JP7032270B2 - Method for producing salt, acid generator, resist composition and resist pattern - Google Patents

Method for producing salt, acid generator, resist composition and resist pattern Download PDF

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Description

本発明は、半導体の微細加工に用いられる酸発生剤用の塩、該塩を含む酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。 The present invention relates to a salt for an acid generator used for fine processing of a semiconductor, an acid generator containing the salt, a resist composition, and a method for producing a resist pattern.

特許文献1には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。

Figure 0007032270000001
特許文献2には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
Figure 0007032270000002
特許文献3には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
Figure 0007032270000003
特許文献4には、下記式で表される酸発生剤、酸不安定基を有する樹脂及び塩基性化合物を含有するレジスト組成物も記載されている。
Figure 0007032270000004
Patent Document 1 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
Figure 0007032270000001
Patent Document 2 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
Figure 0007032270000002
Patent Document 3 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
Figure 0007032270000003
Patent Document 4 also describes a resist composition containing an acid generator represented by the following formula, a resin having an acid unstable group, and a basic compound.
Figure 0007032270000004

特開2013-060424号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-060424 特開2007-197432号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-197432 特開2014-160143号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-160143 特開2008-13551号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-13551

本発明は、上記塩を含有するレジスト組成物から形成されたレジストパターンよりもラインエッジラフネス(LER)が良好なレジストパターンを製造することができる塩を含有するレジスト組成物を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a resist composition containing a salt capable of producing a resist pattern having a better line edge roughness (LER) than a resist pattern formed from the resist composition containing the salt. And.

本発明は、以下の発明を含む。
[1]式(I)で表される塩。

Figure 0007032270000005
[式(I)中、
及びRは、それぞれ独立に、ヒドロキシ基又は式(R-1)で表される基を表す。但し、R及びRの少なくとも一つは、式(R-1)で表される基を表す。
Figure 0007032270000006
(式(R-1)中、
r1及びQr2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
r1及びRr2は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
は、0~6のいずれかの整数を表し、zが2以上のとき、複数のRr1及びRr2は互いに同一であっても異なってもよい。
r1は、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-又は-O-を表す。
r1は、単結合又は炭素数1~28の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-S(O)2-に置き換わっていてもよい。
*はAr又はArとの結合位を表す。
ZR+は有機カチオンを表す。)
Arは、置換基を有していてもよい炭素数6~36の芳香族炭化水素環を表す。
Arは、置換基を有していてもよい炭素数6~36の芳香族炭化水素環を表す。]
[2]Arが、置換基を有してもよいベンゼン又は置換基を有してもよいナフタレンである[1]に記載の塩。
[3]Arが、置換基を有していてもよいベンゼンである[1]又は[2]に記載の塩。
[4]Xr1が、*-CO-O-又は*-O-CO-(但し、*は、C(Rr1)(Rr2)又はC(Qr1)(Qr2)との結合位を表す。)である[1]~[3]のいずれかに記載の塩。
[5]Lr1が、単結合、アルカンジイル基(但し、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)又はアルカンジイル基と脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該組み合わせてなる基におけるアルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該脂環式飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-S(O)-に置き換わっていてもよい。)である[1]~[4]のいずれかに記載の塩。
[6][1]~[5]のいずれかに記載の塩を含有する酸発生剤。
[7][6]記載の酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。
[8]酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩を含有する[7]に記載のレジスト組成物。
[9](1)[7]又は[8]記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。 The present invention includes the following inventions.
[1] A salt represented by the formula (I).
Figure 0007032270000005
[In formula (I),
R 1 and R 2 each independently represent a hydroxy group or a group represented by the formula (R-1). However, at least one of R 1 and R 2 represents a group represented by the formula (R-1).
Figure 0007032270000006
(In formula (R-1),
Q r1 and Q r2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R r1 and R r2 independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
z r represents an integer of 0 to 6, and when z is 2 or more, a plurality of R r1 and R r2 may be the same as or different from each other.
X r1 represents -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O- or -O-.
L r1 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 28 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group is -O-, -S-, -CO- or-. It may be replaced with S (O) 2- .
* Represents the binding site with Ar 1 or Ar 2 .
ZR + represents an organic cation. )
Ar 1 represents an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 36 carbon atoms which may have a substituent.
Ar 2 represents an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 36 carbon atoms which may have a substituent. ]
[2] The salt according to [1], wherein Ar 1 is benzene which may have a substituent or naphthalene which may have a substituent.
[3] The salt according to [1] or [2], wherein Ar 2 is a benzene which may have a substituent.
[4] X r1 has a binding site with * -CO-O- or * -O-CO- (where * is C (R r1 ) (R r2 ) or C (Q r1 ) (Q r2 ). The salt according to any one of [1] to [3].
[5] L r1 is a single bond, an alkanediyl group (however, -CH 2- contained in the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-) or an alkanediyl group and a fat. A group composed of a combination with a cyclic saturated hydrocarbon group (provided that -CH 2- contained in an alkanediyl group in the combined group may be replaced with -O- or -CO-, and the alicyclic. -CH 2 -contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -S (O) 2- ) [1] to [4]. The salt described in any of.
[6] An acid generator containing the salt according to any one of [1] to [5].
[7] A resist composition containing the acid generator according to [6] and a resin having an acid unstable group.
[8] The resist composition according to [7], which contains a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator.
[9] (1) A step of applying the resist composition according to [7] or [8] onto a substrate,
(2) A step of drying the applied composition to form a composition layer,
(3) Step of exposing the composition layer,
(4) A method for producing a resist pattern, which comprises a step of heating the composition layer after exposure and (5) a step of developing the composition layer after heating.

本発明の塩を使用したレジスト組成物を用いることにより、良好なラインエッジラフネス(LER)でレジストパターンを製造することができる。 By using the resist composition using the salt of the present invention, a resist pattern can be produced with good line edge roughness (LER).

本明細書において、「(メタ)アクリル系モノマー」とは、「CH2=CH-CO-」の構造を有するモノマー及び「CH2=C(CH3)-CO-」の構造を有するモノマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を意味する。同様に「(メタ)アクリレート」及び「(メタ)アクリル酸」とは、それぞれ「アクリレート及びメタクリレートからなる群より選ばれる少なくとも1種」及び「アクリル酸及びメタクリル酸からなる群より選ばれる少なくとも1種」を意味する。「CH2=C(CH3)-CO-」又は「CH2=CH-CO-」を有する構造単位が例示されている場合には、双方の基を有する構造単位が同様に例示されているものとする。また、本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を含む。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤(E)を除いた成分の合計を意味する。
In the present specification, the "(meth) acrylic monomer" is derived from a monomer having a structure of "CH 2 = CH-CO-" and a monomer having a structure of "CH 2 = C (CH 3 ) -CO-". Means at least one species selected from the group of Similarly, "(meth) acrylate" and "(meth) acrylic acid" are "at least one selected from the group consisting of acrylate and methacrylate" and "at least one selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid, respectively". Means. When a structural unit having "CH 2 = C (CH 3 ) -CO-" or "CH 2 = CH-CO-" is exemplified, a structural unit having both groups is similarly exemplified. It shall be. In addition, any of the groups described in the present specification that can have both a linear structure and a branched structure may be used. If a steric isomer is present, it includes all steric isomers.
In the present specification, the "solid content of the resist composition" means the total amount of the components excluding the solvent (E) described later from the total amount of the resist composition.

〔式(I)で表される塩〕
本発明は、式(I)で表される塩(以下「塩(I)」という場合がある)に関する。
塩(I)のうち、負電荷を有する側を「アニオン(I)」、正電荷を有する側を「カチオン(I)」と称することがある。
式(I)において、Qr1、Qr2、Rr1及びRr2のペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。
r1及びQr2は、それぞれ独立に、好ましくはトリフルオロメチル基又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
r1及びRr2は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子又はフッ素原子である。
は、0であることが好ましい。
[Salt represented by formula (I)]
The present invention relates to a salt represented by the formula (I) (hereinafter, may be referred to as "salt (I)").
Of the salt (I), the side having a negative charge may be referred to as "anion (I)", and the side having a positive charge may be referred to as "cation (I)".
In the formula (I), the perfluoroalkyl groups of Q r1 , Q r2 , R r1 and R r2 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group and a perfluorosec-butyl group. , Perfluorotert-butyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group and the like.
Q r1 and Q r2 are independently, preferably a trifluoromethyl group or a fluorine atom, and more preferably a fluorine atom.
R r1 and R r2 are independently, preferably hydrogen or fluorine atoms, respectively.
z r is preferably 0.

r1は、*-CO-O-又は*-O-CO-(*はC(Rr1)(Rr2)又はC(Qr1)(Qr2)との結合手を表す。)であることが好ましく、*-CO-O-(*はC(Rr1)(Rr2)又はC(Qr1)(Qr2)との結合手を表す。)であることがより好ましい。 X r1 shall be * -CO-O- or * -O-CO- (* represents a bond with C (R r1 ) (R r2 ) or C (Q r1 ) (Q r2 )). Is preferable, and * -CO-O- (* represents a bond with C (R r1 ) (R r2 ) or C (Q r1 ) (Q r2 )) is more preferable.

r1で表される2価の飽和炭化水素基としては、アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組み合わせた基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基及びヘプタデカン-1,17-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、ペンタン-2,4-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボルナン-2,5-ジイル基、アダマンタン-1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by L r1 include an alkanediyl group, a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and two or more of these groups. It may be a group that combines.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1 , 7-Diyl group, Octane-1,8-Diyl group, Nonan-1,9-Diyl group, Decan-1,10-Diyl group, Undecan-1,11-Diyl group, Dodecan-1,12-Diyl group , Tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group. Alcandiyl group;
Etan-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- Branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Monocyclic 2 which is a cycloalkanediyl group such as cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclooctane-1,5-diyl group, etc. Valuable alicyclic saturated hydrocarbon group;
Polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbons such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group. The group etc. can be mentioned.

r1は、単結合、アルカンジイル基(但し、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)又はアルカンジイル基と脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該脂環式飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-S(O)-に置き換わっていてもよい。)であることが好ましく、単結合、アルカンジイル基又はアルカンジイル基と脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)であることがより好ましく、単結合、アルカンジイル基又はアルカンジイル基とアダマンタンジイル基とを組み合わせてなる基(但し、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)であることがさらに好ましく、Lr1は脂環式炭化水素基を含む基であることがさらにより好ましい。
アルカンジイル基と脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせてなる基としては、*-アルカンジイル基-2価の脂環式飽和炭化水素基-アルカンジイル基-及び*-2価の脂環式飽和炭化水素基-アルカンジイル基-(*はXr1はとの結合手を表す)が挙げられる。
及びRの少なくとも一つは、式(R-1)で表される基を表すが、一方が式(R-1)で表される基であり、他方がヒドロキシ基であることが好ましい。
L r1 is a single bond, an alkanediyl group (however, -CH 2- contained in the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-) or an alkanediyl group and an alicyclic saturation. A group composed of a combination with a hydrocarbon group (however, -CH 2- contained in the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-, and is contained in the alicyclic saturated hydrocarbon group. -CH 2- may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -S (O) 2- ), preferably with a single bond, an alkanediyl group or an alkanediyl group. It is more preferable that the group is composed of a combination of an alicyclic saturated hydrocarbon group (however, -CH 2- contained in the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-). , Single bond, an alkanediyl group or a group consisting of a combination of an alkanediyl group and an adamantandiyl group (provided that -CH 2- contained in the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-. ) Is even more preferable, and L r1 is even more preferably a group containing an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the group consisting of a combination of an alkanediyl group and an alicyclic saturated hydrocarbon group include a * -alkandyl group-2 valent alicyclic saturated hydrocarbon group-alkanediyl group-and a * -2-valent alicyclic group. Saturated hydrocarbon groups-alkanediyl groups-(* represents a bond with Xr1 ) can be mentioned.
At least one of R 1 and R 2 represents a group represented by the formula (R-1), one of which is a group represented by the formula (R-1) and the other of which is a hydroxy group. preferable.

Arの芳香族炭化水素環は、単環式、縮合多環式及び環集合を含み、例えばベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル等の炭素数6~36の芳香族炭化水素環が挙げられる。
芳香族炭化水素環は、好ましくは炭素数6~24であり、より好ましくは炭素数6~18である。
The aromatic hydrocarbon ring of Ar 1 includes a monocyclic type, a condensed polycyclic type and a ring assembly, and examples thereof include aromatic hydrocarbon rings having 6 to 36 carbon atoms such as benzene, naphthalene, anthracene and biphenyl.
The aromatic hydrocarbon ring preferably has 6 to 24 carbon atoms, and more preferably 6 to 18 carbon atoms.

Arの芳香族炭化水素環は、単環式、縮合多環式及び環集合を含み、例えばベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル等の炭素数6~36の芳香族炭化水素環が挙げられる。
芳香族炭化水素環は、好ましくは炭素数6~24であり、より好ましくは炭素数6~18である。
Ar及びArが有していてもよい置換基としては、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数2~13のアルコキシカルボニル基、炭素数2~13のアルキルカルボニル基、炭素数2~13のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素が挙げられる。
炭素数1~12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
炭素数1~12のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数2~13のアルコキシカルボニル基、炭素数2~13のアルキルカルボニル基及び炭素数2~13のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。炭素数2~13のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数2~13のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数2~13のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
炭素数3~12の脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよく、例えば、下記に示す基が挙げられる。**は芳香族炭化水素基との結合手である。

Figure 0007032270000007
芳香族炭化水素基の置換基における組み合わせた基としては、ヒドロキシ基と炭素数1~12のアルキル基とを組み合わせた基、炭素数1~12のアルコキシ基と炭素数1~12のアルコキシ基とを組み合わせた基、炭素数1~12のアルキル基と炭素数6~10の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基等が挙げられる。
ヒドロキシ基と炭素数1~12のアルキル基とを組み合わせた基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等の炭素数1~12のヒドロキシアルキル基等が挙げられる。
炭素数1~12のアルコキシ基と炭素数1~12のアルコキシ基とを組み合わせた基としては、エトキシエトキシ基等の炭素数2~24のアルコキシアルコキシ基等が挙げられる。
炭素数1~12のアルキル基と炭素数6~10の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基としては、ベンジル基等の炭素数7~22のアラルキル基、トリル基、キシリル基等の炭素数1~12のアルキル基を有する炭素数6~10の芳香族炭化水素基が挙げられる。
炭素数3~12の脂環式炭化水素基と炭素数6~10の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基としては、シクロヘキシルフェニル基等の炭素数3~12の脂環式炭化水素基を有する炭素数6~10の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
Ar及びArが置換基を有する場合、置換基は1つでもよいし、2以上でもよい。置換基が2以上の場合は、それらは同一でもよいし、異なっていてもよい。 The aromatic hydrocarbon ring of Ar 2 includes a monocyclic type, a fused polycyclic type and a ring assembly, and examples thereof include aromatic hydrocarbon rings having 6 to 36 carbon atoms such as benzene, naphthalene, anthracene and biphenyl.
The aromatic hydrocarbon ring preferably has 6 to 24 carbon atoms, and more preferably 6 to 18 carbon atoms.
The substituents that Ar 1 and Ar 2 may have include a hydroxy group, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and 2 to 13 carbon atoms. Examples thereof include an alkoxycarbonyl group, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or a group combining these groups.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and iodine.
Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group and a dodecyl group. ..
The alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms includes a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group and an undecyloxy group. Groups, dodecyloxy groups and the like can be mentioned.
The alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, the alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms and the alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms are groups in which a carbonyl group or a carbonyloxy group is bonded to the above-mentioned alkyl group or alkoxy group. Represents. Examples of the alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group and a butoxycarbonyl group, and examples of the alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group. Examples of the alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a butyryloxy group.
The alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms may be either a monocyclic or polycyclic group, and examples thereof include the groups shown below. ** is a bond with an aromatic hydrocarbon group.
Figure 0007032270000007
The combined group in the substituent of the aromatic hydrocarbon group includes a group in which a hydroxy group and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms are combined, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. Examples thereof include a group in which the above is combined, a group in which an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms are combined, and the like.
Examples of the group in which a hydroxy group and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms are combined include a hydroxyalkyl group having 1 to 12 carbon atoms such as a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group.
Examples of the group in which an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms are combined include an alkoxyalkoxy group having 2 to 24 carbon atoms such as an ethoxyethoxy group.
As a group combining an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, the number of carbon atoms such as an aralkyl group having 7 to 22 carbon atoms such as a benzyl group, a trill group and a xylyl group Examples thereof include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 10 carbon atoms having 1 to 12 alkyl groups.
As a group in which an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms are combined, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms such as a cyclohexylphenyl group is used. Examples thereof include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 10 carbon atoms.
When Ar 1 and Ar 2 have substituents, the number of substituents may be one or two or more. If there are two or more substituents, they may be the same or different.

Arは、置換基を有してもよいベンゼン又は置換基を有してもよいナフタレンであることが好ましく、ヒドロキシ基又はアルキル基を有してもよいベンゼン又はヒドロキシ基又はアルキル基を有してもよいナフタレンであることが好ましい。
Arは、ベンゼンであることが好ましい。
Ar 1 is preferably benzene which may have a substituent or naphthalene which may have a substituent, and has a benzene or a hydroxy group or an alkyl group which may have a hydroxy group or an alkyl group. It is preferably naphthalene which may be used.
Ar 2 is preferably benzene.

アニオン(I)としては、例えば、以下のアニオンが挙げられる。なかでも、式(Ia-1)~式(Ia-12)、式(Ia-17)、式(Ia-18)、式(Ia-22)で表されるアニオンが好ましく、式(Ia-1)、式(Ia-2)、式(Ia-5)、式(Ia-6)、式(Ia-9)、式(Ia-10)、式(Ia-17)、式(Ia-18)、式(Ia-22)で表されるアニオンがより好ましい。

Figure 0007032270000008
Examples of the anion (I) include the following anions. Among them, the anions represented by the formulas (Ia-1) to (Ia-12), the formula (Ia-17), the formula (Ia-18), and the formula (Ia-22) are preferable, and the formula (Ia-1) is preferable. ), Formula (Ia-2), Formula (Ia-5), Formula (Ia-6), Formula (Ia-9), Formula (Ia-10), Formula (Ia-17), Formula (Ia-18). , The anion represented by the formula (Ia-22) is more preferable.
Figure 0007032270000008

Figure 0007032270000009
Figure 0007032270000009

ZRの有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。具体的には、式(b2-1)~式(b2-4)のいずれかで表されるカチオン(以下、式番号に応じて「カチオン(b2-1)」等という場合がある。)が挙げられる。 Examples of the ZR + organic cation include an organic onium cation, an organic sulfonium cation, an organic iodinenium cation, an organic ammonium cation, a benzothiazolium cation, and an organic phosphonium cation. Among these, organic sulfonium cations and organic iodonium cations are preferable, and aryl sulfonium cations are more preferable. Specifically, the cation represented by any of the formulas (b2-1) to (b2-4) (hereinafter, may be referred to as "cation (b2-1)" or the like depending on the formula number). Can be mentioned.

Figure 0007032270000010
式(b2-1)~式(b2-4)において、
b4~Rb6は、それぞれ独立に、炭素数1~30の鎖式炭化水素基、炭素数3~36の脂環式炭化水素基又は炭素数6~36の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1~18の脂肪族炭化水素基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数1~12のアルコキシ基で置換されていてもよい。
b4とRb5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わってもよい。
b7及びRb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。
m2及びn2は、それぞれ独立に0~5のいずれかの整数を表す。
m2が2以上のとき、複数のRb7は同一でも異なってもよく、n2が2以上のとき、複数のRb8は同一でも異なってもよい。
b9及びRb10は、それぞれ独立に、炭素数1~36の鎖式炭化水素基又は炭素数3~36の脂環式炭化水素基を表す。
b9とRb10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わってもよい。
b11は、水素原子、炭素数1~36の鎖式炭化水素基、炭素数3~36の脂環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基を表す。
b12は、炭素数1~12の鎖式炭化水素基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素に含まれる水素原子は、炭素数6~18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数1~12のアルコキシ基又は炭素数1~12のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
b11とRb12とは、互いに結合してそれらが結合する-CH-CO-を含めて環を形成していてもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わってもよい。
b13~Rb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。
b31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
o2、p2、s2、及びt2は、それぞれ独立に、0~5のいずれかの整数を表す。
q2及びr2は、それぞれ独立に、0~4のいずれかの整数を表す。
u2は0又は1を表す。
o2が2以上のとき、複数のRb13は同一又は相異なり、p2が2以上のとき、複数のRb14は同一又は相異なり、q2が2以上のとき、複数のRb15は同一又は相異なり、r2が2以上のとき、複数のRb16は同一又は相異なり、s2が2以上のとき、複数のRb17は同一又は相異なり、t2が2以上のとき、複数のRb18は同一又は相異なる。
Figure 0007032270000010
In equations (b2-1) to (b2-4),
R b4 to R b6 independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms. The hydrogen atom contained in the chain hydrocarbon group is a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. The hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms or a glycidyloxy group. It may be substituted, and the hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
R b4 and R b5 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2- contained in the ring may be -O-, -S- or. It may be replaced with -CO-.
R b7 and R b8 independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
m2 and n2 each independently represent an integer of 0 to 5.
When m2 is 2 or more, the plurality of R b7s may be the same or different, and when n2 is 2 or more, the plurality of R b8s may be the same or different.
R b9 and R b10 independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms.
R b9 and R b10 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2- contained in the ring may be -O-, -S- or. It may be replaced with -CO-.
R b11 represents a hydrogen atom, a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R b12 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and is included in the chain hydrocarbon group. The hydrogen atom may be substituted with an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or 1 to 12 carbon atoms. It may be substituted with 12 alkylcarbonyloxy groups.
R b11 and R b12 may be bonded to each other to form a ring including -CH-CO- to which they are bonded, and -CH 2- contained in the ring is -O-, -S. -Or -CO- may be replaced.
R b13 to R b18 independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
L b31 represents a sulfur atom or an oxygen atom.
o2, p2, s2, and t2 each independently represent an integer of 0 to 5.
q2 and r2 each independently represent an integer of 0 to 4.
u2 represents 0 or 1.
When o2 is 2 or more, multiple R b13s are the same or different, when p2 is 2 or more, multiple R b14s are the same or different, and when q2 is 2 or more, multiple R b15s are the same or different. , When r2 is 2 or more, the plurality of R b16s are the same or different, when s2 is 2 or more, the plurality of R b17s are the same or different, and when t2 is 2 or more, the plurality of R b18s are the same or different. different.

脂肪族炭化水素基とは、鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基を表す。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。
特に、Rb9~Rb12の鎖式炭化水素基は、好ましくは炭素数1~12である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。

Figure 0007032270000011
特に、Rb9~Rb12の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3~18、より好ましくは炭素数4~12である。 The aliphatic hydrocarbon group represents a chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group.
The chain hydrocarbon group includes an alkyl group of a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and a 2-ethylhexyl group. Can be mentioned.
In particular, the chain hydrocarbon group of R b9 to R b12 preferably has 1 to 12 carbon atoms.
The alicyclic hydrocarbon group may be either a monocyclic group or a polycyclic group, and the monocyclic alicyclic hydrocarbon group includes a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and a cyclo. Cycloalkyl groups such as a heptyl group, a cyclooctyl group and a cyclodecyl group can be mentioned. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group and the following groups.
Figure 0007032270000011
In particular, the alicyclic hydrocarbon group of R b9 to R b12 preferably has 3 to 18 carbon atoms, and more preferably 4 to 12 carbon atoms.

水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、2-メチルアダマンタン-2-イル基、2-エチルアダマンタン-2-イル基、2-イソプロピルアダマンタン-2-イル基、メチルノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好ましくは20以下である。 Examples of the alicyclic hydrocarbon group in which the hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a 2-methyladamantan-2-yl group and a 2-ethyladamantan-2-yl group. , 2-Isopropyl adamantan-2-yl group, methylnorbornyl group, isobornyl group and the like. In the alicyclic hydrocarbon group in which the hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group, the total carbon number of the alicyclic hydrocarbon group and the aliphatic hydrocarbon group is preferably 20 or less.

芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
なお、芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、炭素数1~18の鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p-エチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)、及び炭素数3~18の脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロへキシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)等が挙げられる。
水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、p-メトキシフェニル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された鎖式炭化水素基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。
Examples of the aromatic hydrocarbon group include aryl groups such as a phenyl group, a biphenylyl group, a naphthyl group and a phenanthryl group.
The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, and may have an aromatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (trill group). , Hydrocarbon group, cumenyl group, mesityl group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), and carbon number 3-18 Examples thereof include aromatic hydrocarbon groups having an alicyclic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.).
Examples of the aromatic hydrocarbon group in which the hydrogen atom is substituted with an alkoxy group include a p-methoxyphenyl group and the like.
Examples of the chain hydrocarbon group in which the hydrogen atom is substituted with an aromatic hydrocarbon group include an aralkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a trityl group, a naphthylmethyl group and a naphthylethyl group.

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、sec-ブチルカルボニルオキシ基、tert-ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び2-エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group and a dodecyloxy group.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group and the like.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
The alkylcarbonyloxy group includes a methylcarbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, a propylcarbonyloxy group, an isopropylcarbonyloxy group, a butylcarbonyloxy group, a sec-butylcarbonyloxy group, a tert-butylcarbonyloxy group, and a pentylcarbonyloxy group. , Hexylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, 2-ethylhexylcarbonyloxy group and the like.

b4とRb5とが互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、炭素数3~18の環が挙げられ、好ましくは炭素数4~18の環である。また、硫黄原子を含む環は、3員環~12員環が挙げられ、好ましくは3員環~7員環であり、例えば下記の環が挙げられる。

Figure 0007032270000012
Rings formed by the bonds of R b4 and R b5 together with the sulfur atoms they bond to can be monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated or unsaturated. It may be a ring of. Examples of this ring include a ring having 3 to 18 carbon atoms, preferably a ring having 4 to 18 carbon atoms. Further, the ring containing a sulfur atom may be a 3-membered ring to a 12-membered ring, preferably a 3-membered ring to a 7-membered ring, and examples thereof include the following rings.
Figure 0007032270000012

b9とRb10とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環~12員環が挙げられ、好ましくは3員環~7員環である。例えば、チオラン-1-イウム環(テトラヒドロチオフェニウム環)、チアン-1-イウム環、1,4-オキサチアン-4-イウム環等が挙げられる。
b11とRb12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環~12員環が挙げられ、好ましくは3員環~7員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。
The ring formed by R b9 and R b10 together may be monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated or unsaturated. This ring may be a 3-membered ring to a 12-membered ring, preferably a 3-membered ring to a 7-membered ring. For example, a thiolan-1-ium ring (tetrahydrothiophenium ring), a thian-1-ium ring, a 1,4-oxathian-4-ium ring and the like can be mentioned.
The ring formed by R b11 and R b12 together may be monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated or unsaturated. This ring may be a 3-membered ring to a 12-membered ring, preferably a 3-membered ring to a 7-membered ring. Examples thereof include an oxocycloheptane ring, an oxocyclohexane ring, an oxonorbornane ring, and an oxoadamantane ring.

カチオン(b2-1)~カチオン(b2-4)の中でも、好ましくは、カチオン(b2-1)である。
カチオン(b2-1)としては、以下のカチオンが挙げられる。

Figure 0007032270000013
Among the cations (b2-1) to cations (b2-4), the cation (b2-1) is preferable.
Examples of the cation (b2-1) include the following cations.
Figure 0007032270000013

Figure 0007032270000014
Figure 0007032270000014

カチオン(b2-2)としては、以下のカチオンが挙げられる。

Figure 0007032270000015
Examples of the cation (b2-2) include the following cations.
Figure 0007032270000015

カチオン(b2-3)としては、以下のカチオンが挙げられる。

Figure 0007032270000016
Examples of the cation (b2-3) include the following cations.
Figure 0007032270000016

カチオン(b2-4)としては、以下のカチオンが挙げられる。

Figure 0007032270000017
Examples of the cation (b2-4) include the following cations.
Figure 0007032270000017

Figure 0007032270000018
Figure 0007032270000018

塩(I)としては、表1に記載の塩が挙げられる。例えば表1において、塩(I-1)は以下に示す塩である。

Figure 0007032270000019
Figure 0007032270000020


Figure 0007032270000021


Figure 0007032270000022


Figure 0007032270000023


Figure 0007032270000024
Examples of the salt (I) include the salts shown in Table 1. For example, in Table 1, the salt (I-1) is the salt shown below.
Figure 0007032270000019
Figure 0007032270000020


Figure 0007032270000021


Figure 0007032270000022


Figure 0007032270000023


Figure 0007032270000024

なかでも、塩(I)は、塩(I-1)~塩(I-8)、塩(I-11)~塩(I-13)、塩(I-14)、塩(I-17)~塩(I-20)、塩(I-21)~塩(I-28)、塩(I-31)~塩(I-33)、塩(I-34)、塩(I-37)~塩(I-40)、塩(I-41)~塩(I-48)、塩(I-51)~塩(I-53)、塩(I-54)、塩(I-57)~塩(I-60)、塩(I-61)~塩(I-68)、塩(I-71)~塩(I-73)、塩(I-74)、塩(I-77)~塩(I-80)、塩(I-81)~塩(I-88)、塩(I-91)~塩(I-93)、塩(I-94)、塩(I-97)~塩(I-100)、塩(I-101)~塩(I-108)、塩(I-111)~塩(I-113)、塩(I-114)、塩(I-117)~塩(I-120)、塩(I-121)~塩(I-128)、塩(I-131)~塩(I-133)、塩(I-134)、塩(I-137)~塩(I-140)、塩(I-141)~塩(I-148)、塩(I-151)、塩(I-153)、塩(I-154)、塩(I-157)~塩(I-160)、塩(I-169)~塩(I-176)が好ましい。 Among them, the salt (I) is salt (I-1) to salt (I-8), salt (I-11) to salt (I-13), salt (I-14), salt (I-17). -Salt (I-20), Salt (I-21) -Salt (I-28), Salt (I-31) -Salt (I-33), Salt (I-34), Salt (I-37)- Salt (I-40), Salt (I-41) -Salt (I-48), Salt (I-51) -Salt (I-53), Salt (I-54), Salt (I-57) -Salt (I-60), salt (I-61) -salt (I-68), salt (I-71) -salt (I-73), salt (I-74), salt (I-77) -salt ( I-80), salt (I-81) to salt (I-88), salt (I-91) to salt (I-93), salt (I-94), salt (I-97) to salt (I) -100), salt (I-101) to salt (I-108), salt (I-111) to salt (I-113), salt (I-114), salt (I-117) to salt (I-) 120), salt (I-121) to salt (I-128), salt (I-131) to salt (I-133), salt (I-134), salt (I-137) to salt (I-140) ), Salt (I-141) to salt (I-148), salt (I-151), salt (I-153), salt (I-154), salt (I-157) to salt (I-160). , Salt (I-169) to salt (I-176) are preferred.

<塩(I)の製造方法>
塩(I)は、例えば、式(I-b1)で表される塩及び/又は式(I-b2)で表される塩とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、得られた反応物と式(I-a)で表される化合物とを反応させることにより得ることができる。

Figure 0007032270000025
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常5℃~80℃であり、反応時間は通常0.5時間~24時間である。
式(I-b1)で表される塩及び式(I-b2)で表される塩としては、例えば、以下で表される塩などが挙げられ、特開2006-257078号公報、特開2008-127367号公報、特開2012-193170号公報に記載された方法で製造することができる。
Figure 0007032270000026
式(I-a)で表される化合物は、式(I-c)で表される化合物と式(I-d)で表される化合物とを、酸触媒の存在下、溶媒中で反応させることにより得ることができる。
Figure 0007032270000027
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。) <Manufacturing method of salt (I)>
The salt (I) was obtained, for example, after reacting a salt represented by the formula (I-b1) and / or a salt represented by the formula (I-b2) with carbonyldiimidazole in a solvent. It can be obtained by reacting the reactant with the compound represented by the formula (Ia).
Figure 0007032270000025
(In the formula, all the symbols have the same meanings as described above.)
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile and the like.
The reaction temperature is usually 5 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 to 24 hours.
Examples of the salt represented by the formula (I-b1) and the salt represented by the formula (I-b2) include salts represented by the following, and Japanese Patent Laid-Open No. 2006-257078, JP-A-2008. It can be produced by the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 127367 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-193170.
Figure 0007032270000026
In the compound represented by the formula (Ia), the compound represented by the formula (Ic) and the compound represented by the formula (Id) are reacted in a solvent in the presence of an acid catalyst. Can be obtained by
Figure 0007032270000027
(In the formula, all the symbols have the same meanings as described above.)

酸触媒としては、p-トルエンスルホン酸などが挙げられる。
溶媒としては、水及び酢酸エチルなどが挙げられる。
反応温度は通常15℃~80℃であり、反応時間は通常0.5時間~24時間である。
式(I-c)で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。

Figure 0007032270000028
式(I-d)で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
Figure 0007032270000029
Examples of the acid catalyst include p-toluenesulfonic acid.
Examples of the solvent include water and ethyl acetate.
The reaction temperature is usually 15 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 to 24 hours.
Examples of the compound represented by the formula (Ic) include compounds represented by the following formula, which can be easily obtained from the market.
Figure 0007032270000028
Examples of the compound represented by the formula (Id) include compounds represented by the following formula, which can be easily obtained from the market.
Figure 0007032270000029

また、塩(I)において、Rがヒドロキシ基である塩(式(I1)で表される1価の塩)は、例えば、式(I-b2)で表される塩とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式(I1-a)で表される化合物と反応させて、酸で処理することにより得ることができる。
塩(I)において、Rがヒドロキシ基である塩(式(I2)で表される1価の塩)は、例えば、式(I-b1)で表される塩とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、得られた反応物と式(I2-a)で表される化合物とを反応させ、酸で処理することにより得ることができる。

Figure 0007032270000030
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常5℃~80℃であり、反応時間は通常0.5時間~24時間である。 Further, in the salt (I), the salt in which R 1 is a hydroxy group (the monovalent salt represented by the formula (I1)) is, for example, a salt represented by the formula (I-b2) and a carbonyldiimidazole. Can be obtained by reacting with a compound represented by the formula (I1-a) and then treating with an acid.
In the salt (I), the salt in which R2 is a hydroxy group (monovalent salt represented by the formula (I2)) is, for example, a solvent of the salt represented by the formula (I-b1) and carbonyldiimidazole. It can be obtained by reacting the obtained reactant with the compound represented by the formula (I2-a) and treating with an acid.
Figure 0007032270000030
(In the formula, all the symbols have the same meanings as described above.)
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile and the like.
The reaction temperature is usually 5 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 to 24 hours.

式(I1-a)で表される化合物及び式(I2-a)で表される化合物は、式(I-a)で表される化合物と式(I-e)で表される化合物とを、酸触媒の存在下、溶媒中で反応させることにより得ることができる。

Figure 0007032270000031
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル、tert-ブチルメチルエーテル等が挙げられる。
酸触媒としては、カンファースルホン酸、p-トルエンスルホン酸等が挙げられる。
反応温度は通常5℃~80℃であり、反応時間は通常0.5時間~24時間である。 The compound represented by the formula (I1-a) and the compound represented by the formula (I2-a) are a compound represented by the formula (Ia) and a compound represented by the formula (Ie). , Can be obtained by reacting in a solvent in the presence of an acid catalyst.
Figure 0007032270000031
(In the formula, all the symbols have the same meanings as described above.)
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile, tert-butylmethyl ether and the like.
Examples of the acid catalyst include camphorsulfonic acid and p-toluenesulfonic acid.
The reaction temperature is usually 5 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 to 24 hours.

〔酸発生剤〕
本発明の酸発生剤は、塩(I)を含有する酸発生剤である。塩(I)は単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の酸発生剤は、塩(I)に加えて、レジスト分野で公知の酸発生剤(以下「酸発生剤(B)」という場合がある)を含有していてもよい。酸発生剤(B)は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[Acid generator]
The acid generator of the present invention is an acid generator containing a salt (I). The salt (I) may be used alone or in combination of two or more.
In addition to the salt (I), the acid generator of the present invention may contain an acid generator known in the field of resist (hereinafter, may be referred to as "acid generator (B)"). The acid generator (B) may be used alone or in combination of two or more.

<酸発生剤(B)>
酸発生剤(B)は、非イオン系又はイオン系のいずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤としては、スルホネートエステル類(例えば2-ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、N-スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン 4-スルホネート)、スルホン類(例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン)等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニウムカチオンを含むオニウム塩(例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩)が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。
<Acid generator (B)>
As the acid generator (B), either a nonionic type or an ionic type may be used. Examples of the nonionic acid generator include sulfonate esters (eg 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphthoquinone 4-sulfonate), sulfones (eg disulfone, etc.). Ketosulfone, sulfonyldiazomethane) and the like. As the ionic acid generator, an onium salt containing an onium cation (for example, a diazonium salt, a phosphonium salt, a sulfonium salt, an iodonium salt) is typical. Examples of the onium salt anion include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, and a sulfonylmethide anion.

酸発生剤(B)としては、特開昭63-26653号、特開昭55-164824号、特開昭62-69263号、特開昭63-146038号、特開昭63-163452号、特開昭62-153853号、特開昭63-146029号、米国特許第3,779,778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤(B)は、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the acid generator (B) include JP-A-63-26653, JP-A-55-164824, JP-A-62-69263, JP-A-63-146038, JP-A-63-163452, and Japanese Patent Publication No. 63-163452. Kaisho 62-153853, JP-A-63-146029, US Patent No. 3,779,778, US Patent No. 3,849,137, German Patent No. 3914407, European Patent No. 126,712, etc. A compound that generates an acid by the radiation described in the above can be used. Further, a compound produced by a known method may be used. The acid generator (B) may be used in combination of two or more.

酸発生剤(B)は、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式(B1)で表される塩(以下「酸発生剤(B1)」という場合がある。)である。

Figure 0007032270000032
[式(B1)中、
b1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1~24の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S(O)-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
は、有機カチオンを表す。] The acid generator (B) is preferably a fluorine-containing acid generator, and more preferably a salt represented by the formula (B1) (hereinafter, may be referred to as “acid generator (B1)”).
Figure 0007032270000032
[In formula (B1),
Q b1 and Q b2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. , The hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and is contained in the alicyclic hydrocarbon group. CH 2- may be replaced with —O—, —S (O) 2 -or —CO—.
Z + represents an organic cation. ]

b1及びQb2の表すペルフルオロアルキル基としては、塩(I)のQr1、Qr2と同様の基等が挙げられる。
b1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、ともにフッ素原子であることがより好ましい。
Examples of the perfluoroalkyl group represented by Q b1 and Q b2 include groups similar to Q r1 and Q r2 of the salt (I).
It is preferable that Q b1 and Q b2 are independently fluorine atoms or trifluoromethyl groups, and it is more preferable that both are fluorine atoms.

b1における2価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
これら直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基は、塩(I)のLr1と同様の基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group in L b1 include a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. It may be a group formed by combining two or more kinds of groups.
Examples of these linear alkanediyl groups, branched alkanediyl groups, monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups include groups similar to L r1 of the salt (I).

b1で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-が-O-又は-CO-で置き換わった基としては、例えば、式(b1-1)~式(b1-3)のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式(b1-1)~式(b1-3)で表される基及びそれらの具体例である式(b1-4)~式(b1-11)で表される基において、*は-Yとの結合手を表す。 Examples of the group in which -CH 2- replaced by -O- or -CO- contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 are represented by the formulas (b1-1) to (b1-3). The group represented by any of the above is mentioned. In the groups represented by the formulas (b1-1) to (b1-3) and the groups represented by the formulas (b1-4) to (b1-11) which are specific examples thereof, * is-. Represents a bond with Y.

Figure 0007032270000033
[式(b1-1)中、
b2は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b3は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb2とLb3との炭素数合計は、22以下である。
式(b1-2)中、
b4は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb4とLb5との炭素数合計は、22以下である。
式(b1-3)中、
b6は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
b7は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb6とLb7との炭素数合計は、23以下である。]
Figure 0007032270000033
[In equation (b1-1),
L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated hydrocarbon group may be substituted. -CH 2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
However, the total number of carbon atoms of L b2 and L b3 is 22 or less.
In equation (b1-2),
L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated hydrocarbon group may be substituted. -CH 2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
However, the total number of carbon atoms of L b4 and L b5 is 22 or less.
In equation (b1-3),
L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated hydrocarbon group may be substituted. -CH 2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
However, the total number of carbon atoms of L b6 and L b7 is 23 or less. ]

式(b1-1)~式(b1-3)で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる-CH-が-O-又は-CO-に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
2価の飽和炭化水素基としては、Lb1の2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
In the groups represented by the formulas (b1-1) to (b1-3), when -CH2- contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with -O- or -CO-, the carbon before the replacement is performed. Let the number be the number of carbon atoms of the saturated hydrocarbon group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group include those similar to the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 .

b2は、好ましくは単結合である。
b3は、好ましくは炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基である。
b4は、好ましくは炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基であり、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b6は、好ましくは単結合又は炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b7は、好ましくは単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-は-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
L b2 is preferably a single bond.
L b3 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.

b1で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-が-O-又は-CO-で置き換わった基としては、式(b1-1)又は式(b1-3)で表される基が好ましい。 The group in which -CH2- in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 is replaced with -O- or -CO- is represented by the formula (b1-1) or the formula (b1-3). Is preferred.

式(b1-1)で表される基としては、式(b1-4)~式(b1-8)でそれぞれ表される基が挙げられる。

Figure 0007032270000034
[式(b1-4)中、
b8は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式(b1-5)中、
b9は、炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表す。
b10は、単結合又は炭素数1~19の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb9及びLb10の合計炭素数は20以下である。
式(b1-6)中、
b11は、炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b12は、単結合又は炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb11及びLb12の合計炭素数は21以下である。
式(b1-7)中、
b13は、炭素数1~19の2価の飽和炭化水素基を表す。
b14は、単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b15は、単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb13~Lb15の合計炭素数は19以下である。
式(b1-8)中、
b16は、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b17は、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b18は、単結合又は炭素数1~17の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb16~Lb18の合計炭素数は19以下である。] Examples of the group represented by the formula (b1-1) include groups represented by the formulas (b1-4) to (b1-8).
Figure 0007032270000034
[In equation (b1-4),
L b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
In equation (b1-5),
L b9 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
L b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ..
However, the total carbon number of L b9 and L b10 is 20 or less.
In equation (b1-6),
L b11 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ..
However, the total carbon number of L b11 and L b12 is 21 or less.
In equation (b1-7),
L b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms.
L b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ..
However, the total number of carbon atoms of L b13 to L b15 is 19 or less.
In equation (b1-8),
L b16 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b17 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b18 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ..
However, the total number of carbon atoms of L b16 to L b18 is 19 or less. ]

b8は、好ましくは炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基である。
b9は、好ましくは炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b10は、好ましくは単結合又は炭素数1~19の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b11は、好ましくは炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b12は、好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b13は、好ましくは炭素数1~12の2価の飽和炭化水素基である。
b14は、好ましくは単結合又は炭素数1~6の2価の飽和炭化水素基である。
b15は、好ましくは単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b16は、好ましくは炭素数1~12の2価の飽和炭化水素基である。
b17は、好ましくは炭素数1~6の2価の飽和炭化水素基である。
b18は、好ましくは単結合又は炭素数1~17の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基である。
L b8 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b9 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b10 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b15 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b16 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b17 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b18 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

式(b1-3)で表される基としては、式(b1-9)~式(b1-11)でそれぞれ表される基が挙げられる。

Figure 0007032270000035
式(b1-9)中、
b19は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b20は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb19及びLb20の合計炭素数は23以下である。
式(b1-10)中、
b21は、単結合又は炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b22は、単結合又は炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b23は、単結合又は炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb21、Lb22及びLb23の合計炭素数は21以下である。
式(b1-11)中、
b24は、単結合又は炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b25は、炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b26は、単結合又は炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb24、Lb25及びLb26の合計炭素数は21以下である。 Examples of the group represented by the formula (b1-3) include groups represented by the formulas (b1-9) to (b1-11).
Figure 0007032270000035
In equation (b1-9),
L b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. May be good. -CH 2- contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b19 and L b20 is 23 or less.
In equation (b1-10),
L b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. May be good. -CH 2- contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b21 , L b22 and L b23 is 21 or less.
In equation (b1-11),
L b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. May be good. -CH 2- contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b24 , L b25 and L b26 is 21 or less.

なお、式(b1-9)で表される基から式(b1-11)で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。 In addition, in the group represented by the formula (b1-11) from the group represented by the formula (b1-9), when the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with the alkylcarbonyloxy group, it is replaced. The previous carbon number is taken as the carbon number of the saturated hydrocarbon group.

アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group, an adamantylcarbonyloxy group and the like.

式(b1-4)で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000036
Examples of the group represented by the formula (b1-4) include the following.
Figure 0007032270000036

式(b1-5)で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000037
Examples of the group represented by the formula (b1-5) include the following.
Figure 0007032270000037

式(b1-6)で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000038
Examples of the group represented by the formula (b1-6) include the following.
Figure 0007032270000038

式(b1-7)で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000039
Examples of the group represented by the formula (b1-7) include the following.
Figure 0007032270000039

式(b1-8)で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000040
Examples of the group represented by the formula (b1-8) include the following.
Figure 0007032270000040

式(b1-2)で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000041
Examples of the group represented by the formula (b1-2) include the following.
Figure 0007032270000041

式(b1-9)で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000042
Examples of the group represented by the formula (b1-9) include the following.
Figure 0007032270000042

式(b1-10)で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000043
Examples of the group represented by the formula (b1-10) include the following.
Figure 0007032270000043

式(b1-11)で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000044
Yで表される脂環式炭化水素基としては、式(Y1)~式(Y11)、式(Y36)~式(Y38)で表される基が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基に含まれる-CH-が-O-、-S(O)-又は-CO-で置き換わる場合、その数は1つでもよいし、2以上でもよい。そのような基としては、式(Y12)~式(Y35)、式(Y39)~式(Y41)で表される基が挙げられる。 Examples of the group represented by the formula (b1-11) include the following.
Figure 0007032270000044
Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y include groups represented by the formulas (Y1) to (Y11) and the formulas (Y36) to (Y38).
When -CH 2- contained in the alicyclic hydrocarbon group represented by Y is replaced by -O-, -S (O) 2- or -CO-, the number may be one or two or more. good. Examples of such a group include groups represented by the formulas (Y12) to the formula (Y35) and the formulas (Y39) to the formula (Y41).

Figure 0007032270000045
Yとしては、好ましくは式(Y1)~式(Y20)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)~式(Y41)のいずれかで表される基であり、より好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y16)、式(Y20)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)又は式(Y40)で表される基であり、さらに好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y30)、式(Y39)又は式(Y40)で表される基である。
Yが式(Y28)~式(Y35)等のスピロ環である場合には、2つの酸素原子間のアルカンジイル基は、1以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていないのが好ましい。
Figure 0007032270000045
Y is preferably a group represented by any one of the formulas (Y1) to (Y20), the formula (Y30), the formula (Y31), and the formula (Y39) to the formula (Y41), and more preferably the formula. (Y11), formula (Y15), formula (Y16), formula (Y20), formula (Y30), formula (Y31), formula (Y39) or formula (Y40), more preferably formula. (Y11), formula (Y15), formula (Y30), formula (Y39) or formula (Y40).
When Y is a spiro ring of the formula (Y28) to the formula (Y35) or the like, the alkanediyl group between the two oxygen atoms preferably has one or more fluorine atoms. Further, among the alkanediyl groups contained in the ketal structure, it is preferable that the methylene group adjacent to the oxygen atom is not substituted with a fluorine atom.

Yで表されるメチル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数3~16の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基、-(CHja-CO-O-Rb1基又は-(CHja-O-CO-Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1~16のアルキル基、炭素数3~16の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子に置き換わっていてもよい。jaは、0~4のいずれかの整数を表す)等が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素数1~12のアルキル基、炭素数3~16の脂環式炭化水素基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、炭素数7~21のアラルキル基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基、グリシジルオキシ基、-(CHja-CO-O-Rb1基又は-(CHja-O-CO-Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1~16のアルキル基、炭素数3~16の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子に置き換わっていてもよい。jaは、0~4のいずれかの整数を表す)等が挙げられる。
As the substituent of the methyl group represented by Y, a halogen atom, a hydroxy group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group, and-( CH 2 ) ja -CO-O-R b1 group or-(CH 2 ) ja -O-CO-R b1 group (in the formula, R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms and 3 to 16 carbon atoms. Represents an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group combining these, and -CH 2- contained in the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 . -Or-CO- may be replaced, and the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with a hydroxy group or a fluorine atom. Ja is an integer of 0 to 4. Represented) and the like.
As the substituent of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and an alicyclic group having 3 to 16 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group or a hydroxy group may be used. Hydrocarbon groups, alkoxy groups with 1 to 12 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups with 6 to 18 carbon atoms, aralkyl groups with 7 to 21 carbon atoms, alkylcarbonyl groups with 2 to 4 carbon atoms, glycidyloxy groups,-( CH 2 ) ja -CO-O-R b1 group or-(CH 2 ) ja -O-CO-R b1 group (in the formula, R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms and 3 to 16 carbon atoms. Represents an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group combining these, and -CH 2- contained in the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 . -Or-CO- may be replaced, and the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with a hydroxy group or a fluorine atom. Ja is an integer of 0 to 4. Represented) and the like.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は鎖式炭化水素基を有していてもよく、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、炭素数1~18の鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p-エチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)、及び炭素数3~18の脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロへキシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2-エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, an adamantyl group and the like.
The alicyclic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group, and examples thereof include a methylcyclohexyl group and a dimethylcyclohexyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include aryl groups such as a phenyl group, a biphenylyl group, a naphthyl group and a phenanthryl group.
The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, and may have an aromatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (trill group, xylyl group). Group, cumenyl group, mesityl group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), and fats with 3 to 18 carbon atoms Examples thereof include aromatic hydrocarbon groups having a cyclic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.).
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, a 2-ethylhexyl group, an octyl group and a nonyl group. Examples include a group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group and the like.
Examples of the alkyl group substituted with the hydroxy group include hydroxyalkyl groups such as a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group and a dodecyloxy group.
Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group and a naphthylethyl group.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group and the like.

Yとしては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000046
Examples of Y include the following.
Figure 0007032270000046

Figure 0007032270000047
Figure 0007032270000047

Yは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭化水素基であり、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又はアダマンチル基を構成する-CH-は-CO-、-S(O)-又は-CO-に置き換わっていてもよい。Yは、さらに好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基、オキソアダマンチル基又は下記で表される基である。

Figure 0007032270000048
Y is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and more preferably an adamantane group which may have a substituent, and is said to be an alicyclic hydrocarbon. -CH 2- , which constitutes a hydrogen group or an adamantyl group, may be replaced with -CO-, -S (O) 2- or -CO-. Y is more preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, an oxoadamantyl group or a group represented by the following.
Figure 0007032270000048

式(B1)で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、式(B1-A-1)~式(B1-A-55)で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン(B1-A-1)」等という場合がある。〕が好ましく、式(B1-A-1)~式(B1-A-4)、式(B1-A-9)、式(B1-A-10)、式(B1-A-24)~式(B1-A-33)、式(B1-A-36)~式(B1-A-40)、式(B1-A-47)~式(B1-A-55)のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。 Examples of the sulfonic acid anion in the salt represented by the formula (B1) include anions represented by the formulas (B1-A-1) to (B1-A-55) [hereinafter, "anion (B1)" according to the formula number. -A-1) "and so on. ] Are preferable, and the formulas (B1-A-1) to (B1-A-4), formulas (B1-A-9), formulas (B1-A-10), and formulas (B1-A-24) to formulas (B1-A-24) to formulas are preferable. (B1-A-33), formula (B1-A-36) to formula (B1-A-40), formula (B1-A-47) to formula (B1-A-55). Anions are more preferred.

Figure 0007032270000049
Figure 0007032270000049

Figure 0007032270000050
Figure 0007032270000050

Figure 0007032270000051
Figure 0007032270000051

Figure 0007032270000052
Figure 0007032270000052

Figure 0007032270000053
Figure 0007032270000053

Figure 0007032270000054
ここで、Ri2~Ri7は、それぞれ独立に、例えば、炭素数1~4のアルキル基、好ましくはメチル基又はエチル基である。Ri8は、例えば、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数1~4のアルキル基、炭素数5~12の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。LA4は、単結合又は炭素数1~4のアルカンジイル基である。
b1及びQb2は、上記と同じ意味を表す。
式(B1)で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、具体的には、特開2010-204646号公報に記載されたアニオンが挙げられる。
Figure 0007032270000054
Here, R i2 to R i7 are each independently, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group. R i8 is formed, for example, by an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a combination thereof. Group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group. LA4 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Q b1 and Q b2 have the same meanings as described above.
Specific examples of the sulfonic acid anion in the salt represented by the formula (B1) include anions described in JP-A-2010-204646.

好ましい式(B1)で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、式(B1a-1)~式(B1a-34)でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。

Figure 0007032270000055
Examples of the sulfonic acid anion in the salt represented by the preferred formula (B1) include anions represented by the formulas (B1a-1) to (B1a-34).
Figure 0007032270000055

Figure 0007032270000056
Figure 0007032270000056

Figure 0007032270000057
Figure 0007032270000057

Figure 0007032270000058
Figure 0007032270000058

なかでも、式(B1a-1)~式(B1a-3)及び式(B1a-7)~式(B1a-16)、式(B1a-18)、式(B1a-19)、式(B1a-22)~式(B1a-34)のいずれかで表されるアニオンが好ましい。 Among them, the formulas (B1a-1) to (B1a-3) and the formulas (B1a-7) to (B1a-16), the formulas (B1a-18), the formulas (B1a-19), and the formulas (B1a-22). )-Anion represented by any of the formulas (B1a-34) is preferable.

の有機カチオンとしては、塩(I)のZRと同じものが挙げられる。 Examples of the organic cation of Z + include the same as ZR + of the salt (I).

酸発生剤(B)は、上述のスルホン酸アニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1a-1)~式(B1a-3)及び式(B1a-7)~式(B1a-16)、式(B1a-18)、式(B1a-19)、式(B1a-22)~式(B1a-34)のいずれかで表されるアニオンと、カチオン(b2-1)又はカチオン(b2-3)との組合せが挙げられる。 The acid generator (B) is a combination of the above-mentioned sulfonic acid anion and the above-mentioned organic cation, and these can be arbitrarily combined. As the acid generator (B), the formulas (B1a-1) to (B1a-3), the formulas (B1a-7) to the formulas (B1a-16), the formulas (B1a-18), and the formulas (B1a-) are preferably used. 19), a combination of an anion represented by any of the formulas (B1a-22) to (B1a-34) and a cation (b2-1) or a cation (b2-3) can be mentioned.

酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1-1)~式(B1-48)でそれぞれ表されるものが挙げられる、中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式(B1-1)~式(B1-3)、式(B1-5)~式(B1-7)、式(B1-11)~式(B1-14)、式(B1-20)~式(B1-26)、式(B1-29)、式(B1-31)~式(B1-48)で表されるものがとりわけ好ましい。

Figure 0007032270000059
Examples of the acid generator (B) preferably include those represented by the formulas (B1-1) to (B1-48), and among them, those containing an arylsulfonium cation are preferable, and the acid generator (B1-1) contains an arylsulfonium cation. -Formula (B1-3), Formula (B1-5) -Formula (B1-7), Formula (B1-11) -Formula (B1-14), Formula (B1-20) -Formula (B1-26), Those represented by the formulas (B1-29) and the formulas (B1-31) to (B1-48) are particularly preferable.
Figure 0007032270000059

Figure 0007032270000060
Figure 0007032270000060

Figure 0007032270000061
Figure 0007032270000061

Figure 0007032270000062
Figure 0007032270000062

本発明の酸発生剤が酸発生剤(I)及び酸発生剤(B)を含有する場合、酸発生剤(I)と酸生剤(B)との含有量の比(質量比;酸発生剤(I):酸発生剤(B))は、通常、1:99~99:1であり、好ましくは2:98~98:2であり、より好ましくは5:95~95:5であり、さらに好ましくは10:90~90:10であり、特に好ましくは15:85~85:15である。 When the acid generator of the present invention contains the acid generator (I) and the acid generator (B), the content ratio (mass ratio; acid generation) of the acid generator (I) and the acid generator (B). The agent (I): acid generator (B)) is usually 1:99 to 99: 1, preferably 2:98 to 98: 2, and more preferably 5:95 to 95: 5. , More preferably 10:90 to 90:10, and particularly preferably 15:85 to 85:15.

〔レジスト組成物〕
本発明のレジスト組成物は、塩(I)を含む酸発生剤と、酸不安定基を有する樹脂(以下「樹脂(A)」という場合がある)とを含有する。ここで、「酸不安定基」とは、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、構成単位が親水性基(例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基)を有する構成単位に変換する基を意味する。
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩等のクエンチャー(以下「クエンチャー(C)」という場合がある)を含有することが好ましく、溶剤(以下「溶剤(E)」という場合がある)を含有することが好ましい。
[Resist composition]
The resist composition of the present invention contains an acid generator containing a salt (I) and a resin having an acid unstable group (hereinafter, may be referred to as "resin (A)"). Here, the "acid-unstable group" has a leaving group, and the leaving group is removed by contact with an acid, and the constituent unit has a hydrophilic group (for example, a hydroxy group or a carboxy group). It means a group to be converted into a unit.
The resist composition of the present invention preferably contains a quencher (hereinafter, may be referred to as "citrate (C)") such as a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator. , A solvent (hereinafter, may be referred to as "solvent (E)") is preferably contained.

<樹脂(A)>
樹脂(A)は、ハロゲン原子を有さず、酸不安定基を有する構造単位(以下「構造単位(a1)」という場合がある)を有する。樹脂(A)は、さらに、構造単位(a1)以外の構造単位を含むことが好ましい。構造単位(a1)以外の構造単位としては、ハロゲン原子を有さず、酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(s)」という場合がある)、構造単位(a1)及び構造単位(s)以外の構造単位(例えば、後述するハロゲン原子を有する構造単位(以下「構造単位(a4)」という場合がある)、後述する非脱離炭化水素基を有する構造単位(以下「構造単位(a5)という場合がある)及びその他の当該分野で公知のモノマーに由来する構造単位等が挙げられる。ここで、酸不安定基とは、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、親水性基(例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基)を形成する基を意味する。
<Resin (A)>
The resin (A) does not have a halogen atom and has a structural unit having an acid unstable group (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1)”). The resin (A) preferably further contains a structural unit other than the structural unit (a1). Structural units other than the structural unit (a1) include a structural unit having no halogen atom and no acid-labile group (hereinafter, may be referred to as “structural unit (s)”), a structural unit (a1), and a structural unit. A structural unit other than the structural unit (s) (for example, a structural unit having a halogen atom described later (hereinafter, may be referred to as "structural unit (a4)"), a structural unit having a non-eliminating hydrocarbon group described later (hereinafter, "" (Sometimes referred to as structural unit (a5)) and other structural units derived from monomers known in the art. Here, an acid unstable group has a desorbing group and is in contact with an acid. Means a group that is eliminated by a group to form a hydrophilic group (for example, a hydroxy group or a carboxy group).

〈構造単位(a1)〉
構造単位(a1)は、酸不安定基を有するモノマー(以下「モノマー(a1)」という場合がある)から導かれる。
樹脂(A)に含まれる酸不安定基は、式(1)で表される基(以下、基(1)とも記す)及び/又は式(2)で表される基(以下、基(2)とも記す)が好ましい。

Figure 0007032270000063
[式(1)中、Ra1~Ra3は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~20の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ra1及びRa2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数3~20の非芳香族炭化水素環を形成する。
ma及びnaは、それぞれ独立して、0又は1を表し、ma及びnaの少なくとも一方は1を表す。
*は結合手を表す。]
Figure 0007032270000064
[式(2)中、Ra1’及びRa2’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~12の炭化水素基を表し、Ra3’は、炭素数1~20の炭化水素基を表すか、Ra2’及びRa3’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに炭素数3~20の複素環を形成し、該炭化水素基及び該複素環に含まれる-CH-は、-O-又は-S-で置き換わってもよい。
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
na’は、0又は1を表す。
*は結合手を表す。] <Structural unit (a1)>
The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid unstable group (hereinafter, may be referred to as “monomer (a1)”).
The acid unstable group contained in the resin (A) is a group represented by the formula (1) (hereinafter, also referred to as a group (1)) and / or a group represented by the formula (2) (hereinafter, a group (2). ) Is also preferable.
Figure 0007032270000063
[In the formula (1), R a1 to R a3 independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a group combining these groups, or R. a1 and R a2 are bonded to each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.
ma and na independently represent 0 or 1, and at least one of ma and na represents 1.
* Represents a bond. ]
Figure 0007032270000064
[In the formula (2), Ra 1'and Ra 2'independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and Ra 3'represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Represented, R a2'and R a3' are bonded to each other to form a heterocycle having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom and X to which they are bonded, and are contained in the hydrocarbon group and the heterocycle-CH 2 . -May be replaced with -O- or -S-.
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
na'represents 0 or 1.
* Represents a bond. ]

a1、Ra2及びRa3におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
a1、Ra2及びRa3における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合手を表す。)等が挙げられる。Ra1~Ra3の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3~16である。

Figure 0007032270000065
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられる。
好ましくは、maは0であり、naは1である。
a1及びRa2が互いに結合して非芳香族炭化水素環を形成する場合の-C(Ra1)(Ra2)(Ra3)としては、下記の基が挙げられる。非芳香族炭化水素環は、好ましくは炭素数3~12である。*は-O-との結合手を表す。
Figure 0007032270000066
Examples of the alkyl group in R a1 , Ra 2 and Ra 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group and the like.
The alicyclic hydrocarbon group in R a1 , Ra 2 and Ra 3 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group and the following groups (* indicates a bond). The alicyclic hydrocarbon group of R a1 to R a3 has preferably 3 to 16 carbon atoms.
Figure 0007032270000065
Examples of the group in which the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group are combined include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a methylnorbornyl group, a cyclohexylmethyl group, an adamantylmethyl group, an adamantyldimethyl group and a norbornyl group. Examples thereof include an ethyl group.
Preferably, ma is 0 and na is 1.
Examples of -C (R a1 ) (R a2 ) (R a3 ) in the case where R a1 and R a 2 are bonded to each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring include the following groups. The non-aromatic hydrocarbon ring preferably has 3 to 12 carbon atoms. * Represents a bond with -O-.
Figure 0007032270000066

a1’ 、Ra2’及びRa3’における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ra1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えばシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロヘキシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のアリール-シクロアルキル基等が挙げられる。
a2’及びRa3’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに複素環を形成する場合、-C(Ra1’)(Ra3’)-X-Ra2’としては、下記の基が挙げられる。*は、結合手を表す。

Figure 0007032270000067
a1’及びRa2’のうち、少なくとも1つは水素原子であることが好ましい。
na’は、好ましくは0である。 Examples of the hydrocarbon group in R a1' , R a2' and R a3' include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group and a group combining these.
Examples of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group include the same groups as those mentioned in Ra 1 , Ra 2 and Ra 3 .
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a biphenylyl group and a naphthyl group.
Examples of the combined group include a group combining the above-mentioned alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group (for example, a cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methyl). Phenyl group, p-tert-butylphenyl group, trill group, xsilyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon group Examples thereof include an aromatic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), an aryl-cycloalkyl group such as a phenylcyclohexyl group, and the like.
When R a2'and R a3' are bonded to each other to form a heterocycle together with the carbon atom and X to which they are bonded, -C (R a1' ) (R a3' )-X-R a2'is as follows. The basis of. * Represents a bond.
Figure 0007032270000067
Of R a1'and R a2' , at least one is preferably a hydrogen atom.
na'is preferably 0.

基(1)としては、以下の基が挙げられる。
式(1)においてRa1~Ra3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。当該基としては、tert-ブトキシカルボニル基が好ましい。
式(1)において、Ra1、Ra2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマンチル基を形成し、Ra3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。
式(1)において、Ra1及びRa2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ra3がアダマンチル基であり、ma=0であり、na=1である基。
基(1)としては、具体的には以下の基が挙げられる。*は結合手を表す。

Figure 0007032270000068
Examples of the group (1) include the following groups.
In the formula (1), R a1 to R a3 are alkyl groups, ma = 0, and na = 1. The group is preferably a tert-butoxycarbonyl group.
In formula (1), R a1 and R a2 form an adamantyl group together with the carbon atom to which they are bonded, and R a3 is an alkyl group, ma = 0, and na = 1. ..
In formula (1), R a1 and R a2 are independently alkyl groups, R a3 is an adamantyl group, ma = 0, and na = 1.
Specific examples of the group (1) include the following groups. * Represents a bond.
Figure 0007032270000068

基(2)の具体例としては、以下の基が挙げられる。*は結合手を表す。

Figure 0007032270000069
Specific examples of the group (2) include the following groups. * Represents a bond.
Figure 0007032270000069

モノマー(a1)は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーである。 The monomer (a1) is preferably a monomer having an acid unstable group and an ethylenically unsaturated bond, and more preferably a (meth) acrylic monomer having an acid unstable group.

酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数5~20の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー(a1)に由来する構造単位を有する樹脂(A)をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。 Among the (meth) acrylic monomers having an acid unstable group, those having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms are preferable. If the resin (A) having a structural unit derived from the monomer (a1) having a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group is used in the resist composition, the resolution of the resist pattern can be improved.

基(1)を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位として、好ましくは、式(a1-0)で表される構造単位(以下、構造単位(a1-0)という場合がある。)、式(a1-1)で表される構造単位(以下、構造単位(a1-1)という場合がある。)又は式(a1-2)で表される構造単位(以下、構造単位(a1-2)という場合がある。)が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。

Figure 0007032270000070
[式(a1-0)、式(a1-1)及び式(a1-2)中、
a01、La1及びLa2は、それぞれ独立に、-O-又は-O-(CHk1-CO-O-を表し、k1は1~7のいずれかの整数を表し、*は-CO-との結合手を表す。
a01、Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a02、Ra03及びRa04は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
m1は0~14のいずれかの整数を表す。
n1は0~10のいずれかの整数を表す。
n1’は0~3のいずれかの整数を表す。] The structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having the group (1) is preferably a structural unit represented by the formula (a1-0) (hereinafter, may be referred to as a structural unit (a1-0)). , Structural unit represented by the formula (a1-1) (hereinafter, may be referred to as structural unit (a1-1)) or structural unit represented by the formula (a1-2) (hereinafter, structural unit (a1-). 2) may be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
Figure 0007032270000070
[In the formula (a1-0), the formula (a1-1) and the formula (a1-2),
La01 , La1 and La2 independently represent -O- or * -O- (CH 2 ) k1 -CO-O-, k1 represents an integer of 1 to 7, and * represents an integer of 1 to 7. -Represents a bond with CO-.
R a01 , R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a02 , R a03 and R a04 independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group combining these groups.
R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining them.
m1 represents any integer from 0 to 14.
n1 represents any integer from 0 to 10.
n1'represents an integer of 0 to 3. ]

a01、Ra4及びRa5は、好ましくはメチル基である。
a01、La1及びLa2は、好ましくは酸素原子又は*-O-(CHk01-CO-O-であり(但し、k01は、好ましくは1~4のいずれかの整数、より好ましくは1である。)、より好ましくは酸素原子である。
a02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7におけるアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式(1)のRa1~Ra3で挙げた基と同様の基が挙げられる。
a02、Ra03、及びRa04におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは1~6であり、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
a6及びRa7におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは1~6であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
a02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは5~12であり、より好ましくは5~10である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、18以下であることが好ましい。
a02及びRa03は、好ましくは炭素数1~6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a04は、好ましくは炭素数1~6のアルキル基又は炭素数5~12の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
a6及びRa7は、好ましくは炭素数1~6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
m1は、好ましくは0~3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1は、好ましくは0~3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1’は好ましくは0又は1である。
R a01 , R a4 and R a5 are preferably methyl groups.
La01 , La1 and La2 are preferably oxygen atoms or * -O- (CH 2 ) k01 -CO-O- (where k01 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably. Is 1), more preferably an oxygen atom.
The alkyl groups, alicyclic hydrocarbon groups in R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 and the groups in which these are combined are the same as the groups mentioned in R a1 to R a3 of the formula (1). The group is mentioned.
The number of carbon atoms of the alkyl group in R a02 , R a03 , and R a04 is preferably 1 to 6, more preferably a methyl group or an ethyl group, and further preferably a methyl group.
The number of carbon atoms of the alkyl group in R a6 and R a7 is preferably 1 to 6, more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, and further preferably an ethyl group or an isopropyl group.
The alicyclic hydrocarbon groups of R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 have preferably 5 to 12 carbon atoms, more preferably 5 to 10 carbon atoms.
The group in which the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group are combined preferably has a total carbon number of 18 or less in combination of these alkyl groups and the alicyclic hydrocarbon group.
R a02 and R a03 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
R a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group.
R a6 and R a7 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, and further preferably an ethyl group or an isopropyl group.
m1 is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1 is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1'is preferably 0 or 1.

構造単位(a1-0)としては、例えば、式(a1-0-1)~式(a1-0-12)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1-0)におけるRa01に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1-0-1)~式(a1-0-10)のいずれかで表される構造単位が好ましい。

Figure 0007032270000071
The structural unit (a1-0) is, for example, a structural unit represented by any of the formulas (a1-0-1) to (a1-0-12) and R a01 in the structural unit (a1-0). Examples thereof include structural units in which the corresponding methyl group is replaced with a hydrogen atom, and structural units represented by any of the formulas (a1-0-1) to (a1-0-10) are preferable.
Figure 0007032270000071

構造単位(a1-1)としては、例えば、特開2010-204646号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式(a1-1-1)~式(a1-1-4)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1-1)におけるRa4に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式(a1-1-1)~式(a1-1-4)のいずれかで表される構造単位がより好ましい。

Figure 0007032270000072
Examples of the structural unit (a1-1) include structural units derived from the monomers described in JP-A-2010-204646. Among them, the methyl group corresponding to R a4 in the structural unit represented by any of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) and the structural unit (a1-1) was replaced with a hydrogen atom. Structural units are preferable, and structural units represented by any of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) are more preferable.
Figure 0007032270000072

構造単位(a1-2)としては、式(a1-2-1)~式(a1-2-6)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1-2)におけるRa5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1-2-2)、式(a1-2-5)及び式(a1-2-6)が好ましい。

Figure 0007032270000073
The structural unit (a1-2) corresponds to the structural unit represented by any of the equations (a1-2-1) to (a1-2-6) and R a5 in the structural unit (a1-2). Examples thereof include structural units in which a methyl group is replaced with a hydrogen atom, and formulas (a1-2-2), formulas (a1-2-5) and formulas (a1-2-6) are preferable.
Figure 0007032270000073

樹脂(A)が構造単位(a1-0)及び/又は構造単位(a1-1)及び/又は構造単位(a1-2)を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常10~95モル%であり、好ましくは15~90モル%であり、より好ましくは20~85モル%であり、さらに好ましくは25~70モル%であり、さらにより好ましくは30~70モル%である。 When the resin (A) contains a structural unit (a1-0) and / or a structural unit (a1-1) and / or a structural unit (a1-2), the total content of these is the total structure of the resin (A). With respect to the unit, it is usually 10 to 95 mol%, preferably 15 to 90 mol%, more preferably 20 to 85 mol%, still more preferably 25 to 70 mol%, still more preferably. It is 30 to 70 mol%.

構造単位(a1)において基(2)を有する構造単位としては、式(a1-4)で表される構造単位(以下、「構造単位(a1-4)」という場合がある。)が挙げられる。

Figure 0007032270000074
[式(a1-4)中、
a32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
a33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
laは0~4のいずれかの整数を表す。laが2以上である場合、複数のRa33は互いに同一であっても異なってもよい。
a34及びRa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~12の炭化水素基を表し、Ra36は、炭素数1~20の炭化水素基を表すか、Ra35及びRa36は互いに結合してそれらが結合する-C-O-とともに炭素数2~20の2価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該2価の炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-S-で置き換わってもよい。] Examples of the structural unit having the group (2) in the structural unit (a1) include structural units represented by the formula (a1-4) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1-4)”). ..
Figure 0007032270000074
[In equation (a1-4),
R a32 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a33 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, and acryloyl. Represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
la represents an integer of 0 to 4. When la is 2 or more, a plurality of Ra 33s may be the same or different from each other.
R a34 and R a35 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R a36 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R a35 and R a36 are bonded to each other. Then, together with -CO- to which they are bonded, a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms is formed, and the hydrocarbon group and -CH 2- contained in the divalent hydrocarbon group are-. It may be replaced by O- or -S-. ]

a32及びRa33におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
a32及びRa33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
a34、Ra35及びRa36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、及びこれらを組み合わせた基が挙げられ、アルキル基及び脂環式炭化水素基としては、Ra02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基と同様の基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えばシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロヘキシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のアリール-シクロアルキル基等が挙げられる。特に、Ra36としては、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
Examples of the alkyl group in R a32 and R a33 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group and the like. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a methyl group.
Examples of the halogen atom in R a32 and R a33 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, and 1,1. 2,2-Tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3 4,4-Octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, etc. Can be mentioned.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Of these, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is even more preferable.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group and the like.
Examples of the hydrocarbon group in R a34 , R a35 and R a36 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group combining these, and an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group. Examples of the group include the same groups as the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group in R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 .
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a biphenylyl group and a naphthyl group.
Examples of the combined group include a group combining the above-mentioned alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group (for example, a cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methyl). Phenyl group, p-tert-butylphenyl group, trill group, xsilyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon group Examples thereof include an aromatic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), an aryl-cycloalkyl group such as a phenylcyclohexyl group, and the like. In particular, Ra36 includes an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining them. Can be mentioned.

式(a1-4)において、Ra32としては、水素原子が好ましい。
a33としては、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
laとしては、0又は1が好ましく、0がより好ましい。
a34は、好ましくは、水素原子である。
a35は、好ましくは、炭素数1~12のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基であり、より好ましくは、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数7~18のアラルキル基である。Ra36におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ra36における芳香族炭化水素基は、炭素数6~10のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
構造単位(a1-4)における-OC(Ra34)(Ra35)-O-Ra36は、酸(例えばp-トルエンスルホン酸)と接触して脱離し、ヒドロキシ基を形成する。
In the formula (a1-4), a hydrogen atom is preferable as R a32 .
As R a33 , an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group and an ethoxy group are more preferable, and a methoxy group is further preferable.
As la, 0 or 1 is preferable, and 0 is more preferable.
R a34 is preferably a hydrogen atom.
R a35 is preferably an alkyl group or an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
The hydrocarbon group of R a36 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof. It is a group to be formed, more preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. The alkyl group and alicyclic hydrocarbon group in R a36 are preferably unsubstituted. The aromatic hydrocarbon group in R a36 is preferably an aromatic ring having an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.
-OC (R a34 ) (R a35 ) -OR a36 in the structural unit (a1-4) is contacted with an acid (for example, p-toluenesulfonic acid) and desorbed to form a hydroxy group.

構造単位(a1-4)としては、例えば、特開2010-204646号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式(a1-4-1)~式(a1-4-12)でそれぞれ表される構造単位及び構造単位(a1-4)におけるRa32に相当する水素原子がメチル基に置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式(a1-4-1)~式(a1-4-5)、式(a1-4-10)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。

Figure 0007032270000075
Examples of the structural unit (a1-4) include structural units derived from the monomers described in JP-A-2010-204646. Preferably, the structural unit represented by the formulas (a1-4-1) to (a1-4-12) and the structure in which the hydrogen atom corresponding to R a32 in the structural unit (a1-4) is replaced with a methyl group. Units are mentioned, and more preferably, structural units represented by the formulas (a1-4-1) to (a1-4-5) and the formula (a1-4-10) are mentioned.
Figure 0007032270000075

樹脂(A)が、構造単位(a1-4)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、10~95モル%であることが好ましく、15~90モル%であることがより好ましく、20~85モル%であることがさらに好ましく、20~70モル%であることがさらにより好ましく、20~60モル%であることが特に好ましい。 When the resin (A) contains the structural unit (a1-4), the content thereof is preferably 10 to 95 mol%, preferably 15 to 90, based on the total of all the structural units of the resin (A). It is more preferably mol%, further preferably 20 to 85 mol%, even more preferably 20 to 70 mol%, and particularly preferably 20 to 60 mol%.

基(2)を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式(a1-5)で表される構造単位(以下「構造単位(a1-5)」という場合がある)も挙げられる。

Figure 0007032270000076
式(a1-5)中、
a8は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a1は、単結合又は*-(CH2h3-CO-L54-を表し、h3は1~4のいずれかの整数を表し、*は、L51との結合手を表す。
51、L52、L53及びL54は、それぞれ独立に、-O-又は-S-を表す。
s1は、1~3のいずれかの整数を表す。
s1’は、0~3のいずれかの整数を表す。 Examples of the structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having the group (2) include the structural unit represented by the formula (a1-5) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1-5)”). Be done.
Figure 0007032270000076
In equation (a1-5),
R a8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom which may have a halogen atom.
Z a1 represents a single bond or *-(CH 2 ) h3 -CO-L 54- , h3 represents an integer of 1 to 4, and * represents a bond with L 51 .
L 51 , L 52 , L 53 and L 54 independently represent -O- or -S-, respectively.
s1 represents an integer of 1 to 3.
s1'represents an integer of 0 to 3.

ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式(a1-5)においては、Ra8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が好ましい。
51は、酸素原子が好ましい。
52及びL53のうち、一方が-O-であり、他方が-S-であることが好ましい。
s1は、1が好ましい。
s1’は、0~2のいずれかの整数が好ましい。
a1は、単結合又は*-CH2-CO-O-が好ましい。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom, and a fluorine atom is preferable.
Alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a fluoromethyl group and a trifluoromethyl group. The group is mentioned.
In the formula (a1-5), R a8 is preferably a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
L 51 is preferably an oxygen atom.
Of L 52 and L 53 , it is preferable that one is —O— and the other is —S—.
1 is preferable for s1.
s1'is preferably an integer of 0 to 2.
Z a1 is preferably a single bond or * -CH 2 -CO-O-.

構造単位(a1-5)としては、例えば、特開2010-61117号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式(a1-5-1)~式(a1-5-4)でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式(a1-5-1)又は式(a1-5-2)で表される構造単位がより好ましい。

Figure 0007032270000077
Examples of the structural unit (a1-5) include the structural unit derived from the monomer described in JP-A-2010-61117. Among them, the structural units represented by the formulas (a1-5-1) to (a1-5-4) are preferable, and they are represented by the formula (a1-5-1) or the formula (a1-5-2). Structural units are more preferred.
Figure 0007032270000077

樹脂(A)が、構造単位(a1-5)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1~50モル%が好ましく、3~45モル%がより好ましく、5~40モル%がさらに好ましく、5~30モル%がさらにより好ましい。 When the resin (A) contains the structural unit (a1-5), the content thereof is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 3 to 45 mol%, based on all the structural units of the resin (A). 5 to 40 mol% is even more preferable, and 5 to 30 mol% is even more preferable.

また、構造単位(a1)としては、以下の構造単位も挙げられる。

Figure 0007032270000078
Moreover, the following structural unit is also mentioned as a structural unit (a1).
Figure 0007032270000078

樹脂(A)が上記、式(a1-3-1)~(a1-3-7)のような構造単位を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、10~95モル%が好ましく、15~90モル%がより好ましく、20~85モル%がさらに好ましく、20~70モル%がさらにより好ましく、20~60モル%が特に好ましい。 When the resin (A) contains structural units such as those of the above formulas (a1-3-1) to (a1-3-7), the content thereof is 10 with respect to all the structural units of the resin (A). It is preferably ~ 95 mol%, more preferably 15-90 mol%, still more preferably 20-85 mol%, even more preferably 20-70 mol%, and particularly preferably 20-60 mol%.

〈構造単位(s)〉
構造単位(s)は、ハロゲン原子を有さず、酸不安定基を有さないモノマー(以下「モノマー(s)」という場合がある)から導かれる。構造単位(s)を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位(s)としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a2)」という場合がある)及び/又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a3)」という場合がある)を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
<Structural unit (s)>
The structural unit (s) is derived from a monomer having no halogen atom and no acid unstable group (hereinafter, may be referred to as “monomer (s)”). As the monomer for deriving the structural unit (s), a monomer having no acid unstable group known in the resist field can be used.
The structural unit (s) preferably has a hydroxy group or a lactone ring. A structure having a hydroxy group and no acid unstable group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a2)") and / or having a lactone ring and no acid unstable group. If a resin having a unit (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a3)") is used in the resist composition of the present invention, the resolution of the resist pattern and the adhesion to the substrate can be improved.

〈構造単位(a2)〉
構造単位(a2)が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてKrFエキシマレーザ(248nm)、電子線又はEUV(超紫外光)等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位(a2)として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)を用いることが好ましい。また、ArFエキシマレーザ(193nm)等を用いる場合には、構造単位(a2)として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)が好ましく、後述する構造単位(a2-1)を用いることがより好ましい。構造単位(a2)としては、1種を単独で含んでいてもよく、2種以上を含んでいてもよい。
<Structural unit (a2)>
The hydroxy group of the structural unit (a2) may be an alcoholic hydroxy group or a phenolic hydroxy group.
When a resist pattern is produced from the resist composition of the present invention, when a high energy ray such as a KrF excimer laser (248 nm), an electron beam or EUV (ultraviolet light) is used as an exposure light source, the structural unit (a2) is used. , It is preferable to use the structural unit (a2) having a phenolic hydroxy group. When an ArF excimer laser (193 nm) or the like is used, the structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group is preferable, and the structural unit (a2-1) described later is more preferably used. preferable. As the structural unit (a2), one type may be contained alone, or two or more types may be contained.

構造単位(a2)においてフェノール性ヒドロキシ基有する構造単位としては式(a2-A)で表される構造単位(以下「構造単位(a2-A)」という場合がある)が挙げられる。

Figure 0007032270000079
[式(a2-A)中、
a50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
a51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
a50は、単結合又は-Xa51-(Aa52-Xa52nb-を表し、*は-Ra50が結合する炭素原子との結合手を表す。
a52は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
a51及びXa52は、それぞれ独立に、-O-、-CO-O-又は-O-CO-を表す。
nbは、0又は1を表す。
mbは0~4のいずれかの整数を表す。mbが2以上のいずれかの整数である場合、複数のRa51は互いに同一であっても異なってもよい。] Examples of the structural unit having a phenolic hydroxy group in the structural unit (a2) include structural units represented by the formula (a2-A) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a2-A)”).
Figure 0007032270000079
[In formula (a2-A),
R a50 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom.
R a51 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, and acryloyl. Represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
A a50 represents a single bond or * -X a51- (A a52- X a52 ) nb- , and * represents a bond with a carbon atom to which -R a50 is bonded.
A a52 independently represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
X a51 and X a52 independently represent —O—, —CO—O— or —O—CO—, respectively.
nb represents 0 or 1.
mb represents any integer from 0 to 4. When mb is any integer of 2 or more, the plurality of Ra 51s may be the same as or different from each other. ]

a50におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
a50におけるハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
a50は、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
a51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
a51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基が挙げられる。炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
a51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
a51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
a51は、メチル基が好ましい。
Examples of the halogen atom in R a50 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom in Ra50 include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group and 1 , 1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3 , 3,4,4-Octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group and perfluorohexyl The group is mentioned.
R a50 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Examples of the alkyl group in Ra51 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group and a hexyl group.
Examples of the alkoxy group in Ra51 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group. An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is further preferable.
Examples of the alkylcarbonyl group in Ra51 include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group and the like.
Examples of the alkylcarbonyloxy group in Ra51 include an acetyloxy group, a propionyloxy group and a butyryloxy group.
R a51 is preferably a methyl group.

-Xa51-(Aa52-Xa52nb-としては、-O-、-CO-O-、-O-CO-、-CO-O-Aa52-CO-O-、-O-CO-Aa52-O-、-O-Aa52-CO-O-、-CO-O-Aa52-O-CO-、-O-CO-Aa52-O-CO-、が挙げられる。なかでも、-CO-O-、-CO-O-Aa52-CO-O-又は-O-Aa52-CO-O-が好ましい。 * -X a51- (A a52- X a52 ) nb- includes * -O-, * -CO-O-, * -O-CO-, * -CO-O-A a52 -CO-O-, * -O-CO-A a52 -O-, * -O-A a52 -CO-O-, * -CO-O-A a52 -O-CO-, * -O-CO-A a52 -O-CO -, Can be mentioned. Of these, * -CO-O-, * -CO-O-A a52 -CO-O- or * -O-A a52 -CO-O- are preferable.

アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基及び2-メチルブタン-1,4-ジイル基等が挙げられる。
a52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
The alkanediyl group includes a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, and a hexane-. 1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group and 2 -Methylbutane-1,4-diyl group and the like can be mentioned.
A a52 is preferably a methylene group or an ethylene group.

a50は、単結合、-CO-O-又は-CO-O-Aa52-CO-O-であることが好ましく、単結合、-CO-O-又は-CO-O-CH2-CO-O-であることがより好ましく、単結合又は-CO-O-であることがさらに好ましい。 A a50 is preferably single bond, * -CO-O- or * -CO-O-A a52 -CO-O-, and is preferably single bond, * -CO-O- or * -CO-O-CH. 2 -CO-O- is more preferred, and single bond or * -CO-O- is even more preferred.

mbは0、1又は2が好ましく、0又は1がより好ましく、0が特に好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のo-位又はp-位に結合することが好ましく、p-位に結合することがより好ましい。
The mb is preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.
The hydroxy group is preferably bonded to the o-position or p-position of the benzene ring, and more preferably to the p-position.

構造単位(a2-A)としては、特開2010-204634号公報、特開2012-12577号公報に記載されているモノマー由来の構造単位が挙げられる。 Examples of the structural unit (a2-A) include structural units derived from the monomers described in JP-A-2010-204634 and JP-A-2012-12577.

構造単位(a2-A)としては、特開2010-204634号公報、特開2012-12577号公報に記載されているモノマー由来の構造単位が挙げられる。
構造単位(a2-A)としては、式(a2-2-1)~式(a2-2-6)で表される構造単位及び、式(a2-2-1)~式(a2-2-6)で表される構造単位において構造単位(a2-A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。構造単位(a2-A)は、式(a2-2-1)で表される構造単位、式(a2-2-3)で表される構造単位、式(a2-2-6)で表される構造単位、及び式(a2-2-1)で表される構造単位、式(a2-2-3)で表される構造単位又は式(a2-2-6)で表される構造単位において、構造単位(a2-A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。

Figure 0007032270000080
Examples of the structural unit (a2-A) include structural units derived from the monomers described in JP-A-2010-204634 and JP-A-2012-12577.
The structural unit (a2-A) includes a structural unit represented by the formulas (a2-2-1) to the formula (a2-2-6) and the formulas (a2-2-1) to the formula (a2-2-2). In the structural unit represented by 6), a structural unit in which the methyl group corresponding to Ra50 in the structural unit (a2-A) is replaced with a hydrogen atom can be mentioned. The structural unit (a2-A) is represented by a structural unit represented by the formula (a2-2-1), a structural unit represented by the formula (a2-2-3), and a formula (a2-2-6). In the structural unit represented by the formula (a2-2-1), the structural unit represented by the formula (a2-2-3), or the structural unit represented by the formula (a2-2-6). , It is preferable that the methyl group corresponding to Ra50 in the structural unit (a2-A) is a structural unit in which a hydrogen atom is replaced.
Figure 0007032270000080

樹脂(A)中に構造単位(a2-A)が含まれる場合の構造単位(a2-A)の含有率は、全構造単位に対して、好ましくは5~80モル%であり、より好ましくは10~70モル%であり、さらに好ましくは15~65モル%であり、さらにより好ましくは20~65モル%である。
構造単位(a2-A)は、例えば構造単位(a1-4)を用いて重合した後、p-トルエンスルホン酸等の酸で処理することにより、樹脂(A)に含ませることができる。また、アセトキシスチレン等を用いて重合した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリで処理することにより、構造単位(a2-A)を樹脂(A)に含ませることができる。
When the structural unit (a2-A) is contained in the resin (A), the content of the structural unit (a2-A) is preferably 5 to 80 mol%, more preferably 5 to 80 mol% with respect to all the structural units. It is 10 to 70 mol%, more preferably 15 to 65 mol%, and even more preferably 20 to 65 mol%.
The structural unit (a2-A) can be contained in the resin (A) by, for example, polymerizing using the structural unit (a1-4) and then treating with an acid such as p-toluenesulfonic acid. Further, the structural unit (a2-A) can be contained in the resin (A) by polymerizing with acetoxystyrene or the like and then treating with an alkali such as tetramethylammonium hydroxide.

構造単位(a2)においてアルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては、式(a2-1)で表される構造単位(以下「構造単位(a2-1)」という場合がある。)が挙げられる。

Figure 0007032270000081
式(a2-1)中、
a3は、-O-又は-O-(CH2k2-CO-O-を表し、
k2は1~7のいずれかの整数を表す。*は-CO-との結合手を表す。
a14は、水素原子又はメチル基を表す。
a15及びRa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
o1は、0~10のいずれかの整数を表す。 Examples of the structural unit having an alcoholic hydroxy group in the structural unit (a2) include structural units represented by the formula (a2-1) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a2-1)”).
Figure 0007032270000081
In equation (a2-1),
L a3 represents -O- or * -O- (CH 2 ) k2 -CO-O-
k2 represents an integer of 1 to 7. * Represents a bond with -CO-.
R a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a15 and R a16 independently represent a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxy group, respectively.
o1 represents any integer from 0 to 10.

式(a2-1)では、La3は、好ましくは、-O-、-O-(CH2f1-CO-O-であり(前記f1は、1~4のいずれかの整数を表す)、より好ましくは-O-である。
a14は、好ましくはメチル基である。
a15は、好ましくは水素原子である。
a16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
o1は、好ましくは0~3のいずれかの整数、より好ましくは0又は1である。
In the formula (a2-1), La3 is preferably -O-, -O- (CH 2 ) f1 -CO-O- (the f1 represents an integer of 1 to 4). , More preferably -O-.
R a14 is preferably a methyl group.
R a15 is preferably a hydrogen atom.
R a16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxy group.
o1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 1.

構造単位(a2-1)としては、例えば、特開2010-204646号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式(a2-1-1)~式(a2-1-6)のいずれかで表される構造単位が好ましく、式(a2-1-1)~式(a2-1-4)のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式(a2-1-1)又は式(a2-1-3)で表される構造単位がさらに好ましい。

Figure 0007032270000082
Examples of the structural unit (a2-1) include structural units derived from the monomers described in JP-A-2010-204646. The structural unit represented by any of the formulas (a2-1-1) to (a2-1-6) is preferable, and any of the formulas (a2-1-1) to (a2-1-4) is preferable. The structural unit represented is more preferable, and the structural unit represented by the formula (a2-1-1) or the formula (a2-1-3) is further preferable.
Figure 0007032270000082

樹脂(A)が構造単位(a2-1)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常1~45モル%であり、好ましくは1~40モル%であり、より好ましくは1~35モル%であり、さらに好ましくは2~20モル%であり、さらにより好ましくは2~10モル%である。 When the resin (A) contains the structural unit (a2-1), the content thereof is usually 1 to 45 mol%, preferably 1 to 40 mol%, based on all the structural units of the resin (A). It is more preferably 1 to 35 mol%, further preferably 2 to 20 mol%, and even more preferably 2 to 10 mol%.

〈構造単位(a3)〉
構造単位(a3)が有するラクトン環は、β-プロピオラクトン環、γ-ブチロラクトン環、δ-バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ-ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ-ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環(例えば下式(a3-2)で表される構造単位)が挙げられる。
<Structural unit (a3)>
The lactone ring of the structural unit (a3) may be a monocyclic ring such as β-propiolactone ring, γ-butyrolactone ring, or δ-valerolactone ring, or a fused ring of a monocyclic lactone ring and another ring. But it may be. Preferably, a γ-butyrolactone ring, an adamantane lactone ring, or a bridged ring containing a γ-butyrolactone ring structure (for example, a structural unit represented by the following formula (a3-2)) can be mentioned.

構造単位(a3)は、好ましくは、式(a3-1)、式(a3-2)、式(a3-3)又は式(a3-4)で表される構造単位である。これらの1種を単独で含有してもよく、2種以上を含有してもよい。

Figure 0007032270000083
[式(a3-1)、式(a3-2)、式(a3-3)及び式(a3-4)中、
a4、La5及びLa6は、それぞれ独立に、-O-又は-O-(CHk3-CO-O-(k3は1~7のいずれかの整数を表す。)で表される基を表す。
a7は、-O-、-O-La8-O-、-O-La8-CO-O-、-O-La8-CO-O-La9-CO-O-又は-O-La8-O-CO-La9-O-を表す。
a8及びLa9は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
*はカルボニル基との結合手を表す。
a18、Ra19及びRa20は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a24は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a21は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表す。
a22、Ra23及びRa25は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表す。
p1は0~5のいずれかの整数を表す。
q1は、0~3のいずれかの整数を表す。
r1は、0~3のいずれかの整数を表す。
w1は、0~8のいずれかの整数を表す。
p1、q1、r1及び/又はw1が2以上のとき、複数のRa21、Ra22、Ra23及び/又はRa25は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。] The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3) or the formula (a3-4). One of these may be contained alone, or two or more thereof may be contained.
Figure 0007032270000083
[In the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3) and the formula (a3-4),
L a4 , La 5 and La 6 are independently represented by -O- or * -O- (CH 2 ) k3 -CO-O- (k3 represents an integer of 1 to 7). Represents a group.
L a7 is -O-, * -OL a8 -O-, * -OL a8-CO-O-, * -OL a8 - CO-O-L a9 -CO-O- or * -O-L a8 -O-CO-L a9 -O-represented.
L a8 and La 9 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
* Represents a bond with a carbonyl group.
R a18 , R a19 and R a20 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a24 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom which may have a halogen atom.
R a21 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
R a22 , R a23 and R a25 each independently represent a carboxy group, a cyano group or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
p1 represents an integer of 0 to 5.
q1 represents an integer of 0 to 3.
r1 represents any integer from 0 to 3.
w1 represents any integer from 0 to 8.
When p1, q1, r1 and / or w1 is 2 or more, the plurality of R a21 , R a22 , R a23 and / or R a25 may be the same or different from each other. ]

a21、Ra22、Ra23及びRa25における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基及びtert-ブチル基等のアルキル基が挙げられる。
a24におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
a24におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1~4のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
a24におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group in R a21 , R a22 , R a23 and R a 25 include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group and a tert-butyl group. Be done.
Examples of the halogen atom in Ra24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkyl group in Ra24 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group and the like, and preferably have 1 to 4 carbon atoms. Alkyl group of, more preferably a methyl group or an ethyl group.
Alkyl groups having a halogen atom in Ra24 include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, perfluorotert-butyl group, perfluoropentyl group and perfluoro. Examples thereof include a hexyl group, a trichloromethyl group, a tribromomethyl group, and a triiodomethyl group.

a8及びLa9におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基及び2-メチルブタン-1,4-ジイル基等が挙げられる。 The alkanediyl group in La8 and La9 includes a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and a pentane-1,5. -Diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1, Examples thereof include a 4-diyl group and a 2-methylbutane-1,4-diyl group.

式(a3-1)~式(a3-3)において、La4~La6は、それぞれ独立に、好ましくは-O-又は、*-O-(CHk3-CO-O-において、k3が1~4のいずれかの整数である基、より好ましくは-O-及び、*-O-CH-CO-O-、さらに好ましくは酸素原子である。
a18~Ra21は、好ましくはメチル基である。
a22及びRa23は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
p1、q1及びr1は、それぞれ独立に、好ましくは0~2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
In the formulas (a3-1) to (a3-3), La4 to La6 are independently, preferably k3 in -O- or * -O- (CH 2 ) k3 -CO-O-, respectively. Is an integer of 1 to 4, more preferably —O— and * —O— CH2 -CO—O—, and even more preferably an oxygen atom.
R a18 to R a21 are preferably methyl groups.
R a22 and R a23 are each independently, preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
p1, q1 and r1 are independently, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.

式(a3-4)において、Ra24は、好ましくは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
a25は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
a7は、好ましくは-O-又は-O-La8-CO-O-であり、より好ましくは-O-、-O-CH-CO-O-又は-O-C-CO-O-である。
w1は、好ましくは0~2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
特に、式(a3-4)は、式(a3-4)’が好ましい。

Figure 0007032270000084
(式中、Ra24、La7は、上記と同じ意味を表す。) In the formula (a3-4), Ra24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group. Is.
Ra25 is preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
L a7 is preferably -O- or * -OL a8 -CO-O-, and more preferably -O-, -O-CH 2 -CO-O- or -O-C 2 H 4- . It is CO-O-.
w1 is preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.
In particular, the formula (a3-4) is preferably the formula (a3-4)'.
Figure 0007032270000084
(In the formula, Ra24 and La7 have the same meanings as above.)

構造単位(a3)としては、特開2010-204646号公報に記載されたモノマー、特開2000-122294号公報に記載されたモノマー、特開2012-41274号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位(a3)としては、式(a3-1-1)、式(a3-1-2)、式(a3-2-1)、式(a3-2-2)、式(a3-3-1)、式(a3-3-2)及び式(a3-4-1)~式(a3-4-12)のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式(a3-1)~式(a3-4)におけるRa18、Ra19、Ra20及びRa24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましい。 The structural unit (a3) is a structure derived from the monomer described in JP-A-2010-204646, the monomer described in JP-A-2000-122294, and the monomer described in JP-A-2012-41274. The unit is mentioned. The structural unit (a3) includes the formula (a3-1-1), the formula (a3-1-2), the formula (a3-2-1), the formula (a3--2-2), and the formula (a3-3-3). 1), the structural unit represented by any of the equations (a3-3-2) and the equations (a3-4-1) to (a3-4-12), and in the structural unit, the equation (a3-1). )-The structural unit in which the methyl group corresponding to Ra 18, Ra 19 , Ra 20 and Ra 24 in the formula ( a3-4 ) is replaced with a hydrogen atom is preferable.

Figure 0007032270000085
Figure 0007032270000085

樹脂(A)が構造単位(a3)を含む場合、その合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常5~70モル%であり、好ましくは10~65モル%であり、より好ましくは10~60モル%である。
また、構造単位(a3-1)、構造単位(a3-2)、構造単位(a3-3)又は構造単位(a3-4)の含有率は、それぞれ、樹脂(A)の全構造単位に対して、5~60モル%が好ましく、5~50モル%がより好ましく、10~50モル%がさらに好ましい。
When the resin (A) contains the structural unit (a3), the total content thereof is usually 5 to 70 mol%, preferably 10 to 65 mol%, based on all the structural units of the resin (A). , More preferably 10-60 mol%.
Further, the content of the structural unit (a3-1), the structural unit (a3-2), the structural unit (a3-3) or the structural unit (a3-4) is set with respect to all the structural units of the resin (A), respectively. 5 to 60 mol% is preferable, 5 to 50 mol% is more preferable, and 10 to 50 mol% is further preferable.

〈構造単位(a4)〉
構造単位(a4)としては、以下の構造単位が挙げられる。

Figure 0007032270000086
[式(a4)中、
41は、水素原子又はメチル基を表す。
42は、炭素数1~24のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-COに置き換わっていてもよい。]
42で表される飽和炭化水素基は、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、これらを組み合わせた基等が挙げられる。 <Structural unit (a4)>
Examples of the structural unit (a4) include the following structural units.
Figure 0007032270000086
[In equation (a4),
R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 42 represents a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom having 1 to 24 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO. ]
Examples of the saturated hydrocarbon group represented by R 42 include a chain hydrocarbon group, a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group, and a group combining these.

鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合手を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。

Figure 0007032270000087
組み合わせた基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせた基が挙げられ、-アルカンジイル基-脂環式炭化水素基、-脂環式炭化水素基-アルキル基、-アルカンジイル基-脂環式炭化水素基-アルキル基等が挙げられる。 Examples of the chain hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group and an octadecyl group. Can be mentioned. Examples of the monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group; decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups. Examples thereof include a polycyclic alicyclic hydrocarbon group such as (* indicates a bond).
Figure 0007032270000087
Examples of the combined group include a group in which one or more alkyl groups or one or more alcandiyl groups and one or more alicyclic hydrocarbon groups are combined-alcandiyl group-alicyclic hydrocarbon group. -Ali ring type hydrocarbon group-alkyl group, -alkandyl group-ali ring type hydrocarbon group-alkyl group and the like can be mentioned.

構造単位(a4)としては、式(a4-0)、式(a4-1)、式(a4-2)、式(a4-3)及び式(a4-4)からなる群から選択される少なくとも1つで表される構造単位が挙げられる。

Figure 0007032270000088
[式(a4-0)中、
54は、水素原子又はメチル基を表す。
4aは、単結合又は炭素数1~4のアルカンジイル基を表す。
3aは、炭素数1~8のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数3~12のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
は、水素原子又はフッ素原子を表す。] The structural unit (a4) is at least selected from the group consisting of the formula (a4-0), the formula (a4-1), the formula (a4-2), the formula (a4-3) and the formula (a4-4). A structural unit represented by one can be mentioned.
Figure 0007032270000088
[In equation (a4-0),
R 54 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 4a represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L 3a represents a perfluoroalkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms or a perfluorocycloalkanediyl group having 3 to 12 carbon atoms.
R 6 represents a hydrogen atom or a fluorine atom. ]

4aにおける炭素数1~4のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基及び2-メチルプロパン-1,2-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms in L 4a include a linear alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and an ethane-1. , 1-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group and the like. Alkanediyl group is mentioned.

3aにおけるペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパン-1,1-ジイル基、ペルフルオロプロパン-1,3-ジイル基、ペルフルオロプロパン-1,2-ジイル基、ペルフルオロプロパン-2,2-ジイル基、ペルフルオロブタン-1,4-ジイル基、ペルフルオロブタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロブタン-1,2-ジイル基、ペルフルオロペンタン-1,5-ジイル基、ペルフルオロペンタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロペンタン-3,3-ジイル基、ペルフルオロヘキサン-1,6-ジイル基、ペルフルオロヘキサン-2,2-ジイル基、ペルフルオロヘキサン-3,3-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-1,7-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-3,4-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-4,4-ジイル基、ペルフルオロオクタン-1,8-ジイル基、ペルフルオロオクタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロオクタン-3,3-ジイル基、ペルフルオロオクタン-4,4-ジイル基等が挙げられる。
3aにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
The perfluoroalkanediyl group in L 3a includes a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group, a perfluoropropane-1,1-diyl group, a perfluoropropane-1,3-diyl group, a perfluoropropane-1,2-diyl group, and a perfluoropropane. -2,2-diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,2-diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane -2,2-diyl group, perfluoropentane-3,3-diyl group, perfluorohexane-1,6-diyl group, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane -1,7-diyl group, perfluoroheptane-2,2-diyl group, perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane Examples thereof include -2,2-diyl group, perfluorooctane-3,3-diyl group, perfluorooctane-4,4-diyl group and the like.
Examples of the perfluorocycloalkandyl group in L 3a include a perfluorocyclohexanediyl group, a perfluorocyclopentanediyl group, a perfluorocycloheptanediyl group, a perfluoroadamantandiyl group and the like.

4aは、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは、単結合、メチレン基である。
3aは、好ましくは炭素数1~6のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数1~3のペルフルオロアルカンジイル基である。
L 4a is preferably a single bond, a methylene group or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.
L 3a is preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.

構造単位(a4-0)としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位(a4-0)におけるRに相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

Figure 0007032270000089
Examples of the structural unit (a4-0) include the structural unit shown below and the structural unit in which the methyl group corresponding to R5 in the structural unit ( a4-0 ) in the following structural unit is replaced with a hydrogen atom.
Figure 0007032270000089

Figure 0007032270000090
Figure 0007032270000090

Figure 0007032270000091
[式(a4-1)中、
a41は、水素原子又はメチル基を表す。
a42は、置換基を有していてもよい炭素数1~20の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
a41は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基又は式(a-g1)で表される基を表す。ただし、Aa41及びRa42のうち少なくとも1つは、置換基としてハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)を有する。
Figure 0007032270000092
〔式(a-g1)中、
sは0又は1を表す。
a42及びAa44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の2価の脂肪族炭化水素基を表す。
a43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1~5の2価の脂肪族炭化水素基を表す。
a41及びXa42は、それぞれ独立に、-O-、-CO-、-CO-O-又は-O-CO-を表す。
ただし、Aa42、Aa43、Aa44、Xa41及びXa42の炭素数の合計は7以下である。〕
*は結合手であり、右側の*が-O-CO-Ra42との結合手である。]
Figure 0007032270000091
[In equation (a4-1),
R a41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a42 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with -O- or -CO-. You may.
A a41 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent or a group represented by the formula (ag1). However, at least one of Aa41 and Ra42 has a halogen atom (preferably a fluorine atom) as a substituent.
Figure 0007032270000092
[In the formula (ag1),
s represents 0 or 1.
A a 42 and A a 44 each independently represent a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
A a43 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a single bond or a substituent.
X a41 and X a42 independently represent -O-, -CO-, -CO-O- or -O-CO-, respectively.
However, the total number of carbon atoms of A a42 , A a43 , A a44 , X a41 and X a42 is 7 or less. ]
* Is a bond, and * on the right is a bond with -O-CO-R a42 . ]

a42における飽和炭化水素基としては、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。 Examples of the saturated hydrocarbon group in R a42 include a chain hydrocarbon group, a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.

鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合手を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。

Figure 0007032270000093
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、-アルカンジイル基-脂環式炭化水素基、-脂環式炭化水素基-アルキル基、-アルカンジイル基-脂環式炭化水素基-アルキル基等が挙げられる。 Examples of the chain hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group and an octadecyl group. Can be mentioned. Examples of the monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group; decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups. Examples thereof include a polycyclic alicyclic hydrocarbon group such as (* indicates a bond).
Figure 0007032270000093
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alcandiyl groups and one or more alicyclic hydrocarbon groups, and examples thereof include-alcandiyl group-. Examples thereof include an alicyclic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an alkyl group, an alcandyl group, an alicyclic hydrocarbon group, and an alkyl group.

a42が有していてもよい置換基として、ハロゲン原子及び式(a-g3)で表される基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。

Figure 0007032270000094
[式(a-g3)中、
a43は、酸素原子、カルボニル基、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す(*はRa42との結合手を表す。)。
a45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~17の脂肪族炭化水素基を表す。
*は結合手を表す。]
ただし、Ra42-Xa43-Aa45において、Ra42がハロゲン原子を有しない場合は、Aa45は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する炭素数1~17の脂肪族炭化水素基を表す。 Examples of the substituent that R a42 may have include a halogen atom and a group represented by the formula (ag3). Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.
Figure 0007032270000094
[In the formula (ag3),
X a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, * -O-CO- or * -CO-O- (* represents a bond with R a42 ).
A a45 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
* Represents a bond. ]
However, in R a42- X a43 -A a45 , when R a42 does not have a halogen atom, A a45 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms having at least one halogen atom.

a45における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式の脂環式炭化水素基;並びにデカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合手を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。 The aliphatic hydrocarbon group in A a45 includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group and a heptadecyl group. Alkyl groups such as octadecyl groups; monocyclic alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group; and decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups. Examples thereof include a polycyclic alicyclic hydrocarbon group such as (* indicates a bond).

a42は、ハロゲン原子を有してもよい飽和炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び/又は式(a-g3)で表される基を有する飽和炭化水素基がより好ましい。
a42がハロゲン原子を有する飽和炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が1~6のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数1~3のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
a42が、式(a-g3)で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、式(a-g3)で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ra42の総炭素数は、15以下が好ましく、12以下がより好ましい。式(a-g3)で表される基を置換基として有する場合、その数は1個が好ましい。
R a42 is preferably a saturated hydrocarbon group which may have a halogen atom, and more preferably an alkyl group having a halogen atom and / or a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (ag3).
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, and further preferably having 1 to 1 to carbon atoms. It is a perfluoroalkyl group of 6, and particularly preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the perfluoroalkyl group include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a perfluoroheptyl group and a perfluorooctyl group. Examples of the perfluorocycloalkyl group include a perfluorocyclohexyl group.
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (ag3), the total carbon of R a42 including the number of carbon atoms contained in the group represented by the formula (ag3). The number is preferably 15 or less, more preferably 12 or less. When the group represented by the formula (ag3) is used as a substituent, the number thereof is preferably one.

a42が式(a-g3)で表される基を有する飽和炭化水素である場合、Ra42は、さらに好ましくは式(a-g2)で表される基である。

Figure 0007032270000095
[式(a-g2)中、
a46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~17の2価の脂肪族炭化水素基を表す。
a44は、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す(*はAa46との結合手を表す。)。
a47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~17の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Aa46、Aa47及びXa44の炭素数の合計は18以下であり、Aa46及びAa47のうち、少なくとも一方は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する。
*はカルボニル基との結合手を表す。] When R a42 is a saturated hydrocarbon having a group represented by the formula (ag3), R a42 is more preferably a group represented by the formula (ag2).
Figure 0007032270000095
[In the formula (ag2),
A a46 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
X a44 represents * -O-CO- or * -CO-O- (* represents a bond with A a46 ).
A a47 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
However, the total number of carbon atoms of A a46 , A a47 and X a44 is 18 or less, and at least one of A a46 and A a47 has at least one halogen atom.
* Represents a bond with a carbonyl group. ]

a46の脂肪族炭化水素基の炭素数は1~6が好ましく、1~3がより好ましい。
a47の脂肪族炭化水素基の炭素数は4~15が好ましく、5~12がより好ましく、Aa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。
The aliphatic hydrocarbon group of A a46 preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms.
The aliphatic hydrocarbon group of A a47 preferably has 4 to 15 carbon atoms, more preferably 5 to 12 carbon atoms, and further preferably A a47 having a cyclohexyl group or an adamantyl group.

式(a-g2)で表される基の好ましい構造は、以下の構造である(*はカルボニル基との結合手である)。

Figure 0007032270000096
The preferred structure of the group represented by the formula (ag2) is the following structure (* is a bond with a carbonyl group).
Figure 0007032270000096

a41におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、1-メチルブタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
a41の表すアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基等が挙げられる。
a41は、好ましくは炭素数1~4のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数2~4のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
The alkanediyl group in A a41 is a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, and a hexane-1,6-diyl group. Linear alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, etc. Examples thereof include a branched alkanediyl group such as 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Examples of the substituent in the alkanediyl group represented by A a41 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
A a41 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and further preferably an ethylene group.

式(a-g1)で表される基におけるAa42、Aa43及びAa44の2価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環又は多環の2価の脂環式炭化水素基、並びに、アルカンジイル基及び2価の脂環式炭化水素基を組合せることにより形成される2価の脂肪族炭化水素基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、1-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基等が挙げられる。
a42、Aa43及びAa44の2価の脂肪族炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基等が挙げられる。
sは、0であることが好ましい。
The divalent aliphatic hydrocarbon groups of A a42 , A a43 and A a44 in the group represented by the formula (a-g1) include a linear or branched alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent group. Examples thereof include an alicyclic hydrocarbon group and a divalent aliphatic hydrocarbon group formed by combining an alkanediyl group and a divalent alicyclic hydrocarbon group. Specifically, a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a 1-methylpropane-1,3-diyl group, Examples thereof include 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group.
Examples of the substituent of the divalent aliphatic hydrocarbon group of A a42 , A a43 and A a44 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
s is preferably 0.

式(a-g1)で表される基において、Xa42が-O-、-CO-、-CO-O-又は-O-CO-である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、*及び**はそれぞれ結合手を表わし、**が-O-CO-Ra42との結合手である。

Figure 0007032270000097
In the group represented by the formula (ag1), examples of the group in which X a42 is —O—, —CO—, —CO—O— or —O—CO— include the following groups. In the following examples, * and ** represent the bond, respectively, and ** is the bond with -O-CO-R a42 .
Figure 0007032270000097

式(a4-1)で表される構造単位としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の式(a4-1)で表される構造単位におけるRa41に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

Figure 0007032270000098
As the structural unit represented by the formula (a4-1), the methyl group corresponding to R a41 in the structural unit shown below and the structural unit represented by the formula (a4-1) in the following structural unit is a hydrogen atom. Examples include replaced structural units.
Figure 0007032270000098

Figure 0007032270000099
Figure 0007032270000099

式(a4-1)で表される構造単位としては、式(a4-2)で表される構造単位が好ましい。

Figure 0007032270000100
[式(a4-2)中、
f5は、水素原子又はメチル基を表す。
44は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
f6は、炭素数1~20のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、L44及びRf6の合計炭素数の上限は21である。] As the structural unit represented by the formula (a4-1), the structural unit represented by the formula (a4-2) is preferable.
Figure 0007032270000100
[In equation (a4-2),
R f5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 44 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and -CH 2- contained in the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-.
R f6 represents a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom having 1 to 20 carbon atoms.
However, the upper limit of the total carbon number of L 44 and R f6 is 21. ]

44の炭素数1~6のアルカンジイル基は、Aa41で例示したものと同様の基が挙げられる。
f6の飽和炭化水素基は、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。
44における炭素数1~6のアルカンジイル基としては、炭素数2~4のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
Examples of the alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms of L 44 include the same groups as those exemplified in A a41 .
Examples of the saturated hydrocarbon group of R f6 include the same groups as those exemplified in R a42 .
As the alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms in L 44 , an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms is preferable, and an ethylene group is more preferable.

式(a4-2)で表される構造単位としては、例えば、式(a4-1-1)~式(a4-1-11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4-2)におけるRf5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4-2)で表される構造単位として挙げられる。 Examples of the structural unit represented by the formula (a4-2) include structural units represented by the formulas (a4-1-1) to (a4-1-11). A structural unit in which the methyl group corresponding to R f5 in the structural unit (a4-2) is replaced with a hydrogen atom is also mentioned as a structural unit represented by the formula (a4-2).

Figure 0007032270000101
[式(a4-3)中、
f7は、水素原子又はメチル基を表す。
5は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
f13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表す。
f12は、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す(*はAf13との結合手を表す。)。
f14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~17の飽和炭化水素基を表す。
但し、Af13及びAf14の少なくとも1つは、フッ素原子を有し、L5、Af13及びAf14の合計炭素数の上限は20である。]
Figure 0007032270000101
[In equation (a4-3),
R f7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 5 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
A f13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a fluorine atom.
X f12 represents * -O-CO- or * -CO-O- (* represents a bond with A f13 ).
A f14 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a fluorine atom.
However, at least one of A f13 and A f14 has a fluorine atom, and the upper limit of the total carbon number of L 5 , A f13 and A f14 is 20. ]

5におけるアルカンジイル基としては、Aa41におけるアルカンジイル基で例示したものと同様の基が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group in L 5 include the same groups as those exemplified in the alkanediyl group in Aa41 .

f13におけるフッ素原子を有していてもよい2価の飽和炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子を有していてもよい2価の脂肪族飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい2価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイル基である。
フッ素原子を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基;ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい2価の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
The divalent saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom in A f13 preferably has a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom and a fluorine atom. It is also a good divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, more preferably a perfluoroalkanediyl group.
Examples of the divalent aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom include an alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanjiyl group and a pentandiyl group; a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group and a perfluoro. Examples thereof include a perfluoroarcandyl group such as a propanediyl group, a perfluorobutanediyl group and a perfluoropentanediyl group.
The divalent alicyclic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be either a monocyclic type or a polycyclic type. Examples of the monocyclic group include a cyclohexanediyl group and a perfluorocyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic group include an adamantandiyl group, a norbornanediyl group, a perfluoroadamantandiyl group and the like.

f14の飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい飽和炭化水素基は、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペルフルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチルメチル基等が好ましい。 Examples of the saturated hydrocarbon group of A f14 and the saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom include the same groups as those exemplified in R a42 . Among them, trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5-Nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, heptyl group, perfluoroheptyl group, octyl group, perfluorooctyl group and the like fluoride Alkyl group, cyclopropylmethyl group, cyclopropyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, perfluorocyclohexyl group, adamantyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornyl group, norbornylmethyl group, perfluoroadamantyl group , Perfluoroadamantylmethyl group and the like are preferable.

式(a4-3)において、L5は、エチレン基が好ましい。
f13の2価の飽和炭化水素基は、炭素数1~6の鎖式炭化水素基及び炭素数3~12の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数2~3の鎖式炭化水素基がさらに好ましい。
f14の飽和炭化水素基は、炭素数3~12の鎖式炭化水素基及び炭素数3~12の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数3~10の鎖式炭化水素基及び炭素数3~10の脂環式炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Af14は、好ましくは炭素数3~12の脂環式炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、シクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。
In the formula (a4-3), L 5 is preferably an ethylene group.
The divalent saturated hydrocarbon group of A f13 is preferably a group containing a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and a chain type having 2 to 3 carbon atoms. Hydrocarbon groups are more preferred.
The saturated hydrocarbon group of A f14 is preferably a chain hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and a chain hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. And a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms is more preferable. Among them, A f14 is preferably a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group and an adamantyl group.

式(a4-3)で表される構造単位としては、例えば、式(a4-1’-1)~式(a4-1’-11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4-3)におけるRf7に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4-3)で表される構造単位として挙げられる。 Examples of the structural unit represented by the formula (a4-3) include structural units represented by the formulas (a4-1'-1) to (a4-1'-11). A structural unit in which the methyl group corresponding to R f7 in the structural unit (a4-3) is replaced with a hydrogen atom is also mentioned as a structural unit represented by the formula (a4-3).

構造単位(a4)としては、式(a4-4)で表される構造単位も挙げられる。

Figure 0007032270000102
[式(a4-4)中、
f21は、水素原子又はメチル基を表す。
f21は、-(CH2j1-、-(CH2j2-O-(CH2j3-又は-(CH2j4-CO-O-(CH2j5-を表す。
j1~j5は、それぞれ独立に、1~6のいずれかの整数を表す。
f22は、フッ素原子を有する炭素数1~10の飽和炭化水素基を表す。] The structural unit (a4) also includes a structural unit represented by the formula (a4-4).
Figure 0007032270000102
[In equation (a4-4),
R f21 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f21 represents-(CH 2 ) j1 -,-(CH 2 ) j2 -O- (CH 2 ) j3- or- (CH 2 ) j4 -CO-O- (CH 2 ) j5- .
j1 to j5 each independently represent an integer of 1 to 6.
R f22 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom. ]

f22の飽和炭化水素基は、Ra42で表される飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。Rf22は、フッ素原子を有する炭素数1~10のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数1~10の脂環式炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数1~10のアルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数1~6のアルキル基がさらに好ましい。 Examples of the saturated hydrocarbon group of R f22 include the same saturated hydrocarbon group represented by R a42 . R f22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom or an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, and more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom. Preferably, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a fluorine atom is more preferable.

式(a4-4)においては、Af21としては、-(CH2j1-が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 In the formula (a4-4), as A f21 , − (CH 2 ) j1 − is preferable, an ethylene group or a methylene group is more preferable, and a methylene group is further preferable.

式(a4-4)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び以下の式で表される構造単位において、構造単位(a4-4)におけるRf21に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

Figure 0007032270000103
As the structural unit represented by the formula (a4-4), for example, in the following structural unit and the structural unit represented by the following formula, the methyl group corresponding to R f21 in the structural unit (a4-4) is hydrogen. A structural unit that has been replaced by an atom can be mentioned.
Figure 0007032270000103

樹脂(A)が、構造単位(a4)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1~20モル%が好ましく、2~15モル%がより好ましく、3~10モル%がさらに好ましい。 When the resin (A) has a structural unit (a4), the content thereof is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 2 to 15 mol%, and 3) with respect to all the structural units of the resin (A). -10 mol% is more preferred.

〈構造単位(a5)〉
構造単位(a5)が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位(a5)は、脂環式炭化水素基を有する基が好ましい。
構造単位(a5)としては、例えば、式(a5-1)で表される構造単位が挙げられる。

Figure 0007032270000104
[式(a5-1)中、
51は、水素原子又はメチル基を表す。
52は、炭素数3~18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数1~8の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
55は、単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。] <Structural unit (a5)>
Examples of the non-eliminating hydrocarbon group of the structural unit (a5) include a group having a linear, branched or cyclic hydrocarbon group. Among them, the structural unit (a5) is preferably a group having an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the structural unit (a5) include a structural unit represented by the formula (a5-1).
Figure 0007032270000104
[In equation (a5-1),
R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 52 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. ..
L 55 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. .. ]

52における脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数1~8の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、3-メチルアダマンチル基などが挙げられる。
52は、好ましくは、無置換の炭素数3~18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
55における2価の飽和炭化水素基としては、2価の鎖式飽和炭化水素基及び2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは2価の鎖式飽和炭化水素基である。
2価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
The alicyclic hydrocarbon group in R 52 may be either a monocyclic or polycyclic group. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include an adamantyl group and a norbornyl group.
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms includes, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and 2 -Alkyl groups such as ethylhexyl groups can be mentioned.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a substituent include a 3-methyladamantyl group.
R 52 is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and more preferably an adamantyl group, a norbornyl group or a cyclohexyl group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group in L 55 include a divalent chain-type saturated hydrocarbon group and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and a divalent chain-type saturated hydrocarbon group is preferable. ..
Examples of the divalent chain saturated hydrocarbon group include an alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanjiyl group and a pentandiyl group.
The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include a cycloalkanediyl group such as a cyclopentanediyl group and a cyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include an adamantandiyl group and a norbornanediyl group.

55の表す2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-が、-O-又は-CO-で置き換わった基としては、例えば、式(L1-1)~式(L1-4)で表される基が挙げられる。下記式中、*は酸素原子との結合手を表す。

Figure 0007032270000105
式(L1-1)中、
x1は、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す(*はLx1との結合手を表す。)。
x1は、炭素数1~16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x2は、単結合又は炭素数1~15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx1及びLx2の合計炭素数は、16以下である。
式(L1-2)中、
x3は、炭素数1~17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x4は、単結合又は炭素数1~16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx3及びLx4の合計炭素数は、17以下である。
式(L1-3)中、
x5は、炭素数1~15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x6及びLx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1~14の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx5、Lx6及びLx7の合計炭素数は、15以下である。
式(L1-4)中、
x8及びLx9は、単結合又は炭素数1~12の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x1は、炭素数3~15の2価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx8、Lx9及びWx1の合計炭素数は、15以下である。
x1は、好ましくは、炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x2は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合である。
x3は、好ましくは、炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x4は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x5は、好ましくは、炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x6は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x7は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x8は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
x9は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
x1は、好ましくは、炭素数3~10の2価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。 Examples of the group in which -CH2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L 55 is replaced with -O- or -CO- are represented by the formulas (L1-1) to (L1-4). The groups represented are mentioned. In the following formula, * represents a bond with an oxygen atom.
Figure 0007032270000105
In equation (L1-1),
X x1 represents * -O-CO- or * -CO-O- (* represents a bond with L x1 ).
L x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
L x2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms of L x 1 and L x 2 is 16 or less.
In equation (L1-2),
L x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms.
L x4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms of L x3 and L x4 is 17 or less.
In formula (L1-3),
L x 5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
L x6 and L x7 each independently represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x5 , L x6 and L x7 is 15 or less.
In formula (L1-4),
L x8 and L x9 represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
W x 1 represents a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x8 , L x9 and W x1 is 15 or less.
L x1 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x2 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond.
L x3 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x 5 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x6 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x8 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond or a methylene group.
L x9 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond or a methylene group.
W x1 is preferably a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, and more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantanediyl group.

式(L1-1)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。

Figure 0007032270000106
Examples of the group represented by the formula (L1-1) include the divalent group shown below.
Figure 0007032270000106

式(L1-2)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。

Figure 0007032270000107
Examples of the group represented by the formula (L1-2) include the divalent group shown below.
Figure 0007032270000107

式(L1-3)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。

Figure 0007032270000108
Examples of the group represented by the formula (L1-3) include the divalent group shown below.
Figure 0007032270000108

式(L1-4)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。

Figure 0007032270000109
Examples of the group represented by the formula (L1-4) include the divalent group shown below.
Figure 0007032270000109

55は、好ましくは、単結合又は式(L1-1)で表される基である。 L 55 is preferably a single bond or a group represented by the formula (L1-1).

構造単位(a5-1)としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位(a5-1)におけるR51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

Figure 0007032270000110
樹脂(A)が、構造単位(a5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1~30モル%が好ましく、2~20モル%がより好ましく、3~15モル%がさらに好ましい。 Examples of the structural unit (a5-1) include the structural unit shown below and the structural unit in which the methyl group corresponding to R 51 in the structural unit (a5-1) in the following structural unit is replaced with a hydrogen atom.
Figure 0007032270000110
When the resin (A) has a structural unit (a5), the content thereof is preferably 1 to 30 mol%, more preferably 2 to 20 mol%, and 3) with respect to all the structural units of the resin (A). It is more preferably ~ 15 mol%.

<構造単位(II)>
樹脂(A)は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位(以下、「構造単位(II)という場合がある)を含有してもよい。構造単位(II)としては、具体的には特開2016-79235号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。
<Structural unit (II)>
The resin (A) may further contain a structural unit (hereinafter, may be referred to as “structural unit (II)”) that decomposes by exposure to generate an acid. The structural unit (II) is specific. The structural unit described in JP-A-2016-79235 is mentioned, and is a structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group and an organic cation in the side chain, or a structural unit having a sulfonate group and an organic anion in the side chain. It is preferable to have.

側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位は、式(II-2-A’)で表される構造単位であることが好ましい。

Figure 0007032270000111
[式(II-2-A’)中、
III3は、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
x1は、炭素数1~8のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
RAは、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
III3は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
ZAは、有機カチオンを表す。] The structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group and an organic cation in the side chain is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A').
Figure 0007032270000111
[In the formula (II-2-A'),
X III3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S- or -CO-. Often, the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, or a hydroxy group.
A x1 represents an alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
RA - represents a sulfonate group or a carboxylate group.
R III3 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom.
ZA + represents an organic cation. ]

III3で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
III3で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基と同じものが挙げられる。
x1で表される炭素数1~8のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、ペンタン-2,4-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等が挙げられる。
x1に置換されていてもよい炭素数1~6のペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。
Examples of the halogen atom represented by R III3 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R III3 includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 . The same can be mentioned.
The alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by A x1 includes a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and a pentane-1,5-diyl group. , Hexane-1,6-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2, 4-Diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group, etc. Can be mentioned.
Examples of the perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may be substituted with A x1 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, and a perfluorotert. -Butyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group and the like can be mentioned.

III3で表される炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これらの組み合わせてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロアルカンジイル基;ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボルナン-2,5-ジイル基、アダマンタン-1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジイル基等の2価の多環式脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by X III3 include a linear or branched alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. And these may be combined.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1 , 6-Diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonan-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group , Dodecane-1,12-diyl group and other linear alkanediyl groups; butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group , Pentan-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group and other branched alkanediyl groups; cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1 , 4-Diyl group, cyclooctane-1,5-Diyl group and other cycloalkandyl groups; norbornan-1,4-diyl group, norbornan-2,5-diyl group, adamantan-1,5-diyl group, adamantan Examples thereof include a divalent polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group such as -2,6-diyl group.

飽和炭化水素基に含まれる-CH-が、-O-、-S-又は-CO-で置き換わったものとしては、例えば式(X1)~式(X53)で表される2価の基が挙げられる。ただし、飽和炭化水素基に含まれる-CH-が、-O-、-S-又は-CO-で置き換わる前の炭素数はそれぞれ17以下である。下記式において、*はAx1との結合手を表す。

Figure 0007032270000112
When -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with -O-, -S- or -CO-, for example, a divalent group represented by the formulas (X1) to (X53) is used. Can be mentioned. However, the number of carbon atoms before that -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by -O-, -S- or -CO- is 17 or less, respectively. In the following equation, * represents a bond with A x1 .
Figure 0007032270000112

3は、2価の炭素数1~16の飽和炭化水素基を表す。
4は、2価の炭素数1~15の飽和炭化水素基を表す。
5は、2価の炭素数1~13の飽和炭化水素基を表す。
6は、2価の炭素数1~14の飽和炭化水素基を表す。
7は、3価の炭素数1~14の飽和炭化水素基を表す。
8は、2価の炭素数1~13の飽和炭化水素基を表す。
X 3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
X 4 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
X 5 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 13 divalent carbon atoms.
X 6 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 14 divalent carbon atoms.
X 7 represents a trivalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X 8 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 13 divalent carbon atoms.

ZA+で表される有機カチオンとしては、塩(I)のZRの有機カチオンと同様のカチオンが挙げられる。 Examples of the organic cation represented by ZA + include cations similar to those of the ZR + organic cation of the salt (I).

式(II-2-A’)で表される構造単位は、式(II-2-A)で表される構造単位であることが好ましい。

Figure 0007032270000113
[式(II-2-A)中、RIII3、XIII3及びZAは、上記と同じ意味を表す。
zは、0~6のいずれかの整数を表す。
III2及びRIII4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表し、zが2以上のとき、複数のRIII2及びRIII4は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
及びQは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。] The structural unit represented by the formula (II-2-A') is preferably the structural unit represented by the formula (II-2-A).
Figure 0007032270000113
[In the formula (II-2-A), R III3 , X III3 and ZA + have the same meanings as described above.
z represents an integer of 0 to 6.
R III2 and R III4 independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and when z is 2 or more, a plurality of R III2 and R III4 are identical to each other. It may or may not be different.
Q a and Q b each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]

III2、RIII4、Q及びQで表される炭素数1~6のペルフルオロアルキル基としては、前述のAx1の置換基である炭素数1~6のペルフルオロアルキル基と同じものが挙げられる。 Examples of the perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R III2 , R III4 , Qa and Qb include the same perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms which is the substituent of A x1 described above. Be done.

式(II-2-A)で表される構造単位は、式(II-2-A-1)で表される構造単位であることが好ましい。

Figure 0007032270000114
[式(II-2-A-1)中、
III2、RIII3、RIII4、Qa、Qb、z及びZAは、上記と同じ意味を表す。
III5は、炭素数1~12の飽和炭化水素基を表す。
I2は、炭素数1~11の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。] The structural unit represented by the formula (II-2-A) is preferably the structural unit represented by the formula (II-2-A-1).
Figure 0007032270000114
[In the formula (II-2-A-1),
R III2 , R III3 , R III4 , Q a , Q b , z and ZA + have the same meanings as above.
R III5 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
XI2 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 11 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S- or -CO-. Often, the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom or a hydroxy group. ]

III5で表される炭素数1~12の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
I2で表される2価の飽和炭化水素基としては、XIII3で表される2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
Examples of the saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms represented by R III5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group and a hexyl group. Examples thereof include a linear or branched alkyl group such as a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group and a dodecyl group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by XI2 include those similar to the divalent saturated hydrocarbon group represented by X III3 .

式(II-2-A)で表される構造単位としては、式(II-2-A-2)で表される構造単位がさらに好ましい。

Figure 0007032270000115
[式(II-2-A-2)中、RIII3、RIII5及びZAは、上記と同じ意味を表す。
m及びnは、それぞれ独立に、1又は2を表す。] As the structural unit represented by the formula (II-2-A), the structural unit represented by the formula (II-2-A-2) is more preferable.
Figure 0007032270000115
[In the formula (II-2-A-2), R III3 , R III5 and ZA + have the same meanings as described above.
m and n independently represent 1 or 2, respectively. ]

式(II-2-A’)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び国際公開第2012/050015号記載の構造単位が挙げられる。ZAは、有機カチオンを表す。

Figure 0007032270000116
Examples of the structural unit represented by the formula (II-2-A') include the following structural units and the structural units described in International Publication No. 2012/050015. ZA + represents an organic cation.
Figure 0007032270000116

Figure 0007032270000117
Figure 0007032270000117

側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位は、式(II-1-1)で表される構造単位であることが好ましい。

Figure 0007032270000118
[式(II-1-1)中、
II1は、単結合又は2価の連結基を表す。
II1は、炭素数6~18の2価の芳香族炭化水素基を表す。
II2及びRII3は、それぞれ独立して、炭素数1~18の炭化水素基を表し、RII2及びRII3は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成していてもよい。
II4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
は、有機アニオンを表す。]
II1で表される炭素数6~18の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
II2及びRII3で表される炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
II4で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
II4で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基と同じものが挙げられる。
II1で表される2価の連結基としては、例えば、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基が挙げられ、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-又は-CO-で置き換わっていてもよい。具体的には、XIII3で表される炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。 The structural unit having a sulfonio group and an organic anion in the side chain is preferably a structural unit represented by the formula (II-1-1).
Figure 0007032270000118
[In formula (II-1-1),
A II1 represents a single bond or a divalent linking group.
R II1 represents a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R II2 and R II3 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and R II2 and R II3 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded.
R II4 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom.
A - represents an organic anion. ]
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms represented by R II1 include a phenylene group and a naphthylene group.
Examples of the hydrocarbon group represented by R II2 and R II3 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.
Examples of the halogen atom represented by R II4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R II4 includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 . The same can be mentioned.
Examples of the divalent linking group represented by A II1 include a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH 2 − contained in the divalent saturated hydrocarbon group is It may be replaced by -O-, -S- or -CO-. Specifically, the same as the divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by X III3 can be mentioned.

式(II-1-1)中のカチオンを含む構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。

Figure 0007032270000119
Examples of the structural unit containing a cation in the formula (II-1-1) include structural units represented by the following.
Figure 0007032270000119

Figure 0007032270000120
Figure 0007032270000120

で表される有機アニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。Aで表される有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、上述した式(B1)で表される塩に含まれるアニオンであることがより好ましい。 Examples of the organic anion represented by A include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a sulfonylmethide anion, a carboxylic acid anion and the like. The organic anion represented by A is preferably a sulfonic acid anion, and the sulfonic acid anion is more preferably an anion contained in the salt represented by the above-mentioned formula (B1).

で表されるスルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000121
Examples of the sulfonylimide anion represented by A include the following.
Figure 0007032270000121

スルホニルメチドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000122
Examples of the sulfonylmethide anion include the following.
Figure 0007032270000122

カルボン酸アニオンとしては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007032270000123
Examples of the carboxylic acid anion include the following.
Figure 0007032270000123

式(II-1-1)で表される構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。

Figure 0007032270000124
Examples of the structural unit represented by the formula (II-1-1) include structural units represented by the following.
Figure 0007032270000124

樹脂(A)中に、構造単位(II)を含有する場合の構造単位(II)の含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、好ましくは1~20モル%であり、より好ましくは2~15モル%であり、さらに好ましくは3~10モル%である。 When the structural unit (II) is contained in the resin (A), the content of the structural unit (II) is preferably 1 to 20 mol% with respect to all the structural units of the resin (A), and more. It is preferably 2 to 15 mol%, more preferably 3 to 10 mol%.

樹脂(A)は、上述の構造単位以外の構造単位を有していてもよく、このような構造単位としては、当技術分野で周知の構造単位が挙げられる。 The resin (A) may have a structural unit other than the above-mentioned structural unit, and examples of such a structural unit include structural units well known in the art.

樹脂(A)は、好ましくは、構造単位(a1)と構造単位(s)とからなる樹脂、すなわち、モノマー(a1)とモノマー(s)との共重合体である。
構造単位(a1)は、好ましくは構造単位(a1-0)、構造単位(a1-1)及び構造単位(a1-2)(好ましくはシクロヘキシル基、及びシクロペンチル基を有する該構造単位)からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは少なくとも二種である。
構造単位(s)は、好ましくは構造単位(a2)及び構造単位(a3)からなる群から選ばれる少なくとも一種である。構造単位(a2)は、好ましくは構造単位(a2-1)又は構造単位(a2-A)で表される構造単位である。構造単位(a3)は、好ましくは式(a3-1)で表される構造単位、式(a3-2)で表される構造単位及び式(a3-4)で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。
The resin (A) is preferably a resin composed of a structural unit (a1) and a structural unit (s), that is, a copolymer of a monomer (a1) and a monomer (s).
The structural unit (a1) is preferably a group consisting of a structural unit (a1-0), a structural unit (a1-1) and a structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group and a cyclopentyl group). At least one selected from, more preferably at least two.
The structural unit (s) is preferably at least one selected from the group consisting of the structural unit (a2) and the structural unit (a3). The structural unit (a2) is preferably a structural unit represented by a structural unit (a2-1) or a structural unit (a2-A). The structural unit (a3) is preferably a group consisting of a structural unit represented by the formula (a3-1), a structural unit represented by the formula (a3-2), and a structural unit represented by the formula (a3-4). It is at least one selected from.

樹脂(A)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組み合わせて用いてもよく、これら構造単位を導くモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(A)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(A)の重量平均分子量は、好ましくは、2,000以上(より好ましくは2,500以上、さらに好ましくは3,000以上)、50,000以下(より好ましくは30,000以下、さらに好ましくは15,000以下)である。本明細書では、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで実施例に記載の条件により求めた値である。
Each structural unit constituting the resin (A) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, a radical polymerization method) using a monomer that leads to these structural units. be able to. The content of each structural unit of the resin (A) can be adjusted by adjusting the amount of the monomer used for the polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, still more preferably 3,000 or more), 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, still more preferable). Is 15,000 or less). In the present specification, the weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography under the conditions described in Examples.

<樹脂(A)以外の樹脂>
樹脂(A)以外の樹脂としては、例えば、構造単位(a4)又は構造単位(a5)を含有する樹脂(以下、樹脂(X)という場合がある)等が挙げられる。
樹脂(X)としては、なかでも、構造単位(a4)を含む樹脂が好ましい。
樹脂(X)において、構造単位(a4)の含有率は、樹脂(X)の全構造単位の合計に対して、30モル%以上であることが好ましく、40モル%以上であることがより好ましく、45モル%以上であることがさらに好ましい。
樹脂(X)がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位(a1)、構造単位(a2)、構造単位(a3)及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、樹脂(X)は、構造単位(a4)及び/又は構造単位(a5)のみからなる樹脂であることが好ましい。
樹脂(X)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(X)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(X)の重量平均分子量は、それぞれ独立して、好ましくは6,000以上(より好ましくは7,000以上)、80,000以下(より好ましくは60,000以下)である。樹脂(X)の重量平均分子量の測定手段は、樹脂(A)の場合と同様である。
本発明のレジスト組成物が、樹脂(A2)を含む場合、その含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、通常、1~2500質量部(より好ましくは10~1000質量部)である。
また、レジスト組成物が樹脂(X)を含む場合、その含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1~60質量部であり、より好ましくは1~50質量部であり、さらに好ましくは1~40質量部であり、特に好ましくは1~30質量部であり、特に好ましくは1~8質量部である。
<Resin other than resin (A)>
Examples of the resin other than the resin (A) include a resin containing a structural unit (a4) or a structural unit (a5) (hereinafter, may be referred to as a resin (X)) and the like.
As the resin (X), a resin containing the structural unit (a4) is particularly preferable.
In the resin (X), the content of the structural unit (a4) is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, based on the total of all the structural units of the resin (X). , 45 mol% or more is more preferable.
Examples of the structural unit that the resin (X) may further include include a structural unit (a1), a structural unit (a2), a structural unit (a3), and a structural unit derived from other known monomers. Above all, the resin (X) is preferably a resin composed of only the structural unit (a4) and / or the structural unit (a5).
Each structural unit constituting the resin (X) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, radical polymerization method) using a monomer for inducing these structural units. can do. The content of each structural unit of the resin (X) can be adjusted by adjusting the amount of the monomer used for the polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (X) is preferably 6,000 or more (more preferably 7,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less), respectively. The means for measuring the weight average molecular weight of the resin (X) is the same as that of the resin (A).
When the resist composition of the present invention contains the resin (A2), the content thereof is usually 1 to 2500 parts by mass (more preferably 10 to 1000 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the resin (A). be.
When the resist composition contains the resin (X), the content thereof is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A). It is more preferably 1 to 40 parts by mass, particularly preferably 1 to 30 parts by mass, and particularly preferably 1 to 8 parts by mass.

レジスト組成物における樹脂(A)の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90質量%以上99質量%以下がより好ましい。また、樹脂(A)以外の樹脂を含む場合は、樹脂(A)と樹脂(A)以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90質量%以上99質量%以下がより好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。 The content of the resin (A) in the resist composition is preferably 80% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 90% by mass or more and 99% by mass or less, based on the solid content of the resist composition. When a resin other than the resin (A) is contained, the total content of the resin (A) and the resin other than the resin (A) is 80% by mass or more and 99% by mass with respect to the solid content of the resist composition. It is preferably 90% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 90% by mass or less. The solid content of the resist composition and the content of the resin relative to the solid content can be measured by a known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.

<溶剤(E)>
溶剤(E)の含有率は、レジスト組成物中、通常90質量%以上99.9質量%以下であり、好ましくは92質量%以上99質量%以下であり、より好ましくは94質量%以上99質量%以下である。溶剤(E)の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤(E)としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類;γ-ブチロラクトン等の環状エステル類;等を挙げることができる。溶剤(E)の1種を単独で使用してもよく、2種以上を使用してもよい。
<Solvent (E)>
The content of the solvent (E) is usually 90% by mass or more and 99.9% by mass or less, preferably 92% by mass or more and 99% by mass or less, and more preferably 94% by mass or more and 99% by mass or less in the resist composition. % Or less. The content of the solvent (E) can be measured by a known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.
Examples of the solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate and ethyl pyruvate. Esters; ketones such as acetone, methylisobutylketone, 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone; and the like. One kind of solvent (E) may be used alone, or two or more kinds may be used.

<クエンチャー(C)>
クエンチャー(C)としては、塩基性の含窒素有機化合物及び酸発生剤(B)からから発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩が挙げられる。クエンチャー(C)の含有量は、レジスト組成物の固形分量を基準に、0.01~5質量%程度であることが好ましい。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
アミンとしては、1-ナフチルアミン、2-ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、2-,3-又は4-メチルアニリン、4-ニトロアニリン、N-メチルアニリン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔2-(2-メトキシエトキシ)エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’-ジアミノ-1,2-ジフェニルエタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチルジフェニルメタン、2,2’-メチレンビスアニリン、イミダゾール、4-メチルイミダゾール、ピリジン、4-メチルピリジン、1,2-ジ(2-ピリジル)エタン、1,2-ジ(4-ピリジル)エタン、1,2-ジ(2-ピリジル)エテン、1,2-ジ(4-ピリジル)エテン、1,3-ジ(4-ピリジル)プロパン、1,2-ジ(4-ピリジルオキシ)エタン、ジ(2-ピリジル)ケトン、4,4’-ジピリジルスルフィド、4,4’-ジピリジルジスルフィド、2,2’-ジピリジルアミン、2,2’-ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリンが挙げられ、より好ましくは2,6-ジイソプロピルアニリンが挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、3-(トリフルオロメチル)フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。
<Quencher (C)>
Examples of the quencher (C) include a basic nitrogen-containing organic compound and a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B). The content of the quencher (C) is preferably about 0.01 to 5% by mass based on the solid content of the resist composition.
Examples of the basic nitrogen-containing organic compound include amines and ammonium salts. Examples of amines include aliphatic amines and aromatic amines. Aliphatic amines include primary amines, secondary amines and tertiary amines.
Examples of amines include 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-,3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N, N-dimethylaniline, diphenylamine, hexylamine, Heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, trypentylamine, trihexylamine, tri Heptylamine, Trioctylamine, Trinonylamine, Tridecylamine, Methyldibutylamine, Methyldipentylamine, Methyldihexylamine, Methyldicyclohexylamine, Methyldiheptylamine, Methyldioctylamine, Methyldinonylamine, Methyldidecylamine, Ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, ethyldioctylamine, ethyldinonylamine, ethyldidecylamine, dicyclohexylmethylamine, tris [2- (2-methoxyethoxy) ethyl] amine, tri Isopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3 , 3'-diethyldiphenylmethane, 2,2'-methylenebisaniline, imidazole, 4-methylimidazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2-di (2-pyridyl) ethane, 1,2-di (4-di) Pyridyl) ethane, 1,2-di (2-pyridyl) ethene, 1,2-di (4-pyridyl) ethen, 1,3-di (4-pyridyl) propane, 1,2-di (4-pyridyloxy) ) Etan, di (2-pyridyl) ketone, 4,4'-dipyridyl sulfide, 4,4'-dipyridyl disulfide, 2,2'-dipyridylamine, 2,2'-dipicorylamine, bipyridine and the like. Diisopropylaniline is preferable, and 2,6-diisopropylaniline is more preferable.
Examples of the ammonium salt include tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, and 3- (trifluoromethyl) phenyltrimethyl. Ammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate, choline and the like can be mentioned.

酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、酸解離定数(pKa)で示される。酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常-3<pKaの塩であり、好ましくは-1<pKa<7の塩であり、より好ましくは0<pKa<5の塩である。
酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、特開2015-147926号公報記載の式(D)で表される塩(以下、「弱酸分子内塩(D)という場合がある。」)、並びに特開2012-229206号公報、特開2012-6908号公報、特開2012-72109号公報、特開2011-39502号公報及び特開2011-191745号公報記載の塩が挙げられる。好ましくは、弱酸分子内塩(D)である。

Figure 0007032270000125
The acidity of a salt that produces an acid that is weaker than the acid generated by the acid generator (B) is indicated by the acid dissociation constant (pKa). The salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) is usually a salt having an acid dissociation constant of -3 <pKa, preferably -1 <. It is a salt of pKa <7, more preferably a salt of 0 <pKa <5.
Examples of the salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) include a salt represented by the following formula and a salt represented by the formula (D) described in JP-A-2015-147926. (Hereinafter, it may be referred to as "weak acid intramolecular salt (D)"), and JP-A-2012-229206, JP-A-2012-6908, JP-A-2012-72109, JP-A-2011-39502. Examples thereof include the salts described in JP-A-2011-191745. It is preferably a weak acid intramolecular salt (D).
Figure 0007032270000125

弱酸分子内塩(D)としては、以下の塩が挙げられる。

Figure 0007032270000126
レジスト組成物がクエンチャー(C)を含有する場合、クエンチャー(C)の含有率は、レジスト組成物の固形分中、通常、0.01~5質量%であり、好ましくは0.01~3質量%である。 Examples of the weak acid intramolecular salt (D) include the following salts.
Figure 0007032270000126
When the resist composition contains the quencher (C), the content of the quencher (C) is usually 0.01 to 5% by mass, preferably 0.01 to 0.01% by mass, based on the solid content of the resist composition. It is 3% by mass.

〈その他の成分〉
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分(以下「その他の成分(F)」という場合がある。)を含有していてもよい。その他の成分(F)に特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。
<Other ingredients>
If necessary, the resist composition of the present invention may contain a component other than the above-mentioned components (hereinafter, may be referred to as "other component (F)"). The other component (F) is not particularly limited, and additives known in the resist field, such as sensitizers, dissolution inhibitors, surfactants, stabilizers, dyes and the like, can be used.

〈レジスト組成物の調製〉
本発明のレジスト組成物は、塩(I)、樹脂(A)及び酸発生剤(B)、並びに、必要に応じて、用いられる樹脂(A)以外の樹脂、溶剤(E)、クエンチャー(C)及びその他の成分(F)を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、10~40℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤(E)に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、0.5~24時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径0.003~0.2μm程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。
<Preparation of resist composition>
The resist composition of the present invention comprises a salt (I), a resin (A) and an acid generator (B), and if necessary, a resin other than the resin (A) used, a solvent (E), and a citric acid ( It can be prepared by mixing C) and the other component (F). The mixing order is arbitrary and is not particularly limited. The temperature at the time of mixing can be selected from 10 to 40 ° C., depending on the type of the resin or the like and the solubility of the resin or the like in the solvent (E). As the mixing time, an appropriate time can be selected from 0.5 to 24 hours depending on the mixing temperature. The mixing means is not particularly limited, and stirring and mixing or the like can be used.
After mixing each component, it is preferable to filter using a filter having a pore size of about 0.003 to 0.2 μm.

〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
(1)本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成されていてもよい。
塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること(いわゆるプリベーク)により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、50~200℃であることが好ましく、加熱時間は、10~180秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、1~1.0×105Pa程度であることが好ましい。
得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、KrFエキシマレーザ(波長248nm)、ArFエキシマレーザ(波長193nm)、F2エキシマレーザ(波長157nm)のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源(YAG又は半導体レーザ等)からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光(EUV)を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。
露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理(いわゆるポストエキスポジャーベーク)を行う。加熱温度は、通常50~200℃程度、好ましくは70~150℃程度である。
加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は、例えば、5~60℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、5~300秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。
本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや(2-ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウムヒドロキシド(通称コリン)の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液(以下「有機系現像液」という場合がある)を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、2-ヘキサノン、2-ヘプタノン等のケトン溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル溶剤;酢酸ブチル等のエステル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル溶剤;N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤;アニソール等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、90質量%以上100質量%以下が好ましく、95質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び/又は2-ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び2-ヘプタノンの合計含有率は、50質量%以上100質量%以下が好ましく、90質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び/又は2-ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。
現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
<Manufacturing method of resist pattern>
The method for producing a resist pattern of the present invention is
(1) A step of applying the resist composition of the present invention onto a substrate,
(2) A step of drying the applied composition to form a composition layer,
(3) Step of exposing the composition layer,
It includes (4) a step of heating the composition layer after exposure and (5) a step of developing the composition layer after heating.
The resist composition can be applied onto the substrate by a commonly used device such as a spin coater. Examples of the substrate include an inorganic substrate such as a silicon wafer. The substrate may be washed before the resist composition is applied, or an antireflection film or the like may be formed on the substrate.
By drying the composition after coating, the solvent is removed and a composition layer is formed. Drying is performed, for example, by evaporating the solvent using a heating device such as a hot plate (so-called pre-baking), or by using a decompression device. The heating temperature is preferably 50 to 200 ° C., and the heating time is preferably 10 to 180 seconds. The pressure for drying under reduced pressure is preferably about 1 to 1.0 × 105 Pa.
The obtained composition layer is usually exposed using an exposure machine. The exposure machine may be an immersion exposure machine. The exposure light source includes a KrF excimer laser (wavelength 248 nm), an ArF excimer laser (wavelength 193 nm), an F 2 excima laser (wavelength 157 nm) that emits laser light in the ultraviolet region, and a solid-state laser light source (YAG or semiconductor laser). Etc.), and various ones such as those that radiate harmonic laser light in the far ultraviolet region or vacuum ultraviolet region by wavelength conversion, those that irradiate electron beams, super-ultraviolet light (EUV), etc. are used. Can be done. In addition, in this specification, irradiation of these radiations may be generically referred to as "exposure". At the time of exposure, the exposure is usually performed through a mask corresponding to the required pattern. When the exposure light source is an electron beam, it may be exposed by direct drawing without using a mask.
The composition layer after exposure is heat-treated (so-called post-exposure bake) in order to promote the deprotection reaction at the acid unstable group. The heating temperature is usually about 50 to 200 ° C, preferably about 70 to 150 ° C.
The heated composition layer is usually developed using a developer and a developer. Examples of the developing method include a dip method, a paddle method, a spray method, and a dynamic dispense method. The development temperature is preferably, for example, 5 to 60 ° C., and the development time is preferably, for example, 5 to 300 seconds. A positive resist pattern or a negative resist pattern can be produced by selecting the type of developer as follows.
When producing a positive resist pattern from the resist composition of the present invention, an alkaline developer is used as the developer. The alkaline developer may be any alkaline aqueous solution used in this field. For example, an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide or (2-hydroxyethyl) trimethylammonium hydroxide (commonly known as choline) can be mentioned. The alkaline developer may contain a surfactant.
After development, it is preferable to wash the resist pattern with ultrapure water and then remove the substrate and the water remaining on the pattern.
When a negative resist pattern is produced from the resist composition of the present invention, a developer containing an organic solvent (hereinafter, may be referred to as "organic developer") is used as the developer.
Examples of the organic solvent contained in the organic developer include a ketone solvent such as 2-hexanone and 2-heptanone; a glycol ether ester solvent such as propylene glycol monomethyl ether acetate; an ester solvent such as butyl acetate; and a glycol such as propylene glycol monomethyl ether. Examples include an ether solvent; an amide solvent such as N, N-dimethylacetamide; an aromatic hydrocarbon solvent such as anisole, and the like.
The content of the organic solvent in the organic developer is preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less, and further preferably substantially only the organic solvent.
Among them, as the organic developer, a developer containing butyl acetate and / or 2-heptanone is preferable. The total content of butyl acetate and 2-heptanone in the organic developer is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, and substantially butyl acetate and / or 2 -It is more preferable that it is only heptanone.
The organic developer may contain a surfactant. Further, the organic developer may contain a small amount of water.
At the time of development, the development may be stopped by substituting with a solvent of a type different from that of the organic developer.
It is preferable to wash the resist pattern after development with a rinsing solution. The rinsing solution is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, and an alcohol solvent or an ester solvent is preferable.
After cleaning, it is preferable to remove the rinse liquid remaining on the substrate and the pattern.

〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物、特に電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物として好適であり、半導体の微細加工に有用である。
<Use>
The resist composition of the present invention includes a resist composition for KrF excimer laser exposure, a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure, or a resist composition for EUV exposure, particularly electrons. It is suitable as a resist composition for linear (EB) exposure or a resist composition for EUV exposure, and is useful for fine processing of semiconductors.

実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「%」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。なお、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーの分析条件は下記のとおりである。
カラム:TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn(東ソー社製)
溶離液:テトラヒドロフラン
流量:1.0mL/min
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μl
分子量標準:標準ポリスチレン(東ソー社製)
化合物の構造は、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはAgilent製LC/MSD型)を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子イオンピークの値を「MASS」で示す。異性体の構造は、NMR(EX-270型;日本電子(株)製)にて確認した。
The present invention will be described in more detail with reference to examples. In the examples, "%" and "part" indicating the content or the amount used are based on mass unless otherwise specified.
The weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography. The analysis conditions for gel permeation chromatography are as follows.
Column: TSKgel Multipore HXL-M x 3 + guardcolumn (manufactured by Tosoh)
Eluent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI detector Column temperature: 40 ℃
Injection volume: 100 μl
Molecular weight standard: Standard polystyrene (manufactured by Tosoh)
The structure of the compound was confirmed by measuring the molecular ion peak using mass spectrometry (LC: Agilent 1100 type, MASS: Agilent LC / MSD type). In the following examples, the value of this molecular ion peak is indicated by "MASS". The structure of the isomer was confirmed by NMR (EX-270 type; manufactured by JEOL Ltd.).

実施例1:式(I-1)で表される塩の合成

Figure 0007032270000127
式(I-1-a)で表される化合物22.57部及びイオン交換水30部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、60℃に昇温した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物30.53部及びp-トルエンスルホン酸1.56部を添加し、60℃で18時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた反応マスに、イオン交換水100部を加えて23℃で30分間攪拌した後、ろ過した。回収されたろ物に、イオン交換水100部を加えて23℃で30分間攪拌した後、ろ過した。この操作を5回行った。回収されたろ物を乾燥することにより、式(I-1―c)で表される化合物25.04部を得た。
式(I-1―c)で表される化合物
H-NMR(DMSO-d):δ(ppm)
5.12(s,1H)、6.58(m,1H)、6.66(m,1H)、6.92(m,2H)、6.96(m,1H)、7.09(m,2H)、9.40(brs,1H)、9.88(brs,1H)
Figure 0007032270000128
式(I-1-c)で表される化合物15.55部及びアセトニトリル100部を仕込み、23℃で30分間攪拌混合した後、0.2%カンファースルホン酸のクロロホルム溶液2.13部を仕込み、23℃で30分間攪拌混合した。得られた混合物に、式(I-1-d)で表される化合物6.50部を23℃で1時間かけて滴下した後、23℃で18時間攪拌混合した。得られた反応物に、トリエチルアミン0.014部を添加し、更に、クロロホルム150部及び2%炭酸水素ナトリウム水溶液54部を加え、23℃で30分間攪拌した。静置、分液することにより回収された有機層に、イオン交換水70部を加え、23℃で30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を洗浄した。このような水洗操作を3回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮マスをカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100-210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n-ヘプタン/酢酸エチル=1/1)分取することにより、式(I-1-e)で表される化合物5.42部及び式(I-7-e)で表される化合物3.44部をそれぞれ得た。
式(I-1-e)で表される化合物
H-NMR(DMSO-d):δ(ppm)
1.09(t,3H)、1.38(d,3H)、3.47(q,1H)、3.67(q,1H)、5.12(s,1H)、5.40(q,1H)、6.76(m,1H)、6.81(m,1H)、6.92(m,2H)、7.09(m,2H)、7.25(m,1H)、9.40(brs,1H)
式(I-7-e)で表される化合物
H-NMR(DMSO-d):δ(ppm)
1.09(t,3H)、1.48(d,3H)、3.47(q,1H)、3.66(q,1H)、5.12(s,1H)、5.48(q,1H)、6.58(m,1H)、6.66(m,1H)、6.96(m,3H)、7.30(m,2H)、9.88(brs,1H)
Figure 0007032270000129
式(I-1-f)で表される塩4.38部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-g)で表される化合物1.62部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、式(I-1-e)で表される化合物3.14部を添加し、さらに、23℃で18時間攪拌した。得られた反応物に、p-トルエンスルホン酸2部及びイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応物に、クロロホルム60部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層をろ過した後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣に、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I-1)で表される塩5.62部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):M 399.0 Example 1: Synthesis of salt represented by the formula (I-1)
Figure 0007032270000127
22.57 parts of the compound represented by the formula (I-1-a) and 30 parts of ion-exchanged water were mixed, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then heated to 60 ° C. To the obtained mixed solution, 30.53 parts of the compound represented by the formula (I-1-b) and 1.56 parts of p-toluenesulfonic acid were added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 18 hours and then up to 23 ° C. Cooled. To the obtained reaction mass, 100 parts of ion-exchanged water was added, the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then filtered. To the recovered filtrate, 100 parts of ion-exchanged water was added, the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then filtered. This operation was performed 5 times. The recovered filtrate was dried to obtain 25.04 parts of the compound represented by the formula (I-1-c).
Compound represented by formula (I-1-c)
1 1 H-NMR (DMSO-d): δ (ppm)
5.12 (s, 1H), 6.58 (m, 1H), 6.66 (m, 1H), 6.92 (m, 2H), 6.96 (m, 1H), 7.09 (m) , 2H), 9.40 (brs, 1H), 9.88 (brs, 1H)
Figure 0007032270000128
15.55 parts of the compound represented by the formula (I-1-c) and 100 parts of acetonitrile were charged, and after stirring and mixing at 23 ° C. for 30 minutes, 2.13 parts of a chloroform solution of 0.2% camphorsulfonic acid was charged. , Stirred and mixed at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 6.50 parts of the compound represented by the formula (I-1-d) was added dropwise at 23 ° C. over 1 hour, and then the mixture was stirred and mixed at 23 ° C. for 18 hours. To the obtained reaction product, 0.014 parts of triethylamine was added, 150 parts of chloroform and 54 parts of a 2% aqueous sodium hydrogen carbonate solution were further added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 70 parts of ion-exchanged water was added to the organic layer recovered by standing and separating, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and the organic layer was washed by standing and separating. Such a washing operation was repeated three times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mass is separated into a column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). As a result, 5.42 parts of the compound represented by the formula (I-1-e) and 3.44 parts of the compound represented by the formula (I-7-e) were obtained, respectively.
Compound represented by the formula (I-1-e)
1 1 H-NMR (DMSO-d): δ (ppm)
1.09 (t, 3H), 1.38 (d, 3H), 3.47 (q, 1H), 3.67 (q, 1H), 5.12 (s, 1H), 5.40 (q) , 1H), 6.76 (m, 1H), 6.81 (m, 1H), 6.92 (m, 2H), 7.09 (m, 2H), 7.25 (m, 1H), 9 .40 (brs, 1H)
Compound represented by the formula (I-7-e)
1 1 H-NMR (DMSO-d): δ (ppm)
1.09 (t, 3H), 1.48 (d, 3H), 3.47 (q, 1H), 3.66 (q, 1H), 5.12 (s, 1H), 5.48 (q) , 1H), 6.58 (m, 1H), 6.66 (m, 1H), 6.96 (m, 3H), 7.30 (m, 2H), 9.88 (brs, 1H)
Figure 0007032270000129
4.38 parts of the salt represented by the formula (I-1-f) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixed solution, 1.62 parts of the compound represented by the formula (I-1-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 2 hours. After cooling the obtained reaction mixture to 23 ° C., 3.14 parts of the compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 23 ° C. for 18 hours. To the obtained reaction product, 2 parts of p-toluenesulfonic acid and 30 parts of ion-exchanged water were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then further stirred at 50 ° C. for 2 hours. 60 parts of chloroform was added to the obtained reaction product, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the filtrate is concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, and the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then the supernatant is removed. By concentrating, 5.62 parts of the salt represented by the formula (I-1) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 399.0

実施例2:式(I-7)で表される塩の合成

Figure 0007032270000130
式(I-1-f)で表される塩4.38部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-g)で表される化合物1.62部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、式(I-7-e)で表される化合物3.14部を添加し、さらに、23℃で18時間攪拌した。得られた反応物に、p-トルエンスルホン酸2部及びイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応物に、クロロホルム60部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層をろ過した後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣に、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I-7)で表される塩3.92部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):M 399.0 Example 2: Synthesis of salt represented by the formula (I-7)
Figure 0007032270000130
4.38 parts of the salt represented by the formula (I-1-f) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixed solution, 1.62 parts of the compound represented by the formula (I-1-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 2 hours. After cooling the obtained reaction mixture to 23 ° C., 3.14 parts of the compound represented by the formula (I-7-e) was added, and the mixture was further stirred at 23 ° C. for 18 hours. To the obtained reaction product, 2 parts of p-toluenesulfonic acid and 30 parts of ion-exchanged water were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then further stirred at 50 ° C. for 2 hours. 60 parts of chloroform was added to the obtained reaction product, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the filtrate is concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, and the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then the supernatant is removed. By concentrating, 3.92 parts of the salt represented by the formula (I-7) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 399.0

実施例3:式(I-11)で表される塩の合成

Figure 0007032270000131
式(I-11-h)で表される塩6.97部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-e)で表される化合物3.14部を添加し、さらに、23℃で18時間攪拌した。得られた反応物に、p-トルエンスルホン酸2部及びイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応物に、クロロホルム60部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層をろ過した後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣に、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I-11)で表される塩4.28部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):M 607.1 Example 3: Synthesis of salt represented by the formula (I-11)
Figure 0007032270000131
6.97 parts of the salt represented by the formula (I-11-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixed solution, 3.14 parts of the compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 23 ° C. for 18 hours. To the obtained reaction product, 2 parts of p-toluenesulfonic acid and 30 parts of ion-exchanged water were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then further stirred at 50 ° C. for 2 hours. 60 parts of chloroform was added to the obtained reaction product, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the filtrate is concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, and the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then the supernatant is removed. By concentrating, 4.28 parts of the salt represented by the formula (I-11) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 607.1

実施例4:式(I-13)で表される塩の合成

Figure 0007032270000132
式(I-11-h)で表される塩6.97部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-7-e)で表される化合物3.14部を添加し、さらに、23℃で18時間攪拌した。得られた反応物に、p-トルエンスルホン酸2部及びイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応物に、クロロホルム60部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層をろ過した後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣に、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I-13)で表される塩4.29部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):M 607.1 Example 4: Synthesis of salt represented by the formula (I-13)
Figure 0007032270000132
6.97 parts of the salt represented by the formula (I-11-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 3.14 parts of the compound represented by the formula (I-7-e) was added to the obtained mixed solution, and the mixture was further stirred at 23 ° C. for 18 hours. To the obtained reaction product, 2 parts of p-toluenesulfonic acid and 30 parts of ion-exchanged water were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then further stirred at 50 ° C. for 2 hours. 60 parts of chloroform was added to the obtained reaction product, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the filtrate is concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, and the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then the supernatant is removed. By concentrating, 4.29 parts of the salt represented by the formula (I-13) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 607.1

実施例5:式(I-17)で表される塩の合成

Figure 0007032270000133
式(I-1-f)で表される塩8.77部及びクロロホルム50部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-g)で表される化合物3.24部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、式(I-1-c)で表される化合物2.42部を添加し、さらに、50℃で18時間攪拌した。得られた反応物に、クロロホルム50部及びイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層をろ過した後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣に、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、ろ過することにより、式(I-17)で表される塩6.44部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):[M2-+H] 556.9 Example 5: Synthesis of salt represented by the formula (I-17)
Figure 0007032270000133
8.77 parts of the salt represented by the formula (I-1-f) and 50 parts of chloroform were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixed solution, 3.24 parts of the compound represented by the formula (I-1-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 2 hours. After cooling the obtained reaction mixture to 23 ° C., 2.42 parts of the compound represented by the formula (I-1-c) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 18 hours. To the obtained reaction product, 50 parts of chloroform and 50 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the filtrate is concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, and the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then filtered. 6.44 parts of the salt represented by (I-17) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): [M 2- + H ] -556.9

実施例6:式(I-19)で表される塩の合成

Figure 0007032270000134
式(I-11-h)で表される塩6.97部及びクロロホルム50部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-c)で表される化合物1.21部を添加し、さらに、50℃で18時間攪拌した。得られた反応物に、クロロホルム50部及びイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層をろ過した後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣に、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、ろ過することにより、式(I-19)で表される塩8.44部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):[M2-+H] 973.2 Example 6: Synthesis of salt represented by the formula (I-19)
Figure 0007032270000134
6.97 parts of the salt represented by the formula (I-11-h) and 50 parts of chloroform were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixed solution, 1.21 part of the compound represented by the formula (I-1-c) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 18 hours. To the obtained reaction product, 50 parts of chloroform and 50 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the filtrate is concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, and the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then filtered. 8.44 parts of the salt represented by (I-19) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): [M 2- + H ] -973.2

実施例7:式(I-12)で表される塩の合成

Figure 0007032270000135
式(I-12-f)で表される塩6.16部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-g)で表される化合物1.62部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌することにより、式(I-12-h)で表される塩を含む混合物を得た。得られた式(I-12-h)で表される塩を含む混合物を23℃まで冷却した後、式(I-1-e)で表される化合物3.14部を添加し、さらに、23℃で18時間攪拌することにより、式(I-12-i)で表される塩を含む混合物を得た。得られた式(I-12-i)で表される塩を含む混合物に、p-トルエンスルホン酸2部及びイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応物に、クロロホルム60部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層をろ過した後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣に、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I-12)で表される塩3.79部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):M 577.1 Example 7: Synthesis of salt represented by the formula (I-12)
Figure 0007032270000135
6.16 parts of the salt represented by the formula (I-12-f) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixed solution, 1.62 parts of the compound represented by the formula (I-1-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 2 hours to be represented by the formula (I-12-h). A mixture containing the salt to be added was obtained. After cooling the obtained mixture containing the salt represented by the formula (I-12-h) to 23 ° C., 3.14 parts of the compound represented by the formula (I-1-e) was added, and further. Stirring at 23 ° C. for 18 hours gave a mixture containing a salt represented by the formula (I-12-i). To the obtained mixture containing the salt represented by the formula (I-12-i), 2 parts of p-toluenesulfonic acid and 30 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then further 50 ° C. Was stirred for 2 hours. 60 parts of chloroform was added to the obtained reaction product, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the filtrate is concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, and the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then the supernatant is removed. By concentration, 3.79 parts of a salt represented by the formula (I-12) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 577.1

実施例8:式(I-169)で表される塩の合成

Figure 0007032270000136
式(I-12-f)で表される塩6.16部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-g)で表される化合物1.62部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌することにより、式(I-12-h)で表される化合物を含む混合物を得た。得られた式(I-12-h)で表される塩を含む混合物を23℃まで冷却した後、式(I-7-e)で表される化合物3.14部を添加し、さらに、23℃で18時間攪拌することにより、式(I-169-i)で表される塩を含む混合物を得た。得られた式(I-169-i)で表される塩を含む混合物に、p-トルエンスルホン酸2部及びイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応物に、クロロホルム60部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層をろ過した後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣に、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I-169)で表される塩3.21部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):M 577.1 Example 8: Synthesis of salt represented by the formula (I-169)
Figure 0007032270000136
6.16 parts of the salt represented by the formula (I-12-f) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 1.62 parts of the compound represented by the formula (I-1-g) is added to the obtained mixed solution, and the mixture is further stirred at 50 ° C. for 2 hours to be represented by the formula (I-12-h). A mixture containing the compound to be used was obtained. After cooling the obtained mixture containing the salt represented by the formula (I-12-h) to 23 ° C., 3.14 parts of the compound represented by the formula (I-7-e) was added, and further. Stirring at 23 ° C. for 18 hours gave a mixture containing a salt represented by the formula (I-169-i). To the obtained mixture containing the salt represented by the formula (I-169-i), 2 parts of p-toluenesulfonic acid and 30 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then further 50 ° C. Was stirred for 2 hours. 60 parts of chloroform was added to the obtained reaction product, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the filtrate is concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, and the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then the supernatant is removed. By concentrating, 3.21 parts of a salt represented by the formula (I-169) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 577.1

合成例1:式(IX-3)で表される塩の合成

Figure 0007032270000137
式(I-1-f)で表される塩9.96部及びクロロホルム40部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-g)で表される化合物4.40部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、式(IX-3-d)で表される化合物6.69部を添加し、さらに、23℃で18時間攪拌した。得られた反応物に、クロロホルム50部及びイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層をろ過した後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル50部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、ろ過することにより、式(IX-3)で表される塩9.84部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):M 451.0 Synthesis example 1: Synthesis of salt represented by the formula (IX-3)
Figure 0007032270000137
9.96 parts of the salt represented by the formula (I-1-f) and 40 parts of chloroform were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixed solution, 4.40 parts of the compound represented by the formula (I-1-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 2 hours. After cooling the obtained reaction mixture to 23 ° C., 6.69 parts of the compound represented by the formula (IX-3-d) was added, and the mixture was further stirred at 23 ° C. for 18 hours. To the obtained reaction product, 50 parts of chloroform and 50 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the filtrate is concentrated, 50 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then filtered to obtain the formula (IX-3). ) Was obtained in an amount of 9.84 parts.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 451.0

合成例2:式(IX-5)で表される塩の合成

Figure 0007032270000138
式(I-1-f)で表される塩9.96部及びクロロホルム40部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-g)で表される化合物4.40部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、式(IX-5-d)で表される化合物2.14部を添加し、さらに、23℃で18時間攪拌した。得られた反応物に、クロロホルム50部及びイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層をろ過した後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル50部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、ろ過することにより、式(IX-5)で表される化合物8.01部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):M 251.0 Synthesis example 2: Synthesis of salt represented by the formula (IX-5)
Figure 0007032270000138
9.96 parts of the salt represented by the formula (I-1-f) and 40 parts of chloroform were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixed solution, 4.40 parts of the compound represented by the formula (I-1-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 2 hours. After cooling the obtained reaction mixture to 23 ° C., 2.14 parts of the compound represented by the formula (IX-5-d) was added, and the mixture was further stirred at 23 ° C. for 18 hours. To the obtained reaction product, 50 parts of chloroform and 50 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the filtrate is concentrated, 50 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then filtered to obtain the formula (IX-5). ) Was obtained in an amount of 8.01 parts.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 251.0

合成例3:式(IX-6)で表される塩の合成

Figure 0007032270000139
式(I-1-f)で表される塩7.97部及びクロロホルム30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-g)で表される化合物3.52部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、式(IX-6-d)で表される化合物0.99部を添加し、さらに、23℃で18時間攪拌した。得られた混合物に、クロロホルム50部及びイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、5%シュウ酸水溶液50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮残渣に、tert-ブチルメチルエーテル50部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、ろ過することにより、式(IX-6)で表される塩5.97部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(-)Spectrum):[M2-+H] 424.9 Synthesis example 3: Synthesis of salt represented by the formula (IX-6)
Figure 0007032270000139
7.97 parts of the salt represented by the formula (I-1-f) and 30 parts of chloroform were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixed solution, 3.52 parts of the compound represented by the formula (I-1-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 2 hours. After cooling the obtained reaction mixture to 23 ° C., 0.99 parts of the compound represented by the formula (IX-6-d) was added, and the mixture was further stirred at 23 ° C. for 18 hours. To the obtained mixture, 50 parts of chloroform and 50 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer is concentrated, 50 parts of tert-butylmethyl ether is added to the concentrated residue, the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then filtered to obtain a salt 5 represented by the formula (IX-6). Obtained .97 copies.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): [M 2- + H ] -424.9

樹脂の合成
樹脂の合成において使用した化合物(モノマー)を下記に示す。以下、これらのモノマーを式番号に応じて「モノマー(a1-1-3)」等という。

Figure 0007032270000140
Resin synthesis The compounds (monomers) used in the resin synthesis are shown below. Hereinafter, these monomers will be referred to as "monomer (a1-1-3)" or the like according to the formula number.
Figure 0007032270000140

合成例4〔樹脂A1の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1-4-2)、モノマー(a1-1-3)、モノマー(a1-2-6)及びモノマー(II-2-A-1-1)を用い、そのモル比〔モノマー(a1-4-2):モノマー(a1-1-3):モノマー(a1-2-6):モノマー(II-2-A-1-1)〕が、35:24:38:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して7mol%となるように添加し、これを83℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p-トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn-ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約4.8×10である樹脂A1(共重合体)を収率78%で得た。この樹脂A1は、以下の構造単位を有するものである。

Figure 0007032270000141
Synthesis Example 4 [Synthesis of resin A1]
As the monomer, a monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-6) and a monomer (II-2-A-1-1) are used, and the molar ratio [monomer] is used. (A1-4-2): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (II-2-A-1-1)] has a ratio of 35:24:38: 3. Further, the monomer mixture was mixed with methyl isobutyl ketone 1.5 times by mass with respect to the total mass of all the monomers. Azobisisobutyronitrile was added to the obtained mixture as an initiator so as to be 7 mol% based on the total number of moles of all the monomers, and this was heated at 83 ° C. for about 5 hours to carry out polymerization. .. Then, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours and then separated. The obtained organic layer is poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, and the resin is filtered and recovered to obtain a resin A1 (copolymer) having a weight average molecular weight of about 4.8 × 103 in a yield of 78. Obtained in%. This resin A1 has the following structural units.
Figure 0007032270000141

合成例5〔樹脂A2の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1-4-2)、モノマー(a1-1-3)及びモノマー(a1-2-6)を用い、そのモル比〔モノマー(a1-4-2):モノマー(a1-1-3):モノマー(a1-2-6)〕が、38:24:38の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p-トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn-ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約4.6×10である樹脂A2(共重合体)を収率74%で得た。この樹脂A2は、以下の構造単位を有するものである。

Figure 0007032270000142
Synthesis Example 5 [Synthesis of resin A2]
As the monomer, a monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3) and a monomer (a1-2-6) are used, and the molar ratio thereof [monomer (a1-4-2): monomer (a1-1-1). -3): Monomer (a1-2-6)] is mixed in a ratio of 38:24:38, and the monomer mixture is further multiplied by 1.5 by mass with respect to the total mass of all the monomers. Methyl isobutyl ketone was mixed. Azobisisobutyronitrile was added to the obtained mixture as an initiator so as to be 7 mol% based on the total number of moles of all the monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to carry out polymerization. .. Then, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours and then separated. The obtained organic layer is poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, and the resin is filtered and recovered to obtain a resin A2 (copolymer) having a weight average molecular weight of about 4.6 × 103 in a yield of 74. Obtained in%. This resin A2 has the following structural units.
Figure 0007032270000142

<レジスト組成物の調製>
表2に示す各成分及び以下の溶剤を混合し、得られた混合物を孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過することにより、レジスト組成物を調製した。

Figure 0007032270000143
<Preparation of resist composition>
Each component shown in Table 2 and the following solvent were mixed, and the obtained mixture was filtered through a fluororesin filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a resist composition.
Figure 0007032270000143

<樹脂(A)>
A1、A2:樹脂A1、樹脂A2
<酸発生剤(B)>
B1-25:式(B1-25)で表される塩;特開2011-126869号公報記載の方法で合成

Figure 0007032270000144
<化合物(I)>
I-1:式(I-1)で表される塩
I-7:式(I-7)で表される塩
I-11:式(I-11)で表される塩
I-12:式(I-12)で表される塩
I-13:式(I-13)で表される塩
I-17:式(I-17)で表される塩
I-19:式(I-19)で表される塩
I-169:式(I-169)で表される塩
IX-1:式(IX-1)で表される塩;特開2013-060424号公報記載の方法で合成
Figure 0007032270000145
IX-2:式(IX-2)で表される塩;特開2007-197432号公報記載の方法で合成
Figure 0007032270000146
IX-3:式(IX-3)で表される塩
IX-4:式(IX-4)で表される塩;特開2008-13551号公報記載の方法で合成
Figure 0007032270000147
IX-5:式(IX-5)で表される塩
IX-6:式(IX-6)で表される塩
<クエンチャー(C)>
C1-1:特開2011-39502号公報記載の方法で合成
Figure 0007032270000148
<溶剤(E)>
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 400部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100部
γ-ブチロラクトン 5部 <Resin (A)>
A1, A2: Resin A1, Resin A2
<Acid generator (B)>
B1-25: Salt represented by the formula (B1-25); synthesized by the method described in JP-A-2011-126869
Figure 0007032270000144
<Compound (I)>
I-1: Salt represented by the formula (I-1) I-7: Salt represented by the formula (I-7) I-111: Salt represented by the formula (I-11) I-12: Formula Salt represented by (I-12) I-13: Salt represented by formula (I-13) I-17: Salt represented by formula (I-17) I-19: Salt represented by formula (I-19) Salt represented by I-169: Salt represented by formula (I-169) IX-1: Salt represented by formula (IX-1); Synthesized by the method described in JP2013-060424
Figure 0007032270000145
IX-2: Salt represented by the formula (IX-2); synthesized by the method described in JP-A-2007-197432.
Figure 0007032270000146
IX-3: Salt represented by the formula (IX-3) IX-4: Salt represented by the formula (IX-4); Synthesized by the method described in JP-A-2008-13551.
Figure 0007032270000147
IX-5: Salt represented by the formula (IX-5) IX-6: Salt represented by the formula (IX-6) <Quencher (C)>
C1-1: Synthesized by the method described in JP-A-2011-390502
Figure 0007032270000148
<Solvent (E)>
Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate 400 Parts Propylene Glycol Monomethyl Ether 100 Parts γ-Butyrolactone 5 Parts

(レジスト組成物の電子線露光評価)
6インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて90℃で60秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が0.04μmとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表2の「PB」欄に示す温度で60秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔(株)日立製作所製の「HL-800D 50keV」〕を用い、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパターンを直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表2の「PEB」欄に示す温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
得られたレジストパターン(ラインアンドスペースパターン)を走査型電子顕微鏡で観察し、60nmのラインアンドスペースパターンのライン幅とスペース幅とが1:1となる露光量を実効感度とした。
(Electron beam exposure evaluation of resist composition)
A 6 inch silicon wafer was treated on a direct hot plate with hexamethyldisilazane at 90 ° C. for 60 seconds. The resist composition was spin-coated on this silicon wafer so that the film thickness of the composition layer was 0.04 μm. Then, on a direct hot plate, the composition layer was formed by prebaking at the temperature shown in the “PB” column of Table 2 for 60 seconds. A line-and-space pattern was directly drawn on the composition layer formed on the wafer by using an electron beam lithography machine [“HL-800D 50keV” manufactured by Hitachi, Ltd.] by changing the exposure amount stepwise. ..
After exposure, post-exposure baking was performed on a hot plate at the temperature shown in the “PEB” column of Table 2 for 60 seconds, and further paddle development was performed for 60 seconds with a 2.38 mass% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution. , A resist pattern was obtained.
The obtained resist pattern (line and space pattern) was observed with a scanning electron microscope, and the exposure amount at which the line width and the space width of the 60 nm line and space pattern were 1: 1 was defined as the effective sensitivity.

ラインエッジラフネス評価(LER):実効感度で製造されたレジストパターンの側壁面の凹凸の振れ幅を走査型電子顕微鏡で測定し、ラインエッジラフネスを求めた。その結果を表3に示す。

Figure 0007032270000149
Line edge roughness evaluation (LER): The fluctuation width of the unevenness of the side wall surface of the resist pattern manufactured with effective sensitivity was measured with a scanning electron microscope, and the line edge roughness was determined. The results are shown in Table 3.
Figure 0007032270000149

上記の結果から、本発明の塩、この塩を含むレジスト組成物によれば、ラインエッジラフネス(LER)が良好であることがわかる。 From the above results, it can be seen that the salt of the present invention and the resist composition containing this salt have good line edge roughness (LER).

本発明のレジスト組成物は、ラインエッジラフネスが良好であり、半導体の微細加工に有用である。 The resist composition of the present invention has good line edge roughness and is useful for microfabrication of semiconductors.

Claims (9)

式(I)で表される塩。
Figure 0007032270000150
[式(I)中、
1及びR2は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基又は式(R-1)で表される基を表す。但し、R1及びR2の少なくとも一つは、式(R-1)で表される基を表す。
Figure 0007032270000151
(式(R-1)中、
r1及びQr2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
r1及びRr2は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
rは、0~6のいずれかの整数を表し、 r が2以上のとき、複数のRr1及びRr2は互いに同一であっても異なってもよい。
r1は、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-又は-O-を表す。
r1は、単結合又は炭素数1~28の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-S(O)2-に置き換わっていてもよい。
*はAr1又はAr2との結合位を表す。
ZR+は有機カチオンを表す。)
Ar1は、置換基を有していてもよい炭素数6~36の芳香族炭化水素環を表す。
Ar2は、置換基を有していてもよい炭素数6~36の芳香族炭化水素環を表す。]
A salt represented by the formula (I).
Figure 0007032270000150
[In formula (I),
R 1 and R 2 each independently represent a hydroxy group or a group represented by the formula (R-1). However, at least one of R 1 and R 2 represents a group represented by the formula (R-1).
Figure 0007032270000151
(In formula (R-1),
Q r1 and Q r2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R r1 and R r2 independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
z r represents an integer of 0 to 6, and when z r is 2 or more, a plurality of R r1 and R r2 may be the same as or different from each other.
X r1 represents -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O- or -O-.
L r1 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 28 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group is -O-, -S-, -CO- or-. It may be replaced with S (O) 2- .
* Represents the binding site with Ar 1 or Ar 2 .
ZR + represents an organic cation. )
Ar 1 represents an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 36 carbon atoms which may have a substituent.
Ar 2 represents an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 36 carbon atoms which may have a substituent. ]
Ar1が、置換基を有してもよいベンゼン又は置換基を有してもよいナフタレンである請求項1に記載の塩。 The salt according to claim 1, wherein Ar 1 is benzene which may have a substituent or naphthalene which may have a substituent. Ar2が、置換基を有していてもよいベンゼンである請求項1又は2に記載の塩。 The salt according to claim 1 or 2, wherein Ar 2 is benzene which may have a substituent. r1が、*-CO-O-又は*-O-CO-(但し、*は、C(Rr1)(Rr2)又はC(Qr1)(Qr2)との結合位を表す。)である請求項1~3のいずれかに記載の塩。 X r1 is * -CO-O- or * -O-CO- (where * represents the binding site with C (R r1 ) (R r2 ) or C (Q r1 ) (Q r2 )). The salt according to any one of claims 1 to 3. r1が、単結合、アルカンジイル基(但し、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)又はアルカンジイル基と脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該組み合わせてなる基におけるアルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該脂環式飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-S(O)2-に置き換わっていてもよい。)である請求項1~4のいずれかに記載の塩。 L r1 is a single bond, an alkanediyl group (provided that -CH 2- contained in the alkanediyl group is replaced with -O- or -CO-) or an alkanediyl group and an alicyclic saturation. A group composed of a combination with a hydrocarbon group (provided that -CH 2- contained in an alkanediyl group in the combined group may be replaced with -O- or -CO-, and the alicyclic saturated carbonization. The —CH 2 − contained in the hydrogen group may be replaced with —O—, —S—, —CO— or —S (O) 2 −) according to any one of claims 1 to 4. Salt. 請求項1~5のいずれかに記載の塩を含有する酸発生剤。 An acid generator containing the salt according to any one of claims 1 to 5. 請求項6記載の酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。 A resist composition containing the acid generator according to claim 6 and a resin having an acid unstable group. 酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩を含有する請求項7記載のレジスト組成物。 The resist composition according to claim 7, which contains a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator. (1)請求項7又は8記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程
を含むレジストパターンの製造方法。




(1) A step of applying the resist composition according to claim 7 or 8 onto a substrate.
(2) A step of drying the applied composition to form a composition layer,
(3) Step of exposing the composition layer,
(4) A method for producing a resist pattern, which comprises a step of heating the composition layer after exposure and (5) a step of developing the composition layer after heating.




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