JP7022247B1 - Purified water supply system - Google Patents

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Abstract

【課題】精製水が汚染される可能性を低減し、より確実に滅菌された精製水をユースポイントに供給することができる精製水供給システムを提供する。【解決手段】精製水製造装置10と、精製水をユースポイント60に循環供給する精製水供給装置20と、を備え、精製水供給装置20は、精製水製造装置10から供給される精製水が流通する供給ラインSと、供給ラインSから供給された精製水を貯留する精製水タンク30と、精製水タンク30に貯留された精製水をユースポイント60に供給するとともに、ユースポイント60から精製水タンク30に精製水を戻すための循環ラインLと、精製水を濾過するフィルター装置40と、を備え、フィルター装置40は、循環ラインLに設けられておらず、供給ラインSに設けられている。さらに精製水製造装置10を切り離して精製水供給装置20を洗浄及び滅菌するCIP/SIP装置50を含む。【選択図】 図1PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a purified water supply system capable of reducing the possibility of contaminated purified water and supplying purified water more reliably to a use point. SOLUTION: The purified water supply device 20 includes a purified water production device 10 and a purified water supply device 20 for circulating and supplying purified water to a use point 60, and the purified water supply device 20 is provided with purified water supplied from the purified water production device 10. The supply line S to be distributed, the purified water tank 30 for storing the purified water supplied from the supply line S, and the purified water stored in the purified water tank 30 are supplied to the use point 60, and the purified water is supplied from the use point 60. A circulation line L for returning purified water to the tank 30 and a filter device 40 for filtering purified water are provided, and the filter device 40 is not provided in the circulation line L but is provided in the supply line S. .. Further, it includes a CIP / SIP device 50 that separates the purified water production device 10 and cleans and sterilizes the purified water supply device 20. [Selection diagram] Fig. 1

Description

本発明は、循環する配管を介してユースポントに精製水を供給する精製水供給システムに関する。 The present invention relates to a purified water supply system that supplies purified water to a youth point via a circulating pipe.

従来、精製水をユースポイントに供給するための精製水供給システムが知られている(例えば、特許文献1参照)。精製水供給システムは、精製水製造装置及び精製水供給装置から構成されている。精製水供給装置は、精製水製造装置により製造された精製水を一時的にタンクに貯留するとともに、タンクとユースポイントとの間で精製水を循環供給させるための循環ラインを備えている。 Conventionally, a purified water supply system for supplying purified water to a point of use is known (see, for example, Patent Document 1). The purified water supply system consists of a purified water production device and a purified water supply device. The purified water supply device is provided with a circulation line for temporarily storing the purified water produced by the purified water production device in the tank and circulating the purified water between the tank and the point of use.

精製水は、例えば注射液などの製薬溶液に用いられるため、十分に滅菌されていることが求められる。特許文献1に記載の精製水供給システムでは、循環ラインにはフィルターが設けられており、ユースポイントで用いられずに循環してきた精製水を濾過し、除菌している。 Since purified water is used as a pharmaceutical solution such as an injection solution, it is required to be sufficiently sterilized. In the purified water supply system described in Patent Document 1, a filter is provided in the circulation line, and the purified water that has been circulated without being used at the point of use is filtered and sterilized.

しかしながら、循環ラインは、精製水の汚染を防止する観点から、製薬溶液の製造に関する指針によってフィルター装置を設けることが禁止されている場合がある。 However, the circulation line may be prohibited from being provided with a filter device by the guidelines for the production of pharmaceutical solutions from the viewpoint of preventing contamination of purified water.

一方、精製水製造装置において、フィルター装置で滅菌した精製水を製造し、その精製水を精製水供給装置に供給する構成がある。このような構成では、精製水製造装置から精製水供給装置に精製水を供給する間に汚染が生じるおそれがある。特に、精製水製造装置から精製水供給装置は物理的に離れて設置されることも多い。このため、配管は長くなり、その配管に付随するバルブや継手などの部品も多くなるので、精製水が汚染される可能性を踏まえた対策が必要となる。 On the other hand, in the purified water production apparatus, there is a configuration in which purified water sterilized by a filter apparatus is produced and the purified water is supplied to the purified water supply apparatus. In such a configuration, contamination may occur while supplying purified water from the purified water production apparatus to the purified water supply apparatus. In particular, the purified water supply device is often installed physically away from the purified water production device. For this reason, the piping becomes long, and the number of parts such as valves and joints attached to the piping increases, so it is necessary to take measures in consideration of the possibility that purified water will be contaminated.

特開2018-102717号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-102717

本発明は、このような事情に鑑み、精製水が汚染される可能性を低減し、より確実に滅菌された精製水をユースポイントに供給することができる精製水供給システムを提供することを目的とする。 In view of such circumstances, it is an object of the present invention to provide a purified water supply system capable of reducing the possibility of contaminated purified water and more reliably supplying sterilized purified water to a point of use. And.

上記目的を達成するための本発明の一態様は、精製水を製造する精製水製造装置と、前記精製水製造装置で製造された精製水をユースポイントに循環供給する精製水供給装置と、前記精製水供給装置に洗浄用液体を供給することで洗浄する洗浄装置、及び滅菌用流体を供給することで滅菌する滅菌装置と、を備え、前記精製水供給装置は、前記精製水製造装置から供給される精製水が流通する供給ラインと、前記供給ラインから供給された精製水を貯留する精製水タンクと、前記精製水タンクに貯留された精製水をユースポイントに供給するとともに、前記ユースポイントから前記精製水タンクに精製水を戻すための循環ラインと、精製水を濾過するフィルター装置と、を備え、前記フィルター装置は、前記循環ラインに設けられておらず、前記供給ラインに設けられ、前記洗浄装置及び前記滅菌装置は、前記フィルター装置よりも上流側の第3分岐点で前記供給ラインに接続され、洗浄用液体及び滅菌用流体を前記供給ラインを介して前記フィルター装置、前記精製水タンク及び前記循環ラインに供給し、前記循環ラインは、前記精製水タンクに貯留された精製水を前記ユースポイントに供給する第1循環ラインと、前記ユースポイントから前記精製水タンクに精製水を戻す第2循環ラインを含み、前記第1循環ラインには、前記ユースポイントよりも上流側の第1分岐点で分岐した第1排出ラインが接続され、前記第2循環ラインには、前記ユースポイントよりも下流側の第2分岐点で分岐した第2排出ラインが接続され、前記第1循環ラインの前記第1分岐点と前記ユースポイントとの間に第1バルブが設けられ、前記第2循環ラインの前記第2分岐点と前記ユースポイントとの間に第2バルブが設けられ、前記第1排出ライン及び第2排出ラインのそれぞれに第3バルブ及び第4バルブが設けられ、前記供給ラインには、前記第3分岐点よりも前記精製水製造装置側に第5バルブが設けられ、前記洗浄装置及び前記滅菌装置は、前記第1バルブ、前記第2バルブ及び前記第5バルブが閉じられ、並びに、前記第3バルブ及び前記第4バルブが開けられた状態で、前記供給ラインを介して前記フィルター装置、前記精製水タンクに供給した洗浄用液体及び滅菌用流体を、前記精製水タンクから前記第1循環ライン、前記第1分岐点、前記第1排出ラインに排出させるとともに、前記精製水タンクから前記第2循環ライン、前記第2分岐点、前記第2排出ラインに排出させることを特徴とする精製水供給システムにある。 One aspect of the present invention for achieving the above object is a purified water producing apparatus for producing purified water, a purified water supply apparatus for circulating and supplying purified water produced by the purified water producing apparatus to a point of use, and the above-mentioned. The purified water supply device is provided with a cleaning device for cleaning by supplying a cleaning liquid to the purified water supply device and a sterilization device for sterilization by supplying a sterilization fluid, and the purified water supply device is supplied from the purified water production device. The supply line through which the purified water is distributed, the purified water tank that stores the purified water supplied from the supply line, and the purified water stored in the purified water tank are supplied to the use point, and from the use point. A circulation line for returning purified water to the purified water tank and a filter device for filtering purified water are provided, and the filter device is not provided in the circulation line but is provided in the supply line. The cleaning device and the sterilizing device are connected to the supply line at a third branch point on the upstream side of the filter device, and the cleaning liquid and the sterilizing fluid are passed through the supply line to the filter device and the purified water tank. And the first circulation line that supplies the purified water to the circulation line and supplies the purified water stored in the purified water tank to the use point, and the first circulation line that returns the purified water from the use point to the purified water tank. The first circulation line includes two circulation lines, the first discharge line branched at the first branch point on the upstream side of the use point is connected to the first circulation line, and the second circulation line is connected to the use point. A second discharge line branched at a second branch point on the downstream side is connected, a first valve is provided between the first branch point and the use point of the first circulation line, and the second circulation line is provided. A second valve is provided between the second branch point and the use point, a third valve and a fourth valve are provided in each of the first discharge line and the second discharge line, and the supply line is provided with a third valve and a fourth valve. A fifth valve is provided on the purified water production apparatus side of the third branch point, and in the cleaning apparatus and the sterilization apparatus, the first valve, the second valve and the fifth valve are closed, and the fifth valve is closed. With the third valve and the fourth valve open , the cleaning liquid and the sterilizing liquid supplied to the filter device and the purified water tank via the supply line are transferred from the purified water tank to the first . The second circulation lie is discharged from the purified water tank to one circulation line, the first branch point, and the first discharge line. The purified water supply system is characterized in that the water is discharged to the second branch point and the second discharge line .

本発明によれば、精製水が汚染される可能性を低減し、より確実に滅菌された精製水をユースポイントに供給することができる精製水供給システムが提供される。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, there is provided a purified water supply system capable of reducing the possibility of contaminated purified water and more reliably supplying purified purified water to a point of use.

プロセス液を処理する製造ラインを含む精製水供給システムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the purified water supply system including the production line which treats a process liquid. 精製水供給システムの供給プロセスを説明するための概略構成図である。It is a schematic block diagram for demonstrating the supply process of a purified water supply system. 精製水供給システムの循環供給プロセスを説明するための概略構成図である。It is a schematic block diagram for demonstrating the circulation supply process of a purified water supply system. 精製水供給システムの洗浄滅菌プロセスを説明するための概略構成図である。It is a schematic block diagram for demonstrating the washing sterilization process of a purified water supply system.

図1は本実施形態に係る精製水供給システムの概略構成図である。本実施形態の精製水供給システム1は、精製水製造装置10と、精製水供給装置20とを備えている。 FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a purified water supply system according to the present embodiment. The purified water supply system 1 of the present embodiment includes a purified water producing device 10 and a purified water supply device 20.

精製水製造装置10は、特に図示しないが、フィルター装置、熱交換器、EDI装置などの装置群から構成され、常水から精製水を製造する。このような精製水製造装置10は公知であるので、詳細な説明は省略する。 Although not particularly shown, the purified water producing apparatus 10 is composed of an apparatus group such as a filter apparatus, a heat exchanger, and an EDI apparatus, and produces purified water from normal water. Since such a purified water production apparatus 10 is known, detailed description thereof will be omitted.

精製水供給装置20は、供給ラインS、精製水タンク30、循環ラインL、フィルター装置40、CIP/SIP装置50を備え、ユースポイント60に精製水を供給する。ユースポイントとは、精製水が用いられる施設、装置、場所などである。 The purified water supply device 20 includes a supply line S, a purified water tank 30, a circulation line L, a filter device 40, and a CIP / SIP device 50, and supplies purified water to the use point 60. Use points are facilities, equipment, places, etc. where purified water is used.

精製水タンク30は、精製水を貯留するタンクである。供給ラインSは、精製水製造装置10から供給される精製水が流通する配管である。精製水タンク30には、精製水製造装置10から供給ラインSを経由して精製水が供給される。 The purified water tank 30 is a tank for storing purified water. The supply line S is a pipe through which purified water supplied from the purified water production apparatus 10 flows. Purified water is supplied to the purified water tank 30 from the purified water production apparatus 10 via the supply line S.

循環ラインLは、第1循環ラインL1と、第2循環ラインL2を含んだ構成となっている。第1循環ラインL1は、精製水タンク30に貯留された精製水をユースポイント60に供給するための配管である。第2循環ラインL2は、ユースポイント60から精製水タンク30に精製水を戻すための配管である。 The circulation line L has a configuration including a first circulation line L1 and a second circulation line L2. The first circulation line L1 is a pipe for supplying the purified water stored in the purified water tank 30 to the use point 60. The second circulation line L2 is a pipe for returning purified water from the use point 60 to the purified water tank 30.

第1循環ラインL1には、ポンプPが設けられている。ポンプPは、第1循環ラインL1に精製水を流通させるための装置である。ポンプPにより、精製水タンク30からユースポイント60に精製水が供給され、ユースポイント60から精製水タンク30に精製水が戻るようになっている。 A pump P is provided on the first circulation line L1. The pump P is a device for distributing purified water to the first circulation line L1. Purified water is supplied from the purified water tank 30 to the use point 60 by the pump P, and the purified water returns from the use point 60 to the purified water tank 30.

第1循環ラインL1には、分岐点D1において分岐した第1排出ラインE1が接続されている。第2循環ラインL2には、分岐点D2において分岐した第2排出ラインE2が接続されている。これらの第1排出ラインE1と第2排出ラインE2を纏めて排出ラインEとも称する。 The first discharge line E1 branched at the branch point D1 is connected to the first circulation line L1. The second discharge line E2 branched at the branch point D2 is connected to the second circulation line L2. These first discharge line E1 and second discharge line E2 are collectively referred to as discharge line E.

なお、上述した各種ラインは、一本の配管で構成されている必要はなく、複数の配管が連結したものであってもよい。また途中に各種装置が設けられいてもよい。 The various lines described above do not have to be composed of a single pipe, and may be a combination of a plurality of pipes. Further, various devices may be provided on the way.

フィルター装置40は、精製水を濾過するフィルターを備えた装置であり、供給ラインSに設けられている。精製水製造装置10から供給された精製水は、フィルター装置40により処理されて精製水タンク30に貯留される。フィルター装置40としては、限外濾過を行うものが好ましい。 The filter device 40 is a device provided with a filter for filtering purified water, and is provided in the supply line S. The purified water supplied from the purified water production apparatus 10 is processed by the filter apparatus 40 and stored in the purified water tank 30. As the filter device 40, one that performs ultrafiltration is preferable.

CIP/SIP装置50は、精製水供給装置20を定置洗浄(CIP)する洗浄装置及び定置滅菌(SIP)をするための滅菌装置である。具体的には、CIP/SIP装置50は、洗浄用ラインCを介して分岐点D3で供給ラインSに接続されている。CIP/SIP装置50は、洗浄用液体及び滅菌用流体を供給ラインSを介して精製水供給装置20を構成するフィルター装置40、精製水タンク30、循環ラインLに供給する。洗浄用液体及び滅菌用流体により精製水供給装置20は洗浄及び滅菌される。洗浄及び滅菌後は、洗浄用液体及び滅菌用流体は排出ラインEから排出される。排出ラインEには、図示しない処理装置が接続されており、洗浄用液体及び滅菌用流体はその処理装置により処理される。洗浄用液体は、水に苛性ソーダ等のアルカリ性薬剤を添加したもの、水に酸性薬剤を添加したもの、界面活性剤を含む水、またはそれらの薬剤を含まない水などである。もちろん、これらは併用してもよい。滅菌用流体は、精製水などを加熱して得られた温水又は蒸気である。 The CIP / SIP device 50 is a cleaning device for performing clean-in-place cleaning (CIP) and a sterility device for performing clean-in-place sterility (SIP) of the purified water supply device 20. Specifically, the CIP / SIP device 50 is connected to the supply line S at the branch point D3 via the cleaning line C. The CIP / SIP device 50 supplies the cleaning liquid and the sterilizing fluid to the filter device 40, the purified water tank 30, and the circulation line L constituting the purified water supply device 20 via the supply line S. The purified water supply device 20 is washed and sterilized by the washing liquid and the sterilizing fluid. After cleaning and sterilization, the cleaning liquid and the sterilizing fluid are discharged from the discharge line E. A processing device (not shown) is connected to the discharge line E, and the cleaning liquid and the sterilizing fluid are processed by the processing device. The cleaning liquid is water to which an alkaline agent such as caustic soda is added, water to which an acidic agent is added, water containing a surfactant, or water containing no such agent. Of course, these may be used together. The sterilizing fluid is hot water or steam obtained by heating purified water or the like.

また、バルブV1は第1循環ラインL1において分岐点D1よりもユースポイント60側に設けられている。バルブV2は第2循環ラインL2において分岐点D2よりもユースポイント60側に設けられている。バルブV3は第1排出ラインE1に、バルブV4は第2排出ラインE2に設けられている。バルブV5は供給ラインSにおいて分岐点D3よりも精製水製造装置10側に設けられている。バルブV6は、洗浄用ラインCに設けられている。バルブV1~V6は、後述の制御装置により制御可能なバルブである。具体的には、全開または全閉の何れかの状態に切替えることができる電磁弁、または、開度を調節できる調節弁などである。 Further, the valve V1 is provided on the use point 60 side of the branch point D1 in the first circulation line L1. The valve V2 is provided on the use point 60 side of the branch point D2 in the second circulation line L2. The valve V3 is provided on the first discharge line E1 and the valve V4 is provided on the second discharge line E2. The valve V5 is provided on the supply line S on the purified water production apparatus 10 side with respect to the branch point D3. The valve V6 is provided on the cleaning line C. The valves V1 to V6 are valves that can be controlled by a control device described later. Specifically, it is a solenoid valve that can be switched to either a fully open or fully closed state, or a control valve that can adjust the opening degree.

精製水供給システム1は、特に図示しないが、上述の構成機器を制御する制御装置を備えている。制御装置は、プログラマブルロジックコントローラ(PLC)などである。制御装置は主に以下のプロセスを実行するための制御を行う。
・供給プロセス:精製水製造装置10から精製水供給装置20に精製水を供給するプロセス
・循環供給プロセス:精製水タンク30からユースポイント60に精製水を循環供給するプロセス
・洗浄滅菌プロセス:精製水供給装置20の洗浄及び滅菌(CIP及びSIP)を行うプロセス
・完全性試験プロセス:フィルター装置40に対して完全性試験を行うプロセス
Although not particularly shown, the purified water supply system 1 includes a control device for controlling the above-mentioned components. The control device is a programmable logic controller (PLC) or the like. The control device mainly controls to execute the following processes.
-Supply process: Process of supplying purified water from the purified water production device 10 to the purified water supply device 20-Circulation supply process: Process of circulating purified water from the purified water tank 30 to the point of use 60-Washing sterilization process: Purified water Process of cleaning and sterilizing (CIP and SIP) of the feeder 20-Completeness test process: Process of performing a completeness test on the filter device 40

図2を用いて、上述した構成の精製水供給システム1で実行される供給プロセスについて説明する。なお、バルブV1からバルブV6は、白塗りであれば開いており、黒塗りであれば閉じていることを表しており、以後の図でも同様とする。 The supply process executed by the purified water supply system 1 having the above-described configuration will be described with reference to FIG. It should be noted that the valves V1 to V6 are open if they are painted white, and closed if they are painted black, and the same applies to the following figures.

制御装置は、バルブV1、バルブV2、バルブV5を開け、バルブV3、バルブV4、バルブV6を閉じる。制御装置は、図示しないポンプなどを作動させ、精製水製造装置10が製造した精製水を供給ラインSに供給させる。精製水は、供給ラインSを通り、フィルター装置40で滅菌されて精製水タンク30に貯留される。なお、供給プロセスは、後述する循環供給プロセスと別々に行う必要はなく、並行して行ってもよい。 The control device opens the valve V1, the valve V2, and the valve V5, and closes the valve V3, the valve V4, and the valve V6. The control device operates a pump or the like (not shown) to supply the purified water produced by the purified water producing device 10 to the supply line S. The purified water passes through the supply line S, is sterilized by the filter device 40, and is stored in the purified water tank 30. The supply process does not have to be performed separately from the circulation supply process described later, and may be performed in parallel.

図3を用いて、上述した構成の精製水供給システム1で実行される供給プロセスについて説明する。制御装置は、精製水タンク30の排出口(図示せず)を開放し、ポンプPを作動させる。これにより、精製水タンク30から第1循環ラインL1を経由してユースポイント60に精製水が供給される。また、ユースポイント60で使用されなかった精製水は、第2循環ラインL2に戻ってくる。この精製水もポンプPによって精製水タンク30に戻る。このようにして、制御装置は、精製水タンク30→第1循環ラインL1→ユースポイント60→第2循環ラインL2→精製水タンク30というように、精製水タンク30とユースポイント60との間で精製水を循環供給させる。 The supply process executed by the purified water supply system 1 having the above-described configuration will be described with reference to FIG. The control device opens the discharge port (not shown) of the purified water tank 30 and operates the pump P. As a result, purified water is supplied from the purified water tank 30 to the use point 60 via the first circulation line L1. Further, the purified water not used at the use point 60 returns to the second circulation line L2. This purified water is also returned to the purified water tank 30 by the pump P. In this way, the control device is connected between the purified water tank 30 and the use point 60 in the order of purified water tank 30 → first circulation line L1 → use point 60 → second circulation line L2 → purified water tank 30. Circulate and supply purified water.

また、制御装置は、供給プロセス及び循環供給プロセスにおいて、精製水タンク30に一定量の精製水が維持されるように、精製水製造装置10による精製水の供給を制御する。具体的には、精製水タンク30には、精製水の量を計測する水面計などの各種センサーが設けられている。制御装置はそのセンサーによる値が一定値を下回ったら、バルブV5の開閉制御をするなどして精製水製造装置10から精製水タンク30に精製水を供給させる。また、制御装置はセンサーによる値が一定値を上回ったら、バルブV5の開閉制御をするなどして精製水製造装置10から精製水タンク30に供給する精製水の量を低減させ、又はゼロ(供給停止)にする。もちろん、精製水製造装置10による精製水の製造を止めてもよい。 Further, the control device controls the supply of purified water by the purified water production device 10 so that a constant amount of purified water is maintained in the purified water tank 30 in the supply process and the circulation supply process. Specifically, the purified water tank 30 is provided with various sensors such as a water level gauge for measuring the amount of purified water. When the value by the sensor falls below a certain value, the control device controls the opening and closing of the valve V5 to supply purified water from the purified water producing device 10 to the purified water tank 30. Further, when the value by the sensor exceeds a certain value, the control device reduces the amount of purified water supplied from the purified water production device 10 to the purified water tank 30 by controlling the opening and closing of the valve V5, or zeros (supply). Stop). Of course, the production of purified water by the purified water production apparatus 10 may be stopped.

図4を用いて、上述した構成の精製水供給システム1で実行される洗浄滅菌プロセスについて説明する。制御装置は、バルブV1、バルブV2、バルブV5を閉じ、バルブV3、バルブV4、バルブV6を開ける。つまり、精製水製造装置10やユースポイント60には洗浄用液体や滅菌用流体が到達しないように各バルブを開閉する。 FIG. 4 will be used to describe a wash sterility process performed in the purified water supply system 1 having the above configuration. The control device closes the valve V1, the valve V2, and the valve V5, and opens the valve V3, the valve V4, and the valve V6. That is, each valve is opened and closed so that the cleaning liquid and the sterilizing fluid do not reach the purified water production apparatus 10 and the use point 60.

制御装置は、CIP/SIP装置50に洗浄用液体を精製水供給装置20の各部に供給させる。洗浄用液体は、フィルター装置40、供給ラインS、精製水タンク30、循環ラインLを洗浄し、排出ラインEから排出される。次に、制御装置は、CIP/SIP装置50に滅菌用流体を精製水供給装置20の各部に供給させる。滅菌用流体は、フィルター装置40、供給ラインS、精製水タンク30、循環ラインLを洗浄し、排出ラインEから排出される。このようにして、精製水供給装置20は、洗浄用液体及び滅菌用流体によって定置洗浄及び定置滅菌される。 The control device causes the CIP / SIP device 50 to supply the cleaning liquid to each part of the purified water supply device 20. The cleaning liquid cleans the filter device 40, the supply line S, the purified water tank 30, and the circulation line L, and is discharged from the discharge line E. Next, the control device causes the CIP / SIP device 50 to supply the sterilizing fluid to each part of the purified water supply device 20. The sterilizing fluid cleans the filter device 40, the supply line S, the purified water tank 30, and the circulation line L, and is discharged from the discharge line E. In this way, the purified water supply device 20 is clean-in-place and sterilized by the cleaning liquid and the sterilizing fluid.

特に図示しないが、上述した構成の精製水供給システム1で実行される完全性試験プロセスについて説明する。 Although not particularly shown, an integrity test process performed by the purified water supply system 1 having the above-described configuration will be described.

完全性試験とは、フィルター装置40に備わるフィルターに物理的欠陥がなく、定められた性能を有していることを確認するための試験である。この完全性試験によりフィルターの濾過機能が損なわれていないことを確認するので、フィルター装置40を流通して精製水タンク30に供給される精製水が無菌であることを担保することができる。 The integrity test is a test for confirming that the filter provided in the filter device 40 has no physical defects and has a predetermined performance. Since it is confirmed by this completeness test that the filtering function of the filter is not impaired, it is possible to ensure that the purified water flowing through the filter device 40 and supplied to the purified water tank 30 is sterile.

完全性試験プロセスは、公知のものを適用できるが、例えば、次のように行う。制御装置は、フィルター装置40に備わるフィルターを水で湿潤させる。そして、制御装置は、フィルターの一次側(精製水製造装置10側)に気体を供給し、その気体をバブルポイント以下の適切な圧力にする。一次側における気体の圧力低下に基づいて、制御装置はフィルターの機能が維持されているか否かを判断する。 As the integrity test process, known ones can be applied, for example, as follows. The control device wets the filter provided in the filter device 40 with water. Then, the control device supplies a gas to the primary side (purified water production device 10 side) of the filter, and makes the gas an appropriate pressure below the bubble point. Based on the pressure drop of the gas on the primary side, the controller determines if the function of the filter is maintained.

なお、特に図示しないが、完全性試験で用いられる各種装置が精製水供給システム1に備わっている。例えば、フィルター装置40のフィルターを湿潤させるための水を供給する装置としては、精製水製造装置10であってもよいし、精製水とは別の水の供給装置であってもよい。また、フィルター装置40の一次側に気体を供給し、圧力を付与する装置も精製水供給システム1に備わっている。また、完全性試験プロセスで用いられた水は、循環ラインLから排出ラインEを経由して排出される。 Although not shown in particular, the purified water supply system 1 is equipped with various devices used in the integrity test. For example, the device for supplying water for moistening the filter of the filter device 40 may be a purified water production device 10 or a water supply device different from the purified water. Further, the purified water supply system 1 is also provided with a device for supplying gas to the primary side of the filter device 40 and applying pressure. Further, the water used in the integrity test process is discharged from the circulation line L via the discharge line E.

以上に説明した構成の精製水供給システム1は、精製水製造装置10と精製水供給装置20を備え、循環ラインLを介してユースポイント60に精製水を循環供給する。そしてフィルター装置40は、循環ラインLには設けられておらず、精製水製造装置10と精製水タンク30との間に設けられている。 The purified water supply system 1 having the configuration described above includes the purified water production device 10 and the purified water supply device 20, and circulates and supplies purified water to the use point 60 via the circulation line L. The filter device 40 is not provided on the circulation line L, but is provided between the purified water producing device 10 and the purified water tank 30.

このような構成によれば、精製水製造装置10から精製水タンク30を接続する供給ラインSにおいて、精製水に万が一汚染が生じたとしても、フィルター装置40によって汚染を除去し、製薬溶液に要求される水準の精製水を循環ラインLを介してユースポイント60に供給することができる。 According to such a configuration, even if the purified water is contaminated in the supply line S connecting the purified water production apparatus 10 to the purified water tank 30, the filter apparatus 40 removes the contamination and demands the pharmaceutical solution. Purified water of the desired level can be supplied to use point 60 via the circulation line L.

また、精製水製造装置10は、一般に、蒸気滅菌を行わず、運転時間に応じてフィルター等を交換する運用がほとんどである。それでも十分な水準の精製水を製造することができるのであるが、精製水製造装置10で精製水に汚染が生じるリスク対策は必要である。本発明の精製水供給システム1は、供給ラインSのみならず、精製水製造装置10で生じた汚染に対してもフィルター装置40がリスク対策となり、精製水が汚染される可能性を低減し、より確実に滅菌された精製水をユースポイント60に供給することができる。 In addition, the purified water production apparatus 10 is generally not sterilized by steam, and most of the operations are such that the filter or the like is replaced according to the operating time. Although it is still possible to produce a sufficient level of purified water, it is necessary to take measures against the risk of contamination of the purified water with the purified water production apparatus 10. In the purified water supply system 1 of the present invention, the filter device 40 becomes a risk countermeasure not only for the supply line S but also for the contamination generated in the purified water production apparatus 10, and the possibility that the purified water is contaminated is reduced. More reliably sterilized purified water can be supplied to use point 60.

また、循環ラインLにフィルター装置40を設置した場合を仮定する。この場合、循環する精製水はフィルター装置40によって滅菌されるし、フィルター装置40自体も適宜フィルターを交換するので精製水が汚染されるリスクは低い。しかしながら、万が一、循環ラインLに設けたフィルター装置40に汚染源が残った場合には、循環する精製水が汚染されるリスクがある。フィルター装置40を洗浄、滅菌することも考えられるが、やはり、万が一のリスクはある。 Further, it is assumed that the filter device 40 is installed on the circulation line L. In this case, the circulating purified water is sterilized by the filter device 40, and the filter device 40 itself also replaces the filter as appropriate, so that the risk of contamination of the purified water is low. However, in the unlikely event that a contamination source remains in the filter device 40 provided in the circulation line L, there is a risk that the circulating purified water will be contaminated. It is conceivable to clean and sterilize the filter device 40, but there is still a risk.

しかしながら、本発明の精製水供給システム1は、循環ラインLにフィルター装置40を設けないので、上述したリスクはそもそも起き得ない。このように循環ラインLにフィルター装置40を設けないので、循環ラインLにおいてフィルター装置40を起源とする汚染リスクを回避することができ、背景技術で述べたような指針を遵守することができる。 However, since the purified water supply system 1 of the present invention does not provide the filter device 40 on the circulation line L, the above-mentioned risk cannot occur in the first place. Since the filter device 40 is not provided on the circulation line L in this way, the risk of contamination originating from the filter device 40 can be avoided in the circulation line L, and the guidelines as described in the background art can be observed.

また、精製水供給システム1は、精製水供給装置20を洗浄及び滅菌するCIP/SIP装置50を備えている。CIP/SIP装置50により、精製水供給装置20の全体が洗浄及び滅菌される。特に、フィルター装置40についても洗浄、滅菌されるので、フィルター装置40が無菌であることが担保される。フィルター装置40が無菌であるので、精製水製造装置10から精製水タンク30に、より確実に無菌の精製水を供給することができる。 Further, the purified water supply system 1 includes a CIP / SIP device 50 for cleaning and sterilizing the purified water supply device 20. The entire purified water supply device 20 is washed and sterilized by the CIP / SIP device 50. In particular, since the filter device 40 is also washed and sterilized, it is ensured that the filter device 40 is sterile. Since the filter device 40 is sterile, it is possible to more reliably supply sterile purified water from the purified water production device 10 to the purified water tank 30.

なお、従来では、一般に洗浄や蒸気滅菌を行わず運転時間に応じてフィルター等を交換する場合がほとんどであった。したがって、フィルター装置40や精製水タンク30、循環ラインLを洗浄、滅菌するためのCIP/SIP装置50を設ける必要がなかった。さらに、第1-5バルブV1-V5に相当する装置や、それらの制御もない。このため、精製水製造装置10及びユースポイント60から精製水供給装置20を切り離した状態で洗浄及び滅菌を行うことができなかった。 In the past, in most cases, the filter or the like was replaced according to the operating time without cleaning or steam sterility. Therefore, it is not necessary to provide a CIP / SIP device 50 for cleaning and sterilizing the filter device 40, the purified water tank 30, and the circulation line L. Furthermore, there is no device corresponding to the 1st-5th valve V1-V5 or control thereof. Therefore, it was not possible to perform cleaning and sterilization with the purified water supply device 20 separated from the purified water production device 10 and the use point 60.

一方、本発明の精製水供給システム1は、洗浄、滅菌するための構成として循環ラインLに第1排出ラインE1、第2排出ラインE2を接続し、洗浄、滅菌時において、CIP/SIP装置50から供給ラインS、精製水タンク30、循環ラインL、排出ラインEへと洗浄用液体及び滅菌用流体が流通するように第1-5バルブV1-V5が設けられている。 On the other hand, in the purified water supply system 1 of the present invention, the first discharge line E1 and the second discharge line E2 are connected to the circulation line L as a configuration for washing and sterilizing, and the CIP / SIP device 50 is used during washing and sterility. The 1st-5th valves V1-V5 are provided so that the cleaning liquid and the sterility liquid can flow from the supply line S to the purified water tank 30, the circulation line L, and the discharge line E.

これらの第1-5バルブV1-V5の開閉を制御することで、精製水供給装置20(供給ラインS・精製水タンク30・循環ラインL・排出ラインEからなる)から精製水製造装置10及びユースポイント60を切り離した状態で洗浄及び滅菌を行うことができる。 By controlling the opening and closing of these 1st-5th valves V1-V5, the purified water supply device 20 (consisting of the supply line S, the purified water tank 30, the circulation line L, and the discharge line E) is connected to the purified water production device 10 and the purified water production device 10. Cleaning and sterilization can be performed with the use point 60 separated.

このような洗浄及び滅菌を行えることにより、本発明は特に次のような場合に有用である。すなわち、精製水製造装置10と精製水供給装置20とが別々の管理主体により管理され、精製水供給装置20側の管理主体が精製水製造装置10のフィルター交換に関知しえないような場合である。 By being able to perform such cleaning and sterility, the present invention is particularly useful in the following cases. That is, in the case where the purified water production device 10 and the purified water supply device 20 are managed by separate management bodies, and the management body on the purified water supply device 20 side cannot be aware of the filter replacement of the purified water production device 10. be.

このような場合、精製水供給装置20の管理主体は、精製水製造装置10が管理対象でないのでフィルター交換を行うことができない。したがって、精製水製造装置10から供給される精製水が汚染されているリスクを念頭に置くことが適切である。 In such a case, the management entity of the purified water supply device 20 cannot replace the filter because the purified water production device 10 is not a control target. Therefore, it is appropriate to keep in mind the risk that the purified water supplied from the purified water production apparatus 10 is contaminated.

精製水供給システム1では、供給ラインSに設けたフィルター装置40によって精製水製造装置10からの精製水を無菌にすることができるとともに、フィルター装置40、精製水タンク30及び循環ラインLを洗浄及び滅菌可能である。これにより、精製水製造装置10のフィルターの劣化状況に関わらず、供給ラインSに設けたフィルター装置40を常に清浄な状態で使用できるので、より確実に無菌を担保した精製水を供給することができる。 In the purified water supply system 1, the purified water from the purified water production device 10 can be sterilized by the filter device 40 provided in the supply line S, and the filter device 40, the purified water tank 30, and the circulation line L are washed and cleaned. Can be sterilized. As a result, the filter device 40 provided in the supply line S can be used in a clean state at all times regardless of the deterioration status of the filter of the purified water production device 10, so that purified water with guaranteed sterility can be supplied more reliably. can.

また、精製水供給システム1は、フィルター装置40について完全性試験を実施することができる。これにより、フィルター装置40の完全性が担保され、フィルター装置40を流通して精製水タンク30に供給される精製水が無菌であることを担保することができる。 In addition, the purified water supply system 1 can perform an integrity test on the filter device 40. As a result, the integrity of the filter device 40 can be ensured, and the purified water that flows through the filter device 40 and is supplied to the purified water tank 30 can be guaranteed to be sterile.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、勿論、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。 Although one embodiment of the present invention has been described above, of course, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and the addition, omission, and substitution of configurations are added, omitted, and substituted within the scope of the gist of the present invention. And other changes are possible.

例えば、精製水タンク30、供給ラインS、フィルター装置40、循環ラインL、ユースポイント60は一系統であったがこのような構成に限定されない。それらの全体又は一部を冗長化した場合であっても本発明を適用することができる。 For example, the purified water tank 30, the supply line S, the filter device 40, the circulation line L, and the use point 60 are one system, but the configuration is not limited to this. The present invention can be applied even when all or part of them are made redundant.

また、精製水供給システム1は、注射用水などの製薬溶液に用いる精製水を用いる場合を例示したが、このような用途に限定されず、様々な用途の精製水を供給する場合についても適用することができる。 Further, the purified water supply system 1 exemplifies the case where purified water used for a pharmaceutical solution such as injection water is used, but the present invention is not limited to such applications, and is also applicable to the case of supplying purified water for various purposes. be able to.

C…洗浄用ライン、E…排出ライン、L…循環ライン、S…供給ライン、1…精製水供給システム、10…精製水製造装置、20…精製水供給装置、30…精製水タンク、40…フィルター装置、50…CIP/SIP装置(洗浄装置、滅菌装置)、60…ユースポイント C ... Cleaning line, E ... Discharge line, L ... Circulation line, S ... Supply line, 1 ... Purified water supply system, 10 ... Purified water production equipment, 20 ... Purified water supply equipment, 30 ... Purified water tank, 40 ... Filter device, 50 ... CIP / SIP device (cleaning device, sterilization device), 60 ... Use point

Claims (2)

精製水を製造する精製水製造装置と、
前記精製水製造装置で製造された精製水をユースポイントに循環供給する精製水供給装置と、
前記精製水供給装置に洗浄用液体を供給することで洗浄する洗浄装置、及び滅菌用流体を供給することで滅菌する滅菌装置と、を備え、
前記精製水供給装置は、
前記精製水製造装置から供給される精製水が流通する供給ラインと、
前記供給ラインから供給された精製水を貯留する精製水タンクと、
前記精製水タンクに貯留された精製水をユースポイントに供給するとともに、前記ユースポイントから前記精製水タンクに精製水を戻すための循環ラインと、
精製水を濾過するフィルター装置と、を備え、
前記フィルター装置は、前記循環ラインに設けられておらず、前記供給ラインに設けられ、
前記洗浄装置及び前記滅菌装置は、前記フィルター装置よりも上流側の第3分岐点で前記供給ラインに接続され、洗浄用液体及び滅菌用流体を前記供給ラインを介して前記フィルター装置、前記精製水タンク及び前記循環ラインに供給し、
前記循環ラインは、前記精製水タンクに貯留された精製水を前記ユースポイントに供給する第1循環ラインと、前記ユースポイントから前記精製水タンクに精製水を戻す第2循環ラインを含み、
前記第1循環ラインには、前記ユースポイントよりも上流側の第1分岐点で分岐した第1排出ラインが接続され、
前記第2循環ラインには、前記ユースポイントよりも下流側の第2分岐点で分岐した第2排出ラインが接続され、
前記第1循環ラインの前記第1分岐点と前記ユースポイントとの間に第1バルブが設けられ、
前記第2循環ラインの前記第2分岐点と前記ユースポイントとの間に第2バルブが設けられ、
前記第1排出ライン及び第2排出ラインのそれぞれに第3バルブ及び第4バルブが設けられ、
前記供給ラインには、前記第3分岐点よりも前記精製水製造装置側に第5バルブが設けられ、
前記洗浄装置及び前記滅菌装置は、前記第1バルブ、前記第2バルブ及び前記第5バルブが閉じられ、並びに、前記第3バルブ及び前記第4バルブが開けられた状態で、前記供給ラインを介して前記フィルター装置、前記精製水タンクに供給した洗浄用液体及び滅菌用流体を、前記精製水タンクから前記第1循環ライン、前記第1分岐点、前記第1排出ラインに排出させるとともに、前記精製水タンクから前記第2循環ライン、前記第2分岐点、前記第2排出ラインに排出させる
ことを特徴とする精製水供給システム。
Purified water production equipment that produces purified water,
A purified water supply device that circulates and supplies purified water produced by the purified water production device to use points.
The purified water supply device is provided with a cleaning device for cleaning by supplying a cleaning liquid and a sterilization device for sterilizing by supplying a sterilizing fluid.
The purified water supply device is
A supply line through which purified water supplied from the purified water production device is distributed,
A purified water tank that stores purified water supplied from the supply line,
A circulation line for supplying the purified water stored in the purified water tank to the use point and returning the purified water from the use point to the purified water tank.
Equipped with a filter device that filters purified water,
The filter device is not provided in the circulation line, but in the supply line.
The cleaning device and the sterilizing device are connected to the supply line at a third branch point on the upstream side of the filter device, and the cleaning liquid and the sterilizing fluid are passed through the supply line to the filter device and the purified water. Supply to the tank and the circulation line
The circulation line includes a first circulation line that supplies purified water stored in the purified water tank to the use point, and a second circulation line that returns purified water from the use point to the purified water tank.
A first discharge line branched at a first branch point on the upstream side of the use point is connected to the first circulation line.
A second discharge line branched at a second branch point downstream of the use point is connected to the second circulation line.
A first valve is provided between the first branch point and the use point of the first circulation line.
A second valve is provided between the second branch point and the use point of the second circulation line.
A third valve and a fourth valve are provided in each of the first discharge line and the second discharge line, respectively.
The supply line is provided with a fifth valve on the purified water production apparatus side of the third branch point.
The cleaning device and the sterilizing device have the supply line in a state where the first valve, the second valve and the fifth valve are closed, and the third valve and the fourth valve are opened. The cleaning liquid and the sterilizing fluid supplied to the filter device and the purified water tank are discharged from the purified water tank to the first circulation line, the first branch point, and the first discharge line. A purified water supply system characterized by discharging water from a purified water tank to the second circulation line, the second branch point, and the second discharge line .
請求項1に記載する精製水供給システムにおいて、
前記フィルター装置のフィルターを湿潤させるための水を供給する第1装置と、
前記フィルター装置の一次側に気体を供給し、圧力を付与する第2装置と、
前記第1装置に水を前記フィルター装置に供給させ、前記第2装置に前記フィルター装置の一次側に気体を供給させて前記気体をバブルポイント以下の圧力にさせ、一次側における気体の圧力低下に基づいてフィルターの機能が維持されているか否かを判断する完全性試験を実施する制御装置を備える
ことを特徴とする精製水供給システム。
In the purified water supply system according to claim 1,
A first device for supplying water for moistening the filter of the filter device, and
A second device that supplies gas to the primary side of the filter device and applies pressure, and
The first device supplies water to the filter device, and the second device supplies gas to the primary side of the filter device to bring the gas to a pressure below the bubble point, thereby reducing the pressure of the gas on the primary side. A purified water supply system comprising a control device that performs a completeness test to determine whether the function of the filter is maintained based on the basis.
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