JP7060490B2 - Solutions for making nonionic organic electronics materials, electronic devices, organic electroluminescent devices and organic electroluminescent devices - Google Patents

Solutions for making nonionic organic electronics materials, electronic devices, organic electroluminescent devices and organic electroluminescent devices Download PDF

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本発明は、非イオン性有機エレクトロニクス材料、電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液に関し、特に、従来のIr-カルベン錯体と同程度の深青色の発光を示し、かつ、錯体全体の安定性の向上を図ることができる新規な構造を有する非イオン性有機エレクトロニクス材料等に関する。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention relates to a nonionic organic electronic material, an electronic device, an organic electroluminescence element, and a solution for producing an organic electroluminescence element, and in particular, exhibits a deep blue light emission comparable to that of a conventional Ir-carbene complex, and is a complex. The present invention relates to a nonionic organic electronic material having a novel structure capable of improving the overall stability.

有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「有機EL素子」又は「OLED」ともいう。)は、発光する化合物を含有する発光層を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有する。これに、電界を印加することにより、陽極から注入された正孔と陰極から注入された電子を発光層内で再結合させることで励起子(エキシトン)を生成させる。このエキシトンが失活する際の光の放出(蛍光・リン光)を利用した発光素子である。
また、有機EL素子は、電子ディスプレイや照明用平面光源としてすでに商品化されており、特に省エネルギーの観点から注目され期待されている。
しかしながら、実際には、緑と赤の発光は発光量子収率がほぼ100%のリン光方式が適用されているものの、青においては、リン光で十分な発光素子寿命が達成し得ないことから一部の照明用に実用されるに留まり、それ以外は全て蛍光方式が採用されている。
リン光発光を司るのは、イリジウム(Ir)やプラチナ(Pt)などの非イオン性遷移金属錯体であるが、青色発光は波長の観点から他の発光色よりもHOMO-LUMO準位のギャップを大きくする必要があり、とりわけ錯体の安定性が発光素子寿命に直結することになる。
The organic electroluminescence device (hereinafter, also referred to as “organic EL device” or “OLED”) has a structure in which a light emitting layer containing a light emitting compound is sandwiched between a cathode and an anode. By applying an electric field to this, excitons are generated by recombination of holes injected from the anode and electrons injected from the cathode in the light emitting layer. It is a light emitting device that utilizes the emission of light (fluorescence / phosphorescence) when the excitons are deactivated.
Further, the organic EL element has already been commercialized as an electronic display or a flat light source for lighting, and is attracting attention and expected from the viewpoint of energy saving.
However, in reality, although the phosphorescence method with an emission quantum yield of almost 100% is applied for green and red emission, phosphorescence cannot achieve a sufficient life of the light emitting element in blue. It is only practical for some lighting, and all others are fluorescent.
Phosphorus emission is controlled by nonionic transition metal complexes such as iridium (Ir) and platinum (Pt), but blue emission has a HOMO-LUMO level gap more than other emission colors in terms of wavelength. It is necessary to increase the size, and in particular, the stability of the complex is directly linked to the life of the light emitting element.

この問題を解決するために、配位力の強いカルベン配位子を用いたIr錯体が検討されており、特許文献1に開示されているIr-カルベン錯体は、発光色を青色にするためにシアノ基を導入してHOMO-LUMO準位ギャップを適切に調整している。しかしながら、実際にはこの錯体ではまだ安定性が足らず、照明用としてもディスプレイ用としても実用には至っていない。 In order to solve this problem, an Ir complex using a carbene ligand having a strong coordinating force has been studied, and the Ir-carbene complex disclosed in Patent Document 1 has a blue emission color. A cyano group is introduced to properly adjust the HOMO-LUMO level gap. However, in reality, this complex is not yet stable enough to be put into practical use for both lighting and display.

一方、非特許文献1では、3座配位子骨格のカルベン金属錯体の合成に成功しているが、リン光発光の用途とは異なる。 On the other hand, in Non-Patent Document 1, although a carbene metal complex having a tridentate ligand skeleton has been successfully synthesized, it is different from the use of phosphorescence.

国際公開第2007/088093号International Publication No. 2007/088093

Zeitschrift fuer anorganische und allgemeine Chemie, vol;641, issue:12-13, pages:2199-2203Zeitscrift furer anorganische und allgemeine Chemie, vol; 641, issu: 12-13, pages: 2199-2203

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、従来のIr-カルベン錯体と同程度の深青色の発光を示し、かつ、錯体全体の安定性の向上を図ることができる新規な構造を有する非イオン性有機エレクトロニクス材料を提供することである。また、当該非イオン性有機エレクトロニクス材料を用いた電子デバイス、有機エレク
トロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液を提供することである。
The present invention has been made in view of the above problems and situations, and the solution thereof is to exhibit deep blue light emission comparable to that of the conventional Ir-carbene complex and to improve the stability of the entire complex. It is to provide a nonionic organic electronic material having a novel structure capable of being capable. Another object of the present invention is to provide an electronic device, an organic electroluminescence device, and a solution for manufacturing an organic electroluminescence device using the nonionic organic electronics material.

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、まず、前記特許文献1に開示されているようなIr-カルベン錯体を安定化させるためには、通常、1価2座配位子を3つ要するIr錯体に対し、配位子の数を減らすことで、エントロピー効果を発揮させることが最善の策であると推測した。キレート錯体が、単座配位錯体よりも安定であることは一般的であり、また、同じキレート錯体でも配位子の数を少なくできれば、その熱安定性が飛躍的に向上すると考えられる。ただし、3価6配位が安定なIr錯体において、2つの配位子でそれを成し遂げることは容易ではなく、いまだかつて、そのようなIr錯体が合成された例は報告されていない。
一方、前記非特許文献1では、リン光発光の用途とは別に、3座配位子骨格のカルベン金属錯体の合成に成功しており、本発明者は、当該配位子を用いることにより、非対称型の3座配位子2つで非イオン性Ir錯体を合成できる可能性を見いだした。そして、従来のIr-カルベン錯体と比較して、配位子の数を少なくする、すなわち、2種類の3座配位子で構成されたIr錯体とすることで、深青色を発光し、かつ、安定性に優れた有機エレクトロニクス材料を提供することができることを見いだし本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
In the process of examining the cause of the problem in order to solve the above-mentioned problems, the present inventor usually first stabilizes the Ir-carbene complex as disclosed in Patent Document 1. It was speculated that the best measure would be to exert an entropy effect by reducing the number of ligands for an Ir complex that requires three monovalent bidentate ligands. It is generally considered that the chelate complex is more stable than the monodentate coordination complex, and if the number of ligands of the same chelate complex can be reduced, the thermal stability of the chelate complex will be dramatically improved. However, it is not easy to achieve this with two ligands in an Ir complex with a stable trivalent 6-coordination, and no example of such an Ir complex being synthesized has been reported.
On the other hand, in the non-patent document 1, apart from the use of phosphorescent emission, a carbene metal complex having a tridentate ligand skeleton has been successfully synthesized, and the present inventor has succeeded in synthesizing the ligand by using the ligand. We have found the possibility of synthesizing a nonionic Ir complex with two asymmetric tridentate ligands. Then, by reducing the number of ligands as compared with the conventional Ir-carbene complex, that is, by forming an Ir complex composed of two types of tridental ligands, a deep blue light is emitted and the light is emitted. We have found that it is possible to provide an organic electronic material having excellent stability, and have arrived at the present invention.
That is, the above-mentioned problem according to the present invention is solved by the following means.

1.下記一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする非イオン性有機エレクトロニクス材料。

Figure 0007060490000001
[式中、R~Rは、各々独立にアルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基又はフッ素原子を表す。n~nは、0~4の整数を表し、n~nが2以上の場合には、同一の置換基であっても異なる置換基であってもよく、置換基同士が互いに結合してもよい。L、Lは、単結合又は連結基を表す。Q~Qは、各々独立に置換若しくは非置換の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。A~Aは、各々独立に炭素原子又は窒素原子を表し、A~Aの少なくとも一つは炭素原子を表す。] 1. 1. A nonionic organic electronic material having a structure represented by the following general formula (1).
Figure 0007060490000001
[In the formula, R 1 to R 4 independently represent an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group or a fluorine atom, respectively. n 1 to n 4 represent an integer of 0 to 4, and when n 1 to n 4 are 2 or more, they may be the same substituent or different substituents, and the substituents are mutually exclusive. May be combined. L 1 and L 2 represent a single bond or a linking group. Q1 to Q3 each represent an independently substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle. A 1 to A 3 independently represent a carbon atom or a nitrogen atom, and at least one of A 1 to A 3 represents a carbon atom. ]

2.前記一般式(1)で表される構造が、下記一般式(2)で表される構造であることを特徴とする第1項に記載の非イオン性有機エレクトロニクス材料。

Figure 0007060490000002
[式中、R~Rは、各々独立にアルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基又はフッ素原子を表す。n~nは、0~4の整数を表し、nは、0~3の整数を表し、n~nが2以上の場合には、同一の置換基であっても異なる置換基であってもよく、置換基同士が互いに結合してもよい。] 2. 2. The nonionic organic electronic material according to item 1, wherein the structure represented by the general formula (1) is a structure represented by the following general formula (2).
Figure 0007060490000002
[In the formula, R 1 to R 7 independently represent an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group or a fluorine atom, respectively. n 1 to n 6 represent an integer of 0 to 4, n 7 represents an integer of 0 to 3, and when n 1 to n 7 are 2 or more, different substitutions are made even if they are the same substituent. It may be a group, or the substituents may be bonded to each other. ]

3.第1項又は第2項に記載の非イオン性有機エレクトロニクス材料を含有することを特徴とする電子デバイス。 3. 3. An electronic device comprising the nonionic organic electronic material according to paragraph 1 or 2.

4.第1項又は第2項に記載の非イオン性有機エレクトロニクス材料を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 4. An organic electroluminescence device comprising the nonionic organic electronic material according to the first or second paragraph.

5.第1項又は第2項に記載の非イオン性有機エレクトロニクス材料を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液。 5. A solution for producing an organic electroluminescent device, which comprises the nonionic organic electronic material according to the first item or the second item.

本発明の上記手段により、従来のIr-カルベン錯体と同程度の深青色の発光を示し、かつ、錯体全体の安定性の向上を図ることができる新規な構造を有する非イオン性有機エレクトロニクス材料を提供することができ、また、当該非イオン性有機エレクトロニクス材料を用いた電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液を提供することができる。
本発明の効果の発現機構又は作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
3価6配位が安定なIr錯体において、前記一般式(1)で表される構造のように、2種類の3座配位子で構成されたIr錯体とすることで、深青色を発光し、かつ、安定性に優れた有機エレクトロニクス材料を提供することができる。
熱力学的観点から、錯体形成反応を考えてみると、単座配位子が6つ配位したイリジウム錯体を多座(例えば3座)配位子に変換する反応においては、系全体の分子自由度が増加する、すなわち、エントロピーが増加するためギブスの自由エネルギーが低下し、より安定な錯体が得られると考えられる。
換言すると、上記変換反応においては、多座配位子とイリジウムイオンで環状構造を形成した、すなわち、キレート錯体を形成したことによる「キレート効果」が寄与するものと考えられる。
本発明に係るイリジウム錯体についても、上記機構と同様の機構によるものと推察される。
By the above means of the present invention, a nonionic organic electronic material having a novel structure capable of exhibiting deep blue emission comparable to that of a conventional Ir-carbene complex and improving the stability of the entire complex can be obtained. It is possible to provide an electronic device, an organic electroluminescence device, and a solution for manufacturing an organic electroluminescence device using the nonionic organic electronics material.
Although the mechanism of expression or mechanism of action of the effect of the present invention has not been clarified, it is inferred as follows.
In an Ir complex having a stable trivalent 6-coordination, a deep blue light is emitted by forming an Ir complex composed of two types of tridentate ligands as in the structure represented by the general formula (1). Moreover, it is possible to provide an organic electronic material having excellent stability.
Considering the complex formation reaction from a thermodynamic point of view, in the reaction of converting an iridium complex in which six monodentate ligands are coordinated into a polydentate (for example, tridentate) ligand, the whole system is molecularly free. It is considered that the degree increases, that is, the entropy increases, so that the free energy of Gibbs decreases, and a more stable complex can be obtained.
In other words, in the above conversion reaction, it is considered that the "chelating effect" due to the formation of a cyclic structure with the polydentate ligand and the iridium ion, that is, the formation of the chelate complex, contributes.
It is presumed that the iridium complex according to the present invention also has the same mechanism as the above mechanism.

照明装置の概略図Schematic diagram of lighting equipment 照明装置の模式図Schematic diagram of lighting equipment

本発明の非イオン性有機エレクトロニクス材料は、前記一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする。
この特徴は、下記各実施形態に共通又は対応する技術的特徴である。
The nonionic organic electronic material of the present invention is characterized by having a structure represented by the general formula (1).
This feature is a technical feature common to or corresponding to each of the following embodiments.

本発明の実施態様としては、前記一般式(1)で表される構造が、下記一般式(2)で表される構造であることが、錯体形成後の立体的な安定性の点で好ましい。 As an embodiment of the present invention, it is preferable that the structure represented by the general formula (1) is a structure represented by the following general formula (2) in terms of steric stability after complex formation. ..

本発明の有機エレクトロニクス材料は、電子デバイス、特に有機エレクトロルミネッセンス素子に好適に用いられる。
また、本発明の有機エレクトロニクス材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液に好適に用いられる。
The organic electronic material of the present invention is suitably used for electronic devices, particularly organic electroluminescence devices.
Further, the organic electronic material of the present invention is suitably used as a solution for producing an organic electroluminescence device.

以下、本発明とその構成要素及び本発明を実施するための形態・態様について説明をする。なお、本願において、「~」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 Hereinafter, the present invention, its constituent elements, and modes and embodiments for carrying out the present invention will be described. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical values described before and after it as the lower limit value and the upper limit value.

[本発明の非イオン性有機エレクトロニクス材料の概要]
本発明の非イオン性有機エレクトロニクス材料(以下、単に「有機エレクトロニクス材料」ともいう。)は、下記一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする。
[Overview of Nonionic Organic Electronics Material of the Present Invention]
The nonionic organic electronic material of the present invention (hereinafter, also simply referred to as "organic electronic material") is characterized by having a structure represented by the following general formula (1).

<一般式(1)で表される構造を有する化合物>

Figure 0007060490000003
[式中、R~Rは、各々独立にアルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基又はフッ素原子を表す。n~nは、0~4の整数を表し、n~nが2以上の場合には、同一の置換基であっても異なる置換基であってもよく、置換基同士が互いに結合してもよい。L、Lは、単結合又は連結基を表す。Q~Qは、各々独立に置換若しくは非置換の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。A~Aは、各々独立に炭素原子又は窒素原子を表し、A~Aの少なくとも一つは炭素原子を表す。] <Compound having a structure represented by the general formula (1)>
Figure 0007060490000003
[In the formula, R 1 to R 4 independently represent an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group or a fluorine atom, respectively. n 1 to n 4 represent an integer of 0 to 4, and when n 1 to n 4 are 2 or more, they may be the same substituent or different substituents, and the substituents are mutually exclusive. May be combined. L 1 and L 2 represent a single bond or a linking group. Q1 to Q3 each represent an independently substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle. A 1 to A 3 independently represent a carbon atom or a nitrogen atom, and at least one of A 1 to A 3 represents a carbon atom. ]

一般式(1)において、R~Rは、各々独立にアルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基又はフッ素原子を表す。
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、(t)ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ベンジル基等が挙げられる。
前記アリール基(芳香族炭化水素基ともいう。)としては、例えば、フェニル基、p-クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等が挙げられる。
前記複素環基としては、例えば、エポキシ環、アジリジン環、チイラン環、オキセタン環、アゼチジン環、チエタン環、テトラヒドロフラン環、ジオキソラン環、ピロリジン環、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、オキサゾリジン環、テトラヒドロチオフェン環、スルホラン環、チアゾリジン環、ε-カプロラクトン環、ε-カプロラクタム環、ピペリジン環、ヘキサヒドロピリダジン環、ヘキサヒドロピリミジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロピラン環、1,3-ジオキサン環、1,4-ジオキサン環、トリオキサン環、テトラヒドロチオピラン環、チオモルホリン環、チオモルホリン1,1-ジオキシド環、ピラノース環、ジアザビシクロ[2,2,2]-オクタン環等が挙げられる。
In the general formula (1), R 1 to R 4 independently represent an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group or a fluorine atom, respectively.
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a (t) butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a tetradecyl group, a pentadecyl group, a benzyl group and the like. Can be mentioned.
Examples of the aryl group (also referred to as an aromatic hydrocarbon group) include a phenyl group, a p-chlorophenyl group, a mesityl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, an anthryl group, an azulenyl group, an acenaphthenyl group and a fluorenyl group. Examples thereof include a phenanthryl group, an indenyl group, a pyrenyl group, and a biphenylyl group.
Examples of the heterocyclic group include an epoxy ring, an aziridine ring, a thiyrane ring, an oxetane ring, an azetidine ring, a thietan ring, a tetrahydrofuran ring, a dioxolan ring, a pyrrolidine ring, a pyrazoline ring, an imidazoline ring, an oxazolidine ring, and a tetrahydrothiophene ring. Sulfolane ring, thiazolidine ring, ε-caprolactone ring, ε-caprolactum ring, piperidine ring, hexahydropyrrolidine ring, hexahydropyrimidine ring, piperazine ring, morpholine ring, tetrahydropyran ring, 1,3-dioxane ring, 1,4- Examples thereof include a dioxane ring, a trioxane ring, a tetrahydropyran ring, a thiomorpholine ring, a thiomorpholine 1,1-dioxide ring, a pyranose ring, and a diazabicyclo [2,2,2] -octane ring.

一般式(1)において、n~nは、0~4の整数を表す。n~nが2以上の場合には、同一の置換基であっても異なる置換基であってもよく、置換基同士が互いに結合してもよい。 In the general formula (1), n 1 to n 4 represent an integer of 0 to 4. When n 1 to n 4 are 2 or more, the same substituents or different substituents may be used, and the substituents may be bonded to each other.

一般式(1)において、L、Lは、単結合又は連結基を表す。
前記連結基としては、2価の連結基が挙げられ、2価の連結基としては、特に制限はないが、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、O、(C=O)、NR、S、(O=S=O)からなる群より選ばれる2価の連結基や、それらを2個組み合わせた連結基等が挙げられる。
一般式(1)において、Q~Qは、各々独立に置換若しくは非置換の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。
前記芳香族炭化水素環としては、前記R~Rで表されるアリール基(芳香族炭化水素基)と同様のものが挙げられる。
前記芳香族複素環としては、ピリジン環、ピリミジン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環、ピラジン環、トリアゾール環(例えば、1,2,4-トリアゾール、1,2,3-トリアゾール等)、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、オキサジアゾール環、チオフェン環、キノリン環、ベンゾフラン環、ジベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾチオフェン環、インドール環、カルバゾール環、カルボリン環、ジアザカルバゾール環(前記カルボリン環を構成する炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す。)、キノキサリン環、ピリダジン環、トリアジン環、キナゾリン環、フタラジン環等が挙げられる。
また、前記芳香族炭化水素環又は芳香族複素環が有してもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、複素環基、芳香族複素環基、ハロゲン原子、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、ウレイド基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アルキルシリル基、アリールシリル基、アルキルホスフィノ基、アリールホスフィノ基、アルキルホスホリル基、アリールホスホリル基、アルキルチオホスホリル基及びアリールチオホスホリル基等が挙げられる。
In the general formula (1), L 1 and L 2 represent a single bond or a linking group.
Examples of the linking group include a divalent linking group, and the divalent linking group is not particularly limited, but an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, O, (C = O), NR, S, and the like. Examples thereof include a divalent linking group selected from the group consisting of (O = S = O), a linking group in which two of them are combined, and the like.
In the general formula (1), Q 1 to Q 3 represent independently substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles, respectively.
Examples of the aromatic hydrocarbon ring include those similar to the aryl group (aromatic hydrocarbon group) represented by R 1 to R 4 .
Examples of the aromatic heterocycle include a pyridine ring, a pyrimidine ring, a furan ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a benzoimidazole ring, a pyrazole ring, a pyrazine ring, and a triazole ring (for example, 1,2,4-triazole, 1,2, 3-Triazole, etc.), oxazole ring, benzoxazole ring, thiazole ring, isooxazole ring, isothiazole ring, oxadiazole ring, thiophene ring, quinoline ring, benzofuran ring, dibenzofuran ring, benzothiophene ring, dibenzothiophene ring, indole. Ring, carbazole ring, carboline ring, diazacarbazole ring (indicating one in which one of the carbon atoms constituting the carboline ring is replaced with a nitrogen atom), quinoxaline ring, pyridazine ring, triazine ring, quinazoline ring, phthalazine ring, etc. Can be mentioned.
The substituents that the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle may have include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group and an aromatic complex. Ring group, halogen atom, alkoxy group, cycloalkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, cycloalkylthio group, arylthio group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, sulfamoyl group, ureido group, acyl group, acyloxy group, amide group , Carbamoyl group, sulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, amino group, nitro group, cyano group, hydroxy group, mercapto group, alkylsilyl group, arylsilyl group, alkylphosphino group, arylphosphino group, alkylphosphoryl Examples thereof include a group, an arylphosphoryl group, an alkylthiophosphoryl group and an arylthiophosphoryl group.

前記一般式(1)において、A~Aは、各々独立に炭素原子又は窒素原子を表し、A~Aの少なくとも一つは炭素原子を表す。 In the general formula (1), A 1 to A 3 independently represent a carbon atom or a nitrogen atom, and at least one of A 1 to A 3 represents a carbon atom.

<一般式(2)で表される構造を有する化合物>
前記一般式(1)で表される構造が、下記一般式(2)で表される構造であることが、錯体形成後の立体的な安定性の点で好ましい。

Figure 0007060490000004
[式中、R~Rは、各々独立にアルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基又はフッ素原子を表す。n~nは、0~4の整数を表し、nは、0~3の整数を表し、n~nが2以上の場合には、同一の置換基であっても異なる置換基であってもよく、置換基同士が互いに結合してもよい。] <Compound having a structure represented by the general formula (2)>
It is preferable that the structure represented by the general formula (1) is a structure represented by the following general formula (2) in terms of steric stability after complex formation.
Figure 0007060490000004
[In the formula, R 1 to R 7 independently represent an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group or a fluorine atom, respectively. n 1 to n 6 represent an integer of 0 to 4, n 7 represents an integer of 0 to 3, and when n 1 to n 7 are 2 or more, different substitutions are made even if they are the same substituent. It may be a group, or the substituents may be bonded to each other. ]

一般式(2)において、R~Rは、各々独立にアルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基又はフッ素原子を表す。
前記アルキル基、アリール基、複素環基としては、前記一般式(1)のR~Rで表されるアルキル基、アリール基、複素環基と同様のものが挙げられる。
In the general formula (2), R 1 to R 7 independently represent an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group or a fluorine atom, respectively.
Examples of the alkyl group, aryl group and heterocyclic group include the same as the alkyl group, aryl group and heterocyclic group represented by R 1 to R 4 of the general formula (1).

<例示化合物>
以下、本発明に係る一般式(1)及び一般式(2)で表される構造を有する化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
<Exemplified compound>
Hereinafter, specific examples of the compound having a structure represented by the general formula (1) and the general formula (2) according to the present invention will be shown, but the present invention is not limited thereto.

Figure 0007060490000005
Figure 0007060490000005

Figure 0007060490000006
Figure 0007060490000006

Figure 0007060490000007
Figure 0007060490000007

Figure 0007060490000008
Figure 0007060490000008

<合成方法>
前記一般式(1)で表される構造を有する化合物の合成方法は、前記非特許文献1に記載の金錯体の合成方法と同様の方法によって合成することができる。具体的には、以下のスキームにしたがって合成することができる。
<Synthesis method>
The method for synthesizing the compound having the structure represented by the general formula (1) can be synthesized by the same method as the method for synthesizing the gold complex described in Non-Patent Document 1. Specifically, it can be synthesized according to the following scheme.

Figure 0007060490000009
Figure 0007060490000009

[電子デバイス]
本発明の有機エレクトロニクス材料は、例えば、有機エレクトロルミネッセンス材料、有機半導体材料、有機太陽電池材料、光電変換材料などとして、電子デバイスに好適に用いられる。すなわち、本発明の電子デバイスは、前記有機エレクトロニクス材料を含有することを特徴とする。
電子デバイスとしては、例えば、有機電界発光素子、LED(Light Emitting Diode)、液晶素子、太陽電池、タッチパネル等が挙げられる。
[Electronic device]
The organic electronic material of the present invention is suitably used for electronic devices as, for example, an organic electroluminescence material, an organic semiconductor material, an organic solar cell material, a photoelectric conversion material, and the like. That is, the electronic device of the present invention is characterized by containing the organic electronic material.
Examples of the electronic device include an organic electroluminescent element, an LED (Light Emitting Diode), a liquid crystal element, a solar cell, a touch panel, and the like.

[有機EL素子]
本発明の有機EL素子は、前記有機エレクトロニクス材料を含有することを特徴とする。
本発明の有機エレクトロニクス材料を用いて製造される有機EL素子における代表的な素子構成としては、以下の構成を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
(i)陽極/発光層/陰極
(ii)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
(iii)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
(iv)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(v)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
(vi)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(vii)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/(電子阻止層/)発光層/(正孔阻止層/)電
子輸送層/電子注入層/陰極
上記の中で(vii)の構成が好ましく用いられるが、これに限定されるものではない。
[Organic EL element]
The organic EL element of the present invention is characterized by containing the organic electronic material.
Typical device configurations of the organic EL device manufactured by using the organic electronics material of the present invention include, but are not limited to, the following configurations.
(I) anode / light emitting layer / cathode (ii) anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode (iii) anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode (iv) anode / hole transport layer / light emitting layer / electron Transport layer / cathode (v) anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode (vi) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode ( vii) Anodic / hole injection layer / hole transport layer / (electron blocking layer /) light emitting layer / (hole blocking layer /) electron transport layer / electron injection layer / cathode Among the above, the configuration of (vii) is preferable. Used, but not limited to.

本発明に係る発光層は、単層又は複数層で構成されており、発光層が複数の場合は各発光層の間に非発光性の中間層を設けてもよい。必要に応じて、発光層と陰極との間に正孔阻止層(正孔障壁層ともいう)や電子注入層(陰極バッファー層ともいう)を設けてもよく、また、発光層と陽極との間に電子阻止層(電子障壁層ともいう)や正孔注入層(陽極バッファー層ともいう)を設けてもよい。
本発明に係る電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する層であり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。また、複数層で構成されていてもよい。
本発明に係る正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する層であり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。また、複数層で構成されていてもよい。
上記の代表的な素子構成において、陽極と陰極を除いた層を「有機層」ともいう。
The light emitting layer according to the present invention is composed of a single layer or a plurality of layers, and when there are a plurality of light emitting layers, a non-light emitting intermediate layer may be provided between the light emitting layers. If necessary, a hole blocking layer (also referred to as a hole barrier layer) or an electron injection layer (also referred to as a cathode buffer layer) may be provided between the light emitting layer and the anode, and the light emitting layer and the anode may be provided. An electron blocking layer (also referred to as an electron barrier layer) or a hole injection layer (also referred to as an anode buffer layer) may be provided between them.
The electron transport layer according to the present invention is a layer having a function of transporting electrons, and in a broad sense, an electron injection layer and a hole blocking layer are also included in the electron transport layer. Further, it may be composed of a plurality of layers.
The hole transport layer according to the present invention is a layer having a function of transporting holes, and in a broad sense, a hole injection layer and an electron blocking layer are also included in the hole transport layer. Further, it may be composed of a plurality of layers.
In the above typical device configuration, the layer excluding the anode and the cathode is also referred to as an "organic layer".

(タンデム構造)
また、本発明の有機EL素子は、少なくとも1層の発光層を含む発光ユニットを複数積層した、いわゆるタンデム構造の素子であってもよい。
タンデム構造の代表的な素子構成としては、例えば以下の構成を挙げることができる。
陽極/第1発光ユニット/第2発光ユニット/第3発光ユニット/陰極
陽極/第1発光ユニット/中間層/第2発光ユニット/中間層/第3発光ユニット/陰極
ここで、上記第1発光ユニット、第2発光ユニット及び第3発光ユニットは全て同じであっても、異なっていてもよい。また二つの発光ユニットが同じであり、残る一つが異なっていてもよい。
また、第3発光ユニットはなくてもよく、一方で第3発光ユニットと電極の間にさらに発光ユニットや中間層を設けてもよい。
(Tandem structure)
Further, the organic EL element of the present invention may be an element having a so-called tandem structure in which a plurality of light emitting units including at least one light emitting layer are laminated.
As a typical element configuration of the tandem structure, for example, the following configuration can be mentioned.
Anode / 1st light emitting unit / 2nd light emitting unit / 3rd light emitting unit / cathode Anode / 1st light emitting unit / intermediate layer / 2nd light emitting unit / intermediate layer / 3rd light emitting unit / cathode Here, the above 1st light emitting unit , The second light emitting unit and the third light emitting unit may all be the same or different. Further, the two light emitting units may be the same, and the remaining one may be different.
Further, the third light emitting unit may not be provided, while a light emitting unit or an intermediate layer may be further provided between the third light emitting unit and the electrode.

複数の発光ユニットは直接積層されていても、中間層を介して積層されていてもよく、中間層は、一般的に中間電極、中間導電層、電荷発生層、電子引抜層、接続層、中間絶縁層とも呼ばれ、陽極側の隣接層に電子を、陰極側の隣接層に正孔を供給する機能を持った層であれば、公知の材料及び構成を用いることができる。 A plurality of light emitting units may be directly laminated or laminated via an intermediate layer, and the intermediate layer is generally an intermediate electrode, an intermediate conductive layer, a charge generation layer, an electron extraction layer, a connection layer, or an intermediate layer. A known material and structure can be used as long as it is also called an insulating layer and has a function of supplying electrons to the adjacent layer on the anode side and holes to the adjacent layer on the cathode side.

中間層に用いられる材料としては、例えば、ITO(インジウム・スズ酸化物)、IZO(インジウム・亜鉛酸化物)、ZnO、TiN、ZrN、HfN、TiOx、VOx、CuI、InN、GaN、CuAlO、CuGaO、SrCu、LaB、RuO、Al等の導電性無機化合物層や、Au/Bi等の2層膜や、SnO/Ag/SnO、ZnO/Ag/ZnO、Bi/Au/Bi、TiO/TiN/TiO、TiO/ZrN/TiO等の多層膜、またC60等のフラーレン類、オリゴチオフェン等の導電性有機物層、金属フタロシアニン類、無金属フタロシアニン類、金属ポルフィリン類、無金属ポルフィリン類等の導電性有機化合物層等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。 Examples of the material used for the intermediate layer include ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), ZnO 2 , TiN, ZrN, HfN, TiOx, VOx, CuI, InN, GaN, and CuAlO 2 . , CuGaO 2 , SrCu 2 O 2 , LaB 6 , RuO 2 , Al and other conductive inorganic compound layers, Au / Bi 2 O 3 and other bilayer films, SnO 2 / Ag / SnO 2 , ZnO / Ag / Multilayer films such as ZnO, Bi 2 O 3 / Au / Bi 2 O 3 , TiO 2 / TiN / TiO 2 , TiO 2 / ZrN / TiO 2 , and fullerenes such as C60, conductive organic layers such as oligothiophene. , Metallic phthalocyanines, metal-free phthalocyanins, metal porphyrins, conductive organic compound layers such as metal-free porphyrins, etc., but the present invention is not limited thereto.

発光ユニット内の好ましい構成としては、例えば上記の代表的な素子構成で挙げた(i)~(vii)の構成から、陽極と陰極を除いたもの等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。 Preferred configurations in the light emitting unit include, for example, configurations excluding the anode and cathode from the configurations (i) to (vii) mentioned in the above typical element configurations, but the present invention is limited thereto. Not done.

タンデム型有機EL素子の具体例としては、例えば、米国特許第6337492号、米国特許第7420203号、米国特許第7473923号、米国特許第6872472号、米国特許第6107734号、米国特許第6337492号、国際公開第2005/009087号、特開2006-228712号、特開2006-24791号、特開2006-49393号、特開2006-49394号、特開2006-49396号、特開2011-96679号、特開2005-340187号、特許第4711424号、特許第3496681号、特許第3884564号、特許第4213169号、特開2010-192719号、特開2009-076929号、特開2008-078414号、特開2007-059848号、特開2003-272860号、特開2003-045676号、国際公開第2005/094130号等に記載の素子構成や構成材料等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the tandem organic EL element include, for example, US Pat. No. 6,337,492, US Pat. No. 7,420,203, US Pat. No. 7,473,923, US Pat. No. 6,872,472, US Pat. No. 6,107,734, US Pat. No. 6,337,492, International. Publication No. 2005/009087, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-228712, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-24791, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-49393, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-49394, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-49396, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-96679, Kai 2005-340187, Japanese Patent No. 4711424, Japanese Patent No. 3496681, Japanese Patent No. 38845664, Japanese Patent No. 4213169, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-192719, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-0762929, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-0784414, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007 Examples thereof include the element configurations and constituent materials described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 059848, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-272860, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-04567, International Publication No. 2005/094130, etc., but the present invention is not limited thereto.

以下、本発明の有機EL素子を構成する各層について説明する。
《発光層》
本発明に係る発光層は、電極又は隣接層から注入されてくる電子及び正孔が再結合し、励起子を経由して発光する場を提供する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても、発光層と隣接層との界面であってもよい。本発明に係る発光層は、本発明で規定する要件を満たしていれば、その構成に特に制限はない。
発光層の厚さの総和は、特に制限はないが、形成する層の均質性や、発光時に不必要な
高電圧を印加するのを防止し、かつ、駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、2nm~5μmの範囲内に調整することが好ましく、より好ましくは2~500nmの範囲内に調整され、さらに好ましくは5~200nmの範囲内に調整される。
また、個々の発光層の厚さとしては、2nm~1μmの範囲内に調整することが好ましく、より好ましくは2~200nmの範囲内に調整され、さらに好ましくは3~150nmの範囲に調整される。
Hereinafter, each layer constituting the organic EL element of the present invention will be described.
《Light emitting layer》
The light emitting layer according to the present invention is a layer that provides a place where electrons and holes injected from an electrode or an adjacent layer are recombined and emit light via excitons, and the light emitting portion is a layer of the light emitting layer. It may be inside or at the interface between the light emitting layer and the adjacent layer. The structure of the light emitting layer according to the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the requirements specified in the present invention.
The total thickness of the light emitting layer is not particularly limited, but the homogeneity of the formed layer, the prevention of applying an unnecessary high voltage at the time of light emission, and the improvement of the stability of the light emitting color with respect to the drive current are improved. From the viewpoint, it is preferably adjusted within the range of 2 nm to 5 μm, more preferably adjusted within the range of 2 to 500 nm, and further preferably adjusted within the range of 5 to 200 nm.
The thickness of each light emitting layer is preferably adjusted within the range of 2 nm to 1 μm, more preferably adjusted within the range of 2 to 200 nm, and further preferably adjusted within the range of 3 to 150 nm. ..

発光層には、発光ドーパント(発光性ドーパント化合物、ドーパント化合物、単にドーパントともいう。)と、ホスト化合物(マトリックス材料、発光ホスト化合物、単にホストともいう。)と、を含有することが好ましい。 The light emitting layer preferably contains a light emitting dopant (a light emitting dopant compound, a dopant compound, also simply referred to as a dopant) and a host compound (a matrix material, a light emitting host compound, also simply referred to as a host).

(1)発光ドーパント
発光ドーパントとしては、蛍光発光性ドーパント(蛍光ドーパント、蛍光性化合物ともいう)と、リン光発光性ドーパント(リン光ドーパント、リン光性化合物ともいう)が好ましく用いられる。本発明においては、少なくとも1層の発光層が、前記有機エレクトロニクス材料(前記一般式(1)で表される構造を有する化合物)を含有する。
発光層中の発光ドーパントの濃度については、使用される特定のドーパント及びデバイスの必要条件に基づいて、任意に決定することができ、発光層の膜厚方向に対し、均一な濃度で含有されていてもよく、また任意の濃度分布を有していてもよい。
また、本発明に係る発光ドーパントは、複数種を併用して用いてもよく、構造の異なるドーパント同士の組み合わせや、蛍光発光性ドーパントとリン光発光性ドーパントとを組み合わせて用いてもよい。これにより、任意の発光色を得ることができる。
(1) Light-emitting dopant As the light-emitting dopant, a fluorescent light-emitting dopant (also referred to as a fluorescent dopant or a fluorescent compound) and a phosphorescent light-emitting dopant (also referred to as a phosphorescent dopant or a phosphorescent compound) are preferably used. In the present invention, at least one light emitting layer contains the organic electronic material (a compound having a structure represented by the general formula (1)).
The concentration of the light emitting dopant in the light emitting layer can be arbitrarily determined based on the specific dopant used and the requirements of the device, and is contained at a uniform concentration with respect to the film thickness direction of the light emitting layer. It may have an arbitrary concentration distribution.
Further, the light emitting dopant according to the present invention may be used in combination of a plurality of types, may be used in combination of dopants having different structures, or may be used in combination of a fluorescent light emitting dopant and a phosphorescent light emitting dopant. This makes it possible to obtain an arbitrary emission color.

本発明に係る有機EL素子の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」(日本色彩学会編、東京大学出版会、1985)の108頁の図4.16において、分光放射輝度計CS-1000(コニカミノルタ(株)製)で測定した結果をCIE色度座標に当てはめたときの色で決定される。
本発明においては、1層又は複数層の発光層が、発光色の異なる複数の発光ドーパントを含有し、白色発光を示すことも好ましい。
白色を示す発光ドーパントの組み合わせについては特に限定はないが、例えば青と橙や、青と緑と赤の組み合わせ等が挙げられる。
本発明に係る有機EL素子における白色とは、特に限定はなく、橙色寄りの白色であっても青色寄りの白色であってもよいが、2度視野角正面輝度を前述の方法により測定した際に、1000cd/mでのCIE1931表色系における色度がx=0.39±0.09、y=0.38±0.08の領域内にあることが好ましい。
The color emitted by the organic EL element according to the present invention is shown in FIG. 4.16 on page 108 of the "New Color Science Handbook" (edited by the Japan Color Society, Tokyo University Press, 1985). It is determined by the color when the result measured by Konica Minolta Co., Ltd. is applied to the CIE chromaticity coordinates.
In the present invention, it is also preferable that the light emitting layer of one layer or a plurality of layers contains a plurality of light emitting dopants having different light emitting colors and exhibits white light emission.
The combination of light emitting dopants showing white color is not particularly limited, and examples thereof include a combination of blue and orange, a combination of blue and green and red, and the like.
The white color in the organic EL element according to the present invention is not particularly limited and may be white color closer to orange or white color closer to blue, but when the 2 degree viewing angle front luminance is measured by the above-mentioned method. In addition, it is preferable that the chromaticity in the CIE 1931 color system at 1000 cd / m 2 is within the region of x = 0.39 ± 0.09 and y = 0.38 ± 0.08.

(1.1)リン光発光性ドーパント
本発明に係るリン光発光性ドーパント(以下、「リン光ドーパント」ともいう。)について説明する。
本発明に係るリン光ドーパントは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には、室温(25℃)にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、25℃において0.01以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は0.1以上である。
(1.1) Phosphorescent Dopant A phosphorescent dopant according to the present invention (hereinafter, also referred to as “phosphorescent dopant”) will be described.
The phosphorescent dopant according to the present invention is a compound in which light emission from an excited triplet is observed, specifically, a compound that emits phosphorescent light at room temperature (25 ° C.), and has a phosphorescent quantum yield of 25. It is defined as a compound of 0.01 or more at ° C., but a preferable phosphorescence quantum yield is 0.1 or more.

上記リン光量子収率は、第4版実験化学講座7の分光IIの398頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に係るリン光ドーパントは、任意の溶媒のいずれかにおいて上記リン光量子収率(0.01以上)が達成されればよい。
リン光ドーパントの発光は原理としては2種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネ
ルギーをリン光ドーパントに移動させることでリン光ドーパントからの発光を得るというエネルギー移動型である。もう一つはリン光ドーパントがキャリアトラップとなり、リン光ドーパント上でキャリアの再結合が起こりリン光ドーパントからの発光が得られるというキャリアトラップ型である。いずれの場合においても、リン光ドーパントの励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。
The phosphorus photon yield can be measured by the method described on page 398 (1992 edition, Maruzen) of Spectroscopy II of the 4th edition Experimental Chemistry Course 7. The phosphorescence quantum yield in a solution can be measured using various solvents, but the phosphorescence dopant according to the present invention can achieve the above phosphorescence quantum yield (0.01 or more) in any of any solvents. Just do it.
There are two types of light emission of the phosphorescent dopant in principle. One is that carrier recombination occurs on the host compound to which the carrier is transported to generate an excited state of the host compound, and this energy is transferred to the phosphorescent dopant. It is an energy transfer type that obtains light emission from a phosphorescent dopant. The other is a carrier trap type in which the phosphorescent dopant becomes a carrier trap, carriers are recombined on the phosphorescent dopant, and light emission from the phosphorescent dopant is obtained. In either case, the excited state energy of the phosphorescent dopant is required to be lower than the excited state energy of the host compound.

本発明において使用できるリン光ドーパントとしては、前記有機エレクトロニクス材料(前記一般式(1)で表される構造を有する化合物)を用いることができる。
また、前記有機エレクトロニクス材料に加えて、有機EL素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して併用してもよい。
本発明に使用できる公知のリン光ドーパントの具体例としては、以下の文献に記載されている化合物等が挙げられる。
Nature 395,151 (1998)、Appl. Phys. Lett. 7
8, 1622 (2001)、Adv. Mater. 19, 739 (2007)、Chem. Mater. 17, 3532 (2005)、Adv. Mater. 17,1059 (2005)、国際公開第2009/100991号、国際公開第2008/101842号、国際公開第2003/040257号、米国特許公開第2006/835469号、米国特許公開第2006/0202194号、米国特許公開第2007/0087321号、米国特許公開第2005/0244673号、
Inorg. Chem. 40, 1704 (2001)、Chem. Mater. 16, 2480 (2004)、Adv. Mater. 16, 2003 (2004)、Angew. Chem. Int. Ed. 2006, 45, 7800、Appl.
Phys. Lett. 86, 153505 (2005)、Chem. Lett. 34, 592 (2005)、Chem. Commun. 2906 (2005)、In
org. Chem. 42, 1248 (2003)、国際公開第2009/050290号、国際公開第2002/015645号、国際公開第2009/000673号、米国特許公開第2002/0034656号、米国特許第7332232号、米国特許公開第2009/0108737号、米国特許公開第2009/0039776号、米国特許第6921915号、米国特許第6687266号、米国特許公開第2007/0190359号、米国特許公開第2006/0008670号、米国特許公開第2009/0165846号、米国特許公開第2008/0015355号、米国特許第7250226号、米国特許第7396598号、米国特許公開第2006/0263635号、米国特許公開第2003/0138657号、米国特許公開第2003/0152802号、米国特許第7090928号、Angew. Chem. Int. Ed. 47, 1 (2008)、Chem. Mater. 18, 5119 (2006)、Inorg. Chem. 46, 4308 (2007)、Organometallics 23, 3745 (2004)、Appl. Phys. Lett. 74, 1361 (1999)、国際公開第2002/002714号、国際公開第2006/009024号、国際公開第2006/056418号、国際公開第2005/019373号、国際公開第2005/123873号、国際公開第2007/004380号、国際公開第2006/082742号、米国特許公開第2006/0251923号、米国特許公開第2005/0260441号、米国特許第7393599号、米国特許第7534505号、米国特許第7445855号、米国特許公開第2007/0190359号、米国特許公開第2008/0297033号、米国特許第7338722号、米国特許公開第2002/0134984号、米国特許第7279704号、米国特許公開第2006/098120号、米国特許公開第2006/103874号、国際公開第2005/076380号、国際公開第2010/032663号、国際公開第2008/140115号、国際公開第2007/052431号、国際公開第2011/134013号、国際公開第2011/157339号、国際公開第2010/086089号、国際公開第2009/113646号、国際公開第2012/020327号、国際公開第2011/05140
4号、国際公開第2011/004639号、国際公開第2011/073149号、米国特許公開第2012/228583号、米国特許公開第2012/212126号、特開2012-069737号公報、特開2012-195554号公報、特開2009-114086号公報、特開2003-81988号公報、特開2002-302671号公報、特開2002-363552号公報等である。
As the phosphorescent dopant that can be used in the present invention, the organic electronics material (compound having a structure represented by the general formula (1)) can be used.
Further, in addition to the organic electronic material, a known material used for a light emitting layer of an organic EL element may be appropriately selected and used in combination.
Specific examples of known phosphorescent dopants that can be used in the present invention include compounds described in the following documents.
Nature 395, 151 (1998), Appl. Phys. Let. 7
8, 1622 (2001), Adv. Mater. 19, 739 (2007), Chem. Mater. 17, 3532 (2005), Adv. Mater. 17, 1059 (2005), International Publication No. 2009/100991, International Publication No. 2008/101842, International Publication No. 2003/040257, US Patent Publication No. 2006/835469, US Patent Publication No. 2006/20202194, USA Patent Publication No. 2007/0087321, US Patent Publication No. 2005/0244673,
Inorg. Chem. 40, 1704 (2001), Chem. Mater. 16, 2480 (2004), Adv. Mater. 16, 2003 (2004), Angew. Chem. Int. Ed. 2006, 45, 7800, Appl.
Phys. Let. 86, 153505 (2005), Chem. Let. 34, 592 (2005), Chem. Commun. 2906 (2005), In
org. Chem. 42, 1248 (2003), International Publication No. 2009/050290, International Publication No. 2002/015645, International Publication No. 2009/000673, US Patent Publication No. 2002/0034656, US Patent No. 7332232, US Patent Publication No. 2009/0108737, US Patent Publication No. 2009/00397776, US Patent No. 6921915, US Patent No. 6688266, US Patent Publication No. 2007/0190359, US Patent Publication No. 2006/0008670, US Patent Publication No. 2009/ 0165846, US Patent Publication No. 2008/0015355, US Patent No. 7250226, US Patent No. 7396598, US Patent Publication No. 2006/0263635, US Patent Publication No. 2003/0158657, US Patent Publication No. 2003/0152802 , U.S. Pat. No. 7,090928, Angew. Chem. Int. Ed. 47, 1 (2008), Chem. Mater. 18, 5119 (2006), Inorg. Chem. 46, 4308 (2007), Organometallics 23, 3745 (2004), Apple. Phys. Let. 74, 1361 (1999), International Publication No. 2002/002714, International Publication No. 2006/009024, International Publication No. 2006/056418, International Publication No. 2005/019373, International Publication No. 2005/123873, International Publication No. 2007/004380, International Publication No. 2006/082742, U.S. Patent Publication No. 2006/0251923, U.S. Patent Publication No. 2005/02060441, U.S. Patent No. 7393599, U.S. Patent No. 7534505, U.S. Patent No. 7445855, U.S.A. Patent Publication No. 2007/0190359, US Patent Publication No. 2008/0297033, US Patent No. 7338722, US Patent Publication No. 2002/0134984, US Patent No. 7279704, US Patent Publication No. 2006/098120, US Patent Publication No. 2006/103874, International Publication No. 2005/0763880, International Publication No. 2010/032663, International Publication No. 2008/140115, International Publication No. 2007/052431, International Publication No. 2011/134013, International Publication No. 2011 / 157339, International Publication No. 2010/086089, International Publication No. 2009/113646, International Publication No. 2012/20327, International Publication No. 2011/05140
4, International Publication No. 2011/004639, International Publication No. 2011/073149, US Patent Publication No. 2012/228583, US Patent Publication No. 2012/212126, JP2012-069737A, JP2012-195554 No., JP-A-2009-114086, JP-A-2003-81988, JP-A-2002-302671, JP-A-2002-363552, and the like.

中でも、好ましいリン光ドーパントとしてはIrを中心金属に有する有機金属錯体が挙げられる。さらに好ましくは、金属-炭素結合、金属-窒素結合、金属-酸素結合、金属-硫黄結合の少なくとも一つの配位様式を含む錯体が好ましい。 Among them, preferred phosphorescent dopants include organometallic complexes having Ir as the central metal. More preferably, a complex containing at least one coordination mode of a metal-carbon bond, a metal-nitrogen bond, a metal-oxygen bond, and a metal-sulfur bond is preferable.

(1.2)蛍光発光性ドーパント
本発明に係る蛍光発光性ドーパント(以下、「蛍光ドーパント」ともいう)について説明する。
本発明に係る蛍光ドーパントは、励起一重項からの発光が可能な化合物であり、励起一重項からの発光が観測される限り特に限定されない。
本発明に係る蛍光ドーパントとしては、例えば、アントラセン誘導体、ピレン誘導体、クリセン誘導体、フルオランテン誘導体、ペリレン誘導体、フルオレン誘導体、アリールアセチレン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、スチリルアミン誘導体、アリールアミン誘導体、ホウ素錯体、クマリン誘導体、ピラン誘導体、シアニン誘導体、クロコニウム誘導体、スクアリウム誘導体、オキソベンツアントラセン誘導体、フルオレセイン誘導体、ローダミン誘導体、ピリリウム誘導体、ペリレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、又は希土類錯体系化合物等が挙げられる。
(1.2) Fluorescent Luminous Dopant A fluorescent luminescent dopant according to the present invention (hereinafter, also referred to as “fluorescent dopant”) will be described.
The fluorescent dopant according to the present invention is a compound capable of emitting light from the excited singlet, and is not particularly limited as long as light emission from the excited singlet is observed.
Examples of the fluorescent dopant according to the present invention include anthracene derivatives, pyrene derivatives, chrysene derivatives, fluorentene derivatives, perylene derivatives, fluorene derivatives, arylacetylene derivatives, styrylarylene derivatives, styrylamine derivatives, arylamine derivatives, boron complexes and coumarin derivatives. , Pyran derivative, cyanine derivative, croconium derivative, squalium derivative, oxobenzanthracene derivative, fluorescein derivative, rhodamine derivative, pyrylium derivative, perylene derivative, polythiophene derivative, rare earth complex compound and the like.

また、近年では遅延蛍光を利用した発光ドーパントも開発されており、これらを用いてもよい。
遅延蛍光を利用した発光ドーパントの具体例としては、例えば、国際公開第2011/156793号、特開2011-213643号公報、特開2010-93181号公報等に記載の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
Further, in recent years, light emitting dopants using delayed fluorescence have also been developed, and these may be used.
Specific examples of the light emitting dopant using delayed fluorescence include the compounds described in International Publication No. 2011/156793, JP-A-2011-21364, JP-A-2010-93181, and the like. Is not limited to these.

(2)ホスト化合物
本発明に係るホスト化合物は、発光層において主に電荷の注入及び輸送を担う化合物であり、有機EL素子においてそれ自体の発光は実質的に観測されない。
好ましくは室温(25℃)においてリン光発光のリン光量子収率が、0.1未満の化合物であり、さらに好ましくはリン光量子収率が0.01未満の化合物である。また、発光層に含有される化合物の内で、その層中での質量比が20%以上であることが好ましい。
また、ホスト化合物の励起状態エネルギーは、同一層内に含有される発光ドーパントの励起状態エネルギーよりも高いことが好ましい。
(2) Host compound The host compound according to the present invention is a compound mainly responsible for charge injection and transport in the light emitting layer, and its own light emission is not substantially observed in the organic EL device.
A compound having a phosphorescent quantum yield of less than 0.1 at room temperature (25 ° C.) is preferable, and a compound having a phosphorescent quantum yield of less than 0.01 is more preferable. Further, among the compounds contained in the light emitting layer, the mass ratio in the layer is preferably 20% or more.
Further, the excited state energy of the host compound is preferably higher than the excited state energy of the light emitting dopant contained in the same layer.

ホスト化合物は、単独で用いてもよく、又は複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機EL素子を高効率化することができる。
本発明で用いることができるホスト化合物としては、特に制限はなく、従来有機EL素子で用いられる化合物を用いることができる。低分子化合物でも繰り返し単位を有する高分子化合物でもよく、また、ビニル基やエポキシ基のような反応性基を有する化合物でもよい。
The host compound may be used alone or in combination of two or more. By using a plurality of types of host compounds, it is possible to adjust the transfer of electric charges, and it is possible to improve the efficiency of the organic EL device.
The host compound that can be used in the present invention is not particularly limited, and compounds conventionally used in organic EL devices can be used. It may be a low molecular weight compound, a high molecular weight compound having a repeating unit, or a compound having a reactive group such as a vinyl group or an epoxy group.

公知のホスト化合物としては、正孔輸送能又は電子輸送能を有しつつ、かつ、発光の長波長化を防ぎ、さらに、有機EL素子を高温駆動時や素子駆動中の発熱に対して安定して動作させる観点から、高いガラス転移温度(Tg)を有することが好ましい。好ましくはTgが90℃以上であり、より好ましくは120℃以上である。
ここで、ガラス転移点(Tg)とは、DSC(Differential Scanning Calorimetry:示差走査熱量法)を用いて、JIS-K-7121に準拠した方法により求められる値である。
As a known host compound, it has a hole transporting ability or an electron transporting ability, prevents the wavelength of light emission from being lengthened, and is stable against heat generation when the organic EL device is driven at a high temperature or while the device is being driven. It is preferable to have a high glass transition temperature (Tg) from the viewpoint of operating the device. Tg is preferably 90 ° C. or higher, and more preferably 120 ° C. or higher.
Here, the glass transition point (Tg) is a value obtained by a method based on JIS-K-7121 using DSC (Differential Scanning Calorimetry).

本発明における有機EL素子に用いられる、公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
特開2001-257076号公報、同2002-308855号公報、同2001-313179号公報、同2002-319491号公報、同2001-357977号公報、同2002-334786号公報、同2002-8860号公報、同2002-334787号公報、同2002-15871号公報、同2002-334788号公報、同2002-43056号公報、同2002-334789号公報、同2002-75645号公報、同2002-338579号公報、同2002-105445号公報、同2002-343568号公報、同2002-141173号公報、同2002-352957号公報、同2002-203683号公報、同2002-363227号公報、同2002-231453号公報、同2003-3165号公報、同2002-234888号公報、同2003-27048号公報、同2002-255934号公報、同2002-260861号公報、同2002-280183号公報、同2002-299060号公報、同2002-302516号公報、同2002-305083号公報、同2002-305084号公報、同2002-308837号公報、
米国特許公開第2003/0175553号、米国特許公開第2006/0280965号、米国特許公開第2005/0112407号、米国特許公開第2009/0017330号、米国特許公開第2009/0030202号、米国特許公開第2005/0238919号、国際公開第2001/039234号、国際公開第2009/021126号、国際公開第2008/056746号、国際公開第2004/093207号、国際公開第2005/089025号、国際公開第2007/063796号、国際公開第2007/063754号、国際公開第2004/107822号、国際公開第2005/030900号、国際公開第2006/114966号、国際公開第2009/086028号、国際公開第2009/003898号、国際公開第2012/023947号、特開2008-074939号公報、特開2007-254297号公報、EP2034538、等である。
Specific examples of known host compounds used in the organic EL device in the present invention include, but are not limited to, the compounds described in the following documents.
Japanese Patent Laid-Open Nos. 2001-257076, 2002-308855, 2001-313179, 2002-319491, 2001-357977, 2002-334786, 2002-8860, 2002-334787, 2002-15871, 2002-334788, 2002-43056, 2002-334789, 2002-75445, 2002-338579, 2002. 2002-105445, 2002-343568, 2002-141173, 2002-352957, 2002-203683, 2002-363227, 2002-231453, 2003. -3165, 2002-234888, 2003-27048, 2002-255934, 2002-260861, 2002-280183, 2002-299060, 2002- 302516, 2002-305083, 2002-305084, 2002-308837,
US Patent Publication No. 2003/01755553, US Patent Publication No. 2006/0280965, US Patent Publication No. 2005/0112407, US Patent Publication No. 2009/0017330, US Patent Publication No. 2009/0030202, US Patent Publication No. 2005 / 0238919, International Publication No. 2001/039234, International Publication No. 2009/021126, International Publication No. 2008/506746, International Publication No. 2004/093207, International Publication No. 2005/089025, International Publication No. 2007/063796 No., International Publication No. 2007/063754, International Publication No. 2004/107822, International Publication No. 2005/030900, International Publication No. 2006/114966, International Publication No. 2009/086028, International Publication No. 2009/003898, International Publication No. 2012/023947, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-074939, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-254297, EP2034538, and the like.

《電子輸送層》
本発明において電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよい。
本発明における電子輸送層の総膜厚については特に制限はないが、通常は2nm~5μmの範囲内であり、より好ましくは2~500nmの範囲内であり、さらに好ましくは5~200nmの範囲内である。
《Electron transport layer》
In the present invention, the electron transport layer may be made of a material having a function of transporting electrons and may have a function of transmitting electrons injected from the cathode to the light emitting layer.
The total film thickness of the electron transport layer in the present invention is not particularly limited, but is usually in the range of 2 nm to 5 μm, more preferably in the range of 2 to 500 nm, and further preferably in the range of 5 to 200 nm. Is.

電子輸送層に用いられる材料(以下、電子輸送材料という。)としては、電子の注入性又は輸送性、正孔の障壁性のいずれかを有していればよく、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。
例えば、含窒素芳香族複素環誘導体(カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体(カルバゾール環を構成する炭素原子の一つ以上が窒素原子に置換されたもの)、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリダジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、フェナントロリン誘導体、アザトリフェニレン誘導体、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体等)、ジベンゾフラン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、シロール誘導体、芳香族炭化水素環誘導体(ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、トリフェニレン等)等が挙げられる。
The material used for the electron transport layer (hereinafter referred to as an electron transport material) may have any of electron injection property, electron transport property, and hole barrier property, and is available from among conventionally known compounds. Any one can be selected and used.
For example, nitrogen-containing aromatic heterocyclic derivatives (carbazole derivatives, azacarbazole derivatives (one or more of the carbon atoms constituting the carbazole ring substituted with nitrogen atoms), pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, pyridazine derivatives, Triazine derivative, quinoline derivative, quinoxalin derivative, phenanthroline derivative, azatriphenylene derivative, oxazole derivative, thiazole derivative, oxadiazole derivative, thiadiazol derivative, triazole derivative, benzimidazole derivative, benzoxazole derivative, benzthiazole derivative, etc.), dibenzofuran derivative, Examples thereof include dibenzothiophene derivatives, silol derivatives, aromatic hydrocarbon ring derivatives (naphthalene derivatives, anthracene derivatives, triphenylene, etc.).

また、配位子にキノリノール骨格やジベンゾキノリノール骨格を有する金属錯体、例えば、トリス(8-キノリノール)アルミニウム(Alq)、トリス(5,7-ジクロロ-8-キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7-ジブロモ-8-キノリノール)アルミニウム、トリス(2-メチル-8-キノリノール)アルミニウム、トリス(5-メチル-8-キノリノール)アルミニウム、ビス(8-キノリノール)亜鉛(Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、Ga又はPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。 Further, metal complexes having a quinolinol skeleton or a dibenzoquinolinol skeleton as ligands, for example, tris (8-quinolinol) aluminum (Alq 3 ), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7) -Dibromo-8-quinolinol) aluminum, tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (Znq), etc., and metal complexes thereof. A metal complex in which the central metal of the above is replaced with In, Mg, Cu, Ca, Sn, Ga or Pb can also be used as an electron transport material.

その他、メタルフリー若しくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にn型-Si、n型-SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。
また、これらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
In addition, metal-free or metal phthalocyanines, or those whose terminals are substituted with an alkyl group, a sulfonic acid group, or the like can also be preferably used as an electron transport material. Further, the distyrylpyrazine derivative exemplified as the material of the light emitting layer can also be used as an electron transporting material, and like the hole injection layer and the hole transporting layer, an inorganic semiconductor such as n-type-Si and n-type-SiC can be used. Can also be used as an electron transport material.
Further, it is also possible to use a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain.

本発明に係る電子輸送層においては、電子輸送層にドープ材をゲスト材料としてドープして、n性の高い(電子リッチ)電子輸送層を形成してもよい。ドープ材としては、金属錯体やハロゲン化金属など金属化合物等のn型ドーパントが挙げられる。このような構成の電子輸送層の具体例としては、例えば、特開平4-297076号公報、同10-270172号公報、特開2000-196140号公報、同2001-102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等の文献に記載されたものが挙げられる。 In the electron transport layer according to the present invention, the electron transport layer may be doped with a doping material as a guest material to form a (electron-rich) electron transport layer having a high n property. Examples of the doping material include n-type dopants such as metal compounds and metal compounds such as metal halides. Specific examples of the electron transport layer having such a structure include, for example, JP-A-4-297076, JP-A-10-270172, JP-A-2000-196140, JP-A-2001-102175, J. Mol. Apple. Phys. , 95, 5773 (2004) and the like.

本発明に係る有機EL素子に用いられる、公知の好ましい電子輸送材料の具体例としては、以下の文献に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
米国特許第6528187号、米国特許第7230107号、米国特許公開第2005/0025993号、米国特許公開第2004/0036077号、米国特許公開第2009/0115316号、米国特許公開第2009/0101870号、米国特許公開第2009/0179554号、国際公開第2003/060956号、国際公開第2008/132085号、Appl. Phys. Lett. 75, 4 (1999)、A
ppl. Phys. Lett. 79, 449 (2001)、Appl. Phys.Lett. 81, 162 (2002)、Appl. Phys. Lett. 81, 162 (2002)、Appl. Phys. Lett. 79, 156 (2001)、米国特許第7964293号、米国特許公開第2009/030202号、国際公開第2004/080975号、国際公開第2004/063159号、国際公開第2005/085387号、国際公開第2006/067931号、国際公開第2007/086552号、国際公開第2008/114690号、国際公開第2009/069442号、国際公開第2009/066779号、国際公開第2009/054253号、国際公開第2011/086935号、国際公開第2010/150593号、国際公開第2010/047707号、EP2311826号、特開2010-251675号公報、特開2009-209133号公報、特開2009-124114号公報、特開2008-277810号公報、特開2006-156445号公報、特開2005-340122号公報、特開2003-45662号公報、特開2003-31367号公報、特開2003-282270号公報、国際公開第2012/115034号、等である。
Specific examples of known and preferable electron transporting materials used in the organic EL device according to the present invention include, but are not limited to, the compounds described in the following documents.
U.S. Patent No. 6528187, U.S. Patent No. 7230107, U.S. Patent Publication No. 2005/0025993, U.S. Patent Publication No. 2004/0036077, U.S. Patent Publication No. 2009/0115316, U.S. Patent Publication No. 2009/0101870, U.S. Patent Publication No. 2009/0179554, International Publication No. 2003/060956, International Publication No. 2008/32085, Appl. Phys. Let. 75, 4 (1999), A
ppl. Phys. Let. 79, 449 (2001), Appl. Phys. Let. 81, 162 (2002), Appl. Phys. Let. 81, 162 (2002), Appl. Phys. Let. 79, 156 (2001), US Patent No. 7964293, US Patent Publication No. 2009/030202, International Publication No. 2004/080975, International Publication No. 2004/063159, International Publication No. 2005/08537, International Publication No. 2006 / 067931, International Publication No. 2007/086552, International Publication No. 2008/114690, International Publication No. 2009/0694242, International Publication No. 2009/06679, International Publication No. 2009/054253, International Publication No. 2011/086953 No., International Publication No. 2010/150593, International Publication No. 2010/047707, EP23111826, JP-A-2010-251675, JP-A-2009-209133, JP-A-2009-124114, JP-A-2008-277810 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-156445, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-340122, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-45662, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-31367, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-282270, International Publication No. 2012/115034 , Etc.

本発明におけるより好ましい電子輸送材料としては、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、トリアジン誘導体、ジベンゾフラン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体が挙げ
られる。
電子輸送材料は単独で用いてもよく、また複数種を併用して用いてもよい。
More preferable electron transporting materials in the present invention include pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, triazine derivatives, dibenzofuran derivatives, dibenzothiophene derivatives, carbazole derivatives, azacarbazole derivatives, and benzimidazole derivatives.
The electron transport material may be used alone or in combination of two or more.

《正孔阻止層》
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有する層であり、好ましくは電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が小さい材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
また、前述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係る正孔阻止層として用いることができる。
前記正孔阻止層は、発光層の陰極側に隣接して設けられることが好ましい。
また、正孔阻止層の膜厚としては、好ましくは3~100nmの範囲内であり、さらに好ましくは5~30nmの範囲内である。
正孔阻止層に用いられる材料としては、前述の電子輸送層に用いられる材料が好ましく用いられ、また、前述のホスト化合物として用いられる材料も正孔阻止層に好ましく用いられる。
《Hole blocking layer》
The hole blocking layer is a layer having the function of an electron transporting layer in a broad sense, and is preferably made of a material having a function of transporting electrons and a small ability to transport holes, and holes while transporting electrons. It is possible to improve the recombination probability of electrons and holes by blocking the above.
Further, the structure of the electron transport layer described above can be used as the hole blocking layer according to the present invention, if necessary.
The hole blocking layer is preferably provided adjacent to the cathode side of the light emitting layer.
The film thickness of the hole blocking layer is preferably in the range of 3 to 100 nm, and more preferably in the range of 5 to 30 nm.
As the material used for the hole blocking layer, the material used for the electron transport layer described above is preferably used, and the material used as the host compound described above is also preferably used for the hole blocking layer.

《電子注入層》
本発明に係る電子注入層(「陰極バッファー層」ともいう)とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために陰極と発光層との間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123~166頁)に詳細に記載されている。
本発明において電子注入層は必要に応じて設け、上記のように陰極と発光層との間、又は陰極と電子輸送層との間に存在させてもよい。
電子注入層はごく薄い膜であることが好ましく、素材にもよるがその膜厚は0.1~5nmの範囲内が好ましい。また構成材料が断続的に存在する不均一な膜であってもよい。
《Electron injection layer》
The electron injection layer (also referred to as “cathode buffer layer”) according to the present invention is a layer provided between the cathode and the light emitting layer in order to reduce the driving voltage and improve the emission brightness, and is referred to as “organic EL element and its light emitting layer”. It is described in detail in Volume 2, Chapter 2, "Electrode Materials" (pages 123-166) of "Forefront of Industrialization (Published by NTS, November 30, 1998)".
In the present invention, the electron injection layer may be provided as needed and may be present between the cathode and the light emitting layer or between the cathode and the electron transport layer as described above.
The electron injection layer is preferably a very thin film, and the film thickness is preferably in the range of 0.1 to 5 nm, although it depends on the material. Further, it may be a non-uniform film in which the constituent material is intermittently present.

電子注入層は、特開平6-325871号公報、同9-17574号公報、同10-74586号公報等にもその詳細が記載されており、電子注入層に好ましく用いられる材料の具体例としては、ストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム等に代表されるアルカリ金属化合物、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等に代表されるアルカリ土類金属化合物、酸化アルミニウムに代表される金属酸化物、リチウム8-ヒドロキシキノレート(Liq)等に代表される金属錯体等が挙げられる。また、前述の電子輸送材料を用いることも可能である。
また、上記の電子注入層に用いられる材料は単独で用いてもよく、複数種を併用して用いてもよい。
The details of the electron-injected layer are also described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, etc., and specific examples of materials preferably used for the electron-injected layer are as follows. , Metals such as strontium and aluminum, alkali metal compounds such as lithium fluoride, sodium fluoride and potassium fluoride, alkaline earth metal compounds such as magnesium fluoride and calcium fluoride, oxidation. Examples thereof include metal oxides typified by aluminum, metal complexes typified by lithium 8-hydroxyquinolate (Liq) and the like. It is also possible to use the above-mentioned electron transport material.
Further, the material used for the above electron injection layer may be used alone or in combination of two or more.

《正孔輸送層》
本発明において正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する材料からなり、陽極より注入された正孔を発光層に伝達する機能を有していればよい。
前記正孔輸送層の総膜厚については特に制限はないが、通常は5nm~5μmの範囲内であり、より好ましくは2~500nmの範囲内であり、さらに好ましくは5~200nmの範囲内である。
《Hole transport layer》
In the present invention, the hole transport layer may be made of a material having a function of transporting holes and may have a function of transmitting holes injected from the anode to the light emitting layer.
The total film thickness of the hole transport layer is not particularly limited, but is usually in the range of 5 nm to 5 μm, more preferably in the range of 2 to 500 nm, and further preferably in the range of 5 to 200 nm. be.

正孔輸送層に用いられる材料(以下、正孔輸送材料という)としては、正孔の注入性又は輸送性、電子の障壁性のいずれかを有していればよく、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。
例えば、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカル
バゾール誘導体、イソインドール誘導体、アントラセンやナフタレン等のアセン系誘導体、フルオレン誘導体、フルオレノン誘導体、及びポリビニルカルバゾール、芳香族アミンを主鎖又は側鎖に導入した高分子材料又はオリゴマー、ポリシラン、導電性ポリマー又はオリゴマー(例えばPEDOT:PSS、アニリン系共重合体、ポリアニリン、ポリチオフェン等)等が挙げられる。
The material used for the hole transport layer (hereinafter referred to as a hole transport material) may have any of hole injection property, hole transport property, and electron barrier property, and is among conventionally known compounds. Any one can be selected and used from.
For example, porphyrin derivative, phthalocyanine derivative, oxazole derivative, oxadiazole derivative, triazole derivative, imidazole derivative, pyrazoline derivative, pyrazolone derivative, phenylenediamine derivative, hydrazone derivative, stilben derivative, polyarylalkane derivative, triarylamine derivative, carbazole derivative. , Indrocarbazole derivative, isoindole derivative, acene derivative such as anthracene and naphthalene, fluorene derivative, fluorenone derivative, and polyvinylcarbazole, a polymer material or oligomer in which an aromatic amine is introduced into the main chain or side chain, polysilane, conductivity. Examples thereof include sex polymers or oligomers (eg, PEDOT: PSS, aniline-based copolymers, polyaniline, polythiophene, etc.).

トリアリールアミン誘導体としては、α-NPDに代表されるベンジジン型や、MTDATAに代表されるスターバースト型、トリアリールアミン連結コア部にフルオレンやアントラセンを有する化合物等が挙げられる。
また、特表2003-519432号公報や特開2006-135145号公報等に記載されているようなヘキサアザトリフェニレン誘導体も同様に正孔輸送材料として用いることができる。
さらに不純物をドープしたp性の高い正孔輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4-297076号公報、特開2000-196140号公報、同2001-102175号公報の各公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。
また、特開平11-251067号公報、J.Huang et.al.著文献(Applied Physics Letters 80(2002),p.139)に記載されているような、いわゆるp型正孔輸送材料やp型-Si、p型-SiC等の無機化合物を用いることもできる。さらにIr(ppy)に代表されるような中心金属にIrやPtを有するオルトメタル化有機金属錯体も好ましく用いられる。
正孔輸送材料としては、上記のものを使用することができるが、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、アザトリフェニレン誘導体、有機金属錯体、芳香族アミンを主鎖又は側鎖に導入した高分子材料又はオリゴマー等が好ましく用いられる。
Examples of the triarylamine derivative include a benzidine type typified by α-NPD, a starburst type typified by MTDATA, and a compound having fluorene or anthracene in the triarylamine connecting core portion.
Further, hexaazatriphenylene derivatives as described in JP-A-2003-591432 and JP-A-2006-135145 can also be used as the hole transport material in the same manner.
Further, a hole transport layer having a high p property doped with impurities can also be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, and JP-A-2001-102175. Apple. Phys. , 95, 5773 (2004) and the like.
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-251067, J. Mol. Hung et. al. So-called p-type hole transport materials and inorganic compounds such as p-type-Si and p-type-SiC, as described in the authored literature (Applied Physics Letters 80 (2002), p. 139), can also be used. Further, an orthometalated organometallic complex having Ir or Pt in the central metal as typified by Ir (ppy) 3 is also preferably used.
As the hole transport material, the above-mentioned materials can be used, but a triarylamine derivative, a carbazole derivative, an indolocarbazole derivative, an azatriphenylene derivative, an organic metal complex, and an aromatic amine are introduced into the main chain or the side chain. High molecular weight materials or oligomers are preferably used.

本発明に係る有機EL素子に用いられる、公知の好ましい正孔輸送材料の具体例としては、上記で挙げた文献の他、以下の文献に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
例えば、Appl. Phys. Lett. 69, 2160 (1996)、J. Lumin. 72-74, 985 (1997)、Appl. Phys. Lett. 78, 673 (2001)、Appl. Phys. Lett. 90, 183503
(2007)、Appl. Phys. Lett. 90, 183503 (2007)
、Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987)、Synth. Met. 87, 171 (1997)、Synth. Met. 91, 209 (1997
)、Synth. Met. 111,421 (2000)、SID SymposiumDigest, 37, 923 (2006)、J. Mater. Chem. 3, 319 (1993)、Adv. Mater. 6, 677 (1994)、Chem. Mater. 15,3148 (2003)、米国特許公開第2003/0162053号、米国特許公開第2002/0158242号、米国特許公開第2006/0240279号、米国特許公開第2008/0220265号、米国特許第5061569号、国際公開第2007/002683号、国際公開第2009/018009号、EP650955、米国特許公開第2008/0124572号、米国特許公開第2007/0278938号、米国特許公開第2008/0106190号、米国特許公開第2008/0018221号、
国際公開第2012/115034号、特表2003-519432号公報、特開2006-135145号、米国特許出願番号13/585981号等である。
正孔輸送材料は単独で用いてもよく、また複数種を併用して用いてもよい。
Specific examples of known and preferable hole transporting materials used in the organic EL device according to the present invention include the compounds described in the following documents in addition to the above-mentioned documents, and the present invention includes these. Not limited.
For example, Appl. Phys. Let. 69, 2160 (1996), J. Mol. Lumin. 72-74, 985 (1997), Appl. Phys. Let. 78, 673 (2001), Appl. Phys. Let. 90, 183503
(2007), Appl. Phys. Let. 90, 183503 (2007)
, Apple. Phys. Let. 51, 913 (1987), Synth. Met. 87, 171 (1997), Synth. Met. 91, 209 (1997)
), Synth. Met. 111,421 (2000), SID SymposiumDigest, 37, 923 (2006), J. Mol. Mater. Chem. 3, 319 (1993), Adv. Mater. 6, 677 (1994), Chem. Mater. 15, 3148 (2003), US Patent Publication No. 2003/0162053, US Patent Publication No. 2002/0158242, US Patent Publication No. 2006/0240279, US Patent Publication No. 2008/0220265, US Patent No. 5061569, International Publication No. 2007/002683, International Publication No. 2009/01809, EP650955, US Patent Publication No. 2008/01245772, US Patent Publication No. 2007/02789938, US Patent Publication No. 2008/0106190, US Patent Publication No. 2008/ No. 0018221,
International Publication No. 2012/11534, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-591432, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-135145, US Patent Application No. 13/585981, and the like.
The hole transporting material may be used alone or in combination of two or more.

《電子阻止層》
電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有する層であり、好ましくは正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
また、前述する正孔輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係る電子阻止層として用いることができる。
前記電子阻止層は、発光層の陽極側に隣接して設けられることが好ましい。
また、電子阻止層の膜厚としては、好ましくは3~100nmの範囲内であり、さらに好ましくは5~30nmの範囲内である。
電子阻止層に用いられる材料としては、前述の正孔輸送層に用いられる材料が好ましく用いられ、また、前述のホスト化合物として用いられる材料も電子阻止層に好ましく用いられる。
《Electronic blocking layer》
The electron blocking layer is a layer having a function of a hole transporting layer in a broad sense, and is preferably made of a material having a function of transporting holes and a small ability to transport electrons, and is composed of a material having a small ability to transport electrons while transporting holes. It is possible to improve the recombination probability of electrons and holes by blocking the above.
Further, the structure of the hole transport layer described above can be used as an electron blocking layer according to the present invention, if necessary.
The electron blocking layer is preferably provided adjacent to the anode side of the light emitting layer.
The film thickness of the electron blocking layer is preferably in the range of 3 to 100 nm, and more preferably in the range of 5 to 30 nm.
As the material used for the electron blocking layer, the material used for the hole transporting layer described above is preferably used, and the material used as the host compound described above is also preferably used for the electron blocking layer.

《正孔注入層》
本発明に係る正孔注入層(「陽極バッファー層」ともいう)とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために陽極と発光層との間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123~166頁)に詳細に記載されている。
本発明において正孔注入層は必要に応じて設け、上記のように陽極と発光層又は陽極と正孔輸送層との間に存在させてもよい。
《Hole injection layer》
The hole injection layer (also referred to as “anode buffer layer”) according to the present invention is a layer provided between the anode and the light emitting layer in order to reduce the driving voltage and improve the emission brightness, and is referred to as an “organic EL element”. It is described in detail in Volume 2, Chapter 2, "Electrode Materials" (pages 123-166) of "The Forefront of Industrialization (Published by NTS, November 30, 1998)".
In the present invention, the hole injection layer may be provided as needed and may be present between the anode and the light emitting layer or between the anode and the hole transport layer as described above.

正孔注入層は、特開平9-45479号公報、同9-260062号公報、同8-288069号公報等にもその詳細が記載されており、正孔注入層に用いられる材料としては、例えば前述の正孔輸送層に用いられる材料等が挙げられる。
中でも銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニン誘導体、特表2003-519432や特開2006-135145等に記載されているようなヘキサアザトリフェニレン誘導体、酸化バナジウムに代表される金属酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子、トリス(2-フェニルピリジン)イリジウム錯体等に代表されるオルトメタル化錯体、トリアリールアミン誘導体等が好ましい。
前述の正孔注入層に用いられる材料は単独で用いてもよく、また複数種を併用して用いてもよい。
The details of the hole injection layer are described in JP-A-9-45479, 9-2660062, 8-288609, etc., and examples of the material used for the hole injection layer include. Examples thereof include materials used for the hole transport layer described above.
Among them, phthalocyanine derivatives typified by copper phthalocyanine, hexaazatriphenylene derivatives as described in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-591432 and JP-A-2006-135145, metal oxides typified by vanadium oxide, amorphous carbon, polyaniline (emeral). Conductive polymers such as din) and polythiophene, orthometallated complexes typified by tris (2-phenylpyridine) iridium complexes, triarylamine derivatives and the like are preferred.
The material used for the hole injection layer described above may be used alone or in combination of two or more.

《含有物》
前述した本発明における有機層は、さらに他の含有物が含まれていてもよい。
含有物としては、例えば臭素、ヨウ素及び塩素等のハロゲン元素やハロゲン化化合物、Pd、Ca、Na等のアルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属の化合物や錯体、塩等が挙げられる。
含有物の含有量は、任意に決定することができるが、含有される層の全質量%に対して1000ppm以下であることが好ましく、より好ましくは500ppm以下であり、さらに好ましくは50ppm以下である。
ただし、電子や正孔の輸送性を向上させる目的や、励起子のエネルギー移動を有利にするための目的などによってはこの範囲内ではない。
<< Ingredients >>
The organic layer in the present invention described above may further contain other inclusions.
Examples of the inclusions include halogen elements such as bromine, iodine and chlorine, halogenated compounds, alkali metals and alkaline earth metals such as Pd, Ca and Na, compounds and complexes of transition metals, salts and the like.
The content of the content can be arbitrarily determined, but is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, still more preferably 50 ppm or less, based on the total mass% of the contained layer. ..
However, it is not within this range depending on the purpose of improving the transportability of electrons and holes and the purpose of favoring the energy transfer of excitons.

《陽極》
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上、好ましくは4.5V以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Au等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。また、IDIXO(In-ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。
"anode"
As the anode in the organic EL element, a metal, an alloy, an electrically conductive compound having a large work function (4 eV or more, preferably 4.5 V or more) and a mixture thereof as an electrode material are preferably used. Specific examples of such an electrode material include metals such as Au, and conductive transparent materials such as CuI, indium zinc oxide (ITO), SnO 2 , and ZnO. Further, a material such as IDIXO (In 2 O 3 -ZnO) that is amorphous and can produce a transparent conductive film may be used.

陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、又はパターン精度を余り必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。
又は、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/sq.以下が好ましい。
陽極の膜厚は材料にもよるが、通常10nm~1μm、好ましくは10~200nmの範囲で選ばれる。
For the anode, a thin film may be formed by forming a thin film of these electrode materials by a method such as thin film deposition or sputtering, and a pattern having a desired shape may be formed by a photolithography method, or when pattern accuracy is not required so much (about 100 μm or more). The pattern may be formed through a mask having a desired shape during vapor deposition or sputtering of the electrode material.
Alternatively, when a coatable substance such as an organic conductive compound is used, a wet film forming method such as a printing method or a coating method can also be used. When emitting light from this anode, it is desirable to increase the transmittance to more than 10%, and the sheet resistance as the anode is several hundred Ω / sq. The following is preferable.
The film thickness of the anode depends on the material, but is usually selected in the range of 10 nm to 1 μm, preferably 10 to 200 nm.

《陰極》
陰極としては仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する。)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム-カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム、希土類金属等が挙げられる。
これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。
"cathode"
As the cathode, a metal having a small work function (4 eV or less) (referred to as an electron-injectable metal), an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof as an electrode material is used. Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O). 3 ) Examples include mixtures, indium, lithium / aluminum mixtures, aluminum, rare earth metals and the like.
Among these, from the viewpoint of electron injectability and durability against oxidation and the like, a mixture of an electron injectable metal and a second metal which is a stable metal having a larger work function value than this, for example, a magnesium / silver mixture. A magnesium / aluminum mixture, a magnesium / indium mixture, an aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, a lithium / aluminum mixture, aluminum and the like are suitable.

陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/sq.以下が好ましく、膜厚は通常10nm~5μm、好ましくは50~200nmの範囲で選ばれる。
なお、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極又は陰極のいずれか一方が透明又は半透明であれば発光輝度が向上し好ましい。
また、陰極に上記金属を1~20nmの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げる導電性透明材料をその上に作製することで、透明又は半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。
The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. The sheet resistance as a cathode is several hundred Ω / sq. The following is preferable, and the film thickness is usually selected in the range of 10 nm to 5 μm, preferably 50 to 200 nm.
In order to transmit the emitted light, it is preferable that either the anode or the cathode of the organic EL element is transparent or translucent because the emission brightness is improved.
Further, a transparent or translucent cathode can be produced by producing the above metal on the cathode having a thickness of 1 to 20 nm and then producing the conductive transparent material mentioned in the description of the anode on the cathode. By applying the above, it is possible to manufacture an element in which both the anode and the cathode have transparency.

《支持基板》
本発明における有機EL素子に用いることのできる支持基板(以下、基体、基板、基材、支持体等ともいう。)としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。支持基板側から光を取り出す場合には、支持基板は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な支持基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい支持基板は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。
<< Support board >>
The type of support substrate (hereinafter, also referred to as a substrate, substrate, substrate, support, etc.) that can be used for the organic EL element in the present invention is not particularly limited, and is transparent. It may be opaque. When light is taken out from the support substrate side, the support substrate is preferably transparent. Examples of the transparent support substrate preferably used include glass, quartz, and a transparent resin film. A particularly preferable support substrate is a resin film capable of imparting flexibility to the organic EL element.

樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオ
タクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル又はポリアリレート類、アートン(商品名JSR社製)又はアペル(商品名三井化学社製)といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。
Examples of the resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate. CAP), cellulose ester phthalates, cellulose esters such as cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyetherketone, polyimide , Polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, polyetherimide, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic or polyarylates, Arton (trade name: JSR) or Appel. Examples thereof include cycloolefin-based resins (trade name: manufactured by Mitsui Kagaku Co., Ltd.).

樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、JIS K 7129-1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%RH)が0.01g/(m・24h)以下のバリア性フィルムであることが好ましく、さらには、JIS K 7126-1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が、10-3mL/(m・24h・atm)以下、水蒸気透過度が、10-5g/(m・24h)以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。 A film of an inorganic substance, an organic substance, or a hybrid film thereof may be formed on the surface of the resin film, and the water vapor permeability (25 ± 0.5 ° C.) measured by a method according to JIS K 7129-1992. , Relative humidity (90 ± 2)% RH) is preferably a barrier film of 0.01 g / ( m 2.24 h) or less, and oxygen measured by a method according to JIS K 7126-1987. A high barrier film having a transmittance of 10 -3 mL / ( m 2.24 h · atm) or less and a water vapor permeability of 10 -5 g / ( m 2.24 h) or less is preferable.

バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素等を用いることができる。さらに該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。 As the material for forming the barrier film, any material may be used as long as it has a function of suppressing the infiltration of a material that causes deterioration of the element such as moisture and oxygen, and for example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride and the like can be used. Further, in order to improve the vulnerability of the film, it is more preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers made of an organic material. The stacking order of the inorganic layer and the organic layer is not particularly limited, but it is preferable to stack the inorganic layer and the organic layer alternately a plurality of times.

バリア膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができるが、特開2004-68143号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。 The method for forming the barrier film is not particularly limited, and for example, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, a reactive sputtering method, a molecular beam epitaxy method, a cluster ion beam method, an ion plating method, a plasma polymerization method, and an atmospheric pressure plasma polymerization method. , Plasma CVD method, laser CVD method, thermal CVD method, coating method and the like can be used, but the atmospheric pressure plasma polymerization method as described in JP-A-2004-68143 is particularly preferable.

不透明な支持基板としては、例えば、アルミ、ステンレス等の金属板、フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。
本発明に係る有機EL素子の発光の室温における外部取り出し量子効率は、1%以上であることが好ましく、5%以上であるとより好ましい。
ここで、外部取り出し量子効率(%)=有機EL素子外部に発光した光子数/有機EL素子に流した電子数×100である。
また、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機EL素子からの発光色を蛍光体を用いて多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。
Examples of the opaque support substrate include metal plates such as aluminum and stainless steel, films and opaque resin substrates, and ceramic substrates.
The quantum efficiency of light emission of the organic EL device according to the present invention at room temperature is preferably 1% or more, more preferably 5% or more.
Here, the external extraction quantum efficiency (%) = the number of photons emitted to the outside of the organic EL element / the number of electrons passed through the organic EL element × 100.
Further, a hue improving filter such as a color filter may be used in combination, or a color conversion filter that converts the emission color from the organic EL element into multiple colors by using a phosphor may be used in combination.

<有機EL素子の作製方法>
本発明における有機層(正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層等)の形成方法について説明する。
前記有機層の形成方法は、特に制限はなく、従来公知の例えば真空蒸着法、湿式法(ウェットプロセスともいう)等による形成方法を用いることができ、本発明の有機エレクトロニクス材料を用いる場合には、湿式法を用いることが好ましい。
湿式法としては、例えばグラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法等の印刷法のほか、スピンコート法、キャスト法、インクジェット印刷法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、ロールコート法、ディップコート法、スプレーコート法、カーテンコート法、ドクターコート法、LB法(ラングミュア-ブロジェット法)等があるが、塗布液を容易に精度良く塗布することが可能で、かつ高生産性の点から、インクジェットヘッドを用いたインクジェット印刷法により塗布することがより好ましい。
<Method of manufacturing organic EL element>
A method for forming an organic layer (hole injection layer, hole transport layer, light emitting layer, hole blocking layer, electron transport layer, electron injection layer, etc.) in the present invention will be described.
The method for forming the organic layer is not particularly limited, and a conventionally known forming method such as a vacuum vapor deposition method or a wet method (also referred to as a wet process) can be used, and when the organic electronic material of the present invention is used, the organic layer is formed. , It is preferable to use a wet method.
As the wet method, for example, in addition to printing methods such as gravure printing method, flexographic printing method, screen printing method, spin coating method, casting method, inkjet printing method, die coating method, blade coating method, bar coating method, roll coating method, etc. There are dip coating method, spray coating method, curtain coating method, doctor coating method, LB method (Langmuir-Blogjet method), etc., but the coating liquid can be applied easily and accurately, and it is highly productive. Therefore, it is more preferable to apply by an inkjet printing method using an inkjet head.

さらに層毎に異なる製膜法を適用してもよい。製膜に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度50~450℃、真空度10-6~10-2Pa、蒸着速度0.01~50nm/秒、基板温度-50~300℃、膜厚0.1nm~5μm、好ましくは5~200nmの範囲で適宜選ぶことが望ましい。
本発明における有機層の形成は、1回の真空引きで一貫して正孔注入層から陰極まで作製するのが好ましいが、途中で取り出して異なる製膜法を施してもかまわない。その際は作業を乾燥不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
Further, a different film forming method may be applied to each layer. When a thin-film deposition method is used for film formation, the vapor deposition conditions vary depending on the type of compound used, but generally the boat heating temperature is 50 to 450 ° C, the vacuum degree is 10-6 to 10-2 Pa, and the vapor deposition rate is 0.01 to. It is desirable to appropriately select in the range of 50 nm / sec, substrate temperature -50 to 300 ° C., film thickness 0.1 nm to 5 μm, preferably 5 to 200 nm.
The formation of the organic layer in the present invention is preferably carried out consistently from the hole injection layer to the cathode by one vacuuming, but it may be taken out in the middle and a different film forming method may be applied. In that case, it is preferable to carry out the work in a dry inert gas atmosphere.

《インクジェットヘッド》
本発明に適用可能なインクジェットヘッドは、例えば、特開2012-140017号公報、特開2013-010227号公報、特開2014-058171号公報、特開2014-097644号公報、特開2015-142979号公報、特開2015-142980号公報、特開2016-002675号公報、特開2016-002682号公報、特開2016-107401号公報、特開2017-109476号公報、特開2017-177626号公報等に記載されている構成からなるインクジェットヘッドを適宜選択して適用することができる。
《Inkjet head》
The inkjet heads applicable to the present invention are, for example, JP-A-2012-140017, JP-A-2013-010227, JP-A-2014-058171, JP-A-2014-097644, JP-A-2015-142979. JP-A-2015-142980, JP-A-2016-002675, JP-A-2016-002682, JP-A-2016-107401, JP-A-2017-109476, JP-A-2017-177626, etc. An inkjet head having the configuration described in the above can be appropriately selected and applied.

湿式法に用いる塗布液は、有機層を形成する材料が液媒体に均一に溶解される溶液でも、材料が固形分として液媒体に分散される分散液でも良い。分散方法としては、超音波、高剪断力分散やメディア分散等の分散方法により分散することができる。
液媒体としては、特に制限はなく、例えば、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、ジクロロヘキサノン等のハロゲン系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、n-プロピルメチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族系溶媒、シクロヘキサン、デカリン、ドデカン等の脂肪族系溶媒、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸n-ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ-ブチロラクトン、炭酸ジエチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、メタノール、エタノール、1-ブタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルスルホキシド、水又はこれらの混合液媒体等が挙げられる。
これらの液媒体の沸点としては、迅速に液媒体を乾燥させる観点から乾燥処理の温度未満の沸点が好ましく、具体的には60~200℃の範囲内が好ましく、さらに好ましくは、80~180℃の範囲内である。
The coating liquid used in the wet method may be a solution in which the material forming the organic layer is uniformly dissolved in the liquid medium, or a dispersion liquid in which the material is dispersed in the liquid medium as a solid content. As a dispersion method, it can be dispersed by a dispersion method such as ultrasonic wave, high shear force dispersion or media dispersion.
The liquid medium is not particularly limited, and is, for example, a halogen-based solvent such as chloroform, carbon tetrachloride, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, dichlorobenzene, dichlorohexanone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, n-. Ketone solvents such as propylmethylketone and cyclohexanone, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene and cyclohexylbenzene, aliphatic solvents such as cyclohexane, decalin and dodecane, ethyl acetate, n-propyl acetate, n acetate. -Ester solvents such as butyl, methyl propionate, ethyl propionate, γ-butyrolactone, diethyl carbonate, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, amide solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide, methanol, ethanol and 1-butanol. , Alcohol-based solvent such as ethylene glycol, nitrile-based solvent such as acetonitrile and propionitrile, dimethyl sulfoxide, water or a mixed solution medium thereof and the like.
The boiling point of these liquid media is preferably a boiling point lower than the temperature of the drying treatment from the viewpoint of quickly drying the liquid medium, specifically in the range of 60 to 200 ° C, more preferably 80 to 180 ° C. Is within the range of.

塗布液は、塗布範囲を制御する目的や、塗布後の表面張力勾配に伴う液流動(例えば、コーヒーリングと呼ばれる現象を引き起こす液流動)を抑制する目的に応じて、界面活性剤を含有することができる。
界面活性剤としては、溶媒に含まれる水分の影響、レベリング性、基板f1への濡れ性等の観点から、例えばアニオン性又はノニオン性の界面活性剤等が挙げられる。具体的には、含フッ素系活性剤等、国際公開第08/146681号、特開平2-41308号公報等に挙げられた界面活性剤を用いることができる。
The coating liquid contains a surfactant for the purpose of controlling the coating range and suppressing the liquid flow associated with the surface tension gradient after coating (for example, the liquid flow that causes a phenomenon called coffee ring). Can be done.
Examples of the surfactant include anionic or nonionic surfactants from the viewpoint of the influence of water contained in the solvent, leveling property, wettability to the substrate f1 and the like. Specifically, the surfactants listed in International Publication No. 08/146681, JP-A-2-41308, etc., such as fluorine-containing activators, can be used.

塗布膜の粘度についても、膜厚と同様に、有機層として必要とされる機能と有機材料の溶解度又は分散性により、適宜選択することが可能で、具体的には例えば0.3~100mPa・sの範囲内で選択することができる。
塗布膜の膜厚は、有機層として必要とされる機能と有機材料の溶解度又は分散性により適宜選択することが可能で、具体的には例えば1~90μmの範囲内で選択することができる。
湿式法により塗布膜を形成した後、上述した液媒体を除去する塗布工程を有することができる。乾燥工程の温度は特に制限されないが、有機層や透明電極や基材が損傷しない程度の温度で乾燥処理することが好ましい。具体的には、塗布液の組成等によって異なるため一概には言えないが、例えば、80℃以上の温度とすることができ、上限は300℃程度までは可能な領域と考えられる。時間は10秒以上10分以下程度とすることが好ましい。このような条件とすることにより、乾燥を迅速に行うことができる。
Similar to the film thickness, the viscosity of the coating film can be appropriately selected depending on the function required as the organic layer and the solubility or dispersibility of the organic material. Specifically, for example, 0.3 to 100 mPa. It can be selected within the range of s.
The film thickness of the coating film can be appropriately selected depending on the function required as the organic layer and the solubility or dispersibility of the organic material, and specifically, can be selected in the range of, for example, 1 to 90 μm.
After forming the coating film by the wet method, it is possible to have a coating step of removing the above-mentioned liquid medium. The temperature of the drying step is not particularly limited, but it is preferable to perform the drying treatment at a temperature that does not damage the organic layer, the transparent electrode, or the base material. Specifically, it cannot be said unconditionally because it differs depending on the composition of the coating liquid and the like, but for example, the temperature can be set to 80 ° C. or higher, and the upper limit is considered to be a possible region up to about 300 ° C. The time is preferably about 10 seconds or more and 10 minutes or less. Under such conditions, drying can be performed quickly.

《封止》
有機EL素子の封止に用いられる封止手段としては、例えば、封止部材と、電極、支持基板とを接着剤で接着する方法を挙げることができる。封止部材としては、有機EL素子の表示領域を覆うように配置されていればよく、凹板状でも、平板状でもよい。また、透明性、電気絶縁性は特に限定されない。
具体的には、ガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる1種以上の金属又は合金からなるものが挙げられる。
《Sealing》
Examples of the sealing means used for sealing the organic EL element include a method of adhering the sealing member, the electrode, and the support substrate with an adhesive. The sealing member may be arranged so as to cover the display area of the organic EL element, and may be intaglio-shaped or flat-plate-shaped. Further, transparency and electrical insulation are not particularly limited.
Specific examples thereof include a glass plate, a polymer plate / film, and a metal plate / film. Examples of the glass plate include soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz. Examples of the polymer plate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, polysulfone and the like. Examples of the metal plate include those made of one or more metals or alloys selected from the group consisting of stainless steel, iron, copper, aluminum, magnesium, nickel, zinc, chromium, titanium, molybdenum, silicon, germanium and tantalum.

本発明においては、有機EL素子を薄膜化できるということからポリマーフィルム、金属フィルムを好ましく使用することができる。さらには、ポリマーフィルムはJIS K
7126-1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が1×10-3mL/m/24h以下、JIS K 7129-1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%)が、1×10-3g/(m/24h)以下のものであることが好ましい。
In the present invention, a polymer film or a metal film can be preferably used because the organic EL element can be made into a thin film. Furthermore, the polymer film is JIS K.
Oxygen permeability measured by a method according to 7126-1987 is 1 × 10 -3 mL / m 2 / 24h or less, and water vapor transmission rate (25 ± 0. 5 ° C., relative humidity (90 ± 2)%) is preferably 1 × 10 -3 g / (m 2 / 24h) or less.

封止部材を凹状に加工するのは、サンドブラスト加工、化学エッチング加工等が使われる。
接着剤として具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、2-シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系等の熱及び化学硬化型(二液混合)を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。
なお、有機EL素子が熱処理により劣化する場合があるので、室温から80℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、前記接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。封止部分への接着剤の塗布は市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。
Sandblasting, chemical etching, etc. are used to process the sealing member into a concave shape.
Specific examples of the adhesive include acrylic acid-based oligomers, photocurable and thermosetting adhesives having a reactive vinyl group of methacrylic acid-based oligomers, and moisture-curable adhesives such as 2-cyanoacrylic acid ester. be able to. In addition, heat and chemical curing type (two-component mixing) such as epoxy type can be mentioned. Further, hot melt type polyamide, polyester and polyolefin can be mentioned. Further, a cation-curable type ultraviolet-curable epoxy resin adhesive can be mentioned.
Since the organic EL element may be deteriorated by heat treatment, it is preferable that the organic EL element can be adhesively cured from room temperature to 80 ° C. Further, the desiccant may be dispersed in the adhesive. A commercially available dispenser may be used to apply the adhesive to the sealed portion, or printing may be performed as in screen printing.

また、有機層を挟み支持基板と対向する側の電極の外側に該電極と有機層を被覆し、支持基板と接する形で無機物、有機物の層を形成し封止膜とすることも好適にできる。この場合、該膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素等を用いることができる。 Further, it is also possible to preferably cover the electrode and the organic layer on the outside of the electrode on the side facing the support substrate by sandwiching the organic layer, and form a layer of an inorganic substance or an organic substance in contact with the support substrate to form a sealing film. .. In this case, the material for forming the film may be any material having a function of suppressing infiltration of a material that causes deterioration of the element such as moisture and oxygen, and for example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride or the like may be used. can.

さらに該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることが好ましい。これらの膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラ
スターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができる。
Further, in order to improve the vulnerability of the film, it is preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers made of an organic material. The method for forming these films is not particularly limited, and for example, vacuum deposition method, sputtering method, reactive sputtering method, molecular beam epitaxy method, cluster ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma weight. Legal, plasma CVD method, laser CVD method, thermal CVD method, coating method and the like can be used.

封止部材と有機EL素子の表示領域との間隙には、気相及び液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコーンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また、真空とすることも可能である。また、内部に吸湿性化合物を封入することもできる。
吸湿性化合物としては、金属酸化物(例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等)、硫酸塩(例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等)、金属ハロゲン化物(例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、ヨウ化バリウム、ヨウ化マグネシウム等)、過塩素酸類(例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等)等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。
In the gas phase and liquid phase, an inert gas such as nitrogen or argon or an inert liquid such as fluorinated hydrocarbon or silicone oil may be injected into the gap between the sealing member and the display region of the organic EL element. preferable. It is also possible to create a vacuum. Further, a hygroscopic compound can be enclosed inside.
Examples of the hygroscopic compound include metal oxides (eg, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, barium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, etc.) and sulfates (eg, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, cobalt sulfate, etc.). , Metal halides (eg calcium chloride, magnesium chloride, cesium fluoride, tantalum fluoride, cerium bromide, magnesium bromide, barium iodide, magnesium iodide, etc.), perchlorates (eg, barium perchlorate, etc.) Magnesium iodide, etc.) and the like, and anhydrous salts are preferably used for sulfates, metal halides and perchlorates.

《保護膜、保護板》
有機層を挟み支持基板と対向する側の前記封止膜又は前記封止用フィルムの外側に、素子の機械的強度を高めるために、保護膜又は保護板を設けてもよい。特に、封止が前記封止膜により行われている場合には、その機械的強度は必ずしも高くないため、このような保護膜、保護板を設けることが好ましい。これに使用することができる材料としては、前記封止に用いたのと同様なガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等を用いることができるが、軽量かつ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。
《Protective film, protective plate》
A protective film or a protective plate may be provided on the outside of the sealing film or the sealing film on the side facing the support substrate with the organic layer sandwiched in order to increase the mechanical strength of the element. In particular, when the sealing is performed by the sealing film, the mechanical strength thereof is not necessarily high, so it is preferable to provide such a protective film and a protective plate. As the material that can be used for this, a glass plate, a polymer plate / film, a metal plate / film, etc. similar to those used for the sealing can be used, but the polymer film is lightweight and thin. It is preferable to use.

《光取り出し向上技術》
本発明における有機EL素子は、空気よりも屈折率の高い(屈折率1.6~2.1程度の範囲内)層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち15%から20%程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面(透明基板と空気との界面)に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことができないことや、透明電極又は発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極又は発光層を導波し、結果として、光が素子側面方向に逃げるためである。
<< Technology for improving light extraction >>
The organic EL element in the present invention emits light inside a layer having a refractive index higher than that of air (within a refractive index of about 1.6 to 2.1), and 15% to 20% of the light generated in the light emitting layer. It is generally said that only a degree of light can be taken out. This is because light incident on the interface (intersection between the transparent substrate and air) at an angle θ equal to or higher than the critical angle causes total internal reflection and cannot be taken out to the outside of the element, and the transparent electrode or light emitting layer and the transparent substrate This is because the light causes total internal reflection, the light is waveguideed through the transparent electrode or the light emitting layer, and as a result, the light escapes toward the side surface of the element.

この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法(例えば、米国特許第4774435号明細書)、基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法(例えば、特開昭63-314795号公報)、素子の側面等に反射面を形成する方法(例えば、特開平1-220394号公報)、基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法(例えば、特開昭62-172691号公報)、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法(例えば、特開2001-202827号公報)、基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法(特開平11-283751号公報)などが挙げられる。 As a method for improving the efficiency of light extraction, for example, a method of forming irregularities on the surface of a transparent substrate to prevent total reflection at the interface between the transparent substrate and the air (for example, US Pat. No. 4,774,435), the substrate. A method of improving efficiency by providing light-collecting property (for example, JP-A-63-314795), a method of forming a reflective surface on a side surface of an element (for example, JP-A 1-220394), a substrate. A method of forming an antireflection film by introducing a flat layer having an intermediate refractive index between the light emitter and the light emitter (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-172691), a method of introducing a flat layer having an intermediate refractive index between the substrate and the light emitter, which has a lower refractive index than the substrate. A method of introducing a flat layer having a refractive index (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-202827), a method of forming a diffraction lattice between layers (including, between the substrate and the outside world) of a substrate, a transparent electrode layer, or a light emitting layer (inclusive). Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-283751) and the like.

本発明においては、これらの方法を前記有機EL素子と組み合わせて用いることができるが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、又は基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法を好適に用いることができる。
透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚さで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど、外部への取り出し効率が高くなる。
本発明は、これらの手段を組み合わせることにより、さらに高輝度又は耐久性に優れた
素子を得ることができる。
In the present invention, these methods can be used in combination with the organic EL element, but a method of introducing a flat layer having a lower refractive index than the substrate between the substrate and the light emitter, or a substrate and a transparent electrode layer. A method of forming a diffraction grating between any layer (including between the substrate and the outside world) of the light emitting layer can be preferably used.
When a medium with a low refractive index is formed between the transparent electrode and the transparent substrate with a thickness longer than the wavelength of light, the light emitted from the transparent electrode has a higher efficiency of being taken out to the outside as the refractive index of the medium is lower. Become.
In the present invention, by combining these means, it is possible to obtain an element having higher brightness or excellent durability.

低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマーなどが挙げられる。透明基板の屈折率は一般に1.5~1.7程度の範囲内であるので、低屈折率層は、屈折率がおよそ1.5以下であることが好ましい。またさらに1.35以下であることが好ましい。
また、低屈折率媒質の厚さは、媒質中の波長の2倍以上となるのが望ましい。これは、低屈折率媒質の厚さが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。
Examples of the low refractive index layer include airgel, porous silica, magnesium fluoride, and a fluorine-based polymer. Since the refractive index of the transparent substrate is generally in the range of about 1.5 to 1.7, it is preferable that the low refractive index layer has a refractive index of about 1.5 or less. Further, it is preferably 1.35 or less.
Further, it is desirable that the thickness of the low refractive index medium is at least twice the wavelength in the medium. This is because the effect of the low refractive index layer diminishes when the thickness of the low refractive index medium becomes about the wavelength of light and the film thickness of the electromagnetic wave exuded by evanescent enters the substrate.

全反射を起こす界面又は、いずれかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は、回折格子が1次の回折や、2次の回折といった、いわゆるブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることができる性質を利用して、発光層から発生した光のうち、層間での全反射等により外に出ることができない光を、いずれかの層間又は、媒質中(透明基板内や透明電極内)に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。
導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは、発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な一次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。
しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。
回折格子を導入する位置としては、いずれかの層間、又は媒質中(透明基板内や透明電極内)でも良いが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。このとき、回折格子の周期は、媒質中の光の波長の約1/2~3倍程度の範囲内が好ましい。回折格子の配列は、正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状など、二次元的に配列が繰り返されることが好ましい。
The method of introducing a diffraction grating in an interface that causes total internal reflection or in any of the media is characterized by a high effect of improving the light extraction efficiency. This method is generated from the light emitting layer by utilizing the property that the diffraction lattice can change the direction of light to a specific direction different from the diffraction by so-called Bragg diffraction such as first-order diffraction and second-order diffraction. Of the generated light, the light that cannot go out due to total reflection between the layers is diffracted by introducing a diffraction lattice into either layer or in the medium (inside the transparent substrate or transparent electrode). , Trying to get the light out.
It is desirable that the diffraction grating to be introduced has a two-dimensional periodic refractive index. This is because the light emitted by the light emitting layer is randomly generated in all directions, so in a general one-dimensional diffraction grating that has a periodic refractive index distribution only in one direction, only the light traveling in a specific direction is diffracted. The light extraction efficiency does not increase so much.
However, by making the refractive index distribution a two-dimensional distribution, the light traveling in all directions is diffracted, and the light extraction efficiency is improved.
The position where the diffraction grating is introduced may be in any of the layers or in the medium (inside the transparent substrate or in the transparent electrode), but it is preferably in the vicinity of the organic light emitting layer where light is generated. At this time, the period of the diffraction grating is preferably in the range of about 1/2 to 3 times the wavelength of the light in the medium. As for the arrangement of the diffraction grating, it is preferable that the arrangement is repeated two-dimensionally, such as a square lattice shape, a triangular lattice shape, and a honeycomb lattice shape.

《集光シート》
本発明における有機EL素子は、支持基板(基板)の光取出し側に、例えばマイクロレンズアレイ上の構造を設けるように加工すること、又は、いわゆる集光シートと組み合わせることにより、特定方向、例えば素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。
マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が30μmでその頂角が90度となるような四角錐を二次元に配列する。一辺は10~100μmの範囲内が好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚さが厚くなり好ましくない。
《Condensing sheet》
The organic EL element in the present invention is processed so as to provide a structure on a microlens array, for example, on the light extraction side of a support substrate (board), or by combining with a so-called condensing sheet, for example, an element in a specific direction. By condensing light in the front direction with respect to the light emitting surface, it is possible to increase the brightness in a specific direction.
As an example of a microlens array, a quadrangular pyramid having a side of 30 μm and an apex angle of 90 degrees is arranged two-dimensionally on the light extraction side of the substrate. One side is preferably in the range of 10 to 100 μm. If it is smaller than this, the effect of diffraction is generated and it is colored, and if it is too large, the thickness becomes thick, which is not preferable.

集光シートとしては、例えば液晶表示装置のLEDバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとして例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム(BEF)などを用いることができる。プリズムシートの形状としては、例えば基材に頂角90度、ピッチ50μmの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であっても良い。
また、有機EL素子からの光放射角を制御するために光拡散板・フィルムを、集光シートと併用してもよい。例えば、(株)きもと製拡散フィルム(ライトアップ)などを用いることができる。
As the light-collecting sheet, for example, a light-collecting sheet that has been put into practical use in an LED backlight of a liquid crystal display device can be used. As such a sheet, for example, a luminance increasing film (BEF) manufactured by Sumitomo 3M Ltd. can be used. The shape of the prism sheet may be, for example, a base material having a Δ-shaped stripe having an apex angle of 90 degrees and a pitch of 50 μm, or a shape having a rounded apex angle and a random pitch change. It may have a random shape or any other shape.
Further, a light diffusing plate / film may be used in combination with the light collecting sheet in order to control the light emission angle from the organic EL element. For example, a diffusion film (lighted up) manufactured by Kimoto Co., Ltd. can be used.

《用途》
本発明における有機EL素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用
いることができる。
発光光源として、例えば、照明装置(家庭用照明、車内照明)、時計や液晶用バックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特に液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
本発明における有機EL素子においては、必要に応じ成膜時にメタルマスクやインクジェット印刷法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよく、素子の作製においては、従来公知の方法を用いることができる。
《Use》
The organic EL element in the present invention can be used as a display device, a display, and various light emitting sources.
As the light source, for example, a lighting device (household lighting, interior lighting), a backlight for a clock or a liquid crystal, a signboard advertisement, a signal, a light source for an optical storage medium, a light source for an electrophotographic copying machine, a light source for an optical communication processor, and light. Examples thereof include, but are not limited to, a light source of a sensor, but the light source can be effectively used as a backlight of a liquid crystal display device and a light source for illumination.
In the organic EL element of the present invention, if necessary, patterning may be performed by a metal mask, an inkjet printing method, or the like at the time of film formation. In the case of patterning, only the electrode may be patterned, the electrode and the light emitting layer may be patterned, or the entire element layer may be patterned. In the production of the element, a conventionally known method is used. Can be done.

《照明装置の一態様≫
本発明における有機EL素子を具備した、照明装置の一態様について説明する。
前記有機EL素子の非発光面をガラスケースで覆い、厚さ300μmのガラス基板を封止用基板として用いて、周囲にシール材として、エポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成社製ラックストラックLC0629B)を適用し、これを陰極上に重ねて透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して、硬化させて、封止し、図1、図2に示すような照明装置を形成することができる。
図1は、照明装置の概略図を示し、本発明に係る有機EL素子101はガラスカバー102で覆われている(なお、ガラスカバーでの封止作業は、有機EL素子101を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス(純度99.999%以上の高純度窒素ガスの雰囲気下)で行った。)。
図2は、照明装置の断面図を示し、図2において、105は陰極、106は有機EL層、107は透明電極付きガラス基板を示す。なお、ガラスカバー102内には窒素ガス108が充填され、捕水剤109が設けられている。
<< One aspect of lighting equipment >>
An aspect of the lighting device provided with the organic EL element in the present invention will be described.
The non-light emitting surface of the organic EL element is covered with a glass case, a glass substrate having a thickness of 300 μm is used as a sealing substrate, and an epoxy-based photocurable adhesive (Luxtrac LC0629B manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is used as a sealing material around the glass substrate. ) Is applied, this is placed on the cathode and brought into close contact with the transparent support substrate, UV light is irradiated from the glass substrate side, the curing is performed, and the sealing is performed. Can be formed.
FIG. 1 shows a schematic view of a lighting device, and the organic EL element 101 according to the present invention is covered with a glass cover 102 (note that the sealing operation with the glass cover brings the organic EL element 101 into contact with the atmosphere. It was performed in a glove box under a nitrogen atmosphere (under an atmosphere of high-purity nitrogen gas having a purity of 99.999% or more).
FIG. 2 shows a cross-sectional view of a lighting device, in which 105 is a cathode, 106 is an organic EL layer, and 107 is a glass substrate with a transparent electrode. The glass cover 102 is filled with nitrogen gas 108, and a water catching agent 109 is provided.

[有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液]
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液は、前記有機エレクトロニクス材料を含有することを特徴とする。
前記有機エレクトロニクス材料を含有することで、当該有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液を用いて作製した有機EL素子が、深青色を発光し、発光効率及び発光寿命に優れ、低駆動電圧であり、また、駆動時の電圧上昇が抑えられ経時安定性に優れたものとすることができる。
[Solution for manufacturing organic electroluminescence device]
The solution for producing an organic electroluminescence element of the present invention is characterized by containing the organic electronic material.
By containing the organic electronics material, the organic EL device manufactured by using the organic electroluminescence device manufacturing solution emits deep blue light, has excellent light emission efficiency and light emission life, has a low drive voltage, and has a low drive voltage. It is possible to suppress the voltage rise during driving and to have excellent stability over time.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液は、例えば、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法等の印刷法のほか、スピンコート法、キャスト法、インクジェット印刷法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、ロールコート法、ディップコート法、スプレーコート法、カーテンコート法、ドクターコート法、LB法(ラングミュア-ブロジェット法)等により塗布されるが、有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液を容易に精度良く塗布することが可能で、かつ高生産性の点から、インクジェットヘッドを用いたインクジェット印刷法により塗布されることがより好ましい。 The solution for producing an organic electroluminescence element of the present invention includes, for example, a printing method such as a gravure printing method, a flexographic printing method, and a screen printing method, as well as a spin coating method, a casting method, an inkjet printing method, a die coating method, and a blade coating method. It is applied by the bar coat method, roll coat method, dip coat method, spray coat method, curtain coat method, doctor coat method, LB method (Langmuir-Bloget method), etc. From the viewpoint of high accuracy and high productivity, it is more preferable to apply by an inkjet printing method using an inkjet head.

有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液の液媒体への分散方法、液媒体の種類や、有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液が含有する界面活性剤、有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液が塗布されてなる塗布膜の粘度や膜厚については、前記「有機EL素子の作製方法」の項目で説明したとおりである。 A method for dispersing an organic electroluminescence device manufacturing solution in a liquid medium, the type of liquid medium, a surfactant contained in the organic electroluminescence device manufacturing solution, and a coating film to which the organic electroluminescence device manufacturing solution is applied. The viscosity and the film thickness are as described in the section of "Method for manufacturing an organic EL element".

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「体積%」を表す。また、実施例で使用した例示化合物D-1~D-40は、一般式(
1)で表される構造を有する化合物の具体例のD-1~D-40に対応する。また、実施例で使用した比較化合物1の構造を示す。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in the examples, it represents "volume%" unless otherwise specified. Moreover, the exemplary compounds D-1 to D-40 used in the examples have a general formula (
Corresponds to D-1 to D-40 of specific examples of the compound having the structure represented by 1). Moreover, the structure of the comparative compound 1 used in the Example is shown.

Figure 0007060490000010
Figure 0007060490000010

[実施例1]
《有機EL素子1-1の作製》
100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上に、陽極としてITO(インジウムチンオキシド)を100nmの厚さで成膜した基板(AvanStrate株式会社製、NA-45)にパターニングを行った。その後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
[Example 1]
<< Fabrication of organic EL element 1-1 >>
Patterning was performed on a substrate (NA-45 manufactured by AvanStrate Inc.) in which ITO (indium tin oxide) was formed as an anode on a 100 mm × 100 mm × 1.1 mm glass substrate to a thickness of 100 nm. Then, the transparent support substrate provided with the ITO transparent electrode was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone cleaning was performed for 5 minutes.

この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方モリブデン製抵抗加熱ボートに正孔注入材料としてHT-1を200mg入れ、別のモリブデン抵抗加熱ボートに正孔輸送材料としてHT-2を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにドーパントとして比較化合物1を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにホスト化合物としてHost-1を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートに正孔阻止材料としてET-1を200mg入れ、さらに別のモリブデン製抵抗加熱ボートに電子輸送材料としてET-2を200mg入れ、真空蒸着装置に取り付けた。 This transparent support substrate is fixed to the substrate holder of a commercially available vacuum vapor deposition device, while 200 mg of HT-1 is put into a molybdenum resistance heating boat as a hole injection material, and HT- is used as a hole transport material in another molybdenum resistance heating boat. Add 200 mg of 2 and 200 mg of comparative compound 1 as a dopant in another molybdenum resistance heating boat, 200 mg of Host-1 as a host compound in another molybdenum resistance heating boat, and holes in another molybdenum resistance heating boat. 200 mg of ET-1 was put as a blocking material, and 200 mg of ET-2 as an electron transporting material was put in another molybdenum resistance heating boat and attached to a vacuum vapor deposition apparatus.

次いで、真空槽を4×10-4Paまで減圧した後、HT-1の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で透明支持基板に蒸着し、層厚10nmの正孔注入層を形成した。 Next, after depressurizing the vacuum chamber to 4 × 10 -4 Pa, the heating boat containing HT-1 was energized and heated, and the film was vapor-deposited on a transparent support substrate at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec to a layer thickness of 10 nm. A hole injection layer was formed.

さらに、HT-2の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で正孔注入層上に蒸着し、層厚30nmの正孔輸送層を形成した。 Further, the heating boat containing HT-2 was energized and heated, and vapor deposition was carried out on the hole injection layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec to form a hole transport layer having a layer thickness of 30 nm.

さらに、比較化合物1とHost-1の入った加熱ボートに通電して加熱し、それぞれ蒸着速度0.1nm/秒、0.010nm/秒で正孔輸送層上に共蒸着し、層厚40nmの発光層を形成した。 Further, the heating boat containing Comparative Compound 1 and Host-1 was energized and heated, and co-deposited on the hole transport layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec and 0.010 nm / sec, respectively, to a layer thickness of 40 nm. A light emitting layer was formed.

さらに、ET-1の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で発光層上に蒸着し、層厚10nmの正孔阻止層を形成した。 Further, the heating boat containing ET-1 was energized and heated, and vapor deposition was carried out on the light emitting layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec to form a hole blocking layer having a layer thickness of 10 nm.

さらに、ET-2の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で正孔阻止層上に蒸着し、層厚30nmの電子輸送層を形成した。 Further, the heating boat containing ET-2 was energized and heated, and vapor deposition was carried out on the hole blocking layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec to form an electron transport layer having a layer thickness of 30 nm.

引き続き、フッ化リチウムを電子輸送層上に蒸着して層厚0.5nmの電子注入層(陰極バッファー層)を形成し、さらに、アルミニウムを電子注入層上に蒸着して厚さ110
nmの陰極を形成し、有機EL素子1-1を作製した。
本実施例において使用される化合物は、下記のとおりの化学構造式を有するものである。
Subsequently, lithium fluoride was deposited on the electron transport layer to form an electron injection layer (cathode buffer layer) having a layer thickness of 0.5 nm, and aluminum was further deposited on the electron injection layer to have a thickness of 110.
An organic EL element 1-1 was manufactured by forming a cathode having a nm.
The compound used in this example has the following chemical structural formula.

Figure 0007060490000011
Figure 0007060490000011

《有機EL素子1-2~1-41の作製》
有機EL素子1-1の作製において、比較化合物1を表Iに記載の化合物に変更した以外は同様にして、有機EL素子1-2~1-41を各々作製した。
<< Fabrication of organic EL elements 1-2 to 1-41 >>
In the production of the organic EL element 1-1, the organic EL elements 1-2 to 1-41 were produced in the same manner except that the comparative compound 1 was changed to the compounds shown in Table I.

《有機EL素子1-1~1-41の評価》
得られた有機EL素子1-1~1-41を評価するに際しては、作製後の各有機EL素子の非発光面をガラスケースで覆い、厚さ300μmのガラス基板を封止用基板として用いて、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成社製ラックストラックLC0629B)を適用し、これを陰極上に重ねて透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して硬化させて封止し、図1及び図2に示すような照明装置を作製した。
このようにして作製した各サンプルについて下記の評価を行った。評価結果を表Iに示す。
<< Evaluation of organic EL elements 1-1 to 1-41 >>
When evaluating the obtained organic EL elements 1-1 to 1-41, the non-light emitting surface of each organic EL element after production is covered with a glass case, and a glass substrate having a thickness of 300 μm is used as a sealing substrate. An epoxy-based photocurable adhesive (Luxtrac LC0629B manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.) is applied to the surroundings as a sealing material, which is layered on the cathode and brought into close contact with the transparent support substrate, and UV light is irradiated from the glass substrate side. It was cured and sealed to prepare a lighting device as shown in FIGS. 1 and 2.
The following evaluations were performed on each sample prepared in this way. The evaluation results are shown in Table I.

(1)外部取り出し量子効率(発光効率ともいう。)
有機EL素子を用いて室温(約23~25℃)、2.5mA/cmの定電流条件下による点灯を行い、点灯開始直後の発光輝度(L)[cd/m]を測定することにより、外部取り出し量子効率(η)を算出した。
ここで、発光輝度の測定はCS-1000(コニカミノルタ社製)を用いて行い、外部取り出し量子効率は有機EL素子1-1を100とする相対値で表した。
(1) External extraction quantum efficiency (also called luminous efficiency)
Using an organic EL element, lighting is performed under constant current conditions of room temperature (about 23 to 25 ° C.) and 2.5 mA / cm 2 , and the emission brightness (L) [cd / m 2 ] immediately after the start of lighting is measured. The external extraction quantum efficiency (η) was calculated.
Here, the emission luminance was measured using CS-1000 (manufactured by Konica Minolta), and the external extraction quantum efficiency was expressed as a relative value with the organic EL element 1-1 as 100.

(2)半減寿命
下記に示す測定方法に従って、半減寿命の評価を行った。各有機EL素子を初期輝度1000cd/mを与える電流で定電流駆動して、初期輝度の1/2(500cd/m)になる時間を求め、これを半減寿命の尺度とした。なお、半減寿命は有機EL素子1-1を100とする相対値で表した。
(2) Half-life The half-life was evaluated according to the measurement method shown below. Each organic EL element was driven with a constant current with a current giving an initial brightness of 1000 cd / m 2 , and the time to become 1/2 of the initial brightness (500 cd / m 2 ) was obtained, which was used as a measure of half life. The half-life was expressed as a relative value with the organic EL element 1-1 as 100.

(3)駆動電圧
有機EL素子を室温(約23~25℃)、2.5mA/cmの定電流条件下で駆動したときの電圧を各々測定し、その測定結果から下記に示すように、有機EL素子1-1を100とする相対値を求めた。
駆動電圧=(各素子の駆動電圧/有機EL素子1-1の駆動電圧)×100
なお、値が小さい方が比較例に対して駆動電圧が低いことを示す。
(3) Drive voltage The voltage when the organic EL element is driven at room temperature (about 23 to 25 ° C.) and under constant current conditions of 2.5 mA / cm 2 is measured, and the measurement results are as shown below. A relative value with the organic EL element 1-1 as 100 was obtained.
Drive voltage = (drive voltage of each element / drive voltage of organic EL element 1-1) × 100
The smaller the value, the lower the drive voltage as compared with the comparative example.

(4)駆動時の電圧上昇
有機EL素子を室温(約23~25℃)、2.5mA/cmの定電流条件下で駆動したときの電圧を各々測定し、その測定結果から下記計算式より駆動時の電圧上昇を求めた。なお、駆動時の電圧上昇は有機EL素子1-1を100とする相対値で表した。
駆動時の電圧上昇(相対値)=輝度半減時の駆動電圧-初期駆動電圧
なお、値が小さいほうが比較例に対して駆動時の電圧上昇が小さいことを示す。
(4) Voltage rise during driving The voltage when the organic EL element is driven under constant current conditions of room temperature (about 23 to 25 ° C) and 2.5 mA / cm 2 is measured, and the following calculation formula is used from the measurement results. The voltage rise during driving was calculated. The voltage rise during driving is represented by a relative value with the organic EL element 1-1 as 100.
Voltage increase during drive (relative value) = Drive voltage when luminance is halved-Initial drive voltage Note that the smaller the value, the smaller the voltage increase during drive compared to the comparative example.

(5)経時安定性
有機EL素子を60℃・70%RHの条件で一ヶ月間保存し、保存前後における各電力効率を求めた。各電力効率から下記式に従って電力効率比を求め、これを経時安定性の尺度とした。
経時安定性(%)=(保存後の電力効率/保存前の電力効率)×100
なお、電力効率は分光放射輝度計CS-1000(コニカミノルタ社製)を用いて、各有機EL素子の正面輝度及び輝度角度依存性を測定し、正面輝度1000cd/mにおいて求めたものを用いた。
(5) Stability over time The organic EL element was stored at 60 ° C. and 70% RH for one month, and the power efficiency before and after storage was determined. The power efficiency ratio was calculated from each power efficiency according to the following formula, and this was used as a measure of stability over time.
Stability over time (%) = (power efficiency after storage / power efficiency before storage) x 100
For power efficiency, the front luminance and luminance angle dependence of each organic EL element were measured using a spectral radiance meter CS-1000 (manufactured by Konica Minolta), and the one obtained at a front luminance of 1000 cd / m 2 was used. board.

Figure 0007060490000012
Figure 0007060490000012

表Iから明らかなとおり、一般式(1)で表される構造を有する化合物を用いた有機EL素子は、比較例の有機EL素子に比べ、発光効率及び発光寿命に優れ、低駆動電圧であることが明らかであり、また駆動時の電圧上昇も抑えられ、経時安定性に優れていることも分かった。 As is clear from Table I, the organic EL element using the compound having the structure represented by the general formula (1) is superior in luminous efficiency and emission lifetime and has a low drive voltage as compared with the organic EL element of the comparative example. It was also found that the voltage rise during driving was suppressed and the stability over time was excellent.

[実施例2]
《有機EL素子2-1の作製》
100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上に、陽極としてITO(インジウムチンオキシド)を100nmの厚さで成膜した基板(AvanStrate株式会社製、NA-45)にパターニングを行った。その後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
[Example 2]
<< Fabrication of organic EL element 2-1 >>
Patterning was performed on a substrate (NA-45 manufactured by AvanStrate Inc.) in which ITO (indium tin oxide) was formed as an anode on a 100 mm × 100 mm × 1.1 mm glass substrate to a thickness of 100 nm. Then, the transparent support substrate provided with the ITO transparent electrode was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone cleaning was performed for 5 minutes.

この透明支持基板上に、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)-ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS、Bayer社製、Baytron P Al 4083)を純水で70質量%に希釈した溶液を用いて3000rpm、30秒の条件下、スピンコート法により薄膜を形成した後、200℃にて1時間乾燥し、層厚20nmの第1正孔輸送層を形成した。 On this transparent support substrate, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS, Bayer, Baytron P Al 4083) diluted to 70% by mass with pure water was used at 3000 rpm. After forming a thin film by a spin coating method under the conditions of 30 seconds, it was dried at 200 ° C. for 1 hour to form a first hole transport layer having a layer thickness of 20 nm.

この基板を窒素雰囲気下に移し、第1正孔輸送層上に、47mgのHT-3と3mgのHT-4とを10mLのトルエンに溶解した溶液を用いて1500rpm、30秒の条件の条件下、スピンコート法により薄膜を形成した。120℃、90秒間紫外光を照射し、光重合・架橋を行い、さらに60℃で1時間真空乾燥し、層厚約20nmの第2正孔輸送層を形成した。 This substrate was transferred to a nitrogen atmosphere, and 47 mg of HT-3 and 3 mg of HT-4 were dissolved in 10 mL of toluene on the first hole transport layer under the conditions of 1500 rpm and 30 seconds. , A thin film was formed by the spin coating method. It was irradiated with ultraviolet light at 120 ° C. for 90 seconds, photopolymerized and crosslinked, and further vacuum dried at 60 ° C. for 1 hour to form a second hole transport layer having a layer thickness of about 20 nm.

この第2正孔輸送層上に、100mgのHost-3と、20mgの比較化合物1と、0.5mgのDG-1と、0.2mgのDR-1とを10mLの酢酸ブチルに溶解した溶液を用いて600rpm、30秒の条件下、スピンコート法により薄膜を形成した。さらに、60℃で1時間真空乾燥し、層厚約70nmの発光層を形成した。 A solution of 100 mg of Host-3, 20 mg of Comparative Compound 1, 0.5 mg of DG-1, and 0.2 mg of DR-1 dissolved in 10 mL of butyl acetate on the second hole transport layer. A thin film was formed by the spin coating method under the conditions of 600 rpm and 30 seconds. Further, it was vacuum dried at 60 ° C. for 1 hour to form a light emitting layer having a layer thickness of about 70 nm.

次に、この発光層上に、50mgのET-3を10mLのヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)に溶解した溶液を用いて1500rpm、30秒の条件下、スピンコート法により薄膜を形成した。さらに、60℃で1時間真空乾燥し、層厚約20nmの電子輸送層を形成した。 Next, a thin film was formed on this light emitting layer by a spin coating method under the conditions of 1500 rpm and 30 seconds using a solution of 50 mg of ET-3 in 10 mL of hexafluoroisopropanol (HFIP). Further, it was vacuum dried at 60 ° C. for 1 hour to form an electron transport layer having a layer thickness of about 20 nm.

続いて、この基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、真空槽を4×10-4Paまで減圧した後、フッ化カリウムを電子輸送層上に蒸着して層厚0.4nmの電子注入層を形成し、さらに、アルミニウムを電子注入層上に蒸着して厚さ110nmの陰極を形成し、有機EL素子2-1を作製した。
本実施例において使用される化合物は、下記のとおりの化学構造式を有するものである。
Subsequently, this substrate is fixed to the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, the vacuum chamber is depressurized to 4 × 10 -4 Pa, and then potassium fluoride is vapor-deposited on the electron transport layer to inject electrons having a layer thickness of 0.4 nm. A layer was formed, and further, aluminum was vapor-deposited on the electron-injected layer to form a cathode having a thickness of 110 nm, thereby producing an organic EL element 2-1.
The compound used in this example has the following chemical structural formula.

Figure 0007060490000013
Figure 0007060490000013

《有機EL素子2-2~2-41の作製》
有機EL素子2-1の作製において、比較化合物1を表IIに記載の化合物に変更した以外は同様にして、有機EL素子2-2~2-41を各々作製した。
<< Fabrication of organic EL elements 2-2-41 >>
In the production of the organic EL element 2-1 the organic EL elements 2-2 to 2-41 were produced in the same manner except that the comparative compound 1 was changed to the compounds shown in Table II.

《有機EL素子2-1~2-41の評価》
得られた有機EL素子を評価するに際しては、実施例1の有機EL素子1-1と同様に封止し、図1及び図2に示すような照明装置を作製して評価した。
このようにして作製した各サンプルに対し、実施例1と同様に、外部取り出し量子効率、半減寿命、駆動電圧、駆動時の電圧上昇について評価を行った。評価結果を表IIに示す。なお、表IIにおける外部取り出し量子効率、半減寿命、駆動電圧及び駆動時の電圧上昇の測定結果は、有機EL素子2-1の測定値を100とする相対値で表した。
<< Evaluation of organic EL elements 2-1 to 2-41 >>
When the obtained organic EL element was evaluated, it was sealed in the same manner as the organic EL element 1-1 of Example 1, and a lighting device as shown in FIGS. 1 and 2 was produced and evaluated.
For each sample thus prepared, the external extraction quantum efficiency, half-life, driving voltage, and voltage increase during driving were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table II. The measurement results of the external extraction quantum efficiency, half life, driving voltage, and voltage rise during driving in Table II are expressed as relative values with the measured value of the organic EL element 2-1 as 100.

Figure 0007060490000014
Figure 0007060490000014

表IIから明らかなとおり、本発明に係る一般式(1)で表される構造を有する化合物を用いた有機EL素子は、比較例の有機EL素子に比べ、発光効率及び発光寿命に優れ、低駆動電圧であることが明らかであり、また駆動時の電圧上昇も抑えられ、経時安定性に優れていることも分かった。 As is clear from Table II, the organic EL element using the compound having the structure represented by the general formula (1) according to the present invention is superior in luminous efficiency and emission lifetime and lower than the organic EL element of the comparative example. It was clear that it was the driving voltage, and it was also found that the voltage rise during driving was suppressed and the stability over time was excellent.

[実施例3]
《有機EL素子3-1の作製》
100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上に、陽極としてITO(インジウムチンオキシド)を100nmの厚さで成膜した基板(AvanStrate株式会社製、NA-45)にパターニングを行った。その後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥して、UVオゾン洗浄を5分間行った。
[Example 3]
<< Fabrication of organic EL element 3-1 >>
Patterning was performed on a substrate (NA-45 manufactured by AvanStrate Inc.) in which ITO (indium tin oxide) was formed as an anode on a 100 mm × 100 mm × 1.1 mm glass substrate to a thickness of 100 nm. Then, the transparent support substrate provided with the ITO transparent electrode was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone cleaning was performed for 5 minutes.

この透明支持基板上に、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)-ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS、Bayer株式会社製、Baytron P Al4083)を純水で70質量%に希釈した溶液を用い、スピンコート法により薄膜を形成した後、200℃にて1時間乾燥し、層厚30nmの第1正孔輸送層を形成した。 Spin on this transparent support substrate using a solution of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS, Bayer Co., Ltd., Baytron P Al4083) diluted to 70% by mass with pure water. After forming a thin film by the coating method, it was dried at 200 ° C. for 1 hour to form a first hole transport layer having a layer thickness of 30 nm.

この第1正孔輸送層上に、正孔輸送材料Poly(N,N′-ビス(4-ブチルフェニル)-N,N′-ビス(フェニル))ベンジジン(American Dye Source株式会社製、ADS-254)のクロロベンゼン溶液を用い、スピンコート法により薄膜を形成した。150℃で1時間加熱乾燥し、層厚40nmの第2正孔輸送層を形成した。 On this first hole transport layer, the hole transport material Poly (N, N'-bis (4-butylphenyl) -N, N'-bis (phenyl)) benzidine (manufactured by American Dye Source Co., Ltd., ADS- A thin film was formed by the spin coating method using the chlorobenzene solution of 254). It was heated and dried at 150 ° C. for 1 hour to form a second hole transport layer having a layer thickness of 40 nm.

この第2正孔輸送層上に、ホスト化合物としてのHost-3及びドーパントとしてのD-1の酢酸ブチル溶液を用い、スピンコート法により薄膜を形成し、120℃で1時間加熱乾燥し、層厚30nmの発光層を形成した。 A thin film was formed on this second hole transport layer by a spin coating method using a butyl acetate solution of Host-3 as a host compound and D-1 as a dopant, and the layer was heated and dried at 120 ° C. for 1 hour. A light emitting layer having a thickness of 30 nm was formed.

この発光層上に、電子輸送材料としてのET-4の1-ブタノール溶液を用い、スピンコート法により薄膜を形成し、層厚20nmの電子輸送層を形成した。 A thin film was formed on this light emitting layer by a spin coating method using a 1-butanol solution of ET-4 as an electron transporting material, and an electron transporting layer having a layer thickness of 20 nm was formed.

この基板を、真空蒸着装置に取付け、真空槽を4×10-4Paまで減圧した。次いで、フッ化リチウムを電子輸送層上に蒸着して層厚1.0nmの電子注入層を形成し、アルミニウムを電子注入層上に蒸着して厚さ110nmの陰極を形成し、有機EL素子3-1を作製した。
本実施例において使用される化合物は、下記のとおりの化学構造式を有するものである。
This substrate was attached to a vacuum vapor deposition apparatus and the vacuum chamber was depressurized to 4 × 10 -4 Pa. Next, lithium fluoride was vapor-deposited on the electron transport layer to form an electron-injected layer having a layer thickness of 1.0 nm, and aluminum was vapor-deposited on the electron-injected layer to form a cathode having a thickness of 110 nm. -1 was produced.
The compound used in this example has the following chemical structural formula.

Figure 0007060490000015
Figure 0007060490000015

《有機EL素子3-2~3-40の作製》
有機EL素子3-1の作製において、化合物D-1を化合物D-2~D-40に変更した以外は同様にして、有機EL素子3-2~3-40を各々作製した。
<< Fabrication of organic EL elements 3-2-3-40 >>
In the production of the organic EL element 3-1 the organic EL elements 3-2 to 3-40 were produced in the same manner except that the compound D-1 was changed to the compounds D-2 to D-40.

《有機EL素子3-1~3-40の評価》
得られた有機EL素子を評価するに際しては、実施例1の有機EL素子1-1と同様に封止し、図1及び図2に示すような照明装置を作製して評価した。
このようにして作製した各サンプルに対し点灯試験を実施し、それぞれの装置が良好に発光することを確認した。
<< Evaluation of organic EL elements 3-1 to 3-40 >>
When the obtained organic EL element was evaluated, it was sealed in the same manner as the organic EL element 1-1 of Example 1, and a lighting device as shown in FIGS. 1 and 2 was produced and evaluated.
A lighting test was carried out on each sample prepared in this way, and it was confirmed that each device emits light well.

101 有機EL素子
102 ガラスカバー
105 陰極
106 有機EL層
107 透明電極付きガラス基板
108 窒素ガス
109 捕水剤
101 Organic EL element 102 Glass cover 105 Cathode 106 Organic EL layer 107 Glass substrate with transparent electrode 108 Nitrogen gas 109 Water trapping agent

Claims (5)

下記一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする非イオン性有機エレクトロニクス材料。
Figure 0007060490000016
[式中、R~Rは、各々独立にアルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基又はフッ素原子を表す。n~nは、0~4の整数を表し、n~nが2以上の場合には、同一の置換基であっても異なる置換基であってもよく、置換基同士が互いに結合してもよい。L、Lは、単結合又は連結基を表す。Q~Qは、各々独立に置換若しくは非置換の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。A~Aは、各々独立に炭素原子又は窒素原子を表し、A~Aの少なくとも一つは炭素原子を表す。]
A nonionic organic electronic material having a structure represented by the following general formula (1).
Figure 0007060490000016
[In the formula, R 1 to R 4 independently represent an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group or a fluorine atom, respectively. n 1 to n 4 represent an integer of 0 to 4, and when n 1 to n 4 are 2 or more, they may be the same substituent or different substituents, and the substituents are mutually exclusive. May be combined. L 1 and L 2 represent a single bond or a linking group. Q1 to Q3 each represent an independently substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle. A 1 to A 3 independently represent a carbon atom or a nitrogen atom, and at least one of A 1 to A 3 represents a carbon atom. ]
前記一般式(1)で表される構造が、下記一般式(2)で表される構造であることを特徴とする請求項1に記載の非イオン性有機エレクトロニクス材料。
Figure 0007060490000017
[式中、R~Rは、各々独立にアルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基又はフッ素原子を表す。n~nは、0~4の整数を表し、nは、0~3の整数を表し、n~nが2以上の場合には、同一の置換基であっても異なる置換基であってもよく、置換基同士が互いに結合してもよい。]
The nonionic organic electronic material according to claim 1, wherein the structure represented by the general formula (1) is a structure represented by the following general formula (2).
Figure 0007060490000017
[In the formula, R 1 to R 7 independently represent an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group or a fluorine atom, respectively. n 1 to n 6 represent an integer of 0 to 4, n 7 represents an integer of 0 to 3, and when n 1 to n 7 are 2 or more, different substitutions are made even if they are the same substituent. It may be a group, or the substituents may be bonded to each other. ]
請求項1又は請求項2に記載の非イオン性有機エレクトロニクス材料を含有することを特徴とする電子デバイス。 An electronic device comprising the nonionic organic electronic material according to claim 1 or 2. 請求項1又は請求項2に記載の非イオン性有機エレクトロニクス材料を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 An organic electroluminescence device comprising the nonionic organic electronic material according to claim 1 or 2. 請求項1又は請求項2に記載の非イオン性有機エレクトロニクス材料を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子作製用溶液。
A solution for producing an organic electroluminescence element, which comprises the nonionic organic electronic material according to claim 1 or 2.
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