JP7060842B2 - Laminate Laminate - Google Patents

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本発明は、食品、医薬品、工業製品等の包装分野に用いられる積層体に関する。更に詳しくは、ガスバリア性、寸法安定性、加工性、耐破袋性、耐屈曲性に優れ、かつ、乾物包装のような硬い内容物によってダメージを受けやすい用途やレトルト殺菌のような過酷な湿熱処理後が施される用途においても、優れたガスバリア性を有するガスバリア性ラミネート積層体に関する。 The present invention relates to a laminate used in the packaging field of foods, pharmaceuticals, industrial products and the like. More specifically, it has excellent gas barrier properties, dimensional stability, processability, rupture resistance, and bending resistance, and is easily damaged by hard contents such as dry matter packaging and severe moisture such as retort sterilization. The present invention relates to a gas-barrier laminated laminate having excellent gas-barrier properties even in applications to be applied after heat treatment.

食品、医薬品等に用いられる包装材料は、蛋白質、油脂の酸化抑制、味、鮮度の保持、医薬品の効能維持のために、酸素や水蒸気等のガスを遮断する性質、すなわちガスバリア性を備えることが求められている。また、太陽電池や有機EL等の電子デバイスや電子部品等に使用されるガスバリア性材料は、食品等の包装材料以上に高いガスバリア性を必要とする。 Packaging materials used in foods, pharmaceuticals, etc. must have the property of blocking gases such as oxygen and water vapor, that is, gas barrier properties, in order to suppress the oxidation of proteins and fats, maintain the taste and freshness, and maintain the efficacy of pharmaceuticals. It has been demanded. Further, gas barrier materials used for electronic devices such as solar cells and organic ELs and electronic parts require higher gas barrier properties than packaging materials such as foods.

従来から、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断を必要とする食品用途においては、プラスチックからなる基材フィルムの表面に、アルミニウム等からなる金属薄膜、酸化ケイ素や酸化アルミニウム等の無機酸化物からなる無機薄膜を形成したガスバリア性積層体が、一般的に用いられている。中でも、酸化ケイ素や酸化アルミニウム、これらの混合物等の無機酸化物の薄膜(無機薄膜層)を形成したものは、透明であり内容物の確認が可能であることから、広く使用されている。また、無機酸化物からなる無機薄膜層は電子レンジで加熱することが可能であるため、特にレンジ対応のレトルトパウチでの需要が伸びている。 Conventionally, in food applications that require blocking of various gases such as water vapor and oxygen, the surface of a base film made of plastic is made of a metal thin film made of aluminum or the like and an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide. A gas barrier laminate having an inorganic thin film formed is generally used. Among them, those having a thin film (inorganic thin film layer) of an inorganic oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, and a mixture thereof are widely used because they are transparent and the contents can be confirmed. Further, since the inorganic thin film layer made of an inorganic oxide can be heated in a microwave oven, the demand for a range-compatible retort pouch is increasing.

レンジ対応のレトルトパウチは、袋の耐水性、耐熱性、強靭性(耐破袋性や耐ピンホール性)が同時に求められることから、袋の外側にポリエステルフィルム、中間層にポリアミドフィルム、内側(内容物側)にヒートシール性樹脂を接着剤を介してドライラミネートした少なくとも3層以上の構成が一般的である。 Range-compatible retort pouches are required to have water resistance, heat resistance, and toughness (bag rupture resistance and pinhole resistance) at the same time. Generally, at least three layers or more of heat-sealing resin are dry-laminated on the content side) via an adhesive.

前述のレトルトパウチ構成において、ガスバリア層は、生産性や品質安定性の面から袋の外側に位置するポリエステルフィルム上に積層されることが一般的であり、そのバリア性能も非常に良好なものとなる(例えば特許文献1)。しかし、ポリアミドフィルムとヒートシール性樹脂を貼り合せて3層構成とした際に、ガスバリア層より内側に少なくとも2層以上の接着剤層、また場合によっては印刷層が存在することになり、かつポリエステルフィルム側にはガスの遮断性に優れるバリア層が存在することから、接着剤やインキ中の残留溶剤が一方通行で内容物側に移行しやすくなるという問題があった。さらに、バリア層を積層したポリエステルフィルムは硬く脆いため、袋の落下時に破袋して内容物が漏れる、耐ピンホール性が悪いという課題もあった。 In the above-mentioned retort pouch configuration, the gas barrier layer is generally laminated on a polyester film located on the outside of the bag from the viewpoint of productivity and quality stability, and its barrier performance is also very good. (For example, Patent Document 1). However, when the polyamide film and the heat-sealing resin are laminated to form a three-layer structure, at least two or more adhesive layers and, in some cases, a printing layer are present inside the gas barrier layer, and polyester. Since the barrier layer having excellent gas barrier properties is present on the film side, there is a problem that the residual solvent in the adhesive or the ink is easily transferred to the content side in one way. Further, since the polyester film on which the barrier layer is laminated is hard and brittle, there is a problem that the bag is broken when the bag is dropped and the contents leak, and the pinhole resistance is poor.

他方、中間層としてのポリアミドフィルム上にガスバリア層を積層する従来技術もある(例えば特許文献2)。この場合、バリア層がより内側に来るため、内容物への溶剤移行を低減できるという利点がある。しかし、ポリアミドフィルムを基材とするガスバリア積層フィルムは、ポリアミドフィルムの特性による耐湿熱接着性の弱さや、基材の吸湿に伴う伸縮やシワによりバリア層が物理的ダメージを受けることで、ポリエステルフィルム上に積層する場合に比べバリア性(特に防湿性)が不十分となったり、耐湿熱接着性が弱いことで水分が存在する湿潤状態における手切れ性が不十分になるおそれがあった。また、ポリアミドフィルムはポリエステルフィルムに比べ耐熱性の面で劣り、コート塗布・乾燥時に熱収縮シワが入りやすい等の加工上の問題もあった。 On the other hand, there is also a conventional technique of laminating a gas barrier layer on a polyamide film as an intermediate layer (for example, Patent Document 2). In this case, since the barrier layer is closer to the inside, there is an advantage that the transfer of the solvent to the contents can be reduced. However, the gas barrier laminated film using a polyamide film as a base material is a polyester film due to the weakness of moisture resistance and heat adhesion due to the characteristics of the polyamide film, and the physical damage of the barrier layer due to expansion and contraction and wrinkles due to moisture absorption of the base material. Compared to the case of laminating on top, the barrier property (particularly moisture-proof property) may be insufficient, or the moisture-resistant heat-adhesive property may be weak, so that the hand-cutting property in a wet state in which moisture is present may be insufficient. In addition, the polyamide film is inferior in heat resistance to the polyester film, and has problems in processing such as heat shrinkage wrinkles easily when the coat is applied and dried.

これに対し、ポリエステル系樹脂層及びポリアミド系樹脂層を有する多層フィルムを二軸延伸することにより得られる二軸延伸多層フィルムを有する層を透明ガスバリア性フィルムの基材層とすることにより、安価で、且つ低溶出性及び透明性に優れた、ボイル処理用またはレトルト処理用の包装材料が得られるという技術が提案されている(例えば特許文献3)が、かかる従来技術はポリエステル系樹脂層とポリアミド系樹脂層の間の界面で剥離しやすいため、袋の落下時に破袋し、内容物が漏れやすいという問題点があった。 On the other hand, by using the layer having the biaxially stretched multilayer film obtained by biaxially stretching the polyester resin layer and the multilayer film having the polyamide resin layer as the base layer of the transparent gas barrier film, the cost is low. A technique has been proposed in which a packaging material for boil treatment or retort treatment, which has excellent low elution and transparency, can be obtained (for example, Patent Document 3), but such conventional techniques include a polyester resin layer and a polyamide. Since it is easily peeled off at the interface between the based resin layers, there is a problem that the bag is easily broken when the bag is dropped and the contents are easily leaked.

さらに、少なくともポリブチレンテレフタレート樹脂、またはポリブチレンテレフタレート(PBT)樹脂に対してポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂を30重量%以下の範囲で配合したポリエステル系樹脂組成物のいずれかからなる二軸延伸ポリブチレンテレフタレート系フィルムに、無機酸化物からなる蒸着膜を形成することにより、130℃以上の過酷なレトルト条件においても使用可能な耐圧縮性、耐衝撃性、および耐熱水性に優れた二軸延伸ポリブチレンテレフタレート系フィルムが得られるという技術が知られていた(例えば特許文献4)。しかし、かかる従来技術で開示されているチューブラー同時二軸延伸による製膜方法はその製造方法に起因して厚み精度が悪く、また、面配向係数が高くならないことから、耐衝撃性に劣るばかりか、フィルムへの接着剤塗布工程などの加工を行う際に伸びやすく、加工性に劣るという問題点があった。また、PBTは、PETと比べてガラス転移温度が低いため高温下で張力がかかると、フィルムが伸びやすくなるといった特性がある。このため、各加工工程において加熱されながら張力がかかると、フィルム基材が伸び、先に形成された無機薄膜層にクラックが入る結果、得られたバリアフィルムのバリア性が低下してしまうという問題があった。 Further, a biaxially stretched polybutylene composed of at least one of a polyester resin composition in which polyethylene terephthalate (PET) resin is blended in a range of 30% by weight or less with respect to polybutylene terephthalate resin or polybutylene terephthalate (PBT) resin. By forming a vapor-deposited film made of an inorganic oxide on a terephthalate-based film, biaxially stretched polybutylene having excellent compression resistance, impact resistance, and water resistance that can be used even under severe retort conditions of 130 ° C or higher. A technique for obtaining a terephthalate film has been known (for example, Patent Document 4). However, the film-forming method by tubular simultaneous biaxial stretching disclosed in the prior art has poor thickness accuracy due to the manufacturing method, and the plane orientation coefficient does not increase, so that the impact resistance is inferior. In addition, there is a problem that it is easily stretched and inferior in processability when processing such as an adhesive application process on a film. Further, since PBT has a lower glass transition temperature than PET, it has a characteristic that the film is easily stretched when tension is applied under high temperature. Therefore, when tension is applied while being heated in each processing step, the film base material is stretched and cracks are formed in the previously formed inorganic thin film layer, resulting in a problem that the barrier property of the obtained barrier film is deteriorated. was there.

上記特許文献1、3、4では、耐レトルトバリア性能については検討されているが、最適なフィルム構成や加工安定性については検討されていなかった。また特許文献2でも、耐レトルトバリア性能について検討されているが、耐湿熱接着性については検討されていなかった。 In the above-mentioned Patent Documents 1, 3 and 4, the retort-resistant barrier performance has been studied, but the optimum film configuration and processing stability have not been studied. Further, in Patent Document 2, the retort barrier resistance is examined, but the moisture resistance and heat adhesion are not examined.

このように、製造時の生産安定性、加工安定性および経済性に優れ、かつレトルト処理のような過酷な湿熱処理を行っても優れたバリア性・接着性・強靭性を維持でき、さらに内容物への溶剤移行も抑制でき、手切れ性も良好なフィルム構成を有したガスバリア性ラミネート積層体は得られていないのが現状であった。 In this way, it is excellent in production stability, processing stability and economy during manufacturing, and can maintain excellent barrier properties, adhesiveness and toughness even after harsh wet heat treatment such as retort treatment. At present, a gas barrier laminated laminate having a film structure that can suppress solvent transfer to a product and has good hand-cutting property has not been obtained.

国際公開WO2016/136768号International release WO2016 / 136768 特許第4857482号公報Japanese Patent No. 4857482 特開2013-154605号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-154605 特開2012-214248号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-214248

本発明は、かかる従来技術の問題点を背景になされたものであり、バリア性、耐破袋性、耐屈曲性に優れ、かつ水が存在する湿潤状態において十分な手切れ性を有すると共に、乾物包装のように硬い内容物の包装に使用したり、レトルト処理のような過酷な湿熱処理が施される用途に使用しても、優れたバリア性を維持することが出来、かつ内容物への残留溶剤の移行が少ない積層体を提供することを課題として掲げた。 The present invention has been made against the background of the problems of the prior art, has excellent barrier properties, wrapping resistance, and bending resistance, and has sufficient hand-cutting property in a wet state in which water is present. Excellent barrier properties can be maintained even when used for packaging hard contents such as dry matter packaging, or for applications where severe moist heat treatment such as retort treatment is applied, and to the contents. The challenge was to provide a laminate with less transfer of residual solvent.

前記課題を解決してなる本発明のラミネート積層体は、以下の態様を有する。 The laminated laminate of the present invention, which solves the above problems, has the following aspects.

(1)ポリエステルフィルム、基材積層フィルム、ヒートシール性樹脂がこの順にラミネートされてなるラミネート積層体であって、前記基材積層フィルムは、基材層の少なくとも片面に無機薄膜層が、他の層を介して又は介さずに積層されてなる積層フィルムであって、前記基材層は少なくともポリブチレンテレフタレートを60質量%以上含む樹脂組成物からなる二軸延伸ポリエステルフィルム基材であり、かつ、下記(a)及び(b)を同時に満足することを特徴とするラミネート積層体。
(a)基材層の長手方向及び幅方向の150℃における熱収縮率がいずれも4.0%以下である。
(b) TMA(サーマルメカニカルアナライザー)を用いて測定した温度寸法変化曲線の基材層原長に対する200℃での寸法変化率が基材層の長手方向において2%以下である。
(1) A laminated laminate in which a polyester film, a base material laminated film, and a heat-sealing resin are laminated in this order, and the base material laminated film has an inorganic thin film layer on at least one side of the base material layer and another. It is a laminated film laminated with or without a layer, and the base material layer is a biaxially stretched polyester film base material made of a resin composition containing at least 60% by mass of polybutylene terephthalate, and A laminated laminate characterized by simultaneously satisfying the following (a) and (b).
(a) The heat shrinkage rate at 150 ° C. in the longitudinal direction and the width direction of the substrate layer is 4.0% or less.
(b) The dimensional change rate at 200 ° C. with respect to the original length of the base material layer of the temperature dimensional change curve measured by using TMA (thermal mechanical analyzer) is 2% or less in the longitudinal direction of the base material layer.

(2) 前記基材層と前記無機薄膜層の間に、被覆層を有することを特徴とする、(1)に記載のラミネート積層体。 (2) The laminated laminate according to (1), wherein a coating layer is provided between the base material layer and the inorganic thin film layer.

(3) 前記無機薄膜層が酸化ケイ素と酸化アルミニウムの複合酸化物からなる層であることを特徴とする(1)または(2)に記載のラミネート積層体。 (3) The laminated laminate according to (1) or (2), wherein the inorganic thin film layer is a layer made of a composite oxide of silicon oxide and aluminum oxide.

(4) 前記被覆層がオキサゾリン基を有する樹脂を含有する樹脂組成物からなることを特徴とする、(2)または(3)に記載のラミネート積層体。 (4) The laminated laminate according to (2) or (3), wherein the coating layer comprises a resin composition containing a resin having an oxazoline group.

本発明のラミネート積層体は、バリア性、耐破袋性、耐屈曲性に優れ、かつ水が存在する湿潤状態において十分な手切れ性を有すると共に乾物包装のように硬い内容物の包装に使用することができる。また、優れた耐水接着性を有するため、レトルト処理等の過酷な湿熱処理を行っても剥離が生じず、バリア性が劣化したり、内容物が漏れ出たりする問題がない。また、中間層がポリアミドではなく耐湿性に優れるPBTであるため、湿熱処理後のバリア性や防湿性、手切れ性にすぐれ、かつ基材としての強靭性にも優れている。さらに、中間層がバリア層となるため、内容物への残留溶剤の移行が少ない。しかも、本発明の積層フィルムは加工工程が少なくかつ容易に製造できるので、経済性と生産安定性の両方に優れており、均質な特性のガスバリア性フィルムを提供することができる。 The laminated laminate of the present invention has excellent barrier properties, rupture resistance, and bending resistance, has sufficient hand-cutting property in a wet state in the presence of water, and is used for packaging hard contents such as dry matter packaging. can do. Further, since it has excellent water resistance and adhesiveness, peeling does not occur even if harsh wet heat treatment such as retort treatment is performed, and there is no problem that the barrier property is deteriorated or the contents leak out. Further, since the intermediate layer is not polyamide but PBT having excellent moisture resistance, it is excellent in barrier property, moisture resistance, and hand-cutting property after wet heat treatment, and is also excellent in toughness as a base material. Further, since the intermediate layer serves as a barrier layer, the transfer of the residual solvent to the contents is small. Moreover, since the laminated film of the present invention can be easily manufactured with few processing steps, it is excellent in both economic efficiency and production stability, and it is possible to provide a gas barrier film having uniform characteristics.

本発明のラミネート積層体は、ポリブチレンテレフタレート系基材積層フィルムを中間層として、一方の面にはポリエステルフィルムを、もう一方の面にはヒートシール性樹脂層をラミネートした少なくとも3層以上の構成を有する。また、ポリブチレンテレフタレート系基材フィルムの少なくとも片面に無機薄膜層が設けられる。この積層フィルムを、ポリブチレンテレフタレート系基材積層フィルムと称する。 The laminated laminate of the present invention has at least three or more layers in which a polybutylene terephthalate-based substrate laminated film is used as an intermediate layer, a polyester film is laminated on one surface, and a heat-sealable resin layer is laminated on the other surface. Has. Further, an inorganic thin film layer is provided on at least one side of the polybutylene terephthalate-based base film. This laminated film is referred to as a polybutylene terephthalate-based base material laminated film.

本発明者らは、基材層としてポリブチレンテレフタレート系二軸延伸ポリエステルフィルムを用い、該基材層に無機薄膜層を積層して基材積層フィルムとした場合において、該基材層の熱収縮率及び一定荷重、温度下における寸法変化率を特定の範囲とすることにより、加工工程でかかる張力、加熱温度に対しても変形しにくく、無機薄膜層へのダメージを抑制することができることを見出した。また、前記の3層以上の構成として、中間層としてポリアミド層ではなく、耐湿性に優れるポリブチレンテレフタレート系二軸延伸ポリエステルフィルムを用いることにより、湿熱処理後のバリア性や防湿性、手切れ性にすぐれ、かつ基材としての強靭性にも優れるとともに、中間層をバリア層とすることにより、内容物への残留溶剤の移行が少なくなる効果をも奏することを本発明者らは見出して、本発明を完成するに至った。 The present inventors use a polybutylene terephthalate-based biaxially stretched polyester film as a base material layer, and when an inorganic thin film layer is laminated on the base material layer to form a base material laminated film, the present inventors heat-shrink the base material layer. It was found that by setting the rate, constant load, and dimensional change rate under temperature within a specific range, it is difficult to deform even with respect to the tension and heating temperature applied in the processing process, and damage to the inorganic thin film layer can be suppressed. rice field. Further, by using a polybutylene terephthalate-based biaxially stretched polyester film having excellent moisture resistance as the intermediate layer instead of the polyamide layer as the above-mentioned three or more layers, the barrier property, the moisture resistance, and the hand-cutting property after the wet heat treatment are used. The present inventors have found that the intermediate layer is a barrier layer, which is excellent in excellent toughness as a base material and also has an effect of reducing the transfer of residual solvent to the contents. The present invention has been completed.

以下、基材積層フィルムおよびこれに積層する各層について順に説明する。 Hereinafter, the base material laminated film and each layer laminated on the base material laminated film will be described in order.

[ポリエステルフィルム]
本発明で用いるポリエステルフィルムとしては、例えば、プラスチックポリエステルを溶融押出しし、必要に応じ、長手方向および/または幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルム(1軸延伸フィルムまたは2軸延伸フィルム)を用いることができる。これらの中でも、耐熱性、寸歩法安定性、透明性の点でポリエチレンテレフタレートあるいはポリエチレンテレフタレートに他の成分を共重合した共重合体が好ましく、特に、2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
[Polyester film]
As the polyester film used in the present invention, for example, a film (uniaxially stretched film or biaxially stretched film) obtained by melt-extruding a plastic polyester and, if necessary, stretching, cooling, and heat-fixing in the longitudinal direction and / or the width direction. ) Can be used. Among these, polyethylene terephthalate or a copolymer obtained by copolymerizing polyethylene terephthalate with other components is preferable in terms of heat resistance, stepping stability, and transparency, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable.

ポリエステルフィルムとしては、機械強度、透明性等所望の目的や用途に応じて任意の膜厚のものを使用することができ、その膜厚は特に限定されないが、5~250μmであることが好ましく、包装材料として用いる場合は10~60μmであることが好ましい。
ポリエステルフィルムの透明度は、特に限定されるものではないが、透明性が求められる包装材料として使用する場合には、50%以上の光線透過率をもつものが好ましい。
As the polyester film, a film having an arbitrary film thickness can be used according to a desired purpose and application such as mechanical strength and transparency, and the film thickness is not particularly limited, but is preferably 5 to 250 μm. When used as a packaging material, it is preferably 10 to 60 μm.
The transparency of the polyester film is not particularly limited, but when it is used as a packaging material for which transparency is required, a polyester film having a light transmittance of 50% or more is preferable.

ポリエステルフィルムは、1種のポリエステルからなる単層型フィルムであってもよいし、2種以上のポリエステルフィルムが積層された積層型フィルムであってもよい。積層型フィルムとする場合の積層体の種類、積層数、積層方法等は特に限定されず、目的に応じて公知の方法から任意に選択することができる。
またポリエステルフィルムには、本発明の目的を損なわない限りにおいて、コロナ放電処理、グロー放電、火炎処理、表面粗面化処理等の表面処理が施されていてもよく、また、公知のアンカーコート処理、印刷、装飾等が施されてもよい。
The polyester film may be a single-layer film made of one kind of polyester, or may be a laminated film in which two or more kinds of polyester films are laminated. The type of laminated body, the number of laminated bodies, the laminating method, and the like in the case of forming a laminated film are not particularly limited, and can be arbitrarily selected from known methods according to the purpose.
Further, the polyester film may be subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, glow discharge, flame treatment, and surface roughening treatment as long as the object of the present invention is not impaired, and a known anchor coating treatment may be applied. , Printing, decoration, etc. may be applied.

[基材層]
本発明に用いられる基材層とは、PBTを60質量%以上含む樹脂組成物からなる二軸延伸フィルムである。PBTの含有率は、70質量%以上が好ましい。PBTの含有率が60質量%未満であると衝撃強度又は耐ピンホール性が低下してしまい、フィルム特性としては十分なものでなくなってしまう。
PBTは、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸が90モル%以上であることが好ましく、より好ましくは95モル%以上であり、さらに好ましくは98モル%以上であり最も好ましくは100モル%である。グリコール成分として1,4-ブタンジオールが90モル%以上であることが好ましく、より好ましくは95モル%以上であり、さらに好ましくは97モル%以上であり、最も好ましくは重合時に1,4-ブタンジオールのエーテル結合により生成する副生物以外は含まれないことである。
[Base layer]
The base material layer used in the present invention is a biaxially stretched film made of a resin composition containing 60% by mass or more of PBT. The content of PBT is preferably 70% by mass or more. If the content of PBT is less than 60% by mass, the impact strength or pinhole resistance is lowered, and the film characteristics are not sufficient.
As the dicarboxylic acid component, PBT preferably contains terephthalic acid in an amount of 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, still more preferably 98 mol% or more, and most preferably 100 mol%. The glycol component is preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, still more preferably 97 mol% or more, and most preferably 1,4-butanediol at the time of polymerization. It does not contain anything other than by-products produced by the ether bond of the diol.

本発明に用いられる樹脂組成物は二軸延伸時の製膜性や得られたフィルムの力学特性を調整する目的でPBT以外のポリエステルを含有することができる。
PBT以外のポリエステルとしては、PET、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート及びポリプロピレンテレフタレートからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリエステル、イソフタル酸、オルソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸及びセバシン酸からなる群から選ばれる少なくとも1種のジカルボン酸が共重合されたPBT、エチレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,2-プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、シクロヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール及びポリカーボネートジオールからなる群から選ばれる少なくとも1種のジオール成分が共重合されたPBTが挙げられる。
The resin composition used in the present invention can contain a polyester other than PBT for the purpose of adjusting the film-forming property at the time of biaxial stretching and the mechanical properties of the obtained film.
Examples of the polyester other than PBT include at least one polyester selected from the group consisting of PET, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate and polypropylene terephthalate, isophthalic acid, orthophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, biphenyldicarboxylic acid and cyclohexanedicarboxylic acid. PBT, ethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, neopentyl glycol, 1, Examples thereof include PBT in which at least one diol component selected from the group consisting of 5-pentanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, cyclohexanediol, polyethylene glycol, polytetramethylene glycol and polycarbonate diol is copolymerized.

これらPBT以外のポリエステル樹脂の添加量の上限としては、40質量%以下が好ましく、より好ましくは30質量%以下である。PBT以外のポリエステルの添加量が40質量%を超えると、ポリブチレンテレフタレートとしての力学特性が損なわれ、衝撃強度、耐ピンホール性、又は耐破袋性が不十分となるほか、透明性やガスバリア性が低下するなどの不具合が起こることがある。 The upper limit of the amount of the polyester resin other than PBT added is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less. If the amount of polyester other than PBT added exceeds 40% by mass, the mechanical properties of polybutylene terephthalate will be impaired, impact strength, pinhole resistance, or bag breakage resistance will be insufficient, and transparency and gas barrier will be insufficient. Problems such as deterioration of sex may occur.

本発明に用いるポリブチレンテレフタレート(PBT)の固有粘度の下限は好ましくは0.9dl/gであり、より好ましくは0.95dl/gであり、更に好ましくは1.0dl/gである。
原料であるポリブチレンテレフタレート(PBT)の固有粘度が0.9dl/g未満の場合、製膜して得られるフィルムの固有粘度が低下し、突き刺し強度、衝撃強度、耐ピンホール性、又は耐破袋性などが低下するとなることがある。
ポリブチレンテレフタレートの固有粘度の上限は好ましくは1.3dl/gである。上記を越えると延伸時の応力が高くなりすぎ、製膜性が悪化するとなることがある。固有粘度の高いポリブチレンテレフタレートを使用した場合、樹脂の溶融粘度が高くなるため押出し温度を高温にする必要があるが、ポリブチレンテレフタレートをより高温で押出しすると分解物が出やすくなることがある。
The lower limit of the intrinsic viscosity of polybutylene terephthalate (PBT) used in the present invention is preferably 0.9 dl / g, more preferably 0.95 dl / g, and further preferably 1.0 dl / g.
When the intrinsic viscosity of the raw material polybutylene terephthalate (PBT) is less than 0.9 dl / g, the intrinsic viscosity of the film obtained by forming a film decreases, and the puncture strength, impact strength, pinhole resistance, or fracture resistance is reduced. The bag property may be reduced.
The upper limit of the intrinsic viscosity of polybutylene terephthalate is preferably 1.3 dl / g. If it exceeds the above, the stress at the time of stretching becomes too high, and the film forming property may deteriorate. When polybutylene terephthalate having a high intrinsic viscosity is used, it is necessary to raise the extrusion temperature to a high temperature because the melt viscosity of the resin becomes high. However, when polybutylene terephthalate is extruded at a higher temperature, decomposition products may be easily generated.

前記樹脂組成物は必要に応じ、従来公知の添加剤、例えば、滑剤、安定剤、着色剤、静電防止剤、紫外線吸収剤等を含有していてもよい。
滑剤種としてはシリカ、炭酸カルシウム、アルミナなどの無機系滑剤のほか、有機系滑剤が好ましく、シリカ、炭酸カルシウムがより好ましく、中でもシリカがヘイズを低減する点で特に好ましい。これらにより透明性と滑り性と発現することができる。
滑剤濃度の下限は好ましくは100ppmであり、より好ましくは500ppmであり、さらに好ましくは800ppmである。上記未満であると基材フィルム層の滑り性が低下となることがある。滑剤濃度の上限は好ましくは20000ppmであり、より好ましくは10000ppmであり、さらに好ましくは1800ppmである。上記を越えると透明性が低下となることがある。
If necessary, the resin composition may contain conventionally known additives such as lubricants, stabilizers, colorants, antistatic agents, and ultraviolet absorbers.
As the lubricant type, in addition to inorganic lubricants such as silica, calcium carbonate and alumina, organic lubricants are preferable, silica and calcium carbonate are more preferable, and silica is particularly preferable in that haze is reduced. These can be expressed as transparent and slippery.
The lower limit of the lubricant concentration is preferably 100 ppm, more preferably 500 ppm, still more preferably 800 ppm. If it is less than the above, the slipperiness of the base film layer may decrease. The upper limit of the lubricant concentration is preferably 20000 ppm, more preferably 10000 ppm, still more preferably 1800 ppm. If it exceeds the above, transparency may decrease.

本発明における基材層は全域に亘って同一組成の樹脂からなることが好ましい。
本発明における基材層では、基材層厚みの下限は好ましくは3μmであり、より好ましくは5μmであり、さらに好ましくは8μmである。3μm以上であると基材フィルム層としての強度が十分となる。
基材フィルム層厚みの上限は好ましくは100μmであり、より好ましくは75μmであり、さらに好ましくは50μmである。100μm以下であると本発明の目的における加工がより容易となる。
The base material layer in the present invention is preferably made of a resin having the same composition over the entire area.
In the base material layer in the present invention, the lower limit of the base material layer thickness is preferably 3 μm, more preferably 5 μm, and even more preferably 8 μm. When it is 3 μm or more, the strength as a base film layer becomes sufficient.
The upper limit of the base film layer thickness is preferably 100 μm, more preferably 75 μm, and even more preferably 50 μm. When it is 100 μm or less, the processing for the purpose of the present invention becomes easier.

本発明における基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルムの縦延伸(長手)方向(MD)及び横延伸(幅)方向(TD)における150℃で15分間加熱後の熱収縮率の上限は好ましくは4.0%であり、より好ましくは3.0%であり、さらに好ましくは2%である。上限を越えると保護膜の形成工程や、レトルト殺菌処理のような高温処理において生じる基材フィルム層の寸法変化により無機薄膜層に割れが生じ、ガスバリア性が低下する恐れがあるばかりか、印刷などの加工時の寸法変化により、ピッチズレなどが起こるとなることがある。 The upper limit of the heat shrinkage rate after heating at 150 ° C. for 15 minutes in the longitudinally stretched (longitudinal) direction (MD) and the transversely stretched (width) direction (TD) of the biaxially stretched polyester film constituting the base material layer in the present invention is preferable. Is 4.0%, more preferably 3.0%, still more preferably 2%. If the upper limit is exceeded, the inorganic thin film layer may be cracked due to the dimensional change of the base film layer caused by the protective film forming process or the high temperature treatment such as retort sterilization treatment, and the gas barrier property may be deteriorated. Pitch deviation may occur due to dimensional changes during processing.

本発明における基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルムの縦延伸方向(MD)及び横延伸方向(TD)における150℃で15分間加熱後の熱収縮率の下限は好ましくは-2.0%である。上記下限を下回っても改善の効果がそれ以上得られない(飽和する)ほか、力学的に脆くなってしまうことがある。 The lower limit of the heat shrinkage after heating at 150 ° C. for 15 minutes in the longitudinal stretching direction (MD) and the transverse stretching direction (TD) of the biaxially stretched polyester film constituting the base material layer in the present invention is preferably −2.0%. Is. Even if it falls below the above lower limit, the effect of improvement cannot be obtained any more (saturated), and it may become mechanically brittle.

本発明における基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルムのTMA(サーマルメカニカルアナライザー)を用いて測定した長手方向の温度寸法変化曲線において、フィルムの原長に対する200℃での寸法変化率が2%以下であることが好ましい。2%を超えると、レトルト殺菌処理のような高温処理において生じる基材層の寸法変化により無機薄膜層に割れが生じ、ガスバリア性が低下する恐れがあるばかりか、印刷などの加工時の寸法変化により、ピッチズレなどが起こるとなることがある。
より好ましくは1.5%以下であり、さらに好ましくは1.0%以下であり、よりさらに好ましくは0.5%以下であり、特に好ましくは0%以下である。
In the temperature dimensional change curve in the longitudinal direction measured by using TMA (thermal mechanical analyzer) of the biaxially stretched polyester film constituting the base material layer in the present invention, the dimensional change rate at 200 ° C. with respect to the original length of the film is 2%. The following is preferable. If it exceeds 2%, the inorganic thin film layer may be cracked due to the dimensional change of the base material layer caused by the high temperature treatment such as retort sterilization treatment, and not only the gas barrier property may be deteriorated, but also the dimensional change during processing such as printing. As a result, pitch deviation may occur.
It is more preferably 1.5% or less, further preferably 1.0% or less, still more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0% or less.

本発明における基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルムの衝撃強度の下限は好ましくは0.05J/μmである。0.05J/μm以上であると袋として用いる際に強度が十分となる。
本発明における基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルムの衝撃強度の上限は好ましくは0.2J/μmである。前記上限を上回っても改善の効果がそれ以上得られない(飽和する)。
The lower limit of the impact strength of the biaxially stretched polyester film constituting the base material layer in the present invention is preferably 0.05 J / μm. If it is 0.05 J / μm or more, the strength becomes sufficient when used as a bag.
The upper limit of the impact strength of the biaxially stretched polyester film constituting the base material layer in the present invention is preferably 0.2 J / μm. Even if the upper limit is exceeded, the effect of improvement cannot be obtained any more (saturated).

本発明における基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルムの縦配向度(ΔNx)の下限は、好ましくは0.04であり、より好ましくは0.045であり、さらに好ましくは0.05である。上記未満であると配向が弱いため、基材層として十分な衝撃強度が得られず、耐破袋性が低下することがあるばかりか、基材層上に無機薄膜層を設けて積層フィルムとした場合に、無機薄膜層形成時にかかる張力と温度によって伸び易くなり、無機薄膜層が割れてしまうために、ガスバリア性が低下することがある。 The lower limit of the vertical orientation (ΔNx) of the biaxially stretched polyester film constituting the base material layer in the present invention is preferably 0.04, more preferably 0.045, and further preferably 0.05. .. If it is less than the above, the orientation is weak, so that sufficient impact strength cannot be obtained as the base material layer, and not only the bag breaking resistance may be deteriorated, but also an inorganic thin film layer is provided on the base material layer to form a laminated film. In this case, the tension and temperature applied during the formation of the inorganic thin film layer make it easy to stretch, and the inorganic thin film layer is cracked, so that the gas barrier property may be deteriorated.

本発明における基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルムの縦配向度(ΔNx)の上限は好ましくは0.09であり、より好ましくは0.085であり、さらに好ましくは0.08である。上記範囲内であると基材層の力学特性、直進引裂き性がより好ましいものとなる。 The upper limit of the vertical orientation (ΔNx) of the biaxially stretched polyester film constituting the base material layer in the present invention is preferably 0.09, more preferably 0.085, and further preferably 0.08. Within the above range, the mechanical properties of the base material layer and the straight-line tearability are more preferable.

本発明における基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルムの厚みあたりのヘイズの上限は好ましくは0.66%/μmであり、より好ましくは0.60%/μmであり、更に好ましくは0.53%/μmである。0.66%/μm以下である基材層に印刷を施した際に、印刷された文字や画像の品位が向上する。 The upper limit of the haze per thickness of the biaxially stretched polyester film constituting the base material layer in the present invention is preferably 0.66% / μm, more preferably 0.60% / μm, and further preferably 0. It is 53% / μm. When printing is applied to a base material layer having a ratio of 0.66% / μm or less, the quality of printed characters and images is improved.

また本発明における基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルムには、本発明の目的を損なわない限りにおいて、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、表面粗面化処理が施されてもよく、また、公知のアンカーコート処理、印刷、装飾などが施されてもよい。 Further, the biaxially stretched polyester film constituting the base material layer in the present invention may be subjected to corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, and surface roughening treatment as long as the object of the present invention is not impaired. Further, known anchor coating treatment, printing, decoration and the like may be applied.

次に、本発明にかかる基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルムを得るため製造方法を具体的に説明する。これらに限定されるものではない。 Next, a manufacturing method for obtaining a biaxially stretched polyester film constituting the base material layer according to the present invention will be specifically described. It is not limited to these.

まず、前述の樹脂組成物からなるフィルム原料を乾燥あるいは熱風乾燥する。次いで、原料を計量、混合して押し出し機に供給し、加熱溶融して、シート状に溶融キャスティングを行う。
さらに、溶融状態の樹脂シートを、静電印加法を用いて冷却ロール(キャスティングロール)に密着させて冷却固化し、未延伸シートを得る。静電印加法とは、溶融状態の樹脂シートが回転金属ロールに接触する付近で、樹脂シートの回転金属ロールに接触した面の反対の面の近傍に設置した電極に電圧を印加することによって、樹脂シートを帯電させ、樹脂シートと回転冷却ロールを密着させる方法である。
First, the film raw material made of the above-mentioned resin composition is dried or hot-air dried. Next, the raw materials are weighed, mixed, supplied to the extruder, heated and melted, and melt-casted in the form of a sheet.
Further, the molten resin sheet is brought into close contact with a cooling roll (casting roll) by an electrostatic application method to be cooled and solidified to obtain an unstretched sheet. The electrostatic application method is to apply a voltage to an electrode installed near the surface opposite to the surface of the resin sheet in contact with the rotating metal roll in the vicinity of the molten resin sheet in contact with the rotating metal roll. This is a method in which the resin sheet is charged and the resin sheet and the rotary cooling roll are brought into close contact with each other.

樹脂の加熱溶融温度の下限は好ましくは200℃であり、より好ましくは250℃であり、さらに好ましくは260℃である。上記未満であると吐出が不安定となることがある。樹脂溶融温度の上限は好ましくは280℃であり、より好ましくは270℃である。上記を越えると樹脂の分解が進行し、フィルムが脆くなってしまう。 The lower limit of the heating and melting temperature of the resin is preferably 200 ° C., more preferably 250 ° C., and even more preferably 260 ° C. If it is less than the above, the discharge may become unstable. The upper limit of the resin melting temperature is preferably 280 ° C, more preferably 270 ° C. If it exceeds the above, the decomposition of the resin proceeds and the film becomes brittle.

溶融したポリエステル樹脂を押出し冷却ロール上にキャスティングする時に、幅方向の結晶化度の差を小さくすることが好ましい。このための具体的な方法としては、溶融したポリエステル樹脂を押出し、キャスティングする時に同一の組成の原料を多層化してキャスティングすること、またさらに冷却ロール温度を低温とすることが挙げられる。
PBT樹脂は結晶化速度が速いため、キャスティング時にも結晶化が進行する。
このとき、多層化せずに単層でキャストした場合には、結晶の成長を抑制しうるような障壁が存在しないために、サイズの大きな球晶へと成長してしまう。その結果、得られた未延伸シートの降伏応力が高くなり、二軸延伸時に破断しやすくなるばかりでなく、得られた二軸延伸フィルムの衝撃強度、耐ピンホール性、又は耐破袋性が不十分なフィルムとなってしまう。一方、同一の樹脂を多層積層することで、未延伸シートの延伸応力を低減でき、その後の二軸延伸を安定して行うことが可能となる。
When casting the molten polyester resin onto an extruded cooling roll, it is preferable to reduce the difference in crystallinity in the width direction. Specific methods for this include extruding the molten polyester resin and casting the raw materials having the same composition in multiple layers at the time of casting, and further lowering the cooling roll temperature to a low temperature.
Since the crystallization rate of PBT resin is high, crystallization proceeds even during casting.
At this time, when cast in a single layer without multi-layering, the spherulite grows into a large-sized spherulite because there is no barrier that can suppress the growth of the crystal. As a result, the yield stress of the obtained unstretched sheet becomes high, and not only is it easy to break during biaxial stretching, but also the impact strength, pinhole resistance, or bag breaking resistance of the obtained biaxially stretched film is improved. The film will be inadequate. On the other hand, by laminating the same resin in multiple layers, the stretching stress of the unstretched sheet can be reduced, and the subsequent biaxial stretching can be stably performed.

溶融したポリエステル樹脂を押出し、キャスティングする時に同一の組成の原料を多層化してキャスティングする方法は、具体的にはPBT樹脂を60重量%以上含む樹脂組成物を溶融して溶融流体を形成する工程(1)、形成された溶融流体からなる積層数60以上の積層流体を形成するする工程(2)、形成された積層流体をダイスから吐出し、冷却ロールに接触させて固化させ積層未延伸シートを形成する工程(3)、前記積層未延伸シートを二軸延伸する工程(4)を少なくとも有する。
工程(1)と工程(2)、工程(2)と工程(3)の間には、他の工程が挿入されていても差し支えない。例えば、工程(1)と工程(2)の間には濾過工程、温度変更工程等が挿入されていても良い。また、工程(2)と工程(3)の間には、温度変更工程、電荷付加工程等が挿入されていても良い。但し、工程(2)と工程(3)の間には、工程(2)で形成された積層構造を破壊する工程があってはならない。
A method of extruding a molten polyester resin and casting by layering raw materials having the same composition at the time of casting is specifically a step of melting a resin composition containing 60% by weight or more of PBT resin to form a molten fluid (a step of forming a molten fluid. 1), a step of forming a laminated fluid having a laminated number of 60 or more composed of the formed molten fluid (2), the formed laminated fluid is discharged from a die and brought into contact with a cooling roll to be solidified to form a laminated unstretched sheet. It has at least a step (3) of forming and a step (4) of biaxially stretching the laminated unstretched sheet.
Another step may be inserted between the steps (1) and the step (2), and between the steps (2) and the step (3). For example, a filtration step, a temperature changing step, or the like may be inserted between the steps (1) and the step (2). Further, a temperature changing step, a charge adding step, or the like may be inserted between the steps (2) and the step (3). However, there must be no step between the step (2) and the step (3) to break the laminated structure formed in the step (2).

工程(1)において、ポリエステル樹脂組成物を溶融して溶融流体を形成する方法は特に限定されないが、好適な方法としては、一軸押出機や二軸押出機を用いて加熱溶融する方法を挙げることができる。 In the step (1), the method of melting the polyester resin composition to form a molten fluid is not particularly limited, but a preferred method includes a method of heating and melting using a single-screw extruder or a twin-screw extruder. Can be done.

工程(2)における積層流体を形成する方法は特に限定されないが、設備の簡便さや保守性の面から、スタティックミキサーおよび/または多層フィードブロックがより好ましい。また、シート幅方向の均一性の面から、矩形のメルトラインを有するものがより好ましい。矩形のメルトラインを有するスタティックミキサーまたは多層フィードブロックを用いることがさらに好ましい。なお、複数の樹脂組成物を合流させることによって形成された複数層からなる樹脂組成物を、スタティックミキサー、多層フィードブロックおよび多層マニホールドのいずれか1種または2種以上に通過させてもよい。 The method for forming the laminated fluid in the step (2) is not particularly limited, but a static mixer and / or a multilayer feed block is more preferable from the viewpoint of convenience of equipment and maintainability. Further, from the viewpoint of uniformity in the sheet width direction, those having a rectangular melt line are more preferable. It is more preferred to use a static mixer or multi-layer feed block with rectangular melt lines. The resin composition composed of a plurality of layers formed by merging the plurality of resin compositions may be passed through one or more of a static mixer, a multilayer feed block, and a multilayer manifold.

工程(2)における理論積層数は60以上であることが好ましい。理論積層数の下限は、より好ましくは500である。理論積層数が少なすぎると、あるいは、層界面間距離が長くなって結晶サイズが大きくなりすぎ、本発明の効果が得られない傾向にある。また、シート両端近傍での結晶化度が増大し、製膜が不安定となるほか、成型後の透明性が低下することがある。工程(2)における理論積層数の上限は特に限定されないが、好ましくは100000であり、より好ましくは10000であり、さらに好ましくは7000である。理論積層数を極端に大きくしてもその効果が飽和する場合がある。 The number of theoretical stacks in the step (2) is preferably 60 or more. The lower limit of the theoretical stacking number is more preferably 500. If the number of theoretical layers is too small, or the distance between the layer interfaces becomes long and the crystal size becomes too large, the effect of the present invention tends to be ineffective. In addition, the crystallinity near both ends of the sheet increases, the film formation becomes unstable, and the transparency after molding may decrease. The upper limit of the number of theoretical stacks in the step (2) is not particularly limited, but is preferably 100,000, more preferably 10,000, and even more preferably 7,000. Even if the number of theoretical stacks is made extremely large, the effect may be saturated.

工程(2)における積層をスタティックミキサーで行う場合、スタティックミキサーのエレメント数を選択することにより、理論積層数を調整することができる。スタティックミキサーは、一般的には駆動部のない静止型混合器(ラインミキサー)として知られており、ミキサー内に入った流体は、エレメントにより順次撹拌混合される。ところが、高粘度流体をスタティックミキサーに通過させると、高粘度流体の分割と積層が生じ、積層流体が形成される。スタティックミキサーの1エレメントを通過するごとに、高粘度流体は2分割され次いで合流し積層される。このため、高粘度流体をエレメント数nのスタティックミキサーに通過させると、理論積層数N=2nの積層流体が形成される。 When the lamination in the step (2) is performed by a static mixer, the theoretical number of laminations can be adjusted by selecting the number of elements of the static mixer. A static mixer is generally known as a static mixer (line mixer) without a drive unit, and the fluid entering the mixer is sequentially stirred and mixed by an element. However, when the high-viscosity fluid is passed through the static mixer, the high-viscosity fluid is divided and laminated, and the laminated fluid is formed. Each time it passes through one element of the static mixer, the high viscosity fluid is split into two and then merged and laminated. Therefore, when a high-viscosity fluid is passed through a static mixer having n elements, a laminated fluid having a theoretical stacking number of N = 2n is formed.

典型的なスタティックミキサーエレメントは、長方形の板を180度ねじる構造を有し、ねじれの方向により、右エレメントと左エレメントがあり、各エレメントの寸法は直径に対して1.5倍の長さを基本としている。本発明に用いることのできるスタティックミキサーはこの様なものに限定されない。 A typical static mixer element has a structure in which a rectangular plate is twisted 180 degrees, and depending on the direction of twist, there are a right element and a left element, and the dimensions of each element are 1.5 times longer than the diameter. It is basic. The static mixer that can be used in the present invention is not limited to such a static mixer.

工程(2)における積層を多層フィードブロックで行う場合、多層フィードブロックの分割・積層回数を選択することによって、理論積層数を調整することができる。多層フィードブロックは複数直列に設置することが可能である。また、多層フィードブロックに供給する高粘度流体自体を積層流体とすることも可能である。例えば、多層フィードブロックに供給する高粘度流体の積層数がp、多層フィードブロックの分割・積層数がq、多層フィードブロックの設置数がrの場合、積層流体の積層数Nは、N=p×qrとなる。 When the lamination in the step (2) is performed by the multilayer feed block, the theoretical number of laminations can be adjusted by selecting the number of divisions / laminations of the multilayer feed block. Multiple multilayer feed blocks can be installed in series. Further, the high-viscosity fluid itself supplied to the multilayer feed block can be used as the laminated fluid. For example, when the number of laminated high-viscosity fluids supplied to the multilayer feed block is p, the number of divided / stacked multilayer feed blocks is q, and the number of installed multilayer feed blocks is r, the number of stacked fluids N is N = p. It becomes × qr.

工程(3)において、積層流体をダイスから吐出し、冷却ロールに接触させて固化させる。
冷却ロール温度の下限は好ましくは-10℃である。上記未満であると結晶化抑制の効果が飽和することがある。冷却ロール温度の上限は好ましくは40℃である。上記を越えると結晶化度が高くなりすぎて延伸が困難となることがある。冷却ロール温度の上限は好ましくは25℃である。また冷却ロールの温度を上記の範囲とする場合、結露防止のため冷却ロール付近の環境の湿度を下げておくことが好ましい。冷却ロール表面の幅方向の温度差は少なくすることが好ましい。このとき、未延伸シートの厚みは15~2500μmの範囲が好適である。
上述における多層構造の未延伸シートは、少なくとも60層以上、好ましくは250層以上、更に好ましくは1000層以上である。層数が少ないと、延伸性の改善効果が失われる。
In the step (3), the laminated fluid is discharged from the die and brought into contact with the cooling roll to be solidified.
The lower limit of the cooling roll temperature is preferably −10 ° C. If it is less than the above, the effect of suppressing crystallization may be saturated. The upper limit of the cooling roll temperature is preferably 40 ° C. If it exceeds the above, the crystallinity may become too high and stretching may become difficult. The upper limit of the cooling roll temperature is preferably 25 ° C. When the temperature of the cooling roll is within the above range, it is preferable to lower the humidity of the environment near the cooling roll in order to prevent dew condensation. It is preferable to reduce the temperature difference in the width direction of the cooling roll surface. At this time, the thickness of the unstretched sheet is preferably in the range of 15 to 2500 μm.
The unstretched sheet having a multilayer structure described above has at least 60 layers or more, preferably 250 layers or more, and more preferably 1000 layers or more. If the number of layers is small, the effect of improving stretchability is lost.

次に延伸方法について説明する。延伸方法は、同時二軸延伸でも逐次二軸延伸でも可能であるが、突き刺し強度を高めるためには、面配向度を高めておく必要があるほか、製膜速度が速く生産性が高いという点においては逐次二軸延伸が最も好ましい。二軸延伸後に、熱固定(熱処理)及びリラックス(緩和)の工程を設けることが好ましい。 Next, the stretching method will be described. The stretching method can be either simultaneous biaxial stretching or sequential biaxial stretching, but in order to increase the puncture strength, it is necessary to increase the degree of surface orientation, and the film forming speed is high and the productivity is high. In the above, sequential biaxial stretching is most preferable. After biaxial stretching, it is preferable to provide heat fixing (heat treatment) and relaxing (relaxation) steps.

縦延伸方向(以下、MDと略記する)延伸温度の下限は好ましくは55℃であり、より好ましくは60℃である。55℃以上であると破断が起こりにくい。また、フィルムの縦配向度が強くなり過ぎないため、熱固定処理の際の収縮応力を抑えられ、幅方向の分子配向の歪みの少ないフィルムが得られる。MD延伸温度の上限は、好ましくは100℃であり、より好ましくは95℃である。100℃以下であるとフィルムの配向が弱くなり過ぎないためフィルムの力学特性が低下しない。 The lower limit of the stretching temperature in the longitudinal stretching direction (hereinafter abbreviated as MD) is preferably 55 ° C, more preferably 60 ° C. If the temperature is 55 ° C. or higher, fracture is unlikely to occur. Further, since the degree of vertical orientation of the film does not become too strong, shrinkage stress during the heat fixing treatment can be suppressed, and a film with less distortion of molecular orientation in the width direction can be obtained. The upper limit of the MD stretching temperature is preferably 100 ° C, more preferably 95 ° C. When the temperature is 100 ° C. or lower, the orientation of the film does not become too weak, so that the mechanical properties of the film do not deteriorate.

MD延伸倍率の下限は好ましくは2.8倍であり、特に好ましくは3.0倍である。2.8倍以上であると縦配向度が大きくなり、200℃での寸法変化率が小さくなるため、基材フィルム層上に無機薄膜層と保護層を設けた場合に、保護膜の形成時に基材フィルム層にかかる張力によっても伸びにくくなり、無機薄膜層が割れにくくなるために、ガスバリア性が向上する。また、フィルムの力学特性や厚みムラが向上する。
MD延伸倍率の上限は好ましくは4.3倍であり、より好ましくは4.0倍であり、特に好ましくは3.8倍である。4.3倍以下であると、フィルムの横方向の配向度が強くなり過ぎず、熱固定処理の際の収縮応力が大きくなり過ぎず、フィルムの横方向の分子配向の歪みが小さくなり、結果として長手方向の直進引裂き性が向上する。また、力学強度や厚みムラの改善の効果はこの範囲では飽和する。
The lower limit of the MD draw ratio is preferably 2.8 times, and particularly preferably 3.0 times. If it is 2.8 times or more, the degree of vertical orientation becomes large and the dimensional change rate at 200 ° C. becomes small. Therefore, when the inorganic thin film layer and the protective layer are provided on the base film layer, when the protective film is formed. The tension applied to the base film layer also makes it difficult to stretch, and the inorganic thin film layer is difficult to crack, so that the gas barrier property is improved. In addition, the mechanical properties and thickness unevenness of the film are improved.
The upper limit of the MD draw ratio is preferably 4.3 times, more preferably 4.0 times, and particularly preferably 3.8 times. When it is 4.3 times or less, the degree of lateral orientation of the film does not become too strong, the shrinkage stress during the heat fixing process does not become too large, and the distortion of the lateral molecular orientation of the film becomes small, resulting in As a result, the straight tearability in the longitudinal direction is improved. Moreover, the effect of improving the mechanical strength and the thickness unevenness is saturated in this range.

横延伸方向(以下、TDと略記する)延伸温度の下限は好ましくは60℃であり、60度以上であると破断が起こりにくくなることがある。TD延伸温度の上限は好ましくは100℃であり、100℃以下であると横配向度が大きくなるため力学特性が向上する。 The lower limit of the stretching temperature in the transverse stretching direction (hereinafter abbreviated as TD) is preferably 60 ° C., and if it is 60 ° C. or higher, fracture may be less likely to occur. The upper limit of the TD stretching temperature is preferably 100 ° C., and when it is 100 ° C. or lower, the degree of lateral orientation increases and the mechanical properties are improved.

TD延伸倍率の下限は好ましくは3.5倍であり、より好ましくは3.6倍であり、特に好ましくは3.7倍である。3.5倍以上であると横配向度が弱くなり過ぎず、力学特性や厚みムラが向上する。TD延伸倍率の上限は好ましくは5倍であり、より好ましくは4.5倍であり、特に好ましくは4.0倍である。5.0倍以下であると力学強度や厚みムラ改善の効果はこの範囲でも最大となる(飽和する)。 The lower limit of the TD stretch ratio is preferably 3.5 times, more preferably 3.6 times, and particularly preferably 3.7 times. If it is 3.5 times or more, the degree of lateral orientation does not become too weak, and the mechanical properties and thickness unevenness are improved. The upper limit of the TD stretch ratio is preferably 5 times, more preferably 4.5 times, and particularly preferably 4.0 times. When it is 5.0 times or less, the effect of improving the mechanical strength and the thickness unevenness is maximized (saturated) even in this range.

TD熱固定温度の下限は好ましくは200℃であり、より好ましくは205℃である。200℃以上であるとフィルムのMD方向及びTD方向の熱収縮率を小さくできて、レトルト処理後においても、無機薄膜層がダメージを受けにくいため、ガスバリア性が向上する。TD熱固定温度の上限は好ましくは240℃であり、240℃以下であると基材フィルム層が融けることがなく、脆くなり難い。 The lower limit of the TD heat fixing temperature is preferably 200 ° C, more preferably 205 ° C. When the temperature is 200 ° C. or higher, the heat shrinkage rate in the MD direction and the TD direction of the film can be reduced, and the inorganic thin film layer is not easily damaged even after the retort treatment, so that the gas barrier property is improved. The upper limit of the TD heat fixing temperature is preferably 240 ° C., and when it is 240 ° C. or lower, the base film layer does not melt and is less likely to become brittle.

TDリラックスによりTD方向の熱収縮率を小さくすることができる。TDリラックス率の下限は好ましくは0.5%である。0.5%以上であると熱固定時に破断が起こりにくくなることがある。TDリラックス率の上限は好ましくは5%である。5%以下であると熱固定時の長手方向への収縮が小さくなる結果、フィルム端部の分子配向の歪みが小さくなり、直進引裂き性が向上する。また、フィルムのたるみなどが生じにくく、厚みムラが発生しにくい。 The heat shrinkage in the TD direction can be reduced by TD relaxation. The lower limit of the TD relaxation rate is preferably 0.5%. If it is 0.5% or more, it may be difficult for fracture to occur during heat fixing. The upper limit of the TD relaxation rate is preferably 5%. When it is 5% or less, the shrinkage in the longitudinal direction at the time of heat fixing becomes small, and as a result, the distortion of the molecular orientation at the end of the film becomes small, and the straight tearability is improved. In addition, slackening of the film is unlikely to occur, and uneven thickness is unlikely to occur.

また、本発明における基材フィルム層に他素材の層を積層しても良く、その方法として、基材フィルム層を作製後に貼り合わせるか、製膜中に貼り合わせることができる。 Further, a layer of another material may be laminated on the base film layer in the present invention, and as a method thereof, the base film layer can be bonded after being produced or bonded during film formation.

本発明のラミネート積層体は、レトルト処理後のバリア性やラミネート強度を確保することを目的として、前記基材層と前記無機薄膜層との間に被覆層を設けることができる。
前記基材層と前記無機薄膜層との間に設ける被覆層としては、ウレタン系、ポリエステル系、アクリル系、チタン系、イソシアネート系、イミン系、ポリブタジエン系等の樹脂に、エポキシ系、イソシアネート系、メラミン系等の硬化剤を添加したものが挙げられる。前記溶媒(溶剤)としては、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤;メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル等の多価アルコール誘導体等が挙げられる。これらの被覆層に用いる樹脂組成物は、有機官能基を少なくとも1種類以上有するシランカップリング剤を含有することが好ましい。前記有機官能基としては、アルコキシ基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。前記シランカップリング剤の添加によって、レトルト処理後のラミネート強度がより向上する。
In the laminated laminate of the present invention, a coating layer can be provided between the base material layer and the inorganic thin film layer for the purpose of ensuring the barrier property and the laminating strength after the retort treatment.
The coating layer provided between the base material layer and the inorganic thin film layer includes urethane-based, polyester-based, acrylic-based, titanium-based, isocyanate-based, imine-based, polybutadiene-based resins, epoxy-based, isocyanate-based, and resin. Examples thereof include those to which a curing agent such as melamine is added. Examples of the solvent (solvent) include aromatic solvents such as benzene and toluene; alcohol solvents such as methanol and ethanol; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ethylene. Examples thereof include polyhydric alcohol derivatives such as glycol monomethyl ether. The resin composition used for these coating layers preferably contains a silane coupling agent having at least one organic functional group. Examples of the organic functional group include an alkoxy group, an amino group, an epoxy group, an isocyanate group and the like. By adding the silane coupling agent, the laminating strength after the retort treatment is further improved.

前記被覆層に用いる樹脂組成物の中でも、オキサゾリン基を含有する樹脂を用いることが好ましい。オキサゾリン基は無機薄膜との親和性が高く、また無機薄膜層形成時に発生する無機酸化物の酸素欠損部分や金属水酸化物とが反応することができ、無機薄膜層と強固な密着性を示す。また被覆層中に存在する未反応のオキサゾリン基は、基材フィルムおよび被覆層の加水分解により発生したカルボン酸末端と反応し、架橋を形成することができる。 Among the resin compositions used for the coating layer, it is preferable to use a resin containing an oxazoline group. The oxazoline group has a high affinity with the inorganic thin film, and can react with the oxygen-deficient portion of the inorganic oxide generated during the formation of the inorganic thin film layer and the metal hydroxide, and exhibits strong adhesion to the inorganic thin film layer. .. Further, the unreacted oxazoline group present in the coating layer can react with the carboxylic acid terminal generated by the hydrolysis of the base film and the coating layer to form a crosslink.

前記被覆層には、基材層との密着を向上させる目的で、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂のいずれかの樹脂を混合してもよい。特に、密着の面からはウレタン樹脂が。耐水性の面からはアクリル樹脂が好ましい。 A polyester resin, a urethane resin, or an acrylic resin may be mixed with the coating layer for the purpose of improving the adhesion to the base material layer. In particular, urethane resin is used from the aspect of close contact. Acrylic resin is preferable from the viewpoint of water resistance.

前期被覆層を形成するための方法としては、特に限定されるものではなく、例えばコート法など従来公知の方法を採用することができる。コート法の中でも好適な方法としては、オフラインコート法、インラインコート法を挙げることができる。例えば基材層を構成する二軸延伸ポリエステルフィルム基材を製造する工程で行うインラインコート法の場合、コート時の乾燥や熱処理の条件は、コート厚みや装置の条件にもよるが、コート後直ちに直角方向の延伸工程に送入し延伸工程の予熱ゾーンあるいは延伸ゾーンで乾燥させることが好ましく、そのような場合には通常50~250℃程度の温度とすることが好ましい。逐次二軸延伸法を採用し、MD延伸後のフィルムにコート後、TD延伸をする方法がより好ましい。 The method for forming the early coating layer is not particularly limited, and a conventionally known method such as a coating method can be adopted. Among the coating methods, the offline coating method and the inline coating method can be mentioned as preferable methods. For example, in the case of the in-line coating method performed in the process of manufacturing the biaxially stretched polyester film substrate constituting the substrate layer, the conditions of drying and heat treatment at the time of coating depend on the coating thickness and the conditions of the apparatus, but immediately after coating. It is preferable to feed it into the stretching step in the perpendicular direction and dry it in the preheating zone or the stretching zone of the stretching step, and in such a case, it is usually preferable to set the temperature to about 50 to 250 ° C. A method in which a sequential biaxial stretching method is adopted, the film after MD stretching is coated, and then TD stretching is performed is more preferable.

本発明においては、被覆層の付着量を0.010~0.200g/mとすることが好ましい。これにより、被覆層を均一に制御することができるため、結果として無機薄膜層を緻密に堆積させることが可能になる。また、被覆層内部の凝集力が向上し、基材層-被覆層-無機薄膜層の各層間の密着性も高くなるため、被覆層の耐水接着性を高めることができる。被覆層の付着量は、好ましくは0.015g/m2以上、より好ましくは0.020g/m以上、さらに好ましくは0.025g/m以上であり、好ましくは0.190g/m以下、より好ましくは0.180g/m以下、さらに好ましくは0.170g/m以下である。被覆層の付着量が0.200g/mを超えると、被覆層内部の凝集力が不充分となり、良好な密着性を発現できない場合がある。また、被覆層の均一性も低下するため、無機薄膜層に欠陥が生じて、ガスバリア性が低下するおそれがある。しかも、製造コストが高くなり経済的に不利になる。一方、被覆層の膜厚が0.010g/m未満であると、基材を十分に被覆することが出来ず、充分なガスバリア性および層間密着性が得られないおそれがある。 In the present invention, the adhesion amount of the coating layer is preferably 0.010 to 0.200 g / m 2 . As a result, the coating layer can be uniformly controlled, and as a result, the inorganic thin film layer can be densely deposited. In addition, the cohesive force inside the coating layer is improved, and the adhesion between each layer of the base material layer-coating layer-inorganic thin film layer is also increased, so that the water resistance and adhesion of the coating layer can be enhanced. The adhesion amount of the coating layer is preferably 0.015 g / m 2 or more, more preferably 0.020 g / m 2 or more, still more preferably 0.025 g / m 2 or more, and preferably 0.190 g / m 2 or less. It is more preferably 0.180 g / m 2 or less, still more preferably 0.170 g / m 2 or less. If the adhesion amount of the coating layer exceeds 0.200 g / m 2 , the cohesive force inside the coating layer becomes insufficient, and good adhesion may not be exhibited. In addition, since the uniformity of the coating layer is also lowered, defects may occur in the inorganic thin film layer, and the gas barrier property may be lowered. Moreover, the manufacturing cost becomes high, which is economically disadvantageous. On the other hand, if the film thickness of the coating layer is less than 0.010 g / m 2 , the substrate may not be sufficiently coated, and sufficient gas barrier properties and interlayer adhesion may not be obtained.

なお、被覆層用樹脂組成物には、必要に応じて、本発明を損なわない範囲で、静電防止剤、滑り剤、アンチブロッキング剤等の公知の無機、有機の各種添加剤を含有させてもよい。 The resin composition for the coating layer contains various known inorganic and organic additives such as an antistatic agent, a slip agent, and an anti-blocking agent, if necessary, as long as the present invention is not impaired. May be good.

[無機薄膜層]
本発明の基材積層フィルムは、無機薄膜層が積層されている。無機薄膜層は無機酸化物からなる薄膜である。無機薄膜層を形成する材料は、薄膜にできるものなら特に制限はないが、ガスバリア性の観点から、酸化ケイ素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化ケイ素と酸化アルミニウムとの混合物(複合酸化物)等の無機酸化物が好ましく挙げられる。特に、薄膜層の柔軟性と緻密性を両立できる点からは、酸化ケイ素と酸化アルミニウムとの複合酸化物が好ましい。この複合酸化物において、酸化ケイ素と酸化アルミニウムとの混合比は、金属分の質量比でAlが20~70質量%の範囲であることが好ましい。Al濃度が20質量%未満であると、バリア性が低くなる場合があり、一方、70質量%を超えると、無機薄膜層が硬くなる傾向があり、印刷やラミネートといった二次加工の際に膜が破壊されてバリア性が低下する虞がある。なお、ここでいう酸化ケイ素とはSiOやSiO2等の各種珪素酸化物又はそれらの混合物であり、酸化アルミニウムとは、AlOやAl23等の各種アルミニウム酸化物又はそれらの混合物である。
[Inorganic thin film layer]
In the base material laminated film of the present invention, an inorganic thin film layer is laminated. The inorganic thin film layer is a thin film made of an inorganic oxide. The material for forming the inorganic thin film layer is not particularly limited as long as it can be made into a thin film, but from the viewpoint of gas barrier properties, silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), and a mixture of silicon oxide and aluminum oxide (composite oxide). ) And the like are preferably mentioned. In particular, a composite oxide of silicon oxide and aluminum oxide is preferable from the viewpoint of achieving both flexibility and denseness of the thin film layer. In this composite oxide, the mixing ratio of silicon oxide and aluminum oxide is preferably in the range of 20 to 70% by mass of Al in terms of the mass ratio of the metal content. If the Al concentration is less than 20% by mass, the barrier property may be lowered, while if it exceeds 70% by mass, the inorganic thin film layer tends to be hard, and the film tends to be hardened during secondary processing such as printing or laminating. May be destroyed and the barrier property may be reduced. The silicon oxide referred to here is various silicon oxides such as SiO and SiO 2 or a mixture thereof, and the aluminum oxide is various aluminum oxides such as AlO and Al 2 O 3 or a mixture thereof.

無機薄膜層の膜厚は、通常1~100nm、好ましくは5~50nmである。無機薄膜層の膜厚が1nm未満であると、満足のいくガスバリア性が得られ難くなる場合があり、一方、100nmを超えて過度に厚くしても、それに相当するガスバリア性の向上効果は得られず、耐屈曲性や製造コストの点でかえって不利となる。 The film thickness of the inorganic thin film layer is usually 1 to 100 nm, preferably 5 to 50 nm. If the film thickness of the inorganic thin film layer is less than 1 nm, it may be difficult to obtain a satisfactory gas barrier property. On the other hand, even if the thickness exceeds 100 nm, the corresponding improvement effect of the gas barrier property can be obtained. However, it is disadvantageous in terms of bending resistance and manufacturing cost.

無機薄膜層を形成する方法としては、特に制限はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理蒸着法(PVD法)、あるいは化学蒸着法(CVD法)など、公知の蒸着法を適宜採用すればよい。以下、無機薄膜層を形成する典型的な方法を、酸化ケイ素・酸化アルミニウム系薄膜を例に説明する。例えば、真空蒸着法を採用する場合は、蒸着原料としてSiO2とAl23の混合物、あるいはSiO2とAlの混合物等が好ましく用いられる。これら蒸着原料としては通常粒子が用いられるが、その際、各粒子の大きさは蒸着時の圧力が変化しない程度の大きさであることが望ましく、好ましい粒子径は1mm~5mmである。加熱には、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱、レーザー加熱などの方式を採用することができる。また、反応ガスとして酸素、窒素、水素、アルゴン、炭酸ガス、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を用いた反応性蒸着を採用することも可能である。さらに、被蒸着体(蒸着に供する積層フィルム)にバイアスを印加したり、被蒸着体を加熱もしくは冷却するなど、成膜条件も任意に変更することができる。このような蒸着材料、反応ガス、被蒸着体のバイアス、加熱・冷却などは、スパッタリング法やCVD法を採用する場合にも同様に変更可能である。 The method for forming the inorganic thin film layer is not particularly limited, and is known, for example, a physical vapor deposition method (PVD method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, or a chemical vapor deposition method (CVD method). The method may be adopted as appropriate. Hereinafter, a typical method for forming an inorganic thin film layer will be described using a silicon oxide / aluminum oxide thin film as an example. For example, when the vacuum vapor deposition method is adopted, a mixture of SiO 2 and Al 2 O 3 or a mixture of SiO 2 and Al is preferably used as the vapor deposition raw material. Particles are usually used as these vapor deposition raw materials, but at that time, it is desirable that the size of each particle is such that the pressure at the time of vapor deposition does not change, and the preferable particle diameter is 1 mm to 5 mm. For heating, methods such as resistance heating, high frequency induction heating, electron beam heating, and laser heating can be adopted. Further, it is also possible to introduce oxygen, nitrogen, hydrogen, argon, carbon dioxide gas, water vapor or the like as the reaction gas, or to adopt reactive vapor deposition using means such as ozone addition and ion assist. Further, the film forming conditions can be arbitrarily changed, such as applying a bias to the film to be vapor-deposited (laminated film to be subjected to vapor deposition) or heating or cooling the film to be vapor-deposited. Such vapor deposition material, reaction gas, bias of the vapor-film-deposited body, heating / cooling, and the like can be similarly changed when the sputtering method or the CVD method is adopted.

本発明においては、必要に応じて、前記無機薄膜層の上に保護層を有してもよい。無機薄膜層は完全に密な膜ではなく、微小な欠損部分が点在している。無機薄膜層上に保護層用樹脂組成物を塗工して保護層を形成することにより、無機薄膜層の欠損部分に保護層用樹脂組成物中の樹脂が浸透し、結果としてガスバリア性が安定するという効果が得られる。また、印刷層を積層した際のバリア性の劣化を抑制できるため、印刷が可能となる。加えて、保護層そのものにもガスバリア性を持つ材料を使用することで、積層フィルムのガスバリア性能も大きく向上することができる。 In the present invention, a protective layer may be provided on the inorganic thin film layer, if necessary. The inorganic thin film layer is not a completely dense film, but is dotted with minute defects. By applying the protective layer resin composition on the inorganic thin film layer to form the protective layer, the resin in the protective layer resin composition permeates the defective portion of the inorganic thin film layer, and as a result, the gas barrier property is stable. The effect of doing is obtained. In addition, since deterioration of the barrier property when the print layers are laminated can be suppressed, printing becomes possible. In addition, by using a material having a gas barrier property for the protective layer itself, the gas barrier performance of the laminated film can be greatly improved.

本発明の積層フィルムの表面に形成する保護層としては、ウレタン系、ポリエステル系、アクリル系、チタン系、イソシアネート系、イミン系、ポリブタジエン系等の樹脂に、エポキシ系、イソシアネート系、メラミン系等の硬化剤を添加したものが挙げられる。前記溶媒(溶剤)としては、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤;メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル等の多価アルコール誘導体等が挙げられる。 The protective layer formed on the surface of the laminated film of the present invention includes urethane-based, polyester-based, acrylic-based, titanium-based, isocyanate-based, imine-based, polybutadiene-based resins, and epoxy-based, isocyanate-based, and melamine-based resins. Examples include those to which a curing agent is added. Examples of the solvent (solvent) include aromatic solvents such as benzene and toluene; alcohol solvents such as methanol and ethanol; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ethylene. Examples thereof include polyhydric alcohol derivatives such as glycol monomethyl ether.

[ヒートシール性樹脂層との積層]
本発明のラミネート積層体には、シーラントと呼ばれるヒートシール性樹脂層を含むことが必要となる。ヒートシール性樹脂層は通常、無機薄膜層側(無機薄膜層上に保護層を形成する場合は保護層面上)に設けられるが、基材フィルムの外側(被覆層形成面の反対側の面)に設けることもある。ヒートシール性樹脂層の形成は、通常押出しラミネート法あるいはシーラントフィルムを用いたドライラミネート法によりなされる。ヒートシール性樹脂層を形成する熱可塑性重合体としては、シーラント接着性が十分に発現できるものであればよく、HDPE、LDPE、LLDPEなどのポリエチレン樹脂類、ポリプロピレン樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-α-オレフィンランダム共重合体、アイオノマー樹脂等を使用できる。ヒートシール性樹脂層の厚みは、好ましくは20μm以上、より好ましくは25μm以上、さらに好ましくは30μm以上であり、好ましくは80μm以下、より好ましくは75μm以下、さらに好ましくは70μm以下である。厚みが20μm以下であると、生産性が悪くなる。一方、80μm以上であると、コストアップになり、また透明性も悪くなる。
[Lamination with heat-sealing resin layer]
The laminated laminate of the present invention needs to contain a heat-sealing resin layer called a sealant. The heat-sealable resin layer is usually provided on the inorganic thin film layer side (on the protective layer surface when the protective layer is formed on the inorganic thin film layer), but is provided on the outside of the base film (the surface opposite to the coating layer forming surface). It may be provided in. The heat-sealing resin layer is usually formed by an extrusion laminating method or a dry laminating method using a sealant film. The thermoplastic polymer that forms the heat-sealable resin layer may be any as long as it can sufficiently exhibit sealant adhesiveness, and is a polyethylene resin such as HDPE, LDPE, LLDPE, a polypropylene resin, or an ethylene-vinyl acetate copolymer. , Ethethylene-α-olefin random copolymer, ionomer resin and the like can be used. The thickness of the heat-sealing resin layer is preferably 20 μm or more, more preferably 25 μm or more, still more preferably 30 μm or more, preferably 80 μm or less, more preferably 75 μm or less, still more preferably 70 μm or less. If the thickness is 20 μm or less, the productivity deteriorates. On the other hand, if it is 80 μm or more, the cost increases and the transparency also deteriorates.

[その他の層]
本発明のラミネート積層体には、ポリエステルフィルムと基材層との間に、印刷層や他のプラスチック基材および/または紙基材を少なくとも1層以上積層していてもよい。
[Other layers]
In the laminated laminate of the present invention, at least one or more layers of a printing layer, another plastic base material and / or a paper base material may be laminated between the polyester film and the base material layer.

[接着剤層]
本発明で用いられる接着剤層は、汎用的なラミネート用接着剤が使用できる。たとえば、ポリ(エステル)ウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、エポキシ系、ポリ(メタ)アクリル系、ポリエチレンイミン系、エチレン-(メタ)アクリル酸系、ポリ酢酸ビニル系、(変性)ポリオレフィン系、ポリブタジェン系、ワックス系、カゼイン系等を主成分とする(無)溶剤型、水性型、熱溶融型の接着剤を使用することができる。この中でも、レトルト処理に耐え得る耐湿熱性と、各基材の寸法変化に追随できる柔軟性を考慮すると、ウレタン系またはポリエステル系が好ましい。上記接着剤層の積層方法としては、たとえば、ダイレクトグラビアコート法、リバースグラビアコート法、キスコート法、ダイコート法、ロールコート法、ディップコート法、ナイフコート法、スプレーコート法、フォンテンコート法、その他の方法で塗布することができ、レトルト後に十分な接着性を発現するため、乾燥後の塗工量は1~8g/m2が好ましい。より好ましくは2~7g/m2、さらに好ましくは3~6g/m2である。塗工量が1g/m2未満であると、全面で貼り合せることが困難になり、接着力が低下する。また、8g/m2以上を超えると、膜の完全な硬化に時間がかかり、未反応物が残りやすく、接着力が低下する。
[Adhesive layer]
As the adhesive layer used in the present invention, a general-purpose laminating adhesive can be used. For example, poly (ester) urethane type, polyester type, polyamide type, epoxy type, poly (meth) acrylic type, polyethyleneimine type, ethylene- (meth) acrylic acid type, polyvinyl acetate type, (modified) polyolefin type, polybutagen. (No) solvent-based, aqueous-based, and heat-melting type adhesives containing based, wax, casein, etc. as the main components can be used. Among these, urethane-based or polyester-based materials are preferable in consideration of moisture and heat resistance that can withstand retort treatment and flexibility that can follow dimensional changes of each base material. Examples of the method for laminating the adhesive layer include a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, a kiss coating method, a die coating method, a roll coating method, a dip coating method, a knife coating method, a spray coating method, a fonten coating method, and the like. The coating amount after drying is preferably 1 to 8 g / m2 because it can be applied by the above method and exhibits sufficient adhesiveness after retorting. It is more preferably 2 to 7 g / m2, still more preferably 3 to 6 g / m2. If the coating amount is less than 1 g / m2, it becomes difficult to bond the entire surface, and the adhesive strength is lowered. On the other hand, if it exceeds 8 g / m2, it takes time to completely cure the film, unreacted substances tend to remain, and the adhesive strength is lowered.

印刷層を形成する印刷インキとしては、水性および溶媒系の樹脂含有印刷インキが好ましく使用できる。ここで印刷インキに使用される樹脂としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル共重合樹脂およびこれらの混合物が例示される。印刷インキには、帯電防止剤、光線遮断剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、フィラー、着色剤、安定剤、潤滑剤、消泡剤、架橋剤、耐ブロッキング剤、酸化防止剤などの公知の添加剤を含有させてもよい。印刷層を設けるための印刷方法としては、特に限定されず、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの公知の印刷方法が使用できる。印刷後の溶媒の乾燥には、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線乾燥など公知の乾燥方法が使用できる。 As the printing ink forming the printing layer, water-based and solvent-based resin-containing printing inks can be preferably used. Examples of the resin used for the printing ink include an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a vinyl chloride resin, a vinyl acetate copolymer resin, and a mixture thereof. Known printing inks include antistatic agents, light blocking agents, UV absorbers, plasticizers, lubricants, fillers, colorants, stabilizers, lubricants, defoamers, cross-linking agents, blocking agents, antioxidants and the like. Additives may be included. The printing method for providing the print layer is not particularly limited, and known printing methods such as an offset printing method, a gravure printing method, and a screen printing method can be used. For drying the solvent after printing, known drying methods such as hot air drying, hot roll drying, and infrared drying can be used.

他方、他のプラスチック基材や紙基材としては、充分な積層体の剛性および強度を得る観点から、紙、ポリエステル樹脂および生分解性樹脂等が好ましく用いられる。また、機械的強度の優れたフィルムとする上では、二軸延伸ポリエステルフィルムなどの延伸フィルムが好ましい。 On the other hand, as the other plastic base material or paper base material, paper, polyester resin, biodegradable resin and the like are preferably used from the viewpoint of obtaining sufficient rigidity and strength of the laminated body. Further, in order to obtain a film having excellent mechanical strength, a stretched film such as a biaxially stretched polyester film is preferable.

本発明の積層体は、レトルト処理前後の23℃×65%RH条件下における酸素透過度がいずれも20ml/m2・d・MPa以下となりであることが、良好なガスバリア性を発現する点で好ましい。さらに、前述の無機薄膜層成分・付着量を制御することで、好ましくは15ml/m2・d・MPa以下、より好ましくは13ml/m2・d・MPa以下とすることができる。酸素透過度が20ml/m2・d・MPaを超える以上であると、高いガスバリア性が要求される用途に対応することが難しくなる。他方、レトルト処理前後の酸素透過度がいずれも1ml/m2・d・MPa未満であると、バリア性能には優れるが残留溶剤が袋の外側に透過しにくくなり、相対的に内容物への移行量が増えるおそれがあるので好ましくない。酸素透過度の好ましい下限は、1ml/m2・d・MPa以上である。 It is preferable that the laminated body of the present invention has an oxygen permeability of 20 ml / m2 · d · MPa or less under 23 ° C. × 65% RH conditions before and after the retort treatment from the viewpoint of exhibiting good gas barrier properties. .. Further, by controlling the above-mentioned inorganic thin film layer component / adhesion amount, it can be preferably 15 ml / m2 · d · MPa or less, more preferably 13 ml / m2 · d · MPa or less. If the oxygen permeability exceeds 20 ml / m2 · d · MPa, it becomes difficult to meet applications requiring high gas barrier properties. On the other hand, if the oxygen permeability before and after the retort treatment is less than 1 ml / m2 · d · MPa, the barrier performance is excellent, but the residual solvent is difficult to permeate to the outside of the bag, and the residue is relatively transferred to the contents. It is not preferable because the amount may increase. The preferable lower limit of oxygen permeability is 1 ml / m2 · d · MPa or more.

本発明の積層体は、レトルト処理前後の40℃×90%RH条件下における水蒸気透過度がいずれも2.0g/m2・d以下であることが、良好なガスバリア性を発現する点で好ましい。さらに、前述の無機薄膜層成分・付着量を制御することで、好ましくは1.5g/m2・d以下、より好ましくは1.0g/m2・d以下とすることができる。水蒸気透過度が2.0g/m2・dを超えると、高いガスバリア性が要求される用途に対応することが難しくなる。他方、レトルト処理前後の水蒸気透過度がいずれも0.1g/m2未満であると、バリア性能には優れるが残留溶剤が袋の外側に透過しにくくなり、相対的に内容物への移行量が増えるおそれがあるので好ましくない。水蒸気透過度の好ましい下限は、0.1g/m2・d以上である。 The laminated body of the present invention preferably has a water vapor transmission rate of 2.0 g / m2 · d or less under 40 ° C. × 90% RH conditions before and after the retort treatment, from the viewpoint of exhibiting good gas barrier properties. Further, by controlling the above-mentioned inorganic thin film layer component / adhesion amount, it can be preferably 1.5 g / m2 · d or less, more preferably 1.0 g / m2 · d or less. If the water vapor transmission rate exceeds 2.0 g / m2 · d, it becomes difficult to meet applications that require high gas barrier properties. On the other hand, if the water vapor transmission rate before and after the retort treatment is less than 0.1 g / m2, the barrier performance is excellent, but the residual solvent is difficult to permeate to the outside of the bag, and the amount of transfer to the contents is relatively large. It is not preferable because it may increase. The preferable lower limit of the water vapor transmission rate is 0.1 g / m2 · d or more.

本発明の積層体は、レトルト処理前後の23℃×65%RH条件下における水付けラミネート強度がいずれも2.0N/15mm以上であることが好ましく、より好ましくは2.5N/15mm以上、さらに好ましくは3.0N/15mm以上である。ラミネート強度が2.0N/15mm未満であると、屈曲負荷や液体の内容物によって剥離が生じ、バリア性が劣化したり、内容物が漏れ出たりするおそれがある。さらに、手切れ性が悪化するおそれもある。 The laminate of the present invention preferably has a watered laminate strength of 2.0 N / 15 mm or more, more preferably 2.5 N / 15 mm or more, and further preferably 2.5 N / 15 mm or more under the conditions of 23 ° C. × 65% RH before and after the retort treatment. It is preferably 3.0 N / 15 mm or more. If the laminating strength is less than 2.0 N / 15 mm, peeling may occur due to a bending load or the contents of the liquid, and the barrier property may be deteriorated or the contents may leak out. Further, there is a possibility that the hand-cutting property may be deteriorated.

本発明の積層体は、手切れ性評価における引裂き強度が2.0N以下であることが好ましく、より好ましくは1.8N以下、さらに好ましくは1.6N以下である。引裂き強度が2.0N以下であると、実際に消費者が手で引き裂いた際に、各層間における応力伝搬がしやすく、安定した力で引裂くことができ、結果として手切れ性の良好なフィルムが得られる。また、引裂き強度が2.0N以上であると、各層間の応力伝搬がされにくく、引裂くにつれて応力がよりかかり、手切れ性が悪くなるおそれがある。 The laminate of the present invention preferably has a tear strength of 2.0 N or less, more preferably 1.8 N or less, still more preferably 1.6 N or less in the evaluation of hand-cutting property. When the tear strength is 2.0 N or less, when the consumer actually tears by hand, stress propagation between each layer is easy and the film can be torn with a stable force, resulting in good hand-cutting property. A film is obtained. Further, when the tear strength is 2.0 N or more, stress propagation between each layer is difficult, stress is applied more as the tear is made, and there is a possibility that the hand-cutting property is deteriorated.

本発明の積層体は、耐ピンホール性評価におけるピンホール数が18個以下であることが好ましく、より好ましくは16個以下、さらに好ましくは14個以下である。ピンホール数が18個以下であると、袋が落下した時や折り曲げられた際に破袋して内容物が漏れる可能性が少なくなる。一方、ピンホール数が18個以上であると、袋の強度が足りず、破袋して内容物が漏れるおそれがある。 In the laminated body of the present invention, the number of pinholes in the evaluation of pinhole resistance is preferably 18 or less, more preferably 16 or less, still more preferably 14 or less. When the number of pinholes is 18 or less, there is less possibility that the bag will be broken and the contents will leak when the bag is dropped or bent. On the other hand, if the number of pinholes is 18 or more, the strength of the bag is insufficient, and the bag may be broken and the contents may leak.

次に、実施例および比較例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明は当然以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「%」は「質量%」を意味し、「部」は「質量部」を意味する。
本発明で用いた評価方法は以下の通りである。
Next, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is naturally not limited to the following Examples. Unless otherwise specified, "%" means "% by mass" and "part" means "part by mass".
The evaluation method used in the present invention is as follows.

・ 基材層の厚み
JIS K7130-1999 A法に準拠し、ダイアルゲージを用いて測定した。
-Thickness of the base material layer Measured using a dial gauge in accordance with JIS K7130-1999 A method.

・ 基材層の縦配向度ΔNx
サンプルについてJIS K 7142-1996 A法により、ナトリウムD線を光源としてアッベ屈折計によりフィルム長手方向の屈折率(Nx)、幅方向の屈折率(Ny)を測定し、式(2)の計算式により縦配向度ΔNxを算出した。
縦配向度(ΔNx)=Nx-(Ny+Nz)/2 (1)
-Vertical orientation of the base material layer ΔNx
About the sample The refractive index (Nx) in the longitudinal direction of the film and the refractive index (Ny) in the width direction are measured by the Abbe refractometer using the sodium D line as the light source by the JIS K 7142-1996 A method, and the formula (2) is calculated. The vertical orientation degree ΔNx was calculated by
Vertical orientation (ΔNx) = Nx- (Ny + Nz) / 2 (1)

・ 基材層の熱収縮率
基材層を構成するポリエステルフィルムの熱収縮率は試験温度150℃、加熱時間15分間とした以外は、JIS-C-2151-2006.21に記載の寸法変化試験法で測定した。試験片は21.1(a)に記載に従い使用した。
Heat shrinkage rate of the base material layer The dimensional change test described in JIS-C-21151-2006.21 except that the heat shrinkage rate of the polyester film constituting the base material layer was set to a test temperature of 150 ° C. and a heating time of 15 minutes. Measured by method. The test piece was used as described in 21.1 (a).

・ 基材層の200℃での寸法変化率
島津製作所社製のTMA(サーマルメカニカルアナライザー)を用いて室温から200℃まで昇温して基材層を構成するポリエステルフィルムの長手方向を測定した。ただし、昇温速度は10℃/分、測定サンプルの幅は4mm、測定サンプルの長さは10mm、初期張力は100mNとした。
得られた温度変化曲線の200℃における寸法変化率(%)を読み取った。
Dimensional change rate of the base material layer at 200 ° C. Using a TMA (thermal mechanical analyzer) manufactured by Shimadzu Corporation, the temperature was raised from room temperature to 200 ° C., and the longitudinal direction of the polyester film constituting the base material layer was measured. However, the rate of temperature rise was 10 ° C./min, the width of the measurement sample was 4 mm, the length of the measurement sample was 10 mm, and the initial tension was 100 mN.
The dimensional change rate (%) at 200 ° C. of the obtained temperature change curve was read.

・ 評価用ラミネート積層体の作製
実施例1~6、比較例1~5で得られた基材積層フィルムの無機薄膜層面とは反対側の面に、ウレタン系2液硬化型接着剤(三井化学社製「タケラック(登録商標)A525S」と「タケネート(登録商標)A50」とを13.5:1(質量比)の割合で配合)を用いて、厚さ12μmのポリエステルフィルム(東洋紡社製「E5100」)をドライラミネート法により貼り合せ、さらに積層フィルムの無機薄膜層面に、同様の接着剤を用いてヒートシール性樹脂層として厚さ70μmの無延伸ポリプロピレンフィルム(東洋紡社製「P1147」)をドライラミネート法により貼り合わせ、40℃で4日間エージングを施すことによって、評価用のラミネート積層体(以下「ラミネート積層体A」と称することもある)を得た。なお、ウレタン系2液硬化型接着剤で形成された接着剤層の乾燥後の厚みはいずれも約4μmであった。
一方、比較例6で得られた基材積層フィルムの無機薄膜層面に、前述の接着剤を用いて、厚さ12μmのポリエステルフィルム(東洋紡社製「E5100」)をドライラミネート法により貼り合せ、さらにポリエステルフィルムの反対面に、同様の接着剤を用いてヒートシール性樹脂層として厚さ70μmの無延伸ポリプロピレンフィルム(東洋紡社製「P1147」)をドライラミネート法により貼り合わせ、40℃で4日間エージングを施すことによって、評価用のラミネート積層体(以下「ラミネート積層体B」と称することもある)を得た。
-Preparation of Laminated Laminates for Evaluation A urethane-based two-component curable adhesive (Mitsui Kagaku) was applied to the surface of the base material laminated film obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 on the side opposite to the inorganic thin film layer surface. A 12 μm thick polyester film (Made by Toyobo Co., Ltd. “Takelac (registered trademark) A525S” and “Takenate (registered trademark) A50” in a ratio of 13.5: 1 (mass ratio)). E5100 ") is laminated by the dry laminating method, and a 70 μm-thick unstretched polypropylene film (“P1147” manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is formed as a heat-sealable resin layer on the inorganic thin film layer surface of the laminated film using the same adhesive. By laminating by a dry laminating method and aging at 40 ° C. for 4 days, a laminated laminated film for evaluation (hereinafter, also referred to as "laminated laminated body A") was obtained. The thickness of the adhesive layer formed of the urethane-based two-component curable adhesive after drying was about 4 μm.
On the other hand, a polyester film having a thickness of 12 μm (“E5100” manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was bonded to the inorganic thin film layer surface of the base material laminated film obtained in Comparative Example 6 by a dry laminating method using the above-mentioned adhesive, and further. An unstretched polypropylene film (“P1147” manufactured by Toyobo Co., Ltd.) with a thickness of 70 μm was bonded to the opposite surface of the polyester film as a heat-sealing resin layer using the same adhesive by a dry laminating method, and aged at 40 ° C. for 4 days. To obtain a laminated laminate for evaluation (hereinafter, also referred to as "laminated laminate B").

(6)ラミネート積層体の耐ピンホール性
前述のラミネート積層体を20.3cm(8インチ)×27.9cm(11インチ)の大きさに切断し、その切断後の長方形テストフィルムを、温度23℃の相対湿度50%の条件下に、24時間以上放置してコンディショニングした。しかる後、その長方形テストフィルムを巻架して長さ20.32cm(8インチ)の円筒状にする。そして、その円筒状フィルムの一端を、ゲルボフレックステスター(理学工業社製、NO.901型)(MIL-B-131Cの規格に準拠)の円盤状固定ヘッドの外周に固定し、円筒状フィルムの他端を、固定ヘッドと17.8cm(7インチ)隔てて対向したテスターの円盤状可動ヘッドの外周に固定した。
そして、可動ヘッドを固定ヘッドの方向に、平行に対向した両ヘッドの軸に沿って7.6cm(3.5インチ)接近させる間に440゜回転させ、続いて回転させることなく6.4cm(2.5インチ)直進させた後、それらの動作を逆向きに実行させて可動ヘッドを最初の位置に戻すという1サイクルの屈曲テストを、1分間あたり40サイクルの速度で、連続して2000サイクル繰り返した。実施は5℃で行った。
しかる後に、テストしたフィルムの固定ヘッドおよび可動ヘッドの外周に固定した部分を除く17.8cm(7インチ)×27.9cm(11インチ)内の部分に生じたピンホール数を計測した(すなわち、497cm2 (77平方インチ)当たりのピンホール数を計測した)。
(6) Pinhole resistance of the laminated laminate The above-mentioned laminated laminate is cut into a size of 20.3 cm (8 inches) × 27.9 cm (11 inches), and the cut rectangular test film is heated to 23. It was conditioned by leaving it for 24 hours or more under the condition of a relative humidity of 50% at ° C. After that, the rectangular test film is wound to form a cylinder with a length of 20.32 cm (8 inches). Then, one end of the cylindrical film is fixed to the outer periphery of the disk-shaped fixing head of a gelboflex tester (manufactured by Rigaku Kogyo Co., Ltd., NO.901 type) (based on the MIL-B-131C standard), and the cylindrical film is formed. The other end of the tester was fixed to the outer periphery of the disk-shaped movable head of the tester facing the fixed head at a distance of 17.8 cm (7 inches).
Then, the movable head is rotated 440 ° in the direction of the fixed head while approaching 7.6 cm (3.5 inches) along the axes of both heads facing in parallel, and subsequently 6.4 cm (without rotation). 2.5 inches) After going straight, a one-cycle bending test in which those movements are performed in the opposite direction to return the movable head to the initial position is performed continuously at a speed of 40 cycles per minute for 2000 cycles. Repeated. The implementation was carried out at 5 ° C.
After that, the number of pinholes generated in the part within 17.8 cm (7 inches) × 27.9 cm (11 inches) excluding the fixed head and the fixed part on the outer circumference of the movable head of the tested film was measured (that is,). The number of pinholes per 497 cm2 (77 square inches) was measured).

(7) ラミネート積層体の手切れ性の評価方法(引裂き強度)
上記(5)で作製したラミネート積層体を基材フィルムの幅方向(TD方向)と長さ方向(MD方向)に対してそれぞれ幅25mm、長さ300mmに切り出して試験片とし、温度23℃、相対湿度65%の条件下で、テンシロン万能材料試験機(東洋ボールドウイン社製「テンシロンUMT-II-500型」)を用いて引裂き強度を測定した。なお、引裂き強度の測定は、引裂き速度を50mm/分とし、巾12.5mm位置に長さ方向に10mmの切込みを入れ、測定直前に水に10秒間浸した後に引裂き強度測定を行った。
(7) Evaluation method of hand-cutting property of laminated laminate (tear strength)
The laminated laminate produced in (5) above was cut into a test piece having a width of 25 mm and a length of 300 mm in the width direction (TD direction) and the length direction (MD direction) of the base film, respectively, at a temperature of 23 ° C. The tear strength was measured using a Tencilon universal material tester (“Tencilon UMT-II-500 type” manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd.) under a condition of a relative humidity of 65%. The tear strength was measured by setting the tear speed to 50 mm / min, making a 10 mm notch in the length direction at a width of 12.5 mm, immersing it in water for 10 seconds immediately before the measurement, and then measuring the tear strength.

(8)酸素透過度の評価方法
上記(5)で作製したラミネート積層体について、JIS-K7126 B法に準じて、酸素透過度測定装置(MOCON社製「OX-TRAN(登録商標)1/50」)を用い、温度23℃、湿度65%RHの雰囲気下で、常態の酸素透過度を測定した。なお、酸素透過度の測定は、ラミネート積層体の基材フィルム側からヒートシール性樹脂層側に酸素が透過する方向で行った。他方、上記(5)で作製したラミネート積層体に対して、120℃の熱水中に30分間保持する湿熱処理を行い、40℃で1日間(24時間)乾燥し、得られた湿熱処理後のラミネート積層体について上記と同様にして酸素透過度(レトルト後)を測定した。
(8) Oxygen permeability evaluation method For the laminated laminate produced in (5) above, an oxygen permeability measuring device (MOCON's "OX-TRAN (registered trademark) 1/50" is based on the JIS-K7126 B method. ]) Was used to measure the normal oxygen permeability in an atmosphere of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 65% RH. The oxygen permeability was measured in the direction in which oxygen permeates from the base film side of the laminated laminate to the heat-sealable resin layer side. On the other hand, the laminated laminate prepared in (5) above was subjected to a wet heat treatment for holding it in hot water at 120 ° C. for 30 minutes, dried at 40 ° C. for 1 day (24 hours), and after the obtained wet heat treatment. Oxygen permeability (after retort) was measured in the same manner as above for the laminated laminate of.

(9)水蒸気透過度の評価方法
上記(5)で作成したラミネート積層体について、JIS-K7129 B法に準じて、水蒸気透過度測定装置(MOCON社製「PERMATRAN-W 3/33MG」)を用い、温度40℃、湿度90%RHの雰囲気下で、常態での水蒸気透過度を測定した。なお、水蒸気透過度の測定は、ラミネート積層体のヒートシール性樹脂層側から基材フィルム側に向けて水蒸気が透過する方向で行った。
他方、上記(5)で作製したラミネート積層体に対して、120℃の熱水中に30分間保持する湿熱処理を行い、40℃で1日間(24時間)乾燥し、得られた湿熱処理後のラミネート積層体について上記と同様にして水蒸気透過度(レトルト後)を測定した。
(9) Evaluation method of water vapor transmission rate For the laminated laminate prepared in (5) above, a water vapor transmission rate measuring device (“PERMATRAN-W 3/33 MG” manufactured by MOCON) was used in accordance with the JIS-K7129B method. The water vapor transmission rate under normal conditions was measured in an atmosphere of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH. The water vapor transmission rate was measured in the direction in which water vapor permeated from the heat-sealing resin layer side of the laminated laminate toward the base film side.
On the other hand, the laminated laminate prepared in (5) above was subjected to a wet heat treatment for holding it in hot water at 120 ° C. for 30 minutes, dried at 40 ° C. for 1 day (24 hours), and after the obtained wet heat treatment. The water vapor transmission rate (after retort) was measured for the laminated laminate of No. 1 in the same manner as above.

(10) ラミネート強度の評価方法
上記で作製したラミネート積層体を幅15mm、長さ200mmに切り出して試験片とし、温度23℃、相対湿度65%の条件下で、テンシロン万能材料試験機(東洋ボールドウイン社製「テンシロンUMT-II-500型」)を用いてラミネート強度(常態)を測定した。なお、ラミネート強度の測定は、引張速度を200mm/分とし、実施例および比較例で得られた各積層フィルムの積層フィルム層とヒートシール性樹脂層との層間に水をつけて剥離角度90度で剥離させたときの強度を測定した。
他方、上記で作製したラミネート積層体に対して、温度120℃の加圧熱水中に保持するレトルト処理を30分間施した後、直ちに、得られたレトルト処理後のラミネート積層体から上記と同様にして試験片を切り出し、上記と同様にしてラミネート強度(レトルト処理後)を測定した。
(10) Lamination strength evaluation method
The laminated laminate prepared above was cut into a test piece having a width of 15 mm and a length of 200 mm, and under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 65%, a Tensilon universal material tester (Tensilon UMT-II manufactured by Toyo Baldwin). The laminate strength (normal state) was measured using "-500 type"). For the measurement of the laminate strength, the tensile speed was set to 200 mm / min, and water was applied between the layers of the laminated film layer and the heat-sealing resin layer of each laminated film obtained in Examples and Comparative Examples, and the peeling angle was 90 degrees. The strength when peeled off was measured.
On the other hand, the above-mentioned laminated laminate was subjected to a retort treatment for 30 minutes while being kept in pressurized hot water at a temperature of 120 ° C., and immediately after the retort-treated laminated laminate obtained, the same as above was applied. The test piece was cut out and the laminate strength (after retort treatment) was measured in the same manner as above.

以下に本実施例及び比較例で使用する原料樹脂及び塗工液の詳細を記す。なお、実施例1~7、及び比較例1~6で使用し、表1及び表2に示した。
1)ポリブチレンテレフタレート(PBT):後述する基材フィルム層A-1~A-11のフィルム作製において使用するポリブチレンテレフタレートは1100-211XG(CHANG CHUN PLASTICS CO.,LTD.、固有粘度1.28dl/g)を用いた。
2)ポリエチレンテレフタレート(PET):後述する基材層A-1~A-13のフィルム作製において使用するポリエチレンテレフタレートはテレフタル酸//エチレングリコール=100//100(モル%)(東洋紡社製、固有粘度0.62dl/g)を用いた。
The details of the raw material resin and the coating liquid used in this example and the comparative example are described below. It was used in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 6 and is shown in Tables 1 and 2.
1) Polybutylene terephthalate (PBT): Polybutylene terephthalate used in the film production of the base film layers A-1 to A-11 described later is 1100-211XG (CHANG CHUN PLASTICS CO., LTD., Intrinsic viscosity 1.28 dl. / G) was used.
2) Polyethylene terephthalate (PET): Polyethylene terephthalate used in the production of films for the substrate layers A-1 to A-13, which will be described later, is terephthalic acid // ethylene glycol = 100 // 100 (mol%) (manufactured by Toyobo Co., Ltd.). A viscosity of 0.62 dl / g) was used.

3)オキサゾリン基を有する樹脂(A):オキサゾリン基を有する樹脂として、市販の水溶性オキサゾリン基含有アクリレート(日本触媒社製「エポクロス(登録商標)WS-300」;固形分10%)を用意した。この樹脂のオキサゾリン基量は7.7mmol/gであった。 3) Resin having an oxazoline group (A): As a resin having an oxazoline group, a commercially available water-soluble oxazoline group-containing acrylate (“Epocross (registered trademark) WS-300” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd .; solid content 10%) was prepared. .. The amount of oxazoline groups in this resin was 7.7 mmol / g.

4)アクリル樹脂(B):アクリル樹脂として、市販のアクリル酸エステル共重合体の25質量%エマルジョン(ニチゴー・モビニール(株)社製「モビニール(登録商標)7980」を用意した。このアクリル樹脂(C)の酸価(理論値)は4mgKOH/gであった。 4) Acrylic resin (B): As an acrylic resin, a 25% by mass emulsion of a commercially available acrylic acid ester copolymer (“Mobile (registered trademark) 7980” manufactured by Nichigo Vinyl Co., Ltd.” was prepared. The acid value (theoretical value) of C) was 4 mgKOH / g.

5)ウレタン樹脂(C):ウレタン樹脂として、市販のポリエステルウレタン樹脂のディスパージョン(三井化学社製「タケラック(登録商標)W605」;固形分30%)を用意した。このウレタン樹脂の酸価25mgKOH/gであり、DSCで測定したガラス転移温度(Tg)は100℃であった。また、1H-NMRにより測定したポリイソシアネート成分全体に対する芳香族または芳香脂肪族ジイソシアネートの割合は、55モル%であった。 5) Urethane resin (C): As a urethane resin, a commercially available polyester urethane resin dispersion (“Takelac (registered trademark) W605” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc .; solid content 30%) was prepared. The acid value of this urethane resin was 25 mgKOH / g, and the glass transition temperature (Tg) measured by DSC was 100 ° C. The ratio of aromatic or aromatic aliphatic diisocyanate to the total polyisocyanate component measured by 1H-NMR was 55 mol%.

6)被覆層に用いる塗工液1
下記の配合比率で各材料を混合し、塗布液(被覆層用樹脂組成物)を作成した。
水 54.40質量%
イソプロパノール 25.00質量%
オキサゾリン基含有樹脂 (A) 15.00質量%
アクリル樹脂 (B) 3.60質量%
ウレタン樹脂 (C) 2.00質量%
6) Coating liquid used for the coating layer 1
Each material was mixed at the following blending ratio to prepare a coating liquid (resin composition for coating layer).
Water 54.40% by mass
Isopropanol 25.00% by mass
Oxazoline group-containing resin (A) 15.00% by mass
Acrylic resin (B) 3.60% by mass
Urethane resin (C) 2.00% by mass

以下に各実施例及び比較例で使用する基材フィルム層の作製方法を記す。また、下記基材フィルム層A-1~A-13、及び基材フィルム層Bの物性を表1及び表2に示した。
<基材フィルム層A-1>
一軸押出機を用い、ポリブチレンテレフタレートを70質量%とポリエチレンテレフタレートを30質量%混合したものに、不活性粒子として平均粒径2.4μmのシリカ粒子をシリカ濃度として混合樹脂に対して1600ppmとなるように配合したものを290℃で溶融させた後、メルトラインを12エレメントのスタティックミキサーに導入した。これにより、ポリブチレンテレフタレート溶融体の分割・積層を行い、同一の原料からなる多層溶融体を得た。265℃のT-ダイスからキャストし、15℃の冷却ロールに静電密着法により密着させて未延伸シートを得た。
次いで、60℃で縦方向(MD)に3.8倍ロール延伸し、次いで、テンターに通して90℃で横方向(TD)に4.0倍延伸し、210℃で3秒間の緊張熱処理と1秒間1%の緩和処理を実施した後、両端の把持部を10%ずつ切断除去して厚みが15μmのポリブチレンテレフタレート系二軸延伸ポリエステルフィルムのミルロールを得た。得られたフィルムの製膜条件、物性および評価結果を表1に示した。
The method for producing the base film layer used in each Example and Comparative Example is described below. The physical characteristics of the following base film layers A-1 to A-13 and the base film layer B are shown in Tables 1 and 2.
<Base film layer A-1>
Using a uniaxial extruder, 70% by mass of polybutylene terephthalate and 30% by mass of polyethylene terephthalate are mixed, and silica particles with an average particle size of 2.4 μm as inert particles have a silica concentration of 1600 ppm with respect to the mixed resin. After melting the mixture as described above at 290 ° C., the melt line was introduced into a 12-element static mixer. As a result, the polybutylene terephthalate melt was divided and laminated to obtain a multilayer melt made of the same raw material. It was cast from a T-die at 265 ° C. and adhered to a cooling roll at 15 ° C. by an electrostatic adhesion method to obtain an unstretched sheet.
Then, it was rolled 3.8 times in the longitudinal direction (MD) at 60 ° C., then rolled 4.0 times in the transverse direction (TD) at 90 ° C. through a tenter, and subjected to tension heat treatment at 210 ° C. for 3 seconds. After performing a relaxation treatment of 1% for 1 second, the grips at both ends were cut and removed by 10% to obtain a mill roll of a polybutylene terephthalate-based biaxially stretched polyester film having a thickness of 15 μm. Table 1 shows the film forming conditions, physical characteristics and evaluation results of the obtained film.

<基材フィルム層A-2>
一軸押出機を用い、ポリブチレンテレフタレートを70質量%とポリエチレンテレフタレートを30質量%混合したものに、不活性粒子として平均粒径2.4μmのシリカ粒子をシリカ濃度として混合樹脂に対して1600ppmとなるように配合したものを290℃で溶融させた後、メルトラインを12エレメントのスタティックミキサーに導入した。これにより、ポリブチレンテレフタレート溶融体の分割・積層を行い、同一の原料からなる多層溶融体を得た。265℃のT-ダイスからキャストし、15℃の冷却ロールに静電密着法により密着させて未延伸シートを得た。
次いで、60℃で縦方向(MD)に3.8倍ロール延伸し、次いで、テンターに通して90℃で横方向(TD)に4.0倍延伸し、210℃で3秒間の緊張熱処理と1秒間1%の緩和処理を実施した後、両端の把持部を10%ずつ切断除去して厚みが15μmのポリブチレンテレフタレート系二軸延伸ポリエステルフィルムのミルロールを得た。得られたフィルムの製膜条件、物性および評価結果を表1に示した。
基材フィルム層A-1の二軸延伸フィルムの製膜工程において、MD延伸後に被覆層用樹脂組成物(塗布液1)をファウンテンバーコート法により塗布した。その後、乾燥しながらテンターに導き、予熱温度70℃で溶媒を揮発、乾燥させた。次いで、表1に示した製膜条件にて横方向に延伸、熱処理及びリラックスを行い、厚さ15μmの二軸延伸ポリエステルフィルム(プラスチック基材フィルム層)の片面に0.020g/mの被覆層が形成された2層フィルム(プラスチック基材フィルム層/被覆層)を得た。
<Base film layer A-2>
Using a uniaxial extruder, 70% by mass of polybutylene terephthalate and 30% by mass of polyethylene terephthalate are mixed, and silica particles with an average particle size of 2.4 μm as inert particles have a silica concentration of 1600 ppm with respect to the mixed resin. After melting the mixture as described above at 290 ° C., the melt line was introduced into a 12-element static mixer. As a result, the polybutylene terephthalate melt was divided and laminated to obtain a multilayer melt made of the same raw material. It was cast from a T-die at 265 ° C. and adhered to a cooling roll at 15 ° C. by an electrostatic adhesion method to obtain an unstretched sheet.
Then, it was rolled 3.8 times in the longitudinal direction (MD) at 60 ° C., then rolled 4.0 times in the transverse direction (TD) at 90 ° C. through a tenter, and subjected to tension heat treatment at 210 ° C. for 3 seconds. After performing a relaxation treatment of 1% for 1 second, the grips at both ends were cut and removed by 10% to obtain a mill roll of a polybutylene terephthalate-based biaxially stretched polyester film having a thickness of 15 μm. Table 1 shows the film forming conditions, physical characteristics and evaluation results of the obtained film.
In the film forming step of the biaxially stretched film of the base film layer A-1, the resin composition for the coating layer (coating liquid 1) was applied by the fountain bar coating method after MD stretching. Then, it was guided to a tenter while drying, and the solvent was volatilized and dried at a preheating temperature of 70 ° C. Next, under the film-forming conditions shown in Table 1, lateral stretching, heat treatment and relaxation were performed, and one side of a biaxially stretched polyester film (plastic base film layer) having a thickness of 15 μm was coated with 0.020 g / m 2 . A two-layer film (plastic base film layer / coating layer) on which a layer was formed was obtained.

<基材フィルム層A-3>
基材フィルム層A-2の二軸延伸フィルムの製膜工程において、横延伸方向(TD)のリラックッス率を2%に変更した以外は、基材フィルム層A-2と同様に行った。
<Base film layer A-3>
In the film forming step of the biaxially stretched film of the base film layer A-2, the same procedure as that of the base film layer A-2 was performed except that the relaxation rate in the transverse stretching direction (TD) was changed to 2%.

<基材フィルム層A-4>
基材フィルム層A-2の二軸延伸フィルムの製膜工程において、横延伸後の熱処理温度を205℃に変更した以外は、基材フィルム層A-2と同様に行った。
<Base film layer A-4>
In the film forming step of the biaxially stretched film of the base film layer A-2, the same procedure as that of the base film layer A-2 was carried out except that the heat treatment temperature after the transverse stretching was changed to 205 ° C.

<基材フィルム層A-5>
基材フィルム層A-2の二軸延伸フィルムの製膜工程において、縦方向の延伸倍率を3.3倍に変更した以外は、基材フィルム層A-2と同様に行った。
<Base film layer A-5>
In the film forming step of the biaxially stretched film of the base film layer A-2, the same procedure as that of the base film layer A-2 was performed except that the stretching ratio in the vertical direction was changed to 3.3 times.

<基材フィルム層A-6>
基材フィルム層A-2の原料をポリブチレンテレフタレートを100質量%に、不活性粒子として平均粒径2.4μmのシリカ粒子をシリカ濃度として樹脂に対して1600ppmとなるように配合したものとした以外は、基材フィルム層A-2と同様に行った。
<Base film layer A-6>
The raw material of the base film layer A-2 was blended with polybutylene terephthalate at 100% by mass and silica particles having an average particle size of 2.4 μm as inert particles so as to have a silica concentration of 1600 ppm with respect to the resin. Except for the above, the same procedure as for the base film layer A-2 was performed.

<基材フィルム層A-7>
基材フィルム層A-2の原料をポリブチレンテレフタレートを60質量%とポリエチレンテレフタレートを40質量%を混合したものに、不活性粒子として平均粒径2.4μmのシリカ粒子をシリカ濃度として樹脂に対して1600ppmとなるように配合したものとした以外は、基材フィルム層A-2と同様に行った。
<Base film layer A-7>
The raw material of the base film layer A-2 is a mixture of 60% by mass of polybutylene terephthalate and 40% by mass of polyethylene terephthalate, and silica particles having an average particle size of 2.4 μm as inert particles are used as silica concentrations with respect to the resin. The procedure was carried out in the same manner as in the base film layer A-2, except that the mixture was blended so as to be 1600 ppm.

<基材フィルム層A-8>
基材フィルム層A-2の二軸延伸フィルムの製膜工程において、縦方向の延伸倍率を2.5倍に変更した以外は、基材フィルム層A-1と同様に行った。
<Base film layer A-8>
In the film forming step of the biaxially stretched film of the base film layer A-2, the same procedure as that of the base film layer A-1 was carried out except that the stretching ratio in the vertical direction was changed to 2.5 times.

<基材フィルム層A-9>
基材フィルム層A-2の二軸延伸フィルムの製膜工程において、横延伸後の熱処理温度を190℃に変更した以外は、基材フィルム層A-2と同様に行った。
<Base film layer A-9>
In the film forming step of the biaxially stretched film of the base film layer A-2, the same procedure as that of the base film layer A-2 was performed except that the heat treatment temperature after the transverse stretching was changed to 190 ° C.

<基材フィルム層A-10>
基材フィルム層A-2の原料をポリブチレンテレフタレート樹脂を50質量%とポリエチレンテレフタレート樹脂を50質量%を混合したものに、不活性粒子として平均粒径2.4μmのシリカ粒子をシリカ濃度として樹脂に対して1600ppmとなるように配合したものとした以外は、基材フィルム層A-2と同様に行った。
<Base film layer A-10>
The raw material of the base film layer A-2 is a mixture of 50% by mass of polybutylene terephthalate resin and 50% by mass of polyethylene terephthalate resin, and silica particles having an average particle size of 2.4 μm as inert particles are used as the silica concentration. The same procedure was used for the base film layer A-2, except that the mixture was blended so as to be 1600 ppm.

<基材フィルム層A-11>
ポリエステル基材フィルム層の製造および塗工液1のコート(被覆層の積層)
ポリエチレンテレフタレートを予備結晶化後、本乾燥し、Tダイを有する押出し機を用いて280℃で押出し、表面温度40℃のドラム上で急冷固化して無定形シートを得た。次に得られたシートを加熱ロールと冷却ロールの間で縦方向に100℃で4.0倍延伸を行った。そして、得られた一軸延伸フィルムの片面に、上記塗工液1をファウンテンバーコート法によりコートした。乾燥しつつテンターに導き、100℃で予熱、120℃で4.0倍横方向に延伸し、6%の横方向の弛緩を行いながら225℃で熱処理を行い、厚さ12μmの二軸延伸ポリエステルフィルムに0.020g/mの被覆層が形成された積層フィルムを得た。
<Base film layer A-11>
Manufacture of polyester base film layer and coating of coating liquid 1 (lamination of coating layer)
After pre-crystallization of polyethylene terephthalate, it was finally dried, extruded at 280 ° C. using an extruder having a T-die, and rapidly cooled and solidified on a drum having a surface temperature of 40 ° C. to obtain an amorphous sheet. Next, the obtained sheet was stretched 4.0 times at 100 ° C. in the longitudinal direction between the heating roll and the cooling roll. Then, the coating liquid 1 was coated on one side of the obtained uniaxially stretched film by the fountain bar coating method. Guided to a tenter while drying, preheated at 100 ° C, stretched 4.0 times laterally at 120 ° C, heat treated at 225 ° C with 6% lateral relaxation, biaxially stretched polyester with a thickness of 12 μm. A laminated film having a 0.020 g / m 2 coating layer formed on the film was obtained.

<基材フィルム層B-1>
ポリアミド基材フィルムの製造および塗工液1のコート(被覆層の積層)
ポリカプロアミドをスクリュー式押出し機で260℃に加熱溶融し、Tダイよりシート状に押出し、次いで、この未延伸シートを加熱ロールと冷却ロールの間で、80℃で3.3倍縦延伸した。そして、得られた一軸延伸フィルムの片面に,上記塗布液1をファウンテンバーコート法により塗布した。次にテンターに導き、120℃で4.0倍横方向に延伸後、215℃で熱固定を行い、厚さ15μmの二軸延伸ポリアミドフィルムに0.020g/m2の被覆層が形成された積層フィルムを得た。
<Base film layer B-1>
Manufacture of polyamide base film and coating of coating liquid 1 (lamination of coating layer)
Polycarbonate proamide was heated and melted at 260 ° C. using a screw extruder, extruded into a sheet from a T-die, and then this unstretched sheet was longitudinally stretched 3.3 times at 80 ° C. between a heating roll and a cooling roll. .. Then, the above-mentioned coating liquid 1 was applied to one side of the obtained uniaxially stretched film by the fountain bar coating method. Next, it was guided to a tenter, stretched 4.0 times laterally at 120 ° C., and then heat-fixed at 215 ° C., and a laminated layer in which a 0.020 g / m2 coating layer was formed on a biaxially stretched polyamide film having a thickness of 15 μm. I got a film.

上記基材フィルム層A-1~A-11、基材フィルム層B-1の物性を表1及び表2に示す。
以下に各実施例及び比較例での無機薄膜層の形成方法を記す。
Tables 1 and 2 show the physical properties of the base film layers A-1 to A-11 and the base film layer B-1.
The method of forming the inorganic thin film layer in each Example and Comparative Example is described below.

<無機薄膜層M-1の形成>
無機薄膜層M-1として、基材フィルム層A-1~13、基材フィルム層Bに、二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの複合酸化物層を電子ビーム蒸着法で形成した。蒸着源としては、3mm~5mm程度の粒子状SiO(純度99.9%)とA1(純度99.9%)とを用いた。このようにして得られたフィルム(無機薄膜層/被覆層含有フィルム)における無機薄膜層(SiO/A1複合酸化物層)の膜厚は13nmであった。またこの複合酸化物層の組成は、SiO/A1(質量比)=60/40であった。
<Formation of inorganic thin film layer M-1>
As the inorganic thin film layer M-1, a composite oxide layer of silicon dioxide and aluminum oxide was formed on the base film layers A-1 to 13 and the base film layer B by an electron beam vapor deposition method. As the vapor deposition source, particulate SiO 2 (purity 99.9%) and A1 2 O 3 (purity 99.9%) having a purity of about 3 mm to 5 mm were used. The film thickness of the inorganic thin film layer (SiO 2 / A1 2 O 3 composite oxide layer) in the film (inorganic thin film layer / coating layer-containing film) thus obtained was 13 nm. The composition of this composite oxide layer was SiO 2 / A1 2 O 3 (mass ratio) = 60/40.

得られた基材積層フィルムおよびそのラミネート積層体は、合計で13種類であり、これらの評価結果を表1及び表2に示す。 There are a total of 13 types of the obtained base material laminated film and the laminated laminated body thereof, and the evaluation results thereof are shown in Tables 1 and 2.

Figure 0007060842000001
Figure 0007060842000001

Figure 0007060842000002
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本発明により、バリア性、耐破袋性、耐屈曲性に優れ、かつ水が存在する湿潤状態において十分な手切れ性を有すると共に、乾物包装のように硬い内容物の包装に使用したり、レトルト処理のような過酷な湿熱処理が施される用途に使用しても、優れたバリア性を維持することが出来、かつ内容物への残留溶剤の移行が少ない積層体を提供することができる。また、容易に製造できるので、経済性と生産安定性の両方に優れており、均質な特性のガスバリア性積層体を提供することができる。 According to the present invention, it has excellent barrier properties, rupture resistance, bending resistance, sufficient hand-cutting property in a wet state in the presence of water, and can be used for packaging hard contents such as dry matter packaging. It is possible to provide a laminate that can maintain excellent barrier properties and has less transfer of residual solvent to the contents even when used in applications where severe moist heat treatment such as retort treatment is applied. .. Further, since it can be easily manufactured, it is excellent in both economic efficiency and production stability, and it is possible to provide a gas barrier laminate having uniform characteristics.

Claims (4)

ポリエステルフィルム、基材積層フィルム、ヒートシール性樹脂がこの順にラミネートされてなるラミネート積層体であって、前記基材積層フィルムは、基材層の少なくとも片面に無機薄膜層が、他の層を介して又は介さずに積層されてなる積層フィルムであって、前記基材層は少なくともポリブチレンテレフタレートを60質量%以上含む樹脂組成物からなる二軸延伸ポリエステルフィルム基材であり、かつ、下記(a)及び(b)を同時に満足し、レトルト処理前後の40℃×90%RH条件下における水蒸気透過度がいずれも1.5g/m ・d以下であることを特徴とするラミネート積層体。
(a)基材層の長手方向及び幅方向の150℃における熱収縮率がいずれも4.0%以下である。
(b) TMA(サーマルメカニカルアナライザー)を用いて測定した温度寸法変化曲線の基材層原長に対する200℃での寸法変化率が基材層の長手方向において0.5%以下である。
A laminated laminate in which a polyester film, a base material laminated film, and a heat-sealing resin are laminated in this order, and the base material laminated film has an inorganic thin film layer on at least one surface of the base material layer via another layer. It is a laminated film laminated without or without intervention, and the base material layer is a biaxially stretched polyester film base material made of a resin composition containing at least 60% by mass of polybutylene terephthalate, and the following (a). ) And (b) are satisfied at the same time, and the water vapor permeability under 40 ° C. × 90% RH conditions before and after the retort treatment is 1.5 g / m 2 · d or less .
(a) The heat shrinkage rate at 150 ° C. in the longitudinal direction and the width direction of the substrate layer is 4.0% or less.
(b) The dimensional change rate at 200 ° C. with respect to the original length of the base material layer of the temperature dimensional change curve measured using TMA (Thermal Mechanical Analyzer) is 0.5 % or less in the longitudinal direction of the base material layer.
前記基材層と前記無機薄膜層の間に、被覆層を有することを特徴とする、請求項1に記載のラミネート積層体。 The laminated laminate according to claim 1, wherein a coating layer is provided between the base material layer and the inorganic thin film layer. 前記無機薄膜層が酸化ケイ素と酸化アルミニウムの複合酸化物からなる層であることを特徴とする請求項1または2に記載のラミネート積層体。 The laminated laminate according to claim 1 or 2, wherein the inorganic thin film layer is a layer made of a composite oxide of silicon oxide and aluminum oxide. 前記被覆層がオキサゾリン基を有する樹脂を含有する樹脂組成物からなることを特徴とする、請求項2または3に記載のラミネート積層体。 The laminated laminate according to claim 2 or 3, wherein the coating layer comprises a resin composition containing a resin having an oxazoline group.
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