which an ether bond, an amide bond, a carbonyl bond, an ester bond, or a diorganosylylene group is interposed. The photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to any one of the following items. (C)成分の光活性型ヒドロシリル化反応金属触媒が、(η5-シクロペンタジエニル)トリ(σ-アルキル)白金(IV)錯体である請求項1~5のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。 The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the photoactive hydrosilylation reaction metal catalyst of the component (C) is a (η 5 -cyclopentadienyl) tri (σ-alkyl) platinum (IV) complex. A photocurable fluoropolyether-based rubber composition. (E)成分として、ヒドロシリル化反応の反応制御剤を含む請求項1~6のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。 The photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to any one of claims 1 to 6, which comprises a reaction control agent for a hydrosilylation reaction as a component (E). 請求項1~7のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の硬化物。
The cured product of the photocurable fluoropolyether-based rubber composition according to any one of claims 1 to 7.
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