JP7083629B2 - Quantitative analysis method and electron microscope - Google Patents

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本発明は、定量分析方法および電子顕微鏡に関する。 The present invention relates to a quantitative analysis method and an electron microscope.

透過電子顕微鏡(transmission electron microscope、TEM)や、走査透過電子顕微鏡(scanning transmission electron microscope、STEM)等の電子顕微鏡において、試料を3次元的に構造観察および構造解析する手法として、電子線トモグラフィ(electron tomography)が知られている(例えば特許文献1参照)。 Electron beam tomography (TEM) is a method for three-dimensional structural observation and structural analysis of a sample in an electron microscope such as a transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM). electron tomography) is known (see, for example, Patent Document 1).

特開2012-209050号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-209050

しかしながら、電子線トモグラフィでは、定性分析および定量分析を行うことができない。試料の3次元の定量分析を行う手法として、3次元アトムプローブ(3 Dimensional Atom Probe、3DAP)が知られている。3次元アトムプローブでは、針状に加工した試料に電場を印加し、電界蒸発したイオンを2次元検出器で検出することによって、3次元の定量分析を行うことができる。 However, electron tomography cannot perform qualitative and quantitative analysis. A three-dimensional atom probe (3 Dimensional Atom Probe, 3DAP) is known as a method for performing a three-dimensional quantitative analysis of a sample. In the three-dimensional atom probe, an electric field is applied to a sample processed into a needle shape, and an electric field-evaporated ion is detected by a two-dimensional detector, whereby three-dimensional quantitative analysis can be performed.

しかしながら、3次元アトムプローブでは、測定によって試料が破壊されてしまうという問題がある。また、3次元アトムプローブでは、試料の形状が針状に限られてしまうという問題がある。 However, the three-dimensional atom probe has a problem that the sample is destroyed by the measurement. Further, the three-dimensional atom probe has a problem that the shape of the sample is limited to a needle shape.

3次元アトムプローブでは、試料の形状が針状に限られてしまうため、例えば、薄膜状の試料の分析が困難である。また、試料を針状に加工する手法は、集束イオンビーム(focused ion beam、FIB)を用いた加工などに限られる。しかしながら、試料を集束イオンビームで加工した場合、ガリウムイオンが試料に打ち込まれてしまう。そのため、3次元アトムプローブでは、ガリウムイオンの打ち込みにより破壊されてしまうような試料の分析は困難である。 With a three-dimensional atom probe, the shape of the sample is limited to a needle shape, so that it is difficult to analyze a thin film sample, for example. Further, the method of processing the sample into a needle shape is limited to processing using a focused ion beam (FIB). However, when the sample is processed with a focused ion beam, gallium ions are driven into the sample. Therefore, it is difficult to analyze a sample that is destroyed by the injection of gallium ions with a three-dimensional atom probe.

本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、3次元の定量分析が可能な定量分析方法を提供することにある。また、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、3次元の定量分析が可能な電子顕微鏡を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and one of the objects according to some aspects of the present invention is to provide a quantitative analysis method capable of three-dimensional quantitative analysis. be. Further, one of the objects according to some aspects of the present invention is to provide an electron microscope capable of three-dimensional quantitative analysis.

本発明に係る定量分析方法の一態様は、
電子顕微鏡における定量分析方法であって、
試料を傾斜させながら傾斜角ごとに元素マッピングを行うことで得られる傾斜角ごとの2次元の元素マップを取得する工程と、
傾斜角ごとの2次元の元素マップから3次元再構成することにより、3次元の元素マップを生成する工程と、
前記3次元の元素マップを構成するボクセルごとに元素の定量値を計算する工程と、
を含む。
本発明に係る定量分析方法の一態様は、
電子顕微鏡における定量分析方法であって、
試料を傾斜させながら傾斜角ごとに元素マッピングを行うことで得られる傾斜角ごとの2次元の元素マップを取得する工程と、
傾斜角ごとの2次元の元素マップから3次元再構成することにより、3次元の元素マップを生成する工程と、
前記3次元の元素マップからX線強度に基づき3次元の粒子の情報を抽出し、抽出した3次元の粒子ごとに定量値を計算する工程と、
を含む。
One aspect of the quantitative analysis method according to the present invention is
It is a quantitative analysis method in an electron microscope.
The process of acquiring a two-dimensional element map for each tilt angle obtained by performing element mapping for each tilt angle while tilting the sample, and
A process of generating a three-dimensional element map by three-dimensional reconstruction from a two-dimensional element map for each inclination angle, and
The process of calculating the quantitative value of the element for each voxel constituting the three-dimensional element map, and
including.
One aspect of the quantitative analysis method according to the present invention is
It is a quantitative analysis method in an electron microscope.
The process of acquiring a two-dimensional element map for each tilt angle obtained by performing element mapping for each tilt angle while tilting the sample, and
A process of generating a three-dimensional element map by three-dimensional reconstruction from a two-dimensional element map for each inclination angle, and
A step of extracting information on three-dimensional particles based on the X-ray intensity from the three-dimensional element map and calculating a quantitative value for each of the extracted three-dimensional particles.
including.

このような定量分析方法では、傾斜角ごとの2次元の元素マップを取得することで、3次元の定量分析を行うことができる。そのため、このような定量分析方法では、試料を破
壊することなく分析が可能である。さらに、試料を針状に加工しなくても分析が可能である。
In such a quantitative analysis method, a three-dimensional quantitative analysis can be performed by acquiring a two-dimensional element map for each inclination angle. Therefore, in such a quantitative analysis method, analysis can be performed without destroying the sample. Furthermore, analysis is possible without processing the sample into needles.

本発明に係る電子顕微鏡は、
電子源と、
前記電子源から放出された電子線を試料に照射する照射系レンズと、
前記試料を傾斜可能に保持する試料ステージと、
前記試料に電子線を照射することにより発生したX線を検出する検出器と、
前記検出器におけるX線の検出結果に基づいて、定量分析を行う分析処理部と、
を含み、
前記分析処理部は、
前記試料を傾斜させながら傾斜角ごとに元素マッピングを行うことで得られる傾斜角ごとの2次元の元素マップを取得する処理と、
傾斜角ごとの2次元の元素マップから3次元再構成することにより、3次元の元素マップを生成する処理と、
前記3次元の元素マップを構成するボクセルごとに元素の定量値を計算する処理と、
を行う。
The electron microscope according to the present invention is
With an electron source
An irradiation system lens that irradiates the sample with the electron beam emitted from the electron source, and
A sample stage that holds the sample tiltably and
A detector that detects X-rays generated by irradiating the sample with an electron beam,
An analysis processing unit that performs quantitative analysis based on the X-ray detection result of the detector, and
Including
The analysis processing unit
The process of acquiring a two-dimensional element map for each tilt angle obtained by performing element mapping for each tilt angle while tilting the sample.
A process to generate a three-dimensional element map by three-dimensional reconstruction from a two-dimensional element map for each inclination angle, and
The process of calculating the quantitative value of the element for each voxel constituting the three-dimensional element map, and
I do.

このような電子顕微鏡では、傾斜角ごとの2次元の元素マップを取得することで、3次元の定量分析を行うことができる。 With such an electron microscope, three-dimensional quantitative analysis can be performed by acquiring a two-dimensional element map for each inclination angle.

実施形態に係る電子顕微鏡の構成を示す図。The figure which shows the structure of the electron microscope which concerns on embodiment. 試料の傾斜角ごとに2次元のEDSマッピングを行っている様子を模式的に示す図。The figure which shows typically the state that 2D EDS mapping is performed for each tilt angle of a sample. 試料の傾斜角ごとに2次元のEDSマッピングを行っている様子を模式的に示す図。The figure which shows typically the state that 2D EDS mapping is performed for each tilt angle of a sample. 実施形態に係る定量分析方法の一例を示すフローチャート。The flowchart which shows an example of the quantitative analysis method which concerns on embodiment. 3次元の定量分析で得られる情報と2次元の定量分析で得られる情報との違いを説明するための図。The figure for demonstrating the difference between the information obtained by 3D quantitative analysis and the information obtained by 2D quantitative analysis. 塗膜試料の2次元のEDS元素マップを示す図。The figure which shows the 2D EDS element map of the coating film sample. 塗膜試料の3次元のEDS元素マップを示す図。The figure which shows the 3D EDS element map of the coating film sample. 塗膜試料の3次元のEDS元素マップを示す図。The figure which shows the 3D EDS element map of the coating film sample. 3次元のEDS元素マップから抽出されたチタン粒子を示す図。The figure which shows the titanium particle extracted from the 3D EDS element map. 3次元のEDS元素マップから抽出されたアルミニウム粒子を示す図。The figure which shows the aluminum particle extracted from the 3D EDS element map. 試料の傾斜角ごとに2次元のEDSマッピングを行っている様子を模式的に示す図。The figure which shows typically the state that 2D EDS mapping is performed for each tilt angle of a sample. EDS検出器の配置の一例を示す図。The figure which shows an example of the arrangement of the EDS detector.

以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments described below do not unreasonably limit the contents of the present invention described in the claims. Moreover, not all of the configurations described below are essential constituent requirements of the present invention.

1. 電子顕微鏡
まず、本実施形態に係る電子顕微鏡について説明する。図1は、本実施形態に係る電子顕微鏡100の構成を示す図である。
1. 1. Electron Microscope First, an electron microscope according to this embodiment will be described. FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an electron microscope 100 according to the present embodiment.

電子顕微鏡100は、例えば、走査透過電子顕微鏡(STEM)である。走査透過電子顕微鏡は、電子プローブで試料S上を走査し、試料Sを透過した電子を検出して走査透過
電子顕微鏡像(STEM像)を得るための装置である。また、電子顕微鏡100は、エネルギー分散型X線検出器(energy dispersive X-ray spectrometer、以下「EDS検出器」ともいう)40,50を備えている。
The electron microscope 100 is, for example, a scanning transmission electron microscope (STEM). The scanning transmission electron microscope is a device for scanning on a sample S with an electron probe, detecting electrons transmitted through the sample S, and obtaining a scanning transmission electron microscope image (STEM image). Further, the electron microscope 100 includes energy dispersive X-ray spectrometers (hereinafter, also referred to as “EDS detectors”) 40 and 50.

電子顕微鏡100は、電子源10と、照射系レンズ12と、走査コイル14と、対物レンズ16と、試料ステージ18と、中間レンズ20と、投影レンズ22と、STEM検出器30と、EDS検出器40,50と、信号処理部60と、分析処理部70と、ステージ制御部80と、を含む。 The electron microscope 100 includes an electron source 10, an irradiation system lens 12, a scanning coil 14, an objective lens 16, a sample stage 18, an intermediate lens 20, a projection lens 22, a STEM detector 30, and an EDS detector. It includes 40, 50, a signal processing unit 60, an analysis processing unit 70, and a stage control unit 80.

電子源10は、電子線を放出する。電子源10は、例えば、公知の電子銃である。 The electron source 10 emits an electron beam. The electron source 10 is, for example, a known electron gun.

照射系レンズ12は、電子源10から放出された電子線を試料Sに照射する。照射系レンズ12は、図示はしないが、複数のコンデンサーレンズで構成されていてもよい。 The irradiation system lens 12 irradiates the sample S with the electron beam emitted from the electron source 10. Although not shown, the irradiation system lens 12 may be composed of a plurality of condenser lenses.

走査コイル14は、電子源10から放出された電子線を二次元的に偏向させる。走査コイル14は、電子線(電子プローブ)で試料S上を走査するためのコイルである。 The scanning coil 14 two-dimensionally deflects the electron beam emitted from the electron source 10. The scanning coil 14 is a coil for scanning the sample S with an electron beam (electron probe).

対物レンズ16は、電子線を試料S上に収束させて、電子プローブを形成する。 The objective lens 16 converges the electron beam on the sample S to form an electron probe.

試料ステージ18は、試料Sを保持する。試料ステージ18は、試料Sが固定される試料ホルダー18aと、試料ホルダー18aを移動および傾斜させる試料位置決め装置18bと、を有している。 The sample stage 18 holds the sample S. The sample stage 18 has a sample holder 18a to which the sample S is fixed, and a sample positioning device 18b for moving and tilting the sample holder 18a.

試料位置決め装置18bは、試料ホルダー18aを水平方向(X方向およびY方向、図2参照)および垂直方向(Z方向)に移動させる移動機構、および試料ホルダー18aを傾斜させる傾斜機構を備えている。試料位置決め装置18bで試料ホルダー18aを移動および傾斜させることで、試料Sを移動および傾斜させることができる。 The sample positioning device 18b includes a moving mechanism for moving the sample holder 18a in the horizontal direction (X direction and Y direction, see FIG. 2) and a vertical direction (Z direction), and a tilting mechanism for tilting the sample holder 18a. The sample S can be moved and tilted by moving and tilting the sample holder 18a with the sample positioning device 18b.

試料ホルダー18aは、試料Sを傾斜させる機構を備えている。試料位置決め装置18bの傾斜機構が試料Sを傾斜させる傾斜軸(例えばX軸に平行な軸)と、試料ホルダー18aの傾斜機構が試料Sを傾斜させる傾斜軸(例えばY軸に平行な軸)とは、互いに直交するように構成されている。これにより、試料Sを2軸に関して傾斜させることができる。 The sample holder 18a is provided with a mechanism for inclining the sample S. The tilting mechanism of the sample positioning device 18b tilts the sample S (for example, an axis parallel to the X axis), and the tilting mechanism of the sample holder 18a tilts the sample S (for example, an axis parallel to the Y axis). Are configured to be orthogonal to each other. This allows the sample S to be tilted with respect to the two axes.

中間レンズ20および投影レンズ22は、試料Sを透過した電子線を、STEM検出器30に導く。 The intermediate lens 20 and the projection lens 22 guide the electron beam transmitted through the sample S to the STEM detector 30.

STEM検出器30は、試料Sを透過した電子線を検出する。STEM検出器30の出力信号は、フレームメモリ(図示せず)に送られる。フレームメモリは、走査信号(電子プローブの走査のための信号)に基づき指定されたアドレスの記憶領域にSTEM検出器30の出力信号を格納する。これにより、STEM像を取得できる。 The STEM detector 30 detects the electron beam that has passed through the sample S. The output signal of the STEM detector 30 is sent to a frame memory (not shown). The frame memory stores the output signal of the STEM detector 30 in the storage area of the address specified based on the scanning signal (the signal for scanning the electronic probe). As a result, the STEM image can be acquired.

EDS検出器40およびEDS検出器50は、電子線が照射されることにより試料Sから発生したX線(特性X線)を検出する。EDS検出器40およびEDS検出器50としては、例えば、シリコンドリフト検出器(silicon drift detector、SDD)を用いることができる。EDS検出器40の検出信号(出力パルス)およびEDS検出器50の検出信号(出力パルス)は、信号処理部60に送られる。 The EDS detector 40 and the EDS detector 50 detect X-rays (characteristic X-rays) generated from the sample S by being irradiated with an electron beam. As the EDS detector 40 and the EDS detector 50, for example, a silicon drift detector (SDD) can be used. The detection signal (output pulse) of the EDS detector 40 and the detection signal (output pulse) of the EDS detector 50 are sent to the signal processing unit 60.

信号処理部60は、EDS検出器40の検出信号およびEDS検出器50の検出信号をX線のエネルギー毎に計数してEDSスペクトル情報を生成する。信号処理部60は、E
DSスペクトル情報を分析処理部70に送る。
The signal processing unit 60 counts the detection signal of the EDS detector 40 and the detection signal of the EDS detector 50 for each X-ray energy to generate EDS spectrum information. The signal processing unit 60 is E.
The DS spectrum information is sent to the analysis processing unit 70.

分析処理部70は、EDS検出器40,50におけるX線の検出結果に基づいて、定量分析を行う。具体的には、分析処理部70は、EDSスペクトル情報に基づき3次元のEDS元素マップを生成する処理や、3次元のEDS元素マップから3次元の定量分析を行う処理などの処理を行う。ここで、3次元の定量分析とは、3次元の元素の分布の情報から、定量分析を行うことをいう。 The analysis processing unit 70 performs quantitative analysis based on the X-ray detection results of the EDS detectors 40 and 50. Specifically, the analysis processing unit 70 performs a process of generating a three-dimensional EDS element map based on the EDS spectrum information, a process of performing a three-dimensional quantitative analysis from the three-dimensional EDS element map, and the like. Here, three-dimensional quantitative analysis means performing quantitative analysis from information on the distribution of three-dimensional elements.

ステージ制御部80は、試料ステージ18を制御する。ステージ制御部80は、試料Sの傾斜角ごとに2次元のEDS元素マップが得られるように、試料Sの傾斜角θ(図3参照)を所定のステップで傾斜させる。例えば、ステージ制御部80は、試料Sの傾斜角θを+60°から-60°まで5°ステップで25段階に傾斜させる。これにより、分析処理部70では、互いに異なる傾斜角θで得られた25個の2次元のEDS元素マップが得られる。 The stage control unit 80 controls the sample stage 18. The stage control unit 80 inclines the inclination angle θ (see FIG. 3) of the sample S in a predetermined step so that a two-dimensional EDS element map can be obtained for each inclination angle of the sample S. For example, the stage control unit 80 inclines the inclination angle θ of the sample S in 25 steps from + 60 ° to −60 ° in 5 ° steps. As a result, the analysis processing unit 70 can obtain 25 two-dimensional EDS element maps obtained at different inclination angles θ.

分析処理部70およびステージ制御部80の機能は、例えば、CPU(central processing unit)が記憶装置(図示せず)に記憶されたプログラムを実行することにより実現することができる。また、分析処理部70およびステージ制御部80の機能の少なくとも一部を、専用回路により実現してもよい。 The functions of the analysis processing unit 70 and the stage control unit 80 can be realized, for example, by the CPU (central processing unit) executing a program stored in a storage device (not shown). Further, at least a part of the functions of the analysis processing unit 70 and the stage control unit 80 may be realized by a dedicated circuit.

図2および図3は、電子顕微鏡100において、試料Sの傾斜角θごとに2次元のEDSマッピングを行っている様子を模式的に示す図である。 2 and 3 are diagrams schematically showing how the electron microscope 100 performs two-dimensional EDS mapping for each inclination angle θ of the sample S.

図2および図3に示すように、試料ホルダー18aに保持された試料Sは、対物レンズ16のポールピースの上極16aとポールピースの下極16bとの間に配置されている。試料Sは、試料ステージ18の傾斜機構により、傾斜軸TAまわりに傾斜可能である。電子顕微鏡100では、試料ステージ18の傾斜機構によって、例えば、試料Sを±60°の範囲で傾斜させることができる。傾斜軸TAは、対物レンズ16の光軸に直交する軸であり、図示の例では、X軸に平行な軸である。傾斜軸TAは、試料ホルダー18aの中心軸に平行である。 As shown in FIGS. 2 and 3, the sample S held in the sample holder 18a is arranged between the upper pole 16a of the pole piece of the objective lens 16 and the lower pole 16b of the pole piece. The sample S can be tilted around the tilt axis TA by the tilt mechanism of the sample stage 18. In the electron microscope 100, for example, the sample S can be tilted in the range of ± 60 ° by the tilting mechanism of the sample stage 18. The tilt axis TA is an axis orthogonal to the optical axis of the objective lens 16 and is an axis parallel to the X axis in the illustrated example. The tilt axis TA is parallel to the central axis of the sample holder 18a.

EDS検出器40およびEDS検出器50は、試料Sの傾斜軸TAを挟んで配置されている。EDS検出器40は、試料Sの-X方向側に位置し、EDS検出器50は、試料Sの+X方向側に位置している。EDS検出器40は、傾斜軸TAの-X方向側に位置し、EDS検出器50は、傾斜軸TAの+X方向側に位置している。2つのEDS検出器40,50によって試料Sで発生したX線を検出することにより、高感度化を図ることができる。 The EDS detector 40 and the EDS detector 50 are arranged so as to sandwich the tilt axis TA of the sample S. The EDS detector 40 is located on the −X direction side of the sample S, and the EDS detector 50 is located on the + X direction side of the sample S. The EDS detector 40 is located on the −X direction side of the tilt axis TA, and the EDS detector 50 is located on the + X direction side of the tilt axis TA. High sensitivity can be achieved by detecting the X-rays generated in the sample S by the two EDS detectors 40 and 50.

試料Sの傾斜角θごとの2次元のEDSマッピングを行う際には、まず、図2に示すように、傾斜角θ=0°で2次元のEDSマッピングを行い、傾斜角θ=0°の2次元のEDS元素マップを取得する。次に、図3に示すように、試料Sを傾斜させて傾斜角θ=a°とし、傾斜角θ=a°で2次元のEDSマッピングを行い、傾斜角θ=a°の2次元のEDS元素マップを取得する。このように、試料Sを傾斜させながら、2次元のEDSマッピングを行うことで、傾斜角θごとの2次元のEDSマップを取得することができる。 When performing two-dimensional EDS mapping for each inclination angle θ of the sample S, first, as shown in FIG. 2, two-dimensional EDS mapping is performed at an inclination angle θ = 0 °, and an inclination angle θ = 0 °. Obtain a two-dimensional EDS element map. Next, as shown in FIG. 3, the sample S is tilted so that the tilt angle θ = a °, two-dimensional EDS mapping is performed at the tilt angle θ = a °, and the two-dimensional EDS with the tilt angle θ = a ° is performed. Get an element map. In this way, by performing two-dimensional EDS mapping while inclining the sample S, it is possible to acquire a two-dimensional EDS map for each inclination angle θ.

電子顕微鏡100では、ステージ制御部80が試料Sの傾斜角θの制御を行うことで、分析処理部70において傾斜角θごとの2次元のEDS元素マップを取得できる。このように、電子顕微鏡100では、傾斜角θごとの2次元のEDS元素マップを自動で取得することができる。 In the electron microscope 100, the stage control unit 80 controls the tilt angle θ of the sample S, so that the analysis processing unit 70 can acquire a two-dimensional EDS element map for each tilt angle θ. In this way, the electron microscope 100 can automatically acquire a two-dimensional EDS element map for each inclination angle θ.

2. 定量分析方法
次に、本実施形態に係る定量分析方法について説明する。図4は、本実施形態に係る定量分析方法の一例を示すフローチャートである。
2. 2. Quantitative analysis method Next, the quantitative analysis method according to the present embodiment will be described. FIG. 4 is a flowchart showing an example of the quantitative analysis method according to the present embodiment.

まず、分析処理部70は、試料Sを傾斜させながら傾斜角θごとに元素マッピングを行うことで得られる傾斜角θごとの2次元のEDS元素マップを取得する(S100)。上述したように、電子顕微鏡100では、ステージ制御部80が試料Sの傾斜角θを制御することで、分析処理部70において傾斜角θごとの2次元のEDS元素マップを取得することができる。 First, the analysis processing unit 70 acquires a two-dimensional EDS element map for each inclination angle θ obtained by performing element mapping for each inclination angle θ while inclining the sample S (S100). As described above, in the electron microscope 100, the stage control unit 80 controls the tilt angle θ of the sample S, so that the analysis processing unit 70 can acquire a two-dimensional EDS element map for each tilt angle θ.

次に、分析処理部70は、傾斜角θごとの2次元のEDS元素マップから3次元再構成することにより、3次元のEDS元素マップを生成する(S102)。分析処理部70は、例えば、傾斜角θごとの2次元のEDS元素マップから、逆投影法等により、3次元のEDS元素マップを生成する。3次元のEDS元素マップは、元素の3次元の分布を示す図である。3次元のEDS元素マップを構成する各ボクセル(voxel)には、元素に固有のX線の強度の情報が含まれる。分析処理部70は、3次元のEDS元素マップを構成する各ボクセルの座標(x,y,z)と、各座標における各元素のX線強度の情報を記憶装置(図示せず)に記憶する。 Next, the analysis processing unit 70 generates a three-dimensional EDS element map by three-dimensionally reconstructing the two-dimensional EDS element map for each inclination angle θ (S102). The analysis processing unit 70 generates, for example, a three-dimensional EDS element map from a two-dimensional EDS element map for each inclination angle θ by a back projection method or the like. The three-dimensional EDS element map is a diagram showing the three-dimensional distribution of elements. Each voxel constituting the three-dimensional EDS element map contains information on the intensity of X-rays specific to the element. The analysis processing unit 70 stores the coordinates (x, y, z) of each voxel constituting the three-dimensional EDS element map and the information of the X-ray intensity of each element at each coordinate in a storage device (not shown). ..

次に、分析処理部70は、3次元のEDS元素マップから試料Sを構成する各元素の定量値を計算する(S104)。 Next, the analysis processing unit 70 calculates the quantitative value of each element constituting the sample S from the three-dimensional EDS element map (S104).

以下、3次元のEDS元素マップから定量値を計算する手法について説明する。本実施形態では、2次元のEDS元素マップの定量方法で用いられるクリフ・ロリマー法(Cliff-Lorimer method)を、3次元のEDS元素マップの定量方法に拡張することで、定量分析を行う。以下では、まず、2次元のEDS元素マップを用いた定量方法について説明する。 Hereinafter, a method for calculating a quantitative value from a three-dimensional EDS element map will be described. In this embodiment, the Cliff-Lorimer method used in the two-dimensional EDS element map quantification method is extended to the three-dimensional EDS element map quantification method to perform quantitative analysis. In the following, first, a quantification method using a two-dimensional EDS element map will be described.

試料S中に3種類の元素がふくまれている場合、2次元のEDSマップは下記のような形式で表される。 When the sample S contains three kinds of elements, the two-dimensional EDS map is represented in the following format.

元素A 強度値I(x,y)
元素B 強度値I(x,y)
元素C 強度値I(x,y)
Element A Intensity value I A (x, y)
Element B Intensity value IB (x, y)
Element C Intensity value IC (x, y)

クリフ・ロリマー法による定量分析では、元素Aの組成率をC、元素Bの組成率をC、元素Cの組成率をCとすると、次式の計算を行うことで、ピクセルごとの元素組成率を算出することができる。 In the quantitative analysis by the Cliff-Lolimer method, assuming that the composition ratio of element A is CA, the composition ratio of element B is C B , and the composition ratio of element C is C C , the following formula is calculated for each pixel. The elemental composition ratio can be calculated.

Figure 0007083629000001
Figure 0007083629000001

ここで、kは、kファクターであり、基準とする元素によって決まる定数である。 Here, k is a k factor and is a constant determined by a reference element.

次に、上記の計算式を、3次元に拡張した場合について説明する。EDSトモグラフィによって得られる3次元のEDS元素マップのデータは、元素ごとに2次元のEDS元素マップのスタックの形で表され、そのデータセットは下記のように表される。 Next, a case where the above calculation formula is extended to three dimensions will be described. The three-dimensional EDS element map data obtained by EDS tomography is represented in the form of a stack of two-dimensional EDS element maps for each element, and the data set is represented as follows.

元素A 強度値I(x,y,z)
元素B 強度値I(x,y,z)
元素C 強度値I(x,y,z)
Element A Intensity value I A (x, y, z)
Element B Intensity value IB (x, y, z)
Element C Intensity value IC (x, y, z)

よって、3次元のEDS元素マップにクリフ・ロリマー法を適用すると、次のようになる。 Therefore, when the Cliff-Lorimer method is applied to the three-dimensional EDS element map, it becomes as follows.

Figure 0007083629000002
Figure 0007083629000002

上記の計算を行うことにより、3次元のEDS元素マップを構成するボクセルごとに組成比(各元素の定量値)を算出することができる。分析処理部70は、例えば、3次元のEDS元素マップを構成する各ボクセルの座標(x,y,z)と、各座標における組成比の情報を記憶装置(図示せず)に記憶する。 By performing the above calculation, the composition ratio (quantitative value of each element) can be calculated for each voxel constituting the three-dimensional EDS element map. The analysis processing unit 70 stores, for example, the coordinates (x, y, z) of each voxel constituting the three-dimensional EDS element map and the information of the composition ratio at each coordinate in a storage device (not shown).

3. 特徴
本実施形態に係る定量分析方法は、例えば、以下の特徴を有する。
3. 3. Features The quantitative analysis method according to this embodiment has the following features, for example.

本実施形態に係る定量分析方法は、試料Sを傾斜させながら傾斜角θごとにEDS元素マッピングを行うことで得られる傾斜角θごとの2次元の元素マップを取得する工程と、傾斜角θごとの2次元のEDS元素マップから3次元再構成することにより、3次元のEDS元素マップを生成する工程と、3次元のEDS元素マップから元素の定量値を計算する工程と、を含む。そのため、本実施形態に係る定量分析方法では、傾斜角θごとの2次元の元素マップを取得することで、3次元の定量分析が可能である。 The quantitative analysis method according to the present embodiment includes a step of acquiring a two-dimensional element map for each inclination angle θ obtained by performing EDS element mapping for each inclination angle θ while inclining the sample S, and for each inclination angle θ. It includes a step of generating a three-dimensional EDS element map by three-dimensional reconstruction from the two-dimensional EDS element map of the above, and a step of calculating a quantitative value of an element from the three-dimensional EDS element map. Therefore, in the quantitative analysis method according to the present embodiment, three-dimensional quantitative analysis is possible by acquiring a two-dimensional element map for each inclination angle θ.

本実施形態に係る定量分析方法では、3次元の定量分析が可能であるため、試料Sの厚さの影響が極めて小さい、または試料Sの厚さの影響を受けない。以下、その理由について説明する。 In the quantitative analysis method according to the present embodiment, since three-dimensional quantitative analysis is possible, the influence of the thickness of the sample S is extremely small, or the influence of the thickness of the sample S is not affected. The reason will be described below.

図5は、3次元の定量分析で得られる情報と2次元の定量分析で得られる情報との違いを説明するための図である。 FIG. 5 is a diagram for explaining the difference between the information obtained by the three-dimensional quantitative analysis and the information obtained by the two-dimensional quantitative analysis.

試料Sは、膜2中に粒子4が存在しているような構造を有している。このとき、粒子4の組成を知りたい場合、2次元の定量分析では、電子線EBが試料S中を通る経路となる
領域6から放出されるX線を検出して定量分析を行うため、粒子4の上下の膜2の情報も含まれることとなる。
The sample S has a structure in which the particles 4 are present in the film 2. At this time, if you want to know the composition of the particles 4, in the two-dimensional quantitative analysis, the X-rays emitted from the region 6 that is the path through which the electron beam EB passes through the sample S are detected and the quantitative analysis is performed. Information on the upper and lower films 2 of 4 is also included.

これに対して、3次元の定量分析では、粒子4の内部8の情報のみを抽出することが可能である。そのため、3次元の定量分析では、試料Sの厚さの影響が極めて小さい、または試料Sの厚さの影響を受けない。 On the other hand, in the three-dimensional quantitative analysis, it is possible to extract only the information of the inside 8 of the particle 4. Therefore, in the three-dimensional quantitative analysis, the influence of the thickness of the sample S is extremely small, or the influence of the thickness of the sample S is not affected.

また、本実施形態に係る定量分析では、傾斜角θごとの2次元の元素マップを取得することで、3次元の定量分析を行うことが可能であるため、試料Sを破壊することなく3次元の定量分析を行うことができる。さらに、試料Sを針状に加工しなくてもよいため、ミクロトームやイオンミリングなどの一般的なTEM試料の作製方法で作製された試料Sにより、3次元の定量分析が可能である。このように、本実施形態に係る定量分析方法では、3次元アトムプローブで問題となった、測定により試料Sが破壊されること、試料を針状に加工しなければならないこと、といった問題が生じない。 Further, in the quantitative analysis according to the present embodiment, since it is possible to perform a three-dimensional quantitative analysis by acquiring a two-dimensional element map for each inclination angle θ, the three-dimensional analysis is performed without destroying the sample S. Quantitative analysis can be performed. Further, since the sample S does not have to be processed into a needle shape, a three-dimensional quantitative analysis can be performed by the sample S prepared by a general method for preparing a TEM sample such as a microtome or ion milling. As described above, the quantitative analysis method according to the present embodiment has problems such as the problem of the three-dimensional atom probe, that the sample S is destroyed by the measurement, and that the sample must be processed into a needle shape. do not have.

本実施形態に係る定量分析方法では、定量値を計算する工程では、クリフ・ロリマー法を用いて、元素の定量値を計算する。そのため、本実施形態に係る定量分析方法では、傾斜角θごとの2次元の元素マップから3次元のEDS元素マップを生成することにより、3次元の定量分析が可能である。 In the quantitative analysis method according to the present embodiment, in the step of calculating the quantitative value, the quantitative value of the element is calculated by using the Cliff-Lolimer method. Therefore, in the quantitative analysis method according to the present embodiment, three-dimensional quantitative analysis is possible by generating a three-dimensional EDS element map from a two-dimensional element map for each inclination angle θ.

本実施形態に係る電子顕微鏡100は、電子源10と、電子源10から放出された電子線を試料Sに照射する照射系レンズ12と、試料Sを傾斜可能に保持する試料ステージ18と、試料Sに電子線を照射することにより発生したX線を検出するEDS検出器40,50と、EDS検出器40,50の検出信号に基づいて、定量分析を行う分析処理部70と、を含む。また、分析処理部70は、試料Sを傾斜させながら傾斜角θごとに元素マッピングを行うことで得られる傾斜角θごとの2次元の元素マップを取得する処理と、傾斜角θごとの2次元の元素マップから3次元再構成することにより、3次元の元素マップを生成する処理と、3次元の元素マップから元素の定量値を計算する処理と、を行う。そのため、電子顕微鏡100では、傾斜角θごとの2次元の元素マップを取得することで、3次元の定量分析が可能である。 The electron microscope 100 according to the present embodiment includes an electron source 10, an irradiation system lens 12 that irradiates the sample S with an electron beam emitted from the electron source 10, a sample stage 18 that holds the sample S tiltably, and a sample. It includes EDS detectors 40 and 50 that detect X-rays generated by irradiating S with an electron beam, and an analysis processing unit 70 that performs quantitative analysis based on the detection signals of the EDS detectors 40 and 50. Further, the analysis processing unit 70 obtains a two-dimensional element map for each inclination angle θ obtained by performing element mapping for each inclination angle θ while inclining the sample S, and two-dimensional for each inclination angle θ. A process of generating a three-dimensional element map by three-dimensional reconstruction from the element map of No. 1 and a process of calculating a quantitative value of an element from the three-dimensional element map are performed. Therefore, in the electron microscope 100, three-dimensional quantitative analysis is possible by acquiring a two-dimensional element map for each inclination angle θ.

4. 実施例
以下、実施例を挙げて本実施形態を説明するが、本発明はこれによって制限されるものではない。
4. Examples Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

本実施例において分析対象となる試料は、ミクロトームで切片に加工した塗膜試料である。この塗膜試料には、チタン粒子が二酸化チタンの状態で分散している。本実施例では、組成が既知の塗膜試料について3次元の定量分析を行うことで、定量分析の精度を確かめる。 The sample to be analyzed in this example is a coating film sample processed into sections with a microtome. Titanium particles are dispersed in this coating film sample in the state of titanium dioxide. In this example, the accuracy of the quantitative analysis is confirmed by performing a three-dimensional quantitative analysis on the coating film sample having a known composition.

まず、塗膜試料に対して、受光面積100nmのEDS検出器を2台搭載した透過電子顕微鏡(JEM-F200、日本電子株式会社製)を用いて、2次元のEDS元素マップを取得した。 First, a two-dimensional EDS element map was obtained for the coating film sample using a transmission electron microscope (JEM-F200, manufactured by JEOL Ltd.) equipped with two EDS detectors having a light receiving area of 100 nm 2 .

図6は、塗膜試料の2次元のEDS元素マップを示す図である。図6に示すように、塗膜試料からは、チタン(Ti)、鉄(Fe)、アルミニウム(Al)、シリコン(Si)、酸素(O)、炭素(C)が検出され、これらの元素についてそれぞれ2次元のEDS元素マップが得られた。 FIG. 6 is a diagram showing a two-dimensional EDS element map of the coating film sample. As shown in FIG. 6, titanium (Ti), iron (Fe), aluminum (Al), silicon (Si), oxygen (O), and carbon (C) were detected in the coating sample, and these elements were detected. A two-dimensional EDS element map was obtained for each.

図6に示す視野において、試料を傾斜させながら傾斜角θごとにEDSマッピングを行
って試料の傾斜角θごとの2次元のEDSマップを取得し、3次元のEDS元素マップを生成した。
In the field of view shown in FIG. 6, EDS mapping was performed for each tilt angle θ while tilting the sample to obtain a two-dimensional EDS map for each tilt angle θ of the sample, and a three-dimensional EDS element map was generated.

図7および図8は、塗膜試料の3次元のEDS元素マップを示す図である。図7には、チタンの3次元のEDS元素マップ、アルミニウムの3次元のEDS元素マップ、鉄の3次元のEDS元素マップ、シリコンの3次元のEDS元素マップ、炭素の3次元のEDS元素マップ、およびこれらを重ねた3次元のEDS元素マップを示している。また、図8には、チタン、鉄、アルミニウム、シリコン、酸素、および炭素の3次元のEDS元素マップを重ねた3次元のEDS元素マップを示している。 7 and 8 are diagrams showing a three-dimensional EDS element map of the coating film sample. FIG. 7 shows a three-dimensional EDS element map of titanium, a three-dimensional EDS element map of aluminum, a three-dimensional EDS element map of iron, a three-dimensional EDS element map of silicon, and a three-dimensional EDS element map of carbon. And a three-dimensional EDS element map in which these are superimposed is shown. Further, FIG. 8 shows a three-dimensional EDS element map in which three-dimensional EDS element maps of titanium, iron, aluminum, silicon, oxygen, and carbon are superimposed.

図9は、図8に示す3次元のEDS元素マップから抽出されたチタン粒子を示す図である。本実施例では、図9に示すように、3次元のEDS元素マップからチタン粒子を1つ抽出し、その抽出されたチタン粒子に相当する領域の濃度値(X線強度)の平均値を元素ごとに算出した。そして、元素ごとに算出された濃度値の平均値からチタン粒子の組成比を求めた。下記表1は、チタン粒子の3次元の定量分析の結果を示す表である。 FIG. 9 is a diagram showing titanium particles extracted from the three-dimensional EDS element map shown in FIG. In this embodiment, as shown in FIG. 9, one titanium particle is extracted from the three-dimensional EDS element map, and the average value of the concentration values (X-ray intensity) of the region corresponding to the extracted titanium particles is used as an element. Calculated for each. Then, the composition ratio of the titanium particles was obtained from the average value of the concentration values calculated for each element. Table 1 below is a table showing the results of three-dimensional quantitative analysis of titanium particles.

Figure 0007083629000003
Figure 0007083629000003

表1に示すように、チタン粒子の定量分析の結果、チタンが31.86at%(アトミックパーセント)であり、酸素が65.51at%であった。このように、チタンと酸素の比は、ほぼTi:O=1:2であり、チタン粒子が二酸化チタンであるとの定量結果が得られた。したがって、本実施例に係る定量分析方法によれば、高い精度の定量分析が可能であることがわかった。 As shown in Table 1, as a result of quantitative analysis of titanium particles, titanium was 31.86 at% (atomic percent) and oxygen was 65.51 at%. As described above, the ratio of titanium to oxygen was approximately Ti: O = 1: 2, and a quantitative result was obtained that the titanium particles were titanium dioxide. Therefore, it was found that the quantitative analysis method according to this example enables highly accurate quantitative analysis.

下記表2は、2次元の定量分析(2D at%)の結果と3次元の定量分析の結果(3D at%)を比較した表である。なお、表2において、3D at%(particle)は、チタン粒子の定量分析の結果であり、3D at%(matrix)はチタン粒子を囲む樹脂の定量分析の結果である。 Table 2 below is a table comparing the results of the two-dimensional quantitative analysis (2D at%) and the results of the three-dimensional quantitative analysis (3D at%). In Table 2, 3D at% (particle) is the result of quantitative analysis of titanium particles, and 3D at% (matrix) is the result of quantitative analysis of the resin surrounding the titanium particles.

Figure 0007083629000004
Figure 0007083629000004

表2に示すように、2次元の定量分析の結果、チタンが11.38at%であり、酸素
が14.23at%であった。このように、2次元の定量分析では、チタン粒子を囲む樹脂の情報が含まれているため、酸素や炭素の割合が多くなってチタン粒子の組成を正確に分析できなかった。これに対して、3次元の定量分析では、チタン粒子の組成が正確に分析できた。
As shown in Table 2, as a result of two-dimensional quantitative analysis, titanium was 11.38 at% and oxygen was 14.23 at%. As described above, since the two-dimensional quantitative analysis includes information on the resin surrounding the titanium particles, the proportion of oxygen and carbon becomes large, and the composition of the titanium particles cannot be analyzed accurately. On the other hand, in the three-dimensional quantitative analysis, the composition of the titanium particles could be analyzed accurately.

図10は、図8に示す3次元のEDS元素マップから抽出されたアルミニウム粒子を示す図である。なお、図10に示す3次元のEDS元素マップは、図10に示すDF-STEM像(暗視野STEM像)において、四角で囲んだアルミニウム粒子の、四角の中心を通る線で切った断面を見ている。 FIG. 10 is a diagram showing aluminum particles extracted from the three-dimensional EDS element map shown in FIG. The three-dimensional EDS element map shown in FIG. 10 shows the cross section of the aluminum particles surrounded by the square in the DF-STEM image (dark field STEM image) shown in FIG. 10 cut by a line passing through the center of the square. ing.

下記表3は、アルミニウム粒子の3次元の定量分析の結果と、2次元の定量分析の結果と、を比較した表である。 Table 3 below is a table comparing the results of the three-dimensional quantitative analysis of the aluminum particles and the results of the two-dimensional quantitative analysis.

Figure 0007083629000005
Figure 0007083629000005

表3に示すように、3次元の定量分析の結果、アルミニウム粒子の内部はアルミニウムが99.44at%検出されている。また、アルミニウム粒子の表面はアルミニウムが41.89at%検出され、酸素が52.12at%検出されている。このことから、アルミニウム粒子の内部はアルミニウムであり、アルミニウム粒子の表面は酸化アルミニウム(Al)であることがわかった。このような結果は、2次元の定量分析では得られない。 As shown in Table 3, as a result of three-dimensional quantitative analysis, 99.44 at% of aluminum was detected inside the aluminum particles. Further, on the surface of the aluminum particles, 41.89 at% of aluminum is detected and 52.12 at% of oxygen is detected. From this, it was found that the inside of the aluminum particles was aluminum, and the surface of the aluminum particles was aluminum oxide (Al 2 O 3 ). Such results cannot be obtained by two-dimensional quantitative analysis.

5. 変形例
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
5. Modifications The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be carried out within the scope of the gist of the present invention.

5.1. 第1変形例
上述した実施形態では、2つのEDS検出器40,50を用いて、試料Sで発生したX線を検出した。ここで、図3に示すように、試料SをEDS検出器40側に傾けた場合、試料SのX線発生源から見て、EDS検出器50が試料ホルダー18aのフレームや、試料Sの影になる。この結果、試料Sで発生したX線が遮蔽されてX線強度が減少してしまう。また、EDS検出器50が影になることによるX線強度の減少の度合いは、試料Sの傾斜角θによって異なる。そのため、3次元の定量分析の精度が低下してしまうおそれがある。
5.1. First Modification Example In the above-described embodiment, two EDS detectors 40 and 50 were used to detect the X-rays generated in the sample S. Here, as shown in FIG. 3, when the sample S is tilted toward the EDS detector 40, the EDS detector 50 is the frame of the sample holder 18a or the shadow of the sample S when viewed from the X-ray source of the sample S. become. As a result, the X-rays generated in the sample S are shielded and the X-ray intensity is reduced. Further, the degree of decrease in the X-ray intensity due to the shadow of the EDS detector 50 varies depending on the inclination angle θ of the sample S. Therefore, the accuracy of three-dimensional quantitative analysis may decrease.

本変形例では、2つのEDS検出器40,50のうちの試料Sが傾斜している側の検出器を用いて試料SからのX線を検出する。すなわち、試料Sの電子線が入射する面が向く方向のEDS検出器を用いて、X線を検出する。例えば、図3に示すように、試料SがEDS検出器40側に傾斜している場合には、EDS検出器40の検出信号を用いて、2次元のEDS元素マップを生成する。また、例えば、図11に示すように、試料SがEDS検出器50側に傾斜している場合には、EDS検出器50の検出信号を用いて、2次元の
EDS元素マップを生成する。これにより、EDS検出器が試料ホルダー18aや試料Sの影になることの影響を低減でき、3次元の定量分析の精度を向上できる。
In this modification, the X-ray from the sample S is detected by using the detector on the side where the sample S is inclined out of the two EDS detectors 40 and 50. That is, the X-ray is detected by using the EDS detector in the direction in which the surface on which the electron beam of the sample S is incident faces. For example, as shown in FIG. 3, when the sample S is inclined toward the EDS detector 40, the detection signal of the EDS detector 40 is used to generate a two-dimensional EDS element map. Further, for example, as shown in FIG. 11, when the sample S is inclined toward the EDS detector 50, the detection signal of the EDS detector 50 is used to generate a two-dimensional EDS element map. As a result, the influence of the EDS detector being in the shadow of the sample holder 18a or the sample S can be reduced, and the accuracy of the three-dimensional quantitative analysis can be improved.

また、例えば、EDS検出器40について、あらかじめ標準試料を用いて、試料Sの傾斜角θとEDS検出器40で検出されるX線の強度との関係を示す補正データを取得しておいてもよい。そして、この補正データを用いて、EDS検出器40の検出信号を補正してもよい。EDS検出器50についても同様に、補正データを用いて、検出信号を補正してもよい。これにより、EDS検出器40,50が試料ホルダー18aや試料Sの影になることの影響を低減でき、3次元の定量分析の精度を向上できる。 Further, for example, for the EDS detector 40, a standard sample may be used in advance to acquire correction data showing the relationship between the inclination angle θ of the sample S and the X-ray intensity detected by the EDS detector 40. good. Then, the detection signal of the EDS detector 40 may be corrected by using this correction data. Similarly, for the EDS detector 50, the detection signal may be corrected by using the correction data. As a result, the influence of the EDS detectors 40 and 50 being in the shadow of the sample holder 18a and the sample S can be reduced, and the accuracy of the three-dimensional quantitative analysis can be improved.

例えば、EDS検出器40において、傾斜角θ=a°では基準の傾斜角θの0.9倍のX線強度が得られる場合、傾斜角θ=a°ではEDS検出器40の検出信号を1/0.9倍して、2次元のEDS元素マップを生成する。 For example, in the EDS detector 40, when an X-ray intensity 0.9 times the reference tilt angle θ can be obtained at a tilt angle θ = a °, the detection signal of the EDS detector 40 is set to 1 at a tilt angle θ = a °. Multiply by /0.9 to generate a two-dimensional EDS element map.

5.2. 第2変形例
例えば、上述した実施形態では、電子顕微鏡100は、図2に示すように、2つのEDS検出器40,50を備えていたが、EDS検出器は1つであってもよい。
5.2. Second Modification Example For example, in the above-described embodiment, the electron microscope 100 includes two EDS detectors 40 and 50 as shown in FIG. 2, but may have one EDS detector.

図12は、EDS検出器40の配置の一例を示す図である。なお、図12は、試料ホルダー18aおよびEDS検出器40を、対物レンズ16の光軸方向(Z方向)から見た図である。図12では、電子顕微鏡にEDS検出器40のみが搭載されている場合を図示している。 FIG. 12 is a diagram showing an example of the arrangement of the EDS detector 40. Note that FIG. 12 is a view of the sample holder 18a and the EDS detector 40 as viewed from the optical axis direction (Z direction) of the objective lens 16. FIG. 12 illustrates a case where only the EDS detector 40 is mounted on the electron microscope.

電子顕微鏡に搭載されるEDS検出器40のみが搭載されている場合、図12に示すように、EDS検出器40は、試料Sの、傾斜軸TAに平行な方向に配置されている。図示の例では、EDS検出器40は、試料Sの+X方向に配置されている。これにより、EDS検出器40が試料ホルダー18aや試料Sの影になることの影響を低減でき、3次元の定量分析の精度を向上できる。 When only the EDS detector 40 mounted on the electron microscope is mounted, as shown in FIG. 12, the EDS detector 40 is arranged in the direction parallel to the tilt axis TA of the sample S. In the illustrated example, the EDS detector 40 is arranged in the + X direction of the sample S. As a result, the influence of the EDS detector 40 being in the shadow of the sample holder 18a and the sample S can be reduced, and the accuracy of the three-dimensional quantitative analysis can be improved.

なお、図示はしないが、EDS検出器40を試料Sの+X方向に配置し、EDS検出器50を試料Sの+Y方向(または-Y方向)に配置してもよい。 Although not shown, the EDS detector 40 may be arranged in the + X direction of the sample S, and the EDS detector 50 may be arranged in the + Y direction (or −Y direction) of the sample S.

5.3. 第3変形例
上述した実施形態では、分析処理部70が3次元のEDS元素マップを構成するボクセルごとに元素の定量値を計算する場合について説明した。分析処理部70の処理は、これに限定されず、例えば、3次元のEDS元素マップから抽出された粒子ごとに元素の定量値を計算してもよい。
5.3. Third Modification Example In the above-described embodiment, the case where the analysis processing unit 70 calculates the quantitative value of the element for each voxel constituting the three-dimensional EDS element map has been described. The processing of the analysis processing unit 70 is not limited to this, and for example, the quantitative value of the element may be calculated for each particle extracted from the three-dimensional EDS element map.

具体的には、分析処理部70は、まず、3次元のEDS元素マップからX線強度に基づき粒子を抽出する。例えば、公知の粒子解析の手法を用いて、3次元のEDS元素マップから粒子を抽出することができる。次に、分析処理部70は、抽出した粒子ごとに定量値を計算する。例えば、抽出された粒子に相当する領域の濃度値(X線強度)の平均値を元素ごとに算出し、元素ごとに算出された濃度値の平均値から各元素の定量値を求める。そして、分析処理部70は、粒子ごとに計算された各元素の定量値(組成比)の情報を記憶装置に記憶する。これにより、例えば、ボクセルごとに組成比の情報を記憶させる場合と比べて、3次元の定量分析のデータ量を減らすことができる。 Specifically, the analysis processing unit 70 first extracts particles from the three-dimensional EDS element map based on the X-ray intensity. For example, particles can be extracted from a three-dimensional EDS element map using known particle analysis techniques. Next, the analysis processing unit 70 calculates a quantitative value for each extracted particle. For example, the average value of the concentration value (X-ray intensity) in the region corresponding to the extracted particles is calculated for each element, and the quantitative value of each element is obtained from the average value of the concentration values calculated for each element. Then, the analysis processing unit 70 stores the information of the quantitative value (composition ratio) of each element calculated for each particle in the storage device. Thereby, for example, the amount of data for the three-dimensional quantitative analysis can be reduced as compared with the case where the composition ratio information is stored for each voxel.

5.4. 第4変形例
上述した実施形態では、定量値を計算する工程では、クリフ・ロリマー法を用いて、元素の定量値を計算する場合について説明したが、その他の計算手法を用いて、元素の定量
値を計算してもよい。例えば、ゼータファクター(ζfactor)法を用いて、元素の定量値の計算を行ってもよい。
5.4. Fourth Modification Example In the above-described embodiment, the case of calculating the quantitative value of an element by using the Cliff-Lolimer method has been described in the step of calculating the quantitative value, but the quantitative value of the element is quantified by using another calculation method. You may calculate the value. For example, the zeta factor (ζ factor) method may be used to calculate the quantitative values of the elements.

ゼータファクターζは、質量膜厚とX線強度の間の比例因子であり、元素Aのゼータファクターζは、次式で表される。 The zeta factor ζ is a proportional factor between the mass film thickness and the X-ray intensity, and the zeta factor ζ A of the element A is expressed by the following equation.

Figure 0007083629000006
Figure 0007083629000006

ただし、ρtは質量膜厚であり、Cは元素Aの組成(重量分率)であり、IはX線強度である。上記関係式は、試料に含まれるすべての元素で成立するため、クリフ・ロリマー法を用いた場合と同様に、元素の定量値の計算(3次元の定量分析)が可能である。 However, ρt is the mass film thickness, CA is the composition (weight fraction) of the element A , and IA is the X-ray intensity. Since the above relational expression holds for all the elements contained in the sample, it is possible to calculate the quantitative value of the element (three-dimensional quantitative analysis) as in the case of using the Cliff-Lolimer method.

なお、上述した実施形態及び変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば各実施形態及び各変形例は、適宜組み合わせることが可能である。 It should be noted that the above-described embodiments and modifications are merely examples, and the present invention is not limited thereto. For example, each embodiment and each modification can be combined as appropriate.

本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。 The present invention includes substantially the same configurations as those described in the embodiments (eg, configurations with the same function, method and result, or configurations with the same purpose and effect). The present invention also includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. Further, the present invention includes a configuration having the same action and effect as the configuration described in the embodiment or a configuration capable of achieving the same object. Further, the present invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

2…膜、4…粒子、6…領域、8…内部、10…電子源、12…照射系レンズ、14…走査コイル、16…対物レンズ、16a…上極、16b…下極、18…試料ステージ、18a…試料ホルダー、18b…試料位置決め装置、20…中間レンズ、22…投影レンズ、30…STEM検出器、40…EDS検出器、50…EDS検出器、60…信号処理部、70…分析処理部、80…ステージ制御部、100…電子顕微鏡 2 ... film, 4 ... particles, 6 ... region, 8 ... inside, 10 ... electron source, 12 ... irradiation system lens, 14 ... scanning coil, 16 ... objective lens, 16a ... upper pole, 16b ... lower pole, 18 ... sample Stage, 18a ... sample holder, 18b ... sample positioning device, 20 ... intermediate lens, 22 ... projection lens, 30 ... STEM detector, 40 ... EDS detector, 50 ... EDS detector, 60 ... signal processing unit, 70 ... analysis Processing unit, 80 ... Stage control unit, 100 ... Electron microscope

Claims (6)

電子顕微鏡における定量分析方法であって、
試料を傾斜させながら傾斜角ごとに元素マッピングを行うことで得られる傾斜角ごとの2次元の元素マップを取得する工程と、
傾斜角ごとの2次元の元素マップから3次元再構成することにより、3次元の元素マップを生成する工程と、
前記3次元の元素マップを構成するボクセルごとに元素の定量値を計算する工程と、
を含む、定量分析方法。
It is a quantitative analysis method in an electron microscope.
The process of acquiring a two-dimensional element map for each tilt angle obtained by performing element mapping for each tilt angle while tilting the sample, and
A process of generating a three-dimensional element map by three-dimensional reconstruction from a two-dimensional element map for each inclination angle, and
The process of calculating the quantitative value of the element for each voxel constituting the three-dimensional element map, and
Quantitative analysis methods, including.
請求項1において、
前記元素の定量値を計算する工程では、クリフ・ロリマー法またはゼータファクター法を用いて、定量値を計算する、定量分析方法。
In claim 1,
In the step of calculating the quantitative value of the element, a quantitative analysis method for calculating the quantitative value by using the Cliff-Lolimer method or the zeta factor method.
請求項1または2において、
前記電子顕微鏡は、前記試料の傾斜軸を挟んで配置された2つの検出器を備え、
前記2次元の元素マップを取得する工程では、
前記試料が傾斜している側の前記検出器を用いて、前記試料からのX線を検出する、定量分析方法。
In claim 1 or 2,
The electron microscope includes two detectors arranged across the tilt axis of the sample.
In the process of acquiring the two-dimensional element map,
A quantitative analysis method for detecting X-rays from a sample using the detector on the side where the sample is inclined.
請求項1または2において、
前記電子顕微鏡は、検出器を備え、
前記2次元の元素マップを取得する工程では、前記試料の傾斜角と前記検出器で検出されるX線強度の関係を示すデータを用いて、前記検出器で検出されたX線強度を補正する、定量分析方法。
In claim 1 or 2,
The electron microscope includes a detector and
In the step of acquiring the two-dimensional element map, the X-ray intensity detected by the detector is corrected by using the data showing the relationship between the inclination angle of the sample and the X-ray intensity detected by the detector. , Quantitative analysis method.
電子顕微鏡における定量分析方法であって、
試料を傾斜させながら傾斜角ごとに元素マッピングを行うことで得られる傾斜角ごとの2次元の元素マップを取得する工程と、
傾斜角ごとの2次元の元素マップから3次元再構成することにより、3次元の元素マッ
プを生成する工程と、
前記3次元の元素マップからX線強度に基づき3次元の粒子の情報を抽出し、抽出した3次元の粒子ごとに定量値を計算する工程と、
を含む、定量分析方法。
It is a quantitative analysis method in an electron microscope.
The process of acquiring a two-dimensional element map for each tilt angle obtained by performing element mapping for each tilt angle while tilting the sample, and
A process of generating a three-dimensional element map by three-dimensional reconstruction from a two-dimensional element map for each inclination angle, and
A step of extracting information on three-dimensional particles based on the X-ray intensity from the three-dimensional element map and calculating a quantitative value for each of the extracted three-dimensional particles.
Quantitative analysis methods, including.
電子源と、
前記電子源から放出された電子線を試料に照射する照射系レンズと、
前記試料を傾斜可能に保持する試料ステージと、
前記試料に電子線を照射することにより発生したX線を検出する検出器と、
前記検出器におけるX線の検出結果に基づいて、定量分析を行う分析処理部と、
を含み、
前記分析処理部は、
前記試料を傾斜させながら傾斜角ごとに元素マッピングを行うことで得られる傾斜角ごとの2次元の元素マップを取得する処理と、
傾斜角ごとの2次元の元素マップから3次元再構成することにより、3次元の元素マップを生成する処理と、
前記3次元の元素マップを構成するボクセルごとに元素の定量値を計算する処理と、
を行う、電子顕微鏡。
With an electron source
An irradiation system lens that irradiates the sample with the electron beam emitted from the electron source, and
A sample stage that holds the sample tiltably and
A detector that detects X-rays generated by irradiating the sample with an electron beam,
An analysis processing unit that performs quantitative analysis based on the X-ray detection result of the detector, and
Including
The analysis processing unit
The process of acquiring a two-dimensional element map for each tilt angle obtained by performing element mapping for each tilt angle while tilting the sample.
A process to generate a three-dimensional element map by three-dimensional reconstruction from a two-dimensional element map for each inclination angle, and
The process of calculating the quantitative value of the element for each voxel constituting the three-dimensional element map, and
Do an electron microscope.
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