JP6975374B2 - Goods processing system - Google Patents
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Description
本発明は物品処理システムに関し、より詳しくは、仕切壁の開口部を介して殺菌室と作業室とを同時に除染できるようにした物品処理システムに関する。 The present invention relates to an article processing system, and more particularly to an article processing system capable of simultaneously decontaminating a sterilization chamber and a working room through an opening of a partition wall.
従来、過酸化水素ガスを用いて除染対象となる2つの室内を除染するようにした除染システムは知られている(例えば特許文献1)。
この特許文献1の除染システムにおいては、隣り合って配置された2つの室内を、供給する過酸化水素ガスを一方の室内で凝縮させない乾式除染と、供給する過酸化水素ガスを他方の室内で凝縮させる湿式除染の異なる条件で同時に除染を行うようになっている。
Conventionally, a decontamination system in which two chambers to be decontaminated are decontaminated using hydrogen peroxide gas is known (for example, Patent Document 1).
In the decontamination system of
ところで、容器を電子線で殺菌した後に、該殺菌後の容器に無菌状態で充填液を充填する物品処理システムにおいては、容器を電子線で殺菌するための殺菌室と、容器に無菌状態で充填液を充填する充填装置が配置された充填室とを仕切壁の開口部を介して連通して配置し、それら殺菌室と充填室とを過酸化水素ガスによって除染する必要がある。
しかしながら、連通して配置された殺菌室と充填室の内部を過酸化水素ガスで除染しようとすると次のような問題が生じる。すなわち、殺菌室には電子線を照射する照射窓が配置されており、この照射窓から照射される電子線によって殺菌室内の容器を殺菌しているが、照射窓はチタン製の膜から構成されており、殺菌室内を除染するために供給される過酸化水素水ガスが凝縮して照射窓に付着するとチタン膜が腐食するという問題が生じる。
そのため、チタン製の照射窓が設けられた殺菌室を過酸化水素ガスで除染する際には、殺菌室内を過酸化水素ガスが凝縮しない乾式除染を行い、他方、充填室は過酸化水素ガスを凝縮させて除染を行う湿式除染を行うことが考えられる。
ところで、殺菌室と充填室とを仕切る仕切壁には容器を通過させる開口部が形成され、さらに、所要時に上記開口部を開閉するシャッター及びシャッターと開口部との気密を保持するパッキンを設けられている。このような構成においては、殺菌室と充填室を異なる条件で除染するだけでなく、上記開口部のパッキンも除染する必要がある。
ここで、開口部のパッキンを除染するにあたっては、例えば特許文献2に開示されているように、ヒータの熱でパッキンを殺菌することも考えられる。しかしながら、この場合、過酸化水素ガスによる除染では、除染対象となる両室内の壁表面が高温となり、その箇所の正常な除染を行なうことができないため、パッキンの除染と両室内の除染とを同時に行うことができず、除染作業に時間が多くかかるという問題がある。
By the way, in an article processing system in which a container is sterilized with an electron beam and then the sterilized container is filled with a filling liquid in a sterile state, a sterilization chamber for sterilizing the container with an electron beam and the container are filled in a sterile state. It is necessary to arrange the filling chamber in which the filling device for filling the liquid is arranged so as to communicate with each other through the opening of the partition wall, and decontaminate the sterilization chamber and the filling chamber with hydrogen peroxide gas.
However, when trying to decontaminate the inside of the sterilization chamber and the filling chamber arranged in communication with hydrogen peroxide gas, the following problems occur. That is, an irradiation window for irradiating an electron beam is arranged in the sterilization chamber, and the container in the sterilization chamber is sterilized by the electron beam emitted from the irradiation window. The irradiation window is composed of a titanium film. Therefore, when the hydrogen peroxide solution gas supplied for decontaminating the sterilization chamber condenses and adheres to the irradiation window, there arises a problem that the titanium film is corroded.
Therefore, when decontaminating the sterilization chamber provided with the titanium irradiation window with hydrogen peroxide gas, dry decontamination is performed in the sterilization chamber so that the hydrogen peroxide gas does not condense, while the filling chamber is hydrogen peroxide. It is conceivable to perform wet decontamination by condensing gas to perform decontamination.
By the way, an opening for passing a container is formed in the partition wall separating the sterilization chamber and the filling chamber, and a shutter for opening and closing the opening and a packing for maintaining the airtightness between the shutter and the opening are provided. ing. In such a configuration, it is necessary not only to decontaminate the sterilization chamber and the filling chamber under different conditions, but also to decontaminate the packing of the opening.
Here, when decontaminating the packing of the opening, for example, as disclosed in
上述した事情に鑑み、本発明は、物品を殺菌する殺菌室と、上記殺菌室で殺菌された物品に所要の処理を行う作業室と、上記殺菌室と作業室との間に設けられ、物品が通過可能な開口部が形成された仕切壁と、過酸化水素ガスによって上記殺菌室を除染する殺菌室除染装置と、過酸化水素ガスによって上記作業室を除染する作業室除染装置と、上記殺菌室除染装置と作業室除染装置の作動を制御する制御装置とを備え、
電子線を通過させて殺菌室内の物品に照射させる照射窓を上記殺菌室に設けるとともに、上記照射窓を介して殺菌室内の物品に電子線を照射する電子線照射装置を設け、さらに、上記仕切壁の開口部を介して上記殺菌室と上記作業室とを連通させ、
上記殺菌室を上記作業室よりも陽圧にした状態で、上記殺菌室除染装置により過酸化水素ガスを凝縮させないで上記殺菌室に供給して該殺菌室を乾式除染すると同時に、上記作業室除染装置により過酸化水素ガスを凝縮するように上記作業室に供給して該作業室を湿式除染することを特徴とするものである。
In view of the above circumstances, the present invention is provided between the sterilizing chamber for sterilizing the article, the working room for performing the required processing on the article sterilized in the sterilizing chamber, and the sterilizing chamber and the working room. A partition wall with an opening through which hydrogen peroxide can pass, a sterilization room decontamination device that decontaminates the sterilization room with hydrogen peroxide gas, and a work room decontamination device that decontaminates the work room with hydrogen peroxide gas. And a control device that controls the operation of the sterilization room decontamination device and the work room decontamination device.
An irradiation window for passing an electron beam to irradiate an article in the sterilization chamber is provided in the sterilization chamber, and an electron beam irradiation device for irradiating the article in the sterilization chamber with an electron beam through the irradiation window is provided, and further, the partition is provided. The sterilization chamber and the work room are communicated with each other through the opening in the wall.
In a state where the pressure of the sterilization chamber is higher than that of the work chamber, the hydrogen peroxide gas is supplied to the sterilization chamber without being condensed by the sterilization chamber decontamination device, and the sterilization chamber is dry-decontaminated at the same time. It is characterized in that hydrogen peroxide gas is supplied to the working room so as to be condensed by a room decontamination device to wet-decontaminate the working room.
このような構成によれば、開口部を介して隣り合う両室を連通させた状態でそれらを異なる条件で同時に除染することができる。また、それと同時に開口部を密閉するためのパッキンも開口部を流通する除染ガスによって除染される。そのため、両室の除染とパッキンの除染を同時に処理できるので、パッキンだけを個別に除染する必要がなく、したがって、除染作業に要する時間を短縮することが可能な物品処理システムを提供できる。 According to such a configuration, it is possible to simultaneously decontaminate both adjacent chambers under different conditions in a state where both adjacent chambers are communicated with each other through the opening. At the same time, the packing for sealing the opening is also decontaminated by the decontamination gas flowing through the opening. Therefore, since the decontamination of both chambers and the decontamination of the packing can be performed at the same time, it is not necessary to decontaminate only the packing individually, and therefore, an article processing system capable of shortening the time required for the decontamination work is provided. can.
以下、図示実施例について本発明を説明すると、図1ないし図5において、1は容器2内に無菌状態で充填液(薬液)を充填する物品処理システムである。この物品処理システム1は、仕切壁3Aによって内部空間を殺菌室4と充填室5とに区画された筐体3と、殺菌室4内に配置されて容器2を保持して搬送する搬送ホイール6と、殺菌室4の壁面4Aに設けられた照射窓7を介して殺菌室4内の容器2に電子線EBを照射する電子線照射装置8と、充填室5内に設けられて殺菌後の容器2に充填液(薬液)を充填する回転式の充填装置11と、充填室5内に設けられて、搬送ホイール6から容器2を受け取って充填装置11へ受け渡す受け渡しホイール12と、殺菌室4の内部を過酸化水素ガスGで乾式除染する殺菌室除染装置13と、充填室5内を過酸化水素ガスGで湿式除染する作業室除染装置14と、これらの作動を制御する制御装置15を備えている。
Hereinafter, the present invention will be described with respect to the illustrated examples. In FIGS. 1 to 5,
密閉された筐体3の内部は、仕切壁3Aによって乾式除染対象室としての殺菌室4と湿式除染対象室としての充填室5の2つの内部空間に区画されており、仕切壁3Aには容器2が通過可能な長方形の開口部3Bが形成されている。この開口部3Bを介して殺菌室4と作業室としての充填室5が連通可能となっている。
充填室5内となる仕切壁3Aの壁面にシャッター17とそれを昇降させる昇降シリンダ16が設けられており、開口部3Bはシャッター17によって開閉できるようになっている。
昇降シリンダ16の作動は制御装置15によって制御されるようになっており、昇降シリンダ16を介してシャッター17が下降端の開放位置に位置している状態では、開放された開口部3Bを介して殺菌室4から充填室5へ容器2を搬入できるようになっている(図1参照)。他方、昇降シリンダ16を介してシャッター17が上昇端の閉鎖位置に位置すると、開口部3Bの全域が覆われて閉鎖されるようになっている(図2〜図4参照)。
The inside of the sealed
A
The operation of the elevating
仕切壁3Aにおける充填室5側の壁面には、開口部3Bを囲繞して断面コ字形の取り付け溝3Cが形成されており、この取り付け溝3C内に開口部3Bを囲繞して膨張パッキン18が取り付けられている。
膨張パッキン18はシリコーンゴムからなり、その内部に図示しない圧縮空気供給源から圧縮空気を給排されることで、膨張又は収縮されるようになっている。圧縮空気供給源は制御装置15によって作動を制御されるようになっている。
膨張パッキン18に圧縮空気が供給されていない時には収縮しており、この状態でシャッター17が上昇端に位置して開口部3Bが覆われる閉鎖状態となっても、膨張パッキン18とシャッター17との間に隙間19が維持されて、この隙間19と開口部3Bを介して殺菌室4と充填室5が連通するようになっている。
これに対して、シャッター17によって開口部3Bを覆った閉鎖状態において、制御装置15が圧縮空気供給源を作動させて膨張パッキン18内に圧縮空気が供給されると、図4に破線で示すように膨張パッキン18が膨張して対向位置のシャッター17に密着するので、膨張パッキン18により殺菌室4と充填室5の連通が遮断されるようになっている。さらに、その状態から膨張パッキン18への圧縮空気の供給が停止されると、膨張パッキン18は実線で示す元の大きさまで収縮して、シャッター17から離隔するようになっている。
本実施例においては、膨張パッキン18を膨張させて閉鎖状態のシャッター17に密着させることで殺菌室4と充填室5の連通を遮断した密封状態と、膨張パッキン18を収縮させたままで閉鎖状態のシャッター17から離隔させることにより殺菌室4と充填室5を連通させる連通状態とに切り換え可能となっている。
後に詳述するが、両室4,5を過酸化水素ガスGで同時に除染する際に、隙間19を介して連通状態となっている殺菌室4から充填室5へ過酸化水素ガスGを流通させることで、膨張パッキン18自体も過酸化水素ガスGによって除染できるようになっている。
殺菌室4および充填室5における正面の壁には、図示しない作業用グローブが設けられており、作業者がこの作業用グローブに手を差し込んで殺菌室4および充填室5内で所要の作業を行うことができるようになっている。また、作業グローブを介して、作業者が充填室5内の受け渡しホイール12のグリッパ12Aの着脱作業も行うようになっている。
A
The
When compressed air is not supplied to the
On the other hand, when the
In this embodiment, the
As will be described in detail later, when both
A work glove (not shown) is provided on the front wall of the
殺菌室4内には容器2を保持して搬送する搬送ホイール6が回転自在に設けられており、搬送ホイール6の外周部の等間隔位置に容器2を保持するグリッパ6Aが設けられている。図示しない容器2の供給装置によって搬送ホイール6のグリッパ6Aに容器2が供給されて保持されると、搬送ホイール6の回転に伴ってグリッパ6Aに保持された容器2が照射窓7の前を通過する。その際には照射窓7から容器2に向けて電子線EBが照射されているので、容器2の内外が電子線EBによって殺菌されるようになっている。
図1に示すように、電子線照射装置8は、殺菌室4の外部に設けられて電子線EBを発生させる電子線発生機構8Aを備えており、この電子線発生機構8Aで発生させた電子線EBを照射窓7を介して殺菌室4内の容器2に連続的に照射するようになっている。
電子線発生機構8Aは従来公知の構成からなり、照射窓7に外方から密着させて殺菌室4の壁面に連設されている。照射窓7はチタン製であって、電子線発生機構8Aで電子線EBが発生すると、該電子線EBを通過させて殺菌室4内の容器2に照射するようになっている。
電子線EBが照射窓7から殺菌室4の内部に連続して照射されている状態において、搬送ホイール6の回転に伴ってグリッパ6Aに保持された容器2が照射窓7の前を通過することで容器2が電子線EBによって殺菌されるようになっており、その後、殺菌された容器2は搬送ホイール6の回転に伴って、仕切壁3Aの開口部3Bの位置まで搬送される。すると、開放状態の開口部3Bを介して充填室5側の受け渡しホール12のグリッパ12Aが殺菌室4内へ入り込んで、搬送ホイール6のグリッパ6Aから容器2を受け取って充填室5内へ搬入するようになっている。つまり、開口部3Bの位置は、搬送ホイール6のグリッパ6Aから受け渡しホイール12のグリッパ12Aへの容器2の受け渡し位置Aとなっている。
受け渡しホイール12は、外周部の等間隔位置に容器2を保持するグリッパ12Aを備えており、受け渡し位置Aで搬送ホイール6のグリッパ6Aから容器2を受け取ると、所定方向の回転に伴って容器2を移送して、供給位置Bにおいて充填装置11のグリッパ11Aに容器2を受け渡すようになっている。
なお、受け渡しホイール12のグリッパ12Aは、充填室5内での容器2への充填液の充填作業開始前(生産作業開始前)に受け渡しホイール12の本体部から取り外されるようになっており、その後にシャッター17により開口部3Bが閉鎖されるとともに膨張パッキン18が膨張されることで充填室5と殺菌室4の連通が遮断されるようになっている。
A transport wheel 6 for holding and transporting the
As shown in FIG. 1, the electron beam irradiation device 8 includes an electron
The electron
In a state where the electron beam EB is continuously irradiated from the
The
The
充填装置11は回転式の充填装置であって、外周部の等間隔位置に容器2内に所定量の充填液(薬液)を充填する充填ノズル11Bと、各充填ノズル11Bの下方側で容器2を保持するグリッパ11Aを備えている。また、図示しないが充填室5内には、充填装置11の隣接位置に充填後の容器2にキャップを取り付けるキャッパが配置されている。
充填装置11が回転中において供給位置Bで受け渡しホイール12のグリッパ12Aから充填装置11の各グリッパ11Aに容器2が供給されて保持されると、充填装置11の回転に伴ってグリッパ11Aに保持された容器2に充填ノズル11Bから充填液(薬液)が充填されるようになっている。その後、充填液が充填された容器2は、隣接位置の図示しないキャッパによってキャップが取り付けられてから充填室5の外部へ排出されるようになっている。
The filling
When the
本実施例においては、殺菌室4および充填室5を無菌状態に維持し、その無菌状態において容器2内への充填液の充填を行うようになっている。そのために、先ず、殺菌室4と充填室5の内部を過酸化水素ガスGにより除染し、除染が終了した後に電子線EBによる容器2の殺菌を行い、殺菌後の容器2内へ充填装置11によって充填液の充填作業を行うようになっている。
本実施例は、シャッター17で開口部3Bを閉鎖し、かつ膨張パッキン18が収縮されて両室4,5が連通した状態において、照射窓7が設けられた殺菌室4内を殺菌室除染装置13により乾式除染を行うと同時に、充填室5内を作業室除染装置14により湿式除染することが特徴となっている。
In this embodiment, the
In this embodiment, in a state where the
図5に示すように、殺菌室除染装置13は、過酸化水素ガスGを殺菌室4に供給するためのガス供給管21と、殺菌室4から過酸化水素ガスGを排出するためのガス排出管22と、ガス供給管21の途中に設けられて過酸化水素ガスGを発生させる蒸発器23と、殺菌室4にエアを供給するためのエア供給管24と、殺菌室4からエアを排出するためのエア排出管25とを備えている。
ガス供給管21の端部21Aは、殺菌室4の天井に配置されたフィルタF1を介して殺菌室4内に連通しており、蒸発器23で発生させた過酸化水素ガスGをガス供給管21及びフィルタF1を介して殺菌室4に供給できるようになっている。フィルタF1は塵埃を捕捉するとともに過酸化水素ガスGによって除染されるようになっている。
ガス供給管21における蒸発器23よりも上流側には、給気ブロアB1と除湿器27が順次配置されており、蒸発器23よりも下流側となるガス供給管21には電磁弁V1が設けられている。蒸発器23には給液管28の一端28Aが接続されており、給液管28の途中にはポンプ29が設けられている。給気ブロアB1、除湿器27、電磁弁V1、ポンプ29及び蒸発器23の作動は制御装置15によって制御されるようになっている。
過酸化水素水を収容した容器31が給液管28の他端28Bの位置に供給されて、他端28Bが容器31内の過酸化水素水に浸漬された状態において、ポンプ29及び蒸発器23が作動されると(図6参照)、給液管28とポンプ29を介して過酸化水素水が蒸発器23に供給されるようになっており、それに伴って蒸発器23内で除染ガスとしての過酸化水素ガスGが発生するようになっている。蒸発器23によって過酸化水素ガスGを発生させている状態において、電磁弁V1が開放されるとともに給気ブロアB1が作動されると、ガス供給管21とフィルタF1を介して給気ブロアB1から殺菌室4内へ過酸化水素ガスGが供給されるようになっている。この際には除湿器27を作動させることで、給気ブロアB1によって殺菌室4へ送気されるエアを除湿するようになっている。
なお、ガス供給管21、殺菌室4、ガス排出管22には図示しない湿度検出センサーが配置されており、湿度検出センサーの検出信号は制御装置15に送られるようになっている。
一方、ガス排出管22には、上流側から下流側にわたって順次、電磁弁V2、触媒S1及び排気ブロアB2が設けられている。ガス排出管22の上流側の端部22Aは、殺菌室4の底部に設けられたフィルタF2を介して殺菌室4内と連通している。
フィルタF2は、その内部を流通するガスを浄化する機能を備えており、触媒S1は、除染ガスとしての過酸化水素ガスGを分解して無毒化する機能を備えている。殺菌室4内に過酸化水素ガスGが供給されて除染作業が行われる際に、電磁弁V2が開放されるとともに排気ブロアB2が作動されると、ガス排出管22を介して殺菌室4内の過酸化水素ガスGが排出されるようになっている。その際には、過酸化水素ガスGがフィルタF2を通過することによってフィルタF2を除染するとともに、触媒S1を通過することで無毒化されるようになっている。
As shown in FIG. 5, the sterilization
The
The air supply blower B1 and the
The
A humidity detection sensor (not shown) is arranged in the
On the other hand, the
The filter F2 has a function of purifying the gas flowing inside the filter F2, and the catalyst S1 has a function of decomposing and detoxifying the hydrogen peroxide gas G as a decontamination gas. When the hydrogen peroxide gas G is supplied into the
殺菌室4の上方側には、エアを供給するエア供給管24が配置されており、このエア供給管24の端部24Aは、上記フィルタF1を介して殺菌室4と連通している。エア供給管24の途中には、殺菌室4に向けてエアを送気する給気ブロアB3が配置されるとともに、その下流側に電磁弁V3が設けられている。給気ブロアB3及び電磁弁V3は制御装置15による作動を制御されるようになっている。
他方、殺菌室4の下方側にはエア排出管25が配置されており、このエア排出管25の内側の端部25Aは、殺菌室4の底部に配置された上記フィルタF2を介して殺菌室4と連通している。エア排出管25の途中には、排気ブロアB4が設けられるとともに、排気ブロアB4と上記フィルタF2との間には、電磁弁V4と過酸化水素ガスGを無毒化する触媒S2が順次設けられている。排気ブロアB4及び電磁弁V4の作動は制御装置15により制御されるようになっている。
殺菌室4には、その内部の圧力を計測する圧力計32が設けられており、この圧力計32が計測した殺菌室4内の圧力P1は制御装置15へ伝達されるようになっている。
制御装置15は、上記圧力計32から伝達される圧力P1を認識して、給気ブロアB1、排気ブロアB2もしくは給気ブロアB3、排気ブロアB4の作動を制御することで、殺菌室4内の圧力P1を所定の圧力に調整できるようになっている。
殺菌室除染装置13は以上のように構成されており、この殺菌室除染装置13により、過酸化水素ガスGを凝縮しない状態で殺菌室4に供給することで、殺菌室4内を乾式除染できるようになっている。それにより、殺菌室4に設けられたチタン製の照射窓7が、凝縮された過酸化水素ガスGによって損傷しないようになっている。
An
On the other hand, an
The
The
The sterilization
次に、充填室5を湿式除染する作業室除染装置14について説明する。図5に示すように、作業室除染装置14は、過酸化水素ガスGを充填室5に給排するためのガス給排管34と、このガス給排管34の途中に設けられて過酸化水素ガスGを発生させる蒸発器35と、充填室5にエアを供給するためのエア供給管36と、充填室5からエアを排出するためのエア排出管37と、ガス給排管34から過酸化水素ガスGを排出するためのガス排出管38と、ガス給排管34にエアを供給するためのエア供給管40とを備えている。
ガス給排管34の一端34Aは、充填室5の天井に配置されたフィルタF3を介して充填室5に連通するとともに、ガス給排管34の他端34Bは充填室5の底部に配置されたフィルタF4を介して充填室5と連通している。つまり、ガス給排管34を介して充填室5に過酸化水素ガスGを循環させて供給できるようになっている。
ガス給排管34の全域はヒータ39を用いて加熱できるようになっており、ヒータ39の作動は制御装置15によって制御されるようになっている。このヒータ39によりガス給排管34を加熱することで、該ガス給排管34内を所要の温度に加熱できるようになっている。
また、ガス給排管34には蒸発器35から一端34Aの間には図示しない温度検出センサーが配置されており、この温度検出センサーの検出信号は制御装置15に送られるようになっている。
なお、ヒータ39はガス給排管34の全域に配置する必要はなく、蒸発器35から充填室5へ連結する区間のみに配置しても良い。
ガス給排管34の途中には過酸化水素ガスGを循環させる循環ブロアB5が配置されており、ガス給排管34における循環ブロアB5の下流側にガス排出管38の端部38Aが接続されるとともに蒸発器35が設けられている。
循環ブロアB5が作動されると、循環ブロアB5から蒸発器35に向けて図5における反時計方向に送気されるようになっており、それによって、蒸発器35で発生した過酸化水素ガスGを充填室5にガス給排管34を介して循環して供給できるようになっている。
蒸発器35には給液管41の一端41Aが接続されており、給液管41の途中にポンプ42が設けられている。蒸発器35よりも下流側となるガス給排管34には電磁弁V5が設けられており、循環ブロアB5よりも上流側となるガス給排管34に電磁弁V6が設けられている。
ガス給排管34に接続されたガス排出管38には電磁弁V7が設けられるとともに、その下流側に触媒S3が配置されている。また、ガス給排管34における循環ブロアB5と電磁弁V6との間にエア供給管40の端部40Aが接続されている。エア供給管40には、電磁弁V10と塵埃を捕捉するフィルタF5が順次設けられている。エア供給管40を介して所要時にガス給排管34にエアを供給できるようになっている。
ヒータ39、循環ブロアB5、蒸発器35、ポンプ42及び電磁弁V5〜V7、V10の作動は制御装置15によって制御されるようになっている。
過酸化水素水を収容した容器31が給液管41の他端41Bの位置に供給されて、該他端41Bが容器31内の過酸化水素水に浸漬された状態において(図6参照)、ポンプ42及び蒸発器35が作動されると、給液管41を介して容器31内の過酸化水素水が蒸発器35に供給されるので、蒸発器35内で過酸化水素ガスGが発生するようになっている。
このように蒸発器35によって過酸化水素ガスGを発生させている状態において、電磁弁V5、V6が開放されるとともに循環ブロアB5が作動されると、ガス給排管34とフィルタF3を介して充填室5へ過酸化水素ガスGが供給されるとともに、充填室5内に供給された過酸化水素ガスGはフィルタF4と他端34Bを介してガス給排管34内へ回収される。つまり、ガス給排管34を介して過酸化水素ガスGが充填室5に循環して供給されるようになっている。なお、フィルタF3、F4は、上述したフィルタF1、F2と同様に塵埃を捕捉するとともに、通過する過酸化水素ガスGによって除染されるようになっている。
このように充填室5に過酸化水素ガスGを供給する際には、ヒータ39によりガス給排管34が所要の温度に加熱されるようになっている。したがって、蒸発器35で気化された過酸化水素ガスGを給排管34内で凝縮させずに充填室5へ供給できるようになっている。
充填室5には、その内部の圧力P2を計測する圧力計43が設けられており、この圧力計43が計測した充填室5内の圧力は常時、制御装置15へ伝達されるようになっている。
制御装置15は、除染時及びその前の準備段階において、ガス排出管38の電磁弁V7及びエア供給管40の電磁弁V10の開閉作動を制御することにより、ガス給排管34にエア供給管40からエアを供給するとともにガス排出管38からガス供給管34内の気体を排出するようになっている。それにより、ガス給排管34を介して充填室5内の圧力を所要の圧力P2に調整できるようになっている。なお、このように圧力を調整する際に、ガス給排管34からガス排出管38を介して外部へ排出される過酸化水素ガスGは触媒S3を通過することで無毒化される。また、エア供給管40からガス給排管34に導入されるエアは、フィルタF5により塵埃を捕捉されるようになっている。
充填室5の上方側には、エアを供給するエア供給管36が配置されており、このエア供給管36の端部36Aは、上記フィルタF3を介して充填室5と連通している。エア供給管36の途中には、充填室5に向けてエアを送気する給気ブロアB6が設けられるとともに、その下流側に電磁弁V8が設けられている。給気ブロアB6及び電磁弁V8は制御装置15によって作動を制御されるようになっている。
他方、充填室5の下方側には、エア排出管37が配置されており、このエア排出管37の端部37Aは、充填室5の底部に配置されたフィルタF4を介して充填室5と連通している。エア排出管37の途中には排気ブロアB7が設けられるとともに、排気ブロアB7と上記フィルタF4との間には、電磁弁V9と過酸化水素ガスGを無毒化する触媒S4が順次設けられている。排気ブロアB7及び電磁弁V9の作動は制御装置15により制御されるようになっている。
作業室除染装置14は以上のように構成されており、この作業室除染装置14により供給される過酸化水素ガスGを充填室5で凝縮させることにより、充填室5内を湿式除染できるようになっている。
Next, a working
One
The entire area of the gas supply /
Further, a temperature detection sensor (not shown) is arranged between the evaporator 35 and one
The
A circulation blower B5 for circulating hydrogen peroxide gas G is arranged in the middle of the gas supply /
When the circulation blower B5 is activated, air is supplied from the circulation blower B5 toward the
One
A solenoid valve V7 is provided in the
The operation of the
In a state where the
When the solenoid valves V5 and V6 are opened and the circulation blower B5 is operated in the state where the hydrogen peroxide gas G is generated by the
As described above, when the hydrogen peroxide gas G is supplied to the filling
The filling
The
An
On the other hand, an
The work
以上の構成において、本実施例の物品処理システム1は、先ず、殺菌室4と充填室5に対して除染前の準備作業を行い、その後に両室4,5を過酸化水素ガスGにより異なる条件で同時に除染し、その後、充填室5において充填装置11による容器2内への充填液の充填作業を行うようになっている。
すなわち、図5は除染前の準備段階を示したものであり、この準備段階においては、シャッター17が上昇端の閉鎖位置にあって開口部3Bを覆っており、かつ、膨張パッキン18内に圧縮空気が供給されて、該膨張パッキン18がシャッター17に密着している(図2〜図4も参照)。そのため、殺菌室4と充填室5との連通は遮断されている。
なお、作業者はシャッター17を閉鎖位置に移動する前に、受け渡しホイール12のグリッパ12Aを取り外し、シャッター17とグリッパ12Aが干渉しないようにしておく。
そして、殺菌室除染装置13の給液管28の他端28Bの位置には、過酸化水素水の容器31は供給されておらずポンプ29及び蒸発器23は作動されていないので、蒸発器23で過酸化水素ガスGは発生していない。
また、電磁弁V1、V2が開放されるとともに給気ブロアB1と排気ブロアB2及び除湿器27が作動されている。電磁弁V3,V4は閉鎖された状態であり、給気ブロアB3と排気ブロアB4も作動されていない。そのため、ガス供給管21とフィルタF1を介して殺菌室4内にエアが供給されるとともに、殺菌室4内のエアはフィルタF2とガス排出管22を介して排出されている。つまり、殺菌室4内には除湿されたエアが供給されており、殺菌室4内の圧力P1は圧力計32により制御装置15へ伝達されている。この状態における殺菌室4内の圧力P1は、制御装置15によって給気ブロアB1と排気ブロアB2の作動を制御することで所定の圧力に調整されている。
そして、この状態でガス供給管21、殺菌室4、ガス排出管22の湿度が所定湿度(例えば5%)以下となったことを図示しない湿度検出センサーにより検出されると制御装置15は殺菌室4の準備段階作業が完了したと判断する。
一方、作業室除染装置14においては、給液管41の他端41Bの位置には、過酸化水素水の容器31は供給されておらず、ポンプ42及び蒸発器35は作動されていないので、過酸化水素ガスGは発生していない。
電磁弁V8、V9は閉鎖された状態であり、給気ブロアB6と排気ブロアB7も作動されていない。他方、ガス給排管34の電磁弁V5、V6およびエア供給管40の電磁弁V10、ガス排出管38の電磁弁V7は開放されるとともにヒータ39が作動されている。この状態で循環ブロアB5を作動させることにより、エア供給管40から外気を取り込んでガス給排管34と充填室5とを循環させる。
この図5に示す準備段階では、制御装置15によってガス排出管38の電磁弁V7とエア供給管40の電磁弁V10の開閉作動を制御することにより、充填室5内の圧力P2を殺菌室4内の圧力PIよりも低い所定の圧力に調整する。
そして、この状態でガス給排管34の温度が所定温度(例えば50〜60℃)となったことが図示しない温度検出センサーにより検出されると制御装置15は充填室5の準備段階作業が終了したと判断する。
制御装置15は殺菌室4および充填室5の準備段階が終了したと判断すると、図6に示す除染作業に移行する。
In the above configuration, in the
That is, FIG. 5 shows a preparatory stage before decontamination. In this preparatory stage, the
Before moving the
The
Further, the solenoid valves V1 and V2 are opened, and the air supply blower B1, the exhaust blower B2, and the
When the humidity of the
On the other hand, in the work
The solenoid valves V8 and V9 are in a closed state, and the air supply blower B6 and the exhaust blower B7 are not operated either. On the other hand, the solenoid valves V5 and V6 of the gas supply /
In the preparatory stage shown in FIG. 5, the pressure P2 in the filling
Then, when it is detected by a temperature detection sensor (not shown) that the temperature of the gas supply /
When the
図6に示す除染の際は、先ず、シャッター17が開口部3Bを覆った閉鎖状態において、膨張パッキン18への圧縮空気の供給が停止されるので、該膨張パッキン18が収縮し、それとシャッター17との間に隙間19が生じ(図4参照)、その隙間19と開口部3Bを介して殺菌室4と充填室5が連通する。
除染作業を行う段階において、殺菌室除染装置13はガス供給管21、殺菌室4、ガス排出管22の湿度は所定の湿度以下に抑えられ、殺菌室4内の圧力P1(例えば80〜14Pa)は充填室5内の圧力P2(例えば50〜110Pa)よりも高い圧力に維持されている。また、殺菌室4内の温度は常温である。そして、上記準備段階から継続して電磁弁V1、V2は開放されており、除湿器27、給気ブロアB1、排気ブロアB2は作動されている。さらに、電磁弁V3、V4は閉鎖された状態であり、給気ブロアB3および排気ブロアB4の作動も停止されている。
この状態において蒸発器23を作動させるとともに、過酸化水素水を収容した容器31を殺菌室除染装置13の給液管28の端部28Bの位置に供給し、該端部28Bを容器31内の過酸化水素水に浸漬させる。
その後、ポンプ29を作動させることによって、容器31内の過酸化水素水を給液管28を介して蒸発器23に供給して過酸化水素水を蒸発器23で気化することにより過酸化水素ガスGを発生させる。発生した過酸化水素ガスGはガス供給管21を通り、フィルタF1を介して殺菌室4に供給されるとともに、殺菌室4内の過酸化水素ガスGはフィルタF2を介してガス排出管22へと送られ、触媒S1を通して外部へ排出される。
本実施例の殺菌室除染装置13は、ガス供給管21、殺菌室4、ガス排出管22の湿度を低湿度に維持するとともに、過酸化水素水を蒸発器23へ送液する量を低流量(例えば1〜1 5 g/min)に設定することにより、供給される過酸化水素ガスGは殺菌室4内で凝縮しないため、殺菌室4内は乾式除染される。したがって、チタン製の照射窓7が凝縮した過酸化水素ガスGによって損傷されることが防止される。
一方、作業室除染装置14は除染作業を行う段階において、ガス給排管34内はヒータ39によって所定の温度に加熱され、充填室5内の圧力P2は殺菌室4内の圧力P1よりも低い圧力に維持されている。また、充填室5内の温度は常温である。そして、上記準備段階から継続して電磁弁V5、V6は開放されるとともに、循環ブロアB5およびとー夕39は作動されている。そして電磁弁V7、V10を制御することによって充填室5内の圧力をP2に調整する。さらに、電磁弁V8、V9は閉鎖された状態であり、給気ブロアB6および排気ブロアB7の作動も停止されている。
この状態において蒸発器35を作動させるとともに、過酸化水素水を収容した容器31を作業室除染装置14の給液管41の端部41Bの位置に供給し、該端部41を容器31内の過酸化水素水に浸漬させる。
その後、ポンプ42を作動させることによって、容器31内の過酸化水素水を給液管41を介して蒸発器35に供給して過酸化水素水を蒸発器25で気化することにより過酸化水素ガスGを発生させる。なお、本実施例ではポンプ42によって過酸化水素水を蒸発器35へ送液する量を高流量(例えば15〜70g/min)に設定している。発生した過酸化水素ガスGはガス給排管34を通り、フィルタF3を介して充填室5に供給されるとともに、充填室5内の過酸化水素ガスGはフィルタF4を介してガス給排管34に還流し、ガス給排管34と充填室5を循環する。
作業室除染装置14は、ガス給排管34の温度を50〜60度に加熱しているため、蒸発器35によって気化された過酸化水素ガスGはガス給排管34内では凝縮せず、常温の殺菌室4へ供給されると凝縮することになり、充填室5内は凝縮した過酸化水素ガスGによって湿式除染されるようになっている。
また、制御装置15は、殺菌室4を乾式除染すると同時に充填室5を湿式除染している間、圧力計32からの信号を元に給気ブロアB1や排気ブロアB2の作動を制御して殺菌室4内の圧力をP1に維持するよう制御するとともに、圧力計43からの信号を元にガス排出管38の電磁弁V7やエア供給管40の電磁弁V10の作動を制御して充填室5内の圧力をP2に維持するように制御することで、除染作業中は絶えず殺菌室4内の圧力P1を充填室5内の圧力P2よりも高くなるように制御している、そのため、シャッター17と膨張パッキン18との隙間19と開口部3B(図2、図4参照)を介して、圧力が高い殺菌室4から圧力が低い充填室5へ、殺菌室4側の過酸化水素ガスGが流入して、膨張パッキン18自体も除染されるようになっている。
このように、本実施例においては、除染作業の間は殺菌室4を充填室5よりも陽圧に制御し、かつそれらを連通させた状態で、殺菌室除染装置13によって殺菌室4を乾式除染するとともに、充填室5内を湿式除染している。
At the time of decontamination shown in FIG. 6, first, in the closed state where the
At the stage of performing the decontamination work, the humidity of the
In this state, the
After that, by operating the
The sterilization
On the other hand, in the work
In this state, the
After that, by operating the
Since the work
Further, the
As described above, in this embodiment, during the decontamination work, the
以上のようにして殺菌室4および充填室5の除染が終了したら、エアレーション作業を行って過酸化水素ガスGを排出し、その後図7に示すように、容器2内への充填液の充填作業に移行する。
充填作業段階においては、シャッター7を下降端の開放位置まで下降させて仕切壁3Aの開口部3Bを開放させるので該開口部3Bを介して殺菌室4と充填室5が連通する。
殺菌室除染装置13は、ガス供給管21の電磁弁V1を閉鎖するとともに、給気ブロアB1、除湿器27、蒸発器23、ポンプ29の作動は停止する。そして、ガス排出管22の電磁弁V2を閉鎖するとともに、排気ブロアB2の作動を停止する。さらに、エア供給管24の電磁弁V3とエア排出管25の電磁弁V4を開放するとともに、給気ブロアB3および排気ブロアB4を作動させる。
一方、作業室除染装置14においては、ガス給排管34の電磁弁V5と電磁弁V6、エア供給管40の電磁弁V10、ガス排出管38の電磁弁V7を閉鎖するとともに、循環ブロアB5、蒸発器35、ポンプ42、ヒータ39の作動を停止する。そして、エア供給管36の電磁弁V8とエア排出管37の電磁弁V9を開放するとともに、給気ブロアB6および排気ブロアB7を作動させる。
さらに制御装置15は、殺菌室除染装置13の給気ブロアB3、排気ブロアB4および作業室除染装置14の給気ブロアB6、排気ブロアB7の作動を制御して、除染時とは異なり充填室5内の圧力P2を殺菌室4内の圧力P1よりも陽圧となるように制御する。
また、充填作業を始めるにあたって、作業者は事前に準備段階や除染段階において取り外していたグリッパ12Aを受け渡しホイール12の本体部の外周部に作業グローブを介して取り付ける。
以上の準備が完了すると、電子線EBによる容器2の殺菌と、殺菌後の容器2への充填液の充填作業が行われる。
すなわち、図1に示すように、図示しない容器2の供給装置によって搬送ホイール6のグリッパ6Aに容器2が供給されて保持されると、搬送ホイール6の回転に伴ってグリッパ6Aに保持された容器2が照射窓7の前を通過する。その際には照射窓7から容器2に向けて連続的に電子線EBが照射されているので、容器2の内外が電子線EBによって殺菌される。
電子線EBにより殺菌された容器2は搬送ホイール6の回転に伴って、仕切壁3Aの開口部3Bの受け渡し位置Aまで搬送される。すると、受け渡し位置Aにおいて、開放された開口部3Bを介して受け渡しホール12のグリッパ12Aが殺菌室4内へ入り込んで、搬送ホイール6のグリッパ6Aから容器2を受け取って充填室5内へ搬入する。
受け渡しホイール12のグリッパ12Aは、受け渡し位置Aで搬送ホイール6のグリッパ6Aから容器2を受け取ると、その後、容器2を移送して、供給位置Bにおいて充填装置11のグリッパ11Aに順次容器2を受け渡す。
受け渡しホイール12のグリッパ12Aから充填装置11の各グリッパ11Aに容器2が供給されて保持されると、充填装置11の回転に伴ってグリッパ11Aに保持された容器2に充填ノズル11Bから充填液(薬液)が充填されるようになっている。その後、充填液が充填された容器2は、隣接位置の図示しないキャッパによってキャップが取り付けられてから充填室5の外部へ排出されるようになっている。
このようにして、殺菌室4内で電子線EBによって容器2を殺菌し、その後、無菌状態の充填室5内で容器2内に充填液(薬液)が充填されるようになっている。
After the decontamination of the
In the filling work stage, the
The sterilization
On the other hand, in the work
Further, the
Further, when starting the filling work, the worker hands over the
When the above preparation is completed, the
That is, as shown in FIG. 1, when the
The
When the
When the
In this way, the
以上のように、本実施例の物品処理システム1においては、シャッター17と膨張パッキン18の隙間19と開口部3Bを介して殺菌室4と充填室5を連通させ、かつ殺菌室4の圧力P1を充填室5の圧力P2よりも陽圧とした状態において、殺菌室除染装置13によって殺菌室4を乾式除染し、かつ、作業室除染装置14によって充填室5を湿式除染するようになっている。その際には、隙間19を流通する過酸化水素ガスGによって膨張パッキン18自体も同時に除染されるようになっている。したがって、本実施例によれば、開口部3Bの位置に設けた膨張パッキン18を改めて除染する必要がなく、両室4,5を含めた除染作業に要する時間を短縮することができる。
また、殺菌室除染装置13により、過酸化水素ガスGを凝縮しない状態で殺菌室4に供給して殺菌室4内を乾式除染できるので、殺菌室4に設けられたチタン製の照射窓7が、凝縮された過酸化水素ガスGによって損傷するのを防止することができる。
As described above, in the
Further, since the sterilization
次に図8は本発明の第2実施例を示したものである。この第2実施例においては、上記第1の実施例における充填室5を別の仕切壁3Dによって2つに区分してあり、それにより一方の仕切壁3Aと他方の仕切壁3Dとの間に中間室10が形成されている。そして、この中間室10に受け渡しホイール12を配置した構成となっている。この第2実施例においては、第2の仕切壁3Dにも、容器2を通過させる開口部3Eを設けてあり、この開口部3Eの充填室5側の壁面にシャッター17と昇降シリンダ16及び膨張パッキン18を設けている。殺菌室4側の仕切壁3Aには開口部3Bを形成しているが、この仕切壁3Aにはシャッターは設けていない。その他の構成は上記第1の実施例と同じであり、それと対応する各部材には同じ部材番号を付している。
この第2実施例においては、殺菌室4及び中間室10を殺菌室除染装置13により乾式除染するようにしてあり、充填室5を作業室除染装置14により湿式除染するようになっている。
この第2実施例の除染作業時においては、殺菌室4の圧力P1と中間室10の圧力P3を同一にする一方、それら両室4、10の圧力P1、P3は、充填室5の圧力P2よりも陽圧に制御される。また、充填作業時においては、各室の圧力バランスを、P1<P3<P2となるように制御する。なお、圧力バランスは、P1>P3<P2であっても良い。
このような第2実施例においても上述した第1の実施例と同様の作用・効果を得ることができる。
Next, FIG. 8 shows a second embodiment of the present invention. In this second embodiment, the filling
In this second embodiment, the
During the decontamination work of the second embodiment, the pressure P1 of the
In such a second embodiment, the same actions and effects as those in the first embodiment described above can be obtained.
次に図9は本発明の第3実施例を示したものである。この第3実施例は、上記第2実施例と同様に2箇所の仕切壁3A、3Dを設けることで筐体3内に中間室10を設けている。但し、シャッター17、昇降シリンダ16及び膨張パッキン18は、上記第1の実施例と同様に仕切壁3Aの中間室10側に配置されている。他方の仕切壁3Dには開口部3Eが形成されるだけで、そこにはシャッターは配置していない。
この第3実施例においては、殺菌室4を殺菌室除染装置13により乾式除染するようにしてあり、中間室10と充填室5を作業室除染装置14により湿式除染するようになっている。
この第3実施例の除染作業時においては、充填室5の圧力P2と中間室10の圧力P3を同一にする一方、殺菌室4の圧力P1を両室4、10の圧力P1、P3よりも陽圧に制御する。また、充填作業時においては、各室4、10、5の圧力バランスを、P1<P3<P2となるように制御する。なお、圧力バランスは、P1>P3<P2であっても良い。
このような第3実施例においても上述した第1の実施例と同様の作用・効果を得ることができる。
Next, FIG. 9 shows a third embodiment of the present invention. In the third embodiment, the
In this third embodiment, the
At the time of the decontamination work of the third embodiment, the pressure P2 of the filling
In such a third embodiment, the same actions and effects as those in the first embodiment described above can be obtained.
なお、上述した実施例においては、拡縮される膨張パッキン18を用いて開口部3Bとシャッター17との間を密閉するようにしているが、次のような構成を用いても良い。つまり、膨張パッキン18の代わりに一般的なシール部材を採用し、このシール部材をシャッター17もしくは仕切壁3Aのどちらか一方に設ける。そして、シャッター17自体を仕切壁3A側に移動させることにより、シャッター17とシール部材と仕切壁3Aを密着させるようにしても良い。
また、上述した除染前の準備段階においては必ずしもシャッター17を密閉させる必要はなく、隙間がある状態であっても上述した除染前の準備作業を行うことが可能である。
さらに、上記シャッター17の昇降作動は昇降シリンダ16を用いる代わりに、現場の作業者が昇降させるようにしても良い。
In the above-described embodiment, the expansion packing 18 to be expanded / contracted is used to seal the space between the
Further, in the preparatory stage before decontamination described above, it is not always necessary to seal the
Further, instead of using the elevating
1‥物品処理システム 2‥容器(物品)
3A‥仕切壁 3B‥開口部
4‥殺菌室 5‥充填室(作業室)
7‥照射窓 8‥電子線照射装置
13‥殺菌室除染装置 14‥作業室除染装置
EB‥電子線 G‥過酸化水素ガス
1 ‥
3A ‥
7 ... Irradiation window 8 ... Electron
Claims (4)
電子線を通過させて殺菌室内の物品に照射させる照射窓を上記殺菌室に設けるとともに、上記照射窓を介して殺菌室内の物品に電子線を照射する電子線照射装置を設け、さらに、上記仕切壁の開口部を介して上記殺菌室と上記作業室とを連通させ、
上記殺菌室を上記作業室よりも陽圧にした状態で、上記殺菌室除染装置により過酸化水素ガスを凝縮させないで上記殺菌室に供給して該殺菌室を乾式除染すると同時に、上記作業室除染装置により過酸化水素ガスを凝縮するように上記作業室に供給して該作業室を湿式除染することを特徴とする物品処理システム。 A sterilization chamber for sterilizing the article, a working room for performing necessary processing on the article sterilized in the sterilization chamber, and an opening through which the article can pass are formed between the sterilization chamber and the working room. Working with the partition wall, the sterilization room decontamination device that decontaminates the sterilization room with hydrogen peroxide gas, the work room decontamination device that decontaminates the work room with hydrogen peroxide gas, and the sterilization room decontamination device. Equipped with a control device that controls the operation of the room decontamination device,
An irradiation window for passing an electron beam to irradiate an article in the sterilization chamber is provided in the sterilization chamber, and an electron beam irradiation device for irradiating the article in the sterilization chamber with an electron beam through the irradiation window is provided, and further, the partition is provided. The sterilization chamber and the work room are communicated with each other through the opening in the wall.
In a state where the pressure of the sterilization chamber is higher than that of the work chamber, the hydrogen peroxide gas is supplied to the sterilization chamber without being condensed by the sterilization chamber decontamination device, and the sterilization chamber is dry-decontaminated at the same time. An article processing system characterized in that hydrogen peroxide gas is supplied to the work room so as to be condensed by a room decontamination device and the work room is wet-decontaminated.
上記殺菌室と上記作業室とを除染する際には、上記シャッターを移動させて上記開口部を覆い、上記シャッターと上記仕切壁との間を上記殺菌室除染装置による過酸化水素ガスを通過させて除染を行うことを特徴とする請求項1に記載の物品処理システム。 It is provided with a shutter that covers the opening with a gap from the partition wall so that hydrogen peroxide gas can pass through, and a drive mechanism that moves the shutter.
When decontaminating the sterilization chamber and the work room, the shutter is moved to cover the opening, and hydrogen peroxide gas from the sterilization chamber decontamination device is applied between the shutter and the partition wall. The article processing system according to claim 1, wherein the product is passed through and decontaminated.
An intermediate chamber is arranged between the sterilization chamber and the work chamber via a plurality of partition walls, and the intermediate chamber is wet-decontaminated with hydrogen peroxide gas by the work chamber decontamination device. The article processing system according to claim 1 or 2.
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