JP6975032B2 - Input device - Google Patents

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JP6975032B2
JP6975032B2 JP2017242344A JP2017242344A JP6975032B2 JP 6975032 B2 JP6975032 B2 JP 6975032B2 JP 2017242344 A JP2017242344 A JP 2017242344A JP 2017242344 A JP2017242344 A JP 2017242344A JP 6975032 B2 JP6975032 B2 JP 6975032B2
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Description

本発明は、入力装置に関する。 The present invention relates to an input device.

下記特許文献１には、スライド操作及び回転操作を行うことができる複合型の入力装置が記載されている。この入力装置では、スライド操作を検出するための複数のスライドセンサ（検出部）と、回転操作を検出するための複数の回転センサ（検出部）と、が基板の一面に設けられている。そして、スライドセンサの出力信号に基づいて、スライド操作を検出し、回転センサの出力信号に基づいて、回転操作を検出する。 The following Patent Document 1 describes a composite type input device capable of performing a slide operation and a rotation operation. In this input device, a plurality of slide sensors (detection units) for detecting a slide operation and a plurality of rotation sensors (detection units) for detecting a rotation operation are provided on one surface of a substrate. Then, the slide operation is detected based on the output signal of the slide sensor, and the rotation operation is detected based on the output signal of the rotation sensor.

特許５１７８６３８号公報Japanese Patent No. 5178638

しかしながら、上記入力装置では、スライド操作を検出するセンサ（検出部）と、回転操作を検出するためのセンサ（検出部）と、が別々に設けられているため、センサ（検出部）の個数が増加する傾向になる。 However, in the above input device, since the sensor (detection unit) for detecting the slide operation and the sensor (detection unit) for detecting the rotation operation are separately provided, the number of sensors (detection unit) is large. It tends to increase.

本発明は、上記事実を考慮して、操作を検出する検出部の個数を少なくすることができる入力装置を提供する。 In consideration of the above facts, the present invention provides an input device capable of reducing the number of detection units for detecting an operation.

形態１：本発明の１又はそれ以上の実施形態は、中立位置からスライド操作されることでスライド方向へスライドするスライド操作機構と、回転操作されることで前記スライド方向と直交する軸線の軸線回りに回転する回転操作機構と、スライド操作及び回転操作を検出する検出機構と、を備え、前記検出機構は、前記スライド操作機構に対するスライド操作時に前記スライド操作機構の位置変化を検出し、前記回転操作機構に対する回転操作時に前記回転操作機構の位置変化を検出する第１検出部と、前記スライド操作及び前記回転操作の何れの操作であるのかを検出する第２検出部と、を含んで構成されている入力装置である。 Embodiment 1: One or more embodiments of the present invention include a slide operation mechanism that slides in the slide direction by being slid from a neutral position, and an axis around an axis that is orthogonal to the slide direction by being rotated. The detection mechanism is provided with a rotation operation mechanism that rotates and a detection mechanism that detects a slide operation and a rotation operation. The detection mechanism detects a change in the position of the slide operation mechanism during a slide operation with respect to the slide operation mechanism, and the rotation operation. It is configured to include a first detection unit that detects a change in the position of the rotation operation mechanism during a rotation operation with respect to the mechanism, and a second detection unit that detects whether the operation is the slide operation or the rotation operation. It is an input device.

形態２：本発明の１又はそれ以上の実施形態は、前記検出機構は、前記スライド操作機構に連動してスライドする被スライド検出部と、前記回転操作機構に連動して回転する被回転検出部と、を含んで構成され、前記第１検出部は、前記スライド操作機構に対するスライド操作時に前記被スライド検出部の位置変化を検出し、前記回転操作機構に対する回転操作時に前記被回転検出部の位置変化を検出する入力装置である。 Embodiment 2: In one or more embodiments of the present invention, the detection mechanism includes a slide detection unit that slides in conjunction with the slide operation mechanism and a rotation detection unit that rotates in conjunction with the rotation operation mechanism. The first detection unit detects a change in the position of the slide detection unit during a slide operation with respect to the slide operation mechanism, and the position of the rotation detection unit during a rotation operation with respect to the rotation operation mechanism. It is an input device that detects changes.

形態３：本発明の１又はそれ以上の実施形態は、前記検出機構は、前記スライド操作機構に連動し且つ前記回転操作機構に非連動に構成された被操作検出部を有しており、前記第２検出部は、前記被操作検出部の位置変化を検出する入力装置である。 Embodiment 3: In one or more embodiments of the present invention, the detection mechanism has an operated detection unit configured to be interlocked with the slide operation mechanism and non-interlocking with the rotation operation mechanism. The second detection unit is an input device that detects a change in the position of the operated detection unit.

形態４：本発明の１又はそれ以上の実施形態は、前記検出機構は、前記軸線回りに前記回転操作機構と一体回転可能に構成された円筒状の回転体を有しており、前記被回転検出部が、前記回転体における前記軸線の軸線方向一方側の端部に設けられると共に、前記軸線の軸線方向において、前記第１検出部と対向配置されている入力装置である。 Embodiment 4: In one or more embodiments of the present invention, the detection mechanism has a cylindrical rotating body configured to be rotatable integrally with the rotation operation mechanism around the axis, and the rotation is to be performed. The detection unit is an input device provided at one end of the rotating body on one side in the axial direction of the axis and is arranged to face the first detection unit in the axial direction of the axis.

形態５：本発明の１又はそれ以上の実施形態は、前記検出機構は、前記被スライド検出部が設けられたプレートを有しており、前記プレートが、前記スライド方向において前記スライド操作機構と一体移動可能に連結されており、前記回転操作機構が前記プレートに対して前記軸線回りに相対移動可能に構成されている入力装置である。 Embodiment 5: In one or more embodiments of the present invention, the detection mechanism has a plate provided with the slide-to-slide detection unit, and the plate is integrated with the slide operation mechanism in the slide direction. It is an input device that is movably connected and the rotation operation mechanism is configured to be movable relative to the plate about the axis.

形態６：本発明の１又はそれ以上の実施形態は、前記第１検出部がフォトリフレクタとして構成され、前記被スライド検出部及び前記被回転検出部が前記第１検出部によって照射された光を前記第１検出部へ反射する反射部として構成されており、前記被スライド検出部及び前記被回転検出部が、前記第１検出部に対して前記軸線の軸線方向他方側に離間して配置されている入力装置である。 Embodiment 6: In one or more embodiments of the present invention, the first detection unit is configured as a photoreflector, and the slide-to-slide detection unit and the rotation detection unit emit light emitted by the first detection unit. It is configured as a reflection unit that reflects to the first detection unit, and the slide detected unit and the rotation detection unit are arranged apart from the first detection unit on the other side of the axis in the axial direction. It is an input device.

形態７：本発明の１又はそれ以上の実施形態は、前記プレートには、前記第１検出部によって照射された光を透過させる透光部が形成されており、前記プレートの非作動状態において、前記第１検出部、前記透光部、及び前記被回転検出部が、前記軸線の軸線方向において、重なって配置されている入力装置である。 Embodiment 7: In one or more embodiments of the present invention, the plate is formed with a translucent portion that transmits light irradiated by the first detection unit, and the plate is in a non-operating state. This is an input device in which the first detection unit, the translucent unit, and the rotated detection unit are arranged so as to overlap each other in the axial direction of the axis.

形態８：本発明の１又はそれ以上の実施形態は、前記被回転検出部は、凹凸状に形成されており、前記回転体が回転することで、前記軸線の軸線方向における前記第１検出部と前記被回転検出部との距離が変化する入力装置である。 Embodiment 8: In one or more embodiments of the present invention, the rotated detection unit is formed in a concavo-convex shape, and the rotation of the rotating body causes the first detection unit in the axial direction of the axis. This is an input device that changes the distance between the head and the rotated detection unit.

形態９：本発明の１又はそれ以上の実施形態は、被操作検出部が、前記プレートに設けられている入力装置である。 Embodiment 9: One or more embodiments of the present invention is an input device in which the operated detection unit is provided on the plate.

本発明の１又はそれ以上の実施形態によれば、操作を検出する検出部の個数を少なくすることができる。 According to one or more embodiments of the present invention, the number of detection units for detecting an operation can be reduced.

図１は、本実施の形態に係る入力装置の検出機構のプレート周辺を示す一部破断した平面図である。FIG. 1 is a partially broken plan view showing the periphery of the plate of the detection mechanism of the input device according to the present embodiment. 図２は、本実施の形態に係る入力装置を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an input device according to the present embodiment. 図３（Ａ）は、図２に示される入力装置を第１方向一方側から見た断面図（図２の３−３線断面図）であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）に示される状態からスライドノブが第２方向一方側へスライド操作された状態を示す断面図である。3 (A) is a cross-sectional view (3-3 line cross-sectional view of FIG. 2) of the input device shown in FIG. 2 as viewed from one side in the first direction, and FIG. 3 (B) is FIG. 3 (A). ) Is a cross-sectional view showing a state in which the slide knob is slid to one side in the second direction from the state shown in). 図４（Ａ）は、図２に示される入力装置を第２方向一方側から見た断面図（図２の４−４線断面図）であり、図４（Ｂ）は、図４（Ａ）に示される状態からスライドノブが第１方向一方側へスライド操作された状態を示す断面図である。4 (A) is a cross-sectional view (4-4 line cross-sectional view of FIG. 2) of the input device shown in FIG. 2 as viewed from one side in the second direction, and FIG. 4 (B) is FIG. 4 (A). ) Is a cross-sectional view showing a state in which the slide knob is slid to one side in the first direction from the state shown in). 図５は、図２に示される入力装置の分解斜視図である。FIG. 5 is an exploded perspective view of the input device shown in FIG. 図６は、図４（Ａ）に示されるプレートの先端部周辺の拡大図であり、図６（Ａ）は、第１検出部とリフレクタリングの凸部とが上下方向に対向配置された状態を示す拡大図であり、図６（Ｂ）は、第１検出部とリフレクタリングの凹部とが上下方向に対向配置された状態を示す拡大図である。FIG. 6 is an enlarged view of the periphery of the tip of the plate shown in FIG. 4 (A), and FIG. 6 (A) shows a state in which the first detection unit and the convex portion of the reflector ring are vertically opposed to each other. 6 (B) is an enlarged view showing a state in which the first detection unit and the recess of the reflector ring are arranged so as to face each other in the vertical direction. 図７（Ａ）は、図２に示されるスライドノブを第１方向一方側へ操作したときの検出機構におけるプレートの作動状態を示す平面図であり、図７（Ｂ）は、スライドノブを第１方向他方側へ操作したときのプレートの作動状態を示す平面図である。図７（Ｃ）は、スライドノブを第２方向一方側へ操作したときのプレートの作動状態を示す平面図であり、図７（Ｄ）は、スライドノブを第２方向他方側へ操作したときのプレートの作動状態を示す平面図である。FIG. 7A is a plan view showing an operating state of the plate in the detection mechanism when the slide knob shown in FIG. 2 is operated to one side in the first direction, and FIG. 7B is a plan view showing the slide knob. It is a top view which shows the operating state of a plate when operated to the other side in one direction. FIG. 7C is a plan view showing the operating state of the plate when the slide knob is operated to one side in the second direction, and FIG. 7D is a plan view showing the operating state of the plate when the slide knob is operated to the other side in the second direction. It is a top view which shows the operating state of the plate of. 図８（Ａ）は、図６（Ａ）に示される状態からスライドノブを第１方向一方側へ操作したときのプレートを示す断面図であり、図８（Ｂ）は、図６（Ａ）に示される状態からスライドノブを第１方向他方側へ操作したときのプレートを示す断面図である。8 (A) is a cross-sectional view showing a plate when the slide knob is operated to one side in the first direction from the state shown in FIG. 6 (A), and FIG. 8 (B) is a cross-sectional view showing FIG. 6 (A). It is sectional drawing which shows the plate when the slide knob is operated to the other side in the 1st direction from the state shown in. 図９（Ａ）は、図２に示されるロータリーノブアッシーの回転操作前におけるリフレクタリングの凹凸部と第１検出部との対向配置状態を説明するための説明図であり、図９（Ｂ）は、図９（Ａ）の状態からロータリーノブアッシーを回転方向一方側へ１ピッチ回転させたときの凹凸部と第１検出部との対向配置状態を説明するための説明図である。図９（Ｃ）は、図９（Ｂ）の状態からロータリーノブアッシーを回転方向一方側へ１ピッチ回転させたときの凹凸部と第１検出部との対向配置状態を説明するための説明図であり、図９（Ｄ）は、図９（Ｃ）の状態からロータリーノブアッシーを回転方向一方側へ１ピッチ回転されたときの凹凸部と第１検出部との対向配置状態を説明するための説明図である。9 (A) is an explanatory diagram for explaining the facing arrangement state of the concave-convex portion of the reflector ring and the first detection portion before the rotation operation of the rotary knob assembly shown in FIG. 2 (B). FIG. 9A is an explanatory diagram for explaining a state in which the uneven portion and the first detection portion are opposed to each other when the rotary knob assembly is rotated by one pitch in the rotation direction from the state of FIG. 9A. 9 (C) is an explanatory diagram for explaining a state in which the uneven portion and the first detection portion face each other when the rotary knob assembly is rotated by one pitch in the rotation direction from the state of FIG. 9 (B). 9 (D) is for explaining the facing arrangement state of the uneven portion and the first detection portion when the rotary knob assembly is rotated by one pitch in the rotation direction from the state of FIG. 9 (C). It is explanatory drawing of. 図１０（Ａ）は、図７に示される各状態の第１検出及び第２検出の出力信号を示す表であり、図１０（Ｂ）は、図９に示される各状態の第１検出及び第２検出の出力信号を示す表である。FIG. 10A is a table showing the output signals of the first detection and the second detection of each state shown in FIG. 7, and FIG. 10B is a table showing the first detection and the first detection of each state shown in FIG. It is a table which shows the output signal of the 2nd detection.

以下、図面を用いて、本実施の形態に係る入力装置１０について説明する。図２〜図５に示されるように、入力装置１０は、全体として、略円柱状に形成されている。なお、図面において、適宜示される矢印Ａは、入力装置１０の軸線ＡＬの軸線方向一方側（下側）を示しており、矢印Ｂは、軸線ＡＬの軸線方向他方側（上側）を示している。また、以下の説明では、上側から見た平面視で、軸線ＡＬを通過する仮想基準線を第１基準線Ｌ１（図２参照）とし、軸線ＡＬを通過し且つ第１基準線Ｌ１と直交する仮想基準線を第２基準線Ｌ２（図２参照）としている。さらに、第１基準線Ｌ１の延在方向（図２の矢印Ｃ及び矢印Ｄ方向）を第１方向とし、第２基準線Ｌ２の延在方向（図２の矢印Ｅ及び矢印Ｆ方向）を第２方向としており、第１方向及び第２方向が、本願の「スライド方向」に対応している。 Hereinafter, the input device 10 according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 2 to 5, the input device 10 is formed in a substantially columnar shape as a whole. In the drawings, the arrow A appropriately shown indicates one side (lower side) of the axis AL of the input device 10 in the axial direction, and the arrow B indicates the other side (upper side) of the axis AL in the axial direction. .. Further, in the following description, the virtual reference line passing through the axis AL is defined as the first reference line L1 (see FIG. 2) in a plan view seen from above, and the virtual reference line passes through the axis AL and is orthogonal to the first reference line L1. The virtual reference line is the second reference line L2 (see FIG. 2). Further, the extending direction of the first reference line L1 (direction of arrow C and arrow D in FIG. 2) is set as the first direction, and the extending direction of the second reference line L2 (direction of arrow E and arrow F in FIG. 2) is the first direction. There are two directions, and the first direction and the second direction correspond to the "sliding direction" of the present application.

入力装置１０は、入力装置１０の下側部分の外郭を構成する、ケース１２及びリッド２０を有している。このケース１２内には、基板３０、「回転操作機構」としてのロータリーノブアッシー４０、スライド機構５０、及びスライド操作機構６０が、収容されている。そして、ロータリーノブアッシー４０及びスライド操作機構６０の一部が、操作可能にケース１２から上側に露出されている。さらに、入力装置１０は、ロータリーノブアッシー４０及びスライド操作機構６０に対する操作を検出するための検出機構９０を有している。以下、入力装置１０の各構成について説明する。 The input device 10 has a case 12 and a lid 20 that form an outer shell of a lower portion of the input device 10. A substrate 30, a rotary knob assembly 40 as a "rotation operation mechanism", a slide mechanism 50, and a slide operation mechanism 60 are housed in the case 12. A part of the rotary knob assembly 40 and the slide operation mechanism 60 is operably exposed upward from the case 12. Further, the input device 10 has a detection mechanism 90 for detecting an operation on the rotary knob assembly 40 and the slide operation mechanism 60. Hereinafter, each configuration of the input device 10 will be described.

（ケース１２について）
ケース１２は、上下方向を軸方向とした略円筒状に形成されて、軸線ＡＬと同軸上に配置されている。ケース１２の上端部における直径寸法は、他の部分に比べて小さく設定されている。このため、ケース１２の上端部が、ケース１２の径方向内側へ張り出されている。 (About case 12)
The case 12 is formed in a substantially cylindrical shape with the vertical direction as the axial direction, and is arranged coaxially with the axis AL. The diameter dimension at the upper end portion of the case 12 is set smaller than that of the other portions. Therefore, the upper end portion of the case 12 projects inward in the radial direction of the case 12.

（リッド２０について）
リッド２０は、上下方向を板厚方向とした略円板状に形成されている。このリッド２０の外周部には、上方側へ突出されたリブ２０Ａが一体に形成されており、リブ２０Ａは、リッド２０の周方向全周に亘って形成されている。そして、リブ２０Ａが、下側からケース１２の開口部内に嵌入されて、リッド２０がケース１２に固定されている。これにより、ケース１２の下端部が、リッド２０によって閉塞されている。 (About lid 20)
The lid 20 is formed in a substantially disk shape with the vertical direction as the plate thickness direction. A rib 20A projecting upward is integrally formed on the outer peripheral portion of the lid 20, and the rib 20A is formed over the entire circumference of the lid 20 in the circumferential direction. Then, the rib 20A is fitted into the opening of the case 12 from below, and the lid 20 is fixed to the case 12. As a result, the lower end of the case 12 is closed by the lid 20.

リッド２０の略中央部には、上側へ隆起された隆起部２２が形成されており、隆起部２２は、下側へ開放された有底円筒状に形成されている。隆起部２２の上壁における中央部には、後述するピン６４を支持するための支持凹部２２Ａが形成されており、支持凹部２２Ａは、軸線ＡＬと同軸上に配置されている。この支持凹部２２Ａは、上側へ開放された凹状に形成されており、支持凹部２２Ａの内周面が、球面状の凹面によって構成されている。また、支持凹部２２Ａの径方向外側には、４箇所の傾斜凹部２２Ｂが形成されている。傾斜凹部２２Ｂは、支持凹部２２Ａの周方向に等間隔に配置されている。具体的には、平面視で、２箇所の傾斜凹部２２Ｂが、第１基準線Ｌ１に沿って配置されており、他の２箇所の傾斜凹部２２Ｂが、第２基準線Ｌ２に沿って配置されている。また、傾斜凹部２２Ｂは、支持凹部２２Ａの径方向から見て、上側へ開放された略半円状に形成されており、傾斜凹部２２Ｂの深さが、支持凹部２２Ａ側へ向かうに従い深くなるように、傾斜凹部２２Ｂが傾斜されている。 A raised portion 22 that is raised upward is formed in a substantially central portion of the lid 20, and the raised portion 22 is formed in a bottomed cylindrical shape that is open to the lower side. A support recess 22A for supporting the pin 64, which will be described later, is formed in the central portion of the upper wall of the raised portion 22, and the support recess 22A is arranged coaxially with the axis AL. The support recess 22A is formed in a concave shape that is open to the upper side, and the inner peripheral surface of the support recess 22A is formed by a spherical concave surface. Further, four inclined recesses 22B are formed on the radial outer side of the support recess 22A. The inclined recesses 22B are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the support recesses 22A. Specifically, in a plan view, two inclined recesses 22B are arranged along the first reference line L1, and the other two inclined recesses 22B are arranged along the second reference line L2. ing. Further, the inclined recess 22B is formed in a substantially semicircular shape open upward when viewed from the radial direction of the supporting recess 22A, so that the depth of the inclined recess 22B becomes deeper toward the support recess 22A side. The inclined recess 22B is inclined.

また、リッド２０には、後述する基板３０を固定するための複数（本実施の形態では、３箇所）の固定ボス２０Ｂが形成されている。固定ボス２０Ｂは、上下方向を軸方向とした略円筒状に形成されて、リッド２０から上側へ突出されると共に、隆起部２２の径方向外側において所定の位置に配置されている。 Further, the lid 20 is formed with a plurality of (three locations in the present embodiment) fixing bosses 20B for fixing the substrate 30 described later. The fixed boss 20B is formed in a substantially cylindrical shape with the vertical direction as the axial direction, protrudes upward from the lid 20, and is arranged at a predetermined position on the radial outer side of the raised portion 22.

（基板３０について）
基板３０は、上下方向を板厚方向とし、中央部に孔部３０Ａを有する略円環板状に形成されている。基板３０は、リッド２０のリブ２０Ａの上側に載置されて、後述するホルダ５２と共にネジＳＣ１によってリッド２０の固定ボス２０Ｂに固定されている。なお、基板３０の固定状態では、リッド２０の隆起部２２が、基板３０の孔部３０Ａ内に配置されて、基板３０が隆起部２２の径方向外側に配置されている。 (About board 30)
The substrate 30 is formed in a substantially annular plate shape having a hole 30A in the central portion with the vertical direction as the plate thickness direction. The substrate 30 is placed on the upper side of the rib 20A of the lid 20 and is fixed to the fixing boss 20B of the lid 20 by the screw SC1 together with the holder 52 described later. In the fixed state of the substrate 30, the raised portion 22 of the lid 20 is arranged in the hole portion 30A of the substrate 30, and the substrate 30 is arranged outside the raised portion 22 in the radial direction.

図１に示されるように、基板３０の上面には、後述するスライド操作機構６０及びロータリーノブアッシー４０の位置変化を検出するための一対の第１検出部３２Ａ，３２Ｂが設けられている（実装されている）。一対の第１検出部３２Ａ，３２Ｂは、基板３０の径方向中間部において、基板３０の周方向に９０度離間して配置されている。具体的には、一方の第１検出部３２Ａが、リッド２０の隆起部２２に対して第１方向他方側に配置されると共に、平面視で第１基準線Ｌ１と一致した位置に配置されている。一方、他方の第１検出部３２Ｂは、隆起部２２に対して第２方向他方側に配置されと共に、平面視で第２基準線Ｌ２と一致した位置に配置されている。 As shown in FIG. 1, a pair of first detection units 32A and 32B for detecting a position change of the slide operation mechanism 60 and the rotary knob assembly 40, which will be described later, are provided on the upper surface of the substrate 30 (mounting). Has been). The pair of first detection units 32A and 32B are arranged 90 degrees apart in the circumferential direction of the substrate 30 in the radial intermediate portion of the substrate 30. Specifically, one of the first detection units 32A is arranged on the other side in the first direction with respect to the raised portion 22 of the lid 20, and is arranged at a position corresponding to the first reference line L1 in a plan view. There is. On the other hand, the other first detection unit 32B is arranged on the other side in the second direction with respect to the raised portion 22, and is arranged at a position corresponding to the second reference line L2 in a plan view.

また、基板３０の上面には、後述するスライド操作機構６０及びロータリーノブアッシー４０の何れの操作であるのかを検出するための第２検出部３４が設けられている（実装されている）。第２検出部３４は、基板３０の内周部において、一方の第１検出部３２Ａに対して第１方向一方側に配置されている。 Further, on the upper surface of the substrate 30, a second detection unit 34 for detecting which of the slide operation mechanism 60 and the rotary knob assembly 40, which will be described later, is operated is provided (mounted). The second detection unit 34 is arranged on one side in the first direction with respect to the one first detection unit 32A in the inner peripheral portion of the substrate 30.

図６にも示されるように、第１検出部３２Ａ，３２Ｂ及び第２検出部３４は、フォトリフレクタとして構成されている。すなわち、第１検出部３２Ａ，３２Ｂ及び第２検出部３４は、発光部及び受光部を有しており、発光部が、光を上側（具体的には、後述する検出機構９０側）へ照射して、受光部が、検出機構９０によって下側へ反射された光を受光するようになっている。 As shown in FIG. 6, the first detection units 32A and 32B and the second detection unit 34 are configured as photo reflectors. That is, the first detection unit 32A, 32B and the second detection unit 34 have a light emitting unit and a light receiving unit, and the light emitting unit irradiates light to the upper side (specifically, the detection mechanism 90 side described later). Then, the light receiving unit receives the light reflected downward by the detection mechanism 90.

また、第１検出部３２Ａ，３２Ｂ及び第２検出部３４には、制御部３６（図５参照）が電気的に接続されている。そして、第１検出部３２Ａ，３２Ｂ及び第２検出部３４が、受光部によって受光した光に基づいて、制御部３６へ出力信号（オン信号又はオフ信号）を出力して、制御部３６が、第１検出部３２Ａ，３２Ｂ及び第２検出部３４からの出力信号に基づいて、スライド操作機構６０及びロータリーノブアッシー４０の操作を検知する構成になっている。 Further, a control unit 36 (see FIG. 5) is electrically connected to the first detection units 32A and 32B and the second detection unit 34. Then, the first detection unit 32A, 32B and the second detection unit 34 output an output signal (on signal or off signal) to the control unit 36 based on the light received by the light receiving unit, and the control unit 36 outputs the output signal (on signal or off signal). The operation of the slide operation mechanism 60 and the rotary knob assembly 40 is detected based on the output signals from the first detection units 32A and 32B and the second detection unit 34.

（ロータリーノブアッシー４０について）
図２〜図５に示されるように、ロータリーノブアッシー４０は、全体として上下方向を軸方向とした略円筒状に形成されている。そして、ロータリーノブアッシー４０は、軸線ＡＬと同軸上に配置されて、ロータリーノブアッシー４０の下側部分がケース１２内に回転可能に収容されている。また、ロータリーノブアッシー４０は、後述するホルダ５２によって、軸線ＡＬ回りに回転可能に支持されている。 (About rotary knob assembly 40)
As shown in FIGS. 2 to 5, the rotary knob assembly 40 is formed in a substantially cylindrical shape with the vertical direction as the axial direction as a whole. The rotary knob assembly 40 is arranged coaxially with the axis line AL, and the lower portion of the rotary knob assembly 40 is rotatably housed in the case 12. Further, the rotary knob assembly 40 is rotatably supported around the axis AL by a holder 52 described later.

ロータリーノブアッシー４０は、軟質の樹脂材（例えば、エラストマ）によって構成された軟質部４２と、硬質の樹脂材（例えば、ＡＢＳ樹脂）によって構成された硬質部４４と、によって構成され、２色成形等の手法によって製作されている。具体的には、ロータリーノブアッシー４０は、硬質部４４を主要部として構成されており、硬質部４４の上端部に軟質部４２が一体に形成されている（図３及び図４参照）。また、軟質部４２は、ロータリーノブアッシー４０の上端外周部において、複数の把持部４０Ａを有している。この複数の把持部４０Ａは、ロータリーノブアッシー４０の径方向外側へ突出し且つ周方向に延在されると共に、ロータリーノブアッシー４０の周方向に所定間隔毎に並んで配置されている。 The rotary knob assembly 40 is composed of a soft portion 42 made of a soft resin material (for example, elastomer) and a hard portion 44 made of a hard resin material (for example, ABS resin), and is molded in two colors. It is manufactured by such a method. Specifically, the rotary knob assembly 40 is configured with the hard portion 44 as the main portion, and the soft portion 42 is integrally formed at the upper end portion of the hard portion 44 (see FIGS. 3 and 4). Further, the soft portion 42 has a plurality of grip portions 40A on the outer peripheral portion of the upper end of the rotary knob assembly 40. The plurality of grip portions 40A project outward in the radial direction of the rotary knob assembly 40 and extend in the circumferential direction, and are arranged side by side in the circumferential direction of the rotary knob assembly 40 at predetermined intervals.

また、ロータリーノブアッシー４０の外周部における上下方向中間部には、複数（本実施の形態では、４箇所）の保持爪４０Ｂが一体に形成されている。複数の保持爪４０Ｂは、ロータリーノブアッシー４０の周方向に９０度毎に離間して配置されている。また、保持爪４０Ｂは、上端部をロータリーノブアッシー４０に接続した略矩形板状に形成されると共に、ロータリーノブアッシー４０の径方向に弾性変形可能に構成されている。さらに、保持爪４０Ｂの下端部には、ロータリーノブアッシー４０の径方向内側へ突出された保持爪部４０Ｂ１が一体に形成されている。 Further, a plurality of holding claws 40B (four locations in the present embodiment) are integrally formed in the vertical intermediate portion in the outer peripheral portion of the rotary knob assembly 40. The plurality of holding claws 40B are arranged at intervals of 90 degrees in the circumferential direction of the rotary knob assembly 40. Further, the holding claw 40B is formed in a substantially rectangular plate shape in which the upper end portion is connected to the rotary knob assembly 40, and is configured to be elastically deformable in the radial direction of the rotary knob assembly 40. Further, a holding claw portion 40B1 protruding inward in the radial direction of the rotary knob assembly 40 is integrally formed at the lower end portion of the holding claw 40B.

ロータリーノブアッシー４０の内周面には、複数の保持爪４０Ｂの上側で且つ複数の保持爪４０Ｂの間の位置において、保持突起４０Ｃが形成されている（すなわち、４箇所の保持突起４０Ｃが形成されている）。保持突起４０Ｃは、ロータリーノブアッシー４０の周方向に延在されたリブ状に形成されている。 On the inner peripheral surface of the rotary knob assembly 40, holding protrusions 40C are formed on the upper side of the plurality of holding claws 40B and at positions between the plurality of holding claws 40B (that is, four holding protrusions 40C are formed). Has been). The holding protrusion 40C is formed in a rib shape extending in the circumferential direction of the rotary knob assembly 40.

ロータリーノブアッシー４０の内周面には、保持突起４０Ｃの上側において、複数（本実施の形態では、２０箇所）の節度山４０Ｄが一体に形成されている。複数の節度山４０Ｄは、ロータリーノブアッシー４０の周方向に並んで配置されると共に、ロータリーノブアッシー４０の周方向全周亘って形成されている。また、節度山４０Ｄは、平面視で、ロータリーノブアッシー４０の径方向内側へ凸となる略円弧状に湾曲している。 On the inner peripheral surface of the rotary knob assembly 40, a plurality of (20 points in the present embodiment) moderation peaks 40D are integrally formed on the upper side of the holding protrusion 40C. The plurality of moderation peaks 40D are arranged side by side in the circumferential direction of the rotary knob assembly 40, and are formed over the entire circumference of the rotary knob assembly 40 in the circumferential direction. Further, the moderation peak 40D is curved in a substantially arc shape which is convex inward in the radial direction of the rotary knob assembly 40 in a plan view.

（スライド機構５０について）
スライド機構５０は、後述するスライド操作機構６０を第１方向及び第２方向へスライド（移動）可能に保持する機構として構成されている。このスライド機構５０は、ホルダ５２と、スライダ５４と、を含んで構成されて、ロータリーノブアッシー４０の内部に収容されている。 (About slide mechanism 50)
The slide mechanism 50 is configured as a mechanism for holding the slide operation mechanism 60, which will be described later, so as to be slidable (movable) in the first direction and the second direction. The slide mechanism 50 includes a holder 52 and a slider 54, and is housed inside the rotary knob assembly 40.

＜ホルダ５２について＞
ホルダ５２は、下側へ開放された略有底円筒状に形成されている。ホルダ５２は、基板３０の上側に隣接して配置されており、ホルダ５２の下端部が、ネジＳＣ１によって基板３０と共にリッド２０の固定ボス２０Ｂに固定されている。ホルダ５２の外周部における上端部には、径方向外側へ若干張り出された固定鍔５２Ａが一体に形成されており、固定鍔５２Ａは、ホルダ５２の周方向全周に亘って形成されている。そして、固定鍔５２Ａが、ロータリーノブアッシー４０の保持爪部４０Ｂ１と保持突起４０Ｃとによって上下に挟み込まれて、ロータリーノブアッシー４０がホルダ５２に保持されている。具体的には、ホルダ５２をロータリーノブアッシー４０内に下側から挿入し、ロータリーノブアッシー４０の保持爪４０Ｂが、固定鍔５２Ａによって押圧されて、径方向外側へ弾性変形する。これにより、固定鍔５２Ａが、保持爪部４０Ｂ１と保持突起４０Ｃとの間に配置されて、ロータリーノブアッシー４０がホルダ５２に組付けられている。また、ロータリーノブアッシー４０がホルダ５２に組付けられた状態では、ロータリーノブアッシー４０がホルダ５２に相対回転可能に組付けられている。これにより、ロータリーノブアッシー４０がホルダ５２に回転可能に支持されている。 <About holder 52>
The holder 52 is formed in a substantially bottomed cylindrical shape that is open downward. The holder 52 is arranged adjacent to the upper side of the substrate 30, and the lower end portion of the holder 52 is fixed to the fixing boss 20B of the lid 20 together with the substrate 30 by the screw SC1. A fixed flange 52A slightly protruding outward in the radial direction is integrally formed at the upper end portion of the outer peripheral portion of the holder 52, and the fixed flange 52A is formed over the entire circumference of the holder 52 in the circumferential direction. .. Then, the fixed flange 52A is vertically sandwiched between the holding claw portion 40B1 of the rotary knob assembly 40 and the holding protrusion 40C, and the rotary knob assembly 40 is held by the holder 52. Specifically, the holder 52 is inserted into the rotary knob assembly 40 from below, and the holding claw 40B of the rotary knob assembly 40 is pressed by the fixing flange 52A to elastically deform outward in the radial direction. As a result, the fixing flange 52A is arranged between the holding claw portion 40B1 and the holding protrusion 40C, and the rotary knob assembly 40 is assembled to the holder 52. Further, in a state where the rotary knob assembly 40 is assembled to the holder 52, the rotary knob assembly 40 is assembled to the holder 52 so as to be relatively rotatable. As a result, the rotary knob assembly 40 is rotatably supported by the holder 52.

ホルダ５２の上壁の上面には、収容部５２Ｂが形成されている。この収容部５２Ｂは、上側へ開放された凹状を成すと共に、平面視で第２方向を長手方向とする略トラック形状に形成されている。収容部５２Ｂの略中央部には、第２方向を長手方向とする略矩形状の挿通孔５２Ｃが貫通形成されている。挿通孔５２Ｃは、長手方向中間部において、第１方向一方側及び他方側へ延出されたスリット状の第１スリット孔５２Ｃ１を有している。また、挿通孔５２Ｃは、第２方向他方側端部において、第１方向一方側及び他方側へ延出されたスリット状の第２スリット孔５２Ｃ２を有している。 A housing portion 52B is formed on the upper surface of the upper wall of the holder 52. The accommodating portion 52B has a concave shape that is open to the upper side, and is formed in a substantially track shape with the second direction as the longitudinal direction in a plan view. A substantially rectangular insertion hole 52C having a second direction as a longitudinal direction is formed through the substantially central portion of the accommodating portion 52B. The insertion hole 52C has a slit-shaped first slit hole 52C1 extending to one side and the other side in the first direction in the intermediate portion in the longitudinal direction. Further, the insertion hole 52C has a slit-shaped second slit hole 52C2 extending to one side and the other side in the first direction at the other end in the second direction.

また、収容部５２Ｂの第２方向一方側の端部には、支持柱５２Ｄが形成されている。支持柱５２Ｄは、略矩形柱状に形成されて、収容部５２Ｂから上方側へ突出されている。また、支持柱５２Ｄには、収容凹部５２Ｄ１が形成されており、収容凹部５２Ｄ１は、第２方向一方側へ開放された凹状に形成されると共に、第２方向一方側から見て略矩形状に形成されている。そして、収容凹部５２Ｄ１には、節度機構５６（図３参照）が収容されている。 Further, a support pillar 52D is formed at one end of the accommodating portion 52B on one side in the second direction. The support pillar 52D is formed in a substantially rectangular columnar shape and protrudes upward from the accommodating portion 52B. Further, the accommodating recess 52D1 is formed in the support pillar 52D, and the accommodating recess 52D1 is formed in a concave shape open to one side in the second direction and has a substantially rectangular shape when viewed from one side in the second direction. It is formed. The moderation mechanism 56 (see FIG. 3) is housed in the housing recess 52D1.

ここで、節度機構５６について説明する。図３に示されるように、節度機構５６は、節度部材５７と、圧縮コイルスプリングとして構成された付勢バネ５８と、を含んで構成されている。節度部材５７は、第２方向に延在された略矩形柱状に形成されて、第２方向（すなわち、ロータリーノブアッシー４０の径方向）において相対移動可能に収容凹部５２Ｄ１内に収容されている。付勢バネ５８は、収容凹部５２Ｄ１内に収容されて、収容凹部５２Ｄ１の底部と節度部材５７との間に配置されている。これにより、付勢バネ５８の付勢力によって節度部材５７が第２方向一方側（ロータリーノブアッシー４０の径方向外側）へ付勢されている。また、節度部材５７の第２方向一方側の端部には、略半球状の節度部５７Ａが一体に形成されており、節度部５７Ａが、ロータリーノブアッシー４０において周方向に隣り合う節度山４０Ｄの間に配置されている。これにより、ロータリーノブアッシー４０が回転操作されるときには、節度部５７Ａが、節度山４０Ｄを乗り越えることで、操作者に節度感（クリック感）が付与される構成になっている。また、上述のように、ロータリーノブアッシー４０には、２０箇所の節度山４０Ｄが形成されている。このため、本実施の形態では、節度部５７Ａが１つの節度山４０Ｄを乗り越えたときには、ロータリーノブアッシー４０が、１８度回転される設定になっている。すなわち、本実施の形態では、ロータリーノブアッシー４０の回転ピッチが１８度に設定されている。 Here, the moderation mechanism 56 will be described. As shown in FIG. 3, the moderation mechanism 56 includes a moderation member 57 and an urging spring 58 configured as a compression coil spring. The moderation member 57 is formed in a substantially rectangular columnar shape extending in the second direction, and is housed in the housing recess 52D1 so as to be relatively movable in the second direction (that is, in the radial direction of the rotary knob assembly 40). The urging spring 58 is housed in the housing recess 52D1 and is arranged between the bottom of the housing recess 52D1 and the moderator member 57. As a result, the moderator member 57 is urged to one side in the second direction (the radial outside of the rotary knob assembly 40) by the urging force of the urging spring 58. Further, a substantially hemispherical moderation portion 57A is integrally formed at one end of the moderation member 57 on one side in the second direction, and the moderation portion 57A is adjacent to the moderation peak 40D in the circumferential direction in the rotary knob assembly 40. It is placed between. As a result, when the rotary knob assembly 40 is rotated, the moderation portion 57A gets over the moderation peak 40D to give the operator a moderation feeling (click feeling). Further, as described above, the rotary knob assembly 40 is formed with 20 moderation peaks 40D. Therefore, in the present embodiment, the rotary knob assembly 40 is set to be rotated 18 degrees when the moderation portion 57A gets over one moderation mountain 40D. That is, in the present embodiment, the rotation pitch of the rotary knob assembly 40 is set to 18 degrees.

ホルダ５２の説明に戻って、図３〜図５に示されるように、収容部５２Ｂの第２方向他方側の端部には、支持柱５２Ｅが形成されている。支持柱５２Ｅは、略矩形筒状に形成されて、収容部５２Ｂから上方側へ突出されている。また、ホルダ５２の下端部には、後述する検出機構９０のプレート９２を配置するための切欠部５２Ｆが形成されており、切欠部５２Ｆは、下側へ開放された凹状に形成されている。 Returning to the description of the holder 52, as shown in FIGS. 3 to 5, a support pillar 52E is formed at the other end of the accommodating portion 52B in the second direction. The support pillar 52E is formed in a substantially rectangular tubular shape and protrudes upward from the accommodating portion 52B. Further, a notch 52F for arranging the plate 92 of the detection mechanism 90, which will be described later, is formed at the lower end of the holder 52, and the notch 52F is formed in a concave shape open to the lower side.

＜スライダ５４について＞
スライダ５４は、下側へ開放された略有底筒状に形成されて、ホルダ５２の収容部５２Ｂの上側に配置されている。スライダ５４の下端部には、第１方向一方側及び他方側の部分において、第２方向に並ぶ一対のガイド部５４Ａがそれぞれ形成されている。一対のガイド部５４Ａは、上下方向を板厚方向とした略矩形板状に形成されて、スライダ５４から第１方向一方側及び他方側へそれぞれ突出されている。そして、一対のガイド部５４Ａが、ホルダ５２に対して第２方向へスライド可能に、ホルダ５２の収容部５２Ｂ内に収容されている。また、ガイド部５４Ａの収容部５２Ｂへの収容状態では、ガイド部５４Ａの先端部が収容部５２Ｂの内周面に当接することで、ガイド部５４Ａ（すなわちスライダ５４）の第１方向への移動が制限されている。 <About slider 54>
The slider 54 is formed in a substantially bottomed cylinder shape that is open downward, and is arranged above the accommodating portion 52B of the holder 52. At the lower end of the slider 54, a pair of guide portions 54A arranged in the second direction are formed on one side and the other side in the first direction, respectively. The pair of guide portions 54A are formed in a substantially rectangular plate shape with the vertical direction as the plate thickness direction, and project from the slider 54 to one side and the other side in the first direction, respectively. Then, the pair of guide portions 54A are accommodated in the accommodating portion 52B of the holder 52 so as to be slidable in the second direction with respect to the holder 52. Further, in the state of accommodating the guide portion 54A in the accommodating portion 52B, the tip portion of the guide portion 54A abuts on the inner peripheral surface of the accommodating portion 52B, so that the guide portion 54A (that is, the slider 54) moves in the first direction. Is restricted.

スライダ５４の上壁には、中央部において、挿通孔５４Ｂが貫通形成されている。挿通孔５４Ｂは、平面視で第１方向を長手方向とする略トラック形状に形成されている。さらに、スライダ５４の第２方向一方側及び他方側の部分には、一対のガイド凹部５４Ｃ，５４Ｄが形成されている。一方のガイド凹部５４Ｃは、第２方向一方側へ開放された凹状に形成されており、他方のガイド凹部５４Ｄは、第２方向他方側へ開放された凹状に形成されている。そして、一方のガイド凹部５４Ｃ内にホルダ５２の支持柱５２Ｄが、第２方向に相対移動可能に挿入され、他方のガイド凹部５４Ｄ内にホルダ５２の支持柱５２Ｅが、第２方向に相対移動可能に挿入されている。これにより、スライダ５４が第２方向へスライド可能にホルダ５２によって保持されており、スライダ５４が第２方向へのスライドを、ガイド凹部５４Ｃ，５４Ｄによってガイドする構成になっている。 An insertion hole 54B is formed through the upper wall of the slider 54 at a central portion. The insertion hole 54B is formed in a substantially track shape with the first direction as the longitudinal direction in a plan view. Further, a pair of guide recesses 54C and 54D are formed on one side and the other side of the slider 54 in the second direction. One guide recess 54C is formed in a concave shape open to one side in the second direction, and the other guide recess 54D is formed in a concave shape open to the other side in the second direction. Then, the support pillar 52D of the holder 52 is inserted into one guide recess 54C so as to be relatively movable in the second direction, and the support pillar 52E of the holder 52 is relatively movable in the other guide recess 54D. It is inserted in. As a result, the slider 54 is held by the holder 52 so as to be slidable in the second direction, and the slider 54 is configured to guide the slide in the second direction by the guide recesses 54C and 54D.

さらに、スライダ５４の上端部には、後述するノブベース６８をガイドするための一対のガイドレール５４Ｅが一体に形成されている。このガイドレール５４Ｅは、スライダ５４から第１方向一方側及び他方側へ突出されると共に、第１方向から見て、上方側へ開放された略Ｕ字形状に形成されている。すなわち、ガイドレール５４Ｅの幅方向中央部には、上側へ開放されたガイド溝５４Ｆが形成されており、ガイド溝５４Ｆが、平面視で、第１基準線Ｌ１に沿って延在されている。 Further, a pair of guide rails 54E for guiding the knob base 68, which will be described later, are integrally formed at the upper end portion of the slider 54. The guide rail 54E is formed in a substantially U-shape that protrudes from the slider 54 to one side and the other side in the first direction and is open upward when viewed from the first direction. That is, a guide groove 54F opened upward is formed in the central portion of the guide rail 54E in the width direction, and the guide groove 54F extends along the first reference line L1 in a plan view.

（スライド操作機構６０について）
スライド操作機構６０は、操作者によってスライド操作されるスライドノブ８０（広義には、「操作体」として把握される要素である）と、スライドノブ８０の操作時に、後述する検出機構９０のプレート９２をスライドノブ８０と一体に移動させるための移動機構６１と、を含んで構成されている。また、移動機構６１は、シャフト６２と、ピン６４と、付勢バネ６６と、ノブベース６８と、を含んで構成されている。以下、先に移動機構６１の構成を説明し、次いで、スライドノブ８０の構成について説明する。 (About slide operation mechanism 60)
The slide operation mechanism 60 includes a slide knob 80 (which is an element grasped as an “operation body” in a broad sense) that is slide-operated by an operator, and a plate 92 of a detection mechanism 90 that will be described later when the slide knob 80 is operated. Is configured to include a moving mechanism 61 for moving the slide knob 80 integrally with the slide knob 80. Further, the moving mechanism 61 includes a shaft 62, a pin 64, an urging spring 66, and a knob base 68. Hereinafter, the configuration of the moving mechanism 61 will be described first, and then the configuration of the slide knob 80 will be described.

＜シャフト６２について＞
シャフト６２は、上下方向を板厚方向とした板状のシャフトベース６２Ａを有しており、シャフトベース６２Ａは、平面視で略正八角形状に形成されている。シャフトベース６２Ａは、ホルダ５２の内部に収容されると共に、ホルダ５２の上壁の下側に隣接して配置されている。 <About shaft 62>
The shaft 62 has a plate-shaped shaft base 62A whose vertical direction is the plate thickness direction, and the shaft base 62A is formed in a substantially regular octagonal shape in a plan view. The shaft base 62A is housed inside the holder 52 and is arranged adjacent to the lower side of the upper wall of the holder 52.

シャフトベース６２Ａには、一対のストッパ片６２Ｂが一体に形成されている。ストッパ片６２Ｂは、シャフトベース６２Ａの中央部に対して、第２方向一方側及び他方側にそれぞれ配置されており、シャフトベース６２Ａから上側へ突出されている。また、ストッパ片６２Ｂは、第２方向を板厚方向とする略Ｔ字形板状に形成されている。具体的には、ストッパ片６２Ｂは、シャフトベース６２Ａから上側へ延出された基部６２Ｂ１と、基部６２Ｂ１の上端部から第１方向一方側及び他方側へ延出されたストッパ部６２Ｂ２と、を含んで構成されている。そして、一対のストッパ部６２Ｂ２が、ホルダ５２の収容部５２Ｂの上側に配置されて、シャフト６２がホルダ５２に組付けられている。これにより、ストッパ部６２Ｂ２とシャフトベース６２Ａとの間に、ホルダ５２の収容部５２Ｂが配置されて、シャフト６２のホルダ５２に対する上下移動が制限されている。 A pair of stopper pieces 62B are integrally formed on the shaft base 62A. The stopper piece 62B is arranged on one side and the other side in the second direction with respect to the central portion of the shaft base 62A, and protrudes upward from the shaft base 62A. Further, the stopper piece 62B is formed in a substantially T-shaped plate shape with the second direction as the plate thickness direction. Specifically, the stopper piece 62B includes a base portion 62B1 extending upward from the shaft base 62A and a stopper portion 62B2 extending upward from the upper end portion of the base portion 62B1 to one side and the other side in the first direction. It is composed of. A pair of stopper portions 62B2 are arranged above the accommodating portion 52B of the holder 52, and the shaft 62 is assembled to the holder 52. As a result, the accommodating portion 52B of the holder 52 is arranged between the stopper portion 62B2 and the shaft base 62A, and the vertical movement of the shaft 62 with respect to the holder 52 is restricted.

なお、シャフト６２をホルダ５２へ組付けるときには、一対のストッパ部６２Ｂ２における第２方向一方側のストッパ部６２Ｂ２をホルダ５２の第１スリット孔５２Ｃ１内に下側から挿入し、第２方向他方側のストッパ部６２Ｂ２を第２スリット孔５２Ｃ２内に下側から挿入する。次いで、シャフト６２を第２方向一方側へホルダ５２に対してスライドさせる。これにより、ストッパ部６２Ｂ２が収容部５２Ｂの上側に配置されて、シャフト６２がホルダ５２に組付けられている。なお、シャフト６２のホルダ５２への組付状態では、ストッパ片６２Ｂの基部６２Ｂ１がホルダ５２の挿通孔５２Ｃの内周面から離間されて、シャフト６２の第１方向及び第２方向への移動が許容される構成になっている。 When assembling the shaft 62 to the holder 52, the stopper portion 62B2 on one side in the second direction of the pair of stopper portions 62B2 is inserted into the first slit hole 52C1 of the holder 52 from the lower side, and the other side in the second direction is inserted. The stopper portion 62B2 is inserted into the second slit hole 52C2 from below. Next, the shaft 62 is slid to one side in the second direction with respect to the holder 52. As a result, the stopper portion 62B2 is arranged above the accommodating portion 52B, and the shaft 62 is assembled to the holder 52. In the state of assembling the shaft 62 to the holder 52, the base portion 62B1 of the stopper piece 62B is separated from the inner peripheral surface of the insertion hole 52C of the holder 52, and the shaft 62 moves in the first direction and the second direction. It has an acceptable configuration.

また、シャフト６２は、上下方向を軸方向とした略矩形筒状のシャフト本体６２Ｃを有している。シャフト本体６２Ｃは、シャフトベース６２Ａの中央部から上側且つ下側へ突出されると共に、軸線ＡＬと同軸上に配置されている。また、シャフト本体６２Ｃの上部は、ホルダ５２の挿通孔５２Ｃ及びスライダ５４の挿通孔５４Ｂ内を挿通しており、シャフト本体６２Ｃの上端部が、スライダ５４に対して上側へ突出されている。 Further, the shaft 62 has a substantially rectangular tubular shaft body 62C whose axial direction is the vertical direction. The shaft body 62C projects upward and downward from the central portion of the shaft base 62A, and is arranged coaxially with the axis AL. Further, the upper portion of the shaft body 62C is inserted through the insertion hole 52C of the holder 52 and the insertion hole 54B of the slider 54, and the upper end portion of the shaft body 62C is projected upward with respect to the slider 54.

そして、シャフト本体６２Ｃの下部を、操作軸６２Ｄとしており、操作軸６２Ｄの中央部には、ピン収容部６２Ｅが形成されている。ピン収容部６２Ｅは、断面円形状を成す下側へ開放された凹状に形成されている。また、ピン収容部６２Ｅは、ピン収容部６２Ｅの下部を構成する第１ピン収容部６２Ｅ１と、ピン収容部６２Ｅの上部を構成する第２ピン収容部６２Ｅ２と、を有しており、第２ピン収容部６２Ｅ２の径寸法が、第１ピン収容部６２Ｅ１の径寸法よりも小さく設定されている。すなわち、ピン収容部６２Ｅの内周面には、上下方向中間部において、段差部が形成されている。一方、シャフト本体６２Ｃの上部における中央部には、断面円形状の固定凹部６２Ｆが形成されており、固定凹部６２Ｆは上側へ開放されている。 The lower part of the shaft body 62C is the operating shaft 62D, and the pin accommodating portion 62E is formed in the central portion of the operating shaft 62D. The pin accommodating portion 62E is formed in a concave shape open to the lower side having a circular cross section. Further, the pin accommodating portion 62E has a first pin accommodating portion 62E1 constituting the lower portion of the pin accommodating portion 62E and a second pin accommodating portion 62E2 constituting the upper portion of the pin accommodating portion 62E. The diameter dimension of the pin accommodating portion 62E2 is set smaller than the diameter dimension of the first pin accommodating portion 62E1. That is, a step portion is formed on the inner peripheral surface of the pin accommodating portion 62E in the vertical intermediate portion. On the other hand, a fixed recess 62F having a circular cross section is formed in the central portion of the upper portion of the shaft main body 62C, and the fixed recess 62F is opened upward.

＜ピン６４について＞
ピン６４は、上下方向を軸方向としたシャフト状に形成されており、ピン６４の直径寸法が、第２ピン収容部６２Ｅ２の内径寸法よりも僅かに小さく設定されている。そして、ピン６４が、シャフト６２のピン収容部６２Ｅ内に相対移動可能に収容されている。具体的には、ピン６４の上端側の部分が、第２ピン収容部６２Ｅ２内に収容されている。 <About pin 64>
The pin 64 is formed in a shaft shape with the vertical direction as the axial direction, and the diameter dimension of the pin 64 is set to be slightly smaller than the inner diameter dimension of the second pin accommodating portion 62E2. The pin 64 is housed in the pin accommodating portion 62E of the shaft 62 so as to be relatively movable. Specifically, the upper end side portion of the pin 64 is accommodated in the second pin accommodating portion 62E2.

ピン６４の下端側の部分には、径方向外側へ張り出された鍔部６４Ａが一体に形成されている。鍔部６４Ａは、ピン６４の軸方向から見て、円形状に形成されており、鍔部６４Ａの直径寸法が、第１ピン収容部６２Ｅ１の内径寸法よりも僅かに小さく設定されている。そして、鍔部６４Ａが、第１ピン収容部６２Ｅ１の下端部内に配置されている（図３及び図４参照）。また、ピン収容部６２Ｅ内への収容状態では、ピン６４の下端部が、操作軸６２Ｄに対して下側へ突出されて、リッド２０の支持凹部２２Ａによって支持されている。さらに、ピン６４の下端部は、支持凹部２２Ａに対応する略半球状に形成されている。 A flange portion 64A projecting outward in the radial direction is integrally formed at a portion on the lower end side of the pin 64. The flange portion 64A is formed in a circular shape when viewed from the axial direction of the pin 64, and the diameter dimension of the flange portion 64A is set to be slightly smaller than the inner diameter dimension of the first pin accommodating portion 62E1. The flange portion 64A is arranged in the lower end portion of the first pin accommodating portion 62E1 (see FIGS. 3 and 4). Further, in the state of being accommodated in the pin accommodating portion 62E, the lower end portion of the pin 64 is projected downward with respect to the operation shaft 62D and is supported by the support recess 22A of the lid 20. Further, the lower end portion of the pin 64 is formed in a substantially hemispherical shape corresponding to the support recess 22A.

＜付勢バネ６６について＞
付勢バネ６６は、圧縮コイルスプリングとして構成されている。そして、付勢バネ６６が、ピン６４の鍔部６４Ａよりも上側の部分に装着されて、ピン６４と共にピン収容部６２Ｅ内に収容されている。具体的には、付勢バネ６６の上端部が、ピン収容部６２Ｅの段差部に係止されて、付勢バネ６６の下端部が、ピン６４の鍔部６４Ａに係止されている。さらに、付勢バネ６６のピン収容部６２Ｅ内への収容状態では、付勢バネ６６が圧縮変形している。このため、ピン６４が、付勢バネ６６の付勢力によって、下側へ付勢されて、ピン６４の下端部が、支持凹部２２Ａに圧接されている。 <About the urging spring 66>
The urging spring 66 is configured as a compression coil spring. The urging spring 66 is attached to a portion of the pin 64 above the flange portion 64A, and is housed in the pin accommodating portion 62E together with the pin 64. Specifically, the upper end portion of the urging spring 66 is locked to the stepped portion of the pin accommodating portion 62E, and the lower end portion of the urging spring 66 is locked to the flange portion 64A of the pin 64. Further, in the state of accommodating the urging spring 66 in the pin accommodating portion 62E, the urging spring 66 is compression-deformed. Therefore, the pin 64 is urged downward by the urging force of the urging spring 66, and the lower end portion of the pin 64 is pressed against the support recess 22A.

＜ノブベース６８について＞
ノブベース６８は、全体として上側へ開放された略有底円筒状に形成されている。ノブベース６８は、入力装置１０の軸線ＡＬと同軸上に配置されると共に、シャフト本体６２Ｃの上側に隣接して配置されている。ノブベース６８の底壁部における中央部には、固定孔６８Ａが貫通形成されている。そして、固定孔６８Ａ内にネジＳＣ２が挿入されて、ネジＳＣ２がシャフト６２の固定凹部６２Ｆに螺合されることで、ノブベース６８がシャフト６２に固定されている。これにより、移動機構６１の全体が、一体移動可能に構成されている。 <About Knob Base 68>
The knob base 68 is formed in a substantially bottomed cylindrical shape that is open upward as a whole. The knob base 68 is arranged coaxially with the axis AL of the input device 10 and adjacent to the upper side of the shaft body 62C. A fixing hole 68A is formed through the central portion of the bottom wall portion of the knob base 68. Then, the screw SC2 is inserted into the fixing hole 68A, and the screw SC2 is screwed into the fixing recess 62F of the shaft 62, so that the knob base 68 is fixed to the shaft 62. As a result, the entire moving mechanism 61 is configured to be integrally movable.

また、ノブベース６８の底壁には、下側へ突出されたガイド片６８Ｂ（図４参照）が一体に形成されている。このガイド片６８Ｂは、第２方向を板厚方向とした板状に形成されると共に、平面視で第１基準線Ｌ１に沿って延在している。そして、ガイド片６８Ｂが、前述したスライダ５４のガイド溝５４Ｆ内に、第１方向にスライド可能に挿入されている。これにより、ノブベース６８（移動機構６１）が、スライダ５４のガイド溝５４Ｆによってガイドされながら、スライダ５４に対して第１方向へ移動する構成になっている。一方、ノブベース６８（移動機構６１）が、第２方向へ移動するときには、ノブベース６８のガイド片６８Ｂがスライダ５４のガイド溝５４Ｆに係合して、ノブベース６８（移動機構６１）が、スライダ５４と共に、ホルダ５２に対して第２方向へ移動する構成になっている。 Further, a guide piece 68B (see FIG. 4) projecting downward is integrally formed on the bottom wall of the knob base 68. The guide piece 68B is formed in a plate shape with the second direction as the plate thickness direction, and extends along the first reference line L1 in a plan view. Then, the guide piece 68B is slidably inserted in the guide groove 54F of the slider 54 described above in the first direction. As a result, the knob base 68 (moving mechanism 61) is configured to move in the first direction with respect to the slider 54 while being guided by the guide groove 54F of the slider 54. On the other hand, when the knob base 68 (moving mechanism 61) moves in the second direction, the guide piece 68B of the knob base 68 engages with the guide groove 54F of the slider 54, and the knob base 68 (moving mechanism 61) is moved together with the slider 54. , It is configured to move in the second direction with respect to the holder 52.

また、ノブベース６８の外周縁部には、４箇所のガイドレール６８Ｃが一体に形成されている。ガイドレール６８Ｃは、ノブベース６８の底壁部から上側へ突出された柱状に形成されると共に、ノブベース６８の周方向に９０度毎に離間して配置されている。具体的には、平面視で、２箇所のガイドレール６８Ｃが、第１基準線Ｌ１に沿って並んで配置されており、他の２箇所のガイドレール６８Ｃが、第２基準線Ｌ２に沿って並んで配置されている。また、ガイドレール６８Ｃは、平面視で、ノブベース６８の径方向外側へ開放された略Ｕ字形状に形成されている。これにより、ガイドレール６８Ｃの幅方向中央部には、ノブベース６８の径方向外側へ開放され且つ上下方向に延在されたガイド溝６８Ｄが形成されている。なお、ガイド溝６８Ｄの下端部は、ノブベース６８の底壁によって閉塞されている。 Further, four guide rails 68C are integrally formed on the outer peripheral edge portion of the knob base 68. The guide rail 68C is formed in a columnar shape protruding upward from the bottom wall portion of the knob base 68, and is arranged at intervals of 90 degrees in the circumferential direction of the knob base 68. Specifically, in a plan view, two guide rails 68C are arranged side by side along the first reference line L1, and the other two guide rails 68C are arranged along the second reference line L2. They are arranged side by side. Further, the guide rail 68C is formed in a substantially U-shape open to the outside in the radial direction of the knob base 68 in a plan view. As a result, a guide groove 68D that is open outward in the radial direction of the knob base 68 and extends in the vertical direction is formed in the central portion of the guide rail 68C in the width direction. The lower end of the guide groove 68D is closed by the bottom wall of the knob base 68.

さらに、ノブベース６８の外周縁部には、３箇所の係合片６８Ｅが一体に形成されており、係合片６８Ｅは、ノブベース６８の底壁部から上側へ突出されると共に、ノブベース６８の周方向に１２０度毎に離間して配置されている。この係合片６８Ｅは、ノブベース６８の径方向を板厚方向とした略矩形板状に形成されると共に、平面視でノブベース６８の周方向に沿って湾曲されている。また、係合片６８Ｅの幅方向中央には、係合孔６８Ｅ１が貫通形成されている。 Further, three engaging pieces 68E are integrally formed on the outer peripheral edge portion of the knob base 68, and the engaging pieces 68E are projected upward from the bottom wall portion of the knob base 68 and the circumference of the knob base 68. They are arranged at intervals of 120 degrees in the direction. The engaging piece 68E is formed in a substantially rectangular plate shape with the radial direction of the knob base 68 as the plate thickness direction, and is curved along the circumferential direction of the knob base 68 in a plan view. Further, an engaging hole 68E1 is formed through the center of the engaging piece 68E in the width direction.

さらに、ノブベース６８の上側には、基板７０が、配置されている。この基板７０は、板厚方向を上下方向とした略円板状に形成されて、ノブベース６８に固定されている。基板３０の上面には、中央部において、スイッチ７２が設けられており、スイッチ７２はプッシュスイッチとして構成されている。また、基板７０は、接続部材７４（フレキシブルケーブル）によって基板３０に接続されており、スイッチ７２が制御部３６と電気的に接続されている。 Further, a substrate 70 is arranged on the upper side of the knob base 68. The substrate 70 is formed in a substantially disk shape with the plate thickness direction in the vertical direction and is fixed to the knob base 68. A switch 72 is provided on the upper surface of the substrate 30 at a central portion, and the switch 72 is configured as a push switch. Further, the substrate 70 is connected to the substrate 30 by a connecting member 74 (flexible cable), and the switch 72 is electrically connected to the control unit 36.

（スライドノブ８０について）
スライドノブ８０は、上下方向を板厚方向とした略円盤状に形成されて、ノブベース６８の上側において軸線ＡＬと同軸上に配置されている。スライドノブ８０の下面には、ノブベース６８のガイドレール６８Ｃに対応した４箇所のガイド部８０Ａ（図３及び図４参照）が一体に形成されており、ガイド部８０Ａは、スライドノブ８０の下側へ突出されると共に、ガイドレール６８Ｃ内に上下方向に相対移動可能に挿入されている。これにより、スライドノブ８０が、ノブベース６８に対して上下方向に相対移動可能に連結されている。 (About slide knob 80)
The slide knob 80 is formed in a substantially disk shape with the vertical direction as the plate thickness direction, and is arranged coaxially with the axis AL on the upper side of the knob base 68. On the lower surface of the slide knob 80, four guide portions 80A (see FIGS. 3 and 4) corresponding to the guide rail 68C of the knob base 68 are integrally formed, and the guide portion 80A is the lower side of the slide knob 80. At the same time, it is inserted into the guide rail 68C so as to be relatively movable in the vertical direction. As a result, the slide knob 80 is connected so as to be relatively movable in the vertical direction with respect to the knob base 68.

そして、スライドノブ８０のノブベース６８への連結状態では、ノブベース６８が、スライドノブ８０と共に、第１方向及び第２方向へ一体的に移動するように構成されている。すなわち、スライドノブ８０が第１方向及び第２方向へ操作されたときには、スライドノブ８０のガイド部８０Ａがノブベース６８のガイドレール６８Ｃに係合して、ノブベース６８（移動機構６１）がスライドノブ８０と一体に第１方向及び第２方向へ移動する構成になっている。よって、スライド操作機構６０の全体が第１方向及び第２方向へスライド可能に構成されている。なお、スライドノブ８０のノブベース６８への連結状態では、ガイド部８０Ａが、ノブベース６８の底壁に当接することで、スライドノブ８０の下側への移動が制限される構成になっている。 When the slide knob 80 is connected to the knob base 68, the knob base 68 is configured to move integrally with the slide knob 80 in the first direction and the second direction. That is, when the slide knob 80 is operated in the first direction and the second direction, the guide portion 80A of the slide knob 80 engages with the guide rail 68C of the knob base 68, and the knob base 68 (movement mechanism 61) moves the slide knob 80. It is configured to move integrally with the first direction and the second direction. Therefore, the entire slide operation mechanism 60 is configured to be slidable in the first direction and the second direction. In the state where the slide knob 80 is connected to the knob base 68, the guide portion 80A abuts on the bottom wall of the knob base 68, so that the slide knob 80 is restricted from moving downward.

また、スライドノブ８０の中央部には、スイッチ７２と上下方向に対向するボス８０Ｂ（図３及び図４参照）が形成されている。これにより、スライドノブ８０が下方側へプッシュ操作されたときには、ボス８０Ｂがスイッチ７２を押圧して、スライドノブ８０のプッシュ操作がスイッチ７２によって検出される構成になっている。 Further, a boss 80B (see FIGS. 3 and 4) facing the switch 72 in the vertical direction is formed in the central portion of the slide knob 80. As a result, when the slide knob 80 is pushed downward, the boss 80B presses the switch 72, and the push operation of the slide knob 80 is detected by the switch 72.

なお、スライドノブ８０には、ノブベース６８の係合片６８Ｅに対応する３箇所の係合爪（図示省略）が設けられており、係合爪は、係合片６８Ｅの係合孔６８Ｅ１内に上下方向に相対移動可能に挿入されている。これにより、係合爪が、係合孔６８Ｅ１の上側の縁部に係合することで、スライドノブ８０の上方側への移動が制限されている。 The slide knob 80 is provided with three engaging claws (not shown) corresponding to the engaging piece 68E of the knob base 68, and the engaging claws are provided in the engaging holes 68E1 of the engaging piece 68E. It is inserted so that it can be moved relative to the vertical direction. As a result, the engaging claw engages with the upper edge of the engaging hole 68E1 to limit the upward movement of the slide knob 80.

また、スライドノブ８０の上側には、上下方向を厚み方向とし、且つ略円板状に形成されたタッチパッド８２が載置されている。タッチパッド８２は、両面テープなどの接着部材によって、スライドノブ８０に固定されている。 Further, on the upper side of the slide knob 80, a touch pad 82 having a vertical direction as a thickness direction and formed in a substantially disk shape is placed. The touch pad 82 is fixed to the slide knob 80 by an adhesive member such as double-sided tape.

また、スライドノブ８０の外周部には、略リング状のノブリング８４が固定されており、ノブリング８４とスライドノブ８０によってタッチパッド８２が上下方向に挟持されている。このノブリング８４は、複数（本実施の形態では、３箇所）の固定片８４Ａを有しており、固定片８４Ａは、ノブリング８４の周方向に１２０度毎に離間して配置されている。そして、固定片８４Ａが、スライドノブ８０の、図示しない固定爪に係合して、ノブリング８４がスライドノブ８０に固定されている。 A substantially ring-shaped knob ring 84 is fixed to the outer peripheral portion of the slide knob 80, and the touch pad 82 is vertically sandwiched by the knob ring 84 and the slide knob 80. The knob ring 84 has a plurality of fixed pieces 84A (three places in the present embodiment), and the fixed pieces 84A are arranged at intervals of 120 degrees in the circumferential direction of the knob ring 84. Then, the fixing piece 84A engages with a fixing claw (not shown) of the slide knob 80, and the knob ring 84 is fixed to the slide knob 80.

（検出機構９０について）
図１、図３〜図５に示されるように、検出機構９０は、プレート９２と、「回転体」としてのリフレクタリング１００と、を含んで構成されている。 (About the detection mechanism 90)
As shown in FIGS. 1, 3 to 5, the detection mechanism 90 includes a plate 92 and a reflector ring 100 as a "rotating body".

＜プレート９２について＞
プレート９２は、黒色の樹脂材で構成されると共に、平面視で、上下方向を板厚方向とした略逆Ｌ字形板状に形成されている。具体的には、プレート９２は、第１方向に延在された第１プレート部９２Ａと、第１プレート部９２Ａの基端部（第１方向一方側の端部）から第２方向他方側へ延出された第２プレート部９２Ｂと、を含んで構成されている。第１プレート部９２Ａの基端部には、略矩形状を成す嵌合孔９２Ｃが貫通形成されている。そして、前述したシャフト６２の操作軸６２Ｄが嵌合孔９２Ｃ内に嵌入されている。これにより、プレート９２が、基板３０の上側において、スライド操作機構６０と一体に第１方向及び第２方向にスライド可能に構成されている。なお、ロータリーノブアッシー４０は、スライド操作機構６０のホルダ５２に相対移動可能に支持されているため、ロータリーノブアッシー４０が、プレート９２に対して相対移動可能に構成されている。すなわち、ロータリーノブアッシー４０の回転時には、プレート９２に回転力が付与されず、プレート９２の位置が維持される構成になっている。 <About plate 92>
The plate 92 is made of a black resin material and is formed in a substantially inverted L-shaped plate shape with the vertical direction as the plate thickness direction in a plan view. Specifically, the plate 92 extends from the first plate portion 92A extending in the first direction and the base end portion (one end portion on one side in the first direction) of the first plate portion 92A to the other side in the second direction. It is configured to include an extended second plate portion 92B. A fitting hole 92C having a substantially rectangular shape is formed through the base end portion of the first plate portion 92A. The operation shaft 62D of the shaft 62 described above is fitted into the fitting hole 92C. As a result, the plate 92 is configured to be slidable in the first direction and the second direction integrally with the slide operation mechanism 60 on the upper side of the substrate 30. Since the rotary knob assembly 40 is supported by the holder 52 of the slide operation mechanism 60 so as to be relatively movable, the rotary knob assembly 40 is configured to be relatively movable with respect to the plate 92. That is, when the rotary knob assembly 40 is rotated, no rotational force is applied to the plate 92, and the position of the plate 92 is maintained.

また、第１プレート部９２Ａ及び第２プレート部９２Ｂの長手方向中間部には、下側へ略クランク状に屈曲された段差部がそれぞれ形成されており、第１プレート部９２Ａ及び第２プレート部９２Ｂの各々の先端部が、第１プレート部９２Ａ及び第２プレート部９２Ｂの各々の基端部に対して下側に配置されている。具体的には、第１プレート部９２Ａの先端部が、一方の第１検出部３２Ａの上側に近接して配置されており、第２プレート部９２Ｂの先端部が、他方の第１検出部３２Ｂの上側に近接して配置されている。 Further, in the intermediate portion in the longitudinal direction of the first plate portion 92A and the second plate portion 92B, stepped portions bent downward in a substantially crank shape are formed, respectively, and the first plate portion 92A and the second plate portion 92A and the second plate portion are formed. Each tip of the 92B is located below the proximal end of each of the first plate 92A and the second plate 92B. Specifically, the tip portion of the first plate portion 92A is arranged close to the upper side of one of the first detection portions 32A, and the tip portion of the second plate portion 92B is the other first detection portion 32B. It is located close to the upper side of.

図６にも示されるように、第１プレート部９２Ａ及び第２プレート部９２Ｂのそれぞれの先端部における下面には、「被スライド検出部」及び「反射部」としての第１反射板９４Ａ，９４Ｂが設けられている。第１反射板９４Ａ，９４Ｂは、平面視で、上下方向を板厚方向とした略Ｌ字形板状に形成されており、第１反射板９４Ａの上面が第１プレート部９２Ａの下面に固定され、第１反射板９４Ｂの上面が第２プレート部９２Ｂの下面に固定されている。 As shown in FIG. 6, on the lower surface of each of the tip portions of the first plate portion 92A and the second plate portion 92B, the first reflectors 94A and 94B as the "sliding detected portion" and the "reflecting portion" are provided. Is provided. The first reflectors 94A and 94B are formed in a substantially L-shaped plate shape with the vertical direction as the plate thickness direction in a plan view, and the upper surface of the first reflector 94A is fixed to the lower surface of the first plate portion 92A. , The upper surface of the first reflector 94B is fixed to the lower surface of the second plate portion 92B.

そして、スライド操作機構６０の非作動状態（図３（Ａ）及び図４（Ａ）に示される状態であり、以下、スライド操作機構６０における、この位置を「中立位置」と称し、プレート９２における、この位置を「初期位置」と称する）では、平面視で第１反射板９４Ａが、一方の第１検出部３２Ａの第１方向他方側及び第２方向一方側に隣接して配置されている。すなわち、スライド操作機構６０の中立位置では、上下方向において、第１反射板９４Ａと第１検出部３２Ａとが対向配置しないように、第１反射板９４Ａが第１検出部３２Ａに対してずれて配置されている（図１参照）。そして、スライド操作機構６０が第１方向一方側又は第２方向他方側へスライド操作されたときには、上下方向において、第１反射板９４Ａと第１検出部３２Ａとが対向配置する設定になっている。これにより、第１検出部３２Ａによって上側へ照射された光が、第１反射板９４Ａによって下側に反射して、第１検出部３２Ａが、反射光を受光して、制御部３６にオン信号を出力する構成になっている。 The non-operating state of the slide operation mechanism 60 (the state shown in FIGS. 3A and 4A), hereinafter, this position in the slide operation mechanism 60 is referred to as a “neutral position”, and the plate 92. , This position is referred to as an "initial position"), the first reflector 94A is arranged adjacent to the other side in the first direction and one side in the second direction of one of the first detection units 32A in a plan view. .. That is, in the neutral position of the slide operation mechanism 60, the first reflector 94A is displaced with respect to the first detector 32A so that the first reflector 94A and the first detection unit 32A do not face each other in the vertical direction. It is arranged (see FIG. 1). When the slide operation mechanism 60 is slid to one side in the first direction or the other side in the second direction, the first reflector 94A and the first detection unit 32A are set to face each other in the vertical direction. .. As a result, the light emitted upward by the first detection unit 32A is reflected downward by the first reflector 94A, and the first detection unit 32A receives the reflected light and turns on the signal to the control unit 36. Is configured to output.

また、スライド操作機構６０の中立位置では、平面視で第１反射板９４Ｂが、他方の第１検出部３２Ｂの第１方向他方側及び第２方向他方側に隣接して配置されている。すなわち、スライド操作機構６０の中立位置では、上下方向において、第１反射板９４Ｂと第１検出部３２Ｂとが対向配置しないように、第１反射板９４Ｂが第１検出部３２Ｂに対してずれて配置されている（図１参照）。そして、スライド操作機構６０が第１方向一方側又は第２方向一方側へスライド操作されたときには、上下方向において、第１反射板９４Ｂと第１検出部３２Ｂとが対向配置する設定になっている。これにより、第１検出部３２Ｂによって上側へ照射された光が、第１反射板９４Ｂによって下側に反射して、第１検出部３２Ｂが、反射光を受光して、制御部３６にオン信号を出力する構成になっている。 Further, in the neutral position of the slide operation mechanism 60, the first reflector 94B is arranged adjacent to the other side in the first direction and the other side in the second direction of the other first detection unit 32B in a plan view. That is, in the neutral position of the slide operation mechanism 60, the first reflector 94B is displaced with respect to the first detector 32B so that the first reflector 94B and the first detection unit 32B do not face each other in the vertical direction. It is arranged (see FIG. 1). When the slide operation mechanism 60 is slid to one side in the first direction or one side in the second direction, the first reflector 94B and the first detection unit 32B are set to face each other in the vertical direction. .. As a result, the light emitted upward by the first detection unit 32B is reflected downward by the first reflector 94B, and the first detection unit 32B receives the reflected light and turns on the signal to the control unit 36. Is configured to output.

さらに、第１プレート部９２Ａの先端部における下面には、第１反射板９４Ａに対して第１方向一方側の位置において、「被操作検出部」としての第２反射板９６（広義には、「反射部」として把握される要素である）が設けられている。第２反射板９６は、平面視で、上下方向を板厚方向とした略矩形板状に形成されており、第２反射板９６の上面が第１プレート部９２Ａの下面に固定されている。 Further, on the lower surface of the tip portion of the first plate portion 92A, the second reflector 96 as the "operated detection portion" (in a broad sense, at a position on one side in the first direction with respect to the first reflector 94A). It is an element that is grasped as a "reflection part"). The second reflector 96 is formed in a substantially rectangular plate shape with the vertical direction as the plate thickness direction in a plan view, and the upper surface of the second reflector 96 is fixed to the lower surface of the first plate portion 92A.

そして、スライド操作機構６０の中立位置では、平面視で、第２反射板９６が第２検出部３４と重なって配置されている。すなわち、スライド操作機構６０の中立位置では、上下方向において、第２反射板９６と第２検出部３４とが対向配置されている（図１及び図６参照）。これにより、スライド操作機構６０の中立位置において、第２検出部３４によって上側へ照射された光が、第２反射板９６によって下側に反射して、第２検出部３４が、反射光を受光して、制御部３６にオン信号を出力する構成になっている。そして、スライド操作機構６０が第１方向又は第２方向へスライド操作されたときには、上下方向において、第２反射板９６と第２検出部３４との対向配置状態が解除されて、第２検出部３４が第１プレート部９２Ａと対向配置される設定になっている。よって、この場合には、第２検出部３４によって上側へ照射された光が、第１プレート部９２Ａによって反射されず、第２検出部３４が、制御部３６にオフ信号を出力する構成になっている。 Then, in the neutral position of the slide operation mechanism 60, the second reflector 96 is arranged so as to overlap the second detection unit 34 in a plan view. That is, in the neutral position of the slide operation mechanism 60, the second reflector 96 and the second detection unit 34 are arranged to face each other in the vertical direction (see FIGS. 1 and 6). As a result, at the neutral position of the slide operation mechanism 60, the light emitted upward by the second detection unit 34 is reflected downward by the second reflector 96, and the second detection unit 34 receives the reflected light. Then, the ON signal is output to the control unit 36. Then, when the slide operation mechanism 60 is slid in the first direction or the second direction, the facing arrangement state between the second reflector 96 and the second detection unit 34 is released in the vertical direction, and the second detection unit is released. 34 is set to face the first plate portion 92A. Therefore, in this case, the light radiated upward by the second detection unit 34 is not reflected by the first plate unit 92A, and the second detection unit 34 outputs an off signal to the control unit 36. ing.

また、第１プレート部９２Ａ及び第２プレート部９２Ｂのそれぞれの先端部には、「透光部」としてのレンズ９８Ａ，９８Ｂが設けられている。このレンズ９８Ａ，９８Ｂは、透光性を有する透明の樹脂材等によって構成されて、プレート９２と一体に形成されている。そして、スライド操作機構６０の中立位置において、平面視で、第１プレート部９２Ａのレンズ９８Ａが第１検出部３２Ａと重なって配置され、第２プレート部９２Ｂのレンズ９８Ｂが第１検出部３２Ｂと重なって配置されている。これにより、スライド操作機構６０の中立位置において、第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）によって上側へ照射された光が、レンズ９８Ａ（９８Ｂ）を通過してプレート９２の上側を照射するようになっている（図６にて、第１検出部３２Ａから上側へ向かう矢印参照）。 Further, lenses 98A and 98B as "translucent portions" are provided at the tip portions of the first plate portion 92A and the second plate portion 92B, respectively. The lenses 98A and 98B are made of a transparent resin material having translucency and are integrally formed with the plate 92. Then, in the neutral position of the slide operation mechanism 60, the lens 98A of the first plate portion 92A is arranged so as to overlap the first detection unit 32A in a plan view, and the lens 98B of the second plate portion 92B is arranged with the first detection unit 32B. They are placed on top of each other. As a result, at the neutral position of the slide operation mechanism 60, the light emitted upward by the first detection unit 32A (32B) passes through the lens 98A (98B) and illuminates the upper side of the plate 92. (See the arrow pointing upward from the first detection unit 32A in FIG. 6).

＜リフレクタリング１００について＞
リフレクタリング１００は、上下方向を軸方向とした略円筒状に形成されて、軸線ＡＬと同軸上に配置されている。リフレクタリング１００の上端部には、複数（本実施の形態では４箇所）嵌合片１００Ａが一体に形成されている。嵌合片１００Ａは、リフレクタリング１００の径方向を板厚方向とした略矩形板状に形成されて、リフレクタリング１００から上側へ突出されている。また、嵌合片１００Ａは、リフレクタリング１００の周方向に沿って湾曲しており、リフレクタリング１００の周方向に９０度毎に配置されている。そして、前述したロータリーノブアッシー４０の下端部が嵌合片１００Ａの内側に嵌入されて、リフレクタリング１００がロータリーノブアッシー４０に一体回転可能に連結されている。また、リフレクタリング１００がロータリーノブアッシー４０に連結された状態では、リフレクタリング１００が、プレート９２（第１プレート部９２Ａ及び第２プレート部９２Ｂの先端部）の上側に配置されている。 <About reflector ring 100>
The reflector ring 100 is formed in a substantially cylindrical shape with the vertical direction as the axial direction, and is arranged coaxially with the axis AL. A plurality of fitting pieces 100A (four places in the present embodiment) are integrally formed on the upper end portion of the reflector ring 100. The fitting piece 100A is formed in a substantially rectangular plate shape with the radial direction of the reflector ring 100 as the plate thickness direction, and protrudes upward from the reflector ring 100. Further, the fitting piece 100A is curved along the circumferential direction of the reflector ring 100, and is arranged every 90 degrees in the circumferential direction of the reflector ring 100. Then, the lower end portion of the rotary knob assembly 40 described above is fitted inside the fitting piece 100A, and the reflector ring 100 is integrally rotatably connected to the rotary knob assembly 40. Further, in a state where the reflector ring 100 is connected to the rotary knob assembly 40, the reflector ring 100 is arranged above the plate 92 (the tip portions of the first plate portion 92A and the second plate portion 92B).

また、リフレクタリング１００の下端部（軸方向一方側の端部）には、「被回転検出部」及び「反射部」としての凹凸部１０２が形成されている。この凹凸部１０２は、下側へ開放された５箇所の凹部１０２Ａと、凹部１０２Ａに対して下側へ突出した５箇所の凸部１０２Ｂと、を含んで構成されており、凹部１０２Ａと凸部１０２Ｂとが、リフレクタリング１００の周方向において交互に等間隔に配置されている。具体的には、凹部１０２Ａと凸部１０２Ｂとが、リフレクタリング１００の周方向において、３６度毎に配置されている。また、凹凸部１０２は、プレート９２のレンズ９８Ａ，９８Ｂの真上に配置されている。すなわち、スライド操作機構６０の中立位置では、平面視で、凹凸部１０２が、レンズ９８Ａ，９８Ｂ及び第１検出部３２Ａ，３２Ｂと重なって配置されている（図６（Ａ）及び（Ｂ）参照）。 Further, a concave-convex portion 102 as a "rotated detection portion" and a "reflection portion" is formed at the lower end portion (end portion on one side in the axial direction) of the reflector ring 100. The uneven portion 102 is configured to include five concave portions 102A opened downward and five convex portions 102B protruding downward with respect to the concave portion 102A, and includes the concave portion 102A and the convex portion. 102B and 102B are alternately arranged at equal intervals in the circumferential direction of the reflector ring 100. Specifically, the concave portion 102A and the convex portion 102B are arranged every 36 degrees in the circumferential direction of the reflector ring 100. Further, the uneven portion 102 is arranged directly above the lenses 98A and 98B of the plate 92. That is, in the neutral position of the slide operation mechanism 60, the uneven portion 102 is arranged so as to overlap the lenses 98A and 98B and the first detection portions 32A and 32B in a plan view (see FIGS. 6A and 6B). ).

また、リフレクタリング１００は、白色の樹脂材によって構成されている。さらに、上述のように、凹凸部１０２は、凹部１０２Ａと凸部１０２Ｂとによって構成されている。これにより、リフレクタリング１００が回転することで、凹凸部１０２と第１検出部３２Ａ，３２Ｂとの間の上下距離が変化する。そして、第１検出部３２Ａ，３２Ｂによって照射され且つレンズ９８Ａ，９８Ｂを透過した光は、凸部１０２Ｂによって下側へ反射して、第１検出部３２Ａ，３２Ｂに再度到達するようになっている（図６（Ａ）にて、凸部１０２Ｂから下側へ向かう矢印参照）。このため、第１検出部３２Ａ，３２Ｂが凸部１０２Ｂによって反射した光を受光して、第１検出部３２Ａ，３２Ｂがオン信号を出力する構成になっている。一方、レンズ９８Ａ，９８Ｂを透過し且つ凹部１０２Ａに到達した光は、光量が減少しているため、凹部１０２Ａによって反射された光の光量も減少する。このため、第１検出部３２Ａ，３２Ｂと凹部１０２Ａとが上下方向に対向配置されたときには、第１検出部３２Ａ，３２Ｂがオフ信号を出力する構成になっている。なお、凸部１０２Ｂにおける反射率を高くするために、リフレクタリング１００の凸部１０２Ｂに、メッキ等の表面処理を施してもよい。 Further, the reflector ring 100 is made of a white resin material. Further, as described above, the uneven portion 102 is composed of the concave portion 102A and the convex portion 102B. As a result, the reflector ring 100 rotates, so that the vertical distance between the uneven portion 102 and the first detection portions 32A and 32B changes. Then, the light irradiated by the first detection units 32A and 32B and transmitted through the lenses 98A and 98B is reflected downward by the convex portions 102B and reaches the first detection units 32A and 32B again. (See the arrow pointing downward from the convex portion 102B in FIG. 6A). Therefore, the first detection units 32A and 32B receive the light reflected by the convex portion 102B, and the first detection units 32A and 32B output an on signal. On the other hand, since the amount of light transmitted through the lenses 98A and 98B and reaching the recess 102A is reduced, the amount of light reflected by the recess 102A is also reduced. Therefore, when the first detection units 32A and 32B and the recesses 102A are arranged so as to face each other in the vertical direction, the first detection units 32A and 32B are configured to output an off signal. In addition, in order to increase the reflectance in the convex portion 102B, the convex portion 102B of the reflector ring 100 may be subjected to surface treatment such as plating.

（作用効果）
次に、スライドノブ８０がスライド操作された時のスライドノブ８０の操作検出と、ロータリーノブアッシー４０が回転操作されたときのロータリーノブアッシー４０の操作検出と、を説明しつつ、本実施の形態の作用及び効果を説明する。 (Action effect)
Next, the present embodiment will explain the operation detection of the slide knob 80 when the slide knob 80 is slid and the operation detection of the rotary knob assembly 40 when the rotary knob assembly 40 is rotated. The action and effect of the above will be explained.

（入力装置１０の非作動状態について）
入力装置１０の非作動状態では、スライド操作機構６０が中立位置に配置されており（図３（Ａ）及び図４（Ａ）参照）、検出機構９０のプレート９２が初期位置に配置されている。このため、図１に示されるように、上下方向において、第１反射板９４Ａと第１検出部３２Ａとが対向配置しておらず、第１反射板９４Ｂと第１検出部３２Ｂとが対向配置していない。また、この状態では、上下方向において、プレート９２のレンズ９８Ａと第１検出部３２Ａとが対向配置し、レンズ９８Ｂと第１検出部３２Ｂとが対向配置している。このため、第１検出部３２Ａ，３２Ｂから上側へ照射した光は、レンズ９８Ａ，９８Ｂを透過し、リフレクタリング１００の凹凸部１０２によって反射する。そして、第１検出部３２Ａ，３２Ｂは、凹凸部１０２によって反射した光を受光する。このため、第１検出部３２Ａ，３２Ｂは、リフレクタリング１００の凹凸部１０２との上下距離に応じた出力信号を制御部３６へ出力する。
一方、プレート９２の初期位置では、上下方向において、第２反射板９６と第２検出部３４とが対向配置している。このため、第２検出部３４が制御部３６にオン信号を出力する。 (About the non-operating state of the input device 10)
In the non-operating state of the input device 10, the slide operation mechanism 60 is arranged in the neutral position (see FIGS. 3A and 4A), and the plate 92 of the detection mechanism 90 is arranged in the initial position. .. Therefore, as shown in FIG. 1, the first reflector 94A and the first detection unit 32A are not arranged to face each other in the vertical direction, and the first reflector 94B and the first detection unit 32B are arranged to face each other. Not done. Further, in this state, the lens 98A of the plate 92 and the first detection unit 32A are arranged to face each other in the vertical direction, and the lens 98B and the first detection unit 32B are arranged to face each other. Therefore, the light emitted upward from the first detection units 32A and 32B passes through the lenses 98A and 98B and is reflected by the uneven portion 102 of the reflector ring 100. Then, the first detection units 32A and 32B receive the light reflected by the uneven portion 102. Therefore, the first detection units 32A and 32B output the output signal according to the vertical distance from the uneven portion 102 of the reflector ring 100 to the control unit 36.
On the other hand, at the initial position of the plate 92, the second reflector 96 and the second detection unit 34 are arranged to face each other in the vertical direction. Therefore, the second detection unit 34 outputs an on signal to the control unit 36.

（スライドノブ８０の第１方向への操作について）
入力装置１０の非作動状態から、操作者によって、スライドノブ８０を第１方向一方側（図４（Ａ）の矢印Ｃ方向）へ操作すると、ノブベース６８（移動機構６１）がスライドノブ８０と共に第１方向一方側へ移動する。具体的には、ノブベース６８のガイド片６８Ｂが、スライダ５４のガイド溝５４Ｆによってガイドされながら、ガイド溝５４Ｆ内を第１方向一方側へ移動する。これにより、ノブベース６８（移動機構６１）がスライダ５４に対して第１方向一方側へ相対移動する（図４（Ｂ）参照）。 (About the operation of the slide knob 80 in the first direction)
When the slide knob 80 is operated by the operator from the non-operating state of the input device 10 to one side in the first direction (direction of arrow C in FIG. 4A), the knob base 68 (moving mechanism 61) is moved together with the slide knob 80. Move to one side in one direction. Specifically, the guide piece 68B of the knob base 68 moves in the guide groove 54F to one side in the first direction while being guided by the guide groove 54F of the slider 54. As a result, the knob base 68 (movement mechanism 61) moves relative to one side in the first direction with respect to the slider 54 (see FIG. 4B).

ノブベース６８（移動機構６１）が、第１方向一方側へ移動すると、移動機構６１のピン６４の下端部が、リッド２０の支持凹部２２Ａ上を第１方向一方側へ摺動する。これにより、ピン６４が、付勢バネ６６の付勢力に抗して、操作軸６２Ｄの軸方向上側へ変位しながら、支持凹部２２Ａから第１方向一方側へ抜け出て、傾斜凹部２２Ｂ上を第１方向一方側へ摺動する。よって、操作軸６２Ｄが、軸線ＡＬに対して第１方向一方側へ変位する（図４（Ｂ）参照）。 When the knob base 68 (moving mechanism 61) moves to one side in the first direction, the lower end of the pin 64 of the moving mechanism 61 slides on the support recess 22A of the lid 20 to one side in the first direction. As a result, the pin 64 escapes from the support recess 22A to one side in the first direction while being displaced upward in the axial direction of the operation shaft 62D against the urging force of the urging spring 66, and is placed on the inclined recess 22B. It slides to one side in one direction. Therefore, the operation shaft 62D is displaced to one side in the first direction with respect to the axis line AL (see FIG. 4B).

操作軸６２Ｄが、第１方向一方側へ変位すると、検出機構９０のプレート９２が操作軸６２Ｄと共に第１方向一方側へ変位する。このため、図７（Ａ）及び図８（Ａ）に示されるように、第２反射板９６が第２検出部３４に対して第１方向一方側へ相対変位する。これにより、上下方向における第２反射板９６と第２検出部３４との対向配置状態が解除される。その結果、第２検出部３４から上側へ照射された光が、プレート９２によって反射しなくなる。したがって、第２検出部３４からの出力信号がオン信号からオフ信号へ切替る。なお、図７では、便宜上、オン信号を出力する第１検出部３２Ａ，３２Ｂ、第２検出部３４を、塗り潰して図示している。 When the operating shaft 62D is displaced to one side in the first direction, the plate 92 of the detection mechanism 90 is displaced to one side in the first direction together with the operating shaft 62D. Therefore, as shown in FIGS. 7A and 8A, the second reflector 96 is displaced relative to one side in the first direction with respect to the second detection unit 34. As a result, the facing arrangement state of the second reflector 96 and the second detection unit 34 in the vertical direction is released. As a result, the light emitted upward from the second detection unit 34 is not reflected by the plate 92. Therefore, the output signal from the second detection unit 34 switches from the on signal to the off signal. In FIG. 7, for convenience, the first detection units 32A and 32B and the second detection units 34 that output the on signal are shown in a filled manner.

また、プレート９２が第１方向一方側へ変位すると、プレート９２のレンズ９８Ａ，９８Ｂが第１検出部３２Ａ，３２Ｂに対して第１方向一方側へ相対変位する。これにより、上下方向における、レンズ９８Ａ（９８Ｂ）と第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）との対向配置状態が解除される。また、このときには、平面視で、第１反射板９４Ａが第１検出部３２Ａと重なり、第１反射板９４Ｂが第１検出部３２Ｂと重なる。このため、第１検出部３２Ａから照射された光が第１反射板９４Ａによって反射して、第１検出部３２Ａが反射光を受光する。また、第１検出部３２Ｂから照射された光が第１反射板９４Ｂによって反射して、第１検出部３２Ｂが反射光を受光する。これにより、第１検出部３２Ａ及び第１検出部３２Ｂからの出力信号が、いずれもオン信号になる。 Further, when the plate 92 is displaced to one side in the first direction, the lenses 98A and 98B of the plate 92 are displaced relative to one side in the first direction with respect to the first detection units 32A and 32B. As a result, the facing arrangement state of the lens 98A (98B) and the first detection unit 32A (32B) in the vertical direction is released. Further, at this time, in a plan view, the first reflector 94A overlaps with the first detection unit 32A, and the first reflector 94B overlaps with the first detection unit 32B. Therefore, the light emitted from the first detection unit 32A is reflected by the first reflector 94A, and the first detection unit 32A receives the reflected light. Further, the light emitted from the first detection unit 32B is reflected by the first reflector 94B, and the first detection unit 32B receives the reflected light. As a result, the output signals from the first detection unit 32A and the first detection unit 32B are both turned on signals.

次に、操作者によって、スライドノブ８０を中立位置から第１方向他方側へ操作すると、移動機構６１の操作軸６２Ｄが軸線ＡＬに対して、第１方向他方側へ変位する。なお、移動機構６１は、上述と同様に作動するため、移動機構６１の動作の説明は、割愛する。 Next, when the slide knob 80 is operated from the neutral position to the other side in the first direction by the operator, the operation shaft 62D of the moving mechanism 61 is displaced to the other side in the first direction with respect to the axis AL. Since the moving mechanism 61 operates in the same manner as described above, the description of the operation of the moving mechanism 61 will be omitted.

操作軸６２Ｄが、軸線ＡＬに対して第１方向他方側へ変位すると、検出機構９０のプレート９２が操作軸６２Ｄと共に第１方向他方側へ変位する。このため、図７（Ｂ）及び図８（Ｂ）に示されるように、第２反射板９６が第２検出部３４に対して第１方向他方側へ相対変位する。これにより、上述と同様に、上下方向における第２反射板９６と第２検出部３４との対向配置状態が解除される。その結果、第２検出部３４からの出力信号がオン信号からオフ信号へ切替る。 When the operating shaft 62D is displaced to the other side in the first direction with respect to the axis AL, the plate 92 of the detection mechanism 90 is displaced to the other side in the first direction together with the operating shaft 62D. Therefore, as shown in FIGS. 7B and 8B, the second reflector 96 is displaced relative to the other side in the first direction with respect to the second detection unit 34. As a result, similarly to the above, the facing arrangement state of the second reflector 96 and the second detection unit 34 in the vertical direction is released. As a result, the output signal from the second detection unit 34 is switched from the on signal to the off signal.

また、プレート９２が第１方向他方側へ変位すると、プレート９２のレンズ９８Ａ，９８Ｂが第１検出部３２Ａ，３２Ｂに対して第１方向他方側へ相対変位する。これにより、上述と同様に、上下方向における、レンズ９８Ａ（９８Ｂ）と第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）との対向配置状態が解除される。また、このときには、平面視で、第１反射板９４Ａが第１検出部３２Ａと重ならず、第１反射板９４Ｂが第１検出部３２Ｂと重ならない。このため、第１検出部３２Ａ及び第１検出部３２Ｂからの出力信号が、いずれもオフ信号になる。 Further, when the plate 92 is displaced to the other side in the first direction, the lenses 98A and 98B of the plate 92 are displaced relative to the other side in the first direction with respect to the first detection units 32A and 32B. As a result, similarly to the above, the facing arrangement state of the lens 98A (98B) and the first detection unit 32A (32B) in the vertical direction is released. Further, at this time, in a plan view, the first reflector 94A does not overlap with the first detection unit 32A, and the first reflector 94B does not overlap with the first detection unit 32B. Therefore, the output signals from the first detection unit 32A and the first detection unit 32B are both off signals.

（スライドノブ８０の第２方向への操作について）
スライドノブ８０の中立位置から、操作者によって、スライドノブ８０を第２方向一方側（図３（Ａ）の矢印Ｅ方向）へ操作すると、ノブベース６８（移動機構６１）が、スライドノブ８０と共にホルダ５２に対して第２方向一方側へ移動する。具体的には、ノブベース６８のガイド片６８Ｂが、スライダ５４のガイドレール５４Ｅにおけるガイド溝５４Ｆに係合して、スライダ５４が第２方向一方側へ押圧される。このため、スライダ５４のガイド凹部５４Ｃ，５４Ｄがホルダ５２の支持柱５２Ｄ及び支持柱５２Ｅに対して第２方向一方側へ相対移動する。これにより、ノブベース６８（移動機構６１）が、スライダ５４と共にホルダ５２に対して第２方向一方側へ移動する（図３（Ｂ）参照）。 (About the operation of the slide knob 80 in the second direction)
When the slide knob 80 is operated by the operator from the neutral position of the slide knob 80 to one side in the second direction (direction of arrow E in FIG. 3A), the knob base 68 (movement mechanism 61) is held together with the slide knob 80. It moves to one side in the second direction with respect to 52. Specifically, the guide piece 68B of the knob base 68 engages with the guide groove 54F in the guide rail 54E of the slider 54, and the slider 54 is pressed to one side in the second direction. Therefore, the guide recesses 54C and 54D of the slider 54 move relative to one side in the second direction with respect to the support pillar 52D and the support pillar 52E of the holder 52. As a result, the knob base 68 (movement mechanism 61) moves to one side in the second direction with respect to the holder 52 together with the slider 54 (see FIG. 3B).

ノブベース６８（移動機構６１）が、第２方向一方側へ移動すると、移動機構６１のピン６４の下端部が、リッド２０の支持凹部２２Ａ上を第２方向一方側へ摺動する。これにより、ピン６４が、付勢バネ６６の付勢力に抗して、操作軸６２Ｄの軸方向上側へ変位しながら、支持凹部２２Ａから第２方向一方側へ抜け出て、傾斜凹部２２Ｂ上を第２方向一方側へ摺動する。よって、操作軸６２Ｄが、軸線ＡＬに対して第２方向一方側へ変位する（図３（Ｂ）参照）。 When the knob base 68 (moving mechanism 61) moves to one side in the second direction, the lower end of the pin 64 of the moving mechanism 61 slides on the support recess 22A of the lid 20 to one side in the second direction. As a result, the pin 64 escapes from the support recess 22A to one side in the second direction while being displaced upward in the axial direction of the operation shaft 62D against the urging force of the urging spring 66, and is placed on the inclined recess 22B. It slides to one side in two directions. Therefore, the operation shaft 62D is displaced to one side in the second direction with respect to the axis line AL (see FIG. 3B).

操作軸６２Ｄが、第２方向一方側へ変位すると、検出機構９０のプレート９２が操作軸６２Ｄと共に第２方向一方側へ変位する。このため、図７（Ｃ）に示されるように、第２反射板９６が第２検出部３４に対して第２方向一方側へ相対変位する。これにより、上下方向における第２反射板９６と第２検出部３４との対向配置状態が解除される。その結果、上述と同様に、第２検出部３４からの出力信号がオン信号からオフ信号へ切替る。 When the operating shaft 62D is displaced to one side in the second direction, the plate 92 of the detection mechanism 90 is displaced to one side in the second direction together with the operating shaft 62D. Therefore, as shown in FIG. 7C, the second reflector 96 is displaced relative to one side in the second direction with respect to the second detection unit 34. As a result, the facing arrangement state of the second reflector 96 and the second detection unit 34 in the vertical direction is released. As a result, the output signal from the second detection unit 34 is switched from the on signal to the off signal in the same manner as described above.

また、プレート９２が第２方向一方側へ変位すると、プレート９２のレンズ９８Ａ，９８Ｂが第１検出部３２Ａ，３２Ｂに対して第２方向一方側へ相対変位する。これにより、上下方向における、レンズ９８Ａ（９８Ｂ）と第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）との対向配置状態が解除される。また、このときには、平面視で、第１反射板９４Ａが第１検出部３２Ａと重ならず、第１反射板９４Ｂが第１検出部３２Ｂと重なる。このため、第１検出部３２Ａの出力信号が、オフ信号になり、第１検出部３２Ｂからの出力信号が、オン信号になる。 Further, when the plate 92 is displaced to one side in the second direction, the lenses 98A and 98B of the plate 92 are displaced relative to one side in the second direction with respect to the first detection units 32A and 32B. As a result, the facing arrangement state of the lens 98A (98B) and the first detection unit 32A (32B) in the vertical direction is released. Further, at this time, in a plan view, the first reflector 94A does not overlap with the first detection unit 32A, and the first reflector 94B overlaps with the first detection unit 32B. Therefore, the output signal of the first detection unit 32A becomes an off signal, and the output signal from the first detection unit 32B becomes an on signal.

次に、操作者によって、スライドノブ８０を第２方向他方側へ操作すると、移動機構６１の操作軸６２Ｄが軸線ＡＬに対して、第２方向他方側へ変位する。なお、移動機構６１は、上述と同様に作動するため、移動機構６１の動作の説明は、割愛する。 Next, when the slide knob 80 is operated to the other side in the second direction by the operator, the operation shaft 62D of the moving mechanism 61 is displaced to the other side in the second direction with respect to the axis AL. Since the moving mechanism 61 operates in the same manner as described above, the description of the operation of the moving mechanism 61 will be omitted.

操作軸６２Ｄが、第２方向他方側へ変位すると、検出機構９０のプレート９２が操作軸６２Ｄと共に第２方向他方側へ変位する。このため、図７（Ｄ）に示されるように、第２反射板９６が第２検出部３４に対して第２方向他方側へ相対変位する。これにより、上述と同様に、上下方向における第２反射板９６と第２検出部３４との対向配置状態が解除される。その結果、上述と同様に、第２検出部３４からの出力信号がオン信号からオフ信号へ切替る。 When the operating shaft 62D is displaced to the other side in the second direction, the plate 92 of the detection mechanism 90 is displaced to the other side in the second direction together with the operating shaft 62D. Therefore, as shown in FIG. 7D, the second reflector 96 is displaced relative to the other side in the second direction with respect to the second detection unit 34. As a result, similarly to the above, the facing arrangement state of the second reflector 96 and the second detection unit 34 in the vertical direction is released. As a result, the output signal from the second detection unit 34 is switched from the on signal to the off signal in the same manner as described above.

また、プレート９２が第２方向他方側へ変位すると、プレート９２のレンズ９８Ａ，９８Ｂが第１検出部３２Ａ，３２Ｂに対して第２方向他方側へ相対変位する。これにより、レンズ９８Ａ（９８Ｂ）と第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）との対向配置状態が解除される。また、このときには、平面視で、第１反射板９４Ａが第１検出部３２Ａと重なり、第１反射板９４Ｂが第１検出部３２Ｂと重ならない。このため、第１検出部３２Ａの出力信号が、オン信号になり、第１検出部３２Ｂからの出力信号が、オフ信号になる。 Further, when the plate 92 is displaced to the other side in the second direction, the lenses 98A and 98B of the plate 92 are displaced relative to the other side in the second direction with respect to the first detection units 32A and 32B. As a result, the facing arrangement state of the lens 98A (98B) and the first detection unit 32A (32B) is released. Further, at this time, in a plan view, the first reflector 94A overlaps with the first detection unit 32A, and the first reflector 94B does not overlap with the first detection unit 32B. Therefore, the output signal of the first detection unit 32A becomes an on signal, and the output signal from the first detection unit 32B becomes an off signal.

なお、スライドノブ８０の第１方向（第２方向）への操作完了後は、移動機構６１の付勢バネ６６の付勢力によって、移動機構６１のピン６４が、リッド２０の傾斜凹部２２Ｂ上を初期位置側へ摺動して、支持凹部２２Ａ内に収容される。このため、スライドノブ８０（スライド操作機構６０）が中立位置に復帰する。 After the operation of the slide knob 80 in the first direction (second direction) is completed, the pin 64 of the moving mechanism 61 moves on the inclined recess 22B of the lid 20 by the urging force of the urging spring 66 of the moving mechanism 61. It slides toward the initial position and is housed in the support recess 22A. Therefore, the slide knob 80 (slide operation mechanism 60) returns to the neutral position.

（ロータリーノブアッシー４０の回転操作について）
ロータリーノブアッシー４０の回転操作時では、スライドノブ８０（すなわち、スライド操作機構６０）が中立位置に維持されている。このため、検出機構９０のプレート９２が初期位置に維持される。
よって、上述のように、上下方向において、プレート９２のレンズ９８Ａ（９８Ｂ）と第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）とが対向配置されている。このため、第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）から照射された光がレンズ９８Ａ（９８Ｂ）を透過して、リフレクタリング１００の凹凸部１０２を照射している。また、上下方向において、第２反射板９６と第２検出部３４とが対向配置されている。このため、ロータリーノブアッシー４０の回転操作時では、第２検出部３４が制御部３６に常にオン信号を出力する。 (About the rotation operation of the rotary knob assembly 40)
During the rotational operation of the rotary knob assembly 40, the slide knob 80 (that is, the slide operation mechanism 60) is maintained in the neutral position. Therefore, the plate 92 of the detection mechanism 90 is maintained in the initial position.
Therefore, as described above, the lens 98A (98B) of the plate 92 and the first detection unit 32A (32B) are arranged to face each other in the vertical direction. Therefore, the light emitted from the first detection unit 32A (32B) passes through the lens 98A (98B) and irradiates the uneven portion 102 of the reflector ring 100. Further, in the vertical direction, the second reflector 96 and the second detection unit 34 are arranged to face each other. Therefore, when the rotary knob assembly 40 is rotated, the second detection unit 34 always outputs an on signal to the control unit 36.

そして、以下の説明では、図９（Ａ）に示される状態１をロータリーノブアッシー４０の非作動状態（回転操作前の状態）とし、状態１からロータリーノブアッシー４０を回転方向一方側（図９の矢印Ｇ方向側）へ１ピッチ（１８度）回転させた状態を状態２（図９（Ｂ）参照）とし、状態２から１ピッチさらに回転させた状態を状態３（図９（Ｃ）参照）とし、状態３から１ピッチさらに回転させた状態を状態４（図９（Ｄ）参照）として説明する。なお、図９では、便宜上、リフレクタリング１００の凸部１０２Ｂにハッチングを施して図示している。また、ロータリーノブアッシー４０の回転ピッチをドットにて図示している。 In the following description, the state 1 shown in FIG. 9A is defined as the non-operating state of the rotary knob assembly 40 (the state before the rotation operation), and the rotary knob assembly 40 is set to one side in the rotation direction from the state 1 (FIG. 9). The state of being rotated by 1 pitch (18 degrees) in the direction of the arrow G is defined as state 2 (see FIG. 9B), and the state of being further rotated by 1 pitch from state 2 is defined as state 3 (see FIG. 9C). ), And the state of being further rotated by one pitch from the state 3 will be described as the state 4 (see FIG. 9D). In FIG. 9, for convenience, the convex portion 102B of the reflector ring 100 is hatched and shown. Further, the rotation pitch of the rotary knob assembly 40 is shown by dots.

図９（Ａ）に示されるように、状態１では、上下方向において、第１検出部３２Ａが、リフレクタリング１００の凸部１０２Ｂに対向配置され、第１検出部３２Ｂが、他の凸部１０２Ｂに対向配置されている。このため、第１検出部３２Ａ及び第１検出部３２Ｂの出力信号が、何れもオン信号となる。 As shown in FIG. 9A, in the state 1, in the vertical direction, the first detection unit 32A is arranged to face the convex portion 102B of the reflector ring 100, and the first detection unit 32B is the other convex portion 102B. It is arranged facing each other. Therefore, the output signals of the first detection unit 32A and the first detection unit 32B are both on signals.

ロータリーノブアッシー４０を状態１から状態２に回転させると、図９（Ｂ）に示されるように、上下方向において第１検出部３２Ａと対向配置される凹凸部１０２が、凸部１０２Ｂから凹部１０２Ａへ切替る。一方、状態２では、第１検出部３２Ｂと対向配置される凹凸部１０２が、凸部１０２Ｂとして維持される。このため、第１検出部３２Ａの出力信号が、オン信号からオフ信号へ切替わり、第１検出部３２Ｂの出力信号は、切替わらず、オン信号のままとなる。 When the rotary knob assembly 40 is rotated from the state 1 to the state 2, as shown in FIG. 9B, the uneven portion 102 arranged to face the first detection portion 32A in the vertical direction is changed from the convex portion 102B to the concave portion 102A. Switch to. On the other hand, in the state 2, the uneven portion 102 arranged to face the first detection unit 32B is maintained as the convex portion 102B. Therefore, the output signal of the first detection unit 32A is switched from the on signal to the off signal, and the output signal of the first detection unit 32B is not switched and remains the on signal.

ロータリーノブアッシー４０を状態２から状態３へ回転させると、図９（Ｃ）に示されるように、第１検出部３２Ａと対向配置される凹凸部１０２が、凹部１０２Ａとして維持される。一方、状態３では、上下方向において第１検出部３２Ｂと対向配置される凹凸部１０２が、凸部１０２Ｂから凹部１０２Ａへ切替る。このため、第１検出部３２Ａの出力信号が、切替わらず、オフ信号のままとなり、第１検出部３２Ｂの出力信号が、オン信号からオフ信号へ切替わる。 When the rotary knob assembly 40 is rotated from the state 2 to the state 3, as shown in FIG. 9C, the uneven portion 102 arranged to face the first detection portion 32A is maintained as the concave portion 102A. On the other hand, in the state 3, the uneven portion 102 arranged to face the first detection unit 32B in the vertical direction switches from the convex portion 102B to the concave portion 102A. Therefore, the output signal of the first detection unit 32A does not switch and remains an off signal, and the output signal of the first detection unit 32B switches from the on signal to the off signal.

ロータリーノブアッシー４０を状態３から状態４へ回転させると、図９（Ｄ）に示されるように、第１検出部３２Ａと対向配置される凹凸部１０２が、凹部１０２Ａから凸部１０２Ｂへ切替る。一方、状態４では、上下方向において第１検出部３２Ｂと対向配置される凹凸部１０２が、凹部１０２Ａとして維持される。このため、第１検出部３２Ａの出力信号が、オフ信号からオン信号へ切替り、第１検出部３２Ｂの出力信号は、切替わらず、オフ信号のままとなる。 When the rotary knob assembly 40 is rotated from the state 3 to the state 4, the uneven portion 102 arranged to face the first detection unit 32A switches from the concave portion 102A to the convex portion 102B as shown in FIG. 9D. .. On the other hand, in the state 4, the uneven portion 102 arranged to face the first detection portion 32B in the vertical direction is maintained as the concave portion 102A. Therefore, the output signal of the first detection unit 32A switches from the off signal to the on signal, and the output signal of the first detection unit 32B does not switch and remains an off signal.

そして、状態４からロータリーノブアッシー４０を回転方向一方側へさらに１ピッチ回転させると、状態１に戻る。よって、以降、状態１から状態４の回転操作が繰り返される。 Then, when the rotary knob assembly 40 is further rotated one pitch in the rotation direction from the state 4, the state returns to the state 1. Therefore, thereafter, the rotation operation from the state 1 to the state 4 is repeated.

一方、状態１からロータリーノブアッシー４０を回転方向他方側（図９（Ａ）の矢印Ｈ方向側）へ１ピッチ毎に回転させると、ロータリーノブアッシー４０の状態が、状態１、状態４、状態３、状態２の順に切替わる。これにより、ロータリーノブアッシー４０を回転方向他方側への回転操作時においても、第１検出部３２Ａ及び第１検出部３２Ｂの出力信号が、上記の出力状態となる。 On the other hand, when the rotary knob assembly 40 is rotated from the state 1 to the other side in the rotation direction (the arrow H direction side in FIG. 9A) for each pitch, the states of the rotary knob assembly 40 are changed to the state 1, the state 4, and the state. It switches in the order of 3 and state 2. As a result, even when the rotary knob assembly 40 is rotated to the other side in the rotation direction, the output signals of the first detection unit 32A and the first detection unit 32B are in the above output state.

図１０に示される表は、上記のスライドノブ８０に対するスライド操作時と、ロータリーノブアッシー４０に対する回転操作時における、第１検出部３２Ａ，３２Ｂ及び第２検出部３４の出力信号を示している。
図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、スライドノブ８０に対するスライド操作時には、第２検出部３４における出力信号が、常にオフ信号になり、ロータリーノブアッシー４０に対する回転操作時には、第２検出部３４における出力信号が、常にオン信号になる。これにより、入力装置１０に対する操作が、スライド操作及び回転操作の何れの操作であるのかを、第２検出部３４によって検出することができる。 The table shown in FIG. 10 shows the output signals of the first detection units 32A and 32B and the second detection unit 34 during the slide operation with respect to the slide knob 80 and the rotation operation with respect to the rotary knob assembly 40.
As shown in FIGS. 10A and 10B, the output signal in the second detection unit 34 is always an off signal during the slide operation with respect to the slide knob 80, and the second is during the rotation operation with respect to the rotary knob assembly 40. The output signal in the detection unit 34 is always an on signal. Thereby, the second detection unit 34 can detect whether the operation for the input device 10 is a slide operation or a rotation operation.

また、図１０（Ａ）に示されるように、スライドノブ８０に対するスライド操作時には、第１検出部３２Ａ，３２Ｂの出力信号の組み合わせが、全て異なる組み合わせになる。このため、スライドノブ８０の第１方向又は第２方向の操作を第１検出部３２Ａ，３２Ｂによって検出することができる。 Further, as shown in FIG. 10A, when the slide operation is performed on the slide knob 80, the combinations of the output signals of the first detection units 32A and 32B are all different combinations. Therefore, the operation of the slide knob 80 in the first direction or the second direction can be detected by the first detection units 32A and 32B.

さらに、図１０（Ｂ）に示されるように、ロータリーノブアッシー４０に対する回転操作時には、状態１〜状態４における第１検出部３２Ａ，３２Ｂの出力信号の組み合わせが、全て異なる組み合わせになる。このため、ロータリーノブアッシー４０の回転位置を第１検出部３２Ａ，３２Ｂによって検出することができる。また、ロータリーノブアッシー４０の回転方向一方側と他方側との回転では、ロータリーノブアッシー４０の状態変化の順番が異なる。このため、ロータリーノブアッシー４０の回転方向を第１検出部３２Ａ，３２Ｂによって検出することができる。 Further, as shown in FIG. 10B, when the rotary knob assembly 40 is rotated, the combinations of the output signals of the first detection units 32A and 32B in the states 1 to 4 are all different combinations. Therefore, the rotation position of the rotary knob assembly 40 can be detected by the first detection units 32A and 32B. Further, in the rotation of the rotary knob assembly 40 on one side and the other side in the rotation direction, the order of state changes of the rotary knob assembly 40 is different. Therefore, the rotation direction of the rotary knob assembly 40 can be detected by the first detection units 32A and 32B.

このように、本実施の形態の入力装置１０によれば、スライド操作及び回転操作の両方において、第１検出部３２Ａ，３２Ｂ及び第２検出部３４を用いて、スライド操作及び回転操作を検出することができる。したがって、入力装置１０における操作を検出するための検出部の数を少なくすることができる。 As described above, according to the input device 10 of the present embodiment, the slide operation and the rotation operation are detected by using the first detection units 32A and 32B and the second detection unit 34 in both the slide operation and the rotation operation. be able to. Therefore, the number of detection units for detecting the operation in the input device 10 can be reduced.

また、検出機構９０では、スライド操作機構６０のスライドに連動して、第１反射板９４Ａ，９４Ｂがスライドし、ロータリーノブアッシー４０の回転に連動して、リフレクタリング１００の凹凸部１０２が回転する。そして、上述のように、入力装置１０に対する操作が、スライド操作及び回転操作の何れの操作であるのかを、第２検出部３４によって検出している。このため、第１検出部３２Ａ，３２Ｂが、第１反射板９４Ａ，９４Ｂ又は凹凸部１０２の位置変化を検出することで、入力装置１０におけるスライド操作機構６０又はロータリーノブアッシー４０の操作位置を検出することができる。 Further, in the detection mechanism 90, the first reflectors 94A and 94B slide in conjunction with the slide of the slide operation mechanism 60, and the uneven portion 102 of the reflector ring 100 rotates in conjunction with the rotation of the rotary knob assembly 40. .. Then, as described above, the second detection unit 34 detects whether the operation for the input device 10 is a slide operation or a rotation operation. Therefore, the first detection units 32A and 32B detect the operation position of the slide operation mechanism 60 or the rotary knob assembly 40 in the input device 10 by detecting the position change of the first reflector 94A, 94B or the uneven portion 102. can do.

また、検出機構９０の第２反射板９６は、スライド操作機構６０のスライドに連動し、且つロータリーノブアッシー４０の回転に非連動に構成されている。このため、第２検出部３４が、第２反射板９６の位置変化を検出することで、入力装置１０に対する操作がスライド操作及び回転操作の何れの操作であるのかを容易に検出することができる。 Further, the second reflector 96 of the detection mechanism 90 is configured to be interlocked with the slide of the slide operation mechanism 60 and not interlocked with the rotation of the rotary knob assembly 40. Therefore, by detecting the position change of the second reflector 96, the second detection unit 34 can easily detect whether the operation for the input device 10 is a slide operation or a rotation operation. ..

また、検出機構９０のリフレクタリング１００は、ロータリーノブアッシー４０と一体回転可能に構成された円筒状に形成されており、リフレクタリング１００の下端部に、リフレクタリング１００の回転位置を検出するための凹凸部１０２が設けられている。そして、上下方向において、第１検出部３２Ａ，３２Ｂと凹凸部１０２とが対向配置されている。このため、第１検出部３２Ａ，３２Ｂと凹凸部１０２との間の上下距離に応じて、ロータリーノブアッシー４０の回転位置及び回転方向を第１検出部３２Ａ，３２Ｂによって検出することができる。 Further, the reflector ring 100 of the detection mechanism 90 is formed in a cylindrical shape configured to be rotatable integrally with the rotary knob assembly 40, and is used to detect the rotational position of the reflector ring 100 at the lower end portion of the reflector ring 100. The uneven portion 102 is provided. Then, in the vertical direction, the first detection portions 32A and 32B and the uneven portion 102 are arranged to face each other. Therefore, the rotation position and rotation direction of the rotary knob assembly 40 can be detected by the first detection units 32A and 32B according to the vertical distance between the first detection units 32A and 32B and the uneven portion 102.

また、リフレクタリング１００が、ロータリーノブアッシー４０と別体で構成されている。このため、入力装置１０の意匠性に影響を与えずに、ロータリーノブアッシー４０の回転操作を検出することができる。すなわち、リフレクタリング１００とロータリーノブアッシー４０とを一体に構成した場合には、ロータリーノブアッシー４０の硬質部４４を白色の樹脂材によって構成することになる。一方、ロータリーノブアッシー４０は、外部に操作可能に露出される外観部品としても構成されている。これにより、上記の場合では、ロータリーノブアッシー４０の全体が白色になるため、入力装置１０の意匠性に影響を与える。これに対して、リフレクタリング１００を、ロータリーノブアッシー４０と別体で構成することで、入力装置１０の意匠性に影響を与えずに、ロータリーノブアッシー４０の回転操作を検出することができる。 Further, the reflector ring 100 is configured separately from the rotary knob assembly 40. Therefore, the rotation operation of the rotary knob assembly 40 can be detected without affecting the design of the input device 10. That is, when the reflector ring 100 and the rotary knob assembly 40 are integrally configured, the hard portion 44 of the rotary knob assembly 40 is composed of a white resin material. On the other hand, the rotary knob assembly 40 is also configured as an external component that is operably exposed to the outside. As a result, in the above case, the entire rotary knob assembly 40 becomes white, which affects the design of the input device 10. On the other hand, by configuring the reflector ring 100 separately from the rotary knob assembly 40, it is possible to detect the rotation operation of the rotary knob assembly 40 without affecting the design of the input device 10.

また、検出機構９０のプレート９２に第１反射板９４Ａ，９４Ｂが設けられている。さらに、プレート９２が、第１方向及び第２方向においてスライド操作機構６０と一体移動可能に連結されており、ロータリーノブアッシー４０がプレート９２に対して軸線ＡＬ回りに相対移動可能に構成されている。
このため、スライドノブ８０のスライド操作時には、プレート９２によって第１反射板９４Ａ，９４Ｂをスライドノブ８０と一体にスライドさせることができる。したがって、第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）が第１反射板９４Ａ（９４Ｂ）の位置変化を検出することで、スライドノブ８０のスライド操作位置を検出することができる。
一方、ロータリーノブアッシー４０の回転操作時には、プレート９２によって第１反射板９４Ａ，９４Ｂを初期位置に維持することができる。したがって、第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）が第１反射板９４Ａ（９４Ｂ）の位置変化を検出することなく、ロータリーノブアッシー４０の回転操作位置を検出することができる。 Further, the first reflectors 94A and 94B are provided on the plate 92 of the detection mechanism 90. Further, the plate 92 is movably connected to the slide operation mechanism 60 in the first direction and the second direction, and the rotary knob assembly 40 is configured to be movable relative to the plate 92 around the axis AL. ..
Therefore, when the slide knob 80 is slid, the first reflectors 94A and 94B can be slid integrally with the slide knob 80 by the plate 92. Therefore, the first detection unit 32A (32B) can detect the slide operation position of the slide knob 80 by detecting the position change of the first reflector 94A (94B).
On the other hand, when the rotary knob assembly 40 is rotated, the first reflectors 94A and 94B can be maintained in the initial positions by the plate 92. Therefore, the first detection unit 32A (32B) can detect the rotation operation position of the rotary knob assembly 40 without detecting the position change of the first reflector 94A (94B).

また、第１検出部３２Ａ，３２Ｂが、フォトリフレクタとして構成され、第１反射板９４Ａ，９４Ｂ及びリフレクタリング１００の凹凸部１０２が、第１検出部３２Ａ，３２Ｂによって照射された光を第１検出部３２Ａ，３２Ｂへ反射する反射部として構成されている。また、第１反射板９４Ａ（９４Ｂ）及び凹凸部１０２が、第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）に対して上側に離間して配置されている。このため、所謂非接触型のセンサを用いて、スライドノブ８０及びロータリーノブアッシー４０の位置変化を検出することができる。これにより、例えば、第１検出部３２Ａ，３２Ｂを接触型のセンサとして構成する場合と比べて、スライドノブ８０及びロータリーノブアッシー４０に操作に対する第１検出部３２Ａ，３２Ｂの影響を抑制しつつ、入力装置１０に対する操作を検出することができる。
また、上述のように、第１反射板９４Ａ（９４Ｂ）及び凹凸部１０２が、第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）に対して上側に離間して配置されている。すなわち、第１反射板９４Ａ（９４Ｂ）及び凹凸部１０２が、第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）に対して同じ方向に配置されている。このため、フォトリフレクタとして構成された第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）によって、第１反射板９４Ａ（９４Ｂ）及び凹凸部１０２の位置変化を検出することができる。 Further, the first detection units 32A and 32B are configured as photo reflectors, and the uneven portions 102 of the first reflectors 94A and 94B and the reflector ring 100 first detect the light emitted by the first detection units 32A and 32B. It is configured as a reflecting portion that reflects to the portions 32A and 32B. Further, the first reflector 94A (94B) and the uneven portion 102 are arranged apart from each other on the upper side with respect to the first detection unit 32A (32B). Therefore, the position change of the slide knob 80 and the rotary knob assembly 40 can be detected by using a so-called non-contact type sensor. As a result, for example, as compared with the case where the first detection units 32A and 32B are configured as contact type sensors, the influence of the first detection units 32A and 32B on the operation of the slide knob 80 and the rotary knob assembly 40 is suppressed. The operation on the input device 10 can be detected.
Further, as described above, the first reflector 94A (94B) and the uneven portion 102 are arranged apart from each other on the upper side with respect to the first detection portion 32A (32B). That is, the first reflector 94A (94B) and the uneven portion 102 are arranged in the same direction with respect to the first detection unit 32A (32B). Therefore, the position change of the first reflector 94A (94B) and the uneven portion 102 can be detected by the first detection unit 32A (32B) configured as a photo reflector.

また、プレート９２には、第１検出部３２Ａ，３２Ｂによって照射された光を透過させるレンズ９８Ａ，９８Ｂが設けられている。また、プレート９２の初期位置において、第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）、レンズ９８Ａ（９８Ｂ）、及びリフレクタリング１００の凹凸部１０２が、上下方向に重なって配置されている。このため、第１反射板９４Ａ（９４Ｂ）（すなわち、プレート９２）及び凹凸部１０２を、第１検出部３２Ａ（３２Ｂ）に対して同じ方向に配置し、且つ凹凸部１０２をプレート９２に対して上側に配置した構成にしても、第１検出部３２Ａ，３２Ｂから照射された光を、レンズ９８Ａ，９８Ｂによって凸部１０２Ｂに良好に導くことができると共に、凸部１０２Ｂによって反射した光を、レンズ９８Ａ，９８Ｂによって第１検出部３２Ａ，３２Ｂに良好に導くことができる。これにより、第１検出部３２Ａ，３２Ｂの検出精度を向上することができる。 Further, the plate 92 is provided with lenses 98A and 98B for transmitting the light irradiated by the first detection units 32A and 32B. Further, at the initial position of the plate 92, the first detection unit 32A (32B), the lens 98A (98B), and the uneven portion 102 of the reflector ring 100 are arranged so as to overlap each other in the vertical direction. Therefore, the first reflector 94A (94B) (that is, the plate 92) and the uneven portion 102 are arranged in the same direction with respect to the first detection unit 32A (32B), and the uneven portion 102 is arranged with respect to the plate 92. Even in the configuration arranged on the upper side, the light emitted from the first detection units 32A and 32B can be satisfactorily guided to the convex portion 102B by the lenses 98A and 98B, and the light reflected by the convex portion 102B can be satisfactorily guided to the lens. The 98A and 98B can be satisfactorily guided to the first detection units 32A and 32B. As a result, the detection accuracy of the first detection units 32A and 32B can be improved.

また、リフレクタリング１００の凹凸部１０２は、凹部１０２Ａと凸部１０２Ｂとを含んで構成されており、リフレクタリング１００が回転することで、第１検出部３２Ａ，３２Ｂと凹凸部１０２との間の上下距離が変化する。これにより、簡易な構成でリフレクタリング１００（すなわち、ロータリーノブアッシー４０）の回転位置変化を検出することができる。 Further, the concave-convex portion 102 of the reflector ring 100 is configured to include the concave portion 102A and the convex portion 102B, and when the reflector ring 100 rotates, the concave-convex portion 102 between the first detection portions 32A and 32B and the concave-convex portion 102. The vertical distance changes. As a result, it is possible to detect a change in the rotational position of the reflector ring 100 (that is, the rotary knob assembly 40) with a simple configuration.

また、検出機構９０では、第２反射板９６が、プレート９２に設けられている。このため、スライドノブ８０のスライド時に、第２反射板９６をスライドノブ８０と共にスライドさせることができると共に、ロータリーノブアッシー４０の回転時に、第２反射板９６を初期位置に維持することができる。したがって、入力装置１０に対する操作がスライド操作及び回転操作の何れの操作であるのかを容易に検出することができる。
また、前述のようにプレート９２には、第１反射板９４Ａ，９４Ｂが設けられている。これにより、単一部材（プレート９２）によって、第１反射板９４Ａ，９４Ｂ及び第２反射板９６を、スライドノブ８０と連動させることができると共に、ロータリーノブアッシー４０に対して非連動にすることができる。 Further, in the detection mechanism 90, the second reflector 96 is provided on the plate 92. Therefore, the second reflector 96 can be slid together with the slide knob 80 when the slide knob 80 is slid, and the second reflector 96 can be maintained at the initial position when the rotary knob assembly 40 is rotated. Therefore, it is possible to easily detect whether the operation on the input device 10 is a slide operation or a rotation operation.
Further, as described above, the plate 92 is provided with the first reflectors 94A and 94B. As a result, the first reflectors 94A and 94B and the second reflector 96 can be interlocked with the slide knob 80 and are not interlocked with the rotary knob assembly 40 by the single member (plate 92). Can be done.

また、入力装置１０では、スライドノブ８０が第１方向及び第２方向へスライド可能に構成されている。すなわち、スライドノブ８０が中立位置から４方向へスライド可能に構成されている。このため、入力装置１０を、多機能型の入力装置として構成できる。 Further, in the input device 10, the slide knob 80 is configured to be slidable in the first direction and the second direction. That is, the slide knob 80 is configured to be slidable in four directions from the neutral position. Therefore, the input device 10 can be configured as a multifunctional input device.

また、入力装置１０では、スライドノブ８０が軸線ＡＬに沿ってプッシュ操作（押圧操作）可能に構成されている。これにより、入力装置１０を、より一層多機能に構成することができる。 Further, in the input device 10, the slide knob 80 is configured to be able to be pushed (pressed) along the axis AL. As a result, the input device 10 can be configured to have even more functions.

なお、本実施の形態では、スライドノブ８０とロータリーノブアッシー４０とが別体で構成されているが、スライドノブ８０とロータリーノブアッシー４０とを一体に構成してもよい。この場合には、例えば、スライド操作機構６０のシャフト６２における操作軸６２Ｄの外形を円形にすると共に、検出機構９０のプレート９２の嵌合孔９２Ｃを円形に形成する。そして、操作軸６２Ｄをプレート９２の嵌合孔９２Ｃ内に相対回転可能に挿入し、上下方向においてプレート９２を操作軸６２Ｄによって保持するように構成してもよい。これにより、スライドノブ８０のスライド時には、プレート９２に操作力が伝達されてプレート９２がスライドノブ８０と連動してスライドする。一方、ロータリーノブアッシー４０の回転時には、ロータリーノブアッシー４０がプレート９２に対して相対回転する。このため、プレート９２に操作力が伝達されず、プレート９２の初期位置が維持される。これにより、本実施の形態と同様の作用及び効果を奏することができる。 In the present embodiment, the slide knob 80 and the rotary knob assembly 40 are separately configured, but the slide knob 80 and the rotary knob assembly 40 may be integrally configured. In this case, for example, the outer shape of the operation shaft 62D in the shaft 62 of the slide operation mechanism 60 is made circular, and the fitting hole 92C of the plate 92 of the detection mechanism 90 is formed in a circular shape. Then, the operation shaft 62D may be inserted into the fitting hole 92C of the plate 92 so as to be relatively rotatable, and the plate 92 may be held by the operation shaft 62D in the vertical direction. As a result, when the slide knob 80 is slid, the operating force is transmitted to the plate 92 and the plate 92 slides in conjunction with the slide knob 80. On the other hand, when the rotary knob assembly 40 is rotated, the rotary knob assembly 40 rotates relative to the plate 92. Therefore, the operating force is not transmitted to the plate 92, and the initial position of the plate 92 is maintained. As a result, the same actions and effects as those of the present embodiment can be obtained.

また、本実施の形態では、レンズ９８Ａ，９８Ｂがプレート９２に設けられているが、第１検出部３２Ａ，３２Ｂとリフレクタリング１００の凸部１０２Ｂとの間の上下距離が比較的短い場合には、プレート９２において、レンズ９８Ａ，９８Ｂを省略して、プレート９２に孔部を形成してもよい。すなわち、この場合には、レンズ９８Ａ，９８Ｂを用いなくても、第１検出部３２Ａ，３２Ｂから照射された光を、孔部を通過させて凸部１０２Ｂに良好に到達させることができる。これにより、プレート９２のコストアップを抑制することができる。 Further, in the present embodiment, the lenses 98A and 98B are provided on the plate 92, but when the vertical distance between the first detection unit 32A and 32B and the convex portion 102B of the reflector ring 100 is relatively short, the lens 98A and 98B are provided on the plate 92. , In the plate 92, the lenses 98A and 98B may be omitted to form a hole in the plate 92. That is, in this case, the light emitted from the first detection units 32A and 32B can pass through the hole portion and reach the convex portion 102B satisfactorily without using the lenses 98A and 98B. As a result, the cost increase of the plate 92 can be suppressed.

１０ 入力装置
１２ ケース
２０ リッド（支持部材）
２０Ａ リブ
２０Ｂ 固定ボス
２２ 隆起部
２２Ａ 支持凹部
２２Ｂ 傾斜凹部
３０ 基板
３０Ａ 孔部
３２Ａ 第１検出部
３２Ｂ 第１検出部
３４ 第２検出部
３６ 制御部
４０ ロータリーノブアッシー（回転操作機構）
４０Ａ 把持部
４０Ｂ 保持爪
４０Ｂ１ 保持爪部
４０Ｃ 保持突起
４０Ｄ 節度山
４２ 軟質部
４４ 硬質部
５０ スライド機構
５２ ホルダ
５２Ａ 固定鍔
５２Ｂ 収容部
５２Ｃ 挿通孔
５２Ｃ１ 第１スリット孔
５２Ｃ２ 第２スリット孔
５２Ｄ 支持柱
５２Ｄ１ 収容凹部
５２Ｅ 支持柱
５２Ｆ 切欠部
５４ スライダ
５４Ａ ガイド部
５４Ｂ 挿通孔
５４Ｃ ガイド凹部
５４Ｄ ガイド凹部
５４Ｅ ガイドレール
５４Ｆ ガイド溝
５６ 節度機構
５７ 節度部材
５７Ａ 節度部
５８ 付勢バネ
６０ スライド操作機構
６１ 移動機構
６２ シャフト
６２Ａ シャフトベース
６２Ｂ ストッパ片
６２Ｂ１ 基部
６２Ｂ２ ストッパ部
６２Ｃ シャフト本体
６２Ｄ 操作軸
６２Ｅ ピン収容部
６２Ｅ１ 第１ピン収容部
６２Ｅ２ 第２ピン収容部
６２Ｆ 固定凹部
６４ ピン
６４Ａ 鍔部
６６ 付勢バネ
６８ ノブベース
６８Ａ 固定孔
６８Ｂ ガイド片
６８Ｃ ガイドレール
６８Ｄ ガイド溝
６８Ｅ 係合片
６８Ｅ１ 係合孔
７０ 基板
７２ スイッチ
７４ 接続部材
８０ スライドノブ
８０Ａ ガイド部
８０Ｂ ボス
８２ タッチパッド
８４ ノブリング
８４Ａ 固定片
９０ 検出機構
９２ プレート
９２Ａ 第１プレート部
９２Ｂ 第２プレート部
９２Ｃ 嵌合孔
９４Ａ 第１反射板（被スライド検出部、反射部）
９４Ｂ 第１反射板（被スライド検出部、反射部）
９６ 第２反射板（被操作検出部）
９８Ａ レンズ（透光部）
９８Ｂ レンズ（透光部）
１００ リフレクタリング（回転体）
１００Ａ 嵌合片
１０２ 凹凸部（被回転検出部、反射部）
１０２Ａ 凹部
１０２Ｂ 凸部
ＡＬ 軸線
Ｌ１ 第１基準線
Ｌ２ 第２基準線
ＳＣ１ ネジ
ＳＣ２ ネジ
10 Input device 12 Case 20 Lid (support member)
20A Rib 20B Fixed boss 22 Raised part 22A Support concave part 22B Inclined concave part 30 Board 30A Hole part 32A First detection part 32B First detection part 34 Second detection part 36 Control part 40 Rotary knob assembly (rotation operation mechanism)
40A Grip 40B Holding claw 40B1 Holding claw 40C Holding protrusion 40D Moderation mountain 42 Soft part 44 Rigid part 50 Slide mechanism 52 Holder 52A Fixed collar 52B Accommodating part 52C Insertion hole 52C1 First slit hole 52C2 Second slit hole 52D Support pillar 52D1 Accommodating recess 52E Support column 52F Notch 54 Slider 54A Guide 54B Insertion hole 54C Guide recess 54D Guide recess 54E Guide rail 54F Guide groove 56 Moderation mechanism 57 Moderation member 57A Moderation part 58 Bounce spring 60 Slide operation mechanism 61 Movement mechanism 62 Shaft 62A Shaft base 62B Stopper piece 62B1 Base 62B2 Stopper 62C Shaft body 62D Operation shaft 62E Pin accommodating part 62E1 1st pin accommodating part 62E2 2nd pin accommodating part 62F Fixing recess 64 Pin 64A Border 66 Bounce spring 68 Knob base 68A Fixing hole 68B Guide piece 68C Guide rail 68D Guide groove 68E Engagement piece 68E1 Engagement hole 70 Board 72 Switch 74 Connection member 80 Slide knob 80A Guide part 80B Boss 82 Touch pad 84 Knob ring 84A Fixed piece 90 Detection mechanism 92 Plate 92A First plate part 92B 2nd plate part 92C Fitting hole 94A 1st reflecting plate (sliding detection part, reflecting part)
94B 1st reflector (slide detection part, reflection part)
96 Second reflector (operated detection unit)
98A lens (translucent part)
98B lens (translucent part)
100 Reflector ring (rotating body)
100A Fitting piece 102 Concavo-convex part (rotation detected part, reflective part)
102A Concave 102B Convex AL Axis L1 1st reference line L2 2nd reference line SC1 screw SC2 screw

Claims (9)

中立位置からスライド操作されることでスライド方向へスライドするスライド操作機構と、
回転操作されることで前記スライド方向と直交する軸線の軸線回りに回転する回転操作機構と、
スライド操作及び回転操作を検出する検出機構と、
を備え、
前記検出機構は、
前記スライド操作機構に対するスライド操作時に前記スライド操作機構の位置変化を検出し、前記回転操作機構に対する回転操作時に前記回転操作機構の位置変化を検出する第１検出部と、
前記スライド操作及び前記回転操作の何れの操作であるのかを検出する第２検出部と、
を含み、
前記検出機構は、
前記スライド操作機構に連動してスライドする被スライド検出部と、
前記回転操作機構に連動して回転する被回転検出部と、
を含んで構成され、
前記第１検出部は、前記スライド操作機構に対するスライド操作時に前記被スライド検出部の位置変化を検出し、前記回転操作機構に対する回転操作時に前記被回転検出部の位置変化を検出し、
前記検出機構は、前記スライド操作機構に連動し且つ前記回転操作機構に非連動に構成された被操作検出部を有しており、
前記第２検出部は、前記被操作検出部の位置変化を検出する入力装置。 A slide operation mechanism that slides in the slide direction by sliding from a neutral position,
A rotation operation mechanism that rotates around the axis of the axis orthogonal to the slide direction by being rotated,
A detection mechanism that detects slide operation and rotation operation,
Equipped with
The detection mechanism is
A first detection unit that detects a change in the position of the slide operation mechanism during a slide operation with respect to the slide operation mechanism and detects a change in the position of the rotation operation mechanism during a rotation operation with respect to the rotation operation mechanism.
A second detector for detecting which of the slide operation and the rotation operation is performed,
Only including,
The detection mechanism is
A slide-to-slide detection unit that slides in conjunction with the slide operation mechanism,
A rotated detection unit that rotates in conjunction with the rotation operation mechanism,
Consists of, including
The first detection unit detects a change in the position of the slide detection unit during a slide operation with respect to the slide operation mechanism, and detects a position change of the rotation detection unit during a rotation operation with respect to the rotation operation mechanism.
The detection mechanism has an operated detection unit configured to be interlocked with the slide operation mechanism and non-interlocking with the rotation operation mechanism.
The second detection unit is an input device that detects a change in the position of the operated detection unit. 前記検出機構は、前記軸線回りに前記回転操作機構と一体回転可能に構成された円筒状の回転体を有しており、
前記被回転検出部が、前記回転体における前記軸線の軸線方向一方側の端部に設けられると共に、前記軸線の軸線方向において、前記第１検出部と対向配置されている請求項１に記載の入力装置。 The detection mechanism has a cylindrical rotating body configured to be rotatable integrally with the rotation operation mechanism around the axis.
The object rotation detection unit is provided in an end portion of the axial one side of the axis of the rotating body, in the axial direction of the axis, according to claim 1 which is disposed opposite to the first detector Input device. 中立位置からスライド操作されることでスライド方向へスライドするスライド操作機構と、
回転操作されることで前記スライド方向と直交する軸線の軸線回りに回転する回転操作機構と、
スライド操作及び回転操作を検出する検出機構と、
を備え、
前記検出機構は、
前記スライド操作機構に対するスライド操作時に前記スライド操作機構の位置変化を検出し、前記回転操作機構に対する回転操作時に前記回転操作機構の位置変化を検出する第１検出部と、
前記スライド操作及び前記回転操作の何れの操作であるのかを検出する第２検出部と、
を含み、
前記検出機構は、
前記スライド操作機構に連動してスライドする被スライド検出部と、
前記回転操作機構に連動して回転する被回転検出部と、
を含んで構成され、
前記第１検出部は、前記スライド操作機構に対するスライド操作時に前記被スライド検出部の位置変化を検出するとともに、前記回転操作機構に対する回転操作時に前記被回転検出部の位置変化を検出し、
前記検出機構は、前記軸線回りに前記回転操作機構と一体回転可能に構成された円筒状の回転体を有しており、
前記被回転検出部が、前記回転体における前記軸線の軸線方向一方側の端部に設けられると共に、前記軸線の軸線方向において、前記第１検出部と対向配置されている入力装置。 A slide operation mechanism that slides in the slide direction by sliding from a neutral position,
A rotation operation mechanism that rotates around the axis of the axis orthogonal to the slide direction by being rotated,
A detection mechanism that detects slide operation and rotation operation,
Equipped with
The detection mechanism is
A first detection unit that detects a change in the position of the slide operation mechanism during a slide operation with respect to the slide operation mechanism and detects a change in the position of the rotation operation mechanism during a rotation operation with respect to the rotation operation mechanism.
A second detector for detecting which of the slide operation and the rotation operation is performed,
Including
The detection mechanism is
A slide-to-slide detection unit that slides in conjunction with the slide operation mechanism,
A rotated detection unit that rotates in conjunction with the rotation operation mechanism,
Consists of, including
The first detection unit detects a change in the position of the slide detection unit during a slide operation with respect to the slide operation mechanism, and also detects a position change of the rotation detection unit during a rotation operation with respect to the rotation operation mechanism.
The detection mechanism has a cylindrical rotating body configured to be rotatable integrally with the rotation operation mechanism around the axis.
An input device in which the rotated detection unit is provided at one end of the rotating body on one side in the axial direction of the axis, and is arranged to face the first detection unit in the axial direction of the axis. 前記検出機構は、前記スライド操作機構に連動し且つ前記回転操作機構に非連動に構成された被操作検出部を有しており、
前記第２検出部は、前記被操作検出部の位置変化を検出する請求項３に記載の入力装置。 The detection mechanism has an operated detection unit configured to be interlocked with the slide operation mechanism and non-interlocking with the rotation operation mechanism.
The input device according to claim 3 , wherein the second detection unit detects a change in the position of the operated detection unit. 前記検出機構は、前記被スライド検出部が設けられたプレートを有しており、
前記プレートが、前記スライド方向において前記スライド操作機構と一体移動可能に連結されており、前記回転操作機構が前記プレートに対して前記軸線回りに相対移動可能に構成されている請求項２〜請求項４の何れか１項に記載の入力装置。 The detection mechanism has a plate provided with the slide-to-slide detection portion.
Said plate, the slide operating mechanism and being integrally movably connected, claims 2, wherein the rotation operation mechanism is configured to be relatively moved in the axis direction with respect to the plate in the sliding direction The input device according to any one of 4. 前記第１検出部がフォトリフレクタとして構成され、
前記被スライド検出部及び前記被回転検出部が前記第１検出部によって照射された光を前記第１検出部へ反射する反射部として構成されており、
前記被スライド検出部及び前記被回転検出部が、前記第１検出部に対して前記軸線の軸線方向他方側に離間して配置されている請求項５に記載の入力装置。 The first detection unit is configured as a photoreflector.
The slide detection unit and the rotation detection unit are configured as a reflection unit that reflects the light emitted by the first detection unit to the first detection unit.
The input device according to claim 5, wherein the slide-to-slide detection unit and the rotation-to-rotation detection unit are arranged apart from each other on the other side of the axis in the axial direction with respect to the first detection unit. 前記プレートには、前記第１検出部によって照射された光を透過させる透光部が形成されており、
前記プレートの非作動状態において、前記第１検出部、前記透光部、及び前記被回転検出部が、前記軸線の軸線方向において、重なって配置されている請求項６に記載の入力装置。 The plate is formed with a translucent portion that transmits the light irradiated by the first detection portion.
The input device according to claim 6, wherein the first detection unit, the translucent unit, and the rotated detection unit are arranged so as to overlap each other in the axial direction of the axis in the non-operating state of the plate. 前記被回転検出部は、凹凸状に形成されており、
前記回転体が回転することで、前記軸線の軸線方向における前記第１検出部と前記被回転検出部との距離が変化する請求項６又は請求項７に記載の入力装置。 The rotated detection portion is formed in an uneven shape, and is formed in an uneven shape.
The input device according to claim 6 or 7, wherein when the rotating body rotates, the distance between the first detection unit and the rotated detection unit in the axial direction of the axis changes. 被操作検出部が、前記プレートに設けられている請求項５〜請求項８の何れか１項に記載の入力装置。 The input device according to any one of claims 5 to 8, wherein the operated detection unit is provided on the plate.
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