JP7024268B2 - Liquid discharge device - Google Patents
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Description
本発明は、ヘッドと、ヘッドの吐出空間に気体を供給する気体供給機構とを備えた液体吐出装置に関する。 The present invention relates to a liquid discharge device including a head and a gas supply mechanism for supplying gas to the discharge space of the head.
液体吐出装置において、吐出空間の気流の安定化と、液体吐出口の乾燥防止との両方を実現するため、ヘッドに形成されたガス吹き出し口からガス(加湿空気)を吹き出す技術が知られている(特許文献1の段落0040参照)。 In a liquid discharge device, a technique of blowing gas (humidified air) from a gas outlet formed in a head is known in order to both stabilize the air flow in the discharge space and prevent the liquid discharge port from drying out. (See paragraph 0040 of Patent Document 1).
液体吐出口からの液体の吐出頻度が高い場合、吐出頻度が低い場合に比べ、液体の吐出に伴う気流(以下、「吐出流」という。)と吐出面に対する記録媒体の相対移動に伴う気流(以下、「相対移動流」という。)との衝突により渦が形成され、吐出空間の気流が乱れ易い。特許文献1において、吐出頻度に関わらず所定の流量でガス(加湿空気)を吹き出す構成とした場合、無用に大きい流量でガスを吹き出す問題や、これに伴い多量の加湿液(加湿空気の基となる液体)を消費する問題が生じ、吐出空間の気流の安定化と液体吐出口の乾燥防止との両方を効果的に実現することができない。
When the liquid discharge frequency from the liquid discharge port is high, the air flow associated with the liquid discharge (hereinafter referred to as "discharge flow") and the air flow associated with the relative movement of the recording medium with respect to the discharge surface (hereinafter referred to as "discharge flow") are compared with the case where the discharge frequency is low. Hereinafter, a vortex is formed by the collision with the “relative moving flow”), and the airflow in the discharge space is easily turbulent. In
本発明の目的は、吐出空間の気流の安定化と液体吐出口の乾燥防止との両方を効果的に実現することができる液体吐出装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a liquid discharge device capable of effectively both stabilizing the air flow in the discharge space and preventing the liquid discharge port from drying out.
本発明に係る液体吐出装置は、液体吐出口が形成された吐出面を有するヘッドと、前記吐出面と対向する吐出空間に気体を供給する気体供給機構と、前記ヘッド及び前記気体供給機構を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記液体吐出口からの液体の吐出頻度が閾値未満の場合、湿潤状態の気体が第1流量で前記吐出空間に供給されるように前記気体供給機構を制御し、前記吐出頻度が前記閾値以上の場合、気体が前記第1流量よりも大きな第2流量で前記吐出空間に供給されるように前記気体供給機構を制御することを特徴とする。 The liquid discharge device according to the present invention controls a head having a discharge surface on which a liquid discharge port is formed, a gas supply mechanism for supplying gas to a discharge space facing the discharge surface, the head, and the gas supply mechanism. The control unit is provided with a control unit for supplying the gas so that when the frequency of discharging the liquid from the liquid discharge port is less than the threshold value, the wet gas is supplied to the discharge space at the first flow rate. The mechanism is controlled, and when the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value, the gas supply mechanism is controlled so that the gas is supplied to the discharge space at a second flow rate larger than the first flow rate.
本発明によれば、吐出空間に供給される気体の流量が、吐出頻度に応じて変更される。具体的には、吐出頻度が閾値未満の場合は、吐出流と相対移動流との衝突による吐出空間の気流の乱れが生じ難く、吐出空間の気流の乱れよりも、液体吐出口の乾燥が懸念される。そこで、この場合は、小流量(第1流量)で、湿潤状態の気体が供給される。これにより、液体吐出口の乾燥が防止される。一方、吐出頻度が閾値以上の場合は、吐出流と相対移動流との衝突によって渦が形成され易く、吐出空間の気流の乱れが懸念される。そこで、この場合は、大流量(第2流量)で、気体が供給される。これにより、渦の影響が抑えられ、吐出空間の気流が安定する。このように、本発明によれば、無用に大きい流量でガスを吹き出す問題や、多量の加湿液(湿潤状態の気体の基となる液体)を消費する問題が生じ難く、吐出空間の気流の安定化と液体吐出口の乾燥防止との両方を効果的に実現することができる。 According to the present invention, the flow rate of the gas supplied to the discharge space is changed according to the discharge frequency. Specifically, when the discharge frequency is less than the threshold value, the airflow in the discharge space is less likely to be turbulent due to the collision between the discharge flow and the relative moving flow, and the liquid discharge port is more concerned about drying than the turbulence in the airflow in the discharge space. Will be done. Therefore, in this case, the wet gas is supplied at a small flow rate (first flow rate). This prevents the liquid discharge port from drying out. On the other hand, when the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value, a vortex is likely to be formed due to the collision between the discharge flow and the relative moving flow, and there is a concern that the air flow in the discharge space may be turbulent. Therefore, in this case, the gas is supplied at a large flow rate (second flow rate). As a result, the influence of the vortex is suppressed and the airflow in the discharge space is stabilized. As described above, according to the present invention, the problem of blowing out gas at an unnecessarily large flow rate and the problem of consuming a large amount of humidifying liquid (the liquid that is the basis of the wet gas) are unlikely to occur, and the airflow in the discharge space is stable. It is possible to effectively realize both the conversion and the prevention of drying of the liquid discharge port.
前記制御部は、前記吐出面に対して相対移動する記録媒体に向けて前記液体吐出口から液体が吐出されるように前記ヘッドを制御し、前記吐出頻度が前記閾値未満の場合、前記液体吐出口よりも前記吐出面に対する記録媒体の相対移動方向の上流から、前記湿潤状態の気体が供給されるように前記気体供給機構を制御してよい。気体は、相対移動方向の下流に流れ易い。したがって、上記構成によれば、湿潤状態の気体が、効果的に液体吐出口に到達する。これにより、液体吐出口の乾燥をより確実に防止することができる。 The control unit controls the head so that the liquid is discharged from the liquid discharge port toward the recording medium that moves relative to the discharge surface, and when the discharge frequency is less than the threshold value, the liquid discharge. The gas supply mechanism may be controlled so that the wet gas is supplied from the upstream side of the discharge surface in the direction of relative movement of the recording medium to the discharge surface. The gas tends to flow downstream in the relative movement direction. Therefore, according to the above configuration, the wet gas effectively reaches the liquid discharge port. This makes it possible to more reliably prevent the liquid discharge port from drying out.
前記吐出面に、気体噴出口が形成されており、前記気体供給機構は、前記気体噴出口から気体を噴出することにより、前記吐出空間に気体を供給してよい。この場合、ヘッドとは別に、気体噴出口が形成された部材を設ける場合に比べ、液体吐出装置の小型化を実現することができる。 A gas outlet is formed on the discharge surface, and the gas supply mechanism may supply the gas to the discharge space by ejecting the gas from the gas outlet. In this case, the size of the liquid discharge device can be reduced as compared with the case where a member having a gas ejection port is provided separately from the head.
本発明に係る液体吐出装置は、前記湿潤状態の気体を回収する気体回収口をさらに備え、前記制御部は、前記吐出頻度が前記閾値未満の場合、前記気体回収口から回収された前記湿潤状態の気体が前記気体噴出口から噴出されるように前記気体供給機構を制御してよい。この場合、湿潤状態の気体を回収し再利用することで、湿潤状態の気体の新たな生成を抑え、加湿液(湿潤状態の気体の基となる液体)の消費を抑制することができる。 The liquid discharge device according to the present invention further includes a gas recovery port for recovering the wet gas, and the control unit has the wet state recovered from the gas recovery port when the discharge frequency is less than the threshold value. The gas supply mechanism may be controlled so that the gas of the gas is ejected from the gas outlet. In this case, by recovering and reusing the wet gas, it is possible to suppress the new generation of the wet gas and suppress the consumption of the humidifying liquid (the liquid that is the basis of the wet gas).
前記制御部は、前記吐出頻度が前記閾値以上の場合、前記気体噴出口及び前記気体回収口の両方から前記吐出空間に向けて気体が噴出されるように前記気体供給機構を制御してよい。これにより、吐出頻度が高い場合に、吐出流と相対移動流との衝突によって形成される渦の影響を効果的に抑え、吐出空間の気流の安定化を実現することができる。 When the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value, the control unit may control the gas supply mechanism so that gas is ejected from both the gas outlet and the gas recovery port toward the discharge space. As a result, when the discharge frequency is high, the influence of the vortex formed by the collision between the discharge flow and the relative moving flow can be effectively suppressed, and the air flow in the discharge space can be stabilized.
前記気体回収口は、前記吐出面に形成されており、前記気体噴出口とで前記液体吐出口を挟む位置にあってよい。これにより、吐出頻度が閾値未満の場合には、気体回収口から、湿潤状態の気体を効率よく回収し再利用することができる。また、吐出頻度が閾値以上の場合には、液体吐出口を挟んで配置された気体噴出口と気体回収口とから気体を噴出させることで、液体吐出口の近傍に形成された渦の影響を効果的に抑えることができる。 The gas recovery port is formed on the discharge surface, and may be located at a position where the liquid discharge port is sandwiched between the gas ejection port and the gas outlet. As a result, when the discharge frequency is less than the threshold value, the wet gas can be efficiently recovered and reused from the gas recovery port. When the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value, the gas is ejected from the gas outlet and the gas recovery port arranged across the liquid discharge port, thereby affecting the influence of the vortex formed in the vicinity of the liquid discharge port. It can be effectively suppressed.
前記制御部は、前記吐出面に対して相対移動する記録媒体に向けて前記液体吐出口から液体が吐出されるように前記ヘッドを制御し、前記気体噴出口は、前記液体吐出口よりも前記吐出面に対する記録媒体の相対移動方向の上流に配置され、前記気体回収口は、前記液体吐出口よりも前記相対移動方向の下流に配置されてよい。この場合、気体噴出口から湿潤状態の気体を噴出させると、湿潤状態の気体は、相対移動流に沿ってスムーズに流れ、液体吐出口に確実に到達し、気体回収口から効率よく回収され再利用される。これにより、液体吐出口の乾燥防止、及び、気体の再利用を、より確実に実現することができる。また、気体噴出口及び気体回収口から気体を噴出させると、液体吐出口に対して相対移動方向の上流及び下流の両側において、渦の影響を抑えることができる。 The control unit controls the head so that the liquid is discharged from the liquid discharge port toward the recording medium that moves relative to the discharge surface, and the gas outlet is more than the liquid discharge port. The gas recovery port may be arranged upstream of the relative movement direction of the recording medium with respect to the discharge surface, and the gas recovery port may be arranged downstream of the liquid discharge port in the relative movement direction. In this case, when the wet gas is ejected from the gas outlet, the wet gas flows smoothly along the relative moving flow, surely reaches the liquid discharge port, is efficiently recovered from the gas recovery port, and is re-collected. It will be used. This makes it possible to prevent the liquid discharge port from drying out and to reuse the gas more reliably. Further, when the gas is ejected from the gas outlet and the gas recovery port, the influence of the vortex can be suppressed on both the upstream and downstream sides in the direction of relative movement with respect to the liquid discharge port.
前記制御部は、前記吐出頻度が前記閾値以上の場合、前記湿潤状態の気体よりも湿潤度の低い気体が供給されるように前記気体供給機構を制御してよい。吐出頻度が高い場合は、液体吐出口が乾燥し難く、湿潤状態の気体を供給する必要性が乏しい。そこで、この場合は、上記のように湿潤度の低い気体を供給することで、湿潤状態の気体を無用に生成しなくてすむ。つまり、吐出空間の気流の安定化と液体吐出口の乾燥防止との両方を、より効果的に実現することができる。 When the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value, the control unit may control the gas supply mechanism so that a gas having a lower degree of wetness than the wet gas is supplied. When the discharge frequency is high, the liquid discharge port is difficult to dry, and there is little need to supply a wet gas. Therefore, in this case, by supplying a gas having a low degree of wetness as described above, it is not necessary to unnecessarily generate a gas in a wet state. That is, both the stabilization of the air flow in the discharge space and the prevention of drying of the liquid discharge port can be realized more effectively.
本発明によれば、吐出空間の気流の安定化と液体吐出口の乾燥防止との両方を効果的に実現することができる。 According to the present invention, both the stabilization of the air flow in the discharge space and the prevention of drying of the liquid discharge port can be effectively realized.
先ず、本発明の一実施形態に係るプリンタ100の全体構成について説明する。
First, the overall configuration of the
プリンタ100は、図1に示すように、ヘッド1、搬送機構3、プラテン4及び制御部5を備えている。
As shown in FIG. 1, the
ヘッド1は、ライン式のカラーヘッドである。ヘッド1は、プリンタ100の所定位置に固定されている。ヘッド1の下面は、吐出面1aであり、複数のインク吐出口1nが形成されている。複数のインク吐出口1nは、用紙9の搬送方向と直交する方向(走査方向)に並び、吐出口列を構成している。ヘッド1は、走査方向を長手方向とし、用紙9の全幅をカバーする。印刷(即ち、用紙9への画像の記録)に際して、インク吐出口1nから、用紙9の搬送に合わせてインクが吐出される。
The
なお、図1には、1つの吐出口列が吐出面1aに示されているが、実際には、吐出面1aには複数(例えば、ヘッド1が4色のインクを吐出する場合は、4つ)の吐出口列が形成されている。複数の吐出口列は、搬送方向に並んでいる。
Although one ejection port row is shown on the
搬送機構3は、ヘッド1よりも搬送方向の上流にある上流ローラ3aと、ヘッド1よりも搬送方向の下流にある下流ローラ3bとを有する。上流ローラ3a及び下流ローラ3bは、搬送モータ3mの駆動により回転する。このとき、用紙9は、搬送方向に沿って、吐出空間V(吐出面1aと対向し、吐出面1aとプラテン4とで画定される空間)に向けて搬送される。
The transport mechanism 3 has an
プラテン4は、上流ローラ3aと下流ローラ3bとの間において、吐出面1aと対向して配置され、搬送される用紙9を下から支える。プラテン4は、平板部材であり、ヘッド1と共に、搬送方向において2つのローラ3a,3bに挟まれている。用紙9は、吐出空間Vにおいて、印刷に適した隙間を介して、吐出面1aと対向する。
The
制御部5は、図2に示すように、ヘッド1を駆動するためのヘッドドライバ1d、搬送機構3を駆動するための搬送モータ3m、及び、後述の気体供給機構2を構成するポンプ2p1,2p2及び切替弁2v1~2v4のそれぞれと、電気的に接続されている。制御部5は、PC等の外部装置から入力された記録指令(画像データを含む。)に基づいて、ヘッドドライバ1d、搬送モータ3m、ポンプ2p1,2p2及び切替弁2v1~2v4を制御する。
As shown in FIG. 2, the
搬送モータ3mが駆動されると、2つのローラ3a,3bが回転する。用紙9は、プラテン4に支持されながら、吐出空間Vを搬送方向に横切る。用紙9の搬送に同期して、ヘッドドライバ1dが駆動される。プラテン4に支持された用紙9には、画像データに基づいて、インクがインク吐出口1nから吐出される。
When the
次いで、気体供給機構2について、具体的に説明する。
Next, the
吐出面1aには、図1に示すように、インク吐出口1nに加え、気体噴出口2x及び気体回収口2yが形成されている。気体噴出口2x及び気体回収口2yは、気体供給機構2を構成する。図3を参照して後に詳述するが、気体噴出口2xは、ポンプ2p1の働きにより、気体(湿潤状態の気体を含む。)を吐出空間Vに噴出する。気体回収口2yは、ポンプ2p2の働きにより、吐出空間Vから湿潤状態の気体を回収したり、吐出空間Vに気体を噴出したりする。
As shown in FIG. 1, a
複数の気体噴出口2xは、図1に示すように、吐出口列に沿って並び、1つの噴出口列を構成している。複数の気体回収口2yは、吐出口列に沿って並び、1つの回収口列を構成している。噴出口列は、インク吐出口1nよりも搬送方向の上流に配置されている。回収口列は、インク吐出口1nよりも搬送方向の下流に配置されている。複数の吐出口列は、それぞれ、搬送方向において1つの噴出口列と1つの回収口列とに挟まれている。
As shown in FIG. 1, the plurality of
本実施形態では、搬送方向が、本発明に係る「相対移動方向」に相当する。 In the present embodiment, the transport direction corresponds to the "relative movement direction" according to the present invention.
気体供給機構2は、気体噴出口2x及び気体回収口2yに加え、図3(a),(b)に示すように、ガスタンク2g、水タンク2w、ポンプ2p1,2p2及び切替弁2v1~2v4を有する。
In addition to the
ガスタンク2gは、気体(例えば空気)を貯留し、フィルタ(図示略)を介して大気と連通している。
The
水タンク2wは、上部空間に湿潤状態の気体を貯留し、下部空間に加湿液(湿潤状態の気体の基となる液体。本実施形態では、水)を貯留している。加湿液の消費に応じて、補給手段(図示略)により、水タンク2wの下部空間に加湿液が補給される。水タンク2wの下部空間には、常に所定量の加湿液が貯留されている。
The
水タンク2wの上部空間は、連通路2r1を介して、気体噴出口2xと連通している。連通路2r1には、切替弁2v3及びポンプ2p1が配置されている。水タンク2wの上部空間は、さらに、連通路2r2を介して、ガスタンク2gと連通している。連通路2r2は、連通路2r1における切替弁2v3とポンプ2p1との間の位置から分岐した通路である。
The upper space of the
水タンク2wの下部空間は、連通路2r3を介して、気体回収口2yと連通している。連通路2r3には、切替弁2v4及びポンプ2p2が配置されている。水タンク2wの下部空間は、さらに、連通路2r4を介して、ガスタンク2gと連通している。連通路2r4は、連通路2r3における切替弁2v4とポンプ2p2との間の位置から分岐した通路である。
The lower space of the
制御部5は、気体供給機構2を制御して、4つの切替弁2v1~2v4の開閉を切り替える。これにより、気体噴出口2x及び気体回収口2yの連通先が、ガスタンク2gと水タンク2wとの間で切り替わる。インク吐出口1nの乾燥防止が必要なときは、水タンク2wが連通先として選択される。吐出空間Vの気流の安定化が必要なときは、ガスタンク2gが連通先として選択される。なお、ポンプ2p2は、例えばチューブポンプであり、連通路2r3内の気体の流れを順方向と逆方向とに切り替え可能である。
The
インク吐出口1nの乾燥防止が必要なとき、気体供給機構2は、制御部5の制御により、切替弁2v1,2v2を閉にして、ガスタンク2gを気体噴出口2x及び気体回収口2yから切り離す。同時に、気体供給機構2は、制御部5の制御により、切替弁2v3,2v4を開にして、水タンク2wを気体噴出口2x及び気体回収口2yと連通させ、ポンプ2p2の駆動を開始させる。このときポンプ2p1は、停止しているが、連通路2r1,2r3内の気体の流れを妨げない。ポンプ2p2の駆動により、吐出空間Vから気体回収口2yに気体が吸引される。当該気体は、連通路2r3を介して水タンク2wの下部空間に供給され、水タンク2wの下部空間で加湿されることで、湿潤状態の気体となる。当該湿潤状態の気体は、連通路2r1を介して、気体噴出口2xから噴出される(図3(a)参照)。これにより、吐出空間Vに、湿潤状態の気体が供給される。当該湿潤状態の気体は、搬送方向に沿って吐出面1aの近傍を流れ、一部が気体回収口2yから回収される。気体噴出口2xから噴出された湿潤状態の気体が搬送方向に沿って流れて気体回収口2yに向かう間、気体中の水分がインク吐出口1n内のインクに供給される。これにより、インク吐出口1n内のインクの増粘の解消又は増粘の進行防止が実現される。気体回収口2yから回収された気体は、水タンク2wに戻された後、再び気体噴出口2xから噴出される。
When it is necessary to prevent the
なお、上記の場合において、積極的なインク吐出口1nの乾燥防止が必要なときは、ポンプ2p2に加え、ポンプ2p1を駆動させてもよい。ポンプ2p1,2p2の駆動及びその強度は、インク吐出口1nの乾燥度合いや環境湿度によって設定される。
In the above case, when it is necessary to positively prevent the
吐出空間Vの気流の安定化が必要なとき、気体供給機構2は、制御部5の制御により、切替弁2v3,2v4を閉にして、水タンク2wを気体噴出口2x及び気体回収口2yから切り離す。同時に、気体供給機構2は、制御部5の制御により、切替弁2v1,2v2を開にして、ガスタンク2gを気体噴出口2x及び気体回収口2yと連通させ、ポンプ2p1,2p2の駆動を開始させる。このときポンプ2p2は、図3(a)の場合と逆方向に回転される。気体噴出口2x及び気体回収口2yからは、フィルタ(図示略)及びガスタンク2gを介して、気体(大気)が噴出される(図3(b)参照)。これにより、吐出空間Vに、乾燥状態の気体が供給される。このとき、気体噴出口2x及び気体回収口2yから噴出される気体は、ほぼインクの飛翔経路に沿って流れ、吐出流(インクの吐出に伴う気流)と相対移動流(吐出面1aに対する用紙9の相対移動に伴う気流。本実施形態では、用紙9の搬送に伴う搬送流)との衝突により形成される渦の発生を抑制する。したがって、吐出空間Vの気流が安定化する。
When it is necessary to stabilize the air flow in the discharge space V, the
次いで、図4を参照し、制御部5による制御内容について説明する。
Next, with reference to FIG. 4, the content of control by the
制御部5は、先ず、外部装置から画像データが入力されたか否かを判断する(S1)。画像データが入力された場合(S1:YES)、制御部5は、用紙9の搬送を開始させる(S2)。用紙9は、給紙トレイ(図示略)から送り出され、搬送方向に移動し、吐出空間Vに到達する。S2の後、用紙9が吐出空間Vに到達するまでの間に、制御部5は、画像データに基づいて、用紙9に対応する吐出頻度を算出する(S3)。S3の後、制御部5は、吐出頻度が閾値未満か否かを判断する(S4)。
The
本実施形態では、吐出頻度の算出(S3)及び判断(S4)が、インク吐出口1nの群毎に行われる。複数の吐出口列は、走査方向にいくつかの群に等分される。群の吐出頻度は、当該群を構成する複数のインク吐出口1nそれぞれの単位時間当たりの「実効的な吐出回数」を合算して得られる総吐出回数を、当該群を構成するインク吐出口1nの数で割った値とされる。群毎に以下の制御を行うことから、切替弁2v1~2v4やポンプ2p1,2p2は、群毎に設けられている。
In the present embodiment, the ejection frequency is calculated (S3) and determined (S4) for each group of
なお、上記の「実効的な吐出回数」とは、「実際の吐出回数」に対して、種々のファクター(例えば、インク滴のサイズ、吐出時の駆動周波数及びインクの吐出速度)による調整を加えたものである。調整量は、これらファクターが大きいほど、大きく設定される。例えば、インク滴のサイズが大きいほど、「実効的な吐出回数」が「実際の吐出回数」よりも大きな値となる。 The above "effective number of ejections" is adjusted by various factors (for example, ink droplet size, driving frequency at the time of ejection, and ink ejection speed) with respect to the "actual number of ejections". It is an ink. The larger these factors are, the larger the adjustment amount is set. For example, the larger the size of the ink droplet, the larger the "effective number of ejections" than the "actual number of ejections".
なお、用紙9がロール紙の場合は、ロール紙における搬送方向の所定長さに対応する印刷領域毎に、吐出頻度の算出(S3)及び判断(S4)が行われる。
When the
制御部5は、気体供給機構2を制御して、吐出空間Vに気体を供給する。気体の供給量及び供給形態は、吐出頻度の判断結果による。
The
吐出頻度が閾値未満と判断された場合(S4:YES)は、湿潤状態の気体が、小流量で供給される(S5)。具体的には、制御部5は、切替弁2v1,2v2を閉、切替弁2v3,2v4を開の状態として、ポンプ2p2を駆動させる。これにより、図3(a)に示すように、吐出面1a近傍の気体が、気体回収口2yから吸引され、水タンク2wで湿潤状態の気体とされる。当該湿潤状態の気体は、気体噴出口2xから吐出空間Vに供給されて、吐出面1aに沿って流れ、搬送方向の下流に向かう。当該気体の一部は、気体回収口2yから回収され、水タンク2wに戻される。
When it is determined that the discharge frequency is less than the threshold value (S4: YES), the wet gas is supplied at a small flow rate (S5). Specifically, the
一方、吐出頻度が閾値以上と判断された場合(S4:NO)は、気体(大気)が、大流量で供給される(S6)。具体的には、制御部5は、切替弁2v1,2v2を開、切替弁2v3,2v4を閉の状態として、ポンプ2p1,2p2を駆動させる。このとき、ポンプ2p2は、S5の場合と逆方向に回転される。これにより、図3(b)に示すように、気体噴出口2x及び気体回収口2yの両方から、ガスタンク2gに貯留された気体が、吐出空間Vに供給される。このとき供給される気体は、大気であり、自然の湿潤状態(S5で供給される湿潤状態の気体よりも、湿潤度の低い、乾燥状態)にある。
On the other hand, when it is determined that the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value (S4: NO), the gas (atmosphere) is supplied at a large flow rate (S6). Specifically, the
用紙9が吐出空間Vに到達すると、制御部5は、用紙9への印刷が行われるよう、画像データに基づいてインクを吐出させる(S7)。インクの吐出は、用紙9の搬送と同期して行われる。その後、制御部5は、用紙9への印刷が完了したか否かを判断する(S8)。用紙9への印刷が完了していなければ(S8:NO)、制御部5は、処理をS4に戻す。即ち、用紙9への印刷中に、吐出頻度が閾値未満の場合は、インク吐出口1n内のインクに対して、気体から水分が供給される。また、用紙9への印刷中に、吐出頻度が閾値以上の場合は、飛翔するインクに対して搬送方向の上流及び下流の両側において、吐出流と相対移動流との衝突により形成される渦の発生が抑制される。いずれも、画質向上に寄与する。
When the
用紙9への印刷が完了すると(S8:YES)、制御部5は、次に印刷すべき用紙9の有無を判断する(S9)。次に印刷すべき用紙9が有れば(S9:YES)、制御部5は、処理をS2に戻す。次に印刷すべき用紙9が無ければ(S9:NO)、制御部5は、処理をS1に戻し、新たな画像データの入力を待つ。
When printing on the
本実施形態では、以上のような動作(気流制御)が、インク吐出口1nの群毎に行われる。
In the present embodiment, the above operation (air flow control) is performed for each group of
本実施形態の用紙9は枚葉紙であるが、用紙9がロール紙の場合も、上述のような制御部5による処理が行われる。用紙がロール紙の場合、用紙が切れ目無く搬送される。吐出頻度は、画像データに基づいて、搬送方向に所定長さ分の画像毎に、求められる。したがって、上述の気流制御は、所定長さ毎に切り替わることになる。
The
なお、画像データの入力に対する待ち時間が所定時間に達した場合、制御部5は、吐出面1aのキャッピングを行い、吐出空間Vの加湿を行う。吐出面1aのキャッピングは、インク吐出口1n、気体噴出口2x及び気体回収口2yをキャップ(図示略)により封止する動作をいう。吐出空間Vの加湿は、気体噴出口2xから湿潤状態の気体を噴出させ、吐出空間Vに湿潤状態の気体を供給する動作をいう。湿潤状態の気体は、所定時間供給される。これにより、吐出面1aの長期保存の準備が整う。
When the waiting time for inputting the image data reaches a predetermined time, the
以上に述べたように、本実施形態によれば、吐出空間Vに供給される気体の流量が、吐出頻度に応じて変更される(図4のS4~S6参照)。具体的には、吐出頻度が閾値未満の場合)は(図4のS4:YES)、吐出流と相対移動流との衝突による吐出空間Vの気流の乱れが生じ難く、吐出空間Vの気流の乱れよりも、インク吐出口1nの乾燥が懸念される。そこで、この場合は、小流量(第1流量)で、湿潤状態の気体が供給される(図4のS5及び図3(a)参照)。これにより、インク吐出口1nの乾燥が防止される。一方、吐出頻度が閾値以上の場合は(S4:NO)、吐出流と相対移動流との衝突によって渦が形成され易く、吐出空間Vの気流の乱れが懸念される。そこで、この場合は、大流量(第2流量)で、気体が供給される(図4のS6及び図3(b)参照)。これにより、渦の影響が抑えられ、吐出空間Vの気流が安定する。このように、本実施形態によれば、無用に大きい流量でガスを吹き出す問題や、多量の加湿液を消費する問題が生じ難く、吐出空間Vの気流の安定化とインク吐出口1nの乾燥防止との両方を効果的に実現することができる。
As described above, according to the present embodiment, the flow rate of the gas supplied to the discharge space V is changed according to the discharge frequency (see S4 to S6 in FIG. 4). Specifically, when the discharge frequency is less than the threshold value) (S4: YES in FIG. 4), the airflow in the discharge space V is unlikely to be turbulent due to the collision between the discharge flow and the relative moving flow, and the airflow in the discharge space V is less likely to be disturbed. There is more concern about the drying of the
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々な設計変更が可能なものである。 Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various design changes can be made as long as it is described in the claims.
・気体噴出口及び/又は気体回収口は、吐出面の長手方向に均等に配置されなくもよい。
・気体噴出口及び/又は気体回収口は、吐出面に形成されることに限定されない。例えば、気体噴出口及び/又は気体回収口は、ヘッドの吐出面以外の部分に形成されてよい。例えば、ヘッドとは別の2つの管部材が、搬送方向に吐出面1aを挟んで配置されている。2つの管部材のうち、吐出面1aよりも搬送方向の上流にある管部材は、下端に気体噴出口2xが形成され、ポンプ2p1と連通している。2つの管部材のうち、吐出面1aよりも搬送方向の下流にある管部材は、下端に気体回収口が形成され、ポンプ2p2と連通している。
・気体噴出口は、液体吐出口よりも相対移動方向の上流にあることに限定されず、相対移動方向において液体吐出口と同じ位置、又は、液体吐出口よりも相対移動方向の下流にあってもよい。気体噴出口が液体吐出口よりも相対移動方向の下流に配置され、かつ、気体回収口が液体吐出口よりも相対移動方向の上流に配置されてもよい。気体回収口は、相対移動方向と交差する方向に、気体噴出口とで液体吐出口を挟む位置にあってもよい。気体回収口は、気体噴出口とで液体吐出口を挟む位置にあることに限定されず、任意の位置にあってよい。
・ただし、上述の実施形態のように気体噴出口が液体吐出口よりも相対移動方向の上流にある場合(液体吐出口よりも相対移動方向の上流から気体が供給される場合)、相対移動流の影響を低減でき、吐出空間の気流の安定化の点でより効果的である。
・気体噴出口は、上述の実施形態ではインクの着弾位置近傍に向けて吐出面1aと傾斜する方向に気体を噴出するが、任意の方向に気体を噴出してよい。例えば、気体噴出口は、吐出面と直交する方向に気体を噴出してよい。気体回収口からの気体の回収方向も、特に限定されず、吐出面と直交する方向であってよい。
・気体供給機構は、気体の供給を少なくとも行えばよく、気体の回収を行わなくてもよい。
・気体供給機構は、気体噴出口、ポンプ等から構成されることに限定されず、例えば、回転羽根を備えたファン等から構成されてもよい。
・気体供給機構が供給する気体の種類は、特に限定されない。
・吐出頻度の判断は、液体吐出口毎に行ってもよいし、吐出面に形成された液体吐出口の全体で行ってもよい。
・吐出頻度が閾値以上の場合、上述の実施形態では、水タンクを経路から切り離して、乾燥状態の気体を吐出空間に供給している。しかしながら、これに限定されない。例えば、水タンクを通る経路(図3(a))において、吐出頻度に応じてポンプ2p2の速度を変えてもよい。具体的には、吐出頻度が閾値以上の場合、吐出頻度が閾値未満の場合よりも、ポンプ2p2の速度を大きくする。このとき、連通路2r3を通って水タンク2wの下部空間に供給された気体の加湿が不十分となり、湿潤度が低いままの気体が、連通路2r1を通って気体噴出口2xから吐出空間Vに供給される。
・吐出頻度が閾値以上の場合に、湿潤状態の気体を吐出空間に供給してもよい。
・液体吐出口から吐出される液体は、インクに限定されず、任意の液体(例えば、インク中の成分を凝集又は析出させる処理液等)であってよい。
・ヘッドは、ライン式に限定されず、シリアル式であってもよい。ヘッドが、走査方向に移動しながら液体を吐出するシリアル式の場合は、ヘッドの移動方向と逆の方向が、本発明に係る「相対移動方向」に相当する。ヘッドがシリアル式で、双方向印刷(走査方向の往路及び復路のそれぞれにおいて液体を吐出する動作)を行う場合、吐出頻度が閾値未満であれば、相対移動方向の上流にある気体噴出口又は気体回収口から、湿潤状態の気体を噴出させてよい。この場合、走査方向の往路と復路とにおいて、各切替弁2v3,2v4の連通先となるポンプ2p1,2p2が交互に切り替わってよい。
・本発明は、プリンタに限定されず、ファクシミリ、コピー機、複合機等にも適用可能である。
-The gas outlet and / or the gas recovery port may not be evenly arranged in the longitudinal direction of the discharge surface.
-The gas outlet and / or the gas recovery port is not limited to being formed on the discharge surface. For example, the gas outlet and / or the gas recovery port may be formed in a portion other than the discharge surface of the head. For example, two pipe members different from the head are arranged so as to sandwich the
-The gas outlet is not limited to being upstream of the liquid discharge port in the relative movement direction, but is at the same position as the liquid discharge port in the relative movement direction or downstream of the liquid discharge port in the relative movement direction. May be good. The gas outlet may be arranged downstream of the liquid discharge port in the relative movement direction, and the gas recovery port may be arranged upstream of the liquid discharge port in the relative movement direction. The gas recovery port may be located at a position where the liquid discharge port is sandwiched between the gas outlet and the gas outlet in a direction intersecting the relative movement direction. The gas recovery port is not limited to the position where the liquid discharge port is sandwiched between the gas outlet and the gas outlet, and may be at any position.
-However, when the gas outlet is upstream of the liquid discharge port in the relative movement direction as in the above-described embodiment (when the gas is supplied from the upstream of the liquid discharge port in the relative movement direction), the relative movement flow. It is possible to reduce the influence of the above, and it is more effective in terms of stabilizing the air flow in the discharge space.
-In the above-described embodiment, the gas ejection port ejects gas in a direction inclined with the
-The gas supply mechanism may supply at least the gas and does not have to recover the gas.
-The gas supply mechanism is not limited to being composed of a gas outlet, a pump, or the like, and may be composed of, for example, a fan or the like provided with rotary blades.
-The type of gas supplied by the gas supply mechanism is not particularly limited.
-The determination of the discharge frequency may be performed for each liquid discharge port, or may be performed for the entire liquid discharge port formed on the discharge surface.
-When the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value, in the above-described embodiment, the water tank is separated from the path and the dry gas is supplied to the discharge space. However, it is not limited to this. For example, in the path passing through the water tank (FIG. 3A), the speed of the pump 2p2 may be changed according to the discharge frequency. Specifically, when the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value, the speed of the pump 2p2 is increased as compared with the case where the discharge frequency is less than the threshold value. At this time, the humidification of the gas supplied to the lower space of the
-When the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value, a wet gas may be supplied to the discharge space.
-The liquid discharged from the liquid ejection port is not limited to the ink, and may be any liquid (for example, a treatment liquid that aggregates or precipitates the components in the ink).
-The head is not limited to the line type and may be a serial type. When the head is a serial type that discharges liquid while moving in the scanning direction, the direction opposite to the moving direction of the head corresponds to the "relative moving direction" according to the present invention. When the head is a serial type and bidirectional printing (operation of discharging liquid in each of the outward and return paths in the scanning direction), if the discharge frequency is less than the threshold value, the gas outlet or gas located upstream in the relative movement direction. Wet gas may be ejected from the recovery port. In this case, the pumps 2p1 and 2p2, which are the communication destinations of the switching valves 2v3 and 2v4, may be alternately switched between the outward path and the return path in the scanning direction.
-The present invention is not limited to printers, but can be applied to facsimiles, copiers, multifunction devices, and the like.
1 ヘッド
1a 吐出面
1n インク吐出口(液体吐出口)
2 気体供給機構
2x 気体噴出口
2y 気体回収口
5 制御部
9 用紙(記録媒体)
100 プリンタ(液体吐出装置)
V 吐出空間
1
2
100 printer (liquid discharge device)
V discharge space
Claims (8)
前記吐出面と対向する吐出空間に、前記吐出面から前記吐出空間に向けて気体を供給する気体供給機構と、
前記吐出空間を通る搬送経路に沿って記録媒体を搬送する搬送機構と、
前記ヘッド、前記気体供給機構及び前記搬送機構を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
記録媒体が前記搬送経路に沿って搬送されるように前記搬送機構を制御し、
記録媒体が前記吐出空間にある状態において、前記液体吐出口からの液体の吐出頻度が閾値未満の場合、湿潤状態の気体が第1流量で前記吐出空間に供給されるように前記気体供給機構を制御し、
記録媒体が前記吐出空間にある状態において、前記吐出頻度が前記閾値以上の場合、気体が前記第1流量よりも大きな第2流量で前記吐出空間に供給されるように前記気体供給機構を制御することを特徴とする液体吐出装置。 A head having a discharge surface on which a liquid discharge port is formed,
A gas supply mechanism that supplies gas from the discharge surface toward the discharge space to the discharge space facing the discharge surface.
A transport mechanism that transports the recording medium along the transport path that passes through the discharge space,
The head , the gas supply mechanism, and a control unit for controlling the transfer mechanism are provided.
The control unit
The transport mechanism is controlled so that the recording medium is transported along the transport path.
When the recording medium is in the discharge space and the liquid discharge frequency from the liquid discharge port is less than the threshold value, the gas supply mechanism is provided so that the wet gas is supplied to the discharge space at the first flow rate. Control and
When the recording medium is in the discharge space and the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value, the gas supply mechanism is controlled so that the gas is supplied to the discharge space at a second flow rate larger than the first flow rate. A liquid discharge device characterized by the fact that.
前記吐出面に対して相対移動する記録媒体に向けて前記液体吐出口から液体が吐出されるように前記ヘッドを制御し、
前記吐出頻度が前記閾値未満の場合、前記液体吐出口よりも記録媒体の前記吐出面に対する相対移動方向の上流から、前記湿潤状態の気体が供給されるように前記気体供給機構を制御することを特徴とする請求項1に記載の液体吐出装置。 The control unit
The head is controlled so that the liquid is discharged from the liquid discharge port toward the recording medium that moves relative to the discharge surface.
When the discharge frequency is less than the threshold value, the gas supply mechanism is controlled so that the wet gas is supplied from the upstream of the liquid discharge port in the direction of relative movement of the recording medium to the discharge surface. The liquid discharge device according to claim 1.
前記気体供給機構は、前記気体噴出口から気体を噴出することにより、前記吐出空間に気体を供給することを特徴とする請求項2に記載の液体吐出装置。 A gas outlet is formed on the discharge surface.
The liquid discharge device according to claim 2, wherein the gas supply mechanism supplies a gas to the discharge space by ejecting a gas from the gas outlet.
前記制御部は、前記吐出頻度が前記閾値未満の場合、前記気体回収口から回収された前記湿潤状態の気体が前記気体噴出口から噴出されるように前記気体供給機構を制御することを特徴とする請求項3に記載の液体吐出装置。 Further provided with a gas recovery port for recovering the wet gas,
The control unit is characterized in that when the discharge frequency is less than the threshold value, the gas supply mechanism is controlled so that the wet gas recovered from the gas recovery port is ejected from the gas outlet. The liquid discharge device according to claim 3.
前記吐出面と対向する吐出空間に気体を供給する気体供給機構と、
前記ヘッド及び前記気体供給機構を制御する制御部と、を備え、
前記気体供給機構は、気体噴出口及び気体回収口を有し、
前記制御部は、
前記吐出面に対して相対移動する記録媒体に向けて前記液体吐出口から液体が吐出されるように前記ヘッドを制御し、
前記液体吐出口からの液体の吐出頻度が閾値未満の場合、湿潤状態の気体が第1流量で前記吐出空間に供給されるように前記気体供給機構を制御し、
前記吐出頻度が前記閾値以上の場合、前記気体噴出口及び前記気体回収口の両方から前記吐出空間に向けて気体が噴出され、当該気体が前記第1流量よりも大きな第2流量で前記吐出空間に供給されるように前記気体供給機構を制御することを特徴とする液体吐出装置。 A head having a discharge surface on which a liquid discharge port is formed,
A gas supply mechanism that supplies gas to the discharge space facing the discharge surface,
A control unit for controlling the head and the gas supply mechanism is provided.
The gas supply mechanism has a gas outlet and a gas recovery port.
The control unit
The head is controlled so that the liquid is discharged from the liquid discharge port toward the recording medium that moves relative to the discharge surface.
When the frequency of liquid discharge from the liquid discharge port is less than the threshold value, the gas supply mechanism is controlled so that the wet gas is supplied to the discharge space at the first flow rate.
When the discharge frequency is equal to or higher than the threshold value, gas is ejected from both the gas outlet and the gas recovery port toward the discharge space, and the gas is discharged into the discharge space at a second flow rate larger than the first flow rate. A liquid discharge device, characterized in that the gas supply mechanism is controlled so as to be supplied to the gas supply mechanism.
前記気体回収口は、前記液体吐出口よりも前記相対移動方向の下流に配置されていることを特徴とする請求項6に記載の液体吐出装置。 The gas outlet is arranged upstream of the liquid ejection port in the direction of relative movement of the recording medium with respect to the ejection surface.
The liquid discharge device according to claim 6, wherein the gas recovery port is arranged downstream of the liquid discharge port in the relative movement direction.
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