JP6992919B2 - Polypropylene film, metal film laminated film and film capacitors - Google Patents

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本発明は、特にコンデンサ用途に好適に用いられるポリプロピレンフィルムに関する。 The present invention relates to a polypropylene film particularly preferably used for capacitor applications.

ポリプロピレンフィルムは、透明性、機械特性、電気特性等に優れるため、包装用途、テープ用途、ケーブルラッピングやコンデンサをはじめとする電気用途等の様々な用途に用いられている。 Since polypropylene film is excellent in transparency, mechanical properties, electrical properties, etc., it is used in various applications such as packaging applications, tape applications, cable wrapping, and electrical applications such as capacitors.

この中でもコンデンサ用途においては、その優れた耐電圧性、低損失特性から直流、交流に限らず高電圧コンデンサ用にポリプロピレンフィルムは特に好ましく用いられている。 Among these, polypropylene films are particularly preferably used for high-voltage capacitors, not limited to direct current and alternating current, because of their excellent withstand voltage resistance and low loss characteristics in capacitor applications.

最近では、各種電気機器がインバーター化されつつあり、それに伴いコンデンサの小型化、大容量化の要求が一層強まってきている。そのような分野、特に自動車用途(ハイブリッドカー用途含む)や太陽光発電、風力発電用途からの要求を受け、ポリプロピレンフィルムとしても薄膜化と絶縁破壊電圧の向上、高温環境で長時間の使用において特性を維持できる優れた信頼性が必須な状況となってきている。 Recently, various electric devices are becoming inverters, and along with this, there is an increasing demand for smaller capacitors and larger capacities. In response to demands from such fields, especially automobile applications (including hybrid car applications), solar power generation, and wind power generation applications, polypropylene films are also thinned and have improved breakdown voltage, and have characteristics for long-term use in high-temperature environments. It is becoming an essential situation to have excellent reliability that can maintain the power generation.

ポリプロピレンフィルムは、ポリオレフィン系フィルムの中では耐熱性および絶縁破壊電圧は高いとされている。一方で、前記の分野への適用に際しては使用環境温度での優れた寸法安定性と使用環境温度より10~20℃高い領域でも耐電性などの電気的性能として安定した性能を発揮することが求められている。ここで耐熱性という観点では、将来的に、シリコンカーバイト(SiC)を用いたパワー半導体用途を考えた場合、使用環境温度がより高温になるといわれている。コンデンサとしてさらなる高耐熱化と高い耐電圧性の要求から、110℃を超えた高温環境下でのフィルムの絶縁破壊電圧の向上が求められている。しかしながら、非特許文献1に記載のように、ポリプロピレンフィルムの使用温度上限は約110℃といわれており、このような温度環境下において絶縁破壊電圧を安定して維持することは極めて困難であった。 Polypropylene film is said to have high heat resistance and dielectric breakdown voltage among polyolefin films. On the other hand, when applied to the above fields, it is required to exhibit excellent dimensional stability at the operating environment temperature and stable electrical performance such as electric resistance even in a region 10 to 20 ° C higher than the operating environment temperature. Has been done. Here, from the viewpoint of heat resistance, it is said that the operating environment temperature will be higher when considering power semiconductor applications using silicon carbide (SiC) in the future. Due to the demand for higher heat resistance and higher withstand voltage as a capacitor, it is required to improve the dielectric breakdown voltage of a film in a high temperature environment exceeding 110 ° C. However, as described in Non-Patent Document 1, it is said that the upper limit of the operating temperature of the polypropylene film is about 110 ° C., and it is extremely difficult to stably maintain the dielectric breakdown voltage in such a temperature environment. ..

またフィルムを蒸着加工する過程でも、輻射熱による熱履歴を受けてフィルムの配向が緩和する場合があるため、熱に対して不安定なフィルムは本来フィルムが有する耐電圧性能をコンデンサとして十分発揮することが困難であった。 Also, even in the process of vapor deposition of a film, the orientation of the film may be relaxed due to the heat history due to radiant heat, so a film that is unstable to heat should fully demonstrate the withstand voltage performance that the film originally has as a capacitor. Was difficult.

これまでポリプロピレンフィルムを薄膜で、かつ、コンデンサとしたときの高温環境下で優れた性能を得るための手法として、例えば、広角X線回折で得られるα(040)面の結晶子サイズ、光学的複屈折および一定の高さの表面突起部の総体積を制御しコンデンサとして高温で長期間使用できるフィルムの提案(例えば、特許文献1)、また粘度が異なるポリプロピレン樹脂をブレンドし溶融押出後に急冷することにより、キャストシートにメゾ相を形成させることでフィルム表面の突起の凹み部位を減らし平滑表面により高温環境下でも高い絶縁破壊電圧を示すフィルムの提案がなされている(例えば、特許文献2)。また、歪み硬化性パラメータが一定の範囲内であるポリプロピレン原料を用いることにより、絶縁破壊強度を向上することが提案されている(例えば、特許文献3)。 As a method for obtaining excellent performance in a high temperature environment when a polypropylene film is a thin film and used as a capacitor, for example, the crystallite size of the α (040) plane obtained by wide-angle X-ray diffraction and optical Proposal of a film that can be used for a long time at high temperature as a capacitor by controlling the total volume of compound refraction and surface protrusions of a certain height (for example, Patent Document 1), and polypropylene resins having different viscosities are blended and rapidly cooled after melt extrusion. As a result, a film has been proposed that reduces the recessed portion of the protrusion on the film surface by forming a meso phase on the cast sheet and exhibits a high insulation breakdown voltage even in a high temperature environment due to the smooth surface (for example, Patent Document 2). Further, it has been proposed to improve the dielectric breakdown strength by using a polypropylene raw material whose strain curability parameter is within a certain range (for example, Patent Document 3).

特開2014-231584号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-231584 特開2019-179221号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-179221 国際公開第2017/221985号International Publication No. 2017/22 1985

河合基伸、「フィルムコンデンサ躍進、クルマからエネルギーへ」、日経エレクトロニクス(日本)、日経BP社、2012年9月17日号、p.57-62Motonobu Kawai, "Film Capacitor Breakthrough, From Car to Energy", Nikkei Electronics (Japan), Nikkei BP, September 17, 2012, p.57-62

しかしながら、特許文献1に記載のポリプロピレンフィルムは、110℃を超える高温環境下での絶縁破壊電圧の向上が十分ではなく、さらにコンデンサ化した際の耐電圧や高温環境下の信頼性についても、十分とは言い難いものであった。 However, the polypropylene film described in Patent Document 1 does not sufficiently improve the dielectric breakdown voltage in a high temperature environment exceeding 110 ° C., and also has sufficient withstand voltage when converted into a capacitor and reliability in a high temperature environment. It was hard to say.

また特許文献2に記載のポリプロピレンフィルムは115℃の高温で高い絶縁破壊電圧を有するがフィルムの突起高さが十分でなく、蒸着加工工程においてシワが発生したり、115℃を超える高温環境化ではコンデンサ化した際に信頼性が悪化する場合があった。 Further, the polypropylene film described in Patent Document 2 has a high dielectric breakdown voltage at a high temperature of 115 ° C., but the protrusion height of the film is not sufficient, wrinkles occur in the vapor deposition processing process, and in a high temperature environment exceeding 115 ° C. In some cases, reliability deteriorated when the film was made into a capacitor.

また特許文献3に記載のポリプロピレンフィルムについては、高温環境下での使用は想定されておらず、110℃を超える温度帯においてコンデンサ耐電圧や信頼性が損なわれる場合があった。 Further, the polypropylene film described in Patent Document 3 is not supposed to be used in a high temperature environment, and the withstand voltage and reliability of the capacitor may be impaired in a temperature range exceeding 110 ° C.

そこで、本発明は、高温環境での耐電圧特性・信頼性に優れ、高温度・高電圧下で用いられるコンデンサ用途等に好適な、熱に対する安定性に優れた構造を有し、適度な加工性を得られるポリプロピレンフィルムを提供することを目的とし、また、それを用いた金属膜積層フィルムおよびフィルムコンデンサを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has a structure having excellent withstand voltage characteristics and reliability in a high temperature environment, suitable for capacitors used under high temperature and high voltage, and having excellent heat stability, and is suitable for processing. It is an object of the present invention to provide a polypropylene film having a property, and an object of the present invention is to provide a metal film laminated film and a film capacitor using the polypropylene film.

本発明者らは、前述の課題を解決するため鋭意検討を重ね、上記特許文献1~3に記載のポリプロピレンフィルムが高温環境下において絶縁破壊電圧、並びにコンデンサとしたときの高温環境での耐電圧特性・信頼性・加工性が十分でない理由について、以下のように考えた。 The present inventors have made extensive studies to solve the above-mentioned problems, and the polypropylene films described in Patent Documents 1 to 3 have an dielectric breakdown voltage in a high-temperature environment and a withstand voltage in a high-temperature environment when used as a capacitor. The reasons why the characteristics, reliability, and workability are not sufficient are considered as follows.

すなわち、特許文献1に記載のポリプロピレンフィルムは、コンデンサとして110℃環境での耐電圧性および信頼性については十分ともいえるが、更に高温環境での耐電圧性を想定してみると、フィルム製膜における延伸倍率と熱処理、分子鎖の配向と構造の固定が必ずしも十分ではなく、より高い温度でフィルムの非晶鎖が配向緩和し耐電圧が低下することに問題があると考えた。特許文献2に記載のポリプロピレンフィルムはフィルム表面が平滑であるため十分な易滑性が得られない場合があり、低メルトフローレート(MFR)のポリプロピレン原料をブレンドする事によりゲルが発生して耐電圧の低下を招く場合や、ゲルが起点となって製膜中にフィルムが破れる場合があることが問題であると考えた。特許文献3のポリプロピレンフィルムは、一定の範囲内の歪み硬化性をもつポリプロピレン原料を含有したものであるが、製膜時の延伸条件を適正化することでフィルムの構造を制御する思想がないため分子鎖の配向と構造の固定が必ずしも十分でなく、高温環境下で非晶鎖が配向緩和し耐電圧が低下する場合があることが問題であると考えた。 That is, the polypropylene film described in Patent Document 1 can be said to have sufficient withstand voltage and reliability in a 110 ° C. environment as a capacitor, but when further assuming the withstand voltage in a high temperature environment, film formation It was considered that there was a problem that the draw ratio and heat treatment, the orientation of the molecular chains and the fixation of the structure were not always sufficient, and the aspherical chains of the film were relaxed at higher temperatures and the withstand voltage was lowered. The polypropylene film described in Patent Document 2 may not have sufficient slipperiness because the film surface is smooth, and gel is generated by blending a polypropylene raw material having a low melt flow rate (MFR) to withstand it. It was considered that the problem was that the voltage may drop or the film may be torn during film formation due to the gel as the starting point. The polypropylene film of Patent Document 3 contains a polypropylene raw material having strain curability within a certain range, but there is no idea of controlling the structure of the film by optimizing the stretching conditions at the time of film formation. It was considered that the problem was that the orientation of the molecular chains and the fixation of the structure were not always sufficient, and the orientation of the amorphous chains was relaxed and the withstand voltage was lowered in a high temperature environment.

以上の考察を踏まえて、本発明者らはさらに検討を重ね、広角X線回折のα晶(110)面の主配向方向に走査して得られる(Through-TDの)結晶子サイズと主配向方向と直交する方向に走査して得られる(Through-MD)との結晶子サイズの差が一定の値以下であること、熱機械分析(TMA)において135℃での長手方向への収縮応力が一定の値以下であるフィルムとすることにより上記課題を解決できることを見出した。 Based on the above considerations, the present inventors further study and obtain the crystallite size and main orientation (of Through-TD) obtained by scanning in the main orientation direction of the α crystal (110) plane of wide-angle X-ray diffraction. The difference in crystallite size from (Through-MD) obtained by scanning in the direction orthogonal to the direction is less than a certain value, and the shrinkage stress in the longitudinal direction at 135 ° C. in thermomechanical analysis (TMA) is It has been found that the above problem can be solved by using a film having a value of a certain value or less.

すなわち本発明は、広角X線回折で測定されるα晶(110)面の、主配向方向に走査して得られる結晶子サイズと主配向方向と直交する方向に走査して得られる結晶子サイズとの差の絶対値が3.0nm以下であり、熱機械分析(TMA)における昇温速度10℃/minでの昇温過程において135℃での長手方向の収縮応力(SF135MD)が2.0MPa以下であるポリプロピレンフィルムである。 That is, the present invention has a crystallite size obtained by scanning the α crystal (110) plane measured by wide-angle X-ray diffraction in the main orientation direction and a crystallite size obtained by scanning in a direction orthogonal to the main orientation direction. The absolute value of the difference from the above is 3.0 nm or less, and the longitudinal shrinkage stress (SF135MD) at 135 ° C. is 2.0 MPa in the heating process at a heating rate of 10 ° C./min in thermomechanical analysis (TMA). The following is a polypropylene film.

また本発明は、本発明のポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に金属膜を有する金属膜積層フィルムである。 Further, the present invention is a metal film laminated film having a metal film on at least one side of the polypropylene film of the present invention.

また本発明は、本発明の金属膜積層フィルムを用いてなるフィルムコンデンサである。 Further, the present invention is a film capacitor using the metal film laminated film of the present invention.

本発明により、高温環境での耐電圧特性・信頼性に優れ、高温度・高電圧下で用いられるコンデンサ用途等に好適な、熱に対して構造安定性に優れ、蒸着工程を含む搬送工程においてシワの発生が少ない適度な加工性を得られるポリプロピレンフィルムが提供される。また、それを用いた金属膜積層フィルムおよびフィルムコンデンサが提供される。 According to the present invention, it has excellent withstand voltage characteristics and reliability in a high temperature environment, is suitable for capacitors used under high temperature and high voltage, has excellent structural stability against heat, and is used in a transfer process including a vapor deposition process. Provided is a polypropylene film capable of obtaining appropriate processability with less wrinkles. Further, a metal film laminated film and a film capacitor using the same are provided.

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本発明において「以上」とは、そこに示す数値と同じかまたはそれよりも大きいことを意味する。また、「以下」とは、そこに示す数値と同じかまたはそれよりも小さいことを意味する。また、「室温」とは、23℃を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present invention, "greater than or equal to" means the same as or larger than the numerical value shown therein. Further, "less than or equal to" means the same as or smaller than the numerical value shown therein. Further, "room temperature" means 23 ° C.

本発明のポリプロピレンフィルムは直鎖状のポリプロピレン樹脂を主成分とすることが好ましい。ここで主成分とは、ポリプロピレンフィルムを構成する成分のうち最も質量分率の高いもの(含有量の多いもの)をいう。 The polypropylene film of the present invention preferably contains a linear polypropylene resin as a main component. Here, the main component means a component having the highest mass fraction (high content) among the components constituting the polypropylene film.

以下、ポリプロピレンフィルムを単にフィルムと称することがある。 Hereinafter, the polypropylene film may be simply referred to as a film.

ポリプロピレン樹脂は、主としてプロピレンの単独重合体からなるが、本発明の目的を損なわない範囲で他の不飽和炭化水素による共重合成分が用いられてもよいし、プロピレンの単独重合体ではない重合体がブレンドされていてもよい。このような共重合成分やブレンド物を構成するプロピレン以外の単量体成分として例えばエチレン、1-ブテン、1-ペンテン、3-メチルペンテン-1、3-メチルブテンー1、1-ヘキセン、4-メチルペンテン-1、5-エチルヘキセン-1、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、ビニルシクロヘキセン、スチレン、アリルベンゼン、シクロペンテン、ノルボルネン、5-メチル-2-ノルボルネンなどが挙げられる。 The polypropylene resin is mainly composed of a homopolymer of propylene, but a copolymerization component using other unsaturated hydrocarbons may be used as long as the object of the present invention is not impaired, or a polymer that is not a homopolymer of propylene. May be blended. Examples of monomer components other than propylene constituting such copolymerization components and blends include ethylene, 1-butene, 1-pentene, 3-methylpentene-1, 3-methylbutene-1, 1-hexene, and 4-methyl. Examples thereof include pentene-1,5-ethylhexene-1,1-octene, 1-decene, 1-dodecene, vinylcyclohexene, styrene, allylbenzene, cyclopentene, norbornene, 5-methyl-2-norbornene and the like.

プロピレン成分以外の共重合量またはブレンド量は、絶縁破壊電圧、耐熱性の点から、共重合量としては1mol%以下とすることが好ましく、ブレンド量ではプロピレン以外の成分の量としてフィルムを構成する樹脂全体の1質量%以下とすることが好ましい。 The copolymerization amount or blend amount other than the propylene component is preferably 1 mol% or less as the copolymerization amount from the viewpoint of insulation breakdown voltage and heat resistance, and the blend amount constitutes the film as the amount of the component other than propylene. It is preferably 1% by mass or less of the total resin.

本発明のポリプロピレンフィルムは、その重量平均分子量Mwおよびz+1平均分子量Mz+1に対してMz+1/Mwが3以上10以下であることが好ましい。Mz+1/Mwを10以下、より好ましくは7.9以下、さらに好ましくは6.9以下、特に好ましくは6.5以下、最も好ましくは6.1以下とすることで、分子量分布が狭くフィルムの構造としても局所的なムラの少ない均一な構造となり、熱収縮を抑え、また高温環境下での絶縁破壊電圧向上の効果を得ることができる。 The polypropylene film of the present invention preferably has M z + 1 / Mw of 3 or more and 10 or less with respect to its weight average molecular weight Mw and z + 1 average molecular weight M z + 1 . By setting M z + 1 / Mw to 10 or less, more preferably 7.9 or less, further preferably 6.9 or less, particularly preferably 6.5 or less, and most preferably 6.1 or less, the molecular weight distribution is narrow and the film has a narrow molecular weight distribution. As for the structure, it becomes a uniform structure with little local unevenness, heat shrinkage can be suppressed, and the effect of improving the dielectric breakdown voltage in a high temperature environment can be obtained.

z+1/Mwを上記の範囲に制御する手段としては、ポリプロピレン樹脂Aとしてメソペンタッド分率が0.97以上またはチップ融点が160℃以上、かつ冷キシレン可溶部(CXS)が3質量%未満、数平均分子量(Mn)が7万(7.0×10)以下、Z+1平均分子量(Mz+1)が300万(3.0×10)未満の原料を使用し、ポリプロピレン樹脂Bおよび/またはポリプロピレン樹脂Cを本願の好ましい範囲内で適宜ブレンドすることにより達成可能である。 As a means for controlling M z + 1 / Mw to the above range, the polypropylene resin A has a mesopentad molecular weight of 0.97 or more, a chip melting point of 160 ° C. or more, and a cold xylene soluble part (CXS) of less than 3% by mass. Using raw materials with a number average molecular weight (Mn) of 70,000 (7.0 × 10 4 ) or less and a Z + 1 average molecular weight (M z + 1 ) of less than 3 million (3.0 × 106 ), polypropylene resin B and / or This can be achieved by appropriately blending the polypropylene resin C within the preferable range of the present application.

本発明のポリプロピレンフィルムは、本発明の目的を損なわない範囲で種々の添加剤、例えば有機粒子、無機粒子、結晶核剤、酸化防止剤、熱安定剤、塩素捕捉剤、すべり剤、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、充填剤、粘度調整剤、着色防止剤を含有してもよい。 The polypropylene film of the present invention has various additives such as organic particles, inorganic particles, crystal nucleating agents, antioxidants, heat stabilizers, chlorine scavengers, slip agents, and antistatic agents as long as the object of the present invention is not impaired. , Anti-blocking agent, filler, viscosity modifier, anti-coloring agent.

酸化防止剤を含有させる場合、その酸化防止剤の種類および添加量の選定は、長期耐熱性の観点からなされることが好ましい。かかる酸化防止剤としては立体障害性を有するフェノール系のもので、そのうち少なくとも1種は分子量500以上の高分子量型のものが好ましい。その具体例としては種々のものが挙げられるが、例えば2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール(BHT:分子量220.4)とともに1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン(例えば、BASF社製“Irganox”(登録商標)1330:分子量775.2)またはテトラキス[メチレン-3(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン(例えばBASF社製“Irganox”(登録商標)1010:分子量1,177.7)等を併用することが好ましい。これら酸化防止剤の総含有量はポリプロピレン全量に対して0.1質量%以上1.0質量%以下が好ましい。0.1質量%以上、より好ましくは0.2質量%以上とすることで、長期耐熱性に優れる。1.0質量%以下、より好ましくは0.7質量%以下、さらに好ましくは0.4質量%以下とすることで、酸化防止剤のブリードアウトによる高温下でのブロッキングを抑え、コンデンサ素子への悪影響を防ぐことができる。 When an antioxidant is contained, it is preferable that the type and amount of the antioxidant are selected from the viewpoint of long-term heat resistance. The antioxidant is a phenolic agent having steric hindrance, and at least one of them is preferably a high molecular weight type having a molecular weight of 500 or more. Specific examples thereof include various examples, such as 1,3,5-trimethyl-2,4,6-with 2,6-di-t-butyl-p-cresol (BHT: molecular weight 220.4). Tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene (eg, BASF's "Irganox"® 1330: molecular weight 775.2) or tetrakis [methylene-3 (3,5-di) -T-Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] It is preferable to use methane (for example, "Irganox" (registered trademark) 1010: molecular weight 1,177.7) manufactured by BASF Corporation in combination. The total content of these antioxidants is preferably 0.1% by mass or more and 1.0% by mass or less with respect to the total amount of polypropylene. By setting the content to 0.1% by mass or more, more preferably 0.2% by mass or more, the long-term heat resistance is excellent. By setting the content to 1.0% by mass or less, more preferably 0.7% by mass or less, still more preferably 0.4% by mass or less, blocking at high temperatures due to bleed-out of the antioxidant can be suppressed, and the capacitor element can be used. You can prevent adverse effects.

本発明のポリプロピレンフィルムは、本発明の目的を損なわない範囲でポリプロピレン樹脂以外の樹脂を含んでいてもよい。ポリプロピレン樹脂以外の樹脂としては、各種ポリオレフィン系樹脂を含むビニルポリマー樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂などが挙げられ、特に、ポリメチルペンテン、シクロオレフィンコポリマ、シクロオレフィンポリマー、シンジオタクチックポリスチレンなどが好ましく例示される。ポリプロピレン樹脂以外の樹脂の含有量は、ポリプロピレンフィルムを構成する樹脂成分全体を100質量%とした場合、30質量%未満が好ましく、より好ましくは19質量%以下、さらに好ましくは15質量%以下、最も好ましくは9質量%以下である。ポリプロピレン樹脂以外の樹脂の含有量が30質量%以上であると、ドメイン界面の影響が大きくなるため、高温環境下での絶縁破壊電圧を低下させてしまう場合がある。 The polypropylene film of the present invention may contain a resin other than the polypropylene resin as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the resin other than the polypropylene resin include vinyl polymer resins including various polyolefin resins, polyester resins, polyamide resins, polyphenylene sulfide resins, polyimide resins, polycarbonate resins, and the like, and in particular, polymethylpentene and cyclo. Olefin copolymas, cycloolefin polymers, syndiotactic polystyrene and the like are preferably exemplified. The content of the resin other than the polypropylene resin is preferably less than 30% by mass, more preferably 19% by mass or less, still more preferably 15% by mass or less, most preferably, when the total resin component constituting the polypropylene film is 100% by mass. It is preferably 9% by mass or less. If the content of the resin other than the polypropylene resin is 30% by mass or more, the influence of the domain interface becomes large, so that the dielectric breakdown voltage in a high temperature environment may be lowered.

本発明のポリプロピレンフィルムは、広角X線回折で測定されるα晶(110)面の、主配向方向に走査して得られる結晶子サイズと主配向方向と直交する方向に走査して得られる結晶子サイズとの差の絶対値(以降、「α晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差」とも呼ぶ。)が3.0nm以下であり、かつ熱機械分析(TMA)における昇温速度10℃/minでの昇温過程において135℃での長手方向の収縮応力(SF135MD)が2.0MPa以下であることが重要である。 The polypropylene film of the present invention is a crystal obtained by scanning the α crystal (110) plane measured by wide-angle X-ray diffraction in the crystallite size obtained by scanning in the main orientation direction and in the direction orthogonal to the main orientation direction. The absolute value of the difference from the child size (hereinafter, also referred to as "difference in crystallite size depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane") is 3.0 nm or less, and the temperature rise in thermomechanical analysis (TMA). It is important that the longitudinal shrinkage stress (SF135MD) at 135 ° C. is 2.0 MPa or less in the heating process at a rate of 10 ° C./min.

なお、本発明のポリプロピレンフィルムは、微多孔フィルムではない。ここで微多孔フィルムとは、フィルムの両表面を貫通し、JIS P 8117(2009)のB形ガーレー試験器を用いて、23℃、相対湿度65%にて、100mLの空気の透過時間が5,000秒/100mL以下である透気性を有する孔構造を有するフィルムと定義する。 The polypropylene film of the present invention is not a microporous film. Here, the microporous film penetrates both surfaces of the film and uses a JIS P 8117 (2009) B-type Garley tester at 23 ° C. and a relative humidity of 65%, and the permeation time of 100 mL of air is 5 It is defined as a film having a pore structure with air permeability of 1,000 seconds / 100 mL or less.

本発明のポリプロピレンフィルムは、α晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差が3.0nm以下、収縮応力SF135MDが2.0MPa以下であることが重要である。 In the polypropylene film of the present invention, it is important that the difference in crystallite size depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane is 3.0 nm or less and the shrinkage stress SF135MD is 2.0 MPa or less.

本発明のポリプロピレンフィルムにおいて、α晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差は高温環境下でのコンデンサの耐電圧特性・信頼性との間に高い相関性があり、さらに熱収縮応力SF135MDはコンデンサとしたときの加工性と耐電圧特性に影響する。コンデンサ用途において、高温環境で長時間の使用においても高い信頼性を有するポリプロピレンフィルムを得るには、α晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差と熱収縮応力SF135MDが一定の値以下にあるよう制御することが、特に高温環境下のコンデンサ耐電圧特性・長期信頼性・加工性において重要である。 In the polypropylene film of the present invention, the difference in crystallite size depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane has a high correlation with the withstand voltage characteristics and reliability of the capacitor in a high temperature environment, and further, the thermal shrinkage stress. SF135MD affects workability and withstand voltage characteristics when used as a capacitor. In order to obtain a polypropylene film with high reliability even when used for a long time in a high temperature environment in capacitor applications, the difference in crystallite size depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane and the thermal shrinkage stress SF135MD are below a certain value. It is especially important to control the capacitor in a high temperature environment in terms of withstand voltage characteristics, long-term reliability, and workability.

ポリプロピレンフィルムのα晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差が3.0nm以下であるということは、長手方向と幅方向においてフィルムを構成する結晶ラメラの幅の差が小さく、より均一な構造であることを示唆する。α晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差を3.0nm以下、好ましくは2.5nm以下、より好ましくは2.1以下、さらに好ましくは1.9nm以下、さらに好ましくは1.7nm以下とすることで、構造差が小さく、より均一な構造になり結晶配向度も高まりやすく、フィルムが加熱されても構造変化が小さく抑えられる。その結果、フィルムは特に高温環境において非常に安定な構造となり、高温でも高い絶縁破壊電圧を示すため、コンデンサとしたときに漏れ電流が小さくなり、高温環境で優れた信頼性を発現できる。α晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差が3.0nmより大きい場合には、高電圧がかかる高温環境下にてコンデンサとして用いられた場合、特に長時間の高温状態に置かれた際に、フィルムの結晶緻密性が低く、隣り合う結晶ラメラと結晶ラメラを繋ぐ非晶部の分子鎖緩和が進行して耐電圧を低下させる。そのため、コンデンサ容量減少やショート破壊などを生じ、信頼性の劣ったコンデンサとなる。また、α晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差は、フィルム全体の構造差を小さく、より均一な構造とし二軸延伸しても安定してフィルムを得る観点から0.5nm以上が好ましい。 The difference in crystallite size depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane of the polypropylene film is 3.0 nm or less, which means that the difference in width of the crystal lamellas constituting the film is small in the longitudinal direction and the width direction, and is more uniform. It is suggested that the structure is similar. The difference in crystallite size depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane is 3.0 nm or less, preferably 2.5 nm or less, more preferably 2.1 or less, still more preferably 1.9 nm or less, still more preferably 1.7 nm. By doing the following, the structural difference is small, the structure becomes more uniform, the degree of crystal orientation is likely to increase, and the structural change can be suppressed to be small even when the film is heated. As a result, the film has a very stable structure especially in a high temperature environment and exhibits a high dielectric breakdown voltage even at a high temperature, so that the leakage current becomes small when it is used as a capacitor, and excellent reliability can be exhibited in a high temperature environment. When the difference in crystallite size depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane is larger than 3.0 nm, it is placed in a high temperature state for a long time, especially when it is used as a capacitor in a high temperature environment where a high voltage is applied. At that time, the crystal denseness of the film is low, and the molecular chain relaxation of the amorphous portion connecting the adjacent crystal lamellas and the crystal lamellas progresses, and the withstand voltage is lowered. Therefore, the capacity of the capacitor is reduced, short circuit is broken, and the capacitor becomes inferior in reliability. Further, the difference in crystallite size depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane is 0.5 nm or more from the viewpoint that the structural difference of the entire film is small, the structure is more uniform, and a stable film can be obtained even when biaxially stretched. Is preferable.

結晶子サイズの差は、β晶球晶サイズを小さく制御した未延伸シートを、延伸工程で高い面積倍率で延伸し、特に幅方向へ高倍率に延伸することで小さくすることができる。後述するように、例えばポリプロピレン原料A(ポリプロピレン樹脂(A)ということもある。後述するポリプロピレン原料(B)、ポリプロピレン原料(C)についても同様とする。)として高メソペンタッド分率、かつ冷キシレン可溶部(CXS)が3.0質量%未満のポリプロピレン原料Aおよび/またはポリプロピレン原料Bの使用、分岐鎖状のポリプロピレン原料Cを含有すること、キャスティングドラムの温度を後述する好ましい範囲とすること、長手方向の延伸前に1.01倍以上1.10倍以下の予備延伸を施し、二軸延伸時に面積延伸倍率を60倍以上、好ましくは65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とし、二軸延伸後の熱固定処理および弛緩処理工程において、まず、幅方向の延伸温度より低温での熱処理(1段目)をしながら弛緩処理を行い、次いでフィルムを幅方向に緊張を保ったまま前記1段目の熱処理温度より低温で135℃以上の熱処理(2段目)、さらに80℃以上で前記2段目の熱処理温度未満の条件で熱処理(3段目)を施す多段方式の熱固定処理および弛緩処理をフィルムに適宜施すことにより、前述のようにα晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差の小さいポリプロピレンフィルムを好ましく得ることができる。 The difference in crystallite size can be reduced by stretching the unstretched sheet in which the β-spherulite size is controlled to be small at a high area magnification in the stretching step, and particularly by stretching at a high magnification in the width direction. As will be described later, for example, polypropylene raw material A (sometimes referred to as polypropylene resin (A); the same applies to polypropylene raw material (B) and polypropylene raw material (C) described later) has a high mesopentad fraction and cold xylene is acceptable. Use of polypropylene raw material A and / or polypropylene raw material B having a melted portion (CXS) of less than 3.0% by mass, containing a branched polypropylene raw material C, and setting the temperature of the casting drum within a preferable range described later. Preliminary stretching of 1.01 times or more and 1.10 times or less is performed before stretching in the longitudinal direction, and the area stretching ratio is 60 times or more, preferably 65 times or more, and the stretching ratio in the width direction is 11. In the heat fixing treatment and relaxation treatment step after biaxial stretching, first, the relaxation treatment is performed while performing heat treatment (first stage) at a temperature lower than the stretching temperature in the width direction, and then the film is stretched in the width direction. While maintaining tension, heat treatment is performed at a temperature lower than the heat treatment temperature of the first stage at 135 ° C. or higher (second stage), and further at 80 ° C. or higher under the condition of being lower than the heat treatment temperature of the second stage (third stage). By appropriately performing a multi-stage heat fixing treatment and relaxation treatment on the film, a polypropylene film having a small difference in crystallite size depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane can be preferably obtained as described above.

本発明のポリプロピレンフィルムは、熱機械分析(TMA)の昇温過程において、135℃での長手方向の収縮応力(SF135MD)が2.0MPa以下であることが必要である。SF135MDを2.0MPa以下、好ましくは1.8MPa以下、より好ましくは1.5MPa以下、さらに好ましくは1.3MPa以下とすることで、コンデンサ製造工程および使用工程の熱によりフィルム自体の収縮を抑制できる。そのため、コンデンサとしたときに素子が強く巻き締まらないためフィルム層間の適度な隙間を保持することで自己回復機能(セルフヒーリング)が動作し、急激な容量減少を伴う貫通ショート破壊が抑制され、コンデンサとしての信頼性が高まる。SF135MDが2.0MPaより大きくなる場合には、高電圧がかかる高温環境下にてコンデンサとして用いられた場合、特に長時間の高温状態に置かれた際に、フィルムの分子鎖緩和が進行して耐電圧が低下する。そのため、コンデンサ容量減少やショート破壊などを生じ、信頼性の劣ったコンデンサとなる。 The polypropylene film of the present invention needs to have a longitudinal contraction stress (SF135MD) at 135 ° C. of 2.0 MPa or less in the heating process of thermomechanical analysis (TMA). By setting SF135MD to 2.0 MPa or less, preferably 1.8 MPa or less, more preferably 1.5 MPa or less, and further preferably 1.3 MPa or less, shrinkage of the film itself can be suppressed by heat in the capacitor manufacturing process and the use process. .. Therefore, when the capacitor is used, the element does not wind tightly, so the self-healing function operates by maintaining an appropriate gap between the film layers, and the penetration short-circuit fracture accompanied by a rapid capacity decrease is suppressed, and the capacitor. The reliability as a product is increased. When SF135MD is larger than 2.0 MPa, the molecular chain relaxation of the film progresses when it is used as a capacitor in a high temperature environment where a high voltage is applied, especially when it is placed in a high temperature state for a long time. The withstand voltage decreases. Therefore, the capacity of the capacitor is reduced, short circuit is broken, and the capacitor becomes inferior in reliability.

一方、SF135MDは0.1MPa以上が好ましい。0.1MPa以上とすることで、コンデンサ製造工程および使用工程の熱によりフィルム自体の収縮が十分なものとなり、設計に応じた容量を得ることができる。 On the other hand, SF135MD is preferably 0.1 MPa or more. When the value is 0.1 MPa or more, the film itself shrinks sufficiently due to the heat of the capacitor manufacturing process and the usage process, and the capacity according to the design can be obtained.

上記のような好ましい範囲内のSF135MDは、後述するように、例えばポリプロピレン原料Aとして高メソペンタッド分率、かつ冷キシレン可溶部(CXS)が3質量%未満の原料を使用し、長手方向の延伸前に1.01倍以上1.10倍以下の予備延伸を施し、二軸延伸時に面積延伸倍率を65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とし、二軸延伸後の熱固定処理および弛緩処理工程において、まず、幅方向の延伸温度より低温での熱処理(1段目)をしながら弛緩処理を行い、次いでフィルムを幅方向に緊張を保ったまま前記1段目の熱処理温度より低温で135℃以上の熱処理(2段目)、さらに80℃以上で前記2段目の熱処理温度未満の条件で熱処理(3段目)を施す多段方式の熱固定処理および弛緩処理をフィルムに適宜施すことにより得ることが可能である。 As will be described later, the SF135MD within the preferable range as described above uses, for example, a raw material having a high mesopentad fraction and a cold xylene-soluble portion (CXS) of less than 3% by mass as the polypropylene raw material A, and is stretched in the longitudinal direction. Preliminary stretching of 1.01 times or more and 1.10 times or less was performed before, and the area stretching ratio was 65 times or more at the time of biaxial stretching, and the stretching ratio in the width direction was 11.0 times or more. In the heat fixing treatment and the relaxation treatment step, first, the relaxation treatment is performed while performing the heat treatment (first step) at a temperature lower than the stretching temperature in the width direction, and then the first step is performed while maintaining the tension in the width direction of the film. A multi-stage heat fixing treatment and relaxation treatment in which heat treatment at 135 ° C. or higher (second stage) at a temperature lower than the heat treatment temperature and then heat treatment (third stage) at 80 ° C. or higher under conditions lower than the heat treatment temperature of the second stage are performed. It can be obtained by appropriately applying it to a film.

ここで本発明のポリプロピレンフィルムにおいて、「長手方向」とは、フィルム製造工程における流れ方向に対応する方向(以降、「MD」という場合がある)であり、「幅方向」とは、前記のフィルム製造工程における流れ方向と直交する方向(以降、「TD」という場合がある)である。フィルムサンプルがリール、ロール等の形状の場合はフィルム巻き取り方向が長手方向といえる。一方、フィルムの外観からは何れの方向がフィルム製造工程における流れ方向に対応する方向であるかが不明なフィルムの場合は、スリット状のフィルム片をサンプリングして引張り試験器にて破断強度を求め、最大の破断強度を与える方向を、そのフィルム幅方向および主配向方向とみなし、そのフィルム幅方向に直交する方向を長手方向および主配向方向と直交する方向とみなす。詳細は後述するが、サンプルの幅が50mm未満で引張り試験器では破断強度を求めることができない場合は、広角X線によるα晶(110)面の結晶配向を次のように測定し、下記の判断基準に基づいてフィルム長手および幅方向とする。すなわち、フィルム表面に対して垂直方向にX線(CuKα線)を入射し、2θ=約14°(α晶(110)面)における結晶ピークを円周方向にスキャンし、得られた回折強度分布の回折強度が最も高い方向をフィルム幅方向および主配向方向とし、それと直交する方向を長手方向および主配向方向と直交する方向とする。 Here, in the polypropylene film of the present invention, the "longitudinal direction" is the direction corresponding to the flow direction in the film manufacturing process (hereinafter, may be referred to as "MD"), and the "width direction" is the above-mentioned film. It is a direction orthogonal to the flow direction in the manufacturing process (hereinafter, may be referred to as "TD"). When the film sample has a shape such as a reel or a roll, it can be said that the film winding direction is the longitudinal direction. On the other hand, in the case of a film whose direction corresponds to the flow direction in the film manufacturing process from the appearance of the film, a slit-shaped film piece is sampled and the breaking strength is determined by a tensile tester. , The direction giving the maximum breaking strength is regarded as the film width direction and the main orientation direction, and the direction orthogonal to the film width direction is regarded as the direction orthogonal to the longitudinal direction and the main orientation direction. Details will be described later, but if the sample width is less than 50 mm and the breaking strength cannot be determined with a tensile tester, the crystal orientation of the α crystal (110) plane by wide-angle X-rays is measured as follows, and the following is performed. The film length and width directions are set based on the judgment criteria. That is, X-rays (CuKα rays) are incident in the direction perpendicular to the film surface, and the crystal peak at 2θ = about 14 ° (α crystal (110) plane) is scanned in the circumferential direction, and the obtained diffraction intensity distribution is obtained. The direction in which the diffraction intensity is highest is defined as the film width direction and the main orientation direction, and the directions orthogonal to the film width direction and the main orientation direction are defined as the longitudinal direction and the direction orthogonal to the main orientation direction.

本発明のポリプロピレンフィルムは広角X線回折で測定される、α晶(110)面の主配向方向と直交する方向に走査して得られる(Through-MDの)結晶子サイズが10.0nm以下であることが好ましい。この結晶子サイズを10.0nm以下、より好ましくは8.0nm以下、さらに好ましくは6.9nm以下、特に好ましくは6.6nm以下、最も好ましくは6.4nm以下とすることで、結晶が微細になり結晶配向度も高くなり、高温でも高い絶縁破壊電圧を示す。そのため、コンデンサとしたときに漏れ電流が小さくなり、高温環境で優れた信頼性を発現できる。α晶(110)面の主配向方向と直交する方向に走査して得られる結晶子サイズの下限は、フィルム全体の構造差を小さく、より均一な構造とし二軸延伸しても安定してフィルムを得る観点から実質3.0nmである。 The polypropylene film of the present invention has a crystallite size (of Through-MD) of 10.0 nm or less obtained by scanning in a direction orthogonal to the main orientation direction of the α crystal (110) plane, which is measured by wide-angle X-ray diffraction. It is preferable to have. By setting the crystallite size to 10.0 nm or less, more preferably 8.0 nm or less, further preferably 6.9 nm or less, particularly preferably 6.6 nm or less, and most preferably 6.4 nm or less, the crystal becomes fine. The degree of crystal orientation is also high, and it shows a high breakdown voltage even at high temperatures. Therefore, when it is used as a capacitor, the leakage current becomes small, and excellent reliability can be exhibited in a high temperature environment. The lower limit of the crystallite size obtained by scanning in the direction orthogonal to the main orientation direction of the α crystal (110) plane has a small structural difference in the entire film, has a more uniform structure, and is stable even when biaxially stretched. It is substantially 3.0 nm from the viewpoint of obtaining.

また、本発明のポリプロピレンフィルムは広角X線回折で測定される、α晶(110)面の主配向方向に走査して得られる(Through-TDの)結晶子サイズが10.0nm以下であることが好ましい。この結晶子サイズを10.0nm以下、より好ましくは9.0nm以下、さらに好ましくは8.9以下、特に好ましくは8.7nm以下、最も好ましくは8.5nm以下とすることで、結晶が微細になり結晶配向度も高くなり、高温でも高い絶縁破壊電圧を示す。そのため、コンデンサとしたときに漏れ電流が小さくなり、高温環境で優れた信頼性を発現できる。α晶(110)面の主配向方向に走査して得られる結晶子サイズの下限は、フィルム全体の構造差を小さく、より均一な構造とすることにより二軸延伸しても安定してフィルムを得る観点から実質5.0nmである。 Further, the polypropylene film of the present invention has a crystallite size (Through-TD) of 10.0 nm or less obtained by scanning in the main orientation direction of the α crystal (110) plane as measured by wide-angle X-ray diffraction. Is preferable. By setting the crystallite size to 10.0 nm or less, more preferably 9.0 nm or less, further preferably 8.9 or less, particularly preferably 8.7 nm or less, and most preferably 8.5 nm or less, the crystals become fine. The degree of crystal orientation is also high, and it shows a high breakdown voltage even at high temperatures. Therefore, when it is used as a capacitor, the leakage current becomes small, and excellent reliability can be exhibited in a high temperature environment. The lower limit of the crystallite size obtained by scanning in the main orientation direction of the α crystal (110) plane has a small structural difference in the entire film, and by making the structure more uniform, the film can be stably stretched even if it is biaxially stretched. From the viewpoint of obtaining, it is substantially 5.0 nm.

本発明のポリプロピレンフィルムは、広角X線回折で測定されるα晶(110)面の結晶配向度が0.77以上であることが好ましい。この結晶配向度を0.77以上、より好ましくは0.78以上、さらに好ましくは0.80以上、さらに好ましくは0.82以上とすることで、フィルムを構成する結晶構造の配向秩序性の乱れを軽減し、部分的に絶縁破壊しやすい箇所が生じるのを抑えることができる。そのため、コンデンサとした場合に高温環境下においても容量低下やショート破壊の発生が抑えられ、耐電圧性が保たれるため、高い信頼性を得ることができる。一方、広角X線回折で測定されるα晶(110)面の結晶配向度は、二軸延伸後に安定してフィルムを得る観点から、0.95以下が好ましい。 The polypropylene film of the present invention preferably has a crystal orientation of the α crystal (110) plane measured by wide-angle X-ray diffraction of 0.77 or more. By setting the degree of crystal orientation to 0.77 or more, more preferably 0.78 or more, further preferably 0.80 or more, still more preferably 0.82 or more, the orientation order of the crystal structure constituting the film is disturbed. It is possible to reduce the number of parts and prevent the occurrence of a part where dielectric breakdown is likely to occur. Therefore, when a capacitor is used, capacity reduction and short-circuit fracture are suppressed even in a high temperature environment, and withstand voltage is maintained, so that high reliability can be obtained. On the other hand, the crystal orientation of the α crystal (110) plane measured by wide-angle X-ray diffraction is preferably 0.95 or less from the viewpoint of stably obtaining a film after biaxial stretching.

上記のようなα晶(110)面の結晶配向度は、例えばポリプロピレン原料Aとして高メソペンタッド分率、かつ冷キシレン可溶部(CXS)が3.0質量%未満のポリプロピレン原料Aおよび/またはポリプロピレン原料Bの使用、分岐鎖状のポリプロピレン原料Cを含有すること、長手方向の延伸前に1.01倍以上1.10倍以下の予備延伸を施し、二軸延伸時に面積延伸倍率を60倍以上、好ましくは65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とすることにより達成可能である。 The crystal orientation of the α crystal (110) plane as described above is, for example, polypropylene raw material A and / or polypropylene having a high mesopentad fraction as polypropylene raw material A and a cold xylene soluble portion (CXS) of less than 3.0% by mass. Use of raw material B, inclusion of branched polypropylene raw material C, pre-stretching of 1.01 times or more and 1.10 times or less before stretching in the longitudinal direction, and area stretching ratio of 60 times or more during biaxial stretching. It can be achieved by preferably 65 times or more and the stretching ratio in the width direction is 11.0 times or more.

本発明のポリプロピレンフィルムは、125℃で60分加熱後のフィルムを広角X線回折で測定したとき、α晶(110)面の結晶配向度が0.73以上であることが好ましい。この結晶配向度を0.73以上、より好ましくは0.75以上、さらに好ましくは0.78以上、さらに好ましくは0.81以上とすることで、フィルムを構成する結晶構造の配向秩序性が高く保たれ、部分的に絶縁破壊しやすい箇所が発生するのを抑え、コンデンサとした場合に高温環境下においても容量低下やショート破壊を抑え、耐電圧性の低下を抑え、高い信頼性を得ることができる。 The polypropylene film of the present invention preferably has a crystal orientation of 0.73 or more on the α crystal (110) plane when the film after heating at 125 ° C. for 60 minutes is measured by wide-angle X-ray diffraction. By setting the degree of crystal orientation to 0.73 or more, more preferably 0.75 or more, further preferably 0.78 or more, still more preferably 0.81 or more, the orientation order of the crystal structure constituting the film is high. It is maintained and suppresses the occurrence of parts that are prone to dielectric breakdown, and when used as a capacitor, it suppresses capacity reduction and short-circuit breakdown even in a high temperature environment, suppresses deterioration of withstand voltage, and obtains high reliability. Can be done.

一方、二軸延伸後に安定してフィルムを得る観点から、125℃で60分加熱後のポリプロピレンフィルムを広角X線回折で測定したときのα晶(110)面の結晶配向度は0.95以下が好ましい。また、当該α晶(110)面の結晶配向度の下限は特に制限されないが、フィルムを構成する結晶構造の配向秩序性の乱れを軽減し、部分的に絶縁破壊しやすい箇所が生じるのを抑える観点から0.60となる。 On the other hand, from the viewpoint of obtaining a stable film after biaxial stretching, the crystal orientation of the α crystal (110) plane when the polypropylene film after heating at 125 ° C. for 60 minutes is measured by wide-angle X-ray diffraction is 0.95 or less. Is preferable. Further, the lower limit of the crystal orientation of the α crystal (110) plane is not particularly limited, but the disorder of the orientation order of the crystal structure constituting the film is reduced, and the occurrence of a portion where dielectric breakdown is likely to occur is suppressed. From the viewpoint, it is 0.60.

上記のような、125℃で60分加熱後のフィルムを広角X線回折で測定したときのα晶(110)面の結晶配向度は、後述するように、例えばポリプロピレン原料Aとして高メソペンタッド分率、かつ冷キシレン可溶部(CXS)が3.0質量%未満の原料を使用し、長手方向の延伸前に1.01倍以上1.10倍以下の予備延伸を施し、二軸延伸時に面積延伸倍率を60倍以上、好ましくは65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とし、二軸延伸後の熱固定処理および弛緩処理工程において、まず、幅方向の延伸温度より低温での熱処理(1段目)をしながら弛緩処理を行い、次いでフィルムを幅方向に緊張を保ったまま前記1段目の熱処理温度より低温で145℃以上の熱処理(2段目)、さらに80℃以上で前記2段目の熱処理温度未満の条件で熱処理(3段目)を施す多段方式の熱固定処理および弛緩処理をフィルムに適宜施すことにより得ることが可能である。 As described later, the degree of crystal orientation of the α crystal (110) plane when the film after heating at 125 ° C. for 60 minutes is measured by wide-angle X-ray diffraction has a high mesopentad fraction as, for example, polypropylene raw material A. In addition, using a raw material having a cold xylene soluble part (CXS) of less than 3.0% by mass, pre-stretching of 1.01 times or more and 1.10 times or less was performed before stretching in the longitudinal direction, and the area was subjected to biaxial stretching. The stretching ratio is 60 times or more, preferably 65 times or more, and the stretching ratio in the width direction is 11.0 times or more. The relaxation treatment is performed while performing the heat treatment at a low temperature (first stage), and then the heat treatment at 145 ° C. or higher (second stage) at a temperature lower than the heat treatment temperature of the first stage while maintaining the tension in the width direction of the film is further performed. It can be obtained by appropriately applying a multi-stage heat fixing treatment and relaxation treatment of heat treatment (third stage) at 80 ° C. or higher and lower than the heat treatment temperature of the second stage.

本発明のポリプロピレンフィルムは、150℃で10分加熱後のフィルムを室温で引っ張り試験したときのフィルム長手方向の伸度5%時の応力(F5MD)と、同条件で加熱後のフィルムを室温で引っ張り試験したときのフィルム幅方向の伸度5%時の応力(F5TD)との和が150MPa以上であることが好ましい。F5MDとF5TDとの和を150MPa以上、より好ましくは170MPa以上、さらに好ましくは180MPa以上、さらに好ましくは190MPa以上とすることで、高温環境下での剛性を有し、コンデンサとした場合に高い信頼性を得ることができる。 In the polypropylene film of the present invention, the stress (F5MD) at 5% elongation in the longitudinal direction of the film when the film after heating at 150 ° C. for 10 minutes was subjected to a tensile test at room temperature and the film after heating under the same conditions at room temperature. It is preferable that the sum of the stress (F5TD) at 5% elongation in the film width direction in the tensile test is 150 MPa or more. By setting the sum of F5MD and F5TD to 150 MPa or more, more preferably 170 MPa or more, further preferably 180 MPa or more, still more preferably 190 MPa or more, it has rigidity in a high temperature environment and high reliability when used as a capacitor. Can be obtained.

一方、F5MDとF5TDとの和は、300MPa以下が好ましい。300MPa以下とすることで、フィルムの製膜工程にて破断し製膜性が低下するのを抑えることができる。 On the other hand, the sum of F5MD and F5TD is preferably 300 MPa or less. By setting the pressure to 300 MPa or less, it is possible to prevent the film from breaking in the film forming process and deteriorating the film forming property.

上記のような範囲のF5MDとF5TDとの和は、後述するように、例えばポリプロピレン原料Aとして高メソペンタッド分率、かつ冷キシレン可溶部(CXS)が3.0質量%未満の原料を使用し、長手方向の延伸前に1.01倍以上1.10倍以下の予備延伸を施し、二軸延伸時に面積延伸倍率を65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とし、二軸延伸後の熱固定処理および弛緩処理工程において、まず、幅方向の延伸温度より低温での熱処理(1段目)をしながら弛緩処理を行い、次いでフィルムを幅方向に緊張を保ったまま前記1段目の熱処理温度より低温で145℃以上の熱処理(2段目)、さらに80℃以上で前記2段目の熱処理温度未満の条件で熱処理(3段目)を施す多段方式の熱固定処理および弛緩処理をフィルムに適宜施すことにより得ることが可能である。 As described later, for the sum of F5MD and F5TD in the above range, for example, a raw material having a high mesopentad fraction and a cold xylene soluble portion (CXS) of less than 3.0% by mass is used as the polypropylene raw material A. Preliminary stretching of 1.01 times or more and 1.10 times or less was performed before stretching in the longitudinal direction, and the area stretching ratio was 65 times or more and the stretching ratio in the width direction was 11.0 times or more during biaxial stretching. In the heat fixing treatment and relaxation treatment step after biaxial stretching, first, the relaxation treatment is performed while performing heat treatment (first stage) at a temperature lower than the stretching temperature in the width direction, and then the film is kept tense in the width direction. A multi-stage heat treatment method in which heat treatment is performed at a temperature lower than the heat treatment temperature of the first stage at 145 ° C. or higher (second stage), and further at 80 ° C. or higher at a temperature lower than the heat treatment temperature of the second stage (third stage). It can be obtained by appropriately applying a treatment and a relaxation treatment to the film.

本発明のポリプロピレンフィルムは、125℃で15分加熱処理後の幅方向の熱収縮率(HS125TD)が1.0%以下であることが好ましい。この熱収縮率を1.0%以下、より好ましくは0.8%以下、さらに好ましくは0.6%以下、さらに好ましくは0.4%以下とすることで、コンデンサ製造工程および使用工程の熱によるフィルムの収縮や、素子端部メタリコンとの接触不良による耐電圧性の低下を抑え、素子が巻き締まることによる容量低下やショート破壊に伴って信頼性が悪化するのを防ぐことができる。 The polypropylene film of the present invention preferably has a heat shrinkage rate (HS125TD) in the width direction after heat treatment at 125 ° C. for 15 minutes at 1.0% or less. By setting the heat shrinkage rate to 1.0% or less, more preferably 0.8% or less, further preferably 0.6% or less, still more preferably 0.4% or less, the heat of the capacitor manufacturing process and the use process is set. It is possible to suppress the shrinkage of the film due to the shrinkage of the film and the deterioration of the withstand voltage due to the poor contact with the metallikon at the end of the element, and it is possible to prevent the reliability from being deteriorated due to the capacity decrease due to the winding of the element and the short circuit breakage.

一方、125℃で15分加熱後の幅方向の熱収縮率は、0.02%以上とすることが好ましい。0.02%以上とすることで、コンデンサ製造工程や使用工程の熱により素子の巻き状態が緩むのを防ぐことができる。 On the other hand, the heat shrinkage in the width direction after heating at 125 ° C. for 15 minutes is preferably 0.02% or more. By setting it to 0.02% or more, it is possible to prevent the winding state of the element from loosening due to the heat of the capacitor manufacturing process and the usage process.

上記のような範囲の、フィルム幅方向の125℃15分加熱処理における熱収縮率は、例えば後述するように、ポリプロピレン原料Aとして高メソペンタッド分率、かつ冷キシレン可溶部(CXS)が3.0質量%未満の原料を使用し、長手方向の延伸前に1.01倍以上1.10倍以下の予備延伸を施し、二軸延伸時に面積延伸倍率を60倍以上、好ましくは65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とし、二軸延伸後の熱固定処理および弛緩処理工程において、まず、幅方向の延伸温度より低温での熱処理(1段目)をしながら弛緩処理を行い、次いでフィルムを幅方向に緊張を保ったまま前記1段目の熱処理温度より低温で135℃以上の熱処理(2段目)、さらに80℃以上で前記2段目の熱処理温度未満の条件で熱処理(3段目)を施す多段方式の熱固定処理および弛緩処理をフィルムに適宜施すことにより達成可能である。 As for the heat shrinkage in the heat treatment at 125 ° C. for 15 minutes in the film width direction in the above range, for example, as described later, the polypropylene raw material A has a high mesopentad fraction and the cold xylene soluble portion (CXS) is 3. Using a raw material of less than 0% by mass, pre-stretching 1.01 times or more and 1.10 times or less is performed before stretching in the longitudinal direction, and the area stretching ratio is 60 times or more, preferably 65 times or more during biaxial stretching. In addition, the stretching ratio in the width direction is set to 11.0 times or more, and in the heat fixing treatment and the relaxation treatment step after the biaxial stretching, first, the heat treatment (first step) at a temperature lower than the stretching temperature in the width direction is performed for relaxation. After the treatment, the film is heat-treated at a temperature of 135 ° C. or higher (second stage) at a temperature lower than the heat treatment temperature of the first stage while maintaining tension in the width direction (second stage), and further at 80 ° C. or higher and lower than the heat treatment temperature of the second stage. This can be achieved by appropriately performing a multi-stage heat fixing treatment and relaxation treatment in which heat treatment (third stage) is performed under the conditions.

本発明のポリプロピレンフィルムは、フィルムを示差走査熱量計DSCで30℃から260℃まで20℃/minで昇温した際に得られるフィルムの融解ピーク温度(Tm)が170℃以上であることが好ましい。Tmを170℃以上、より好ましくは171℃以上、さらに好ましくは172℃以上、さらに好ましくは173℃以上、さらに好ましくは174℃以上とすることで、高温環境下での絶縁破壊電圧を効果的に向上させることができる。一方、Tmはポリプロピレン樹脂が工業的に製造できる観点から200℃以下が好ましい。 The polypropylene film of the present invention preferably has a melting peak temperature (Tm) of 170 ° C. or higher obtained when the film is heated from 30 ° C. to 260 ° C. at 20 ° C./min with a differential scanning calorimeter DSC. .. By setting the Tm to 170 ° C. or higher, more preferably 171 ° C. or higher, further preferably 172 ° C. or higher, further preferably 173 ° C. or higher, still more preferably 174 ° C. or higher, the dielectric breakdown voltage in a high temperature environment can be effectively reduced. Can be improved. On the other hand, Tm is preferably 200 ° C. or lower from the viewpoint that polypropylene resin can be industrially produced.

上記のような範囲のTmは、例えば後述するように、ポリプロピレン原料Aとして高メソペンタッド分率、かつ冷キシレン可溶部(CXS)が3.0質量%未満の原料を使用することにより達成可能である。 Tm in the above range can be achieved, for example, by using a raw material having a high mesopentad fraction and a cold xylene-soluble portion (CXS) of less than 3.0% by mass as the polypropylene raw material A, as described later. be.

本発明のポリプロピレンフィルムは、フィルムを示差走査熱量計DSCで30℃から260℃まで20℃/minで昇温して得られるフィルムの融解ピーク温度(Tm)と、昇温後260℃から30℃まで20℃/minで降温した際に得られる結晶化ピーク温度(Tc)との差(Tm-Tc)が65℃以下であることが好ましい。(Tm-Tc)を65℃以下、より好ましくは63℃以下、さらに好ましくは61℃以下、さらに好ましくは59℃以下、さらに好ましくは57℃以下とすることで、樹脂の冷却固化プロセスにおける結晶化時間を短くし、粗大な球晶の形成を抑えることができる。キャストシートにおいてこのような粗大球晶の形成を抑えることで、延伸工程での内部ボイドの発生や、表面における粗大な突起が形成されることによるコンデンサとしたときの信頼性低下を軽減できる。さらに、フィルム表面の全体に平坦な箇所が多くなることによりフィルムの易滑性が悪化して、加工性が悪化するのを防ぐこともできる。 The polypropylene film of the present invention has a melting peak temperature (Tm) of the film obtained by heating the film from 30 ° C. to 260 ° C. at 20 ° C./min with a differential scanning calorimeter DSC, and 260 ° C. to 30 ° C. after the temperature rise. It is preferable that the difference (Tm-Tc) from the crystallization peak temperature (Tc) obtained when the temperature is lowered to 20 ° C./min is 65 ° C. or less. By setting (Tm-Tc) to 65 ° C. or lower, more preferably 63 ° C. or lower, still more preferably 61 ° C. or lower, still more preferably 59 ° C. or lower, still more preferably 57 ° C. or lower, crystallization in the cooling solidification process of the resin is performed. The time can be shortened and the formation of coarse spherulites can be suppressed. By suppressing the formation of such coarse spherulites in the cast sheet, it is possible to reduce the generation of internal voids in the stretching step and the decrease in reliability of the capacitor due to the formation of coarse protrusions on the surface. Further, it is possible to prevent the film from deteriorating the slipperiness of the film and the processability from deteriorating due to the increase in the number of flat portions on the entire surface of the film.

一方、TmとTcとの差(Tm-Tc)は、40℃以上が好ましい。40℃以上とすることで、製膜安定性に優れる。 On the other hand, the difference between Tm and Tc (Tm-Tc) is preferably 40 ° C. or higher. When the temperature is 40 ° C. or higher, the film forming stability is excellent.

ここで、本発明のポリプロピレンフィルムがポリプロピレンとポリプロピレンとは非相溶の熱可塑性樹脂とを含むフィルムである場合には、非相溶樹脂の融解ピーク温度がポリプロピレンの融解ピーク温度とは別の温度に観測される場合があるが、本発明においては170℃以上200℃以下に観測されるピークの温度を本発明のポリプロピレンフィルムの融解ピーク温度(Tm)、結晶化ピーク温度(Tc)とする。このとき、ピークが前記温度範囲の中で2つ以上観測される場合や、ショルダーと言われる多段型のDSCチャートに観測できるピーク温度(2つ以上のピークが重なり合ったチャートの場合に観測される)の場合があるが、本発明においてはDSCチャートの縦軸熱流(単位:mW)の絶対値が最も大きいピークを選択し、それぞれTm、Tcとする。 Here, when the polypropylene film of the present invention is a film containing polypropylene and a thermoplastic resin incompatible with polypropylene, the melting peak temperature of the incompatible resin is different from the melting peak temperature of polypropylene. In the present invention, the peak temperature observed at 170 ° C. or higher and 200 ° C. or lower is defined as the melting peak temperature (Tm) and the crystallization peak temperature (Tc) of the polypropylene film of the present invention. At this time, it is observed when two or more peaks are observed in the temperature range, or when the peak temperature can be observed on a multi-stage DSC chart called a shoulder (when two or more peaks overlap each other). ), But in the present invention, the peak having the largest absolute value of the vertical axis heat flow (unit: mW) of the DSC chart is selected and used as Tm and Tc, respectively.

上記のような範囲の(Tm-Tc)は、例えばポリプロピレン原料Aとして高メソペンタッド分率、かつ冷キシレン可溶部(CXS)が3.0質量%未満のポリプロピレン原料Aおよび/またはポリプロピレン原料Bの使用、分岐鎖状のポリプロピレン原料Cを含有すること、これらの成分の比率を調整することで達成できる。 The (Tm-Tc) in the above range is, for example, a polypropylene raw material A and / or a polypropylene raw material B having a high mesopentad fraction and a cold xylene soluble portion (CXS) of less than 3.0% by mass as the polypropylene raw material A. It can be achieved by using, containing a branched polypropylene raw material C, and adjusting the ratio of these components.

本発明のポリプロピレンフィルムは、高温環境下でも高い絶縁破壊電圧を示し、コンデンサとしたときに高温環境下でも耐電圧性および信頼性を発現させるために、フィルムの少なくとも一方の表面におけるISO25178で定義されるスキューネス(Ssk)が-30を超えて5未満であることが好ましい。ここでSskとは、表面の凹凸の偏り度を示したパラメータである。このSskは、二乗平均平方根高さSqの三乗によって無次元化した基準面において、Z(x,y)の三乗平均を表したもので、歪度(わいど)を意味し、平均面を中心とした山部と谷部の対称性を表す数値である。そのため、Sskが0よりも小さい場合は平均線に対して下側に偏っている、つまり凸の山部よりも凹の谷部が多く存在することを意味する。他方、Sskが0よりも大きい場合は平均線に対して上側に偏っている、つまり凹の谷部よりも凸の山部が多く存在することを意味する。そして偏り度Sskが0の場合は、平均線に対して対称(正規分布)な状態を意味する。 The polypropylene film of the present invention exhibits a high breakdown voltage even in a high temperature environment, and is defined by ISO25178 on at least one surface of the film in order to exhibit withstand voltage and reliability even in a high temperature environment when used as a capacitor. The skewness (Ssk) is preferably more than -30 and less than 5. Here, Sk is a parameter indicating the degree of deviation of the unevenness of the surface. This Sk represents the mean square of Z (x, y) on the reference plane dimensionless by the cube of the root mean square root height Sq, and means the skewness (waido), which is the average plane. It is a numerical value showing the symmetry of the mountain part and the valley part centered on. Therefore, when Sk is smaller than 0, it means that the Sk is biased downward with respect to the average line, that is, there are more concave valleys than convex peaks. On the other hand, when Sk is larger than 0, it means that the sk is biased upward with respect to the average line, that is, there are more convex peaks than concave valleys. When the degree of deviation Sk is 0, it means a state symmetric (normally distributed) with respect to the average line.

Sskを-30を超えて、より好ましくは-28以上、さらに好ましくは-26以上とすることで、フィルム表面に凹みを有する形状が多く偏り過ぎるのを抑え、特に高電圧用コンデンサ用途において、高温環境下でも耐電圧性が損なわれにくくなり、フィルムの易滑性も得られ良好な加工性も得ることができる。 By setting the Sk to more than -30, more preferably -28 or more, still more preferably -26 or more, it is possible to prevent the film surface from having many dented shapes and being overly biased, and especially in high voltage capacitor applications. Even in an environment, the withstand voltage is less likely to be impaired, the slipperiness of the film can be obtained, and good processability can be obtained.

一方、Sskを5未満、より好ましくは4以下、さらに好ましくは3以下とすることで、フィルム表面に凸部の形状が過剰に存在するのを抑え、コンデンサとしたときにフィルムとフィルムとの層間にギャップが生じるのを抑えて高温環境における容量低下を防ぎ、フィルムの易滑性が損なわれて耐電圧性や加工性が悪化するのを防ぐことができる。 On the other hand, by setting the Sk to less than 5, more preferably 4 or less, still more preferably 3 or less, it is possible to suppress the excessive presence of the shape of the convex portion on the film surface, and when the capacitor is used, the layer between the films. It is possible to prevent a gap from being generated in the film, prevent a decrease in capacity in a high temperature environment, and prevent the film from being impaired in slipperiness and deterioration in withstand voltage and workability.

本発明のポリプロピレンフィルムにおけるSskは、例えば後述する好ましい特性を有するポリプロピレン原料Bを使用すること、二軸延伸時に面積延伸倍率を60倍以上、好ましくは65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とし、キャスティングドラム温度、フィルムの融解ピーク温度(Tm)と結晶化ピーク温度(Tc)を好ましい範囲に制御することにより上記のような範囲内とすることが可能である。 For Sk in the polypropylene film of the present invention, for example, polypropylene raw material B having preferable properties described later is used, the area stretching ratio is 60 times or more, preferably 65 times or more during biaxial stretching, and the stretching ratio in the width direction is By setting the temperature to 11.0 times or more and controlling the casting drum temperature, the melting peak temperature (Tm) and the crystallization peak temperature (Tc) of the film within a preferable range, it is possible to keep the temperature within the above range.

本発明のポリプロピレンフィルムは、一方の側の面の表面Aおよびもう一方の側の面の表面Bのそれぞれの、ISO25178で定義される突出山部高さSpkAおよびSpkBが以下の関係を満たすことが好ましい。
SpkA<SpkB
20nm≦SpkA≦100nm
80nm≦SpkB≦150nm
ここで、
SpkA:表面Aの突出山部高さ
SpkB:表面Bの突出山部高さ。
In the polypropylene film of the present invention, the protruding peak heights SpkA and SpkB defined in ISO25178 of the surface A of one side surface and the surface B of the other side surface satisfy the following relationship, respectively. preferable.
SpkA <SpkB
20nm ≤ SpkA ≤ 100nm
80nm ≤ SpkB ≤ 150nm
here,
SpkA: Height of the protruding ridge of the surface A SpkB: Height of the protruding ridge of the surface B.

SpkはISO25178で定義される機能パラメータの一種で、高さデータのベアリングカーブの等価直線と負荷面積率=0%の直線との交点よりも高い部分(突出山部)の平均高さを示す。ここに、高さデータのベアリングカーブは、ある高さにおける頻度を高い側から累積し、全高さデータの総数を100%として百分率で表したものであり、ある高さCにおける負荷面積率はSmr(C)で与えられる。また、等価直線は、負荷面積率(Smr)の差が40%になる直線のうち最も傾きが小さくなるものである。 Spk is a kind of functional parameter defined by ISO25178, and indicates the average height of a portion (protruding mountain portion) higher than the intersection of the equivalent straight line of the bearing curve of the height data and the straight line of the load area ratio = 0%. Here, the bearing curve of the height data is expressed as a percentage by accumulating the frequency at a certain height from the higher side and assuming that the total number of the total height data is 100%, and the load area ratio at a certain height C is Smr. Given in (C). Further, the equivalent straight line has the smallest slope among the straight lines in which the difference in load area ratio (Smr) is 40%.

本発明のポリプロピレンフィルムにおいて、SpkAは30nm以上であることがより好ましく、40nm以上であることがさらに好ましい。またSpkAは90nm以下であることがより好ましく、80nm以下であることがさらに好ましい。 In the polypropylene film of the present invention, SpkA is more preferably 30 nm or more, further preferably 40 nm or more. Further, SpkA is more preferably 90 nm or less, and further preferably 80 nm or less.

本発明のポリプロピレンフィルムにおいて、SpkBは90nm以上であることがより好ましく、100nm以上であることがさらに好ましい。またSpkBは140nm以下であることがより好ましく、130nm以下であることがさらに好ましい。 In the polypropylene film of the present invention, SpkB is more preferably 90 nm or more, further preferably 100 nm or more. Further, SpkB is more preferably 140 nm or less, and further preferably 130 nm or less.

SpkAおよびSpkBが上記範囲を満すことで、フィルムの表面突起高さが適度に高いため十分な易滑性が得られ、コンデンサ素子作成時の加工性に優れ、フィルム表面の過剰に高い突起を抑え、コンデンサの耐電圧低下を防ぐことができる。 When SpkA and SpkB satisfy the above range, the height of the surface protrusions of the film is moderately high, so that sufficient slipperiness can be obtained, excellent workability at the time of making a capacitor element, and excessively high protrusions on the film surface. It can be suppressed and the withstand voltage of the capacitor can be prevented from decreasing.

SpkAおよびSpkBを上記した範囲内に制御することは、例えば後述する好ましい特性を有するポリプロピレン原料Bを使用すること、二軸延伸時に面積延伸倍率を60倍以上、好ましくは65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11倍以上とし、キャスティングドラム温度、フィルムの融解ピーク温度(Tm)と結晶化ピーク温度(Tc)を好ましい範囲に制御することにより可能である。 To control SpkA and SpkB within the above range, for example, using a polypropylene raw material B having preferable properties described later, an area stretching ratio of 60 times or more, preferably 65 times or more, and a width at the time of biaxial stretching. It is possible by setting the draw ratio in the direction to 11 times or more and controlling the casting drum temperature, the melting peak temperature (Tm) and the crystallization peak temperature (Tc) of the film within a preferable range.

本発明のポリプロピレンフィルムは、フィルムの少なくとも一方の表面における、ISO25178で定義される算術平均高さ(Sa)が35nm以上100nm以下であることが好ましい。Saを35nm以上、より好ましくは40nm以上とすることで、フィルムの滑りを適度に保ち、ハンドリング性に優れ、シワの発生を抑え、素子加工性に優れる。一方、Saを100nm以下、より好ましくは75nm以下、さらに好ましくは60nm以下とすることで、高い耐電圧を効果的に得ることができる。上記観点から、両面のうちSaが小さい方の面において、Saが35nm以上100nm以下、または上記好ましい範囲であることが好ましい。 The polypropylene film of the present invention preferably has an arithmetic mean height (Sa) of 35 nm or more and 100 nm or less as defined by ISO25178 on at least one surface of the film. By setting Sa to 35 nm or more, more preferably 40 nm or more, the slip of the film is kept moderate, the handling property is excellent, the generation of wrinkles is suppressed, and the element processability is excellent. On the other hand, by setting Sa to 100 nm or less, more preferably 75 nm or less, still more preferably 60 nm or less, a high withstand voltage can be effectively obtained. From the above viewpoint, it is preferable that Sa is 35 nm or more and 100 nm or less, or in the above-mentioned preferable range, on the surface of both sides where Sa is smaller.

本発明のポリプロピレンフィルムのSaを上記した好ましい範囲内に制御するには、例えば後述する好ましい特性を有するポリプロピレン原料Aにポリプロピレン原料Bおよび/またはポリプロピレン原料Cを使用すること、二軸延伸時に面積延伸倍率を60倍以上、好ましくは65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とし、キャスティングドラム温度、フィルムの融解ピーク温度(Tm)と結晶化ピーク温度(Tc)を好ましい範囲に制御することにより可能である。 In order to control the Sa of the polypropylene film of the present invention within the above-mentioned preferable range, for example, the polypropylene raw material B and / or the polypropylene raw material C should be used as the polypropylene raw material A having the preferable properties described later, and the area may be stretched during biaxial stretching. The magnification is 60 times or more, preferably 65 times or more, and the stretching ratio in the width direction is 11.0 times or more, and the casting drum temperature, the melting peak temperature (Tm) and the crystallization peak temperature (Tc) of the film are in a preferable range. It is possible by controlling to.

本発明のポリプロピレンフィルムは、少なくとも一方の表面において、走査型白色干渉顕微鏡により測定される、0.561mm×0.561mmの領域における深さ20nm以上の谷の容積を合計した総容積が50μm以上5,000μm以下であることが好ましい。この総容積を50μm以上、より好ましくは100μm以上、更に好ましくは500μm以上とすることで、表面の凹凸を適度に有し、適度なフィルムの滑りによりハンドリング性が向上する上、シワの発生が軽減されて素子加工性が向上する。また、コンデンサとして長時間使用したときでもシワ等の影響で容量変化が大きくなるのを抑え、フィルムを積層したコンデンサとした場合にもフィルムとフィルムとの間に適度な隙間を有することから自己回復機能(セルフヒーリング)が働きコンデンサの信頼性が向上する。一方、谷の総容積を5,000μm以下、好ましくは4,000μm以下、更に好ましくは3,500μm以下、特に好ましくは3,000μm以下とすることで、局所的に厚みが薄い部分ができて絶縁破壊が生じるのを抑えることができる。そのため、フィルムの耐電圧性が向上し、高電圧用コンデンサ用途に用いたときでも高温環境下での耐電圧性と信頼性を向上させることができる。 The polypropylene film of the present invention has a total volume of 50 μm 3 or more, which is the total volume of valleys having a depth of 20 nm or more in a region of 0.561 mm × 0.561 mm measured by a scanning white interference microscope on at least one surface. It is preferably 5,000 μm 3 or less. By setting the total volume to 50 μm 3 or more, more preferably 100 μm 3 or more, still more preferably 500 μm 3 or more, the surface is appropriately uneven, the handling property is improved by the appropriate slip of the film, and wrinkles are formed. Occurrence is reduced and element workability is improved. In addition, even when used as a capacitor for a long time, it suppresses large changes in capacitance due to the effects of wrinkles, etc., and even when a capacitor with laminated films is used, it self-recovers because there is an appropriate gap between the films. The function (self-healing) works and the reliability of the capacitor is improved. On the other hand, the total volume of the valley is 5,000 μm 3 or less, preferably 4,000 μm 3 or less, more preferably 3,500 μm 3 or less, and particularly preferably 3,000 μm 3 or less, so that the thickness is locally thin. It is possible to suppress the occurrence of dielectric breakdown. Therefore, the withstand voltage of the film is improved, and the withstand voltage and reliability in a high temperature environment can be improved even when used for a high voltage capacitor application.

フィルム表面の谷の総容積を上述した好ましい範囲とすることは、例えば後述するポリプロピレン原料Bを使用すること、二軸延伸時に面積延伸倍率を60倍以上、好ましくは65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とし、キャスティングドラム温度、フィルムの融解ピーク温度(Tm)と結晶化ピーク温度(Tc)を好ましい範囲に制御することにより可能である。 To set the total volume of the valleys on the film surface in the above-mentioned preferable range, for example, the polypropylene raw material B described later is used, the area stretching ratio is 60 times or more, preferably 65 times or more in the biaxial stretching, and in the width direction. It is possible by setting the draw ratio to 11.0 times or more and controlling the casting drum temperature, the melting peak temperature (Tm) and the crystallization peak temperature (Tc) of the film within a preferable range.

本発明のポリプロピレンフィルムは、適度な易滑を付与してコンデンサ素子作成時の加工性を高める観点から、少なくとも一方の側の面について、同じ側の面同士を重ね合わせた際の静摩擦係数(μ)が0.3以上1.5以下であることが好ましい。この静摩擦係数μを0.3以上、より好ましくは0.4以上、さらに好ましくは0.5以上とすることで、フィルムが滑りすぎて製膜時の巻き取りや素子加工時に巻きずれが発生するのを防ぐことができる。一方、静摩擦係数μを1.5以下、より好ましくは1.0以下、さらに好ましくは0.8以下とすることで、フィルムの滑り性の極端な低下が抑えられるため、シワの発生を抑え、さらにハンドリング性や素子加工性を向上させることができる。 The polypropylene film of the present invention has a coefficient of static friction (μ) when the surfaces on at least one side are overlapped with each other on the same side, from the viewpoint of imparting appropriate slipperiness and improving workability at the time of manufacturing a capacitor element. It is preferable that s ) is 0.3 or more and 1.5 or less. By setting the static friction coefficient μ s to 0.3 or more, more preferably 0.4 or more, and further preferably 0.5 or more, the film slips too much and unwinding occurs during film forming or element processing. You can prevent it from happening. On the other hand, by setting the static friction coefficient μ s to 1.5 or less, more preferably 1.0 or less, and further preferably 0.8 or less, an extreme decrease in the slipperiness of the film can be suppressed, so that the occurrence of wrinkles can be suppressed. Further, the handling property and the element processability can be improved.

本発明のポリプロピレンフィルムは、核磁気共鳴法(NMR法)で測定されるメソペンタッド分率が0.970以上であることが好ましい。メソペンタッド分率はポリプロピレンの結晶相の立体規則性を示す指標であり、メソペンタッド分率を0.970以上、より好ましくは0.975以上、さらに好ましくは0.981以上とすることで、結晶化度が高く、融点が高くなり、高温環境下での絶縁破壊電圧を向上できる。メソペンタッド分率の上限については特に規定するものではない。 The polypropylene film of the present invention preferably has a mesopentad fraction of 0.970 or more as measured by a nuclear magnetic resonance method (NMR method). The mesopentad fraction is an index showing the stereoregularity of the crystal phase of polypropylene, and the crystallinity is set by setting the mesopentad fraction to 0.970 or more, more preferably 0.975 or more, and further preferably 0.981 or more. The temperature is high, the melting point is high, and the breakdown voltage in a high temperature environment can be improved. The upper limit of the mesopentad fraction is not specified.

本発明では、高メソペンタッド分率のポリプロピレン樹脂は、特に、チーグラー・ナッタ触媒により作製されたものが好ましく、該触媒において電子供与成分の選定を適宜行う方法等が好ましく採用される。これによるポリプロピレン樹脂は分子量分布(Mw/Mn)を3.0以上、<2,1>エリトロ部位欠損を0.1mol%以下とすることができ、このようなポリプロピレン樹脂を用いることが好ましい。 In the present invention, the polypropylene resin having a high mesopentad fraction is preferably prepared by a Ziegler-Natta catalyst, and a method of appropriately selecting an electron donating component in the catalyst is preferably adopted. As a result, the polypropylene resin can have a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 3.0 or more and a <2,1> erythro site defect of 0.1 mol% or less, and it is preferable to use such a polypropylene resin.

本発明のポリプロピレンフィルムは、キシレンでポリプロピレンフィルムを完全に溶解せしめた後、室温で析出させたときに、キシレン中に溶解しているポリプロピレン成分(CXS、冷キシレン可溶部とも言う)が3.0質量%以下であることが好ましい。ここでCXSは、立体規則性が低い、分子量が低い等の理由で結晶化し難い成分が該当すると考えられる。CXSを3.0質量%以下、より好ましくは1.5質量%以下、さらに好ましくは1.3質量%以下、特に好ましくは1.1質量%以下、最も好ましくは0.9質量%以下とすることで、フィルムの耐熱性や高温での耐電圧性、あるいは絶縁破壊電圧を高めることができる。そのため、コンデンサに使用した場合において、高温環境下での緩和が抑えられて熱寸法安定性が向上し、もれ電流を抑えることができる。またCXSの下限は特に限定されないが、0.1質量%であることが実用的である。CXSを0.1質量%未満にしようとすると、製膜時の延伸性が悪化し破れを生じたりする場合がある。 In the polypropylene film of the present invention, the polypropylene component (CXS, also referred to as a cold xylene-soluble portion) dissolved in xylene is contained in the polypropylene film when the polypropylene film is completely dissolved with xylene and then precipitated at room temperature. It is preferably 0% by mass or less. Here, it is considered that CXS corresponds to a component that is difficult to crystallize due to reasons such as low stereoregularity and low molecular weight. CXS is 3.0% by mass or less, more preferably 1.5% by mass or less, further preferably 1.3% by mass or less, particularly preferably 1.1% by mass or less, and most preferably 0.9% by mass or less. This makes it possible to increase the heat resistance of the film, the withstand voltage at high temperatures, or the dielectric breakdown voltage. Therefore, when it is used for a capacitor, relaxation in a high temperature environment is suppressed, thermal dimensional stability is improved, and leakage current can be suppressed. Further, the lower limit of CXS is not particularly limited, but it is practical that it is 0.1% by mass. If the CXS is set to less than 0.1% by mass, the stretchability during film formation may deteriorate and tearing may occur.

CXSの含有量を上記のような範囲とするには、使用するポリプロピレン樹脂を得る際の触媒活性を高める方法、得られたポリプロピレン樹脂を溶媒あるいはプロピレンモノマー自身で洗浄する方法等が使用できる。 In order to keep the CXS content in the above range, a method of increasing the catalytic activity when obtaining the polypropylene resin to be used, a method of washing the obtained polypropylene resin with a solvent or the propylene monomer itself, or the like can be used.

本発明のポリプロピレンフィルムは、130℃での絶縁破壊電圧が350V/μm以上であることが好ましい。この絶縁破壊電圧を350V/μm以上、より好ましくは375V/μm以上、さらに好ましくは400V/μm以上、さらに好ましくは420V/μm以上とすることで、コンデンサとしたときに特に高温環境で長時間の使用でもショート破壊を引き起こし難くなるため、耐電圧性が維持され、高い信頼性を得ることができる。130℃での絶縁破壊電圧の上限は特に限定されないが、800V/μm程度である。 The polypropylene film of the present invention preferably has a breakdown voltage of 350 V / μm or more at 130 ° C. By setting the breakdown voltage to 350 V / μm or more, more preferably 375 V / μm or more, further preferably 400 V / μ m or more, still more preferably 420 V / μ m or more, the capacitor can be used for a long time especially in a high temperature environment. Since it is difficult to cause short circuit breakdown even in use, withstand voltage resistance can be maintained and high reliability can be obtained. The upper limit of the dielectric breakdown voltage at 130 ° C. is not particularly limited, but is about 800 V / μm.

130℃でのフィルム絶縁破壊電圧を上記の範囲に制御するには、例えば後述するように、ポリプロピレン原料Aとして高メソペンタッド分率、かつ冷キシレン可溶部(CXS)が3.0質量%未満の原料を使用し、長手方向の延伸前に1.01~1.10倍の予備延伸を施し、二軸延伸時に面積延伸倍率を65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とし、二軸延伸後の熱固定処理および弛緩処理工程において、まず、幅方向の延伸温度より低温での熱処理(1段目)をしながら弛緩処理を行い、次いでフィルムを幅方向に緊張を保ったまま前記1段目の熱処理温度より低温で135℃以上の熱処理(2段目)、さらに80℃以上で前記2段目の熱処理温度未満の条件で熱処理(3段目)を施す多段方式の熱固定処理および弛緩処理をフィルムに適宜施すことにより達成可能である。 In order to control the film insulation breakdown voltage at 130 ° C. within the above range, for example, as will be described later, the polypropylene raw material A has a high mesopentad fraction and the cold xylene soluble part (CXS) is less than 3.0% by mass. Using raw materials, pre-stretching 1.01 to 1.10 times is performed before stretching in the longitudinal direction, the area stretching ratio is 65 times or more during biaxial stretching, and the stretching ratio in the width direction is 11.0 times or more. In the heat fixing treatment and relaxation treatment step after biaxial stretching, first, the relaxation treatment is performed while performing heat treatment (first stage) at a temperature lower than the stretching temperature in the width direction, and then the film is kept tense in the width direction. A multi-stage method in which heat treatment is performed at a temperature lower than the heat treatment temperature of the first stage at 135 ° C. or higher (second stage), and further at 80 ° C. or higher under conditions lower than the heat treatment temperature of the second stage (third stage). This can be achieved by appropriately applying heat treatment and relaxation treatment to the film.

本発明のポリプロピレンフィルムは、表面処理が施されていることが好ましい。ポリプロピレンフィルムは通常、表面エネルギーが低く、金属蒸着を安定的に施すことが困難である。そのため、金属膜との接着性を改善する目的で、蒸着前に表面処理を行うことが好ましい。表面処理とは具体的にコロナ放電処理、プラズマ処理、グロー処理、火炎処理等が例示される。 The polypropylene film of the present invention is preferably surface-treated. Polypropylene film usually has a low surface energy, and it is difficult to stably apply metal vapor deposition. Therefore, it is preferable to perform surface treatment before vapor deposition for the purpose of improving the adhesiveness with the metal film. Specific examples of the surface treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, glow treatment, flame treatment and the like.

通常ポリプロピレンフィルムの表面濡れ張力は30mN/m程度であるが、本発明のポリプロピレンフィルムは、これらの表面処理によって、濡れ張力を好ましくは37~75mN/m、より好ましくは39~65mN/m、さらに好ましくは41~55mN/m程度とすることが、金属膜との接着性に優れ、コンデンサとしての保安性も良好となるので好ましい。 Normally, the surface wetting tension of a polypropylene film is about 30 mN / m, but the polypropylene film of the present invention has a wetting tension of preferably 37 to 75 mN / m, more preferably 39 to 65 mN / m, and further, by these surface treatments. It is preferable that the temperature is about 41 to 55 mN / m because the adhesiveness to the metal film is excellent and the safety as a capacitor is also good.

本発明のポリプロピレンフィルムは、フィルム厚みが0.5μm以上25μm未満であることが好ましい。フィルム厚みを0.5μm以上25μm未満、より好ましくは0.6μm以上6μm以下、さらに好ましくは0.8μm以上4μm以下、さらに好ましくは1μm以上2.5μm以下とすることで、高温環境下での耐電圧特性と薄膜化によるコンデンササイズの小型化のバランスに優れ、特に高温環境下で用いられる自動車用途(ハイブリッドカー用途含む)等に要求される薄膜の耐熱フィルムコンデンサ用に好適である。 The polypropylene film of the present invention preferably has a film thickness of 0.5 μm or more and less than 25 μm. By setting the film thickness to 0.5 μm or more and less than 25 μm, more preferably 0.6 μm or more and 6 μm or less, further preferably 0.8 μm or more and 4 μm or less, and further preferably 1 μm or more and 2.5 μm or less, the film resistance in a high temperature environment. It has an excellent balance between voltage characteristics and miniaturization of the capacitor size due to thinning, and is particularly suitable for thin-film heat-resistant film capacitors required for automobile applications (including hybrid car applications) used in high-temperature environments.

フィルム厚みは、例えば、押出吐出量、キャスティングドラムの回転速度、口金のリップ間隙、延伸倍率を調整すること等により、調整することができる。より具体的には、押出吐出量を少なくする、キャスティングドラムの回転速度を上げること、口金のリップ間隙を狭めること、延伸倍率を高めること等により、小さくすることができる。なお、これらの方法は適宜併用することもできる。 The film thickness can be adjusted by, for example, adjusting the extrusion discharge amount, the rotation speed of the casting drum, the lip gap of the base, the stretching ratio, and the like. More specifically, it can be reduced by reducing the extrusion discharge amount, increasing the rotation speed of the casting drum, narrowing the lip gap of the base, increasing the stretching ratio, and the like. In addition, these methods can be used together as appropriate.

本発明のポリプロピレンフィルムは単層フィルムの態様であることが好ましいが、積層フィルムの態様であってもよい。 The polypropylene film of the present invention is preferably in the form of a single-layer film, but may be in the form of a laminated film.

本発明のポリプロピレンフィルムは、コンデンサ用誘電体フィルムとして好ましく用いられるものであるが、コンデンサのタイプは種々のものに用いることができる。具体的には、電極構成の観点では金属箔とフィルムとの合わせ巻きコンデンサ、金属蒸着フィルムコンデンサのいずれであってもよいし、絶縁油を含浸させた油浸タイプのコンデンサや絶縁油を全く使用しない乾式コンデンサにも好ましく用いられる。本発明のフィルムの特性を活かす観点からは、金属蒸着フィルムコンデンサとして特に好ましく使用される。コンデンサにおけるフィルムの形状としては、捲回式であっても積層式であってもよい。 The polypropylene film of the present invention is preferably used as a dielectric film for a capacitor, but various types of capacitors can be used. Specifically, from the viewpoint of the electrode configuration, it may be either a combined winding capacitor of a metal foil and a film or a metal vapor-deposited film capacitor, and an oil-immersed type capacitor impregnated with insulating oil or insulating oil is completely used. It is also preferably used for dry capacitors that do not. From the viewpoint of utilizing the characteristics of the film of the present invention, it is particularly preferably used as a metal-deposited film capacitor. The shape of the film in the capacitor may be a winding type or a laminated type.

本発明のポリプロピレンフィルムを製造する方法について、例を挙げて説明する。 The method for producing the polypropylene film of the present invention will be described with reference to an example.

先ず、本発明のポリプロピレンフィルムに用いると好ましい原料について説明する。前述のように、本発明ポリプロピレンフィルムを得るために、複数の種類の、特に数平均分子量の異なるポリプロピレン原料を用いることが好ましい。 First, a raw material preferable to be used for the polypropylene film of the present invention will be described. As described above, in order to obtain the polypropylene film of the present invention, it is preferable to use a plurality of types of polypropylene raw materials having different number average molecular weights.

ポリプロピレン原料Aは、直鎖状のポリプロピレンであって、後述するポリプロピレン原料Bよりも数平均分子量(Mn)の小さいものを指す。ポリプロピレン原料AのMnは、フィルムを二軸延伸する観点から、3万(3.0×10)以上が好ましく、4万(4.0×10)以上がより好ましく、5万(5.0×10)以上がさらに好ましい。またポリプロピレン原料AのMnは、高温環境での熱安定性を得る観点から、9万(9.0×10)以下が好ましく、8万(8.0×10)以下がより好ましい。 The polypropylene raw material A refers to linear polypropylene having a smaller number average molecular weight (Mn) than the polypropylene raw material B described later. The Mn of the polypropylene raw material A is preferably 30,000 (3.0 × 10 4 ) or more, more preferably 40,000 (4.0 × 10 4 ) or more, and 50,000 (5. 0 × 10 4 ) or more is more preferable. The Mn of the polypropylene raw material A is preferably 90,000 (9.0 × 10 4 ) or less, more preferably 80,000 (8.0 × 10 4 ) or less, from the viewpoint of obtaining thermal stability in a high temperature environment.

ポリプロピレン原料AのZ+1平均分子量(Mz+1)は、フィルムを二軸延伸する観点から、100万(1.0×10)以上が好ましく、150万(1.5×10)以上がより好ましい。また、ポリプロピレン原料AのMz+1は、高温環境での熱安定性を得る観点から、250万(2.5×10)以下が好ましく、200万(2.0×10)以下がより好ましい。 The Z + 1 average molecular weight (M z + 1 ) of the polypropylene raw material A is preferably 1 million (1.0 × 106 ) or more, and more preferably 1.5 million (1.5 × 106 ) or more from the viewpoint of biaxially stretching the film. .. Further, the Mz + 1 of the polypropylene raw material A is preferably 2.5 million (2.5 × 106 ) or less, more preferably 2 million (2.0 × 106 ) or less, from the viewpoint of obtaining thermal stability in a high temperature environment. ..

ポリプロピレン原料Aは、冷キシレン可溶部(以下、CXS)が3質量%以下であることが好ましい。CXSを3.0質量%以下、より好ましくは2.0質量%以下、さらに好ましくは1.5質量%以下、さらに好ましくは1.0質量%以下とすることで、製膜安定性に優れ、フィルムの強度、寸法安定性、および耐熱性が向上する。CXSは低いほど好ましいが、0.1質量%程度が下限である。 The polypropylene raw material A preferably has a cold xylene-soluble portion (hereinafter, CXS) of 3% by mass or less. By setting the CXS to 3.0% by mass or less, more preferably 2.0% by mass or less, further preferably 1.5% by mass or less, still more preferably 1.0% by mass or less, the film forming stability is excellent. Improves film strength, dimensional stability, and heat resistance. The lower the CXS, the more preferable, but the lower limit is about 0.1% by mass.

CXSの含有量を上記のような範囲内とするには、樹脂を得る際の触媒活性を高める方法、得られた樹脂を溶媒あるいはオレフィンモノマー自身で洗浄する方法が使用できる。 In order to keep the CXS content within the above range, a method of increasing the catalytic activity when obtaining the resin and a method of washing the obtained resin with a solvent or the olefin monomer itself can be used.

ポリプロピレン原料Aのメソペンタッド分率は0.970以上であることが好ましい。メソペンタッド分率は核磁気共鳴法(NMR法)で測定されるポリプロピレンの結晶相の立体規則性を示す指標であり、メソペンタッド分率を0.970以上、より好ましくは0.975以上、さらに好ましくは0.980以上、さらに好ましくは0.983以上とすることで、結晶化度や融点が高くなり、高温での使用に適する。メソペンタッド分率の上限については特に規定するものではない。 The mesopentad fraction of the polypropylene raw material A is preferably 0.970 or more. The mesopentad fraction is an index showing the stereoregularity of the crystal phase of polypropylene measured by a nuclear magnetic resonance method (NMR method), and the mesopentad fraction is 0.970 or more, more preferably 0.975 or more, still more preferably. When it is 0.980 or more, more preferably 0.983 or more, the crystallinity and the melting point become high, and it is suitable for use at a high temperature. The upper limit of the mesopentad fraction is not specified.

メソペンタッド分率の高いポリプロピレン樹脂を得るには、例えばn-ヘプタン等の溶媒で得られた樹脂パウダーを洗浄する方法や、触媒および/または助触媒の選定、組成の選定を適宜行う方法等が好ましく採用される。 In order to obtain a polypropylene resin having a high mesopentad fraction, for example, a method of washing the resin powder obtained with a solvent such as n-heptane, a method of appropriately selecting a catalyst and / or a co-catalyst, and a method of appropriately selecting a composition are preferable. Will be adopted.

ポリプロピレン原料Aのチップの融点(樹脂の融点を意味する。以下同様とする。)としては、160℃以上が好ましい。チップの融点を160℃以上、より好ましくは163℃以上、さらに好ましくは166℃以上とすることで、フィルムとした際に高温環境下での耐電圧特性を効果的に得ることができる。 The melting point of the chip of the polypropylene raw material A (meaning the melting point of the resin; the same applies hereinafter) is preferably 160 ° C. or higher. By setting the melting point of the chip to 160 ° C. or higher, more preferably 163 ° C. or higher, still more preferably 166 ° C. or higher, it is possible to effectively obtain withstand voltage characteristics in a high temperature environment when the film is formed.

チップ融点は、チップを示差走査熱量計DSCで30℃から260℃まで20℃/minで昇温した際に得られる融解ピーク温度とする。融解ピーク温度が前記温度範囲の中で2つ以上観測される場合や、ショルダーと言われる多段型のDSCチャートに観測できるピーク温度(2つ以上のピークが重なり合ったチャートの場合に観測される)の場合があるが、本発明においてはDSCチャートの縦軸熱流(単位:mW)の絶対値が最も大きいピークの温度をチップ融点とする。 The melting point of the chip is the melting peak temperature obtained when the chip is heated from 30 ° C. to 260 ° C. at 20 ° C./min with a differential scanning calorimeter DSC. When two or more melting peak temperatures are observed within the above temperature range, or when the peak temperature can be observed on a multi-stage DSC chart called a shoulder (observed when two or more peaks overlap). However, in the present invention, the temperature of the peak having the largest absolute value of the vertical axis heat flow (unit: mW) of the DSC chart is defined as the chip melting point.

本発明のポリオレフィンフィルムの原料におけるポリプロピレン原料Aの割合としては、ポリオレフィンフィルムに対してポリプロピレン原料Aが主成分、すなわち最も多いことが好ましい。 As for the ratio of the polypropylene raw material A in the raw material of the polyolefin film of the present invention, it is preferable that the polypropylene raw material A is the main component, that is, the largest amount with respect to the polyolefin film.

本発明のポリオレフィンフィルムの原料には、フィルムとした際に高温環境下での耐電圧特性を効果的に得る観点から、ポリプロピレン原料Aの他に、ポリプロピレン原料Aよりも数平均分子量(Mn)の大きいポリプロピレン原料Bを含むことも好ましい。 The raw material for the polyolefin film of the present invention has a number average molecular weight (Mn) higher than that of the polypropylene raw material A in addition to the polypropylene raw material A from the viewpoint of effectively obtaining withstand voltage characteristics in a high temperature environment when the film is made. It is also preferable to include a large polypropylene raw material B.

ポリプロピレン原料Bの数平均分子量(Mn)は、フィルムを二軸延伸する観点から、5万(5.0×10)以上が好ましく、6万(6.0×10)以上がより好ましく、7万(7.0×10)以上がさらに好ましい。一方、フィルムの高温環境での熱安定性を得る観点から、ポリプロピレン原料BのMnは12万(12.0×10)以下が好ましく11万(11.0×10)以下がより好ましく、10万(10.0×10)以下がさらに好ましい。 The number average molecular weight (Mn) of the polypropylene raw material B is preferably 50,000 (5.0 × 10 4 ) or more, more preferably 60,000 (6.0 × 10 4 ) or more, from the viewpoint of biaxially stretching the film. More preferably 70,000 (7.0 × 104 ) or more. On the other hand, from the viewpoint of obtaining thermal stability of the film in a high temperature environment, the Mn of the polypropylene raw material B is preferably 120,000 (12.0 × 10 4 ) or less, more preferably 110,000 (11.0 × 10 4 ) or less. More preferably, it is 100,000 ( 10.0 × 104) or less.

ポリプロピレン原料BのMnはポリプロピレン原料AのMnよりも大きく、1万(1.0×10)以上大きいことが好ましく、2万(2.0×10)以上大きいことがより好ましい。 The Mn of the polypropylene raw material B is larger than the Mn of the polypropylene raw material A, preferably 10,000 (1.0 × 10 4 ) or more, and more preferably 20,000 (2.0 × 10 4 ) or more.

ポリプロピレン原料BのZ+1平均分子量(Mz+1)は、フィルムを二軸延伸する観点から、250万(2.5×10)以上が好ましく、350万(3.5×10)以上がより好ましく、400万(4.0×10)以上がさらに好ましく、450万(4.5×10)以上がさらに好ましい。一方、フィルムの高温環境での熱安定性を得る観点から、ポリプロピレン原料BのMz+1は、800万(8.0×10)以下が好ましく、700万(7.0×10)以下がより好ましい。 The Z + 1 average molecular weight (M z + 1 ) of the polypropylene raw material B is preferably 2.5 million (2.5 × 106 ) or more, and more preferably 3.5 million (3.5 × 106 ) or more from the viewpoint of biaxially stretching the film. , 4 million (4.0 × 106 ) or more is more preferable, and 4.5 million (4.5 × 106 ) or more is further preferable. On the other hand, from the viewpoint of obtaining thermal stability of the film in a high temperature environment, the Mz + 1 of the polypropylene raw material B is preferably 8 million (8.0 × 106 ) or less, and 7 million (7.0 × 106 ) or less. More preferred.

ポリプロピレン原料BのMz+1は、フィルムの高温環境での熱安定性を得る観点から、ポリプロピレン原料AのMz+1平均分子量よりも大きいことが好ましく、50万(0.5×10)以上大きいことがより好ましく、100万(1.0×10)以上大きいことがさらに好ましく、150万(1.5×10)以上大きいことがさらに好ましい。 The M z + 1 of the polypropylene raw material B is preferably larger than the M z + 1 average molecular weight of the polypropylene raw material A from the viewpoint of obtaining the thermal stability of the film in a high temperature environment, and is larger than 500,000 (0.5 × 106 ). Is more preferable, and it is more preferable that it is larger by 1 million (1.0 × 106 ) or more, and it is further preferable that it is larger by 1.5 million (1.5 × 106 ) or more.

ポリプロピレン原料Bは、冷キシレン可溶部(CXS)の含有量が4.0質量%以下であることが好ましい。ポリプロピレン原料BにおけるCXSの含有量を4.0質量%以下、より好ましくは3.0質量%以下とすることで、製膜安定性に優れ、フィルムの強度が向上し、寸法安定性および耐熱性も向上する。CXSは低いほど好ましいが、0.1質量%程度が下限である。 The polypropylene raw material B preferably has a cold xylene soluble portion (CXS) content of 4.0% by mass or less. By setting the CXS content in the polypropylene raw material B to 4.0% by mass or less, more preferably 3.0% by mass or less, the film forming stability is excellent, the strength of the film is improved, and the dimensional stability and heat resistance are improved. Also improves. The lower the CXS, the more preferable, but the lower limit is about 0.1% by mass.

CXSの含有量を上記のような範囲内とするには、樹脂を得る際の触媒活性を高める方法、得られた樹脂を溶媒あるいはオレフィンモノマー自身で洗浄する方法が使用できる。 In order to keep the CXS content within the above range, a method of increasing the catalytic activity when obtaining the resin and a method of washing the obtained resin with a solvent or the olefin monomer itself can be used.

ポリプロピレン原料Bのメソペンタッド分率は0.940以上であることが好ましく、より好ましくは0.95以上、更に好ましくは0.960以上である。 The mesopentad fraction of the polypropylene raw material B is preferably 0.940 or more, more preferably 0.95 or more, still more preferably 0.960 or more.

ポリプロピレン原料Bのチップの融点としては、160℃以上が好ましい。チップの融点を160℃以上、より好ましくは162℃以上、さらに好ましくは164℃以上とすることで、フィルムとした際に高温環境下での耐電圧特性を効果的に高めることができる。 The melting point of the chip of the polypropylene raw material B is preferably 160 ° C. or higher. By setting the melting point of the chip to 160 ° C. or higher, more preferably 162 ° C. or higher, still more preferably 164 ° C. or higher, the withstand voltage characteristics in a high temperature environment can be effectively enhanced when the film is formed.

本発明のポリプロピレンフィルムの原料におけるポリプロピレン樹脂Bの含有量としては、ポリプロピレンフィルム100質量%において1質量%以上30質量%以下であることが好ましい。ポリプロピレン原料Bの含有量は2質量%以上がより好ましい。また、ポリプロピレン原料Bの含有量は25質量%以下がより好ましく、20質量%以下がさらに好ましい。 The content of the polypropylene resin B in the raw material of the polypropylene film of the present invention is preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less in 100% by mass of the polypropylene film. The content of the polypropylene raw material B is more preferably 2% by mass or more. Further, the content of the polypropylene raw material B is more preferably 25% by mass or less, further preferably 20% by mass or less.

ポリプロピレン原料Bの数平均分子量(Mn)、Z+1平均分子量(Mz+1)、冷キシレン可溶分(CXS)、メソペンタッド分率、チップ融点、および含有量を上記した好ましい範囲とし、さらに延伸前に長手方向に1.01~1.10倍の予備延伸を施し、二軸延伸時に面積延伸倍率を65倍以上で、かつ幅方向の延伸倍率は11.0倍以上とし、二軸延伸後の熱固定処理および弛緩処理工程において、まず、幅方向の延伸温度より低温での熱処理(1段目)をしながら弛緩処理を行い、次いでフィルムを幅方向に緊張を保ったまま前記1段目の熱処理温度より低温で135℃以上の熱処理(2段目)、さらに80℃以上で前記2段目の熱処理温度未満の条件で熱処理(3段目)を施す多段方式の熱固定処理および弛緩処理をフィルムに適宜施すことによって、ポリプロピレン原料Aとの粘度差によって表面に適度な突起が形成され、さらに結晶と結晶を結ぶタイ分子の数が増えることで、延伸倍率を高めた際に分子鎖の配向が高まりやすくなり、高温環境下での非晶鎖の拘束力を高めることができる。 The number average molecular weight (Mn), Z + 1 average molecular weight (M z + 1 ), cold xylene soluble component (CXS), mesopentad fraction, chip melting point, and content of the polypropylene raw material B were set in the above-mentioned preferable ranges, and were further lengthened before stretching. Preliminary stretching of 1.01 to 1.10 times is applied in the direction, the area stretching ratio is 65 times or more at the time of biaxial stretching, and the stretching ratio in the width direction is 11.0 times or more. In the treatment and relaxation treatment steps, first, the relaxation treatment is performed while performing the heat treatment (first stage) at a temperature lower than the stretching temperature in the width direction, and then the heat treatment temperature of the first stage while maintaining the tension in the width direction of the film. The film is subjected to a multi-stage heat fixing treatment and relaxation treatment in which heat treatment at a lower temperature of 135 ° C. or higher (second stage) and heat treatment at 80 ° C. or higher below the heat treatment temperature of the second stage (third stage) are performed. When appropriately applied, appropriate protrusions are formed on the surface due to the difference in viscosity from the polypropylene raw material A, and the number of tie molecules connecting the crystals increases, so that the orientation of the molecular chains increases when the draw ratio is increased. It becomes easier and the binding force of the amorphous chain in a high temperature environment can be enhanced.

本発明のポリオレフィンフィルムは、ポリプロピレン原料Aおよびポリプロピレン原料Bの他に、分岐鎖状のポリプロピレン原料Cを含んでもよい。 The polyolefin film of the present invention may contain a branched polypropylene raw material C in addition to the polypropylene raw material A and the polypropylene raw material B.

ポリプロピレン原料Cには、チーグラー・ナッタ触媒系やメタロセン系触媒系など、複数の製造方法があるが、ポリプロピレン原料Aやポリプロピレン原料Bと合わせて用いる観点において、低分子量成分、高分子量成分が少なく、分子量分布の狭いメタロセン触媒系がより好ましい。 The polypropylene raw material C has a plurality of manufacturing methods such as a Ziegler-Natta catalyst system and a metallocene catalyst system, but from the viewpoint of being used in combination with the polypropylene raw material A and the polypropylene raw material B, there are few low molecular weight components and high molecular weight components. A metallocene catalyst system having a narrow molecular weight distribution is more preferable.

ポリプロピレン原料Cの市販品として、具体的には例えば、Lyondell Basell社製“Profax”(登録商標)(PF-814など)、メタロセン触媒系としては、Borealis社製“Daploy”(商標)(WB130HMS、WB135HMS、WB140HMSなど)や日本ポリプロ(株)社製、“WAYMAX”(登録商標)(MFX8、MFX6、MFX3など)を適宜選択の上、使用することができる。 As a commercially available product of polypropylene raw material C, specifically, for example, "Protax" (registered trademark) (PF-814, etc.) manufactured by Lyondell Basell, and as a metallocene catalyst system, "Daplay" (trademark) (WB130HMS) manufactured by Borearis. WB135HMS, WB140HMS, etc.) and "WAYMAX" (registered trademark) (MFX8, MFX6, MFX3, etc.) manufactured by Japan Polypropylene Corporation can be appropriately selected and used.

ポリプロピレン原料Cは、CXSが5.0質量%以下であることが好ましく、より好ましくは3.0質量%以下である。CXSは低いほど好ましいが、0.1質量%程度が下限である。CXSをこのような範囲に制御するには、樹脂を得る際の触媒活性を高める方法、得られた樹脂を溶媒あるいはオレフィンモノマー自身で洗浄する方法が使用できる。 The polypropylene raw material C preferably has a CXS of 5.0% by mass or less, more preferably 3.0% by mass or less. The lower the CXS, the more preferable, but the lower limit is about 0.1% by mass. In order to control CXS in such a range, a method of increasing the catalytic activity when obtaining the resin and a method of washing the obtained resin with a solvent or the olefin monomer itself can be used.

ポリプロピレン原料Cは、230℃における溶融張力が2cN以上40cN以下であることが延伸均一性の観点の観点から好ましい。溶融張力は3cN以上であることがより好ましく、5cN以上がさらに好ましい。また、30cN以下がより好ましく、20cN以下がさらに好ましい。ポリプロピレン原料Cの溶融張力を上記の範囲内とするためには、平均分子量や分子量分布、ポリプロピレン原料中の分岐度を制御する方法などを採用することができる。 The polypropylene raw material C preferably has a melt tension of 2 cN or more and 40 cN or less at 230 ° C. from the viewpoint of stretching uniformity. The melting tension is more preferably 3 cN or more, further preferably 5 cN or more. Further, 30 cN or less is more preferable, and 20 cN or less is further preferable. In order to keep the melt tension of the polypropylene raw material C within the above range, a method of controlling the average molecular weight, the molecular weight distribution, the degree of branching in the polypropylene raw material, or the like can be adopted.

本発明のポリプロピレンフィルムの原料における、ポリプロピレン樹脂Cの含有量としては、ポリプロピレンフィルム100質量%において0.10質量%以上が好ましい。ポリプロピレン原料Cの含有量は0.15質量%以上がより好ましく、0.20質量%以上がさらに好ましく、0.50質量%以上がさらに好ましい。また、ポリプロピレン原料Cの含有量は10質量%以下が好ましく、4.5質量%以下がより好ましく、3.0質量%以下がさらに好ましい。ポリプロピレン樹脂Cの含有量を上記の範囲とすると、溶融ポリマーをシート状に形成する際に球晶サイズが大きくなり過ぎるのを防ぎ、高温耐電圧を保つことができる。 The content of the polypropylene resin C in the raw material of the polypropylene film of the present invention is preferably 0.10% by mass or more in 100% by mass of the polypropylene film. The content of the polypropylene raw material C is more preferably 0.15% by mass or more, further preferably 0.20% by mass or more, still more preferably 0.50% by mass or more. The content of the polypropylene raw material C is preferably 10% by mass or less, more preferably 4.5% by mass or less, still more preferably 3.0% by mass or less. When the content of the polypropylene resin C is within the above range, it is possible to prevent the spherulite size from becoming too large when the molten polymer is formed into a sheet, and to maintain a high temperature withstand voltage.

以下、上述のような原料を用いて本発明のポリプロピレンフィルムを製造する方法をより具体的に説明するが、本発明は必ずしもこれに限定して解釈されるものではない。 Hereinafter, the method for producing the polypropylene film of the present invention using the above-mentioned raw materials will be described more specifically, but the present invention is not necessarily limited to this.

上述のようなポリプロピレン樹脂を支持体上に溶融押出して未延伸ポリプロピレンフィルムとすることができる。 The polypropylene resin as described above can be melt-extruded onto the support to obtain an unstretched polypropylene film.

ポリプロピレン原料を押出温度として好ましくは220℃以上280℃以下、より好ましくは230℃以上270℃以下に設定した単軸押出機から溶融押出し濾過フィルタを通した後、好ましくは200℃以上260℃以下、より好ましくは210℃以上240℃以下の温度でスリット状口金から押し出す。スリット状口金から押し出された溶融シートは、30℃以上110℃以下の温度に制御されたキャスティングドラム(冷却ドラム)上で固化され、未延伸ポリプロピレンフィルムとなる。溶融シートのキャスティングドラムへの密着方法としては静電印加法、水の表面張力を利用した密着方法、エアーナイフ法、プレスロール法、水中キャスト法、エアーチャンバー法などのうちいずれの手法を用いてもよいが、平面性が良好でかつ表面粗さの制御が可能なエアーナイフ法が好ましい。また、フィルムの振動を生じさせないために製膜下流側にエアーが流れるようにエアーナイフの位置を適宜調整することが好ましい。キャスティングドラムの温度は、フィルムとしたときに表面の凹みが少なく、適度な易滑性を持つことで素子加工性の向上と耐電圧性の向上をはかる観点から、より好ましくは60℃以上110℃以下、さらに好ましくは80℃以上110℃以下である。 After passing through a melt extrusion filtration filter from a single-screw extruder in which the polypropylene raw material is preferably set to an extrusion temperature of 220 ° C. or higher and 280 ° C. or lower, more preferably 230 ° C. or higher and 270 ° C. or lower, the temperature is preferably 200 ° C. or higher and 260 ° C. or lower. More preferably, it is extruded from the slit-shaped mouthpiece at a temperature of 210 ° C. or higher and 240 ° C. or lower. The molten sheet extruded from the slit-shaped mouthpiece is solidified on a casting drum (cooling drum) controlled to a temperature of 30 ° C. or higher and 110 ° C. or lower to become an unstretched polypropylene film. As a method of adhering the molten sheet to the casting drum, any of the electrostatic application method, the adhesion method using the surface tension of water, the air knife method, the press roll method, the underwater casting method, the air chamber method, etc. is used. However, the air knife method having good flatness and control of surface roughness is preferable. Further, it is preferable to appropriately adjust the position of the air knife so that air flows to the downstream side of the film formation so as not to cause vibration of the film. The temperature of the casting drum is more preferably 60 ° C or higher and 110 ° C from the viewpoint of improving element workability and withstand voltage by having less dents on the surface when made into a film and having appropriate slipperiness. Below, it is more preferably 80 ° C. or higher and 110 ° C. or lower.

未延伸ポリプロピレンフィルムを、二軸延伸、熱処理および弛緩処理することによって、二軸配向ポリプロピレンフィルムを得ることができる。 A biaxially oriented polypropylene film can be obtained by biaxially stretching, heat treating and relaxing the unstretched polypropylene film.

二軸延伸の方法としては、インフレーション同時二軸延伸法、テンター同時二軸延伸法、テンター逐次二軸延伸法のいずれによっても得られるが、その中でも、フィルムの製膜安定性、結晶・非晶構造、表面特性、特に本発明の幅方向に延伸倍率を高めながら機械特性および熱寸法安定性を制御する点においてテンターによる逐次二軸延伸法を採用することが好ましい。逐次二軸延伸においては、未延伸ポリプロピレンフィルムを長手方向に延伸し、次いで幅方向に延伸する。 As a method of biaxial stretching, any of the inflation simultaneous biaxial stretching method, the tenter simultaneous biaxial stretching method, and the tenter sequential biaxial stretching method can be obtained. Among them, the film formation stability and crystal / amorphous of the film are obtained. It is preferable to adopt the sequential biaxial stretching method using a tenter in terms of controlling the mechanical properties and thermal dimensional stability while increasing the structure and surface characteristics, particularly the stretching ratio in the width direction of the present invention. In the sequential biaxial stretching, the unstretched polypropylene film is stretched in the longitudinal direction and then in the width direction.

縦延伸工程において、予備延伸と本延伸の多段延伸を施すことが好ましい。未延伸ポリプロピレンフィルムを好ましくは70℃以上150℃以下、より好ましくは80℃以上145℃以下に保たれたロール間に通して予熱し、長手方向に1.01倍以上1.10倍以下の予備延伸を行う。これにより未延伸シートの球晶破壊が適度に進み分子鎖が予備配向することで、続く本延伸後に得られる延伸フィルムの結晶子サイズ、結晶配向および非晶鎖の拘束がより高まる。そのため、フィルムの耐電圧を向上させ、高温環境においても安定した構造とすることができる。 In the longitudinal stretching step, it is preferable to perform pre-stretching and multi-step stretching of the main stretching. The unstretched polypropylene film is preheated by passing it between rolls kept at preferably 70 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or higher and 145 ° C. or lower, and reserves 1.01 times or more and 1.10 times or less in the longitudinal direction. Perform stretching. As a result, the spherulite fracture of the unstretched sheet proceeds appropriately and the molecular chains are pre-oriented, so that the crystallite size, crystal orientation and amorphous chain restraint of the stretched film obtained after the subsequent main stretching are further enhanced. Therefore, the withstand voltage of the film can be improved and a stable structure can be obtained even in a high temperature environment.

引き続き長手方向に予備延伸されたポリプロピレンフィルムを好ましくは70℃以上150℃以下、より好ましくは80℃以上145℃以下の温度に保たれたロール間にて、長手方向に好ましくは2.0倍以上15.0倍以下、より好ましくは4.5倍以上12.0倍以下、さらに好ましくは5.5倍以上10.0倍以下に本延伸した後、室温まで冷却する。 The polypropylene film pre-stretched in the longitudinal direction is preferably kept at a temperature of 70 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or higher and 145 ° C. or lower, preferably 2.0 times or more in the longitudinal direction. After main stretching to 15.0 times or less, more preferably 4.5 times or more and 12.0 times or less, still more preferably 5.5 times or more and 10.0 times or less, the mixture is cooled to room temperature.

次いで長手方向に一軸延伸せしめたフィルムの幅方向両端部をクリップで把持したまま、テンターに導く。ここで本発明においては幅方向へ延伸する直前の予熱工程の温度を好ましくは幅方向の延伸温度+5~+15℃、より好ましくは+5~+12℃、さらに好ましくは+5~+10℃とすることが好ましい。一軸延伸で長手方向に高配向したフィブリル構造をさらに強化でき、フィルム加熱前後での絶縁破壊電圧の変化を抑制できるためである。また、温度条件を上記の通りとすることは、一軸延伸後、配向が不十分な分子鎖を高温予熱で安定化させることで熱寸法安定性が向上できる観点でも好ましい。予熱温度を延伸温度+5℃以上とすることで、フィルム加熱前後での絶縁破壊電圧の変化を抑制でき、熱寸法安定性の向上が効果的に得られる。一方、予熱温度を延伸温度+15℃以下とすることで、延伸工程でフィルムが破れるのを抑えることができる。 Next, the film is guided to the tenter while gripping both ends in the width direction of the film stretched uniaxially in the longitudinal direction with clips. Here, in the present invention, the temperature of the preheating step immediately before stretching in the width direction is preferably set to a stretching temperature of +5 to + 15 ° C., more preferably +5 to + 12 ° C., still more preferably +5 to + 10 ° C. in the width direction. .. This is because the fibril structure highly oriented in the longitudinal direction can be further strengthened by uniaxial stretching, and the change in the dielectric breakdown voltage before and after the film heating can be suppressed. Further, it is preferable that the temperature conditions are as described above from the viewpoint that the thermal dimensional stability can be improved by stabilizing the molecular chain having insufficient orientation by high temperature preheating after uniaxial stretching. By setting the preheating temperature to the stretching temperature + 5 ° C. or higher, the change in the dielectric breakdown voltage before and after the film heating can be suppressed, and the thermal dimensional stability can be effectively improved. On the other hand, by setting the preheating temperature to the stretching temperature + 15 ° C. or lower, it is possible to suppress the film from being torn in the stretching step.

次いでフィルムの端部をクリップで把持したまま幅方向へ延伸する。その際の温度(幅方向の延伸温度)は好ましくは150℃以上170℃以下、より好ましくは155℃以上165℃以下である。 Then, the end of the film is stretched in the width direction while being gripped by the clip. The temperature at that time (stretching temperature in the width direction) is preferably 150 ° C. or higher and 170 ° C. or lower, more preferably 155 ° C. or higher and 165 ° C. or lower.

フィルム加熱前後での絶縁破壊電圧の変化を抑制する観点から、幅方向の延伸倍率としては、11.0倍以上20.0倍以下が好ましい。幅方向の延伸倍率を11.0倍以上、より好ましくは11.5倍以上、さらに好ましくは12.0倍以上とすることで、一軸延伸で長手方向に高配向したフィブリル構造の配向寄与を小さくし、フィルム加熱前後での絶縁破壊電圧の変化を効果的に抑制することができる。幅方向の延伸倍率を高めることにより、長手方向の高い配向状態を保ったまま幅方向の配向が付与されるため、面内の分子鎖緊張が高まり、さらに熱に対する構造安定性も向上できる。そのため、幅方向の延伸倍率を上記の通りとすることは、トレードオフとなる熱収縮特性を改善できる効果を得られると考察している観点で好ましい。他方、幅方向の延伸倍率を20.0倍以下、より好ましくは19.0倍以下、さらに好ましくは18.0倍以下とすることで、製膜時のフィルム破れを軽減できる。 From the viewpoint of suppressing changes in the dielectric breakdown voltage before and after heating the film, the draw ratio in the width direction is preferably 11.0 times or more and 20.0 times or less. By setting the stretching ratio in the width direction to 11.0 times or more, more preferably 11.5 times or more, still more preferably 12.0 times or more, the orientation contribution of the highly oriented fibril structure in the longitudinal direction by uniaxial stretching is reduced. However, changes in the dielectric breakdown voltage before and after heating the film can be effectively suppressed. By increasing the stretching ratio in the width direction, the orientation in the width direction is imparted while maintaining a high orientation state in the longitudinal direction, so that the molecular chain tension in the plane is increased and the structural stability with respect to heat can be improved. Therefore, it is preferable to set the draw ratio in the width direction as described above from the viewpoint of considering that the effect of improving the heat shrinkage characteristics, which is a trade-off, can be obtained. On the other hand, by setting the draw ratio in the width direction to 20.0 times or less, more preferably 19.0 times or less, still more preferably 18.0 times or less, film tearing during film formation can be reduced.

本発明のポリプロピレンフィルムの製造において、面積延伸倍率は65倍以上であることが好ましい。面積延伸倍率とは、長手方向の延伸倍率に幅方向の延伸倍率を乗じたものである。面積延伸倍率を65倍以上、より好ましくは66倍以上、さらに好ましくは68倍以上、さらに好ましくは72倍以上とすることで、フィルム加熱前後での絶縁破壊電圧の変化を抑制し、コンデンサとしたとき高温環境で長時間の使用信頼性に優れたものとすることができる。 In the production of the polypropylene film of the present invention, the area stretch ratio is preferably 65 times or more. The area stretch ratio is obtained by multiplying the stretch ratio in the longitudinal direction by the stretch ratio in the width direction. By setting the area stretch ratio to 65 times or more, more preferably 66 times or more, further preferably 68 times or more, still more preferably 72 times or more, the change in the dielectric breakdown voltage before and after film heating is suppressed, and a capacitor is used. When used in a high temperature environment for a long time, it can be used with excellent reliability.

本発明のポリプロピレンフィルムの製造においては、続く熱処理および弛緩処理工程ではクリップで幅方向を緊張把持したまま幅方向に2%以上20%以下の弛緩を与えつつ、145℃以上165℃以下、かつ幅方向の延伸温度未満の温度(1段目熱処理温度)で熱固定(1段目熱処理)した後に、再度クリップで幅方向を緊張把持したまま135℃以上、前記の熱固定温度(1段目熱処理温度)未満の条件で熱処理を施し(2段目熱処理)、さらに緊張把持したまま80℃以上、前記の熱固定温度(2段目熱処理温度)未満の条件で熱固定(3段目熱処理)を施す多段方式の熱処理を行うことが、フィルム加熱前後での絶縁破壊電圧の変化を抑えられ、熱に対する構造安定性を向上させ、コンデンサとしたときの耐電圧性、信頼性を得る観点から好ましい。 In the production of the polypropylene film of the present invention, in the subsequent heat treatment and relaxation treatment steps, the width is 145 ° C. or higher and 165 ° C. or lower and the width is increased while giving relaxation of 2% or more and 20% or less in the width direction while tension-grasping the width direction with a clip. After heat-fixing (first-stage heat treatment) at a temperature lower than the stretching temperature in the direction (first-stage heat treatment), the heat-fixing temperature (first-stage heat treatment) is 135 ° C. or higher while the width direction is tightly gripped with the clip again. Heat treatment is performed under the condition of less than (temperature) (second stage heat treatment), and further heat treatment (third stage heat treatment) is performed under the condition of 80 ° C. or higher and less than the heat fixing temperature (second stage heat treatment temperature) while holding the tension. It is preferable to perform the multi-stage heat treatment from the viewpoint of suppressing the change in the insulation breakdown voltage before and after heating the film, improving the structural stability against heat, and obtaining the withstand voltage and reliability when the capacitor is used.

弛緩処理においては、熱に対する構造安定性を高める観点から、弛緩率は2%以上20%以下が好ましい。弛緩率を20%以下、より好ましくは18%以下、さらに好ましくは15%以下とすることで、テンター内部でフィルムが弛みすぎて製品にシワが入り、蒸着時にムラを発生させるのを防ぐことができる。また、機械特性の低下を防ぐこともできる。他方、弛緩率を2%以上、より好ましくは5%以上、さらに好ましくは8%以上とすることで、熱に対する構造安定性が得られ、コンデンサとした際に、高温環境下での容量低下やショート破壊を防ぐことができる。 In the relaxation treatment, the relaxation rate is preferably 2% or more and 20% or less from the viewpoint of enhancing the structural stability against heat. By setting the relaxation rate to 20% or less, more preferably 18% or less, still more preferably 15% or less, it is possible to prevent the film from loosening too much inside the tenter, causing wrinkles in the product and causing unevenness during vapor deposition. can. In addition, it is possible to prevent deterioration of mechanical characteristics. On the other hand, by setting the relaxation rate to 2% or more, more preferably 5% or more, still more preferably 8% or more, structural stability with respect to heat can be obtained, and when a capacitor is used, the capacity can be reduced in a high temperature environment. It is possible to prevent short-circuit destruction.

多段式に低温化する熱処理を経た後はテンターの外側へ導き、室温雰囲気にてフィルム幅方向両端部のクリップを解放し、ワインダ工程にてフィルムエッジ部をスリットし、フィルム厚み0.5μm以上10μm未満のフィルム製品ロールを巻き取る。ここでフィルムを巻取る前に蒸着を施す面に蒸着金属の接着性を良くするために、空気中、窒素中、炭酸ガス中あるいはこれらの混合気体中でコロナ放電処理を行うことが好ましい。 After undergoing a multi-stage low temperature heat treatment, the film is guided to the outside of the tenter, the clips at both ends in the film width direction are released in a room temperature atmosphere, the film edges are slit in the winder process, and the film thickness is 0.5 μm or more and 10 μm. Take up less than a roll of film product. Here, it is preferable to perform the corona discharge treatment in air, nitrogen, carbon dioxide gas, or a mixed gas thereof in order to improve the adhesiveness of the vapor-deposited metal on the surface to be vapor-deposited before winding the film.

なお、本発明のポリプロピレンフィルムを得るため、着眼される好ましい製造条件を具体的に挙げてみると、例としては以下のとおりである。
・溶融押出温度は、フィルター前、フィルター後、口金と多段式に低温化すること。
・ポリプロピレン樹脂Aのメソペンタッド分率が0.970以上であること。
・ポリプロピレン樹脂AのCXSが3.0質量%未満であること。
・縦延伸前に1.01倍以上1.10倍以下の予備延伸を行うこと。
・延伸の面積延伸倍率が65倍以上であること。
・幅方向の延伸倍率が11.0倍以上であること。
・幅方向の延伸前の予熱温度が幅方向の延伸温度+5~+15℃であること。
・1段目の熱処理温度が、145℃以上165℃以下であり、かつ幅方向の延伸温度未満の温度であること。
・2段目の熱処理温度が、135℃以上1段目の熱処理温度未満であること。
・3段目の熱処理温度が、80℃以上2段目の熱処理温度未満であること。
・1段目の熱処理工程において、幅方向に2%以上20%以下の弛緩処理が施されていること。
Specific examples of preferable production conditions to be focused on in order to obtain the polypropylene film of the present invention are as follows.
-The melt extrusion temperature should be lowered in multiple stages with the mouthpiece before and after the filter.
-The polypropylene resin A has a mesopentad fraction of 0.970 or more.
-The CXS of polypropylene resin A is less than 3.0% by mass.
-Before longitudinal stretching, perform preliminary stretching of 1.01 times or more and 1.10 times or less.
-Area of stretching The stretching ratio is 65 times or more.
-The draw ratio in the width direction is 11.0 times or more.
-The preheating temperature before stretching in the width direction is the stretching temperature in the width direction + 5 to + 15 ° C.
-The heat treatment temperature of the first stage is 145 ° C. or higher and 165 ° C. or lower, and is lower than the stretching temperature in the width direction.
-The heat treatment temperature of the second stage is 135 ° C or higher and lower than the heat treatment temperature of the first stage.
-The heat treatment temperature of the third stage is 80 ° C. or higher and lower than the heat treatment temperature of the second stage.
-In the first stage heat treatment step, a relaxation treatment of 2% or more and 20% or less in the width direction is performed.

続いて、本発明のポリプロピレンフィルムを用いてなる金属膜積層フィルム、それを用いてなるフィルムコンデンサ、およびそれらの製造方法について説明する。 Subsequently, a metal film laminated film made of the polypropylene film of the present invention, a film capacitor made of the same, and a method for manufacturing them will be described.

本発明の金属膜積層フィルムは、本発明のポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に金属膜を有する。この金属膜積層フィルムは、上記の本発明に係るポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に金属膜を設けることで得ることができる。 The metal film laminated film of the present invention has a metal film on at least one side of the polypropylene film of the present invention. This metal film laminated film can be obtained by providing a metal film on at least one side of the polypropylene film according to the present invention.

本発明において、金属膜を付与する方法は特に限定されないが、例えば、ポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に、アルミニウムまたは、アルミニウムと亜鉛との合金を蒸着してフィルムコンデンサの内部電極となる蒸着膜等の金属膜を設ける方法が好ましく用いられる。このとき、アルミニウムと同時あるいは逐次に、例えば、ニッケル、銅、金、銀、クロムなどの他の金属成分を蒸着することもできる。また、蒸着膜上にオイルなどで保護層を設けることもできる。ポリプロピレンフィルム表面の粗さが表裏で異なる場合には、粗さが平滑な表面側に金属膜を設けて金属膜積層フィルムとすることが耐電圧性を高める観点から好ましい。 In the present invention, the method for applying the metal film is not particularly limited, but for example, a metal such as a vapor-deposited film which is an internal electrode of a film capacitor by depositing aluminum or an alloy of aluminum and zinc on at least one surface of a polypropylene film. A method of providing a film is preferably used. At this time, other metal components such as nickel, copper, gold, silver, and chromium can be vapor-deposited simultaneously or sequentially with aluminum. Further, a protective layer may be provided on the vapor-filmed film with oil or the like. When the roughness of the polypropylene film surface is different on the front and back, it is preferable to provide a metal film on the surface side having a smooth roughness to form a metal film laminated film from the viewpoint of enhancing the withstand voltage.

本発明では、必要により、金属膜を形成後、金属膜積層フィルムを特定の温度でアニール処理を行なったり、熱処理を行なったりすることができる。また、絶縁もしくは他の目的で、金属膜積層フィルムの少なくとも片面に、ポリフェニレンオキサイドなど樹脂のコーティングを施すこともできる。 In the present invention, if necessary, after forming the metal film, the metal film laminated film can be annealed at a specific temperature or heat-treated. Further, for insulation or other purposes, at least one surface of the metal film laminated film may be coated with a resin such as polyphenylene sulfide.

本発明のフィルムコンデンサは、本発明の金属膜積層フィルムを用いてなる。つまり本発明のフィルムコンデンサは、本発明の金属膜積層フィルムを有する。 The film capacitor of the present invention is made by using the metal film laminated film of the present invention. That is, the film capacitor of the present invention has the metal film laminated film of the present invention.

例えば、上記した本発明の金属膜積層フィルムを、種々の方法で積層もしくは捲回すことにより本発明のフィルムコンデンサを得ることができる。捲回型フィルムコンデンサの好ましい製造方法を例示すると、次のとおりである。 For example, the film capacitor of the present invention can be obtained by laminating or winding the above-mentioned metal film laminated film of the present invention by various methods. An example of a preferred method for manufacturing a wound film capacitor is as follows.

ポリプロピレンフィルムの片面にアルミニウムを減圧状態で蒸着する。その際、長手方向に走るマージン部を有するストライプ状に蒸着する。次に、表面の各蒸着部の中央と各マージン部の中央に刃を入れてスリットし、表面の一方にマージンを有した、テープ状の巻取リールを作成する。左もしくは右にマージンを有するテープ状の巻取リールを左マージンおよび右マージンのもの各1本ずつを、幅方向に蒸着部分がマージン部よりはみ出すように2枚重ね合わせて捲回し、捲回体を得る。 Aluminum is vapor-deposited on one side of a polypropylene film under reduced pressure. At that time, the film is deposited in a striped shape having a margin portion running in the longitudinal direction. Next, a blade is inserted into the center of each vapor deposition portion and the center of each margin portion on the surface to slit the reel, and a tape-shaped take-up reel having a margin on one side of the surface is created. Two tape-shaped take-up reels with a left or right margin, one each for the left margin and one for the right margin, are stacked and wound so that the vapor-filmed portion protrudes from the margin portion in the width direction. To get.

両面に蒸着を行う場合は、一方の面の長手方向に走るマージン部を有するストライプ状に蒸着し、もう一方の面には長手方向のマージン部が裏面側蒸着部の中央に位置するようにストライプ状に蒸着する。次に表裏それぞれのマージン部中央に刃を入れてスリットし、両面ともそれぞれ片側にマージン(例えば表面右側にマージンがあれば裏面には左側にマージン)を有するテープ状の巻取リールを作製する。得られたリールと未蒸着の合わせフィルム各1本ずつを、幅方向に金属化フィルムが合わせフィルムよりはみ出すように2枚重ね合わせて捲回し、捲回体を得る。 When vapor deposition is performed on both sides, vapor deposition is performed in a striped shape having a margin portion running in the longitudinal direction of one surface, and the other surface is striped so that the margin portion in the longitudinal direction is located in the center of the vapor deposition portion on the back surface side. Deposit in the form. Next, a blade is inserted in the center of each of the front and back margins to make a slit, and a tape-shaped take-up reel having a margin on one side of both sides (for example, if there is a margin on the right side of the front surface, a margin on the left side on the back surface) is produced. Two of the obtained reels and one undeposited laminated film are laminated and wound so that the metallized film protrudes from the laminated film in the width direction to obtain a wound body.

以上のようにして作成した捲回体から芯材を抜いてプレスし、両端面にメタリコンを溶射して外部電極とし、メタリコンにリード線を溶接して捲回型フィルムコンデンサを得ることができる。フィルムコンデンサの用途は、鉄道車輌用、自動車用(ハイブリットカー、電気自動車)、太陽光発電・風力発電用および一般家電用等、多岐に亘っており、本発明のフィルムコンデンサもこれら用途に好適に用いることができる。その他、本発明のポリプロピレンフィルムは包装用フィルム、離型用フィルム、工程フィルム、衛生用品、農業用品、建築用品、医療用品など様々な用途でも用いることができ、特にフィルム加工において加熱工程を含む用途に好ましく用いることができる。 A wound film capacitor can be obtained by removing the core material from the wound body prepared as described above, pressing the core material, spraying metallicon on both end surfaces to form an external electrode, and welding a lead wire to the metallicon. The applications of the film capacitor are wide-ranging, such as for railway vehicles, automobiles (hybrid cars, electric vehicles), solar power generation / wind power generation, and general household appliances, and the film capacitor of the present invention is also suitable for these applications. Can be used. In addition, the polypropylene film of the present invention can be used in various applications such as packaging films, mold release films, process films, sanitary products, agricultural products, building products, medical products, etc., and in particular, applications including a heating process in film processing. Can be preferably used for.

以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

[測定・評価方法]
本発明における特性値の測定方法、並びに効果の評価方法は次のとおりである。
[Measurement / evaluation method]
The method for measuring the characteristic value and the method for evaluating the effect in the present invention are as follows.

(1)フィルム厚み
ポリプロピレンフィルムの、無作為抽出した10箇所の厚みを、23℃65%RHの雰囲気下で接触式のアンリツ(株)製電子マイクロメータ(K-312A型)を用いて測定した。その10箇所の厚みの算術平均値をポリプロピレンフィルムのフィルム厚みとした。
(1) Film thickness The thickness of 10 randomly sampled polypropylene films was measured using a contact-type electronic micrometer manufactured by Anritsu Co., Ltd. (K-312A type) in an atmosphere of 23 ° C. and 65% RH. .. The arithmetic mean value of the thicknesses at the 10 points was taken as the film thickness of the polypropylene film.

(2)α晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差
ポリプロピレンフィルムを長さ4cm、幅1mmの短冊状に切断し、厚さが1mmになるように重ねて試料を作成した。この試料に対してX線が透過するように、X線源と検出器の間に試料を設置し、フィルム面に関して対称にX線源と検出器の角度(2θ/θ)を走査し、X線回折を測定した。主配向、及び、その直交方向それぞれの走査方向について2θ=約14°(α晶(110)面)における結晶ピークの半値幅βeから、下記式(1)、(2)を用いて、主配向に走査して得られる(Through-MDの)結晶子サイズ(nm)、及び、主配向方向の直交方向に走査して得られる(Through-TDの)結晶子サイズ(nm)をそれぞれ求め、その差の絶対値を、α晶(110)面の配向方向による結晶子サイズの差(nm)とした。
結晶子サイズ=Kλ/(βcosθ) …式(1)
β=(βe+βo1/2 …式(2)
ここで、
λ:X線波長(0.15418nm)、
βe:回折ピークの半値幅、
βo:半値幅の補正値(0.6)、
K:Scherrer定数(1.0)
である。
(2) Difference in crystallite size depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane The polypropylene film was cut into strips having a length of 4 cm and a width of 1 mm, and the samples were stacked so as to have a thickness of 1 mm. A sample is placed between the X-ray source and the detector so that X-rays can pass through this sample, and the angle (2θ / θ) between the X-ray source and the detector is scanned symmetrically with respect to the film surface. The line diffraction was measured. From the half-value width βe of the crystal peak at 2θ = about 14 ° (α crystal (110) plane) in each scanning direction of the main orientation and its orthogonal direction, the main orientation is used using the following equations (1) and (2). The crystallite size (nm) obtained by scanning in (Through-MD) and the crystallite size (nm) obtained by scanning in the direction orthogonal to the main orientation direction are obtained. The absolute value of the difference was defined as the difference in crystallite size (nm) depending on the orientation direction of the α crystal (110) plane.
Crystallite size = Kλ / (βcosθ)… Equation (1)
β = (βe 2 + βo 2 ) 1/2 ... Equation (2)
here,
λ: X-ray wavelength (0.15418 nm),
βe: half width of diffraction peak,
βo: Half width correction value (0.6),
K: Scherrer constant (1.0)
Is.

(測定装置)
・X線回折装置
理学電機(株)社製 4036A2型
X線源 :CuKα線(Niフィルタ使用)
出力 :40kV-30mA
・ゴニオメータ 理学電機(株)社製 2155D型
スリット:2mmφ-1°-1°
検出機 :シンチレーションカウンター
・計数記録装置 理学電機(株)社製 RAD-C型。
(measuring device)
・ X-ray diffractometer 4036A2 type X-ray source manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd .: CuKα ray (using Ni filter)
Output: 40kV-30mA
・ Goniometer 2155D type slit manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd .: 2 mm φ-1 ° -1 °
Detector: Scintillation counter / counting / recording device RAD-C type manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.

(測定条件)
・Through-TDスキャン、Through-MDスキャン
スキャン方法 :ステップスキャン
測定範囲 :2θ=5~60°
ステップ :0.05°
積算時間 :2秒。
(Measurement condition)
-Through-TD scan, Throw-MD scan Scan method: Step scan Measurement range: 2θ = 5 to 60 °
Step: 0.05 °
Accumulated time: 2 seconds.

(3)α晶(110)面の結晶配向度
ポリプロピレンフィルムを長さ4cm、幅1mmの短冊状に切断し、厚さが1mmになるように重ねて試料調製した。ポリプロピレンフィルムに対してX線が透過するように、X線源と検出器の間にフィルム試料を設置し、フィルム表面に対して垂直方向にX線を入射し、2θ=約14°(α晶(110)面)における結晶ピークを円周方向にスキャンして得られる配向ピークの半値幅H(°)から、下記式により計算した。
結晶配向度=(180°-H)/180°
測定装置および条件を以下に示す。
(3) Degree of Crystal Orientation of α Crystal (110) Plane A polypropylene film was cut into strips having a length of 4 cm and a width of 1 mm, and the samples were prepared by stacking them so as to have a thickness of 1 mm. A film sample is placed between the X-ray source and the detector so that X-rays can pass through the polypropylene film, and X-rays are incident in the direction perpendicular to the film surface, and 2θ = about 14 ° (α crystal). It was calculated by the following formula from the half-value width H (°) of the orientation peak obtained by scanning the crystal peak on the (110) plane in the circumferential direction.
Crystal orientation = (180 ° -H) / 180 °
The measuring device and conditions are shown below.

(測定装置)
・上記(2)と同装置を使用した。
(measuring device)
-The same equipment as in (2) above was used.

(測定条件)
・円周方向スキャン(2θ=約14°)
スキャン方法 :ステップスキャン
測定範囲 :0~360°
ステップ :0.5°
積算時間 :2秒。
(Measurement condition)
・ Circumferential scan (2θ = approx. 14 °)
Scan method: Step scan Measurement range: 0 to 360 °
Step: 0.5 °
Accumulated time: 2 seconds.

(4)135℃での長手方向の収縮応力(SF135MD)
ポリプロピレンフィルムを、フィルムの測定方向(長手方向)を長辺として幅4mm、長さ50mmの長方形の試料に切り出し、試長20mmとなるよう金属製チャックにフィルムを挟み込んだ。前記チャックに挟んだサンプルを下記装置にセットし、下記温度プログラムにて試長を一定保持したフィルムにおける長手方向の応力曲線を求めた。得られた応力曲線から、135℃における収縮応力の値(SF135MD)を読み取り、n=3の測定を行った平均値を135℃での長手方向の収縮応力(単位:MPa)とした。
装置 :熱機械分析装置 TMA/SS6000(セイコーインスツルメント(株)製)
試験モード :L制御モード
試長 :20mm
温度範囲 :23~200℃
昇温速度 :10℃/分
スタート変位 :0μm
SSプログラム:0.1μm/分
測定雰囲気 :窒素中
測定厚み :上記(1)により測定したフィルム厚みを用いた。
(4) Longitudinal shrinkage stress at 135 ° C (SF135MD)
The polypropylene film was cut into a rectangular sample having a width of 4 mm and a length of 50 mm with the measurement direction (longitudinal direction) of the film as the long side, and the film was sandwiched between metal chucks so as to have a trial length of 20 mm. The sample sandwiched between the chucks was set in the following device, and the stress curve in the longitudinal direction of the film in which the test length was kept constant was obtained by the following temperature program. From the obtained stress curve, the value of the contraction stress at 135 ° C. (SF135MD) was read, and the average value obtained by measuring n = 3 was taken as the longitudinal contraction stress (unit: MPa) at 135 ° C.
Equipment: Thermomechanical analyzer TMA / SS6000 (manufactured by Seiko Instruments Inc.)
Test mode: L control mode Test length: 20 mm
Temperature range: 23-200 ° C
Temperature rise rate: 10 ° C / min Start displacement: 0 μm
SS program: 0.1 μm / min Measurement atmosphere: Measured thickness in nitrogen: The film thickness measured in (1) above was used.

(5)表面の突起形状の偏り度スキューネス(Ssk)
スキューネス(Ssk)はISO25178の定義による。測定は(株)日立ハイテクサイエンスの走査型白色干渉顕微鏡VS1540を使用して行い、付属の解析ソフトにより撮影画面を多項式4次近似面補正にてうねり成分を除去し、次いでメジアン(3×3)フィルターにて処理後、次いで補間処理、すなわち、高さデータの取得ができなかった画素に対し周囲の画素より算出した高さデータで補う処理を行った。一方の面内の無作為抽出した5箇所で測定を行った平均値を算出した。測定はフィルムの両面について行った。
測定条件は下記のとおり。
製造元:株式会社菱化システム
販売元:株式会社日立ハイテクサイエンス
装置名:走査型白色干渉顕微鏡VS1540
測定条件:対物レンズ 10×
鏡筒 1×
ズームレンズ 1×
波長フィルタ 530nm white
測定モード:Wave
測定ソフトウェア:VS-Measure Version10.0.4.0
解析ソフトフェア:VS-Viewer Version10.0.3.0
測定面積:0.561mm×0.561mm。
(5) Degree of deviation of the protrusion shape on the surface Skewness (Ssk)
Skewness (Ssk) is as defined by ISO25178. The measurement was performed using the scanning white interference microscope VS1540 of Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., and the undulation component was removed from the imaged screen by polynomial fourth-order approximate plane correction using the attached analysis software, and then the median (3 × 3). After the processing with the filter, the interpolation processing, that is, the processing of supplementing the pixels for which the height data could not be acquired with the height data calculated from the surrounding pixels was performed. The average value measured at 5 randomly sampled points in one plane was calculated. Measurements were made on both sides of the film.
The measurement conditions are as follows.
Manufacturer: Ryoka System Co., Ltd. Distributor: Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. Device name: Scanning white interference microscope VS1540
Measurement conditions: Objective lens 10 ×
Lens barrel 1 ×
Zoom lens 1x
Wavelength filter 530nm white
Measurement mode: Wave
Measurement software: VS-Measure Version 10.0.4.0
Analysis software: VS-Viewer Version 10.0.3.0
Measurement area: 0.561 mm x 0.561 mm.

(6)メソペンタッド分率
原料の場合はポリプロピレン樹脂、フィルムの場合はフィルム試料について凍結粉砕してパウダー状にし、60℃のn-ヘプタンで2時間抽出し、ポリプロピレン中の不純物・添加物を除去した後、130℃で2時間以上減圧乾燥したものをサンプルとした。該サンプルを溶媒に溶解し、13C-NMRを用いて、以下の条件にてメソペンタッド分率(mmmm)を求めた。
(6) Mesopentad fraction In the case of raw material, polypropylene resin was used, and in the case of film, the film sample was frozen and crushed into a powder, and extracted with n-heptane at 60 ° C. for 2 hours to remove impurities and additives in polypropylene. Then, a sample dried at 130 ° C. for 2 hours or more under reduced pressure was used as a sample. The sample was dissolved in a solvent, and the mesopentad fraction (mm mm) was determined under the following conditions using 13 C-NMR.

測定条件
・装置:Bruker製DRX-500
・測定核:13C核(共鳴周波数:125.8MHz)
・測定濃度:10質量%
・溶媒:ベンゼン:重オルトジクロロベンゼン=1:3混合溶液(体積比)
・測定温度:130℃
・スピン回転数:12Hz
・NMR試料管:5mm管
・パルス幅:45°(4.5μs)
・パルス繰り返し時間:10秒
・データポイント:64K
・積算回数:10,000回
・測定モード:complete decoupling。
Measurement conditions / equipment: Bruker DRX-500
・ Measurement nucleus: 13 C nucleus (resonance frequency: 125.8 MHz)
-Measured concentration: 10% by mass
-Solvent: Benzene: Heavy orthodichlorobenzene = 1: 3 mixed solution (volume ratio)
・ Measurement temperature: 130 ℃
・ Spin rotation speed: 12Hz
・ NMR sample tube: 5 mm tube ・ Pulse width: 45 ° (4.5 μs)
・ Pulse repetition time: 10 seconds ・ Data point: 64K
-Number of integrations: 10,000 times-Measurement mode: complete decoupling.

解析は次のように行った。LB(ラインブロードニングファクター)を1としてフーリエ変換を行い、mmmmピークを21.86ppmとした。WINFITソフト(Bruker製)を用いて、ピーク分割を行った。その際に、高磁場側のピークから以下のようにピーク分割を行い、更にソフトの自動フィッティングを行い、ピーク分割の最適化を行った上で、mmmmのピーク分率の合計をメソペンタッド分率(mmmm)とした。
(1)mrrm
(2),(3)rrrm(2つのピークとして分割)
(4)rrrr
(5)mrmr
(6)mrmm+rmrr
(7)mmrr
(8)rmmr
(9)mmmr
(10)mmmm
同じサンプルについて同様の測定を5回行い、得られたメソペンタッド分率の平均値を当該サンプルのメソペンタッド分率とした。
The analysis was performed as follows. The Fourier transform was performed with LB (line broadening factor) as 1, and the mmmm peak was set to 21.86 ppm. Peak splitting was performed using WINFIT software (manufactured by Bruker). At that time, the peak is divided from the peak on the high magnetic field side as follows, and the software is automatically fitted to optimize the peak division. mmmm).
(1) mrrm
(2), (3) rrrm (divided as two peaks)
(4) rrrrr
(5) mrmr
(6) mrmm + rmrr
(7) mmrr
(8) rmmr
(9) mmml
(10) mmmm
The same measurement was performed 5 times for the same sample, and the average value of the obtained mesopentad fraction was taken as the mesopentad fraction of the sample.

(7)ポリプロピレン樹脂およびフィルムの融解ピーク温度(Tm)と結晶化ピーク温度(Tc)
示差走査熱量計(セイコーインスツル製EXSTAR DSC6220)を用いて、窒素雰囲気中で3mgのポリプロピレンフィルムを30℃から260℃まで20℃/分の条件で昇温し、次いで、260℃で5分間保持した後、20℃/分の条件で30℃まで降温する。昇温過程で得られる吸熱ピーク温度をポリプロピレンフィルムの融解ピーク温度とし、降温過程で得られる発熱ピーク温度をポリプロピレンフィルムの結晶化ピーク温度とした。本明細書中ではn=3の測定を行った平均値からTm、Tcを算出した。ピーク温度が前記温度範囲の中で2つ以上観測される場合や、ショルダーと言われる多段型のDSCチャートに観測できるピーク温度(2つ以上のピークが重なり合ったチャートの場合に観測される)がでる場合があるが、本発明においてはDSCチャートの縦軸熱流(単位:mW)の絶対値が最も大きいピークの温度をそれぞれTm、Tcとする。なお、ポリプロピレン樹脂の(Tm)、(Tc)についても同様に測定した。
(7) Melting peak temperature (Tm) and crystallization peak temperature (Tc) of polypropylene resin and film
Using a differential scanning calorimeter (EXSTAR DSC6220 manufactured by Seiko Instruments Inc.), heat the 3 mg polypropylene film from 30 ° C to 260 ° C at 20 ° C / min in a nitrogen atmosphere, and then hold it at 260 ° C for 5 minutes. After that, the temperature is lowered to 30 ° C. under the condition of 20 ° C./min. The heat absorption peak temperature obtained in the temperature raising process was defined as the melting peak temperature of the polypropylene film, and the exothermic peak temperature obtained in the temperature lowering process was defined as the crystallization peak temperature of the polypropylene film. In the present specification, Tm and Tc are calculated from the average value obtained by measuring n = 3. When two or more peak temperatures are observed within the temperature range, or when the peak temperature that can be observed on a multi-stage DSC chart called a shoulder (observed when two or more peaks overlap) However, in the present invention, the temperature of the peak having the largest absolute value of the vertical axis heat flow (unit: mW) of the DSC chart is Tm and Tc, respectively. The polypropylene resin (Tm) and (Tc) were also measured in the same manner.

(8)フィルム表面における表面における算術平均高さ(Sa)
算術平均高さ(Sa)はISO25178の定義による。測定は、(株)日立ハイテクサイエンスの走査型白色干渉顕微鏡VS1540を使用して行い、付属の解析ソフトにより撮影画面を多項式4次近似面補正にてうねり成分を除去し、次いでメジアン(3×3)フィルターにて処理後、補間処理、すなわち、高さデータの取得ができなかった画素に対し周囲の画素より算出した高さデータで補う処理を行った。Saはポリプロピレンフィルム表面の両面で測定を行い、小さな値が得られたポリプロピレンフィルム表面の値を表に記した。測定条件は上記(5)表面突起の偏り度と同様とした。
(8) Arithmetic mean height (Sa) on the surface of the film
The arithmetic mean height (Sa) is as defined by ISO25178. The measurement was performed using the scanning white interference microscope VS1540 of Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., and the undulation component was removed from the imaged screen by polynomial fourth-order approximate plane correction using the attached analysis software, and then the median (3 × 3). ) After processing with a filter, interpolation processing, that is, processing of supplementing pixels for which height data could not be obtained with height data calculated from surrounding pixels was performed. Sa was measured on both sides of the polypropylene film surface, and the values on the polypropylene film surface from which small values were obtained are shown in the table. The measurement conditions were the same as in (5) the degree of bias of the surface protrusions.

(9)フィルム表面における突出山部高さ(SpkA)、(SpkB)
突出山部高さ(Spk)はISO25178の定義による。測定は(株)日立ハイテクサイエンスの走査型白色干渉顕微鏡VS1540を使用して行い、付属の解析ソフトにより撮影画面を多項式4次近似面補正にてうねり成分を除去し、次いでメジアン(3×3)フィルターにて処理後、次いで補間処理(高さデータの取得ができなかった画素に対し周囲の画素より算出した高さデータで補う処理)を行った。一方の面内の任意の5箇所で測定を行った平均値を算出した。フィルムの両面を測定し、値が低い面の値をSpkA、反対側の面をSpkBとした。測定条件は上記(5)表面突起の偏り度と同様とした。
(9) Projection peak height (SpkA), (SpkB) on the film surface
The protruding mountain height (Spk) is as defined by ISO25178. The measurement was performed using the scanning white interference microscope VS1540 of Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., and the undulation component was removed from the imaged screen by polynomial fourth-order approximate plane correction using the attached analysis software, and then the median (3 × 3). After processing with a filter, interpolation processing (processing of supplementing pixels for which height data could not be acquired with height data calculated from surrounding pixels) was performed. The average value obtained by measuring at any 5 points in one plane was calculated. Both sides of the film were measured, and the value of the low value surface was designated as SpkA, and the value of the opposite surface was defined as SpkB. The measurement conditions were the same as in (5) the degree of bias of the surface protrusions.

(10)130℃での絶縁破壊電圧(V/μm)
130℃に保温されたオーブン内でフィルムを1分間加熱後、その雰囲気中で、JIS C2330(2014)6.2およびそこで引用するJIS C2151(2019)の17.2 B法(平板電極法)に準じて測定した。ただし、下部電極については、JIS C2151(2019)17.2.2 図3-C記載のアルミはくの上に、同一寸法の導電ゴム(株式会社十川ゴム製E-100<65>)を載せたものを電極として使用した。絶縁破壊電圧試験を30回行い、得られた値をフィルムの厚み(上記(1)で測定)で除してV/μmの単位に換算し、計30点の測定値(算出値)のうち最大値から大きい順に5点と最小値から小さい順に5点を除いた20点の平均値を、130℃でのフィルム絶縁破壊電圧とした。
(10) Dielectric breakdown voltage (V / μm) at 130 ° C.
After heating the film for 1 minute in an oven kept at 130 ° C., in the atmosphere, JIS C2330 (2014) 6.2 and JIS C2151 (2019) 17.2 B method (plate electrode method) cited therein are applied. It was measured according to the above. However, for the lower electrode, a conductive rubber of the same dimensions (E-100 <65> manufactured by Togawa Rubber Co., Ltd.) is placed on the aluminum foil shown in FIG. 3-C of JIS C2151 (2019) 17.2.2. Was used as an electrode. The dielectric breakdown voltage test was performed 30 times, and the obtained value was divided by the film thickness (measured in (1) above) and converted into V / μm units, and out of a total of 30 measured values (calculated values). The average value of 20 points excluding 5 points in descending order from the maximum value and 5 points in ascending order from the minimum value was taken as the film dielectric breakdown voltage at 130 ° C.

(11)フィルムの冷キシレン可溶部(CXS)
原料の場合はポリプロピレン樹脂、フィルムの場合はフィルム試料について、0.5gを135℃のキシレン100mlに溶解して放冷後、20℃の恒温水槽で1時間静置して再結晶させた後にろ過液に溶解しているポリプロピレン系成分を液体クロマトグラフ法にて定量した。ろ過液に溶解しているポリプロピレン系成分の量をX(g)、試料0.5gの精量値をX(g)として下記式
CXS(質量%)=(X/X)×100
から算出した。
(11) Cold xylene-soluble portion (CXS) of the film
For polypropylene resin in the case of raw materials and film samples in the case of films, 0.5 g is dissolved in 100 ml of xylene at 135 ° C., allowed to cool, allowed to stand in a constant temperature water bath at 20 ° C. for 1 hour to recrystallize, and then filtered. The polypropylene-based components dissolved in the liquid were quantified by the liquid chromatograph method. The following formula CXS (mass%) = (X / X 0 ) × 100, where the amount of the polypropylene-based component dissolved in the filtrate is X (g) and the precision value of 0.5 g of the sample is X 0 (g).
Calculated from.

(12)加熱後のα晶(110)面の結晶配向度
フィルムを125℃で60分熱処理する方法は、厚み2mm、外寸300mm×300mm、内寸280mm×280mmに中抜きされた幅20mmの四角い金属製フレームを用い、フレーム面の四辺には両面テープ(ニチバン製“ナイスタック”(登録商標)NW-H15接着力02)を貼り、金属製フレームの全面にフィルムが被さるように、フィルムを貼り付け、更に同寸法の金属製フレームでフィルムを挟み込む。この時、フィルムにシワが入らないように貼り付ける。次いで、金属フレーム/両面テープ/フィルム/金属フレームの状態で、フレームの4辺をクリップで挟み固定したサンプルを作成し、125℃に加熱されたオーブンへ60分放置した。その後、サンプルを取り出し、常温で5分放置した後、金属フレームの内枠にそってフィルムを切り出し、125℃で熱処理後のフィルムとした。125℃で熱処理後のフィルムを長さ4cm、幅1mmの短冊状に切断し、厚さが1mmになるように重ねて試料調製した。ポリプロピレンフィルムに対してX線が透過するように、X線源と検出器の間にフィルム試料を設置し、フィルム表面に対して垂直方向にX線を入射し、2θ=約14°(α晶(110)面)における結晶ピークを円周方向にスキャンして得られる配向ピークの半値幅H(°)から、下記式により計算した。
結晶配向度=(180°-H)/180°
測定装置および条件を以下に示す。
(12) Crystal Orientation Degree of Crystal Orientation of α Crystal (110) Surface After Heating The method of heat-treating the film at 125 ° C. for 60 minutes has a thickness of 2 mm, an outer dimension of 300 mm × 300 mm, and an inner dimension of 280 mm × 280 mm with a width of 20 mm. Using a square metal frame, attach double-sided tape (Nichiban "Nystack" (registered trademark) NW-H15 adhesive strength 02) to the four sides of the frame surface, and cover the entire surface of the metal frame with the film. Attach it, and then sandwich the film with a metal frame of the same size. At this time, attach the film so that it does not wrinkle. Next, in the state of a metal frame / double-sided tape / film / metal frame, a sample was prepared by sandwiching the four sides of the frame with clips and fixed, and left in an oven heated to 125 ° C. for 60 minutes. Then, the sample was taken out and left at room temperature for 5 minutes, and then a film was cut out along the inner frame of the metal frame to obtain a film after heat treatment at 125 ° C. The film after heat treatment at 125 ° C. was cut into strips having a length of 4 cm and a width of 1 mm, and the samples were prepared by stacking them so as to have a thickness of 1 mm. A film sample is placed between the X-ray source and the detector so that X-rays can pass through the polypropylene film, and X-rays are incident in the direction perpendicular to the film surface, and 2θ = about 14 ° (α crystal). It was calculated by the following formula from the half-value width H (°) of the orientation peak obtained by scanning the crystal peak on the (110) plane in the circumferential direction.
Crystal orientation = (180 ° -H) / 180 °
The measuring device and conditions are shown below.

(測定装置)
・X線回折装置 理学電機(株)社製 4036A2型
X線源 :CuKα線(Niフィルタ使用)
出力 :40kV-30mA
・ゴニオメータ 理学電機(株)社製 2155D型
スリット:2mmφ-1°-1°
検出機 :シンチレーションカウンター
・計数記録装置 理学電機(株)社製 RAD-C型
(測定条件)
・円周方向スキャン(2θ=約14°)
スキャン方法 :ステップスキャン
測定範囲 :0~360°
ステップ :0.5°
積算時間 :2秒。
(measuring device)
・ X-ray diffractometer 4036A2 type X-ray source manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd .: CuKα ray (using Ni filter)
Output: 40kV-30mA
・ Goniometer 2155D type slit manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd .: 2 mm φ-1 ° -1 °
Detector: Scintillation counter / counting / recording device RAD-C type manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. (measurement conditions)
・ Circumferential scan (2θ = approx. 14 °)
Scan method: Step scan Measurement range: 0 to 360 °
Step: 0.5 °
Accumulated time: 2 seconds.

(13)加熱後のフィルムのフィルム長手方向の伸度5%時の応力(F5MD)と、フィルム幅方向の伸度5%時の応力(F5TD)
フィルムを150℃で10分熱処理する方法は、厚み2mm、外寸300mm×300mm、内寸280mm×280mmに中抜きされた幅20mmの四角い金属製フレームを用い、フレーム面の四辺には両面テープ(ニチバン製“ナイスタック”(登録商標)NW-H15接着力02)を張り、金属製フレームの全面にフィルムが被さるように、フィルムを貼り付け、更に同寸法の金属製フレームでフィルムを挟み込む。この時、フィルムにシワが入らないように貼り付ける。次いで、金属フレーム/両面テープ/フィルム/金属フレームの状態で、フレームの4辺をクリップで挟み固定したサンプルを作成し、150℃に加熱されたオーブン内に10分放置した。その後、サンプルを取り出し、常温で5分放置した後、金属フレームの内枠にそってフィルムを切り出し、150℃で熱処理後のフィルムとした。150℃で熱処理後のフィルムを試験方向長さ50mm×幅10mmの矩形に切り出しサンプルとした。次に、矩形のサンプル用の引張試験機(オリエンテック製テンシロンUCT-100)に、初期チャック間距離20mmでセットし、23℃雰囲気下で引張速度を300mm/分としてフィルムの引張試験を行った。サンプルの伸び5%時にフィルムにかかっていた荷重を読み取り、試験前の試料の断面積(フィルム厚み×幅(10mm))で除した値を伸度5%時の応力(F5値、単位:MPa)として算出し、測定は長手方向および幅方向で各サンプル5回ずつ行い、その平均値を算出し、F5MD、F5TDをそれぞれ算出した。なお、F5値算出の為に用いるフィルム厚みは上記(1)で測定した値を用いた。
(13) Stress at 5% elongation in the film longitudinal direction of the film after heating (F5MD) and stress at 5% elongation in the film width direction (F5TD).
The method of heat-treating the film at 150 ° C. for 10 minutes uses a square metal frame with a thickness of 2 mm, an outer dimension of 300 mm × 300 mm, and an inner dimension of 280 mm × 280 mm with a width of 20 mm, and double-sided tape (double-sided tape) on the four sides of the frame surface. Nichiban's "Nystack" (registered trademark) NW-H15 adhesive strength 02) is applied, the film is attached so that the film covers the entire surface of the metal frame, and the film is further sandwiched between metal frames of the same size. At this time, attach the film so that it does not wrinkle. Next, in the state of a metal frame / double-sided tape / film / metal frame, a sample was prepared by sandwiching the four sides of the frame with clips and fixed, and left in an oven heated to 150 ° C. for 10 minutes. Then, the sample was taken out and left at room temperature for 5 minutes, and then the film was cut out along the inner frame of the metal frame to obtain a film after heat treatment at 150 ° C. The film after heat treatment at 150 ° C. was cut into a rectangle having a length of 50 mm and a width of 10 mm in the test direction and used as a sample. Next, a tensile tester for a rectangular sample (Tencilon UCT-100 manufactured by Orientec) was set at an initial chuck distance of 20 mm, and a tensile test was performed on the film under an atmosphere of 23 ° C. at a tensile speed of 300 mm / min. .. The load applied to the film when the sample elongation was 5% was read, and the value divided by the cross-sectional area (film thickness x width (10 mm)) of the sample before the test was divided by the stress (F5 value, unit: MPa) when the elongation was 5%. ), The measurement was performed 5 times for each sample in the longitudinal direction and the width direction, the average value was calculated, and F5MD and F5TD were calculated, respectively. As the film thickness used for calculating the F5 value, the value measured in (1) above was used.

(14)フィルム表面における深さ20nm以上の谷の総容積
測定は(株)日立ハイテクサイエンスの走査型白色干渉顕微鏡VS1540を使用して行い、付属の解析ソフトにより撮影画面を多項式4次近似面補正にてうねり成分を除去し、次いでメジアン(3×3)フィルターにて処理後、次いで補間処理、すなわち、高さデータの取得ができなかった画素に対し周囲の画素より算出した高さデータで補う処理を行った。次いで解析ソフトの解析ツールであるベアリング機能を用いて解析した。深さ20nm以上の谷側空隙を指定するため、高さ領域指定において、谷側高さ閾値を-20nmに設定した。次いで当該閾値を満たし解析された谷の容積の値を読み取った。一方の面内の無作為抽出した5箇所の0.561×0.561mmの領域で測定を行い、領域内の総容積の平均値をフィルム表面における深さ20nm以上の谷の総容積とした。
(14) The total volume of valleys with a depth of 20 nm or more on the film surface is measured using the scanning white interference microscope VS1540 of Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., and the imaged screen is corrected by the attached analysis software. After removing the waviness component with, then processing with a median (3 × 3) filter, and then interpolation processing, that is, the height data calculated from the surrounding pixels is used to supplement the pixels for which height data could not be obtained. Processing was performed. Next, the analysis was performed using the bearing function, which is an analysis tool of the analysis software. In order to specify a valley-side void having a depth of 20 nm or more, the valley-side height threshold was set to −20 nm in the height region designation. Then, the value of the volume of the valley that satisfied the threshold value and was analyzed was read. Measurements were made in five randomly sampled 0.561 × 0.561 mm 2 regions on one surface, and the average value of the total volume in the regions was taken as the total volume of valleys with a depth of 20 nm or more on the film surface. ..

なお、フィルムの両面を測定して、一方の面について谷の総容積が50~5,000μmの範囲内に入った場合には範囲内となった側の面の値、両面とも範囲内となった場合には小さい値を有する側の面の値、両面とも範囲内に入らなかった場合には総谷側体積が50~5,000μmの範囲に近い側の面の値を記した。測定条件は上記(5)表面突起の偏り度と同様とした。 When both sides of the film are measured and the total volume of the valley on one side is within the range of 50 to 5,000 μm 3 , the value of the side surface that is within the range and both sides are within the range. When it became, the value of the surface having a small value was described, and when both sides were not within the range, the value of the surface on the side where the total valley side volume was close to the range of 50 to 5,000 μm 3 was described. The measurement conditions were the same as in (5) the degree of bias of the surface protrusions.

(15)125℃で15分間熱処理後の幅方向の熱収縮率HS125TD
フィルムの幅方向が長辺となるように、長さ200mm、幅10mmの試料を5本切り出し、両端から25mmの位置に標線として印を付けて、万能投影機で標線間の距離を測定し試長(L1)とする。次に、試験片の長さ方向の一方の端(下端となる)に3gの荷重をかけ、125℃に保温されたオーブン内で15分間、吊した状態で加熱し、試験片を取り出して室温で冷却後、先で付した標線間の寸法(L2)を万能投影機で測定して下記式にて各試料の熱収縮率HS125TDを求め、5本の算術平均値をその測定方向における熱収縮率HS125TDとして算出した。
HS125TD={(L1-L2)/L1}×100
ここに、
HS125TD:125℃で15分間熱処理後の幅方向の熱収縮率(%)
L1:熱処理前の標線間の距離(150mm)
L2:熱処理後の標線間の距離。
(15) Heat shrinkage rate in the width direction after heat treatment at 125 ° C. for 15 minutes HS125TD
Cut out five samples with a length of 200 mm and a width of 10 mm so that the width direction of the film is the long side, mark them as marked lines at positions 25 mm from both ends, and measure the distance between the marked lines with a universal projector. The test length (L1) is used. Next, a load of 3 g was applied to one end (the lower end) in the length direction of the test piece, and the test piece was heated in an oven kept at 125 ° C. for 15 minutes while suspended, and the test piece was taken out and kept at room temperature. After cooling with, measure the dimension (L2) between the marked lines attached earlier with a universal projector, obtain the heat shrinkage rate HS125TD of each sample by the following formula, and use the arithmetic average value of 5 lines as the heat in the measurement direction. It was calculated as a shrinkage rate HS125TD.
HS125TD = {(L1-L2) / L1} x 100
Here,
HS125TD: Thermal shrinkage rate (%) in the width direction after heat treatment at 125 ° C. for 15 minutes.
L1: Distance between marked lines before heat treatment (150 mm)
L2: Distance between marked lines after heat treatment.

(16)静摩擦係数(μ
東洋精機(株)製スリップテスターを用いて、JIS K 7125(1999)に準じて、25℃、65%RHにて測定した。なお、測定はフィルム長手方向同士で、かつ、異なる面同士を重ねて行った。同じ測定をサンプル毎に5回行い、得られた値の平均値を算出し、当該サンプルの静摩擦係数(μ)とした。
(16) Static friction coefficient (μ s )
The measurement was carried out at 25 ° C. and 65% RH according to JIS K 7125 (1999) using a slip tester manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. The measurement was performed in the longitudinal direction of the film and with different surfaces overlapped with each other. The same measurement was performed 5 times for each sample, and the average value of the obtained values was calculated and used as the static friction coefficient (μ s ) of the sample.

(17)ポリプロピレン樹脂およびフィルムの分子量、分子量分布
GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて、以下の装置および測定条件で評価し、算出した。以下の測定条件にて試料前処理として試料を秤量し、溶媒(0.1%のBHTを添加した1,2,4-TCB)を加えて140℃で1時間振とう溶解させた。次いで、孔径0.5μmの焼結フィルターで加熱濾過を行い、分子サイズによる分画を行った。
(17) Molecular weight and molecular weight distribution of polypropylene resin and film GPC (Gel Permeation Chromatography) was used for evaluation and calculation under the following equipment and measurement conditions. The sample was weighed as a sample pretreatment under the following measurement conditions, a solvent (1,2,4-TCB to which 0.1% BHT was added) was added, and the mixture was dissolved by shaking at 140 ° C. for 1 hour. Next, heat filtration was performed with a sintered filter having a pore size of 0.5 μm, and fractionation was performed according to the molecular size.

<装置および測定条件>
・装置 :HLC-8321GPC/HT(検出器:RT)
・カラム :
TSKgel guardcolumnHHR(30)HT(7.5mmI.D.×7.5mm)×1本
+TSKgel GMHHR-H(20)HT(7.8mmI.D.×30cm)(東ソー社製)×3本
・溶離液 :1,2,4-トリクロロベンゼン(富士フイルム和光純薬社製GPC用)+BHT(0.05%)
・流量 :1.0mL/min.
・検出条件:polarity=(-)
・注入量 :0.3mL
・カラム温度:140℃
・システム温度:40℃
・試料濃度:1mg/mL
標準ポリスチレン(東ソー株式会社製)を用いて検量線を作製し、測定された分子量の値をポリスチレンの値に換算して、Z+1平均分子量(Mz+1)、重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)を得た。そしてMz+1とMwの値を用いた分子量分布(Mz+1/Mw)を算出した。
<Device and measurement conditions>
-Device: HLC-8321GPC / HT (detector: RT)
・ Column:
TSKgel guardcolumnH HR (30) HT (7.5 mm I.D. x 7.5 mm) x 1 + TSKgel GMH HR -H (20) HT (7.8 mm I.D. x 30 cm) (manufactured by Tosoh Corporation) x 3 Eluent: 1,2,4-trichlorobenzene (for GPC manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) + BHT (0.05%)
-Flow rate: 1.0 mL / min.
-Detection condition: polarity = (-)
・ Injection amount: 0.3 mL
-Column temperature: 140 ° C
・ System temperature: 40 ℃
-Sample concentration: 1 mg / mL
A calibration curve is prepared using standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation), and the measured molecular weight values are converted into polystyrene values to achieve Z + 1 average molecular weight (M z + 1 ), weight average molecular weight (Mw), and number average molecular weight. (Mn) was obtained. Then, the molecular weight distribution (M z + 1 / Mw) using the values of M z + 1 and M w was calculated.

(18)フィルムコンデンサ特性の評価(120℃での耐電圧、信頼性、加工性)
フィルムの一方の面に、真空蒸着機((株)アルバック製)でアルミニウムを蒸着させ、マスキングオイルにより膜抵抗が10Ω/sqで長手方向に垂直な方向にマージン部を設けた、いわゆるT型マージン(長手方向ピッチ(周期)が17mm、ヒューズ幅が0.5mm)を有する蒸着パターンを形成した。なお、濡れ張力が表裏両面で異なる場合は、濡れ張力が高い方の面に蒸着を施した。
(18) Evaluation of film capacitor characteristics (withstand voltage at 120 ° C, reliability, workability)
Aluminum is vapor-deposited on one surface of the film with a vacuum vapor deposition machine (manufactured by ULVAC, Inc.), and a so-called T-shaped margin is provided with a masking oil having a film resistance of 10 Ω / sq in the direction perpendicular to the longitudinal direction. A thin-film deposition pattern having a longitudinal pitch (period) of 17 mm and a fuse width of 0.5 mm was formed. When the wet tension was different on both the front and back sides, the surface having the higher wet tension was vapor-deposited.

蒸着パターンを形成したフィルムをスリットし、フィルム幅50mm、端部マージン幅2mmの蒸着リールを得た。 The film on which the vapor deposition pattern was formed was slit to obtain a vapor deposition reel having a film width of 50 mm and an end margin width of 2 mm.

次いで、このリールを用いて素子巻機((株)皆藤製作所製 KAW-4NHB)にてコンデンサ素子を巻き取り、メタリコンを施した後、減圧下、128℃の温度で12時間の熱処理を施し、リード線を取り付けコンデンサ素子に仕上げた。 Next, using this reel, the capacitor element was wound up by an element winder (KAW-4NHB manufactured by Minato Seisakusho Co., Ltd.), subjected to metallicon, and then heat-treated at a temperature of 128 ° C. for 12 hours under reduced pressure. The lead wire was attached and finished as a capacitor element.

こうして得られたコンデンサ素子10個を用いて、120℃高温下でコンデンサ素子に250VDCの電圧を印加し、該電圧で10分間経過後にステップ状に50VDC/1分で徐々に印加電圧を上昇させることを繰り返す、所謂ステップアップ試験を行なった。 Using the 10 capacitor elements thus obtained, a voltage of 250 VDC is applied to the capacitor element at a high temperature of 120 ° C., and after 10 minutes have passed at the voltage, the applied voltage is gradually increased at 50 VDC / min. A so-called step-up test was performed in which the above steps were repeated.

<耐電圧評価>
ステップアップ試験においてこの際の静電容量の変化を測定しグラフ上にプロットして、当該容量が初期値の80%になった時点における電圧をフィルムの厚み(上記(1))で割り返して耐電圧とし、以下の通り評価した。
S:耐電圧が400V/μm以上である。
A:耐電圧が390V/μm以上400V/μm未満である。
B:耐電圧が380V/μm以上390V/μm未満である。
C:耐電圧が380V/μm未満である。
S、A、Bは使用可能である。Cでは実用上の性能に劣る。
<Withstand voltage evaluation>
In the step-up test, the change in capacitance at this time is measured and plotted on a graph, and the voltage at the time when the capacitance reaches 80% of the initial value is divided by the film thickness ((1) above). The withstand voltage was evaluated as follows.
S: The withstand voltage is 400 V / μm or more.
A: The withstand voltage is 390 V / μm or more and less than 400 V / μm.
B: The withstand voltage is 380 V / μm or more and less than 390 V / μm.
C: Withstand voltage is less than 380 V / μm.
S, A and B can be used. C is inferior in practical performance.

<信頼性評価>
静電容量が初期値に対して15%以下に減少するまで電圧を上昇させた後に、コンデンサ素子を解体し破壊の状態を調べて、信頼性を以下の通り評価した。
S:素子形状の変化は無く、貫通状の破壊は観察されない。
A:素子形状の変化は無く、フィルム1層以上5層以内の貫通状の破壊が観察される。
B:素子形状の変化は無く、フィルム6層以上10層以内の貫通状の破壊が観察される。
C:素子形状に変化が認められる、若しくは10層を超える貫通状の破壊が観察される、あるいは素子形状が大きく変化し破壊する
Sは問題なく使用でき、A、Bでは条件次第で使用可能である。Cでは実用上の性能に劣る。
<Reliability evaluation>
After increasing the voltage until the capacitance decreased to 15% or less of the initial value, the capacitor element was disassembled and the state of failure was investigated, and the reliability was evaluated as follows.
S: There is no change in the element shape, and no penetrating fracture is observed.
A: There is no change in the element shape, and penetration-like fracture within 1 to 5 layers of the film is observed.
B: There is no change in the element shape, and penetration-like fracture within 6 to 10 layers of the film is observed.
C: Change in the element shape is observed, penetration-like fracture exceeding 10 layers is observed, or S, in which the element shape changes significantly and breaks, can be used without problems, and A and B can be used depending on the conditions. be. C is inferior in practical performance.

<加工性評価>
下記基準で判断した。上記と同様にしてコンデンサ素子を作成し、目視により素子の形状を確認した。
S:コンデンサ素子の端面フィルムのズレ、シワ、変形がなく、後の工程に全く支障がないレベル
A:コンデンサ素子の変形はなく、シワがわずかにあるが問題なく使用が可能なレベル
B:コンデンサ素子の変形、シワが僅かにあるが使用可能なレベル
C:コンデンサ素子の変形、シワの程度がひどく、後の工程に支障を来すレベル
S、Aは問題なく使用可能であり、Bは条件次第で使用可能、Cでは実用が困難である。
<Evaluation of workability>
Judgment was made based on the following criteria. A capacitor element was created in the same manner as above, and the shape of the element was visually confirmed.
S: There is no deviation, wrinkles, or deformation of the end face film of the capacitor element, and there is no problem in the subsequent process. Level A: There is no deformation of the capacitor element, and there are slight wrinkles, but it can be used without problems. Level B: Capacitor Level C that can be used although there is slight deformation of the element and wrinkles: Levels S and A that are severely deformed and wrinkled in the capacitor element and interfere with the subsequent process can be used without problems, and B is a condition. It can be used depending on the situation, and it is difficult to put it to practical use in C.

[ポリプロピレン原料]
実施例、比較例のポリプロピレンフィルムの製造に、下記の表1に示す原料を使用した。ポリプロピレン原料Aとして4種類(A1、A2、A3、A4)、ポリプロピレン原料Bとして3種類(B1、B2、B3)、ポリプロピレン原料Cとして2種類(C1:チーグラー・ナッタ触媒系、C2:メタロセン触媒系)の原料を使用した。
[Polypropylene raw material]
The raw materials shown in Table 1 below were used for producing the polypropylene films of Examples and Comparative Examples. 4 types of polypropylene raw material A (A1, A2, A3, A4), 3 types of polypropylene raw material B (B1, B2, B3), 2 types of polypropylene raw material C (C1: Ziegler-Natta catalyst system, C2: metallocene catalyst system) ) Raw material was used.

[実施例1]
本実施例に使用した原料および製膜の条件は表1、2に示したとおりである。まずポリプロピレン原料A1を92質量部、ポリプロピレン原料B1を5質量部、ポリプロピレン原料C1を3質量部ドライブレンドした。ブレンドした原料を温度260℃の単軸押出機に供給し、溶融させ、濾過フィルターを通過後の温度を255℃に設定した配管を通過させ、250℃に設定したT型スリットダイよりシート状に溶融押出した。このシート状物を98℃に保温されたキャスティングドラム上で、エアーナイフにより密着させ冷却固化して未延伸ポリプロピレンフィルムを得た。当該未延伸ポリプロピレンフィルムを複数のロール群にて段階的に143℃まで予熱し、そのまま周速差を設けたロール間に通し、130℃にて1.08倍の予備延伸を行った後、143℃にて長手方向に6.1倍で延伸した。引き続き当該フィルムをテンターに導き、フィルム幅手の両端部をクリップで把持したまま169℃の温度(TD延伸温度+7℃)で予熱し、次いで162℃の温度で幅方向に12.3倍で延伸した。さらに1段目の熱処理として幅方向に15%の弛緩を与えながら159℃で熱処理を行ない、さらに2段目の熱処理としてフィルム幅手の両端部をクリップで幅方向把持したまま150℃で熱処理を行った。3段目の熱処理として110℃の熱処理を経てテンターの外側へ導き、フィルム端部のクリップ解放し、次いでフィルム表面(キャスティングドラム接触面側)に25W・分/mの処理強度で大気中でコロナ放電処理を行い、フィルム厚み2.3μmのポリプロピレンフィルムをフィルムロールとして巻き取った。各項目の評価結果を表4に示す。
[Example 1]
The raw materials and film forming conditions used in this example are as shown in Tables 1 and 2. First, the polypropylene raw material A1 was dry-blended by 92 parts by mass, the polypropylene raw material B1 by 5 parts by mass, and the polypropylene raw material C1 by 3 parts by mass. The blended raw material is supplied to a single-screw extruder having a temperature of 260 ° C., melted, passed through a pipe whose temperature is set to 255 ° C. after passing through a filtration filter, and formed into a sheet from a T-shaped slit die set to 250 ° C. Melt extruded. This sheet-like material was brought into close contact with an air knife on a casting drum kept at 98 ° C. and cooled and solidified to obtain an unstretched polypropylene film. The unstretched polypropylene film was preheated stepwise to 143 ° C. in a plurality of roll groups, passed directly between rolls provided with a peripheral speed difference, pre-stretched at 130 ° C. by 1.08 times, and then 143. It was stretched 6.1 times in the longitudinal direction at ° C. Continue to guide the film to the tenter, preheat it at a temperature of 169 ° C (TD stretching temperature + 7 ° C) while holding both ends of the film width with clips, and then stretch it 12.3 times in the width direction at a temperature of 162 ° C. did. Further, as the first stage heat treatment, heat treatment is performed at 159 ° C while giving 15% relaxation in the width direction, and as the second stage heat treatment, heat treatment is performed at 150 ° C while holding both ends of the film width with clips in the width direction. went. As the third stage heat treatment, the film is guided to the outside of the tenter through a heat treatment at 110 ° C., the clip at the end of the film is released, and then the film surface (casting drum contact surface side) is exposed to the film surface (casting drum contact surface side) at a processing strength of 25 W / min / m 2 in the air. A corona discharge treatment was performed, and a polypropylene film having a film thickness of 2.3 μm was wound up as a film roll. Table 4 shows the evaluation results of each item.

[実施例2~9、比較例1~6]
原料組成及び製膜条件を表2,3のとおりとした以外は実施例1と同様にして、表2,3に示す厚みのポリプロピレンフィルムを得た。なお、厚みの調整は単軸押出機の回転数を増減することにより行った。以下、他の実施例、比較例においても同様である。各項目の評価結果を表4~6に示す。
[Examples 2 to 9, Comparative Examples 1 to 6]
Polypropylene films having the thicknesses shown in Tables 2 and 3 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw material composition and the film forming conditions were as shown in Tables 2 and 3. The thickness was adjusted by increasing or decreasing the rotation speed of the single-screw extruder. Hereinafter, the same applies to the other examples and comparative examples. The evaluation results of each item are shown in Tables 4 to 6.

Figure 0006992919000001
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Claims (16)

広角X線回折で測定される、α晶(110)面の主配向方向に走査して得られる結晶子サイズと主配向方向と直交する方向に走査して得られる結晶子サイズとの差の絶対値が3.0nm以下であり、熱機械分析(TMA)における昇温速度10℃/minでの昇温過程において135℃での長手方向の収縮応力(SF135MD)が2.0MPa以下であるポリプロピレンフィルム。 Absolute difference between the crystallite size obtained by scanning in the main orientation direction of the α crystal (110) plane measured by wide-angle X-ray diffraction and the crystallite size obtained by scanning in the direction orthogonal to the main orientation direction. A polypropylene film having a value of 3.0 nm or less and a longitudinal shrinkage stress (SF135MD) at 135 ° C. of 2.0 MPa or less in the heating process at a heating rate of 10 ° C./min in thermomechanical analysis (TMA). .. 広角X線回折で測定される、α晶(110)面の主配向方向と直交する方向に走査して得られる結晶子サイズが10.0nm以下である請求項1に記載のポリプロピレンフィルム。 The polypropylene film according to claim 1, wherein the polypropylene film having a crystallite size of 10.0 nm or less obtained by scanning in a direction orthogonal to the main orientation direction of the α crystal (110) plane as measured by wide-angle X-ray diffraction. 広角X線回折で測定される、α晶(110)面の主配向方向に走査して得られる結晶子サイズが10.0nm以下である請求項1または2に記載のポリプロピレンフィルム。 The polypropylene film according to claim 1 or 2, wherein the crystallite size obtained by scanning in the main orientation direction of the α crystal (110) plane as measured by wide-angle X-ray diffraction is 10.0 nm or less. 広角X線回折で測定されるα晶(110)面の結晶配向度が0.77以上である請求項1~3のいずれかに記載のポリプロピレンフィルム。 The polypropylene film according to any one of claims 1 to 3, wherein the degree of crystal orientation of the α crystal (110) plane measured by wide-angle X-ray diffraction is 0.77 or more. フィルムを示差走査熱量計DSCで30℃から260℃まで20℃/minで昇温して得られるフィルムの融解ピーク温度(Tm)が170℃以上である請求項1~4のいずれかに記載のポリプロピレンフィルム。 The invention according to any one of claims 1 to 4, wherein the melting peak temperature (Tm) of the film obtained by heating the film from 30 ° C. to 260 ° C. with a differential scanning calorimeter DSC at 20 ° C./min is 170 ° C. or higher. Polypropylene film. フィルムを示差走査熱量計DSCで30℃から260℃まで20℃/minで昇温して得られるフィルムの融解ピーク温度(Tm)と、昇温後260℃から30℃まで20℃/minで降温した際に得られる結晶化ピーク温度(Tc)が以下の関係を満たす請求項1~5のいずれかに記載のポリプロピレンフィルム。
Tm-Tc≦65(℃)
The melting peak temperature (Tm) of the film obtained by raising the temperature of the film from 30 ° C. to 260 ° C. at 20 ° C./min with a differential scanning calorimeter DSC, and lowering the temperature from 260 ° C. to 30 ° C. at 20 ° C./min after the temperature rise. The polypropylene film according to any one of claims 1 to 5, wherein the crystallization peak temperature (Tc) obtained at the same time satisfies the following relationship.
Tm-Tc ≦ 65 (° C)
フィルムの少なくとも一方の表面におけるISO25178で定義されるスキューネス(Ssk)が-30を超えて5未満である請求項1~6のいずれかに記載のポリプロピレンフィルム。 The polypropylene film according to any one of claims 1 to 6, wherein the skewness (Ssk) defined by ISO25178 on at least one surface of the film is more than -30 and less than 5. 一方の側の面の表面Aおよびもう一方の側の面の表面Bのそれぞれの、ISO25178で定義される突出山部高さSpkAおよびSpkBが以下の関係を満たす請求項1~7のいずれかに記載のポリプロピレンフィルム。
SpkA<SpkB
20nm≦SpkA≦100nm
80nm≦SpkB≦150nm
ここで、
SpkA:表面Aの突出山部高さ
SpkB:表面Bの突出山部高さ
One of claims 1 to 7, wherein the protruding peak heights SpkA and SpkB defined in ISO25178 of the surface A of one side surface and the surface B of the other side surface satisfy the following relationship, respectively. The polypropylene film described.
SpkA <SpkB
20nm ≤ SpkA ≤ 100nm
80nm ≤ SpkB ≤ 150nm
here,
SpkA: Height of protruding peak of surface A SpkB: Height of protruding peak of surface B
フィルムの少なくとも一方の表面における、ISO25178で定義される算術平均高さ(Sa)が35nm以上100nm以下である請求項1~8のいずれかに記載のポリプロピレンフィルム。 The polypropylene film according to any one of claims 1 to 8, wherein the arithmetic mean height (Sa) defined by ISO25178 on at least one surface of the film is 35 nm or more and 100 nm or less. 125℃で60分加熱後のポリプロピレンフィルムを広角X線回折で測定したとき、α晶(110)面の結晶配向度が0.73以上である請求項1~9のいずれかに記載のポリプロピレンフィルム。 The polypropylene film according to any one of claims 1 to 9, wherein the polypropylene film heated at 125 ° C. for 60 minutes has a crystal orientation of 0.73 or more on the α crystal (110) plane when measured by wide-angle X-ray diffraction. .. 150℃で10分加熱後のフィルムを室温で引っ張り試験したときのフィルム長手方向の伸度5%時の応力(F5MD)と、150℃、10分加熱後のフィルムを室温で引っ張り試験したときのフィルム幅方向の伸度5%時の応力(F5TD)との和が150MPa以上である請求項1~10のいずれかに記載のポリプロピレンフィルム。 Stress (F5MD) at 5% elongation in the longitudinal direction of the film when the film heated at 150 ° C. for 10 minutes was subjected to a tensile test at room temperature, and when the film heated at 150 ° C. for 10 minutes was subjected to a tensile test at room temperature. The polypropylene film according to any one of claims 1 to 10, wherein the sum of the stress (F5TD) at an elongation of 5% in the film width direction is 150 MPa or more. キシレンでポリプロピレンフィルムを完全に溶解せしめた後、室温で析出させたときに、キシレン中に溶解しているポリプロピレン成分(CXS)が3.0質量%以下である請求項1~11のいずれかに記載のポリプロピレンフィルム。 One of claims 1 to 11 in which the polypropylene component (CXS) dissolved in xylene is 3.0% by mass or less when the polypropylene film is completely dissolved with xylene and then precipitated at room temperature. The polypropylene film described. 少なくとも一方の表面において、走査型白色干渉顕微鏡により測定される、0.561mm×0.561mmの領域における深さ20nm以上の谷の容積を合計した総容積が50μm以上5,000μm以下である、請求項1~12のいずれかに記載のポリプロピレンフィルム。 On at least one surface, the total volume of valleys with a depth of 20 nm or more in a region of 0.561 mm × 0.561 mm measured by a scanning white interference microscope is 50 μm 3 or more and 5,000 μm 3 or less. , The polypropylene film according to any one of claims 1 to 12. 125℃で15分加熱後の幅方向の熱収縮率(HS125TD)が1.0%以下である、請求項1~13に記載のポリプロピレンフィルム。 The polypropylene film according to claim 1 to 13, wherein the heat shrinkage rate (HS125TD) in the width direction after heating at 125 ° C. for 15 minutes is 1.0% or less. 請求項1~14のいずれかに記載のポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に金属膜を有する金属膜積層フィルム。 A metal film laminated film having a metal film on at least one side of the polypropylene film according to any one of claims 1 to 14. 請求項15に記載の金属膜積層フィルムを用いてなるフィルムコンデンサ。 A film capacitor using the metal film laminated film according to claim 15.
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